JP2020042137A - Optical film, optical barrier film and wavelength conversion film - Google Patents
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Abstract
Description
本開示は、窓やディスプレイなどに設けられる光学フィルムに関する。特に液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）などのディスプレイに設けられる光拡散性を有する光学フィルム、その光学フィルムを用いる光学バリアフィルム、及び波長変換フィルムに関する。 The present disclosure relates to an optical film provided in a window, a display, and the like. In particular, the present invention relates to an optical film having light diffusibility provided in a display such as a liquid crystal display (LCD), an organic electroluminescence display (ELD), and a plasma display (PDP), an optical barrier film using the optical film, and a wavelength conversion film.
液晶ディスプレイ等の電子デバイスには、種々の光学フィルムが用いられている。特許文献１に記載の発明は、照明器具、電飾看板、背面投射スクリーン、液晶ディスプレイ等に用いられる光拡散シートに関する。特許文献１に記載の光拡散シートは、ポリメチルメタクリレートからなる球状粒子を含有する光拡散層（マット層）を備えている。 Various optical films are used for electronic devices such as liquid crystal displays. The invention described in Patent Literature 1 relates to a light diffusion sheet used for a lighting fixture, an illuminated signboard, a rear projection screen, a liquid crystal display, and the like. The light diffusion sheet described in Patent Document 1 includes a light diffusion layer (mat layer) containing spherical particles made of polymethyl methacrylate.
液晶ディスプレイは、電圧の印加に基づいて光を透過または遮断して映像を表示する装置である。液晶ディスプレイは外部の光源を必要とするので、例えばＬＥＤ（発光ダイオード）を用いたバックライトが光源として用いられている。 2. Description of the Related Art A liquid crystal display is a device that displays an image by transmitting or blocking light based on the application of a voltage. Since a liquid crystal display requires an external light source, for example, a backlight using an LED (light emitting diode) is used as a light source.
ＬＥＤを用いたバックライトでは、赤色、緑色及び青色の３色のＬＥＤを用いて白色光を合成する方法、あるいは、波長変換材料を通すことによって青色光を白色光へ変換する方法などが試みられている。このうち、量子ドット（Ｑｕａｎｔｕｍ ｄｏｔ）を用いたナノサイズの蛍光体が波長変換材料として用いられると、青色光が赤色、緑色及び青色の鋭い発光スペクトルからなる白色光に変換される。このため、液晶ディスプレイの色再現領域が拡大されるとともに、白色光への変換のための消費電力が低減される。 In the backlight using LEDs, a method of synthesizing white light by using LEDs of three colors, red, green and blue, or a method of converting blue light to white light by passing through a wavelength conversion material has been attempted. ing. When a nano-sized phosphor using quantum dots is used as a wavelength conversion material, blue light is converted into white light having sharp red, green and blue emission spectra. For this reason, the color reproduction area of the liquid crystal display is expanded, and the power consumption for conversion to white light is reduced.
量子ドットを用いる波長変換フィルムが、バックライトユニットに組み込まれる場合には、凹凸形状を有する光拡散層が設けられる（例えば、特許文献２、３）。量子ドットは、空気及び水蒸気による酸化を受けると、その波長変換性能が劣化するので、波長変換フィルムには、空気および水蒸気から量子ドットを保護するためのバリア層を有する光学バリアフィルム（以下、適宜単にバリアフィルム）が設けられる。波長変換フィルムにバリアフィルムを設ける場合には、バリアフィルムの表面に光拡散層が設けられる。 When a wavelength conversion film using quantum dots is incorporated in a backlight unit, a light diffusion layer having an uneven shape is provided (for example, Patent Documents 2 and 3). When quantum dots are oxidized by air and water vapor, their wavelength conversion performance deteriorates. Therefore, the wavelength conversion film includes an optical barrier film having a barrier layer for protecting the quantum dots from air and water vapor (hereinafter referred to as appropriate). Simply a barrier film). When a barrier film is provided on the wavelength conversion film, a light diffusion layer is provided on the surface of the barrier film.
光拡散層は、バックライトユニットに組み込まれる場合は光源からの光をより均一な面光源（拡散照明光）に変換する機能等を有し、表示パネルで使用される場合はブロッキング（貼り付き）の防止や干渉斑を防止する機能等を有する。 The light diffusion layer has a function of converting light from a light source into a more uniform surface light source (diffuse illumination light) when incorporated in a backlight unit, and blocks (sticks) when used in a display panel. And a function of preventing interference spots.
光拡散層は、光拡散粒子（フィラー）を、主にバインダー樹脂で形成される層から突出させることで表面に微細な凹凸を形成したものであり、表面の凹凸は、光拡散粒子が単独あるいは複数が凝集して表面から突出することによって形成される。 The light diffusion layer is formed by forming fine irregularities on the surface by projecting light diffusing particles (fillers) from a layer mainly formed of a binder resin. A plurality is formed by agglomerating and projecting from the surface.
波長変換フィルムは、通常、ロールｔｏロール方式によって製造される。バリアフィルムを備える場合は、高分子フィルム基材の上にバリア層を形成し、さらに光拡散層を有する光学フィルムと貼り合わせたバリアフィルムの第１、第２ロールを作製した後、ロールｔｏロール方式によって波長変換フィルムを製造する。この際、第１ロール、第２ロールを各々のバリアフィルムのフィルム基材側の面が対向するように配置する。一方で、封止樹脂に量子ドット等の蛍光体を分散させ、必要に応じて溶剤を混合して波長変換層塗工液を調製する。 The wavelength conversion film is usually manufactured by a roll-to-roll method. When a barrier film is provided, a barrier layer is formed on a polymer film substrate, and first and second rolls of the barrier film are further laminated to an optical film having a light diffusion layer. A wavelength conversion film is manufactured according to the method. At this time, the first roll and the second roll are arranged so that the surfaces of the barrier films on the film substrate side face each other. On the other hand, a phosphor such as quantum dots is dispersed in a sealing resin, and a solvent is mixed as necessary to prepare a wavelength conversion layer coating liquid.
次に、第１、第２ロールの一方のロールのバリアフィルムのフィルム基材側の面に前記波長変換層塗工液を塗布して波長変換層を形成し、この面ともう一方のロールのバリアフィルムのフィルム基材側の面とを貼り合せる。この際、封止樹脂が感光性樹脂／熱硬化樹脂である場合、紫外線照射／加熱によって樹脂を硬化させる。その後、貼り合わせた積層体を所定の大きさに断裁することで、波長変換フィルムが作製される。 Next, the wavelength conversion layer coating liquid is applied to the surface of the barrier film of one of the first and second rolls on the film substrate side to form a wavelength conversion layer. The barrier film is bonded to the surface on the film substrate side. At this time, when the sealing resin is a photosensitive resin / thermosetting resin, the resin is cured by irradiation with ultraviolet rays / heating. Then, the wavelength conversion film is produced by cutting the laminated body into a predetermined size.
図７は、本願で課題とする、ロールｔｏロール方式によって波長変換フィルムを製造する場合の問題を説明するための模式断面図である。図７（ａ）に示すように、バリアフィルム２０ａの光拡散粒子１８ａの表面は光拡散層１４を構成するバインダー樹脂１６に覆われているが、表面に突出した形で存在している。そのため、フィルムロールの形でバリアフィルムを輸送・供給する場合、バリアフィルム２０ａの光拡散層粒子１８ａの面と、バリアフィルム２０ｂのバリア層（不図示）を有するフィルム基材１１ｂの面とが接触する形となる（図７（ｂ））。その結果、光拡散層粒子１８ａに起因する凹凸面１４Ａが、バリアフィルム２０ｂのフィルム基材１１ｂに凹凸面１４Ｂを発生させる（図７（ｃ））。 FIG. 7 is a schematic cross-sectional view for explaining a problem in the case of manufacturing a wavelength conversion film by a roll-to-roll method, which is an issue in the present application. As shown in FIG. 7A, the surface of the light-diffusing particles 18a of the barrier film 20a is covered with the binder resin 16 constituting the light-diffusing layer 14, but is present in a form protruding from the surface. Therefore, when transporting and supplying the barrier film in the form of a film roll, the surface of the light diffusion layer particles 18a of the barrier film 20a and the surface of the film substrate 11b having the barrier layer (not shown) of the barrier film 20b come into contact. (FIG. 7B). As a result, the uneven surface 14A caused by the light diffusion layer particles 18a generates the uneven surface 14B on the film substrate 11b of the barrier film 20b (FIG. 7C).
しかるに、波長変換層塗工液はフィルム基材１１ｂの凹凸面１４Ｂに塗布されるため、塗布ムラが発生し、波長変換機能、ひいてはディスプレイの表示機能に不具合を引き起こす、という問題がある。 However, since the coating solution for the wavelength conversion layer is applied to the uneven surface 14B of the film substrate 11b, there is a problem that application unevenness occurs and causes a problem in the wavelength conversion function and eventually the display function of the display.
尚、以上では、光拡散層を有するバリアフィルムの第１、及び第２ロールを用いて波長変換フィルムを作製する場合を説明したが、バリア層を有しない形態、すなわち単にフィルム基材上に光拡散層を有する光学フィルムの第１、及び第２ロールを用いて波長変換フィルムを作製する場合においても、フィルム基材の面と光拡散層粒子の面とが接触することは同じであるので、同じ問題が発生する。 In the above description, the case where the wavelength conversion film is manufactured using the first and second rolls of the barrier film having the light diffusion layer has been described. Even in the case of producing a wavelength conversion film using the first and second rolls of the optical film having a diffusion layer, since the surface of the film substrate and the surface of the light diffusion layer particles are the same, The same problem occurs.
本開示は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、ロールｔｏロール方式により製造する波長変換フィルムにおいて、光学フィルムのフィルム基材面、またはバリア層を有する光学バリアフィルムのフィルム基材面に発生する凹凸を抑制し、波長変換フィルムの波長変換機能、ひいてはディスプレイの表示機能に不具合を引き起こすことがない光学フィルム、光学バリアフィルム、及び波長変換フィルムを提供することにある。 The present disclosure has been made in view of the above problems, and has as its object to provide an optical barrier film having a film substrate surface of an optical film or a barrier layer in a wavelength conversion film manufactured by a roll-to-roll method. It is an object of the present invention to provide an optical film, an optical barrier film, and a wavelength conversion film that suppress irregularities generated on a film substrate surface of the optical film, and that do not cause a problem in a wavelength conversion function of the wavelength conversion film, and thus, a display function of a display. .
上記の課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、第一フィルム基材と、前記第一フィルム基材上に形成された光拡散層と、を備え、
前記光拡散層はバインダー樹脂と光拡散粒子とを含み、
前記光拡散粒子の平均粒子径は０．５〜６．０μｍであり、
かつ前記光拡散粒子のガラス転移温度（Ｔｇ）は５０℃以下であり、
かつ前記光拡散層の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）は０．１〜０．５μｍである、ことを特徴とする光学フィルムとしたものである。
In order to solve the above problems, the invention according to claim 1 includes a first film base, and a light diffusion layer formed on the first film base,
The light diffusion layer includes a binder resin and light diffusion particles,
The average particle diameter of the light diffusion particles is 0.5 to 6.0 μm,
And the glass transition temperature (Tg) of the light diffusion particles is 50 ° C. or less;
The optical film has an arithmetic average roughness (Ra) of 0.1 to 0.5 μm on the surface of the light diffusion layer.
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の光学フィルムが備える前記第一フィルム基
材の、前記光拡散層が形成された面と反対側の面に、無機酸化物層を含むバリア層を備えた第二フィルム基材を貼り合せてなる、ことを特徴とする光学バリアフィルムとしたものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a barrier comprising an optical film according to the first aspect, wherein the first film substrate includes an inorganic oxide layer on a surface opposite to a surface on which the light diffusion layer is formed. An optical barrier film obtained by laminating a second film substrate having a layer.
請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の光学フィルムからなる第一光学フィルムと、
波長変換層と、
請求項１に記載の光学フィルムからなる第二光学フィルムと、
がこの順序で積層されており、
前記第一光学フィルムの前記光拡散層と前記第二光学フィルムの前記光拡散層が、いずれも外側となる向きに積層されている、ことを特徴とする波長変換フィルムとしたものである。
The invention according to claim 3 is a first optical film comprising the optical film according to claim 1,
A wavelength conversion layer,
A second optical film comprising the optical film according to claim 1,
Are stacked in this order,
The wavelength conversion film is characterized in that the light diffusion layer of the first optical film and the light diffusion layer of the second optical film are both laminated so as to face outward.
請求項４に記載の発明は、請求項２に記載の光学バリアフィルムからなる第一光学バリアフィルムと、
波長変換層と、
請求項２に記載の光学バリアフィルムからなる第二光学バリアフィルムと、
がこの順序で積層されており、
前記第一光学バリアフィルムの前記光拡散層と前記第二光学バリアフィルムの前記光拡散層が、いずれも外側となる向きに積層されている、ことを特徴とする波長変換フィルムとしたものである。
The invention according to claim 4 provides a first optical barrier film comprising the optical barrier film according to claim 2,
A wavelength conversion layer,
A second optical barrier film comprising the optical barrier film according to claim 2,
Are stacked in this order,
The light-diffusing layer of the first optical barrier film and the light-diffusing layer of the second optical barrier film are both laminated in an outward direction, wherein the wavelength conversion film is provided. .
本開示によれば、ロールｔｏロール方式により製造する波長変換フィルムにおいて、光学フィルムのフィルム基材面、またはバリア層を有する光学バリアフィルムのフィルム基材面に発生する凹凸が抑制されるので、波長変換層塗工液をフィルム基材に塗布する際の塗布ムラの発生が抑えられ、波長変換フィルムの波長変換機能、ひいてはディスプレイの表示機能に不具合を引き起こすことがない光学フィルム、光学バリアフィルム、及び波長変換フィルムが得られる。 According to the present disclosure, in a wavelength conversion film manufactured by a roll-to-roll method, unevenness generated on a film substrate surface of an optical film or a film substrate surface of an optical barrier film having a barrier layer is suppressed, The occurrence of coating unevenness when applying the conversion layer coating liquid to the film substrate is suppressed, and the wavelength conversion function of the wavelength conversion film, and thus, an optical film and an optical barrier film that do not cause a problem in the display function of the display, and A wavelength conversion film is obtained.
以下、本発明の実施形態に係る光学フィルム、光学バリアフィルム、及び波長変換フィルムについて図面を用いて説明する。同一の構成要素については便宜上の理由がない限り同一の符号を付ける。各図面において、見易さのため構成要素の厚さや比率は誇張されていることがあり、構成要素の数も減らして図示していることがある。また、本発明はその主旨を逸脱しない範囲で、以下の実施形態に限定されるものではない。 Hereinafter, an optical film, an optical barrier film, and a wavelength conversion film according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The same components are denoted by the same reference numerals unless there is a reason for convenience. In each drawing, the thickness and ratio of components may be exaggerated for the sake of clarity, and the number of components may be reduced in the drawings. Further, the present invention is not limited to the following embodiments without departing from the gist thereof.
［光学フィルム］
図１は、本開示の第一実施形態に係る、光学フィルムを示す模式断面図である。図１において、光学フィルム１０は、第一フィルム基材１１と、該第一フィルム基材１１上に形
成された光拡散層１４とを備える。光拡散層１４はバインダー樹脂１６と光拡散粒子１８とを含み、光拡散粒子１８の平均粒子径は０．５〜６．０μｍであり、かつ光拡散粒子１８のガラス転移温度（Ｔｇ）は５０℃以下である。さらに、光拡散層１４の表面は光拡散層粒子１８に起因する凹凸面１４Ａとなっており、その算術平均粗さ（Ｒａ）は０．１〜０．５μｍである。
[Optical film]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating an optical film according to the first embodiment of the present disclosure. In FIG. 1, the optical film 10 includes a first film substrate 11 and a light diffusion layer 14 formed on the first film substrate 11. The light diffusion layer 14 includes a binder resin 16 and light diffusion particles 18, the average particle diameter of the light diffusion particles 18 is 0.5 to 6.0 μm, and the glass transition temperature (Tg) of the light diffusion particles 18 is 50. It is below ° C. Further, the surface of the light diffusion layer 14 is an uneven surface 14A caused by the light diffusion layer particles 18, and has an arithmetic average roughness (Ra) of 0.1 to 0.5 μm.
前記の数値規定の有効性は、実施例において示す。尚、本開示に用いられる粒子の平均粒子径は、光散乱式粒子径分布測定法により求めることができる。 The validity of the above numerical specifications will be shown in the examples. The average particle size of the particles used in the present disclosure can be determined by a light scattering particle size distribution measuring method.
光拡散粒子の材質としては、上記のＴｇを満たす樹脂フィラーであれば特に制限はない。ポリアクリル系であっても上記の数値規定内であればフィルム基材面の凹凸を抑制する効果はあるが、導光板やレンズシートへの傷付け性を考慮すると、柔らかいポリウレタン系の材料であることがより好ましい。 The material of the light diffusion particles is not particularly limited as long as it is a resin filler satisfying the above Tg. Even if it is a polyacrylic material, it has the effect of suppressing irregularities on the surface of the film substrate if it is within the above numerical specifications. Is more preferred.
第一フィルム基材１１の材料としては、特に限定されるものではないが、全光線透過率が８５％以上のフィルムが望ましい。例えば透明性が高く、耐熱性に優れたフィルムとして、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルムなどを用いることができる。 Although the material of the first film substrate 11 is not particularly limited, a film having a total light transmittance of 85% or more is desirable. For example, as a film having high transparency and excellent heat resistance, a polyethylene terephthalate film, a polyethylene naphthalate film, or the like can be used.
［光学バリアフィルム］
図２は、本開示の第二実施形態に係る、光学バリアフィルムを示す模式断面図である。図２において、光学バリアフィルム２０Ａは、図１に示す光学フィルム１０が備える第一フィルム基材１１の光拡散層１４が形成された面と反対側の面に、無機酸化物層を含むバリア層２４ａを備えた第二フィルム基材１２を、接着層２６ａを介して貼り合せて構成されている。
[Optical barrier film]
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating an optical barrier film according to the second embodiment of the present disclosure. 2, the optical barrier film 20A is a barrier layer including an inorganic oxide layer on the surface of the first film substrate 11 of the optical film 10 shown in FIG. 1 opposite to the surface on which the light diffusion layer 14 is formed. The second film base 12 provided with 24a is bonded through an adhesive layer 26a.
光学バリアフィルム２０Ａが、第二フィルム基材１２にバリア層２４ａを備えることにより、水蒸気遮断性や酸素遮断性に優れる光学バリアフィルムを実現できる。第二フィルム基材１２の材料は第一フィルム基材１１と同様であってもよい。第二フィルム基材１２の厚さは、例えば５μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましい。第二フィルム基材１２の厚さが５μｍ以上であると、第二フィルム基材１２の強度が向上して、例えば、波長変換フィルム作製工程等において、第二フィルム基材１２の取り扱いが容易となる傾向がある。一方、第二フィルム基材１２の厚さが５０μｍ以下であると、基材端面からの水蒸気や酸素の侵入によるバリア性の低下を抑制することができる。 Since the optical barrier film 20A includes the barrier layer 24a on the second film substrate 12, an optical barrier film having excellent water vapor barrier properties and oxygen barrier properties can be realized. The material of the second film substrate 12 may be the same as that of the first film substrate 11. The thickness of the second film base 12 is preferably, for example, not less than 5 μm and not more than 50 μm. When the thickness of the second film substrate 12 is 5 μm or more, the strength of the second film substrate 12 is improved, and, for example, in the wavelength conversion film manufacturing process, the handling of the second film substrate 12 is facilitated. Tend to be. On the other hand, when the thickness of the second film substrate 12 is 50 μm or less, it is possible to suppress a decrease in barrier properties due to intrusion of water vapor or oxygen from the end surface of the substrate.
バリア層２４ａは水蒸気等の侵入を遮断できる層である。バリア層２４ａは金属酸化物などの無機酸化物層を含む。前記金属としては、例えばアルミニウム、銅、及び銀が挙げられる。また上記金属酸化物は、例えばイットリウムタンタルオキサイド、アルミニウム酸化物、シリコン酸化物、及びマグネシウム酸化物等からなる群より選択される少なくとも１種の金属酸化物であることができ、安価であり、水蒸気等の侵入を遮断するバリア性能に優れる点から、シリコン酸化物であることが好ましい。シリコン酸化物はＳｉＯｘで表され、式中のｘは１．５以上２．０以下であることが好ましい。ｘが１．５以上、より好ましくは１．７以上であると、透明性が向上する傾向がある。また、ｘが２．０以下であると、バリア性に優れる傾向がある。無機酸化物層は、例えば蒸着法またはスパッタリング法によって形成され、コスト的には蒸着法によって形成された無機蒸着薄膜層であることが好ましい。 The barrier layer 24a is a layer that can block intrusion of water vapor and the like. The barrier layer 24a includes an inorganic oxide layer such as a metal oxide. Examples of the metal include aluminum, copper, and silver. The metal oxide may be at least one metal oxide selected from the group consisting of, for example, yttrium tantalum oxide, aluminum oxide, silicon oxide, and magnesium oxide. It is preferable to use silicon oxide from the viewpoint of excellent barrier performance for blocking intrusion of the like. The silicon oxide is represented by SiOx, and x in the formula is preferably 1.5 or more and 2.0 or less. When x is 1.5 or more, more preferably 1.7 or more, transparency tends to be improved. When x is 2.0 or less, the barrier properties tend to be excellent. The inorganic oxide layer is formed by, for example, a vapor deposition method or a sputtering method, and is preferably an inorganic vapor-deposited thin film layer formed by a vapor deposition method in terms of cost.
無機酸化物層の厚さは、１０〜３００ｎｍであることが好ましく、２０〜１００ｎｍであることがより好ましい。無機酸化物層の厚さが１０ｎｍ以上であることにより、均一な膜が得られやすく、ガスバリア性が得られやすくなる傾向がある。一方、無機酸化物層の厚さが３００ｎｍ以下であることにより、無機酸化物層に柔軟性を保持させることができ、成膜後の折り曲げ、引っ張り等の外力による亀裂等が生じにくくなる傾向がある。 The thickness of the inorganic oxide layer is preferably from 10 to 300 nm, more preferably from 20 to 100 nm. When the thickness of the inorganic oxide layer is 10 nm or more, a uniform film tends to be easily obtained, and gas barrier properties tend to be easily obtained. On the other hand, when the thickness of the inorganic oxide layer is 300 nm or less, the inorganic oxide layer can have flexibility, and the film tends to be less likely to be cracked by an external force such as bending or stretching after film formation. is there.
バリア層２４ａはガスバリア性被覆層を含んでいてもよい。ガスバリア性被覆層は下記式（１）で表わされる金属アルコキシド及びその加水分解物からなる群より選択される少なくとも１種を含む組成物から形成されることが好ましい。
Ｍ（ＯＲ１）ｍ（Ｒ２）ｎ−ｍ ・・・（１）
The barrier layer 24a may include a gas barrier coating layer. The gas barrier coating layer is preferably formed of a composition containing at least one selected from the group consisting of a metal alkoxide represented by the following formula (1) and a hydrolyzate thereof.
M (OR 1 ) m (R 2 ) nm (1)
上記式（１）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に炭素数１〜８の１価の有機基であり、メチル基、エチル基等のアルキル基であることが好ましい。ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ等のｎ価の金属原子を示す。ｍは１〜ｎの整数である。金属アルコキシドとしては、例えばテトラエトキシシラン［Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４］、トリイソプロポキシアルミニウム［Ａｌ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ３Ｈ７）３］等が挙げられる。金属アルコキシドは、加水分解後、水系の溶媒中において比較的安定であることから、テトラエトキシシランまたはトリイソプロポキシアルミニウムであることが好ましい。金属アルコキシドの加水分解物としては、例えばテトラエトキシシランの加水分解物であるケイ酸（Ｓｉ（ＯＨ）４）、及び、トリプロポキシアルミニウムの加水分解物である水酸化アルミニウム（Ａｌ（ＯＨ）３）等が挙げられる。これらは、１種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。 In the formula (1), R 1 and R 2 are each independently a monovalent organic group having 1 to 8 carbon atoms, and are preferably an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group. M represents an n-valent metal atom such as Si, Ti, Al, and Zr. m is an integer of 1 to n. Examples of the metal alkoxide include tetraethoxysilane [Si (OC 2 H 5 ) 4 ] and triisopropoxy aluminum [Al (O-iso-C 3 H 7 ) 3 ]. The metal alkoxide is preferably tetraethoxysilane or triisopropoxyaluminum because it is relatively stable in an aqueous solvent after hydrolysis. Examples of the hydrolyzate of metal alkoxide include silicic acid (Si (OH) 4 ), which is a hydrolyzate of tetraethoxysilane, and aluminum hydroxide (Al (OH) 3 ), which is a hydrolyzate of aluminum tripropoxy. And the like. These can be used not only in one kind but also in combination of plural kinds.
上記組成物はさらに水酸基含有高分子化合物を含んでいてもよい。水酸基含有高分子化合物としては、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、及びデンプン等の水溶性高分子が挙げられる。水酸基含有高分子化合物はバリア性の観点からポリビニルアルコールであることが好ましい。これらは、１種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。上記組成物における水酸基含有高分子化合物の含有量は、例えば１０〜９０質量％である。 The composition may further contain a hydroxyl group-containing polymer compound. Examples of the hydroxyl group-containing polymer compound include water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, and starch. The hydroxyl group-containing polymer compound is preferably polyvinyl alcohol from the viewpoint of barrier properties. These can be used not only in one kind but also in combination of plural kinds. The content of the hydroxyl group-containing polymer compound in the composition is, for example, 10 to 90% by mass.
ガスバリア性被覆層の厚さは、５０〜１０００ｎｍであることが好ましく、１００〜５００ｎｍであることがより好ましい。ガスバリア性被覆層の厚さが５０ｎｍ以上であると、十分なガスバリア性を得ることができる傾向があり、１０００ｎｍ以下であると、十分な柔軟性を保持できる傾向がある。 The thickness of the gas barrier coating layer is preferably from 50 to 1000 nm, more preferably from 100 to 500 nm. When the thickness of the gas barrier coating layer is 50 nm or more, sufficient gas barrier properties tend to be obtained, and when it is 1000 nm or less, sufficient flexibility tends to be maintained.
バリア層２４ａが無機酸化物層とガスバリア性被覆層の両方を含む場合、第一フィルム基材１１の表面上に無機酸化物層が形成され、該無機酸化物層の表面上にガスバリア性被覆層が形成されていても、その逆であってもよい。 When the barrier layer 24a includes both the inorganic oxide layer and the gas barrier coating layer, an inorganic oxide layer is formed on the surface of the first film substrate 11, and the gas barrier coating layer is formed on the surface of the inorganic oxide layer. May be formed or vice versa.
接着層２６ａは接着剤または粘着剤から形成される。接着剤としては、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤等が挙げられる。接着剤はエポキシ樹脂を含むことが好ましい。接着剤がエポキシ樹脂を含むことにより、光学フィルム１０とバリア層２４ａとの密着性を向上させることができる。また、粘着剤としては、アクリル系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤、でんぷん糊系接着剤等が挙げられる。接着層２６ａの厚さは０．５〜５０μｍであることが好ましく、１〜２０μｍであることがより好ましく、２〜６μｍあることがさらに好ましい。接着層２６ａの厚さが０．５μｍ以上であることにより、光学フィルム１０とバリア層２４ａとの密着性が得られやすくなり、厚さが５０μｍ以下であることにより、より優れたガスバリア性が得られやすくなる傾向がある。 The adhesive layer 26a is formed from an adhesive or a pressure-sensitive adhesive. Examples of the adhesive include an acrylic adhesive, an epoxy adhesive, a urethane adhesive, and the like. The adhesive preferably contains an epoxy resin. When the adhesive contains the epoxy resin, the adhesiveness between the optical film 10 and the barrier layer 24a can be improved. In addition, examples of the adhesive include an acrylic adhesive, a polyvinyl ether-based adhesive, a urethane-based adhesive, a silicone-based adhesive, and a starch-based adhesive. The thickness of the adhesive layer 26a is preferably 0.5 to 50 μm, more preferably 1 to 20 μm, and even more preferably 2 to 6 μm. When the thickness of the adhesive layer 26a is 0.5 μm or more, adhesion between the optical film 10 and the barrier layer 24a is easily obtained, and when the thickness is 50 μm or less, more excellent gas barrier properties are obtained. Tend to be easier to obtain.
本開示の第二実施形態に係る光学バリアフィルム２０Ａは、光学フィルム１０とは別に第二フィルム基材１２上にバリア層２４ａを形成した後、光学フィルム１０と接着層２６ａにより貼り合わせ、必要に応じてエージングを行うことにより作製することができる。
光学バリアフィルム２０Ａの製造方法は前記の方法に限定されない。
The optical barrier film 20A according to the second embodiment of the present disclosure, after forming the barrier layer 24a on the second film substrate 12 separately from the optical film 10, is bonded to the optical film 10 with the adhesive layer 26a, It can be manufactured by performing aging accordingly.
The method for manufacturing the optical barrier film 20A is not limited to the above method.
図３は、本開示の第三実施形態に係る、光学バリアフィルムを示す模式断面図である。図３において、光学バリアフィルム２０Ｂは、図２の光学バリアフィルム２０Ａと同様に、図１に示す光学フィルム１０が備える第一フィルム基材１１の光拡散層１４が形成された面と反対側の面に、無機酸化物層を含むバリア層２４ａを備えた第二フィルム基材１２を、接着層２６ａを介して貼り合せて構成されている。 FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating an optical barrier film according to the third embodiment of the present disclosure. 3, the optical barrier film 20B is, like the optical barrier film 20A of FIG. 2, on the side opposite to the surface on which the light diffusion layer 14 of the first film substrate 11 of the optical film 10 included in FIG. The second film substrate 12 provided with a barrier layer 24a including an inorganic oxide layer on the surface is bonded via an adhesive layer 26a.
図３の光学バリアフィルム２０Ｂの、光学フィルム１０に対するバリア層２４ａと第二フィルム基材１２の層順は、図２の光学バリアフィルム２０Ａとは逆である。従って、光学フィルム１０の第一フィルム基材１１と、接着層２６ａを介して対向して貼り合わせられる層は、図２の光学バリアフィルム２０Ａではバリア層２４ａであるのに対し、図３の光学バリアフィルム２０Ｂでは第二フィルム基材１２となっている。 The layer order of the barrier layer 24a and the second film substrate 12 with respect to the optical film 10 of the optical barrier film 20B of FIG. 3 is opposite to that of the optical barrier film 20A of FIG. Accordingly, the layer that is bonded to the first film substrate 11 of the optical film 10 with the adhesive layer 26a opposed thereto is the barrier layer 24a in the optical barrier film 20A in FIG. In the barrier film 20B, the second film substrate 12 is provided.
図４は、本開示の第四実施形態に係る、光学バリアフィルムを示す模式断面図である。図４において、光学バリアフィルム２０Ｃは、図３に示す本開示の第三実施形態に係る光学バリアフィルム２０Ｂの形態に加えて、光学フィルム１０が備える第一フィルム基材１１の光拡散層１４が形成された面と反対側の面に、バリア層２４ｂを備えた第三フィルム基材１３を、接着層２６ｂを介して貼り合せて構成されている。 FIG. 4 is a schematic cross-sectional view illustrating an optical barrier film according to a fourth embodiment of the present disclosure. 4, the optical barrier film 20C has a light diffusion layer 14 of the first film substrate 11 included in the optical film 10 in addition to the optical barrier film 20B according to the third embodiment of the present disclosure shown in FIG. A third film substrate 13 having a barrier layer 24b is bonded to a surface opposite to the surface on which the formed film is formed, with an adhesive layer 26b interposed therebetween.
換言すれば、光学バリアフィルム２０Ｃは、図１に示す光学フィルム１０が備える第一フィルム基材１１の光拡散層１４が形成された面と反対側の面に、接着層２６ａを介してバリア層２４ａを備えた第二フィルム基材１２が、第一フィルム基材１１と第二フィルム基材１２とが対向するように貼り合せられ、さらに接着層２６ｂを介してバリア層２４ｂを備えた第三フィルム基材１３が、バリア層２４ａとバリア層２４ｂとが対向するように貼り合せられている。 In other words, the optical barrier film 20C is formed on the surface of the first film substrate 11 of the optical film 10 shown in FIG. 1 on the side opposite to the surface on which the light diffusion layer 14 is formed, via the adhesive layer 26a. The second film substrate 12 having the first film substrate 24a is bonded to the second film substrate 12 so that the first film substrate 11 and the second film substrate 12 face each other, and the third film substrate 12 having the barrier layer 24b with an adhesive layer 26b interposed therebetween. The film substrate 13 is bonded so that the barrier layer 24a and the barrier layer 24b face each other.
上記のように、第四実施形態に係る光学バリアフィルム２０Ｃでは、バリア層２４ａに加えてバリア層２４ｂを備えている。従って、より高いバリア性を要する用途に適している。 As described above, the optical barrier film 20C according to the fourth embodiment includes the barrier layer 24b in addition to the barrier layer 24a. Therefore, it is suitable for applications requiring higher barrier properties.
［波長変換フィルム］
図５は、本開示の第五実施形態に係る、波長変換フィルムを示す模式断面図である。図５において、波長変換フィルム３０は、波長変換層３１と、波長変換層３１を挟むように配置された図１に示す光学フィルム１０とを備える。光学フィルム１０は、光拡散層１４が波長変換層３１と反対側、すなわち波長変換フィルム３０の外側を向くように波長変換層３１上に配置されている。従って、波長変換フィルム３０は最外面に凹凸面１４Ａを有する。
[Wavelength conversion film]
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view illustrating a wavelength conversion film according to a fifth embodiment of the present disclosure. 5, the wavelength conversion film 30 includes a wavelength conversion layer 31 and the optical film 10 shown in FIG. 1 arranged so as to sandwich the wavelength conversion layer 31. The optical film 10 is disposed on the wavelength conversion layer 31 such that the light diffusion layer 14 faces the opposite side of the wavelength conversion layer 31, that is, the outside of the wavelength conversion film 30. Therefore, the wavelength conversion film 30 has the uneven surface 14A on the outermost surface.
図６は、本開示の第六実施形態に係る、波長変換フィルムを示す模式断面図である。図６において、波長変換フィルム４０は、波長変換層３１と、波長変換層３１を挟むように配置された光学バリアフィルム２０とを備える。光学バリアフィルム２０は、図２〜図４の光学バリアフィルム２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃのいずれであってもよく、上下二つの光学バリアフィルム２０の組み合わせは、２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃの互いに同じであっても異なっていてもよい。光学バリアフィルム２０は、光拡散層１４が波長変換層３１と反対側、すなわち波長変換フィルム４０の外側を向くように波長変換層３１上に配置されている。従って、波長変換フィルム４０は最外面に凹凸面１４Ａを有する。 FIG. 6 is a schematic cross-sectional view illustrating a wavelength conversion film according to a sixth embodiment of the present disclosure. 6, the wavelength conversion film 40 includes a wavelength conversion layer 31 and the optical barrier film 20 disposed so as to sandwich the wavelength conversion layer 31. The optical barrier film 20 may be any of the optical barrier films 20A, 20B, and 20C in FIGS. 2 to 4, and the combination of the upper and lower two optical barrier films 20 is the same as that of the optical barrier films 20A, 20B, and 20C. May also be different. The optical barrier film 20 is disposed on the wavelength conversion layer 31 such that the light diffusion layer 14 faces the opposite side of the wavelength conversion layer 31, that is, the outside of the wavelength conversion film 40. Therefore, the wavelength conversion film 40 has the uneven surface 14A on the outermost surface.
本開示の波長変換フィルム３０、４０は最外面に凹凸面１４Ａを有することにより、波長変換フィルム３０、４０の面上に他の部材を重ねた場合に、該他の部材とのブロッキン
グを抑制することができる。また、波長変換フィルム３０、４０を、例えばバックライトユニットを構成する導光板と重ねても、導光板が突出した光拡散粒子によって傷付くことを抑制できる。また、波長変換フィルム４０では、バリア層自身が傷付くことも抑制されることから、波長変換層３１への空気及び水蒸気の侵入が抑制されて、波長変換フィルム４０における波長変換性能が長期間に亘って維持される。
The wavelength conversion films 30 and 40 of the present disclosure have the uneven surface 14A on the outermost surface, so that when other members are stacked on the surfaces of the wavelength conversion films 30 and 40, blocking with the other members is suppressed. be able to. Further, even if the wavelength conversion films 30 and 40 are overlapped with, for example, a light guide plate constituting a backlight unit, it is possible to suppress the light guide plate from being damaged by protruding light diffusion particles. Further, in the wavelength conversion film 40, since the barrier layer itself is also prevented from being damaged, the invasion of air and water vapor into the wavelength conversion layer 31 is suppressed, and the wavelength conversion performance of the wavelength conversion film 40 is extended over a long period of time. Is maintained throughout.
波長変換層３１は樹脂及び蛍光体を含み、波長変換層３１の厚さは数十〜数百μｍである。前記樹脂としては、例えば光硬化性樹脂または熱硬化性樹脂を使用することができる。波長変換層３１は、量子ドットからなる２種類の蛍光体を含むことが好ましい。また、波長変換層３１は、１種類の蛍光体を含む蛍光体層と別の種類の蛍光体を含む蛍光体層が２層以上積層されたものであってもよい。２種類の蛍光体には、励起波長が同一のものが選択される。励起波長は、バックライトユニットの光源が照射する光の波長に基づいて選択される。２種類の蛍光体の蛍光色は相互に異なる。光源に青色発光ＬＥＤを用いる場合、２種類の蛍光色は、赤色及び緑色である。各蛍光の波長、及び光源が照射する光の波長は、カラーフィルタの分光特性に基づき選択される。蛍光のピーク波長は、例えば赤色で６１０ｎｍであり、緑色で５５０ｎｍである。 The wavelength conversion layer 31 includes a resin and a phosphor, and the thickness of the wavelength conversion layer 31 is several tens to several hundreds μm. As the resin, for example, a photocurable resin or a thermosetting resin can be used. It is preferable that the wavelength conversion layer 31 includes two types of phosphors made of quantum dots. Further, the wavelength conversion layer 31 may be formed by laminating two or more phosphor layers containing one kind of phosphor and phosphor layers containing another kind of phosphor. As the two types of phosphors, those having the same excitation wavelength are selected. The excitation wavelength is selected based on the wavelength of light emitted by the light source of the backlight unit. The fluorescent colors of the two phosphors are different from each other. When a blue light emitting LED is used as a light source, the two fluorescent colors are red and green. The wavelength of each fluorescent light and the wavelength of the light emitted by the light source are selected based on the spectral characteristics of the color filters. The peak wavelength of the fluorescence is, for example, 610 nm for red and 550 nm for green.
図７（ａ）〜（ｃ）に示す工程で、バリアフィルム２０ｂが光拡散層１４を備えない工程に従って、バリア層を有するフィルム基材１１ｂに凹凸面１４Ｂを有する形態（図７（ｃ）で光拡散層１４を備えない形態）の７種のサンプル（実施例１〜４、及び比較例１〜３）を作製し、フィルム基材１１ｂの凹凸面１４Ｂに波長変換層塗工液を塗布して、塗布ムラ発生の有無を検証した。以下、工程順に説明する。 In the steps shown in FIGS. 7A to 7C, according to the step in which the barrier film 20b does not include the light diffusion layer 14, the film base 11b having the barrier layer has the uneven surface 14B (see FIG. 7C). Seven types of samples (examples without the light diffusion layer 14) (Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3) were prepared, and the wavelength conversion layer coating liquid was applied to the uneven surface 14B of the film substrate 11b. Thus, the occurrence of coating unevenness was verified. Hereinafter, description will be made in the order of steps.
平均粒子径とガラス転移温度（Ｔｇ）の異なる７種の光拡散粒子（Ａ〜Ｇ）を用意した。次に、各光拡散粒子１８を、光拡散層１４を構成するバインダー樹脂１６中に１質量％となるように配合した塗工液を調製し、重量が同じになるようにバリア層を有するフィルム基材１１ａへ塗工して、図７（ａ）に示す形態の７種のバリアフィルム２０ａを作製した。その後、各バリアフィルム２０ａの光拡散層１４の凹凸面１４Ａの算術表面粗さ（Ｒａ）を測定した。 Seven types of light diffusion particles (A to G) having different average particle diameters and glass transition temperatures (Tg) were prepared. Next, a coating liquid is prepared by mixing each light diffusing particle 18 in the binder resin 16 constituting the light diffusing layer 14 so as to be 1% by mass, and a film having a barrier layer so that the weight is the same. By coating on the base material 11a, seven types of barrier films 20a having the form shown in FIG. 7A were produced. Thereafter, the arithmetic surface roughness (Ra) of the uneven surface 14A of the light diffusion layer 14 of each barrier film 20a was measured.
次に、前記各バリアフィルム２０ａを１００ｍｍ×１００ｍｍのサイズに切り出し、同サイズのバリア層を有するフィルム基材１１ｂと重ね合わせ、５０℃環境下でブロッキングテスターにて２５０ｋＮ／ｍ２の圧力を４８時間かける処理を行い、図７（ｂ）でバリアフィルム２０ｂ側の光拡散層１４がない形態とした。 Next, each of the barrier films 20a was cut into a size of 100 mm × 100 mm, overlapped with a film substrate 11b having a barrier layer of the same size, and subjected to a pressure of 250 kN / m 2 with a blocking tester at 50 ° C. for 48 hours. 7B, the light diffusion layer 14 on the side of the barrier film 20b is omitted in FIG. 7B.
次に、バリア層を有するフィルム基材１１ｂをバリアフィルム２０ａから分離し、図７（ｃ）で光拡散層１４がない形態とし、バリア層を有するフィルム基材１１ｂの凹凸面１４Ｂの算術表面粗さ（Ｒａ’）を測定した。 Next, the film substrate 11b having the barrier layer is separated from the barrier film 20a, and the light diffusion layer 14 is not formed in FIG. 7C, and the arithmetic surface roughness of the uneven surface 14B of the film substrate 11b having the barrier layer is obtained. (Ra ') was measured.
次に、バリア層を有するフィルム基材１１ｂの凹凸面１４Ｂに、別途調整した波長変換層塗工液（波長変換材料は量子ドットを使用したのでＱＤと略記する）を塗布し、ＱＤ塗布ムラ発生の有無を、ＵＶライトを使用して目視で評価した。 Next, a separately adjusted wavelength conversion layer coating liquid (the wavelength conversion material is abbreviated as QD because the quantum dot is used as the wavelength conversion material) is applied to the uneven surface 14B of the film substrate 11b having the barrier layer, and QD coating unevenness occurs. Was visually evaluated using a UV light.
＜評価結果＞
以上の７種のサンプル（実施例１〜４、及び比較例１〜３）の条件と測定結果、及び評価結果を、表１にまとめて示す。
<Evaluation results>
Table 1 summarizes the conditions, measurement results, and evaluation results of the above seven types of samples (Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3).
表１の結果より、光拡散層に含まれる光拡散粒子として、平均粒子径６μｍ以下、かつ
Ｔｇ５０℃以下のものを用いることで、光拡散層の算術平均粗さ（Ｒａ）は０．５μｍ以下、フィルム基材面の算術平均粗さ（Ｒａ’）は０．４μｍ以下となり、塗布ムラの抑制に効果があることが確認された。尚、光拡散層の算術平均粗さについては、小さすぎると導光板やレンズシートとが貼り付いてしまう懸念があるため、０．１μｍ以上である必要がある。
From the results in Table 1, the arithmetic average roughness (Ra) of the light diffusion layer is 0.5 μm or less by using the light diffusion particles contained in the light diffusion layer having an average particle diameter of 6 μm or less and a Tg of 50 ° C. or less. The arithmetic mean roughness (Ra ′) of the film substrate surface was 0.4 μm or less, which was confirmed to be effective in suppressing coating unevenness. The arithmetic average roughness of the light diffusion layer is required to be 0.1 μm or more because if it is too small, the light guide plate or the lens sheet may be stuck.
本発明の光学フィルムは、光学バリアフィルム及び波長変換フィルムに限らず、ロールｔｏロール方式により製造される、光拡散層を備える各種光学部材に応用することができる。 The optical film of the present invention is not limited to the optical barrier film and the wavelength conversion film, and can be applied to various optical members having a light diffusion layer manufactured by a roll-to-roll method.
１０・・・・・・光学フィルム
１１・・・・・・フィルム基材、または第一フィルム基材
１１ａ、１１ｂ・・・バリア層を有するフィルム基材
１２・・・・・・第二フィルム基材
１３・・・・・・第三フィルム基材
１４・・・・・・光拡散層
１４Ａ、１４Ｂ・・・凹凸面
１６・・・・・・バインダー樹脂
１８、１８ａ、１８ｂ・・・光拡散粒子
２０、２０ａ、２０ｂ、２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ
・・・・・光学バリアフィルム（バリアフィルム）
２４ａ、２４ｂ・・・バリア層
２６ａ、２６ｂ・・・接着層
３０、４０・・・・波長変換フィルム
３１・・・・・・・波長変換層
10 optical film 11 film base or first film base 11a, 11b film base 12 having barrier layer 12 second film base Material 13 Third film base 14 Light diffusion layers 14A and 14B Uneven surface 16 Binder resins 18, 18a and 18b Light diffusion Particles 20, 20a, 20b, 20A, 20B, 20C
..... Optical barrier film (barrier film)
24a, 24b ... barrier layers 26a, 26b ... adhesive layers 30, 40 ... wavelength conversion film 31 ... wavelength conversion layer
Claims (4)
前記光拡散層はバインダー樹脂と光拡散粒子とを含み、
前記光拡散粒子の平均粒子径は０．５〜６．０μｍであり、
かつ前記光拡散粒子のガラス転移温度（Ｔｇ）は５０℃以下であり、
かつ前記光拡散層の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）は０．１〜０．５μｍである、
ことを特徴とする光学フィルム。 A first film substrate, comprising a light diffusion layer formed on the first film substrate,
The light diffusion layer includes a binder resin and light diffusion particles,
The average particle diameter of the light diffusion particles is 0.5 to 6.0 μm,
And the glass transition temperature (Tg) of the light diffusion particles is 50 ° C. or less;
And the arithmetic average roughness (Ra) of the surface of the light diffusion layer is 0.1 to 0.5 μm;
An optical film, characterized in that:
ことを特徴とする光学バリアフィルム。 A second film substrate provided with a barrier layer including an inorganic oxide layer on a surface of the first film substrate provided in the optical film according to claim 1, the surface being opposite to a surface on which the light diffusion layer is formed. Sticking together,
An optical barrier film comprising:
波長変換層と、
請求項１に記載の光学フィルムからなる第二光学フィルムと、
がこの順序で積層されており、
前記第一光学フィルムの前記光拡散層と前記第二光学フィルムの前記光拡散層が、いずれも外側となる向きに積層されている、
ことを特徴とする波長変換フィルム。 A first optical film comprising the optical film according to claim 1,
A wavelength conversion layer,
A second optical film comprising the optical film according to claim 1,
Are stacked in this order,
The light diffusion layer of the first optical film and the light diffusion layer of the second optical film, both are laminated in the outward direction,
A wavelength conversion film, characterized in that:
波長変換層と、
請求項２に記載の光学バリアフィルムからなる第二光学バリアフィルムと、
がこの順序で積層されており、
前記第一光学バリアフィルムの前記光拡散層と前記第二光学バリアフィルムの前記光拡散層が、いずれも外側となる向きに積層されている、
ことを特徴とする波長変換フィルム。 A first optical barrier film comprising the optical barrier film according to claim 2,
A wavelength conversion layer,
A second optical barrier film comprising the optical barrier film according to claim 2,
Are stacked in this order,
The light diffusion layer of the first optical barrier film and the light diffusion layer of the second optical barrier film, both are laminated in a direction facing outward,
A wavelength conversion film, characterized in that:
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|---|---|---|---|---|
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