JP2019197919A - Electronic device - Google Patents

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Abstract

To improve reliability of an electronic device on which a semiconductor device is mounted.SOLUTION: An electronic device comprises a wiring board provided with: first wiring to which a first external terminal is connected; and second wiring to which a second external terminal is connected and which extends along the first wiring. The electronic device further comprises a semiconductor device which is mounted on the wiring board and electrically connected to each of the first wiring and the second wiring. The electronic device yet further comprises a capacitor which is mounted on the wiring board and electrically connected to the semiconductor device via each of the first wiring and the second wiring. The distance between the semiconductor device and the capacitor is shorter than that between the capacitor and each of the first and second external terminals.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

この発明は、例えば、半導体装置とコンデンサが搭載された配線基板を有する電子装置に関する。   The present invention relates to an electronic device having a wiring board on which a semiconductor device and a capacitor are mounted, for example.

例えば、特開2013−236360号公報(特許文献1)には、半導体装置の位相同期回路用の電源供給配線と基準電位供給配線を結合させてクロストークノイズを抑制することが記載されている。また、結合された電源供給配線と基準電位供給配線にはコンデンサが接続されている。   For example, Japanese Patent Laying-Open No. 2013-236360 (Patent Document 1) describes that a crosstalk noise is suppressed by combining a power supply wiring for a phase synchronization circuit of a semiconductor device and a reference potential supply wiring. A capacitor is connected to the combined power supply line and reference potential supply line.

特開2013−236360号公報JP 2013-236360 A

半導体装置は、様々な用途に用いられるが、半導体装置を安定的に動作させる観点からは、半導体装置の動作に影響を与えるノイズを低減する技術が必要になる。半導体装置の動作に影響を与えるノイズを低減する方法として、半導体装置が搭載される配線基板にコンデンサなどのノイズ対策部品を搭載する方法が考えられるが、効率的にノイズを低減させる観点から、改善の余地があることが判った。   A semiconductor device is used in various applications. From the viewpoint of stably operating a semiconductor device, a technique for reducing noise that affects the operation of the semiconductor device is required. As a method of reducing noise that affects the operation of the semiconductor device, a method of mounting noise countermeasure parts such as capacitors on the wiring board on which the semiconductor device is mounted can be considered, but it is improved from the viewpoint of efficiently reducing noise. It turns out that there is room for.

その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。   Other problems and novel features will become apparent from the description of the specification and the accompanying drawings.

一実施の形態による電子装置は、第1外部端子が接続される第1配線、および第2外部端子が接続され、上記第1配線に沿って延びる第2配線を有する配線基板を有する。また、上記電子装置は、上記配線基板に搭載され、上記第1配線および上記第2配線のそれぞれと電気的に接続される半導体装置を有する。また、上記電子装置は、上記配線基板に搭載され、上記第1配線および上記第2配線のそれぞれを介して上記半導体装置と電気的に接続されるコンデンサを有する。また、上記半導体装置と上記コンデンサとの距離は、上記第1外部端子および上記第2外部端子のそれぞれと上記コンデンサとの距離よりも短い。   An electronic device according to an embodiment includes a wiring board having a first wiring connected to a first external terminal and a second wiring connected to the second external terminal and extending along the first wiring. The electronic device includes a semiconductor device mounted on the wiring board and electrically connected to each of the first wiring and the second wiring. The electronic device includes a capacitor mounted on the wiring board and electrically connected to the semiconductor device via each of the first wiring and the second wiring. The distance between the semiconductor device and the capacitor is shorter than the distance between each of the first external terminal and the second external terminal and the capacitor.

上記一実施の形態によれば、半導体装置が搭載された電子装置の信頼性を向上させることができる。   According to the one embodiment, the reliability of the electronic device on which the semiconductor device is mounted can be improved.

電子装置によって電子部品を制御するシステムの構成例を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the structural example of the system which controls an electronic component with an electronic device. 図1に示す電子装置のノイズ耐性を試験する試験装置の構成例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structural example of the test apparatus which tests the noise tolerance of the electronic device shown in FIG. 図2に示す電子装置の構造例を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a structural example of the electronic device shown in FIG. 2. 図3に示す電子装置の反対側の面の平面図である。It is a top view of the surface on the opposite side of the electronic device shown in FIG. 図3のA−A線に沿った拡大断面図である。It is an expanded sectional view along the AA line of FIG. 図3のB−B線に沿った拡大断面図である。It is an expanded sectional view along the BB line of FIG. 図3に示すコンデンサの拡大断面図である。It is an expanded sectional view of the capacitor | condenser shown in FIG. 図3に示す電子装置の等価回路図である。FIG. 4 is an equivalent circuit diagram of the electronic device shown in FIG. 3. 図3に示す半導体装置およびコンデンサを取り除いた配線基板の平面図である。FIG. 4 is a plan view of the wiring board from which the semiconductor device and the capacitor shown in FIG. 3 are removed. 図10は、図9に示すコンデンサ用の接続部の周辺を拡大して示す拡大平面図である。FIG. 10 is an enlarged plan view showing the periphery of the capacitor connecting portion shown in FIG. 9 in an enlarged manner. セラミックコンデンサと、アルミ電解コンデンサの周波数とインピーダンスに係る特性曲線を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the characteristic curve which concerns on the frequency and impedance of a ceramic capacitor and an aluminum electrolytic capacitor. 図3に示す電子装置において、ノイズ対策用のコンデンサとして電解コンデンサを使用した場合と、セラミックコンデンサを使用した場合との特性曲線を比較する説明図である。In the electronic device shown in FIG. 3, it is explanatory drawing which compares the characteristic curve with the case where an electrolytic capacitor is used as a capacitor | condenser for noise suppression, and the case where a ceramic capacitor is used. 図3に対する変形例の電子装置を示す平面図である。It is a top view which shows the electronic device of the modification with respect to FIG. 図3に対する他の変形例の電子装置を示す平面図である。It is a top view which shows the electronic device of the other modification with respect to FIG. 図14に示す電子装置の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of the electronic device shown in FIG. 図15に示す基準電位用の配線のうち、配線12g3として示した配線に沿った拡大断面図である。FIG. 16 is an enlarged cross-sectional view taken along a wiring shown as a wiring 12g3 in the reference potential wiring shown in FIG. 15; 図3に対する他の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the other modification with respect to FIG. 図3に対する他の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the other modification with respect to FIG. 図3に対する他の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the other modification with respect to FIG. 図18に対する変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification with respect to FIG. 図9を用いて説明した配線経路の定義、およびこれと異なる配線経路の定義を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the definition of the wiring path | route demonstrated using FIG. 9, and the definition of a different wiring path | route. 図21に示す外部端子に示す外部端子内部の配線経路の一例を模式的に示す拡大断面図である。FIG. 22 is an enlarged cross-sectional view schematically showing an example of a wiring path inside the external terminal shown in the external terminal shown in FIG. 21. 図3に対する検討例である電子装置の平面図である。It is a top view of the electronic device which is an example of examination with respect to FIG. 図23に対する変形例である電子装置の平面図である。It is a top view of the electronic device which is a modification with respect to FIG. 図23に示す電子装置において、ノイズ対策用のコンデンサとして電解コンデンサを使用した場合と、セラミックコンデンサを使用した場合との特性曲線を比較する説明図である。In the electronic device shown in FIG. 23, it is explanatory drawing which compares the characteristic curve with the case where an electrolytic capacitor is used as a capacitor | condenser for noise countermeasures, and the case where a ceramic capacitor is used.

(本願における記載形式・基本的用語・用法の説明)
本願において、実施の態様の記載は、必要に応じて、便宜上複数のセクション等に分けて記載するが、特にそうでない旨明示した場合を除き、これらは相互に独立別個のものではなく、記載の前後を問わず、単一の例の各部分、一方が他方の一部詳細または一部または全部の変形例等である。また、原則として、同様の部分は繰り返しの説明を省略する。また、実施の態様における各構成要素は、特にそうでない旨明示した場合、理論的にその数に限定される場合および文脈から明らかにそうでない場合を除き、必須のものではない。
(Description format, basic terms, usage in this application)
In the present application, the description of the embodiment will be divided into a plurality of sections for convenience, if necessary, but these are not independent from each other unless otherwise specified. Regardless of the front and rear, each part of a single example, one is a part of the other, or a part or all of the modifications. In principle, repeated description of similar parts is omitted. In addition, each component in the embodiment is not indispensable unless specifically stated otherwise, unless it is theoretically limited to the number, and obviously not in context.

同様に実施の態様等の記載において、材料、組成等について、「AからなるX」等といっても、特にそうでない旨明示した場合および文脈から明らかにそうでない場合を除き、A以外の要素を含むものを排除するものではない。たとえば、成分についていえば、「Aを主要な成分として含むX」等の意味である。たとえば、「シリコン部材」等といっても、純粋なシリコンに限定されるものではなく、SiGe(シリコン・ゲルマニウム)合金やその他シリコンを主要な成分とする多元合金、その他の添加物等を含む部材も含むものであることはいうまでもない。また、金めっき、Cu層、ニッケル・めっき等といっても、そうでない旨、特に明示した場合を除き、純粋なものだけでなく、それぞれ金、Cu、ニッケル等を主要な成分とする部材を含むものとする。   Similarly, in the description of the embodiment, etc., regarding the material, composition, etc., “X consisting of A” etc. is an element other than A unless specifically stated otherwise and clearly not in context. It does not exclude things that contain. For example, as for the component, it means “X containing A as a main component”. For example, “silicon member” is not limited to pure silicon, but includes a SiGe (silicon-germanium) alloy, other multi-component alloys containing silicon as a main component, and other additives. Needless to say, it is also included. Moreover, even if it says gold plating, Cu layer, nickel / plating, etc., unless otherwise specified, not only pure materials but also members mainly composed of gold, Cu, nickel, etc. Shall be included.

さらに、特定の数値、数量に言及したときも、特にそうでない旨明示した場合、理論的にその数に限定される場合および文脈から明らかにそうでない場合を除き、その特定の数値を超える数値であってもよいし、その特定の数値未満の数値でもよい。   In addition, when a specific number or quantity is mentioned, a numerical value exceeding that specific number will be used unless specifically stated otherwise, unless theoretically limited to that number, or unless otherwise clearly indicated by the context. There may be a numerical value less than the specific numerical value.

また、実施の形態の各図中において、同一または同様の部分は同一または類似の記号または参照番号で示し、説明は原則として繰り返さない。   Moreover, in each figure of embodiment, the same or similar part is shown with the same or similar symbol or reference number, and description is not repeated in principle.

また、添付図面においては、却って、煩雑になる場合または空隙との区別が明確である場合には、断面であってもハッチング等を省略する場合がある。これに関連して、説明等から明らかである場合等には、平面的に閉じた孔であっても、背景の輪郭線を省略する場合がある。更に、断面でなくとも、空隙でないことを明示するため、あるいは領域の境界を明示するために、ハッチングやドットパターンを付すことがある。   In the accompanying drawings, hatching or the like may be omitted even in a cross section when it becomes complicated or when the distinction from the gap is clear. In relation to this, when it is clear from the description etc., the contour line of the background may be omitted even if the hole is planarly closed. Furthermore, even if it is not a cross section, hatching or a dot pattern may be added in order to clearly indicate that it is not a void or to clearly indicate the boundary of a region.

(実施の形態)
<電子装置の使用例>
まず、図1を用いて、本実施の形態の電子装置の用途の一例について説明する。図1は、本実施の形態の電子装置によって電子部品を制御するシステムの構成例を模式的に示す説明図である。また、図2は、図1に示す電子装置のノイズ耐性を試験する試験装置の構成例を示す説明図である。
(Embodiment)
<Examples of using electronic devices>
First, an example of the application of the electronic device of this embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is an explanatory diagram schematically illustrating a configuration example of a system that controls an electronic component by the electronic apparatus according to the present embodiment. FIG. 2 is an explanatory diagram illustrating a configuration example of a test apparatus that tests noise resistance of the electronic device illustrated in FIG. 1.

半導体装置の小型化および高機能化に伴い、半導体装置は、様々な機器に組み込まれ、制御用部品として使用されている。例えば、自動車や原動機付き二輪車を例に考えると、エンジンやモータなどの動力系の駆動制御、動力をタイヤに伝達する様々な部品の動作制御、照明やウィンカなどの光学部品の制御、あるいは、ドアや窓の動作制御など、様々な部品の制御に利用されている。半導体装置を利用して制御システムを構築することにより、制御システムを高機能化することができる。あるいは、半導体装置を利用して制御システムを構築することにより、制御システムを小型化することができる。   Along with miniaturization and higher functionality of semiconductor devices, semiconductor devices are incorporated into various devices and used as control components. For example, when considering automobiles and motor-driven motorcycles as examples, drive control of power systems such as engines and motors, operation control of various parts that transmit power to tires, control of optical parts such as lighting and blinkers, or doors It is used to control various parts such as window control. By building a control system using a semiconductor device, the control system can be enhanced. Alternatively, the control system can be reduced in size by constructing the control system using a semiconductor device.

自動車や原動機付き二輪車のように大型の機器に制御用の電子装置を組み込む場合、制御の対象物である部品と、電子装置との距離が離れている場合が多い。例えば、制御対象である各部品の駆動回路などは、各部品の近傍に配置することが好ましい。一方、オペレータの操作性やメンテナンス性を考慮すると、制御回路などのコントローラ部品は、機器の一部に集約して配置する方が好ましい。この結果、制御回路と各部品との距離が長くなる。   When a control electronic device is incorporated into a large-sized device such as an automobile or a motor-driven two-wheeled vehicle, there are many cases where a distance between the electronic device and a component that is a control target is large. For example, it is preferable to arrange the drive circuit of each component to be controlled in the vicinity of each component. On the other hand, in consideration of the operability and maintainability of the operator, it is preferable to arrange controller parts such as a control circuit in a part of the equipment. As a result, the distance between the control circuit and each component is increased.

本実施の形態のように、制御の対象物である部品と、電子装置との距離が離れている場合、部品と電子装置の間を何らかの方法で電気的に接続する必要がある。例えば、図1に示す制御システムでは、制御部品である電子装置EDV1と、被制御部品である部品COM1と、が電線HAR1を介して電気的に接続される。また、電源PWS1と制御部品である電子装置EDV1とが電線HAR2を介して電気的に接続される。図1に示す電線HAR1や電線HAR2は、複数の配線経路を束ねた集合配線(ハーネス)であっても良い。   As in the present embodiment, when the distance between the component that is the object of control and the electronic device is large, it is necessary to electrically connect the component and the electronic device by some method. For example, in the control system shown in FIG. 1, an electronic device EDV1 that is a control component and a component COM1 that is a controlled component are electrically connected via an electric wire HAR1. Further, the power supply PWS1 and the electronic device EDV1 which is a control component are electrically connected via the electric wire HAR2. The electric wire HAR1 and the electric wire HAR2 shown in FIG. 1 may be a collective wiring (harness) in which a plurality of wiring paths are bundled.

また、図1に示す被制御部品である部品COM1には、上記のように種々の変形例があるが、本実施の形態では、部品COM1の一例として、原動機付き二輪車に取り付けられる方向指示器を取り上げて説明する。また、電子装置EDV1が有する半導体装置は、方向指示器の動作(点灯動作、消灯動作、あるいは点滅動作)を制御(リレー制御)する制御回路を備えている。   In addition, the component COM1 that is the controlled component shown in FIG. 1 has various modifications as described above. In the present embodiment, as an example of the component COM1, a turn indicator attached to a motorcycle with a motor is used. Take up and explain. Further, the semiconductor device included in the electronic device EDV1 includes a control circuit that controls (relay control) the operation of the direction indicator (lighting operation, extinguishing operation, or blinking operation).

図1に示す例では、電源電位Vccは、電源PWS1から電子装置EDV1に向かって電線HAR2(電源線11V)を介して伝送される。また、電子装置EDV1からの出力電位(または出力信号)OUTは、電子装置EDV1から部品COM1に向かって電線HAR1(出力線11A)を介して伝送される。また、基準電位GNDは、電源PWS1から部品COM1に向かって電線HAR3を介して伝送される。これにより、図1に示す制御システムでは、電子装置EDV1が備える制御回路により、部品COM1の駆動が制御される。   In the example shown in FIG. 1, the power supply potential Vcc is transmitted from the power supply PWS1 to the electronic device EDV1 via the electric wire HAR2 (power supply line 11V). The output potential (or output signal) OUT from the electronic device EDV1 is transmitted from the electronic device EDV1 toward the component COM1 via the electric wire HAR1 (output line 11A). The reference potential GND is transmitted from the power supply PWS1 to the component COM1 via the electric wire HAR3. Thereby, in the control system shown in FIG. 1, the drive of the component COM1 is controlled by the control circuit included in the electronic device EDV1.

図1に示すように、制御部品と電源PWS1、あるいは制御部品と被制御部品との間を電線HAR1や電線HAR2で接続する場合、制御回路の動作特性に対して、電線HAR1や電線HAR2から印加されるノイズが影響を与える場合がある。電線HAR1や電線HAR2の長さが長くなると、電線HAR1、HAR2に対して電磁波が印加される可能性が上昇する。したがって、制御システムの信頼性を向上させる観点からは、制御回路を有する電子装置EDV1のノイズ耐性を向上させることが好ましい。   As shown in FIG. 1, when the control component and the power supply PWS1 or between the control component and the controlled component are connected by the electric wire HAR1 or the electric wire HAR2, the operation characteristics of the control circuit are applied from the electric wire HAR1 or the electric wire HAR2. Noise may have an effect. When the lengths of the electric wires HAR1 and HAR2 are increased, the possibility that electromagnetic waves are applied to the electric wires HAR1 and HAR2 increases. Therefore, from the viewpoint of improving the reliability of the control system, it is preferable to improve the noise resistance of the electronic device EDV1 having the control circuit.

電子装置EDV1に接続された電線から印加されるノイズによる制御回路の動作特性に対する影響は、例えば図2に示すような試験装置を用いて評価することができる。図2に示す試験装置は、試験対象品のイミュニティ試験を行う試験装置である。詳しくは、図2に示す試験装置で行う試験は、BCI(Bulk Current Injection)試験と呼ばれ、ISO規格(ISO11452−4)により定められたイミュニティ試験を行う試験装置である。   The influence of the noise applied from the electric wire connected to the electronic device EDV1 on the operation characteristics of the control circuit can be evaluated using a test apparatus as shown in FIG. The test apparatus shown in FIG. 2 is a test apparatus that performs an immunity test of a test target product. Specifically, the test performed by the test apparatus shown in FIG. 2 is called a BCI (Bulk Current Injection) test, and is a test apparatus that performs an immunity test defined by the ISO standard (ISO 11452-4).

図2に示す試験装置では、試験対象品である電子装置EDV1と電源PWS2とを複数の電線HAR4、HAR5を介して電気的に接続する。また、電線HAR4および電線HAR5のそれぞれにおいて、電源PWS2と電子装置EDV1との間には、疑似電源回路網LISN1が接続されている。また、電線HAR4および電線HAR5は束ねられ、電子装置EDV1の近傍に配置されたコイル(注入プローブ)IJP1に挿入されている。BCI試験では、コイルIJP1に電流を流すことで疑似的にノイズを発生させて、試験対象品である電子装置EDV1のノイズ耐性を評価する。   In the test apparatus shown in FIG. 2, the electronic device EDV1 which is a test target product and the power supply PWS2 are electrically connected via a plurality of electric wires HAR4 and HAR5. In each of the electric wires HAR4 and HAR5, a pseudo power supply network LISN1 is connected between the power supply PWS2 and the electronic device EDV1. The electric wires HAR4 and HAR5 are bundled and inserted into a coil (injection probe) IJP1 arranged in the vicinity of the electronic device EDV1. In the BCI test, noise is artificially generated by passing a current through the coil IJP1, and the noise resistance of the electronic device EDV1, which is a test target product, is evaluated.

電子装置EDV1のノイズ耐性を評価する場合、電子装置EDV1からの出力信号を検出して評価しても良い。本実施の形態では、上記したように、図1に示す部品COM1は方向指示器である。このため、図2に示す例では、電線HAR4の配線経路中にランプLAM1を配置して、ランプLAM1の点灯動作に基づいて電子装置EDV1のノイズ耐性を評価している。例えば、コイルIJP1に電流を流した時、電子装置EDV1がノイズ影響を受けることにより、ランプLAM1の点滅速度が変化する。そして、ランプLAM1の点滅速度が、予め設定された許容範囲(閾値)を超えた場合、電子装置EDV1が誤動作したと判定することができる。   When evaluating the noise tolerance of the electronic device EDV1, an output signal from the electronic device EDV1 may be detected and evaluated. In the present embodiment, as described above, the component COM1 shown in FIG. 1 is a direction indicator. Therefore, in the example shown in FIG. 2, the lamp LAM1 is arranged in the wiring path of the electric wire HAR4, and the noise resistance of the electronic device EDV1 is evaluated based on the lighting operation of the lamp LAM1. For example, when a current is passed through the coil IJP1, the electronic device EDV1 is affected by noise, so that the blinking speed of the lamp LAM1 changes. When the blinking speed of the lamp LAM1 exceeds a preset allowable range (threshold), it can be determined that the electronic device EDV1 has malfunctioned.

<電子装置>
次に、図1および図2に示す電子装置EDV1の構成例について説明する。図3は、図2に示す電子装置の構造例を示す平面図である。また、図4は、図3に示す電子装置の反対側の面の平面図である。また、図5は、図3のA−A線に沿った拡大断面図、図6は図3のB−B線に沿った拡大断面図である。また、図7は、図3に示すコンデンサの拡大断面図である。また、図8は、図3に示す電子装置の等価回路図である。
<Electronic device>
Next, a configuration example of the electronic device EDV1 illustrated in FIGS. 1 and 2 will be described. FIG. 3 is a plan view showing a structural example of the electronic device shown in FIG. FIG. 4 is a plan view of the opposite surface of the electronic device shown in FIG. 5 is an enlarged sectional view taken along line AA in FIG. 3, and FIG. 6 is an enlarged sectional view taken along line BB in FIG. FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of the capacitor shown in FIG. FIG. 8 is an equivalent circuit diagram of the electronic device shown in FIG.

なお、図5や図6に示すように、本実施の形態では、複数の配線12のそれぞれは、主面10t側に形成され、絶縁膜10SRに覆われている。しかし、配線12の平面形状を明示的に示すため、図3および図4では、配線12の輪郭を点線で示している。また、図8では、半導体チップ21に形成された回路の例として、2個のバイポーラトランジスタを備える発振回路を示している。しかし、半導体チップ21が備える回路には種々の変形例がある。例えば、発振回路以外の回路を備えていても良い。また例えば、トランジスタとして、MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)を用いても良い。   As shown in FIGS. 5 and 6, in the present embodiment, each of the plurality of wirings 12 is formed on the main surface 10t side and covered with the insulating film 10SR. However, in order to explicitly show the planar shape of the wiring 12, in FIG. 3 and FIG. 4, the outline of the wiring 12 is indicated by a dotted line. FIG. 8 shows an oscillation circuit including two bipolar transistors as an example of a circuit formed in the semiconductor chip 21. However, the circuit included in the semiconductor chip 21 has various modifications. For example, a circuit other than the oscillation circuit may be provided. Further, for example, a MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) may be used as the transistor.

図3および図4に示すように、本実施の形態の電子装置EDV1は、基材である配線基板10に複数の部品が搭載され、各部品が配線12を介して電気的に接続された構造体である。図3に示すように、電子装置EDV1は、配線基板10の主面10tに搭載される半導体装置20、およびコンデンサ30を有している。また、図4に示すように、電子装置EDV1は、配線基板10の主面10bに搭載されるコンデンサ40、ダイオード50および複数の外部端子(コネクタ)60を有している。   As shown in FIGS. 3 and 4, the electronic device EDV1 of the present embodiment has a structure in which a plurality of components are mounted on a wiring board 10 that is a base material, and each component is electrically connected via a wiring 12. Is the body. As shown in FIG. 3, the electronic device EDV <b> 1 has a semiconductor device 20 mounted on the main surface 10 t of the wiring substrate 10 and a capacitor 30. As shown in FIG. 4, the electronic device EDV <b> 1 includes a capacitor 40, a diode 50, and a plurality of external terminals (connectors) 60 that are mounted on the main surface 10 b of the wiring board 10.

配線基板10は、図3に示す主面(面、表面、上面、半導体デバイス搭載面)10t、および主面10tの反対側の主面(面、裏面、下面、外部端子搭載面)10b(図4参照)を有している。本実施の形態の例では、図5に示すように、配線基板10は、絶縁材料から成る基材10Bを有し、基材10Bが主面10tおよび主面10bを備えている。基材10Bの主面10tおよび主面10bのそれぞれは絶縁膜(ソルダレジスト膜)に覆われている。   The wiring board 10 has a main surface (surface, surface, upper surface, semiconductor device mounting surface) 10t shown in FIG. 3 and a main surface (surface, back surface, lower surface, external terminal mounting surface) 10b opposite to the main surface 10t (FIG. 4). In the example of the present embodiment, as shown in FIG. 5, the wiring board 10 includes a base material 10B made of an insulating material, and the base material 10B includes a main surface 10t and a main surface 10b. Each of the main surface 10t and the main surface 10b of the base material 10B is covered with an insulating film (solder resist film).

また、配線基板10は、複数の配線12を備えている。図3に示すように、複数の配線12には、半導体装置20に電源電位を供給する電源線(配線経路)11Vを構成する配線12vが含まれる。また、複数の配線12には、半導体装置20から出力される電位(信号)が伝送される出力線(配線経路)11Aを構成する配線12aが含まれる。また、図3に示す例では、電源線11Vおよび出力線11Aとは異なる配線経路11Eにおいて、半導体装置20と発振回路用のコンデンサ40(図4参照)とを電気的に接続する配線12eが含まれる。   In addition, the wiring substrate 10 includes a plurality of wirings 12. As shown in FIG. 3, the plurality of wirings 12 include a wiring 12 v constituting a power supply line (wiring path) 11 </ b> V that supplies a power supply potential to the semiconductor device 20. The plurality of wirings 12 include a wiring 12a that constitutes an output line (wiring path) 11A through which a potential (signal) output from the semiconductor device 20 is transmitted. 3 includes a wiring 12e that electrically connects the semiconductor device 20 and the oscillation circuit capacitor 40 (see FIG. 4) in a wiring path 11E different from the power supply line 11V and the output line 11A. It is.

なお、以下の説明では、電源線11Vや出力線11Aなどの配線経路のそれぞれが、一本の配線12v、12aにより構成されており、配線12v、12aの一部分が、接続部13、接続部14、あるいは接続部15になっていると見做して説明する。ただし、別の表現として、接続部13、接続部14、接続部15およびこれらの接続部を電気的に接続する配線12を、それぞれ別の部品として考えることもできる。この場合、電源線11Vや出力線11Aなどの配線経路のそれぞれは、複数の配線12v、12aを介して接続される、接続部13、接続部14、および接続部15を有していると表現できる。   In the following description, each of the wiring paths such as the power supply line 11V and the output line 11A is configured by one wiring 12v and 12a, and a part of the wiring 12v and 12a is connected to the connecting portion 13 and the connecting portion 14. Alternatively, the description will be made assuming that the connection portion 15 is provided. However, as another expression, the connection portion 13, the connection portion 14, the connection portion 15, and the wiring 12 that electrically connects these connection portions can be considered as separate components. In this case, each of the wiring paths such as the power supply line 11V and the output line 11A is expressed as having a connection part 13, a connection part 14, and a connection part 15 connected via a plurality of wirings 12v and 12a. it can.

また、本実施の形態では、複数の配線12のそれぞれは、配線基板10の主面10t側に形成されている。複数の配線12のそれぞれは、例えば、銅などの金属材料により形成された金属パターンである。図5に示すように、複数の配線12のそれぞれは、配線基板10に搭載された複数の部品(例えば、半導体装置20、コンデンサ30、コンデンサ40、ダイオード50、および外部端子60など)を電気的に接続するように、細長くパターニングされている。言い換えれば、複数の配線12のそれぞれは、配線基板10に搭載された複数の部品を電気的に接続するように延びる延在方向と、延在方向に直交する幅方向を有し、上記幅方向の長さは、上記延在方向の長さよりも短い。   Further, in the present embodiment, each of the plurality of wirings 12 is formed on the main surface 10 t side of the wiring board 10. Each of the plurality of wirings 12 is a metal pattern formed of a metal material such as copper, for example. As shown in FIG. 5, each of the plurality of wirings 12 electrically connects a plurality of components (for example, the semiconductor device 20, the capacitor 30, the capacitor 40, the diode 50, and the external terminal 60) mounted on the wiring substrate 10. It is patterned to be elongated so as to be connected to. In other words, each of the plurality of wirings 12 has an extending direction extending so as to electrically connect a plurality of components mounted on the wiring board 10 and a width direction orthogonal to the extending direction, and the width direction Is shorter than the length in the extending direction.

また、複数の配線12のそれぞれは、図5および図6に示すように、大部分が絶縁膜10SRに覆われている。また、絶縁膜10SRは一部に開口部が設けられ、配線12の一部分が開口部において、絶縁膜10SRから露出している。また、配線12のうち、絶縁膜10SRから露出する部分では、図5に示す半導体装置20、コンデンサ30および図6に示す外部端子60の電極部分と電気的に接続されている。   Further, as shown in FIGS. 5 and 6, most of the plurality of wirings 12 are covered with the insulating film 10SR. The insulating film 10SR is provided with an opening in part, and a part of the wiring 12 is exposed from the insulating film 10SR in the opening. Further, a portion of the wiring 12 exposed from the insulating film 10SR is electrically connected to the semiconductor device 20 shown in FIG. 5, the capacitor 30, and the electrode portion of the external terminal 60 shown in FIG.

言い換えれば、配線12のうち、絶縁膜10SRから露出する部分は、配線基板10に搭載された複数の部品(例えば、半導体装置20、コンデンサ30、コンデンサ40、ダイオード50、および外部端子60など)を電気的に接続するための接続部(デバイス接続部、コンデンサ接続部、外部接続部)として機能する。図3に示す複数の接続部(デバイス接続部)13、複数の接続部(コンデンサ接続部)14、複数の接続部(外部端子接続部)15、および複数の接続部(電子部品接続部)16のそれぞれは、配線12と一体に形成されている。   In other words, a portion of the wiring 12 exposed from the insulating film 10SR is a plurality of components (for example, the semiconductor device 20, the capacitor 30, the capacitor 40, the diode 50, and the external terminal 60) mounted on the wiring substrate 10. It functions as a connection part (device connection part, capacitor connection part, external connection part) for electrical connection. A plurality of connection parts (device connection parts) 13, a plurality of connection parts (capacitor connection parts) 14, a plurality of connection parts (external terminal connection parts) 15, and a plurality of connection parts (electronic component connection parts) 16 shown in FIG. Are formed integrally with the wiring 12.

詳しくは、出力線11Aを構成する配線12aは、半導体装置20の端子22aが接続される接続部13a、コンデンサ30の電極31aが接続される接続部14a、および外部端子60(図6参照)の電極(ピン)61a(図4参照)が接続される接続部15aを有している。言い換えれば、接続部13a、接続部14aおよび接続部15aのそれぞれは、配線12aを介して相互に電気的に接続されている。また、電源線11Vを構成する配線12vは、半導体装置20の端子22v(図5参照)が接続される接続部13v(図5参照)、コンデンサ30の電極31vが接続される接続部14v、および外部端子60(図6参照)の電極(ピン)61v(図4参照)が接続される接続部15vを有している。言い換えれば、接続部13v、接続部14vおよび接続部15vのそれぞれは、配線12vを介して相互に電気的に接続されている。   Specifically, the wiring 12a constituting the output line 11A includes a connection portion 13a to which the terminal 22a of the semiconductor device 20 is connected, a connection portion 14a to which the electrode 31a of the capacitor 30 is connected, and an external terminal 60 (see FIG. 6). It has the connection part 15a to which the electrode (pin) 61a (refer FIG. 4) is connected. In other words, each of the connection portion 13a, the connection portion 14a, and the connection portion 15a is electrically connected to each other via the wiring 12a. Further, the wiring 12v constituting the power supply line 11V includes a connection portion 13v (see FIG. 5) to which the terminal 22v (see FIG. 5) of the semiconductor device 20 is connected, a connection portion 14v to which the electrode 31v of the capacitor 30 is connected, and It has the connection part 15v to which the electrode (pin) 61v (refer FIG. 4) of the external terminal 60 (refer FIG. 6) is connected. In other words, each of the connection portion 13v, the connection portion 14v, and the connection portion 15v is electrically connected to each other via the wiring 12v.

また、図3に示すように、配線基板10の主面10t上には半導体装置20が搭載されている。半導体装置20は、図1に示す部品COM1を制御する制御回路を備えている。上記したように、本実施の形態の例では、図1に示す部品COM1は、原動機付き二輪車に取り付けられる方向指示器であり、半導体装置20は、方向指示器の動作(点灯動作、消灯動作、あるいは点滅動作)を制御する制御回路を備えている。また、半導体装置20は、上記制御回路が形成された半導体チップ21(図5参照)、半導体チップ21と電気的に接続される複数の端子(デバイス端子、リード端子)22、および半導体チップ21を封止する封止体(樹脂体)23を有する、半導体パッケージである。   Further, as shown in FIG. 3, the semiconductor device 20 is mounted on the main surface 10 t of the wiring substrate 10. The semiconductor device 20 includes a control circuit that controls the component COM1 shown in FIG. As described above, in the example of the present embodiment, the component COM1 shown in FIG. 1 is a direction indicator attached to the two-wheeled motor vehicle, and the semiconductor device 20 operates as a direction indicator (lighting operation, extinguishing operation, Or a control circuit for controlling the blinking operation). The semiconductor device 20 includes a semiconductor chip 21 (see FIG. 5) on which the control circuit is formed, a plurality of terminals (device terminals and lead terminals) 22 electrically connected to the semiconductor chip 21, and the semiconductor chip 21. This is a semiconductor package having a sealing body (resin body) 23 for sealing.

半導体装置20は、複数の端子22を介して、配線基板10の配線12v、配線12a、および配線12eと電気的に接続されている。詳しくは、図3に示すように、半導体装置20が有する複数の端子22のうちの端子(リード端子)22aは、配線12aと電気的に接続され、出力線11Aの一部を構成する。端子22aは半田材26を介して配線基板10に形成された接続部(デバイス接続部)13aと電気的に接続されている。また、半導体装置20が有する複数の端子22のうちの端子22v(図5参照)は、配線12vと電気的に接続され、電源線11Vの一部を構成する。端子22vは半田材26を介して配線基板10に形成された接続部(デバイス接続部)13vと電気的に接続されている。また、半導体装置20が有する複数の端子22のうちの端子(リード端子)22eは、配線12eと電気的に接続される。端子22eは、半田材26を介して配線基板10に形成された接続部(デバイス接続部)13eと電気的に接続されている。   The semiconductor device 20 is electrically connected to the wiring 12v, the wiring 12a, and the wiring 12e of the wiring board 10 through a plurality of terminals 22. Specifically, as shown in FIG. 3, a terminal (lead terminal) 22a among the plurality of terminals 22 included in the semiconductor device 20 is electrically connected to the wiring 12a and constitutes a part of the output line 11A. The terminal 22a is electrically connected to a connection portion (device connection portion) 13a formed on the wiring substrate 10 via a solder material 26. In addition, a terminal 22v (see FIG. 5) among the plurality of terminals 22 included in the semiconductor device 20 is electrically connected to the wiring 12v and constitutes a part of the power supply line 11V. The terminal 22v is electrically connected to a connection portion (device connection portion) 13v formed on the wiring substrate 10 via a solder material 26. In addition, a terminal (lead terminal) 22e among the plurality of terminals 22 included in the semiconductor device 20 is electrically connected to the wiring 12e. The terminal 22e is electrically connected to a connection portion (device connection portion) 13e formed on the wiring board 10 via a solder material 26.

なお、図5に示す例では、半導体チップ21は、ダイパッド24上に搭載されている。半導体チップ21は、ダイボンド材25を介してダイパッド24に固定されている。ダイボンド材25は例えば半田材、あるいは導電性接着材などの導電性部材であって、半導体チップ21はダイパッド24と電気的に接続されている。また、ダイパッド24は、半田材26を介して配線基板10の主面10tに形成された接続部13vと電気的に接続されている。つまり、本実施の形態の半導体装置20が備えるダイパッド24は、半導体チップ21と接続部13vとを電気的に接続する端子22vとして機能している。   In the example shown in FIG. 5, the semiconductor chip 21 is mounted on the die pad 24. The semiconductor chip 21 is fixed to the die pad 24 via a die bond material 25. The die bond material 25 is a conductive member such as a solder material or a conductive adhesive, and the semiconductor chip 21 is electrically connected to the die pad 24. The die pad 24 is electrically connected to the connection portion 13v formed on the main surface 10t of the wiring board 10 via the solder material 26. That is, the die pad 24 provided in the semiconductor device 20 of the present embodiment functions as a terminal 22v that electrically connects the semiconductor chip 21 and the connection portion 13v.

また、図3に示すように、配線基板10の主面10t上にはコンデンサ30が搭載されている。図8に示すように、コンデンサ30は、一方の電極が電源線11Vに接続され、他方の電極が出力線11Aに接続されている。電源線11Vと出力線11Aの間にコンデンサ30を接続すると、電源線11Vまたは出力線11Aに流れるノイズをフィルタリングすることができる。コンデンサ30のように電源線11Vと出力線11Aとの間に並列接続で挿入され、電源線11Vまたは出力線11Aに流れるノイズをフィルタリングするコンデンサをバイパスコンデンサと呼ぶ。   As shown in FIG. 3, a capacitor 30 is mounted on the main surface 10 t of the wiring board 10. As shown in FIG. 8, the capacitor 30 has one electrode connected to the power supply line 11V and the other electrode connected to the output line 11A. When the capacitor 30 is connected between the power supply line 11V and the output line 11A, noise flowing in the power supply line 11V or the output line 11A can be filtered. A capacitor that is inserted in parallel between the power supply line 11V and the output line 11A like the capacitor 30 and filters noise flowing in the power supply line 11V or the output line 11A is called a bypass capacitor.

図3に示す例では、コンデンサ30の電極31aが接続される接続部13aは、配線12aが延びる方向DR1の途中に配置されている。また、コンデンサ30の電極31vが接続される接続部13vは、配線12vが延びる方向DR1の途中に配置されている。また、コンデンサ30は、方向DR1に対して交差する(図3では直交する)方向DR2に沿って電極31aと電極31vとが並ぶように、配線12aと配線12vとに跨って搭載されている。   In the example shown in FIG. 3, the connection portion 13a to which the electrode 31a of the capacitor 30 is connected is arranged in the middle of the direction DR1 in which the wiring 12a extends. Further, the connection portion 13v to which the electrode 31v of the capacitor 30 is connected is disposed in the middle of the direction DR1 in which the wiring 12v extends. The capacitor 30 is mounted across the wiring 12a and the wiring 12v so that the electrode 31a and the electrode 31v are aligned along the direction DR2 intersecting (orthogonal in FIG. 3) with respect to the direction DR1.

図3に示すように、コンデンサ(チップコンデンサ)30は、平面視において四角形を成す。また、コンデンサ30は、二つの長辺(長側面)と、二つの短辺(短側面)と、を有する。また、コンデンサ30は、互いに反対側の端部に設けられた電極31aおよび電極31vを有する。本実施の形態の例では、二つの電極31は、コンデンサ30の長辺の延在方向において、互いに反対側の端部に位置している。また、コンデンサ30は、電極31aと電極31vの間に挟まれる本体部32を有している。例えば図7に示すように、本体部32は、絶縁層(誘電体層)33を介して積層される、複数の導体板34を有し、複数の導体板34のそれぞれは、電極31aおよび電極31vのうちの一方に接続されている。電極31aおよび電極31vは、対向配置される複数の導体板間に形成された容量を外部に取り出すための外部電極端子として機能する。   As shown in FIG. 3, the capacitor (chip capacitor) 30 forms a quadrangle in plan view. Further, the capacitor 30 has two long sides (long side surfaces) and two short sides (short side surfaces). Capacitor 30 includes electrode 31a and electrode 31v provided at opposite ends. In the example of the present embodiment, the two electrodes 31 are located at opposite ends of the long side of the capacitor 30 in the extending direction. The capacitor 30 has a main body 32 sandwiched between the electrode 31a and the electrode 31v. For example, as shown in FIG. 7, the main body 32 includes a plurality of conductor plates 34 stacked via an insulating layer (dielectric layer) 33, and each of the plurality of conductor plates 34 includes an electrode 31 a and an electrode. It is connected to one of 31v. The electrode 31a and the electrode 31v function as an external electrode terminal for taking out a capacitance formed between a plurality of conductive plates arranged opposite to each other.

図7に示す構造のコンデンサ30は、セラミック製の絶縁層33が用いられることが多く、セラミックコンデンサと呼ばれる。また、図7に示すようにコンデンサ30は、配線基板10の表面上に実装することができる、表面実装型の電子部品である。表面実装型の電子部品は、チップ部品(コンデンサ30の場合はチップコンデンサ)とも呼ばれる。   The capacitor 30 having the structure shown in FIG. 7 often uses a ceramic insulating layer 33 and is called a ceramic capacitor. As shown in FIG. 7, the capacitor 30 is a surface-mount type electronic component that can be mounted on the surface of the wiring substrate 10. The surface-mount type electronic component is also called a chip component (a chip capacitor in the case of the capacitor 30).

一方、図4および図5に示すコンデンサ40は、図示しない導体板に化学処理を施すことで、電極の表面に酸化膜などの絶縁膜(または半導体膜)を形成し、この絶縁膜を誘電体として利用するコンデンサである。コンデンサ40は、表面処理が施された導体板を積層することで、所定の容量を得るものであるが、積層された導体板の隙間を埋めるように、電解液が充填されている。このため、コンデンサ40の構造のコンデンサは、電解コンデンサと呼ばれる。電解コンデンサの場合、棒状の(ピンタイプの)電極41(図4参照)を有している。本実施の形態では、コンデンサ40の電極41を配線基板10の貫通孔に挿入し、挿入された部分を半田材で固定する。電極41が挿入された部分には、接続部16(図3参照)が設けられており、接続部16と電極41とは、半田材を介して電気的に接続される。   On the other hand, the capacitor 40 shown in FIGS. 4 and 5 forms an insulating film (or semiconductor film) such as an oxide film on the surface of the electrode by subjecting a conductor plate (not shown) to chemical treatment, and this insulating film is formed into a dielectric. It is a capacitor used as Capacitor 40 obtains a predetermined capacity by laminating a conductor plate that has been subjected to surface treatment, but is filled with an electrolyte so as to fill a gap between the laminated conductor plates. For this reason, the capacitor having the structure of the capacitor 40 is called an electrolytic capacitor. The electrolytic capacitor has a rod-shaped (pin type) electrode 41 (see FIG. 4). In the present embodiment, the electrode 41 of the capacitor 40 is inserted into the through hole of the wiring substrate 10 and the inserted portion is fixed with a solder material. A connection portion 16 (see FIG. 3) is provided at a portion where the electrode 41 is inserted, and the connection portion 16 and the electrode 41 are electrically connected via a solder material.

セラミックコンデンサであるコンデンサ30は、電解コンデンサであるコンデンサ40と比較して、体積および実装面積が小さい。また、コンデンサ30の容量は、コンデンサ40の容量より小さい。例えば、コンデンサ30の容量は、0.1μF〜10μF程度である。一方、コンデンサ40の容量は、22μF〜100μF程度である。   The capacitor 30 that is a ceramic capacitor has a smaller volume and a smaller mounting area than the capacitor 40 that is an electrolytic capacitor. Further, the capacity of the capacitor 30 is smaller than the capacity of the capacitor 40. For example, the capacity of the capacitor 30 is about 0.1 μF to 10 μF. On the other hand, the capacity of the capacitor 40 is about 22 μF to 100 μF.

なお、上記では、コンデンサ30の構造の一例について説明したが、コンデンサ30の構造や容量には種々の変形例がある。   Although an example of the structure of the capacitor 30 has been described above, there are various modifications to the structure and capacity of the capacitor 30.

また、図4に示すように、配線基板10の主面10bには複数の外部端子60が搭載されている。外部端子60は、電子装置EDV1の外部インタフェース用の端子であって、電子装置の複数の配線12と、図1に示す電線HAR1、HAR2とを電気的に接続するためのコネクタである。外部端子60は、図1に示す電線HAR1、HAR2との接続性を考慮して、サイズが大きい部品になっている。例えば、本実施の形態では、外部端子60の表面積は、図3に示すコンデンサ30の表面積、および半導体装置20の表面積よりも大きい。詳細は後述するが、本実施の形態のように、表面積が大きい外部端子60を図1に示す電源線11Vおよび出力線11Aの途中に挿入する場合、外部端子60自身のノイズ影響を考慮する必要がある。   Further, as shown in FIG. 4, a plurality of external terminals 60 are mounted on the main surface 10 b of the wiring board 10. The external terminal 60 is a terminal for an external interface of the electronic device EDV1, and is a connector for electrically connecting a plurality of wires 12 of the electronic device and the electric wires HAR1 and HAR2 shown in FIG. The external terminal 60 is a component having a large size in consideration of the connectivity with the electric wires HAR1 and HAR2 shown in FIG. For example, in the present embodiment, the surface area of the external terminal 60 is larger than the surface area of the capacitor 30 and the surface area of the semiconductor device 20 shown in FIG. Although details will be described later, when the external terminal 60 having a large surface area is inserted in the middle of the power supply line 11V and the output line 11A shown in FIG. 1 as in the present embodiment, it is necessary to consider the noise effect of the external terminal 60 itself. There is.

また、図4に示すように、配線基板10の主面10bには、コンデンサ40、ダイオード50などの電子部品が搭載されている。本実施の形態の例では、図8に示すように、コンデンサ40の一方の電極は、出力線11Aに接続され、他方の電極は、電源線11Vおよび出力線11Aとは異なる配線経路11Eに接続されている。図8に示す例では、配線経路11Eは、半導体チップ21が備えるトランジスタの入力端子(ベース端子またはゲート端子)に接続されている。図8に示す回路は、出力線11Aから出力電位が供給されている状態(オン状態)と、出力電位が供給されていない状態(オフ状態)と、が交互に繰り返す、発振回路として動作する。図1に示すように、出力線11Aは負荷側である部品COM1に接続されており、部品COM1に供給される電位がオンオフ動作する。上記したように本実施の形態の例では、部品COM1は方向指示器なので、出力電位がオンオフ動作することにより、方向指示器が点滅動作をする。点滅動作の間隔は、図8に示すコンデンサ40の容量値、および発振回路に含まれる抵抗値の値により決定される。   Further, as shown in FIG. 4, electronic components such as a capacitor 40 and a diode 50 are mounted on the main surface 10 b of the wiring substrate 10. In the example of the present embodiment, as shown in FIG. 8, one electrode of the capacitor 40 is connected to the output line 11A, and the other electrode is connected to the wiring path 11E different from the power supply line 11V and the output line 11A. Has been. In the example illustrated in FIG. 8, the wiring path 11 </ b> E is connected to an input terminal (base terminal or gate terminal) of a transistor included in the semiconductor chip 21. The circuit illustrated in FIG. 8 operates as an oscillation circuit in which an output potential is supplied from the output line 11A (on state) and a state in which no output potential is supplied (off state) are alternately repeated. As shown in FIG. 1, the output line 11A is connected to a component COM1 on the load side, and the potential supplied to the component COM1 is turned on and off. As described above, in the example of the present embodiment, since the component COM1 is a direction indicator, the direction indicator blinks when the output potential is turned on / off. The interval of the blinking operation is determined by the capacitance value of the capacitor 40 shown in FIG. 8 and the resistance value included in the oscillation circuit.

また、本実施の形態の例では、図8に示すようにダイオード50のアノード電極が出力線11Aに接続され、カソード電極が電源線11Vに接続されている。ダイオード50は、棒状の(ピンタイプの)電極51(図4参照)を有している。本実施の形態では、ダイオード50の電極51を配線基板10の貫通孔に挿入し、挿入された部分を半田材で固定する。電極51が挿入された部分には、接続部16(図3参照)が設けられており、接続部16と電極51とは、半田材を介して電気的に接続される。なお、コンデンサ40やダイオード50などの電子部品は、電子装置EDV1の仕様に応じて搭載される部品であって、電子装置EDV1の回路によっては、搭載されていなくても良い。   In the example of the present embodiment, the anode electrode of the diode 50 is connected to the output line 11A and the cathode electrode is connected to the power supply line 11V as shown in FIG. The diode 50 has a rod-shaped (pin type) electrode 51 (see FIG. 4). In the present embodiment, the electrode 51 of the diode 50 is inserted into the through hole of the wiring board 10 and the inserted portion is fixed with a solder material. A connection portion 16 (see FIG. 3) is provided at a portion where the electrode 51 is inserted, and the connection portion 16 and the electrode 51 are electrically connected via a solder material. The electronic components such as the capacitor 40 and the diode 50 are components that are mounted according to the specifications of the electronic device EDV1, and may not be mounted depending on the circuit of the electronic device EDV1.

<ノイズとレイアウトの関係>
次に、本実施の形態の電子装置に対する検討例を参照しながら、電子装置が有する半導体装置に対するノイズ影響と、配線基板上のレイアウトの関係について詳細に説明する。図23は、図3に対する検討例である電子装置の平面図である。また、図24は、図23に対する変形例である電子装置の平面図である。また、図9は、図3に示す半導体装置およびコンデンサを取り除いた配線基板の平面図である。また、図10は、図9に示すコンデンサ用の接続部の周辺を拡大して示す拡大平面図である。
<Relationship between noise and layout>
Next, the relationship between the noise effect on the semiconductor device included in the electronic device and the layout on the wiring board will be described in detail with reference to an example of study on the electronic device of the present embodiment. FIG. 23 is a plan view of an electronic device that is a study example with respect to FIG. FIG. 24 is a plan view of an electronic device which is a modification example of FIG. FIG. 9 is a plan view of the wiring board from which the semiconductor device and the capacitor shown in FIG. 3 are removed. FIG. 10 is an enlarged plan view showing the periphery of the capacitor connecting portion shown in FIG. 9 in an enlarged manner.

なお、図23および図24では、導体パターン12ha、12hv、12he、および外部端子60の輪郭を点線で示している。また、図23および図24では、配線基板10の裏面に配置されたコンデンサ40およびダイオード50のレイアウトの例について、回路記号を用いて模式的に示している。また、図9では、配線経路距離11a1、11a2、11v1、および配線経路距離11v2について、両矢印を付して模式的に示している。また、図10では、図9に示す複数の配線12のうち、配線12aおよび配線12v以外は図示を省略している。   23 and 24, the outlines of the conductor patterns 12ha, 12hv, 12he and the external terminal 60 are indicated by dotted lines. 23 and 24 schematically show examples of the layout of the capacitors 40 and the diodes 50 arranged on the back surface of the wiring board 10 using circuit symbols. In FIG. 9, the wiring path distances 11a1, 11a2, 11v1, and the wiring path distance 11v2 are schematically shown with double arrows. Further, in FIG. 10, the illustration of the plurality of wirings 12 other than the wiring 12a and the wiring 12v among the plurality of wirings 12 illustrated in FIG. 9 is omitted.

本実施の形態のように、制御回路を備える半導体装置が搭載された電子装置の信頼性を向上させるためには、半導体装置に形成された制御回路の動作信頼性を向上させる必要がある。このため、半導体装置のノイズ耐性を向上させて、制御回路が安定的に動作するように構成する必要がある。   In order to improve the reliability of an electronic device in which a semiconductor device including a control circuit is mounted as in this embodiment, it is necessary to improve the operation reliability of the control circuit formed in the semiconductor device. For this reason, it is necessary to improve the noise tolerance of the semiconductor device so that the control circuit operates stably.

また、電子装置の汎用性を向上させる観点からは、比較的広い範囲の周波数帯において、ノイズの伝送を抑制可能なノイズ対策が好ましい。回路のノイズ耐性を向上させるためには、まず、ノイズ耐性を向上させる対象である周波数帯のうち、ノイズの伝搬量が大きくなる周波数帯において、回路のインピーダンス値を低減するようなバイパスコンデンサをノイズ対策の対象になる配線経路に接続する方法が有効である。ノイズ対策の対象になる二本の配線経路の間にコンデンサを接続することにより、コンデンサの静電容量の値に応じた周波数帯において、回路のインピーダンスを低減させることができる。   Further, from the viewpoint of improving the versatility of the electronic device, it is preferable to take measures against noise that can suppress noise transmission in a relatively wide frequency band. In order to improve the noise immunity of a circuit, first of all, a bypass capacitor that reduces the impedance value of the circuit in the frequency band where the amount of noise propagation is increased among the frequency bands targeted for noise immunity improvement. It is effective to connect to the wiring route that is the target of countermeasures. By connecting a capacitor between two wiring paths that are subject to noise countermeasures, the impedance of the circuit can be reduced in a frequency band corresponding to the capacitance value of the capacitor.

例えば、図3に示す例の場合、回路のノイズ伝搬に大きな影響を与える部品として、半導体装置20が挙げられる。半導体装置20の反共振周波数に近い周波数帯では、回路のインピーダンス値が急激に大きくなり、ノイズが伝搬され易くなる(言い換えればノイズ耐性が低下する)。反共振周波数とは、ある部品(上記の例の場合、半導体装置20)を抵抗成分R、容量成分C、およびインダクタ成分Lの並列共振回路として考えた時の共振周波数の値fであって、f=1/2π(LC)1/2の式により得られる。並列共振回路では、共振周波数において、流れる電流が互いに打ち消し合い、共振回路の外部からみると、電流値が最小になるので、見かけ上のインピーダンスが最大化する。 For example, in the case of the example shown in FIG. 3, the semiconductor device 20 can be cited as a component that greatly affects circuit noise propagation. In a frequency band close to the anti-resonance frequency of the semiconductor device 20, the impedance value of the circuit increases rapidly, and noise is easily propagated (in other words, noise resistance is reduced). The anti-resonance frequency is a resonance frequency value f 0 when a certain component (in the above example, the semiconductor device 20) is considered as a parallel resonance circuit of a resistance component R, a capacitance component C, and an inductor component L. , F 0 = 1 / 2π (LC) 1/2 . In the parallel resonance circuit, the flowing currents cancel each other out at the resonance frequency, and the current value is minimized when viewed from the outside of the resonance circuit, so that the apparent impedance is maximized.

そこで、半導体装置20の反共振周波数の近傍でインピーダンスを低減する電気的特性を有するバイパスコンデンサを、図8に示す電源線11Vと出力線11Aとの間に挿入すれば、電源線11Vや出力線11Aを介して伝搬される、半導体装置20に起因するノイズの量を低減できる。ただし、本願発明者の検討によれば、配線およびバイパスコンデンサのレイアウトによっては、所定の周波数帯におけるインピーダンスの低減効果が得られないことが判った。この検討結果については後で詳細に説明する。   Therefore, if a bypass capacitor having an electrical characteristic for reducing the impedance in the vicinity of the anti-resonance frequency of the semiconductor device 20 is inserted between the power supply line 11V and the output line 11A shown in FIG. The amount of noise caused by the semiconductor device 20 propagating through 11A can be reduced. However, according to the study by the present inventor, it has been found that the impedance reduction effect in a predetermined frequency band cannot be obtained depending on the layout of the wiring and the bypass capacitor. The result of this examination will be described in detail later.

また、図1に示すように、電子装置EDV1に電線を接続する場合、電線側(言い換えれば、図4に示す外部端子60側)からのノイズが半導体装置20に伝搬される影響を考慮する必要がある。また、図6に示すように、表面積が大きい外部端子60(図6参照)を搭載する場合、外部端子60自身のノイズ影響を考慮する必要がある。したがって、本実施の形態の回路のノイズ耐性を向上させるためには、半導体装置20の反共振周波数に近い周波数帯、および外部端子60(電線を接続した場合には電線の影響も考慮する)の反共振周波数に近い周波数帯においてインピーダンスを低減する必要がある。   Further, as shown in FIG. 1, when connecting an electric wire to the electronic device EDV1, it is necessary to consider the influence that noise from the electric wire side (in other words, the external terminal 60 side shown in FIG. 4) is propagated to the semiconductor device 20. There is. Further, as shown in FIG. 6, when the external terminal 60 having a large surface area (see FIG. 6) is mounted, it is necessary to consider the noise effect of the external terminal 60 itself. Therefore, in order to improve the noise immunity of the circuit of the present embodiment, the frequency band close to the anti-resonance frequency of the semiconductor device 20 and the external terminal 60 (considering the influence of the wire when a wire is connected). It is necessary to reduce the impedance in a frequency band close to the antiresonance frequency.

そこで、本願発明者は、主要なノイズ源が複数ある場合のノイズ対策方法として、異なる周波数特性を有する複数のバイパスコンデンサを回路に接続し、複数のノイズ源の反共振周波数のそれぞれに近い周波数帯におけるノイズ耐性を向上させる方法について検討した。この場合、複数のノイズ源の反共振周波数の差が大きければ、複数種類の反共振周波数のそれぞれに対応したバイパスコンデンサを接続することができる。また、低い周波数でのノイズフィルタリングを行う場合には、回路にノイズフィルタリング用のインダクタを挿入しても良い。   Therefore, the inventor of the present application, as a noise countermeasure method when there are a plurality of main noise sources, connects a plurality of bypass capacitors having different frequency characteristics to the circuit, and a frequency band close to each of the anti-resonance frequencies of the plurality of noise sources. The method of improving the noise resistance in the slab was investigated. In this case, if the difference between the anti-resonance frequencies of the plurality of noise sources is large, a bypass capacitor corresponding to each of the plurality of types of anti-resonance frequencies can be connected. In addition, when performing noise filtering at a low frequency, an inductor for noise filtering may be inserted into the circuit.

なお、本実施の形態のように、複数の配線が互いに沿って延びるように並走させる場合、隣り合う配線間に容量結合が生じる。そこで、並走するペア配線の間に生じる容量をバイパスコンデンサとして利用する技術について検討した。しかし、例えば、配線幅を0.2mm、配線間距離を0.1mmとして、並走する二つの配線以外の影響を無視して考えた場合、並走距離(二つの配線が互いに沿うように延びる距離)が30mmとした場合でも、0.8pF(ピコファラッド)程度の容量値になる。この程度の容量値では、ノイズフィルタリング用のバイパスコンデンサとしての効果が得られ難い。したがって、ノイズフィルタリング用のバイパスコンデンサを設ける場合、セラミックコンデンサや電解コンデンサなど、0.001μF以上の容量が得られるコンデンサを使用することが好ましい。   Note that, when a plurality of wirings run parallel to each other as in this embodiment, capacitive coupling occurs between adjacent wirings. In view of this, a technology for using the capacitance generated between parallel wirings as a bypass capacitor was studied. However, for example, assuming that the wiring width is 0.2 mm and the distance between the wirings is 0.1 mm and ignoring the effects other than the two wirings that run in parallel, the parallel running distance (the two wirings extend along each other). Even when the distance is 30 mm, the capacitance value is about 0.8 pF (picofarad). With such a capacitance value, it is difficult to obtain an effect as a noise filtering bypass capacitor. Therefore, when providing a noise filtering bypass capacitor, it is preferable to use a capacitor capable of obtaining a capacity of 0.001 μF or more, such as a ceramic capacitor or an electrolytic capacitor.

また、ノイズ対策用の電子部品の数が増加すると、電子部品を配線基板上に搭載するためのスペースが必要になる。そこで、本願発明者はノイズ対策部品の数の削減について検討を行った。この検討の結果、例えば図3に示す本実施の形態の電子装置EDV1のように、配線基板10における、バイパスコンデンサ(コンデンサ30)と配線12v、12aのレイアウトを工夫することにより、コンデンサ30のインピーダンス低減効果によって、半導体装置20に起因するノイズの伝搬、および外部端子60(図4参照)に起因するノイズの伝搬を低減できることが判った。   Further, when the number of electronic parts for noise suppression increases, a space for mounting the electronic parts on the wiring board is required. Therefore, the inventor of the present application examined the reduction of the number of noise countermeasure parts. As a result of this examination, the impedance of the capacitor 30 is devised by devising the layout of the bypass capacitor (capacitor 30) and the wirings 12v and 12a in the wiring board 10 as in the electronic device EDV1 of the present embodiment shown in FIG. It has been found that the reduction effect can reduce the propagation of noise caused by the semiconductor device 20 and the propagation of noise caused by the external terminal 60 (see FIG. 4).

以下、図23に示す検討例の電子装置Eh1と、図3に示す本実施の形態の電子装置EDV1を参照しながら説明する。なお、以下の説明では、電子装置Eh1に関し、図3に示す電子装置EDV1との相違点を中心に説明する。したがって、電子装置Eh1に関し、以下で説明する部分以外の部分は、上記した電子装置EDV1の説明と同様である。   Hereinafter, description will be made with reference to the electronic device Eh1 of the examination example shown in FIG. 23 and the electronic device EDV1 of the present embodiment shown in FIG. In the following description, the electronic device Eh1 will be described focusing on differences from the electronic device EDV1 shown in FIG. Accordingly, with respect to the electronic device Eh1, the portions other than the portions described below are the same as those described above for the electronic device EDV1.

図23に示す電子装置Eh1は、配線基板10hに形成された電源線11V、出力線11Aおよび配線経路11Eのパターンの形状、および配線基板10hに搭載された電子部品の位置関係が図3に示す電子装置EDV1と相違する。   In the electronic device Eh1 shown in FIG. 23, the pattern of the power supply line 11V, the output line 11A and the wiring path 11E formed on the wiring board 10h, and the positional relationship between the electronic components mounted on the wiring board 10h are shown in FIG. Different from the electronic device EDV1.

電子装置Eh1では、電源線11Vを構成する導体パターン12hv、および出力線11Aを構成する導体パターン12haのそれぞれは、大面積の導体パターンになっている。配線基板10hの主面10tの大部分(少なくとも半分以上であって、図23に示す例では2/3以上)は、導体パターン12hvまたは導体パターン12haにより覆われている。   In the electronic device Eh1, each of the conductor pattern 12hv constituting the power supply line 11V and the conductor pattern 12ha constituting the output line 11A is a large-area conductor pattern. Most of the main surface 10t of the wiring substrate 10h (at least half or more and 2/3 or more in the example shown in FIG. 23) is covered with the conductor pattern 12hv or the conductor pattern 12ha.

また、図3に示す電子装置EDV1の場合、配線12vおよび配線12aのそれぞれの延在方向に沿って、外部端子60(図4参照)、コンデンサ30、および半導体装置20が順に接続されている。一方、図23に示す電子装置Eh1の場合、電子装置EDV1程明確な接続順序は無いが、部品の配置としては、コンデンサ30と外部端子60との間に半導体装置20が配置されている。なお、電子装置Eh1の場合にも、回路の接続関係としては、図8に示す電子装置EDV1の回路図と同様に表すことができる。   In the electronic device EDV1 shown in FIG. 3, the external terminal 60 (see FIG. 4), the capacitor 30, and the semiconductor device 20 are connected in order along the extending direction of the wiring 12v and the wiring 12a. On the other hand, in the case of the electronic device Eh1 shown in FIG. 23, the connection order is not as clear as the electronic device EDV1, but the semiconductor device 20 is arranged between the capacitor 30 and the external terminal 60 as an arrangement of components. In the case of the electronic device Eh1, the circuit connection relationship can be expressed in the same manner as the circuit diagram of the electronic device EDV1 shown in FIG.

電子装置Eh1の場合、導体パターン12hvおよび導体パターン12haの面積を大きくすることで、電源線11Vおよび出力線11Aの抵抗値を低減することができる。ところが、電子装置Eh1について図2に示すノイズ耐性の試験を行った結果、一部の周波数帯において、制御回路の誤動作が発生することが判った。   In the case of the electronic device Eh1, the resistance values of the power supply line 11V and the output line 11A can be reduced by increasing the areas of the conductor pattern 12hv and the conductor pattern 12ha. However, as a result of the noise tolerance test shown in FIG. 2 for the electronic device Eh1, it was found that a malfunction of the control circuit occurred in some frequency bands.

上記の試験において、制御回路の誤動作が発生した理由としては以下の理由が考えられる。すなわち、電子装置Eh1のように、半導体装置20と外部端子60との間にコンデンサ30が設けられていない場合、コンデンサ30を介さずにノイズが伝搬されてしまうため、コンデンサ30によるノイズ低減の効果が得られなかったと考えられる。   In the above test, the following reasons can be considered as the reason why the control circuit malfunctioned. That is, when the capacitor 30 is not provided between the semiconductor device 20 and the external terminal 60 as in the electronic device Eh1, noise is propagated without passing through the capacitor 30, so that the effect of noise reduction by the capacitor 30 is achieved. It is thought that was not obtained.

次に、図24に示すように、半導体装置20と外部端子60との間にコンデンサ30を配置した電子装置Eh2について、ノイズ伝搬量の低減効果の評価を行った。図24に示す電子装置Eh2は、コンデンサ30の配置が異なっている点、および外部端子60が配線上に搭載されている点で図23に示す電子装置Eh1と相違する。上記相違点以外は、図23に示す電子装置Eh1と同様なので、重複する説明は省略する。   Next, as shown in FIG. 24, the noise propagation amount reduction effect was evaluated for the electronic device Eh <b> 2 in which the capacitor 30 is disposed between the semiconductor device 20 and the external terminal 60. The electronic device Eh2 shown in FIG. 24 is different from the electronic device Eh1 shown in FIG. 23 in that the arrangement of the capacitor 30 is different and the external terminal 60 is mounted on the wiring. Except for the above differences, the electronic device is the same as the electronic device Eh1 shown in FIG.

ノイズ伝搬量の低減効果は、図2を用いて説明した試験方法の他、周波数と回路のインピーダンスの相関図を用いて評価することができる。すなわち、インピーダンスが局所的に高くなる周波数があればその周波数帯ではノイズが伝搬され易いことを意味する。また、周波数とインピーダンスの相関図において、反共振周波数の近傍におけるインピーダンスのピーク値が小さくなれば、ノイズ耐性が向上したと考えることができる。   The effect of reducing the amount of noise propagation can be evaluated using a correlation diagram of frequency and circuit impedance in addition to the test method described with reference to FIG. That is, if there is a frequency where the impedance is locally high, it means that noise is easily propagated in that frequency band. In addition, in the correlation diagram between the frequency and the impedance, it can be considered that the noise resistance is improved if the peak value of the impedance in the vicinity of the anti-resonance frequency becomes small.

図24に示す電子装置Eh2の場合、図23に示す電子装置Eh1と比較すると、周波数とインピーダンスの相関図において、インピーダンスのピーク値を若干ではあるが、低減できることが判った。これは、半導体装置20と外部端子60との間にコンデンサ30を配置することにより、コンデンサを介さずに伝搬されるノイズの量を低減できたためと考えられる。したがって、コンデンサ30を迂回して、外部端子60と半導体装置20とを電気的に接続する経路を少なくすれば、コンデンサ30によるインピーダンスの低減効果を増加させることができる。   In the case of the electronic device Eh2 shown in FIG. 24, it was found that the peak value of the impedance can be slightly reduced in the correlation diagram between the frequency and the impedance, as compared with the electronic device Eh1 shown in FIG. This is considered because the amount of noise propagated without passing through the capacitor can be reduced by disposing the capacitor 30 between the semiconductor device 20 and the external terminal 60. Therefore, if the path for electrically connecting the external terminal 60 and the semiconductor device 20 is reduced by bypassing the capacitor 30, the effect of reducing impedance by the capacitor 30 can be increased.

また、本願発明者の検討によれば、図24に示す電子装置Eh2に対して、さらにノイズ耐性を向上させる余地があることが判った。本願発明者は、バイパスコンデンサが挿入される二つの配線経路間の位相差に着目した。例えば、図24に示す電子装置Eh2の場合、外部端子60に接続される接続部15からコンデンサ30に接続される接続部14までの経路は、電源線11Vおよび出力線11Aのそれぞれの配線経路距離が短いので、外部端子60とコンデンサ30との間での位相差の発生を抑制できる。しかし、コンデンサ30と半導体装置20との間では、導体パターン12hv、12haのパターン幅が太く、伝送経路が安定しないため、電源線11Vと出力線11Aとの間で位相差が発生し易い。この結果、半導体装置20に電源線11Vと出力線11Aとの位相差に起因するノイズが伝搬され易くなって、電子装置Eh2全体としてのノイズ耐性が低下する原因となる。   Moreover, according to examination of this inventor, it turned out that there exists room to improve noise tolerance further with respect to the electronic device Eh2 shown in FIG. The inventor of the present application paid attention to the phase difference between two wiring paths in which bypass capacitors are inserted. For example, in the case of the electronic device Eh2 shown in FIG. 24, the path from the connection portion 15 connected to the external terminal 60 to the connection portion 14 connected to the capacitor 30 is the wiring route distance of each of the power supply line 11V and the output line 11A. Therefore, the occurrence of a phase difference between the external terminal 60 and the capacitor 30 can be suppressed. However, between the capacitor 30 and the semiconductor device 20, the pattern widths of the conductor patterns 12hv and 12ha are large and the transmission path is not stable, so that a phase difference is likely to occur between the power supply line 11V and the output line 11A. As a result, noise due to the phase difference between the power supply line 11V and the output line 11A is easily propagated to the semiconductor device 20, which causes a reduction in noise resistance as a whole of the electronic device Eh2.

一方、図3に示すように、本実施の形態の電子装置EDV1では、電源線11Vを構成する配線12vと出力線11Aを構成する配線12aとが互いに沿って延びるように配置されている。なお、図3に示すように、外部端子60(図4参照)に接続される接続部15と重なる部分では、配線12vと配線12aは互いに異なる方向に延びている。しかし、コンデンサ30と半導体装置20とを接続する接続部14と接続部13との間では、配線12vと配線12aとは互いに沿って延びている。また、外部端子60とコンデンサ30とを接続する接続部14と接続部15の間の大部分において、配線12vと配線12aとが互いに沿って延びている。詳しくは、接続部14と接続部15(接続部14までの配線経路距離が最も近い接続部15)の間の領域では、配線12vと配線12aの配線経路のうちの半分以上において、配線12vと配線12aとが互いに沿って延びている。   On the other hand, as shown in FIG. 3, in the electronic device EDV1 of the present embodiment, the wiring 12v constituting the power supply line 11V and the wiring 12a constituting the output line 11A are arranged so as to extend along each other. As shown in FIG. 3, the wiring 12 v and the wiring 12 a extend in different directions in a portion overlapping the connection portion 15 connected to the external terminal 60 (see FIG. 4). However, between the connection portion 14 and the connection portion 13 that connect the capacitor 30 and the semiconductor device 20, the wiring 12v and the wiring 12a extend along each other. Further, the wiring 12v and the wiring 12a extend along each other in the most part between the connecting portion 14 and the connecting portion 15 that connect the external terminal 60 and the capacitor 30. Specifically, in the region between the connecting portion 14 and the connecting portion 15 (the connecting portion 15 having the shortest wiring path distance to the connecting portion 14), the wiring 12v and the wiring 12v are more than half of the wiring paths of the wiring 12v and the wiring 12a. The wiring 12a extends along each other.

このように、配線12vと配線12aとが互いに沿って延びるように配置されていれば、電源線11Vと出力線11Aとの間で位相差が生じることを抑制できる。この結果、電子装置EDV1ではノイズ耐性を向上させることができる。   Thus, if the wiring 12v and the wiring 12a are arranged so as to extend along each other, it is possible to suppress a phase difference between the power supply line 11V and the output line 11A. As a result, the electronic device EDV1 can improve noise resistance.

また、半導体装置20にノイズが伝搬されることを抑制する観点からは、コンデンサ30と半導体装置20との間で位相差が生じることを抑制するのが特に重要である。そこで、コンデンサ30と半導体装置20との配線経路距離はできるだけ短くすることが好ましい。一方、コンデンサ30と外部端子60(図4参照)との配線経路距離が長くなった場合、コンデンサ30と外部端子60との間で位相差が生じる可能性はある。しかし、コンデンサ30と外部端子60との間で位相差が生じた場合でも、その位相差に起因するノイズが極端に大きくなければ、コンデンサ30によりノイズ成分はフィルタリングされる。したがって、位相差に起因するノイズが、半導体装置20に伝搬されることは抑制できる。つまり、コンデンサ30と外部端子60との間の配線経路距離を短くすることは、コンデンサ30と半導体装置20の配線経路距離を短くすることより優先順位が低い。   Further, from the viewpoint of suppressing the propagation of noise to the semiconductor device 20, it is particularly important to suppress the occurrence of a phase difference between the capacitor 30 and the semiconductor device 20. Therefore, it is preferable to make the wiring path distance between the capacitor 30 and the semiconductor device 20 as short as possible. On the other hand, when the wiring path distance between the capacitor 30 and the external terminal 60 (see FIG. 4) becomes long, a phase difference may occur between the capacitor 30 and the external terminal 60. However, even if a phase difference occurs between the capacitor 30 and the external terminal 60, the noise component is filtered by the capacitor 30 unless the noise due to the phase difference is extremely large. Therefore, it is possible to suppress the noise caused by the phase difference from being propagated to the semiconductor device 20. That is, shortening the wiring path distance between the capacitor 30 and the external terminal 60 has a lower priority than shortening the wiring path distance between the capacitor 30 and the semiconductor device 20.

また、詳細は後述するが、本実施の形態の電子装置EDV1では、コンデンサ30と外部端子60との間の配線経路距離を調整することにより、半導体装置20側の反共振周波数の値と外部端子60側の反共振周波数の値とが近くなるようにして、一つのコンデンサ30により両方の反共振周波数付近でのインピーダンスを低減している。   Although details will be described later, in the electronic device EDV1 of the present embodiment, the value of the anti-resonance frequency on the semiconductor device 20 side and the external terminal are adjusted by adjusting the wiring path distance between the capacitor 30 and the external terminal 60. The impedance in the vicinity of both anti-resonance frequencies is reduced by one capacitor 30 so that the value of the anti-resonance frequency on the 60 side is close.

このため、本実施の形態では、図3に示すコンデンサ30と半導体装置20とを接続する配線経路の配線経路距離が、コンデンサ30と外部端子60とを接続する配線経路距離よりも短くなっている。詳しくは、図9に示す配線12aのうち、接続部13aと接続部14aとの間の配線経路距離11a1は、接続部15aと接続部14aとの間の配線経路距離11a2、および配線12vの接続部15vと接続部14vとの間の配線経路距離11v2、のそれぞれよりも短い。また、図9に示す配線12aのうち、接続部13vと接続部14vとの間の配線経路距離11v1は、接続部15vと接続部14vとの間の配線経路距離11v2、および配線12aの接続部15aと接続部14aとの間の配線経路距離11a2、のそれぞれよりも短い。   Therefore, in the present embodiment, the wiring path distance of the wiring path connecting the capacitor 30 and the semiconductor device 20 shown in FIG. 3 is shorter than the wiring path distance connecting the capacitor 30 and the external terminal 60. . Specifically, in the wiring 12a shown in FIG. 9, the wiring path distance 11a1 between the connection part 13a and the connection part 14a is the connection of the wiring path distance 11a2 between the connection part 15a and the connection part 14a and the wiring 12v. Each of the wiring path distances 11v2 between the portion 15v and the connection portion 14v is shorter than each. Further, in the wiring 12a shown in FIG. 9, the wiring path distance 11v1 between the connection part 13v and the connection part 14v is the wiring path distance 11v2 between the connection part 15v and the connection part 14v, and the connection part of the wiring 12a. Each of the wiring path distances 11a2 between 15a and the connecting portion 14a is shorter than each.

なお、図9に示すように各接続部間の配線経路距離は、各接続部の中心を結ぶ経路距離として定義される。また、図9に示すように接続部15aが複数個ある場合には、複数の接続部15aのうち、最も接続部14aまでの配線経路距離が短い接続部15aから接続部14aまでの経路距離が、配線経路距離11a2として定義される。同様に、接続部15vが複数個ある場合には、複数の接続部15vのうち、最も接続部14vまでの配線経路距離が短い接続部15vから接続部14vまでの経路距離が、配線経路距離11v2として定義される。   In addition, as shown in FIG. 9, the wiring route distance between each connection part is defined as a route distance which connects the center of each connection part. Also, as shown in FIG. 9, when there are a plurality of connection portions 15a, the route distance from the connection portion 15a to the connection portion 14a having the shortest wiring route distance to the connection portion 14a among the plurality of connection portions 15a is as follows. , Defined as a wiring path distance 11a2. Similarly, when there are a plurality of connection portions 15v, the route distance from the connection portion 15v to the connection portion 14v having the shortest wiring route distance to the connection portion 14v among the plurality of connection portions 15v is the wiring route distance 11v2. Is defined as

本実施の形態のように、図3に示すコンデンサ30と半導体装置20とを接続する配線12の配線経路距離を短くすれば、コンデンサ30と半導体装置20との間で配線12aと配線12vとの間に位相差が生じることを抑制できる。例えば位相差を生じにくくする観点からは、各配線経路のインピーダンスを揃えることが好ましいので、図9に示す配線経路距離11a1と配線経路距離11v1とが等しくなっていることが特に好ましい。しかし、接続部13a、13vの位置および形状は、半導体装置20(図3参照)の端子22(図3および図5参照)の構造に対応して決定される。このため、図9に示すように配線経路距離11a1と配線経路距離11v1とが等しくならない場合もある。しかし、本実施の形態によれば、配線経路距離11a1と配線経路距離11v1はそれぞれ短いので、大きな位相差は生じにくい。したがって、本実施の形態によれば、図3に示すコンデンサ30と半導体装置20とを接続する配線経路に生じる位相差に起因するノイズ耐性の低下を抑制できる。   If the wiring path distance of the wiring 12 connecting the capacitor 30 and the semiconductor device 20 shown in FIG. 3 is shortened as in the present embodiment, the wiring 12a and the wiring 12v are connected between the capacitor 30 and the semiconductor device 20. It can suppress that a phase difference arises between them. For example, from the viewpoint of making the phase difference difficult to occur, it is preferable to make the impedances of the respective wiring paths uniform, and therefore it is particularly preferable that the wiring path distance 11a1 and the wiring path distance 11v1 shown in FIG. However, the positions and shapes of the connecting portions 13a and 13v are determined in accordance with the structure of the terminal 22 (see FIGS. 3 and 5) of the semiconductor device 20 (see FIG. 3). For this reason, as shown in FIG. 9, the wiring path distance 11a1 and the wiring path distance 11v1 may not be equal. However, according to this embodiment, since the wiring path distance 11a1 and the wiring path distance 11v1 are short, a large phase difference is unlikely to occur. Therefore, according to the present embodiment, it is possible to suppress a reduction in noise resistance due to a phase difference generated in a wiring path connecting capacitor 30 and semiconductor device 20 shown in FIG.

また、本願発明者の検討によれば、図9に示す配線経路距離11a1、11v1を固定して、配線経路距離11a2、11v2の長さを調節することにより、図3に示す半導体装置20側および図4に示す外部端子60側の反共振周波数を近づけることで、ノイズ対策用のコンデンサ30の数を減らせることが判った。   Further, according to the study of the present inventor, by fixing the wiring path distances 11a1 and 11v1 shown in FIG. 9 and adjusting the lengths of the wiring path distances 11a2 and 11v2, the semiconductor device 20 side shown in FIG. It has been found that the number of noise countermeasure capacitors 30 can be reduced by bringing the anti-resonance frequency on the external terminal 60 side shown in FIG. 4 closer.

上記したように、半導体装置20側および外部端子60側の両方に、ノイズ影響が大きい部品が存在する場合、複数の反共振周波数のそれぞれに対してノイズ対策を施す必要がある。また、複数の反共振周波数のそれぞれの値が近い値になると、お互いの影響により、回路のインピーダンス値が反共振周波数の近傍でさらに大きくなる。このため、複数の
反共振周波数が存在する回路のノイズ耐性を向上させるためには、複数の反共振周波数の値が離れた値になるようにして、複数の反共振周波数のそれぞれに対応したインピーダンス低減特性(言い換えれば容量値)を備えるバイパスコンデンサを接続する方法が考えられる。
As described above, when there are components with a large noise influence on both the semiconductor device 20 side and the external terminal 60 side, it is necessary to take noise countermeasures for each of the plurality of anti-resonance frequencies. Further, when the values of the plurality of anti-resonance frequencies are close to each other, the impedance value of the circuit is further increased in the vicinity of the anti-resonance frequency due to mutual influences. For this reason, in order to improve the noise resistance of a circuit having a plurality of anti-resonance frequencies, the impedance corresponding to each of the plurality of anti-resonance frequencies is set such that the values of the plurality of anti-resonance frequencies are separated from each other. A method of connecting a bypass capacitor having a reduction characteristic (in other words, a capacitance value) is conceivable.

しかし、本願発明者の検討によれば、本実施の形態のように、コンデンサ30を迂回して、外部端子60と半導体装置20とを電気的に接続する経路を少なくすれば、複数の反共振周波数の値が近い場合でも、コンデンサ30によりインピーダンスを低減できることが判った。すなわち、本実施の形態の電子装置EDV1では、一つのコンデンサ30で半導体装置20側の反共振周波数に係るインピーダンスの増加と、外部端子60側の反共振周波数に係るインピーダンスの増加を抑制している。例えば、本実施の形態の場合、図3に示す半導体装置20側の反共振周波数は、265MHz(メガヘルツ)程度である。この時、図9に示す配線経路距離11a2および配線経路距離11v2の長さを調整すると、配線12a、12vのインダクタンスが変化するので、外部端子60側の反共振周波数の値を調整することができる。   However, according to the study by the present inventor, a plurality of anti-resonances can be obtained by bypassing the capacitor 30 and reducing the number of paths for electrically connecting the external terminal 60 and the semiconductor device 20 as in the present embodiment. It has been found that the impedance can be reduced by the capacitor 30 even when the frequency values are close. That is, in the electronic device EDV1 of the present embodiment, an increase in impedance related to the anti-resonance frequency on the semiconductor device 20 side and an increase in impedance related to the anti-resonance frequency on the external terminal 60 side are suppressed by one capacitor 30. . For example, in the case of the present embodiment, the antiresonance frequency on the semiconductor device 20 side shown in FIG. 3 is about 265 MHz (megahertz). At this time, when the lengths of the wiring path distance 11a2 and the wiring path distance 11v2 shown in FIG. 9 are adjusted, the inductances of the wirings 12a and 12v change, so that the anti-resonance frequency value on the external terminal 60 side can be adjusted. .

このように、ノイズ対策用の電子部品(コンデンサ30)の数を低減できれば、電子部品の実装面積を小さくできるので、配線基板10の平面サイズを低減できる。あるいは、配線基板10が備える複数の配線12のレイアウトの自由度が増加するので、配線経路距離11a1、11a2、11v1、および配線経路距離11v2の関係を調整しやすくなる。言い換えれば、複数の反共振周波数の値が調整しやすくなる。また、電子部品の数が減少することにより、電子装置EDV1は組み立てが容易になるので、製造効率が向上する。また、電子部品の数が減少することにより、一部の部品の故障による回路の信頼性低下を防止できる。   Thus, if the number of electronic components (capacitors 30) for noise reduction can be reduced, the mounting area of the electronic components can be reduced, and the planar size of the wiring board 10 can be reduced. Or since the freedom degree of the layout of the some wiring 12 with which the wiring board 10 is provided increases, it becomes easy to adjust the relationship of wiring route distance 11a1, 11a2, 11v1, and wiring route distance 11v2. In other words, it becomes easy to adjust the values of a plurality of anti-resonance frequencies. Further, since the number of electronic components is reduced, the electronic device EDV1 can be easily assembled, so that the manufacturing efficiency is improved. Further, since the number of electronic components is reduced, it is possible to prevent a reduction in circuit reliability due to a failure of some components.

また、本実施の形態では、図3に示す配線12のうち、コンデンサ30の電極31に接続される接続部14の幅が、配線12の延在部の幅よりも狭くなっている。詳しくは、以下のように表現できる。   In the present embodiment, the width of the connecting portion 14 connected to the electrode 31 of the capacitor 30 in the wiring 12 shown in FIG. 3 is narrower than the width of the extending portion of the wiring 12. Specifically, it can be expressed as follows.

図10に示すように、出力線11Aを構成する配線12aは、接続部14aと接続部15a(図9参照)の間に配置され、方向DR1に沿って延びる延在部17a1を有している。また、電源線11Vを構成する配線12vは、接続部14vと接続部15v(図9参照)の間に配置され、方向DR1に沿って延びる延在部17v1を有している。ここで、接続部14aの方向DR1に直交する方向DR2における幅14waは、延在部17a1の方向DR2における幅17wa1よりも狭い。また、接続部14vの方向DR1における幅14wvは、延在部17v1の方向DR2における幅17wv1よりも狭い。   As shown in FIG. 10, the wiring 12a constituting the output line 11A is disposed between the connecting portion 14a and the connecting portion 15a (see FIG. 9), and has an extending portion 17a1 extending along the direction DR1. . Further, the wiring 12v constituting the power supply line 11V is disposed between the connecting portion 14v and the connecting portion 15v (see FIG. 9), and has an extending portion 17v1 extending along the direction DR1. Here, the width 14wa in the direction DR2 orthogonal to the direction DR1 of the connecting portion 14a is narrower than the width 17wa1 in the direction DR2 of the extending portion 17a1. Further, the width 14wv in the direction DR1 of the connecting portion 14v is narrower than the width 17wv1 in the direction DR2 of the extending portion 17v1.

電源線11Vや出力線11Aのインピーダンスを低減させる観点からは、配線12vや配線12aの幅は、ある程度太い方が良い。また、配線パターンの加工精度を考慮しても、ある程度太いパターンの方がパターニングし易い。一方、図3に示すコンデンサ30を介さずに(言い換えれば、コンデンサ30によりフィルタリングされずに)伝搬するノイズの量を低減する観点からは、コンデンサ30と配線12との接続部分を迂回する経路をできる限り少なくすることが好ましい。   From the viewpoint of reducing the impedance of the power supply line 11V and the output line 11A, the width of the wiring 12v and the wiring 12a should be somewhat thick. Further, even if the processing accuracy of the wiring pattern is taken into consideration, a pattern that is somewhat thick is easier to pattern. On the other hand, from the viewpoint of reducing the amount of noise that propagates without passing through the capacitor 30 shown in FIG. 3 (in other words, without being filtered by the capacitor 30), a path that bypasses the connection portion between the capacitor 30 and the wiring 12 is provided. It is preferable to reduce as much as possible.

そこで、本実施の形態では、図10に示すように接続部14aの幅14wa、および接続部14vの幅14wvのそれぞれを局所的に狭くすることで、コンデンサ30(図3参照)と配線12との接続部分を迂回する経路を低減している。また、配線12aのうち、配線経路距離が長い延在部17a1の幅17wa1を太くすることで、出力線11Aのインピーダンスを低減できる。同様に、配線12vのうち、配線経路距離が長い延在部17v1の幅17wv1を太くすることで、電源線11Vのインピーダンスを低減できる。   Therefore, in this embodiment, as shown in FIG. 10, the capacitor 14 (see FIG. 3), the wiring 12, and the width 14 wa of the connection portion 14 a and the width 14 wv of the connection portion 14 v are locally narrowed. The route that bypasses the connection part is reduced. Moreover, the impedance of the output line 11A can be reduced by increasing the width 17wa1 of the extended portion 17a1 having a long wiring path distance in the wiring 12a. Similarly, the impedance of the power supply line 11V can be reduced by increasing the width 17wv1 of the extended portion 17v1 having a long wiring path distance in the wiring 12v.

また、図10に示す例では、接続部14の幅は、接続部14と接続部13との間の延在部の幅よりも狭い。詳しくは、図10に示すように、出力線11Aを構成する配線12aは、接続部14aと接続部13aの間に配置され、方向DR1に沿って延びる延在部17a2を有している。また、電源線11Vを構成する配線12vは、接続部14vと接続部13vの間に配置され、方向DR1に沿って延びる延在部17v2を有している。ここで、接続部14aの方向DR2における幅14waは、延在部17a2の方向DR2における幅17wa2よりも狭い。また、接続部14vの方向DR1における幅14wvは、延在部17v2の方向DR2における幅17wv2よりも狭い。   In the example shown in FIG. 10, the width of the connection portion 14 is narrower than the width of the extending portion between the connection portion 14 and the connection portion 13. Specifically, as shown in FIG. 10, the wiring 12a constituting the output line 11A is disposed between the connecting portion 14a and the connecting portion 13a and has an extending portion 17a2 extending along the direction DR1. The wiring 12v constituting the power supply line 11V has an extending portion 17v2 that is disposed between the connecting portion 14v and the connecting portion 13v and extends along the direction DR1. Here, the width 14wa in the direction DR2 of the connecting portion 14a is narrower than the width 17wa2 in the direction DR2 of the extending portion 17a2. Further, the width 14wv in the direction DR1 of the connecting portion 14v is narrower than the width 17wv2 in the direction DR2 of the extending portion 17v2.

このように、延在部17a2の幅17wa2を接続部14aの幅14waよりも太くし、延在部17v2の幅17wv2を接続部14vの幅14wvよりも太くすることで、図3に示す半導体装置20とコンデンサ30とを接続する配線経路のインピーダンスを低減できる。   As described above, the width 17wa2 of the extending portion 17a2 is made thicker than the width 14wa of the connecting portion 14a, and the width 17wv2 of the extending portion 17v2 is made thicker than the width 14wv of the connecting portion 14v, whereby the semiconductor device shown in FIG. The impedance of the wiring path connecting 20 and the capacitor 30 can be reduced.

また、本実施の形態では、配線12aの接続部14aの幅14waは、配線12vの延在部17v1の幅17wv1および延在部17v2の幅17wv2よりも狭くなっている。また、配線12vの接続部14vの幅14wvは、配線12aの延在部17a1の幅17wa1および延在部17a2の幅17wa2よりも狭くなっている。   In the present embodiment, the width 14wa of the connecting portion 14a of the wiring 12a is narrower than the width 17wv1 of the extending portion 17v1 of the wiring 12v and the width 17wv2 of the extending portion 17v2. Further, the width 14wv of the connecting portion 14v of the wiring 12v is narrower than the width 17wa1 of the extending portion 17a1 and the width 17wa2 of the extending portion 17a2.

また、図10に示すように、配線12aの接続部14aの幅14waは、半導体装置20(図3参照)の端子22a(図3参照)に接続される接続部13aの方向DR2における幅13waよりも狭い。接続部14aの幅14waが十分に狭ければ、接続部13aの幅13waを太くしてもノイズ成分がコンデンサ30(図3参照)を迂回する配線経路は生じない。また、接続部13aの幅13waを太くすることにより、図3に示す端子22aの実装信頼性を向上させることができる。   As shown in FIG. 10, the width 14wa of the connection portion 14a of the wiring 12a is greater than the width 13wa in the direction DR2 of the connection portion 13a connected to the terminal 22a (see FIG. 3) of the semiconductor device 20 (see FIG. 3). Is also narrow. If the width 14wa of the connection portion 14a is sufficiently narrow, even if the width 13wa of the connection portion 13a is increased, a wiring path in which the noise component bypasses the capacitor 30 (see FIG. 3) does not occur. Further, by increasing the width 13wa of the connecting portion 13a, the mounting reliability of the terminal 22a shown in FIG. 3 can be improved.

同様に、配線12vの接続部14vの幅14wvは、半導体装置20(図5参照)の端子22v(図5参照)に接続される接続部13vの方向DR2における幅13wv(図9参照)よりも狭い。接続部13vは、図5に示す半導体装置20に電源電位を供給する経路として機能するほか、半導体装置を固定する固定部としても機能する。したがって接続部13vの幅13wvを太くすることにより、接続部13vの面積が増大するので、半導体装置20の実装信頼性が向上する。   Similarly, the width 14wv of the connection portion 14v of the wiring 12v is larger than the width 13wv (see FIG. 9) in the direction DR2 of the connection portion 13v connected to the terminal 22v (see FIG. 5) of the semiconductor device 20 (see FIG. 5). narrow. The connecting portion 13v functions as a path for supplying a power supply potential to the semiconductor device 20 shown in FIG. 5, and also functions as a fixing portion for fixing the semiconductor device. Therefore, by increasing the width 13wv of the connection portion 13v, the area of the connection portion 13v increases, so that the mounting reliability of the semiconductor device 20 is improved.

なお、図示は省略するが、本実施の形態に対する変形例として、図10に示す幅14waが幅17wa1や幅17wa2と同じ、あるいは、幅17wa1や幅17wa2より広くても良い。また、図10に示す幅14wvが幅17wv1や幅17wv2と同じ、あるは幅17wv1や幅17wv2より広くても良い。例えば、図3に示すコンデンサ30の電極31の実装面のサイズによっては、幅14wa、14wvをできる限り小さくしても、幅17wa1、17wa2、17wv1、17wv2と同程度になる場合も考えられる。   Although illustration is omitted, as a modification to the present embodiment, the width 14wa shown in FIG. 10 may be the same as the width 17wa1 or the width 17wa2, or may be wider than the width 17wa1 or the width 17wa2. Further, the width 14wv shown in FIG. 10 may be the same as the width 17wv1 and the width 17wv2, or may be wider than the width 17wv1 and the width 17wv2. For example, depending on the size of the mounting surface of the electrode 31 of the capacitor 30 shown in FIG. 3, even if the widths 14wa and 14wv are made as small as possible, the widths 17wa1, 17wa2, 17wv1, and 17wv2 may be comparable.

次に、周波数とインピーダンスの相関図を用いて、ノイズ耐性を向上させる効果について説明する。図11は、セラミックコンデンサと、アルミ電解コンデンサの周波数とインピーダンスに係る特性曲線を示す説明図である。また、図12は、図3に示す電子装置において、ノイズ対策用のコンデンサとして電解コンデンサを使用した場合と、セラミックコンデンサを使用した場合との特性曲線を比較する説明図である。また、図25は、図23に示す電子装置において、ノイズ対策用のコンデンサとして電解コンデンサを使用した場合と、セラミックコンデンサを使用した場合との特性曲線を比較する説明図である。   Next, the effect of improving noise resistance will be described using a correlation diagram of frequency and impedance. FIG. 11 is an explanatory diagram showing characteristic curves related to the frequency and impedance of a ceramic capacitor and an aluminum electrolytic capacitor. FIG. 12 is an explanatory diagram for comparing the characteristic curves when an electrolytic capacitor is used as a noise countermeasure capacitor and when a ceramic capacitor is used in the electronic device shown in FIG. FIG. 25 is an explanatory diagram for comparing the characteristic curves between the case where an electrolytic capacitor is used as a noise countermeasure capacitor and the case where a ceramic capacitor is used in the electronic device shown in FIG.

なお、図11、図12、および図25のそれぞれは、横軸に周波数、縦軸にインピーダンスをそれぞれ対数目盛で表した両対数グラフである。また、図11では、一例として、33μF(マイクロファラッド)のセラミックコンデンサの特性曲線30Cを実線で示し、33μFのアルミ電解コンデンサの特性曲線30Eを点線で示している。同様に、図12および図25でもバイパスコンデンサとして、セラミックコンデンサを用いた特性曲線を実線で、電解コンデンサを用いて特性曲線を点線で示している。   Each of FIGS. 11, 12, and 25 is a log-log graph in which the horizontal axis represents frequency and the vertical axis represents impedance on a logarithmic scale. In FIG. 11, as an example, a characteristic curve 30C of a 33 μF (microfarad) ceramic capacitor is shown by a solid line, and a characteristic curve 30E of a 33 μF aluminum electrolytic capacitor is shown by a dotted line. Similarly, in FIGS. 12 and 25, a characteristic curve using a ceramic capacitor as a bypass capacitor is indicated by a solid line, and a characteristic curve using an electrolytic capacitor is indicated by a dotted line.

本実施の形態では、図3に示すように、ノイズ対策用のバイパスコンデンサとして、セラミックコンデンサを用いている。セラミックコンデンサの場合、例えば、同じ容量の電解コンデンサと比較して、等価直列抵抗(ESR)や寄生インダクタンス(ESL)の値を小さくすることができる。このため、周波数が高い領域では特に、セラミックコンデンサの方が、インピーダンス低減効果が高い。例えば、図11に示す例では、10kHz(キロヘルツ)程度以上の周波数帯において、特性曲線30Cの方が特性曲線30Eよりインピーダンスが小さくなる。つまり、10kHzよりも大きい周波数帯においては、セラミックコンデンサの方が電解コンデンサよりもノイズ耐性を低減させ易いことが判る。   In the present embodiment, as shown in FIG. 3, a ceramic capacitor is used as a noise reduction bypass capacitor. In the case of a ceramic capacitor, for example, the equivalent series resistance (ESR) and the parasitic inductance (ESL) can be reduced as compared with an electrolytic capacitor having the same capacity. For this reason, especially in the region where the frequency is high, the ceramic capacitor has a higher impedance reduction effect. For example, in the example shown in FIG. 11, in the frequency band of about 10 kHz (kilohertz) or more, the characteristic curve 30C has a smaller impedance than the characteristic curve 30E. That is, it can be seen that in a frequency band higher than 10 kHz, the noise resistance of the ceramic capacitor is easier to reduce than the electrolytic capacitor.

なお、図11に示す例では、一例として33μFのコンデンサの特性曲線を示しているが、容量値が等しければ、セラミックコンデンサと電解コンデンサの特性曲線の関係は、他の容量値であっても図11に示す例と同様である。すなわち、10kHzを超えるような周波数帯では、セラミックコンデンサの方が電解コンデンサよりもノイズ耐性を低減させ易い。   In the example shown in FIG. 11, a characteristic curve of a 33 μF capacitor is shown as an example. However, if the capacitance values are equal, the relationship between the characteristic curves of the ceramic capacitor and the electrolytic capacitor is not limited even if other capacitance values are used. This is the same as the example shown in FIG. That is, in a frequency band exceeding 10 kHz, the ceramic capacitor is easier to reduce noise resistance than the electrolytic capacitor.

また、図25に示すように、図23に示す電子装置Eh1が有するコンデンサ30の位置にノイズ対策用のバイパスコンデンサを接続する場合、セラミックコンデンサと電解コンデンサとでは、インピーダンスの低減効果に大きな差は生じない。一方、図12に示すように図3に示す電子装置EDV1が有するコンデンサ30の位置にノイズ対策用のバイパスコンデンサを接続する場合、電解コンデンサよりセラミックコンデンサの方がインピーダンスを大幅に低減させることができる。例えば、図12に示す例では、特性曲線30Cにおけるインピーダンス値のピーク30CPは、特性曲線30Eにおけるインピーダンス値のピーク30EPに対して、半分以下になっている。また、特性曲線30Cは、ピーク30CP以外の周波数帯においても、特性曲線30EPと比較して、インピーダンス値が低減している。   Further, as shown in FIG. 25, when a noise countermeasure bypass capacitor is connected to the position of the capacitor 30 of the electronic device Eh1 shown in FIG. 23, there is a large difference in the impedance reduction effect between the ceramic capacitor and the electrolytic capacitor. Does not occur. On the other hand, as shown in FIG. 12, when a bypass capacitor for noise suppression is connected to the position of the capacitor 30 of the electronic device EDV1 shown in FIG. 3, the impedance of the ceramic capacitor can be greatly reduced compared to the electrolytic capacitor. . For example, in the example shown in FIG. 12, the impedance value peak 30CP in the characteristic curve 30C is less than half of the impedance value peak 30EP in the characteristic curve 30E. Further, the characteristic curve 30C has a reduced impedance value in the frequency band other than the peak 30CP as compared with the characteristic curve 30EP.

図25と図12の比較により、本実施の形態のように、ノイズをフィルタリングし易い構造でコンデンサ30(図3参照)を接続する場合、特に、セラミックコンデンサを用いると有効であることが判る。   A comparison between FIG. 25 and FIG. 12 shows that when a capacitor 30 (see FIG. 3) is connected with a structure that easily filters noise as in the present embodiment, it is particularly effective to use a ceramic capacitor.

また、図12に示すピーク30CPのインピーダンスは、図25に示すピーク30CPhやピーク30EPhと比較して、1/10以下(例えばピーク30CPはピーク30CPhの7%程度)になっている。また、図12に示すピーク30EPのインピーダンスは、図25に示すピーク30CPhやピーク30EPhと比較して、1/5以下(例えばピーク30EPはピーク30CPhの17%程度)になっている。このように、本実施の形態によれば、反共振周波数の周辺でピークになるインピーダンスの値を低減できるので、電子装置のノイズ耐性を向上させることができる。   Further, the impedance of the peak 30CP shown in FIG. 12 is 1/10 or less (for example, the peak 30CP is about 7% of the peak 30CPh) as compared with the peak 30CPh and the peak 30EPh shown in FIG. Further, the impedance of the peak 30EP shown in FIG. 12 is 1/5 or less (for example, the peak 30EP is about 17% of the peak 30CPh) compared to the peak 30CPh and the peak 30EPh shown in FIG. Thus, according to the present embodiment, the impedance value that peaks around the anti-resonance frequency can be reduced, so that the noise resistance of the electronic device can be improved.

(変形例)
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
(Modification)
As mentioned above, the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiment. However, the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

例えば上記実施の形態で説明した電子装置EDV1は、図8に示すように発振回路を構成するコンデンサ40やダイオード50が出力線11Aに接続されている。しかし、コンデンサ40やダイオード50は、回路によっては接続されていなくても良い。図13は図3に対する変形例の電子装置を示す平面図である。   For example, in the electronic device EDV1 described in the above embodiment, as shown in FIG. 8, a capacitor 40 and a diode 50 constituting an oscillation circuit are connected to the output line 11A. However, the capacitor 40 and the diode 50 may not be connected depending on the circuit. FIG. 13 is a plan view showing an electronic device according to a modification to FIG.

図13に示す電子装置EDV2は、外部端子60用の接続部15とコンデンサ30用の接続部14との間、およびコンデンサ30の接続部14と半導体装置20用の接続部13との間に、他の電子部品が接続されていない点で図3〜図8に示す電子装置EDV1と相違する。   The electronic device EDV2 shown in FIG. 13 is between the connection portion 15 for the external terminal 60 and the connection portion 14 for the capacitor 30, and between the connection portion 14 of the capacitor 30 and the connection portion 13 for the semiconductor device 20. It differs from the electronic device EDV1 shown in FIGS. 3 to 8 in that other electronic components are not connected.

詳しくは、電子装置EDV2が備える出力線11Aを構成する配線12aは、接続部15aと接続部14aとの間に他の電子部品(外部端子60およびコンデンサ30以外の電子部品)が接続されていない。また、電子装置EDV2が備える電源線11Vを構成する配線12vは、接続部15vと接続部14vとの間に他の電子部品(外部端子60およびコンデンサ30以外の電子部品)が接続されていない。これにより、外部端子60とバイパスコンデンサであるコンデンサ30との間の配線経路において、出力線11Aと電源線11Vとの間に他の電子部品に起因する位相差が生じることを抑制できる。   Specifically, in the wiring 12a constituting the output line 11A included in the electronic device EDV2, other electronic components (electronic components other than the external terminal 60 and the capacitor 30) are not connected between the connection portion 15a and the connection portion 14a. . In addition, in the wiring 12v constituting the power supply line 11V included in the electronic device EDV2, other electronic components (electronic components other than the external terminal 60 and the capacitor 30) are not connected between the connection portion 15v and the connection portion 14v. Thereby, in the wiring path between the external terminal 60 and the capacitor 30 which is a bypass capacitor, it is possible to suppress the occurrence of a phase difference caused by another electronic component between the output line 11A and the power supply line 11V.

また、電子装置EDV2が備える出力線11Aを構成する配線12aは、接続部13aと接続部14aとの間に他の電子部品(半導体装置20およびコンデンサ30以外の電子部品)が接続されていない。また、電子装置EDV2が備える電源線11Vを構成する配線12vは、接続部13vと接続部14vとの間に他の電子部品(半導体装置20およびコンデンサ30以外の電子部品)が接続されていない。これにより、半導体装置20とバイパスコンデンサであるコンデンサ30との間の配線経路において、出力線11Aと電源線11Vとの間に他の電子部品に起因する位相差が生じることを抑制できる。   In addition, in the wiring 12a constituting the output line 11A included in the electronic device EDV2, other electronic components (electronic components other than the semiconductor device 20 and the capacitor 30) are not connected between the connecting portion 13a and the connecting portion 14a. Further, in the wiring 12v constituting the power supply line 11V provided in the electronic device EDV2, other electronic components (electronic components other than the semiconductor device 20 and the capacitor 30) are not connected between the connecting portion 13v and the connecting portion 14v. Thereby, in the wiring path between the semiconductor device 20 and the capacitor 30 that is a bypass capacitor, it is possible to suppress the occurrence of a phase difference caused by another electronic component between the output line 11A and the power supply line 11V.

また、図3に示す電子装置EDV1の例では、出力線11Aと電源線11Vとを跨ぐようにコンデンサ30を搭載した実施態様を説明した。しかし、バイパスコンデンサを搭載する二つの配線経路の例には、種々の変形例がある。図14は、図3に対する他の変形例の電子装置を示す平面図である。なお、図14では、電源線11V、出力線11A、および基準電位線(配線経路、入力線)11Gのそれぞれの区別を見やすくするため、平面図であるが、各配線経路にハッチングを付して示している。   In the example of the electronic device EDV1 shown in FIG. 3, the embodiment in which the capacitor 30 is mounted so as to straddle the output line 11A and the power supply line 11V has been described. However, there are various modified examples of the two wiring paths on which the bypass capacitor is mounted. FIG. 14 is a plan view showing another modified example of the electronic device shown in FIG. In FIG. 14, the power supply line 11V, the output line 11A, and the reference potential line (wiring path, input line) 11G are shown in a plan view for easy understanding, but each wiring path is hatched. Show.

図14に示す電子装置EDV3が有する半導体装置20Aは、端子22の数、およびレイアウトが図3に示す電子装置EDV1が備える半導体装置20と相違する。半導体装置20Aは、電源電位を供給するための端子22vを複数個備えている。また、半導体装置20Aは、封止体の一方の側面から複数の端子22vが突出し、封止体の反対側の側面から別の複数の端子22が突出する、所謂SOP(Small Outline Package)の構造になっている。また、図14に示す電子装置EDV3は、電源線11V、出力線11Aに加えて、半導体装置20Aに基準電位GND(図1参照)を供給する基準電位線11Gを備えている点で、図3に示す電子装置EDV1と相違する。また、電子装置EDV1は、出力線11Aと基準電位線11Gとの間、および電源線11Vと基準電位線11Gとの間のそれぞれに、コンデンサ30が接続されている。詳しくは、配線12aと配線12g1に跨ってコンデンサ30agが搭載され、配線12vと配線12g2に跨ってコンデンサ30vgが搭載されている。   The semiconductor device 20A included in the electronic device EDV3 illustrated in FIG. 14 is different from the semiconductor device 20 included in the electronic device EDV1 illustrated in FIG. The semiconductor device 20A includes a plurality of terminals 22v for supplying a power supply potential. The semiconductor device 20A has a so-called SOP (Small Outline Package) structure in which a plurality of terminals 22v protrude from one side surface of the sealing body and another terminal 22 protrudes from the opposite side surface of the sealing body. It has become. 14 is provided with a reference potential line 11G for supplying a reference potential GND (see FIG. 1) to the semiconductor device 20A in addition to the power supply line 11V and the output line 11A. This is different from the electronic device EDV1 shown in FIG. In the electronic device EDV1, a capacitor 30 is connected between the output line 11A and the reference potential line 11G and between the power supply line 11V and the reference potential line 11G. Specifically, a capacitor 30ag is mounted across the wiring 12a and the wiring 12g1, and a capacitor 30vg is mounted across the wiring 12v and the wiring 12g2.

図14に示す例では、基準電位線11Gは、配線12aに沿って延びる配線12g1と、配線12vに沿って延びる配線12g2とを有している。配線12g1と配線12g2とは、図14に示す例では、配線12g1と配線12電気的に接続されている。ただし、変形例として、配線12g1および配線12g2がそれぞれ独立して外部端子60および半導体装置20に接続されていても良い。また、配線12g1および配線12g2のそれぞれは、半導体装置20の端子22gが接続される接続部13g、コンデンサ30の電極31gが接続される接続部14g、および外部端子60が接続される接続部15gを有している。言い換えれば、接続部13g、接続部14gおよび接続部15gのそれぞれは、配線12g1および配線12g2を介して相互に電気的に接続されている。   In the example illustrated in FIG. 14, the reference potential line 11G includes a wiring 12g1 extending along the wiring 12a and a wiring 12g2 extending along the wiring 12v. The wiring 12g1 and the wiring 12g2 are electrically connected to the wiring 12g1 and the wiring 12 in the example illustrated in FIG. However, as a modification, the wiring 12g1 and the wiring 12g2 may be independently connected to the external terminal 60 and the semiconductor device 20, respectively. Each of the wiring 12g1 and the wiring 12g2 includes a connection portion 13g to which the terminal 22g of the semiconductor device 20 is connected, a connection portion 14g to which the electrode 31g of the capacitor 30 is connected, and a connection portion 15g to which the external terminal 60 is connected. Have. In other words, the connection portion 13g, the connection portion 14g, and the connection portion 15g are electrically connected to each other via the wiring 12g1 and the wiring 12g2.

電子装置EDV3の場合、出力線11Aを構成する配線12aと、基準電位線11Gを構成する配線12g1とが互いに沿って延びるように配置されている。また、電源線11Vを構成する配線12vと基準電位線11Gを構成する配線12g2とが互いに沿って延びるように配置されている。そして、出力線11Aと基準電位線11Gから成るペアの配線経路、および電源線11Vと基準電位線11Gから成るペアの配線経路は、それぞれ図3に示す電子装置EDV1を用いて説明した出力線11Aと電源線11Vからなるペアの配線経路と同様のノイズ対策が施されている。   In the case of the electronic device EDV3, the wiring 12a constituting the output line 11A and the wiring 12g1 constituting the reference potential line 11G are arranged so as to extend along each other. Further, the wiring 12v constituting the power supply line 11V and the wiring 12g2 constituting the reference potential line 11G are arranged so as to extend along each other. A pair wiring path consisting of the output line 11A and the reference potential line 11G and a pair wiring path consisting of the power supply line 11V and the reference potential line 11G are respectively output lines 11A described using the electronic device EDV1 shown in FIG. Noise countermeasures similar to those of the paired wiring path consisting of the power line 11V are taken.

すなわち、配線12aは、接続部15aと接続部13aとの間に、コンデンサ30agが接続される接続部14aを備えている。また、配線12g1は、接続部15gと接続部13gとの間に、コンデンサ30agが接続される接続部14gを備えている。また、配線12aのうち、接続部13aと接続部14aとの配線経路距離は、接続部14aと接続部15aとの配線経路距離、および接続部14gと接続部15gとの配線経路距離より短い。また、配線12g1のうち、接続部13gと接続部14gとの配線経路距離は、接続部14aと接続部15aとの配線経路距離、および接続部14gと接続部15gとの配線経路距離より短い。   That is, the wiring 12a includes a connection portion 14a to which the capacitor 30ag is connected between the connection portion 15a and the connection portion 13a. Further, the wiring 12g1 includes a connection portion 14g to which the capacitor 30ag is connected between the connection portion 15g and the connection portion 13g. Further, in the wiring 12a, the wiring path distance between the connecting part 13a and the connecting part 14a is shorter than the wiring path distance between the connecting part 14a and the connecting part 15a and the wiring path distance between the connecting part 14g and the connecting part 15g. Further, in the wiring 12g1, the wiring path distance between the connecting part 13g and the connecting part 14g is shorter than the wiring path distance between the connecting part 14a and the connecting part 15a and the wiring path distance between the connecting part 14g and the connecting part 15g.

したがって、出力線11Aと基準電位線11Gから成るペアの配線経路では、図3に示す電子装置EDV1で説明した出力線11Aと電源線11Vとから成るペアの配線経路と同様に、ノイズ耐性を向上させることができる。   Therefore, in the paired wiring path composed of the output line 11A and the reference potential line 11G, noise resistance is improved as in the paired wiring path composed of the output line 11A and the power supply line 11V described in the electronic device EDV1 shown in FIG. Can be made.

また、図14に示すように、配線12vは、接続部15vと接続部13vとの間に、コンデンサ30vgが接続される接続部14vを備えている。また、配線12g2は、接続部15gと接続部13gとの間に、コンデンサ30vgが接続される接続部14gを備えている。また、配線12vのうち、接続部13vと接続部14vとの配線経路距離は、接続部14vと接続部15vとの配線経路距離、および接続部14gと接続部15gとの配線経路距離より短い。また、配線12g2のうち、接続部13gと接続部14gとの配線経路距離は、接続部14vと接続部15vとの配線経路距離、および接続部14gと接続部15gとの配線経路距離より短い。   Further, as shown in FIG. 14, the wiring 12v includes a connection portion 14v to which a capacitor 30vg is connected between the connection portion 15v and the connection portion 13v. Further, the wiring 12g2 includes a connection portion 14g to which the capacitor 30vg is connected between the connection portion 15g and the connection portion 13g. Further, in the wiring 12v, the wiring path distance between the connecting part 13v and the connecting part 14v is shorter than the wiring path distance between the connecting part 14v and the connecting part 15v and the wiring path distance between the connecting part 14g and the connecting part 15g. Further, in the wiring 12g2, the wiring path distance between the connecting part 13g and the connecting part 14g is shorter than the wiring path distance between the connecting part 14v and the connecting part 15v and the wiring path distance between the connecting part 14g and the connecting part 15g.

したがって、電源線11Vと基準電位線11Gから成るペアの配線経路では、図3に示す電子装置EDV1で説明した出力線11Aと電源線11Vとから成るペアの配線経路と同様に、ノイズ耐性を向上させることができる。   Therefore, in the paired wiring path composed of the power supply line 11V and the reference potential line 11G, the noise resistance is improved as in the paired wiring path composed of the output line 11A and the power supply line 11V described in the electronic device EDV1 shown in FIG. Can be made.

また、図14に示すように、半導体装置20が、複数の電源電位用の端子22vを有していても良い。図14に示す例では、配線12vは、半導体装置20と接続する先端部分に複数の接続部13vを有している。また、図14に示す例では、配線12vは、複数の接続部13vと一つの接続部14vとの間に分岐部12jcを有している。配線12vのように配線12を途中で分岐する場合には、接続部14vから複数の接続部13vまでの配線経路距離ができる限り近い値になるようにすることが好ましい。したがって、図14に示すように、方向DR1に沿って複数の接続部13vが配列されている場合には、分岐部は、方向DR1において、複数の接続部13vの間に配置されていることが好ましい。   As shown in FIG. 14, the semiconductor device 20 may have a plurality of terminals 22v for power supply potential. In the example illustrated in FIG. 14, the wiring 12 v has a plurality of connection portions 13 v at the tip portion that is connected to the semiconductor device 20. Further, in the example illustrated in FIG. 14, the wiring 12v includes a branch portion 12jc between a plurality of connection portions 13v and one connection portion 14v. When the wiring 12 is branched in the middle like the wiring 12v, it is preferable that the wiring path distance from the connecting portion 14v to the plurality of connecting portions 13v be as close as possible. Therefore, as shown in FIG. 14, when a plurality of connection portions 13v are arranged along the direction DR1, the branching portion may be arranged between the plurality of connection portions 13v in the direction DR1. preferable.

ただし、電子装置EDV3では、上記した図3に示す電子装置EDV1と同様に、コンデンサ30が接続される接続部14と半導体装置20が接続される接続部13との配線経路距離を短くしている。このため、接続部13と接続部14との間において、ペアになる配線経路の間で配線経路の差が生じても位相差が生じにくい構造になっている。   However, in the electronic device EDV3, the wiring path distance between the connecting portion 14 to which the capacitor 30 is connected and the connecting portion 13 to which the semiconductor device 20 is connected is shortened as in the electronic device EDV1 shown in FIG. . For this reason, between the connection part 13 and the connection part 14, even if a difference of a wiring path | route arises between the wiring path | routes used as a pair, it has a structure which does not produce a phase difference easily.

また、上記した電子装置EDV1、EDV2、および電子装置EDV3では、外部端子60と半導体装置20とを接続する複数の配線のそれぞれが配線基板10の一方の主面10tに形成され、反対側の主面10b(図4参照)には形成されていない実施態様について説明した。しかし、図15に示す電子装置EDV4のように、配線12のうちの一部分が主面10t以外の面に形成されていても良い。図15は、図14に示す電子装置の変形例を示す平面図である。また、図16は、図15に示す基準電位用の配線のうち、配線12g3として示した配線に沿った拡大断面図である。なお、図15では見易さのため、配線基板10の主面10t以外の面に形成された配線12g3および配線12g4は、二点鎖線で模式的に示している。しかし、配線12g3および配線12g4の幅は、図15に示す配線12gの幅と同じである。   Further, in the electronic devices EDV1, EDV2, and electronic device EDV3 described above, each of a plurality of wirings that connect the external terminal 60 and the semiconductor device 20 is formed on one main surface 10t of the wiring substrate 10, and the main component on the opposite side is formed. The embodiment not formed on the surface 10b (see FIG. 4) has been described. However, like the electronic device EDV4 shown in FIG. 15, a part of the wiring 12 may be formed on a surface other than the main surface 10t. FIG. 15 is a plan view showing a modification of the electronic device shown in FIG. FIG. 16 is an enlarged cross-sectional view along the wiring shown as wiring 12g3 among the wirings for reference potential shown in FIG. In FIG. 15, the wiring 12g3 and the wiring 12g4 formed on the surface other than the main surface 10t of the wiring substrate 10 are schematically shown by two-dot chain lines for easy viewing. However, the widths of the wiring 12g3 and the wiring 12g4 are the same as the width of the wiring 12g shown in FIG.

電子装置EDV4は、複数の配線12のうちの一部分が配線基板10の主面10b(図16参照)に形成されている点で、図14に示す電子装置EDV3と相違する。詳しくは、電子装置EDV4が有する回路は、図14に示す電子装置EDV4と同じである。しかし、電子装置EDV4は、半導体装置20Aのレイアウトが図14に示す電子装置EDV3と相違する。これに伴って複数の配線12のレイアウトも電子装置EDV3と相違する。   The electronic device EDV4 is different from the electronic device EDV3 shown in FIG. 14 in that a part of the plurality of wirings 12 is formed on the main surface 10b (see FIG. 16) of the wiring board 10. Specifically, the circuit of the electronic device EDV4 is the same as that of the electronic device EDV4 shown in FIG. However, the electronic device EDV4 is different from the electronic device EDV3 shown in FIG. 14 in the layout of the semiconductor device 20A. Accordingly, the layout of the plurality of wirings 12 is also different from that of the electronic device EDV3.

図15に示す例では、電源電位を供給する配線12vに沿って延びる配線12gの延長線上に複数の接続部13vのうちの一部が設けられている。このため、配線12gと接続部13vとが接触しないように、配線12gを迂回させる必要がある。ここで、図15に示すように、平面視において、半導体装置20Aを迂回するように配置された配線12g3の場合、コンデンサ30vgとの接続部14gから半導体装置20Aとの接続部13gまでの配線経路距離が接続部14vから接続部13vまでの配線経路距離と比較して長くなる。そこで、電子装置EDV4では、基準電位線11Gの一部分を主面10t以外の面(図16に示す主面10b)に形成し、配線経路距離の差を小さくしている。すなわち、配線12g4を介してコンデンサ30vgとの接続部14gから半導体装置20との接続部13gまでを電気的に接続している。これにより、電源線11Vおよび基準電位線11Gから成るペアの配線経路において、コンデンサ30vgと半導体装置20Aとの間の配線経路距離を短縮できるので、配線経路間の位相差を低減できる。   In the example shown in FIG. 15, a part of the plurality of connection portions 13v is provided on the extended line of the wiring 12g extending along the wiring 12v supplying the power supply potential. For this reason, it is necessary to bypass the wiring 12g so that the wiring 12g and the connecting portion 13v do not contact each other. Here, as shown in FIG. 15, in the case of the wiring 12g3 arranged so as to bypass the semiconductor device 20A in a plan view, the wiring path from the connection portion 14g to the capacitor 30vg to the connection portion 13g to the semiconductor device 20A The distance becomes longer than the wiring path distance from the connecting portion 14v to the connecting portion 13v. Therefore, in the electronic device EDV4, a part of the reference potential line 11G is formed on a surface other than the main surface 10t (main surface 10b shown in FIG. 16) to reduce the difference in wiring path distance. That is, the connection portion 14g with the capacitor 30vg to the connection portion 13g with the semiconductor device 20 is electrically connected via the wiring 12g4. Thereby, in the pair of wiring paths composed of the power supply line 11V and the reference potential line 11G, the wiring path distance between the capacitor 30vg and the semiconductor device 20A can be shortened, so that the phase difference between the wiring paths can be reduced.

また、図15に示す例では、出力電位を伝送する配線12aの延長線上に複数の接続部13vのうちの一部が設けられている。このため、配線12aと接続部13vとが接触しないように、配線12aを迂回させる必要がある。ここで、上記したように、出力線11Aにおいて、接続部13aと接続部14aとの配線経路距離が十分に短ければ、接続部14aと接続部15aの配線経路距離は長くても良い。ただし、この場合、ペアを構成する配線経路間で生じる位相差を低減するため、ペアを構成する配線12が互いに沿って延びるように配置することが好ましい。   In the example shown in FIG. 15, a part of the plurality of connection portions 13v is provided on an extension of the wiring 12a that transmits the output potential. For this reason, it is necessary to bypass the wiring 12a so that the wiring 12a and the connection part 13v do not contact. Here, as described above, in the output line 11A, if the wiring path distance between the connection part 13a and the connection part 14a is sufficiently short, the wiring path distance between the connection part 14a and the connection part 15a may be long. However, in this case, in order to reduce a phase difference generated between the wiring paths constituting the pair, it is preferable to arrange the wirings 12 constituting the pair so as to extend along each other.

そこで、電子装置EDV1の配線12aは、図15に示すように、平面視において、半導体装置20Aの周囲を迂回するように形成されている。また、出力線11Aとの間でペアを構成する基準電位線11Gの一部分(配線12g3)は、図15および図16に示すように配線12aと厚さ方向に重なっている。言い換えれば、配線12aと配線12g3とは、図16に示すように配線基板10の基材10Bを介して並走している。このため、接続部14aと接続部15aの配線経路距離は長くなるが、ペアを構成する出力線11Aと基準電位線11Gとの間に生じる位相差を低減している。   Therefore, as shown in FIG. 15, the wiring 12a of the electronic device EDV1 is formed to bypass the periphery of the semiconductor device 20A in plan view. Further, a part of the reference potential line 11G (wiring 12g3) forming a pair with the output line 11A overlaps with the wiring 12a in the thickness direction as shown in FIGS. In other words, the wiring 12a and the wiring 12g3 run in parallel via the base material 10B of the wiring board 10 as shown in FIG. For this reason, the wiring path distance between the connecting portion 14a and the connecting portion 15a is increased, but the phase difference generated between the output line 11A and the reference potential line 11G constituting the pair is reduced.

なお、図16に示すように、主面10bに形成された配線12gと、主面10tに形成された配線12g3は、主面10tおよび主面10bのうち、一方から他方までを貫通する貫通孔に埋め込まれた導体パターンである、スルーホール配線12THを介して電気的に接続されている。図15に示す配線12g4は、断面図を図示していないが、図16に示す配線12g3と同様に、スルーホール配線12THを介して主面10t側の配線12gと電気的に接続されている。   As shown in FIG. 16, the wiring 12g formed on the main surface 10b and the wiring 12g3 formed on the main surface 10t are through-holes penetrating from one side to the other of the main surface 10t and the main surface 10b. Are electrically connected through a through-hole wiring 12TH, which is a conductor pattern embedded in the wiring. The wiring 12g4 shown in FIG. 15 is not shown in a sectional view, but is electrically connected to the wiring 12g on the main surface 10t side through the through-hole wiring 12TH similarly to the wiring 12g3 shown in FIG.

また、図示は省略するが、電子装置EDV4に対する更なる変形例として、出力線11Aの一部分を主面10t以外の面(例えば図16に示す主面10b)に形成し、図15に示す配線12g4と沿うように出力線11A用の配線を設けても良い。ただし、スルーホール配線12THは、他の配線12とは構造が異なるので、配線経路の途中でインピーダンスが変化するインピーダンス不連続点になり易い。したがって、出力線11Aや電源線11Vは、半導体装置20Aおよびコンデンサ30が実装される主面10t側のみで引き回されることが特に好ましい。言い換えれば、図16に示す主面10bには、出力線11Aを構成する配線12aおよび電源線11Vを構成する配線12vが形成されていないことが好ましい。   Although not shown, as a further modification to the electronic device EDV4, a part of the output line 11A is formed on a surface other than the main surface 10t (for example, the main surface 10b shown in FIG. 16), and the wiring 12g4 shown in FIG. A wiring for the output line 11A may be provided along the line. However, since the structure of the through-hole wiring 12TH is different from that of the other wiring 12, the through-hole wiring 12TH easily becomes an impedance discontinuity point where the impedance changes in the middle of the wiring path. Therefore, it is particularly preferable that the output line 11A and the power supply line 11V are routed only on the main surface 10t side on which the semiconductor device 20A and the capacitor 30 are mounted. In other words, it is preferable that the main surface 10b shown in FIG. 16 does not have the wiring 12a constituting the output line 11A and the wiring 12v constituting the power supply line 11V.

また、図17に示す電子装置EDV5のように、複数のノイズ対策用のコンデンサ30が互いに隣り合うように配置されていても良い。図17は、図3に対する他の変形例を示す平面図である。電子装置EDV5は、出力線11Aと基準電位線11Gから成るペアの配線経路に跨って搭載されるコンデンサ30agと、および電源線11Vと基準電位線11Gから成るペアの配線経路に跨って搭載されるコンデンサ30vgとが互いに隣り合うように配置されている。   Further, as in the electronic device EDV5 shown in FIG. 17, a plurality of noise countermeasure capacitors 30 may be arranged adjacent to each other. FIG. 17 is a plan view showing another modification of FIG. The electronic device EDV5 is mounted across a capacitor 30ag mounted across a pair of wiring paths composed of an output line 11A and a reference potential line 11G, and a pair of wiring paths composed of a power supply line 11V and a reference potential line 11G. The capacitors 30vg are arranged adjacent to each other.

この場合、図17に示すように、配線12gにおいて、コンデンサ30agに接続される接続部14gとコンデンサ30vgに接続される接続部14gは、兼用化されている。言い換えれば、配線12gが有する接続部14gの一部分には、コンデンサ30agが搭載され、接続部14gの他の一部分にはコンデンサ30vgが搭載されている。この場合、コンデンサ30ag、30vgの平面サイズによっては、接続部14gの面積を大きくする必要がある。このため、図17に示す例では、コンデンサ30の電極に接続される接続部14gの幅(図17に示す方向DR2における接続部14gの長さ)が、配線12gの延在部の幅(方向DR2における配線12gの延在部分の長さ)よりも広くなっている。このように、複数のコンデンサ30を隣り合うように配置する場合、接続部14gの幅が延在部の幅より広くなっていても、コンデンサ30を介さずにノイズが伝搬する原因にはなり難い。このため、電子装置EDV5では、接続部14gの幅が延在部の幅よりも広くなっていることにより、複数のコンデンサ30の実装信頼性を向上させることができる。   In this case, as shown in FIG. 17, in the wiring 12g, the connection part 14g connected to the capacitor 30ag and the connection part 14g connected to the capacitor 30vg are shared. In other words, the capacitor 30ag is mounted on a part of the connection part 14g included in the wiring 12g, and the capacitor 30vg is mounted on the other part of the connection part 14g. In this case, depending on the planar size of the capacitors 30ag and 30vg, it is necessary to increase the area of the connection portion 14g. For this reason, in the example shown in FIG. 17, the width of the connecting portion 14g connected to the electrode of the capacitor 30 (the length of the connecting portion 14g in the direction DR2 shown in FIG. 17) is the width of the extending portion of the wiring 12g (direction). This is wider than the length of the extended portion of the wiring 12g in DR2. As described above, when a plurality of capacitors 30 are arranged adjacent to each other, even if the width of the connecting portion 14g is wider than the width of the extending portion, it is difficult to cause noise to propagate without passing through the capacitor 30. . For this reason, in the electronic device EDV5, the mounting reliability of the plurality of capacitors 30 can be improved by making the width of the connecting portion 14g wider than the width of the extending portion.

なお、電子装置EDV5では、複数の配線12の延在部の幅をそれぞれ同じ幅にしているが、複数の配線12のうちの一部(例えば配線12g)の延在部の幅を、他の配線12の延在部の幅よりも広くしても良い。この場合、複数のコンデンサ30を隣り合うように配置しても、接続部14gの幅が配線12gの延在部の幅よりも狭くなる実施態様にしても良い。   In the electronic device EDV5, the widths of the extending portions of the plurality of wirings 12 are the same, but the widths of the extending portions of some of the plurality of wirings 12 (for example, the wiring 12g) are set to other widths. The width of the extended portion of the wiring 12 may be wider. In this case, even if it arrange | positions so that the several capacitor | condenser 30 may adjoin, you may make the embodiment into which the width | variety of the connection part 14g becomes narrower than the width | variety of the extension part of the wiring 12g.

ただし、配線12の延在部の幅が他の配線12の延在部の幅より広い場合、幅の広い配線12のインピーダンスは、他の配線12のインピーダンスと比較して小さい。そしてペアになる配線経路間のインピーダンスの差が大きくなれば、位相差が生じる原因になる。したがって、複数の配線12のうちの一部の配線12の延在部の幅が広い場合には、相対的に幅の広い配線12のインピーダンスを増加させる対策(例えば、配線経路距離を長くして配線インダクタンスを大きくする等の対策)を施して、インピーダンス値を近づけるようにすることが好ましい。   However, when the width of the extending portion of the wiring 12 is wider than the width of the extending portion of the other wiring 12, the impedance of the wide wiring 12 is smaller than the impedance of the other wiring 12. If the impedance difference between the wiring paths forming a pair becomes large, a phase difference is caused. Therefore, when the width of the extended portion of a part of the plurality of wirings 12 is wide, a measure for increasing the impedance of the relatively wide wiring 12 (for example, increasing the wiring path distance). It is preferable to take measures such as increasing the wiring inductance to bring the impedance value closer.

また、図17に示す電子装置EDV5が有する半導体装置20Bは、互いに隣り合って配置される複数の出力用の端子22aを有している。このように、複数の端子22が互いに隣り合って配置されている場合、配線12aの接続部13の面積を大きくして、一つの接続部13aに複数の端子22aが接続されるようにしても良い。図17に示す例では、配線12gの接続部13gから接続部14gまでの配線経路距離が短いので、接続部13aから接続部14aまでの配線経路距離との差が大きくなる。上記したように、接続部13aから接続部14aまでの配線経路距離が十分に短ければ、ペアになる配線経路間の位相差は大きくなり難い。しかし、電子装置EDV5のように、相対的に配線経路距離が長い出力線11Aを構成する接続部13gの面積が、相対的に配線経路距離が短い基準電位線11Gの接続部13gと比較して大きくなるように構成することにより、出力線11Aのインピーダンスを低減できる。この結果、出力線11Aと基準電位線11Gとの間に生じる位相差を低減できる。同様に、電子装置EDV5の場合、電源線11Vを構成する接続部13vの面積が接続部13gの面積より大きい。したがって、電源線11Vと基準電位線11Gとの間に生じる位相差を低減できる。   In addition, the semiconductor device 20B included in the electronic device EDV5 illustrated in FIG. 17 includes a plurality of output terminals 22a arranged adjacent to each other. Thus, when the plurality of terminals 22 are arranged adjacent to each other, the area of the connection portion 13 of the wiring 12a is increased so that the plurality of terminals 22a are connected to one connection portion 13a. good. In the example shown in FIG. 17, since the wiring path distance from the connection part 13g of the wiring 12g to the connection part 14g is short, the difference with the wiring path distance from the connection part 13a to the connection part 14a becomes large. As described above, if the wiring path distance from the connection part 13a to the connection part 14a is sufficiently short, the phase difference between the wiring paths forming a pair is unlikely to increase. However, as in the electronic device EDV5, the area of the connection part 13g constituting the output line 11A having a relatively long wiring path distance is smaller than that of the connection part 13g of the reference potential line 11G having a relatively short wiring path distance. By configuring so as to increase, the impedance of the output line 11A can be reduced. As a result, the phase difference generated between the output line 11A and the reference potential line 11G can be reduced. Similarly, in the case of the electronic device EDV5, the area of the connection portion 13v constituting the power supply line 11V is larger than the area of the connection portion 13g. Therefore, the phase difference generated between the power supply line 11V and the reference potential line 11G can be reduced.

また、図18に示す電子装置EDV6や図19に示す電子装置EDV7が有する半導体装置20Cのように、出力電位用の複数の端子22aを有し、複数の端子22aのそれぞれから同じ電位が出力される場合、出力線11Aを分岐させても良い。図18および図19は、図3に対する他の変形例である電子装置を示す平面図である。   Further, like the semiconductor device 20C included in the electronic device EDV6 shown in FIG. 18 and the electronic device EDV7 shown in FIG. 19, the semiconductor device 20C has a plurality of terminals 22a for output potential, and the same potential is output from each of the plurality of terminals 22a. In this case, the output line 11A may be branched. 18 and 19 are plan views showing an electronic device which is another modified example with respect to FIG.

図18および図19に示す例では、出力線11Aは、接続部14aと複数の接続部13aとの間で分岐している。図18に示す電子装置EDV6の場合、配線12gは、電源線11Vとペアを構成する配線経路、および出力線11Aとペアを構成する配線経路を兼ねている。このため、図19に示す電子装置EDV7と比較して配線12の専有面積が小さいので、電子装置EDV6は小型化できる。   In the example illustrated in FIGS. 18 and 19, the output line 11 </ b> A is branched between the connection portion 14 a and the plurality of connection portions 13 a. In the electronic device EDV6 shown in FIG. 18, the wiring 12g also serves as a wiring path that forms a pair with the power supply line 11V and a wiring path that forms a pair with the output line 11A. For this reason, since the exclusive area of the wiring 12 is small compared with the electronic device EDV7 shown in FIG. 19, the electronic device EDV6 can be reduced in size.

一方、図19に示す電子装置EDV6は、出力線11Aとペアを構成する配線12g1と、電源線11Vとペアを構成する配線12g2とを有している。このように、配線12g1と配線12g2をそれぞれ形成することにより、配線レイアウトの自由度が向上する。また、配線12g1と配線12g2とは、半導体装置20Cと重なる位置で互いに電気的に接続されている。このため、出力用の配線12aにおいて、接続部14aと接続部13aの間の部分に沿って、基準電位用の配線12gが設けられている。したがって、電子装置EDV7は、電子装置EDV6と比較して、接続部13aから接続部14aまでの間において、配線経路間の位相差を低減できる。   On the other hand, the electronic device EDV6 shown in FIG. 19 includes a wiring 12g1 that forms a pair with the output line 11A and a wiring 12g2 that forms a pair with the power supply line 11V. Thus, by forming the wiring 12g1 and the wiring 12g2, respectively, the degree of freedom of the wiring layout is improved. Further, the wiring 12g1 and the wiring 12g2 are electrically connected to each other at a position overlapping the semiconductor device 20C. Therefore, in the output wiring 12a, a reference potential wiring 12g is provided along a portion between the connection portion 14a and the connection portion 13a. Therefore, the electronic device EDV7 can reduce the phase difference between the wiring paths between the connecting portion 13a and the connecting portion 14a, as compared with the electronic device EDV6.

また、図19に示すように電子装置EDV7の配線12g1と配線12g2とは、主面10t以外の面(例えば主面10tの反対側の主面)に形成された配線12g5を介して互いに接続されている。このように、配線12g1と配線12g2とを電気的に接続すれば、基準電位用の外部端子60を兼用化できる。   Further, as shown in FIG. 19, the wiring 12g1 and the wiring 12g2 of the electronic device EDV7 are connected to each other through a wiring 12g5 formed on a surface other than the main surface 10t (for example, a main surface opposite to the main surface 10t). ing. As described above, if the wiring 12g1 and the wiring 12g2 are electrically connected, the external terminal 60 for the reference potential can be shared.

また、図20に示す電子装置EDV8が有する半導体装置20Dのように複数の端子22aのそれぞれから、互いに異なる電位が出力される場合には、互いに電気的に分離される出力線11A1および出力線11A2を有していても良い。図20は、図18に対する変形例を示す平面図である。   Further, when different potentials are output from each of the plurality of terminals 22a as in the semiconductor device 20D included in the electronic device EDV8 illustrated in FIG. 20, the output line 11A1 and the output line 11A2 that are electrically separated from each other. You may have. FIG. 20 is a plan view showing a modification to FIG.

電子装置EDV8が有する半導体装置20Dは、複数の端子22aからそれぞれ異なる電位が出力される。この場合、互いに電気的に分離された出力線11A1および出力線11A2を備えている必要がある。また、出力線11A1および出力線11A2のそれぞれに、ペアになる配線12を形成した場合、配線密度が高くなって、レイアウト上の制約が大きくなる。そこで、電子装置EDV8が有する、出力線11A1と出力線11A2との間には、基準電位線11Gが配置されている。また、出力線11A1の配線12a1と出力線11A2の配線12a2のそれぞれは、基準電位線11Gの配線12g1と互いに沿うように延びている。   The semiconductor device 20D included in the electronic device EDV8 outputs different potentials from the plurality of terminals 22a. In this case, it is necessary to provide the output line 11A1 and the output line 11A2 that are electrically separated from each other. Further, when the paired wirings 12 are formed on each of the output line 11A1 and the output line 11A2, the wiring density is increased, and the layout restrictions are increased. Therefore, the reference potential line 11G is disposed between the output line 11A1 and the output line 11A2 included in the electronic device EDV8. Also, each of the wiring 12a1 of the output line 11A1 and the wiring 12a2 of the output line 11A2 extends along the wiring 12g1 of the reference potential line 11G.

また、電子装置EDV8は、出力線11A1と基準電位線11Gから成るペアの配線経路に跨って搭載されるコンデンサ30ag1と、および電源線11Vと基準電位線11Gから成るペアの配線経路に跨って搭載されるコンデンサ30ag2とが互いに隣り合うように配置されている。   In addition, the electronic device EDV8 is mounted across a pair of wiring paths composed of the output line 11A1 and the reference potential line 11G and the pair of wiring paths composed of the power supply line 11V and the reference potential line 11G. The capacitors 30ag2 are arranged so as to be adjacent to each other.

電子装置EDV8のように、複数の出力線11A1、11A2を備える電子装置の場合、複数の出力線11A1、11A2のそれぞれとペアを構成する配線12g1を兼用化することにより、配線密度の増大を抑制できる。また、図20に示す例では、配線12g2と配線12g1とは、配線12g5を介して電気的に接続されている。このため、電子装置EDV1は、外部端子60の増加を抑制できる。   In the case of an electronic device including a plurality of output lines 11A1 and 11A2 such as the electronic device EDV8, the increase in the wiring density is suppressed by sharing the wiring 12g1 that forms a pair with each of the plurality of output lines 11A1 and 11A2. it can. In the example shown in FIG. 20, the wiring 12g2 and the wiring 12g1 are electrically connected through the wiring 12g5. For this reason, the electronic device EDV1 can suppress an increase in the number of external terminals 60.

また、上記実施の形態および各変形例では、コンデンサ30が互いに沿って延在する日本の配線12に跨って搭載されている実施態様について説明した。しかし、変形例として、二本の配線に図示しない引き出し配線を接続し、引き出し配線の一部に接続部14を設けても良い。この場合、コンデンサ30の外形サイズに係らずに二本の配線間の距離を設定できる。ただし、上記実施の形態で説明したように、コンデンサ30を介さずに伝達されるノイズを低減する観点からは、接続部14は配線12の延在方向の途中に設けられていることが好ましい。言い換えれば、コンデンサ30は、二本の配線に跨って搭載されていることが好ましい。   In the above-described embodiment and each modification, the embodiment in which the capacitor 30 is mounted across the Japanese wiring 12 extending along each other has been described. However, as a modification, a lead wire (not shown) may be connected to the two wires, and the connection portion 14 may be provided in a part of the lead wire. In this case, the distance between the two wires can be set regardless of the outer size of the capacitor 30. However, as described in the above embodiment, from the viewpoint of reducing noise transmitted without passing through the capacitor 30, the connection portion 14 is preferably provided in the middle of the extending direction of the wiring 12. In other words, the capacitor 30 is preferably mounted across the two wires.

また、上記した実施の形態では、コンデンサ30と半導体装置20とを接続する配線経路の配線経路距離が、コンデンサ30と外部端子60とを接続する配線経路距離よりも短くなっていることの一例として、例えば、図9を用いて説明したように、配線基板10が有する配線12の長さを比較した。詳しくは、図9に示す配線12aの接続部13aと接続部14aとの間の配線経路距離11a1、接続部15aと接続部14aとの間の配線経路距離11a2、配線12vの接続部13vと接続部14vとの間の配線経路距離11v1、および接続部15vと接続部14vとの間の配線経路距離11v2を比較した。   In the above-described embodiment, as an example that the wiring path distance of the wiring path connecting the capacitor 30 and the semiconductor device 20 is shorter than the wiring path distance connecting the capacitor 30 and the external terminal 60. For example, as described with reference to FIG. 9, the lengths of the wirings 12 included in the wiring board 10 were compared. Specifically, the wiring path distance 11a1 between the connection part 13a and the connection part 14a of the wiring 12a shown in FIG. 9, the wiring path distance 11a2 between the connection part 15a and the connection part 14a, and the connection part 13v of the wiring 12v are connected. The wiring path distance 11v1 between the part 14v and the wiring path distance 11v2 between the connection part 15v and the connection part 14v were compared.

しかし、上記した配線経路距離に、図21に示すように、半導体装置20の内部の配線経路、および外部端子60の内部の配線経路を含めて考えることができる。図21は、図9を用いて説明した配線経路の定義、およびこれと異なる配線経路の定義を模式的に示す説明図である。また、図22は、図21に示す外部端子に示す外部端子内部の配線経路の一例を模式的に示す拡大断面図である。なお、図21は、図8に示した回路図と対応しているが、見易さのため、図8に示すコンデンサ40、ダイオード50、およびこれらに接続される経路は図示を省略している。また、図22には、外部端子60のうち、外部配線(図1に示す電線や電線の先端に取り付けられたソケットのコンタクト導体部)が接続される外部接続部62とそれ以外の部分とを区別する境界線を二点鎖線で示している。   However, the wiring path distance described above can be considered including the wiring path inside the semiconductor device 20 and the wiring path inside the external terminal 60 as shown in FIG. FIG. 21 is an explanatory diagram schematically showing the definition of the wiring route described with reference to FIG. 9 and the definition of a wiring route different from this. FIG. 22 is an enlarged cross-sectional view schematically showing an example of the wiring path inside the external terminal shown in the external terminal shown in FIG. 21 corresponds to the circuit diagram shown in FIG. 8, but the capacitor 40, the diode 50, and the paths connected to these shown in FIG. 8 are omitted for the sake of clarity. . Also, in FIG. 22, the external connection portion 62 to which external wiring (the electric wire shown in FIG. 1 and the contact conductor portion of the socket attached to the tip of the electric wire) of the external terminal 60 is connected and other portions are shown. A boundary line to be distinguished is indicated by a two-dot chain line.

図21に示す例では、コンデンサ30と半導体装置20の半導体チップ21の電極27とを電気的に接続する配線経路の配線経路距離11a3および配線経路距離11v3のそれぞれは、コンデンサ30と外部端子60の外部接続部62とを電気的に接続する配線経路距離11a4および配線経路距離11v4のそれぞれよりも短い。   In the example shown in FIG. 21, the wiring path distance 11a3 and the wiring path distance 11v3 of the wiring path that electrically connects the capacitor 30 and the electrode 27 of the semiconductor chip 21 of the semiconductor device 20 are the same as those of the capacitor 30 and the external terminal 60, respectively. It is shorter than each of the wiring path distance 11a4 and the wiring path distance 11v4 that electrically connect the external connection portion 62.

図21に示す配線経路距離11a3には、図9を用いて説明した配線経路距離11a1に加えて、半導体装置20の内部の配線経路距離11a5が含まれる。配線経路距離11a5には、図3に示す端子(リード端子)22aや、端子22aと半導体チップ21の電極27a(図21参照)を接続する図示しない導電性部材(例えばワイヤなど)が含まれる。   The wiring path distance 11a3 illustrated in FIG. 21 includes the wiring path distance 11a5 inside the semiconductor device 20 in addition to the wiring path distance 11a1 described with reference to FIG. The wiring path distance 11a5 includes a terminal (lead terminal) 22a shown in FIG. 3 and a conductive member (not shown) that connects the terminal 22a and the electrode 27a of the semiconductor chip 21 (see FIG. 21).

同様に、図21に示す配線経路距離11v3には、図9を用いて説明した配線経路距離11v1に加えて、半導体装置20の内部の配線経路距離11v5が含まれる。図5に示す例では、半導体チップ21の裏面に図21に示す電極27vが形成されているので、配線経路距離11v5には、図5に示す半田材26、ダイパッド24およびダイボンド材25などの導電性部材が含まれる。   Similarly, the wiring path distance 11v3 illustrated in FIG. 21 includes the wiring path distance 11v5 inside the semiconductor device 20 in addition to the wiring path distance 11v1 described with reference to FIG. In the example shown in FIG. 5, since the electrode 27v shown in FIG. 21 is formed on the back surface of the semiconductor chip 21, the wiring path distance 11v5 has a conductive material such as the solder material 26, the die pad 24, and the die bond material 25 shown in FIG. Sex members are included.

また、図21に示す配線経路距離11a4には、図9を用いて説明した配線経路距離11a2に加えて、外部端子60内部の配線経路距離11a6が含まれる。同様に、図21に示す配線経路距離11v4には、図9を用いて説明した配線経路距離11v2に加えて、外部端子60内部の配線経路距離11v6が含まれる。また、図22に示すように、配線経路距離11a6は、電極61aのうちの接続部15aとの接続部分から外部接続部62に至る部分までの距離で規定される。また、配線経路距離11v6は、電極61aのうちの接続部15vとの接続部分から外部接続部62に至る部分までの距離で規定される。   21 includes the wiring route distance 11a6 inside the external terminal 60 in addition to the wiring route distance 11a2 described with reference to FIG. Similarly, the wiring path distance 11v4 shown in FIG. 21 includes the wiring path distance 11v6 inside the external terminal 60 in addition to the wiring path distance 11v2 described with reference to FIG. Further, as shown in FIG. 22, the wiring path distance 11a6 is defined by the distance from the connection portion with the connection portion 15a of the electrode 61a to the portion reaching the external connection portion 62. Further, the wiring path distance 11v6 is defined by the distance from the connection portion with the connection portion 15v of the electrode 61a to the portion reaching the external connection portion 62.

図22に示す例のように、外部端子60の一部に貫通孔63が設けられている場合、貫通孔63の周辺に外部配線の一部(図1に示す電線や電線の先端に取り付けられたソケットのコンタクト導体部)が接触する。例えば、図1に示す電線の先端に取り付けられた図示しないソケットのコンタクト導体部(図示は省略)を外部端子60と接触させる場合、貫通孔63の周囲を覆うようにソケットを取り付け、貫通孔63に図示しない突起部(図示は省略)を挿入してソケットと外部端子60とを固定する。この時、ソケットの内側には、電線に接続されるコンタクト導体部(例えば金属板や金属膜)が形成されており、貫通孔63の周囲の外部接続部62において、コンタクト導体部と外部端子60とが接触する。また例えば、電線を外部端子60に直接巻きつける場合、電線の一部分が貫通孔63に挿入され、かつ貫通孔63の周囲の外部接続部62に電線が巻き付けられる。したがって、図22に示す外部端子60のうち、外部接続部62から接続部15までの部分は、電子装置EDV1の外部の電線と半導体装置20とを電気的に接続する配線経路のうちの一部と考えることができる。   When the through hole 63 is provided in a part of the external terminal 60 as in the example shown in FIG. 22, a part of the external wiring (attached to the wire shown in FIG. The contact conductor of the socket. For example, when a contact conductor (not shown) of a socket (not shown) attached to the tip of the electric wire shown in FIG. 1 is brought into contact with the external terminal 60, the socket is attached so as to cover the periphery of the through hole 63, and the through hole 63. A projection (not shown) is inserted into the socket and the socket and the external terminal 60 are fixed. At this time, a contact conductor portion (for example, a metal plate or a metal film) connected to the electric wire is formed inside the socket. In the external connection portion 62 around the through hole 63, the contact conductor portion and the external terminal 60 are formed. And contact. For example, when the electric wire is directly wound around the external terminal 60, a part of the electric wire is inserted into the through hole 63 and the electric wire is wound around the external connection portion 62 around the through hole 63. Therefore, in the external terminal 60 shown in FIG. 22, the portion from the external connection portion 62 to the connection portion 15 is a part of the wiring path that electrically connects the external electric wire of the electronic device EDV1 and the semiconductor device 20. Can be considered.

また、上記実施の形態で説明した技術思想の要旨を逸脱しない範囲内において、変形例同士を組み合わせて適用することができる。   In addition, modifications can be applied in combination within a range that does not depart from the gist of the technical idea described in the above embodiment.

その他、上記実施の形態に記載された内容の一部を以下に記載する。   In addition, a part of the contents described in the above embodiment will be described below.

10、10h 配線基板
10b 主面(面、裏面、下面、外部端子搭載面)
10B 基材
10SR 絶縁膜
10t 主面(面、表面、上面、半導体デバイス搭載面)
11A、11A1、11A2 出力線(配線経路)
11a1、11a2、11a3、11a4、11a5、11a6、11v1、11v2、11v3、11v4、11v5、11v6 配線経路距離
11E 配線経路
11G 基準電位線(配線経路、入力線)
11V 電源線(配線経路)
12、 配線
12a 配線
12A 配線
12a、12a1、12e、12g、12g1、12g2、12g3、12g4、12g5、12v 配線
12ha、12hv、12he 導体パターン
12hv 導体パターン
12jc 分岐部
12TH スルーホール配線
13、13a、13e、13g、13v 接続部(デバイス接続部)
13wa、13wv、14wa、14wa、14wv、17wa1、17wa2、17wv1、17wv2 幅
14、14a、14g、14v 接続部(コンデンサ接続部)
15、15a、15g、15v 接続部(外部端子接続部)
16 接続部(電子部品接続部)
17a1、17a2、17v1、17v2 延在部
20、20A,20B、20C、20D 半導体装置
21 半導体チップ
22、22a、22e22g、22v 端子(デバイス端子、リード端子)
23 封止体(樹脂体)
24 ダイパッド
25 ダイボンド材
26 半田材
27a、27v 電極
30、30ag、30ag1、30ag2、30vg コンデンサ(チップコンデンサ)
30C、30E 特性曲線
30CP、30CPh、30EP、30EPh ピーク
31、31a、31g、31v 電極
32 本体部
33 絶縁層(誘電体層)
34 導体板
40 コンデンサ
41 電極
50 ダイオード
60 外部端子(コネクタ)
61a、61v 電極(ピン)
62 外部接続部
COM1 部品
DR1、DR2 方向
EDV1、EDV2、EDV3、EDV4、EDV5、EDV6、EDV7、EDV8、Eh1、Eh2 電子装置
GND 基準電位
HAR1、HAR2、HAR3、HAR4、HAR5 電線
IJP1 コイル(注入プローブ)
LAM1 ランプ
LISN1 疑似電源回路網
OUT 出力電位(または出力信号)
PWS1、PWS2 電源
Vcc 電源電位
10, 10h Wiring board 10b Main surface (surface, back surface, bottom surface, external terminal mounting surface)
10B Base material 10SR Insulating film 10t Main surface (surface, surface, upper surface, semiconductor device mounting surface)
11A, 11A1, 11A2 Output line (wiring route)
11a1, 11a2, 11a3, 11a4, 11a5, 11a6, 11v1, 11v2, 11v3, 11v4, 11v5, 11v6 Wiring path distance 11E Wiring path 11G Reference potential line (wiring path, input line)
11V power line (wiring route)
12, wiring 12a wiring 12A wiring 12a, 12a1, 12e, 12g, 12g1, 12g2, 12g3, 12g4, 12g5, 12v wiring 12ha, 12hv, 12he conductor pattern 12hv conductor pattern 12jc branch part 12TH through-hole wiring 13, 13a, 13e, 13g, 13v connection part (device connection part)
13wa, 13wv, 14wa, 14wa, 14wv, 17wa1, 17wa2, 17wv1, 17wv2 Width 14, 14a, 14g, 14v Connection (capacitor connection)
15, 15a, 15g, 15v connection part (external terminal connection part)
16 connection part (electronic parts connection part)
17a1, 17a2, 17v1, 17v2 Extension part 20, 20A, 20B, 20C, 20D Semiconductor device 21 Semiconductor chip 22, 22a, 22e22g, 22v terminal (device terminal, lead terminal)
23 Sealing body (resin body)
24 Die Pad 25 Die Bond Material 26 Solder Material 27a, 27v Electrode 30, 30ag, 30ag1, 30ag2, 30vg Capacitor (Chip Capacitor)
30C, 30E Characteristic curve 30CP, 30CPh, 30EP, 30EPh Peak 31, 31a, 31g, 31v Electrode 32 Body 33 Insulating layer (dielectric layer)
34 Conductor plate 40 Capacitor 41 Electrode 50 Diode 60 External terminal (connector)
61a, 61v electrode (pin)
62 External connection part COM1 Parts DR1, DR2 Direction EDV1, EDV2, EDV3, EDV4, EDV5, EDV6, EDV7, EDV8, Eh1, Eh2 Electronic device GND Reference potential HAR1, HAR2, HAR3, HAR4, HAR5 Electric wire IJP1 Coil (injection probe)
LAM1 Lamp LISN1 Pseudo power supply network OUT Output potential (or output signal)
PWS1, PWS2 Power supply Vcc Power supply potential

Claims (10)

第1主面、前記第1主面上に形成された第1配線、前記第1主面上に形成された第2配線、および前記第1主面とは反対側の第2主面を備える配線基板と、
半導体チップ、前記半導体チップと電気的に接続された第1端子、および前記半導体チップと電気的に接続された第2端子を備え、前記配線基板の前記第1主面上に搭載された半導体装置と、
第1電極、および第2電極を備え、前記配線基板の前記第1主面上に搭載された第1コンデンサと、
を有し、
前記第1配線は、
前記半導体装置の前記第1端子が電気的に接続された第1デバイス接続部と、
前記第1コンデンサの前記第1電極が電気的に接続された第1コンデンサ接続部と、
前記第1コンデンサ接続部よりも前記第1デバイス接続部から遠くに位置する第1外部端子接続部と、
前記第1デバイス接続部と前記第1コンデンサ接続部を互いに繋ぐ第1延在部と、
前記第1コンデンサ接続部と前記第1外部端子接続部を互いに繋ぐ第2延在部と、
を備え、
前記第2配線は、
前記半導体装置の前記第2端子が電気的に接続された第2デバイス接続部と、
前記第1コンデンサの前記第2電極が電気的に接続された第2コンデンサ接続部と、
前記第2コンデンサ接続部よりも前記第2デバイス接続部から遠くに位置する第2外部端子接続部と、
前記第2デバイス接続部と前記第2コンデンサ接続部を互いに繋ぐ第3延在部と、
前記第2コンデンサ接続部と前記第2外部端子接続部を互いに繋ぐ第4延在部と、
を備え、
前記第1コンデンサ接続部は、前記第1デバイス接続部および前記第1外部端子接続部のうちの一方から他方までの経路上に位置し、
前記第2コンデンサ接続部は、前記第2デバイス接続部および前記第2外部端子接続部のうちの一方から他方までの経路上に位置し、
前記第1デバイス接続部と前記第1コンデンサ接続部との間の第1配線経路となる前記第1延在部の長さは、前記第1コンデンサ接続部と前記第1外部端子接続部との間の第2配線経路となる前記第2延在部の長さよりも短く、
前記第2デバイス接続部と前記第2コンデンサ接続部との間の第3配線経路となる前記第3延在部の長さは、前記第2コンデンサ接続部と前記第2外部端子接続部との間の第4配線経路となる前記第4延在部の長さよりも短く、
前記第1延在部の長さと前記第3延在部の長さは、互いに異なり、
前記第1配線および前記第2配線は、互いに沿って延びるように配置されており、
前記第1コンデンサ接続部の幅は、前記第1延在部および前記第2延在部のそれぞれの幅よりも狭く、
前記第2コンデンサ接続部の幅は、前記第3延在部および前記第4延在部のそれぞれの幅よりも狭く、
前記第1延在部の幅、前記第2延在部の幅、前記第3延在部の幅および前記第4延在部の幅は、互いにほぼ同じである、電子装置。
A first main surface; a first wiring formed on the first main surface; a second wiring formed on the first main surface; and a second main surface opposite to the first main surface. A wiring board;
A semiconductor device including a semiconductor chip, a first terminal electrically connected to the semiconductor chip, and a second terminal electrically connected to the semiconductor chip, the semiconductor device being mounted on the first main surface of the wiring board When,
A first capacitor comprising a first electrode and a second electrode, and mounted on the first main surface of the wiring board;
Have
The first wiring is
A first device connecting portion to which the first terminal of the semiconductor device is electrically connected;
A first capacitor connecting portion to which the first electrode of the first capacitor is electrically connected;
A first external terminal connection located farther from the first device connection than the first capacitor connection;
A first extension part connecting the first device connection part and the first capacitor connection part to each other;
A second extending part for connecting the first capacitor connecting part and the first external terminal connecting part to each other;
With
The second wiring is
A second device connection part in which the second terminal of the semiconductor device is electrically connected;
A second capacitor connecting portion to which the second electrode of the first capacitor is electrically connected;
A second external terminal connection located farther from the second device connection than the second capacitor connection;
A third extending part for connecting the second device connection part and the second capacitor connection part to each other;
A fourth extending part for connecting the second capacitor connecting part and the second external terminal connecting part to each other;
With
The first capacitor connection part is located on a path from one of the first device connection part and the first external terminal connection part to the other,
The second capacitor connecting portion is located on a path from one of the second device connecting portion and the second external terminal connecting portion to the other;
The length of the first extending portion serving as a first wiring path between the first device connection portion and the first capacitor connection portion is determined between the first capacitor connection portion and the first external terminal connection portion. Shorter than the length of the second extending portion which becomes the second wiring path between,
The length of the third extending portion serving as a third wiring path between the second device connection portion and the second capacitor connection portion is determined between the second capacitor connection portion and the second external terminal connection portion. Shorter than the length of the fourth extending portion which becomes the fourth wiring path between,
The length of the first extension portion and the length of the third extension portion are different from each other,
The first wiring and the second wiring are arranged to extend along each other,
The width of the first capacitor connecting portion is narrower than the width of each of the first extending portion and the second extending portion,
The width of the second capacitor connecting portion is narrower than the width of each of the third extending portion and the fourth extending portion,
The width of the first extension part, the width of the second extension part, the width of the third extension part, and the width of the fourth extension part are substantially the same as each other.
前記第1コンデンサ接続部の幅は、前記第1デバイス接続部、前記第1延在部、前記第2延在部および前記第1外部端子接続部のそれぞれの幅よりも狭く、
前記第2コンデンサ接続部の幅は、前記第2デバイス接続部、前記第3延在部、前記第4延在部および前記第2外部端子接続部のそれぞれの幅よりも狭い、請求項1に記載の電子装置。
The width of the first capacitor connection portion is narrower than the width of each of the first device connection portion, the first extension portion, the second extension portion, and the first external terminal connection portion.
The width of the second capacitor connection portion is narrower than the width of each of the second device connection portion, the third extension portion, the fourth extension portion, and the second external terminal connection portion. The electronic device described.
前記半導体チップには、2つのバイポーラトランジスタを備える発信回路、あるいは、MOSFETが形成されている、請求項2に記載の電子装置。   The electronic device according to claim 2, wherein an oscillation circuit including two bipolar transistors or a MOSFET is formed on the semiconductor chip. 前記配線基板には、第3電極および第4電極を備えた第2コンデンサが搭載されており、
前記配線基板は、さらに、前記第1主面上に形成された第3配線を備え、
前記第1配線は、さらに、前記第2コンデンサの前記第3電極が電気的に接続された第3コンデンサ接続部を備え、
前記第3配線は、
前記半導体装置の第3端子が電気的に接続された第3デバイス接続部と、
前記第2コンデンサの前記第4電極が電気的に接続された第4コンデンサ接続部と、
を備え、
前記第3コンデンサ接続部は、前記第1デバイス接続部および前記第1外部端子接続部のうちの一方から他方までの前記経路上に位置し、かつ、前記第1コンデンサ接続部と前記第1外部端子接続部との間に位置する、請求項3に記載の電子装置。
A second capacitor having a third electrode and a fourth electrode is mounted on the wiring board,
The wiring board further includes a third wiring formed on the first main surface,
The first wiring further includes a third capacitor connecting portion to which the third electrode of the second capacitor is electrically connected,
The third wiring is
A third device connecting portion to which a third terminal of the semiconductor device is electrically connected;
A fourth capacitor connecting portion to which the fourth electrode of the second capacitor is electrically connected;
With
The third capacitor connection part is located on the path from one of the first device connection part and the first external terminal connection part to the other, and the first capacitor connection part and the first external connection part The electronic device according to claim 3, wherein the electronic device is located between the terminal connection portion.
前記第2コンデンサは、前記配線基板の前記第2主面上に搭載されており、
前記第1コンデンサは、セラミックコンデンサであり、
前記第2コンデンサは、電解コンデンサである、請求項4に記載の電子装置。
The second capacitor is mounted on the second main surface of the wiring board;
The first capacitor is a ceramic capacitor;
The electronic device according to claim 4, wherein the second capacitor is an electrolytic capacitor.
前記第2コンデンサは、前記配線基板の前記第2主面上に搭載されており、
前記第1コンデンサの体積および実装面積は、前記第2コンデンサの体積および実装面積よりも小さい、請求項4に記載の電子装置。
The second capacitor is mounted on the second main surface of the wiring board;
The electronic device according to claim 4, wherein a volume and a mounting area of the first capacitor are smaller than a volume and a mounting area of the second capacitor.
前記第2コンデンサは、前記配線基板の前記第2主面上に搭載されており、
前記第1コンデンサの容量は、前記第2コンデンサの容量よりも小さい、請求項4に記載の電子装置。
The second capacitor is mounted on the second main surface of the wiring board;
The electronic device according to claim 4, wherein a capacity of the first capacitor is smaller than a capacity of the second capacitor.
前記第1コンデンサの容量は、0.1μF〜10μFであり、
前記第2コンデンサの容量は、22μF〜100μFである、請求項7に記載の電子装置。
The capacity of the first capacitor is 0.1 μF to 10 μF,
The electronic device according to claim 7, wherein a capacity of the second capacitor is 22 μF to 100 μF.
前記配線基板の前記第2主面には、第5電極および第6電極を備えたダイオードが搭載されており、
前記第1配線は、前記ダイオードの前記第5電極が電気的に接続された第1ダイオード接続部を備え、
前記第2配線は、前記ダイオードの前記第6電極が電気的に接続された第2ダイオード接続部を備えている、請求項3に記載の電子装置。
A diode having a fifth electrode and a sixth electrode is mounted on the second main surface of the wiring board,
The first wiring includes a first diode connection portion to which the fifth electrode of the diode is electrically connected,
The electronic device according to claim 3, wherein the second wiring includes a second diode connection portion to which the sixth electrode of the diode is electrically connected.
前記配線基板の前記第2主面には、
前記第1配線の前記第1外部端子接続部と電気的に接続された第7電極を備えた第1コネクタと、
前記第2配線の前記第2外部端子接続部と電気的に接続された第8電極を備えた第2コネクタと、
がそれぞれ搭載されている、請求項3に記載の電子装置。
On the second main surface of the wiring board,
A first connector including a seventh electrode electrically connected to the first external terminal connection portion of the first wiring;
A second connector including an eighth electrode electrically connected to the second external terminal connection portion of the second wiring;
The electronic device according to claim 3, wherein each is mounted.
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