JP2019522570A - Memsアクチュエータ構造の為の衝撃ケージング機構 - Google Patents
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Abstract
MEMSデバイスに対する機械的衝撃を引き起こしうる事象においてMEMSデバイスのビーム構造にかかる機械的衝撃パルスをケージングするか他の方法で低減するケージング構造が開示されている。このケージング構造は、ビームの少なくとも一部を取り囲むことによって、ビームの長手軸に垂直な方向のビームの動きを制限して、機械的衝撃事象時にビームにかかる応力を低減する。このケージング構造は、機械的衝撃に耐えるビームとの組み合わせで使用されてよい。
Description
関連出願の相互参照
本出願は、参照によってその全内容が本明細書に組み込まれている、2016年5月26日に出願された米国特許非仮出願第15/165,893号、件名「MEMSアクチュエータ構造の為の衝撃ケージング機構(Shock Caging Features for MEMS Actuator Structures)」の利益を主張するものである。
本出願は、参照によってその全内容が本明細書に組み込まれている、2016年5月26日に出願された米国特許非仮出願第15/165,893号、件名「MEMSアクチュエータ構造の為の衝撃ケージング機構(Shock Caging Features for MEMS Actuator Structures)」の利益を主張するものである。
本開示は主に、微小電子機械システム(MEMS)の為の、機械的衝撃に耐える構造に関し、より具体的には、実施形態は、MEMSアクチュエータ構造の為の衝撃ケージング機構に関する。
従来、微小電子機械システム(MEMS)が知られている。
本発明は、上記背景技術の課題を解決するためのものである。
本明細書に開示の技術の様々な実施形態によれば、MEMSデバイスに対する機械的衝撃を引き起こしうる事象においてMEMSデバイスのビーム構造にかかる衝撃パルスをケージングするか他の方法で低減する構造が開示されている。一実施形態では、MEMSデバイスが、ビームと、ビームの少なくとも一部を取り囲むシリコンケージング構造とを含む。ビームは、第1の端部及び第2の端部を含む中央部と、中央部の第1の端部に直接つながっている第1のヒンジと、中央部の第2の端部に直接つながっている第2のヒンジと、を含み、第1のヒンジ及び第2のヒンジは中央部より細い。シリコンケージング構造は、ビームの、ビームの長さ方向に垂直な方向の最大変位を制限する。実施形態では、ビームは、長さ方向には剛体であり、長さ方向に垂直な方向には可撓であり、ビームは、長さが1〜7ミリメートル、幅が10〜70マイクロメートルであってよい。
一実施形態では、ビームは導電性カンチレバであり、中央部は湾曲していて変曲点を含む。別の実施形態では、ビームは動き制御屈曲部であり、中央部は、中央が最も幅広であり、端部が最も幅狭であるように、長さ方向にテーパ状である。
一実施形態では、MEMSデバイスは可動枠を含み、シリコンケージング構造は、可動枠の一部である。この実施形態の実施態様では、第1のヒンジ及び第2のヒンジの少なくとも一方は可動枠につながっている。この実施形態の更なる実施態様では、シリコンケージング構造は、第1のヒンジ又は第2のヒンジと平行に、且つ第1のヒンジ又は第2のヒンジの長さ方向に延びる突起を含んでよく、この突起は、ビームの、ビームの長さ方向に垂直な方向の最大変位を制限する。
別の実施形態では、MEMSデバイスはアクチュエータであり、ビームは、アクチュエータの動き制御屈曲部であり、第1のヒンジ及び第2のヒンジの少なくとも一方はアクチュエータの枠とつながっている。この実施形態の実施態様では、第1のヒンジはアクチュエータの固定枠につながっており、第2のヒンジはアクチュエータの可動枠につながっている。
別の実施形態では、ビームの第1及び第2のヒンジのそれぞれは、カンチレバの長さ方向に垂直な方向のそれぞれのフォーク状接合部によって中央部につながっており、それぞれのフォーク状接合部は複数の平行ビームを含む。この実施形態の一実施態様では、シリコンケージング構造は、第1のヒンジ又は第2のヒンジと平行に、且つ第1のヒンジ又は第2のヒンジの長さ方向に延びる突起を含み、突起は、カンチレバの、カンチレバの長さ方向に垂直な方向の最大変位を制限し、突起がフォーク状接合部のいずれかに接触したときにカンチレバが最大垂直変位に達する。
本明細書に開示の技術の更に別の実施形態では、MEMSアクチュエータは、複数のシリコンビームと、複数のシリコンビームのそれぞれの少なくとも一部を取り囲むシリコンケージング構造であって、複数のシリコンビームのそれぞれの、シリコンビームの長さ方向に垂直な方向の最大変位を制限するシリコンケージング構造と、を含む。この実施形態の実施態様では、MEMSアクチュエータは可動枠を含み、可動枠はシリコンケージング構造の少なくとも一部を含み、複数のシリコンビームの1つ以上が可動枠に直接つながっている。
本明細書では、量を表す語句における「約」という語は、±10%を意味する。例えば、「約10」は9〜11を包含することになる。更に、本明細書において量を表す語句とともに「約」が使用されている場合は、±10%の値だけでなく、その量を表す語句の厳密な値も想定され、表現されているものと理解されたい。例えば、「約10」という語は、厳密な10を明示的に想定し、表現し、包含する。
以下の詳細説明を、様々な実施形態による特徴を例示している添付図面と併せて読むことにより、本開示の他の特徴及び態様が明らかになるであろう。本概要は本発明の範囲を限定するものではなく、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲によってのみ定義される。
本開示技術を、1つ以上の様々な実施形態に従って、以下の図面を参照しながら詳細に説明する。図面は、例示のみを目的として与えられており、本開示技術の典型的又は例示的な実施形態を示しているに過ぎない。これらの図面は、本開示技術に対する読み手の理解を促進する為に与えられており、本開示技術の広さ、範囲、又は適用可能性を限定するものと見なされるべきではない。なお、図解の分かりやすさ及び容易さの為に、これらの図面の縮尺は必ずしも正確ではない。
これらの図面は、包括的であることは意図されておらず、本発明を、開示された厳密な形態に限定するものでもない。当然のことながら、本発明は修正又は改変されて実施されてよく、本開示技術は、特許請求の範囲、及びその等価物によってのみ限定される。
本開示技術の様々な実施形態によれば、MEMSデバイスに対する機械的衝撃を引き起こしうる事象においてMEMSデバイスのビーム構造にかかる機械的衝撃パルスをケージングするか他の方法で低減する構造が開示されている。本明細書に記載のケージング構造は、カンチレバ、屈曲部、又は他のビーム構造を少なくとも部分的に取り囲むことが可能である。これによって、ビームの動きがビームの長手軸に垂直な方向に制限され、これによって、機械的衝撃事象時に、ビームに対する応力が低減され、起こりうる破損又は損傷が回避される。
例えば、MEMSデバイスが実装された機器(例えば、携帯電話)が、かなりの衝撃力を発生させうる高さ(例えば、1メートル超)から落下するという事象において、本明細書に開示のケージング構造は、機器が地面にぶつかったときのMEMSアクチュエータのビーム構造の損傷を防ぐことが可能である。ケージング構造は、落下の衝撃時にビームがその長さ方向に垂直な大振幅の振動を受けるか他の形で過剰に動くのを防ぐことにより、ビームにかかる応力を低減することに役立つ。
実施形態では、本開示の衝撃ケージング構造は、耐衝撃性MEMSデバイス構造(例えば、耐衝撃性ビーム構造)と組み合わせて使用されてよい。実施態様では、耐衝撃性構造は、MEMSアクチュエータにかかる荷重を低減することが可能であり、MEMSアクチュエータに対する衝撃を引き起こしうる事象での変形に耐えることが可能である。従って、衝撃ケージング機構と耐衝撃性構造との組み合わせを実施することにより、MEMSデバイスの信頼性を高めることが可能である。
図1〜7は、本明細書に開示の技術の特定の実施形態による耐衝撃性構造を実施することが可能な、光電子デバイスを動かすMEMSアクチュエータを示す。なお、耐衝撃性ケージングMEMS構造の説明を、主に図1〜7のMEMSアクチュエータ例に関して行うが、当業者であれば理解されるように、本明細書に記載の耐衝撃性構造は、機械的衝撃事象に遭いやすい可動ビームを含む他のMEMS装置でも実施可能である。
図1A〜1Bは、本開示の例示的実施形態による、櫛ドライブ10と、6つの櫛ドライブ10a〜fを含む二方向櫛ドライブアクチュエータ20の平面図を示す。図1Aに示すように、各櫛ドライブ10は、櫛フィンガアレイ15及び16を含む。各櫛フィンガアレイ15及び16は、それぞれのスパイン(14、12)と複数の櫛フィンガ(13、11)とを含む。
二方向櫛ドライブアクチュエータ20は、第1及び第2の枠部分22a〜22bと、第1及び第2の動き制御屈曲部24a〜24bとを含む。図1Bには詳細に示していないが、図1Aに示したように、櫛ドライブ10a〜fのそれぞれにおいて、櫛フィンガ11及び13がほぼ左から右に、且つ右から左に延びていて、櫛フィンガアレイ15a〜f及び16a〜fが形成されていることが理解されよう。更に、スパイン12及び14が第1の枠部分22aから第2の枠部分22bへほぼ垂直方向に、即ち、動き制御屈曲部24a〜24bにほぼ平行に延びていることが理解されよう。これを図1Cに示しており、ここでは、第1の櫛ドライブ10bと第2の櫛ドライブ10cとがつながっている様子を示している。
この実施形態に示すように、スパイン14は第2の枠部分22bにつながっており、スパイン12は第1の枠部分22aにつながっている。動作時には、各櫛ドライブ10a〜10fの櫛フィンガアレイ15及び16が静電気力によって引き寄せ合ったり斥け合ったりすると、第2の枠が固定されていれば第1の枠部分22aが同様にある方向(例えば、図1Bの正のX方向)に動くような運動が発生する。当業者であれば本開示を精査することで理解されるように、本開示の趣旨から逸脱しない限り、櫛フィンガアレイ15及び16の各ペアの間に静電気力及び他の原動力を発生させることを、電圧を印加する以外の方法で行ってもよい。例えば、櫛フィンガアレイ15及び16に電荷を印加してよい。
様々な実施形態では、スパイン12及び14、並びに第1及び第2の枠部分22a及び22bは、印加される静電気力又は他の原動力の範囲では実質的に剛体であり不撓である為の十分な幅及び奥行の寸法であってよい。例えば、特定の実施形態では、スパイン12及び14は、幅が約20〜100マイクロメートル、奥行が50〜250マイクロメートルであってよく、第1及び第2の枠部分22a及び22bは、幅が約50マイクロメートルより大きくてよく、奥行が約50〜250マイクロメートルであってよい。
一実施形態では、櫛ドライブアクチュエータ20の動作時に、櫛フィンガアレイ15a及び16aが(例えば、上述のように)通電されると、第1及び第2の枠部分22a〜22bのいずれが機械的に固定されているかに応じて、第1又は第2の枠部分22a〜22bが第2及び第1の枠部分22a〜22bに対して最初の位置からほぼ水平方向に動くように、第1及び第2の枠部分22a〜22bに対して原動力が印加される。櫛フィンガアレイ15a及び16aが通電されなくなると、第1及び第2の動き屈曲部24a及び24bのばね復元力によって、第1又は第2の枠部分22a〜22bが動いて最初の状態に戻る。この実施態様では更に、櫛ドライブ10cの櫛フィンガアレイ15c及び16cが通電されると、櫛ドライブ10aに起因する動きに加えて、ほぼ逆方向(例えば、図1Bの逆X方向)の動きが達成される。同様に、これら2つの方向(即ち、図面では正及び負のX方向)における二方向の動きが、櫛ドライブ10b、10d、及び10e〜fの櫛フィンガアレイを通電することにより実現可能である。
様々な実施形態では、櫛フィンガアレイ15a〜f及び16a〜fのスパイン12及び14は、様々な目的を達成する為に様々な構成で第1及び/又は第2の枠部分22a〜bにつながっていてよい。例えば、一実施形態では、櫛ドライブ10a〜10fのそれぞれにおいて、スパイン12は第1の枠部分22aにつながっており、スパイン14は第2の枠部分22bにつながっている。そのような構成の結果として、第1及び第2の枠部分22a〜bに最終的に印加される静電気力を増大させることが可能な、櫛ドライブ10a〜fの並列縦続が得られる。別の例示的実施形態では、上述のような二方向の動きを実現する為に、櫛ドライブ10a〜10fが背中合わせに配列される。この背中合わせの配列は、今述べた櫛ドライブ10a〜f、即ち、6個の櫛ドライブ10だけでなく、別の数の櫛ドライブでも二方向の動きを実現することが可能である。
一実施形態では、各櫛ドライブ10a〜10fの櫛フィンガアレイ、例えば、16a、16c、16e、又は15b、15d、15fを、他方の3つの櫛フィンガアレイにとっての基準として動作する共通電位(例えば、アース、或いは他の幾らかの正又は負の電圧)につないでよい。この基準が与えられると、共通電位につながっていない櫛フィンガアレイは、必要な動きの方向に応じて通電されてよい。
例えば、櫛ドライブ10a〜10fの櫛フィンガアレイ15a、16b、15c、16d、15e、及び15fが共通アースにつながっている実施形態を考える。この実施形態では、櫛ドライブアクチュエータ20の動きは、(例えば、アース又は他の共通基準に対して)正又は負の電圧を櫛フィンガアレイ16aに印加して、櫛フィンガアレイ16aが櫛フィンガアレイ15aに引き寄せられるようにすることによって実現されてよい。第2の枠部分22bが固定されているとすると、この例では、この引き寄せによって、第1の枠部分22aが図1Bの左側に動くことになる。この図では更に、櫛フィンガアレイ15bに通電することは、櫛フィンガアレイ15bに正又は負の電圧を印加することを必然的に伴うことになり、これによって、櫛フィンガアレイ15bが櫛フィンガアレイ16bに引き寄せられる。ここでも第2の枠部分22bが固定されているとすると、この例では、この引き寄せによって、第1の枠部分22aが図1Bの右側に動くことになる。
別の実施形態では、櫛ドライブ10aによって発生する原動力は、別の櫛ドライブ10b〜10fによって発生する原動力と異なってよい。例えば、様々な大きさの電圧が、櫛フィンガアレイ15b、15d、及び15fのうちの幾つか又は全てに印加されてよく、或いは、共通電位につながっていないどの櫛フィンガアレイに印加されてもよい。幾つかの実施形態では、櫛フィンガアレイ15b、15d、及び15fが別々の電圧レベル、或いは静電気状態又は電荷状態を維持する為に、これらの櫛フィンガアレイは、電気的に互いに絶縁(又は隔離)されてよい。
第1又は第2の枠部分22a〜22b、及び各櫛ドライブ10a〜10fの櫛フィンガアレイ15a〜f又は16a〜fの動きは、ある程度まで、第1及び第2の動き制御屈曲部24a〜24bによって指示及び/又は制御されることが可能である。この特定の実施形態では、例えば、第1及び第2の動き制御屈曲部24a〜24bは、水平方向(即ち、櫛フィンガ11及び13の方向)にはほぼ可撓又は軟質であり、垂直方向(即ち、スパイン12及び14の方向)にはほぼ不撓又は剛体である。従って、第1及び第2の動き制御屈曲部24a〜24bは、櫛ドライブ10が水平方向(即ち、図1BのX方向)に二方向の動きを行うことを可能にし、同時に垂直方向(即ち、図1BのY方向)の動きをほぼ制限する。
第1及び第2の動き制御屈曲部24a〜24bの構成は、幾つかの実施形態では、二重並列屈曲動き制御と呼ばれることがある。そのような二重並列屈曲動き制御は、ほぼ直線的な動きを発生させることが可能であるが、弓状の動きとして知られるわずかなぶれが発生する場合がある。それでも、櫛フィンガ11の一方の側のギャップは、櫛フィンガ11の他方の側のギャップと等しくはならない可能性があり、このことを設計に有利に用いて、二重並列屈曲動き制御の弓状の動きのような作用を補正することが可能である。実施形態では、別の構造を用いて、第1及び第2の枠部分22a〜22bの互いに対する動きを制御することも可能である。
図示した実施形態では、第1及び第2の屈曲部24a〜24bは、それらのそれぞれの端部に細い部分24a−2及び24b−2を含む。これらの細い部分は、例えば、第1の枠部分22aが第2の枠部分22bに対して平行移動した場合(即ち、図1BのX方向に移動した場合)、又は第2の枠部分22bが第1の枠部分22aに対して平行移動した場合に、曲がることが可能であってよい。実施形態では、第1及び第2の屈曲部24a及び24bの太い部分24a−1及び24b−1は、幅(即ち、図1BのX方向の幅)が約10〜50マイクロメートル(μm)の寸法であってよく、細い部分24a−2及び24b−2は、幅が約1〜10μmの寸法であってよい。様々な実施形態では、櫛フィンガアレイ15又は16の動きを制御又は制限する為に、任意の数及びタイプの動き制御が必要に応じて行われてよい。制御された動きにより、櫛ドライブアクチュエータ20が(例えば、スマートフォンのカメラのイメージセンサなどの)デバイスを動かしたり位置決めしたりする際の全体精度を高めることが可能である。更に、制御された動きは、櫛フィンガ11及び13が互いにかみあう状況を回避することに役立つ。例えば、制御された動きは、一般に、櫛フィンガ15及び16の所望の動き方向の剛性レベルを低くし、全ての不要な自由度における剛性レベル、特に、櫛ドライブアクチュエータ20の面内の、櫛フィンガ15及び16の動きに直交する方向の剛性レベルを高くすることによって実現可能である。これは、例えば、二重並列屈曲式の動き制御によって行われてよい。
様々な実施形態では、動き制御屈曲部24a及び24bは、MEMSアクチュエータデバイスの衝撃時のパフォーマンスを高めるように設計可能である。そのような実施形態では、動き制御屈曲部24a及び24bは、衝撃事象(例えば、MEMSアクチュエータを内蔵したデバイスの落下)の際の力又は荷重を吸収するように設計可能である。例えば、特定の実施形態では、動き制御屈曲部24a及び24bは、MEMSアクチュエータの移動ステージ(図示せず)、並びに3つの櫛アレイペア(10a、10c、10e)、及び(10b、10d、10f)のうちの少なくとも1つに起因する慣性荷重に耐えるように設計可能である。これらの実施形態の特定の実施態様では、この慣性荷重は200〜800mNであってよい。
図1Dは、衝撃事象時の慣性荷重を吸収する実施形態において使用可能なテーパ状の動き制御屈曲部24の特定の設計を示す。実施形態では、動き制御屈曲部24は、座屈状態になるまでは(即ち、変形するまでは)100〜400mNの荷重力に耐えることが可能である。
図に示すように、動き制御屈曲部24は、2つの細い軟質ヒンジ24−2と、この2つのヒンジをつなぐ幅広の剛体ロッド24−1とを含む。実施形態では、ロッド24−1は、X方向の長さが1〜4ミリメートル(mm)、y方向の幅が10〜50μmであってよい。実施形態では、ヒンジ24−2は、X方向の長さが0.05〜0.3mm、y方向の幅が1〜10μmであってよい。これらの実施形態では、ヒンジ24−2の寸法は、必要な剛性を実現するように、或いは座屈を防ぐように最適化されてよい。この特定の実施形態に示すように、ロッド24−1は、中央が最も幅広であり、端部が最も幅狭であるように長さ方向にテーパ状である。このテーパ状設計は、幾つかの実施形態では、動き制御屈曲部24が座屈状態になるまでは大きな荷重力に耐えることを可能にする。この実施形態の特定の実施態様では、テーパ状ロッド24−1は、中央の幅が35〜50μm、端部の幅が20〜40μmであってよい。一特定実施形態では、剛体ロッド24−1は、中央の幅が約50μm、端部の幅が約35μmであり、座屈するまでは約280mNの慣性荷重を受けることが可能である。別の実施形態では、剛体ロッド24−1は、長さ全体にわたって均一の幅であってよい。
図1Eは、動き制御屈曲部(例えば、屈曲部24)用のヒンジの特定の設計24−2’を示しており、これは、衝撃事象時及び通常動作時に動き制御屈曲部のヒンジにかかる応力を低減する実施形態において使用されてよい。図に示すように、ヒンジ24−2’は、中央が最も幅狭であり、(y方向の)端部が最も幅広であるように長さ方向にテーパ状である。例えば、ヒンジ24−2’は、中央の幅が約5μm、(y方向の)端部の幅が約6μmであってよい。図1Eには示していないが、ヒンジ24−2’は、z方向にも、端部が最も太く、中央が最も細いテーパ状である。つまり、ヒンジ24−2’は、3次元の砂時計形状である。砂時計形状にすることにより、ヒンジ24−2’の端部部分(例えば、アクチュエータ、及び屈曲部のロッドにつながっている端部)の材料の量が多くなり、ヒンジ24−2’の中央部の材料の量が少なくなる。ヒンジ24−2’の端部部分は動き制御屈曲部の最弱部分になりがちな為、砂時計形状にすることで、衝撃事象時にかかる応力の再配分が可能になり、結果として屈曲部の耐久性が高まる。
図2Aは、本開示の例示的実施形態によるMEMS多次元アクチュエータ例40の平面図を示す。この実施形態に示すように、アクチュエータ40では、(4つのセクションに分割された)外枠48が1つ以上のばね要素又は屈曲部80によって内枠46につながっており、4つの二方向櫛ドライブアクチュエータ20a〜dがあり、1つ以上のカンチレバ44a〜dが、櫛ドライブアクチュエータ20a〜dの1つの端部につながっている第1の端部と、内枠46につながっている第2の端部とを含む。図2Aは4つの櫛ドライブアクチュエータ20を含むアクチュエータ例40を示しているが、別の実施形態では、アクチュエータ40は別の数の櫛ドライブアクチュエータ20を含んでよい。
実施形態では、アクチュエータ40はアンカ42を含み、アンカ42は、1つ以上の櫛ドライブアクチュエータ20の第1及び/又は第2の枠部分22a〜22bに堅固につながっているか接合されており、これによって、アンカ42は、第1及び/又は第2の枠部分22a〜22bに対して機械的に固定されている。従って、例えば、第1の枠部分22aがアンカ32につながっていれば、第1の枠部分22aに対する第2の枠部分22bの動きも、アンカ42に対する動きと見なされてよい。
アクチュエータ40の動作時には、櫛ドライブアクチュエータ20a〜dが、内枠46とアンカ42との間に制御された力を印加してよい。1つ以上の櫛ドライブアクチュエータ20a〜dはアンカ42に堅固につながっているか接合されていてよく、アンカ42は、外枠48に対して機械的に固定されていてよい(例えば、堅固につながっているか接合されていてよい)。一実施形態では、外枠48及びアンカ42にプラットフォームが堅固につながっているか接合されている。このようにして、プラットフォームは、外枠48をアンカ42に対して(且つ/又は、アンカ42を外枠48に対して)機械的に固定してよい。そして内枠46は、外枠48及びアンカ42の両方に対して動いてよく、又、プラットフォームに対しても動いてよい。一実施形態では、プラットフォームはシリコンプラットフォームである。プラットフォームは、様々な実施形態では、光電子デバイス、即ち、イメージセンサであり、例えば、電荷結合素子(CCD)イメージセンサや相補型金属酸化膜半導体(CMOS)イメージセンサである。
実施形態では、アクチュエータ40のサイズはプラットフォームのサイズとほぼ同じであってよく、プラットフォームは、外枠48及びアンカ42とつながることによって、アンカ42を外枠48に対して機械的に固定してよい。アクチュエータ40の別の実施形態では、プラットフォームはアクチュエータ40より小さく、プラットフォームは内枠46とつながっている。この特定の実施形態では、外枠48は、アンカ42に対して固定されており(堅固につながっているか接合されており)、内枠46は、様々な櫛ドライブアクチュエータ20a〜dによって動かされる。
一実施形態では、2つの櫛ドライブアクチュエータ20a及び20dがアクチュエータ40の面内の第1の方向又は軸に沿って(例えば、東西又は左右に)アクチュエートし、2つの櫛ドライブアクチュエータ20b及び20cがアクチュエータ40の面内の第2の方向又は軸に沿って(例えば、南北又は上下に)アクチュエートする。第1及び第2の方向は、アクチュエータ40の面内で互いに対してほぼ垂直であってよい。
櫛ドライブアクチュエータ20a〜dの他の様々な構成が可能である。そのような構成として、櫛ドライブアクチュエータ20a〜dのそれぞれにおいて櫛ドライブ10がより多いか少ない構成、並びに櫛ドライブアクチュエータ20a〜dの位置決め及び/又は配列が様々である構成があってよく、これは、例えば、より多いか少ない自由度での(例えば、三角形、五角形、六角形などのフォーメーションでの)アクチュエーションを可能にする為である。
実施形態では、カンチレバ44a〜dは、それぞれの櫛ドライブアクチュエータ20a〜dのそれぞれの動き方向には比較的不撓であり、面内の直交方向には比較的軟質である。これにより、櫛ドライブアクチュエータ20a〜dが、アンカ42に対する、従って、外枠48に対する、内枠46の制御された動きを引き起こすことが可能になってよい。図2Aに示した実施形態では、外枠48は、アクチュエータ40の外周を連続的には囲んでおらず、幾つかの部分(例えば、2つ、3つ、又は4つ以上の部分)に分かれている。或いは、別の実施形態では、外枠48は、アクチュエータ40の外周を連続的に囲んでよい。同様に、内枠46は、連続であってよく、或いは幾つかのセクションに分かれていてよい。
様々な実施形態では、カンチレバ44a〜dの表面又は内部のルーティングを介して櫛ドライブアクチュエータ20a〜dに電気信号が送達されてよい。幾つかの事例では、異なる2つ以上の電圧が、櫛ドライブアクチュエータ20aとの組み合わせで使用されてよい。そのような事例では、2つの電気信号が、カンチレバ44aの、それぞれ、第1及び第2の導電層45及び47を介して、櫛ドライブアクチュエータ20aにルーティングされてよい。これら2つの電気信号は、櫛ドライブアクチュエータ20aに送達された後に、例えば、第1の枠部分22aを介して、それぞれ、櫛フィンガアレイ16a及び15bにルーティングされてよい。
アクチュエータ40の別の例示的実施態様では、櫛ドライブアクチュエータ20b内で原動力を発生させる為に使用される2つの電気信号が、櫛ドライブアクチュエータ20c内で同様の原動力を発生させる為にも使用されてよい。そのような実施態様では、これら2つの電気信号は、カンチレバ44cから櫛ドライブアクチュエータ20cにルーティングされる代わりに、櫛ドライブアクチュエータ20bから櫛ドライブアクチュエータ20cにルーティングされてよい。これは、例えば、これら2つの電気信号が、電気的接触パッド84からカンチレバ44bを通って櫛ドライブアクチュエータ20bの第1の枠部分22aにルーティングされることを必然的に伴う場合がある。更に、これら2つの電気信号は、第1の枠部分22aから(それぞれ)屈曲部24a〜b及び第2の枠部分22bを通ってアンカ42にルーティングされてよい。そして、これら2つの電気信号は、アンカ42を通って櫛ドライブアクチュエータ20cにルーティングされてよい。当然のことながら、櫛ドライブアクチュエータ20a〜dに電気信号を送達する為に、様々なルーティング選択肢が利用されてよい。例えば、第1又は第2の枠部分22a/b、及び/又は第1及び第2の屈曲部24a/bにおいて、アンカ42内で複数のルーティング層が利用されてよい。
図2Bは、本開示の例示的実施形態によるカンチレバ44の一部分の断面を示す概略図である。図2Bに示すように、カンチレバ44は、第1及び第2の導電層45及び47、並びに第1及び第2の絶縁層43及び49を含む。第1及び第2の導電層45及び47は、幾つかの例示的実施形態では、電気信号のルーティング層として働くことが可能であり、ポリシリコン及び/又は金属を含んでよい。絶縁層43及び49は、第1及び第2の導電層45及び47の構造を与えることが可能である。カンチレバ44の別の実施形態では、層43及び49が導電層であり、層45及び47が絶縁層であるように、導電層と絶縁層の並びを入れ替えてよい。
カンチレバ44の一例示的実施態様では、絶縁層43及び49は二酸化シリコンを含み、第2の導電層47は金属を含み、第1の導電層45はポリシリコンを含む。この例の変形形態では、第2の導電層47をコーティング(例えば、酸化物など)で覆ってよく、これは、例えば、別の導体と接触したときのショートを防ぐ絶縁の為である。第2の絶縁層49は、酸化物などを含む薄層であってよい。更に、第1の導電層45は、幾つかの事例では、(カンチレバ44の他の層に比べて)比較的厚めであってよく、例えば、シリコン、ポリシリコン、金属などを含んでよい。そのような事例では、第1の導電層45は、(例えば、カンチレバ44の可撓性の性質、度合い、又は方向性を含む)カンチレバ44の全体特性に対する寄与が、それ以外の層より大きいことが可能である。
カンチレバ44(及びカンチレバ44a〜d)の別の実施形態は、更なる導電層を含んでよく、これによって、カンチレバ44を介して更なる電気信号をルーティングすることが可能になる。幾つかの実施形態では、カンチレバ44a〜dは、屈曲部24a〜24bと同様に製造可能であるが、サイズの決め方は両者間で異なってよい。更に、当業者であれば理解されるように、カンチレバ44の様々な層を形成する為に更なる材料が使用されてよい。
様々な実施形態では、外側カンチレバ44が、(例えば、MEMSアクチュエータ40を内蔵する機器が落下する事象における)機械的衝撃事象に耐えるように設計されることが可能である。そのような実施形態では、各カンチレバ44は、i)衝撃時にかかる変位応力が小さくなるように、ii)衝撃時にかかる半径方向の剛性が小さくなるように、且つ、iii)座屈することなく高荷重に耐えるように設計されることが可能である。幾つかの実施形態では、外側カンチレバ44は、衝撃事象時に、長さ方向にかかるピーク応力が約1900MPa未満、幅方向にかかるピーク応力が約2100MPa未満になるように設計されることが可能である。図2C〜2Fは、本開示の実施形態において実施可能な耐衝撃性外側カンチレバの設計例を4つ示している。
図2Cは、フォーク状の接合設計を有する外側カンチレバ44eを示す。図に示すように、カンチレバ44eは、その中央にフォーク状接合部44e−1を含む。中央のフォーク状接合部44e−1は、開口部44e−2を含み、外側カンチレバ44eの側部44e−3より(Y方向に)幅広である。様々な実施形態では、開口部44e−2の(Y方向の)幅は0.02〜0.04ミリメートルであり、フォーク状接合部44e−1の最大幅は0.06〜0.12ミリメートルであり、側部44e−3の幅は0.012〜0.050ミリメートルである。別の実施形態では、カンチレバ44eの(X方向の)全体長さが4.5〜7ミリメートルである。別の実施形態では、カンチレバ44eは、中央に更なるフォーク(従って、開口部)を含んでよい(例えば、3個、4個など)。
図2Dは、S字状設計を有する外側カンチレバ44fを示す。なお、カンチレバ44fは、図2Dでは長さ方向に本質的にまっすぐであるように見えるが、曲がっており、長さ方向に変曲点があり(従って、「S字状」であり)、これによってカンチレバ44fに可撓性が付加されて機械的衝撃事象時の復元力が高まっている。この実施形態では、カンチレバ44fの2つの根部又は接続端部44f−1が、ヒンジの細い部分44f−2を介して中央部44f−3につながっている。カンチレバ44fは、根部44f−1が(Y方向に)最も幅広であり、根部44f−1と中央部44f−3との間の接合部44f−2が最も幅狭である。様々な実施形態では、カンチレバ44fの全体長さ(x1)が4.5〜7ミリメートルであり、中央部44f−3の幅(Y1)が0.012〜0.030ミリメートルである。
図2Eに示す外側カンチレバ44gは、カンチレバ44fのS字状設計を有し、追加機構として、カンチレバ44gにかかる応力を緩和する「歯ブラシ」状又はフォーク状接合部44g−1を各端部に有する。図に示したように、外側カンチレバ44gは、中央部44g−3の各端部が、根部44g−2につながる端部部分44g−4につながっている。様々な実施形態では、カンチレバ44gの全体長さ(x1)は4.5〜7ミリメートルであり、中央部44g−3の幅(y2)は0.012〜0.030ミリメートルである。
フォーク状接合部44g−1は、中央部44g−3の各端部と、それぞれの端部部分44g−4とを、カンチレバ44gの長さに垂直な方向(即ち、Y方向)につないでいる。各接合部44g−1は、接合部44g−1を歯ブラシのように見せる複数のビーム44g−5を含む。各接合部44g−1は、この実施形態では13個のビーム44g−5を有するように示されているが、別の実施形態では、(例えば、ピーク応力を低減することにより)機械的衝撃事象時のカンチレバ44gの性能を高める為に、ビーム44g−5の数は13個より少なくても多くてもよい(例えば、2〜15個であってよい)。この特定の実施形態に示すように、一方の接合部では、端部部分44g−4は、これに対応する中央部44g−3の下方(Y方向)にあり、他方の接合部では、端部部分44g−4は、これに対応する中央部44g−3の上方(Y方向)にある。更に、この特定の実施形態に示すように、中央部44g−3より下方でヒンジ44g−6によって端部部分44g−4につながっているほうの根部44g−2は上向きであり、他方の根部44g−2は下向きである。特定の実施形態では、中央部44g−3の端部、端部部分44g−4、及びビーム44g−5を含むフォーク状接合部44g−1の全体幅(y1)は、0.040〜0.150ミリメートルである。
図2Fは、一代替実施形態として、応力を緩和する為にカンチレバ44gのフォーク状接合部44g−1の代わりに使用可能なフォーク状接合部44g−1’を示す。この特定の実施態様に示すように、カンチレバ44gの中央部の端部44g−3’は、カンチレバの根部(図示せず)に向かうにつれて幅(Y方向)が減少するように、長さ方向(X方向)にテーパ状である。端部44g−3’は、対応するテーパ状端部部分44g−4’につながっており、端部部分44g−4’は、根部から遠ざかるにつれて幅が減少するように、長さ方向にテーパ状である。2つの端部44g−4’及び44g−3’の幅(Y方向)は、それらの接合箇所に沿って実質的に減少しており、このようなテーパ状設計によって、ビーム44g−5’が、カンチレバ44gにほぼ垂直な方向(Y方向)に長くなることが可能である。
ヒンジ44g−6’が根部(図示せず)から延びて、フォーク状接合部の端部44g−4’につながっている。実施形態では、ヒンジ44g−6’は、図1Eのヒンジ24−2’に関して上述したものと同様の3次元砂時計形状を有してよい。ヒンジ44g−6’をカンチレバ根部及び端部44g−4’とつないでいる接合部は外側カンチレバの最弱部分であると考えられる為、砂時計形状にすることで、衝撃事象時にかかる応力の再配分が可能になり、結果としてカンチレバの耐久性が高まる。実施形態では、ヒンジ44g−6’は、中央の幅が約5μm、端部の(y方向の)幅が約6μm、(x方向の)長さが約0.2mmであってよい。
図2Aを再度参照すると、アクチュエータ40は、内枠46と外枠48をつなぐ1つ以上の屈曲部又はばね要素80を含む。屈曲部80は、導電性であってよく、あらゆる動き自由度において軟質であってよい。様々な実施形態では、屈曲部80は、外枠48上の電気的接点パッド82から内枠46上の電気的接点パッド84へ電気信号をルーティングする。その後、これらの電気信号は、1つ以上のカンチレバ44a〜44dを介して1つ以上の櫛ドライブアクチュエータ20にルーティングされてよい。例示的実施態様では、屈曲部80は、内枠46から一方向、二方向、三方向、又は全四方向に延びる。
一実施形態では、アクチュエータ40は、例えば、シリコンのフォトリソグラフィ及びエッチングなどのMEMSプロセスで製造される。アクチュエータ40は、場合によっては、面内を±150マイクロメートル動き、屈曲部80は、この範囲の動きでは互いに接触しないような耐性を有するように(例えば、別々の電気信号が様々なばね要素を通ってルーティングされることが可能であるように)設計されてよい。例えば、屈曲部80は、厚さが約1〜5マイクロメートル、幅が約1〜40マイクロメートル、面内では約150〜1000マイクロメートル×約150〜1000マイクロメートルのS字状屈曲部であってよい。
屈曲部80が低抵抗による十分な導電性を有するように、屈曲部80は、例えば、高濃度にドープされたポリシリコン、シリコン、金属(例えば、アルミニウム)、これらの組み合わせ、又は他の導電材料、合金等を含んでよい。例えば、屈曲部80は、ポリシリコンから作られ、アルミニウム、ニッケル、及び金からなる、ほぼ0.2〜1マイクロメートル厚のコーティングが施されてよい。一実施形態では、外枠48と内枠46との間の動きを制御する為に、幾つかの屈曲部80は、他の屈曲部80と異なるように設計される。例えば、屈曲部80のうちの4個から8個(又は他の幾つかの個数)の屈曲部80は、厚さが約10〜250マイクロメートルであってよい。そのような厚さであれば、内枠46に対する外枠48の面外の動きがある程度制限されることになる。
特定の実施形態では、屈曲部80は、座屈状態で破損せずに動作することによって、屈曲部の剛性が、通常の状態で動作する場合より何倍も低いことが可能になる。これらの実施形態では、屈曲部80の座屈する部分(即ち、可撓部分)が、曲がる方向の可撓部分の断面(即ち、厚さ及び幅)が小さく、長さが比較的長いように設計されてよい。屈曲部80の特定の実施形態が、2015年4月2日に出願された米国特許出願第14/677,730号、件名「低剛性屈曲部(Low Stiffness Flexure)」に詳細に記載されている。
図2Aに関して上述したように、外枠48と内枠46が複数の屈曲部80でつながれる形でMEMSアクチュエータが設計されてよい。動作時には、急な衝撃事象時に内枠46と外枠48が衝突する可能性がある。従って、実施形態では、衝撃事象時にMEMSアクチュエータ構造を保護する為に、外枠及び内枠に衝撃ストッパが含まれてよい。
図3A〜3Bは、そのような、衝撃ストッパを含むMEMSアクチュエータの一実施形態100を示す。この特定の実施形態に示すように、MEMSアクチュエータ100は、内枠110と外枠120が複数の屈曲部(図示せず)でつながれていてよい。この実施形態に示すように、外枠120は4つの電気バー121~124を含む。別の実施形態では、外枠120は一体型であってよい。衝撃ストッパ127及び111のペアが、外枠120及び内枠110にそれぞれ対応する。アクチュエータ100のこの特定の実施形態では、衝撃事象時に外枠120と内枠110との間の衝撃衝突の運動エネルギを吸収する為に、4ペアの衝撃ストッパ127及び111(各コーナーに1ペア)が存在する。しかしながら、当業者であれば理解されるように、デバイスの2つの部分の間で衝突が発生するMEMSアクチュエータ又は他のMEMSデバイスの別の実施形態では、任意の数の衝撃ストッパペアが実施されてよい。
様々な実施形態では、衝撃ストッパ127及び111は、永続的変形が発生しない衝撃事象に起因する衝撃時に(例えば、水平方向又は垂直方向のストッパ127がストッパ111と衝突したときに)吸収できる運動エネルギの量を最大化するように設計されてよい。例えば、実施形態では、衝撃ストッパ127及び111は、100〜400μJの合計運動エネルギを吸収するように設計されてよい。特定の実施形態では、衝撃ストッパ127及び111は、300〜400μJの合計運動エネルギを吸収してよい。
図3C〜3Dは、本明細書に開示の技術の実施形態において実施可能な衝撃ストッパ127及び111の例示的設計を2つ示す。図3Cは、複数の千鳥配置の円形開口160を含む衝撃ストッパ127a及び111aを示す。衝撃事象時には、ストッパ127aの表面127a−2が衝撃111aの表面111a−2と接触する。この特定の実施態様に示すように、開口160は、密集した六角形パターンで間隔を空けて配置されている。様々な実施形態では、円形開口の直径は、0.010〜0.022ミリメートルであってよい。特定の実施形態では、円形開口の直径は約16μmである。特定の実施形態では、衝撃ストッパ127a及び111aは、約350μJの合計エネルギを吸収することが可能であり、それぞれは破損するまでに最大約40μm変形することが可能である。衝撃ストッパ127a及び11aの別の実施態様では、開口160は、各ストッパの剛性及びエネルギ吸収能力を調節する為にエポキシグルー又は他のエネルギ吸収材が充填されてよく、且つ/又は、別のパターン(例えば、三角形、矩形、直線、又は他のパターン)で配列されてよい。様々な実施形態では、衝撃ストッパ127aの全体長さ(x1)は0.250〜1.000ミリメートルであり、衝撃ストッパ127aの全体幅(y1)は0.0250〜1.000ミリメートルである。様々な実施形態では、衝撃ストッパ111aの全体長さ(x2)は0.300〜1.200ミリメートルであり、衝撃ストッパ111aの全体幅(y2)は0.0250〜1.000ミリメートルである。
図3Dは、複数の千鳥配置の方形開口170を含む衝撃ストッパ127b及び111bを示す。図3Cと同様に、開口170は、密集した六角形パターンで間隔を空けて配置されている。特定の実施形態では、衝撃ストッパ127b及び111bは、約300μJの合計エネルギを吸収することが可能であり、それぞれは破損するまでに最大約15μm変形することが可能である。衝撃ストッパ127b及び111bの別の実施態様では、開口170は、各ストッパの剛性及びエネルギ吸収能力を調節する為にエポキシグルー又は他のエネルギ吸収材が充填されてよく、且つ/又は、別のパターン(例えば、三角形、矩形、直線、又は他のパターン)で配列されてよい。
本明細書に開示の技術の更に別の実施形態では、吸収可能な最大エネルギ、及び破損せずに変位可能な最大距離を調整する為の、別の代替衝撃ストッパ設計が実施されてよい。例えば、前述の開口の代わりに、又は前述の開口との組み合わせで、水平方向又は垂直方向のスリットが使用されてよい。
図4Aは、本開示の例示的実施形態による衝撃ケージング構造を利用するMEMS多次元アクチュエータの一例200の一区画の平面図を示す。この実施形態に示すように、アクチュエータ200は、4つの二方向櫛ドライブアクチュエータ20a〜dと、1つ以上のカンチレバ20a〜dとを含み、カンチレバ20a〜dの第1の端部分が二方向櫛ドライブアクチュエータ20a〜dの一端につながっており、第2の端部が内枠250につながっている。アクチュエータ40と同様に、アクチュエータ200は、内枠250と中央アンカ(図示せず)との間にある櫛ドライブアクチュエータ20a〜dによって印加される制御力の下で複数の自由度で動くことが可能である。
この実施形態では、アクチュエータ200は更に、衝撃ケージング構造400、500、600、及び700を含み、これらは、カンチレバ44a〜d、及び櫛ドライブアクチュエータ20a〜dの動き制御屈曲部24の動き又は最大変位を、それらの長さ方向に垂直な方向に制限する。これにより、ビームの長さ方向に垂直な大振幅振動の発生が制限又は阻止される。様々な実施形態では、衝撃ケージング構造は、カンチレバ44a〜d又は動き制御屈曲部24に接触されてもほとんど変位しない硬質シリコン構造であってよい。これらの実施形態の実施態様では、衝撃事象時にカンチレバ44a〜d又は動き制御屈曲部24が接触するケージング構造の表面積が最大になるように、衝撃ケージング構造の形状が決定される。
この実施形態に示すように、アクチュエータ200は、4つの別個の衝撃ケージング構成又は構造を含み、構造400及び500はカンチレバ44a〜44dのケージング用であり、構造600及び700は動き制御屈曲部24のケージング用である。当業者であれば理解されるように、様々な実施形態では、衝撃ケージング構造は、本明細書に示された厳密な構成に限定される必要はなく、MEMSデバイスの任意の可動ビームの動きを制限するように実施されてよい。
衝撃ケージング構造400及び500は、カンチレバ44a〜44dの動きを制限するものであり、内枠250、又は櫛ドライブアクチュエータ20a〜20dの可動枠22aの一部として形成されてよい。例えば、この実施形態に示すように、衝撃ケージング構造400は、櫛ドライブアクチュエータ20a〜20dの可動枠22aの一部として形成され、一方、衝撃ケージング構造500は、内枠250の一部として形成される。
衝撃ケージング構造600及び700は、動き制御屈曲部24の動きを制限するものであり、櫛ドライブアクチュエータ20a〜20dの固定枠又は可動枠(例えば、枠部分22a〜22b)の一部として形成されてよい。例えば、衝撃ケージング構造700は、櫛ドライブアクチュエータ20a〜20dの固定枠22bの一部であってよく、一方、衝撃ケージング構造600は、櫛ドライブアクチュエータ20a〜20dの可動枠22aの一部であってよい。ケージング構造は、櫛ドライブアクチュエータ20a〜20dをアクチュエータの中央から更に遠ざけるようにずらすことによって形成されてよい。
図4Bは、一実施形態による、カンチレバ44をケージングする衝撃ケージング構造400を示す。ケージング構造400(例えば、剛体のシリコン構造)は、カンチレバ44の端部を取り囲む。この実施形態では、ケージング構造400は、櫛ドライブアクチュエータ20の可動枠22aの一部である。
ケージング構造400は、ヒンジ44g−6’の上方で、ヒンジと平行に、且つヒンジより先まで延びる突起420を含む。この例では、突起420は、フォーク状接合部44g−1’の端部44g−4’の上方で終わっている。従って、衝撃事象時には、端部44g−4’は、剛体の突起420に接触する為、剛体の突起420を越えてy方向に垂直変位することはない。この構成によれば、カンチレバ44の最弱部分である可能性がある細いヒンジ44g−6’の動きが、衝撃事象時に実質的に制限される。例えば、ケージング構造400では、ヒンジ44g−6’のy方向の変位を約10分の1にすることが可能である。別の実施形態では、突起420は、フォーク状接合部44g−1’の端部44g−3’の上方で、更にはもっと先で終わってよい。
突起420の長さ、並びにフォーク状接合部44g−1’とケージング構造420との間の垂直方向のギャップは、通常動作時にカンチレバ44が動く為の十分な空間を確保しながら、実現される機械的衝撃保護の大きさが最大になるように、様々な実施形態において調整されてよい。特定の実施形態では、突起420の長さは150〜300マイクロメートルであってよく、(フォーク状接合部の下方又は上方の)端部44g−4’とケージング構造320bとの間のギャップは、3〜20マイクロメートルであってよい。
図4Cは、一実施形態による、カンチレバ44をケージングする衝撃ケージング構造500を示す。ケージング構造500(例えば、剛体のシリコン構造)は、カンチレバ44の端部を取り囲む。この実施形態では、ケージング構造500は、アクチュエータ200の内枠250の一部である。
ケージング構造500は、ヒンジ44g−6’の下方で、ヒンジと平行に、且つヒンジより先まで延びる突起520を含む。この例では、突起520は、フォーク状接合部44g−1’の端部44g−4’の下方で終わっている。従って、衝撃事象時には、端部44g−4’は、剛体の突起520に接触する為、剛体の突起520を越えてy方向下向きに変位することはなく、或いは内枠250の壁を越えてy方向上向きに変位することはない。この構成によれば、カンチレバ44の最弱部分である可能性がある細いヒンジ44g−6’の動きが、衝撃事象時に実質的に制限される。例えば、このケージング構造では、ヒンジ44g−6’のy方向の変位を約10分の1にすることが可能である。別の実施形態では、突起520は、フォーク状接合部44g−1’の端部44g−3’の下方で、更にはもっと先で終わってよい。
突起520の長さ、並びにフォーク状接合部44g−1’とケージング構造500との間の垂直方向のギャップは、通常動作時にカンチレバ44が動く為の十分な空間を確保しながら、実現される機械的衝撃保護の大きさが最大になるように、様々な実施形態において調整されてよい。特定の実施形態では、突起520の長さは150〜300マイクロメートルであってよく、(フォーク状接合部の下方又は上方の)端部44g−4’とケージング構造500との間のギャップは、3〜20マイクロメートルであってよい。
図4Dは、一実施形態による、動き制御屈曲部24をケージングする衝撃ケージング構造600を示す。ケージング構造600(例えば、剛体のシリコン構造)は、動き制御屈曲部24の端部を取り囲む。この実施形態では、ケージング構造600は、櫛ドライブアクチュエータ20の可動枠22aの一部である。
ケージング構造600は、ヒンジ24−2の側方で、ヒンジと平行に、且つヒンジより先まで延びる突起620を含む。この例では、突起620は、動き制御屈曲部24のロッド24−1の端部で終わっている。従って、衝撃事象時には、ロッド24−1の端部は、剛体の突起620に接触する為、剛体の突起620を越えてx方向左に水平変位することはなく、或いは枠22aを越えてx方向右に水平変位することはない。この構成によれば、動き制御屈曲部24の最弱部分である可能性がある細いヒンジ24−2の動きが、衝撃事象時に実質的に制限される。例えば、ケージング構造600では、ヒンジ24−2のx方向の変位を約10分の1にすることが可能である。
突起620の長さ、並びにロッド24−1の端部とケージング構造600との間の水平方向のギャップは、通常動作時に屈曲部24が動く為の十分な空間を確保しながら、実現される衝撃保護の大きさが最大になるように、様々な実施形態において調整されてよい。特定の実施形態では、突起620の長さは100〜225マイクロメートルであってよく、(ロッドの左又は右にある)ロッド24−1とケージング構造600との間のギャップは、4〜20マイクロメートルであってよい。
図4Eは、一実施形態による、動き制御屈曲部24をケージングする衝撃ケージング構造700を示す。ケージング構造700(例えば、剛体のシリコン構造)は、動き制御屈曲部24の端部を取り囲む。この実施形態では、ケージング構造700は、櫛ドライブアクチュエータ20の固定枠22bの一部である。枠22bは、動き制御屈曲部24のロッド24−1の端部を取り囲む。従って、衝撃事象時には、ロッド24−1の端部は、枠の壁を越えて水平変位することはない。この構成によれば、動き制御屈曲部24の最弱部分である可能性がある細いヒンジ24−2の動きが、衝撃事象時に実質的に制限される。
図5Aは、カンチレバ44及び動き制御屈曲部24の為の衝撃ケージング構造を含むMEMSアクチュエータの、機械的衝撃事象の一瞬時におけるモデル例を示す。この衝撃ケージング構造は、カンチレバ44及び動き制御屈曲部24が受ける動きを制限する。カンチレバ44及び屈曲部24のヒンジにかかる応力は小さい。図5Bは、カンチレバ44及び動き制御屈曲部24の為の衝撃ケージング構造を含まないMEMSアクチュエータの、機械的衝撃事象の一瞬時におけるモデル例を示す。衝撃ケージング構造がない為に、カンチレバ44及び動き制御屈曲部24は、可動枠間で自由に激しく揺れ、振動する。カンチレバ44及び動き制御屈曲部24のヒンジには、大きな応力がかかる。
図6Aは、可動枠1100を含むMEMSアクチュエータ1000上にマウントされたイメージセンサ800を示す上面図である。図6Bは、MEMSアクチュエータ1000上のイメージセンサ800を覆うパッケージハウジング900を示す。図6C〜6Eは、図6A〜6Bの構成要素を含む組立済みのアクチュエータ光電子パッケージの断面を示す。図に示すように、パッケージハウジング900は、可動枠1100の構成要素1150とパッケージハウジング900の背面との間の隙間を減らす衝撃ストッパ910及び920を含む。ストッパ910及び920は、機械的衝撃事象時に可動枠1100が面外に動きすぎないようにすることが可能である。動きすぎると、アクチュエータの任意の動き制御ビーム(例えば、カンチレバ)を変形させる可能性がある。実施形態では、衝撃ストッパは、適切なプラスチックで作られてよい。
図7は、一実施形態による、本明細書に記載の機械的衝撃低減機能を使用できる組立済み可動イメージセンサパッケージ55を示す分解斜視図である。実施形態では、可動イメージセンサパッケージ55は、小型カメラ(例えば、モバイル機器用小型カメラ)の一構成要素であってよい。可動イメージセンサパッケージ55は、基板73、複数のキャパシタ及び/又は他の受動電気部品68、MEMSアクチュエータ駆動装置69、MEMSアクチュエータ57、イメージセンサ70、イメージセンサキャップ71、赤外線(IR)カットフィルタ72などの構成要素を含んでよく、これらに限定されない。基板73は、凹部65及び面内動き制限機構67を有する剛体回路基板74と、バックプレートとして動作する可撓回路基板66とを含んでよい。剛体回路基板74は、プレーン回路基板(PCB)の製造に使用される材料のようなセラミック材料や複合材料、又は他の何らかの適切な材料で作られてよい。可動イメージセンサパッケージ55は、1つ以上の駆動装置69を含んでよい。
空気の熱伝導率はギャップの大きさにほぼ反比例し、イメージセンサ70はおおむね100mWから1Wの電力量を消散しうる為、イメージセンサ70、MEMSアクチュエータ57の固定部分、MEMSアクチュエータ57の可動部分、及びバックプレート66の間のギャップがほぼ50マイクロメートル未満に維持される。一実施形態では、イメージセンサ70の放熱を更に促進する為に、バックプレート66が銅などの高熱伝導率材料で製造されてよい。一実施形態では、バックプレート66の厚さはほぼ50〜100マイクロメートルであり、剛体回路基板74の厚さはほぼ150〜200マイクロメートルである。
ここまで本発明の様々な実施形態を説明してきたが、当然のことながら、それらは、限定ではなく例としてのみ示したものである。同様に、様々な図によって本発明についての例示的なアーキテクチャ構成又は他の構成を示している場合があるが、これらは、本発明に包含されうる特徴及び機能性の理解を支援する為に示している。本発明は、説明したアーキテクチャ例又は構成例に限定されず、所望の特徴は様々な代替のアーキテクチャ及び構成を用いて実施されうる。実際、本発明の所望の特徴を実施する為にどのような代替の機能的、論理的、又は物理的な区分化及び構成が実施可能であるかは、当業者であれば明らかであろう。更に、本明細書に記載されている以外の異なる多数の構成要素モジュール名が様々な区画に適用されてよい。更に、フロー図、操作説明、及び方法クレームに関しては、本明細書に示したステップの順序は、別段に記述しない限りは、様々な実施形態が記載の機能性を同じ順序で実行するように実施されるよう命じるものではない。
様々な例示的な実施形態及び実施態様に関して本発明を説明してきたが、当然のことながら、個々の実施形態のうちの1つ以上で説明された様々な特徴、態様、及び機能性は、それらの適用可能性が、それらが説明された特定の実施形態に限定されるものではなく、むしろ、そのような実施形態が説明されたかどうかにかかわらず、且つ、そのような特徴が、説明された実施形態の一部として示されたかどうかにかかわらず、単独又は様々な組み合わせで、本発明の他の実施形態のうちの1つ以上に適用されてよい。従って、本発明の広さ及び範囲は上述の例示的実施形態のいずれによっても限定されるべきではない。
本文書で使用されている用語及び語句、並びにこれらの変形物は、別段の明示的な指定がない限り、限定的ではなくオープンエンドとして解釈されるべきである。上述のことの例として次のものがある。「含む(including)」という語は「含むが限定ではない」などの意味に解釈されたい。「例(example)」という語は、議論されているアイテムの、包括的又は限定的なリストではない、典型的な事例を与えるために使用される。「a」又は「an」は、「少なくとも1つの」、「1つ以上の」などの意味に解釈されたい。「従来の(conventional)」、「伝統的な(traditional)」、「通常の(normal)」、「標準的な(standard)」、「既知の(known)」などの形容詞、及び同様の意味の語は、記載のアイテムを所与の期間に、又は所与の時点で利用可能なアイテムに限定するものとして解釈されるべきではなく、むしろ、現在、又は未来の任意の時点で利用可能又は既知でありうる、従来の、又は伝統的な、又は通常の、又は標準的な技術を包含するものとして解釈されたい。同様に、本文書が、当業者であれば明らか又は既知であろう技術に言及する場合、そのような技術は、現在又は未来の任意の時点で当業者であれば明らか又は既知である技術を包含する。
「1つ以上の(one or more)」、「少なくとも(at least)」、「ただし、〜に限定されない(but not limited to)」などの広げる言葉や語句、或いは、場合によっては他の同様の語句の存在は、そのような広げる語句が存在しない場合にはより狭い場合が意図されているか必要とされているという意味に解釈されるべきではない。「モジュール」という用語の使用は、そのモジュールの一部として記載又は特許請求された構成要素又は機能性の全てが共通パッケージ内に構成されていることを意味するものではない。実際、モジュールの様々な構成要素のいずれか又は全てが、制御ロジックであれ、他の構成要素であれ、単一パッケージにまとめられてよく、又は別々に保持されてもよく、更に、複数のグルーピング又はパッケージに分散されてよく、或いは複数の場所にまたがって分散されてよい。
更に、本明細書に記載の様々な実施形態は、例示的なブロック図、フローチャートなどの図に関して説明されている。当業者であれば本文書を読むことによって明らかになるように、図示された実施形態及びこれらの様々な代替物は、図示された例に限定されることなく実施可能である。例えば、ブロック図及びそれらに付随する説明は、特定のアーキテクチャ又は構成が必須であるように解釈されるべきではない。
Claims (21)
- 内枠と、前記内枠につながっている外枠と、
ビームであって、
第1の端部及び第2の端部を含む中央部と、
前記中央部の前記第1の端部に直接つながっている第1のヒンジと、
前記中央部の前記第2の端部に直接つながっている第2のヒンジと、を含み、前記第1のヒンジ及び前記第2のヒンジは前記中央部より細い、
前記ビームと、
前記ビームの少なくとも一部を取り囲むシリコンケージング構造であって、前記ビームの、前記ビームの長さ方向に垂直な方向の最大変位を制限する前記シリコンケージング構造と、
を含む微小電子機械システム(MEMS)アクチュエータ。 - 前記ビームは導電性カンチレバであり、前記中央部は湾曲していて変曲点を含む、請求項1に記載のMEMSアクチュエータ。
- 前記ビームは動き制御屈曲部であり、前記中央部は、中央が最も幅広であり、端部が最も幅狭であるように、長さ方向にテーパ状である、請求項1に記載のMEMSアクチュエータ。
- 前記第1のヒンジ及び前記第2のヒンジのそれぞれは、中央が最も幅狭であり、端部が最も幅広であるように、長さ方向にテーパ状である、請求項1に記載のMEMSアクチュエータ。
- 前記ビームは、長さが1〜7ミリメートルであり、幅が10〜70マイクロメートルであり、前記ビームは、長さ方向には剛体であり、長さ方向に垂直な方向には可撓である、請求項1に記載のMEMSアクチュエータ。
- ビームであって、
第1の端部及び第2の端部を含む中央部と、
前記中央部の前記第1の端部に直接つながっている第1のヒンジと、
前記中央部の前記第2の端部に直接つながっている第2のヒンジと、を含み、前記第1のヒンジ及び前記第2のヒンジは前記中央部より細い、
前記ビームと、
前記ビームの少なくとも一部を取り囲むシリコンケージング構造であって、前記ビームの、前記ビームの長さ方向に垂直な方向の最大変位を制限する前記シリコンケージング構造と、
を含む微小電子機械システム(MEMS)デバイス。 - 前記ビームは、長さ方向には剛体であり、長さ方向に垂直な方向には可撓である、請求項6に記載のMEMSデバイス。
- 可動枠を更に含み、前記シリコンケージング構造は前記可動枠の一部であり、前記第1のヒンジ及び前記第2のヒンジの少なくとも一方は前記可動枠につながっている、請求項6に記載のMEMSデバイス。
- 前記シリコンケージング構造は、前記第1のヒンジ又は前記第2のヒンジと平行に、且つ前記第1のヒンジ又は前記第2のヒンジの長さ方向に延びる突起を含み、前記突起は、前記ビームの、前記ビームの長さ方向に垂直な方向の最大変位を制限する、請求項7に記載のMEMSデバイス。
- 前記第1のヒンジ及び前記第2のヒンジのそれぞれは、中央が最も幅狭であり、端部が最も幅広であるように、長さ方向にテーパ状である、請求項6に記載のMEMSデバイス。
- 前記中央部は、中央が最も幅広であり、端部が最も幅狭であるように、長さ方向にテーパ状である、請求項10に記載のMEMSデバイス。
- 前記MEMSデバイスはアクチュエータであり、前記ビームは、前記アクチュエータの動き制御屈曲部であり、前記第1のヒンジ及び前記第2のヒンジの少なくとも一方は前記アクチュエータの枠とつながっている、請求項6に記載のMEMSデバイス。
- 前記第1のヒンジは前記アクチュエータの固定枠につながっており、前記第2のヒンジは前記アクチュエータの可動枠につながっている、請求項12に記載のMEMSデバイス。
- 前記中央部は、長さが1〜4mmであり、幅が10〜70μmであり、前記第1及び第2のヒンジのそれぞれは、長さが0.05〜0.3mmであり、幅が1〜10μmである、請求項6に記載の動き制御屈曲部。
- 前記ビームは導電性カンチレバであり、前記中央部は湾曲していて変曲点を含む、請求項6に記載のMEMSデバイス。
- 前記カンチレバの長さは4.5〜7ミリメートルであり、前記中央部は、幅が0.012〜0.030ミリメートルである、請求項15に記載のMEMSデバイス。
- 前記第1及び第2のヒンジのそれぞれは、前記カンチレバの長さ方向に垂直な方向のそれぞれのフォーク状接合部によって前記中央部につながっており、前記フォーク状接合部は複数の平行ビームを含む、請求項15に記載のMEMSデバイス。
- 前記シリコンケージング構造は、前記第1のヒンジ又は前記第2のヒンジと平行に、且つ前記第1のヒンジ又は前記第2のヒンジの長さ方向に延びる突起を含み、前記突起は、前記カンチレバの、前記カンチレバの長さ方向に垂直な方向の最大変位を制限し、前記突起が前記フォーク状接合部のいずれかに接触したときに前記カンチレバが最大垂直変位に達する、請求項17に記載のMEMSデバイス。
- 複数のシリコンビームと、
前記複数のシリコンビームのそれぞれの少なくとも一部を取り囲むシリコンケージング構造であって、前記複数のシリコンビームのそれぞれの、前記シリコンビームの長さ方向に垂直な方向の最大変位を制限する前記シリコンケージング構造と、
を含む微小電子機械システム(MEMS)アクチュエータ。 - 前記複数のシリコンビームのそれぞれは、長さが1〜7ミリメートルであり、幅が10〜70マイクロメートルである、請求項19に記載のアクチュエータ。
- 可動枠を更に含み、前記可動枠は前記シリコンケージング構造の少なくとも一部を含み、前記複数のシリコンビームの少なくとも幾つかが前記可動枠に直接つながっている、請求項19に記載のアクチュエータ。
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