JP2016218339A - Phosphor protective film, wavelength conversion sheet and backlight unit - Google Patents

Phosphor protective film, wavelength conversion sheet and backlight unit Download PDF

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Koji Murata
光司 村田
亮 正田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wavelength conversion sheet that suppresses luminance unevenness and color unevenness of the sheet caused by uneven film thickness of a protective film and achieves high barrier property.SOLUTION: A phosphor protective film for protecting a phosphor in a wavelength conversion sheet is provided, which has such a structure that a film having a first substrate and a coating layer having an optical function disposed on one surface of the first substrate and a film having a second substrate and one or more barrier layers disposed on one surface of the second substrate are laminated. The thickness of the first substrate is smaller than the thickness of the second substrate.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、蛍光体保護フィルム、並びに、それを用いた波長変換シート及びバックライトユニットに関する。   The present invention relates to a phosphor protective film, and a wavelength conversion sheet and a backlight unit using the same.

液晶ディスプレイは、電圧の印加により液晶の配向状態を制御し、領域ごとに光を透過又は遮断することで画像等を表示する表示装置である。この液晶ディスプレイの光源としては、液晶ディスプレイの背面に設けられたバックライトが利用される。バックライトには、従来、冷陰極管が使用されているが、最近では、長寿命、発色の良さ等の理由から、冷陰極管に代えてLED(発光ダイオード)が使用されつつある。   A liquid crystal display is a display device that displays an image or the like by controlling the alignment state of liquid crystal by applying voltage and transmitting or blocking light in each region. As a light source of the liquid crystal display, a backlight provided on the back surface of the liquid crystal display is used. Conventionally, a cold cathode tube is used for the backlight, but recently, an LED (light emitting diode) is being used instead of the cold cathode tube for reasons such as long life and good color development.

バックライトに使用されるLEDにおいては、白色LED技術が非常に大きな重要度を占める。白色LED技術では、セリウムをドープしたYAG:Ce(イットリウム・アルミニウム・ガーネット:セリウム)下方変換用蛍光体を青色(450nm)LEDチップで励起する方法が一般的に用いられている。この場合、LEDの青色光と、YAG:Ce蛍光体から発生した波長範囲の広い黄色光とが混ざることで白色光となる。しかし、この白色光は幾分青味がかっていることが多く、しばしば「冷たい」とか「涼しげな」白色という印象を与える。   In the LED used for the backlight, the white LED technology is very important. In white LED technology, a cerium-doped YAG: Ce (yttrium, aluminum, garnet: cerium) down-conversion phosphor is generally excited with a blue (450 nm) LED chip. In this case, white light is obtained by mixing the blue light of the LED with yellow light having a wide wavelength range generated from the YAG: Ce phosphor. However, this white light is often somewhat bluish and often gives the impression of “cold” or “cool” white.

ところで、近年、量子ドットを用いたナノサイズの蛍光体が製品化されている。量子ドットとは、発光性の半導体ナノ粒子で、直径の範囲は1〜20nm程度である。量子ドットは幅広い励起スペクトルを示し量子効率が高いため、LED波長変換用蛍光体として使用することができる。さらに、ドットサイズや半導体材料の種類を変更するだけで、発光の波長を可視域全体にわたって完全に調整することができるという利点がある。そのため、量子ドットは事実上あらゆる色、特に照明業界で強く望まれている暖かい白色を作り出せる可能性を秘めているといえる。加えて、発光波長が赤、緑、青に対応する3種類のドットを組み合わせて、演色評価数の異なる白色光を得ることが可能となる。このように、量子ドットによるバックライトを用いた液晶ディスプレイでは、従来のものよりも厚みや消費電力、コスト、製造プロセスを増やすことなく、色調が向上し、人が識別できる色の多くを表現可能になる。   Incidentally, in recent years, nano-sized phosphors using quantum dots have been commercialized. A quantum dot is a luminescent semiconductor nanoparticle, and the range of a diameter is about 1-20 nm. Since quantum dots show a wide excitation spectrum and high quantum efficiency, they can be used as phosphors for LED wavelength conversion. Furthermore, there is an advantage that the wavelength of light emission can be completely adjusted over the entire visible range only by changing the dot size or the type of semiconductor material. As such, quantum dots have the potential to create virtually any color, especially the warm white that is highly desired in the lighting industry. In addition, it is possible to obtain white light having different color rendering index by combining three types of dots corresponding to red, green, and blue emission wavelengths. In this way, with a liquid crystal display using a quantum dot backlight, the color tone is improved and many colors that can be identified by humans can be expressed without increasing the thickness, power consumption, cost, and manufacturing process. become.

上述したような白色LEDを用いたバックライトは、所定の発光スペクトルを持つ蛍光体(量子ドット及びYAG:Ce等)をフィルム内に拡散させ、その表面をバリアフィルムにて封止し、場合によってはエッジ部も封止した波長変換シートを、LED光源及び導光板と組み合わせた構成を有する。   A backlight using a white LED as described above diffuses a phosphor having a predetermined emission spectrum (quantum dots and YAG: Ce, etc.) into the film, and seals the surface with a barrier film. Has a configuration in which a wavelength conversion sheet in which an edge portion is also sealed is combined with an LED light source and a light guide plate.

バリアフィルムは、プラスチックフィルム等の基材の表面に蒸着等によって薄膜を形成して、水分や気体(例えば、酸素)などの大気中の劣化因子、の透過を防止するものである。例えば、特許文献1に、蛍光体の劣化を抑制するため、蛍光体をバリアフィルムで挟んだ構造を有するバックライトが提案されている。   A barrier film forms a thin film on the surface of a substrate such as a plastic film by vapor deposition or the like, and prevents permeation of atmospheric deterioration factors such as moisture and gas (for example, oxygen). For example, Patent Document 1 proposes a backlight having a structure in which a phosphor is sandwiched between barrier films in order to suppress deterioration of the phosphor.

特開2011−013567号公報JP 2011-013567 A

バリアフィルムで量子ドット等の蛍光体を封止した波長変換シートを用いてディスプレイを作製した場合、蛍光体の層の厚みにバラつきがあると、変換される光の度合いが変化することから、光源光を変換した際に輝度ムラ・色ムラを生じ、ディスプレイに搭載したときに色調不良となる。この一因としては、保護フィルムの厚さにムラがあると、蛍光体と保護フィルムをラミネートした際に、保護フィルムのムラが影響して蛍光体層の厚みが変化することが挙げられる。モバイル端末向けディスプレイなどに搭載される波長変換シート及びバックライトユニットでは、薄膜化が求められ、波長変換シートについても薄膜化が必要となるが、膜厚が薄くなるにつれラミネート時のムラも、顕著になる。   When a display is made using a wavelength conversion sheet in which a phosphor such as a quantum dot is sealed with a barrier film, if the thickness of the phosphor layer varies, the degree of converted light will change. When light is converted, luminance unevenness and color unevenness are generated, resulting in poor color tone when mounted on a display. One reason for this is that if the thickness of the protective film is uneven, when the phosphor and the protective film are laminated, the unevenness of the protective film affects the thickness of the phosphor layer. Wavelength conversion sheets and backlight units mounted on displays for mobile devices, etc., require thinning, and wavelength conversion sheets also require thinning, but as the film thickness decreases, unevenness during lamination is also noticeable. become.

本発明は、かかる事情を鑑みてなされたものであり、波長変換シートにおける蛍光体を保護するための保護フィルムとして、輝度ムラ・色ムラの発生を抑制し、かつ、劣化因子に対するバリア性の高い蛍光体保護フィルム、並びに、それを用いた波長変換シート及びバックライトユニットを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and as a protective film for protecting the phosphor in the wavelength conversion sheet, it suppresses the occurrence of luminance unevenness and color unevenness and has high barrier properties against deterioration factors. An object of the present invention is to provide a phosphor protective film, and a wavelength conversion sheet and a backlight unit using the same.

上記課題を解決するため、
蛍光体を保護するための保護フィルムであって、
第1の基材を有するフィルムと、第2の基材と、該第2の基材の一方の面上に設けられた1以上のバリア層と、を有するフィルムと、が積層された構造を有し、前記第1の基材の厚さは、前記第2の基材の厚さより小さいことを特徴とする、蛍光体保護フィルムとする。これにより、保護フィルムにより生じる輝度ムラ・色ムラの発生を抑制することができる。
さらには、第2の基材の厚みが、保護フィルム全体の厚みの40%以上90%以下とする。
さらには、保護フィルム全体の厚みを50μm以下とする。
また、量子ドットを含む蛍光体層と、蛍光体層を上下に配置された保護フィルムとを備え、上記蛍光体保護フィルムを用いたことを特徴とする波長変換シートとする。
また、LED光源と、上記波長変換シートと、青色LED光源から該波長変換シートへ光を入射させる導光板と、を備えたバックライトユニットとする。
To solve the above problem,
A protective film for protecting the phosphor,
A structure in which a film having a first substrate, a second substrate, and a film having one or more barrier layers provided on one surface of the second substrate are laminated. The phosphor protective film is characterized in that the thickness of the first base material is smaller than the thickness of the second base material. Thereby, generation | occurrence | production of the brightness nonuniformity and color nonuniformity which arise with a protective film can be suppressed.
Furthermore, the thickness of the second substrate is 40% or more and 90% or less of the total thickness of the protective film.
Furthermore, the thickness of the entire protective film is 50 μm or less.
Moreover, it is set as the wavelength conversion sheet | seat characterized by including the fluorescent substance layer containing a quantum dot and the protective film which has arrange | positioned the fluorescent substance layer up and down, and using the said fluorescent substance protective film.
Moreover, it is set as the backlight unit provided with the LED light source, the said wavelength conversion sheet | seat, and the light-guide plate which makes light inject into this wavelength conversion sheet | seat from a blue LED light source.

本発明によれば、波長変換シートにおける蛍光体を保護するための保護フィルムとして、輝度ムラ・色ムラの発生を抑制し、かつ、劣化因子に対するバリア性の高い蛍光体保護フィルム、並びに、それを用いた波長変換シート及びバックライトユニットを提供することができる。   According to the present invention, as a protective film for protecting the phosphor in the wavelength conversion sheet, a phosphor protective film that suppresses the occurrence of luminance unevenness and color unevenness and has a high barrier property against deterioration factors, and The used wavelength conversion sheet and backlight unit can be provided.

図1は、本発明の第1実施形態に係る波長変換シートの模式断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a wavelength conversion sheet according to the first embodiment of the present invention. 図2は、本発明の第1実施形態に係る蛍光体保護フィルムの変形例である。FIG. 2 is a modification of the phosphor protective film according to the first embodiment of the present invention. 図3は、本発明の第1実施形態に係る蛍光体保護フィルムの変形例である。FIG. 3 is a modification of the phosphor protective film according to the first embodiment of the present invention. 図4は、本発明の第2実施形態に係る波長変換シートの模式断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a wavelength conversion sheet according to the second embodiment of the present invention. 図5は、本発明に係るバックライトユニットの模式断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a backlight unit according to the present invention.

以下、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。更に、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. Further, the positional relationship such as up, down, left and right is based on the positional relationship shown in the drawings unless otherwise specified. Further, the dimensional ratios in the drawings are not limited to the illustrated ratios.

<第1実施形態に係る波長変換シート>
先ず、本発明の第1実施形態について説明する。図1は、本発明の第1実施形態に係る波長変換シートの模式断面図である。図1に示した波長変換シートは、量子ドット等の蛍光体を含んでおり、例えばLED波長変換用として、バックライトユニットに用いることができるものである。
<Wavelength conversion sheet according to the first embodiment>
First, a first embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a wavelength conversion sheet according to the first embodiment of the present invention. The wavelength conversion sheet shown in FIG. 1 contains a phosphor such as a quantum dot, and can be used for a backlight unit, for example, for LED wavelength conversion.

図1に示すように、本実施形態の波長変換シート100は、蛍光体を含む蛍光体層(波長変換層)1と、蛍光体層1の一方の面1a側および他方の面1b側にそれぞれ設けられた蛍光体保護フィルム(以下、単に「保護フィルム」ともいう)20,20とを備えて概略構成されている。これによって、保護フィルム20,20の間に蛍光体層1が包み込まれた(すなわち、封止された)構造となっている。ここで、蛍光体層1には、バリア性を付与する必要があることから、一対の蛍光体保護フィルム20,20によって、蛍光体層1を挟んだ構成にすることが望ましい。以下、波長変換シート100を構成する各層について詳細に説明する。   As shown in FIG. 1, the wavelength conversion sheet 100 of the present embodiment includes a phosphor layer (wavelength conversion layer) 1 containing a phosphor, and one surface 1 a side and the other surface 1 b side of the phosphor layer 1. And a fluorescent protective film (hereinafter also simply referred to as “protective film”) 20 and 20 provided. Thus, the phosphor layer 1 is encapsulated (that is, sealed) between the protective films 20 and 20. Here, since it is necessary to impart barrier properties to the phosphor layer 1, it is desirable that the phosphor layer 1 be sandwiched between the pair of phosphor protective films 20 and 20. Hereinafter, each layer constituting the wavelength conversion sheet 100 will be described in detail.

(蛍光体層)
蛍光体層1は、封止樹脂4及び蛍光体3を含む数十〜数百μmの厚みの薄膜である。封止樹脂4としては、例えば、感光性樹脂又は熱硬化性樹脂を使用することができる。封止樹脂4の内部には、蛍光体3が1種以上混合された状態で封止されている。封止樹脂4は、蛍光体層1と一対の保護フィルム2,2とを積層する際に、これらを接合するとともに、これらの空隙を埋める役割を果たす。また、蛍光体層1は、1種類の蛍光体3のみが封止された蛍光体層が2層以上積層されたものであってもよい。それら1層又は2層以上の蛍光体層に用いられる2種類以上の蛍光体3は、励起波長が同一のものが選択される。この励起波長は、LED光源が照射する光の波長に基づいて選択される。2種類以上の蛍光体3の蛍光色は相互に異なる。LED光源波長が青色LED(ピーク波長450nm)で使用する蛍光体3が2種類の場合、各蛍光色は、好ましくは、赤色、緑色である。各蛍光の波長、及びLED光源が照射する光の波長は、カラーフィルタの分光特性に基づき選択される。蛍光のピーク波長は、例えば赤色が610nm、緑色が550nmである。
(Phosphor layer)
The phosphor layer 1 is a thin film having a thickness of several tens to several hundreds of μm including the sealing resin 4 and the phosphor 3. As the sealing resin 4, for example, a photosensitive resin or a thermosetting resin can be used. The sealing resin 4 is sealed in a state where one or more phosphors 3 are mixed. The sealing resin 4 plays a role of joining the phosphor layer 1 and the pair of protective films 2 and 2 and filling these gaps while laminating them. The phosphor layer 1 may be a laminate in which two or more phosphor layers in which only one kind of phosphor 3 is sealed are laminated. As the two or more kinds of phosphors 3 used in the one or more phosphor layers, those having the same excitation wavelength are selected. This excitation wavelength is selected based on the wavelength of light emitted by the LED light source. The fluorescent colors of two or more types of phosphors 3 are different from each other. When the LED light source wavelength is two types of phosphors 3 used in a blue LED (peak wavelength: 450 nm), each fluorescent color is preferably red or green. The wavelength of each fluorescence and the wavelength of light emitted from the LED light source are selected based on the spectral characteristics of the color filter. The peak wavelengths of fluorescence are, for example, 610 nm for red and 550 nm for green.

次に、蛍光体3の粒子構造を説明する。蛍光体3としては、色純度が高く、輝度の向上が期待できる量子ドットが好ましく用いられる。量子ドットとしては、例えば、発光部としてのコアが保護膜としてのシェルにより被膜されたものが挙げられる。上記コアとしては、例えば、セレン化カドミウム(CdSe)等が挙げられ、上記シェルとしては、例えば、硫化亜鉛(ZnS)等が挙げられる。CdSeの粒子の表面欠陥がバンドギャップの大きいZnSにより被覆されることで量子効率が向上する。また、蛍光体3は、コアが第1シェル及び第2シェルにより二重に被覆されたものであってもよい。この場合、コアにはCsSe、第1シェルにはセレン化亜鉛(ZnSe)、第2シェルにはZnSが使用できる。また、量子ドット以外の蛍光体3として、YAG:Ce等を用いることもできる。   Next, the particle structure of the phosphor 3 will be described. As the phosphor 3, a quantum dot that has high color purity and can be expected to improve luminance is preferably used. Examples of the quantum dots include those in which a core as a light emitting portion is coated with a shell as a protective film. Examples of the core include cadmium selenide (CdSe), and examples of the shell include zinc sulfide (ZnS). Quantum efficiency is improved by covering surface defects of CdSe particles with ZnS having a large band gap. Further, the phosphor 3 may be one in which the core is double-coated with the first shell and the second shell. In this case, CsSe can be used for the core, zinc selenide (ZnSe) can be used for the first shell, and ZnS can be used for the second shell. Moreover, YAG: Ce etc. can also be used as fluorescent substance 3 other than a quantum dot.

上記蛍光体3の平均粒子径は、好ましくは1〜20nmである。また、蛍光体層1の厚さは、好ましくは1〜500μmである。   The average particle diameter of the phosphor 3 is preferably 1 to 20 nm. Moreover, the thickness of the phosphor layer 1 is preferably 1 to 500 μm.

蛍光体層1における蛍光体3の含有量は、蛍光体層1全量を基準として、1〜20質量%であることが好ましく、3〜10質量%であることがより好ましい。   The content of the phosphor 3 in the phosphor layer 1 is preferably 1 to 20% by mass and more preferably 3 to 10% by mass based on the total amount of the phosphor layer 1.

封止樹脂4としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、及び紫外線硬化型樹脂等を使用することができる。これらの樹脂は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いても良い。   As the sealing resin 4, for example, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin, or the like can be used. These resins may be used alone or in combination of two or more.

熱可塑性樹脂としては、例えば、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース及びメチルセルロース等のセルロース誘導体;酢酸ビニルとその共重合体、塩化ビニルとその共重合体、及び塩化ビニリデンとその共重合体等のビニル系樹脂;ポリビニルホルマール及びポリビニルブチラール等のアセタール樹脂;アクリル樹脂とその共重合体、メタアクリル樹脂とその共重合体等のアクリル系樹脂;ポリスチレン樹脂;ポリアミド樹脂;線状ポリエステル樹脂;フッ素樹脂;並びに、ポリカーボネート樹脂等を用いることができる。   Examples of the thermoplastic resin include cellulose derivatives such as acetylcellulose, nitrocellulose, acetylbutylcellulose, ethylcellulose, and methylcellulose; vinyl acetate and copolymers thereof, vinyl chloride and copolymers thereof, and vinylidene chloride and copolymers thereof. Acetal resins such as polyvinyl formal and polyvinyl butyral; Acrylic resins and copolymers thereof, Acrylic resins such as methacrylic resins and copolymers; Polystyrene resins; Polyamide resins; Linear polyester resins; Fluorine Resin; and polycarbonate resin etc. can be used.

熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、及びシリコーン樹脂等が挙げられる。   Examples of the thermosetting resin include phenol resin, urea melamine resin, polyester resin, and silicone resin.

紫外線硬化型樹脂としては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、及びポリエステルアクリレート等の光重合性プレポリマーが挙げられる。また、これら光重合性プレポリマーを主成分とし、希釈剤として単官能や多官能のモノマーを使用することもできる。   Examples of the ultraviolet curable resin include photopolymerizable prepolymers such as epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyester acrylate. Further, these photopolymerizable prepolymers can be the main components, and monofunctional or polyfunctional monomers can be used as diluents.

(蛍光体保護フィルム)
蛍光体保護フィルム20は、基材12とバリア層9とを有するバリアフィルム5と、接着層6と、基材8とを有している。そして、バリアフィルム5のバリア層9形成面と、基材8が接着層6を介してもう一方の基材8に対向するように積層されている。さらに、必要に応じて基材8の一方の面8b上にコーティング層7が設けられたコーティング層7が設けられる。換言すると、蛍光体層1から遠い方を第1の基材8、蛍光体層1に近い、バリア層が積層された方を第2の基材12とした場合、第1の基材と、第1の基材の一方の面8b上に設けられたコーティング層7とを有するフィルムと、第2の基材12と、第2の基材の一方の面12a上に設けられたバリア層9とを有するフィルム(バリアフィルム5)は、接着層6を介して、第1の基材と第2の基材のバリア層9形成面とが対向するように積層されている。このような構成とすることで、製造時のバリア層9の損傷を防ぎ、またバリア層の欠陥によるバリア性低下を抑制することができる。
(Phosphor protective film)
The phosphor protective film 20 includes a barrier film 5 having a substrate 12 and a barrier layer 9, an adhesive layer 6, and a substrate 8. And it laminates | stacks so that the barrier layer 9 formation surface of the barrier film 5 and the base material 8 may oppose the other base material 8 through the contact bonding layer 6. FIG. Furthermore, the coating layer 7 in which the coating layer 7 is provided on one surface 8b of the base material 8 is provided as needed. In other words, when the farther from the phosphor layer 1 is the first substrate 8, the closer to the phosphor layer 1 is the second substrate 12 on which the barrier layer is laminated, the first substrate, A film having a coating layer 7 provided on one surface 8b of the first substrate, a second substrate 12, and a barrier layer 9 provided on one surface 12a of the second substrate. The barrier layer 9 is laminated so that the first substrate and the barrier layer 9 forming surface of the second substrate face each other with the adhesive layer 6 interposed therebetween. By adopting such a configuration, it is possible to prevent damage to the barrier layer 9 during manufacturing and to suppress a decrease in barrier properties due to defects in the barrier layer.

バリアフィルム5は、図1に示すように、基材12と、この基材12の一方の面12a上に設けられたバリア層9とを有している。   As shown in FIG. 1, the barrier film 5 includes a base material 12 and a barrier layer 9 provided on one surface 12 a of the base material 12.

基材8、12としては、特に限定されるものではないが、全光線透過率が85%以上の基材が望ましい。例えば透明性が高く、耐熱性に優れた基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルムなどを用いることができる。   Although it does not specifically limit as the base materials 8 and 12, The base material whose total light transmittance is 85% or more is desirable. For example, a polyethylene terephthalate film, a polyethylene naphthalate film, or the like can be used as a substrate having high transparency and excellent heat resistance.

また、基材8の厚さは、優れたバリア性を得るために、12μm以上とすることが望ましい。また、基材12の厚さは、特に限定されるものではないが、波長変換シート100の総厚を薄くするために、80μm以下とすることが望ましい。   Further, the thickness of the substrate 8 is desirably 12 μm or more in order to obtain excellent barrier properties. The thickness of the substrate 12 is not particularly limited, but is desirably 80 μm or less in order to reduce the total thickness of the wavelength conversion sheet 100.

第1の基材8の厚さは、第2の基材12の厚さより小さいことが好ましい。第2の基材の厚さを大きくすることで、バリアフィルム5の厚さのムラの原因となる、バリア層9を形成するときの熱履歴による第2の基材の熱収縮を抑制し、第1の基材の厚さを相対的に小さくすることで、蛍光体保護フィルム20全体の透過率の低下を防止し、結果として、輝度ムラ・色ムラを低減することができる。   The thickness of the first base material 8 is preferably smaller than the thickness of the second base material 12. By increasing the thickness of the second base material, the thermal shrinkage of the second base material due to the heat history when forming the barrier layer 9 that causes the unevenness of the thickness of the barrier film 5, By making the thickness of the first base material relatively small, a decrease in the transmittance of the entire phosphor protective film 20 can be prevented, and as a result, luminance unevenness and color unevenness can be reduced.

具体的には、第1の基材8の厚さD1は、4〜30μmの範囲内であり、第2の基材12の厚さD2は、16〜80μmの範囲内であることが好ましい。また、第1の基材8の厚さと第2の基材8の厚さの差D2−D1が5〜76μmの範囲内であることが好ましい。D1を4μm〜30μmとすることで、ラミネート時の形状不良を抑制することができる。D2を16〜80μmとすることで、蛍光体保護フィルム20のカールを抑えることができる。さらに、50μm以下の薄型の蛍光体保護フィルム20を実現するために、第1の基材8の厚さD1は、4〜20μmの範囲内であり、第2の基材12の厚さD2は、16〜45μmの範囲内であることがより好ましい。また、第1の基材8の厚さと第2の基材8の厚さの差D2−D1が5〜45μmの範囲内であることがより好ましい。   Specifically, the thickness D1 of the first substrate 8 is preferably in the range of 4 to 30 μm, and the thickness D2 of the second substrate 12 is preferably in the range of 16 to 80 μm. Moreover, it is preferable that difference D2-D1 of the thickness of the 1st base material 8 and the thickness of the 2nd base material 8 exists in the range of 5-76 micrometers. By setting D1 to 4 μm to 30 μm, it is possible to suppress shape defects during lamination. By setting D2 to 16 to 80 μm, curling of the phosphor protective film 20 can be suppressed. Furthermore, in order to realize the thin phosphor protective film 20 of 50 μm or less, the thickness D1 of the first base material 8 is in the range of 4 to 20 μm, and the thickness D2 of the second base material 12 is More preferably, it is in the range of 16 to 45 μm. Moreover, it is more preferable that the difference D2-D1 between the thickness of the first substrate 8 and the thickness of the second substrate 8 is in the range of 5 to 45 μm.

また波長変換シートとして100、膜厚の厚い第2の基材12が蛍光体層1側に位置するように、上下の保護フィルム20、20を配置することで、バリア層9と蛍光体層1の距離をできるだけ近づけ、保護フィルム20による蛍光体層1の封止効果を高めることができる。   Moreover, the barrier layer 9 and the phosphor layer 1 are arranged by arranging the upper and lower protective films 20 and 20 so that the wavelength conversion sheet 100 and the thick second substrate 12 are positioned on the phosphor layer 1 side. Thus, the sealing effect of the phosphor layer 1 by the protective film 20 can be enhanced.

バリア層9は、特に限定されるものではないが、無機薄膜層10とガスバリア性被覆層11とを含んでいることが好ましい。バリア層の構成例としては、例えば図1に示すように、バリア層9は、基材12の一方の面(片面)12a上に無機薄膜層10が積層されるとともに、この無機薄膜層10の上にガスバリア性被覆層11が積層されて構成されている。   The barrier layer 9 is not particularly limited, but preferably includes an inorganic thin film layer 10 and a gas barrier coating layer 11. As an example of the configuration of the barrier layer, for example, as shown in FIG. 1, the barrier layer 9 is formed by laminating an inorganic thin film layer 10 on one surface (one surface) 12 a of a base material 12. A gas barrier coating layer 11 is laminated thereon.

無機薄膜層(無機酸化物薄膜層)10としては、特に限定されるものではないが、例えば、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグネシウムあるいはそれらの混合物を用いることができる。これらの中でも、バリア性、生産性の観点から、酸化アルミニウム又は酸化珪素を用いることが望ましい。   The inorganic thin film layer (inorganic oxide thin film layer) 10 is not particularly limited. For example, aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, or a mixture thereof can be used. Among these, it is desirable to use aluminum oxide or silicon oxide from the viewpoint of barrier properties and productivity.

無機薄膜層10の厚さ(膜厚)は、5〜500nmの範囲内とすることが好ましく、10〜100nmの範囲内とすることがより好ましい。ここで、膜厚が5nm以上であると、均一な膜を形成しやすく、ガスバリア材としての機能をより十分に果たすことができる傾向がある。一方、膜厚が500nm以下であると、薄膜により十分なフレキシビリティを保持させることができ、成膜後に折り曲げ、引っ張りなどの外的要因により、薄膜に亀裂を生じることをより確実に防ぐことができる傾向がある。   The thickness (film thickness) of the inorganic thin film layer 10 is preferably in the range of 5 to 500 nm, and more preferably in the range of 10 to 100 nm. Here, when the film thickness is 5 nm or more, it is easy to form a uniform film, and the function as a gas barrier material tends to be more sufficiently achieved. On the other hand, when the film thickness is 500 nm or less, sufficient flexibility can be maintained by the thin film, and it is possible to more reliably prevent the thin film from cracking due to external factors such as bending and pulling after the film formation. There is a tendency to be able to.

ガスバリア性被覆層11は、後工程での二次的な各種損傷を防止すると共に、高いバリア性を付与するために設けられるものである。このガスバリア性被覆層11は、優れたバリア性を得る観点から、水酸基含有高分子化合物、金属アルコキシド、金属アルコキシド加水分解物及び金属アルコキシド重合物からなる群より選択される少なくとも1種を成分として含有していることが好ましい。   The gas barrier coating layer 11 is provided in order to prevent various secondary damages in a later process and to impart high barrier properties. The gas barrier coating layer 11 contains, as a component, at least one selected from the group consisting of a hydroxyl group-containing polymer compound, a metal alkoxide, a metal alkoxide hydrolyzate, and a metal alkoxide polymer from the viewpoint of obtaining excellent barrier properties. It is preferable.

水酸基含有高分子化合物としては、具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、デンプン等の水溶性高分子が挙げられるが、特にポリビニルアルコールを用いた場合にバリア性が最も優れる。   Specific examples of the hydroxyl group-containing polymer compound include water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, and starch. The barrier property is most excellent particularly when polyvinyl alcohol is used.

金属アルコキシドは、一般式:M(OR)n(MはSi、Ti、Al、Zr等の金属原子を示し、Rは−CH3、−C2H5等のアルキル基を示し、nはMの価数に対応した整数を示す)で表される化合物である。具体的には、テトラエトキシシラン〔Si(OC2H5)4〕、トリイソプロポキシアルミニウム〔Al(O−iso−C3H7)3〕などが挙げられる。テトラエトキシシラン、トリイソプロポキシアルミニウムは、加水分解後、水系の溶媒中において比較的安定であるので好ましい。また、金属アルコキシドの加水分解物及び重合物としては、例えば、テトラエトキシシランの加水分解物や重合物としてケイ酸(Si(OH)4)などが、トリプロポキシアルミニウムの加水分解物や重合物として水酸化アルミニウム(Al(OH)3)などが挙げられる。   The metal alkoxide is represented by the general formula: M (OR) n (M represents a metal atom such as Si, Ti, Al, Zr, R represents an alkyl group such as —CH 3, —C 2 H 5, and n represents the valence of M. A corresponding integer). Specific examples include tetraethoxysilane [Si (OC2H5) 4], triisopropoxyaluminum [Al (O-iso-C3H7) 3], and the like. Tetraethoxysilane and triisopropoxyaluminum are preferable because they are relatively stable in an aqueous solvent after hydrolysis. Examples of the hydrolyzate and polymer of metal alkoxide include tetraethoxysilane hydrolyzate and polymer such as silicic acid (Si (OH) 4), and tripropoxyaluminum hydrolyzate and polymer. Examples thereof include aluminum hydroxide (Al (OH) 3).

ガスバリア性被覆層11の厚さ(膜厚)は、50〜2000nmの範囲内とすることが好ましく、100〜500nmの範囲内とすることがより好ましい。ここで、膜厚が50nm以上であると、より十分なガスバリア性を得ることができる傾向があり、2000nm以下であると、薄膜により、十分なフレキシビリティを保持できる傾向がある。   The thickness (film thickness) of the gas barrier coating layer 11 is preferably in the range of 50 to 2000 nm, and more preferably in the range of 100 to 500 nm. Here, when the film thickness is 50 nm or more, there is a tendency that a more sufficient gas barrier property can be obtained, and when it is 2000 nm or less, there is a tendency that sufficient flexibility can be maintained by the thin film.

図2は本実施形態における蛍光体保護フィルムの変形例である。図2の蛍光体保護フィルム21のように、バリア層9は、一方の面8b上にコーティング層7が設けられた基材8の他方の面上に設けてもよい。このように、第2の基材12の一方の面12a上にバリア層9が積層されているとともに、第1の基材8と第2の基材12との間にバリア層9を挟み込んでおり、また、それぞれのバリア層9が、より蛍光体層1に近い場所に配置しているため、例えバリア層9に微小なピンホール等の欠陥が生じている場合であっても、より効果的にバリア性能を発揮することができる。   FIG. 2 is a modification of the phosphor protective film in the present embodiment. Like the phosphor protective film 21 in FIG. 2, the barrier layer 9 may be provided on the other surface of the base material 8 on which the coating layer 7 is provided on the one surface 8 b. As described above, the barrier layer 9 is laminated on the one surface 12 a of the second base material 12, and the barrier layer 9 is sandwiched between the first base material 8 and the second base material 12. In addition, since each barrier layer 9 is disposed closer to the phosphor layer 1, even if a defect such as a minute pinhole is generated in the barrier layer 9, it is more effective. In particular, the barrier performance can be exhibited.

図3は本実施形態における蛍光体保護フィルムの別の変形例である。図3の蛍光体保護フィルム22のように、バリア層9は、無機薄膜層10とガスバリア性被覆層11とが複数積層されていても良い。特に、無機薄膜層10とガスバリア性被覆層11とが交互に積層されることにより、無機薄膜層10の微小なピンホール等の欠陥がガスバリア性被覆層11と他の無機薄膜層10の存在によって防ぐことができ、バリア性能を向上させることができる。   FIG. 3 shows another modification of the phosphor protective film in the present embodiment. As in the phosphor protective film 22 of FIG. 3, the barrier layer 9 may be formed by laminating a plurality of inorganic thin film layers 10 and gas barrier coating layers 11. In particular, since the inorganic thin film layer 10 and the gas barrier coating layer 11 are alternately laminated, defects such as minute pinholes in the inorganic thin film layer 10 are caused by the presence of the gas barrier coating layer 11 and the other inorganic thin film layer 10. Can be prevented, and the barrier performance can be improved.

バリア層9には、必要に応じて、アンカーコート層を含んでいてもよい。アンカーコート層は、基材8と無機薄膜層10との間の密着性を向上させるために設けられるものである。また、アンカーコート層は、水分や酸素の透過を防止するバリア性を有していてもよい。   The barrier layer 9 may include an anchor coat layer as necessary. The anchor coat layer is provided in order to improve the adhesion between the base material 8 and the inorganic thin film layer 10. Further, the anchor coat layer may have a barrier property that prevents permeation of moisture and oxygen.

アンカーコート層は、例えば、ポリエステル樹脂、イソシアネート樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、ビニル変性樹脂、エポキシ樹脂、オキサゾリン基含有樹脂、変性スチレン樹脂、変性シリコーン樹脂またはアルキルチタネート等から選択された樹脂からなり、単独または2種類以上組み合わせた複合樹脂でもよい。   Anchor coat layer is, for example, polyester resin, isocyanate resin, urethane resin, acrylic resin, polyvinyl alcohol resin, ethylene vinyl alcohol resin, vinyl modified resin, epoxy resin, oxazoline group-containing resin, modified styrene resin, modified silicone resin or alkyl titanate. It may be a resin selected from the above, and may be a single resin or a composite resin in combination of two or more.

アンカーコート層の厚さは、5〜500nmの範囲内とすることが好ましく、10〜100nmの範囲内とすることがより好ましい。ここで、厚さが5nm以上であると、基材8と無機薄膜層10との間の密着性および水分や酸素に対するバリア性が向上する傾向があり、500nm以下であると、厚膜による内部応力が十分抑制された均一な層を形成することができる傾向がある。   The thickness of the anchor coat layer is preferably in the range of 5 to 500 nm, and more preferably in the range of 10 to 100 nm. Here, if the thickness is 5 nm or more, the adhesion between the base material 8 and the inorganic thin film layer 10 and the barrier property against moisture and oxygen tend to be improved. There is a tendency that a uniform layer in which stress is sufficiently suppressed can be formed.

接着層6は、図2に示すように、2枚のバリアフィルム5を貼り合わせて積層するために、2枚のバリアフィルム5の間に設けられている。接着層6としては、特に限定されるものではないが、アクリル系材料、ウレタン系材料、ポリエステル系材料などの接着剤や粘着剤を用いることができる。より具体的には、アクリル系粘着剤、アクリル系接着剤、ウレタン系接着剤、エステル系接着剤のいずれかを用いることができる。   As shown in FIG. 2, the adhesive layer 6 is provided between the two barrier films 5 in order to bond and laminate the two barrier films 5 together. Although it does not specifically limit as the contact bonding layer 6, Adhesives and adhesives, such as an acryl-type material, a urethane type material, and a polyester-type material, can be used. More specifically, an acrylic pressure-sensitive adhesive, an acrylic adhesive, a urethane adhesive, or an ester adhesive can be used.

また、接着層6の厚さとしては、特に限定されるものではないが、蛍光体保護フィルム2及び波長変換シート100の総厚を薄くするために、10μm以下とすることが望ましい。一方、より良好な接着性を得る観点から、接着層6の厚さは3μm以上であることが望ましい。   The thickness of the adhesive layer 6 is not particularly limited, but is desirably 10 μm or less in order to reduce the total thickness of the phosphor protective film 2 and the wavelength conversion sheet 100. On the other hand, from the viewpoint of obtaining better adhesiveness, the thickness of the adhesive layer 6 is desirably 3 μm or more.

コーティング層7は、1以上の光学的機能や帯電防止機能を発揮させるために、2つの蛍光体保護フィルム2,2のそれぞれの表面、すなわち、波長変換シート100の両表面に設けられている。ここで、光学的機能としては、特に限定されるものではないが、干渉縞(モアレ)防止機能、反射防止機能、拡散機能等が挙げられる。これらの中でも、コーティング層7は、光学的機能として少なくとも干渉縞防止機能を有することが好ましい。本実施形態では、コーティング層7が少なくとも干渉縞防止機能を有するものである場合について説明する。   The coating layer 7 is provided on each surface of the two phosphor protective films 2, 2, that is, both surfaces of the wavelength conversion sheet 100 in order to exhibit one or more optical functions and antistatic functions. Here, the optical function is not particularly limited, and examples thereof include an interference fringe (moire) prevention function, an antireflection function, and a diffusion function. Among these, the coating layer 7 preferably has at least an interference fringe preventing function as an optical function. In the present embodiment, a case where the coating layer 7 has at least an interference fringe preventing function will be described.

コーティング層7は、バインダー樹脂と、微粒子とを含んで構成されていてもよい。そして、コーティング層7の表面から微粒子の一部が露出するように微粒子がバインダー樹脂に埋め込まれることにより、コーティング層7の表面には微細な凹凸が生じていてもよい。このようにコーティング層7を蛍光体保護フィルム2,2のそれぞれの表面、すなわち、波長変換シート100の一面又は両表面に設けることにより、ニュートンリング等の干渉縞の発生をより十分に防止することができ、結果として高効率かつ高精細、長寿命のディスプレイを得ることが可能となる。   The coating layer 7 may include a binder resin and fine particles. Then, fine irregularities may be formed on the surface of the coating layer 7 by embedding the fine particles in the binder resin so that a part of the fine particles is exposed from the surface of the coating layer 7. In this way, by providing the coating layer 7 on each surface of the phosphor protective films 2, 2, that is, one surface or both surfaces of the wavelength conversion sheet 100, generation of interference fringes such as Newton rings can be more sufficiently prevented. As a result, a display with high efficiency, high definition and long life can be obtained.

バインダー樹脂としては、特に限定されるものではないが、光学的透明性に優れた樹脂を用いることができる。より具体的には、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、ポリウレタンアクリレート系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂などの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂などを用いることができる。これらの中でも耐光性や光学特性に優れるアクリル系樹脂を使用することが望ましい。これらは、1種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。   Although it does not specifically limit as binder resin, Resin excellent in optical transparency can be used. More specifically, for example, polyester resins, acrylic resins, acrylic urethane resins, polyester acrylate resins, polyurethane acrylate resins, urethane resins, epoxy resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins. Thermoplastic resins such as melamine resins and phenol resins, thermosetting resins, ionizing radiation curable resins, and the like can be used. Among these, it is desirable to use an acrylic resin excellent in light resistance and optical characteristics. These can be used in combination of not only one type but also a plurality of types.

微粒子としては、特に限定されるものではないが、例えば、シリカ、クレー、タルク、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルミナなどの無機微粒子の他、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂などの有機微粒子を用いることができる。これらは、1種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。   The fine particles are not particularly limited. For example, in addition to inorganic fine particles such as silica, clay, talc, calcium carbonate, calcium sulfate, barium sulfate, titanium oxide, and alumina, styrene resin, urethane resin, silicone resin, Organic fine particles such as acrylic resin can be used. These can be used in combination of not only one type but also a plurality of types.

微粒子の平均粒径は、0.1〜30μmであることが好ましく、0.5〜10μmであることがより好ましい。微粒子の平均粒径が0.1μm以上であると、優れた干渉縞防止機能が得られる傾向があり、30μm以下であると、透明性がより向上する傾向がある。   The average particle size of the fine particles is preferably from 0.1 to 30 μm, and more preferably from 0.5 to 10 μm. When the average particle size of the fine particles is 0.1 μm or more, an excellent interference fringe prevention function tends to be obtained, and when it is 30 μm or less, the transparency tends to be further improved.

コーティング層7における微粒子の含有量は、コーティング層7全量を基準として0.5〜30質量%であることが好ましく、3〜10質量%であることがより好ましい。微粒子の含有量が0.5質量%以上であると、光拡散機能と干渉縞の発生を防止する効果がより向上する傾向があり、30質量%以下であると、輝度を低減させることがない。   The content of the fine particles in the coating layer 7 is preferably 0.5 to 30% by mass, more preferably 3 to 10% by mass based on the total amount of the coating layer 7. When the content of the fine particles is 0.5% by mass or more, the light diffusion function and the effect of preventing the generation of interference fringes tend to be further improved, and when the content is 30% by mass or less, the luminance is not reduced. .

以上のような構成を有する蛍光体保護フィルム20は、一方の面12a上にバリア層9が設けられた第2の基材12の厚さが一方の面8b上にコーティング層7が設けられた第1の基材8の厚さより大きいため、バリアフィルム製造時の保護フィルムの熱シワや蛍光体層1とのラミネート時の変形を抑えることができるから、輝度ムラ・色ムラの発生を抑制することができる。そして、この蛍光体保護フィルム2を波長変換シート100の蛍光体を保護するための保護フィルムとして用いることにより、量子ドット等の蛍光体を用いた波長変換シート100の性能を最大限に発揮することが可能になる。特に、   In the phosphor protective film 20 having the above-described configuration, the thickness of the second base material 12 provided with the barrier layer 9 on one surface 12a is provided with the coating layer 7 on the one surface 8b. Since it is larger than the thickness of the first base material 8, it is possible to suppress thermal wrinkles of the protective film at the time of manufacturing the barrier film and deformation at the time of lamination with the phosphor layer 1, thereby suppressing occurrence of luminance unevenness and color unevenness. be able to. And by using this fluorescent substance protective film 2 as a protective film for protecting the fluorescent substance of the wavelength conversion sheet 100, the performance of the wavelength conversion sheet 100 using fluorescent substances, such as a quantum dot, is exhibited to the maximum. Is possible. In particular,

また、第1の基材8にもバリア層を設ける場合は、厚さの大きい第2の基材12を量子ドット形成面側となるように配置することで、バリアフィルムの厚みムラの蛍光体1への影響を抑え、波長変換シートにおける輝度ムラ・色ムラの発生を抑制することができる。   Moreover, when providing a barrier layer also on the 1st base material 8, fluorescent substance of the thickness nonuniformity of a barrier film is arrange | positioned so that the 2nd base material 12 with a large thickness may become the quantum dot formation surface side. 1 can be suppressed, and the occurrence of luminance unevenness and color unevenness in the wavelength conversion sheet can be suppressed.

また、本発明の蛍光体保護フィルム20〜22は、特に熱シワや変形の影響が大きくなる、厚みが50μm以下となるような薄膜の保護フィルムにおいて特に効果的である。また、第2基材の厚みは、保護フィルム全体の厚みの40%以上90%以下であることが好ましい。40%以上とすることで、熱シワや変形などを耐えるだけの膜厚を確保することができる。   In addition, the phosphor protective films 20 to 22 of the present invention are particularly effective in a thin protective film having a thickness of 50 μm or less, which is particularly affected by heat wrinkles and deformation. Moreover, it is preferable that the thickness of a 2nd base material is 40 to 90% of the thickness of the whole protective film. By setting it to 40% or more, it is possible to ensure a film thickness sufficient to withstand heat wrinkles and deformation.

次に、本実施形態の波長変換シート100の製造方法について説明する。本実施形態の波長変換シート100の製造方法では、例えば、以下の手順によって、蛍光体層1を一対の蛍光体保護フィルム20,20の間に積層することができる。   Next, the manufacturing method of the wavelength conversion sheet 100 of this embodiment is demonstrated. In the manufacturing method of the wavelength conversion sheet 100 of this embodiment, the fluorescent substance layer 1 can be laminated | stacked between a pair of fluorescent substance protective films 20 and 20 with the following procedures, for example.

(蛍光体保護フィルム2の製造工程)
蛍光体保護フィルム2,2の製造工程では、先ず、第1の基材8の片方の面8bに、コーティング層7を形成する。具体的には、第1の基材8片方の面8b上に、バインダー樹脂と微粒子と必要に応じて溶剤とを混合したコーティング液を塗布し、乾燥することで、コーティング層7を形成する。
(Manufacturing process of phosphor protective film 2)
In the manufacturing process of the phosphor protective films 2 and 2, first, the coating layer 7 is formed on one surface 8 b of the first substrate 8. Specifically, the coating layer 7 is formed by applying a coating liquid in which a binder resin, fine particles, and a solvent as necessary are mixed on the surface 8b of the first base member 8 and drying it.

また、第2の基材12の片方の面12a上に、無機薄膜層10を例えば蒸着法等によって積層する。次いで、水酸基含有高分子化合物、金属アルコキシド、金属アルコキシド加水分解物及び金属アルコキシド重合物からなる群より選択される少なくとも1種の成分等を含む水溶液あるいは水/アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤を無機薄膜層10の表面上に塗布し、乾燥することで、ガスバリア性被覆層11を形成する。これにより、第2の基材12の一方の面上に無機薄膜層10及びガスバリア性被覆層11からなるバリア層9が設けられた、バリアフィルム5が得られる。   Moreover, the inorganic thin film layer 10 is laminated | stacked on the one surface 12a of the 2nd base material 12 by a vapor deposition method etc., for example. Next, a coating agent mainly comprising an aqueous solution or a water / alcohol mixed solution containing at least one component selected from the group consisting of a hydroxyl group-containing polymer compound, a metal alkoxide, a metal alkoxide hydrolyzate, and a metal alkoxide polymer. The gas barrier coating layer 11 is formed by applying on the surface of the inorganic thin film layer 10 and drying. Thereby, the barrier film 5 in which the barrier layer 9 including the inorganic thin film layer 10 and the gas barrier coating layer 11 is provided on one surface of the second substrate 12 is obtained.

次に、コーティング層7を形成したフィルムと、バリア層9を形成したバリアフィルム5とを接着層6を用いて貼り合わせて、積層する。具体的には、コーティング層7を設けた第1の基材8と、バリアフィルム5のバリア層形成面を対向させて、接着層6を用いて積層する。接着層6として、アクリル系粘着剤、アクリル系接着剤、ウレタン系接着剤、エステル系接着剤のいずれかを用いることができる。これにより、2枚のフィルムが積層された蛍光体保護フィルム2が得られる。   Next, the film on which the coating layer 7 is formed and the barrier film 5 on which the barrier layer 9 is formed are bonded together using the adhesive layer 6 and laminated. Specifically, the first base material 8 provided with the coating layer 7 and the barrier layer forming surface of the barrier film 5 are opposed to each other and are laminated using the adhesive layer 6. As the adhesive layer 6, any of an acrylic pressure-sensitive adhesive, an acrylic adhesive, a urethane adhesive, and an ester adhesive can be used. Thereby, the phosphor protective film 2 in which two films are laminated is obtained.

なお、本実施形態では、初めにコーティング層7を形成する例を説明したが、コーティング層7を形成するタイミングは特に限定されず、例えば、コーティング層7を形成する前の2枚のフィルムを貼り合わせた後に、第1の基材8の表面8bにコーティング層7を形成してもよい。むろんコーティング層7を形成しない場合には、この工程は不要である。   In this embodiment, the example in which the coating layer 7 is formed first has been described. However, the timing at which the coating layer 7 is formed is not particularly limited. For example, two films before the coating layer 7 are formed are pasted. After the matching, the coating layer 7 may be formed on the surface 8b of the first substrate 8. Of course, when the coating layer 7 is not formed, this step is unnecessary.

(蛍光体層1の製造工程)
蛍光体層1の製造工程では、先ず、蛍光体3と封止樹脂4と必要に応じて溶剤とを混合して混合液を調製する。次いで、調製した混合液を、蛍光体保護フィルム2のコーティング層7が設けられていない側の表面に塗布する。次に、別に作製した他方の蛍光体保護フィルム2を積層する。この際、蛍光体層1の表面1a,1bと、2枚の蛍光体保護フィルム2のコーティング層7が設けられていない側の表面とがそれぞれ対向するように配置する。次いで、封止樹脂4が感光性樹脂である場合、紫外線の照射によって感光性樹脂を硬化(UV硬化)させることで、本実施形態の波長変換シート100を得ることができる。なお、感光性樹脂は、UV硬化の後に更に熱硬化させてもよい。また、封止樹脂4としては、感光性樹脂以外にも、熱硬化性樹脂や化学硬化性樹脂等を用いてもよい。
(Manufacturing process of phosphor layer 1)
In the manufacturing process of the phosphor layer 1, first, the phosphor 3, the sealing resin 4, and a solvent as necessary are mixed to prepare a mixed solution. Next, the prepared mixed solution is applied to the surface of the phosphor protective film 2 where the coating layer 7 is not provided. Next, the other phosphor protective film 2 produced separately is laminated. At this time, the surfaces 1a and 1b of the phosphor layer 1 and the surfaces of the two phosphor protective films 2 on which the coating layer 7 is not provided are opposed to each other. Next, when the sealing resin 4 is a photosensitive resin, the wavelength conversion sheet 100 of the present embodiment can be obtained by curing the photosensitive resin by UV irradiation (UV curing). The photosensitive resin may be further thermally cured after UV curing. In addition to the photosensitive resin, a thermosetting resin, a chemical curable resin, or the like may be used as the sealing resin 4.

ここで、UV硬化は、例えば、100〜1000mJ/cmで行うことができる。また、熱硬化は、例えば、60〜120℃で0.1〜3分で行うことができる。 Here, the UV curing can be performed, for example, at 100 to 1000 mJ / cm 2 . Moreover, thermosetting can be performed at 60-120 degreeC for 0.1 to 3 minutes, for example.

なお、本実施形態では、蛍光体層1を、一方の蛍光体保護フィルム2のコーティング層7が設けられていない面上に形成した後、蛍光体層1の表面上に他方の蛍光体保護フィルム2を積層する例を説明したが、これに限定されるものではない。   In the present embodiment, the phosphor layer 1 is formed on the surface of the one phosphor protective film 2 where the coating layer 7 is not provided, and then the other phosphor protective film is formed on the surface of the phosphor layer 1. Although the example which laminates | stacks 2 was demonstrated, it is not limited to this.

<第2実施形態に係る波長変換シート>
次に、本発明の第2実施形態について説明する。図4は、本発明の第2実施形態に係る波長変換シートの模式断面図である。第2実施形態の波長変換シート200は、第1実施形態の波長変換シート100とは、蛍光体保護フィルム23の構成のみが異なっている。したがって、第2実施形態の波長変換シート200については、第1実施形態と同一の構成部分については同じ符号を付すると共に説明を省略する。
<Wavelength conversion sheet according to the second embodiment>
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a wavelength conversion sheet according to the second embodiment of the present invention. The wavelength conversion sheet 200 of the second embodiment is different from the wavelength conversion sheet 100 of the first embodiment only in the configuration of the phosphor protective film 23. Therefore, about the wavelength conversion sheet 200 of 2nd Embodiment, the same code | symbol is attached | subjected about the component same as 1st Embodiment, and description is abbreviate | omitted.

図4に示すように、本実施形態の波長変換シート200は、蛍光体を含む蛍光体層(波長変換層)1と、蛍光体層1の一方の面1a側および他方の面1b側にそれぞれ設けられた蛍光体保護フィルム23,23とを備えて概略構成されている。これによって、蛍光体保護フィルム23,23の間に蛍光体層1が包み込まれた(封止された)構造となっている。   As shown in FIG. 4, the wavelength conversion sheet 200 of the present embodiment includes a phosphor layer (wavelength conversion layer) 1 containing a phosphor, and one surface 1 a side and the other surface 1 b side of the phosphor layer 1. It is schematically configured with the provided phosphor protective films 23 and 23. Thus, the phosphor layer 1 is encapsulated (sealed) between the phosphor protective films 23 and 23.

(蛍光体保護フィルム)
本実施形態の蛍光体保護フィルム23、基材12とバリア層9とを有するバリアフィルム5と、接着層6と、基材8と、コーティング層7とを有している。そして、一方の面12b上にコーティング層7が設けられた基材12は、基材12の一方の面12a上にバリア層9を有し、バリア層9が接着層6を介して基材8と対向するように積層されている。換言すると、蛍光体層1から遠い方を第1の基材12、蛍光体層1に近い方を第2の基材8とした場合、第1の基材12と、第1の基材12の一方の面12b上に設けられたコーティング層7と第1の基材の一方の面12a上に設けられたバリア層9とを有するフィルム(バリアフィルム5)と、第2の基材8とは、接着層6を介して、第2の基材8とバリア層9とが対向するように積層されている。この蛍光体保護フィルム20の構成によれば、バリア層9と保護する蛍光体層1の間に基材8が配置されているため、蛍光体層1上に凹凸や異物が存在する場合でも、基材8によって衝撃が緩和され、バリア層9が損傷することを抑制することができる。
(Phosphor protective film)
The phosphor protective film 23 of this embodiment, the barrier film 5 having the base material 12 and the barrier layer 9, the adhesive layer 6, the base material 8, and the coating layer 7 are included. And the base material 12 in which the coating layer 7 was provided on the one surface 12b has the barrier layer 9 on the one surface 12a of the base material 12, and the barrier layer 9 is interposed between the base material 8 through the adhesive layer 6. Are stacked so as to face each other. In other words, when the first substrate 12 is the one far from the phosphor layer 1 and the second substrate 8 is the one near the phosphor layer 1, the first substrate 12 and the first substrate 12. A film (barrier film 5) having a coating layer 7 provided on one surface 12b and a barrier layer 9 provided on one surface 12a of the first substrate, and a second substrate 8 Are laminated so that the second substrate 8 and the barrier layer 9 face each other with the adhesive layer 6 in between. According to the configuration of the phosphor protective film 20, since the base material 8 is disposed between the barrier layer 9 and the phosphor layer 1 to be protected, even when irregularities or foreign matter exist on the phosphor layer 1, The impact can be alleviated by the base material 8, and the barrier layer 9 can be prevented from being damaged.

そして、本実施形態の波長変換シート200を構成する際には、図4に示すように、それぞれの蛍光体保護フィルム23,23は、第2の基材8を蛍光体層1側に向けて積層する。より具体的には、波長変換シート200において、蛍光体保護フィルム23,23は、基材8が、蛍光体層1で挟み込むように積層されている。すなわち、本実施形態においても、コーティング層7は、蛍光体保護フィルム23,23のそれぞれの表面に設けられているとともに、波長変換シート200の両表面に設けられている。   And when comprising the wavelength conversion sheet 200 of this embodiment, as shown in FIG. 4, each fluorescent substance protective film 23 and 23 orient | assigns the 2nd base material 8 to the fluorescent substance layer 1 side. Laminate. More specifically, in the wavelength conversion sheet 200, the phosphor protective films 23 and 23 are laminated so that the base material 8 is sandwiched between the phosphor layers 1. That is, also in this embodiment, the coating layer 7 is provided on each surface of the phosphor protective films 23 and 23 and is provided on both surfaces of the wavelength conversion sheet 200.

第1の実施形態で説明した効果に加えて、基材8の膜厚を基材12の膜厚よりも薄くすることにより、バリア層9と蛍光体層1の距離をできるだけ近づけ、蛍光体層1への酸素や水分の浸入を抑制することができる。   In addition to the effects described in the first embodiment, the distance between the barrier layer 9 and the phosphor layer 1 can be made as close as possible by making the film thickness of the substrate 8 thinner than the film thickness of the substrate 12. Intrusion of oxygen and moisture into 1 can be suppressed.

第2の基材12の厚さは、第1の基材8の厚さより大きいことが好ましい。第2の基材の厚さを大きくすることで、バリアフィルム5の厚さのムラの原因となる、バリア層9を形成するときの熱履歴による第2の基材の熱収縮を抑制し、かつ第1の基材については無機薄膜層やガスバリア性被覆層を形成しないことで熱履歴を掛けず、熱収縮を抑制するとともに、厚さを相対的に小さくすることで、蛍光体保護フィルム23全体の透過率の低下を防止し、結果として、輝度ムラ・色ムラを低減することができる。   The thickness of the second substrate 12 is preferably larger than the thickness of the first substrate 8. By increasing the thickness of the second base material, the thermal shrinkage of the second base material due to the heat history when forming the barrier layer 9 that causes the unevenness of the thickness of the barrier film 5, And about a 1st base material, while not forming an inorganic thin film layer and a gas-barrier coating layer, while not applying a heat history, while suppressing heat shrink and making thickness relatively small, the fluorescent substance protective film 23 It is possible to prevent a decrease in overall transmittance, and as a result, it is possible to reduce luminance unevenness and color unevenness.

以上のことから、第1の基材8の厚さD1は、4〜20μmの範囲内であり、第2の基材12の厚さD2は、16〜80μmの範囲内であることが好ましい。第1の基材8の厚さD1を4〜20μmとすることで、基材8によって衝撃が緩和され、バリア層9が損傷することを抑制するとともにラミネート時の形状不良を抑制することができる。D2を16〜80μmとすることで、蛍光体保護フィルム23のカールを抑えることができる。   From the above, the thickness D1 of the first substrate 8 is preferably in the range of 4 to 20 μm, and the thickness D2 of the second substrate 12 is preferably in the range of 16 to 80 μm. By setting the thickness D1 of the first base material 8 to 4 to 20 μm, the impact can be alleviated by the base material 8 and the barrier layer 9 can be prevented from being damaged and the shape defect at the time of lamination can be suppressed. . By setting D2 to 16 to 80 μm, curling of the phosphor protective film 23 can be suppressed.

また図3の蛍光体保護フィルム22と同様に、バリア層9は、無機薄膜層10とガスバリア性被覆層11とが複数積層されていても良い。特に、無機薄膜層10とガスバリア性被覆層11とが交互に積層されることにより、無機薄膜層10の微小なピンホール等の欠陥がガスバリア性被覆層11と他の無機薄膜層10の存在によって防ぐことができ、バリア性能を向上させることができる。   As in the phosphor protective film 22 of FIG. 3, the barrier layer 9 may be formed by laminating a plurality of inorganic thin film layers 10 and gas barrier coating layers 11. In particular, since the inorganic thin film layer 10 and the gas barrier coating layer 11 are alternately laminated, defects such as minute pinholes in the inorganic thin film layer 10 are caused by the presence of the gas barrier coating layer 11 and the other inorganic thin film layer 10. Can be prevented, and the barrier performance can be improved.

以上説明した第2実施形態の波長変換シート200によれば、上述した第1実施形態の波長変換シート100と同様の効果を得ることができる。   According to the wavelength conversion sheet 200 of 2nd Embodiment demonstrated above, the effect similar to the wavelength conversion sheet 100 of 1st Embodiment mentioned above can be acquired.

<バックライトユニット>
図5にバックライトユニットの一実施形態を示す。本発明のバックライトユニット500は、LED光源15と導光板15と波長変換シート100を備える。さらに、図では省略されているが、反射板や、拡散板、プリズムシートなどを備えていても良い。LED光源15は、導光板の側面に設置されている。LED光源15の内部には、発光色が青色のLED素子が複数個設けられている。このLED素子は、紫LED、又はさらに低波長のLEDであってもよい。LED光源は、導光板側面に向かって光を照射する。本実施形態の波長変換シート100を用いたバックライトユニットの場合、この照射された光は、例えば、導光板を経てアクリルやエポキシ等の樹脂と蛍光体とを混合した層(蛍光体層)1に入射することになる。
<Backlight unit>
FIG. 5 shows an embodiment of the backlight unit. The backlight unit 500 of the present invention includes an LED light source 15, a light guide plate 15, and a wavelength conversion sheet 100. Further, although omitted in the drawing, a reflection plate, a diffusion plate, a prism sheet, or the like may be provided. The LED light source 15 is installed on the side surface of the light guide plate. A plurality of LED elements whose emission color is blue are provided inside the LED light source 15. This LED element may be a purple LED or even a lower wavelength LED. The LED light source emits light toward the side surface of the light guide plate. In the case of the backlight unit using the wavelength conversion sheet 100 of the present embodiment, the irradiated light is, for example, a layer (phosphor layer) 1 in which a resin such as acrylic or epoxy is mixed with a phosphor through a light guide plate. Will be incident on.

上述した波長変換シート100又は200を用いて、液晶ディスプレイ用のバックライトユニットを提供することができる。本実施形態に係るバックライトユニットは、LED(発光ダイオード)光源と、導光板と、波長変換シート100又は200とを備える。LED光源は、導光板の側面に設置され、導光板上(光の進行方向)に波長変換シート100又は200が配置される。   A backlight unit for a liquid crystal display can be provided using the wavelength conversion sheet 100 or 200 described above. The backlight unit according to the present embodiment includes an LED (light emitting diode) light source, a light guide plate, and a wavelength conversion sheet 100 or 200. The LED light source is installed on the side surface of the light guide plate, and the wavelength conversion sheet 100 or 200 is disposed on the light guide plate (light traveling direction).

導光板は、LED光源15から照射された光を効率的に導くものであり、公知の材料が使用される。導光板16としては、例えば、アクリル、ポリカーボネート、及びシクロオレフィンフィルム等が使用される。導光板は、例えば、シルク印刷方式、射出成型や押出成型などの成型方式、インクジェット方式などにより形成することができる。導光板の厚さは、例えば、100〜1000μmである。   The light guide plate efficiently guides the light emitted from the LED light source 15, and a known material is used. As the light guide plate 16, for example, acrylic, polycarbonate, cycloolefin film, or the like is used. The light guide plate can be formed by, for example, a silk printing method, a molding method such as injection molding or extrusion molding, or an ink jet method. The thickness of the light guide plate is, for example, 100 to 1000 μm.

以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば、上述の第1及び第2実施形態の波長変換シート100,200の構成、蛍光体保護フィルム20〜23、バックライトユニット500の構成は一例であり、これに限定されるものではない。   The preferred embodiments of the present invention have been described in detail above. However, the technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. It is. For example, the configurations of the wavelength conversion sheets 100 and 200, the phosphor protective films 20 to 23, and the backlight unit 500 of the first and second embodiments described above are examples, and are not limited thereto.

また、本発明の波長変換シートは、上述の第1及び第2実施形態のように、蛍光体層1が、同一の蛍光体保護フィルム20ないし23によって挟まれていてもよく、異なる構成の蛍光体保護フィルムによって挟まれていてもよい。   Further, in the wavelength conversion sheet of the present invention, as in the first and second embodiments described above, the phosphor layer 1 may be sandwiched between the same phosphor protective films 20 to 23, and the phosphors having different configurations may be used. It may be sandwiched between body protection films.

また、本発明の波長変換シートは、蛍光体層1を被覆する蛍光体保護フィルムのうち、いずれか一方の蛍光体保護フィルムがコーティング層7を有する構成であってもよいし、両方の蛍光体保護フィルムがコーティング層7を有する構成であってもよい。   In addition, the wavelength conversion sheet of the present invention may have a configuration in which one of the phosphor protective films covering the phosphor layer 1 has the coating layer 7, or both phosphors The structure which has the coating layer 7 may be sufficient as a protective film.

また、本発明の波長変換シートにおいて、蛍光体保護フィルムの蛍光体層1に接する側の面には、蛍光体保護フィルムと蛍光体層1との接着性を向上するために、改質処理が施されていたり、ウレタン樹脂等からなる易接着層が設けられていてもよい。   In the wavelength conversion sheet of the present invention, the surface of the phosphor protective film on the side in contact with the phosphor layer 1 is modified to improve the adhesion between the phosphor protective film and the phosphor layer 1. It may be provided, or an easy adhesion layer made of urethane resin or the like may be provided.

また、図1及び図4に示した波長変換シート100,200では、バリア層9が無機薄膜層10とガスバリア性被覆層11とを1層ずつ有する場合を示したが、バリア層9は、無機薄膜層10及びガスバリア性被覆層11の少なくとも一方を2層以上有していてもよい。この場合、無機薄膜層10とガスバリア性被覆層11とは交互に積層されていることが好ましい。   Moreover, in the wavelength conversion sheet 100,200 shown in FIG.1 and FIG.4, although the case where the barrier layer 9 had the inorganic thin film layer 10 and the gas barrier coating layer 11 one by one was shown, the barrier layer 9 is inorganic Two or more layers of the thin film layer 10 and the gas barrier coating layer 11 may be provided. In this case, the inorganic thin film layers 10 and the gas barrier coating layers 11 are preferably laminated alternately.

さらに、図1及び図4に示した波長変換シート100,200において、蛍光体層1の両端面(蛍光体保護フィルム20,23で被覆されていない図中の左右の端面)が封止樹脂で封止されていてもよく、蛍光体層1全体が封止樹脂で覆われていてもよい。   Furthermore, in the wavelength conversion sheets 100 and 200 shown in FIGS. 1 and 4, both end faces of the phosphor layer 1 (the left and right end faces in the drawings not covered with the phosphor protective films 20 and 23) are sealing resins. It may be sealed, and the entire phosphor layer 1 may be covered with a sealing resin.

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to a following example.

[実施例1]
(蛍光体保護フィルムの作製)
基材(第2の基材)としての厚み25μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、無機薄膜層として酸化珪素を真空蒸着法により0.05μmの厚みに設け、さらに、テトラエトキシシランとポリビニルアルコールとを含む塗液をウエットコーティング法により無機薄膜層上に塗工し、加熱乾燥することで0.45μmの厚みのガスバリア性被覆層を形成した。これにより、第2の基材の一方の面上に無機薄膜層及びガスバリア性被覆層からなるバリア層が設けられたバリアフィルムを得た。
[Example 1]
(Preparation of phosphor protective film)
On one side of a 25 μm-thick polyethylene terephthalate film as a base material (second base material), silicon oxide is provided as an inorganic thin film layer to a thickness of 0.05 μm by vacuum deposition, and tetraethoxysilane and polyvinyl alcohol are further added. The coating liquid containing was applied on the inorganic thin film layer by a wet coating method and dried by heating to form a gas barrier coating layer having a thickness of 0.45 μm. This obtained the barrier film in which the barrier layer which consists of an inorganic thin film layer and a gas-barrier coating layer was provided on the one surface of the 2nd base material.

続いて、基材(第1の基材)としての厚み15μmの片面に、無機薄膜層として酸化珪素を真空蒸着法により0.05μmの厚みに設け、さらに、テトラエトキシシランとポリビニルアルコールとを含む塗液をウエットコーティング法により無機薄膜層上に塗工し、加熱乾燥することで0.45μmの厚みのガスバリア性被覆層を形成した。これにより、第2の基材の一方の面上に無機薄膜層及びガスバリア性被覆層からなるバリア層が設けられたバリアフィルムを得た。   Subsequently, silicon oxide is provided as an inorganic thin film layer to a thickness of 0.05 μm on one side having a thickness of 15 μm as a base material (first base material), and further includes tetraethoxysilane and polyvinyl alcohol. The coating liquid was applied onto the inorganic thin film layer by a wet coating method, and dried by heating to form a gas barrier coating layer having a thickness of 0.45 μm. This obtained the barrier film in which the barrier layer which consists of an inorganic thin film layer and a gas-barrier coating layer was provided on the one surface of the 2nd base material.

次に、バリアフィルムの第1の基材と、バリアフィルムの第2の基材とを、それぞれのバリア層が対向する向きで配置し、アクリル樹脂系粘着剤を用いて貼り合わせた。   Next, the 1st base material of a barrier film and the 2nd base material of a barrier film were arrange | positioned in the direction where each barrier layer opposes, and it bonded together using the acrylic resin adhesive.

次に第1の基材のポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、アクリル樹脂と、シリカ微粒子(平均粒径3μm)とを含む塗液をウエットコーティング法により塗工し、5μmの厚みのコーティング層を形成した。これにより、実施例1の蛍光体保護フィルムを得た。この蛍光体保護フィルムを2枚作製した。 Next, a coating solution containing an acrylic resin and silica fine particles (average particle size: 3 μm) was applied to one side of the polyethylene terephthalate film of the first substrate by a wet coating method to form a coating layer having a thickness of 5 μm. . Thereby, the phosphor protective film of Example 1 was obtained. Two sheets of this phosphor protective film were produced.

(波長変換シートの作製)
量子ドットとしてのCdSe/ZnS 530(商品名、SIGMA−ALDRICH社製)をエポキシ系感光性樹脂と混合後、混合液を上述した蛍光体保護フィルムの第2の基材表面に塗布し、そこに同じ構成の蛍光体保護フィルムを積層し、UV硬化ラミネートにより波長変換シートを得た。
(Production of wavelength conversion sheet)
After mixing CdSe / ZnS 530 (trade name, manufactured by SIGMA-ALDRICH) as a quantum dot with an epoxy-based photosensitive resin, the mixed solution is applied to the second substrate surface of the phosphor protective film described above. A phosphor protective film having the same structure was laminated, and a wavelength conversion sheet was obtained by UV curing lamination.

(バックライトユニットの作製)
得られた波長変換シートに、LED光源と導光板とを組み合わせて、実施例1のバックライトユニットを作製した。
[実施例2]。
(蛍光体保護フィルムの作製)
基材(第2の基材)としての厚み25μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、無機薄膜層として酸化珪素を真空蒸着法により0.05μmの厚みに設け、さらに、テトラエトキシシランとポリビニルアルコールとを含む塗液をウエットコーティング法により無機薄膜層上に塗工し、加熱乾燥することで0.45μmの厚みのガスバリア性被覆層を形成した。さらに、同じ工程で無機薄膜層及びガスバリア性被覆層を形成することにより、第2の基材の一方の面上に無機薄膜層及びガスバリア性被覆層が交互に2層積層されたバリア層が設けられたバリアフィルムを得た。
(Production of backlight unit)
The backlight unit of Example 1 was produced by combining the obtained wavelength conversion sheet with an LED light source and a light guide plate.
[Example 2].
(Preparation of phosphor protective film)
On one side of a 25 μm-thick polyethylene terephthalate film as a base material (second base material), silicon oxide is provided as an inorganic thin film layer to a thickness of 0.05 μm by vacuum deposition, and tetraethoxysilane and polyvinyl alcohol are further added. The coating liquid containing was applied on the inorganic thin film layer by a wet coating method and dried by heating to form a gas barrier coating layer having a thickness of 0.45 μm. Further, by forming the inorganic thin film layer and the gas barrier coating layer in the same process, a barrier layer in which two layers of the inorganic thin film layer and the gas barrier coating layer are alternately laminated on one surface of the second base is provided. The obtained barrier film was obtained.

続いて、基材(第1の基材)としての厚み15μmの片面に、アクリル樹脂と、シリカ微粒子(平均粒径3μm)とを含む塗液をウエットコーティング法により塗工し、5μmの厚みのコーティング層を形成し、マット層付きの第1の基材を作製した。   Subsequently, a coating liquid containing an acrylic resin and silica fine particles (average particle diameter: 3 μm) is applied to one surface having a thickness of 15 μm as a base material (first base material) by a wet coating method. The coating layer was formed and the 1st base material with a mat layer was produced.

次に、コーティング層付きの第1の基材と、バリアフィルムの第2の基材とを、それぞれのバリア層が対向する向きで配置し、アクリル樹脂系粘着剤を用いて貼り合わせた。これにより、実施例2の蛍光体保護フィルムを得た。この蛍光体保護フィルムを2枚作製した。   Next, the 1st base material with a coating layer and the 2nd base material of a barrier film were arrange | positioned in the direction where each barrier layer opposes, and it bonded together using the acrylic resin adhesive. Thereby, the phosphor protective film of Example 2 was obtained. Two sheets of this phosphor protective film were produced.

(波長変換シートの作製)
量子ドットとしてのCdSe/ZnS 530(商品名、SIGMA−ALDRICH社製)をエポキシ系感光性樹脂と混合後、混合液を上述した蛍光体保護フィルムの第2の基材表面に塗布し、そこに同じ構成の蛍光体保護フィルムを積層し、UV硬化ラミネートにより波長変換シートを得た。
[実施例3]
(蛍光体保護フィルムの作製)
基材(第2の基材)としての厚み25μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、無機薄膜層として酸化珪素を真空蒸着法により0.05μmの厚みに設け、さらに、テトラエトキシシランとポリビニルアルコールとを含む塗液をウエットコーティング法により無機薄膜層上に塗工し、加熱乾燥することで0.45μmの厚みのガスバリア性被覆層を形成した。さらに、同じ工程で無機薄膜層及びガスバリア性被覆層を形成することにより、第2の基材の一方の面上に無機薄膜層及びガスバリア性被覆層が交互に2層積層されたバリア層が設けられたバリアフィルムを得た。
(Production of wavelength conversion sheet)
After mixing CdSe / ZnS 530 (trade name, manufactured by SIGMA-ALDRICH) as a quantum dot with an epoxy-based photosensitive resin, the mixed solution is applied to the second substrate surface of the phosphor protective film described above. A phosphor protective film having the same structure was laminated, and a wavelength conversion sheet was obtained by UV curing lamination.
[Example 3]
(Preparation of phosphor protective film)
On one side of a 25 μm-thick polyethylene terephthalate film as a base material (second base material), silicon oxide is provided as an inorganic thin film layer to a thickness of 0.05 μm by vacuum deposition, and tetraethoxysilane and polyvinyl alcohol are further added. The coating liquid containing was applied on the inorganic thin film layer by a wet coating method and dried by heating to form a gas barrier coating layer having a thickness of 0.45 μm. Further, by forming the inorganic thin film layer and the gas barrier coating layer in the same process, a barrier layer in which two layers of the inorganic thin film layer and the gas barrier coating layer are alternately laminated on one surface of the second base is provided. The obtained barrier film was obtained.

続いて、厚み15μmの基材(第1の基材)と、バリアフィルムの第2の基材とを、第2の基材のバリア層が第1の基材に対向する向きで配置し、アクリル樹脂系粘着剤を用いて貼り合わせた。   Subsequently, the base material (first base material) having a thickness of 15 μm and the second base material of the barrier film are arranged in a direction in which the barrier layer of the second base material faces the first base material, It bonded together using the acrylic resin adhesive.

次に第2の基材のポリエチレンテレフタレートフィルムのバリア層が形成された側とは反対の面、すなわち外側の面に、アクリル樹脂と、シリカ微粒子(平均粒径3μm)とを含む塗液をウエットコーティング法により塗工し、5μmの厚みのコーティング層を形成した。これにより、実施例3の蛍光体保護フィルムを得た。この蛍光体保護フィルムを2枚作製した。   Next, a coating liquid containing an acrylic resin and silica fine particles (average particle size 3 μm) is wetted on the surface opposite to the side on which the barrier layer of the polyethylene terephthalate film of the second substrate is formed, that is, the outer surface. Coating was performed by a coating method to form a coating layer having a thickness of 5 μm. Thereby, the phosphor protective film of Example 3 was obtained. Two sheets of this phosphor protective film were produced.

(波長変換シートの作製)
量子ドットとしてのCdSe/ZnS 530(商品名、SIGMA−ALDRICH社製)をエポキシ系感光性樹脂と混合後、混合液を上述した蛍光体保護フィルムの第1の基材表面に塗布し、そこに同じ構成の蛍光体保護フィルムを積層し、UV硬化ラミネートにより波長変換シートを得た。
(Production of wavelength conversion sheet)
After mixing CdSe / ZnS 530 (trade name, manufactured by SIGMA-ALDRICH) as a quantum dot with an epoxy-based photosensitive resin, the mixture is applied to the surface of the first substrate of the phosphor protective film described above. A phosphor protective film having the same structure was laminated, and a wavelength conversion sheet was obtained by UV curing lamination.

[比較例1]
実施例1において、第1の基材の厚みを25μm、第2の基材の厚みを15μmとした以外は、同様の操作にて比較例1の蛍光体保護フィルムを得た。更に、この蛍光体保護フィルムを用いたこと以外は実施例1と同様の操作にて、比較例1の波長変換シート及びバックライトユニットを得た。
[Comparative Example 1]
A phosphor protective film of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the first substrate was 25 μm and the thickness of the second substrate was 15 μm. Further, a wavelength conversion sheet and a backlight unit of Comparative Example 1 were obtained in the same manner as in Example 1 except that this phosphor protective film was used.

[比較例2]
実施例1において、第1の基材の厚みを20μm、第2の基材の厚みを20μmとした以外は、同様の操作にて比較例2の蛍光体保護フィルムを得た。更に、この蛍光体保護フィルムを用いたこと以外は実施例1と同様の操作にて、比較例2の波長変換シート及びバックライトユニットを得た。
[Comparative Example 2]
In Example 1, the phosphor protective film of Comparative Example 2 was obtained by the same operation except that the thickness of the first base material was 20 μm and the thickness of the second base material was 20 μm. Furthermore, a wavelength conversion sheet and a backlight unit of Comparative Example 2 were obtained in the same manner as in Example 1 except that this phosphor protective film was used.

<外観評価>
実施例及び比較例1,2で作製した波長変換シートについて、LED発光状態で外観を目視確認し、輝度ムラ・色ムラの発生の有無をそれぞれ評価した。輝度ムラ・色ムラが視認されなかったものを「○」、ムラが確認されたものを「×」と判定した。得られた結果を表1に示す。
<Appearance evaluation>
About the wavelength conversion sheet | seat produced in the Example and the comparative examples 1 and 2, the external appearance was visually confirmed in the LED light emission state, and the presence or absence of generation | occurrence | production of brightness irregularity and color irregularity was evaluated, respectively. The case where no luminance unevenness / color unevenness was visually recognized was determined as “◯”, and the case where unevenness was confirmed was determined as “×”. The obtained results are shown in Table 1.

<透過光評価>
実施例1、2及び比較例1、2で作製した波長変換シートについて、得られた結果を表1に示す。
<Evaluation of transmitted light>
Table 1 shows the obtained results for the wavelength conversion sheets prepared in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2.

表1に示した結果から明らかなように、実施例1の波長変換シートでは、第1の基材の厚さが第2の基材の厚さより小さいため、例えば、ガスバリア性被覆層を形成するときの加熱処理(塗膜の乾燥)による第2の基材の熱収縮、および蛍光体保護フィルム全体の透過率の低下を抑制することができ、結果として輝度ムラ・色ムラの発生を抑制することができた。   As is clear from the results shown in Table 1, in the wavelength conversion sheet of Example 1, the thickness of the first base material is smaller than the thickness of the second base material, and thus, for example, a gas barrier coating layer is formed. The heat shrinkage of the second base material due to the heat treatment (drying of the coating film) and the decrease in the transmittance of the entire phosphor protective film can be suppressed, and as a result, the occurrence of luminance unevenness and color unevenness is suppressed. I was able to.

一方、比較例1,2の波長変換シートでは、第1の基材の厚さが第2の基材の厚さより大きいまたは同じであるため、第2の基材の収縮および蛍光体保護フィルム全体の透過率の低下により、輝度ムラ・色ムラの発生を抑制することができなかった。   On the other hand, in the wavelength conversion sheets of Comparative Examples 1 and 2, since the thickness of the first substrate is larger than or the same as the thickness of the second substrate, the shrinkage of the second substrate and the whole phosphor protective film Due to the decrease in transmittance, it was not possible to suppress the occurrence of luminance unevenness and color unevenness.

本発明の、2以上のバリアフィルム同士を積層したラミネートフィルムである蛍光体保護フィルム、この蛍光体保護フィルムによって蛍光体層を被覆した波長変換シート、及びこの波長変換シートを使用したバックライトユニットを用いることにより、優れた高精細ディスプレイを製造することが可能である。   A phosphor protective film which is a laminate film in which two or more barrier films of the present invention are laminated, a wavelength conversion sheet having a phosphor layer covered with the phosphor protective film, and a backlight unit using the wavelength conversion sheet By using it, an excellent high-definition display can be manufactured.

1…蛍光体層、20,21,22…蛍光体保護フィルム、3…蛍光体、4…封止樹脂、5…バリアフィルム、6…接着層、7…コーティング層、8…基材、9…バリア層、10…無機薄膜層、11…ガスバリア性被覆層、100,101…波長変換シート,15…LED光源、16…導光板、500…バックライトユニット   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Phosphor layer, 20, 21, 22 ... Phosphor protective film, 3 ... Phosphor, 4 ... Sealing resin, 5 ... Barrier film, 6 ... Adhesive layer, 7 ... Coating layer, 8 ... Base material, 9 ... Barrier layer, 10 ... inorganic thin film layer, 11 ... gas barrier coating layer, 100, 101 ... wavelength conversion sheet, 15 ... LED light source, 16 ... light guide plate, 500 ... backlight unit

Claims (6)

蛍光体を保護するための保護フィルムであって、
第1の基材を有するフィルムと、第2の基材と、該第2の基材の一方の面上に設けられた1以上のバリア層と、を有するフィルムと、が積層された構造を有し、前記第1の基材の厚さは、前記第2の基材の厚さより小さいことを特徴とする、蛍光体保護フィルム。
A protective film for protecting the phosphor,
A structure in which a film having a first substrate, a second substrate, and a film having one or more barrier layers provided on one surface of the second substrate are laminated. A phosphor protective film having a thickness of the first base material smaller than that of the second base material.
第2の基材の厚みが、保護フィルム全体の厚みの40%以上90%以下であることを特徴とする請求項1記載の蛍光体保護フィルム。   2. The phosphor protective film according to claim 1, wherein the thickness of the second substrate is 40% or more and 90% or less of the thickness of the entire protective film. 保護フィルム全体の厚みが50μm以下であることを特徴とする請求項1又は2記載の蛍光体保護フィルム。   The phosphor protective film according to claim 1 or 2, wherein the total thickness of the protective film is 50 µm or less. 量子ドットを含む蛍光体層と、蛍光体層の上下に配置された請求項1ないし3のいずれかに記載の蛍光体保護フィルムとを備え、
該蛍光体保護フィルムの前記第2の基材が前記第1の基材よりも蛍光体層側となるように積層されることを特徴とする波長変換シート。
A phosphor layer containing quantum dots, and a phosphor protective film according to any one of claims 1 to 3 disposed above and below the phosphor layer,
The wavelength conversion sheet, wherein the phosphor protective film is laminated so that the second substrate is closer to the phosphor layer than the first substrate.
量子ドットを含む蛍光体層と、蛍光体層の上下に配置された請求項1ないし3のいずれかに記載の蛍光体保護フィルムとを備え、
該蛍光体保護フィルムの前記第1の基材が前記第2の基材よりも蛍光体層側となるように積層されることを特徴とする波長変換シート。
A phosphor layer containing quantum dots, and a phosphor protective film according to any one of claims 1 to 3 disposed above and below the phosphor layer,
A wavelength conversion sheet, wherein the phosphor protective film is laminated so that the first substrate is closer to the phosphor layer than the second substrate.
LED光源と、
請求項4又は5に記載の波長変換シートと、
該青色LED光源から該波長変換シートへ光を入射させる導光板と、
を備えたバックライトユニット。
An LED light source;
The wavelength conversion sheet according to claim 4 or 5,
A light guide plate that allows light to be incident on the wavelength conversion sheet from the blue LED light source;
Backlight unit with
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