JP2019507331A - 常磁性粒子を捕集および解放するための磁気ベース - Google Patents

Abstract

試料処理システムにおける試料プレート用の磁気ベースが提供される。磁気ベースは、第一プレート、および前記第一プレートと平行に延びる第二プレートを備えている。前記第一プレートは、第一トップ面、ボトム面、および前記第一トップ面に搭載された試料プレート搭載キャビティ壁を備えている。前記第一プレートと前記試料プレート搭載キャビティ壁は、試料システムの試料プレートを収容するように構成された試料プレート搭載キャビティを区画する。前記第二プレートは、第二トップ面、および前記ボトム面と前記第二トップ面の間を延びている磁石搭載キャビティ壁を備えている。前記第一プレート、前記第二プレート、および前記磁石搭載キャビティ壁は、自由浮遊磁石を収容するように構成された磁石搭載キャビティを区画する。【選択図】図２Ｄ

Description

本願は、２０１６年１月８日に提出された米国特許出願第１４／９９０，９７２号に対する優先権を主張し、当該先行出願の内容は、本明細書の一部を構成するものとして援用される。

液体試料中に存在する他の成分から所望の成分を分離するために当該液体試料を処理することは、様々な分野で広く行なわれている。例えば、ＤＮＡシークエンシングでは、目標ＤＮＡを含む細胞を溶解することがまず行なわれ、ライセート、および所望の核酸と他の成分（細胞破片と溶解試薬など）の複合混合物が形成される。所望の核酸は、増幅、検出、および計量される前に他の成分から分離されることを要する。

一態様においては、試料処理システムにおける試料プレート用の磁気ベースが提供される。前記磁気ベースは、第一プレート、および前記第一プレートと平行に延びる第二プレートを備えている。前記第一プレートは、第一トップ面、ボトム面、および前記第一トップ面に搭載された試料プレート搭載キャビティ壁を備えている。前記第一プレートと前記試料プレート搭載キャビティ壁は、試料システムの試料プレートを収容するように構成された試料プレート搭載キャビティを区画する。前記第二プレートは、第二トップ面、および前記ボトム面と前記第二トップ面の間を延びている磁石搭載キャビティ壁を備えている。前記第一プレート、前記第二プレート、および前記磁石搭載キャビティ壁は、自由浮遊磁石を収容するように構成された磁石搭載キャビティを区画する。

別態様においては、試料処理システムが提供される。前記試料システムは、上面を有するベース、前記上面に搭載された磁気ベース、および前記ベースに搭載された磁気ヘッドを備えている。前記磁気ベースは、第一プレート、および前記第一プレートと平行に延びる第二プレートを備えている。前記第一プレートは、第一トップ面、ボトム面、および前記第一トップ面に搭載された試料プレート搭載キャビティ壁を備えている。前記第一プレートと前記試料プレート搭載キャビティ壁は、試料システムの試料プレートを収容するように構成された試料プレート搭載キャビティを区画する。前記第二プレートは、第二トップ面、および前記ボトム面と前記第二トップ面の間を延びている磁石搭載キャビティ壁を備えている。前記第一プレート、前記第二プレート、および前記磁石搭載キャビティ壁は、自由浮遊磁石を収容するように構成された磁石搭載キャビティを区画する。前記磁気ヘッドは、前記試料プレートの上方を平行移動方向に沿って平行移動するように前記ベースに搭載されている。前記磁気ヘッドは、チャネルを備えたハウジング、および前記チャネル内に搭載されたトップ磁石を備えている。前記トップ磁石は、前記第一トップ面に対して前記チャネル内で上位置と下位置の間を移動可能である。

その他の基本的な特徴や本開示に係る利点は、当業者が以降の図面、詳細な説明、および添付の特許請求の範囲を読むことで明らかになる。

一実施形態例に係る試料処理システムを示す斜視図である。 図１の試料処理システムにより行なわれる分離法を示している。 図１の試料処理システムにより行なわれる分離法を示している。 図１の試料処理システムにより行なわれる分離法を示している。 図１の試料処理システムにより行なわれる分離法を示している。 図１の試料処理システムにより行なわれる分離法を示している。 図１の試料処理システムにおける磁気ヘッドを示す斜視図である。 図３Ａの磁気ヘッドの断面を示す正面図である。 図３Ａの磁気ヘッドにおけるハウジングの断面を示す正面図である。 図４Ａのハウジングの底面斜視図である。 図３Ａの磁気ヘッドにおけるアダプタを示す上面斜視図である。 図５Ａのアダプタの底面斜視図である。 図５Ａのアダプタの一部を示す拡大図である。 図１の試料処理システムにおける磁気ベースを示す斜視図である。 図６Ａの磁気ベースの断面を示す斜視図である。 図６Ａの磁気ベースのカバー部を示す上面図である。 図７Ａのカバー部の断面を示す斜視図である。 図６Ａの磁気ベースにおけるベース部を示す斜視図である。 図８Ａのベース部の上面図である。 図８Ａのベース部の底面図である。 図８Ａのベース部の断面を示す斜視図である。 第二実施形態例に係るベース部の断面を示す斜視図である。 図６Ａの磁気ベースにおけるボトム磁石を示す斜視図である。 図１の試料処理システムにおける試料プレートを示す上面図である。 図１１Ａの試料プレートの断面を示す左側面図である。 図６Ａの磁気ベースに搭載された図１１Ａの試料プレートを示す斜視図である。 図１２Ａの磁気ベースと試料プレートの断面を示す斜視図である。 図１２Ａの磁気ベースと試料プレートの断面を示す左側面図である。 第一動作状態（捕集）における図１２Ｃの断面を模式的に示している。 第二動作状態（解放）における図１２Ｃの断面を模式的に示している。 第三動作状態（分散）における図１２Ｃの断面を模式的に示している。 一実施形態例に係る磁気ベースを示す斜視図である。

本開示の実施形態例が、添付の図面を参照しつつ説明される。図面において、同様の参照数字は、同様の要素を示している。

図１は、実施形態例に係る液体試料を処理する試料処理システムの斜視図である。試料処理システム１００は、磁気ヘッド１０４、駆動システム１０８、磁気ベース１１２、および試料プレート１１６を含みうる。試料処理システム１００は、支持アセンブリもまた含みうる。支持アセンブリは、試料処理システム１００の様々な要素を支持および収容するように構成される。例えば、支持アセンブリは、ベース１２４、カバー１２８、およびワークベッド１３２を含みうる。試料処理システム１００は、別の要素を含んでもよいし、より少ない要素しか含まなくてもよいし、異なる要素を含んでもよい。図示された実施形態に示されるように、試料処理システム１００は、少なくとも幾つかの要素が電子制御で自動的に動かされる自動化されたシステムでありうる。

試料処理システム１００は、試料プレート１１６におけるウェル中の液体試料内で固体基質（常磁性粒子など）に束縛される標的分析物を当該液体試料から分離するために使用されうる。試料処理システム１００は、標的分析物が束縛された固体基質を、液体試料から試料プレート１１６における液体で満たされた少なくとも一つの他のウェルへ移動させることにより、標的分析物を分離しうる。移動は、磁気ベース１１２に搭載されたボトム磁石６０８（図８Ａ参照）と連携する磁気ヘッド１０４に搭載された複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄ（図３Ｂ参照）を介してなされる。試料処理システム１００は、標的分析物が束縛された固体基質を試料プレート１１６におけるウェル中の液体試料から捕集し、標的分析物が束縛された固体基質を液体で満たされた他のウェルに移動し、標的分析物が束縛された固体基質を当該他のウェルに解放する動作を伴う。

本明細書において使用される「搭載」という語は、接合、合体、接続、結合、提携、挿入、取付、保持、貼付、装着、締結、束縛、接着、固定、ボルト留め、ネジ留め、リベット留め、はんだ付け、溶接、密着、表面に形成、内部に形成、積層、成形、載置、立掛け、当接などの語義を含む。「〜に搭載された」などの表現は、参照される要素における任意の内部または外部を対象とする。この表現は、直接的な搭載（参照される要素が直接的に接している）と間接的な搭載（参照される要素が直接的に接していないが、中間要素を介して接続されている）を包括する。搭載に関与する要素同士は、当業者に理解される金型成形や熱成形処理を通じて一体に形成されうる。すなわち、搭載に関与する要素同士は、構造的に独立した要素であることを要しない。特に断りのない限り、要素の搭載は、永続的であってもよいし、離脱可能であってもよい。

加えて、トップ、ボトム、右、左、前、後、上、下などの方向的表現の使用は、説明される装置の要素を形成する様々な表面の参照を容易にするためになされるに過ぎず、何らの限定を意図するものではない。

試料処理システム１００は、任意の種別の液体試料（生体試料など）を処理し、様々な種別の標的分析物（タンパク質、核酸、細胞など）を液体試料（溶液、血液、尿、唾液、プラント、細胞など）中に存在しうる他の成分から分離するために使用されうる。例えば、試料処理システム１００は、ＤＮＡやタンパク質の精製、細胞分離などのプラットフォームとして使用されうる。そのような技術は、基礎研究、創薬、病気の診断やモニタリングなどにおいて広く使用されている。

試料処理システム１００によって行なわれる動作の例は、図２Ａから図２Ｅに模式的に示されている。図２Ａに示されるように、第一ウェル２００と第二ウェル２０４は、試料プレート２０８の表面に搭載されている。図１における試料プレート１１６は、試料プレート２０８の一実施形態例である。液体試料２１２は、第一ウェル２００内に投入されている。液体試料２１２は、複数の粒子２１６に束縛される標的分析物（細胞など）を含む様々な成分を含有しうる。粒子２１６は、磁性体、常磁性体、あるいは強磁性体でありうる。

試料プレート２０８は、磁気ベース２２０の表面に搭載されている。図１における磁気ベース１１２は、磁気ベース２２０の一実施形態例である。磁気ベース２２０は、キャビティを区画している。当該キャビティ内には、ボトム磁石２２４が搭載されている。ボトム磁石２２４は、磁気ベース２２０内で自由に浮遊している。「自由に浮遊」することにより、ボトム磁石２２４は、磁気ベース２２０の内面に対してほぼ自由に動けるように、磁気ベース２２０内に搭載される。図２Ａにおいては、ボトム磁石２２４は、磁気ベース２２０のボトム内面に載っている。「ほぼ自由に」といった表現は、説明対象の要素（ボトム磁石２２４など）の動きが完全に自由ではないものの、当該動きが顕著に制限されてはいない状態を意味する。

第一ウェル２００の上方には、磁気ヘッド２４０のチャネル２３６内に搭載されたトップ磁石２３２が配置されている。図１における磁気ヘッド１０４は、磁気ヘッド２４０の一実施形態例である。ボトム面２４６を有するアダプタ２４４もまた、磁気ヘッド２４０に搭載されている。アダプタ２４４は、第一ウェル２００および第二ウェル２０４内の液体とトップ磁石２３２との間のインターフェースを形成し、粒子２１６の捕集と解放がなされるボトム面２４６を提供する。トップ磁石２３２は、アダプタ２４４に対し、チャネル２３６の内部において上位置と下位置の間で移動されうる。図２Ａにおいては、下位置にあるトップ磁石２３２が示されている。

図２Ｂに示される第一ステップにおいては、チャネル２３６内で下位置にあるトップ磁石２３２により、磁気ヘッド２４０が第一ウェル２００に向けて下降する。これにより、トップ磁石２３２からの磁力は、標的分析物が束縛された粒子２１６をアダプタ２４４のボトム面２４６に引き付け、保持する。トップ磁石２３２からの磁力は、ボトム磁石２２４も磁気ベース２２０のトップ内面２４８へ引き付け、保持する。トップ磁石２３２は、ボトム磁石２２４よりも粒子２１６に隣接しているので、粒子２１６は、アダプタ２４４のボトム面２４６に捕集される。

図２Ｃに示される第二ステップにおいては、磁気ヘッド２４０は、軸２５２で示される方向に沿って平行移動される。平行移動は、磁気ヘッド２４０がトップ磁石２３２とともに第二ウェル２０４の上方に位置するまでなされる。トップ磁石２３２からの磁力により、ボトム磁石２２４は、トップ磁石２３２に追随し、軸２５２で示される方向へ磁気ベース２２０のトップ内面２４８に沿って同時に平行移動する。平行移動は、第二ウェル２０４の下位置までなされる。液体２５６は、標的分析物をモディファイするための処理試薬（染色剤など）を含有しうる。トップ磁石２３２が第二ウェル２０４の上方に配置されると、標的分析物が束縛された粒子２１６は、第二ウェル２０４の液体２５６に浸漬される。粒子２１６に束縛されていない液体試料２１２内の他の成分は、第一ウェル２００内に残りうる。

図２Ｄに示される第三ステップにおいては、トップ磁石２３２は、チャネル２３６内を上位置へ移動される。トップ磁石２３２からの磁力は、依然としてボトム磁石２２４を磁気ベース２２０のトップ内面２４８へ引き付け、保持する。しかしながら、今やボトム磁石２２４は、トップ磁石２３２よりも粒子に隣接している。よって、粒子２１６は、第二ウェル２０４のボトム面２６０へ引き付けられ、アダプタ２４４のボトム面２４６から粒子２１６が解放される。

図２Ｅに示される第四ステップにおいては、磁気ヘッド２４０は、試料プレート２０８から離れるように移動、あるいは平行移動される。これにより、ボトム磁石２４４は、トップ内面２４８から解放され、落下して磁気ベース２２０のボトム内面２２８へ戻る。トップ磁石２３２とボトム磁石２２４の双方は、微弱な磁力を粒子２１６に印加する。実質的な磁力の不在により、粒子２１６は第二ウェル２０４の液体２５６内で分散してゆく。粒子２１６を含む液体２５６は、処理および分離された標的分析物（染色された細胞など）とともにあり、ピペット２６４などを通じて自由に混合や再懸濁がなされうる。その後、標的分析物が束縛された粒子２１６は、さらなる分析のために除去されてもよいし、図２Ａから図２Ｄを参照して説明したように再捕集されて試料プレート２０８に搭載された別のウェルへ移動されてもよい。「実質的な磁力の不在」といった表現は、磁力が完全にゼロではないものの、十分に小さくて標的成分（粒子２１６など）の動きを顕著に変更しない程度であることを意味する。

図２Ｂと図２Ｃは、試料処理システム１００の「捕集」動作状態を示している。図２Ｄは、試料処理システム１００の「解放」動作状態を示している。図２Ｅは、試料処理システム１００の「分散」動作状態を示している。

図１に示されるように、ベース１２４、カバー１２８、およびワークベッド１３２は、試料処理システム１００の様々な要素を支持および包囲する支持アセンブリの一部を形成しうる。ベース１２４は、ベースプレート１３６、および当該ベースプレート１３６から下方へ延びる複数の壁を備えうる。カバー１２８は、第一カバー部１４０と第二カバー部１４４を備えうる。第一カバー部１４０と第二カバー部１４４の各々は、試料処理システム１００の様々な要素を包囲する複数の壁を備えうる。

ワークベッド１３２は、上面１５２を有する支持プレート１４８を備えうる。支持プレート１４８は、平行移動プレート（不図示）上に搭載されうる。平行移動プレートは、支持プレート１４８の下方に配置される。支持プレート１４８は、上面１５２から上方に延びる複数の稜部（図１では三つに符号１５６が付されている）を備えうる。複数の稜部は、複数のキャビティを区画する。図１においては、それらの一つに符号１６０が付されている。複数のキャビティは、サンプルプレート１４８が搭載された磁気ベース１１２を受容するように構成されうる。図示の例においては、キャビティ１６０のすぐ右隣に位置するキャビティに磁気ベース１１２が搭載されている。他の要素もまた、キャビティを介して支持プレート１４８に搭載されうる。他の要素の例としては、試料プレート１１６との間でやり取りされる試料や液体を保持するように構成された少なくとも一つの容器（バイアル、試験管など）を保持するラックが挙げられる。

試料処理システム１００の駆動システム１０８は、磁気ヘッド１０４の動きを制御するように構成される。駆動システム１０８は、複数の側壁１６４、デバイス支持構造１６８、リードスクリュー１７２、リードスクリューインターフェース１７６、トップ保持レール１８０ａ、ボトム保持レール１８０ｂ、トップ保持レールインターフェース１８４ａ、およびボトム保持レールインターフェース１８４ｂを備えうる。複数の側壁１６４は、ベース１２４に搭載されうる。複数の側壁１６４は、ベースプレート１３６から上方へ延びうる。リードスクリュー１７２は、側壁１６４に搭載されうる。リードスクリューインターフェース１７６は、デバイス支持構造１６８に搭載されうる。これにより、デバイス支持構造１６８は、リードスクリュー１７２に沿って平行移動しうる。保持レール１８０ａ、１８０ｂは、側壁１６４に搭載されうる。保持レール１８０ａ、１８０ｂは、それぞれ保持レールインターフェース１８４ａ、１８４ｂにも搭載されうる。保持レールインターフェース１８４ａ、１８４ｂは、さらにデバイス支持構造１６８に搭載されうる。これにより、デバイス支持構造１６８は、保持レール１８０ａ、１８０ｂに沿って平行移動しうる。磁気ヘッド１０４は、磁気ヘッド１０４に搭載された複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄが試料プレート１１６に対してほぼ直交する向きに並ぶように、デバイス支持構造１６８に搭載されうる。

駆動システム１０８は、少なくとも一つのアクチュエータ（不図示）を備えうる。少なくとも一つのアクチュエータは、リードスクリュー１７２に沿うデバイス支持構造１６８の動きを制御して磁気ヘッド１０４を試料プレート１１６上に位置決めする。様々な種別のアクチュエータ（電気モータ、サーボモータ、ステッピングモータ、ピエゾモータ、空気圧式アクチュエータ、ガスモータなど）が使用されうる。駆動システム１０８は、デバイス支持構造１６８（ひいては磁気ヘッド１０４）の支持プレート１４８およびその上に搭載された試料プレート１１６に対する一次元的、二次元的、あるいは三次元的な動きを提供しうる。図示された例においては、駆動システム１０８は、磁気ヘッド１０４の二次元的（ｙ−ｚ）な動きを提供しうる。試料処理システム１００の稼働中は、試料プレート１１６に対する磁気ヘッド１０４の平行移動軸は、ｚ軸に沿う。

試料処理システム１００は、駆動システム１０８と第二の駆動システム（不図示）を含む複数の駆動システムを備えうる。第二の駆動システムは、ベース１２４に対する一次元（ｘ）的な支持プレート１４８の動きを、支持プレート１４８の下方に搭載された平行移動板（不図示）とともに制御するように構成されうる。

磁気ヘッド１０４と支持プレート１４８は、コントローラ（不図示）を介する電子制御により自動的に移動されうる。コントローラは、駆動システム１０８および第二の駆動システムと動作可能に結合される。コントローラの要素の少なくとも一つは、プリント回路基板（不図示）に搭載されうる。プリント回路基板は、試料処理システム１００の要素（例えば、ベースプレート１３６のボトム面）に搭載される。

図３Ａと図３Ｂは、一実施形態例に係る試料処理システム１００の磁気ヘッド１０４を示している。図３Ａは、磁気ヘッド１０４の斜視図である。図３Ｂは、磁気ヘッド１０４の断面視正面図である。

磁気ヘッド１０４は、複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄを収容するように構成される。各トップ磁石は、試料処理システム１００における試料プレート１１６のウェルに収容された液体から複数の磁性粒子（常磁性ビードなど）を捕集する磁力を供給する。捕集中において当該磁力は、磁気ベース１１２のボトム磁石６０８も引き付けて保持する。磁気ヘッド１０４は、ハウジング３００、複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄ、およびアダプタ３０８を備えうる。磁気ヘッド１０４が備える要素は、これより少なくても多くてもよい。磁気ヘッド１０４は、図２Ａ〜図２Ｅにおける磁気ヘッド２４０の一実施形態例である。アダプタ３０８は、図２Ａ〜図２Ｅにおける磁気ヘッド２４４の一実施形態例である。

図４Ａと図４Ｂは、磁気ヘッド１０４のハウジング３００を示している。図４Ａは、ハウジング３００の断面視正面図である。図４Ｂは、ボトム側から見たハウジング３００の斜視図である（ハウジング３００は、図４Ａにおける軸Ａを中心として１８０°回転されている）。ハウジング３００は、プレート４００を備えうる。プレート４００は、トップ面４０２、ボトム面４０４、右側面４０８、左側面４１２、前面４１６（図３Ａに対する）、および背面４２０を有している。ハウジング３００は、複数のチャネル４２４ａ〜４２４ｈを備えうる。複数のチャネル４２４ａ〜４２４ｈは、右側面４０８、左側面４１２、前面４１６、および背面４２０と平行に、トップ面４０２からボトム面４０４へ延びている。複数のチャネル４２４ａ〜４２４ｈは、リニアアレイを形成するように配列されうる。複数のチャネル４２４ａ〜４２４ｈのうち、チャネル４２４ａ、４２４ｃ、４２４ｅ、４２４ｇは、それぞれトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄを受容する。これにより、トップ磁石３０４ａはチャネル４２４ａ内に搭載される。トップ磁石３０４ｂは、チャネル４２４ｃ内に搭載される。トップ磁石３０４ｃは、チャネル４２４ｅ内に搭載される。トップ磁石３０４ｄは、チャネル４２４ｇ内に搭載される。

チャネル４２４ｂ、４２４ｄ、４２４ｆ、４２４ｈは、チャネル４２４ａ、４２４ｃ、４２４ｅ、４２４ｇと同様に構成されうるが、図示の例におけるチャネル４２４ｂ、４２４ｄ、４２４ｆ、４２４ｈは、トップ磁石を受容しない空のチャネルである。様々な数のチャネルと様々な数のトップ磁石が使用されうる。

複数のチャネル４２４ａ〜４２４ｈのうち、チャネル４２４ａ、４２４ｃ、４２４ｅ、４２４ｇは、それぞれピストン（不図示）も受容しうる。複数のピストンの各々は、トップ磁石の上方に搭載されている。複数のピストンは、試料処理システム１００が備える複数の駆動システムのうち、第三の駆動システム（不図示）の一部を形成しうる。

第三の駆動システムは、対応するチャネル（４２４ａ、４２４ｃ、４２４ｅ、４２４ｇ）内における複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄの各々の動きを制御するように構成される。これにより、各トップ磁石は、ハウジング３００のボトム面４０４に対して上位置と下位置をとる。図３Ｂと図４Ａにおいては、複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄの各々が上位置をとっている状態が示されている。よって、第三の駆動システムは、支持プレート１４８およびその上に搭載された試料プレート１１６（図１参照）に対する複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄの各々の一次元（ｙ）的な動きを提供しうる。第三の駆動システムは、駆動システム１０８による磁気ヘッド１０４の動きとは独立したそのような動きを提供しうる。この場合、駆動システム１０８は、試料プレート１１６上に磁気ヘッド１０４を位置決めするために使用されうる。これにより、複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄの各々は、一列に並んだ（例えば図１１Ａにおける試料プレート１１６の第５列）複数のウェルの各々の中央上に位置決めされ、アダプタ３０８は、各ウェル内の液体に接触する。第三の駆動システムは、複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄの各々を、対応するウェル内の液体に対し、対応するチャネル（４２４ａ、４２４ｃ、４２４ｅ、４２４ｇ）内で上位置と下位置の間を移動させるために使用されうる。

第三の駆動システムにおける少なくとも一つの要素は、磁気ヘッド１０４に搭載された第一カバー１８８と第二カバー１９２（図１参照）によって包囲されうる。第三の駆動システムは、様々な周知のアクチュエータを介して複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄの動きを実現しうるが、その使用対象は複数のピストンに限られない。複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄは、第二のコントローラ（不図示）を介する電子制御により自動的に移動されうる。第二のコントローラのの要素の少なくとも一つは、第二のプリント回路基板（不図示）に搭載されうる。第二のプリント回路基板は、第二カバー１９２によって包囲される。

複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄの各々は、磁性材料（永久磁性材料など）からなる。各トップ磁石の磁性材料、大きさ、および形状は、複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄの各々が試料プレート１１６の対応するウェルの中央に位置決めされ、アダプタ３０８が各ウェル内の液体に接触し、かつ各トップ磁石が下位置にある場合において、試料プレート１１６のウェルの液体内における複数の磁性粒子を引き付けるのに十分な磁力を形成可能に選択されうる。このとき、当該磁力は、磁気ベース１１２のボトム磁石６０８を引き付けて保持するのに十分なものでもありうる。複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄの各々は、正方形状の断面を有するバーとして、あるいはロッドとして構成されうる。バーあるいはロッドの最大寸法は、その長さとして参照されうる。複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄの各々は、長さ方向に分極されうる。すなわち、磁化軸は、長さ方向に沿う。図２Ａから図２Ｅは、チャネル２３６と平行かつ長さ方向に沿う磁化軸を有するトップ磁石２３２を有している。

ハウジング３００のボトム面４０４には、複数の凹部４２８ａ〜４２８ｈが形成されうる。複数の凹部４２８ａ〜４２８ｈの各々は、ハウジング３００のボトム面４０４からトップ面４０２へ向かって延びる側壁と内面を有している。凹部４２８ｇの側壁４３２ｇと内面４３６ｇが、図に例示されている。凹部４２８ａ、４２８ｃ、４２８ｅ、４２８ｇは、それぞれ内面に形成された開口４４０ａ、４４０ｃ、４４０ｅ、４４０ｇを有しうる。その形状と大きさは、例えば複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄの各々が上位置から下位置へ移動された際に、各トップ磁石の端部が通過し、対応する凹部内まで延びることを許容するように定められる。複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄの各々が下位置へ移動されると、トップ磁石３０４ａの端部は、開口４４０ａを通過して凹部４２８ａ内へ延び、トップ磁石３０４ｂの端部は、開口４４０ｃを通過して凹部４２８ｃ内へ延び、トップ磁石３０４ｃの端部は、開口４４０ｅを通過して凹部４２８ｅ内へ延び、トップ磁石３０４ｄの端部は、開口４４０ｇを通過して凹部４２８ｇ内へ延びる。凹部４２８ｂ、４２８ｄ、４２８ｆ、４２８ｈは、凹部４２８ａ、４２８ｃ、４２８ｅ、４２８ｇと同様に構成されうるが、図示の例における凹部４２８ｂ、４２８ｄ、４２８ｆ、４２８ｈは、トップ磁石を受容しない。

アダプタ３０８は、ハウジング３００のボトム面４０４に搭載されうる。よって、ボトム面４０４における複数の凹部４２８ａ〜４２８ｈの少なくとも一つは、側壁に形成された溝を備えうる。当該溝は、アダプタ３０８をボトム面４０４に搭載するために、アダプタ３０８における突起上のタブ（例えば図５Ｃにおける突起５３６上のタブ５４８）を受容するように構成される。凹部４２８ｈの側壁４３２ｈに形成された溝４４４ｈが図に例示されている。凹部４２８ａ、４２８ｃ、４２８ｆもまた同様に構成されうる。

ハウジング３００は、ワンピース材料から形成されてもよいし、複数ピースの材料が結合されて形成されてもよい。プラスチックなどの様々な材料が使用されうる。

図５Ａから図５Ｃは、磁気ヘッド１０４のアダプタ３０８を示している。図５Ａは、アダプタ３０８を上方から見た斜視図である。図５Ｂは、アダプタ３０８を下方から見た斜視図である（図５Ａにおける軸Ｂを中心としてアダプタ３０８が１８０°回転されている）。図５Ｃは、図５Ａにおける領域Ｃの拡大図である。

アダプタ３０８は、磁気ヘッド１０４のハウジング３００に搭載された複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄと試料プレート１０６における複数のウェル内の液体との間のインターフェースを提供するように構成される。アダプタ３０８は、アダプタプレート５００を備えうる。アダプタプレート５００は、トップ面５０４、ボトム面５０８、前壁５１２、左側壁５１６、右側壁（不図示）、および背壁５２０を備えている。前壁５１２、左側壁５１６、背壁５２０、および右側壁は、アダプタプレート５００のトップ面５０４とボトム面５０８の間を延びている。アダプタプレート５００のトップ面５０４は、アダプタ３０８の搭載面の一部を形成しうる。搭載面は、複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄ、および磁気ヘッド１０４のハウジング３００におけるボトム面４０４に搭載されるように構成される。アダプタプレート５００のボトム面５０８は、アダプタ３０８の捕集・解放面の一部を形成しうる。捕集・解放面は、試料プレート１１６における特定のウェルに収容された液体から複数の磁性粒子を捕集し、アダプタ３０８が液体を通過して磁気ヘッド１０４が試料プレート１１６の上方を平行移動する際に当該磁性粒子を保持し、試料プレート１１６における別のウェルに収容された液体へ当該磁性粒子を解放するように構成される。

アダプタ３０８は、磁気ヘッド１０４における複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄに搭載されるように構成されうる。よって、アダプタプレート５００は、複数の凹部５２４ａ〜５２４ｈを備えうる。複数の凹部５２４ａ〜５２４ｈは、アダプタプレート５００のトップ面５０４からボトム面５０８へ向かって延びている。複数の凹部５２４ａ〜５２４ｈの各々は、磁気ヘッド１０４のハウジング３００におけるボトム面４０４に形成された複数の凹部４２８ａ〜４２８ｈにそれぞれ対応しうる。アダプタ３０８における複数の凹部５２４ａ〜５２４ｈの各々は、開口を区画する複数の側壁とボトム面を有している。凹部５２４ａ、５２４ｃ、５２４ｅ、５２４ｇの側壁５２８ａ、５２８ｃ、５２８ｅ、５２８ｇが、図に例示されている。凹部５２４ａ、５２４ｃ、５２４ｅ、５２４ｇのボトム面５３２ａ、５３２ｃ、５３２ｅ、５３２ｇもまた、図３Ｂに例示されている。

複数の凹部５２４ａ〜５２４ｈの各開口は、複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄの各々が例えば上位置から下位置へ移動された際に、その端部を収容できる大きさおよび形状とされうる。アダプタ３０８が磁気ヘッド１０４のハウジング３００に搭載され、複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄがその下位置へ移動されると、トップ磁石３０４ａの端部は凹部５２４ａのボトム面５３２ａ上に静止し、トップ磁石３０４ｂの端部は凹部５２４ｃのボトム面５３２ｃ上に静止し、トップ磁石３０４ｃの端部は凹部５２４ｅのボトム面５３２ｅ上に静止し、トップ磁石３０４ｄの端部は凹部５２４ｇのボトム面５３２ｇ上に静止する。この場合、凹部５２４ａ、５２４ｃ、５２４ｅ、５２４ｇは、トップ磁石搭載凹部として構成される。凹部５２４ｂ、５２４ｄ、５２４ｆ、５２４ｈは、凹部５２４ａ、５２４ｃ、５２４ｅ、５２４ｇと同様に構成されうるが、図示の実施形態例においては、凹部５２４ｂ、５２４ｄ、５２４ｆ、５２４ｈはトップ磁石を受容しない。

アダプタ３０８は、磁気ヘッド１０４のハウジング３００におけるボトム面４０４に搭載されるように構成されうる。図示の実施形態例においては、アダプタ３０８は、ハウジング３００のボトム面４０４にスナップ留めされるように構成されうる。図５Ｃに示されるように、凹部５２４ｈの側壁５２８ｈは、アダプタ３０８のトップ面５０４の上方を延びる。側壁５２８ｈには複数の切欠きが形成されうる。これにより、複数の突起（その一つに符号５３６が付されている）が形成される。複数の突起は、ハウジング３００のボトム面４０４における凹部４２８ｈへ嵌入されるように構成される。複数の突起の各々は、その上端付近の外面から外方へ延びるように設けられたタブ（符号５４８が付されている）を有しうる。各タブは、ハウジング３００のボトム面４０４における対応する凹部４２８ｈの溝４４４ｈに嵌入するように構成されうる。図５Ａに示されるように、アダプタプレート５００の凹部５２４ａ、５２４ｃ、５２４ｆは、凹部５２４ｈと同様に構成されうる。この場合、凹部５２４ａ、５２４ｃ、５２４ｆ、５２４ｈは、ハウジング３００のボトム面４０４における凹部４２８ａ、４２８ｃ、４２８ｆ、４２８ｈにそれぞれスナップ留めされるように構成される。

アダプタ３０８は、試料プレート１１６の上方を平行移動する際に、その一部が試料プレート１１６におけるウェル内の液体のメニスカス内へ突入するように構成される。これにより、磁性粒子の捕集が容易とされるだけでなく、試料プレート１１６における他のウェル内の液体への当該磁性粒子の投入や解放が容易とされる。図示の実施形態例においては、アダプタプレート５００のボトム面５０８は、左側壁５１６と右側壁（不図示）の間の全長にわたって連続的に延びる湾曲面とされうる。

アダプタ３０８は、アダプタプレート５００の前壁５１２から延びる第一レール５４８と、アダプタプレート５００の背壁５２０から延びる第二レール５５２とを備えうる。第一レール５４８と第二レール５５２は、試料プレート１１６におけるウェル内の液体のメニスカスにアダプタ３０８を通過させることを可能にし、液体がウェルからウェルへ運ばれることを防止する。

アダプタ３０８の構成は、上記のように限定されない。他の構成も採用されうる。例えば、米国特許出願第１４／５９５９２６号（その内容は、本明細書の一部を構成するものとして援用される）に開示されたいずれのアダプタも使用されうる。

試料処理システム１００の磁気ヘッド１０４には、他の装置も搭載されうる。他の装置は、液体の取扱いに関連する装置（複数のピペットヘッドを通じた試料プレート１１６のウェル内の液体の吸引と吐出の少なくとも一方を行なう液体取扱いヘッドなど）を含む。

図１１Ａと図１１Ｂは、一実施形態例に係る試料処理システム１００の試料プレート１１６を示している。図１１Ａは、試料プレート１１６の上面図である。図１１Ｂは、図１１Ａの軸Ｄを含む断面に沿う試料プレート１１６の左側断面図である。試料プレート１１６は、図２Ａから図２Ｅにおける試料プレート２０８の一実施形態例である。試料プレート１１６は、複数の液体試料（磁性粒子に束縛された標的分析物を含む液体混合物など）を保持するように構成される。試料プレート１１６は、他の液体試料（処理試薬、緩衝液、溶媒洗浄液など）も保持するように構成される。試料プレート１１６は、ベースプレート１１００を備えうる。ベースプレート１１００は、トップ面１１０４と複数の壁を有している。複数の壁は、トップ面１１０４から下方に延びている。前壁には符号１１２０が、背壁には符号１１２４が付されている。

ベースプレート１１００は、複数のウェルを備えうる。複数のウェルは、トップ面１１０４に形成されたウェル１１０８ａ〜１１０８ｄを含んでいる。複数のウェルは、トップ面１１０４においてグリッド状に配列されうる。グリッドは、複数行のウェル（図示の例においては、行に符号Ａ〜Ｄが付されている）と複数列のウェルを含んでいる（図示の例においては、列に符号１〜６が付されている）。複数のウェルの各々は、トップ面１１０４よりも上方に突出するメニスカスを有する液体を保持するように構成される。ウェル１１０８ｃに収容された液体のメニスカスに符号１１１２が付されている。ウェル１１０８ｃのボトム面には符号１１２８ｃが付されている。ベースプレート１１００は、複数のリザーバを備えうる。複数のリザーバは、トップ面に形成されたリザーバ１１１６ａ〜１１１６ｄを含んでいる。各リザーバは、複数のウェルのうち対応する一つを包囲している。各リザーバは、対応するウェルからこぼれ出した液体を捕捉するように構成される。

試料プレート１１６、各ウェル、および各リザーバの構成は、上記のように限られるものではない。他の構成が採用されうる。例えば、米国特許出願第１４／５９５９８５号（その内容は、本明細書の一部を構成するものとして援用される）に開示されたいずれの試料プレートも使用されうる。

図６Ａと図６Ｂは、一実施形態例に係る試料処理システム１０００の磁気ベース１１２を示している。図６Ａは、磁気ベース１１２の斜視図である。図６Ｂは、図６Ａにおける線Ｅ−Ｅに沿う磁気ベース１１２の断面を示す斜視図である。

磁気ベース１１２は、試料プレート１１６に搭載されるように構成される（図１および図１２Ａ〜図１２Ｃ参照）。磁気ベース１１２は、ボトム磁石６０８を収容するように構成される。ボトム磁石６０８が供給する磁力は、磁気ヘッド１０４のアダプタ３０８から試料プレート１１６のウェルに収容された液体への磁性粒子の解放を容易にする。磁気ベース１１２は、図２Ａ〜図２Ｅにおける磁気ベース２２０の一実施形態例である。磁気ベース１１２は、カバー部６００、ベース部６０４、およびボトム磁石６０８を備えうる。磁気ベース１１２は、別の要素を含んでもよいし、より少ない要素しか含まなくてもよいし、異なる要素を含んでもよい。

図７Ａと図７Ｂは、磁気ベース１１２のカバー部６００を示している。図７Ａは、カバー部６００の平面図である。図７Ｂは、図６Ａにおける線Ｅ−Ｅに沿うカバー部６００の断面を示す斜視図である。

カバー部６００は、カバープレート７００を備えうる。カバープレート７００は、トップ面７０４とボトム面７０８を有している。カバー部６００は、カバープレート７００から延びる前壁７１２、背壁７１４、右側壁７１８、および左側壁７２２をさらに備えうる。各壁は、トップ端部、ボトム端部、および内面を有する。図７Ｂの前壁７１２においては、トップ端部に符号７２６が、ボトム端部に符号７３０が、内面に符号７３４が付されている。図７Ｂの背壁７１６においては、トップ端部に符号７３８が、ボトム端部に符号７４２が、内面に符号７４６が付されている。カバープレート７００は、各壁７１２、７１４、７１８、７２２の内面におけるトップ端部よりも上方かつボトム端部よりも下方の位置に搭載されうる。このようにして、カバープレート７００のトップ面７０４と各壁７１２、７１４、７１８、７２２の内面の一部は、試料プレート１１６を受容するトップキャビティの表面を区画する。この場合、トップキャビティは、試料プレート搭載キャビティとして構成される。カバープレート７００と壁７１２、７１４、７１８、７２２により区画されるトップキャビティの大きさと形状は、試料プレート１１６の大きさと形状に応じて変わりうる。

同様に、カバープレート７００のボトム面７０８と各壁７１２、７１４、７１８、７２２の内面の一部は、磁気ベース１１２のベース部６０４を受容するボトムキャビティの表面を区画する。この場合、ボトムキャビティは、ベース部搭載キャビティとして構成される。カバープレート７００と壁７１２、７１４、７１８、７２２により区画されるボトムキャビティの大きさと形状は、ベース部６０４の大きさと形状に応じて変わりうる。ボトムキャビティは、ベース部６０４の少なくとも一部を包囲し覆うように構成されうる。

図８Ａ〜図８Ｄは、磁気ベース１１２のベース部６０４を示している。図８Ａは、ベース部６０４の斜視図である（ボトム磁石６０８も示されている）。図８Ｂは、ベース部６０４の平面図である。図８Ｃは、ベース部６０４の底面図である。図８Ｄは、図６Ａにおける線Ｅ−Ｅに沿うベース部６０４の断面を示す斜視図である。

ベース部６０４は、トップベースプレート８００とボトムベースプレート８０４を備えうる。

トップベースプレート８００は、トップ面８０８とボトム面８１２を有する。ボトムベースプレート８０４もまた、トップ面８１６とボトム面８２０を有する。ベース部６０４は、前壁８２２、背壁８２６、右側壁８３０、左側壁８３４、および内壁８３８をさらに備えうる。各壁は、トップ端部、ボトム端部、および内面を有する。内壁８３８は、左側壁８３０の内面８４２と右側壁８３４の内面８４６に搭載されうる。これにより、内壁８３８は、前壁８２２および背壁８２６と平行かつ右側壁８３０および左側壁８３４と垂直に延びる。ボトムベースプレート８０４は、前壁８２２の内面８５０、内壁８３８の第一内面８５４、右側壁８３０の内面８４２、および左側壁８３４の内面８４６に搭載されうる。ボトムベースプレート８０４は、壁８２２、８３８、８３０、８３４のボトム端部あるいはその近傍に位置決めされうる。このようにして、ボトムベースプレート８０４のトップ面８１６と壁８２２、８３８、８３０、８３４の各内面８５０、８５４、８４２、８４６は、ボトム磁石６０８（図６Ｂも参照）を受容するように構成されたベースキャビティの表面を区画する。この場合、ベースキャビティは、ボトム磁石搭載キャビティとして構成される。

ボトムベースプレート８０４と壁８２２、８３８、８３０、８３４により区画されるボトム磁石搭載キャビティの大きさと形状は、試料プレート１１６の大きさと形状（ウェルの数や配置も含む）に応じて変わりうる。右側壁８３０と左側壁８３４の間の寸法は、ボトム磁石搭載キャビティの幅として参照されうる。前壁８２２と内壁８３８の間の寸法は、ボトム磁石搭載キャビティの長さとして参照されうる。ボトムベースプレート８０４とカバープレート７００（図６Ｂも参照）の間の寸法は、ボトム磁石搭載キャビティの高さとして参照されうる。

図１２Ａから図１２Ｃは、磁気ベース１１２に搭載された試料プレート１１６を示している。図１２Ａは、斜視図である。図１２Ｂは、図１２Ａにおける線Ｆ−Ｆに沿う断面を示す斜視図である。図１２Ｃは、図１２Ａにおける線Ｆ−Ｆに沿う断面を示す左側面図である。これらの図においては、ボトムベースプレート８０４と壁８２２、８３８、８３０、８３４により区画されるベース部６０４におけるボトム磁石搭載キャビティの長さと幅は、試料プレート１１６における所定数のウェルの下方をボトム磁石搭載キャビティが延びるような寸法でありうる。これにより、ボトム磁石６０８は、所定のウェル内の液体への磁性粒子の解放を容易にするために使用されうる。例えば、ボトム磁石搭載キャビティの長さと幅は、３、４、５列目の各ウェルの下方をボトム磁石搭載キャビティが延びるように選定されうる。他方、ボトム磁石搭載キャビティの長さは、１、２列目のウェルの下方をボトム磁石搭載キャビティが延びないように選定されうる。すなわち、ボトム磁石搭載キャビティの長さは、試料プレート１１６におけるウェルの一部の下方のみをボトム磁石搭載キャビティが延びる寸法である。よって、本実施形態例においては、ボトム磁石６０８は、１、２列目のウェルへの磁性粒子の解放を容易にするようには使用できない。しかしながら、構成はこのように限られるものではない。ボトム磁石搭載キャビティの寸法は、試料プレート１１６における各ウェルの下方をボトム磁石搭載キャビティが延びるように選定されうる。その場合、必ずしも内壁８３８またはトップベースプレート８００を備えることを要しない。その場合、ボトムベースプレート８０４が背壁８２６まで延びうる。

図９は、別例に係る磁気ベース１１２のベース部９００を示す斜視断面図である。ベース部９００は、トップベースプレート９０４、ボトムベースプレート９０８、前壁９１２、背壁９１６、右側壁９２０、左側壁（不図示）、および内壁９２４を備えうる。ボトムベースプレート９０８、壁９１２、９２４、９２０、および左側壁は、第二ボトム磁石搭載キャビティを区画する。本実施形態例においては、ベース部９００の第二ボトム磁石搭載キャビティの長さ寸法は、ベース部６０４（図８Ｄ参照）のボトム磁石搭載キャビティの長さ寸法よりも大きい。例えば、ベース部９００の第二ボトム磁石搭載キャビティの長さと幅は、別の列のウェル（図１２Ａに示される２列目）の下方を第二ボトム磁石搭載キャビティが延びるような寸法である。

図８Ａから図８Ｄに示されるように、トップベースプレート８００は、背壁８２６の内面８６０、右側壁８３０の内面８４２、および左側壁８３４の内面８４６に各々におけるトップ端部の近傍に搭載されうる。ブラケット８７０は、壁８２６、８３０、８３４の各内面８６０、８４２、８４６とトップベースプレート８００のボトム面８１２に搭載されうる。これにより、トップベースプレート８００を支える剛性が付加される。

図６Ａから図６Ｄに示されるように、カバー部６００がベース部６０４に搭載されると、ベース部６０４は、カバープレート７００と壁７１２、７１４、７１８、７２２により区画されるボトムキャビティに嵌入する。本実施形態例においては、カバー部６００は、ベース部６０４の一部を包囲し、ボトムベースプレート８０４と壁８２２、８３８、８３０、８３４により区画されるボトム磁石搭載キャビティの全体を覆う。例えば、カバープレート７００は、ボトム磁石搭載キャビティのトップになるだけでなく、ボトム磁石搭載キャビティを区画する。図６Ｂに示されるように、壁７１２、７１４により区画される試料プレート搭載キャビティの長さ寸法は、前壁８２２と内壁８３８により区画されるボトム磁石搭載キャビティの長さ寸法よりも大きい。しかしながら、この構成に限られるものではない。

図１０は、ボトム磁石６０８の斜視図である。ボトム磁石６０８は、図２Ａから図２Ｅにおけるボトム磁石２２４の一実施形態例である。ボトム磁石６０８は、磁性材料（永久磁性材料など）からなる。ボトム磁石６０８の磁性材料、大きさ、および形状は、ボトムベース部６０４におけるボトム磁石搭載キャビティの上位置に磁石６０８があるときに試料プレート１１６における所定数のウェル内の液体に含まれる磁性粒子を引き付けるのに十分な磁力を生成するように選定されうる。ボトム磁石６０８は、バー１０００として構成されうる。バー１０００は、トップ面１００４、その反対側であるボトム面（不図示）、前面１００８、その反対側である背面（不図示）、右側面（不図示）、その反対側である左側面１１１２を有している。右側面と左側面１１１２の間の寸法は、長さｌとして参照されうる。トップ面１００４とボトム面の間の寸法は、幅ｗとして参照されうる。前面１００８と背面の間の寸法は、厚さｔとして参照されうる。ボトム磁石６０８は、幅ｗを横切るように分極されうる。すなわち、磁化軸は、幅ｗを横切る（幅を横切る磁化軸を有するボトム磁石２２４を示す図２Ａから図２Ｅも参照）。ボトム磁石６０８は、ボトム磁石搭載キャビティ内で、長さｌがベース部６０４の前壁８２２および内壁８３８と平行かつｚ軸に沿う磁気ヘッド１０４の平行移動軸（図６Ｂと図８Ａ参照）と垂直に延びる姿勢とされうる。

ボトム磁石６０８の長さｌ、幅ｗ、および厚さｔは、変更されうる。長さｌは、試料プレート１１６の大きさと形状（ウェルの数と配列を含む）に依存しうる。図１２Ａから図１２Ｃに示されるように、長さｌは、ボトム磁石６０８が試料プレート１１６における所定数のウェルの下方を延びるのに十分な寸法として選定されうる。これにより、ボトム磁石６０８は、所定のウェル内の液体への磁性粒子の解放を容易にするために使用されうる。例えば、ボトム磁石６０８の長さｌは、所定の列（例えば５列目）のウェルの各々の下方を延びるのに十分な寸法でありうる。長さｌは、磁気ベース１１２のベース部６０４における右側壁８３０から左側壁８３４（図８Ａも参照）へ延びるのに十分な寸法でありうる。ボトム磁石６０８の厚さｔは、所定のウェルの大きさに依存しうる。図１２Ｃに示されるように、ボトム磁石６０８の厚さｔは、ボトム磁石６０８がウェル１１０８ｃの下方にセンタリングされた際に、ウェル１１０８ｃのボトム面１１２８ｃを横切るように延びるのに十分な寸法でありうる。しかしながら、図示の実施形態例のように、厚さｔは、より小さな寸法とされうる。

ボトム磁石６０８は、自由に浮遊する磁石である。「自由に浮遊する」ことにより、ボトム磁石６０８は、磁気ベース１１２のベース部６０４におけるベース磁石搭載キャビティの内面に対してほぼ自由に移動可能となるように、磁気ベース１１２内に搭載される。図１２Ａから図１２Ｃに示されるように、ボトム磁石６０８は、ボトムベースプレート８０４と壁８２２、８３８、８３０、８３４により区画されるボトム磁石搭載キャビティ内に搭載される。図示の実施形態例においては、ボトム磁石搭載キャビティは、その内面に対するボトム磁石６０８のｘ軸、ｙ軸、あるいはｚ軸に沿う動きを制限する搭載構造を何も備えていない。図示のボトム磁石６０８は、ボトム磁石搭載キャビティ内の下位置においてボトムベースプレート８０４のトップ面８１６上に静止している。しかしながら、搭載構造の不在により、ボトム磁石６０８は、例えば磁気ヘッド１０４の複数のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄからの磁力の影響下で、ボトム磁石搭載キャビティの内面に対してほぼ自由に動くことができる。

例えば、磁気ヘッド１０４が試料プレート１１６の上方における適当な位置に配置されると（トップ磁石３０４ａ〜３０４ｄの各々が、ある列の対応するウェルの上方にセンタリングされ、アダプタ３０８が各ウェル内の液体と接触し、各トップ磁石がその下位置にある場合など）、ボトム磁石６０８は、トップ磁石３０４ａ〜３０４ｄからの磁力によって、カバープレート７００のボトム面７０８からｙ軸方向に沿う上位置への移動が可能になる。ボトム磁石６０８は、試料プレート１１６を横切る磁気ヘッド１０４の平行移動とともに、カバープレート７００のボトム面７０８に沿ってｚ軸方向に沿う平行移動が可能になる。保持および平行移動される際のボトム磁石６０８の姿勢は、その磁極がトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄの磁極に揃うようになる（逆にはならない）。磁力がほぼなくなると（磁気ヘッド１０４がもはや試料プレート１１６上にない場合など）、ボトム磁石６０８は、下降が可能になり、再びボトムベースプレート８０４のトップ面８１６上の下位置に静止する。図１３Ｃに示されるように、磁力がほぼなくなると、ボトム磁石６０８は、前面１００８（図１０参照）または背面上に落下可能となる。その場合、ボトム磁石６０８の磁化軸は、ウェル１１０８ｃに対して直交する。ボトム磁石６０８の幅ｗを横切る向きの分極は、特にボトム磁石６０８の静止に係る前述の構成を容易にしうる。

図示の実施形態例においては、前述のように、ボトム磁石搭載キャビティ内にｘ軸に沿うボトム磁石６０８の動きを規制する搭載構造が存在しない。しかしながら、ボトム磁石６０８は、磁気ベース１１２（図８Ａ参照）のベース部６０４における右側壁８３０から左側壁８３４まで延びるのに十分な長さでありうる。この構成の場合、ボトム磁石６０８の物理的な大きさが、ｘ軸に沿うボトム磁石６０８の動きやｙ軸を中心とするボトム磁石６０８の回転を制限する。しかしながら、この構成においても、ボトム磁石６０８は、自由に浮遊可能とみなされうる。

図示の実施形態例においては、磁気ベース１１２のカバー部６００とベース部６０４は別部品であり、カバー部６００は、ベース部６０４に対して取り外し可能に搭載されうる。そのような構成は、ボトム磁石６０８へのアクセスを容易にする。しかしながら、この構成に限られるものではない。

磁気ベース１１２の構成要素（ボトム磁石６０８を除く）は、ワンピース材料から形成されうる。プラスチックなどの様々な材料が磁気ベース１１２の構成要素（ボトム磁石６０８を除く）として使用されうる。カバープレート７００のボトム面７０８は、十分に滑らかとされうる。これにより、平行移動する磁気ヘッド１０４のトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄからの磁力によってボトム磁石６０８が保持されている間、ボトム面７０８を横切るボトム磁石６０８の平行移動が容易になる。

磁気ベース１１２は、単一のボトム磁石６０８について説明したものと同様の効果と動作を提供するために、ベース部６０４のボトム磁石搭載キャビティ内に搭載された複数のボトム磁石を備えうる。あくまで一例として、複数のボトム磁石は、ホルダ内に搭載されうる。当該ホルダは、ボトム磁石搭載キャビティ内に搭載される。当該ホルダは、リニアアレイを形成する複数のボトム磁石が搭載されるように構成されうる。複数のボトム磁石の各々は、トップ磁石３０４ａ〜３０４ｄの対応する一つに関連付けられている。複数のボトム磁石の各々には、ボトム磁石６０８について説明したような様々な大きさと形状が採用されうる。ホルダは、ボトム磁石搭載キャビティ内でボトム磁石６０８について説明したような姿勢をとりうる。ホルダは、長さＬ、幅Ｗ、および厚さＴによって特徴づけられうる。これらは、試料プレート１１６の構成に対するボトム磁石６０８の長さｌ、幅ｗ、厚さｔと同様に選定されうる。本実施形態においては、ホルダと複数のボトム磁石の双方が自由に浮遊しているとみなされうる。これにより、ホルダは（よって複数のボトム磁石も）、ボトム磁石６０８について説明したように、ボトム磁石搭載キャビティの内面に対してほぼ自由に移動可能である。本実施形態においては、ホルダの材料は、例えば複数のボトム磁石を包囲または収容することにより、ボトム磁石搭載キャビティの内面から複数のボトム磁石を物理的に分離しうる。このような構成によれば、複数のボトム磁石は、ホルダ材料によってボトム磁石搭載キャビティの内面と物理的に接触していなくても、ボトム磁石６０８について説明したように、当該内面に対して保持、静止、平行移動などをしているとみなされうる。

図１３Ａから図１３Ｃは、図１２Ｃにおける領域Ｇを模式的に示している。図１３Ａと図１３Ｂには、磁気ヘッド１０４もまた模式的に示されている。図１３Ａから図１３Ｃは、磁気ヘッド１０４の左側面図、試料プレート１１６の左側面図、および磁気ベース１１２の左側面図に対応している。磁気ヘッド１０４は、チャネル４２４ｅに搭載されたトップ磁石３０４ｃと、ボトム面５０８を有するアダプタ３０８を備えている。試料プレート１１６は、ボトム面１３００を有するウェル１１０８ｃを備えている。メニスカス１１１２を有するウェル１１０８ｃ内の液体は、複数の磁性粒子を含んでいる。磁気ベース１１２は、ボトム面７０８を有するカバープレート７００、トップ面８１６を有するボトムベースプレート８０４、およびボトム磁石６０８を備えている。ボトム面７０８とトップ面８１６は、磁気ベース１１２のボトム磁石搭載キャビティの一部を区画している。

図１３Ａから図１３Ｃは、試料処理システム１００の三つの動作状態を示している。図１３Ａは、捕集動作を示している。図１３Ｂは、解放動作を示している。図１３Ｃは、分散動作を示している。図１３Ａ（捕集動作状態）において、磁気ヘッド１０４は、ウェル１１０８ｃの上方にセンタリングされ、アダプタ３０８は、ウェル１１０８ｃ内の液体のメニスカス１１１２に近接（接触など）している。トップ磁石３０４ｃは、チャネル４２４ｅ内で下位置にあり、アダプタ３０８の対応する凹部５２４ｅにおけるボトム面５３２ｅ（図３Ｂ参照）上に静止している。この動作状態において、磁性粒子は、トップ磁石３０４ｃからの磁力によってアダプタ３０８のボトム面５０８に引き付けられ、アダプタ３０８のボトム面５０８への磁性粒子が捕集される。ボトム磁石６０８もまた、トップ磁石３０４ｃからの磁力によってカバープレート７００のボトム面７０８へ引き付けられる。これにより、ボトム磁石６０８は、その極性がトップ磁石３０４の極性に揃った状態で、磁気ベース１１２におけるボトム磁石搭載キャビティ内の上位置に保持される。ボトム磁石６０８は、磁気ヘッド１０４のｚ軸に沿う平行移動の間も、トップ磁石３０４ｃに対するこの姿勢で上位置に保持される。

図１３Ｂ（解放動作状態）において、磁気ヘッド１０４は、ウェル１１０８ｃの上方にセンタリングされたままであり（試料プレート１１６の別の列における別のウェルでもよい）、アダプタ３０８は、メニスカス１１１２に接触したままである。しかしながら、トップ磁石３０４ｃは、チャネル４２４ｅ内で上位置にある。この動作状態において、ボトム磁石６０８は、トップ磁石３０４ｃからの磁力によってカバープレート７００のボトム面７０８に向かって上位置に保持されたままである。しかしながら、磁性粒子は、相対的に近いボトム磁石６０８からの磁力によって、ウェル１１０８ｃのボトム面１３００へ向かって引き付けられる。これにより、アダプタ３０８のボトム面５０８から磁性粒子が解放される。

図１３Ｃ（分散動作状態）において、磁気ヘッド（不図示）は、試料プレート１１６の外方へ平行移動されている。この動作状態において、ボトム磁石６０８は、磁気ベース１１２のボトムベースプレート８０４におけるトップ面８１６上の下位置へ下降して戻ることが可能である。この場合、磁力は磁性粒子にほぼ働かないので、磁性粒子は、ウェル１１０８ｃの液体内における分散が許容される。

図１３Ａと図１３Ｂには、寸法Ｄ１〜Ｄ５も示されている。これらは、各動作状態を達成するように選定されうる。Ｄ１は、トップ磁石３０４ｃがチャネル４２４ｅ内で下位置にあるときの、トップ磁石３０４ｃのボトム面と磁気ベース１１２におけるボトムベースプレート８０４のトップ面８１６の間の寸法である。Ｄ１は、トップ磁石３０４ｃからの磁力がボトム磁石６０８をその下位置（ボトムベースプレート８０４のトップ面８１６上に静止している位置）から上位置（カバープレート７００のボトム面７０８に対する位置）へ移動可能な程度に十分小さい寸法でありうる。

Ｄ２は、アダプタ３０８のボトム面５０８と磁気ベース１１２におけるカバープレート７００のボトム面７０８の間の寸法である。Ｄ３は、トップ磁石３０４ｃがチャネル４２４ｅ内で下位置にあるときの、トップ磁石３０４ｃのボトム面とウェル１１０８ｃのボトム面１３００の間の寸法である。Ｄ２とＤ３は、トップ磁石３０４ｃからの磁力がアダプタ３０８のボトム面５０８に磁性粒子を捕集できる程度に十分小さい寸法でありうる。しかしながら、捕集動作状態において、Ｄ２は、ボトム磁石６０８が下位置にあるときの磁力によるウェル１１０８ｃのボトム面１３００への引き付けに勝って磁性粒子がアダプタ３０８のボトム面５０８に捕集される程度に十分大きく、かつＤ３よりも大きい（Ｄ２＞Ｄ３）寸法でありうる。

Ｄ４は、トップ磁石３０４ｃがチャネル４２４ｅ内で上位置にあるときの、トップ磁石３０４ｃのボトム面とウェル１１０８ｃのボトム面１３００の間の寸法である。Ｄ４は、ボトム磁石６０８からの磁力が磁性粒子をウェル１１０８ｃのボトム面１３００に引き付けることができる程度に十分小さい寸法でありうる。しかしながら、解放動作状態において、Ｄ４は、Ｄ２よりも大きい（Ｄ４＞Ｄ２）寸法でありうる。これにより、磁性粒子は、トップ磁石３０４ｃからの磁力によるアダプタ３０８のボトム面５０８への引き付けに勝ってウェル１１０８ｃのボトム面１３００に引き付けられ、アダプタ３０８のボトム面５０８から解放される。

Ｄ５は、トップ磁石３０４ｃがチャネル４２４ｅ内で上位置にあるときの、トップ磁石３０４ｃのボトム面と磁気ベース１１２におけるカバープレート７００のボトム面７０８の間の寸法である。Ｄ５は、トップ磁石３０４ｃからの磁力がボトム磁石６０８を引き付け続け、カバープレート７００のボトム面７０８に対する上位置に保持することが可能な程度に十分小さい寸法でありうる。

トップ磁石３０４ｃのストローク距離は、Ｄ４−Ｄ３によって規定されうる。解放動作状態は、ストローク距離がウェル１１０８ｃの深さを上回った際に実現される。ウェル１１０８ｃの深さは、Ｄ２−（Ｄ５−Ｄ４）により規定されうる。

寸法Ｄ１〜Ｄ５は、磁気ベース１１２におけるボトム磁石搭載キャビティの適切な高さｈ、カバープレート７００の適切な厚さｔ２、および（特定のトップ磁石３０４ｃ、ボトム磁石６０８、試料プレート１１６、およびアダプタ３０８についての）トップ磁石３０４ｃの適切な上位置の少なくとも一つの選定を含めて上述の条件を実現するように選定されうる。同様に、適切な高さｈと適切な厚さｔの少なくとも一方が、トップ磁石３０４ｃからの磁力が実質的に不在である場合におけるボトムベースプレート８０４のトップ面８１６に対する下位置へのボトム磁石６０８の戻りを許容するように選定されうる。これにより、ボトム磁石６０８から磁性粒子に作用する磁力がほぼなくなり、当該ボトム磁石６０８に対応するウェル１１０８ｃ内の液体内で磁性粒子が分散する。

この場合、磁気ベース１１２におけるボトム磁石搭載キャビティの寸法（高さｈ、厚さｔ２など）は、トップ磁石３０４ｃがチャネル４２４ｅ内で下位置にある場合におけるカバープレート７００のボトム面７０８に対する上位置へのボトム磁石６０８の移動を許容し、ウェル１１０８ｃから磁気ヘッド１０４への磁性粒子を捕集するように選定されうる。また、当該寸法は、トップ磁石３０４ｃがチャネル４２４ｅ内で上位置にある場合においてカバープレート７００のボトム面７０８に対し上位置で自由に浮遊しているボトム磁石６０８へ磁性粒子が引き付けられることを可能にし、磁性粒子を磁気ヘッド１０４から解放するように選定されうる。さらに、当該寸法は、トップ磁石３０４ｃからの磁力が実質的に不在である場合においてボトムベースプレート８０４のトップ面８１６に対する下位置へ自由に浮遊しているボトム磁石６０８が戻ることを許容し、磁性粒子がウェル１１０８ｃ内で分散するように選定されうる。すなわち、ボトム磁石搭載キャビティは、これらの動作機能を実現するように構成される。

自由に浮遊するボトム磁石６０８を備えた磁気ベース１１２を含む自動化された試料処理システム１００の利点は、少なくとも複雑性を低減し、コストを抑制できる点にある。少なくとも一つの駆動システムが、磁気ヘッド１０４およびトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄの試料プレート１１６に対する動きを自動的に制御するために使用される。トップ磁石３０４ａ〜３０４ｄの動きは、ボトム磁石６０８の動きを制御するために使用される。よって、試料プレート１１６またはボトム磁石６０８をトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄに対して位置決めし直すための独立した駆動システムが必要ない。これにより、磁気ヘッド１０４からの磁性粒子の解放が容易になる。

図１４は、別例に係る磁気ベース１４００を示す斜視図である。磁気ベース１４００は、カバー部１４０４とベース部１４０８を備えている。ベース部１４０８は、前壁１４１２、背壁（不図示）、右側壁（不図示）、および左側壁１４１６を備えており、各壁は、ボトムベースプレート（不図示）に搭載される。稜部１４２０は、ベース部１４０４の周囲全体にわたって延びていてもよいし、図１４に示されるように全体にわたって延びていなくてもよい。複数の切欠きが形成されることにより、稜部１４２０が複数の稜部を含むように効率的に形成されうる。稜部１４２０は、試料処理システム１００におけるワークベッド１３２の支持プレート１４８を支持するための磁気ベース１４００の搭載を容易にするように構成されうる。これにより、磁気ベース１４００は、試料処理システム１００が動作している間、堅固に位置決め固定されうる。よって、試料処理システム１００内で行なわれる相対移動（磁気ベース１４００に搭載された試料プレート１１６に対する磁気ヘッド１０４とトップ磁石３０４ａ〜３０４ｄの動きなど）の正確性が増す。また、トップ磁石３０４ａ〜３０４ｄが支持プレート１４８を磁気ヘッド１４０に向かって引き抜いてしまうことを防止する。この場合、稜部１４２０は、支持プレート１４８に掲載された複数のキャビティの一つに嵌入し、少なくとも一つのホルダ（クリップや蝶ねじなど）を介して定位置に保持されうる形状と大きさを有しうる。当該ホルダは、支持プレート１４８に搭載されて稜部１４２０のトップ面１４２４に押圧されうる。

本明細書における「例示」という語は、一例を示すことを意味する。本明細書において「例示」されたあらゆる態様や構成は、必ずしも他の態様や構成に対して好適あるいは有利であると解釈されることを要しない。また、開示を目的として特に断りなく用いられる単数表現は、「少なくとも一つ」であることを意味する。

本開示における実施形態例に係る上記の記載は、例示と説明を目的として提示されている。記載された通りの形態に本開示内容を限定したり排他したりする意図はなく、上記の教示に鑑みて、あるいは開示内容の実施に際して、改変や変更が可能である。実施形態は、本開示の趣旨を説明するために選ばれて記載されたものであり、企図される特定の利用に適した様々な実施形態や改変形態への本開示の利用を当業者に可能とする。本開示の範囲は、添付の特許請求の範囲およびその均等物によって定められる。

Claims (20)

1. 試料処理システムにおける試料プレート用の磁気ベースであって、
   第一プレートと、
   前記第一プレートと平行に延びる第二プレートと、
   を備えており、
   前記第一プレートは、
   第一トップ面と、
   ボトム面と、
   前記第一トップ面に搭載された試料プレート搭載キャビティ壁と、
   を備えており、
   前記第一プレートと前記試料プレート搭載キャビティ壁は、試料システムの試料プレートを収容するように構成された試料プレート搭載キャビティを区画し、
   前記第二プレートは、
   第二トップ面と、
   前記ボトム面と前記第二トップ面の間を延びている磁石搭載キャビティ壁と、
   を備えており、
   前記第一プレート、前記第二プレート、および前記磁石搭載キャビティ壁は、自由浮遊磁石を収容するように構成された磁石搭載キャビティを区画する、
   磁気ベース。
2. 前記磁石搭載キャビティは、前記試料処理システムにおける磁気ヘッドのトップ磁石が前記第一トップ面に対して下位置にあるとき、当該トップ磁石によって前記自由浮遊磁石が前記ボトム面に対する第一位置へ移動し、前記試料プレートのウェルから前記磁気ヘッドへ磁性粒子を捕集することを許容するように構成されており、
   前記磁石搭載キャビティは、前記トップ磁石が前記第一トップ面に対して上位置にあるとき、前記磁性粒子が前記第一位置にある前記自由浮遊磁石に引き付けられて前記磁気ヘッドから解放されることを許容するように構成されており、
   前記磁石搭載キャビティは、前記トップ磁石からの磁力が実質的に不在である場合に、前記自由浮遊磁石が前記第二トップ面に対する第二位置へ下降して戻り、前記ウェル内に前記磁性粒子が分散することを許容するように構成されている、
   請求項１に記載の磁気ベース。
3. 前記磁石搭載キャビティは、前記磁気ヘッドが前記試料プレートを横切るように平行移動すると、前記下位置にある前記トップ磁石によって前記自由浮遊磁石が前記ボトム面に沿って平行移動することを許容するように構成されている、
   請求項２に記載の磁気ベース。
4. 前記磁石搭載キャビティは、その表面に前記自由浮遊磁石を搭載し、当該表面に対する当該自由浮遊磁石の動きを規制するための搭載構造を備えていない、
   請求項１に記載の磁気ベース。
5. 前記磁石搭載キャビティは、前記試料プレート搭載キャビティに搭載されたときの前記試料プレートにおける複数のウェルの一部のみの下方を延びる寸法を有している、
   請求項１に記載の磁気ベース。
6. 前記第一プレートは、前記第一トップ面に搭載されて前記試料プレート搭載キャビティを区画する複数の試料プレート搭載キャビティ壁をさらに備えており、
   前記試料プレート搭載キャビティ壁は、前記複数の試料プレート搭載キャビティ壁の一つであり、
   前記第二プレートは、前記ボトム面と前記第二トップ面の間を延びて前記磁石搭載キャビティを区画する複数の磁石搭載キャビティ壁をさらに備えており、
   前記磁石搭載キャビティ壁は、前記複数の磁石搭載キャビティ壁の一つである、
   請求項１に記載の磁気ベース。
7. 前記試料プレート搭載キャビティは、試料プレート搭載キャビティ前壁とこれに対向する試料プレート搭載キャビティ背壁により定められる長さ寸法を有しており、
   前記試料プレート搭載キャビティ前壁と前記試料プレート搭載キャビティ背壁は、前記複数の試料プレート搭載キャビティ壁の一つであり、
   前記磁石搭載キャビティは、磁石搭載キャビティ前壁とこれに対向する磁石搭載キャビティ背壁により定められる長さ寸法を有しており、
   前前磁石搭載キャビティ前壁と前後磁石搭載キャビティ背壁は、前記複数の磁石搭載キャビティ壁の一つである、
   請求項６に記載の磁気ベース。
8. 前記試料プレート搭載キャビティの長さ寸法は、前記磁石搭載キャビティの長さ寸法よりも大きい、
   請求項７に記載の磁気ベース。
9. 前記磁石搭載キャビティ内に自由浮遊磁石をさらに備えている、
   請求項１に記載の磁気ベース。
10. 前記自由浮遊磁石は、長さ、幅、および厚さを有するバーとして構成されている、
    請求項９に記載の磁気ベース。
11. 前記自由浮遊磁石は、その幅方向を横切るように分極されている、
    請求項１０に記載の磁気ベース。
12. 前記第二プレートは、各々が前記ボトム面と前記第二トップ面の間を延びて前記磁石搭載キャビティを区画する磁石搭載キャビティ前壁、当該磁石搭載キャビティ前壁に対向する磁石搭載キャビティ後壁、第一磁石搭載キャビティ側壁、および当該第一磁石搭載キャビティ側壁に対向する第二磁石搭載キャビティ側壁をさらに備えており、
    前記磁石搭載キャビティ壁は、前記磁石搭載キャビティ前壁、前記磁石搭載キャビティ後壁、前記第一磁石搭載キャビティ側壁、および前記第二磁石搭載キャビティ側壁の一つである、
    請求項１に記載に磁気ベース。
13. 前記磁石搭載キャビティ内に自由浮遊磁石をさらに備えており、
    前記自由浮遊磁石は、長さ、幅、および厚さを有するバーとして構成されている、
    請求項１２に記載の磁気ベース。
14. 前記自由浮遊磁石は、前記第一磁石搭載キャビティ側壁から前記第二磁石搭載キャビティ側壁までの長さとほぼ同じ長さを有するように延びている、
    請求項１３に記載の磁気ベース。
15. 前記磁石搭載キャビティ内に複数の自由浮遊磁石をさらに備えており、
    前記自由浮遊磁石は、前記複数の自由浮遊磁石の一つである、
    請求項９に記載の磁気ベース。
16. 前記複数の自由浮遊磁石は、リニアアレイを形成するように配列されている、
    請求項１５に記載の磁気ベース。
17. 前記第一プレートおよび前記試料プレート搭載キャビティ壁を備えているカバー部と、
    前記第二プレートおよび前記磁石搭載キャビティ壁を備えておりベース部と、
    をさらに備えており、
    前記カバー部は、前記ベース部に対して取り外し可能に搭載されている、
    請求項１に記載の磁気ベース。
18. 上面を有するベースと、
    前記上面に搭載された磁気ベースと、
    前記ベースに搭載された磁気ヘッドと、
    を備えており、
    前記磁気ベースは、
    第一プレートと、
    前記第一プレートと平行に延びる第二プレートと、
    を備えており、
    前記第一プレートは、
    第一トップ面と、
    ボトム面と、
    前記第一トップ面に搭載された試料プレート搭載キャビティ壁と、
    を備えており、
    前記第一プレートと前記試料プレート搭載キャビティ壁は、試料システムの試料プレートを収容するように構成された試料プレート搭載キャビティを区画し、
    前記第二プレートは、
    第二トップ面と、
    前記ボトム面と前記第二トップ面の間を延びている磁石搭載キャビティ壁と、
    を備えており、
    前記第一プレート、前記第二プレート、および前記磁石搭載キャビティ壁は、自由浮遊磁石を収容するように構成された磁石搭載キャビティを区画し、
    前記磁気ヘッドは、前記試料プレートの上方を平行移動方向に沿って平行移動するように前記ベースに搭載されており、
    前記磁気ヘッドは、
    チャネルを備えたハウジングと、
    前記チャネル内に搭載されたトップ磁石と、
    を備えており、
    前記トップ磁石は、前記第一トップ面に対して前記チャネル内で上位置と下位置の間を移動可能である、
    試料処理システム。
19. 前記磁石搭載キャビティは、前記試料処理システムにおける磁気ヘッドのトップ磁石が前記第一トップ面に対して下位置にあるとき、当該トップ磁石によって前記自由浮遊磁石が前記ボトム面に対する第一位置へ移動し、前記試料プレートのウェルから前記磁気ヘッドへ磁性粒子を捕集することを許容するように構成されており、
    前記磁石搭載キャビティは、前記トップ磁石が前記第一トップ面に対して上位置にあるとき、前記磁性粒子が前記第一位置にある前記自由浮遊磁石に引き付けられて前記磁気ヘッドから解放されることを許容するように構成されており、
    前記磁石搭載キャビティは、前記トップ磁石からの磁力が実質的に不在である場合に、前記自由浮遊磁石が前記第二トップ面に対する第二位置へ下降して戻り、前記ウェル内に前記磁性粒子が分散することを許容するように構成されている、
    請求項１８に記載の試料処理システム。
20. 前記トップ磁石を電子制御によって自動的に前記上位置と前記下位置の間で移動させるように構成された駆動システムをさらに備えている、
    請求項１９に記載の試料処理システム。

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