JP2019172803A - Resin composition, copper foil with resin, printed circuit board, and treatment method of copper foil with resin - Google Patents

Resin composition, copper foil with resin, printed circuit board, and treatment method of copper foil with resin Download PDF

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Abstract

To provide a resin composition having low dielectric loss tangent, high adhesiveness with a copper layer, and a heat resistance, and including a silica filler capable of suppressing deterioration progress of a continuously used melanism treatment liquid.SOLUTION: There is provided a resin composition containing an elastomer, a polyarylene ether compound, a phosphorous compound represented by the following formula (I): where n is 3 or 4, a silica particle, and a silane coupling agent, and having content of the silane coupling agent satisfying a relation of 0.0900≤x/S≤0.4000, wherein x is weight percentage of the silane coupling agent based on weight of the silica particle, and S (m/g) is BET specific area of the silica particle.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、樹脂組成物、樹脂付銅箔、プリント配線板、及び樹脂付銅箔の処理方法に関するものである。   The present invention relates to a resin composition, a resin-coated copper foil, a printed wiring board, and a method for treating a resin-coated copper foil.

プリント配線板は携帯用電子機器等の電子機器に広く用いられている。特に、近年の携帯用電子機器等の高機能化に伴って信号の高周波化が進んでおり、こうした高周波用途に適したプリント配線板が求められるようになっている。この高周波用プリント配線板には、高周波信号の質を劣化させずに伝送可能とするために、伝送損失の低いものが望まれる。プリント配線板は配線パターンに加工された銅箔と絶縁樹脂基材とを備えたものであるが、伝送損失は、主として銅箔に起因する導体損失と、絶縁樹脂基材に起因する誘電体損失とからなる。したがって、高周波用途に適用する樹脂層付銅箔においては、樹脂層に起因する誘電体損失を抑制することが望ましい。このためには、樹脂層には優れた誘電特性、特に低い誘電正接が求められる。   Printed wiring boards are widely used in electronic devices such as portable electronic devices. In particular, with higher functions of portable electronic devices and the like in recent years, the frequency of signals has been increased, and printed wiring boards suitable for such high-frequency applications have been demanded. The printed wiring board for high frequency is desired to have a low transmission loss in order to enable transmission without deteriorating the quality of the high frequency signal. A printed wiring board is provided with a copper foil processed into a wiring pattern and an insulating resin base material, but transmission loss is mainly due to conductor loss due to the copper foil and dielectric loss due to the insulating resin base material. It consists of. Therefore, in a copper foil with a resin layer applied to high frequency applications, it is desirable to suppress dielectric loss due to the resin layer. For this purpose, the resin layer is required to have excellent dielectric properties, particularly low dielectric loss tangent.

一方、誘電特性等に優れる様々な樹脂組成物がプリント配線板等の用途に提案されている。例えば、特許文献1(特開2007−262191号公報)には、多官能ビニル芳香族共重合体と、リン−窒素系難燃剤と、無機フィラーとを所定の配合割合で含む、難燃硬化性樹脂組成物が開示されている。特許文献2(特開2011−6683号公報)には、スチレン−無水マレイン酸系の共重合樹脂と、シアネート化合物と、リン系難燃剤とを含む、熱硬化性樹脂組成物が開示されている。特許文献3(国際公開第2013/061688号)には、エポキシ樹脂と、硬化剤と、特定の有機化合物で表面処理された無機フィラーとを含む、樹脂組成物が開示されている。特許文献1〜3のいずれにおいても、無機フィラーとしてシリカを用いることが記載されている。   On the other hand, various resin compositions having excellent dielectric properties and the like have been proposed for uses such as printed wiring boards. For example, Patent Document 1 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-262191) discloses a flame retardant curable composition containing a polyfunctional vinyl aromatic copolymer, a phosphorus-nitrogen flame retardant, and an inorganic filler in a predetermined blending ratio. A resin composition is disclosed. Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2011-6683) discloses a thermosetting resin composition containing a styrene-maleic anhydride copolymer resin, a cyanate compound, and a phosphorus flame retardant. . Patent Document 3 (International Publication No. 2013/061688) discloses a resin composition including an epoxy resin, a curing agent, and an inorganic filler surface-treated with a specific organic compound. In any of Patent Documents 1 to 3, it is described that silica is used as an inorganic filler.

特開2007−262191号公報JP 2007-262191 A 特開2011−6683号公報JP 2011-6683 A 国際公開第2013/061688号International Publication No. 2013/061688

ところで、プリント配線板用銅箔には、絶縁樹脂との密着性向上等の目的で黒化処理が施されることがある。この黒化処理は、例えば、次亜塩素酸及び水酸化ナトリウムを主成分とした黒化処理液に回路基板(例えば銅層及び絶縁樹脂層を含む積層板)を浸漬させることにより行われる。しかしながら、低誘電正接を有するシリカフィラー入りの樹脂付銅箔を用いた量産工程で黒化処理を行った場合、製品仕様書で規定される黒化処理液の処理能力(液負荷)の範囲内であっても、黒化処理液の劣化が早期に進行してしまい、黒化処理が阻害されやすかった。すなわち、量産工程で連続的に黒化処理を進めるにつれて、黒化処理された銅箔表面の明度が大幅に上昇してしまう(つまり黒化の度合いが大幅に低下してしまう)との問題があった。実際、大面積の樹脂付銅箔を処理した黒化処理液を用いて新たに樹脂付銅箔を処理した場合、得られた樹脂付銅箔表面の明度の目標値を達成できない場合があった。さらに、黒化処理液の劣化の変化点を見極めることも困難であった。したがって、シリカフィラー入り樹脂付銅箔を同一の黒化処理液を用いて連続的に黒化処理する量産工程において、黒化処理液の早期の劣化進行を抑制することが望まれている。   By the way, the copper foil for printed wiring boards may be subjected to a blackening treatment for the purpose of improving adhesion to an insulating resin. This blackening treatment is performed, for example, by immersing a circuit board (for example, a laminate including a copper layer and an insulating resin layer) in a blackening treatment liquid containing hypochlorous acid and sodium hydroxide as main components. However, when blackening treatment is performed in a mass production process using a copper foil with resin filled with silica filler having a low dielectric loss tangent, it is within the range of the blackening treatment capacity (liquid load) specified in the product specification. Even so, the deterioration of the blackening treatment liquid progressed early, and the blackening treatment was easily inhibited. That is, as the blackening process is continuously carried out in the mass production process, the brightness of the blackened copper foil surface is greatly increased (that is, the degree of blackening is greatly reduced). there were. In fact, when a resin-coated copper foil was newly treated using a blackening treatment solution obtained by treating a large-area resin-coated copper foil, the target brightness value of the obtained resin-coated copper foil could not be achieved. . Furthermore, it is difficult to determine the change point of deterioration of the blackening treatment liquid. Therefore, in the mass production process in which the copper foil with resin containing silica filler is continuously blackened using the same blackening treatment liquid, it is desired to suppress the early deterioration of the blackening treatment liquid.

本発明者らは、今般、エラストマー、ポリアリーレンエーテル化合物、所定のリン系化合物、シリカ粒子、及び所定量のシランカップリング剤を含む樹脂組成物が、低誘電正接、銅層との高い密着性、及び耐熱性を有しながらも、黒化処理を伴う量産工程に付された場合に、連続使用される黒化処理液の早期の劣化進行を効果的に抑制できるとの知見を得た。   The present inventors have recently developed a resin composition containing an elastomer, a polyarylene ether compound, a predetermined phosphorus-based compound, silica particles, and a predetermined amount of a silane coupling agent, having a low dielectric loss tangent and high adhesion to a copper layer. In addition, the present inventors have obtained the knowledge that, when subjected to a mass production process accompanied by a blackening treatment, the early deterioration of the blackening treatment solution used continuously can be effectively suppressed while having heat resistance.

したがって、本発明の目的は、低誘電正接、銅層との高い密着性、及び耐熱性を有しながらも、黒化処理を伴う量産工程に付された場合に、連続使用される黒化処理液の早期の劣化進行を効果的に抑制可能なシリカフィラー入り樹脂組成物を提供することにある。   Therefore, the object of the present invention is to provide a blackening treatment that is continuously used when it is subjected to a mass production process involving a blackening treatment while having a low dielectric loss tangent, high adhesion with a copper layer, and heat resistance. An object of the present invention is to provide a silica-filled resin composition that can effectively suppress the early deterioration of the liquid.

本発明の一態様によれば、(a)エラストマーと、
(b)ポリアリーレンエーテル化合物と、
(c)下記式(I):

Figure 2019172803
(式中、nは3又は4である)で表されるリン系化合物と、
(d)シリカ粒子と、
(e)シランカップリング剤と、
を含み、前記シランカップリング剤の含有量が、前記シリカ粒子の重量に対する前記シランカップリング剤の重量百分率をxとし、かつ、前記シリカ粒子のBET比表面積をS(m/g)としたとき、0.0900≦x/S≦0.4000の関係を満たす量である、樹脂組成物が提供される。 According to one aspect of the invention, (a) an elastomer,
(B) a polyarylene ether compound;
(C) Formula (I) below:
Figure 2019172803
A phosphorus compound represented by the formula (wherein n is 3 or 4);
(D) silica particles;
(E) a silane coupling agent;
And the content of the silane coupling agent is x as the weight percentage of the silane coupling agent relative to the weight of the silica particles, and the BET specific surface area of the silica particles is S (m 2 / g). When the resin composition is provided in an amount satisfying the relationship of 0.0900 ≦ x / S ≦ 0.4000.

本発明の他の一態様によれば、銅箔と、前記銅箔の少なくとも一方の面に設けられた前記樹脂組成物からなる樹脂層とを含み、前記樹脂層が硬化されている、樹脂付銅箔が提供される。   According to another aspect of the present invention, the resin layer includes a copper foil and a resin layer made of the resin composition provided on at least one surface of the copper foil, and the resin layer is cured. Copper foil is provided.

本発明の他の一態様によれば、前記樹脂付銅箔を備えたプリント配線板であって、前記銅箔が黒化処理部を有する、プリント配線板が提供される。   According to the other one aspect | mode of this invention, it is a printed wiring board provided with the said resin-coated copper foil, Comprising: The printed wiring board with which the said copper foil has a blackening process part is provided.

本発明の他の一態様によれば、前記樹脂付銅箔を黒化処理液に浸漬して黒化処理を施すことを含む、樹脂付銅箔の処理方法が提供される。   According to the other one aspect | mode of this invention, the processing method of copper foil with resin including the said copper foil with resin being immersed in a blackening process liquid and performing a blackening process is provided.

本発明の実施形態を以下に説明する。なお、本明細書において「X〜Y」なる形式で表される数値範囲は「X以上Y以下」を意味するものとする。   Embodiments of the present invention will be described below. In the present specification, a numerical range expressed in the format of “X to Y” means “X or more and Y or less”.

樹脂組成物
本発明の樹脂組成物は、エラストマーと、ポリアリーレンエーテル化合物と、上記式(I)で表されるリン系化合物と、シリカ粒子と、シランカップリング剤とを含む。そして、シランカップリング剤の含有量は、シリカ粒子の重量に対するシランカップリング剤の重量百分率をxとし、かつ、シリカ粒子のBET比表面積をS(m/g)としたとき、0.1395≦x/S≦0.6047の関係を満たす量である。このように、エラストマーと、ポリアリーレンエーテル化合物と、所定のリン系化合物と、シリカ粒子と、所定量のシランカップリング剤とを含む樹脂組成物によれば、低誘電正接、銅層との高い密着性、及び耐熱性を有しながらも、黒化処理を伴う量産工程に付された場合に、連続使用される黒化処理液の早期の劣化進行を効果的に抑制することができる。すなわち、本発明の樹脂組成物を用いて樹脂付銅箔を作製することで、低誘電正接、樹脂と銅層との高い密着性、及び耐熱性等の基板材料としての良好な特性を確保しながら、黒化処理液の早期の劣化進行を抑制することが可能となる。すなわち、特許文献1〜3に開示されるような、プリント配線板用のシリカフィラー入り樹脂組成物は、低誘電正接、銅層との高い密着性等、基板材料として良好な特性を本来的に有するものであるが、黒化処理を伴う量産工程に付された場合に、連続使用される黒化処理液を早期に劣化させてしまう。その原因は必ずしも定かではないが、シリカフィラー(シリカ粒子)の成分が黒化処理液に溶出して銅箔の表面を覆うためではないかと推察される。この点、本発明の樹脂組成物によれば、黒化処理液の早期の劣化進行を効果的に抑制することができる。そのメカニズムは必ずしも定かではないが、シランカップリング剤の存在によりシリカフィラー(シリカ粒子)の成分が黒化処理液に溶出されにくくなり、その結果、銅箔の表面がシリカフィラー由来の成分で覆われにくくなるためではないかと推察される。
Resin Composition The resin composition of the present invention comprises an elastomer, a polyarylene ether compound, a phosphorus compound represented by the above formula (I), silica particles, and a silane coupling agent. The content of the silane coupling agent is 0.1395 when the weight percentage of the silane coupling agent with respect to the weight of the silica particles is x and the BET specific surface area of the silica particles is S (m 2 / g). ≦ x / S ≦ 0.6047 is an amount that satisfies the relationship. Thus, according to the resin composition including the elastomer, the polyarylene ether compound, the predetermined phosphorus compound, the silica particles, and the predetermined amount of the silane coupling agent, the low dielectric loss tangent and the copper layer are high. While having adhesiveness and heat resistance, when subjected to a mass production process involving blackening treatment, it is possible to effectively suppress early deterioration of the blackening treatment liquid used continuously. That is, by producing a resin-coated copper foil using the resin composition of the present invention, good characteristics as a substrate material such as low dielectric loss tangent, high adhesion between the resin and the copper layer, and heat resistance are ensured. However, it is possible to suppress early deterioration of the blackening treatment liquid. That is, the resin composition containing a silica filler for printed wiring boards as disclosed in Patent Documents 1 to 3 inherently has good characteristics as a substrate material such as a low dielectric loss tangent and high adhesion to a copper layer. However, when it is subjected to a mass production process involving blackening treatment, the blackening treatment solution that is continuously used is deteriorated at an early stage. Although the cause is not necessarily certain, it is guessed that the component of a silica filler (silica particle) elutes in a blackening process liquid, and covers the surface of copper foil. In this regard, according to the resin composition of the present invention, it is possible to effectively suppress the early deterioration of the blackening treatment liquid. The mechanism is not necessarily clear, but the presence of the silane coupling agent makes it difficult for the silica filler (silica particle) component to elute into the blackening treatment solution. As a result, the copper foil surface is covered with the silica filler-derived component. It is presumed that it may be difficult to break.

上述のとおり、本発明の樹脂組成物は低誘電正接を有する。例えば、本発明の樹脂組成物は、硬化後の3GHzにおける誘電正接が、好ましくは0.0030未満、より好ましくは0.0025未満、さらに好ましくは0.0020未満である。誘電正接の下限値は特に限定されないが、典型的には0.0001以上である。   As described above, the resin composition of the present invention has a low dielectric loss tangent. For example, the resin composition of the present invention has a dielectric loss tangent at 3 GHz after curing of preferably less than 0.0030, more preferably less than 0.0025, and even more preferably less than 0.0020. The lower limit value of the dielectric loss tangent is not particularly limited, but is typically 0.0001 or more.

(a)エラストマー
エラストマーは密着性等に寄与する。エラストマーは、様々な種類のエラストマーが使用可能であるが、熱可塑性エラストマーが好ましい。熱可塑性エラストマーの例としては、スチレン系エラストマー(TPS)、オレフィン系エラストマー(TPO)、塩化ビニル系エラストマー(TPVC)、ウレタン系エラストマー(TPU)、エステル系エラストマー(TPEE,TPC)、アミド系エラストマー(TPAE,TPA)、及びそれらの組合せが挙げられ、好ましくはスチレン系エラストマーである。スチレン系エラストマーは水添及び非水添のいずれであってもよい。すなわち、スチレン系エラストマーは、スチレン由来の部位を含む化合物であって、スチレン以外にもオレフィン等の重合可能な不飽和基を有する化合物由来の部位を含んでもよい重合体である。スチレン系エラストマーの重合可能な不飽和基を有する化合物由来の部位に二重結合が存在する場合、二重結合部は水添されているものであってもよいし、水添されていないものであってもよい。特に好ましいエラストマーは、水添スチレン−ブタジエン系エラストマーを含む。スチレン系エラストマーの例としては、JSR株式会社製TR、JSR株式会社製SIS、旭化成株式会社製タフテック(登録商標)、株式会社クラレ製セプトン(登録商標)、株式会社クラレ製ハイブラー(登録商標)等が挙げられる。
(A) Elastomer Elastomer contributes to adhesion and the like. As the elastomer, various types of elastomers can be used, but a thermoplastic elastomer is preferable. Examples of thermoplastic elastomers include styrene elastomers (TPS), olefin elastomers (TPO), vinyl chloride elastomers (TPVC), urethane elastomers (TPU), ester elastomers (TPEE, TPC), amide elastomers ( TPAE, TPA), and combinations thereof, and styrene elastomers are preferable. The styrenic elastomer may be either hydrogenated or non-hydrogenated. That is, the styrene-based elastomer is a compound containing a site derived from styrene and may contain a site derived from a compound having a polymerizable unsaturated group such as olefin in addition to styrene. When a double bond is present at a site derived from a compound having a polymerizable unsaturated group in the styrene elastomer, the double bond portion may be hydrogenated or not hydrogenated. There may be. Particularly preferred elastomers include hydrogenated styrene-butadiene elastomers. Examples of styrene-based elastomers include TR manufactured by JSR Corporation, SIS manufactured by JSR Corporation, Toughtec (registered trademark) manufactured by Asahi Kasei Corporation, Septon (registered trademark) manufactured by Kuraray Co., Ltd., and Hibler (registered trademark) manufactured by Kuraray Co., Ltd. Is mentioned.

樹脂組成物におけるエラストマーの含有量は、エラストマー、ポリアリーレンエーテル化合物及びリン系化合物の合計量100重量部に対して、10〜60重量部が好ましく、より好ましくは20〜50重量部、さらに好ましくは25〜45重量部、特に好ましくは30〜40重量部である。   The content of the elastomer in the resin composition is preferably 10 to 60 parts by weight, more preferably 20 to 50 parts by weight, and still more preferably, with respect to 100 parts by weight of the total amount of the elastomer, polyarylene ether compound and phosphorus compound. It is 25 to 45 parts by weight, particularly preferably 30 to 40 parts by weight.

(b)ポリアリーレンエーテル化合物
ポリアリーレンエーテル化合物は、耐熱性等に寄与する。ポリアリーレンエーテル化合物は、好ましくはポリフェニレンエーテル化合物である。ポリアリーレンエーテル化合物ないしポリフェニレンエーテル化合物は下記式:

Figure 2019172803
(式中、R、R、R及びRはそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜3の炭化水素基であり、nは繰り返し数であり、典型的には4〜1000であり、より好ましくは5〜50である)
で表される骨格を分子中に含む化合物であるのが好ましい。ポリフェニレンエーテル化合物の例としては、ポリフェニレンエーテルオリゴマーのスチレン誘導体、末端水酸基変性ポリフェニレンエーテルオリゴマー、末端メタクリル変性ポリフェニレンエーテルオリゴマー、末端グリシジルエーテル変性ポリフェニレンエーテルオリゴマー等が挙げられる。ポリフェニレンエーテルオリゴマーのスチレン誘導体の製品例としては、三菱ガス化学株式会社製OPE−2St−1200及びOPE−2St−2200が挙げられる。末端水酸基変性ポリフェニレンエーテルオリゴマーの製品例としては、SABIC社製SA−90及びSA−120が挙げられる。末端メタクリル変性ポリフェニレンエーテルオリゴマーの製品例としては、SABIC社製SA−9000が挙げられる。 (B) Polyarylene ether compound The polyarylene ether compound contributes to heat resistance and the like. The polyarylene ether compound is preferably a polyphenylene ether compound. The polyarylene ether compound or polyphenylene ether compound has the following formula:
Figure 2019172803
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, n is a repeating number, typically 4 to 1000) Yes, more preferably 5-50)
It is preferable that it is a compound which contains the frame | skeleton represented by these in a molecule | numerator. Examples of polyphenylene ether compounds include styrene derivatives of polyphenylene ether oligomers, terminal hydroxyl group-modified polyphenylene ether oligomers, terminal methacryl-modified polyphenylene ether oligomers, terminal glycidyl ether-modified polyphenylene ether oligomers, and the like. Examples of styrene derivatives of polyphenylene ether oligomers include OPE-2St-1200 and OPE-2St-2200 manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Examples of products of the terminal hydroxyl group-modified polyphenylene ether oligomer include SA-90 and SA-120 manufactured by SABIC. As an example of a product of terminal methacryl-modified polyphenylene ether oligomer, SA-9000 manufactured by SABIC may be mentioned.

本発明の樹脂組成物におけるポリアリーレンエーテル化合物の含有量は、エラストマー、ポリアリーレンエーテル化合物及びリン系化合物の合計量100重量部に対して、10〜50重量部が好ましく、より好ましくは20〜45重量部、さらに好ましくは30〜40重量部である。   The content of the polyarylene ether compound in the resin composition of the present invention is preferably 10 to 50 parts by weight, more preferably 20 to 45 parts per 100 parts by weight of the total amount of the elastomer, the polyarylene ether compound and the phosphorus compound. Part by weight, more preferably 30 to 40 parts by weight.

(c)リン系化合物
リン系化合物は、下記式(I):

Figure 2019172803
(式中、nは3〜4である)
で表される環状シアノフェノキシホスファゼン化合物であり、難燃性に寄与する。リン系化合物は、上記式におけるn=3の化合物と、式(I)におけるn=4の化合物との混合物であってもよい。式(I)におけるn=3単独の化合物の製品例としては、株式会社伏見製薬所製FP−300が挙げられ、式(I)におけるn=3の化合物とn=4の化合物の混合物の製品例としては、株式会社伏見製薬所製FP−300Bが挙げられる。 (C) Phosphorus compound The phosphorus compound is represented by the following formula (I):
Figure 2019172803
(Wherein n is 3-4)
Is a cyclic cyanophenoxyphosphazene compound represented by the formula, which contributes to flame retardancy. The phosphorus compound may be a mixture of the compound of n = 3 in the above formula and the compound of n = 4 in the formula (I). As an example of a product of a compound having n = 3 alone in formula (I), FP-300 manufactured by Fushimi Pharmaceutical Co., Ltd. may be mentioned, and a product of a mixture of a compound of n = 3 and n = 4 in formula (I) An example is FP-300B manufactured by Fushimi Pharmaceutical Co., Ltd.

本発明の樹脂組成物におけるリン系化合物の含有量は、エラストマー、ポリアリーレンエーテル化合物及びリン系化合物の合計量を100重量部として、10〜50重量部であるのが好ましく、より好ましくは20〜40重量部、さらに好ましくは25〜35重量部である。   The content of the phosphorus compound in the resin composition of the present invention is preferably 10 to 50 parts by weight, more preferably 20 to 100 parts by weight, with the total amount of the elastomer, polyarylene ether compound and phosphorus compound being 100 parts by weight. 40 parts by weight, more preferably 25 to 35 parts by weight.

(d)シリカ粒子
シリカ粒子は、分散性及び誘電特性に優れたフィラーとして、低誘電正接、流動性等に寄与する。シリカ粒子の平均粒径D50は好ましくは0.1〜5μm、より好ましくは0.3〜3μm、さらに好ましくは0.5〜1.5μmである。上記範囲内の平均粒径D50を有するシリカ粒子(例えば球状シリカ粒子)を用いることで、流動性及び加工性に優れた樹脂組成物を提供することができる。シリカ粒子は粉砕粒子、球状粒子、コアシェル粒子、中空粒子等、いかなる形態であってもよい。
(D) Silica particles Silica particles contribute to low dielectric loss tangent, fluidity and the like as fillers excellent in dispersibility and dielectric properties. The average particle diameter D50 of the silica particles is preferably 0.1 to 5 μm, more preferably 0.3 to 3 μm, and still more preferably 0.5 to 1.5 μm. By using silica particles (for example, spherical silica particles) having an average particle diameter D50 within the above range, a resin composition excellent in fluidity and workability can be provided. The silica particles may be in any form such as pulverized particles, spherical particles, core-shell particles, and hollow particles.

本発明の樹脂組成物におけるシリカ粒子の含有量は、任意の量であってよく特に限定されないが、シリカ粒子の含有量に依存するカップリング剤の添加量やフィラー分散の容易性、樹脂組成物の流動性等の観点から、エラストマー、ポリアリーレンエーテル化合物及びリン系化合物の合計量100重量部に対して、20〜300重量部が好ましく、より好ましくは30〜240重量部、さらに好ましくは40〜180重量部、特に好ましくは50〜160重量部である。このような含有量であると、樹脂組成物は誘電正接に優れながらも、樹脂付銅箔とした場合に樹脂組成物と銅箔との間の剥離強度の低下も回避可能である。   The content of the silica particles in the resin composition of the present invention may be any amount and is not particularly limited. However, the addition amount of the coupling agent depending on the content of the silica particles, the ease of filler dispersion, the resin composition From the viewpoint of fluidity, etc., 20 to 300 parts by weight is preferable, more preferably 30 to 240 parts by weight, and still more preferably 40 to 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the elastomer, the polyarylene ether compound and the phosphorus compound. 180 parts by weight, particularly preferably 50 to 160 parts by weight. With such a content, the resin composition is excellent in dielectric loss tangent, but when the resin-coated copper foil is used, it is possible to avoid a decrease in peel strength between the resin composition and the copper foil.

(e)シランカップリング剤
シランカップリング剤は、シリカフィラー入りの樹脂の使用に伴う黒化処理液の劣化の抑制等に寄与する。本発明の樹脂組成物におけるシランカップリング剤の含有量は、シリカ粒子の重量に対するシランカップリング剤の重量百分率をx(重量%)とし、かつ、シリカ粒子のBET比表面積(すなわちBET法により測定される比表面積)をS(m/g)としたとき、0.0900≦x/S≦0.4000の関係を満たす量であり、好ましくは0.1100≦x/S≦0.2900、さらに好ましくは0.1300≦x/S≦0.1800を満たす量である。このような範囲内であると、黒化処理液の早期の劣化進行を効果的に抑制することができる。理論に縛られるものではないが、シリカ粒子が樹脂組成物から黒化処理液へ溶出して銅箔の表面を被覆して黒化処理を妨げるのを防ぐものと推察される。シランカップリング剤として、アミノ官能性シランカップリング剤、アクリル官能性シランカップリング剤、メタクリル官能性シランカップリング剤、エポキシ官能性シランカップリング剤、オレフィン官能性シランカップリング剤、メルカプト官能性シランカップリング剤、ビニル官能性シランカップリング剤等の種々のシランカップリング剤を用いることができる。特に、メトキシ基及び/又はエトキシ基を分子中に合計3個有するシラン化合物からなるシランカップリング剤が好ましく、そのようなシランカップリング剤の具体例としては、8−メタクリロキシオクチルトリメトキシシラン、8−グリシドキシオクチルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−8−アミノオクチルトリメトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、7−オクテニルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
(E) Silane coupling agent A silane coupling agent contributes to suppression of deterioration of the blackening treatment liquid accompanying use of a resin containing a silica filler. The content of the silane coupling agent in the resin composition of the present invention is determined by setting the weight percentage of the silane coupling agent to the weight of the silica particles as x (wt%) and the BET specific surface area of the silica particles (that is, measured by the BET method). The specific surface area) is S (m 2 / g), the amount satisfying the relationship of 0.0900 ≦ x / S ≦ 0.4000, preferably 0.1100 ≦ x / S ≦ 0.2900, More preferably, the amount satisfies 0.1300 ≦ x / S ≦ 0.1800. Within such a range, early deterioration progress of the blackening treatment liquid can be effectively suppressed. Without being bound by theory, it is presumed that the silica particles are eluted from the resin composition into the blackening treatment solution to cover the surface of the copper foil and prevent the blackening treatment. As silane coupling agent, amino functional silane coupling agent, acrylic functional silane coupling agent, methacryl functional silane coupling agent, epoxy functional silane coupling agent, olefin functional silane coupling agent, mercapto functional silane Various silane coupling agents such as coupling agents and vinyl functional silane coupling agents can be used. In particular, a silane coupling agent composed of a silane compound having a total of three methoxy groups and / or ethoxy groups in the molecule is preferable, and specific examples of such silane coupling agents include 8-methacryloxyoctyltrimethoxysilane, 8-glycidoxyoctyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -8-aminooctyltrimethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 7-octenyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxy Examples include silane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, and the like.

樹脂付銅箔
本発明の樹脂組成物は、樹脂付銅箔の形態で提供されるのが好ましい。すなわち、本発明の好ましい態様によれば、銅箔と、銅箔の少なくとも一方の面に設けられた樹脂組成物からなる樹脂層とを含む、樹脂付銅箔が提供される。本発明の樹脂組成物を含む樹脂層を採用することで、樹脂層が高周波用途に適した優れた誘電特性(極めて低い誘電正接)を有しながらも、銅張積層板又はプリント配線板とされた場合に、優れた層間密着性及び耐熱性を発揮させることができる。このような銅箔及び樹脂層間での優れた密着性及び耐熱性は、銅張積層板又はプリント配線板の製造に用いられた際に、基板からの回路剥がれ等の不具合を防止して製品歩留まりの向上を実現することができる。また、低い誘電正接は誘電体損失の低下に寄与し、その結果、高周波用途における伝送損失の低下を実現することができる。したがって、本発明の樹脂付銅箔は、高周波向けのプリント配線板の絶縁層及び導体層として好ましく適用可能である。そのような例としては、(i)基地局内サーバー、ルーター等、(ii)企業内ネットワーク、(iii)高速携帯通信の基幹システム等が挙げられる。
Resin-coated copper foil The resin composition of the present invention is preferably provided in the form of a resin-coated copper foil. That is, according to the preferable aspect of this invention, the copper foil with resin containing copper foil and the resin layer which consists of a resin composition provided in the at least one surface of copper foil is provided. By adopting the resin layer containing the resin composition of the present invention, the resin layer has excellent dielectric properties (very low dielectric loss tangent) suitable for high frequency applications, and is a copper-clad laminate or printed wiring board. In this case, excellent interlayer adhesion and heat resistance can be exhibited. Such excellent adhesion and heat resistance between the copper foil and the resin layer, when used in the manufacture of copper-clad laminates or printed wiring boards, prevents defects such as circuit peeling from the substrate and product yield. Improvement can be realized. In addition, a low dielectric loss tangent contributes to a reduction in dielectric loss, and as a result, a reduction in transmission loss in high frequency applications can be realized. Therefore, the copper foil with resin of the present invention can be preferably applied as an insulating layer and a conductor layer of a printed wiring board for high frequencies. Examples include (i) base station servers, routers, (ii) corporate networks, (iii) high-speed mobile communication backbone systems, and the like.

具体的には、本発明の樹脂付銅箔は、樹脂層が硬化された状態において、樹脂層が、周波数3GHzにおいて、0.0030未満の誘電正接を有するのが好ましく、より好ましくは0.0025未満、さらに好ましくは0.0020未満である。なお、この誘電正接は、典型的には0.0001以上の値を有するものとなる。また、本発明の樹脂付銅箔は、樹脂層が硬化された状態において、JIS C 6481−1996に準拠して測定される、樹脂層及び銅層間の剥離強度(実施例において後述する剥離強度)が0.4kgf/cm以上であるのが好ましく、より好ましくは0.5kgf/cm以上、さらに好ましくは0.6kgf/cm以上である。なお、この剥離強度は、一般に高いほど好ましいが、製品として典型的には3kgf/cm以下、より典型的には1.5kgf/cm以下の値を有するものとなる。   Specifically, the resin-coated copper foil of the present invention preferably has a dielectric loss tangent of less than 0.0030 at a frequency of 3 GHz, more preferably 0.0025 in a state where the resin layer is cured. Less than, more preferably less than 0.0020. The dielectric loss tangent typically has a value of 0.0001 or more. Moreover, the resin-coated copper foil of the present invention is measured in accordance with JIS C 6481-1996 in a state where the resin layer is cured (peel strength to be described later in Examples). Is preferably 0.4 kgf / cm or more, more preferably 0.5 kgf / cm or more, and still more preferably 0.6 kgf / cm or more. In general, the higher the peel strength, the better. However, the product typically has a value of 3 kgf / cm or less, more typically 1.5 kgf / cm or less.

樹脂層の厚さは特に限定されないが、0.1〜150μmであるのが好ましく、より好ましくは20〜70μmであり、さらに好ましくは25〜65μmである。これらの範囲内の厚さであると樹脂組成物の塗布により樹脂層の形成がしやすいとともに、銅箔との間で十分な密着性を確保しやすい。   Although the thickness of a resin layer is not specifically limited, It is preferable that it is 0.1-150 micrometers, More preferably, it is 20-70 micrometers, More preferably, it is 25-65 micrometers. When the thickness is within these ranges, it is easy to form a resin layer by applying the resin composition, and it is easy to ensure sufficient adhesion with the copper foil.

樹脂層は、それ自体で銅張積層板やプリント配線板における絶縁層を構成するものであってよい。また、樹脂層は、銅張積層板やプリント配線板におけるプリプレグと張り合わせるためのプライマー層として銅箔表面に形成されるものであってもよい。この場合、樹脂付銅箔の樹脂層はプライマー層として、プリプレグと銅箔の密着性を向上することができる。したがって、本発明の樹脂付銅箔は、樹脂層上にプリプレグを備えていてもよい。なお、この樹脂層は、上述した樹脂組成物が硬化されたものであってもよく、又は、上述の樹脂組成物が、半硬化(Bステージ)状態である樹脂組成物層として提供され、後の工程として熱間プレスで接着硬化に供されるものであってもよい。この熱間プレスは、予め真空到達させた後、温度150〜250℃、温度保持時間30〜300分、圧力5〜50kgf/cmの範囲の条件下で硬化される真空熱間プレス法が採用可能である。 The resin layer itself may constitute an insulating layer in a copper clad laminate or a printed wiring board. Further, the resin layer may be formed on the surface of the copper foil as a primer layer for bonding with a prepreg in a copper clad laminate or a printed wiring board. In this case, the resin layer of the resin-coated copper foil can improve the adhesion between the prepreg and the copper foil as a primer layer. Therefore, the resin-coated copper foil of the present invention may have a prepreg on the resin layer. In addition, this resin layer may be obtained by curing the above-described resin composition, or the above-described resin composition is provided as a resin composition layer in a semi-cured (B stage) state. As the step, it may be subjected to adhesive curing by hot pressing. This hot press employs a vacuum hot press method in which a vacuum is reached in advance and then cured under conditions of a temperature of 150 to 250 ° C., a temperature holding time of 30 to 300 minutes, and a pressure of 5 to 50 kgf / cm 2. Is possible.

銅箔は、電解製箔又は圧延製箔されたままの金属箔(いわゆる生箔)であってもよいし、少なくともいずれか一方の面に表面処理が施された表面処理箔の形態であってもよい。表面処理は、金属箔の表面において何らかの性質(例えば防錆性、耐湿性、耐薬品性、耐酸性、耐熱性、及び基板との密着性)を向上ないし付与するために行われる各種の表面処理でありうる。表面処理は金属箔の少なくとも片面に行われてもよいし、金属箔の両面に行われてもよい。銅箔に対して行われる表面処理の例としては、防錆処理、シラン処理、粗化処理、バリア形成処理等が挙げられる。   The copper foil may be an electrolytic foil or a rolled metal foil (so-called raw foil), or may be in the form of a surface-treated foil having a surface treatment applied to at least one surface. Also good. The surface treatment is various surface treatments performed to improve or impart some property (for example, rust prevention, moisture resistance, chemical resistance, acid resistance, heat resistance, and adhesion to the substrate) on the surface of the metal foil. It can be. The surface treatment may be performed on at least one side of the metal foil, or may be performed on both sides of the metal foil. Examples of the surface treatment performed on the copper foil include rust prevention treatment, silane treatment, roughening treatment, barrier formation treatment and the like.

銅箔の樹脂層側の表面における、JIS B0601−2001に準拠して測定される十点平均粗さRzjisが2.0μm以下であるのが好ましく、より好ましくは1.5μm以下、さらに好ましくは1.0μm以下である。このような範囲内であると、高周波用途における伝送損失を望ましく低減できる。すなわち、高周波になるほど顕著に現れる銅箔の表皮効果によって増大しうる銅箔に起因する導体損失を低減して、伝送損失の更なる低減を実現することができる。銅箔の樹脂層側の表面における十点平均粗さRzjisの下限値は特に限定されないが、樹脂層との密着性向上の観点からRzjisは0.005μm以上が好ましく、より好ましくは0.01μm以上、さらに好ましくは0.05μm以上である。   The 10-point average roughness Rzjis measured in accordance with JIS B0601-2001 on the surface of the resin layer side of the copper foil is preferably 2.0 μm or less, more preferably 1.5 μm or less, and even more preferably 1 0.0 μm or less. Within such a range, transmission loss in high frequency applications can be desirably reduced. That is, it is possible to reduce the conductor loss due to the copper foil that can be increased by the skin effect of the copper foil that appears more prominently as the frequency becomes higher, thereby realizing further reduction in transmission loss. The lower limit of the ten-point average roughness Rzjis on the surface of the resin layer side of the copper foil is not particularly limited, but Rzjis is preferably 0.005 μm or more, more preferably 0.01 μm or more from the viewpoint of improving the adhesion with the resin layer. More preferably, it is 0.05 μm or more.

銅箔の樹脂層側の表面には、上記十点平均粗さRzjisの数値範囲を保つ範囲において樹脂層との耐熱密着性を格段に向上できる点で、粒子状突起が形成されているのが好ましい。この粒子状突起を構成する金属は、プリント配線板の高周波伝送損失を低減できる点で、銅であるのが好ましい。   Particulate protrusions are formed on the surface of the copper foil on the resin layer side in that the heat-resistant adhesion with the resin layer can be remarkably improved within the range where the numerical range of the ten-point average roughness Rzjis is maintained. preferable. The metal constituting the particulate protrusions is preferably copper in that the high-frequency transmission loss of the printed wiring board can be reduced.

銅箔の厚さは特に限定されないが、0.1〜100μmであるのが好ましく、より好ましくは0.15〜40μmであり、さらに好ましくは0.2〜30μmである。これらの範囲内の厚さであると、プリント配線板の配線形成の一般的なパターン形成方法である、MSAP(モディファイド・セミアディティブ)法、SAP(セミアディティブ)法、サブトラクティブ法等の工法が採用可能である。もっとも、銅箔の厚さが例えば10μm以下となる場合などは、本発明の樹脂付銅箔は、ハンドリング性向上のために剥離層及びキャリアを備えたキャリア付銅箔の銅箔表面に樹脂層を形成したものであってもよい。   Although the thickness of copper foil is not specifically limited, It is preferable that it is 0.1-100 micrometers, More preferably, it is 0.15-40 micrometers, More preferably, it is 0.2-30 micrometers. If the thickness is within these ranges, methods such as MSAP (modified semi-additive), SAP (semi-additive), and subtractive methods, which are general pattern formation methods for wiring formation of printed wiring boards, can be used. It can be adopted. However, when the thickness of the copper foil is, for example, 10 μm or less, the resin-coated copper foil of the present invention has a resin layer on the copper foil surface of the carrier-attached copper foil provided with a release layer and a carrier for improving handling properties. May be formed.

本発明の樹脂付銅箔において、銅箔は、黒化処理に用いられるものであるのが好ましい。すなわち、本発明の好ましい態様によれば、樹脂付銅箔を黒化処理液に浸漬して黒化処理を施すことを含む、樹脂付銅箔の処理方法が提供される。銅箔が黒化処理されることで、絶縁樹脂との密着性の向上等を図ることができる。そして、前述したように、本発明の樹脂組成物によれば、黒化処理を伴う量産工程に付された場合に、連続使用される黒化処理液の早期の劣化進行を効果的に抑制することができる。黒化処理は公知の方法に従って行えばよく、例えば、次亜塩素酸及び水酸化ナトリウムを主成分とした黒化処理液に回路基板(例えば銅層及び絶縁樹脂層を含む積層板)を浸漬させることにより行われる。   In the copper foil with resin of the present invention, the copper foil is preferably used for blackening treatment. That is, according to a preferred embodiment of the present invention, there is provided a method for treating a resin-coated copper foil, which comprises immersing the resin-coated copper foil in a blackening treatment solution and performing a blackening treatment. By making the copper foil black, it is possible to improve the adhesion to the insulating resin. And as mentioned above, according to the resin composition of the present invention, when subjected to a mass production process accompanied by a blackening treatment, the early deterioration progress of the blackening treatment liquid continuously used is effectively suppressed. be able to. The blackening treatment may be performed according to a known method. For example, a circuit board (for example, a laminate including a copper layer and an insulating resin layer) is immersed in a blackening treatment liquid mainly containing hypochlorous acid and sodium hydroxide. Is done.

プリント配線板
本発明の樹脂組成物ないし樹脂付銅箔はプリント配線板の作製に用いられるのが好ましい。すなわち、本発明の好ましい態様によれば、上記樹脂付銅箔を備えたプリント配線板、又は上記樹脂付銅箔を用いて得られたプリント配線板が提供される。この場合、上記樹脂付銅箔の樹脂層は硬化されている。本態様によるプリント配線板は、絶縁樹脂層と、銅層とがこの順に積層された層構成を含んでなる。また、絶縁樹脂層については銅張積層板に関して上述したとおりである。そして、銅箔ないし銅層は黒化処理部を有している、すなわち黒化処理されているのが好ましい。銅箔ないし銅層が黒化処理されることで、絶縁樹脂との密着性の向上等を図ることができる。いずれにしても、プリント配線板は公知の層構成が採用可能である。プリント配線板に関する具体例としては、プリプレグの片面又は両面に本発明の樹脂付銅箔を接着させ硬化した積層体とした上で回路形成した片面又は両面プリント配線板や、これらを多層化した多層プリント配線板等が挙げられる。また、他の具体例としては、樹脂フィルム上に本発明の樹脂付銅箔を形成して回路を形成するフレキシブルプリント配線板、COF、TABテープ、ビルドアップ多層配線板、半導体集積回路上へ樹脂付銅箔の積層と回路形成を交互に繰りかえすダイレクト・ビルドアップ・オン・ウェハー等が挙げられる。例えば、本発明の樹脂付銅箔は、高周波向けのプリント配線板の絶縁層及び導体層として好ましく適用可能である。そのような例としては、(i)基地局内サーバー、ルーター等、(ii)企業内ネットワーク、(iii)高速携帯通信の基幹システム等が挙げられる。
Printed wiring board The resin composition or resin-coated copper foil of the present invention is preferably used for production of a printed wiring board. That is, according to the preferable aspect of this invention, the printed wiring board provided with the said resin-coated copper foil or the printed wiring board obtained using the said resin-coated copper foil is provided. In this case, the resin layer of the resin-coated copper foil is cured. The printed wiring board according to this aspect includes a layer configuration in which an insulating resin layer and a copper layer are laminated in this order. The insulating resin layer is as described above for the copper-clad laminate. And it is preferable that the copper foil thru | or a copper layer have a blackening process part, ie, it is blackened. By blackening the copper foil or the copper layer, it is possible to improve the adhesion with the insulating resin. In any case, a known layer structure can be adopted for the printed wiring board. Specific examples of the printed wiring board include a single-sided or double-sided printed wiring board in which a circuit is formed on a laminated body obtained by bonding and curing the resin-coated copper foil of the present invention on one or both sides of a prepreg, or a multilayer in which these are multilayered A printed wiring board etc. are mentioned. Other specific examples include flexible printed wiring boards, COF, TAB tape, build-up multilayer wiring boards, and semiconductor integrated circuits that form a circuit by forming the resin-coated copper foil of the present invention on a resin film. Direct build-up-on-wafer, etc., in which the laminated copper foil and circuit formation are repeated alternately. For example, the resin-coated copper foil of the present invention is preferably applicable as an insulating layer and a conductor layer of a printed wiring board for high frequencies. Examples include (i) base station servers, routers, (ii) corporate networks, (iii) high-speed mobile communication backbone systems, and the like.

本発明を以下の例によってさらに具体的に説明する。   The present invention is more specifically described by the following examples.

例1〜10
樹脂組成物を含んでなる樹脂ワニスを調製し、この樹脂ワニスを用いて樹脂付銅箔を作製し、その評価を行った。具体的には以下のとおりである。
Examples 1-10
A resin varnish comprising a resin composition was prepared, a resin-coated copper foil was produced using this resin varnish, and the evaluation was performed. Specifically, it is as follows.

(1)樹脂ワニスの調製
まず、樹脂ワニス用原料成分として、以下に示されるエラストマー、ポリアリーレンエーテル化合物、リン系化合物、シリカ粒子及びシランカップリング剤を用意した。
(a)エラストマー
MP−10:旭化成株式会社製、水添スチレン系エラストマー
(b)ポリアリーレンエーテル化合物
OPE−2St−1200:三菱ガス化学株式会社製、二官能ポリフェニレンエーテルオリゴマーのスチレン誘導体(数平均分子量約1200)
OPE−2St−2200:三菱ガス化学株式会社製、二官能ポリフェニレンエーテルオリゴマーのスチレン誘導体(数平均分子量約2200)
(c)リン系化合物
FP−300B:株式会社伏見製薬所製、環状シアノフェノキシホスファゼン化合物
(d)シリカ粒子
SO−C4:株式会社アドマテックス製、球状シリカ粒子(レーザー回折式粒度分布測定により測定された平均粒径D50:1.0μm、BET比表面積S:4.3m/g)
(e)シランカップリング剤
KBM−5803:信越化学工業株式会社製、8−メタクリロキシオクチルトリメトキシシラン
KBM−4803:信越化学工業株式会社製、8−グリシドキシオクチルトリメトキシシラン
KBM−6803:信越化学工業株式会社製、N−2−(アミノエチル)−8−アミノオクチルトリメトキシシラン
KBM−1403:信越化学工業株式会社製、p−スチリルトリメトキシシラン
KBM−1083:信越化学工業株式会社製、7−オクテニルトリメトキシシラン
KBM−403:信越化学工業株式会社製、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
KBM−903:信越化学工業株式会社製、3−アミノプロピルトリメトキシシラン
KBM−5103:信越化学工業株式会社製、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン
KBM−573:信越化学工業株式会社製、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン
(1) Preparation of resin varnish First, the following elastomers, polyarylene ether compounds, phosphorus compounds, silica particles, and silane coupling agents were prepared as resin varnish raw material components.
(A) Elastomer MP-10: Asahi Kasei Co., Ltd., hydrogenated styrene elastomer (b) Polyarylene ether compound OPE-2St-1200: Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., bifunctional polyphenylene ether oligomer styrene derivative (number average molecular weight About 1200)
OPE-2St-2200: a styrene derivative of a bifunctional polyphenylene ether oligomer (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.) (number average molecular weight of about 2200)
(C) Phosphorus compound FP-300B: manufactured by Fushimi Pharmaceutical Co., Ltd., cyclic cyanophenoxyphosphazene compound (d) silica particles SO-C4: manufactured by Admatex Co., Ltd., spherical silica particles (measured by laser diffraction particle size distribution measurement Average particle diameter D50: 1.0 μm, BET specific surface area S: 4.3 m 2 / g)
(E) Silane coupling agent KBM-5803: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., 8-methacryloxyoctyltrimethoxysilane KBM-4803: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., 8-glycidoxyoctyltrimethoxysilane KBM-6803: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., N-2- (aminoethyl) -8-aminooctyltrimethoxysilane KBM-1403: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., p-styryltrimethoxysilane KBM-1083: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 7-octenyltrimethoxysilane KBM-403: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane KBM-903: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., 3-aminopropyltrimethoxysilane KBM-5103: 3-acrylo manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Trimethoxysilane KBM-573: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., N- phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane

表1に示される各原料成分を表1に記載の固形分重量比で秤量し、固形分濃度が55%となるように有機溶媒を添加して、60℃にて分散機を用いて溶解分散した。こうして調整された樹脂溶液(ワニス)を得た。   Each raw material component shown in Table 1 is weighed at the solid content weight ratio shown in Table 1, an organic solvent is added so that the solid content concentration becomes 55%, and the dispersion is dissolved at 60 ° C. using a disperser. did. A resin solution (varnish) thus prepared was obtained.

(2)半硬化状態(B−stage)の樹脂付銅箔の作製
得られた樹脂溶液を、電解銅箔(MWG箔、三井金属鉱業株式会社製、厚さ18μm)の表面に、コンマ塗工機を用いて、乾燥後の樹脂層の厚みが50μmとなるように塗布した。得られた塗布膜を150℃で3分間乾燥させることにより、樹脂組成物を半硬化させた。こうして半硬化状態(B−stage)の樹脂層を備えた樹脂付銅箔を作製した。
(2) Production of resin-coated copper foil in semi-cured state (B-stage) The obtained resin solution was comma coated on the surface of electrolytic copper foil (MWG foil, manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd., thickness 18 μm). It applied so that the thickness of the resin layer after drying might be set to 50 micrometers using the machine. The obtained coating film was dried at 150 ° C. for 3 minutes, whereby the resin composition was semi-cured. Thus, a resin-coated copper foil provided with a resin layer in a semi-cured state (B-stage) was produced.

(3)硬化状態(C−stage)の樹脂付銅箔を備えた基板の作製
得られた樹脂付銅箔をコア材(三菱ガス化学株式会社製、HL832NS)に樹脂層が当接するように積層し、プレス温度200℃、温度保持時間90分間、プレス圧力30kgf/cmの加熱加圧条件にて熱間真空プレス成形を施して、コア材層−樹脂層−銅層の順に積層された基板を作製した。
(3) Preparation of substrate provided with cured copper foil with resin (C-stage) The obtained copper foil with resin is laminated so that the resin layer comes into contact with the core material (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., HL832NS). The substrate was laminated in the order of core material layer-resin layer-copper layer by performing hot vacuum press molding under the heating and pressing conditions of a press temperature of 200 ° C., a temperature holding time of 90 minutes, and a press pressure of 30 kgf / cm 2. Was made.

(4)樹脂フィルム単体の作製
2枚の樹脂付銅箔をそれらの樹脂層同士が当接するように貼り合わせ、200℃、90分間、30kgf/cmの加熱加圧条件にて熱間真空プレス成形を施して、両面銅張積層板を作製した。得られた銅張積層板の両面の銅を全てエッチングにより除去して、単体としての樹脂フィルムを得た。
(4) Production of single resin film Two resin-coated copper foils were bonded together so that the resin layers were in contact with each other, and hot vacuum press was performed at 200 ° C. for 90 minutes under a heating and pressing condition of 30 kgf / cm 2. Molding was performed to prepare a double-sided copper-clad laminate. All the copper on both sides of the obtained copper-clad laminate was removed by etching to obtain a resin film as a simple substance.

(5)各種評価
上記(3)及び(4)で得られた基板、樹脂フィルム及び両面銅張積層板について、以下の各種評価を行った。
(5) Various evaluations The following various evaluations were performed on the substrates, resin films, and double-sided copper-clad laminates obtained in (3) and (4) above.

<誘電特性>
上記(4)で得られた樹脂フィルムについて、摂動式空洞共振器法により、3GHzにおける誘電正接Dfを測定した。測定は、樹脂フィルム単体を共振器のサンプルサイズに合わせて切断した後、測定装置(KEYCOM株式会社製共振器及びKEYSIGHT社製ネットワークアナライザー)を用い、JIS R 1641に準拠して行った。結果は表1に示されるとおりであった。
<Dielectric properties>
With respect to the resin film obtained in (4) above, the dielectric loss tangent Df at 3 GHz was measured by the perturbation type cavity resonator method. The measurement was performed according to JIS R 1641 using a measuring device (resonator manufactured by KEYCOM Co., Ltd. and network analyzer manufactured by KEYSIGHT Co., Ltd.) after cutting the resin film alone in accordance with the sample size of the resonator. The results were as shown in Table 1.

<剥離強度>
上記(3)で得られた基板について、銅層を回路形成した。具体的には、基板の両面にドライフィルムを張り合わせて、エッチングレジスト層を形成した。そして、その両面のエッチングレジスト層に、10mm幅の剥離強度測定試験用の回路を露光現像し、エッチングパターンを形成した。その後、銅エッチング液で回路エッチングを行い、エッチングレジストを剥離して回路を得た。こうして形成された回路を樹脂層から剥離して、回路及び樹脂層間の剥離強度(kgf/cm)をJIS C 6481−1996に準拠して測定した。測定回数3回の平均値を測定値とした。結果は表1に示されるとおりであった。
<Peel strength>
A circuit was formed on the copper layer for the substrate obtained in (3) above. Specifically, a dry film was bonded to both surfaces of the substrate to form an etching resist layer. Then, a 10 mm width peel strength measurement test circuit was exposed and developed on the etching resist layers on both sides to form an etching pattern. Thereafter, circuit etching was performed with a copper etchant, and the etching resist was removed to obtain a circuit. The circuit thus formed was peeled from the resin layer, and the peel strength (kgf / cm) between the circuit and the resin layer was measured in accordance with JIS C 6481-1996. The average value of three measurements was taken as the measurement value. The results were as shown in Table 1.

<はんだ耐熱性>
上記(3)で得られた基板について、JIS C 6481−1996に準拠してはんだ耐熱性の評価を行った。具体的には、基板を260℃のはんだ浴に10分間浮かべる熱処理を1回行った後、外観変化を目視で観察し、膨れの発生の有無を確認した。この評価は4片の試料について実施した。確認結果を以下の基準に従い、3段階で評価した。結果は表1に示されるとおりであった。
‐評価A:4片の試料の全てにおいて膨れが発生しなかった。
‐評価B:4片の試料の一部に膨れが発生した。
‐評価C:4片の試料の全てのおいて膨れが発生した。
<Solder heat resistance>
About the board | substrate obtained by said (3), solder heat resistance was evaluated based on JISC6481-1996. Specifically, after the substrate was floated once in a 260 ° C. solder bath for 10 minutes, the appearance change was visually observed to check for the occurrence of swelling. This evaluation was performed on four pieces of samples. The confirmation results were evaluated in three stages according to the following criteria. The results were as shown in Table 1.
-Evaluation A: No blistering occurred in all of the four specimens.
-Evaluation B: Swelling occurred in a part of the four pieces of samples.
-Evaluation C: Swelling occurred in all of the four specimens.

<黒化処理液評価>
黒化処理液(ダウ・エレクトロニック・マテリアルズ製、PROBONDTM80)をメーカー仕様どおりに500mL建浴した。得られた黒化処理液に樹脂フィルム及び両面銅張積層板を同時に浸漬し、下記式:
液負荷率(%)={(実際の黒化処理面積)/(黒化処理液の処理可能面積)}×100
により定義される液負荷率が66%、その後93%に至るように黒化処理を行った。なお、上記式における「黒化処理液の処理可能面積」は、黒化処理液の製品仕様書に記載される液負荷の値に基づくものである。各液負荷率における両面銅張積層板の黒化処理面の明度、具体的にはL色空間(JIS Z 8781−4:2013)における明度Lを、TIME GROUP INC.製、TCD100を用いて測定した。各液負荷率における液劣化率を下記式:
液劣化率(%)={(各液負荷率における明度)/(初期における明度)}×100
により算出し、以下の基準に従って3段階で格付け評価した。結果は表1に示されるとおりであった。
‐評価A:液負荷率93%における液劣化率が200%未満
‐評価B:液負荷率93%における液劣化率が200%以上400%未満
‐評価C:液負荷率93%における液劣化率が400%以上
<Evaluation of blackening solution>
500 mL of blackening solution (PROBON 80 manufactured by Dow Electronic Materials) was built according to the manufacturer's specifications. A resin film and a double-sided copper-clad laminate are simultaneously immersed in the resulting blackening solution, and the following formula:
Liquid load factor (%) = {(actual blackening area) / (area where blackening liquid can be treated)} × 100
The blackening treatment was performed so that the liquid load ratio defined by the formula (66) reached 66% and then 93%. In addition, the “processable area of the blackening treatment liquid” in the above formula is based on the value of the liquid load described in the product specification of the blackening treatment liquid. The brightness of the blackened surface of the double-sided copper-clad laminate at each liquid load factor, specifically the brightness L in the L * a * b * color space (JIS Z 8781-4: 2013), is determined by TIME GROUP INC. Measurement was made using TCD100. The liquid deterioration rate at each liquid load factor is expressed by
Liquid deterioration rate (%) = {(lightness at each liquid load factor) / (lightness at initial stage)} × 100
And rated according to the following criteria. The results were as shown in Table 1.
-Evaluation A: Liquid deterioration rate at 93% liquid load rate is less than 200%-Evaluation B: Liquid deterioration rate at 93% liquid load rate is 200% or more and less than 400%-Evaluation C: Liquid deterioration rate at 93% liquid load rate Is over 400%

例11(比較)
シランカップリング剤を用いなかったこと、及びシリカ粒子の添加量を150.0重量部としたこと以外は例1と同様にして、樹脂組成物等の作製及び評価を行った。結果は表1に示されるとおりであった。
Example 11 (Comparison)
A resin composition and the like were prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the silane coupling agent was not used and the amount of silica particles added was 150.0 parts by weight. The results were as shown in Table 1.

例12(比較)
シランカップリング剤の添加量を0.50重量部としたこと、及びシリカ粒子の添加量を150.8重量部としたこと以外は例1と同様にして、樹脂組成物等の作製及び評価を行った。結果は表1に示されるとおりであった。
Example 12 (Comparison)
Preparation and evaluation of a resin composition and the like were performed in the same manner as in Example 1 except that the addition amount of the silane coupling agent was 0.50 parts by weight and the addition amount of the silica particles was 150.8 parts by weight. went. The results were as shown in Table 1.

Figure 2019172803
Figure 2019172803
Figure 2019172803
Figure 2019172803

Claims (12)

(a)エラストマーと、
(b)ポリアリーレンエーテル化合物と、
(c)下記式(I):
Figure 2019172803
(式中、nは3又は4である)で表されるリン系化合物と、
(d)シリカ粒子と、
(e)シランカップリング剤と、
を含み、前記シランカップリング剤の含有量が、前記シリカ粒子の重量に対する前記シランカップリング剤の重量百分率をxとし、かつ、前記シリカ粒子のBET比表面積をS(m/g)としたとき、0.0900≦x/S≦0.4000の関係を満たす量である、樹脂組成物。
(A) an elastomer;
(B) a polyarylene ether compound;
(C) Formula (I) below:
Figure 2019172803
A phosphorus compound represented by the formula (wherein n is 3 or 4);
(D) silica particles;
(E) a silane coupling agent;
And the content of the silane coupling agent is x as the weight percentage of the silane coupling agent relative to the weight of the silica particles, and the BET specific surface area of the silica particles is S (m 2 / g). When the resin composition is in an amount satisfying the relationship of 0.0900 ≦ x / S ≦ 0.4000.
前記エラストマーが、水添スチレン−ブタジエン系エラストマーを含む、請求項1に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 1, wherein the elastomer comprises a hydrogenated styrene-butadiene elastomer. 前記シリカ粒子の平均粒径D50が0.1〜5μmである、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。   The resin composition of Claim 1 or 2 whose average particle diameter D50 of the said silica particle is 0.1-5 micrometers. 前記ポリアリーレンエーテル化合物が、下記式:
Figure 2019172803
(式中、R、R、R及びRはそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基であり、nは繰り返し数である)
で表される骨格を分子中に含む化合物である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
The polyarylene ether compound has the following formula:
Figure 2019172803
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and n is the number of repetitions)
The resin composition as described in any one of Claims 1-3 which is a compound which contains the frame | skeleton represented by these in a molecule | numerator.
前記シランカップリング剤が、メトキシ基及び/又はエトキシ基を分子中に合計3個有するシラン化合物からなる、請求項1〜4のいずれか一項に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the silane coupling agent comprises a silane compound having a total of three methoxy groups and / or ethoxy groups in the molecule. 前記エラストマー、前記ポリアリーレンエーテル化合物及び前記リン系化合物の合計量を100重量部として、10〜60重量部の前記エラストマーと、10〜50重量部の前記ポリアリーレンエーテル化合物と、10〜50重量部の前記リン系化合物と、20〜300重量部の前記シリカ粒子とを含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の樹脂組成物。   10 to 60 parts by weight of the elastomer, 10 to 50 parts by weight of the polyarylene ether compound, and 10 to 50 parts by weight, where the total amount of the elastomer, the polyarylene ether compound and the phosphorus compound is 100 parts by weight. The resin composition as described in any one of Claims 1-5 containing the said phosphorus-type compound and 20-300 weight part of said silica particles. 20〜50重量部の前記エラストマーと、20〜45重量部の前記ポリアリーレンエーテル化合物と、20〜40重量部の前記リン系化合物と、30〜240重量部の前記シリカ粒子とを含む、請求項6に記載の樹脂組成物。   20 to 50 parts by weight of the elastomer, 20 to 45 parts by weight of the polyarylene ether compound, 20 to 40 parts by weight of the phosphorus compound, and 30 to 240 parts by weight of the silica particles. 7. The resin composition according to 6. 硬化後の周波数3GHzにおける誘電正接が0.0030未満である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to any one of claims 1 to 7, wherein a dielectric loss tangent at a frequency of 3 GHz after curing is less than 0.0030. 銅箔と、前記銅箔の少なくとも一方の面に設けられた請求項1〜8のいずれか一項に記載の樹脂組成物からなる樹脂層とを含み、前記樹脂層が硬化されている、樹脂付銅箔。   A resin comprising a copper foil and a resin layer comprising the resin composition according to any one of claims 1 to 8 provided on at least one surface of the copper foil, wherein the resin layer is cured. Copper foil. 前記銅箔が黒化処理に用いられるものである、請求項9に記載の樹脂付銅箔。   The copper foil with a resin according to claim 9, wherein the copper foil is used for blackening treatment. 請求項10に記載の樹脂付銅箔を備えたプリント配線板であって、前記銅箔が黒化処理部を有する、プリント配線板。   It is a printed wiring board provided with the copper foil with resin of Claim 10, Comprising: The printed wiring board with which the said copper foil has a blackening process part. 請求項10に記載の樹脂付銅箔を黒化処理液に浸漬して黒化処理を施すことを含む、樹脂付銅箔の処理方法。   The processing method of copper foil with a resin including immersing the copper foil with resin of Claim 10 in a blackening process liquid, and performing a blackening process.
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