JP2020055001A - Coating roll - Google Patents

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成康 町田
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Abstract

To resolve a trouble derived from HCr plating and allow a life longer than that of a coating roll subjected to conventional HCr plating.SOLUTION: The coating roll has a DLC film formed on a surface of a roll base material consisting of martensitic stainless steel hardened by hardening or nitriding. The hardness of the roll base material is preferably HRC20 or more; a mixing layer can also be provided between the roll base material and the DLC film; and the coating roll can be used as, for example, a gravure roll having projections and depressions having various shapes on the surface of the roll base material.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、塗料の塗布に用いる塗布ロールに関し、より具体的には、塗布ロールの表面にクロムめっき(以下「HCrめっき」という)を介さずに炭素系材料の膜が形成された塗布ロールに関するものである。   The present invention relates to an application roll used for applying a coating material, and more specifically, to an application roll having a carbon-based material film formed on a surface of the application roll without using chrome plating (hereinafter referred to as “HCr plating”). Things.

スマートフォンやタブレット等のモバイル端末やウェアラブル端末には各種の機能を有するフィルムやガラス板(以下「機能性素材」という)が用いられている。これらの機能性素材はベースとなるフィルムやガラス板に、光透過性や汚れ防止などの目的に適った塗液を塗布することによって製造される。ベースとなるフィルムやガラス板への塗液の塗布には、塗布ロールが広く用いられている。   2. Description of the Related Art Films and glass plates having various functions (hereinafter, referred to as "functional materials") are used for mobile terminals and wearable terminals such as smartphones and tablets. These functional materials are produced by applying a coating liquid suitable for the purpose of light transmission and prevention of dirt on a film or a glass plate as a base. A coating roll is widely used for applying a coating liquid to a film or a glass plate serving as a base.

塗布ロールの表面は塗液の塗布量を調整するための凹凸(セル又は彫刻)が形成されている。図1(a)(b)にセル形状の一例を示す。図1(a)は格子状のセルの一例を示すもの、(b)は斜辺状のセルの一例を示すものである。形状については特に規定がなく、目的に応じて形や深さなどの形状が選定される。塗布ロールの形状(直径や長さ)は、ユーザーの機械にもよるが、一般的には直径が30mm以上である。   The surface of the application roll is provided with irregularities (cells or engravings) for adjusting the amount of application of the application liquid. 1A and 1B show an example of the cell shape. FIG. 1A shows an example of a lattice-like cell, and FIG. 1B shows an example of an oblique cell. There is no particular limitation on the shape, and a shape such as shape and depth is selected according to the purpose. The shape (diameter and length) of the application roll depends on the user's machine, but is generally 30 mm or more in diameter.

塗布ロールの材質は、主に機械構造用炭素鋼(STKM13A)が用いられており、その表面には耐摩耗性向上と防錆を目的にHCrめっきが30μm程度施されている。HCrめっきが施されたロール表面にはDLC膜(炭素系材料膜)が施される場合もある(特許文献1及び2)。   As the material of the application roll, carbon steel for machine structure (STKM13A) is mainly used, and the surface thereof is coated with HCr about 30 μm for the purpose of improving wear resistance and preventing rust. In some cases, a DLC film (carbon-based material film) is applied to the roll surface on which the HCr plating has been applied (Patent Documents 1 and 2).

特開2013−28861号公報JP 2013-28861 A 特開2011−157610号公報JP 2011-157610 A

炭素鋼を用いたロールは、錆が発生することがあり、そのままDLC膜のような炭素系材料膜を形成すると、十分な密着性を確保するのが困難である。防錆のためにめっきを施すことも行われているが、図2(a)(b)に示すようにめっき内部にめっき液が残留している場合があり、表面ににじみ出てくる他、ボイド(突起)の発生も起こるため、正常なセル形状を得ることが困難である。これらの障害は製品の製造を行う上で品質の低下などの一因となる。また、前述した障害を有したロール表面にDLCコーティングを行った場合、コーティング中に異常放電等のスパーク現象を誘発し、図3に示すようなクレーター状になることもある。   A roll using carbon steel may generate rust, and if a carbon-based material film such as a DLC film is formed as it is, it is difficult to ensure sufficient adhesion. Plating is also performed to prevent rust. However, as shown in FIGS. 2A and 2B, a plating solution may remain inside the plating, so that the plating solution oozes out and the void Since (projections) also occur, it is difficult to obtain a normal cell shape. These obstacles contribute to a decrease in quality in manufacturing the product. Further, when the DLC coating is performed on the roll surface having the above-mentioned obstacle, a spark phenomenon such as abnormal discharge is induced during the coating, and the crater may be formed as shown in FIG.

直径30mm以下の小径の塗布ロールの中には、ステンレス鋼の一種であるSUS304が使用されているものがあるが、SUS304は難加工材料でありロール形状が制約されるという難点がある。また、SUS304は比較的軟質な材料であるため、表面に下地の特性に大きく依存する薄膜で硬質なDLCのような炭素系材料のコーティングを行った場合、膜そのものの特性を発揮するのが困難である。   Some small-diameter application rolls having a diameter of 30 mm or less use SUS304, which is a kind of stainless steel. However, SUS304 is a difficult-to-process material and has a drawback that the roll shape is restricted. Further, since SUS304 is a relatively soft material, it is difficult to exhibit the characteristics of the film itself when the surface is coated with a thin carbon material such as DLC which is highly dependent on the characteristics of the base. It is.

本発明は前記課題に鑑みてなされたものであり、従来生じていたHCrめっき由来の不都合を解消すると共に、従来のHCrめっきが施された塗布ロールよりも低コストで長寿命化を可能とすることにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and solves the disadvantages caused by the HCr plating that has conventionally occurred, and enables a longer life at lower cost than a conventional application roll coated with HCr. It is in.

本発明の塗布ロールは、焼き入れ又は窒化処理によって硬質化されたマルテンサイト系のステンレス鋼からなるロール母材の表面にDLC膜が形成されたものである。   The coating roll of the present invention has a DLC film formed on the surface of a roll base material made of martensitic stainless steel hardened by quenching or nitriding.

本発明の塗布ロールには次のような効果がある。
(1)HCrめっきを使用しないため、HCrめっき由来の各種不都合が生じない。
(2)HCrめっきを使用しないため、めっき廃液が生じず、環境負荷を低減することができる。
(3)HCrめっきを使用しないため、少なくとも、めっき処理に要する分だけ、ロール製作の納期の短縮、価格の低減が可能である。
(4)ロールの短納期化及び低価格化により、関連企業の活性化、ひいては日本経済の活性化が期待できる。
(5)HCrめっきを使用しないため、ボイドの破裂に起因するロールの交換を回避することでき、塗布ロールの長寿命化(従来のHCrめっきを施した塗布ロールの5倍程度)が可能となる。
The application roll of the present invention has the following effects.
(1) Since no HCr plating is used, various inconveniences derived from HCr plating do not occur.
(2) Since HCr plating is not used, no plating waste liquid is generated, and the environmental load can be reduced.
(3) Since no HCr plating is used, it is possible to shorten the delivery time of roll production and reduce the price at least by the amount required for the plating process.
(4) Shorter delivery times and lower prices of rolls can be expected to stimulate related companies and eventually the Japanese economy.
(5) Since the HCr plating is not used, the exchange of the roll due to the rupture of the void can be avoided, and the service life of the application roll can be extended (about five times that of the conventional application roll coated with HCr). .

(a)は格子状のセルが形成された塗布ロールの表面拡大図、(b)は斜辺状のセルが形成された塗布ロールの表面拡大図。(A) is an enlarged view of the surface of an application roll on which lattice cells are formed, and (b) is an enlarged view of the surface of an application roll on which oblique cells are formed. (a)はめっき内部にめっき液が残留している塗布ロールの表面拡大図、(b)はボイドが発生した塗布ロールの表面拡大図。(A) is an enlarged view of the surface of the application roll in which a plating solution remains in the plating, and (b) is an enlarged view of the surface of the application roll in which voids are generated. 塗布ロール表面がクレーター状になった場合の説明図。FIG. 4 is an explanatory diagram when a coating roll surface becomes a crater shape. (a)は本発明の塗布ロールの一例を示す正面図、(b)は本発明の塗布ロールの表面の構造に関する断面拡大図。(A) is a front view showing an example of the application roll of the present invention, and (b) is an enlarged sectional view showing the structure of the surface of the application roll of the present invention. DLC膜の形成に用いる装置の一例を示す概略図。FIG. 2 is a schematic diagram illustrating an example of an apparatus used for forming a DLC film.

(実施形態)
本発明の塗布ロールの実施形態の一例を、図面を参照して説明する。ここでは、塗布ロールがグラビアロールの場合を一例として説明する。この実施形態の塗布ロールは、ロール母材1の表面に非晶質炭素膜(DLC膜)2が設けられたものである。ロール母材1の表面とDLC膜2の間にHCrめっき層が設けられていないため、HCrめっき由来のトラブル(ボイドの発生やボイドの破裂によりDLC膜2に亀裂が入る等の不都合等)が発生しない。
(Embodiment)
An example of an embodiment of the application roll of the present invention will be described with reference to the drawings. Here, a case where the application roll is a gravure roll will be described as an example. The application roll of this embodiment has an amorphous carbon film (DLC film) 2 provided on the surface of a roll base material 1. Since the HCr plating layer is not provided between the surface of the roll base material 1 and the DLC film 2, troubles caused by the HCr plating (inconveniences such as generation of voids and cracking of the DLC film 2 due to void rupture) are caused. Does not occur.

本発明では、一般の鋼材よりも錆が発生しにくく、且つ、焼き入れや窒化処理など硬質化が可能な鋼材をロール母材1として用いる。この実施形態では、ロール母材1として、焼き入れや窒化処理による硬質化が可能なマルテンサイト系のステンレス鋼(SUS420やSUS431、SUS440Cなど)を用いている。   In the present invention, a steel material that is less likely to generate rust than a general steel material and that can be hardened by quenching or nitriding is used as the roll base material 1. In this embodiment, as the roll base material 1, a martensitic stainless steel (SUS420, SUS431, SUS440C, etc.) that can be hardened by quenching or nitriding is used.

この実施形態のロール母材1は、マルテンサイト系のステンレス鋼をロール状に成形したのち、焼き入れ又は窒化処理を行って硬質化したものである。ロール母材1の表面硬度は、硬化処理によってHRC50以上となるようにしてある。ロール母材1の硬度はこれ以外であってもよく、例えば、HRC20(ビッカース強度(HV)204)以上、好ましくはHRC30(HV302)以上、より好ましくはHRC50(HV513)以上とするのがよい。   The roll base material 1 of this embodiment is obtained by forming a martensitic stainless steel into a roll and then hardening it by quenching or nitriding. The surface hardness of the roll base material 1 is made to be HRC50 or more by the hardening treatment. The hardness of the roll base material 1 may be other than this, for example, HRC20 (Vickers strength (HV) 204) or more, preferably HRC30 (HV302) or more, and more preferably HRC50 (HV513) or more.

ロール母材1はパイプ材でも無垢材でもよい。この実施形態のロール母材1は直径60φのパイプ材である。ロール母材1がパイプ材の場合、図4(a)に示すように、ベアリング4を介して軸材3の外側に装備される。ロール母材1はこれより太いものでも細いものでもよいが、20φ以上のものが好ましい。   The roll base material 1 may be a pipe material or a solid material. The roll base material 1 of this embodiment is a pipe material having a diameter of 60φ. When the roll base material 1 is a pipe material, as shown in FIG. 4A, the roll base material 1 is provided outside the shaft member 3 via a bearing 4. The roll base material 1 may be thicker or thinner, but preferably has a diameter of 20φ or more.

ロール母材1の表面にはセルや彫刻などの凹凸5が形成されている。凹凸5は硬化処理前に形成することも硬化処理後に形成することもできる。ロール母材1の表面は硬化処理後に研磨又は磨き加工を行ってある。また、硬化処理によってひずみ(曲がり)が発生した場合、ロールとして機能するように修正加工を行う。   On the surface of the roll base material 1, irregularities 5 such as cells and sculptures are formed. The unevenness 5 can be formed before or after the curing treatment. The surface of the roll base material 1 is polished or polished after the curing process. Further, when distortion (bending) occurs due to the hardening process, correction processing is performed so as to function as a roll.

前記ロール母材1の表面に形成されたDLC膜2は、厚さ0.5〜50μm程度、硬さ800〜6000HV程度としてある。DLC膜の形成には、ソースガスにCH(メタン)やC(トルエン)、C(アセチレン)、C(ベンゼン)などの炭化水素系のガスを用いることができる。DLC膜2の構造に特に指定はないが、内部応力の緩和にSi(ケイ素)やO(酸素)、B(ホウ素)、N(窒素)、Cr(クロム)、Ti(チタン)などの第三元素を含有してもよい。 The DLC film 2 formed on the surface of the roll base material 1 has a thickness of about 0.5 to 50 μm and a hardness of about 800 to 6000 HV. In forming the DLC film, a hydrocarbon gas such as CH 4 (methane), C 7 H 8 (toluene), C 2 H 2 (acetylene), or C 6 H 6 (benzene) may be used as a source gas. it can. Although the structure of the DLC film 2 is not particularly specified, for reducing internal stress, Si (silicon), O 2 (oxygen), B (boron), N 2 (nitrogen), Cr (chromium), Ti (titanium), or the like is used. A third element may be contained.

図4(a)(b)に示す塗布ロールは、ロール母材1の表面に直接DLC膜2を形成するものであるが、密着性向上を目的に、ロール母材1とDLC膜2の間に、HCrめっき層とは異なる中間層(以下「ミキシング層」という)を設けることもできる。ミキシング層は、SiやCr、Tiを主とするもの、窒素と化合物化したもの、又は、C(炭素)やH(水素)を一緒に含有したもの等とすることができる。   The application rolls shown in FIGS. 4A and 4B form the DLC film 2 directly on the surface of the roll base material 1, but are formed between the roll base material 1 and the DLC film 2 for the purpose of improving adhesion. In addition, an intermediate layer (hereinafter, referred to as “mixing layer”) different from the HCr plating layer may be provided. The mixing layer may be a layer mainly containing Si, Cr, or Ti, a layer compounded with nitrogen, or a layer containing C (carbon) or H (hydrogen) together.

本発明の塗布ロールは、「母材製作工程」、「クリーニング工程」、「ミキシング層成形工程」及び「成膜工程」を経て製造することができる。「クリーニング工程」、「ミキシング層成形工程」及び「成膜工程」は図5に示すような装置を用いて実施することができる。図5において、6は真空チャンバー、7はRF高周波電源、8はRF電極、9は高電圧パルス電源、10はガス注入口である。なお、「クリーニング工程」及び「ミキシング層成形工程」は必要な場合のみ実施すればよく、不要な場合には省略することができる。   The application roll of the present invention can be manufactured through a “base material manufacturing step”, a “cleaning step”, a “mixing layer forming step”, and a “film forming step”. The “cleaning step”, the “mixing layer forming step”, and the “film forming step” can be performed using an apparatus as shown in FIG. In FIG. 5, reference numeral 6 denotes a vacuum chamber, 7 denotes an RF high-frequency power supply, 8 denotes an RF electrode, 9 denotes a high-voltage pulse power supply, and 10 denotes a gas inlet. The “cleaning step” and “mixing layer forming step” may be performed only when necessary, and may be omitted when unnecessary.

前記母材製作工程では、マルテンサイト系のステンレス鋼をロール状に成形し、焼き入れ又は窒化処理を行って硬化する。硬化処理後、製作されたロール母材1の表面に研磨又は磨き加工を行う。硬化処理によってひずみ(曲がり)が発生した場合には修正加工を行う。焼き入れ後の材質はHRC50以上となるようにするのが望ましい。   In the base material manufacturing step, the martensitic stainless steel is formed into a roll and hardened by quenching or nitriding. After the hardening treatment, the surface of the manufactured roll base material 1 is polished or polished. When distortion (bending) occurs due to the hardening process, correction processing is performed. It is desirable that the material after quenching has an HRC of 50 or more.

前記クリーニング工程では、前記母材製作工程で製作したロール母材1を真空チャンバー6のRF電極8内にセットし、真空チャンバー6内を真空状態にする。この状態で、ロール母材1の表面の洗浄及び付着力向上を目的として、ロール母材1の表面をアルゴン、水素イオンによりエッチング処理してクリーニングする。エッチング処理は従来と同様の方法で行うことができる。ロール母材1のクリーニングは、例えば次の条件で行うことができる。
使用ガス :Ar、H
負パルス電圧:−1〜−15kV
RF出力 :50〜1500W
In the cleaning step, the roll base material 1 manufactured in the base material manufacturing step is set in the RF electrode 8 of the vacuum chamber 6, and the vacuum chamber 6 is evacuated. In this state, the surface of the roll base material 1 is etched and cleaned with argon and hydrogen ions for the purpose of cleaning the surface of the roll base material 1 and improving the adhesion. The etching treatment can be performed by a method similar to the conventional method. The cleaning of the roll base material 1 can be performed, for example, under the following conditions.
Gas used: Ar, H 2
Negative pulse voltage: -1 to -15 kV
RF output: 50-1500W

前記ミキシング層成形工程では、前記母材製作工程で製作したロール表面にHCrめっきを目的としないミキシング層を形成する。具体的には、母材製作工程で製作したロール母材1を真空チャンバー6のRF電極8内にセットし、真空チャンバー6内を真空状態にする。この状態で、高電圧パルス電源9によりロール母材1に負の高電圧パルスを印加する。ガス注入口10から原料ガス(例えば、C、Si)を真空チャンバー6内に注入し、Cラジカルを生成してロール母材1の表面にミキシング層を形成してDLCの付着力(密着性)を高める。なお、原料ガスとしてSiイオンを注入すると、Siがプライマーの役割を担うことができる。また、原料ガスとして、N、Ar(アルゴン)、CH、C、CF(四フッ化炭素)、C、H、B等の混合ガスを注入することもできる。ミキシング層の形成は、例えば次の条件で行うことができる。
使用ガス :HMDSOやHMDSやTMS(Si系ガス)、CH、C
負パルス電圧:−1〜−15kV
RF出力 :50〜1500W
In the mixing layer forming step, a mixing layer not intended for HCr plating is formed on the roll surface manufactured in the base material manufacturing step. Specifically, the roll base material 1 manufactured in the base material manufacturing process is set in the RF electrode 8 of the vacuum chamber 6, and the vacuum chamber 6 is evacuated. In this state, a high-voltage pulse power supply 9 applies a negative high-voltage pulse to the roll base material 1. A raw material gas (for example, C or Si) is injected into the vacuum chamber 6 from the gas injection port 10 to generate C radicals, form a mixing layer on the surface of the roll base material 1, and adhere the DLC (adhesion). Enhance. When Si ions are implanted as a source gas, Si can serve as a primer. Further, as a source gas, a mixed gas of N 2 , Ar (argon), CH 4 , C 2 H 2 , CF 4 (carbon tetrafluoride), C, H, and B can be injected. The formation of the mixing layer can be performed, for example, under the following conditions.
Gas used: HMDSO, HMDS, TMS (Si-based gas), CH 4 , C 2 H 2
Negative pulse voltage: -1 to -15 kV
RF output: 50-1500W

前記成膜工程では、前記母材製作工程で製作したロール母材1の表面(ミキシング層を成形した場合はその表面。以下同じ。)にDLC膜2を形成する。具体的には、ロール母材1がセットされた真空チャンバー6内を常温(望ましくは20℃〜50℃程度)且つ真空状態にする。この状態で、RF高周波電源7により高周波電圧を印加して、ロール母材1の周辺(具体的には、真空チャンバー6内のRF電極8の周辺)にプラズマを発生させ、高電圧パルス電源9によりロール母材1に負の高電圧パルスを印加する。その後、ガス注入口10から原料ガス(例えば、C、O)を真空チャンバー6内に注入して、その原料ガスを真空チャンバー6内で反応させ、ロール母材1表面にDLCを堆積させることによって、ロール母材1にDLC膜2を形成する。DLC膜2については特に指定はなく、構成される主元素である炭素や水素の他にケイ素や窒素などの第三元素を有してもよい。また、DLC膜2は酸素を含む親水性DLC膜であってもよい。DLC膜の形成は、例えば次の条件で行うことができる。
使用ガス :CH、C
負パルス電圧:−1〜−15kV
RF出力 :50〜1500W
In the film forming step, a DLC film 2 is formed on the surface of the roll base material 1 manufactured in the base material manufacturing step (the surface when a mixing layer is formed, the same applies hereinafter). Specifically, the inside of the vacuum chamber 6 in which the roll base material 1 is set is brought to a normal temperature (preferably about 20 ° C. to 50 ° C.) and a vacuum state. In this state, a high-frequency voltage is applied by the RF high-frequency power supply 7 to generate plasma around the roll base material 1 (specifically, around the RF electrode 8 in the vacuum chamber 6), and the high-voltage pulse power supply 9 To apply a negative high voltage pulse to the roll base material 1. After that, a raw material gas (for example, C, O 2 ) is injected into the vacuum chamber 6 from the gas injection port 10, and the raw material gas is reacted in the vacuum chamber 6 to deposit DLC on the surface of the roll base material 1. Thereby, the DLC film 2 is formed on the roll base material 1. The DLC film 2 is not particularly specified, and may have a third element such as silicon or nitrogen in addition to carbon and hydrogen as main constituent elements. Further, the DLC film 2 may be a hydrophilic DLC film containing oxygen. The formation of the DLC film can be performed, for example, under the following conditions.
Gas used: CH 4 , C 2 H 2
Negative pulse voltage: -1 to -15 kV
RF output: 50-1500W

DLC膜2は2回以上に分けて形成することもできる。この場合、前記条件で1回目の成膜を行った後、例えば、次の条件で2回目の成膜を行うことができる。
使用ガス :C、C
負パルス電圧:−1〜−15kV
RF出力 :50〜1500W
The DLC film 2 can be formed two or more times. In this case, after the first film formation is performed under the above conditions, for example, a second film formation can be performed under the following conditions.
Gas used: C 7 H 8 , C 2 H 2
Negative pulse voltage: -1 to -15 kV
RF output: 50-1500W

なお、DLC膜2の形成後、特に研磨などの工程を行わずに製品となる。   After the DLC film 2 is formed, a product is obtained without performing a process such as polishing.

本発明の塗布ロールは、DLC膜2の形成後でもロール母材1の表面の凹凸形状は成膜前とほとんど変化せず、面積比にして10%以下である。   In the application roll of the present invention, even after the DLC film 2 is formed, the uneven shape of the surface of the roll base material 1 hardly changes from that before film formation, and the area ratio is 10% or less.

本発明の塗布ロールは、フィルムやガラス板等の機能性素材に塗液を塗布する各種塗布ロールとしても用いることができる。   The application roll of the present invention can also be used as various application rolls for applying a coating liquid to a functional material such as a film or a glass plate.

1 ロール母材
2 非晶質炭素膜(DLC膜)
3 軸材
4 ベアリング
5 凹凸
6 真空チャンバー
7 RF高周波電源
8 RF電極
9 高電圧パルス電源
10 ガス注入口
1 roll base material 2 amorphous carbon film (DLC film)
3 Shaft 4 Bearing 5 Irregularity 6 Vacuum chamber 7 RF high frequency power supply 8 RF electrode 9 High voltage pulse power supply 10 Gas inlet

Claims (4)

DLC膜を備えた塗布ロールにおいて、
焼き入れ又は窒化処理によって硬質化されたマルテンサイト系のステンレス鋼からなるロール母材の表面にDLC膜が形成された、
ことを特徴とする塗布ロール。
In an application roll provided with a DLC film,
A DLC film was formed on the surface of a roll base material made of martensitic stainless steel hardened by quenching or nitriding treatment,
An application roll, characterized in that:
請求項1記載の塗布ロールにおいて、
ロール母材の硬度がHRC20以上である、
ことを特徴とする塗布ロール。
The coating roll according to claim 1,
The hardness of the roll base material is HRC20 or more;
An application roll, characterized in that:
請求項1又は請求項2記載の塗布ロールにおいて、
ロール母材とDLC膜の間にミキシング層が設けられた、
ことを特徴とする塗布ロール。
The coating roll according to claim 1 or 2,
A mixing layer was provided between the roll base material and the DLC film,
An application roll, characterized in that:
請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の塗布ロールにおいて、
塗布ロールがロール母材の表面に各種形状の凹凸を備えたグラビアロールである、
ことを特徴とする塗布ロール。
The coating roll according to any one of claims 1 to 3,
The application roll is a gravure roll having various shapes of irregularities on the surface of the roll base material,
An application roll, characterized in that:
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Citations (5)

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