JP2019179915A - Method for manufacturing printed circuit board and printed circuit board - Google Patents

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Abstract

To improve elasticity of a printed circuit board.SOLUTION: A method for manufacturing a printed circuit board includes: a first insulator film forming step of forming an insulator film on a metal mold; a conductive film forming step of forming a conductive film on the insulator film; a film to be transferred forming step of providing a film to be transferred to which a laminate of the insulator film and the conductive film is transferred, to be in contact with the conductive film; and a peeling step of peeling the metal mold from the film to be transferred and the laminate.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、プリント基板の製造方法及びプリント基板に関する。   The present invention relates to a printed circuit board manufacturing method and a printed circuit board.

近年では、人体や衣服に装着可能なウエアラブル電子機器や、関節部を有し、複雑な動作を行うことができるロボットアーム等が普及しつつある。このようなウエアラブル電子機器やロボットアームでは、人体やロボットアーム等の動作に合わせて伸縮するフレキシブル基板が用いられる場合がある。   In recent years, wearable electronic devices that can be worn on the human body and clothes, and robot arms that have joints and can perform complex operations are becoming widespread. In such wearable electronic devices and robot arms, there are cases where a flexible substrate that expands and contracts in accordance with the operation of the human body, robot arm, or the like is used.

従来のフレキシブル基板では、動力供給用や信号伝送用の電線が多数使用されているが、一般的に電線は銅線を芯とし、その外周を絶縁体で被覆した構造になっており、伸縮性が殆どないため、フレキシブル基板の伸縮に対応させるように配線パターンを形成する必要がある。このため、配線の自由度が低い。また、従来のフレキシブル基板では、一定方向以外の方向に伸縮すると、配線が断線したり、はがれたりする可能性がある。   Conventional flexible boards use a large number of electric wires for power supply and signal transmission, but in general, electric wires have a structure in which a copper wire is the core and the outer periphery is covered with an insulator. Therefore, it is necessary to form a wiring pattern so as to correspond to the expansion and contraction of the flexible substrate. For this reason, the freedom degree of wiring is low. Moreover, in the conventional flexible substrate, if the expansion and contraction is performed in a direction other than a certain direction, the wiring may be disconnected or peeled off.

開示の技術は、上記事情に鑑みてこれを解決すべく成されたものであり、プリント基板の伸縮性を向上させることを目的としている。   The disclosed technology has been made in view of the above circumstances, and aims to improve the stretchability of a printed circuit board.

開示の技術は、プリント基板の製造方法であって、金型上に絶縁膜を形成する第一の絶縁膜形成工程と、前記絶縁膜上に導電膜を形成する導電膜形成工程と、前記絶縁膜と前記導電膜の積層体が転写される被転写膜を前記導電膜と接するように設ける被転写膜形成工程と、前記被転写膜及び前記積層体から前記金型を剥離させる剥離工程と、を有する。   The disclosed technology is a method for manufacturing a printed circuit board, wherein a first insulating film forming step of forming an insulating film on a mold, a conductive film forming step of forming a conductive film on the insulating film, and the insulating A transfer film forming step of providing a transfer film to which the laminate of the film and the conductive film is transferred so as to be in contact with the conductive film; and a peeling step of peeling the mold from the transfer film and the stack; Have

プリント基板の伸縮性を向上させることができる。   The stretchability of the printed circuit board can be improved.

第一の実施形態のプリント基板を説明する図である。It is a figure explaining the printed circuit board of 1st embodiment. 第一の実施形態のプリント基板の製造工程を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing process of the printed circuit board of 1st embodiment. 第二の実施形態のプリント基板の作成に用いる金型を説明する図である。It is a figure explaining the metal mold | die used for preparation of the printed circuit board of 2nd embodiment. 第二の実施形態のプリント基板の製造工程を説明する第一の図である。It is a 1st figure explaining the manufacturing process of the printed circuit board of 2nd embodiment. 第二の実施形態のプリント基板の製造工程を説明する第二の図である。It is a 2nd figure explaining the manufacturing process of the printed circuit board of 2nd embodiment. 配線パターンが積層された例を示す図である。It is a figure which shows the example by which the wiring pattern was laminated | stacked.

(第一の実施形態)
以下に、図面を参照して第一の実施形態について説明する。図1は、第一の実施形態のプリント基板を説明する図である。
(First embodiment)
The first embodiment will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram illustrating a printed circuit board according to the first embodiment.

本実施形態のプリント基板100は、伸張に追従するフレキシブルプリント基板であり、基材となる絶縁フィルム1に、絶縁性基材2が積層された配線パターンが形成されている。本実施形態のプリント基板100では、配線パターンを波型状に形成し、絶縁フィルム1にゴム等の弾性部材等を用いることで、伸縮性を持たせている。   The printed circuit board 100 of this embodiment is a flexible printed circuit board that follows expansion, and a wiring pattern in which an insulating base material 2 is laminated on an insulating film 1 that is a base material is formed. In the printed circuit board 100 according to the present embodiment, the wiring pattern is formed in a corrugated shape, and the insulating film 1 is made elastic by using an elastic member such as rubber.

以下に、図2を参照して、本実施形態のプリント基板100の製造工程について説明する。図2は、第一の実施形態のプリント基板の製造工程を説明する図である。   Below, with reference to FIG. 2, the manufacturing process of the printed circuit board 100 of this embodiment is demonstrated. Drawing 2 is a figure explaining the manufacturing process of the printed circuit board of a first embodiment.

本実施形態では、図2示す工程1において、金属性の金型11に離型処理を施し、離型処理した金型上に絶縁インクを用いて絶縁性基材をパターン印刷し、絶縁パターン(絶縁膜)2を形成する。   In the present embodiment, in step 1 shown in FIG. 2, the metallic mold 11 is subjected to a mold release process, and an insulating base material is pattern printed on the mold subjected to the mold release process using an insulating ink. Insulating film) 2 is formed.

図2(A)に示す工程1の離型処理では、離型処理方法は特に限定されるものではないが、離型剤に耐熱性が求められるため、焼付け型のシリコンまたはフッ素系樹脂をベースとした離型剤を使用することが好ましい。   In the mold release process of step 1 shown in FIG. 2A, the mold release process method is not particularly limited, but heat resistance is required for the mold release agent, and therefore a baking type silicon or fluorine resin is used as a base. It is preferable to use a release agent.

また、絶縁パターン2を形成する絶縁性基材としては、絶縁性、耐熱性等の観点からポリイミドや液晶ポリマー等の耐熱性樹脂が好ましい。絶縁性基材として使用される耐熱性樹脂の焼成は、十分な強度を確保し、樹脂中の残留溶媒を除去するため、200℃以上、好ましくは300℃以上の高温焼成が好ましい。   Moreover, as an insulating base material which forms the insulating pattern 2, heat resistant resins, such as a polyimide and a liquid crystal polymer, are preferable from viewpoints, such as insulation and heat resistance. Firing of the heat-resistant resin used as the insulating substrate is preferably performed at a high temperature of 200 ° C. or higher, preferably 300 ° C. or higher in order to ensure sufficient strength and remove the residual solvent in the resin.

また、絶縁パターン2の印刷方法としては、インクジェットノズル50から絶縁インクを吐出して、任意の絶縁パターン2を描画するインクジェット印刷を用いても良い。インクジェット印刷の場合、スクリーン印刷等のように版を用意する必要がなく、版の作成や保管のための労力が不要となる。つまり、本実施形態では、任意の絶縁パターン2を容易に金型11に描画できる。   In addition, as a method for printing the insulating pattern 2, ink jet printing in which an insulating ink 2 is drawn by discharging insulating ink from the ink jet nozzle 50 may be used. In the case of inkjet printing, it is not necessary to prepare a plate like screen printing, and the labor for creating and storing the plate is not required. That is, in the present embodiment, an arbitrary insulating pattern 2 can be easily drawn on the mold 11.

尚、版を使用しないインクジェット印刷では、離型処理した金型11にはインク濡れ性が必要になる。金型11に十分なインク濡れ性があれば、粘度の低いインクジェット用インクであっても、インクのハジキを発生させず、均一なパターン膜を作成できる。   In ink jet printing without using a plate, the mold 11 subjected to the mold release process needs ink wettability. If the mold 11 has sufficient ink wettability, even a low-viscosity ink jet ink can produce a uniform pattern film without causing ink repellency.

図2(B)に示す工程2では、金型11上に形成した絶縁パターン2上に、導電インクをインクジェットノズル50から吐出させて、配線パターン(導電膜)3を印刷する。このとき、配線パターン3は、絶縁パターン2からはみ出ることがないように形成される。   2B, a conductive ink is ejected from the inkjet nozzle 50 onto the insulating pattern 2 formed on the mold 11, and the wiring pattern (conductive film) 3 is printed. At this time, the wiring pattern 3 is formed so as not to protrude from the insulating pattern 2.

工程2の後に、乾燥焼成にて配線パターン3を硬化させる。焼成温度は、200℃以上であって、好ましくは300℃以上であることが好ましい。これは、導電膜(配線パターン3)の金属粒子は、高温焼成のほうが電気抵抗が低下するためである。また、導電インク中に添加されている分散剤や溶媒の残渣を除去する意味からも高温焼成が好ましい。絶縁パターン2との密着性も良化する。   After the step 2, the wiring pattern 3 is cured by drying and baking. The firing temperature is 200 ° C. or higher, preferably 300 ° C. or higher. This is because the electrical resistance of the metal particles of the conductive film (wiring pattern 3) is lowered when firing at a high temperature. High temperature baking is also preferable from the viewpoint of removing the dispersant and solvent residues added to the conductive ink. Adhesion with the insulating pattern 2 is also improved.

配線パターン3の印刷方法としては、インクジェット印刷が好ましい。インクジェット印刷に使用するインクジェット用の導電インクは、粒径1〜100nmの範囲に選択される金属超微粒子、又は、表面に金属の酸化物被覆層を有する金属超微粒子を含有する分散液からなる。具体的には、例えば、銀ナノ粒子を溶媒中に分散した銀ナノインクや銅ナノ粒子を溶媒中に分散した銅ナノインク等は、電気抵抗が低く好ましい。金属超微粒子の粒径を100nm以下とすることで、インクジェットノズル50からの導電インクの吐出を安定して行うことができる。   As a printing method of the wiring pattern 3, inkjet printing is preferable. The conductive ink for inkjet used for inkjet printing is composed of a dispersion containing ultrafine metal particles having a particle diameter of 1 to 100 nm or ultrafine metal particles having a metal oxide coating layer on the surface. Specifically, for example, a silver nano ink in which silver nanoparticles are dispersed in a solvent, a copper nano ink in which copper nanoparticles are dispersed in a solvent, and the like are preferable because of low electric resistance. By setting the particle diameter of the ultrafine metal particles to 100 nm or less, it is possible to stably discharge the conductive ink from the inkjet nozzle 50.

図2(C)に示す工程3では、金型11上に形成された絶縁パターン2及び配線パターン3が転写される被転写部材(被転写膜)としての絶縁フィルム1を形成する。   In step 3 shown in FIG. 2C, an insulating film 1 is formed as a member to be transferred (transfer target film) onto which the insulating pattern 2 and the wiring pattern 3 formed on the mold 11 are transferred.

つまり、工程3では、絶縁パターン2及び配線パターン3の積層体7において、配線パターン3と被転写膜とが接するように、被転写膜が設けられる。言い換えれば、工程3では、積層体7の配線パターン3を覆うように、被転写膜を被せる。
尚、本実施形態では、被転写部材を絶縁フィルムとしたが、被転写部材は、絶縁パターン2及び配線パターン3を転写できるものであれば特に限定されるものではない。被転写部材は、液状の熱硬化型弾性部材等で形成することが好ましい。また、被転写部材は、絶縁パターン2を形成する絶縁性基材よりも耐熱性の低いものである。
In other words, in step 3, the film to be transferred is provided so that the wiring pattern 3 and the film to be transferred are in contact with each other in the laminate 7 of the insulating pattern 2 and the wiring pattern 3. In other words, in step 3, the film to be transferred is covered so as to cover the wiring pattern 3 of the laminate 7.
In this embodiment, the member to be transferred is an insulating film, but the member to be transferred is not particularly limited as long as the insulating pattern 2 and the wiring pattern 3 can be transferred. The member to be transferred is preferably formed of a liquid thermosetting elastic member or the like. Further, the member to be transferred has a lower heat resistance than the insulating base material on which the insulating pattern 2 is formed.

図2(D)に示す工程4では、金型11上に形成された絶縁フィルム1を、絶縁パターン2及び配線パターン3と共に金型11から離型して、絶縁パターン2及び配線パターン3の積層物を絶縁フィルム1に転写する。言い換えれば、工程4では、金型11を被転写部材である絶縁フィルム1から剥離する。この工程4が終了すると、プリント基板100が形成される。   2D, the insulating film 1 formed on the mold 11 is released from the mold 11 together with the insulating pattern 2 and the wiring pattern 3, and the insulating pattern 2 and the wiring pattern 3 are laminated. The object is transferred to the insulating film 1. In other words, in step 4, the mold 11 is peeled from the insulating film 1 which is a member to be transferred. When this step 4 is completed, the printed circuit board 100 is formed.

尚、本実施形態では、例えば、金型11をSUS304金型として離型処理を実施する。焼付け型の離型剤としてはKS−700(信越化学工業)をトルエン溶媒に溶解して固形分3wt%まで希釈し、金型11上に塗布した。塗布するにあたっては、ウエスに染込ませた塗布液で金型11を拭取るように乾燥させながら塗布する。その後、300℃1h焼成して、金型11に離型剤を十分に焼き付けた。   In this embodiment, for example, the mold release process is performed using the mold 11 as the SUS304 mold. As a baking mold release agent, KS-700 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was dissolved in a toluene solvent, diluted to a solid content of 3 wt%, and applied onto the mold 11. When applying, it is applied while drying so as to wipe the mold 11 with a coating solution soaked in the waste cloth. Thereafter, firing was performed at 300 ° C. for 1 h, and the mold release agent was sufficiently baked onto the mold 11.

また、絶縁パターン2をインクジェットにて描画する際の絶縁インクには、ポリイミドワニスをインク化して使用した。具体的には、ワニスA(宇部興産社製)をNMP溶媒で希釈し、界面活性剤としてBYK−333(ビックケミー社製)を添加し、粘度10mPa・s、表面張力30mNmに調整し、これをインクジェット塗布用のポリイミドインク(絶縁インク)とした。   Further, polyimide varnish was used as an insulating ink when drawing the insulating pattern 2 by inkjet. Specifically, varnish A (manufactured by Ube Industries) is diluted with an NMP solvent, BYK-333 (manufactured by BYK Chemie) is added as a surfactant, and the viscosity is adjusted to 10 mPa · s and the surface tension is 30 mNm. A polyimide ink (insulating ink) for inkjet application was used.

インクの塗布に当たっては、GEN4ヘッド(リコー社製)を用いてパターン描写を実施した。絶縁パターン2を描画するに当たっては、金型11を置いたステージを80℃まで加熱し、ステージ上で塗布液を乾燥させながら、繰り返し重ねて塗布し、絶縁膜とした。このとき作成した絶縁膜の膜厚は10μmであった。その後、300℃1h焼成し、絶縁膜(絶縁パターン)を十分に硬化させた。   In applying the ink, a pattern was drawn using a GEN4 head (manufactured by Ricoh). In drawing the insulating pattern 2, the stage on which the mold 11 was placed was heated to 80 ° C. and repeatedly applied while drying the coating solution on the stage to form an insulating film. The thickness of the insulating film created at this time was 10 μm. Thereafter, baking was performed at 300 ° C. for 1 h to sufficiently cure the insulating film (insulating pattern).

また、配線パターン3をインクジェットにて描画する際の導電インクには、インクジェット用銀ナノインク、NPS−J(ハリマ化成社製)を使用した。配線パターン3も絶縁パターン2と同様に、GEN4(リコー社製)を用いてパターン描写を実施した。配線パターン3を描画するに当たっては、金型11を置いたステージを80℃まで加熱し、ステージ上で塗布液を乾燥させながら、繰り返し重ねて塗布し、導電膜とした。このとき作成した導電膜の膜厚は5μmであった。その後、300℃1h焼成し、導電膜を十分に硬化させた。   Moreover, silver nano ink for inkjet and NPS-J (made by Harima Chemicals) were used for the conductive ink at the time of drawing the wiring pattern 3 with an inkjet. Similarly to the insulating pattern 2, the wiring pattern 3 was drawn using GEN4 (manufactured by Ricoh). In drawing the wiring pattern 3, the stage on which the mold 11 was placed was heated to 80 ° C. and repeatedly applied while drying the coating solution on the stage to obtain a conductive film. The film thickness of the conductive film created at this time was 5 μm. Then, it baked at 300 degreeC for 1 h, and fully hardened the electrically conductive film.

また、金型11において、絶縁パターン2が描画されていない領域には、弾性部材用の離型剤を塗布する。離型剤の塗布領域は、絶縁パターン2に合わせて離型パターンを描画する必要がある。そのため、離型剤をインクジェット用インクとして離型パターンを描画した。インクジェット用インクは、離型剤としてx−24−9264(信越シリコーン社製)をPGMEA溶媒で希釈してインク化した。このときのインク粘度は10mPa・sであり、表面張力は32mNmであった。離型剤を塗布した後、150℃1h焼成して、離型剤を十分に反応させた。インクジェット塗布にあたっては、GNE4ヘッド(リコー社製)を用いて離型パターンの描写を実施した。離型パターンを描画するに当たっては、基材を置いたステージを80℃まで加熱し、ステージ上で塗布液を乾燥させながら、繰り返し重ねて塗布し、離型剤を基材に焼付けた。   In the mold 11, a release agent for an elastic member is applied to a region where the insulating pattern 2 is not drawn. In the release agent application region, it is necessary to draw a release pattern in accordance with the insulating pattern 2. Therefore, a release pattern was drawn using the release agent as an inkjet ink. The ink for inkjet was made into an ink by diluting x-24-9264 (manufactured by Shin-Etsu Silicone) as a release agent with a PGMEA solvent. At this time, the ink viscosity was 10 mPa · s, and the surface tension was 32 mNm. After the release agent was applied, it was baked at 150 ° C. for 1 hour to sufficiently react the release agent. In ink-jet application, a release pattern was drawn using a GNE4 head (manufactured by Ricoh). In drawing the mold release pattern, the stage on which the substrate was placed was heated to 80 ° C. and repeatedly applied while drying the coating solution on the stage, and the release agent was baked onto the substrate.

また、本実施形態では、絶縁フィルム1(被転写部材)となる弾性部材を、シリコンゴムとしてKER−6020−F(信越シリコーン社製)を使用した。本実施形態では、弾性部材を、バーコータを用いて塗布したのち、150℃1hほど焼成する。このとき形成されたシリコンゴム層の膜厚は、200μmであった。   Moreover, in this embodiment, the elastic member used as the insulating film 1 (transferred member) used KER-6020-F (made by Shin-Etsu Silicone) as silicon rubber. In this embodiment, the elastic member is baked at 150 ° C. for 1 h after being applied using a bar coater. The film thickness of the silicon rubber layer formed at this time was 200 μm.

その後、形成したシリコンゴムを金型から離型する。シリコンゴムには絶縁パターン2及び配線パターン3が密着しているため、絶縁パターン2及び配線パターン3はそのままシリコンゴムに転写される。これにより、耐熱性の低いシリコンゴム基材に高温焼成されたポリイミド膜(絶縁パターン2)及び銀配線のパターン膜(配線パターン3)が形成されることになる。   Thereafter, the formed silicon rubber is released from the mold. Since the insulating pattern 2 and the wiring pattern 3 are in close contact with the silicon rubber, the insulating pattern 2 and the wiring pattern 3 are transferred to the silicon rubber as they are. As a result, a polyimide film (insulating pattern 2) and a silver wiring pattern film (wiring pattern 3) fired at a high temperature are formed on a silicon rubber base material having low heat resistance.

本実施形態では、このように、プリント基板100を形成することで、絶縁フィルム1上の配線パターン3が、絶縁パターン2に覆われた状態となる。言い換えれば、プリント基板100は、配線パターン3を絶縁フィルム1と絶縁パターンとで挟むようにして形成される。さらに、言い換えれば、本実施形態のプリント基板100は、高温焼成によって生成された、絶縁パターン2と配線パターン3との積層体7を、弾性部材(樹脂)に転写することで形成される。   In the present embodiment, the printed circuit board 100 is thus formed so that the wiring pattern 3 on the insulating film 1 is covered with the insulating pattern 2. In other words, the printed circuit board 100 is formed such that the wiring pattern 3 is sandwiched between the insulating film 1 and the insulating pattern. Furthermore, in other words, the printed circuit board 100 of the present embodiment is formed by transferring the laminate 7 of the insulating pattern 2 and the wiring pattern 3 generated by high-temperature baking to an elastic member (resin).

本実施形態では、配線パターン3を絶縁パターン2で覆うことで、絶縁フィルム1が伸縮した際に、絶縁パターン2が配線パターン3を保持するようになり、配線パターン3のクラックを防止できる。つまり、本実施形態では、絶縁パターン2が配線パターン3を保持するため、絶縁フィルム1が伸縮した場合でも、配線パターン3がはがれたり、断線したりすることを防止できる。   In this embodiment, by covering the wiring pattern 3 with the insulating pattern 2, the insulating pattern 2 holds the wiring pattern 3 when the insulating film 1 expands and contracts, and the wiring pattern 3 can be prevented from cracking. That is, in this embodiment, since the insulating pattern 2 holds the wiring pattern 3, it is possible to prevent the wiring pattern 3 from being peeled off or disconnected even when the insulating film 1 expands and contracts.

また、本実施形態では、工程1で絶縁パターン2を形成して、絶縁パターン2上に配線パターン3を形成してから絶縁フィルム1に転写するため、配線パターン3が金型11と接触することがなく、配線パターン3に対する異物の付着を防止できる。   Moreover, in this embodiment, since the insulating pattern 2 is formed in step 1 and the wiring pattern 3 is formed on the insulating pattern 2 and then transferred to the insulating film 1, the wiring pattern 3 comes into contact with the mold 11. Therefore, it is possible to prevent adhesion of foreign matters to the wiring pattern 3.

さらに、本実施形態では絶縁パターン2及び配線パターン3を波型状とし、絶縁フィルム1にゴム等の弾性部材を用いるため、伸縮性を有し、且つ、被転写部材が伸張しても、配線に負荷が掛かり難く、断線やクラックが起き難いプリント基板100を提供できる。   Further, in this embodiment, the insulating pattern 2 and the wiring pattern 3 are corrugated, and an elastic member such as rubber is used for the insulating film 1. Therefore, it is possible to provide a printed circuit board 100 that is less likely to be loaded and is less likely to be disconnected or cracked.

尚、本実施形態の絶縁パターン2と配線パターン3を積層した後、配線パターン3の上から再度絶縁パターンを形成し、配線パターン3を2層の絶縁パターンで挟んでもよい。配線パターンは上下の絶縁パターンで補強されることから、より断線やクラックが起きにくくなる。   Note that, after the insulating pattern 2 and the wiring pattern 3 of the present embodiment are stacked, the insulating pattern may be formed again on the wiring pattern 3, and the wiring pattern 3 may be sandwiched between two layers of insulating patterns. Since the wiring pattern is reinforced by the upper and lower insulating patterns, disconnection and cracks are less likely to occur.

また、本実施形態の絶縁パターン2と配線パターン3との積層体7は、繰り返し重ねて多層化することもできる。多層化によって配線密度を増大させれば、プリント基板100をより小型化することもできるために好ましい。その場合、絶縁インクと導電インクのパターン印刷と乾燥焼成を交互に繰り返していけば良いが、導電インクによる配線パターンを上下の層で通電したい場合は、絶縁インクで配線コネクト用の穴をパターン印刷し、その穴を導電インクで満たすことで、配線上下間の導通を確保できる。また、多層化により膜厚が厚くなることから、クラックや断線も発生し難くなる。   Moreover, the laminated body 7 of the insulating pattern 2 and the wiring pattern 3 of the present embodiment can be repeatedly stacked to be multilayered. It is preferable to increase the wiring density by increasing the number of layers because the printed circuit board 100 can be further downsized. In that case, pattern printing of insulating ink and conductive ink and drying / firing may be repeated alternately. However, if you want to energize the conductive ink wiring pattern in the upper and lower layers, pattern printing holes for wiring connect with insulating ink. Then, by filling the hole with conductive ink, conduction between the upper and lower wirings can be secured. In addition, since the film thickness is increased due to the multilayering, cracks and disconnection are less likely to occur.

また、被転写部材が金型から離型出来ない場合、被転写部材用の離型剤を金型に塗布してもよい。その場合、被転写部材(絶縁フィルム1)と金型11の接地面のみに被転写部材用の離型剤が塗布されることが望ましい。離型剤の塗布もパターン印刷する必要があるため、絶縁パターン2及び配線パターン3と同様にインクジェット印刷によって塗布されても良い。   When the member to be transferred cannot be released from the mold, a release agent for the member to be transferred may be applied to the mold. In that case, it is desirable to apply a release agent for the member to be transferred only to the member to be transferred (insulating film 1) and the grounding surface of the mold 11. Since the release agent needs to be pattern-printed, it may be applied by inkjet printing in the same manner as the insulating pattern 2 and the wiring pattern 3.

本実施形態では、被転写部材と金型11の接地面のみに被転写部材用の離型剤を塗布することで、絶縁パターン2及び配線パターン3が被転写部材と密着せずに剥離不良となることを抑制できる。   In this embodiment, by applying a release agent for the transfer member only to the transfer member and the grounding surface of the mold 11, the insulating pattern 2 and the wiring pattern 3 do not come into close contact with the transfer member and the separation failure occurs. Can be suppressed.

(第二の実施形態)
以下に図面を参照して、第二の実施形態について説明する。第二の実施形態は、プリント基板の内部に空洞を形成する。以下の説明では、第一の実施形態との相違点についてのみ説明と、第一の実施形態と同様の構成を有するものには、第一の実施形態の説明で用いた符号と同様の符号を付与し、その説明を省略する。
(Second embodiment)
The second embodiment will be described below with reference to the drawings. In the second embodiment, a cavity is formed inside the printed circuit board. In the following description, only the differences from the first embodiment will be described, and the same reference numerals as those used in the description of the first embodiment will be used for those having the same configuration as the first embodiment. The description is omitted.

図3は、第二の実施形態のプリント基板の作成に用いる金型を説明する図である。図3では、本実施形態のプリント基板の作成に用いられる金型11Aの正面図、上面図、側面図を示す。   FIG. 3 is a diagram for explaining a mold used for creating a printed circuit board according to the second embodiment. FIG. 3 shows a front view, a top view, and a side view of a mold 11A used for creating the printed circuit board of the present embodiment.

本実施形態の金型11Aは、正面図及び側面図からわかるように、縦方向と横方向のそれぞれに複数の凹部11bが形成されている。したがって、金型11Aの表面には、凹部11bと、平面部11cとが形成される。言い換えれば、金型11Aには、格子状に凹部が形成されている。凹部とは、言い換えれば、湾曲部である。   As can be seen from the front view and the side view, the mold 11A of the present embodiment has a plurality of concave portions 11b formed in each of the vertical direction and the horizontal direction. Accordingly, the concave portion 11b and the flat portion 11c are formed on the surface of the mold 11A. In other words, the mold 11A has recesses formed in a lattice shape. In other words, the concave portion is a curved portion.

本実施形態は、このような金型11Aを用いてプリント基板を作成することで、プリント基板内に、格子状に複数の空洞(空間)を形成させる。   In the present embodiment, a plurality of cavities (spaces) are formed in a lattice pattern in the printed circuit board by creating a printed circuit board using such a mold 11A.

以下に、図4及び図5を参照して、本実施形態のプリント基板の製造工程について説明する。図4は、第二の実施形態のプリント基板の製造工程を説明する第一の図であり、図5は、第二の実施形態のプリント基板の製造工程を説明する第二の図である。   Below, the manufacturing process of the printed circuit board of this embodiment is demonstrated with reference to FIG.4 and FIG.5. FIG. 4 is a first diagram illustrating a manufacturing process of a printed circuit board according to the second embodiment, and FIG. 5 is a second diagram illustrating a manufacturing process of the printed circuit board according to the second embodiment.

図4(A)に示す工程1では、インクジェットノズル50から絶縁インクを吐出して、金型11A上に絶縁パターン2Aを描画する。そして、インクジェットノズル50から導電インクを吐出して、絶縁パターン2Aの上に、任意の配線パターン3Aを形成する。   In step 1 shown in FIG. 4A, insulating ink is ejected from the inkjet nozzle 50 to draw the insulating pattern 2A on the mold 11A. Then, conductive ink is discharged from the inkjet nozzle 50 to form an arbitrary wiring pattern 3A on the insulating pattern 2A.

このとき、絶縁パターン2Aは、金型11Aの表面に形成された全ての凹部11b上と平面部11c上に形成される。配線パターン3Aは、プリント基板の用途に合わせた任意のパターンである。尚、配線パターン3Aは、絶縁パターン2Aからはみ出さないように形成される。   At this time, the insulating pattern 2A is formed on all the concave portions 11b and the flat portion 11c formed on the surface of the mold 11A. The wiring pattern 3A is an arbitrary pattern according to the use of the printed board. The wiring pattern 3A is formed so as not to protrude from the insulating pattern 2A.

工程1が終了すると、乾燥焼成にて配線パターン3Aを硬化させる。焼成温度は、200℃以上であって、好ましくは300℃以上であることが好ましい。   When step 1 is completed, wiring pattern 3A is cured by drying and baking. The firing temperature is 200 ° C. or higher, preferably 300 ° C. or higher.

工程1で形成される絶縁パターン2Aと配線パターン3Aは、それぞれが、金型11Aの凹部11bと平面部11cとに合った形状として形成される。つまり、絶縁パターン2A及び配線パターン3Aは凹部と平面部とを有する形状である。   The insulating pattern 2A and the wiring pattern 3A formed in step 1 are each formed in a shape that matches the concave portion 11b and the flat portion 11c of the mold 11A. That is, the insulating pattern 2A and the wiring pattern 3A have a shape having a concave portion and a flat portion.

図4(B)に示す工程2では、絶縁パターン2A及び配線パターン3Aを積層した積層体7Aが転写される被転写部材としての絶縁層1Aを形成する。絶縁層1Aは、液状の熱硬化型弾性部材をインクジェットノズル50により、絶縁パターン2A又は配線パターン3Aの積層体7A上に吐出することで形成される。具体的には、絶縁層1Aは、図4(B)に示すように、絶縁パターン2Aと配線パターン3Aの形状に合わせた凹部(湾曲部)41と平面部42とを有するように形成される。   In step 2 shown in FIG. 4B, an insulating layer 1A is formed as a member to be transferred onto which the laminated body 7A in which the insulating pattern 2A and the wiring pattern 3A are stacked is transferred. The insulating layer 1A is formed by discharging a liquid thermosetting elastic member onto the laminated body 7A of the insulating pattern 2A or the wiring pattern 3A by the inkjet nozzle 50. Specifically, as shown in FIG. 4B, the insulating layer 1A is formed to have a concave portion (curved portion) 41 and a flat portion 42 that match the shapes of the insulating pattern 2A and the wiring pattern 3A. .

図4(C)に示す工程3では、絶縁層1Aの上に、凹部41を塞いで空洞43を形成するための絶縁フィルム4が形成される。本実施形態では、絶縁フィルム4は、絶縁層1Aの平面部42上に貼り付けるようにして、形成されても良い。   In step 3 shown in FIG. 4C, the insulating film 4 for closing the recess 41 and forming the cavity 43 is formed on the insulating layer 1A. In the present embodiment, the insulating film 4 may be formed so as to be stuck on the flat portion 42 of the insulating layer 1A.

尚、以下の説明では、絶縁フィルム4を第一の絶縁フィルムとし、絶縁フィルム4の両面のうち、絶縁層1A(第一の絶縁層)側の面の一方の面とし、絶縁フィルム4の他方の面を、後述するプリント基板100Aの一方の面とする。   In the following description, the insulating film 4 is the first insulating film, and one of the surfaces of the insulating film 4 on the insulating layer 1A (first insulating layer) side is the other surface of the insulating film 4. This surface is one surface of a printed circuit board 100A described later.

図4(D)に示す工程4では、金型11A上に形成された、絶縁パターン2A、配線パターン3A、絶縁層1A及び絶縁フィルム4を金型11Aから離型して、絶縁パターン2A及び配線パターン3Aの積層物を絶縁層1Aに転写する。   In step 4 shown in FIG. 4D, the insulating pattern 2A, the wiring pattern 3A, the insulating layer 1A, and the insulating film 4 formed on the mold 11A are released from the mold 11A, and the insulating pattern 2A and the wiring are formed. The laminate of the pattern 3A is transferred to the insulating layer 1A.

次に、図5(A)に示す工程5では、金型11Aから離型された絶縁パターン2Aに、インクジェットノズル50から絶縁インクを吐出して、絶縁層5を形成する。つまり、工程5では、絶縁パターン2Aにおいて、配線パターン3Aが形成されている面と反対側の面に、絶縁層5を形成する。したがって、絶縁層5は、絶縁パターン2Aの有する凹部と平面部とに合わせた凹部44と平面部45を有する形状に形成される。   Next, in step 5 shown in FIG. 5A, the insulating layer 5 is formed by discharging insulating ink from the inkjet nozzle 50 onto the insulating pattern 2A released from the mold 11A. That is, in step 5, the insulating layer 5 is formed on the surface opposite to the surface on which the wiring pattern 3A is formed in the insulating pattern 2A. Therefore, the insulating layer 5 is formed in a shape having a concave portion 44 and a flat portion 45 that match the concave portion and the flat portion of the insulating pattern 2A.

図5(B)に示す工程6では、絶縁層5の下に、絶縁フィルム6を形成する。絶縁フィルム6は、絶縁層5の凹部44と外接するように形成される。したがって、図5(B)に示すように、絶縁層5の平面部45と絶縁フィルム6との間に空洞46が形成される。尚、絶縁フィルム6は、絶縁層5の凹部44に貼り付けるようにして、形成されても良い。絶縁フィルム6が形成されると、プリント基板100Aが完成する。   In step 6 shown in FIG. 5B, the insulating film 6 is formed under the insulating layer 5. The insulating film 6 is formed so as to circumscribe the concave portion 44 of the insulating layer 5. Therefore, as shown in FIG. 5B, a cavity 46 is formed between the flat portion 45 of the insulating layer 5 and the insulating film 6. The insulating film 6 may be formed so as to be attached to the recess 44 of the insulating layer 5. When the insulating film 6 is formed, the printed circuit board 100A is completed.

尚、以下の説明では、絶縁フィルム6を第二の絶縁フィルムとし、絶縁フィルム6の両面のうち、絶縁層5(第二の絶縁層)側の面の一方の面とし、絶縁フィルム6の他方の面を、プリント基板100Aの他方の面とする。   In the following description, the insulating film 6 is a second insulating film, and one of the surfaces of the insulating film 6 on the insulating layer 5 (second insulating layer) side is the other surface of the insulating film 6. Is the other surface of the printed circuit board 100A.

尚、本実施形態の絶縁層1A、5と絶縁フィルム4、6は、液状の熱硬化型弾性部材等で形成することが好ましい。また、絶縁層1A、5と絶縁フィルム4、6は、絶縁パターン2Aを形成する絶縁性基材よりも耐熱性の低いものである。   In addition, it is preferable to form the insulating layers 1A and 5 and the insulating films 4 and 6 of this embodiment with a liquid thermosetting elastic member or the like. The insulating layers 1A and 5 and the insulating films 4 and 6 are lower in heat resistance than the insulating base material forming the insulating pattern 2A.

本実施形態では、以上のようにプリント基板100Aを形成することで、プリント基板100Aには、一方の面を形成する第一の絶縁フィルムと第一の絶縁層によって格子状に形成された複数の空洞43と、プリント基板100Aの他方の面を形成する第二の絶縁フィルムと第二の絶縁層によって格子状に形成された複数の空洞46と、が、互い違いに配置されることになる。   In the present embodiment, by forming the printed circuit board 100A as described above, the printed circuit board 100A has a plurality of grids formed by a first insulating film that forms one surface and a first insulating layer. The cavities 43 and the plurality of cavities 46 formed in a lattice pattern by the second insulating film and the second insulating layer forming the other surface of the printed board 100A are alternately arranged.

したがって、本実施形態によれば、プリント基板100Aは、2軸方向に対する伸張に追従することができる。   Therefore, according to the present embodiment, the printed circuit board 100A can follow the expansion in the biaxial direction.

また、本実施形態では、金型11A上に、絶縁パターン2Aと配線パターン3Aとをそれぞれ交互に複数層ずつ形成することができる。   In the present embodiment, the insulating pattern 2A and the wiring pattern 3A can be alternately formed in a plurality of layers on the mold 11A.

図6は、配線パターンが積層された例を示す図である。図6(A)は、プリント基板100Aにおける絶縁パターン2A−1を示す図である。   FIG. 6 is a diagram illustrating an example in which wiring patterns are stacked. FIG. 6A is a diagram illustrating an insulating pattern 2A-1 in the printed circuit board 100A.

本実施形態の絶縁パターン2A−1は、金型11Aの平面部に形成された絶縁パターン2A−11と、金型11Aの凹部に形成され、湾曲している絶縁パターン2A−21を含む。また、プリント基板100Aでは、格子状に空洞43が形成されていることがわかる。   The insulating pattern 2A-1 of this embodiment includes an insulating pattern 2A-11 formed on the flat surface of the mold 11A and an insulating pattern 2A-21 formed on the concave portion of the mold 11A and curved. It can also be seen that in the printed circuit board 100A, the cavities 43 are formed in a lattice pattern.

図6(B)は、プリント基板100Aの第一の配線層を示す図である。図6(B)では、絶縁パターン2A−1の上に、任意に配線パターン3A−1が形成されている。   FIG. 6B is a diagram illustrating a first wiring layer of the printed circuit board 100A. In FIG. 6B, a wiring pattern 3A-1 is arbitrarily formed on the insulating pattern 2A-1.

図6(C)は、プリント基板100Aの第二の配線層を示す図である。図6(C)に示す配線パターン3A−2は、配線パターン3A−1上に積層された絶縁パターン2A−2の上に形成されている。   FIG. 6C is a diagram showing a second wiring layer of the printed circuit board 100A. A wiring pattern 3A-2 shown in FIG. 6C is formed on the insulating pattern 2A-2 stacked on the wiring pattern 3A-1.

このように、本実施形態では、絶縁パターン2Aと配線パターン3Aを積層することで、配線密度を高くし、且つ、被転写部材が伸張しても、配線に負荷が掛かり難く、断線やクラックが起き難いプリント基板を提供できる。   Thus, in this embodiment, by laminating the insulating pattern 2A and the wiring pattern 3A, the wiring density is increased, and even if the member to be transferred is stretched, it is difficult to apply a load to the wiring, and disconnection and cracks are not generated. It is possible to provide a printed circuit board that is difficult to get up.

また、本実施形態では、凹部を有する絶縁層1A、絶縁パターン2A、配線パターン3A、絶縁層5を、インクジェット方式により形成する。したがって、本実施形態では、液体の付着量を任意に調整することができる。例えば、凹部の傾斜等の液体が付着しにくい部分に対しては、複数回にわたって液体を吐出させることで、一定量の液体を付着させることができ、厚さが均一なパターン膜を作成できる。   In the present embodiment, the insulating layer 1A, the insulating pattern 2A, the wiring pattern 3A, and the insulating layer 5 having the recesses are formed by an inkjet method. Therefore, in this embodiment, the adhesion amount of the liquid can be arbitrarily adjusted. For example, a liquid with a certain amount can be adhered to a portion where the liquid is difficult to adhere, such as an inclination of a concave portion, and a pattern film having a uniform thickness can be created by ejecting the liquid multiple times.

以上、各実施形態に基づき本発明の説明を行ってきたが、上記実施形態に示した要件に本発明が限定されるものではない。これらの点に関しては、本発明の主旨をそこなわない範囲で変更することができ、その応用形態に応じて適切に定めることができる。   As mentioned above, although this invention has been demonstrated based on each embodiment, this invention is not limited to the requirements shown in the said embodiment. With respect to these points, the gist of the present invention can be changed without departing from the scope of the present invention, and can be appropriately determined according to the application form.

1、4、6 絶縁フィルム
1A、5 絶縁層
2、2A 絶縁パターン
3、3A 配線パターン
43、46 空洞
100、100A プリント基板
1, 4, 6 Insulating film 1A, 5 Insulating layer 2, 2A Insulating pattern 3, 3A Wiring pattern 43, 46 Cavity 100, 100A Printed circuit board

特許第5600030号公報Japanese Patent No. 5600030

Claims (7)

プリント基板の製造方法であって、
金型上に絶縁膜を形成する第一の絶縁膜形成工程と、
前記絶縁膜上に導電膜を形成する導電膜形成工程と、
前記絶縁膜と前記導電膜の積層体が転写される被転写膜を前記導電膜と接するように設ける被転写膜形成工程と、
前記被転写膜及び前記積層体から前記金型を剥離させる剥離工程と、を有するプリント基板の製造方法。
A printed circuit board manufacturing method comprising:
A first insulating film forming step of forming an insulating film on the mold;
A conductive film forming step of forming a conductive film on the insulating film;
A transferred film forming step of providing a transferred film to which the laminate of the insulating film and the conductive film is transferred so as to be in contact with the conductive film;
A peeling step of peeling the mold from the film to be transferred and the laminate.
前記第一の絶縁膜形成工程において、絶縁インクをインクジェットノズルから吐出させて前記絶縁膜を形成し、
前記導電膜形成工程において、導電インクを前記インクジェットノズルから吐出させて前記導電膜を形成する、請求項1記載のプリント基板の製造方法。
In the first insulating film forming step, insulating ink is ejected from an inkjet nozzle to form the insulating film,
The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 1, wherein, in the conductive film forming step, the conductive film is formed by discharging conductive ink from the inkjet nozzle.
前記絶縁膜は、熱硬化性樹脂からなり、200℃以上の焼成にて硬化する請求項1又は2記載のプリント基板の製造方法。   The printed circuit board manufacturing method according to claim 1, wherein the insulating film is made of a thermosetting resin and is cured by baking at 200 ° C. or higher. 前記被転写膜は、弾性部材である、請求項1乃至3の何れか一項に記載のプリント基板の製造方法。   The printed circuit board manufacturing method according to claim 1, wherein the transfer target film is an elastic member. 前記金型は、格子状に形成された複数の凹部を有し、
前記被転写膜形成工程と、前記剥離工程の間に、前記被転写膜上に第一の絶縁フィルムを形成する第一フィルム形成工程と、
前記剥離工程の後に、前記絶縁膜において、前記導電膜が形成された面と反対の面に、他の絶縁膜を形成する第二の絶縁膜形成工程と、
前記他の絶縁膜において、前記絶縁膜側の面と反対の面に、第二の絶縁フィルムを形成する第二フィルム形成工程と、を有する、請求項1乃至4の何れか一項に記載のプリント基板の製造方法。
The mold has a plurality of recesses formed in a lattice shape,
A first film forming step of forming a first insulating film on the transferred film between the transferred film forming step and the peeling step;
A second insulating film forming step of forming another insulating film on the surface opposite to the surface on which the conductive film is formed in the insulating film after the peeling step;
5. The second film forming step of forming a second insulating film on a surface opposite to the surface on the insulating film side in the other insulating film, according to claim 1. A method for manufacturing a printed circuit board.
導電膜と、
前記導電膜の一方の面側に形成された絶縁膜と、を積層した積層体と、
前記積層体が転写された、前記絶縁膜と比較して耐熱性が低い被転写膜と、を有し、
前記積層体は、前記導電膜が前記絶縁膜と前記被転写膜との間に配置されるように、前記被転写膜に転写されている、プリント基板。
A conductive film;
A laminate in which an insulating film formed on one surface side of the conductive film is laminated;
A film to which the laminate is transferred, and a film to be transferred having low heat resistance compared to the insulating film,
The printed circuit board, wherein the laminate is transferred to the film to be transferred so that the conductive film is disposed between the insulating film and the film to be transferred.
前記積層体は、格子状に形成された複数の凹部を有し、
前記絶縁膜において、前記導電膜が形成された面と反対側の面に形成された他の絶縁膜と、
一方の面が前記プリント基板の一方の面となり、他方の面が前記転写膜の前記導電膜側の面となる第一の絶縁フィルムと、
一方の面が前記プリント基板の他方の面となり、他方の面が前記他の絶縁膜側の面となる第二の絶縁フィルムと、を有し、
前記転写膜と前記第一の絶縁フィルムとによって形成された第一の格子状の空洞と、前記他の絶縁膜と前記第二の絶縁フィルムとによって、前記第一の格子状の空洞と互い違いになるように形成された第二の格子状の空洞と、を有する請求項6記載のプリント基板。
The laminate has a plurality of recesses formed in a lattice shape,
In the insulating film, another insulating film formed on the surface opposite to the surface on which the conductive film is formed;
A first insulating film in which one surface is one surface of the printed circuit board and the other surface is a surface on the conductive film side of the transfer film;
A second insulating film in which one surface is the other surface of the printed circuit board and the other surface is a surface on the other insulating film side;
The first lattice-shaped cavities formed by the transfer film and the first insulating film, and the other insulating films and the second insulating film alternate with the first lattice-shaped cavities. The printed circuit board according to claim 6, further comprising: a second lattice-shaped cavity formed to be.
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