JP2020064900A - 基板保持装置、および該基板保持装置を動作させる方法 - Google Patents
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Abstract
Description
一態様では、前記基板チャックおよび前記ハウジングのうちの一方は、炭素繊維とポリエーテルエーテルケトンとの複合材料から構成されており、他方は超高分子量ポリエチレンから構成されている。
一態様では、前記ハウジングに隣接して配置された液体ノズルをさらに備え、前記液体ノズルは、前記ハウジングの前記挿入孔の上側開口を向いて配置されている。
一態様では、前記基板チャックおよび前記ハウジングの外側に配置されたノズル保持部材をさらに備え、前記液体ノズルは、前記ノズル保持部材に固定されている。
一態様では、前記基板チャックと、前記液体ノズルとの間に配置された回転カバーをさらに備え、前記回転カバーは、前記液体ノズルの位置に対応した通孔を有する。
一態様では、前記液体ノズルに接続された液体供給ラインと、前記液体供給ラインに取り付けられた液体供給弁と、前記液体供給弁を開閉する動作制御部とをさらに備えている。
一態様では、前記動作制御部は、前記基板チャックが上昇しておりかつ、前記基板チャックが前記基板を保持していないときに、前記液体供給弁を開くように構成されている。
一態様では、前記ハウジングは、前記挿入孔を構成する内面に複数の縦溝を有する。
一態様では、前記複数の縦溝は、前記挿入孔の周方向において等間隔で配列されている。
一態様では、前記基板チャックと、前記液体ノズルとの間に配置された回転カバーをさらに備え、前記回転カバーは、前記液体ノズルの位置に対応した通孔を有する。
一態様では、前記ハウジングは、前記挿入孔を構成する内面に複数の縦溝を有する。
一態様では、前記複数の縦溝は、前記挿入孔の周方向において等間隔で配列されている。
一態様では、前記液体ノズルに接続された液体供給ラインと、前記液体供給ラインに取り付けられた液体供給弁と、前記液体供給弁を開閉する動作制御部とをさらに備えている。
一態様では、前記動作制御部は、前記基板チャックが上昇しておりかつ、前記基板チャックが前記基板を保持していないときに、前記液体供給弁を開くように構成されている。
図1は、本発明の一実施形態に係る基板保持装置10を示す縦断面図である。図2は図1に示す基板保持装置10を示す平面図である。
1a アーム
2 基板チャック
3 クランプ
5 回転軸
6 軸受
7 円筒体
9 架台
10 基板保持装置
11,12 プーリー
14 ベルト
15 モータ
17 ハウジング
18 挿入孔
18a 内面
18b 縦溝
20 リフター
20a プッシャー
21 第1の気体チャンバ
22 第2の気体チャンバ
24 第1の気体流路
25 第2の気体流路
28 回転カバー
28a 切り欠き
28b 通孔
30 ばね
35 ばねストッパー
41 位置決め部
43 第1の磁石
44 第2の磁石
45 第3の磁石
46 溝
47 突起部
51 液体ノズル
53 液体供給ライン
54 液体供給弁
57 ノズル保持部材
60 動作制御部
Claims (18)
- 基板を保持する基板保持装置であって、
前記基板の周縁部を保持可能な基板チャックと、
前記基板チャックを上下動可能に支持するハウジングとを備え、
前記ハウジングは、前記基板チャックが挿入される挿入孔を有し、
前記基板チャックと前記ハウジングは、異なる材料から構成されている基板保持装置。 - 前記基板チャックの硬度は、前記ハウジングの硬度と異なる、請求項1に記載の基板保持装置。
- 前記基板チャックおよび前記ハウジングのうちの一方は、炭素繊維とポリエーテルエーテルケトンとの複合材料から構成されており、他方は超高分子量ポリエチレンから構成されている、請求項1または2に記載の基板保持装置。
- 前記ハウジングに隣接して配置された液体ノズルをさらに備え、
前記液体ノズルは、前記ハウジングの前記挿入孔の上側開口を向いて配置されている、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の基板保持装置。 - 前記基板チャックおよび前記ハウジングの外側に配置されたノズル保持部材をさらに備え、
前記液体ノズルは、前記ノズル保持部材に固定されている、請求項4に記載の基板保持装置。 - 前記基板チャックと、前記液体ノズルとの間に配置された回転カバーをさらに備え、
前記回転カバーは、前記液体ノズルの位置に対応した通孔を有する、請求項4または5に記載の基板保持装置。 - 前記液体ノズルに接続された液体供給ラインと、
前記液体供給ラインに取り付けられた液体供給弁と、
前記液体供給弁を開閉する動作制御部とをさらに備えている、請求項4乃至6のいずれか一項に記載の基板保持装置。 - 前記動作制御部は、前記基板チャックが上昇しておりかつ、前記基板チャックが前記基板を保持していないときに、前記液体供給弁を開くように構成されている、請求項7に記載の基板保持装置。
- 前記ハウジングは、前記挿入孔を構成する内面に複数の縦溝を有する、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の基板保持装置。
- 前記複数の縦溝は、前記挿入孔の周方向において等間隔で配列されている、請求項9に記載の基板保持装置。
- 基板を保持する基板保持装置であって、
前記基板の周縁部を保持可能な基板チャックと、
前記基板チャックを上下動可能に支持するハウジングと、
前記ハウジングに隣接して配置された液体ノズルとを備え、
前記ハウジングは、前記基板チャックが挿入される挿入孔を有し、
前記液体ノズルは、前記ハウジングの前記挿入孔の上側開口を向いて配置されている、基板保持装置。 - 前記基板チャックおよび前記ハウジングの外側に配置されたノズル保持部材をさらに備え、
前記液体ノズルは、前記ノズル保持部材に固定されている、請求項11に記載の基板保持装置。 - 前記基板チャックと、前記液体ノズルとの間に配置された回転カバーをさらに備え、
前記回転カバーは、前記液体ノズルの位置に対応した通孔を有する、請求項11または12に記載の基板保持装置。 - 前記ハウジングは、前記挿入孔を構成する内面に複数の縦溝を有する、請求項11乃至13のいずれか一項に記載の基板保持装置。
- 前記複数の縦溝は、前記挿入孔の周方向において等間隔で配列されている、請求項14に記載の基板保持装置。
- 前記液体ノズルに接続された液体供給ラインと、
前記液体供給ラインに取り付けられた液体供給弁と、
前記液体供給弁を開閉する動作制御部とをさらに備えている、請求項11乃至15のいずれか一項に記載の基板保持装置。 - 前記動作制御部は、前記基板チャックが上昇しておりかつ、前記基板チャックが前記基板を保持していないときに、前記液体供給弁を開くように構成されている、請求項16に記載の基板保持装置。
- 基板の周縁部を保持可能な基板チャックと、
前記基板チャックを上下動可能に支持するハウジングと、
前記ハウジングに隣接して配置された液体ノズルとを備え、
前記ハウジングは、前記基板チャックが挿入される挿入孔を有する基板保持装置を動作させる方法であって、
前記基板チャックが上昇し、かつ前記基板チャックが前記基板を保持していないときに、前記液体ノズルから、前記ハウジングの前記挿入孔の上側開口に向かって液体を供給する、方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023080151A1 (ja) * | 2021-11-02 | 2023-05-11 | 出光興産株式会社 | 芳香族ポリエーテル、組成物、フィルム、粉体、ペレット、複合材料の製造方法及び複合材料 |
WO2023080153A1 (ja) * | 2021-11-02 | 2023-05-11 | 出光興産株式会社 | 芳香族ポリエーテル、組成物、フィルム、粉体、ペレット、複合材料の製造方法及び複合材料 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59108616A (ja) * | 1982-12-15 | 1984-06-23 | Tokyo Kasoode Kenkyusho:Kk | コンベア装置 |
JPH0325918A (ja) * | 1989-06-23 | 1991-02-04 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理装置 |
JP2009295751A (ja) * | 2008-06-04 | 2009-12-17 | Ebara Corp | 基板把持機構および基板把持方法 |
JP2017107900A (ja) * | 2015-12-07 | 2017-06-15 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置、基板処理装置の真空吸着テーブルから基板を脱着する方法、及び、基板処理装置の真空吸着テーブルに基板を載置する方法 |
-
2018
- 2018-10-15 JP JP2018194305A patent/JP7128713B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59108616A (ja) * | 1982-12-15 | 1984-06-23 | Tokyo Kasoode Kenkyusho:Kk | コンベア装置 |
JPH0325918A (ja) * | 1989-06-23 | 1991-02-04 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理装置 |
JP2009295751A (ja) * | 2008-06-04 | 2009-12-17 | Ebara Corp | 基板把持機構および基板把持方法 |
JP2017107900A (ja) * | 2015-12-07 | 2017-06-15 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置、基板処理装置の真空吸着テーブルから基板を脱着する方法、及び、基板処理装置の真空吸着テーブルに基板を載置する方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023080151A1 (ja) * | 2021-11-02 | 2023-05-11 | 出光興産株式会社 | 芳香族ポリエーテル、組成物、フィルム、粉体、ペレット、複合材料の製造方法及び複合材料 |
WO2023080153A1 (ja) * | 2021-11-02 | 2023-05-11 | 出光興産株式会社 | 芳香族ポリエーテル、組成物、フィルム、粉体、ペレット、複合材料の製造方法及び複合材料 |
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