JP2019183139A - Manufacturing method of silicone resin composition, and silicone resin composition - Google Patents

Manufacturing method of silicone resin composition, and silicone resin composition Download PDF

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寛 岩脇
Hiroshi Iwawaki
寛 岩脇
翔平 堀田
Shohei Hotta
翔平 堀田
建太朗 増井
Kentaro Masui
建太朗 増井
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

To provide a manufacturing method of a silicone resin composition capable of manufacturing a high quality cured article, and the silicone resin composition.SOLUTION: There is provided a manufacturing method of a silicone resin composition having a process for stirring a mixture of a silicone resin A and a silicone resin B until satisfying the formula (A). 1.03<Mw/Mw<1.2 (A), wherein Mwis weight average molecular weight of a mixture of the silicone A and the silicone B, and Mwis weight average molecular weight of a product obtained by the process for stirring. Silicone resin A: a silicone resin in which a contained structure unit is practically only a T body, a percentage of a T3 body in the T body is 60 mol% to 90 mol%, and weight average molecular weight is 1500 to 8000. Silicone resin B: a silicone resin in which a contained structure unit is practically only the T body, a percentage of the T3 body in the T body is 30 mol% or more and less than 60 mol%, and weight average molecular weight is 1500 or more.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、シリコーン樹脂組成物の製造方法及びシリコーン樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a method for producing a silicone resin composition and a silicone resin composition.

従来、光源としてLEDが用いられている。光源としてLEDを用いた光源装置としては、LEDを回路基板に取り付けた後に、樹脂製の封止材でLEDを覆う封止部を形成し、LEDおよびLEDの周辺構造を保護する構成が知られている。   Conventionally, LEDs are used as light sources. As a light source device using an LED as a light source, a configuration is known in which after a LED is attached to a circuit board, a sealing portion that covers the LED is formed with a resin sealing material to protect the LED and the peripheral structure of the LED. ing.

また、近年ではUV(紫外)−LEDが市場に出回り始めている。このようなUV−LEDを光源として用いた光源装置においては、UV光により樹脂製の封止部が劣化しやすい。そのため、UV−LEDの封止には石英ガラスが用いられることがある。   In recent years, UV (ultraviolet) -LEDs have started to appear on the market. In a light source device using such a UV-LED as a light source, the resin sealing portion is easily deteriorated by the UV light. Therefore, quartz glass may be used for sealing the UV-LED.

しかしながら、石英ガラスは高価であるため、低価格の代替材料が求められていた。また、石英ガラスを用いてUV−LEDを封止する場合、得られる光源装置は、UV−LEDと石英ガラスとの間に空気層が存在する構成となる。この場合、空気層から石英ガラスへUV光が入射する際、界面の屈折率差からUV光の取出し効率が低いという問題があった。   However, since quartz glass is expensive, a low-cost alternative material has been demanded. Moreover, when sealing UV-LED using quartz glass, the obtained light source device becomes a structure in which an air layer exists between UV-LED and quartz glass. In this case, when UV light enters the quartz glass from the air layer, there is a problem that the extraction efficiency of the UV light is low due to the difference in the refractive index at the interface.

そこで、UV−LEDを、シリコーン系の樹脂組成物の硬化物で封止することが提案されている(例えば、特許文献1参照)。   Therefore, it has been proposed to seal the UV-LED with a cured product of a silicone-based resin composition (see, for example, Patent Document 1).

特開2017−8297号公報JP 2017-8297 A

樹脂組成物の硬化物を封止材として用いる場合、得られる封止部は、光を散乱させることなく、且つ高い光透過性を有することが好ましい。このような封止部でLEDを封止した光源装置では、LEDから射出される光を高効率に装置外部に取り出すことができ、LEDから射出される光を有効利用することが可能となる。   When using the hardened | cured material of a resin composition as a sealing material, it is preferable that the obtained sealing part has high light transmittance, without scattering light. In the light source device in which the LED is sealed with such a sealing portion, the light emitted from the LED can be taken out of the device with high efficiency, and the light emitted from the LED can be effectively used.

しかし、樹脂組成物の硬化物を封止材として用いる場合、得られる封止部の表面の凹凸や、封止部内に混入する気泡により、外観が損なわれることがある。このように外観が損なわれた封止部では、LEDから射出される光が反射、散乱され、高効率に装置外部に取り出すことが困難となり得る。そのため、光を散乱させることなく、且つ高い光透過性を有する高品質な封止部(硬化物)を容易に製造可能な樹脂組成物が求められていた。   However, when using the hardened | cured material of a resin composition as a sealing material, an external appearance may be impaired by the unevenness | corrugation of the surface of the sealing part obtained, and the bubble mixed in in a sealing part. In such a sealed portion whose appearance is impaired, the light emitted from the LED is reflected and scattered, and it may be difficult to take out the device outside the device with high efficiency. Therefore, there has been a demand for a resin composition that can easily produce a high-quality sealing portion (cured product) having high light transmittance without scattering light.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、高品質な硬化物を容易に製造可能なシリコーン樹脂組成物の製造方法及びシリコーン樹脂組成物を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of such a situation, Comprising: It aims at providing the manufacturing method and silicone resin composition of a silicone resin composition which can manufacture a high quality hardened | cured material easily.

上記の課題を解決するため、本発明の一態様は、下記シリコーン樹脂Aと下記シリコーン樹脂Bとを原料として用いたシリコーン樹脂組成物の製造方法であって、下記シリコーン樹脂Aと下記シリコーン樹脂Bとの混合物を、下記式(A)を満たすまで撹拌する工程を有するシリコーン樹脂組成物の製造方法を提供する。
1.03<Mwcom/Mwab<1.2…(A)
(Mwabは、前記シリコーン樹脂Aと前記シリコーン樹脂Bとの混合物の重量平均分子量、Mwcomは、前記撹拌する工程により得られる生成物の重量平均分子量である。)
シリコーン樹脂A:含有する構造単位が実質的にT体のみであり、T体のうちT3体の割合が60モル%以上90モル%以下であり、重量平均分子量が1500以上8000以下であるシリコーン樹脂。
シリコーン樹脂B:含有する構造単位が実質的にT体のみであり、T体のうちT3体の割合が30モル%以上60モル%未満であり、重量平均分子量が1500以上であるシリコーン樹脂。
(T体は、3個の酸素原子と結合しているケイ素原子を含む構造単位を意味する。T3体は、T体のうちT体が有する3個の酸素原子の全てが他のケイ素原子と結合している構造単位を意味する。)
In order to solve the above-described problems, one aspect of the present invention is a method for producing a silicone resin composition using the following silicone resin A and the following silicone resin B as raw materials, and includes the following silicone resin A and the following silicone resin B: And a method for producing a silicone resin composition comprising a step of stirring the mixture until the following formula (A) is satisfied.
1.03 <Mw com / Mw ab < 1.2 ... (A)
(Mw ab is the weight average molecular weight of the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B, and Mw com is the weight average molecular weight of the product obtained by the stirring step.)
Silicone resin A: A silicone resin in which the structural unit contained is substantially only T-form, the proportion of T3-form in T-form is 60 mol% or more and 90 mol% or less, and the weight average molecular weight is 1500 or more and 8000 or less. .
Silicone resin B: A silicone resin in which the structural unit is substantially only T-form, the proportion of T3-form in the T-form is 30 mol% or more and less than 60 mol%, and the weight average molecular weight is 1500 or more.
(T-form means a structural unit containing a silicon atom bonded to three oxygen atoms. T3-form means that all three oxygen atoms of the T-form of the T-form are different from other silicon atoms. It means the structural unit which is connected.)

また、上記の課題を解決するため、本発明の一態様は、下記シリコーン樹脂Aと下記シリコーン樹脂Bとを原料として用いたシリコーン樹脂組成物の製造方法であって、前記シリコーン樹脂Bを200hPa以下の減圧環境下で100℃以上に加熱しながら撹拌し、前記シリコーン樹脂Bが高分子量化したシリコーン樹脂B1を得る第1工程と、前記シリコーン樹脂B1に前記シリコーン樹脂Aを加えて混合物とした後、前記混合物を200hPa以下の減圧環境下で100℃以上に加熱しながら撹拌する第2工程と、を有し、前記第2工程では、下記式(A)を満たすまで前記混合物を撹拌するシリコーン樹脂組成物の製造方法を提供する。
1.03<Mwcom/Mwab<1.2…(A)
(Mwabは、前記シリコーン樹脂Aと前記シリコーン樹脂Bとの混合物の重量平均分子量、Mwcomは、前記第2工程により得られる生成物の重量平均分子量である。)
シリコーン樹脂A:含有する構造単位が実質的にT体のみであり、T体のうちT3体の割合が60モル%以上90モル%以下であり、重量平均分子量が1500以上8000以下であるシリコーン樹脂。
シリコーン樹脂B:含有する構造単位が実質的にT体のみであり、T体のうちT3体の割合が30モル%以上60モル%未満であり、重量平均分子量が1500以上であるシリコーン樹脂。
(T体は、3個の酸素原子と結合しているケイ素原子を含む構造単位を意味する。T3体は、T体のうちT体が有する3個の酸素原子の全てが他のケイ素原子と結合している構造単位を意味する。)
In order to solve the above-mentioned problem, one aspect of the present invention is a method for producing a silicone resin composition using the following silicone resin A and the following silicone resin B as raw materials, and the silicone resin B is 200 hPa or less. The first step of obtaining a silicone resin B1 having a high molecular weight of the silicone resin B by stirring while heating to 100 ° C. or higher in a reduced pressure environment, and adding the silicone resin A to the silicone resin B1 to obtain a mixture A second step of stirring the mixture while heating to 100 ° C. or higher in a reduced pressure environment of 200 hPa or less, and in the second step, the mixture is stirred until the following formula (A) is satisfied: A method for producing the composition is provided.
1.03 <Mw com / Mw ab <1.2 (A)
(Mw ab is the weight average molecular weight of the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B, and Mw com is the weight average molecular weight of the product obtained in the second step.)
Silicone resin A: A silicone resin in which the structural unit contained is substantially only T-form, the proportion of T3-form in T-form is 60 mol% or more and 90 mol% or less, and the weight average molecular weight is 1500 or more and 8000 or less. .
Silicone resin B: A silicone resin in which the structural unit is substantially only T-form, the proportion of T3-form in the T-form is 30 mol% or more and less than 60 mol%, and the weight average molecular weight is 1500 or more.
(T-form means a structural unit containing a silicon atom bonded to three oxygen atoms. T3-form means that all three oxygen atoms of the T-form of the T-form are different from other silicon atoms. It means the structural unit which is connected.)

本発明の一態様においては、前記第1工程は、前記シリコーン樹脂Bと下記シリコーン樹脂Cとを200hPa以下の減圧環境下で100℃以上に加熱しながら撹拌し前記シリコーン樹脂B1を含むシリコーン樹脂Dを得る製造方法としてもよい。
シリコーン樹脂C:5℃/分の昇温速度で室温から200℃まで昇温させ、200℃で5時間空気中で保持した際の質量減少率が5%未満であるシリコーン樹脂。
In one aspect of the present invention, in the first step, the silicone resin D containing the silicone resin B1 is stirred while heating the silicone resin B and the following silicone resin C to 100 ° C. or higher in a reduced pressure environment of 200 hPa or less. It is good also as a manufacturing method which obtains.
Silicone resin C: A silicone resin having a mass reduction rate of less than 5% when heated from room temperature to 200 ° C. at a rate of temperature increase of 5 ° C./min and held in air at 200 ° C. for 5 hours.

本発明の一態様においては、前記原料において、前記シリコーン樹脂Aと前記シリコーン樹脂Bとの質量比は、[シリコーン樹脂A]:[シリコーン樹脂B]=10:90〜60:40である製造方法としてもよい。(ここで、[シリコーン樹脂A]は前記シリコーン樹脂Aの質量を示し、[シリコーン樹脂B]は前記シリコーン樹脂Bの質量を示す。)   In one aspect of the present invention, in the raw material, the mass ratio of the silicone resin A and the silicone resin B is [silicone resin A]: [silicone resin B] = 10: 90 to 60:40. It is good. (Here, [silicone resin A] represents the mass of the silicone resin A, and [silicone resin B] represents the mass of the silicone resin B.)

本発明の一態様においては、前記撹拌する工程では、前記混合物を含む組成物を撹拌し、前記組成物における有機溶媒の含有率は、1質量%以下である製造方法としてもよい。   In one aspect of the present invention, in the stirring step, the composition containing the mixture may be stirred, and the organic solvent content in the composition may be 1% by mass or less.

本発明の一態様においては、前記撹拌する工程では、前記混合物と反応促進用触媒とを含む組成物を撹拌する製造方法としてもよい。   In one aspect of the present invention, the stirring step may be a manufacturing method in which the composition containing the mixture and the reaction promoting catalyst is stirred.

また、本発明の一態様は、下記シリコーン樹脂Aと下記シリコーン樹脂Bとを原料として用いたシリコーン樹脂組成物であって、GPC測定によって得られる、横軸を標準ポリスチレン換算の分子量、縦軸を示差屈折率検出器の検出強度とする分子量分布曲線に基づいて、下記方法で求めた評価値が25未満となるシリコーン樹脂組成物を提供する。
シリコーン樹脂A:含有する構造単位が実質的にT体のみであり、T体のうちT3体の割合が60モル%以上90モル%以下であり、重量平均分子量が1500以上8000以下であるシリコーン樹脂。
シリコーン樹脂B:含有する構造単位が実質的にT体のみであり、T体のうちT3体の割合が30モル%以上60モル%未満であり、重量平均分子量が1500以上であるシリコーン樹脂。
(T体は、3個の酸素原子と結合しているケイ素原子を含む構造単位を意味する。
T3体は、T体のうちT体が有する3個の酸素原子の全てが他のケイ素原子と結合している構造単位を意味する。)
(方法)
前記分子量分布曲線において、分子量が245から400の範囲に見られる強度が0未満であるピークのうち絶対値が最大のピークについて、ピークトップ強度が−1となるように前記分子量分布曲線の縦軸の値を規格化する。規格化した前記分子量分布曲線と、規格化した前記分子量分布曲線において分子量が140である点と245である点の2点間を結ぶ1次式で表される直線(基準線)と、で囲まれた領域における規格化検出強度値の和を、前記評価値として求める。
(基準線と規格化した分子量分布曲線とで囲まれた領域における規格化検出強度値とは、GPC測定のデータ取得時間間隔0.3秒に相当する分子量間隔で並んだ各分子量における基準線から前記規格化検出強度値を差し引いた値を意味する。)
One embodiment of the present invention is a silicone resin composition using the following silicone resin A and the following silicone resin B as raw materials, wherein the horizontal axis is obtained by GPC measurement, the horizontal axis is the molecular weight in terms of standard polystyrene, and the vertical axis is Provided is a silicone resin composition having an evaluation value obtained by the following method of less than 25 based on a molecular weight distribution curve as a detection intensity of a differential refractive index detector.
Silicone resin A: A silicone resin in which the structural unit contained is substantially only T-form, the proportion of T3-form in T-form is 60 mol% or more and 90 mol% or less, and the weight average molecular weight is 1500 or more and 8000 or less. .
Silicone resin B: A silicone resin in which the structural unit is substantially only T-form, the proportion of T3-form in the T-form is 30 mol% or more and less than 60 mol%, and the weight average molecular weight is 1500 or more.
(T-form means a structural unit containing a silicon atom bonded to three oxygen atoms.
The T3 body means a structural unit in which all three oxygen atoms of the T body in the T body are bonded to other silicon atoms. )
(Method)
In the molecular weight distribution curve, the vertical axis of the molecular weight distribution curve has a peak top intensity of −1 with respect to a peak having a maximum absolute value among peaks having an intensity of less than 0 and having a molecular weight in the range of 245 to 400. Normalize the value of. Surrounded by the normalized molecular weight distribution curve and a straight line (reference line) represented by a linear expression connecting two points of a molecular weight of 140 and a point of 245 in the normalized molecular weight distribution curve The sum of the normalized detection intensity values in the determined area is obtained as the evaluation value.
(The normalized detection intensity value in the region surrounded by the reference line and the normalized molecular weight distribution curve is determined from the reference line at each molecular weight lined up with a molecular weight interval corresponding to a data acquisition time interval of GPC measurement of 0.3 seconds. It means a value obtained by subtracting the normalized detection intensity value.)

本発明によれば、高品質な硬化物を容易に製造可能なシリコーン樹脂組成物の製造方法及びシリコーン樹脂組成物を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method and silicone resin composition of a silicone resin composition which can manufacture a high quality hardened | cured material easily can be provided.

実施例1のシリコーン樹脂組成物1を硬化させた硬化物の外観写真である。2 is an appearance photograph of a cured product obtained by curing the silicone resin composition 1 of Example 1. FIG. 比較例1のシリコーン樹脂組成物5を硬化させた硬化物の外観写真である。2 is an appearance photograph of a cured product obtained by curing the silicone resin composition 5 of Comparative Example 1.

[シリコーン樹脂組成物の製造方法]
以下、本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法に用いられる各成分について説明した後に、シリコーン樹脂組成物の製造方法について詳細に説明する。
なお、以下の説明においては、本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法で得られた組成物のことを「シリコーン樹脂組成物」と称する。
また、シリコーン樹脂組成物を硬化させた硬化物を「シリコーン樹脂硬化物」と称する。
[Method for producing silicone resin composition]
Hereinafter, after explaining each component used for the manufacturing method of the silicone resin composition of this embodiment, the manufacturing method of a silicone resin composition is demonstrated in detail.
In the following description, a composition obtained by the method for producing a silicone resin composition of the present embodiment is referred to as a “silicone resin composition”.
A cured product obtained by curing the silicone resin composition is referred to as a “silicone resin cured product”.

(シリコーン樹脂A)
シリコーン樹脂Aは、含有する構造単位が実質的にT体のみであり、T体のうちT3体の割合が60モル%以上90モル%以下であり、重量平均分子量(Mw)が1500以上8000以下であるシリコーン樹脂である。シリコーン樹脂Aは、例えば、常温で固体のシリコーンレジン等として工業的に市販されている。
(Silicone resin A)
In the silicone resin A, the structural unit contained is substantially only T-form, the proportion of T3-form in the T-form is 60 mol% or more and 90 mol% or less, and the weight average molecular weight (Mw) is 1500 or more and 8000 or less. It is a silicone resin. Silicone resin A is commercially available, for example, as a silicone resin that is solid at room temperature.

本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法においては、シリコーン樹脂Aとして、常温で固体のシリコーンレジンを用いることが好ましい。シリコーン樹脂Aとして常温で固体のシリコーンレジンを用いることにより、シリコーン樹脂硬化物は、表面に粘着性を残しにくくなる。   In the method for producing the silicone resin composition of the present embodiment, it is preferable to use a silicone resin that is solid at room temperature as the silicone resin A. By using a silicone resin that is solid at room temperature as the silicone resin A, the cured silicone resin is less likely to leave stickiness on the surface.

ここで、本明細書において「T体」は、3個の酸素原子と結合しているケイ素原子を含む構造単位を意味する。
また、本明細書において「T3体」は、T体のうちT体が有する3個の酸素原子の全てが他のケイ素原子と結合している構造単位を意味する。
Here, in this specification, “T-form” means a structural unit containing a silicon atom bonded to three oxygen atoms.
Further, in this specification, “T3 body” means a structural unit in which all three oxygen atoms of the T body in the T body are bonded to other silicon atoms.

「含有する構造単位が実質的にT体のみ」とは、シリコーン樹脂Aの構造単位のうち、95モル%以上がT体であることを意味する。シリコーン樹脂Aは、構造単位のうち97モル%以上がT体であることが好ましく、99モル%以上がT体であることがより好ましく、T体以外の構造単位が検出限界以下であるとさらに好ましい。   “The structural unit to be contained is substantially only T-form” means that 95 mol% or more of the structural units of the silicone resin A is T-form. In the silicone resin A, 97 mol% or more of the structural units is preferably T-form, more preferably 99 mol% or more is T-form, and the structural unit other than T-form is below the detection limit. preferable.

本明細書において、重量平均分子量は、ゲルパーメーションクロマトグラフィー(GPC)法により測定した値を用いる。   In this specification, the value measured by the gel permeation chromatography (GPC) method is used for the weight average molecular weight.

具体的には、シリコーン樹脂を可溶の溶媒に溶かし、さらに得られた溶液からフィルター濾過にて不溶物を除去した後、得られた濾液を細孔(ポア)が数多く存在する充てん剤を用いたカラム内に移動相溶媒と共に通液する。   Specifically, after dissolving the silicone resin in a soluble solvent and removing insolubles from the obtained solution by filter filtration, the obtained filtrate is used with a filler having many pores. Through the column along with the mobile phase solvent.

GPC法による重量平均分子量の測定において、シリコーン樹脂を溶解させるために使用する溶媒は、GPC測定に用いる移動相溶媒と同一の溶媒であることが好ましい。溶媒としては、具体的には、テトラヒドロフラン、クロロホルム、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等が挙げられる。   In the measurement of the weight average molecular weight by the GPC method, the solvent used for dissolving the silicone resin is preferably the same solvent as the mobile phase solvent used for the GPC measurement. Specific examples of the solvent include tetrahydrofuran, chloroform, toluene, xylene, dichloromethane, dichloroethane, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, and the like.

GPC測定に使用するカラムは市販されており、想定される重量平均分子量にしたがって、適切なカラムを用いればよい。   The column used for GPC measurement is commercially available, and an appropriate column may be used according to the assumed weight average molecular weight.

カラム内では、シリコーン樹脂を分子量の大小によって分離する。このように分離したシリコーン樹脂を、分子量毎に含有量を示差屈折率計、UV計、粘度計、光散乱検出器等を検出器として用いて検出する。   In the column, the silicone resin is separated according to the molecular weight. The silicone resin thus separated is detected for each molecular weight by using a differential refractometer, UV meter, viscometer, light scattering detector or the like as a detector.

GPC専用装置は広く市販されている。また、重量平均分子量は、標準ポリスチレン換算によって測定することが一般的である。本明細書における重量平均分子量は、市販の測定装置を用い標準ポリスチレン換算によって測定されたものを意味する。   GPC dedicated devices are widely available commercially. Moreover, it is common to measure a weight average molecular weight by standard polystyrene conversion. The weight average molecular weight in this specification means what was measured by standard polystyrene conversion using a commercial measuring device.

シリコーン樹脂Aは、より詳しくは、含有するケイ素原子が、T1ケイ素原子およびT2ケイ素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種のケイ素原子と、T3ケイ素原子とから実質的になり、T1ケイ素原子、T2ケイ素原子およびT3ケイ素原子の合計含有量に対する、T3ケイ素原子の含有量の割合が、60モル%以上90モル%以下であり、且つ、重量平均分子量が1500以上8000以下であるシリコーン樹脂である。   More specifically, the silicone resin A is composed of at least one silicon atom selected from the group consisting of a T1 silicon atom and a T2 silicon atom, and a T3 silicon atom. A silicone resin in which the ratio of the content of T3 silicon atoms to the total content of T2 silicon atoms and T3 silicon atoms is 60 mol% or more and 90 mol% or less, and the weight average molecular weight is 1500 or more and 8000 or less. .

ここで、T1ケイ素原子とは、下記式(A1)で表される構造単位において、1個の酸素原子(当該酸素原子は、他の結合単位中のケイ素原子と結合している)、1個のRおよび2個のRと結合しているケイ素原子、または、下記式(A1’)で表される構造単位において、1個の結合手(当該結合手は、他の構造単位中のケイ素原子と結合している酸素原子と結合している)、1個のRおよび2個のRと結合しているケイ素原子である。 Here, the T1 silicon atom is one oxygen atom in the structural unit represented by the following formula (A1) (the oxygen atom is bonded to a silicon atom in another bond unit), one In the structural unit represented by the following formula (A1 ′) or a silicon atom bonded to R 1 and two R 2 s , one bond (the bond is in other structural units) A silicon atom bonded to one R 1 and two R 2 ) (bonded to an oxygen atom bonded to a silicon atom).

T2ケイ素原子とは、下記式(A2)で表される構造単位において、1個の酸素原子(当該酸素原子は、他の構造単位中のケイ素原子と結合している)、1個の結合手(当該結合手は、他の構造単位中のケイ素原子と結合している酸素原子と結合している)、1個のRおよび1個のRと結合しているケイ素原子である。 The T2 silicon atom means one oxygen atom (the oxygen atom is bonded to a silicon atom in another structural unit) and one bond in the structural unit represented by the following formula (A2). (The bond is bonded to an oxygen atom bonded to a silicon atom in another structural unit) and is a silicon atom bonded to one R 1 and one R 2 .

T3ケイ素原子とは、下記式(A3)で表される構造単位において、2個の酸素原子(当該酸素原子は、他の構造単位中のケイ素原子と結合している)、1個の結合手(当該結合手は、他の構造単位中のケイ素原子と結合している酸素原子と結合している)および1個のRと結合しているケイ素原子である。
上記式(A3)で表される構造単位は、本発明における「T3体」に該当する。
The T3 silicon atom is a structural unit represented by the following formula (A3): two oxygen atoms (the oxygen atom is bonded to a silicon atom in another structural unit), one bond (The bond is bonded to an oxygen atom bonded to a silicon atom in another structural unit) and a silicon atom bonded to one R 1 .
The structural unit represented by the above formula (A3) corresponds to “T3 body” in the present invention.

(ここで、式(A1)、(A1’)、(A2)および(A3)中、Rは炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rは炭素数1もしくは2のアルコキシ基または水酸基を表す。) (Here, in formulas (A1), (A1 ′), (A2) and (A3), R 1 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R 2 represents an alkoxy group having 1 or 2 carbon atoms or a hydroxyl group) Represents.)

「T1ケイ素原子およびT2ケイ素原子からなる群から選ばれる少なくとも1種のケイ素原子と、T3ケイ素原子とから実質的になる」とは、シリコーン樹脂Aが含有するケイ素原子のうち、80モル%以上がT1ケイ素原子、T2ケイ素原子およびT3ケイ素原子のいずれかであることを意味する。シリコーン樹脂Aが含有するケイ素原子は、90モル%以上がT1ケイ素原子、T2ケイ素原子およびT3ケイ素原子のいずれかであることが好ましく、95モル%以上がT1ケイ素原子、T2ケイ素原子およびT3ケイ素原子のいずれかであることがより好ましい。   “Substantially composed of at least one silicon atom selected from the group consisting of T1 silicon atom and T2 silicon atom and T3 silicon atom” means that 80 mol% or more of silicon atoms contained in silicone resin A Means any one of a T1 silicon atom, a T2 silicon atom, and a T3 silicon atom. The silicon atom contained in the silicone resin A is preferably 90 mol% or more of any of T1 silicon atom, T2 silicon atom and T3 silicon atom, and 95 mol% or more of T1 silicon atom, T2 silicon atom and T3 silicon. More preferably, it is any atom.

式(A1)で表される構造単位におけるR、式(A1’)で表される構造単位におけるR、式(A2)で表される構造単位におけるR、および、式(A3)で表される構造単位におけるRは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。 R 1 in the structural unit represented by the formula (A1), R 1 in the structural unit represented by the formula (A1 '), R 1 in the structural unit represented by the formula (A2), and, in the formula (A3) R 1 in the structural unit represented may be the same or different.

式(A1)で表される構造単位におけるR、式(A1’)で表される構造単位におけるR、および、式(A2)で表される構造単位におけるRは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。 R 2 of structural unit represented by the formula (A1), R 2 in the structural unit represented by the formula (A1 '), and, R 2 in the structural unit represented by the formula (A2) is a respectively identical Or different.

式(A1)で表される構造単位における2つのRは、同一であっても異なっていてもよい。式(A1’)で表される構造単位における2つのRは、同一であっても異なっていてもよい。 Two R 2 in the structural unit represented by the formula (A1) may be the same or different. Two R 2 in the structural unit represented by the formula (A1 ′) may be the same or different.

式(A1)で表される構造単位および式(A1’)で表される構造単位は、オルガノポリシロキサン鎖の末端を構成している。また、式(A3)で表される構造単位は、オルガノポリシロキサン鎖による分岐鎖構造を構成している。すなわち、式(A3)で表される構造単位は、シリコーン樹脂における網目構造や環構造の一部を形成している。   The structural unit represented by the formula (A1) and the structural unit represented by the formula (A1 ′) constitute the end of the organopolysiloxane chain. Further, the structural unit represented by the formula (A3) constitutes a branched chain structure composed of an organopolysiloxane chain. That is, the structural unit represented by the formula (A3) forms part of a network structure or a ring structure in the silicone resin.

本明細書で用いるシリコーン樹脂において、ケイ素原子に結合している官能基の種類および存在比は、例えば、核磁気共鳴分光法(NMR法)により測定することができる。核磁気共鳴分光法(NMR法)は各種文献等で詳述されており、専用の測定装置も広く市販されている。   In the silicone resin used in the present specification, the type and abundance ratio of the functional group bonded to the silicon atom can be measured by, for example, nuclear magnetic resonance spectroscopy (NMR method). Nuclear magnetic resonance spectroscopy (NMR method) is described in detail in various literatures, and dedicated measuring devices are also widely available on the market.

具体的には、測定対象のシリコーン樹脂を特定の溶媒に溶解させた後、シリコーン樹脂中の水素原子核またはケイ素原子核に強力な磁場と高周波のラジオ波を与え、原子核中の核磁気モーメントを共鳴させることによって、シリコーン樹脂中の各官能基の種類および存在比を測定することができる。   Specifically, after dissolving the silicone resin to be measured in a specific solvent, a strong magnetic field and high-frequency radio waves are applied to the hydrogen nucleus or silicon nucleus in the silicone resin to resonate the nuclear magnetic moment in the nucleus. By this, the kind and abundance ratio of each functional group in the silicone resin can be measured.

水素原子核を測定する方法をH−NMRという。また、ケイ素原子核を測定する方法を29Si−NMRという。核磁気共鳴分光法(NMR法)の測定に用いる溶媒としては、重クロロホルム、重ジメチルスルホキシド、重メタノール、重アセトン、重水等を、シリコーン樹脂中の各種官能基の種類によって選択すればよい。 A method for measuring hydrogen nuclei is called 1 H-NMR. A method for measuring silicon nuclei is referred to as 29 Si-NMR. As a solvent used for measurement of nuclear magnetic resonance spectroscopy (NMR method), deuterated chloroform, deuterated dimethyl sulfoxide, deuterated methanol, deuterated acetone, deuterated water, etc. may be selected depending on the types of various functional groups in the silicone resin.

T3ケイ素原子の含有量の割合は、29Si−NMR測定において求められるT1ケイ素原子として帰属されるシグナルの面積と、T2ケイ素原子として帰属されるシグナルの面積と、T3ケイ素原子として帰属されるシグナルの面積との合計面積で、T3ケイ素原子として帰属されるシグナルの面積を除することにより、求めることができる。 The ratio of the content of T3 silicon atoms is the signal area attributed as T1 silicon atom, the signal area attributed as T2 silicon atom, and the signal attributed as T3 silicon atom, as determined in 29 Si-NMR measurement. By dividing the area of the signal attributed as the T3 silicon atom by the total area with the above area, it can be obtained.

シリコーン樹脂Aは、T1ケイ素原子、T2ケイ素原子およびT3ケイ素原子の合計含有量に対する、T3ケイ素原子の含有量の割合が、70モル%以上85モル%以下であることが好ましい。   In the silicone resin A, the ratio of the content of T3 silicon atoms to the total content of T1 silicon atoms, T2 silicon atoms, and T3 silicon atoms is preferably 70 mol% or more and 85 mol% or less.

シリコーン樹脂Aに含まれる構造単位において、Rは炭素数1〜3のアルキル基であり、メチル基であることが好ましい。Rは炭素数1若しくは2のアルコキシ基または水酸基である。Rがアルコキシ基である場合、アルコキシ基としては、メトキシ基またはエトキシ基が好ましい。 In the structural unit contained in the silicone resin A, R 1 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and is preferably a methyl group. R 2 is an alkoxy group having 1 or 2 carbon atoms or a hydroxyl group. When R 2 is an alkoxy group, the alkoxy group is preferably a methoxy group or an ethoxy group.

シリコーン樹脂Aは、下記式(1)で表されるオルガノポリシロキサン構造を有することが好ましい。式(1)中、RおよびRは上述したものと同じ意味を表す。p、q、aおよびbは、任意の正数を表す。 The silicone resin A preferably has an organopolysiloxane structure represented by the following formula (1). In formula (1), R 1 and R 2 represent the same meaning as described above. p 1 , q 1 , a 1 and b 1 represent an arbitrary positive number.

式(1)で表されるオルガノポリシロキサン構造中の各構造単位の存在比率は、T2ケイ素原子の数:x(=p+b×q)と、T3ケイ素原子の数:y(=a×q)の合計含有量に対する、T3ケイ素原子の含有比率(=y/(x+y))が、0.6以上0.9以下の範囲内であり、0.7以上0.85以下の範囲内であることが好ましく、このような範囲になるように、p、q、a、およびbの数値を適宜調整することができる。 The abundance ratio of each structural unit in the organopolysiloxane structure represented by the formula (1) is the number of T2 silicon atoms: x 1 (= p 1 + b 1 × q 1 ) and the number of T3 silicon atoms: y 1 The T3 silicon atom content ratio (= y 1 / (x 1 + y 1 )) with respect to the total content of (= a 1 × q 1 ) is within the range of 0.6 or more and 0.9 or less. It is preferable that it is in the range of 7 or more and 0.85 or less, and the numerical values of p 1 , q 1 , a 1 , and b 1 can be appropriately adjusted so as to be in such a range.

シリコーン樹脂Aは、T3ケイ素原子の存在比率が高いため、シリコーン樹脂Aを硬化させることによって、オルガノポリシロキサン鎖が網目状に構成された硬化物が得られる。T3ケイ素原子の存在比率が0.9以下であると、シリコーン樹脂硬化物の熱衝撃耐性が充分に高くなる傾向にある。また、T3ケイ素原子の存在比率が0.6以上であると、シリコーン樹脂硬化物のUV耐性が充分に高くなる傾向にある。   Since the silicone resin A has a high abundance ratio of T3 silicon atoms, by curing the silicone resin A, a cured product in which the organopolysiloxane chain is configured in a network shape is obtained. If the abundance ratio of T3 silicon atoms is 0.9 or less, the thermal shock resistance of the cured silicone resin tends to be sufficiently high. Moreover, when the abundance ratio of T3 silicon atoms is 0.6 or more, the UV resistance of the cured silicone resin tends to be sufficiently high.

シリコーン樹脂Aの1分子当たりのT2ケイ素原子およびT3ケイ素原子の数は、上記式(1)で表されるオルガノポリシロキサン構造を有する樹脂の分子量を制御することで、調整することができる。本実施形態においては、シリコーン樹脂Aの1分子当たりのT2ケイ素原子の数とT3ケイ素原子の数の和は、5以上であることが好ましい。   The number of T2 silicon atoms and T3 silicon atoms per molecule of the silicone resin A can be adjusted by controlling the molecular weight of the resin having an organopolysiloxane structure represented by the above formula (1). In the present embodiment, the sum of the number of T2 silicon atoms and the number of T3 silicon atoms per molecule of the silicone resin A is preferably 5 or more.

シリコーン樹脂Aの重量平均分子量は、1500以上8000以下である。シリコーン樹脂Aの重量平均分子量が小さすぎる場合には、シリコーン樹脂硬化物のUV耐性が低くなる傾向がある。シリコーン樹脂Aの重量平均分子量が上記範囲内であることにより、UV耐性がより優れたシリコーン樹脂硬化物が得られる。シリコーン樹脂Aの重量平均分子量は、好ましくは1800以上6000以下、より好ましくは2000以上5000以下、さらに好ましくは2100以上4500以下、特に好ましくは2500以上4000以下である。   The weight average molecular weight of the silicone resin A is 1500 or more and 8000 or less. When the weight average molecular weight of the silicone resin A is too small, the UV resistance of the cured silicone resin tends to be low. When the weight average molecular weight of the silicone resin A is within the above range, a cured silicone resin having more excellent UV resistance can be obtained. The weight average molecular weight of the silicone resin A is preferably 1800 or more and 6000 or less, more preferably 2000 or more and 5000 or less, further preferably 2100 or more and 4500 or less, and particularly preferably 2500 or more and 4000 or less.

シリコーン樹脂Aは、シリコーン樹脂Aを構成する上述した各構成単位に対応し、シロキサン結合を生じ得る官能基を有する有機ケイ素化合物を出発原料として合成することができる。   The silicone resin A can be synthesized using an organosilicon compound having a functional group capable of forming a siloxane bond, corresponding to each of the above-described structural units constituting the silicone resin A.

ここで、「シロキサン結合を生じ得る官能基」は、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基等が挙げられる。式(A3)で表される構造単位に対応する有機ケイ素化合物としては、例えば、オルガノトリハロシラン、オルガノトリアルコキシラン等が挙げられる。シリコーン樹脂Aは、このような出発原料である有機ケイ素化合物を、各構造単位の存在比率に対応した比率で、加水分解縮合法で反応させることにより合成することができる。こうして合成されたシリコーン樹脂は、シリコーンレジン等として工業的に市販されている。   Here, examples of the “functional group capable of generating a siloxane bond” include a halogen atom, a hydroxyl group, and an alkoxy group. Examples of the organosilicon compound corresponding to the structural unit represented by the formula (A3) include organotrihalosilanes and organotrialkoxylanes. The silicone resin A can be synthesized by reacting such an organic silicon compound, which is a starting material, with a hydrolysis condensation method at a ratio corresponding to the abundance ratio of each structural unit. The silicone resin synthesized in this way is commercially available as a silicone resin or the like.

本実施形態のシリコーン樹脂の製造方法においては、シリコーン樹脂Aを1種のみ用いることとしてもよく、2種以上を併用してもよい。   In the method for producing a silicone resin of this embodiment, only one type of silicone resin A may be used, or two or more types may be used in combination.

(シリコーン樹脂B)
シリコーン樹脂Bは、含有する構造単位が実質的にT体のみであり、T体のうちT3体の割合が30モル%以上60モル%未満であり、重量平均分子量が1500以上であるシリコーン樹脂である。シリコーン樹脂Bは、例えば、常温で液状のシリコーンオリゴマー等として工業的に市販されている。
(Silicone resin B)
Silicone resin B is a silicone resin in which the structural unit contained is substantially only T-form, the proportion of T3-form in T-form is 30 mol% or more and less than 60 mol%, and the weight average molecular weight is 1500 or more. is there. Silicone resin B is commercially available, for example, as a silicone oligomer that is liquid at room temperature.

本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法においては、シリコーン樹脂Bとして、常温で液体のシリコーンオリゴマーを用いることが好ましい。シリコーン樹脂Bとして常温で液体のシリコーンオリゴマーを用いることにより、シリコーン樹脂硬化物は、耐衝撃性が高いものとなる。また、シリコーン樹脂硬化物は、基板または半導体発光素子と密着しやすくなる。   In the method for producing the silicone resin composition of the present embodiment, it is preferable to use a silicone oligomer that is liquid at room temperature as the silicone resin B. By using a silicone oligomer that is liquid at normal temperature as the silicone resin B, the cured silicone resin has high impact resistance. In addition, the cured silicone resin easily adheres to the substrate or the semiconductor light emitting element.

「含有する構造単位が実質的にT体のみ」とは、シリコーン樹脂Bの構造単位のうち、95モル%以上がT体であることを意味する。シリコーン樹脂Bは、構造単位のうち97モル%以上がT体であることが好ましく、99モル%以上がT体であることがより好ましく、T体以外の構造単位が検出限界以下であるとさらに好ましい。   “The structural unit to be contained is substantially only T-form” means that 95 mol% or more of the structural units of the silicone resin B is T-form. In the silicone resin B, 97 mol% or more of the structural units is preferably T-form, more preferably 99 mol% or more is T-form, and the structural unit other than T-form is below the detection limit. preferable.

シリコーン樹脂Bは、より詳しくは、含有するケイ素原子が、T1ケイ素原子およびT2ケイ素原子からなる群より選ばれる少なくとも1種のケイ素原子と、T3ケイ素原子とから実質的になり、T1ケイ素原子、T2ケイ素原子およびT3ケイ素原子の合計含有量に対する、T3ケイ素原子の含有量の割合が、30モル%以上60モル%未満であり、且つ、重量平均分子量が1500以上であるシリコーン樹脂である。   More specifically, the silicone resin B is substantially composed of at least one silicon atom selected from the group consisting of a T1 silicon atom and a T2 silicon atom, and a T3 silicon atom. It is a silicone resin in which the ratio of the content of T3 silicon atoms to the total content of T2 silicon atoms and T3 silicon atoms is 30 mol% or more and less than 60 mol%, and the weight average molecular weight is 1500 or more.

シリコーン樹脂BにおけるT1ケイ素原子、T2ケイ素原子およびT3ケイ素原子は、上記シリコーン樹脂Aにおいて説明したものと同じである。   The T1 silicon atom, T2 silicon atom, and T3 silicon atom in the silicone resin B are the same as those described for the silicone resin A.

「T1ケイ素原子およびT2ケイ素原子からなる群から選ばれる少なくとも1種のケイ素原子と、T3ケイ素原子とから実質的になる」とは、シリコーン樹脂Bが含有するケイ素原子のうち、80モル%以上がT1ケイ素原子、T2ケイ素原子およびT3ケイ素原子のいずれかであることを意味する。シリコーン樹脂Bが含有するケイ素原子は、90モル%以上がT1ケイ素原子、T2ケイ素原子およびT3ケイ素原子のいずれかであることが好ましく、95モル%以上がT1ケイ素原子、T2ケイ素原子およびT3ケイ素原子のいずれかであることがより好ましい。   “Substantially consisting of at least one silicon atom selected from the group consisting of T1 silicon atom and T2 silicon atom and T3 silicon atom” means that 80 mol% or more of silicon atoms contained in silicone resin B Means any one of a T1 silicon atom, a T2 silicon atom, and a T3 silicon atom. The silicon atom contained in the silicone resin B is preferably 90 mol% or more of any of T1 silicon atom, T2 silicon atom and T3 silicon atom, and 95 mol% or more of T1 silicon atom, T2 silicon atom and T3 silicon. More preferably, it is any atom.

T1ケイ素原子、T2ケイ素原子およびT3ケイ素原子の合計含有量に対する、T3ケイ素原子の含有量の割合は、35モル%以上55モル%以下であることが好ましく、40モル%以上50モル%以下であることがより好ましい。   The ratio of the content of T3 silicon atom to the total content of T1 silicon atom, T2 silicon atom and T3 silicon atom is preferably 35 mol% or more and 55 mol% or less, and 40 mol% or more and 50 mol% or less. More preferably.

シリコーン樹脂Bは、下記式(2)で表されるオルガノポリシロキサン構造を有することが好ましい。式(2)中、RおよびRは上述したものと同じ意味を表す。p、q、r、aおよびbは、任意の正数を表す。 The silicone resin B preferably has an organopolysiloxane structure represented by the following formula (2). In formula (2), R 1 and R 2 represent the same meaning as described above. p 2, q 2, r 2 , a 2 and b 2 represent arbitrary positive number.

式(2)で表されるオルガノポリシロキサン構造において、T1ケイ素原子とT2ケイ素原子とT3ケイ素原子の合計含有量に対する、T3ケイ素原子の含有比率(=[a×q]/[(p+b×q)+a×q+(r+q)])は、0.3以上0.6未満の範囲内であり、0.35以上0.55以下の範囲内であることが好ましく、0.4以上0.5以下の範囲内であることがより好ましい。 In the organopolysiloxane structure represented by the formula (2), the content ratio of T3 silicon atoms to the total content of T1 silicon atoms, T2 silicon atoms, and T3 silicon atoms (= [a 2 × q 2 ] / [(p 2 + b 2 × q 2 ) + a 2 × q 2 + (r 2 + q 2 )]) is in the range of 0.3 to less than 0.6 and in the range of 0.35 to 0.55. It is preferable that it is within the range of 0.4 or more and 0.5 or less.

シリコーン樹脂Bの重量平均分子量は、1500以上である。シリコーン樹脂Bの重量平均分子量が上記範囲であることにより、シリコーン樹脂硬化物の熱衝撃耐性が向上する傾向にある。シリコーン樹脂Bの重量平均分子量は、1500以上20000以下であることが好ましく、1500以上10000以下であることがより好ましく、1500以上6000以下であることが更に好ましい。シリコーン樹脂Bの重量平均分子量の下限値は、2000以上であることがより好ましく、3000以上あることがさらに好ましい。   The weight average molecular weight of the silicone resin B is 1500 or more. When the weight average molecular weight of the silicone resin B is within the above range, the thermal shock resistance of the cured silicone resin tends to be improved. The weight average molecular weight of the silicone resin B is preferably 1500 or more and 20000 or less, more preferably 1500 or more and 10,000 or less, and still more preferably 1500 or more and 6000 or less. The lower limit value of the weight average molecular weight of the silicone resin B is more preferably 2000 or more, and further preferably 3000 or more.

シリコーン樹脂Bの1分子中のT1ケイ素原子、T2ケイ素原子およびT3ケイ素原子の数は、上記式(2)で表されるオルガノポリシロキサン構造を有する樹脂の分子量を制御することで、調整することができる。本実施形態においては、シリコーン樹脂Bの1分子中のT1ケイ素原子の数とT2ケイ素原子の数とT3ケイ素原子の数との和は、5以上であることが好ましい。   The number of T1 silicon atoms, T2 silicon atoms and T3 silicon atoms in one molecule of silicone resin B is adjusted by controlling the molecular weight of the resin having an organopolysiloxane structure represented by the above formula (2). Can do. In the present embodiment, the sum of the number of T1 silicon atoms, the number of T2 silicon atoms and the number of T3 silicon atoms in one molecule of silicone resin B is preferably 5 or more.

シリコーン樹脂Aにシリコーン樹脂Bを配合したものを硬化させることにより、シリコーン樹脂Aの高いUV耐性を損なうことなく、熱衝撃耐性、および、硬化物と基板または半導体発光素子との密着性がより改善されたシリコーン樹脂硬化物を得ることができる。   By curing the blend of silicone resin A and silicone resin B, the thermal shock resistance and adhesion between the cured product and the substrate or semiconductor light emitting element are further improved without damaging the high UV resistance of silicone resin A. A cured silicone resin can be obtained.

シリコーン樹脂Bは、シリコーン樹脂Bを構成する上述した各構造単位に対応し、シロキサン結合を生じ得る官能基を有する有機ケイ素化合物を出発原料として合成することができる。ここで、「シロキサン結合を生じ得る官能基」は、上述したものと同じ意味を表す。式(A3)で表される構造単位に対応する有機ケイ素化合物としては、例えば、オルガノトリハロシラン、オルガノトリアルコキシラン等が挙げられる。シリコーン樹脂Bは、このような出発原料である有機ケイ素化合物を、各構造単位の存在比率に対応した比率で、加水分解縮合法で反応させることにより合成することができる。こうして合成されたシリコーン樹脂は、シリコーンオリゴマー等として工業的に市販されている。   The silicone resin B can be synthesized using an organosilicon compound having a functional group capable of forming a siloxane bond, corresponding to each of the structural units described above that constitute the silicone resin B. Here, the “functional group capable of generating a siloxane bond” has the same meaning as described above. Examples of the organosilicon compound corresponding to the structural unit represented by the formula (A3) include organotrihalosilanes and organotrialkoxylanes. Silicone resin B can be synthesized by reacting such an organic silicon compound, which is a starting material, with a hydrolysis condensation method at a ratio corresponding to the abundance ratio of each structural unit. The silicone resin synthesized in this way is commercially available as a silicone oligomer or the like.

本実施形態のシリコーン樹脂の製造方法においては、シリコーン樹脂Bを1種のみ用いることとしてもよく、2種以上を併用してもよい。   In the method for producing a silicone resin of the present embodiment, only one type of silicone resin B may be used, or two or more types may be used in combination.

(シリコーン樹脂C)
シリコーン樹脂Cは、5℃/分の昇温速度で室温から200℃まで昇温させ、200℃で5時間空気中で保持した際の質量減少率が5%未満であるシリコーン樹脂である。ここで、5℃/分の昇温速度で室温から200℃までの昇温工程は、通常空気中で行われる。このようなシリコーン樹脂Cは、フィラーとして用いられる。
(Silicone resin C)
Silicone resin C is a silicone resin having a mass reduction rate of less than 5% when heated from room temperature to 200 ° C. at a temperature rising rate of 5 ° C./min and held in air at 200 ° C. for 5 hours. Here, the temperature raising step from room temperature to 200 ° C. at a temperature raising rate of 5 ° C./min is usually performed in air. Such a silicone resin C is used as a filler.

シリコーン樹脂Cは、未反応の官能基が少なく、熱的に安定なものであるといえる。さらに、シリコーン樹脂Cは、可視光に比べてエネルギーの大きいUV光を照射した場合においても変質しにくい。したがって、シリコーン樹脂Cを配合することにより、シリコーン樹脂硬化物のUV耐性を更に向上させることができる。   It can be said that the silicone resin C has few unreacted functional groups and is thermally stable. Furthermore, the silicone resin C is not easily altered even when irradiated with UV light having higher energy than visible light. Therefore, by blending the silicone resin C, the UV resistance of the cured silicone resin can be further improved.

シリコーン樹脂Cとしては、熱的に安定なものであれば特に限定されないが、具体的には、シリコーンゴムパウダーまたはシリコーンレジンパウダーと呼ばれる微粒子状の構造のシリコーン樹脂を用いることができる。   The silicone resin C is not particularly limited as long as it is thermally stable, and specifically, a silicone resin having a fine particle structure called silicone rubber powder or silicone resin powder can be used.

微粒子状の構造のシリコーン樹脂の中でも、シロキサン結合が(RSiO3/2)で表される三次元網目構造を持つポリシルセスキオキサン樹脂からなるシリコーンレジンパウダーが好ましい。(RSiO3/2)において、Rはメチル基であることが好ましい。 Among silicone resins having a fine particle structure, a silicone resin powder made of a polysilsesquioxane resin having a three-dimensional network structure in which a siloxane bond is represented by (RSiO 3/2 ) is preferable. In (RSiO 3/2 ), R is preferably a methyl group.

シリコーン樹脂Cがシリコーンレジンパウダーである場合、粒子の形状としては、針状、板状、球状など種々の形状を採用し得る。なかでも、シリコーン樹脂Cの粒子の形状としては、形状に異方性が無い球状であることが好ましい。   When the silicone resin C is a silicone resin powder, various shapes such as a needle shape, a plate shape, and a spherical shape can be adopted as the particle shape. Especially, as a shape of the particle | grains of the silicone resin C, it is preferable that it is a spherical shape without anisotropy in a shape.

粒子の形状が球状のシリコーン樹脂Cは、シリコーン樹脂組成物において分散性が高くなるため好ましい。また、粒子の形状が球状のシリコーン樹脂Cは、粒子表面の凹凸が少なく、シリコーン樹脂組成物においてシリコーン樹脂Aとの界面およびシリコーン樹脂Bとの界面に空気層を形成しにくく、シリコーン樹脂硬化物が白濁しにくいため好ましい。   The silicone resin C having a spherical particle shape is preferable because of high dispersibility in the silicone resin composition. In addition, the silicone resin C having a spherical particle shape has less irregularities on the particle surface, and it is difficult to form an air layer at the interface with the silicone resin A and the interface with the silicone resin B in the silicone resin composition. Is preferable because it is difficult to become cloudy.

シリコーン樹脂Cが、球状のシリコーンレジンパウダーである場合、シリコーンレジンパウダーの平均粒径は、0.1〜50μmであることが好ましく、1〜30μmであることがより好ましく、2〜20μmであることが更に好ましい。   When the silicone resin C is a spherical silicone resin powder, the average particle size of the silicone resin powder is preferably 0.1 to 50 μm, more preferably 1 to 30 μm, and 2 to 20 μm. Is more preferable.

シリコーンレジンパウダーの平均粒径が上記の範囲内(0.1〜50μm)であれば、シリコーン樹脂硬化物と基板との界面における剥がれの発生、シリコーン樹脂硬化物の白濁、シリコーン樹脂硬化物の光透過性の低下を抑制しやすい傾向にある。   If the average particle size of the silicone resin powder is within the above range (0.1 to 50 μm), the occurrence of peeling at the interface between the cured silicone resin and the substrate, the cloudiness of the cured silicone resin, the light of the cured silicone resin It tends to suppress the decrease in permeability.

シリコーンレジンパウダーの平均粒径は、例えば、「レーザ回折・散乱法」を測定原理とする粒度分布測定装置によって測定することができる。この手法は、粒子にレーザービーム(単色光)を照射すると、その粒子の大きさに応じて様々な方向へ回折光、散乱光が発せられることを利用して、粒子の粒径分布を測定する手法であり、平均粒径を、回折光および散乱光の分布状態から求めることができる。「レーザ回折・散乱法」を測定原理とする装置は、多くのメーカーから市販されている。   The average particle size of the silicone resin powder can be measured by, for example, a particle size distribution measuring apparatus using the “laser diffraction / scattering method” as a measurement principle. This method measures the particle size distribution of particles by utilizing the fact that when a particle is irradiated with a laser beam (monochromatic light), diffracted light and scattered light are emitted in various directions according to the size of the particle. It is a technique, and the average particle diameter can be obtained from the distribution state of diffracted light and scattered light. Devices using the “laser diffraction / scattering method” as a measurement principle are commercially available from many manufacturers.

本実施形態のシリコーン樹脂の製造方法においては、シリコーン樹脂Cを1種のみ用いることとしてもよく、2種以上を併用してもよい。   In the method for producing a silicone resin of this embodiment, only one type of silicone resin C may be used, or two or more types may be used in combination.

[シリコーン樹脂組成物の製造方法1]
本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法1は、シリコーン樹脂Aと下記シリコーン樹脂Bとを原料として用いたシリコーン樹脂組成物の製造方法であって、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物を、下記式(A)を満たすまで撹拌する工程を有する。
1.03<Mwcom/Mwab<1.2 …(A)
(Mwabは、前記シリコーン樹脂Aと前記シリコーン樹脂Bとの混合物の重量平均分子量、Mwcomは、前記撹拌する工程により得られる生成物の重量平均分子量である。)
[Method 1 for producing silicone resin composition]
The production method 1 of the silicone resin composition of the present embodiment is a production method of a silicone resin composition using a silicone resin A and the following silicone resin B as raw materials, and a mixture of the silicone resin A and the silicone resin B is used. And a step of stirring until the following formula (A) is satisfied.
1.03 <Mw com / Mw ab <1.2 (A)
(Mw ab is the weight average molecular weight of the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B, and Mw com is the weight average molecular weight of the product obtained by the stirring step.)

「シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物」は、シリコーン樹脂Aおよびシリコーン樹脂Bのみで構成されている。
「撹拌する工程により得られる生成物」は、シリコーン樹脂Aおよびシリコーン樹脂Bがそれぞれ有する官能基同士が縮合反応し、その結果生じる反応生成物である。
The “mixture of silicone resin A and silicone resin B” is composed only of silicone resin A and silicone resin B.
The “product obtained by the stirring step” is a reaction product resulting from the condensation reaction between the functional groups of the silicone resin A and the silicone resin B.

撹拌後の生成物(シリコーン樹脂組成物)は、常温常圧(25℃、1気圧)で粘度100000cP以下の液状である。なお、1cPは1mPa・sである。   The product (silicone resin composition) after stirring is a liquid having a viscosity of 100000 cP or less at normal temperature and normal pressure (25 ° C., 1 atm). 1 cP is 1 mPa · s.

シリコーン樹脂Aおよびシリコーン樹脂Bは、上述したようにケイ素原子に結合したアルコキシ基または水酸基を有している。シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物は、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの縮合反応により架橋点が形成され、高分子量化して硬化する。その際、シリコーン樹脂Aおよびシリコーン樹脂Bは、縮合反応に伴ってアルコールや水などの脱離生成物を生じながら硬化する。   Silicone resin A and silicone resin B have an alkoxy group or a hydroxyl group bonded to a silicon atom as described above. In the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B, a crosslinking point is formed by the condensation reaction between the silicone resin A and the silicone resin B, and the mixture becomes high molecular weight and cured. At that time, the silicone resin A and the silicone resin B are cured while producing desorption products such as alcohol and water in accordance with the condensation reaction.

このようにシリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物から生成される脱離生成物は、縮合反応の温度条件で気化し、縮合反応により得られる硬化物の中に気泡を生じさせることがある。   Thus, the elimination | release product produced | generated from the mixture of silicone resin A and silicone resin B may vaporize on the temperature conditions of a condensation reaction, and may produce a bubble in the hardened | cured material obtained by a condensation reaction.

また、気泡の原因は、上述の脱離生成物の他にも以下のようなものが考えられる。   In addition to the above-described desorption products, the following may be considered as the cause of bubbles.

まず、気泡の原因としては、シリコーン樹脂組成物の製造過程で用いる有機溶媒が考えられる。シリコーン樹脂組成物に有機溶媒が残存すると、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物が縮合反応して硬化物となる際、縮合反応の温度条件で気化し、硬化物の中に気泡を生じさせることがある。   First, the cause of the bubbles may be an organic solvent used in the production process of the silicone resin composition. When the organic solvent remains in the silicone resin composition, when the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B undergoes a condensation reaction to become a cured product, it is vaporized under the temperature conditions of the condensation reaction, and bubbles are generated in the cured product. Sometimes.

また、気泡の原因として、シリコーン樹脂A及びシリコーン樹脂Bに含まれる低分子量のシリコーン化合物も考えられる。「低分子量のシリコーン化合物」としては、シリコーン樹脂A及びシリコーン樹脂Bの原料であって、シリコーン樹脂A及びシリコーン樹脂Bに残存する環状シロキサンを挙げることができる。環状シロキサンは、例えば−(CHSi−O−単位の3量体から10量体である。 Moreover, the low molecular weight silicone compound contained in the silicone resin A and the silicone resin B is also considered as a cause of bubbles. Examples of the “low molecular weight silicone compound” include cyclic siloxane which is a raw material of the silicone resin A and the silicone resin B and remains in the silicone resin A and the silicone resin B. The cyclic siloxane is, for example, a trimer to a 10-mer of — (CH 3 ) 2 Si—O— units.

また、「低分子量のシリコーン化合物」として、シリコーン樹脂A及びシリコーン樹脂Bに含まれ、上述の環状シロキサンと同程度の分子量を有する鎖状シロキサンを挙げることができる。   Examples of the “low molecular weight silicone compound” include chain siloxanes that are contained in the silicone resin A and the silicone resin B and have a molecular weight similar to that of the above-described cyclic siloxane.

その他、シリコーン樹脂組成物の製造過程において、原料の混合の際に混入する空気も気泡の原因となり得る。   In addition, air mixed during mixing of raw materials in the production process of the silicone resin composition can also cause bubbles.

シリコーン樹脂組成物中に生じた気泡は、シリコーン樹脂組成物と周辺雰囲気の気体との界面に浮かび上がる。気泡がシリコーン樹脂組成物の界面で破泡すると、得られる硬化物の表面が荒れることがある。すなわち、シリコーン樹脂組成物中に生じた気泡は、生成する硬化物の表面に凹凸を生じさせる原因となる。   Bubbles generated in the silicone resin composition emerge at the interface between the silicone resin composition and the ambient atmosphere gas. When bubbles break at the interface of the silicone resin composition, the surface of the resulting cured product may be roughened. That is, the bubbles generated in the silicone resin composition cause unevenness on the surface of the cured product to be generated.

また、シリコーン樹脂組成物中に生じた気泡がシリコーン樹脂組成物中に留まったまま縮合反応が終了すると、得られる硬化物は、内部に気泡を有するものとなる。   Further, when the condensation reaction is completed while the bubbles generated in the silicone resin composition remain in the silicone resin composition, the obtained cured product has bubbles inside.

このような硬化物表面の凹凸や硬化物内部の気泡は、光を散乱させる散乱源となり得る。そのため、このような表面凹凸や内部の気泡を有する硬化物を用いてLEDの封止を行うと、LEDから射出された光を散乱し、LEDを光源とする光源装置の性能を低下させるおそれがある。   Such irregularities on the surface of the cured product and bubbles inside the cured product can be a scattering source that scatters light. Therefore, if the LED is sealed using such a cured product having surface irregularities and internal bubbles, the light emitted from the LED may be scattered, and the performance of the light source device using the LED as a light source may be deteriorated. is there.

これに対し、本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法では、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物を、減圧下で1.03<Mwcom/Mwabを満たすまで撹拌する。 On the other hand, in the manufacturing method of the silicone resin composition of this embodiment, the mixture of silicone resin A and silicone resin B is stirred under reduced pressure until 1.03 < Mwcom / Mwab is satisfied.

上記撹拌により、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物は、1.03<Mwcom/Mwabを満たすまで縮合反応が進み高分子量化することになる。そのため、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物中には、縮合反応が進んだ量に相当する脱離生成物が放出されることになる。 By the above stirring, the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B proceeds to a high molecular weight until the condensation reaction proceeds until 1.03 <Mw com / Mw ab is satisfied. Therefore, in the mixture of silicone resin A and silicone resin B, a desorption product corresponding to the amount of the condensation reaction has been released.

また、本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法では、上記撹拌を減圧下で行う。そのため、縮合反応により生じた脱離生成物は、反応系外に除去されやすい。   Moreover, in the manufacturing method of the silicone resin composition of this embodiment, the said stirring is performed under reduced pressure. Therefore, the elimination product generated by the condensation reaction is easily removed out of the reaction system.

そのため、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物を、減圧下で1.03<Mwcom/Mwabを満たすまで撹拌すると、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物を予め高分子量化させたシリコーン樹脂組成物が得られる。 Therefore, when the mixture of silicone resin A and silicone resin B is stirred under reduced pressure until 1.03 <Mw com / Mw ab is satisfied, the mixture of silicone resin A and silicone resin B is preliminarily polymerized. A resin composition is obtained.

得られるシリコーン樹脂組成物は、上述の高分子量化において生じる脱離生成物を製造過程において除去している。そのため、得られるシリコーン樹脂組成物を硬化させた場合に生じる脱離生成物の量は、上述の高分子量化前の混合物を硬化させた場合に生じる脱離生成物の量よりも少ない。したがって、得られるシリコーン樹脂組成物は、硬化させたときの気泡の発生が抑制される。   In the resulting silicone resin composition, the desorption products generated in the above-described high molecular weight are removed during the production process. Therefore, the amount of the desorption product generated when the obtained silicone resin composition is cured is smaller than the amount of the desorption product generated when the above-mentioned mixture before high molecular weight is cured. Therefore, the resulting silicone resin composition suppresses the generation of bubbles when cured.

本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法では、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物を、減圧下で1.035<Mwcom/Mwabを満たすまで撹拌することが好ましく、1.04<Mwcom/Mwabを満たすまで撹拌することがより好ましい。 In the method for producing the silicone resin composition of the present embodiment, the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B is preferably stirred under reduced pressure until 1.035 <Mw com / Mw ab is satisfied, and 1.04 < It is more preferable to stir until Mwcom / Mwab is satisfied.

また、本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法では、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物を、Mwcom/Mwab<1.2を満たすまで減圧下で撹拌する。 Moreover, in the manufacturing method of the silicone resin composition of this embodiment, the mixture of silicone resin A and silicone resin B is stirred under reduced pressure until Mwcom / Mwab <1.2 is satisfied.

上述のように、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物を撹拌することにより高分子量化する。一方で、Mwcom/Mwabが1.2以上となるほど上記混合物の高分子量化が進み過ぎると、得られる生成物が高粘度化し、取扱いが困難になる。例えば、本実施形態の製造方法で製造するシリコーン樹脂組成物は、高粘度化し過ぎると、流動性が低下し、LED上に滴下(ポッティング)してLEDを封止することが困難となる。また、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの縮合反応が進み過ぎると、得られたシリコーン樹脂組成物を保存している間にさらに縮合反応が進行しやすく、保存中に固化するおそれがある。 As described above, the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B is stirred to increase the molecular weight. On the other hand, if the mixture becomes too high in molecular weight as Mw com / Mw ab is 1.2 or more, the resulting product becomes highly viscous and difficult to handle. For example, when the silicone resin composition produced by the production method of the present embodiment is too high in viscosity, the fluidity is lowered, and it is difficult to seal the LED by dropping (potting) on the LED. In addition, if the condensation reaction between the silicone resin A and the silicone resin B proceeds excessively, the condensation reaction is more likely to proceed while the obtained silicone resin composition is being stored, and may solidify during storage.

これに対し、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物の縮合反応を、Mwcom/Mwab<1.2で抑えることにより、得られるシリコーン樹脂組成物の流動性が確保され、取扱いが容易になる。例えば、シリコーン樹脂組成物が適切な粘度を有していることで、LED上に滴下(ポッティング)してLEDを封止することができ、封止と同時に封止部の表面をレンズ状の凸曲面とすることができる。 On the other hand, by suppressing the condensation reaction of the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B at Mw com / Mw ab <1.2, the fluidity of the resulting silicone resin composition is ensured and easy to handle. Become. For example, when the silicone resin composition has an appropriate viscosity, it can be dropped (potted) on the LED to seal the LED, and at the same time as the sealing, the surface of the sealing portion is made into a lens-like convex. It can be a curved surface.

本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法では、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物を、減圧下でMwcom/Mwab<1.15を満たすまで撹拌することが好ましく、Mwcom/Mwab<1.10を満たすまで撹拌することがより好ましく、Mwcom/Mwab<1.09を満たすまで撹拌することがさらに好ましい。 In the method for producing the silicone resin composition of the present embodiment, the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B is preferably stirred under reduced pressure until Mw com / Mw ab <1.15 is satisfied, and Mw com / Mw it is more preferable to stir until satisfy ab <1.10, it is more preferable to stir until it meets the Mw com / Mw ab <1.09.

したがって、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物を、減圧環境下で1.03<Mwcom/Mwab<1.2を満たすまで撹拌すると、シリコーン樹脂Aおよびシリコーン樹脂Bの混合物は縮合反応を生じ、生じる脱離生成物を除外することができる。 Therefore, when the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B is stirred under a reduced pressure environment until 1.03 <Mw com / Mw ab <1.2, the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B undergoes a condensation reaction. The resulting elimination product produced can be excluded.

得られる生成物(シリコーン樹脂組成物)を封止材料として用いLEDを封止すると、撹拌前の混合物を封止材料として用いる場合と比べ、LED上にポッティングした後、封止部を形成するまでの硬化反応で生じる脱離生成物の総量が減少する。さらに、シリコーン樹脂組成物の製造過程において、加熱撹拌、減圧を行うことにより、脱離生成物以外に想定される気泡の原因についても、シリコーン樹脂組成物から除去されやすい。そのため、本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法で製造するシリコーン樹脂組成物は、脱離生成物など気泡の原因となる物質の量を抑制し、高品質なシリコーン樹脂硬化物を容易に製造可能となる。   When the resulting product (silicone resin composition) is used as a sealing material and the LED is sealed, compared to the case where the mixture before stirring is used as the sealing material, after potting on the LED, until the sealing portion is formed The total amount of desorption products generated in the curing reaction is reduced. Furthermore, in the production process of the silicone resin composition, by causing heating and stirring and depressurization, the cause of bubbles other than the desorption product can be easily removed from the silicone resin composition. Therefore, the silicone resin composition produced by the production method of the silicone resin composition of the present embodiment suppresses the amount of substances that cause bubbles such as desorption products, and easily produces a high-quality cured silicone resin. It becomes possible.

撹拌する工程において、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物が1.03<Mwcom/Mwab<1.2を満たすことは、適宜GPC法により重合平均分子量を測定することで確認するとよい。また、本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法を繰り返し実施する場合には、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物が1.03<Mwcom/Mwab<1.2を満たすことを予備実験にて確認し、確認した条件にて撹拌を行うとよい。 In the step of stirring, it may be confirmed that the mixture of silicone resin A and silicone resin B satisfies 1.03 <Mw com / Mw ab <1.2 by appropriately measuring the polymerization average molecular weight by the GPC method. Further, when the method for producing the silicone resin composition of the present embodiment is repeatedly performed, it is preliminary that the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B satisfies 1.03 < Mwcom / Mwab <1.2. It is good to confirm by experiment and to stir under the confirmed conditions.

Mwcomは、好ましくは2500以上24000未満、より好ましくは2500以上7200以下、さらに好ましくは3500以上5500以下である。 Mwcom is preferably 2500 or more and less than 24000, more preferably 2500 or more and 7200 or less, and further preferably 3500 or more and 5500 or less.

Mwabは、好ましくは1500以上15000以下、より好ましくは1500以上6000以下、さらに好ましくは2100以上6000以下、ことさらに好ましくは3400以上5000以下である。 Mw ab is preferably 1500 or more and 15000 or less, more preferably 1500 or more and 6000 or less, further preferably 2100 or more and 6000 or less, and further preferably 3400 or more and 5000 or less.

Mwcom及びMwabが上記の範囲であると、シリコーン樹脂組成物から形成されるシリコーン樹脂硬化物の熱衝撃耐性が向上する傾向にある。また、シリコーン樹脂硬化物が、より優れるUV耐性を示す傾向にある。 When Mw com and Mw ab are in the above ranges, the thermal shock resistance of the cured silicone resin formed from the silicone resin composition tends to be improved. Moreover, it exists in the tendency for a silicone resin hardened | cured material to show the more outstanding UV tolerance.

なお、撹拌する工程では、混合物を含む組成物を撹拌することとしてもよい。この場合、組成物における有機溶媒の含有率は、1質量%以下であると好ましい。   In the step of stirring, the composition containing the mixture may be stirred. In this case, the content of the organic solvent in the composition is preferably 1% by mass or less.

このように有機溶媒が低減した組成物を、減圧下で撹拌すると、得られるシリコーン樹脂組成物は有機溶媒が含まれにくくなる。そのため、シリコーン樹脂組成物の硬化時に、シリコーン樹脂組成物に含まれる有機溶媒に起因した気泡が生じ難くなり、シリコーン樹脂組成物から得られるシリコーン樹脂硬化物に表面の凹凸や内部の気泡が生じ難くなる。さらに、有機溶媒は、加熱により酸化または分解し硬化物の着色の原因となり得る。しかし、有機溶媒の含有率を1質量%以下とすることで、このような着色を抑制することができる。   When the composition with reduced organic solvent is stirred under reduced pressure, the resulting silicone resin composition is less likely to contain an organic solvent. Therefore, when the silicone resin composition is cured, bubbles due to the organic solvent contained in the silicone resin composition are hardly generated, and surface unevenness and internal bubbles are hardly generated in the cured silicone resin obtained from the silicone resin composition. Become. Furthermore, the organic solvent can be oxidized or decomposed by heating and cause coloring of the cured product. However, such coloring can be suppressed by making the content rate of an organic solvent into 1 mass% or less.

シリコーン樹脂組成物の製造方法においては、原料であるシリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとを任意の割合で混合する。また、原料において、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの質量比は、[シリコーン樹脂A]:[シリコーン樹脂B]=10:90〜60:40であることが好ましい。   In the manufacturing method of a silicone resin composition, the silicone resin A and the silicone resin B which are raw materials are mixed in arbitrary ratios. In the raw material, the mass ratio of the silicone resin A and the silicone resin B is preferably [silicone resin A]: [silicone resin B] = 10: 90 to 60:40.

ここで、[シリコーン樹脂A]はシリコーン樹脂Aの質量を示し、[シリコーン樹脂B]はシリコーン樹脂Aの質量を示す。また、上記範囲の境界値は、範囲内に含まれるものとする。   Here, [silicone resin A] indicates the mass of silicone resin A, and [silicone resin B] indicates the mass of silicone resin A. Moreover, the boundary value of the said range shall be contained in the range.

シリコーン樹脂組成物においては、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bの合計量に対するシリコーン樹脂Aの含有率は、10質量%以上であると好ましい。シリコーン樹脂Aの含有率が上記値である場合、シリコーン樹脂硬化物のUV耐性を高めることができる。   In the silicone resin composition, the content of the silicone resin A with respect to the total amount of the silicone resin A and the silicone resin B is preferably 10% by mass or more. When the content rate of silicone resin A is the said value, the UV tolerance of a silicone resin hardened | cured material can be improved.

本実施形態で製造したシリコーン樹脂組成物に蛍光体やその他フィラー状粉体をさらに添加混合して使用する際、シリコーン樹脂組成物は適度な流動性を有すると好ましい。シリコーン樹脂Aが常温で固体である場合、シリコーン樹脂組成物においては、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bの合計量に対するシリコーン樹脂Aの含有率は、60質量%以下であると好ましい。シリコーン樹脂Aの含有率が上記値である場合、シリコーン樹脂組成物において、各種粉体との混合が容易となる。   When the phosphor resin or other filler-like powder is further added to and mixed with the silicone resin composition produced in this embodiment, the silicone resin composition preferably has appropriate fluidity. When the silicone resin A is solid at room temperature, in the silicone resin composition, the content of the silicone resin A with respect to the total amount of the silicone resin A and the silicone resin B is preferably 60% by mass or less. When the content rate of silicone resin A is the said value, in a silicone resin composition, mixing with various powder becomes easy.

シリコーン樹脂組成物の取り扱いが容易であり、且つシリコーン樹脂硬化物に高いUV耐性を付与できることから、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bの合計量に対するシリコーン樹脂Aの含有率は、30質量%以上50質量%以下([シリコーン樹脂A]:[シリコーン樹脂B]=30:70〜50:50)がより好ましい。   Since the silicone resin composition can be easily handled and high UV resistance can be imparted to the cured silicone resin, the content of the silicone resin A relative to the total amount of the silicone resin A and the silicone resin B is 30% by mass or more and 50% by mass. % Or less ([silicone resin A]: [silicone resin B] = 30: 70 to 50:50) is more preferable.

本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法は、撹拌する工程において、必要に応じて、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物にさらにシリコーン樹脂Cを加えた組成物を撹拌してもよい。   The manufacturing method of the silicone resin composition of this embodiment may stir the composition which added the silicone resin C further to the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B as needed in the process to stir.

なお、シリコーン樹脂Cは通常、上記溶媒に不溶である。GPC法による重量平均分子量の測定において測定試料にシリコーン樹脂Cが含まれる場合、シリコーン樹脂Cは、GPC測定用の溶液調整時、フィルター濾過によって除去される。そのため、シリコーン樹脂Cを用いてシリコーン樹脂組成物を製造する場合であっても、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物を、1.03<Mwcom/Mwab<1.2となるまで撹拌することができる。 Silicone resin C is usually insoluble in the solvent. In the measurement of the weight average molecular weight by the GPC method, when the silicone resin C is included in the measurement sample, the silicone resin C is removed by filter filtration when preparing a solution for GPC measurement. Therefore, even when the silicone resin composition is produced using the silicone resin C, the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B is stirred until 1.03 <Mw com / Mw ab <1.2. can do.

シリコーン樹脂A、シリコーン樹脂Bおよびシリコーン樹脂Cの合計量に対する、シリコーン樹脂Cの含有量の含有率(樹脂分含有率)は、20〜60質量%であることが好ましく、30〜50質量%であることがより好ましい。シリコーン樹脂Cの樹脂分含有率が上記範囲内であるシリコーン樹脂組成物は、硬化させた場合に、熱衝撃耐性およびUV耐性にバランスよく優れた硬化物が得られやすい傾向にある。   The content (resin content) of the silicone resin C with respect to the total amount of the silicone resin A, the silicone resin B, and the silicone resin C is preferably 20 to 60% by mass, and 30 to 50% by mass. More preferably. When the silicone resin composition in which the resin content of the silicone resin C is within the above range is cured, a cured product having a good balance between thermal shock resistance and UV resistance tends to be obtained.

[シリコーン樹脂組成物の製造方法2]
上述した撹拌する工程においては、撹拌の当初からシリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物を撹拌してもよく、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとを分けて撹拌してもよい。具体的には、上述した撹拌する工程は、シリコーン樹脂Bを撹拌する第1工程と、第1工程で得られた高分子量化したシリコーン樹脂Bにシリコーン樹脂Aを加えて混合物とした後、混合物を撹拌する第2工程と、を有するものとしてもよい。
[Method 2 for producing silicone resin composition]
In the stirring step described above, the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B may be stirred from the beginning of stirring, or the silicone resin A and the silicone resin B may be stirred separately. Specifically, in the step of stirring described above, the first step of stirring the silicone resin B, and the silicone resin A added to the high molecular weight silicone resin B obtained in the first step are mixed to form a mixture. It is good also as what has a 2nd process which stirs.

すなわち、本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法2は、シリコーン樹脂Aと下記シリコーン樹脂Bとを原料として用いたシリコーン樹脂組成物の製造方法であって、シリコーン樹脂Bを200hPa以下の減圧環境下で100℃以上に加熱しながら撹拌し、シリコーン樹脂Bが高分子量化したシリコーン樹脂B1を得る第1工程と、シリコーン樹脂B1にシリコーン樹脂Aを加えて混合物とした後、混合物を200hPa以下の減圧環境下で100℃以上に加熱しながら撹拌する第2工程と、を有する。第2工程では、下記式(A)を満たすまで混合物を撹拌する。
1.03<Mwcom/Mwab<1.2 …(A)
(Mwabは、前記シリコーン樹脂Aと前記シリコーン樹脂Bとの混合物の重量平均分子量、Mwcomは、前記第2工程により得られる生成物の重量平均分子量である。)
That is, the manufacturing method 2 of the silicone resin composition of the present embodiment is a manufacturing method of a silicone resin composition using the silicone resin A and the following silicone resin B as raw materials, and the silicone resin B is in a reduced pressure environment of 200 hPa or less. The first step of obtaining a silicone resin B1 having a high molecular weight of the silicone resin B by stirring while heating to 100 ° C. or higher, and adding the silicone resin A to the silicone resin B1 to obtain a mixture, the mixture is reduced to 200 hPa or less. And a second step of stirring while heating to 100 ° C. or higher in a reduced pressure environment. In the second step, the mixture is stirred until the following formula (A) is satisfied.
1.03 <Mw com / Mw ab <1.2 (A)
(Mw ab is the weight average molecular weight of the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B, and Mw com is the weight average molecular weight of the product obtained in the second step.)

「シリコーン樹脂B1」は、第1工程でシリコーン樹脂Bが縮合し高分子量化した重合体である。
「第2工程により得られる生成物」は、シリコーン樹脂Aおよびシリコーン樹脂B1がそれぞれ有する官能基同士が縮合反応し、その結果生じる反応生成物である。
“Silicone resin B1” is a polymer obtained by condensing silicone resin B in the first step to increase the molecular weight.
The “product obtained by the second step” is a reaction product resulting from the condensation reaction between the functional groups of the silicone resin A and the silicone resin B1.

(第1工程)
第1工程では、シリコーン樹脂Bを200hPa以下の減圧環境下で100℃以上に加熱しながら撹拌するとよい。
(First step)
In the first step, the silicone resin B may be stirred while being heated to 100 ° C. or higher in a reduced pressure environment of 200 hPa or less.

第1工程における圧力条件は、200hPa以下が好ましく、100hPa以下がより好ましく、50hPa以下がさらに好ましく、20hPa以下が特に好ましい。   The pressure condition in the first step is preferably 200 hPa or less, more preferably 100 hPa or less, further preferably 50 hPa or less, and particularly preferably 20 hPa or less.

第1工程における加熱温度は、100℃以上が好ましく、120℃以上がより好ましい。また、第1工程における加熱温度は、180℃以下が好ましく、170℃以下がより好ましい。上記上限値および下限値は、任意に組み合わせることができる。   The heating temperature in the first step is preferably 100 ° C. or higher, and more preferably 120 ° C. or higher. Further, the heating temperature in the first step is preferably 180 ° C. or lower, and more preferably 170 ° C. or lower. The upper limit value and the lower limit value can be arbitrarily combined.

第1工程における加熱温度を上記範囲内とすることで、Mwcom/Mwabを1.2未満に管理しやすく、第1工程で得られる生成物が高粘度化しにくい。そのため、第1工程で得られる生成物の取り扱いが容易となる。 By setting the heating temperature in the first step within the above range, Mw com / Mw ab can be easily managed to be less than 1.2, and the product obtained in the first step is difficult to increase in viscosity. Therefore, handling of the product obtained in the first step becomes easy.

第1工程における加熱温度到達後の撹拌時間は、15分以上が好ましく、30分以上がより好ましい。また、第1工程における加熱温度到達後の撹拌時間は、10時間以下が好ましく、8時間以下がより好ましい。上記上限値および下限値は、任意に組み合わせることができる。   The stirring time after reaching the heating temperature in the first step is preferably 15 minutes or more, and more preferably 30 minutes or more. Further, the stirring time after reaching the heating temperature in the first step is preferably 10 hours or less, and more preferably 8 hours or less. The upper limit value and the lower limit value can be arbitrarily combined.

第1工程における撹拌時間を上記範囲内とすることで、Mwcom/Mwabを1.2未満に管理しやすく、第1工程で得られる生成物が高粘度化しにくい。そのため、第1工程で得られる生成物の取り扱いが容易となる。 By setting the stirring time in the first step within the above range, Mw com / Mw ab can be easily managed to be less than 1.2, and the product obtained in the first step is difficult to increase in viscosity. Therefore, handling of the product obtained in the first step becomes easy.

上述した、第1工程の圧力、加熱温度、撹拌時間の各条件については、第1工程で得られるシリコーン樹脂B1に含まれる有機溶媒の含有率が1質量%以下であれば任意に組み合わせることができる。   About each condition of the pressure of the 1st process mentioned above, heating temperature, and stirring time, if the content rate of the organic solvent contained in silicone resin B1 obtained at the 1st process is 1 mass% or less, it can combine arbitrarily. it can.

本実施形態において、第1工程で得られるシリコーン樹脂B1中の有機溶媒の含有率は、ガスクロマトグラフィー法(GC法)により測定した値を採用する。
GC法による有機溶媒の含有率測定において、使用する溶媒としては、テトラヒドロフラン、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、γ−ブチロラクトン、ヘキサンなど、シリコーン樹脂が可溶な溶媒を用いればよい。
In this embodiment, the value measured by the gas chromatography method (GC method) is employ | adopted for the content rate of the organic solvent in silicone resin B1 obtained at a 1st process.
In the measurement of the organic solvent content by the GC method, the solvent used may be a solvent in which a silicone resin is soluble, such as tetrahydrofuran, acetone, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, γ-butyrolactone, and hexane.

一例としては、第1工程は、シリコーン樹脂Bを140℃、10hPaで1時間加熱撹拌することにより実施する。   As an example, the first step is performed by heating and stirring the silicone resin B at 140 ° C. and 10 hPa for 1 hour.

第1工程を実施することにより、一部シリコーン樹脂Bの縮合反応が進行し、シリコーン樹脂B1となる。また、縮合反応で生じた脱離生成物がシリコーン樹脂B1から除去される。   By performing the first step, the condensation reaction of part of the silicone resin B proceeds to become the silicone resin B1. Further, the elimination product generated by the condensation reaction is removed from the silicone resin B1.

(第2工程)
第2工程では、第1工程で得られたシリコーン樹脂B1にシリコーン樹脂Aを加えて混合物とする。その後、得られた混合物を200hPa以下の減圧環境下で100℃以上に加熱しながら撹拌するとよい。
(Second step)
In the second step, the silicone resin A is added to the silicone resin B1 obtained in the first step to obtain a mixture. Thereafter, the obtained mixture may be stirred while being heated to 100 ° C. or higher under a reduced pressure environment of 200 hPa or less.

第2工程における圧力条件は、200hPa以下が好ましく、100hPa以下がより好ましく、50hPa以下がさらに好ましく、20hPa以下が特に好ましい。   The pressure condition in the second step is preferably 200 hPa or less, more preferably 100 hPa or less, further preferably 50 hPa or less, and particularly preferably 20 hPa or less.

第2工程における加熱温度条件は、100℃以上が好ましく、120℃以上がより好ましい。また、第2工程における加熱温度は、180℃以下が好ましく、170℃以下がより好ましい。上記上限値および下限値は、任意に組み合わせることができる。   The heating temperature condition in the second step is preferably 100 ° C. or higher, and more preferably 120 ° C. or higher. Further, the heating temperature in the second step is preferably 180 ° C. or lower, and more preferably 170 ° C. or lower. The upper limit value and the lower limit value can be arbitrarily combined.

第2工程における撹拌時間を上記範囲内とすることで、Mwcom/Mwabを1.2未満に管理しやすく、第2工程で得られる生成物が高粘度化しにくい。そのため、第2工程で得られる生成物の取り扱いが容易となる。 By setting the stirring time in the second step within the above range, Mw com / Mw ab can be easily managed to be less than 1.2, and the product obtained in the second step is difficult to increase in viscosity. Therefore, handling of the product obtained in the second step becomes easy.

第2工程における加熱温度到達後の撹拌時間は、15分以上が好ましく、30分以上がより好ましい。また、第2工程における加熱温度到達後の撹拌時間は、10時間以下が好ましく、8時間以下がより好ましい。上記上限値および下限値は、任意に組み合わせることができる。   The stirring time after reaching the heating temperature in the second step is preferably 15 minutes or more, and more preferably 30 minutes or more. Further, the stirring time after reaching the heating temperature in the second step is preferably 10 hours or less, and more preferably 8 hours or less. The upper limit value and the lower limit value can be arbitrarily combined.

第2工程における撹拌時間を上記範囲内とすることで、Mwcom/Mwabを1.2未満に管理しやすく、第2工程で得られる生成物が高粘度化しにくい。そのため、第2工程で得られる生成物の取り扱いが容易となる。 By setting the stirring time in the second step within the above range, Mw com / Mw ab can be easily managed to be less than 1.2, and the product obtained in the second step is difficult to increase in viscosity. Therefore, handling of the product obtained in the second step becomes easy.

上述した、第2工程の圧力、加熱温度、撹拌時間の各条件については、得られるシリコーン樹脂組成物が1.03<Mwcom/Mwab<1.2を満たす条件 であれば、任意に組み合わせることができる。 The above-mentioned conditions of the pressure, heating temperature, and stirring time in the second step are arbitrarily combined as long as the obtained silicone resin composition satisfies the condition 1.03 < Mwcom / Mwab <1.2. be able to.

一例としては、第2工程は、シリコーン樹脂Bを140℃、10hPaで1時間加熱撹拌することにより実施する。   As an example, the second step is performed by heating and stirring the silicone resin B at 140 ° C. and 10 hPa for 1 hour.

第1工程の各条件と第2工程の各条件とは、それぞれ同じであってもよく、異なっていてもよい。   Each condition of the first step and each condition of the second step may be the same or different.

第2工程を実施することにより、シリコーン樹脂Aと、シリコーン樹脂B1とが互いに溶解すると共に、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂B1との混合物の縮合反応が進行する。さらに、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂B1との混合物から脱離生成物が除去される。   By performing the second step, the silicone resin A and the silicone resin B1 are dissolved together, and the condensation reaction of the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B1 proceeds. Further, the desorption product is removed from the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B1.

このような製造方法により、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂B1との混合物を、減圧下で1.03<Mwcom/Mwab<1.2を満たすまで撹拌することとしてもよい。 By such a production method, the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B1 may be stirred under reduced pressure until 1.03 <Mw com / Mw ab <1.2.

なお、シリコーン樹脂A、シリコーン樹脂Bに加えてシリコーン樹脂Cも用いてシリコーン樹脂組成物を製造する場合、第1工程においてシリコーン樹脂Bとシリコーン樹脂Cとを混合し、200hPa以下の減圧環境下で100℃以上に加熱しながら撹拌してシリコーン樹脂B1を含むシリコーン樹脂Dを得るとよい。
以下、「シリコーン樹脂B1を含むシリコーン樹脂D」を単に「シリコーン樹脂D」と称する。
In addition, when manufacturing a silicone resin composition using the silicone resin C in addition to the silicone resin A and the silicone resin B, the silicone resin B and the silicone resin C are mixed in the first step under a reduced pressure environment of 200 hPa or less. It is good to obtain the silicone resin D containing the silicone resin B1 by stirring while heating to 100 ° C. or higher.
Hereinafter, “silicone resin D including silicone resin B1” is simply referred to as “silicone resin D”.

第1工程において、シリコーン樹脂Bとシリコーン樹脂Cとを混合してシリコーン樹脂Dを調整しようとする際には、パウダー状のシリコーン樹脂Cが空気を巻きこむことで、シリコーン樹脂Dに気泡が含まれることがある。   In the first step, when the silicone resin D is prepared by mixing the silicone resin B and the silicone resin C, the powdered silicone resin C entrains air so that bubbles are included in the silicone resin D. May be.

そのため、第1工程においてシリコーン樹脂Bとシリコーン樹脂Cとを混合する場合には、上述した第1工程の圧力、加熱温度、撹拌時間の各条件は、上述した有機溶媒の含有率に加え、気泡がシリコーン樹脂Dの表面に現れなくなる条件で任意に組み合わせることができる。   Therefore, when the silicone resin B and the silicone resin C are mixed in the first step, the conditions of the pressure, the heating temperature, and the stirring time in the first step described above are the bubbles in addition to the organic solvent content described above. Can be arbitrarily combined under the condition that the surface does not appear on the surface of the silicone resin D.

このような方法でシリコーン樹脂組成物の製造方法で製造するシリコーン樹脂組成物は、製造過程で混入し得る空気の残存量が少なく、また表面凹凸や気泡の原因となる脱離生成物の発生量を抑制できる。そのため、高品質な硬化物を容易に製造可能となる。   The silicone resin composition produced by the method for producing a silicone resin composition in this way has a small residual amount of air that can be mixed in during the production process, and the generation amount of desorption products that cause surface irregularities and bubbles. Can be suppressed. Therefore, a high-quality cured product can be easily manufactured.

(その他の添加物)
本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法においては、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物に、さらにシランカップリング剤、反応促進用触媒、その他の添加剤を添加してもよい。
(Other additives)
In the method for producing the silicone resin composition of the present embodiment, a silane coupling agent, a reaction promoting catalyst, and other additives may be further added to the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B.

(シランカップリング剤)
シランカップリング剤は、シリコーン樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物と半導体発光素子または基板との密着性を向上させる効果を有する。シランカップリング剤としては、ビニル基、エポキシ基、スチリル基、メタクリル基、アクリル基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基、スルフィド基およびイソシアネート基からなる群から選ばれる少なくとも1つ以上の基を有するシランカップリング剤が好ましく、エポキシ基またはメルカプト基を有するシランカップリング剤がより好ましい。
(Silane coupling agent)
The silane coupling agent has an effect of improving the adhesion between a cured product obtained by curing the silicone resin composition and the semiconductor light emitting device or the substrate. The silane coupling agent has at least one group selected from the group consisting of vinyl group, epoxy group, styryl group, methacryl group, acrylic group, amino group, ureido group, mercapto group, sulfide group and isocyanate group. A silane coupling agent is preferable, and a silane coupling agent having an epoxy group or a mercapto group is more preferable.

シランカップリング剤としては、具体的には、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。   Specific examples of the silane coupling agent include 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and 3-glycol. Sidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and the like can be mentioned.

本実施形態の製造方法で製造するシリコーン樹脂組成物にシランカップリング剤が含まれる場合、シランカップリング剤に含まれるケイ素原子も29Si−NMRのシグナルとして検出される。そのため、本明細書においては、シリコーン樹脂組成物のシグナル面積(T1ケイ素原子として帰属されるシグナル面積、T2ケイ素原子として帰属されるシグナル面積およびT3ケイ素原子として帰属されるシグナル面積)の計算時にシランカップリング剤のシグナルも含めるものとする。 When the silane coupling agent is contained in the silicone resin composition produced by the production method of the present embodiment, silicon atoms contained in the silane coupling agent are also detected as 29 Si-NMR signals. Therefore, in the present specification, when calculating the signal area of the silicone resin composition (signal area attributed as T1 silicon atom, signal area attributed as T2 silicon atom and signal area attributed as T3 silicon atom) Coupling agent signals should also be included.

本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法で用いるシランカップリング剤の含有量は、シリコーン樹脂Aおよびシリコーン樹脂Bの合計含有量100質量部、または、シリコーン樹脂A、シリコーン樹脂Bおよびシリコーン樹脂Cの合計含有量100質量部(樹脂分)に対して、好ましくは0.0001〜1.0質量部であり、より好ましくは0.001〜0.1質量部である。シランカップリング剤の含有量が上記範囲よりも高いと、シランカップリング剤自身が光を吸収することにより、シリコーン樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物の透明性を低下させる場合がある。   The content of the silane coupling agent used in the method for producing the silicone resin composition of the present embodiment is 100 parts by mass of the total content of the silicone resin A and the silicone resin B, or the silicone resin A, the silicone resin B, and the silicone resin C. Preferably it is 0.0001-1.0 mass part with respect to 100 mass parts (resin content) of total content, More preferably, it is 0.001-0.1 mass part. If the content of the silane coupling agent is higher than the above range, the silane coupling agent itself may absorb light, thereby reducing the transparency of the cured product obtained by curing the silicone resin composition.

(反応促進用触媒)
シリコーン樹脂組成物には、一般的に、酸性化合物、アルカリ性化合物、金属系化合物等の反応促進用触媒が添加される場合がある。本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法では、撹拌する工程において、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物に反応促進用触媒を添加していてもよい。
(Catalyst for reaction promotion)
In general, a reaction promoting catalyst such as an acidic compound, an alkaline compound, or a metal compound may be added to the silicone resin composition. In the method for producing the silicone resin composition of the present embodiment, a reaction promoting catalyst may be added to the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B in the stirring step.

反応促進用触媒を添加することにより、撹拌する工程において、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物が1.03<Mwcom/Mwab<1.2を満たすまでの時間が短くなる。または、反応促進用触媒を添加することにより、反応促進用触媒を用いない場合と比べて、加熱撹拌する工程における加熱温度を低くすることができる。 By adding the reaction promoting catalyst, in the stirring step, the time until the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B satisfies 1.03 < Mwcom / Mwab <1.2 is shortened. Alternatively, by adding a reaction promoting catalyst, the heating temperature in the step of heating and stirring can be lowered as compared with the case where the reaction promoting catalyst is not used.

反応促進用触媒を用いる場合、反応促進用触媒としては、シリコーン樹脂組成物の縮合反応を促進し得るものであれば種々の触媒を用いることができる。   In the case of using the reaction promoting catalyst, various catalysts can be used as the reaction promoting catalyst as long as they can promote the condensation reaction of the silicone resin composition.

シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bの官能基が、アルコキシ基や水酸基である場合は、加水分解縮合反応を促進するため、反応促進用触媒として、無機酸または有機酸を用いることができる。無機酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、燐酸を例示することができる。有機酸としては、蟻酸、酢酸、蓚酸、クエン酸、プロピオン酸、酪酸、乳酸、コハク酸を例示することができる。   When the functional groups of the silicone resin A and the silicone resin B are an alkoxy group or a hydroxyl group, an inorganic acid or an organic acid can be used as a reaction promoting catalyst in order to promote a hydrolysis condensation reaction. Examples of the inorganic acid include hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, and phosphoric acid. Examples of the organic acid include formic acid, acetic acid, succinic acid, citric acid, propionic acid, butyric acid, lactic acid, and succinic acid.

また、反応促進用触媒として、アルカリ性の化合物を用いることも可能である。アルカリ性の化合物としては、水酸化アンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウムを例示することができる。   In addition, an alkaline compound can be used as the reaction promoting catalyst. Examples of the alkaline compound include ammonium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, and tetraethylammonium hydroxide.

また、反応促進用触媒の含有量は、シリコーン樹脂Aおよびシリコーン樹脂Bの合計含有量、または、シリコーン樹脂A、シリコーン樹脂Bおよびシリコーン樹脂Cの合計含有量(樹脂分)に対して、0.5質量%以下であることが好ましく、0.05質量%以下であることがより好ましい。   In addition, the content of the reaction accelerating catalyst is 0. 0% relative to the total content of the silicone resin A and the silicone resin B or the total content (resin content) of the silicone resin A, the silicone resin B, and the silicone resin C. It is preferably 5% by mass or less, and more preferably 0.05% by mass or less.

本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法において、反応促進用触媒として金属系触媒を用いる場合、金属系触媒の含有量は、0.05質量%以下であることが好ましく、0.01質量%以下であることがより好ましく、0.001質量%以下であることが更に好ましい。   In the method for producing the silicone resin composition of the present embodiment, when a metal catalyst is used as the reaction promoting catalyst, the content of the metal catalyst is preferably 0.05% by mass or less, and 0.01% by mass. More preferably, it is more preferably 0.001% by mass or less.

(その他の添加剤)
その他の添加剤としては、シリコーン樹脂A、シリコーン樹脂Bおよびシリコーン樹脂Cとは異なる、シリコーン樹脂、シリコーンオリゴマー、シリコーン化合物等が挙げられる。その他の添加剤の具体例としては、工業的に市販されている一般的な改質用シリコーン化合物が挙げられる。本実施形態のシリコーン樹脂組成物が当該改質用シリコーン化合物を含むことにより、シリコーン樹脂硬化物に柔軟性を付与することができる。改質用シリコーン化合物としては、例えば、RSiO2/2(ここで、Rはアルキル基を表す。)を主鎖とするジアルキルシロキサン構造を持つポリマー、オリゴマー等が挙げられる。
(Other additives)
Examples of other additives include silicone resins, silicone oligomers, and silicone compounds that are different from silicone resin A, silicone resin B, and silicone resin C. Specific examples of other additives include general modifying silicone compounds that are commercially available. When the silicone resin composition of the present embodiment includes the modifying silicone compound, flexibility can be imparted to the cured silicone resin. Examples of the modifying silicone compound include polymers and oligomers having a dialkylsiloxane structure whose main chain is R 2 SiO 2/2 (where R represents an alkyl group).

本実施形態の製造方法で製造するシリコーン樹脂組成物にシリコーン化合物が含まれる場合、シリコーン化合物に含まれるケイ素原子も29Si−NMRのシグナルとして検出される。そのため、本明細書においては、シリコーン樹脂組成物のシグナル面積(T1ケイ素原子として帰属されるシグナル面積、T2ケイ素原子として帰属されるシグナル面積およびT3ケイ素原子として帰属されるシグナル面積)の計算時にシリコーン化合物のシグナルも含めるものとする。 When a silicone compound is contained in the silicone resin composition produced by the production method of the present embodiment, silicon atoms contained in the silicone compound are also detected as 29 Si-NMR signals. Therefore, in the present specification, silicone is calculated when calculating the signal area of the silicone resin composition (signal area attributed as T1 silicon atom, signal area attributed as T2 silicon atom and signal area attributed as T3 silicon atom). Compound signals should also be included.

本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法において、シリコーン化合物の使用量は、シリコーン樹脂Aおよびシリコーン樹脂Bの合計含有量100質量部、または、シリコーン樹脂A、シリコーン樹脂Bおよびシリコーン樹脂Cの合計含有量100質量部(樹脂分)に対して、好ましくは0.1〜20質量部であり、より好ましくは0.5〜10質量部である。シリコーン化合物の含有量が上記範囲よりも高いと、シリコーン樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物の透明性が損なわれる場合がある。   In the manufacturing method of the silicone resin composition of the present embodiment, the amount of the silicone compound used is 100 parts by mass of the total content of the silicone resin A and the silicone resin B, or the total of the silicone resin A, the silicone resin B, and the silicone resin C. Preferably it is 0.1-20 mass parts with respect to 100 mass parts (resin content) of content, More preferably, it is 0.5-10 mass parts. When content of a silicone compound is higher than the said range, transparency of the hardened | cured material obtained by hardening a silicone resin composition may be impaired.

添加剤の他の例としては、例えば、シリコーン樹脂組成物の混合時に発生する気泡を抑制させるための消泡剤等が挙げられる。   Other examples of the additive include, for example, an antifoaming agent for suppressing bubbles generated when the silicone resin composition is mixed.

(シリコーン樹脂組成物)
以上のようなシリコーン樹脂組成物の製造方法により、以下のシリコーン樹脂組成物を製造することができる。
(Silicone resin composition)
The following silicone resin composition can be produced by the method for producing a silicone resin composition as described above.

本実施形態のシリコーン樹脂組成物は、下記シリコーン樹脂Aと下記シリコーン樹脂Bとを原料として用いたシリコーン樹脂組成物であって、GPC測定によって得られる、横軸を標準ポリスチレン換算の分子量、縦軸を示差屈折率検出器の検出強度とした分子量分布曲線に基づいて、下記方法で求めた評価値が25未満である。   The silicone resin composition of this embodiment is a silicone resin composition using the following silicone resin A and the following silicone resin B as raw materials. The horizontal axis is obtained by GPC measurement, the horizontal axis is the molecular weight in terms of standard polystyrene, and the vertical axis The evaluation value obtained by the following method is less than 25 based on the molecular weight distribution curve in which is the detection intensity of the differential refractive index detector.

シリコーン樹脂A:含有する構造単位が実質的にT体のみであり、T体のうちT3体の割合が60モル%以上90モル%以下であり、重量平均分子量が1500以上8000以下であるシリコーン樹脂。
シリコーン樹脂B:含有する構造単位が実質的にT体のみであり、T体のうちT3体の割合が30モル%以上60モル%未満であり、重量平均分子量が1500以上であるシリコーン樹脂。
(T体は、3個の酸素原子と結合しているケイ素原子を含む構造単位を意味する。
T3体は、T体のうちT体が有する3個の酸素原子の全てが他のケイ素原子と結合している構造単位を意味する。)
Silicone resin A: A silicone resin in which the structural unit contained is substantially only T-form, the proportion of T3-form in T-form is 60 mol% or more and 90 mol% or less, and the weight average molecular weight is 1500 or more and 8000 or less. .
Silicone resin B: A silicone resin in which the structural unit is substantially only T-form, the proportion of T3-form in the T-form is 30 mol% or more and less than 60 mol%, and the weight average molecular weight is 1500 or more.
(T-form means a structural unit containing a silicon atom bonded to three oxygen atoms.
The T3 body means a structural unit in which all three oxygen atoms of the T body in the T body are bonded to other silicon atoms. )

(評価値の算出方法)
前記分子量分布曲線において、分子量が245から400の範囲に見られる強度0未満のピークのうち絶対値が最大のピークについて、ピークトップ強度が−1となるように前記分子量分布曲線の縦軸の値を規格化する。
規格化した前記分子量分布曲線と、規格化した前記分子量分布曲線において分子量が140である点と245である点の2点間を結ぶ1次式で表される直線(基準線)と、で囲まれた領域における規格化検出強度値の和を、評価値として求める。
(基準線と規格化した分子量分布曲線で囲まれた領域における規格化検出強度値とは、GPC測定のデータ取得時間間隔0.3秒に相当する分子量間隔で並んだ各分子量における基準線から前記規格化検出強度値を差し引いた値を意味する。)
(Evaluation value calculation method)
In the molecular weight distribution curve, the peak value of the vertical axis of the molecular weight distribution curve is such that the peak top intensity is −1 for the peak having the maximum absolute value among the peaks having a molecular weight of 245 to 400 and less than 0 intensity. To standardize.
Surrounded by the normalized molecular weight distribution curve and a straight line (reference line) represented by a linear expression connecting two points of a molecular weight of 140 and a point of 245 in the normalized molecular weight distribution curve The sum of the normalized detection intensity values in the determined area is obtained as an evaluation value.
(The normalized detection intensity value in the region surrounded by the reference line and the normalized molecular weight distribution curve is the above-mentioned reference line for each molecular weight arranged at a molecular weight interval corresponding to a data acquisition time interval of 0.3 seconds for GPC measurement. It means the value obtained by subtracting the normalized detection intensity value.)

上記方法で求めた評価値は、シリコーン樹脂組成物に含まれる低分子量成分の含有量を評価するための指標となる値である。評価値が小さいほど、シリコーン樹脂組成物に含まれる低分子量成分が少ないと評価することができる。   The evaluation value calculated | required by the said method is a value used as the parameter | index for evaluating content of the low molecular weight component contained in a silicone resin composition. It can be evaluated that the smaller the evaluation value, the less the low molecular weight component contained in the silicone resin composition.

本発明において上記評価値を求める際には、シリコーン樹脂組成物を下記条件でGPC測定し、得られた分子量分布曲線を用いる。分子量分布曲線は、GPC測定によって得られたクロマトグラムと、標準ポリスチレンを用いて予め求めたGPC溶出時間に対する標準ポリスチレンの分子量との関係を示す検量線と、を用いて求める。   In obtaining the evaluation value in the present invention, the silicone resin composition is subjected to GPC measurement under the following conditions, and the obtained molecular weight distribution curve is used. The molecular weight distribution curve is determined using a chromatogram obtained by GPC measurement and a calibration curve indicating the relationship between the molecular weight of standard polystyrene with respect to GPC elution time determined in advance using standard polystyrene.

<GPC測定条件>
装置 :東ソー社製 HLC−8220
カラム :TSKgel Multipore HXL−M×3+Guardcolumn−MP(XL)
流量 :1.0mL/分
検出条件 :RI(ポラリティー+)
濃度 :100mg+5mL(THF)
注入量 :100μL
カラム温度:40℃
溶離液 :THF(テトラヒドロフラン)
分子量標準:標準ポリスチレン
データ取得時間間隔:0.3秒
<GPC measurement conditions>
Apparatus: Tosoh HLC-8220
Column: TSKgel Multipore HXL-M × 3 + Guardcolumn-MP (XL)
Flow rate: 1.0 mL / min Detection condition: RI (polarity +)
Concentration: 100 mg + 5 mL (THF)
Injection volume: 100 μL
Column temperature: 40 ° C
Eluent: THF (tetrahydrofuran)
Molecular weight standard: Standard polystyrene data acquisition time interval: 0.3 seconds

シリコーン樹脂組成物について求めた分子量分布曲線において、分子量140から400の範囲には、シリコーン樹脂A,Bに含まれる低分子量成分が検出されると考えられる。このような低分子量成分は、シリコーン樹脂A,Bに含まれる低分子シリコーンであると考えられる。シリコーン樹脂組成物の技術分野において、このような原料由来の低分子量成分の含有量は微量であるが、本実施形態においては、微量に含まれる低分子量成分が上述の気泡の原因となり得る。そのため、発明者らは、上記低分子量成分の量に着目した。   In the molecular weight distribution curve obtained for the silicone resin composition, it is considered that low molecular weight components contained in the silicone resins A and B are detected in the molecular weight range of 140 to 400. Such a low molecular weight component is considered to be a low molecular weight silicone contained in the silicone resins A and B. In the technical field of silicone resin compositions, the content of such low-molecular-weight components derived from raw materials is very small, but in this embodiment, low-molecular-weight components contained in small amounts can cause the above-mentioned bubbles. Therefore, the inventors paid attention to the amount of the low molecular weight component.

発明者らの検討により、上述した本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法によって製造されたシリコーン樹脂組成物では、低分子量成分のうち分子量140から245の範囲の成分が低減していることが分かった。これは、本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法において加熱撹拌や減圧を行うことにより、分子量140から245の範囲の低分子量成分が揮発し、除去されたためと考えられる。揮発しやすいことから、分子量140から245の範囲の低分子量成分は、上述の気泡の原因になりやすいと考えられる。   According to the inventors' investigation, in the silicone resin composition produced by the above-described method for producing the silicone resin composition of the present embodiment, components having a molecular weight in the range of 140 to 245 among low molecular weight components are reduced. I understood. This is presumably because low molecular weight components having a molecular weight in the range of 140 to 245 were volatilized and removed by heating and stirring or reducing pressure in the method for producing the silicone resin composition of the present embodiment. Since it tends to volatilize, a low molecular weight component having a molecular weight in the range of 140 to 245 is considered to cause the above-mentioned bubbles.

対して、発明者らの検討により、上述した本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法によって製造されたシリコーン樹脂組成物では、低分子量成分のうち分子量245から400の範囲の成分は、シリコーン樹脂組成物の製造方法における加熱撹拌や減圧を行っても減少しないことが分かった。   On the other hand, in the silicone resin composition produced by the above-described method for producing the silicone resin composition of the present embodiment, the components having a molecular weight in the range of 245 to 400 among the low molecular weight components are silicone resins. It turned out that it does not reduce even if it performs heating stirring and pressure reduction in the manufacturing method of a composition.

そこで、本実施形態においては、シリコーン樹脂組成物の製造方法によって低減する分子量140から245の範囲の低分子量成分の量を評価するため、上述の方法で求める評価値を規定した。発明者らの検討によれば、評価値が25未満であるシリコーン樹脂組成物は、得られる硬化物に気泡が混入しにくく、高品質な硬化物が得られることが分かった。   Therefore, in this embodiment, in order to evaluate the amount of the low molecular weight component in the molecular weight range of 140 to 245, which is reduced by the method for producing the silicone resin composition, the evaluation value obtained by the above method is defined. According to the study by the inventors, it was found that the silicone resin composition having an evaluation value of less than 25 is less likely to be mixed with bubbles in the obtained cured product, and a high-quality cured product can be obtained.

上述の評価値は、好ましくは20以下、より好ましくは15以下、さらに好ましくは10以下である。下限値は特に限定されないが 、好ましくは0.5以上、より好ましくは1.0以上、さらに好ましくは1.5以上、特に好ましくは2.0以上である。評価値の下限値が上記範囲内であると、シリコーン樹脂組成物に低分子量成分が適度に含まれることにより、シリコーン樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物の柔軟性が向上し、熱衝撃耐性を高くできる。   The above evaluation value is preferably 20 or less, more preferably 15 or less, and further preferably 10 or less. The lower limit is not particularly limited, but is preferably 0.5 or more, more preferably 1.0 or more, still more preferably 1.5 or more, and particularly preferably 2.0 or more. When the lower limit value of the evaluation value is within the above range, the silicone resin composition appropriately contains a low molecular weight component, thereby improving the flexibility of the cured product obtained by curing the silicone resin composition, and thermal shock. High tolerance can be achieved.

本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法により製造されるシリコーン樹脂組成物は、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとを含む。また、得られるシリコーン樹脂組成物は、樹脂組成物が含有するケイ素原子が、T1ケイ素原子およびT2ケイ素原子からなる群から選ばれる少なくとも1種のケイ素原子と、T3ケイ素原子とから実質的になり、T1ケイ素原子、T2ケイ素原子およびT3ケイ素原子の合計含有量に対する、T3ケイ素原子の含有量の割合が、50モル%以上99モル%以下であり、前記ケイ素原子に結合する側鎖が、炭素数1〜3のアルキル基と、炭素数1または2のアルコキシ基とを含み、アルコキシ基のモル比が、アルキル基100に対して5以上である。   The silicone resin composition produced by the method for producing a silicone resin composition of the present embodiment includes silicone resin A and silicone resin B. Further, in the obtained silicone resin composition, the silicon atom contained in the resin composition is substantially composed of at least one silicon atom selected from the group consisting of T1 silicon atom and T2 silicon atom, and T3 silicon atom. , The ratio of the content of T3 silicon atom to the total content of T1 silicon atom, T2 silicon atom and T3 silicon atom is 50 mol% or more and 99 mol% or less, and the side chain bonded to the silicon atom is carbon It contains a C 1-3 alkyl group and a C 1 or C 2 alkoxy group, and the molar ratio of the alkoxy group is 5 or more with respect to the alkyl group 100.

シリコーン樹脂組成物におけるT1ケイ素原子、T2ケイ素原子およびT3ケイ素原子は、上記シリコーン樹脂Aにおいて説明したものと同じである。   The T1 silicon atom, T2 silicon atom, and T3 silicon atom in the silicone resin composition are the same as those described for the silicone resin A.

得られるシリコーン樹脂組成物において、前記ケイ素原子に結合する側鎖に含まれる水酸基のモル比は、前記アルキル基100に対して10以上であることが好ましい。   In the obtained silicone resin composition, the molar ratio of the hydroxyl group contained in the side chain bonded to the silicon atom is preferably 10 or more with respect to the alkyl group 100.

本実施形態の製造方法で製造されるシリコーン樹脂組成物は、高い熱衝撃耐性を示す硬化物の製造に有用である。このような硬化物は、UV透過性が高く、UV耐性(耐光性)が高いため、UV−LED用封止材として好適に利用することができる。   The silicone resin composition produced by the production method of this embodiment is useful for producing a cured product exhibiting high thermal shock resistance. Since such a cured product has high UV transparency and high UV resistance (light resistance), it can be suitably used as a sealing material for UV-LED.

本明細書において、シリコーン樹脂硬化物の熱衝撃耐性が高いとは、シリコーン樹脂硬化物に、例えば、−30℃で30分間静置した後、85℃で30分間静置するという温度サイクルを100回繰り返す熱衝撃を与えた場合においても、シリコーン樹脂硬化物にクラックが発生しにくいことを意味する。   In this specification, the thermal shock resistance of the cured silicone resin is high, for example, a temperature cycle of 100 ° C. for 30 minutes at −30 ° C. and then 30 minutes at 85 ° C. This means that cracks are hardly generated in the cured silicone resin even when repeated thermal shock is applied.

本明細書において、シリコーン樹脂硬化物のUV耐性が高いとは、シリコーン樹脂硬化物にUV光を照射した場合においても、シリコーン樹脂硬化物に、変色、クラック発生等の劣化が少ないことを意味する。ここで、UV光とは、波長250〜400nm程度の光を意味する。   In this specification, the high UV resistance of the cured silicone resin means that the cured silicone resin has little deterioration such as discoloration and occurrence of cracks even when the cured silicone resin is irradiated with UV light. . Here, the UV light means light having a wavelength of about 250 to 400 nm.

さらに、本実施形態のシリコーン樹脂組成物の製造方法により製造されるシリコーン樹脂組成物は、硬化させたときに生じる脱離生成物の量が、シリコーン樹脂Aとシリコーン樹脂Bとの混合物を硬化させたときに生じる脱離生成物の量よりも少ない。そのため、得られる硬化物に表面凹凸が生じ難く、また硬化物の内部に気泡が混入しにくい。   Furthermore, in the silicone resin composition produced by the method for producing a silicone resin composition of the present embodiment, the amount of desorption products generated when cured is such that the mixture of silicone resin A and silicone resin B is cured. Less than the amount of desorption product produced. Therefore, surface unevenness is hardly generated in the obtained cured product, and bubbles are not easily mixed inside the cured product.

したがって、以上のような構成のシリコーン樹脂組成物の製造方法によれば、高品質な硬化物を容易に製造可能となる。   Therefore, according to the method for producing a silicone resin composition having the above configuration, a high-quality cured product can be easily produced.

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。   The preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but it goes without saying that the present invention is not limited to such examples. Various shapes, combinations, and the like of the constituent members shown in the above-described examples are examples, and various modifications can be made based on design requirements and the like without departing from the gist of the present invention.

以下に本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

<GPC測定>
本実施例において、シリコーン樹脂及びシリコーン樹脂組成物の分子量測定については、GPC法を用いた。GPC測定用の溶液調整時、ディスポーザブルフィルターユニット(アドバンテック東洋株式会社製、DISMIC−25HP、孔径0.45μm)を用いて溶液中の不溶物を除去した。得られた調製溶液について、下記の条件で標準ポリスチレン換算の重量平均分子量を測定した。
測定条件は以下のとおりであった。
<GPC measurement>
In this example, the GPC method was used for molecular weight measurement of the silicone resin and the silicone resin composition. During preparation of the solution for GPC measurement, insoluble matters in the solution were removed using a disposable filter unit (manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd., DISMIC-25HP, pore size 0.45 μm). About the obtained preparation solution, the weight average molecular weight of standard polystyrene conversion was measured on condition of the following.
The measurement conditions were as follows.

<GPC測定条件>
装置 :東ソー社製 HLC−8220
カラム :TSKgel Multipore HXL−M×3+Guardcolumn−MP(XL)
流量 :1.0mL/分
検出条件 :RI(ポラリティー+)
濃度 :100mg+5mL(THF)
注入量 :100μL
カラム温度:40℃
溶離液 :THF(テトラヒドロフラン)
分子量標準:標準ポリスチレン
データ取得時間間隔:0.3秒
<GPC measurement conditions>
Apparatus: Tosoh HLC-8220
Column: TSKgel Multipore HXL-M × 3 + Guardcolumn-MP (XL)
Flow rate: 1.0 mL / min Detection condition: RI (polarity +)
Concentration: 100 mg + 5 mL (THF)
Injection volume: 100 μL
Column temperature: 40 ° C
Eluent: THF (tetrahydrofuran)
Molecular weight standard: Standard polystyrene data acquisition time interval: 0.3 seconds

<低分子量成分の含有量の評価値の算出>
以下実施例、比較例にて得られたシリコーン樹脂組成物中に含まれる低分子量成分の含有量の評価値について、上記GPC測定条件において得られた分子量分布曲線を解析することで求めた。分子量分布曲線の横軸は、標準ポリスチレン換算の分子量、縦軸は示差屈折率検出器の検出強度を示す。
<Calculation of evaluation value of content of low molecular weight component>
Hereinafter, the evaluation value of the content of the low molecular weight component contained in the silicone resin compositions obtained in Examples and Comparative Examples was obtained by analyzing the molecular weight distribution curve obtained under the above GPC measurement conditions. The horizontal axis of the molecular weight distribution curve indicates the molecular weight in terms of standard polystyrene, and the vertical axis indicates the detection intensity of the differential refractive index detector.

まず、得られた分子量分布曲線において、分子量が245から400の範囲に見られる強度0未満のピークのうち絶対値が最大のピークについて、ピークトップ強度が−1となるように分子量分布曲線の縦軸の値を規格化した。   First, in the obtained molecular weight distribution curve, the vertical axis of the molecular weight distribution curve is such that the peak top intensity is −1 for the peak having the maximum absolute value among the peaks having a molecular weight of 245 to 400 and less than 0 intensity. Axis values were normalized.

次いで、規格化した分子量分布曲線と、規格化した分子量分布曲線において分子量が140である点と245である点の2点を結ぶ1次式で表される直線(基準線)と、で囲まれた領域における規格化検出強度値の和を求めた。ここで、基準線と規格化した分子量分布曲線とで囲まれた領域における規格化検出強度値とは、GPC測定のデータ取得時間間隔0.3秒に相当する分子量間隔で並んだ各分子量における基準線から前記規格化検出強度値を差し引いた値を意味する。得られた規格化検出強度値の和を評価値とした。   Next, it is surrounded by a normalized molecular weight distribution curve and a straight line (reference line) expressed by a linear expression connecting two points of a molecular weight of 140 and a point of 245 in the normalized molecular weight distribution curve. The sum of the normalized detection intensity values in each region was obtained. Here, the standardized detection intensity value in the region surrounded by the reference line and the standardized molecular weight distribution curve is the standard for each molecular weight arranged at a molecular weight interval corresponding to a data acquisition time interval of GPC measurement of 0.3 seconds. It means a value obtained by subtracting the normalized detection intensity value from a line. The sum of the obtained normalized detection intensity values was used as the evaluation value.

<シリコーン樹脂及びシリコーン樹脂組成物におけるケイ素原子の種類の特定及び置換基の存在比率の測定>
本実施例において、原料のシリコーン樹脂におけるケイ素原子の種類の特定、およびシリコーン樹脂における置換基の存在比率を測定するための手段としては、溶液H−NMR法または溶液29Si−NMR法を用いた。
<Specification of silicon atom type in silicone resin and silicone resin composition and measurement of abundance ratio of substituents>
In this example, the solution 1 H-NMR method or the solution 29 Si-NMR method was used as a means for specifying the type of silicon atom in the raw material silicone resin and measuring the abundance ratio of substituents in the silicone resin. It was.

<溶液H−NMR測定条件>
装置名 :JEOL RESONANCE社製 ECA−500
観測核 :1H
観測周波数 :500.16MHz
測定温度 :室温
測定溶媒 :DMSO−d
パルス幅 :6.60μsec(45°)
パルス繰り返し時間:7.0sec
積算回数 :16回
試料濃度(試料/測定溶媒):300mg/0.6ml
<Solution 1 H-NMR measurement conditions>
Device name: ECA-500 manufactured by JEOL RESONANCE
Observation nucleus: 1H
Observation frequency: 500.16 MHz
Measurement temperature: room temperature measurement solvent: DMSO-d 6
Pulse width: 6.60 μsec (45 °)
Pulse repetition time: 7.0 sec
Integration count: 16 times Sample concentration (sample / measuring solvent): 300 mg / 0.6 ml

<溶液29Si−NMR測定条件>
装置名 :Agilent社製 400−MR
観測核 :29Si
観測周波数 :79.42MHz
測定温度 :室温
測定溶媒 :CDCl
パルス幅 :8.40μsec(45°)
パルス繰り返し時間:15.0sec
積算回数 :4000回
試料濃度(試料/測定溶媒):300mg/0.6ml
<Solution 29 Si-NMR measurement conditions>
Device name: 400-MR manufactured by Agilent
Observation nucleus: 29 Si
Observation frequency: 79.42 MHz
Measurement temperature: room temperature measurement solvent: CDCl 3
Pulse width: 8.40 μsec (45 °)
Pulse repetition time: 15.0 sec
Integration count: 4000 times Sample concentration (sample / measuring solvent): 300 mg / 0.6 ml

<GC測定条件>
本明細書において、シリコーン樹脂組成物の有機溶媒の含有率は、ガスクロマトグラフィー(GC)法により測定した値を用いた。測定条件は以下のとおりであった。
<GC measurement conditions>
In this specification, the value measured by the gas chromatography (GC) method was used for the organic solvent content of the silicone resin composition. The measurement conditions were as follows.

<GC測定条件>
装置 :Agilent社製 6890型
カラム :CP−PorabondQ(0.25mmφ×30m、0.25μm)
キャリアガス:ヘリウム
スプリット比:40:1
カラム温度 :50℃で5分保持、10℃/分で昇温、300℃で10分保持
注入口温度 :200℃
検出器 :FID
検出器温度 :250℃
IS試薬 :メチルイソブチルケトン
希釈溶媒 :γ−ブチロラクトン
<GC measurement conditions>
Apparatus: Agilent 6890 type column: CP-PorabbondQ (0.25 mmφ × 30 m, 0.25 μm)
Carrier gas: helium split ratio: 40: 1
Column temperature: held at 50 ° C for 5 minutes, heated at 10 ° C / minute, held at 300 ° C for 10 minutes Inlet temperature: 200 ° C
Detector: FID
Detector temperature: 250 ° C
IS reagent: Diluting solvent for methyl isobutyl ketone: γ-butyrolactone

(シリコーン樹脂)
シリコーン樹脂Aとして、上記一般式(1)で表されるオルガノポリシロキサン構造を有するシリコーン樹脂1(上記一般式(1)中、R=メチル基、R=メトキシ基または水酸基)を用いた。シリコーン樹脂1の各構造単位の存在比率を、表1に示す。
(Silicone resin)
As the silicone resin A, a silicone resin 1 having an organopolysiloxane structure represented by the above general formula (1) (R 1 = methyl group, R 2 = methoxy group or hydroxyl group in the above general formula (1)) was used. . Table 1 shows the abundance ratio of each structural unit of the silicone resin 1.

シリコーン樹脂1の重量平均分子量を測定したところ、Mw=3100であった。   When the weight average molecular weight of the silicone resin 1 was measured, it was Mw = 3100.

シリコーン樹脂Bとして、上記一般式(2)で表されるオルガノポリシロキサン構造を有するシリコーン樹脂2(上記一般式(2)中、R=メチル基、R=メトキシ基)を用いた。シリコーン樹脂2の各構造単位の存在比率を、表2に示す。 As the silicone resin B, a silicone resin 2 having an organopolysiloxane structure represented by the above general formula (2) (R 1 = methyl group, R 2 = methoxy group in the above general formula (2)) was used. The abundance ratio of each structural unit of the silicone resin 2 is shown in Table 2.

シリコーン樹脂2の重量平均分子量を測定したところ、Mw=5600であった。   When the weight average molecular weight of the silicone resin 2 was measured, it was Mw = 5600.

シリコーン樹脂Cとして、信越化学工業社製のシリコーン樹脂3(商品名「KMP−701」、式:RSiO3/2におけるRがメチル基であり、シロキサン結合を生じ得る官能基として、メトキシ基および水酸基を有する。)を用いた。シリコーン樹脂3を5℃/分の昇温速度で室温から200℃まで昇温させ、200℃で5時間空気中で保持した際の質量減少率は、0.6%であった。
シリコーン樹脂3は、平均粒径3.5μm(カタログ値)、粒径分布1〜6μm(カタログ値)のシリコーンレジンパウダーである。
As silicone resin C, silicone resin 3 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (trade name “KMP-701”, R: RSiO 3/2 in the formula: RSiO 3/2 is a methyl group, and methoxy group and hydroxyl group are functional groups capable of forming a siloxane bond. Used.). When the silicone resin 3 was heated from room temperature to 200 ° C. at a rate of temperature increase of 5 ° C./min and held in air at 200 ° C. for 5 hours, the mass reduction rate was 0.6%.
The silicone resin 3 is a silicone resin powder having an average particle size of 3.5 μm (catalog value) and a particle size distribution of 1 to 6 μm (catalog value).

(実施例1)
15gのシリコーン樹脂2と、25gのシリコーン樹脂3とをロータリーエバポレータ用のガラス容器に加え、10hPaの減圧環境下、140℃で1時間加熱撹拌することで、白色透明な粘性のシリコーン樹脂4を得た。本操作は、上記実施形態における「第1工程」に該当する。
Example 1
15 g of silicone resin 2 and 25 g of silicone resin 3 are added to a glass container for a rotary evaporator and heated and stirred at 140 ° C. for 1 hour in a reduced pressure environment of 10 hPa to obtain white transparent viscous silicone resin 4. It was. This operation corresponds to the “first step” in the above embodiment.

得られた粘性のシリコーン樹脂4における有機溶媒の含有率は、検出下限以下であった。   The content of the organic solvent in the resulting viscous silicone resin 4 was not more than the detection lower limit.

得られたシリコーン樹脂4に10gのシリコーン樹脂1を加え、さらに10hPaの減圧環境下、140℃で1時間加熱撹拌して、実施例1のシリコーン樹脂組成物1を得た。シリコーン樹脂組成物1は、白色透明であった。本操作は、上記実施形態における「第2工程」に該当する。   10 g of the silicone resin 1 was added to the obtained silicone resin 4, and the mixture was further heated and stirred at 140 ° C. for 1 hour under a reduced pressure environment of 10 hPa to obtain the silicone resin composition 1 of Example 1. Silicone resin composition 1 was white and transparent. This operation corresponds to the “second step” in the above embodiment.

15gのシリコーン樹脂2と、10gのシリコーン樹脂1とをTHFに溶解させた混合物について、上述のGPC測定により重量平均分子量(Mwab)を測定したところ、Mw=3900(n=2の平均値)であった。
また、シリコーン樹脂組成物1の重量平均分子量(Mwcom)を測定したところ、Mw=4200(n=2の平均値)であった。
すなわち、Mwcom/Mwab=1.08であった。
さらに、シリコーン樹脂組成物1について、重量平均分子量(Mwcom)測定時の分子量分布曲線から算出した低分子量成分含有量の評価値は、4.3であった。
A mixture of 15 g of silicone resin 2 and 10 g of silicone resin 1 dissolved in THF was measured for weight average molecular weight (Mw ab ) by the above-mentioned GPC measurement. Mw = 3900 (average value of n = 2) Met.
Moreover, when the weight average molecular weight ( Mwcom ) of the silicone resin composition 1 was measured, it was Mw = 4200 (n = 2 average value).
That is, Mwcom / Mwab = 1.08.
Furthermore, with respect to the silicone resin composition 1, the evaluation value of the low molecular weight component content calculated from the molecular weight distribution curve at the time of measuring the weight average molecular weight (Mw com ) was 4.3.

(実施例2)
シリコーン樹脂2を15g、シリコーン樹脂3を20g用いたこと以外は実施例1と同様に第1工程を行い、粘性のシリコーン樹脂5を得た。
(Example 2)
A viscous silicone resin 5 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 15 g of silicone resin 2 and 20 g of silicone resin 3 were used.

第1工程で得られた粘性のシリコーン樹脂5における有機溶媒の含有率は、検出下限以下であった。   The content of the organic solvent in the viscous silicone resin 5 obtained in the first step was below the lower limit of detection.

シリコーン樹脂5、およびシリコーン樹脂1を15g用いたこと以外は実施例1と同様に第2工程を行い、実施例2のシリコーン樹脂組成物2を得た。   A second step was performed in the same manner as in Example 1 except that 15 g of the silicone resin 5 and the silicone resin 1 were used, and a silicone resin composition 2 of Example 2 was obtained.

15gのシリコーン樹脂2と、15gのシリコーン樹脂1とをTHFに溶解させた混合物について、重量平均分子量(Mwab)を測定したところ、Mw=3700(n=2の平均値)であった。
また、シリコーン樹脂組成物2の重量平均分子量(Mwcom)を測定したところ、Mw=3900(n=2の平均値)であった。
すなわち、Mwcom/Mwab=1.05であった。
さらに、シリコーン樹脂組成物2について、重量平均分子量(Mwcom)測定時の分子量分布曲線から算出した低分子量成分含有量の評価値は、2.3であった。
When a weight average molecular weight (Mw ab ) of a mixture of 15 g of silicone resin 2 and 15 g of silicone resin 1 dissolved in THF was measured, it was Mw = 3700 (average value of n = 2).
Moreover, it was Mw = 3900 (average value of n = 2) when the weight average molecular weight ( Mwcom ) of the silicone resin composition 2 was measured.
That is, Mwcom / Mwab = 1.05.
Furthermore, with respect to the silicone resin composition 2, the evaluation value of the low molecular weight component content calculated from the molecular weight distribution curve at the time of measuring the weight average molecular weight (Mw com ) was 2.3.

(実施例3)
シリコーン樹脂2を17.5g、シリコーン樹脂3を25g用いたこと以外は実施例1と同様に第1工程を行い、粘性のシリコーン樹脂6を得た。
(Example 3)
A viscous silicone resin 6 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 17.5 g of silicone resin 2 and 25 g of silicone resin 3 were used.

第1工程で得られた粘性のシリコーン樹脂6における有機溶媒の含有率は、検出下限以下であった。   The organic solvent content in the viscous silicone resin 6 obtained in the first step was below the lower limit of detection.

シリコーン樹脂6、およびシリコーン樹脂1を7.5g用いたこと以外は実施例1と同様に第2工程を行い、実施例3のシリコーン樹脂組成物3を得た。   A second step was performed in the same manner as in Example 1 except that 7.5 g of the silicone resin 6 and the silicone resin 1 were used, and a silicone resin composition 3 of Example 3 was obtained.

17.5gのシリコーン樹脂2と、7.5gのシリコーン樹脂1とをTHFに溶解させた混合物について、重量平均分子量(Mwab)を測定したところ、Mw=4200(n=2の平均値)であった。
また、シリコーン樹脂組成物3の重量平均分子量(Mwcom)を測定したところ、Mw=4500(n=2の平均値)であった。
すなわち、Mwcom/Mwab=1.07であった。
さらに、シリコーン樹脂組成物3について、重量平均分子量(Mwcom)測定時の分子量分布曲線から算出した低分子量成分含有量の評価値は、9.5であった。
When a weight average molecular weight (Mw ab ) of a mixture of 17.5 g of silicone resin 2 and 7.5 g of silicone resin 1 dissolved in THF was measured, Mw = 4200 (average value of n = 2) there were.
Moreover, when the weight average molecular weight ( Mwcom ) of the silicone resin composition 3 was measured, it was Mw = 4500 (average value of n = 2).
That is, Mwcom / Mwab = 1.07.
Furthermore, with respect to the silicone resin composition 3, the evaluation value of the low molecular weight component content calculated from the molecular weight distribution curve at the time of measuring the weight average molecular weight (Mw com ) was 9.5.

(実施例4)
15gのシリコーン樹脂2と、10gのシリコーン樹脂1とをロータリーエバポレータ用のガラス容器に加え、10hPaの減圧環境下、140℃で1時間加熱撹拌することで、無色透明な実施例4のシリコーン樹脂組成物4を得た。
Example 4
A colorless and transparent silicone resin composition of Example 4 was prepared by adding 15 g of silicone resin 2 and 10 g of silicone resin 1 to a glass container for a rotary evaporator and heating and stirring at 140 ° C. for 1 hour in a reduced pressure environment of 10 hPa. Product 4 was obtained.

シリコーン樹脂組成物4における有機溶媒の含有率は、検出下限以下であった。   The content of the organic solvent in the silicone resin composition 4 was not more than the detection lower limit.

15gのシリコーン樹脂2と、10gのシリコーン樹脂1とをTHFに溶解させた混合物について、重量平均分子量(Mwab)を測定したところ、Mw=4000(n=2の平均値)であった。
また、シリコーン樹脂組成物4の重量平均分子量(Mwcom)を測定したところ、Mw=4200(n=2の平均値)であった。
すなわち、Mwcom/Mwab=1.05であった。
さらに、シリコーン樹脂組成物4について、重量平均分子量(Mwcom)測定時の分子量分布曲線から算出した低分子量成分含有量の評価値は、8.1であった。
When a weight average molecular weight (Mw ab ) of a mixture of 15 g of silicone resin 2 and 10 g of silicone resin 1 dissolved in THF was measured, it was Mw = 4000 (average value of n = 2).
Moreover, when the weight average molecular weight ( Mwcom ) of the silicone resin composition 4 was measured, it was Mw = 4200 (the average value of n = 2).
That is, Mwcom / Mwab = 1.05.
Furthermore, with respect to the silicone resin composition 4, the evaluation value of the low molecular weight component content calculated from the molecular weight distribution curve at the time of measuring the weight average molecular weight (Mw com ) was 8.1.

(比較例1)
15gのシリコーン樹脂1と、5gのシリコーン樹脂2とをナスフラスコに入れ、100℃で3.5時間加熱撹拌することにより溶解させ、無色透明な比較例1のシリコーン樹脂組成物5を得た。
(Comparative Example 1)
15 g of silicone resin 1 and 5 g of silicone resin 2 were placed in an eggplant flask and dissolved by heating and stirring at 100 ° C. for 3.5 hours to obtain a colorless and transparent silicone resin composition 5 of Comparative Example 1.

シリコーン樹脂組成物5における有機溶媒の含有率は、0.2質量%であった。   The content rate of the organic solvent in the silicone resin composition 5 was 0.2 mass%.

5gのシリコーン樹脂2と、15gのシリコーン樹脂1とをTHFに溶解させた混合物について、重量平均分子量(Mwab)を測定したところ、Mw=3300(n=2の平均値)であった。
また、シリコーン樹脂組成物5の重量平均分子量(Mwcom)を測定したところ、Mw=3400(n=2の平均値)であった。
すなわち、Mwcom/Mwab=1.03であった。
さらに、シリコーン樹脂組成物5について、重量平均分子量(Mwcom)測定時の分子量分布曲線から算出した低分子量成分含有量の評価値は、28であった。
When a weight average molecular weight (Mw ab ) of a mixture of 5 g of silicone resin 2 and 15 g of silicone resin 1 dissolved in THF was measured, it was Mw = 3300 (average value of n = 2).
Moreover, it was Mw = 3400 (average value of n = 2) when the weight average molecular weight ( Mwcom ) of the silicone resin composition 5 was measured.
That is, Mwcom / Mwab = 1.03.
Furthermore, with respect to the silicone resin composition 5, the evaluation value of the low molecular weight component content calculated from the molecular weight distribution curve at the time of measuring the weight average molecular weight (Mw com ) was 28.

(評価)
縦3.5mm×横3.5mmのLTCC基板(Low−temperature Co−fired Ceramics、低温同時焼成セラミックス、ヨコオ社製)上に、実施例1〜4、比較例1のシリコーン樹脂組成物をそれぞれ適量ポッティング(滴下)した。
(Evaluation)
Appropriate amounts of the silicone resin compositions of Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 on an LTCC substrate (Low-temperature Co-fired Ceramics, low-temperature co-fired ceramics, manufactured by Yokoo Co., Ltd.) having a length of 3.5 mm and a width of 3.5 mm. Potting (dropping) was performed.

ポッティング時、シリコーン樹脂組成物1、2、3、6は、添加したシリコーン樹脂3によるチキソ性のため、ポッティング時に容易にレンズ状の凸曲面を形成することができた。一方、シリコーン樹脂組成物4と5では、厚くポッティングすることが困難であった。   At the time of potting, the silicone resin compositions 1, 2, 3, and 6 were able to easily form a lens-like convex curved surface at the time of potting because of the thixotropy due to the added silicone resin 3. On the other hand, in the silicone resin compositions 4 and 5, it was difficult to pot thickly.

その後、ポッティングされたシリコーン樹脂組成物を、140℃で10時間保温する硬化条件で硬化させ、シリコーン樹脂硬化物を得た。   Thereafter, the potted silicone resin composition was cured under curing conditions of keeping at 140 ° C. for 10 hours to obtain a cured silicone resin.

得られたシリコーン樹脂硬化物については、デジタルマイクロスコープ(株式会社キーエンス製 VHX−2000)を用いて詳細に観察した。シリコーン樹脂硬化物の表面凹凸状態や、シリコーン樹脂硬化物中の気泡の有無について評価した。   About the obtained silicone resin hardened | cured material, it observed in detail using the digital microscope (Keyence Co., Ltd. VHX-2000). The surface unevenness state of the cured silicone resin and the presence or absence of bubbles in the cured silicone resin were evaluated.

シリコーン樹脂硬化物の表面が平滑であり、かつシリコーン樹脂硬化物中に直径10μm以上の気泡をまったく含まない場合を「合格」とした。
シリコーン樹脂硬化物の表面に凹凸が生じているか、またはシリコーン樹脂硬化物中に気泡を含んでいる場合は「不合格」とした。
The case where the surface of the cured silicone resin was smooth and the cured silicone resin did not contain any bubbles having a diameter of 10 μm or more was defined as “pass”.
When the surface of the cured silicone resin had irregularities or contained bubbles in the cured silicone resin, it was determined as “Fail”.

評価の結果、実施例1〜4のシリコーン樹脂組成物1〜4を硬化させたシリコーン樹脂硬化物は、表面に凹凸が見られず、またシリコーン樹脂硬化物の内部に気泡が認められなかった。   As a result of the evaluation, the cured silicone resin obtained by curing the silicone resin compositions 1 to 4 of Examples 1 to 4 showed no irregularities on the surface, and no bubbles were observed inside the cured silicone resin.

対して、比較例1のシリコーン樹脂組成物5を硬化させた硬化物は、表面に凹凸が生じ、硬化物の内部に気泡が残っていた。   On the other hand, the cured product obtained by curing the silicone resin composition 5 of Comparative Example 1 had irregularities on the surface, and air bubbles remained in the cured product.

図1は、実施例1のシリコーン樹脂組成物1を硬化させた硬化物の外観写真であり、図2は、比較例1のシリコーン樹脂組成物5を硬化させた硬化物の外観写真である。図からも明らかなように、図1の硬化物は図2の硬化物と比べ、中央の破線で囲んだ部分(図中、符号αで示す)に歪みが無く、表面凹凸がないことが分かる。   1 is an appearance photograph of a cured product obtained by curing the silicone resin composition 1 of Example 1, and FIG. 2 is an exterior photograph of a cured product obtained by curing the silicone resin composition 5 of Comparative Example 1. As can be seen from the figure, the cured product of FIG. 1 has no distortion and no surface irregularities in the portion surrounded by a broken line in the center (indicated by α in the figure) compared to the cured product of FIG. .

以上より、本発明が有用であることが分かった。   As mentioned above, it turned out that this invention is useful.

Claims (7)

下記シリコーン樹脂Aと下記シリコーン樹脂Bとを原料として用いたシリコーン樹脂組成物の製造方法であって、
下記シリコーン樹脂Aと下記シリコーン樹脂Bとの混合物を、下記式(A)を満たすまで撹拌する工程を有するシリコーン樹脂組成物の製造方法。
1.03<Mwcom/Mwab<1.2 …(A)
(Mwabは、前記シリコーン樹脂Aと前記シリコーン樹脂Bとの混合物の重量平均分子量、Mwcomは、前記撹拌する工程により得られる生成物の重量平均分子量である。)
シリコーン樹脂A:含有する構造単位が実質的にT体のみであり、T体のうちT3体の割合が60モル%以上90モル%以下であり、重量平均分子量が1500以上8000以下であるシリコーン樹脂。
シリコーン樹脂B:含有する構造単位が実質的にT体のみであり、T体のうちT3体の割合が30モル%以上60モル%未満であり、重量平均分子量が1500以上であるシリコーン樹脂。
(T体は、3個の酸素原子と結合しているケイ素原子を含む構造単位を意味する。
T3体は、T体のうちT体が有する3個の酸素原子の全てが他のケイ素原子と結合している構造単位を意味する。)
A method for producing a silicone resin composition using the following silicone resin A and the following silicone resin B as raw materials,
A method for producing a silicone resin composition, comprising a step of stirring a mixture of the following silicone resin A and the following silicone resin B until the following formula (A) is satisfied.
1.03 <Mw com / Mw ab <1.2 (A)
(Mw ab is the weight average molecular weight of the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B, and Mw com is the weight average molecular weight of the product obtained by the stirring step.)
Silicone resin A: A silicone resin in which the structural unit contained is substantially only T-form, the proportion of T3-form in T-form is 60 mol% or more and 90 mol% or less, and the weight average molecular weight is 1500 or more and 8000 or less. .
Silicone resin B: A silicone resin in which the structural unit is substantially only T-form, the proportion of T3-form in the T-form is 30 mol% or more and less than 60 mol%, and the weight average molecular weight is 1500 or more.
(T-form means a structural unit containing a silicon atom bonded to three oxygen atoms.
The T3 body means a structural unit in which all three oxygen atoms of the T body in the T body are bonded to other silicon atoms. )
下記シリコーン樹脂Aと下記シリコーン樹脂Bとを原料として用いたシリコーン樹脂組成物の製造方法であって、
前記シリコーン樹脂Bを200hPa以下の減圧環境下で100℃以上に加熱しながら撹拌し、前記シリコーン樹脂Bが高分子量化したシリコーン樹脂B1を得る第1工程と、
前記シリコーン樹脂B1に前記シリコーン樹脂Aを加えて混合物とした後、前記混合物を200hPa以下の減圧環境下で100℃以上に加熱しながら撹拌する第2工程と、を有し、
前記第2工程では、下記式(A)を満たすまで前記混合物を撹拌するシリコーン樹脂組成物の製造方法。
1.03<Mwcom/Mwab<1.2 …(A)
(Mwabは、前記シリコーン樹脂Aと前記シリコーン樹脂Bとの混合物の重量平均分子量、Mwcomは、前記第2工程により得られる生成物の重量平均分子量である。)
シリコーン樹脂A:含有する構造単位が実質的にT体のみであり、T体のうちT3体の割合が60モル%以上90モル%以下であり、重量平均分子量が1500以上8000以下であるシリコーン樹脂。
シリコーン樹脂B:含有する構造単位が実質的にT体のみであり、T体のうちT3体の割合が30モル%以上60モル%未満であり、重量平均分子量が1500以上であるシリコーン樹脂。
(T体は、3個の酸素原子と結合しているケイ素原子を含む構造単位を意味する。
T3体は、T体のうちT体が有する3個の酸素原子の全てが他のケイ素原子と結合している構造単位を意味する。)
A method for producing a silicone resin composition using the following silicone resin A and the following silicone resin B as raw materials,
A first step of stirring the silicone resin B while heating to 100 ° C. or higher in a reduced pressure environment of 200 hPa or less to obtain a silicone resin B1 having a high molecular weight;
A second step in which the silicone resin A is added to the silicone resin B1 to form a mixture, and then the mixture is stirred while being heated to 100 ° C. or higher in a reduced pressure environment of 200 hPa or less,
In the second step, the method for producing a silicone resin composition in which the mixture is stirred until the following formula (A) is satisfied.
1.03 <Mw com / Mw ab <1.2 (A)
(Mw ab is the weight average molecular weight of the mixture of the silicone resin A and the silicone resin B, and Mw com is the weight average molecular weight of the product obtained in the second step.)
Silicone resin A: A silicone resin in which the structural unit contained is substantially only T-form, the proportion of T3-form in T-form is 60 mol% or more and 90 mol% or less, and the weight average molecular weight is 1500 or more and 8000 or less. .
Silicone resin B: A silicone resin in which the structural unit is substantially only T-form, the proportion of T3-form in the T-form is 30 mol% or more and less than 60 mol%, and the weight average molecular weight is 1500 or more.
(T-form means a structural unit containing a silicon atom bonded to three oxygen atoms.
The T3 body means a structural unit in which all three oxygen atoms of the T body in the T body are bonded to other silicon atoms. )
前記第1工程は、前記シリコーン樹脂Bと下記シリコーン樹脂Cとを200hPa以下の減圧環境下で100℃以上に加熱しながら撹拌し前記シリコーン樹脂B1を含むシリコーン樹脂Dを得る請求項2に記載のシリコーン樹脂組成物の製造方法。
シリコーン樹脂C:5℃/分の昇温速度で室温から200℃まで昇温させ、200℃で5時間空気中で保持した際の質量減少率が5%未満であるシリコーン樹脂。
The said 1st process stirs, heating the said silicone resin B and the following silicone resin C to 100 degreeC or more under the pressure reduction environment of 200 hPa or less, and obtains the silicone resin D containing the said silicone resin B1. A method for producing a silicone resin composition.
Silicone resin C: A silicone resin having a mass reduction rate of less than 5% when heated from room temperature to 200 ° C. at a rate of temperature increase of 5 ° C./min and held in air at 200 ° C. for 5 hours.
前記原料において、前記シリコーン樹脂Aと前記シリコーン樹脂Bとの質量比は、[シリコーン樹脂A]:[シリコーン樹脂B]=10:90〜60:40である請求項1から3のいずれか1項に記載のシリコーン樹脂組成物の製造方法。
(ここで、[シリコーン樹脂A]は前記シリコーン樹脂Aの質量を示し、[シリコーン樹脂B]は前記シリコーン樹脂Bの質量を示す。)
The mass ratio of the said silicone resin A and the said silicone resin B in the said raw material is [silicone resin A]: [silicone resin B] = 10: 90-60: 40, Any one of Claim 1 to 3 The manufacturing method of the silicone resin composition as described in any one of.
(Here, [silicone resin A] represents the mass of the silicone resin A, and [silicone resin B] represents the mass of the silicone resin B.)
前記撹拌する工程では、前記混合物を含む組成物を撹拌し、
前記組成物における有機溶媒の含有率は、1質量%以下である請求項1から4のいずれか1項に記載のシリコーン樹脂組成物の製造方法。
In the stirring step, the composition containing the mixture is stirred,
The content rate of the organic solvent in the said composition is 1 mass% or less, The manufacturing method of the silicone resin composition of any one of Claim 1 to 4.
前記撹拌する工程では、前記混合物と反応促進用触媒とを含む組成物を撹拌する請求項1から5いずれか1項に記載のシリコーン樹脂組成物の製造方法。   The method for producing a silicone resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein in the stirring step, the composition containing the mixture and the reaction promoting catalyst is stirred. 下記シリコーン樹脂Aと下記シリコーン樹脂Bとを原料として用いたシリコーン樹脂組成物であって、
GPC測定によって得られる、横軸を標準ポリスチレン換算の分子量、縦軸を示差屈折率検出器の検出強度とする分子量分布曲線に基づいて、下記方法で求めた評価値が25未満となるシリコーン樹脂組成物。
シリコーン樹脂A:含有する構造単位が実質的にT体のみであり、T体のうちT3体の割合が60モル%以上90モル%以下であり、重量平均分子量が1500以上8000以下であるシリコーン樹脂。
シリコーン樹脂B:含有する構造単位が実質的にT体のみであり、T体のうちT3体の割合が30モル%以上60モル%未満であり、重量平均分子量が1500以上であるシリコーン樹脂。
(T体は、3個の酸素原子と結合しているケイ素原子を含む構造単位を意味する。
T3体は、T体のうちT体が有する3個の酸素原子の全てが他のケイ素原子と結合している構造単位を意味する。)
(方法)
前記分子量分布曲線において、分子量が245から400の範囲に見られる強度が0未満であるピークのうち絶対値が最大のピークについて、ピークトップ強度が−1となるように前記分子量分布曲線の縦軸の値を規格化する。規格化した前記分子量分布曲線と、規格化した前記分子量分布曲線において分子量が140である点と245である点の2点間を結ぶ1次式で表される直線(基準線)と、で囲まれた領域における規格化検出強度値の和を、前記評価値として求める。
(基準線と規格化した分子量分布曲線とで囲まれた領域における規格化検出強度値とは、GPC測定のデータ取得時間間隔0.3秒に相当する分子量間隔で並んだ各分子量における基準線から前記規格化検出強度値を差し引いた値を意味する。)
A silicone resin composition using the following silicone resin A and the following silicone resin B as raw materials,
Silicone resin composition obtained by GPC measurement, based on a molecular weight distribution curve in which the horizontal axis is the molecular weight in terms of standard polystyrene and the vertical axis is the detection intensity of the differential refractive index detector, the evaluation value obtained by the following method is less than 25 object.
Silicone resin A: A silicone resin in which the structural unit contained is substantially only T-form, the proportion of T3-form in T-form is 60 mol% or more and 90 mol% or less, and the weight average molecular weight is 1500 or more and 8000 or less. .
Silicone resin B: A silicone resin in which the structural unit is substantially only T-form, the proportion of T3-form in the T-form is 30 mol% or more and less than 60 mol%, and the weight average molecular weight is 1500 or more.
(T-form means a structural unit containing a silicon atom bonded to three oxygen atoms.
The T3 body means a structural unit in which all three oxygen atoms of the T body in the T body are bonded to other silicon atoms. )
(Method)
In the molecular weight distribution curve, the vertical axis of the molecular weight distribution curve has a peak top intensity of −1 with respect to a peak having a maximum absolute value among peaks having an intensity of less than 0 and having a molecular weight in the range of 245 to 400. Normalize the value of. Surrounded by the normalized molecular weight distribution curve and a straight line (reference line) represented by a linear expression connecting two points of a molecular weight of 140 and a point of 245 in the normalized molecular weight distribution curve The sum of the normalized detection intensity values in the determined area is obtained as the evaluation value.
(The normalized detection intensity value in the region surrounded by the reference line and the normalized molecular weight distribution curve is determined from the reference line at each molecular weight lined up with a molecular weight interval corresponding to a data acquisition time interval of GPC measurement of 0.3 seconds. It means a value obtained by subtracting the normalized detection intensity value.)
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