JP2019537008A - 軟x線から赤外線波長までのxuv光源のスペクトルを測定して処理する方法、装置及びコンピュータプログラム - Google Patents
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Abstract
広帯域分光計(1)を用いて、軟X線から赤外線波長までの波長範囲の光を生成するXUV光源によって生成される光(7)のスペクトルを測定して処理する方法であって、前記処理することは、測定されたスペクトルにおける波長範囲の評価に基づくものであり、該測定されたスペクトルは、上記波長範囲より長い波長に対してごくわずかに高次の寄与を有する方法である。【選択図】図7
Description
本発明は、広帯域分光計を用いて軟X線から赤外線波長までの波長範囲の光のスペクトルを測定し処理する方法に関する。
広帯域分光計は、一般に、特定の光源の波長範囲に適合された、XUV光源によって放射される光のスペクトルを測定する分光計である。XUV光源の波長範囲は、特に、約0.1nm〜約5nmの波長の軟X線範囲と、約5nm〜約40nmの波長の超紫外線(EUV)範囲と、約30nm〜約120nmの波長の真空紫外線(VUV)範囲と、約120nm〜約400nmの波長の紫外線(UV)範囲とにわたる。文献では、これらの範囲の学術用語は、明確に定義されておらず、部分的にオーバーラップする範囲に対して異なる名称が使用される場合がある。
XUV光源は、自由電子レーザ研究、天文学、蛍光元素分析及びフォトリソグラフィ等の多数の科学的かつハイテク応用に対して、目下大きな関心が持たれている。
軟X線光源は、例えば、未知の物質組成を有するサンプルの組成を求めるために物質特有の吸収及び蛍光を使用する物質分析に使用される。こうした分析では、光源の光は、分析対象のサンプルの上に突き当たり、サンプルから部分的に反射され、分光計によりスペクトルが記録される。
特に、EUVフォトリソグラフィツールは、それらのウェハスループットを最大限にするために、約13.5nm波長の狭帯域(中心波長の2%)、すなわち帯域内スペクトルで放射するようにそれらの光源の最適化を必要とする。これに関して、EUVフォトリソグラフィツールのスペクトルモニタリングは、これらのツールの最適な生産性に向かう極めて重大なステップである。目下、EUVフォトリソグラフィの光源は、光源放射をフィルタリングするEUV反射ミラーとフォトダイオードとを使用してモニタリングされる。この測定方式は、帯域内EUVパワーは正確に測定することができるが、目標EUV帯域外の放射パワーは正確に測定することができない。帯域外放射線は、軟X線(5nm未満)から赤外線波長(700nmを超える)まで広がる非常に広い波長範囲に及び、EUVミラーに対して、フォトレジストの寄生露光及び過度の熱負荷等の危険な影響を与える可能性がある。帯域外放射線を評価するために、極めて広帯域の検出方式が必要とされる。
回折格子は、固有の特性に起因してスペクトル帯域幅が限られている。回折格子は、入来する放射線を、回折格子方程式
に従って一組の回折次数に回折させる。ここで、mは、回折次数を表す整数であり、λは波長であり、dは回折格子周期であり、θiは入射角であり、θmは、波長mλに対する回折角である。回折格子方程式の1つの示唆は、短い波長の比較的高次の(すなわち、2次以上の)回折次数は、より長い波長の1次回折次数と同じ角度に回折する、ということである。明示的に、λ1の2次回折次数は、波長2λ1の1次回折次数と同じ角度に回折する。波長のこのオーバーラップにより、完全な帯域外スペクトルの正確な評価が妨げられる。
市販のEUV分光計の別の問題は、分光計で使用されるCCDカメラの強度計数の数が限られていることから生じる。通常、帯域内13.5nmピークの強度レベルは、帯域外スペクトルの強度レベルより何桁も大きい。このため、帯域内スペクトルは、容易にカメラを飽和させ、帯域外範囲の非常に低い強度の記録を妨げる可能性がある。
特許文献1は、半導体製造で使用されるEUV光源の動作をモニタリングし制御するシステム及び方法を開示している。方法は、帯域内及び帯域外放射線を放射する光源を有する半導体製造装置を準備することと、第1の帯域外放射線測定を行うことと、第2の帯域外放射線測定を行うことと、少なくとも一部には、第1の帯域外測定値及び第2の帯域外測定値の比較に基づき、光源の帯域内放射線を制御することとを含む。装置は、EUVプラズマ光源によって放射される帯域外EUV放射線を検出するように動作可能な検出器と、電磁検出器に結合され、検出された帯域外EUV放射線に基づいて少なくとも1つの帯域外放射線パラメータを測定するように動作可能な分光計と、分光計に結合され、帯域外測定値に基づいてEUVプラズマ光源の動作をモニタリングし制御するように動作可能なコントローラとを備える。
特許文献1によれば、深UVスペクトルに対して、グレージング(入射)角反射分光計が利用され、それにより、かさばる設計となり、位置合せ手続きが困難となり、回折格子及び検出器のコンタミネーションに対する感度が高くなる。方法は、特に、第1の帯域外放射線測定を行うステップと、第2の帯域外放射線測定を行うステップとを含む。図示する表から、これらの従来技術による方法及び装置は、約30nm〜約160nmの帯域外範囲に関して言及しておらず、そうした範囲は、EUVミラーに対してフォトレジストの寄生露光及び過度の熱負荷等の危険な影響を及ぼす可能性がある放射線パワーの比較的高い寄与を含む可能性がある。
本発明の目的は、小型で位置合せが容易であり、かつ比較的高い回折次数による望ましくないコンタミネーションを軽減する手段によって提供される広帯域分光計を用いて、軟X線から赤外線波長までのEUV光源のスペクトルを測定し最適化する装置を提供することである。
前文において指定されるタイプの方法により、この目的は達成され、他の利益が具現化され、上記方法では、本発明により、処理は、(a)測定されたスペクトルにおいて最長波長λ0を評価し、最長波長λ0より短い波長のスペクトルの比較的高い回折次数の、λ0より長い波長に対するスペクトルの部分に対する寄与は、事前に定義された値未満である、ステップを含む。事前に定義された値は、例えば、最長波長λ0より短い波長に対する比較的高い回折次数がλ0より長い波長に対するスペクトルの部分に寄与する、パーセンテージとして選択することができる。
上記最長波長の評価に基づいてスペクトルを処理することにより、いかなる波長も、例えば、上述した従来技術による方法によって除外される範囲30nm〜160nmを除外することなく、完全なスペクトルの再構築が可能になることが判明している。
本発明による方法の一実施形態では、広帯域分光計は、シャッタと、ピンホール及びスリットのうちの一方と、少なくとも1つの透過型回折格子と、カメラとを備え、処理は、(b)λ0<λ<2λ0によって与えられる範囲における波長λに対して、ピンホール又はスリットに起因する、カメラによって記録された光の強度の広がりを除去し、結果としての波長範囲における強度を、回折格子及びカメラの効率で割り、したがって、第1のスペクトル範囲の回復されたスペクトルを得るステップと、(c)λ0<λ<2λ0によって与えられる範囲における全ての比較的高次の回折の、2λ0<λ<4λ0によって与えられる範囲に対する寄与を計算し、これらの寄与を、カメラ(6)によって記録された光の強度から減じ、したがって、2λ0<λ<4λ0によって与えられる範囲の波長λに対する回復されたスペクトル範囲を得るステップと、(d)カメラによって記録された完全なスペクトルが処理され、光源からのスペクトルが回復されるまで、次の隣接する波長範囲に対してステップ(b)及び(c)による計算を繰り返し、したがって、次の隣接する範囲の波長λに対する次の隣接する回復されたスペクトル範囲を得るステップとを更に含む。
広帯域分光計が、少なくとも1つのスペクトルフィルタを更に備える一実施形態では、方法のステップ(b)は、結果として得られる波長範囲における強度をフィルタの効率で割ることを更に含む。
本発明による方法は、コンピュータに記録する前にスペクトルに影響を及ぼす4つの物理的プロセスの効果を考慮する。第1の物理的プロセスは、スペクトルフィルタに起因するスペクトルの減衰である。第2のプロセスは、ピンホール/スリットに起因するスペクトル特徴の広がりである。第3のプロセスは、透過型回折格子に起因するいくつかの回折次数へのスペクトルの回折である。第4のプロセスは、カメラ、例えばCCDカメラによる検出である。これらの4つのプロセスは、
として数学的に書くことができ、式中、Irは記録された強度であり、Sは、CCD上にスペクトル線の広がりをもたらす、空間座標におけるピンホール/スリット関数である。この広がりは、式(1)における畳み込み演算*によって表される。文字mは回折の次数を表し、nは、回折格子によって達成可能な最高回折次数を表す。係数1/mは、回折次数の増大による分散の増大を表す。Iiは分光計に入射する強度であり、ηmは、m次に対する回折格子の回折効率であり、ηfは、フィルタの透過効率であり、ηCCDはCCDの量子効率である。
上記実施形態による方法は、事前に定義された値未満である、より長い波長に対する比較的高い次数の寄与を有する波長範囲を見つけるステップ(a)によって開始する。通常、0次に近い短い波長での強度は低く、これらの短い波長の比較的高い次数の寄与は更に低く、その理由は、比較的高い次数の回折効率は、1次より小さいためである。事前に定義された値未満の比較的高次の寄与を有する最長波長をλ0として示す場合、スペクトル範囲λ0<λ<2λ0は、ごくわずかな比較的高次のコンタミネーションを有すると結論付けることができる。このスペクトル範囲では、入射強度は、式(1)における1次回折次数のみを考慮することによって計算することができる。この状況では、式(1)は、以下のように変換することができる。
ステップ(b)によれば、式(2)において、記録された強度は、最初に、ピンホール/スリット関数の逆関数、S−1で畳み込まれ、ピンホール/スリットの影響を除去するように、雑音抑制のための正則化技法が適用され、そして、記録された強度は、格子、フィルタ及びCCDの効率によって割られる。
ステップ(c)によれば、波長範囲λ0<λ<2λ0の全ての比較的高次の寄与が計算され、以下のように、記録された強度から減ぜられる。
このステップは、範囲2λ0<λ<4λ0の記録された強度を回復し、この回復された強度Ircから、式(2)を使用して入射強度を計算することができる。
ステップ(d)によれば、回復されたスペクトル範囲は、完全なスペクトルが回復されるまで、ステップ(b)及び(c)を繰り返すことによって拡張される。
光がEUV光である一実施形態において、EUV光のスペクトルを測定するステップは、13.5nmの波長の放射線に対する低透過特性と帯域外波長の放射線に対する高透過特性とを有するスペクトルフィルタを使用することによる、帯域外スペクトルの測定を含む。こうしたフィルタの使用により、カメラの飽和なしにはるかに長い露光時間でのスペクトル記録が可能になる。露光時間が長くなることにより、信号対雑音比(SNR)が増大する結果となり、このため、帯域外スペクトルにおける低強度の記録が可能になる。このように、カメラの限られた計数をより有効に利用することができる。
実際的に有利な実施形態では、分光計のスペクトル分解能は、分光計内でピンホール又はスリット及び回折格子をカメラから最大距離に配置することによって最大化される。実際の状況では、回折格子/ピンホール対及びピンホールは、好ましくは、分光計の入口に配置される。
本発明の方法は、プログラムコードを含むコンピュータプログラム製品として実装することができ、プログラムコードは、コンピュータプログラム製品がコンピュータで実行されるときに方法のうちの1つを実施するように動作する。プログラムコードは、例えば、機械可読担体に記憶することができる。
本発明の方法の一実施形態は、したがって、コンピュータプログラムがコンピュータ上で実行されるとき、本明細書に記載する方法のうちの1つを実施するプログラムコードを有するコンピュータプログラムである。
本発明は、軟X線から赤外線波長までの波長範囲の光のスペクトルを測定し処理する装置に更に関し、装置は、上述の方法による広帯域分光計を備え、分光計は、シャッタと、ピンホール及びスリットのうちの一方と、少なくとも1つの透過型回折格子と、カメラとを備え、装置には、測定されたスペクトルにおいて最長波長λ0を評価し、最長波長λ0より短い波長に対するスペクトルの比較的高い回折次数の、λ0より長い波長に対するスペクトルの部分に対する寄与は、事前に定義された値未満である、処理手段が設けられている。
好ましくは、分光計は少なくとも1つのスペクトルフィルタを備える。
本発明による装置の一実施形態では、シャッタは、入来するビームに対して横切る方向に移動するように電動並進ステージに取り付けられているキャリアに保持されている。
帯域外スペクトルでの低強度の記録を容易にするために、少なくとも1つのスペクトルフィルタは、一実施形態では、帯域内波長の光に対する低透過特性と帯域外波長の光に対する高透過特性とを有する。
このような実施形態における分光計は、例えば、EUV分光計であり、帯域内は、13.5nmの中心波長の周辺の2%の波長を表す。
好ましくは、スペクトルフィルタはセットから選択可能なスペクトルフィルタであり、セットはキャリアに保持されている。
スペクトルフィルタのセットを保持するキャリアは、例えば、入来するビームに対して横切る方向に移動するように電動並進ステージに取り付けられている。
更に別の実施形態において、ピンホール又はスリットは、入来するビームに対して横切る方向及び長手方向に移動するように電動並進ステージに取り付けられているキャリアに保持されている。
有利な実施形態において、透過型回折格子はセットから選択可能な透過型回折格子であり、セットはキャリアに保持されている。
透過型回折格子のセットを保持するキャリアは、入来するビームに対して横切る方向及び長手方向に移動するように電動並進ステージに取り付けることができる。
透過型回折格子のセットは、個々の透過型回折格子を含むアレイを示すマイクロチップによって提供することができ、アレイは、例えば、3×7行列であり、該行列において、個々の透過型回折格子は、それぞれ1mmにつき500本、780本、1000本、1500本、1850本、2000本、2500本の線の線密度と、1mmにつき1000本の線の増分で3000本から開始して10000本までの線の線密度とを有する。
好ましい実施形態において、ピンホール又はスリット及び回折格子は、カメラに対して先端側の位置に配置されている。
迷光を低減させるために、カメラがCCDチップを備える一実施形態では、広帯域分光計は、光ビームの経路に対して垂直な位置で格子とカメラとの間に配置された、CCDチップの表面寸法に対応する開口部を有する黒化プレートを備える。
本発明による装置は、XUV光源、例えば、EUVリソグラフィ用のデバイスで使用されるEUV光源を制御するのに特に適している。
したがって、好ましい施形態では、本発明による装置における制御手段は、XUV光源を、こうした光源のスペクトルを最適化するために制御するように適合されている。
上記実施形態では、光源スペクトルは、例えば、駆動レーザ出力、パルス持続時間、一時的なパルス形状、焦点サイズ、焦点形状、ビーム位置決め、分極、先行パルスと主パルスとの間の時間遅延及びガス圧等の光源パラメータを調整することによって最適化することができる。
ここで、以下、図面を参照して例示的な実施形態に基づいて、本発明について説明する。
図において、対応する構成要素は、同じ参照数字を用いて示されている。
図1は、コンピュータプログラムとして実装することができるステップ(i)〜(xiii)を含む、本発明による方法の一実施形態のフローチャートを示す。
図2は、(図6及び図7に概略的に示す)EUV分光計1に入射する、EUV光源によって放射されたEUV光のビームのスペクトルを示す。このスペクトルは、本発明の方法によって回復すべきスペクトルである。
図3は、(図6及び図7に概略的に示す)EUV分光計1のCCDカメラ6によって記録された図2のスペクトルを示す。このスペクトルは、EUV分光計1の回折格子5に起因するいくつかの比較的高次の寄与と、ピンホール4に起因する広がりとを示す。CCDカメラ6によって(図7において線17によって表す)記録されたスペクトルは、コントローラ、すなわちCPU(中央処理装置)18に入力され、したがって、図1のフローチャートに示すような処理に対する第1のステップ(i)開始に対してデータを提供する。
図4a〜図4hは、図1のフローチャートによる処理におけるいくつかの中間ステップ(v)及び(viii)を示し(パラメータkはk=1からk=8まで増大し、λ0=5nmである)、記録されたスペクトルの処理を例示する。
図5は、十分な量の反復の後に得られる、回復された入射スペクトルを示す。
図6は、EUV分光計1を示し、EUV分光計1は、その入口におけるシャッタ2と、光源スペクトルから特定の波長帯域を選択するフィルタアレイ3と、スリット又はピンホール4と、光7を散乱させる透過型回折格子チップ5と、スペクトルの検出用の裏面照射型CCDカメラである検出器6とを備える。シャッタ2は、キャリア22に保持され、キャリア22は、入来するビーム7に対して横切る方向(矢印8によって示す)に移動するように電動並進ステージ32に取り付けられている。EUV光源からの光7は、回折格子5に向けられ、回折格子5は、各波長をCCDカメラ6に向かって異なる角度で回折させる。波長の長い光は、比較的大きい角度で回折する。したがって、入来するビーム7のスペクトル成分は、CCDカメラ6によって記録される画像から逆算することができる。分光計の全ての構成要素が、真空チャンバ(図示せず)内に収容される。フィルタ3は、セットから選択可能なフィルタであり、セットはキャリア23に保持され、キャリア23は、入来するビーム7に対して横切る方向(矢印8、9によって示す)に移動するように電動並進ステージ33、43に取り付けられている。ピンホール4又はスリットはキャリア24に保持され、キャリア24は、入来するビーム7に対して横切る方向8及び長手方向(矢印11によって示す)に移動するように電動並進ステージ34に取り付けられている。透過型回折格子5はセットから選択可能な透過型回折格子であり、セットはキャリア25に保持され、キャリア25は、入来するビーム7に対して横切る方向8、9及び長手方向11に移動するように電動並進ステージ35、45に取り付けられている。上記並進ステージ32、33、43、34、35、45、55の移動は、真空対応電動であり、グラフィカルユーザインタフェース(図7に概略的に示す)を用いてコンピュータによって制御することができる。制御システムにより、自動化された現場での位置合わせが可能になる。
図7は、EUV光源20及びコントローラ18と組み合わせたEUV分光計1(破線)を示し、EUV光源20及びコントローラ18はともに、シャッタ2、フィルタアレイ3、ピンホール4、回折格子5及びCCDカメラ6をそれぞれ制御する制御信号12、13、14、15、16を生成するとともに、CCDカメラ6の出力信号17から、本発明の方法による回復されたスペクトル(出力信号19として表す)を計算する。さらに、コントローラ18は、光源20によって放射される光のスペクトルを最適化するために光源20を制御する制御信号21を生成する。
Claims (21)
- 広帯域分光計(1)を用いて、軟X線から赤外線波長までの波長範囲の光のスペクトルを測定して処理する方法であって、前記処理することは、
(a)測定されたスペクトルにおいて最長波長λ0を評価し、該最長波長λ0より短い波長に対する前記スペクトルの比較的高い回折次数の、λ0より長い波長に対する前記スペクトルの部分に対する寄与は、事前に定義された値未満である、ステップ
を含むことを特徴とする、方法。 - 前記広帯域分光計(1)は、シャッタ(2)と、ピンホール(4)及びスリットのうちの一方と、少なくとも1つの透過型回折格子(5)と、カメラ(6)とを備え、前記処理することは、
(b)λ0<λ<2λ0によって与えられる範囲における波長λに対して、前記ピンホール(4)又は前記スリットに起因する、前記カメラ(6)によって記録された前記光の強度の広がりを除去し、結果としての波長範囲における前記強度を、前記回折格子(5)及び前記カメラ(6)の効率で割り、したがって、第1のスペクトル範囲の回復されたスペクトルを得るステップと、
(c)λ0<λ<2λ0によって与えられる前記範囲における全ての比較的高次の回折の、2λ0<λ<4λ0によって与えられる範囲に対する寄与を計算し、これらの寄与を、前記カメラ(6)によって記録された前記光の前記強度から減じ、したがって、2λ0<λ<4λ0によって与えられる前記範囲の波長λに対する回復されたスペクトル範囲を得るステップと、
(d)前記カメラ(6)によって記録された完全なスペクトルが処理され、光源からの前記スペクトルが回復されるまで、次の隣接する波長範囲に対してステップ(b)及び(c)による計算を繰り返し、したがって、次の隣接する範囲の波長λに対する次の隣接する回復されたスペクトル範囲を得るステップと
を更に含むことを特徴とする、請求項1に記載の方法。 - 前記広帯域分光計(1)は、少なくとも1つのスペクトルフィルタ(3)を更に備え、λ0<λ<2λ0によって与えられる前記範囲の波長λに対して、前記カメラ(6)によって記録された前記光の前記強度の広がりを除去する前記(b)のステップは、前記波長範囲における前記強度を前記フィルタ(3)の透過効率で割ることを更に含むことを特徴とする、請求項2に記載の方法。
- 前記光源はEUV光であり、該EUV光の前記スペクトルを測定する前記ステップは、13.5nmの波長の放射線に対する低透過特性と帯域外波長の放射線に対する高透過特性とを有するスペクトルフィルタ(4)を使用することによって、帯域外スペクトルの測定を含むことを特徴とする、請求項3に記載の方法。
- 前記分光計(1)のスペクトル分解能は、前記分光計(1)内で前記ピンホール(4)又は前記スリット及び前記回折格子(5)を前記カメラ(6)から最大距離に配置することによって最大化される、請求項2〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 軟X線から赤外線波長までの波長範囲の光のスペクトルを測定して処理する装置(10)であって、広帯域分光計(1)を備えており、該広帯域分光計(1)は、シャッタ(2)と、ピンホール(4)及びスリットのうちの一方と、少なくとも1つの透過型回折格子(5)と、カメラ(6)とを備える装置(10)であり、測定されたスペクトルにおいて最長波長λ0を評価し、該最長波長λ0より短い波長に対する前記スペクトルの比較的高い回折次数の、λ0より長い波長に対する該スペクトルの部分に対する寄与は、事前に定義された値未満である処理手段(18)が設けられていることを特徴とする、装置。
- 前記分光計(1)は、少なくとも1つのスペクトルフィルタ(3)を備えることを特徴とする、請求項6に記載の装置。
- 前記シャッタ(2)は、入来するビーム(7)に対して横切る方向(8)に移動するように電動並進ステージ(32)に取り付けられているキャリア(22)に保持されていることを特徴とする、請求項6又は7に記載の装置。
- 前記少なくとも1つのスペクトルフィルタ(3)は、帯域内波長の光に対する低透過特性と帯域外の波長の光に対する高透過特性とを有することを特徴とする、請求項7又は8に記載の装置。
- 前記分光計はEUV分光計であり、前記帯域内は13.5nmの中心波長の周辺の2%の波長を表すものである、請求項9に記載の装置。
- 前記スペクトルフィルタ(3)は、セットから選択可能なスペクトルフィルタであり、該セットはキャリア(23)に保持されていることを特徴とする、請求項7〜10のいずれか一項に記載の装置。
- 前記スペクトルフィルタ(3)のセットを保持する前記キャリア(23)は、入来するビーム(7)に対して横切る方向(8、9)に移動するように電動並進ステージ(33、43)に取り付けられていることを特徴とする、請求項11に記載の装置。
- 前記ピンホール(4)又は前記スリットは、入来するビーム(7)に対して横切る方向(8)及び長手方向(11)に移動するように電動並進ステージ(34、55)に取り付けられているキャリア(24)に保持されていることを特徴とする、請求項6〜12のいずれか一項に記載の装置。
- 前記透過型回折格子(5)はセットから選択可能な透過型回折格子であり、該セットはキャリア(25)に保持されていることを特徴とする、請求項6〜13のいずれか一項に記載の装置。
- 前記透過型回折格子(5)のセットを保持する前記キャリア(25)は、入来するビーム(7)に対して横切る方向(8、9)及び長手方向(11)に移動するように電動並進ステージ(35、45、55)に取り付けられていることを特徴とする、請求項14に記載の装置。
- 前記透過型回折格子(5)のセットは、個々の透過型回折格子を含むアレイを示すマイクロチップによって提供されることを特徴とする、請求項14又は15に記載の装置。
- 前記アレイは、3×7行列であり、該行列において、前記個々の透過型回折格子は、それぞれ1mmにつき500本、780本、1000本、1500本、1850本、2000本、2500本の線の線密度と、1mmにつき1000本の線の増分で3000本から開始して10000本までの線の線密度とを有することを特徴とする、請求項16に記載の装置。
- 前記ピンホール(4)又は前記スリット及び前記回折格子(5)は、前記カメラ(6)に対して先端側の位置に配置されていることを特徴とする、請求項6〜17のいずれか一項に記載の装置。
- 前記カメラ(6)はCCDチップを備え、
前記分光計(1)は、光ビーム(7)の経路に対して垂直位置で前記回折格子(5)と前記カメラ(6)との間に配置された、前記CCDチップの表面寸法に対応する開口部を有する黒化プレートを備えることを特徴とする、請求項6〜18のいずれか一項に記載の装置。 - 前記処理手段(18)は、XUV光源(20)のスペクトルを最適化するために、XUV光源を制御するように適合されていることを特徴とする、請求項6〜19のいずれか一項に記載の装置。
- コンピュータ上で実行されると請求項2〜5のいずれか一項に記載の方法を実施するものである、コンピュータプログラム。
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