JP2020008319A - Inspection device, coating system, inspection method, and coating method - Google Patents
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims abstract description 100
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 52
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 50
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 29
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 175
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 175
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims abstract description 43
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 14
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 6
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 3
- 238000010998 test method Methods 0.000 claims 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 195
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 69
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 69
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 43
- 239000000463 material Substances 0.000 description 36
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 35
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 32
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 29
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 22
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 22
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 22
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 20
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 18
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 5
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 4
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000012217 deletion Methods 0.000 description 1
- 230000037430 deletion Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
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- Coating Apparatus (AREA)
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Abstract
Description
本開示は、検査装置、塗布システム、検査方法、および塗布方法に関する。 The present disclosure relates to an inspection device, an application system, an inspection method, and an application method.
特許文献1に記載の外観検査装置は、ライン照明光を基板に照射する照明部と、基板で反射するライン照明光を撮像してマクロ画像を取得するラインセンサカメラとを有し、例えば、基板上に形成されるレジスト膜の膜ムラを検査する。 The appearance inspection device described in Patent Literature 1 includes an illumination unit that irradiates line illumination light to a substrate, and a line sensor camera that captures a line illumination light reflected by the substrate to obtain a macro image. The resist film formed on the film is inspected for unevenness.
本開示の一態様は、隔壁が隔てる複数の開口部のそれぞれの内部に供給された液体の液量を、液体の乾燥前に検査できる技術を提供する。 One embodiment of the present disclosure provides a technique capable of inspecting a liquid amount of a liquid supplied into each of a plurality of openings separated by a partition before drying the liquid.
本開示の一態様に係る検査装置は、
基板に形成された隔壁が隔てる複数の開口部のそれぞれの内部に供給された液体の液量を検査する検査装置であって、
前記基板の前記隔壁が形成された主表面に対し斜めに入射光を照射することで、前記開口部の内部に供給された前記液体の、上に凸の液面に前記入射光を照射する発光部と、
上に凸の前記液面で拡散反射された反射光を受光する受光部と、
前記受光部の受光量に基づき、前記開口部の内部に供給された前記液体の液量を検出する検出部とを有する。
An inspection device according to an aspect of the present disclosure,
An inspection device for inspecting the amount of liquid supplied to each of a plurality of openings separated by a partition formed on the substrate,
By irradiating an incident light obliquely to a main surface of the substrate on which the partition walls are formed, light emitted to irradiate the incident light to an upwardly convex liquid surface of the liquid supplied into the opening. Department and
A light receiving unit that receives the light diffusely reflected by the liquid surface that is convex upward,
A detection unit configured to detect a liquid amount of the liquid supplied to the inside of the opening based on a light reception amount of the light receiving unit.
本開示の一態様によれば、隔壁が隔てる複数の開口部のそれぞれの内部に供給された液体の液量を、液体の乾燥前に検査できる。 According to an embodiment of the present disclosure, the amount of liquid supplied to each of the plurality of openings separated by the partition can be inspected before the liquid is dried.
以下、本開示の実施形態について図面を参照して説明する。尚、各図面において同一の又は対応する構成には同一の又は対応する符号を付し、説明を省略することがある。 Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described with reference to the drawings. In each drawing, the same or corresponding components are denoted by the same or corresponding reference numerals, and description thereof may be omitted.
図1は、一実施形態に係る有機ELパネルの要部を示す断面図である。図2は、図1に示す隔壁の開口部の配置の一例を示す平面図である。 FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a main part of an organic EL panel according to one embodiment. FIG. 2 is a plan view showing an example of the arrangement of the openings of the partition wall shown in FIG.
有機ELパネル2は、基板10と、基板10に形成される複数の有機EL素子13とを有する。複数の有機EL素子13は、行方向および列方向にマトリックス状に配列される。複数の有機EL素子13のそれぞれは、陽極21と、陰極22と、陽極21と陰極22との間に形成される有機層23とを有する。陽極21と陰極22との間に電圧を印加すると、有機層23において光が発生する。
The
基板10としては、例えばガラス基板または樹脂基板などの透明基板が用いられる。有機ELパネル2がボトムエミッション型である場合、有機層23において発生した光は基板10を透過し、外部に取り出される。一方、有機ELパネル2がトップエミッション型である場合、有機層23において発生した光は基板10とは反対側に取り出される。そのため、有機ELパネル2がトップエミッション型である場合、基板10は不透明基板であってもよい。
As the
陽極21は、例えばITO(Indium Tin Oxide)などで形成される。有機ELパネル2がボトムエミッション型である場合、陽極21はITOなどで形成される透明電極のみを有する。一方、有機ELパネル2がトップエミッション型である場合、陽極21は、ITOなどで形成される透明電極の他に、アルミニウム(Al)または銀(Ag)などで形成される反射電極を有する。反射電極は、有機層23からの光を有機層23に向けて反射するものであり、透明電極と基板10との間に形成される。陽極21は、有機EL素子13毎に個別に形成される。
The
陰極22は、例えばアルミニウム、またはマグネシウムと銀との混合材(Mg/Al)などで形成される。有機ELパネル2がボトムエミッション型である場合、陰極22は、有機層23からの光を有機層23に向けて反射する反射電極である。一方、有機ELパネル2がトップエミッション型である場合、陰極22は、有機層23からの光を透過させる透明電極である。陰極22は、複数の有機EL素子13に亘って連続的に形成され、有機ELパネル2の表示領域の全体に亘って連続的に形成される。
The
有機層23は、例えば、陽極21側から陰極22側に向けて、正孔注入層24と、正孔輸送層25と、発光層26と、電子輸送層27と、電子注入層28とをこの順で有する。陽極21と陰極22との間に電圧がかかると、陽極21から正孔注入層24に正孔が注入されると共に、陰極22から電子注入層28に電子が注入される。正孔注入層24に注入された正孔は、正孔輸送層25によって発光層26へ輸送される。また、電子注入層28に注入された電子は、電子輸送層27によって発光層26へ輸送される。そうして、発光層26内で正孔と電子が再結合して、発光層26の発光材料が励起され、発光層26が発光する。
The
正孔注入層24、正孔輸送層25、および発光層26は、陽極21と同様に、有機EL素子13毎に個別に形成される。尚、陽極21から発光層26に正孔を供給できればよく、正孔注入層24は無くてもよい。また、陽極21から発光層26に正孔を供給できればよく、正孔注入層24は無くてもよい。
The
発光層26として、例えば、赤色に発光する赤色発光層26Rと、緑色に発光する緑色発光層26Gと、青色に発光する青色発光層26Bとが形成される。1つの赤色発光層26Rと、1つの緑色発光層26Gと、1つの青色発光層26Bとで、1つの画素が構成される。
As the
1つの画素を構成する赤色発光層26Rと緑色発光層26Gと青色発光層26Bとの配置は、図1に示す配置には限定されない。また、1つの画素は、赤色、緑色および青色以外の色(例えば黄色)に発光する発光層をさらに有してもよい。
The arrangement of the red
電子輸送層27および電子注入層28は、陰極22と同様に、マトリックス状に配置される複数の有機EL素子13に亘って連続的に形成され、有機ELパネル2の表示領域の全体に亘って連続的に供給される。尚、陰極22から発光層26に電子を供給できればよく、電子注入層28は無くてもよい。また、陰極22から発光層26に電子を供給できればよく、電子輸送層27は無くてもよい。
Like the
有機ELパネル2は、図1に示すように、隔壁40を有する。隔壁40には複数の開口部42が形成される。隔壁40が複数の開口部42を隔てる。複数の開口部42は、図2に示すように、行方向(図2においてX軸方向)および列方向(図2においてY軸方向)にマトリックス状に配列される。複数の開口部42のそれぞれは、例えば矩形状に形成される。本明細書において、「矩形状」とは、コーナーが面取りされた形状を含む。複数の開口部42のそれぞれは、図2に示すように、列方向の寸法Aが行方向の寸法Bよりも長い。複数の開口部42のそれぞれの内部には、例えば正孔注入層24、正孔輸送層25、および発光層26が形成される。
The
赤色発光層26Rが内部に形成される開口部42Rと、緑色発光層26Gが内部に形成される開口部42Gと、青色発光層26Bが内部に形成される開口部42Bとは、本実施形態では同じ大きさであるが、異なる大きさでもよい。赤色発光層26R用の開口部42R、緑色発光層26G用の開口部42G、および青色発光層26B用の開口部42Bは、それぞれ、列方向の寸法Aが行方向の寸法Bよりも長ければよい。
In the present embodiment, the
尚、赤色発光層26R用の開口部42Rと、緑色発光層26G用の開口部42Gと、青色発光層26B用の開口部42Bとの配置は、図2に示す配置には限定されない。また、開口部42は、赤色、緑色および青色以外の色(例えば黄色)に発光する発光層が内部に形成されるものであってもよい。
The arrangement of the
図3は、一実施形態に係る有機EL素子の製造方法を示すフローチャートである。尚、有機EL素子13の製造方法は、少なくとも、陽極21を形成する工程S101と、隔壁を形成する工程S102と、発光層26を形成する工程S105と、陰極22を形成する工程S108とを有していればよい。
FIG. 3 is a flowchart showing a method for manufacturing an organic EL device according to one embodiment. The method for manufacturing the
有機EL素子13の製造方法は、陽極21を形成する工程S101を有する。陽極21は、例えばスパッタリング法または真空蒸着法で成膜され、フォトリソグラフィ法およびエッチング法で予め定められたパターンに形成される。
The method for manufacturing the
有機EL素子13の製造方法は、隔壁40を形成する工程S102を有する。隔壁40は、例えば感光性樹脂を用いて形成され、フォトリソグラフィ法によって予め定められたパターンに形成される。隔壁40の開口部42において陽極21が露出する。
The method for manufacturing the
有機EL素子13の製造方法は、正孔注入層24を形成する工程S103を有する。正孔注入層24は、例えばインクジェット法によって正孔注入層24の材料を含む液滴を開口部42に滴下して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで形成される。正孔注入層24は、陽極21の表面に接するように形成される。
The method for manufacturing the
有機EL素子13の製造方法は、正孔輸送層25を形成する工程S104を有する。正孔輸送層25は、正孔注入層24と同様に、例えばインクジェット法によって正孔輸送層25の材料を含む液滴を開口部42に滴下して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで形成される。正孔輸送層25は、正孔注入層24に接するように形成される。
The method for manufacturing the
有機EL素子13の製造方法は、発光層26を形成する工程S105を有する。発光層26は、正孔注入層24および正孔輸送層25と同様に、例えばインクジェット法によって発光層26の材料を含む液滴を開口部42に滴下して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで形成される。
The method for manufacturing the
発光層26として、例えば赤色発光層26R、緑色発光層26G、および青色発光層26Bが形成される。隔壁40は、赤色発光層26Rの材料と、緑色発光層26Gの材料と、青色発光層26Bの材料とを隔てることで、これらの材料の混合を防止する。
As the
有機EL素子13の製造方法は、電子輸送層27を形成する工程S106を有する。電子輸送層27は、例えば真空蒸着法によって形成され、有機ELパネル2の表示領域の全体に形成される。電子輸送層27は、発光層26の表面のみならず、隔壁40の表面に接するように形成される。
The method for manufacturing the
有機EL素子13の製造方法は、電子注入層28を形成する工程S107を有する。電子注入層28は、電子輸送層27と同様に、例えば真空蒸着法によって形成され、有機ELパネル2の表示領域の全体に形成される。電子注入層28は、電子輸送層27の表面に接するように形成される。
The method for manufacturing the
有機EL素子13の製造方法は、陰極22を形成する工程S108を有する。陰極22は、電子輸送層27および電子注入層28と同様に、例えば真空蒸着法によって形成され、有機ELパネル2の表示領域の全体に形成される。陰極22は、電子注入層28の表面に接するように形成される。このようにして、有機EL素子13が製造される。
The method for manufacturing the
陰極22の上には、封止層50が形成される。封止層50は、有機層23が水分や空気に曝されるのを抑制し、有機層23の劣化を抑制する。有機ELパネル2がトップエミッション型である場合、封止層50は発光層26において発生した光を透過させる。封止層50は、例えばCVD法によって形成され、有機ELパネル2の表示領域の全体に形成される。このようにして、有機ELパネル2が製造される。
On the
図4は、一実施形態に係る検査装置と塗布装置とを備えた基板処理システムを示す平面図である。図4において斑点模様は検査装置201〜203の位置を示す。基板処理システム100は、図3の工程S103〜S105に相当する各処理を行い、陽極21上に正孔注入層24、正孔輸送層25および発光層26を形成する。基板処理システム100は、搬入ステーション110と、処理ステーション120と、搬出ステーション130と、制御装置140とを有する。
FIG. 4 is a plan view showing a substrate processing system including an inspection device and a coating device according to one embodiment. In FIG. 4, the spot patterns indicate the positions of the
搬入ステーション110は、複数の基板10を収容するカセットCを外部から搬入させ、カセットCから複数の基板10を順次取り出す。各基板10には、陽極21、隔壁40などが形成されている。
The
搬入ステーション110は、カセットCを載置するカセット載置台111と、カセット載置台111と処理ステーション120との間に設けられる搬送路112と、搬送路112に設けられる基板搬送体113とを備える。基板搬送体113は、カセット載置台111に載置されたカセットCと処理ステーション120との間で基板10を搬送する。
The
処理ステーション120は、陽極21上に、正孔注入層24、正孔輸送層25および発光層26を形成する。処理ステーション120は、正孔注入層24を形成する正孔注入層形成ブロック121と、正孔輸送層25を形成する正孔輸送層形成ブロック122と、発光層26を形成する発光層形成ブロック123を備える。
The
正孔注入層形成ブロック121は、正孔注入層24の材料液を陽極21上に塗布して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで、正孔注入層24を形成する。正孔注入層24の材料液は、有機材料および溶剤を含む。その有機材料は、ポリマー、モノマーのいずれでもよい。モノマーの場合、焼成によって重合され、ポリマーとされてもよい。
The hole injection
正孔注入層形成ブロック121は、塗布装置121aと、検査装置201と、バッファ装置121bと、減圧乾燥装置121cと、熱処理装置121dと、温度調節装置121eとを備える。塗布装置121aは、正孔注入層24の材料液の液滴を、隔壁40の開口部42に向けて吐出する。検査装置201は、開口部42の内部に供給された、正孔注入層24の材料液の液量を検査する。検査装置201は、図4に示すように塗布装置121aの内部に配置されるが、図11に示すように塗布装置121aの外部に配置されてもよく、後者の場合、バッファ装置121bを兼ねてもよい。バッファ装置121bは、処理待ちの基板10を一時的に収容する。減圧乾燥装置121cは、塗布装置121aによって形成した液膜を減圧乾燥し、液膜に含まれる溶剤を除去する。熱処理装置121dは、減圧乾燥装置121cによって乾燥した液膜を加熱処理する。温度調節装置121eは、熱処理装置121dで加熱処理された基板10の温度を、所定の温度、例えば常温に調節する。
The hole injection
塗布装置121a、検査装置201、バッファ装置121b、熱処理装置121d、および温度調節装置121eは、内部が大気雰囲気に維持される。減圧乾燥装置121cは、内部の雰囲気を、大気雰囲気と減圧雰囲気とに切り替える。
The inside of the
尚、正孔注入層形成ブロック121において、塗布装置121a、検査装置201、バッファ装置121b、減圧乾燥装置121c、熱処理装置121dおよび温度調節装置121eの、配置や個数、内部の雰囲気は、任意に選択可能である。
In the hole injection
また、正孔注入層形成ブロック121は、基板搬送装置CR1〜CR3と、受渡装置TR1〜TR3とを備える。基板搬送装置CR1〜CR3は、それぞれ隣接する各装置へ基板10を搬送する。例えば、基板搬送装置CR1は、隣接する塗布装置121aおよびバッファ装置121bへ基板10を搬送する。基板搬送装置CR2は、隣接する減圧乾燥装置121cへ基板10を搬送する。基板搬送装置CR3は、隣接する熱処理装置121dおよび温度調節装置121eへ基板10を搬送する。受渡装置TR1〜TR3は、それぞれ順に、搬入ステーション110と基板搬送装置CR1の間、基板搬送装置CR1と基板搬送装置CR2の間、基板搬送装置CR2と基板搬送装置CR3の間に設けられ、これらの間で基板10を中継する。基板搬送装置CR1〜CR3や受渡装置TR1〜TR3は、内部が大気雰囲気に維持される。
Further, the hole injection
正孔注入層形成ブロック121の基板搬送装置CR3と、正孔輸送層形成ブロック122の基板搬送装置CR4との間には、これらの間で基板10を中継する受渡装置TR4が設けられる。受渡装置TR4は、内部が大気雰囲気に維持される。
Between the substrate transport device CR3 of the hole injection
正孔輸送層形成ブロック122は、正孔輸送層25の材料液を正孔注入層24上に塗布して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで、正孔輸送層25を形成する。正孔輸送層25の材料液は、有機材料および溶剤を含む。その有機材料は、ポリマー、モノマーのいずれでもよい。モノマーの場合、焼成によって重合され、ポリマーとされてもよい。
The hole transport
正孔輸送層形成ブロック122は、塗布装置122aと、検査装置202と、バッファ装置122bと、減圧乾燥装置122cと、熱処理装置122dと、温度調節装置122eとを備える。塗布装置122aは、正孔輸送層25の材料液の液滴を、隔壁40の開口部42に向けて吐出する。検査装置202は、開口部42の内部に供給された、正孔輸送層25の材料液の液量を検査する。検査装置202は、図4に示すように塗布装置122aの内部に配置されるが、図11に示すように塗布装置122aの外部に配置されてもよく、後者の場合、バッファ装置122bを兼ねてもよい。バッファ装置122bは、処理待ちの基板10を一時的に収容する。減圧乾燥装置122cは、塗布装置122aによって形成した液膜を減圧乾燥し、液膜に含まれる溶剤を除去する。熱処理装置122dは、減圧乾燥装置122cによって乾燥した液膜を加熱処理する。温度調節装置122eは、熱処理装置122dで加熱処理された基板10の温度を、所定の温度、例えば常温に調節する。
The hole transport
塗布装置122a、検査装置202、およびバッファ装置122bは、内部が大気雰囲気に維持される。一方、熱処理装置122dおよび温度調節装置122eは、正孔輸送層25の有機材料の劣化を抑制するため、内部が低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。減圧乾燥装置122cは、内部の雰囲気を、低酸素かつ低露点の雰囲気と、減圧雰囲気とに切り替える。
The inside of the
ここで、低酸素の雰囲気とは、大気よりも酸素濃度が低い雰囲気、例えば酸素濃度が10ppm以下の雰囲気をいう。また、低露点の雰囲気とは、大気よりも露点温度が低い雰囲気、例えば露点温度が−10℃以下の雰囲気をいう。低酸素かつ低露点の雰囲気は、例えば窒素ガス等の不活性ガスで形成される。 Here, the low-oxygen atmosphere refers to an atmosphere having an oxygen concentration lower than that of the air, for example, an atmosphere having an oxygen concentration of 10 ppm or less. Further, the atmosphere having a low dew point means an atmosphere having a dew point temperature lower than that of the atmosphere, for example, an atmosphere having a dew point temperature of -10 ° C or lower. The atmosphere with low oxygen and low dew point is formed with an inert gas such as nitrogen gas.
尚、正孔輸送層形成ブロック122において、塗布装置122a、検査装置202、バッファ装置122b、減圧乾燥装置122c、熱処理装置122dおよび温度調節装置122eの、配置や個数、内部の雰囲気は、任意に選択可能である。
In the hole transport
また、正孔輸送層形成ブロック122は、基板搬送装置CR4〜CR6と、受渡装置TR5〜TR6とを備える。基板搬送装置CR4〜CR6は、それぞれ隣接する各装置へ基板10を搬送する。受渡装置TR5〜TR6は、それぞれ順に、基板搬送装置CR4と基板搬送装置CR5の間、基板搬送装置CR5と基板搬送装置CR6の間に設けられ、これらの間で基板10を中継する。
The hole transport
基板搬送装置CR4の内部は、大気雰囲気に維持される。一方、基板搬送装置CR5〜CR6の内部は、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。基板搬送装置CR5に隣接される減圧乾燥装置122cの内部が、低酸素かつ低露点の雰囲気と、減圧雰囲気とに切り替えられるためである。また、基板搬送装置CR6に隣設される熱処理装置122dや温度調節装置122eの内部が、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持されるためである。
The inside of the substrate transfer device CR4 is maintained in an air atmosphere. On the other hand, the inside of the substrate transfer devices CR5 to CR6 is maintained in an atmosphere with low oxygen and low dew point. This is because the inside of the reduced-
受渡装置TR5は、その内部の雰囲気を、大気雰囲気と、低酸素かつ低露点の雰囲気との間で切り替えるロードロック装置として構成される。受渡装置TR6の下流側に減圧乾燥装置122cが隣設されるためである。一方、受渡装置TR6の内部は、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。
The delivery device TR5 is configured as a load lock device that switches the internal atmosphere between an air atmosphere and an atmosphere with low oxygen and low dew point. This is because the reduced-
正孔輸送層形成ブロック122の基板搬送装置CR6と、発光層形成ブロック123の基板搬送装置CR7との間には、これらの間で基板10を中継する受渡装置TR7が設けられる。基板搬送装置CR6の内部は低酸素かつ低露点の雰囲気に維持され、基板搬送装置CR7の内部は大気雰囲気に維持される。そのため、受渡装置TR7は、その内部の雰囲気を、低酸素かつ低露点の雰囲気と、大気雰囲気との間で切り替えるロードロック装置として構成される。
Between the substrate transport device CR6 of the hole transport
発光層形成ブロック123は、発光層26の材料液を正孔輸送層25上に塗布して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで、発光層26を形成する。発光層26の材料液は、有機材料および溶剤を含む。その有機材料は、ポリマー、モノマーのいずれでもよい。モノマーの場合、焼成によって重合され、ポリマーとされてもよい。
The light emitting
発光層形成ブロック123は、塗布装置123aと、検査装置203と、バッファ装置123bと、減圧乾燥装置123cと、熱処理装置123dと、温度調節装置123eとを備える。塗布装置123aは、発光層26の材料液の液滴を、隔壁40の開口部42に向けて吐出する。検査装置203は、開口部42の内部に供給された、発光層26の材料液の液量を検査する。検査装置203は、図4に示すように塗布装置123aの内部に配置されるが、図11に示すように塗布装置123aの外部に配置されてもよく、後者の場合、バッファ装置123bを兼ねてもよい。バッファ装置123bは、処理待ちの基板10を一時的に収容する。減圧乾燥装置123cは、塗布装置123aによって形成した液膜を減圧乾燥し、液膜に含まれる溶剤を除去する。熱処理装置123dは、減圧乾燥装置123cによって乾燥した液膜を加熱処理する。温度調節装置123eは、熱処理装置123dで加熱処理された基板10の温度を、所定の温度、例えば常温に調節する。
The light emitting
塗布装置123a、検査装置203、およびバッファ装置123bは、内部が大気雰囲気に維持される。一方、熱処理装置123dおよび温度調節装置123eは、発光層26の有機材料の劣化を抑制するため、内部が低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。減圧乾燥装置123cは、内部の雰囲気を、低酸素かつ低露点の雰囲気と、減圧雰囲気とに切り替える。
The interiors of the
尚、発光層形成ブロック123において、塗布装置123a、検査装置203、バッファ装置123b、減圧乾燥装置123c、熱処理装置123dおよび温度調節装置123eの、配置や個数、内部の雰囲気は、任意に選択可能である。
In the light emitting
また、発光層形成ブロック123は、基板搬送装置CR7〜CR9と、受渡装置TR8〜TR9とを備える。基板搬送装置CR7〜CR9は、それぞれ隣接する各装置へ基板10を搬送する。受渡装置TR8〜TR9は、それぞれ順に、基板搬送装置CR7と基板搬送装置CR8の間、基板搬送装置CR8と基板搬送装置CR9の間に設けられ、これらの間で基板10を中継する。
The light emitting
基板搬送装置CR7の内部は、大気雰囲気に維持される。一方、基板搬送装置CR8〜CR9の内部は、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。基板搬送装置CR8に隣接される減圧乾燥装置123cの内部が、低酸素かつ低露点の雰囲気と、減圧雰囲気とに切り替えられるためである。また、基板搬送装置CR9に隣設される熱処理装置123dや温度調節装置123eの内部が、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持されるためである。
The inside of the substrate transfer device CR7 is maintained in an air atmosphere. On the other hand, the inside of the substrate transfer devices CR8 to CR9 is maintained in an atmosphere of low oxygen and low dew point. This is because the inside of the reduced-
受渡装置TR8は、その内部の雰囲気を、大気雰囲気と、低酸素かつ低露点の雰囲気との間で切り替えるロードロック装置として構成される。受渡装置TR8の下流側に減圧乾燥装置123cが隣設されるためである。受渡装置TR9の内部は、低酸素かつ低露点の雰囲気に維持される。
The delivery device TR8 is configured as a load lock device that switches the internal atmosphere between an atmospheric atmosphere and an atmosphere with low oxygen and low dew point. This is because the reduced-
発光層形成ブロック123の基板搬送装置CR9と、搬出ステーション130との間には、これらの間で基板10を中継する受渡装置TR10が設けられる。基板搬送装置CR9の内部は低酸素かつ低露点の雰囲気に維持され、搬出ステーション130の内部は大気雰囲気に維持される。そのため、受渡装置TR7は、その内部の雰囲気を、低酸素かつ低露点の雰囲気と、大気雰囲気との間で切り替えるロードロック装置として構成される。
Between the substrate transfer device CR9 of the light emitting
搬出ステーション130は、複数の基板10を順次カセットCに収納し、カセットCを外部に搬出させる。搬出ステーション130は、カセットCを載置するカセット載置台131と、カセット載置台131と処理ステーション120との間に設けられる搬送路132と、搬送路132に設けられる基板搬送体133とを備える。基板搬送体133は、処理ステーション120と、カセット載置台131に載置されたカセットCとの間で基板10を搬送する。
The unloading
制御装置140は、例えばコンピュータで構成され、CPU(Central Processing Unit)141と、メモリなどの記憶媒体142と、入力インターフェースと、出力インターフェースとを有する。制御装置140は、記憶媒体142に記憶されたプログラムをCPU141に実行させることにより、各種の制御を行う。また、制御装置140は、入力インターフェースで外部からの信号を受信し、出力インターフェースで外部に信号を送信する。
The
制御装置140のプログラムは、情報記憶媒体に記憶され、情報記憶媒体からインストールされる。情報記憶媒体としては、例えば、ハードディスク(HD)、フレキシブルディスク(FD)、コンパクトディスク(CD)、マグネットオプティカルデスク(MO)、メモリーカードなどが挙げられる。尚、プログラムは、インターネットを介してサーバからダウンロードされ、インストールされてもよい。
The program of the
次に、上記構成の基板処理システム100を用いた基板処理方法について説明する。複数の基板10を収容したカセットCがカセット載置台111上に載置されると、基板搬送体113が、カセット載置台111上のカセットCから基板10を順次取り出し、正孔注入層形成ブロック121に搬送する。
Next, a substrate processing method using the
正孔注入層形成ブロック121は、正孔注入層24の材料液を陽極21上に塗布して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで、正孔注入層24を形成する。検査装置201は、隔壁40の開口部42の内部に供給された、正孔注入層24の材料液の液量を検査する。この検査は、正孔注入層24の材料液の乾燥の前に行われる。正孔注入層24が形成された基板10は、受渡装置TR4によって、正孔注入層形成ブロック121から正孔輸送層形成ブロック122に受け渡される。
The hole injection
正孔輸送層形成ブロック122は、正孔輸送層25の材料液を正孔注入層24上に塗布して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで、正孔輸送層25を形成する。検査装置202は、隔壁40の開口部42の内部に供給された、正孔輸送層25の材料液の液量を検査する。この検査は、正孔輸送層25の材料液の乾燥の前に行われる。正孔輸送層25が形成された基板10は、受渡装置TR7によって、正孔輸送層形成ブロック122から発光層形成ブロック123に受け渡される。
The hole transport
発光層形成ブロック123は、発光層26の材料液を正孔輸送層25上に塗布して液膜を形成し、その液膜の乾燥および焼成を行うことで、発光層26を形成する。検査装置203は、隔壁40の開口部42の内部に供給された、発光層26の材料液の液量を検査する。この検査は、発光層26の材料液の乾燥の前に行われる。発光層26が形成された基板10は、受渡装置TR10によって、発光層形成ブロック123から搬出ステーション130に受け渡される。
The light emitting
搬出ステーション130の基板搬送体133は、受渡装置TR10から受取った基板10を、カセット載置台131上の所定のカセットCに収める。これにより、基板処理システム100における一連の基板10の処理が終了する。
The
基板10は、カセットCに収められた状態で、搬出ステーション130から外部に搬出される。外部に搬出された基板10には、電子輸送層27や電子注入層28、陰極22などが形成される。
The
次に、正孔注入層形成ブロック121の塗布装置121aについて図5および図6を参照して説明する。図5は、一実施形態に係る正孔注入層形成ブロックの塗布装置を示す平面図である。図6は、一実施形態に係る正孔注入層形成ブロックの塗布装置を示す側面図である。尚、正孔輸送層形成ブロック122の塗布装置122a、および発光層形成ブロック123の塗布装置123aは、正孔注入層形成ブロック121の塗布装置121aと同様に構成されるため、図示および説明を省略する。
Next, the
塗布装置121aは、基板10における機能液(例えば正孔注入層24の材料液)の液滴の着弾位置をX軸方向およびY軸方向に移動させて、基板10に機能液の描画パターンを描く。塗布装置121aは、例えば、基板10を保持する基板保持部150と、基板保持部150で保持されている基板10に機能液の液滴を吐出する液滴吐出部160と、X軸方向およびY軸方向に基板保持部150と液滴吐出部160とを相対的に移動させる移動部170とを備える。
The
基板保持部150は、基板10に形成された隔壁40の開口部42を上に向けて、基板10を水平に保持する。基板保持部150としては、例えば真空チャックが用いられるが、静電チャックなどが用いられてもよい。
The
液滴吐出部160は、基板保持部150で保持されている基板10の上方から、隔壁40の開口部42の内部に機能液の液滴を吐出する。液滴吐出部160は、Y軸方向に複数(例えば図5では10個)並んでいる。複数の液滴吐出部160は、それぞれの下面に、X軸方向に間隔をおいて並ぶ複数の吐出ヘッド161を有する。
The
複数の吐出ヘッド161のそれぞれは、下面に、Y軸方向に間隔をおいて一列に並ぶ複数の吐出ノズル162を有する。Y軸方向に間隔をおいて一列に並ぶ複数の吐出ノズル162で構成される吐出ノズル列は、図6では吐出ヘッド161毎に1つ設けられるが、複数(例えば2つ)設けられてもよい。
Each of the plurality of ejection heads 161 has, on a lower surface, a plurality of
複数の吐出ヘッド161のそれぞれは、Y軸方向に間隔をおいて一列に並ぶ複数の開口部42の内部に機能液の液滴を同時に供給する。一の吐出ヘッド161に備えられる吐出ノズル162の数は、一の吐出ヘッド161が同時に液滴を供給する開口部42の数よりも多い。一の開口部42に、複数の吐出ノズル162が同時に液滴を供給してよい。
Each of the plurality of ejection heads 161 simultaneously supplies a droplet of the functional liquid into the plurality of
複数の吐出ヘッド161のそれぞれは、吐出ノズル162毎にピエゾ素子を有する。ピエゾ素子に電圧をかけると、ピエゾ素子が変形して吐出ノズル162から液滴が吐出される。ピエゾ素子の代わりに、ヒータなどが用いられてもよい。ヒータに電圧をかけると、バブルが発生し、発生したバブルの圧力によって吐出ノズル162から液滴が吐出される。吐出ノズル162が吐出する機能液の吐出量は、吐出ノズル162毎に個別に制御可能である。
Each of the plurality of ejection heads 161 has a piezo element for each
複数の吐出ヘッド161は、本実施形態では同じ材料の機能液を吐出するが、異なる材料の機能液を吐出してもよい。例えば、発光層形成ブロック123の塗布装置123aは、赤色発光層26Rの材料液を吐出する吐出ヘッドと、緑色発光層の材料液を吐出する吐出ヘッドと、青色発光層の材料液を吐出する吐出ヘッドとを有する。但し、同一の吐出ヘッド161に設けられる複数の吐出ノズル162は、同一の種類の機能液の液滴を吐出する。
In the present embodiment, the plurality of ejection heads 161 eject functional liquids of the same material, but may eject functional liquids of different materials. For example, the
移動部170は、X軸方向およびY軸方向に基板保持部150と液滴吐出部160とを相対的に移動させる。例えば、移動部170は、ベース171に対し基板保持部150をX軸方向に移動させるX軸方向移動部172を有する。X軸方向移動部172は、例えば、ベース171に敷設される一対のX軸ガイド173と、一対のX軸ガイド173に沿って基板保持部150を移動させる一対のX軸リニアモータとを有する。また、移動部170は、ベース171に対し基板保持部150をY軸方向に移動させるY軸方向移動部174(図6参照)とを有する。
The moving
移動部170が基板10をX軸方向に移動させながら、液滴吐出部160が液滴を滴下する。その後、移動部170が基板10をY軸方向に移動させることと、移動部170が基板10をX軸方向に移動させながら液滴吐出部160が液滴を滴下することとを交互に繰り返すことで、塗布装置121aが基板10に機能液の描画パターンを描く。
While the moving
尚、上記構成の移動部170は、基板10上に所定のパターンを描画するため、基板保持部150を移動させるが、液滴吐出部160を移動させてもよいし、基板保持部150と液滴吐出部160の両方を移動させてもよい。
The moving
塗布装置121aの内部には、検査装置201が配置される。検査装置201は、隔壁40が隔てる複数の開口部42のそれぞれの内部に供給された液体45の液量を検査する(図7参照)。液体45は、例えば正孔注入層24の材料液である。開口部42の内部に供給された液体45の乾燥および焼成を行うことで、正孔注入層24が形成される。開口部42の内部に供給された液体45の液量LVと正孔注入層24の厚さとは比例するため、液体45の液量LVを検査することで正孔注入層24の厚さを検査できる。
An
検査装置201は、隔壁40が隔てる複数の開口部42のそれぞれの内部に供給された液体45の液量LVのばらつきを検査する。液体45の液量LVのばらつきが小さいほど、正孔注入層24の厚さのばらつきが小さく、有機ELパネル2を点灯させたときに複数の画素の発光量のばらつきが小さい。
The
従来の検査装置は、有機ELパネル2を実際に点灯させたときの、複数の画素の発光量のばらつきを検査していた。その検査のためには、有機ELパネル2の製造プロセスを最後まで進める必要がある。そのため、検査装置の検査結果を吐出ノズル162の吐出量の調整に反映するまでの待ち時間が長く、コストも高かった。
The conventional inspection device inspects the variation in the light emission amount of a plurality of pixels when the
本実施形態の検査装置201は、開口部42の内部に供給された液体45の乾燥および熱処理の前に、液体45の液量LVを検査する。その検査は、有機ELパネル2の製造プロセスの途中で行われる。そのため、検査装置201の検査結果を吐出ノズル162の吐出量の調整に反映するまでの待ち時間が短く、コストも低い。
The
次に、正孔注入層形成ブロック121の検査装置201について図7および図8を参照して説明する。図7は、一実施形態に係る正孔注入層形成ブロックの検査装置を示す側面断面図である。図8は、一実施形態に係る正孔注入層形成ブロックの検査装置を示す平面図である。尚、正孔輸送層形成ブロック122の検査装置202、および発光層形成ブロック123の検査装置203は、正孔注入層形成ブロック121の検査装置201と同様に構成されるため、図示および説明を省略する。
Next, the
検査装置201は、液体45の液量LVの検査を実現するため、発光部210と、受光部220と、検出部230とを有する。
The
発光部210は、基板10の隔壁40が形成された主表面11に対し斜めに入射光L1を照射することで、開口部42の内部に供給された液体45の、上に凸の液面46に入射光L1を照射する。発光部210の光軸210Aは、基板10の主表面11に対し斜めとされる。
The
受光部220は、上に凸の液面46で拡散反射された反射光L2を受光する。反射光L2は、正反射されたものではなく、拡散反射されたものである。つまり、発光部210が照射する入射光L1の入射角θ1と、受光部220が受光する反射光L2の反射角θ2とは異なる。入射光L1の入射角θ1は、発光部210の光軸210Aと、基板10の主表面11の法線NVとのなす角である。反射光L2の反射角θ2は、受光部220の光軸220Aと、基板10の主表面11の法線NVとのなす角である。
The
液体45の液量LVが大きいほど、液面46が上に凸に膨らみ、液面46が鏡面ではなくなるため、入射光L1が基板10の主表面11に対し様々な角度で反射するようになる。そのため、液体45の液量LVが大きいほど、受光部220で受光される反射光L2の受光量が大きくなる。従って、反射光L2の受光量から、液体45の液量LVを求めることができる。
As the liquid amount LV of the liquid 45 is larger, the
受光部220の光軸220Aは基板10の主表面11に対し垂直とされてもよく、受光部220が受光する反射光L2の反射角θ2は0°でもよいが、本実施形態では図7に示すように受光部220の光軸220Aは基板10の主表面11に対し斜めとされる。受光部220は、基板10の主表面11に対し斜めに進む反射光L2を受光する。
The
受光部220の光軸220Aが基板10の主表面11に対し垂直とされる場合、基板10の主表面11に形成される配線パターン(不図示)で拡散反射された反射光が隔壁40の表面41や液体45の液面46などの屈折率の不連続面を透過しやすい。そのため、配線パターンで拡散反射された反射光が受光部220に入射しやすい。
When the
配線パターンから受光部220に向う反射光が屈折率の不連続面を透過することを抑制するため、受光部220の光軸220Aは基板10の主表面11に対し斜めとされ、受光部220は基板10の主表面11に対し斜めに進む反射光L2を受光する。受光部220の受光量に対する配線パターンの影響を低減でき、液体45の液量LVの検出精度を向上できる。
The
検出部230は、受光部220で受光される反射光L2の受光量に基づき、液体45の液量LVを検出する。検出部230は、制御装置140と同様に、例えばコンピュータで構成される。反射光L2の受光量と液体45の液量LVとの関係は、予め実験等で求められ、検出部230の記憶媒体に予め記憶される。
The
図8に示すように、複数の開口部42は、行方向(図8においてX軸方向)および列方向(図8においてY軸方向)にマトリックス状に配列される。複数の開口部42のそれぞれは、列方向の寸法Aが行方向の寸法Bよりも長い。そのため、開口部42の内部に供給された液体45の液面46も、列方向の寸法が行方向の寸法よりも長い。
As shown in FIG. 8, the plurality of
発光部210は、基板10の主表面11に対し斜めに光を照射する線状光源である。線状光源は、例えば一列に並ぶ複数の発光素子を有する。発光素子は、例えばLED(Light Emitting Diode)である。LEDは、紫外線を発光するものでもよいが、本実施形態では紫外線の照射による有機EL素子13の劣化を抑制するため、可視光線を発光するものである。
The
発光部210は、行方向(図8においてX軸方向)に平行に配置されてもよいが、本実施形態では図8に示すように列方向(図8においてY軸方向)に平行に配置される。発光部210は、列方向に平行に配置される場合、列方向に長い液面46を列方向に細長く均一に照らすことができる。液面46の受光部220に向けて入射光L1を拡散反射する部分47(図8参照)の面積を拡大でき、受光部220の受光量を向上でき、受光部220の感度を向上できる。
The
受光部220は、上に凸の液面46で拡散反射された反射光L2を受光する受光素子221を複数有する。受光素子221は、例えばCCD(Charge Coupled Device)イメージセンサまたはCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサなどの撮像素子である。
The
複数の受光素子221が列方向(図8においてY軸方向)に平行に並び、且つ発光部210である線状光源が列方向に平行とされる。線状光源が列方向に一列に並ぶ複数の液面46を同時に照らし、線状光源が同時に照らす複数の液面46のそれぞれからの反射光L2を同時に受光部220が受光できる。同時に広い範囲を検査できるため、検査速度を向上できる。
The plurality of light receiving
複数の受光素子221は、列方向に平行に並べばよく、行方向および列方向にマトリックス状に配列されてもよいが、本実施形態では列方向にのみ一列に配列される。つまり、受光部220は、エリアセンサでもよいが、本実施形態ではラインセンサである。ラインセンサは、エリアセンサよりも高解像度の画像を撮像できる。
The plurality of light receiving
受光部220は、例えばラインスキャンカメラであって、受光部220の下方においてX軸方向に移動する基板10を撮像する。ラインスキャンカメラの撮像範囲は、Y軸方向に平行な直線状であって、例えば基板10のY軸方向全体である。
The
塗布装置121aの移動部170が基板10をX軸方向に移動させながら、ラインスキャンカメラが基板10のY軸方向全体を撮像する。これにより、検査装置201は基板10のX軸方向およびY軸方向の全体において、液体45の液量LVを検査できる。
While the moving
尚、ラインスキャンカメラの撮像範囲は、本実施形態では、基板10のY軸方向全体であるが、基板10のY軸方向一部のみであってもよい。この場合、ラインスキャンカメラをY軸方向に移動させれば、基板10のY軸方向全体を撮像できる。ラインスキャンカメラの数は、1つでもよいし、複数でもよい。
In this embodiment, the imaging range of the line scan camera is the whole of the
尚、ラインスキャンカメラは、本実施形態では列方向(Y軸方向)に一列に並ぶ複数の受光素子221を有するが、行方向(X軸方向)に一列に並ぶ複数の受光素子を有してもよい。この場合、ラインスキャンカメラをX軸方向に移動させれば、基板10のY軸方向全体を撮像できる。
In this embodiment, the line scan camera has a plurality of light receiving
尚、検査装置201が塗布装置121aの内部に配置される場合、塗布装置121aが基板保持部150や移動部170を備えるが、図11に示すように検査装置201が塗布装置121aの外部に配置される場合、検査装置201が基板保持部や移動部を備える。検査装置201の基板保持部は、塗布装置121aの基板保持部150と同様に、基板10に形成された隔壁40の開口部42を上に向けて、基板10を水平に保持する。また、検査装置201の移動部は、塗布装置121aの移動部170と同様に、発光部210および受光部220と基板保持部とを相対的に移動させ、基板保持部に保持されている基板10の検査範囲を移動させる。
When the
図9は、一実施形態に係る検査装置が検査を行うために基板に設定する複数の領域と、複数の領域のそれぞれにおける吐出ノズルの電圧比(印加電圧/基準電圧)とを示す平面図である。電圧比VRは、印加電圧Vと基準電圧V0との電圧比(VR=V/V0)である。基準電圧V0は、吐出ノズル162毎に個別に設定された値であって、予め定められた液量の液滴が吐出されるように仮に決められた値である。基準電圧V0が吐出ノズル162毎に個別に設定されるのは、吐出ノズル162毎に例えば吐出口の口径が僅かに異なるためである。基準電圧V0は、検査装置201の過去の検査データなどに基づき設定される。印加電圧Vは、吐出ノズル162に印加される電圧である。吐出ノズル162は、上述の如く、印加電圧Vに応じた液量の液滴を吐出する。
FIG. 9 is a plan view showing a plurality of regions set on the substrate for performing inspection by the inspection device according to the embodiment, and a voltage ratio (applied voltage / reference voltage) of the discharge nozzle in each of the plurality of regions. is there. The voltage ratio VR is a voltage ratio (VR = V / V0) between the applied voltage V and the reference voltage V0. The reference voltage V0 is a value set individually for each
制御装置140は、一の吐出ノズル162が複数の開口部42のそれぞれの内部に順番に液体45を供給するときの電圧比VRを変更する。制御装置140は、例えば、第1領域A1の開口部42に液体45を供給するときの電圧比VR1と、第2領域A2の開口部42に液体45を供給するときの電圧比VR2とを異ならせる。また、制御装置140は、第3領域A3の開口部42に液体45を供給するときの電圧比VR3を、上記電圧比VR1、VR2とは異ならせる。さらに、制御装置140は、第4領域A4の開口部42に液体45を供給するときの電圧比VR4を、上記電圧比VR1〜VR3とは異ならせる。異なる電圧比VRが設定される領域の数は、複数であればよく、特に限定されない。
The
検査装置201は、一の吐出ノズル162が異なる電圧比VRで複数の開口部42のそれぞれの内部に順番に供給した液体45の液量LVを検査する。液体45の液量LVは、開口部42毎に個別に検査する。吐出ノズル162の吐出と、検査装置201の検査とが交互に行われてもよいし、吐出ノズル162の吐出がまとめて行われた後で、検査装置201の検査がまとめて行われてもよい。複数の開口部42のそれぞれの内部に異なる電圧比VRで吐出された液体45の液量LVが検査されればよい。
The
検査装置201の検査に用いられる基板10と、有機ELパネル2の生産に用いられる基板10とは、同じ寸法および同じ形状を有するものである。また、検査装置201の検査に用いられる隔壁40と、有機ELパネル2の生産に用いされる隔壁40とは、同じ寸法および同じ形状を有するものである。検査と製品生産とで同じ寸法および同じ形状を有するものを用いるため、検査結果を生産条件にフィードバックしたときに、狙い通りの製品を製造することができる。
The
尚、検査装置201の検査に用いられる基板10と、有機ELパネル2の生産に用いられる基板10とは、少なくとも一部が、同じ寸法および同じ形状を有するものであればよい。例えば、検査装置201の検査に用いられる基板10は、有機ELパネル2の生産に用いられる基板10の一部をカットしたものであってもよい。
Note that the
同様に、検査装置201の検査に用いられる隔壁40と、有機ELパネル2の生産に用いられる隔壁40とは、少なくとも一部が、同じ寸法および同じ形状を有するものであればよい。例えば、検査装置201の検査に用いられる隔壁40は、有機ELパネル2の生産に用いられる隔壁40の一部をカットしたものであってもよい。
Similarly, the
検査装置201の検査が終了した基板10は、廃棄される。第1領域A1と、第2領域A2と、第3領域A3と、第4領域A4とでは、開口部42の内部に供給された液体45の液量LVが異なるため、正孔注入層24の厚さも異なり、点灯したときの画素の輝度が異なるためである。
The
図10は、一の吐出ノズルが異なる電圧比(印加電圧/基準電圧)で複数の開口部のそれぞれの内部に順番に供給したときの、液体の液量と電圧比との関係を示す。図10において、一の吐出ノズル162が液体45を供給する複数の開口部42は、同じ寸法および同じ形状を有してよい。図10において、黒丸は測定値を示し、直線Lは複数の測定値を最小二乗法を用いて近似した直線である。
FIG. 10 shows the relationship between the liquid amount of the liquid and the voltage ratio when one ejection nozzle sequentially supplies a different voltage ratio (applied voltage / reference voltage) to the inside of each of the plurality of openings. In FIG. 10, the plurality of
制御装置140は、検査装置201の検査結果(より詳細には、検出部230の検出結果)に基づき、複数の吐出ノズル162のそれぞれの吐出量を制御する。
The
先ず、制御装置140は、例えば図10に示すデータに基づき、開口部42の内部に供給された液体45の液量LVが目標液量になるように、吐出ノズル162の印加電圧Vを決定する。印加電圧Vは、吐出ノズル162毎に個別に設定されてよい。吐出ノズル162毎に、例えば吐出口の口径が僅かに異なるためである。
First, the
次いで、制御装置140は、有機ELパネル2の生産時に、複数の吐出ノズル162のそれぞれに対し予め決定した印加電圧Vを印加し、複数の開口部42のそれぞれの内部に液体45を供給する。開口部42の内部に供給された液体45の液量LVのばらつきを低減でき、正孔注入層24の厚さのばらつきを低減できる。そのため、有機ELパネル2を点灯させたときの複数の画素の発光量のばらつきを低減できる。
Next, the
以上、本開示に係る検査装置、塗布システム、検査方法、および塗布方法の実施形態について説明したが、本開示は上記実施形態などに限定されない。特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更、修正、置換、付加、削除、および組合わせが可能である。それらについても当然に本開示の技術的範囲に属する。 As described above, the embodiments of the inspection apparatus, the application system, the inspection method, and the application method according to the present disclosure have been described, but the present disclosure is not limited to the above embodiments and the like. Various changes, modifications, substitutions, additions, deletions, and combinations are possible within the scope of the claims. Of course, these also belong to the technical scope of the present disclosure.
例えば、検査装置201の検査結果(より詳細には、検出部230の検出結果)は、塗布装置121a以外の装置の制御に用いられてもよい。例えば、制御装置140は、有機ELパネル2の生産時に、開口部42の内部に供給された液体45の液量LVを監視し、その監視結果に基づき警報を報知する報知装置を制御してもよい。警報は、例えば、画像、音声、またはブザーの形態で報知される。制御装置140は、開口部42の内部に供給された液体45の液量LVが第1閾値を超えたとき、または第2閾値を下回るとき、吐出ノズル162に異常が発生していると判断し、報知装置によって警報を報知してよい。ここで、第2閾値は第1閾値よりも小さい値である。
For example, the inspection result of the inspection device 201 (more specifically, the detection result of the detection unit 230) may be used for controlling devices other than the
10 基板
13 有機EL素子
21 陽極
22 陰極
23 有機層
40 隔壁
42 開口部
45 液体
46 液面
100 基板処理システム
121a、122a、123a 塗布装置
140 制御装置
162 吐出ノズル
201、202、203 検査装置
210 発光部
220 受光部
221 受光素子
230 検出部
Claims (7)
前記基板の前記隔壁が形成された主表面に対し斜めに入射光を照射することで、前記開口部の内部に供給された前記液体の、上に凸の液面に前記入射光を照射する発光部と、
上に凸の前記液面で拡散反射された反射光を受光する受光部と、
前記受光部の受光量に基づき、前記開口部の内部に供給された前記液体の液量を検出する検出部とを有する、検査装置。 An inspection apparatus for inspecting a liquid amount of liquid supplied to each of a plurality of openings separated by a partition formed on a substrate,
By irradiating the main surface of the substrate on which the partition walls are formed with oblique incident light, the liquid supplied to the inside of the opening is irradiated with the incident light on an upwardly convex liquid surface. Department and
A light receiving unit that receives light reflected diffusely reflected on the liquid surface that is convex upward,
A detection unit configured to detect a liquid amount of the liquid supplied into the opening based on an amount of light received by the light receiving unit.
複数の前記開口部のそれぞれは、前記列方向の寸法が前記行方向の寸法よりも長く、
前記発光部は、前記基板の前記主表面に対し斜めに光を照射する線状光源であって、前記列方向に平行とされる、請求項1または2に記載の検査装置。 The plurality of openings are arranged in a matrix in a row direction and a column direction,
Each of the plurality of openings has a dimension in the column direction longer than the dimension in the row direction,
The inspection device according to claim 1, wherein the light emitting unit is a linear light source that irradiates light obliquely to the main surface of the substrate, and is parallel to the column direction.
複数の前記受光素子が、前記列方向に平行に並ぶ、請求項3に記載の検査装置。 The light receiving unit has a plurality of light receiving elements that receive the reflected light diffusely reflected on the liquid surface convex upward,
The inspection device according to claim 3, wherein the plurality of light receiving elements are arranged in parallel in the column direction.
複数の前記開口部のそれぞれの内部に前記液体の液滴を吐出する吐出ノズルを複数有する塗布装置と、
前記検出部の検出結果に基づき、複数の前記吐出ノズルのそれぞれの吐出量を制御する制御装置とを備える、塗布システム。 An inspection device according to any one of claims 1 to 4,
A coating device having a plurality of discharge nozzles for discharging the liquid droplets inside each of the plurality of openings,
A control device that controls a discharge amount of each of the plurality of discharge nozzles based on a detection result of the detection unit.
前記基板の前記隔壁が形成された主表面に対し斜めに入射光を照射することで、前記開口部の内部に供給された前記液体の、上に凸の液面に前記入射光を照射する工程と、
上に凸の前記液面で拡散反射された反射光を受光部で受光する工程と、
前記受光部の受光量に基づき、前記開口部の内部に供給された前記液体の液量を検出する工程とを有する、検査方法。 An inspection method for inspecting the amount of liquid supplied to each of a plurality of openings separated by a partition formed on a substrate,
Irradiating the incident light obliquely to the main surface of the substrate on which the partition walls are formed, thereby irradiating the incident light to an upwardly convex liquid surface of the liquid supplied into the opening. When,
A step of receiving the reflected light diffusely reflected on the liquid surface having an upward convexity by a light receiving unit,
Detecting the amount of the liquid supplied into the opening based on the amount of light received by the light receiving unit.
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