JP2020006601A - Mold cleaning device, mold cleaning method, resin molding apparatus, and manufacturing method of resin molded article - Google Patents

Mold cleaning device, mold cleaning method, resin molding apparatus, and manufacturing method of resin molded article Download PDF

Info

Publication number
JP2020006601A
JP2020006601A JP2018130499A JP2018130499A JP2020006601A JP 2020006601 A JP2020006601 A JP 2020006601A JP 2018130499 A JP2018130499 A JP 2018130499A JP 2018130499 A JP2018130499 A JP 2018130499A JP 2020006601 A JP2020006601 A JP 2020006601A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser beam
mold
pulse
molding die
molding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018130499A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6930946B2 (en
Inventor
純 岡本
Jun Okamoto
純 岡本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Towa Corp
Original Assignee
Towa Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Towa Corp filed Critical Towa Corp
Priority to JP2018130499A priority Critical patent/JP6930946B2/en
Publication of JP2020006601A publication Critical patent/JP2020006601A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6930946B2 publication Critical patent/JP6930946B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Abstract

To provide a mold cleaning device capable of removing a deposit adhered to a mold while suppressing damage to coating of the mold.SOLUTION: A mold cleaning device 10 is a device removing a deposit A adhered to a surface of a mold 25 on at least a part of which coating CT is conducted. The mold cleaning device 10 has a laser beam irradiation part (laser beam irradiation mechanism) 11 irradiating the mold 25 with a pulse laser beam, and the laser beam irradiation mechanism 11 has a laser beam moving part 12 moving the mechanism to the mold so that scanning laser power density per 1 sec. becomes 2 to 15 W/cm. Alternatively a mold cleaning device 10 has a laser beam irradiation part 11 irradiating the mold 25 with a pulse laser beam with laser fluence per 1 pulse of 0.04 to 0.7 J/cm, and the laser irradiation mechanism 11 has laser beam moving part 12 moving the mechanism to the mold 25 so that overlap rate of neighboring pulse laser beams becomes 85% or more.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、樹脂成形装置の成形型をクリーニングする装置、成形型をクリーニングする方法、樹脂成形装置、及び樹脂成形品製造方法に関する。   The present invention relates to an apparatus for cleaning a mold of a resin molding apparatus, a method for cleaning a mold, a resin molding apparatus, and a method for manufacturing a resin molded article.

樹脂成形装置において成形型を用いて樹脂成形を行うと、成形品を取り出した後も成形型の表面に樹脂等がわずかに付着して残り、同じ成形型で樹脂成形を繰り返し行ううちに付着物が徐々に増加してゆく。このような付着物が成形型の表面に付着した状態で樹脂成形を行うと、付着物の形状が樹脂成形品に転写される可能性がある。   When resin molding is performed using a molding die in a resin molding device, a small amount of resin or the like adheres to and remains on the surface of the molding die even after the molded product is taken out. Gradually increases. When resin molding is performed in a state where such attached matter is attached to the surface of the mold, the shape of the attached matter may be transferred to the resin molded product.

そこで、成形型に対して、付着物を除去するクリーニングが定期的に行われる。特許文献1には、成形型にパルスレーザビームを照射することにより、成形型の表面に皮膜状に付着した、樹脂を含む付着物と成形型の表面との界面で樹脂の熱分解が生じ、付着物が成形型の表面から剥離することが記載されている。   Therefore, cleaning for removing the deposits is periodically performed on the mold. In Patent Document 1, by irradiating a pulsed laser beam to the mold, the resin is thermally decomposed at the interface between the resin-containing substance and the surface of the mold, which adhered in a film form to the surface of the mold, It is described that the deposit is peeled off from the surface of the mold.

特開2004-230750号公報JP 2004-230750 A

成形型の表面には通常、クロム等から成るコーティングが施されており、付着物を除去する際にこのコーティングが損傷することを抑制する必要がある。特許文献1では、付着物が成形型のキャビティ面のほぼ全面を覆う皮膜状であることを前提とした条件で成形型にパルスレーザビームを照射しているが、付着物がキャビティ面のほぼ全面を覆う皮膜状となるまで大きくなると樹脂成形品への転写量が多くなってしまう。そこで、付着物がキャビティ面のほぼ全面を覆う皮膜状となる前の段階でクリーニングすることが求められているが、この段階で、キャビティ面のほぼ全面を覆う皮膜状の付着物を除去する前提の条件で成形型にパルスレーザビームを照射すると、コーティングにダメージを与えるおそれがある。   The surface of the mold is usually provided with a coating made of chromium or the like, and it is necessary to prevent the coating from being damaged when removing deposits. In Patent Literature 1, the molding die is irradiated with the pulse laser beam on the condition that the adhered substance is a film covering almost the entire cavity surface of the molding die. If it becomes large until it becomes a film covering, the amount of transfer to the resin molded article increases. Therefore, it is required to perform cleaning at a stage before the deposit becomes a film covering almost the entire cavity surface. At this stage, it is assumed that the film-like deposit covering almost the entire cavity surface is removed. Irradiation of the pulsed laser beam on the mold under the conditions described above may damage the coating.

本発明が解決しようとする課題は、成形型のコーティングに与えるダメージを抑えつつ、成形型に付着した付着物を除去することができる成形型クリーニング装置及び成形型クリーニング方法、並びに該成形型クリーニング装置を有する樹脂成形装置及び該成形型クリーニング方法を用いた樹脂成形品製造方法を提供することである。   The problem to be solved by the present invention is to provide a mold cleaning apparatus and a mold cleaning method capable of removing the deposits attached to the mold while suppressing damage to the coating of the mold, and the mold cleaning apparatus. And a method of manufacturing a resin molded product using the method of cleaning a molding die.

上記課題を解決するために成された本発明に係る成形型クリーニング装置は、少なくとも一部にコーティングが施された成形型の表面に付着した付着物を除去する装置であって、
パルスレーザビームを前記成形型に照射するレーザビーム照射機構を備え、
前記レーザビーム照射機構が、1秒あたりの走査レーザパワー密度が2〜15W/cm2となるように前記成形型に対して移動させるレーザビーム移動部を有する
ことを特徴とする。
A mold cleaning apparatus according to the present invention made in order to solve the above-described problem is an apparatus that removes deposits attached to a surface of a mold that has been coated at least in part,
A laser beam irradiation mechanism for irradiating the molding die with a pulsed laser beam,
The laser beam irradiation mechanism includes a laser beam moving unit that moves the laser beam with respect to the mold so that a scanning laser power density per second is 2 to 15 W / cm 2 .

本発明において「1秒あたりの走査レーザパワー密度」は、単位面積(単位・cm2)に単位時間(同・sec(秒))照射されるレーザのエネルギー(同・J(ジュール)=Wsec(ワット秒))で定義され、その単位はJ/(cm2sec)=Wsec/(cm2sec)、すなわちW/cm2で表される。この1秒あたりの走査レーザパワー密度は、照射されるレーザビームの平均出力を、1秒間にレーザビームのスポットが成形型に対して相対的に移動する距離と該スポットの幅とから導き出される面積とスポット1個分(移動前の初期位置に照射された分)の面積との和で除することにより求めることができる(言い換えると、1秒あたりの走査レーザパワー密度は、1秒間にレーザビームが移動しながら照射される部分における単位面積あたりの出力である)。 In the present invention, the “scanning laser power density per second” means the energy of a laser (unit: J (joule) = Wsec (unit: cm 2 ) applied to a unit area (unit: cm 2 ) for a unit time (unit: sec (second)). Watt seconds)), and the unit is J / (cm 2 sec) = Wsec / (cm 2 sec), that is, expressed in W / cm 2 . The scanning laser power density per second is the average output of the irradiated laser beam, the area derived from the distance that the spot of the laser beam moves relative to the mold and the width of the spot per second. And the area of one spot (the part irradiated to the initial position before movement) can be calculated by dividing the area by the sum of the area and the area of the laser beam per second. Is the output per unit area in the portion irradiated while moving).

本発明に係る成形型クリーニング方法は、少なくとも一部にコーティングが施された成形型に付着した付着物を除去する方法であって、
1秒あたりの走査レーザパワー密度が2〜15W/cm2となるようにパルスレーザビームを前記成形型に対して移動させながら該成形型に照射することを特徴とする。
The mold cleaning method according to the present invention is a method for removing the deposits attached to the mold at least partially coated,
The method is characterized in that a pulsed laser beam is irradiated on the mold while moving it with respect to the mold so that the scanning laser power density per second is 2 to 15 W / cm 2 .

本発明に係る樹脂成形装置は、少なくとも一部にコーティングが施された成形型と、上記成形型クリーニング装置とを備えることを特徴とする。   A resin molding apparatus according to the present invention includes a molding die having at least a portion of which is coated, and the above-described molding die cleaning device.

本発明に係る樹脂成形品製造方法は、前記成形型クリーニング方法を実施した後、前記成形型を用いて樹脂成形品を製造することを特徴とする。   A method for manufacturing a resin molded product according to the present invention is characterized in that after performing the mold cleaning method, a resin molded product is manufactured using the molding die.

本発明によれば、成形型のコーティングに与えるダメージを抑えつつ、成形型に付着した付着物を除去することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the attachment which adhered to the molding die can be removed, suppressing the damage given to the coating of a molding die.

クリーニング後であって未だ樹脂成形を行っていない成形型(a)、並びにクリーニング後に樹脂成形を200回(b)、400回(c)、600回(d)及び800回(e)、それぞれ行った後の成形型につき、表面を撮影した電子顕微鏡写真。Molding mold (a) after cleaning and resin molding has not yet been performed, and resin cleaning 200 times (b), 400 times (c), 600 times (d) and 800 times (e), respectively, after cleaning An electron micrograph of the surface of the mold after the molding. 本発明に係る成形型クリーニング装置及びそれを有する樹脂成形装置の一実施形態を示す概略構成図。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of a mold cleaning device and a resin molding device having the same according to the present invention. 本実施形態の樹脂成形装置における成形型及びその近傍の拡大図。FIG. 2 is an enlarged view of a molding die and its vicinity in the resin molding device of the present embodiment. レーザビーム移動部によってレーザビームがX方向及びY方向に往復移動することを示す概念図。FIG. 4 is a conceptual diagram showing that a laser beam reciprocates in an X direction and a Y direction by a laser beam moving unit. 本実施形態の樹脂成形装置における樹脂成形時の動作であって、リードフレームを下型に載置すると共に樹脂材料を下型のポットに供給した状態を示す図(a)、及び成形型を型締めして樹脂材料をキャビティに供給した状態を示す図(b)。FIG. 3A is a diagram showing an operation during resin molding in the resin molding apparatus of the present embodiment, showing a state in which a lead frame is placed on a lower mold and a resin material is supplied to a lower mold pot, FIG. 4B shows a state in which the resin material is supplied to the cavity by being tightened. パルスレーザビームにつき、時間的に隣接する矩形のスポットの重なりを示す図(a)、及び該スポットがX方向に移動してゆく様子を示す図(b)FIG. 2A is a diagram showing the overlap of rectangular spots temporally adjacent to each other with respect to a pulse laser beam, and FIG. 2B is a diagram showing how the spots move in the X direction. パルスレーザビームのスポットがジグザグ状に移動してゆく様子を示す図。FIG. 5 is a diagram showing a state in which a spot of a pulsed laser beam moves in a zigzag manner. パルスレーザビームにつき、時間的に隣接する円形のスポットの重なりを示す図(a)、及び該スポットがX方向に移動してゆく様子を示す図(b)。FIG. 7A is a diagram showing overlapping of circular spots temporally adjacent to each other with respect to a pulsed laser beam, and FIG. 7B is a diagram showing how the spot moves in the X direction. パルスレーザビームに垂直な断面でのビームの照射強度分布の例であって、ガウス分布(a)及びトップハット型の分布(b)を示す図。FIG. 3 is a diagram showing an example of a beam irradiation intensity distribution in a cross section perpendicular to a pulse laser beam, showing a Gaussian distribution (a) and a top-hat type distribution (b). 下型又は上型の表面におけるレーザビームの軌跡(細実線)と、レーザビームが1回ジグザグ移動することによりレーザビームが照射される領域の境界(太破線)を示す図。FIG. 4 is a diagram showing a locus of a laser beam on the surface of a lower die or an upper die (thin solid line), and a boundary (thick broken line) of a region irradiated with the laser beam when the laser beam moves zigzag once. 成形型にパルスレーザビームが照射されることによって成形型の表面近傍にプラズマが生成される状態を示す概略図(a)、及び、プラズマにパルスレーザビームが繰り返し照射されることによってプラズマが加熱され、付着物が気化する状態を示す概略図(b)。Schematic diagram (a) showing a state where plasma is generated near the surface of the mold by irradiating the mold with a pulsed laser beam, and the plasma is heated by repeatedly irradiating the pulsed laser beam to the plasma. FIG. 3B is a schematic diagram showing a state in which the deposit is vaporized. 遮蔽部を用いる例を示す上面図(a)及び縦断面図(b)。FIG. 3A is a top view and FIG. 3B is a longitudinal sectional view illustrating an example in which a shielding unit is used. 下型又は上型の表面におけるレーザビームの軌跡の他の例であって、照射領域内を繰り返し片道移動する例(a)、及び下型又は上型の表面全体をジグザグ状に移動する例(b)を示す図。Another example of the trajectory of the laser beam on the surface of the lower mold or the upper mold, an example of repeated one-way movement in the irradiation area (a), and an example of moving the entire surface of the lower mold or the upper mold in a zigzag shape ( FIG. レーザビーム移動部の他の例を示す概略図。FIG. 4 is a schematic diagram showing another example of a laser beam moving unit. 成形モジュール等の複数のモジュールから成る樹脂成形ユニットの一例を示す概略構成図。The schematic block diagram which shows an example of the resin molding unit which consists of several modules, such as a molding module. 樹脂成形ユニットにおいて成形モジュールの1つに成形型クリーニング装置が搬入された状態を示す概略構成図。FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a state in which a molding die cleaning device is carried into one of the molding modules in the resin molding unit. 複数のモジュールから成る樹脂成形ユニットの他の例を示す概略構成図。The schematic block diagram which shows the other example of the resin molding unit which consists of several modules.

本発明に係る成形型クリーニング装置及び方法では、1秒あたりの走査レーザパワー密度が2W/cm2以上となるようにパルスレーザビームを移動させながら成形型に照射することにより、少なくとも一部にコーティングが施された成形型の表面に付着した付着物上にプラズマを生成しつつ、様々な種類の付着物が気化する温度以上の温度にプラズマを加熱することができる。これにより、付着物はそれが気化する温度以上の温度に加熱されて気化し、成形型の表面から除去される。 In the mold cleaning apparatus and method according to the present invention, by irradiating the mold while moving the pulse laser beam so that the scanning laser power density per second is 2 W / cm 2 or more, at least a part of the coating The plasma can be heated to a temperature equal to or higher than a temperature at which various types of deposits are vaporized, while generating plasma on the deposits attached to the surface of the molding die subjected to the treatment. Thereby, the deposit is heated to a temperature equal to or higher than the temperature at which the deposit is vaporized and vaporized, and is removed from the surface of the mold.

一方、パルスレーザビームが成形型のコーティングに与えるダメージについての知見を得るために、本発明者が成形型の表面を観察することで付着物の形成過程を調べたところ、付着物は成形型の表面に初めからキャビティ面のほぼ全面を覆う皮膜状に付着するのではなく、初めは点状に付着し、その後徐々にキャビティ面のほぼ全面を覆う皮膜状の形状に近づいてゆくことが明らかになった(図1の電子顕微鏡写真に、符号Aを付して付着物を示す)。そのため、付着物がキャビティ面のほぼ全面を覆う皮膜状であることを前提にした条件でパルスレーザビームを照射したときに、点状又は十分に面積が拡がっていない付着物の間隙(付着物が付着していない部分)が存在すると、パルスレーザビームがコーティングに直接照射され、それによりコーティングにダメージを与えるおそれがある。そこで、本発明に係る成形型クリーニング装置及び方法では、1秒あたりの走査レーザパワー密度を15W/cm2以下とすることにより、通常の成形型で用いられているコーティングにパルスレーザビームが直接照射されても、コーティングが受けるダメージを抑えることができる。なお、本発明に係る成形型クリーニング装置及び方法では、成形型のコーティングの材料は特に限定されない。 On the other hand, the present inventor examined the formation process of the deposit by observing the surface of the mold in order to obtain knowledge on the damage that the pulsed laser beam might give to the coating of the mold. Obviously, instead of adhering to the surface in the form of a film covering almost the entire surface of the cavity from the beginning, it adheres in a point-like manner at first, and then gradually approaches the shape of a film covering almost the entire surface of the cavity. (The letter A is attached to the electron micrograph of FIG. 1 to indicate the attached matter). Therefore, when the pulsed laser beam is irradiated under the condition that the attached matter is in the form of a film covering almost the entire surface of the cavity surface, the gap between the attached matter (point-like or insufficiently enlarged area) If there is an unattached portion), the pulsed laser beam is directly irradiated on the coating, which may damage the coating. Therefore, in the mold cleaning apparatus and method according to the present invention, by setting the scanning laser power density per second to 15 W / cm 2 or less, a pulse laser beam is directly applied to a coating used in a normal mold. Even if it is done, the damage to the coating can be suppressed. In the mold cleaning apparatus and method according to the present invention, the material of the coating of the mold is not particularly limited.

なお、成形型のコーティングは、成形型に直接接触していることから、このプラズマからコーティングが受ける熱が直ちに成形型や付着物に伝導するか、コーティングの表面から放射(輻射)する。成形型は、コーティングよりも十分に熱容量が大きいことから、温度の上昇が抑えられる。また、コーティングから付着物に伝導した熱は、付着物が気化することでコーティングに影響を与えなくなる。以上の理由により、プラズマによる熱がコーティングに与える影響は小さい。   Since the coating of the mold is in direct contact with the mold, the heat received by the plasma from the plasma is immediately transmitted to the mold and the attached matter, or radiated (radiated) from the surface of the coating. Since the heat capacity of the mold is sufficiently larger than that of the coating, the rise in temperature can be suppressed. Further, the heat conducted from the coating to the deposit does not affect the coating because the deposit is vaporized. For the above reasons, the effect of heat from the plasma on the coating is small.

本発明に係る成形型クリーニング装置及び方法において、パルスレーザビームの1パルスあたりのレーザフルエンスを0.04J/cm2以上とすることが望ましい。また、本発明に係る成形型クリーニング装置及び方法において、隣接パルスレーザビームの重なり率(後述)を85%以上とすることが望ましい。これらのいずれか一方又は両方の構成を取ることにより、成形型の表面に付着した付着物上にプラズマを生成しつつ、様々な種類の付着物が気化する温度以上の温度にプラズマを加熱することができる。 In the mold cleaning apparatus and method according to the present invention, it is desirable that the laser fluence per pulse of the pulsed laser beam be 0.04 J / cm 2 or more. Further, in the mold cleaning apparatus and method according to the present invention, it is desirable that the overlap ratio (described later) of adjacent pulse laser beams is 85% or more. By taking one or both of these configurations, it is possible to generate plasma on the adhered matter adhered to the surface of the mold, and to heat the plasma to a temperature higher than the temperature at which various kinds of adhered matter are vaporized. Can be.

ここで「重なり率」とは、プラズマが生成される空間中において1つのパルスレーザビームが占める体積のうち、隣接して生成されるパルスレーザビームと重なり合う部分の体積の割合で定義される。隣接する2つのパルスレーザビームが平行であれば、重なり率は、プラズマが生成される空間中の任意の位置における1つのパルスレーザビームのそれに垂直な断面のうち、隣接して生成されるパルスレーザビームのそれに垂直な断面と重なり合う部分の面積の割合で求めることができる。重なり率の逆数は、同一箇所に照射されるパルスレーザビームの回数に該当する。なお、仮にパルスレーザビームを移動させなければ重なり率が100%となるが、本発明ではパルスレーザビームを移動させるため、重なり率は100%未満である。   Here, the “overlap rate” is defined as the ratio of the volume of a portion overlapping with a pulse laser beam generated adjacently to the volume occupied by one pulse laser beam in the space where plasma is generated. If two adjacent pulsed laser beams are parallel, the overlap rate is determined by the pulse lasers generated adjacent to each other in the cross section perpendicular to that of one pulsed laser beam at an arbitrary position in the space where the plasma is generated. It can be determined by the ratio of the area of the portion overlapping the cross section perpendicular to that of the beam. The reciprocal of the overlap rate corresponds to the number of times of the pulse laser beam applied to the same location. If the pulse laser beam is not moved, the overlap ratio is 100%. However, in the present invention, since the pulse laser beam is moved, the overlap ratio is less than 100%.

また、隣接パルスレーザビームの重なり率を上記と同様に85%以上としたうえで、パルスレーザビームの1パルスあたりのレーザフルエンスを0.7J/cm2以下とすることにより、通常の成形型で用いられているコーティングにパルスレーザビームが直接照射されても、コーティングが受けるダメージを抑えることができる。 Further, the overlapping ratio of adjacent pulsed laser beam after having the the same manner as above 85%, by a laser fluence per pulse of the pulsed laser beam and 0.7 J / cm 2 or less, used in a conventional mold Even if a pulsed laser beam is directly applied to the coating being applied, damage to the coating can be suppressed.

前記パルスレーザビーム及び前記ビーム移動機構を用いる場合において、樹脂をより確実に成形型の表面から除去し、且つ窒化クロムやハードクロムから成るコーティングが受けるダメージをより抑えるために、パルス幅を1〜200nsecとすることが望ましい。   In the case of using the pulse laser beam and the beam moving mechanism, in order to more reliably remove the resin from the surface of the mold, and to further suppress damage to the coating made of chromium nitride or hard chrome, the pulse width is set to 1 to Desirably, 200 nsec.

本発明に係る成形型クリーニング装置及び方法において、成形型の表面から付着物をより確実に除去し、且つ、窒化クロムやハードクロムから成るコーティングが受けるダメージをより抑えるために、パルスレーザビームの1パルスあたりのレーザフルエンスは0.1〜0.6J/cm2、パルス幅は50〜120nsec、重なり率は90%以上100%未満、1秒あたりの走査レーザパワー密度は3〜11W/cm2であることが望ましい。 In the mold cleaning apparatus and method according to the present invention, in order to more reliably remove deposits from the surface of the mold and further suppress damage to a coating made of chromium nitride or hard chromium, a pulse laser beam 1 The laser fluence per pulse is 0.1 to 0.6 J / cm 2 , the pulse width is 50 to 120 nsec, the overlap rate is 90% or more and less than 100%, and the scanning laser power density per second is 3 to 11 W / cm 2 desirable.

あるいは、本発明に係る成形型クリーニング装置及び方法において、パルスレーザビームの1パルスあたりのレーザフルエンスは0.04〜0.1J/cm2、パルス幅は50〜120nsec、重なり率は98%以上以上100%未満、1秒あたりの走査レーザパワー密度は5〜11W/cm2である場合にも、成形型の表面から付着物をより確実に除去し、且つ、窒化クロムやハードクロムから成るコーティングが受けるダメージをより抑えることができる。 Alternatively, in the mold cleaning apparatus and method according to the present invention, the laser fluence per pulse of the pulsed laser beam is 0.04 to 0.1 J / cm 2 , the pulse width is 50 to 120 nsec, and the overlap ratio is 98% or more and less than 100%. , even when the scanning laser power density is per a 5~11W / cm 2 1 sec, and more reliably remove deposits from the surface of the mold, and, the damage experienced by the coating of chromium nitride or hard chrome More can be suppressed.

前記パルスレーザビーム及び前記ビーム移動機構を用いる場合において、前記レーザビームのスポットの形状は矩形(長方形、正方形)であり、前記ビーム移動機構は該矩形の辺に平行に該スポットを移動させるものであることが望ましい。これにより、パルスレーザビームを均等に近くなるように成形型の表面に照射することができ、位置によるバラツキを抑えて同じ条件に近い状態で成形型の表面をクリーニングすることができる。あるいは、前記レーザビームのスポットの形状は円形又は円環(リング)状としてもよい。この場合、スポットを移動させる方向をスポットの形状に合わせる必要がなく、位置によるバラツキを抑えて同じ条件に近い状態で成形型の表面をクリーニングすることができる。これらレーザビームのスポットの形状は、本発明に係る成形型クリーニング方法においても同様に適用することができる。   In the case where the pulse laser beam and the beam moving mechanism are used, the spot shape of the laser beam is rectangular (rectangular, square), and the beam moving mechanism moves the spot in parallel to a side of the rectangle. Desirably. This makes it possible to irradiate the surface of the mold with the pulsed laser beam so as to be evenly close to each other, and it is possible to clean the surface of the mold under conditions close to the same conditions while suppressing variations due to positions. Alternatively, the spot shape of the laser beam may be circular or annular. In this case, it is not necessary to adjust the direction in which the spot is moved to the shape of the spot, and the surface of the mold can be cleaned in a state close to the same condition while suppressing variation due to the position. These laser beam spot shapes can be similarly applied to the mold cleaning method according to the present invention.

前記レーザビーム移動部を有する成形型クリーニング装置において、該レーザビーム移動部は、
前記パルスレーザビームを前記成形型に対して第1方向に往復移動させると共に、
前記パルスレーザビームを該第1方向に片道移動させる毎に、該パルスレーザビームを該第1方向に垂直な第2方向に、該パルスレーザビームが前記成形型に照射されたスポットの1個分だけ移動させる
ものとすることができる。この場合において、前記レーザビーム移動部と前記成形型の間に、前記第1方向における往復移動の両端の前記スポットの1個分の部分を遮蔽する遮蔽部を設けることができる。この遮蔽部により、前記両端においてパルスレーザビームが第2方向に移動する際に、該両端以外の位置と対比して過剰に照射されるパルスレーザビームを遮蔽し、それにより、成形型の表面をより高い均一性でクリーニングすることができる。本発明に係る成形型クリーニング方法においても同様である。
In the mold cleaning device having the laser beam moving unit, the laser beam moving unit,
Reciprocating the pulse laser beam in a first direction with respect to the molding die;
Each time the pulsed laser beam is moved one way in the first direction, the pulsed laser beam is moved in a second direction perpendicular to the first direction by one spot of the spot irradiated with the pulsed laser beam on the mold. Can only be moved. In this case, between the laser beam moving part and the mold, a shielding part for shielding one portion of the spot at both ends of the reciprocating movement in the first direction can be provided. With this shielding portion, when the pulse laser beam moves in the second direction at the both ends, the pulse laser beam that is excessively irradiated as compared with a position other than the both ends is shielded, whereby the surface of the molding die is shielded. Cleaning can be performed with higher uniformity. The same applies to the mold cleaning method according to the present invention.

以下、図2〜図17を参照しつつ、本発明に係る成形型クリーニング装置、成形型クリーニング方法、樹脂成形装置、及び樹脂成形品製造方法のより具体的な実施形態を説明する。   Hereinafter, more specific embodiments of the molding die cleaning device, the molding die cleaning method, the resin molding device, and the resin molded product manufacturing method according to the present invention will be described with reference to FIGS.

(1) 本実施形態の成形型クリーニング装置及び樹脂成形装置の構成
図2に示すように、本実施形態の成形型クリーニング装置10は、本実施形態の樹脂成形装置1の構成要素の一部である。樹脂成形装置1は、成形型クリーニング装置10と共に樹脂成形部20を有する。
(1) Configuration of the Mold Cleaning Device and the Resin Molding Device of the Present Embodiment As shown in FIG. 2, the mold cleaning device 10 of the present embodiment is a part of the components of the resin molding device 1 of the present embodiment. is there. The resin molding device 1 has a resin molding unit 20 together with the mold cleaning device 10.

まず、樹脂成形部20の構成を説明する。樹脂成形部20は、本実施形態では移送(トランスファー)成形を行う装置であって、基盤211と、基盤211上に立設された4本(図2には2本のみ示す)のタイバー212と、上下に移動可能なようにタイバー212に保持された可動プラテン221と、タイバー212の上端に固定された固定プラテン222と、基盤211上に設けられた、可動プラテン221を上下動させるトグルリンク213とを備える。可動プラテン221の上面と固定プラテン222の下面の間には、上型(第1型)251と下型(第2型)252とが対向して設けられた成形型25が配置されている。   First, the configuration of the resin molding section 20 will be described. In the present embodiment, the resin molding section 20 is an apparatus that performs transfer molding, and includes a base 211 and four (two shown in FIG. 2) tie bars 212 erected on the base 211. A movable platen 221 held by the tie bar 212 so as to be movable up and down, a fixed platen 222 fixed to the upper end of the tie bar 212, and a toggle link 213 provided on the base 211 for moving the movable platen 221 up and down. And Between the upper surface of the movable platen 221 and the lower surface of the fixed platen 222, a molding die 25 provided with an upper die (first die) 251 and a lower die (second die) 252 facing each other is arranged.

図3に、成形型25及びその近傍を拡大して示す。上型251の下面には上方に向かってキャビティCが2個並んで形成されており、下型252の上面にも下方に向かってキャビティCが2個並んで形成されている。上型251の下面、下型252の上面、並びに各キャビティCを囲む上型251及び下型252の面には、窒化クロム製のコーティングCTが施されている。コーティングCTには、窒化クロムの代わりに、ハードクロム等の他の材料を用いてもよい。本実施形態では、キャビティは直方体状とするが、製造する樹脂成形品の形状に応じて円柱状等の形状とすることもできる。   FIG. 3 shows the molding die 25 and its vicinity in an enlarged manner. Two cavities C are formed side by side on the lower surface of the upper mold 251, and two cavities C are formed on the upper surface of the lower mold 252. The lower surface of the upper die 251, the upper surface of the lower die 252, and the surfaces of the upper die 251 and the lower die 252 surrounding each cavity C are coated with chromium nitride coating CT. Instead of chromium nitride, another material such as hard chromium may be used for the coating CT. In the present embodiment, the cavity has a rectangular parallelepiped shape, but may have a cylindrical shape or the like depending on the shape of the resin molded product to be manufactured.

下型252の2個のキャビティCの周囲にある下型252の上面はそれぞれ、リードフレームLを載置することができるようになっている。なお、リードフレームLの代わりに、基板等を下型252の上面に載置してもよい。   Each of the upper surfaces of the lower mold 252 around the two cavities C of the lower mold 252 can receive the lead frame L thereon. Note that a substrate or the like may be placed on the upper surface of the lower mold 252 instead of the lead frame L.

下型252の2個のキャビティCの間には、樹脂材料を収容するポット2521及びポット2521から樹脂材料を押し出すプランジャ2522が設けられている。また、下型252の2個のキャビティCはそれぞれ、後述のように軟化又は溶融した樹脂材料が通過する通路であるランナ2523によりポット2521と接続されている。上型251の2個のキャビティCの間であってポット2521と対向する位置には、カルブロック2511が設けられている。上型251の2個のキャビティCはそれぞれ、ランナ2513によってカルブロック2511の直下の空間と接続されている。   Between the two cavities C of the lower mold 252, a pot 2521 for storing the resin material and a plunger 2522 for extruding the resin material from the pot 2521 are provided. The two cavities C of the lower mold 252 are connected to the pot 2521 by runners 2523, which are passages through which the softened or molten resin material passes, as described later. A cull block 2511 is provided between the two cavities C of the upper mold 251 and at a position facing the pot 2521. Each of the two cavities C of the upper mold 251 is connected to a space directly below the cull block 2511 by a runner 2513.

上型251及び下型252内には、樹脂成形時にリードフレームL及び樹脂材料を所定の温度に維持するヒータ(図示せず)が内蔵されている。   In the upper mold 251 and the lower mold 252, a heater (not shown) for maintaining the lead frame L and the resin material at a predetermined temperature during resin molding is built.

成形型クリーニング装置10は、レーザビーム照射部(レーザビーム照射機構)11として、パルスレーザ光源111と、レーザビーム移動部12と、光ファイバ13とを有する。また、成形型クリーニング装置10は、レーザビーム移動部12の上下を反転させる上下反転機構(図示省略)を有する。さらに、成形型クリーニング装置10は、レーザビーム移動部12を、上型251と下型252との間に配置される使用位置と、上型251と下型252との間の空間の外に配置される待機位置の間でY方向(図2の横方向)に移動させる成形型クリーニング装置移動機構(図示省略)を有する。パルスレーザ光源111は常時、前記空間の外に配置されている。   The molding die cleaning device 10 includes a pulse laser light source 111, a laser beam moving unit 12, and an optical fiber 13 as a laser beam irradiation unit (laser beam irradiation mechanism) 11. Further, the mold cleaning device 10 has an upside-down inversion mechanism (not shown) for inverting the laser beam moving unit 12 upside down. Further, the molding die cleaning device 10 disposes the laser beam moving unit 12 outside the use position disposed between the upper die 251 and the lower die 252 and the space between the upper die 251 and the lower die 252. And a mold cleaning device moving mechanism (not shown) for moving the cleaning device in the Y direction (horizontal direction in FIG. 2) between the standby positions. The pulse laser light source 111 is always arranged outside the space.

パルスレーザ光源111は、1秒あたりの走査レーザパワー密度が2〜15W/cm2の範囲内、1パルスあたりのレーザフルエンスが0.04〜0.7J/cm2の範囲内、パルス幅が1〜200nsecの範囲内、パルス繰り返し周波数が300kHz〜10MHzの範囲内であるパルスレーザビームBを出射する。本実施形態では、パルスレーザビームBに垂直な断面での形状(スポットの形状)が正方形となるようにパルスレーザビームBを整形して出射している。なお、このパルスレーザビームBの断面の形状は、長方形であってもよいし、円形や円環状等であってもよい。スポットの範囲(サイズ)は、1/e2法(86%法)で定義される。スポットサイズはオフィール社、又はコヒレント社製のカメラ式ビームプロファイラで測定することができる。また、オフィール社、又はコヒレント社製のパワーメータを用いて、レーザビームの平均出力を求め、スポットサイズ及びレーザビームの平均出力から1秒あたりの走査レーザパワー密度を求めることができる。1パルスあたりのレーザフルエンスは、上記のレーザビームの平均出力をパルス繰り返し周波数で除した値である。パルス幅は、アジレント・テクノロジー社製のオシロスコープを用いて測定することができる。なお、レーザビームの平均出力は「レーザビームの平均出力[W]=パルスエネルギー[J]×パルス繰返し周波数[Hz]」の式で求めることができる。 Pulsed laser light source 111 is in the range scanned laser power density per second of 2~15W / cm 2, within the laser fluence is 0.04~0.7J / cm 2 per pulse, the pulse width is 1~200nsec A pulse laser beam B having a pulse repetition frequency within a range of 300 kHz to 10 MHz is emitted. In this embodiment, the pulse laser beam B is shaped and emitted so that the shape (spot shape) in a cross section perpendicular to the pulse laser beam B becomes a square. The cross-sectional shape of the pulse laser beam B may be rectangular, circular, or annular. The range (size) of the spot is defined by the 1 / e 2 method (86% method). The spot size can be measured with an Ophir or Coherent camera beam profiler. Further, using a power meter manufactured by Ophir or Coherent, the average output of the laser beam is obtained, and the scanning laser power density per second can be obtained from the spot size and the average output of the laser beam. The laser fluence per pulse is a value obtained by dividing the above average output of the laser beam by the pulse repetition frequency. The pulse width can be measured using an oscilloscope manufactured by Agilent Technologies. The average output of the laser beam can be obtained by the formula of “average output of laser beam [W] = pulse energy [J] × pulse repetition frequency [Hz]”.

レーザビーム移動部12は、ガルバノスキャンヘッド121とレンズ122とを有する。ガルバノスキャンヘッド121は、パルスレーザ光源111から導入されるパルスレーザビームBをX方向(図2の紙面に垂直な方向)及びY方向にそれぞれ、繰り返し往復移動させるように出射する(図4)。レンズ122は、往復移動するパルスレーザビームBを位置に依らずに同じ方向に出射させるように、パルスレーザビームBの方向を調整する。レーザビーム移動部12から出射するパルスレーザビームBは、上下反転機構によって定められるレーザビーム移動部12の向きに応じて、上型251又は下型252のいずれか一方に入射する。なお、図2及び図4に示した例ではガルバノスキャンヘッド121の後段にレンズ122を配置したが、ガルバノスキャンヘッド121の前段にレンズ122を配置してもよい。   The laser beam moving unit 12 includes a galvano scan head 121 and a lens 122. The galvano scan head 121 emits the pulse laser beam B introduced from the pulse laser light source 111 so as to reciprocate repeatedly in the X direction (the direction perpendicular to the plane of FIG. 2) and the Y direction (FIG. 4). The lens 122 adjusts the direction of the pulse laser beam B so that the reciprocating pulse laser beam B is emitted in the same direction regardless of the position. The pulse laser beam B emitted from the laser beam moving unit 12 is incident on one of the upper mold 251 and the lower mold 252 according to the direction of the laser beam moving unit 12 determined by the upside down mechanism. In the examples shown in FIGS. 2 and 4, the lens 122 is disposed after the galvano scan head 121, but the lens 122 may be disposed before the galvano scan head 121.

光ファイバ13は、パルスレーザ光源111とレーザビーム移動部12を接続しており、レーザビーム移動部12には該光ファイバ13を通してパルスレーザビームBが導入される。これにより、レーザビーム移動部12の位置に依らず、パルスレーザ光源111は上型251と下型252の間の空間の外に配置することができる。上型251及び下型252は樹脂成形の工程ではヒータにより加熱されるため、樹脂成形の工程が終了した後、暫くの間は上型251と下型252の間の空間が高温の状態になっている。上記のようにパルスレーザ光源111を上型251と下型252の間の空間の外に配置することにより、樹脂成形の工程の終了からの経過時間が短いときに、パルスレーザ光源111の構成部品が受ける熱による損傷を抑えることができる。   The optical fiber 13 connects the pulse laser light source 111 and the laser beam moving unit 12, and the pulse laser beam B is introduced into the laser beam moving unit 12 through the optical fiber 13. Thus, the pulsed laser light source 111 can be arranged outside the space between the upper mold 251 and the lower mold 252 irrespective of the position of the laser beam moving unit 12. Since the upper mold 251 and the lower mold 252 are heated by the heater in the resin molding process, the space between the upper mold 251 and the lower mold 252 is at a high temperature for a while after the resin molding process is completed. ing. By arranging the pulse laser light source 111 outside the space between the upper mold 251 and the lower mold 252 as described above, when the elapsed time from the end of the resin molding process is short, the components of the pulse laser light source 111 Damage caused by heat received by the heat sink can be suppressed.

上型251と下型252のX方向の幅がレーザビーム移動部12によるパルスレーザビームBのX方向及び/又はY方向の移動範囲よりも広い場合には、成形型クリーニング装置移動機構には、レーザビーム移動部12を、前述のように使用位置と待機位置の間で移動させると共に、上型251と下型252との間の空間の中でX方向及び/又はY方向に移動させるものを用いる。例えば、サーボモータやエアシリンダ等を成形型クリーニング装置移動機構として用いることができる。   When the width in the X direction of the upper mold 251 and the lower mold 252 is wider than the moving range of the pulse laser beam B in the X direction and / or the Y direction by the laser beam moving unit 12, the forming mold cleaning device moving mechanism includes: The laser beam moving unit 12 is moved between the use position and the standby position as described above, and is moved in the X direction and / or the Y direction in the space between the upper die 251 and the lower die 252. Used. For example, a servomotor, an air cylinder, or the like can be used as a mold cleaning device moving mechanism.

成形型クリーニング装置10は、上記の各構成要素の他に、上型251及び下型252の間の空間において気体を吸引して樹脂成形装置1の外に排出する気化付着物除去部や、気化付着物除去部に取り付ける気化付着物捕集フィルタ(いずれも図示省略)を有していてもよい。   The molding die cleaning device 10 includes, in addition to the components described above, a vaporized adhering matter removing unit that sucks gas in a space between the upper die 251 and the lower die 252 and discharges the gas to the outside of the resin molding device 1; It may have a vaporized adhering matter collecting filter (both not shown) attached to the adhering matter removing section.

(2) 本実施形態の成形型クリーニング装置及び樹脂成形装置の動作、並びに本実施形態の成形型クリーニング方法及び樹脂成形方法
本実施形態の成形型クリーニング装置10及び樹脂成形装置1の動作、並びに本実施形態の成形型クリーニング方法及び樹脂成形方法を説明する。以下ではまず、樹脂成形装置1中の樹脂成形部20による(成形型のクリーニングの動作を除いた)樹脂成形時の動作を説明し、次に樹脂成形装置1中の成形型クリーニング装置10の動作を説明する。この成形型クリーニング装置10の動作が、本発明に係る成形型クリーニング方法の実施形態に該当する。また、樹脂成形部20の動作と成形型クリーニング装置10の動作とを組み合わせたものが、本発明に係る樹脂成形方法の実施形態に該当する。
(2) Operations of the Mold Cleaning Device and the Resin Molding Device of the Present Embodiment, and the Mold Cleaning Method and the Resin Molding Method of the Present Embodiment Operations of the Mold Cleaning Device 10 and the Resin Molding Device 1 of the Embodiment, and The molding die cleaning method and the resin molding method of the embodiment will be described. Hereinafter, first, an operation at the time of resin molding (excluding an operation of cleaning the molding die) by the resin molding unit 20 in the resin molding device 1 will be described. Next, an operation of the molding die cleaning device 10 in the resin molding device 1 will be described. Will be described. The operation of the mold cleaning device 10 corresponds to an embodiment of the mold cleaning method according to the present invention. A combination of the operation of the resin molding section 20 and the operation of the mold cleaning device 10 corresponds to an embodiment of the resin molding method according to the present invention.

(2-1) 樹脂成形部20による樹脂成形時の動作
図5を用いて、樹脂成形部20により樹脂成形品を製造する際の動作を説明する。樹脂成形品を製造する際には予め、成形型クリーニング装置移動機構により、レーザビーム移動部12を待機位置に移動させておく。待機位置は前述のように上型251と下型252との間の空間の外の位置であり、樹脂成形品を製造する際の樹脂成形部20の動作を成形型クリーニング装置10が妨げることはない。
(2-1) Operation at the time of resin molding by the resin molding section 20 The operation at the time of manufacturing a resin molded article by the resin molding section 20 will be described with reference to FIG. When manufacturing a resin molded product, the laser beam moving unit 12 is moved to the standby position in advance by the mold cleaning device moving mechanism. The standby position is a position outside the space between the upper mold 251 and the lower mold 252 as described above, and the operation of the resin molding unit 20 at the time of manufacturing a resin molded product is not hindered by the mold cleaning device 10. Absent.

まず、可動プラテン221を降下させることにより、上型251と下型252とを上下に離した型開きの状態とする(図5(a))。この状態で、電子部品を上面及び下面に装着したリードフレームLを、該電子部品とキャビティCの横方向の位置を合わせるようにして、下型252の上面に載置する。また、図示せぬ樹脂材料供給機構により、ポット2521内にタブレット状の樹脂材料Pを供給する。樹脂材料Pは、例えば熱硬化性樹脂(例えばエポキシ系樹脂)を含有する複合材料である。樹脂材料Pには、ワックス(高級脂肪酸エステル等)、硬化促進剤(リン系触媒、アミノ系触媒等)、カップリング剤、着色剤、難燃剤、難燃助剤等が含まれていてもよい。樹脂材料供給機構は、従来の樹脂成形装置で広く用いられているものであり、詳細な説明を省略する。樹脂材料P内の熱硬化性樹脂は、下型252内に設けられたヒータから供給される熱によって、ポット2521内で軟化又は溶融する。上型251もヒータにより所定の温度に加熱する。   First, by lowering the movable platen 221, the upper mold 251 and the lower mold 252 are opened vertically (FIG. 5A). In this state, the lead frame L on which the electronic component is mounted on the upper surface and the lower surface is placed on the upper surface of the lower mold 252 such that the position of the electronic component and the cavity C in the horizontal direction are aligned. Further, a tablet-shaped resin material P is supplied into the pot 2521 by a resin material supply mechanism (not shown). The resin material P is a composite material containing, for example, a thermosetting resin (for example, an epoxy resin). The resin material P may contain a wax (such as a higher fatty acid ester), a curing accelerator (such as a phosphorus-based catalyst or an amino-based catalyst), a coupling agent, a coloring agent, a flame retardant, or a flame retardant auxiliary. . The resin material supply mechanism is widely used in a conventional resin molding apparatus, and a detailed description is omitted. The thermosetting resin in the resin material P is softened or melted in the pot 2521 by heat supplied from a heater provided in the lower mold 252. The upper mold 251 is also heated to a predetermined temperature by the heater.

ポット2521内の熱硬化性樹脂が軟化又は溶融したところで、トグルリンク213により可動プラテン221を上昇させる(図5(b))。これにより、可動プラテン221上の下型252が上型251に当接して該上型251を押し、上型251が固定プラテン222に固定されていることから、成形型25が型締めされる。この状態でプランジャ2522を上昇させることにより、ポット2521内の樹脂材料Pを、ランナ2513及び2523を通して上型251及び下型252のキャビティCに供給する。所定時間が経過すると、樹脂材料P内の熱硬化性樹脂が硬化し、リードフレームLに樹脂がモールドされた樹脂成形品が得られる。その後、トグルリンク213により可動プラテン221を下降させることにより成形型25を型開きし、樹脂成形品を成形型25から取り外す。   When the thermosetting resin in the pot 2521 is softened or melted, the movable platen 221 is raised by the toggle link 213 (FIG. 5B). Accordingly, the lower mold 252 on the movable platen 221 contacts the upper mold 251 and pushes the upper mold 251, and the upper mold 251 is fixed to the fixed platen 222, so that the mold 25 is clamped. By raising the plunger 2522 in this state, the resin material P in the pot 2521 is supplied to the cavities C of the upper mold 251 and the lower mold 252 through the runners 2513 and 2523. After a lapse of a predetermined time, the thermosetting resin in the resin material P is cured, and a resin molded product in which the resin is molded on the lead frame L is obtained. Thereafter, the movable platen 221 is lowered by the toggle link 213 to open the mold 25, and the resin molded product is removed from the mold 25.

ここまでの動作を繰り返し行うことにより、樹脂成形品を多数、連続的に製造すること(連続成形)ができる。しかし、樹脂成形品の製造を繰り返し行う間に、付着物が徐々に成形型25の表面に付着してゆく。成形型25に付着する付着物には、樹脂材料PやリードフレームL(や基板等)に含まれる何れかの材料・成分が含有されている。また、パーティング面(上型251の下面及び下型252の上面)、エアベント(図示せず)、ランナ2523などの樹脂通路にも付着物が付着する場合があり、連続成形が阻害されるおそれがある。そこで、樹脂成形品を所定個数製造する毎、あるいは所定時間毎に、以下に述べるように成形型クリーニング装置10を動作させることにより、成形型25の表面をクリーニングする。   By repeatedly performing the above operations, a large number of resin molded products can be manufactured continuously (continuous molding). However, the deposit gradually adheres to the surface of the molding die 25 during repeated production of the resin molded product. The deposit attached to the molding die 25 contains any material or component contained in the resin material P or the lead frame L (or the substrate or the like). Further, deposits may adhere to the resin passage such as the parting surface (the lower surface of the upper die 251 and the upper surface of the lower die 252), an air vent (not shown), and a runner 2523, which may hinder continuous molding. There is. Therefore, the surface of the molding die 25 is cleaned by operating the molding die cleaning device 10 as described below every time a predetermined number of resin molded products are manufactured or every predetermined time.

(2-2) 成形型クリーニング装置10の動作
まず、成形型25が型開きしている状態で、成形型クリーニング装置移動機構により、レーザビーム移動部12を使用位置、すなわち上型251と下型252との間の空間に配置されるように移動させる(図2参照)。このとき、レーザビーム移動部12の上下の向きはいずれの状態であってもよく、その状態によって上型251と下型252とのうちのいずれかを先にクリーニングすることになる。以下では、下型252をクリーニングする場合を例として説明する。
(2-2) Operation of the Mold Cleaning Device 10 First, in a state where the mold 25 is open, the laser beam moving unit 12 is moved to the use position, that is, the upper mold 251 and the lower mold by the mold cleaning device moving mechanism. 252 (see FIG. 2). At this time, the vertical direction of the laser beam moving unit 12 may be in any state, and depending on the state, one of the upper mold 251 and the lower mold 252 is cleaned first. Hereinafter, a case where the lower mold 252 is cleaned will be described as an example.

この状態で、パルスレーザ光源111は、上述した1パルスあたりのレーザフルエンス及びパルス幅を有するパルスレーザビームBを上述のパルス繰り返し周波数で出射する。その際、レーザビーム移動部12は、パルスレーザビームBを、X方向に繰り返し往復移動させる。これにより、下型252の表面では、パルスレーザビームBのスポットBSがX方向に所定範囲(図4中のXLとXRの間の範囲。「X方向所定範囲」とする。)内で移動する(図6(a), (b))。また、レーザビーム移動部12は、スポットBSがX方向所定範囲を片道1回移動する毎に、Y方向にスポットBSの1個分ずつ所定範囲(図4中のYTとYBの間の範囲。「Y方向所定範囲」とする。)内で移動させる。これらの動作により、下型252の表面では、スポットBSがX方向にX方向所定範囲だけ移動し(図6(a), (b)、図7)、続いてスポットBSの1個分だけY方向に移動したうえで、X方向に先程とは逆向きに移動する、というジグザグの移動を、Y方向所定範囲内で繰り返す(図7)。   In this state, the pulse laser light source 111 emits the pulse laser beam B having the above-described laser fluence and pulse width per pulse at the above-described pulse repetition frequency. At that time, the laser beam moving unit 12 repeatedly moves the pulse laser beam B back and forth in the X direction. Thus, on the surface of the lower mold 252, the spot BS of the pulse laser beam B moves in the X direction within a predetermined range (a range between XL and XR in FIG. 4, which is referred to as a "predetermined range in the X direction"). (FIGS. 6A and 6B). In addition, every time the spot BS moves once in one direction in the X direction, the laser beam moving unit 12 sets a predetermined range of one spot BS in the Y direction (the range between YT and YB in FIG. 4). "The predetermined range in the Y direction"). By these operations, on the surface of the lower mold 252, the spot BS moves in the X direction by a predetermined range in the X direction (FIGS. 6 (a), (b), and FIG. 7). The zigzag movement of moving in the X direction and then moving in the X direction in the opposite direction to the previous direction is repeated within a predetermined range in the Y direction (FIG. 7).

ここでパルスレーザビームBがX方向に移動する際の速さは、パルスの1周期あたり、下型252の表面におけるパルスレーザビームBの正方形のスポットがその1辺の1/6以下の距離だけ移動する速さとする。これにより、時間的に隣接する2つのパルスレーザビームBのスポットは85%以上が重なること(重なり率が85%以上100%未満)となり、(後述するX方向の両端部の一部を除いて)同一位置にパルスレーザビームBが6回以上照射されることとなる。図6(a)に、時間的に隣接する2つのパルスレーザビームBのスポットBS1及びBS2の一例を示す。この図では、スポットBS1とスポットBS2が重なっている部分BSW(同図中に斜めのハッチを付して示した部分)の面積は、スポットBS1(スポットBS2も同じ)の面積の85%以上となっている。同図に示した重なり率でスポットをX方向に移動させてゆくと、図6(b)のようになる。パルスレーザビームBがX方向に移動する際の速さとY方向に移動する際の速さは異なっていてもよい。   Here, the speed at which the pulse laser beam B moves in the X direction is determined by the fact that the square spot of the pulse laser beam B on the surface of the lower die 252 is less than 1/6 of one side per one cycle of the pulse. The speed of movement. As a result, 85% or more of the spots of two pulse laser beams B that are temporally adjacent to each other overlap (the overlap rate is 85% or more and less than 100%). The same position is irradiated with the pulse laser beam B six times or more. FIG. 6A shows an example of spots BS1 and BS2 of two pulse laser beams B that are temporally adjacent to each other. In this figure, the area of the portion BSW where the spot BS1 and the spot BS2 overlap (the area shown with a diagonal hatch in the figure) is 85% or more of the area of the spot BS1 (the same applies to the spot BS2). Has become. When the spot is moved in the X direction at the overlap rate shown in FIG. 6, the result is as shown in FIG. The speed at which the pulsed laser beam B moves in the X direction may be different from the speed at which the pulsed laser beam B moves in the Y direction.

なお、図6(a), (b)ではスポットの径が矩形である場合を例として挙げたが、スポットの径は円形(図8(a), (b))、円環(リング)形(図8(c), (d))等の他の形状であっても同様である。   6 (a) and 6 (b) exemplify a case where the spot diameter is rectangular, but the spot diameter is circular (FIGS. 8 (a) and 8 (b)) and an annular (ring) shape. The same applies to other shapes such as (FIGS. 8C and 8D).

パルスレーザビームBに垂直な方向のビームの断面における照射強度の分布は、中心を最大とするガウス分布である(図9(a))ことが一般的であるが、上型251及び下型252の表面を略均一にクリーニングするために、中心から端部まで略等しい分布を有するトップハット型分布(図9(b))であることが望ましい。また、表面の段差に合わせて焦点位置を変化させなくともよくするために、焦点深度を深くしておくことが望ましい。   The distribution of the irradiation intensity in the cross section of the beam in the direction perpendicular to the pulsed laser beam B is generally a Gaussian distribution having the maximum at the center (FIG. 9A), but the upper mold 251 and the lower mold 252 are used. In order to clean the surface substantially uniformly, it is desirable to have a top-hat type distribution (FIG. 9B) having a substantially equal distribution from the center to the end. Further, it is desirable to increase the depth of focus so that the focal position does not need to be changed in accordance with the step on the surface.

前述したように下型252の表面においてパルスレーザビームBのスポットがジグザグに移動することにより、パルスレーザビームBは下型252の表面の一部又は全部の範囲内に漏れなく照射される。ここでパルスレーザビームBが下型252の表面の一部にのみ照射される場合には、1回のジグザグ移動によるパルスレーザビームBの照射が終了した後、成形型クリーニング装置移動機構はレーザビーム移動部12を、下型252の表面のうち未だパルスレーザビームBが照射されていない領域の上に移動させる。そして、上記と同様の方法により、当該領域にパルスレーザビームBをジグザグ移動させながら照射する。以上の動作を繰り返すことにより、下型252の表面全体にパルスレーザビームBを照射する。図10に、下型252の表面におけるパルスレーザビームBのジグザグの軌跡を細実線で例示すると共に、1回のジグザグ移動によるパルスレーザビームBの照射領域の境界を太破線で例示する。   As described above, the spot of the pulse laser beam B moves in a zigzag manner on the surface of the lower mold 252, so that the pulse laser beam B is irradiated onto a part or the entire area of the surface of the lower mold 252 without leakage. Here, when the pulse laser beam B is irradiated only on a part of the surface of the lower mold 252, after the irradiation of the pulse laser beam B by one zigzag movement is completed, the moving mechanism of the molding die cleaning device moves the laser beam. The moving unit 12 is moved to a position on the surface of the lower mold 252 that has not been irradiated with the pulse laser beam B yet. Then, in the same manner as described above, the pulse laser beam B is applied to the area while moving it in a zigzag manner. By repeating the above operation, the entire surface of the lower mold 252 is irradiated with the pulse laser beam B. FIG. 10 illustrates the locus of the zigzag of the pulse laser beam B on the surface of the lower mold 252 by a thin solid line, and the boundary of the irradiation area of the pulse laser beam B by one zigzag movement is illustrated by a thick broken line.

その後、上下反転機構によってレーザビーム移動部12の上下を反転させ、下型252の場合と同様に、上型251の表面全体にもパルスレーザビームBを照射する。   After that, the laser beam moving unit 12 is turned upside down by the upside down mechanism, and the entire surface of the upper die 251 is irradiated with the pulse laser beam B as in the case of the lower die 252.

本実施形態の成形型クリーニング装置10では、上述した1秒あたりの走査レーザパワー密度及び1パルスあたりのレーザフルエンスを有するパルスレーザビームBを成形型25(上型251及び下型252)の表面に照射することにより、付着物Aの表面が高温、高圧状態となり、成形型25の表面にプラズマPLが生成される(図11(a))。プラズマPLの発生源は特に限定されないが、パルスレーザビームBを付着物に照射することにより、プラズマPLを発生させることができる。そして、上述した1秒あたりの走査レーザパワー密度でパルスレーザビームBをプラズマPLを照射すること、又は、上述した1パルスあたりのレーザフルエンスを有するパルスレーザビームBを重なり率が85%以上となるように移動させることでパルスレーザビームBをプラズマPL中の同一箇所に6回以上照射することにより、通常の樹脂成形において成形型25の表面に付着する付着物Aが含有する樹脂を気化させることができる温度まで、プラズマPLが加熱される(図11(b))。ここで、プラズマPLにより加熱されたコーティングCTから伝熱又は放射する熱が、下型252に付着した付着物Aの下(又は上型251に付着した付着物Aの上)側から作用してもよい。このようにプラズマPLが加熱されることにより、成形型25の表面上の付着物Aの少なくとも一部が気化し、該表面から除去される。なお、パルスレーザビームBが移動する範囲のうちX方向の両端部であってパルスレーザビームBのX方向の幅の1個分未満(例えば、重なり率が85%の場合には該幅の17/20)の部分では、パルスレーザビームBが照射される回数が6回未満となり得るが、通常は該幅が十分に小さく、その周囲で加熱されたプラズマPLが当該部分に流入するため、問題とはならない。気化した付着物AGは、成形型クリーニング装置10が気化付着物除去装置を有する場合には、成形型25の表面近傍から吸引除去される。   In the mold cleaning device 10 of the present embodiment, the pulse laser beam B having the scanning laser power density per second and the laser fluence per pulse is applied to the surface of the mold 25 (the upper mold 251 and the lower mold 252). By the irradiation, the surface of the deposit A becomes high temperature and high pressure, and plasma PL is generated on the surface of the molding die 25 (FIG. 11A). The source of the plasma PL is not particularly limited, but the plasma PL can be generated by irradiating the pulsed laser beam B to the deposit. Then, the plasma PL is irradiated with the pulse laser beam B at the above-described scanning laser power density per second, or the overlap ratio of the above-described pulse laser beam B having the laser fluence per pulse becomes 85% or more. By irradiating the same location in the plasma PL six times or more by moving the pulse laser beam B as described above, the resin contained in the deposit A attached to the surface of the molding die 25 in normal resin molding is vaporized. The plasma PL is heated to a temperature at which the plasma PL is generated (FIG. 11B). Here, heat transferred or radiated from the coating CT heated by the plasma PL acts from below the attached matter A attached to the lower mold 252 (or above the attached matter A attached to the upper mold 251). Is also good. By heating the plasma PL in this way, at least a part of the deposit A on the surface of the mold 25 is vaporized and removed from the surface. It should be noted that both ends in the X direction of the range in which the pulse laser beam B moves are less than one width of the pulse laser beam B in the X direction (for example, when the overlap ratio is 85%, the width of the width is 17 times). In the part of (/ 20), the number of times of irradiation of the pulse laser beam B may be less than six times. However, the width is usually sufficiently small, and the plasma PL heated around the part flows into the part. Does not. The vaporized deposits AG are suctioned and removed from the vicinity of the surface of the molding die 25 when the mold cleaning device 10 has a vaporized deposit removal device.

一方、窒化クロムやハードクロム等の通常用いられている材料や、マイクロクラックを内在しており融点よりも低い温度でクラックが進行する材料から成るコーティングCTや、多層膜から成るコーティングCTは、一般的に厚みが数μm〜数十μm程度であって、従来の方法では剥がれやすいという課題があった。このようなコーティングCTに、上記の1秒あたりの走査レーザパワー密度又は1パルスあたりのレーザフルエンスを有するパルスレーザビームBが直接照射されても、それらのコーティングCTに与えるダメージは、従来のレーザビームを用いたクリーニング方法の場合よりも小さい。また、一般的に、成形型は鉄、鋼、ステンレス鋼、アルミニウム等の金属を表面及び内部に多数含んでおり、樹脂よりも放熱し易いため、プラズマPLからコーティングCTに伝わる熱は直ぐに、(付着物ではなく)成形型25内に伝導、拡散し、あるいはコーティングCTの表面から放射(輻射)し、コーティングCTへの影響を抑制することができる。   On the other hand, commonly used materials such as chromium nitride and hard chromium, coating CT made of a material in which microcracks are present and cracks proceed at a temperature lower than the melting point, and coating CT made of a multilayer film are generally used. In general, the thickness is about several μm to several tens μm, and the conventional method has a problem that it is easily peeled off. Even if such a coating CT is directly irradiated with the above-described scanning laser power density per second or a pulse laser beam B having a laser fluence per pulse, the damage to those coating CT is caused by the conventional laser beam. Is smaller than the case of the cleaning method using. Also, generally, since the mold contains a large number of metals such as iron, steel, stainless steel, and aluminum on the surface and inside, and is easier to dissipate heat than resin, heat transmitted from the plasma PL to the coating CT immediately ( It can be conducted or diffused into the mold 25 (instead of the deposit) or radiated (emitted) from the surface of the coating CT to suppress the influence on the coating CT.

さらに、本実施形態の成形型クリーニング装置10では、プラズマPLを加熱することによって付着物Aを除去するため、全ての付着物Aに直接パルスレーザビームBを照射する必要はない。そのため、成形型の側面(例えば、キャビティCに面する側面)等、パルスレーザビームBを照射し難い位置に付着した付着物Aも容易に除去することができる。   Further, in the mold cleaning apparatus 10 of the present embodiment, since the deposit A is removed by heating the plasma PL, it is not necessary to directly irradiate the pulse laser beam B to all the deposits A. Therefore, it is possible to easily remove the deposit A attached to a position where the pulse laser beam B is difficult to be irradiated, such as a side surface of the mold (for example, a side surface facing the cavity C).

一方、1秒あたりの走査レーザパワー密度が2W/cm2未満の場合には、レーザビームを走査させる速度が速過ぎるか、又は(走査していない状態での)レーザパワー密度が低過ぎることとなる。この場合、コーティングへの損傷は抑制されるが、付着物を除去することが難しくなる。また、1秒あたりの走査レーザパワー密度が15W/cm2よりも大きい場合には、レーザビームを走査させる速度が遅過ぎるか、又はレーザパワー密度が高過ぎることとなる。レーザビームを走査させる速度が遅過ぎる場合は、クリーニングをすることが可能ではあるもののも、クリーニングに要する時間が長過ぎる。レーザパワー密度が高過ぎる場合は、コーティングへの損傷を抑制することが難しくなる。 On the other hand, if the scanning laser power density per second is less than 2 W / cm 2 , the scanning speed of the laser beam may be too high or the laser power density (without scanning) may be too low. Become. In this case, damage to the coating is suppressed, but it is difficult to remove the deposit. If the scanning laser power density per second is higher than 15 W / cm 2 , the scanning speed of the laser beam is too slow or the laser power density is too high. When the scanning speed of the laser beam is too slow, although the cleaning can be performed, the time required for the cleaning is too long. If the laser power density is too high, it will be difficult to suppress damage to the coating.

1パルスあたりのレーザフルエンスが0.04J/cm2未満であって、隣接パルスレーザビームの重なり率が85%未満である場合、付着物を除去することが難しくなる。また、1パルスあたりのレーザフルエンスが0.7J/cm2よりも大きい場合には、コーティングへの損傷を抑制することが難しくなる。 If the laser fluence per pulse is less than 0.04 J / cm 2 and the overlap ratio of adjacent pulsed laser beams is less than 85%, it is difficult to remove the deposit. When the laser fluence per pulse is larger than 0.7 J / cm 2 , it becomes difficult to suppress damage to the coating.

なお、図4等ではパルスレーザビームBを下型252の上面に対して垂直に照射するように描かれているが、レーザビーム移動部12の向きを調整することにより、下型252の上面に対して傾斜した方向に照射するようにしてもよい(上型251の下面に対しても同様)。これにより、上型251及び下型252中でキャビティCを構成する側壁面等にもパルスレーザビームBが照射される。   4 and the like, the pulse laser beam B is drawn so as to be perpendicular to the upper surface of the lower die 252. However, by adjusting the direction of the laser beam moving unit 12, the upper surface of the lower die 252 is adjusted. Irradiation may be performed in a direction inclined with respect to the direction (the same applies to the lower surface of the upper die 251). Thereby, the pulse laser beam B is also applied to the side wall surface and the like forming the cavity C in the upper mold 251 and the lower mold 252.

次に、パルスレーザビームBの1秒あたりの走査レーザパワー密度が異なる複数の条件でそれぞれ実験を行い、付着物の除去及びコーティングへの影響の良否を確認した。付着物は、通常の樹脂成形品を製造する際に生じたものである。コーティングには窒化クロムから成るものを用いた。実験結果を表1に示す。
表1において「○」は、成形型の表面に付着物が残存せず、且つ、コーティングへの損傷が見られなかったことを示す。「△」は、付着物が僅かに残存していたか、コーティングに僅かな損傷が発見されたかのいずれか一方又は双方であるものの、実用上許容範囲であることを示す。「×」は、付着物が僅かに残存していたか、コーティングに僅かな損傷が発見されたかのいずれか一方又は双方であって、実用上許容できない範囲であることを示す。以上の結果より、1秒あたりの走査レーザパワー密度が2〜15W/cm2の範囲内が本発明に含まれ、そのうち3〜11W/cm2の範囲内であることが望ましいといえる。
Next, an experiment was performed under a plurality of conditions in which the scanning laser power density per second of the pulsed laser beam B was different from each other, and it was confirmed whether the removal of the deposits and the effect on the coating were good. The deposit is generated when a normal resin molded product is manufactured. A coating made of chromium nitride was used. Table 1 shows the experimental results.
In Table 1, “○” indicates that no deposits remained on the surface of the mold and no damage to the coating was observed. A “△” indicates that either little deposits were left or slight damage was found in the coating, or both, but still acceptable for practical use. "X" indicates that only one or both of the deposits remained and the coating was found to be slightly damaged, which is not practically acceptable. From the above results, it can be said that the range of the scanning laser power density per second from 2 to 15 W / cm 2 is included in the present invention, and it is desirable that the range is from 3 to 11 W / cm 2 .

(3) 本発明のその他の実施形態
本発明は上述した各実施形態には限定されない。例えば、パルスレーザビームBのスポットBSが上型251の下面又は下型252の上面上を前述の図7に示した経路で移動する場合に、該経路のX方向(すなわちスポットBSが往復運動する方向。前記第1方向に相当。)の両端であってレーザビーム移動部12と上型251又は下型252の間に、スポットBSの1個分の幅だけパルスレーザビームBを遮蔽する遮蔽部15(図12中に太実線で示したもの)を設けることができる。なお、遮蔽部15は、レーザビーム移動部12と上型251の間、及びレーザビーム移動部12と下型252の間の双方に設けてもよい。
(3) Other Embodiments of the Present Invention The present invention is not limited to the above embodiments. For example, when the spot BS of the pulse laser beam B moves on the lower surface of the upper die 251 or the upper surface of the lower die 252 along the path shown in FIG. 7, the X direction of the path (that is, the spot BS reciprocates). Direction, corresponding to the first direction) between the laser beam moving unit 12 and the upper mold 251 or the lower mold 252, and a shielding unit for shielding the pulse laser beam B by a width of one spot BS. 15 (indicated by a thick solid line in FIG. 12) can be provided. The shielding unit 15 may be provided both between the laser beam moving unit 12 and the upper mold 251 and between the laser beam moving unit 12 and the lower mold 252.

この遮蔽部15が設けられる部分において、前述の実施形態のように遮蔽部15を設けることなく且つパルスレーザ光源111からのパルスレーザビームBの出射を継続したままスポットBSをY方向(前記第2方向に相当)に移動させると、その移動の速さによっては、他の部分よりも多いパルス数でパルスレーザビームBが照射される。例えば、照射の始点となる部分又はX方向の移動とY方向の移動とが切り替わる部分は、それ以外の部分と比べてパルスレーザビームBが照射される回数が異なる箇所が存在する場合がある。また、この遮蔽部15が設けられる部分は、前述のようにパルスレーザビームBが照射される回数が6回未満となり得る位置でもある。それに対して、スポットBSの1個分だけX方向の両端において遮蔽部15によってパルスレーザビームBを遮蔽し、この遮蔽がなされていない部分を通過したパルスレーザビームBでクリーニングを行うことにより、クリーニング処理の均一性をより高くすることができる。   In the portion where the shielding portion 15 is provided, the spot BS is moved in the Y direction (the second direction) without providing the shielding portion 15 and maintaining the emission of the pulse laser beam B from the pulse laser light source 111 as in the above-described embodiment. (Corresponding to the direction), the pulsed laser beam B is emitted with a larger number of pulses than in other parts, depending on the speed of the movement. For example, a portion serving as a starting point of irradiation or a portion where movement in the X direction and movement in the Y direction are switched may include a portion where the number of times of irradiation of the pulse laser beam B is different from other portions. The portion where the shielding portion 15 is provided is also a position where the number of times of irradiation with the pulse laser beam B can be less than six times as described above. On the other hand, the pulse laser beam B is shielded by the shielding portions 15 at both ends in the X direction by one spot BS, and cleaning is performed by the pulse laser beam B passing through the unshielded portion. Processing uniformity can be further improved.

遮蔽部15を用いる代わりに、Y方向にスポットBSを移動させる間、パルスレーザ光源111からのパルスレーザビームBの出射を停止するようにしてもよい。また、パルスレーザビームの移動の速さを変更し、それに応じて1パルスあたりのレーザフルエンス及び/又は繰り返し周波数を変更するようにしてもよい。例えば、レーザビームをより速く移動させ、それに応じて1パルスあたりのレーザフルエンスを大きく及び/又は繰り返し周波数を大きくすることにより、同じ時間でパルスレーザビームを照射することができる領域を拡大することができる。   Instead of using the shielding unit 15, the emission of the pulse laser beam B from the pulse laser light source 111 may be stopped while the spot BS is moved in the Y direction. Further, the moving speed of the pulse laser beam may be changed, and the laser fluence and / or the repetition frequency per pulse may be changed accordingly. For example, by moving the laser beam faster, and thereby increasing the laser fluence per pulse and / or increasing the repetition frequency, the area that can be irradiated with the pulse laser beam in the same time can be expanded. it can.

スポットBSは、図7や図10に示したようにジグザグ状に移動させること以外に、例えば図13(a)に示すように、X方向に片道移動(図中の細実線の経路)した後に、パルスレーザ光源111からのパルスレーザビームBの出射を停止し、X方向には最初の位置に戻りながらY方向にスポットBSの1個分だけ移動し(図中の細破線の経路)、さらにX方向に片道移動するという動作を繰り返してもよい。あるいは、図13(b)に示すように、1回のジグザグ移動(又は図13(a)の片道繰り返し移動)によって、(前述のように複数の照射領域に分けることなく)クリーニング対象の全体にパルスレーザビームBを照射するようにしてもよい。   The spot BS is moved in one direction in the X direction (the path indicated by the thin solid line in the figure), for example, as shown in FIG. 13A, in addition to the zigzag movement as shown in FIG. 7 and FIG. Then, the emission of the pulsed laser beam B from the pulsed laser light source 111 is stopped, and the spot is moved by one spot BS in the Y direction while returning to the initial position in the X direction (the path indicated by the thin broken line in the figure). The operation of moving one way in the X direction may be repeated. Alternatively, as shown in FIG. 13B, one zigzag movement (or one-way repetitive movement in FIG. 13A) can be applied to the entire cleaning target (without dividing into a plurality of irradiation areas as described above). The pulse laser beam B may be applied.

図14に、レーザビーム照射部の他の例を示す。このレーザビーム照射部11Aは、パルスレーザ光源111と、レーザビーム移動部12Aと、レンズ122Aと、光ファイバ13と、X方向レール161と、X方向ベルト162と、ベルト取り付け部材163と、X方向モータ164と、X方向プーリ165と、モータブロック166と、プーリブロック167と、Y方向レール168とを有する。   FIG. 14 shows another example of the laser beam irradiation unit. The laser beam irradiation unit 11A includes a pulse laser light source 111, a laser beam moving unit 12A, a lens 122A, an optical fiber 13, an X-direction rail 161, an X-direction belt 162, a belt attachment member 163, and an X-direction It has a motor 164, an X-direction pulley 165, a motor block 166, a pulley block 167, and a Y-direction rail 168.

パルスレーザ光源111は上記と同様に上型251と下型252の間の空間の外に配置されており、光ファイバ13でレーザビーム移動部12Aと接続されている。レーザビーム移動部12Aはクリーニング時に前記空間内に配置され、パルスレーザ光源111からのパルスレーザビームBを上方又は下方に照射するものであって、ガルバノスキャンヘッドは有していない。レンズ122Aはレーザビーム移動部12AのパルスレーザビームBが出射する側に固定されており、レーザビーム移動部12AからのパルスレーザビームBの径を絞って上型251又は下型252に照射するものである。   The pulse laser light source 111 is disposed outside the space between the upper mold 251 and the lower mold 252 in the same manner as described above, and is connected to the laser beam moving unit 12A via the optical fiber 13. The laser beam moving unit 12A is disposed in the space at the time of cleaning, and irradiates the pulse laser beam B from the pulse laser light source 111 upward or downward, and does not have a galvano scan head. The lens 122A is fixed to the side of the laser beam moving unit 12A from which the pulse laser beam B is emitted, and irradiates the upper mold 251 or the lower mold 252 by narrowing the diameter of the pulse laser beam B from the laser beam moving unit 12A. It is.

X方向レール161は上型251の直下又は下型252の直上に、それらの型を横断するようにX方向に延びるレールである。レーザビーム移動部12Aは、X方向レール161に沿ってX方向に移動可能に設けられている。レーザビーム移動部12Aにはベルト取り付け部材163によってX方向ベルト162が取り付けられている。X方向モータ164はモータブロック166内に収容され、モータブロック166はX方向レール161の一方の端に固定されている。また、X方向プーリ165はプーリブロック167内に収容され、プーリブロック167はX方向レール161の他方の端に固定されている。X方向ベルト162は、X方向モータ164及びX方向プーリ165に掛けられており、その一部がベルト取り付け部材163によってレーザビーム移動部12Aに取り付けられている。これらの構成により、X方向モータ164がいずれかの方向に回転すると、X方向ベルト162がX方向の正負いずれかの方向に移動し、それに伴ってレーザビーム移動部12AがX方向レール161に沿って移動する。   The X-direction rail 161 is a rail that extends in the X direction immediately below the upper mold 251 or directly above the lower mold 252 so as to cross the molds. The laser beam moving unit 12A is provided movably in the X direction along the X direction rail 161. An X-direction belt 162 is attached to the laser beam moving unit 12A by a belt attaching member 163. The X-direction motor 164 is housed in a motor block 166, and the motor block 166 is fixed to one end of the X-direction rail 161. The X-direction pulley 165 is housed in a pulley block 167, and the pulley block 167 is fixed to the other end of the X-direction rail 161. The X-direction belt 162 is hung on an X-direction motor 164 and an X-direction pulley 165, and a part of the X-direction belt 162 is attached to the laser beam moving unit 12A by a belt attachment member 163. With these configurations, when the X-direction motor 164 rotates in either direction, the X-direction belt 162 moves in either the positive or negative direction of the X direction, and accordingly, the laser beam moving unit 12A moves along the X-direction rail 161. Move.

Y方向レール168は上型251又は下型252をX方向に挟むように1対設けられた、Y方向に延びるレールである。モータブロック166及びプーリブロック167は、Y方向レール168に沿ってY方向に移動可能に設けられている。モータブロック166側のY方向レール168の両端には、Y方向モータ及びY方向プーリが設けられ、それらY方向モータ及びY方向プーリにはY方向ベルトが掛けられており、Y方向ベルトの一部がモータブロック166に取り付けられている(図示省略)。これにより、レーザビーム移動部12AがX方向に移動する際と同様に、Y方向モータが回転するとモータブロック166がY方向レール168に沿って移動する。このようにモータブロック166が移動すると、それに伴って、X方向レール161やレーザビーム移動部12A等もY方向に移動する。なお、Y方向モータ、Y方向プーリ及びY方向ベルトは、プーリブロック167側に設けてもよい。   The Y-direction rail 168 is a pair of rails extending in the Y direction provided so as to sandwich the upper die 251 or the lower die 252 in the X direction. The motor block 166 and the pulley block 167 are provided movably in the Y direction along the Y direction rail 168. At both ends of the Y-direction rail 168 on the motor block 166 side, a Y-direction motor and a Y-direction pulley are provided, and the Y-direction motor and the Y-direction pulley are covered with a Y-direction belt. Are attached to the motor block 166 (not shown). Thus, the motor block 166 moves along the Y-direction rail 168 when the Y-direction motor rotates, as in the case where the laser beam moving unit 12A moves in the X-direction. When the motor block 166 moves in this manner, the X-direction rail 161 and the laser beam moving unit 12A also move in the Y direction. The Y-direction motor, the Y-direction pulley, and the Y-direction belt may be provided on the pulley block 167 side.

ここまでに述べたX方向レール161、X方向ベルト162、ベルト取り付け部材163、X方向モータ164、X方向プーリ165、モータブロック166、プーリブロック167、Y方向レール168、Y方向モータ、Y方向プーリ及びY方向ベルトは、レーザビーム移動部に該当する。   X-direction rail 161, X-direction belt 162, belt mounting member 163, X-direction motor 164, X-direction pulley 165, motor block 166, pulley block 167, Y-direction rail 168, Y-direction motor, Y-direction pulley described above. And the Y-direction belt correspond to a laser beam moving unit.

レーザビーム照射部11Aは、レーザビーム移動部12AがX方向レール161に沿ってX方向に片道移動する毎にY方向レール168に沿ってパルスレーザビームBのスポットの1個分だけY方向に移動し、レーザビーム移動部12AがX方向往復移動することでこの動作を繰り返すことにより、上型251又は下型252にパルスレーザビームBをジグザグ状に照射する(図13(b)参照)。   The laser beam irradiation unit 11A moves in the Y direction by one spot of the pulse laser beam B along the Y direction rail 168 each time the laser beam moving unit 12A moves one way in the X direction along the X direction rail 161. This operation is repeated by reciprocating the laser beam moving unit 12A in the X direction, thereby irradiating the upper die 251 or the lower die 252 with the pulse laser beam B in a zigzag manner (see FIG. 13B).

図15に、複数組の樹脂成形部20と、1組の成形型クリーニング装置10を備える樹脂成形ユニット30の構成を示す。この樹脂成形ユニット30は、1台の材料受入モジュール31、複数台の成形モジュール32、1台の払出モジュール33、及び1台の成形型クリーニング装置待機モジュール34を1列に並べて配置している。材料受入モジュール31は、タブレット状の樹脂材料P、及びリードフレームLを外部から受け入れて成形モジュール32に送出するための装置であって、リードフレーム受入部311及びタブレット供給部312を有する。1台の成形モジュール32は、上記実施形態の樹脂成形装置1のうち樹脂成形部20を1台有する。図15には成形モジュール32が3台示されているが、樹脂成形ユニット30には成形モジュール32を任意の台数設けることができる。また、樹脂成形ユニット30を組み上げて使用を開始した後であっても、成形モジュール32を増減することができる。払出モジュール33は、成形モジュール32で製造された樹脂成形品を成形モジュール32から搬入して保持しておくものであって、樹脂成形品保持部331を有する。成形型クリーニング装置待機モジュール34は、成形型クリーニング装置10を使用しないときにそれを収容するものである。   FIG. 15 shows a configuration of a resin molding unit 30 including a plurality of sets of the resin molding units 20 and one set of the mold cleaning device 10. In this resin molding unit 30, one material receiving module 31, a plurality of molding modules 32, one dispensing module 33, and one molding die cleaning device standby module 34 are arranged in a row. The material receiving module 31 is a device for receiving the tablet-shaped resin material P and the lead frame L from the outside and sending them to the molding module 32, and has a lead frame receiving section 311 and a tablet supply section 312. One molding module 32 has one resin molding unit 20 in the resin molding apparatus 1 of the above embodiment. Although three molding modules 32 are shown in FIG. 15, any number of molding modules 32 can be provided in the resin molding unit 30. Further, even after the resin molding unit 30 has been assembled and used, the number of molding modules 32 can be increased or decreased. The dispensing module 33 carries in and holds the resin molded product manufactured by the molding module 32 from the molding module 32, and has a resin molded product holding portion 331. The mold cleaning device standby module 34 accommodates the mold cleaning device 10 when not in use.

搬送装置35は、樹脂成形ユニット30内に設けられた搬送レールに沿って、材料受入モジュール31から成形モジュール32に基板や樹脂材料を搬入すると共に、成形された樹脂成形品を成形モジュール32から払出モジュール33に搬出する装置である。また、搬送装置35は、或る成形モジュール32において成形型のクリーニングを行うときに、該成形モジュール32に成形型クリーニング装置10を搬入する(図16)と共に、該成形型のクリーニングが完了した後に成形型クリーニング装置10を該成形モジュール32から搬出する機能も有する。   The transfer device 35 carries the substrate and the resin material from the material receiving module 31 to the forming module 32 along the transfer rail provided in the resin forming unit 30 and discharges the formed resin molded product from the forming module 32. It is a device that is carried out to the module 33. Further, when cleaning the molding die in a certain molding module 32, the transport device 35 carries the molding die cleaning device 10 into the molding module 32 (FIG. 16), and after the cleaning of the molding die is completed. It also has a function to carry out the mold cleaning device 10 from the molding module 32.

この樹脂成形ユニット30は、複数の成形モジュール32で並行して樹脂成形品を製造することができるため、樹脂成形品を大量生産するのに適している。その際、成形型に基板を取り付けてから樹脂成形品を作製したうえで搬出するまでの間には相応の時間を要することから、或る成形モジュール32で樹脂成形を製造している時間に、他の成形モジュール32に成形対象物を取り付けたり、他の成形型から樹脂成形品を搬出することにより、樹脂成形品の製造効率を高くことができると共に、搬送装置に要するコストを抑えることができる。さらに、成形型クリーニング装置10を複数台の成形モジュール32で共用することも可能である。   The resin molding unit 30 is suitable for mass-producing resin molded products because a plurality of molding modules 32 can produce resin molded products in parallel. At that time, a certain amount of time is required from mounting the substrate on the molding die to producing the resin molded article and then carrying out the molded article, so that a certain molding module 32 produces the resin molded article. By attaching the molding object to another molding module 32 or carrying out the resin molded product from another molding die, the production efficiency of the resin molded product can be increased, and the cost required for the transfer device can be suppressed. . Further, the molding die cleaning device 10 can be shared by a plurality of molding modules 32.

上記樹脂成形ユニット30では、他のモジュールと同じ列に並べて配置した成形型クリーニング装置待機モジュール34を用いているが、その代わりに、図17に示す樹脂成形ユニット30Aのように、他のモジュールが並ぶ列に沿って延びる成形型クリーニング装置収容・移動モジュール34Aを用いてもよい。樹脂成形ユニット30A中の材料受入モジュール31、成形モジュール32、及び払出モジュール33の構成は樹脂成形ユニット30の場合と同様である。成形型クリーニング装置収容・移動モジュール34Aは、成形型クリーニング装置10を収容すると共に、他のモジュールが並ぶ列の方向に成形型クリーニング装置10を移動させる成形型クリーニング装置移動部35Aを内部に有する。各成形モジュール32の樹脂成形部20から見ると、成形型クリーニング装置収容・移動モジュール34A及びその内部の成形型クリーニング装置移動部35Aは、搬送装置35の反対側に設けられている。樹脂成形ユニット30Aの動作は、成形型クリーニング装置10を成形モジュール32に搬入及び成形モジュール32から搬出する際に成形型クリーニング装置移動部35Aを用いる点を除いて、樹脂成形ユニット30と同様である。   In the resin molding unit 30, the molding die cleaning device standby module 34 arranged in the same row as the other modules is used. However, instead of the resin molding unit 30A shown in FIG. The mold cleaning device housing and moving module 34A extending along the line may be used. The configurations of the material receiving module 31, the molding module 32, and the dispensing module 33 in the resin molding unit 30A are the same as those of the resin molding unit 30. The mold cleaning device housing / moving module 34A has therein a mold cleaning device moving unit 35A that houses the mold cleaning device 10 and moves the mold cleaning device 10 in the direction in which other modules are arranged. As viewed from the resin molding unit 20 of each molding module 32, the molding die cleaning device housing / moving module 34A and the molding die cleaning device moving unit 35A therein are provided on the opposite side of the transport device 35. The operation of the resin molding unit 30A is the same as that of the resin molding unit 30 except that the molding die cleaning device moving unit 35A is used when the molding die cleaning device 10 is carried into and out of the molding module 32. .

本発明は上記の各実施形態に限定されるものではなく、本発明の主旨の範囲内で種々の変形が可能である。   The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications are possible within the scope of the present invention.

例えば、上記実施形態ではパルスレーザビームの1パルスあたりのレーザフルエンスを0.04〜0.7J/cm2、パルス幅を1〜200nsec、隣接パルスレーザビームの重なり率を85%以上とした。しかし、付着物の材質や量、あるいはコーティングの材料によっては、上記範囲外のレーザフルエンス、パルス幅又は重なり率でパルスレーザビームを成形型に照射しても、付着物上にプラズマを生成したうえで付着物が気化する温度以上に該プラズマを加熱することができ、且つ、レーザビームの照射強度(レーザフルエンス、レーザパワー密度)をコーティングに損傷を与える値よりも低く抑えることができる場合がある。 For example, in the above embodiment, the laser fluence per pulse of the pulse laser beam is set to 0.04 to 0.7 J / cm 2 , the pulse width is set to 1 to 200 nsec, and the overlap ratio of the adjacent pulse laser beams is set to 85% or more. However, depending on the material and amount of the deposit, or the material of the coating, even if the mold is irradiated with a pulsed laser beam with a laser fluence, pulse width or overlap ratio outside the above range, plasma may be generated on the deposit. In some cases, the plasma can be heated to a temperature higher than the temperature at which the deposits vaporize, and the irradiation intensity (laser fluence, laser power density) of the laser beam can be suppressed to a value lower than a value that damages the coating. .

また、上記実施形態ではパルスレーザビームのスポットを1パルス毎に移動させたが、複数パルス毎に移動させるようにしてもよい。その場合には、レーザフルエンスを当該複数パルスあたり0.04〜0.7J/cm2とすることが好ましい。 In the above-described embodiment, the spot of the pulse laser beam is moved for each pulse, but may be moved for a plurality of pulses. In that case, it is preferable that the laser fluence be 0.04 to 0.7 J / cm 2 per the plurality of pulses.

上記実施形態ではパルスレーザビームを用いたが、連続的にレーザ発振する連続レーザのビームを用いるようにしてもよい。   Although the pulse laser beam is used in the above embodiment, a continuous laser beam that oscillates continuously may be used.

上記実施形態では樹脂成形部20が有する成形型25には移送成形用のものを用いたが、圧縮成形や射出成形等の他の成形方法に用いる成形型にも、上記実施形態の成形型クリーニング装置10を適用することができる。   In the above embodiment, the mold 25 for the transfer molding is used as the mold 25 of the resin molding section 20. However, the mold used in other molding methods such as compression molding and injection molding is also applicable to the molding die cleaning of the above embodiment. Apparatus 10 can be applied.

1…樹脂成形装置
10…成形型クリーニング装置
11、11A…レーザビーム照射部(レーザビーム照射機構)
111…パルスレーザ光源
12、12A…レーザビーム移動部
121…ガルバノスキャンヘッド
122、122A…レンズ
13…光ファイバ
15…遮蔽部
161…X方向レール
162…X方向ベルト
163…ベルト取り付け部材
164…X方向モータ
165…X方向プーリ
166…モータブロック
167…プーリブロック
168…Y方向レール
20…樹脂成形部
211…基盤
212…タイバー
213…トグルリンク
221…可動プラテン
222…固定プラテン
25、25A…成形型
251、251A…上型
2511…カルブロック
2513…ランナ
252、252A…下型
2521…ポット
2522…プランジャ
2523…ランナ
30…樹脂成形ユニット
31…材料受入モジュール
311…リードフレーム受入部
312…タブレット供給部
32…成形モジュール
33…払出モジュール
331…樹脂成形品保持部
34…成形型クリーニング装置待機モジュール
34A…成形型クリーニング装置収容・移動モジュール
35…搬送装置
35A…成形型クリーニング装置移動部
A…付着物
AG…気化した付着物
B…パルスレーザビーム
BS、BS1、BS2…パルスレーザビームのスポット
BSW…スポットが重なっている部分
C…キャビティ
CT…コーティング
L…リードフレーム
P…樹脂材料
PL…プラズマ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Resin molding apparatus 10 ... Mold cleaning apparatus 11, 11A ... Laser beam irradiation part (laser beam irradiation mechanism)
111 pulse laser light source 12, 12A laser beam moving section 121 galvano scan head 122, 122A lens 13 optical fiber 15 shielding section 161 X direction rail 162 X direction belt 163 belt attaching member 164 X direction Motor 165 ... X-direction pulley 166 ... Motor block 167 ... Pulley block 168 ... Y-direction rail 20 ... Resin molded part 211 ... Base 212 ... Tie bar 213 ... Toggle link 221 ... Movable platen 222 ... Fixed platen 25, 25A ... Molding die 251, 251A upper mold 2511 cul block 2513 runner 252, 252A lower mold 2521 pot 2522 plunger 2523 runner 30 resin molding unit 31 material receiving module 311 lead frame receiving unit 312 tablet supply unit 3 ... Molding module 33, dispensing module 331, resin molded article holding section 34, molding die cleaning apparatus standby module 34A, molding die cleaning apparatus housing / moving module 35, transport apparatus 35A, molding die cleaning apparatus moving section A, adhering substance AG, Vaporized deposit B: pulsed laser beam BS, BS1, BS2: spot of pulsed laser beam BSW: spot overlapping spot C: cavity CT: coating L: lead frame P: resin material PL: plasma

Claims (16)

少なくとも一部にコーティングが施された成形型の表面に付着した付着物を除去する装置であって、
パルスレーザビームを前記成形型に照射するレーザビーム照射機構を備え、
前記レーザビーム照射機構が、1秒あたりの走査レーザパワー密度が2〜15W/cm2となるように前記成形型に対して移動させるレーザビーム移動部を有する
ことを特徴とする成形型クリーニング装置。
An apparatus for removing deposits attached to the surface of a mold at least partially coated,
A laser beam irradiation mechanism for irradiating the molding die with a pulsed laser beam,
The molding die cleaning device, wherein the laser beam irradiation mechanism has a laser beam moving unit that moves the laser beam with respect to the molding die so that a scanning laser power density per second is 2 to 15 W / cm 2 .
前記レーザビーム照射機構が、1パルスあたりのレーザフルエンスが0.04〜0.7J/cm2であるパルスレーザビームを前記成形型に照射するものであることを特徴とする請求項1に記載の成形型クリーニング装置。 Mold cleaning according to claim 1, wherein the laser beam irradiation mechanism, laser fluence per pulse is equal to or a pulsed laser beam is 0.04~0.7J / cm 2 is intended to be irradiated to the mold apparatus. 前記レーザビーム移動部が、隣接パルスレーザビームの重なり率が85%以上となるように前記パルスレーザビームを前記成形型に対して移動させるものであることを特徴とする請求項1又は2に記載の成形型クリーニング装置。   The said laser beam moving part moves the said pulse laser beam with respect to the said shaping | molding die so that the overlapping rate of an adjacent pulse laser beam may be 85% or more, The Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned. Mold cleaning device. 前記パルスレーザビームのパルス幅が1〜200nsecであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の成形型クリーニング装置。   The mold cleaning apparatus according to claim 1, wherein a pulse width of the pulse laser beam is 1 to 200 nsec. 前記レーザビームの断面形状が矩形であり、前記レーザビーム移動部が該矩形の辺に平行に該レーザビームを移動させるものであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の成形型クリーニング装置。   The molding according to any one of claims 1 to 4, wherein a cross-sectional shape of the laser beam is rectangular, and the laser beam moving unit moves the laser beam in parallel with a side of the rectangle. Mold cleaning device. 前記レーザビームの断面形状が円形又は円環状であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の成形型クリーニング装置。   The mold cleaning apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein a sectional shape of the laser beam is circular or annular. 前記レーザビーム移動部が、
前記パルスレーザビームを前記成形型に対して第1方向に往復移動させると共に、
前記パルスレーザビームを該第1方向に片道移動させる毎に、該パルスレーザビームを該第1方向に垂直な第2方向に、該パルスレーザビームが前記成形型に照射されたスポットの1個分だけ移動させる
ものであって、
さらに、前記レーザビーム移動部と前記成形型の間に、前記第1方向における往復移動の両端の前記スポットの1個分の部分を遮蔽する遮蔽部を備えることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の成形型クリーニング装置。
The laser beam moving unit,
Reciprocating the pulse laser beam in a first direction with respect to the molding die;
Each time the pulsed laser beam is moved one way in the first direction, the pulsed laser beam is moved in a second direction perpendicular to the first direction by one spot of the spot irradiated with the pulsed laser beam on the mold. Only to move
Further, a shielding portion is provided between the laser beam moving portion and the molding die, the shielding portion shielding one portion of the spot at both ends of the reciprocating movement in the first direction. The mold cleaning device according to any one of the above.
少なくとも一部にコーティングが施された成形型に付着した付着物を除去する方法であって、
1秒あたりの走査レーザパワー密度が2〜15W/cm2となるようにパルスレーザビームを前記成形型に対して移動させながら該成形型に照射することを特徴とする成形型クリーニング方法。
A method for removing deposits attached to a mold having at least a portion of a coating,
A method of cleaning a molding die, comprising irradiating a molding laser with a pulsed laser beam while moving the molding laser such that a scanning laser power density per second is 2 to 15 W / cm 2 .
前記パルスレーザビームの1パルスあたりのレーザフルエンスが0.04〜0.7J/cm2であることを特徴とする請求項8に記載の成形型クリーニング方法。 9. The mold cleaning method according to claim 8, wherein a laser fluence per pulse of the pulse laser beam is 0.04 to 0.7 J / cm < 2 >. 隣接パルスレーザビームの重なり率が85%以上となるように前記パルスレーザビームを前記成形型に対して移動させることを特徴とする請求項8又は9に記載の成形型クリーニング方法。   The molding die cleaning method according to claim 8 or 9, wherein the pulse laser beam is moved with respect to the molding die so that an overlap ratio of adjacent pulse laser beams is 85% or more. 前記パルスレーザビームのパルス幅が1〜200nsecであることを特徴とする請求項8〜10のいずれかに記載の成形型クリーニング方法。   The mold cleaning method according to any one of claims 8 to 10, wherein a pulse width of the pulse laser beam is 1 to 200 nsec. 前記レーザビームの断面形状が矩形であり、該矩形の辺に平行に該レーザビームを移動させることを特徴とする請求項8〜11のいずれかに記載の成形型クリーニング方法。   The molding die cleaning method according to claim 8, wherein the laser beam has a rectangular cross-sectional shape, and the laser beam is moved in parallel with a side of the rectangle. 前記レーザビームの断面形状が円形又は円環状であることを特徴とする請求項8〜11のいずれかに記載の成形型クリーニング方法。   The mold cleaning method according to claim 8, wherein a sectional shape of the laser beam is circular or annular. 前記パルスレーザビームを前記成形型に対して移動させる際に、
前記パルスレーザビームを前記成形型に対して第1方向に往復移動させると共に、
前記パルスレーザビームを該第1方向に片道移動させる毎に、該パルスレーザビームを該第1方向に垂直な第2方向に、該パルスレーザビームが前記成形型に照射されたスポットの1個分だけ移動させると共に、
前記レーザビームに対して、前記第1方向における往復移動の両端の前記スポットの1個分の部分を遮蔽する
ことを特徴とする請求項8〜13のいずれかに記載の成形型クリーニング方法。
When moving the pulse laser beam with respect to the mold,
Reciprocating the pulse laser beam in a first direction with respect to the molding die;
Each time the pulsed laser beam is moved one way in the first direction, the pulsed laser beam is moved in a second direction perpendicular to the first direction by one spot of the spot irradiated with the pulsed laser beam on the mold. Just move it,
The mold cleaning method according to any one of claims 8 to 13, wherein a portion corresponding to one spot at both ends of the reciprocating movement in the first direction is shielded from the laser beam.
少なくとも一部にコーティングが施された成形型と、請求項1〜7のいずれかに記載の成形型クリーニング装置とを備えることを特徴とする樹脂成形装置。   A resin molding apparatus comprising: a molding die having at least a portion of which is coated; and the molding die cleaning device according to claim 1. 請求項8〜14のいずれかに記載の成形型クリーニング方法を実施した後、前記成形型を用いて樹脂成形品を製造することを特徴とする樹脂成形品製造方法。   A method for manufacturing a resin molded product, comprising: performing a molding die cleaning method according to any one of claims 8 to 14 and then manufacturing a resin molded product using the molding die.
JP2018130499A 2018-07-10 2018-07-10 Mold cleaning equipment, mold cleaning method, resin molding equipment, and resin molded product manufacturing method Active JP6930946B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018130499A JP6930946B2 (en) 2018-07-10 2018-07-10 Mold cleaning equipment, mold cleaning method, resin molding equipment, and resin molded product manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018130499A JP6930946B2 (en) 2018-07-10 2018-07-10 Mold cleaning equipment, mold cleaning method, resin molding equipment, and resin molded product manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020006601A true JP2020006601A (en) 2020-01-16
JP6930946B2 JP6930946B2 (en) 2021-09-01

Family

ID=69150286

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018130499A Active JP6930946B2 (en) 2018-07-10 2018-07-10 Mold cleaning equipment, mold cleaning method, resin molding equipment, and resin molded product manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6930946B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110696241A (en) * 2018-07-10 2020-01-17 东和株式会社 Mold cleaning device and method, resin molding device, and method for manufacturing resin molded product

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002508249A (en) * 1997-12-18 2002-03-19 アドバンスト システムズ オートメーション リミテッド Method for removing surface contaminants of a mold used in a semiconductor package tool
JP2005224827A (en) * 2004-02-12 2005-08-25 Sumitomo Heavy Ind Ltd Method and apparatus of laser machining

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002508249A (en) * 1997-12-18 2002-03-19 アドバンスト システムズ オートメーション リミテッド Method for removing surface contaminants of a mold used in a semiconductor package tool
JP2005224827A (en) * 2004-02-12 2005-08-25 Sumitomo Heavy Ind Ltd Method and apparatus of laser machining

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110696241A (en) * 2018-07-10 2020-01-17 东和株式会社 Mold cleaning device and method, resin molding device, and method for manufacturing resin molded product
CN110696241B (en) * 2018-07-10 2021-09-28 东和株式会社 Mold cleaning device and method, resin molding device, and method for manufacturing resin molded product

Also Published As

Publication number Publication date
JP6930946B2 (en) 2021-09-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20170341143A1 (en) Method for manufacturing three-dimensional shaped object
JP5314876B2 (en) Resin molding apparatus and resin molding method
TWI688206B (en) Equipment and method for manufacturing smd quartz crystal resonator
EP2871042B1 (en) Powder shaping method and apparatus thereof
US20170165791A1 (en) Method for treating raw-material powder, apparatus for treating raw-material powder, and method for producing object
CN108176856A (en) The 3D printing device and Method of printing of cemented carbide parts
US11638955B2 (en) Applying electric pulses through a laser induced plasma channel for use in a 3-D metal printing process
TW200633589A (en) Coating apparatus, organic material thin film forming method and organic EL panel manufacturing apparatus
JP7012824B2 (en) Polymer Resin Molded Compound-based substrate cutting method and its system
CN108161006A (en) 3D printing method, printing equipment and the microreactor using the 3D printing method
TW201815501A (en) Metal molded body surface roughening method
CN107999755A (en) The 3D printing device and Method of printing of mould
JP6930946B2 (en) Mold cleaning equipment, mold cleaning method, resin molding equipment, and resin molded product manufacturing method
EP3466566A1 (en) Method for producing three-dimensional shaped article
Singh et al. Processability of pure Cu by LPBF using a ns-pulsed green fiber laser
CN207823960U (en) The 3D printing device of oral devices
US20080116598A1 (en) Resin molding machine and method of resin molding
KR102167896B1 (en) Mold cleaning apparatus and method, resin molding apparatus, and manufacturing method of resin molded article
JPH09500845A (en) Method and apparatus for manufacturing a three-dimensional object
JP5195238B2 (en) Laser processing equipment
JP3999999B2 (en) Laser surface processing equipment
CN207823961U (en) The 3D printing device of mold
CN115319107A (en) Three-dimensional printing method combined with laser cleaning
KR20160025482A (en) Device and method for cleaning surface of material
JP2005169878A (en) Method and apparatus for shaping three-dimensional object

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200730

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210415

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210420

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210603

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210706

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210707

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210727

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210812

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6930946

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150