JP2015110751A - Composition and light emitting element prepared using the same - Google Patents

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JP2015110751A JP2014218119A JP2014218119A JP2015110751A JP 2015110751 A JP2015110751 A JP 2015110751A JP 2014218119 A JP2014218119 A JP 2014218119A JP 2014218119 A JP2014218119 A JP 2014218119A JP 2015110751 A JP2015110751 A JP 2015110751A
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誠 安立
Makoto Adachi
誠 安立
一栄 大内
Kazue Ouchi
一栄 大内
浩平 浅田
Kohei Asada
浩平 浅田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition useful for the production of a light emitting element having excellent light emitting efficiency.SOLUTION: This invention relates to a composition comprising a compound represented by formula (1) and a phosphorescent compound (Ar1 is a heterocyclic group; D is, for example, a substituent having a structure of a biphenyl derivative substituted with a triazine ring). The phosphorescent compound is an iridium complex represented by the following formula.

Description

本発明は、組成物および該組成物を用いた発光素子に関する。   The present invention relates to a composition and a light-emitting element using the composition.

発光素子の発光層に用いる発光材料として、三重項励起状態からの発光を示す燐光発光性化合物が種々検討されている。このような燐光発光性化合物としては、中心金属が第5周期または第6周期に属する遷移金属である金属錯体が数多く検討されている。例えば、特許文献1には、下記式で表される有機金属デンドリマーが提案されるとともに、有機金属デンドリマーと、4,4−ビス(カルバゾール−9−イル)ビフェニル(CBP)等に代表される電荷輸送性低分子化合物とを含有するゲストホスト系組成物を発光層に用いた発光素子が記載されている。   As a light-emitting material used for a light-emitting layer of a light-emitting element, various phosphorescent compounds that emit light from a triplet excited state have been studied. As such phosphorescent compounds, many metal complexes in which the central metal is a transition metal belonging to the fifth period or the sixth period have been studied. For example, Patent Document 1 proposes an organometallic dendrimer represented by the following formula, and an electric charge represented by organometallic dendrimer and 4,4-bis (carbazol-9-yl) biphenyl (CBP). A light-emitting element using a guest-host composition containing a transporting low-molecular compound as a light-emitting layer is described.

Figure 2015110751
Figure 2015110751

特表2004−530254号公報JP-T-2004-530254

しかしながら、上記の特許文献1に記載されたゲストホスト系組成物を用いて製造される発光素子は、得られる発光効率が十分ではなかった。   However, the light emitting device manufactured using the guest-host composition described in Patent Document 1 described above has not obtained sufficient light emission efficiency.

そこで本発明は、発光効率に優れる発光素子の製造に有用な組成物を提供することを目的とする。本発明はまた、該組成物を用いて得られる発光素子を提供することを目的とする。   Then, an object of this invention is to provide a composition useful for manufacture of the light emitting element which is excellent in luminous efficiency. Another object of the present invention is to provide a light-emitting device obtained using the composition.

本発明は、第一に、
下記式(1)で表される化合物と、
下記式(D−1)で表される基、下記式(D−2)で表される基、および、下記式(D−3)で表される基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を有する燐光発光性化合物とを含有する組成物を提供する。
The present invention, first,
A compound represented by the following formula (1);
At least one selected from the group consisting of a group represented by the following formula (D-1), a group represented by the following formula (D-2), and a group represented by the following formula (D-3). A composition containing a phosphorescent compound having a group is provided.

Figure 2015110751
[式中、
mは、2以上の整数を表す。
Arは、複素環基を表し、この基は置換基を有していてもよい。
Dは、下記式(D−1)で表される基、下記式(D−2)で表される基、または、下記式(D−3)で表される基を表す。複数存在するDは、同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2015110751
[Where:
m represents an integer of 2 or more.
Ar 1 represents a heterocyclic group, and this group may have a substituent.
D represents a group represented by the following formula (D-1), a group represented by the following formula (D-2), or a group represented by the following formula (D-3). A plurality of D may be the same or different. ]

Figure 2015110751
[式中、
D1、mD2、mD3およびmD4は、それぞれ独立に、0以上の整数を表す。複数存在するmD2、mD3およびmD4は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
Gは、窒素原子、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Gが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
ArD1、ArD2、ArD3およびArD4は、それぞれ独立に、アリーレン基または2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ArD1、ArD2、ArD3およびArD4が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
Tは、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するTは、同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2015110751
[Where:
m D1 , m D2 , m D3 and m D4 each independently represent an integer of 0 or more. A plurality of m D2 , m D3 and m D4 may be the same or different.
G represents a nitrogen atom, an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group, and these groups optionally have a substituent. When a plurality of G are present, they may be the same or different.
Ar D1 , Ar D2 , Ar D3 and Ar D4 each independently represent an arylene group or a divalent heterocyclic group, and these groups optionally have a substituent. When there are a plurality of Ar D1 , Ar D2 , Ar D3 and Ar D4 , they may be the same or different.
T represents an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups optionally have a substituent. A plurality of T may be the same or different. ]

本発明は、第二に、上記組成物を用いて得られる発光素子を提供する。   Secondly, the present invention provides a light emitting device obtained using the above composition.

本発明によれば、発光効率に優れる発光素子の製造に有用な組成物を提供することができる。また、本発明によれば、該組成物を用いて得られる発光素子を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the composition useful for manufacture of the light emitting element which is excellent in luminous efficiency can be provided. Moreover, according to this invention, the light emitting element obtained using this composition can be provided.

以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.

<共通する用語の説明>
以下、本明細書で共通して用いられる用語は、特記しない限り、以下の意味である。
<Explanation of common terms>
Hereinafter, terms commonly used in the present specification have the following meanings unless otherwise specified.

Meはメチル基、Etはエチル基、Buはブチル基、i-Prはイソプロピル基、t-Buはtert-ブチル基を表す。   Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Bu represents a butyl group, i-Pr represents an isopropyl group, and t-Bu represents a tert-butyl group.

本明細書において、水素原子は、軽水素原子であっても重水素原子であってもよい。   In the present specification, the hydrogen atom may be a light hydrogen atom or a deuterium atom.

「高分子化合物」とは、分子量分布を有し、ポリスチレン換算の数平均分子量が、1×103〜1×108である重合体を意味する。高分子化合物に含まれる構成単位は、合計100モル%である。 The “polymer compound” means a polymer having a molecular weight distribution and having a polystyrene-equivalent number average molecular weight of 1 × 10 3 to 1 × 10 8 . The structural unit contained in the polymer compound is 100 mol% in total.

「低分子化合物」とは、分子量分布を有さず、分子量が1×104以下の化合物を意味する。 “Low molecular weight compound” means a compound having no molecular weight distribution and a molecular weight of 1 × 10 4 or less.

「アルキル基」は、直鎖および分岐のいずれでもよい。直鎖のアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常1〜50であり、好ましくは3〜30であり、より好ましくは4〜20である。分岐のアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜50であり、好ましくは3〜30であり、より好ましくは4〜20である。
「シクロアルキル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜50であり、好ましくは3〜30であり、より好ましくは4〜20である。
アルキル基およびシクロアルキル基は、置換基を有していてもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、2-エチルブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、3-プロピルヘプチル基、デシル基、3,7-ジメチルオクチル基、2-エチルオクチル基、2-ヘキシル-デシル基、ドデシル基、シクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、3-フェニルプロピル基、3-(4-メチルフェニル)プロピル基、3-(3,5-ジ-ヘキシルフェニル)プロピル基、6-エチルオキシヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基が挙げられる。
The “alkyl group” may be linear or branched. The carbon atom number of a linear alkyl group is 1-50 normally without including the carbon atom number of a substituent, Preferably it is 3-30, More preferably, it is 4-20. The number of carbon atoms of the branched alkyl group is usually 3 to 50, preferably 3 to 30, and more preferably 4 to 20, not including the number of carbon atoms of the substituent.
The number of carbon atoms of the “cycloalkyl group” is usually 3 to 50, preferably 3 to 30 and more preferably 4 to 20 without including the number of carbon atoms of the substituent.
The alkyl group and cycloalkyl group may have a substituent, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, isoamyl group, 2 -Ethylbutyl, hexyl, heptyl, octyl, 2-ethylhexyl, 3-propylheptyl, decyl, 3,7-dimethyloctyl, 2-ethyloctyl, 2-hexyl-decyl, dodecyl Cyclohexyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, perfluorobutyl group, perfluorohexyl group, perfluorooctyl group, 3-phenylpropyl group, 3- (4-methylphenyl) propyl group, 3- (3 , 5-di-hexylphenyl) propyl group, 6-ethyloxyhexyl group, cyclohexylmethyl group, and cyclohexylethyl group.

「アリール基」は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子1個を除いた残りの原子団を意味する。アリール基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常6〜60であり、好ましくは6〜20であり、より好ましくは6〜10である。
アリール基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、1-アントラセニル基、2-アントラセニル基、9-アントラセニル基、1-ピレニル基、2-ピレニル基、4-ピレニル基、2-フルオレニル基、3-フルオレニル基、4-フルオレニル基、2-フェニルフェニル基、3-フェニルフェニル基、4-フェニルフェニル基、および、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。
“Aryl group” means an atomic group remaining after removing one hydrogen atom directly bonded to a carbon atom constituting a ring from an aromatic hydrocarbon. The carbon atom number of an aryl group is 6-60 normally without including the carbon atom number of a substituent, Preferably it is 6-20, More preferably, it is 6-10.
The aryl group may have a substituent, for example, phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 1-anthracenyl group, 2-anthracenyl group, 9-anthracenyl group, 1-pyrenyl group, 2 -Pyrenyl group, 4-pyrenyl group, 2-fluorenyl group, 3-fluorenyl group, 4-fluorenyl group, 2-phenylphenyl group, 3-phenylphenyl group, 4-phenylphenyl group, and hydrogen atoms in these groups Are groups substituted with an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, a fluorine atom, or the like.

「アルコキシ基」は、直鎖および分岐のいずれでもよい。直鎖のアルコキシ基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常1〜40であり、好ましくは4〜10である。分岐のアルコキシ基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜40であり、好ましくは4〜10である。
「シクロアルコキシ基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜40であり、好ましくは4〜10である。
アルコキシ基およびシクロアルコキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、tert-ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、3,7-ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基が挙げられる。
The “alkoxy group” may be linear or branched. The number of carbon atoms of a linear alkoxy group is 1-40 normally without including the carbon number of a substituent, Preferably it is 4-10. The number of carbon atoms of the branched alkoxy group is usually 3 to 40, preferably 4 to 10, not including the number of carbon atoms of the substituent.
The number of carbon atoms of the “cycloalkoxy group” is usually 3 to 40, preferably 4 to 10, not including the number of carbon atoms of the substituent.
The alkoxy group and the cycloalkoxy group may have a substituent, for example, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butyloxy group, isobutyloxy group, tert-butyloxy group, pentyloxy group, Examples include a hexyloxy group, a cyclohexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a 2-ethylhexyloxy group, a nonyloxy group, a decyloxy group, a 3,7-dimethyloctyloxy group, and a lauryloxy group.

「アリールオキシ基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常6〜60であり、好ましくは7〜48である。
アリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェノキシ基、1-ナフチルオキシ基、2-ナフチルオキシ基、1-アントラセニルオキシ基、9-アントラセニルオキシ基、1-ピレニルオキシ基、および、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。
The number of carbon atoms of the “aryloxy group” is usually 6 to 60, preferably 7 to 48, not including the number of carbon atoms of the substituent.
The aryloxy group may have a substituent, for example, a phenoxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, 1-anthracenyloxy group, 9-anthracenyloxy group, 1- Examples include a pyrenyloxy group and a group in which a hydrogen atom in these groups is substituted with an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, a fluorine atom, or the like.

「p価の複素環基」(pは、1以上の整数を表す。)とは、複素環式化合物から、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子のうちp個の水素原子を除いた残りの原子団を意味する。p価の複素環基の中でも、芳香族複素環式化合物から、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子のうちp個の水素原子を除いた残りの原子団である「p価の芳香族複素環基」が好ましい。
「芳香族複素環式化合物」は、オキサジアゾール、チアジアゾール、チアゾール、オキサゾール、チオフェン、ピロール、ホスホール、フラン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、トリアジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、カルバゾール、ジベンゾホスホール等の複素環自体が芳香族性を示す化合物、および、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾボロール、ジベンゾシロール、ベンゾピラン等の複素環自体は芳香族性を示さなくとも、複素環に芳香環が縮環されている化合物を意味する。
“P-valent heterocyclic group” (p represents an integer of 1 or more) is a p-group of hydrogen atoms directly bonded to a carbon atom or a hetero atom constituting a ring from a heterocyclic compound. This means the remaining atomic group excluding the hydrogen atom. Among the p-valent heterocyclic groups, this is an atomic group obtained by removing p hydrogen atoms from an aromatic heterocyclic compound directly bonded to carbon atoms or heteroatoms constituting the ring. A “p-valent aromatic heterocyclic group” is preferable.
`` Aromatic heterocyclic compounds '' are oxadiazole, thiadiazole, thiazole, oxazole, thiophene, pyrrole, phosphole, furan, pyridine, pyrazine, pyrimidine, triazine, pyridazine, quinoline, isoquinoline, carbazole, dibenzophosphole, etc. A compound in which the ring itself exhibits aromaticity and a heterocyclic ring such as phenoxazine, phenothiazine, dibenzoborol, dibenzosilol, and benzopyran itself does not exhibit aromaticity, but the aromatic ring is condensed to the heterocyclic ring. Means a compound.

1価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常、2〜60であり、好ましくは4〜20である。
1価の複素環基は、置換基を有していてもよく、例えば、チエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジル基、ピペリジル基、キノリル基、イソキノリル基、ピリミジニル基、トリアジニル基、および、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基等で置換された基が挙げられる。
The number of carbon atoms of the monovalent heterocyclic group is usually 2 to 60, preferably 4 to 20, not including the number of carbon atoms of the substituent.
The monovalent heterocyclic group may have a substituent, for example, thienyl group, pyrrolyl group, furyl group, pyridyl group, piperidyl group, quinolyl group, isoquinolyl group, pyrimidinyl group, triazinyl group, and these And a group in which the hydrogen atom in the group is substituted with an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, or the like.

「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を示す。   “Halogen atom” refers to a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.

「アミノ基」は、置換基を有していてもよく、置換アミノ基が好ましい。アミノ基が有する置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基が好ましい。
置換アミノ基としては、例えば、ジアルキルアミノ基、ジシクロアルキルアミノ基およびジアリールアミノ基が挙げられる。
アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビス(4-メチルフェニル)アミノ基、ビス(4-tert-ブチルフェニル)アミノ基、ビス(3,5-ジ-tert-ブチルフェニル)アミノ基が挙げられる。
The “amino group” may have a substituent, and a substituted amino group is preferable. As a substituent which an amino group has, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group is preferable.
Examples of the substituted amino group include a dialkylamino group, a dicycloalkylamino group, and a diarylamino group.
Examples of the amino group include dimethylamino group, diethylamino group, diphenylamino group, bis (4-methylphenyl) amino group, bis (4-tert-butylphenyl) amino group, and bis (3,5-di-tert- Butylphenyl) amino group.

「アルケニル基」は、直鎖および分岐のいずれでもよい。直鎖のアルケニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常2〜30であり、好ましくは3〜20である。分岐のアルケニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜30であり、好ましくは4〜20である。
「シクロアルケニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常3〜30であり、好ましくは4〜20である。
アルケニル基およびシクロアルケニル基は、置換基を有していてもよく、例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、5−ヘキセニル基、7−オクテニル基、および、これらの基が置換基を有する基が挙げられる。
The “alkenyl group” may be linear or branched. The carbon atom number of a linear alkenyl group is 2-30 normally without including the carbon atom number of a substituent, Preferably it is 3-20. The number of carbon atoms of the branched alkenyl group is usually 3 to 30, preferably 4 to 20, not including the number of carbon atoms of the substituent.
The number of carbon atoms of the “cycloalkenyl group” is usually 3 to 30, preferably 4 to 20, not including the number of carbon atoms of the substituent.
The alkenyl group and the cycloalkenyl group may have a substituent, such as a vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 3-pentenyl group, 4- Examples include a pentenyl group, a 1-hexenyl group, a 5-hexenyl group, a 7-octenyl group, and a group in which these groups have a substituent.

「アルキニル基」は、直鎖および分岐のいずれでもよい。アルキニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常2〜20であり、好ましくは3〜20である。分岐のアルキニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常4〜30であり、好ましくは4〜20である。
「シクロアルキニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常4〜30であり、好ましくは4〜20である。
アルキニル基およびシクロアルキニル基は、置換基を有していてもよく、例えば、エチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、3−ペンチニル基、4−ペンチニル基、1−ヘキシニル基、5−ヘキシニル基、および、これらの基が置換基を有する基が挙げられる。
The “alkynyl group” may be linear or branched. The carbon atom number of an alkynyl group is 2-20 normally without including the carbon atom of a substituent, Preferably it is 3-20. The number of carbon atoms of the branched alkynyl group is usually 4 to 30, preferably 4 to 20, not including the carbon atom of the substituent.
The number of carbon atoms of the “cycloalkynyl group” is usually 4 to 30, preferably 4 to 20, not including the carbon atom of the substituent.
The alkynyl group and the cycloalkynyl group may have a substituent, for example, ethynyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, 3-pentynyl group, 4- Examples include a pentynyl group, 1-hexynyl group, 5-hexynyl group, and groups in which these groups have a substituent.

「アリーレン基」は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子2個を除いた残りの原子団を意味する。アリーレン基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常、6〜60であり、好ましくは6〜30であり、より好ましくは6〜18である。
アリーレン基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェニレン基、ナフタレンジイル基、アントラセンジイル基、フェナントレンジイル基、ジヒドロフェナントレンジイル基、ナフタセンジイル基、フルオレンジイル基、ピレンジイル基、ペリレンジイル基、クリセンジイル基、および、これらの基が置換基を有する基が挙げられ、好ましくは、式(A-1)〜式(A-20)で表される基である。アリーレン基は、これらの基が複数結合した基を含む。
The “arylene group” means an atomic group remaining after removing two hydrogen atoms directly bonded to a carbon atom constituting a ring from an aromatic hydrocarbon. The carbon atom number of an arylene group is 6-60 normally without including the carbon atom number of a substituent, Preferably it is 6-30, More preferably, it is 6-18.
The arylene group may have a substituent, for example, phenylene group, naphthalenediyl group, anthracenediyl group, phenanthrene diyl group, dihydrophenanthenediyl group, naphthacene diyl group, fluorenediyl group, pyrenediyl group, perylene diyl group, Examples include chrysenediyl groups and groups in which these groups have substituents, and groups represented by formula (A-1) to formula (A-20) are preferable. The arylene group includes a group in which a plurality of these groups are bonded.

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
[式中、RおよびRaは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表す。複数存在するRおよびRaは、各々、同一でも異なっていてもよく、Ra同士は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよい。]
Figure 2015110751
[Wherein, R and R a each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group. A plurality of R and R a may be the same or different, and R a may be bonded to each other to form a ring together with the atoms to which each is bonded. ]

2価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常、2〜60であり、好ましくは、3〜20であり、より好ましくは、4〜15である。
2価の複素環基は、置換基を有していてもよく、例えば、ピリジン、ジアザベンゼン、トリアジン、アザナフタレン、ジアザナフタレン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ジベンゾシロール、フェノキサジン、フェノチアジン、アクリジン、ジヒドロアクリジン、フラン、チオフェン、アゾール、ジアゾール、トリアゾールから、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子のうち2個の水素原子を除いた2価の基が挙げられ、好ましくは、式(AA-1)〜式(AA-34)で表される基である。2価の複素環基は、これらの基が複数結合した基を含む。
The number of carbon atoms of the divalent heterocyclic group is usually 2 to 60, preferably 3 to 20 and more preferably 4 to 15 without including the number of carbon atoms of the substituent.
The divalent heterocyclic group may have a substituent, for example, pyridine, diazabenzene, triazine, azanaphthalene, diazanaphthalene, carbazole, dibenzofuran, dibenzothiophene, dibenzosilol, phenoxazine, phenothiazine, acridine, Divalent acridine, furan, thiophene, azole, diazole, and triazole include divalent groups obtained by removing two hydrogen atoms from hydrogen atoms directly bonded to carbon atoms or heteroatoms constituting the ring, and preferably Is a group represented by formula (AA-1) to formula (AA-34). The divalent heterocyclic group includes a group in which a plurality of these groups are bonded.

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
[式中、RおよびRaは、前記と同じ意味を表す。]
Figure 2015110751
[Wherein, R and R a represent the same meaning as described above. ]

「架橋基」とは、加熱処理、紫外線照射処理、ラジカル反応等に供することにより、新たな結合を生成する事が可能な基であり、好ましくは、式(B-1)、(B-2)、(B-3)、(B-4)、(B-5)、(B-6)、(B-7)、(B-8)、(B-9)、(B-10)、(B-11)、(B-12)、(B-13)、(B-14)、(B-15)、(B-16)または(B-17)で表される基である。   The “crosslinking group” is a group capable of generating a new bond by being subjected to heat treatment, ultraviolet irradiation treatment, radical reaction, etc., and preferably has the formula (B-1), (B-2 ), (B-3), (B-4), (B-5), (B-6), (B-7), (B-8), (B-9), (B-10), A group represented by (B-11), (B-12), (B-13), (B-14), (B-15), (B-16) or (B-17).

Figure 2015110751
[式中、これらの基は置換基を有していてもよい。]
Figure 2015110751
[In the formula, these groups may have a substituent. ]

「置換基」とは、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、1価の複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、置換アミノ基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキニル基を表す。置換基は架橋基であってもよい。   “Substituent” means a halogen atom, cyano group, alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, monovalent heterocyclic group, alkoxy group, cycloalkoxy group, aryloxy group, amino group, substituted amino group, alkenyl group. Represents a cycloalkenyl group, an alkynyl group or a cycloalkynyl group. The substituent may be a crosslinking group.

<組成物>
次に、本発明の組成物について説明する。本発明の組成物は、式(1)で表される化合物と、式(D−1)で表される基、式(D−2)で表される基、および、下記式(D−3)で表される基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を有する燐光発光性化合物とを含有する。
<Composition>
Next, the composition of the present invention will be described. The composition of the present invention comprises a compound represented by formula (1), a group represented by formula (D-1), a group represented by formula (D-2), and the following formula (D-3): And a phosphorescent compound having at least one group selected from the group consisting of groups represented by:

<式(1)で表される化合物>
式(1)で表される化合物について説明する。
<Compound represented by Formula (1)>
The compound represented by formula (1) will be described.

Figure 2015110751
Figure 2015110751

式(1)中のmは、本発明の組成物を用いて得られる発光素子の発光効率がより優れ、式(1)で表される化合物の製造が容易であるため、2〜6の整数であることが好ましく、2〜4の整数であることがより好ましく、3または4であることが更に好ましく、3であることが特に好ましい。   M in the formula (1) is an integer of 2 to 6 because the luminous efficiency of the light-emitting device obtained using the composition of the present invention is more excellent and the production of the compound represented by the formula (1) is easy. It is preferable that it is an integer of 2 to 4, more preferably 3 or 4, and particularly preferably 3.

式(1)中のArは、含窒素複素環基であることが好ましく、含窒素芳香族複素環基であることがより好ましい。含窒素複素環基としては、例えば、オキサジアゾール、チアジアゾール、チアゾール、オキサゾール、ピロール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、トリアジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、カルバゾール、フェノキサジンおよびフェノチアジンから、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子2個以上を除いた基が挙げられ、オキサジアゾール、チアジアゾール、ピラジン、ピリミジン、トリアジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、カルバゾールまたはフェノキサジンから、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子2個以上を除いた基であることが好ましく、ピリミジン、トリアジン、カルバゾールまたはフェノキサジンから、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子2個以上を除いた基であることがより好ましく、トリアジン、カルバゾールまたはフェノキサジンから、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子2個以上を除いた基であることが更に好ましく、トリアジンから、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子2個以上を除いた基であることが特に好ましい。トリアジンから、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子2個以上を除いた基としては、1,3,5−トリアジンの環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子2個以上を除いてなる基であることが好ましい。 Ar 1 in formula (1) is preferably a nitrogen-containing heterocyclic group, and more preferably a nitrogen-containing aromatic heterocyclic group. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic group include oxadiazole, thiadiazole, thiazole, oxazole, pyrrole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, triazine, pyridazine, quinoline, isoquinoline, carbazole, phenoxazine, and phenothiazine. Or a group in which two or more hydrogen atoms directly bonded to a hetero atom are removed, and a ring is formed from oxadiazole, thiadiazole, pyrazine, pyrimidine, triazine, pyridazine, quinoline, isoquinoline, carbazole or phenoxazine A group in which two or more hydrogen atoms directly bonded to a carbon atom or a hetero atom are removed is preferable, and a ring-forming carbon atom or hetero atom is selected from pyrimidine, triazine, carbazole, or phenoxazine. More preferably, it is a group obtained by removing two or more hydrogen atoms directly bonded to a child, and two hydrogen atoms directly bonded to a carbon atom or a hetero atom constituting a ring from triazine, carbazole or phenoxazine. A group excluding the above is more preferable, and a group obtained by removing two or more hydrogen atoms directly bonded to a carbon atom or a hetero atom constituting a ring from triazine is particularly preferable. A group in which two or more hydrogen atoms directly bonded to a carbon atom or a hetero atom constituting a ring are removed from triazine is a hydrogen atom directly bonded to a carbon atom constituting a ring of 1,3,5-triazine A group formed by removing two or more is preferable.

式(1)中のDは、式(D−1)で表される基、式(D−2)で表される基、または、式(D−3)で表される基を表す。   D in Formula (1) represents the group represented by Formula (D-1), the group represented by Formula (D-2), or the group represented by Formula (D-3).

Figure 2015110751
Figure 2015110751

D1、mD2、mD3およびmD4は、通常10以下の整数であり、5以下の整数であることが好ましく、0または1であることがより好ましい。また、mD1、mD2、mD3およびmD4は、同一の整数であることが好ましい。 m D1 , m D2 , m D3, and m D4 are usually an integer of 10 or less, preferably an integer of 5 or less, and more preferably 0 or 1. Further, m D1 , m D2 , m D3 and m D4 are preferably the same integer.

Gは、好ましくは式(GDA-11)〜(GDA-15)で表される基であり、より好ましくは式(GDA-11)、(GDA-14)または(GDA-15)で表される基であり、さらに好ましくは式(GDA-11)で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。   G is preferably a group represented by the formula (GDA-11) to (GDA-15), more preferably represented by the formula (GDA-11), (GDA-14) or (GDA-15). Group, more preferably a group represented by the formula (GDA-11), and these groups optionally have a substituent.

Figure 2015110751
[式中、
*は、前記式(D−1)におけるArD1、前記式(D−2)におけるArD1もしくはArD2、または、前記式(D−3)におけるArD1、ArD2もしくはArD3との結合を表す。
**は、前記式(D−1)におけるArD2、前記式(D−2)におけるArD2もしくはArD3、または、前記式(D−3)におけるArD2、ArD3もしくはArD4との結合を表す。
DAは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RDAが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2015110751
[Where:
* Represents the bond between Ar D1 in the formula (D-1), Ar D1 or Ar D2 in the formula (D-2), or Ar D1 , Ar D2 or Ar D3 in the formula (D-3). Represent.
** represents a bond with Ar D2 in the formula (D-1), Ar D2 or Ar D3 in the formula (D-2), or Ar D2 , Ar D3 or Ar D4 in the formula (D-3). Represents.
R DA represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. When a plurality of RDA are present, they may be the same or different. ]

DAは、好ましくは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基またはシクロアルコキシ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基またはシクロアルキル基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。 R DA is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group or a cycloalkoxy group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group or a cycloalkyl group, and these groups have a substituent. May be.

ArD1、ArD2、ArD3およびArD4は、好ましくは式(ArDA-1)〜(ArDA-3)で表される基である。 Ar D1 , Ar D2 , Ar D3 and Ar D4 are preferably groups represented by the formulas (ArDA-1) to (ArDA-3).

Figure 2015110751
[式中、
DAは前記と同じ意味を表す。
DBは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RDBが複数ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2015110751
[Where:
R DA represents the same meaning as described above.
R DB represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. When there are a plurality of RDBs , they may be the same or different. ]

DBは、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基であり、より好ましくはアリール基または1価の複素環基であり、更に好ましくはアリール基である。 R DB is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, more preferably an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and still more preferably an aryl group.

Tは、好ましくは式(TDA-1)〜(TDA-3)で表される基である。   T is preferably a group represented by formulas (TDA-1) to (TDA-3).

Figure 2015110751
[式中、RDAおよびRDBは前記と同じ意味を表す。]
Figure 2015110751
[Wherein, R DA and R DB represent the same meaning as described above. ]

式(D−1)で表される基は、好ましくは式(D-1-a)〜(D-1-d)で表される基である。   The group represented by the formula (D-1) is preferably a group represented by the formulas (D-1-a) to (D-1-d).

Figure 2015110751
[式中、
DAは前記と同じ意味を表す。
p1、Rp2およびRp3は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。Rp1およびRp2が複数ある場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
np1は、0〜5の整数を表し、np2は0〜3の整数を表し、np3は0または1を表す。複数あるnp1は、同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2015110751
[Where:
R DA represents the same meaning as described above.
R p1 , R p2 and R p3 each independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group or a halogen atom. When there are a plurality of R p1 and R p2 , they may be the same or different.
np1 represents an integer of 0 to 5, np2 represents an integer of 0 to 3, and np3 represents 0 or 1. A plurality of np1 may be the same or different. ]

np1は、好ましくは0または1であり、より好ましくは1である。np2は、好ましくは0または1であり、より好ましくは0である。np3は好ましくは0である。   np1 is preferably 0 or 1, more preferably 1. np2 is preferably 0 or 1, more preferably 0. np3 is preferably 0.

p1、Rp2およびRp3は、好ましくはアルキル基またはシクロアルキル基である。 R p1 , R p2 and R p3 are preferably an alkyl group or a cycloalkyl group.

式(D−1)で表される基としては、例えば、下記式(D−1−1)〜(D−1−18)で表される基が挙げられる。   Examples of the group represented by the formula (D-1) include groups represented by the following formulas (D-1-1) to (D-1-18).

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

は、水素原子、アルキル基またはシクロアルキル基を表し、該アルキル基としては、メチル基、tert−ブチル基、ヘキシル基、2−エチルヘキシル基または2−エチルヘキシルオキシ基が好ましい。 R p represents a hydrogen atom, an alkyl group or a cycloalkyl group, and the alkyl group is preferably a methyl group, a tert-butyl group, a hexyl group, a 2-ethylhexyl group or a 2-ethylhexyloxy group.

式(D−2)で表される基は、好ましくは式(D-2-a)〜(D-2-c)で表される基である。   The group represented by the formula (D-2) is preferably a group represented by the formulas (D-2-a) to (D-2-c).

Figure 2015110751
[式中、Rp1、Rp2、Rp3、np1、np2およびnp3は、前記と同じ意味を表す。]
Figure 2015110751
[Wherein, R p1 , R p2 , R p3 , np1, np2 and np3 represent the same meaning as described above. ]

式(D−2)で表される基としては、例えば、下記式(D−2−1)〜(D−2−8)で表される基が挙げられる。   Examples of the group represented by the formula (D-2) include groups represented by the following formulas (D-2-1) to (D-2-8).

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

は、前記と同じ意味を表す。 R p represents the same meaning as described above.

式(D−3)で表される基は、好ましくは式(D-3-a)〜(D-3-c)で表される基である。   The group represented by the formula (D-3) is preferably a group represented by the formulas (D-3-a) to (D-3-c).

Figure 2015110751
[式中、Rp1、Rp2、Rp3、np1、np2およびnp3は、前記と同じ意味を表す。]
Figure 2015110751
[Wherein, R p1 , R p2 , R p3 , np1, np2 and np3 represent the same meaning as described above. ]

式(D−3)で表される基としては、例えば、下記式(D−3−1)〜(D−3−8)で表される基が挙げられる。   Examples of the group represented by the formula (D-3) include groups represented by the following formulas (D-3-1) to (D-3-8).

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

は、前記と同じ意味を表す。 R p represents the same meaning as described above.

式(1)中のDの少なくとも1つは、本発明の組成物を用いて得られる発光素子の発光効率がより優れるため、式(D−2)で表される基、または、式(D−3)で表される基であることが好ましく、Dの少なくとも2つが、式(D−2)で表される基、または、式(D−3)で表される基であることがより好ましく、Dの少なくとも2つが、式(D−2)で表される基であることがさらに好ましい。   Since at least one of D in the formula (1) is more excellent in luminous efficiency of the light-emitting element obtained by using the composition of the present invention, the group represented by the formula (D-2) or the formula (D -3) is preferable, and at least two of D are more preferably a group represented by the formula (D-2) or a group represented by the formula (D-3). Preferably, at least two of D are groups represented by the formula (D-2).

式(1)で表される化合物としては、例えば、下記式(1−1)〜(1−27)で表される化合物が挙げられ、好ましくは下記式(1−1)〜(1−25)で表される化合物であり、本発明の組成物を用いた発光効率がより優れるため、より好ましくは式(1−1)〜(1−19)で表される化合物であり、さらに好ましくは式(1−1)〜(1−13)で表される化合物であり、特に好ましくは式(1−1)〜(1−6)で表される化合物であり、とりわけ好ましくは式(1−1)で表される化合物である。   Examples of the compound represented by the formula (1) include compounds represented by the following formulas (1-1) to (1-27), preferably the following formulas (1-1) to (1-25). The compound represented by formula (1-1) to (1-19) is more preferred because the luminous efficiency using the composition of the present invention is more excellent. Compounds represented by formulas (1-1) to (1-13), particularly preferred are compounds represented by formulas (1-1) to (1-6), and particularly preferred are formulas (1- It is a compound represented by 1).

Figure 2015110751
[式中、Dは前記と同じ意味を表す。Rは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。]
Figure 2015110751
[Wherein D represents the same meaning as described above. R Z represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. ]

式(1)で表される化合物としては、例えば、下記で表される化合物が挙げられる。   As a compound represented by Formula (1), the compound represented by the following is mentioned, for example.

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

式(1)で表される化合物の製造方法について説明する。   The manufacturing method of the compound represented by Formula (1) is demonstrated.

式(1)で表される化合物は、如何なる方法で製造してもよいが、例えば、式(S−1)で表される化合物と式(S−2)で表される化合物(m個)とのSuzuki反応、Kumada反応、Stille反応等のカップリング反応により合成することができる。より詳細には、式(S−1)で表される化合物と式(S−2)で表される化合物(m個)とを、有機溶媒に溶解させた後、必要に応じてアルカリ、触媒等を用いて、有機溶媒の融点以上沸点以下の温度で反応させることにより合成することができる。   The compound represented by the formula (1) may be produced by any method. For example, the compound represented by the formula (S-1) and the compound represented by the formula (S-2) (m) And a coupling reaction such as Suzuki reaction, Kumada reaction, Stille reaction. More specifically, the compound represented by the formula (S-1) and the compound (m-2) represented by the formula (S-2) are dissolved in an organic solvent, and then an alkali, a catalyst is used as necessary. Can be synthesized by reacting at a temperature not lower than the melting point of the organic solvent and not higher than the boiling point.

Figure 2015110751
[式中、
m、ArおよびDは、前記と同じ意味を表す。
およびWは、それぞれ独立に、下記式(W−1)〜(W−10)のいずれかで表される基、アルキルスルホニルオキシ基、シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニルオキシ基、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するWおよびWは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2015110751
[Where:
m, Ar 1 and D represent the same meaning as described above.
W 1 and W 2 are each independently a group represented by any of the following formulas (W-1) to (W-10), an alkylsulfonyloxy group, a cycloalkylsulfonyl group, an arylsulfonyloxy group, a chlorine atom Represents a bromine atom or an iodine atom, and these groups optionally have a substituent. A plurality of W 1 and W 2 may be the same or different. ]

Figure 2015110751
Figure 2015110751

カップリング反応に用いる触媒としては、パラジウム触媒が好ましい。パラジウム触媒としては、例えば、酢酸パラジウム、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]ジクロロパラジウム(II)、トリス(ジベンジリデンアセトン)二パラジウム(0)が挙げられる。   As a catalyst used for the coupling reaction, a palladium catalyst is preferable. Examples of the palladium catalyst include palladium acetate, bis (triphenylphosphine) palladium (II) dichloride, tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] dichloropalladium ( II), tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0).

パラジウム触媒は、トリフェニルホスフィン、トリ(o−トリル)ホスフィン、トリ(tert−ブチル)ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン等のリン化合物と併用してもよい。   The palladium catalyst may be used in combination with a phosphorus compound such as triphenylphosphine, tri (o-tolyl) phosphine, tri (tert-butyl) phosphine, tricyclohexylphosphine, 1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene. .

およびWで表されるアルキルスルホニルオキシ基としては、例えば、メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基が挙げられる。
およびWで表されるアリールスルホニルオキシ基としては、例えば、p−トルエンスルホニルオキシ基が挙げられる。
Examples of the alkylsulfonyloxy group represented by W 1 and W 2 include a methanesulfonyloxy group, an ethanesulfonyloxy group, and a trifluoromethanesulfonyloxy group.
Examples of the arylsulfonyloxy group represented by W 1 and W 2 include a p-toluenesulfonyloxy group.

としては、式(S−1)で表される化合物と式(S−2)で表され化合物(m個)とのカップリング反応が容易に進行するので、式(W−1)〜(W−10)のいずれかで表される基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、臭素原子またはヨウ素原子が好ましく、臭素原子で表される基がより好ましい。 The W 1, since the coupling reaction with the formula (S-1) a compound represented by the formula (S-2) is represented by compounds (m pieces) easily progresses, the formula (W-1) ~ A group represented by any one of (W-10), a trifluoromethanesulfonyloxy group, a bromine atom or an iodine atom is preferred, and a group represented by a bromine atom is more preferred.

としては、式(S−1)で表される化合物と式(S−2)で表される化合物(m個)とのカップリング反応が容易に進行するので、式(W−1)〜(W−10)のいずれかで表される基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、臭素原子またはヨウ素原子が好ましく、式(W−7)で表される基がより好ましい。 As W 2 , since the coupling reaction of the compound represented by the formula (S-1) and the compound (m-2) represented by the formula (S-2) easily proceeds, the formula (W-1) A group represented by any one of (W-10), a trifluoromethanesulfonyloxy group, a bromine atom or an iodine atom is preferred, and a group represented by the formula (W-7) is more preferred.

<燐光発光性化合物>
続いて、式(D−1)で表される基、式(D−2)で表される基、および、下記式(D−3)で表される基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を有する燐光発光性化合物について説明する。
<Phosphorescent compound>
Subsequently, at least one selected from the group consisting of a group represented by the formula (D-1), a group represented by the formula (D-2), and a group represented by the following formula (D-3) A phosphorescent compound having the above group will be described.

燐光発光性化合物が有する式(D−1)で表される基、式(D−2)で表される基、および、下記式(D−3)で表される基の例および好ましい形態は、式(1)で表される化合物が有する式(D−1)で表される基、式(D−2)で表される基、および、下記式(D−3)で表される基の例および好ましい形態と同じである。   Examples and preferred embodiments of the group represented by the formula (D-1), the group represented by the formula (D-2), and the group represented by the following formula (D-3) included in the phosphorescent compound are as follows: A group represented by the formula (D-1), a group represented by the formula (D-2), and a group represented by the following formula (D-3), which the compound represented by the formula (1) has Examples and preferred forms are the same.

燐光発光性化合物としては、例えば、ルテニウム錯体、ロジウム錯体、パラジウム錯体、イリジウム錯体および白金錯体が挙げられ、イリジウム錯体または白金錯体であることが好ましく、イリジウム錯体であることがより好ましい。   Examples of the phosphorescent compound include a ruthenium complex, a rhodium complex, a palladium complex, an iridium complex, and a platinum complex, preferably an iridium complex or a platinum complex, and more preferably an iridium complex.

イリジウム錯体としては、式Ir-1〜Ir-5で表されるイリジウム錯体が好ましく、式Ir-1〜Ir-4で表されるイリジウム錯体がより好ましい。   As the iridium complex, iridium complexes represented by the formulas Ir-1 to Ir-5 are preferable, and iridium complexes represented by the formulas Ir-1 to Ir-4 are more preferable.

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
[式中、
D1は、1、2または3を表し、nD2は、1または2を表す。
D1、RD2、RD3、RD4、RD5、RD6、RD7、RD8、RD11、RD12、RD13、RD14、RD15、RD16、RD17、RD18、RD19、RD20、RD21、RD22、RD23、RD24、RD25、RD26、RD31、RD32、RD33、RD34、RD35、RD36およびRD37は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RD1、RD2、RD3、RD4、RD5、RD6、RD7、RD8、RD11、RD12、RD13、RD14、RD15、RD16、RD17、RD18、RD19、RD20、RD21、RD22、RD23、RD24、RD25、RD26、RD31、RD32、RD33、RD34、RD35、RD36およびRD37が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
−AD1---AD2−は、アニオン性の2座配位子を表し、AD1およびAD2は、それぞれ独立に、アニオン性の2座配位子を構成する炭素原子、酸素原子または窒素原子を表し、これらの原子は環を構成する原子であってもよい。−AD1---AD2−が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
また、式Ir−1におけるRD1、RD2、RD3、RD4、RD5、RD6、RD7およびRD8の少なくとも1つは、前記式(D−1)で表される基、前記式(D−2)で表される基、または、前記式(D−3)で表される基である。
また、式Ir−2におけるRD11、RD12、RD13、RD14、RD15、RD16、RD17、RD18、RD19およびRD20の少なくとも1つは、前記式(D−1)で表される基、前記式(D−2)で表される基、または、前記式(D−3)で表される基である。
また、式Ir−3におけるRD1、RD2、RD3、RD4、RD5、RD6、RD7、RD8、RD11、RD12、RD13、RD14、RD15、RD16、RD17、RD18、RD19およびRD20の少なくとも1つは、前記式(D−1)で表される基、前記式(D−2)で表される基、または、前記式(D−3)で表される基である。
また、式Ir−4におけるRD21、RD22、RD23、RD24、RD25およびRD26の少なくとも1つは、前記式(D−1)で表される基、前記式(D−2)で表される基、または、前記式(D−3)で表される基である。
また、式Ir−5におけるRD31、RD32、RD33、RD34、RD35、RD36およびRD37の少なくとも1つは、前記式(D−1)で表される基、前記式(D−2)で表される基、または、前記式(D−3)で表される基である。]
Figure 2015110751
[Where:
n D1 represents 1, 2 or 3, and n D2 represents 1 or 2.
R D1 , R D2 , R D3 , R D4 , R D5 , R D6 , R D7 , R D8 , R D11 , R D12 , R D13 , R D14 , R D15 , R D16 , R D17 , R D18 , R D19 , R D20 , R D21 , R D22 , R D23 , R D24 , R D25 , R D26 , R D31 , R D32 , R D33 , R D34 , R D35 , R D36 and R D37 are each independently a hydrogen atom Represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a monovalent heterocyclic group or a halogen atom, and these groups optionally have a substituent. R D1 , R D2 , R D3 , R D4 , R D5 , R D6 , R D7 , R D8 , R D11 , R D12 , R D13 , R D14 , R D15 , R D16 , R D17 , R D18 , R D19 , R D20 , R D21 , R D22 , R D23 , R D24 , R D25 , R D26 , R D31 , R D32 , R D33 , R D34 , R D35 , R D36 and R D37 Each may be the same or different.
-A D1 --- A D2 -represents an anionic bidentate ligand, and A D1 and A D2 each independently represent a carbon atom, oxygen atom or Represents a nitrogen atom, and these atoms may be atoms constituting a ring. When a plurality of -A D1 --- A D2 -are present, they may be the same or different.
In addition, at least one of R D1 , R D2 , R D3 , R D4 , R D5 , R D6 , R D7 and R D8 in the formula Ir-1 is a group represented by the formula (D-1), The group represented by the formula (D-2) or the group represented by the formula (D-3).
In addition, at least one of R D11 , R D12 , R D13 , R D14 , R D15 , R D16 , R D17 , R D18 , R D19, and R D20 in formula Ir-2 is represented by formula (D-1). A group represented by the formula (D-2), or a group represented by the formula (D-3).
Further, R D1 , R D2 , R D3 , R D4 , R D5 , R D6 , R D7 , R D8 , R D11 , R D12 , R D13 , R D14 , R D15 , R D16 , R in Formula Ir-3 At least one of D17 , R D18 , R D19 and R D20 is a group represented by the formula (D-1), a group represented by the formula (D-2), or the formula (D-3). ).
In addition, at least one of R D21 , R D22 , R D23 , R D24 , R D25, and R D26 in Formula Ir-4 is a group represented by Formula (D-1) or Formula (D-2) Or a group represented by the formula (D-3).
In addition, at least one of R D31 , R D32 , R D33 , R D34 , R D35 , R D36, and R D37 in Formula Ir-5 is a group represented by Formula (D-1), Formula (D -2) or a group represented by the formula (D-3). ]

式Ir-1〜Ir-5で表されるイリジウム錯体は、それらの合成が容易であるため、式(D−1)で表される基、または、前記式(D−2)で表される基を有することが好ましく、式(D−1)で表される基を有することがより好ましい。   Since the iridium complexes represented by the formulas Ir-1 to Ir-5 are easy to synthesize, they are represented by the group represented by the formula (D-1) or the formula (D-2). It preferably has a group, and more preferably has a group represented by the formula (D-1).

−AD1---AD2−で表されるアニオン性の2座配位子としては、例えば、下記式で表される配位子が挙げられる。 Examples of the anionic bidentate ligand represented by -A D1 --- A D2- include a ligand represented by the following formula.

Figure 2015110751
[式中、*は、Irと結合する部位を表す。]
Figure 2015110751
[In formula, * represents the site | part couple | bonded with Ir. ]

式Ir-1で表されるイリジウム錯体としては、好ましくは式Ir-11〜Ir-13で表されるイリジウム錯体である。式Ir-2で表されるイリジウム錯体としては、好ましくは式Ir-21で表されるイリジウム錯体である。式Ir-3で表されるイリジウム錯体としては、好ましくは式Ir-31〜Ir-33で表されるイリジウム錯体である。式Ir-4で表されるイリジウム錯体としては、好ましくは式Ir-41〜Ir-43で表されるイリジウム錯体である。式Ir-5で表される金属錯体としては、好ましくは式Ir-51〜Ir-53で表されるイリジウム錯体である。   The iridium complex represented by the formula Ir-1 is preferably an iridium complex represented by the formulas Ir-11 to Ir-13. The iridium complex represented by the formula Ir-2 is preferably an iridium complex represented by the formula Ir-21. The iridium complex represented by the formula Ir-3 is preferably an iridium complex represented by the formulas Ir-31 to Ir-33. The iridium complex represented by the formula Ir-4 is preferably an iridium complex represented by the formulas Ir-41 to Ir-43. The metal complex represented by the formula Ir-5 is preferably an iridium complex represented by the formula Ir-51 to Ir-53.

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
[式中、
Dは、式(D-1)、式(D-2)または式(D-3)で表される基を表す。複数存在するDは、同一でも異なっていてもよい。
RDCは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRDCは、同一でも異なっていてもよい。
RDDは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するRDDは、同一でも異なっていてもよい。
D2は、1または2を表す。]
Figure 2015110751
[Where:
D represents a group represented by the formula (D-1), the formula (D-2) or the formula (D-3). A plurality of D may be the same or different.
R DC represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. A plurality of R DCs may be the same or different.
R DD represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or a monovalent heterocyclic group, and these groups optionally have a substituent. A plurality of R DDs may be the same or different.
n D2 represents 1 or 2. ]

式Ir-11〜Ir-13で表されるイリジウム錯体、式Ir-21で表されるイリジウム錯体、式Ir-31〜Ir-33で表されるイリジウム錯体、式Ir-41〜Ir-43で表されるイリジウム錯体、式Ir-51〜Ir-53で表されるイリジウム錯体において、複数存在するDは、イリジウム錯体の合成が容易であるため、同一であることが好ましい。   An iridium complex represented by the formula Ir-11 to Ir-13, an iridium complex represented by the formula Ir-21, an iridium complex represented by the formula Ir-31 to Ir-33, and a formula Ir-41 to Ir-43 In the iridium complex represented by the formulas Ir-51 to Ir-53, a plurality of Ds are preferably the same because of the ease of synthesis of the iridium complex.

イリジウム錯体としては、例えば、下記で表される金属錯体が挙げられる。   As an iridium complex, the metal complex represented by the following is mentioned, for example.

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
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Figure 2015110751
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Figure 2015110751
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燐光発光性化合物は、例えば、特表2004−530254号公報、特開2008−179617号公報、特開2011−105701号公報、特表2007−504272号公報、特開2013−147449号公報、特開2013−147450号公報、米国特許出願公開第2011/0057559号明細書に記載されている方法に従って合成することができる。   Examples of the phosphorescent compound include JP-T-2004-530254, JP-A-2008-179617, JP-A-2011-105701, JP-T-2007-504272, JP-A-2013-147449, and JP-A-2013-147449. It can be synthesized according to the method described in 2013-147450 and US Patent Application Publication No. 2011/0057559.

<組成比等>
式(1)で表される化合物の有する最低励起三重項エネルギー準位(T)は、燐光発光性化合物の有する最低励起三重項エネルギー準位(T)に対して、同等のエネルギー準位または高いエネルギー準位であることが好ましい。
<Composition ratio, etc.>
Lowest excited triplet energy level (T 1) is possessed by the compound represented by the formula (1), relative to the lowest excited triplet energy level possessed by the phosphorescent compound (T 1), the equivalent energy level Or it is preferable that it is a high energy level.

本発明の組成物を用いて得られる発光素子の発光効率がより優れるため、式(1)で表される化合物および燐光発光性化合物は、式(D−1)で表される基、式(D−2)で表される基、および、式(D−3)で表される基からなる群から選ばれる少なくとも1種の同一の基を有することが好ましく、式(D−1)で表される基、および、式(D−2)で表される基からなる群から選ばれる少なくとも1種の同一の基を有することがより好ましい。   Since the luminous efficiency of the light-emitting element obtained using the composition of the present invention is more excellent, the compound represented by the formula (1) and the phosphorescent compound are represented by the group represented by the formula (D-1): It preferably has at least one identical group selected from the group consisting of a group represented by D-2) and a group represented by formula (D-3), and is represented by formula (D-1). It is more preferable to have at least one identical group selected from the group consisting of a group represented by formula (D-2) and a group represented by formula (D-2).

ここで、同一の基を有するとは、式(D−1)、(D−2)および(D−3)を構成するmD1〜mD4、G、ArD1〜ArD4およびTが、それぞれ同一である基を有することを意味する。 Here, having the same group means that m D1 to m D4 , G, Ar D1 to Ar D4 and T constituting the formulas (D-1), (D-2) and (D-3) are respectively It means having the group which is the same.

本発明の組成物に含有される燐光発光性化合物の含有量は、式(1)で表される化合物100重量部に対して、通常1〜400重量部であり、好ましくは3〜200重量部であり、より好ましくは3〜100重量部であり、さらに好ましくは5〜70重量部である。   The content of the phosphorescent compound contained in the composition of the present invention is usually 1 to 400 parts by weight, preferably 3 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound represented by the formula (1). More preferably, it is 3-100 weight part, More preferably, it is 5-70 weight part.

<その他の成分>
本発明の組成物は、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、発光材料(本発明の組成物の必須成分である燐光発光性化合物とは異なる。)、酸化防止剤および溶媒からなる群から選ばれる少なくとも1種の材料をさらに含有していてもよい。
<Other ingredients>
The composition of the present invention includes a hole transport material, a hole injection material, an electron transport material, an electron injection material, a light emitting material (different from the phosphorescent compound which is an essential component of the composition of the present invention), and antioxidant. It may further contain at least one material selected from the group consisting of an agent and a solvent.

溶媒を含有する本発明の組成物(以下、「インク」ということがある。)は、インクジェットプリント法、ノズルプリント法等の印刷法を用いた発光素子の作製に好適である。   The composition of the present invention containing a solvent (hereinafter sometimes referred to as “ink”) is suitable for manufacturing a light-emitting element using a printing method such as an inkjet printing method or a nozzle printing method.

インクの粘度は、印刷法の種類によって調整すればよいが、インクジェットプリント法等の溶液が吐出装置を経由する印刷法に適用する場合には、吐出時の目づまりと飛行曲がりを防止するために、好ましくは25℃において1〜20mPa・sである。   The viscosity of the ink may be adjusted according to the type of printing method, but when applying a printing method such as an inkjet printing method to a printing method that passes through a discharge device, in order to prevent clogging and flight bending at the time of discharge. It is preferably 1 to 20 mPa · s at 25 ° C.

インクに含まれる溶媒は、該インク中の固形分を溶解または均一に分散できる溶媒が好ましい。溶媒としては、例えば、1,2-ジクロロエタン、1,1,2-トリクロロエタン、クロロベンゼン、o-ジクロロベンゼン等の塩素系溶媒;テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソール、4-メチルアニソール等のエーテル系溶媒;トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、n-ヘキシルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、n-ペンタン、n-ヘキサン、n-へプタン、n-オクタン、n-ノナン、n-デカン、n-ドデカン、ビシクロヘキシル等の脂肪族炭化水素系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ベンゾフェノン、アセトフェノン等のケトン系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート、安息香酸メチル、酢酸フェニル等のエステル系溶媒;エチレングリコール、グリセリン、1,2-ヘキサンジオール等の多価アルコール系溶媒;イソプロピルアルコール、シクロヘキサノール等のアルコール系溶媒;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒;N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒が挙げられる。溶媒は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   The solvent contained in the ink is preferably a solvent that can dissolve or uniformly disperse the solid content in the ink. Examples of the solvent include chlorine solvents such as 1,2-dichloroethane, 1,1,2-trichloroethane, chlorobenzene and o-dichlorobenzene; ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, anisole and 4-methylanisole; toluene, Aromatic hydrocarbon solvents such as xylene, mesitylene, ethylbenzene, n-hexylbenzene, cyclohexylbenzene; cyclohexane, methylcyclohexane, n-pentane, n-hexane, n-heptane, n-octane, n-nonane, n- Aliphatic hydrocarbon solvents such as decane, n-dodecane, bicyclohexyl; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, benzophenone, acetophenone; ethyl acetate, butyl acetate, ethyl cellosolve acetate, methyl benzoate, phenyl acetate, etc. Ester solvent: Ethylene Polyhydric alcohol solvents such as glycol, glycerin and 1,2-hexanediol; alcohol solvents such as isopropyl alcohol and cyclohexanol; sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide; N-methyl-2-pyrrolidone and N, N-dimethyl Examples include amide solvents such as formamide. A solvent may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

インクにおいて、溶媒の配合量は、本発明の組成物の必須成分である式(1)で表される化合物と燐光発光性化合物との合計100重量部に対して、通常、1000〜100000重量部であり、好ましくは2000〜20000重量部である。   In the ink, the amount of the solvent is usually 1000 to 100,000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total of the compound represented by the formula (1) and the phosphorescent compound which are essential components of the composition of the present invention. And preferably 2000 to 20000 parts by weight.

[正孔輸送材料]
正孔輸送材料は、低分子化合物と高分子化合物とに分類される。正孔輸送材料は、架橋基を有していてもよい。
[Hole transport material]
Hole transport materials are classified into low molecular compounds and high molecular compounds. The hole transport material may have a crosslinking group.

高分子化合物としては、例えば、ポリビニルカルバゾールおよびその誘導体;側鎖または主鎖に芳香族アミン構造を有するポリアリーレンおよびその誘導体が挙げられる。高分子化合物は、電子受容性部位が結合された化合物でもよい。電子受容性部位としては、例えば、フラーレン、テトラフルオロテトラシアノキノジメタン、テトラシアノエチレン、トリニトロフルオレノン等が挙げられ、好ましくはフラーレンである。   Examples of the polymer compound include polyvinyl carbazole and derivatives thereof; polyarylene having an aromatic amine structure in the side chain or main chain and derivatives thereof. The polymer compound may be a compound to which an electron accepting site is bonded. Examples of the electron accepting site include fullerene, tetrafluorotetracyanoquinodimethane, tetracyanoethylene, trinitrofluorenone, and fullerene is preferable.

正孔輸送材料の配合量は、本発明の組成物の必須成分である式(1)で表される化合物と燐光発光性化合物との合計100重量部に対して、通常、1〜400重量部であり、好ましくは5〜150重量部である。   The compounding amount of the hole transport material is usually 1 to 400 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of the compound represented by the formula (1) and the phosphorescent compound which are essential components of the composition of the present invention. And preferably 5 to 150 parts by weight.

正孔輸送材料は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   A hole transport material may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

[電子輸送材料]
電子輸送材料は、低分子化合物と高分子化合物とに分類される。電子輸送材料は、架橋基を有していてもよい。
[Electron transport materials]
Electron transport materials are classified into low molecular compounds and high molecular compounds. The electron transport material may have a crosslinking group.

低分子化合物としては、例えば、8-ヒドロキシキノリンを配位子とする金属錯体、オキサジアゾール、アントラキノジメタン、ベンゾキノン、ナフトキノン、アントラキノン、テトラシアノアントラキノジメタン、フルオレノン、ジフェニルジシアノエチレンおよびジフェノキノン、並びに、これらの誘導体が挙げられる。   Examples of low molecular weight compounds include metal complexes having 8-hydroxyquinoline as a ligand, oxadiazole, anthraquinodimethane, benzoquinone, naphthoquinone, anthraquinone, tetracyanoanthraquinodimethane, fluorenone, diphenyldicyanoethylene, and diphenoquinone. As well as these derivatives.

高分子化合物としては、例えば、ポリフェニレン、ポリフルオレン、および、これらの誘導体が挙げられる。高分子化合物は、金属でドープされていてもよい。   Examples of the polymer compound include polyphenylene, polyfluorene, and derivatives thereof. The polymer compound may be doped with a metal.

電子輸送材料の配合量は、本発明の組成物の必須成分である式(1)で表される化合物と燐光発光性化合物との合計100重量部に対して、通常、1〜400重量部であり、好ましくは5〜150重量部である。   The compounding amount of the electron transport material is usually 1 to 400 parts by weight with respect to 100 parts by weight as a total of the compound represented by the formula (1) and the phosphorescent compound which are essential components of the composition of the present invention. Yes, preferably 5 to 150 parts by weight.

電子輸送材料は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   An electron transport material may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

[正孔注入材料および電子注入材料]
正孔注入材料および電子注入材料は、各々、低分子化合物と高分子化合物とに分類される。正孔注入材料および電子注入材料は、架橋基を有していてもよい。
[Hole injection material and electron injection material]
The hole injection material and the electron injection material are each classified into a low molecular compound and a high molecular compound. The hole injection material and the electron injection material may have a crosslinking group.

低分子化合物としては、例えば、銅フタロシアニン等の金属フタロシアニン;カーボン;モリブデン、タングステン等の金属酸化物;フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化セシウム、フッ化カリウム等の金属フッ化物が挙げられる。   Examples of the low molecular weight compound include metal phthalocyanines such as copper phthalocyanine; carbon; metal oxides such as molybdenum and tungsten; and metal fluorides such as lithium fluoride, sodium fluoride, cesium fluoride, and potassium fluoride.

高分子化合物としては、例えば、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレン、ポリキノリンおよびポリキノキサリン、並びに、これらの誘導体;芳香族アミン残基を主鎖または側鎖に含む重合体等の導電性高分子が挙げられる。   Examples of the polymer compound include polyaniline, polythiophene, polypyrrole, polyphenylene vinylene, polythienylene vinylene, polyquinoline and polyquinoxaline, and derivatives thereof; polymers containing aromatic amine residues in the main chain or side chain, etc. Examples thereof include conductive polymers.

正孔注入材料および電子注入材料の配合量は、各々、本発明の組成物の必須成分である式(1)で表される化合物と燐光発光性化合物との合計100重量部に対して、通常、1〜400重量部であり、好ましくは5〜150重量部である。   The compounding amounts of the hole injecting material and the electron injecting material are usually based on a total of 100 parts by weight of the compound represented by the formula (1) and the phosphorescent compound, which are essential components of the composition of the present invention. 1 to 400 parts by weight, preferably 5 to 150 parts by weight.

正孔注入材料および電子注入材料は、各々、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   Each of the hole injection material and the electron injection material may be used alone or in combination of two or more.

[イオンドープ]
正孔注入材料または電子注入材料が導電性高分子を含む場合、導電性高分子の電気伝導度は、好ましくは、1×10-5S/cm〜1×103S/cmである。導電性高分子の電気伝導度をかかる範囲とするために、導電性高分子に適量のイオンをドープすることができる。
[Ion dope]
When the hole injection material or the electron injection material includes a conductive polymer, the electrical conductivity of the conductive polymer is preferably 1 × 10 −5 S / cm to 1 × 10 3 S / cm. In order to make the electric conductivity of the conductive polymer within such a range, the conductive polymer can be doped with an appropriate amount of ions.

ドープするイオンの種類は、正孔注入材料であればアニオン、電子注入材料であればカチオンである。アニオンとしては、例えば、ポリスチレンスルホン酸イオン、アルキルベンゼンスルホン酸イオン、樟脳スルホン酸イオンが挙げられる。カチオンとしては、例えば、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオンが挙げられる。   The type of ions to be doped is an anion for a hole injection material and a cation for an electron injection material. Examples of the anion include polystyrene sulfonate ion, alkylbenzene sulfonate ion, and camphor sulfonate ion. Examples of the cation include lithium ion, sodium ion, potassium ion, and tetrabutylammonium ion.

ドープするイオンは、一種のみでも二種以上でもよい。   Only one kind or two or more kinds of ions may be doped.

[発光材料]
発光材料(本発明の組成物の必須成分である燐光発光性化合物とは異なる。)は、低分子化合物と高分子化合物とに分類される。発光材料は、架橋基を有していてもよい。
[Light emitting material]
Luminescent materials (different from phosphorescent compounds that are essential components of the composition of the present invention) are classified into low molecular compounds and high molecular compounds. The light emitting material may have a crosslinking group.

低分子化合物としては、例えば、ナフタレンおよびその誘導体、アントラセンおよびその誘導体、ペリレンおよびその誘導体、並びに、イリジウム、白金またはユーロピウムを中心金属とする三重項発光錯体が挙げられる。   Examples of the low molecular weight compound include naphthalene and derivatives thereof, anthracene and derivatives thereof, perylene and derivatives thereof, and triplet light-emitting complexes having iridium, platinum, or europium as a central metal.

高分子化合物としては、例えば、フェニレン基、ナフタレンジイル基、アントラセンジイル基、フルオレンジイル基、フェナントレンジイル基、ジヒドロフェナントレンジイル基、芳香族アミン残基、カルバゾールジイル基、フェノキサジンジイル基、フェノチアジンジイル基、ピレンジイル基等を含む高分子化合物が挙げられる。   Examples of the polymer compound include phenylene group, naphthalenediyl group, anthracenediyl group, fluorenediyl group, phenanthrene diyl group, dihydrophenanthenediyl group, aromatic amine residue, carbazole diyl group, phenoxazine diyl group, phenothiazine diyl. And a polymer compound containing a group, a pyrenediyl group, and the like.

三重項発光錯体としては、例えば、以下に示す金属錯体が挙げられる。   Examples of the triplet luminescent complex include the metal complexes shown below.

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

発光材料の含有量は、本発明の組成物の必須成分である式(1)で表される化合物と燐光発光性化合物との合計100重量部に対して、通常、0.1〜400重量部である。   The content of the light emitting material is usually 0.1 to 400 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total of the compound represented by the formula (1) and the phosphorescent compound which are essential components of the composition of the present invention. .

[酸化防止剤]
酸化防止剤は、本発明の組成物の必須成分である式(1)で表される化合物および燐光発光性化合物と同じ溶媒に可溶であり、発光および電荷輸送を阻害しない化合物であればよく、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤が挙げられる。
[Antioxidant]
The antioxidant may be any compound that is soluble in the same solvent as the compound represented by formula (1) and the phosphorescent compound that are essential components of the composition of the present invention and does not inhibit light emission and charge transport. Examples thereof include phenol-based antioxidants and phosphorus-based antioxidants.

酸化防止剤の配合量は、本発明の組成物の必須成分である式(1)で表される化合物と燐光発光性化合物との合計100重量部に対して、通常、0.001〜10重量部である。   The blending amount of the antioxidant is usually 0.001 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total of the compound represented by the formula (1) and the phosphorescent compound which are essential components of the composition of the present invention. is there.

酸化防止剤は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。   Antioxidants may be used alone or in combination of two or more.

<膜>
膜は、本発明の組成物を含有する。
<Membrane>
The membrane contains the composition of the present invention.

膜には、本発明の組成物に含有される成分を架橋により溶媒に対して不溶化させた、不溶化膜も含まれる。不溶化膜は、本発明の組成物に含有される成分を加熱、光照射等の外部刺激により架橋させて得られる膜である。不溶化膜は、溶媒に実質的に不溶であるため、発光素子の積層化に好適に使用することができる。   The film includes an insolubilized film in which components contained in the composition of the present invention are insolubilized in a solvent by crosslinking. The insolubilized film is a film obtained by crosslinking the components contained in the composition of the present invention by external stimulation such as heating and light irradiation. Since the insolubilized film is substantially insoluble in a solvent, the insolubilized film can be suitably used for stacking light emitting elements.

膜を架橋させるための加熱の温度は、通常、25〜300℃であり、発光効率が良好になるので、好ましくは50〜250℃であり、より好ましくは150〜200℃である。   The heating temperature for crosslinking the film is usually 25 to 300 ° C., and the light emission efficiency becomes good. Therefore, the heating temperature is preferably 50 to 250 ° C., more preferably 150 to 200 ° C.

膜を架橋させるための光照射に用いられる光の種類は、例えば、紫外光、近紫外光、可視光である。   Types of light used for light irradiation for crosslinking the film are, for example, ultraviolet light, near ultraviolet light, and visible light.

膜は、発光素子における正孔輸送層または正孔注入層として好適である。   The film is suitable as a hole transport layer or a hole injection layer in the light emitting device.

膜は、インクを用いて、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェット印刷法、キャピラリ−コート法、ノズルコート法により作製することができる。   The film is made of ink, for example, spin coating method, casting method, micro gravure coating method, gravure coating method, bar coating method, roll coating method, wire bar coating method, dip coating method, spray coating method, screen printing method. , Flexographic printing, offset printing, ink jet printing, capillary coating, and nozzle coating.

膜の厚さは、通常、1nm〜10μmである。   The thickness of the film is usually 1 nm to 10 μm.

<発光素子>
本発明の発光素子は、本発明の組成物を用いて得られる発光素子であり、本発明の組成物に含有される成分を架橋されたものであってもよく、本発明の組成物に含有される式(1)で表される化合物および/または燐光発光性化合物が、分子内または分子間で架橋されたものであってもよく、分子内および分子間で架橋されたものであってもよい。
本発明の発光素子の構成としては、例えば、陽極および陰極からなる電極と、該電極間に設けられた本発明の組成物を用いて得られる層とを有する。
<Light emitting element>
The light-emitting device of the present invention is a light-emitting device obtained by using the composition of the present invention, and the component contained in the composition of the present invention may be cross-linked or contained in the composition of the present invention. The compound represented by the formula (1) and / or the phosphorescent compound may be crosslinked within a molecule or between molecules, or may be crosslinked within a molecule or between molecules. Good.
As a structure of the light emitting element of this invention, it has an electrode which consists of an anode and a cathode, and a layer obtained using the composition of this invention provided between this electrode, for example.

[層構成]
本発明の組成物を用いて得られる層は、通常、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層の1種以上の層であり、好ましくは、発光層である。これらの層は、各々、発光材料、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料を含む。これらの層は、各々、発光材料、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料を、上述した溶媒に溶解させ、インクを調製して用い、上述した膜の作製と同じ方法を用いて形成することができる。
[Layer structure]
The layer obtained using the composition of the present invention is usually one or more layers of a light emitting layer, a hole transport layer, a hole injection layer, an electron transport layer, and an electron injection layer, preferably a light emitting layer. is there. Each of these layers includes a light emitting material, a hole transport material, a hole injection material, an electron transport material, and an electron injection material. Each of these layers is the same as the above-described film production, in which a light-emitting material, a hole transport material, a hole injection material, an electron transport material, and an electron injection material are dissolved in the above-described solvent and ink is prepared and used. It can be formed using a method.

発光素子は、陽極と陰極の間に発光層を有する。本発明の発光素子は、正孔注入性および正孔輸送性の観点からは、陽極と発光層との間に、正孔注入層および正孔輸送層の少なくとも1層を有することが好ましく、電子注入性および電子輸送性の観点からは、陰極と発光層の間に、電子注入層および電子輸送層の少なくとも1層を有することが好ましい。   The light emitting element has a light emitting layer between an anode and a cathode. The light-emitting element of the present invention preferably has at least one of a hole injection layer and a hole transport layer between the anode and the light-emitting layer from the viewpoint of hole injection and hole transport. From the viewpoint of injection property and electron transport property, it is preferable to have at least one of an electron injection layer and an electron transport layer between the cathode and the light emitting layer.

正孔輸送層、電子輸送層、発光層、正孔注入層および電子注入層の材料としては、本発明の組成物の他、各々、上述した正孔輸送材料、電子輸送材料、発光材料、正孔注入材料および電子注入材料が挙げられる。   As the material for the hole transport layer, electron transport layer, light emitting layer, hole injection layer and electron injection layer, in addition to the composition of the present invention, the above-described hole transport material, electron transport material, light emitting material, positive A hole injection material and an electron injection material are mentioned.

本発明の発光素子が、電子輸送層を有する場合、電子輸送層の形成に用いる電子輸送材料としては、式(ET−1)で表される構成単位および式(ET−2)で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位を含む高分子化合物が好ましい。   When the light-emitting element of the present invention has an electron transport layer, the electron transport material used for forming the electron transport layer is represented by the structural unit represented by the formula (ET-1) and the formula (ET-2). A polymer compound containing at least one structural unit selected from the group consisting of structural units is preferred.

Figure 2015110751
[式中、
nE1は、1以上の整数を表す。
ArE1は、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基はRE1以外の置換基を有していてもよい。
E1は、式(ES−1)で表される基を表す。RE1が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2015110751
[Where:
nE1 represents an integer of 1 or more.
Ar E1 represents an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group, and these groups optionally have a substituent other than R E1 .
R E1 represents a group represented by the formula (ES-1). When a plurality of R E1 are present, they may be the same or different. ]

−(RE3cE1−(QE1nE4−YE1(ME2aE1(ZE1bE1 (ES−1)
[式中、
cE1は0または1を表し、nE4は0以上の整数を表し、aE1は1以上の整数を表し、bE1は0以上の整数を表す。
E3は、アリーレン基または2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
E1は、アルキレン基、アリーレン基、酸素原子または硫黄原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。QE1が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
E1は、−CO 、−SO 、−SO またはPO 2−を表す。
E2は、金属カチオンまたはアンモニウムカチオンを表し、このアンモニウムカチオンは置換基を有していてもよい。ME2が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
E1は、F、Cl、Br、I、OH、RE4SO 、RE4COO、ClO、ClO 、ClO 、ClO 、SCN、CN、NO 、SO 2−、HSO 、PO 3−、HPO 2−、HPO 、BF またはPF を表す。RE4は、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ZE1が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
aE1およびbE1は、式(ES−1)で表される基の電荷が0となるように選択される。]
-(R E3 ) cE1- (Q E1 ) nE4 -Y E1 (M E2 ) aE1 (Z E1 ) bE1 (ES-1)
[Where:
cE1 represents 0 or 1, nE4 represents an integer of 0 or more, aE1 represents an integer of 1 or more, and bE1 represents an integer of 0 or more.
R E3 represents an arylene group or a divalent heterocyclic group, and these groups optionally have a substituent.
Q E1 represents an alkylene group, an arylene group, an oxygen atom or a sulfur atom, and these groups optionally have a substituent. When a plurality of Q E1 are present, they may be the same or different.
Y E1 represents —CO 2 , —SO 3 , —SO 2 or PO 3 2— .
M E2 represents a metal cation or an ammonium cation, and this ammonium cation may have a substituent. When a plurality of M E2 are present, they may be the same or different.
Z E1 represents F , Cl , Br , I , OH , R E4 SO 3 , R E4 COO , ClO , ClO 2 , ClO 3 , ClO 4 , SCN , CN −. , NO 3 , SO 4 2− , HSO 4 , PO 4 3− , HPO 4 2− , H 2 PO 4 , BF 4 or PF 6 . R E4 represents an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and these groups optionally have a substituent. When a plurality of Z E1 are present, they may be the same or different.
aE1 and bE1 are selected such that the charge of the group represented by the formula (ES-1) is zero. ]

nE1は、好ましくは、1〜4の整数であり、より好ましくは1または2である。   nE1 is preferably an integer of 1 to 4, more preferably 1 or 2.

ArE1で表される芳香族炭化水素基または複素環基としては、1,4−フェニレン基、1,3−フェニレン基、1,2−フェニレン基、2,6−ナフタレンジイル基、1,4−ナフタレンジイル基、2、7−フルオレンジイル基、3,6−フルオレンジイル基、2,7−フェナントレンジイル基または2,7−カルバゾールジイル基から、環を構成する原子に直接結合する水素原子nE1個を除いた残りの原子団が好ましく、RE1以外の置換基を有していてもよい。 Examples of the aromatic hydrocarbon group or heterocyclic group represented by Ar E1 include 1,4-phenylene group, 1,3-phenylene group, 1,2-phenylene group, 2,6-naphthalenediyl group, 1,4 Hydrogen bonded directly to the atoms constituting the ring from a naphthalenediyl group, a 2,7-fluorenediyl group, a 3,6-fluorenediyl group, a 2,7-phenanthenediyl group or a 2,7-carbazolediyl group The remaining atomic group excluding one atom nE1 is preferable, and may have a substituent other than R E1 .

ArE1が有していてもよいRE1以外の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、1価の複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、置換アミノ基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、シクロアルキニル基、カルボキシル基、式(ES−3)で表される基が挙げられる。 Examples of the substituent other than R E1 that Ar E1 may have include a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, a monovalent heterocyclic group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, and an aryloxy group. Group, an amino group, a substituted amino group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group, an alkynyl group, a cycloalkynyl group, a carboxyl group, and a group represented by the formula (ES-3).

−O(Cn’2n’O)nxm’2m’+1 (ES−3)
[式中、n’、m’およびnxは、1以上の整数を表す。]
—O (C n ′ H 2n ′ O) nx C m ′ H 2m ′ + 1 (ES-3)
[Wherein, n ′, m ′ and nx represent an integer of 1 or more. ]

cE1は、0または1であることが好ましく、nE4は、0〜6の整数であることが好ましい。   cE1 is preferably 0 or 1, and nE4 is preferably an integer of 0 to 6.

E3としては、アリーレン基が好ましい。 R E3 is preferably an arylene group.

E1としては、アルキレン基、アリーレン基または酸素原子が好ましい。 Q E1 is preferably an alkylene group, an arylene group or an oxygen atom.

E1としては、−CO またはSO が好ましい。 Y E1 is preferably —CO 2 or SO 3 .

E2としては、Li、Na、K、Cs、N(CH 、NH(CH 、NH(CH またはN(C が好ましい。 As M E2 , Li + , Na + , K + , Cs + , N (CH 3 ) 4 + , NH (CH 3 ) 3 + , NH 2 (CH 3 ) 2 + or N (C 2 H 5 ) 4 + Is preferred.

E1としては、F、Cl、Br、I、OH、RE4SO またはRE4COOが好ましい。 Z E1 is preferably F , Cl , Br , I , OH , R E4 SO 3 or R E4 COO .

式(ES−1)で表される基としては、例えば、下記式で表される基が挙げられる。   Examples of the group represented by the formula (ES-1) include a group represented by the following formula.

Figure 2015110751
[式中、Mは、Li、Na、K、Cs、N(CH 、NH(CH 、NH(CH またはN(C を表す。]
Figure 2015110751
[In the formula, M + represents Li + , Na + , K + , Cs + , N (CH 3 ) 4 + , NH (CH 3 ) 3 + , NH 2 (CH 3 ) 2 + or N (C 2 H 5 ) Represents 4 + . ]

Figure 2015110751
[式中、
nE2は1以上の整数を表す。
ArE2は、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基はRE2以外の置換基を有していてもよい。
E2は、式(ES−2)で表される基を表す。RE2が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2015110751
[Where:
nE2 represents an integer of 1 or more.
Ar E2 represents an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group, and these groups may have a substituent other than R E2 .
R E2 represents a group represented by the formula (ES-2). When a plurality of R E2 are present, they may be the same or different. ]

−(RE6cE2−(QE2nE6−YE2(ME3bE2(ZE2aE2 (ES−2)
[式中、
cE2は0または1を表し、nE6は0以上の整数を表し、bE2は1以上の整数を表し、aE2は0以上の整数を表す。
E6は、アリーレン基または2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
E2は、アルキレン基、アリーレン基、酸素原子または硫黄原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。QE2が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
E2は、カルボカチオン、アンモニウムカチオン、ホスホニルカチオンまたはスルホニルカチオンを表す。
E3は、F、Cl、Br、I、OH、RE7SO 、RE7COO、ClO、ClO 、ClO 、ClO 、SCN、CN、NO 、SO 2−、HSO 、PO 3−、HPO 2−、HPO 、テトラフェニルボレート、BF またはPF を表す。RE7は、アルキル基、パーフルオロアルキル基、またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ME3が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
E2は、金属イオンまたはアンモニウムイオンを表し、このアンモニウムイオンは置換基を有していてもよい。ZE2が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
aE2およびbE2は、式(ES−2)で表される基の電荷が0となるように選択される。]
- (R E6) cE2 - ( Q E2) nE6 -Y E2 (M E3) bE2 (Z E2) aE2 (ES-2)
[Where:
cE2 represents 0 or 1, nE6 represents an integer of 0 or more, bE2 represents an integer of 1 or more, and aE2 represents an integer of 0 or more.
R E6 represents an arylene group or a divalent heterocyclic group, and these groups optionally have a substituent.
Q E2 represents an alkylene group, an arylene group, an oxygen atom or a sulfur atom, and these groups optionally have a substituent. When a plurality of Q E2 are present, they may be the same or different.
Y E2 represents a carbocation, an ammonium cation, a phosphonyl cation or a sulfonyl cation.
M E3 is F , Cl , Br , I , OH , R E7 SO 3 , R E7 COO , ClO , ClO 2 , ClO 3 , ClO 4 , SCN , CN −. , NO 3 , SO 4 2− , HSO 4 , PO 4 3− , HPO 4 2− , H 2 PO 4 , tetraphenylborate, BF 4 or PF 6 . R E7 represents an alkyl group, a perfluoroalkyl group, or an aryl group, and these groups optionally have a substituent. When a plurality of M E3 are present, they may be the same or different.
Z E2 represents a metal ion or an ammonium ion, and this ammonium ion may have a substituent. When a plurality of Z E2 are present, they may be the same or different.
aE2 and bE2 are selected such that the charge of the group represented by the formula (ES-2) is zero. ]

nE2は、好ましくは、1〜4の整数であり、より好ましくは1または2である。   nE2 is preferably an integer of 1 to 4, more preferably 1 or 2.

ArE2で表される芳香族炭化水素基または複素環基としては、1,4−フェニレン基、1,3−フェニレン基、1,2−フェニレン基、2,6−ナフタレンジイル基、1,4−ナフタレンジイル基、2、7−フルオレンジイル基、3,6−フルオレンジイル基、2,7−フェナントレンジイル基または2,7−カルバゾールジイル基から、環を構成する原子に直接結合する水素原子nE2個を除いた残りの原子団が好ましく、RE2以外の置換基を有していてもよい。 Examples of the aromatic hydrocarbon group or heterocyclic group represented by Ar E2 include 1,4-phenylene group, 1,3-phenylene group, 1,2-phenylene group, 2,6-naphthalenediyl group, 1,4 Hydrogen bonded directly to the atoms constituting the ring from a naphthalenediyl group, a 2,7-fluorenediyl group, a 3,6-fluorenediyl group, a 2,7-phenanthenediyl group or a 2,7-carbazolediyl group The remaining atomic group excluding 2 atoms nE is preferable, and may have a substituent other than R E2 .

ArE2が有していてもよいRE2以外の置換基としては、ArE1が有していてもよいRE1以外の置換基と同様である。 The substituent group other than Ar E2 is may have R E2, is the same as the substituent other than optionally Ar E1 is have R E1.

cE2は、0または1であることが好ましく、nE6は、0〜6の整数であることが好ましい。   cE2 is preferably 0 or 1, and nE6 is preferably an integer of 0 to 6.

E6としては、アリーレン基が好ましい。 R E6 is preferably an arylene group.

E2としては、アルキレン基、アリーレン基または酸素原子が好ましい。 Q E2 is preferably an alkylene group, an arylene group or an oxygen atom.

E2としては、カルボカチオンまたはアンモニウムカチオンが好ましい。 Y E2 is preferably a carbocation or an ammonium cation.

E3としては、F、Cl、Br、I、テトラフェニルボレート、CFSO またはCHCOOが好ましい。 As M E3 , F , Cl , Br , I , tetraphenylborate, CF 3 SO 3 or CH 3 COO is preferable.

E2としては、Li、Na、K、Cs、N(CH 、NH(CH 、NH(CH またはN(C が好ましい。 As Z E2 , Li + , Na + , K + , Cs + , N (CH 3 ) 4 + , NH (CH 3 ) 3 + , NH 2 (CH 3 ) 2 + or N (C 2 H 5 ) 4 + Is preferred.

式(ES−2)で表される基としては、例えば、下記式で表される基が挙げられる。   Examples of the group represented by the formula (ES-2) include a group represented by the following formula.

Figure 2015110751
[式中、Xは、F、Cl、Br、I、テトラフェニルボレート、CFSO 、またはCHCOOを表す。]
Figure 2015110751
[Wherein, X represents F , Cl , Br , I , tetraphenyl borate, CF 3 SO 3 , or CH 3 COO . ]

式(ET−1)および式(ET−2)で表される構造単位としては、例えば、下記式(ET−31)〜式(ET−34)で表される構造単位が挙げられる。   As a structural unit represented by Formula (ET-1) and Formula (ET-2), the structural unit represented by the following formula (ET-31)-Formula (ET-34) is mentioned, for example.

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Figure 2015110751
Figure 2015110751

正孔輸送層の材料、電子輸送層の材料および発光層の材料は、発光素子の作製において、各々、正孔輸送層、電子輸送層および発光層に隣接する層の形成時に使用される溶媒に溶解する場合、該溶媒に該材料が溶解することを回避するために、該材料が架橋基を有することが好ましい。架橋基を有する材料を用いて各層を形成した後、該架橋基を架橋させることにより、該層を不溶化させることができる。   The material of the hole transport layer, the material of the electron transport layer, and the material of the light emitting layer are used as solvents used in forming the layer adjacent to the hole transport layer, the electron transport layer, and the light emitting layer, respectively, in the production of the light emitting element. When dissolved, the material preferably has a cross-linking group in order to avoid dissolution of the material in the solvent. After forming each layer using a material having a crosslinking group, the layer can be insolubilized by crosslinking the crosslinking group.

本発明の発光素子において、発光層、正孔輸送層、電子輸送層、正孔注入層、電子注入層等の各層の形成方法としては、低分子化合物を用いる場合、例えば、粉末からの真空蒸着法、溶液または溶融状態からの成膜による方法が挙げられ、高分子化合物を用いる場合、例えば、溶液または溶融状態からの成膜による方法が挙げられる。   In the light emitting device of the present invention, as a method for forming each layer such as a light emitting layer, a hole transport layer, an electron transport layer, a hole injection layer, and an electron injection layer, when using a low molecular compound, for example, vacuum deposition from powder For example, a method using a film formation from a solution or a molten state may be used.

積層する層の順番、数および厚さは、発光効率および素子寿命を勘案して調整すればよい。   The order, number, and thickness of the layers to be stacked may be adjusted in consideration of light emission efficiency and element lifetime.

[基板/電極]
発光素子における基板は、電極を形成することができ、かつ、有機層を形成する際に化学的に変化しない基板であればよく、例えば、ガラス、プラスチック、シリコン等の材料からなる基板である。不透明な基板の場合には、基板から最も遠くにある電極が透明または半透明であることが好ましい。
[Substrate / Electrode]
The substrate in the light-emitting element may be any substrate that can form electrodes and does not change chemically when the organic layer is formed. For example, the substrate is made of a material such as glass, plastic, or silicon. In the case of an opaque substrate, the electrode farthest from the substrate is preferably transparent or translucent.

陽極の材料としては、例えば、導電性の金属酸化物、半透明の金属が挙げられ、好ましくは、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ;インジウム・スズ・オキサイド(ITO)、インジウム・亜鉛・オキサイド等の導電性化合物;銀とパラジウムと銅との複合体(APC);NESA、金、白金、銀、銅である。   Examples of the material for the anode include conductive metal oxides and translucent metals, preferably indium oxide, zinc oxide, tin oxide; indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide, etc. A conductive compound of silver, palladium and copper (APC); NESA, gold, platinum, silver and copper.

陰極の材料としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、亜鉛、インジウム等の金属;それらのうち2種以上の合金;それらのうち1種以上と、銀、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうち1種以上との合金;並びに、グラファイトおよびグラファイト層間化合物が挙げられる。合金としては、例えば、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、カルシウム−アルミニウム合金が挙げられる。
陽極および陰極は、各々、2層以上の積層構造としてもよい。
Examples of the material of the cathode include metals such as lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, beryllium, magnesium, calcium, strontium, barium, aluminum, zinc, indium; two or more kinds of alloys thereof; Alloys of one or more species with one or more of silver, copper, manganese, titanium, cobalt, nickel, tungsten, tin; and graphite and graphite intercalation compounds. Examples of the alloy include a magnesium-silver alloy, a magnesium-indium alloy, a magnesium-aluminum alloy, an indium-silver alloy, a lithium-aluminum alloy, a lithium-magnesium alloy, a lithium-indium alloy, and a calcium-aluminum alloy.
Each of the anode and the cathode may have a laminated structure of two or more layers.

[用途]
発光素子を用いて面状の発光を得るためには、面状の陽極と陰極が重なり合うように配置すればよい。パターン状の発光を得るためには、面状の発光素子の表面にパターン状の窓を設けたマスクを設置する方法、非発光部にしたい層を極端に厚く形成し実質的に非発光とする方法、陽極もしくは陰極、または、両方の電極をパターン状に形成する方法がある。これらのいずれかの方法でパターンを形成し、いくつかの電極を独立にON/OFFできるように配置することにより、数字、文字等を表示できるセグメントタイプの表示装置が得られる。ドットマトリックス表示装置とするためには、陽極と陰極を共にストライプ状に形成して直交するように配置すればよい。複数の種類の発光色の異なる高分子化合物を塗り分ける方法、カラーフィルターまたは蛍光変換フィルターを用いる方法により、部分カラー表示、マルチカラー表示が可能となる。ドットマトリックス表示装置は、パッシブ駆動も可能であるし、TFT等と組み合わせてアクティブ駆動も可能である。これらの表示装置は、コンピュータ、テレビ、携帯端末等のディスプレイに用いることができる。面状の発光素子は、液晶表示装置のバックライト用の面状光源、または、面状の照明用光源として好適に用いることができる。フレキシブルな基板を用いれば、曲面状の光源および表示装置としても使用できる。
[Usage]
In order to obtain planar light emission using the light emitting element, the planar anode and the cathode may be arranged so as to overlap each other. In order to obtain pattern-like light emission, a method in which a mask having a pattern-like window is provided on the surface of a planar light-emitting element, a layer that is desired to be a non-light-emitting portion is formed extremely thick and substantially non-light-emitting. There is a method, a method of forming an anode or a cathode, or both electrodes in a pattern. By forming a pattern by any of these methods and arranging several electrodes so that they can be turned on and off independently, a segment type display device capable of displaying numbers, characters, and the like can be obtained. In order to obtain a dot matrix display device, both the anode and the cathode may be formed in stripes and arranged orthogonally. Partial color display and multicolor display are possible by a method of separately coating a plurality of types of polymer compounds having different emission colors, or a method using a color filter or a fluorescence conversion filter. The dot matrix display device can be driven passively, or can be driven active in combination with a TFT or the like. These display devices can be used for displays of computers, televisions, portable terminals and the like. The planar light emitting element can be suitably used as a planar light source for backlight of a liquid crystal display device or a planar illumination light source. If a flexible substrate is used, it can also be used as a curved light source and display device.

以下、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.

本実施例において、高分子化合物のポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)およびポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)は、サイズエクスクルージョンクロマトグラフィー(SEC)(島津製作所製、商品名:LC−10Avp)により求めた。なお、SECの測定条件は、以下のとおりである。   In this example, the polystyrene-equivalent number average molecular weight (Mn) and polystyrene-equivalent weight average molecular weight (Mw) of the polymer compound were determined by size exclusion chromatography (SEC) (trade name: LC-10Avp, manufactured by Shimadzu Corporation). ). The SEC measurement conditions are as follows.

[測定条件]
測定する高分子化合物を約0.05重量%の濃度でテトラヒドロフランに溶解させ、SECに10μL注入した。SECの移動相としてテトラヒドロフランを用い、2.0mL/分の流量で流した。カラムとして、PLgel MIXED−B(ポリマーラボラトリーズ製)を用いた。検出器にはUV−VIS検出器(島津製作所製、商品名:SPD−10Avp)を用いた。
[Measurement condition]
The polymer compound to be measured was dissolved in tetrahydrofuran at a concentration of about 0.05% by weight, and 10 μL was injected into SEC. Tetrahydrofuran was used as the mobile phase of SEC and flowed at a flow rate of 2.0 mL / min. As a column, PLgel MIXED-B (manufactured by Polymer Laboratories) was used. A UV-VIS detector (manufactured by Shimadzu Corporation, trade name: SPD-10Avp) was used as the detector.

LC−MSの測定は、下記の方法で行った。
測定試料を約2mg/mLの濃度になるようにクロロホルムまたはテトラヒドロフランに溶解させ、LC−MS(アジレント テクノロジー製、商品名:1100LCMSD)に約1μL注入した。LC−MSの移動相には、アセトニトリルおよびテトラヒドロフランの比率を変化させながら用い、0.2mL/分の流量で流した。カラムは、L−column 2 ODS(3μm)(化学物質評価研究機構製、内径:2.1mm、長さ:100mm、粒径3μm)を用いた。
The measurement of LC-MS was performed by the following method.
The measurement sample was dissolved in chloroform or tetrahydrofuran to a concentration of about 2 mg / mL, and about 1 μL was injected into LC-MS (manufactured by Agilent Technologies, trade name: 1100LCMSD). The mobile phase of LC-MS was used while changing the ratio of acetonitrile and tetrahydrofuran, and was allowed to flow at a flow rate of 0.2 mL / min. As the column, L-column 2 ODS (3 μm) (manufactured by Chemicals Evaluation and Research Institute, inner diameter: 2.1 mm, length: 100 mm, particle size: 3 μm) was used.

NMRの測定は、下記の方法で行った。
5〜10mgの測定試料を約0.5mLの重クロロホルム(CDCl)、重テトラヒドロフラン(THF−d8)または重塩化メチレン(CDCl)に溶解させ、NMR装置(バリアン(Varian,Inc.)製、商品名 MERCURY 300)を用いて測定した。
NMR measurement was performed by the following method.
5 to 10 mg of a measurement sample was dissolved in about 0.5 mL of deuterated chloroform (CDCl 3 ), deuterated tetrahydrofuran (THF-d8) or methylene dichloride (CD 2 Cl 2 ), and an NMR apparatus (Varian, Inc.) was used. Manufactured and trade name MERCURY 300).

化合物の純度の指標として、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)面積百分率の値を用いた。この値は、特に記載がない限り、高速液体クロマトグラフィー(HPLC、島津製作所製、商品名:LC−20A)での254nmにおける値とする。この際、測定する化合物は、0.01〜0.2重量%の濃度になるようにテトラヒドロフランまたはクロロホルムに溶解させ、HPLCに、濃度に応じて1〜10μL注入した。HPLCの移動相には、アセトニトリルおよびテトラヒドロフランを用い、1mL/分の流速で、アセトニトリル/テトラヒドロフラン=100/0〜0/100(容積比)のグラジエント分析で流した。カラムは、Kaseisorb LC ODS 2000(東京化成工業製)または同等の性能を有するODSカラムを用いた。検出器には、フォトダイオードアレイ検出器(島津製作所製、商品名:SPD−M20A)を用いた。   A high performance liquid chromatography (HPLC) area percentage value was used as an indicator of the purity of the compound. Unless otherwise specified, this value is a value at 254 nm in high performance liquid chromatography (HPLC, manufactured by Shimadzu Corporation, trade name: LC-20A). At this time, the compound to be measured was dissolved in tetrahydrofuran or chloroform to a concentration of 0.01 to 0.2% by weight, and 1 to 10 μL was injected into HPLC depending on the concentration. Acetonitrile and tetrahydrofuran were used for the mobile phase of HPLC, and it was flowed by a gradient analysis of acetonitrile / tetrahydrofuran = 100/0 to 0/100 (volume ratio) at a flow rate of 1 mL / min. As the column, Kaseisorb LC ODS 2000 (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) or an ODS column having equivalent performance was used. A photodiode array detector (manufactured by Shimadzu Corporation, trade name: SPD-M20A) was used as the detector.

<合成例1> 化合物G1の合成
化合物G1は、特開2009−131255号公報に記載の方法に従って合成した。
<Synthesis Example 1> Synthesis of Compound G1 Compound G1 was synthesized according to the method described in JP2009-131255A.

Figure 2015110751
Figure 2015110751

<合成例2> 化合物G2の合成 <Synthesis Example 2> Synthesis of Compound G2

Figure 2015110751
Figure 2015110751

反応容器内に、特開2005―99481号公報に記載の方法に従って合成した化合物G2a(20.00g、74.79mmol)および塩化イリジウム三水和物(11.93g、33.83mmol)を加え、反応容器内の気体をアルゴンガスで置換した。その後、そこへ、2−エトキシエタノール(180mL)および水(60mL)を加え、反応容器内をアルゴンガス気流下とした後、101〜102℃で20時間還流した。放冷後、得られた混合物をろ別した。得られた残渣を水(400mL)、メタノール(200mL)、ヘキサン(200mL)の順で洗浄した後、乾燥させることにより、化合物G2b(22.49g)を得た。   Compound G2a (20.00 g, 74.79 mmol) and iridium chloride trihydrate (11.93 g, 33.83 mmol) synthesized according to the method described in JP-A-2005-99481 were added to the reaction vessel, and the reaction was performed. The gas in the container was replaced with argon gas. Thereafter, 2-ethoxyethanol (180 mL) and water (60 mL) were added thereto, and the inside of the reaction vessel was placed in an argon gas stream, followed by refluxing at 101 to 102 ° C. for 20 hours. After cooling, the resulting mixture was filtered off. The obtained residue was washed with water (400 mL), methanol (200 mL) and hexane (200 mL) in this order, and then dried to obtain compound G2b (22.49 g).

反応容器内に、化合物G2b(22.49g、14.79mmol)および化合物G2a(19.77g、73.95mmol)を加え、反応容器内の気体をアルゴンガスで置換した。その後、そこへ、ジグライム(128mL)およびトリフルオロメタンスルホン酸銀(7.60g、29.58mmol)を加え、反応容器内をアルゴンガス気流下とした後、148〜150℃で5時間撹拌した。その後、そこへ、トリフルオロメタンスルホン酸銀(7.60g、29.58mmol)を加え、更に12時間攪拌した。放冷後、得られた反応混合物に水(600mL)を加え、生じた沈澱をろ別した。得られた沈澱をトルエン(500mL)に溶解させた後、ろ過した。得られたろ液を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過、濃縮することで溶媒を留去した。得られた残渣をヘキサンおよびトルエンからなる混合溶媒(ヘキサン/トルエン=3/1(体積基準))に溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、その後、溶媒を留去した。得られた残渣をメタノール(200mL)で洗浄した後、乾燥させた。得られた固体を、トルエンおよびアセトニトリルからなる混合溶媒(トルエン/アセトニトリル=1.0/4.8(体積基準))を用いて結晶化させ、得られた結晶をろ別した。得られた固体をメタノールで洗浄した後、乾燥させることにより、化合物G2(14.30g)を得た。   Compound G2b (22.49 g, 14.79 mmol) and compound G2a (19.77 g, 73.95 mmol) were added to the reaction vessel, and the gas in the reaction vessel was replaced with argon gas. Thereafter, diglyme (128 mL) and silver trifluoromethanesulfonate (7.60 g, 29.58 mmol) were added thereto, and the inside of the reaction vessel was placed under an argon gas stream, followed by stirring at 148 to 150 ° C. for 5 hours. Thereafter, silver trifluoromethanesulfonate (7.60 g, 29.58 mmol) was added thereto, and the mixture was further stirred for 12 hours. After allowing to cool, water (600 mL) was added to the resulting reaction mixture, and the resulting precipitate was filtered off. The resulting precipitate was dissolved in toluene (500 mL) and then filtered. The filtrate obtained was dried over magnesium sulfate, filtered and concentrated to remove the solvent. The obtained residue was dissolved in a mixed solvent consisting of hexane and toluene (hexane / toluene = 3/1 (volume basis)) and purified by silica gel column chromatography, and then the solvent was distilled off. The obtained residue was washed with methanol (200 mL) and then dried. The obtained solid was crystallized using a mixed solvent consisting of toluene and acetonitrile (toluene / acetonitrile = 1.0 / 4.8 (volume basis)), and the obtained crystals were separated by filtration. The obtained solid was washed with methanol and dried to obtain compound G2 (14.30 g).

H NMR(300MHz,CDCl);δ(ppm)=0.88(m,9H)、1.22(m,30H)、1.44(m,6H)、2.35(t,J=7.5Hz,6H)、6.69(m,6H)、6.78(t,J=6.0Hz,3H)、7.47(m,9H)、7.77(d,J=6.0Hz,3H).
LC−MS(APCI, positive) m/z : 992([M+H]
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ); δ (ppm) = 0.88 (m, 9H), 1.22 (m, 30H), 1.44 (m, 6H), 2.35 (t, J = 7.5 Hz, 6H), 6.69 (m, 6H), 6.78 (t, J = 6.0 Hz, 3H), 7.47 (m, 9H), 7.77 (d, J = 6. 0 Hz, 3H).
LC-MS (APCI, positive) m / z: 992 ([M + H] + )

<合成例3> 化合物G3の合成
化合物G3は、特開2006−188673号公報に記載の方法に従って合成した。
<Synthesis Example 3> Synthesis of Compound G3 Compound G3 was synthesized according to the method described in JP-A-2006-188673.

Figure 2015110751
Figure 2015110751

<合成例4> 化合物G4の合成
化合物G4は、国際公開第2002/44189号パンフレットに記載の方法に従って合成した。
<Synthesis Example 4> Synthesis of Compound G4 Compound G4 was synthesized according to the method described in International Publication No. 2002/44189 pamphlet.

Figure 2015110751
Figure 2015110751

<合成例5> 化合物G5の合成 <Synthesis Example 5> Synthesis of Compound G5

(化合物G5−S2の合成) (Synthesis of Compound G5-S2)

Figure 2015110751
Figure 2015110751

<stage1>
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物G5−S2a(250g)、4−ジメチルアミノピリジン(178g)およびジクロロメタン(3.1L)を加え、氷浴で冷却した。その後、そこへ、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(376g)を1時間かけて滴下し、1.5時間攪拌した後、室温まで昇温した。その後、ヘキサン(3.1L)を加え、10分間攪拌してから、シリカゲルショートカラムに通液し、減圧濃縮により溶媒を留去することにより、化合物G5−S2b(441g)を白色固体として得た。
<Stage1>
After the atmosphere in the reaction vessel was set to an argon gas atmosphere, Compound G5-S2a (250 g), 4-dimethylaminopyridine (178 g) and dichloromethane (3.1 L) were added, and the mixture was cooled in an ice bath. Thereafter, trifluoromethanesulfonic anhydride (376 g) was added dropwise thereto over 1 hour, stirred for 1.5 hours, and then warmed to room temperature. Thereafter, hexane (3.1 L) was added, and the mixture was stirred for 10 minutes, then passed through a silica gel short column, and the solvent was distilled off by concentration under reduced pressure to obtain Compound G5-S2b (441 g) as a white solid. .

<stage2>
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物G5−S2b(410g)、ビス(ピナコラト)ジボロン(338g)、酢酸パラジウム(4.08g)、トリ−シクロヘキシルホスフィン(10.2g)、酢酸カリウム(238g)およびジオキサン(2.6L)を加え、加熱還流下で15時間攪拌した。得られた反応混合物をセライトを敷いたろ過器に通液した後、得られたろ液を濃縮することにより固体を得た。得られた固体をヘキサン/ジクロロメタン=1/1(体積比)の混合溶媒に溶解させた後、シリカゲルを敷いたろ過器に通液し、得られたろ液を減圧濃縮することにより固体を得た。得られた固体にメタノールを加え、よく攪拌した後に、析出している固体をろ取し、50℃で一晩減圧乾燥することにより、化合物G5−S2c(274g)を白色固体として得た。化合物G5−S2cのHPLC面積百分率値(検出波長UV254nm)は98%以上を示した。また、ろ液を減圧濃縮した後、メタノールを加え、よく攪拌した後に析出している固体をろ取し、50℃で一晩減圧乾燥することにより、化合物G5−S2c(45g)を回収した(合計収率75%)。
<Stage2>
After the inside of the reaction vessel was filled with an argon gas atmosphere, compound G5-S2b (410 g), bis (pinacolato) diboron (338 g), palladium acetate (4.08 g), tri-cyclohexylphosphine (10.2 g), potassium acetate (238 g) ) And dioxane (2.6 L) were added, and the mixture was stirred for 15 hours with heating under reflux. The obtained reaction mixture was passed through a filter covered with celite, and then the obtained filtrate was concentrated to obtain a solid. The obtained solid was dissolved in a mixed solvent of hexane / dichloromethane = 1/1 (volume ratio), then passed through a filter coated with silica gel, and the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain a solid. . Methanol was added to the obtained solid and stirred well, then the precipitated solid was collected by filtration and dried under reduced pressure at 50 ° C. overnight to obtain compound G5-S2c (274 g) as a white solid. The HPLC area percentage value (detection wavelength UV254 nm) of compound G5-S2c was 98% or more. Further, the filtrate was concentrated under reduced pressure, methanol was added, and after stirring well, the precipitated solid was collected by filtration and dried under reduced pressure at 50 ° C. overnight to recover compound G5-S2c (45 g) ( Total yield 75%).

<stage3>
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物G5−S1(90g)、化合物G5−S2c(239g)、20重量%テトラエチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(795g)、酢酸パラジウム(0.34g)、トリ−(オルトメトキシフェニル)ホスフィン(1.07g)およびトルエン(1.7L)を加え、95℃で5.5時間攪拌した。得られた反応混合物を分液し、有機層を得た。得られた有機層をイオン交換水および5重量%食塩水で順次洗浄し、シリカゲルを敷いたろ過器に通液することにより固体分を取り除いた。得られたろ液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/ジクロロメタン)により精製し、目的物を含むフラクションを得た。得られたフラクションを減圧濃縮し、50℃にて一晩減圧乾燥を行うことにより、化合物G5−S2d(167g)を白色固体として得た。収率は98%であった。化合物G5−S2dのHPLC面積百分率値(検出波長UV254nm)は99.4%を示した。
<Stage3>
After the inside of the reaction vessel was filled with an argon gas atmosphere, Compound G5-S1 (90 g), Compound G5-S2c (239 g), 20 wt% tetraethylammonium hydroxide aqueous solution (795 g), palladium acetate (0.34 g), tri- ( Orthomethoxyphenyl) phosphine (1.07 g) and toluene (1.7 L) were added, and the mixture was stirred at 95 ° C. for 5.5 hours. The obtained reaction mixture was separated to obtain an organic layer. The obtained organic layer was washed successively with ion-exchanged water and 5% by weight saline and passed through a filter covered with silica gel to remove the solid content. The obtained filtrate was concentrated under reduced pressure and then purified by silica gel column chromatography (hexane / dichloromethane) to obtain a fraction containing the desired product. The obtained fraction was concentrated under reduced pressure, and dried under reduced pressure at 50 ° C. overnight to obtain compound G5-S2d (167 g) as a white solid. The yield was 98%. The HPLC area percentage value (detection wavelength UV254 nm) of compound G5-S2d was 99.4%.

<stage4>
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物G5−S2d(175g)、ビス(ピナコラト)ジボロン(104g)、(1,5−シクロオクタジエン)(メトキシ)イリジウム(I) (ダイマー)(3.72g)、4,4’−ジ−tert−ブチル−2,2’−ビピリジル(3.01g)およびシクロヘキサン(2.0L)を加え、加熱還流下で4時間攪拌した。得られた反応混合物にシリカゲルを加え、30分間攪拌した。その後、シリカゲルを敷いたろ過器に通液することにより固体分を取り除いた。得られたろ液を減圧濃縮した後、ヘキサンを加え、室温で攪拌した後、析出している固体をろ取し、アセトニトリルで洗浄し、50℃にて一晩減圧乾燥を行うことにより、目的物である化合物G5−S2(137g)を白色固体として得た。収率は61%であった。化合物G5−S2のHPLC面積百分率値(検出波長UV254nm)は99.3%を示した。この操作を繰り返し行うことで、化合物G5−S2の必要量を得た。
<Stage4>
After the inside of the reaction vessel was filled with an argon gas atmosphere, compound G5-S2d (175 g), bis (pinacolato) diboron (104 g), (1,5-cyclooctadiene) (methoxy) iridium (I) (dimer) (3. 72 g), 4,4′-di-tert-butyl-2,2′-bipyridyl (3.01 g) and cyclohexane (2.0 L) were added, and the mixture was stirred for 4 hours with heating under reflux. Silica gel was added to the resulting reaction mixture and stirred for 30 minutes. Then, the solid content was removed by passing through a filter with silica gel. The obtained filtrate was concentrated under reduced pressure, hexane was added, and the mixture was stirred at room temperature. The precipitated solid was collected by filtration, washed with acetonitrile, and dried at 50 ° C. overnight under reduced pressure to obtain the desired product. Compound G5-S2 (137 g) was obtained as a white solid. The yield was 61%. The HPLC area percentage value (detection wavelength UV254 nm) of compound G5-S2 was 99.3%. By repeating this operation, the required amount of Compound G5-S2 was obtained.

H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)=7.58(s,2H),7.43(d,4H),7.26(d,4H),2.11(s,3H),1.80(s,4H),1.41(s,12H),1.32(s,12H),0.76(s,18H). 1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 300 MHz): δ (ppm) = 7.58 (s, 2H), 7.43 (d, 4H), 7.26 (d, 4H), 2.11 (s , 3H), 1.80 (s, 4H), 1.41 (s, 12H), 1.32 (s, 12H), 0.76 (s, 18H).

(化合物G5−S3の合成) (Synthesis of Compound G5-S3)

Figure 2015110751
Figure 2015110751

<stage1>
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物G5−S1(46.0g)、前記と同様の方法で合成した化合物G5−S2(230g)、20重量%テトラエチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(407g)、酢酸パラジウム(0.17g)、トリ−(オルトメトキシフェニル)ホスフィン(0.55g)およびトルエン(880mL)を加え、95℃で5.5時間攪拌した。得られた反応混合物分液し、有機層を得た。得られた有機層を、イオン交換水で1回洗浄し、5重量%食塩水で1回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過により固体分を取り除いた。得られたろ液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/クロロホルム)により精製し、減圧濃縮した後に、50℃で一晩減圧乾燥を行うことにより、化合物G5−S3a(181g)を白色固体として得た。収率は94%であった。得られた化合物G5−S3aのHPLC面積百分率値(検出波長UV254nm)は97.9%を示した。
<Stage1>
The reaction vessel was filled with an argon gas atmosphere, then compound G5-S1 (46.0 g), compound G5-S2 (230 g) synthesized in the same manner as described above, 20 wt% tetraethylammonium hydroxide aqueous solution (407 g), acetic acid Palladium (0.17 g), tri- (orthomethoxyphenyl) phosphine (0.55 g) and toluene (880 mL) were added, and the mixture was stirred at 95 ° C. for 5.5 hours. The obtained reaction mixture was separated to obtain an organic layer. The obtained organic layer was washed once with ion-exchanged water, washed once with 5 wt% saline, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solid content was removed by filtration. The obtained filtrate was concentrated under reduced pressure, purified by silica gel column chromatography (hexane / chloroform), concentrated under reduced pressure, and dried under reduced pressure at 50 ° C. overnight to give compound G5-S3a (181 g) as a white solid. Got as. The yield was 94%. The HPLC area percentage value (detection wavelength UV254 nm) of the obtained compound G5-S3a was 97.9%.

<stage2>
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物G5−S3a(171g)、ビス(ピナコラト)ジボロン(46.5g)、(1,5−シクロオクタジエン)(メトキシ)イリジウム(I) (ダイマー)(3.31g)、4,4’−ジ−tert−ブチル−2,2’−ビピリジル(2.68g)およびシクロヘキサン(900mL)を加え、加熱還流下で16時間攪拌した。得られた反応混合物にシリカゲル(192g)を加え、30分間攪拌した後に、シリカゲルを敷いたろ過器に通液することにより固体分を取り除いた。得られたろ液を減圧濃縮した後、再結晶(ヘキサン)により精製し、得られた固体をメタノールで洗浄した後、50℃にて一晩減圧乾燥を行うことにより、目的物である化合物G5−S3(95g)を白色固体として得た。収率は49%であった。得られた化合物G5−S3のHPLC面積百分率値(検出波長UV254nm)は98.7%を示した。
<Stage2>
After making the inside of the reaction vessel an argon gas atmosphere, compound G5-S3a (171 g), bis (pinacolato) diboron (46.5 g), (1,5-cyclooctadiene) (methoxy) iridium (I) (dimer) ( 3.31 g), 4,4′-di-tert-butyl-2,2′-bipyridyl (2.68 g) and cyclohexane (900 mL) were added, and the mixture was stirred for 16 hours under heating to reflux. Silica gel (192 g) was added to the obtained reaction mixture and stirred for 30 minutes, and then the solid content was removed by passing the solution through a filter covered with silica gel. The obtained filtrate was concentrated under reduced pressure, purified by recrystallization (hexane), and the obtained solid was washed with methanol and dried under reduced pressure at 50 ° C. overnight to obtain the target compound G5- S3 (95 g) was obtained as a white solid. The yield was 49%. The HPLC area percentage value (detection wavelength UV254 nm) of the obtained compound G5-S3 was 98.7%.

H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)=7.65(s,2H),7.44(d,8H),7.32(d,8H),7.22(s,4H),2.35(s,3H),2.14(s,6H),1.79(s,8H),1.41(s,24H),1.29(s,12H),0.74(s,36H). 1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 300 MHz): δ (ppm) = 7.65 (s, 2H), 7.44 (d, 8H), 7.32 (d, 8H), 7.22 (s) , 4H), 2.35 (s, 3H), 2.14 (s, 6H), 1.79 (s, 8H), 1.41 (s, 24H), 1.29 (s, 12H), 0 74 (s, 36H).

(化合物G5の合成) (Synthesis of Compound G5)

Figure 2015110751
Figure 2015110751

化合物G5aは、特開2011―105701号公報に記載の方法に準じて合成し、HPLC面積百分率値(検出波長UV254nm)が99.5%以上のものを用いた。   Compound G5a was synthesized according to the method described in JP-A-2011-105701, and one having an HPLC area percentage value (detection wavelength UV254 nm) of 99.5% or more was used.

<stage1>
遮光した反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物G5a(4.56g)、化合物G5−S3(8.35g)、テトラヒドロフラン(240mL)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(0.332g)および20重量%テトラエチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(17.7g)を加え、加熱還流下で16時間攪拌した。得られた反応混合物を減圧濃縮した後、トルエンおよびイオン交換水を加えて分液し、水層および有機層を得た。得られた水層にトルエンを加えて抽出し、先に得られた有機層に加え、5重量%食塩水で2回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮することにより固体を得た。得られた固体をトルエンに溶解させ、シリカゲルを敷いたろ過器に通液することによりろ液を得た。得られたろ液の溶媒を減圧濃縮により留去した後、得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/トルエン)、再結晶(トルエン/イソプロパノール)により順次精製した後、50℃にて一晩減圧乾燥を行うことにより、化合物G5(7.89g)を赤色固体として得た。収率は86%であった。得られた化合物G5のHPLC面積百分率値(検出波長UV254nm)は98.5%を示した。
<Stage1>
After the light-shielded reaction vessel was filled with an argon gas atmosphere, compound G5a (4.56 g), compound G5-S3 (8.35 g), tetrahydrofuran (240 mL), tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (0.332 g) ) And 20 wt% tetraethylammonium hydroxide aqueous solution (17.7 g) were added, and the mixture was stirred for 16 hours under heating to reflux. The obtained reaction mixture was concentrated under reduced pressure, and toluene and ion-exchanged water were added for liquid separation to obtain an aqueous layer and an organic layer. Toluene was added to the obtained aqueous layer for extraction, added to the previously obtained organic layer, washed twice with 5% by weight brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and then concentrated under reduced pressure to obtain a solid. It was. The obtained solid was dissolved in toluene and passed through a filter covered with silica gel to obtain a filtrate. After the solvent of the obtained filtrate was distilled off by concentration under reduced pressure, the obtained solid was purified successively by silica gel column chromatography (hexane / toluene) and recrystallization (toluene / isopropanol), and then reduced pressure at 50 ° C. overnight. Drying gave Compound G5 (7.89 g) as a red solid. The yield was 86%. HPLC area percentage value (detection wavelength UV254 nm) of the obtained compound G5 was 98.5%.

LC/MS(APCI positive):m/z=3778[M+H]
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)=9.32(s,1H),9.20−9.16(m,2H),9.12(d,1H),8.96(d,1H),8.62(s,1H),8.41−8.25(m,10H),8.15(d,2H),7.95−7.90(m,2H),7.77(s,2H),7.70−7.59(m,12H),7.52(d,2H),7.46−7.18(m,56H),2.33(s,6H),2.15(s,12H),1.76(s,16H),1.45−1.24(m,102H),0.72(s,72H).
LC / MS (APCI positive): m / z + = 3778 [M + H] +
1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 300 MHz): δ (ppm) = 9.32 (s, 1H), 9.20-9.16 (m, 2H), 9.12 (d, 1H), 8 .96 (d, 1H), 8.62 (s, 1H), 8.41-8.25 (m, 10H), 8.15 (d, 2H), 7.95-7.90 (m, 2H) ), 7.77 (s, 2H), 7.70-7.59 (m, 12H), 7.52 (d, 2H), 7.46-7.18 (m, 56H), 2.33 ( s, 6H), 2.15 (s, 12H), 1.76 (s, 16H), 1.45-1.24 (m, 102H), 0.72 (s, 72H).

<合成例6> 化合物G6の合成 <Synthesis Example 6> Synthesis of Compound G6

(化合物S1の合成) (Synthesis of Compound S1)

Figure 2015110751
Figure 2015110751

<stage1>
反応容器内を窒素ガス気流下とした後、4−tert−オクチルフェノール(250.00g、1.21mol、Aldrich製品)、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン(177.64g、1.45mol)およびジクロロメタン(3100mL)を加え、これを5℃に氷冷した。その後、これに、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(376.06g、1.33mol)を45分かけて滴下した。滴下終了後、氷冷下で30分間攪拌し、次いで、室温に戻して更に1.5時間攪拌した。得られた反応混合物にヘキサン(3100mL)を加え、この反応混合物を、410gのシリカゲルを用いてろ過し、更に、ヘキサン/ジクロロメタン(1/1(体積基準))の混合溶媒(2.5L)でシリカゲルを洗浄した。得られたろ液と洗浄液を濃縮し、無色オイルの化合物S1−a(410.94g、1.21mol、HPLC面積百分率値99.7%)を得た。
<Stage1>
After the inside of the reaction vessel was under a nitrogen gas stream, 4-tert-octylphenol (250.00 g, 1.21 mol, Aldrich product), N, N-dimethyl-4-aminopyridine (177.64 g, 1.45 mol) and Dichloromethane (3100 mL) was added and this was ice-cooled to 5 ° C. Thereafter, trifluoromethanesulfonic anhydride (376.06 g, 1.33 mol) was added dropwise thereto over 45 minutes. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred for 30 minutes under ice cooling, then returned to room temperature and further stirred for 1.5 hours. Hexane (3100 mL) was added to the obtained reaction mixture, this reaction mixture was filtered using 410 g of silica gel, and further mixed with a mixed solvent (2.5 L) of hexane / dichloromethane (1/1 (volume basis)). The silica gel was washed. The obtained filtrate and washings were concentrated to obtain colorless oil compound S1-a (410.94 g, 1.21 mol, HPLC area percentage value 99.7%).

<stage2>
反応容器内を窒素ガス気流下とした後、化合物S1−a(410.94g、1.21mol)、ビス(ピナコラト)ジボロン(338.47g、1.33mol)、酢酸カリウム(237.83g、2.42mol)、1,4−ジオキサン(2600mL)、酢酸パラジウム(4.08g、0.018mol)およびトリシクロヘキシルホスフィン(10.19g、0.036mol)を加え、2時間還流した。室温に冷却後、得られた反応混合物をろ過してろ液を集め、さらにろ過物を1,4−ジオキサン(2.5L)で洗浄し、得られたろ液と洗浄液を濃縮した。得られた残渣を、ヘキサン/ジクロロメタン(1/1(体積基準))の混合溶媒に溶解させ、770gのシリカゲルを用いてろ過し、更に、ヘキサン/ジクロロメタン(1/1(体積基準))の混合溶媒(2.5L)でシリカゲルを洗浄した。得られたろ液と洗浄液を濃縮し、得られた残渣にメタノール(1500mL)を加えて30分間超音波洗浄を行った。その後、これをろ過することにより、化合物S1−b(274.27g)を得た。ろ液と洗浄液を濃縮し、メタノールを加え、超音波洗浄を行い、ろ過するという操作を繰り返すことことにより、化合物S1−b(14.29g)を得た。得られた化合物S1−bの合計の収量は288.56gであった。
<Stage2>
After the inside of the reaction vessel was under a nitrogen gas stream, compound S1-a (410.94 g, 1.21 mol), bis (pinacolato) diboron (338.47 g, 1.33 mol), potassium acetate (237.83 g, 2. 42 mol), 1,4-dioxane (2600 mL), palladium acetate (4.08 g, 0.018 mol) and tricyclohexylphosphine (10.19 g, 0.036 mol) were added and refluxed for 2 hours. After cooling to room temperature, the resulting reaction mixture was filtered to collect the filtrate, the filtrate was further washed with 1,4-dioxane (2.5 L), and the resulting filtrate and washing were concentrated. The obtained residue was dissolved in a mixed solvent of hexane / dichloromethane (1/1 (volume basis)), filtered using 770 g of silica gel, and further mixed with hexane / dichloromethane (1/1 (volume basis)). The silica gel was washed with a solvent (2.5 L). The obtained filtrate and washing solution were concentrated, methanol (1500 mL) was added to the obtained residue, and ultrasonic washing was performed for 30 minutes. Thereafter, this was filtered to obtain Compound S1-b (274.27 g). The filtrate and the washing solution were concentrated, methanol was added, ultrasonic washing was performed, and filtration was repeated to obtain Compound S1-b (14.29 g). The total yield of the obtained compound S1-b was 288.56 g.

<stage3>
反応容器内を窒素ガス気流下とした後、1,3−ジブロモベンゼン(102.48g、0.434mol)、化合物S1−b(288.56g、0.912mol)、トルエン(2100mL)、20重量%テトラエチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(962.38g、1.31mol)およびビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド(3.04g、0.004mol)を加え、7時間還流した。室温に冷却後、水層と有機層を分離し、有機層を集めた。この水層にトルエン(1L)を加えて、有機層をさらに抽出した。得られた有機層を合わせて、これを蒸留水/飽和食塩水(1.5L/1.5L)の混合水溶液で洗浄した。得られた有機層を400gのシリカゲルでろ過し、更にトルエン(2L)でシリカゲルを洗浄した。得られた溶液を濃縮し、得られた残渣をヘキサンに溶解させた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。展開溶媒であるヘキサンで不純物を溶出させた後に、ヘキサン/ジクロロメタン(10/1(体積基準))の混合溶媒で展開した。得られた各フラクションを減圧濃縮により溶媒を除去し、無色結晶の化合物S1−c(154.08g、HPLC面積百分率値99.1%)、および、粗製の化合物S1−c(38.64g、HPLC面積百分率値83%)を得た。この粗製の化合物S1−cを再び同様の展開条件にてカラム精製し、溶媒を減圧留去し、化合物S1−c(28.4g、HPLC面積百分率値99.6%)を得た。得られた化合物S1−cの合計の収量は182.48g(0.40mol)であった。
<Stage3>
After the inside of the reaction vessel was under a nitrogen gas stream, 1,3-dibromobenzene (102.48 g, 0.434 mol), compound S1-b (288.56 g, 0.912 mol), toluene (2100 mL), 20% by weight Tetraethylammonium hydroxide aqueous solution (962.38 g, 1.31 mol) and bis (triphenylphosphine) palladium (II) dichloride (3.04 g, 0.004 mol) were added and refluxed for 7 hours. After cooling to room temperature, the aqueous layer and the organic layer were separated, and the organic layer was collected. Toluene (1 L) was added to this aqueous layer, and the organic layer was further extracted. The obtained organic layers were combined and washed with a mixed aqueous solution of distilled water / saturated saline (1.5 L / 1.5 L). The obtained organic layer was filtered through 400 g of silica gel, and the silica gel was washed with toluene (2 L). The resulting solution was concentrated and the resulting residue was dissolved in hexane. This was purified by silica gel column chromatography. Impurities were eluted with hexane as a developing solvent, and then developed with a mixed solvent of hexane / dichloromethane (10/1 (volume basis)). The obtained fractions were concentrated under reduced pressure to remove the solvent, and colorless crystals of compound S1-c (154.08 g, HPLC area percentage value 99.1%) and crude compound S1-c (38.64 g, HPLC An area percentage value of 83%) was obtained. This crude compound S1-c was purified again under the same development conditions, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain compound S1-c (28.4 g, HPLC area percentage value 99.6%). The total yield of the obtained compound S1-c was 182.48 g (0.40 mol).

<stage4>
反応容器内を窒素ガス気流下とした後、化合物S1−c(182.48g、0.401mol)、ビス(ピナコラト)ジボロン(112.09g、0.441mol)、4,4’−ジ-tert−ブチル−2,2’−ジピリジル(3.23g、0.012mol)、シクロヘキサン(2000mL)およびビス(1,5−シクロオクタジエン)ジ−μ−メトキシジイリジウム(I)(3.99g、0.006mol)を加え、2時間還流した。室温に空冷後、得られた反応混合物を攪拌しながらシリカゲル(220g)を20分かけて加えた。得られた懸濁液を440gのシリカゲルでろ過し、さらにジクロロメタン(2L)でシリカゲルを洗浄し、溶液を濃縮した。得られた残渣に、メタノール(1100mL)およびジクロロメタン(110mL)を加え、1時間還流した。室温に冷却後、これをろ過した。得られたろ過物をメタノール(500mL)で洗浄し、得られた固体を乾燥させて、化合物S1(220.85g、0.380mol)を得た。
<Stage4>
After the inside of the reaction vessel was placed in a nitrogen gas stream, compound S1-c (182.48 g, 0.401 mol), bis (pinacolato) diboron (112.09 g, 0.441 mol), 4,4′-di-tert- Butyl-2,2′-dipyridyl (3.23 g, 0.012 mol), cyclohexane (2000 mL) and bis (1,5-cyclooctadiene) di-μ-methoxydiiridium (I) (3.99 g, 0.002 g). 006 mol) and refluxed for 2 hours. After air cooling to room temperature, silica gel (220 g) was added over 20 minutes while stirring the resulting reaction mixture. The obtained suspension was filtered through 440 g of silica gel, the silica gel was further washed with dichloromethane (2 L), and the solution was concentrated. Methanol (1100 mL) and dichloromethane (110 mL) were added to the obtained residue, and the mixture was refluxed for 1 hour. After cooling to room temperature, it was filtered. The obtained filtrate was washed with methanol (500 mL), and the obtained solid was dried to obtain compound S1 (220.85 g, 0.380 mol).

H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)=8.00(s,2H),7.92(s,1H),7.60(d,J=8.5Hz,4H),7.44(d,J=8.5Hz,4H) ,1.78(s,4H),1.41(s,12H) ,1.37(s,12H) ,0.75(s,18H). 1 H-NMR (CDCl 3 , 300 MHz): δ (ppm) = 8.00 (s, 2H), 7.92 (s, 1H), 7.60 (d, J = 8.5 Hz, 4H), 7 .44 (d, J = 8.5 Hz, 4H), 1.78 (s, 4H), 1.41 (s, 12H), 1.37 (s, 12H), 0.75 (s, 18H).

(化合物S2の合成) (Synthesis of Compound S2)

Figure 2015110751
Figure 2015110751

<stage1>
反応容器内を窒素ガス気流下とした後、化合物S1(91.49g、158mmol)、m−ジブロモベンゼン(17.70g,75mmol)およびトルエン(478mL)を加え、20分間窒素ガスバブリングした。その後、これに、20重量%テトラエチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(166mL、225mmol)およびビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド(0.26g、0.37mmol)を加え、6.5時間還流させた。室温に冷却後、得られた反応溶液から有機層を分離し、この有機層を水(300mL)、飽和食塩水(300mL)の順で洗浄した。得られた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣を、ヘキサン/クロロホルム((20/1(体積基準))の混合溶媒に溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、減圧濃縮により溶媒を除去した。得られた残渣に、メタノール(845mL)およびクロロホルム(56mL)を加え、30分間還流した。得られた溶液を冷却して得られた沈殿をろ過し、乾燥させることにより、化合物S2−a(74.40g)を得た。
<Stage1>
After the inside of the reaction vessel was under a nitrogen gas stream, Compound S1 (91.49 g, 158 mmol), m-dibromobenzene (17.70 g, 75 mmol) and toluene (478 mL) were added, and nitrogen gas was bubbled for 20 minutes. Thereafter, 20% by weight tetraethylammonium hydroxide aqueous solution (166 mL, 225 mmol) and bis (triphenylphosphine) palladium (II) dichloride (0.26 g, 0.37 mmol) were added thereto, and the mixture was refluxed for 6.5 hours. After cooling to room temperature, the organic layer was separated from the obtained reaction solution, and this organic layer was washed with water (300 mL) and saturated brine (300 mL) in this order. The obtained organic layer was dried over sodium sulfate, and then the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was dissolved in a mixed solvent of hexane / chloroform ((20/1 (volume basis)), purified by silica gel column chromatography, and the solvent was removed by concentration under reduced pressure. (845 mL) and chloroform (56 mL) were added, and the mixture was refluxed for 30 minutes.

<stage2>
反応容器内を窒素ガス気流下とした後、化合物S2−a(74.40g、76mmol)、ビス(ピナコラト)ジボロン(21.13g,83mmol)、4,4’−ジ−tert−ブチル−2,2’−ジピリジル(609mg、2mmol)、シクロヘキサン(734mL)およびビス(1,5−シクロオクタジエン)ジ−μ−メトキシジイリジウム(I)(752mg、1mmol)を加え、8時間還流した。室温に空冷後、得られた反応溶液にシリカゲル(83.93g)を加え、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ジクロロメタン/アセトニトリル(100/1(体積基準))の混合溶媒)で精製した。その語、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をトルエン(420mL)に溶解させ、これを50℃に加熱した。その後、これに、アセトニトリル(839mL)を滴下し、析出した固体をろ過した。得られた固体を、ヘキサン/アセトニトリル(1/1(体積基準))の混合溶媒中で30分間還流した後、室温に冷却して沈殿を濾取し、乾燥させることにより、化合物S2(68.53g)を得た。
<Stage2>
After making the inside of reaction container under nitrogen gas stream, compound S2-a (74.40 g, 76 mmol), bis (pinacolato) diboron (21.13 g, 83 mmol), 4,4′-di-tert-butyl-2, 2′-dipyridyl (609 mg, 2 mmol), cyclohexane (734 mL) and bis (1,5-cyclooctadiene) di-μ-methoxydiiridium (I) (752 mg, 1 mmol) were added and refluxed for 8 hours. After cooling to room temperature with air, silica gel (83.93 g) was added to the resulting reaction solution, and the mixture was purified by silica gel column chromatography (developing solvent: mixed solvent of dichloromethane / acetonitrile (100/1 (volume basis))). The word, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was dissolved in toluene (420 mL) and heated to 50 ° C. Thereafter, acetonitrile (839 mL) was added dropwise thereto, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was refluxed in a mixed solvent of hexane / acetonitrile (1/1 (volume basis)) for 30 minutes, cooled to room temperature, and the precipitate was collected by filtration and dried to give compound S2 (68. 53 g) was obtained.

H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)=8.14(d,J=1.8Hz,2H),8.09(m,1H),7.85(d,J=1.6Hz,4H),7.82(m,2H) ,7.64(d,J=8.5Hz,8H),7.48(d,J=8.5Hz,8H),1.79(s,8H),1.42(s,24H) ,1.39(s,12H) ,0.77(s,36H). 1 H-NMR (CDCl 3 , 300 MHz): δ (ppm) = 8.14 (d, J = 1.8 Hz, 2H), 8.09 (m, 1H), 7.85 (d, J = 1. 6 Hz, 4H), 7.82 (m, 2H), 7.64 (d, J = 8.5 Hz, 8H), 7.48 (d, J = 8.5 Hz, 8H), 1.79 (s, 8H), 1.42 (s, 24H), 1.39 (s, 12H), 0.77 (s, 36H).

(化合物G6の合成) (Synthesis of Compound G6)

Figure 2015110751
Figure 2015110751

遮光した反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物G5a(1.34g)、化合物S2(2.34g)、テトラヒドロフラン(60mL)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(98mg)および20重量%テトラエチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(5.2g)を加え、加熱還流下で18時間攪拌した。得られた反応混合物にトルエンおよびイオン交換水を加えて分液し、水層および有機層を得た。得られた水層をトルエンで抽出し、先に得られた有機層に加え、イオン交換水および5重量%食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。その後、シリカゲルを敷いたろ過器に通液することにより固体分を取り除いた。得られたろ液から減圧濃縮により溶媒を留去した後、得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/トルエン)により精製し、目的物を含むフラクションを得た。得られたフラクションを減圧濃縮し、トルエンおよびイソプロパノールの混合溶媒を用いて再結晶した後、50℃にて一晩減圧乾燥を行うことにより、目的物である化合物G6(2.43g)を赤色固体として得た。収率は73%であった。得られた化合物G6のHPLC面積百分率値(検出波長UV254nm)は99.8%を示した。   After the light-shielded reaction vessel was filled with an argon gas atmosphere, Compound G5a (1.34 g), Compound S2 (2.34 g), tetrahydrofuran (60 mL), tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (98 mg) and 20 wt. % Tetraethylammonium hydroxide aqueous solution (5.2 g) was added, and the mixture was stirred for 18 hours with heating under reflux. Toluene and ion-exchanged water were added to the obtained reaction mixture for liquid separation to obtain an aqueous layer and an organic layer. The obtained aqueous layer was extracted with toluene, added to the previously obtained organic layer, washed successively with ion-exchanged water and 5% by weight saline, and dried over anhydrous sodium sulfate. Then, the solid content was removed by passing through a filter with silica gel. After the solvent was distilled off from the obtained filtrate by concentration under reduced pressure, the obtained solid was purified by silica gel column chromatography (hexane / toluene) to obtain a fraction containing the desired product. The obtained fraction was concentrated under reduced pressure, recrystallized using a mixed solvent of toluene and isopropanol, and then dried under reduced pressure at 50 ° C. overnight to obtain the target compound G6 (2.43 g) as a red solid. Got as. The yield was 73%. The obtained compound G6 had an HPLC area percentage value (detection wavelength UV254 nm) of 99.8%.

LC−MS(APCI positive): m/z=3694.2[M+H]
1H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)=9.39(s,1H),9.27−9.21(m,2H),9.17(d,1H),9.04(d,1H),8.68(s,1H),8.47(d,1H),8.39−8.29(m,11H),8.29(s,6H),8.05−7.80(m,16H),7.73−7.42(m,56H),7.33(s,2H),1.77(s,16H),1.39−1.21(m,102H),0.74(s,72H).
LC-MS (APCI positive): m / z = 3694.2 [M + H] +
1H-NMR (CD 2 Cl 2 , 300 MHz): δ (ppm) = 9.39 (s, 1H), 9.27-9.21 (m, 2H), 9.17 (d, 1H), 9. 04 (d, 1H), 8.68 (s, 1H), 8.47 (d, 1H), 8.39-8.29 (m, 11H), 8.29 (s, 6H), 8.05 -7.80 (m, 16H), 7.73-7.42 (m, 56H), 7.33 (s, 2H), 1.77 (s, 16H), 1.39-1.21 (m , 102H), 0.74 (s, 72H).

<合成例7> 化合物G7の合成 <Synthesis Example 7> Synthesis of Compound G7

(化合物G7bの合成) (Synthesis of Compound G7b)

Figure 2015110751
Figure 2015110751

遮光した反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、特開2008−179617号公報に記載の方法に従って合成した化合物G7a(38g)、N−ブロモスクシンイミド(12.1g)およびクロロホルム(1800mL)を加え、室温で24時間攪拌した。得られた反応混合物を、シリカゲルを敷いたろ過器に通液することにより、固形分を取り除いた。得られたろ液を減圧濃縮することにより溶媒を留去し固体を得た。得られた固体を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム/ヘキサン=1/3)により精製し、目的物を含むフラクションを得た。得られたフラクションを濃縮し、再結晶(ジクロロメタン/ヘキサン)を3回行うことにより精製し、50℃にて一晩減圧乾燥を行うことで、化合物G7b(22.1g)を赤色固体として得た。収率は51%であった。得られた化合物G7bのHPLC面積百分率値(検出波長UV254nm)は99.4%を示した。   After the light-shielded reaction vessel was filled with a nitrogen gas atmosphere, compound G7a (38 g) synthesized according to the method described in JP-A-2008-179617, N-bromosuccinimide (12.1 g) and chloroform (1800 mL) were added, Stir at room temperature for 24 hours. The obtained reaction mixture was passed through a filter covered with silica gel to remove solids. The obtained filtrate was concentrated under reduced pressure to remove the solvent to obtain a solid. The obtained solid was purified by silica gel column chromatography (chloroform / hexane = 1/3) to obtain a fraction containing the desired product. The obtained fraction was concentrated, purified by performing recrystallization (dichloromethane / hexane) three times, and dried under reduced pressure at 50 ° C. overnight to obtain compound G7b (22.1 g) as a red solid. . The yield was 51%. The HPLC area percentage value (detection wavelength UV254 nm) of the obtained compound G7b was 99.4%.

LC/MS(APCI−posi):m/z=1920[M+H]
1H−NMR(300MHz/CD2Cl2):δ(ppm=)9.31(d,3H),9.26(dd,3H),8.38(d,12H),8.22(d,3H),7.96(d,3H),7.43(d,12H),7.00(dd,3H),6.82(d,3H),1.23(s,18H).
LC / MS (APCI-posi): m / z = 1920 [M + H] +
1 H-NMR (300 MHz / CD 2 Cl 2 ): δ (ppm =) 9.31 (d, 3H), 9.26 (dd, 3H), 8.38 (d, 12H), 8.22 (d , 3H), 7.96 (d, 3H), 7.43 (d, 12H), 7.00 (dd, 3H), 6.82 (d, 3H), 1.23 (s, 18H).

(化合物G7の合成) (Synthesis of Compound G7)

Figure 2015110751
Figure 2015110751

<stage1>
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、ビス(4−tert−ブチルフェニル)アミン(98.5g)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(3.21g)、トリ−tert−ブチルホスフィンテトラフルオロボレート塩(4.06g)、ナトリウム−tert−ブトキシド(67.3g)およびトルエン(665mL)を加え、攪拌しながら80℃に加熱した。その後、そこへ、トルエン(55ml)に溶解させたブロモベンゼン(57.1g)を滴下し、85℃で4時間攪拌した。得られた反応混合物を、トルエン(680ml)で希釈した後、熱時ろ過することにより固体を除去した。得られたろ液に、活性白土(35g)および活性アルミナ(35g)を加え、90℃で1.5時間攪拌した後、熱時ろ過することにより固体を除去した。得られたろ液を減圧濃縮することにより溶媒を除去し、固体を得た。得られた固体を、再結晶(ヘキサン/エタノール)を2回行うことにより精製し、50℃で一晩減圧乾燥を行うことで、目的物である化合物G7−S1(99g)を固体として得た。収率は79%であった。得られた化合物G7−S1のHPLC面積百分率値(検出波長UV254nm)は99.9%以上を示した。
<Stage1>
After the inside of the reaction vessel was filled with an argon gas atmosphere, bis (4-tert-butylphenyl) amine (98.5 g), tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0) (3.21 g), tri-tert-butylphosphine Tetrafluoroborate salt (4.06 g), sodium-tert-butoxide (67.3 g) and toluene (665 mL) were added and heated to 80 ° C. with stirring. Thereafter, bromobenzene (57.1 g) dissolved in toluene (55 ml) was added dropwise thereto, and the mixture was stirred at 85 ° C. for 4 hours. The resulting reaction mixture was diluted with toluene (680 ml) and then filtered while hot to remove the solid. Activated clay (35 g) and activated alumina (35 g) were added to the obtained filtrate, and the mixture was stirred at 90 ° C. for 1.5 hours, and then the solid was removed by filtration while hot. The solvent was removed by concentrating the obtained filtrate under reduced pressure to obtain a solid. The obtained solid was purified by recrystallization (hexane / ethanol) twice and dried under reduced pressure at 50 ° C. overnight to obtain the target compound G7-S1 (99 g) as a solid. . The yield was 79%. The HPLC area percentage value (detection wavelength UV254 nm) of the obtained compound G7-S1 was 99.9% or more.

<stage2>
遮光した反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物G7−S1(71.5g)、N−ヨードスクシンイミド(49.5g)およびN,N−ジメチルホルムアミド(800mL)を加え、攪拌しながら30℃に加熱した。その後、そこへ、トリフルオロ酢酸(11.4g)を滴下し、50℃で4時間攪拌した。その後、氷浴を用いて冷却し、イオン交換水(800mL)および10%塩化ナトリウム水溶液(200mL)を滴下したところ、固体が得られた。得られた固体をトルエン(1L)に溶解させた後、イオン交換水(800mL)を用いて2回洗浄し、有機層を得た。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮することにより溶媒を留去し、固体を得た。得られた固体を50℃で一晩減圧乾燥した後、再結晶(クロロホルム/メタノール)を行うことにより精製し、50℃にて一晩減圧乾燥を行うことで、目的物である化合物G7−S2(84g)を固体として得た。収率は87%であった。得られた化合物G7−S2のHPLC面積百分率値(検出波長UV254nm)は99.4%を示した。
<Stage2>
After the light-shielded reaction vessel was filled with an argon gas atmosphere, Compound G7-S1 (71.5 g), N-iodosuccinimide (49.5 g) and N, N-dimethylformamide (800 mL) were added and stirred at 30 ° C. Heated to. Then, trifluoroacetic acid (11.4g) was dripped there, and it stirred at 50 degreeC for 4 hours. Then, it cooled using the ice bath and solid was obtained when ion-exchange water (800 mL) and 10-% sodium chloride aqueous solution (200 mL) were dripped. The obtained solid was dissolved in toluene (1 L) and then washed twice with ion-exchanged water (800 mL) to obtain an organic layer. The obtained organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate and then concentrated under reduced pressure to distill off the solvent to obtain a solid. The obtained solid was dried at 50 ° C. under reduced pressure overnight, purified by recrystallization (chloroform / methanol), and dried at 50 ° C. under reduced pressure overnight to obtain the target compound G7-S2. (84 g) was obtained as a solid. The yield was 87%. The HPLC area percentage value (detection wavelength UV254 nm) of the obtained compound G7-S2 was 99.4%.

<stage3>
遮光した反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物G7−S2(7.5g)およびテトラヒドロフラン(80mL)を加えた。その後、そこへ、テトラヒドロフランに溶解させたイソプロピルマグネシウムクロリド(2mol/L、15mL)を滴下し、室温で1時間撹拌した。その後、氷浴を用いて冷却し、2−イソプロポキシ−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(6.4mL)を加え、5分間撹拌した。その後、氷浴を取り除き、室温までゆっくりと昇温しながら3時間撹拌した。その後、氷浴を用いて再び冷却した後、酢酸エチル(90mL)およびトルエン(30mL)の混合溶媒を用いて抽出し、得られた有機層を15重量%の食塩水(50mL)で2回洗浄し、有機層を得た。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮することにより溶媒を留去し、固体を得た。得られた固体を、再結晶(クロロホルム/メタノール)を2回行うことにより精製し、50℃で一晩減圧乾燥を行うことで、目的物である化合物G7−S3(5.5g)を白色固体として得た。収率は74%であった。得られた化合物G7−S3のHPLC面積百分率値(検出波長UV254nm)は99.5%以上を示した。
<Stage3>
After the light-shielded reaction vessel was filled with a nitrogen gas atmosphere, Compound G7-S2 (7.5 g) and tetrahydrofuran (80 mL) were added. Thereafter, isopropylmagnesium chloride (2 mol / L, 15 mL) dissolved in tetrahydrofuran was added dropwise thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Thereafter, the mixture was cooled using an ice bath, 2-isopropoxy-4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane (6.4 mL) was added, and the mixture was stirred for 5 minutes. Thereafter, the ice bath was removed, and the mixture was stirred for 3 hours while slowly warming to room temperature. Then, after cooling again using an ice bath, extraction was performed using a mixed solvent of ethyl acetate (90 mL) and toluene (30 mL), and the obtained organic layer was washed twice with 15 wt% brine (50 mL). To obtain an organic layer. The obtained organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate and then concentrated under reduced pressure to distill off the solvent to obtain a solid. The obtained solid was purified by recrystallization (chloroform / methanol) twice and dried under reduced pressure at 50 ° C. overnight to obtain the target compound G7-S3 (5.5 g) as a white solid. Got as. The yield was 74%. The HPLC area percentage value (detection wavelength UV254 nm) of the obtained compound G7-S3 was 99.5% or more.

TLC/MS(DART positive):m/z=484[M+H] TLC / MS (DART positive): m / z = 484 [M + H] +

<stage4>
遮光した反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物G7b(5.0g)、化合物G7−S3(4.4g)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(360mg)、20重量%テトラエチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(20mL)およびテトラヒドロフラン(210ml)を加え、加熱還流下で24時間攪拌した。その後、室温まで冷却し、トルエン(400mL)およびイオン交換水(400mL)を加え、抽出し、有機層を得た。得られた有機層を、イオン交換水で2回、5重量%食塩水で1回洗浄し、有機層を得た。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮することにより溶媒を留去し、固体を得た。得られた固体を、再結晶(トルエン/イソプロパノール)を行うことにより精製し、50℃で一晩減圧乾燥を行うことで、化合物G7(3.9g)を赤色固体として得た。収率は55%であった。得られた化合物G7のHPLC面積百分率値(検出波長UV254nm)は99.5%以上を示した。
<Stage4>
After the light-shielded reaction vessel was filled with a nitrogen gas atmosphere, compound G7b (5.0 g), compound G7-S3 (4.4 g), tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (360 mg), 20% by weight tetraethylammonium Aqueous hydroxide (20 mL) and tetrahydrofuran (210 ml) were added, and the mixture was stirred for 24 hours under reflux with heating. Then, it cooled to room temperature, toluene (400 mL) and ion-exchange water (400 mL) were added and extracted, and the organic layer was obtained. The obtained organic layer was washed twice with ion-exchanged water and once with 5 wt% saline to obtain an organic layer. The obtained organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate and then concentrated under reduced pressure to distill off the solvent to obtain a solid. The obtained solid was purified by recrystallization (toluene / isopropanol) and dried under reduced pressure at 50 ° C. overnight to obtain Compound G7 (3.9 g) as a red solid. The yield was 55%. The HPLC area percentage value (detection wavelength UV254 nm) of the obtained compound G7 was 99.5% or more.

H−NMR(300MHz/CDCl):δ(ppm)=9.41(d,3H),9.21(dd,3H),8.39(d,12H),8.26(d,3H)、7.96(s,3H),7.45〜7.38(m,18H),7.27(dd,12H),7.23〜7.16(m,6H),6.96(d,18H),1.30(s,54H),1.22(s,54H).
LC/MS(APCI positive):m/z=2751[M+H]
1 H-NMR (300 MHz / CD 2 Cl 2 ): δ (ppm) = 9.41 (d, 3H), 9.21 (dd, 3H), 8.39 (d, 12H), 8.26 (d 3H), 7.96 (s, 3H), 7.45 to 7.38 (m, 18H), 7.27 (dd, 12H), 7.23 to 7.16 (m, 6H), 6. 96 (d, 18H), 1.30 (s, 54H), 1.22 (s, 54H).
LC / MS (APCI positive): m / z = 2755 [M + H] +

<合成例8> 化合物G8の合成 <Synthesis Example 8> Synthesis of Compound G8

Figure 2015110751
Figure 2015110751

<stage1>
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、米国特許出願公開第2011/0057559号明細書に準じて合成した化合物G8a(9.9g)、化合物S1(15g)、2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2’,6’−ジメトキシビフェニル(0.11g)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0.12g)、20重量%のテトラエチルアンモニウム水溶液(20mL)、トルエン(200mL)およびエタノール(50mL)を加え、加熱還流下で18時間攪拌した。その後、室温まで冷却し、トルエンを加え抽出した。得られた有機層を、イオン交換水を用いて洗浄した後、減圧濃縮することで固体を得た。得られた固体を、シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン)で精製し、更に、トルエンおよびアセトニトリルの混合溶媒を用いて再結晶した後、減圧乾燥することで化合物G8b(17g、収率90%)を得た。
<Stage1>
After making the inside of the reaction vessel an argon gas atmosphere, Compound G8a (9.9 g), Compound S1 (15 g), 2-dicyclohexylphosphino-2 ′, synthesized according to US Patent Application Publication No. 2011/0057559, 6'-dimethoxybiphenyl (0.11 g), tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0.12 g), 20 wt% tetraethylammonium aqueous solution (20 mL), toluene (200 mL) and ethanol (50 mL) were added and heated to reflux. Stirring under for 18 hours. Then, it cooled to room temperature and added toluene and extracted. The obtained organic layer was washed with ion-exchanged water, and then concentrated under reduced pressure to obtain a solid. The obtained solid was purified by silica gel chromatography (ethyl acetate / hexane), recrystallized using a mixed solvent of toluene and acetonitrile, and then dried under reduced pressure to give compound G8b (17 g, yield 90%). Got.

<stage2>
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物G8b(10g)、塩化イリジウム水和物(2.2g)、2−エトキシエタノール(120mL)および水(40mL)を加え、加熱還流下で14時間攪拌した。その後、室温まで冷却し、メタノールを加えたところ、沈殿が生じた。得られた沈殿をろ過し、得られた固体をメタノールで洗浄した後、減圧乾燥することにより、中間体G8(10g、黄色粉末)を得た。
<Stage2>
After the inside of the reaction vessel was filled with an argon gas atmosphere, Compound G8b (10 g), iridium chloride hydrate (2.2 g), 2-ethoxyethanol (120 mL) and water (40 mL) were added, and the mixture was stirred with heating under reflux for 14 hours. did. Then, when it cooled to room temperature and methanol was added, precipitation occurred. The obtained precipitate was filtered, and the obtained solid was washed with methanol and dried under reduced pressure to obtain Intermediate G8 (10 g, yellow powder).

反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、中間体G8(9.5g)、トリフルオロメタンスルホン酸銀(31g)、ジクロロメタン(100mL)およびメタノール(30mL)を加え、室温で一晩攪拌した。析出した沈殿をろ過した後、得られたろ液を減圧濃縮した。その後、そこへ、化合物G8b(7.8g)、2,6−ルチジン(6.7mL)およびジエチレングリコールジメチルエーテル(180mL)を加え、加熱還流下で一晩攪拌した。その後、室温まで冷却し、イオン交換水およびメタノールの混合溶媒を加え、析出した沈殿をろ過した。得られた固体を、シリカゲルクロマトグラフィー(ジクロロメタン/ヘキサン)で精製し、更に、トルエンおよびアセトニトリルの混合溶媒を用いて再結晶した後、減圧乾燥することで化合物G8(1.2g、収率6.5%)を得た。   The reaction vessel was filled with an argon gas atmosphere, intermediate G8 (9.5 g), silver trifluoromethanesulfonate (31 g), dichloromethane (100 mL) and methanol (30 mL) were added, and the mixture was stirred overnight at room temperature. After the deposited precipitate was filtered, the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure. Thereafter, compound G8b (7.8 g), 2,6-lutidine (6.7 mL) and diethylene glycol dimethyl ether (180 mL) were added thereto, and the mixture was stirred overnight with heating under reflux. Then, it cooled to room temperature, the mixed solvent of ion-exchange water and methanol was added, and the depositing deposit was filtered. The obtained solid was purified by silica gel chromatography (dichloromethane / hexane), recrystallized using a mixed solvent of toluene and acetonitrile, and then dried under reduced pressure to give compound G8 (1.2 g, yield 6. 5%).

H−NMR(600MHz、(CDCO−d)δ(ppm)=8.01−7.97(m,9H),7.91(d,6H),7.81(d,12H),7.59(d,12H),7.25(s,3H),6.92−6.89(m,6H),6.57(t,3H),5.87−5.81(m,6H),2.89−2.86(m,3H),2.52−2.48(m,3H),1.87(s,12H),1.42(s,36H),1.38(d,9H),1.16(d,9H),1.12(d,9H),1.07(d,9H),0.80(54H). 1 H-NMR (600 MHz, (CD 3 ) 2 CO-d 6 ) δ (ppm) = 8.01-7.97 (m, 9H), 7.91 (d, 6H), 7.81 (d, 12H), 7.59 (d, 12H), 7.25 (s, 3H), 6.92-6.89 (m, 6H), 6.57 (t, 3H), 5.87-5.81 (M, 6H), 2.89-2.86 (m, 3H), 2.52-2.48 (m, 3H), 1.87 (s, 12H), 1.42 (s, 36H), 1.38 (d, 9H), 1.16 (d, 9H), 1.12 (d, 9H), 1.07 (d, 9H), 0.80 (54H).

<合成例9> 化合物H1の合成 <Synthesis Example 9> Synthesis of Compound H1

Figure 2015110751
Figure 2015110751

<Step1>
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物1(336g、370mmol)、ビス(ピナコラト)ジボロン(113g、445mmol)、酢酸パラジウム(II)(1.88g、8.37mmol)、トリシクロヘキシルホスフィン(4.68g、16.7mmol)、酢酸カリウム(72.7g、741mmol)および1,4−ジオキサン(1580mL)を加え、加熱還流下で26時間撹拌した。その後、室温まで冷却してから、1,4−ジオキサン(1000mL)を加えて希釈した後、ろ過により固体を除去した。得られたろ液を減圧濃縮することにより固体を得た。得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/ジクロロメタン=1/1)により精製した後、更に再結晶(ジクロロメタン/アセトニトリル)を2回行うことにより精製した。得られた固体を50℃で一晩減圧乾燥することにより、目的物である化合物2(276g)を白色固体として得た。収率は84%であった。得られた化合物2のHPLC面積百分率値(検出波長UV254nm)は99.3%であった。
なお、化合物1は特開2010−31259号公報に記載の方法により合成したものを用いた。
<Step 1>
After making the inside of the reaction vessel a nitrogen gas atmosphere, Compound 1 (336 g, 370 mmol), bis (pinacolato) diboron (113 g, 445 mmol), palladium (II) acetate (1.88 g, 8.37 mmol), tricyclohexylphosphine (4 .68 g, 16.7 mmol), potassium acetate (72.7 g, 741 mmol) and 1,4-dioxane (1580 mL) were added, and the mixture was stirred for 26 hours under heating to reflux. Then, after cooling to room temperature, after adding and diluting 1, 4- dioxane (1000 mL), the solid was removed by filtration. The obtained filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain a solid. The obtained solid was purified by silica gel column chromatography (n-hexane / dichloromethane = 1/1), and further purified by performing recrystallization (dichloromethane / acetonitrile) twice. The obtained solid was dried under reduced pressure at 50 ° C. overnight to obtain the target compound 2 (276 g) as a white solid. The yield was 84%. The obtained compound 2 had an HPLC area percentage value (detection wavelength UV254 nm) of 99.3%.
Compound 1 was synthesized by the method described in JP 2010-31259 A.

TLC/MS(DART positive):m/z=886[M+H]
H−NMR(300MHz/CDCl):δ(ppm)=8.14(brs,3H),7.88(d,4H),7.84−7.82(m,2H),7.69(d,8H),7.53(d,8H),1.38(brs,48H).
TLC / MS (DART positive): m / z + = 886 [M + H] +
1 H-NMR (300 MHz / CD 2 Cl 2 ): δ (ppm) = 8.14 (brs, 3H), 7.88 (d, 4H), 7.84-7.82 (m, 2H), 7 .69 (d, 8H), 7.53 (d, 8H), 1.38 (brs, 48H).

Figure 2015110751
Figure 2015110751

<Step2>
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物3(4.26g、10mmol)、化合物2(29.21g、33mmol)、トルエン(100mL)、PdCl(PPh(35mg、0.05mmol)および20重量%テトラエチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(22g)を加え、加熱還流下で3時間攪拌した。その後、室温まで冷却してから、トルエン(600mL)を加えて希釈した後、イオン交換水(200mL)で2回洗浄し、更に15重量%食塩水(200mL)で洗浄し、分液により有機層を得た。その後、得られた有機層を、無水硫酸ナトリウムを加えることにより乾燥し、ろ過により固体を除去し、シリカゲルショートカラムに通液し、得られた溶液を減圧濃縮することにより固体を得た。得られた固体を中圧シリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン/クロロホルム)を用いて精製した後、更に再結晶(ヘキサン/エタノール)を3回行うことにより精製した。得られた固体を50℃で一晩減圧乾燥することにより、目的物である化合物H1(10.9g)を白色固体として得た。得られた化合物H1のHPLC面積百分率値(検出波長UV254nm)は99.5%以上であった。収率は44%であった。
なお、化合物3は特開2010−189630号公報に記載の方法により合成したものを用いた。
<Step 2>
After the inside of the reaction vessel was filled with an argon gas atmosphere, compound 3 (4.26 g, 10 mmol), compound 2 (29.21 g, 33 mmol), toluene (100 mL), PdCl 2 (PPh 3 ) 2 (35 mg, 0.05 mmol) And 20 weight% tetraethylammonium hydroxide aqueous solution (22g) was added, and it stirred under heating-refluxing for 3 hours. Then, after cooling to room temperature, toluene (600 mL) was added to dilute, then washed twice with ion-exchanged water (200 mL), further washed with 15 wt% saline (200 mL), and the organic layer was separated by liquid separation. Got. Thereafter, the obtained organic layer was dried by adding anhydrous sodium sulfate, the solid was removed by filtration, passed through a silica gel short column, and the resulting solution was concentrated under reduced pressure to obtain a solid. The obtained solid was purified using medium pressure silica gel chromatography (hexane / chloroform), and further purified by recrystallization (hexane / ethanol) three times. The obtained solid was dried under reduced pressure at 50 ° C. overnight to obtain the target compound, Compound H1 (10.9 g) as a white solid. The HPLC area percentage value (detection wavelength UV254 nm) of the obtained compound H1 was 99.5% or more. The yield was 44%.
Compound 3 was synthesized by the method described in JP 2010-189630 A.

H−NMR(300MHz,CDCl):δ(ppm)=9.09(s,2H),8.94(d,4H),8.18(s,1H),7.82(m,28H),7.67(m,24H),7.50(d,24H),1.38(s,72H),1.34(s,36H). 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ): δ (ppm) = 9.09 (s, 2H), 8.94 (d, 4H), 8.18 (s, 1H), 7.82 (m, 28H) ), 7.67 (m, 24H), 7.50 (d, 24H), 1.38 (s, 72H), 1.34 (s, 36H).

<合成例10> 化合物H2、化合物H3および化合物H4の合成 <Synthesis Example 10> Synthesis of Compound H2, Compound H3, and Compound H4

化合物H2は、特開2010−189630号公報に記載の方法に従って合成した。
化合物H3は、Luminescense Technology社より購入した。
Compound H2 was synthesized according to the method described in JP 2010-189630 A.
Compound H3 was purchased from Luminesense Technology.

Figure 2015110751
Figure 2015110751

<合成例11> 高分子化合物P1の合成 <Synthesis Example 11> Synthesis of Polymer Compound P1

Figure 2015110751
Figure 2015110751

単量体CM1は、特開2010−189630号公報記載の合成法に従い合成した。
単量体CM2は、WO2005/049546記載の合成法に従い合成した。
単量体CM3は、WO2011/049241記載の合成法に従い合成した。
Monomer CM1 was synthesized according to the synthesis method described in JP 2010-189630 A.
Monomer CM2 was synthesized according to the synthesis method described in WO2005 / 049546.
Monomer CM3 was synthesized according to the synthesis method described in WO2011 / 049241.

反応容器内を窒素ガス雰囲気下とした後、単量体CM1(3.39mmol)、単量体CM2(2.96mmol)、単量体CM3(0.52mmol)およびトルエン(73ml)を加え、約80℃に加熱した。その後、そこへ、酢酸パラジウム(0.77mg)、トリス(2−メトキシフェニル)ホスフィン(4.90mg)および20重量%テトラエチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(12.3g)を加え、還流下で約4時間攪拌した。その後、そこへ、フェニルボロン酸(85.6mg)、酢酸パラジウム(0.72mg)、トリス(2−メトキシフェニル)ホスフィン(4.89mg)および20重量%テトラエチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(12.3g)を加え、更に還流下で約19.5時間攪拌した。その後、そこへ、N,N−ジエチルジチオカルバミド酸ナトリウム三水和物(0.98g)をイオン交換水(20ml)に溶解した溶液を加え、85℃に加熱しながら2時間攪拌した。その後、有機層を3.6重量%塩酸で2回、2.5重量%アンモニア水溶液で2回、イオン交換水で5回、順次洗浄した。得られた有機層をメタノールに滴下することで沈殿を生じさせ、ろ取、乾燥させることにより、固体を得た。得られた固体をトルエンに溶解させ、予めトルエンを通液したシリカゲルカラムおよびアルミナカラムに通液した。得られた溶液をメタノールに滴下することで沈殿を生じさせ、ろ取、乾燥させることにより、高分子化合物P1(2.907g)を得た。高分子化合物1のポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)および重量平均分子量(Mw)は、Mn=1.9×10、Mw=9.9×10であった。 After the inside of the reaction vessel was placed in a nitrogen gas atmosphere, monomer CM1 (3.39 mmol), monomer CM2 (2.96 mmol), monomer CM3 (0.52 mmol) and toluene (73 ml) were added, and about Heated to 80 ° C. Thereafter, palladium acetate (0.77 mg), tris (2-methoxyphenyl) phosphine (4.90 mg) and a 20 wt% tetraethylammonium hydroxide aqueous solution (12.3 g) were added thereto, and the mixture was stirred for about 4 hours under reflux. did. Thereafter, phenylboronic acid (85.6 mg), palladium acetate (0.72 mg), tris (2-methoxyphenyl) phosphine (4.89 mg) and a 20 wt% tetraethylammonium hydroxide aqueous solution (12.3 g) were added thereto. In addition, the mixture was further stirred for about 19.5 hours under reflux. Thereafter, a solution obtained by dissolving sodium N, N-diethyldithiocarbamate trihydrate (0.98 g) in ion-exchanged water (20 ml) was added thereto, and the mixture was stirred for 2 hours while heating to 85 ° C. Thereafter, the organic layer was washed successively with 3.6 wt% hydrochloric acid twice, 2.5 wt% aqueous ammonia solution twice, and ion-exchanged water five times. The obtained organic layer was dropped into methanol to cause precipitation, and the solid was obtained by filtration and drying. The obtained solid was dissolved in toluene, and passed through a silica gel column and an alumina column through which toluene was passed in advance. The obtained solution was added dropwise to methanol to cause precipitation, and the polymer compound P1 (2.907 g) was obtained by filtering and drying. The number average molecular weight (Mn) and weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene of the polymer compound 1 were Mn = 1.9 × 10 4 and Mw = 9.9 × 10 4 .

高分子化合物P1は、単量体の仕込み量から求めた理論値では、単量体CM1から誘導される構成単位と、単量体CM2から誘導される構成単位と、単量体CM3から誘導される構成単位とが、50:42.5:7.5のモル比で構成されてなる共重合体である。   The polymer compound P1 is derived from the structural unit derived from the monomer CM1, the structural unit derived from the monomer CM2, and the structural unit derived from the monomer CM3 in the theoretical value obtained from the charged amount of the monomer. Is a copolymer having a molar ratio of 50: 42.5: 7.5.

<合成例12> 高分子化合物P2の合成 <Synthesis Example 12> Synthesis of polymer compound P2

Figure 2015110751
Figure 2015110751

単量体CM1は、特開2010−189630号公報記載の合成法に従い合成した。
単量体CM4は、特開2008−106241号公報記載の合成法に従い合成した。
単量体CM5は、特開2010−215886号公報記載の合成法に従い合成した。
単量体CM6は、国際公開第2002/045184号記載の合成法に従い合成した。
Monomer CM1 was synthesized according to the synthesis method described in JP 2010-189630 A.
Monomer CM4 was synthesized according to the synthesis method described in JP-A-2008-106241.
Monomer CM5 was synthesized according to the synthesis method described in JP 2010-215886 A.
Monomer CM6 was synthesized according to the synthesis method described in International Publication No. 2002/045184.

(工程1)反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物CM1(0.995g)、化合物CM4(0.106g)、化合物CM5(0.0924g)、化合物CM6(0.736g)、ジクロロビス〔トリス(2−メトキシフェニル)ホスフィン〕パラジウム(1.8mg)およびトルエン(50ml)を加え、105℃に加熱した。
(工程2)得られた反応液に、20重量%水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液(6.6ml)を滴下し、5.5時間還流させた。
(工程3)その後、そこに、フェニルボロン酸(24.4mg)、20重量%水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液(6.6ml)およびジクロロビス〔トリス(2−メトキシフェニル)ホスフィン〕パラジウム(1.8mg)を加え、14時間還流させた。
(工程4)その後、そこに、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、80℃で2時間撹拌した。得られた反応液を冷却後、水で2回、3重量%酢酸水溶液で2回、水で2回洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下したところ、沈殿が生じた。得られた沈殿物をトルエンに溶解させ、アルミナカラム、シリカゲルカラムの順番で通液することにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌したところ、沈殿が生じた。得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、高分子化合物P2を0.91g得た。高分子化合物P2のMnは5.2×10であり、Mwは2.5×10であった。
(Step 1) After making the inside of the reaction vessel an inert gas atmosphere, Compound CM1 (0.995 g), Compound CM4 (0.106 g), Compound CM5 (0.0924 g), Compound CM6 (0.736 g), dichlorobis [ Tris (2-methoxyphenyl) phosphine] palladium (1.8 mg) and toluene (50 ml) were added and heated to 105 ° C.
(Step 2) A 20 wt% tetraethylammonium hydroxide aqueous solution (6.6 ml) was added dropwise to the resulting reaction solution and refluxed for 5.5 hours.
(Step 3) Thereafter, phenylboronic acid (24.4 mg), 20 wt% tetraethylammonium hydroxide aqueous solution (6.6 ml) and dichlorobis [tris (2-methoxyphenyl) phosphine] palladium (1.8 mg) were added thereto. The mixture was refluxed for 14 hours.
(Step 4) Thereafter, an aqueous sodium diethyldithiacarbamate solution was added thereto, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 2 hours. The obtained reaction solution was cooled, then washed twice with water, twice with a 3% by weight aqueous acetic acid solution and twice with water, and the resulting solution was added dropwise to methanol, resulting in precipitation. The obtained precipitate was dissolved in toluene and purified by passing through an alumina column and a silica gel column in this order. When the obtained solution was added dropwise to methanol and stirred, precipitation occurred. The obtained precipitate was collected by filtration and dried to obtain 0.91 g of polymer compound P2. The Mn of the polymer compound P2 was 5.2 × 10 4 and the Mw was 2.5 × 10 5 .

高分子化合物P2は、仕込み原料の量から求めた理論値では、化合物CM1から誘導される構成単位と、化合物CM4から誘導される構成単位と、化合物CM5から誘導される構成単位と、化合物CM6から誘導される構成単位とが、50:5:5:40のモル比で構成されてなる共重合体である。   The theoretical value obtained from the amount of the raw material used for the polymer compound P2 is that the structural unit derived from the compound CM1, the structural unit derived from the compound CM4, the structural unit derived from the compound CM5, and the compound CM6 The derived structural unit is a copolymer having a molar ratio of 50: 5: 5: 40.

<合成例13> 高分子化合物ET1の合成 <Synthesis Example 13> Synthesis of polymer compound ET1

Figure 2015110751
Figure 2015110751

化合物ET1−1は、特開2012−33845号公報記載の合成法に従い合成した。
化合物ET1−2は、特開2012−33845号公報記載の合成法に従い合成した。
Compound ET1-1 was synthesized according to the synthesis method described in JP 2012-33845 A.
Compound ET1-2 was synthesized according to the synthesis method described in JP 2012-33845 A.

Figure 2015110751
Figure 2015110751

(高分子化合物ET1aの合成)
高分子化合物ET1aは、化合物ET1−1および化合物ET1−2を用いて、特開2012−33845号公報記載の合成法に従い合成した。
(Synthesis of polymer compound ET1a)
The polymer compound ET1a was synthesized according to the synthesis method described in JP 2012-33845 A using the compound ET1-1 and the compound ET1-2.

高分子化合物ET1aのMnは5.2×10であった。 The Mn of the polymer compound ET1a was 5.2 × 10 4 .

高分子化合物ET1aは、仕込み原料の量から求めた理論値では、化合物ET1−1から誘導される構成単位と、化合物ET1−2から誘導される構成単位とが、50:50のモル比で構成されてなる共重合体である。   The polymer compound ET1a is composed of a structural unit derived from the compound ET1-1 and a structural unit derived from the compound ET1-2 in a molar ratio of 50:50 according to the theoretical value obtained from the amount of the raw materials. It is a copolymer obtained.

(高分子化合物ET1の合成)
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、高分子化合物ET1a(200mg)、テトラヒドロフラン(20mL)およびエタノール(20mL)を加え、55℃に加熱した。そこへ、水(2mL)に溶解させた水酸化セシウム(200mg)を加え、55℃で6時間撹拌した。その後、室温まで冷却した後、減圧濃縮することにより、固体を得た。得られた固体を水で洗浄した後、減圧乾燥させるにより、高分子化合物ET1(150mg、薄黄色固体)を得た。得られた高分子化合物ET1のNMRスペクトルにより、高分子化合物ET1aのエチルエステル部位のエチル基由来のシグナルが完全に消失していることを確認した。
(Synthesis of polymer compound ET1)
After making the inside of reaction container into inert gas atmosphere, the high molecular compound ET1a (200 mg), tetrahydrofuran (20 mL), and ethanol (20 mL) were added, and it heated at 55 degreeC. Cesium hydroxide (200 mg) dissolved in water (2 mL) was added thereto, and the mixture was stirred at 55 ° C. for 6 hours. Then, after cooling to room temperature, solid was obtained by concentrating under reduced pressure. The obtained solid was washed with water and then dried under reduced pressure to obtain a polymer compound ET1 (150 mg, light yellow solid). From the NMR spectrum of the resulting polymer compound ET1, it was confirmed that the signal derived from the ethyl group at the ethyl ester site of the polymer compound ET1a had completely disappeared.

<実施例1> 発光素子1の作製と評価
(陽極および正孔注入層の形成)
ガラス基板にスパッタ法により45nmの厚みでITO膜を付けることにより陽極を形成した。該陽極上に、ポリチオフェン・スルホン酸系の正孔注入剤であるAQ−1200(Plextronics社製)をスピンコート法により65nmの厚さで成膜し、大気雰囲気下において、ホットプレート上で170℃、15分間加熱することにより正孔注入層を形成した。
<Example 1> Production and evaluation of light-emitting element 1 (formation of anode and hole injection layer)
An anode was formed by attaching an ITO film with a thickness of 45 nm to the glass substrate by sputtering. AQ-1200 (manufactured by Plextronics), which is a polythiophene / sulfonic acid-based hole injecting agent, was formed on the anode at a thickness of 65 nm by a spin coating method, and 170 ° C. on a hot plate in an air atmosphere. The hole injection layer was formed by heating for 15 minutes.

(正孔輸送層の形成)
キシレンに高分子化合物P1を0.6重量%の濃度で溶解させた。得られたキシレン溶液を用いて、正孔注入層の上にスピンコート法により20nmの厚さで成膜し、窒素ガス雰囲気下において、ホットプレート上で180℃、60分間加熱させることにより正孔輸送層を形成した。
(Formation of hole transport layer)
Polymer compound P1 was dissolved in xylene at a concentration of 0.6% by weight. Using the obtained xylene solution, a film having a thickness of 20 nm was formed on the hole injection layer by spin coating, and heated at 180 ° C. for 60 minutes on a hot plate in a nitrogen gas atmosphere. A transport layer was formed.

(発光層の形成)
キシレンに、化合物H1および化合物G1(化合物H1/化合物G1=70重量%/30重量%)を3.5重量%の濃度で溶解させた。得られたキシレン溶液を用いて、正孔輸送層の上にスピンコート法により80nmの厚さで成膜し、窒素ガス雰囲気下において、130℃、10分間加熱させることにより発光層を形成した。
(Formation of light emitting layer)
Compound H1 and compound G1 (compound H1 / compound G1 = 70 wt% / 30 wt%) were dissolved in xylene at a concentration of 3.5 wt%. Using the obtained xylene solution, a film having a thickness of 80 nm was formed on the hole transport layer by a spin coating method, and a light emitting layer was formed by heating at 130 ° C. for 10 minutes in a nitrogen gas atmosphere.

(陰極の形成)
発光層の形成した基板を蒸着機内において、1.0×10-4Pa以下にまで減圧した後、陰極として、発光層の上にフッ化ナトリウムを約4nm、次いで、フッ化ナトリウム層の上にアルミニウムを約80nm蒸着した。蒸着後、ガラス基板を用いて封止することにより、発光素子1を作製した。
(Formation of cathode)
The substrate on which the light emitting layer is formed is depressurized to 1.0 × 10 −4 Pa or less in a vapor deposition machine, and then, as a cathode, sodium fluoride is about 4 nm on the light emitting layer, and then on the sodium fluoride layer. Aluminum was deposited at about 80 nm. After vapor deposition, the light emitting element 1 was produced by sealing using a glass substrate.

(発光素子の評価)
発光素子1に電圧を印加することによりEL発光が観測された。1000cd/mにおける駆動電圧は6.0[V]、発光効率は61.5[cd/A]、発光スペクトルピーク波長は520[nm]であった。結果を表3に示す。
(Evaluation of light emitting element)
EL light emission was observed by applying a voltage to the light emitting element 1. The driving voltage at 1000 cd / m 2 was 6.0 [V], the luminous efficiency was 61.5 [cd / A], and the emission spectrum peak wavelength was 520 [nm]. The results are shown in Table 3.

<比較例1> 発光素子C1の作製と評価
実施例1における、化合物H1に代えて、化合物H2を用いた以外は、実施例1と同様にして、発光素子C1を作製した。
Comparative Example 1 Production and Evaluation of Light-Emitting Element C1 A light-emitting element C1 was produced in the same manner as in Example 1 except that Compound H2 was used instead of Compound H1 in Example 1.

発光素子C1に電圧を印加することによりEL発光が観測された。1000cd/mにおける駆動電圧は5.4[V]、発光効率は22.4[cd/A]、発光スペクトルピーク波長は520[nm]であった。結果を表3に示す。 EL light emission was observed by applying a voltage to the light emitting element C1. The driving voltage at 1000 cd / m 2 was 5.4 [V], the light emission efficiency was 22.4 [cd / A], and the emission spectrum peak wavelength was 520 [nm]. The results are shown in Table 3.

<比較例2> 発光素子C2の作製と評価
実施例1における、化合物H1に代えて、CBPを用いた以外は、実施例1と同様にして、発光素子C2を作製した。
Comparative Example 2 Production and Evaluation of Light-Emitting Element C2 A light-emitting element C2 was produced in the same manner as in Example 1 except that CBP was used instead of the compound H1 in Example 1.

発光素子C2に電圧を印加することによりEL発光が観測された。1000cd/mにおける駆動電圧は5.5[V]、発光効率は24.0[cd/A]、発光スペクトルピーク波長は520[nm]であった。結果を表3に示す。 EL light emission was observed by applying a voltage to the light emitting element C2. The driving voltage at 1000 cd / m 2 was 5.5 [V], the light emission efficiency was 24.0 [cd / A], and the emission spectrum peak wavelength was 520 [nm]. The results are shown in Table 3.

<比較例3> 発光素子C3の作製と評価
実施例1における、化合物G1に代えて、化合物G2を用いた以外は、実施例1と同様にして、発光素子C3を作製した。
Comparative Example 3 Production and Evaluation of Light-Emitting Element C3 A light-emitting element C3 was produced in the same manner as in Example 1 except that Compound G2 was used instead of Compound G1 in Example 1.

発光素子C3に電圧を印加することによりEL発光が観測された。1000cd/mにおける駆動電圧は5.0[V]、発光効率は50.2[cd/A]、発光スペクトルピーク波長は520[nm]であった。結果を表3に示す。 EL light emission was observed by applying a voltage to the light emitting element C3. The driving voltage at 1000 cd / m 2 was 5.0 [V], the luminous efficiency was 50.2 [cd / A], and the emission spectrum peak wavelength was 520 [nm]. The results are shown in Table 3.

<比較例4> 発光素子C4の作製と評価
実施例1における、化合物H1および化合物G1(化合物H1/化合物G1=70重量%/30重量%)に代えて、化合物H2および化合物G2(化合物H2/化合物G2=70重量%/30重量%)を用いた以外は、実施例1と同様にして、発光素子C4を作製した。
Comparative Example 4 Production and Evaluation of Light-Emitting Element C4 In place of Compound H1 and Compound G1 (Compound H1 / Compound G1 = 70 wt% / 30 wt%) in Example 1, Compound H2 and Compound G2 (Compound H2 / A light emitting device C4 was produced in the same manner as in Example 1 except that Compound G2 = 70 wt% / 30 wt%) was used.

発光素子C4に電圧を印加することによりEL発光が観測された。1000cd/mにおける駆動電圧は5.1[V]、発光効率は11.9[cd/A]、発光スペクトルピーク波長は520[nm]であった。結果を表3に示す。 EL light emission was observed by applying a voltage to the light emitting element C4. The driving voltage at 1000 cd / m 2 was 5.1 [V], the light emission efficiency was 11.9 [cd / A], and the emission spectrum peak wavelength was 520 [nm]. The results are shown in Table 3.

<比較例5> 発光素子C5の作製と評価
実施例1における、化合物H1および化合物G1(化合物H1/化合物G1=70重量%/30重量%)に代えて、CBPおよび化合物G2(CBP/化合物G2=70重量%/30重量%)を用いた以外は、実施例1と同様にして、発光素子C5を作製した。
Comparative Example 5 Production and Evaluation of Light-Emitting Element C5 Instead of Compound H1 and Compound G1 (Compound H1 / Compound G1 = 70 wt% / 30 wt%) in Example 1, CBP and Compound G2 (CBP / Compound G2) = 70 wt% / 30 wt%) was used in the same manner as in Example 1 to fabricate a light emitting device C5.

発光素子C5に電圧を印加することによりEL発光が観測された。1000cd/mにおける駆動電圧は9.7[V]、発光効率は0.4[cd/A]、発光スペクトルピーク波長は520[nm]であった。結果を表3に示す。 EL light emission was observed by applying a voltage to the light emitting element C5. The driving voltage at 1000 cd / m 2 was 9.7 [V], the light emission efficiency was 0.4 [cd / A], and the emission spectrum peak wavelength was 520 [nm]. The results are shown in Table 3.

Figure 2015110751
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<実施例2> 発光素子2の作製と評価
実施例1における、化合物H1および化合物G1(化合物H1/化合物G1=70重量%/30重量%)に代えて、化合物H1および化合物G3(化合物H1/化合物G3=90重量%/10重量%)を用いた以外は、実施例1と同様にして、発光素子2を作製した。
Example 2 Production and Evaluation of Light-Emitting Element 2 Instead of Compound H1 and Compound G1 (Compound H1 / Compound G1 = 70 wt% / 30 wt%) in Example 1, Compound H1 and Compound G3 (Compound H1 / A light emitting device 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the compound G3 = 90 wt% / 10 wt%) was used.

発光素子2に電圧を印加することによりEL発光が観測された。1000cd/mにおける駆動電圧は10.3[V]、発光効率は5.4[cd/A]、発光スペクトルピーク波長は625[nm]であった。結果を表4に示す。 EL light emission was observed by applying a voltage to the light emitting element 2. The driving voltage at 1000 cd / m 2 was 10.3 [V], the luminous efficiency was 5.4 [cd / A], and the emission spectrum peak wavelength was 625 [nm]. The results are shown in Table 4.

<実施例3> 発光素子3の作製と評価
実施例2における、化合物G3に代えて、化合物G5を用いた以外は、実施例2と同様にして、発光素子3を作製した。
Example 3 Production and Evaluation of Light-Emitting Element 3 A light-emitting element 3 was produced in the same manner as in Example 2 except that Compound G5 was used instead of Compound G3 in Example 2.

発光素子3に電圧を印加することによりEL発光が観測された。1000cd/mにおける駆動電圧は7.3[V]、発光効率は13.2[cd/A]、発光スペクトルピーク波長は615[nm]であった。結果を表4に示す。 When a voltage was applied to the light emitting element 3, EL light emission was observed. The driving voltage at 1000 cd / m 2 was 7.3 [V], the luminous efficiency was 13.2 [cd / A], and the emission spectrum peak wavelength was 615 [nm]. The results are shown in Table 4.

<実施例4> 発光素子4の作製と評価
実施例2における、化合物G3に代えて、化合物G6を用いた以外は、実施例2と同様にして、発光素子4を作製した。
Example 4 Production and Evaluation of Light-Emitting Element 4 Light-emitting element 4 was produced in the same manner as in Example 2 except that compound G6 was used instead of compound G3 in Example 2.

発光素子4に電圧を印加することによりEL発光が観測された。1000cd/mにおける駆動電圧は7.9[V]、発光効率は13.6[cd/A]、発光スペクトルピーク波長は610[nm]であった。結果を表4に示す。 EL light emission was observed by applying a voltage to the light emitting element 4. The driving voltage at 1000 cd / m 2 was 7.9 [V], the luminous efficiency was 13.6 [cd / A], and the emission spectrum peak wavelength was 610 [nm]. The results are shown in Table 4.

<実施例5> 発光素子5の作製と評価
実施例2における、化合物G3に代えて、化合物G7を用いた以外は、実施例2と同様にして、発光素子5を作製した。
Example 5 Production and Evaluation of Light-Emitting Element 5 A light-emitting element 5 was produced in the same manner as in Example 2 except that Compound G7 was used instead of Compound G3 in Example 2.

発光素子5に電圧を印加することによりEL発光が観測された。1000cd/mにおける駆動電圧は7.1[V]、発光効率は13.8[cd/A]、発光スペクトルピーク波長は620[nm]であった。結果を表4に示す。 EL light emission was observed by applying a voltage to the light emitting element 5. The driving voltage at 1000 cd / m 2 was 7.1 [V], the light emission efficiency was 13.8 [cd / A], and the emission spectrum peak wavelength was 620 [nm]. The results are shown in Table 4.

<比較例6> 発光素子C6の作製と評価
実施例2における、化合物G3に代えて、化合物G4を用いた以外は、実施例2と同様にして、発光素子C6を作製した。
Comparative Example 6 Production and Evaluation of Light-Emitting Element C6 A light-emitting element C6 was produced in the same manner as in Example 2, except that Compound G4 was used instead of Compound G3 in Example 2.

発光素子C6に電圧を印加することによりEL発光が観測された。1000cd/mにおける駆動電圧は9.6[V]、発光効率は1.8[cd/A]、発光スペクトルピーク波長は625[nm]であった。結果を表4に示す。 EL light emission was observed by applying a voltage to the light emitting element C6. The driving voltage at 1000 cd / m 2 was 9.6 [V], the luminous efficiency was 1.8 [cd / A], and the emission spectrum peak wavelength was 625 [nm]. The results are shown in Table 4.

Figure 2015110751
Figure 2015110751

<実施例6> 発光素子6の作製と評価
(陽極および正孔注入層の形成)
ガラス基板にスパッタ法により45nmの厚みでITO膜を付けることにより陽極を形成した。該陽極上に、ポリチオフェン・スルホン酸系の正孔注入剤であるAQ−1200(Plextronics社製)をスピンコート法により35nmの厚さで成膜し、大気雰囲気下において、ホットプレート上で170℃、15分間加熱することにより正孔注入層を形成した。
<Example 6> Production and evaluation of light-emitting element 6 (formation of anode and hole injection layer)
An anode was formed by attaching an ITO film with a thickness of 45 nm to the glass substrate by sputtering. AQ-1200 (manufactured by Plextronics), which is a polythiophene / sulfonic acid-based hole injecting agent, was formed on the anode at a thickness of 35 nm by a spin coating method, and 170 ° C. on a hot plate in an air atmosphere. The hole injection layer was formed by heating for 15 minutes.

(正孔輸送層の形成)
キシレンに高分子化合物P2を0.7重量%の濃度で溶解させた。得られたキシレン溶液を用いて、正孔注入層の上にスピンコート法により20nmの厚さで成膜し、窒素ガス雰囲気下において、ホットプレート上で180℃、60分間加熱させることにより正孔輸送層を形成した。
(Formation of hole transport layer)
The polymer compound P2 was dissolved in xylene at a concentration of 0.7% by weight. Using the obtained xylene solution, a film having a thickness of 20 nm was formed on the hole injection layer by spin coating, and heated at 180 ° C. for 60 minutes on a hot plate in a nitrogen gas atmosphere. A transport layer was formed.

(発光層の形成)
クロロベンゼンに、化合物H3および化合物G8(化合物H3/化合物G8=75重量%/25重量%)を2.5重量%の濃度で溶解させた。得られたクロロベンゼン溶液を用いて、正孔輸送層の上にスピンコート法により60nmの厚さで成膜し、窒素ガス雰囲気下において、130℃、10分間加熱させることにより発光層を形成した。
(Formation of light emitting layer)
Compound H3 and compound G8 (compound H3 / compound G8 = 75 wt% / 25 wt%) were dissolved in chlorobenzene at a concentration of 2.5 wt%. Using the obtained chlorobenzene solution, a film having a thickness of 60 nm was formed on the hole transport layer by a spin coating method, and a light emitting layer was formed by heating at 130 ° C. for 10 minutes in a nitrogen gas atmosphere.

(電子輸送層の形成)
2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロ−1−ペンタノールに、高分子化合物ET1を0.25重量%の濃度で溶解させた。得られた2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロ−1−ペンタノール溶液を用いて、発光層の上にスピンコート法により10nmの厚さで成膜し、窒素ガス雰囲気下において、130℃、10分間加熱させることにより電子輸送層を形成した。
(Formation of electron transport layer)
The polymer compound ET1 was dissolved in 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluoro-1-pentanol at a concentration of 0.25% by weight. Using the obtained 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluoro-1-pentanol solution, a film having a thickness of 10 nm was formed on the light emitting layer by spin coating, An electron transport layer was formed by heating at 130 ° C. for 10 minutes in a gas atmosphere.

(陰極の形成)
発光層の形成した基板を蒸着機内において、1.0×10-4Pa以下にまで減圧した後、陰極として、発光層の上にフッ化ナトリウムを約4nm、次いで、フッ化ナトリウム層の上にアルミニウムを約80nm蒸着した。蒸着後、ガラス基板を用いて封止することにより、発光素子6を作製した。
(Formation of cathode)
The substrate on which the light emitting layer is formed is depressurized to 1.0 × 10 −4 Pa or less in a vapor deposition machine, and then, as a cathode, sodium fluoride is about 4 nm on the light emitting layer, and then on the sodium fluoride layer. Aluminum was deposited at about 80 nm. After vapor deposition, the light emitting element 6 was produced by sealing using a glass substrate.

(発光素子の評価)
発光素子6に電圧を印加することによりEL発光が観測された。1000cd/mにおける駆動電圧は10.2[V]、発光効率は19.1[cd/A]、発光スペクトルピーク波長は480,505[nm]であった。結果を表5に示す。
(Evaluation of light emitting element)
EL light emission was observed by applying a voltage to the light emitting element 6. The driving voltage at 1000 cd / m 2 was 10.2 [V], the luminous efficiency was 19.1 [cd / A], and the emission spectrum peak wavelength was 480,505 [nm]. The results are shown in Table 5.

Figure 2015110751
Figure 2015110751

Claims (11)

下記式(1)で表される化合物と、
下記式(D−1)で表される基、下記式(D−2)で表される基、および、下記式(D−3)で表される基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を有する燐光発光性化合物とを含有する組成物。
Figure 2015110751
[式中、
mは、2以上の整数を表す。
Arは、複素環基を表し、この基は置換基を有していてもよい。
Dは、下記式(D−1)で表される基、下記式(D−2)で表される基、または、下記式(D−3)で表される基を表す。複数存在するDは、同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2015110751
[式中、
D1、mD2、mD3およびmD4は、それぞれ独立に、0以上の整数を表す。複数存在するmD2、mD3およびmD4は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
Gは、窒素原子、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Gが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
ArD1、ArD2、ArD3およびArD4は、それぞれ独立に、アリーレン基または2価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ArD1、ArD2、ArD3およびArD4が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
Tは、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するTは、同一でも異なっていてもよい。]
A compound represented by the following formula (1);
At least one selected from the group consisting of a group represented by the following formula (D-1), a group represented by the following formula (D-2), and a group represented by the following formula (D-3). And a phosphorescent compound having a group.
Figure 2015110751
[Where:
m represents an integer of 2 or more.
Ar 1 represents a heterocyclic group, and this group may have a substituent.
D represents a group represented by the following formula (D-1), a group represented by the following formula (D-2), or a group represented by the following formula (D-3). A plurality of D may be the same or different. ]
Figure 2015110751
[Where:
m D1 , m D2 , m D3 and m D4 each independently represent an integer of 0 or more. A plurality of m D2 , m D3 and m D4 may be the same or different.
G represents a nitrogen atom, an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group, and these groups optionally have a substituent. When a plurality of G are present, they may be the same or different.
Ar D1 , Ar D2 , Ar D3 and Ar D4 each independently represent an arylene group or a divalent heterocyclic group, and these groups optionally have a substituent. When there are a plurality of Ar D1 , Ar D2 , Ar D3 and Ar D4 , they may be the same or different.
T represents an aryl group or a monovalent heterocyclic group, and these groups optionally have a substituent. A plurality of T may be the same or different. ]
前記Dの少なくとも1つが、前記式(D−2)で表される基、または、前記式(D−3)で表される基である、請求項1に記載の組成物。   The composition according to claim 1, wherein at least one of D is a group represented by the formula (D-2) or a group represented by the formula (D-3). 前記Arが、含窒素複素環基である、請求項1または2に記載の組成物。 The composition according to claim 1 or 2, wherein Ar 1 is a nitrogen-containing heterocyclic group. 前記Arが、1,3,5−トリアジンの環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子2個以上を除いてなる複素環基である、請求項3に記載の組成物。 The composition according to claim 3, wherein Ar 1 is a heterocyclic group formed by removing two or more hydrogen atoms directly bonded to carbon atoms constituting the ring of 1,3,5-triazine. 前記Gが、下記式(GDA−11)で表される基、下記式(GDA−12)で表される基、下記式(GDA−13)で表される基、下記式(GDA−14)で表される基、または、下記式(GDA−15)で表される基である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の組成物。
Figure 2015110751
[式中、
*は、前記式(D−1)におけるArD1、前記式(D−2)におけるArD1もしくはArD2、または、前記式(D−3)におけるArD1、ArD2もしくはArD3との結合を表す。
**は、前記式(D−1)におけるArD2、前記式(D−2)におけるArD2もしくはArD3、または、前記式(D−3)におけるArD2、ArD3もしくはArD4との結合を表す。
DAは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または1価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RDAが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。]
G represents a group represented by the following formula (GDA-11), a group represented by the following formula (GDA-12), a group represented by the following formula (GDA-13), and the following formula (GDA-14) The composition as described in any one of Claims 1-4 which is group represented by these, or group represented by a following formula (GDA-15).
Figure 2015110751
[Where:
* Represents the bond between Ar D1 in the formula (D-1), Ar D1 or Ar D2 in the formula (D-2), or Ar D1 , Ar D2 or Ar D3 in the formula (D-3). Represent.
** represents a bond with Ar D2 in the formula (D-1), Ar D2 or Ar D3 in the formula (D-2), or Ar D2 , Ar D3 or Ar D4 in the formula (D-3). Represents.
R DA represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, or a monovalent heterocyclic group, and these groups may have a substituent. When a plurality of RDA are present, they may be the same or different. ]
前記Gが、前記式(GDA−11)で表される基である、請求項5に記載の組成物。   The composition according to claim 5, wherein G is a group represented by the formula (GDA-11). 前記燐光発光性化合物が、下記式Ir−1で表されるイリジウム錯体、下記式Ir−2で表されるイリジウム錯体、下記式Ir−3で表されるイリジウム錯体、下記式Ir−4で表されるイリジウム錯体、または、下記式Ir−5で表されるイリジウム錯体である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の組成物。
Figure 2015110751
Figure 2015110751
Figure 2015110751
[式中、
D1は、1、2または3を表し、nD2は、1または2を表す。
D1、RD2、RD3、RD4、RD5、RD6、RD7、RD8、RD11、RD12、RD13、RD14、RD15、RD16、RD17、RD18、RD19、RD20、RD21、RD22、RD23、RD24、RD25、RD26、RD31、RD32、RD33、RD34、RD35、RD36およびRD37は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、1価の複素環基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。RD1、RD2、RD3、RD4、RD5、RD6、RD7、RD8、RD11、RD12、RD13、RD14、RD15、RD16、RD17、RD18、RD19、RD20、RD21、RD22、RD23、RD24、RD25、RD26、RD31、RD32、RD33、RD34、RD35、RD36およびRD37が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
−AD1---AD2−は、アニオン性の2座配位子を表し、AD1およびAD2は、それぞれ独立に、アニオン性の2座配位子を構成する炭素原子、酸素原子または窒素原子を表し、これらの原子は環を構成する原子であってもよい。−AD1---AD2−が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
また、式Ir−1におけるRD1、RD2、RD3、RD4、RD5、RD6、RD7およびRD8の少なくとも1つは、前記式(D−1)で表される基、前記式(D−2)で表される基、または、前記式(D−3)で表される基である。
また、式Ir−2におけるRD11、RD12、RD13、RD14、RD15、RD16、RD17、RD18、RD19およびRD20の少なくとも1つは、前記式(D−1)で表される基、前記式(D−2)で表される基、または、前記式(D−3)で表される基である。
また、式Ir−3におけるRD1、RD2、RD3、RD4、RD5、RD6、RD7、RD8、RD11、RD12、RD13、RD14、RD15、RD16、RD17、RD18、RD19およびRD20の少なくとも1つは、前記式(D−1)で表される基、前記式(D−2)で表される基、または、前記式(D−3)で表される基である。
また、式Ir−4におけるRD21、RD22、RD23、RD24、RD25およびRD26の少なくとも1つは、前記式(D−1)で表される基、前記式(D−2)で表される基、または、前記式(D−3)で表される基である。
また、式Ir−5におけるRD31、RD32、RD33、RD34、RD35、RD36およびRD37の少なくとも1つは、前記式(D−1)で表される基、前記式(D−2)で表される基、または、前記式(D−3)で表される基である。]
The phosphorescent compound is an iridium complex represented by the following formula Ir-1, an iridium complex represented by the following formula Ir-2, an iridium complex represented by the following formula Ir-3, or a formula represented by the following formula Ir-4. The composition as described in any one of Claims 1-6 which is an iridium complex represented by the following formula Ir-5.
Figure 2015110751
Figure 2015110751
Figure 2015110751
[Where:
n D1 represents 1, 2 or 3, and n D2 represents 1 or 2.
R D1 , R D2 , R D3 , R D4 , R D5 , R D6 , R D7 , R D8 , R D11 , R D12 , R D13 , R D14 , R D15 , R D16 , R D17 , R D18 , R D19 , R D20 , R D21 , R D22 , R D23 , R D24 , R D25 , R D26 , R D31 , R D32 , R D33 , R D34 , R D35 , R D36 and R D37 are each independently a hydrogen atom Represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a monovalent heterocyclic group or a halogen atom, and these groups optionally have a substituent. R D1 , R D2 , R D3 , R D4 , R D5 , R D6 , R D7 , R D8 , R D11 , R D12 , R D13 , R D14 , R D15 , R D16 , R D17 , R D18 , R D19 , R D20 , R D21 , R D22 , R D23 , R D24 , R D25 , R D26 , R D31 , R D32 , R D33 , R D34 , R D35 , R D36 and R D37 Each may be the same or different.
-A D1 --- A D2 -represents an anionic bidentate ligand, and A D1 and A D2 each independently represent a carbon atom, oxygen atom or Represents a nitrogen atom, and these atoms may be atoms constituting a ring. When a plurality of -A D1 --- A D2 -are present, they may be the same or different.
In addition, at least one of R D1 , R D2 , R D3 , R D4 , R D5 , R D6 , R D7 and R D8 in the formula Ir-1 is a group represented by the formula (D-1), The group represented by the formula (D-2) or the group represented by the formula (D-3).
In addition, at least one of R D11 , R D12 , R D13 , R D14 , R D15 , R D16 , R D17 , R D18 , R D19, and R D20 in formula Ir-2 is represented by formula (D-1). A group represented by the formula (D-2), or a group represented by the formula (D-3).
Further, R D1 , R D2 , R D3 , R D4 , R D5 , R D6 , R D7 , R D8 , R D11 , R D12 , R D13 , R D14 , R D15 , R D16 , R in Formula Ir-3 At least one of D17 , R D18 , R D19 and R D20 is a group represented by the formula (D-1), a group represented by the formula (D-2), or the formula (D-3). ).
In addition, at least one of R D21 , R D22 , R D23 , R D24 , R D25, and R D26 in Formula Ir-4 is a group represented by Formula (D-1) or Formula (D-2) Or a group represented by the formula (D-3).
In addition, at least one of R D31 , R D32 , R D33 , R D34 , R D35 , R D36, and R D37 in Formula Ir-5 is a group represented by Formula (D-1), Formula (D -2) or a group represented by the formula (D-3). ]
前記式(1)で表される化合物および前記燐光発光性化合物が、
前記式(D−1)で表される基、前記式(D−2)で表される基、および、前記式(D−3)で表される基からなる群から選ばれる少なくとも1種の同一の基を有する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の組成物。
The compound represented by the formula (1) and the phosphorescent compound are:
At least one selected from the group consisting of a group represented by the formula (D-1), a group represented by the formula (D-2), and a group represented by the formula (D-3). The composition according to any one of claims 1 to 7, which has the same group.
前記燐光発光性化合物の含有量が、前記式(1)で表される化合物100重量部に対して、5〜70重量部である、請求項1〜8のいずれか一項に記載の組成物。   The composition according to any one of claims 1 to 8, wherein a content of the phosphorescent compound is 5 to 70 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound represented by the formula (1). . 正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、発光材料、酸化防止剤および溶媒からなる群より選ばれる少なくとも1種の材料をさらに含有する、請求項1〜9のいずれか一項に記載の組成物。   The hole transport material, the hole injection material, the electron transport material, the electron injection material, the light emitting material, at least one material selected from the group consisting of an antioxidant and a solvent is further contained. The composition according to one item. 請求項1〜10のいずれか一項に記載の組成物を用いて得られる発光素子。   The light emitting element obtained using the composition as described in any one of Claims 1-10.
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