JP2020080382A - Bonding device, die bonder, and bonding method - Google Patents

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Abstract

To provide a bonding device, a die bonder, and a bonding method that can improve productivity, manufacture various products, and prevent deterioration of bonding quality.SOLUTION: A bonding device includes heating means that heats a supply target member at a bonding position where a workpiece is bonded to a supply target member, and bonds the workpiece to the supply target member via an adhesive. The bonding device includes control means that sets the temperature of the supply target member capable of bonding the workpiece, and temperature measuring means that measures the temperature of the supply target member, and the workpiece is bonded to the supply target member in a state where the temperature of the supply target member reaches the temperature set by the control means.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、ボンディング装置、ダイボンダ、及びボンディング方法に関する。   The present invention relates to a bonding device, a die bonder, and a bonding method.

半導体装置の製造においては、多数個の素子を一括して造り込まれたウエハをダイシングして個々の半導体チップに分離し、これを一個ずつリードフレーム等の所定位置にボンディングするというチップボンディングの手法が採用されている。そして、このチップボンディングには、特許文献1のようなダイボンダ(ボンディング装置)が用いられる。   In the manufacture of semiconductor devices, a chip bonding method in which a wafer in which a large number of elements are built in a batch is diced to separate individual semiconductor chips, and the individual semiconductor chips are bonded one by one to a predetermined position such as a lead frame. Has been adopted. A die bonder (bonding device) as disclosed in Patent Document 1 is used for this chip bonding.

ボンディング装置は、図7に示すように、供給部2の半導体チップ1を吸着するコレット3を有するボンディングアーム(図示省略)と、供給部2の半導体チップ1を観察する確認用カメラ(図示省略)と、ボンディング位置でリードフレーム4のアイランド部5を観察する確認用カメラ(図示省略)とを備える。   As shown in FIG. 7, the bonding apparatus includes a bonding arm (not shown) having a collet 3 for sucking the semiconductor chip 1 of the supply unit 2 and a confirmation camera (not shown) for observing the semiconductor chip 1 of the supply unit 2. And a confirmation camera (not shown) for observing the island portion 5 of the lead frame 4 at the bonding position.

供給部2は半導体ウエハ6(図8参照)を備え、半導体ウエハ6が多数の半導体チップ1に分割されている。すなわち、ウエハ6は粘着シート(ダイシングシート)に貼り付けられ、このダイシングシートが環状のフレームに保持される。そして、このダイシングシート上のウエハ6に対して、円形刃(ダイシング・ソー)等を用いて、個片化してチップ1を形成する。また、コレット3を保持しているボンディングアームは搬送機構を介して、ピックアップ位置とボンディング位置との間の移動が可能となっている。   The supply unit 2 includes a semiconductor wafer 6 (see FIG. 8), and the semiconductor wafer 6 is divided into a large number of semiconductor chips 1. That is, the wafer 6 is attached to an adhesive sheet (dicing sheet), and the dicing sheet is held by an annular frame. Then, the wafer 6 on the dicing sheet is diced into individual pieces by using a circular blade (dicing saw) or the like. Further, the bonding arm holding the collet 3 can be moved between the pickup position and the bonding position via the transfer mechanism.

また、このコレット3は、その下端面に開口した吸着孔を介してチップ1が真空吸引され、このコレット3の下端面にチップ1が吸着する。なお、この真空吸引(真空引き)が解除されれば、コレット3からチップ1が外れる。   The tip of the collet 3 is vacuum-sucked through a suction hole opened on the lower end surface of the collet 3, and the tip 1 is adsorbed on the lower end surface of the collet 3. If this vacuum suction (vacuum suction) is released, the chip 1 is detached from the collet 3.

次にこのダイボンダを使用したダイボンディング方法を説明する。まず、供給部2の上方に配置される確認用カメラにてピックアップすべきチップ1を観察して、コレット3をこのピックアップすべきチップ1の上方に位置させた後、矢印Bのようにコレット3を下降させてこのチップ1をピックアップする。その後、矢印Aのようにコレット3を上昇させる。   Next, a die bonding method using this die bonder will be described. First, the chip 1 to be picked up is observed by a confirmation camera arranged above the supply unit 2, the collet 3 is positioned above the chip 1 to be picked up, and then the collet 3 is indicated by an arrow B. Is lowered to pick up this chip 1. Then, the collet 3 is raised as indicated by arrow A.

次に、ボンディング位置の上方に配置された確認用カメラにて、ボンディングすべきリードフレーム4のアイランド部5を観察して、コレット3を矢印E方向へ移動させて、このアイランド部5の上方に位置させた後、コレット3を矢印Dのように下降移動させて、このアイランド部5にチップ1を供給する。また、アイランド部5にチップを供給した後は、コレット3を矢印Cのように上昇させた後、矢印Fのように、ピックアップ位置の上方の待機位置に戻す。   Next, the island portion 5 of the lead frame 4 to be bonded is observed with the confirmation camera arranged above the bonding position, the collet 3 is moved in the direction of arrow E, and the island portion 5 is positioned above the island portion 5. After the positioning, the collet 3 is moved down as shown by the arrow D, and the chip 1 is supplied to the island portion 5. After supplying the chips to the island portion 5, the collet 3 is raised as indicated by arrow C and then returned to the standby position above the pickup position as indicated by arrow F.

コレット3は、搬送機構としての移動機構(図示省略)にて、ピックアップポジションP上での矢印A方向の上昇および矢印B方向の下降と、ボンディングポジションQ上での矢印C方向の上昇および矢印D方向の下降と、ピックアップポジションPとボンディングポジションQとの間の矢印E、F方向の往復動とが可能とされる。移動機構は図示省略の制御手段にて前記矢印A、B、C、D、E、Fの移動が制御される。なお、移動機構としては、シリンダ機構、ボールねじ機構、モーターリニア機構等の種々の機構にて構成することができ,XYZ軸ステージ(ステージ装置)を使用することができる。   The collet 3 is moved by a moving mechanism (not shown) as a transport mechanism in the arrow A direction and the arrow B direction on the pickup position P, and in the arrow C direction and the arrow D on the bonding position Q. And the reciprocating movement between the pickup position P and the bonding position Q in the directions of the arrows E and F is possible. The moving mechanism controls the movement of the arrows A, B, C, D, E, and F by a control unit (not shown). The moving mechanism can be composed of various mechanisms such as a cylinder mechanism, a ball screw mechanism, a motor linear mechanism, and an XYZ axis stage (stage device) can be used.

ところで、チップの裏面には、リードフレームや基板等の被供給部材への接着用のダイアタッチフィルム(DAF)が装着されたものがある。ダイアタッチフィルムはフィルム状の接着剤であり、加熱することで硬化する。すなわち、ボンディング位置では、被供給部材は、加熱手段(例えば、加熱ヒータ)を備えたステージに載置され、所定の温度にまで加熱された被供給部材にチップをボンディングすることによって、ダイアタッチフィルムを介してチップを被供給部材にボンディングする。このため、従来では、そのチップを被供給部材にボンディングする際、被供給部材が搬送されてから、被供給部材の温度が、熱圧着が可能となる温度に達するまで、図9のaに示すように、予め決定された時間待機することで、最初にボンディングされるチップから最後にボンディングされるチップまで、同じ品質でボンディングしようとしていた。   By the way, there is a chip on the back surface of which a die attach film (DAF) for adhesion to a supply target member such as a lead frame or a substrate is attached. The die attach film is a film-like adhesive and is hardened by heating. That is, at the bonding position, the supply target member is placed on a stage equipped with heating means (for example, a heater), and the die attach film is bonded by bonding the chip to the supply target member heated to a predetermined temperature. The chip is bonded to the supply target member via. For this reason, conventionally, when bonding the chip to the supply target member, the temperature of the supply target member is shown in a of FIG. 9 from being conveyed until the temperature of the supply target member reaches a temperature at which thermocompression bonding is possible. As described above, by waiting for a predetermined time, it is attempted to bond with the same quality from the chip to be bonded first to the chip to be bonded last.

被供給部材が所定温度(熱圧着が可能となる温度)に上昇することが予測される時間aはユーザにより任意に設定される。時間aを決定する方法は、例えば、被供給部材に熱電対を貼り付けて、何秒間で温度が上がるか監視することにより決定する方法がある。また、ボンディング結果を見て、そのボンディング品質が良好であるか否かに基づいて、待機時間を長くしたり、短くしたりして調整することがある。   The time a at which the supply target member is predicted to rise to a predetermined temperature (the temperature at which thermocompression bonding is possible) is set arbitrarily by the user. As a method of determining the time a, for example, there is a method of attaching a thermocouple to the supply target member and monitoring how many seconds the temperature rises. Further, the waiting time may be adjusted to be longer or shorter depending on whether or not the bonding quality is good by observing the bonding result.

特開2008‐124382号公報JP, 2008-124382, A

被供給部材に熱電対を貼り付けて、所定温度に上昇するまでの時間を監視して待機時間を決定する方法では、実際の被供給部材の温度にかかわらず次の工程、すなわちアイランド認識(図9のb)、ボンディング(図9のc)をスタートする。このため、例えば被供給部材がステージに密着していない等の原因で、図9のdに示すように、実際は被供給部材の温度が圧着可能な所定温度にまで到達していなくても、エラーを出すことなく次の工程をスタートしていた。この場合、接合強度が不足してボンディング品質が悪くなる。逆に、例えばエラー停止等により装置が停止した場合、図9のeに示すように、被供給部材の温度が圧着可能な所定温度にまで上がっているのにもかかわらず、所定時間待機することになり、時間的なロスになることがある。   In the method of attaching a thermocouple to the supplied member and monitoring the time until it rises to a predetermined temperature to determine the waiting time, the next step, island recognition (Fig. 9b) and bonding (FIG. 9c) are started. Therefore, even if the temperature of the supply target member does not actually reach the predetermined temperature at which the supply target member can be crimped, as shown in d of FIG. The next process was started without issuing. In this case, the bonding strength becomes insufficient and the bonding quality becomes poor. On the contrary, when the apparatus is stopped due to an error stop or the like, as shown in e of FIG. 9, the temperature of the supply-target member has risen to a predetermined temperature at which it can be pressure-bonded, but waits for a predetermined time. It may be a time loss.

また、ボンディング結果を見て、そのボンディング品質が良好であるか否かに基づいて、待機時間を長くしたり、短くしたりして調整する方法では、被供給部材の種類、サイズ、ボンディングするチップの性質、接着剤の種類、チップを積層するか、等の種々の条件に対して、一つのパターンでしか待機時間を設定することができない。このため、設定したものと異なる条件の製品には対応することができず、多様な製品を製造することができない。さらに、基板をピッチ送りする際、加熱エリアから外れた基板が温まるまで、毎列待機することがあるが、この場合、搬送条件等によって、待機するか否かの判断や何秒間待機するかの判断が異なり、多様なパターンに対応することができない。   In addition, according to the method of adjusting the waiting time by lengthening or shortening the waiting time based on whether the bonding quality is good or not based on the bonding result, the type and size of the member to be supplied, the chip to be bonded The standby time can be set with only one pattern for various conditions such as the property, type of adhesive, stacking chips, and the like. For this reason, it is not possible to deal with products with conditions different from those set, and it is not possible to manufacture various products. In addition, when the substrates are pitch-fed, each line may wait until the substrates that have come out of the heating area warm up. In this case, depending on the transportation conditions, it is determined whether or not to wait and how many seconds to wait. Different judgments cannot be applied to various patterns.

そこで、本発明は斯かる実情に鑑み、生産性を向上し、多様な製品を製造できるとともに、接合品質の悪化を予防できるボンディング装置、ダイボンダ、及びボンディング方法を提供しようとするものである。   Therefore, in view of such circumstances, the present invention aims to provide a bonding apparatus, a die bonder, and a bonding method capable of improving productivity, manufacturing various products, and preventing deterioration of bonding quality.

本発明のボンディング装置は、ワークを被供給部材にボンディングするボンディング位置に、被供給部材を加熱する加熱手段を備え、接着剤を介してワークを被供給部材にボンディングするボンディング装置において、ワークをボンディングできる被供給部材の温度が設定される制御手段と、前記被供給部材の温度を測定する温度測定手段とを備え、被供給部材の温度が前記制御手段に設定された温度に到達した状態で、ワークを被供給部材にボンディングするものである。   The bonding apparatus of the present invention is provided with a heating unit for heating the supply target member at a bonding position for bonding the work to the supply target member, and bonding the work to the supply target member via an adhesive. A control means for setting the temperature of the supplied member that can be provided, and a temperature measuring means for measuring the temperature of the supplied member, in a state in which the temperature of the supplied member has reached the temperature set in the control means, The work is bonded to the supply target member.

本発明のボンディング装置によれば、温度測定手段により被供給部材の温度を測定しているため、被供給部材及びワークの条件や、加熱時間によらず、被供給部材の温度が実際に接合温度に到達した時点でボンディングを開始することができて(被供給部材の温度の測定結果をボンディング開始条件にできて)、被供給部材の搬送状況ごとの待ち時間の設定が不要となり、被供給部材の温度上昇時間を把握するための予備実験も不要となる。また、温度測定手段により温度降下を監視することができるため、被供給部材が接合温度に到達していない場合でのボンディングを防ぐことができる。   According to the bonding apparatus of the present invention, since the temperature of the supplied member is measured by the temperature measuring means, the temperature of the supplied member is actually the bonding temperature regardless of the conditions of the supplied member and the work and the heating time. Since the bonding can be started when the temperature reaches the target (the measurement result of the temperature of the supplied member can be used as the bonding start condition), it is not necessary to set the waiting time for each conveying condition of the supplied member, Preliminary experiments for grasping the temperature rise time are also unnecessary. Further, since the temperature measurement means can monitor the temperature drop, it is possible to prevent bonding when the supply target member does not reach the bonding temperature.

前記構成において、前記制御手段は、被供給部材の加熱時間が設定される加熱時間設定部を備え、前記加熱時間で、被供給部材の温度が前記制御手段に設定された温度に到達しないときにエラー認識するものであってもよい。特に、接着剤がDAFである場合には、所定時間以上DAFを加熱すると硬化が進み、他の工程の品質に影響があるため、総加熱時間を管理する必要がある。本発明では、総加熱時間の管理が可能となる。   In the above configuration, the control unit includes a heating time setting unit that sets a heating time of the supply target member, and when the temperature of the supply target member does not reach the temperature set by the control unit in the heating time. It may be one that recognizes an error. In particular, when the adhesive is DAF, if the DAF is heated for a predetermined time or more, curing proceeds and the quality of other processes is affected. Therefore, it is necessary to control the total heating time. In the present invention, the total heating time can be managed.

前記構成において、被供給部材を吸着する吸着機構を有するステージを備え、エラー認識した場合に、前記吸着機構を介してステージに吸着されている被供給部材を再度吸着し直すものであってもよい。また、被供給部材をステージに押さえる押さえ機構を備え、エラー認識した場合に、前記押さえ機構にて押さえられている被供給部材を再度押さえ直すものであってもよい。さらに、エラー認識した場合に、前記加熱手段は、前記制御手段に設定された温度とは異なる温度で加熱するものであってもよい。   In the above configuration, a stage having a suction mechanism for sucking the supply target member may be provided, and when an error is recognized, the supply target member suctioned to the stage may be sucked again through the suction mechanism. .. Further, a pressing mechanism for pressing the supplied member on the stage may be provided, and when an error is recognized, the supplied member held by the pressing mechanism may be pressed again. Further, when an error is recognized, the heating means may heat at a temperature different from the temperature set by the control means.

本発明のダイボンダは、前記ワークがウエハのチップであり、被供給部材がその被供給部位であるアイランド部となる基板であり、前記請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のボンディング装置を用いて、供給ポジションであるボンディングポジションに搬送されてきた基板のアイランド部に順次チップをボンディングするものである。   In the die bonder of the present invention, the work is a wafer chip, and the member to be supplied is a substrate to be an island portion which is the supplied portion, and the bonding according to any one of claims 1 to 4. Using the apparatus, chips are sequentially bonded to the island portion of the substrate that has been transported to the bonding position that is the supply position.

本発明のボンディング方法は、ワークを被供給部材にボンディングするボンディング位置で、被供給部材を加熱して、接着剤を介してワークを被供給部材にボンディングするボンディング方法において、ワークをボンディングできる被供給部材の温度を設定し、前記被供給部材の温度を測定して、被供給部材の温度が設定された温度に到達した状態で、ワークを被供給部材にボンディングするものである。   The bonding method of the present invention is a bonding method in which a workpiece can be bonded in a bonding method in which the supplied member is heated at a bonding position for bonding the workpiece to the supplied member and the work is bonded to the supplied member via an adhesive. The temperature of the member is set, the temperature of the member to be supplied is measured, and the work is bonded to the member to be supplied when the temperature of the member to be supplied reaches the set temperature.

前記構成において、被供給部材の加熱時間を設定し、前記加熱時間で、被供給部材の温度が設定された温度に到達しないときにエラー認識するものであってもよい。   In the above configuration, the heating time of the supply target member may be set, and an error may be recognized when the temperature of the supply target member does not reach the set temperature during the heating time.

前記構成において、エラー認識した場合に、被供給部材をステージに吸着する吸着機構を介してステージに吸着されている被供給部材を再度吸着し直すものであってもよい。また、エラー認識した場合に、被供給部材をステージに押さえる押さえ機構にて押さえられている被供給部材を再度押さえ直すものであってもよい。さらに、エラー認識した場合に、設定された温度とは異なる温度で加熱するものであってもよい。   In the above configuration, when an error is recognized, the supply target member sucked on the stage may be sucked again via the suction mechanism that sucks the supply target member on the stage. Further, when an error is recognized, the supply target member that is being pressed by the pressing mechanism that presses the supply target member on the stage may be pressed again. Further, when an error is recognized, heating may be performed at a temperature different from the set temperature.

本発明のボンディング装置、ダイボンダ、及びボンディング方法は、被供給部材の温度が実際に接合温度に到達した時点でボンディングを開始することができて、被供給部材の搬送状況ごとの待ち時間の設定が不要となり、被供給部材の温度上昇時間を把握するための予備実験も不要となって、生産性を向上させることができ、多様な製品を製造することができる。さらに、被供給部材が接合温度に到達していない場合でのボンディングを防ぐことができ、接合品質の悪化を予防できる。   The bonding apparatus, the die bonder, and the bonding method of the present invention can start bonding when the temperature of the supply target member actually reaches the bonding temperature, and set the waiting time for each conveyance status of the supply target member. It becomes unnecessary, and preliminary experiments for grasping the temperature rise time of the supply target member become unnecessary, so that productivity can be improved and various products can be manufactured. Furthermore, it is possible to prevent bonding when the supply target member has not reached the bonding temperature, and it is possible to prevent deterioration of the bonding quality.

本発明のボンディング装置の簡略斜視図である。It is a simplified perspective view of the bonding apparatus of this invention. 本発明のボンディング装置のブロック図である。It is a block diagram of a bonding device of the present invention. 本発明の第1実施形態のボンディング装置を構成する制御手段のブロック図である。It is a block diagram of the control means which comprises the bonding apparatus of 1st Embodiment of this invention. 本発明のボンディング方法を示すフローチャート図である。It is a flowchart figure which shows the bonding method of this invention. 本発明のボンディング装置による被供給部材の加熱時間と温度と次工程のタイミングを示すグラフ図である。It is a graph which shows the heating time and temperature of the to-be-supplied member by the bonding apparatus of this invention, and the timing of the following process. 本発明の第2実施形態のボンディング装置を構成する制御手段のブロック図である。It is a block diagram of the control means which comprises the bonding apparatus of 2nd Embodiment of this invention. 一般的なボンディング装置の動作を示す簡略図である。It is a simplified diagram which shows operation|movement of a general bonding apparatus. ウエハを示す簡略図である。It is a simplified diagram showing a wafer. 従来のボンディング装置による被供給部材の加熱時間と温度と次工程のタイミングを示すグラフ図である。It is a graph which shows the heating time and temperature of the to-be-supplied member by the conventional bonding apparatus, and the timing of the following process.

以下、本発明の実施の形態を図1〜図6に基づいて説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS.

本発明のボンディング装置は、接着剤を介してダイ(電子回路を作り込んだシリコン基板のチップ)をリードフレームや基板等の被供給部材に接着するダイボンダに設置される装置である。本実施形態では、接着剤はチップの裏面に設けられたダイアタッチフィルム(DAF)である。ダイアタッチフィルムはフィルム状の接着剤であり、加熱することで硬化する。   The bonding apparatus of the present invention is an apparatus installed in a die bonder that adheres a die (chip of a silicon substrate on which an electronic circuit is formed) to a supply target member such as a lead frame or a substrate via an adhesive. In this embodiment, the adhesive is a die attach film (DAF) provided on the back surface of the chip. The die attach film is a film-like adhesive and is hardened by heating.

ボンディング装置は、供給部22の半導体チップ(以下、チップ21という)を吸着するコレット23を有するボンディングアーム30と、供給部22のチップ21を観察する認識用カメラ26と、ボンディング位置で被供給部材である基板24のアイランド部25を観察する認識用カメラ32とを備える。   The bonding apparatus includes a bonding arm 30 having a collet 23 for adsorbing a semiconductor chip (hereinafter referred to as a chip 21) of a supply unit 22, a recognition camera 26 for observing the chip 21 of the supply unit 22, and a member to be supplied at a bonding position. And a recognition camera 32 for observing the island portion 25 of the substrate 24.

供給部22は、ウエハ支持装置27に載置支持された半導体ウエハ28を備えるものである。半導体ウエハ28は多数のチップ21に分割されている。また、コレット23はコレットホルダ29に連結され、このコレット23とコレットホルダ29等でボンディングアーム30が構成される。そして、このボンディングアーム30は搬送手段31を介して、ピックアップ位置とボンディング位置との間の移動が可能となっている。搬送手段31は、ボンディングアーム30をX、Y、θ及びZ方向に駆動させることができる。   The supply unit 22 includes a semiconductor wafer 28 mounted and supported by the wafer support device 27. The semiconductor wafer 28 is divided into a large number of chips 21. The collet 23 is connected to a collet holder 29, and the collet 23, the collet holder 29, and the like constitute a bonding arm 30. The bonding arm 30 can be moved between the pickup position and the bonding position via the transfer means 31. The transfer means 31 can drive the bonding arm 30 in the X, Y, θ, and Z directions.

また、このコレット23は、その下端面に開口した吸着孔を介してチップ21が真空吸引され、このコレット23の下端面にチップ21が吸着する。なお、この真空吸引(真空引き)が解除されれば、コレット23からチップ21が外れる。   The tip 21 of the collet 23 is vacuum-sucked through a suction hole opened at the lower end surface of the collet 23, and the tip 21 is adsorbed to the lower end surface of the collet 23. When the vacuum suction (vacuum suction) is released, the chip 21 is detached from the collet 23.

基板24は図示省略のステージに載置される。このステージには加熱手段(例えば、加熱ヒータ)が配置され、基板24が加熱される。このため、基板24が高温雰囲気に置かれることになり、熱圧着が可能な所定温度にまで到達した基板24にチップ21をボンディングすることによって、ダイアタッチフィルムを介してチップ21を基板にボンディングすることができる。   The substrate 24 is placed on a stage (not shown). A heating means (for example, a heater) is arranged on this stage to heat the substrate 24. For this reason, the substrate 24 is placed in a high temperature atmosphere, and the chip 21 is bonded to the substrate 24 that has reached a predetermined temperature capable of thermocompression bonding, so that the chip 21 is bonded to the substrate via the die attach film. be able to.

ステージには吸着穴が設けられるとともに、ステージには、図示省略の真空ポンプ等の真空源が接続されている。これら吸着穴と真空源とから構成される吸着機構が、基板24をステージに固定する固定手段となる。すなわち、ステージに基板24が載置された状態で真空源が駆動すると、吸着穴を介して基板24が吸着され、基板24は全面的にステージ2に吸着(固定)される。   A suction hole is provided in the stage, and a vacuum source such as a vacuum pump (not shown) is connected to the stage. The suction mechanism including the suction holes and the vacuum source serves as a fixing unit that fixes the substrate 24 to the stage. That is, when the vacuum source is driven while the substrate 24 is placed on the stage, the substrate 24 is adsorbed through the adsorption holes, and the substrate 24 is entirely adsorbed (fixed) on the stage 2.

供給部22の上方には、認識用カメラ26が配置されており、この認識用カメラ26は、ピックアップすべきチップ21を観察する。また、ボンディング位置の上方には認識用カメラ32が配置されており、この認識用カメラ32は、ボンディングすべき基板24のアイランド部25を観察する。   A recognition camera 26 is arranged above the supply unit 22, and the recognition camera 26 observes the chip 21 to be picked up. Further, a recognition camera 32 is arranged above the bonding position, and the recognition camera 32 observes the island portion 25 of the substrate 24 to be bonded.

ボンディング位置の上方に位置する認識用カメラ32には、温度測定手段(温度センサ33(図2参照))が搭載されている。温度センサ33は、公知公用のものを使用することができ、接触式(例えば、測温抵抗体、サーミスタ、熱電対、IC温度センサ等)であっても、非接触式(例えば、放射温度計等)であってもよく、本実施形態では非接触式の温度センサを用いている。これにより、ボンディング位置の直上に温度センサ33が配置されることになり、ボンディングしようとするアイランド部25の温度を非接触で測定することができる。   A temperature measuring means (temperature sensor 33 (see FIG. 2)) is mounted on the recognition camera 32 located above the bonding position. The temperature sensor 33 may be a publicly known one, and may be a contact type (for example, a resistance temperature detector, a thermistor, a thermocouple, an IC temperature sensor, etc.) or a non-contact type (for example, a radiation thermometer). Etc.), and a non-contact type temperature sensor is used in this embodiment. As a result, the temperature sensor 33 is arranged immediately above the bonding position, and the temperature of the island portion 25 to be bonded can be measured without contact.

搬送手段31は、図2に示すように制御手段34により制御される。制御手段34は、例えば、CPU(Central Processing Unit)を中心としてROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)等がバスを介して相互に接続されたマイクロコンピュータで構成できる。なお、ROMには、CPUが実行するプログラムやデータが格納されている。   The transport means 31 is controlled by the control means 34 as shown in FIG. The control unit 34 can be configured by, for example, a microcomputer in which a central processing unit (CPU) is centrally located and a ROM (Read Only Memory), a RAM (Random Access Memory), and the like are connected to each other via a bus. The ROM stores programs executed by the CPU and data.

制御手段34は、図3に示すように、接合温度情報設定部36と、判定手段37とを備えている。接合温度情報設定部36は、予めユーザにより設定された基板24の温度範囲(接合温度情報)を記憶するものである。接合温度情報は、チップ21をボンディングできる基板24の温度範囲であり、例えば、DAF等の接着剤の種類、基板24の厚み、チップ21の積層の有無、等の種々の条件から、そのチップ21の接合に適した基板24の温度範囲であって、ユーザが自由に設定するものである。   As shown in FIG. 3, the control unit 34 includes a junction temperature information setting unit 36 and a determination unit 37. The bonding temperature information setting unit 36 stores the temperature range of the substrate 24 (bonding temperature information) set by the user in advance. The joining temperature information is a temperature range of the substrate 24 to which the chip 21 can be bonded. For example, the type of the adhesive such as DAF, the thickness of the substrate 24, the presence or absence of the stack of the chips 21 and the like are used to determine the chip 21. The temperature range of the substrate 24 is suitable for the joining, and is freely set by the user.

判定手段37は、温度センサ33により実際に測定された基板24の温度が、接合温度情報設定部36に記憶された温度に到達しているか否かを判定するものである。判定手段37が到達していると判定した場合には、搬送手段31を駆動させてボンディングが開始される。一方、到達していないと判定した場合には待機状態とする。   The determination unit 37 determines whether or not the temperature of the substrate 24 actually measured by the temperature sensor 33 has reached the temperature stored in the bonding temperature information setting unit 36. When the determination means 37 determines that the arrival has arrived, the transport means 31 is driven to start bonding. On the other hand, if it is determined that it has not arrived, the standby state is set.

次に、前記ボンディング装置を使用したボンディング方法を図4及び図5を用いて説明する。まず、ユーザは、チップ21をボンディングできる基板24の温度範囲(接合温度情報)を決定し、その接合温度情報を制御手段34(接合温度情報設定部36)に記憶させる(ステップS1)。   Next, a bonding method using the bonding apparatus will be described with reference to FIGS. First, the user determines the temperature range (bonding temperature information) of the substrate 24 to which the chip 21 can be bonded, and stores the bonding temperature information in the control means 34 (bonding temperature information setting unit 36) (step S1).

基板24がステージに搬送されると、図5のAに示すように、ステージの加熱手段により基板24が加熱される。その際、図5のBに示すように、温度センサ33にてステージ上の基板24の温度を測定する(ステップS2)。   When the substrate 24 is transported to the stage, the substrate 24 is heated by the heating means of the stage, as shown in A of FIG. At that time, as shown in FIG. 5B, the temperature of the substrate 24 on the stage is measured by the temperature sensor 33 (step S2).

判定手段37は、温度センサ33にて測定された基板24の温度が、接合温度情報設定部36に記憶されている設定温度に到達したか否かを判定する(ステップS3)。到達していない場合は待機状態とし、到達している場合は、図5のCに示すように、画像処理を開始する(ステップS4)。すなわち、ボンディング位置の上方に配置された認識用カメラ32にて、ボンディングすべき基板24のアイランド部25を観察する。   The determination unit 37 determines whether the temperature of the substrate 24 measured by the temperature sensor 33 has reached the set temperature stored in the bonding temperature information setting unit 36 (step S3). If it has not arrived, it is put in a standby state, and if it has arrived, image processing is started as shown in C of FIG. 5 (step S4). That is, the island portion 25 of the substrate 24 to be bonded is observed with the recognition camera 32 arranged above the bonding position.

その後、図5のDに示すように、ボンディングを開始する(ステップS5)。すなわち、供給部22の上方に配置される認識用カメラ26にてピックアップすべきチップ21を観察し、コレット23をピックアップすべきチップ21の上方に位置させた後、このコレット23を下降させてこのチップ21をピックアップし、アイランド部25上にコレット23を移動させ、その後コレット24を下降させてアイランド部25にチップ21を供給する。   Then, as shown in D of FIG. 5, bonding is started (step S5). That is, the chip 21 to be picked up is observed by the recognition camera 26 arranged above the supply unit 22, the collet 23 is positioned above the chip 21 to be picked up, and then the collet 23 is lowered to move the chip. The chip 21 is picked up, the collet 23 is moved onto the island portion 25, and then the collet 24 is lowered to supply the chip 21 to the island portion 25.

第1実施形態のボンディング装置及びボンディング方法は、温度センサ33により基板24の温度を測定しているため、基板24及びチップ21の条件や、加熱時間によらず、基板24の温度が実際に接合温度に到達した時点でボンディングを開始することができて(基板24の温度の測定結果をボンディング開始条件にできて)、基板24の搬送状況ごとの待ち時間の設定が不要となり、基板24の温度上昇時間を把握するための予備実験も不要となって、生産性を向上させることができ、多様な製品を製造することができる。また、温度センサ33により温度降下を監視することができるため、基板24が接合温度に到達していない場合でのボンディングを防ぐことができ、接合品質の悪化を予防できる。   In the bonding apparatus and the bonding method of the first embodiment, since the temperature of the substrate 24 is measured by the temperature sensor 33, the temperature of the substrate 24 is actually bonded regardless of the conditions of the substrate 24 and the chip 21 and the heating time. Since the bonding can be started when the temperature is reached (the measurement result of the temperature of the substrate 24 can be used as the bonding start condition), it is not necessary to set the waiting time for each transfer condition of the substrate 24, and the temperature of the substrate 24 can be reduced. Preliminary experiments for ascertaining the rise time are also unnecessary, productivity can be improved, and various products can be manufactured. Further, since the temperature drop can be monitored by the temperature sensor 33, it is possible to prevent the bonding when the substrate 24 has not reached the bonding temperature and prevent the deterioration of the bonding quality.

図6は第2の実施形態のボンディング装置を示す。第2実施形態のボンディング装置の制御手段40は、図6(a)に示すように、接合温度情報設定部36と、タイマー41と、加熱時間設定部42と、判定手段43と、警告手段44とを備えている。接合温度情報設定部36は、第1実施形態のボンディング装置の制御手段のものと同様であり、予めユーザにより設定された基板24の温度範囲(接合温度情報)を記憶するものである。   FIG. 6 shows a bonding apparatus according to the second embodiment. As shown in FIG. 6A, the control unit 40 of the bonding apparatus of the second embodiment has a bonding temperature information setting unit 36, a timer 41, a heating time setting unit 42, a determination unit 43, and a warning unit 44. It has and. The bonding temperature information setting unit 36 is similar to that of the control unit of the bonding apparatus according to the first embodiment, and stores the temperature range (bonding temperature information) of the substrate 24 preset by the user.

タイマー41は、温度センサ33により基板24の温度の測定を開始してからの時間をカウントするものである。   The timer 41 counts the time from when the temperature sensor 33 starts measuring the temperature of the substrate 24.

加熱時間設定部42は、予めユーザにより設定された、基板24の加熱時間を記憶するものである。加熱時間は、例えば、DAF等の接着剤の種類、基板24の厚み、チップ21の積層の有無、等の条件から、そのチップ21の接合に適した基板24の温度に到達するまでに許容される時間範囲であって、ユーザが自由に設定するものである。   The heating time setting unit 42 stores the heating time of the substrate 24 set by the user in advance. The heating time is allowed until the temperature of the substrate 24 suitable for joining the chips 21 is reached, depending on conditions such as the type of adhesive such as DAF, the thickness of the substrate 24, the presence or absence of stacking of the chips 21. The time range to be set, which is freely set by the user.

判定手段43は、温度判定部45と時間判定部46とを備える。温度判定部45は、温度センサ33により実際に測定された基板24の温度が、接合温度情報設定部36に記憶された設定温度に到達しているか否かを判定するものである。時間判定部46は、温度センサ33により基板24の温度の測定を開始してからの時間が、加熱時間設定部42に記憶された加熱時間の範囲内であるか否かを判定するものである。   The determination unit 43 includes a temperature determination unit 45 and a time determination unit 46. The temperature determination unit 45 determines whether or not the temperature of the substrate 24 actually measured by the temperature sensor 33 has reached the set temperature stored in the bonding temperature information setting unit 36. The time determination unit 46 determines whether or not the time after the temperature sensor 33 starts measuring the temperature of the substrate 24 is within the range of the heating time stored in the heating time setting unit 42. ..

警告手段44は、時間判定部46が、温度センサ33により基板24の温度の測定を開始してからの時間が、加熱時間設定部42に記憶された加熱時間の範囲内ではない場合に警告を行うものである。警告は、エラー音の発生、モニタのエラー表示、装置の停止等により警告することができる。本実施形態では、図6(a)に示すように、エラー認識した場合に、吸着機構47を介してステージに吸着されている基板24を再度吸着し直す。   The warning unit 44 gives a warning when the time determination unit 46 has not measured the temperature of the substrate 24 by the temperature sensor 33 within the heating time stored in the heating time setting unit 42. It is something to do. The warning can be issued by generating an error sound, displaying an error on the monitor, stopping the device, or the like. In the present embodiment, as shown in FIG. 6A, when an error is recognized, the substrate 24 sucked on the stage is sucked again via the suction mechanism 47.

第2実施形態のボンディング装置及びボンディング方法でも、前記第1実施形態のボンディング装置及びボンディング方法と同様の作用効果を奏する。特に、所定時間内に加熱できない場合の原因としては、基板24がステージに密着していないことが多いため、エラー認識した場合に、吸着機構47を介してステージに吸着されている基板24を再度吸着し直すと、エラーとなる原因がなくなる可能性が高くなって、適切に基板24の加熱を行うことができる。また、接着剤がDAFである場合には、所定時間以上DAFを加熱すると硬化が進み、他の工程の品質に影響があるため、総加熱時間を管理する必要がある。本実施形態では、総加熱時間の管理が可能となる。   The bonding apparatus and the bonding method of the second embodiment also have the same effects as the bonding apparatus and the bonding method of the first embodiment. In particular, the reason why the substrate 24 cannot be heated within the predetermined time is that the substrate 24 is not in close contact with the stage in many cases. Therefore, when an error is recognized, the substrate 24 attracted to the stage again via the adsorption mechanism 47 is again detected. Re-adsorption increases the possibility of eliminating the cause of the error, and the substrate 24 can be appropriately heated. In addition, when the adhesive is DAF, if the DAF is heated for a predetermined time or more, the curing proceeds and the quality of other processes is affected. Therefore, it is necessary to control the total heating time. In this embodiment, the total heating time can be managed.

第2実施形態の変形例として、基板24が載置されるステージに吸着穴は設けられておらず、ステージに基板24を押圧する押さえ機構(図示省略)が設けられている場合がある。すなわち、押さえ機構としては、ステージの上方に設けられ、基板24をステージに対して上方より押圧する押圧本体と、押圧本体を上下動させるシリンダ機構、リニアガイド機構等からなる往復動機構とから構成される。   As a modified example of the second embodiment, there is a case where the stage on which the substrate 24 is mounted is not provided with a suction hole, and the stage is provided with a pressing mechanism (not shown) that presses the substrate 24. That is, the pressing mechanism includes a pressing body that is provided above the stage and presses the substrate 24 against the stage from above, and a reciprocating mechanism that includes a cylinder mechanism that moves the pressing body up and down and a linear guide mechanism. To be done.

この場合、図6(b)に示すように、エラー認識した場合に、押さえ機構48にて押さえられている基板24を再度押さえ直す。これにより、基板24をステージに密着させることができ、基板24を適切に加熱することができる。   In this case, as shown in FIG. 6B, when an error is recognized, the substrate 24 held by the holding mechanism 48 is held again. Thereby, the substrate 24 can be brought into close contact with the stage, and the substrate 24 can be appropriately heated.

さらに、第2実施形態の他の変形例は、図6(c)に示すように、エラー認識した場合に、加熱手段49が、制御手段40に設定された温度とは異なる温度で加熱するものである。すなわち、加熱時間設定部42に記憶された加熱時間が経過しても、基板24の温度が接合温度情報設定部36に設定された温度に到達しない(設定温度より低い)場合は、加熱手段49は、接合温度情報設定部36に設定された温度よりも高い温度で加熱を行うようにする。これにより、基板24を適切に加熱することができる。   Further, in another modification of the second embodiment, as shown in FIG. 6C, the heating means 49 heats at a temperature different from the temperature set in the control means 40 when an error is recognized. Is. That is, if the temperature of the substrate 24 does not reach the temperature set in the bonding temperature information setting unit 36 (lower than the set temperature) even after the heating time stored in the heating time setting unit 42 has passed, the heating means 49. Performs heating at a temperature higher than the temperature set in the joining temperature information setting unit 36. Thereby, the substrate 24 can be appropriately heated.

以上、本発明の実施形態につき説明したが、本発明は前記実施形態に限定されることなく種々の変形が可能であって、例えば、ワークを被供給部材に接着する接着剤としてはDAFではなく、ペースト状の接着剤(例えば流動性が良くなるのに適した温度でボンディングする)にも適用することができる。温度センサは、非接触式のものであっても、接触式のものであっても、基板の表面温度を測定できるものであれば種類は問わない。温度の監視はアイランドの各列毎に行ってもよいし、何列か毎に行ってもよい。ステージに吸着機構と押さえ機構との両方を備えている場合は、エラー認識した場合に、吸着機構のみを再稼働させたり、押さえ機構のみを再稼働させたり、吸着機構と押さえ機構との両方を再稼働させてもよい。   Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments and various modifications are possible. For example, as an adhesive agent for adhering a workpiece to a supply target member, DAF is not used. It can also be applied to a paste-like adhesive (for example, bonding at a temperature suitable for improving fluidity). The temperature sensor may be a non-contact type or a contact type as long as it can measure the surface temperature of the substrate. The temperature may be monitored for each row of islands or every several rows of islands. If the stage has both a suction mechanism and a holding mechanism, when an error is recognized, only the suction mechanism is restarted, only the holding mechanism is restarted, or both the suction mechanism and the holding mechanism are operated. You may restart it.

前記実施形態では、チップを基板にボンディングする直前に、基板の温度を測定する場合について説明したが、ボンディングの直前ではなく、初期条件を決定する際におけるセットアップサポート機能として使用することもできる。   In the above-described embodiment, the case where the temperature of the substrate is measured immediately before bonding the chip to the substrate has been described, but it may be used as a setup support function when determining the initial condition, not immediately before bonding.

21 チップ
24 基板
33 温度センサ
34 制御手段
42 加熱時間設定部
21 chip 24 substrate 33 temperature sensor 34 control means 42 heating time setting unit

本発明の第1のボンディング装置は、ワークを被供給部材にボンディングするボンディング位置に、被供給部材を加熱する加熱手段を備え、接着剤を介してワークを被供給部材にボンディングするボンディング装置において、 ワークをボンディングできる被供給部材の温度が設定される制御手段と、前記被供給部材の温度を測定する温度測定手段とを備え、被供給部材の温度が前記制御手段に設定された温度に到達した状態で、ワークを被供給部材にボンディングするものであり、前記制御手段に設定される温度は、接合温度情報に基づくものであって、接合温度情報はワークをボンディングできる基板の温度範囲であり、この温度からの低下を温度センサにて監視するものである。 A first bonding apparatus of the present invention is a bonding apparatus for bonding a work to a supply target member via an adhesive, which comprises a heating unit for heating the supply target member at a bonding position for bonding the work to the supply target member. A control means for setting the temperature of the supplied member capable of bonding the workpiece and a temperature measuring means for measuring the temperature of the supplied member are provided, and the temperature of the supplied member has reached the temperature set by the control means. In the state, the work is bonded to the supply target member, the temperature set in the control means is based on the bonding temperature information, the bonding temperature information is the temperature range of the substrate to which the work can be bonded, The decrease from this temperature is monitored by a temperature sensor .

本発明の第2のボンディング装置は、ワークを被供給部材にボンディングするボンディング位置に、被供給部材を加熱する加熱手段を備え、接着剤を介してワークを被供給部材にボンディングするボンディング装置において、ワークをボンディングできる被供給部材の温度が設定される制御手段と、前記被供給部材の温度を測定する温度測定手段とを備え、被供給部材の温度が前記制御手段に設定された温度に到達した状態で、ワークを被供給部材にボンディングするものであり、前記制御手段は、被供給部材の加熱時間が設定される加熱時間設定部を備え、前記加熱時間で、被供給部材の温度が前記制御手段に設定された温度に到達しないときにエラー認識し、かつ、被供給部材を吸着する吸着機構を有するステージを備え、エラー認識した場合に、前記吸着機構を介してステージに吸着されている被供給部材を再度吸着し直すものである。
特に、接着剤がDAFである場合には、所定時間以上DAFを加熱すると硬化が進み、他の工程の品質に影響があるため、総加熱時間を管理する必要がある。本発明では、総加熱時間の管理が可能となる。
A second bonding apparatus of the present invention is a bonding apparatus for bonding a work to a supply target member through an adhesive, the heating device heating the supply target member at a bonding position for bonding the work to the supply target member. A control means for setting the temperature of the supplied member capable of bonding the work and a temperature measuring means for measuring the temperature of the supplied member are provided, and the temperature of the supplied member has reached the temperature set by the control means. In this state, the workpiece is bonded to the supply target member, and the control means includes a heating time setting unit for setting the heating time of the supply target member, and the temperature of the supply target member is controlled by the heating time setting unit. The stage is provided with a suction mechanism that recognizes an error when the temperature set in the means is not reached, and that sucks the member to be supplied, and when the error is recognized, the stage sucked by the stage via the suction mechanism is detected. The supply member is sucked again.
In particular, when the adhesive is DAF, if the DAF is heated for a predetermined time or more, curing proceeds and the quality of other processes is affected. Therefore, it is necessary to control the total heating time. In the present invention, the total heating time can be managed.

本発明の第3のボンディング装置は、ワークを被供給部材にボンディングするボンディング位置に、被供給部材を加熱する加熱手段を備え、接着剤を介してワークを被供給部材にボンディングするボンディング装置において、ワークをボンディングできる被供給部材の温度が設定される制御手段と、前記被供給部材の温度を測定する温度測定手段とを備え、被供給部材の温度が前記制御手段に設定された温度に到達した状態で、ワークを被供給部材にボンディングするものであり、前記制御手段は、被供給部材の加熱時間が設定される加熱時間設定部を備え、前記加熱時間で、被供給部材の温度が前記制御手段に設定された温度に到達しないときにエラー認識し、かつ、被供給部材をステージに押さえる押さえ機構を備え、エラー認識した場合に、前記押さえ機構にて押さえられている被供給部材を再度押さえ直すものである。
ラー認識した場合に、前記加熱手段は、前記制御手段に設定された温度とは異なる温度で加熱するものであってもよい。
A third bonding apparatus of the present invention is a bonding apparatus for bonding a work to a supply target member through an adhesive, the heating unit heating the supply target member at a bonding position for bonding the work to the supply target member. A control means for setting the temperature of the supplied member capable of bonding the workpiece and a temperature measuring means for measuring the temperature of the supplied member are provided, and the temperature of the supplied member has reached the temperature set by the control means. In this state, the workpiece is bonded to the supply target member, and the control means includes a heating time setting unit for setting the heating time of the supply target member, and the temperature of the supply target member is controlled by the heating time setting unit. When the temperature set in the means is not reached, an error is recognized, and a pressing mechanism for pressing the supplied member on the stage is provided. When the error is recognized, the supplied member pressed by the pressing mechanism is pressed again. It is a fix.
When error recognition, the heating means may be one of heating at different temperatures and the temperature set on the control unit.

本発明の第1のボンディング方法は、ワークを被供給部材にボンディングするボンディング位置で、被供給部材を加熱して、接着剤を介してワークを被供給部材にボンディングするボンディング方法において、ワークをボンディングできる被供給部材の温度を設定し、前記被供給部材の温度を測定して、被供給部材の温度が設定された温度に到達した状態で、ワークを被供給部材にボンディングするものであり、供給部材の加熱時間を設定し、前記加熱時間で、被供給部材の温度が設定された温度に到達しないときにエラー認識し、エラー認識した場合に、被供給部材をステージに吸着する吸着機構を介してステージに吸着されている被供給部材を再度吸着し直すものである。 A first bonding method of the present invention is a bonding method for heating a supply target member at a bonding position where a work is bonded to a supply target member and bonding the work to the supply target member via an adhesive. possible to set the temperature of the feed member, said by measuring the temperature of the feed member, in a state where the temperature of the supply member reaches the set temperature, which bonding the workpiece to supply target member, supply When the heating time of the member is set, an error is recognized when the temperature of the supplied member does not reach the set temperature in the heating time, and when the error is recognized, an adsorption mechanism that adsorbs the supplied member to the stage The member to be supplied that has been sucked to the stage is sucked again.

本発明の第2のボンディング方法は、ワークを被供給部材にボンディングするボンディング位置で、被供給部材を加熱して、接着剤を介してワークを被供給部材にボンディングするボンディング方法において、ワークをボンディングできる被供給部材の温度を設定し、A second bonding method of the present invention is a bonding method for heating a supply target member at a bonding position where a work is bonded to the supply target member and bonding the work to the supply target member via an adhesive. Set the temperature of the supplied material that can be
前記被供給部材の温度を測定して、被供給部材の温度が設定された温度に到達した状態で、ワークを被供給部材にボンディングするものであり、供給部材の加熱時間を設定し、前記加熱時間で、被供給部材の温度が設定された温度に到達しないときにエラー認識し、エラー認識した場合に、被供給部材をステージに押さえる押さえ機構にて押さえられている被供給部材を再度押さえ直すものである。  The temperature of the supply target member is measured, and when the temperature of the supply target member reaches the set temperature, the work is bonded to the supply target member, the heating time of the supply member is set, and the heating is performed. When the temperature of the supplied member does not reach the set temperature in time, an error is recognized, and when the error is recognized, the supplied member held by the pressing mechanism that holds the supplied member on the stage is pressed again. It is a thing.

ラー認識した場合に、設定された温度とは異なる温度で加熱するものであってもよい。 When error recognition, or it may be heated at different temperatures and the set temperature.

Claims (11)

ワークを被供給部材にボンディングするボンディング位置に、被供給部材を加熱する加熱手段を備え、接着剤を介してワークを被供給部材にボンディングするボンディング装置において、
ワークをボンディングできる被供給部材の温度が設定される制御手段と、前記被供給部材の温度を測定する温度測定手段とを備え、被供給部材の温度が前記制御手段に設定された温度に到達した状態で、ワークを被供給部材にボンディングすることを特徴とするボンディング装置。
In a bonding device for bonding a work to a supply target member, a heating unit for heating the supply target member is provided at a bonding position for bonding the work to the supply target member,
A control means for setting the temperature of the supplied member capable of bonding the work and a temperature measuring means for measuring the temperature of the supplied member are provided, and the temperature of the supplied member has reached the temperature set by the control means. A bonding apparatus, which bonds a workpiece to a supply target member in a state.
前記制御手段は、被供給部材の加熱時間が設定される加熱時間設定部を備え、前記加熱時間で、被供給部材の温度が前記制御手段に設定された温度に到達しないときにエラー認識することを特徴とする請求項1に記載のボンディング装置。   The control means includes a heating time setting unit for setting a heating time of the supply target member, and recognizes an error when the temperature of the supply target member does not reach the temperature set by the control means during the heating time. The bonding apparatus according to claim 1, wherein: 被供給部材を吸着する吸着機構を有するステージを備え、エラー認識した場合に、前記吸着機構を介してステージに吸着されている被供給部材を再度吸着し直すことを特徴とする請求項2に記載のボンディング装置。   The stage according to claim 2, further comprising a stage having a suction mechanism for sucking the supply target member, wherein when an error is recognized, the supply target member suctioned to the stage is sucked again through the suction mechanism. Bonding equipment. 被供給部材をステージに押さえる押さえ機構を備え、エラー認識した場合に、前記押さえ機構にて押さえられている被供給部材を再度押さえ直すことを特徴とする請求項2に記載のボンディング装置。   The bonding apparatus according to claim 2, further comprising a holding mechanism that holds the supplied member against the stage, and when an error is recognized, the supplied member held by the holding mechanism is pressed again. エラー認識した場合に、前記加熱手段は、前記制御手段に設定された温度とは異なる温度で加熱することを特徴とする請求項2に記載のボンディング装置。   The bonding apparatus according to claim 2, wherein, when an error is recognized, the heating unit heats at a temperature different from the temperature set by the control unit. 前記ワークがウエハのチップであり、被供給部材がその被供給部位であるアイランド部
となる基板であり、前記請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のボンディング装置を用いて、
供給ポジションであるボンディングポジションに搬送されてきた基板のアイランド部に順次チップをボンディングすることを特徴とするダイボンダ。
The work is a chip of a wafer, and the supply target member is a substrate serving as an island portion which is the supply target portion, and the bonding apparatus according to any one of claims 1 to 4,
A die bonder characterized by sequentially bonding chips to island portions of a substrate that has been transported to a bonding position that is a supply position.
ワークを被供給部材にボンディングするボンディング位置で、被供給部材を加熱して、接着剤を介してワークを被供給部材にボンディングするボンディング方法において、
ワークをボンディングできる被供給部材の温度を設定し、
前記被供給部材の温度を測定して、被供給部材の温度が設定された温度に到達した状態で、ワークを被供給部材にボンディングすることを特徴とするボンディング方法。
In a bonding method of heating a supply target member at a bonding position where a work is bonded to the supply target member, and bonding the work to the supply target member via an adhesive,
Set the temperature of the supplied member that can bond the work,
A bonding method comprising: measuring the temperature of the supply target member, and bonding a workpiece to the supply target member when the temperature of the supply target member reaches a set temperature.
被供給部材の加熱時間を設定し、前記加熱時間で、被供給部材の温度が設定された温度に到達しないときにエラー認識することを特徴とする請求項7に記載のボンディング方法。   The bonding method according to claim 7, wherein a heating time of the supply target member is set, and an error is recognized when the temperature of the supply target member does not reach the set temperature within the heating time. エラー認識した場合に、被供給部材をステージに吸着する吸着機構を介してステージに吸着されている被供給部材を再度吸着し直すことを特徴とする請求項8に記載のボンディング方法。   9. The bonding method according to claim 8, wherein when an error is recognized, the supply target member sucked on the stage is sucked again through a suction mechanism that sucks the supply target member on the stage. エラー認識した場合に、被供給部材をステージに押さえる押さえ機構にて押さえられている被供給部材を再度押さえ直すことを特徴とする請求項8に記載のボンディング方法。   9. The bonding method according to claim 8, wherein when an error is recognized, the member to be supplied which is being pressed by the pressing mechanism that presses the member to be supplied to the stage is pressed again. エラー認識した場合に、設定された温度とは異なる温度で加熱することを特徴とする請求項8に記載のボンディング方法。   The bonding method according to claim 8, wherein when an error is recognized, the heating is performed at a temperature different from the set temperature.
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