JP2020027054A - 光学式変位計 - Google Patents
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Abstract
【課題】製造コストの増加を防止しつつ測定対象物のプロファイルを効率よく測定することが可能な光学式変位計を提供する。【解決手段】受光部121においてX2方向に並ぶ複数の受光素子列により測定対象物からの反射光が受光され、複数の受光量分布が出力される。複数の受光量分布に基づいて画素列ごとにZ2方向における1または複数の受光量のピーク候補位置がピーク検出部1により検出される。測定対象物の基準プロファイルを示す基準データが登録部1により登録される。検出されたピーク候補位置の中から、基準プロファイルの部分との近似度に基づいてプロファイルに採用されるべきピーク位置が選択され、選択されたピーク位置に基づいてプロファイルを示すプロファイルデータがプロファイル生成部6により生成される。【選択図】図12
Description
本発明は、三角測距方式により測定対象物の変位を検出する光学式変位計に関する。
光切断方式の光学式変位計においては、投光部から線状の断面を有する帯状の光が測定対象物(以下、ワークと呼ぶ。)上に照射され、その反射光が2次元の受光素子により受光される。受光素子により得られる受光量分布のピークの位置に基づいて、ワークのプロファイルが測定される。ここで、ワークに照射された光がワークの表面で多重反射することがある。この場合、多重反射した光が受光素子に入射することにより受光量分布に複数のピークが現れるため、ワークの正確なプロファイルを測定することができない。投光部からの光とは異なる光(外乱光)が受光素子に入射した場合、またはワークの測定対象部分以外の部分により反射された光が受光素子に入射した場合等にも、同様の問題が発生する。
特許文献1に記載された光学式変位計においては、互いに直交する方向に偏光する第1および第2の光がワークに順次照射される。ワークに反射された第1および第2の光が受光素子により受光され、第1および第2の光の受光量分布をそれぞれ示す第1および第2の波形データが生成される。第1および第2の波形データの間で互いに対応するピークの比に基づいて、第1および第2の波形データから1つのピークが選択される。選択されたピークの位置に基づいてワークのプロファイルが測定される。
特許文献1に記載の光学式変位計によれば、受光量分布における複数のピークからワークの表面で1回のみ反射した光によるピークを選択することが可能である。しかしながら、互いに直交する方向に偏光する光を出射する2つの投光素子を光学式変位計に設ける必要があるため、光学式変位計の製造コストが増加する。また、第1および第2の波形データを取得するとともに、これらの波形データに演算を行う必要があるため、ワークのプロファイルを効率よく測定することができない。
本発明の目的は、製造コストの増加を防止しつつ測定対象物のプロファイルを効率よく測定することが可能な光学式変位計を提供することである。
(1)本発明に係る光学式変位計は、測定対象物のプロファイルを測定する光切断方式の光学式変位計であって、第1の方向に広がりを有するスリット光、または第1の方向に走査されるスポット光を測定対象物に照射する投光部と、第1の方向と、第1の方向に交差する第2の方向とに並ぶ複数の画素を含み、測定対象物の第1の方向の各位置からの反射光を受光し、受光量分布を出力する受光部と、第1の方向に並ぶ複数の画素列によりそれぞれ出力される複数の受光量分布に基づいて画素列ごとに第2の方向における1または複数の受光量のピーク候補位置を検出するピーク検出部と、測定対象物のプロファイルの基準となる基準プロファイルを示す基準データを登録する登録部と、各画素列についてピーク検出部により検出されたピーク候補位置の中から、当該画素列に隣接する他の画素列のピーク位置との相対的な位置関係に基づいてプロファイルに採用されるべきピーク位置を選択し、選択されたピーク位置に基づいてプロファイルを示すプロファイルデータを生成するプロファイル生成部とを備える。
この光学式変位計においては、投光部により第1の方向に広がりを有するスリット光、または第1の方向にスポット光が走査されて測定対象物に照射される。受光部において第1の方向に並ぶ複数の画素列により測定対象物からの反射光が受光され、受光量分布が出力される。各画素列において、複数の画素が第2の方向に並ぶ。複数の画素列によりそれぞれ出力される複数の受光量分布に基づいて画素列ごとに第2の方向における1または複数の受光量のピーク候補位置がピーク検出部により検出される。測定対象物のプロファイルの基準となる基準プロファイルを示す基準データが登録部により登録される。検出されたピーク候補位置の中から、プロファイルに採用されるべきピーク位置が、基準プロファイルの部分との近似度に基づいて選択され、選択されたピーク位置に基づいてプロファイルを示すプロファイルデータがプロファイル生成部により生成される。
この構成によれば、いずれかの画素列に対応する受光量分布において複数のピークが検出された場合でも、当該画素列について基準プロファイルの部分との近似度に基づいてプロファイルに採用されるべきピーク位置が選択される。この場合、偏光方向が異なる複数の投光素子を光学式変位計に設ける必要がない。また、各画素列について複数の受光量分布を取得する必要がなく、したがって、複数の受光量分布に演算を行う必要もない。その結果、製造コストの増加を防止しつつ測定対象物のプロファイルを効率よく測定することができる。
(2)光学式変位計は、ピーク検出部により検出された複数のピーク候補位置に基づいて幾何学的パターンを示すパターンデータを生成するパターン生成部と、複数の画素列の各々について、登録部により登録された基準データとパターン生成部により生成されたパターンデータとの相関係数を算出する相関算出部とをさらに備え、プロファイル生成部は、相関算出部により算出された相関係数に基づいて近似度を判定してもよい。この場合、パターンデータと基準データとの相関係数に基づいて、複数のピーク候補位置の各々と基準プロファイルの部分との近似度を容易に判定することができる。
(3)光学式変位計は、パターン生成部により生成されたパターンデータの少なくとも一部に基づいて、幾何学的パターンと基準形状との相対的な位置ずれが小さくなるようにパターンデータおよび基準データの少なくとも一方を補正する補正部をさらに備え、相関算出部は、補正部による補正後のパターンデータと基準データとの相関係数を算出してもよい。この構成によれば、幾何学的パターンと基準プロファイルとが位置ずれを有する場合でも、パターンデータと基準データとの相関係数を容易に算出することができる。
(4)光学式変位計は、ピーク検出部により検出されたピーク候補位置におけるピークの態様を示すパラメータを取得するパラメータ取得部をさらに備え、プロファイル生成部は、パラメータ取得部により取得されたパラメータにさらに基づいて各受光量分布における複数のピーク候補位置の中からプロファイルに採用されるべきピーク位置を選択してもよい。
この場合、複数のピーク候補位置の各々と基準プロファイルの部分との近似度と、ピークの態様との総合的な判断に基づいてプロファイルに採用されるべきピーク位置が選択される。これにより、測定対象物のプロファイルをより正確に測定することができる。
(5)パラメータ取得部により取得されるパラメータは、ピークの受光量またはピークの幅を含んでもよい。この場合、ピークの態様を示すパラメータを容易に取得することができる。
(6)光学式変位計は、プロファイル生成部の動作モードを第1の動作モードと第2の動作モードとで切り替える切替部をさらに含み、プロファイル生成部は、第1の動作モードにおいては、ピーク検出部によりいずれかの画素列に対応する受光量分布において複数のピーク候補位置が検出された場合、複数のピーク候補位置の各々と登録部により登録された基準データが示す基準形状の部分との近似度に基づいて複数のピーク候補位置の中からプロファイルに採用されるべきピーク位置を選択し、第2の動作モードにおいては、ピーク検出部によりいずれかの画素列に対応する受光量分布において複数のピーク候補位置が検出された場合、予め設定された条件に基づいて複数のピーク候補位置の中からプロファイルに採用されるべきピーク位置を選択してもよい。
測定対象物の形状によっては、予め設定された条件に基づいて選択されるピーク位置が測定対象物の表面の位置に合致することがある。このような場合、第2の動作モードが選択されることにより、測定対象物のプロファイルをより効率よく測定することができる。
(7)予め設定された条件は、各受光量分布における複数のピーク候補位置から最大の受光量を有するピーク候補位置をプロファイルに採用されるべきピーク位置として選択することを含んでもよい。この構成によれば、最大の受光量を有するピーク候補位置が測定対象物の表面の位置に合致する場合、第2の動作モードが選択されることにより、測定対象物のプロファイルをより効率よく測定することができる。
(8)予め設定された条件は、各受光量分布における複数のピーク候補位置から第2の方向における一端または他端に最も近いピーク候補位置をプロファイルに採用されるべきピーク位置として選択することをさらに含んでもよい。この構成によれば、第2の方向における一端または他端に最も近いピーク候補位置が測定対象物の表面の位置に合致する場合、第2の動作モードが選択されることにより、測定対象物のプロファイルをより効率よく測定することができる。
(9)光学式変位計は、プロファイル生成部により生成されたプロファイルデータの各部分において、値の変化が小さいほど平滑効果が大きくなるようにプロファイルデータにフィルタ処理を行うフィルタ処理部をさらに備えてもよい。この場合、プロファイルにおける段差部分およびエッジ部分の形状を維持しつつ、測定対象物の平坦な部分に対応するプロファイルの部分を平滑化することができる。
本発明によれば、製造コストの増加を防止しつつ測定対象物のプロファイルを効率よく測定することができる。
(1)光学式変位計の構成
以下、本発明の実施の形態に係る光学式変位計として、光切断方式の光学式変位計について図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の一実施の形態に係る光学式変位計の構成を示すブロック図である。図1に示すように、光学式変位計500は、撮像ヘッド100、処理装置200、入力部300および表示部400を備える。光学式変位計500は、複数の撮像ヘッド100を備えてもよい。撮像ヘッド100は、処理装置200に対して着脱可能に構成される。撮像ヘッド100と処理装置200とは一体的に構成されてもよい。
以下、本発明の実施の形態に係る光学式変位計として、光切断方式の光学式変位計について図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の一実施の形態に係る光学式変位計の構成を示すブロック図である。図1に示すように、光学式変位計500は、撮像ヘッド100、処理装置200、入力部300および表示部400を備える。光学式変位計500は、複数の撮像ヘッド100を備えてもよい。撮像ヘッド100は、処理装置200に対して着脱可能に構成される。撮像ヘッド100と処理装置200とは一体的に構成されてもよい。
撮像ヘッド100は、投光部110および撮像部120を含む。投光部110は、一方向(後述するX1方向)に広がる帯状の光を測定対象物(以下、ワークWと呼ぶ。)に照射可能に構成される。投光部110は、一方向に広がる帯状の光に代えて、一方向に走査される光をワークWに照射可能に構成されてもよい。
撮像部120は、受光部121および受光レンズ122を含む。ワークWからの反射光が、受光レンズ122を通して受光部121に入射する。受光部121は例えばCMOS(相補型金属酸化膜半導体)センサを含み、2次元に配置された複数の画素を有する。受光部121の受光量分布は、デジタルのデータとして出力される。
処理装置200は、記憶部210および制御部220を含む。また、処理装置200は、機能部として、投光制御部221、受光制御部222、入力設定部223、プロファイル取得部224、切替部225、計測処理部226および表示処理部227を含む。
記憶部210は、RAM(ランダムアクセスメモリ)、ROM(リードオンリメモリ)、ハードディスクまたは半導体メモリ等により構成され、測定プログラムを記憶する。制御部220は、例えばCPU(中央演算処理装置)である。制御部220が記憶部210に記憶された測定プログラムを実行することにより処理装置200の機能部が実現される。処理装置200の機能部の一部または全てが電子回路等のハードウエアにより実現されてもよい。
投光制御部221は、投光部110の光の照射タイミングおよび光の強度等を制御する。受光制御部222は、受光部121の受光タイミング等を制御する。入力設定部223は、入力部300により与えられる指令信号に基づいて、その指令信号をプロファイル取得部224、切替部225および計測処理部226に与える。
プロファイル取得部224は、受光部121により出力された受光量分布および入力設定部223から与えられる指令信号に基づいてワークWのプロファイルを示すプロファイルデータを取得する。切替部225は、入力設定部223により与えられる指令信号に基づいて、プロファイル取得部224の動作モードを第1の動作モードと第2の動作モードとで切り替える。プロファイル取得部224および動作モードの詳細については後述する。
計測処理部226は、プロファイル取得部224により取得されたプロファイルデータに対する計測処理を行う。ここで、計測処理とは、プロファイルデータに基づいてワークWの表面の任意の部分の寸法(変位)を算出する処理である。表示処理部227は、プロファイルデータに基づくワークWの形状および計測処理により算出された寸法(変位)を示す画像データを生成し、生成された画像データを表示部400に与える。
入力部300は、キーボードおよびポインティングデバイスを含み、使用者により操作可能に構成される。ポインティングデバイスとしては、マウスまたはジョイスティック等が用いられる。また、入力部300として専用のコンソールを用いてもよい。使用者により入力部300が操作されることにより、入力部300から処理装置200の入力設定部223に指令信号が与えられる。
表示部400は、例えば液晶ディスプレイパネルまたは有機EL(エレクトロルミネッセンス)パネルにより構成される。表示部400は、処理装置200の表示処理部227により与えられる画像データに基づいてワークWのプロファイルおよび計測処理部226による計測結果を表示する。
(2)動作の概要
図2は、撮像ヘッド100およびワークWの外観斜視図である。図3および図4は、ワークWの表面における光の照射位置と受光部121における光の入射位置との関係を示す図である。図2〜図4においては、水平面内で互いに直交する2方向をX1方向およびY1方向と定義し、それぞれ矢印X1,Y1で示す。また、鉛直方向をZ1方向と定義し、矢印Z1で示す。また、図3および図4においては、受光部121の受光面上で互いに直交する2方向をX2方向およびZ2方向と定義し、それぞれ矢印X2,Z2で示す。ここで、受光面とは、受光部121の複数の画素により形成される面である。
図2は、撮像ヘッド100およびワークWの外観斜視図である。図3および図4は、ワークWの表面における光の照射位置と受光部121における光の入射位置との関係を示す図である。図2〜図4においては、水平面内で互いに直交する2方向をX1方向およびY1方向と定義し、それぞれ矢印X1,Y1で示す。また、鉛直方向をZ1方向と定義し、矢印Z1で示す。また、図3および図4においては、受光部121の受光面上で互いに直交する2方向をX2方向およびZ2方向と定義し、それぞれ矢印X2,Z2で示す。ここで、受光面とは、受光部121の複数の画素により形成される面である。
図2の例では、ワークWの表面にY1方向に延びる断面台形状の溝が形成される。撮像ヘッド100は、X1方向に沿った帯状の光をワークWの表面に照射する。以下、帯状の光が照射されるワークWの表面の線状の領域を照射領域T1と呼ぶ。図3に示すように、照射領域T1で反射される光が、受光レンズ122を通して受光部121に入射する。この場合、照射領域T1における光の反射位置がZ1方向に異なると、受光部121への反射光の入射位置がZ2方向に異なる。
また、図4に示すように、照射領域T1における光の反射位置がX1方向に異なると、受光部121への反射光の入射位置がX2方向に異なる。これにより、受光部121のZ2方向における光の入射位置が、照射領域T1のZ1方向における位置(高さ)を表し、受光部121のX2方向における光の入射位置が、照射領域T1におけるX1方向の位置を表す。
図5は、受光部121の受光面における受光量分布を示す図である。図5の受光部121の各画素pの受光量に基づいて受光量分布が生成される。受光部121の複数の画素pは、X2方向およびZ2方向に沿うように2次元に配置される。Z2方向に沿った複数の画素pの列の各々を画素列SSと呼ぶ。したがって、受光部121の受光面には、複数の画素列SSがX2方向に配列され、各画素列SSはZ2方向に沿った複数の画素pを含む。
なお、本発明における各画素pは、CMOSセンサ等の撮像装置の1個のピクセル(ピクセルの最小単位)により構成されることに限定されず、複数個のピクセルにより構成されてもよい。例えば、2×2に配列された4個のピクセルにより各画素pが構成されてもよいし、3×3に配列された9個のピクセルにより各画素pが構成されてもよい。したがって、複数個のピクセルを1個の単位としてビニング処理が行われている場合には、当該1個の単位に含まれる複数個のピクセルにより各画素pが構成されてもよい。
図2の照射領域T1で反射された光は、図5に示される受光領域R1に入射する。それにより、受光領域R1の受光量が大きくなる。図5の受光量分布が、画素列SSごとにデジタルのデータとして出力される。
図6は、図5の1つの画素列SSにおける受光量分布を示す図である。図6において、横軸はZ2方向の位置を示し、縦軸は受光量を示す。図6に示すように、1つの画素列SSにおける受光量分布には、図5の受光領域R1に対応するピークP(極大値)が現れる。ピークPのZ2方向における位置(以下、ピーク位置PPと呼ぶ。)は、照射領域T1におけるワークWの表面(反射面)の高さを示す。
複数の画素列SSに対応する複数の受光量分布の各々において1つ以上(図6の例では1つ)のピーク位置PPが図1のピーク検出部2により検出される。複数のピーク位置PPに基づいて、ワークWのプロファイル(照射領域T1の形状)を示すプロファイルデータがプロファイル取得部224により取得される。
図7は、図5の受光量分布における全てのピーク位置PPを示す図である。図8は、図7のピーク位置PPに基づいて取得されたプロファイルデータを示す図である。図7および図8に示すように、検出された全てのピーク位置PPが、連続的な線として示されることにより、ワークWのプロファイルを示すプロファイルデータが得られる。
上記のように、照射領域T1で反射された光が受光部121に入射することにより、照射領域T1の高さを表すピークが受光量分布に表れる。しかしながら、照射領域T1以外の部分で反射された光が受光部121に入射することがある。この場合、照射領域T1の高さを示すピーク(以下、真ピークと呼ぶ。)とは異なるピーク(以下、偽ピークと呼ぶ。)が受光量分布に現れる。図9(a),(b)は、ワークWの表面での反射について説明するための図である。図10は、受光部121における受光量分布の他の例を示す図である。図11は、図10の1つの画素列SSにおける受光量分布を示す図である。
図9(a)に示すように、ワークWに照射される光は、照射領域T1で正反射および拡散反射される。ここで、正反射とは、入射角と反射角とが等しい反射をいい、拡散反射とは、入射角と反射角とが異なる反射をいう。通常、照射領域T1で正反射された光は受光部121に入射せず、照射領域T1で拡散反射された一部の光L1が受光部121に入射する。一方、図9(b)に示すように、照射領域T1で拡散反射された他の一部の光L2が、ワークWの表面の照射領域T1以外の他の領域(以下、偽照射領域T2と呼ぶ。)で正反射され、受光部121に入射することがある。
光が正反射された場合、反射前後で光の強度が大きく変化しない。そのため、照射領域T1から受光部121に入射する光L1の強度と、偽照射領域T2から受光部121に入射する光L2の強度との間に大きな差が生じない。なお、本実施の形態は一例であり、このような多重反射(複数回反射)は様々な状況下で起こりうる。例えば、正反射光がワークWからの反射光として受光部121に受光されるようにワークWおよび撮像ヘッド100が配置されている場合、正反射光以外の拡散反射光が他の領域でさらに反射され、受光部121に受光されることもある。
この場合、図10に示すように、受光部121の受光面において、受光領域R1以外に、他の領域(以下、偽受光領域R2と呼ぶ。)の受光量が大きくなる。そのため、図11に示すように、受光量分布において、受光領域R1に対応するピークPである真ピークP1の他に、偽受光領域R2に対応するピークPである偽ピークP2が現れる。すなわち、真ピークP1の位置と偽ピークP2の位置とがピークPの候補の位置(以下、ピーク候補位置と呼ぶ。)としてプロファイル取得部224により検出される。真ピークP1の位置ではなく偽ピークP2の位置を用いた場合、正確なプロファイルデータを取得することができない。
また、投光部110以外からの光(外乱光)が受光部121に入射することがある。あるいは、ワークWの照射領域T1以外の部分に照射された光が反射されて受光部121に入射することがある。これらの場合にも、受光量分布において、真ピークP1の他に偽ピークP2が現れることとなり、同様の問題が発生する。
そこで、プロファイル取得部224は、第1の動作モードと第2の動作モードとで選択的に動作する。第1の動作モードにおいては、検出された複数のピーク候補位置の各々とワークWのプロファイルの基準となる基準プロファイルの部分との近似度に基づいて偽ピークP2の位置ではなく真ピークP1の位置がピーク位置PPとして選択される。第2の動作モードにおいては、予め設定された条件に基づいて複数のピーク候補位置から1つのピーク候補位置がピーク位置PPとして選択される。
以下、プロファイル取得部224の動作の詳細について説明する。また、以下の説明では、画素列SSに対応する受光量分布におけるピーク候補位置を単に画素列SSのピーク候補位置と呼ぶ。
(3)プロファイル取得部
図12は、プロファイル取得部224の構成を示すブロック図である。図12に示すように、プロファイル取得部224は、機能部として、登録部1、ピーク検出部2、パターン生成部3、補正部4、相関算出部5、プロファイル生成部6およびフィルタ処理部7を含む。図1の制御部220が記憶部210に記憶された測定プログラムを実行することによりプロファイル取得部224の機能部が実現される。プロファイル取得部224の機能部の一部または全てが電子回路等のハードウエアにより実現されてもよい。
図12は、プロファイル取得部224の構成を示すブロック図である。図12に示すように、プロファイル取得部224は、機能部として、登録部1、ピーク検出部2、パターン生成部3、補正部4、相関算出部5、プロファイル生成部6およびフィルタ処理部7を含む。図1の制御部220が記憶部210に記憶された測定プログラムを実行することによりプロファイル取得部224の機能部が実現される。プロファイル取得部224の機能部の一部または全てが電子回路等のハードウエアにより実現されてもよい。
登録部1は、第1の動作モードにおいて、入力設定部223から与えられる指令信号に基づいて基準データを登録する。基準データは、ワークWのCAD(computer-aided design)データ等の設計データであってもよいし、ワークWと同形状の測定対象物が予め測定されることにより生成されたマスタプロファイルデータであってもよい。ピーク検出部2は、第1および第2の動作モードにおいて、受光部121により出力される受光量分布に基づいて各画素列SSのピーク(ピーク候補位置を含む。以下も同様である。)を検出する。
パターン生成部3は、第1の動作モードにおいて、ピーク検出部2により検出された複数のピーク候補位置に基づいて幾何学的パターンを示すパターンデータを生成する。幾何学的パターンは、直線または円弧等を含む。補正部4は、第1の動作モードにおいて、登録部1により登録された基準データおよびパターン生成部3により生成されたパターンデータを取得する。また、補正部4は、パターンデータの少なくとも一部に基づいて、幾何学的パターンと基準プロファイルとの相対的な位置ずれが小さくなるようにパターンデータおよび基準データの少なくとも一方を補正する。
相関算出部5は、第1の動作モードにおいて、複数の画素列SSの各々について、補正部4による補正後のパターンデータと基準データとの相関係数を複数のピーク候補位置の各々と基準プロファイルの部分との近似度として算出する。プロファイル生成部6は、第1の動作モードにおいて、相関算出部5により算出された相関係数に基づいて各画素列SSの複数のピーク候補位置からピーク位置PPを選択する。
また、プロファイル生成部6は、第2の動作モードにおいて、予め設定された条件に基づいて各受光量分布における複数のピーク候補位置から1つのピーク位置PPを選択する。予め設定された条件は、「標準(最大ピーク)」、「NEAR」および「FAR」を含む。「標準(最大ピーク)」においては、各受光量分布における複数のピーク候補位置から最大の受光量を有するピーク候補位置がピーク位置PPとして選択される。図11の例では、2つのピークPのうち、最大の受光量を有する真ピークP1の位置がピーク位置PPとして選択される。
「NEAR」においては、各受光量分布における複数のピーク候補位置からZ2方向における一端(例えば左端)に最も近いピーク候補位置がピーク位置PPとして選択される。図11の例では、2つのピークPのうち、最も左に現れる偽ピークP2の位置がピーク位置PPとして選択される。「FAR」においては、各受光量分布における複数のピーク候補位置からZ2方向における他端(例えば右端)に最も近いピーク候補位置がピーク位置PPとして選択される。図11の例では、2つのピークPのうち、最も右に現れる真ピークP1の位置がピーク位置PPとして選択される。
使用者は、入力部300を操作することにより、「標準(最大ピーク)」、「NEAR」および「FAR」のいずれかを入力設定部223に設定することができる。ワークWの形状によっては、いずれかの条件に基づいて選択されるピーク位置PPがワークWの表面の位置に合致することがある。したがって、使用者がワークWの形状に対応する適切な条件を認識している場合には、第2の動作モードにおいてその条件を設定することにより、ワークWの表面の位置に対応する適切なピーク位置PPをより効率よく選択することができる。
さらに、プロファイル生成部6は、選択されたピーク位置PPに基づいてワークWのプロファイルを示すプロファイルデータを生成する。フィルタ処理部7は、プロファイル生成部6により生成されたプロファイルデータの各部分において、値の変化が小さいほど平滑効果が大きくなるようにプロファイルデータにフィルタ処理を行う。フィルタ処理部7の詳細については後述する。プロファイル生成部6により生成されたプロファイルデータに基づくプロファイルは、表示処理部227を通して表示部400に表示される。
図13〜図16は、第1の動作モードにおけるプロファイル取得部224の動作を説明するための図である。上記のように、図12のピーク検出部2は、各画素列SSのピーク候補位置を検出する。図13の例においては、検出されたピーク候補位置に対応する受光部121の画素pがドットパターンにより示される。図13に示すように、一部の画素列SSにおいては、複数のピーク候補位置が検出される。
次に、ピーク検出部2により検出された複数のピーク候補位置に基づいて、図14に示すように、図12のパターン生成部3により直線状の幾何学的パターンPaを示すパターンデータが生成される。続いて、生成されたパターンデータの少なくとも一部に基づいて、パターンデータおよび図12の登録部1により登録された基準データの少なくとも一方が図12の補正部4により補正される。パターンデータの少なくとも一部とは、例えばパターンデータのうち1個のピーク候補位置のみが検出された画素列SSに対応する部分である。
図15の例では、基準データに基づく基準プロファイルPbが太い点線で示されている。ここで、パターンマッチングに基づいてパターンデータが補正されることにより、幾何学的パターンPaが矢印A1で示すようにZ2方向に移動するとともに、矢印A2で示すようにX2方向に移動する。これにより、幾何学的パターンPaが基準プロファイルPbに重なる。なお、幾何学的パターンPaを回転させる補正がパターンデータに加えられてもよい。また、基準プロファイルPbが幾何学的パターンPaに重なるように基準データが補正されてもよい。
その後、複数の画素列SSの各々について、登録部1により登録された基準データと、補正部4により補正されたパターンデータとの相関係数が図12の相関算出部5により算出される。各画素列SSについて、基準データとの相関係数が最も大きいパターンデータの部分に対応するピーク候補位置がピーク位置PPとして図12のプロファイル生成部6により選択される。図16の例においては、選択されたピーク候補位置に対応する受光部121の画素pがドットパターンにより示される。選択されたピーク位置PPに基づいて図12のプロファイル生成部6によりプロファイルデータが生成される。
(4)変形例
本実施の形態においては、各画素列SSについて、基準データとの相関係数が最も大きいパターンデータの部分に対応するピーク候補位置がピーク位置PPとして選択されるが、本発明はこれに限定されない。基準データとの相関係数と、ピーク候補の態様を示す他のパラメータとの総合的な判断に基づいてピーク位置PPが選択されてもよい。
本実施の形態においては、各画素列SSについて、基準データとの相関係数が最も大きいパターンデータの部分に対応するピーク候補位置がピーク位置PPとして選択されるが、本発明はこれに限定されない。基準データとの相関係数と、ピーク候補の態様を示す他のパラメータとの総合的な判断に基づいてピーク位置PPが選択されてもよい。
図17は、変形例におけるプロファイル取得部224の構成を示すブロック図である。図17のプロファイル取得部224について、図12のプロファイル取得部224と異なる点を説明する。図17に示すように、変形例におけるプロファイル取得部224は、パラメータ取得部8をさらに含む。パラメータ取得部8は、第1の動作モードにおいて、ピーク検出部2により検出された複数のピークPの候補の態様をそれぞれ示す複数のパラメータを取得する。
具体的には、真ピークP1の受光量は、偽ピークP2の受光量よりも大きい傾向がある。あるいは、真ピークP1の幅は、偽ピークP2の幅よりも狭い傾向がある。そこで、パラメータ取得部8は、上記のパラメータとして、例えばピークPの候補の受光量またはピークPの候補の幅を取得する。
プロファイル生成部6は、相関算出部5により算出された相関係数と、パラメータ取得部8により取得されたピークの候補の受光量の大きさまたはピークの候補の幅の狭さとを総合的に判断する。その判断の結果、プロファイル生成部6は、各画素列SSの複数のピーク候補位置からピーク位置PPを選択する。
(5)フィルタ処理部
図18は、図12のフィルタ処理部7の動作を説明するための図である。図18(a)〜(c)においては、ワークWのプロファイルが表示部400に表示されている。また、表示部400の画面上には、図1の受光部121のX2方向およびZ2方向にそれぞれ対応するX3方向およびZ3方向が定義されている。
図18は、図12のフィルタ処理部7の動作を説明するための図である。図18(a)〜(c)においては、ワークWのプロファイルが表示部400に表示されている。また、表示部400の画面上には、図1の受光部121のX2方向およびZ2方向にそれぞれ対応するX3方向およびZ3方向が定義されている。
ワークWの部分が平坦である場合でも、ワークWの表面の状態または色ムラ等によっては、図18(a)に示すように、プロファイルデータに基づくワークWのプロファイルの部分が平坦にならず、ギザギザになることがある。また、ワークWのプロファイルの部分を平滑化するためにスムージングフィルタ処理をプロファイルデータに行うと、図18(b)に示すように、プロファイルの段差部分またはエッジ部分が消失し、正確なプロファイルが得られないことがある。
そこで、本実施の形態においては、フィルタ処理部7は、下記式(1)を演算することにより、出力値fiを算出する。ここで、X3方向に並ぶ複数の画素列SSを左から順にi番目(iは1以上の整数)とすると、式(1)において、ziは、プロファイルデータにおけるi番目の画素列SSに対応する部分のZ3方向の位置(高さ)である。αは、Z3方向における重み付けパラメータである。kは、1以上の整数であり、番数iを中心とした演算を行う範囲(カーネル)を示す。
全ての番数iについて式(1)の出力値fiが算出されることにより、プロファイルにおける高さ変化の小さい部分の平滑効果が高さ変化の大きい部分の平滑効果よりも大きくなるようにプロファイルデータにフィルタ処理が行われる。これにより、図18(c)に示すように、段差部分およびエッジ部分の形状が維持されつつプロファイルが平滑化される。
フィルタ処理部7は、式(1)に代えて下記式(2)を演算することにより、出力値fiを算出してもよい。ここで、式(2)において、xiは、プロファイルデータにおけるi番目の画素列SSに対応する部分のX3方向の位置である。βはX3方向における重み付けパラメータである。他のパラメータは、式(1)におけるパラメータと同様である。
全ての番数iについて式(2)の出力値fiが算出されることにより、プロファイルにおける高さ変化の小さい部分の平滑効果が高さ変化の大きい部分の平滑効果よりも大きくなるようにプロファイルデータにフィルタ処理が行われる。また、プロファイルにおけるX3方向に近接する部分間の平滑効果がX3方向に離間した部分間の平滑効果よりも大きくなるようにプロファイルデータにフィルタ処理が行われる。
また、使用者は、入力部300を操作することにより、Z3方向においてフィルタ処理を行うプロファイルデータの範囲を指定することができる。フィルタ処理を行う範囲を複数指定することも可能である。図18(a)には、フィルタ処理を行う2つの範囲F1,F2が指定される例がドットパターンにより示されている。
なお、式(1)または式(2)において、カーネルkは、ガウシアンカーネルとして図1の入力設定部223に設定されてもよいし、使用者が図1の入力部300を操作することにより入力設定部223に設定されてもよい。あるいは、図1の計測処理部226によりプロファイルの所定の段差部分を計測することが設定される場合、カーネルkは、当該段差部分の大きさに応じて自動的に入力設定部223に設定されてもよい。
(6)効果
本実施の形態に係る光学式変位計500においては、投光部110により光がワークWに照射される。受光部121においてX2方向に並ぶ複数の画素列SSによりワークWからの反射光が受光され、受光量分布が出力される。複数の受光量分布の各々において、対応する画素列SSの複数の画素pが並ぶZ2方向における1つまたは複数の受光量のピーク候補位置がピーク検出部1により検出される。ワークWのプロファイルの基準となる基準プロファイルを示す基準データが登録部1により登録される。各画素列SSについて検出されたピーク候補位置の中から、基準プロファイルの部分との近似度に基づいてプロファイルに採用されるべきピーク位置PPが選択され、選択されたピーク位置PPに基づいてワークWのプロファイルを示すプロファイルデータがプロファイル生成部6により生成される。
本実施の形態に係る光学式変位計500においては、投光部110により光がワークWに照射される。受光部121においてX2方向に並ぶ複数の画素列SSによりワークWからの反射光が受光され、受光量分布が出力される。複数の受光量分布の各々において、対応する画素列SSの複数の画素pが並ぶZ2方向における1つまたは複数の受光量のピーク候補位置がピーク検出部1により検出される。ワークWのプロファイルの基準となる基準プロファイルを示す基準データが登録部1により登録される。各画素列SSについて検出されたピーク候補位置の中から、基準プロファイルの部分との近似度に基づいてプロファイルに採用されるべきピーク位置PPが選択され、選択されたピーク位置PPに基づいてワークWのプロファイルを示すプロファイルデータがプロファイル生成部6により生成される。
この構成によれば、いずれかの画素列SSに対応する受光量分布において複数のピーク候補位置が検出された場合でも、当該画素列SSについて基準プロファイルの部分との近似度に基づいてプロファイルに採用されるべきピーク位置PPが選択される。この場合、偏光方向が異なる複数の投光素子を光学式変位計500に設ける必要がない。また、各画素列SSについて複数の受光量分布を取得する必要がなく、したがって、複数の受光量分布に演算を行う必要もない。その結果、製造コストの増加を防止しつつワークWのプロファイルを効率よく測定することができる。
近似度の判定においては、検出された複数のピーク候補位置に基づいて幾何学的パターンを示すパターンデータがパターン生成部3により生成される。複数の画素列SSの各々について、基準データとパターンデータとの相関係数が相関算出部5により算出される。算出された相関係数に基づいて近似度がプロファイル生成部6により判定される。この場合、近似度を容易に判定することができる。
(7)他の実施の形態
上記実施の形態において、プロファイル取得部224はパターン生成部3を含むが、本発明はこれに限定されない。図19は、他の実施の形態におけるプロファイル取得部224の構成を示すブロック図である。図19に示すように、他の実施の形態においては、プロファイル取得部224はパターン生成部3を含まない。以下、図19のプロファイル取得部224の第1の動作モードにおける動作を説明する。図19のプロファイル取得部224の第2の動作モードにおける動作は、図12のプロファイル取得部224の第2の動作モードにおける動作と同様である。
上記実施の形態において、プロファイル取得部224はパターン生成部3を含むが、本発明はこれに限定されない。図19は、他の実施の形態におけるプロファイル取得部224の構成を示すブロック図である。図19に示すように、他の実施の形態においては、プロファイル取得部224はパターン生成部3を含まない。以下、図19のプロファイル取得部224の第1の動作モードにおける動作を説明する。図19のプロファイル取得部224の第2の動作モードにおける動作は、図12のプロファイル取得部224の第2の動作モードにおける動作と同様である。
図19のプロファイル取得部224においては、補正部4および相関算出部5の動作の前に、プロファイル生成部6が予め設定された条件に基づいて各受光量分布における複数のピーク候補位置から1つのピーク位置PPを選択する。予め設定された条件は、第2の動作モードにおける予め設定された条件と同様でもよい。プロファイル生成部6は、選択されたピーク位置PPに基づいてワークWの仮のプロファイルを示す仮プロファイルデータを生成する。
その後、補正部4は、プロファイル生成部6により生成された仮プロファイルデータに基づいて、ワークWの仮のプロファイルと基準プロファイルとの相対的な位置ずれが小さくなるように仮プロファイルデータおよび基準データの少なくとも一方を補正する。相関算出部5は、複数の画素列SSの各々について、補正部による補正後の仮プロファイルデータと基準データとの相関係数を複数のピーク候補位置の各々と基準プロファイルの部分との近似度として算出する。
その後、プロファイル生成部6は、相関算出部5により算出された相関係数に基づいて各画素列SSの複数のピーク候補位置からピーク位置PPを再度選択する。プロファイル生成部6は、再度選択されたピーク位置PPに基づいてワークWの真のプロファイルを示す真プロファイルデータを生成し、生成された真プロファイルデータを表示処理部229に与える。フィルタ処理部7によるフィルタ処理は、真プロファイルデータに対して行われる。
また、図12、図17または図19のプロファイル取得部224は補正部4を含むが、本発明はこれに限定されない。幾何学的パターンPaまたは仮プロファイルデータに基づくワークWの仮のプロファイルと基準プロファイルPbとが位置ずれを有さない場合には、プロファイル取得部224は補正部4を含まなくてもよい。
(8)請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
ワークWが測定対象物の例であり、光学式変位計500が光学式変位計の例であり、投光部110が投光部の例であり、X2方向が第1の方向の例であり、Z2方向が第2の方向の例である。画素pが画素の例であり、画素列SSが画素列の例であり、受光部121が受光部の例であり、ピーク検出部2がピーク検出部の例であり、登録部1が登録部の例である。
プロファイル生成部6がプロファイル生成部の例であり、パターン生成部3がパターン生成部の例であり、相関算出部5が相関算出部の例である。補正部4が補正部の例であり、パラメータ取得部8がパラメータ取得部の例であり、切替部225が切替部の例であり、フィルタ処理部7がフィルタ処理部の例である。
1…登録部,2…ピーク検出部,3…パターン生成部,4…補正部,5…相関算出部,6…プロファイル生成部,7…フィルタ処理部,8…パラメータ取得部,100…撮像ヘッド,110…投光部,120…撮像部,121…受光部,122…受光レンズ,200…処理装置,210…記憶部,220…制御部,221…投光制御部,222…受光制御部,223…入力設定部,224…プロファイル取得部,225…切替部,226…計測処理部,227…表示処理部,300…入力部,400…表示部,500…光学式変位計,F1,F2…範囲,L1,L2…光,p…画素,P…ピーク,P1…真ピーク,P2…偽ピーク,Pa…幾何学的パターン,Pb…基準プロファイル,PP…ピーク位置,R1…受光領域,R2…偽受光領域,SS…画素列,T1 照射領域,T2…偽照射領域,W…ワーク
Claims (9)
- 測定対象物のプロファイルを測定する光切断方式の光学式変位計であって、
第1の方向に広がりを有するスリット光、または前記第1の方向に走査されるスポット光を測定対象物に照射する投光部と、
前記第1の方向と、前記第1の方向に交差する第2の方向とに並ぶ複数の画素を含み、測定対象物の前記第1の方向の各位置からの反射光を受光し、受光量分布を出力する受光部と、
前記第1の方向に並ぶ複数の画素列によりそれぞれ出力される複数の受光量分布に基づいて画素列ごとに前記第2の方向における1または複数の受光量のピーク候補位置を検出するピーク検出部と、
測定対象物のプロファイルの基準となる基準プロファイルを示す基準データを登録する登録部と、
各画素列について前記ピーク検出部により検出されたピーク候補位置の中から、前記登録部により登録された基準データが示す基準形状の部分との近似度に基づいてプロファイルに採用されるべきピーク位置を選択し、選択されたピーク位置に基づいてプロファイルを示すプロファイルデータを生成するプロファイル生成部とを備える、光学式変位計。 - 前記ピーク検出部により検出された複数のピーク候補位置に基づいて幾何学的パターンを示すパターンデータを生成するパターン生成部と、
前記複数の画素列の各々について、前記登録部により登録された基準データと前記パターン生成部により生成されたパターンデータとの相関係数を算出する相関算出部とをさらに備え、
前記プロファイル生成部は、前記相関算出部により算出された相関係数に基づいて前記近似度を判定する、請求項1記載の光学式変位計。 - 前記パターン生成部により生成されたパターンデータの少なくとも一部に基づいて、前記幾何学的パターンと基準形状との相対的な位置ずれが小さくなるようにパターンデータおよび基準データの少なくとも一方を補正する補正部をさらに備え、
前記相関算出部は、前記補正部による補正後のパターンデータと基準データとの相関係数を算出する、請求項2記載の光学式変位計。 - 前記ピーク検出部により検出されたピーク候補位置におけるピークの態様を示すパラメータを取得するパラメータ取得部をさらに備え、
前記プロファイル生成部は、前記パラメータ取得部により取得されたパラメータにさらに基づいて各受光量分布における複数のピーク候補位置の中からプロファイルに採用されるべきピーク位置を選択する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学式変位計。 - 前記パラメータ取得部により取得されるパラメータは、ピークの受光量またはピークの幅を含む、請求項4記載の光学式変位計。
- 前記プロファイル生成部の動作モードを第1の動作モードと第2の動作モードとで切り替える切替部をさらに含み、
前記プロファイル生成部は、
前記第1の動作モードにおいては、前記ピーク検出部によりいずれかの画素列に対応する受光量分布において複数のピーク候補位置が検出された場合、複数のピーク候補位置の各々と前記登録部により登録された基準データが示す基準形状の部分との近似度に基づいて複数のピーク候補位置の中からプロファイルに採用されるべきピーク位置を選択し、
前記第2の動作モードにおいては、前記ピーク検出部によりいずれかの画素列に対応する受光量分布において複数のピーク候補位置が検出された場合、予め設定された条件に基づいて複数のピーク候補位置の中からプロファイルに採用されるべきピーク位置を選択する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の光学式変位計。 - 前記予め設定された条件は、各受光量分布における複数のピーク候補位置から最大の受光量を有するピーク候補位置をプロファイルに採用されるべきピーク位置として選択することを含む、請求項6記載の光学式変位計。
- 前記予め設定された条件は、各受光量分布における複数のピーク候補位置から前記第2の方向における一端または他端に最も近いピーク候補位置をプロファイルに採用されるべきピーク位置として選択することをさらに含む、請求項6または7記載の光学式変位計。
- 前記プロファイル生成部により生成された前記プロファイルデータの各部分において、値の変化が小さいほど平滑効果が大きくなるように前記プロファイルデータにフィルタ処理を行うフィルタ処理部をさらに備える、請求項1〜8のいずれか一項に記載の光学式変位計。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2018152481A JP2020027054A (ja) | 2018-08-13 | 2018-08-13 | 光学式変位計 |
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US11747136B2 (en) | 2021-03-09 | 2023-09-05 | Keyence Corporation | Optical displacement measurement system, processing device, and optical displacement meter |
-
2018
- 2018-08-13 JP JP2018152481A patent/JP2020027054A/ja active Pending
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