JP2019217672A - Film with base layer, transparent conductive film, transparent conductive film laminate and image display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、下地層付きフィルム、透明導電性フィルム、透明導電性フィルム積層体および画像表示装置に関する。 The present invention relates to a film with a base layer, a transparent conductive film, a transparent conductive film laminate, and an image display device.
従来から、インジウムスズ複合酸化物からなる透明導電層を所望の電極パターンとなるように透明基材の上に形成した透明導電性フィルムが、タッチパネルなどの光学用途に用いられる。 BACKGROUND ART Conventionally, a transparent conductive film in which a transparent conductive layer made of an indium tin composite oxide is formed on a transparent substrate so as to have a desired electrode pattern has been used for optical applications such as a touch panel.
例えば、特許文献1には、透明樹脂フィルムと、ハードコート層と、光学調整層と、透明導電層とを順に備える透明導電性フィルムが開示されている。このような特許文献1の透明導電性フィルムにおいて、ハードコート層は、透明導電性フィルムに耐擦傷性を付与するために設けられ、光学調整層は、電極パターンが視認されないようにするために設けられている。
For example,
ところで、近年、電極パターン(パターン部)を通過する光量と、電極パターン以外の部分(非パターン部)を通過する光量との差を低減(半減)できて、電極パターンの視認を抑制しやすい観点から、透明導電性フィルムを偏光フィルムよりも液晶セル側(視認側とは反対側)に配置するインナーセル型の画像表示装置が検討されている。 By the way, in recent years, the difference between the amount of light passing through the electrode pattern (pattern portion) and the amount of light passing through portions other than the electrode pattern (non-pattern portion) can be reduced (halved), and the visibility of the electrode pattern is easily suppressed. Therefore, an inner cell type image display device in which a transparent conductive film is disposed on the liquid crystal cell side (the side opposite to the viewing side) with respect to the polarizing film has been studied.
このような画像表示装置では、偏光フィルムを通過した偏光が、透明導電性フィルムを通過するため、透明導電性フィルムには、偏光の解消を抑制する観点から、面内位相差が低い特性が必要とされる。そのため、透明基材として、シクロオレフィン系フィルムなどの位相差が低いフィルムが用いられている。 In such an image display device, since the polarized light that has passed through the polarizing film passes through the transparent conductive film, the transparent conductive film needs to have a property that the in-plane retardation is low from the viewpoint of suppressing the elimination of polarized light. It is said. Therefore, a film having a low retardation such as a cycloolefin-based film is used as the transparent base material.
しかしながら、透明基材に透明導電層を形成して透明導電性フィルムを製造すると、透明導電性フィルムの厚み方向位相差が大幅に上昇する不具合が生じる。その結果、斜め方向からの色変化が生じる。 However, when a transparent conductive film is produced by forming a transparent conductive layer on a transparent base material, there occurs a problem that the phase difference in the thickness direction of the transparent conductive film is significantly increased. As a result, a color change occurs in an oblique direction.
本発明は、偏光の解消を抑制しつつ、斜め方向からの色変化を抑制することができる下地層付きフィルム、透明導電性フィルム、透明導電性フィルム積層体および画像表示装置を提供する。 The present invention provides a film with a base layer, a transparent conductive film, a transparent conductive film laminate, and an image display device, which can suppress color change from an oblique direction while suppressing elimination of polarized light.
本発明[1]は、透明基材と、前記透明基材の厚み方向一方側に配置される下地層と
を備え、波長590nmにおける面内位相差が、10.0nm以下であり、前記下地層の前記厚み方向一方側から200nm深さにおける塑性変形量が、50nm以下である、下地層付きフィルムを含む。
The present invention [1] includes a transparent substrate and an underlayer disposed on one side in the thickness direction of the transparent substrate, wherein the in-plane retardation at a wavelength of 590 nm is 10.0 nm or less, and A film with a base layer, wherein the amount of plastic deformation at a depth of 200 nm from one side in the thickness direction is 50 nm or less.
本発明[2]は、前記下地層が、ハードコート層と、前記ハードコート層の厚み方向一方側に配置される光学調整層とを備える、[1]に記載の下地層付きフィルムを含む。 The present invention [2] includes the film with an underlayer according to [1], wherein the underlayer includes a hard coat layer and an optical adjustment layer disposed on one side in the thickness direction of the hard coat layer.
本発明[3]は、前記下地層の厚みが、0.5μm以上、2.0μm以下である、[1]または[2]に記載の下地層付きフィルムを含む。 The present invention [3] includes the film with an underlayer according to [1] or [2], wherein the thickness of the underlayer is 0.5 μm or more and 2.0 μm or less.
本発明[4]は、[1]〜[3]のいずれか一項に記載の下地層付きフィルムと、前記下地層付きフィルムの厚み方向一方側に配置される透明導電層とを備える、透明導電性フィルムを含む。 The present invention [4] provides a transparent film comprising: the film with an underlayer according to any one of [1] to [3]; and a transparent conductive layer disposed on one side in a thickness direction of the film with an underlayer. Including conductive film.
本発明[5]は、150℃、90分で加熱した際における熱収縮率が、0.10%以下である、[4]に記載の透明導電性フィルムを含む。 The present invention [5] includes the transparent conductive film according to [4], which has a heat shrinkage of 0.10% or less when heated at 150 ° C. for 90 minutes.
本発明[6]は、130℃、90分で加熱した際における厚み方向位相差が、8.0nm以下である、[4]または[5]に記載の透明導電性フィルムを含む。 The present invention [6] includes the transparent conductive film according to [4] or [5], wherein a thickness direction retardation when heated at 130 ° C. for 90 minutes is 8.0 nm or less.
本発明[7]は、偏光子と、[4]〜[6]のいずれか一項に記載の透明導電性フィルムとを備える、透明導電性フィルム積層体を含む。 The present invention [7] includes a transparent conductive film laminate including a polarizer and the transparent conductive film according to any one of [4] to [6].
本発明[8]は、画像表示素子と、[7]に記載の透明導電性フィルム積層体とを備え、前記透明導電性フィルムが、前記偏光子と前記画像表示素子との間に配置される、画像表示装置を含む。 The present invention [8] includes an image display device and the transparent conductive film laminate according to [7], and the transparent conductive film is disposed between the polarizer and the image display device. , An image display device.
本発明の下地層付きフィルムによれば、透明基材と下地層とを備え、波長590nmにおける面内位相差が、10.0nm以下であり、下地層の前記厚み方向一方側から200nm深さにおける塑性変形量が、50nm以下である。そのため、本発明の下地層付きフィルムに透明導電層を形成して、本発明の透明導電性フィルムおよび透明導電性フィルム積層体を製造すると、これらを通過する偏光の解消を抑制することができる。また、斜め方向からの光の色変化を抑制することができる。 According to the film with an underlayer of the present invention, a transparent substrate and an underlayer are provided, the in-plane retardation at a wavelength of 590 nm is 10.0 nm or less, and the underlayer at a depth of 200 nm from one side in the thickness direction. The amount of plastic deformation is 50 nm or less. Therefore, when a transparent conductive layer is formed on the film with an underlayer of the present invention and the transparent conductive film and the transparent conductive film laminate of the present invention are manufactured, the elimination of polarized light passing through them can be suppressed. Further, it is possible to suppress a color change of light from an oblique direction.
また、本発明の画像表示装置は、本発明の透明導電性フィルムおよび透明導電性フィルム積層体を備えるため、斜め方向においても所望の色を発する画像を視認することができる。 Further, since the image display device of the present invention includes the transparent conductive film and the transparent conductive film laminate of the present invention, an image emitting a desired color can be visually recognized even in an oblique direction.
<一実施形態>
図1〜図4を参照して、本発明の下地層付きフィルム、透明導電性フィルム、透明導電性フィルム積層体および画像表示装置のそれぞれの一実施形態を説明する。
<One embodiment>
With reference to FIGS. 1 to 4, each embodiment of the film with a base layer, the transparent conductive film, the transparent conductive film laminate, and the image display device of the present invention will be described.
図1において、紙面上下方向は、上下方向(厚み方向、第1方向)であって、紙面上側が、上側(厚み方向一方側、第1方向一方側)、紙面下側が、下側(厚み方向他方側、第1方向他方側)である。また、紙面左右方向および奥行き方向は、上下方向に直交する面方向である。具体的には、各図の方向矢印に準拠する。 In FIG. 1, the vertical direction of the paper surface is the vertical direction (thickness direction, first direction), the upper side of the paper surface is the upper side (one side in the thickness direction, one side in the first direction), and the lower side of the paper surface is the lower side (the thickness direction). (The other side, the other side in the first direction). Further, the left-right direction and the depth direction of the paper are plane directions orthogonal to the up-down direction. Specifically, it conforms to the directional arrows in each figure.
1.下地層付きフィルム
図1に示すように、下地層付きフィルム1は、所定の厚みを有するフィルム形状(シート形状を含む)を有し、面方向に延び、平坦な上面および平坦な下面を有する。
1. Film with Underlayer As shown in FIG. 1, the film with
下地層付きフィルム1は、透明基材2と、下地層3とを備える。すなわち、下地層付きフィルム1は、透明基材2と、その上面に配置される下地層3とを備える。好ましくは、下地層付きフィルム1は、透明基材2と下地層3とからなる。
The underlayer-equipped
(透明基材)
透明基材2は、下地層付きフィルム1(ひいては、透明導電性フィルム6)の機械強度を確保するための透明な基材である。すなわち、透明基材2は、下地層3を支持し、また、後述する透明導電性フィルム6においては、後述する透明導電層7を、下地層3とともに支持する。
(Transparent substrate)
The
透明基材2は、下地層付きフィルム1の最下層であって、フィルム形状を有する。透明基材2は、下地層3の下面全面に、下地層3の下面と接触するように配置されている。
The
透明基材2は、透明性を有し、面内位相差および厚み方向位相差が低い材料から形成されている。
The
このような透明基材2の材料としては、例えば、シクロオレフィン系樹脂が挙げられる。すなわち、透明基材2は、好ましくは、シクロオレフィン系フィルムである。
As a material of such a
シクロオレフィン系樹脂は、シクロオレフィンモノマーを重合して得られ、主鎖の繰り返し単位中に脂環構造を有する高分子である。シクロオレフィン系樹脂は、好ましくは、非晶質シクロオレフィン系樹脂である。 The cycloolefin resin is a polymer obtained by polymerizing a cycloolefin monomer and having an alicyclic structure in a repeating unit of a main chain. The cycloolefin-based resin is preferably an amorphous cycloolefin-based resin.
シクロオレフィン系樹脂としては、例えば、シクロオレフィンモノマーからなるシクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンモノマーと、エチレンなどのオレフィンなどとの共重合体からなるシクロオレフィンコポリマーなどが挙げられる。 Examples of the cycloolefin-based resin include a cycloolefin polymer composed of a cycloolefin monomer and a cycloolefin copolymer composed of a copolymer of a cycloolefin monomer and an olefin such as ethylene.
シクロオレフィンモノマーとしては、例えば、ノルボルネン、メチルノルボルネン、ジメチルノルボルネン、エチリデンノルボルネン、ブチルノルボルネン、ジシクロペンタジエン、ジヒドロジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、トリシクロペンタジエンなどの多環式オレフィン、例えば、シクロブテン、シクロペンテン、シシクロオクタジエン、シクロオクタトリエンなどの単環式オレフィンなどが挙げられる。好ましくは、多環式オレフィンが挙げられる。これらシクロオレフィンは、単独使用または2種以上併用することができる。 As the cycloolefin monomer, for example, norbornene, methyl norbornene, dimethyl norbornene, ethylidene norbornene, butyl norbornene, dicyclopentadiene, dihydrodicyclopentadiene, tetracyclododecene, polycyclic olefins such as tricyclopentadiene, for example, cyclobutene, Monocyclic olefins such as cyclopentene, cyclooctadiene and cyclooctatriene are exemplified. Preferably, a polycyclic olefin is used. These cycloolefins can be used alone or in combination of two or more.
透明基材2の全光線透過率(JIS K 7375−2008)は、例えば、80%以上、好ましくは、85%以上である。
The total light transmittance (JIS K 7375-2008) of the
透明基材2の厚みは、機械的強度、透明導電性フィルム6をタッチパネル用フィルムとした際の打点特性などの観点から、例えば、2μm以上、好ましくは、20μm以上であり、また、例えば、300μm以下、好ましくは、150μm以下である。透明基材2の厚みは、例えば、マイクロゲージ式厚み計を用いて測定することができる。
The thickness of the
(下地層)
下地層3は、透明基材2、ひいては、後述する透明導電性フィルム6に、所望の機能(例えば、耐擦傷性、パターン視認抑制性)を付与するための層である。
(Underlayer)
The
下地層3は、ハードコート層4と、光学調整層5とを備える。すなわち、下地層3は、ハードコート層4と、その上面に配置される光学調整層5とを備える。好ましくは、下地層3は、ハードコート層4と光学調整層5とからなる。
The
ハードコート層4は、透明基材2が破損することを抑制するための層である。また、下地層付きフィルム1に透明導電層7を配置した際に、透明導電層7に傷が発生することを抑制するための層でもある。
The
ハードコート層4は、フィルム形状を有する。ハードコート層4は、透明基材2の上面全面に、透明基材2の上面に接触するように、配置されている。より具体的には、ハードコート層4は、透明基材2と光学調整層5との間に、透明基材2の上面および光学調整層5の下面に接触するように、配置されている。
The
ハードコート層4は、硬化樹脂層であって、ハードコート組成物から形成されている。ハードコート組成物は、樹脂を含有し、好ましくは、樹脂からなる。
The
樹脂としては、例えば、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂(例えば、ポリオレフィン樹脂)などが挙げられ、好ましくは、硬化性樹脂が挙げられる。 Examples of the resin include a curable resin and a thermoplastic resin (for example, a polyolefin resin), and preferably a curable resin.
硬化性樹脂としては、例えば、活性エネルギー線(具体的には、紫外線、電子線など)の照射により硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂、例えば、加熱により硬化する熱硬化性樹脂などが挙げられ、好ましくは、活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。 Examples of the curable resin include an active energy ray-curable resin that is cured by irradiation with an active energy ray (specifically, an ultraviolet ray, an electron beam, or the like), for example, a thermosetting resin that is cured by heating, and the like. Preferably, an active energy ray-curable resin is used.
活性エネルギー線硬化性樹脂は、例えば、分子中に重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を有するポリマーが挙げられる。そのような官能基としては、例えば、ビニル基、(メタ)アクリロイル基(メタクリロイル基および/またはアクリロイル基)などが挙げられる。 Examples of the active energy ray-curable resin include a polymer having a functional group having a polymerizable carbon-carbon double bond in a molecule. Examples of such a functional group include a vinyl group and a (meth) acryloyl group (methacryloyl group and / or acryloyl group).
特に、活性エネルギー線硬化性樹脂は、塑性変形量を低くできる観点から、好ましくは、多官能アクリロイルユニットを有する。多官能アクリロイルユニットとしては、例えば、ペンタエリスリトールテトラアクリレート由来ユニットなどのペンタエリスリトールポリアクリレート由来ユニット、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート由来ユニットなどのジペンタエリスリトールポリアクリレート由来ユニットが挙げられ、好ましくは、ジペンタエリスリトールポリアクリレート由来ユニットが挙げられる。 In particular, the active energy ray-curable resin preferably has a polyfunctional acryloyl unit from the viewpoint of reducing the amount of plastic deformation. Examples of the polyfunctional acryloyl unit include, for example, a unit derived from pentaerythritol polyacrylate such as a unit derived from pentaerythritol tetraacrylate, and a unit derived from dipentaerythritol polyacrylate such as a unit derived from dipentaerythritol hexaacrylate. Units derived from pentaerythritol polyacrylate are exemplified.
活性エネルギー線硬化性樹脂としては、具体的には、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレートなどの(メタ)アクリル系紫外線硬化性樹脂が挙げられる。好ましくは、靱性および塑性変形量の観点から、ウレタンアクリレートが挙げられる。より好ましくは、多官能アクリロイルユニットがポリイソシアネートによって変性されているウレタンアクリレートが挙げられる。 Specific examples of the active energy ray-curable resin include, for example, (meth) acrylic ultraviolet curable resins such as urethane acrylate and epoxy acrylate. Preferably, from the viewpoint of toughness and plastic deformation, urethane acrylate is used. More preferably, a urethane acrylate in which a polyfunctional acryloyl unit is modified with a polyisocyanate is used.
ポリイソシアネートとしては、例えば、イソホロンジイソシナネートなどの脂環式ポリイソシアネートが挙げられる。 Examples of the polyisocyanate include alicyclic polyisocyanates such as isophorone diisocyanate.
また、活性エネルギー線硬化性樹脂以外の硬化性樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマー、有機シラン縮合物などが挙げられる。 Curable resins other than the active energy ray-curable resin include, for example, urethane resins, melamine resins, alkyd resins, siloxane polymers, and organic silane condensates.
これら樹脂は、単独使用または2種以上併用することができる。 These resins can be used alone or in combination of two or more.
ハードコート組成物は、必要に応じて、粒子を含有することもできる。粒子としては、例えば、光学調整層5で例示する粒子が挙げられる。 The hard coat composition can also contain particles, if necessary. Examples of the particles include particles exemplified in the optical adjustment layer 5.
ハードコート組成物には、さらに、重合開始剤、可塑剤、酸化防止剤、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤などの公知の添加剤を含有することができる。 The hard coat composition may further contain known additives such as a polymerization initiator, a plasticizer, an antioxidant, a leveling agent, a thixotropic agent, and an antistatic agent.
ハードコート層4の厚みは、耐擦傷性の観点から、例えば、0.2μm以上、好ましくは、0.5μm以上であり、また、例えば、10μm以下、好ましくは、2.0μm以下である。ハードコート層4の厚みは、例えば、瞬間マルチ測光システムを用いて観測される干渉スペクトルの波長に基づいて算出することができる。
From the viewpoint of abrasion resistance, the thickness of the
光学調整層5は、透明導電性フィルム6において、透明導電層7のパターンの視認を抑制しつつ、透明性を確保するために、下地層付きフィルム1(ひいては、透明導電性フィルム6)の光学物性(例えば、屈折率)を調整する層である。
In the transparent
光学調整層5は、下地層付きフィルム1の最上層であって、フィルム形状を有する。光学調整層5は、ハードコート層4の上面全面に、ハードコート層4の上面に接触するように、配置されている。
The optical adjustment layer 5 is the uppermost layer of the
光学調整層5は、光学調整組成物から形成されている。光学調整組成物は、樹脂および粒子を含有し、好ましくは、樹脂および粒子からなる。 The optical adjustment layer 5 is formed from an optical adjustment composition. The optical adjustment composition contains a resin and particles, and preferably comprises a resin and particles.
樹脂としては、例えば、ハードコート組成物で用いる樹脂と同一のものが挙げられる。樹脂は、単独使用または2種以上併用することができる。好ましくは、硬化性樹脂、より好ましくは、活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。 Examples of the resin include the same resins as those used in the hard coat composition. The resins can be used alone or in combination of two or more. Preferably, a curable resin, more preferably, an active energy ray-curable resin is used.
樹脂の含有割合は、光学調整組成物に対して、例えば、10質量%以上、好ましくは、20質量%以上であり、また、例えば、70質量%以下、好ましくは、60質量%以下、より好ましくは、45質量%以下である。 The content ratio of the resin is, for example, 10% by mass or more, preferably 20% by mass or more, and for example, 70% by mass or less, preferably 60% by mass or less, based on the optical adjustment composition. Is 45% by mass or less.
粒子としては、光学調整層5の求める屈折率に応じて好適な材料を選択することができ、無機粒子、有機粒子などが挙げられる。無機粒子としては、例えば、シリカ粒子、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズなどからなる金属酸化物粒子、例えば、炭酸カルシウムなどの炭酸塩粒子などが挙げられる。有機粒子としては、例えば、架橋アクリル樹脂粒子などが挙げられる。粒子は、単独使用または2種以上併用することができる。 As the particles, a suitable material can be selected according to the refractive index required of the optical adjustment layer 5, and examples thereof include inorganic particles and organic particles. Examples of the inorganic particles include silica particles, for example, metal oxide particles composed of zirconium oxide, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, and the like, for example, carbonate particles such as calcium carbonate. Examples of the organic particles include crosslinked acrylic resin particles. The particles can be used alone or in combination of two or more.
粒子としては、好ましくは、無機粒子、より好ましくは、金属酸化物粒子、さらに好ましくは、酸化ジルコニウム粒子(ZnO2)が挙げられる。 The particles preferably include inorganic particles, more preferably metal oxide particles, and still more preferably zirconium oxide particles (ZnO 2 ).
粒子の平均粒子径(D50)は、例えば、10nm以上、好ましくは、30nm以上であり、また、例えば、100nm以下、好ましくは、50nm以下である。 The average particle diameter (D 50 ) of the particles is, for example, 10 nm or more, preferably 30 nm or more, and for example, 100 nm or less, preferably 50 nm or less.
粒子の平均粒子径は、体積基準による粒度分布の平均粒子径(D50)を示し、例えば、粒子を水中に分散させた溶液を、光回折・散乱法により測定することができる。 The average particle diameter of the particles indicates an average particle diameter (D 50 ) of a particle size distribution on a volume basis, and for example, a solution in which particles are dispersed in water can be measured by a light diffraction / scattering method.
粒子の含有割合は、光学調整組成物に対して、例えば、30質量%以上、好ましくは、40質量%以上、好ましくは、55質量%以上であり、また、例えば、90質量%以下、好ましくは、80質量%以下である。粒子の含有量が上記下限以上であれば、下地層3の塑性変形量をより確実に低くすることができる。
The content ratio of the particles is, for example, 30% by mass or more, preferably 40% by mass or more, preferably 55% by mass or more with respect to the optical adjustment composition, and for example, 90% by mass or less, preferably , 80% by mass or less. When the content of the particles is equal to or more than the above lower limit, the amount of plastic deformation of the
光学調整組成物には、さらに、重合開始剤、可塑剤、酸化防止剤、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤などの公知の添加剤を含有することができる。 The optical adjustment composition may further contain known additives such as a polymerization initiator, a plasticizer, an antioxidant, a leveling agent, a thixotropic agent, and an antistatic agent.
光学調整層5の屈折率は、例えば、1.50以上、好ましくは、1.60以上であり、また、例えば、1.80以下、好ましくは、1.75以下である。屈折率は、例えば、アッベ屈折率計により測定することができる。 The refractive index of the optical adjustment layer 5 is, for example, 1.50 or more, preferably 1.60 or more, and is, for example, 1.80 or less, preferably 1.75 or less. The refractive index can be measured by, for example, an Abbe refractometer.
光学調整層5の厚みは、例えば、30nm以上、好ましくは、50nm以上であり、また、例えば、150nm以下、好ましくは、120nm以下である。光学調整層の厚みは、例えば、瞬間マルチ測光システムを用いて観測される干渉スペクトルの波長に基づいて算出することができる。 The thickness of the optical adjustment layer 5 is, for example, 30 nm or more, preferably 50 nm or more, and for example, 150 nm or less, preferably 120 nm or less. The thickness of the optical adjustment layer can be calculated based on, for example, the wavelength of an interference spectrum observed using an instantaneous multi-photometry system.
光学調整層5の厚みに対する、ハードコート層4の厚みの比(ハードコート層/光学調整層)は、例えば、2以上、好ましくは、5以上であり、また、例えば、20以下、好ましくは、15以下である。上記比が上記範囲であれば、耐擦傷性およびパターン視認抑制を良好にしつつ、透明導電性フィルム6の厚み方向位相差の上昇を確実に抑制することができる。
The ratio of the thickness of the
下地層3の上面3A(すなわち、光学調整層5の上面)からの塑性変形量は、50nm以下、好ましくは、45nm以下、より好ましくは、40nm以下、さらに好ましくは、38nm以下であり、また、例えば、10nm以上、好ましくは、20nm以上である。塑性変形量が上記上限以下であれば、下地層3の上面に透明導電層7を形成する際に、透明基材2、ひいては、透明導電性フィルム6の厚み方向位相差の上昇を抑制することができる。一方、塑性変形量が上記下限以上であれば、可撓性、耐衝撃性などに優れる。
The amount of plastic deformation from the upper surface 3A of the underlayer 3 (that is, the upper surface of the optical adjustment layer 5) is 50 nm or less, preferably 45 nm or less, more preferably 40 nm or less, and still more preferably 38 nm or less. For example, it is 10 nm or more, preferably 20 nm or more. When the amount of plastic deformation is equal to or less than the upper limit, when forming the transparent
塑性変形量は、JIS Z 2255に準拠して、下地層3の上面3Aから深さ200nmの範囲で測定する。詳しい条件は、実施例にて詳述する。
The amount of plastic deformation is measured in a range from the upper surface 3A of the
下地層3の厚みは、例えば、0.3μm以上、好ましくは、0.5μm以上であり、また、例えば、10μm以下、好ましくは、2.0μm以下である。下地層3の厚みが上記範囲であれば、耐擦傷性およびパターン視認抑制を良好にしつつ、透明導電性フィルム6の厚み方向位相差の上昇を抑制することができる。
The thickness of the
(下地層付きフィルムの製造方法)
下地層付きフィルム1の製造方法を説明する。下地層付きフィルム1は、透明基材2を用意し、次いで、透明基材2に下地層3を設けることにより製造される。下地層付きフィルム1の製造は、好ましくは、ロールトゥロール方式により実施される。
(Production method of film with base layer)
A method for manufacturing the
まず、搬送方向(MD方向)に長尺な透明基材2を用意する。
First, a
好ましくは、面内位相差および厚み方向位相差が低い透明基材2を用意する。
Preferably, a
用意する透明基材2の面内位相差は、例えば、10.0nm以下、好ましくは、5.0nm以下である。透明基材2の厚み方向位相差は、例えば、30.0nm以下、好ましくは、20.0nm以下である。このような位相差の透明基材2を用いて透明導電性フィルム6を用意することにより、得られる下地層付きフィルム1や透明導電性フィルム6の面内位相差および厚み方向位相差をより一層低くすることができる。
The in-plane retardation of the prepared
必要に応じて、透明基材2とハードコート層4との密着性の観点から、透明基材2の上面に、例えば、スパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や下塗り処理を実施することができる。また、溶剤洗浄、超音波洗浄などにより透明基材2を除塵、清浄化することができる。
If necessary, from the viewpoint of the adhesiveness between the
次いで、透明基材2の上面に、下地層3を設ける。すなわち、透明基材2の上面に、ハードコート層4および光学調整層5を順に設ける。
Next, an
まず、透明基材2の上面に、ハードコート層4を設ける。例えば、透明基材2の上面にハードコート組成物を湿式塗工することにより、透明基材2の上面にハードコート層4を形成する。
First, the
具体的には、例えば、ハードコート組成物を溶媒で希釈した溶液(ワニス)を調製し、続いて、ハードコート組成物溶液を透明基材2の上面に塗布して、乾燥する。
Specifically, for example, a solution (varnish) prepared by diluting the hard coat composition with a solvent is prepared, and then the hard coat composition solution is applied to the upper surface of the
溶媒としては、例えば、有機溶媒、水系溶媒(具体的には、水)などが挙げられ、好ましくは、有機溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール化合物、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン化合物、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル化合物、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)などのエーテル化合物、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族化合物などが挙げられる。これら溶媒は、単独使用または2種以上併用することができる。 Examples of the solvent include an organic solvent, an aqueous solvent (specifically, water) and the like, and preferably an organic solvent. Examples of the organic solvent include alcohol compounds such as methanol, ethanol, and isopropyl alcohol; ketone compounds such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; ester compounds such as ethyl acetate and butyl acetate; and propylene glycol monomethyl ether (PGME ), For example, aromatic compounds such as toluene and xylene. These solvents can be used alone or in combination of two or more.
ハードコート組成物溶液における固形分濃度は、例えば、1質量%以上、好ましくは、10質量%以上であり、また、例えば、50質量%以下、好ましくは、40質量%以下である。 The solid content concentration in the hard coat composition solution is, for example, 1% by mass or more, preferably 10% by mass or more, and for example, 50% by mass or less, preferably 40% by mass or less.
塗布方法は、ハードコート組成物溶液および透明基材2に応じて適宜選択することができる。塗布方法としては、例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、エクストルージョンコート法などが挙げられる。
The application method can be appropriately selected according to the hard coat composition solution and the
乾燥温度は、例えば、50℃以上、好ましくは、70℃以上であり、例えば、200℃以下、好ましくは、100℃以下である。 The drying temperature is, for example, 50 ° C. or higher, preferably 70 ° C. or higher, for example, 200 ° C. or lower, preferably 100 ° C. or lower.
乾燥時間は、例えば、0.5分以上、好ましくは、1分以上であり、例えば、60分以下、好ましくは、20分以下である。 The drying time is, for example, 0.5 minutes or more, preferably 1 minute or more, for example, 60 minutes or less, and preferably 20 minutes or less.
その後、ハードコート組成物組成物が活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合は、ハードコート組成物溶液の乾燥後に、活性エネルギー線を照射することにより、活性エネルギー線硬化性樹脂を硬化させる。 Thereafter, when the hard coat composition contains an active energy ray-curable resin, the active energy ray-curable resin is cured by irradiating the hard coat composition solution with active energy rays after drying.
なお、ハードコート組成物が熱硬化性樹脂を含有する場合は、この乾燥工程により、溶媒の乾燥とともに、熱硬化性樹脂を熱硬化することができる。 When the hard coat composition contains a thermosetting resin, the drying step allows the solvent to be dried and the thermosetting resin to be thermoset.
これにより、透明基材2の上面に、ハードコート層4が形成される。
Thus, the
次いで、ハードコート層4の上面に、光学調整層5を設ける。例えば、ハードコート層4の上面に光学調整組成物を湿式塗工することにより、ハードコート層4の上面に光学調整層5を形成する。
Next, the optical adjustment layer 5 is provided on the upper surface of the
具体的には、例えば、光学調整組成物を溶媒で希釈した溶液(ワニス)を調製し、続いて、光学調整組成物溶液をハードコート層4の上面に塗布して、乾燥する。
Specifically, for example, a solution (varnish) prepared by diluting the optical adjustment composition with a solvent is prepared, and then the optical adjustment composition solution is applied to the upper surface of the
塗布および乾燥の条件などは、ハードコート層4の形成時の条件と同様である。
The conditions for application and drying are the same as the conditions for forming the
その後、光学調整組成物が活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合は、光学調整組成物の乾燥後に、活性エネルギー線を照射することにより、活性エネルギー線硬化性樹脂を硬化させる。 Then, when the optical adjustment composition contains an active energy ray-curable resin, the active energy ray-curable resin is cured by irradiating the active energy ray after drying the optical adjustment composition.
なお、光学調整組成物が熱硬化性樹脂を含有する場合は、この乾燥工程により、溶媒の乾燥とともに、熱硬化性樹脂を熱硬化することができる。 In the case where the optical adjustment composition contains a thermosetting resin, the drying step allows the thermosetting resin to be thermoset together with the drying of the solvent.
これにより、ハードコート層4の上面に光学調整層5が形成されて、ハードコート層4および光学調整層5から構成される下地層3が形成される。すなわち、透明基材2と、その上面に配置される下地層3とを備える下地層付きフィルムが得られる。具体的には、透明基材2と、透明基材2の上面に配置されるハードコート層4と、ハードコート層4の上面に配置される光学調整層5とを備える下地層付きフィルムが得られる。
As a result, the optical adjustment layer 5 is formed on the upper surface of the
得られる下地層付きフィルム1の厚みは、例えば、2μm以上、好ましくは、20μm以上であり、また、例えば、300μm以下、好ましくは、150μm以下である。
The thickness of the obtained
下地層付きフィルム1の面内位相差は、10.0nm以下、好ましくは、8.0nm以下、より好ましくは、5.0nm以下である。
The in-plane retardation of the
下地層付きフィルム1の厚み方向位相差は、例えば、10.0nm以下、好ましくは、8.0nm以下、より好ましくは、6.0nm以下である。
The thickness direction retardation of the
本発明において、面内位相差および厚み方向位相差は、23℃、波長590nmにおける位相差であって、例えば、偏光・位相差測定システム(アクソメトリックス社製、商品名「アクソスキャン」)を用いて測定することができる。 In the present invention, the in-plane retardation and the thickness direction retardation are retardations at 23 ° C. and a wavelength of 590 nm, for example, using a polarization / phase difference measurement system (Axometrics, trade name “Axoscan”). Can be measured.
なお、面内位相差R0は、式:R0=(nx−ny)×dによって算出される。厚み位相差Rthは、式:Rth=(nx−nz)×dによって算出される。ここで、nxは面内の屈折率が最大になる方向(すなわち、遅相軸方向)の屈折率であり、nyは面内で遅相軸と直交する方向の屈折率であり、nzは厚み方向の屈折率であり、dはフィルムの厚み(nm)である。 Note that the in-plane retardation R 0 is calculated by the formula: R 0 = (nx−ny) × d. The thickness phase difference Rth is calculated by the formula: Rth = (nx−nz) × d. Here, nx is the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index becomes maximum (that is, the slow axis direction), ny is the refractive index in the direction perpendicular to the slow axis in the plane, and nz is the thickness. And d is the thickness (nm) of the film.
(用途)
下地層付きフィルム1は、例えば、透明導電性フィルム6の製造に用いられる。具体的には、下地層付きフィルム1は、透明導電性フィルム6において、透明導電層7を支持するための支持フィルムとして用いられる。下地層付きフィルム1は、例えば、後述する透明導電性フィルム6、透明導電性フィルム積層体8、画像表示装置11などを作製するための一部品である。すなわち、下地層付きフィルム1は後述する透明導電層7、偏光子10および画像表示素子14(液晶セルなど)を含まず、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。
(Application)
The
そして、下地層付きフィルム1を用いて、透明導電性フィルム6を製造すれば、透明導電性フィルム6の斜め方向からの色変化を抑制することができる。具体的には、下地層付きフィルム1は、下地層3の塑性変形量が50nm以下である。すなわち、下地層3が塑性変形しにくい。そのため、下地層3の上面に透明導電層7を設けた際に、下地層付きフィルム(特に、透明基材2)において、熱収縮などの変形を抑制することができる。したがって、下地層付きフィルム(特に、透明基材2)の位相差(特に、厚み方向位相差)の大幅な上昇を抑制することができる。その結果、得られる透明導電性フィルム6の厚み方向位相差の大幅な上昇を抑制することができ、斜め方向からの光の色変化を抑制することができる。
When the transparent
また、下地層付きフィルム1は、面内位相差が10.0nm以下である。したがって、得られる透明導電性フィルム6の面内位相差も低くなり、透明導電性フィルム6を透過する偏光に対して、偏光解消を抑制することができる。
The
2.透明導電性フィルム
図2に示すように、透明導電性フィルム6は、所定の厚みを有するフィルム形状を有し、面方向に延び、平坦な上面および平坦な下面を有する。
2. 2. Transparent conductive film As shown in FIG. 2, the transparent
透明導電性フィルム6は、下地層付きフィルム1と、その上面に配置される透明導電層7とを備える。すなわち、透明導電性フィルム6は、透明基材2と、透明基材2の上面に配置されるハードコート層4と、ハードコート層4の上面に配置される光学調整層5と、光学調整層5の上面に配置される透明導電層7とを備える。好ましくは、透明導電性フィルム6は、透明基材2とハードコート層4と光学調整層5と透明導電層7とからなる。
The transparent
(透明導電層)
透明導電層7は、必要に応じて結晶化し、後工程で所望のパターンに形成するための導電層である。
(Transparent conductive layer)
The transparent
透明導電層7は、透明導電性フィルム6の最上層であって、フィルム形状を有する。透明導電層7は、下地層3の上面全面に、下地層3の上面(すなわち、光学調整層5の上面)に接触するように、配置されている。
The transparent
透明導電層7の材料としては、例えば、In、Sn、Zn、Ga、Sb、Ti、Si、Zr、Mg、Al、Au、Ag、Cu、Pd、Wからなる群より選択される少なくとも1種の金属を含む金属酸化物が挙げられる。金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子をドープしていてもよい。
The material of the transparent
透明導電層7としては、具体的には、例えば、インジウムスズ複合酸化物(ITO)などのインジウム含有酸化物、例えば、アンチモンスズ複合酸化物(ATO)などのアンチモン含有酸化物などが挙げられ、好ましくは、インジウム含有酸化物が挙げられ、より好ましくは、ITOが挙げられる。
Specific examples of the transparent
透明導電層7がITO層などのインジウムスズ複合酸化物層である場合、酸化スズ(SnO2)含有割合は、酸化スズおよび酸化インジウム(In2O3)の合計量に対して、例えば、0.5質量%以上、好ましくは、3質量%以上であり、また、例えば、30質量%以下、好ましくは、15質量%以下である。酸化スズの含有割合が上記下限以上であれば、透明導電層7の耐久性をより一層良好にすることができる。また、酸化スズの含有割合が上記上限以下であれば、透明導電層7の結晶転化を容易にし、透明性や表面抵抗の安定性を向上させることができる。
When the transparent
本明細書中における「ITO」とは、少なくともインジウム(In)とスズ(Sn)とを含む複合酸化物であればよく、これら以外の追加成分を含んでもよい。追加成分としては、例えば、In、Sn以外の金属元素が挙げられ、具体的には、Zn、Ga、Sb、Ti、Si、Zr、Mg、Al、Au、Ag、Cu、Pd、W、Fe、Pb、Ni、Nb、Cr、Gaなどが挙げられる。 In the present specification, “ITO” may be a composite oxide containing at least indium (In) and tin (Sn), and may contain additional components other than these. Examples of the additional component include metal elements other than In and Sn. Specifically, Zn, Ga, Sb, Ti, Si, Zr, Mg, Al, Au, Ag, Cu, Pd, W, Fe , Pb, Ni, Nb, Cr, Ga and the like.
透明導電層7の表面抵抗は、例えば、500Ω/□以下、好ましくは、300Ω/□以下であり、また、例えば、10Ω/□以上である。表面抵抗は、例えば、4端子法により測定することができる。
The surface resistance of the transparent
透明導電層7の厚みは、例えば、10nm以上、好ましくは、20nm以上であり、また、例えば、50nm以下、好ましくは、40nm以下である。透明導電層7の厚みは、例えば、瞬間マルチ測光システムを用いて測定することができる。
The thickness of the transparent
透明導電層7は、非晶質または結晶質のいずれであってもよい。
The transparent
透明導電層7が非結晶質か結晶質かは、例えば、透明導電層がITO層である場合は、20℃の塩酸(濃度5質量%)に15分間浸漬した後、水洗・乾燥し、15mm程度の間の端子間抵抗を測定することで判断できる。本明細書においては、塩酸(20℃、濃度:5質量%)への浸漬・水洗・乾燥後に、15mm間の端子間抵抗が10kΩを超過する場合、ITO層が非晶質とし、15mm間の端子間抵抗が10kΩ以下である場合、ITO層が結晶質とする。
Whether the transparent
(透明導電性フィルムの製造方法)
透明導電性フィルム6の製造方法を説明する。透明導電性フィルム6は、下地層付きフィルム1を用意し、次いで、下地層付きフィルム1の上面に透明導電層7を設けることにより、製造される。透明導電性フィルム6の製造は、好ましくは、ロールトゥロール方式により実施される。
(Method for producing transparent conductive film)
A method for manufacturing the transparent
透明導電層7は、例えば、乾式方法により、下地層3の上面(光学調整層5の上面)に形成される。
The transparent
乾式方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などが挙げられる。好ましくは、スパッタリング法が挙げられる。この方法により、薄膜であり、かつ、厚みが均一である透明導電層を形成することができる。 Examples of the dry method include a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method. Preferably, a sputtering method is used. According to this method, a transparent conductive layer which is a thin film and has a uniform thickness can be formed.
スパッタリング法は、真空チャンバー内にターゲットおよび被着体(下地層付きフィルム1)を対向配置し、ガスを供給するとともに電源から電圧を印加することによりガスイオンを加速しターゲットに照射させて、ターゲット表面からターゲット材料をはじき出して、そのターゲット材料を被着体表面に積層させる。
In the sputtering method, a target and an adherend (
スパッタリング法を採用する場合、ターゲット材としては、透明導電層7を構成する上述の無機物が挙げられ、好ましくは、ITOが挙げられる。ITOの酸化スズ濃度は、ITO層の耐久性、結晶化などの観点から、例えば、0.5質量%以上、好ましくは、3質量%以上であり、また、例えば、30質量%以下、好ましくは、15質量%以下である。
When the sputtering method is employed, the target material includes the above-described inorganic substance constituting the transparent
スパッタガスとしては、例えば、Arなどの不活性ガスが挙げられる。また、必要に応じて、酸素ガスなどの反応性ガスを併用することができる。反応性ガスを併用する場合において、反応性ガスの流量比は特に限定しないが、スパッタガスおよび反応性ガスの合計流量比に対して、例えば、0.1流量%以上5流量%以下である。 Examples of the sputtering gas include an inert gas such as Ar. If necessary, a reactive gas such as oxygen gas can be used in combination. When a reactive gas is used in combination, the flow ratio of the reactive gas is not particularly limited, but is, for example, 0.1 to 5% by flow with respect to the total flow ratio of the sputtering gas and the reactive gas.
スパッタリング法は、真空下で実施される。具体的には、スパッタリング時の気圧は、スパッタリングレートの低下抑制、放電安定性などの観点から、例えば、1Pa以下、好ましくは、0.7Pa以下である。 The sputtering method is performed under vacuum. Specifically, the pressure during sputtering is, for example, 1 Pa or less, and preferably 0.7 Pa or less, from the viewpoint of suppressing a decrease in the sputtering rate and discharging stability.
スパッタリング法に用いる電源は、例えば、DC電源、AC電源、MF電源およびRF電源のいずれであってもよく、また、これらの組み合わせであってもよい。 The power source used for the sputtering method may be, for example, any of a DC power source, an AC power source, an MF power source, and an RF power source, or a combination thereof.
また、所望厚みの透明導電層7を形成するために、ターゲット材やスパッタリングの条件などを適宜設定して複数回スパッタリングを実施してもよい。
In addition, in order to form the transparent
これにより、下地層3の上面に透明導電層7が形成される。すなわち、透明基材2、下地層3(ハードコート層4および光学調整層5)、および、透明導電層7を順に備える透明導電性フィルム6が得られる。なお、このとき、透明導電層7は、結晶化されていない非晶質透明導電層7aである。すなわち、透明導電性フィルム6は、非晶質透明導電層7aを備える非晶質透明導電性フィルム6aである。
Thereby, the transparent
透明導電性フィルム6の厚みは、例えば、2μm以上、好ましくは、20μm以上であり、また、例えば、100μm以下、好ましくは、50μm以下である。
The thickness of the transparent
非晶質透明導電性フィルム6aの面内方向位相差は、例えば、10.0nm以下、好ましくは、8.0nm以下、より好ましくは、5.0nm以下である。上記面内位相差が上記上限以下であれば、偏光解消を抑制することができる。
The in-plane phase difference of the amorphous transparent
非晶質透明導電性フィルム6aの厚み方向位相差は、例えば、15.0nm以下、好ましくは、13.0nm以下、より好ましくは、10.0nm以下である。上記厚み方向位相差が上記上限以下であれば、斜め方向からの色変化を抑制することができる。
The retardation in the thickness direction of the amorphous transparent
非晶質透明導電性フィルム6aは、150℃、90分で加熱した際における熱収縮率が、例えば、0.10%以下、好ましくは、0.08%以下、より好ましくは、0.06%以下である。
The amorphous transparent
すなわち、非晶質透明導電性フィルム6aを、第1方向(例えば、搬送方向:MD方向)および第2方向(例えば、搬送方向と直交する幅方向:TD方向)に延びる平面視矩形状に切断して、サンプルを作製する。そのサンプルを150℃、90分で加熱した際に、第1方向長さおよび第2方向長さの熱収縮率がいずれも、上記値の範囲となる。なお、熱収縮率(%)は、[{(加熱前の長さ)−(加熱後の長さ)}/(加熱前の長さ)×100]によって算出することができる。フィルムの長さは、23℃の環境下において測定される。
That is, the amorphous transparent
次いで、必要に応じて、透明導電性フィルム6の透明導電層7に対して、結晶転化処理を実施する。結晶転化処理により、透明導電層7の導電性を向上させるとともに、透明導電性フィルム6の厚み方向位相差を低減させることができる。
Next, as necessary, a crystal conversion treatment is performed on the transparent
具体的には、透明導電性フィルム6に大気下で加熱処理を実施する。
Specifically, the heat treatment is performed on the transparent
加熱処理は、例えば、赤外線ヒーター、オーブンなどを用いて実施することができる。 The heat treatment can be performed using, for example, an infrared heater, an oven, or the like.
加熱温度は、例えば、100℃以上、好ましくは、120℃以上であり、また、例えば、200℃以下、好ましくは、160℃以下である。 The heating temperature is, for example, 100 ° C. or higher, preferably 120 ° C. or higher, and is, for example, 200 ° C. or lower, preferably 160 ° C. or lower.
加熱時間は、加熱温度に応じて適宜決定されるが、例えば、10分以上、好ましくは、30分以上であり、また、例えば、5時間以下、好ましくは、3時間以下である。 The heating time is appropriately determined according to the heating temperature, but is, for example, 10 minutes or more, preferably 30 minutes or more, and is, for example, 5 hours or less, preferably 3 hours or less.
これにより、非晶質透明導電層7aは、結晶化透明導電層7bとなり、結晶化透明導電性フィルム6bが得られる。すなわち、このときの透明導電性フィルム6は、結晶化透明導電層7bを備える結晶化透明導電性フィルム6bである。
Thereby, the amorphous transparent
結晶化透明導電性フィルム6bの面内方向位相差(特に、非晶質透明導電性フィルム6aを130℃、90分で加熱した際における面相方向位相差)は、例えば、10.0nm以下、好ましくは、8.0nm以下、より好ましくは、5.0nm以下である。上記面内位相差が上記上限以下であれば、偏光解消を抑制することができる。
The in-plane directional retardation of the crystallized transparent
結晶化透明導電性フィルム6bの厚み方向位相差(特に、非晶質透明導電性フィルム6aを130℃、90分で加熱した際における厚み方向位相差)は、例えば、10.0nm以下、好ましくは、8.0nm以下、より好ましくは、5.0nm以下、さらに好ましくは、3.0nm以下である。上記厚み方向位相差が上記上限以下であれば、斜め方向からの色変化を抑制することができる。
The thickness direction retardation of the crystallized transparent
(用途)
透明導電性フィルム6は、例えば、画像表示装置11(後述)などの光学装置に備えられるタッチパネル用基材として用いられる。タッチパネルの形式としては、例えば、光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などの各種方式が挙げられ、特に静電容量方式のタッチパネルに好適に用いられる。
(Application)
The transparent
透明導電性フィルム6は、透明導電性フィルム積層体8、画像表示装置11などを作製するための一部品である。すなわち、透明導電性フィルム6は、偏光子10および画像表示素子14(液晶セルなど)を含まず、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。
The transparent
そして、透明導電性フィルム6では、面内位相差が10.0nm以下である下地層付きフィルム1を備えるため、面内位相差の値が小さい。そのため、透明導電性フィルム6を透過する偏光に対して、偏光解消を抑制することができる。
And since the transparent
また、透明導電性フィルム6は、200nm深さにおける塑性変形量が50nm以下である下地層付きフィルム1を備えるため、透明導電性フィルム6の厚み方向位相差の値を小さくすることができる。そのため、透明導電性フィルム6を透過する偏光に対して、色変化を抑制することができる。
Further, since the transparent
3.透明導電性フィルム積層体
図3に示すように、透明導電性フィルム積層体8は、所定の厚みを有するフィルム形状を有し、面方向に延び、平坦な上面および平坦な下面を有する。
3. Transparent Conductive Film Laminate As shown in FIG. 3, the transparent
透明導電性フィルム積層体8は、透明導電性フィルム6と、その上面に配置される第1粘着剤層9および偏光子10とを備える。すなわち、透明導電性フィルム積層体8は、透明基材2と、透明基材2の上面に配置されるハードコート層4と、ハードコート層4の上面に配置される光学調整層5と、光学調整層5の上面に配置される透明導電層7と、透明導電層7の上面に配置される第1粘着剤層9と、第1粘着剤層9の上面に配置される偏光子10とを備える。好ましくは、透明導電性フィルム積層体8は、透明基材2と、ハードコート層4と、光学調整層5と、透明導電層7と、第1粘着剤層9と、偏光子10とからなる。
The transparent
透明導電性フィルム積層体8において、透明導電層7は、好ましくは、結晶化透明導電層7bである。また、透明導電層7は、好ましくは、パターニングされており、パターン部15と非パターン部16とを備える。
In the transparent
パターニングは、透明導電性フィルム6の結晶転化の前または後に、例えば、公知のエッチングにより実施する。
The patterning is performed before or after the crystallization of the transparent
透明導電層7のパターンは、透明導電性フィルム6が適用される用途に応じて適宜決定されるが、例えば、ストライプ状などの電極パターンや配線パターンが挙げられる。
The pattern of the transparent
エッチングは、例えば、パターン部15および非パターン部16に対応するように、被覆部(マスキングテープなど)を透明導電層7の上に配置し、被覆部から露出する透明導電層7(非パターン部16)を、エッチング液を用いてエッチングする。エッチング液としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、蓚酸、リン酸およびこれらの混酸などの酸が挙げられる。その後、被覆部を、透明導電層7の上面から、例えば、剥離などによって、除去する。
The etching is performed, for example, by arranging a covering portion (such as a masking tape) on the transparent
これにより、図3に示すように、透明導電層7がパターニングされ、透明導電層7は、パターン部15と非パターン部16とを備える。
Thereby, as shown in FIG. 3, the transparent
(第1粘着剤層)
第1粘着剤層9は、透明導電性フィルム6と偏光子10とを接着するための層である。
(First adhesive layer)
The first pressure-
第1粘着剤層9は、フィルム形状を有する。第1粘着剤層9は、透明導電層7(パターン部15)の上面および側面とそれから露出する下地層3(非パターン部16)の上面全面とに、それらと接触するように、配置されている。また、第1粘着剤層9は、偏光子10の下面全面に、偏光子10の下面に接触するように配置されている。
The first pressure-
第1粘着剤層9の材料としては、例えば、アクリル系粘着剤、ブチルゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリウレタン系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、エポキシ系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、フッ素樹脂系粘着剤などが挙げられる。
Examples of the material of the first
第1粘着剤層9の厚みは、例えば、1μm以上、好ましくは、10μm以上であり、また、例えば、300μm以下、好ましくは、150μm以下である。
The thickness of the first pressure-
(偏光子)
偏光子10は、光を直線偏光に変換するための層である。
(Polarizer)
The
偏光子10は、透明導電性フィルム積層体8の最上層であって、フィルム形状を有する。偏光子10は、第1粘着剤層9の上面全面に、第1粘着剤層9の上面に接触するように、配置されている。
The
偏光子10としては、例えば、ヨウ素を含有するポリビニルアルコール系フィルムが挙げられる。
Examples of the
ポリビニルアルコール系フィルムの材料としては、例えば、ポリビニルアルコールおよびその誘導体が挙げられる。誘導体としては、例えば、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタールが挙げられる。また、誘導体として、例えば、ポリビニルアルコールをオレフィン(例えば、エチレン、プロピレン)、不飽和カルボン酸(アクリル酸、メタクリル酸など)、アクリルアミドなどで変性した変性体も挙げられる。 Examples of the material for the polyvinyl alcohol-based film include polyvinyl alcohol and derivatives thereof. Derivatives include, for example, polyvinyl formal and polyvinyl acetal. Derivatives also include, for example, modified products obtained by modifying polyvinyl alcohol with olefins (eg, ethylene and propylene), unsaturated carboxylic acids (such as acrylic acid and methacrylic acid), and acrylamide.
偏光子10は、ビニルアルコールまたはその誘導体からなるフィルムに、ヨウ素を添加し、次いで、延伸することにより得られる。
The
このような偏光子は、例えば、特開昭51−069644号公報、特開2000−338329号公報、国際公開2010/100917号パンフレット、特許第4691205号明細書、特許第4751481号明細書などに記載されている。 Such a polarizer is described in, for example, JP-A-51-069644, JP-A-2000-338329, International Publication 2010/100917, pamphlet No. 4691205, Japanese Patent No. 4751481, and the like. Have been.
偏光子10は、ポリビニルアルコール系フィルムの上面および下面のそれぞれに保護フィルムを備えていてもよい。すなわち、偏光子10は、ポリビニルアルコール系フィルムとその両面に配置される保護フィルムとを備える積層体であってもよい。保護フィルムの材料としては、例えば、上記した透明基材2の材料が挙げられる。
The
偏光子10の厚みは、例えば、1μm以上、好ましくは、好ましくは、5μm以上であり、また、例えば、200μm以下、好ましくは、100μm以下である。
The thickness of the
透明導電性フィルム積層体8は、例えば、透明導電性フィルム6の上面に、液状の粘着剤を塗布または粘着剤テープを配置して第1粘着剤層9を形成し、続いて、偏光子10を第1粘着剤層9の上面に配置することにより製造することができる。
The transparent
(用途)
透明導電性フィルム積層体8は、例えば、画像表示装置11などの光学装置に備えられるタッチパネル用基材として用いられる。
(Application)
The transparent
透明導電性フィルム積層体8は、画像表示装置11などを作製するための一部品である。すなわち、透明導電性フィルム積層体8は、画像表示素子14を含まず、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。
The transparent
そして、透明導電性フィルム積層体8は、透明導電性フィルム6を備えるため、偏光解消を抑制しつつ、斜め方向からの光の色変化を抑制することができる。
Since the transparent
4.画像表示装置
図4に示すように、画像表示装置11は、透明導電性フィルム積層体8と、その上面に配置される第2粘着剤層12および透明保護板13と、その下面に対向配置される画像表示素子14とを備える。すなわち、画像表示装置11は、画像表示素子14と、透明基材2と、ハードコート層4と、光学調整層5と、透明導電層7と、第1粘着剤層9と、偏光子10と、第2粘着剤層12と、透明保護板13とを厚み方向にこの順に備える。なお、図4において、上側が視認側であり、下側が画像表示素子側である。
4. Image Display Device As shown in FIG. 4, the
(第2接着剤層)
第2粘着剤層12は、透明導電性フィルム積層体8と透明保護板13とを接着するための層である。
(Second adhesive layer)
The second pressure-
第2粘着剤層12は、フィルム形状を有する。第2粘着剤層12は、偏光子10の上面全面および透明保護板13の下面全面に、偏光子10の上面および透明保護板13の下面に接触するように、配置されている。
The second pressure-
第2粘着剤層12の材料は、第1粘着剤層9で上記したものと同様のものが挙げられる。
The material of the second pressure-
第2粘着剤層12の厚みは、例えば、1μm以上、好ましくは、5μm以上であり、また、例えば、300μm以下、好ましくは、150μm以下である。
The thickness of the second pressure-
(透明保護板)
透明保護板13は、外部からの衝撃や汚れに対して、画像表示素子14などの画像表示装置内部部材を保護するための層である。
(Transparent protective plate)
The transparent
透明保護板13は、平面視略平板形状を有し、第2粘着剤層12の上面全面に、第2粘着剤層12の上面に接触するように、配置されている。
The transparent
透明保護板13は、透明性を備え、適度の厚みおよび機械的強度を有する。
The transparent
透明保護板13としては、例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂などの硬質性樹脂からなる樹脂板、例えば、ガラス板などが挙げられる。
Examples of the transparent
透明保護板13の厚みは、例えば、10μm以上、好ましくは、500μm以上であり、また、例えば、10mm以下、好ましくは、5mm以下である。
The thickness of the transparent
(画像表示素子)
画像表示素子14は、下地層付きフィルム1と間隔を隔てて対向配置されている。
(Image display device)
The
画像表示素子14としては、例えば、液晶セルが挙げられる。液晶セルは、図示しないが、液晶層と、液晶層の下側に配置される偏光子と、カラーフィルターとを備えている。
As the
画像表示装置11は、透明導電性フィルム6を備えるため、偏光子10と画像表示素子14との間の偏光解消が抑制されるとともに、斜め方向からの色変化が抑制されている。そのため、タッチパネル機能を備えつつ、斜め方向においても所望の色を発する画像を視認することができる。
Since the
<変形例>
上記した一実施形態では、下地層3は、ハードコート層4および光学調整層5を備えているが、例えば、図示しないが、下地層3は、ハードコート層4のみを備えていてもよく、また、光学調整層5のみを備えていてもよい。
<Modification>
In the above-described embodiment, the
好ましくは、下地層3は、ハードコート層4および光学調整層5の両方を備える。これにより、擦傷性およびパターン視認抑制機能の両立を図りつつ、透明導電性フィルム6の厚み方向位相差を小さくすることができる。
Preferably, the
また、図示しないが、上記した一実施形態は、透明基材2の下面に、ハードコート層4などの機能層をさらに備えることもできる。
Although not shown, the above-described embodiment may further include a functional layer such as a
以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。また、以下の記載において用いられる配合割合(含有割合)、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合(含有割合)、物性値、パラメータなど該当記載の上限値(「以下」、「未満」として定義されている数値)または下限値(「以上」、「超過」として定義されている数値)に代替することができる。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples. In addition, this invention is not limited to an Example and a comparative example at all. Specific numerical values such as the mixing ratio (content ratio), physical property values, and parameters used in the following description are the mixing ratios (corresponding to those described in the above-mentioned “Embodiment of the Invention”). Substitute the upper limit value (value defined as “less than” or “less than”) or the lower limit value (value defined as “over” or “exceeding”) such as content ratio, physical property value, parameter, etc. be able to.
(下地層付きフィルム)
実施例1
搬送方向(MD方向)に長尺な透明基材として、シクロオレフィン系フィルム(COPフィルム:厚み40μm、日本ゼオン社製、「ZEONOR ZF−16」、面内位相差R0:4nm、厚み方向位相差Rth:15nm)を用意した。ロールトゥロール方式により、下記のように下地層付きフィルムを製造した。
(Film with base layer)
Example 1
As a transparent base material long in the transport direction (MD direction), a cycloolefin-based film (COP film: thickness 40 μm, manufactured by Zeon Corporation, “ZEONOR ZF-16”, in-plane retardation R 0 : 4 nm, thickness direction position) Phase difference Rth: 15 nm). A film with an underlayer was produced by a roll-to-roll method as described below.
紫外線硬化型アクリル樹脂(アイカ工業社製、「Z−850−6L」)100質量部、および、有機溶媒(酢酸エチル50質量%とPGME50質量%との混合液)160質量部を混合して、ハードコート組成物溶液を調製した。ハードコート組成物溶液をCOPフィルムの上面に塗布し、80℃1分間で乾燥させた後、紫外線を照射した。これにより、厚み1.0μmのハードコート層をCOPフィルムの上面に形成した。 100 parts by mass of an ultraviolet curable acrylic resin (manufactured by Aika Kogyo Co., Ltd., "Z-850-6L") and 160 parts by mass of an organic solvent (a mixed solution of 50% by mass of ethyl acetate and 50% by mass of PGME) were mixed. A hard coat composition solution was prepared. The hard coat composition solution was applied on the upper surface of the COP film, dried at 80 ° C. for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet rays. Thus, a hard coat layer having a thickness of 1.0 μm was formed on the upper surface of the COP film.
次いで、ジルコニア粒子含有紫外線硬化型アクリル樹脂(JSR社製、「オプスターZ7412」)、および、PGME700質量部を混合して、光学調整組成物を調製した。光学調整組成物溶液をハードコート層の上面に塗布し、60℃1分間で乾燥させた後、紫外線を照射した。これにより、厚み100nmの光学調整層をハードコート層の上面に形成した。 Next, an ultraviolet curable acrylic resin containing zirconia particles ("OPSTAR Z7412" manufactured by JSR Corporation) and 700 parts by mass of PGME were mixed to prepare an optical adjustment composition. The optical adjustment composition solution was applied on the upper surface of the hard coat layer, dried at 60 ° C. for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet rays. Thus, an optical adjustment layer having a thickness of 100 nm was formed on the upper surface of the hard coat layer.
このようにして、COPフィルム、および、下地層(ハードコート層および光学調整層)を順に備える下地層付きフィルムを製造した。 In this way, a COP film and a film with an underlayer provided with an underlayer (a hard coat layer and an optical adjustment layer) in that order were manufactured.
実施例2〜4
光学調整組成物のジルコニア粒子含有紫外線硬化型アクリル樹脂を、表1に記載のジルコニア粒子含有紫外線硬化型アクリル樹脂に変更した以外は、実施例1と同様にして、下地層付きフィルムを製造した。
Examples 2 to 4
A film with a base layer was produced in the same manner as in Example 1, except that the zirconia particle-containing ultraviolet-curable acrylic resin of the optical adjustment composition was changed to the zirconia particle-containing ultraviolet-curable acrylic resin shown in Table 1.
比較例1
紫外線硬化型アクリル樹脂(DIC社製、「RC29−120」)100質量部、および、有機溶媒(酢酸エチル)160質量部を混合して、ハードコート組成物溶液を調製した。このハードコート組成物用畏敬を用いた以外は、実施例1と同様にして、下地層付きフィルムを製造した。
Comparative Example 1
A hard coat composition solution was prepared by mixing 100 parts by mass of an ultraviolet curable acrylic resin (manufactured by DIC, "RC29-120") and 160 parts by mass of an organic solvent (ethyl acetate). A film with an underlayer was produced in the same manner as in Example 1, except that the awe for the hard coat composition was used.
比較例2〜3
光学調整組成物のジルコニア粒子含有紫外線硬化型アクリル樹脂を、表1に記載のジルコニア粒子含有紫外線硬化型アクリル樹脂に変更した以外は、比較例1と同様にして、下地層付きフィルムを製造した。
Comparative Examples 2-3
A film with a base layer was manufactured in the same manner as in Comparative Example 1 except that the zirconia particle-containing ultraviolet-curable acrylic resin of the optical adjustment composition was changed to the zirconia particle-containing ultraviolet-curable acrylic resin shown in Table 1.
比較例4
紫外線硬化型アクリル樹脂(東洋インキ社製、「TYZ64−A12」)100質量部、および、有機溶媒(酢酸エチル)160質量部を混合して、ハードコート組成物溶液を調製し、このハードコート組成物溶液を用いてハードコート層を形成した。また、光学調整層を形成しなかった。これら以外は、実施例1と同様にして、COPフィルムおよびハードコート層のみを備える下地層付きフィルムを製造した。
Comparative Example 4
A hard coat composition solution was prepared by mixing 100 parts by mass of an ultraviolet curable acrylic resin (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., "TYZ64-A12") and 160 parts by mass of an organic solvent (ethyl acetate). A hard coat layer was formed using the solution. Further, no optical adjustment layer was formed. Except for these, in the same manner as in Example 1, a film with an underlayer including only a COP film and a hard coat layer was produced.
(透明導電性フィルム)
各実施例および各比較例の下地層付きフィルムにおいて、光学調整層(比較例4は、ハードコート層)の上面に、厚みが30nmである非晶質のITO層(透明導電層)を形成した。具体的には、巻き取り式スパッタリング装置を用いて、アルゴンガス98%および酸素ガス2%を導入した気圧0.4Paの真空雰囲気下で、ITOターゲットをスパッタリングした。ITOターゲットとしては、97質量%の酸化インジウムおよび3質量%の酸化スズの焼結体を用いた。このようにして、透明導電性フィルムを製造した。
(Transparent conductive film)
In the film with the underlayer of each of the examples and the comparative examples, an amorphous ITO layer (transparent conductive layer) having a thickness of 30 nm was formed on the upper surface of the optical adjustment layer (the hard coat layer in the comparative example 4). . Specifically, the ITO target was sputtered using a take-up type sputtering apparatus under a vacuum atmosphere with a pressure of 0.4 Pa into which 98% of argon gas and 2% of oxygen gas were introduced. As the ITO target, a sintered body of 97% by mass of indium oxide and 3% by mass of tin oxide was used. Thus, a transparent conductive film was manufactured.
(屈折率の測定)
各実施例および各比較例の下地層付きフィルムの光学調整層に対して、アッベ屈折率計を用いて、光学調整層の屈折率を測定した。光学調整層の屈折率は、いずれも、1.60〜1.68の範囲であった。
(Measurement of refractive index)
The refractive index of the optical adjustment layer was measured for each of the optical adjustment layers of the films with an underlayer of each of Examples and Comparative Examples using an Abbe refractometer. The refractive index of each of the optical adjustment layers was in the range of 1.60 to 1.68.
(塑性変形量の測定)
各実施例および各比較例の下地層付きフィルムの上面(光学調整層側)に対して、JIS Z 2255に準拠して、下記の条件にて、深さ200nmでの塑性変形量を測定した。結果を表1に示す。
(Measurement of plastic deformation)
The amount of plastic deformation at a depth of 200 nm was measured on the upper surface (on the optical adjustment layer side) of the film with the underlayer of each example and each comparative example under the following conditions in accordance with JIS Z 2255. Table 1 shows the results.
使用装置:ナノインデンター、Hysitoron社製「Triboindeter」
圧子:Berkobich(三角錐型)
測定モード:単一押し込み
測定温度:室温(23℃)
押し込み深さ:200nm
(面内位相素および厚み方向位相差の測定)
各実施例および各比較例の下地層付きフィルムおよび透明導電性フィルムにおいて、23℃の環境下で、偏光・位相差測定システム(アクソメトリックス社製、商品名「アクソスキャン」)を用いて、波長590nmにおける面内位相差R0および厚み方向位相差Rthを測定した。
Apparatus used: Nanoindenter, "Triboindeter" manufactured by Hysitron
Indenter: Berkovich (triangular pyramid type)
Measurement mode: Single push Measurement temperature: Room temperature (23 ° C)
Indentation depth: 200 nm
(Measurement of in-plane phase difference and thickness direction retardation)
In the film with an underlayer and the transparent conductive film of each Example and each Comparative Example, the wavelength was measured using a polarization / phase difference measurement system (manufactured by Axometrics, trade name “Axoscan”) at 23 ° C. The in-plane retardation R 0 and the thickness direction retardation Rth at 590 nm were measured.
各実施例および各比較例の透明導電性フィルムを130℃で90分間加熱して、ITO層を結晶化させた。得られた結晶化透明導性フィルムの面内位相差R0および厚み方向位相差Rthを上記と同様の条件で測定した。 The transparent conductive film of each example and each comparative example was heated at 130 ° C. for 90 minutes to crystallize the ITO layer. The in-plane retardation R 0 and thickness direction retardation Rth of the obtained crystallized transparent conductive film were measured under the same conditions as described above.
これらの結果を表1に示す。 Table 1 shows the results.
(熱収縮率の測定)
各実施例および各比較例の透明導電性フィルムをMD方向長さ20cm×TD方向長さ20cmの平面視正方形状に切断し、150℃で90分間加熱した。このときのMD方向およびTD方向の熱収縮率のそれぞれを、式([加熱前の長さ−加熱後の長さ]/加熱前の長さ×100%)に基づいて、測定した。結果を表1に示す。
(Measurement of heat shrinkage)
The transparent conductive films of the respective examples and comparative examples were cut into a square shape in plan view having a length of 20 cm in the MD direction × 20 cm in the TD direction, and heated at 150 ° C. for 90 minutes. At this time, each of the heat shrinkage in the MD direction and the TD direction was measured based on the formula ([length before heating−length after heating] / length before heating × 100%). Table 1 shows the results.
(斜め方向の色変化)
各実施例および各比較例の透明導電性フィルムを130℃で90分間加熱して、ITO層を結晶化させた。得られた結晶化透明導電性フィルムを、正面と上方斜め45度とから目視により観察した。
(Diagonal color change)
The transparent conductive film of each example and each comparative example was heated at 130 ° C. for 90 minutes to crystallize the ITO layer. The resulting crystallized transparent conductive film was visually observed from the front and 45 ° obliquely upward.
色味の変化が観察されなかった場合を◎と評価した。色味にごくわずかに変化が観察されたが、実用上問題が無い場合を〇と評価した。色味の変化が大きく観察された場合を×と評価した。結果を表1に示す。 The case where no change in color was observed was evaluated as ◎. A very slight change in color was observed, but there was no practical problem. A case where a large change in color was observed was evaluated as x. Table 1 shows the results.
表に記載の商品の詳細を下記に示す。
「Z−850−6L」:アイカ工業社製、紫外線硬化型アクリル樹脂(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート由来ユニットがイソホロンジイソシアネートによって変性されているウレタンアクリレート)
「RC29−120」:DIC社製、紫外線硬化型アクリル樹脂(アクリロイル基を有するグリセリン由来ユニットを有するメタクリルポリマー)
「TYZ64−A12」:東洋インキ社製、紫外線硬化型アクリル樹脂(ペンタエリスリトールテトラアクリレート由来ユニットがイソホロンジイソシアネートによって変性されているウレタンアクリレート)
「Z7414」:JSR社製、ジルコニア粒子(平均粒子径40nm)65質量%および紫外線硬化型アクリル樹脂を含有
「Z7412」:JSR社製、ジルコニア粒子(平均粒子径40nm)48質量%および紫外線硬化型アクリル樹脂を含有
「RA023」:荒川化学工業社製、ジルコニア粒子(平均粒子径20nm)49質量%および紫外線硬化型アクリル樹脂を含有
「RA021」:荒川化学工業社製、ジルコニア粒子(平均粒子径40nm)48質量%および紫外線硬化型アクリル樹脂を含有
The details of the products described in the table are shown below.
"Z-850-6L": UV curable acrylic resin (urethane acrylate in which a unit derived from dipentaerythritol hexaacrylate is modified with isophorone diisocyanate, manufactured by Aika Kogyo KK)
"RC29-120": UV curable acrylic resin (methacrylic polymer having glycerin-derived unit having acryloyl group) manufactured by DIC
"TYZ64-A12": UV curable acrylic resin (urethane acrylate in which a unit derived from pentaerythritol tetraacrylate is modified with isophorone diisocyanate) manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.
“Z7414”: 65% by mass of zirconia particles (average particle size 40 nm) manufactured by JSR Corporation and UV curable acrylic resin. “Z7412”: 48% by mass of zirconia particles (average particle size 40 nm) manufactured by JSR Corporation and UV curable type. “RA023” containing an acrylic resin: 49% by mass of zirconia particles (average particle size: 20 nm) manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd. and “RA021” containing a UV-curable acrylic resin: zirconia particles (average particle size: 40 nm) manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd. ) Contains 48% by mass and UV curable acrylic resin
1 下地層付きフィルム
2 透明基材
3 下地層
4 ハードコート層
5 光学調整層
6 透明導電性フィルム
7 透明導電層
8 透明導電性フィルム積層体
10 偏光子
11 画像表示装置
14 画像表示素子
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記透明基材の厚み方向一方側に配置される下地層と
を備え、
波長590nmにおける面内位相差が、10.0nm以下であり、
前記下地層の前記厚み方向一方側から200nm深さにおける塑性変形量が、50nm以下であることを特徴とする、下地層付きフィルム。 A transparent substrate,
Comprising a base layer disposed on one side in the thickness direction of the transparent substrate,
An in-plane retardation at a wavelength of 590 nm is 10.0 nm or less;
A film with an underlayer, wherein the amount of plastic deformation at a depth of 200 nm from the one side in the thickness direction of the underlayer is 50 nm or less.
前記下地層付きフィルムの厚み方向一方側に配置される透明導電層と
を備えることを特徴とする、透明導電性フィルム。 A film with an underlayer according to any one of claims 1 to 3,
A transparent conductive layer disposed on one side in the thickness direction of the film with a base layer.
請求項4〜6のいずれか一項に記載の透明導電性フィルムと
を備えることを特徴とする、透明導電性フィルム積層体。 A polarizer,
A transparent conductive film laminate comprising: the transparent conductive film according to claim 4.
請求項7に記載の透明導電性フィルム積層体と
を備え、
前記透明導電性フィルムが、前記偏光子と前記画像表示素子との間に配置されることを特徴とする、画像表示装置。
An image display element,
A transparent conductive film laminate according to claim 7,
The image display device, wherein the transparent conductive film is disposed between the polarizer and the image display device.
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