JP2009076228A - Drying method and drying device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a drying method and a drying device in which a membrane is solidified while a solidified condition of the membrane can simply be detected. <P>SOLUTION: The drying method of a membrane formed on a substrate 15 includes a barrier rib forming process in which barrier ribs 60 are formed on the substrate, a coating process in which a liquid body 62 is coated on a coating region 61 surrounded by the barrier ribs 60, and a solidifying process in which the coated liquid body 62 is dried and solidified. The solidifying process has a detecting process in which light 40 is irradiated from a diagonal direction against a surface of the liquid body 62 and detects a light volume of the light 40 reflected from the surface of the liquid body 62 and a solidification judgement process in which a solidifying condition of the liquid 62 is judged by using the light volume of the reflected light 40. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、乾燥方法及び乾燥装置に係り、特に簡便に乾燥状態を判断する方法に関するものである。   The present invention relates to a drying method and a drying apparatus, and more particularly to a method for easily and simply determining a dry state.

液晶表示装置のカラーフィルタや有機EL(エレクトロルミネッセンス)の発光素子等において、インクジェット法を用いて膜を形成する方法が活用されている。この膜を形成する工程では、最初に、膜を形成する膜形成領域を囲んでバンクを形成する。次に、膜を形成する液状材料を膜形成領域に塗布する。そして、液状材料を乾燥して固化することにより膜を形成している。   In a color filter of a liquid crystal display device, an organic EL (electroluminescence) light emitting element, or the like, a method of forming a film using an inkjet method is utilized. In the step of forming this film, first, a bank is formed so as to surround a film forming region for forming the film. Next, a liquid material for forming a film is applied to the film forming region. The liquid material is dried and solidified to form a film.

この膜の膜厚を均一にすることにより光学特性を改善する方法が特許文献1に開示されている。これによれば、有機EL材料を塗布した後、紫外光を照射して蛍光カメラで撮像する。そして、撮像した画像を解析することにより有機EL材料の膜厚を測定して乾燥条件を自動調整していた。   Patent Document 1 discloses a method for improving the optical characteristics by making the film thickness uniform. According to this, after applying the organic EL material, it is irradiated with ultraviolet light and imaged with a fluorescent camera. Then, the film thickness of the organic EL material is measured by analyzing the captured image to automatically adjust the drying conditions.

特開2004−228006号公報JP 2004-228006 A

しかしながら、従来の方法では紫外線を放射することから人体に対して危害を及ぼす危険性があった。又、蛍光を撮像する特殊カメラを用いることから簡便な方法でないという課題がある。   However, since the conventional method emits ultraviolet rays, there is a risk of causing harm to the human body. Moreover, there is a problem that it is not a simple method because a special camera for imaging fluorescence is used.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]
本適用例にかかる乾燥方法は、基板に塗布された液状体を固化して膜を形成する乾燥方法であって、前記基板に隔壁部を形成する隔壁形成工程と、前記隔壁部に囲まれた塗布領域に前記液状体を塗布する塗布工程と、塗布された前記液状体を乾燥して固化する固化工程と、を有し、前記固化工程は、前記液状体に対して斜め方向から光を照射し、前記液状体からの反射光の光量を検出する検出工程と前記反射光の光量を用いて前記液状体の固化状態を判断する固化判断工程とを有することを特徴とする。
[Application Example 1]
The drying method according to this application example is a drying method in which a liquid applied to a substrate is solidified to form a film, and is surrounded by the partition wall forming step of forming a partition wall on the substrate and the partition wall An application step of applying the liquid material to an application region; and a solidification step of drying and solidifying the applied liquid material, wherein the solidification step irradiates the liquid material with light from an oblique direction. And a detection step of detecting a light amount of the reflected light from the liquid material and a solidification determining step of determining a solidified state of the liquid material using the light amount of the reflected light.

この乾燥方法によれば、隔壁部により囲まれた塗布領域に液状体が塗布され、乾燥するにとにより固化される。このとき、液状体が乾燥するに従い、表面形状が変形する。隔壁部より高くなる量の液状体が塗布されるとき、液状体に表面張力が働くので、液状体の形状が凸状となる。そして、液状体の乾燥が進むにつれて、液状体の一部が蒸発して、凸状から平坦な面に近づく。さらに乾燥を継続するとき、略平坦な面から凹状の面に推移することもある。   According to this drying method, the liquid material is applied to the application region surrounded by the partition wall and solidified by drying. At this time, the surface shape is deformed as the liquid is dried. When a higher amount of the liquid material is applied than the partition wall, surface tension acts on the liquid material, so that the shape of the liquid material becomes convex. Then, as the liquid material is dried, a part of the liquid material evaporates and approaches a flat surface from the convex shape. Further, when drying is continued, the surface may change from a substantially flat surface to a concave surface.

そして、この液状体に斜めから光を照射し、液状体の表面で反射する反射光と液状体の内部に進行して基板から反射する反射光を検出する。このとき、液状体の形状が変化することより、反射光の分布も変化する。そして、反射光を検出することにより、液状体の固化状態を判断することができる。その結果、液状体に対して光を照射して反射光を検出することで固化状態が判断できることから、簡便な方法で固化状態を判断することができる。   Then, the liquid is irradiated with light from an oblique direction, and the reflected light reflected on the surface of the liquid and the reflected light that travels into the liquid and reflects from the substrate are detected. At this time, the distribution of reflected light also changes as the shape of the liquid changes. And the solidification state of a liquid can be judged by detecting reflected light. As a result, since the solidified state can be determined by irradiating the liquid with light and detecting the reflected light, the solidified state can be determined by a simple method.

[適用例2]
上記適用例にかかる乾燥方法において、前記検出工程では、前記液状体からの前記反射光の内、正反射する光を検出し、前記固化判断工程では、前記反射光の光量が増加した後減少するときの変化点を用いて固化状態を判断することを特徴とする。
[Application Example 2]
In the drying method according to the application example, in the detection step, light that is specularly reflected among the reflected light from the liquid material is detected, and in the solidification determination step, the light amount of the reflected light decreases after increasing. The solidification state is judged using the change point of time.

この乾燥方法によれば、正反射する光を検出している。液状体の表面が凸状のときと凹状のとき、液状体に対して斜め方向から光を照射しても、光は正反射し難くなっている。そして、液状体の表面が略平坦のとき、液状体に対して斜め方向から光を照射することにより正反射させることができる。従って、正反射する光を検出することにより液状体の表面が略平坦な状態になっていることを判断することができる。   According to this drying method, specularly reflected light is detected. When the surface of the liquid material is convex or concave, even if the liquid material is irradiated with light from an oblique direction, the light is hardly reflected regularly. When the surface of the liquid material is substantially flat, the liquid material can be regularly reflected by irradiating light from an oblique direction. Therefore, it is possible to determine that the surface of the liquid is in a substantially flat state by detecting the specularly reflected light.

[適用例3]
上記適用例にかかる乾燥方法において、前記検出工程では、前記液状体からの前記反射光の内、正反射する光以外の光の少なくとも一部を検出し、前記固化判断工程では、前記反射光の光量を用いて固化状態を判断することを特徴とする。
[Application Example 3]
In the drying method according to the application example, in the detection step, at least a part of light other than specularly reflected light from the reflected light from the liquid material is detected, and in the solidification determination step, the reflected light The solidification state is determined using the amount of light.

この乾燥方法によれば、正反射する光以外の光を検出している。液状体の表面が凸状のときと凹状のとき、液状体に対して斜め方向から照射した光の反射光は指向性の弱い光分布となっている。そして、液状体の表面が平坦に近づくにつれて、指向性の強い光分布となる。そして、正反射する光以外の光は、液状体の表面が平坦に近づくにつれて弱くなる。次に、平坦から凹状に進行するに従い、正反射する光以外の光は強くなる。従って、正反射する光以外の光を検出することにより液状体の表面が凸状又は凹状の状態になっていることを判断することができる。   According to this drying method, light other than specularly reflected light is detected. When the surface of the liquid material is convex or concave, the reflected light of the light irradiated from the oblique direction to the liquid material has a light distribution with weak directivity. And as the surface of the liquid material approaches flat, the light distribution has a strong directivity. And light other than the specularly reflected light becomes weaker as the surface of the liquid body approaches flatness. Next, as it progresses from flat to concave, light other than specularly reflected light becomes stronger. Therefore, it is possible to determine that the surface of the liquid material is in a convex or concave state by detecting light other than specularly reflected light.

[適用例4]
上記適用例にかかる乾燥方法において、前記検出工程では、前記正反射する光の検出に加え、前記液状体からの前記反射光の内、前記正反射する光以外の光の少なくとも一部を検出し、前記固化判断工程では、前記正反射する光の光量と、前記正反射する光以外の光の光量とを用いて固化状態を判断することを特徴とする。
[Application Example 4]
In the drying method according to the application example, in the detection step, in addition to the detection of the specularly reflected light, at least a part of the reflected light from the liquid material other than the specularly reflected light is detected. In the solidification determination step, the solidification state is determined using the light amount of the specularly reflected light and the light amount of light other than the specularly reflected light.

この乾燥方法によれば、正反射する光と、正反射する光以外の光とを用いて液状体の固化状態を判断している。正反射する光を検出するとき、液状体の表面が略平坦の状態の判断が可能である。そして、正反射する光以外の光を検出するとき、液状体の表面が凸状のときと凹状のときの状態の判断をすることができる。従って、正反射する光と、正反射する光以外の光とを用いるとき、液状体の表面が、略平坦の状態と、凸状又は凹状の状態との両方の判断を行うことができる。   According to this drying method, the solidified state of the liquid material is determined using light that is regularly reflected and light other than the light that is regularly reflected. When detecting specularly reflected light, it is possible to determine whether the surface of the liquid material is substantially flat. Then, when detecting light other than specularly reflected light, it is possible to determine the state when the surface of the liquid is convex or concave. Therefore, when using light that is specularly reflected and light other than specularly reflected light, it is possible to determine whether the surface of the liquid is substantially flat and convex or concave.

[適用例5]
上記適用例にかかる乾燥方法において、前記隔壁形成工程では、複数の前記塗布領域を形成し、前記塗布工程では、複数の前記塗布領域に異なる量の前記液状体を塗布し、前記検出工程では、複数の前記塗布領域における前記反射光の光量を検出し、前記固化判断工程では、複数の前記反射光の光量を用いて前記液状体の固化状態を判断することを特徴とする。
[Application Example 5]
In the drying method according to the application example, in the partition formation step, a plurality of the application regions are formed, in the application step, different amounts of the liquid material are applied to the plurality of application regions, and in the detection step, The amount of the reflected light in the plurality of application regions is detected, and in the solidification determination step, the solidified state of the liquid material is determined using the plurality of amounts of the reflected light.

この乾燥方法によれば、複数の塗布領域において反射光を検出している。従って、複数の塗布領域における固化状態を判断することができる。   According to this drying method, reflected light is detected in a plurality of application regions. Therefore, the solidified state in a plurality of application regions can be determined.

[適用例6]
上記適用例にかかる乾燥方法において、異なる量の前記液状体が塗布された前記塗布領域が混在して配置されることを特徴とする。
[Application Example 6]
In the drying method according to the application example described above, the application regions to which different amounts of the liquid material are applied are mixedly arranged.

この乾燥方法によれば、複数の塗布領域が配置され、塗布領域には異なる量の液状体が塗布されている。大量の液状体が塗布されている塗布領域の近くと、小量の液状体が塗布されている塗布領域の近くとでは、局所的に蒸発溶媒の分子分圧差が生じ乾燥速度にムラが生じる。そして、大量の液状体が塗布されている塗布領域と、小量の液状体が塗布されている塗布領域とが混在して配置されているので、局所的に蒸発溶媒の分子分圧差が生じ難くなっている。従って、乾燥速度のムラに影響を受けずに固化状態を判断することができる。   According to this drying method, a plurality of application areas are arranged, and different amounts of liquid material are applied to the application areas. There is a difference in molecular partial pressure of the evaporation solvent locally between the application area where a large amount of liquid is applied and the application area where a small amount of liquid is applied, causing unevenness in the drying speed. And since the application region where a large amount of liquid material is applied and the application region where a small amount of liquid material is applied are mixedly arranged, the molecular partial pressure difference of the evaporation solvent is unlikely to occur locally. It has become. Therefore, the solidified state can be determined without being affected by unevenness in the drying speed.

[適用例7]
上記適用例にかかる乾燥方法において、複数配置された前記塗布領域の内側に比べて、外側の前記塗布領域に大きい量の前記液状体が塗布されることを特徴とする。
[Application Example 7]
In the drying method according to the application example described above, a larger amount of the liquid material is applied to the outer application region than to the inner side of the plurality of application regions.

この乾燥方法によれば、塗布量の小さい塗布領域が塗布量の大きい塗布領域に囲まれて配置されている。つまり、蒸発溶媒の分子分圧の小さい場所が、蒸発溶媒の分子分圧の大きい場所に囲まれている。従って、蒸発溶媒の分子分圧の小さい場所が、蒸発溶媒の分子分圧の大きい場所の影響を受けて、蒸発溶媒の分子分圧が大きくなり易くなっている。その結果、局所的に蒸発溶媒の分子分圧差が生じ難くなり、乾燥速度のムラに影響を受けずに固化状態を判断することができる。   According to this drying method, the application region having a small application amount is arranged so as to be surrounded by the application region having a large application amount. That is, the place where the molecular partial pressure of the evaporation solvent is low is surrounded by the place where the molecular partial pressure of the evaporation solvent is high. Therefore, the location where the molecular partial pressure of the evaporating solvent is small is affected by the location where the molecular partial pressure of the evaporating solvent is high, and the molecular partial pressure of the evaporating solvent tends to increase. As a result, the molecular partial pressure difference of the evaporation solvent is hardly generated locally, and the solidified state can be determined without being affected by unevenness in the drying rate.

[適用例8]
上記適用例にかかる乾燥方法において、複数の前記塗布領域の内、少なくとも一部の前記塗布領域において、前記塗布領域の面積及び前記隔壁部の高さが略同じに形成されていることを特徴とする。
[Application Example 8]
In the drying method according to the application example described above, the area of the coating region and the height of the partition wall portion are formed substantially the same in at least a part of the coating region among the plurality of coating regions. To do.

この乾燥方法によれば、液状体の量を大きくするとき液状体の表面が凸状となり、少なくすると凹状にすることができる。そして、液状体の量を変えることにより、凸状の大きさを変えることができる。つまり、塗布する液状体の量を調整することにより、液状体が蒸発して略平坦になるまでの液状体の量を制御することができる。   According to this drying method, when the amount of the liquid material is increased, the surface of the liquid material becomes convex, and when it is decreased, the surface can be concave. And the magnitude | size of a convex shape can be changed by changing the quantity of a liquid. That is, by adjusting the amount of the liquid material to be applied, the amount of the liquid material until the liquid material evaporates and becomes substantially flat can be controlled.

[適用例9]
上記適用例にかかる乾燥方法において、前記固化工程は固化条件調整工程を有し、前記固化条件調整工程では、前記固化判断工程で判断した固化状態に応じて、前記液状体の周囲を流動する気流の速度と、前記液状体の周囲の気圧との内少なくとも一方を調整することを特徴とする。
[Application Example 9]
In the drying method according to the application example, the solidification step includes a solidification condition adjustment step, and the solidification condition adjustment step includes an air flow that flows around the liquid according to the solidification state determined in the solidification determination step. And adjusting at least one of the speed and the atmospheric pressure around the liquid material.

この乾燥方法によれば、液状体の固化状態に応じて乾燥条件を変更している。従って、膜の固化状態に応じて乾燥速度を変更することができる。   According to this drying method, the drying conditions are changed according to the solidified state of the liquid. Therefore, the drying speed can be changed according to the solidified state of the film.

[適用例10]
上記適用例にかかる乾燥方法において、前記固化判断工程は前記固化工程を終了する判断を行うことを特徴とする。
[Application Example 10]
In the drying method according to the application example described above, the solidification determination step performs a determination to end the solidification step.

この乾燥方法によれば、固化状態を確認して固化工程を終了している。通常、固化工程は固化に要する時間を用いて管理することが多い。そして、確実に固化するためには、固化に必要な時間より長い時間乾燥を行う必要がある。この方法では、固化に必要な時間より長い時間乾燥を行う必要がない。従って、乾燥時間を管理する方法に比べて、生産性良く固化することができる。   According to this drying method, the solidification state is confirmed and the solidification step is completed. Usually, the solidification process is often managed using the time required for solidification. And in order to solidify reliably, it is necessary to dry for a time longer than the time required for solidification. In this method, it is not necessary to perform drying longer than the time required for solidification. Therefore, it can be solidified with high productivity as compared with the method of managing the drying time.

[適用例11]
上記適用例にかかる乾燥方法において、前記固化工程では、前記液状体が固化する時間を測定し、前記液状体が固化する時間を用いて保守を行う判断をする保守要否判断工程を備えることを特徴とする。
[Application Example 11]
In the drying method according to the application example described above, the solidification step includes a maintenance necessity determination step of measuring a time during which the liquid body solidifies and performing a maintenance using the time during which the liquid body solidifies. Features.

この乾燥方法によれば、固化にかかる時間を用いて保守作業が必要か否かを判断している。液状体に含まれる溶媒が気化するとき、気化した溶媒の一部が排出されずに乾燥装置内の内壁等に付着して結露することがある。結露した溶媒が気化するとき、基板に塗布された液状体が乾燥するのを阻害する要因となる。この方法では、液状体が固化する時間が所定の時間より長いとき保守を行う判断をするので、液状体が固化する時間が長くならないように維持することができる。従って、生産性良く乾燥することができる。   According to this drying method, it is determined whether or not maintenance work is necessary using the time required for solidification. When the solvent contained in the liquid is vaporized, a part of the vaporized solvent may not be discharged but may adhere to the inner wall or the like in the drying apparatus and cause condensation. When the condensed solvent evaporates, it becomes a factor that inhibits the liquid applied to the substrate from drying. In this method, it is determined that maintenance is performed when the time during which the liquid is solidified is longer than a predetermined time, so that the time during which the liquid is solidified can be maintained. Therefore, it can dry with high productivity.

[適用例12]
上記適用例にかかる乾燥方法では、前記検出工程において、前記液状体に照射する光は間欠照射されることを特徴とする。
[Application Example 12]
The drying method according to the application example is characterized in that, in the detection step, light applied to the liquid material is intermittently irradiated.

この乾燥方法によれば、液状体に光が常時照射されないので、液状体が光により加熱され難くなっている。従って、液状体の乾燥状態が照射する光の影響を受け難いので、精度良く乾燥状態を判断することができる。   According to this drying method, since the liquid is not always irradiated with light, the liquid is hardly heated by light. Therefore, since the dry state of the liquid is not easily affected by the irradiated light, the dry state can be accurately determined.

[適用例13]
上記適用例にかかる乾燥方法において、前記固化工程では、前記液状体の周囲に気流を形成し、前記検出工程では、前記気流の流速の早い場所に位置する前記塗布領域に光を照射し、前記液状体からの前記反射光の光量を検出することを特徴とする。
[Application Example 13]
In the drying method according to the application example, in the solidification step, an air flow is formed around the liquid material, and in the detection step, light is applied to the application region located at a place where the flow velocity of the air flow is fast, The light quantity of the reflected light from the liquid material is detected.

この乾燥方法によれば、乾燥し易い場所と乾燥し難い場所とがある時、乾燥し易い場所における液状体の乾燥状態を判断している。そして、乾燥し易い場所は乾燥し難い場所に比べて固化の変化が早いので、変化の早い場所の固化状態に対応して乾燥条件を調整することができる。   According to this drying method, when there are a place where it is easy to dry and a place where it is difficult to dry, the dry state of the liquid material in the place where it is easy to dry is determined. And since the change of solidification is quicker in the place which is easy to dry compared with the place which is hard to dry, the drying condition can be adjusted corresponding to the solidification state of the place where change is quick.

[適用例14]
上記適用例にかかる乾燥方法において、前記固化工程では、前記液状体の周囲に気流を形成し、前記固化工程は固化条件調整工程を有し、前記検出工程では、複数の前記塗布領域に光を照射し、前記液状体からの前記反射光の光量を検出し、前記固化判断工程では、複数の前記塗布領域における固化状態を判断し、前記固化条件調整工程では、前記固化判断工程で判断した固化状態に応じて、複数の前記塗布領域の速度分布を調整することを特徴とする。
[Application Example 14]
In the drying method according to the application example, in the solidification step, an air flow is formed around the liquid body, the solidification step includes a solidification condition adjustment step, and in the detection step, light is applied to a plurality of the application regions. Irradiating and detecting the amount of reflected light from the liquid material; determining the solidification state in the plurality of application areas in the solidification determining step; and determining the solidification state determined in the solidification determining step in the solidification condition adjusting step The speed distribution of the plurality of application regions is adjusted according to the state.

この乾燥方法によれば、液状体の固化状態を判断し、固化状態に応じて気流の速度分布を調整している。気流の速度が速い場所では早く固化させることができることから、気流を制御することにより基板内で液状体が固化する分布を制御することができる。そして、基板内の塗布領域において、略同時に固化が終了するように乾燥することができる。一部分が遅れて乾燥するとき、その部分が乾燥する時間だけ長く乾燥時間がかかる。この場合に比べて、生産性良く乾燥することができる。   According to this drying method, the solidified state of the liquid is judged, and the velocity distribution of the airflow is adjusted according to the solidified state. Since it can be solidified quickly in a place where the velocity of the air current is high, the distribution of the liquid material solidifying in the substrate can be controlled by controlling the air flow. And it can dry so that solidification may be complete | finished substantially simultaneously in the application | coating area | region in a board | substrate. When a part is dried with a delay, the drying time takes longer for the part to dry. Compared with this case, it is possible to dry with high productivity.

[適用例15]
上記適用例にかかる乾燥方法において、前記検出工程では、前記液状体からの前記反射光の内、正反射する光を検出し、前記固化判断工程では、光量と閾値とを比較して固化状態を判断することを特徴とする。
[Application Example 15]
In the drying method according to the application example, in the detection step, light that is regularly reflected is detected from the reflected light from the liquid material, and in the solidification determination step, the solidification state is determined by comparing the light amount with a threshold value. It is characterized by judging.

この乾燥方法によれば、予め反射光の光量と固化状態との相関を調べて、固化状態を判断する閾値が設定されている。そして、この閾値と光量とを比較して固化状態を判断している。この方法は光量の増減の変化点を検出する方法に比べて、簡便に固化状態を判断することができる。   According to this drying method, the threshold value for determining the solidified state is set by examining the correlation between the amount of reflected light and the solidified state in advance. Then, the solidification state is determined by comparing the threshold value with the light amount. This method can easily determine the solidified state as compared with a method of detecting a change point of increase / decrease in the amount of light.

[適用例16]
本適用例にかかる乾燥装置は、基板の塗布領域に塗布された液状体を乾燥することにより固化して膜を形成する乾燥装置であって、前記液状体に対して斜め方向から光を照射する照射部と、前記液状体からの反射光の光量を検出する検出部と、前記反射光の光量を用いて前記液状体の固化状態を判断する固化判断部とを有することを特徴とする。
[Application Example 16]
A drying apparatus according to this application example is a drying apparatus that solidifies and forms a film by drying a liquid material applied to an application region of a substrate, and irradiates light on the liquid material from an oblique direction. An irradiation unit, a detection unit that detects a light amount of reflected light from the liquid material, and a solidification determination unit that determines a solidified state of the liquid material using the light amount of the reflected light.

この乾燥装置によれば、液状体に斜めから光を照射し、液状体の表面で反射する反射光と液状体の内部に進行して基板から反射する反射光を検出する。このとき、液状体の形状が変化することより、反射光の分布も変化する。そして、反射光を検出することにより、液状体の固化状態を判断することができる。その結果、照射部と検出部とによる出力から固化判断部が固化状態を判断できることから、簡便な方法で固化状態を判断することができる。   According to this drying apparatus, the liquid is irradiated with light obliquely, and the reflected light reflected on the surface of the liquid and the reflected light that travels into the liquid and reflects from the substrate are detected. At this time, the distribution of reflected light also changes as the shape of the liquid changes. And the solidification state of a liquid can be judged by detecting reflected light. As a result, since the solidification determination unit can determine the solidification state from the outputs from the irradiation unit and the detection unit, the solidification state can be determined by a simple method.

[適用例17]
上記適用例にかかる乾燥装置において、前記照射部は、略平行に進行する光を照射し、前記検出部は、前記液状体からの前記反射光の内、正反射する光を検出し、前記固化判断部は、光量が増加した後減少するときの変化点を用いて固化状態を判断することを特徴とする。
[Application Example 17]
In the drying apparatus according to the application example, the irradiation unit irradiates light that travels substantially in parallel, and the detection unit detects light that is regularly reflected among the reflected light from the liquid material, and the solidification is performed. The determination unit is characterized by determining a solidified state using a change point when the light amount decreases after increasing.

この乾燥装置によれば、正反射する光を検出している。液状体の表面が凸状のときと凹状のとき、液状体に対して斜め方向から光を照射しても、光は正反射し難くなっている。そして、液状体の表面が略平坦のとき、液状体に対して斜め方向から略平行な光を照射することにより正反射させることができる。従って、正反射する光を検出することにより液状体の表面が略平坦な状態になっていることを判断することができる。   According to this drying device, light that is regularly reflected is detected. When the surface of the liquid material is convex or concave, even if the liquid material is irradiated with light from an oblique direction, the light is hardly reflected regularly. When the surface of the liquid material is substantially flat, the liquid material can be regularly reflected by irradiating light substantially parallel from an oblique direction. Therefore, it is possible to determine that the surface of the liquid is in a substantially flat state by detecting the specularly reflected light.

[適用例18]
上記適用例にかかる乾燥装置において、前記検出部は、前記液状体からの前記反射光の内、正反射する光以外の光の少なくとも一部を検出し、前記固化判断部は、光量を用いて固化状態を判断することを特徴とする。
[Application Example 18]
In the drying apparatus according to the application example, the detection unit detects at least a part of light other than specularly reflected light from the reflected liquid, and the solidification determination unit uses the light amount. It is characterized by determining a solidified state.

この乾燥装置によれば、正反射する光以外の光を検出している。液状体の表面が凸状のときと凹状のとき、液状体に対して斜め方向から照射した光の反射光は指向性の弱い光分布となっている。そして、液状体の表面が平坦に近づくにつれて、指向性の強い光分布となる。従って、正反射する光以外の光は、液状体の表面が平坦に近づくにつれて弱くなる。次に、平坦から凹状に進行するに従い、正反射する光以外の光は強くなる。従って、正反射する光以外の光を検出することにより液状体の表面が凸状又は凹状の状態になっていることを判断することができる。   According to this drying apparatus, light other than specularly reflected light is detected. When the surface of the liquid material is convex or concave, the reflected light of the light irradiated from the oblique direction to the liquid material has a light distribution with weak directivity. And as the surface of the liquid material approaches flat, the light distribution has a strong directivity. Therefore, light other than the specularly reflected light becomes weaker as the surface of the liquid body approaches flatness. Next, as it progresses from flat to concave, light other than specularly reflected light becomes stronger. Therefore, it is possible to determine that the surface of the liquid material is in a convex or concave state by detecting light other than specularly reflected light.

[適用例19]
上記適用例にかかる乾燥装置において、前記検出部は、前記正反射する光の検出に加え、前記液状体からの前記反射光の内、前記正反射する光以外の光の少なくとも一部を検出し、前記固化判断部は、前記正反射する光の光量と、前記正反射する光以外の光の光量とを用いて固化状態を判断することを特徴とする。
[Application Example 19]
In the drying apparatus according to the application example, in addition to the detection of the specularly reflected light, the detection unit detects at least a part of the reflected light from the liquid material other than the specularly reflected light. The solidification determination unit determines the solidification state using the light amount of the specularly reflected light and the light amount of light other than the specularly reflected light.

この乾燥装置によれば、正反射する光と、正反射する光以外の光とを用いて液状体の固化状態を判断している。正反射する光を検出するとき、液状体の表面が略平坦の状態の判断が可能である。そして、正反射する光以外の光を検出するとき、液状体の表面が凸状のときと凹状のときの状態の判断をすることができる。従って、正反射する光と、正反射する光以外の光とを用いるとき、液状体の表面が、略平坦の状態と、凸状又は凹状の状態との両方の判断を行うことができる。   According to this drying apparatus, the solidified state of the liquid material is determined using light that is regularly reflected and light other than the light that is regularly reflected. When detecting specularly reflected light, it is possible to determine whether the surface of the liquid material is substantially flat. Then, when detecting light other than specularly reflected light, it is possible to determine the state when the surface of the liquid is convex or concave. Therefore, when using light that is specularly reflected and light other than specularly reflected light, it is possible to determine whether the surface of the liquid is substantially flat and convex or concave.

[適用例20]
上記適用例にかかる乾燥装置において、前記塗布領域の周囲に気流を形成する送風部と、前記送風部を制御して前記気流の速度を調整する固化条件調整部とを有し、前記固化条件調整部は、前記固化判断部が判断した固化状態に応じて、前記液状体の周囲を流動する前記気流の速度を調整することを特徴とする。
[Application Example 20]
In the drying apparatus according to the application example described above, the air conditioner includes an air blowing unit that forms an air current around the application region, and a solidification condition adjusting unit that controls the air blowing unit to adjust the speed of the air flow, and the solidification condition adjustment The unit adjusts the speed of the airflow flowing around the liquid material according to the solidification state determined by the solidification determination unit.

この乾燥装置によれば、固化条件調整部が液状体の固化状態に応じて送風部を制御する。そして、気流の速度を調整することにより、乾燥条件を変更している。従って、乾燥状態に応じて乾燥速度を変更することができる。   According to this drying apparatus, the solidification condition adjusting unit controls the blowing unit according to the solidified state of the liquid. And the drying conditions are changed by adjusting the speed of the airflow. Therefore, the drying speed can be changed according to the drying state.

[適用例21]
上記適用例にかかる乾燥装置において、前記基板を内部に配置する乾燥室と、前記乾燥室内の気圧を減圧する減圧部と、前記減圧部を制御して前記気圧を調整する固化条件調整部とを有し、前記固化条件調整部は、前記固化判断部が判断した固化状態に応じて、前記乾燥室内の前記気圧を調整することを特徴とする。
[Application Example 21]
In the drying apparatus according to the application example, a drying chamber in which the substrate is disposed, a decompression unit that decompresses the atmospheric pressure in the drying chamber, and a solidification condition adjustment unit that regulates the atmospheric pressure by controlling the decompression unit. And the solidification condition adjustment unit adjusts the atmospheric pressure in the drying chamber according to the solidification state determined by the solidification determination unit.

この乾燥装置によれば、固化条件調整部が液状体の固化状態に応じて減圧部を制御する。そして、乾燥室内の気圧を調整することにより、乾燥条件を変更している。従って、乾燥状態に応じて乾燥速度を変更することができる。   According to this drying apparatus, the solidification condition adjusting unit controls the decompression unit according to the solidified state of the liquid. And drying conditions are changed by adjusting the atmospheric pressure in the drying chamber. Therefore, the drying speed can be changed according to the drying state.

[適用例22]
上記適用例にかかる乾燥装置において、前記照射部は前記基板と異なる場所に塗布された液状体に対して斜め方向から光を照射し、前記検出部は前記基板と異なる場所に塗布された前記液状体からの前記反射光の光量を検出することを特徴とする。
[Application Example 22]
In the drying apparatus according to the application example, the irradiation unit irradiates light from a slanting direction on a liquid material applied to a location different from the substrate, and the detection unit applies the liquid applied to a location different from the substrate. The light quantity of the reflected light from a body is detected.

この乾燥装置によれば、基板内と異なる場所に塗布された液状体の固化状態を検出している。従って、基板内に固化状態を観測するための塗布領域を設ける必要がない。従って、基板を効率良く用いることができる。   According to this drying apparatus, the solidified state of the liquid applied to a location different from the inside of the substrate is detected. Therefore, it is not necessary to provide a coating region for observing the solidified state in the substrate. Therefore, the substrate can be used efficiently.

[適用例23]
上記適用例にかかる乾燥装置において、前記検出部は複数の光検出素子が広い範囲に配置されていることを特徴とする。
[Application Example 23]
In the drying apparatus according to the application example, the detection unit includes a plurality of light detection elements arranged in a wide range.

この乾燥装置によれば、検出部は複数の光検出素子を備え、各光検出素子が塗布領域に塗布された液状体から反射された反射光の分布を検出することができる。従って、広い範囲の反射光を検出することができる。   According to this drying apparatus, the detection unit includes a plurality of light detection elements, and each light detection element can detect the distribution of reflected light reflected from the liquid material applied to the application region. Therefore, a wide range of reflected light can be detected.

以下、実施形態について図面に従って説明する。
尚、各図面における各部材は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材毎に縮尺を異ならせて図示している。
(第1の実施形態)
本実施形態では乾燥装置とこの乾燥装置を用いて膜を形成する場合の特徴的な例について図1〜図12に従って説明する。
Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings.
In addition, each member in each drawing is illustrated with a different scale for each member in order to make the size recognizable on each drawing.
(First embodiment)
In the present embodiment, a drying device and a characteristic example when a film is formed using the drying device will be described with reference to FIGS.

図1(a)は、乾燥装置の構造を示す概略側断面図であり、図1(b)は、乾燥装置の構造を示す概略平断面図である。図1(b)は、図1(a)のA−A’における断面である。図1に示すように、乾燥装置1は、液状体が塗布された基板を乾燥室内に収容し、液状体の溶媒を減圧下で蒸発させ乾燥させる減圧乾燥法を行う装置である。   Fig.1 (a) is a schematic sectional side view which shows the structure of a drying apparatus, FIG.1 (b) is a schematic plane sectional view which shows the structure of a drying apparatus. FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of FIG. As shown in FIG. 1, the drying apparatus 1 is an apparatus that performs a reduced pressure drying method in which a substrate coated with a liquid material is accommodated in a drying chamber, and a solvent of the liquid material is evaporated and dried under reduced pressure.

乾燥装置1は外形が略直方体に囲まれた外壁2を備え、外壁2により内側が空洞に形成された乾燥室3を備えている。乾燥室3は上下方向の略中央に隔壁部4を備え、隔壁部4により乾燥室3は上側の第1室5と下側の第2室6とに分割されている。隔壁部4の平面方向の中央には略直方体の基台7が形成され、基台7の長手方向をX方向とし、X方向と直交する方向をY方向する。そして、上下方向をZ方向とする。   The drying apparatus 1 includes an outer wall 2 whose outer shape is surrounded by a substantially rectangular parallelepiped, and includes a drying chamber 3 whose inside is formed into a cavity by the outer wall 2. The drying chamber 3 is provided with a partition wall portion 4 in a substantially vertical center, and the partition chamber portion 4 divides the drying chamber 3 into an upper first chamber 5 and a lower second chamber 6. A substantially rectangular parallelepiped base 7 is formed at the center of the partition wall portion 4 in the plane direction. The longitudinal direction of the base 7 is defined as the X direction, and the direction orthogonal to the X direction is defined as the Y direction. And let the up-down direction be a Z direction.

隔壁部4には第1室5と第2室6とを連通する連通口8が基台7の周囲に沿って8個設けられている。各連通口8には図示しないモータの軸と連動して回転する回転軸9が配置され、回転軸9と連動して回転する連通弁10が設けられている。各連通弁10は連通口8と略同じ大きさに形成され、連通弁10が回転することにより、第1室5と第2室6との間を流れる気流の遮断及び流動が切換可能と可能となっている。   The partition wall portion 4 is provided with eight communication ports 8 that communicate the first chamber 5 and the second chamber 6 along the periphery of the base 7. Each communication port 8 is provided with a rotation shaft 9 that rotates in conjunction with a motor shaft (not shown), and a communication valve 10 that rotates in conjunction with the rotation shaft 9. Each communication valve 10 is formed to be approximately the same size as the communication port 8, and the communication valve 10 rotates so that the flow of air flowing between the first chamber 5 and the second chamber 6 can be blocked and switched. It has become.

基台7の上面には1対の案内レール11がY方向に延在して配置されている。案内レール11の上側には移動テーブル12が配置され、移動テーブル12は図示しない直動機構によりY方向に移動可能となっている。Y方向の逆方向の外壁2には案内レール11が貫通して配置され、案内レール11は外壁2より突き出して形成されている。そして、案内レール11の突き出している部分はレール支持部2aにより支持されている。外壁2において案内レール11近辺には開閉可能に形成された除給材扉13が形成されている。除給材扉13は図示しない開閉装置を備えている。そして、移動テーブル12が案内レール11に沿って移動し除給材扉13を通過するとき、除給材扉13が開口する。次に、移動テーブル12が除給材扉13を通過した後、除給材扉13が閉鎖することにより、除給材扉13から気流が流入及び流出しないようになっている。   A pair of guide rails 11 are arranged on the upper surface of the base 7 so as to extend in the Y direction. A moving table 12 is disposed above the guide rail 11, and the moving table 12 can be moved in the Y direction by a linear motion mechanism (not shown). A guide rail 11 is disposed through the outer wall 2 opposite to the Y direction. The guide rail 11 protrudes from the outer wall 2. And the part which the guide rail 11 protrudes is supported by the rail support part 2a. A discharge material door 13 is formed in the outer wall 2 in the vicinity of the guide rail 11 so as to be openable and closable. The discharge material door 13 includes an opening / closing device (not shown). When the moving table 12 moves along the guide rail 11 and passes through the discharge material door 13, the discharge material door 13 opens. Next, after the movable table 12 passes through the discharge material door 13, the discharge material door 13 is closed, so that the air current does not flow in and out from the discharge material door 13.

移動テーブル12の上面には、載置面14が形成され、その載置面14には、図示しない吸引式の基板チャック機構が設けられている。そして、載置面14に基板15を載置すると、基板チャック機構によって、その基板15が載置面14の所定位置に位置決め固定されるようになっている。   A mounting surface 14 is formed on the upper surface of the moving table 12, and a suction-type substrate chuck mechanism (not shown) is provided on the mounting surface 14. When the substrate 15 is placed on the placement surface 14, the substrate 15 is positioned and fixed at a predetermined position on the placement surface 14 by the substrate chuck mechanism.

基台7の上側には移動テーブル12の4隅の近くに支持部16が4箇所立設され、各支持部16の上端には各支持部16の間を架橋する架橋部17が形成されている。そして、この架橋部17には8個の液面検出装置18が配置されている。基板15周辺の基板15と対向する場所に液面検出装置18が配置され、基板15のX方向両端の上側に各1個、基板15のY方向両端の上側に各3個の液面検出装置18が配置されている。   Four support portions 16 are erected on the upper side of the base 7 near the four corners of the moving table 12, and a bridging portion 17 is formed at the upper end of each support portion 16 to bridge between the support portions 16. Yes. In the bridging portion 17, eight liquid level detection devices 18 are arranged. A liquid level detection device 18 is disposed at a location facing the substrate 15 around the substrate 15, one liquid level detection device above each of the substrate 15 in the X direction and three liquid level detection devices above each of the substrate 15 in the Y direction. 18 is arranged.

第1室5の中であって移動テーブル12の上側には整流器19が配置され、この整流器19を通過する気流を整流器19が多方向に分散して流動させている。外壁2の上部中央付近には、供給口20が設けられており、配管21を介して吸気バルブ23と接続されている。そして、吸気バルブ23は配管24を介して気体調整装置25と接続されている。気体調整装置25は通過する気体の湿度及び温度を調整し気体に含まれる塵を除去する装置である。気体調整装置25は配管26を介して窒素ガス供給装置27に接続されている。そして、供給口20からは、塵が除去され温度及び湿度が調整された窒素ガスが供給されるようになっている。   A rectifier 19 is arranged in the first chamber 5 and above the moving table 12, and the rectifier 19 distributes and flows the airflow passing through the rectifier 19 in multiple directions. A supply port 20 is provided near the upper center of the outer wall 2 and is connected to an intake valve 23 via a pipe 21. The intake valve 23 is connected to a gas adjusting device 25 via a pipe 24. The gas adjusting device 25 is a device that adjusts the humidity and temperature of the passing gas and removes dust contained in the gas. The gas adjustment device 25 is connected to a nitrogen gas supply device 27 via a pipe 26. And from the supply port 20, nitrogen gas from which dust was removed and temperature and humidity were adjusted is supplied.

第2室6の下部(底面)中央付近には、排気口28が設けられており、排気口28は配管29を介して排気バルブ30と接続されている。そして、排気バルブ30は配管31を介して排気装置32と接続されている。そして、排気装置32、吸気バルブ23、排気バルブ30、連通弁10等により送風部及び減圧部が構成されている。   An exhaust port 28 is provided near the center of the lower part (bottom surface) of the second chamber 6, and the exhaust port 28 is connected to an exhaust valve 30 via a pipe 29. The exhaust valve 30 is connected to an exhaust device 32 via a pipe 31. The exhaust device 32, the intake valve 23, the exhaust valve 30, the communication valve 10, etc. constitute a blower unit and a decompression unit.

第1室5及び第2室6の側壁には圧力計33が設けられ、第1室5及び第2室6内の減圧状態が測定可能となっている。そして、第1室5の連通口8付近では外壁2及び基台7に流速計34が配置され、連通口8を通過する気流の速度が測定可能となっている。   Pressure gauges 33 are provided on the side walls of the first chamber 5 and the second chamber 6 so that the reduced pressure state in the first chamber 5 and the second chamber 6 can be measured. In the vicinity of the communication port 8 of the first chamber 5, a velocimeter 34 is arranged on the outer wall 2 and the base 7 so that the velocity of the airflow passing through the communication port 8 can be measured.

窒素ガス供給装置27が供給する窒素ガスは配管24、吸気バルブ23、配管21、供給口20を通過して乾燥室3の第1室5に供給される。そして、窒素ガスの気流が整流器19を通過するとき気流が分散して基板15の近くを通過する。その後、気流は連通口8を通過して第2室6に流入する。そして、気流は排気口28、配管29、排気バルブ30、配管31を通過して排気装置32により排出される。乾燥室3内の気圧は圧力計33を用いて測定され、連通口8付近の流速は流速計34を用いて測定される。そして、排気装置32が吸引する気圧、吸気バルブ23、連通弁10、排気バルブ30を制御することにより、乾燥室3内の気圧と、内部を流れる気流の流速が制御される。この気圧と気流の流速を調整することにより基板15に塗布された液状体の乾燥速度が制御可能となっている。   Nitrogen gas supplied by the nitrogen gas supply device 27 is supplied to the first chamber 5 of the drying chamber 3 through the pipe 24, the intake valve 23, the pipe 21, and the supply port 20. When the nitrogen gas flow passes through the rectifier 19, the air flow is dispersed and passes near the substrate 15. Thereafter, the airflow passes through the communication port 8 and flows into the second chamber 6. The airflow passes through the exhaust port 28, the pipe 29, the exhaust valve 30, and the pipe 31 and is discharged by the exhaust device 32. The atmospheric pressure in the drying chamber 3 is measured using a pressure gauge 33, and the flow velocity near the communication port 8 is measured using a flow meter 34. Then, by controlling the air pressure sucked by the exhaust device 32, the intake valve 23, the communication valve 10, and the exhaust valve 30, the air pressure in the drying chamber 3 and the flow velocity of the airflow flowing through the interior are controlled. The drying speed of the liquid applied to the substrate 15 can be controlled by adjusting the atmospheric pressure and the flow rate of the airflow.

図2は液面検出装置の構造を示す模式断面図である。図2に示すように、液面検出装置18は照射部37、検出部としての第1検出部38、検出部としての第2検出部39を備えている。そして照射部37が基板15に光40を照射し、基板15にて反射する光40を第1検出部38及び第2検出部39が検出するようになっている。そして、照射部37が照射する光40の光軸41と基板15との成す角度42と第1検出部38の光軸43が基板15と成す角度44とは略同じ角度に設定され、例えば、本実施形態では30度に設定されている。そして、照射部37が照射する光40が基板15にて正反射するとき、この正反射した光40の光量を第1検出部38が検出可能となっている。第2検出部39の光軸45が基板15と成す角度46は、第1検出部38の光軸43が基板15と成す角度44より大きな角度に設定され、例えば、本実施形態では60度に設定されている。そして、照射部37が照射する光40が基板15にて乱反射するとき、この乱反射した光40の一部を第2検出部39が検出可能となっている。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the structure of the liquid level detection device. As shown in FIG. 2, the liquid level detection device 18 includes an irradiation unit 37, a first detection unit 38 as a detection unit, and a second detection unit 39 as a detection unit. The irradiation unit 37 irradiates the substrate 15 with the light 40, and the first detection unit 38 and the second detection unit 39 detect the light 40 reflected by the substrate 15. The angle 42 formed by the optical axis 41 of the light 40 irradiated by the irradiation unit 37 and the substrate 15 and the angle 44 formed by the optical axis 43 of the first detection unit 38 by the substrate 15 are set to substantially the same angle. In this embodiment, it is set to 30 degrees. When the light 40 emitted from the irradiation unit 37 is regularly reflected by the substrate 15, the first detection unit 38 can detect the amount of the light 40 that has been regularly reflected. The angle 46 formed by the optical axis 45 of the second detection unit 39 and the substrate 15 is set to be larger than the angle 44 formed by the optical axis 43 of the first detection unit 38 and the substrate 15. For example, in this embodiment, the angle 46 is 60 degrees. Is set. When the light 40 emitted from the irradiation unit 37 is irregularly reflected by the substrate 15, the second detection unit 39 can detect a part of the irregularly reflected light 40.

照射部37は光源47を備えている。光源47は同一の光量の光を安定して発光するものであれば良く、レーザダイオード、蛍光管、LED(Light Emitting Diode)、白熱灯、冷陰極管等を用いることができる。本実施形態では、例えば、LEDを採用している。光源47の光軸41上には集光レンズ48、絞り板49、コリメートレンズ50が配置されている。光源47が発光する光40は集光レンズ48により集光される。そして、集光される場所に絞り板49の瞳部49aが配置されている。この瞳部49aにコリメートレンズ50の焦点が位置するようにコリメートレンズ50を配置されている。このとき、コリメートレンズ50から照射される光40は略平行な光線となる。   The irradiation unit 37 includes a light source 47. The light source 47 may be any light source that stably emits the same amount of light, and a laser diode, a fluorescent tube, an LED (Light Emitting Diode), an incandescent lamp, a cold cathode tube, or the like can be used. In this embodiment, for example, LEDs are employed. A condensing lens 48, a diaphragm plate 49, and a collimating lens 50 are disposed on the optical axis 41 of the light source 47. The light 40 emitted from the light source 47 is collected by the condenser lens 48. And the pupil part 49a of the aperture plate 49 is arrange | positioned in the condensing place. The collimating lens 50 is arranged so that the focal point of the collimating lens 50 is located at the pupil 49a. At this time, the light 40 irradiated from the collimating lens 50 becomes a substantially parallel light beam.

第1検出部38は集光レンズ51と光検出部52等により構成されている。そして、基板15にて反射した光40は集光レンズ51により集光され光検出部52を照射する。この光検出部52は光40の光量の増減を電気信号に変換する機能を備え、この光検出部52には光電管、フォトダイオード、等を用いることができる。本実施形態に置いては、例えば、CCD(Charge Coupled Device)カメラを採用した。CCDカメラは光電変換素子が複数配置されているので、複数の場所から反射される光40を検出することができる。第2検出部39も集光レンズ53と光検出部54等により構成され、第1検出部38と同様の機能を備えている。   The first detection unit 38 includes a condenser lens 51, a light detection unit 52, and the like. Then, the light 40 reflected by the substrate 15 is condensed by the condenser lens 51 and irradiates the light detection unit 52. The light detection unit 52 has a function of converting an increase / decrease in the amount of light 40 into an electric signal, and a phototube, a photodiode, or the like can be used for the light detection unit 52. In this embodiment, for example, a CCD (Charge Coupled Device) camera is employed. Since a plurality of photoelectric conversion elements are arranged in the CCD camera, it is possible to detect light 40 reflected from a plurality of locations. The second detection unit 39 is also composed of a condenser lens 53, a light detection unit 54, and the like, and has the same function as the first detection unit 38.

図3(a)は基板の測定場所を説明する模式平面図である。図3(a)に示すように、基板15は中央に機能領域57が配置され、機能領域57の周辺には予備領域58が配置されている。機能領域57は特定の機能を有する機能膜を形成する領域であり、予備領域58は機能膜の形成以外の用途に用いられる領域である。そして、予備領域58において基板15の4隅と4辺の約中間の場所には液面検出領域59が8箇所設定されている。   FIG. 3A is a schematic plan view for explaining the measurement location of the substrate. As shown in FIG. 3A, the substrate 15 has a functional region 57 disposed at the center, and a spare region 58 disposed around the functional region 57. The functional area 57 is an area for forming a functional film having a specific function, and the spare area 58 is an area used for purposes other than the formation of the functional film. In the preliminary area 58, eight liquid level detection areas 59 are set at a position approximately halfway between the four corners and the four sides of the substrate 15.

図3(b)は液面検出領域を説明する模式平面図であり、図3(c)は液面検出領域を説明する模式断面図である。そして、図3(c)は図3(b)のB−B’における断面を示している。図3(b)及び図3(c)に示すように、液面検出領域59には隔壁部60が格子状に配置されている。この隔壁部60に囲まれた複数の塗布領域61は各々略同じ面積に形成され、隔壁部60は略同じ高さに形成されている。そして、この隔壁部60には液状体62が塗布され、この液状体62の塗布量は大中小の3水準形成されている。そして、塗布量が大の領域である大領域63、塗布量が中の領域である中領域64、塗布量が小の領域である小領域65が混在して配置されている。   FIG. 3B is a schematic plan view illustrating the liquid level detection region, and FIG. 3C is a schematic cross-sectional view illustrating the liquid level detection region. FIG. 3C shows a cross section taken along the line B-B ′ of FIG. As shown in FIG. 3B and FIG. 3C, the partition wall portions 60 are arranged in a lattice pattern in the liquid level detection region 59. The plurality of application regions 61 surrounded by the partition wall 60 are formed in substantially the same area, and the partition wall 60 is formed in substantially the same height. A liquid material 62 is applied to the partition wall 60, and the amount of application of the liquid material 62 is formed in three levels of large, medium, and small. A large area 63 where the application amount is large, a middle area 64 where the application amount is medium, and a small area 65 where the application amount is small are mixed.

図4は液状体に照射される光の挙動を説明する図である。図4(a)は液状体62が凸状であり、図4(b)は液状体62が平面状であり、図4(c)は液状体62が凹状となっている。図4(a)に示すように、塗布領域61に液状体62が凸状に塗布されている。そして、光40が液状体62に照射されるとき、一部の光40は液状体62の表面で反射し、一部の光40は液状体62の内部に入射する。反射と入射とは液状体62の表面に対する光40の入射角と液状体62の屈折率により切り換わる。そして、液状体62の表面形状が曲面となっているので、反射及び入射した光40が進行する方向は多方向に進行する。そして、液状体62の内部に入射した光40は基板15を照射し、この光40は基板15において反射した後液状体62を通過する。つまり、液状体62が凸状のとき、液状体62において反射及び通過する光40は多方向に進行する。そして、図2に示す照射部37から照射する光40は図2に示す第2検出部39の方向に進行する。   FIG. 4 is a diagram for explaining the behavior of light applied to the liquid material. In FIG. 4A, the liquid material 62 is convex, in FIG. 4B, the liquid material 62 is planar, and in FIG. 4C, the liquid material 62 is concave. As shown in FIG. 4A, the liquid material 62 is applied in a convex shape to the application region 61. When the liquid 40 is irradiated with the light 40, a part of the light 40 is reflected by the surface of the liquid 62 and a part of the light 40 enters the liquid 62. Reflection and incidence are switched according to the incident angle of the light 40 with respect to the surface of the liquid material 62 and the refractive index of the liquid material 62. Since the surface shape of the liquid 62 is a curved surface, the direction in which the reflected and incident light 40 travels proceeds in multiple directions. The light 40 incident on the inside of the liquid material 62 irradiates the substrate 15, and the light 40 is reflected by the substrate 15 and then passes through the liquid material 62. That is, when the liquid material 62 is convex, the light 40 reflected and transmitted by the liquid material 62 travels in multiple directions. And the light 40 irradiated from the irradiation part 37 shown in FIG. 2 advances to the direction of the 2nd detection part 39 shown in FIG.

図4(b)では、塗布領域61に液状体62が平面状に塗布されている。そして、光40が液状体62に照射されるとき、一部の光40は液状体62の表面で反射し、一部の光40は液状体62の内部に入射する。そして、液状体62の表面形状が平面状となっているので、反射した光40が進行する方向は略1方向に進行する。そして、液状体62の内部に入射した光40は基板15を照射し、この光40は基板15において反射した後、液状体62を通過する。このとき、液状体62は表面と底面とが平行な面となっているので、液状体62の表面で反射する光40の進行方向と液状体62の内部を通過する光40の進行方向は略同一の方向となる。そして、照射部37から照射する光40は図2に示す第1検出部38の方向に進行する。このとき、液状体62を照射する光40と基板15とが成す角度42は、反射する光40が基板15と成す角度44と略同じ角度となる。   In FIG. 4B, the liquid material 62 is applied to the application region 61 in a planar shape. When the liquid 40 is irradiated with the light 40, a part of the light 40 is reflected by the surface of the liquid 62 and a part of the light 40 enters the liquid 62. Since the surface shape of the liquid material 62 is flat, the direction in which the reflected light 40 travels is approximately one direction. The light 40 incident on the inside of the liquid material 62 irradiates the substrate 15, and the light 40 is reflected by the substrate 15 and then passes through the liquid material 62. At this time, since the surface of the liquid material 62 is parallel to the bottom surface, the traveling direction of the light 40 reflected by the surface of the liquid material 62 and the traveling direction of the light 40 passing through the liquid material 62 are substantially the same. The same direction. And the light 40 irradiated from the irradiation part 37 advances to the direction of the 1st detection part 38 shown in FIG. At this time, an angle 42 formed between the light 40 irradiating the liquid 62 and the substrate 15 is substantially the same as an angle 44 formed between the reflected light 40 and the substrate 15.

図4(c)では、塗布領域61に液状体62が凹状に塗布されている。そして、光40が液状体62に照射されるとき、一部の光40は液状体62の表面で反射し、一部の光40は液状体62の内部に入射する。そして、液状体62の表面形状が曲面となっているので、反射及び入射した光40が進行する方向は多方向に進行する。そして、液状体62の内部に入射した光40は基板15を照射し、この光40は基板15において反射した後液状体62を屈折して通過する。つまり、液状体62が凹状のとき、液状体62において反射及び通過する光40は多方向に進行する。   In FIG. 4C, the liquid material 62 is applied in a concave shape in the application region 61. When the liquid 40 is irradiated with the light 40, a part of the light 40 is reflected by the surface of the liquid 62 and a part of the light 40 enters the liquid 62. Since the surface shape of the liquid 62 is a curved surface, the direction in which the reflected and incident light 40 travels proceeds in multiple directions. The light 40 incident on the inside of the liquid material 62 irradiates the substrate 15, and the light 40 is reflected by the substrate 15 and then refracts and passes through the liquid material 62. That is, when the liquid material 62 is concave, the light 40 reflected and passed by the liquid material 62 travels in multiple directions.

図5は液状体の形状と反射光の光量との関係を説明する図である。図5(a)は液状体の形状を示す模式断面図である。図5(b)は液状体の形状と第1検出部が検出する光量との関係を示すグラフであり、図5(c)は液状体の形状と第2検出部が検出する光量との関係を示すグラフである。図5(a)に示すように、隔壁部60に囲まれた塗布領域61に液状体62が塗布されている。そして、隔壁部60の隔壁部上面60aと液状体62の中央部62aのZ方向(液状体62の厚さ方向)の差を突出量66とする。液状体62が凸状のとき突出量66の値は正数となり、液状体62が凹状のとき突出量66の値は負数となる。そして、液状体62の中央部62aが隔壁部上面60aと同じ面になるとき、突出量66の値は零となり、液状体62は略平面状となる。   FIG. 5 is a diagram for explaining the relationship between the shape of the liquid material and the amount of reflected light. FIG. 5A is a schematic cross-sectional view showing the shape of the liquid material. FIG. 5B is a graph showing the relationship between the shape of the liquid and the amount of light detected by the first detector, and FIG. 5C is the relationship between the shape of the liquid and the amount of light detected by the second detector. It is a graph which shows. As shown in FIG. 5A, the liquid material 62 is applied to the application region 61 surrounded by the partition wall 60. A difference in the Z direction (the thickness direction of the liquid material 62) between the partition wall upper surface 60 a of the partition wall 60 and the central portion 62 a of the liquid material 62 is defined as a protrusion amount 66. When the liquid material 62 is convex, the value of the protrusion 66 is a positive number, and when the liquid material 62 is concave, the value of the protrusion 66 is a negative number. And when the center part 62a of the liquid body 62 becomes the same surface as the partition part upper surface 60a, the value of the protrusion 66 becomes zero, and the liquid body 62 becomes substantially planar.

図5(b)において横軸は突出量66を示し、左側が大きく右側が小さくなっている。縦軸は図2に示す第1検出部38が受光する光量67を示し、上側が大きく下側が小さくなっている。そして、受光量曲線68は突出量66の変化に対する光量67の変化の推移を示している。受光量曲線68が示すように突出量66が大きいとき光量67は小さくなっている。このとき、液状体62に入射する光は乱反射する状態となっている。そして、突出量66が零地点66aに近づくにつれて光量67が増加し、突出量66が零地点66aとなるとき変化点としての極値68aとなる。このとき、液状体62は平面状となり、液状体62を照射する光40が正反射するので、第1検出部38が検出する光量67が大きくなる。突出量66が零地点66aの近辺では、正反射する場所の面積が急激に変化するので、受光量曲線68の変化が大きくなる。そして、突出量66がさらに減るとき、液状体62は凹状となり、液状体62を照射する光40が乱反射するので、第1検出部38が検出する光量67が小さくなる。   In FIG. 5B, the horizontal axis indicates the protrusion amount 66, and the left side is large and the right side is small. The vertical axis represents the amount of light 67 received by the first detection unit 38 shown in FIG. 2, with the upper side being larger and the lower side being smaller. The received light amount curve 68 shows the transition of the change in the light amount 67 with respect to the change in the protrusion amount 66. As shown by the light reception amount curve 68, the light amount 67 is small when the protrusion amount 66 is large. At this time, the light incident on the liquid material 62 is in a state of irregular reflection. The light amount 67 increases as the protruding amount 66 approaches the zero point 66a. When the protruding amount 66 reaches the zero point 66a, the extreme value 68a is obtained as the changing point. At this time, the liquid material 62 has a planar shape, and the light 40 irradiating the liquid material 62 is regularly reflected, so that the light amount 67 detected by the first detection unit 38 is increased. When the protrusion 66 is in the vicinity of the zero point 66a, the area of the specularly reflected area changes abruptly, so that the change in the received light amount curve 68 increases. When the protrusion 66 is further reduced, the liquid body 62 becomes concave, and the light 40 that irradiates the liquid body 62 is irregularly reflected, so the light amount 67 detected by the first detection unit 38 is reduced.

図5(c)において横軸は突出量66を示し、左側が大きく右側が小さくなっている。縦軸は図2に示す第2検出部39が受光する光量67を示し、上側が大きく下側が小さくなっている。そして、受光量曲線69は突出量66の変化に対する光量67の変化の推移を示している。受光量曲線69が示すように突出量66が大きいとき光量67は大きくなっている。このとき、液状体62に入射する光は乱反射する状態となっている。そして、乱反射する光40の一部を第2検出部39が受光しているので、光量67が大きくなっている。次に、突出量66が零地点66aに近づくにつれて光量67が減少し、突出量66が零地点66aとなるとき変化点としての極値69aとなる。このとき、液状体62は平面状となり、液状体62を照射する光40が正反射するので、第2検出部39が検出する光量67が小さくなる。そして、突出量66がさらに減るとき、液状体62は凹状となり、液状体62を照射する光40が乱反射するので、第2検出部39が検出する光量67が大きくなる。以上のように、第1検出部38及び第2検出部39が受光する光量67を検出することにより液状体62の液面の状態を認識することが可能となっている。   In FIG.5 (c), the horizontal axis shows the protrusion amount 66, the left side is large and the right side is small. The vertical axis indicates the amount of light 67 received by the second detector 39 shown in FIG. 2, with the upper side being larger and the lower side being smaller. The received light amount curve 69 shows the transition of the change in the light amount 67 with respect to the change in the protrusion amount 66. As shown by the light reception amount curve 69, the light amount 67 is large when the protrusion amount 66 is large. At this time, the light incident on the liquid material 62 is in a state of irregular reflection. And since the 2nd detection part 39 has received a part of light 40 diffusely reflected, the light quantity 67 is large. Next, as the protrusion amount 66 approaches the zero point 66a, the light amount 67 decreases, and when the protrusion amount 66 reaches the zero point 66a, an extreme value 69a is obtained as a changing point. At this time, the liquid material 62 has a planar shape, and the light 40 irradiating the liquid material 62 is regularly reflected, so that the light amount 67 detected by the second detection unit 39 is reduced. When the protrusion 66 is further reduced, the liquid body 62 becomes concave, and the light 40 that irradiates the liquid body 62 is irregularly reflected, so that the amount of light 67 detected by the second detector 39 increases. As described above, it is possible to recognize the state of the liquid surface of the liquid 62 by detecting the amount of light 67 received by the first detector 38 and the second detector 39.

図6は、乾燥装置の電気制御ブロック図である。図6において、乾燥装置1の制御装置70はプロセッサとして各種の演算処理を行うCPU(演算処理装置)71と、各種情報を記憶するメモリ72とを有している。   FIG. 6 is an electric control block diagram of the drying apparatus. In FIG. 6, the control device 70 of the drying device 1 includes a CPU (arithmetic processing device) 71 that performs various arithmetic processes as a processor, and a memory 72 that stores various types of information.

バルブ駆動装置73、排気装置32、テーブル駆動装置74、連通弁駆動装置75、流速計34、圧力計33は、入出力インターフェース76及びデータバス77を介してCPU71に接続されている。さらに、入力装置78、ディスプレイ装置79も入出力インターフェース76及びデータバス77を介してCPU71に接続されている。   The valve drive device 73, the exhaust device 32, the table drive device 74, the communication valve drive device 75, the velocimeter 34, and the pressure gauge 33 are connected to the CPU 71 via the input / output interface 76 and the data bus 77. Further, the input device 78 and the display device 79 are also connected to the CPU 71 via the input / output interface 76 and the data bus 77.

バルブ駆動装置73は吸気バルブ23及び排気バルブ30を駆動して各バルブの開閉を制御する装置である。バルブ駆動装置73が吸気バルブ23を閉じると乾燥室3に供給される気体の量が減少する。そして、バルブ駆動装置73が吸気バルブ23を開くと乾燥室3に供給される気体の量が増加するので、バルブ駆動装置73は乾燥室3に供給する気体の量を制御可能となっている。   The valve drive device 73 is a device that controls the opening and closing of each valve by driving the intake valve 23 and the exhaust valve 30. When the valve driving device 73 closes the intake valve 23, the amount of gas supplied to the drying chamber 3 decreases. Since the amount of gas supplied to the drying chamber 3 increases when the valve driving device 73 opens the intake valve 23, the valve driving device 73 can control the amount of gas supplied to the drying chamber 3.

バルブ駆動装置73が排気バルブ30を閉じると乾燥室3から排気される気体の量が減少する。そして、バルブ駆動装置73が排気バルブ30を開くと乾燥室3から排気される気体の量が増加するので、バルブ駆動装置73は乾燥室3から排気する気体の量を制御可能となっている。排気装置32は乾燥室3から気体を排気する装置であり、排気流量を制御する機能を備えている。そして、排気装置32と排気バルブ30とを制御することにより乾燥室3から排気する気体の量を制御可能となっている。   When the valve driving device 73 closes the exhaust valve 30, the amount of gas exhausted from the drying chamber 3 decreases. Since the amount of gas exhausted from the drying chamber 3 increases when the valve driving device 73 opens the exhaust valve 30, the valve driving device 73 can control the amount of gas exhausted from the drying chamber 3. The exhaust device 32 is a device that exhausts gas from the drying chamber 3 and has a function of controlling the exhaust flow rate. The amount of gas exhausted from the drying chamber 3 can be controlled by controlling the exhaust device 32 and the exhaust valve 30.

テーブル駆動装置74は移動テーブル12の移動及び停止と除給材扉13の開閉を駆動する装置である。連通弁駆動装置75は連通弁10を駆動する装置であり、連通弁10を通過する気流の流量を制御する機能を有している。   The table driving device 74 is a device that drives the movement table 12 to move and stop and to open and close the discharge material door 13. The communication valve drive device 75 is a device that drives the communication valve 10 and has a function of controlling the flow rate of the airflow that passes through the communication valve 10.

流速計34は連通弁10付近における気流の流速を測定する機能を備え、気流に影響を与えず測定可能であれば良く、プロペラ式流速計、熱線流速計、レーザドップラー流速計、ピトー管式流速計等を用いることができる。本実施形態においては、例えば、熱線流速計を採用している。   The anemometer 34 has a function of measuring the flow velocity of the air flow in the vicinity of the communication valve 10 and is only required to be able to measure without affecting the air flow. A meter or the like can be used. In this embodiment, for example, a hot-wire anemometer is employed.

圧力計33は第1室5及び第2室6に配置され、各室の気圧を測定する。圧力計33は気圧の差によって伸縮するダイアラムやブルドン管の変位を歪みゲージで測定する計器を用いることができる。他にも、シリコン基板に薄肉部を形成し、薄肉部上に配線を形成し、薄肉部が圧力により変化する変位量を配線抵抗の変化を用いて測定する半導体圧力センサ等を用いることができる。本実施形態においては、例えば、半導体圧力センサを採用している。   The pressure gauge 33 is arrange | positioned in the 1st chamber 5 and the 2nd chamber 6, and measures the atmospheric pressure of each chamber. The pressure gauge 33 may be a dialam that expands and contracts due to a difference in atmospheric pressure or a gauge that measures the displacement of the Bourdon tube with a strain gauge. In addition, it is possible to use a semiconductor pressure sensor or the like in which a thin part is formed on a silicon substrate, a wiring is formed on the thin part, and a displacement amount of the thin part that changes due to pressure is measured using a change in wiring resistance. . In this embodiment, for example, a semiconductor pressure sensor is employed.

入力装置78は気圧や気流の流速等の乾燥に係る各種加工条件を入力する装置である。ディスプレイ装置79は加工条件や、作業状況を表示する装置であり、操作者はディスプレイ装置79に表示される情報を基に入力装置78を用いて操作を行う。   The input device 78 is a device for inputting various processing conditions relating to drying such as atmospheric pressure and airflow velocity. The display device 79 is a device that displays processing conditions and work status, and an operator performs an operation using the input device 78 based on information displayed on the display device 79.

メモリ72は、RAM、ROM等といった半導体メモリや、ハードディスク、CD−ROMといった外部記憶装置を含む概念である。機能的には、乾燥装置1における動作の制御手順が記述されたプログラムソフト80を記憶する記憶領域が設定される。さらに、基板15を乾燥するときの条件を示す乾燥条件データ81を記憶するための記憶領域も設定される。他にも、液面検出装置18の出力に応じて乾燥条件を切り換える判断をするときの閾値である判断閾値データ82を記憶するための記憶領域が設定される。さらに、液面を測定するときの測定条件である測定条件データ83や測定した液面測定データ84を記憶するための記憶領域が設定される。他にも、CPU71のためのワークエリアやテンポラリファイル等として機能する記憶領域やその他各種の記憶領域が設定される。   The memory 72 is a concept including a semiconductor memory such as a RAM and a ROM, and an external storage device such as a hard disk and a CD-ROM. Functionally, a storage area is set for storing the program software 80 in which the operation control procedure in the drying apparatus 1 is described. Furthermore, a storage area for storing drying condition data 81 indicating conditions for drying the substrate 15 is also set. In addition, a storage area is set for storing determination threshold value data 82 that is a threshold value for determining switching of the drying conditions in accordance with the output of the liquid level detection device 18. Furthermore, a storage area for storing measurement condition data 83 which is a measurement condition for measuring the liquid level and measured liquid level measurement data 84 is set. In addition, a work area for the CPU 71, a storage area that functions as a temporary file, and other various storage areas are set.

CPU71は、メモリ72内に記憶されたプログラムソフト80に従って、基板15を乾燥するための制御を行うものである。具体的な機能実現部として、除給材扉13の開閉や移動テーブル12の移動を制御して、基板15の除給材を行うための演算を行う除給材制御演算部87を有する。さらに、気圧や気流の流速等の乾燥条件を調整する固化条件調整部88を有する。さらに、吸気バルブ23や排気バルブ30の開閉量を演算するバルブ制御演算部89や、連通弁10の開閉量を演算する連通弁制御演算部90を有する。他に、乾燥にかかる時間を測定する乾燥時間演算部91や液面検出装置18の出力から固化具合を判断する固化判断部92等を有する。   The CPU 71 performs control for drying the substrate 15 according to the program software 80 stored in the memory 72. As a specific function realization part, it has the discharge material control calculating part 87 which controls the opening / closing of the discharge material door 13 and the movement of the moving table 12, and performs the calculation for performing the discharged material of the board | substrate 15. Furthermore, it has the solidification condition adjustment part 88 which adjusts drying conditions, such as atmospheric pressure and the flow velocity of airflow. Furthermore, a valve control calculation unit 89 that calculates the opening / closing amount of the intake valve 23 and the exhaust valve 30 and a communication valve control calculation unit 90 that calculates the opening / closing amount of the communication valve 10 are provided. In addition, a drying time calculation unit 91 that measures the time required for drying, a solidification determination unit 92 that determines the degree of solidification from the output of the liquid level detection device 18, and the like are provided.

固化判断部92が液面検出装置18の出力値を用いて液面の固化具合を判断する。そして、固化判断部92が固化条件調整部88に乾燥条件の継続又は変更する指示を出す。固化条件調整部88は圧力計33及び流速計34の測定値を受信して乾燥条件の変更量を演算してバルブ制御演算部89及び連通弁制御演算部90に指示情報を出力する。次に、バルブ制御演算部89は吸気バルブ23及び排気バルブ30の開閉量を演算してバルブ駆動装置73にバルブ開閉量情報を出力する。バルブ駆動装置73はバルブ開閉量情報を受信した後、吸気バルブ23や排気バルブ30の開閉量を変更する。   The solidification determination unit 92 determines the degree of solidification of the liquid level using the output value of the liquid level detection device 18. Then, the solidification determination unit 92 instructs the solidification condition adjustment unit 88 to continue or change the drying conditions. The solidification condition adjusting unit 88 receives the measurement values of the pressure gauge 33 and the velocimeter 34, calculates the change amount of the drying condition, and outputs the instruction information to the valve control calculation unit 89 and the communication valve control calculation unit 90. Next, the valve control calculation unit 89 calculates the opening / closing amounts of the intake valve 23 and the exhaust valve 30 and outputs the valve opening / closing amount information to the valve driving device 73. After receiving the valve opening / closing amount information, the valve driving device 73 changes the opening / closing amounts of the intake valve 23 and the exhaust valve 30.

同様に、連通弁制御演算部90は連通弁10の開閉量を演算して連通弁駆動装置75にバルブ開閉量情報を出力する。連通弁駆動装置75はバルブ開閉量情報を受信した後、連通弁10の開閉量を変更する。以上の手順により液面の固化状態に対応して乾燥条件が変更可能となっている。   Similarly, the communication valve control calculation unit 90 calculates the opening / closing amount of the communication valve 10 and outputs valve opening / closing amount information to the communication valve driving device 75. After receiving the valve opening / closing amount information, the communication valve driving device 75 changes the opening / closing amount of the communication valve 10. According to the above procedure, the drying conditions can be changed according to the solidified state of the liquid surface.

(膜形成方法)
次に、上述した乾燥装置1を使って、基板に塗布された液状体を乾燥して固化する製造方法について図7〜図12にて説明する。図7は、基板上に膜を形成する製造工程を示すフローチャートであり、図8〜図12は、基板上に膜を形成する製造方法を説明する図である。
(Film formation method)
Next, the manufacturing method which dries and solidifies the liquid body apply | coated to the board | substrate using the drying apparatus 1 mentioned above is demonstrated in FIGS. FIG. 7 is a flowchart showing a manufacturing process for forming a film on a substrate, and FIGS. 8 to 12 are diagrams for explaining a manufacturing method for forming a film on the substrate.

図7のフローチャートにおいて、ステップS1は、隔壁形成工程に相当し、基板上に隔壁を形成する工程である。次にステップS2に移行する。ステップS2は、塗布工程に相当し、隔壁に囲まれた領域に液状体を塗布する工程である。次にステップS3に移行する。ステップS3は、検出工程に相当し、塗布された液面の状態を検出する工程である。次にステップS4移行する。ステップS4は、風速変更判断工程に相当し、液面の状態に応じて装置内の風速を変更するかの判断を行う工程である。風速を変更するとき、ステップS5に移行する。風速を変更しないとき、ステップS6に移行する。ステップS5は、固化条件調整工程に相当し、バルブ及び連通弁を調整する工程である。次にステップS3に移行する。ステップS6は、固化判断工程に相当し、液状体の固化が完了したかを判断する工程である。固化が完了していないとき(未固化のとき)、ステップS3に移行する。固化が完了したとき(固化済のとき)、ステップS7に移行する。ステップS3〜ステップS6のステップを合わせてステップS11の固化工程とする。このとき、乾燥時間演算部はステップS11にかかる時間を測定する。ステップS7は、保守要否判断工程に相当し、乾燥装置を保守するか否かを判断する工程である。乾燥時間演算部が保守する必要があると判断するとき(必要のとき)、ステップS8に移行する。乾燥時間演算部が保守する必要がないと判断するとき(不要のとき)、製造工程を終了する。ステップS8は、保守工程に相当し、乾燥装置の内壁に結露した液状体を除去する工程である。以上の工程により膜形成方法を終了する。   In the flowchart of FIG. 7, step S <b> 1 corresponds to a partition formation process, and is a process of forming a partition on the substrate. Next, the process proceeds to step S2. Step S2 corresponds to an application process, and is a process of applying a liquid material to a region surrounded by the partition walls. Next, the process proceeds to step S3. Step S3 corresponds to a detection step, and is a step of detecting the state of the applied liquid surface. Next, the process proceeds to step S4. Step S4 corresponds to a wind speed change determination step, and is a step of determining whether to change the wind speed in the apparatus according to the state of the liquid level. When the wind speed is changed, the process proceeds to step S5. When the wind speed is not changed, the process proceeds to step S6. Step S5 corresponds to a solidification condition adjusting step, and is a step of adjusting the valve and the communication valve. Next, the process proceeds to step S3. Step S6 corresponds to a solidification determination step and is a step of determining whether the solidification of the liquid has been completed. When solidification is not completed (when not solidified), the process proceeds to step S3. When solidification is completed (when solidified), the process proceeds to step S7. Steps S3 to S6 are combined to form a solidification step of Step S11. At this time, the drying time calculation unit measures the time required for step S11. Step S7 corresponds to a maintenance necessity determination step, and is a step of determining whether or not to maintain the drying apparatus. When the drying time calculation unit determines that maintenance is necessary (when necessary), the process proceeds to step S8. When the drying time calculation unit determines that maintenance is not necessary (when unnecessary), the manufacturing process ends. Step S8 corresponds to a maintenance process and is a process of removing the liquid material condensed on the inner wall of the drying device. The film forming method is completed through the above steps.

次に、図8を用いて、図7に示したステップと対応させて、製造方法を詳細に説明する。図8(a)〜図8(d)はステップS1に対応する図である。図8(a)及び図8(b)に示すように、基板15を用意し、基板15に隔壁部の材料である隔壁部形成材料95を塗布する。隔壁部形成材料95は特に限定されないが、フロロカーボンガスプラズマ処理によりテフロン(登録商標)化でき、隔壁部60に塗布する液状体62に対して耐久性の良い有機系感光性材料を用いることが好ましい。例えば、感光性アクリル樹脂、感光性エポキシ樹脂、感光性ポリイミド等を用いることができる。本実施形態においては、例えば、感光性ポリイミドを採用している。そして、スピンコート、スプレーコート、ロールコート、ダイコート、ディップコート等の方法で、基板15上に隔壁部形成材料95を塗布する。次に、塗布された隔壁部形成材料95を乾燥して固化することにより隔壁膜96を形成する。   Next, the manufacturing method will be described in detail with reference to FIG. 8 in association with the steps shown in FIG. FIG. 8A to FIG. 8D are diagrams corresponding to step S1. As shown in FIGS. 8A and 8B, a substrate 15 is prepared, and a partition wall forming material 95 that is a material of the partition wall is applied to the substrate 15. The partition wall forming material 95 is not particularly limited, but it is preferable to use an organic photosensitive material that can be made Teflon (registered trademark) by fluorocarbon gas plasma treatment and has high durability for the liquid 62 applied to the partition wall 60. . For example, a photosensitive acrylic resin, a photosensitive epoxy resin, a photosensitive polyimide, or the like can be used. In this embodiment, for example, photosensitive polyimide is employed. Then, the partition wall forming material 95 is applied on the substrate 15 by a method such as spin coating, spray coating, roll coating, die coating, dip coating, or the like. Next, the partition wall film 96 is formed by drying and solidifying the applied partition wall forming material 95.

次に、図8(c)に示すように、マスク97を基板15に重ねて、紫外光98を照射する。マスク97には隔壁部60のパターンが形成され、マスク97を通過する紫外光98は隔壁膜96を照射する。そして、照射された隔壁膜96は紫外線により変質した変質部が形成される。次に、基板15を現像する。基板15をアルカリ現像液に浸漬して、変質部を除去する。アルカリ現像液としては、例えば、TMAH(テトラメチルアンモニウムヒドロキシド)、コリン、珪酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を用いることができる。本実施形態ではTMAHを採用している。変質部を除去した後、純水にてリンスして乾燥する。図8(d)に示すように、現像することにより基板15上に隔壁部60が形成される。次に、基板15及び隔壁部60の表面を改質する。まず隔壁部底面60bの親液性を改善するために大気圧プラズマ処理を行う。具体的には、例えば、ヘリウムに酸素を20%加えた混合ガスに高電圧を印加することによりプラズマ雰囲気を形成する。このプラズマ雰囲気中に基板15を通過させることにより基板15が洗浄される。この洗浄により表面エネルギが向上し隔壁部底面60bの親液性が改善される。   Next, as shown in FIG. 8C, a mask 97 is placed on the substrate 15 and irradiated with ultraviolet light 98. A pattern of the partition wall 60 is formed on the mask 97, and the ultraviolet light 98 passing through the mask 97 irradiates the partition film 96. Then, the irradiated partition film 96 is formed with an altered portion that has been altered by ultraviolet rays. Next, the substrate 15 is developed. The substrate 15 is immersed in an alkaline developer to remove the altered portion. As the alkaline developer, for example, TMAH (tetramethylammonium hydroxide), choline, sodium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, or the like can be used. In this embodiment, TMAH is adopted. After removing the altered portion, the substrate is rinsed with pure water and dried. As shown in FIG. 8D, the partition wall 60 is formed on the substrate 15 by development. Next, the surfaces of the substrate 15 and the partition wall 60 are modified. First, atmospheric pressure plasma treatment is performed to improve the lyophilicity of the partition wall bottom surface 60b. Specifically, for example, a plasma atmosphere is formed by applying a high voltage to a mixed gas in which 20% oxygen is added to helium. The substrate 15 is cleaned by passing the substrate 15 through the plasma atmosphere. This cleaning improves the surface energy and improves the lyophilicity of the partition wall bottom surface 60b.

次に、隔壁部60を撥液性にする表面改質を行う。表面改質としては、例えば導入ガスにフッ素又はフッ素化合物を含んだガスを使用し、減圧雰囲気下や大気圧雰囲気下でプラズマ照射をする減圧プラズマ処理や大気圧プラズマ処理を行う。フッ素系化合物を含んだガス中でプラズマ処理を行うとき、有機材料表面においてフッ素系化合物分子が有機材料表面に入り込む混入化現象により表面が非極性化される。従って、有機材料をフッ素系化合物が過多の条件でプラズマ処理すると、隔壁部60は極性分子を含んだ流動体に対して非親和性を示し、非極性分子を含んだ流動体に対して親和性を示すようになる。フッ素又はフッ素化合物を含んだガスとしては、例えばCF4、SF6、CHF3等のハロゲンガスを用いることができる。本実施形態では、例えば、CF4を採用している。 Next, surface modification is performed to make the partition wall 60 liquid repellent. As the surface modification, for example, a gas containing fluorine or a fluorine compound is used as the introduced gas, and a low pressure plasma treatment or an atmospheric pressure plasma treatment is performed in which plasma irradiation is performed in a reduced pressure atmosphere or an atmospheric pressure atmosphere. When plasma treatment is performed in a gas containing a fluorine compound, the surface of the organic material becomes nonpolar due to a mixing phenomenon in which fluorine compound molecules enter the surface of the organic material. Therefore, when the organic material is plasma-treated under the condition that the fluorine-based compound is excessive, the partition wall portion 60 has an affinity for a fluid containing polar molecules and has an affinity for a fluid containing nonpolar molecules. Will come to show. As the gas containing fluorine or a fluorine compound, for example, a halogen gas such as CF 4 , SF 6 , or CHF 3 can be used. In the present embodiment, for example, CF 4 is employed.

図8(e)及び図8(f)はステップS2に対応する図である。図8(e)及び図8(f)に示す様に、液滴吐出装置を用いて液状体62を塗布する。この液滴吐出装置はノズル99が形成された液滴吐出ヘッド100を備え、インクジェット法を用いて液滴101を吐出する装置である。隔壁部60により囲われた塗布領域61にノズル99から液滴101を吐出する。このとき、隔壁部60には撥液性となる表面改質が行われているので、液状体62が大量に塗布されても隔壁部上面60aを越え難くなっているので、液状体62は塗布領域61において凸状となる。   FIG. 8E and FIG. 8F are diagrams corresponding to step S2. As shown in FIGS. 8E and 8F, the liquid material 62 is applied using a droplet discharge device. This droplet discharge device is a device that includes a droplet discharge head 100 in which a nozzle 99 is formed and discharges droplets 101 using an inkjet method. The droplet 101 is discharged from the nozzle 99 to the application region 61 surrounded by the partition wall 60. At this time, since the partition wall portion 60 has been subjected to surface modification to be liquid repellent, even if a large amount of the liquid material 62 is applied, it is difficult to exceed the partition wall upper surface 60a. The region 61 is convex.

図8(g)〜図9はステップS3に対応する図である。図8(g)に示すように、液状体62、隔壁部60、基板15に光40を照射する。照射された光40は反射して第1検出部38及び第2検出部39を照射する。第1検出部38及び第2検出部39が受光する光40の光量は液状体62の形状により変化する。   FIG. 8G to FIG. 9 correspond to step S3. As shown in FIG. 8G, the liquid 40, the partition wall 60, and the substrate 15 are irradiated with light 40. The irradiated light 40 is reflected to irradiate the first detection unit 38 and the second detection unit 39. The amount of light 40 received by the first detection unit 38 and the second detection unit 39 varies depending on the shape of the liquid material 62.

図9(a)は第2検出部が受光する光量と測定間隔との関係を示すグラフである。図9(a)において縦軸は第2検出部39が受光する光量102を示し、上側が下側より光量102が小さい量となっている。横軸は第1検出部38及び第2検出部39が測定する測定間隔103を示し、右側が左側より測定間隔103が長くなっている。そして、測定間隔曲線104は第2検出部39が受光する光量102に対して設定される測定間隔103の相関を示している。この測定間隔曲線104は略指数関数曲線となっており、光量102が小さい程測定間隔103が短く設定される。逆に光量102が大きい程測定間隔103が長く設定されるようになっている。液状体62に光40を照射するとき、乱反射する光量102が小さいときに第2検出部39が受光する光量102が小さくなる。つまり、乱反射する光量102が小さいとき、測定間隔103が短くなるように設定する。そして、この測定間隔曲線104のデータはメモリ72に測定条件データ83の一つとして格納されている。又、照射部37は測定するときのみ光40を照射するので、この照射は間欠照射となっている。   FIG. 9A is a graph showing the relationship between the amount of light received by the second detector and the measurement interval. In FIG. 9A, the vertical axis indicates the amount of light 102 received by the second detector 39, with the amount of light 102 being smaller on the upper side than on the lower side. The horizontal axis shows the measurement interval 103 measured by the first detection unit 38 and the second detection unit 39, and the measurement interval 103 is longer on the right side than on the left side. A measurement interval curve 104 indicates the correlation of the measurement interval 103 set with respect to the light quantity 102 received by the second detection unit 39. The measurement interval curve 104 is a substantially exponential function curve, and the measurement interval 103 is set shorter as the light quantity 102 is smaller. Conversely, the larger the light quantity 102, the longer the measurement interval 103 is set. When the liquid 40 is irradiated with the light 40, the amount of light 102 received by the second detector 39 is small when the amount of diffusely reflected light 102 is small. That is, the measurement interval 103 is set to be short when the amount of irregularly reflected light 102 is small. The data of the measurement interval curve 104 is stored in the memory 72 as one of the measurement condition data 83. Moreover, since the irradiation part 37 irradiates the light 40 only when measuring, this irradiation is intermittent irradiation.

図9(b)は第2検出部が受光する光量の推移を示すグラフである。そして、図9(c)は検出部における測定間隔の推移を示すグラフである。図9(b)において、縦軸は第2検出部39が受光する光量102を示し、上側が下側より光量102が大きい量となっている。横軸は時間105の経過を示している。そして、光量推移曲線106は第2検出部39が受光する光量102の時間経過に対して変化する様子を示している。そして、光量推移曲線106において光量102が最も下がる下限点106aに対応する時間105を平坦時時間105aとする。このとき、液状体62は図4(b)に示すように平坦となり照射される光40が乱反射し難いので、第2検出部39を照射する光40が小さくなっている。   FIG. 9B is a graph showing the transition of the amount of light received by the second detector. FIG. 9C is a graph showing the transition of the measurement interval in the detection unit. In FIG. 9B, the vertical axis indicates the amount of light 102 received by the second detection unit 39, and the amount of light 102 is greater on the upper side than on the lower side. The horizontal axis shows the passage of time 105. The light quantity transition curve 106 shows how the light quantity 102 received by the second detector 39 changes with time. Then, the time 105 corresponding to the lower limit point 106a at which the light quantity 102 falls most in the light quantity transition curve 106 is set as a flat time 105a. At this time, the liquid 62 becomes flat as shown in FIG. 4B and the irradiated light 40 is difficult to diffusely reflect, so the light 40 irradiating the second detector 39 is small.

図9(c)において、縦軸は第1検出部38及び第2検出部39が測定する測定間隔103を示し、上側が下側より測定間隔103が短くなっている。横軸は時間105の経過を示している。そして、測定間隔推移曲線107は第1検出部38及び第2検出部39が測定する測定間隔103の時間経過に対して変化する様子を示している。そして、測定間隔推移曲線107が示すように平坦時時間105aに近い時、第2検出部39が受光する光量102が小さいので測定間隔103が短く設定される。そして、平坦時時間105aから離れているとき第2検出部39が受光する光量102が大きくなるので測定間隔103が長く設定される。   In FIG. 9C, the vertical axis indicates the measurement interval 103 measured by the first detection unit 38 and the second detection unit 39, and the measurement interval 103 is shorter on the upper side than on the lower side. The horizontal axis shows the passage of time 105. The measurement interval transition curve 107 shows how the measurement interval 103 measured by the first detection unit 38 and the second detection unit 39 changes with time. Then, as shown by the measurement interval transition curve 107, when the flat time 105a is close, the amount of light 102 received by the second detector 39 is small, so the measurement interval 103 is set short. And since the light quantity 102 which the 2nd detection part 39 light-receives when it leaves | separates from the flat time 105a, the measurement interval 103 is set long.

図10(a)及び図10(b)はステップS4及びステップS5に対応する図である。図10(a)は第2検出部が測定する光量データの推移を示すグラフである。図10(a)において、縦軸は第2検出部39が受光する光量102を示し、上側が下側より光量102が大きい量となっている。横軸は時間105の経過を示している。そして、3回測定したときの測定データ108と、各回における測定データ108の平均値である平均光量109が示されている。図1に示すように乾燥装置1には8個の液面検出装置18が配置されているので、1回の測定により8箇所の光量102データが取得される。   FIG. 10A and FIG. 10B are diagrams corresponding to step S4 and step S5. FIG. 10A is a graph showing transition of light amount data measured by the second detection unit. In FIG. 10A, the vertical axis indicates the amount of light 102 received by the second detection unit 39, and the amount of light 102 is greater on the upper side than on the lower side. The horizontal axis shows the passage of time 105. And the measurement data 108 measured three times and the average light quantity 109 which is the average value of the measurement data 108 at each time are shown. As shown in FIG. 1, since eight liquid level detection devices 18 are arranged in the drying device 1, light quantity 102 data at eight locations is acquired by one measurement.

図10(b)は平均光量との差に対する風速の補正量を示すグラフである。図10(b)において、縦軸は平均光量との差110であり、測定データ108から平均光量109を引いた演算値を示している。縦軸の上側が正の値を示し、下側が負の値を示している。そして、上側が下側より光量102が大きい量となっている。横軸は風速の補正量111を示し、横軸の右側が正の値を示し、左側が負の値を示している。そして、右側が左側より風速の補正量111が大きい量となっている。平均光量との差110と風速の補正量111との相関関係を風速補正線112が示している。この風速補正線112が示すデータはメモリ72の乾燥条件データ81に格納されている。   FIG. 10B is a graph showing the correction amount of the wind speed with respect to the difference from the average light amount. In FIG. 10B, the vertical axis represents the difference 110 from the average light amount, and shows a calculated value obtained by subtracting the average light amount 109 from the measurement data 108. The upper side of the vertical axis shows a positive value, and the lower side shows a negative value. The upper side has a larger light quantity 102 than the lower side. The horizontal axis indicates the correction amount 111 of the wind speed, the right side of the horizontal axis indicates a positive value, and the left side indicates a negative value. The right side has a larger wind speed correction amount 111 than the left side. A wind speed correction line 112 indicates the correlation between the difference 110 from the average light quantity and the correction amount 111 of the wind speed. Data indicated by the wind speed correction line 112 is stored in the drying condition data 81 of the memory 72.

この風速補正線112が示すように第2検出部39の測定データ108が大きい場所では、風速の補正量111を大きくして風速を大きくする。逆に、第2検出部39の測定データ108が小さい場所では、風速の補正量111を小さくして風速を小さくする。つまり、8箇所の測定場所において液状体62の突出量66が大きい場所では連通弁10を調整することにより風速を大きくして、突出量66が小さい場所の風速を小さくしている。そして、風速の大きい場所では液状体62の乾燥が早く進むので、突出量66が早く小さくなる。従って、第2検出部39が検出する光量102が小さくなる。つまり、第2検出部39が測定する光量102が大きい場所では、連通弁10を制御して風速を大きくすることにより、突出量66が小さく成り易くする。従って、第2検出部39が測定する光量102が他の場所に比べて早く小さくなる。逆に、第2検出部39が測定する光量102が小さい場所では、連通弁10を制御して風速を小さくすることにより、突出量66が小さく成り難くする。そして、第2検出部39が測定する光量102の変化を小さくする。その結果、図10(a)に示すように時間105の経過に従って測定データ108の分散を小さくなる。つまり、基板15の各場所において略同じ速度で固化することが可能となっている。   As indicated by the wind speed correction line 112, in a place where the measurement data 108 of the second detection unit 39 is large, the wind speed correction amount 111 is increased to increase the wind speed. On the contrary, in the place where the measurement data 108 of the second detection unit 39 is small, the wind speed correction amount 111 is decreased to decrease the wind speed. That is, in the eight measurement locations, the wind speed is increased by adjusting the communication valve 10 at a location where the protrusion amount 66 of the liquid 62 is large, and the wind speed is reduced where the projection amount 66 is small. And since the drying of the liquid body 62 progresses quickly in the place where the wind speed is high, the projection amount 66 decreases quickly. Therefore, the light quantity 102 detected by the second detection unit 39 is reduced. That is, in a place where the amount of light 102 measured by the second detection unit 39 is large, the protruding amount 66 is easily reduced by increasing the wind speed by controlling the communication valve 10. Accordingly, the amount of light 102 measured by the second detection unit 39 becomes smaller faster than other places. On the contrary, in a place where the light quantity 102 measured by the second detection unit 39 is small, the projection amount 66 is hardly reduced by controlling the communication valve 10 to reduce the wind speed. And the change of the light quantity 102 which the 2nd detection part 39 measures is made small. As a result, as shown in FIG. 10A, the dispersion of the measurement data 108 becomes smaller as time 105 elapses. That is, it can be solidified at substantially the same speed in each place of the substrate 15.

図11はステップS4〜ステップS6に対応する図である。図11(a)は第1検出部が受光する光量の推移を示すグラフであり、図11(b)は乾燥室内の流速の推移を示すグラフである。図11(a)において、縦軸は第1検出部38が受光する光量102を示し、上側が下側より光量102が大きくなっている。横軸は時間105の経過を示している。そして、第1光量推移曲線113、第2光量推移曲線114、第3光量推移曲線115は第1検出部38が受光する光量102の時間経過に対して変化する様子を示している。この第1光量推移曲線113は図3(c)に示す小領域65から正反射する光量102の推移を示している。そして、第2光量推移曲線114は中領域64から正反射する光量102の推移を示し、第3光量推移曲線115は大領域63から正反射する光量102の推移を示している。   FIG. 11 is a diagram corresponding to steps S4 to S6. FIG. 11A is a graph showing the change in the amount of light received by the first detector, and FIG. 11B is a graph showing the change in the flow rate in the drying chamber. In FIG. 11A, the vertical axis indicates the light quantity 102 received by the first detection unit 38, and the light quantity 102 is larger on the upper side than on the lower side. The horizontal axis shows the passage of time 105. The first light quantity transition curve 113, the second light quantity transition curve 114, and the third light quantity transition curve 115 show how the light quantity 102 received by the first detector 38 changes with time. The first light quantity transition curve 113 shows the transition of the light quantity 102 that is regularly reflected from the small area 65 shown in FIG. The second light quantity transition curve 114 shows the transition of the light quantity 102 specularly reflected from the middle area 64, and the third light quantity transition curve 115 shows the transition of the light quantity 102 specularly reflected from the large area 63.

小領域65の液状体62は中領域64に比べて容量が小さいので、乾燥して他の領域より先に凸状から平坦になる。そして、小領域65の液状体62が乾燥して凸状から平坦になるとき、第1光量推移曲線113は最大になる。このとき第1光量推移曲線113が変化点としての極値113aを超えるときの時間を第1平坦時105bとする。次に、中領域64の液状体62が乾燥して凸状から平坦になり、最後に大領域63の液状体62が乾燥して凸状から平坦になる。中領域64、大領域63の液状体62が平坦になり、第2光量推移曲線114が変化点としての極値114aを越えるときの時間、第3光量推移曲線115が変化点としての極値115aを越えるときの時間、をそれぞれ、第2平坦時105c、第3平坦時105dとする。   Since the liquid material 62 in the small region 65 has a smaller capacity than the middle region 64, the liquid material 62 is dried and becomes flat from the convex shape before the other regions. When the liquid material 62 in the small area 65 is dried and becomes flat from the convex shape, the first light quantity transition curve 113 is maximized. At this time, the time when the first light quantity transition curve 113 exceeds the extreme value 113a as the changing point is defined as the first flat time 105b. Next, the liquid material 62 in the middle region 64 is dried and becomes convex to flat, and finally, the liquid material 62 in the large region 63 is dried and becomes convex to flat. The time when the liquid material 62 in the middle region 64 and the large region 63 becomes flat and the second light amount transition curve 114 exceeds the extreme value 114a as the change point, the third light amount transition curve 115 is the extreme value 115a as the change point. The time required to exceed the second time is defined as the second flat time 105c and the third flat time 105d, respectively.

図11(b)において、縦軸は乾燥室3の流速計34が測定する流速116を示し、上側が下側より流速116が大きい量となっている。横軸は時間105の経過を示している。そして、固化条件調整部88が総ての流速計34が測定する流速の平均を演算し、演算した平均値の推移を平均流速曲線117に示している。   In FIG. 11B, the vertical axis indicates the flow velocity 116 measured by the flowmeter 34 of the drying chamber 3, and the upper flow velocity 116 is larger than the lower flow velocity 116. The horizontal axis shows the passage of time 105. And the solidification condition adjustment part 88 calculates the average of the flow velocity which all the anemometers 34 measure, and the transition of the calculated average value is shown in the average flow velocity curve 117.

図11(b)に示すように、平均流速曲線117は初期速度117aのまま固化工程を継続する。そして、第1平坦時105bにおいて流速116を第1速度117bまで上げる。このとき、液状体62の表面には膜の形成が開始されており、液状体62が流動し難くなっている。次に、第2平坦時105cにおいて流速116を第2速度117cまで上げる。このとき、液状体62の表面に形成された膜の厚みが増しており、液状体62はさらに流動し難くなっている。そして、第3平坦時105dにおいて液状体62が固化されたと判断し、流速116を下げてステップS6を終了する。   As shown in FIG. 11B, the solidification process is continued with the average flow velocity curve 117 at the initial speed 117a. Then, the flow velocity 116 is increased to the first velocity 117b at the first flat time 105b. At this time, film formation is started on the surface of the liquid 62, and the liquid 62 is difficult to flow. Next, at the second flat time 105c, the flow velocity 116 is increased to the second velocity 117c. At this time, the thickness of the film formed on the surface of the liquid material 62 is increased, and the liquid material 62 is more difficult to flow. Then, it is determined that the liquid material 62 is solidified at the time of the third flat time 105d, the flow velocity 116 is decreased, and Step S6 is ended.

図12はステップS7に対応する図であり、乾燥所要時間の推移を示すグラフである。図12において、縦軸はステップS11において固化するまでの時間である乾燥所要時間118を示し、上側が下側より長い時間となっている。横軸は前回保守した後、装置を稼動した回数である乾燥装置駆動回数119を示し、右側が左側より多い回数となっている。そして、各回における乾燥所要時間118の推移を乾燥時間推移曲線120が示している。乾燥装置1を連続駆動するとき、乾燥室3の内壁に液状体62が結露することがある。この結露した液状体62の量が増えてくると、基板15に塗布された液状体62が乾燥し難くなるので、乾燥所要時間118が長くなる傾向がある。従って、乾燥時間推移曲線120が示すように乾燥装置駆動回数119が多くなるにつれて乾燥所要時間118が長くなる。   FIG. 12 is a graph corresponding to step S7 and is a graph showing the transition of the time required for drying. In FIG. 12, the vertical axis indicates the time required for drying 118, which is the time until solidification in step S11, and the upper side is longer than the lower side. The horizontal axis indicates the number of times the apparatus has been operated 119, which is the number of times the apparatus has been operated since the previous maintenance, and the right side is more frequent than the left side. And the transition of the drying required time 118 in each time has shown the drying time transition curve 120. FIG. When the drying apparatus 1 is continuously driven, the liquid material 62 may be condensed on the inner wall of the drying chamber 3. When the amount of the condensed liquid 62 increases, the liquid 62 applied to the substrate 15 becomes difficult to dry, and thus the drying time 118 tends to be long. Therefore, as the drying time transition curve 120 shows, the required drying time 118 becomes longer as the number of times the drying device is driven 119 increases.

制御装置70はメモリ72に格納された判断閾値データ82の一つに閾値としての保守判断閾値121を有している。ステップS11において乾燥所要時間118を測定し、ステップS7において乾燥時間演算部91が乾燥所要時間118と保守判断閾値121とを比較する。そして、乾燥所要時間118が保守判断閾値121を越えるとき、保守を行う必要があると判断する。そして、ステップS8において乾燥室3の内壁に付着した液状体62を除去する。以上の工程により膜を形成する製造工程を終了する。   The control device 70 has a maintenance determination threshold value 121 as a threshold value in one of the determination threshold value data 82 stored in the memory 72. In step S11, the required drying time 118 is measured, and in step S7, the drying time calculation unit 91 compares the required drying time 118 with the maintenance judgment threshold value 121. When the time required for drying 118 exceeds the maintenance determination threshold 121, it is determined that maintenance is necessary. In step S8, the liquid material 62 attached to the inner wall of the drying chamber 3 is removed. The manufacturing process for forming a film is completed by the above process.

上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
(1)本実施形態によれば、液状体62に斜めから光40を照射し、液状体62の表面で反射する光40と液状体62の内部に進行して基板15から反射する光40を検出している。このとき、液状体62の形状が変化することより、反射する光40の分布も変化する。そして、液状体62に対して光40を照射して、反射する光40を検出することで、固化状態が判断できることから、簡便な方法で固化状態を判断することができる。
As described above, this embodiment has the following effects.
(1) According to the present embodiment, the liquid 40 is irradiated with the light 40 from an oblique direction, and the light 40 reflected from the surface of the liquid 62 and the light 40 that travels inside the liquid 62 and is reflected from the substrate 15. Detected. At this time, since the shape of the liquid material 62 changes, the distribution of the reflected light 40 also changes. Since the solid state can be determined by irradiating the liquid material 62 with the light 40 and detecting the reflected light 40, the solid state can be determined by a simple method.

(2)本実施形態によれば、正反射する光40を検出している。液状体62が凸状のときと凹状のとき、液状体62に対して斜め方向から光40を照射しても、光40が正反射し難くなっている。そして、液状体62が略平坦のとき、液状体62に対して斜め方向から光40を照射することにより正反射させることができる。従って、正反射する光40を検出することにより液状体62の表面が略平坦な状態になっていることを判断することができる。   (2) According to the present embodiment, the specularly reflected light 40 is detected. When the liquid material 62 is convex or concave, the light 40 is difficult to be regularly reflected even if the liquid 40 is irradiated with light 40 from an oblique direction. When the liquid material 62 is substantially flat, regular reflection can be achieved by irradiating the liquid material 62 with light 40 from an oblique direction. Therefore, it can be determined that the surface of the liquid 62 is substantially flat by detecting the specularly reflected light 40.

(3)本実施形態によれば、第2検出部39が正反射する光40以外の光40を検出している。凸状のときと凹状の液状体62に対して斜め方向から光40を照射するとき、反射する光40は指向性の弱い光分布となっている。そして、液状体62が平坦に近づくにつれて、指向性の強い光分布となる。そして、正反射する光40以外の光は、液状体62が平坦に近づくにつれて弱くなる。次に、平坦から凹状に進行するに従い、正反射以外の光40は強くなる。従って、第2検出部39が正反射する光40以外の光40を検出することにより液状体62の表面が凸状又は凹状の状態になっていることを判断することができる。   (3) According to this embodiment, the second detector 39 detects the light 40 other than the light 40 that is regularly reflected. When light 40 is irradiated from an oblique direction to the convex liquid body 62 and the concave liquid body 62, the reflected light 40 has a light distribution with weak directivity. Then, as the liquid 62 approaches flatness, the light distribution has a strong directivity. And light other than the light 40 which specularly reflects becomes weak as the liquid body 62 approaches flatness. Next, as it progresses from flat to concave, the light 40 other than regular reflection becomes stronger. Therefore, it can be determined that the surface of the liquid 62 is convex or concave by detecting the light 40 other than the light 40 that is regularly reflected by the second detector 39.

(4)本実施形態によれば、正反射する光40と、正反射する光40以外の光40とを用いて液状体62の固化状態を判断している。正反射する光40を検出するとき、液状体62が略平坦の状態の判断が可能である。そして、正反射する光40以外の光40を検出するとき、液状体62が凸状のときと凹状のときの状態の判断をすることができる。従って、正反射する光40と、正反射する光40以外の光とを用いるとき、液状体62が、略平坦の状態と、凸状又は凹状の状態との両方の判断を行うことができる。   (4) According to the present embodiment, the solidified state of the liquid material 62 is determined using the light 40 that is regularly reflected and the light 40 other than the light 40 that is regularly reflected. When the specularly reflected light 40 is detected, it is possible to determine whether the liquid 62 is substantially flat. When detecting the light 40 other than the specularly reflected light 40, it is possible to determine the state when the liquid material 62 is convex or concave. Therefore, when using the light 40 that is specularly reflected and the light other than the light 40 that is specularly reflected, the liquid material 62 can determine both a substantially flat state and a convex or concave state.

(5)本実施形態によれば、複数の液面検出領域59において反射光を検出している。従って、複数の液面検出領域59における固化状態を判断することができる。   (5) According to the present embodiment, reflected light is detected in the plurality of liquid level detection regions 59. Therefore, the solidified state in the plurality of liquid level detection regions 59 can be determined.

(6)本実施形態によれば、液面検出領域59には複数の塗布領域61が配置され、塗布領域61には異なる量の液状体62が塗布されている。大量の液状体62が塗布されている大領域63の近くと、小量の液状体62が塗布されている小領域65の近くとでは、局所的に蒸発溶媒の分子分圧差が生じ乾燥速度にムラが生じる。そして、大領域63、中領域64、小領域65が混在して配置されているので、局所的に蒸発溶媒の分子分圧差が生じ難くなっている。従って、乾燥速度のムラに影響を受けずに固化状態を判断することができる。   (6) According to the present embodiment, a plurality of application regions 61 are arranged in the liquid level detection region 59, and different amounts of liquid material 62 are applied to the application region 61. In the vicinity of the large area 63 where a large amount of the liquid material 62 is applied and in the vicinity of the small area 65 where the small amount of the liquid material 62 is applied, a molecular partial pressure difference of the evaporation solvent is locally generated, resulting in a drying speed. Unevenness occurs. Since the large region 63, the middle region 64, and the small region 65 are mixedly arranged, it is difficult for the molecular partial pressure difference of the evaporation solvent to be locally generated. Therefore, the solidified state can be determined without being affected by unevenness in the drying speed.

(7)本実施形態によれば、塗布領域61に塗布する液状体62の量を変えることにより、凸状の大きさを変えることができる。そして、塗布する液状体62の量を調整することにより、所定の液状体の量において液状体62が蒸発して略平坦になる時を検出することができる。   (7) According to the present embodiment, the size of the convex shape can be changed by changing the amount of the liquid material 62 applied to the application region 61. Then, by adjusting the amount of the liquid material 62 to be applied, it is possible to detect when the liquid material 62 evaporates and becomes substantially flat for a predetermined amount of the liquid material.

(8)本実施形態によれば、液状体62の固化状態に応じて連通弁10、吸気バルブ23、排気バルブ30を制御することにより乾燥条件を変更している。従って、乾燥状態に応じて乾燥速度を変更することができる。   (8) According to the present embodiment, the drying conditions are changed by controlling the communication valve 10, the intake valve 23, and the exhaust valve 30 according to the solidified state of the liquid material 62. Therefore, the drying speed can be changed according to the drying state.

(9)本実施形態によれば、固化状態を確認してステップS11の固化工程を終了している。通常、固化工程は固化に要する時間を用いて管理することが多い。そして、確実に固化するためには、固化に必要な時間より長い時間乾燥を行う必要がある。この方法では、固化に必要な時間より長い時間乾燥する必要がない。従って、乾燥に要する時間を管理する方法に比べて、生産性良く固化することができる。   (9) According to the present embodiment, the solidification state is confirmed, and the solidification step of Step S11 is completed. Usually, the solidification process is often managed using the time required for solidification. And in order to solidify reliably, it is necessary to dry for a time longer than the time required for solidification. This method does not require drying for longer than the time required for solidification. Therefore, it can be solidified with high productivity as compared with the method of managing the time required for drying.

(10)本実施形態によれば、液状体62の乾燥所要時間118が保守判断閾値121より長いとき保守を行う判断をするので、乾燥所要時間118が長くならないように維持することができる。従って、生産性良く固化することができる。   (10) According to the present embodiment, since the maintenance is determined when the required drying time 118 of the liquid 62 is longer than the maintenance determination threshold value 121, the required drying time 118 can be maintained so as not to become longer. Therefore, it can be solidified with high productivity.

(11)本実施形態によれば、第2検出部39が受光する光量102に応じて測定間隔103を変更している。このとき、液状体62に光40が常時照射されないので、液状体62が光40により加熱され難くなっている。従って、液状体62の乾燥状態が照射する光40の影響を受け難いので、精度良く乾燥状態を判断することができる。   (11) According to the present embodiment, the measurement interval 103 is changed according to the amount of light 102 received by the second detector 39. At this time, since the liquid 40 is not always irradiated with the light 40, the liquid 62 is hardly heated by the light 40. Therefore, since the dry state of the liquid 62 is hardly affected by the light 40 irradiated, the dry state can be accurately determined.

(12)本実施形態によれば、液面検出領域59は基板15の外周に配置され、乾燥し易い場所における液状体62の乾燥状態を判断している。そして、乾燥し易い場所は乾燥し難い場所に比べて固化の変化が早いので、変化の早い場所の固化状態に対応して乾燥条件を調整することができる。   (12) According to the present embodiment, the liquid level detection region 59 is arranged on the outer periphery of the substrate 15 and determines the dry state of the liquid material 62 in a place where it is easy to dry. And since the change of solidification is quicker in the place which is easy to dry compared with the place which is hard to dry, the drying condition can be adjusted corresponding to the solidification state of the place where change is quick.

(13)本実施形態によれば、液状体62の固化状態を判断し、固化状態に応じて気流の速度分布を調整している。気流の速度が速い場所では早く固化させることができることから、基板15内で液状体62が固化する分布を制御することができる。従って、基板15内の塗布領域61において、略同時に固化が終了するように乾燥することができる。一部分が遅れて乾燥するとき、その部分が乾燥する時間だけ長く乾燥時間がかかる。この場合に比べて、生産性良く固化することができる。   (13) According to the present embodiment, the solidified state of the liquid material 62 is determined, and the velocity distribution of the airflow is adjusted according to the solidified state. Since it can be quickly solidified in a place where the velocity of the air current is high, the distribution in which the liquid material 62 is solidified in the substrate 15 can be controlled. Therefore, the coating region 61 in the substrate 15 can be dried so that solidification is completed almost simultaneously. When a part is dried with a delay, the drying time takes longer for the part to dry. Compared to this case, it can be solidified with high productivity.

(第2の実施形態)
本実施形態では、液状体を乾燥して膜を形成する本実施形態の特徴的な乾燥方法の一実施形態について図13を用いて説明する。この実施形態が第1の実施形態と異なるところは、液面検出領域59における大領域63、中領域64、小領域65の配置が異なる点にある。尚、第1の実施形態と同じ点については説明を省略する。
(Second Embodiment)
In the present embodiment, an embodiment of a characteristic drying method of the present embodiment in which a liquid is dried to form a film will be described with reference to FIG. This embodiment is different from the first embodiment in that the arrangement of the large area 63, the middle area 64, and the small area 65 in the liquid level detection area 59 is different. Note that description of the same points as in the first embodiment is omitted.

図13(a)は液面検出領域を説明する模式平面図であり、図13(b)は液面検出領域を説明する模式断面図である。そして、図13(b)は図13(a)のC−C’における断面を示している。そして、図13に示す液面検出領域124は図3に示す液面検出領域59に相当する領域である。図13(a)及び図13(b)に示すように、液面検出領域24には隔壁部60が6行6列の格子状に配置され、隔壁部60に囲まれた塗布領域61には液状体62が塗布されている。この液状体62の塗布量は大中小の3水準形成されている。そして、塗布量が大の領域である大領域63、塗布量が中の領域である中領域64、塗布量が小の領域である小領域65が配置されている。   FIG. 13A is a schematic plan view illustrating the liquid level detection region, and FIG. 13B is a schematic cross-sectional view illustrating the liquid level detection region. FIG. 13B shows a cross section taken along line C-C ′ of FIG. And the liquid level detection area | region 124 shown in FIG. 13 is an area | region corresponded to the liquid level detection area | region 59 shown in FIG. As shown in FIGS. 13A and 13B, the partition wall portions 60 are arranged in a 6 × 6 grid in the liquid level detection region 24, and the coating region 61 surrounded by the partition wall portions 60 has a coating region 61. A liquid 62 is applied. The liquid material 62 is applied in three levels of large, medium and small. A large area 63 where the application amount is large, a middle area 64 where the application amount is medium, and a small area 65 where the application amount is small are arranged.

液面検出領域124の最外周には大領域63が配置され、大領域63の内側の行及び列には中領域64が配置されている。そして、中央には小領域65が配置されている。つまり、液面検出領域124の内側の塗布領域61に比べて外側の塗布領域61の方が塗布量が大きくなるように配置されている。この液面検出領域124の状態にて第1の実施形態と同様に膜の形成を行う。   A large area 63 is arranged on the outermost periphery of the liquid level detection area 124, and a medium area 64 is arranged on the inner rows and columns of the large area 63. A small area 65 is arranged at the center. In other words, the outer coating area 61 is disposed so that the coating amount is larger than the inner coating area 61 of the liquid level detection area 124. A film is formed in the state of the liquid level detection region 124 as in the first embodiment.

上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
(1)本実施形態によれば、塗布量の小さい小領域65が塗布量の大きい大領域63に囲まれて配置されている。つまり、蒸発溶媒の分子分圧の小さい場所が、蒸発溶媒の分子分圧の大きい場所に囲まれている。従って、蒸発溶媒の分子分圧の小さい場所が、蒸発溶媒の分子分圧の大きい場所の影響を受けて、蒸発溶媒の分子分圧の大きくなり易くなっている。その結果、局所的に蒸発溶媒の分子分圧差が生じ難くなり、乾燥速度のムラに影響を受けずに固化状態を判断することができる。
As described above, this embodiment has the following effects.
(1) According to the present embodiment, the small area 65 with a small coating amount is disposed so as to be surrounded by the large area 63 with a large coating amount. That is, the place where the molecular partial pressure of the evaporation solvent is low is surrounded by the place where the molecular partial pressure of the evaporation solvent is high. Therefore, the location where the molecular partial pressure of the evaporating solvent is small is affected by the location where the molecular partial pressure of the evaporating solvent is large, and the molecular partial pressure of the evaporating solvent tends to increase. As a result, the molecular partial pressure difference of the evaporation solvent is hardly generated locally, and the solidified state can be determined without being affected by unevenness in the drying rate.

(第3の実施形態)
本実施形態では、液状体を乾燥して膜を形成する本実施形態の特徴的な乾燥装置と基板の一実施形態について図14を用いて説明する。この実施形態が第1の実施形態と異なるところは、液面検出領域が基板15の外周を囲んで配置されている点にある。尚、第1の実施形態と同じ点については説明を省略する。
(Third embodiment)
In the present embodiment, an embodiment of a characteristic drying apparatus and substrate for drying a liquid material to form a film will be described with reference to FIG. This embodiment is different from the first embodiment in that the liquid level detection region is arranged so as to surround the outer periphery of the substrate 15. Note that description of the same points as in the first embodiment is omitted.

図14(a)は、乾燥装置の構造を示す概略平断面図である。図14(a)に示すように、乾燥装置125は基台7を備え、基台7には支持部16が4箇所立設され、各支持部16の上端には各支持部16の間を架橋する架橋部17が形成されている。そして、X方向に延在する架橋部17には長尺の第1液面検出装置126が配置され、Y方向に延在する架橋部17には短尺の第2液面検出装置127が配置されている。そして第1液面検出装置126及び第2液面検出装置127が矩形の枠状に配置され、基板15の周囲と対向する場所に配置されている。第1液面検出装置126及び第2液面検出装置127の内部構造は図2に示す液面検出装置18と同様の構造となっている。そして、第1液面検出装置126及び第2液面検出装置127が液面検出装置18と異なる点は各光学要素が長く配列して配置されており、長い範囲における液状体62の状態を検出可能となっている。   FIG. 14A is a schematic plan sectional view showing the structure of the drying apparatus. As shown in FIG. 14A, the drying device 125 includes a base 7, and four support portions 16 are erected on the base 7, and between the support portions 16 at the upper end of each support portion 16. A cross-linked portion 17 to be cross-linked is formed. A long first liquid level detection device 126 is disposed in the bridging portion 17 extending in the X direction, and a short second liquid level detection device 127 is disposed in the bridging portion 17 extending in the Y direction. ing. The first liquid level detection device 126 and the second liquid level detection device 127 are arranged in a rectangular frame shape, and are arranged at a location facing the periphery of the substrate 15. The internal structures of the first liquid level detection device 126 and the second liquid level detection device 127 are the same as those of the liquid level detection device 18 shown in FIG. The first liquid level detection device 126 and the second liquid level detection device 127 are different from the liquid level detection device 18 in that the respective optical elements are arranged long and detect the state of the liquid material 62 in the long range. It is possible.

図14(b)は、基板の測定場所を説明する模式平面図であり、図14(c)は、液面検出領域を説明する模式平面図である。図14(b)に示すように、基板15は中央に機能領域57が配置され、機能領域57の周辺には予備領域58が配置されている。そして、予備領域58において機能領域57の周囲を囲んで液面検出領域128が設定されている。   FIG. 14B is a schematic plan view for explaining the measurement location of the substrate, and FIG. 14C is a schematic plan view for explaining the liquid level detection region. As shown in FIG. 14B, the functional region 57 is disposed in the center of the substrate 15, and a spare region 58 is disposed around the functional region 57. A liquid level detection area 128 is set around the functional area 57 in the spare area 58.

図14(c)に示すように、液面検出領域128には矩形の塗布領域61が配列して配置され、各塗布領域61を囲んで隔壁部60が形成されている。そして、隔壁部60に囲まれた塗布領域61には液状体62が塗布されている。この液状体62の塗布量は大中小の3水準形成されている。そして、塗布量が大の領域である大領域63、塗布量が中の領域である中領域64、塗布量が小の領域である小領域65がこの順に並んで配置されている。   As shown in FIG. 14C, rectangular application areas 61 are arranged and arranged in the liquid level detection area 128, and a partition wall 60 is formed surrounding each application area 61. A liquid material 62 is applied to the application region 61 surrounded by the partition wall 60. The liquid material 62 is applied in three levels of large, medium and small. A large area 63 where the application amount is large, a middle area 64 where the application amount is medium, and a small area 65 where the application amount is small are arranged in this order.

乾燥装置125を駆動するとき、第1液面検出装置126及び第2液面検出装置127が液面検出領域128に並んで配置された液状体62の状態を検出する。そして、基板15の外周における固化状態の分布を検出しつつ、乾燥を行うことが可能となっている。   When driving the drying device 125, the first liquid level detection device 126 and the second liquid level detection device 127 detect the state of the liquid material 62 arranged side by side in the liquid level detection region 128. Then, drying can be performed while detecting the distribution of the solidified state on the outer periphery of the substrate 15.

上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
(1)本実施形態によれば、第1液面検出装置126及び第2液面検出装置127は複数の光学要素が長く配列して配置され、第1液面検出装置126及び第2液面検出装置127が塗布領域61に塗布された液状体62から反射された反射光の分布を検出することができる。従って、広い範囲の反射光を検出することができる。
As described above, this embodiment has the following effects.
(1) According to the present embodiment, the first liquid level detection device 126 and the second liquid level detection device 127 are arranged with a plurality of optical elements arranged long, and the first liquid level detection device 126 and the second liquid level are arranged. The detection device 127 can detect the distribution of the reflected light reflected from the liquid material 62 applied to the application region 61. Therefore, a wide range of reflected light can be detected.

(第4の実施形態)
本実施形態では、液状体を乾燥して膜を形成する本実施形態の特徴的な乾燥装置と基板の一実施形態について図15を用いて説明する。この実施形態が第1の実施形態と異なるところは、液面検出領域が基板15と異なる場所に配置されている点にある。尚、第1の実施形態と同じ点については説明を省略する。
(Fourth embodiment)
In this embodiment, an embodiment of a characteristic drying apparatus and substrate of this embodiment for drying a liquid material to form a film will be described with reference to FIG. This embodiment is different from the first embodiment in that the liquid level detection region is arranged at a location different from the substrate 15. Note that description of the same points as in the first embodiment is omitted.

図15(a)は、乾燥装置の構造を示す概略側断面図であり、図15(b)は、乾燥装置の構造を示す概略平断面図である。図15(b)は、図15(a)のD−D’における断面である。図15に示すように、乾燥装置129は移動テーブル12を備え、移動テーブル12の中央に基板15が配置されている。そして、基板15の周囲には検出用基板130が配置されている。検出用基板130は基板15と同様、基板チャック機構により固定されている。   FIG. 15A is a schematic sectional side view showing the structure of the drying device, and FIG. 15B is a schematic plan sectional view showing the structure of the drying device. FIG. 15B is a cross-sectional view taken along D-D ′ of FIG. As shown in FIG. 15, the drying device 129 includes a moving table 12, and the substrate 15 is disposed at the center of the moving table 12. A detection substrate 130 is disposed around the substrate 15. Similar to the substrate 15, the detection substrate 130 is fixed by a substrate chuck mechanism.

検出用基板130において液面検出装置18と対向する場所には図3に示す液面検出領域59が形成されている。そして、液面検出領域59の中には大領域63、中領域64、小領域65に液状体62が塗布される。そして、検出用基板130における固化状態の分布を検出しつつ、乾燥を行うことが可能となっている。   A liquid level detection region 59 shown in FIG. 3 is formed at a location facing the liquid level detection device 18 on the detection substrate 130. In the liquid level detection region 59, the liquid material 62 is applied to the large region 63, the medium region 64, and the small region 65. Then, drying can be performed while detecting the distribution of the solidified state on the detection substrate 130.

上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
(1)本実施形態によれば、基板15と異なる場所に検出用基板130を配置し、検出用基板130に塗布された液状体62の固化状態を検出している。従って、基板15の中に固化状態を観測するための塗布領域61を設ける必要がない。従って、基板15を効率良く用いることができる。
As described above, this embodiment has the following effects.
(1) According to the present embodiment, the detection substrate 130 is disposed at a different location from the substrate 15, and the solidified state of the liquid 62 applied to the detection substrate 130 is detected. Therefore, it is not necessary to provide the coating region 61 for observing the solidified state in the substrate 15. Therefore, the substrate 15 can be used efficiently.

(第5の実施形態)
本実施形態では、液状体を乾燥して膜を形成する本実施形態の特徴的な乾燥方法の一実施形態について図16を用いて説明する。この実施形態が第1の実施形態と異なるところは、検出部が受光する光量と閾値とを比較して固化状態を判断する点にある。尚、第1の実施形態と同じ点については説明を省略する。
(Fifth embodiment)
In the present embodiment, an embodiment of a characteristic drying method of the present embodiment in which a liquid is dried to form a film will be described with reference to FIG. This embodiment is different from the first embodiment in that the solidification state is determined by comparing the amount of light received by the detection unit with a threshold value. Note that description of the same points as in the first embodiment is omitted.

図16(a)は第1検出部が検出する光量の推移を示すグラフであり、図16(b)は第2検出部が検出する光量の推移を示すグラフである。図16(a)において縦軸は図2に示す第1検出部38が受光する光量67を示し、上側が大きく下側が小さくなっている。横軸は時間105の経過を示している。そして、受光量曲線131は時間105の経過に対する光量67の変化の推移を示している。そして、メモリ72の判断閾値データ82の一つに閾値としての固化判断閾値132を格納する。ステップS6において固化判断部92は第1検出部38が受光する光量67と固化判断閾値132とを比較する。光量67が固化判断閾値132を越えるとき固化を終了する。このときの時間を固化終了時間105eとする。   FIG. 16A is a graph showing the transition of the amount of light detected by the first detector, and FIG. 16B is a graph showing the transition of the amount of light detected by the second detector. In FIG. 16A, the vertical axis indicates the amount of light 67 received by the first detector 38 shown in FIG. 2, with the upper side being larger and the lower side being smaller. The horizontal axis shows the passage of time 105. A received light amount curve 131 shows a change in the amount of light 67 with respect to the passage of time 105. Then, the solidification determination threshold value 132 as a threshold value is stored in one of the determination threshold value data 82 of the memory 72. In step S <b> 6, the solidification determination unit 92 compares the light amount 67 received by the first detection unit 38 with the solidification determination threshold value 132. When the light quantity 67 exceeds the solidification determination threshold value 132, the solidification is finished. This time is set as a solidification end time 105e.

図16(b)において縦軸は図2に示す第2検出部39が受光する光量67を示し、上側が大きく下側が小さくなっている。横軸は時間105の経過を示している。そして、受光量曲線133は時間105の経過に対する光量67の変化の推移を示している。そして、メモリ72の判断閾値データ82の一つに閾値としての固化判断閾値134を格納する。ステップS4において固化判断部92は第2検出部39が受光する光量67と固化判断閾値134とを比較する。光量67が固化判断閾値134を越えるとき固化が進み、液状体62が流動し難い段階に達したことを判断する。このときの時間を非流動化時間105fとする。   In FIG. 16B, the vertical axis indicates the amount of light 67 received by the second detector 39 shown in FIG. 2, with the upper side being larger and the lower side being smaller. The horizontal axis shows the passage of time 105. The received light amount curve 133 shows the change in the amount of light 67 over time 105. Then, the solidification determination threshold value 134 as a threshold value is stored in one of the determination threshold value data 82 of the memory 72. In step S <b> 4, the solidification determination unit 92 compares the light amount 67 received by the second detection unit 39 with the solidification determination threshold value 134. When the amount of light 67 exceeds the solidification determination threshold value 134, it is determined that solidification has progressed and the liquid 62 has reached a stage where it is difficult for it to flow. This time is defined as a non-fluidization time 105f.

図16(c)は乾燥室内の流速の推移を示すグラフである。図16(c)において、縦軸は乾燥室3の流速計34が測定する流速116を示し、上側が下側より流速116が大きい量となっている。横軸は時間105の経過を示している。そして、固化条件調整部88が総ての流速計34が測定する流速の平均を演算し、演算した平均値の推移を平均流速曲線135に示している。   FIG. 16C is a graph showing the transition of the flow velocity in the drying chamber. In FIG. 16C, the vertical axis indicates the flow velocity 116 measured by the flow meter 34 of the drying chamber 3, and the upper flow velocity 116 is larger than the lower flow velocity 116. The horizontal axis shows the passage of time 105. The solidification condition adjusting unit 88 calculates the average of the flow velocities measured by all the anemometers 34, and the transition of the calculated average value is shown in the average flow velocity curve 135.

図16(c)に示すように、平均流速曲線135は初期速度135aのまま固化工程を継続する。そして、非流動化時間105fにおいて流速116を第1速度135bまで上げる。このとき、液状体62の表面には膜の形成が開始されており、液状体62が流動し難くなっている。そして、固化終了時間105eにおいて液状体62が固化されたと判断し、流速116を下げてステップS6を終了する。続いて、以降の工程を行い、膜を形成する工程を終了する。   As shown in FIG. 16 (c), the solidification process is continued with the average flow velocity curve 135 at the initial velocity 135a. Then, the flow velocity 116 is increased to the first velocity 135b during the non-fluidization time 105f. At this time, film formation is started on the surface of the liquid 62, and the liquid 62 is difficult to flow. Then, it is determined that the liquid 62 has been solidified at the solidification end time 105e, the flow velocity 116 is decreased, and Step S6 is completed. Subsequently, the subsequent steps are performed, and the step of forming a film is completed.

上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
(1)本実施形態によれば、予め反射光の光量67と固化状態との相関を調べて、固化状態を判断する固化判断閾値132及び固化判断閾値134が設定されている。そして、閾値と比較することにより、簡便に固化状態を判断することができる。
As described above, this embodiment has the following effects.
(1) According to the present embodiment, the solidification determination threshold value 132 and the solidification determination threshold value 134 for determining the solidification state by checking the correlation between the light amount 67 of the reflected light and the solidification state are set in advance. And a solidification state can be judged easily by comparing with a threshold value.

(第6の実施形態)
次に、上記の膜形成方法を応用して有機EL装置を製造する一実施形態について図17を用いて説明する。
(Sixth embodiment)
Next, an embodiment of manufacturing an organic EL device by applying the above film forming method will be described with reference to FIG.

まず、電気光学装置の一つである有機EL装置について説明する。図17は、有機EL装置の構造を示す概略分解斜視図である。   First, an organic EL device that is one of electro-optical devices will be described. FIG. 17 is a schematic exploded perspective view showing the structure of the organic EL device.

図17に示すように、光学素子基板及び電気光学装置としての有機EL装置137は、基板138を備えている。基板138の上側には、絶縁膜139が形成されている。絶縁膜139上には、コンタクト電極140がマトリクス状に形成され、各コンタクト電極140と隣接する場所には、スイッチング機能を有する半導体としてのTFT素子141が形成されている。そして、TFT素子141のドレイン端子にコンタクト電極140が接続されている。   As shown in FIG. 17, the organic EL device 137 as an optical element substrate and an electro-optical device includes a substrate 138. An insulating film 139 is formed on the upper side of the substrate 138. On the insulating film 139, contact electrodes 140 are formed in a matrix, and TFT elements 141 serving as a semiconductor having a switching function are formed at positions adjacent to the contact electrodes 140. A contact electrode 140 is connected to the drain terminal of the TFT element 141.

各コンタクト電極140及びTFT素子141を囲むように、配線としての走査線142及び配線としてのデータ線143が格子状に形成されている。そして、走査線142は、TFT素子141のゲート端子と接続され、データ線143は、TFT素子141のソース端子と接続されている。   Scanning lines 142 as wirings and data lines 143 as wirings are formed in a grid pattern so as to surround each contact electrode 140 and TFT element 141. The scanning line 142 is connected to the gate terminal of the TFT element 141, and the data line 143 is connected to the source terminal of the TFT element 141.

そして、コンタクト電極140、TFT素子141、走査線142、データ線143等からなる素子層144が形成されている。素子層144の上側には、絶縁膜145が形成され、絶縁膜145の上側には、隔壁部146が格子状に形成されている。   An element layer 144 including the contact electrode 140, the TFT element 141, the scanning line 142, the data line 143, and the like is formed. An insulating film 145 is formed on the upper side of the element layer 144, and partition walls 146 are formed on the upper side of the insulating film 145 in a lattice shape.

隔壁部146により形成される凹状領域の各底部には、電極としての画素電極147が形成され、画素電極147は、コンタクト電極140と電気的に接続されている。画素電極147の上面には、発光素子としての正孔輸送層148が形成され、正孔輸送層148の上面には、発光素子としての発光層149R,149G,149Bが形成されている。そして、正孔輸送層148と発光層149R,149G,149Bとにより発光素子としての機能層150が形成されている。   A pixel electrode 147 as an electrode is formed at each bottom of the concave region formed by the partition wall 146, and the pixel electrode 147 is electrically connected to the contact electrode 140. A hole transport layer 148 as a light emitting element is formed on the upper surface of the pixel electrode 147, and light emitting layers 149 R, 149 G, and 149 B as light emitting elements are formed on the upper surface of the hole transport layer 148. The hole transport layer 148 and the light emitting layers 149R, 149G, and 149B form a functional layer 150 as a light emitting element.

発光層149Rは、赤色を発光する有機発光材料等により構成された発光層であり、発光素子としての発光層149Gは、緑色を発光する有機発光材料等により構成された発光層である。同様に、発光素子としての発光層149Bは、青色を発光する有機発光材料等により構成された発光層である。   The light emitting layer 149R is a light emitting layer made of an organic light emitting material that emits red light, and the light emitting layer 149G as a light emitting element is a light emitting layer made of an organic light emitting material that emits green light. Similarly, the light emitting layer 149 </ b> B as a light emitting element is a light emitting layer made of an organic light emitting material that emits blue light.

機能層150及び隔壁部146の上側全面に渡って、光透過性を有する導電性材料等からなる電極としての陰極151が形成されている。本実施形態においては、陰極151は、例えば、ITOを採用している。   A cathode 151 as an electrode made of a light-transmitting conductive material or the like is formed over the entire upper surface of the functional layer 150 and the partition wall 146. In the present embodiment, the cathode 151 employs, for example, ITO.

陰極151の上面には、光透過性を有する材料等からなる封止膜152が形成され、陰極151及び機能層150が空気中の酸素により酸化されることを防止している。   A sealing film 152 made of a light-transmitting material or the like is formed on the upper surface of the cathode 151 to prevent the cathode 151 and the functional layer 150 from being oxidized by oxygen in the air.

画素電極147と陰極151との間に電圧を印加するとき、正孔輸送層148は、正孔のみを流動する。そして、発光層149R,149G,149Bは、正孔輸送層148から供給される正孔と陰極151から供給される電子とが、合体するときのエネルギにより、発光する性質を持っている。TFT素子141は、スイッチング動作を行い、機能層150にかける電圧をコントロールすることにより、発光層149R,149G,149Bが発光する光量を制御する。このように、発光層149R,149G,149Bが発光する光量を制御することにより、画素毎に光量をコントロールし、画素を明滅させることにより、映像を表示させることができる。   When a voltage is applied between the pixel electrode 147 and the cathode 151, the hole transport layer 148 flows only holes. The light emitting layers 149R, 149G, and 149B have a property of emitting light by energy when the holes supplied from the hole transport layer 148 and the electrons supplied from the cathode 151 are combined. The TFT element 141 performs a switching operation and controls the amount of light emitted from the light emitting layers 149R, 149G, and 149B by controlling the voltage applied to the functional layer 150. In this manner, by controlling the amount of light emitted from the light emitting layers 149R, 149G, and 149B, the amount of light is controlled for each pixel, and the image can be displayed by blinking the pixel.

画素電極147は、TFT素子141のドレイン端子に電気的に接続されており、TFTを一定期間だけオン状態とすることにより、データ線143から供給される画素信号が各画素電極147に所定のタイミングで供給される。このようにして画素電極147に供給された所定レベルの画素信号の電圧レベルは、陰極151と画素電極147との間で保持され、画素信号の電圧レベルに応じて、発光層149R,149G,149Bが発光する光量が変化する。   The pixel electrode 147 is electrically connected to the drain terminal of the TFT element 141, and the pixel signal supplied from the data line 143 is supplied to each pixel electrode 147 at a predetermined timing by turning on the TFT for a certain period. Supplied in. The voltage level of the pixel signal of the predetermined level supplied to the pixel electrode 147 in this way is held between the cathode 151 and the pixel electrode 147, and the light emitting layers 149R, 149G, and 149B according to the voltage level of the pixel signal. The amount of light emitted changes.

素子層144に走査線142及びデータ線143の配線を形成する工程において、第1の実施形態における乾燥方法を用いる。具体的には、絶縁膜で隔壁部を形成した後、液滴吐出装置を用いて、この配線の材料液を隔壁部の間に形成された凹部に吐出して塗布する。その後、乾燥装置1を用いて配線の材料液を減圧乾燥して固化することにより陰極151を形成する。   In the step of forming the scanning lines 142 and the data lines 143 in the element layer 144, the drying method according to the first embodiment is used. Specifically, after the partition wall portion is formed of the insulating film, the material liquid of the wiring is discharged and applied to the concave portion formed between the partition wall portions using a droplet discharge device. Then, the cathode 151 is formed by drying and solidifying the wiring material liquid under reduced pressure using the drying apparatus 1.

このとき、第1の実施形態における固化工程と同様な工程を用いる。つまり、配線の材料液の固化状態を確認して乾燥条件を調整しながら固化する。その後、固化したことを確認した後、乾燥を終了することにより走査線142及びデータ線143を形成する。   At this time, a process similar to the solidification process in the first embodiment is used. That is, the wiring material liquid is solidified while confirming the solidified state and adjusting the drying conditions. Thereafter, after confirming solidification, the scanning line 142 and the data line 143 are formed by finishing the drying.

さらに、素子層144にTFT素子141を形成する工程において、第1の実施形態における乾燥方法を用いる。具体的には、絶縁膜で隔壁部を形成した後、液滴吐出装置を用いて、シリコン等のTFT素子の材料液を隔壁部の間に形成された凹部に吐出して塗布する。その後、乾燥装置1を用いて配線の材料液を減圧乾燥して固化することにより陰極151を形成する。   Further, in the step of forming the TFT element 141 on the element layer 144, the drying method in the first embodiment is used. Specifically, after the partition wall portion is formed of an insulating film, a material liquid of a TFT element such as silicon is discharged and applied to the recesses formed between the partition wall portions using a droplet discharge device. Then, the cathode 151 is formed by drying and solidifying the wiring material liquid under reduced pressure using the drying apparatus 1.

このとき、第1の実施形態における固化工程と同様な工程を用いる。つまり、TFT素子の材料液の固化状態を確認して乾燥条件を調整しながら固化する。その後、固化したことを確認した後、乾燥を終了することによりTFT素子の材料液を結晶化する。その後、イオンドープした後、絶縁膜及び端子を形成することにより、TFT素子141を形成する。   At this time, a process similar to the solidification process in the first embodiment is used. That is, the solidification state of the material liquid of the TFT element is confirmed and solidified while adjusting the drying conditions. Then, after confirming that it solidified, the material liquid of a TFT element is crystallized by finishing drying. Then, after ion doping, the TFT element 141 is formed by forming an insulating film and a terminal.

さらに、絶縁膜145の表面に画素電極147を形成する工程において、第1の実施形態における乾燥方法を用いる。具体的には、絶縁膜で隔壁部を形成した後、液滴吐出装置を用いて、この画素電極の材料液を隔壁部の間に形成された凹部に吐出して塗布する。その後、乾燥装置1を用いて画素電極の材料液を減圧乾燥して固化することにより画素電極147を形成する。   Further, in the step of forming the pixel electrode 147 on the surface of the insulating film 145, the drying method in the first embodiment is used. Specifically, after the partition portion is formed of an insulating film, the liquid material for the pixel electrode is discharged and applied to the recesses formed between the partition portions using a droplet discharge device. Thereafter, the pixel electrode material 147 is formed by drying and solidifying the pixel electrode material liquid under reduced pressure using the drying apparatus 1.

このとき、第1の実施形態における固化工程と同様な工程を用いる。つまり、画素電極の材料液の固化状態を確認して乾燥条件を調整しながら固化する。その後、固化したことを確認した後、乾燥を終了することにより画素電極147を形成する。   At this time, a process similar to the solidification process in the first embodiment is used. That is, the solidification state of the material liquid of the pixel electrode is confirmed and solidified while adjusting the drying conditions. Then, after confirming that it has solidified, the pixel electrode 147 is formed by finishing drying.

さらに、画素電極147の表面に正孔輸送層148を形成する工程において、第1の実施形態における乾燥方法を用いる。具体的には、液滴吐出装置を用いて、この正孔輸送層の材料液を画素電極147の表面に吐出して塗布する。その後、乾燥装置1を用いて正孔輸送層の材料液を減圧乾燥して固化することにより正孔輸送層148を形成する。   Further, in the step of forming the hole transport layer 148 on the surface of the pixel electrode 147, the drying method in the first embodiment is used. Specifically, the liquid material for the hole transport layer is discharged onto the surface of the pixel electrode 147 and applied using a droplet discharge device. Thereafter, the hole transport layer 148 is formed by drying and solidifying the material liquid of the hole transport layer under reduced pressure using the drying apparatus 1.

このとき、第1の実施形態における固化工程と同様な工程を用いる。つまり、正孔輸送層の材料液の固化状態を確認して乾燥条件を調整しながら固化する。その後、固化したことを確認した後、乾燥を終了することにより正孔輸送層148を形成する。   At this time, a process similar to the solidification process in the first embodiment is used. That is, the solidification state of the material liquid of the hole transport layer is confirmed and solidified while adjusting the drying conditions. Then, after confirming that it solidified, the positive hole transport layer 148 is formed by complete | finishing drying.

さらに、正孔輸送層148の表面に発光層149R,149G,149Bを形成する工程において、第1の実施形態における乾燥方法を用いる。具体的には、液滴吐出装置を用いて、この発光層の材料液を正孔輸送層148の表面に吐出して塗布する。その後、乾燥装置1を用いて発光層の材料液を減圧乾燥して固化することにより発光層149R,149G,149Bを形成する。   Further, in the step of forming the light emitting layers 149R, 149G, and 149B on the surface of the hole transport layer 148, the drying method in the first embodiment is used. Specifically, the material liquid of the light emitting layer is discharged onto the surface of the hole transport layer 148 and applied using a droplet discharge device. Then, the light emitting layer 149R, 149G, and 149B are formed by drying and solidifying the material liquid of a light emitting layer using the drying apparatus 1 under reduced pressure.

このとき、第1の実施形態における固化工程と同様な工程を用いる。つまり、発光層の材料液の固化状態を確認して乾燥条件を調整しながら固化する。その後、固化したことを確認した後、乾燥を終了することにより発光層149R,149G,149Bを形成する。   At this time, a process similar to the solidification process in the first embodiment is used. That is, it solidifies, confirming the solidification state of the material liquid of a light emitting layer, adjusting drying conditions. Then, after confirming that it solidified, light emitting layer 149R, 149G, 149B is formed by complete | finishing drying.

さらに、機能層150及び隔壁部146の上面に陰極151を形成する工程において、第1の実施形態における乾燥方法を用いる。具体的には、液滴吐出装置を用いて、この陰極の材料液を機能層150及び隔壁部146の上面に吐出して塗布する。その後、乾燥装置1を用いて陰極の材料液を減圧乾燥して固化することにより陰極151を形成する。   Further, in the step of forming the cathode 151 on the upper surfaces of the functional layer 150 and the partition wall portion 146, the drying method in the first embodiment is used. Specifically, the cathode material liquid is discharged and applied to the upper surfaces of the functional layer 150 and the partition wall 146 using a droplet discharge device. Thereafter, the cathode 151 is formed by drying and solidifying the cathode material liquid under reduced pressure using the drying apparatus 1.

このとき、第1の実施形態における固化工程と同様な工程を用いる。つまり、陰極の材料液の固化状態を確認して乾燥条件を調整しながら固化する。その後、固化したことを確認した後、乾燥を終了することにより陰極151を形成する。   At this time, a process similar to the solidification process in the first embodiment is used. That is, the solidification state of the cathode material liquid is confirmed and solidified while adjusting the drying conditions. Then, after confirming that it solidified, the cathode 151 is formed by complete | finishing drying.

上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
(1)本実施形態によれば、走査線142及びデータ線143を製造する工程において、第1の実施形態における吐出方法を用いることにより、配線材料を生産性良く固化して走査線142及びデータ線143を製造することができる。
As described above, this embodiment has the following effects.
(1) According to the present embodiment, in the process of manufacturing the scanning line 142 and the data line 143, by using the ejection method in the first embodiment, the wiring material is solidified with high productivity and the scanning line 142 and the data line are solidified. Line 143 can be manufactured.

(2)本実施形態によれば、TFT素子141を製造する工程において、第1の実施形態における吐出方法を用いることにより、TFT素子の材料を生産性良く固化してTFT素子141を製造することができる。   (2) According to the present embodiment, in the process of manufacturing the TFT element 141, the TFT element 141 is manufactured by solidifying the material of the TFT element with high productivity by using the ejection method in the first embodiment. Can do.

(3)本実施形態によれば、画素電極147及び陰極151を製造する工程において、
第1の実施形態における吐出方法を用いることにより、電極材料を生産性良く固化して画素電極147及び陰極151を製造することができる。
(3) According to this embodiment, in the process of manufacturing the pixel electrode 147 and the cathode 151,
By using the ejection method according to the first embodiment, the pixel electrode 147 and the cathode 151 can be manufactured by solidifying the electrode material with high productivity.

(4)本実施形態によれば、機能層150を製造する工程において、第1の実施形態における吐出方法を用いることにより、発光素子形成材料を生産性良く固化して機能層150を製造することができる。   (4) According to the present embodiment, in the process of manufacturing the functional layer 150, the functional layer 150 is manufactured by solidifying the light emitting element forming material with high productivity by using the ejection method according to the first embodiment. Can do.

尚、本実施形態は上述した実施形態に限定されるものではなく、種々の変更や改良を加えることも可能である。変形例を以下に述べる。
(変形例1)
前記第1の実施形態において、大領域63、中領域64、小領域65の塗布領域61は同じ面積に形成されていたが、各領域の面積を異なる面積に設定しても良い。また、隔壁部の高さを異なる高さに設定しても良い。いずれの方法においても液状体62の表面曲率を検出し易い曲率の範囲にすることにより固化状態を検出し易くすることができる。
In addition, this embodiment is not limited to embodiment mentioned above, A various change and improvement can also be added. A modification will be described below.
(Modification 1)
In the first embodiment, the application region 61 of the large region 63, the middle region 64, and the small region 65 is formed in the same area, but the area of each region may be set to a different area. Moreover, you may set the height of a partition part to a different height. In any of the methods, the solidified state can be easily detected by setting the surface curvature of the liquid 62 within a range of curvature that is easy to detect.

(変形例2)
前記第1の実施形態において、乾燥室3を流動する気流の流速116を制御したが、第1室5及び第2室6の気圧を制御しても良い。さらに、流速116と気圧との両方を検出して制御しても良い。そして、流速116と気圧の内、測定及び制御し易い方を用いても良い。制御し易い方法を採用する方が精度良く制御することができる。
(Modification 2)
In the first embodiment, the flow velocity 116 of the airflow flowing in the drying chamber 3 is controlled, but the air pressure in the first chamber 5 and the second chamber 6 may be controlled. Furthermore, both the flow velocity 116 and the atmospheric pressure may be detected and controlled. Of the flow velocity 116 and the atmospheric pressure, the one that is easier to measure and control may be used. It is possible to control with higher accuracy by adopting an easy-to-control method.

(変形例3)
前記第1の実施形態において、塗布領域61は矩形に形成されているが、これに限らない。平行四辺形、楕円形等配置し易い形状を採用しても良い。基板15を効率良く活用することができる。
(Modification 3)
In the first embodiment, the application region 61 is formed in a rectangular shape, but is not limited thereto. A shape such as a parallelogram or an ellipse that can be easily arranged may be employed. The board | substrate 15 can be utilized efficiently.

(変形例4)
前記第1の実施形態において、光検出部52及び光検出部54にCCDカメラを用いた。CCDカメラはエリアセンサであるが、エリアセンサに限らず、検出部が1点のみのセンサでも良く、直線に配列されたラインセンサでも良い。検出する液面検出領域59の形態に合わせて切り換えても良い。センサが簡便な方が簡便な装置にすることができる。
(Modification 4)
In the first embodiment, CCD cameras are used for the light detection unit 52 and the light detection unit 54. The CCD camera is an area sensor, but is not limited to an area sensor, and may be a sensor having only one detection unit or a line sensor arranged in a straight line. You may switch according to the form of the liquid level detection area | region 59 to detect. The simpler the sensor, the simpler the device.

(変形例5)
前記第3の実施形態において、第1液面検出装置126及び第2液面検出装置127は
各光学要素を長く配列して配置したが、これに限らない。光源に長尺な発光素子を用いても良い。例えば蛍光管、冷陰極管等を採用しても良い。また、レンズは柱状レンズを採用しても良い。さらに、光検出部にはラインセンサを採用しても良い。個別に光学要素を配列して形成する方法に比べて、簡便に第1液面検出装置126及び第2液面検出装置127を製造することができる。
(Modification 5)
In the third embodiment, the first liquid level detecting device 126 and the second liquid level detecting device 127 are arranged by arranging the respective optical elements long, but the present invention is not limited to this. A long light emitting element may be used as the light source. For example, a fluorescent tube, a cold cathode tube, or the like may be employed. The lens may be a columnar lens. Further, a line sensor may be employed for the light detection unit. The first liquid level detection device 126 and the second liquid level detection device 127 can be easily manufactured as compared with the method in which the optical elements are individually arranged.

(変形例6)
前記第6の実施形態において、有機EL装置の製造方法に第1の実施形態を活用して製造したが、第2の実施形態〜第5の実施形態を活用して製造しても良い。同様の効果を得ることができる。
(Modification 6)
In the sixth embodiment, the manufacturing method of the organic EL device is manufactured using the first embodiment. However, the manufacturing method may be performed using the second to fifth embodiments. Similar effects can be obtained.

(変形例7)
前記第1の実施形態〜前記第5の実施形態を用いて、光学レンズを製造しても良い。レンズの平面形状に隔壁部を形成した後、隔壁部内にレンズ形成材料を塗布する。その後、前記第1の実施形態〜前記第5の実施形態を用いてレンズ形成材料を固化する。この場合にも、生産性良くレンズを形成することができる。
(Modification 7)
An optical lens may be manufactured using the first to fifth embodiments. After the partition wall is formed in the planar shape of the lens, a lens forming material is applied in the partition wall. Thereafter, the lens forming material is solidified using the first to fifth embodiments. Also in this case, a lens can be formed with high productivity.

(変形例8)
前記第1の実施形態〜前記第5の実施形態を用いて、カラーフィルタを製造しても良い。格子状に隔壁部を形成した後、隔壁部内にカラーフィルタ形成材料を塗布する。その後、前記第1の実施形態〜前記第5の実施形態を用いてカラーフィルタ形成材料を固化する。この場合にも、生産性良くカラーフィルタを形成することができる。
(Modification 8)
A color filter may be manufactured using the first embodiment to the fifth embodiment. After the partition walls are formed in a lattice shape, a color filter forming material is applied in the partition walls. Thereafter, the color filter forming material is solidified by using the first to fifth embodiments. Also in this case, the color filter can be formed with high productivity.

(変形例9)
前記第1の実施形態において、塗布領域61に塗布する塗布量は3水準にしたが、水準数に限定されない。1水準でも良く、このとき、簡便に判断することができる。また、水準数を多くすることにより、固化状態を細かく検出することができる。
(Modification 9)
In the first embodiment, the application amount applied to the application region 61 is three levels, but is not limited to the number of levels. One level may be used, and at this time, it can be easily determined. Moreover, the solidification state can be detected finely by increasing the number of levels.

(変形例10)
前記第1の実施形態において、液面検出装置18には正反射光を検出する第1検出部38と乱反射光の一部を検出する第2検出部39とを配置したが、どちらか一方を設置しても良い。検出部を減らすことにより簡便な装置にすることができる。
(Modification 10)
In the first embodiment, the liquid level detection device 18 includes the first detection unit 38 that detects specular reflection light and the second detection unit 39 that detects a part of the irregular reflection light. May be installed. A simple apparatus can be obtained by reducing the number of detection units.

(変形例11)
前記第1の実施形態において、光源47と基板15との間に赤外カットフィルタ、紫外カットフィルタ等のフィルタを設けても良い。光40が液状体62に及ぼす影響を少なくすることにより、測定精度を向上することができる。
(Modification 11)
In the first embodiment, a filter such as an infrared cut filter or an ultraviolet cut filter may be provided between the light source 47 and the substrate 15. The measurement accuracy can be improved by reducing the influence of the light 40 on the liquid material 62.

(変形例12)
前記第1の実施形態において、基板15に液面検出領域59を8箇所配置したが、液面検出領域59の設置数に限定されない。液面検出領域59の個数が少ないとき簡便な装置とすることができ、液面検出領域59の個数が多いとき、固化状態の進行具合の分布を精度良く検出することができる。
(Modification 12)
In the first embodiment, eight liquid level detection regions 59 are arranged on the substrate 15, but the number of liquid level detection regions 59 is not limited to the number. When the number of the liquid level detection regions 59 is small, a simple apparatus can be obtained. When the number of the liquid level detection regions 59 is large, the distribution of the progress of the solidified state can be accurately detected.

(変形例13)
前記第1の実施形態において、液面検出領域59は基板15の周辺に配置したが、これに限らず、基板15の中央等周辺以外の場所に配置しても良い。流速116の分布が異なる場所に液面検出領域59を配置することにより、各場所における乾燥条件を制御して、膜厚ムラの少ない膜を形成することができる。
(Modification 13)
In the first embodiment, the liquid level detection region 59 is arranged around the substrate 15. However, the liquid level detection region 59 is not limited to this and may be arranged at a place other than the periphery such as the center of the substrate 15. By disposing the liquid level detection region 59 in a place where the distribution of the flow velocity 116 is different, it is possible to control the drying conditions in each place and form a film with little film thickness unevenness.

(変形例14)
前記第1の実施形態において、液面検出領域59は移動テーブル12上の基板15に配置されたが、これに限らず、乾燥室3の内壁等、各所に配置しても良い。各場所の状態を配慮して乾燥条件を制御できる為、膜厚ムラの少ない膜を形成することができる。
(Modification 14)
In the first embodiment, the liquid level detection region 59 is arranged on the substrate 15 on the moving table 12. However, the liquid level detection region 59 is not limited to this and may be arranged in various places such as the inner wall of the drying chamber 3. Since the drying conditions can be controlled in consideration of the state of each place, a film with little film thickness unevenness can be formed.

(変形例15)
前記第1の実施形態において、乾燥室3の流速を初期速度117aから第2速度117cまで上げたが、これに限らない。初期速度117aの流速116が高く、第2速度117cが低くとも良い。液状体62の性質に合わせて切り換えても良い。
(Modification 15)
In the first embodiment, the flow rate of the drying chamber 3 is increased from the initial speed 117a to the second speed 117c, but the present invention is not limited to this. The initial speed 117a may have a high flow rate 116 and the second speed 117c may be low. Switching may be performed in accordance with the properties of the liquid material 62.

(変形例16)
前記第1の実施形態において、乾燥室3の内部には圧力計33と流速計34とを配置したが、温度計を加えても良い。そして、固化状態に応じて、乾燥室3内を流動する気流の温度を制御しても良い。温度により乾燥速度を変えられることから、生産性良く固化することができる。
(Modification 16)
In the first embodiment, the pressure gauge 33 and the velocimeter 34 are arranged inside the drying chamber 3, but a thermometer may be added. And according to a solidification state, you may control the temperature of the airflow which flows through the inside of the drying chamber 3. FIG. Since the drying speed can be changed depending on the temperature, it can be solidified with high productivity.

(変形例17)
前記第1の実施形態において、乾燥室3の気圧を減圧して、気流の流れを形成して乾燥したが、減圧する方法と気流の流れを活用する方法のどちらか一方を用いてもよい。固化する液状体62の性質に合わせて選択するのが好ましい。膜厚ムラの少ない膜を形成することができる。
(Modification 17)
In the first embodiment, the air pressure in the drying chamber 3 is reduced to form a flow of airflow, and drying is performed. However, either one of the method of reducing pressure or the method of utilizing the flow of airflow may be used. It is preferable to select according to the property of the liquid 62 to be solidified. A film with little film thickness unevenness can be formed.

(変形例18)
前記第1の実施形態において、乾燥室3の気圧を減圧して、気流の流れを形成して乾燥したが、乾燥室3内の温度を上げて乾燥しても良い。ヒータを配置する方法は減圧及び気流を形成する方法に比べて簡便な装置とすることができる。
(Modification 18)
In the first embodiment, the pressure in the drying chamber 3 is reduced to form a stream of airflow, and drying is performed. However, the temperature in the drying chamber 3 may be increased to dry. The method of arranging the heater can be a simpler apparatus than the method of forming the reduced pressure and the air flow.

第1の実施形態に係り、(a)は、乾燥装置の構造を示す概略側断面図、(b)は、乾燥装置の構造を示す概略平断面図。1A is a schematic side cross-sectional view illustrating a structure of a drying apparatus, and FIG. 液面検出装置の構造を示す模式断面図。The schematic cross section which shows the structure of a liquid level detection apparatus. (a)は、基板の測定場所を説明する模式平面図、(b)は、液面検出領域を説明する模式平面図、(c)は、液面検出領域を説明する模式断面図。(A) is a schematic plan view explaining the measurement place of a board | substrate, (b) is a schematic plan view explaining a liquid level detection area | region, (c) is a schematic cross section explaining a liquid level detection area | region. 液状体に照射される光の挙動を説明する図。The figure explaining the behavior of the light irradiated to a liquid. 液状体の形状と反射光の光量との関係を説明する図。The figure explaining the relationship between the shape of a liquid material and the light quantity of reflected light. 乾燥装置の電気制御ブロック図。The electric control block diagram of a drying apparatus. 膜を形成する製造工程を示すフローチャート。The flowchart which shows the manufacturing process which forms a film | membrane. 膜を形成する製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method which forms a film | membrane. (a)は、第2検出部が受光する光量と測定間隔との関係を示すグラフ、(b)は、第2検出部が受光する光量の推移を示すグラフ、(c)は、検出部における測定間隔の推移を示すグラフ。(A) is a graph showing the relationship between the amount of light received by the second detector and the measurement interval, (b) is a graph showing the transition of the amount of light received by the second detector, and (c) is in the detector. The graph which shows transition of a measurement interval. (a)は、第2検出部が測定する光量データの推移を示すグラフ、(b)は、平均光量との差に対する風速の補正量を示すグラフ。(A) is a graph which shows transition of the light quantity data which a 2nd detection part measures, (b) is a graph which shows the correction amount of the wind speed with respect to the difference with average light quantity. (a)は、第1検出部が受光する光量の推移を示すグラフ、(b)は、乾燥室内の流速の推移を示すグラフ。(A) is a graph which shows transition of the light quantity which a 1st detection part receives, (b) is a graph which shows transition of the flow velocity in a drying chamber. 乾燥所要時間の推移を示すグラフ。The graph which shows transition of the time required for drying. 第2の実施形態に係り、(a)は、液面検出領域を説明する模式平面図であり、(b)は、液面検出領域を説明する模式断面図。(A) is a schematic plan view explaining a liquid level detection area | region, (b) is a schematic cross section explaining a liquid level detection area | region regarding 2nd Embodiment. 第3の実施形態に係り、(a)は、乾燥装置の構造を示す概略平断面図、(b)は、基板の測定場所を説明する模式平面図、(c)は、液面検出領域を説明する模式平面図。According to the third embodiment, (a) is a schematic plan view showing a structure of a drying apparatus, (b) is a schematic plan view for explaining a measurement location of a substrate, and (c) is a liquid level detection region. The schematic plan view to explain. 第4の実施形態に係り、(a)は、乾燥装置の構造を示す概略側断面図、(b)は、乾燥装置の構造を示す概略平断面図。FIG. 5A is a schematic cross-sectional side view showing the structure of a drying apparatus according to a fourth embodiment, and FIG. 第5の実施形態に係り、(a)は第1検出部が検出する光量の推移を示すグラフ、(b)は第2検出部が検出する光量の推移を示すグラフ、(c)は乾燥室内の流速の推移を示すグラフ。(a)は第1検出部が検出する光量の推移を示すグラフであり、図16(b)は第2検出部が検出する光量の推移を示すグラフである。According to the fifth embodiment, (a) is a graph showing a change in the amount of light detected by the first detector, (b) is a graph showing a change in the amount of light detected by the second detector, and (c) is a drying chamber. The graph which shows transition of the flow velocity of. (A) is a graph which shows transition of the light quantity which a 1st detection part detects, FIG.16 (b) is a graph which shows transition of the light quantity which a 2nd detection part detects. 第6の実施形態に係る有機EL装置の構造を示す概略分解斜視図。The schematic exploded perspective view which shows the structure of the organic electroluminescent apparatus concerning 6th Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1…乾燥装置、3…乾燥室、15…基板、32…送風部及び減圧部としての排気装置、37…照射部、38…検出部としての第1検出部、39…検出部としての第2検出部、40…光、60…隔壁部、61…塗布領域、62…液状体、67…光量、88…固化条件調整部、92…固化判断部、116…流速、121…閾値としての保守判断閾値、132,134…閾値としての固化判断閾値。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Drying device, 3 ... Drying chamber, 15 ... Board | substrate, 32 ... Exhaust device as a ventilation part and pressure reduction part, 37 ... Irradiation part, 38 ... 1st detection part as a detection part, 39 ... 2nd as a detection part Detection unit, 40 ... light, 60 ... partition wall part, 61 ... application region, 62 ... liquid, 67 ... light quantity, 88 ... solidification condition adjustment unit, 92 ... solidification judgment unit, 116 ... flow velocity, 121 ... maintenance judgment as threshold Threshold, 132, 134... Solidification determination threshold as a threshold.

Claims (23)

基板に塗布された液状体を固化して膜を形成する乾燥方法であって、
前記基板に隔壁部を形成する隔壁形成工程と、
前記隔壁部に囲まれた塗布領域に前記液状体を塗布する塗布工程と、
塗布された前記液状体を乾燥して固化する固化工程と、を有し、
前記固化工程は、前記液状体に対して斜め方向から光を照射し、前記液状体からの反射光の光量を検出する検出工程と
前記反射光の光量を用いて前記液状体の固化状態を判断する固化判断工程とを有することを特徴とする乾燥方法。
A drying method for solidifying a liquid applied to a substrate to form a film,
A partition wall forming step of forming a partition wall on the substrate;
An application step of applying the liquid material to an application region surrounded by the partition;
A solidifying step of drying and solidifying the applied liquid material,
In the solidification step, the liquid body is irradiated with light from an oblique direction to detect the amount of reflected light from the liquid body, and the solid state of the liquid body is determined using the amount of reflected light. And a solidifying judgment step.
請求項1に記載の乾燥方法であって、
前記検出工程では、前記液状体からの前記反射光の内、正反射する光を検出し、
前記固化判断工程では、光量が増加した後減少するときの変化点を用いて固化状態を判断することを特徴とする乾燥方法。
The drying method according to claim 1,
In the detection step, the specularly reflected light from the reflected light from the liquid material is detected,
In the solidification determining step, the solidification state is determined by using a changing point when the light amount increases and then decreases.
請求項1に記載の乾燥方法であって、
前記検出工程では、前記液状体からの前記反射光の内、正反射する光以外の光の少なくとも一部を検出し、
前記固化判断工程では、前記反射光の光量を用いて固化状態を判断することを特徴とする乾燥方法。
The drying method according to claim 1,
In the detection step, at least a part of light other than specularly reflected light is detected from the reflected light from the liquid,
In the solidification determining step, the solidification state is determined using the amount of the reflected light.
請求項2に記載の乾燥方法であって、
前記検出工程では、前記正反射する光の検出に加え、
前記液状体からの前記反射光の内、前記正反射する光以外の光の少なくとも一部を検出し、
前記固化判断工程では、前記正反射する光の光量と、前記正反射する光以外の光の光量とを用いて固化状態を判断することを特徴とする乾燥方法。
The drying method according to claim 2,
In the detection step, in addition to detecting the specularly reflected light,
Detecting at least part of the reflected light from the liquid other than the specularly reflected light,
In the solidification determining step, the solidification state is determined using the light amount of the specularly reflected light and the light amount of light other than the specularly reflected light.
請求項1に記載の乾燥方法であって、
前記隔壁形成工程では、複数の前記塗布領域を形成し、
前記塗布工程では、複数の前記塗布領域に異なる量の前記液状体を塗布し、
前記検出工程では、複数の前記塗布領域における前記反射光の光量を検出し、
前記固化判断工程では、複数の前記反射光の光量を用いて前記液状体の固化状態を判断することを特徴とする乾燥方法。
The drying method according to claim 1,
In the partition forming step, a plurality of the application regions are formed,
In the application step, different amounts of the liquid material are applied to a plurality of the application regions,
In the detection step, the amount of the reflected light in the plurality of application areas is detected,
In the solidification determining step, the solidification state of the liquid material is determined using a plurality of light amounts of the reflected light.
請求項5に記載の乾燥方法であって、
異なる量の前記液状体が塗布された前記塗布領域が混在して配置されることを特徴とする乾燥方法。
The drying method according to claim 5,
The drying method, wherein the application areas where different amounts of the liquid material are applied are mixedly arranged.
請求項5に記載の乾燥方法であって、
複数配置された前記塗布領域の内側に比べて、外側の前記塗布領域に大きい量の前記液状体が塗布されることを特徴とする乾燥方法。
The drying method according to claim 5,
A drying method, wherein a larger amount of the liquid material is applied to the outer application region than to the inner side of the plurality of application regions.
請求項5に記載の乾燥方法であって、
複数の前記塗布領域の内、少なくとも一部の前記塗布領域において、前記塗布領域の面積及び前記隔壁部の高さが略同じに形成されていることを特徴とする乾燥方法。
The drying method according to claim 5,
The drying method, wherein an area of the coating region and a height of the partition wall are formed substantially the same in at least a part of the coating region among the plurality of coating regions.
請求項1〜8のいずれか一項に記載の乾燥方法であって、
前記固化工程は固化条件調整工程を有し、
前記固化条件調整工程では、前記固化判断工程で判断した固化状態に応じて、
前記液状体の周囲を流動する気流の速度と、前記液状体の周囲の気圧との内少なくとも一方を調整することを特徴とする乾燥方法。
A drying method according to any one of claims 1 to 8,
The solidification step includes a solidification condition adjustment step,
In the solidification condition adjustment step, according to the solidification state determined in the solidification determination step,
A drying method comprising adjusting at least one of a speed of an airflow flowing around the liquid material and an atmospheric pressure around the liquid material.
請求項1〜8のいずれか一項に記載の乾燥方法であって、
前記固化判断工程は前記固化工程を終了する判断を行うことを特徴とする乾燥方法。
A drying method according to any one of claims 1 to 8,
The drying method according to claim 1, wherein the solidification determining step performs a determination to end the solidifying step.
請求項1〜8のいずれか一項に記載の乾燥方法であって、
前記固化工程では、前記液状体が固化する時間を測定し、
前記液状体が固化する時間を用いて保守を行う判断をする保守要否判断工程を備えることを特徴とする乾燥方法。
A drying method according to any one of claims 1 to 8,
In the solidification step, the time for the liquid to solidify is measured,
A drying method comprising a maintenance necessity judgment step of judging maintenance using the time during which the liquid material solidifies.
請求項1に記載の乾燥方法であって、
前記検出工程において、前記液状体に照射する光は間欠照射されることを特徴とする乾燥方法。
The drying method according to claim 1,
In the detecting step, the light applied to the liquid material is intermittently irradiated.
請求項1に記載の乾燥方法であって、
前記固化工程では、前記液状体の周囲に気流を形成し、
前記検出工程では、前記気流の流速の早い場所に位置する前記塗布領域に光を照射し、前記液状体からの前記反射光の光量を検出することを特徴とする乾燥方法。
The drying method according to claim 1,
In the solidification step, an air flow is formed around the liquid material,
In the detecting step, the coating region located at a place where the flow velocity of the air current is fast is irradiated with light, and the amount of the reflected light from the liquid material is detected.
請求項1に記載の乾燥方法であって、
前記固化工程では、前記液状体の周囲に気流を形成し、
前記固化工程は固化条件調整工程を有し、
前記検出工程では、複数の前記塗布領域に光を照射し、前記液状体からの前記反射光の光量を検出し、
前記固化判断工程では、複数の前記塗布領域における固化状態を判断し、
前記固化条件調整工程では、前記固化判断工程で判断した固化状態に応じて、
複数の前記塗布領域の速度分布を調整することを特徴とする乾燥方法。
The drying method according to claim 1,
In the solidification step, an air flow is formed around the liquid material,
The solidification step includes a solidification condition adjustment step,
In the detection step, a plurality of the application areas are irradiated with light, and the amount of the reflected light from the liquid material is detected,
In the solidification determination step, determine the solidification state in the plurality of application areas,
In the solidification condition adjustment step, according to the solidification state determined in the solidification determination step,
A drying method comprising adjusting a speed distribution of a plurality of the application regions.
請求項1に記載の乾燥方法であって、
前記検出工程では、前記液状体からの前記反射光の内、正反射する光を検出し、
前記固化判断工程では、光量と閾値とを比較して固化状態を判断することを特徴とする乾燥方法。
The drying method according to claim 1,
In the detection step, the specularly reflected light from the reflected light from the liquid material is detected,
In the solidification determining step, the solidification state is determined by comparing the light amount with a threshold value.
基板の塗布領域に塗布された液状体を乾燥することにより固化して膜を形成する乾燥装置であって、
前記液状体に対して斜め方向から光を照射する照射部と、
前記液状体からの反射光の光量を検出する検出部と、
前記反射光の光量を用いて前記液状体の固化状態を判断する固化判断部とを有することを特徴とする乾燥装置。
A drying apparatus that solidifies and forms a film by drying a liquid applied to an application region of a substrate,
An irradiation unit for irradiating the liquid with light from an oblique direction;
A detection unit for detecting the amount of reflected light from the liquid,
A drying apparatus comprising: a solidification determining unit that determines a solidified state of the liquid using the light amount of the reflected light.
請求項16に記載の乾燥装置であって、
前記照射部は、略平行に進行する光を照射し、
前記検出部は、前記液状体からの前記反射光の内、正反射する光を検出し、
前記固化判断部は、光量が増加した後減少するときの変化点を用いて固化状態を判断することを特徴とする乾燥装置。
The drying apparatus according to claim 16, wherein
The irradiation unit irradiates light traveling in substantially parallel,
The detection unit detects specularly reflected light from the reflected light from the liquid,
The solidification determination unit determines a solidification state using a change point when the light amount increases and then decreases.
請求項16に記載の乾燥装置であって、
前記検出部は、前記液状体からの前記反射光の内、正反射する光以外の光の少なくとも一部を検出し、
前記固化判断部は、光量を用いて固化状態を判断することを特徴とする乾燥装置。
The drying apparatus according to claim 16, wherein
The detection unit detects at least a part of light other than specularly reflected light among the reflected light from the liquid material,
The drying apparatus, wherein the solidification determining unit determines a solidified state using a light amount.
請求項17に記載の乾燥装置であって、
前記検出部は、前記正反射する光の検出に加え、
前記液状体からの前記反射光の内、前記正反射する光以外の光の少なくとも一部を検出し、
前記固化判断部は、前記正反射する光の光量と、前記正反射する光以外の光の光量とを用いて固化状態を判断することを特徴とする乾燥装置。
18. A drying device according to claim 17,
In addition to detecting the specularly reflected light, the detection unit,
Detecting at least part of the reflected light from the liquid other than the specularly reflected light,
The drying apparatus according to claim 1, wherein the solidification determination unit determines a solidified state using the light amount of the specularly reflected light and the light amount of light other than the specularly reflected light.
請求項16〜19のいずれか一項に記載の乾燥装置であって、
前記塗布領域の周囲に気流を形成する送風部と、
前記送風部を制御して前記気流の速度を調整する固化条件調整部とを有し、
前記固化条件調整部は、前記固化判断部が判断した固化状態に応じて、
前記液状体の周囲を流動する前記気流の速度を調整することを特徴とする乾燥装置。
The drying device according to any one of claims 16 to 19,
An air blower that forms an airflow around the application region;
A solidification condition adjusting unit that controls the air blowing unit to adjust the speed of the airflow;
According to the solidification state determined by the solidification determination unit, the solidification condition adjustment unit,
A drying apparatus that adjusts a speed of the airflow that flows around the liquid material.
請求項16〜19のいずれか一項に記載の乾燥装置であって、
前記基板を内部に配置する乾燥室と、
前記乾燥室内の気圧を減圧する減圧部と、
前記減圧部を制御して前記気圧を調整する固化条件調整部とを有し、
前記固化条件調整部は、前記固化判断部が判断した固化状態に応じて、
前記乾燥室内の前記気圧を調整することを特徴とする乾燥装置。
The drying device according to any one of claims 16 to 19,
A drying chamber in which the substrate is disposed;
A decompression section for reducing the pressure in the drying chamber;
A solidification condition adjusting unit that controls the pressure reducing unit to adjust the atmospheric pressure,
According to the solidification state determined by the solidification determination unit, the solidification condition adjustment unit,
A drying apparatus that adjusts the atmospheric pressure in the drying chamber.
請求項16に記載の乾燥装置であって、
前記照射部は前記基板と異なる場所に塗布された液状体に対して斜め方向から光を照射し、
前記検出部は前記基板と異なる場所に塗布された前記液状体からの前記反射光の光量を検出することを特徴とする乾燥装置。
The drying apparatus according to claim 16, wherein
The irradiation unit irradiates light from an oblique direction with respect to a liquid material applied to a place different from the substrate,
The said detection part detects the light quantity of the said reflected light from the said liquid body apply | coated to the place different from the said board | substrate, The drying apparatus characterized by the above-mentioned.
請求項16又は21に記載の乾燥装置であって、
前記検出部は複数の光検出素子が広い範囲に配置されていることを特徴とする乾燥装置。
The drying device according to claim 16 or 21,
The drying device, wherein the detection unit includes a plurality of light detection elements arranged in a wide range.
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