JP2020008319A - Inspection device, coating system, inspection method, and coating method - Google Patents

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雄 今田
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Abstract

To provide technology with which it is possible to inspect the liquid quantity of a liquid supplied to the inside of each of a plurality of openings separated by partition walls before the liquid dries.SOLUTION: Provided is an inspection device for inspecting the liquid quantity of a liquid supplied to the inside of each of a plurality of openings separated by partition walls formed on a substrate. The inspection device comprises: a light emitting unit for diagonally irradiating, with incident light, the principal surface of the substrate on which the partition walls are formed and thereby irradiating an upwardly convex liquid surface of the liquid supplied to the inside of the openings with the incident light; a light receiving unit for receiving reflected light having been diffused and reflected on the upwardly convex liquid surface; and a detection unit for detecting the liquid quantity of the liquid supplied to the inside of the openings on the basis of the received amount of light of the light receiving unit.SELECTED DRAWING: Figure 7

Description

本開示は、検査装置、塗布システム、検査方法、および塗布方法に関する。   The present disclosure relates to an inspection device, an application system, an inspection method, and an application method.

特許文献1に記載の外観検査装置は、ライン照明光を基板に照射する照明部と、基板で反射するライン照明光を撮像してマクロ画像を取得するラインセンサカメラとを有し、例えば、基板上に形成されるレジスト膜の膜ムラを検査する。   The appearance inspection device described in Patent Literature 1 includes an illumination unit that irradiates line illumination light to a substrate, and a line sensor camera that captures a line illumination light reflected by the substrate to obtain a macro image. The resist film formed on the film is inspected for unevenness.

特開2011−99875号公報JP 2011-99875 A

本開示の一態様は、隔壁が隔てる複数の開口部のそれぞれの内部に供給された液体の液量を、液体の乾燥前に検査できる技術を提供する。   One embodiment of the present disclosure provides a technique capable of inspecting a liquid amount of a liquid supplied into each of a plurality of openings separated by a partition before drying the liquid.

本開示の一態様に係る検査装置は、
基板に形成された隔壁が隔てる複数の開口部のそれぞれの内部に供給された液体の液量を検査する検査装置であって、
前記基板の前記隔壁が形成された主表面に対し斜めに入射光を照射することで、前記開口部の内部に供給された前記液体の、上に凸の液面に前記入射光を照射する発光部と、
上に凸の前記液面で拡散反射された反射光を受光する受光部と、
前記受光部の受光量に基づき、前記開口部の内部に供給された前記液体の液量を検出する検出部とを有する。
An inspection device according to an aspect of the present disclosure,
An inspection device for inspecting the amount of liquid supplied to each of a plurality of openings separated by a partition formed on the substrate,
By irradiating an incident light obliquely to a main surface of the substrate on which the partition walls are formed, light emitted to irradiate the incident light to an upwardly convex liquid surface of the liquid supplied into the opening. Department and
A light receiving unit that receives the light diffusely reflected by the liquid surface that is convex upward,
A detection unit configured to detect a liquid amount of the liquid supplied to the inside of the opening based on a light reception amount of the light receiving unit.

本開示の一態様によれば、隔壁が隔てる複数の開口部のそれぞれの内部に供給された液体の液量を、液体の乾燥前に検査できる。   According to an embodiment of the present disclosure, the amount of liquid supplied to each of the plurality of openings separated by the partition can be inspected before the liquid is dried.

図1は、一実施形態に係る有機ELパネルの要部を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a main part of an organic EL panel according to one embodiment. 図2は、図1に示す隔壁の開口部の配置の一例を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing an example of the arrangement of the openings of the partition wall shown in FIG. 図3は、一実施形態に係る有機EL素子の製造方法を示すフローチャートである。FIG. 3 is a flowchart showing a method for manufacturing an organic EL device according to one embodiment. 図4は、一実施形態に係る検査装置と塗布装置とを備えた基板処理システムを示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing a substrate processing system including an inspection device and a coating device according to one embodiment. 図5は、一実施形態に係る正孔注入層形成ブロックの塗布装置を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing a coating apparatus for a hole injection layer forming block according to one embodiment. 図6は、一実施形態に係る正孔注入層形成ブロックの塗布装置を示す側面図である。FIG. 6 is a side view showing a coating apparatus for a hole injection layer forming block according to one embodiment. 図7は、一実施形態に係る正孔注入層形成ブロックの検査装置を示す側面断面図である。FIG. 7 is a side cross-sectional view showing an inspection apparatus for a hole injection layer forming block according to one embodiment. 図8は、一実施形態に係る正孔注入層形成ブロックの検査装置を示す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing an inspection apparatus for a hole injection layer forming block according to one embodiment. 図9は、一実施形態に係る検査装置が検査を行うために基板に設定する複数の領域と、複数の領域のそれぞれにおける吐出ノズルの電圧比(印加電圧/基準電圧)とを示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing a plurality of regions set on the substrate for performing inspection by the inspection device according to the embodiment, and a voltage ratio (applied voltage / reference voltage) of the discharge nozzle in each of the plurality of regions. is there. 図10は、一の吐出ノズルが異なる電圧比(印加電圧/基準電圧)で複数の開口部のそれぞれの内部に順番に供給したときの、液体の液量と電圧比との関係を示す。FIG. 10 shows the relationship between the liquid amount of the liquid and the voltage ratio when one ejection nozzle sequentially supplies a different voltage ratio (applied voltage / reference voltage) to the inside of each of the plurality of openings. 図11は、変形例に係る検査装置と塗布装置とを備えた基板処理システムを示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing a substrate processing system including an inspection device and a coating device according to a modification.

以下、本開示の実施形態について図面を参照して説明する。尚、各図面において同一の又は対応する構成には同一の又は対応する符号を付し、説明を省略することがある。   Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described with reference to the drawings. In each drawing, the same or corresponding components are denoted by the same or corresponding reference numerals, and description thereof may be omitted.

図1は、一実施形態に係る有機ELパネルの要部を示す断面図である。図2は、図1に示す隔壁の開口部の配置の一例を示す平面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a main part of an organic EL panel according to one embodiment. FIG. 2 is a plan view showing an example of the arrangement of the openings of the partition wall shown in FIG.

有機ELパネル2は、基板10と、基板10に形成される複数の有機EL素子13とを有する。複数の有機EL素子13は、行方向および列方向にマトリックス状に配列される。複数の有機EL素子13のそれぞれは、陽極21と、陰極22と、陽極21と陰極22との間に形成される有機層23とを有する。陽極21と陰極22との間に電圧を印加すると、有機層23において光が発生する。   The organic EL panel 2 has a substrate 10 and a plurality of organic EL elements 13 formed on the substrate 10. The plurality of organic EL elements 13 are arranged in a matrix in the row direction and the column direction. Each of the plurality of organic EL elements 13 has an anode 21, a cathode 22, and an organic layer 23 formed between the anode 21 and the cathode 22. When a voltage is applied between the anode 21 and the cathode 22, light is generated in the organic layer 23.

基板10としては、例えばガラス基板または樹脂基板などの透明基板が用いられる。有機ELパネル2がボトムエミッション型である場合、有機層23において発生した光は基板10を透過し、外部に取り出される。一方、有機ELパネル2がトップエミッション型である場合、有機層23において発生した光は基板10とは反対側に取り出される。そのため、有機ELパネル2がトップエミッション型である場合、基板10は不透明基板であってもよい。   As the substrate 10, for example, a transparent substrate such as a glass substrate or a resin substrate is used. When the organic EL panel 2 is of a bottom emission type, light generated in the organic layer 23 passes through the substrate 10 and is extracted outside. On the other hand, when the organic EL panel 2 is of a top emission type, light generated in the organic layer 23 is extracted to the side opposite to the substrate 10. Therefore, when the organic EL panel 2 is a top emission type, the substrate 10 may be an opaque substrate.

陽極21は、例えばITO(Indium Tin Oxide)などで形成される。有機ELパネル2がボトムエミッション型である場合、陽極21はITOなどで形成される透明電極のみを有する。一方、有機ELパネル2がトップエミッション型である場合、陽極21は、ITOなどで形成される透明電極の他に、アルミニウム(Al)または銀(Ag)などで形成される反射電極を有する。反射電極は、有機層23からの光を有機層23に向けて反射するものであり、透明電極と基板10との間に形成される。陽極21は、有機EL素子13毎に個別に形成される。   The anode 21 is formed of, for example, ITO (Indium Tin Oxide). When the organic EL panel 2 is of a bottom emission type, the anode 21 has only a transparent electrode formed of ITO or the like. On the other hand, when the organic EL panel 2 is of a top emission type, the anode 21 has a reflective electrode formed of aluminum (Al) or silver (Ag) in addition to a transparent electrode formed of ITO or the like. The reflection electrode reflects light from the organic layer 23 toward the organic layer 23, and is formed between the transparent electrode and the substrate 10. The anode 21 is formed individually for each organic EL element 13.

陰極22は、例えばアルミニウム、またはマグネシウムと銀との混合材(Mg/Al)などで形成される。有機ELパネル2がボトムエミッション型である場合、陰極22は、有機層23からの光を有機層23に向けて反射する反射電極である。一方、有機ELパネル2がトップエミッション型である場合、陰極22は、有機層23からの光を透過させる透明電極である。陰極22は、複数の有機EL素子13に亘って連続的に形成され、有機ELパネル2の表示領域の全体に亘って連続的に形成される。   The cathode 22 is made of, for example, aluminum or a mixture of magnesium and silver (Mg / Al). When the organic EL panel 2 is a bottom emission type, the cathode 22 is a reflective electrode that reflects light from the organic layer 23 toward the organic layer 23. On the other hand, when the organic EL panel 2 is a top emission type, the cathode 22 is a transparent electrode that transmits light from the organic layer 23. The cathode 22 is continuously formed over the plurality of organic EL elements 13, and is continuously formed over the entire display area of the organic EL panel 2.

有機層23は、例えば、陽極21側から陰極22側に向けて、正孔注入層24と、正孔輸送層25と、発光層26と、電子輸送層27と、電子注入層28とをこの順で有する。陽極21と陰極22との間に電圧がかかると、陽極21から正孔注入層24に正孔が注入されると共に、陰極22から電子注入層28に電子が注入される。正孔注入層24に注入された正孔は、正孔輸送層25によって発光層26へ輸送される。また、電子注入層28に注入された電子は、電子輸送層27によって発光層26へ輸送される。そうして、発光層26内で正孔と電子が再結合して、発光層26の発光材料が励起され、発光層26が発光する。   The organic layer 23 includes, for example, a hole injection layer 24, a hole transport layer 25, a light emitting layer 26, an electron transport layer 27, and an electron injection layer 28 from the anode 21 side to the cathode 22 side. Have in order. When a voltage is applied between the anode 21 and the cathode 22, holes are injected from the anode 21 into the hole injection layer 24, and electrons are injected from the cathode 22 into the electron injection layer 28. The holes injected into the hole injection layer 24 are transported to the light emitting layer 26 by the hole transport layer 25. The electrons injected into the electron injection layer 28 are transported to the light emitting layer 26 by the electron transport layer 27. Then, holes and electrons are recombined in the light emitting layer 26 to excite the light emitting material of the light emitting layer 26, and the light emitting layer 26 emits light.

正孔注入層24、正孔輸送層25、および発光層26は、陽極21と同様に、有機EL素子13毎に個別に形成される。尚、陽極21から発光層26に正孔を供給できればよく、正孔注入層24は無くてもよい。また、陽極21から発光層26に正孔を供給できればよく、正孔注入層24は無くてもよい。   The hole injection layer 24, the hole transport layer 25, and the light emitting layer 26 are individually formed for each organic EL element 13 similarly to the anode 21. Note that it is sufficient that holes can be supplied from the anode 21 to the light emitting layer 26, and the hole injection layer 24 may not be provided. Further, it is sufficient that holes can be supplied from the anode 21 to the light emitting layer 26, and the hole injection layer 24 may not be provided.

発光層26として、例えば、赤色に発光する赤色発光層26Rと、緑色に発光する緑色発光層26Gと、青色に発光する青色発光層26Bとが形成される。1つの赤色発光層26Rと、1つの緑色発光層26Gと、1つの青色発光層26Bとで、1つの画素が構成される。   As the light emitting layer 26, for example, a red light emitting layer 26R that emits red light, a green light emitting layer 26G that emits green light, and a blue light emitting layer 26B that emits blue light are formed. One pixel is composed of one red light emitting layer 26R, one green light emitting layer 26G, and one blue light emitting layer 26B.

1つの画素を構成する赤色発光層26Rと緑色発光層26Gと青色発光層26Bとの配置は、図1に示す配置には限定されない。また、1つの画素は、赤色、緑色および青色以外の色(例えば黄色)に発光する発光層をさらに有してもよい。   The arrangement of the red light emitting layer 26R, the green light emitting layer 26G, and the blue light emitting layer 26B constituting one pixel is not limited to the arrangement shown in FIG. In addition, one pixel may further include a light emitting layer that emits a color other than red, green, and blue (for example, yellow).

電子輸送層27および電子注入層28は、陰極22と同様に、マトリックス状に配置される複数の有機EL素子13に亘って連続的に形成され、有機ELパネル2の表示領域の全体に亘って連続的に供給される。尚、陰極22から発光層26に電子を供給できればよく、電子注入層28は無くてもよい。また、陰極22から発光層26に電子を供給できればよく、電子輸送層27は無くてもよい。   Like the cathode 22, the electron transport layer 27 and the electron injection layer 28 are continuously formed over the plurality of organic EL elements 13 arranged in a matrix, and are formed over the entire display area of the organic EL panel 2. It is supplied continuously. Note that it is sufficient that electrons can be supplied from the cathode 22 to the light emitting layer 26, and the electron injection layer 28 may not be provided. Further, it is sufficient that electrons can be supplied from the cathode 22 to the light emitting layer 26, and the electron transport layer 27 may not be provided.

有機ELパネル2は、図1に示すように、隔壁40を有する。隔壁40には複数の開口部42が形成される。隔壁40が複数の開口部42を隔てる。複数の開口部42は、図2に示すように、行方向(図2においてX軸方向)および列方向(図2においてY軸方向)にマトリックス状に配列される。複数の開口部42のそれぞれは、例えば矩形状に形成される。本明細書において、「矩形状」とは、コーナーが面取りされた形状を含む。複数の開口部42のそれぞれは、図2に示すように、列方向の寸法Aが行方向の寸法Bよりも長い。複数の開口部42のそれぞれの内部には、例えば正孔注入層24、正孔輸送層25、および発光層26が形成される。   The organic EL panel 2 has a partition wall 40 as shown in FIG. A plurality of openings 42 are formed in the partition 40. A partition 40 separates the plurality of openings 42. As shown in FIG. 2, the plurality of openings 42 are arranged in a matrix in a row direction (X-axis direction in FIG. 2) and a column direction (Y-axis direction in FIG. 2). Each of the plurality of openings 42 is formed, for example, in a rectangular shape. In this specification, the “rectangular shape” includes a shape in which a corner is chamfered. As shown in FIG. 2, each of the plurality of openings 42 has a dimension A in the column direction longer than a dimension B in the row direction. Inside each of the plurality of openings 42, for example, the hole injection layer 24, the hole transport layer 25, and the light emitting layer 26 are formed.

赤色発光層26Rが内部に形成される開口部42Rと、緑色発光層26Gが内部に形成される開口部42Gと、青色発光層26Bが内部に形成される開口部42Bとは、本実施形態では同じ大きさであるが、異なる大きさでもよい。赤色発光層26R用の開口部42R、緑色発光層26G用の開口部42G、および青色発光層26B用の開口部42Bは、それぞれ、列方向の寸法Aが行方向の寸法Bよりも長ければよい。   In the present embodiment, the opening 42R in which the red light emitting layer 26R is formed, the opening 42G in which the green light emitting layer 26G is formed, and the opening 42B in which the blue light emitting layer 26B is formed. The size is the same, but may be different. The opening 42R for the red light emitting layer 26R, the opening 42G for the green light emitting layer 26G, and the opening 42B for the blue light emitting layer 26B may each have a dimension A in the column direction longer than a dimension B in the row direction. .

尚、赤色発光層26R用の開口部42Rと、緑色発光層26G用の開口部42Gと、青色発光層26B用の開口部42Bとの配置は、図2に示す配置には限定されない。また、開口部42は、赤色、緑色および青色以外の色(例えば黄色)に発光する発光層が内部に形成されるものであってもよい。   The arrangement of the opening 42R for the red light emitting layer 26R, the opening 42G for the green light emitting layer 26G, and the opening 42B for the blue light emitting layer 26B is not limited to the arrangement shown in FIG. The opening 42 may have a light emitting layer that emits light of a color other than red, green, and blue (for example, yellow) formed therein.

図3は、一実施形態に係る有機EL素子の製造方法を示すフローチャートである。尚、有機EL素子13の製造方法は、少なくとも、陽極21を形成する工程S101と、隔壁を形成する工程S102と、発光層26を形成する工程S105と、陰極22を形成する工程S108とを有していればよい。   FIG. 3 is a flowchart showing a method for manufacturing an organic EL device according to one embodiment. The method for manufacturing the organic EL element 13 includes at least a step S101 for forming the anode 21, a step S102 for forming the partition, a step S105 for forming the light emitting layer 26, and a step S108 for forming the cathode 22. Just do it.

有機EL素子13の製造方法は、陽極21を形成する工程S101を有する。陽極21は、例えばスパッタリング法または真空蒸着法で成膜され、フォトリソグラフィ法およびエッチング法で予め定められたパターンに形成される。   The method for manufacturing the organic EL element 13 includes a step S101 of forming the anode 21. The anode 21 is formed by, for example, a sputtering method or a vacuum evaporation method, and is formed in a predetermined pattern by a photolithography method and an etching method.

有機EL素子13の製造方法は、隔壁40を形成する工程S102を有する。隔壁40は、例えば感光性樹脂を用いて形成され、フォトリソグラフィ法によって予め定められたパターンに形成される。隔壁40の開口部42において陽極21が露出する。   The method for manufacturing the organic EL element 13 includes a step S102 of forming the partition wall 40. The partition wall 40 is formed using, for example, a photosensitive resin, and is formed in a predetermined pattern by a photolithography method. The anode 21 is exposed at the opening 42 of the partition 40.

有機EL素子13の製造方法は、正孔注入層24を形成する工程S103を有する。正孔注入層24は、例えばインクジェット法によって正孔注入層24の材料を含む液滴を開口部42に滴下して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで形成される。正孔注入層24は、陽極21の表面に接するように形成される。   The method for manufacturing the organic EL element 13 includes a step S103 of forming the hole injection layer 24. The hole injection layer 24 is formed, for example, by dropping a droplet containing the material of the hole injection layer 24 into the opening 42 by an inkjet method, forming a liquid film, and drying and firing the liquid film. . The hole injection layer 24 is formed so as to be in contact with the surface of the anode 21.

有機EL素子13の製造方法は、正孔輸送層25を形成する工程S104を有する。正孔輸送層25は、正孔注入層24と同様に、例えばインクジェット法によって正孔輸送層25の材料を含む液滴を開口部42に滴下して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで形成される。正孔輸送層25は、正孔注入層24に接するように形成される。   The method for manufacturing the organic EL element 13 includes a step S104 of forming the hole transport layer 25. Like the hole injection layer 24, the hole transport layer 25 forms a liquid film by dropping a droplet containing the material of the hole transport layer 25 into the opening 42 by, for example, an ink-jet method. And baking. The hole transport layer 25 is formed so as to be in contact with the hole injection layer 24.

有機EL素子13の製造方法は、発光層26を形成する工程S105を有する。発光層26は、正孔注入層24および正孔輸送層25と同様に、例えばインクジェット法によって発光層26の材料を含む液滴を開口部42に滴下して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで形成される。   The method for manufacturing the organic EL element 13 includes a step S105 of forming the light emitting layer 26. Like the hole injection layer 24 and the hole transport layer 25, the light emitting layer 26 forms a liquid film by dropping a droplet containing the material of the light emitting layer 26 into the opening 42 by, for example, an inkjet method. It is formed by drying and baking.

発光層26として、例えば赤色発光層26R、緑色発光層26G、および青色発光層26Bが形成される。隔壁40は、赤色発光層26Rの材料と、緑色発光層26Gの材料と、青色発光層26Bの材料とを隔てることで、これらの材料の混合を防止する。   As the light emitting layer 26, for example, a red light emitting layer 26R, a green light emitting layer 26G, and a blue light emitting layer 26B are formed. The partition wall 40 separates the material of the red light emitting layer 26R, the material of the green light emitting layer 26G, and the material of the blue light emitting layer 26B, thereby preventing the mixing of these materials.

有機EL素子13の製造方法は、電子輸送層27を形成する工程S106を有する。電子輸送層27は、例えば真空蒸着法によって形成され、有機ELパネル2の表示領域の全体に形成される。電子輸送層27は、発光層26の表面のみならず、隔壁40の表面に接するように形成される。   The method for manufacturing the organic EL element 13 includes a step S106 of forming the electron transport layer 27. The electron transport layer 27 is formed by, for example, a vacuum deposition method, and is formed over the entire display area of the organic EL panel 2. The electron transport layer 27 is formed so as to contact not only the surface of the light emitting layer 26 but also the surface of the partition wall 40.

有機EL素子13の製造方法は、電子注入層28を形成する工程S107を有する。電子注入層28は、電子輸送層27と同様に、例えば真空蒸着法によって形成され、有機ELパネル2の表示領域の全体に形成される。電子注入層28は、電子輸送層27の表面に接するように形成される。   The method for manufacturing the organic EL element 13 includes a step S107 of forming the electron injection layer 28. The electron injection layer 28 is formed by, for example, a vacuum deposition method, similarly to the electron transport layer 27, and is formed over the entire display area of the organic EL panel 2. The electron injection layer 28 is formed so as to be in contact with the surface of the electron transport layer 27.

有機EL素子13の製造方法は、陰極22を形成する工程S108を有する。陰極22は、電子輸送層27および電子注入層28と同様に、例えば真空蒸着法によって形成され、有機ELパネル2の表示領域の全体に形成される。陰極22は、電子注入層28の表面に接するように形成される。このようにして、有機EL素子13が製造される。   The method for manufacturing the organic EL element 13 includes a step S108 of forming the cathode 22. The cathode 22 is formed, for example, by a vacuum deposition method, similarly to the electron transport layer 27 and the electron injection layer 28, and is formed over the entire display area of the organic EL panel 2. The cathode 22 is formed so as to be in contact with the surface of the electron injection layer 28. Thus, the organic EL element 13 is manufactured.

陰極22の上には、封止層50が形成される。封止層50は、有機層23が水分や空気に曝されるのを抑制し、有機層23の劣化を抑制する。有機ELパネル2がトップエミッション型である場合、封止層50は発光層26において発生した光を透過させる。封止層50は、例えばCVD法によって形成され、有機ELパネル2の表示領域の全体に形成される。このようにして、有機ELパネル2が製造される。   On the cathode 22, a sealing layer 50 is formed. The sealing layer 50 suppresses the exposure of the organic layer 23 to moisture and air, and suppresses the deterioration of the organic layer 23. When the organic EL panel 2 is of a top emission type, the sealing layer 50 transmits light generated in the light emitting layer 26. The sealing layer 50 is formed by, for example, a CVD method, and is formed over the entire display area of the organic EL panel 2. Thus, the organic EL panel 2 is manufactured.

図4は、一実施形態に係る検査装置と塗布装置とを備えた基板処理システムを示す平面図である。図4において斑点模様は検査装置201〜203の位置を示す。基板処理システム100は、図3の工程S103〜S105に相当する各処理を行い、陽極21上に正孔注入層24、正孔輸送層25および発光層26を形成する。基板処理システム100は、搬入ステーション110と、処理ステーション120と、搬出ステーション130と、制御装置140とを有する。   FIG. 4 is a plan view showing a substrate processing system including an inspection device and a coating device according to one embodiment. In FIG. 4, the spot patterns indicate the positions of the inspection devices 201 to 203. The substrate processing system 100 performs the processes corresponding to the steps S103 to S105 in FIG. 3 to form the hole injection layer 24, the hole transport layer 25, and the light emitting layer 26 on the anode 21. The substrate processing system 100 includes a loading station 110, a processing station 120, a loading station 130, and a control device 140.

搬入ステーション110は、複数の基板10を収容するカセットCを外部から搬入させ、カセットCから複数の基板10を順次取り出す。各基板10には、陽極21、隔壁40などが形成されている。   The loading station 110 loads a cassette C accommodating a plurality of substrates 10 from the outside, and sequentially takes out the plurality of substrates 10 from the cassette C. On each substrate 10, an anode 21, a partition 40, and the like are formed.

搬入ステーション110は、カセットCを載置するカセット載置台111と、カセット載置台111と処理ステーション120との間に設けられる搬送路112と、搬送路112に設けられる基板搬送体113とを備える。基板搬送体113は、カセット載置台111に載置されたカセットCと処理ステーション120との間で基板10を搬送する。   The loading station 110 includes a cassette mounting table 111 on which the cassette C is mounted, a transport path 112 provided between the cassette mounting table 111 and the processing station 120, and a substrate transport body 113 provided in the transport path 112. The substrate transport body 113 transports the substrate 10 between the cassette C mounted on the cassette mounting table 111 and the processing station 120.

処理ステーション120は、陽極21上に、正孔注入層24、正孔輸送層25および発光層26を形成する。処理ステーション120は、正孔注入層24を形成する正孔注入層形成ブロック121と、正孔輸送層25を形成する正孔輸送層形成ブロック122と、発光層26を形成する発光層形成ブロック123を備える。   The processing station 120 forms a hole injection layer 24, a hole transport layer 25, and a light emitting layer 26 on the anode 21. The processing station 120 includes a hole injection layer forming block 121 for forming the hole injection layer 24, a hole transport layer forming block 122 for forming the hole transport layer 25, and a light emitting layer forming block 123 for forming the light emitting layer 26. Is provided.

正孔注入層形成ブロック121は、正孔注入層24の材料液を陽極21上に塗布して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで、正孔注入層24を形成する。正孔注入層24の材料液は、有機材料および溶剤を含む。その有機材料は、ポリマー、モノマーのいずれでもよい。モノマーの場合、焼成によって重合され、ポリマーとされてもよい。   The hole injection layer forming block 121 forms the hole injection layer 24 by applying the material liquid of the hole injection layer 24 on the anode 21 to form a liquid film, and drying and firing the liquid film. I do. The material liquid of the hole injection layer 24 contains an organic material and a solvent. The organic material may be either a polymer or a monomer. In the case of a monomer, it may be polymerized by baking to form a polymer.

正孔注入層形成ブロック121は、塗布装置121aと、検査装置201と、バッファ装置121bと、減圧乾燥装置121cと、熱処理装置121dと、温度調節装置121eとを備える。塗布装置121aは、正孔注入層24の材料液の液滴を、隔壁40の開口部42に向けて吐出する。検査装置201は、開口部42の内部に供給された、正孔注入層24の材料液の液量を検査する。検査装置201は、図4に示すように塗布装置121aの内部に配置されるが、図11に示すように塗布装置121aの外部に配置されてもよく、後者の場合、バッファ装置121bを兼ねてもよい。バッファ装置121bは、処理待ちの基板10を一時的に収容する。減圧乾燥装置121cは、塗布装置121aによって形成した液膜を減圧乾燥し、液膜に含まれる溶剤を除去する。熱処理装置121dは、減圧乾燥装置121cによって乾燥した液膜を加熱処理する。温度調節装置121eは、熱処理装置121dで加熱処理された基板10の温度を、所定の温度、例えば常温に調節する。   The hole injection layer forming block 121 includes a coating device 121a, an inspection device 201, a buffer device 121b, a reduced-pressure drying device 121c, a heat treatment device 121d, and a temperature control device 121e. The coating device 121 a discharges a droplet of the material liquid of the hole injection layer 24 toward the opening 42 of the partition 40. The inspection device 201 inspects the amount of the material liquid of the hole injection layer 24 supplied to the inside of the opening 42. The inspection device 201 is disposed inside the coating device 121a as shown in FIG. 4, but may be disposed outside the coating device 121a as shown in FIG. 11, and in the latter case, it also serves as the buffer device 121b. Is also good. The buffer device 121b temporarily stores the substrate 10 waiting for processing. The reduced-pressure drying device 121c dries the liquid film formed by the coating device 121a under reduced pressure to remove the solvent contained in the liquid film. The heat treatment device 121d heat-treats the liquid film dried by the reduced-pressure drying device 121c. The temperature adjusting device 121e adjusts the temperature of the substrate 10 that has been heat-treated by the heat treatment device 121d to a predetermined temperature, for example, normal temperature.

塗布装置121a、検査装置201、バッファ装置121b、熱処理装置121d、および温度調節装置121eは、内部が大気雰囲気に維持される。減圧乾燥装置121cは、内部の雰囲気を、大気雰囲気と減圧雰囲気とに切り替える。   The inside of the coating device 121a, the inspection device 201, the buffer device 121b, the heat treatment device 121d, and the temperature adjustment device 121e is maintained in the atmosphere. The reduced-pressure drying device 121c switches the internal atmosphere between an air atmosphere and a reduced-pressure atmosphere.

尚、正孔注入層形成ブロック121において、塗布装置121a、検査装置201、バッファ装置121b、減圧乾燥装置121c、熱処理装置121dおよび温度調節装置121eの、配置や個数、内部の雰囲気は、任意に選択可能である。   In the hole injection layer formation block 121, the arrangement, number, and internal atmosphere of the coating device 121a, the inspection device 201, the buffer device 121b, the reduced-pressure drying device 121c, the heat treatment device 121d, and the temperature control device 121e are arbitrarily selected. It is possible.

また、正孔注入層形成ブロック121は、基板搬送装置CR1〜CR3と、受渡装置TR1〜TR3とを備える。基板搬送装置CR1〜CR3は、それぞれ隣接する各装置へ基板10を搬送する。例えば、基板搬送装置CR1は、隣接する塗布装置121aおよびバッファ装置121bへ基板10を搬送する。基板搬送装置CR2は、隣接する減圧乾燥装置121cへ基板10を搬送する。基板搬送装置CR3は、隣接する熱処理装置121dおよび温度調節装置121eへ基板10を搬送する。受渡装置TR1〜TR3は、それぞれ順に、搬入ステーション110と基板搬送装置CR1の間、基板搬送装置CR1と基板搬送装置CR2の間、基板搬送装置CR2と基板搬送装置CR3の間に設けられ、これらの間で基板10を中継する。基板搬送装置CR1〜CR3や受渡装置TR1〜TR3は、内部が大気雰囲気に維持される。   Further, the hole injection layer forming block 121 includes substrate transfer devices CR1 to CR3 and delivery devices TR1 to TR3. Each of the substrate transfer devices CR1 to CR3 transfers the substrate 10 to each adjacent device. For example, the substrate transport device CR1 transports the substrate 10 to the adjacent coating device 121a and buffer device 121b. The substrate transfer device CR2 transfers the substrate 10 to the adjacent reduced-pressure drying device 121c. The substrate transfer device CR3 transfers the substrate 10 to the adjacent heat treatment device 121d and temperature adjustment device 121e. The transfer devices TR1 to TR3 are provided in order between the loading station 110 and the substrate transfer device CR1, between the substrate transfer device CR1 and the substrate transfer device CR2, and between the substrate transfer device CR2 and the substrate transfer device CR3, respectively. The substrate 10 is relayed between them. The insides of the substrate transfer devices CR1 to CR3 and the delivery devices TR1 to TR3 are maintained in the atmosphere.

正孔注入層形成ブロック121の基板搬送装置CR3と、正孔輸送層形成ブロック122の基板搬送装置CR4との間には、これらの間で基板10を中継する受渡装置TR4が設けられる。受渡装置TR4は、内部が大気雰囲気に維持される。   Between the substrate transport device CR3 of the hole injection layer forming block 121 and the substrate transport device CR4 of the hole transport layer forming block 122, a transfer device TR4 that relays the substrate 10 therebetween is provided. The delivery device TR4 is maintained in an air atmosphere inside.

正孔輸送層形成ブロック122は、正孔輸送層25の材料液を正孔注入層24上に塗布して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで、正孔輸送層25を形成する。正孔輸送層25の材料液は、有機材料および溶剤を含む。その有機材料は、ポリマー、モノマーのいずれでもよい。モノマーの場合、焼成によって重合され、ポリマーとされてもよい。   The hole transport layer forming block 122 forms a liquid film by coating the material liquid of the hole transport layer 25 on the hole injection layer 24, and performs drying and baking of the liquid film. 25 are formed. The material liquid of the hole transport layer 25 contains an organic material and a solvent. The organic material may be either a polymer or a monomer. In the case of a monomer, it may be polymerized by baking to form a polymer.

正孔輸送層形成ブロック122は、塗布装置122aと、検査装置202と、バッファ装置122bと、減圧乾燥装置122cと、熱処理装置122dと、温度調節装置122eとを備える。塗布装置122aは、正孔輸送層25の材料液の液滴を、隔壁40の開口部42に向けて吐出する。検査装置202は、開口部42の内部に供給された、正孔輸送層25の材料液の液量を検査する。検査装置202は、図4に示すように塗布装置122aの内部に配置されるが、図11に示すように塗布装置122aの外部に配置されてもよく、後者の場合、バッファ装置122bを兼ねてもよい。バッファ装置122bは、処理待ちの基板10を一時的に収容する。減圧乾燥装置122cは、塗布装置122aによって形成した液膜を減圧乾燥し、液膜に含まれる溶剤を除去する。熱処理装置122dは、減圧乾燥装置122cによって乾燥した液膜を加熱処理する。温度調節装置122eは、熱処理装置122dで加熱処理された基板10の温度を、所定の温度、例えば常温に調節する。   The hole transport layer forming block 122 includes a coating device 122a, an inspection device 202, a buffer device 122b, a reduced-pressure drying device 122c, a heat treatment device 122d, and a temperature control device 122e. The coating device 122 a discharges a droplet of the material liquid of the hole transport layer 25 toward the opening 42 of the partition 40. The inspection device 202 inspects the amount of the material liquid of the hole transport layer 25 supplied into the opening 42. The inspection device 202 is arranged inside the coating device 122a as shown in FIG. 4, but may be arranged outside the coating device 122a as shown in FIG. 11, and in the latter case, it also serves as the buffer device 122b. Is also good. The buffer device 122b temporarily stores the substrate 10 waiting for processing. The vacuum drying device 122c vacuum-drys the liquid film formed by the coating device 122a to remove the solvent contained in the liquid film. The heat treatment device 122d heat-treats the liquid film dried by the reduced-pressure drying device 122c. The temperature adjustment device 122e adjusts the temperature of the substrate 10 that has been heat-treated by the heat treatment device 122d to a predetermined temperature, for example, normal temperature.

塗布装置122a、検査装置202、およびバッファ装置122bは、内部が大気雰囲気に維持される。一方、熱処理装置122dおよび温度調節装置122eは、正孔輸送層25の有機材料の劣化を抑制するため、内部が低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。減圧乾燥装置122cは、内部の雰囲気を、低酸素かつ低露点の雰囲気と、減圧雰囲気とに切り替える。   The inside of the coating device 122a, the inspection device 202, and the buffer device 122b is maintained in the atmosphere. On the other hand, in the heat treatment device 122d and the temperature adjustment device 122e, the inside is maintained in a low oxygen and low dew point atmosphere in order to suppress the deterioration of the organic material of the hole transport layer 25. The reduced-pressure drying device 122c switches the internal atmosphere between a low-oxygen and low-dew-point atmosphere and a reduced-pressure atmosphere.

ここで、低酸素の雰囲気とは、大気よりも酸素濃度が低い雰囲気、例えば酸素濃度が10ppm以下の雰囲気をいう。また、低露点の雰囲気とは、大気よりも露点温度が低い雰囲気、例えば露点温度が−10℃以下の雰囲気をいう。低酸素かつ低露点の雰囲気は、例えば窒素ガス等の不活性ガスで形成される。   Here, the low-oxygen atmosphere refers to an atmosphere having an oxygen concentration lower than that of the air, for example, an atmosphere having an oxygen concentration of 10 ppm or less. Further, the atmosphere having a low dew point means an atmosphere having a dew point temperature lower than that of the atmosphere, for example, an atmosphere having a dew point temperature of -10 ° C or lower. The atmosphere with low oxygen and low dew point is formed with an inert gas such as nitrogen gas.

尚、正孔輸送層形成ブロック122において、塗布装置122a、検査装置202、バッファ装置122b、減圧乾燥装置122c、熱処理装置122dおよび温度調節装置122eの、配置や個数、内部の雰囲気は、任意に選択可能である。   In the hole transport layer forming block 122, the arrangement, the number, and the internal atmosphere of the coating device 122a, the inspection device 202, the buffer device 122b, the reduced-pressure drying device 122c, the heat treatment device 122d, and the temperature control device 122e are arbitrarily selected. It is possible.

また、正孔輸送層形成ブロック122は、基板搬送装置CR4〜CR6と、受渡装置TR5〜TR6とを備える。基板搬送装置CR4〜CR6は、それぞれ隣接する各装置へ基板10を搬送する。受渡装置TR5〜TR6は、それぞれ順に、基板搬送装置CR4と基板搬送装置CR5の間、基板搬送装置CR5と基板搬送装置CR6の間に設けられ、これらの間で基板10を中継する。   The hole transport layer forming block 122 includes substrate transfer devices CR4 to CR6 and delivery devices TR5 to TR6. The substrate transfer devices CR4 to CR6 transfer the substrate 10 to each of the adjacent devices. The transfer devices TR5 to TR6 are respectively provided between the substrate transport device CR4 and the substrate transport device CR5 and between the substrate transport device CR5 and the substrate transport device CR6, and relay the substrate 10 therebetween.

基板搬送装置CR4の内部は、大気雰囲気に維持される。一方、基板搬送装置CR5〜CR6の内部は、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。基板搬送装置CR5に隣接される減圧乾燥装置122cの内部が、低酸素かつ低露点の雰囲気と、減圧雰囲気とに切り替えられるためである。また、基板搬送装置CR6に隣設される熱処理装置122dや温度調節装置122eの内部が、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持されるためである。   The inside of the substrate transfer device CR4 is maintained in an air atmosphere. On the other hand, the inside of the substrate transfer devices CR5 to CR6 is maintained in an atmosphere with low oxygen and low dew point. This is because the inside of the reduced-pressure drying device 122c adjacent to the substrate transfer device CR5 can be switched between a low-oxygen and low-dew-point atmosphere and a reduced-pressure atmosphere. Further, the inside of the heat treatment device 122d and the temperature adjustment device 122e provided adjacent to the substrate transfer device CR6 is maintained in an atmosphere having low oxygen and low dew point.

受渡装置TR5は、その内部の雰囲気を、大気雰囲気と、低酸素かつ低露点の雰囲気との間で切り替えるロードロック装置として構成される。受渡装置TR6の下流側に減圧乾燥装置122cが隣設されるためである。一方、受渡装置TR6の内部は、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。   The delivery device TR5 is configured as a load lock device that switches the internal atmosphere between an air atmosphere and an atmosphere with low oxygen and low dew point. This is because the reduced-pressure drying device 122c is provided adjacent to the downstream side of the delivery device TR6. On the other hand, the inside of the delivery device TR6 is maintained in an atmosphere with low oxygen and low dew point.

正孔輸送層形成ブロック122の基板搬送装置CR6と、発光層形成ブロック123の基板搬送装置CR7との間には、これらの間で基板10を中継する受渡装置TR7が設けられる。基板搬送装置CR6の内部は低酸素かつ低露点の雰囲気に維持され、基板搬送装置CR7の内部は大気雰囲気に維持される。そのため、受渡装置TR7は、その内部の雰囲気を、低酸素かつ低露点の雰囲気と、大気雰囲気との間で切り替えるロードロック装置として構成される。   Between the substrate transport device CR6 of the hole transport layer forming block 122 and the substrate transport device CR7 of the light emitting layer forming block 123, a transfer device TR7 for relaying the substrate 10 therebetween is provided. The inside of the substrate transfer device CR6 is maintained in an atmosphere with low oxygen and a low dew point, and the inside of the substrate transfer device CR7 is maintained in an air atmosphere. Therefore, the delivery device TR7 is configured as a load lock device that switches the internal atmosphere between an atmosphere with low oxygen and a low dew point and an atmosphere.

発光層形成ブロック123は、発光層26の材料液を正孔輸送層25上に塗布して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで、発光層26を形成する。発光層26の材料液は、有機材料および溶剤を含む。その有機材料は、ポリマー、モノマーのいずれでもよい。モノマーの場合、焼成によって重合され、ポリマーとされてもよい。   The light emitting layer forming block 123 forms a liquid film by applying a material liquid of the light emitting layer 26 on the hole transport layer 25, and forms the light emitting layer 26 by drying and firing the liquid film. The material liquid of the light emitting layer 26 contains an organic material and a solvent. The organic material may be either a polymer or a monomer. In the case of a monomer, it may be polymerized by baking to form a polymer.

発光層形成ブロック123は、塗布装置123aと、検査装置203と、バッファ装置123bと、減圧乾燥装置123cと、熱処理装置123dと、温度調節装置123eとを備える。塗布装置123aは、発光層26の材料液の液滴を、隔壁40の開口部42に向けて吐出する。検査装置203は、開口部42の内部に供給された、発光層26の材料液の液量を検査する。検査装置203は、図4に示すように塗布装置123aの内部に配置されるが、図11に示すように塗布装置123aの外部に配置されてもよく、後者の場合、バッファ装置123bを兼ねてもよい。バッファ装置123bは、処理待ちの基板10を一時的に収容する。減圧乾燥装置123cは、塗布装置123aによって形成した液膜を減圧乾燥し、液膜に含まれる溶剤を除去する。熱処理装置123dは、減圧乾燥装置123cによって乾燥した液膜を加熱処理する。温度調節装置123eは、熱処理装置123dで加熱処理された基板10の温度を、所定の温度、例えば常温に調節する。   The light emitting layer forming block 123 includes a coating device 123a, an inspection device 203, a buffer device 123b, a reduced-pressure drying device 123c, a heat treatment device 123d, and a temperature control device 123e. The coating device 123 a discharges a droplet of the material liquid of the light emitting layer 26 toward the opening 42 of the partition 40. The inspection device 203 inspects the amount of the material liquid of the light emitting layer 26 supplied into the opening 42. The inspection device 203 is arranged inside the coating device 123a as shown in FIG. 4, but may be arranged outside the coating device 123a as shown in FIG. 11, and in the latter case, it also serves as the buffer device 123b. Is also good. The buffer device 123b temporarily stores the substrate 10 waiting for processing. The vacuum drying device 123c vacuum-drys the liquid film formed by the coating device 123a to remove the solvent contained in the liquid film. The heat treatment device 123d heat-treats the liquid film dried by the reduced-pressure drying device 123c. The temperature adjusting device 123e adjusts the temperature of the substrate 10 that has been heat-treated by the heat treatment device 123d to a predetermined temperature, for example, normal temperature.

塗布装置123a、検査装置203、およびバッファ装置123bは、内部が大気雰囲気に維持される。一方、熱処理装置123dおよび温度調節装置123eは、発光層26の有機材料の劣化を抑制するため、内部が低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。減圧乾燥装置123cは、内部の雰囲気を、低酸素かつ低露点の雰囲気と、減圧雰囲気とに切り替える。   The interiors of the coating device 123a, the inspection device 203, and the buffer device 123b are maintained in the atmosphere. On the other hand, the heat treatment device 123d and the temperature adjustment device 123e are maintained in an atmosphere having low oxygen and a low dew point in order to suppress deterioration of the organic material of the light emitting layer 26. The reduced-pressure drying device 123c switches the internal atmosphere between a low-oxygen and low-dew-point atmosphere and a reduced-pressure atmosphere.

尚、発光層形成ブロック123において、塗布装置123a、検査装置203、バッファ装置123b、減圧乾燥装置123c、熱処理装置123dおよび温度調節装置123eの、配置や個数、内部の雰囲気は、任意に選択可能である。   In the light emitting layer forming block 123, the arrangement, number, and internal atmosphere of the coating device 123a, the inspection device 203, the buffer device 123b, the reduced-pressure drying device 123c, the heat treatment device 123d, and the temperature control device 123e can be arbitrarily selected. is there.

また、発光層形成ブロック123は、基板搬送装置CR7〜CR9と、受渡装置TR8〜TR9とを備える。基板搬送装置CR7〜CR9は、それぞれ隣接する各装置へ基板10を搬送する。受渡装置TR8〜TR9は、それぞれ順に、基板搬送装置CR7と基板搬送装置CR8の間、基板搬送装置CR8と基板搬送装置CR9の間に設けられ、これらの間で基板10を中継する。   The light emitting layer forming block 123 includes substrate transfer devices CR7 to CR9 and delivery devices TR8 to TR9. The substrate transfer devices CR7 to CR9 each transfer the substrate 10 to each adjacent device. The transfer devices TR8 to TR9 are respectively provided between the substrate transfer device CR7 and the substrate transfer device CR8 and between the substrate transfer device CR8 and the substrate transfer device CR9, and relay the substrate 10 therebetween.

基板搬送装置CR7の内部は、大気雰囲気に維持される。一方、基板搬送装置CR8〜CR9の内部は、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。基板搬送装置CR8に隣接される減圧乾燥装置123cの内部が、低酸素かつ低露点の雰囲気と、減圧雰囲気とに切り替えられるためである。また、基板搬送装置CR9に隣設される熱処理装置123dや温度調節装置123eの内部が、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持されるためである。   The inside of the substrate transfer device CR7 is maintained in an air atmosphere. On the other hand, the inside of the substrate transfer devices CR8 to CR9 is maintained in an atmosphere of low oxygen and low dew point. This is because the inside of the reduced-pressure drying device 123c adjacent to the substrate transfer device CR8 can be switched between a low-oxygen and low-dew-point atmosphere and a reduced-pressure atmosphere. Further, the inside of the heat treatment device 123d and the temperature adjustment device 123e provided adjacent to the substrate transfer device CR9 is maintained in an atmosphere having low oxygen and low dew point.

受渡装置TR8は、その内部の雰囲気を、大気雰囲気と、低酸素かつ低露点の雰囲気との間で切り替えるロードロック装置として構成される。受渡装置TR8の下流側に減圧乾燥装置123cが隣設されるためである。受渡装置TR9の内部は、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。   The delivery device TR8 is configured as a load lock device that switches the internal atmosphere between an atmospheric atmosphere and an atmosphere with low oxygen and low dew point. This is because the reduced-pressure drying device 123c is provided downstream of the delivery device TR8. The inside of the delivery device TR9 is maintained in an atmosphere of low oxygen and low dew point.

発光層形成ブロック123の基板搬送装置CR9と、搬出ステーション130との間には、これらの間で基板10を中継する受渡装置TR10が設けられる。基板搬送装置CR9の内部は低酸素かつ低露点の雰囲気に維持され、搬出ステーション130の内部は大気雰囲気に維持される。そのため、受渡装置TR7は、その内部の雰囲気を、低酸素かつ低露点の雰囲気と、大気雰囲気との間で切り替えるロードロック装置として構成される。   Between the substrate transfer device CR9 of the light emitting layer forming block 123 and the unloading station 130, a delivery device TR10 that relays the substrate 10 between them is provided. The inside of the substrate transfer device CR9 is maintained in an atmosphere of low oxygen and a low dew point, and the inside of the unloading station 130 is maintained in the atmosphere. Therefore, the delivery device TR7 is configured as a load lock device that switches the internal atmosphere between an atmosphere with low oxygen and a low dew point and an atmosphere.

搬出ステーション130は、複数の基板10を順次カセットCに収納し、カセットCを外部に搬出させる。搬出ステーション130は、カセットCを載置するカセット載置台131と、カセット載置台131と処理ステーション120との間に設けられる搬送路132と、搬送路132に設けられる基板搬送体133とを備える。基板搬送体133は、処理ステーション120と、カセット載置台131に載置されたカセットCとの間で基板10を搬送する。   The unloading station 130 sequentially stores the plurality of substrates 10 in the cassette C, and unloads the cassette C to the outside. The unloading station 130 includes a cassette mounting table 131 on which the cassette C is mounted, a transport path 132 provided between the cassette mounting table 131 and the processing station 120, and a substrate transport body 133 provided in the transport path 132. The substrate transport 133 transports the substrate 10 between the processing station 120 and the cassette C mounted on the cassette mounting table 131.

制御装置140は、例えばコンピュータで構成され、CPU(Central Processing Unit)141と、メモリなどの記憶媒体142と、入力インターフェースと、出力インターフェースとを有する。制御装置140は、記憶媒体142に記憶されたプログラムをCPU141に実行させることにより、各種の制御を行う。また、制御装置140は、入力インターフェースで外部からの信号を受信し、出力インターフェースで外部に信号を送信する。   The control device 140 is composed of, for example, a computer, and has a CPU (Central Processing Unit) 141, a storage medium 142 such as a memory, an input interface, and an output interface. The control device 140 performs various controls by causing the CPU 141 to execute a program stored in the storage medium 142. The control device 140 receives a signal from the outside via the input interface, and transmits the signal to the outside via the output interface.

制御装置140のプログラムは、情報記憶媒体に記憶され、情報記憶媒体からインストールされる。情報記憶媒体としては、例えば、ハードディスク(HD)、フレキシブルディスク(FD)、コンパクトディスク(CD)、マグネットオプティカルデスク(MO)、メモリーカードなどが挙げられる。尚、プログラムは、インターネットを介してサーバからダウンロードされ、インストールされてもよい。   The program of the control device 140 is stored in the information storage medium and installed from the information storage medium. Examples of the information storage medium include a hard disk (HD), a flexible disk (FD), a compact disk (CD), a magnet optical desk (MO), and a memory card. Note that the program may be downloaded from a server via the Internet and installed.

次に、上記構成の基板処理システム100を用いた基板処理方法について説明する。複数の基板10を収容したカセットCがカセット載置台111上に載置されると、基板搬送体113が、カセット載置台111上のカセットCから基板10を順次取り出し、正孔注入層形成ブロック121に搬送する。   Next, a substrate processing method using the substrate processing system 100 having the above configuration will be described. When the cassette C accommodating the plurality of substrates 10 is placed on the cassette mounting table 111, the substrate transporter 113 sequentially takes out the substrates 10 from the cassette C on the cassette mounting table 111, and performs the hole injection layer forming block 121. Transport to

正孔注入層形成ブロック121は、正孔注入層24の材料液を陽極21上に塗布して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで、正孔注入層24を形成する。検査装置201は、隔壁40の開口部42の内部に供給された、正孔注入層24の材料液の液量を検査する。この検査は、正孔注入層24の材料液の乾燥の前に行われる。正孔注入層24が形成された基板10は、受渡装置TR4によって、正孔注入層形成ブロック121から正孔輸送層形成ブロック122に受け渡される。   The hole injection layer forming block 121 forms the hole injection layer 24 by applying the material liquid of the hole injection layer 24 on the anode 21 to form a liquid film, and drying and firing the liquid film. I do. The inspection device 201 inspects the amount of the material liquid of the hole injection layer 24 supplied to the inside of the opening 42 of the partition 40. This inspection is performed before the material liquid of the hole injection layer 24 is dried. The substrate 10 on which the hole injection layer 24 is formed is transferred from the hole injection layer formation block 121 to the hole transport layer formation block 122 by the transfer device TR4.

正孔輸送層形成ブロック122は、正孔輸送層25の材料液を正孔注入層24上に塗布して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで、正孔輸送層25を形成する。検査装置202は、隔壁40の開口部42の内部に供給された、正孔輸送層25の材料液の液量を検査する。この検査は、正孔輸送層25の材料液の乾燥の前に行われる。正孔輸送層25が形成された基板10は、受渡装置TR7によって、正孔輸送層形成ブロック122から発光層形成ブロック123に受け渡される。   The hole transport layer forming block 122 forms a liquid film by coating the material liquid of the hole transport layer 25 on the hole injection layer 24, and performs drying and baking of the liquid film. 25 are formed. The inspection device 202 inspects the amount of the material liquid of the hole transport layer 25 supplied to the inside of the opening 42 of the partition 40. This inspection is performed before the material liquid of the hole transport layer 25 is dried. The substrate 10 on which the hole transport layer 25 is formed is transferred from the hole transport layer forming block 122 to the light emitting layer forming block 123 by the transfer device TR7.

発光層形成ブロック123は、発光層26の材料液を正孔輸送層25上に塗布して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで、発光層26を形成する。検査装置203は、隔壁40の開口部42の内部に供給された、発光層26の材料液の液量を検査する。この検査は、発光層26の材料液の乾燥の前に行われる。発光層26が形成された基板10は、受渡装置TR10によって、発光層形成ブロック123から搬出ステーション130に受け渡される。   The light emitting layer forming block 123 forms a liquid film by applying a material liquid of the light emitting layer 26 on the hole transport layer 25, and forms the light emitting layer 26 by drying and firing the liquid film. The inspection device 203 inspects the amount of the material liquid of the light emitting layer 26 supplied into the opening 42 of the partition 40. This inspection is performed before the material liquid of the light emitting layer 26 is dried. The substrate 10 on which the light emitting layer 26 is formed is transferred from the light emitting layer forming block 123 to the unloading station 130 by the transfer device TR10.

搬出ステーション130の基板搬送体133は、受渡装置TR10から受取った基板10を、カセット載置台131上の所定のカセットCに収める。これにより、基板処理システム100における一連の基板10の処理が終了する。   The substrate transporter 133 of the unloading station 130 stores the substrate 10 received from the delivery device TR10 in a predetermined cassette C on the cassette mounting table 131. Thus, a series of processing of the substrate 10 in the substrate processing system 100 ends.

基板10は、カセットCに収められた状態で、搬出ステーション130から外部に搬出される。外部に搬出された基板10には、電子輸送層27や電子注入層28、陰極22などが形成される。   The substrate 10 is unloaded from the unloading station 130 while being stored in the cassette C. An electron transport layer 27, an electron injection layer 28, a cathode 22, and the like are formed on the substrate 10 carried out.

次に、正孔注入層形成ブロック121の塗布装置121aについて図5および図6を参照して説明する。図5は、一実施形態に係る正孔注入層形成ブロックの塗布装置を示す平面図である。図6は、一実施形態に係る正孔注入層形成ブロックの塗布装置を示す側面図である。尚、正孔輸送層形成ブロック122の塗布装置122a、および発光層形成ブロック123の塗布装置123aは、正孔注入層形成ブロック121の塗布装置121aと同様に構成されるため、図示および説明を省略する。   Next, the coating device 121a of the hole injection layer forming block 121 will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a plan view showing a coating apparatus for a hole injection layer forming block according to one embodiment. FIG. 6 is a side view showing a coating apparatus for a hole injection layer forming block according to one embodiment. Since the coating device 122a of the hole transport layer forming block 122 and the coating device 123a of the light emitting layer forming block 123 are configured in the same manner as the coating device 121a of the hole injection layer forming block 121, illustration and description are omitted. I do.

塗布装置121aは、基板10における機能液(例えば正孔注入層24の材料液)の液滴の着弾位置をX軸方向およびY軸方向に移動させて、基板10に機能液の描画パターンを描く。塗布装置121aは、例えば、基板10を保持する基板保持部150と、基板保持部150で保持されている基板10に機能液の液滴を吐出する液滴吐出部160と、X軸方向およびY軸方向に基板保持部150と液滴吐出部160とを相対的に移動させる移動部170とを備える。   The coating device 121a moves the landing position of the droplet of the functional liquid (for example, the material liquid of the hole injection layer 24) on the substrate 10 in the X-axis direction and the Y-axis direction, and draws a drawing pattern of the functional liquid on the substrate 10. . The coating device 121a includes, for example, a substrate holding unit 150 that holds the substrate 10, a droplet discharging unit 160 that discharges a droplet of the functional liquid onto the substrate 10 held by the substrate holding unit 150, an X-axis direction, and a Y-direction. A moving unit 170 that relatively moves the substrate holding unit 150 and the droplet discharging unit 160 in the axial direction is provided.

基板保持部150は、基板10に形成された隔壁40の開口部42を上に向けて、基板10を水平に保持する。基板保持部150としては、例えば真空チャックが用いられるが、静電チャックなどが用いられてもよい。   The substrate holding unit 150 holds the substrate 10 horizontally with the opening 42 of the partition 40 formed on the substrate 10 facing upward. For example, a vacuum chuck is used as the substrate holding unit 150, but an electrostatic chuck or the like may be used.

液滴吐出部160は、基板保持部150で保持されている基板10の上方から、隔壁40の開口部42の内部に機能液の液滴を吐出する。液滴吐出部160は、Y軸方向に複数(例えば図5では10個)並んでいる。複数の液滴吐出部160は、それぞれの下面に、X軸方向に間隔をおいて並ぶ複数の吐出ヘッド161を有する。   The droplet discharge unit 160 discharges a droplet of the functional liquid into the opening 42 of the partition 40 from above the substrate 10 held by the substrate holding unit 150. A plurality (for example, ten in FIG. 5) of the droplet discharge units 160 are arranged in the Y-axis direction. The plurality of droplet discharge units 160 have a plurality of discharge heads 161 arranged on the lower surface thereof at intervals in the X-axis direction.

複数の吐出ヘッド161のそれぞれは、下面に、Y軸方向に間隔をおいて一列に並ぶ複数の吐出ノズル162を有する。Y軸方向に間隔をおいて一列に並ぶ複数の吐出ノズル162で構成される吐出ノズル列は、図6では吐出ヘッド161毎に1つ設けられるが、複数(例えば2つ)設けられてもよい。   Each of the plurality of ejection heads 161 has, on a lower surface, a plurality of ejection nozzles 162 arranged in a line at intervals in the Y-axis direction. In FIG. 6, one ejection nozzle row composed of a plurality of ejection nozzles 162 arranged in a line at intervals in the Y-axis direction is provided for each ejection head 161, but a plurality (for example, two) may be provided. .

複数の吐出ヘッド161のそれぞれは、Y軸方向に間隔をおいて一列に並ぶ複数の開口部42の内部に機能液の液滴を同時に供給する。一の吐出ヘッド161に備えられる吐出ノズル162の数は、一の吐出ヘッド161が同時に液滴を供給する開口部42の数よりも多い。一の開口部42に、複数の吐出ノズル162が同時に液滴を供給してよい。   Each of the plurality of ejection heads 161 simultaneously supplies a droplet of the functional liquid into the plurality of openings 42 arranged in a line at intervals in the Y-axis direction. The number of ejection nozzles 162 provided in one ejection head 161 is greater than the number of openings 42 to which one ejection head 161 simultaneously supplies droplets. A plurality of ejection nozzles 162 may supply droplets to one opening 42 at the same time.

複数の吐出ヘッド161のそれぞれは、吐出ノズル162毎にピエゾ素子を有する。ピエゾ素子に電圧をかけると、ピエゾ素子が変形して吐出ノズル162から液滴が吐出される。ピエゾ素子の代わりに、ヒータなどが用いられてもよい。ヒータに電圧をかけると、バブルが発生し、発生したバブルの圧力によって吐出ノズル162から液滴が吐出される。吐出ノズル162が吐出する機能液の吐出量は、吐出ノズル162毎に個別に制御可能である。   Each of the plurality of ejection heads 161 has a piezo element for each ejection nozzle 162. When a voltage is applied to the piezo element, the piezo element is deformed and a droplet is discharged from the discharge nozzle 162. A heater or the like may be used instead of the piezo element. When a voltage is applied to the heater, bubbles are generated, and droplets are discharged from the discharge nozzle 162 by the pressure of the generated bubbles. The discharge amount of the functional liquid discharged by the discharge nozzle 162 can be individually controlled for each discharge nozzle 162.

複数の吐出ヘッド161は、本実施形態では同じ材料の機能液を吐出するが、異なる材料の機能液を吐出してもよい。例えば、発光層形成ブロック123の塗布装置123aは、赤色発光層26Rの材料液を吐出する吐出ヘッドと、緑色発光層の材料液を吐出する吐出ヘッドと、青色発光層の材料液を吐出する吐出ヘッドとを有する。但し、同一の吐出ヘッド161に設けられる複数の吐出ノズル162は、同一の種類の機能液の液滴を吐出する。   In the present embodiment, the plurality of ejection heads 161 eject functional liquids of the same material, but may eject functional liquids of different materials. For example, the coating device 123a of the light emitting layer forming block 123 includes a discharge head that discharges a material liquid of the red light emitting layer 26R, a discharge head that discharges a material liquid of the green light emitting layer, and a discharge head that discharges a material liquid of the blue light emitting layer. And a head. However, the plurality of ejection nozzles 162 provided on the same ejection head 161 eject droplets of the same type of functional liquid.

移動部170は、X軸方向およびY軸方向に基板保持部150と液滴吐出部160とを相対的に移動させる。例えば、移動部170は、ベース171に対し基板保持部150をX軸方向に移動させるX軸方向移動部172を有する。X軸方向移動部172は、例えば、ベース171に敷設される一対のX軸ガイド173と、一対のX軸ガイド173に沿って基板保持部150を移動させる一対のX軸リニアモータとを有する。また、移動部170は、ベース171に対し基板保持部150をY軸方向に移動させるY軸方向移動部174(図6参照)とを有する。   The moving unit 170 relatively moves the substrate holding unit 150 and the droplet discharging unit 160 in the X-axis direction and the Y-axis direction. For example, the moving unit 170 includes an X-axis direction moving unit 172 that moves the substrate holding unit 150 with respect to the base 171 in the X-axis direction. The X-axis direction moving unit 172 includes, for example, a pair of X-axis guides 173 laid on the base 171 and a pair of X-axis linear motors that move the substrate holding unit 150 along the pair of X-axis guides 173. The moving section 170 has a Y-axis direction moving section 174 (see FIG. 6) for moving the substrate holding section 150 in the Y-axis direction with respect to the base 171.

移動部170が基板10をX軸方向に移動させながら、液滴吐出部160が液滴を滴下する。その後、移動部170が基板10をY軸方向に移動させることと、移動部170が基板10をX軸方向に移動させながら液滴吐出部160が液滴を滴下することとを交互に繰り返すことで、塗布装置121aが基板10に機能液の描画パターンを描く。   While the moving unit 170 moves the substrate 10 in the X-axis direction, the droplet discharging unit 160 drops droplets. Thereafter, the moving unit 170 moves the substrate 10 in the Y-axis direction, and the moving unit 170 moves the substrate 10 in the X-axis direction, and the droplet discharge unit 160 drops the droplets alternately. Then, the coating apparatus 121a draws a drawing pattern of the functional liquid on the substrate 10.

尚、上記構成の移動部170は、基板10上に所定のパターンを描画するため、基板保持部150を移動させるが、液滴吐出部160を移動させてもよいし、基板保持部150と液滴吐出部160の両方を移動させてもよい。   The moving unit 170 having the above configuration moves the substrate holding unit 150 in order to draw a predetermined pattern on the substrate 10. The moving unit 170 may move the droplet discharging unit 160, or may move the substrate holding unit 150 and the liquid. Both of the droplet discharge units 160 may be moved.

塗布装置121aの内部には、検査装置201が配置される。検査装置201は、隔壁40が隔てる複数の開口部42のそれぞれの内部に供給された液体45の液量を検査する(図7参照)。液体45は、例えば正孔注入層24の材料液である。開口部42の内部に供給された液体45の乾燥および焼成を行うことで、正孔注入層24が形成される。開口部42の内部に供給された液体45の液量LVと正孔注入層24の厚さとは比例するため、液体45の液量LVを検査することで正孔注入層24の厚さを検査できる。   An inspection device 201 is arranged inside the coating device 121a. The inspection device 201 inspects the amount of the liquid 45 supplied into each of the plurality of openings 42 separated by the partition 40 (see FIG. 7). The liquid 45 is, for example, a material liquid for the hole injection layer 24. The hole injection layer 24 is formed by drying and baking the liquid 45 supplied into the opening 42. Since the liquid amount LV of the liquid 45 supplied into the opening 42 is proportional to the thickness of the hole injection layer 24, the thickness of the hole injection layer 24 is inspected by inspecting the liquid amount LV of the liquid 45. it can.

検査装置201は、隔壁40が隔てる複数の開口部42のそれぞれの内部に供給された液体45の液量LVのばらつきを検査する。液体45の液量LVのばらつきが小さいほど、正孔注入層24の厚さのばらつきが小さく、有機ELパネル2を点灯させたときに複数の画素の発光量のばらつきが小さい。   The inspection device 201 inspects a variation in the liquid amount LV of the liquid 45 supplied into each of the plurality of openings 42 separated by the partition wall 40. The smaller the variation in the liquid amount LV of the liquid 45, the smaller the variation in the thickness of the hole injection layer 24, and the smaller the variation in the light emission amount of a plurality of pixels when the organic EL panel 2 is turned on.

従来の検査装置は、有機ELパネル2を実際に点灯させたときの、複数の画素の発光量のばらつきを検査していた。その検査のためには、有機ELパネル2の製造プロセスを最後まで進める必要がある。そのため、検査装置の検査結果を吐出ノズル162の吐出量の調整に反映するまでの待ち時間が長く、コストも高かった。   The conventional inspection device inspects the variation in the light emission amount of a plurality of pixels when the organic EL panel 2 is actually turned on. For the inspection, the manufacturing process of the organic EL panel 2 needs to be advanced to the end. Therefore, the waiting time until the inspection result of the inspection apparatus is reflected on the adjustment of the ejection amount of the ejection nozzle 162 is long, and the cost is high.

本実施形態の検査装置201は、開口部42の内部に供給された液体45の乾燥および熱処理の前に、液体45の液量LVを検査する。その検査は、有機ELパネル2の製造プロセスの途中で行われる。そのため、検査装置201の検査結果を吐出ノズル162の吐出量の調整に反映するまでの待ち時間が短く、コストも低い。   The inspection device 201 of the present embodiment inspects the liquid amount LV of the liquid 45 before drying and heat-treating the liquid 45 supplied into the opening 42. The inspection is performed during the manufacturing process of the organic EL panel 2. Therefore, the waiting time until the inspection result of the inspection device 201 is reflected on the adjustment of the ejection amount of the ejection nozzle 162 is short, and the cost is low.

次に、正孔注入層形成ブロック121の検査装置201について図7および図8を参照して説明する。図7は、一実施形態に係る正孔注入層形成ブロックの検査装置を示す側面断面図である。図8は、一実施形態に係る正孔注入層形成ブロックの検査装置を示す平面図である。尚、正孔輸送層形成ブロック122の検査装置202、および発光層形成ブロック123の検査装置203は、正孔注入層形成ブロック121の検査装置201と同様に構成されるため、図示および説明を省略する。   Next, the inspection apparatus 201 of the hole injection layer forming block 121 will be described with reference to FIGS. FIG. 7 is a side cross-sectional view showing an inspection apparatus for a hole injection layer forming block according to one embodiment. FIG. 8 is a plan view showing an inspection apparatus for a hole injection layer forming block according to one embodiment. Since the inspection device 202 for the hole transport layer formation block 122 and the inspection device 203 for the light emitting layer formation block 123 are configured in the same manner as the inspection device 201 for the hole injection layer formation block 121, illustration and description are omitted. I do.

検査装置201は、液体45の液量LVの検査を実現するため、発光部210と、受光部220と、検出部230とを有する。   The inspection device 201 includes a light emitting unit 210, a light receiving unit 220, and a detection unit 230 in order to implement the inspection of the liquid amount LV of the liquid 45.

発光部210は、基板10の隔壁40が形成された主表面11に対し斜めに入射光L1を照射することで、開口部42の内部に供給された液体45の、上に凸の液面46に入射光L1を照射する。発光部210の光軸210Aは、基板10の主表面11に対し斜めとされる。   The light emitting unit 210 irradiates the main surface 11 of the substrate 10 on which the partition wall 40 is formed with the incident light L1 obliquely, so that the liquid surface 46 of the liquid 45 supplied to the inside of the opening 42 has an upward convexity. Is irradiated with incident light L1. The optical axis 210A of the light emitting unit 210 is oblique to the main surface 11 of the substrate 10.

受光部220は、上に凸の液面46で拡散反射された反射光L2を受光する。反射光L2は、正反射されたものではなく、拡散反射されたものである。つまり、発光部210が照射する入射光L1の入射角θ1と、受光部220が受光する反射光L2の反射角θ2とは異なる。入射光L1の入射角θ1は、発光部210の光軸210Aと、基板10の主表面11の法線NVとのなす角である。反射光L2の反射角θ2は、受光部220の光軸220Aと、基板10の主表面11の法線NVとのなす角である。   The light receiving section 220 receives the reflected light L2 diffusely reflected on the liquid surface 46 that is convex upward. The reflected light L2 is not specularly reflected but diffusely reflected. That is, the incident angle θ1 of the incident light L1 emitted by the light emitting unit 210 is different from the reflection angle θ2 of the reflected light L2 received by the light receiving unit 220. The incident angle θ1 of the incident light L1 is an angle between the optical axis 210A of the light emitting unit 210 and the normal NV of the main surface 11 of the substrate 10. The reflection angle θ2 of the reflected light L2 is an angle between the optical axis 220A of the light receiving unit 220 and the normal NV of the main surface 11 of the substrate 10.

液体45の液量LVが大きいほど、液面46が上に凸に膨らみ、液面46が鏡面ではなくなるため、入射光L1が基板10の主表面11に対し様々な角度で反射するようになる。そのため、液体45の液量LVが大きいほど、受光部220で受光される反射光L2の受光量が大きくなる。従って、反射光L2の受光量から、液体45の液量LVを求めることができる。   As the liquid amount LV of the liquid 45 is larger, the liquid surface 46 bulges upward and the liquid surface 46 is not a mirror surface, so that the incident light L1 is reflected at various angles with respect to the main surface 11 of the substrate 10. . Therefore, the larger the liquid amount LV of the liquid 45, the larger the amount of reflected light L2 received by the light receiving unit 220. Therefore, the liquid amount LV of the liquid 45 can be obtained from the amount of the reflected light L2 received.

受光部220の光軸220Aは基板10の主表面11に対し垂直とされてもよく、受光部220が受光する反射光L2の反射角θ2は0°でもよいが、本実施形態では図7に示すように受光部220の光軸220Aは基板10の主表面11に対し斜めとされる。受光部220は、基板10の主表面11に対し斜めに進む反射光L2を受光する。   The optical axis 220A of the light receiving section 220 may be perpendicular to the main surface 11 of the substrate 10, and the reflection angle θ2 of the reflected light L2 received by the light receiving section 220 may be 0 °. As shown, the optical axis 220A of the light receiving section 220 is inclined with respect to the main surface 11 of the substrate 10. The light receiving unit 220 receives the reflected light L <b> 2 that proceeds obliquely with respect to the main surface 11 of the substrate 10.

受光部220の光軸220Aが基板10の主表面11に対し垂直とされる場合、基板10の主表面11に形成される配線パターン(不図示)で拡散反射された反射光が隔壁40の表面41や液体45の液面46などの屈折率の不連続面を透過しやすい。そのため、配線パターンで拡散反射された反射光が受光部220に入射しやすい。   When the optical axis 220 </ b> A of the light receiving unit 220 is perpendicular to the main surface 11 of the substrate 10, the light diffusely reflected by the wiring pattern (not shown) formed on the main surface 11 of the substrate 10 is reflected on the surface of the partition 40. It easily passes through discontinuous surfaces having a refractive index such as the liquid surface 41 and the liquid surface 46 of the liquid 45. Therefore, the reflected light diffusely reflected by the wiring pattern easily enters the light receiving unit 220.

配線パターンから受光部220に向う反射光が屈折率の不連続面を透過することを抑制するため、受光部220の光軸220Aは基板10の主表面11に対し斜めとされ、受光部220は基板10の主表面11に対し斜めに進む反射光L2を受光する。受光部220の受光量に対する配線パターンの影響を低減でき、液体45の液量LVの検出精度を向上できる。   The optical axis 220A of the light receiving unit 220 is inclined with respect to the main surface 11 of the substrate 10 in order to suppress the reflected light from the wiring pattern toward the light receiving unit 220 from passing through the discontinuous surface of the refractive index. The reflected light L2 that advances obliquely to the main surface 11 of the substrate 10 is received. The influence of the wiring pattern on the amount of light received by the light receiving section 220 can be reduced, and the detection accuracy of the liquid amount LV of the liquid 45 can be improved.

検出部230は、受光部220で受光される反射光L2の受光量に基づき、液体45の液量LVを検出する。検出部230は、制御装置140と同様に、例えばコンピュータで構成される。反射光L2の受光量と液体45の液量LVとの関係は、予め実験等で求められ、検出部230の記憶媒体に予め記憶される。   The detection unit 230 detects the liquid amount LV of the liquid 45 based on the amount of the reflected light L2 received by the light receiving unit 220. The detection unit 230 is configured by, for example, a computer, similarly to the control device 140. The relationship between the received light amount of the reflected light L2 and the liquid amount LV of the liquid 45 is obtained in advance by experiments or the like, and is stored in the storage medium of the detection unit 230 in advance.

図8に示すように、複数の開口部42は、行方向(図8においてX軸方向)および列方向(図8においてY軸方向)にマトリックス状に配列される。複数の開口部42のそれぞれは、列方向の寸法Aが行方向の寸法Bよりも長い。そのため、開口部42の内部に供給された液体45の液面46も、列方向の寸法が行方向の寸法よりも長い。   As shown in FIG. 8, the plurality of openings 42 are arranged in a matrix in a row direction (X-axis direction in FIG. 8) and a column direction (Y-axis direction in FIG. 8). Each of the plurality of openings 42 has a dimension A in the column direction longer than a dimension B in the row direction. Therefore, the liquid surface 46 of the liquid 45 supplied into the opening 42 also has a dimension in the column direction longer than that in the row direction.

発光部210は、基板10の主表面11に対し斜めに光を照射する線状光源である。線状光源は、例えば一列に並ぶ複数の発光素子を有する。発光素子は、例えばLED(Light Emitting Diode)である。LEDは、紫外線を発光するものでもよいが、本実施形態では紫外線の照射による有機EL素子13の劣化を抑制するため、可視光線を発光するものである。   The light emitting unit 210 is a linear light source that irradiates light to the main surface 11 of the substrate 10 obliquely. The linear light source has, for example, a plurality of light emitting elements arranged in a line. The light emitting element is, for example, an LED (Light Emitting Diode). The LED may emit ultraviolet light, but in the present embodiment, emits visible light in order to suppress deterioration of the organic EL element 13 due to irradiation of ultraviolet light.

発光部210は、行方向(図8においてX軸方向)に平行に配置されてもよいが、本実施形態では図8に示すように列方向(図8においてY軸方向)に平行に配置される。発光部210は、列方向に平行に配置される場合、列方向に長い液面46を列方向に細長く均一に照らすことができる。液面46の受光部220に向けて入射光L1を拡散反射する部分47(図8参照)の面積を拡大でき、受光部220の受光量を向上でき、受光部220の感度を向上できる。   The light emitting units 210 may be arranged in parallel in the row direction (X-axis direction in FIG. 8), but in the present embodiment, as shown in FIG. 8, they are arranged in parallel in the column direction (Y-axis direction in FIG. 8). You. When the light-emitting units 210 are arranged in parallel in the column direction, the liquid surface 46 that is long in the column direction can be illuminated uniformly and elongated in the column direction. The area of the portion 47 (see FIG. 8) of the liquid surface 46 that diffuses and reflects the incident light L1 toward the light receiving section 220 can be enlarged, the amount of light received by the light receiving section 220 can be improved, and the sensitivity of the light receiving section 220 can be improved.

受光部220は、上に凸の液面46で拡散反射された反射光L2を受光する受光素子221を複数有する。受光素子221は、例えばCCD(Charge Coupled Device)イメージセンサまたはCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサなどの撮像素子である。   The light receiving section 220 has a plurality of light receiving elements 221 that receive the reflected light L2 diffusely reflected by the liquid surface 46 that is convex upward. The light receiving element 221 is an imaging element such as a charge coupled device (CCD) image sensor or a complementary metal oxide semiconductor (CMOS) image sensor.

複数の受光素子221が列方向(図8においてY軸方向)に平行に並び、且つ発光部210である線状光源が列方向に平行とされる。線状光源が列方向に一列に並ぶ複数の液面46を同時に照らし、線状光源が同時に照らす複数の液面46のそれぞれからの反射光L2を同時に受光部220が受光できる。同時に広い範囲を検査できるため、検査速度を向上できる。   The plurality of light receiving elements 221 are arranged in parallel in the column direction (Y-axis direction in FIG. 8), and the linear light source, which is the light emitting unit 210, is parallel in the column direction. The linear light source simultaneously illuminates the plurality of liquid surfaces 46 arranged in a line in the column direction, and the light receiving unit 220 can simultaneously receive the reflected light L2 from each of the plurality of liquid surfaces 46 simultaneously illuminated by the linear light source. Since a wide range can be inspected at the same time, the inspection speed can be improved.

複数の受光素子221は、列方向に平行に並べばよく、行方向および列方向にマトリックス状に配列されてもよいが、本実施形態では列方向にのみ一列に配列される。つまり、受光部220は、エリアセンサでもよいが、本実施形態ではラインセンサである。ラインセンサは、エリアセンサよりも高解像度の画像を撮像できる。   The plurality of light receiving elements 221 may be arranged in parallel in the column direction, and may be arranged in a matrix in the row direction and the column direction. In the present embodiment, the light receiving elements 221 are arranged in a line only in the column direction. That is, the light receiving unit 220 may be an area sensor, but is a line sensor in the present embodiment. The line sensor can capture a higher resolution image than the area sensor.

受光部220は、例えばラインスキャンカメラであって、受光部220の下方においてX軸方向に移動する基板10を撮像する。ラインスキャンカメラの撮像範囲は、Y軸方向に平行な直線状であって、例えば基板10のY軸方向全体である。   The light receiving unit 220 is, for example, a line scan camera, and captures an image of the substrate 10 moving in the X-axis direction below the light receiving unit 220. The imaging range of the line scan camera is a straight line parallel to the Y-axis direction, and is, for example, the entire substrate 10 in the Y-axis direction.

塗布装置121aの移動部170が基板10をX軸方向に移動させながら、ラインスキャンカメラが基板10のY軸方向全体を撮像する。これにより、検査装置201は基板10のX軸方向およびY軸方向の全体において、液体45の液量LVを検査できる。   While the moving unit 170 of the coating apparatus 121a moves the substrate 10 in the X-axis direction, the line scan camera takes an image of the entire substrate 10 in the Y-axis direction. Thereby, the inspection apparatus 201 can inspect the liquid amount LV of the liquid 45 in the entire X-axis direction and the Y-axis direction of the substrate 10.

尚、ラインスキャンカメラの撮像範囲は、本実施形態では、基板10のY軸方向全体であるが、基板10のY軸方向一部のみであってもよい。この場合、ラインスキャンカメラをY軸方向に移動させれば、基板10のY軸方向全体を撮像できる。ラインスキャンカメラの数は、1つでもよいし、複数でもよい。   In this embodiment, the imaging range of the line scan camera is the whole of the substrate 10 in the Y-axis direction, but may be only a part of the substrate 10 in the Y-axis direction. In this case, if the line scan camera is moved in the Y-axis direction, an image of the entire substrate 10 in the Y-axis direction can be taken. The number of line scan cameras may be one or more.

尚、ラインスキャンカメラは、本実施形態では列方向(Y軸方向)に一列に並ぶ複数の受光素子221を有するが、行方向(X軸方向)に一列に並ぶ複数の受光素子を有してもよい。この場合、ラインスキャンカメラをX軸方向に移動させれば、基板10のY軸方向全体を撮像できる。   In this embodiment, the line scan camera has a plurality of light receiving elements 221 arranged in a line in a column direction (Y axis direction), but has a plurality of light receiving elements arranged in a line in a row direction (X axis direction). Is also good. In this case, if the line scan camera is moved in the X-axis direction, an image of the entire substrate 10 in the Y-axis direction can be taken.

尚、検査装置201が塗布装置121aの内部に配置される場合、塗布装置121aが基板保持部150や移動部170を備えるが、図11に示すように検査装置201が塗布装置121aの外部に配置される場合、検査装置201が基板保持部や移動部を備える。検査装置201の基板保持部は、塗布装置121aの基板保持部150と同様に、基板10に形成された隔壁40の開口部42を上に向けて、基板10を水平に保持する。また、検査装置201の移動部は、塗布装置121aの移動部170と同様に、発光部210および受光部220と基板保持部とを相対的に移動させ、基板保持部に保持されている基板10の検査範囲を移動させる。   When the inspection device 201 is disposed inside the coating device 121a, the coating device 121a includes the substrate holding unit 150 and the moving unit 170. However, as illustrated in FIG. 11, the inspection device 201 is disposed outside the coating device 121a. In this case, the inspection apparatus 201 includes a substrate holding unit and a moving unit. The substrate holding unit of the inspection device 201 holds the substrate 10 horizontally with the opening 42 of the partition 40 formed on the substrate 10 facing upward, similarly to the substrate holding unit 150 of the coating device 121a. The moving unit of the inspection apparatus 201 relatively moves the light emitting unit 210 and the light receiving unit 220 and the substrate holding unit, similarly to the moving unit 170 of the coating apparatus 121a, and moves the substrate 10 held by the substrate holding unit. Move the inspection range.

図9は、一実施形態に係る検査装置が検査を行うために基板に設定する複数の領域と、複数の領域のそれぞれにおける吐出ノズルの電圧比(印加電圧/基準電圧)とを示す平面図である。電圧比VRは、印加電圧Vと基準電圧V0との電圧比(VR=V/V0)である。基準電圧V0は、吐出ノズル162毎に個別に設定された値であって、予め定められた液量の液滴が吐出されるように仮に決められた値である。基準電圧V0が吐出ノズル162毎に個別に設定されるのは、吐出ノズル162毎に例えば吐出口の口径が僅かに異なるためである。基準電圧V0は、検査装置201の過去の検査データなどに基づき設定される。印加電圧Vは、吐出ノズル162に印加される電圧である。吐出ノズル162は、上述の如く、印加電圧Vに応じた液量の液滴を吐出する。   FIG. 9 is a plan view showing a plurality of regions set on the substrate for performing inspection by the inspection device according to the embodiment, and a voltage ratio (applied voltage / reference voltage) of the discharge nozzle in each of the plurality of regions. is there. The voltage ratio VR is a voltage ratio (VR = V / V0) between the applied voltage V and the reference voltage V0. The reference voltage V0 is a value set individually for each ejection nozzle 162, and is a value provisionally determined so as to eject a predetermined amount of liquid droplets. The reference voltage V0 is set individually for each ejection nozzle 162 because, for example, the diameter of the ejection port is slightly different for each ejection nozzle 162. The reference voltage V0 is set based on past inspection data of the inspection device 201 and the like. The applied voltage V is a voltage applied to the discharge nozzle 162. As described above, the discharge nozzle 162 discharges a droplet having a liquid amount corresponding to the applied voltage V.

制御装置140は、一の吐出ノズル162が複数の開口部42のそれぞれの内部に順番に液体45を供給するときの電圧比VRを変更する。制御装置140は、例えば、第1領域A1の開口部42に液体45を供給するときの電圧比VR1と、第2領域A2の開口部42に液体45を供給するときの電圧比VR2とを異ならせる。また、制御装置140は、第3領域A3の開口部42に液体45を供給するときの電圧比VR3を、上記電圧比VR1、VR2とは異ならせる。さらに、制御装置140は、第4領域A4の開口部42に液体45を供給するときの電圧比VR4を、上記電圧比VR1〜VR3とは異ならせる。異なる電圧比VRが設定される領域の数は、複数であればよく、特に限定されない。   The control device 140 changes the voltage ratio VR when one discharge nozzle 162 sequentially supplies the liquid 45 into each of the plurality of openings 42. For example, if the voltage ratio VR1 when supplying the liquid 45 to the opening 42 of the first region A1 and the voltage ratio VR2 when supplying the liquid 45 to the opening 42 of the second region A2 are different, the control device 140 Let Further, the control device 140 makes the voltage ratio VR3 when supplying the liquid 45 to the opening 42 of the third region A3 different from the above-described voltage ratios VR1 and VR2. Further, the control device 140 makes the voltage ratio VR4 when supplying the liquid 45 to the opening 42 of the fourth region A4 different from the above-described voltage ratios VR1 to VR3. The number of regions in which different voltage ratios VR are set is not particularly limited as long as it is plural.

検査装置201は、一の吐出ノズル162が異なる電圧比VRで複数の開口部42のそれぞれの内部に順番に供給した液体45の液量LVを検査する。液体45の液量LVは、開口部42毎に個別に検査する。吐出ノズル162の吐出と、検査装置201の検査とが交互に行われてもよいし、吐出ノズル162の吐出がまとめて行われた後で、検査装置201の検査がまとめて行われてもよい。複数の開口部42のそれぞれの内部に異なる電圧比VRで吐出された液体45の液量LVが検査されればよい。   The inspection device 201 inspects the liquid amount LV of the liquid 45 that one ejection nozzle 162 sequentially supplies into each of the plurality of openings 42 at a different voltage ratio VR. The liquid amount LV of the liquid 45 is individually inspected for each opening 42. The discharge of the discharge nozzle 162 and the inspection of the inspection device 201 may be performed alternately, or the inspection of the inspection device 201 may be performed collectively after the discharge of the discharge nozzle 162 is performed collectively. . It is sufficient that the liquid amount LV of the liquid 45 discharged at a different voltage ratio VR into each of the plurality of openings 42 is inspected.

検査装置201の検査に用いられる基板10と、有機ELパネル2の生産に用いられる基板10とは、同じ寸法および同じ形状を有するものである。また、検査装置201の検査に用いられる隔壁40と、有機ELパネル2の生産に用いされる隔壁40とは、同じ寸法および同じ形状を有するものである。検査と製品生産とで同じ寸法および同じ形状を有するものを用いるため、検査結果を生産条件にフィードバックしたときに、狙い通りの製品を製造することができる。   The substrate 10 used for the inspection of the inspection device 201 and the substrate 10 used for the production of the organic EL panel 2 have the same dimensions and the same shape. The partition wall 40 used for inspection by the inspection device 201 and the partition wall 40 used for production of the organic EL panel 2 have the same dimensions and the same shape. Since the same size and the same shape are used for the inspection and the product production, a desired product can be manufactured when the inspection result is fed back to the production condition.

尚、検査装置201の検査に用いられる基板10と、有機ELパネル2の生産に用いられる基板10とは、少なくとも一部が、同じ寸法および同じ形状を有するものであればよい。例えば、検査装置201の検査に用いられる基板10は、有機ELパネル2の生産に用いられる基板10の一部をカットしたものであってもよい。   Note that the substrate 10 used for inspection by the inspection device 201 and the substrate 10 used for production of the organic EL panel 2 only need to have at least part of the same size and the same shape. For example, the substrate 10 used for the inspection of the inspection device 201 may be obtained by cutting a part of the substrate 10 used for the production of the organic EL panel 2.

同様に、検査装置201の検査に用いられる隔壁40と、有機ELパネル2の生産に用いられる隔壁40とは、少なくとも一部が、同じ寸法および同じ形状を有するものであればよい。例えば、検査装置201の検査に用いられる隔壁40は、有機ELパネル2の生産に用いられる隔壁40の一部をカットしたものであってもよい。   Similarly, the partition 40 used for the inspection of the inspection device 201 and the partition 40 used for the production of the organic EL panel 2 only need to have at least a part having the same size and the same shape. For example, the partition wall 40 used for the inspection of the inspection device 201 may be obtained by cutting a part of the partition wall 40 used for the production of the organic EL panel 2.

検査装置201の検査が終了した基板10は、廃棄される。第1領域A1と、第2領域A2と、第3領域A3と、第4領域A4とでは、開口部42の内部に供給された液体45の液量LVが異なるため、正孔注入層24の厚さも異なり、点灯したときの画素の輝度が異なるためである。   The substrate 10 that has been inspected by the inspection device 201 is discarded. In the first region A1, the second region A2, the third region A3, and the fourth region A4, since the liquid amount LV of the liquid 45 supplied to the inside of the opening 42 is different, the hole injection layer 24 This is because the thickness is different and the brightness of the pixel when lit is different.

図10は、一の吐出ノズルが異なる電圧比(印加電圧/基準電圧)で複数の開口部のそれぞれの内部に順番に供給したときの、液体の液量と電圧比との関係を示す。図10において、一の吐出ノズル162が液体45を供給する複数の開口部42は、同じ寸法および同じ形状を有してよい。図10において、黒丸は測定値を示し、直線Lは複数の測定値を最小二乗法を用いて近似した直線である。   FIG. 10 shows the relationship between the liquid amount of the liquid and the voltage ratio when one ejection nozzle sequentially supplies a different voltage ratio (applied voltage / reference voltage) to the inside of each of the plurality of openings. In FIG. 10, the plurality of openings 42 to which one discharge nozzle 162 supplies the liquid 45 may have the same size and the same shape. In FIG. 10, black circles indicate measured values, and a straight line L is a straight line obtained by approximating a plurality of measured values using the least squares method.

制御装置140は、検査装置201の検査結果(より詳細には、検出部230の検出結果)に基づき、複数の吐出ノズル162のそれぞれの吐出量を制御する。   The control device 140 controls the discharge amount of each of the plurality of discharge nozzles 162 based on the test result of the test device 201 (more specifically, the detection result of the detection unit 230).

先ず、制御装置140は、例えば図10に示すデータに基づき、開口部42の内部に供給された液体45の液量LVが目標液量になるように、吐出ノズル162の印加電圧Vを決定する。印加電圧Vは、吐出ノズル162毎に個別に設定されてよい。吐出ノズル162毎に、例えば吐出口の口径が僅かに異なるためである。   First, the control device 140 determines the applied voltage V to the ejection nozzle 162 based on, for example, the data shown in FIG. 10 so that the liquid amount LV of the liquid 45 supplied into the opening 42 becomes the target liquid amount. . The applied voltage V may be set individually for each ejection nozzle 162. This is because, for example, the diameter of the discharge port is slightly different for each discharge nozzle 162.

次いで、制御装置140は、有機ELパネル2の生産時に、複数の吐出ノズル162のそれぞれに対し予め決定した印加電圧Vを印加し、複数の開口部42のそれぞれの内部に液体45を供給する。開口部42の内部に供給された液体45の液量LVのばらつきを低減でき、正孔注入層24の厚さのばらつきを低減できる。そのため、有機ELパネル2を点灯させたときの複数の画素の発光量のばらつきを低減できる。   Next, the control device 140 applies a predetermined applied voltage V to each of the plurality of discharge nozzles 162 and supplies the liquid 45 into each of the plurality of openings 42 when the organic EL panel 2 is produced. Variations in the liquid amount LV of the liquid 45 supplied into the opening 42 can be reduced, and variations in the thickness of the hole injection layer 24 can be reduced. Therefore, it is possible to reduce the variation in the light emission amount of the plurality of pixels when the organic EL panel 2 is turned on.

以上、本開示に係る検査装置、塗布システム、検査方法、および塗布方法の実施形態について説明したが、本開示は上記実施形態などに限定されない。特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更、修正、置換、付加、削除、および組合わせが可能である。それらについても当然に本開示の技術的範囲に属する。   As described above, the embodiments of the inspection apparatus, the application system, the inspection method, and the application method according to the present disclosure have been described, but the present disclosure is not limited to the above embodiments and the like. Various changes, modifications, substitutions, additions, deletions, and combinations are possible within the scope of the claims. Of course, these also belong to the technical scope of the present disclosure.

例えば、検査装置201の検査結果(より詳細には、検出部230の検出結果)は、塗布装置121a以外の装置の制御に用いられてもよい。例えば、制御装置140は、有機ELパネル2の生産時に、開口部42の内部に供給された液体45の液量LVを監視し、その監視結果に基づき警報を報知する報知装置を制御してもよい。警報は、例えば、画像、音声、またはブザーの形態で報知される。制御装置140は、開口部42の内部に供給された液体45の液量LVが第1閾値を超えたとき、または第2閾値を下回るとき、吐出ノズル162に異常が発生していると判断し、報知装置によって警報を報知してよい。ここで、第2閾値は第1閾値よりも小さい値である。   For example, the inspection result of the inspection device 201 (more specifically, the detection result of the detection unit 230) may be used for controlling devices other than the coating device 121a. For example, the control device 140 monitors the liquid amount LV of the liquid 45 supplied into the opening 42 during the production of the organic EL panel 2 and controls the notification device that issues an alarm based on the monitoring result. Good. The alarm is issued in the form of, for example, an image, a sound, or a buzzer. The control device 140 determines that an abnormality has occurred in the discharge nozzle 162 when the liquid amount LV of the liquid 45 supplied into the opening 42 exceeds the first threshold value or falls below the second threshold value. An alert may be issued by an alert device. Here, the second threshold is a value smaller than the first threshold.

10 基板
13 有機EL素子
21 陽極
22 陰極
23 有機層
40 隔壁
42 開口部
45 液体
46 液面
100 基板処理システム
121a、122a、123a 塗布装置
140 制御装置
162 吐出ノズル
201、202、203 検査装置
210 発光部
220 受光部
221 受光素子
230 検出部
Reference Signs List 10 substrate 13 organic EL element 21 anode 22 cathode 23 organic layer 40 partition 42 opening 45 liquid 46 liquid level 100 substrate processing system 121a, 122a, 123a coating device 140 control device 162 discharge nozzles 201, 202, 203 inspection device 210 light emitting portion 220 light receiving section 221 light receiving element 230 detecting section

Claims (7)

基板に形成された隔壁が隔てる複数の開口部のそれぞれの内部に供給された液体の液量を検査する検査装置であって、
前記基板の前記隔壁が形成された主表面に対し斜めに入射光を照射することで、前記開口部の内部に供給された前記液体の、上に凸の液面に前記入射光を照射する発光部と、
上に凸の前記液面で拡散反射された反射光を受光する受光部と、
前記受光部の受光量に基づき、前記開口部の内部に供給された前記液体の液量を検出する検出部とを有する、検査装置。
An inspection apparatus for inspecting a liquid amount of liquid supplied to each of a plurality of openings separated by a partition formed on a substrate,
By irradiating the main surface of the substrate on which the partition walls are formed with oblique incident light, the liquid supplied to the inside of the opening is irradiated with the incident light on an upwardly convex liquid surface. Department and
A light receiving unit that receives light reflected diffusely reflected on the liquid surface that is convex upward,
A detection unit configured to detect a liquid amount of the liquid supplied into the opening based on an amount of light received by the light receiving unit.
前記受光部は、前記基板の主表面に対し斜めに進む前記反射光を受光する、請求項1に記載の検査装置。   The inspection device according to claim 1, wherein the light receiving unit receives the reflected light that proceeds obliquely with respect to a main surface of the substrate. 複数の前記開口部は、行方向および列方向にマトリックス状に配列され、
複数の前記開口部のそれぞれは、前記列方向の寸法が前記行方向の寸法よりも長く、
前記発光部は、前記基板の前記主表面に対し斜めに光を照射する線状光源であって、前記列方向に平行とされる、請求項1または2に記載の検査装置。
The plurality of openings are arranged in a matrix in a row direction and a column direction,
Each of the plurality of openings has a dimension in the column direction longer than the dimension in the row direction,
The inspection device according to claim 1, wherein the light emitting unit is a linear light source that irradiates light obliquely to the main surface of the substrate, and is parallel to the column direction.
前記受光部は、上に凸の前記液面で拡散反射された反射光を受光する受光素子を複数有し、
複数の前記受光素子が、前記列方向に平行に並ぶ、請求項3に記載の検査装置。
The light receiving unit has a plurality of light receiving elements that receive the reflected light diffusely reflected on the liquid surface convex upward,
The inspection device according to claim 3, wherein the plurality of light receiving elements are arranged in parallel in the column direction.
請求項1〜4のいずれか1項に記載の検査装置と、
複数の前記開口部のそれぞれの内部に前記液体の液滴を吐出する吐出ノズルを複数有する塗布装置と、
前記検出部の検出結果に基づき、複数の前記吐出ノズルのそれぞれの吐出量を制御する制御装置とを備える、塗布システム。
An inspection device according to any one of claims 1 to 4,
A coating device having a plurality of discharge nozzles for discharging the liquid droplets inside each of the plurality of openings,
A control device that controls a discharge amount of each of the plurality of discharge nozzles based on a detection result of the detection unit.
基板に形成された隔壁が隔てる複数の開口部のそれぞれの内部に供給された液体の液量を検査する検査方法であって、
前記基板の前記隔壁が形成された主表面に対し斜めに入射光を照射することで、前記開口部の内部に供給された前記液体の、上に凸の液面に前記入射光を照射する工程と、
上に凸の前記液面で拡散反射された反射光を受光部で受光する工程と、
前記受光部の受光量に基づき、前記開口部の内部に供給された前記液体の液量を検出する工程とを有する、検査方法。
An inspection method for inspecting the amount of liquid supplied to each of a plurality of openings separated by a partition formed on a substrate,
Irradiating the incident light obliquely to the main surface of the substrate on which the partition walls are formed, thereby irradiating the incident light to an upwardly convex liquid surface of the liquid supplied into the opening. When,
A step of receiving the reflected light diffusely reflected on the liquid surface having an upward convexity by a light receiving unit,
Detecting the amount of the liquid supplied into the opening based on the amount of light received by the light receiving unit.
請求項6に記載の検査方法の検査結果に基づき、前記開口部の内部に前記液体の液滴を吐出する吐出ノズルの吐出量を制御する工程を有する、塗布方法。   A coating method, comprising: controlling a discharge amount of a discharge nozzle that discharges the liquid droplet into the opening based on a test result of the test method according to claim 6.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117861937A (en) * 2024-03-13 2024-04-12 泰兴联创绝缘材料有限公司 Pressure stabilizing coating process and device for release film

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001356097A (en) * 2000-04-06 2001-12-26 Krones Ag Method and apparatus for optical inspecting transparent container
US6819427B1 (en) * 2001-10-10 2004-11-16 Advanced Micro Devices, Inc. Apparatus of monitoring and optimizing the development of a photoresist material
JP2005010036A (en) * 2003-06-19 2005-01-13 Koyo Seiko Co Ltd Visual examination device
JP2008102311A (en) * 2006-10-19 2008-05-01 Toppan Printing Co Ltd Inspection method and inspection apparatus for detecting defective discharge of ink solution in ink-jet printing
JP2008246435A (en) * 2007-03-30 2008-10-16 Shibaura Mechatronics Corp Method and apparatus for applying solution
JP2009076228A (en) * 2007-09-19 2009-04-09 Seiko Epson Corp Drying method and drying device
JP2010169608A (en) * 2009-01-26 2010-08-05 Seiko Epson Corp Liquid quantity measuring method, liquid quantity meter, and electro-optical device manufacturing method
JP2011017617A (en) * 2009-07-09 2011-01-27 Kirin Techno-System Co Ltd Label inspection device of container
JP2013108816A (en) * 2011-11-18 2013-06-06 N Tech:Kk Container inspection apparatus
JP2014016305A (en) * 2012-07-11 2014-01-30 Shimadzu Corp Apparatus for inspecting substrate and transmission illuminator for apparatus for inspecting substrate
JP2014140810A (en) * 2013-01-23 2014-08-07 Ulvac Japan Ltd Ink jet device and droplet measurement method

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001356097A (en) * 2000-04-06 2001-12-26 Krones Ag Method and apparatus for optical inspecting transparent container
US6819427B1 (en) * 2001-10-10 2004-11-16 Advanced Micro Devices, Inc. Apparatus of monitoring and optimizing the development of a photoresist material
JP2005010036A (en) * 2003-06-19 2005-01-13 Koyo Seiko Co Ltd Visual examination device
JP2008102311A (en) * 2006-10-19 2008-05-01 Toppan Printing Co Ltd Inspection method and inspection apparatus for detecting defective discharge of ink solution in ink-jet printing
JP2008246435A (en) * 2007-03-30 2008-10-16 Shibaura Mechatronics Corp Method and apparatus for applying solution
JP2009076228A (en) * 2007-09-19 2009-04-09 Seiko Epson Corp Drying method and drying device
JP2010169608A (en) * 2009-01-26 2010-08-05 Seiko Epson Corp Liquid quantity measuring method, liquid quantity meter, and electro-optical device manufacturing method
JP2011017617A (en) * 2009-07-09 2011-01-27 Kirin Techno-System Co Ltd Label inspection device of container
JP2013108816A (en) * 2011-11-18 2013-06-06 N Tech:Kk Container inspection apparatus
JP2014016305A (en) * 2012-07-11 2014-01-30 Shimadzu Corp Apparatus for inspecting substrate and transmission illuminator for apparatus for inspecting substrate
JP2014140810A (en) * 2013-01-23 2014-08-07 Ulvac Japan Ltd Ink jet device and droplet measurement method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117861937A (en) * 2024-03-13 2024-04-12 泰兴联创绝缘材料有限公司 Pressure stabilizing coating process and device for release film

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