JP2019205635A - Deodorization system, method of controlling the same, and information processing device, method of controlling the same, and program, and cleaning device, method of controlling the same, and program - Google Patents

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直樹 加藤
三宅 隆
Takashi Miyake
隆 三宅
横山 達也
Tatsuya Yokoyama
達也 横山
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Abstract

To provide a mechanism that can identify a suitable cleaning ability while reducing cost of cleaning.SOLUTION: An information processing device controls a generator that generates cleaning liquid, and a cleaning device that cleans a gas containing a cleaning object by using the cleaning liquid generated by the generator. The information processing device stores a parameter on a cleaning ability of the cleaning liquid; acquires meteorological information on the air containing the gas after cleaned by the cleaning device; and identifies the parameter stored in the storage means, corresponding to the meteorological information acquired by the first acquiring means.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

洗浄に係るコストを低減しつつ、適切な洗浄能力を特定できる仕組みを提供することができる脱臭システム、その制御方法、並びに、情報処理装置、その制御方法、及びプログラム、並びに、洗浄装置、その制御方法、及びプログラムに関する。   Deodorization system capable of providing a mechanism capable of specifying an appropriate cleaning capability while reducing costs related to cleaning, a control method thereof, an information processing device, a control method and program thereof, and a cleaning device and control thereof The present invention relates to a method and a program.

環境意識の高まりとともに、臭気を発生する装置又は施設を稼働する際には、臭気を低減する手段の実施が必要とされる場合がある。排気中の臭気を低減する方法としては、排気を水又は処理液で洗浄することにより、排気中の臭気成分を水に溶解させる方法が知られている。また、この際に脱臭作用を有する処理液を用いることにより、臭気の低減効率を向上させる方法も知られている。例えば、下記の特許文献1では、内部に送り込まれた空気に対して次亜塩素酸水を噴霧することにより空気中の臭気を低減し、臭気が低減された空気を排気する、脱臭装置が開示されている。   With increasing environmental awareness, when operating devices or facilities that generate odors, it may be necessary to implement means for reducing odors. As a method for reducing the odor in the exhaust, a method is known in which the odor component in the exhaust is dissolved in water by washing the exhaust with water or a treatment liquid. In addition, a method for improving the odor reduction efficiency by using a treatment liquid having a deodorizing action at this time is also known. For example, the following Patent Document 1 discloses a deodorizing apparatus that reduces odors in the air by spraying hypochlorous acid water to the air fed into the interior and exhausts the air with reduced odors. Has been.

特開2012−100717号公報JP 2012-1000071 A

しかしながら、特許文献1に記載の仕組みで望ましいとされている次亜塩素酸水の使用濃度は、10〜30ppm程度の濃度である。特許文献1に記載の仕組みを用いて、例えば食品廃棄物又はし尿を貯蔵する容器からの排気を含む、有機物の発酵により生じた気体などの強烈な臭気を脱臭する場合には、より高濃度の次亜塩素酸水を用いるなどして、次亜塩素酸水による洗浄能力を高めることが手段としてあげられる。しかし、次亜塩素酸水による洗浄能力を高めるほど、洗浄に係るコストも更に高くなってしまう。   However, the use concentration of hypochlorous acid water, which is considered desirable in the mechanism described in Patent Document 1, is about 10 to 30 ppm. When deodorizing an intense odor such as a gas generated by fermentation of organic matter including exhaust from a container for storing food waste or human waste, for example, using the mechanism described in Patent Document 1, a higher concentration Increasing the cleaning ability with hypochlorous acid water by using hypochlorous acid water can be mentioned as a means. However, the higher the cleaning ability with hypochlorous acid water, the higher the cost for cleaning.

そこで本発明では、洗浄に係るコストを低減しつつ、適切な洗浄能力を特定できる仕組みを提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a mechanism that can specify an appropriate cleaning capability while reducing the cost of cleaning.

上記の目的を達成するために本発明の情報処理装置は、洗浄対象を含む気体を洗浄装置で洗浄するための洗浄液を生成する生成装置を制御する情報処理装置であって、前記洗浄液による洗浄能力に関するパラメータを記憶する記憶手段と、前記洗浄装置による洗浄後の前記気体を含む空気の気象情報を取得する第1の取得手段と、前記第1の取得手段により取得された前記気象情報に対応する、前記記憶手段に記憶された前記パラメータを特定する特定手段とを備えることを特徴とする。   In order to achieve the above object, an information processing apparatus according to the present invention is an information processing apparatus that controls a generating apparatus that generates a cleaning liquid for cleaning a gas containing a cleaning target with the cleaning apparatus, and the cleaning capability of the cleaning liquid Corresponding to the weather information acquired by the first acquisition means, storage means for storing parameters relating to, first acquisition means for acquiring weather information of the air containing the gas after cleaning by the cleaning device And specifying means for specifying the parameter stored in the storage means.

本発明によれば、洗浄に係るコストを低減しつつ、適切な洗浄能力を特定できる仕組みを提供することができるという効果を奏する。   According to the present invention, there is an effect that it is possible to provide a mechanism capable of specifying an appropriate cleaning capability while reducing the cost for cleaning.

本発明の実施形態における脱臭システムの構成の一例を示すシステム構成図である。It is a system configuration figure showing an example of the composition of the deodorizing system in the embodiment of the present invention. 本発明の実施形態における脱臭装置の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the deodorizing apparatus in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における情報処理装置100のハードウェアの構成の一例を示すハードウェア構成図である。It is a hardware block diagram which shows an example of the hardware structure of the information processing apparatus 100 in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における情報処理装置100のモジュールの構成の一例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows an example of a module structure of the information processing apparatus 100 in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における脱臭方法のフローチャートである。It is a flowchart of the deodorizing method in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における、情報処理装置100による風向に基づいた次亜塩素酸水の濃度制御処理の詳細を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the detail of the concentration control process of hypochlorous acid water based on the wind direction by the information processing apparatus 100 in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における、情報処理装置100による風向に基づいた次亜塩素酸水の流量制御処理の詳細を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the detail of the flow control process of hypochlorous acid water based on the wind direction by the information processing apparatus 100 in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における、情報処理装置100による風速に基づいた次亜塩素酸水の濃度制御処理の詳細を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the detail of the concentration control process of hypochlorous acid water based on the wind speed by the information processing apparatus 100 in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における、情報処理装置100による風速に基づいた次亜塩素酸水の流量制御処理の詳細を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the detail of the flow control process of hypochlorous acid water based on the wind speed by the information processing apparatus 100 in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における、情報処理装置100による風向とアンモニア濃度とに基づいた次亜塩素酸水の濃度制御処理の詳細を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the detail of the concentration control process of hypochlorous acid water based on the wind direction and ammonia concentration by the information processing apparatus 100 in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における、情報処理装置100による風向とアンモニア濃度とに基づいた次亜塩素酸水の流量制御処理の詳細を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the detail of the flow control process of hypochlorous acid water based on the wind direction and ammonia concentration by the information processing apparatus 100 in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における、濃度変更モード(1)テーブルの構成の一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of a structure of density change mode (1) table in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における、流量変更モード(1)テーブルの構成の一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of a structure of the flow volume change mode (1) table in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における、濃度変更モード(2)テーブルの構成の一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of a structure of density change mode (2) table in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における、流量変更モード(2)テーブルの構成の一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of a structure of the flow volume change mode (2) table in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における、濃度変更モード(3)テーブルの構成の一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of a structure of the density | concentration change mode (3) table in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における、流量変更モード(3)テーブルの構成の一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of a structure of the flow volume change mode (3) table in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における、洗浄装置と住宅の位置関係を示す図である。It is a figure which shows the positional relationship of the washing | cleaning apparatus and a house in embodiment of this invention.

以下、添付図面を参照し、本発明の実施形態について説明する。なお、以下で説明する実施形態は、本発明を具体的に実施した場合の一例を示すものである。特に、実施形態に係る洗浄装置、洗浄システム、及び洗浄方法は、脱臭対象の気体を脱臭することを目的とするシステムには限定されない。本実施形態に係る洗浄装置、洗浄システム、及び洗浄方法は、気体を洗浄するものであり、脱臭以外の様々な目的でも使用可能である。例えば、本発明に係る洗浄装置、及び洗浄システムは、気体中の除菌対象の除菌のために用いることもできる。したがって、本発明に係る洗浄装置、洗浄システム、及び洗浄方法は、脱臭を主目的としているが脱臭に用いることが可能な装置、システム、及び方法を含む。以下、脱臭対象の気体を脱臭することを主目的とする湿式脱臭装置(洗浄装置に相当する)、脱臭システム(洗浄システムに相当する)、脱臭方法を例として、本発明の実施形態を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. In addition, embodiment described below shows an example at the time of concretely implementing this invention. In particular, the cleaning device, the cleaning system, and the cleaning method according to the embodiment are not limited to a system that aims to deodorize a gas to be deodorized. The cleaning device, the cleaning system, and the cleaning method according to the present embodiment are for cleaning a gas and can be used for various purposes other than deodorization. For example, the cleaning apparatus and the cleaning system according to the present invention can be used for sterilization of a sterilization target in gas. Therefore, the cleaning apparatus, the cleaning system, and the cleaning method according to the present invention include an apparatus, a system, and a method that are mainly used for deodorization but can be used for deodorization. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described by taking, as examples, a wet deodorizing apparatus (corresponding to a cleaning apparatus), a deodorizing system (corresponding to a cleaning system), and a deodorizing method whose main purpose is to deodorize a gas to be deodorized. .

図1は、洗浄液の物理量の制御を行う脱臭システムにおいて、その構成の一例を示すシステム構成図である。脱臭システムは、洗浄液の物理量の制御を行う情報処理装置100と、洗浄液の生成を行う生成装置110と、生成装置110において生成された洗浄液を貯留する貯留容器120と、貯留容器120に貯留された洗浄液を用いて臭気を脱臭する湿式脱臭装置200とで構成されている。   FIG. 1 is a system configuration diagram showing an example of the configuration of a deodorizing system that controls the physical quantity of a cleaning liquid. The deodorization system includes an information processing apparatus 100 that controls the physical amount of the cleaning liquid, a generation apparatus 110 that generates the cleaning liquid, a storage container 120 that stores the cleaning liquid generated in the generation apparatus 110, and a storage container 120 that stores the cleaning liquid. It is comprised with the wet deodorizing apparatus 200 which deodorizes a odor using a washing | cleaning liquid.

生成装置110は、洗浄液の原料を蓄えている3つの原料容器と、それぞれバルブを介して接続されている。3つの原料容器とは、次亜塩素酸水を蓄えている第1の原料容器101と、水を蓄えている第2の原料容器102と、二酸化炭素を蓄えている第3の原料容器103とを示す。第1の原料容器101と生成装置110とは、第1原料バルブ181を介して接続されている。第2の原料容器102と生成装置110とは、第2原料バルブ182を介して接続されている。第3の原料容器103と生成装置110とは、第3原料バルブ183を介して接続されている。洗浄装置200は、生成装置110で生成された洗浄液を貯留する貯留容器120と、洗浄液バルブ190を介して接続されている。本実施例においては、生成装置110内で、炭酸ガス混合法を用いて、洗浄液を生成している。炭酸ガス混合法とは、次亜塩素酸ナトリウムと、二酸化炭素と、水とを混合させて、次亜塩素酸水を生成する方法である。生成装置110に備わる流出口111は、貯留容器120の流入口121に接続されており、生成装置の流出口111から流出された洗浄液は、貯留容器120の流入口121を通って貯留容器120に流入する。同様に、貯留容器120に備わる流出口122は、湿式脱臭装置の流入口201に接続されており、貯留容器120の流出口122から流出された洗浄液130は、湿式脱臭装置200の流入口201を通って湿式脱臭装置200に流入する。臭気流入部150を介して脱臭対象の気体2140を供給し、脱臭対象の気体140は脱臭装置200内の洗浄部で脱臭される。脱臭装置200で溢れた洗浄液130は、洗浄液流出部170(直す)を介して、流出される。脱臭装置200での脱臭後の気体は、臭気流出部160より流出される。臭気流出部160より流出される気体を、第2の気体(洗浄後の気体に相当する)と呼ぶ。臭気流出部160から10m以内の箇所に、風向を測定する風向センサ202、風速を測定する風速センサ203、アンモニア濃度を測定するアンモニア濃度測定装置204を備える。   The production | generation apparatus 110 is connected to the three raw material containers which store the raw material of the washing | cleaning liquid through the valve, respectively. The three raw material containers are a first raw material container 101 that stores hypochlorous acid water, a second raw material container 102 that stores water, and a third raw material container 103 that stores carbon dioxide. Indicates. The first raw material container 101 and the generator 110 are connected via a first raw material valve 181. The second raw material container 102 and the generation device 110 are connected via a second raw material valve 182. The third raw material container 103 and the generation device 110 are connected via a third raw material valve 183. The cleaning apparatus 200 is connected to a storage container 120 that stores the cleaning liquid generated by the generation apparatus 110 via a cleaning liquid valve 190. In the present embodiment, the cleaning liquid is generated in the generating device 110 using a carbon dioxide mixing method. The carbon dioxide mixing method is a method of generating hypochlorous acid water by mixing sodium hypochlorite, carbon dioxide, and water. The outlet 111 provided in the generation device 110 is connected to the inlet 121 of the storage container 120, and the cleaning liquid that has flowed out of the outlet 111 of the generation device passes through the inlet 121 of the storage container 120 to the storage container 120. Inflow. Similarly, the outlet 122 provided in the storage container 120 is connected to the inlet 201 of the wet deodorization apparatus, and the cleaning liquid 130 flowing out from the outlet 122 of the storage container 120 passes through the inlet 201 of the wet deodorization apparatus 200. And flows into the wet deodorizing apparatus 200. The deodorizing target gas 2140 is supplied via the odor inflow unit 150, and the deodorizing target gas 140 is deodorized by the cleaning unit in the deodorizing apparatus 200. The cleaning liquid 130 overflowing from the deodorizing apparatus 200 flows out through the cleaning liquid outflow section 170 (repair). The gas after deodorization by the deodorization apparatus 200 is discharged from the odor outflow portion 160. The gas that flows out from the odor outflow portion 160 is referred to as a second gas (corresponding to the cleaned gas). A wind direction sensor 202 that measures the wind direction, a wind speed sensor 203 that measures the wind speed, and an ammonia concentration measuring device 204 that measures the ammonia concentration are provided at a location within 10 m from the odor outflow portion 160.

なお、本実施例において用いるセンサは一例であり、用いるセンサの種類は、この限りではない。また、風速や風向、臭気成分を取得する機器は、センサに限らない。たとえば、風速や風向などの気象情報は、情報処理装置100が気象庁などから取得してもよいし、ユーザにより情報処理装置100に入力されてもよい。センサや測定装置を配置する場所は、洗浄装置200による洗浄後の気体を含みうる空気の風向や風速、アンモニア濃度などを取得できる場所であれば、図示した場所に限らない。また、本実施形態においてはアンモニア濃度測定装置204を用いてアンモニア濃度測定を行っているが、測定を行う対象はアンモニア濃度に限らず、洗浄対象の気体に含まれる成分に関して、測定できればよい。例えば、トリメチルアミンの濃度や、ウイルス粒子の個数などでもよい。   In addition, the sensor used in a present Example is an example, and the kind of sensor to be used is not this limitation. Moreover, the apparatus which acquires a wind speed, a wind direction, and an odor component is not restricted to a sensor. For example, weather information such as wind speed and direction may be acquired by the information processing apparatus 100 from the Japan Meteorological Agency or may be input to the information processing apparatus 100 by the user. The place where the sensor and the measuring device are disposed is not limited to the illustrated place as long as the wind direction, wind speed, ammonia concentration, and the like of the air that can contain the gas cleaned by the cleaning device 200 can be acquired. In this embodiment, the ammonia concentration measurement is performed using the ammonia concentration measuring device 204. However, the measurement target is not limited to the ammonia concentration, and it is only necessary to measure the components contained in the gas to be cleaned. For example, the concentration of trimethylamine or the number of virus particles may be used.

なお、図1では洗浄装置は洗浄装置200としているが、情報処理装置100、生成装置110、貯留容器120、洗浄装置200など、洗浄に係る装置を含めて洗浄装置と呼んでもよい。   In FIG. 1, the cleaning apparatus is the cleaning apparatus 200, but the information processing apparatus 100, the generation apparatus 110, the storage container 120, the cleaning apparatus 200, and the like may be referred to as a cleaning apparatus.

以上で、図1に示す制御システムのシステム構成図の説明を終了する。   Above, description of the system block diagram of the control system shown in FIG. 1 is complete | finished.

以下、図2(A)(B)を参照して、本実施形態に係る湿式脱臭装置200について説明する。図2(A)(B)は、それぞれ、本実施形態に係る湿式脱臭装置の一例の構成を示す概略図である。   Hereinafter, with reference to FIG. 2 (A) (B), the wet deodorizing apparatus 200 which concerns on this embodiment is demonstrated. 2 (A) and 2 (B) are schematic views each showing a configuration of an example of a wet deodorizing apparatus according to the present embodiment.

図2(A)には、湿式脱臭装置200Aが示されており、図2(B)には、湿式脱臭装置200Bが示されている。本実施形態では、湿式脱臭装置200Aを洗浄装置として用いることを想定しているが、洗浄装置は湿式脱臭装置200Aに限らず、湿式脱臭装置200Bでもよく、気体を洗浄する装置(不図示)であればよい。これらの湿式脱臭装置200A,Bには臭気流入部150を介して洗浄対象(脱臭対象)の気体が流入し、流入した気体は洗浄液を用いた洗浄により脱臭され、臭気流出部160を介して流出する。本明細書において、洗浄対象を含む気体のことを第1の気体と呼ぶ。   FIG. 2 (A) shows a wet deodorizing apparatus 200A, and FIG. 2 (B) shows a wet deodorizing apparatus 200B. In the present embodiment, it is assumed that the wet deodorizing apparatus 200A is used as a cleaning apparatus. However, the cleaning apparatus is not limited to the wet deodorizing apparatus 200A, and may be a wet deodorizing apparatus 200B, which is an apparatus (not shown) for cleaning gas. I just need it. A gas to be cleaned (deodorized object) flows into these wet deodorizing apparatuses 200A and 200B through the odor inflow portion 150, and the inflowed gas is deodorized by cleaning with the cleaning liquid and flows out through the odor outflow portion 160. To do. In this specification, the gas including the object to be cleaned is referred to as a first gas.

臭気流入部150からは、脱臭対象の気体が湿式脱臭装置200A,Bの内部へと流入する。例えば、ポンプ(不図示)を用いて、脱臭対象の気体を臭気流入部150へと送ることができる。ここで、気体を臭気流入部150に送るためのポンプは、湿式脱臭装置200A,Bの内部あるいは外部のいずれに配置されていてもよい。脱臭対象の気体の種類は特に限定されない。本実施形態に係る湿式脱臭装置200A,Bが有する高い脱臭性能は、高い臭気濃度を有する気体の脱臭に適している。例えば、脱臭対象の気体としては、食品廃棄物又はし尿を貯蔵する容器からの排気を含む、有機物の発酵により生じた気体が挙げられる。脱臭対象の具体例としては、コンポスト(堆肥製造装置)からの排気が挙げられる。   From the odor inflow section 150, the gas to be deodorized flows into the wet deodorization apparatuses 200A and 200B. For example, the gas to be deodorized can be sent to the odor inflow portion 150 using a pump (not shown). Here, the pump for sending the gas to the odor inflow portion 150 may be disposed either inside or outside the wet deodorization apparatuses 200A and 200B. The type of gas to be deodorized is not particularly limited. The high deodorizing performance of the wet deodorizing apparatuses 200A and 200B according to the present embodiment is suitable for deodorizing a gas having a high odor concentration. For example, the gas to be deodorized includes a gas generated by fermentation of organic matter including exhaust from a container for storing food waste or human waste. Specific examples of the deodorization target include exhaust from a compost (compost production apparatus).

除去される臭気成分も特に限定されない。ここで、コンポストにおける臭気成分の例としては、アンモニア又はトリメチルアミンのような塩基性成分、メチルメルカプタンのような硫化物成分、アセトアルデヒドのようなアルデヒド成分、又はプロピオン酸のようなカルボン酸成分、等が挙げられる。本実施形態に係る湿式脱臭装置200A,Bは、特にアンモニア濃度の低減に適している。例えば、一実施形態において、脱臭対象の気体が有するアンモニア濃度は、冷却器で冷却された場合は、100ppm以上となり、冷却器で冷却されていない場合は、3000ppm以上である。また、臭気流入部150から流入する脱臭対象の気体は、前段に位置する冷却器又は湿式脱臭装置等の他の装置により処理が行われた後の気体であってもよい。   The odor component to be removed is not particularly limited. Here, examples of odor components in compost include basic components such as ammonia or trimethylamine, sulfide components such as methyl mercaptan, aldehyde components such as acetaldehyde, or carboxylic acid components such as propionic acid, and the like. Can be mentioned. The wet deodorization apparatuses 200A and 200B according to the present embodiment are particularly suitable for reducing the ammonia concentration. For example, in one embodiment, the ammonia concentration of the gas to be deodorized is 100 ppm or more when cooled by a cooler, and is 3000 ppm or more when not cooled by a cooler. Further, the gas to be deodorized flowing from the odor inflow section 150 may be a gas after being processed by another device such as a cooler or a wet deodorizing device located in the preceding stage.

洗浄部220は、湿式脱臭装置200A,Bに流入した脱臭対象の気体を第1の洗浄液222で洗浄する。洗浄部220は、脱臭対象の気体と第1の洗浄液222とが接触する接触部221と、第1の洗浄液222が貯められている部分と、を有している。本実施形態において、第1の洗浄液222は湿式脱臭装置200A,Bの下部に貯められており、したがって洗浄部220も湿式脱臭装置200A,Bの下部に位置する。   The cleaning unit 220 cleans the gas to be deodorized that has flowed into the wet deodorizing apparatuses 200 </ b> A and 200 </ b> B with the first cleaning liquid 222. The cleaning part 220 has a contact part 221 where the gas to be deodorized and the first cleaning liquid 222 are in contact with each other, and a part in which the first cleaning liquid 222 is stored. In this embodiment, the 1st washing | cleaning liquid 222 is stored in the lower part of wet deodorizing apparatus 200A, B, Therefore Therefore, the washing | cleaning part 220 is also located in the lower part of wet deodorizing apparatus 200A, B.

図2(C)は、図2(A)の接触部221のうち1つの拡大図である。図2(C)を用いて、脱臭対象の気体と第1の洗浄液222とを混合する処理について説明する。まず、脱臭対象の気体は、ポンプによって加速されることにより、流路狭窄部223に向かって移動する。図2(A)の例において、脱臭対象の気体は、接触部221に設けられ、第1の洗浄液222の液面と近接している流路狭窄部223を通る。この際、脱臭対象の気体の流れは加速されるために、第1の洗浄液222を伴う渦流が流路狭窄部を通過した後に発生する。このため、脱臭対象の気体と第1の洗浄液222とが効率的に混合され、脱臭対象の気体が洗浄される。このように、洗浄部220は、脱臭対象の気体と第1の洗浄液222とを混合することができ、また一実施形態において脱臭対象の気体と第1の洗浄液222とを互いに攪拌することができる。図2(A)の例において、洗浄部220は流路狭窄部223を有する接触部221を2つ有しているが、接触部221の数は特に限定されない。例えば、湿式脱臭装置200A,Bには、より脱臭効率を向上させたい場合には、3以上の接触部(流路狭窄部)を設けてもよい。また、湿式脱臭装置200A,Bを、接触部221の数を1つとすることで、複数の接触部を備える場合よりも小型化することができる。   FIG. 2C is an enlarged view of one of the contact portions 221 in FIG. A process for mixing the gas to be deodorized and the first cleaning liquid 222 will be described with reference to FIG. First, the gas to be deodorized is moved toward the flow path constriction 223 by being accelerated by the pump. In the example of FIG. 2A, the gas to be deodorized passes through the flow path constriction 223 provided in the contact portion 221 and close to the liquid surface of the first cleaning liquid 222. At this time, since the flow of the gas to be deodorized is accelerated, the vortex accompanied with the first cleaning liquid 222 is generated after passing through the channel narrowing portion. For this reason, the gas to be deodorized and the first cleaning liquid 222 are efficiently mixed, and the gas to be deodorized is cleaned. As described above, the cleaning unit 220 can mix the gas to be deodorized with the first cleaning liquid 222, and can stir the gas to be deodorized and the first cleaning liquid 222 with each other in one embodiment. . In the example of FIG. 2A, the cleaning unit 220 has two contact portions 221 each having a flow path narrowing portion 223, but the number of contact portions 221 is not particularly limited. For example, the wet deodorization apparatuses 200A and 200B may be provided with three or more contact portions (channel narrowing portions) when it is desired to further improve the deodorization efficiency. Moreover, wet deodorizing apparatus 200A, B can be reduced in size rather than the case where a plurality of contact parts are provided by setting the number of contact parts 221 to one.

図2(B)の例では、脱臭対象の気体は、接触部221において第1の洗浄液222の内部を通り、この際に脱臭対象の気体が洗浄される。なお、図2(A)(B)の例においては、臭気流入部150から流入する脱臭対象の気体の圧力のために、第1の洗浄液222の液面の高さは不均一となっている。なお、第1の洗浄液222の液面の高さは、流入口253及び流出口254よりも高く、流出口280よりも低くなるように設定される。また、洗浄中における第1の洗浄液222の液面の高さは、流路狭窄部223と近接している。つまり、流出口280により第1の洗浄液222が排出されることにより、水位が高くなりすぎることを抑制することができ、洗浄に用いた後の第1の洗浄液222を排出することが可能となる。流入口253及び流出口254よりも水位を高く維持することにより、第1の洗浄液222に気泡を供給することが可能となる。   In the example of FIG. 2B, the gas to be deodorized passes through the inside of the first cleaning liquid 222 at the contact portion 221, and at this time, the gas to be deodorized is washed. 2A and 2B, the liquid level of the first cleaning liquid 222 is not uniform because of the pressure of the gas to be deodorized flowing from the odor inflow portion 150. . The height of the liquid surface of the first cleaning liquid 222 is set to be higher than the inflow port 253 and the outflow port 254 and lower than the outflow port 280. In addition, the height of the liquid surface of the first cleaning liquid 222 during the cleaning is close to the channel narrowing portion 223. That is, by discharging the first cleaning liquid 222 from the outlet 280, it is possible to suppress the water level from becoming too high, and it is possible to discharge the first cleaning liquid 222 after being used for cleaning. . By maintaining the water level higher than the inflow port 253 and the outflow port 254, it is possible to supply bubbles to the first cleaning liquid 222.

もっとも、洗浄部220の構成はこのようなものに限られない。例えば、洗浄部220において、第1の洗浄液222が噴霧されてもよい。この場合、脱臭対象の気体は、第1の洗浄液222のミストを通過する際に洗浄される。また、洗浄部220において、臭気流入部150から流入した脱臭対象の気体が第1の洗浄液222中にバブリングされてもよく、この場合も脱臭対象の気体を第1の洗浄液222で洗浄できる。   But the structure of the washing | cleaning part 220 is not restricted to such a thing. For example, in the cleaning unit 220, the first cleaning liquid 222 may be sprayed. In this case, the gas to be deodorized is cleaned when it passes through the mist of the first cleaning liquid 222. In the cleaning unit 220, the gas to be deodorized flowing from the odor inflow unit 150 may be bubbled into the first cleaning liquid 222. In this case, the gas to be deodorized can also be cleaned with the first cleaning liquid 222.

臭気流出部160からは、第1の洗浄液222で洗浄された後の気体が流出する。臭気流出部160から流出した気体は、大気中に放出されてもよいし、湿式脱臭装置等の他の装置によりさらに処理されてもよい。このように、臭気流出部160から排出された後の気体は、臭気流入部150から流入する前の脱臭対象の気体と比較して、脱臭対象の臭気成分が低減される。具体的には、脱臭対象の臭気がコンポストからの臭気である場合、湿式脱臭装置200A,Bで洗浄処理されることにより、少なくともアンモニア濃度が低減される。   From the odor outflow part 160, the gas after being cleaned with the first cleaning liquid 222 flows out. The gas flowing out from the odor outflow portion 160 may be released into the atmosphere, or may be further processed by another device such as a wet deodorizing device. Thus, the odor component of the deodorization target is reduced in the gas after being discharged from the odor outflow part 160 as compared with the gas to be deodorized before flowing in from the odor inflow part 150. Specifically, when the odor to be deodorized is odor from compost, at least the ammonia concentration is reduced by washing treatment with the wet deodorization apparatuses 200A and 200B.

次に、湿式脱臭装置200A,Bの内部構造について説明する。湿式脱臭装置200A,Bの内部はいくつかの区画に分類されている。湿式脱臭装置200A,Bは、流入区画231を有しており、この流入区画231に臭気流入部150が設けられている。流入区画231とは、第1の洗浄液222による洗浄が行われる洗浄部220より上流側の部分、すなわち臭気流入部150と洗浄部220との間の区画である。また、湿式脱臭装置200A,Bは、流出区画241を有しており、この流出区画241に臭気流出部160が設けられている。流出区画241とは、第1の洗浄液222による洗浄が行われる洗浄部220より下流側の部分、すなわち洗浄部220と臭気流出部160との間の区画である。   Next, the internal structure of the wet deodorizing apparatus 200A, B will be described. The insides of the wet deodorization apparatuses 200A and B are classified into several sections. The wet deodorization apparatuses 200 </ b> A and 200 </ b> B have an inflow section 231, and an odor inflow portion 150 is provided in the inflow section 231. The inflow section 231 is a section upstream of the cleaning section 220 where the cleaning with the first cleaning liquid 222 is performed, that is, a section between the odor inflow section 150 and the cleaning section 220. Further, the wet deodorizing apparatuses 200 </ b> A and 200 </ b> B have an outflow section 241, and an odor outflow portion 160 is provided in the outflow section 241. The outflow section 241 is a section downstream of the cleaning section 220 where the cleaning with the first cleaning liquid 222 is performed, that is, a section between the cleaning section 220 and the odor outflow section 160.

洗浄液供給部230,240は、第1の洗浄液222とは異なる第2の洗浄液(洗浄液に相当する)を供給する。洗浄液供給部230,240は、洗浄部220での洗浄に用いられる第1の洗浄液222に混ざるように、第2の供給液を供給することができる。ここで、洗浄液供給部230,240は、臭気流入部150と洗浄部220との間、又は洗浄部220と臭気流出部160との間、の少なくとも一方において、脱臭対象の気体が第2の洗浄液で洗浄されるように、第2の洗浄液を供給することができる。例えば、洗浄液供給部230,240は、第2の洗浄液を、臭気流入部150と洗浄部220との間にある空間(すなわち流入区画231)と、洗浄部220と臭気流出部160との間にある空間(すなわち流出区画241)との少なくとも一方に噴霧することができる。   The cleaning liquid supply units 230 and 240 supply a second cleaning liquid (corresponding to the cleaning liquid) different from the first cleaning liquid 222. The cleaning liquid supply units 230 and 240 can supply the second supply liquid so as to be mixed with the first cleaning liquid 222 used for cleaning in the cleaning unit 220. Here, the cleaning liquid supply units 230 and 240 are configured such that the gas to be deodorized is at least one of the second cleaning liquid between the odor inflow unit 150 and the cleaning unit 220 or between the cleaning unit 220 and the odor outflow unit 160. The second cleaning liquid can be supplied so that the second cleaning liquid is cleaned. For example, the cleaning liquid supply units 230 and 240 pass the second cleaning liquid between the odor inflow section 150 and the cleaning section 220 (that is, the inflow section 231) and the cleaning section 220 and the odor outflow section 160. It is possible to spray at least one of a certain space (that is, the outflow section 241).

一例として、湿式脱臭装置200Aは、図2(A)に示すように、第2の洗浄液を流入区画231に噴霧する第1の洗浄液供給部230と、第2の洗浄液を流出区画241に噴霧する第2の洗浄液供給部240と、を備えている。第1の洗浄液供給部230は、臭気流入部150から洗浄部220へと向かう気体の流路上で、第2の洗浄液を噴霧する。また、第1の洗浄液供給部230は、洗浄部220から臭気流出部160へと向かう気体の流路上で、第2の洗浄液を噴霧する。もっとも、図2(B)に示す湿式脱臭装置200Bのように、第2の洗浄液供給部240が設けられ、第1の洗浄液供給部230は設けられない構成を採用することもできる。また、洗浄液供給部230,240が第2の洗浄液を噴霧することは必須ではない。例えば、脱臭対象の気体が、第2の洗浄液の内部を気泡として通過するような構成を採用することもできる。   As an example, as shown in FIG. 2A, the wet deodorizing apparatus 200A sprays the first cleaning liquid supply unit 230 that sprays the second cleaning liquid onto the inflow section 231 and the second cleaning liquid onto the outflow section 241. A second cleaning liquid supply unit 240. The first cleaning liquid supply unit 230 sprays the second cleaning liquid on the gas flow path from the odor inflow unit 150 to the cleaning unit 220. The first cleaning liquid supply unit 230 sprays the second cleaning liquid on the gas flow path from the cleaning unit 220 toward the odor outflow unit 160. However, it is also possible to employ a configuration in which the second cleaning liquid supply unit 240 is provided and the first cleaning liquid supply unit 230 is not provided as in the wet deodorization apparatus 200B illustrated in FIG. Further, it is not essential that the cleaning liquid supply units 230 and 240 spray the second cleaning liquid. For example, it is possible to adopt a configuration in which the gas to be deodorized passes through the inside of the second cleaning liquid as bubbles.

脱臭対象の気体を洗浄した後の第2の洗浄液は、洗浄部220での洗浄に用いられる第1の洗浄液に混ざるように、洗浄液供給部230,240は設けられている。例えば、図2(A)(B)に示されるように、湿式脱臭装置200A,Bは、臭気流入部150、洗浄部220、臭気流出部160を有する単一の洗浄槽を有することができる。そして、洗浄部220における第1の洗浄液222の液面が、第2の洗浄液の供給位置(すなわち洗浄液供給部230,240の位置)よりも低くなるように、洗浄液供給部230,240を配置することができる。   The cleaning liquid supply units 230 and 240 are provided so that the second cleaning liquid after cleaning the gas to be deodorized is mixed with the first cleaning liquid used for cleaning in the cleaning unit 220. For example, as shown in FIGS. 2A and 2B, the wet deodorization apparatuses 200 </ b> A and 200 </ b> B can have a single cleaning tank having an odor inflow unit 150, a cleaning unit 220, and an odor outflow unit 160. Then, the cleaning liquid supply units 230 and 240 are arranged so that the liquid level of the first cleaning liquid 222 in the cleaning unit 220 is lower than the supply position of the second cleaning liquid (that is, the position of the cleaning liquid supply units 230 and 240). be able to.

洗浄液供給部230,240は、湿式脱臭装置200A,Bに貯められている第1の洗浄液222を供給するのではなく、装置の外部から供給された第2の洗浄液を供給することができる。このような構成によれば、洗浄液供給部230,240は新鮮な洗浄液を供給することができ、新鮮な洗浄液を用いて脱臭対象の気体を洗浄することができるため、臭気をよりよく低減できる。ここで、新鮮な洗浄液とは、湿式脱臭装置200A,Bにおける脱臭対象の気体の洗浄にまだ用いられていない洗浄液のことを指す。例えば、新鮮な洗浄液は、脱臭対象の気体に含まれる臭気成分が実質的に含有されていない洗浄液でありうる。また、新鮮な洗浄液は、洗浄液自身以外の成分が実質的に含有されていない洗浄水でありうる。もっとも、新鮮な洗浄液は、装置の外部から供給されこの装置においてまだ洗浄に用いられていないのであれば、別の湿式脱臭装置における気体の洗浄に用いられた後の洗浄液であってもよい。このような構成を、第1の洗浄液222を用いて脱臭対象の気体を洗浄する洗浄部220と組み合わせて用いることにより、臭気の除去能力が向上しうる。とりわけ、第2の洗浄液供給部240は、第1の洗浄液222を用いて洗浄した後の気体を、さらに新鮮な洗浄液で洗浄することにより、臭気をよりよく除去することを可能とする。以上のように、洗浄部220での洗浄に用いられる第1の洗浄液222に混ざるように、新鮮な第2の洗浄液を供給しているため、第1の洗浄液222における洗浄対象の成分をより低減することができる。また、後述する流出口280を有する構成であれば、第1の洗浄液222が適宜排出されるため、より新鮮な洗浄液で洗浄することが可能となる。   The cleaning liquid supply units 230 and 240 can supply the second cleaning liquid supplied from the outside of the apparatus, instead of supplying the first cleaning liquid 222 stored in the wet deodorization apparatuses 200A and 200B. According to such a configuration, the cleaning liquid supply units 230 and 240 can supply a fresh cleaning liquid and can clean the gas to be deodorized using the fresh cleaning liquid, so that the odor can be further reduced. Here, the fresh cleaning liquid refers to a cleaning liquid that has not yet been used for cleaning the gas to be deodorized in the wet deodorizing apparatuses 200A and 200B. For example, the fresh cleaning liquid may be a cleaning liquid that does not substantially contain odor components contained in the gas to be deodorized. In addition, the fresh cleaning liquid may be cleaning water that does not substantially contain components other than the cleaning liquid itself. However, if the fresh cleaning liquid is supplied from the outside of the apparatus and has not been used for cleaning in this apparatus, it may be a cleaning liquid after being used for gas cleaning in another wet deodorizing apparatus. By using such a configuration in combination with the cleaning unit 220 that cleans the gas to be deodorized using the first cleaning liquid 222, the odor removal capability can be improved. In particular, the second cleaning liquid supply unit 240 makes it possible to better remove the odor by cleaning the gas after cleaning with the first cleaning liquid 222 with a fresh cleaning liquid. As described above, since the fresh second cleaning liquid is supplied so as to be mixed with the first cleaning liquid 222 used for cleaning in the cleaning unit 220, the components to be cleaned in the first cleaning liquid 222 are further reduced. can do. Further, in the configuration having an outlet 280 described later, the first cleaning liquid 222 is appropriately discharged, so that it is possible to perform cleaning with a fresher cleaning liquid.

以下、第1の洗浄液222及び第2の洗浄液についてさらに説明する。第2の洗浄液は特に限定されない。例えば、第2の洗浄液は水であってもよい。また、第2の洗浄液は、アンモニア等の塩基性臭気成分の除去能力が向上するように、pH7未満の弱酸性又は酸性水溶液であってもよい。さらに、脱臭効率を向上させるために、第2の洗浄液は脱臭剤を含有する水溶液であってもよい。脱臭剤の種類は特に限定されず、例えば酸化剤、抗菌剤、又は微生物等でありうる。酸化剤の例としては、オゾン又は次亜塩素酸等が挙げられる。抗菌剤の例としては、キトサン又はカテキン等が挙げられる。   Hereinafter, the first cleaning liquid 222 and the second cleaning liquid will be further described. The second cleaning liquid is not particularly limited. For example, the second cleaning liquid may be water. The second cleaning liquid may be a weakly acidic or acidic aqueous solution having a pH of less than 7 so that the ability to remove basic odor components such as ammonia is improved. Furthermore, in order to improve the deodorizing efficiency, the second cleaning liquid may be an aqueous solution containing a deodorizing agent. The type of deodorizer is not particularly limited, and may be, for example, an oxidizing agent, an antibacterial agent, or a microorganism. Examples of the oxidizing agent include ozone and hypochlorous acid. Examples of antibacterial agents include chitosan or catechin.

本実施形態において、第2の洗浄液としては、次亜塩素酸又は次亜塩素酸イオンを含有する水溶液が用いられる。この場合、第2の洗浄液のpHは特に限定されないが、活性が向上するように、第2の洗浄液のpHを7以下にすることができる。また、安定性の観点から、第2の洗浄液のpHを5以上にすることができる。pHが5以上7以下の次亜塩素酸又は次亜塩素酸イオンを含有する水溶液は、次亜塩素酸水として知られている。消臭性能の観点から、第2の洗浄液における塩素濃度は100ppm以上とすることができ、又は1000ppm以上とすることができる。一方、経済性の観点から、第2の洗浄液における塩素濃度は、10ppm以上であってもよく、また、500ppm以下であってもよい。   In the present embodiment, an aqueous solution containing hypochlorous acid or hypochlorite ions is used as the second cleaning liquid. In this case, the pH of the second cleaning liquid is not particularly limited, but the pH of the second cleaning liquid can be set to 7 or less so that the activity is improved. Further, from the viewpoint of stability, the pH of the second cleaning liquid can be 5 or more. An aqueous solution containing hypochlorous acid or hypochlorite ions having a pH of 5 or more and 7 or less is known as hypochlorous acid water. From the viewpoint of deodorizing performance, the chlorine concentration in the second cleaning liquid can be 100 ppm or more, or 1000 ppm or more. On the other hand, from the economical viewpoint, the chlorine concentration in the second cleaning liquid may be 10 ppm or more, or may be 500 ppm or less.

第2の洗浄液は、次亜塩素酸と、炭酸水素イオンと、を含有している次亜塩素酸水であってもよい。このような次亜塩素酸水は、緩衝作用のためにpHが安定するため、その性質も安定している。このような次亜塩素酸水は、水中で次亜塩素酸ナトリウム及び炭酸ガスを混合及び希釈することにより得ることができる。もっとも、水の電解、又は次亜塩素酸ナトリウムと希塩酸との混合のような、他の方法により得られた次亜塩素酸水を、第2の洗浄液として用いることもできる。   The second cleaning liquid may be hypochlorous acid water containing hypochlorous acid and hydrogen carbonate ions. Such a hypochlorous acid aqueous solution has stable properties because the pH is stable due to a buffering action. Such hypochlorous acid water can be obtained by mixing and diluting sodium hypochlorite and carbon dioxide in water. However, hypochlorous acid water obtained by other methods such as electrolysis of water or mixing of sodium hypochlorite and dilute hydrochloric acid can also be used as the second cleaning liquid.

第1の洗浄液222は、脱臭対象の気体の洗浄に用いられた後の第2の洗浄液が混合される。このため、一実施形態において、第1の洗浄液222の組成は、第2の洗浄液とは異なっている。例えば、第1の洗浄液222の臭気成分濃度は、第2の洗浄液よりも高くなりうる。また一例として、洗浄液に次亜塩素酸水を用いる場合には、第1の洗浄液222と第2の洗浄液とはpHの値が異なる。つまり、洗浄に用いられた第1の洗浄液222よりも、新鮮な洗浄液である第2の洗浄液は、より次亜塩素散水の理想的なpHの範囲に近い。そのため、第2の洗浄液は、脱臭対象の成分により、次亜塩素散水のpHの値が酸性側若しくはアルカリ性側に近くなる。また、第2の洗浄液の脱臭剤濃度(例えば塩素濃度)を、第1の洗浄液よりも高くすることができる。   The first cleaning liquid 222 is mixed with the second cleaning liquid after being used for cleaning the gas to be deodorized. For this reason, in one embodiment, the composition of the first cleaning liquid 222 is different from that of the second cleaning liquid. For example, the odor component concentration of the first cleaning liquid 222 can be higher than that of the second cleaning liquid. As an example, when hypochlorous acid water is used as the cleaning liquid, the first cleaning liquid 222 and the second cleaning liquid have different pH values. That is, the second cleaning liquid, which is a fresh cleaning liquid, is closer to the ideal pH range of hypochlorous water spray than the first cleaning liquid 222 used for cleaning. Therefore, the second cleaning liquid has a pH value of hypochlorite watering close to the acidic side or the alkaline side depending on the component to be deodorized. Further, the deodorant concentration (for example, chlorine concentration) of the second cleaning liquid can be made higher than that of the first cleaning liquid.

第1の洗浄液222の液性は、洗浄液を追加する方法、又は後述する気泡を供給する方法等を用いて調整することができる。一実施形態において、第1の洗浄液222としては、次亜塩素酸又は次亜塩素酸イオンを含有する水溶液が用いられる。この場合、第1の洗浄液222のpHは特に限定されないが、活性が向上するように、第1の洗浄液222のpHを7以下にすることができる。また、安定性の観点から、第1の洗浄液222のpHを5以上にすることができる。消臭性能の観点から、第1の洗浄液222における塩素濃度は100ppm以上とすることができ、又は1000ppm以上とすることができる。一方、経済性の観点から、第1の洗浄液222における塩素濃度は、10ppm以上で、且つ、500ppm以下であってもよい。   The liquid property of the first cleaning liquid 222 can be adjusted using a method of adding a cleaning liquid, a method of supplying bubbles, which will be described later, or the like. In one embodiment, the first cleaning liquid 222 is an aqueous solution containing hypochlorous acid or hypochlorite ions. In this case, the pH of the first cleaning liquid 222 is not particularly limited, but the pH of the first cleaning liquid 222 can be set to 7 or less so that the activity is improved. Further, from the viewpoint of stability, the pH of the first cleaning liquid 222 can be 5 or more. From the viewpoint of deodorizing performance, the chlorine concentration in the first cleaning liquid 222 can be 100 ppm or more, or 1000 ppm or more. On the other hand, from the viewpoint of economy, the chlorine concentration in the first cleaning liquid 222 may be 10 ppm or more and 500 ppm or less.

気泡供給部250は、第1の洗浄液222に、洗浄対象を含む気体(脱臭対象の気体、あるいは第1の気体)とは異なる第3の気体の泡を混入させる。気泡供給部250は、湿式脱臭装置200A,Bの外部から供給された気体の泡を、第3の気体の泡として混入させることができる。気泡供給部250の働きにより、洗浄部220における第1の洗浄液222と脱臭対象の気体との接触面積が増加するため、洗浄効率が向上する。一実施形態において、気泡供給部250は、洗浄効率をより向上させるため、第1の洗浄液222にナノバブルを供給する。ナノバブルとは、平均気泡径1μm未満の気泡のことを指す。ナノバブルを用いることにより、第1の洗浄液222を活性化することもできる。また、ナノバブルを用いることにより、第1の洗浄液222中における汚泥の発生を抑制することもできる。なお、気泡供給部250の機能は、第1の洗浄液222と脱臭対象の気体との接触面積を増加させる機能を備えていれば、ナノバブルを供給する機能に限定されるものではない。一実施形態として、気泡供給部250は、第1の洗浄液222にマイクロバブルあるいはミリバブルを供給してもよいし、これらが混合された気泡を供給してもよい。   The bubble supply unit 250 mixes bubbles of a third gas different from the gas (the gas to be deodorized or the first gas) including the object to be cleaned into the first cleaning liquid 222. The bubble supply unit 250 can mix the gas bubbles supplied from the outside of the wet deodorization apparatuses 200A and 200B as the third gas bubbles. Due to the function of the bubble supply unit 250, the contact area between the first cleaning liquid 222 and the gas to be deodorized in the cleaning unit 220 is increased, so that the cleaning efficiency is improved. In one embodiment, the bubble supply unit 250 supplies nanobubbles to the first cleaning liquid 222 in order to further improve the cleaning efficiency. Nanobubbles refer to bubbles with an average bubble diameter of less than 1 μm. The first cleaning liquid 222 can be activated by using nanobubbles. Moreover, generation of sludge in the first cleaning liquid 222 can be suppressed by using nanobubbles. Note that the function of the bubble supply unit 250 is not limited to the function of supplying nanobubbles as long as the function of increasing the contact area between the first cleaning liquid 222 and the gas to be deodorized is provided. As one embodiment, the bubble supply unit 250 may supply microbubbles or millibubbles to the first cleaning liquid 222 or may supply bubbles in which these bubbles are mixed.

気泡供給部250が供給する気体の種類は、特に制限されない。例えば、気泡供給部250は、空気を供給してもよい。一方で、気泡供給部250は、第1の洗浄液222の液性を調整する作用を有する気体を、第1の洗浄液222に混入させることができる。このような気体の例としては、二酸化炭素のような酸性ガスが挙げられる。第1の洗浄液222の液性を調整することにより、臭気成分の除去効率を向上させることができる。例えば、第1の洗浄液222は、塩基性成分を吸収するとpHが上昇するが、酸性ガスを用いて第1の洗浄液222のpHを低下させることにより、塩基性成分の除去効率を向上させることができる。また、特に第1の洗浄液222又は第2の洗浄液として次亜塩素酸水を用いる場合、酸性ガスを用いて第1の洗浄液222のpHを低下させることにより、脱臭活性を向上させることができる。また、気泡供給部250は、脱臭作用を有する気体を、第1の洗浄液222に混入させることができる。このような気体の例としては、オゾン等が挙げられる。つまり、脱臭対象の気体がアンモニアを含有し、第1の洗浄液222に次亜塩素酸水を用いる場合には、気泡に酸性ガスを用いることが好適である。このような構成の場合、脱臭処理後の第1の洗浄液222のpHを抑制しつつ、気液接触を増加させることが可能となる。   The type of gas supplied by the bubble supply unit 250 is not particularly limited. For example, the bubble supply unit 250 may supply air. On the other hand, the bubble supply unit 250 can mix a gas having an effect of adjusting the liquidity of the first cleaning liquid 222 into the first cleaning liquid 222. An example of such a gas is an acidic gas such as carbon dioxide. By adjusting the liquid property of the first cleaning liquid 222, it is possible to improve the removal efficiency of odor components. For example, the pH of the first cleaning liquid 222 increases when the basic component is absorbed, but the removal efficiency of the basic component can be improved by lowering the pH of the first cleaning liquid 222 using an acidic gas. it can. In particular, when hypochlorous acid water is used as the first cleaning liquid 222 or the second cleaning liquid, the deodorizing activity can be improved by reducing the pH of the first cleaning liquid 222 using an acidic gas. Further, the bubble supply unit 250 can mix a gas having a deodorizing action into the first cleaning liquid 222. Examples of such a gas include ozone. That is, when the gas to be deodorized contains ammonia and hypochlorous acid water is used for the first cleaning liquid 222, it is preferable to use an acidic gas for the bubbles. In such a configuration, it is possible to increase the gas-liquid contact while suppressing the pH of the first cleaning liquid 222 after the deodorizing process.

気泡供給部250の具体的な構成については、特に限定されない。図2(A)(B)には、気泡供給部250の具体的な構成の一例が示されている。これらの例において、気泡供給部250は、流入口253及び流出口254を備える循環路251と、循環路251の中にある第1の洗浄液222に泡を混入させる放出部252と、を備えている。循環路251には、循環路251と洗浄部220との接続部である流入口253を介して、洗浄部220から、洗浄部220に貯められている第1の洗浄液222が流入する。また、循環路251からは、循環路251と洗浄部220との接続部である流出口254を介して、流入した第1の洗浄液222が再び洗浄部220へと供給される。このような構成によれば、第1の洗浄液222を攪拌することができる。   The specific configuration of the bubble supply unit 250 is not particularly limited. 2A and 2B show an example of a specific configuration of the bubble supply unit 250. FIG. In these examples, the bubble supply unit 250 includes a circulation path 251 including an inflow port 253 and an outflow port 254, and a discharge unit 252 that mixes bubbles into the first cleaning liquid 222 in the circulation path 251. Yes. The first cleaning liquid 222 stored in the cleaning section 220 flows into the circulation path 251 from the cleaning section 220 via the inflow port 253 that is a connection portion between the circulation path 251 and the cleaning section 220. Further, from the circulation path 251, the first cleaning liquid 222 that has flowed in is supplied again to the cleaning section 220 through an outlet 254 that is a connection portion between the circulation path 251 and the cleaning section 220. According to such a configuration, the first cleaning liquid 222 can be stirred.

湿式脱臭装置200A,Bは、さらなる構成を有していてもよい。例えば、湿式脱臭装置200A,Bは、第1の洗浄液222を投入するための投入部270を有していてもよい。また、湿式脱臭装置200A,Bは、第1の洗浄液222が流出する流出口254を有していてもよい。一実施形態においては、第1の洗浄液222の量は流出口280により制限される。すなわち、第2の洗浄液が混合されても、第1の洗浄液222はオーバーフローとして流出口280から流出するため、第1の洗浄液222の量が一定量に保たれる。さらに、湿式脱臭装置200A,Bは、底部に排出口290を有していてもよい。排出口290を介して、湿式脱臭装置200A,Bに蓄積した汚泥を排出することができる。さらに、図2(B)に示すように、気液接触効率を向上させるために、第2の洗浄液が噴霧され、脱臭対象の気体が通過する箇所に、充填剤295を設けてもよい。   Wet deodorization apparatus 200A, B may have a further configuration. For example, the wet deodorization apparatuses 200 </ b> A and 200 </ b> B may have a charging unit 270 for charging the first cleaning liquid 222. In addition, the wet deodorization apparatuses 200A and 200B may have an outlet 254 through which the first cleaning liquid 222 flows out. In one embodiment, the amount of the first cleaning liquid 222 is limited by the outlet 280. That is, even if the second cleaning liquid is mixed, the first cleaning liquid 222 flows out from the outlet 280 as an overflow, so that the amount of the first cleaning liquid 222 is kept constant. Furthermore, the wet deodorization apparatuses 200A and 200B may have a discharge port 290 at the bottom. The sludge accumulated in the wet deodorizing apparatuses 200A and 200B can be discharged through the discharge port 290. Furthermore, as shown in FIG. 2B, in order to improve the gas-liquid contact efficiency, a filler 295 may be provided at a location where the second cleaning liquid is sprayed and the gas to be deodorized passes.

以上で、図2に示す脱臭装置200の概略構成図に関する説明を終了する。   Above, description regarding the schematic block diagram of the deodorizing apparatus 200 shown in FIG. 2 is complete | finished.

以下、図3を用いて、図1に示した情報処理装置100のハードウェア構成に関して説明する。   Hereinafter, the hardware configuration of the information processing apparatus 100 illustrated in FIG. 1 will be described with reference to FIG.

図3に示すように、情報処理装置100は、システムバス304を介してCPU(Central Processing Unit)301、RAM(Random Access Memory)302、ROM(Read Only Memory)303、入力コントローラ305、ビデオコントローラ306、メモリコントローラ307、通信I/Fコントローラ308等が接続された構成を採る。   As illustrated in FIG. 3, the information processing apparatus 100 includes a central processing unit (CPU) 301, a random access memory (RAM) 302, a read only memory (ROM) 303, an input controller 305, and a video controller 306 via a system bus 304. The memory controller 307, the communication I / F controller 308, etc. are connected.

CPU301は、システムバス304に接続される各デバイスやコントローラを統括的に制御する。   The CPU 301 comprehensively controls each device and controller connected to the system bus 304.

また、ROM303あるいは外部メモリ311(記憶手段に相当する)には、CPU301の制御プログラムであるBIOS(Basic Input/Output System)やOS(Operating System)や、各サーバあるいは各PCが実行する機能を実現するために必要な後述する各種プログラム等が記憶されている。また、本発明を実施するために必要な情報が記憶されている。なお外部メモリはデータベースであってもよい。   Further, the ROM 303 or the external memory 311 (corresponding to a storage unit) realizes a function executed by each server or each PC, such as a BIOS (Basic Input / Output System) or an OS (Operating System) that is a control program of the CPU 301. Various programs to be described later are stored. Further, information necessary for carrying out the present invention is stored. The external memory may be a database.

RAM302(記憶手段に相当する)は、CPU301の主メモリ、ワークエリア等として機能する。CPU301は、処理の実行に際して必要なプログラム等をROM303あるいは外部メモリ311からRAM302にロードし、ロードしたプログラムを実行することで各種動作を実現する。   A RAM 302 (corresponding to a storage unit) functions as a main memory, work area, and the like of the CPU 301. The CPU 301 implements various operations by loading a program or the like necessary for executing the processing from the ROM 303 or the external memory 311 to the RAM 302 and executing the loaded program.

また、入力コントローラ305は、キーボード(KB)309や不図示のマウス等のポインティングデバイス等からの入力を制御する。   The input controller 305 controls input from a keyboard (KB) 309 or a pointing device such as a mouse (not shown).

ビデオコントローラ306は、ディスプレイ310等の表示器への表示を制御する。尚、表示器は液晶ディスプレイ等の表示器でもよい。これらは、必要に応じて管理者が使用する。   The video controller 306 controls display on a display device such as the display 310. The display device may be a display device such as a liquid crystal display. These are used by the administrator as needed.

メモリコントローラ307は、ブートプログラム、各種のアプリケーション、フォントデータ、ユーザファイル、編集ファイル、各種データ等を記憶する外部記憶装置(ハードディスク(HD))や、フレキシブルディスク(FD)、あるいは、PCMCIA(Personal Computer Memory Card International Association)カードスロットにアダプタを介して接続されるコンパクトフラッシュ(登録商標)メモリ等の外部メモリ311(記憶手段に相当する)へのアクセスを制御する。   The memory controller 307 is an external storage device (hard disk (HD)), flexible disk (FD), or PCMCIA (Personal Computer) that stores a boot program, various applications, font data, user files, editing files, various data, and the like. Controls access to an external memory 311 (corresponding to storage means) such as a Compact Flash (registered trademark) memory connected to a Memory Card International Association (Card Memory) card slot via an adapter.

通信I/Fコントローラ308は、ネットワークを介して外部機器と接続・通信し、ネットワークでの通信制御処理を実行する。例えば、TCP/IP(Transmission Control Protocol/Internet Protocol)を用いた通信等が可能である。本実施形態では、ネットワークを介して、生成装置110や湿式脱臭装置200と通信可能に接続されているが、有線ケーブルなどで接続されるようにしても構わない。   The communication I / F controller 308 connects and communicates with an external device via a network, and executes communication control processing on the network. For example, communication using TCP / IP (Transmission Control Protocol / Internet Protocol) is possible. In the present embodiment, the generator 110 and the wet deodorizing apparatus 200 are communicably connected via a network, but may be connected by a wired cable or the like.

尚、CPU301は、例えばRAM302内の表示情報用領域へアウトラインフォントの展開(ラスタライズ)処理を実行することにより、ディスプレイ310上に表示することが可能である。また、CPU301は、ディスプレイ310上のマウスカーソル(図示しない)等によるユーザ指示を可能とする。   The CPU 301 can display on the display 310 by executing outline font rasterization processing on a display information area in the RAM 302, for example. Further, the CPU 301 enables a user instruction using a mouse cursor (not shown) on the display 310.

本発明を実現するための後述する各種プログラムは、外部メモリ311に記録されており、必要に応じてRAM302にロードされることによりCPU301によって実行されるものである。   Various programs to be described later for realizing the present invention are recorded in the external memory 311 and are executed by the CPU 301 by being loaded into the RAM 302 as necessary.

以上で、図3に示す情報処理装置100のハードウェア構成に関する説明を終了する。上記の構成は一例であって、目的や用途に応じて適宜変更されうる。   This is the end of the description regarding the hardware configuration of the information processing apparatus 100 illustrated in FIG. 3. The above configuration is an example, and can be appropriately changed according to the purpose and application.

以下、図4を用いて、図1に示した情報処理装置100のモジュール構成の一例を示すブロック図に関して説明する。   Hereinafter, a block diagram illustrating an example of a module configuration of the information processing apparatus 100 illustrated in FIG. 1 will be described with reference to FIG.

情報処理装置100は、第1の取得部401と、特定部402と、第2の取得部403とを備える。   The information processing apparatus 100 includes a first acquisition unit 401, a specifying unit 402, and a second acquisition unit 403.

第1の取得部401は、洗浄装置による洗浄後の気体を含む空気の気象情報を取得するよう制御する機能部である。   The first acquisition unit 401 is a functional unit that performs control so as to acquire meteorological information of air including gas after cleaning by the cleaning device.

特定部402は、第1の取得部401により取得された気象情報に対応する、パラメータを特定するよう制御する機能部である。さらに、特定部402は、第1の取得部401により取得された気象情報と、第2の取得部403により取得された物理量とに対応する、パラメータを特定するよう制御する機能部である。   The specifying unit 402 is a functional unit that controls to specify a parameter corresponding to the weather information acquired by the first acquiring unit 401. Furthermore, the specifying unit 402 is a functional unit that controls to specify parameters corresponding to the weather information acquired by the first acquiring unit 401 and the physical quantity acquired by the second acquiring unit 403.

第2の取得部403は、洗浄装置による洗浄後の気体を含む空気の物理量を取得するよう制御する機能部である。   The second acquisition unit 403 is a functional unit that performs control so as to acquire a physical quantity of air including gas after cleaning by the cleaning device.

以上で、図4に示す情報処理装置100のモジュール構成に関する説明を終了する。   This is the end of the description of the module configuration of the information processing apparatus 100 illustrated in FIG.

本実施形態に係る脱臭方法について、図5のフローチャートを参照して説明する。この脱臭方法は、例えば、上述した実施形態に係る湿式脱臭装置を用いて実現可能であるが、他の湿式脱臭装置を用いることも可能である。   The deodorizing method according to this embodiment will be described with reference to the flowchart of FIG. This deodorization method can be realized using, for example, the wet deodorization apparatus according to the above-described embodiment, but other wet deodorization apparatuses can also be used.

ステップS501において、脱臭対象の気体が、第1の洗浄液による洗浄を行う洗浄部へと導かれる。例えば、脱臭対象の気体を、臭気流入部150から洗浄部220に導入することができる。ステップS502において、第1の洗浄液に、脱臭対象の気体とは異なる気体の泡が混合される。例えば、気泡供給部250は、第1の洗浄液222に泡を混合することができる。ステップS503において、第1の洗浄液222で洗浄された後の気体が、洗浄部の外へ導かれる。例えば、洗浄部220において洗浄された気体を、臭気流出部160へと導出することができる。   In step S501, the gas to be deodorized is guided to a cleaning unit that performs cleaning with the first cleaning liquid. For example, the gas to be deodorized can be introduced into the cleaning unit 220 from the odor inflow unit 150. In step S502, gas bubbles different from the gas to be deodorized are mixed with the first cleaning liquid. For example, the bubble supply unit 250 can mix bubbles with the first cleaning liquid 222. In step S503, the gas that has been cleaned with the first cleaning liquid 222 is guided out of the cleaning section. For example, the gas cleaned in the cleaning unit 220 can be led out to the odor outflow unit 160.

以上で、図5に示す脱臭方法のフローチャートに関する説明を終了する。   Above, description about the flowchart of the deodorizing method shown in FIG. 5 is complete | finished.

以降、脱臭システムの制御処理に関して説明する。   Hereinafter, the control process of the deodorization system will be described.

本実施例では、以上で示したような湿式脱臭装置、脱臭システム、及び脱臭方法において、適切な洗浄能力で臭気の脱臭を行うため、洗浄装置200周辺の風速や風向(気象情報に相当する)を管理し、風速(風速情報に相当する)や風向(風向情報に相当する)に応じて、次亜塩素酸水の濃度制御や流量制御を行う。以下の第1〜第6の実施形態では、洗浄液を次亜塩素酸水、洗浄液の原料を次亜塩素酸ナトリウム、水、炭酸ガスとしているが、洗浄液も洗浄液の原料も、もちろん一例に過ぎない。また、湿式脱臭装置の仕組みも、一例に過ぎない。貯留容器120を設けず、生成装置110から洗浄装置200に次亜塩素酸水を直接供給してもよい。   In the present embodiment, in the wet deodorizing apparatus, the deodorizing system, and the deodorizing method as described above, the wind speed and direction around the cleaning apparatus 200 (corresponding to weather information) in order to deodorize the odor with an appropriate cleaning ability. And controlling the concentration and flow rate of hypochlorous acid water according to the wind speed (corresponding to the wind speed information) and the wind direction (corresponding to the wind direction information). In the following first to sixth embodiments, the cleaning liquid is hypochlorous acid water, and the raw material of the cleaning liquid is sodium hypochlorite, water, and carbon dioxide gas, but the cleaning liquid and the raw material of the cleaning liquid are of course only examples. . Moreover, the structure of the wet deodorizing apparatus is only an example. Hypochlorous acid water may be directly supplied from the generation device 110 to the cleaning device 200 without providing the storage container 120.

<第1の実施形態>
以下、図6を用いて、本発明の第1の実施形態における、風向センサ202を用いた次亜塩素酸水の濃度制御処理に関して説明する。
<First Embodiment>
Hereinafter, the concentration control process of hypochlorous acid water using the wind direction sensor 202 in the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

第1の実施形態では、風向センサ202の値を基に、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量と、生成装置に供給される希釈水の流量と、洗浄装置に供給される炭酸ガスの流量との設定を変更することにより、次亜塩素酸水の塩素濃度制御を行う。   In the first embodiment, based on the value of the wind direction sensor 202, the flow rate of sodium hypochlorite supplied to the generating device, the flow rate of dilution water supplied to the generating device, and the carbonic acid supplied to the cleaning device. Chlorine concentration control of hypochlorous acid water is performed by changing the setting with the gas flow rate.

具体的には、風向センサ202により測定された風向に対応する、次亜塩素酸水を生成するための原料の流量の設定値を特定する。特定された設定値で次亜塩素酸水を生成するよう、次亜塩素酸ナトリウムが蓄えられている第1の原料容器101と生成装置110との間にある第1原料バルブ181を、生成装置110が制御することにより、次亜塩素酸水の塩素濃度を制御することができる。一般的に、次亜塩素酸水の塩素濃度と次亜塩素酸水の持つ洗浄能力とには相関があり、次亜塩素酸水の塩素濃度が高いほど、次亜塩素酸水の持つ洗浄能力は高くなる。   Specifically, the set value of the flow rate of the raw material for generating hypochlorous acid water corresponding to the wind direction measured by the wind direction sensor 202 is specified. The first raw material valve 181 between the first raw material container 101 in which sodium hypochlorite is stored and the production device 110 is produced so as to produce hypochlorous acid water at the specified set value. By controlling 110, the chlorine concentration of hypochlorous acid water can be controlled. In general, there is a correlation between the chlorine concentration of hypochlorous acid water and the cleaning ability of hypochlorous acid water. The higher the chlorine concentration of hypochlorous acid water, the higher the cleaning ability of hypochlorous acid water. Becomes higher.

具体的な事例として、図18に示す洗浄装置200と住宅との関係を表す図を用いて説明する。例えば、図18に示されているように、洗浄装置200の東側に住宅があり、270°の風が風向センサ202で測定されている場合を想定する。270°とは、風向を360方位で示したときの方位である。270°の風は16方位に直すと西の風であり、西から吹く風のことを指す。洗浄装置200から住宅に向かう方に風が向かっている場合、臭気流出部より流出される気体が、住民に不快感を与える可能性がある。図18に示されているように、洗浄装置200の東側に住宅があり270°の風が吹いている場合に、次亜塩素酸水の濃度を変更し、洗浄能力を高めることによって、近隣の住民に対して与える臭気による不快感を軽減させることができる。   A specific example will be described with reference to a diagram showing the relationship between the cleaning device 200 and a house shown in FIG. For example, as shown in FIG. 18, it is assumed that there is a house on the east side of the cleaning apparatus 200 and wind of 270 ° is measured by the wind direction sensor 202. 270 ° is an orientation when the wind direction is indicated by 360 orientations. A wind of 270 ° is a west wind when it is corrected to 16 directions, and indicates a wind blowing from the west. When the wind is directed toward the house from the cleaning device 200, the gas that flows out from the odor outflow part may cause discomfort to the residents. As shown in FIG. 18, when there is a house on the east side of the cleaning device 200 and a wind of 270 ° is blowing, by changing the concentration of hypochlorous acid water and increasing the cleaning capacity, Discomfort due to odor given to residents can be reduced.

すなわち、本実施形態では、風向に応じて次亜塩素酸水の塩素濃度を制御することで、風向に応じた洗浄能力を持つ次亜塩素酸水を洗浄装置に供給することができる。   That is, in the present embodiment, by controlling the chlorine concentration of hypochlorous acid water according to the wind direction, hypochlorous acid water having a cleaning ability according to the wind direction can be supplied to the cleaning device.

ステップS601では、情報処理装置100のCPU301が、風向センサ202より風向を取得する(第1の取得手段に相当する)。   In step S601, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 acquires the wind direction from the wind direction sensor 202 (corresponding to a first acquisition unit).

ステップS602では、情報処理装置100のCPU301が、情報処理装置100に記憶された、図12に示す濃度変更モード(1)テーブル1200を読み込む。   In step S602, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 reads the density change mode (1) table 1200 shown in FIG.

図12は、本発明の第1の実施形態におけるモード設定に用いる濃度変更モード(1)テーブル1200である。風向条件1201は、以降で説明するような、各モードに設定する際の風向の条件である。モード1202は、本発明の実施形態において、風向条件1201に基づいて設けられたモードであり、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の塩素濃度(パラメータに相当する)も併せて記載されている。設定値1203は、各モードに対応する、次亜塩素酸水を生成するための原料の流量の設定値(パラメータに相当する)である。生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量1204、生成装置に供給される希釈水の流量1205、生成装置に供給される炭酸ガスの流量1206は、それぞれ次亜塩素酸水を生成するための原料の流量である。   FIG. 12 is a density change mode (1) table 1200 used for mode setting in the first embodiment of the present invention. The wind direction condition 1201 is a condition of the wind direction when setting each mode as described below. The mode 1202 is a mode provided based on the wind direction condition 1201 in the embodiment of the present invention, and the chlorine concentration (corresponding to a parameter) of hypochlorous acid water supplied to the cleaning device is also described. Yes. The set value 1203 is a set value (corresponding to a parameter) of the flow rate of the raw material for generating hypochlorous acid water corresponding to each mode. The flow rate 1204 of sodium hypochlorite supplied to the generator, the flow rate 1205 of dilution water supplied to the generator, and the flow rate 1206 of carbon dioxide supplied to the generator are used to generate hypochlorous acid water, respectively. The flow rate of the raw material.

ステップS603では、情報処理装置100のCPU301が、ステップS601で取得された風向が満たす風向条件1201に対応する設定値1203を、ステップS602で読み込んだ濃度変更モード(1)テーブル1200の風向条件1201を参照して特定する(特定手段に相当する)。例えば、ステップS601で取得された風向が270°であった場合には、風向は、260°以上280°未満に含まれる。すなわち、取得された風向が270°であった場合には、当該風向は「260°以上280°未満」という風向条件1201を満たすことから、当該風向に対応する設定値1203はそれぞれ、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量1204は12.01mL/min、生成装置に供給される希釈水の流量1205は10L/min、生成装置に供給される炭酸ガスの流量1206は10L/minと特定される。この場合モードは強力処理Aモードであり、生成装置で生成される次亜塩素酸水、すなわち、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の塩素濃度が1200ppmとなるように設定されているモードである。   In step S603, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 reads the setting value 1203 corresponding to the wind direction condition 1201 satisfied by the wind direction acquired in step S601, and the wind direction condition 1201 of the density change mode (1) table 1200 read in step S602. It is specified with reference (corresponding to the specifying means). For example, when the wind direction acquired in step S601 is 270 °, the wind direction is included in 260 ° or more and less than 280 °. That is, when the acquired wind direction is 270 °, the wind direction satisfies the wind direction condition 1201 of “260 ° or more and less than 280 °”, and therefore the setting value 1203 corresponding to the wind direction is stored in the generation device. The flow rate 1204 of sodium hypochlorite supplied is 12.01 mL / min, the flow rate 1205 of dilution water supplied to the generator is 10 L / min, and the flow rate 1206 of carbon dioxide gas supplied to the generator is 10 L / min. Identified. In this case, the mode is the powerful treatment A mode, and the mode is set such that the chlorine concentration of the hypochlorous acid water generated by the generating device, that is, the hypochlorous acid water supplied to the cleaning device is 1200 ppm. It is.

ステップS604では、情報処理装置100のCPU301が、ステップS603で特定された設定値1203を、生成装置110のCPU301に送信する。   In step S <b> 604, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 transmits the setting value 1203 specified in step S <b> 603 to the CPU 301 of the generation apparatus 110.

ステップS605では、生成装置110のCPU301が、ステップS604で送信された設定値1203を受信する。   In step S605, the CPU 301 of the generation apparatus 110 receives the setting value 1203 transmitted in step S604.

ステップS606では、生成装置110のCPU301が、ステップS605で受信された設定値1203で次亜塩素酸水を生成するよう、第1原料バルブ181を制御する。第1原料バルブ181は、次亜塩素酸ナトリウムが蓄えられている第1の原料容器101と生成装置110との間にあるバルブである。第1原料バルブ181を制御することにより、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量1206を変更することができる。すなわち、生成装置で生成される次亜塩素酸水の濃度を変更することができる。   In step S606, the CPU 301 of the generating apparatus 110 controls the first raw material valve 181 so as to generate hypochlorous acid water with the set value 1203 received in step S605. The first raw material valve 181 is a valve between the first raw material container 101 in which sodium hypochlorite is stored and the generation device 110. By controlling the first raw material valve 181, the flow rate 1206 of sodium hypochlorite supplied to the generator can be changed. That is, the concentration of hypochlorous acid water generated by the generator can be changed.

このように、生成装置で生成される次亜塩素酸水の原料の流量を、風向に基づいた設定値で制御することによって、近隣の住民に対して与える臭気による不快感を軽減させることができる。   As described above, by controlling the flow rate of the raw material of hypochlorous acid water generated by the generating device with the set value based on the wind direction, it is possible to reduce discomfort due to odors given to neighboring residents. .

以上が、本発明の第1の実施形態に関する説明である。第1の実施形態では、情報処理装置100は、風向に応じて次亜塩素酸水の塩素濃度を制御することで、風向に応じた洗浄能力を持つ次亜塩素酸水を洗浄装置に供給するよう制御することができる。   The above is the description regarding the first embodiment of the present invention. In the first embodiment, the information processing apparatus 100 supplies hypochlorous acid water having a cleaning capability according to the wind direction to the cleaning apparatus by controlling the chlorine concentration of the hypochlorous acid water according to the wind direction. Can be controlled.

<第2の実施形態>
以下、図7を用いて、本発明の第2の実施形態における、風向センサ202を用いた次亜塩素酸水の流量制御処理に関して説明する。
<Second Embodiment>
Hereinafter, the flow control process of hypochlorous acid water using the wind direction sensor 202 in the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

第2の実施形態では、風向センサ202の値を基に、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量と、生成装置に供給される希釈水の流量と、洗浄装置に供給される炭酸ガスの流量との設定を変更することにより、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の流量制御を行う。   In 2nd Embodiment, based on the value of the wind direction sensor 202, the flow volume of sodium hypochlorite supplied to a production | generation apparatus, the flow volume of the dilution water supplied to a production | generation apparatus, and the carbonic acid supplied to a washing | cleaning apparatus. By changing the setting with the gas flow rate, the flow rate control of the hypochlorous acid water supplied to the cleaning device is performed.

具体的には、風向センサ202により測定された風向に対応する、次亜塩素酸水を生成するための原料の流量の設定値を特定する。特定された設定値で次亜塩素酸水を供給するよう、第1原料バルブ181と第2原料バルブ182と洗浄液バルブ190とを制御することにより、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の流量を制御することができる。   Specifically, the set value of the flow rate of the raw material for generating hypochlorous acid water corresponding to the wind direction measured by the wind direction sensor 202 is specified. By controlling the first raw material valve 181, the second raw material valve 182, and the cleaning liquid valve 190 so as to supply hypochlorous acid water at the specified set value, the hypochlorous acid water supplied to the cleaning device is controlled. The flow rate can be controlled.

一般的に、次亜塩素酸水の濃度と次亜塩素酸水の持つ洗浄能力とには相関があるが、次亜塩素酸水の流量を大きくすることでも、洗浄対象と次亜塩素酸水との接触効率がよくなり、洗浄能力を高められる。   In general, there is a correlation between the concentration of hypochlorous acid water and the cleaning ability of hypochlorous acid water. The contact efficiency is improved and the cleaning ability is improved.

例えば、図18に示されているように、270°の風が風向センサ202で測定されている場合、次亜塩素酸水の流量を変更し、洗浄能力を高めることによって、近隣の住民に対して与える臭気による不快感を軽減させることができる。   For example, as shown in FIG. 18, when wind of 270 ° is measured by the wind direction sensor 202, the flow rate of hypochlorous acid water is changed and the cleaning ability is increased, so that Can reduce the discomfort caused by odors.

すなわち、本実施形態では、風向に応じて、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の流量を制御することで、風向に応じた洗浄能力を持つ次亜塩素酸水を洗浄装置に供給することができる。   That is, in this embodiment, by controlling the flow rate of hypochlorous acid water supplied to the cleaning device according to the wind direction, hypochlorous acid water having a cleaning capability according to the wind direction is supplied to the cleaning device. be able to.

以下、第2の実施形態について、上述した第1の実施形態と、システム構成、ハードウェア構成、モジュール構成が同じ部分については説明を省略し、当該第1の実施形態と処理が異なる部分について説明する。   Hereinafter, with respect to the second embodiment, description of parts having the same system configuration, hardware configuration, and module configuration as those of the above-described first embodiment will be omitted, and parts different from those of the first embodiment will be described. To do.

ステップS601の処理の内容は第1の実施形態と同様なため、説明は省略する。   Since the content of the process of step S601 is the same as that of the first embodiment, description thereof is omitted.

ステップS701では、情報処理装置100のCPU301が、情報処理装置100に記憶された、図13に示す流量変更モード(1)テーブル1300を読み込む。   In step S <b> 701, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 reads the flow rate change mode (1) table 1300 shown in FIG. 13 stored in the information processing apparatus 100.

図13は、本発明の第2の実施形態におけるモード設定に用いる流量変更モード(1)テーブル1300である。流量変更モード(1)テーブル1300は、風向条件1201、モード1202、設定値1203、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量1204、生成装置に供給される希釈水の流量1205、生成装置に供給される炭酸ガスの流量1206で構成されている。モード1202は、本発明の実施形態において、風向条件1201に基づいて設けられたモードであり、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の流量(パラメータに相当する)も併せて記載されている。   FIG. 13 is a flow rate change mode (1) table 1300 used for mode setting in the second embodiment of the present invention. The flow rate change mode (1) table 1300 includes a wind direction condition 1201, a mode 1202, a set value 1203, a sodium hypochlorite flow rate 1204 supplied to the generating device, a flow rate 1205 of dilution water supplied to the generating device, and a generating device. It is comprised with the flow volume 1206 of the carbon dioxide gas supplied to. The mode 1202 is a mode provided based on the wind direction condition 1201 in the embodiment of the present invention, and the flow rate (corresponding to the parameter) of hypochlorous acid water supplied to the cleaning device is also described. .

ステップS702では、情報処理装置100のCPU301が、ステップS601で取得された風向が満たす風向条件1201に対応する設定値1203を、ステップS701で読み込んだ流量変更モード(1)テーブル1300の風向条件1201を参照して特定する(特定手段に相当する)。例えば、ステップS601で取得された風向が270°であった場合には、風向は、260°以上280°未満に含まれる。すなわち、取得された風向が270°であった場合には、当該風向は「260°以上280°未満」という風向条件1201を満たすことから、当該風向に対応する設定値1203はそれぞれ、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量1204は12.01mL/min、生成装置に供給される希釈水の流量1205は12L/min、生成装置に供給される炭酸ガスの流量1206は10L/minと特定される。この場合モードは強力処理Bモードであり、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の流量が12L/minとなるように設定されているモードである。   In step S702, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 sets the setting value 1203 corresponding to the wind direction condition 1201 that the wind direction acquired in step S601 satisfies, and the wind direction condition 1201 of the flow rate change mode (1) table 1300 read in step S701. It is specified with reference (corresponding to the specifying means). For example, when the wind direction acquired in step S601 is 270 °, the wind direction is included in 260 ° or more and less than 280 °. In other words, when the acquired wind direction is 270 °, the wind direction satisfies the wind direction condition 1201 of “260 ° or more and less than 280 °”, and therefore the setting value 1203 corresponding to the wind direction is stored in the generation device. The flow rate 1204 of sodium hypochlorite supplied is 12.01 mL / min, the flow rate 1205 of dilution water supplied to the generator is 12 L / min, and the flow rate 1206 of carbon dioxide gas supplied to the generator is 10 L / min. Identified. In this case, the mode is a powerful processing B mode, which is a mode set so that the flow rate of hypochlorous acid water supplied to the cleaning device is 12 L / min.

ステップS703では、情報処理装置100のCPU301が、ステップS702で特定された設定値1203を、生成装置110のCPU301に送信する。   In step S703, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 transmits the setting value 1203 specified in step S702 to the CPU 301 of the generation apparatus 110.

ステップS704では、生成装置110のCPU301が、ステップS703で送信された設定値1203を受信する。   In step S704, the CPU 301 of the generation apparatus 110 receives the setting value 1203 transmitted in step S703.

ステップS705では、生成装置110のCPU301が、ステップS704で受信された設定値1203で洗浄装置200に次亜塩素酸水を供給するよう、第1原料バルブ181、第2原料バルブ182、洗浄液バルブ190を制御する。第1原料バルブ181、第2原料バルブ182、洗浄液バルブ190を制御することにより、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の流量を制御することができる。   In step S705, the CPU 301 of the generation apparatus 110 supplies the first raw material valve 181, the second raw material valve 182, and the cleaning liquid valve 190 so as to supply hypochlorous acid water to the cleaning apparatus 200 with the setting value 1203 received in step S704. To control. By controlling the first raw material valve 181, the second raw material valve 182, and the cleaning liquid valve 190, the flow rate of hypochlorous acid water supplied to the cleaning device can be controlled.

以上が、本発明の第2の実施形態に関する説明である。第2の実施形態では、風向に応じて次亜塩素酸水の流量を制御することで、風向に応じた洗浄能力を持つ次亜塩素酸水を洗浄装置に供給することができる。   This completes the description of the second embodiment of the present invention. In the second embodiment, by controlling the flow rate of hypochlorous acid water according to the wind direction, hypochlorous acid water having a cleaning ability according to the wind direction can be supplied to the cleaning device.

<第3の実施形態>
以下、図8を用いて、本発明の第3の実施形態における、風速センサ203を用いた次亜塩素酸水の濃度制御処理に関して説明する。
<Third Embodiment>
Hereinafter, the concentration control process of hypochlorous acid water using the wind speed sensor 203 in the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

第3の実施形態では、風速センサ203の値を基に、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量と、生成装置に供給される希釈水の流量と、洗浄装置に供給される炭酸ガスの流量との設定を変更することにより、次亜塩素酸水の塩素濃度制御を行う。   In the third embodiment, based on the value of the wind speed sensor 203, the flow rate of sodium hypochlorite supplied to the generating device, the flow rate of dilution water supplied to the generating device, and the carbonic acid supplied to the cleaning device. Chlorine concentration control of hypochlorous acid water is performed by changing the setting with the gas flow rate.

具体的には、風速センサ203により測定された風速に対応する、次亜塩素酸水を生成するための原料の流量の設定値を特定する。特定された設定値で次亜塩素酸水を生成するよう、次亜塩素酸ナトリウムが蓄えられている第1の原料容器101と生成装置110との間にある第1原料バルブ181を、生成装置110が制御することにより、次亜塩素酸水の塩素濃度を制御することができる。第1の実施形態でも示したように、一般的に、次亜塩素酸水の塩素濃度と次亜塩素酸水の持つ洗浄能力とには相関があり、次亜塩素酸水の塩素濃度が高いほど、次亜塩素酸水の持つ洗浄能力は高くなる。   Specifically, the set value of the flow rate of the raw material for generating hypochlorous acid water corresponding to the wind speed measured by the wind speed sensor 203 is specified. The first raw material valve 181 between the first raw material container 101 in which sodium hypochlorite is stored and the production device 110 is produced so as to produce hypochlorous acid water at the specified set value. By controlling 110, the chlorine concentration of hypochlorous acid water can be controlled. As shown in the first embodiment, generally, there is a correlation between the chlorine concentration of hypochlorous acid water and the cleaning ability of the hypochlorous acid water, and the chlorine concentration of hypochlorous acid water is high. The higher the cleaning ability of hypochlorous acid water is.

具体的な事例として、例えば、洗浄装置200周辺に住宅があり、15m/sの風が風速センサ203で測定されている場合を想定する。15m/sの風が測定される場合、洗浄装置200と住宅との位置関係によっては、臭気流出部160より流出される気体が、住民に不快感を与える可能性がある。洗浄装置200と住宅との距離関係を予め考慮したうえで、風速が大きい場合には次亜塩素酸水による洗浄能力を高めることにより、近隣の住民に対して与える臭気による不快感を軽減させることができる。   As a specific example, for example, it is assumed that there is a house around the cleaning apparatus 200 and a wind of 15 m / s is measured by the wind speed sensor 203. When wind of 15 m / s is measured, depending on the positional relationship between the cleaning device 200 and the house, the gas that flows out from the odor outflow portion 160 may cause discomfort to the residents. Considering the distance between the cleaning device 200 and the house in advance, and reducing the discomfort due to odors given to neighboring residents by increasing the cleaning ability with hypochlorous acid water when the wind speed is high Can do.

すなわち、本実施形態では、風速に応じて次亜塩素酸水の塩素濃度を制御することで、風向に応じた洗浄能力を持つ次亜塩素酸水を洗浄装置に供給することができる。   That is, in this embodiment, hypochlorous acid water having a cleaning ability corresponding to the wind direction can be supplied to the cleaning device by controlling the chlorine concentration of the hypochlorous acid water according to the wind speed.

ステップS801では、情報処理装置100のCPU301が、風速センサ203より風速を取得する(第1の取得手段に相当する)。   In step S801, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 acquires the wind speed from the wind speed sensor 203 (corresponding to a first acquisition unit).

ステップS802では、情報処理装置100のCPU301が、情報処理装置100に記憶された、図14に示す濃度変更モード(2)テーブル1400を読み込む。   In step S <b> 802, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 reads the density change mode (2) table 1400 shown in FIG. 14 stored in the information processing apparatus 100.

図14は、本発明の第3の実施形態におけるモード設定に用いる濃度変更モード(2)テーブル1400である。濃度変更モード(2)テーブル1400は、風速条件1401、モード1202、設定値1203、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量1204、生成装置に供給される希釈水の流量1205、生成装置に供給される炭酸ガスの流量1206で構成されている。風速条件1401は、各モードに設定する際の風速の条件である。モード1202は、本発明の実施形態において、風速条件1401に基づいて設けられたモードであり、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の塩素濃度(パラメータに相当する)も併せて記載されている。   FIG. 14 is a density change mode (2) table 1400 used for mode setting in the third embodiment of the present invention. Concentration change mode (2) table 1400 includes wind speed condition 1401, mode 1202, set value 1203, sodium hypochlorite flow rate 1204 supplied to the generator, dilution water flow rate 1205 supplied to the generator, and generator. It is comprised with the flow volume 1206 of the carbon dioxide gas supplied to. The wind speed condition 1401 is a condition of wind speed when setting each mode. The mode 1202 is a mode provided based on the wind speed condition 1401 in the embodiment of the present invention, and the chlorine concentration (corresponding to the parameter) of hypochlorous acid water supplied to the cleaning device is also described. Yes.

ステップS803では、情報処理装置100のCPU301が、ステップS801で取得された風速が満たす風速条件1401に対応する設定値1203を、ステップS802で読み込んだ濃度変更モード(2)テーブル1400の風速条件1401を参照して特定する(特定手段に相当する)。例えば、ステップS801で取得された風速が15m/sであった場合には、風速は10m/s以上に含まれる。すなわち、取得された風速が15m/sであった場合には、当該風速は「10m/s」を満たすことから、当該風速に対応する設定値1203はそれぞれ、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量1204は12.01mL/min、生成装置に供給される希釈水の流量1205は10L/min、生成装置に供給される炭酸ガスの流量1206は10L/minと特定される。この場合モードは強力処理Cモードであり、生成装置で生成される次亜塩素酸水、すなわち、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の塩素濃度が1200ppmとなるように設定されているモードである。   In step S803, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 reads the setting value 1203 corresponding to the wind speed condition 1401 that is satisfied by the wind speed acquired in step S801, and the wind speed condition 1401 of the density change mode (2) table 1400 read in step S802. It is specified with reference (corresponding to the specifying means). For example, when the wind speed acquired in step S801 is 15 m / s, the wind speed is included in 10 m / s or more. That is, when the acquired wind speed is 15 m / s, the wind speed satisfies “10 m / s”, and thus the set value 1203 corresponding to the wind speed is hypochlorous acid supplied to the generator. The flow rate 1204 of sodium acid is specified as 12.01 mL / min, the flow rate 1205 of dilution water supplied to the generator is 10 L / min, and the flow rate 1206 of carbon dioxide gas supplied to the generator is specified as 10 L / min. In this case, the mode is the strong processing C mode, and is a mode in which the chlorine concentration of hypochlorous acid water generated by the generator, that is, the chlorine concentration of hypochlorous acid water supplied to the cleaning device is set to 1200 ppm. It is.

ステップS804では、情報処理装置100のCPU301が、ステップS803で特定された設定値1203を、生成装置110のCPU301に送信する。   In step S804, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 transmits the setting value 1203 specified in step S803 to the CPU 301 of the generation apparatus 110.

ステップS805では、生成装置110のCPU301が、ステップS804で送信された設定値1203を受信する。   In step S805, the CPU 301 of the generation apparatus 110 receives the setting value 1203 transmitted in step S804.

ステップS806では、生成装置110のCPU301が、ステップS805で受信された設定値1203で次亜塩素酸水を生成するよう、第1原料バルブ181を制御する。第1原料バルブ181を制御することにより、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量1206を変更することができる。すなわち、生成装置で生成される次亜塩素酸水の濃度を変更することができる。   In step S806, the CPU 301 of the generation apparatus 110 controls the first raw material valve 181 so as to generate hypochlorous acid water with the set value 1203 received in step S805. By controlling the first raw material valve 181, the flow rate 1206 of sodium hypochlorite supplied to the generator can be changed. That is, the concentration of hypochlorous acid water generated by the generator can be changed.

このように、生成装置で生成される次亜塩素酸水の原料の流量を、風速に基づいた設定値で制御することにより、近隣の住民に対して与える臭気による不快感を軽減させることができる。   Thus, by controlling the flow rate of the raw material of hypochlorous acid water generated by the generating device with the set value based on the wind speed, it is possible to reduce discomfort due to odor given to neighboring residents. .

以上が、本発明の第3の実施形態に関する説明である。第3の実施形態では、風速に応じて次亜塩素酸水の塩素濃度を制御することで、風向に応じた洗浄能力を持つ次亜塩素酸水を洗浄装置に供給することができる。
<第4の実施形態>
以下、図9を用いて、本発明の第4の実施形態における、風速センサ203を用いた次亜塩素酸水の流量制御処理に関して説明する。
The above is the description regarding the third embodiment of the present invention. In the third embodiment, by controlling the chlorine concentration of hypochlorous acid water according to the wind speed, hypochlorous acid water having a cleaning ability according to the wind direction can be supplied to the cleaning device.
<Fourth Embodiment>
Hereinafter, the flow control process of hypochlorous acid water using the wind speed sensor 203 in the fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

第4の実施形態では、風速センサ203の値を基に、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量と、生成装置に供給される希釈水の流量と、洗浄装置に供給される炭酸ガスの流量との設定を変更することにより、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の流量制御を行う。   In 4th Embodiment, based on the value of the wind speed sensor 203, the flow volume of sodium hypochlorite supplied to a production | generation apparatus, the flow volume of the dilution water supplied to a production | generation apparatus, and the carbonic acid supplied to a washing | cleaning apparatus. By changing the setting with the gas flow rate, the flow rate control of the hypochlorous acid water supplied to the cleaning device is performed.

具体的には、風速センサ203により測定された風速に対応する、次亜塩素酸水を生成するための原料の流量の設定値を特定する。特定された設定値で次亜塩素酸水を供給するよう、第1原料バルブ181と第2原料バルブ182と洗浄液バルブ190とを制御することにより、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の流量を制御することができる。第2の実施形態でも示したように次亜塩素酸水の流量を大きくすることによって、洗浄対象と次亜塩素酸水との接触効率が良くなり、洗浄能力を高められる。   Specifically, the set value of the flow rate of the raw material for generating hypochlorous acid water corresponding to the wind speed measured by the wind speed sensor 203 is specified. By controlling the first raw material valve 181, the second raw material valve 182, and the cleaning liquid valve 190 so as to supply hypochlorous acid water at the specified set value, the hypochlorous acid water supplied to the cleaning device is controlled. The flow rate can be controlled. As shown in the second embodiment, by increasing the flow rate of the hypochlorous acid water, the contact efficiency between the object to be cleaned and the hypochlorous acid water is improved, and the cleaning ability is enhanced.

例えば、第3の実施形態と同様に、洗浄装置200周辺に住宅があり、15m/sの風が風速センサで測定されている場合を想定する。洗浄装置200と住宅との位置関係を予め考慮したうえで、風速が大きい場合には次亜塩素酸水による洗浄能力を高めることにより、近隣の住民に対して与える臭気による不快感を、軽減させることができる。   For example, as in the third embodiment, it is assumed that there is a house around the cleaning apparatus 200 and wind of 15 m / s is measured by a wind speed sensor. In consideration of the positional relationship between the cleaning device 200 and the house in advance, when the wind speed is high, the cleaning ability with hypochlorous acid water is increased, thereby reducing discomfort due to odor given to neighboring residents. be able to.

すなわち、本実施形態では、風速に応じて次亜塩素酸水の流量を制御することで、風向に応じた洗浄能力を持つ次亜塩素酸水を洗浄装置に供給することができる。   That is, in this embodiment, hypochlorous acid water having a cleaning ability corresponding to the wind direction can be supplied to the cleaning device by controlling the flow rate of the hypochlorous acid water according to the wind speed.

以下、第4の実施形態について、上述した第3の実施形態と、システム構成、ハードウェア構成、モジュール構成が同じ部分については説明を省略し、当該第3の実施形態と処理が異なる部分について説明する。   Hereinafter, with respect to the fourth embodiment, description of parts having the same system configuration, hardware configuration, and module configuration as those of the above-described third embodiment will be omitted, and parts different from those of the third embodiment will be described. To do.

ステップS801の処理の内容は第3の実施形態と同様なため、説明は省略する。   Since the content of the process of step S801 is the same as that of 3rd Embodiment, description is abbreviate | omitted.

ステップS901では、情報処理装置100のCPU301が、情報処理装置100に記憶された、図15に示す流量変更モード(2)テーブル1500を読み込む。   In step S <b> 901, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 reads the flow rate change mode (2) table 1500 illustrated in FIG. 15 stored in the information processing apparatus 100.

図15は、本発明の第4の実施形態におけるモード設定に用いる流量変更モード(2)テーブル1500である。流量変更モード(2)テーブル1500は、風速条件1401、モード1202、設定値1203、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量1204、生成装置に供給される希釈水の流量1205、生成装置に供給される炭酸ガスの流量1206で構成されている。モード1202は、本発明の実施形態において、風速条件1401に基づいて設けられたモードであり、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の流量(パラメータに相当する)も併せて記載されている。   FIG. 15 is a flow rate change mode (2) table 1500 used for mode setting in the fourth embodiment of the present invention. The flow rate change mode (2) table 1500 includes a wind speed condition 1401, a mode 1202, a set value 1203, a sodium hypochlorite flow rate 1204 supplied to the generator, a flow rate 1205 of dilution water supplied to the generator, and a generator. It is comprised with the flow volume 1206 of the carbon dioxide gas supplied to. The mode 1202 is a mode provided based on the wind speed condition 1401 in the embodiment of the present invention, and the flow rate (corresponding to the parameter) of hypochlorous acid water supplied to the cleaning device is also described. .

ステップS902では、情報処理装置100のCPU301が、ステップS801で取得された風速が満たす風速条件1401に対応する設定値1203を、ステップS901で読み込んだ流量変更モード(2)テーブル1500の風速条件1401を参照して特定する(特定手段に相当する)。例えば、ステップS801で取得した風速が15m/sであった場合には、風速は10L/minに含まれる。すなわち、取得された風速が15m/sであった場合には、当該風速は「10m/s」を満たすことから、当該風速に対応する設定値1203はそれぞれ、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量1204は12.01mL/min、生成装置に供給される希釈水の流量1205は12L/min、生成装置に供給される炭酸ガスの流量1206は10L/minと特定される。この場合モードは強力処理Dモードであり、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の流量が12L/minとなるように設定されているモードである。   In step S902, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 reads the setting value 1203 corresponding to the wind speed condition 1401 that the wind speed acquired in step S801 satisfies, and the wind speed condition 1401 of the flow rate change mode (2) table 1500 read in step S901. It is specified with reference (corresponding to the specifying means). For example, when the wind speed acquired in step S801 is 15 m / s, the wind speed is included in 10 L / min. That is, when the acquired wind speed is 15 m / s, the wind speed satisfies “10 m / s”, and thus the set value 1203 corresponding to the wind speed is hypochlorous acid supplied to the generator. The flow rate 1204 of sodium acid is specified as 12.01 mL / min, the flow rate 1205 of dilution water supplied to the generator is 12 L / min, and the flow rate 1206 of carbon dioxide gas supplied to the generator is specified as 10 L / min. In this case, the mode is a powerful processing D mode, which is a mode set so that the flow rate of hypochlorous acid water supplied to the cleaning device is 12 L / min.

ステップS903では、情報処理装置100のCPU301が、ステップS902で特定された設定値1203を、生成装置110のCPU301に送信する。   In step S <b> 903, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 transmits the setting value 1203 specified in step S <b> 902 to the CPU 301 of the generation apparatus 110.

ステップS904では、生成装置110のCPU301が、ステップS903で送信された設定値1203を受信する。   In step S904, the CPU 301 of the generation apparatus 110 receives the setting value 1203 transmitted in step S903.

ステップS905では、生成装置110のCPU301が、ステップS904で受信された設定値1203で洗浄装置200に次亜塩素酸水を供給するよう、第1原料バルブ181、第2原料バルブ182、洗浄液バルブ190を制御する。第1原料バルブ181、第2原料バルブ182、洗浄液バルブ190を制御することにより、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の流量を制御することができる。   In step S905, the CPU 301 of the generation apparatus 110 supplies the first raw material valve 181, the second raw material valve 182, and the cleaning liquid valve 190 so as to supply hypochlorous acid water to the cleaning apparatus 200 with the setting value 1203 received in step S904. To control. By controlling the first raw material valve 181, the second raw material valve 182, and the cleaning liquid valve 190, the flow rate of hypochlorous acid water supplied to the cleaning device can be controlled.

このように、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の原料の流量を、風速に基づいた設定値で制御することにより、近隣の住民に対して与える臭気による不快感を軽減させることができる。   Thus, by controlling the flow rate of the raw material of hypochlorous acid water supplied to the cleaning device with the set value based on the wind speed, it is possible to reduce discomfort due to odor given to neighboring residents. .

以上が、本発明の第4の実施形態に関する説明である。第4の実施形態では、風速に応じて次亜塩素酸水の流量を制御することで、風向に応じた洗浄能力を持つ次亜塩素酸水を洗浄装置に供給することができる。   The above is the description regarding the fourth embodiment of the present invention. In the fourth embodiment, by controlling the flow rate of hypochlorous acid water according to the wind speed, hypochlorous acid water having a cleaning ability according to the wind direction can be supplied to the cleaning device.

<第5の実施形態>
以下、図10を用いて、本発明の第1の実施形態における、風向センサ202とアンモニア濃度測定装置204とを用いた次亜塩素酸水の濃度制御処理に関して説明する。
<Fifth Embodiment>
Hereinafter, the concentration control process of hypochlorous acid water using the wind direction sensor 202 and the ammonia concentration measuring device 204 in the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

第5の実施形態では、風向センサ202とアンモニア濃度測定装置204とで測定された値を基に、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量と、生成装置に供給される希釈水の流量と、洗浄装置に供給される炭酸ガスの流量との設定を変更することにより、次亜塩素酸水の塩素濃度制御を行う。臭気の代表例の1つとしてアンモニアに着目し、アンモニア濃度(物理量に相当する)の測定を取り入れている。   In 5th Embodiment, based on the value measured with the wind direction sensor 202 and the ammonia concentration measuring apparatus 204, the flow volume of sodium hypochlorite supplied to a production | generation apparatus, and the dilution water supplied to a production | generation apparatus Chlorine concentration control of hypochlorous acid water is performed by changing the setting of the flow rate and the flow rate of the carbon dioxide gas supplied to the cleaning device. Focusing on ammonia as one of the representative examples of odor, measurement of ammonia concentration (corresponding to physical quantity) is taken in.

具体的には、風向センサ202とアンモニア濃度測定装置204とより測定された風向とアンモニア濃度とに対応する、次亜塩素酸水の塩素濃度に関する設定値を特定する。特定された設定値で次亜塩素酸水を生成するよう、第1原料バルブ181を制御することにより、次亜塩素酸水の塩素濃度を制御することができる。一般的に、次亜塩素酸水の塩素濃度と次亜塩素酸水の持つ洗浄能力とには相関があり、次亜塩素酸水の塩素濃度が高いほど、次亜塩素酸水の持つ洗浄能力は高くなる。   Specifically, a setting value relating to the chlorine concentration of hypochlorous acid water corresponding to the wind direction and the ammonia concentration measured by the wind direction sensor 202 and the ammonia concentration measuring device 204 is specified. By controlling the first raw material valve 181 so as to generate hypochlorous acid water at the specified set value, the chlorine concentration of the hypochlorous acid water can be controlled. In general, there is a correlation between the chlorine concentration of hypochlorous acid water and the cleaning ability of hypochlorous acid water. The higher the chlorine concentration of hypochlorous acid water, the higher the cleaning ability of hypochlorous acid water. Becomes higher.

第1の実施形態では、風向センサ202を用いた次亜塩素酸水の塩素濃度制御処理に関して説明した。第5の実施形態では、第1の実施形態で用いていた風向センサ202に加えてアンモニア濃度測定装置204も用いることで、より無駄なく適切に次亜塩素酸水の塩素濃度制御処理を行える。具体的には、風向センサ202が洗浄装置200から住宅へ向かう方向への風を測定した場合と、住宅から洗浄装置200へ向かう方向への風を測定した場合とで、同程度のアンモニア濃度を測定した場合を想定する。同程度のアンモニア濃度を測定した場合、洗浄装置200から住宅へ向かう方向への風を測定した場合の方が、次亜塩素酸水の塩素濃度をより高くする処理を行うことになる。   In the first embodiment, the chlorine concentration control process of hypochlorous acid water using the wind direction sensor 202 has been described. In the fifth embodiment, by using the ammonia concentration measuring device 204 in addition to the wind direction sensor 202 used in the first embodiment, the chlorine concentration control process of hypochlorous acid water can be appropriately performed without waste. Specifically, when the wind direction sensor 202 measures the wind in the direction from the cleaning device 200 toward the house, and when the wind direction sensor 202 measures the wind in the direction from the house toward the cleaning device 200, the same ammonia concentration is obtained. Assume a measurement. When the ammonia concentration of the same degree is measured, the process of increasing the chlorine concentration of hypochlorous acid water is performed when the wind in the direction from the cleaning device 200 toward the house is measured.

すなわち、本実施形態では、風向とアンモニア濃度とに応じて次亜塩素酸水の塩素濃度を制御することで、風向とアンモニア濃度とに応じた洗浄能力を持つ次亜塩素酸水を洗浄装置に供給することができる。   That is, in this embodiment, by controlling the chlorine concentration of hypochlorous acid water according to the wind direction and ammonia concentration, hypochlorous acid water having a cleaning ability according to the wind direction and ammonia concentration is supplied to the cleaning device. Can be supplied.

ステップS1001では、情報処理装置100のCPU301が、風向センサ202より風向を、アンモニア濃度測定装置204よりアンモニア濃度を取得する(第1の取得手段、第2の取得手段に相当する)。   In step S1001, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 acquires the wind direction from the wind direction sensor 202 and the ammonia concentration from the ammonia concentration measuring device 204 (corresponding to a first acquisition unit and a second acquisition unit).

ステップS1002では、情報処理装置100のCPU301が、情報処理装置100に記憶された、図16に示す濃度変更モード(3)テーブル1600を読み込む。   In step S1002, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 reads the density change mode (3) table 1600 shown in FIG.

図16は、本発明の第5の実施形態におけるモード設定に用いる濃度変更モード(3)テーブル1600である。濃度変更モード(3)テーブル1600は、風向条件1201、アンモニア濃度条件1601、モード1202、設定値1203、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量1204、生成装置に供給される希釈水の流量1205、生成装置に供給される炭酸ガスの流量1206で構成されている。アンモニア濃度条件1601は、以降で説明するような、各モードに設定する際のアンモニア濃度の条件である。モード1202は、本発明の実施形態において、風向条件1201とアンモニア濃度条件1601とに基づいて設けられたモードであり、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の塩素濃度(パラメータに相当する)も併せて記載されている。   FIG. 16 is a density change mode (3) table 1600 used for mode setting in the fifth embodiment of the present invention. Concentration change mode (3) table 1600 includes a wind direction condition 1201, an ammonia concentration condition 1601, a mode 1202, a set value 1203, a sodium hypochlorite flow rate 1204 supplied to the generator, and a dilution water supplied to the generator. The flow rate is 1205, and the flow rate is 1206 of carbon dioxide gas supplied to the generator. The ammonia concentration condition 1601 is a condition of ammonia concentration when setting each mode as described below. The mode 1202 is a mode provided based on the wind direction condition 1201 and the ammonia concentration condition 1601 in the embodiment of the present invention, and the chlorine concentration (corresponding to a parameter) of hypochlorous acid water supplied to the cleaning device. Is also described.

ステップS1003では、情報処理装置100のCPU301が、ステップS1001で取得された風向とアンモニア濃度とが満たす風向条件1201及びアンモニア濃度条件1601に対応する設定値1203を、ステップS1002で読み込んだ濃度変更モード(3)テーブル1600の風向条件1201及びアンモニア濃度条件1601を参照して特定する(特定手段に相当する)。例えば、ステップS1001で取得された風向が270°であって、アンモニア濃度が150ppmであった場合には、風向は260°以上280°未満に含まれ、アンモニア濃度は100ppm以上に含まれる。すなわち、取得された風向が260°以上280°未満であって、アンモニア濃度が100ppm以上であった場合には、当該風向は「260°以上280°未満」という風向条件1201を満たし、当該アンモニア濃度は「100ppm以上」というアンモニア濃度条件1601を満たすことから、当該風向とアンモニア濃度とに対応する設定値1203はそれぞれ、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量1204は13.02mL/min、生成装置に供給される希釈水の流量1205は10L/min、生成装置に供給される炭酸ガスの流量1206は10L/minであると特定される。この場合モードは超強力処理aモードであり、生成装置で生成される次亜塩素酸水、すなわち、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の塩素濃度が1300ppmとなるように設置されているモードである。   In step S1003, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 reads the setting value 1203 corresponding to the wind direction condition 1201 and the ammonia concentration condition 1601 that are satisfied by the wind direction and the ammonia concentration acquired in step S1001, and the concentration change mode ( 3) Specify with reference to the wind direction condition 1201 and the ammonia concentration condition 1601 in the table 1600 (corresponding to the specifying means). For example, when the wind direction acquired in step S1001 is 270 ° and the ammonia concentration is 150 ppm, the wind direction is included in 260 ° or more and less than 280 °, and the ammonia concentration is included in 100 ppm or more. That is, when the obtained wind direction is 260 ° or more and less than 280 ° and the ammonia concentration is 100 ppm or more, the wind direction satisfies the wind direction condition 1201 of “260 ° or more and less than 280 °”, and the ammonia concentration Satisfies the ammonia concentration condition 1601 of “100 ppm or more”, the set value 1203 corresponding to the wind direction and the ammonia concentration is set to a flow rate of sodium hypochlorite 1204 supplied to the generator of 13.02 mL / min. The flow rate 1205 of the dilution water supplied to the generator is specified as 10 L / min, and the flow rate 1206 of the carbon dioxide gas supplied to the generator is specified as 10 L / min. In this case, the mode is an ultra-strong treatment a mode, and is installed such that the chlorine concentration of hypochlorous acid water generated by the generator, that is, the hypochlorous acid water supplied to the cleaning device is 1300 ppm. Mode.

ステップS1004では、情報処理装置100のCPU301が、ステップS1003で特定された設定値1203を、生成装置110のCPU301に送信する。   In step S <b> 1004, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 transmits the setting value 1203 specified in step S <b> 1003 to the CPU 301 of the generation apparatus 110.

ステップS1005では、生成装置110のCPU301が、ステップS1004で送信された設定値1203を受信する。   In step S1005, the CPU 301 of the generation apparatus 110 receives the setting value 1203 transmitted in step S1004.

ステップS1006では、生成装置110のCPU301が、ステップS1005で受信された設定値1203で次亜塩素酸水を生成するよう、第1原料バルブ181を制御する。第1原料バルブ181を制御することにより、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量1206を変更することができる。すなわち、生成装置で生成される次亜塩素酸水の濃度を変更することができる。   In step S1006, the CPU 301 of the generation apparatus 110 controls the first raw material valve 181 so as to generate hypochlorous acid water with the setting value 1203 received in step S1005. By controlling the first raw material valve 181, the flow rate 1206 of sodium hypochlorite supplied to the generator can be changed. That is, the concentration of hypochlorous acid water generated by the generator can be changed.

このように、生成装置で生成される次亜塩素酸水の原料の流量を、風向とアンモニア濃度とに基づいた設定値で制御することにより、近隣の住民に対して与える臭気による不快感を軽減させることができる。   In this way, by controlling the flow rate of the raw material of hypochlorous acid water generated by the generator with a set value based on the wind direction and ammonia concentration, the discomfort due to odor given to neighboring residents is reduced. Can be made.

以上が、本発明の第5の実施形態に関する説明である。第5の実施形態では、風向とアンモニア濃度とに応じて次亜塩素酸水の塩素濃度を制御することで、風向とアンモニア濃度とに応じた洗浄能力を持つ次亜塩素酸水を洗浄装置に供給することができる。   The above is the description regarding the fifth embodiment of the present invention. In the fifth embodiment, by controlling the chlorine concentration of hypochlorous acid water according to the wind direction and the ammonia concentration, hypochlorous acid water having a cleaning ability according to the wind direction and the ammonia concentration is supplied to the cleaning device. Can be supplied.

<第6の実施形態>
以下、図11を用いて、本発明の第6の実施形態における、風向センサ202とアンモニア濃度測定装置204とを用いた次亜塩素酸水の流量制御処理に関して説明する。
<Sixth Embodiment>
Hereinafter, the flow control process of hypochlorous acid water using the wind direction sensor 202 and the ammonia concentration measuring device 204 in the sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

第6の実施形態では、風向センサ202とアンモニア濃度測定装置204とで測定された値を基に、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量と、生成装置に供給される希釈水の流量と、洗浄装置に供給される炭酸ガスの流量との設定を変更することにより、次亜塩素酸水の塩素濃度制御を行う。臭気の代表例の1つとしてアンモニアに着目し、アンモニア濃度の測定を取り入れている。   In 6th Embodiment, based on the value measured with the wind direction sensor 202 and the ammonia concentration measuring apparatus 204, the flow volume of sodium hypochlorite supplied to a production | generation apparatus, and the dilution water supplied to a production | generation apparatus Chlorine concentration control of hypochlorous acid water is performed by changing the setting of the flow rate and the flow rate of the carbon dioxide gas supplied to the cleaning device. Focusing on ammonia as one of the representative examples of odor, measurement of ammonia concentration is taken in.

具体的には、風向センサ202とアンモニア濃度測定装置204とより測定された風向とアンモニア濃度とに対応する、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の流量に関する設定値を特定する。特定された設定値で洗浄装置に次亜塩素酸水を供給するよう、第1原料バルブ181と第2原料バルブ182と洗浄液バルブ190とを制御することにより、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の流量を制御することができる。   Specifically, a setting value relating to the flow rate of hypochlorous acid water supplied to the cleaning device corresponding to the wind direction and the ammonia concentration measured by the wind direction sensor 202 and the ammonia concentration measuring device 204 is specified. Hypochlorous acid supplied to the cleaning device is controlled by controlling the first raw material valve 181, the second raw material valve 182, and the cleaning liquid valve 190 so as to supply hypochlorous acid water to the cleaning device at the specified set value. The flow rate of the acid water can be controlled.

第2の実施形態では、風向センサ202を用いた次亜塩素酸水の流量制御処理に関して説明した。第6の実施形態では、第2の実施形態で用いていた風向センサ202に加えてアンモニア濃度測定装置204も用いることで、より無駄なく適切に次亜塩素酸水の流量制御処理を行える。具体的には、風向センサ202が洗浄装置200から住宅へ向かう方向への風向を測定した場合と、住宅から洗浄装置200へ向かう方向への風向を測定した場合とで、同程度のアンモニア濃度を測定した場合を想定する。同程度のアンモニア濃度を測定した場合、洗浄装置200から住宅へ向かう方向への風向を測定した場合の方が、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の流量をより大きくする処理を行うことになる。   In the second embodiment, the flow control process of hypochlorous acid water using the wind direction sensor 202 has been described. In the sixth embodiment, by using the ammonia concentration measuring device 204 in addition to the wind direction sensor 202 used in the second embodiment, the flow control process of hypochlorous acid water can be appropriately performed without waste. Specifically, when the wind direction sensor 202 measures the wind direction in the direction from the cleaning device 200 toward the house and when the wind direction in the direction from the house toward the cleaning device 200 is measured, the ammonia concentration is comparable. Assume a measurement. When the ammonia concentration of the same level is measured, the process of increasing the flow rate of hypochlorous acid water supplied to the cleaning device is performed when the direction of the wind from the cleaning device 200 toward the house is measured. become.

すなわち、本実施形態では、風向とアンモニア濃度とに応じて、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の流量を制御することで、風向とアンモニア濃度とに応じた洗浄能力を持つ次亜塩素酸水を洗浄装置に供給することができる。   That is, in this embodiment, hypochlorous acid having a cleaning ability according to the wind direction and the ammonia concentration is controlled by controlling the flow rate of hypochlorous acid water supplied to the cleaning device according to the wind direction and the ammonia concentration. Acid water can be supplied to the cleaning device.

ステップS1001の処理の内容は第5の実施形態と同様なため、説明は省略する。   Since the content of the process of step S1001 is the same as that of the fifth embodiment, description thereof is omitted.

ステップS1101では、情報処理装置100のCPU301が、情報処理装置100に記憶された、図17に示す流量変更モード(3)テーブル1700を読み込む。   In step S1101, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 reads the flow rate change mode (3) table 1700 shown in FIG.

図17は、本発明の第6の実施形態におけるモード設定に用いる流量変更モード(3)テーブル1700である。流量変更モード(3)テーブル1700は、風向条件1201、アンモニア濃度条件1601、モード1202、設定値1203、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量1204、生成装置に供給される希釈水の流量1205、生成装置に供給される炭酸ガスの流量1206で構成されている。モード1202は、本発明の実施形態において、風向条件1201とアンモニア濃度条件1601とに基づいて設けられたモードであり、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の流量(パラメータに相当する)も併せて記載されている。   FIG. 17 is a flow rate change mode (3) table 1700 used for mode setting in the sixth embodiment of the present invention. The flow rate change mode (3) table 1700 includes a wind direction condition 1201, an ammonia concentration condition 1601, a mode 1202, a set value 1203, a sodium hypochlorite flow rate 1204 supplied to the generator, and a dilution water supplied to the generator. The flow rate is 1205, and the flow rate is 1206 of carbon dioxide gas supplied to the generator. The mode 1202 is a mode provided based on the wind direction condition 1201 and the ammonia concentration condition 1601 in the embodiment of the present invention, and the flow rate (corresponding to the parameter) of hypochlorous acid water supplied to the cleaning device is also the mode 1202. It is also described.

ステップS1102では、情報処理装置100のCPU301が、ステップS1001で取得された風向とアンモニア濃度とが満たす風向条件1201とアンモニア濃度条件1601とに対応する設定値1203を、ステップS1101で読み込んだ流量変更モード(3)テーブル1700の風向条件1201とアンモニア濃度条件1601とを参照して特定する(特定手段に相当する)。例えば、ステップS1001で取得された風向が270°であって、アンモニア濃度が150ppmであった場合には、風向は260°以上280°未満に含まれ、アンモニア濃度は100ppm以上に含まれる。すなわち、取得された風向が260°以上280°未満であって、アンモニア濃度が100ppm以上であった場合には、当該風向は「260°以上280°未満」という風向条件1201を満たし、当該アンモニア濃度は「100ppm以上」というアンモニア濃度条件1601を満たすことから、当該風向とアンモニア濃度とに対応する設定値1203はそれぞれ、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量1204は15.02mL/min、生成装置に供給される希釈水の流量1205は15L/min、生成装置に供給される炭酸ガスの流量1206は10L/minであると特定される。この場合モードは超強力処理bモードであり、生成装置に供給される次亜塩素酸水の流量が15L/minとなるように設定されているモードである。   In step S1102, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 reads the set value 1203 corresponding to the wind direction condition 1201 and the ammonia concentration condition 1601 that the wind direction and the ammonia concentration acquired in step S1001 satisfy, and the flow rate change mode read in step S1101. (3) Specify with reference to the wind direction condition 1201 and the ammonia concentration condition 1601 in the table 1700 (corresponding to the specifying means). For example, when the wind direction acquired in step S1001 is 270 ° and the ammonia concentration is 150 ppm, the wind direction is included in 260 ° or more and less than 280 °, and the ammonia concentration is included in 100 ppm or more. That is, when the obtained wind direction is 260 ° or more and less than 280 ° and the ammonia concentration is 100 ppm or more, the wind direction satisfies the wind direction condition 1201 of “260 ° or more and less than 280 °”, and the ammonia concentration Satisfies the ammonia concentration condition 1601 of “100 ppm or more”, the set value 1203 corresponding to the wind direction and the ammonia concentration is set to 15.02 mL / min, the flow rate of sodium hypochlorite 1204 supplied to the generator. The flow rate 1205 of the dilution water supplied to the generating device is specified as 15 L / min, and the flow rate 1206 of the carbon dioxide gas supplied to the generating device is specified as 10 L / min. In this case, the mode is an ultra-strong treatment b mode, which is a mode set so that the flow rate of hypochlorous acid water supplied to the generator is 15 L / min.

ステップS1103では、情報処理装置100のCPU301が、ステップS1102で特定された設定値1203を、生成装置110のCPU301に送信する。   In step S1103, the CPU 301 of the information processing apparatus 100 transmits the setting value 1203 specified in step S1102 to the CPU 301 of the generation apparatus 110.

ステップS1104では、生成装置110のCPU301が、ステップS1103で送信された設定値1203を受信する。   In step S1104, the CPU 301 of the generation apparatus 110 receives the setting value 1203 transmitted in step S1103.

ステップS1105では、生成装置110のCPU301が、ステップS1104で受信された設定値1203で洗浄装置200に次亜塩素酸水を供給するよう、第1原料バルブ181、第2原料バルブ182、洗浄液バルブ190を制御する。第1原料バルブ181、第2原料バルブ182、洗浄液バルブ190を制御することにより、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の流量を制御することができる。   In step S1105, the CPU 301 of the generation apparatus 110 supplies the first raw material valve 181, the second raw material valve 182 and the cleaning liquid valve 190 so as to supply hypochlorous acid water to the cleaning apparatus 200 with the setting value 1203 received in step S1104. To control. By controlling the first raw material valve 181, the second raw material valve 182, and the cleaning liquid valve 190, the flow rate of hypochlorous acid water supplied to the cleaning device can be controlled.

このように、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の原料の流量を、風向に基づいた設定値で制御することによって、近隣の住民に対して与える臭気による不快感を、軽減させることができる。   Thus, by controlling the flow rate of the raw material of hypochlorous acid supplied to the cleaning device with a set value based on the wind direction, it is possible to reduce discomfort due to odor given to neighboring residents. it can.

以上が、本発明の第6の実施形態に関する説明である。第6の実施形態では、風向とアンモニア濃度とに応じて次亜塩素酸水の流量を制御することで、風向とアンモニア濃度とに応じた洗浄能力を持つ次亜塩素酸水を洗浄装置に供給することができる。   The above is the description regarding the sixth embodiment of the present invention. In the sixth embodiment, by controlling the flow rate of hypochlorous acid water according to the wind direction and the ammonia concentration, hypochlorous acid water having a cleaning capability according to the wind direction and the ammonia concentration is supplied to the cleaning device. can do.

<その他の実施形態>
第1〜6の実施形態では、センサなどから取得された風向や風速などの気象情報を用いて、適切な洗浄能力の次亜塩素酸水を洗浄装置に供給する仕組みを説明した。風向や風速に限らず、気象情報は臭気の広がり方に作用するため、情報処理装置100のCPU301が取得する気象情報は、晴れや雨などを示す天候、気圧、湿度、降水量などであってもよい。取得する気象情報を風向や風速に限らないことで、より適切な洗浄能力の次亜塩素酸水を洗浄装置に供給することができる。
<Other embodiments>
In the first to sixth embodiments, the mechanism for supplying hypochlorous acid water having an appropriate cleaning capability to the cleaning apparatus using weather information such as the wind direction and the wind speed acquired from a sensor or the like has been described. Since weather information affects not only the wind direction and wind speed but also how odors spread, the weather information acquired by the CPU 301 of the information processing apparatus 100 includes weather, atmospheric pressure, humidity, precipitation, etc. indicating sunny or rainy conditions. Also good. Since the weather information to be acquired is not limited to the wind direction and the wind speed, hypochlorous acid water having a more appropriate cleaning ability can be supplied to the cleaning device.

以上で、本発明に関する7つの実施形態を説明したが、第1の実施形態と第3の実施形態とを組み合わせるなど、複数の気象情報とを考慮して、生成する次亜塩素酸水の塩素濃度を決定しても良い。また、第5の実施形態と第6の実施形態とでは風向センサ202とアンモニア濃度測定装置204とを組み合わせているが、風速センサ203も組み合わせても良く、また、風向センサ202ではなく風速センサ203を用いても良い。次亜塩素酸水の濃度制御および流量制御では、各原料や洗浄液の流量を変更することで制御を行っていたが、変更するのは流量に限らず、体積や重さなどの他の量でもよい。   Although seven embodiments related to the present invention have been described above, the chlorine of hypochlorous acid water to be generated in consideration of a plurality of weather information such as a combination of the first embodiment and the third embodiment. The concentration may be determined. Further, in the fifth embodiment and the sixth embodiment, the wind direction sensor 202 and the ammonia concentration measuring device 204 are combined, but the wind speed sensor 203 may be combined, and not the wind direction sensor 202 but the wind speed sensor 203. May be used. In the concentration control and flow rate control of hypochlorous acid water, control was performed by changing the flow rate of each raw material and cleaning liquid. However, the change is not limited to the flow rate, and other amounts such as volume and weight can be changed. Good.

本発明に関する6つの実施形態では、通常1000ppm程度の塩素濃度の次亜塩素酸水が生成装置110で生成されることを想定している。生成装置110で1000ppm程度の塩素濃度の次亜塩素酸水が生成される場合、生成装置に供給される希釈水の流量1205に比べて生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量1204は極めて小さいといえる。よって、本実施形態では、生成装置に供給される希釈水の流量1205と、洗浄装置に供給される次亜塩素酸水の流量は同一であるとみなしている。   In the six embodiments relating to the present invention, it is assumed that hypochlorous acid water having a chlorine concentration of usually about 1000 ppm is generated by the generator 110. When hypochlorous acid water having a chlorine concentration of about 1000 ppm is generated by the generator 110, the flow rate 1204 of sodium hypochlorite supplied to the generator is higher than the flow rate 1205 of dilution water supplied to the generator. It can be said that it is extremely small. Therefore, in this embodiment, the flow rate 1205 of the dilution water supplied to the production | generation apparatus and the flow rate of hypochlorous acid water supplied to a washing | cleaning apparatus are considered to be the same.

例えば、生成装置に供給される希釈水の流量1205が10L/minの希釈水と、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量1204が10.01mL/minの次亜塩素酸ナトリウムと、炭酸ガスとを混合して生成装置110で次亜塩素酸水が生成された場合を想定する。この場合、塩素濃度が1000ppmである次亜塩素酸水が、生成装置110で生成され、生成装置に供給される希釈水の流量1205と同流量の10L/minの流量で、洗浄装置200に供給されるとみなす。   For example, the dilution water flow rate 1205 supplied to the generation device is 10 L / min dilution water, the sodium hypochlorite flow rate 1204 supplied to the generation device is 10.01 mL / min sodium hypochlorite, It is assumed that hypochlorous acid water is generated by the generation device 110 by mixing with carbon dioxide gas. In this case, hypochlorous acid water having a chlorine concentration of 1000 ppm is generated by the generation device 110 and supplied to the cleaning device 200 at a flow rate of 10 L / min that is the same flow rate as the flow rate 1205 of the dilution water supplied to the generation device. It is considered to be done.

センサや測定装置は、洗浄装置200による洗浄後の気体を含みうる空気の風向や風速、アンモニア濃度などを取得できる場所であれば、それぞれ異なる箇所に設けられてもよい。   The sensor and the measuring device may be provided in different places as long as the wind direction, wind speed, ammonia concentration, and the like of the air that can contain the gas cleaned by the cleaning device 200 can be acquired.

バルブの制御を生成装置110が行っているが、情報処理装置100や貯留容器120など、生成装置110以外が行ってもよい。また、流量の制御をバルブが行っているが、バルブではなくポンプなど、流量を調整できる機器であれば、バルブでなくてもよい。   Although the generation device 110 performs control of the valve, the generation device 110 such as the information processing device 100 or the storage container 120 may perform control. The valve controls the flow rate. However, the valve may not be a valve as long as the device can adjust the flow rate, such as a pump instead of a valve.

原料容器を3つ設けているが、生成装置110で生成される洗浄液の種類や生成方法によって、原料容器の個数が変更されてもよい。原料容器の個数に応じて、バルブの個数も変更されてもよい。   Although three raw material containers are provided, the number of raw material containers may be changed depending on the type of cleaning liquid generated by the generation device 110 and the generation method. The number of valves may be changed according to the number of raw material containers.

洗浄対象を堆肥製造装置からの排気としているが、居室の空気やカット野菜など、洗浄対象は様々である。洗浄液を次亜塩素酸水、次亜塩素酸水の生成方法を炭酸ガス混合法としているが、他の洗浄液、他の生成方法でももちろんよい。   Although the object to be cleaned is exhausted from the compost production apparatus, there are various objects to be cleaned, such as air in the living room and cut vegetables. Although the cleaning liquid is hypochlorous acid water and the method of generating hypochlorous acid water is a carbon dioxide gas mixing method, other cleaning liquids and other generation methods may of course be used.

図12〜図17に示す、情報処理装置100に記憶されているテーブルなどに含まれる情報は、本実施形態のテーブルに記載されている値に限定されない。また、モードは図12〜図17に示すモードに限らず、更に多くの数のモードを設けても良いし、モードの数を少なくしてもよい。また、テーブルの項目などは書き換えられてもよい。   Information included in tables and the like stored in the information processing apparatus 100 illustrated in FIGS. 12 to 17 is not limited to the values described in the table of the present embodiment. Further, the modes are not limited to the modes shown in FIGS. 12 to 17, and a larger number of modes may be provided, or the number of modes may be reduced. In addition, table items may be rewritten.

第2、第4、第6の実施形態では、次亜塩素酸水の流量を変更するために、第1原料バルブ181、第2原料バルブ182、洗浄液バルブ190を制御している。洗浄液バルブ190を制御するだけでは貯留容器120内の次亜塩素酸水が溢れてしまうことや、次亜塩素酸水が足りなくなってしまうことが起きてしまう恐れがある。洗浄液バルブ190だけではなく第1原料バルブ181や第2原料バルブ182のような原料の供給を制御するバルブも制御することで、滞りなく次亜塩素酸水を供給することができる。もちろん、必要に応じて、第1原料バルブ181や第2原料バルブ182を制御しないようにしてもよい。   In the second, fourth, and sixth embodiments, the first raw material valve 181, the second raw material valve 182, and the cleaning liquid valve 190 are controlled in order to change the flow rate of hypochlorous acid water. Controlling the cleaning liquid valve 190 may cause the hypochlorous acid water in the storage container 120 to overflow or the hypochlorous acid water to become insufficient. By controlling not only the cleaning liquid valve 190 but also the valves for controlling the supply of the raw materials such as the first raw material valve 181 and the second raw material valve 182, the hypochlorous acid water can be supplied without delay. Of course, the first material valve 181 and the second material valve 182 may not be controlled as necessary.

また、第2、第4、第6の実施形態では、生成装置に供給される次亜塩素酸ナトリウムの流量は、生成装置に供給される希釈水の流量と比較するときわめて小さい。次亜塩素酸ナトリウムの流量を制御せず、希釈水の流量を制御する場合も、次亜塩素酸水の塩素濃度は固定で、流量だけ変更したとみなしてもよい。   Moreover, in 2nd, 4th, 6th embodiment, the flow volume of sodium hypochlorite supplied to a production | generation apparatus is very small compared with the flow volume of the dilution water supplied to a production | generation apparatus. Even when the flow rate of diluting water is controlled without controlling the flow rate of sodium hypochlorite, it may be considered that the chlorine concentration of hypochlorous acid water is fixed and only the flow rate is changed.

以上で、脱臭システムの制御処理に関する説明を終了する。   Above, the description regarding the control process of a deodorizing system is complete | finished.

上記、本発明によれば、洗浄に係るコストを低減しつつ、適切な洗浄能力を特定できる仕組みを提供することができる。   As described above, according to the present invention, it is possible to provide a mechanism capable of specifying an appropriate cleaning capability while reducing the cost for cleaning.

本発明は、例えば、システム、装置、方法、プログラム若しくは記憶媒体等としての実施形態も可能であり、具体的には、複数の機器から構成されるシステムに適用してもよいし、また、1つの機器からなる装置に適用してもよい。なお、本発明は、前述した実施形態の機能を実現するソフトウェアのプログラムを、システム或いは装置に直接、或いは遠隔から供給するものを含む。そして、そのシステム或いは装置の情報処理装置が前記供給されたプログラムコードを読み出して実行することによっても達成される場合も本発明に含まれる。   The present invention can be implemented as a system, apparatus, method, program, storage medium, or the like, and can be applied to a system including a plurality of devices. You may apply to the apparatus which consists of one apparatus. Note that the present invention includes a software program that implements the functions of the above-described embodiments directly or remotely from a system or apparatus. The present invention also includes a case where the information processing apparatus of the system or apparatus is achieved by reading and executing the supplied program code.

したがって、本発明の機能処理を情報処理装置で実現するために、前記情報処理装置にインストールされるプログラムコード自体も本発明を実現するものである。つまり、本発明は、本発明の機能処理を実現するためのコンピュータプログラム自体も含まれる。   Therefore, the program code itself installed in the information processing apparatus in order to realize the functional processing of the present invention with the information processing apparatus also realizes the present invention. That is, the present invention includes a computer program itself for realizing the functional processing of the present invention.

その場合、プログラムの機能を有していれば、オブジェクトコード、インタプリタにより実行されるプログラム、OSに供給するスクリプトデータ等の形態であってもよい。   In that case, as long as it has the function of a program, it may be in the form of object code, a program executed by an interpreter, script data supplied to the OS, and the like.

プログラムを供給するための記録媒体としては、例えば、フレキシブルディスク、ハードディスク、光ディスク、光磁気ディスク、MO、CD−ROM、CD−R、CD−RWなどがある。また、磁気テープ、不揮発性のメモリカード、ROM、DVD(DVD−ROM,DVD−R)などもある。   Examples of the recording medium for supplying the program include a flexible disk, hard disk, optical disk, magneto-optical disk, MO, CD-ROM, CD-R, and CD-RW. In addition, there are magnetic tape, nonvolatile memory card, ROM, DVD (DVD-ROM, DVD-R), and the like.

その他、プログラムの供給方法としては、クライアントコンピュータのブラウザを用いてインターネットのホームページに接続する。そして、前記ホームページから本発明のコンピュータプログラムそのもの、若しくは圧縮され自動インストール機能を含むファイルをハードディスク等の記録媒体にダウンロードすることによっても供給できる。   As another program supply method, a browser on a client computer is used to connect to an Internet home page. The computer program of the present invention itself or a compressed file including an automatic installation function can be supplied from the homepage by downloading it to a recording medium such as a hard disk.

また、本発明のプログラムを構成するプログラムコードを複数のファイルに分割し、それぞれのファイルを異なるホームページからダウンロードすることによっても実現可能である。つまり、本発明の機能処理を情報処理装置で実現するためのプログラムファイルを複数のユーザに対してダウンロードさせるWWWサーバも、本発明に含まれるものである。   It can also be realized by dividing the program code constituting the program of the present invention into a plurality of files and downloading each file from a different homepage. That is, the present invention also includes a WWW server that allows a plurality of users to download a program file for realizing the functional processing of the present invention with an information processing apparatus.

また、本発明のプログラムを暗号化してCD−ROM等の記憶媒体に格納してユーザに配布し、所定の条件をクリアしたユーザに対し、インターネットを介してホームページから暗号化を解く鍵情報をダウンロードさせる。そして、ダウンロードした鍵情報を使用することにより暗号化されたプログラムを実行して情報処理装置にインストールさせて実現することも可能である。   In addition, the program of the present invention is encrypted, stored in a storage medium such as a CD-ROM, distributed to users, and key information for decryption is downloaded from a homepage via the Internet to users who have cleared predetermined conditions. Let The downloaded key information can be used to execute the encrypted program and install it in the information processing apparatus.

また、情報処理装置が、読み出したプログラムを実行することによって、前述した実施形態の機能が実現される。その他、そのプログラムの指示に基づき、情報処理装置上で稼動しているOSなどが、実際の処理の一部又は全部を行い、その処理によっても前述した実施形態の機能が実現され得る。   Further, the functions of the above-described embodiment are realized by the information processing apparatus executing the read program. In addition, based on the instructions of the program, the OS or the like operating on the information processing apparatus performs part or all of the actual processing, and the functions of the above-described embodiments can be realized by the processing.

さらに、記録媒体から読み出されたプログラムが、情報処理装置に挿入された機能拡張ボードや情報処理装置に接続された機能拡張ユニットに備わるメモリに書き込まれる。その後、そのプログラムの指示に基づき、その機能拡張ボードや機能拡張ユニットに備わるCPUなどが実際の処理の一部又は全部を行い、その処理によっても前述した実施形態の機能が実現される。   Further, the program read from the recording medium is written in a memory provided in a function expansion board inserted into the information processing apparatus or a function expansion unit connected to the information processing apparatus. Thereafter, the CPU of the function expansion board or function expansion unit performs part or all of the actual processing based on the instructions of the program, and the functions of the above-described embodiments are realized by the processing.

なお、前述した実施形態は、本発明を実施するにあたっての具体化の例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。即ち、本発明はその技術思想、又はその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施することができる。   The above-described embodiments are merely examples of implementation in carrying out the present invention, and the technical scope of the present invention should not be construed as being limited thereto. That is, the present invention can be implemented in various forms without departing from the technical idea or the main features thereof.

100 情報処理装置
301 CPU
302 RAM
303 ROM
304 システムバス
305 入力コントローラ
306 ビデオコントローラ
307 メモリコントローラ
308 通信I/Fコントローラ
309 キーボード
310 ディスプレイ
311 外部メモリ
100 Information processing device 301 CPU
302 RAM
303 ROM
304 system bus 305 input controller 306 video controller 307 memory controller 308 communication I / F controller 309 keyboard 310 display 311 external memory

Claims (18)

洗浄対象を含む気体を洗浄装置で洗浄するための洗浄液を生成する生成装置を制御する情報処理装置であって、
前記生成装置で生成される洗浄液による洗浄能力に関するパラメータを記憶する記憶手段と、
前記洗浄装置による洗浄後の前記気体を含む空気の気象情報を取得する第1の取得手段と、
前記第1の取得手段により取得された前記気象情報に対応する、前記記憶手段に記憶された前記パラメータを特定する特定手段と
を備えることを特徴とする情報処理装置。
An information processing apparatus that controls a generating apparatus that generates a cleaning liquid for cleaning a gas including a cleaning target with a cleaning apparatus,
Storage means for storing parameters relating to the cleaning ability of the cleaning liquid generated by the generating device;
First acquisition means for acquiring weather information of air containing the gas after being cleaned by the cleaning device;
An information processing apparatus comprising: specifying means for specifying the parameter stored in the storage means corresponding to the weather information acquired by the first acquisition means.
前記洗浄装置による洗浄後の前記気体を含む空気の物理量を取得する第2の取得手段
を備え、
前記特定手段は、前記第1の取得手段により取得された前記気象情報と、前記第2の取得手段により取得された前記物理量とに対応する、前記記憶手段に記憶された前記パラメータを特定することを特徴とする請求項1に記載の情報処理装置。
A second acquisition means for acquiring a physical quantity of air containing the gas after being cleaned by the cleaning device;
The specifying means specifies the parameter stored in the storage means corresponding to the weather information acquired by the first acquisition means and the physical quantity acquired by the second acquisition means. The information processing apparatus according to claim 1.
前記記憶手段は、前記気象情報または前記物理量に基づいた、前記パラメータを記憶することを特徴とする請求項2に記載の情報処理装置。   The information processing apparatus according to claim 2, wherein the storage unit stores the parameter based on the weather information or the physical quantity. 前記物理量とは、前記洗浄後の気体に含まれる成分の濃度であることを特徴とする請求項2または3に記載の情報処理装置。   The information processing apparatus according to claim 2, wherein the physical quantity is a concentration of a component contained in the cleaned gas. 前記気象情報とは、風向情報であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の情報処理装置。   The information processing apparatus according to claim 1, wherein the weather information is wind direction information. 前記気象情報とは、風速情報であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の情報処理装置。   The information processing apparatus according to claim 1, wherein the weather information is wind speed information. 前記洗浄対象とは、アンモニアであることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の情報処理装置。   The information processing apparatus according to claim 1, wherein the object to be cleaned is ammonia. 前記洗浄液とは、次亜塩素酸水であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の情報処理装置。   The information processing apparatus according to claim 1, wherein the cleaning liquid is hypochlorous acid water. 前記パラメータとは、前記生成装置で生成される前記洗浄液の濃度であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の情報処理装置。   The information processing apparatus according to claim 1, wherein the parameter is a concentration of the cleaning liquid generated by the generation apparatus. 前記パラメータとは、前記生成装置において、前記洗浄液を生成するための原料の量であることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の情報処理装置。   The information processing apparatus according to claim 1, wherein the parameter is an amount of a raw material for generating the cleaning liquid in the generation apparatus. 前記パラメータとは、前記洗浄装置に供給される前記洗浄液の量であることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の情報処理装置。   The information processing apparatus according to claim 1, wherein the parameter is an amount of the cleaning liquid supplied to the cleaning apparatus. 洗浄対象を含む気体を洗浄装置で洗浄するための洗浄液を生成する生成装置を制御する情報処理装置であり、前記洗浄液による洗浄能力に関するパラメータを記憶する記憶手段を備える前記情報処理装置の制御方法であって、
前記洗浄装置による洗浄後の前記気体を含む空気の気象情報を取得する第1の取得ステップと、
前記第1の取得ステップにより取得された前記気象情報に対応する、前記記憶手段に記憶された前記パラメータを特定する特定ステップと
を含むことを特徴とする情報処理装置の制御方法。
An information processing apparatus that controls a generating apparatus that generates a cleaning liquid for cleaning a gas including a cleaning target with a cleaning apparatus, and a control method for the information processing apparatus that includes a storage unit that stores parameters relating to the cleaning ability of the cleaning liquid. There,
A first acquisition step of acquiring weather information of air containing the gas after being cleaned by the cleaning device;
And a specifying step of specifying the parameter stored in the storage unit corresponding to the weather information acquired in the first acquisition step.
洗浄対象を含む気体を洗浄装置で洗浄するための洗浄液を生成する生成装置を制御する情報処理装置であり、前記洗浄液による洗浄能力に関するパラメータを記憶する記憶手段を備える前記情報処理装置で実行可能なプログラムであって、
前記情報処理装置を、
前記洗浄装置による洗浄後の前記気体を含む空気の気象情報を取得する第1の取得手段と、
前記第1の取得手段により取得された前記気象情報に対応する、前記記憶手段に記憶された前記パラメータを特定する特定手段
として機能させることを特徴とする前記情報処理装置で実行可能なプログラム。
An information processing apparatus that controls a generation apparatus that generates a cleaning liquid for cleaning a gas including a cleaning target with a cleaning apparatus, and that can be executed by the information processing apparatus including a storage unit that stores parameters relating to the cleaning ability of the cleaning liquid A program,
The information processing apparatus;
First acquisition means for acquiring weather information of air containing the gas after being cleaned by the cleaning device;
A program executable by the information processing apparatus, wherein the program is caused to function as a specifying unit that specifies the parameter stored in the storage unit, corresponding to the weather information acquired by the first acquisition unit.
洗浄液を生成する生成装置と、前記生成装置で生成された前記洗浄液を用いて洗浄対象を含む気体を洗浄する洗浄装置と
を含む脱臭システムであって、
前記洗浄液による洗浄能力に関するパラメータを記憶する記憶手段と、
前記洗浄装置による洗浄後の前記気体を含む空気の気象情報を取得する第1の取得手段と、
前記第1の取得手段により取得された前記気象情報に対応する、前記記憶手段に記憶された前記パラメータを特定する特定手段と
を備え、
前記洗浄装置が、前記特定手段で特定された前記パラメータを基に前記気体を洗浄するよう制御する脱臭システム。
A deodorizing system comprising: a generating device that generates a cleaning liquid; and a cleaning device that cleans a gas including an object to be cleaned using the cleaning liquid generated by the generating device,
Storage means for storing parameters relating to the cleaning ability of the cleaning liquid;
First acquisition means for acquiring weather information of air containing the gas after being cleaned by the cleaning device;
Specifying means for specifying the parameter stored in the storage means, corresponding to the weather information acquired by the first acquisition means,
A deodorizing system for controlling the cleaning device to clean the gas based on the parameter specified by the specifying means.
洗浄液を生成する生成装置と、前記生成装置で生成された前記洗浄液を用いて洗浄対象を含む気体を洗浄する洗浄装置とを含む脱臭システムであり、前記洗浄液による洗浄能力に関するパラメータを記憶する記憶手段を備える前記脱臭システムの制御方法であって、
前記洗浄装置による洗浄後の前記気体を含む空気の気象情報を取得する第1の取得ステップと、
前記第1の取得ステップにより取得された前記気象情報に対応する、前記記憶手段に記憶された前記パラメータを特定する特定ステップと
を含み、
前記特定ステップで特定された前記パラメータを基に、前記気体を前記洗浄装置が洗浄するよう制御することを特徴とする脱臭システムの制御方法。
A deodorizing system including a generation device that generates a cleaning liquid, and a cleaning device that cleans a gas including a cleaning target using the cleaning liquid generated by the generation device, and storage means that stores parameters relating to the cleaning ability of the cleaning liquid A control method for the deodorizing system comprising:
A first acquisition step of acquiring weather information of air containing the gas after being cleaned by the cleaning device;
Specifying the parameter stored in the storage means corresponding to the weather information acquired in the first acquisition step, and
A control method for a deodorizing system, wherein the cleaning device controls the gas to be cleaned based on the parameter specified in the specifying step.
洗浄対象を含む気体を洗浄液で洗浄する洗浄装置であって、
前記洗浄装置による洗浄後の前記気体を含む空気の気象情報を取得する第1の取得手段と、
前記第1の取得手段による取得された前記気象情報に基づいて決まる洗浄能力で前記気体を洗浄する洗浄手段と
を備えることを特徴とする洗浄装置。
A cleaning device for cleaning a gas including a cleaning target with a cleaning liquid,
First acquisition means for acquiring weather information of air containing the gas after being cleaned by the cleaning device;
A cleaning device comprising: cleaning means for cleaning the gas with a cleaning ability determined based on the weather information acquired by the first acquisition means.
洗浄対象を含む気体を洗浄液で洗浄する洗浄装置の制御方法であって、
前記洗浄装置による洗浄後の前記気体を含む空気の気象情報を取得する第1の取得ステップと、
前記第1の取得ステップによる取得された前記気象情報に基づいて決まる洗浄能力で前記気体を洗浄する洗浄ステップと
を含むことを特徴とする洗浄装置の制御方法。
A control method of a cleaning apparatus for cleaning a gas including a cleaning target with a cleaning liquid,
A first acquisition step of acquiring weather information of air containing the gas after being cleaned by the cleaning device;
A cleaning step of cleaning the gas with a cleaning capability determined based on the weather information acquired by the first acquisition step.
洗浄対象を含む気体を洗浄液で洗浄する洗浄装置で実行可能なプログラムであって、
前記洗浄装置を、
前記洗浄装置による洗浄後の前記気体を含む空気の気象情報を取得する第1の取得手段と、
前記第1の取得ステップによる取得された前記気象情報に基づいて決まる洗浄能力で前記気体を洗浄する洗浄手段
として機能させることを特徴とする前記洗浄装置で実行可能なプログラム。
A program that can be executed by a cleaning device that cleans a gas including a cleaning target with a cleaning liquid,
The cleaning device,
First acquisition means for acquiring weather information of air containing the gas after being cleaned by the cleaning device;
A program executable by the cleaning apparatus, wherein the cleaning apparatus functions as a cleaning unit that cleans the gas with a cleaning capability determined based on the weather information acquired in the first acquisition step.
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