JP2020009757A - Production method of film, production method of organic el element, and ink composition set for film production - Google Patents

Production method of film, production method of organic el element, and ink composition set for film production Download PDF

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和貴 山下
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Abstract

To provide a film production method by which a plurality of kinds of films superior in flatness can be produced even in the case of using a plurality of kinds of ink compositions to produce films by a collective dry method.SOLUTION: A film production method comprises: an ink preparation step of preparing a first ink composition and a second ink composition which contain solid contents different from each other in species and which are 60% or more in the flatness R of test films; a first coating step of applying the first ink composition to a first region of a substrate to form a first coating layer; a second coating step of applying the second ink composition to a second region of the substrate, which is different from the first region, to form a second coating layer; and a drying step of putting the substrate in a drying oven to dry the first and second coating layers and form first and second films after the first and second coating steps. In the ink preparation step, the first ink composition and the second ink composition are prepared so that a first primary solvent and a second primary solvent become identical to each other in kind.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、膜の製造方法及び有機EL素子の製造方法に関し、膜製造用のインク組成物セットにも関する。   The present invention relates to a method for producing a film and a method for producing an organic EL device, and also relates to an ink composition set for producing a film.

有機EL素子(有機エレクトロルミネッセンス素子)は、発光効率が高く、駆動電圧が低いことから、ディスプレイおよび照明の用途に好適に使用することが可能である。有機EL素子は、発光層、電荷輸送層等の有機層を備える。有機層は、溶媒中に、有機EL材料(有機エレクトロルミネッセンス材料)等の高分子化合物を溶解させた有機EL素子用組成物を用いることで、インクジェット印刷法に代表される吐出型の塗布法を用いて形成することができる。   An organic EL element (organic electroluminescence element) has a high luminous efficiency and a low driving voltage, and thus can be suitably used for display and lighting applications. The organic EL device includes an organic layer such as a light emitting layer and a charge transport layer. The organic layer is formed by using a composition for an organic EL device in which a polymer compound such as an organic EL material (organic electroluminescence material) is dissolved in a solvent, so that a discharge type coating method represented by an ink jet printing method can be used. It can be formed using.

国際公開2013/088744号(特許文献1)には、複数種のインクの塗布のタイミングを調整することにより、画素間での断面形状のばらつきを抑制できることが記載されている。   WO 2013/088844 (Patent Literature 1) describes that by adjusting the timing of applying a plurality of types of inks, it is possible to suppress variations in the cross-sectional shape between pixels.

国際公開2013/088744号International Publication No. 2013/088844

本発明者らは、複数種のインク組成物を用いて膜を製造する際に、一括乾燥を行うと、インク組成物の種類によって膜の平坦性に違いが生じるとの知見を得た。しかしながら、複数種のインク組成物を用いて膜を製造する際に、インク組成物の種類に応じて異なる乾燥条件を採用すると乾燥工程が煩雑化する。   The present inventors have found that, when a film is manufactured using a plurality of types of ink compositions, if the batch drying is performed, the flatness of the film differs depending on the type of the ink composition. However, when a film is manufactured using a plurality of types of ink compositions, if different drying conditions are employed depending on the type of the ink composition, the drying process becomes complicated.

本発明は、複数種のインク組成物を用いて、一括乾燥により膜を製造する場合であっても、平坦性に優れた複数種の膜を製造することができる膜の製造方法、有機EL素子の製造方法、及び膜製造用のインク組成物セットを提供することを目的とする。   The present invention relates to a method of manufacturing a film capable of manufacturing a plurality of types of films having excellent flatness even when a film is manufactured by batch drying using a plurality of types of ink compositions, and an organic EL device. It is an object of the present invention to provide a method for producing a film and an ink composition set for producing a film.

本発明は、以下に示す膜の製造方法、有機EL素子の製造方法、及び膜製造用のインク組成物セットを提供する。   The present invention provides a method for producing a film, a method for producing an organic EL device, and an ink composition set for producing a film as described below.

〔1〕 基板の表面に第1膜と第2膜とを製造する、膜の製造方法であって、
互いに異なる固形分種を含み、試験膜の平坦度Rがともに60%以上である、第1インク組成物と第2インク組成物とを準備するインク準備工程と、
前記基板の第1領域に前記第1インク組成物を塗布して第1塗布層を形成する第1塗布工程と、
前記基板の前記第1領域とは異なる第2領域に前記第2インク組成物を塗布して第2塗布層を形成する第2塗布工程と、
前記第1塗布工程と前記第2塗布工程の後、前記基板を乾燥機内に入れて、前記第1塗布層と前記第2塗布層とを乾燥させて、第1膜と第2膜とを形成する乾燥工程と、を備え、
前記インク準備工程において、前記第1インク組成物と前記第2インク組成物とを、前記第1インク組成物の溶媒の全量に対して5質量%以上含まれる第1主溶媒と、前記第2インク組成物の溶媒の全量に対して5質量%以上含まれる第2主溶媒とが、種類において同一となるように準備し、
前記試験膜は、試験基板にインク組成物を塗布して試験塗布層を形成し、前記試験基板を前記乾燥機内に入れて、前記乾燥工程での乾燥条件にて前記試験塗布層を乾燥させて得られた膜であり、
前記平坦度R(%)は、前記試験膜において、全領域の面積をA(μm)、最小膜厚をTmin(nm)としたときに膜厚がTmin+10nm以下である領域の面積をB(μm)、とすると、以下の式:
R=(B/A)×100
で算出される、膜の製造方法。
〔2〕 前記インク準備工程において、前記第1インク組成物と前記第2インク組成物とを、前記第1主溶媒と、前記第2主溶媒とが、種類において同一でありかつ各成分の含有比率において異なるように準備する、〔1〕に記載の膜の製造方法。
〔3〕 前記第1主溶媒及び前記第2主溶媒は、式(1)で表される化合物を含む、〔1〕又は〔2〕に記載の膜の製造方法。

Figure 2020009757

[式(1)中、Rは、炭素原子数が10〜12のアルキル基を表す。]
〔4〕 前記第1主溶媒及び前記第2主溶媒は、式(1)で表される化合物を除く芳香族炭化水素を含む、〔1〕〜〔3〕のいずれか1項に記載の膜の製造方法。
Figure 2020009757

[式(1)中、Rは、炭素原子数が10〜12のアルキル基を表す。]
〔5〕 前記芳香族炭化水素は、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、及びテトラリンからなる群より選択される、〔4〕に記載の膜の製造方法。
〔6〕 前記第1主溶媒及び前記第2主溶媒は、芳香族エーテルを含む、〔1〕〜〔5〕のいずれか1項に記載の膜の製造方法。
〔7〕 前記芳香族エーテルは、メチルアニソール、ジメチルアニソール、エチルアニソール、ブチルフェニルエーテル、ブチルアニソール、ペンチルアニソール、ヘキシルアニソール、ヘプチルアニソール、オクチルアニソール、及びフェノキシトルエンからなる群より選択される、〔6〕に記載の膜の製造方法。
〔8〕 前記第1インク組成物及び前記第2インク組成物は、互いに異なる高分子化合物を含む、〔1〕〜〔7〕のいずれか1項に記載の膜の製造方法。
〔9〕 前記高分子化合物が発光性化合物である、〔1〕〜〔8〕のいずれか1項に記載の膜の製造方法。
〔10〕 〔1〕〜〔9〕のいずれか1項に記載の膜の製造方法により膜を製造する工程を含む、有機EL素子の製造方法。
〔11〕 〔1〕〜〔10〕のいずれか1項に記載の膜の製造方法に用いられるインク組成物セットであって、前記第1インク組成物と前記第2インク組成物とを少なくとも含む、インク組成物セット。 [1] A method for producing a film, comprising producing a first film and a second film on a surface of a substrate,
An ink preparation step of preparing a first ink composition and a second ink composition, wherein the first ink composition and the second ink composition each include solid species different from each other and have a flatness R of the test film of 60% or more;
A first application step of applying the first ink composition to a first region of the substrate to form a first application layer;
A second application step of applying the second ink composition to a second area different from the first area of the substrate to form a second application layer;
After the first coating step and the second coating step, the substrate is placed in a dryer, and the first coating layer and the second coating layer are dried to form a first film and a second film. Drying step,
In the ink preparing step, a first main solvent containing the first ink composition and the second ink composition in an amount of 5% by mass or more based on the total amount of the solvent of the first ink composition; A second main solvent contained in an amount of 5% by mass or more with respect to the total amount of the solvent of the ink composition is prepared so as to be identical in type,
The test film is formed by applying the ink composition to a test substrate to form a test coating layer, placing the test substrate in the dryer, and drying the test coating layer under the drying conditions in the drying step. The resulting membrane,
The flatness R (%) is defined as the area of a region where the film thickness is T min +10 nm or less when the area of the entire region is A (μm 2 ) and the minimum film thickness is T min (nm) in the test film. Is B (μm 2 ), the following equation:
R = (B / A) × 100
The method for producing a film, calculated by:
[2] In the ink preparing step, the first ink composition and the second ink composition are the same in the type of the first main solvent and the second main solvent and contain the respective components. The method for producing a film according to [1], wherein the film is prepared so as to have different ratios.
[3] The method for producing a film according to [1] or [2], wherein the first main solvent and the second main solvent include a compound represented by the formula (1).
Figure 2020009757

[In the formula (1), R 1 represents an alkyl group having 10 to 12 carbon atoms. ]
[4] The film according to any one of [1] to [3], wherein the first main solvent and the second main solvent include an aromatic hydrocarbon excluding a compound represented by the formula (1). Manufacturing method.
Figure 2020009757

[In the formula (1), R 1 represents an alkyl group having 10 to 12 carbon atoms. ]
[5] The method according to [4], wherein the aromatic hydrocarbon is selected from the group consisting of pentylbenzene, hexylbenzene, heptylbenzene, octylbenzene, nonylbenzene, cyclohexylbenzene, and tetralin.
[6] The method for producing a film according to any one of [1] to [5], wherein the first main solvent and the second main solvent include an aromatic ether.
[7] The aromatic ether is selected from the group consisting of methylanisole, dimethylanisole, ethylanisole, butylphenylether, butylanisole, pentylanisole, hexylanisole, heptylanisole, octylanisole, and phenoxytoluene. ] The method for producing a film according to [1].
[8] The method for producing a film according to any one of [1] to [7], wherein the first ink composition and the second ink composition include polymer compounds different from each other.
[9] The method for producing a film according to any one of [1] to [8], wherein the polymer compound is a luminescent compound.
[10] A method for producing an organic EL device, comprising a step of producing a film by the method for producing a film according to any one of [1] to [9].
[11] An ink composition set used in the method for producing a film according to any one of [1] to [10], including at least the first ink composition and the second ink composition. , Ink composition set.

本発明の膜の製造方法によると、複数種のインク組成物を用いて複数種の膜を形成する場合であっても、煩雑な乾燥工程によることなく、平坦性に優れた複数種の膜を製造することができる。   According to the method for producing a film of the present invention, even when a plurality of types of films are formed using a plurality of types of ink compositions, a plurality of types of films having excellent flatness can be obtained without complicated drying steps. Can be manufactured.

本発明に係る製造方法の塗布工程を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the application process of the manufacturing method which concerns on this invention. 本発明に係る製造方法の塗布工程後の基板の一例を示す上面図である。FIG. 3 is a top view illustrating an example of a substrate after a coating step in a manufacturing method according to the present invention. (a)実施例1の第1膜の断面形状と、(b)試験膜の断面形状と、を示す図である。FIG. 3A is a diagram illustrating a cross-sectional shape of a first film of Example 1, and FIG. 3B is a diagram illustrating a cross-sectional shape of a test film. (a)実施例1の第2膜の断面形状と、(b)試験膜の断面形状と、を示す図である。FIG. 3A is a diagram illustrating a cross-sectional shape of a second film of Example 1 and FIG. 3B is a cross-sectional shape of a test film. (a)実施例2の第1膜の断面形状と、(b)試験膜の断面形状と、を示す図である。It is a figure which shows (a) the cross-sectional shape of the 1st film of Example 2, and (b) the cross-sectional shape of a test film. (a)実施例2の第2膜の断面形状と、(b)試験膜の断面形状と、を示す図である。It is a figure which shows (a) the cross-sectional shape of the 2nd film of Example 2, and (b) the cross-sectional shape of a test film. (a)比較例1の第1膜の断面形状と、(b)試験膜の断面形状と、を示す図である。FIG. 3A is a diagram illustrating a cross-sectional shape of a first film of Comparative Example 1, and FIG. (a)比較例1の第2膜の断面形状と、(b)試験膜の断面形状と、を示す図である。FIG. 3A is a diagram illustrating a cross-sectional shape of a second film of Comparative Example 1, and FIG. 3B is a diagram illustrating a cross-sectional shape of a test film.

[膜の製造方法]
本発明は、基板の表面に第1膜と第2膜とを製造する、膜の製造方法であって、
互いに異なる固形分種を含み、試験膜の平坦度Rがともに60%以上である、第1インク組成物と第2インク組成物とを準備するインク準備工程と、
前記基板の第1領域に前記第1インク組成物を塗布して第1塗布層を形成する第1塗布工程と、
前記基板の前記第1領域とは異なる第2領域に前記第2インク組成物を塗布して第2塗布層を形成する第2塗布工程と、
前記第1塗布工程と前記第2塗布工程の後、前記基板を乾燥機内に入れて、前記第1塗布層と前記第2塗布層とを乾燥させて、第1膜と第2膜とを形成する乾燥工程と、を備える。
[Film production method]
The present invention is a film manufacturing method for manufacturing a first film and a second film on a surface of a substrate,
An ink preparation step of preparing a first ink composition and a second ink composition, wherein the first ink composition and the second ink composition each include solid species different from each other and have a flatness R of the test film of 60% or more;
A first application step of applying the first ink composition to a first region of the substrate to form a first application layer;
A second application step of applying the second ink composition to a second area different from the first area of the substrate to form a second application layer;
After the first coating step and the second coating step, the substrate is placed in a dryer, and the first coating layer and the second coating layer are dried to form a first film and a second film. Drying step.

本発明に係る膜の製造方法は、基板の表面に少なくとも2種の膜(第1膜と第2膜)を有する膜の製造方法に係るものであり、基板の表面に3種以上の膜を有する膜の製造方法も含むものである。   The method for producing a film according to the present invention relates to a method for producing a film having at least two types of films (a first film and a second film) on the surface of a substrate. It also includes a method for producing a film having the same.

前記インク準備工程において、前記第1インク組成物と前記第2インク組成物とを、前記第1インク組成物の溶媒の全量に対して5質量%以上含まれる第1主溶媒と、前記第2インク組成物の溶媒の全量に対して5質量%以上含まれる第2主溶媒とが、種類において同一となるように準備する。   In the ink preparing step, a first main solvent containing the first ink composition and the second ink composition in an amount of 5% by mass or more based on the total amount of the solvent of the first ink composition; The second main solvent contained in the ink composition in an amount of 5% by mass or more based on the total amount of the solvent is prepared so as to be identical in type.

〔基板〕
基板は、第1領域と第1領域とは異なる第2領域とを有する。本発明に係る製造方法によって製造される膜が、有機EL素子の要素として用いられる場合は、第1領域は有機EL素子の第1画素に対応し、第2領域は有機EL素子の第2画素に対応する。この場合、一態様として、基板上において、第1領域と第2領域とは、隔壁によって区画されており、各領域の平面形状は、円、楕円、長円又は矩形等である。基板は、有機層を形成する際に化学的に変化しない基板であればよく、例えば、ガラス、プラスチック、シリコン等の材料からなる基板である。
〔substrate〕
The substrate has a first region and a second region different from the first region. When the film manufactured by the manufacturing method according to the present invention is used as an element of an organic EL device, the first region corresponds to the first pixel of the organic EL device, and the second region corresponds to the second pixel of the organic EL device. Corresponding to In this case, as one mode, on the substrate, the first region and the second region are defined by partition walls, and the planar shape of each region is a circle, an ellipse, an ellipse, a rectangle, or the like. The substrate may be a substrate that does not chemically change when the organic layer is formed, and is, for example, a substrate made of a material such as glass, plastic, or silicon.

〔第1塗布工程及び第2塗布工程〕
インクジェット印刷装置を用いて行う第1塗布工程及び第2塗布工程の一例を、図面を参照しながら説明する。図1に、第1塗布工程の一例を示す。図1では、互いに交互に配置された第1領域41と第2領域42とを有する基板1を用いて、第1領域41に第1インク組成物を用いて第1塗布層を形成する第1塗布工程を行う。第1塗布工程及び第2塗布工程で用いられるインクジェット印刷装置は、第1インク組成物を吐出する第1ヘッドと、第2インク組成物を吐出する第2ヘッドを有する。第1インク組成物を吐出する第1ヘッドを有する第1インクジェット印刷装置を用いて第1塗布工程を行い、第2インク組成物を吐出する第2ヘッドを有する第2インクジェット印刷装置を用いて第2塗布工程を行うようにしてもよい。
[First coating step and second coating step]
An example of a first coating step and a second coating step performed using an inkjet printing apparatus will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows an example of the first application step. In FIG. 1, a first coating layer is formed using a first ink composition in a first region 41 using a substrate 1 having a first region 41 and a second region 42 that are alternately arranged. An application step is performed. The ink jet printing apparatus used in the first application step and the second application step has a first head for discharging the first ink composition and a second head for discharging the second ink composition. The first coating process is performed using a first inkjet printing apparatus having a first head that discharges a first ink composition, and the first coating step is performed using a second inkjet printing apparatus that has a second head that discharges a second ink composition. Two coating steps may be performed.

図1に示すように、第1塗布工程では、第1ヘッド21の下に基板1が搬送され、第1ヘッド21の第1領域41に対応する位置の複数の吐出用ノズルから第1インク組成物の液滴が吐出されて、これが第1領域41に滴下され、第1塗布層が形成される。図1に示す装置では、基板1を第1ヘッド21の配列方向に直交する方向Ddに搬送しながら、第1インク組成物を第1列目(第1ヘッド21の配列方向に平行方向)の第1領域41に必要液滴数だけ滴下して第1塗布層が形成され、引き続き次の列の第1領域41に必要液滴数だけ滴下して次の第1塗布層が形成される。このような作業を連続して行うことにより、第1領域41に第1塗布層を形成する第1塗布工程が実施される。なお、基板1上の一つの列にある塗布が必要な画素数が、第1ヘッドの吐出用ノズルの数より多い場合には、第1ヘッド21を配列方向に移動させる、又は基板1を第1ヘッド21の配列方向に移動させる等の方法により、塗布が必要な全ての画素への塗布を行う。第1ヘッド21の配列方向に直交する方向Ddへの基板1の搬送は、方向Ddとは反対方向への搬送を伴い、往復移動させるものであってもよい。この際、第1ヘッド21からの吐出は、往復移動の往き戻り両方で行われてもよいし、往きのみ、もしくは戻りのみで行なわれてもよい。   As shown in FIG. 1, in the first coating step, the substrate 1 is transported under the first head 21, and the first ink composition is supplied from a plurality of ejection nozzles at positions corresponding to the first area 41 of the first head 21. A droplet of the object is ejected, and the droplet is dropped on the first region 41 to form a first coating layer. In the apparatus shown in FIG. 1, while the substrate 1 is transported in a direction Dd orthogonal to the arrangement direction of the first heads 21, the first ink composition is applied to the first row (the direction parallel to the arrangement direction of the first heads 21). The first application layer is formed by dropping the required number of droplets on the first region 41, and the next first coating layer is subsequently formed by dropping the required number of droplets on the first region 41 in the next row. By performing such operations continuously, a first coating step of forming a first coating layer in the first region 41 is performed. If the number of pixels that need to be applied in one row on the substrate 1 is larger than the number of ejection nozzles of the first head, the first head 21 is moved in the arrangement direction, or the substrate 1 is moved to the second position. The coating is performed on all the pixels that need to be coated by a method such as moving the head 21 in the arrangement direction. The transport of the substrate 1 in the direction Dd orthogonal to the arrangement direction of the first heads 21 may involve reciprocating the transport along with the transport in the direction opposite to the direction Dd. At this time, the ejection from the first head 21 may be performed in both forward and backward directions of the reciprocating movement, or may be performed only in forward and backward directions.

第1塗布工程の後に、第2塗布工程が行われる。第2塗布工程についても、第1塗布工程と同様に、第2ヘッドの第2領域42に対応する位置の複数の吐出用ノズルから第2インク組成物の液滴が吐出されて、これが第2領域42に滴下され、第2塗布層が形成される。   After the first application step, a second application step is performed. Also in the second application step, similarly to the first application step, droplets of the second ink composition are ejected from a plurality of ejection nozzles at positions corresponding to the second region 42 of the second head, and this is the second ink composition. The second coating layer is formed by being dropped on the region 42.

図2は、第1塗布工程と第2塗布工程とが完了した後の、基板1の上面を模式的に示す。図2に示すように、第1領域41に第1塗布層が形成され、第2領域42に第2塗布層が形成されている。本実施形態では、2種のインク組成物を用いる場合のみについて説明したが、3種以上のインク組成物を用いる場合であっても、同様の塗布工程を繰り返すことにより、3種以上の塗布層を形成することができる。   FIG. 2 schematically shows the upper surface of the substrate 1 after the first application step and the second application step are completed. As shown in FIG. 2, a first coating layer is formed in a first region 41, and a second coating layer is formed in a second region. In this embodiment, only the case where two types of ink compositions are used has been described. However, even when three or more types of ink compositions are used, three or more types of coating layers can be formed by repeating the same coating process. Can be formed.

第1塗布工程及び第2塗布工程で用いられるインクを塗布する装置としては、図1に示されるインクジェット印刷装置などが挙げられる。第1塗布工程及び第2塗布工程は、インクジェット印刷装置を用いたインクジェット印刷法に限定されることはなく、ノズルプリンティング法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法等を用いることができる。   As an apparatus for applying the ink used in the first application step and the second application step, an ink jet printing apparatus shown in FIG. 1 and the like can be mentioned. The first coating step and the second coating step are not limited to the ink jet printing method using the ink jet printing apparatus, and a nozzle printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, or the like can be used.

〔乾燥工程〕
乾燥工程では、第1塗布層及び第2塗布層が形成された基板を、乾燥機内に入れて、所定の雰囲気下に置くことにより、第1塗布層を乾燥させて第1膜を形成するとともに第2塗布層を乾燥させて第2膜を形成する。
(Drying process)
In the drying step, the substrate on which the first coating layer and the second coating layer are formed is placed in a dryer and placed under a predetermined atmosphere, whereby the first coating layer is dried to form a first film. The second coating layer is dried to form a second film.

乾燥工程では、第1塗布層を形成する第1インク組成物及び第2塗布層を形成する第2インク組成物から溶媒が蒸発し硬化して第1膜と第2膜とが形成される。   In the drying step, the solvent evaporates and cures from the first ink composition forming the first coating layer and the second ink composition forming the second coating layer to form the first film and the second film.

乾燥工程は、乾燥工程の時間を短縮する観点から、減圧下で乾燥を行うことが好ましい。乾燥工程での圧力調整は、乾燥機内に基板を載置した後に、乾燥機内の圧力を大気圧から徐々に又は段階的に低下させることによる。大気圧から1000Paまでの減圧速度は、例えば、1000Pa/秒〜30000Pa/秒であることが好ましい。乾燥機内(より具体的には、基板1を載置するステージ上)の温度は、例えば、20℃以上100℃以下の範囲で維持する制御を行うことが好ましい。   The drying step is preferably performed under reduced pressure from the viewpoint of shortening the time of the drying step. The pressure adjustment in the drying step is performed by lowering the pressure in the dryer gradually or stepwise from the atmospheric pressure after placing the substrate in the dryer. The pressure reduction rate from the atmospheric pressure to 1000 Pa is preferably, for example, from 1,000 Pa / sec to 30,000 Pa / sec. It is preferable to control the temperature inside the dryer (more specifically, on the stage on which the substrate 1 is mounted) to be maintained, for example, in the range of 20 ° C. or more and 100 ° C. or less.

〔インク準備工程〕
インク準備工程において、第1インク組成物と第2インク組成物とを準備する。第1インク組成物と第2インク組成物とは、互いに異なる固形分種を含み、試験膜の平坦度Rがともに60%以上である。
[Ink preparation process]
In the ink preparation step, a first ink composition and a second ink composition are prepared. The first ink composition and the second ink composition contain solid species different from each other, and the flatness R of the test film is 60% or more.

試験膜は、試験基板にインク組成物を塗布して試験塗布層を形成し、試験基板を乾燥工程と同じ乾燥機内に入れて、乾燥工程での乾燥条件にて試験塗布層を乾燥させて得られた膜とする。   The test film is obtained by applying the ink composition to a test substrate to form a test coating layer, placing the test substrate in the same dryer as the drying process, and drying the test coating layer under the drying conditions in the drying process. Film.

平坦度R(%)は、試験膜において、全領域の面積をA(μm)、最小膜厚をTmin(nm)としたときに膜厚がTmin+10nm以下である領域の面積をB(μm)、とすると、以下の式:
R=(B/A)×100
で算出されるものとする。なお、第1膜及び第2膜の平坦度R(%)についても、試験膜の平坦度R(%)と同様に算出されるものとする。
The flatness R (%) is defined as the area of a region where the film thickness is T min +10 nm or less when the area of the entire region is A (μm 2 ) and the minimum film thickness is T min (nm). (Μm 2 ), the following equation:
R = (B / A) × 100
It is assumed to be calculated by The flatness R (%) of the first film and the second film is calculated in the same manner as the flatness R (%) of the test film.

本発明者らは、インク準備工程において、試験膜の平坦度Rが60%以上となるインク組成物を準備した場合であっても、乾燥工程において複数種のインク組成物を用いて一括乾燥を行った場合には、膜によっては平坦度Rが低下し60%未満となる場合があるとの課題を知見し、かかる課題を解決するために鋭意検討を重ねて本発明に至ったものである。   The present inventors have conducted batch drying using a plurality of types of ink compositions in the drying step, even when preparing an ink composition in which the flatness R of the test film is 60% or more in the ink preparation step. In this case, the inventors have found that the flatness R may be reduced to less than 60% depending on the film, and have conducted intensive studies to solve such a problem, leading to the present invention. .

本発明者らは、インク準備工程において、第1インク組成物と第2インク組成物とを、第1インク組成物の溶媒の全量に対して5質量%以上含まれる第1主溶媒と、第2インク組成物の溶媒の全量に対して5質量%以上含まれる第2主溶媒とが、種類において同一となるように準備することにより、乾燥工程において一括乾燥を行った場合にも、第1膜及び第2膜ともに優れた平坦度Rを有するとの知見を見出し本発明に至ったものである。本発明によると、乾燥工程において一括乾燥を行った場合にも、第1膜及び第2膜ともに平坦度Rが60%以上を有するように製造することができる。   In the ink preparation step, the present inventors provide a first main solvent containing the first ink composition and the second ink composition in an amount of 5% by mass or more based on the total amount of the solvent of the first ink composition; By preparing the second main solvent, which is contained in an amount of 5% by mass or more with respect to the total amount of the solvent of the ink composition 2, so as to be the same in type, even when the batch drying is performed in the drying step, the first The inventors have found that both the film and the second film have excellent flatness R, and have reached the present invention. According to the present invention, even when batch drying is performed in the drying step, it is possible to manufacture the first film and the second film so that the flatness R of both the films is 60% or more.

また、インク準備工程においては、第1インク組成物と第2インク組成物とを、第1主溶媒と、第2主溶媒とが、種類において同一でありかつ各成分の含有比率において異なるように準備することが好ましい。第1主溶媒と第2主溶媒とが、種類において同一とは、例えば、ともに、溶媒a、溶媒b及び溶媒cのみからなる場合が該当する。第1主溶媒と第2主溶媒とが、各成分の含有比率において異なるとは、例えば、比率「溶媒aの含有量:溶媒bの含有量:溶媒cの含有量」が、第1主溶媒と第2主溶媒とで異なる場合が該当する。   In the ink preparation step, the first ink composition and the second ink composition are mixed so that the first main solvent and the second main solvent are the same in type and different in the content ratio of each component. It is preferable to prepare. The case where the first main solvent and the second main solvent are the same in kind corresponds to, for example, a case where each of the first main solvent and the second main solvent only includes the solvent a, the solvent b, and the solvent c. The difference between the first main solvent and the second main solvent in the content ratio of each component means that, for example, the ratio “content of solvent a: content of solvent b: content of solvent c” is the first main solvent And the second main solvent is different.

第1インク組成物及び第2インク組成物は、「固形分(A)」と「溶媒(B)」とを含む。本明細書で共通して用いられる用語は、特記しない限り、以下の意味である。   The first ink composition and the second ink composition include “solid content (A)” and “solvent (B)”. Terms commonly used in this specification have the following meanings unless otherwise specified.

「高分子化合物」とは、分子量分布を有し、ポリスチレン換算の重量平均分子量が1×
10〜1×10である重合体を意味する。高分子化合物は、ブロック共重合体、ランダム共重合体、交互共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよいし、その他の態様であってもよい。高分子化合物の末端基は、重合活性基がそのまま残っていると、高分子化合物を発光素子の作製に用いた場合に発光特性または輝度寿命が低下する可能性があるので、好ましくは安定な基である。この末端基としては、好ましくは主鎖と共役結合している基であり、例えば、炭素−炭素結合を介してアリール基または1価の複素環基と結合している基が挙げられる。
The “polymer compound” has a molecular weight distribution and a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 1 ×.
It means a polymer having a density of 10 3 to 1 × 10 8 . The polymer compound may be any of a block copolymer, a random copolymer, an alternating copolymer, and a graft copolymer, and may have other embodiments. The terminal group of the polymer compound is preferably a stable group because if the polymerization active group is left as it is, the light emitting characteristics or luminance life may be reduced when the polymer compound is used for manufacturing a light emitting device. It is. The terminal group is preferably a group that is conjugated to the main chain, for example, a group that is bonded to an aryl group or a monovalent heterocyclic group via a carbon-carbon bond.

「低分子化合物」とは、分子量分布を有さず、分子量が1×10以下の化合物を意味する。 “Low molecular weight compound” means a compound having no molecular weight distribution and having a molecular weight of 1 × 10 4 or less.

「主溶媒」とは、溶媒(B)の全量に対して5質量%以上含まれる溶媒を意味する。「主溶媒」は、第1インク組成物における主溶媒である「第1主溶媒」と、第2インク組成物における主溶媒である「第2主溶媒」とを含む総称である。   “Main solvent” means a solvent contained in an amount of 5% by mass or more based on the total amount of the solvent (B). The “main solvent” is a general term including the “first main solvent” that is the main solvent in the first ink composition and the “second main solvent” that is the main solvent in the second ink composition.

「インク組成物」は、「第1インク組成物」と「第2インク組成物」とを含む総称である。   “Ink composition” is a generic term that includes “first ink composition” and “second ink composition”.

<溶媒(B)>
各インク組成物に含有される溶媒(B)は、主溶媒を少なくとも2種含むことが好ましい。主溶媒としては、式(1)で表される化合物である溶媒(b1)、式(1)で表される化合物を除く芳香族炭化水素である溶媒(b2)、芳香族エーテルである溶媒(b3)、が好適である。ここでいう「少なくとも2種」の「種」は、化合物としての種類を意味し、溶媒(b1)、溶媒(b2)、溶媒(b3)のそれぞれをカテゴリーとした場合のカテゴリーの種類を意味するものではない。したがって、例えば、溶媒(B)中に、主溶媒として溶媒(b1)に属する異なる2種の化合物のみを含む場合も、主溶媒を少なくとも2種含むことになる。なお、溶媒(b1)、溶媒(b2)、溶媒(b3)は、溶媒(B)中に、主溶媒として含まれていてもよく、主溶媒以外として、すなわち5質量%未満含まれる溶媒として含まれていてもよい。なお、各インク組成物に含有される溶媒(B)は、主溶媒を1種のみ含むものであってもよい。
<Solvent (B)>
The solvent (B) contained in each ink composition preferably contains at least two main solvents. Examples of the main solvent include a solvent (b1) that is a compound represented by the formula (1), a solvent (b2) that is an aromatic hydrocarbon excluding the compound represented by the formula (1), and a solvent that is an aromatic ether ( b3) is preferred. The “species” of “at least two” as used herein means a kind as a compound, and means a kind of a category when each of the solvent (b1), the solvent (b2), and the solvent (b3) is a category. Not something. Therefore, for example, even when the solvent (B) includes only two different compounds belonging to the solvent (b1) as the main solvent, at least two main solvents are included. The solvent (b1), the solvent (b2), and the solvent (b3) may be contained as a main solvent in the solvent (B), and may be contained as a solvent other than the main solvent, that is, as a solvent contained in less than 5% by mass. It may be. The solvent (B) contained in each ink composition may contain only one main solvent.

≪溶媒(b1)≫
溶媒(b1)は、式(1)で表される。

Figure 2020009757

[式(1)中、Rは、炭素原子数が10〜12のアルキル基を表す。] << Solvent (b1) >>
The solvent (b1) is represented by the formula (1).
Figure 2020009757

[In the formula (1), R 1 represents an alkyl group having 10 to 12 carbon atoms. ]

で表される炭素原子数が10〜12のアルキル基は、直鎖のアルキル基であっても分岐のアルキル基であってもよいが、直鎖のアルキル基であることが好ましい。 The alkyl group having 10 to 12 carbon atoms represented by R 1 may be a straight-chain alkyl group or a branched alkyl group, but is preferably a straight-chain alkyl group.

は、炭素原子数が10のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数が10の直鎖のアルキル基であることが好ましい。 R 1 is preferably an alkyl group having 10 carbon atoms, and more preferably a linear alkyl group having 10 carbon atoms.

で表される炭素原子数が10〜12のアルキル基としては、例えば、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等の直鎖のアルキル基;メチルノニル基、メチルデシル基、メチルウンデシル基、ジメチルオクチル基、ジメチルノニル基、ジメチルデシル基、トリメチルヘプチル基、トリメチルオクチル基、トリメチルノニル基、テトラメチルヘキシル基、
テトラメチルヘプチル基、テトラメチルオクチル基、ペンタメチルヘキシル基、ペンタメチルヘプチル基、ヘキサメチルヘキシル基等の分岐のアルキル基が挙げられ、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、テトラメチルオクチル基、ペンタメチルヘプチル基またはヘキサメチルヘキシル基が好ましく、デシル基、ウンデシル基またはドデシル基がより好ましく、1−デシル基、2−デシル基、3−デシル基、4−デシル基、5−デシル基、1−ウンデシル基、2−ウンデシル基、3−ウンデシル基、1−ドデシル基、2−ドデシル基または3−ドデシル基が更に好ましく、1−デシル基、2−デシル基または3−デシル基が特に好ましい。
Examples of the alkyl group having 10 to 12 carbon atoms represented by R 1 include a linear alkyl group such as a decyl group, an undecyl group, and a dodecyl group; a methylnonyl group, a methyldecyl group, a methylundecyl group, and dimethyloctyl. Group, dimethylnonyl group, dimethyldecyl group, trimethylheptyl group, trimethyloctyl group, trimethylnonyl group, tetramethylhexyl group,
Branched alkyl groups such as tetramethylheptyl group, tetramethyloctyl group, pentamethylhexyl group, pentamethylheptyl group, and hexamethylhexyl group; and decyl, undecyl, dodecyl, tetramethyloctyl, and pentamethyl A heptyl group or a hexamethylhexyl group is preferred, a decyl group, an undecyl group or a dodecyl group is more preferred, and 1-decyl group, 2-decyl group, 3-decyl group, 4-decyl group, 5-decyl group, 1-undecyl A group, 2-undecyl group, 3-undecyl group, 1-dodecyl group, 2-dodecyl group or 3-dodecyl group is more preferable, and 1-decyl group, 2-decyl group or 3-decyl group is particularly preferable.

溶媒(b1)としては、例えば、デシルベンゼン(沸点:293℃)、ドデシルベンゼン(沸点:331℃)が挙げられる。   Examples of the solvent (b1) include decylbenzene (boiling point: 293 ° C.) and dodecylbenzene (boiling point: 331 ° C.).

各インク組成物には、溶媒(b1)が1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。   Each ink composition may contain one kind of the solvent (b1) alone or two or more kinds of the solvent (b1).

≪溶媒(b2)≫
溶媒(b2)は、式(1)で表される化合物を除く芳香族炭化水素である。
溶媒(b2)は、全炭素原子数が6〜15であることが好ましく、7〜15であることがより好ましい。
溶媒(b2)は、ベンゼン環を1個含むものであることが好ましく、全炭素原子数7〜15の、アルキル基またはシクロアルキル基で置換されているベンゼンであることがより好ましい。
溶媒(b2)としては、例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、エチルメチルベンゼン、プロピルベンゼン、ブチルベンゼン、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、ジプロピルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、テトラリンが挙げられ、本発明の組成物を用いて形成される膜の平坦性がより優れるので、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、シクロヘキシルベンゼンまたはテトラリンが好ましく、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、シクロヘキシルベンゼンまたはテトラリンがより好ましく、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼンまたはシクロヘキシルベンゼンが更に好ましく、1−へプチルベンゼン、1−オクチルベンゼン、1−ノニルベンゼン、シクロヘキシルベンゼンが特に好ましい。
<< Solvent (b2) >>
The solvent (b2) is an aromatic hydrocarbon excluding the compound represented by the formula (1).
The total number of carbon atoms in the solvent (b2) is preferably from 6 to 15, more preferably from 7 to 15.
The solvent (b2) preferably contains one benzene ring, more preferably benzene substituted with an alkyl group or a cycloalkyl group, having a total of 7 to 15 carbon atoms.
Examples of the solvent (b2) include toluene, xylene, trimethylbenzene, ethylbenzene, diethylbenzene, ethylmethylbenzene, propylbenzene, butylbenzene, pentylbenzene, hexylbenzene, heptylbenzene, octylbenzene, nonylbenzene, dipropylbenzene, and cyclohexyl. Benzene and tetralin are included, and the flatness of a film formed using the composition of the present invention is more excellent. Therefore, pentylbenzene, hexylbenzene, heptylbenzene, octylbenzene, nonylbenzene, cyclohexylbenzene or tetralin is preferable, and heptyl is used. Benzene, octylbenzene, nonylbenzene, cyclohexylbenzene or tetralin is more preferred, and heptylbenzene, octylbenzene, nonylbenzene is preferred. Or more preferably cyclohexyl benzene, heptyl benzene to 1-, 1-octyl benzene, 1-nonyl benzene, cyclohexylbenzene is particularly preferred.

各インク組成物には、溶媒(b2)が1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。   Each ink composition may contain one kind of the solvent (b2) alone, or may contain two or more kinds of the solvent (b2).

≪溶媒(b3)≫
溶媒(b3)は、芳香族エーテルである。
溶媒(b3)は、全炭素原子数が7〜15であることが好ましい。
溶媒(b3)としては、全炭素原子数が7〜15の、アリール部位がアルキル基で置換されていてもよいアルキルアリールエーテル、全炭素原子数が12〜15の、アルキル基で置換されていてもよいジアリールエーテルが挙げられ、全炭素原子数が7〜15の、フェニル部位がアルキル基で置換されていてもよいアルキルフェニルエーテル、全炭素原子数が12〜15の、アルキル基で置換されていてもよいジフェニルエーテルが好ましい。
溶媒(b3)としては、例えば、アニソール、エチルフェニルエーテル、メチルアニソール、ジメチルアニソール、エチルアニソール、ブチルフェニルエーテル、ブチルアニソール、ペンチルアニソール、ヘキシルアニソール、ヘプチルアニソール、オクチルアニソール、1−メトキシナフタレン、ジフェニルエーテル、フェノキシトルエンが挙げられ、この中でも、メチルアニソール、ジメチルアニソール、エチルアニソール、ブチルフェニルエーテル、ブチルアニソール、ペンチルアニソール、ヘキシルアニソール、ヘプチルアニソール、オクチルアニソールまたはフェノキシトルエンが好ましく、2−メチルアニソール、3−メチルアニソール、4−メチルアニソール、2,5―ジメチルアニソール、2−エチルアニソール、4−エチルアニソールまたは3−フェノキシトルエンがより好ましく、2−メチルアニソール、3−メチルアニソール、4−メチルアニソールまたは3−フェノキシトルエンが更に好ましい。
<< Solvent (b3) >>
The solvent (b3) is an aromatic ether.
The solvent (b3) preferably has 7 to 15 carbon atoms in total.
Examples of the solvent (b3) include alkylaryl ethers having a total number of carbon atoms of 7 to 15 and an aryl moiety optionally substituted with an alkyl group, and an alkyl aryl ether having a total number of carbon atoms of 12 to 15 and substituted with an alkyl group. And alkylphenyl ethers having a total number of carbon atoms of 7 to 15 and a phenyl moiety optionally substituted with an alkyl group, and an alkylphenyl ether having a total number of carbon atoms of 12 to 15 and substituted with an alkyl group. Preferred are diphenyl ethers.
Examples of the solvent (b3) include anisole, ethylphenyl ether, methylanisole, dimethylanisole, ethylanisole, butylphenylether, butylanisole, pentylanisole, hexylanisole, heptylanisole, octylanisole, 1-methoxynaphthalene, diphenylether, Phenoxytoluene is exemplified, and among these, methylanisole, dimethylanisole, ethylanisole, butylphenylether, butylanisole, pentylanisole, hexylanisole, heptylanisole, octylanisole or phenoxytoluene is preferable, and 2-methylanisole, 3-methyl Anisole, 4-methylanisole, 2,5-dimethylanisole, 2-ethylanisole, 4-ethyl More preferably anisole or 3-phenoxypropyl toluene, 2-methyl anisole, 3-methyl anisole, 4-methyl anisole or 3 phenoxytoluene is more preferable.

インク組成物には、溶媒(b3)が1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。   The ink composition may contain one kind of the solvent (b3) alone, or may contain two or more kinds of the solvent (b3).

≪その他の溶媒≫
各インク組成物には、溶媒(b1)、溶媒(b2)、溶媒(b3)以外の溶媒(以下、「溶媒(b4)」とも称する。)が含まれていてもよい。溶媒(b4)は、溶媒(B)の全量に対して5質量%以上含まれる主溶媒として含まれていてもよいし、溶媒(B)の全量に対して5質量%未満含まれる主溶媒以外の溶媒として含まれていてもよい。
≪Other solvents≫
Each ink composition may contain a solvent other than the solvent (b1), the solvent (b2), and the solvent (b3) (hereinafter, also referred to as “solvent (b4)”). The solvent (b4) may be contained as a main solvent contained in an amount of 5% by mass or more based on the total amount of the solvent (B), or may be other than the main solvent contained in the solvent (B) in an amount less than 5% by mass. May be contained as a solvent.

溶媒(b4)としては、例えば、脂肪族炭化水素溶媒、単価アルコール溶媒、多価アルコール溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、脂肪族エーテル溶媒、窒素原子を含む溶媒、硫黄原子を含む溶媒が挙げられる。   Examples of the solvent (b4) include an aliphatic hydrocarbon solvent, a monovalent alcohol solvent, a polyhydric alcohol solvent, an ester solvent, a ketone solvent, an aliphatic ether solvent, a solvent containing a nitrogen atom, and a solvent containing a sulfur atom.

各インク組成物には、溶媒(b4)が1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。   Each ink composition may contain one kind of the solvent (b4) alone, or may contain two or more kinds of the solvent (b4).

≪最高沸点溶媒≫
各インク組成物において、主溶媒の中で沸点が最も高い最高沸点溶媒は、大気圧での沸点が200℃以上であることが好ましい。また、最高沸点溶媒は、大気圧での沸点が350℃以下であることが好ましい。最高沸点溶媒は、上記した溶媒(b1)であることが好ましい。最高沸点溶媒の大気圧での沸点は、主溶媒の中で大気圧での沸点が2番目に高い溶媒の大気圧での沸点との差が、10℃以上であることが好ましく、20℃以上であることがより好ましく、30℃以上であることがさらに好ましい。最高沸点溶媒の濃度は、主溶媒の全量に対して5質量%以上60質量%以下であることが好ましく、10質量%以上50質量%以下であることがより好ましい。
≪Highest boiling point solvent≫
In each ink composition, the highest boiling point solvent having the highest boiling point among the main solvents preferably has a boiling point at atmospheric pressure of 200 ° C. or higher. The highest boiling point solvent preferably has a boiling point at atmospheric pressure of 350 ° C. or lower. The highest boiling point solvent is preferably the above-mentioned solvent (b1). The boiling point of the highest boiling point solvent at atmospheric pressure is preferably at least 10 ° C., more preferably at least 20 ° C., different from the boiling point at atmospheric pressure of the solvent having the second highest boiling point at atmospheric pressure in the main solvent. Is more preferable, and the temperature is more preferably 30 ° C. or higher. The concentration of the highest boiling point solvent is preferably 5% by mass to 60% by mass, more preferably 10% by mass to 50% by mass, based on the total amount of the main solvent.

≪溶媒の組成比≫
溶媒(B)の一例において、主溶媒は、溶媒(b1)、溶媒(b2)、及び溶媒(b3)を含み、溶媒(b1)の含有量:m1(質量)と、溶媒(b2)の含有量:m2(質量)と、溶媒(b3)の含有量:m3(質量)について、インク組成物を用いて形成される試験膜の平坦度を高くすることができるので、以下の関係式(1)及び(2)を満たすことが好ましい。
0.05≦m1/(m1+m2+m3)≦0.60 (1)
0.10≦m2/(m2+m3)≦0.90 (2)
m1は、溶媒(b1)が2種以上含有されている場合、溶媒(b1)の合計含有量を示す。m2は、溶媒(b2)が2種以上含有されている場合、溶媒(b2)の合計含有量を示す。m3は、溶媒(b3)が2種以上含有されている場合、溶媒(b3)の合計含有量を示す。
組成 Solvent composition ratio≫
In one example of the solvent (B), the main solvent includes the solvent (b1), the solvent (b2), and the solvent (b3), and the content of the solvent (b1): m1 (mass) and the content of the solvent (b2) With respect to the amount: m2 (mass) and the content of the solvent (b3): m3 (mass), the flatness of the test film formed using the ink composition can be increased. ) And (2) are preferably satisfied.
0.05 ≦ m1 / (m1 + m2 + m3) ≦ 0.60 (1)
0.10 ≦ m2 / (m2 + m3) ≦ 0.90 (2)
m1 indicates the total content of the solvent (b1) when two or more solvents (b1) are contained. m2 indicates the total content of the solvent (b2) when two or more solvents (b2) are contained. m3 indicates the total content of the solvent (b3) when two or more solvents (b3) are contained.

溶媒(B)は、溶媒(B)の全量に対して5質量%未満の含有量であれば、最高沸点溶媒より沸点が高い溶媒を含んでいてもよい。なお、最高沸点溶媒より沸点が高い溶媒は、溶媒(B)の全量に対して、単独で1質量%未満であることが好ましく、合計で5質量%未満であることが好ましい。   The solvent (B) may contain a solvent having a higher boiling point than the highest boiling point solvent as long as the content is less than 5% by mass based on the total amount of the solvent (B). The solvent having a boiling point higher than that of the highest boiling point solvent is preferably independently less than 1% by mass relative to the total amount of the solvent (B), and preferably less than 5% by mass in total.

<固形分(A)>
各インク組成物に含有される固形分(A)は、高分子化合物を含むことが好ましく、低分子化合物を含んでいてもよい。固形分(A)が低分子化合物を含む場合は、低分子化合物は発光材料であってもよい。低分子化合物が発光材料である場合は、優れた発光特性を有する観点から、イリジウム錯体であることが好ましい。なお、イリジウム錯体は、低分子化合物としてではなく、イリジウム錯体の構造を有する構成単位(すなわち、イリジウム錯体を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合する1個以上の水素原子を除いてなる基を有する構成単位。以下、「イリジウム錯体構成単位」ともいう)を含む高分子化合物として含まれていてもよい。
<Solid content (A)>
The solid content (A) contained in each ink composition preferably contains a high molecular compound, and may contain a low molecular compound. When the solid content (A) contains a low molecular compound, the low molecular compound may be a light emitting material. When the low molecular compound is a light emitting material, it is preferably an iridium complex from the viewpoint of having excellent light emitting properties. Note that the iridium complex is not a low-molecular compound but a structural unit having a structure of the iridium complex (that is, a group obtained by removing one or more hydrogen atoms directly bonded to a carbon atom or a hetero atom constituting the iridium complex). (Hereinafter, also referred to as “iridium complex constituent unit”).

≪共通する用語の説明≫
以下で共通して用いられる用語は、特記しない限り、次の意味である。
≫Explanation of common terms≫
Terms commonly used below have the following meanings unless otherwise specified.

Meはメチル基、Etはエチル基、Buはブチル基、i−Prはイソプロピル基、t−Buはtert−ブチル基を表す。   Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Bu represents a butyl group, i-Pr represents an isopropyl group, and t-Bu represents a tert-butyl group.

水素原子は、重水素原子であっても、軽水素原子であってもよい。   The hydrogen atom may be a deuterium atom or a light hydrogen atom.

金属錯体を表す式中、中心金属との結合を表す実線は、共有結合または配位結合を意味する。   In the formula representing the metal complex, a solid line representing a bond with the central metal means a covalent bond or a coordinate bond.

「構成単位」とは、高分子化合物中に1個以上存在する単位を意味する。   “Structural unit” refers to a unit that is present one or more times in a polymer compound.

「アルキル基」は、直鎖および分岐のいずれでもよい。直鎖のアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常1〜50であり、好ましくは3〜30であり、より好ましくは4〜20である。分岐のアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜50であり、好ましくは3〜30であり、より好ましくは4〜20である。   “Alkyl group” may be linear or branched. The number of carbon atoms of the linear alkyl group is usually 1 to 50, preferably 3 to 30, and more preferably 4 to 20, excluding the number of carbon atoms of the substituent. The number of carbon atoms of the branched alkyl group is usually 3 to 50, preferably 3 to 30, and more preferably 4 to 20, excluding the number of carbon atoms of the substituent.

アルキル基は、置換基を有していてもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、2−エチルブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−ブチル基、2−エチルヘキシル基、3−プロピルヘプチル基、デシル基、3,7−ジメチルオクチル基、2−エチルオクチル基、2−ヘキシルデシル基、ドデシル基、および、これらの基における水素原子が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基が挙げられ、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、3−フェニルプロピル基、3−(4−メチルフェニル)プロピル基、3−(3,5−ジ-ヘキシルフェニル)プロピル基、6−エチルオキシヘキシル基が挙げられる。   The alkyl group may have a substituent, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, isoamyl group, 2-ethylbutyl group, Hexyl group, heptyl group, octyl group, 2-butyl group, 2-ethylhexyl group, 3-propylheptyl group, decyl group, 3,7-dimethyloctyl group, 2-ethyloctyl group, 2-hexyldecyl group, dodecyl group And a group in which a hydrogen atom in these groups is substituted with a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, a fluorine atom, or the like, for example, a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, Fluorobutyl group, perfluorohexyl group, perfluorooctyl group, 3-phenylpropyl group, 3 (4-methylphenyl) propyl group, 3- (3,5-di - hexyl phenyl) propyl group, and 6-ethyloxy-hexyl group.

「シクロアルキル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜50であり、好ましくは3〜30であり、より好ましくは4〜20である。   The number of carbon atoms of the “cycloalkyl group” is usually from 3 to 50, preferably from 3 to 30, more preferably from 4 to 20, excluding the number of carbon atoms of the substituent.

シクロアルキル基は、置換基を有していてもよく、例えば、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基が挙げられる。   The cycloalkyl group may have a substituent, and examples thereof include a cyclohexyl group, a cyclohexylmethyl group, and a cyclohexylethyl group.

「アリール基」は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子1個を除いた残りの原子団を意味する。アリール基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常6〜60であり、好ましくは6〜20であり、より好ましくは6〜10である。   “Aryl group” means an atomic group obtained by removing one hydrogen atom directly bonded to a carbon atom constituting a ring from an aromatic hydrocarbon. The number of carbon atoms of the aryl group is usually from 6 to 60, preferably from 6 to 20, more preferably from 6 to 10, excluding the number of carbon atoms of the substituent.

アリール基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−アントラセニル基、2−アントラセニル基、9−アントラセニル基、1−ピレニル基、2−ピレニル基、4−ピレニル基、2−フルオレニル基、3−フルオレニル基、4−フルオレニル基、2−フェニルフェニル基、3−フェニルフェニル基、4−フェニルフェニル基、および、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。   The aryl group may have a substituent, for example, phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 1-anthracenyl group, 2-anthracenyl group, 9-anthracenyl group, 1-pyrenyl group, -Pyrenyl group, 4-pyrenyl group, 2-fluorenyl group, 3-fluorenyl group, 4-fluorenyl group, 2-phenylphenyl group, 3-phenylphenyl group, 4-phenylphenyl group, and hydrogen atoms in these groups Is a group substituted with an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, a fluorine atom, or the like.

「アルコキシ基」は、直鎖および分岐のいずれでもよい。直鎖のアルコキシ基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常1〜40であり、好ましくは4〜10である。分岐のアルコキシ基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜40であり、好ましくは4〜10である。   The “alkoxy group” may be linear or branched. The number of carbon atoms of the linear alkoxy group is usually from 1 to 40, preferably from 4 to 10, excluding the number of carbon atoms of the substituent. The number of carbon atoms of the branched alkoxy group is usually from 3 to 40, preferably from 4 to 10, excluding the number of carbon atoms of the substituent.

アルコキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、tert-ブ
チルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、3,7−ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基、および、これらの基における水素原子が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。
The alkoxy group may have a substituent, for example, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butyloxy group, isobutyloxy group, tert-butyloxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, Heptyloxy group, octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, 3,7-dimethyloctyloxy group, lauryloxy group, and a hydrogen atom in these groups is a cycloalkyl group, an alkoxy group, Examples thereof include a cycloalkoxy group, an aryl group, and a group substituted with a fluorine atom.

「シクロアルコキシ基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜40であり、好ましくは4〜10である。シクロアルコキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、シクロヘキシルオキシ基が挙げられる。   The number of carbon atoms of the "cycloalkoxy group" is usually from 3 to 40, preferably from 4 to 10, excluding the number of carbon atoms of the substituent. The cycloalkoxy group may have a substituent, for example, a cyclohexyloxy group.

「アリールオキシ基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常6〜60であり、好ましくは6〜48である。アリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、1−アントラセニルオキシ基、9−アントラセニルオキシ基、1−ピレニルオキシ基、および、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。   The number of carbon atoms of the "aryloxy group" is usually from 6 to 60, preferably from 6 to 48, excluding the number of carbon atoms of the substituent. The aryloxy group may have a substituent, for example, a phenoxy group, a 1-naphthyloxy group, a 2-naphthyloxy group, a 1-anthracenyloxy group, a 9-anthracenyloxy group, Examples include a pyrenyloxy group, and a group in which a hydrogen atom in these groups is substituted with an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, a fluorine atom, or the like.

「p価の複素環基」(pは、1以上の整数を表す。)とは、複素環式化合物から、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子のうちp個の水素原子を除いた残りの原子団を意味する。p価の複素環基の中でも、芳香族複素環式化合物から、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子のうちp個の水素原子を除いた残りの原子団である「p価の芳香族複素環基」が好ましい。   The “p-valent heterocyclic group” (p represents an integer of 1 or more) is a heterocyclic compound in which p hydrogen atoms are directly bonded to carbon atoms or hetero atoms constituting a ring. Means the remaining atomic groups except for the hydrogen atom. Among the p-valent heterocyclic groups, it is the remaining atomic group obtained by removing p hydrogen atoms among the hydrogen atoms directly bonded to the carbon atoms or hetero atoms constituting the ring from the aromatic heterocyclic compound. “P-valent aromatic heterocyclic group” is preferred.

「芳香族複素環式化合物」は、オキサジアゾール、チアジアゾール、チアゾール、オキサゾール、チオフェン、ピロール、ホスホール、フラン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、トリアジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、カルバゾール、ジベンゾホスホール等の複素環自体が芳香族性を示す化合物、および、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾボロール、ジベンゾシロール、ベンゾピラン等の複素環自体は芳香族性を示さなくとも、複素環に芳香環が縮環されている化合物を意味する。   "Aromatic heterocyclic compound" includes oxadiazole, thiadiazole, thiazole, oxazole, thiophene, pyrrole, phosphole, furan, pyridine, pyrazine, pyrimidine, triazine, pyridazine, quinoline, isoquinoline, carbazole, dibenzophosphole Compounds in which the ring itself shows aromaticity, and heterocycles such as phenoxazine, phenothiazine, dibenzoborole, dibenzosilole, and benzopyran do not show aromaticity, but an aromatic ring is fused to the heterocycle Means a compound.

1価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常、2〜60であり、好ましくは4〜20である。
1価の複素環基は、置換基を有していてもよく、例えば、チエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジル基、ピペリジニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、ピリミジニル基、トリアジニル基、および、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基等で置換された基が挙げられる。
The number of carbon atoms of the monovalent heterocyclic group is usually 2 to 60, preferably 4 to 20, without including the number of carbon atoms of the substituent.
The monovalent heterocyclic group may have a substituent, for example, thienyl group, pyrrolyl group, furyl group, pyridyl group, piperidinyl group, quinolinyl group, isoquinolinyl group, pyrimidinyl group, triazinyl group, and And a group in which a hydrogen atom in the above group is substituted with an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, or the like.

「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を示す。   “Halogen atom” refers to a fluorine, chlorine, bromine or iodine atom.

「アミノ基」は、置換基を有していてもよく、置換アミノ基が好ましい。アミノ基が有する置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基が好ましい。置換アミノ基としては、例えば、ジアルキルアミノ基、ジシクロアルキルアミノ基およびジアリールアミノ基が挙げられる。アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビス(4−メチルフェニル)アミノ基、ビス(4−tert−ブチルフェニル)アミノ基、ビス(3,5−ジ−tert−ブチルフ
ェニル)アミノ基が挙げられる。
The “amino group” may have a substituent, and a substituted amino group is preferable. As the substituent of the amino group, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group is preferable. Examples of the substituted amino group include a dialkylamino group, a dicycloalkylamino group, and a diarylamino group. Examples of the amino group include a dimethylamino group, a diethylamino group, a diphenylamino group, a bis (4-methylphenyl) amino group, a bis (4-tert-butylphenyl) amino group, and a bis (3,5-di-tert- (Butylphenyl) amino group.

「アルケニル基」は、直鎖および分岐のいずれでもよい。直鎖のアルケニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常2〜30であり、好ましくは3〜20である。分岐のアルケニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜30であり、好ましくは4〜20である。「シクロアルケニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜30であり、好ましくは4〜20である。   The “alkenyl group” may be linear or branched. The number of carbon atoms of the straight-chain alkenyl group is usually 2 to 30, preferably 3 to 20, without including the number of carbon atoms of the substituent. The number of carbon atoms of the branched alkenyl group is usually from 3 to 30, preferably from 4 to 20, excluding the number of carbon atoms of the substituent. The number of carbon atoms of the “cycloalkenyl group” is usually from 3 to 30, preferably from 4 to 20, excluding the number of carbon atoms of the substituent.

アルケニル基およびシクロアルケニル基は、置換基を有していてもよく、例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、5−ヘキセニル基、7−オクテニル基、および、これらの基が置換基を有する基が挙げられる。   The alkenyl group and the cycloalkenyl group may have a substituent, for example, a vinyl group, a 1-propenyl group, a 2-propenyl group, a 2-butenyl group, a 3-butenyl group, a 3-pentenyl group, a 4-pentenyl group, Examples include a pentenyl group, a 1-hexenyl group, a 5-hexenyl group, a 7-octenyl group, and a group in which these groups have a substituent.

「アルキニル基」は、直鎖および分岐のいずれでもよい。アルキニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常2〜20であり、好ましくは3〜20である。分岐のアルキニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常4〜30であり、好ましくは4〜20である。   The “alkynyl group” may be linear or branched. The number of carbon atoms of the alkynyl group is usually 2 to 20, preferably 3 to 20, excluding the carbon atom of the substituent. The number of carbon atoms of the branched alkynyl group is usually 4 to 30, preferably 4 to 20, excluding the carbon atom of the substituent.

「シクロアルキニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常4〜30であり、好ましくは4〜20である。   The number of carbon atoms of the “cycloalkynyl group” is usually 4 to 30, preferably 4 to 20, excluding the carbon atom of the substituent.

アルキニル基およびシクロアルキニル基は、置換基を有していてもよく、例えば、エチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、3−ペンチニル基、4−ペンチニル基、1−ヘキシニル基、5−ヘキシニル基、および、これらの基が置換基を有する基が挙げられる。   The alkynyl group and the cycloalkynyl group may have a substituent, for example, an ethynyl group, a 1-propynyl group, a 2-propynyl group, a 2-butynyl group, a 3-butynyl group, a 3-pentynyl group, a 4-pentynyl group. Examples include a pentynyl group, a 1-hexynyl group, a 5-hexynyl group, and groups in which these groups have a substituent.

「アリーレン基」は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子2個を除いた残りの原子団を意味する。アリーレン基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常、6〜60であり、好ましくは6〜30であり、より好ましくは6〜18である。   The “arylene group” means an atomic group obtained by removing two hydrogen atoms directly bonded to carbon atoms constituting a ring from an aromatic hydrocarbon. The number of carbon atoms of the arylene group is usually from 6 to 60, preferably from 6 to 30, more preferably from 6 to 18, excluding the number of carbon atoms of the substituent.

アリーレン基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェニレン基、ナフタレンジイル基、アントラセンジイル基、フェナントレンジイル基、ジヒドロフェナントレンジイル基、ナフタセンジイル基、フルオレンジイル基、ピレンジイル基、ペリレンジイル基、クリセンジイル基、および、これらの基が置換基を有する基が挙げられ、好ましくは、式(A−1)〜式(A−20)で表される基である。アリーレン基は、これらの基が複数結合した基を含む。   The arylene group may have a substituent, for example, a phenylene group, a naphthalenediyl group, an anthracenediyl group, a phenanthylenediyl group, a dihydrophenanthylenediyl group, a naphthacenediyl group, a fluorenediyl group, a pyrenediyl group, a perylenediyl group, Chrysenediyl groups and groups in which these groups have a substituent are mentioned, and preferred are groups represented by formulas (A-1) to (A-20). The arylene group includes a group in which a plurality of these groups are bonded.

Figure 2020009757
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[式中、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表す。複数存在するRおよびRは、各々、同一でも異なっていてもよく、R同士は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよい。]
Figure 2020009757

[Wherein, R and R a each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or monovalent heterocyclic group. A plurality of R and R a may be the same or different, and R a may be bonded to each other to form a ring together with the atoms to which they are bonded. ]

2価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常、2〜60であり、好ましくは、3〜20であり、より好ましくは、4〜15である。
2価の複素環基は、置換基を有していてもよく、例えば、ピリジン、ジアザベンゼン、トリアジン、アザナフタレン、ジアザナフタレン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ジベンゾシロール、フェノキサジン、フェノチアジン、アクリジン、ジヒドロアクリジン、フラン、チオフェン、アゾール、ジアゾール、トリアゾールから、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子のうち2個の水素原子を除いた2価の基が挙げられ、好ましくは、式(AA−1)〜式(AA−34)で表される基である。2価の複素環基は、これらの基が複数結合した基を含む。
The number of carbon atoms of the divalent heterocyclic group is usually 2 to 60, preferably 3 to 20, more preferably 4 to 15, without including the number of carbon atoms of the substituent.
The divalent heterocyclic group may have a substituent, for example, pyridine, diazabenzene, triazine, azanaphthalene, diazanaphthalene, carbazole, dibenzofuran, dibenzothiophene, dibenzosilole, phenoxazine, phenothiazine, acridine, Dihydroacridine, furan, thiophene, azole, diazole, triazole, and a divalent group obtained by removing two hydrogen atoms among hydrogen atoms directly bonded to a carbon atom or a hetero atom constituting a ring, preferably Is a group represented by formulas (AA-1) to (AA-34). The divalent heterocyclic group includes a group in which a plurality of these groups are bonded.

Figure 2020009757
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Figure 2020009757
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Figure 2020009757

[式中、RおよびRは、前記と同じ意味を表す。]
Figure 2020009757

[Wherein, R and R a are as defined above. ]

「架橋基」とは、加熱処理、紫外線照射処理、近紫外線照射処理、可視光照射処理、赤外線照射処理、ラジカル反応等に供することにより、新たな結合を生成することが可能な基であり、好ましくは、式(B−1)−(B−17)のいずれかで表される基である。これらの基は、置換基を有していてもよい。   The “crosslinking group” is a group capable of generating a new bond by subjecting to a heat treatment, an ultraviolet irradiation treatment, a near ultraviolet irradiation treatment, a visible light irradiation treatment, an infrared irradiation treatment, a radical reaction, and the like, Preferably, it is a group represented by any of formulas (B-1) to (B-17). These groups may have a substituent.

Figure 2020009757
Figure 2020009757

「置換基」とは、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、1価の複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、置換アミノ基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキニル基を表す。置換基は架橋基であってもよい。   "Substituent" refers to a halogen atom, cyano group, alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, monovalent heterocyclic group, alkoxy group, cycloalkoxy group, aryloxy group, amino group, substituted amino group, alkenyl group , A cycloalkenyl group, an alkynyl group or a cycloalkynyl group. The substituent may be a crosslinking group.

≪高分子化合物≫
各インク組成物は、固形分(A)として、互いに異なる高分子化合物を含むことが好ましい。各インク組成物において、固形分(A)に含まれる高分子化合物としては、発光性化合物が例示される。発光性化合物は、それ自体が発光する化合物(発光材料)であってもよく、発光材料へ電荷を輸送することにより発光材料を発光させる化合物(ホスト材料)であってもよい。高分子化合物は、発光材料であることが好ましい。発光性化合物である場合は、優れた発光特性を有する観点から、式(X)で表される構成単位および式(Y)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましい。
≪Polymer compound≫
Each ink composition preferably contains a polymer compound different from each other as the solid content (A). In each ink composition, the polymer compound contained in the solid content (A) is, for example, a luminescent compound. The light-emitting compound may be a compound that emits light by itself (light-emitting material), or a compound that causes the light-emitting material to emit light by transporting charges to the light-emitting material (host material). The polymer compound is preferably a light emitting material. When the compound is a light-emitting compound, from the viewpoint of having excellent light-emitting properties, at least one type of structural unit selected from the group consisting of the structural unit represented by the formula (X) and the structural unit represented by the formula (Y) It is preferably a polymer compound containing

本発明の組成物には、式(X)で表される構成単位および式(Y)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物が、1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。   In the composition of the present invention, one kind of a polymer compound containing at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the formula (X) and a structural unit represented by the formula (Y) is used. They may be contained alone or in combination of two or more.

(式(X)で表される構成単位)

Figure 2020009757

[式中、
X1およびaX2は、それぞれ独立に、0以上の整数を表す。
ArX1およびArX3は、それぞれ独立に、アリーレン基または2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ArX2およびArX4は、それぞれ独立に、アリーレン基、2価の複素環基、または、少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ArX2およびArX4が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
X1、RX2およびRX3は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RX2およびRX3が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。] (Structural unit represented by formula (X))
Figure 2020009757

[Where,
a X1 and a X2 each independently represent an integer of 0 or more.
Ar X1 and Ar X3 each independently represent an arylene group or a divalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent.
Ar X2 and Ar X4 each independently represent an arylene group, a divalent heterocyclic group, or a divalent group in which at least one arylene group and at least one divalent heterocyclic group are directly bonded. And these groups may have a substituent. When a plurality of Ar X2 and Ar X4 are present, they may be the same or different.
R X1 , R X2 and R X3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. When a plurality of R X2 and R X3 are present, they may be the same or different. ]

X1は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する発光素子の発光効率が優れるので、好ましくは2以下の整数であり、より好ましくは1である。 a X1 is preferably an integer of 2 or less, and more preferably 1, because a light-emitting element having a film formed using the composition of the present invention has excellent luminous efficiency.

X2は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する発光素子の発光効率が優れるので、好ましくは2以下の整数であり、より好ましくは0である。 a X2 is preferably an integer of 2 or less, more preferably 0, because the light-emitting element having a film formed using the composition of the present invention has excellent luminous efficiency.

X1、RX2およびRX3は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基であり、より好ましくはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R X1 , R X2 and R X3 are preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, more preferably an aryl group, and these groups have a substituent. Is also good.

ArX1およびArX3で表されるアリーレン基は、より好ましくは式(A−1)または式(A−9)で表される基であり、更に好ましくは式(A−1)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 The arylene group represented by Ar X1 and Ar X3 is more preferably a group represented by the formula (A-1) or (A-9), and still more preferably a group represented by the formula (A-1) And these groups may have a substituent.

ArX1およびArX3で表される2価の複素環基は、より好ましくは式(AA−1)、式(AA−2)または式(AA−7)−(AA−26)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 The divalent heterocyclic group represented by Ar X1 and Ar X3 is more preferably represented by Formula (AA-1), Formula (AA-2) or Formula (AA-7)-(AA-26) And these groups may have a substituent.

ArX1およびArX3は、好ましくは置換基を有していてもよいアリーレン基である。 Ar X1 and Ar X3 are preferably an arylene group optionally having a substituent.

ArX2およびArX4で表されるアリーレン基としては、より好ましくは式(A−1)、式(A−6)、式(A−7)、式(A−9)−(A−11)または式(A−19)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 The arylene group represented by Ar X2 and Ar X4 is more preferably the formula (A-1), the formula (A-6), the formula (A-7), the formula (A-9)-(A-11) Or a group represented by the formula (A-19), and these groups may have a substituent.

ArX2およびArX4で表される2価の複素環基のより好ましい範囲は、ArX1およびArX3で表される2価の複素環基のより好ましい範囲と同じである。 The more preferable range of the divalent heterocyclic group represented by Ar X2 and Ar X4 is the same as the more preferable range of the divalent heterocyclic group represented by Ar X1 and Ar X3 .

ArX2およびArX4で表される少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基における、アリーレン基および2価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲は、それぞれ、ArX1およびArX3で表されるアリーレン基および2価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲と同様である。 More preferred range of the arylene group and the divalent heterocyclic group in the divalent group in which at least one type of the arylene group represented by Ar X2 and Ar X4 is directly bonded to at least one type of the divalent heterocyclic group The more preferable ranges are the same as the more preferable ranges and the more preferable ranges of the arylene group and the divalent heterocyclic group represented by Ar X1 and Ar X3 , respectively.

ArX2およびArX4で表される少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基としては、例えば、下記式で表される基が挙げられ、これらは置換基を有していてもよい。 Examples of the divalent group in which at least one arylene group represented by Ar X2 and Ar X4 is directly bonded to at least one divalent heterocyclic group include groups represented by the following formulas. And these may have a substituent.

Figure 2020009757

[式中、RXXは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。]
Figure 2020009757

[Wherein, R XX represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. ]

XXは、好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R XX is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and these groups may have a substituent.

ArX2およびArX4は、好ましくは置換基を有していてもよいアリーレン基である。 Ar X2 and Ar X4 are preferably an arylene group optionally having a substituent.

ArX1〜ArX4およびRX1〜RX3で表される基が有してもよい置換基としては、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、これらの基は更に置換基を有していてもよい。 The substituent which the groups represented by Ar X1 to Ar X4 and R X1 to R X3 may have is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and these groups further have a substituent. It may be.

式(X)で表される構成単位は、好ましくは式(X−1)−(X−7)で表される構成単位であり、より好ましくは式(X−1)−(X−6)で表される構成単位であり、更に好ましくは式(X−3)−(X−6)で表される構成単位である。   The structural unit represented by the formula (X) is preferably a structural unit represented by the formula (X-1)-(X-7), and more preferably the formula (X-1)-(X-6) And more preferably a structural unit represented by Formulas (X-3) to (X-6).

Figure 2020009757
Figure 2020009757

Figure 2020009757
Figure 2020009757

Figure 2020009757
Figure 2020009757

Figure 2020009757
Figure 2020009757

[式中、Rx4およびRx5は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、1価の複素環基またはシアノ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRx4は、同一でも異なっていてもよい。複数存在するRx5は、同一でも異なっていてもよく、隣接するRx5同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。] [Wherein, R x4 and R x5 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a halogen atom, a monovalent heterocyclic group or a cyano group; Represents a group, and these groups may have a substituent. A plurality of R x4 may be the same or different. A plurality of R x5 may be the same or different, and adjacent R x5 may be bonded to each other to form a ring together with the carbon atom to which each is bonded. ]

式(X)で表される構成単位は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する有機EL素子の正孔輸送性が優れる観点から、高分子化合物中に含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは0.1〜50モル%であり、より好ましくは1〜40モル%であり、更に好ましくは5〜30モル%である。   The structural unit represented by the formula (X) is the total of the structural units contained in the polymer compound from the viewpoint of excellent hole transportability of the organic EL device having the film formed using the composition of the present invention. The amount is preferably 0.1 to 50 mol%, more preferably 1 to 40 mol%, and still more preferably 5 to 30 mol% based on the amount.

式(X)で表される構成単位としては、例えば、式(X1−1)−(X1−11)で表される構成単位が挙げられ、好ましくは式(X1−3)−(X1−10)で表される構成単位である。   Examples of the structural unit represented by the formula (X) include structural units represented by the formulas (X1-1)-(X1-11), and preferably the formulas (X1-3)-(X1-10) ).

Figure 2020009757
Figure 2020009757

Figure 2020009757
Figure 2020009757

Figure 2020009757
Figure 2020009757

Figure 2020009757
Figure 2020009757

Figure 2020009757
Figure 2020009757

式(X)で表される構成単位は、高分子化合物中に、1種のみ含まれていてもよく、2種以上含まれていてもよい。   The structural unit represented by the formula (X) may be contained alone or in combination of two or more in the polymer compound.

(式(Y)で表される構成単位)

Figure 2020009757

[式中、ArY1は、アリーレン基、2価の複素環基、または、少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。] (Structural unit represented by formula (Y))
Figure 2020009757

[In the formula, Ar Y1 represents an arylene group, a divalent heterocyclic group, or a divalent group in which at least one type of arylene group and at least one type of divalent heterocyclic group are directly bonded. May have a substituent. ]

ArY1で表されるアリーレン基は、より好ましくは、式(A−1)、式(A−2)、式(A−6)−(A−10)、式(A−19)または式(A−20)で表される基であり、更に好ましくは、式(A−1)、式(A−2)、式(A−7)、式(A−9)または式(A−19)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 The arylene group represented by Ar Y1 is more preferably the formula (A-1), the formula (A-2), the formula (A-6)-(A-10), the formula (A-19) or the formula (A-19). A group represented by formula (A-20), more preferably a formula (A-1), a formula (A-2), a formula (A-7), a formula (A-9) or a formula (A-19) And these groups may have a substituent.

ArY1で表される2価の複素環基は、より好ましくは、式(AA−1)−(AA−4)、式(AA−10)−(AA−15)、式(AA−18)−(AA−21)、式(AA−33)または式(AA−34)で表される基であり、更に好ましくは、式(AA−4)、式(AA−10)、式(AA−12)、式(AA−14)または式(AA−33)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 The divalent heterocyclic group represented by Ar Y1 is more preferably a compound represented by the formula (AA-1)-(AA-4), a compound represented by the formula (AA-10)-(AA-15) or a compound represented by the formula (AA-18) -A group represented by formula (AA-21), formula (AA-33) or formula (AA-34), and more preferably formula (AA-4), formula (AA-10), or formula (AA- 12), a group represented by the formula (AA-14) or the formula (AA-33), and these groups may have a substituent.

ArY1で表される少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基における、アリーレン基および2価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲は、それぞれ、前述のArY1で表されるアリーレン基および2価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲と同様である。 In a divalent group in which at least one kind of an arylene group represented by Ar Y1 and at least one kind of a divalent heterocyclic group are directly bonded, a more preferable range of the arylene group and the divalent heterocyclic group is more preferable. The ranges are the same as the more preferable range and the more preferable range of the arylene group and the divalent heterocyclic group represented by Ar Y1 described above.

ArY1で表される少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基としては、式(X)のArX2およびArX4で表される少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基と同様のものが挙げられる。 As the divalent group in which at least one kind of arylene group represented by Ar Y1 and at least one kind of divalent heterocyclic group are directly bonded, at least one represented by Ar X2 and Ar X4 of the formula (X) Examples include the same divalent groups in which one kind of arylene group and at least one kind of divalent heterocyclic group are directly bonded.

ArY1で表される基が有してもよい置換基は、好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、これらの基は更に置換基を有していてもよい。 The substituent which the group represented by Ar Y1 may have is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and these groups may further have a substituent.

式(Y)で表される構成単位としては、例えば、式(Y−1)−(Y−10)で表される構成単位が挙げられ、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する発光素子の輝度寿命の観点からは、好ましくは式(Y−1)−(Y−3)で表される構成単位であり、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する発光素子の電子輸送性の観点からは、好ましくは式(Y−4)−(Y−7)で表される構成単位であり、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する発光素子の発光効率又は正孔輸送性の観点からは、好ましくは式(Y−8)−(Y−10)で表される構成単位である。   Examples of the structural unit represented by the formula (Y) include structural units represented by the formulas (Y-1) to (Y-10), and a film formed using the composition of the present invention is From the viewpoint of the luminance life of the light-emitting element having the light-emitting element, the light-emitting element is preferably a structural unit represented by Formulas (Y-1) to (Y-3), and has a film formed using the composition of the present invention. From the viewpoint of the electron transport property, the light-emitting element having a film formed using the composition of the present invention is preferably a structural unit represented by the formula (Y-4)-(Y-7). From the viewpoint of efficiency or hole transportability, a structural unit represented by the formula (Y-8)-(Y-10) is preferable.

Figure 2020009757

[式中、RY1は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRY1は、同一でも異なっていてもよく、隣接するRY1同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。]
Figure 2020009757

[Wherein, R Y1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. . A plurality of RY1s may be the same or different, and adjacent RY1s may be bonded to each other to form a ring together with the carbon atoms to which they are bonded. ]

Y1は、好ましくは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R Y1 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and these groups may have a substituent.

式(Y−1)で表される構成単位は、好ましくは、式(Y−1’)で表される構成単位である。   The structural unit represented by the formula (Y-1) is preferably a structural unit represented by the formula (Y-1 ').

Figure 2020009757

[式中、RY11は、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRY11は、同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2020009757

[Wherein, R Y11 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. A plurality of RY11s may be the same or different. ]

Y11は、好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、より好ましくは、アルキル基またはシクロアルキル基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R Y11 is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, more preferably an alkyl group or a cycloalkyl group, and these groups may have a substituent.

Figure 2020009757

[式中、
Y1は、前記と同じ意味を表す。
Y1は、−C(RY2)−、−C(RY2)=C(RY2)−または−C(RY2)−C(RY2)−で表される基を表す。RY2は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRY2は、同一でも異なっていてもよく、RY2同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。]
Figure 2020009757

[Where,
R Y1 represents the same meaning as described above.
X Y1 is, -C (R Y2) 2 - , - represents a group represented by - C (R Y2) = C (R Y2) - or -C (R Y2) 2 -C ( R Y2) 2. R Y2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. A plurality of RY2s may be the same or different, and RY2s may be bonded to each other to form a ring together with the carbon atoms to which they are bonded. ]

Y2は、好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基であり、より好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R Y2 is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, more preferably an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and these groups have a substituent. It may be.

Y1において、−C(RY2)−で表される基中の2個のRY2の組み合わせは、好ましくは両方がアルキル基もしくはシクロアルキル基、両方がアリール基、両方が1価の複素環基、または、一方がアルキル基もしくはシクロアルキル基で他方がアリール基若しくは1価の複素環基であり、より好ましくは一方がアルキル基もしくはシクロアルキル基で他方がアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。2個存在するRY2は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよく、RY2が環を形成する場合、−C(RY2)−で表される基としては、好ましくは式(Y−A1)−(Y−A5)で表される基であり、より好ましくは式(Y−A4)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 In X Y1, -C (R Y2) 2 - 2 pieces of combinations of R Y2 in the group represented by is preferably both an alkyl group or a cycloalkyl group, both an aryl group, both monovalent heterocyclic A ring group, or one of which is an alkyl group or a cycloalkyl group and the other is an aryl group or a monovalent heterocyclic group, more preferably one is an alkyl group or a cycloalkyl group and the other is an aryl group; May have a substituent. 2 to R Y2, taken together present, each may form a ring together with the binding atoms, if R Y2 form a ring, -C (R Y2) 2 - as a group represented by Is preferably a group represented by the formula (Y-A1)-(Y-A5), more preferably a group represented by the formula (Y-A4), and these groups have a substituent. May be.

Figure 2020009757
Figure 2020009757

Y1において、−C(RY2)=C(RY2)−で表される基中の2個のRY2の組み合わせは、好ましくは両方がアルキル基もしくはシクロアルキル基、または、一方がアルキル基もしくはシクロアルキル基で他方がアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 In XY1 , the combination of two RY2 in the group represented by -C ( RY2 ) = C ( RY2 ) -is preferably an alkyl group or a cycloalkyl group, or one of them is an alkyl group. Alternatively, the other is a cycloalkyl group and an aryl group, and these groups may have a substituent.

Y1において、−C(RY2)−C(RY2)−で表される基中の4個のRY2は、好ましくは置換基を有していてもよいアルキル基またはシクロアルキル基である。複数あるRY2は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよく、RY2が環を形成する場合、−C(RY2)−C(RY2)−で表される基は、好ましくは式(Y−B1)−(Y−B5)で表される基であり、より好ましくは式(Y−B3)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 In X Y1, -C (R Y2) 2 -C (R Y2) 2 - 4 pieces of R Y2 in the group represented by is preferably an optionally substituted alkyl group or a cycloalkyl group It is. A plurality of RY2s may be bonded to each other to form a ring together with the atoms to which they are bonded, and when RY2 forms a ring, -C ( RY2 ) 2- C ( RY2 ) 2- The group represented by the formula is preferably a group represented by the formula (Y-B1)-(Y-B5), more preferably a group represented by the formula (Y-B3). It may have a group.

Figure 2020009757

[式中、RY2は前記と同じ意味を表す。]
Figure 2020009757

[Wherein, R Y2 represents the same meaning as described above. ]

式(Y−2)で表される構成単位は、式(Y−2’)で表される構成単位であることが好ましい。   The structural unit represented by the formula (Y-2) is preferably a structural unit represented by the formula (Y-2 ').

Figure 2020009757

[式中、RY1およびXY1は、前記と同じ意味を表す。]
Figure 2020009757

[Wherein, R Y1 and X Y1 represent the same meaning as described above. ]

Figure 2020009757

[式中、RY1およびXY1は、前記と同じ意味を表す。]
Figure 2020009757

[Wherein, R Y1 and X Y1 represent the same meaning as described above. ]

式(Y−3)で表される構成単位は、式(Y−3’)で表される構成単位であることが好ましい。   The structural unit represented by the formula (Y-3) is preferably a structural unit represented by the formula (Y-3 ').

Figure 2020009757

[式中、RY11およびXY1は、前記と同じ意味を表す。]
Figure 2020009757

[Wherein, R Y11 and X Y1 represent the same meaning as described above. ]

Figure 2020009757
Figure 2020009757

Figure 2020009757

[式中、
Y1は、前記と同じ意味を表す。
Y3は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。]
Figure 2020009757

[Where,
R Y1 represents the same meaning as described above.
R Y3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. ]

Y3は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基であり、より好ましくはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R Y3 is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, more preferably an aryl group, and these groups have a substituent. You may.

式(Y−4)で表される構成単位は、式(Y−4’)で表される構成単位であることが好ましく、式(Y−6)で表される構成単位は、式(Y−6’)で表される構成単位であることが好ましい。   The structural unit represented by the formula (Y-4) is preferably a structural unit represented by the formula (Y-4 ′), and the structural unit represented by the formula (Y-6) is represented by the formula (Y-4) The structural unit represented by -6 ′) is preferable.

Figure 2020009757

[式中、RY1およびRY3は、前記と同じ意味を表す。]
Figure 2020009757

[Wherein, R Y1 and R Y3 represent the same meaning as described above. ]

Figure 2020009757

[式中、
Y1は、前記を同じ意味を表す。
Y4は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。]
Figure 2020009757

[Where,
R Y1 represents the same meaning as described above.
R Y4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. ]

Y4は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基であり、より好ましくはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R Y4 is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, more preferably an aryl group, and these groups have a substituent. You may.

式(Y)で表される構成単位としては、例えば、式(Y−101)−(Y−121)で表されるアリーレン基からなる構成単位、式(Y−201)−(Y−206)で表される2価の複素環基からなる構成単位、式(Y−301)−(Y−304)で表される少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基からなる構成単位が挙げられる。   As the structural unit represented by the formula (Y), for example, a structural unit composed of an arylene group represented by the formula (Y-101)-(Y-121) or the formula (Y-201)-(Y-206) A structural unit comprising a divalent heterocyclic group represented by the formula: wherein at least one arylene group represented by the formula (Y-301)-(Y-304) and at least one divalent heterocyclic group are Structural units composed of a divalent group directly bonded are exemplified.

Figure 2020009757
Figure 2020009757

Figure 2020009757
Figure 2020009757

Figure 2020009757
Figure 2020009757

Figure 2020009757
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Figure 2020009757
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Figure 2020009757
Figure 2020009757

Figure 2020009757
Figure 2020009757

式(Y)で表される構成単位であって、ArY1がアリーレン基である構成単位は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する有機EL素子の輝度寿命が優れるので、高分子化合物に含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは0.5〜90モル%であり、より好ましくは30〜80モル%である。 A structural unit represented by the formula (Y), wherein Ar Y1 is an arylene group, has a high luminance life of an organic EL device having a film formed using the composition of the present invention, It is preferably from 0.5 to 90 mol%, more preferably from 30 to 80 mol%, based on the total amount of the structural units contained in the molecular compound.

式(Y)で表される構成単位であって、ArY1が2価の複素環基、または、少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基である構成単位は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する有機EL素子の発光効率、正孔輸送性または電子輸送性が優れるので、高分子化合物に含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは0.5〜50モル%であり、より好ましくは3〜30モル%である。 A structural unit represented by the formula (Y), wherein Ar Y1 is a divalent heterocyclic group, or a divalent group in which at least one kind of arylene group and at least one kind of divalent heterocyclic group are directly bonded. The structural unit is a group of the structural unit contained in the polymer compound because the organic EL device having a film formed using the composition of the present invention has excellent luminous efficiency, hole transporting property, or electron transporting property. It is preferably 0.5 to 50 mol%, more preferably 3 to 30 mol%, based on the total amount.

式(Y)で表される構成単位は、高分子化合物中に、1種のみ含まれていてもよく、2種以上含まれていてもよい。   The structural unit represented by the formula (Y) may be contained alone or in combination of two or more in the polymer compound.

高分子化合物としては、例えば、表1の高分子化合物(P−101)〜(P−107)が挙げられる。   Examples of the polymer compound include the polymer compounds (P-101) to (P-107) shown in Table 1.

Figure 2020009757

[表中、p、q、r、sおよびtは、各構成単位のモル比率を示す。p+q+r+s+t=100であり、かつ、100≧p+q+r+s≧70である。その他の構成単位とは、式(Y)で表される構成単位、式(X)で表される構成単位以外の構成単位を意味する。]
Figure 2020009757

[In the table, p, q, r, s and t indicate the molar ratio of each structural unit. p + q + r + s + t = 100, and 100 ≧ p + q + r + s ≧ 70. The other structural units mean structural units represented by the formula (Y) and structural units other than the structural unit represented by the formula (X). ]

式(X)で表される構成単位および式(Y)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物のみを発光材料として用いる場合(すなわち、後述するイリジウム錯体等、他の発光材料を併用しない場合)、
高分子化合物としては、
式(Y−8)で表される構成単位、式(Y−9)で表される構成単位および式(Y−10)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましく、
式(Y−8)で表される構成単位および式(Y−9)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることがより好ましく、
式(Y−8)で表される構成単位を含む高分子化合物であることが更に好ましい。
When only a polymer compound containing at least one kind of structural unit selected from the group consisting of the structural unit represented by the formula (X) and the structural unit represented by the formula (Y) is used as a light-emitting material (that is, as described later) When other light emitting materials such as iridium complex are not used together),
As a polymer compound,
At least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the formula (Y-8), a structural unit represented by the formula (Y-9), and a structural unit represented by the formula (Y-10) It is preferably a polymer compound containing
More preferably, it is a polymer compound containing at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the formula (Y-8) and a structural unit represented by the formula (Y-9),
More preferably, it is a polymer compound containing a structural unit represented by the formula (Y-8).

また、高分子化合物としては、式(Y−8)で表される構成単位、式(Y−9)で表される構成単位および式(Y−10)で表される構成単位以外の構成単位として、
式(Y−1)で表される構成単位、式(Y−2)で表される構成単位、式(Y−3)で表される構成単位および式(X)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましく、
式(Y−1)で表される構成単位、式(Y−2)で表される構成単位および式(X)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることがより好ましく、
式(Y−2)で表される構成単位および式(X)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることが更に好ましく、
式(Y−2)で表される構成単位および式(X)で表される構成単位を含む高分子化合物であることが特に好ましい。
In addition, as the high molecular compound, structural units other than the structural unit represented by the formula (Y-8), the structural unit represented by the formula (Y-9), and the structural unit represented by the formula (Y-10) As
From the structural unit represented by the formula (Y-1), the structural unit represented by the formula (Y-2), the structural unit represented by the formula (Y-3), and the structural unit represented by the formula (X) It is preferably a polymer compound containing at least one structural unit selected from the group consisting of:
Including at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the formula (Y-1), a structural unit represented by the formula (Y-2), and a structural unit represented by the formula (X) More preferably a polymer compound,
More preferably, it is a polymer compound containing at least one structural unit selected from the group consisting of the structural unit represented by the formula (Y-2) and the structural unit represented by the formula (X),
It is particularly preferable that the polymer be a polymer compound containing a structural unit represented by the formula (Y-2) and a structural unit represented by the formula (X).

≪高分子化合物の製造方法≫
式(X)で表される構成単位および式(Y)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物は、ケミカルレビュー(Chem. Rev.),第109巻,897-1091頁(2009年)等に記載の公知の重合方法を用いて製造することができ、Suzuki反応、Yamamoto反応、Buchwald反応、Stille反応、Negishi反応およびKumada反応等の遷移金属触媒を用いるカップリング反応により重合させる方法が例示される。
≫Production method of polymer compound≫
Polymer compounds containing at least one structural unit selected from the group consisting of the structural unit represented by the formula (X) and the structural unit represented by the formula (Y) can be obtained from Chemical Review (Chem. Rev.), 109, 897-1091 (2009) and the like, and can be produced by a transition metal catalyst such as a Suzuki reaction, a Yamamoto reaction, a Buchwald reaction, a Stille reaction, a Negishi reaction, and a Kumada reaction. A method of polymerizing by a coupling reaction using is exemplified.

前記重合方法において、単量体を仕込む方法としては、単量体全量を反応系に一括して仕込む方法、単量体の一部を仕込んで反応させた後、残りの単量体を一括、連続または分割して仕込む方法、単量体を連続または分割して仕込む方法等が挙げられる。   In the polymerization method, as a method of charging the monomers, a method of charging the entire amount of the monomers to the reaction system at once, charging a part of the monomers and reacting them, and then collecting the remaining monomers at once, A method of charging continuously or dividedly, a method of charging monomers continuously or dividedly, and the like can be mentioned.

遷移金属触媒としては、パラジウム触媒、ニッケル触媒等が挙げられる。   Examples of the transition metal catalyst include a palladium catalyst and a nickel catalyst.

重合反応の後処理は、公知の方法、例えば、分液により水溶性不純物を除去する方法、メタノール等の低級アルコールに重合反応後の反応液を加えて、析出させた沈殿をろ過した後、乾燥させる方法等を単独または組み合わせて行う。高分子化合物の純度が低い場合、例えば、再結晶、再沈殿、ソックスレー抽出器による連続抽出、カラムクロマトグラフィー等の通常の方法にて精製することができる。   The post-treatment of the polymerization reaction is a known method, for example, a method of removing water-soluble impurities by liquid separation, adding the reaction solution after the polymerization reaction to a lower alcohol such as methanol, filtering the deposited precipitate, and then drying. These methods are performed alone or in combination. When the purity of the polymer compound is low, it can be purified by an ordinary method such as recrystallization, reprecipitation, continuous extraction with a Soxhlet extractor, column chromatography, and the like.

≪イリジウム錯体≫
イリジウム錯体は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する有機EL素子の発光効率がより優れるので、式(Ir−1)で表されるイリジウム錯体、式(Ir−2)で表されるイリジウム錯体、式(Ir−3)で表されるイリジウム錯体、式(Ir−4)で表されるイリジウム錯体または式(Ir−5)で表されるイリジウム錯体であることが好ましく、式(Ir−1)で表されるイリジウム錯体、式(Ir−2)で表されるイリジウム錯体または式(Ir−3)で表されるイリジウム錯体であることがより好ましい。
≪Iridium complex≫
Since the iridium complex is more excellent in the luminous efficiency of the organic EL device having the film formed using the composition of the present invention, the iridium complex is represented by the formula (Ir-1) and the iridium complex represented by the formula (Ir-2). The iridium complex represented by the formula (Ir-3), the iridium complex represented by the formula (Ir-4) or the iridium complex represented by the formula (Ir-5) is preferable. The iridium complex represented by (Ir-1), the iridium complex represented by the formula (Ir-2) or the iridium complex represented by the formula (Ir-3) is more preferable.

Figure 2020009757
Figure 2020009757

Figure 2020009757
Figure 2020009757

Figure 2020009757

[式中、
D1は、1、2または3を表す。nD2は、1または2を表す。
D1、RD2、RD3、RD4、RD5、RD6、RD7、RD8、RD11、RD12、RD13、RD14、RD15、RD16、RD17、RD18、RD19、RD20、RD21、RD22、RD23、RD24、RD25、RD26、RD31、RD32、RD33、RD34、RD35、RD36およびRD37は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RD1、RD2、RD3、RD4、RD5、RD6、RD7、RD8、RD11、RD12、RD13、RD14、RD15、RD16、RD17、RD18、RD19、RD20、RD21、RD22、RD23、RD24、RD25、RD26、RD31、RD32、RD33、RD34、RD35、RD36およびRD37が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
−AD1---AD2−は、アニオン性の2座配位子を表す。AD1およびAD2は、そ
れぞれ独立に、イリジウム原子と結合する炭素原子、酸素原子または窒素原子を表し、これらの原子は環を構成する原子であってもよい。−AD1---AD2−が複数存在する場
合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2020009757

[Where,
n D1 represents 1, 2 or 3. n D2 represents 1 or 2.
R D1, R D2, R D3 , R D4, R D5, R D6, R D7, R D8, R D11, R D12, R D13, R D14, R D15, R D16, R D17, R D18, R D19 , R D20, R D21, R D22, R D23, R D24, R D25, R D26, R D31, R D32, R D33, R D34, R D35, R D36 and R D37 each independently represent a hydrogen atom , An alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a monovalent heterocyclic group or a halogen atom, and these groups may have a substituent. R D1, R D2, R D3 , R D4, R D5, R D6, R D7, R D8, R D11, R D12, R D13, R D14, R D15, R D16, R D17, R D18, R D19 , R D20, R D21, R D22, R D23, R D24, R D25, R D26, R D31, R D32, R D33, R D34, R D35, if R D36 and R D37 there are a plurality, they Each may be the same or different.
-A D1 --- A D2 - represents a bidentate ligand of the anionic. A D1 and A D2 each independently represent a carbon atom, an oxygen atom or a nitrogen atom bonded to an iridium atom, and these atoms may be atoms constituting a ring. When there are a plurality of -A D1 --- A D2- , they may be the same or different. ]

式(Ir−1)で表されるイリジウム錯体において、RD1〜RD8の少なくとも1つは、好ましくは、式(D−A)で表される基である。 In the iridium complex represented by the formula (Ir-1), at least one of R D1 to R D8 is preferably a group represented by the formula (DA).

式(Ir−2)で表されるイリジウム錯体において、好ましくはRD11〜RD20の少なくとも1つは式(D−A)で表される基である。 In the iridium complex represented by the formula (Ir-2), preferably, at least one of R D11 to R D20 is a group represented by the formula (DA).

式(Ir−3)で表されるイリジウム錯体において、好ましくはRD1〜RD8およびRD11〜RD20の少なくとも1つは式(D−A)で表される基である。 In the iridium complex represented by the formula (Ir-3), preferably at least one of R D1 to R D8 and R D11 to R D20 is a group represented by the formula (D-A).

式(Ir−4)で表されるイリジウム錯体において、好ましくはRD21〜RD26の少なくとも1つは式(D−A)で表される基である。 In the iridium complex represented by the formula (Ir-4), preferably, at least one of R D21 to R D26 is a group represented by the formula (DA).

式(Ir−5)で表されるイリジウム錯体において、好ましくはRD31〜RD37の少なくとも1つは式(D−A)で表される基である。 In the iridium complex represented by the formula (Ir-5), preferably at least one of R D31 to R D37 is a group represented by the formula (D-A).

Figure 2020009757

[式中、
DA1、mDA2およびmDA3は、それぞれ独立に、0以上の整数を表す。
DAは、窒素原子、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ArDA1、ArDA2およびArDA3は、それぞれ独立に、アリーレン基または2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ArDA1、ArDA2およびArDA3が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
DAは、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するTDAは、同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2020009757

[Where,
m DA1 , m DA2 and m DA3 each independently represent an integer of 0 or more.
GDA represents a nitrogen atom, an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group, and these groups may have a substituent.
Ar DA1 , Ar DA2 and Ar DA3 each independently represent an arylene group or a divalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. When a plurality of Ar DA1 , Ar DA2 and Ar DA3 are present, they may be the same or different.
TDA represents an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. The plurality of TDAs may be the same or different. ]

DA1、mDA2およびmDA3は、通常10以下の整数であり、好ましくは5以下の整数であり、より好ましくは0または1である。mDA1、mDA2およびmDA3は、同一の整数であることが好ましい。 m DA1 , m DA2 and m DA3 are usually integers of 10 or less, preferably 5 or less, and more preferably 0 or 1. It is preferable that m DA1 , m DA2 and m DA3 are the same integer.

DAは、好ましくは式(GDA−11)〜(GDA−15)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 G DA is preferably a group represented by the formula (GDA-11) ~ (GDA -15), these groups may have a substituent.

Figure 2020009757

[式中、
*、**および***は、各々、ArDA1、ArDA2、ArDA3との結合を表す。
DAは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は更に置換基を有していてもよい。RDAが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2020009757

[Where,
*, ** and *** represent a bond to Ar DA1 , Ar DA2 and Ar DA3 , respectively.
R DA represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may further have a substituent. When a plurality of R DAs are present, they may be the same or different. ]

DAは、好ましくは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基またはシクロアルコキシ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基またはシクロアルキル基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R DA is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group or a cycloalkoxy group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group or a cycloalkyl group, and these groups have a substituent. You may.

ArDA1、ArDA2およびArDA3は、好ましくは式(ArDA−1)〜(ArDA−3)で表される基である。 Ar DA1 , Ar DA2 and Ar DA3 are preferably groups represented by formulas (ArDA-1) to (ArDA-3).

Figure 2020009757

[式中、
DAは、前記と同じ意味を表す。
DBは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RDBが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2020009757

[Where,
R DA has the same meaning as described above.
R DB represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. When a plurality of R DBs exist, they may be the same or different. ]

DAは、好ましくは式(TDA−1)〜(TDA−3)で表される基である。 T DA is preferably a group represented by the formula (TDA-1) ~ (TDA -3).

Figure 2020009757

[式中、RDAおよびRDBは、前記と同じ意味を表す。]
Figure 2020009757

[Wherein, R DA and R DB represent the same meaning as described above. ]

式(D−A)で表される基は、好ましくは式(D−A1)〜(D−A3)で表される基である。   The group represented by the formula (DA) is preferably a group represented by the formulas (DA1) to (DA3).

Figure 2020009757

[式中、
np1は、0〜5の整数を表し、np2は0〜3の整数を表し、np3は0または1を表す。複数存在するnp1は、同一でも異なっていてもよい。
p1、Rp2およびRp3は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。Rp1およびRp2が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。]
Figure 2020009757

[Where,
np1 represents an integer of 0 to 5, np2 represents an integer of 0 to 3, and np3 represents 0 or 1. A plurality of np1 may be the same or different.
R p1 , R p2 and R p3 each independently represent an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group or a halogen atom. When a plurality of R p1 and R p2 are present, they may be the same or different. ]

np1は、好ましくは0または1であり、より好ましくは1である。np2は、好ましくは0または1であり、より好ましくは0である。np3は好ましくは0である。   np1 is preferably 0 or 1, and more preferably 1. np2 is preferably 0 or 1, and more preferably 0. np3 is preferably 0.

p1、Rp2およびRp3は、好ましくはアルキル基またはシクロアルキル基である。 R p1 , R p2 and R p3 are preferably an alkyl group or a cycloalkyl group.

−AD1---AD2−で表されるアニオン性の2座配位子としては、例えば、下記式で
表される配位子が挙げられる。
Examples of the anionic bidentate ligand represented by -A D1 --- A D2- include a ligand represented by the following formula.

Figure 2020009757

[式中、*は、イリジウム原子と結合する部位を表す。]
Figure 2020009757

[In the formula, * represents a site bonded to an iridium atom. ]

式(Ir−1)で表されるイリジウム錯体としては、好ましくは式(Ir−11)〜式(Ir−13)で表されるイリジウム錯体である。式(Ir−2)で表されるイリジウム錯体としては、好ましくは式(Ir−21)で表されるイリジウム錯体である。式(Ir−3)で表されるイリジウム錯体としては、好ましくは式(Ir−31)〜式(Ir−33)で表されるイリジウム錯体である。式(Ir−4)で表されるイリジウム錯体としては、好ましくは式(Ir−41)〜式(Ir−43)で表されるイリジウム錯体である。式(Ir−5)で表されるイリジウム錯体としては、好ましくは式(Ir−51)〜式(Ir−53)で表されるイリジウム錯体である。   The iridium complex represented by the formula (Ir-1) is preferably an iridium complex represented by the formulas (Ir-11) to (Ir-13). The iridium complex represented by the formula (Ir-2) is preferably an iridium complex represented by the formula (Ir-21). The iridium complex represented by the formula (Ir-3) is preferably an iridium complex represented by the formulas (Ir-31) to (Ir-33). The iridium complex represented by the formula (Ir-4) is preferably an iridium complex represented by the formulas (Ir-41) to (Ir-43). The iridium complex represented by the formula (Ir-5) is preferably an iridium complex represented by the formulas (Ir-51) to (Ir-53).

Figure 2020009757
Figure 2020009757

Figure 2020009757
Figure 2020009757

Figure 2020009757
Figure 2020009757

Figure 2020009757
Figure 2020009757

Figure 2020009757

[式中、
D2は、1または2を表す。
Dは、式(D−A)で表される基を表す。複数存在するDは、同一でも異なっていてもよい。
DCは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRDCは、同一でも異なっていてもよい。
DDは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRDDは、同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2020009757

[Where,
n D2 represents 1 or 2.
D represents a group represented by the formula (DA). A plurality of Ds may be the same or different.
R DC represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. The plurality of R DCs may be the same or different.
R DD represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. A plurality of RDDs may be the same or different. ]

イリジウム錯体としては、例えば、下記式で表されるイリジウム錯体が挙げられる。   Examples of the iridium complex include an iridium complex represented by the following formula.

Figure 2020009757
Figure 2020009757

Figure 2020009757
Figure 2020009757

Figure 2020009757
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イリジウム錯体は、例えば、特表2004−530254号公報、特開2008−179617号公報、特開2011−105701号公報、特表2007−504272号公報、特開2013−147449号公報、特開2013−147450号公報に記載されている方法に従って合成することができる。   Iridium complexes are described in, for example, JP-T-2004-530254, JP-A-2008-179617, JP-A-2011-105701, JP-T-2007-504272, JP-A-2013-147449, and JP-A-2013-2013. It can be synthesized according to the method described in JP-A-147450.

固形分(A)は、イリジウム錯体構成単位を含む高分子化合物を含んでいてもよい。イリジウム錯体構成単位は、式(Ir−1)、式(Ir−2)、式(Ir−3)、式(Ir−4)または式(Ir−5)で表されるイリジウム錯体の構造を有する構成単位である。式(Ir−1)、式(Ir−2)、式(Ir−3)、式(Ir−4)または式(Ir−5)で表されるイリジウム錯体の構造を有する構成単位としては、好ましくは、式(Ir−1)、式(Ir−2)、式(Ir−3)、式(Ir−4)または式(Ir−5)で表されるイリジウム錯体から、該錯体を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合する1個以上3個以下の水素原子を取り除いてなる基を有する構成単位であり、より好ましくは、式(Ir−1)、式(Ir−2)、式(Ir−3)、式(Ir−4)または式(Ir−5)で表されるイリジウム錯体から、該錯体を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合する2個の水素原子を取り除いてなる基を有する構成単位である。   The solid content (A) may contain a polymer compound containing an iridium complex constituent unit. The iridium complex constituent unit has a structure of an iridium complex represented by the formula (Ir-1), (Ir-2), (Ir-3), (Ir-4) or (Ir-5). It is a structural unit. As a structural unit having a structure of the iridium complex represented by the formula (Ir-1), the formula (Ir-2), the formula (Ir-3), the formula (Ir-4) or the formula (Ir-5), it is preferable. Is a carbon constituting an iridium complex represented by the formula (Ir-1), the formula (Ir-2), the formula (Ir-3), the formula (Ir-4) or the formula (Ir-5). A structural unit having a group obtained by removing one or more and three or less hydrogen atoms directly bonded to an atom or a hetero atom, and more preferably a compound represented by the formula (Ir-1), the formula (Ir-2) or the formula (Ir) -3), a group obtained by removing two hydrogen atoms directly bonded to a carbon atom or a hetero atom constituting the complex from the iridium complex represented by the formula (Ir-4) or the formula (Ir-5). It is a structural unit having.

イリジウム錯体構成単位を含む高分子化合物としては、更に、前述した式(X)で表される構成単位および式(Y)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物が好ましい。   As the polymer compound containing an iridium complex structural unit, at least one type of structural unit selected from the group consisting of the structural unit represented by the formula (X) and the structural unit represented by the formula (Y) is further used. Preferred is a polymer compound containing

これらの中でも、イリジウム錯体構成単位を含む高分子化合物としては、
式(Y−4)で表される構成単位、式(Y−5)で表される構成単位、式(Y−6)で表される構成単位および式(Y−7)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましく、
式(Y−4)で表される構成単位および式(Y−6)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることがより好ましく、
式(Y−4)で表される構成単位を含む高分子化合物であることが更に好ましい。
Among these, as a polymer compound containing an iridium complex structural unit,
The structural unit represented by the formula (Y-4), the structural unit represented by the formula (Y-5), the structural unit represented by the formula (Y-6), and the configuration represented by the formula (Y-7) It is preferably a polymer compound containing at least one type of structural unit selected from the group consisting of units,
More preferably, it is a polymer compound containing at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the formula (Y-4) and a structural unit represented by the formula (Y-6),
More preferably, it is a polymer compound containing a structural unit represented by the formula (Y-4).

また、イリジウム錯体構成単位を含む高分子化合物としては、式(Y−4)で表される構成単位、式(Y−5)で表される構成単位、式(Y−6)で表される構成単位および式(Y−7)で表される構成単位以外の構成単位として、
式(Y−1)で表される構成単位、式(Y−2)で表される構成単位、式(Y−3)で表される構成単位および式(X)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましく、
式(Y−1)で表される構成単位、式(Y−2)で表される構成単位および式(X)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることがより好ましい。
As the polymer compound containing an iridium complex structural unit, a structural unit represented by the formula (Y-4), a structural unit represented by the formula (Y-5), and a structural unit represented by the formula (Y-6) As a structural unit other than the structural unit and the structural unit represented by the formula (Y-7),
From the structural unit represented by the formula (Y-1), the structural unit represented by the formula (Y-2), the structural unit represented by the formula (Y-3), and the structural unit represented by the formula (X) It is preferably a polymer compound containing at least one structural unit selected from the group consisting of:
Including at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the formula (Y-1), a structural unit represented by the formula (Y-2), and a structural unit represented by the formula (X) More preferably, it is a polymer compound.

イリジウム錯体構成単位は、高分子化合物中に、1種のみ含まれていても、2種以上含まれていてもよい。   The iridium complex constituent unit may be contained in the polymer compound in one kind alone or in two or more kinds.

≪ホスト材料≫
各インク組成物において、固形分(A)が、発光材料を含む場合、特に発光材料としてイリジウム錯体を含む場合、正孔輸送性、正孔注入性、電子輸送性および電子注入性からなる群より選ばれる少なくとも1つの機能を有するホスト材料と併用することで、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する有機EL素子の発光効率がより優れたものとなる。すなわち、本発明の組成物は、発光性材料としてイリジウム錯体を含む場合、さらにホスト材料を含むことが好ましい。本発明の組成物にホスト材料が含有される場合、ホスト材料は、1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。
≪Host material≫
In each of the ink compositions, when the solid content (A) contains a light emitting material, particularly when the solid content (A) contains an iridium complex as the light emitting material, the solid content (A) is selected from the group consisting of hole transporting properties, hole injecting properties, electron transporting properties, and electron injecting properties. When used in combination with a host material having at least one selected function, the luminous efficiency of an organic EL device having a film formed using the composition of the present invention becomes more excellent. That is, when the composition of the present invention contains an iridium complex as the light-emitting material, it is preferable that the composition further contains a host material. When a host material is contained in the composition of the present invention, the host material may be contained alone or in combination of two or more.

各インク組成物が、イリジウム錯体とホスト材料とを含有する場合、イリジウム錯体の含有量は、イリジウム錯体とホスト材料との合計含有量を100質量部とした場合、通常、0.05〜80質量部であり、好ましくは0.1〜60質量部であり、より好ましくは0.5〜50質量部である。   When each ink composition contains an iridium complex and a host material, the content of the iridium complex is usually 0.05 to 80 mass when the total content of the iridium complex and the host material is 100 parts by mass. Part, preferably 0.1 to 60 parts by mass, more preferably 0.5 to 50 parts by mass.

ホスト材料の有する最低励起三重項状態(T1)は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する有機EL素子の発光効率が優れるので、イリジウム錯体の有するT1と同等のエネルギー準位、または、より高いエネルギー準位であることが好ましい。   The lowest excited triplet state (T1) of the host material has the same energy level as T1 of the iridium complex, because the organic EL device having the film formed using the composition of the present invention has excellent luminous efficiency. Alternatively, a higher energy level is preferable.

ホスト材料は、低分子化合物(以下、「低分子ホスト」とも称する。)と高分子化合物(以下、「高分子ホスト」とも称する。)に分類され、低分子ホストおよび高分子ホストのいずれであってもよいが、高分子ホストであることが好ましい。   Host materials are classified into low molecular weight compounds (hereinafter also referred to as “low molecular weight hosts”) and high molecular weight compounds (hereinafter also referred to as “high molecular weight hosts”), and are either low molecular weight hosts or high molecular weight hosts. However, it is preferably a polymer host.

低分子ホストとしては、例えば、カルバゾール構造を有する化合物、トリアリールアミン構造を有する化合物、フェナントロリン構造を有する化合物、トリアリールトリアジン構造を有する化合物、アゾール構造を有する化合物、ベンゾチオフェン構造を有する化合物、ベンゾフラン構造を有する化合物、フルオレン構造を有する化合物、スピロフルオレン構造を有する化合物等が挙げられる。   Examples of the low-molecular-weight host include a compound having a carbazole structure, a compound having a triarylamine structure, a compound having a phenanthroline structure, a compound having a triaryltriazine structure, a compound having an azole structure, a compound having a benzothiophene structure, and benzofuran. A compound having a structure, a compound having a fluorene structure, a compound having a spirofluorene structure, and the like.

低分子ホストの具体例としては、下記式で表される化合物が挙げられる。   Specific examples of the low molecular host include a compound represented by the following formula.

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高分子ホストとしては、前述した式(X)で表される構成単位および式(Y)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物が好ましい。   As the polymer host, a polymer compound containing at least one kind of structural unit selected from the group consisting of the structural unit represented by the formula (X) and the structural unit represented by the formula (Y) is preferable.

これらの中でも、高分子ホストとしては、
式(Y−4)で表される構成単位、式(Y−5)で表される構成単位、式(Y−6)で表される構成単位および式(Y−7)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましく、
式(Y−4)で表される構成単位および式(Y−6)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることがより好ましく、
式(Y−4)で表される構成単位を含む高分子化合物であることが更に好ましい。
Among them, as the polymer host,
The structural unit represented by the formula (Y-4), the structural unit represented by the formula (Y-5), the structural unit represented by the formula (Y-6), and the configuration represented by the formula (Y-7) It is preferably a polymer compound containing at least one type of structural unit selected from the group consisting of units,
More preferably, it is a polymer compound containing at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the formula (Y-4) and a structural unit represented by the formula (Y-6),
More preferably, it is a polymer compound containing a structural unit represented by the formula (Y-4).

また、高分子ホストとしては、式(Y−4)で表される構成単位、式(Y−5)で表される構成単位、式(Y−6)で表される構成単位および式(Y−7)で表される構成単位以外の構成単位として、
式(Y−1)で表される構成単位、式(Y−2)で表される構成単位、式(Y−3)で表される構成単位および式(X)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましく、
式(Y−1)で表される構成単位、式(Y−2)で表される構成単位および式(X)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物であることがより好ましい。
Examples of the polymer host include a structural unit represented by the formula (Y-4), a structural unit represented by the formula (Y-5), a structural unit represented by the formula (Y-6), and a compound represented by the formula (Y). As a structural unit other than the structural unit represented by -7),
From the structural unit represented by the formula (Y-1), the structural unit represented by the formula (Y-2), the structural unit represented by the formula (Y-3), and the structural unit represented by the formula (X) It is preferably a polymer compound containing at least one structural unit selected from the group consisting of:
Including at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the formula (Y-1), a structural unit represented by the formula (Y-2), and a structural unit represented by the formula (X) More preferably, it is a polymer compound.

≪低分子化合物≫
各インク組成物において、固形分(A)に含有される低分子化合物としては、特に限定されることはなく、上記のイリジウム錯体等の発光材料、上記のホスト材料、下記の正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、酸化防止剤等が例示される。
≪Low molecular compounds≫
In each ink composition, the low molecular compound contained in the solid content (A) is not particularly limited, and the light emitting material such as the above iridium complex, the above host material, the following hole transport material, Examples include a hole injection material, an electron transport material, an electron injection material, an antioxidant, and the like.

≪その他の固形分≫
各インク組成物に含有される固形分(A)は、下記の正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料および発光性化合物を含んでいてもよい。
≪Other solid contents≫
The solid content (A) contained in each ink composition may include the following hole transport material, hole injection material, electron transport material, electron injection material, and luminescent compound.

(正孔輸送材料)
正孔輸送材料は、低分子化合物と高分子化合物とに分類され、好ましくは高分子化合物であり、より好ましくは架橋基を有する高分子化合物である。
(Hole transport material)
The hole transporting material is classified into a low molecular weight compound and a high molecular weight compound, preferably a high molecular weight compound, and more preferably a high molecular weight compound having a crosslinking group.

高分子化合物としては、例えば、ポリビニルカルバゾールおよびその誘導体;側鎖または主鎖に芳香族アミン構造を有するポリアリーレンおよびその誘導体が挙げられる。高分子化合物は、電子受容性部位が結合された化合物でもよい。電子受容性部位としては、例えば、フラーレン、テトラフルオロテトラシアノキノジメタン、テトラシアノエチレン、
トリニトロフルオレノン等が挙げられ、好ましくはフラーレンである。
Examples of the polymer compound include polyvinyl carbazole and derivatives thereof; polyarylene having an aromatic amine structure in a side chain or a main chain and derivatives thereof. The polymer compound may be a compound having an electron-accepting site bound thereto. Examples of the electron accepting site include fullerene, tetrafluorotetracyanoquinodimethane, tetracyanoethylene,
Trinitrofluorenone and the like can be mentioned, and preferred is fullerene.

本発明の組成物には、正孔輸送材料が、1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。   The composition of the present invention may contain one kind of hole transport material alone, or may contain two or more kinds thereof.

(電子輸送材料)
電子輸送材料は、低分子化合物と高分子化合物とに分類される。電子輸送材料は、架橋基を有していてもよい。
(Electron transport materials)
Electron transport materials are classified into low molecular weight compounds and high molecular weight compounds. The electron transporting material may have a crosslinking group.

低分子化合物としては、例えば、8-ヒドロキシキノリンを配位子とする金属錯体、オキサジアゾール、アントラキノジメタン、ベンゾキノン、ナフトキノン、アントラキノン、テトラシアノアントラキノジメタン、フルオレノン、ジフェニルジシアノエチレンおよびジフェノキノン、並びに、これらの誘導体が挙げられる。   Examples of low-molecular compounds include, for example, metal complexes having 8-hydroxyquinoline as a ligand, oxadiazole, anthraquinodimethane, benzoquinone, naphthoquinone, anthraquinone, tetracyanoanthraquinodimethane, fluorenone, diphenyldicyanoethylene, and diphenoquinone And their derivatives.

高分子化合物としては、例えば、ポリフェニレン、ポリフルオレン、および、これらの誘導体が挙げられる。高分子化合物は、金属でドープされていてもよい。   Examples of the polymer compound include polyphenylene, polyfluorene, and derivatives thereof. The polymer compound may be doped with a metal.

インク組成物には、電子輸送材料が、1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。   The ink composition may contain one kind of the electron transporting material alone, or may contain two or more kinds thereof.

(正孔注入材料および電子注入材料)
正孔注入材料および電子注入材料は、各々、低分子化合物と高分子化合物とに分類される。正孔注入材料および電子注入材料は、架橋基を有していてもよい。
(Hole injection material and electron injection material)
The hole injection material and the electron injection material are classified into a low molecular compound and a high molecular compound, respectively. The hole injection material and the electron injection material may have a crosslinking group.

低分子化合物としては、例えば、銅フタロシアニン等の金属フタロシアニン;カーボン;モリブデン、タングステン等の金属酸化物;フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化セシウム、フッ化カリウム等の金属フッ化物が挙げられる。   Examples of the low molecular compound include metal phthalocyanines such as copper phthalocyanine; carbon; metal oxides such as molybdenum and tungsten; and metal fluorides such as lithium fluoride, sodium fluoride, cesium fluoride and potassium fluoride.

高分子化合物としては、例えば、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレン、ポリキノリンおよびポリキノキサリン、並びに、これらの誘導体;芳香族アミン構造を主鎖または側鎖に含む重合体等の導電性高分子が挙げられる。
各インク組成物には、正孔注入材料および電子注入材料が、各々、1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。
Examples of the high molecular compound include polyaniline, polythiophene, polypyrrole, polyphenylenevinylene, polythienylenevinylene, polyquinoline and polyquinoxaline, and derivatives thereof; conductive polymers such as polymers containing an aromatic amine structure in the main chain or side chain. Functional polymers.
Each of the ink compositions may contain one type of hole injection material and one type of electron injection material, or may contain two or more types.

正孔注入材料または電子注入材料が導電性高分子を含む場合、導電性高分子の電気伝導度は、好ましくは、1×10−5S/cm〜1×10S/cmである。導電性高分子の電気伝導度をかかる範囲とするために、導電性高分子に適量のイオンをドープすることができる。 When the hole injection material or the electron injection material contains a conductive polymer, the conductive polymer preferably has an electric conductivity of 1 × 10 −5 S / cm to 1 × 10 3 S / cm. In order to make the electric conductivity of the conductive polymer fall within such a range, the conductive polymer can be doped with an appropriate amount of ions.

ドープするイオンの種類は、正孔注入材料であればアニオン、電子注入材料であればカチオンである。アニオンとしては、例えば、ポリスチレンスルホン酸イオン、アルキルベンゼンスルホン酸イオン、ショウノウスルホン酸イオンが挙げられる。カチオンとしては、例えば、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオンが挙げられる。   The type of ions to be doped is an anion for a hole injection material and a cation for an electron injection material. Examples of the anion include a polystyrene sulfonate ion, an alkylbenzene sulfonate ion, and a camphor sulfonate ion. Examples of the cation include a lithium ion, a sodium ion, a potassium ion, and a tetrabutylammonium ion.

ドープするイオンは、1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。   The ions to be doped may be used alone or in combination of two or more.

(発光性化合物)
各インク組成物において、固形分(A)は、発光性化合物として例示した、上記の高分子化合物又は低分子化合物以外の発光性化合物(以下、「その他の発光性化合物」とも称する。)を含んでいてもよい。その他の発光性化合物としては、例えば、ナフタレンおよびその誘導体、アントラセンおよびその誘導体、並びに、ペリレンおよびその誘導体が挙げられる。
(Luminescent compound)
In each ink composition, the solid content (A) includes a light-emitting compound other than the above-described polymer compound or low-molecular compound (hereinafter, also referred to as “other light-emitting compounds”) exemplified as the light-emitting compound. You may go out. Other luminescent compounds include, for example, naphthalene and its derivatives, anthracene and its derivatives, and perylene and its derivatives.

各インク組成物には、その他の発光性化合物が、1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。   In each ink composition, one or more other luminescent compounds may be contained.

(酸化防止剤)
各インク組成物は、溶媒(B)に可溶であり、発光および電荷輸送を阻害しない酸化防止剤を含有していてもよい。酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤が挙げられる。
(Antioxidant)
Each ink composition may contain an antioxidant which is soluble in the solvent (B) and does not inhibit light emission and charge transport. Examples of the antioxidant include a phenolic antioxidant and a phosphorus-based antioxidant.

各インク組成物には、酸化防止剤が、1種単独で含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。   Each ink composition may contain one kind of antioxidant alone or two or more kinds thereof.

<組成比>
各インク組成物は、固形分(A)と溶媒(B)とを含む。各インク組成物において、固形分(A)の含有量は、溶媒(B)の含有量を100質量部とした場合、通常、0.1〜10.0質量部であり、インクジェット印刷法での吐出性が優れるので、好ましくは0.2〜7.0質量部であり、より好ましくは0.3〜5.0質量部である。
<Composition ratio>
Each ink composition contains a solid (A) and a solvent (B). In each of the ink compositions, the content of the solid content (A) is usually 0.1 to 10.0 parts by mass when the content of the solvent (B) is 100 parts by mass, It is preferably 0.2 to 7.0 parts by mass, more preferably 0.3 to 5.0 parts by mass, because of excellent dischargeability.

<粘度>
各インク組成物は、塗布性の観点から、温度23℃における粘度が1cP以上10cP以下であることが好ましく、2cP以上8cP以下であることがより好ましい。
<Viscosity>
From the viewpoint of applicability, the viscosity of each ink composition at a temperature of 23 ° C. is preferably 1 cP or more and 10 cP or less, more preferably 2 cP or more and 8 cP or less.

[インク組成物の製造方法]
各インク組成物は、例えば、固形分(A)、溶媒(B)及びその他の成分を混合することにより調製できる。各成分の混合順は限定されることはなく、固形分(A)の一部又は全部は、予め溶媒(B)の一部と混合した後に、残りの成分を、所定の濃度となるように混合することにより、目的のインク組成物を調製してもよい。
[Method for producing ink composition]
Each ink composition can be prepared, for example, by mixing a solid (A), a solvent (B), and other components. The mixing order of the components is not limited, and a part or all of the solid content (A) is mixed with a part of the solvent (B) in advance, and then the remaining components are adjusted to a predetermined concentration. The desired ink composition may be prepared by mixing.

[膜]
第1膜及び第2膜は、それぞれ第1インク組成物及び第2インク組成物を用いて形成された膜である。各膜には、各インク組成物に含まれる固形分がそのまま含有されていてもよいし、固形分が、分子内又は分子間、もしくは、分子内及び分子間で架橋した状態(架橋体)で含有されていてもよい。固形分の架橋体を含有する膜は、固形分を含有する塗布層を、加熱、光照射等の外部刺激により架橋させて得られる膜である。固形分の架橋体を含有する膜は、溶媒に対して実質的に不溶化されているため、積層化に好適に使用することができる。
[film]
The first film and the second film are films formed using the first ink composition and the second ink composition, respectively. Each film may contain the solid content contained in each ink composition as it is, or in a state where the solid content is crosslinked in a molecule or between molecules, or in a molecule and between molecules (crosslinked body). It may be contained. The film containing the crosslinked product of the solid content is a film obtained by crosslinking the coating layer containing the solid content by an external stimulus such as heating or light irradiation. Since the film containing the crosslinked product of the solid content is substantially insoluble in the solvent, it can be suitably used for lamination.

固形分を架橋させるための加熱の温度は、通常、25〜300℃であり、好ましくは50〜250℃であり、より好ましくは150〜200℃である。   The heating temperature for crosslinking the solid content is usually from 25 to 300 ° C, preferably from 50 to 250 ° C, and more preferably from 150 to 200 ° C.

固形分を架橋させるための光照射に用いられる光の種類は、例えば、紫外線、近紫外線、可視光、赤外線である。   The types of light used for light irradiation for cross-linking solids are, for example, ultraviolet light, near ultraviolet light, visible light, and infrared light.

各膜は、発光素子における発光層、正孔輸送層または正孔注入層として好適である。各膜の厚さは、通常、1nm〜1μmである。膜の平坦度Rは60%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。
本明細書における膜の平坦度Rは、後述の算出方法により算出された値とする。
Each film is suitable as a light emitting layer, a hole transport layer, or a hole injection layer in a light emitting element. The thickness of each film is usually 1 nm to 1 μm. The flatness R of the film is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, and even more preferably 90% or more.
The flatness R of the film in this specification is a value calculated by a calculation method described later.

<用途>
本発明に係る製造方法により得られる膜は、有機EL素子の要素、カラーフィルターの要素等として有用である。有機EL素子は、基板上に設けられた複数種の画素を備え、通常、各画素に対応する、陽極及び陰極からなる一対の電極を有する。複数種の画素は、少なくとも第1画素と第2画素とを含む。第1画素は、第1インク組成物を用いて形成される第1膜を有する。第2画素は、第2インク組成物を用いて形成される第2膜を有する。複数種の画素は、2種に限定されることはなく、例えば、R、G、Bの3種の画素であってもよい。有機EL素子は、コンピュータ、テレビ、携帯端末等のディスプレイに用いることができる。有機EL素子は、液晶表示装置のバックライト用の面状光源、または、面状の照明用光源に用いることもできる。フレキシブルな基板を用いれば、曲面状の光源および表示装置としても使用できる。
<Application>
The film obtained by the production method according to the present invention is useful as an element of an organic EL element, an element of a color filter, and the like. The organic EL element includes a plurality of types of pixels provided on a substrate, and usually has a pair of electrodes including an anode and a cathode corresponding to each pixel. The plurality of types of pixels include at least a first pixel and a second pixel. The first pixel has a first film formed using the first ink composition. The second pixel has a second film formed using the second ink composition. The plurality of types of pixels are not limited to two types, and may be, for example, three types of pixels of R, G, and B. The organic EL element can be used for displays of computers, televisions, mobile terminals, and the like. The organic EL element can be used as a planar light source for a backlight of a liquid crystal display device or a planar illumination light source. If a flexible substrate is used, it can be used as a curved light source and a display device.

[有機EL素子の製造方法]
本発明に係る有機EL素子の製造方法は、上記した膜の製造方法により膜を製造する工程を含む。
[Method of Manufacturing Organic EL Element]
The method of manufacturing an organic EL device according to the present invention includes a step of manufacturing a film by the above-described method of manufacturing a film.

<有機EL素子>
≪層構成≫
第1インク組成物を用いて形成される第1膜と、第2インク組成物を用いて形成される第2膜とは、通常、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層の1種以上の層であり、好ましくは、発光層である。これらの層は、各々、発光性化合物、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料を含む。
<Organic EL device>
≪Layer structure≫
The first film formed using the first ink composition and the second film formed using the second ink composition generally include a light emitting layer, a hole transport layer, a hole injection layer, and an electron transport layer. Layer or one or more layers of an electron injection layer, and preferably a light emitting layer. These layers each include a luminescent compound, a hole transporting material, a hole injecting material, an electron transporting material, and an electron injecting material.

有機EL素子は、陽極と陰極の間に発光層を有する。有機EL素子は、正孔注入性および正孔輸送性の観点からは、陽極と発光層との間に、正孔注入層および正孔輸送層の少なくとも1層を有することが好ましく、電子注入性および電子輸送性の観点からは、陰極と発光層の間に、電子注入層および電子輸送層の少なくとも1層を有することが好ましい。   The organic EL element has a light emitting layer between an anode and a cathode. The organic EL element preferably has at least one layer of a hole injection layer and a hole transport layer between the anode and the light emitting layer from the viewpoints of hole injection properties and hole transport properties. From the viewpoint of electron transportability, it is preferable to have at least one of an electron injection layer and an electron transport layer between the cathode and the light emitting layer.

正孔輸送層の材料、電子輸送層の材料および発光層の材料は、有機EL素子の作製において、各々、正孔輸送層、電子輸送層および発光層に隣接する層の形成時に使用される溶媒に溶解する場合、該溶媒に該材料が溶解することを回避するために、該材料が架橋基を有することが好ましい。架橋基を有する材料を用いて各層を形成した後、該架橋基を架橋させることにより、該層を溶媒に対して実質的に不溶化させることができる。   The material of the hole transport layer, the material of the electron transport layer, and the material of the light emitting layer are the solvents used when forming the layers adjacent to the hole transport layer, the electron transport layer, and the light emitting layer, respectively, in the production of the organic EL device. When dissolved in the solvent, the material preferably has a cross-linking group in order to avoid dissolving the material in the solvent. After forming each layer using a material having a crosslinking group, the layer can be substantially insolubilized in a solvent by crosslinking the crosslinking group.

有機EL素子において、発光層、正孔輸送層、電子輸送層、正孔注入層、電子注入層等の各層の形成方法としては、低分子化合物を用いる場合、例えば、粉末からの真空蒸着法、溶液または溶融状態からの成膜による方法が挙げられ、高分子化合物を用いる場合、例えば、溶液または溶融状態からの成膜による方法が挙げられる。本発明に係る有機EL素子の製造方法は、少なくとも、第1塗布層を形成する第1塗布工程と、第2塗布層を形成する第2塗布工程と、第1塗布層及び第2塗布層を乾燥させて第1膜と第2膜を形成する乾燥工程とを有する。   In the organic EL device, as a method of forming each layer such as a light emitting layer, a hole transport layer, an electron transport layer, a hole injection layer, and an electron injection layer, when a low molecular compound is used, for example, a vacuum evaporation method from powder, A method of forming a film from a solution or a molten state is exemplified. When a polymer compound is used, for example, a method of forming a film from a solution or a molten state is exemplified. The method for manufacturing an organic EL device according to the present invention includes at least a first coating step of forming a first coating layer, a second coating step of forming a second coating layer, and a first coating layer and a second coating layer. A drying step of forming a first film and a second film by drying.

積層する層の順番、数および厚さは、発光効率および輝度寿命を勘案して調整する。   The order, number and thickness of the layers to be laminated are adjusted in consideration of luminous efficiency and luminance life.

≪電極≫
陽極の材料としては、例えば、導電性の金属酸化物、半透明の金属が挙げられ、好ましくは、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ;インジウム・スズ・オキサイド(ITO)、イ
ンジウム・亜鉛・オキサイド等の導電性化合物;銀とパラジウムと銅との複合体(APC);N
ESA、金、白金、銀、銅である。
≪electrode≫
Examples of the material of the anode include a conductive metal oxide and a translucent metal, and preferably, indium oxide, zinc oxide, and tin oxide; indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide, and the like Conductive compound; complex of silver, palladium and copper (APC); N
ESA, gold, platinum, silver and copper.

陰極の材料としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、亜鉛、インジウム等の金属;それらのうち2種以上の合金;それらのうち1種以上と、銀、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうち1種以上との合金;並びに、グラファイトおよびグラファイト層間化合物が挙げられる。合金としては、例えば、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、カルシウム−アルミニウム合金が挙げられる。陽極および陰極は、各々、2層以上の積層構造としてもよい。   Examples of the cathode material include metals such as lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, beryllium, magnesium, calcium, strontium, barium, aluminum, zinc, and indium; alloys of two or more thereof; Alloys of at least one species with at least one of silver, copper, manganese, titanium, cobalt, nickel, tungsten, and tin; and graphite and graphite intercalation compounds. Examples of the alloy include a magnesium-silver alloy, a magnesium-indium alloy, a magnesium-aluminum alloy, an indium-silver alloy, a lithium-aluminum alloy, a lithium-magnesium alloy, a lithium-indium alloy, and a calcium-aluminum alloy. Each of the anode and the cathode may have a laminated structure of two or more layers.

[インク組成物セット]
本発明に係るインク組成物セットは、上述の第1インク組成物と第2インク組成物とを少なくとも含む膜製造用のインク組成物セットである。本発明に係るインク組成物セットを用いて複数種の膜を含む膜を製造することにより、複数種の膜を形成する場合であっても、煩雑な乾燥工程によることなく、優れた平坦性を有する複数種の膜を製造することができる。本発明に係るインク組成物セットは、有機EL素子の製造用にも有用である。
[Ink composition set]
The ink composition set according to the present invention is an ink composition set for producing a film including at least the first ink composition and the second ink composition described above. By manufacturing a film containing a plurality of types of films using the ink composition set according to the present invention, even when forming a plurality of types of films, excellent flatness is achieved without a complicated drying step. Can be produced. The ink composition set according to the present invention is also useful for manufacturing an organic EL device.

以下、実施例によって本発明を更に詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

<インク組成物1、2、4>
固形分として、ポリマー1(重量平均分子量:1.25×10)と低分子化合物1(分子量:1.68×10)を表2に示す比率で用い、溶媒として、デシルベンゼン(東京化成社製、大気圧での沸点:293℃、表2において「D」と称する。)と、シクロヘキシルベンゼン(東京化成社製、大気圧での沸点:238℃、表2において「CHB」と称する。)と、4−メチルアニソール(東京化成社製、大気圧での沸点:175℃、表2において「MT」と称する。)とを表2に示す比率で用い、固形分を表2に示す固形分濃度となるようにして溶媒中に溶解させて、緑色発光インクであるインク組成物1、2、4を調整した。
<Ink composition 1, 2, 4>
Polymer 1 (weight average molecular weight: 1.25 × 10 5 ) and low molecular weight compound 1 (molecular weight: 1.68 × 10 3 ) were used as solids in the ratio shown in Table 2, and decylbenzene (Tokyo Kasei) was used as a solvent. Manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd .; boiling point at atmospheric pressure: 293 ° C .; referred to as “D” in Table 2); and cyclohexylbenzene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd .; boiling point at atmospheric pressure: 238 ° C .; referred to in Table 2 as “CHB”). ) And 4-methylanisole (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., boiling point at atmospheric pressure: 175 ° C., referred to as “MT” in Table 2) at a ratio shown in Table 2, and a solid content shown in Table 2 By dissolving in a solvent so as to obtain a partial concentration, ink compositions 1, 2, and 4 as green light-emitting inks were prepared.

<インク組成物3>
固形分として、ポリマー3(重量平均分子量:1.7×10)とポリマー4(重量平均分子量:7.0×10)とを表2に示す比率で用い、溶媒として、デシルベンゼン(東京化成社製、大気圧での沸点:293℃、表2において「D」と称する。)と、シクロヘキシルベンゼン(東京化成社製、大気圧での沸点:238℃、表2において「CHB」と称する。)と、4−メチルアニソール(東京化成社製、大気圧での沸点:175℃、表2において「MT」と称する。)とを表2に示す比率で用い、固形分を表2に示す固形分濃度となるようにして溶媒中に溶解させて、青色発光インクであるインク組成物3を調整した。
<Ink composition 3>
Polymer 3 (weight average molecular weight: 1.7 × 10 5 ) and polymer 4 (weight average molecular weight: 7.0 × 10 4 ) were used as solids in the ratio shown in Table 2, and decylbenzene (Tokyo, Japan) was used as a solvent. Boiling point at atmospheric pressure: 293 ° C., manufactured by Kaseisha Co., Ltd .; referred to as “D” in Table 2.) and cyclohexylbenzene (boiling point at atmospheric pressure: 238 ° C., manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd .; referred to as “CHB” in Table 2). ) And 4-methylanisole (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., boiling point at atmospheric pressure: 175 ° C., referred to as “MT” in Table 2) at a ratio shown in Table 2, and solid contents are shown in Table 2. The ink was dissolved in a solvent so as to have a solid content concentration to prepare an ink composition 3 as a blue light-emitting ink.

<透明電極基板の準備>
370mm×470mm×0.5mmのサイズのガラス基板(コーニング社製イーグルXG)に、ジオマテック株式会社製の透明導電膜FLAT−ITOを所定のパターンで50nm形成した。
<Preparation of transparent electrode substrate>
A transparent conductive film FLAT-ITO made by Geomatech Co., Ltd. was formed in a predetermined pattern on a glass substrate having a size of 370 mm × 470 mm × 0.5 mm (Eagle XG made by Corning) in a predetermined pattern.

<撥液性隔壁付基板の作製>
上記にて作製した透明導電膜付基板に対して、UV−O洗浄装置(日立ハイテクノロジ―社製;PL3−200−15)を用い、積算光量400mJ/cm下で親水化処理を実施し、純水にて洗浄、エアーにて乾燥を実施した。この基板に対して、調製済みの感光性樹脂組成物を30g滴下し、スピンコータにて900rpmにて7秒回転させ、感光性樹脂組成物からなる薄膜を塗布形成した。その後、真空乾燥装置(東京応化工業株式会社製;TR28340CPD−CLT)にて66Paまで減圧乾燥を行い、ホットプレートにて110℃、110秒コンタクトしプリベークを実施した。次に、露光装置(日立ハイテクノロジ―社製;LE4000A)を用いて、露光を実施した。露光量は200mJ/cm、Gapは100μmとした。フォトマスクには、パターン(遮光部の形状が、長軸方向200μm、短軸方向50μmの長方形から、その四隅を円弧状にカットした形(長丸))が同一平面上に形成されたものを用いた。その後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(トクヤマ(株)製、トクソーSD25)を濃度が2.38%となるように純水で希釈して調製した現像液を使用し、前記塗膜をシャワー現像機(セファテクノロジー株式会社製)にて、23℃で80秒間現像し、水洗およびエアー乾燥後、オーブン(エスペック社製:HSC−4)中、230℃で20分間ポストベークを行い、パターンを得た。
<Preparation of substrate with liquid-repellent partition>
Implementation used, the integrated light quantity 400 mJ / cm 2 down in hydrophilic treatment; - (PL3-200-15 company manufactured by Hitachi High-Technologies) to the transparent substrate with a conductive film produced in the above, UV-O 3 cleaning device Then, washing with pure water and drying with air were performed. 30 g of the prepared photosensitive resin composition was dropped onto the substrate, and the substrate was rotated at 900 rpm for 7 seconds by a spin coater to form a thin film of the photosensitive resin composition by coating. Thereafter, drying under reduced pressure was performed to 66 Pa using a vacuum drying apparatus (TR28340 CPD-CLT, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.), and contact was made at 110 ° C. for 110 seconds on a hot plate to perform prebaking. Next, exposure was performed using an exposure apparatus (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation; LE4000A). The exposure amount was 200 mJ / cm 2 , and the gap was 100 μm. For the photomask, a pattern in which a pattern (shape of the light-shielding portion is a rectangle of 200 μm in the major axis direction and 50 μm in the minor axis direction and whose four corners are cut into an arc shape (long circle)) is formed on the same plane. Using. Thereafter, using a developing solution prepared by diluting an aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (Tokuso SD25, manufactured by Tokuyama Corporation) with pure water to a concentration of 2.38%, using a shower developing machine (Sepha Technology Co., Ltd.), developed at 23 ° C. for 80 seconds, washed with water and air-dried, and post-baked in an oven (ESC: HSC-4) at 230 ° C. for 20 minutes to obtain a pattern. .

<塗布用基板の作製>
上記で得られた透明電極上に撥液性隔壁がパターニングされた基板を、LCD Glass分断装置(MS500、三星ダイヤモンド工業株式会社製)を用いて、370mm×470mm×0.5mmのサイズから50mm×50mm×0.5mmのサイズへと分断した。
<Preparation of coating substrate>
The substrate obtained by patterning the liquid-repellent partition on the transparent electrode obtained above was converted from a size of 370 mm × 470 mm × 0.5 mm to 50 mm × using an LCD Glass cutting device (MS500, manufactured by Samsung Diamond Industrial Co., Ltd.). It was cut into a size of 50 mm × 0.5 mm.

<正孔注入層の形成>
正孔注入材料(ND−3202、日産化学工業株式会社製)を、インクジェット印刷装置(142P、Litrex社製)に導入した。次に塗布前の前処理として、50mm角のサイズに分断した基板を、230℃、15分間ベークした。その後、ガラス基板上に形成され、撥液性の隔壁で囲まれたITO膜上(ITO膜厚:50nm)に、インクジェット印刷法により、正孔注入材料を塗布し、ステージ温度13℃、減圧速度25790Pa/秒の条件下で、溶媒が蒸発するまで減圧乾燥させ、65nmの平均厚さの正孔注入層を成膜した。得られた膜を、大気雰囲気下において、ホットプレート上で230℃、15分間加熱することにより、正孔注入層を形成した。
<Formation of hole injection layer>
A hole injection material (ND-3202, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was introduced into an ink jet printing apparatus (142P, manufactured by Litex). Next, as pretreatment before coating, the substrate cut into a size of 50 mm square was baked at 230 ° C. for 15 minutes. Thereafter, a hole injecting material is applied by an inkjet printing method on an ITO film (ITO film thickness: 50 nm) formed on a glass substrate and surrounded by liquid-repellent partition walls, a stage temperature of 13 ° C., and a pressure reduction rate. Under a condition of 25790 Pa / sec, the solvent was dried under reduced pressure until the solvent was evaporated, and a hole injection layer having an average thickness of 65 nm was formed. The obtained film was heated at 230 ° C. for 15 minutes on a hot plate under an air atmosphere to form a hole injection layer.

<正孔輸送層の形成>
混合溶媒(デシルベンゼン/シクロヘキシルベンゼン/4−メチルアニソール=18.4質量%/40.2質量%/41.4質量%)に、正孔輸送材料(高分子化合物)を、固形分濃度として0.5質量%溶解させた正孔輸送材料組成物を調製した。得られた正孔輸送材料組成物を、インクジェット印刷装置(Litrex社製、142P)に導入した。次に、正孔注入層上に、正孔輸送材料組成物をインクジェット印刷法により塗布し、ステージ温度23℃、減圧速度37000Pa/秒の条件下で、溶媒が蒸発するまで減圧乾燥させ、膜を20nmの平均厚さで成膜した。得られた膜を、窒素ガス雰囲気下において、ホットプレート上で200℃、30分間加熱することにより、正孔輸送層を形成した。
<Formation of hole transport layer>
In a mixed solvent (decylbenzene / cyclohexylbenzene / 4-methylanisole = 18.4% by mass / 40.2% by mass / 41.4% by mass), the hole transporting material (polymer compound) was added at a solid concentration of 0%. A hole transport material composition in which 0.5% by mass was dissolved was prepared. The obtained hole transport material composition was introduced into an inkjet printing apparatus (142P, manufactured by Litex). Next, the hole transport material composition is applied on the hole injection layer by an inkjet printing method, and dried under reduced pressure at a stage temperature of 23 ° C. and a reduced pressure of 37000 Pa / sec until the solvent is evaporated. A film was formed with an average thickness of 20 nm. The obtained film was heated on a hot plate at 200 ° C. for 30 minutes in a nitrogen gas atmosphere to form a hole transport layer.

<試験膜の形成>
上記で調製したいずれかのインク組成物(インク組成物1、2、4)を用い、これをインクジェット印刷装置(Litrex社製、142P)に導入した。次に、正孔輸送層上に、インク組成物をインクジェット印刷法により塗布し、乾燥機内に入れて、乾燥機内の温度を25℃、乾燥機内を大気圧(101325Pa)から1000Paまで、減圧速度25790Pa/秒で減圧させて、溶媒が蒸発するまで減圧乾燥させ、狙い膜厚80nmの厚さで成膜した。得られた膜を、窒素ガス雰囲気下において、ホットプレート上で180℃、10分間加熱することにより、発光層(試験膜)を形成した。同様の方法でインク組成物3を用い、狙い膜厚60nmの厚さで成膜し、発光層(試験膜)を形成した。
<Formation of test film>
Using one of the ink compositions prepared as described above (ink compositions 1, 2, and 4), this was introduced into an inkjet printing apparatus (142P, manufactured by Litex). Next, the ink composition is applied on the hole transport layer by an ink jet printing method, and is put into a dryer. The temperature inside the dryer is 25 ° C. The pressure was reduced at a rate of / sec, and the film was dried under reduced pressure until the solvent was evaporated, thereby forming a film having a target thickness of 80 nm. The resulting film was heated on a hot plate at 180 ° C. for 10 minutes under a nitrogen gas atmosphere to form a light emitting layer (test film). In the same manner, a film having a target film thickness of 60 nm was formed using the ink composition 3 to form a light emitting layer (test film).

(測定用反射膜の形成)
「正孔注入層/正孔輸送層」の2層、もしくは「正孔注入層/正孔輸送層/発光層」の3層を形成したガラス基板を蒸着機内において、1.0×10−4Pa以下にまで減圧した後、正孔輸送層又は発光層の上にアルミニウムを約20nm蒸着することで測定用反射膜を形成し、膜形状測定素子を作製した。
(Formation of reflective film for measurement)
A glass substrate on which two layers of “hole injection layer / hole transport layer” or three layers of “hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer” were formed was placed in a vapor deposition machine at 1.0 × 10 −4. After the pressure was reduced to Pa or less, aluminum was evaporated to a thickness of about 20 nm on the hole transporting layer or the light emitting layer to form a reflective film for measurement, thereby producing a film shape measuring element.

(膜形状の評価)
「正孔注入層/正孔輸送層/測定用反射膜」の層構成の基板X1と、「正孔注入層/正孔輸送層/発光層/測定用反射膜」の層構成の基板X2の2種類の基板の膜厚を、非接触3次元表面形状測定装置(Zygo社製)により測定した。基板X1の3次元膜厚をD1、基板X2の3次元膜厚をD2とし、評価対象となる発光層(試験膜)単層の膜厚Tを下記式から得た。
T=D2−D1
(Evaluation of film shape)
A substrate X1 having a layer configuration of “hole injection layer / hole transport layer / reflection film for measurement” and a substrate X2 having a layer configuration of “hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / reflection film for measurement” The film thicknesses of the two types of substrates were measured by a non-contact three-dimensional surface shape measuring device (manufactured by Zygo). The three-dimensional thickness of the substrate X1 was D1, the three-dimensional thickness of the substrate X2 was D2, and the thickness T of a single light-emitting layer (test film) to be evaluated was obtained from the following equation.
T = D2-D1

膜厚T(nm)に関して、撥液性隔壁で囲まれた1つの画素の全領域の面積をA(μm)、画素内の最小膜厚をTmin(nm)としたときに膜厚がTmin+10nm以下である領域の面積をB(μm)、とすると、平坦度R(%)は下記式から得られる値とする。
R=(B/A)×100
Regarding the film thickness T (nm), when the area of the entire region of one pixel surrounded by the liquid-repellent partition is A (μm 2 ) and the minimum film thickness in the pixel is T min (nm), Assuming that the area of the region of T min +10 nm or less is B (μm 2 ), the flatness R (%) is a value obtained from the following equation.
R = (B / A) × 100

インク組成物1〜4により得られた試験膜の平坦度Rを表2に示す。   Table 2 shows the flatness R of the test films obtained with the ink compositions 1 to 4.

Figure 2020009757
Figure 2020009757

<実施例1,2及び比較例1>
実施例1,2及び比較例1において、表3に示す上記で調製したインク組成物(インク組成物1〜4)の2種を用いて、乾燥工程(一括乾燥)を経て、2種類の発光層(第1膜及び第2膜)を形成した点以外は、上記した試験膜と同様に発光層を形成し、上記した試験膜と同様の方法により膜形状の評価を行った。発光層の形成の際の乾燥工程の乾燥条件は、試験膜の形成時に採用した乾燥条件と同じものとした。表3に、実施例1,2及び比較例1により得られた第1膜及び第2膜それぞれについて1つの画素の平坦度(一括乾燥後の平坦度)と、同じインク組成物を用いて上記にて得られた試験膜の平坦度(単独乾燥後の平坦度)とを示す。
<Examples 1 and 2 and Comparative Example 1>
In Examples 1 and 2 and Comparative Example 1, two kinds of luminescence were obtained through a drying step (collective drying) using two kinds of the ink compositions (ink compositions 1 to 4) prepared above as shown in Table 3. A light emitting layer was formed in the same manner as the above-described test film except that the layers (the first film and the second film) were formed, and the film shape was evaluated by the same method as the above-described test film. The drying conditions in the drying step when forming the light emitting layer were the same as the drying conditions employed when forming the test film. Table 3 shows the flatness (flatness after batch drying) of one pixel for each of the first film and the second film obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1, and the same ink composition as described above. And the flatness (flatness after drying alone) of the test film obtained in (1).

Figure 2020009757
Figure 2020009757

図3に、実施例1でインク組成物1により得られた第1膜の画素短軸50μmの中心である画素端部から25μmの位置を通過する長軸方向の断面形状(図3(a))と、イン
ク組成物1により得られた試験膜の画素短軸50μmの中心である画素端部から25μmの位置を通過する長軸方向の断面形状(図3(b))とを対比して示す。
FIG. 3 shows a cross-sectional shape in the major axis direction passing through a position 25 μm from a pixel end which is the center of the pixel short axis 50 μm of the first film obtained by the ink composition 1 in Example 1 (FIG. 3A) ) And the cross-sectional shape in the major axis direction passing through a position 25 μm from the pixel end which is the center of the minor axis 50 μm of the pixel of the test film obtained by the ink composition 1 (FIG. 3B). Show.

図4に、実施例1でインク組成物2により得られた第2膜の画素短軸50μmの中心である画素端部から25μmの位置を通過する長軸方向の断面形状(図4(a))と、インク組成物2により得られた試験膜の画素短軸50μmの中心である画素端部から25μmの位置を通過する長軸方向の断面形状(図4(b))とを対比して示す。   FIG. 4 shows a cross-sectional shape in the major axis direction passing through a position 25 μm from a pixel end which is the center of the pixel short axis 50 μm of the second film obtained by the ink composition 2 in Example 1 (FIG. 4A) ) And the cross-sectional shape in the major axis direction passing through a position 25 μm from the pixel end which is the center of the minor axis 50 μm of the pixel of the test film obtained by the ink composition 2 (FIG. 4B). Show.

図5に、実施例3でインク組成物1により得られた第1膜の画素短軸50μmの中心である画素端部から25μmの位置を通過する長軸方向の断面形状(図5(a))と、インク組成物1により得られた試験膜の画素短軸50μmの中心である画素端部から25μmの位置を通過する長軸方向の断面形状(図5(b))とを対比して示す。   FIG. 5 shows a cross-sectional shape in the major axis direction passing through a position 25 μm from a pixel end which is the center of the pixel short axis 50 μm of the first film obtained by the ink composition 1 in Example 3 (FIG. 5A) ) And the cross-sectional shape in the major axis direction passing through a position 25 μm from the pixel end, which is the center of the minor axis 50 μm of the pixel of the test film obtained by the ink composition 1 (FIG. 5B). Show.

図6に、実施例3でインク組成物3により得られた第2膜の画素短軸50μmの中心である画素端部から25μmの位置を通過する長軸方向の断面形状(図6(a))と、インク組成物3により得られた試験膜の画素短軸50μmの中心である画素端部から25μmの位置を通過する長軸方向の断面形状(図6(b))とを対比して示す。   FIG. 6 shows a cross-sectional shape in the major axis direction passing through a position 25 μm from the pixel end which is the center of the pixel short axis 50 μm of the second film obtained by the ink composition 3 in Example 3 (FIG. 6A) ) And the cross-sectional shape in the major axis direction passing through a position 25 μm from the pixel end which is the center of the minor axis 50 μm of the pixel of the test film obtained by the ink composition 3 (FIG. 6B). Show.

図7に、比較例1でインク組成物4により得られた第1膜の画素短軸50μmの中心である画素端部から25μmの位置を通過する長軸方向の断面形状(図7(a))と、インク組成物4により得られた試験膜の画素短軸50μmの中心である画素端部から25μmの位置を通過する長軸方向の断面形状(図7(b))とを対比して示す。   FIG. 7 shows a cross-sectional shape in the major axis direction passing through a position 25 μm from the pixel end which is the center of the pixel short axis 50 μm of the first film obtained by the ink composition 4 in Comparative Example 1 (FIG. 7A) ) And the cross-sectional shape in the major axis direction passing through the position 25 μm from the pixel end which is the center of the minor axis 50 μm of the pixel of the test film obtained by the ink composition 4 (FIG. 7B). Show.

図8に、比較例1でインク組成物1により得られた第2膜の画素短軸50μmの中心である画素端部から25μmの位置を通過する長軸方向の断面形状(図8(a))と、インク組成物1により得られた試験膜の画素短軸50μmの中心である画素端部から25μmの位置を通過する長軸方向の断面形状(図8(b))とを対比して示す。   FIG. 8 shows a cross-sectional shape in the major axis direction passing through a position 25 μm from the pixel end which is the center of the pixel short axis 50 μm of the second film obtained by the ink composition 1 in Comparative Example 1 (FIG. 8A) ) And the cross-sectional shape in the major axis direction passing through a position 25 μm from the pixel end which is the center of the minor axis 50 μm of the pixel of the test film obtained by the ink composition 1 (FIG. 8B). Show.

表3及び図3〜図8に示す結果からわかるように、二つのインク組成物において、溶媒の種類が同じであった実施例1,2では、一括乾燥によっても、第1膜及び第2膜ともに優れた平坦度が得られ、一方、溶媒の種類が異なっていた比較例1では、一括乾燥によって、第1膜について平坦度が低い結果となった。   As can be seen from the results shown in Table 3 and FIGS. 3 to 8, in Examples 1 and 2 in which the type of solvent was the same in the two ink compositions, the first film and the second film were obtained by batch drying. In both cases, excellent flatness was obtained. On the other hand, in Comparative Example 1 in which the type of solvent was different, the batch drying resulted in low flatness of the first film.

1 基板、21 第1ヘッド、41 第1領域、42 第2領域、43 隔壁。   1 Substrate, 21 1st head, 41 1st area, 42 2nd area, 43 partition.

Claims (11)

基板の表面に第1膜と第2膜とを製造する、膜の製造方法であって、
互いに異なる固形分種を含み、試験膜の平坦度Rがともに60%以上である、第1インク組成物と第2インク組成物とを準備するインク準備工程と、
前記基板の第1領域に前記第1インク組成物を塗布して第1塗布層を形成する第1塗布工程と、
前記基板の前記第1領域とは異なる第2領域に前記第2インク組成物を塗布して第2塗布層を形成する第2塗布工程と、
前記第1塗布工程と前記第2塗布工程の後、前記基板を乾燥機内に入れて、前記第1塗布層と前記第2塗布層とを乾燥させて、第1膜と第2膜とを形成する乾燥工程と、を備え、
前記インク準備工程において、前記第1インク組成物と前記第2インク組成物とを、前記第1インク組成物の溶媒の全量に対して5質量%以上含まれる第1主溶媒と、前記第2インク組成物の溶媒の全量に対して5質量%以上含まれる第2主溶媒とが、種類において同一となるように準備し、
前記試験膜は、試験基板にインク組成物を塗布して試験塗布層を形成し、前記試験基板を前記乾燥機内に入れて、前記乾燥工程での乾燥条件にて前記試験塗布層を乾燥させて得られた膜であり、
前記平坦度R(%)は、前記試験膜において、全領域の面積をA(μm)、最小膜厚をTmin(nm)としたときに膜厚がTmin+10nm以下である領域の面積をB(μm)、とすると、以下の式:
R=(B/A)×100
で算出される、膜の製造方法。
A film manufacturing method for manufacturing a first film and a second film on a surface of a substrate,
An ink preparation step of preparing a first ink composition and a second ink composition, wherein the first ink composition and the second ink composition each include solid species different from each other and have a flatness R of the test film of 60% or more;
A first application step of applying the first ink composition to a first region of the substrate to form a first application layer;
A second application step of applying the second ink composition to a second area different from the first area of the substrate to form a second application layer;
After the first coating step and the second coating step, the substrate is placed in a dryer, and the first coating layer and the second coating layer are dried to form a first film and a second film. Drying step,
In the ink preparing step, a first main solvent containing the first ink composition and the second ink composition in an amount of 5% by mass or more based on the total amount of the solvent of the first ink composition; A second main solvent contained in an amount of 5% by mass or more with respect to the total amount of the solvent of the ink composition is prepared so as to be identical in type,
The test film is formed by applying the ink composition to a test substrate to form a test coating layer, placing the test substrate in the dryer, and drying the test coating layer under the drying conditions in the drying step. The resulting membrane,
The flatness R (%) is defined as the area of a region where the film thickness is T min +10 nm or less when the area of the entire region is A (μm 2 ) and the minimum film thickness is T min (nm) in the test film. Is B (μm 2 ), the following equation:
R = (B / A) × 100
The method for producing a film, calculated by:
前記インク準備工程において、前記第1インク組成物と前記第2インク組成物とを、前記第1主溶媒と、前記第2主溶媒とが、種類において同一でありかつ各成分の含有比率において異なるように準備する、請求項1に記載の膜の製造方法。   In the ink preparing step, the first ink composition and the second ink composition are the same in the type of the first main solvent and the type of the second main solvent, and different in the content ratio of each component. The method for producing a film according to claim 1, wherein the film is prepared as follows. 前記第1主溶媒及び前記第2主溶媒は、式(1)で表される化合物を含む、請求項1又は2に記載の膜の製造方法。
Figure 2020009757

[式(1)中、Rは、炭素原子数が10〜12のアルキル基を表す。]
3. The method according to claim 1, wherein the first main solvent and the second main solvent include a compound represented by the formula (1). 4.
Figure 2020009757

[In the formula (1), R 1 represents an alkyl group having 10 to 12 carbon atoms. ]
前記第1主溶媒及び前記第2主溶媒は、式(1)で表される化合物を除く芳香族炭化水素を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の膜の製造方法。
Figure 2020009757

[式(1)中、Rは、炭素原子数が10〜12のアルキル基を表す。]
The method for producing a film according to any one of claims 1 to 3, wherein the first main solvent and the second main solvent include an aromatic hydrocarbon excluding a compound represented by the formula (1).
Figure 2020009757

[In the formula (1), R 1 represents an alkyl group having 10 to 12 carbon atoms. ]
前記芳香族炭化水素は、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、及びテトラリンからなる群より選択される、請求項4に記載の膜の製造方法。   The method according to claim 4, wherein the aromatic hydrocarbon is selected from the group consisting of pentylbenzene, hexylbenzene, heptylbenzene, octylbenzene, nonylbenzene, cyclohexylbenzene, and tetralin. 前記第1主溶媒及び前記第2主溶媒は、芳香族エーテルを含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の膜の製造方法。   The method according to any one of claims 1 to 5, wherein the first main solvent and the second main solvent include an aromatic ether. 前記芳香族エーテルは、メチルアニソール、ジメチルアニソール、エチルアニソール、ブチルフェニルエーテル、ブチルアニソール、ペンチルアニソール、ヘキシルアニソール、ヘプチルアニソール、オクチルアニソール、及びフェノキシトルエンからなる群より選択される、請求項6に記載の膜の製造方法。   7. The aromatic ether according to claim 6, wherein the aromatic ether is selected from the group consisting of methylanisole, dimethylanisole, ethylanisole, butylphenylether, butylanisole, pentylanisole, hexylanisole, heptylanisole, octylanisole, and phenoxytoluene. Method for producing a membrane. 前記第1インク組成物及び前記第2インク組成物は、互いに異なる高分子化合物を含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載の膜の製造方法。   The method according to claim 1, wherein the first ink composition and the second ink composition include different polymer compounds. 前記高分子化合物が発光性化合物である、請求項1〜8のいずれか1項に記載の膜の製造方法。   The method for producing a film according to any one of claims 1 to 8, wherein the polymer compound is a luminescent compound. 請求項1〜9のいずれか1項に記載の膜の製造方法により膜を製造する工程を含む、有機EL素子の製造方法。   A method of manufacturing an organic EL device, comprising a step of manufacturing a film by the method of manufacturing a film according to claim 1. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の膜の製造方法に用いられるインク組成物セットであって、
前記第1インク組成物と前記第2インク組成物とを少なくとも含む、インク組成物セット。
An ink composition set used in the method for producing a film according to any one of claims 1 to 10,
An ink composition set including at least the first ink composition and the second ink composition.
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