JP2019174468A - 撮像パネル - Google Patents
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Abstract
【課題】シンチレーション光の検出精度を低下させることなく、製造コストを抑えて撮像パネルへの水分の侵入を抑制する。【解決手段】撮像パネル1は、各画素に光電変換素子を備えるアクティブマトリクス基板1a、アクティブマトリクス基板1aの表面に設けられたシンチレータ1b、シンチレータ1b全体を覆う防湿材212、防湿材212とシンチレータ1b及びアクティブマトリクス基板1aとの間を接着する接着層211を備える。アクティブマトリクス基板1aは、画素領域と画素領域外側に設けられた感光性樹脂膜からなる第1の平坦化膜108と、少なくとも画素領域の外側で第1の平坦化膜108とシンチレータ1bとの間に設けられ、シンチレータ1bの領域全体と平面視で重なり、第1の平坦化膜108と接する第1の無機膜109とを備える。第1の無機膜109上でシンチレータ1bと平面視で重なる領域の外側の少なくとも一部領域は接着層211に覆われる。【選択図】図5B
Description
本発明は、撮像パネルに関する。
従来より、画素ごとに、スイッチング素子と接続された光電変換素子を備えるアクティブマトリクス基板がX線撮像装置に用いられている。下記特許文献1には、このようなX線撮像装置への水分の侵入を抑制する技術が開示されている。この特許文献1のX線撮像装置は、光電変換基板上に設けられた蛍光体層を保護する防湿保護層と、光電変換基板とを接着する接着剤を介した水分の侵入を抑制する。具体的には、光電変換基板上にポリイミド等からなる表面有機膜を設け、蛍光体層の外周に沿って、樹脂が埋め込まれた溝部を表面有機膜に設ける。
上記特許文献1では、防湿効果を有する表面有機膜を光電変換基板上に設け、表面有機膜に樹脂が埋め込まれた溝部を設けるため、接着剤の液だまりが生じにくく、光電変換基板に水分が侵入しにくい。そのため、光電変換基板から蛍光体層への水分の侵入がある程度抑制される。しかしながら、例えば、数10μmのポリイミド等の表面有機膜は防湿効果があるが、シンチレーション光の波長域を吸収するため、シンチレーション光の検出精度が低下する。
本発明は、シンチレーション光の検出精度を低下させることなく、撮像パネルへの水分の侵入を抑制し得る技術を提供する。
上記課題を解決する本発明の撮像パネルは、複数の画素を含む画素領域を有し、前記複数の画素のそれぞれに光電変換素子を備えるアクティブマトリクス基板と、前記アクティブマトリクス基板の表面に設けられ、X線をシンチレーション光に変換するシンチレータと、前記シンチレータの全体を覆う防湿材と、前記防湿材と、前記シンチレータ及び前記アクティブマトリクス基板の表面との間を接着する接着層と、を備え、前記アクティブマトリクス基板は、前記画素領域と前記画素領域の外側に設けられ、感光性樹脂膜で構成された第1の平坦化膜と、少なくとも前記画素領域の外側において、前記第1の平坦化膜と前記シンチレータとの間に設けられ、前記シンチレータが設けられた領域全体と平面視で重なり、且つ前記第1の平坦化膜と接する第1の無機膜と、を備え、前記第1の無機膜上において、前記シンチレータと平面視で重なる領域の外側の少なくとも一部領域は前記接着層に覆われている。
本発明によれば、シンチレーション光の検出精度を低下させることなく、撮像パネルへの水分の侵入を抑制することができる。
本発明の一実施形態に係る撮像パネルは、複数の画素を含む画素領域を有し、前記複数の画素のそれぞれに光電変換素子を備えるアクティブマトリクス基板と、前記アクティブマトリクス基板の表面に設けられ、X線をシンチレーション光に変換するシンチレータと、前記シンチレータの全体を覆う防湿材と、前記防湿材と、前記シンチレータ及び前記アクティブマトリクス基板の表面との間を接着する接着層と、を備え、前記アクティブマトリクス基板は、前記画素領域と前記画素領域の外側に設けられ、感光性樹脂膜で構成された第1の平坦化膜と、少なくとも前記画素領域の外側において、前記第1の平坦化膜と前記シンチレータとの間に設けられ、前記シンチレータが設けられた領域全体と平面視で重なり、且つ前記第1の平坦化膜と接する第1の無機膜と、を備え、前記第1の無機膜上において、前記シンチレータと平面視で重なる領域の外側の少なくとも一部領域は前記接着層に覆われている(第1の構成)。
第1の構成によれば、アクティブマトリクス基板の表面にシンチレータが設けられ、シンチレータの全体は接着層を介して防湿材に覆われる。アクティブマトリクス基板は、画素領域と画素領域の外側に感光性樹脂膜で構成された第1の平坦化膜を備える。また、アクティブマトリクス基板は、第1の平坦化膜とシンチレータとの間において、シンチレータが設けられた領域全体と平面視で重なり、第1の平坦化膜に接する第1の無機膜を備える。さらに、第1の無機膜上において、シンチレータと平面視で重なる領域の外側の少なくとも一部領域は接着層で覆われている。つまり、第1の平坦化膜はシンチレータに接することなく、シンチレータは接着層と第1の無機膜とによって覆われる。第1の無機膜及び接着層は、感光性樹脂膜で構成された第1の平坦化膜よりも吸湿性が低い。そのため、第1の平坦化膜の表面から水分が入り込んでも、シンチレータへ水分が入り込みにくく、水分の侵入による検出精度の低下を抑制できる。
第1の構成における前記第1の無機膜において前記第1の平坦化膜と反対側の面は前記シンチレータと接していることとしてもよい(第2の構成)。
第2の構成によれば、第1の平坦化膜とシンチレータとに第1の無機膜が接しているため、第1の平坦化膜の表面から水分が入り込んでも、第1の無機膜を介してシンチレータへ水分が入り込みにくい。
第1の構成において、前記アクティブマトリクス基板は、前記第1の無機膜において前記第1の平坦化膜と反対側の面に接するとともに、前記シンチレータと接する有機膜を備え、前記有機膜の端部は、前記接着層に覆われていることとしてもよい(第3の構成)。
第3の構成によれば、有機膜がシンチレータと接しているためシンチレータの結晶成長を促進させることができる。また、有機膜の端部は接着層に覆われるため、第1の平坦化膜の表面から水分が入り込んでも、有機膜を介してシンチレータに水分が入り込みにくい。
第1から第3のいずれかの構成において、前記アクティブマトリクス基板は、前記画素領域と前記画素領域の外側において、前記第1の平坦化膜において前記第1の無機膜と反対側の面に設けられた第2の無機膜をさらに備え、前記第2の無機膜は、前記画素領域から前記画素領域の外側まで連続して設けられていることとしてもよい(第4の構成)。
第4の構成によれば、第1の平坦化膜において第1の無機膜と反対側の面に第2の無機膜が設けられ、第2の無機膜は画素領域から画素領域の外側まで連続している。つまり、第1の平坦化膜は第1の無機膜と第2の無機膜の間に設けられ、第2の無機膜は、画素領域から画素領域の外側まで切れ目なく配置されている。第2の無機膜は第1の平坦化膜よりも防湿性が高い。よって、第1の無機膜を介してシンチレータへ水分が侵入しにくく、第2の無機膜を介して画素領域へ水分が侵入しにくい。
第4の構成において、前記アクティブマトリクス基板は、前記画素領域と前記画素領域の外側において、前記第2の無機膜に対して前記第1の平坦化膜と反対側に設けられ、感光性樹脂膜で構成された第2の平坦化膜をさらに備え、前記第2の平坦化膜は、前記画素領域における各画素の光電変換素子を覆うこととしてもよい(第5の構成)。
第5の構成によれば、少なくとも第1の平坦化膜に水分が浸透しても、第2の無機膜を介して第2の平坦化膜に水分が侵入しにくく、画素領域における光電変換素子に水分が入り込みにくい。
第5の構成において、前記アクティブマトリクス基板は、前記複数の画素のそれぞれに設けられた配線と、前記画素領域の外側において、前記第2の無機膜と前記第2の平坦化膜との間に設けられた金属膜とをさらに備え、前記金属膜は、前記配線とコンタクトホールを介して接続されていることとしてもよい(第6の構成)。
第6の構成によれば、画素領域の外側において第2の無機膜と第2の平坦化膜の間に設けられた金属膜と、画素領域に設けられた配線とがコンタクトホールを介して接続されている。そのため、画素領域の配線を金属膜を介して画素領域の外側まで延設することができる。
第6の構成において、前記配線は、前記画素領域において前記第2の無機膜と前記第2の平坦化膜との間に設けられ、各画素における前記光電変換素子と接続されていることとしてもよい(第7の構成)。
第7の構成によれば、画素領域の外側から配線を介して光電変換素子に所望の電圧を供給することができる。
以下、図面を参照し、本発明の実施の形態を詳しく説明する。図中同一又は相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。
(構成)
図1は、本実施形態における撮像パネルを適用したX線撮像装置を示す模式図である。X線撮像装置100は、アクティブマトリクス基板1aとシンチレータ1bとを備える撮像パネル1と、制御部2とを備える。
図1は、本実施形態における撮像パネルを適用したX線撮像装置を示す模式図である。X線撮像装置100は、アクティブマトリクス基板1aとシンチレータ1bとを備える撮像パネル1と、制御部2とを備える。
制御部2は、ゲート制御部2Aと信号読出部2Bとを含む。被写体Sに対しX線源3からX線が照射される。被写体Sを透過したX線は、アクティブマトリクス基板1aの上部に配置されたシンチレータ1bにおいて蛍光(以下、シンチレーション光)に変換される。X線撮像装置100は、シンチレーション光を撮像パネル1及び制御部2において撮像することにより、X線画像を取得する。
図2は、アクティブマトリクス基板1aの概略構成を示す模式図である。図2に示すように、アクティブマトリクス基板1aには、複数のソース配線10と、複数のソース配線10と交差する複数のゲート配線11とが形成されている。ゲート配線11は、ゲート制御部2Aと接続され、ソース配線10は、信号読出部2Bと接続されている。
アクティブマトリクス基板1aは、ソース配線10とゲート配線11とが交差する位置に、ソース配線10及びゲート配線11に接続されたTFT13を有する。また、ソース配線10とゲート配線11とで囲まれた領域(以下、画素)には、フォトダイオード12が設けられている。画素において、フォトダイオード12により、被写体Sを透過したX線を変換したシンチレーション光がその光量に応じた電荷に変換される。
アクティブマトリクス基板1aにおける各ゲート配線11は、ゲート制御部2Aにおいて順次選択状態に切り替えられ、選択状態のゲート配線11に接続されたTFT13がオン状態となる。TFT13がオン状態になると、フォトダイオード12において変換された電荷に応じた信号がソース配線10を介して信号読出部2Bに出力される。
図3は、図2に示すアクティブマトリクス基板1aにおける一部の画素を拡大した平面図である。
図3に示すように、ゲート配線11及びソース配線10に囲まれた画素P1にフォトダイオード12とTFT13とを有する。
フォトダイオード12は、一対の電極と、一対の電極の間に設けられた光電変換層とを有する。TFT13は、ゲート配線11と一体化されたゲート電極13aと、半導体活性層13bと、ソース配線10と一体化されたソース電極13cと、ドレイン電極13dとを有する。ドレイン電極13dと、フォトダイオード12の一方の電極は、コンタクトホールCH1を介して接続されている。
なお、ゲート電極13aとソース電極13cはそれぞれ、ゲート配線11又はソース配線10と一体化されていなくてもよい。ゲート電極13aとゲート配線11とを互いに別の層に設け、ゲート配線11とゲート電極13aとがコンタクトホールを介して接続されてもよい。また、ソース電極13cとソース配線10とを互いに別の層に設け、ソース配線10とソース電極13cとがコンタクトホールを介して接続されてもよい。このように構成することで、ゲート配線11及びソース配線10を低抵抗化できる。
また、フォトダイオード12と画素内で重なるようにバイアス配線16が配置され、フォトダイオード12とバイアス配線16はコンタクトホールCH2を介して接続されている。バイアス配線16は、フォトダイオード12に対してバイアス電圧を供給する。
ここで、画素P1のA−A線の断面構造について説明する。図4Aは、図3の画素P1のA−A線の断面図である。図4Aに示すように、基板101上に、ゲート配線11(図3参照)と一体化されたゲート電極13aと、ゲート絶縁膜102とが形成されている。基板101は、絶縁性を有する基板であり、例えば、ガラス基板等で構成される。
ゲート電極13a及びゲート配線11は、この例において、下層から順にタングステン(W)、タンタル(Ta)が積層された金属膜であって、膜厚は100nm以上、1000nm以下程度で構成されてもよい。なお、ゲート電極13a及びゲート配線11は、2層構造に限らず、単層又は2層以上の複数層で構成されていてもよく、材料及び膜厚はこれに限定されない。
ゲート絶縁膜102は、ゲート電極13aを覆う。ゲート絶縁膜102は、この例において、2層の無機絶縁膜が積層された積層構造を有する。2層の無機絶縁膜は、下層から順に窒化ケイ素(SiNx)、酸化ケイ素(SiOx)からなる無機絶縁膜で構成されてもよい。ゲート絶縁膜102の膜厚は、100nm以上、1000nm以下程度が好ましい。なお、ゲート絶縁膜102は2層構造に限らず、単層又は2層以上の複数層で構成されていてもよい。また、ゲート絶縁膜102の材料及び膜厚は上記に限定されない。
ゲート絶縁膜102を介してゲート電極13aの上に、半導体活性層13bと、半導体活性層13bに接続されたソース電極13c及びドレイン電極13dとが設けられている。
半導体活性層13bは、ゲート絶縁膜102に接して形成されている。半導体活性層13bは、酸化物半導体からなる。酸化物半導体は、例えば、インジウム(In)、ガリウム(Ga)及び亜鉛(Zn)を所定の比率で含有するアモルファス酸化物半導体等を用いてもよい。この場合、半導体活性層13bの膜厚は、例えば100nm程度が好ましい。ただし、半導体活性層13bの材料及び膜厚は上記に限定されない。
ソース電極13c及びドレイン電極13dは、ゲート絶縁膜102の上において半導体活性層13bの一部と接するように配置されている。この例において、ソース電極13cは、ソース配線10(図3参照)と一体的に形成されている。ソース電極13c及びドレイン電極13dは、3つの金属膜が積層された積層構造を有する。3層の金属膜は、下層から順にチタン(Ti)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)からなる金属膜で構成されてもよい。この場合、ソース電極13c及びドレイン電極13dの膜厚は、例えば100nm以上、1000nm以下程度が好ましい。なお、ソース電極13c及びドレイン電極13dは3層構造に限らず、単層又は2層以上の複数層で構成されていてもよい。また、ソース電極13c及びドレイン電極13dの材料及び膜厚は上記に限定されない。
ゲート絶縁膜102の上に、ソース電極13c及びドレイン電極13dと重なるように第1絶縁膜103が設けられている。第1絶縁膜103は、ドレイン電極13dの上にコンタクトホールCH1を有する。この例において、第1絶縁膜103は、2つの無機絶縁膜が積層された積層構造を有する。2層の無機絶縁膜は、下層から順に酸化ケイ素(SiO2)、窒化ケイ素(SiN)からなる無機絶縁膜で構成されてもよい。この場合、第1絶縁膜103の膜厚は、100nm以上、1000nm以下程度が好ましい。なお、第1絶縁膜103は2層構造に限らず、単層又は2層以上の複数層で構成されていてもよい。なお、第1絶縁膜103を単層で構成する場合は、酸化ケイ素(SiO2)だけで構成する。また、第1絶縁膜103の材料及び膜厚は上記に限定されない。
第1絶縁膜103の上には、フォトダイオード12の一方の電極(以下、下部電極)14aと、第2絶縁膜105とが設けられている。下部電極14aは、コンタクトホールCH1を介してドレイン電極13dと接続されている。
下部電極14aは、この例において、3つの金属膜が積層された積層構造を有する。3層の金属膜は、例えば、下層から順に、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)からなる金属膜で構成されてもよい。この場合、下部電極14aの膜厚は、100nm以上、1000nm以下程度が好ましい。なお、下部電極14aは3層構造に限らず、単層又は2層以上の複数層で構成されてもよい。また、下部電極14aの材料及び膜厚は上記に限定されない。
下部電極14aの上部に光電変換層15が設けられ、下部電極14aと光電変換層15とが接続されている。
光電変換層15は、n型非晶質半導体層151、真性非晶質半導体層152と、p型非晶質半導体層153が順に積層されて構成されている。
n型非晶質半導体層151は、n型不純物(例えば、リン)がドーピングされたアモルファスシリコンからなる。
真性非晶質半導体層152は、真性のアモルファスシリコンからなる。真性非晶質半導体層152は、n型非晶質半導体層151に接して形成されている。
p型非晶質半導体層153は、p型不純物(例えば、ボロン)がドーピングされたアモルファスシリコンからなる。p型非晶質半導体層153は、真性非晶質半導体層152に接して形成されている。
この例において、n型非晶質半導体層151、真性非晶質半導体層152、及びp型非晶質半導体層153の膜厚はそれぞれ、例えば、1nm以上、100nm以下程度、500nm以上、2000nm以下程度、1nm以上、100nm以下程度であることが好ましい。なお、n型非晶質半導体層151、真性非晶質半導体層152、及びp型非晶質半導体層153のドーパント及び膜厚は上記に限定されない。
p型非晶質半導体層153の上には、フォトダイオード12のもう一方の電極(以下、上部電極)14bが設けられている。上部電極14bは、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)からなる透明導電膜で構成される。この場合、上部電極14bの膜厚は、例えば10nm以上、100nm以下程度が好ましい。ただし、上部電極14bの材料及び膜厚はこれに限定されない。
第1絶縁膜103、下部電極14a、及び上部電極14b上には第2絶縁膜105が設けられ、第2絶縁膜105上には第3絶縁膜106が設けられている。上部電極14b上において、第2絶縁膜105と第3絶縁膜106とを貫通するコンタクトホールCH2が形成されている。
この例において、第2絶縁膜105は、酸化ケイ素(SiO2)又は窒化ケイ素(SiN)からなる無機絶縁膜で構成される。この場合、第2絶縁膜105の膜厚は、例えば100nm以上、1000nm以下程度が好ましい。ただし、第2絶縁膜105の材料及び膜厚は上記に限定されない。
また、第3絶縁膜106(第2の平坦化膜)は、感光性樹脂で構成された平坦化膜であり、膜厚は、例えば1.0μm以上、3.0μm以下程度が好ましい。ただし、第3絶縁膜106の材料及び膜厚は上記に限定されない。
第3絶縁膜106の上にはバイアス配線16が設けられ、コンタクトホールCH2において、バイアス配線16と上部電極14bとが接続されている。バイアス配線16は、制御部2(図1参照)に接続されている。バイアス配線16は、制御部2から入力されるバイアス電圧を上部電極14bに印加する。
この例において、バイアス配線16は、下層に金属層、上層に透明導電層が積層された積層構造を有する。金属層は、例えば、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)が積層された積層膜で構成され、透明導電層は、例えばITOで構成されてもよい。バイアス配線16の膜厚は、100nm以上、1000nm以下程度が好ましい。なお、バイアス配線16は単層又は2層以上の複数層で構成されていてもよい。また、バイアス配線16の材料及び膜厚は上記に限定されない。
第3絶縁膜106上には、バイアス配線16を覆う第4絶縁膜107(第2の無機膜)が設けられている。この例において、第4絶縁膜107は、例えば窒化ケイ素(SiNx)からなる無機絶縁膜で構成されてもよく、膜厚は、例えば100nm以上、1000nm以下程度が好ましい。なお、第4絶縁膜107は1つの無機絶縁膜からなる単層構造に限らず、複数の無機絶縁膜が積層された積層構造を有していてもよい。また、第4絶縁膜107の材料及び膜厚は上記に限定されない。
第4絶縁膜107を覆うように、第5絶縁膜108(第1の平坦化膜)が設けられている。第5絶縁膜108は、感光性樹脂からなる平坦化膜であり、膜厚は、例えば1.0μm以上、10.0μm程度が好ましい。ただし、第5絶縁膜108の材料及び膜厚は上記に限定されない。
一の画素P1におけるアクティブマトリクス基板1aの断面構造は以上の通りである。なお、撮像パネル1において、アクティブマトリクス基板1aの上にはシンチレータ1bが設けられている。図4Bは、撮像パネル1の画素領域における断面構造を示す断面図である。図4Bに示すように、アクティブマトリクス基板1aの上部には、第5絶縁膜108を覆うようにシンチレータ1bが設けられ、シンチレータ1bを覆うように、接着層211を介してシンチレータ1bと接着された防湿材212が設けられている。接着層211は、例えば光硬化樹脂、熱硬化樹脂、又はホットメルト樹脂等からなり、防湿効果を有する。防湿材212は、例えば防湿性を有する有機膜からなる。
次に、撮像パネル1の全画素領域より外側、すなわち、撮像パネル1における端部領域の構造について説明する。図5Aは、撮像パネル1の概略平面図であり、図5Bは、図5Aに示すB−B線の断面図であって、アクティブマトリクス基板1aの一辺における端部領域P2の一部を拡大した断面図である。
図5A、Bにおいて、図4Bと同じ構成には図4Bと同じ符号を付している。以下、端部領域P2の構造について具体的に説明する。なお、図5Bでは、便宜上、アクティブマトリクス基板1aの一辺における端部領域の断面を示しているが、他の3辺における端部領域も図5Bと同様に構成されているものとする。
図5Bに示すように、端部領域P2には、基板101上に、ゲート電極13aと同じ層に設けられ、ゲート電極13aと同じ材料からなるゲート層130が設けられ、ゲート層130上にゲート絶縁膜102が設けられている。また、ゲート絶縁膜102上には、ソース電極13c及びドレイン電極13dと同じ層に設けられ、ソース電極13c及びドレイン電極13dと同じ材料からなるソース層131が設けられている。
なお、ゲート層130は、アクティブマトリクス基板1aの画素領域の外側に設けられたゲート端子(図示略)とコンタクトホール(図示略)を介して接続されてもよい。また、ソース層131は、アクティブマトリクス基板1aの画素領域の外側に設けられたソース端子(図示略)とコンタクトホール(図示略)を介して接続されてもよい。
ソース層131上には第1絶縁膜103が設けられ、第1絶縁膜103上には、第2絶縁膜105が設けられ、第2絶縁膜105上に第3絶縁膜106が設けられている。
第3絶縁膜106上には、バイアス配線16と同じ層に設けられ、バイアス配線16と同じ材料からなるバイアス配線層160が設けられている。
バイアス配線層160は、アクティブマトリクス基板1aの画素領域の外側に設けられた端子(図示略)とコンタクトホール(図示略)を介して接続されている。バイアス配線16とバイアス配線層160は、画素領域又は画素領域の外側に形成されたコンタクトホール(図示略)を介して互いに接続され、端子に入力されるバイアス電圧がバイアス配線層160を介してバイアス配線16に供給される。
なお、ゲート層130、ソース層131、バイアス配線層160のそれぞれは、画素領域P1から端部領域P2まで連続して形成されてもよい。また、画素領域P1の外側において、ゲート配線11、ソース配線10、バイアス配線16のそれぞれと異なる層に設けた金属膜とこれら配線とをコンタクトホールを介して接続してもよい。
バイアス配線層160上には第4絶縁膜107が設けられている。第4絶縁膜107上には第5絶縁膜108が設けられている。第5絶縁膜108上には、第5絶縁膜108を覆う第6絶縁膜109(第1の無機膜)が設けられている。
第6絶縁膜109は、酸化ケイ素(SiO2)又は窒化ケイ素(SiN)からなる無機絶縁膜で構成される。なお、第6絶縁膜109は1つの無機絶縁膜からなる単層構造でもよいし、複数の無機絶縁膜が積層された積層構造を有していてもよい。
なお、この例では、第6絶縁膜109は、画素領域P1には設けられず、端部領域P2において第5絶縁膜108の表面を覆うように端部領域P2にのみ設けられている。しかしながら、図6に示すように、画素P1においても第5絶縁膜108を覆うように第6絶縁膜109が設けられ、画素P1から端部領域P2まで第6絶縁膜109が連続して設けられていてもよい。
画素P1においてバイアス配線16部分を覆う第4絶縁膜107は、第3絶縁膜106上の第4絶縁膜107よりも膜厚が薄くなったり、第4絶縁膜107が欠損しやすい。仮に、第5絶縁膜108から水分が侵入するとバイアス配線16が腐食することもあり、バイアス配線16の腐食部分や第4絶縁膜107の欠損部分からフォトダイオード12やTFT13へ水分が入り込みやすい。しかしながら、図6のように画素P1における第5絶縁膜108の表面が第6絶縁膜109で覆われることで、第5絶縁膜108に水分が侵入しにくくなる。その結果、バイアス配線16部分を覆う第4絶縁膜107に膜厚が薄い部分や欠損部分があったとしても、バイアス配線16の腐食や、フォトダイオード12やTFT13への水分の侵入が抑制される。
第6絶縁膜109の上にはシンチレータ1bが設けられ、シンチレータ1bの上には、接着層211を介してシンチレータ1bと接着された防湿材212が設けられている。
図5Bに示すように、第6絶縁膜109は、端部領域P2において、シンチレータ1b、接着層211、及び防湿材212と平面視で重なるように、第5絶縁膜108とシンチレータ1bの間に設けられている。無機絶縁膜である第6絶縁膜109は、有機絶縁膜である第5絶縁膜108と比べて吸湿性が低い。そのため、シンチレータ1b、接着層211、及び防湿材212と重なるように第6絶縁膜109が設けられることによって、第5絶縁膜108の端部から水分が入り込んでも、第6絶縁膜109を介してシンチレータ1bに水分が侵入しにくい。
また、端部領域P2において、バイアス配線層160上に無機絶縁膜である第4絶縁膜107が設けられている。そのため、第5絶縁膜108の端部から水分が入り込んでも、第4絶縁膜107を介して、第4絶縁膜107より下層に設けられた第3絶縁膜106に水分が浸透しにくく、画素領域P1に設けられたフォトダイオード12やTFT13への水分の侵入を抑制することができる。
(X線撮像装置100の動作)
ここで、図1に示すX線撮像装置100の動作について説明しておく。まず、X線源3からX線が照射される。このとき、制御部2は、バイアス配線16(図3等参照)に所定の電圧(バイアス電圧)を印加する。X線源3から照射されたX線は、被写体Sを透過し、シンチレータ1bに入射する。シンチレータ1bに入射したX線は蛍光(シンチレーション光)に変換され、アクティブマトリクス基板1aにシンチレーション光が入射する。アクティブマトリクス基板1aにおける各画素に設けられたフォトダイオード12にシンチレーション光が入射すると、フォトダイオード12により、シンチレーション光の光量に応じた電荷に変化される。フォトダイオード12で変換された電荷に応じた信号は、TFT13(図3等参照)がゲート制御部2Aからゲート配線11を介して出力されるゲート電圧(プラスの電圧)に応じてON状態となっているときに、ソース配線10を通じて信号読出部2B(図2等参照)に読み出される。そして、読み出された信号に応じたX線画像が、制御部2において生成される。
ここで、図1に示すX線撮像装置100の動作について説明しておく。まず、X線源3からX線が照射される。このとき、制御部2は、バイアス配線16(図3等参照)に所定の電圧(バイアス電圧)を印加する。X線源3から照射されたX線は、被写体Sを透過し、シンチレータ1bに入射する。シンチレータ1bに入射したX線は蛍光(シンチレーション光)に変換され、アクティブマトリクス基板1aにシンチレーション光が入射する。アクティブマトリクス基板1aにおける各画素に設けられたフォトダイオード12にシンチレーション光が入射すると、フォトダイオード12により、シンチレーション光の光量に応じた電荷に変化される。フォトダイオード12で変換された電荷に応じた信号は、TFT13(図3等参照)がゲート制御部2Aからゲート配線11を介して出力されるゲート電圧(プラスの電圧)に応じてON状態となっているときに、ソース配線10を通じて信号読出部2B(図2等参照)に読み出される。そして、読み出された信号に応じたX線画像が、制御部2において生成される。
以上、本発明の実施の形態を説明したが、上述した実施の形態は本発明を実施するための例示に過ぎない。よって、本発明は上述した実施の形態に限定されることなく、その趣旨を逸脱しない範囲内で上述した実施の形態を適宜変形して実施することが可能である。
(1)上述した実施形態では、端部領域P2において、第6絶縁膜109が第5絶縁膜108上の全面を覆うように配置されていたが、図7Aに示すように、第5絶縁膜108上においてシンチレータ1bと重なる領域にのみ第6絶縁膜109が設けられてもよい。このように構成しても、第5絶縁膜108の表面から水分が入り込んだ場合、第6絶縁膜109を介してシンチレータ1bに水分が入り込みにくい。なお、図7Bに示すように、第6絶縁膜109は、第6絶縁膜109の端部の位置が、シンチレータ1bの境界と接着層211の境界との間に配置されるように設けられていてもよい。つまり、シンチレータ1bが設けられたシンチレータ領域の境界よりも外側に第6絶縁膜109の端部が配置されてもよい。
(2)また、上述した実施形態において、例えば図5Bに示すバイアス配線層160、ソース層131、及びゲート層130の各金属層の側端部の位置は、基板101の側端部と略同じ位置に配置されており、各金属層の側端部は絶縁膜に覆われていない。この場合、金属層が外気に触れるため金属層が腐食し、アクティブマトリクス基板1aに水分が入り込む場合がある。そのため、各金属層の側端部が、基板101の側端部より内側に配置されるように各金属層を配置し、当該金属層の側端部が上層の絶縁膜で覆われるように構成してもよい。つまり、この場合、バイアス配線層160の側端部を含む表面全体が第4絶縁膜107で覆われ、ソース層131の側端部を含む表面全体が第1絶縁膜103で覆われ、ゲート層130の側端部を含む表面全体がゲート絶縁膜102で覆われる。
(3)上述した実施形態では第6絶縁膜109がシンチレータ1bと第5絶縁膜108とに接している例を説明したが、図8に示すように、本変形例のアクティブマトリクス基板1a_1は、シンチレータ1bと第6絶縁膜109との間に感光性樹脂材料からなる第7絶縁膜110(有機膜)をさらに備える。この図では端部領域P2を示しているが、画素P1においても第6絶縁膜109とシンチレータ1bとの間に第7絶縁膜110が設けられる。このように、画素P1及び端部領域P2において第7絶縁膜110がシンチレータ1bと接することにより、シンチレータ1bの結晶成長が促進され、X線の検出精度を向上させることができる。
(4)上述した実施形態及び変形例において第5絶縁膜108と第3絶縁膜106は、ポジ型又はネガ型の感光性樹脂材料で構成されていてもよい。
1…撮像パネル、1a,1a_1…アクティブマトリクス基板、1b…シンチレータ、2…制御部、2A…ゲート制御部、2B…信号読出部、3…X線源、10…ソース配線、11…ゲート配線、12…フォトダイオード、13…薄膜トランジスタ(TFT)、13a…ゲート電極、13b…半導体活性層、13c…ソース電極、13d…ドレイン電極、14a…下部電極、14b…上部電極、15…光電変換層、16…バイアス配線、100…X線撮像装置、101…基板、102…ゲート絶縁膜、103…第1絶縁膜、105…第2絶縁膜、106…第3絶縁膜、107…第4絶縁膜、108…第5絶縁膜、109…第6絶縁膜、110…第7絶縁膜、151…n型非晶質半導体層、152…真性非晶質半導体層、153…p型非晶質半導体層、211…接着層、212…防湿材
Claims (7)
- 複数の画素を含む画素領域を有し、前記複数の画素のそれぞれに光電変換素子を備えるアクティブマトリクス基板と、
前記アクティブマトリクス基板の表面に設けられ、X線をシンチレーション光に変換するシンチレータと、
前記シンチレータの全体を覆う防湿材と、
前記防湿材と、前記シンチレータ及び前記アクティブマトリクス基板の表面との間を接着する接着層と、を備え、
前記アクティブマトリクス基板は、
前記画素領域と前記画素領域の外側に設けられ、感光性樹脂膜で構成された第1の平坦化膜と、
少なくとも前記画素領域の外側において、前記第1の平坦化膜と前記シンチレータとの間に設けられ、前記シンチレータが設けられた領域全体と平面視で重なり、且つ前記第1の平坦化膜と接する第1の無機膜と、を備え、
前記第1の無機膜上において、前記シンチレータと平面視で重なる領域の外側の少なくとも一部領域は前記接着層に覆われている、撮像パネル。 - 前記第1の無機膜において前記第1の平坦化膜と反対側の面は前記シンチレータと接している、請求項1に記載の撮像パネル。
- 前記アクティブマトリクス基板は、
前記第1の無機膜において前記第1の平坦化膜と反対側の面に接するとともに、前記シンチレータと接する有機膜を備え、
前記有機膜の端部は、前記接着層に覆われている、請求項1に記載の撮像パネル。 - 前記アクティブマトリクス基板は、
前記画素領域と前記画素領域の外側において、前記第1の平坦化膜において前記第1の無機膜と反対側の面に設けられた第2の無機膜をさらに備え、
前記第2の無機膜は、前記画素領域から前記画素領域の外側まで連続して設けられている、請求項1から3のいずれか一項に記載の撮像パネル。 - 前記アクティブマトリクス基板は、
前記画素領域と前記画素領域の外側において、前記第2の無機膜に対して前記第1の平坦化膜と反対側に設けられ、感光性樹脂膜で構成された第2の平坦化膜をさらに備え、
前記第2の平坦化膜は、前記画素領域における各画素の光電変換素子を覆う、請求項4に記載の撮像パネル。 - 前記アクティブマトリクス基板は、
前記複数の画素のそれぞれに設けられた配線と、
前記画素領域の外側において、前記第2の無機膜と前記第2の平坦化膜との間に設けられた金属膜とをさらに備え、
前記金属膜は、前記配線とコンタクトホールを介して接続されている、請求項5に記載の撮像パネル。 - 前記配線は、前記画素領域において前記第2の無機膜と前記第2の平坦化膜との間に設けられ、各画素における前記光電変換素子と接続されている、請求項6に記載の撮像パネル。
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2019
- 2019-03-26 JP JP2019057620A patent/JP2019174468A/ja active Pending
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