JP2019173771A - Gas filter and gas supply device including the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えば、半導体デバイス製造装置に好適に使用できるガスフィルタ及びガス供給装置に関する。 The present invention relates to a gas filter and a gas supply apparatus that can be suitably used, for example, in a semiconductor device manufacturing apparatus.
例えば、半導体デバイスの製造工程では、製膜、エッチング及びクリーニング等において、各種のガスが使用される。これらのガスは粒子を含むものであってはならない。なぜなら、異物がウエハ表面に付着した場合、半導体デバイスの配線が短絡し、半導体デバイスの歩留まりが低下するからである。 For example, in a semiconductor device manufacturing process, various gases are used in film formation, etching, cleaning, and the like. These gases must not contain particles. This is because when foreign matter adheres to the wafer surface, the wiring of the semiconductor device is short-circuited, and the yield of the semiconductor device is reduced.
下記特許文献1は、ガス供給装置に用いられるガスフィルタとして、ガスが通流する2つの通流口を有する筐体と、各通流口を隔離するように前記筐体に収容されており、一の通流口から流入したガス中のパーティクルを捕捉するフィルタ部材とを備えるものが記載されている。 The following Patent Document 1 is housed in the housing as a gas filter used in the gas supply device, and a housing having two flow ports through which gas flows, and so as to isolate each flow port, What is provided with the filter member which capture | acquires the particle | grains in the gas which flowed in from one through-flow port is described.
ところで、この種のガスフィルタは、構造の小型化及び簡素化の要請がある。そのようなガスフィルタとして、本件発明者らは、ガスが通過可能な貫通孔が形成された金属製のベースプレートと、前記貫通孔を通過したガスを清浄化するためのフィルタを前記ベースプレートに溶接接合したガスフィルタを試作した。 By the way, this type of gas filter has a demand for miniaturization and simplification of the structure. As such a gas filter, the present inventors welded and joined a metal base plate having a through-hole through which a gas can pass and a filter for cleaning the gas that has passed through the through-hole to the base plate. A prototype gas filter was made.
しかしながら、前記ガスフィルタでは、ベースプレートの溶接部周辺は、溶接時の熱影響を受け金属組成が変性することがある。特に、ベースプレートの厚さが小さく形成されている場合、その傾向が強い。このため、フィルタの近傍にガス漏れ防止用のガスケット等を配置してベースプレート上に大きな圧力で接触させると、ベースプレートの当該部分に変形やクラックが生じ、ガスケット付近からガス漏れが発生するおそれがあった。 However, in the gas filter, the metal composition around the welded portion of the base plate may be denatured due to the heat effect during welding. This tendency is particularly strong when the thickness of the base plate is small. For this reason, if a gasket or the like for preventing gas leakage is placed near the filter and brought into contact with the base plate with a large pressure, the portion of the base plate may be deformed or cracked, and gas leakage may occur from the vicinity of the gasket. It was.
本発明は、以上のような問題点に鑑み案出なされたもので、フィルタがベースプレートに溶接されたガスフィルタにおいて、ガスケット付近からのガス漏れ等を効果的に抑制することを主たる目的としている。 The present invention has been devised in view of the above problems, and has as its main purpose to effectively suppress gas leakage from the vicinity of a gasket in a gas filter in which a filter is welded to a base plate.
本発明は、ガスフィルタであって、ガスが通過可能な第1貫通孔が形成された金属製のベースプレートと、前記第1貫通孔を通過したガスを清浄化するように前記ベースプレートに接合されたフィルタとを含み、前記ベースプレートの前記第1貫通孔の周囲には、前記第1貫通孔を囲むように形成されかつ前記フィルタを取り付けるためのフィルタ配置部と、前記フィルタ配置部を囲むように形成され、かつ、ガスケットを取り付けるためのガスケット配置部とが形成されており、前記フィルタは、前記ベースプレートから第1の方向に突出しており、かつ、その前記ベースプレート側の端部が前記フィルタ配置部に溶接接合されており、前記ガスケット配置部のビッカース硬さが、前記フィルタ配置部のビッカース硬さよりも大きく構成されている。 The present invention is a gas filter, which is a metal base plate having a first through-hole through which a gas can pass, and is joined to the base plate so as to clean the gas that has passed through the first through-hole. Including a filter, and is formed around the first through hole of the base plate so as to surround the first through hole, and to form a filter arrangement part for attaching the filter, and to surround the filter arrangement part And a gasket arrangement part for attaching a gasket is formed, the filter protrudes from the base plate in a first direction, and an end of the base plate side is formed in the filter arrangement part. It is welded, and the Vickers hardness of the gasket arrangement part is larger than the Vickers hardness of the filter arrangement part. To have.
本発明の他の態様では、前記ベースプレートには、前記第1貫通孔とは別の第2貫通孔が形成されても良い。 In another aspect of the present invention, a second through hole different from the first through hole may be formed in the base plate.
本発明の他の態様では、前記ガスケット配置部は、前記ベースプレートの前記第1の方向の側の面である第1面に設けられた第1ガスケット配置部を含むことができる。 In another aspect of the present invention, the gasket placement portion may include a first gasket placement portion provided on a first surface that is a surface of the base plate in the first direction.
本発明の他の態様では、前記第1ガスケット配置部は、前記フィルタ配置部とは段差を介して連続しても良い。 In another aspect of the invention, the first gasket placement portion may be continuous with the filter placement portion through a step.
本発明の他の態様では、前記ガスケット配置部は、前記ベースプレートの前記第1の方向とは反対側の面である第2面に設けられた第2ガスケット配置部を含むことができる。 In another aspect of the present invention, the gasket placement portion may include a second gasket placement portion provided on a second surface that is a surface opposite to the first direction of the base plate.
本発明の他の態様では、前記ベースプレートの横断面において、前記フィルタ配置部は、前記第1貫通孔の中心に向かって厚さが漸減するテーパー状であっても良い。 In another aspect of the present invention, in the cross section of the base plate, the filter placement portion may have a tapered shape with a thickness gradually decreasing toward the center of the first through hole.
本発明の他の態様では、前記ガスケット配置部のビッカース硬さが170°以上とされても良い。 In another aspect of the present invention, the gasket placement portion may have a Vickers hardness of 170 ° or more.
本発明の他の態様では、前記ガスケット配置部のビッカース硬さが、前記フィルタ配置部のビッカース硬さよりも20HVポイント以上大きいことが望ましい。 In another aspect of the present invention, it is desirable that the Vickers hardness of the gasket arrangement part is 20 HV points or more larger than the Vickers hardness of the filter arrangement part.
本発明の他の態様では、前記フィルタは、前記第1の方向に向かってテーパー状に構成されても良い。 In another aspect of the present invention, the filter may be tapered in the first direction.
本発明の他の態様では、前記ベースプレートの厚さが2.0〜5.0mmとされても良い。 In another aspect of the present invention, the base plate may have a thickness of 2.0 to 5.0 mm.
本発明の他の態様では、前記ガスを供給するための供給路の途中に、上記のいずれかに記載のガスフィルタが配置されてガス供給装置が構成される。 In another aspect of the present invention, the gas supply device is configured by arranging the gas filter according to any one of the above in the middle of the supply path for supplying the gas.
本発明のガスフィルタでは、フィルタは、ベースプレート側の端部がフィルタ配置部に溶接接合されている。したがって、本発明のガスフィルタは、簡単かつ安価に提供することができる。 In the gas filter of the present invention, the end of the base plate side of the filter is welded to the filter placement portion. Therefore, the gas filter of the present invention can be provided easily and inexpensively.
また、本発明のガスフィルタは、フィルタ配置部を囲むように形成されたガスケット配置部のビッカース硬さがフィルタ配置部のビッカース硬さよりも大きく構成されている。したがって、ガスケット配置部が、そこに配置されるガスケットから大きな圧力を受けた場合でも、該ガスケット配置部の損傷や変形等が抑制され、ひいては、ガスケット付近からのガス漏れ等を長期に亘って抑制することができる。 Moreover, the gas filter of this invention is comprised so that the Vickers hardness of the gasket arrangement | positioning part formed so that a filter arrangement | positioning part may be surrounded is larger than the Vickers hardness of a filter arrangement | positioning part. Therefore, even when the gasket placement part receives a large pressure from the gasket placed there, damage or deformation of the gasket placement part is suppressed, and consequently, gas leakage from the vicinity of the gasket is suppressed over a long period of time. can do.
以下、本発明の実施の一形態が図面に基づき説明される。図面は、本発明を例示及び説明する目的で使用されるもので、本発明は、図面に表された具体的な形態等に限定して解釈されるものではない。また、図面に表されている装置の縮尺やバランス等は、各図を通して統一されているわけではないし、構成の理解を助けるために、一部誇張して描かれている場合がある。また、全ての実施形態を通して、同一又は共通する要素には同じ番号が付されており、重複する説明が省略される場合がある。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The drawings are used for the purpose of illustrating and explaining the present invention, and the present invention should not be construed as being limited to the specific forms shown in the drawings. In addition, the scale, balance, and the like of the devices shown in the drawings are not unified throughout the drawings, and may be exaggerated in part to help understand the configuration. Moreover, the same number is attached | subjected to the same or common element through all embodiment, and the overlapping description may be abbreviate | omitted.
[ガスフィルタの全体構成]
図1及び図2は、本実施形態のガスフィルタ1の斜視図及び平面図をそれぞれ示し、図3は、図2のA−A線断面図を示す。図1〜3において、ガスフィルタ1は、金属製のベースプレート2と、ベースプレート2に接合されたフィルタ3とを含んでいる。
[Overall configuration of gas filter]
1 and 2 show a perspective view and a plan view of the gas filter 1 of the present embodiment, respectively, and FIG. 3 shows a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 1 to 3, the gas filter 1 includes a
ベースプレート2には、第1貫通孔4が形成されており、フィルタ3はこの第1貫通孔4を覆うように、ベースプレート2に固着されている。本実施形態のフィルタ3は、ベースプレート2から第1の方向Aに突出している。
A first through
[ベースプレート]
ベースプレート2は、例えば、薄い板状に構成されている。説明の便宜上、ベースプレート2の第1の方向Aを向く最も外側の表面は第1面2aとされ、それと反対側のベースプレート2の最も外側の表面は第2面2bとされる。本実施形態において、第1面2a及び第2面2bは、互いに平行な平面を形成するが、このような態様に限定されるものではない。
[Base plate]
The
ベースプレート2は、金属材料であれば様々な材料で構成することができ、例えば、SUS316L等の各種のステンレス鋼、ニッケル合金(例えば、ハステロイ(米ヘインズ社の登録商標))又は純ニッケルなどが好適に採用される。
The
ベースプレート2の形状や厚さは、このガスフィルタ1が利用されるガス供給装置に応じて適宜決定されれば良い。好ましい態様では、ガスフィルタ1をより小型化するために、ベースプレート2の厚さt(すなわち、第1面2aから第2面2bまでの最短距離)は、例えば、2.0〜5.0mmの範囲で選択されるのが良い。同様に、ガスフィルタ1の小型化を図るためには、ベースプレート2の平面視での最大寸法(図2では対角線寸法になる)は、例えば、25〜50mmの範囲とされるのが良い。なお、上記寸法は、いずれも一例であることが理解されなければならない。
The shape and thickness of the
本実施形態において、前記第1貫通孔4は、ベースプレート2の平面視において、例えば、円形の貫通孔として形成されている。また、第1貫通孔4は、ベースプレート2の平面視において、ベースプレート2のほぼ中央に設けられている。
In the present embodiment, the first through
ベースプレート2には、第1貫通孔4の他、例えば、第2貫通孔5及び複数の取付孔6が設けられても良い。
In addition to the first through
第2貫通孔5は、例えば、第1貫通孔4に隣接して設けられている。第2貫通孔5は、第1貫通孔4及びフィルタ3をその順で通過したガスGが通過可能な孔として利用することができる。例えば、図3に示されるように、ベースプレート2の下方から供給されたガスGがフィルタ3で濾過処理された後、図示しない筐体等を用いて当該ガスGを、第2貫通孔5を介して、再びベースプレート2の下方へと導くことができる。
For example, the second through
取付孔6は、例えば、ベースプレート2の周囲に設けられており、本実施形態では、ベースプレート2の四隅にそれぞれ設けられている。したがって、本実施形態のガスフィルタ1は、この取付孔6を用いてガス供給装置にネジ等の固着具を用いて取り外し自在に固着され得る。このため、ガスフィルタ1がある一定時間、ガスの濾過目的でガス供給装置(図示せず)に使用された後、当該ガスフィルタ1をガス供給装置から取り外して清浄、メンテナンス後、再び、ガス供給装置に装着して利用することができる。したがって、本実施形態のガスフィルタ1は、メンテナンスや交換が容易に行える。
The attachment holes 6 are provided, for example, around the
図4に拡大して示されるように、ベースプレート2には、さらに、第1貫通孔4の周囲に、フィルタ配置部7とガスケット配置部8とが形成されている。
As shown in an enlarged view in FIG. 4, the
[フィルタ配置部]
フィルタ配置部7は、フィルタ3を取り付けるために、第1貫通孔4を囲むように形成された部分である。本実施形態のフィルタ配置部7は、第1貫通孔4に隣接して環状に形成されている。換言すれば、本実施形態のフィルタ配置部7は、第1貫通孔4を画定する内周縁部分として把握することができる。
[Filter placement section]
The
フィルタ配置部7は、ベースプレート2の第1面2a側の第1表面7aと、ベースプレート2の第2面2b側の第2表面7bとを含む。
The
フィルタ配置部7の第1表面7aは、円環状の表面であり、ベースプレート2の第1面2aからやや奥まった位置にある。換言すれば、第1表面7aは、第1面2aと第2面2bとの間に位置する。また、第1表面7aは、実質的に第1面2a(及び第2面2b)とほぼ平行な平面で形成されている。本実施形態では、第1表面7aの上に、フィルタ3の端部3aが載せられており、例えば、両者の境界部分の第1貫通孔4側の縁が溶接されている。図4には、その溶接ビードが黒く塗りつぶされて示されている。溶接は、例えば、レーザー溶接、TIG溶接又はプラズマ溶接など、種々の方法が採用され得る。
The
フィルタ配置部7の第2表面7bも、円環状の表面であり、ベースプレート2の第1面2aよりも第2面2b側に位置している。また、本実施形態の第2表面7bは、第1の方向Aに向かって内径が漸減する円錐状の表面で形成されている。本実施形態のフィルタ配置部7は、第1表面7aとこのような第2表面7bとの組合せにより、第1貫通孔4の中心に向かって厚さが漸減するテーパー状に形成されている。このようなフィルタ配置部7は、フィルタ3とフィルタ配置部7とを、それらの内周面側から溶接する際、両者の境界にアクセスするための十分な空間を提供し、ひいては、溶接作業性を向上させるのに役立つ。
The
[ガスケット配置部]
ガスケット配置部8は、フィルタ配置部7を囲むように、その外周側に形成されている。本実施形態のガスケット配置部8は、フィルタ配置部7に隣接して環状に形成されている。このフィルタ配置部7には、図4に仮想線で示されるように、リング状のガスケット10(例えば、断面C字状のメタルガスケット及びその他のメタルガスケット等)を配置するためのスペースとして提供されている。
[Gasket placement area]
The
ガスケット配置部8は、例えば、ベースプレート2の第1面2aの側、及び/又は、ベースプレート2の第2面2bの側に設けられる。本実施形態では、好ましい態様として、ベースプレート2の第1面2a側に設けられた第1ガスケット配置部8Aと、ベースプレート2の第2面2b側に設けられた第2ガスケット配置部8Bとを含む。
The
[第1ガスケット配置部]
第1ガスケット配置部8Aは、例えば、フィルタ配置部7とは段差9を介して連続する。すなわち、第1ガスケット配置部8Aは、ベースプレート2の厚さ方向に延びる段差9を介して、フィルタ配置部7の第1表面7aに連続している。この段差9は、フィルタ3をベースプレート2に固着する際の位置決めに好適に利用される。第1ガスケット配置部8Aは、主としてガスケット10から面圧を受ける環状の支持面12と、この支持面12の外縁からベースプレート2の第1面2aに延びる側壁面13とからなる凹部として構成されている。
[First gasket placement section]
For example, the first
[第2ガスケット配置部]
第2ガスケット配置部8Bは、例えば、フィルタ配置部7と連続して設けられている。すなわち、第2ガスケット配置部8Bは、フィルタ配置部7の第2表面7bの端部からベースプレート2のプレート面方向に段差を介することなく連続している。第2ガスケット配置部8Bも、主としてガスケット10から面圧を受ける環状の支持面12と、この支持面12の外縁からベースプレート2の第2面2bに延びる側壁面13とからなる凹部として構成されている。
[Second gasket placement section]
The second
図3に示されるように、本実施形態では、好ましい態様として、第2貫通孔5の周りにも、第1ガスケット配置部8A及び第2ガスケット配置部8Bにそれぞれ対応する第3ガスケット配置部20A及び第4ガスケット配置部20Bを含むガスケット配置部20が形成されている。
[フィルタ]
図3に示されるように、本実施形態のフィルタ3は、ベースプレート2側の端部3aが開放され、かつ、その反対側の端部3bが閉じられた、例えば筒状で構成されている。フィルタ3の端部3aは、ベースプレート2のフィルタ配置部7に溶接にて固着されているのは上述のとおりである。
As shown in FIG. 3, in the present embodiment, as a preferable aspect, the third
[filter]
As shown in FIG. 3, the
フィルタ3は、金属材料からなり、例えば、微細孔を多数有する焼結金属からなる。本実施形態のフィルタ3は、ベースプレート2との間で良好な溶接継手を形成するために、ベースプレート2と同じ金属繊維の焼結体として構成されているが、両者が互いに溶接可能であれば、フィルタ3は、様々な材料を用いて構成されても良い。
The
[ガスフィルタの使用態様]
図5には、典型的なガスフィルタ1の使用態様として、ガス供給装置100が示されている。この実施形態のガス供給装置100は、半導体デバイス製造用のガス供給装置であって、例えば、流路ブロック102と、本実施形態のガスフィルタ1と、ガス処理デバイス104とを含んで構成される。
[Usage of gas filter]
FIG. 5 shows a
流路ブロック102は、第1ポートO1及び第2ポートO2が外部に露出して形成されている。第1ポートO1及び第2ポートO2は、それぞれ流路ブロック102内を延びる第1流路R1及び第2流路R2に連通している。 The flow path block 102 is formed by exposing the first port O1 and the second port O2 to the outside. The first port O1 and the second port O2 communicate with a first flow path R1 and a second flow path R2 that extend through the flow path block 102, respectively.
ガス供給装置100において、本実施形態のガスフィルタ1は、第1貫通孔4を第1ポートO1に、第2貫通孔5が第2ポートO2にそれぞれ連通させて流路ブロック102に、例えば、ネジ114で固着されている。なお、図5において黒塗りで示されるように、第1ガスケット配置部8A及び第2ガスケット配置部8Bには、それぞれガスケット10が装着されている。
In the
本実施形態のガス処理デバイス104は、例えば、ベースプレート106と、第1流路ブロック108と、ガス制御機器110と、第2流路ブロック112とを含んで構成される。
The
ベースプレート106は、例えば、ガスフィルタ1のベースプレート2に重ねて配置され、ネジ114でともに流路ブロック102に固着されている。ベースプレート106は、フィルタ3が通過可能な第3貫通孔O3が形成されるとともに、ベースプレート2の第2貫通孔5と連通するように第4貫通孔O4が形成されている。
For example, the
第1流路ブロック108は、例えば、フィルタ3を覆うような一定の内径を有する筒状に構成されており、その下端側がベースプレート106に一体に固着されている。したがって、フィルタ3を通過したガスは、フィルタ3と第1流路ブロック108との間の空間を通過して、ガス制御機器110へと送られる。フィルタ3が、本実施形態のように、第1の方向Aに向かってテーパー状で構成されている場合、フィルタ3と第1流路ブロック108との間の空間が、ガスGの流れの下流側に向かって増大し、ひいては、第1流路ブロック108内でのガスの流れ特性を向上させる点で好ましい。
For example, the first flow path block 108 is formed in a cylindrical shape having a constant inner diameter so as to cover the
ガス制御機器110は、例えば、レギュレータやマスフロー等の機器であり、第1流路ブロック108から送られてきたガスに対して所定の処理、操作を行なって、第2流路ブロック112へと供給する。
The
第2流路ブロック112は、例えば、第2貫通孔5を覆うような筒状に構成されており、その下端側がベースプレート106に一体に固着されている。
For example, the second flow path block 112 is configured in a cylindrical shape so as to cover the second through
以上のようなガス供給装置100では、流路ブロック102の第1流路R1から供給されたガスGは、第1貫通孔4を経てフィルタ3でパーティクルが除去された後、第1流路ブロック108、ガス制御機器110、第2流路ブロック112、第4貫通孔O4、第2貫通孔5及び第2ポートO2を経て第2流路R2から取り出される。また、この装置100では、ベースプレート2が、流路ブロック102及びベースプレート106との間で挟持されることにより、両ベースプレート2及び106の間、及びベースプレート2と流路ブロック102との間でそれぞれガスケット10が高い圧力でガスケット配置部8と接触し、第1貫通孔4及び第2貫通孔5からのガス漏れが防止されるという効果が期待される。また、本実施形態のガスフィルタ1を用いることにより、ガス供給装置100の小型化をも図ることができる。
In the
[ベースプレートのビッカース硬さ]
本実施形態のようなガスフィルタ31において、ベースプレート2とフィルタ3とを溶接固着した場合、ベースプレート2の溶接部周辺は、溶接時の熱影響を受け金属組織が変性しやすい。このような金属組織の変性がフィルタ3の近傍に位置するガスケット配置部8に生じると、ガスケット10との高い接触面圧により、ガスケット配置部8等に変形やクラックが生じ、ガス漏れが発生するおそれがある。
[Vickers hardness of base plate]
In the gas filter 31 as in the present embodiment, when the
本実施形態のガスフィルタ1は、以上のような実情に鑑み、ベースプレート2のガスケット配置部8のビッカース硬さが、フィルタ配置部7のビッカース硬さよりも大きく構成されている。このため、ガスケット配置部8は高い表面強度を有する。したがって、ガスケット配置部8が大きな圧力でガスケット10と接触した場合でも、ガスケット配置部8の変形(塑性変形)やクラック等が抑制され、ひいては、長期に亘ってシール性能を維持してガスケット付近からのガス漏れを防止することができる。
In view of the above situation, the gas filter 1 of the present embodiment is configured such that the Vickers hardness of the
本明細書において、フィルタ配置部7のビッカース硬さは、フィルタ配置部7のうち、溶接ビードを除いた箇所で複数箇所(例えば、第1貫通孔4の周りで均等に4箇所)で測定された値の最高値を意味する。
In this specification, the Vickers hardness of the
同様に、本明細書において、ガスケット配置部8のビッカース硬さは、ガスケット配置部8で複数箇所(例えば、第1貫通孔4の周りで均等に4箇所)で測定された値の最高値を意味する。また、ガスケット配置部8が複数の向きの表面を有する場合、ガスケット10から最も大きな面圧を受ける面(本実施形態では、支持面12)において測定されるものとする。また、各測定点において、JIS Z2244(2009)に準拠し、試験力0.2kgfの条件で、試験方向を測定面と直角方向としてビッカース硬さを測定する。
Similarly, in the present specification, the Vickers hardness of the
上述の作用をより効果的に発揮させるために、ガスケット配置部8のビッカース硬さは、好ましくは170HV以上、より好ましくは300HV以上とされるのが望ましい。一方、フィルタ配置部7のビッカース硬さは、フィルタ3の溶接作業性を向上するために、150HV以下であるのが望ましい。
In order to exhibit the above-described action more effectively, the Vickers hardness of the
また、好ましい態様では、ガスケット配置部8のビッカース硬さは、フィルタ配置部7のビッカース硬さよりも20HVポイント以上大きいことが望ましい。より好ましい態様では、ガスケット配置部8のビッカース硬さは、フィルタ配置部のビッカース硬さよりも100HVポイント以上大きいことが尚望ましい。
In a preferred embodiment, the Vickers hardness of the
ガスケット配置部8のビッカース硬さを、フィルタ配置部7のビッカース硬さよりも大きく構成するために、ガスケット配置部8は、例えば、バニシング加工が施されることで、高いビッカース硬さを具えることができる。バニシング加工は、金属表面層に強い圧縮応力を作用させて微小な塑性変形を与えることで、ビッカース硬さの大幅な上昇を伴う表面改質が期待できる。バニシング加工は、ベースプレート2にフィルタ3が溶接される前、又は、フィルタ3が溶接された後のいずれで行なわれても良い。なお、ガスケット配置部8のビッカース硬さを、フィルタ配置部7のビッカース硬さよりも大きく構成するための他の態様としては、ガスケット配置部8にショットピーニングが施されても良い。
In order to configure the Vickers hardness of the
以上、本発明のいくつかの実施形態が説明されたが、本発明は、本明細書において開示された特定の実施形態に限定されるわけではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の思想に含まれる全ての改造例、均等例及び変形例を含む。 Although several embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the specific embodiments disclosed in the present specification, but the present invention described in the claims. All modifications, equivalents and modifications included in the idea are included.
図1〜4に示したガスフィルタ(実施例及び比較例)が表1の仕様に基づいて試作され、ガス漏れの有無及びガスケット配置部の外観評価が行なわれた。実施例については、ガスケット配置部のビッカース硬さを、フィルタ配置部のビッカース硬さよりも大きく構成するために、ガスケット配置部には、バニシング加工が施された。評価方法は、次のとおりである。 The gas filters (Examples and Comparative Examples) shown in FIGS. 1 to 4 were prototyped based on the specifications in Table 1, and the presence / absence of gas leakage and the appearance evaluation of the gasket arrangement portion were performed. About the Example, in order to comprise the Vickers hardness of a gasket arrangement | positioning part larger than the Vickers hardness of a filter arrangement | positioning part, the burnishing process was given to the gasket arrangement | positioning part. The evaluation method is as follows.
<ガス漏れ評価>
各ガスフィルタを、リークディテクターに、所定のトルクで締め付けたネジで装着し、ベースプレートの第1面側及び第2面側でのガス漏れが測定された。表1において、ガス漏れ量が、予め定められた基準値以下の場合、「なし」と表示されている。
<Evaluation of gas leakage>
Each gas filter was attached to a leak detector with a screw tightened with a predetermined torque, and gas leakage on the first surface side and the second surface side of the base plate was measured. In Table 1, “None” is displayed when the amount of gas leakage is equal to or less than a predetermined reference value.
<ガスケット配置部の外観状況>
図5に示した形態のガス供給装置にガスフィルタを所定のトルクで締め付けたネジで装着し、所定時間ガスの濾過が行なわれた。その後、ガスフィルタをガス供給装置から取り外し、ベースプレート上のガスケット配置部の外観状況が肉眼で観察された。
評価の結果等は表1に示される。
<Appearance of gasket placement area>
A gas filter was attached to the gas supply apparatus of the form shown in FIG. 5 with a screw tightened with a predetermined torque, and gas was filtered for a predetermined time. Thereafter, the gas filter was removed from the gas supply device, and the appearance of the gasket arrangement portion on the base plate was observed with the naked eye.
The results of the evaluation are shown in Table 1.
表1から明らかなように、実施例のガスフィルタは、いずれもガス漏れが生じておらず、かつ、使用後のガスケット配置部の外観状況も全く問題がなかった。一方、比較例では、ガス漏れが生じていなかったものの、使用後のガスケット配置部には、ガスケットによって押圧されたと思われる圧痕(塑性変形部)が発生しており、次に再使用することは不可能な状態であった。 As is clear from Table 1, none of the gas filters of the examples produced gas leakage, and the appearance of the gasket placement part after use had no problem. On the other hand, in the comparative example, although gas leakage did not occur, the indentation (plastic deformation part) that seems to have been pressed by the gasket has occurred in the gasket placement part after use, and it can be reused next time. It was impossible.
1 ガスフィルタ
2 ベースプレート
2a ベースプレートの第1面
2b ベースプレートの第2面
3 フィルタ
3a フィルタのベースプレート側の端部
4 第1貫通孔
5 第2貫通孔
7 フィルタ配置部
8 ガスケット配置部
8A 第1ガスケット配置部
8B 第2ガスケット配置部
10 ガスケット
A 第1の方向
G ガス
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (11)
ガスが通過可能な第1貫通孔が形成された金属製のベースプレートと、前記第1貫通孔を通過したガスを清浄化するように前記ベースプレートに接合されたフィルタとを含み、
前記ベースプレートの前記第1貫通孔の周囲には、前記第1貫通孔を囲むように形成されかつ前記フィルタを取り付けるためのフィルタ配置部と、前記フィルタ配置部を囲むように形成され、かつ、ガスケットを取り付けるためのガスケット配置部とが形成されており、
前記フィルタは、前記ベースプレートから第1の方向に突出しており、かつ、その前記ベースプレート側の端部が前記フィルタ配置部に溶接接合されており、
前記ガスケット配置部のビッカース硬さが、前記フィルタ配置部のビッカース硬さよりも大きい、
ガスフィルタ。 A gas filter,
A metal base plate having a first through hole through which gas can pass, and a filter joined to the base plate to clean the gas that has passed through the first through hole;
Around the first through hole of the base plate, a filter placement part for attaching the filter is formed so as to surround the first through hole, a filter placement part is formed so as to surround the filter placement part, and a gasket And a gasket arrangement part for attaching
The filter protrudes from the base plate in the first direction, and an end portion on the base plate side is welded to the filter arrangement portion,
The Vickers hardness of the gasket arrangement part is larger than the Vickers hardness of the filter arrangement part,
Gas filter.
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Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04322711A (en) * | 1991-04-19 | 1992-11-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | Manufacture of metal filter for micro-filtration |
JPH09184599A (en) * | 1996-01-05 | 1997-07-15 | Ckd Corp | Gas supplying stacked unit |
JPH1099623A (en) * | 1996-09-30 | 1998-04-21 | Benkan Corp | Filter unit for integrated gas panel |
US20030015250A1 (en) * | 2001-07-17 | 2003-01-23 | Pearlstein Ronald Martin | Bulk gas built-in purifier with dual valve bulk container |
JP2009240984A (en) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Tokyo Electron Ltd | Gas filter and gas supplying apparatus |
JP2010142785A (en) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Nippon Seisen Co Ltd | Filter assembly and metal made filter body for the same |
WO2011152332A1 (en) * | 2010-06-03 | 2011-12-08 | 株式会社フルヤ金属 | Gasket for pressure vessel, and method for producing said gasket |
CN104755826A (en) * | 2012-04-23 | 2015-07-01 | 帕克-汉尼芬公司 | High pressure containment vessel |
-
2018
- 2018-03-27 JP JP2018059271A patent/JP7011509B2/en active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04322711A (en) * | 1991-04-19 | 1992-11-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | Manufacture of metal filter for micro-filtration |
JPH09184599A (en) * | 1996-01-05 | 1997-07-15 | Ckd Corp | Gas supplying stacked unit |
JPH1099623A (en) * | 1996-09-30 | 1998-04-21 | Benkan Corp | Filter unit for integrated gas panel |
US20030015250A1 (en) * | 2001-07-17 | 2003-01-23 | Pearlstein Ronald Martin | Bulk gas built-in purifier with dual valve bulk container |
JP2009240984A (en) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Tokyo Electron Ltd | Gas filter and gas supplying apparatus |
JP2010142785A (en) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Nippon Seisen Co Ltd | Filter assembly and metal made filter body for the same |
WO2011152332A1 (en) * | 2010-06-03 | 2011-12-08 | 株式会社フルヤ金属 | Gasket for pressure vessel, and method for producing said gasket |
CN104755826A (en) * | 2012-04-23 | 2015-07-01 | 帕克-汉尼芬公司 | High pressure containment vessel |
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