JP6543902B2 - Metal complex and light emitting device using the same - Google Patents

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Description

本発明は、金属錯体および該金属錯体を用いた発光素子に関する。   The present invention relates to a metal complex and a light emitting device using the metal complex.

発光素子の発光層に用いる発光材料として、三重項励起状態からの発光を示す燐光発光性化合物が種々検討されている。このような燐光発光性化合物としては、中心金属が第5周期または第6周期に属する遷移金属である金属錯体が数多く検討されている。   As a light-emitting material used for a light-emitting layer of a light-emitting element, various kinds of phosphorescent compounds which emit light from a triplet excited state have been studied. As such a phosphorescent compound, many metal complexes in which the central metal is a transition metal belonging to the fifth period or the sixth period have been studied.

発光素子の発光層に用いる金属錯体として、特許文献1では、3つのベンゼン環から構成されるデンドロンを有するフェニルイソキノリン構造を配位子として有する金属錯体1が提案されている。また、特許文献2では、トリアジン環と2つのベンゼン環とから構成されるデンドロンを有するフェニルピリジン構造を配位子として有する金属錯体2が提案されている。また、特許文献3では、トリアジン環と2つのベンゼン環とから構成されるデンドロンを有するフェニルピリジン構造、および、3つのベンゼン環から構成されるデンドロンを有するフェニルイソキノリン構造を配位子として有する金属錯体3が提案されている。   As a metal complex used for a light emitting layer of a light emitting element, Patent Document 1 proposes a metal complex 1 having a phenylisoquinoline structure having a dendron composed of three benzene rings as a ligand. Patent Document 2 proposes a metal complex 2 having a phenylpyridine structure having a dendron composed of a triazine ring and two benzene rings as a ligand. Further, in Patent Document 3, a metal complex having as a ligand a phenylpyridine structure having a dendron composed of a triazine ring and two benzene rings and a phenylisoquinoline structure having a dendron composed of three benzene rings Three have been proposed.

Figure 0006543902
Figure 0006543902

特開2006−188673号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-188673 特開2008−179617号公報JP, 2008-179617, A 特開2011−105701号公報JP, 2011-105701, A

しかしながら、上記の特許文献1、2および3に記載された金属錯体の量子収率(以下、「PLQY」ともいう。)は必ずしも十分ではなかった。金属錯体の量子収率は、金属錯体の発光スペクトルの長波長化に伴い低下する傾向があるため、赤色燐光発光を示す金属錯体では、量子収率の向上が求められていた。   However, the quantum yield (hereinafter, also referred to as “PLQY”) of the metal complex described in Patent Documents 1, 2 and 3 above is not necessarily sufficient. Since the quantum yield of the metal complex tends to decrease as the emission spectrum of the metal complex becomes longer, improvement in the quantum yield has been required for metal complexes exhibiting red phosphorescence.

そこで、本発明は、赤色燐光発光を示す金属錯体であって、量子収率に優れる金属錯体を提供することを目的とする。本発明はまた、該金属錯体を含有する組成物および該金属錯体を用いて得られる発光素子を提供することを目的とする。本発明はさらに、該金属錯体の製造に有用な化合物を提供することを目的とする。   Then, this invention is a metal complex which shows red phosphorescence emission, Comprising: It aims at providing the metal complex which is excellent in a quantum yield. Another object of the present invention is to provide a composition containing the metal complex and a light emitting device obtained using the metal complex. Another object of the present invention is to provide a compound useful for the production of the metal complex.

本発明は、第一に、下記式(1)で表される金属錯体を提供する。   The present invention first provides a metal complex represented by the following formula (1).

Figure 0006543902
[式中、
Mは、イリジウム原子または白金原子を表す。
mは1、2または3を表し、nは0、1または2を表す。Mがイリジウム原子の場合、m+nは3であり、Mが白金原子の場合、m+nは2である。
、ZおよびZは、それぞれ独立に、−CR=または窒素原子を表す。Rは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基、置換アミノ基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Rが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。Z、ZおよびZが複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。但し、Z、ZおよびZからなる群から選ばれる少なくとも1つは窒素原子である。
ArおよびArは、それぞれ独立に、2つ以上の環が縮合した芳香族炭化水素基、または、2つ以上の環が縮合した複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ArおよびArが複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
11、R12、R13、R14、R15およびR16は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基、置換アミノ基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。R11、R12、R13、R14、R15およびR16が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。R11とR12、R12とR13、R13とR14、R14とR15、および、R15とR16は、それぞれ結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。
−G−Aは、アニオン性の2座配位子を表す。AおよびAは、それぞれ独立に、炭素原子、酸素原子または窒素原子を表し、これらの原子は環を構成する原子であってもよい。Gは、単結合、または、AおよびAとともに2座配位子を構成する原子団を表す。A−G−Aが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
Figure 0006543902
[In the formula,
M represents an iridium atom or a platinum atom.
m represents 1, 2 or 3; n represents 0, 1 or 2; When M is an iridium atom, m + n is 3, and when M is a platinum atom, m + n is 2.
Z 1, Z 2 and Z 3 each independently represent a -CR Z = or a nitrogen atom. R Z represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a monovalent heterocyclic group, a substituted amino group or a halogen atom, and these groups are substituents May be included. When two or more R Z exist, they may be the same or different. When two or more Z 1 , Z 2 and Z 3 exist, they may be the same or different. However, at least one selected from the group consisting of Z 1 , Z 2 and Z 3 is a nitrogen atom.
Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aromatic hydrocarbon group in which two or more rings are fused, or a heterocyclic group in which two or more rings are fused, and these groups have a substituent It may be When a plurality of Ar 1 and Ar 2 exist, they may be the same or different.
R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, or a monovalent group Represents a heterocyclic group, a substituted amino group or a halogen atom, and these groups may have a substituent. When a plurality of R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are present, they may be the same or different. R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 , R 14 and R 15 , and R 15 and R 16 respectively combine to form a ring with the carbon atom to which each is attached May be
A 1 -G 1 -A 2 represents an anionic bidentate ligand. Each of A 1 and A 2 independently represents a carbon atom, an oxygen atom or a nitrogen atom, and these atoms may be atoms constituting a ring. G 1 represents a single bond or an atomic group constituting a bidentate ligand with A 1 and A 2 . When two or more A 1 -G 1 -A 2 are present, they may be the same or different. ]

本発明は、第二に、上記の金属錯体と、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、発光材料、酸化防止剤および溶媒からなる群から選ばれる少なくとも1種の材料とを含有する組成物を提供する。   The present invention secondly, at least one selected from the group consisting of the above metal complex, a hole transport material, a hole injection material, an electron transport material, an electron injection material, a light emitting material, an antioxidant and a solvent Provided is a composition containing the material.

本発明は、第三に、上記の金属錯体を用いて得られる発光素子を提供する。   The present invention thirdly provides a light emitting device obtained by using the above metal complex.

本発明は、第四に、下記式(1M)で表される化合物を提供する。   Fourth, the present invention provides a compound represented by the following formula (1M).

Figure 0006543902
[式中、
、ZおよびZは、それぞれ独立に、−CR=または窒素原子を表す。Rは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基、置換アミノ基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Rが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。但し、Z、ZおよびZからなる群から選ばれる少なくとも1つは窒素原子である。
ArおよびArは、それぞれ独立に、2つ以上の環が縮合した芳香族炭化水素基、または、2つ以上の環が縮合した複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
11、R12、R13、R14、R15およびR16は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基、置換アミノ基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。R11とR12、R12とR13、R13とR14、R14とR15、および、R15とR16は、それぞれ結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。]
Figure 0006543902
[In the formula,
Z 1, Z 2 and Z 3 each independently represent a -CR Z = or a nitrogen atom. R Z represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a monovalent heterocyclic group, a substituted amino group or a halogen atom, and these groups are substituents May be included. When two or more R Z exist, they may be the same or different. However, at least one selected from the group consisting of Z 1 , Z 2 and Z 3 is a nitrogen atom.
Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aromatic hydrocarbon group in which two or more rings are fused, or a heterocyclic group in which two or more rings are fused, and these groups have a substituent It may be
R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, or a monovalent group Represents a heterocyclic group, a substituted amino group or a halogen atom, and these groups may have a substituent. R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 , R 14 and R 15 , and R 15 and R 16 respectively combine to form a ring with the carbon atom to which each is attached May be ]

本発明によれば、赤色燐光発光を示す金属錯体であって、量子収率に優れる金属錯体を提供することができる。また、本発明によれば、該金属錯体を含有する組成物および該金属錯体を用いて得られる発光素子を提供することができる。さらに、本発明によれば、該金属錯体の製造に有用な化合物を提供することができる。本発明の金属錯体は、量子収率に優れるため、該金属錯体を用いて得られる発光素子は外部量子効率に優れたものとなる。   According to the present invention, it is possible to provide a metal complex that exhibits red phosphorescence and is excellent in quantum yield. Further, according to the present invention, a composition containing the metal complex and a light emitting device obtained using the metal complex can be provided. Furthermore, according to the present invention, a compound useful for the preparation of the metal complex can be provided. Since the metal complex of the present invention is excellent in quantum yield, a light emitting element obtained using the metal complex is excellent in external quantum efficiency.

金属錯体M3〜M5および金属錯体CM1〜CM3の発光スペクトルの最大ピーク波長とPLQYとの関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the largest peak wavelength of the emission spectrum of metal complex M3-M5 and metal complex CM1-CM3, and PLQY.

以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.

<共通する用語の説明>
以下、本明細書で共通して用いられる用語は、特記しない限り、以下の意味である。
<Description of common terms>
Hereinafter, terms commonly used in the present specification have the following meanings unless otherwise specified.

Meはメチル基、Etはエチル基、Buはブチル基、i-Prはイソプロピル基、t-Buはtert-ブチル基を表す。   Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Bu represents a butyl group, i-Pr represents an isopropyl group, and t-Bu represents a tert-butyl group.

本明細書において、水素原子は重水素原子であっても、軽水素原子であってもよい。   In the present specification, the hydrogen atom may be a deuterium atom or a light hydrogen atom.

本明細書において、金属錯体を表す構造式中、中心金属との結合を表す実線は、共有結合または配位結合を意味する。   In the present specification, in structural formulas representing metal complexes, a solid line representing a bond with a central metal means a covalent bond or a coordinate bond.

「高分子化合物」とは、分子量分布を有し、ポリスチレン換算の数平均分子量が、1×103〜1×108である重合体を意味する。高分子化合物に含まれる構成単位は、合計100モル%である。 The “polymer compound” means a polymer having a molecular weight distribution and having a polystyrene-equivalent number average molecular weight of 1 × 10 3 to 1 × 10 8 . The structural units contained in the polymer compound are 100 mol% in total.

高分子化合物は、ブロック共重合体、ランダム共重合体、交互共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよいし、その他の態様であってもよい。   The polymer compound may be any of a block copolymer, a random copolymer, an alternating copolymer, and a graft copolymer, or may be another embodiment.

高分子化合物の末端基は、重合活性基がそのまま残っていると、高分子化合物を発光素子の作製に用いた場合に発光特性や輝度寿命が低下する可能性があるので、好ましくは安定な基である。この末端基としては、主鎖と共役結合している基が好ましく、炭素−炭素結合を介してアリール基または1価の複素環基と結合している基が挙げられる。   The end group of the polymer compound is preferably a stable group because the light emission characteristics and the luminance life may be reduced when the polymer compound is used for the preparation of a light emitting device if the polymerization active group remains as it is. It is. The terminal group is preferably a group conjugated with the main chain, and includes a group bonded to an aryl group or a monovalent heterocyclic group via a carbon-carbon bond.

「低分子化合物」とは、分子量分布を有さず、分子量が1×104以下の化合物を意味する。 The “low molecular weight compound” means a compound having no molecular weight distribution and having a molecular weight of 1 × 10 4 or less.

「構成単位」とは、高分子化合物中に1個以上存在する単位を意味する。   The "constituent unit" means a unit which is present one or more in the polymer compound.

「アルキル基」は、直鎖および分岐のいずれでもよい。直鎖のアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常1〜50であり、好ましくは3〜30であり、より好ましくは4〜20である。分岐のアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜50であり、好ましくは3〜30であり、より好ましくは4〜20である。
「シクロアルキル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜50であり、好ましくは3〜30であり、より好ましくは4〜20である。
アルキル基およびシクロアルキル基は、置換基を有していてもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、2-エチルブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、3-プロピルヘプチル基、デシル基、3,7-ジメチルオクチル基、2-エチルオクチル基、2-ヘキシルデシル基、ドデシル基、シクロヘキシル基、および、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基が挙げられ、置換基を有するアルキル基およびシクロアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、3-フェニルプロピル基、3-(4-メチルフェニル)プロピル基、3-(3,5-ジ-ヘキシルフェニル)プロピル基、6-エチルオキシヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基が挙げられる。
The "alkyl group" may be linear or branched. The carbon atom number of the linear alkyl group is usually 1 to 50, preferably 3 to 30, and more preferably 4 to 20, not including the carbon atom number of the substituent. The carbon atom number of the branched alkyl group is usually 3 to 50, preferably 3 to 30, and more preferably 4 to 20, not including the carbon atom number of the substituent.
The carbon atom number of the "cycloalkyl group" is usually 3 to 50, preferably 3 to 30, and more preferably 4 to 20, not including the carbon atom number of the substituent.
The alkyl group and the cycloalkyl group may have a substituent, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, an isoamyl group, 2 -Ethylbutyl, hexyl, heptyl, octyl, 2-ethylhexyl, 3-propylheptyl, decyl, 3, 7-dimethyloctyl, 2-ethyloctyl, 2-hexyldecyl, dodecyl, Examples thereof include a cyclohexyl group, and a group in which a hydrogen atom in these groups is substituted with an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, a fluorine atom or the like. As the alkyl group, for example, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, perfluorobutyl group, perfluoro Fluorohexyl group, perfluorooctyl group, 3-phenylpropyl group, 3- (4-methylphenyl) propyl group, 3- (3,5-di-hexylphenyl) propyl group, 6-ethyloxyhexyl group, cyclohexylmethyl group And cyclohexylethyl group.

「アリール基」は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子1個を除いた残りの原子団を意味する。アリール基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常6〜60であり、好ましくは6〜20であり、より好ましくは6〜10である。
アリール基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、1-アントラセニル基、2-アントラセニル基、9-アントラセニル基、1-ピレニル基、2-ピレニル基、4-ピレニル基、2-フルオレニル基、3-フルオレニル基、4-フルオレニル基、2-フェニルフェニル基、3-フェニルフェニル基、4-フェニルフェニル基、および、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。
The “aryl group” means an atomic group remaining after removing one hydrogen atom directly bonded to a carbon atom constituting a ring from an aromatic hydrocarbon. The carbon atom number of the aryl group is usually 6 to 60, preferably 6 to 20, more preferably 6 to 10, not including the carbon atom number of the substituent.
The aryl group may have a substituent, and examples thereof include phenyl, 1-naphthyl, 2-naphthyl, 1-anthracenyl, 2-anthracenyl, 9-anthracenyl, 1-pyrenyl, 2 -Pyrenyl group, 4-pyrenyl group, 2-fluorenyl group, 3-fluorenyl group, 4-fluorenyl group, 2-phenylphenyl group, 3-phenylphenyl group, 4-phenylphenyl group, and hydrogen atom in these groups Are groups substituted with an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, a fluorine atom or the like.

「アルコキシ基」は、直鎖および分岐のいずれでもよい。直鎖のアルコキシ基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常1〜40であり、好ましくは4〜10である。分岐のアルコキシ基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜40であり、好ましくは4〜10である。
「シクロアルコキシ基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜40であり、好ましくは4〜10である。
アルコキシ基およびシクロアルコキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、tert-ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、3,7-ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基が挙げられる。
The "alkoxy group" may be linear or branched. The carbon atom number of the linear alkoxy group is usually 1 to 40, preferably 4 to 10, not including the carbon atom number of the substituent. The carbon atom number of the branched alkoxy group is usually 3 to 40, preferably 4 to 10, not including the carbon atom number of the substituent.
The carbon atom number of the "cycloalkoxy group" is usually 3 to 40, preferably 4 to 10, not including the carbon atom number of the substituent.
The alkoxy group and cycloalkoxy group may have a substituent, and examples thereof include methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butyloxy group, isobutyloxy group, tert-butyloxy group, pentyloxy group, Examples thereof include a hexyloxy group, a cyclohexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a 2-ethylhexyloxy group, a nonyloxy group, a decyloxy group, a 3,7-dimethyloctyloxy group and a lauryloxy group.

「アリールオキシ基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常6〜60であり、好ましくは7〜48である。
アリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェノキシ基、1-ナフチルオキシ基、2-ナフチルオキシ基、1-アントラセニルオキシ基、9-アントラセニルオキシ基、1-ピレニルオキシ基、および、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。
The carbon atom number of the "aryloxy group" is usually 6 to 60, preferably 7 to 48, not including the carbon atom number of the substituent.
The aryloxy group may have a substituent, and examples thereof include phenoxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, 1-anthracenyloxy group, 9-anthracenyloxy group, 1- The pyrenyloxy group and the group by which the hydrogen atom in these groups was substituted by the alkyl group, the cycloalkyl group, the alkoxy group, the cycloalkoxy group, the fluorine atom etc. are mentioned.

「p価の複素環基」(pは、1以上の整数を表す。)とは、複素環式化合物から、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子のうちp個の水素原子を除いた残りの原子団を意味する。p価の複素環基の中でも、芳香族複素環式化合物から、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子のうちp個の水素原子を除いた残りの原子団である「p価の芳香族複素環基」が好ましい。
「芳香族複素環式化合物」は、オキサジアゾール、チアジアゾール、チアゾール、オキサゾール、チオフェン、ピロール、ホスホール、フラン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、トリアジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、カルバゾール、ジベンゾホスホール等の複素環自体が芳香族性を示す化合物、および、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾボロール、ジベンゾシロール、ベンゾピラン等の複素環自体は芳香族性を示さなくとも、複素環に芳香環が縮環されている化合物を意味する。
The “p-valent heterocyclic group” (p represents an integer of 1 or more) means p out of hydrogen atoms directly bonded to a carbon atom or a heteroatom constituting a ring from the heterocyclic compound. Means the remaining atomic groups excluding the hydrogen atom of Among the p-valent heterocyclic groups, carbon atoms constituting the ring or the remaining atomic groups obtained by removing p hydrogen atoms from hydrogen atoms directly bonded to a hetero atom from the aromatic heterocyclic compound "P-valent aromatic heterocyclic group" is preferred.
The “aromatic heterocyclic compound” is a complex such as oxadiazole, thiadiazole, thiazole, oxazole, thiophene, pyrrole, phosphole, furan, pyridine, pyrazine, pyrimidine, triazine, pyridazine, quinoline, isoquinoline, carbazole, dibenzophosphole etc. Compounds in which the ring itself exhibits aromaticity, and heterocycles such as phenoxazine, phenothiazine, dibenzoborole, dibenzosilole, benzopyran and the like themselves have aromatic rings fused to the aromatic ring even if they do not exhibit aromaticity It means a compound.

1価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常、2〜60であり、好ましくは4〜20である。
1価の複素環基は、置換基を有していてもよく、例えば、チエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジル基、ピペリジニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、ピリミジニル基、トリアジニル基、および、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基等で置換された基が挙げられる。
The carbon atom number of the monovalent heterocyclic group is usually 2 to 60, preferably 4 to 20, not including the carbon atom number of the substituent.
The monovalent heterocyclic group may have a substituent, and examples thereof include thienyl group, pyrrolyl group, furyl group, pyridyl group, piperidinyl group, quinolinyl group, isoquinolinyl group, pyrimidinyl group, triazinyl group, and the like Groups in which a hydrogen atom in any of the groups is substituted with an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group or the like.

「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を示す。   The "halogen atom" represents a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.

「アミノ基」は、置換基を有していてもよく、置換アミノ基が好ましい。アミノ基が有する置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基が好ましい。
置換アミノ基としては、例えば、ジアルキルアミノ基、ジシクロアルキルアミノ基およびジアリールアミノ基が挙げられる。
アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビス(4-メチルフェニル)アミノ基、ビス(4-tert-ブチルフェニル)アミノ基、ビス(3,5-ジ-tert-ブチルフェニル)アミノ基が挙げられる。
The "amino group" may have a substituent and is preferably a substituted amino group. As a substituent which an amino group has, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group is preferable.
As a substituted amino group, for example, a dialkylamino group, a dicycloalkylamino group and a diarylamino group can be mentioned.
Examples of the amino group include dimethylamino, diethylamino, diphenylamino, bis (4-methylphenyl) amino, bis (4-tert-butylphenyl) amino, and bis (3,5-di-tert-). And butylphenyl) amino.

「アルケニル基」は、直鎖および分岐のいずれでもよい。直鎖のアルケニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常2〜30であり、好ましくは3〜20である。分岐のアルケニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜30であり、好ましくは4〜20である。
「シクロアルケニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜30であり、好ましくは4〜20である。
アルケニル基およびシクロアルケニル基は、置換基を有していてもよく、例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、5−ヘキセニル基、7−オクテニル基、および、これらの基が置換基を有する基が挙げられる。
The "alkenyl group" may be linear or branched. The carbon atom number of the linear alkenyl group is usually 2 to 30, preferably 3 to 20, not including the carbon atom number of the substituent. The carbon atom number of the branched alkenyl group is usually 3 to 30, preferably 4 to 20, not including the carbon atom number of the substituent.
The carbon atom number of the "cycloalkenyl group" is usually 3 to 30, preferably 4 to 20, not including the carbon atom number of the substituent.
The alkenyl group and cycloalkenyl group may have a substituent, and examples thereof include a vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 3-pentenyl group, 4- The pentenyl group, 1-hexenyl group, 5-hexenyl group, 7-octenyl group, and the group which these groups have a substituent are mentioned.

「アルキニル基」は、直鎖および分岐のいずれでもよい。アルキニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常2〜20であり、好ましくは3〜20である。分岐のアルキニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常4〜30であり、好ましくは4〜20である。
「シクロアルキニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常4〜30であり、好ましくは4〜20である。
アルキニル基およびシクロアルキニル基は、置換基を有していてもよく、例えば、エチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、3−ペンチニル基、4−ペンチニル基、1−ヘキシニル基、5−ヘキシニル基、および、これらの基が置換基を有する基が挙げられる。
The "alkynyl group" may be linear or branched. The carbon atom number of the alkynyl group is 2-20 normally, without including the carbon atom of a substituent, Preferably it is 3-20. The carbon atom number of a branched alkynyl group is 4-30 normally, without including the carbon atom of a substituent, Preferably it is 4-20.
The carbon atom number of the "cycloalkynyl group" is usually 4 to 30, preferably 4 to 20, not including the carbon atom of the substituent.
The alkynyl group and cycloalkynyl group may have a substituent, and examples thereof include ethynyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, 3-pentynyl group, 4-pentynyl group A pentynyl group, 1-hexynyl group, 5-hexynyl group, and the group which these groups have a substituent are mentioned.

「アリーレン基」は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子2個を除いた残りの原子団を意味する。アリーレン基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常、6〜60であり、好ましくは6〜30であり、より好ましくは6〜18である。
アリーレン基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェニレン基、ナフタレンジイル基、アントラセンジイル基、フェナントレンジイル基、ジヒドロフェナントレンジイル基、ナフタセンジイル基、フルオレンジイル基、ピレンジイル基、ペリレンジイル基、クリセンジイル基、および、これらの基が置換基を有する基が挙げられ、好ましくは、式(A-1)〜式(A-20)で表される基である。アリーレン基は、これらの基が複数結合した基を含む。
The "arylene group" means an atomic group remaining after removing two hydrogen atoms directly bonded to carbon atoms constituting a ring from an aromatic hydrocarbon. The carbon atom number of the arylene group is usually 6 to 60, preferably 6 to 30, and more preferably 6 to 18, not including the carbon atom number of the substituent.
The arylene group may have a substituent, and examples thereof include phenylene group, naphthalenediyl group, anthracenediyl group, phenanthrendiyl group, dihydrophenanthrendiyl group, naphthacene diyl group, fluorenediyl group, pyrene diyl group, perylene diyl group, There may be mentioned a chrysendiyl group and a group in which these groups have a substituent, and preferably a group represented by the formula (A-1) to the formula (A-20). The arylene group includes a group in which a plurality of these groups are bonded.

Figure 0006543902
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Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
[式中、RおよびRaは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表す。複数存在するRおよびRaは、各々、同一でも異なっていてもよく、Ra同士は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよい。]
Figure 0006543902
[Wherein, R and R a each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group. Plural R and R a may be the same as or different from each other, and R a may be bonded to each other to form a ring with the atoms to which each is bonded. ]

2価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常、2〜60であり、好ましくは、3〜20であり、より好ましくは、4〜15である。
2価の複素環基は、置換基を有していてもよく、例えば、ピリジン、ジアザベンゼン、トリアジン、アザナフタレン、ジアザナフタレン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ジベンゾシロール、フェノキサジン、フェノチアジン、アクリジン、ジヒドロアクリジン、フラン、チオフェン、アゾール、ジアゾール、トリアゾールから、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子のうち2個の水素原子を除いた2価の基が挙げられ、好ましくは、式(AA-1)〜式(AA-34)で表される基である。2価の複素環基は、これらの基が複数結合した基を含む。
The carbon atom number of the divalent heterocyclic group is usually 2 to 60, preferably 3 to 20, and more preferably 4 to 15, not including the carbon atom number of the substituent.
The divalent heterocyclic group may have a substituent, and examples thereof include pyridine, diazabenzene, triazine, azanaphthalene, diazanaphthalene, carbazole, dibenzofuran, dibenzothiophene, dibenzosilole, phenoxazine, phenothiazine, acridine, and the like. Preferred are dihydroacridines, furans, thiophenes, azoles, diazoles and triazoles, and divalent groups in which two hydrogen atoms of hydrogen atoms directly bonded to a carbon atom or hetero atom constituting a ring are removed, with preference given to Are groups represented by formulas (AA-1) to (AA-34). The divalent heterocyclic group includes a group in which a plurality of these groups are bonded.

Figure 0006543902
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Figure 0006543902
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Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
[式中、RおよびRaは、前記と同じ意味を表す。]
Figure 0006543902
[Wherein, R and R a represent the same meaning as described above. ]

「架橋基」とは、加熱処理、紫外線照射処理、ラジカル反応等に供することにより、新たな結合を生成する事が可能な基であり、好ましくは、式(B-1)、(B-2)、(B-3)、(B-4)、(B-5)、(B-6)、(B-7)、(B-8)、(B-9)、(B-10)、(B-11)、(B-12)、(B-13)、(B-14)、(B-15)、(B-16)または(B-17)で表される基である。   The “crosslinking group” is a group capable of generating a new bond by being subjected to heat treatment, ultraviolet irradiation treatment, radical reaction or the like, and preferably, the compounds of formulas (B-1) and (B-2) ), (B-3), (B-4), (B-5), (B-6), (B-7), (B-8), (B-9), (B-10), It is a group represented by (B-11), (B-12), (B-13), (B-14), (B-15), (B-16) or (B-17).

Figure 0006543902
[式中、これらの基は置換基を有していてもよい。]
Figure 0006543902
[Wherein, these groups may have a substituent. ]

「置換基」とは、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、1価の複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、置換アミノ基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキニル基を表す。置換基は架橋基であってもよい。   The “substituent” is a halogen atom, cyano group, alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, monovalent heterocyclic group, alkoxy group, cycloalkoxy group, aryloxy group, amino group, substituted amino group, alkenyl group , A cycloalkenyl group, an alkynyl group or a cycloalkynyl group. The substituent may be a crosslinking group.

「デンドロン」とは、原子または環を分岐点とする規則的な樹枝状分岐構造(デンドリマー構造)を有する基である。なお、デンドロンを部分構造として有する化合物(デンドリマーと呼ぶ場合がある。)としては、例えば、WO02/067343、特開2003−231692、WO2003/079736、WO2006/097717等の文献に記載の構造が挙げられる。前記式(D−A)で表される基および前記式(D−B)で表される基も、デンドロンである。   "Dendron" is a group having a regular tree-like branched structure (dendrimer structure) having an atom or ring as a branch point. In addition, as a compound (it may call it a dendrimer) which has a dendron as a partial structure, the structure as described in literature, such as WO02 / 067343, Unexamined-Japanese-Patent 2003-231692, WO2003 / 079736, WO2006 / 097717 etc., is mentioned, for example . The group represented by Formula (D-A) and the group represented by Formula (D-B) are also dendrons.

Figure 0006543902
[式中、
DA1、mDA2およびmDA3は、それぞれ独立に、0以上の整数を表す。
DAは、窒素原子、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ArDA1、ArDA2およびArDA3は、それぞれ独立に、アリーレン基または2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ArDA1、ArDA2およびArDA3が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
DAは、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するTDAは、同一でも異なっていてもよい。]
Figure 0006543902
[In the formula,
m DA1 , m DA2 and m DA3 each independently represent an integer of 0 or more.
G DA represents a nitrogen atom, an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group, and these groups may have a substituent.
Ar DA1 , Ar DA2 and Ar DA3 each independently represent an arylene group or a divalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. When a plurality of Ar DA1 , Ar DA2 and Ar DA3 exist, they may be the same or different.
T DA represents an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. The plurality of T DA may be the same or different. ]

Figure 0006543902
[式中、
DA1、mDA2、mDA3、mDA4、mDA5、mDA6およびmDA7は、それぞれ独立に、0以上の整数を表す。
DAは、窒素原子、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するGDAは、同一でも異なっていてもよい。
ArDA1、ArDA2、ArDA3、ArDA4、ArDA5、ArDA6およびArDA7は、それぞれ独立に、アリーレン基または2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ArDA1、ArDA2、ArDA3、ArDA4、ArDA5、ArDA6およびArDA7が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
DAは、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するTDAは、同一でも異なっていてもよい。]
Figure 0006543902
[In the formula,
m DA1 , m DA2 , m DA3 , m DA4 , m DA5 , m DA6 and m DA7 each independently represent an integer of 0 or more.
G DA represents a nitrogen atom, an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group, and these groups may have a substituent. A plurality of G DA may be the same or different.
Ar DA1 , Ar DA2 , Ar DA3 , Ar DA4 , Ar DA5 , Ar DA6 and Ar DA7 each independently represent an arylene group or a divalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent Good. When a plurality of Ar DA1 , Ar DA2 , Ar DA3 , Ar DA4 , Ar DA5 , Ar DA6 and Ar DA7 are present, they may be the same or different.
T DA represents an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. The plurality of T DA may be the same or different. ]

DA1、mDA2、mDA3、mDA4、mDA5、mDA6およびmDA7は、通常10以下の整数であり、5以下の整数であることが好ましく、0または1であることがより好ましく、0であることが更に好ましい。また、mDA1、mDA2、mDA3、mDA4、mDA5、mDA6およびmDA7は、同一の整数であることが好ましい。 m DA1 , m DA2 , m DA3 , m DA4 , m DA5 , m DA6 and m DA7 are usually integers of 10 or less, preferably 5 or less, more preferably 0 or 1, More preferably, it is 0. In addition, m DA1 , m DA2 , m DA3 , m DA4 , m DA5 , m DA6 and m DA7 are preferably the same integer.

DAは、好ましくは式(GDA-11)〜(GDA-15)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 G DA is preferably a group represented by formulas (GDA-11) to (GDA-15), and these groups may have a substituent.

Figure 0006543902
[式中、
*は、式(D-A)におけるArDA1、式(D-B)におけるArDA1、式(D-B)におけるArDA2、または、式(D-B)におけるArDA3との結合を表す。
**は、式(D-A)におけるArDA2、式(D-B)におけるArDA2、式(D-B)におけるArDA4、または、式(D-B)におけるArDA6との結合を表す。
***は、式(D-A)におけるArDA3、式(D-B)におけるArDA3、式(D-B)におけるArDA5、または、式(D-B)におけるArDA7との結合を表す。
DAは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は更に置換基を有していてもよい。RDAが複数ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
Figure 0006543902
[In the formula,
* Is, Ar DA1 in the formula (DA), Ar DA1 in the formula (DB), Ar in formula (DB) DA2, or represents a bond between Ar DA3 in the formula (DB).
** is, Ar DA2 in the formula (DA), Ar DA2 in the formula (DB), or Ar DA4, in the formula (DB), represents a bond between Ar DA6 in the formula (DB).
*** is, Ar DA3 in the formula (DA), Ar DA3 in the formula (DB), or Ar DA5, in the formula (DB), represents a bond between Ar DA7 in formula (DB).
R DA represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may further have a substituent. When there are a plurality of RDAs , they may be the same or different. ]

DAは、好ましくは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基またはシクロアルコキシ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基またはシクロアルキル基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R DA is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group or a cycloalkoxy group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group or a cycloalkyl group, and these groups have a substituent May be

ArDA1、ArDA2、ArDA3、ArDA4、ArDA5、ArDA6およびArDA7は、好ましくは式(ArDA-1)〜(ArDA-3)で表される基である。 Ar DA1 , Ar DA2 , Ar DA3 , Ar DA4 , Ar DA5 , Ar DA6 and Ar DA7 are preferably groups represented by Formulas (ArDA-1) to (ArDA-3).

Figure 0006543902
[式中、
DAは前記と同じ意味を表す。
DBは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RDBが複数ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
Figure 0006543902
[In the formula,
R DA has the same meaning as described above.
R DB represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. When there are multiple R DBs , they may be the same or different. ]

DBは、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基であり、より好ましくはアリール基または1価の複素環基であり、更に好ましくはアリール基である。 R DB is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, more preferably an aryl group or a monovalent heterocyclic group, still more preferably an aryl group.

DAは、好ましくは式(TDA-1)〜(TDA-3)で表される基である。 T DA is preferably a group represented by the formulas (TDA-1) to (TDA-3).

Figure 0006543902
[式中、RDAおよびRDBは前記と同じ意味を表す。]
Figure 0006543902
[Wherein, R DA and R DB represent the same meaning as described above. ]

式(D-A)で表される基は、好ましくは式(D-A1)〜(D-A3)で表される基である。   The group represented by the formula (DA) is preferably a group represented by the formulas (DA1) to (DA3).

Figure 0006543902
[式中、
p1、Rp2およびRp3は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。Rp1およびRp2が複数ある場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
np1は、0〜5の整数を表し、np2は0〜3の整数を表し、np3は0または1を表す。複数あるnp1は、同一でも異なっていてもよい。]
Figure 0006543902
[In the formula,
R p1 , R p2 and R p3 each independently represent an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group or a halogen atom. When there are a plurality of R p1 and R p2 , they may be the same or different.
np1 represents an integer of 0 to 5, np2 represents an integer of 0 to 3, and np3 represents 0 or 1. The plurality of np1 may be the same or different. ]

式(D-B)で表される基は、好ましくは式(D-B1)〜(D-B3)で表される基である。   The group represented by the formula (D-B) is preferably a group represented by the formulas (D-B1) to (D-B3).

Figure 0006543902
[式中、
p1、Rp2およびRp3は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。Rp1およびRp2が複数ある場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
np1は0〜5の整数を表し、np2は0〜3の整数を表し、np3は0または1を表す。np1およびnp2が複数ある場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。]
Figure 0006543902
[In the formula,
R p1 , R p2 and R p3 each independently represent an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group or a halogen atom. When there are a plurality of R p1 and R p2 , they may be the same or different.
np1 represents an integer of 0 to 5, np2 represents an integer of 0 to 3, and np3 represents 0 or 1. When there are a plurality of np1 and np2, they may be the same or different. ]

np1は、好ましくは0または1であり、より好ましくは1である。np2は、好ましくは0または1である。np3は好ましくは0である。   np1 is preferably 0 or 1, more preferably 1. np2 is preferably 0 or 1. np3 is preferably 0.

p1、Rp2およびRp3は、好ましくはアルキル基またはシクロアルキル基である。 R p1 , R p2 and R p3 are preferably an alkyl group or a cycloalkyl group.

<金属錯体>
次に、本発明の金属錯体について説明する。本発明の金属錯体は、式(1)で表される金属錯体である。
<Metal complex>
Next, the metal complex of the present invention will be described. The metal complex of the present invention is a metal complex represented by the formula (1).

Figure 0006543902
Figure 0006543902

式(1)中、Mは、本発明の金属錯体を用いた発光素子の輝度寿命が優れるため、イリジウム原子であることがより好ましい。   In the formula (1), M is more preferably an iridium atom because the luminance life of the light emitting device using the metal complex of the present invention is excellent.

式(1)中、nは、本発明の金属錯体の量子収率がより優れることと、本発明の金属錯体の合成が容易になるため、0であることが好ましい。   In the formula (1), n is preferably 0 because the quantum yield of the metal complex of the present invention is more excellent and the synthesis of the metal complex of the present invention becomes easy.

式(1)中、Mがイリジウム原子の場合、m+nは3であり、mは2または3であることが好ましく、3であることがより好ましい。   In the formula (1), when M is an iridium atom, m + n is 3, and m is preferably 2 or 3, and more preferably 3.

式(1)中、Mが白金原子の場合、m+nは2であり、mは2であることが好ましい。   In the formula (1), when M is a platinum atom, m + n is preferably 2, and m is preferably 2.

式(1)中、Z、ZおよびZは、それぞれ独立に、−CR=または窒素原子を表す。Rは、本発明の金属錯体の合成が容易になるため、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基であることが好ましく、水素原子、アルキル基またはシクロアルキル基であることがより好ましく、水素原子またはアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子であることが特に好ましい。 Wherein (1), Z 1, Z 2 and Z 3 each independently represent a -CR Z = or a nitrogen atom. R Z is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, since it facilitates the synthesis of the metal complex of the present invention, and a hydrogen atom, an alkyl group or a cycloalkyl group is preferred. It is more preferably a group, still more preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and particularly preferably a hydrogen atom.

式(1)中、本発明の金属錯体の量子収率がより優れるため、Z、ZおよびZからなる群から選ばれる少なくとも2つが窒素原子であることが好ましく、Z、ZおよびZの全てが窒素原子であることが好ましい。 In the formula (1), since the quantum yield of the metal complexes of the present invention is more excellent, it is preferable that at least two of the nitrogen atom selected from the group consisting of Z 1, Z 2 and Z 3, Z 1, Z 2 And all of Z 3 are nitrogen atoms.

式(1)中、ArおよびArは、本発明の金属錯体の量子収率がより優れるため、2つ以上の環が縮合した芳香族炭化水素基であることが好ましい。 In the formula (1), Ar 1 and Ar 2 are preferably aromatic hydrocarbon groups in which two or more rings are condensed, because the quantum yield of the metal complex of the present invention is more excellent.

式(1)中、ArおよびArは、本発明の金属錯体の合成が容易になるため、同一の基であることが好ましい。 In the formula (1), Ar 1 and Ar 2 are preferably the same group because the synthesis of the metal complex of the present invention becomes easy.

2つ以上の環が縮合した芳香族炭化水素基とは、2つ以上の環が縮合した芳香族炭化水素から、環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子1個を除いた残りの原子団を意味する。2つ以上の環が縮合した芳香族炭化水素基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常8〜60であり、好ましくは8〜20であり、より好ましくは8〜14である。2つ以上の環が縮合した芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基およびアリール基が挙げられる。   The aromatic hydrocarbon group in which two or more rings are fused means the remaining atom excluding one hydrogen atom directly bonded to a carbon atom constituting the ring from the aromatic hydrocarbon in which two or more rings are fused. Means a group. The carbon atom number of the aromatic hydrocarbon group in which two or more rings are fused is usually 8 to 60, preferably 8 to 20, more preferably 8 to 20, not including the carbon atom number of the substituent. 14 As a substituent which the aromatic hydrocarbon group which two or more rings condensed may have, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, and an aryl group are mentioned.

2つ以上の環が縮合した芳香族炭化水素基としては、例えば、式(2−1)〜(2−13)で表される基が挙げられ、本発明の金属錯体の量子収率がより優れるため、式(2−1)〜(2−5)、(2−12)または(2−13)で表される基が好ましく、式(2−1)または(2−2)で表される基がより好ましく、式(2−1)で表される基が更に好ましい。   Examples of the aromatic hydrocarbon group in which two or more rings are condensed include groups represented by formulas (2-1) to (2-13), and the quantum yield of the metal complex of the present invention is more In order to be excellent, the group represented by the formula (2-1) to (2-5), (2-12) or (2-13) is preferable, and it is represented by the formula (2-1) or (2-2) Is more preferable, and a group represented by Formula (2-1) is more preferable.

Figure 0006543902
[式中、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基またはハロゲン原子を表す。複数存在するRは、同一でも異なっていてもよく、隣接するR同士は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよい。複数存在するRは、同一でも異なっていてもよく、隣接するR同士は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよい。]
Figure 0006543902
[Wherein, R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a monovalent heterocyclic group or a halogen atom . Plural R 2 s may be the same or different, and adjacent R 2 s may be bonded to each other to form a ring together with the atoms to which they are bonded. Plural R 3 s may be the same or different, and adjacent R 3 s may be bonded to each other to form a ring together with the atoms to which they are bonded. ]

2つ以上の環が縮合した複素環基とは、2つ以上の環が縮合した複素環式化合物から、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子1個を除いた残りの原子団を意味する。2つ以上の環が縮合した複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常4〜60であり、好ましくは6〜20であり、より好ましくは8〜14である。2つ以上の環が縮合した複素環基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基およびアリール基が挙げられる。   A heterocyclic group in which two or more rings are fused means a heterocyclic compound in which two or more rings are fused, excluding one hydrogen atom directly bonded to a carbon atom or a hetero atom constituting the ring. Means the remaining atomic groups. The carbon atom number of the heterocyclic group in which two or more rings are fused is usually 4 to 60, preferably 6 to 20, more preferably 8 to 14, not including the carbon atom number of the substituent. is there. As a substituent which the heterocyclic group which two or more rings condensed may have, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, and an aryl group are mentioned.

2つ以上の環が縮合した複素環基としては、例えば、式(2−21)〜(2−35)で表される基が挙げられ、本発明の金属錯体の量子収率がより優れるため、(2−21)〜(2−28)で表される基であることが好ましく、(2−25)〜(2−28)で表される基であることがより好ましい。   Examples of the heterocyclic group in which two or more rings are fused include groups represented by formulas (2-21) to (2-35), and the quantum yield of the metal complex of the present invention is more excellent. It is preferable that it is group represented by (2-21)-(2-28), and it is more preferable that it is group represented by (2-25)-(2-28).

Figure 0006543902
[式中、Rは前記と同じ意味を表す。Rは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基またはハロゲン原子を表す。]
Figure 0006543902
[Wherein, R 2 represents the same meaning as described above. R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a monovalent heterocyclic group or a halogen atom. ]

式(2−1)〜(2−13)および式(2−21)〜(2−35)中、Rは、本発明の金属錯体の合成が容易になるため、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基であることが好ましく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であることがより好ましく、水素原子、アルキル基またはシクロアルキル基であることが更に好ましい。 In formulas (2-1) to (2-13) and formulas (2-21) to (2-35), R 2 is a hydrogen atom, an alkyl group, or the like because the synthesis of the metal complex of the present invention is facilitated. It is preferably a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and a hydrogen atom, an alkyl group or a cycloalkyl group Is more preferred.

式(2−1)〜(2−13)中、Rは、本発明の金属錯体の合成が容易になるため、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基であることが好ましく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であることがより好ましく、水素原子、アルキル基またはアリール基であることが更に好ましい。 In the formulas (2-1) to (2-13), R 3 facilitates the synthesis of the metal complex of the present invention, and therefore a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and more preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.

式(2−21)〜(2−35)中、Rは、本発明の金属錯体の合成が容易になるため、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基であることが好ましく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であることがより好ましく、アルキル基またはアリール基であることが更に好ましい。 In formulas (2-21) to (2-35), R 4 facilitates the synthesis of the metal complex of the present invention, and therefore a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, more preferably an alkyl group or an aryl group.

式(1)中、R11、R12、R13、R14、R15およびR16は、本発明の金属錯体の合成が容易になるため、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、1価の複素環基または置換アミノ基であることが好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基または1価の複素環基であることがより好ましく、水素原子、アルキル基またはアリール基であることが更に好ましい。 In the formula (1), R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are each a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group because the synthesis of the metal complex of the present invention becomes easy. Preferably a monovalent heterocyclic group or a substituted amino group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group Is more preferred.

式(1)中、R11、R12、R13、R14、R15およびR16からなる群から選ばれる少なくとも1つは、本発明の金属錯体の量子収率がより優れるので、アリール基、1価の複素環基または置換アミノ基であることが好ましく、アリール基または1価の複素環基であることがより好ましく、アリール基であることが更に好ましい。アリール基、1価の複素環基および置換アミノ基としては、式(D−A)または(D−B)で表される基であることが好ましい。 In the formula (1), at least one selected from the group consisting of R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 is an aryl group because the quantum yield of the metal complex of the present invention is more excellent. It is preferably a monovalent heterocyclic group or a substituted amino group, more preferably an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and still more preferably an aryl group. The aryl group, monovalent heterocyclic group and substituted amino group are preferably groups represented by formula (D-A) or (D-B).

式(1)中、R11、R12、R13、R14、R15およびR16からなる群から選ばれる少なくとも1つが、式(D−A)または(D−B)で表される基である場合、本発明の金属錯体の合成が容易になるため、式(D−A1)、(D−A2)、(D−A3)、(D−B1)、(D−B2)または(D−B3)で表される基であることが好ましく、式(D−A1)または式(D−B1)で表される基であることがより好ましく、式(D−A1)であることが更に好ましい。式(D−A1)で表される基としては、式(3−1)で表される基であることが好ましい。式(D−B1)で表される基としては、式(3−2)で表される基であることが好ましい。 In the formula (1), at least one selected from the group consisting of R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 is a group represented by the formula (D-A) or (D-B) In the case of formula (D-A1), (D-A2), (D-A3), (D-B1), (D-B2) or (D-B2), the synthesis of the metal complex of the present invention is facilitated. It is preferably a group represented by -B3), more preferably a group represented by the formula (D-A1) or the formula (D-B1), and further preferably a group represented by the formula (D-A1) preferable. The group represented by Formula (D-A1) is preferably a group represented by Formula (3-1). The group represented by Formula (D-B1) is preferably a group represented by Formula (3-2).

Figure 0006543902
[式中、
31、R32およびR33は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基、置換アミノ基またはハロゲン原子を表す。R31が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよく、複数存在するR32は、同一でも異なっていてもよく、複数存在するR33は、同一でも異なっていてもよい。]
Figure 0006543902
[In the formula,
R 31 , R 32 and R 33 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a monovalent heterocyclic group, a substituted amino group or a halogen Represents an atom. When a plurality of R 31 are present, they may be the same or different, and a plurality of R 32 may be the same or different, and a plurality of R 33 may be the same or different. ]

式(3−1)および(3−2)中、R31は、本発明の金属錯体の量子収率がより優れるので、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、1価の複素環基または置換アミノ基であることが好ましく、水素原子またはアルキル基であることがより好ましい。
式(3−1)および(3−2)中、R32は、本発明の金属錯体の量子収率がより優れるので、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、1価の複素環基または置換アミノ基であることが好ましく、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であることがより好ましい。
式(3−1)および(3−2)中、R33は、本発明の金属錯体の合成が容易になるため、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基であることが好ましく、水素原子またはアルキル基であることがより好ましい。
In formulas (3-1) and (3-2), since R 31 is more excellent in the quantum yield of the metal complex of the present invention, a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, a monovalent heterocyclic ring It is preferably a group or a substituted amino group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group.
In formulas (3-1) and (3-2), since R 32 is more excellent in the quantum yield of the metal complex of the present invention, a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, a monovalent heterocyclic ring It is preferably a group or a substituted amino group, and more preferably an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group.
In formulas (3-1) and (3-2), R 33 facilitates the synthesis of the metal complex of the present invention, and therefore a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group Is preferably a hydrogen atom or an alkyl group.

式(1)中、R14は、本発明の金属錯体の量子収率がより優れるため、式(D−A)または式(D−B)で表される基であることが好ましく、式(D−A1)、(D−A2)、(D−A3)、(D−B1)、(D−B2)または(D−B3)で表される基であることがより好ましく、式(D−A1)または(D−B1)で表される基であることが更に好ましい。式(D−A1)で表される基としては、式(3−1)で表される基であることが好ましい。式(D−B1)で表される基としては、式(3−2)で表される基であることが好ましい。 In formula (1), R 14 is preferably a group represented by formula (D-A) or formula (D-B), since the quantum yield of the metal complex of the present invention is more excellent, D-A1), (D-A2), (D-A3), (D-B1), (D-B2) or (D-B3) is more preferably a group represented by the formula (D-A) More preferably, it is a group represented by A1) or (D-B1). The group represented by Formula (D-A1) is preferably a group represented by Formula (3-1). The group represented by Formula (D-B1) is preferably a group represented by Formula (3-2).

式(1)中、R11、R12、R13、R15およびR16は、本発明の金属錯体の合成が容易になるため、水素原子であることが好ましい。 In the formula (1), R 11 , R 12 , R 13 , R 15 and R 16 are preferably hydrogen atoms because the synthesis of the metal complex of the present invention is facilitated.

式(1)中、A−G−Aで表されるアニオン性の2座配位子としては、例えば、下記で表される配位子が挙げられる。 Examples of the anionic bidentate ligand represented by A 1 -G 1 -A 2 in the formula (1) include the ligands represented by the following.

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
[式中、*は、イリジウム原子または白金原子と結合する部位を示す。]
Figure 0006543902
[Wherein, * represents a site binding to an iridium atom or a platinum atom. ]

式(1)中、A−G−Aで表されるアニオン性の2座配位子は、下記で表される配位子であってもよい。ただし、A−G−Aで表されるアニオン性の2座配位子は、添え字mでその数を定義されている配位子とは異なる。 In the formula (1), the anionic bidentate ligand represented by A 1 -G 1 -A 2 may be a ligand represented below. However, the anionic bidentate ligand represented by A 1 -G 1 -A 2 is different from the ligand whose number is defined by the index m.

Figure 0006543902
[式中、
*は、イリジウム原子または白金原子と結合する部位を表す。
L1は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、1価の複素環基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRL1は、同一でも異なっていてもよい。
L2は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、1価の複素環基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。]
Figure 0006543902
[In the formula,
* Represents a site to be bonded to an iridium atom or a platinum atom.
R L1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, a monovalent heterocyclic group or a halogen atom, and these groups may have a substituent. Plural R L1 may be the same or different.
R L2 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, a monovalent heterocyclic group or a halogen atom, and these groups may have a substituent. ]

式(1)で表される金属錯体としては、例えば、式(Ir−1)〜(Ir−20)で表される金属錯体が挙げられる。これらの中でも、本発明の金属錯体の量子収率がより優れるため、式(Ir−1)〜(Ir−11)で表される金属錯体が好ましく、式(Ir−2)〜(Ir−6)または(Ir−8)で表される金属錯体がより好ましい。また、これらの中でも、本発明の金属錯体の合成が容易になるため、式(Ir−2)〜(Ir−6)で表される金属錯体が更に好ましく、式(Ir−2)、(Ir−4)または(Ir−6)で表される金属錯体が特に好ましい。   Examples of the metal complex represented by the formula (1) include metal complexes represented by the formulas (Ir-1) to (Ir-20). Among these, metal complexes represented by the formulas (Ir-1) to (Ir-11) are preferable because the quantum yield of the metal complex of the present invention is more excellent, and the formulas (Ir-2) to (Ir-6) are preferable. The metal complex represented by (Ir-8) or (Ir-8) is more preferable. Further, among these, metal complexes represented by the formulas (Ir-2) to (Ir-6) are more preferable because the synthesis of the metal complex of the present invention becomes easy, and the formulas (Ir-2) and (Ir-2) are more preferable. Particularly preferred is a metal complex represented by -4) or (Ir-6).

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
[式(Ir−1)〜(Ir−20)中、
、Z、Z、R14、R15、R16およびRは、前記と同意味を表す。
L5は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、1価の複素環基、置換アミノ基またはハロゲン原子を表す。RL5が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
Figure 0006543902
[In the formulas (Ir-1) to (Ir-20),
Z 1 , Z 2 , Z 3 , R 14 , R 15 , R 16 and R 2 are as defined above.
R L5 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, a monovalent heterocyclic group, a substituted amino group or a halogen atom. When two or more R L5 are present, they may be the same or different. ]

式(Ir−1)〜(Ir−20)中、
L5は、下記群IIの式(II−1)〜式(II−14)で表される基および下記群IIIの式(III−1)〜式(III−17)で表される基から選ばれる基であることが好ましい。
In formulas (Ir-1) to (Ir-20),
R L5 is a group represented by Formula (II-1) to Formula (II-14) of the following Group II and a group represented by Formula (III-1) to the Formula (III-17) of the following Group III It is preferable that it is a selected group.

<群II>   <Group II>

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
Figure 0006543902

<群III>   <Group III>

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
Figure 0006543902

式(1)で表される金属錯体の具体例としては、式(Ir−101)〜(Ir−112)で表される金属錯体が挙げられる。   Specific examples of the metal complex represented by the formula (1) include metal complexes represented by the formulas (Ir-101) to (Ir-112).

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
Figure 0006543902

本発明の金属錯体を用いて得られる発光素子には、本発明の金属錯体を1種単独で用いても、2種以上を併用してもよい。   In the light emitting device obtained by using the metal complex of the present invention, the metal complex of the present invention may be used singly or in combination of two or more.

式(1)で表される金属錯体には、複数の幾何異性体が考えられ、いずれの幾何異性体であってもよいが、本発明の金属錯体の発光スペクトルの半値幅がより優れるため、facial体が金属錯体全体に対して80モル%以上であることが好ましく、90モル%以上であることがより好ましく、99モル%以上であることが更により好ましく、100モル%(すなわち、他の幾何異性体を含まないこと)が特に好ましい。   A plurality of geometric isomers can be considered for the metal complex represented by the formula (1), and any geometric isomer may be used, but the half bandwidth of the emission spectrum of the metal complex of the present invention is more excellent, The facial form is preferably 80% by mole or more, more preferably 90% by mole or more, still more preferably 99% by mole or more, and still more preferably 100% by mole (i.e., the other) with respect to the entire metal complex. Particular preference is given to the absence of geometric isomers.

<化合物>
次に、本発明の化合物について説明する。本発明の化合物は、式(1M)で表される化合物である。本発明の化合物は、後述する本発明の金属錯体の製造において有用な化合物である。
<Compound>
Next, the compounds of the present invention will be described. The compound of the present invention is a compound represented by the formula (1M). The compounds of the present invention are compounds useful in the preparation of the metal complexes of the present invention described later.

Figure 0006543902
Figure 0006543902

式(1M)中のZ、Z、Z、Ar、Ar、R11、R12、R13、R14、R15およびR16の例および好ましい範囲は、式(1)中のZ、Z、Z、Ar、Ar、R11、R12、R13、R14、R15およびR16の例および好ましい範囲と同じである。 Examples and preferred ranges of Z 1 , Z 2 , Z 3 , Ar 1 , Ar 2 , Ar 11 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 in the formula (1M) are those of the formula (1) Examples and preferred ranges of Z 1 , Z 2 , Z 3 , Ar 1 , Ar 2 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are the same as in the following.

式(1M)で表される化合物としては、例えば、式(1M−1)〜(1M−20)で表される化合物が挙げられる。これらの中でも、本発明の化合物の合成が容易になるため、式(1M−1)〜(1M−9)で表される化合物が好ましい。   Examples of the compound represented by the formula (1M) include compounds represented by the formulas (1M-1) to (1M-20). Among these, compounds represented by the formulas (1M-1) to (1M-9) are preferable because the synthesis of the compound of the present invention is facilitated.

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
[式(1M−1)〜(1M−20)中、Z、Z、Z、R14、R15、R16、R、RおよびRは、前記と同じ意味を表す。]
Figure 0006543902
[In the formulas (1M-1) to (1M-20), Z 1 , Z 2 , Z 3 , R 14 , R 15 , R 16 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meaning as described above. ]

式(1M)で表される化合物の具体例としては、式(1M−101)〜(1M−112)で表される化合物が挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the formula (1M) include compounds represented by the formulas (1M-101) to (1M-112).

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
Figure 0006543902

<式(1)で表される金属錯体および式(1M)で表される化合物の製造方法>
[製造方法1]
本発明の金属錯体である式(1)で表される金属錯体は、例えば、配位子となる化合物と金属化合物とを反応させる方法により製造することができる。必要に応じて、金属錯体の配位子の官能基変換反応を行ってもよい。
<Method for Producing Metal Complex Represented by Formula (1) and Compound Represented by Formula (1M)>
[Manufacturing method 1]
The metal complex represented by Formula (1) which is a metal complex of this invention can be manufactured, for example by the method of making the compound and the metal compound which become a ligand react. If necessary, functional group conversion reaction of the metal complex ligand may be performed.

式(1)で表される金属錯体の中で、Mがイリジウム原子であるものは、例えば、
式(1M)で表される化合物と、イリジウム化合物またはその水和物とを反応させることで、式(1M−1)で表される金属錯体を合成する工程A1、および、
式(1M−1)で表される金属錯体と、式(1M)で表される化合物またはA−G−Aで表される配位子の前駆体とを反応させる工程B1を含む方法により製造することができる。
Among the metal complexes represented by the formula (1), those in which M is an iridium atom are, for example,
Step A1 of synthesizing a metal complex represented by the formula (1M-1) by reacting a compound represented by the formula (1M) with an iridium compound or a hydrate thereof
Step B1 of reacting the metal complex represented by the formula (1M-1) with the compound represented by the formula (1M) or the precursor of the ligand represented by A 1 -G 1 -A 2 It can be manufactured by a method.

Figure 0006543902
[式(1M)および(1M−1)中、Z、Z、Z、Ar、Ar、R11、R12、R13、R14、R15およびR16は、前記と同じ意味を表す。]
Figure 0006543902
[Wherein, in the formulas (1M) and (1M-1), Z 1 , Z 2 , Z 3 , Ar 1 , Ar 2 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are as defined above] Represents the meaning. ]

工程A1において、イリジウム化合物としては、例えば、塩化イリジウム、トリス(アセチルアセトナト)イリジウム(III)、クロロ(シクロオクタジエン)イリジウム(I)ダイマー、酢酸イリジウム(III)が挙げられ、イリジウム化合物の水和物としては、例えば、塩化イリジウム・三水和物が挙げられる。   In the step A1, examples of the iridium compound include iridium chloride, tris (acetylacetonato) iridium (III), chloro (cyclooctadiene) iridium (I) dimer, iridium acetate (III), and water of the iridium compound Examples of the solvate include iridium chloride trihydrate.

工程A1および工程B1は、通常、溶媒中で行う。溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、グリセリン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール等のアルコール系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、ジグライム等のエーテル系溶媒;塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒;アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒;ヘキサン、デカリン、トルエン、キシレン、メシチレン等の炭化水素系溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒;アセトン、ジメチルスルホキシド、水が挙げられる。 Step A1 and step B1 are usually performed in a solvent. Examples of the solvent include alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol, glycerin, 2-methoxyethanol and 2-ethoxyethanol; and ether solvents such as diethyl ether , tetrahydrofuran, dioxane, cyclopentyl methyl ether and diglyme; Halogen solvents such as methylene chloride and chloroform; nitrile solvents such as acetonitrile and benzonitrile; hydrocarbon solvents such as hexane, decalin, toluene, xylene and mesitylene; N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and the like Amide solvents of the following: acetone, dimethyl sulfoxide, water

工程A1および工程B1において、反応時間は、通常、30分〜150時間であり、反応温度は、通常、反応系に存在する溶媒の融点から沸点の間である。   In step A1 and step B1, the reaction time is usually 30 minutes to 150 hours, and the reaction temperature is usually between the melting point and the boiling point of the solvent present in the reaction system.

工程A1において、式(1M)で表される化合物の量は、イリジウム化合物またはその水和物1モルに対して、通常、2〜20モルである。   In step A1, the amount of the compound represented by the formula (1M) is generally 2 to 20 mol, per 1 mol of the iridium compound or a hydrate thereof.

工程B1において、式(1M)で表される化合物またはA−G−Aで表される配位子の前駆体の量は、式(1M−1)で表される金属錯体1モルに対して、通常、1〜100モルである。 In step B1, the amount of the compound represented by the formula (1M) or the precursor of the ligand represented by A 1 -G 1 -A 2 is 1 mole of the metal complex represented by the formula (1M-1) Is usually 1 to 100 moles.

工程B1において、反応は、トリフルオロメタンスルホン酸銀等の銀化合物の存在下で行うことが好ましい。銀化合物を用いる場合、その量は、式(1M−1)で表される金属錯体1モルに対して、通常、2〜20モルである。   In step B1, the reaction is preferably carried out in the presence of a silver compound such as silver trifluoromethanesulfonate. When a silver compound is used, the amount is usually 2 to 20 mol, per 1 mol of the metal complex represented by the formula (1M-1).

式(1M)で表される化合物は、例えば、式(1M−2)で表される化合物と、式(1M−3)で表される化合物とを、Suzuki反応、Kumada反応、Stille反応等のカップリング反応させる工程C1により合成することができる。   The compound represented by the formula (1M) includes, for example, a compound represented by the formula (1M-2) and a compound represented by the formula (1M-3), such as Suzuki reaction, Kumada reaction, Stille reaction, etc. It can synthesize | combine by the process C1 to make a coupling reaction.

Figure 0006543902
[式(1M−2)および(1M−3)中、
、Z、Z、Ar、Ar、R11、R12、R13、R14、R15およびR16は、前記と同じ意味を表す。
およびWは、それぞれ独立に、−B(ORW1で表される基、アルキルスルホニルオキシ基、シクロアルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RW1は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアミノ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRW1は、同一でも異なっていてもよく、互いに結合して、それぞれが結合する酸素原子とともに環を形成していてもよい。]
Figure 0006543902
[In the formulas (1M-2) and (1M-3),
Z 1 , Z 2 , Z 3 , Ar 1 , Ar 2 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 have the same meaning as described above.
W 1 and W 2 each independently represent a group represented by —B (OR W1 ) 2 , an alkylsulfonyloxy group, a cycloalkylsulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom These groups may have a substituent. R W1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or an amino group, and these groups may have a substituent. The plurality of R W1 s may be the same or different, and may be bonded to each other to form a ring together with the oxygen atom to which each is bonded. ]

−B(ORW1で表される基としては、例えば、下記式(W−1)〜(W−10)で表される基が挙げられる。 As group represented by -B (OR <W1> ) 2 , group represented by following formula (W-1)-(W-10) is mentioned, for example.

Figure 0006543902
Figure 0006543902

で表されるアルキルスルホニルオキシ基としては、例えば、メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基が挙げられる。
で表されるアリールスルホニルオキシ基としては、例えば、p−トルエンスルホニルオキシ基が挙げられる。
Examples of the alkylsulfonyloxy group represented by W 1 include a methanesulfonyloxy group, an ethanesulfonyloxy group, and a trifluoromethanesulfonyloxy group.
Examples of the arylsulfonyloxy group represented by W 1 include p-toluenesulfonyloxy group.

としては、式(1M−2)で表される化合物と式(1M−3)で表される化合物とのカップリング反応が容易に進行するので、−B(ORW1で表される基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が好ましい。これらの中でも、式(1M−2)で表される化合物の合成が容易であるため、塩素原子、臭素原子または式(W−7)で表される基がより好ましい。 As W 1 , a coupling reaction between the compound represented by the formula (1M-2) and the compound represented by the formula (1M-3) easily proceeds, and therefore, it is represented by —B (OR W1 ) 2 A trifluoromethanesulfonyloxy group, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom is preferred. Among these, a chlorine atom, a bromine atom or a group represented by the formula (W-7) is more preferable because the synthesis of the compound represented by the formula (1M-2) is easy.

としては、−B(ORW1で表される基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が好ましく、これらの中でも、式(1M−3)で表される化合物の合成が容易であるため、塩素原子、臭素原子または式(W−7)で表される基がより好ましい。 As W 2 , a group represented by —B (OR W1 ) 2 , a trifluoromethanesulfonyloxy group, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom is preferable, and among these, a compound represented by the formula (1M-3) The group represented by a chlorine atom, a bromine atom or a formula (W-7) is more preferable because of easy synthesis of

式(1M−2)で表される化合物と式(1M−3)で表される化合物とのカップリング反応(工程C1)は、通常、溶媒中で行う。用いられる溶媒、反応時間および反応温度は、工程A1および工程B1について説明したものと同じである。   The coupling reaction (step C1) of the compound represented by the formula (1M-2) with the compound represented by the formula (1M-3) is usually performed in a solvent. The solvents used, the reaction time and the reaction temperature are the same as those described for step A1 and step B1.

式(1M−2)で表される化合物と式(1M−3)で表される化合物とのカップリング反応において、式(1M−3)で表される化合物の量は、式(1M−2)で表される化合物1モルに対して、通常、0.05〜20モルである。   In the coupling reaction of the compound represented by the formula (1M-2) with the compound represented by the formula (1M-3), the amount of the compound represented by the formula (1M-3) is represented by the formula (1M-2) It is a 0.05-20 mol normally with respect to 1 mol of compounds represented.

式(1M−2)で表される化合物の実施形態の1つである式(1M−2−1)で表される化合物は、例えば、式(1M−2−1a)で表される化合物と、式(1M−2−1b)で表される化合物とをカップリング反応させる工程D1により製造することができる。このカップリング反応は、式(1M)で表される化合物について説明したものと同じである。   The compound represented by the formula (1M-2-1) which is one of the embodiments of the compound represented by the formula (1M-2) is, for example, a compound represented by the formula (1M-2-1a) It can manufacture by the process D1 which makes a coupling reaction with the compound represented by Formula (1M-2-1b). This coupling reaction is the same as that described for the compound represented by formula (1M).

Figure 0006543902
[式中、
は、前記と同じ意味を表す。
は、−B(ORW1で表される基、アルキルスルホニルオキシ基、シクロアルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RW1は、前記と同じ意味を表す。]
Figure 0006543902
[In the formula,
R 2 represents the same meaning as described above.
W 3 represents a group represented by —B (OR W1 ) 2 , an alkylsulfonyloxy group, a cycloalkylsulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, and these groups are substituents May be included. R W1 represents the same meaning as described above. ]

式(1M−3)で表される化合物の実施形態の1つである式(1M−3−1)で表される化合物は、例えば、式(1M−3−1a)で表される化合物と、式(1M−3−1b)で表される化合物とをカップリング反応させる工程E1により製造することができる。このカップリング反応は、式(1M)で表される化合物について説明したものと同じである。   The compound represented by the formula (1M-3-1) which is one of the embodiments of the compound represented by the formula (1M-3) is, for example, a compound represented by the formula (1M-3-1a) It can manufacture by the process E1 which makes the coupling reaction with the compound represented by Formula (1M-3-1b). This coupling reaction is the same as that described for the compound represented by formula (1M).

Figure 0006543902
[式中、
11、R12、R13、R14、R15およびR16は、前記と同じ意味を表す。
およびWは、それぞれ独立に、−B(ORW1で表される基、アルキルスルホニルオキシ基、シクロアルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RW1は、前記と同じ意味を表す。]
Figure 0006543902
[In the formula,
R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 have the same meaning as described above.
W 4 and W 5 each independently represent a group represented by —B (OR W1 ) 2 , an alkylsulfonyloxy group, a cycloalkylsulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom These groups may have a substituent. R W1 represents the same meaning as described above. ]

[製造方法2]
本発明の金属錯体である式(1)で表される金属錯体は、例えば、金属錯体の前駆体と金属錯体の配位子の前駆体とを反応させる方法によっても製造することができる。
[Manufacturing method 2]
The metal complex represented by the formula (1) which is the metal complex of the present invention can also be produced, for example, by a method of reacting a precursor of the metal complex with a precursor of a ligand of the metal complex.

式(1)で表される金属錯体の中で、Mがイリジウム原子であるものは、例えば、
式(1M−2)で表される化合物と、式(1M−4)で表される金属錯体とをカップリング反応させることにより製造することができる。このカップリング反応は、式(1M)で表される化合物について説明したものと同じである。
Among the metal complexes represented by the formula (1), those in which M is an iridium atom are, for example,
It can manufacture by coupling-reacting the compound represented by Formula (1M-2), and the metal complex represented by Formula (1M-4). This coupling reaction is the same as that described for the compound represented by formula (1M).

Figure 0006543902
[式(1M−4)および(1M−2)中、
m、n、Z、Z、Z、Ar、Ar、R11、R12、R13、R14、R15、R16およびWは、前記と同じ意味を表す。
は、−B(ORW1で表される基、アルキルスルホニルオキシ基、シクロアルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RW1は、前記と同じ意味を表す。]
Figure 0006543902
[In the formulas (1M-4) and (1M-2),
m, n, Z 1 , Z 2 , Z 3 , Ar 1 , Ar 2 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 and W 1 have the same meaning as described above.
W 6 represents a group represented by —B (OR W1 ) 2 , an alkylsulfonyloxy group, a cycloalkylsulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, and these groups are substituents May be included. R W1 represents the same meaning as described above. ]

式(1M−4)で表される化合物の実施形態の一つである式(1M−4a)で表される化合物は、式(1M−4a−1)で表される化合物とイリジウム化合物またはその水和物とを反応させることで、式(1M−4a−2)で表される金属錯体を合成する工程A2、および、
式(1M−4a−2)で表される金属錯体と、式(1M−4a−1)で表される化合物とを反応させる工程B2を含む方法により製造することができる。
The compound represented by the formula (1M-4a) which is one of the embodiments of the compound represented by the formula (1M-4) is a compound represented by the formula (1M-4a-1) and an iridium compound or the compound thereof Step A2 of synthesizing a metal complex represented by the formula (1M-4a-2) by reacting with a hydrate, and
It can manufacture by the method including the process B2 which makes the metal complex represented by Formula (1M-4a-2), and the compound represented by Formula (1M-4a-1) react.

Figure 0006543902
Figure 0006543902

この工程A2および工程B2の反応は、それぞれ前記工程A1および工程B2で説明した反応と同じである。   The reactions in step A2 and step B2 are the same as the reactions described in step A1 and step B2, respectively.

[製造方法1および製造方法2におけるカップリング反応]
カップリング反応において、反応を促進するために、パラジウム触媒等の触媒を用いてもよい。パラジウム触媒としては、例えば、酢酸パラジウム、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]ジクロロパラジウム(II)、トリス(ジベンジリデンアセトン)二パラジウム(0)が挙げられる。
[Coupling Reaction in Production Method 1 and Production Method 2]
In the coupling reaction, a catalyst such as a palladium catalyst may be used to promote the reaction. Examples of the palladium catalyst include, for example, palladium acetate, bis (triphenylphosphine) palladium (II) dichloride, tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] dichloropalladium ( II), tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0).

パラジウム触媒は、トリフェニルホスフィン、トリ(o−トリル)ホスフィン、トリ(tert−ブチル)ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン等のリン化合物と併用してもよい。   The palladium catalyst may be used in combination with phosphorus compounds such as triphenylphosphine, tri (o-tolyl) phosphine, tri (tert-butyl) phosphine, tricyclohexylphosphine, 1,1'-bis (diphenylphosphino) ferrocene and the like. .

カップリング反応においてパラジウム触媒を用いる場合、その量は、例えば、式(1M−2)、式(1M−3)または式(1M−4)で表される化合物1モルに対して、通常、有効量であり、好ましくはパラジウム元素換算で、0.00001〜10モルである。   When a palladium catalyst is used in the coupling reaction, its amount is usually effective, for example, with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (1M-2), the formula (1M-3) or the formula (1M-4) The amount is preferably 0.00001 to 10 moles in terms of palladium element.

カップリング反応において、必要に応じて、塩基を併用してもよい。   In the coupling reaction, if necessary, a base may be used in combination.

<金属錯体の製造方法>で説明した各反応において用いられる化合物、触媒および溶媒は、各々、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   The compound, catalyst and solvent used in each reaction described in <Method for producing metal complex> may be used singly or in combination of two or more.

<組成物>
本発明の組成物は、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、発光材料(本発明の金属錯体とは異なる。)、酸化防止剤および溶媒からなる群から選ばれる少なくとも1種の材料と、本発明の金属錯体とを含有する。
<Composition>
The composition of the present invention is selected from the group consisting of a hole transport material, a hole injection material, an electron transport material, an electron injection material, a light emitting material (different from the metal complex of the present invention), an antioxidant and a solvent. It contains at least one material and the metal complex of the present invention.

本発明の組成物において、本発明の金属錯体は、1種単独で含有されていても、2種以上含有されていてもよい。   In the composition of the present invention, the metal complex of the present invention may be contained singly or in combination of two or more.

[ホスト材料]
本発明の金属錯体は、正孔注入性、正孔輸送性、電子注入性および電子輸送性から選ばれる少なくとも1つの機能を有するホスト材料との組成物とすることにより、本発明の金属錯体を用いて得られる発光素子の外部量子効率がより優れたものとなる。本発明の組成物において、ホスト材料は、1種単独で含有されていても、2種以上含有されていてもよい。
[Host material]
The metal complex of the present invention comprises the metal complex of the present invention as a composition with a host material having at least one function selected from hole injecting property, hole transporting property, electron injecting property and electron transporting property. The external quantum efficiency of the light-emitting element obtained by using it becomes more excellent. In the composition of the present invention, the host material may be contained singly or in combination of two or more.

本発明の金属錯体と、ホスト材料とを含有する組成物において、本発明の金属錯体の含有量は、本発明の金属錯体とホスト材料との合計を100重量部とした場合、通常、0.01〜80重量部であり、好ましくは0.05〜40重量部であり、より好ましくは0.1〜20重量部であり、更に好ましくは1〜20重量部である。   In the composition containing the metal complex of the present invention and a host material, the content of the metal complex of the present invention is usually 0. 0 when the total of the metal complex of the present invention and the host material is 100 parts by weight. It is 01 to 80 parts by weight, preferably 0.05 to 40 parts by weight, more preferably 0.1 to 20 parts by weight, and still more preferably 1 to 20 parts by weight.

ホスト材料の有する最低励起三重項状態(T)は、本発明の組成物を用いて得られる発光素子の外部量子効率がより優れるため、本発明の金属錯体の有する最低励起三重項状態(T)と同等のエネルギー準位、または、より高いエネルギー準位であることが好ましい。 The lowest excitation triplet state (T 1 ) of the host material is the lowest excitation triplet state (T 1 ) of the metal complex of the present invention because the external quantum efficiency of the light emitting device obtained using the composition of the present invention is more excellent. It is preferable that the energy level is equal to or higher than 1 ).

ホスト材料としては、本発明の組成物を用いて得られる発光素子を溶液塗布プロセスにて作製する観点から、本発明の金属錯体を溶解することが可能な溶媒に対して溶解性を示すものであることが好ましい。   As a host material, from the viewpoint of producing a light emitting device obtained using the composition of the present invention by a solution coating process, it exhibits solubility in a solvent capable of dissolving the metal complex of the present invention Is preferred.

ホスト材料は、低分子化合物と高分子化合物とに分類される。   Host materials are classified into low molecular weight compounds and high molecular weight compounds.

ホスト材料に用いられる低分子化合物としては、例えば、カルバゾール構造を有する化合物、トリアリールアミン構造を有する化合物、フェナントロリン構造を有する化合物、トリアリールトリアジン構造を有する化合物、アゾール構造を有する化合物、ベンゾチオフェン構造を有する化合物、ベンゾフラン構造を有する化合物、フルオレン構造を有する化合物、スピロフルオレン構造を有する化合物が挙げられる。ホスト材料に用いられる低分子化合物の具体例としては、下記で表される化合物が挙げられる。   As a low molecular weight compound used for a host material, for example, a compound having a carbazole structure, a compound having a triarylamine structure, a compound having a phenanthroline structure, a compound having a triaryltriazine structure, a compound having an azole structure, a benzothiophene structure And compounds having a benzofuran structure, compounds having a fluorene structure, and compounds having a spirofluorene structure. Specific examples of the low molecular weight compound used for the host material include the compounds shown below.

Figure 0006543902
Figure 0006543902

ホスト材料に用いられる高分子化合物としては、例えば、後述の正孔輸送材料である高分子化合物、後述の電子輸送材料である高分子化合物が挙げられる。   Examples of the polymer compound used for the host material include a polymer compound which is a hole transport material described later, and a polymer compound which is an electron transport material described later.

[高分子ホスト]
ホスト化合物として好ましい高分子化合物(以下、「高分子ホスト」ともいう。)に関して説明する。
[Polymer host]
The polymer compound preferable as a host compound (hereinafter, also referred to as "polymer host") will be described.

高分子ホストとしては、式(Y)で表される構成単位を含む高分子化合物であることが好ましい。   The polymer host is preferably a polymer compound containing a constitutional unit represented by the formula (Y).

Figure 0006543902
[式中、ArY1は、アリーレン基、2価の複素環基、または、少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。]
Figure 0006543902
[ Wherein , Ar Y 1 represents an arylene group, a divalent heterocyclic group, or a divalent group in which at least one arylene group and at least one type of divalent heterocyclic group are directly bonded, Groups may have a substituent. ]

ArY1で表されるアリーレン基としては、より好ましくは式(A-1)、式(A-2)、式(A-6)〜式(A-10)、式(A-19)または式(A-20)で表される基であり、更に好ましくは式(A-1)、式(A-2)、式(A-7)、式(A-9)または式(A-19)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 The arylene group represented by Ar Y1 is more preferably a group represented by the formula (A-1), a formula (A-2), a formula (A-6) to a formula (A-10), a formula (A-19) or a formula (A-20), more preferably a group represented by the formula (A-1), a formula (A-2), a formula (A-7), a formula (A-9) or a formula (A-19) And these groups may have a substituent.

ArY1で表される2価の複素環基としては、より好ましくは式(AA-1)〜式(AA-4)、式(AA-10)〜式(AA-15)、式(AA-18)〜式(AA-21)、式(AA-33)または式(AA-34)で表される基であり、更に好ましくは式(AA-4)、式(AA-10)、式(AA-12)、式(AA-14)または式(AA-33)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 More preferably, the divalent heterocyclic group represented by Ar Y1 is represented by Formula (AA-1) to Formula (AA-4), Formula (AA-10) to Formula (AA-15), or Formula (AA-). 18) to a group represented by Formula (AA-21), Formula (AA-33) or Formula (AA-34), and more preferably Formula (AA-4), Formula (AA-10), Formula (AA) AA-12), a group represented by Formula (AA-14) or Formula (AA-33), and these groups may have a substituent.

ArY1で表される少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基における、アリーレン基および2価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲は、それぞれ、前述のArY1で表されるアリーレン基および2価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲と同様である。 More preferable range of an arylene group and a divalent heterocyclic group in a divalent group in which at least one arylene group represented by Ar Y1 and at least one divalent heterocyclic group are directly bonded, further preferable The ranges are respectively the same as the more preferable range and the further preferable range of the arylene group and the divalent heterocyclic group represented by Ar Y1 described above.

「少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基」としては、例えば、下記式で表される基が挙げられ、これらは置換基を有していてもよい。   Examples of “a divalent group in which at least one arylene group and at least one divalent heterocyclic group are directly bonded” include groups represented by the following formulas, and these groups have a substituent It may be done.

Figure 0006543902
[式中、RXXは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。]
Figure 0006543902
[Wherein, R XX represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. ]

XXは、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R XX is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and these groups may have a substituent.

ArY1で表される基が有してもよい置換基としては、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、これらの基は更に置換基を有していてもよい。 The substituent which the group represented by Ar Y1 may have is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and these groups may further have a substituent.

式(Y)で表される構成単位としては、例えば、式(Y-1)〜(Y-10)で表される構成単位が挙げられ、高分子ホストと本発明の金属錯体との組成物を用いた発光素子の輝度寿命の観点からは、好ましくは式(Y-1)、(Y-2)または(Y-3)で表される構成単位であり、電子輸送性の観点からは、好ましくは式(Y-4)〜(Y-7)で表される構成単位であり、正孔輸送性の観点からは、好ましくは式(Y-8)〜(Y-10)で表される構成単位である。   Examples of the structural unit represented by the formula (Y) include structural units represented by the formulas (Y-1) to (Y-10), and a composition of a polymer host and the metal complex of the present invention Preferably, from the viewpoint of the luminance life of the light emitting device using the above, it is a structural unit represented by the formula (Y-1), (Y-2) or (Y-3), and from the viewpoint of the electron transportability, Preferably, they are structural units represented by formulas (Y-4) to (Y-7), and from the viewpoint of hole transportability, they are preferably represented by formulas (Y-8) to (Y-10) It is a structural unit.

Figure 0006543902
[式中、RY1は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRY1は、同一でも異なっていてもよく、隣接するRY1同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。]
Figure 0006543902
[Wherein, R Y1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent] . Plural R Y1 may be the same or different, and adjacent R Y1 may be bonded to each other to form a ring together with the carbon atoms to which they are bonded. ]

Y1は、好ましくは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R Y1 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and these groups may have a substituent.

Figure 0006543902
[式中、RY1は前記と同じ意味を表す。XY1は、−C(RY2)2−、−C(RY2)=C(RY2)−またはC(RY2)2−C(RY2)2−で表される基を表す。RY2は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRY2は、同一でも異なっていてもよく、RY2同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。]
Figure 0006543902
[Wherein, R Y1 represents the same meaning as described above. X Y1 represents a group represented by —C (R Y2 ) 2 —, —C (R Y2 ) = C (R Y2 ) — or C (R Y2 ) 2 —C (R Y2 ) 2 —. R Y2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. A plurality of R Y2 may be the same or different, and R Y2 may be bonded to each other to form a ring together with the carbon atoms to which they are bonded. ]

Y2は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基であり、より好ましくはアルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R Y2 is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, more preferably an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and these groups have a substituent May be

Y1において、−C(RY2)2−で表される基中の2個のRY2の組み合わせは、好ましくは双方がアルキル基もしくはシクロアルキル基、双方がアリール基、双方が1価の複素環基、または、一方がアルキル基もしくはシクロアルキル基で他方がアリール基若しくは1価の複素環基であり、より好ましくは一方がアルキル基もしくはシクロアルキル基で他方がアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。2個存在するRY2は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよく、RY2が環を形成する場合、−C(RY2)2−で表される基としては、好ましくは式(Y-A1)〜(Y-A5)で表される基であり、より好ましくは式(Y-A4)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 In X Y1 , the combination of two R Y2 in the group represented by —C (R Y2 ) 2 — is preferably both an alkyl group or a cycloalkyl group, both are an aryl group, and both are a monovalent complex A ring group, or one of them is an alkyl group or a cycloalkyl group and the other is an aryl group or a monovalent heterocyclic group, more preferably one is an alkyl group or a cycloalkyl group and the other is an aryl group, these groups May have a substituent. Two R Y2 may be bonded to each other to form a ring together with the atoms to which each is bonded, and when R Y2 forms a ring, the group represented by —C (R Y2 ) 2 — Is preferably a group represented by formulas (Y-A1) to (Y-A5), more preferably a group represented by formula (Y-A4), and these groups have a substituent It may be

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Y1において、−C(RY2)=C(RY2)−で表される基中の2個のRY2の組み合わせは、好ましくは双方がアルキル基もしくはシクロアルキル基、または、一方がアルキル基もしくはシクロアルキル基で他方がアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 In X Y1 , the combination of two R Y2 in a group represented by —C (R Y2 ) = C (R Y2 ) — is preferably both an alkyl group or a cycloalkyl group, or one of which is an alkyl group. Or a cycloalkyl group and the other is an aryl group, and these groups may have a substituent.

Y1において、−C(RY2)2−C(RY2)2−で表される基中の4個のRY2は、好ましくは置換基を有していてもよいアルキル基またはシクロアルキル基である。複数あるRY2は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよく、RY2が環を形成する場合、−C(RY2)2−C(RY2)2−で表される基は、好ましくは式(Y-B1)〜(Y-B5)で表される基であり、より好ましくは式(Y-B3)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 In X Y1, -C (R Y2) 2 -C (R Y2) 2 - 4 pieces of R Y2 in the group represented by is preferably an optionally substituted alkyl group or a cycloalkyl group It is. A plurality of R Y2 may be bonded to each other to form a ring together with the atoms to which each is attached, and in the case where R Y2 forms a ring, -C (R Y2 ) 2 -C (R Y2 ) 2- The group represented is preferably a group represented by formulas (Y-B1) to (Y-B5), more preferably a group represented by formula (Y-B3), and these groups are substituted It may have a group.

Figure 0006543902
[式中、RY2は前記と同じ意味を表す。]
Figure 0006543902
[Wherein, R Y2 represents the same meaning as described above. ]

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
[式中、RY1は前記と同じ意味を表す。RY3は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。]
Figure 0006543902
[Wherein, R Y1 represents the same meaning as described above. R Y3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. ]

Y3は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基であり、より好ましくはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R Y3 is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, more preferably an aryl group, and these groups have a substituent May be

Figure 0006543902
[式中、RY1は前記を同じ意味を表す。RY4は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。]
Figure 0006543902
[Wherein, R Y1 represents the same meaning as described above. R Y4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. ]

Y4は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基であり、より好ましくはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R Y4 is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, more preferably an aryl group, and these groups have a substituent May be

式(Y)で表される構成単位としては、例えば、式(Y-101)〜(Y-121)で表されるアリーレン基からなる構成単位、式(Y-201)〜(Y-206)で表される2価の複素環基からなる構成単位、式(Y-301)〜(Y-304)で表される少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基からなる構成単位が挙げられる。   As the structural unit represented by the formula (Y), for example, structural units consisting of arylene groups represented by the formulas (Y-101) to (Y-121), formulas (Y-201) to (Y-206) Wherein at least one arylene group represented by the formulas (Y-301) to (Y-304) and at least one bivalent heterocyclic group are The structural unit which consists of the bivalent group directly couple | bonded is mentioned.

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
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Figure 0006543902
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Figure 0006543902
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Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
Figure 0006543902

式(Y)で表される構成単位であって、ArY1がアリーレン基である構成単位は、高分子ホストと本発明の金属錯体との組成物を用いた発光素子の輝度寿命が優れるので、高分子化合物に含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは0.5〜100モル%であり、より好ましくは60〜95モル%である。 The structural unit represented by the formula (Y), in which Ar Y1 is an arylene group, is excellent in luminance life of a light emitting device using a composition of a polymer host and the metal complex of the present invention, Preferably it is 0.5-100 mol% with respect to the total amount of the structural unit contained in a high molecular compound, More preferably, it is 60-95 mol%.

式(Y)で表される構成単位であって、ArY1が2価の複素環基、または、少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基である構成単位は、高分子ホストと本発明の金属錯体との組成物を用いた発光素子の電荷輸送性が優れるので、高分子化合物に含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは0.5〜30モル%であり、より好ましくは3〜20モル%である。 A constituent unit represented by the formula (Y), wherein Ar Y 1 is a divalent heterocyclic group, or a bivalent in which at least one arylene group and at least one divalent heterocyclic group are directly bonded. Since the charge transport property of the light emitting device using the composition of the polymer host and the metal complex of the present invention is excellent, the structural unit which is a group of is preferably relative to the total amount of the structural units contained in the polymer compound. Is 0.5 to 30 mol%, more preferably 3 to 20 mol%.

式(Y)で表される構成単位は、高分子ホスト中に、1種のみ含まれていてもよく、2種以上含まれていてもよい。   The constituent unit represented by the formula (Y) may be contained alone in the polymer host, or two or more kinds may be contained.

高分子ホストは、正孔輸送性が優れるので、更に、下記式(X)で表される構成単位を含むことが好ましい。   It is preferable that the polymer host further includes a structural unit represented by the following formula (X) because the polymer host is excellent in hole transportability.

Figure 0006543902
[式中、aX1およびaX2は、それぞれ独立に、0以上の整数を表す。ArX1およびArX3は、それぞれ独立に、アリーレン基または2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ArX2およびArX4は、それぞれ独立に、アリーレン基、2価の複素環基、または、少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ArX2およびArX4が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。RX1、RX2およびRX3は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RX2およびRX3が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。]
Figure 0006543902
[ Wherein , a X1 and a X2 each independently represent an integer of 0 or more. Ar X1 and Ar X3 each independently represent an arylene group or a divalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. Ar X2 and Ar X4 each independently represent an arylene group, a divalent heterocyclic group, or a divalent group in which at least one arylene group and at least one divalent heterocyclic group are directly bonded These groups may have a substituent. When a plurality of Ar X2 and Ar X4 are present, they may be the same or different. Each of R X1 , R X2 and R X3 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. When a plurality of R X2 and R X3 exist, they may be the same or different. ]

X1は、高分子ホストと本発明の金属錯体との組成物を用いた発光素子の輝度寿命が優れるので、好ましくは2以下であり、より好ましくは1である。 a X1 is preferably 2 or less, more preferably 1, because the luminance lifetime of the light emitting device using the composition of the polymer host and the metal complex of the present invention is excellent.

X2は、高分子ホストと本発明の金属錯体との組成物を用いた発光素子の輝度寿命が優れるので、好ましくは2以下であり、より好ましくは0である。 a X 2 is preferably 2 or less, more preferably 0, because the luminance lifetime of the light emitting device using the composition of the polymer host and the metal complex of the present invention is excellent.

X1、RX2およびRX3は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基であり、より好ましくはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R X1 , R X2 and R X3 are preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, more preferably an aryl group, these groups having a substituent It is also good.

ArX1およびArX3で表されるアリーレン基としては、より好ましくは式(A-1)または式(A-9)で表される基であり、更に好ましくは式(A-1)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 The arylene group represented by Ar X1 and Ar X3 is more preferably a group represented by Formula (A-1) or Formula (A-9), and still more preferably a group represented by Formula (A-1) These groups may have a substituent.

ArX1およびArX3で表される2価の複素環基としては、より好ましくは式(AA-1)、式(AA-2)または式(AA-7)〜式(AA-26)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 More preferably, the divalent heterocyclic group represented by Ar X1 and Ar X3 is represented by Formula (AA-1), Formula (AA-2) or Formula (AA-7) to Formula (AA-26). These groups may have a substituent.

ArX1およびArX3は、好ましくは置換基を有していてもよいアリーレン基である。 Ar X1 and Ar X3 are preferably arylene groups which may have a substituent.

ArX2およびArX4で表されるアリーレン基としては、より好ましくは式(A-1)、式(A-6)、式(A-7)、式(A-9)〜式(A-11)または式(A-19)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 The arylene group represented by Ar X2 and Ar X4 is more preferably a group represented by the formula (A-1), a formula (A-6), a formula (A-7) or a formula (A-9) to a formula (A-11) Or a group represented by formula (A-19), and these groups may have a substituent.

ArX2およびArX4で表される2価の複素環基のより好ましい範囲は、ArX1およびArX3で表される2価の複素環基のより好ましい範囲と同じである。 The preferred range of the divalent heterocyclic group represented by Ar X2 and Ar X4 is the same as the preferred range of the divalent heterocyclic group represented by Ar X1 and Ar X3 .

ArX2およびArX4で表される少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基における、アリーレン基および2価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲は、それぞれ、ArX1およびArX3で表されるアリーレン基および2価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲と同様である。 More preferable range of arylene group and divalent heterocyclic group in a divalent group in which at least one arylene group represented by Ar X2 and Ar X4 and at least one divalent heterocyclic group are directly bonded And the more preferable ranges are respectively the same as the more preferable ranges and the more preferable ranges of the arylene group and the divalent heterocyclic group represented by Ar X1 and Ar X3 respectively.

ArX2およびArX4で表される少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基としては、式(Y)のArY1で表される少なくとも1種のアリーレン基と少なくとも1種の2価の複素環基とが直接結合した2価の基と同様のものが挙げられる。 Examples of the divalent group in which at least one arylene group represented by Ar X2 and Ar X4 and at least one divalent heterocyclic group are directly bonded to each other include at least one represented by Ar Y1 of the formula (Y) The same groups as the divalent group in which one kind of arylene group and at least one kind of divalent heterocyclic group are directly bonded to each other can be mentioned.

ArX2およびArX4は、好ましくは置換基を有していてもよいアリーレン基である。 Ar X2 and Ar X4 are preferably arylene groups which may have a substituent.

ArX1〜ArX4およびRX1〜RX3で表される基が有してもよい置換基としては、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、これらの基は更に置換基を有していてもよい。 The substituent which the group represented by Ar X1 to Ar X4 and R X1 to R X3 may have is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and these groups further have a substituent. It may be done.

式(X)で表される構成単位としては、好ましくは式(X-1)〜(X-7)で表される構成単位であり、より好ましくは式(X-1)〜(X-6)で表される構成単位であり、更に好ましくは式(X-3)〜(X-6)で表される構成単位である。   The structural unit represented by formula (X) is preferably a structural unit represented by formulas (X-1) to (X-7), and more preferably formulas (X-1) to (X-6) Or more preferably structural units represented by formulas (X-3) to (X-6).

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
Figure 0006543902

Figure 0006543902
[式中、RX4およびRX5は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、1価の複素環基またはシアノ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRX4は、同一でも異なっていてもよい。複数存在するRX5は、同一でも異なっていてもよく、隣接するRX5同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。]
Figure 0006543902
[Wherein, R X4 and R X5 are each independently a hydrogen atom, alkyl group, cycloalkyl group, alkoxy group, cycloalkoxy group, aryl group, aryloxy group, halogen atom, monovalent heterocyclic group or cyano Represents a group, and these groups may have a substituent. A plurality of R X4 may be the same or different. Plural R X5 s may be the same or different, and adjacent R X5 s may be bonded to each other to form a ring together with the carbon atoms to which they are bonded. ]

式(X)で表される構成単位は、正孔輸送性が優れるので、高分子ホストに含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは0.1〜50モル%であり、より好ましくは1〜40モル%であり、更に好ましくは2〜30モル%である。   The structural unit represented by the formula (X) is excellent in hole transportability, and is preferably 0.1 to 50 mol%, more preferably 1 to 50 mol%, based on the total amount of the structural units contained in the polymer host. It is 40 mol%, more preferably 2 to 30 mol%.

式(X)で表される構成単位としては、例えば、式(X1-1)〜(X1-11)で表される構成単位が挙げられ、好ましくは式(X1-3)〜(X1-10)で表される構成単位である。   Examples of the structural unit represented by the formula (X) include structural units represented by the formulas (X1-1) to (X1-11), preferably a group represented by the formulas (X1-3) to (X1-10) It is a structural unit represented by).

Figure 0006543902
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Figure 0006543902
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Figure 0006543902
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Figure 0006543902
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高分子ホストにおいて、式(X)で表される構成単位は、1種のみ含まれていても、2種以上含まれていてもよい。   In the polymer host, the constitutional unit represented by the formula (X) may be contained alone or in combination of two or more.

高分子ホストとしては、例えば、下記表1の高分子化合物P−1〜P−7が挙げられる。   Examples of the polymer host include polymer compounds P-1 to P-7 in Table 1 below.

Figure 0006543902

[表中、p、q、r、sおよびtは、各構成単位のモル比率を示す。p+q+r+s+t=100であり、かつ、100≧p+q+r+s≧70である。その他の構成単位とは、式(Y)で表される構成単位、式(X)で表される構成単位以外の構成単位を意味する。]
Figure 0006543902

[In the table, p, q, r, s and t indicate the molar ratio of each constituent unit. p + q + r + s + t = 100, and 100 p p + q + r + s 70 70. The other structural unit means a structural unit other than the structural unit represented by Formula (Y) and the structural unit represented by Formula (X). ]

高分子ホストは、ブロック共重合体、ランダム共重合体、交互共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよいし、その他の態様であってもよいが、上記観点から、複数種の原料モノマーを共重合してなる共重合体であることが好ましい。   The polymer host may be any of a block copolymer, a random copolymer, an alternating copolymer, and a graft copolymer, and may have other embodiments, but from the above viewpoint, plural types of polymers may be used. It is preferable that it is a copolymer formed by copolymerizing a raw material monomer.

<高分子ホストの製造方法>
高分子ホストは、ケミカル レビュー(Chem.Rev.),第109巻,897−1091頁(2009年)等に記載の公知の重合方法を用いて製造することができ、Suzuki反応、Yamamoto反応、Buchwald反応、Stille反応、Negishi反応およびKumada反応等の遷移金属触媒を用いるカップリング反応により重合させる方法が例示される。
<Method for producing polymer host>
The polymer host can be produced using a known polymerization method described in Chemical Review (Chem. Rev.), Vol. 109, 897-1091 (2009), etc., and the Suzuki reaction, Yamamoto reaction, Buchwald, etc. Examples thereof include a method of polymerization by a coupling reaction using a transition metal catalyst such as a reaction, a Stille reaction, a Negishi reaction, and a Kumada reaction.

前記重合方法において、単量体を仕込む方法としては、単量体全量を反応系に一括して仕込む方法、単量体の一部を仕込んで反応させた後、残りの単量体を一括、連続または分割して仕込む方法、単量体を連続または分割して仕込む方法等が挙げられる。   In the above-mentioned polymerization method, as a method of charging the monomers, a method of charging the whole amount of the monomers at once into the reaction system, charging a part of the monomers and reacting them, then batching the remaining monomers, A method of charging continuously or by division, a method of charging monomers continuously or by division, etc. may be mentioned.

遷移金属触媒としては、特に限定されないが、パラジウム触媒、ニッケル触媒が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a transition metal catalyst, A palladium catalyst and a nickel catalyst are mentioned.

重合反応の後処理は、公知の方法、例えば、分液により水溶性不純物を除去する方法、メタノール等の低級アルコールに重合反応後の反応液を加えて、析出させた沈殿を濾過した後、乾燥させる方法等を単独または組み合わせて行う。高分子ホストの純度が低い場合、例えば、再結晶、再沈殿、ソックスレー抽出器による連続抽出、カラムクロマトグラフィー等の通常の方法にて精製することができる。   Post-treatment of the polymerization reaction is carried out by a known method, for example, a method of removing water-soluble impurities by liquid separation, adding a reaction solution after the polymerization reaction to a lower alcohol such as methanol, filtering the deposited precipitate and drying it. The method of making it etc. is performed alone or in combination. When the purity of the polymer host is low, it can be purified by a usual method such as recrystallization, reprecipitation, continuous extraction with a Soxhlet extractor, column chromatography and the like.

本発明の金属錯体および溶媒を含有する組成物(以下、「インク」ということがある。)は、インクジェットプリント法、ノズルプリント法等の印刷法を用いた発光素子の作製に好適である。   The composition containing the metal complex of the present invention and a solvent (hereinafter sometimes referred to as "ink") is suitable for producing a light emitting device using a printing method such as an inkjet printing method or a nozzle printing method.

インクの粘度は、印刷法の種類によって調整すればよいが、インクジェットプリント法等の溶液が吐出装置を経由する印刷法に適用する場合には、吐出時の目づまりと飛行曲がりを防止するために、好ましくは25℃において1〜20mPa・sである。   The viscosity of the ink may be adjusted according to the type of printing method, but in the case where a solution such as an inkjet printing method is applied to a printing method via a discharge device, in order to prevent clogging at the discharge and flying deflection. And preferably 1 to 20 mPa · s at 25 ° C.

インクに含まれる溶媒は、該インク中の固形分を溶解または均一に分散できる溶媒が好ましい。溶媒としては、例えば、1,2-ジクロロエタン、1,1,2-トリクロロエタン、クロロベンゼン、o-ジクロロベンゼン等の塩素系溶媒;テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソール、4-メチルアニソール等のエーテル系溶媒;トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、n-ヘキシルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、n-ペンタン、n-ヘキサン、n-へプタン、n-オクタン、n-ノナン、n-デカン、n-ドデカン、ビシクロヘキシル等の脂肪族炭化水素系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノン等のケトン系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート、安息香酸メチル、酢酸フェニル等のエステル系溶媒;エチレングリコール、グリセリン、1,2-ヘキサンジオール等の多価アルコール系溶媒;イソプロピルアルコール、シクロヘキサノール等のアルコール系溶媒;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒;N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒が挙げられる。溶媒は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   The solvent contained in the ink is preferably a solvent capable of dissolving or uniformly dispersing the solid content in the ink. As the solvent, for example, chlorinated solvents such as 1,2-dichloroethane, 1,1,2-trichloroethane, chlorobenzene, o-dichlorobenzene, etc .; ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, anisole, 4-methylanisole; toluene, Aromatic hydrocarbon solvents such as xylene, mesitylene, ethylbenzene, n-hexylbenzene, cyclohexylbenzene; cyclohexane, methylcyclohexane, n-pentane, n-hexane, n-heptane, n-octane, n-nonane, n- Aliphatic hydrocarbon solvents such as decane, n-dodecane and bicyclohexyl; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone and acetophenone; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl cellsolve acetate, methyl benzoate and phenyl acetate System solvents; ethylene glycol, Polyhydric alcohol solvents such as serine and 1,2-hexanediol; alcohol solvents such as isopropyl alcohol and cyclohexanol; sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide; N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide and the like And amide solvents of the following. The solvents may be used alone or in combination of two or more.

インクにおいて、溶媒の配合量は、本発明の金属錯体100重量部に対して、通常、1000〜100000重量部であり、好ましくは2000〜20000重量部である。   In the ink, the compounding amount of the solvent is usually 1000 to 100000 parts by weight, preferably 2000 to 20 000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the metal complex of the present invention.

[正孔輸送材料]
正孔輸送材料は、低分子化合物と高分子化合物とに分類され、高分子化合物が好ましく、架橋基を有する高分子化合物がより好ましい。
[Hole transport material]
The hole transport material is classified into a low molecular weight compound and a high molecular weight compound, a high molecular weight compound is preferable, and a high molecular weight compound having a crosslinking group is more preferable.

高分子化合物としては、例えば、ポリビニルカルバゾールおよびその誘導体;側鎖または主鎖に芳香族アミン構造を有するポリアリーレンおよびその誘導体が挙げられる。高分子化合物は、電子受容性部位が結合された化合物でもよい。電子受容性部位としては、例えば、フラーレン、テトラフルオロテトラシアノキノジメタン、テトラシアノエチレン、トリニトロフルオレノン等が挙げられ、好ましくはフラーレンである。   Examples of the polymer compound include polyvinylcarbazole and derivatives thereof; polyarylenes having an aromatic amine structure in the side chain or main chain and derivatives thereof. The macromolecular compound may be a compound having an electron accepting moiety bound thereto. Examples of the electron accepting moiety include fullerene, tetrafluorotetracyanoquinodimethane, tetracyanoethylene, trinitrofluorenone and the like, with preference given to fullerene.

本発明の組成物において、正孔輸送材料の配合量は、本発明の金属錯体100重量部に対して、通常、1〜400重量部であり、好ましくは5〜150重量部である。   In the composition of the present invention, the compounding amount of the hole transport material is usually 1 to 400 parts by weight, preferably 5 to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the metal complex of the present invention.

正孔輸送材料は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   The hole transport material may be used alone or in combination of two or more.

[電子輸送材料]
電子輸送材料は、低分子化合物と高分子化合物とに分類される。電子輸送材料は、架橋基を有していてもよい。
[Electron transport material]
Electron transport materials are classified into low molecular weight compounds and high molecular weight compounds. The electron transport material may have a crosslinking group.

低分子化合物としては、例えば、8-ヒドロキシキノリンを配位子とする金属錯体、オキサジアゾール、アントラキノジメタン、ベンゾキノン、ナフトキノン、アントラキノン、テトラシアノアントラキノジメタン、フルオレノン、ジフェニルジシアノエチレンおよびジフェノキノン、並びに、これらの誘導体が挙げられる。   Examples of low molecular weight compounds include metal complexes having 8-hydroxyquinoline as a ligand, oxadiazole, anthraquinodimethane, benzoquinone, naphthoquinone, anthraquinone, tetracyanoanthraquinodimethane, fluorenone, diphenyldicyanoethylene and diphenoquinone. And as well as their derivatives.

高分子化合物としては、例えば、ポリフェニレン、ポリフルオレン、および、これらの誘導体が挙げられる。高分子化合物は、金属でドープされていてもよい。   Examples of the polymer compound include polyphenylene, polyfluorene, and derivatives thereof. The polymer compound may be doped with metal.

本発明の組成物において、電子輸送材料の配合量は、本発明の金属錯体100重量部に対して、通常、1〜400重量部であり、好ましくは5〜150重量部である。   In the composition of the present invention, the compounding amount of the electron transporting material is usually 1 to 400 parts by weight, preferably 5 to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the metal complex of the present invention.

電子輸送材料は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   The electron transporting material may be used alone or in combination of two or more.

[正孔注入材料および電子注入材料]
正孔注入材料および電子注入材料は、各々、低分子化合物と高分子化合物とに分類される。正孔注入材料および電子注入材料は、架橋基を有していてもよい。
[Hole injection material and electron injection material]
Hole injection materials and electron injection materials are each classified into low molecular weight compounds and high molecular weight compounds. The hole injecting material and the electron injecting material may have a crosslinking group.

低分子化合物としては、例えば、銅フタロシアニン等の金属フタロシアニン;カーボン;モリブデン、タングステン等の金属酸化物;フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化セシウム、フッ化カリウム等の金属フッ化物が挙げられる。   As a low molecular weight compound, metal phthalocyanines, such as copper phthalocyanine; Carbon; Metal oxides, such as molybdenum and tungsten; Metal fluorides, such as lithium fluoride, sodium fluoride, cesium fluoride, potassium fluoride, etc. are mentioned, for example.

高分子化合物としては、例えば、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレン、ポリキノリンおよびポリキノキサリン、並びに、これらの誘導体;式(X)で表される基を主鎖または側鎖に含む重合体等の導電性高分子が挙げられる。   As the polymer compound, for example, polyaniline, polythiophene, polypyrrole, polyphenylenevinylene, polythienylenevinylene, polyquinoline and polyquinoxaline, and derivatives thereof; containing a group represented by the formula (X) in the main chain or side chain Conducting polymers, such as a polymer, are mentioned.

本発明の組成物において、正孔注入材料および電子注入材料の配合量は、各々、本発明の金属錯体100重量部に対して、通常、1〜400重量部であり、好ましくは5〜150重量部である。   In the composition of the present invention, the compounding amount of the hole injecting material and the electron injecting material is generally 1 to 400 parts by weight, preferably 5 to 150 parts by weight, per 100 parts by weight of the metal complex of the present invention. It is a department.

正孔注入材料および電子注入材料は、各々、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   The hole injecting material and the electron injecting material may be used alone or in combination of two or more.

[イオンドープ]
正孔注入材料または電子注入材料が導電性高分子を含む場合、導電性高分子の電気伝導度は、好ましくは、1×10-5S/cm〜1×103S/cmである。導電性高分子の電気伝導度をかかる範囲とするために、導電性高分子に適量のイオンをドープすることができる。
[Ion doping]
When the hole injecting material or the electron injecting material contains a conductive polymer, the conductivity of the conductive polymer is preferably 1 × 10 −5 S / cm to 1 × 10 3 S / cm. The conductive polymer can be doped with an appropriate amount of ions in order to bring the conductivity of the conductive polymer into such a range.

ドープするイオンの種類は、正孔注入材料であればアニオン、電子注入材料であればカチオンである。アニオンとしては、例えば、ポリスチレンスルホン酸イオン、アルキルベンゼンスルホン酸イオン、樟脳スルホン酸イオンが挙げられる。カチオンとしては、例えば、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオンが挙げられる。   The type of ion to be doped is an anion if it is a hole injecting material, and a cation if it is an electron injecting material. Examples of the anion include polystyrene sulfonate ion, alkyl benzene sulfonate ion and camphor sulfonate ion. Examples of the cation include lithium ion, sodium ion, potassium ion and tetrabutyl ammonium ion.

ドープするイオンは、一種のみでも二種以上でもよい。   The ion to be doped may be one kind or two or more kinds.

[発光材料]
発光材料(本発明の金属錯体とは異なる。)は、低分子化合物と高分子化合物とに分類される。発光材料は、架橋基を有していてもよい。
[Light emitting material]
Light emitting materials (different from the metal complex of the present invention) are classified into low molecular weight compounds and high molecular weight compounds. The light emitting material may have a crosslinking group.

低分子化合物としては、例えば、ナフタレンおよびその誘導体、アントラセンおよびその誘導体、ペリレンおよびその誘導体、並びに、イリジウム、白金またはユーロピウムを中心金属とする三重項発光錯体が挙げられる。   The low molecular weight compounds include, for example, naphthalene and its derivatives, anthracene and its derivatives, perylene and its derivatives, and a triplet light emitting complex having iridium, platinum or europium as a central metal.

高分子化合物としては、例えば、フェニレン基、ナフタレンジイル基、フルオレンジイル基、フェナントレンジイル基、ジヒドロフェナントレンジイル基、式(X)で表される基、カルバゾールジイル基、フェノキサジンジイル基、フェノチアジンジイル基、アントラセンジイル基、ピレンジイル基等を含む高分子化合物が挙げられる。   As the polymer compound, for example, phenylene group, naphthalenediyl group, fluorenedyl group, phenanthrendiyl group, dihydrophenanthrendiyl group, group represented by formula (X), carbazole diyl group, phenoxazine diyl group, phenothiazine diyl Examples thereof include polymer compounds containing a group, an anthracenediyl group, a pyrenediyl group and the like.

発光材料は、低分子化合物および高分子化合物を含んでいてもよく、好ましくは、三重項発光錯体および高分子化合物を含む。   The light emitting material may include low molecular weight compounds and high molecular weight compounds, and preferably includes triplet light emitting complexes and high molecular weight compounds.

三重項発光錯体としては、例えば、以下に示す金属錯体が挙げられる。   As a triplet light emission complex, the metal complex shown below is mentioned, for example.

Figure 0006543902
Figure 0006543902

本発明の組成物において、発光材料の含有量は、本発明の金属錯体100重量部に対して、通常、0.1〜400重量部である。   In the composition of the present invention, the content of the light emitting material is usually 0.1 to 400 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the metal complex of the present invention.

[酸化防止剤]
酸化防止剤は、本発明の金属錯体と同じ溶媒に可溶であり、発光および電荷輸送を阻害しない化合物であればよく、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤が挙げられる。
[Antioxidant]
The antioxidant may be a compound which is soluble in the same solvent as the metal complex of the present invention and does not inhibit light emission and charge transport, and examples thereof include phenol-based antioxidants and phosphorus-based antioxidants.

本発明の組成物において、酸化防止剤の配合量は、本発明の金属錯体100重量部に対して、通常、0.001〜10重量部である。   In the composition of the present invention, the blending amount of the antioxidant is usually 0.001 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the metal complex of the present invention.

酸化防止剤は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   The antioxidant may be used alone or in combination of two or more.

<膜>
膜は、本発明の金属錯体を含有する。
<Membrane>
The membrane contains the metal complex of the present invention.

膜には、本発明の金属錯体を架橋により溶媒に対して不溶化させた、不溶化膜も含まれる。不溶化膜は、本発明の金属錯体を加熱、光照射等の外部刺激により架橋させて得られる膜である。不溶化膜は、溶媒に実質的に不溶であるため、発光素子の積層化に好適に使用することができる。   The film also includes an insolubilized film in which the metal complex of the present invention is insolubilized by crosslinking to a solvent. The insolubilized film is a film obtained by crosslinking the metal complex of the present invention by an external stimulus such as heating or light irradiation. Since the insolubilized film is substantially insoluble in the solvent, it can be suitably used for laminating the light emitting element.

膜を架橋させるための加熱の温度は、通常、25〜300℃であり、外部量子効率が良好になるので、好ましくは50〜250℃であり、より好ましくは150〜200℃である。   The heating temperature for crosslinking the film is usually 25 to 300 ° C., and preferably 50 to 250 ° C., more preferably 150 to 200 ° C. because the external quantum efficiency is good.

膜を架橋させるための光照射に用いられる光の種類は、例えば、紫外光、近紫外光、可視光である。   The type of light used for light irradiation to crosslink the film is, for example, ultraviolet light, near ultraviolet light, and visible light.

膜は、発光素子における発光層として好適である。   The film is suitable as a light emitting layer in a light emitting device.

膜は、インクを用いて、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェット印刷法、キャピラリ−コート法、ノズルコート法により作製することができる。   The film is formed using an ink, for example, spin coating method, casting method, microgravure coating method, gravure coating method, bar coating method, bar coating method, roll coating method, wire bar coating method, dip coating method, spray coating method, screen printing method And flexo printing, offset printing, ink jet printing, capillary coating, and nozzle coating.

膜の厚さは、通常、1nm〜10μmである。   The thickness of the film is usually 1 nm to 10 μm.

<発光素子>
本発明の発光素子は、本発明の金属錯体を用いて得られる発光素子であり、本発明の金属錯体が分子内または分子間で架橋されたものであってもよく、本発明の金属錯体が分子内および分子間で架橋されたものであってもよい。
本発明の発光素子の構成としては、例えば、陽極および陰極からなる電極と、該電極間に設けられた本発明の金属錯体を用いて得られる層とを有する。
<Light emitting element>
The light emitting device of the present invention is a light emitting device obtained by using the metal complex of the present invention, and the metal complex of the present invention may be intramolecularly or intermolecularly cross-linked, and the metal complex of the present invention is It may be crosslinked intramolecularly and intermolecularly.
The structure of the light emitting device of the present invention includes, for example, an electrode composed of an anode and a cathode, and a layer obtained using the metal complex of the present invention provided between the electrodes.

[層構成]
本発明の金属錯体を用いて得られる層は、通常、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層の1種以上の層であり、好ましくは、発光層である。これらの層は、各々、発光材料、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料を含む。これらの層は、各々、発光材料、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料を、上述した溶媒に溶解させ、インクを調製して用い、上述した膜の作製と同じ方法を用いて形成することができる。
[Layer structure]
The layer obtained using the metal complex of the present invention is usually at least one layer of a light emitting layer, a hole transporting layer, a hole injecting layer, an electron transporting layer and an electron injecting layer, preferably a light emitting layer is there. Each of these layers contains a light emitting material, a hole transporting material, a hole injecting material, an electron transporting material, and an electron injecting material. These layers are prepared by dissolving the light emitting material, the hole transporting material, the hole injecting material, the electron transporting material, and the electron injecting material in the above-mentioned solvent, preparing the ink, and using the same film as the above-mentioned film It can be formed using the method.

発光素子は、陽極と陰極の間に発光層を有する。本発明の発光素子は、正孔注入性および正孔輸送性の観点からは、陽極と発光層との間に、正孔注入層および正孔輸送層の少なくとも1層を有することが好ましく、電子注入性および電子輸送性の観点からは、陰極と発光層の間に、電子注入層および電子輸送層の少なくとも1層を有することが好ましい。   The light emitting element has a light emitting layer between the anode and the cathode. The light emitting device of the present invention preferably has at least one of a hole injecting layer and a hole transporting layer between the anode and the light emitting layer, from the viewpoint of hole injecting property and hole transporting property, From the viewpoint of injectability and electron transportability, it is preferable to have at least one of an electron injection layer and an electron transport layer between the cathode and the light emitting layer.

正孔輸送層、電子輸送層、発光層、正孔注入層および電子注入層の材料としては、本発明の金属錯体の他、各々、上述した正孔輸送材料、電子輸送材料、発光材料、正孔注入材料および電子注入材料が挙げられる。   As materials of the hole transport layer, the electron transport layer, the light emitting layer, the hole injection layer and the electron injection layer, in addition to the metal complex of the present invention, the above-mentioned hole transport material, electron transport material, light emitting material, positive A hole injection material and an electron injection material can be mentioned.

正孔輸送層の材料、電子輸送層の材料および発光層の材料は、発光素子の作製において、各々、正孔輸送層、電子輸送層および発光層に隣接する層の形成時に使用される溶媒に溶解する場合、該溶媒に該材料が溶解することを回避するために、該材料が架橋基を有することが好ましい。架橋基を有する材料を用いて各層を形成した後、該架橋基を架橋させることにより、該層を不溶化させることができる。   The material of the hole transport layer, the material of the electron transport layer and the material of the light emitting layer are respectively used as solvents used in forming the hole transport layer, the electron transport layer and the layer adjacent to the light emitting layer in the preparation of the light emitting device. When dissolving, it is preferable that the material has a crosslinking group in order to avoid dissolving the material in the solvent. After each layer is formed using a material having a crosslinking group, the layer can be insolubilized by crosslinking the crosslinking group.

本発明の発光素子において、発光層、正孔輸送層、電子輸送層、正孔注入層、電子注入層等の各層の形成方法としては、低分子化合物を用いる場合、例えば、粉末からの真空蒸着法、溶液または溶融状態からの成膜による方法が挙げられ、高分子化合物を用いる場合、例えば、溶液または溶融状態からの成膜による方法が挙げられる。   In the case of using a low molecular weight compound as a method of forming each layer such as a light emitting layer, a hole transport layer, an electron transport layer, a hole injection layer, an electron injection layer in the light emitting device of the present invention, vacuum evaporation from powder, for example The method includes film formation from a solution or a molten state, and when using a polymer compound, for example, film formation from a solution or a molten state.

積層する層の順番、数および厚さは、外部量子効率および素子寿命を勘案して調整すればよい。   The order, number and thickness of layers to be stacked may be adjusted in consideration of the external quantum efficiency and the device life.

[基板/電極]
発光素子における基板は、電極を形成することができ、かつ、有機層を形成する際に化学的に変化しない基板であればよく、例えば、ガラス、プラスチック、シリコン等の材料からなる基板である。不透明な基板の場合には、基板から最も遠くにある電極が透明または半透明であることが好ましい。
[Substrate / electrode]
The substrate in the light emitting element may be any substrate that can form an electrode and does not change chemically when forming an organic layer, and is, for example, a substrate made of a material such as glass, plastic, or silicon. In the case of an opaque substrate, it is preferred that the electrode furthest from the substrate be transparent or translucent.

陽極の材料としては、例えば、導電性の金属酸化物、半透明の金属が挙げられ、好ましくは、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ;インジウム・スズ・オキサイド(ITO)、インジウム・亜鉛・オキサイド等の導電性化合物;銀とパラジウムと銅との複合体(APC);NESA、金、白金、銀、銅である。   Examples of the material of the anode include conductive metal oxides and semitransparent metals, preferably indium oxide, zinc oxide, tin oxide; indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide, etc. Conductive compounds; complexes of silver, palladium and copper (APC); NESA, gold, platinum, silver, copper.

陰極の材料としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、亜鉛、インジウム等の金属;それらのうち2種以上の合金;それらのうち1種以上と、銀、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうち1種以上との合金;並びに、グラファイトおよびグラファイト層間化合物が挙げられる。合金としては、例えば、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、カルシウム−アルミニウム合金が挙げられる。
陽極および陰極は、各々、2層以上の積層構造としてもよい。
The material of the cathode includes, for example, metals such as lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, beryllium, magnesium, calcium, strontium, barium, aluminum, zinc and indium; alloys of two or more of them; one of them And alloys thereof with one or more species of silver, copper, manganese, titanium, cobalt, nickel, tungsten, tin; and graphite and graphite intercalation compounds. Examples of the alloy include magnesium-silver alloy, magnesium-indium alloy, magnesium-aluminum alloy, indium-silver alloy, lithium-aluminum alloy, lithium-magnesium alloy, lithium-indium alloy, and calcium-aluminum alloy.
The anode and the cathode may each have a laminated structure of two or more layers.

[用途]
発光素子を用いて面状の発光を得るためには、面状の陽極と陰極が重なり合うように配置すればよい。パターン状の発光を得るためには、面状の発光素子の表面にパターン状の窓を設けたマスクを設置する方法、非発光部にしたい層を極端に厚く形成し実質的に非発光とする方法、陽極もしくは陰極、または、両方の電極をパターン状に形成する方法がある。これらのいずれかの方法でパターンを形成し、いくつかの電極を独立にON/OFFできるように配置することにより、数字、文字等を表示できるセグメントタイプの表示装置が得られる。ドットマトリックス表示装置とするためには、陽極と陰極を共にストライプ状に形成して直交するように配置すればよい。複数の種類の発光色の異なる高分子化合物を塗り分ける方法、カラーフィルターまたは蛍光変換フィルターを用いる方法により、部分カラー表示、マルチカラー表示が可能となる。ドットマトリックス表示装置は、パッシブ駆動も可能であるし、TFT等と組み合わせてアクティブ駆動も可能である。これらの表示装置は、コンピュータ、テレビ、携帯端末等のディスプレイに用いることができる。面状の発光素子は、液晶表示装置のバックライト用の面状光源、または、面状の照明用光源として好適に用いることができる。フレキシブルな基板を用いれば、曲面状の光源および表示装置としても使用できる。
[Use]
In order to obtain planar light emission using a light emitting element, a planar anode and a cathode may be arranged to overlap. In order to obtain pattern-like light emission, a method of installing a mask provided with a pattern-like window on the surface of a planar light-emitting element is used. There is a method, a method of forming an anode or a cathode, or both electrodes in a pattern. By forming a pattern by any of these methods and arranging so that several electrodes can be turned ON / OFF independently, a segment type display device capable of displaying numbers, characters, etc. can be obtained. In order to obtain a dot matrix display device, both the anode and the cathode may be formed in stripes and arranged orthogonal to each other. Partial color display and multi-color display can be performed by a method of separately applying a plurality of types of polymer compounds different in emission color and a method of using a color filter or a fluorescence conversion filter. The dot matrix display device can be driven passively, or can be driven active in combination with a TFT or the like. These display devices can be used as displays of computers, televisions, portable terminals, and the like. A planar light emitting element can be suitably used as a planar light source for backlight of a liquid crystal display device or a planar light source for illumination. If a flexible substrate is used, it can also be used as a curved light source and display device.

以下、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited to these examples.

LC−MSの測定は、下記の方法で行った。
測定試料を約2mg/mLの濃度になるようにクロロホルムまたはテトラヒドロフランに溶解させ、LC−MS(アジレント テクノロジー製、商品名:1100LCMSD)に約1μL注入した。LC−MSの移動相には、アセトニトリルおよびテトラヒドロフランの比率を変化させながら用い、0.2mL/分の流量で流した。カラムは、L−column 2 ODS(3μm)(化学物質評価研究機構製、内径:2.1mm、長さ:100mm、粒径3μm)を用いた。
The measurement of LC-MS was performed by the following method.
The measurement sample was dissolved in chloroform or tetrahydrofuran to a concentration of about 2 mg / mL, and about 1 μL was injected into LC-MS (manufactured by Agilent Technology, trade name: 1100 L CMSD). The mobile phase of LC-MS was used at a flow rate of 0.2 mL / min with varying ratios of acetonitrile and tetrahydrofuran. The column used was L-column 2 ODS (3 μm) (manufactured by Chemical Evaluation and Research Organization, inner diameter: 2.1 mm, length: 100 mm, particle diameter 3 μm).

MALDI−TOF/MSの測定は、下記の方法で行った。
測定試料約0.1mgを、200μLのテトラヒドロフランに溶解させて、試料溶液を調製した。1,1,4,4−テトラフェニル−1,3−ブタジエン約4mgを、400μLのテトラヒドロフランに溶解させて、マトリックス溶液を調製した。試料溶液10μLとマトリックス溶液50μLとを混合し、これをMALDIプレートに塗布して、MALDI−TOFMSの測定を行った。測定は、MALDI−TOFMS装置:REFLEX III(Bruker社製)を用いて、測定モード:リフレクターモード、加速電圧:27.5kV、レーザー:N(337nm)で行った。
The measurement of MALDI-TOF / MS was performed by the following method.
A sample solution was prepared by dissolving about 0.1 mg of a measurement sample in 200 μL of tetrahydrofuran. About 4 mg of 1,1,4,4-tetraphenyl-1,3-butadiene was dissolved in 400 μL of tetrahydrofuran to prepare a matrix solution. 10 microliters of sample solutions and 50 microliters of matrix solutions were mixed, this was apply | coated to the MALDI plate, and the measurement of MALDI-TOFMS was performed. The measurement was performed using a MALDI-TOF MS apparatus: REFLEX III (manufactured by Bruker) in a measurement mode: reflector mode, acceleration voltage: 27.5 kV, and laser: N 2 (337 nm).

NMRの測定は、下記の方法で行った。
5〜10mgの測定試料を約0.5mLの重クロロホルム(CDCl)、重テトラヒドロフラン(THF−d)または重塩化メチレン(CDCl)に溶解させ、NMR装置(バリアン(Varian,Inc.)製、商品名 MERCURY 300)を用いて測定した。
The measurement of NMR was performed by the following method.
5 to 10 mg of a measurement sample is dissolved in about 0.5 mL of heavy chloroform (CDCl 3 ), heavy tetrahydrofuran (THF-d 8 ) or methylene dichloride (CD 2 Cl 2 ), and an NMR apparatus (Varian, Inc. (Varian, Inc.) is used. (Trade name: MERCURY 300).

化合物の純度の指標として、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)面積百分率の値を用いた。この値は、特に記載がない限り、高速液体クロマトグラフィー(HPLC、島津製作所製、商品名:LC−20A)での254nmにおける値とする。この際、測定する化合物は、0.01〜0.2重量%の濃度になるようにテトラヒドロフランまたはクロロホルムに溶解させ、HPLCに、濃度に応じて1〜10μL注入した。HPLCの移動相には、アセトニトリルおよびテトラヒドロフランを用い、1mL/分の流速で、アセトニトリル/テトラヒドロフラン=100/0〜0/100(容積比)のグラジエント分析で流した。カラムは、Kaseisorb LC ODS 2000(東京化成工業製)または同等の性能を有するODSカラムを用いた。検出器には、フォトダイオードアレイ検出器(島津製作所製、商品名:SPD−M20A)を用いた。   The value of high performance liquid chromatography (HPLC) area percentage was used as an index of compound purity. This value is a value at 254 nm in high performance liquid chromatography (HPLC, manufactured by Shimadzu Corporation, trade name: LC-20A) unless otherwise specified. At this time, the compound to be measured was dissolved in tetrahydrofuran or chloroform so as to have a concentration of 0.01 to 0.2% by weight, and 1 to 10 μL was injected into HPLC depending on the concentration. The mobile phase of HPLC was flowed by using acetonitrile and tetrahydrofuran at a flow rate of 1 mL / min with gradient analysis of acetonitrile / tetrahydrofuran = 100/0 to 0/100 (volume ratio). As columns, Kaseisorb LC ODS 2000 (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) or an ODS column having equivalent performance was used. As a detector, a photodiode array detector (manufactured by Shimadzu Corporation, trade name: SPD-M20A) was used.

TLC−MSの測定は、下記の方法で行った。
測定試料を、トルエン、テトラヒドロフランまたはクロロホルムに任意の濃度で溶解させ、DART用TLCプレート(テクノアプリケーションズ社製 YSK5−100)上に塗布し、TLC−MS(日本電子(JEOL Ltd.)社製、商品名 JMS−T100TD(The AccuTOF TLC))を用いて測定した。測定時のヘリウムガス温度は、200〜400℃の範囲で調整した。
The measurement of TLC-MS was performed by the following method.
The measurement sample is dissolved in toluene, tetrahydrofuran or chloroform at an arbitrary concentration, and applied on a TLC plate for DART (YSK5-100 manufactured by Techno Applications, Inc.) to make a TLC-MS (manufactured by JEOL Ltd.), a product It measured using the name JMS-T100TD (The AccuTOF TLC). The helium gas temperature at the time of measurement was adjusted in the range of 200 to 400 ° C.

PLQYおよび発光スペクトルの測定は、下記の方法で行った。
金属錯体を、0.0008重量%の濃度となるように、キシレンに溶解させた。得られたキシレン溶液を1cm角の石英セルに入れた後、窒素ガスでバブリングすることにより酸素を脱気することにより測定試料を作製した。得られた測定試料に対して、絶対PL量子収率測定装置(自動制御電動モノクロ光源タイプ)(C9920−02G 浜松ホトニクス株式会社製)を用いて、PLQYおよび発光スペクトルを測定した。なお、励起波長は400nmとした。
The measurement of PLQY and emission spectrum was performed by the following method.
The metal complex was dissolved in xylene to a concentration of 0.0008% by weight. The obtained xylene solution was placed in a 1 cm square quartz cell, and oxygen was degassed by bubbling nitrogen gas to prepare a measurement sample. The PLQY and the emission spectrum of the obtained measurement sample were measured using an absolute PL quantum yield measurement apparatus (automatically controlled electric monochrome light source type) (C9920-02G, manufactured by Hamamatsu Photonics K. K.). The excitation wavelength was 400 nm.

<実施例1> 金属錯体M1の合成   Example 1 Synthesis of Metal Complex M1

Figure 0006543902
Figure 0006543902

(Stage1:化合物M1bの合成)
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、1−ブロモナフタレン(化合物M1a、132.5g)およびテトラヒドロフラン(脱水品、3.1L)を加え、攪拌しながら−73℃まで冷却した。その後、そこへ、n−ブチルリチウムのへキサン溶液(1.6mol/L、400mL)を、反応容器内の反応液を−73℃で攪拌しながら滴下した。得られた反応液を「反応液A」と呼ぶ。
別の反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、塩化シアヌル(59.0g)およびテトラヒドロフラン(脱水品、1.0L)を加え、攪拌しながら−75℃まで冷却した。その後、そこへ、上記の反応液Aを、反応容器内の反応液を−75℃で攪拌しながら滴下し、滴下終了後に室温まで昇温させ、室温で一晩攪拌した。その後、そこへ、希薄な塩化アンモニウム水溶液(500mL)を加えた後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をクロロホルム(1.5L)に溶解させた後、水(1L)、5重量%食塩水(1L)で順次洗浄した。その後、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、溶媒量が約半分となるまで濃縮した。その後、そこへ、n−ヘキサン(400mL)を加え、シリカゲルを用いてろ過した後、得られたろ液を減圧留去した。得られた残渣を、酢酸エチルおよびアセトニトリルの混合溶媒を用いて晶析し、次いで、アセトニトリルおよびn−ヘキサンの混合溶媒を用いて晶析することにより精製した。その後、50℃にて一晩減圧乾燥することにより、化合物M1b(74.3g、収率63%)を白色固体として得た。化合物M1bのHPLC面積百分率値は98.0%であった。
(Stage 1: Synthesis of Compound M1b)
The reaction vessel was changed to a nitrogen gas atmosphere, 1-bromonaphthalene (compound M1a, 132.5 g) and tetrahydrofuran (dehydrated product, 3.1 L) were added, and the mixture was cooled to -73 ° C while stirring. Then, the hexane solution (1.6 mol / L, 400 mL) of n-butyllithium was dripped there, stirring the reaction liquid in reaction container at -73 degreeC. The resulting reaction solution is referred to as "reaction solution A".
The inside of another reaction vessel was changed to a nitrogen gas atmosphere, then cyanuric chloride (59.0 g) and tetrahydrofuran (dehydrated product, 1.0 L) were added, and the mixture was cooled to -75.degree. C. with stirring. After that, the reaction solution A in the reaction vessel was added dropwise thereto with stirring at -75 ° C, and after completion of the dropwise addition, the temperature was raised to room temperature and stirred overnight at room temperature. After that, dilute aqueous ammonium chloride solution (500 mL) was added thereto, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The obtained residue was dissolved in chloroform (1.5 L), and then sequentially washed with water (1 L) and 5% by weight brine (1 L). After that, it was dried using anhydrous sodium sulfate and concentrated until the amount of solvent became about half. Thereafter, n-hexane (400 mL) was added thereto, followed by filtration using silica gel, and then the obtained filtrate was evaporated under reduced pressure. The resulting residue was purified by crystallization using a mixed solvent of ethyl acetate and acetonitrile and then crystallization using a mixed solvent of acetonitrile and n-hexane. Thereafter, the resultant was dried under reduced pressure at 50 ° C. overnight to obtain compound M1b (74.3 g, yield 63%) as a white solid. The HPLC area percentage value of compound M1b was 98.0%.

TLC/MS(DART positive):m/z=368[M+H]
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)=9.15−9.11(mult,2H),8.55(dd,2H),8.14(d,2H),8.00(dd,2H),7.70−7.57(mult,6H).
TLC / MS (DART positive): m / z + = 368 [M + H] +
1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 300 MHz): δ (ppm) = 9.15 to 9.11 (mult, 2H), 8.55 (dd, 2H), 8.14 (d, 2H), 8 .00 (dd, 2H), 7.70-7.57 (mult, 6H).

(Stage2:金属錯体M1の合成)
遮光した反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物M1b(61.4g)、特開2008−179617号公報記載の方法に従って合成した金属錯体M0(43.1g)、炭酸セシウム(81.5g)、ビス(ジ−tert−ブチル(4−ジメチルアミノフェニル)ホスフィン)ジクロロパラジウム(II)(0.9g)、1,4−ジオキサン(783mL)およびイオン交換水(5mL)を加え、65℃で36時間撹拌した。得られた反応液をろ過した後、得られたろ液を減圧留去した。得られた残渣をトルエンおよびクロロホルムの混合溶媒を用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した後、トルエンおよびアセトニトリルの混合溶媒を用いて晶析し、次いで、クロロホルムおよびアセトニトリルの混合溶媒を用いて晶析することにより精製した。その後、50℃にて一晩減圧乾燥することにより、金属錯体M1(19g、収率27%)を赤色固体として得た。金属錯体M1のHPLC面積百分率値は99.0%であった。
(Stage 2: Synthesis of metal complex M1)
After making the inside of the reaction vessel shielded from light a nitrogen gas atmosphere, a compound M1b (61.4 g), a metal complex M0 (43.1 g) synthesized according to the method described in JP-A-2008-179617, cesium carbonate (81.5 g) Add bis (di-tert-butyl (4-dimethylaminophenyl) phosphine) dichloropalladium (II) (0.9 g), 1,4-dioxane (783 mL) and ion-exchanged water (5 mL), and add at 36 Stir for hours. The resulting reaction solution was filtered, and the obtained filtrate was evaporated under reduced pressure. The resulting residue is purified by silica gel column chromatography using a mixed solvent of toluene and chloroform, then crystallized using a mixed solvent of toluene and acetonitrile, and then crystallized using a mixed solvent of chloroform and acetonitrile And purified by Thereafter, the resultant was dried under reduced pressure at 50 ° C. overnight to obtain metal complex M1 (19 g, yield 27%) as a red solid. The HPLC area percentage value of the metal complex M1 was 99.0%.

LC/MS(APCI positive):m/z=1649.5[M+H]
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)=9.01(d,3H),8.79(d,6H),8.61(dd,3H),8.10(dd,6H),8.00(d,3H),7.85(d,3H),7.77(t,12H),7.49−7.36(mult,18H),7.03-6.90(mult,9H).
LC / MS (APCI positive): m / z = 1649.5 [M + H] +
1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 300 MHz): δ (ppm) = 9.01 (d, 3 H), 8.79 (d, 6 H), 8.61 (dd, 3 H), 8.10 (dd) , 6H), 8.00 (d, 3H), 7.85 (d, 3H), 7.77 (t, 12H), 7.49-7.36 (mult, 18H), 7.03-6. 90 (mult, 9H).

<実施例2> 金属錯体M2の合成   Example 2 Synthesis of Metal Complex M2

Figure 0006543902
Figure 0006543902

遮光した反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、金属錯体M1(15.7g)、クロロホルム(460mL)およびN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)(44mL)を加えた。その後、氷浴を用いて0℃に冷却しながら攪拌した。その後、そこへ、N−ブロモスクシンイミド(NBS)(6.76g)を加えた。その後、氷浴を用いて冷却しながら3時間攪拌した後、室温で3時間攪拌した。その後、そこへ、クロロホルム(2L)およびジクロロメタン(3L)を加え、5重量%チオ硫酸ナトリウム水溶液(720mL)、イオン交換水(720mL)で順次洗浄した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた残渣をジクロロメタン(2.5L)に溶解させた後、セライトおよびシリカゲルを用いてろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた残渣を、ジクロロメタンおよびメタノールの混合溶媒を用いて晶析することにより精製した後、乾燥させることにより、金属錯体M2(17g、収率86%)を白色固体として得た。金属錯体M2のHPLC面積百分率値は98.2%であった。   The inside of the reaction vessel shielded from light was changed to a nitrogen gas atmosphere, and then metal complex M1 (15.7 g), chloroform (460 mL) and N, N-dimethylformamide (DMF) (44 mL) were added. Then, it stirred, cooling to 0 degreeC using the ice bath. After that, N-bromosuccinimide (NBS) (6.76 g) was added thereto. Then, it stirred for 3 hours, cooling using an ice bath, and stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, chloroform (2 L) and dichloromethane (3 L) were added thereto, and the mixture was washed successively with 5 wt% aqueous sodium thiosulfate solution (720 mL) and ion-exchanged water (720 mL). The obtained organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate and filtered, and the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure. The obtained residue was dissolved in dichloromethane (2.5 L) and filtered through celite and silica gel, and the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by crystallization using a mixed solvent of dichloromethane and methanol, and then dried to obtain metal complex M2 (17 g, yield 86%) as a white solid. The HPLC area percentage value of the metal complex M2 was 98.2%.

MALDI−TOF/MS(positive):m/z=1882[M]
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)=8.92(d,3H),8.76(d,6H),8.61(dd,3H),8.10(dd,6H),7.94−7.90(mult,6H),7.78(t,12H),7.50−7.36(mult,18H),7.04(dd,3H),6.88(d,3H).
MALDI-TOF / MS (positive): m / z = 1882 [M] +
1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 300 MHz): δ (ppm) = 8.92 (d, 3 H), 8.76 (d, 6 H), 8.61 (dd, 3 H), 8.10 (dd) , 6H), 7.94-7.90 (mult, 6H), 7.78 (t, 12H), 7.50-7.36 (mult, 18H), 7.04 (dd, 3H), 6. 88 (d, 3H).

<実施例3> 金属錯体M3の合成   Example 3 Synthesis of Metal Complex M3

Figure 0006543902
Figure 0006543902

遮光した反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、金属錯体M2(342mg)、特開2011−195829号公報記載の方法に従って合成した化合物M3a(277mg)、テトラヒドロフラン(20mL)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(26mg)および20重量%テトラエチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(1.5mL)を加え、加熱還流下で17時間撹拌した。その後、そこへ、トルエンを加え、得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた残渣を、トルエンおよびヘキサンの混合溶媒を用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した後、トルエンおよびメタノールの混合溶媒を用いて晶析することにより精製した。その後、50℃にて一晩減圧乾燥することにより、金属錯体M3(370mg、収率77%)を赤色固体として得た。金属錯体M3のHPLC面積百分率値は99.5%以上であった。   After making the inside of the reaction vessel shielded from light into an argon gas atmosphere, metal complex M2 (342 mg), compound M3a (277 mg) synthesized according to the method described in JP-A-2011-195829, tetrahydrofuran (20 mL), tetrakis (triphenylphosphine) Palladium (0) (26 mg) and 20 wt% tetraethylammonium hydroxide aqueous solution (1.5 mL) were added, and the mixture was stirred under heating reflux for 17 hours. Thereafter, toluene was added thereto, and the obtained organic layer was washed with ion-exchanged water. The obtained organic layer was dried using anhydrous sodium sulfate and filtered, and the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure. The resulting residue was purified by silica gel column chromatography using a mixed solvent of toluene and hexane, and then purified by crystallization using a mixed solvent of toluene and methanol. Thereafter, the resultant was dried under reduced pressure at 50 ° C. overnight to obtain metal complex M3 (370 mg, yield 77%) as a red solid. The HPLC area percentage value of the metal complex M3 was 99.5% or more.

LC/MS(APCI positive):m/z=2670[M+H]
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)=9.13(d,3H),8.81(d,6H),8.70(dd,3H),8.24(d,3H),8.19(d,3H),8.12(dd,6H),7.90(dd,6H),7.79−7.74(mult,15H),7.70−7.66(mult,12H),7.53−7.35(mult,33H),7.28(d,3H),1.36(s,54H).
LC / MS (APCI positive): m / z = 2670 [M + H] +
1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 300 MHz): δ (ppm) = 9.13 (d, 3 H), 8.81 (d, 6 H), 8. 70 (dd, 3 H), 8.24 (d , 3H), 8.19 (d, 3H), 8.12 (dd, 6H), 7.90 (dd, 6H), 7.79-7.74 (mult, 15H), 7.70-7. 66 (mult, 12H), 7.53-7.35 (mult, 33H), 7.28 (d, 3H), 1.36 (s, 54H).

<実施例4> 金属錯体M4の合成   Example 4 Synthesis of Metal Complex M4

Figure 0006543902
Figure 0006543902

遮光した反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、金属錯体M2(1.27g)、化合物M4a(1.04g)、テトラヒドロフラン(70mL)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(94mg)および20重量%テトラエチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(5.5mL)を加え、加熱還流下で19時間撹拌した。その後、そこへ、トルエンを加え、得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた残渣をトルエンおよびヘキサンの混合溶媒を用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した後、トルエンおよびメタノールの混合溶媒を用いて晶析することにより精製した。その後、50℃にて一晩減圧乾燥することにより、金属錯体M4(1.16g、収率64%)を赤色固体として得た。金属錯体M4のHPLC面積百分率値は99.5%以上であった。なお、化合物M4aは、後述の化合物L4eと同様の方法で合成した。   The interior of the reaction vessel was shielded from light by an argon gas atmosphere, then metal complex M2 (1.27 g), compound M4a (1.04 g), tetrahydrofuran (70 mL), tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (94 mg) and 20 A wt% aqueous solution of tetraethylammonium hydroxide (5.5 mL) was added, and the mixture was stirred for 19 hours while heating under reflux. Thereafter, toluene was added thereto, and the obtained organic layer was washed with ion-exchanged water. The obtained organic layer was dried using anhydrous sodium sulfate and filtered, and the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure. The resulting residue was purified by silica gel column chromatography using a mixed solvent of toluene and hexane, and then purified by crystallization using a mixed solvent of toluene and methanol. Thereafter, the resultant was dried under reduced pressure at 50 ° C. overnight to obtain a metal complex M4 (1.16 g, yield 64%) as a red solid. The HPLC area percentage value of the metal complex M4 was 99.5% or more. Compound M4a was synthesized by the same method as compound L4e described later.

LC/MS(APCI positive):m/z=2712[M+H]
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)=9.02(d,3H),8.76(d,6H),8.59(dd,3H),8.13(d,3H),8.09−8.05(mult,9H),7.77−7.72(mult,12H),7.56(s,6H),7.48−7.28(mult,45H),7.18(d,3H),2.15(s,9H),1.36(s,54H).
LC / MS (APCI positive): m / z = 2712 [M + H] +
1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 300 MHz): δ (ppm) = 9.02 (d, 3 H), 8.76 (d, 6 H), 8.59 (dd, 3 H), 8.13 (d , 3H), 8.09-8.05 (mult, 9H), 7.77-7.72 (mult, 12H), 7.56 (s, 6H), 7.48-7.28 (mult, 45H) ) 7.18 (d, 3 H), 2. 15 (s, 9 H), 1. 36 (s, 54 H).

<実施例5> 化合物L5の合成   Example 5 Synthesis of Compound L5

Figure 0006543902
Figure 0006543902

(Stage1:化合物L5cの合成)
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物L5a(15g)、化合物L5b(24g)、テトラヒドロフラン(430mL)、イオン交換水(21mL)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド(3.6g)および炭酸セシウム(250g)を加え、60℃で64時間撹拌した。その後、そこへ、トルエン(400mL)を加え、セライトを用いてろ過した。得られたろ液を5重量%食塩水で洗浄した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物を、トルエンおよびヘキサンの混合溶媒を用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した後、減圧乾燥することにより、化合物L5c(20g、収率82%)を黄色油状物として得た。
(Stage 1: Synthesis of Compound L5c)
The reaction vessel was changed to an argon gas atmosphere, and compound L5a (15 g), compound L5b (24 g), tetrahydrofuran (430 mL), ion-exchanged water (21 mL), bis (triphenylphosphine) palladium (II) dichloride (3.6 g) ) And cesium carbonate (250 g) were added and stirred at 60 ° C. for 64 hours. After that, toluene (400 mL) was added thereto and filtered using celite. The resulting filtrate was washed with 5% by weight brine. The obtained organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate and filtered, and the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure. The obtained oil was purified by silica gel column chromatography using a mixed solvent of toluene and hexane, and then dried under reduced pressure to obtain compound L5c (20 g, yield 82%) as a yellow oil.

TLC/MS(DART positive):m/z=290[M+H] TLC / MS (DART positive): m / z = 290 [M + H] +

(Stage2:化合物L5eの合成)
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物L5c(9.4g)、化合物L5d(12g)、[1,1'−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリド ジクロロメタン付加物(2.7g)、酢酸カリウム(19g)および1,2−ジメトキシエタン(100mL)を加え、80℃で3時間攪拌した。その後、そこへ、トルエン(150mL)を加え、セライトを用いてろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた残渣にヘキサン(180mL)を加えて溶解させ、これをろ過し、得られたろ液を濃縮した。その後、そこへ、トルエン(70mL)およびアセトニトリル(70mL)を加え、シリカゲルを用いてろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。その後、そこへ、ヘキサン(60mL)および活性炭(7.5g)を加え、50℃で1時間攪拌した。その後、セライトを用いてろ過し、得られたろ液を減圧濃縮することにより、化合物L5e(12g)を無色油状物として得た。
(Stage 2: Synthesis of Compound L5e)
The reaction vessel was changed to an argon gas atmosphere, and then compound L5c (9.4 g), compound L5d (12 g), [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium (II) dichloride dichloromethane adduct (2. 7 g), potassium acetate (19 g) and 1,2-dimethoxyethane (100 mL) were added and stirred at 80 ° C. for 3 hours. After that, toluene (150 mL) was added thereto, and the mixture was filtered using celite, and the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure. To the resulting residue was added hexane (180 mL) to dissolve it, this was filtered, and the obtained filtrate was concentrated. After that, toluene (70 mL) and acetonitrile (70 mL) were added thereto, and the mixture was filtered using silica gel, and the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure. Thereafter, hexane (60 mL) and activated carbon (7.5 g) were added thereto, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 1 hour. After that, the resultant was filtered using celite, and the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain compound L5e (12 g) as a colorless oil.

TLC/MS(DART positive):m/z=338[M+H] TLC / MS (DART positive): m / z = 338 [M + H] +

(Stage3:化合物L5の合成)
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物L5e(8.8g)、化合物M1b(11g)、1,4−ジオキサン(450mL)、イオン交換水(24mL)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(1.6g)および炭酸セシウム(70g)を加え、90℃で3時間撹拌した。その後、そこへ、トルエンを加え、セライトを用いてろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。その後、そこへ、トルエンを加え、得られた有機層を5重量%食塩水で洗浄した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた油状物を、トルエンおよびヘキサンの混合溶媒を用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した後、溶媒を減圧留去した。その後、そこへ、トルエン(100mL)および活性炭(3.6g)を加え、60℃で1時間攪拌した。その後、そこへ、トルエン(250mL)を加え、攪拌した後、セライトを用いてろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた残渣を、トルエンおよびメタノールの混合溶媒を用いて晶析することにより精製した後、減圧乾燥することにより、化合物L5(9.9g、収率69%)を白色粉末として得た。化合物L5のHPLC面積百分率値は99.5%以上であった。
(Stage 3: Synthesis of Compound L5)
The reaction vessel was changed to an argon gas atmosphere, and compound L5e (8.8 g), compound M1b (11 g), 1,4-dioxane (450 mL), ion-exchanged water (24 mL), tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0 g) ) (1.6 g) and cesium carbonate (70 g) were added and stirred at 90 ° C. for 3 hours. Thereafter, toluene was added thereto, and the mixture was filtered using celite, and the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure. Thereafter, toluene was added thereto, and the obtained organic layer was washed with 5 wt% brine. The obtained organic layer was dried using anhydrous sodium sulfate and filtered, and the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure. The obtained oil was purified by silica gel column chromatography using a mixed solvent of toluene and hexane, and then the solvent was evaporated under reduced pressure. After that, toluene (100 mL) and activated carbon (3.6 g) were added thereto, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 1 hour. After that, toluene (250 mL) was added thereto, and after stirring, it was filtered using celite, and the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure. The resulting residue was purified by crystallization using a mixed solvent of toluene and methanol, and then dried under reduced pressure to obtain compound L5 (9.9 g, yield 69%) as a white powder. The HPLC area percentage value of compound L5 was 99.5% or more.

TLC/MS(DART positive):m/z=543[M+H]
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)=10.01(dd,1H),9.25−9.21(mult,2H),9.05(dd,1H),8.61(dd,2H),8.25(t,1H),8.14(d,2H),8.04−7.99(mult,4H),7.96(dt,1H),7.74−7.45(mult,7H),1.43(s,9H).
TLC / MS (DART positive): m / z = 543 [M + H] +
1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 300 MHz): δ (ppm) = 10.01 (dd, 1 H), 9.25-9.21 (mult, 2 H), 9.05 (dd, 1 H), 8 .61 (dd, 2H), 8.25 (t, 1H), 8.14 (d, 2H), 8.04-7.99 (mult, 4H), 7.96 (dt, 1H), 7.. 74-7.45 (mult, 7H), 1.43 (s, 9H).

<実施例6> 金属錯体M5の合成   Example 6 Synthesis of Metal Complex M5

Figure 0006543902
Figure 0006543902

(Stage1:金属錯体M5aの合成)
遮光した反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物L5(736mg)および2−エトキシエタノール(13mL)を加え、90℃まで昇温した。その後、そこへ、イオン交換水(5.4mL)に溶解させた塩化イリジウム(III)水和物(273mg)を加え、105℃で21時間攪拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却した後、メタノール(50mL)に加え、室温で1時間攪拌した。その後、ろ過し、得られた残渣を減圧乾燥することにより、金属錯体M5aを含む赤色固体(850mg)を得た。
(Stage 1: Synthesis of metal complex M5a)
The inside of the reaction vessel shielded from light was changed to an argon gas atmosphere, and then Compound L5 (736 mg) and 2-ethoxyethanol (13 mL) were added, and the temperature was raised to 90 ° C. Thereafter, iridium (III) chloride hydrate (273 mg) dissolved in ion exchanged water (5.4 mL) was added thereto, and the mixture was stirred at 105 ° C. for 21 hours. The resulting reaction mixture was cooled to room temperature, added to methanol (50 mL), and stirred at room temperature for 1 hour. Thereafter, the residue was filtered and dried under reduced pressure to obtain a red solid (850 mg) containing the metal complex M5a.

LC/MS(ESI positive):m/z=2660[M+K] LC / MS (ESI positive): m / z = 2660 [M + K] +

(Stage2a)
遮光した反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、金属錯体M5aを含む赤色固体(834mg)、トリフルオロメタンスルホン酸銀(I)(207mg)およびアセトニトリル(15mL)を加え、90℃で2時間攪拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却した後、セライトおよびアルミナを用いてろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。その後、そこへ、ヘキサンを加え、攪拌した。得られた沈殿をろ取することにより、赤橙色固体(800mg)を得た。
(Stage2a)
The inside of the reaction vessel protected from light was changed to an argon gas atmosphere, then a red solid (834 mg) containing metal complex M5a, silver (I) trifluoromethanesulfonate (207 mg) and acetonitrile (15 mL) were added and stirred at 90 ° C. for 2 hours . The resulting reaction mixture was cooled to room temperature, filtered using celite and alumina, and the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure. Thereafter, hexane was added thereto and stirred. The resulting precipitate was collected by filtration to give a reddish orange solid (800 mg).

(Stage2b:金属錯体M5の合成)
遮光した反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、上記のStage2aで得られた赤橙色固体(769mg)、化合物L5(1.2g)、2,6−ルチジン(660mg)およびジエチレングリコールジメチルエーテル(17mL)を加え、150℃で21時間攪拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却した後、メタノール(50mL)に加え、室温で1時間攪拌した。その後、これをろ過し、得られた残渣にトルエン(50mL)を加え、攪拌し、ろ過した。得られた沈殿をクロロホルム(300mL)に溶解させ、シリカゲルを用いてろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。その後、そこへ、メタノールを加え、攪拌し、ろ過した。得られた沈殿を、50℃にて一晩減圧乾燥することにより、金属錯体M5(450mg)を赤色固体として得た。金属錯体M5のHPLC面積百分率値は99.0%であった。
(Stage 2b: synthesis of metal complex M5)
The inside of the reaction vessel protected from light was changed to an argon gas atmosphere, and then the reddish orange solid (769 mg) obtained in Stage 2a above, compound L5 (1.2 g), 2,6-lutidine (660 mg) and diethylene glycol dimethyl ether (17 mL) In addition, it was stirred at 150 ° C. for 21 hours. The resulting reaction mixture was cooled to room temperature, added to methanol (50 mL), and stirred at room temperature for 1 hour. Then, this was filtered, toluene (50 mL) was added to the obtained residue, and it stirred and filtered. The obtained precipitate was dissolved in chloroform (300 mL), filtered using silica gel, and the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure. Thereafter, methanol was added thereto, stirred and filtered. The obtained precipitate was dried under reduced pressure at 50 ° C. overnight to obtain metal complex M5 (450 mg) as a red solid. The HPLC area percentage value of the metal complex M5 was 99.0%.

LC/MS(ESI positive):m/z=1856[M+K]
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)=9.04(d,3H),8.79(d,6H),8.62(dd,3H),8.06(dd,6H),8.02(d,3H),7.85(d,3H),7.79−7.72(mult,12H),7.48−7.35(mult,18H),7.05(dd,3H),6.86(d,3H),1.36(s,27H).
LC / MS (ESI positive): m / z = 1856 [M + K] +
1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 300 MHz): δ (ppm) = 9.04 (d, 3 H), 8.79 (d, 6 H), 8.62 (dd, 3 H), 8.06 (dd) , 6H), 8.02 (d, 3H), 7.85 (d, 3H), 7.79-7.72 (mult, 12H), 7.48-7.35 (mult, 18H), 7. 05 (dd, 3 H), 6.86 (d, 3 H), 1. 36 (s, 27 H).

<実施例7> 化合物L4の合成   Example 7 Synthesis of Compound L4

Figure 0006543902
Figure 0006543902

(Stage1:化合物L4cの合成)
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物L4a(50g)、化合物L4b(75g)、トルエン(500mL)、イオン交換水(500mL)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(1.2g)および炭酸ナトリウム(85g)を加え、90℃で5時間撹拌した。室温へ冷却後、得られた反応液を、セライトを用いてろ過し、得られたろ液をイオン交換水で洗浄した。得られた有機層に活性炭(5g)を加え、室温で1時間攪拌した後、セライトを用いてろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物をトルエンおよびメタノールの混合溶媒を用いて晶析することにより精製した後、減圧乾燥することにより、化合物L4c(65g、収率91%)を白色固体として得た。化合物L4cのHPLC面積百分率値は99.5%以上であった。
(Stage 1: Synthesis of Compound L4c)
After making the inside of a reaction vessel into a nitrogen gas atmosphere, compound L4a (50 g), compound L4b (75 g), toluene (500 mL), ion-exchanged water (500 mL), tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (1.2 g) And sodium carbonate (85 g) were added and stirred at 90 ° C. for 5 hours. After cooling to room temperature, the obtained reaction solution was filtered using celite, and the obtained filtrate was washed with ion exchanged water. Activated carbon (5 g) was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour, filtered using celite, and the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure. The obtained concentrate was purified by crystallization using a mixed solvent of toluene and methanol, and then dried under reduced pressure to obtain compound L4c (65 g, yield 91%) as a white solid. The HPLC area percentage value of compound L4c was 99.5% or more.

TLC/MS(DART positive):m/z=357[M+H] TLC / MS (DART positive): m / z = 357 [M + H] +

(Stage2:化合物L4eの合成)
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物L4c(61g)、化合物L4d(550mg)、シクロペンチルメチルエーテル(490mL)、(1,5−シクロオクタジエン)(メトキシ)イリジウム(I)二量体(680mg)および化合物L5d(54g)を加え、105℃で4時間撹拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却した後、メタノール(920mL)に加え、攪拌し、ろ過した。得られた固体をトルエン(750mL)に溶解させた後、活性白土(7.5g)を加え、60℃で30分間攪拌した。その後、シリカゲルを用いてろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物をトルエンおよびメタノールの混合溶媒を用いた晶析により精製した後、減圧乾燥することにより、化合物L4e(70g、収率85%)を白色固体として得た。化合物L4eのHPLC面積百分率値は99.5%以上であった。
(Stage 2: Synthesis of Compound L4e)
The reaction vessel was changed to a nitrogen gas atmosphere, and compound L4c (61 g), compound L4d (550 mg), cyclopentyl methyl ether (490 mL), (1,5-cyclooctadiene) (methoxy) iridium (I) dimer ( 680 mg) and compound L5d (54 g) were added and stirred at 105 ° C. for 4 hours. The resulting reaction mixture was cooled to room temperature, then added to methanol (920 mL), stirred and filtered. The obtained solid was dissolved in toluene (750 mL), activated clay (7.5 g) was added, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 30 minutes. Then, it filtered using silica gel and the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure. The obtained concentrate was purified by crystallization using a mixed solvent of toluene and methanol, and then dried under reduced pressure to obtain compound L4e (70 g, yield 85%) as a white solid. The HPLC area percentage value of compound L4e was 99.5% or more.

LC/MS(ESI positive):m/z=521[M+K] LC / MS (ESI positive): m / z = 521 [M + K] +

(Stage3:化合物L4gの合成)
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物L4e(69g)、化合物L4f(41g)、トルエン(690mL)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(1.7g)および20重量%テトラエチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(420g)を加え、85℃で2時間撹拌した。その後、そこへ、トルエン(280mL)を加え、得られた有機層をイオン交換水で洗浄し、得られた有機層を減圧濃縮した。得られた残渣をトルエンおよびメタノールの混合溶媒を用いた晶析により精製した後、50℃にて一晩減圧乾燥することにより、化合物L4g(66g、収率90%)を白色固体として得た。化合物L4gのHPLC面積百分率値は96.0%であった。
(Stage 3: Synthesis of Compound L4g)
After the inside of the reaction vessel was changed to a nitrogen gas atmosphere, compound L4e (69 g), compound L4f (41 g), toluene (690 mL), tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (1.7 g) and 20% by weight tetraethylammonium hydroxy An aqueous solution of doe (420 g) was added and stirred at 85 ° C. for 2 hours. After that, toluene (280 mL) was added thereto, the obtained organic layer was washed with ion exchanged water, and the obtained organic layer was concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by crystallization using a mixed solvent of toluene and methanol, and then dried under reduced pressure at 50 ° C. overnight to obtain 4 g (66 g, yield 90%) of a compound L as a white solid. The HPLC area percentage value of 4 g of compound L was 96.0%.

LC/MS(ESI positive):m/z=549[M+K] LC / MS (ESI positive): m / z = 549 [M + K] +

(Stage4:化合物L4hの合成)
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物L4g(66g)、化合物L5d(39g)、[1,1'−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリド ジクロロメタン付加物(2.1g)、酢酸カリウム(38g)および1,2−ジメトキシエタン(DME)(650mL)を加え、85℃で2時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却した後、トルエン(330mL)を加え、セライトを用いてろ過し、得られたろ液をイオン交換水で洗浄した。得られた有機層を減圧濃縮した後、トルエン(550mL)および活性炭(9.8g)を加え、室温で1時間攪拌した。その後、セライトを用いてろ過し、得られたろ液をイオン交換水で洗浄し、得られた有機層を減圧濃縮した。得られた残渣を、トルエンおよびアセトニトリルの混合溶媒を用いて晶析することによりで精製した後、50℃にて一晩減圧乾燥することにより、化合物L4h(57g、収率80%)を白色固体として得た。化合物L4hのHPLC面積百分率値は99.5%以上であった。
(Stage 4: Synthesis of Compound L4h)
The reaction vessel is changed to a nitrogen gas atmosphere, and then Compound L 4 g (66 g), Compound L 5 d (39 g), [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium (II) dichloride dichloromethane adduct (2.1 g) Then, potassium acetate (38 g) and 1,2-dimethoxyethane (DME) (650 mL) were added and stirred at 85 ° C. for 2 hours. The obtained reaction solution was cooled to room temperature, toluene (330 mL) was added, and the mixture was filtered using celite, and the obtained filtrate was washed with ion-exchanged water. The obtained organic layer was concentrated under reduced pressure, toluene (550 mL) and activated carbon (9.8 g) were added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Then, it filtered using celite, the obtained filtrate was wash | cleaned with ion-exchange water, and the obtained organic layer was concentrated under reduced pressure. The resulting residue is purified by crystallization using a mixed solvent of toluene and acetonitrile, and then dried under reduced pressure overnight at 50 ° C. to give compound L4h (57 g, yield 80%) as a white solid Got as. The HPLC area percentage value of compound L4h was 99.5% or more.

LC/MS(ESI positive):m/z=597[M+K] LC / MS (ESI positive): m / z = 597 [M + K] +

(Stage5:化合物L4jの合成)
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物L4h(57g)、化合物L4i(24g)、トルエン(570mL)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(1.2g)および20重量%テトラエチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(300g)を加え、64℃で4時間撹拌した。得られた反応液を5℃まで冷却し、5℃で1時間攪拌した後、ろ過した。得られたろ液をイオン交換水で洗浄し、得られた有機層を減圧濃縮した。得られた残渣をトルエンおよびメタノールの混合溶媒を用いた再結晶晶析により精製した後、50℃にて一晩減圧乾燥することにより、化合物L4j(45g、収率74%)を白色固体として得た。化合物L4jのHPLC面積百分率値は97.6%であった。
(Stage 5: Synthesis of Compound L4j)
After making the inside of a reaction vessel into a nitrogen gas atmosphere, compound L4h (57 g), compound L4i (24 g), toluene (570 mL), tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (1.2 g) and 20% by weight tetraethylammonium hydroxy An aqueous solution of doe (300 g) was added and stirred at 64.degree. C. for 4 hours. The resulting reaction solution was cooled to 5 ° C., stirred at 5 ° C. for 1 hour, and filtered. The obtained filtrate was washed with ion exchanged water, and the obtained organic layer was concentrated under reduced pressure. The resulting residue is purified by recrystallization using a mixed solvent of toluene and methanol, and then dried under reduced pressure at 50 ° C. overnight to give compound L4j (45 g, yield 74%) as a white solid. The The HPLC area percentage value of compound L4j was 97.6%.

LC/MS(ESI positive):m/z=588[M+H] LC / MS (ESI positive): m / z = 588 [M + H] +

(Stage6:化合物L4kの合成)
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物L4j(44g)、化合物L5d(23g)、[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリド ジクロロメタン付加物(1.2g)、酢酸カリウム(22g)および1,2−ジメトキシエタン(DME)(440mL)を加え、85℃で3時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却した後、トルエン(330mL)を加え、セライトを用いてろ過し、得られたろ液をイオン交換水で洗浄し、得られた有機層を減圧濃縮した。その後、そこへ、トルエン(750mL)および活性炭(6.6g)を加え、室温で1時間攪拌した後、セライトを用いてろ過した。得られたろ液を、イオン交換水で洗浄し、得られた有機層を減圧濃縮した。得られた残渣を、トルエンおよびアセトニトリルの混合溶媒を用いた晶析により精製した後、50℃にて一晩減圧乾燥することにより、化合物L4k(41g、収率86%)を白色固体として得た。化合物L4kのHPLC面積百分率値は98.7%であった。
(Stage 6: Synthesis of Compound L4k)
The reaction vessel is changed to a nitrogen gas atmosphere, and then compound L4j (44 g), compound L5d (23 g), [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium (II) dichloride dichloromethane adduct (1.2 g) Then, potassium acetate (22 g) and 1,2-dimethoxyethane (DME) (440 mL) were added and stirred at 85 ° C. for 3 hours. The obtained reaction solution is cooled to room temperature, toluene (330 mL) is added, and the mixture is filtered using celite, and the obtained filtrate is washed with ion exchanged water, and the obtained organic layer is concentrated under reduced pressure. After that, toluene (750 mL) and activated carbon (6.6 g) were added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour and then filtered using celite. The obtained filtrate was washed with ion exchanged water, and the obtained organic layer was concentrated under reduced pressure. The resulting residue was purified by crystallization using a mixed solvent of toluene and acetonitrile, and then dried under reduced pressure overnight at 50 ° C. to give compound L4k (41 g, yield 86%) as a white solid . The HPLC area percentage value of compound L4k was 98.7%.

LC/MS(ESI positive):m/z=636[M+H] LC / MS (ESI positive): m / z = 636 [M + H] +

(Stage7:化合物L4の合成)
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物L4k(15g)、化合物M1b(10g)、トルエン(300mL)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(270mg)および20重量%テトラエチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(70g)を加え、70℃で1時間撹拌した。得られた反応液を室温まで冷却した後、セライトを用いてろ過し、得られたろ液にトルエン(60mL)を加えた。得られた有機層をイオン交換水で洗浄し、得られた有機層を減圧濃縮した。その後、そこへ、トルエン(320mL)および活性炭(2.3)を加え、室温で30分攪拌した後、シリカゲルを用いてろ過し、得られたろ液を減圧留去した。得られた残渣を、酢酸エチルおよびアセトニトリルの混合溶媒を用いて晶析し、次いで、n−ヘプタンを用いて洗浄することにより精製した後、50℃にて一晩減圧乾燥することにより、化合物L4(17g、収率83%)を白色固体として得た。化合物L4のHPLC面積百分率値は99.5%以上であった。
(Stage 7: Synthesis of Compound L4)
After the inside of the reaction vessel was changed to a nitrogen gas atmosphere, compound L4k (15 g), compound M1b (10 g), toluene (300 mL), tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (270 mg) and 20 wt% tetraethylammonium hydroxide aqueous solution (70 g) was added and stirred at 70 ° C. for 1 hour. The resulting reaction solution was cooled to room temperature and filtered through celite, and toluene (60 mL) was added to the obtained filtrate. The obtained organic layer was washed with ion exchanged water, and the obtained organic layer was concentrated under reduced pressure. After that, toluene (320 mL) and activated carbon (2.3) were added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and filtered using silica gel, and the obtained filtrate was evaporated under reduced pressure. The resulting residue is crystallized using a mixed solvent of ethyl acetate and acetonitrile, then purified by washing with n-heptane and then dried under reduced pressure overnight at 50 ° C. to give compound L4. (17 g, 83% yield) was obtained as a white solid. The HPLC area percentage value of compound L4 was 99.5% or more.

LC/MS(APCI positive):m/z=841[M+H]
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)=10.29(d,1H),9.25(d,2H),9.05(dd,1H),8.62(d,2H),8.41(s,1H),8.11(d,3H),8.02−7.97(mult,3H),7.77(d,1H),7.71−7.55(mult,9H),7.48(d,4H),7.39(d,4H),2.21(s,3H),1.40(s,18H).
LC / MS (APCI positive): m / z = 841 [M + H] +
1 H-NMR (CDCl 3 , 300 MHz): δ (ppm) = 10.29 (d, 1 H), 9.25 (d, 2 H), 9.05 (dd, 1 H), 8.62 (d, 2 H) ), 8.41 (s, 1 H), 8.11 (d, 3 H), 8.02-7.97 (mult, 3 H), 7.77 (d, 1 H), 7.71-7. mult, 9H), 7.48 (d, 4H), 7.39 (d, 4H), 2.21 (s, 3H), 1.40 (s, 18H).

<実施例8> 金属錯体M4の合成(その2)   Example 8 Synthesis of Metal Complex M4 (Part 2)

Figure 0006543902
Figure 0006543902

(Stage1:金属錯体M4aの合成)
遮光した反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物L4(16g)および2−エトキシエタノール(210mL)を加え、95℃まで昇温した。その後、そこへ、イオン交換水(27mL)に溶解させた塩化イリジウム(III)水和物(3.1g)を加え、120℃で4時間攪拌した。得られた反応液から、水と2−エトキシエタノールの混合物(150mL)を留去した後、2−エトキシエタノール(150mL)を加え、125℃で16時間攪拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却した後、メタノール(70mL)を加え、室温で1時間攪拌した。その後、ろ過し、得られた残渣を減圧乾燥した。得られた残渣を、トルエンおよびn−ヘキサンの混合溶媒を用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した後、減圧乾燥することにより、金属錯体M4a(11g)を赤色固体として得た。金属錯体M4aのHPLC面積百分率値は98.1%であった。
(Stage 1: Synthesis of metal complex M4a)
The inside of the reaction vessel shielded from light was changed to a nitrogen gas atmosphere, and then Compound L4 (16 g) and 2-ethoxyethanol (210 mL) were added, and the temperature was raised to 95 ° C. Thereafter, iridium (III) chloride hydrate (3.1 g) dissolved in ion exchanged water (27 mL) was added thereto, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 4 hours. After distilling off the mixture (150 mL) of water and 2-ethoxyethanol from the reaction liquid obtained, 2-ethoxyethanol (150 mL) was added and it stirred at 125 degreeC for 16 hours. The resulting reaction mixture was cooled to room temperature, methanol (70 mL) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Thereafter, it was filtered and the obtained residue was dried under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography using a mixed solvent of toluene and n-hexane, and then dried under reduced pressure to obtain a metal complex M4a (11 g) as a red solid. The HPLC area percentage value of the metal complex M4a was 98.1%.

LC/MS(ESI positive):m/z=1946[M+2K]2+ LC / MS (ESI positive): m / z = 1946 [M + 2K] 2+

(Stage2:金属錯体M4の合成)
遮光した反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、金属錯体M4a(10g)、化合物L4(4.5g)、トリフルオロメタンスルホン酸銀(I)(1.8g)、2,6−ルチジン(740mg)およびジエチレングリコールジメチルエーテル(115mL)を加え、150℃で2時間攪拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却した後、メタノール(450mL)を加え、室温で1時間攪拌した。その後、ろ過し、得られた固体をトルエン(230mL)に溶解させた後、シリカゲルを用いてろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた残渣を、トルエンおよびn−ヘキサンの混合溶媒を用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、次いで、トルエンおよびアセトニトリルを用いた晶析により精製した後、50℃にて一晩減圧乾燥することにより、金属錯体M4(7.2g、収率91%)を赤色固体として得た。金属錯体M4のHPLC面積百分率値は98.3%であった。
(Stage 2: Synthesis of metal complex M4)
After making the inside of the reaction vessel shielded from light a nitrogen gas atmosphere, metal complex M4a (10 g), compound L4 (4.5 g), silver (I) trifluoromethanesulfonate (1.8 g), 2,6-lutidine (740 mg) And diethylene glycol dimethyl ether (115 mL) were added and stirred at 150 ° C. for 2 hours. The resulting reaction mixture was cooled to room temperature, methanol (450 mL) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Thereafter, the resultant was filtered, and the obtained solid was dissolved in toluene (230 mL), followed by filtration using silica gel, and the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure. The resulting residue is purified by silica gel column chromatography using a mixed solvent of toluene and n-hexane, then purified by crystallization using toluene and acetonitrile, and then dried under reduced pressure overnight at 50 ° C. This gave metal complex M4 (7.2 g, yield 91%) as a red solid. The HPLC area percentage value of the metal complex M4 was 98.3%.

LC/MS(APCI positive):m/z=2712[M+H]
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)=9.02(d,3H),8.76(d,6H),8.59(dd,3H),8.13(d,3H),8.09−8.05(mult,9H),7.77−7.72(mult,12H),7.56(s,6H),7.48−7.28(mult,45H),7.18(d,3H),2.15(s,9H),1.36(s,54H).
LC / MS (APCI positive): m / z = 2712 [M + H] +
1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 300 MHz): δ (ppm) = 9.02 (d, 3 H), 8.76 (d, 6 H), 8.59 (dd, 3 H), 8.13 (d , 3H), 8.09-8.05 (mult, 9H), 7.77-7.72 (mult, 12H), 7.56 (s, 6H), 7.48-7.28 (mult, 45H) ) 7.18 (d, 3 H), 2. 15 (s, 9 H), 1. 36 (s, 54 H).

<比較例2> 金属錯体CM1の合成
金属錯体CM1は、特開2010−43243号公報に記載の方法に従って合成した。
<Comparative example 2> The synthesis | combination of metal complex CM1 Metal complex CM1 was synthesize | combined according to the method as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-43243.

Figure 0006543902
Figure 0006543902

<比較例2> 金属錯体CM2の合成
金属錯体CM2は、特開2011−105701号公報に記載の方法に従って合成した。
<Comparative example 2> The synthesis | combination of metal complex CM2 Metal complex CM2 was synthesize | combined according to the method of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-105701.

Figure 0006543902
Figure 0006543902

<比較例3> 金属錯体CM3の合成
金属錯体CM3は、特開2006−188673号公報に記載の方法に従って合成した。
<Comparative example 3> The synthesis | combination of metal complex CM3 Metal complex CM3 was synthesize | combined according to the method of Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-188673.

Figure 0006543902
Figure 0006543902

<測定例1> 金属錯体M3のPLQYおよび発光スペクトルの測定
金属錯体M3のキシレン溶液(0.0008重量%)を用いて、PLQYおよび発光スペクトルの測定を行った。615nmに発光スペクトルの最大ピークを有する発光が観測され、PLQYは71%であった。
<Measurement Example 1> Measurement of PLQY and Emission Spectrum of Metal Complex M3 Measurement of PLQY and emission spectrum was performed using a xylene solution (0.0008% by weight) of metal complex M3. The emission having the maximum peak of the emission spectrum at 615 nm was observed, and the PLQY was 71%.

<測定例2> 金属錯体M4のPLQYおよび発光スペクトルの測定
実施例4で合成した金属錯体M4のキシレン溶液(0.0008重量%)を用いて、PLQYおよび発光スペクトルの測定を行った。622nmに発光スペクトルの最大ピークを有する発光が観測され、PLQYは67%であった。
<Measurement Example 2> Measurement of PLQY and Emission Spectrum of Metal Complex M4 The PLQY and emission spectrum of the metal complex M4 synthesized in Example 4 were measured using a xylene solution (0.0008% by weight). The emission having the maximum peak of the emission spectrum at 622 nm was observed, and the PLQY was 67%.

<測定例3> 金属錯体M5のPLQYおよび発光スペクトルの測定
金属錯体M5のキシレン溶液(0.0008重量%)を用いて、PLQYおよび発光スペクトルの測定を行った。626nmに発光スペクトルの最大ピークを有する発光が観測され、PLQYは59%であった。
<Measurement Example 3> Measurement of PLQY and Emission Spectrum of Metal Complex M5 Measurement of PLQY and emission spectrum was performed using a xylene solution (0.0008 wt%) of metal complex M5. The emission having the maximum peak of the emission spectrum at 626 nm was observed, and the PLQY was 59%.

<測定例C1> 金属錯体CM1のPLQYおよび発光スペクトルの測定
金属錯体CM1のキシレン溶液(0.0008重量%)を用いて、PLQYおよび発光スペクトルの測定を行った。598nmに発光スペクトルの最大ピークを有する発光が観測され、PLQYは66%であった。
<Measurement Example C1> Measurement of PLQY and Emission Spectrum of Metal Complex CM1 Measurement of PLQY and emission spectrum was performed using a xylene solution (0.0008 wt%) of metal complex CM1. The emission having the maximum peak of the emission spectrum at 598 nm was observed, and the PLQY was 66%.

<測定例C2> 金属錯体CM2のPLQYおよび発光スペクトルの測定
金属錯体CM2のキシレン溶液(0.0008重量%)を用いて、PLQYおよび発光スペクトルの測定を行った。613nmに発光スペクトルの最大ピークを有する発光が観測され、PLQYは59%であった。
<Measurement Example C2> Measurement of PLQY and Emission Spectrum of Metal Complex CM2 PLQY and emission spectrum were measured using a xylene solution (0.0008% by weight) of metal complex CM2. The emission having the maximum peak of the emission spectrum at 613 nm was observed, and the PLQY was 59%.

<測定例C3> 金属錯体CM3のPLQYおよび発光スペクトルの測定
金属錯体CM1のキシレン溶液(0.0008重量%)を用いて、PLQYおよび発光スペクトルの測定を行った。625nmに発光スペクトルの最大ピークを有する発光が観測され、PLQYは57%であった。
<Measurement Example C3> Measurement of PLQY and Emission Spectrum of Metal Complex CM3 PLQY and emission spectrum were measured using a xylene solution (0.0008 wt%) of metal complex CM1. The emission having the maximum peak of the emission spectrum at 625 nm was observed, and the PLQY was 57%.

金属錯体M3〜M5および金属錯体CM1〜CM3の発光スペクトルの最大ピーク波長とPLQYとの関係を示す図1に示されるとおり、本発明の金属錯体は、赤色燐光発光を示す金属錯体であって、量子収率に優れる金属錯体であることがわかる。   As shown in FIG. 1 showing the relationship between PLQY and the maximum peak wavelength of the emission spectrum of metal complexes M3 to M5 and metal complexes CM1 to CM3, the metal complex of the present invention is a metal complex that exhibits red phosphorescence, It turns out that it is a metal complex which is excellent in a quantum yield.

Claims (10)

下記式(1)で表される金属錯体(但し、下記のIr(L39)、Ir(L48)、Ir(L57)、Ir(L76)、Ir(L78)、Ir(L79)、Ir(L104)、Ir(L108)、Ir(L131) 、Ir(L176) 、Ir(L209) 、Ir(L216) 及びIr(L222)を除く。)。
Figure 0006543902
[式中、
ArおよびArは、それぞれ独立に、2つ以上の環が縮合した芳香族炭化水素基、または、2つ以上の環が縮合した複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ArおよびArが複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
11およびR12は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基または置換アミノ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。R13、R14、R15およびR16は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表す。R11、R12、R13、R14、R15およびR16が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。R11とR12、R12とR13、R13とR14、R14とR15、および、R15とR16は、それぞれ結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。]
Figure 0006543902
Figure 0006543902
Figure 0006543902
Figure 0006543902
Metal complexes represented by the following formula (1) (wherein the following Ir (L39) 3 , Ir (L 48) 3 , Ir (L 57) 3 , Ir (L 76) 3 , Ir (L 78) 3 , Ir (L 79) 3, Ir (L104) 3, except Ir (L108) 3, Ir ( L131) 3, I r (L176) 3, I r (L209) 3, Ir (L216) 3 and Ir (L222) 3.).
Figure 0006543902
[In the formula,
Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aromatic hydrocarbon group in which two or more rings are fused, or a heterocyclic group in which two or more rings are fused, and these groups have a substituent It may be When a plurality of Ar 1 and Ar 2 exist, they may be the same or different.
R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a monovalent heterocyclic group or a substituted amino group , The group may have a substituent. R 13 , R 14 , R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group . When a plurality of R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are present, they may be the same or different. R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 , R 14 and R 15 , and R 15 and R 16 respectively combine to form a ring with the carbon atom to which each is attached May be ]
Figure 0006543902
Figure 0006543902
Figure 0006543902
Figure 0006543902
前記ArおよびArが、下記式(2−1)または(2−2)で表される芳香族炭化水素基である、請求項1に記載の金属錯体。
Figure 0006543902
[式中、
は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基または1価の複素環基を表す。複数存在するRは、同一でも異なっていてもよく、隣接するR同士は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよい。]
The metal complex according to claim 1, wherein Ar 1 and Ar 2 are aromatic hydrocarbon groups represented by the following formula (2-1) or (2-2).
Figure 0006543902
[In the formula,
R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, an aryloxy group or a monovalent heterocyclic group . Plural R 2 s may be the same or different, and adjacent R 2 s may be bonded to each other to form a ring together with the atoms to which they are bonded. ]
前記R11、R12、R13、R14、R15およびR16からなる群から選ばれる少なくとも1つが、下記式(D−A)または(D−B)で表される基である、請求項1または2に記載の金属錯体。
Figure 0006543902
[式中、
DA1、mDA2およびmDA3は、それぞれ独立に、0以上の整数を表す。
DAは、芳香族炭化水素基を表し、この基は置換基を有していてもよい。
ArDA1、ArDA2およびArDA3は、それぞれ独立に、アリーレン基を表し、この基は置換基を有していてもよい。ArDA1、ArDA2およびArDA3が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
DAは、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するTDAは、同一でも異なっていてもよい。]
Figure 0006543902
[式中、
DA1、mDA2、mDA3、mDA4、mDA5、mDA6およびmDA7は、それぞれ独立に、0以上の整数を表す。
DAは、芳香族炭化水素基を表し、この基は置換基を有していてもよい。複数存在するGDAは、同一でも異なっていてもよい。
ArDA1、ArDA2、ArDA3、ArDA4、ArDA5、ArDA6およびArDA7は、それぞれ独立に、アリーレン基を表し、この基は置換基を有していてもよい。ArDA1、ArDA2、ArDA3、ArDA4、ArDA5、ArDA6およびArDA7が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
DAは、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するTDAは、同一でも異なっていてもよい。]
At least one selected from the group consisting of R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 is a group represented by the following formula (D-A) or (D-B) Item 3. The metal complex according to item 1 or 2.
Figure 0006543902
[In the formula,
m DA1 , m DA2 and m DA3 each independently represent an integer of 0 or more.
G DA represents an aromatic hydrocarbon group, and this group may have a substituent.
Ar DA1 , Ar DA2 and Ar DA3 each independently represent an arylene group, and this group may have a substituent. When a plurality of Ar DA1 , Ar DA2 and Ar DA3 exist, they may be the same or different.
T DA represents an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. The plurality of T DA may be the same or different. ]
Figure 0006543902
[In the formula,
m DA1 , m DA2 , m DA3 , m DA4 , m DA5 , m DA6 and m DA7 each independently represent an integer of 0 or more.
G DA represents an aromatic hydrocarbon group, and this group may have a substituent. A plurality of G DA may be the same or different.
Ar DA1 , Ar DA2 , Ar DA3 , Ar DA4 , Ar DA5 , Ar DA6 and Ar DA7 each independently represent an arylene group, and this group may have a substituent. When a plurality of Ar DA1 , Ar DA2 , Ar DA3 , Ar DA4 , Ar DA5 , Ar DA6 and Ar DA7 are present, they may be the same or different.
T DA represents an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. The plurality of T DA may be the same or different. ]
前記R11、R12、R13、R14、R15およびR16からなる群から選ばれる少なくとも1つが、下記式(3−1)または(3−2)で表される基である、請求項3に記載の金属錯体。
Figure 0006543902
[式中、
31、R32およびR33は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基または置換アミノ基を表す。R31が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよく、複数存在するR32は、同一でも異なっていてもよく、複数存在するR33は、同一でも異なっていてもよい。]
At least one selected from the group consisting of R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 is a group represented by the following formula (3-1) or (3-2) Item 3. The metal complex according to Item 3.
Figure 0006543902
[In the formula,
R 31 , R 32 and R 33 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a monovalent heterocyclic group or a substituted amino group . When a plurality of R 31 are present, they may be the same or different, and a plurality of R 32 may be the same or different, and a plurality of R 33 may be the same or different. ]
前記R14が、前記式(D−A)または(D−B)で表される基である、請求項3または4に記載の金属錯体。 The metal complex according to claim 3 or 4, wherein R 14 is a group represented by the formula (D-A) or (D-B). 前記R14が、前記式(3−1)または(3−2)で表される基である、請求項5に記載の金属錯体。 The metal complex according to claim 5, wherein the R 14 is a group represented by the formula (3-1) or (3-2). 前記R11、R12、R13、R15およびR16が、水素原子である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の金属錯体。 The metal complex as described in any one of Claims 1-6 whose said R < 11 >, R < 12 >, R <13> , R <15> and R <16> is a hydrogen atom. 請求項1〜7のいずれか一項に記載の金属錯体と、
正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、発光材料、酸化防止剤および溶媒からなる群から選ばれる少なくとも1種の材料とを含有する組成物。
The metal complex according to any one of claims 1 to 7;
A composition comprising a hole transport material, a hole injection material, an electron transport material, an electron injection material, a light emitting material, an antioxidant, and at least one material selected from the group consisting of solvents.
請求項1〜7のいずれか一項に記載の金属錯体を発光層に用いて得られる発光素子。 The light emitting element obtained by using the metal complex as described in any one of Claims 1-7 for a light emitting layer . 下記式(1M)で表される化合物(但し、下記のL39、L48、L57、L76、L78、L79、L104、L108、L131、L176、L209、L216及びL222を除く。)。
Figure 0006543902
[式中、
ArおよびArは、それぞれ独立に、2つ以上の環が縮合した芳香族炭化水素基、または、2つ以上の環が縮合した複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
11およびR12は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基または置換アミノ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。R13、R14、R15およびR16は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表す。R11とR12、R12とR13、R13とR14、R14とR15、および、R15とR16は、それぞれ結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。]
Figure 0006543902
Figure 0006543902
Figure 0006543902
Figure 0006543902
A compound represented by the following formula (1M) (provided that the following L39, L48, except L57, L76, L78, L79, L104, L108, L131, and L 176, L 209, L216 and L222.).
Figure 0006543902
[In the formula,
Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aromatic hydrocarbon group in which two or more rings are fused, or a heterocyclic group in which two or more rings are fused, and these groups have a substituent It may be
R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a monovalent heterocyclic group or a substituted amino group , The group may have a substituent. R 13 , R 14 , R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group . R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 , R 14 and R 15 , and R 15 and R 16 respectively combine to form a ring with the carbon atom to which each is attached May be ]
Figure 0006543902
Figure 0006543902
Figure 0006543902
Figure 0006543902
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