JP2019165222A - Wiring circuit board and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

To provide a wiring circuit board having a high inductance and a manufacturing method thereof while ensuring the insulation of a particle-containing layer with respect to a wiring.SOLUTION: A magnetic wiring circuit board 1 includes a first insulating layer 2, a wiring portion 3, a second insulating layer 4, and a magnetic layer 5 including conductive particles each having a shape with an aspect ratio of 2 or more and covering the wiring portion 3 through the second insulating layer 4. The wiring portion 3 has a substantially curved shape.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、配線回路基板およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a printed circuit board and a method for manufacturing the same.

従来、電力を無線により伝送する無線通信や無線電力伝送に、コイルモジュールが用いられることが知られている。   Conventionally, it is known that a coil module is used for wireless communication or wireless power transmission for transmitting power wirelessly.

例えば、コイルパターンと、それを埋設し、扁平形状の磁性粒子(導電性粒子)を含有する磁性層とを備えるコイルモジュールが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。   For example, a coil module is proposed that includes a coil pattern and a magnetic layer that embeds the coil pattern and contains flat magnetic particles (conductive particles) (see, for example, Patent Document 1).

このようなコイルモジュールは、例えば、まず、導体パターンニングによってコイルパターンを形成し、次いで、磁性粒子を含有する磁性シートをコイルパターンに対して熱プレスすることにより得られる。   Such a coil module is obtained, for example, by first forming a coil pattern by conductor patterning and then hot pressing a magnetic sheet containing magnetic particles against the coil pattern.

特開2017−005115号公報JP 2017-005115 A

しかるに、コイルパターンに大電流を流す場合があり、その場合には、絶縁層に含有される扁平形状の磁性粒子がコイルパターン間を短絡させることがあるため、コイルパターンと磁性層との間における絶縁性が求められる。   However, there is a case where a large current flows through the coil pattern. In that case, the flat magnetic particles contained in the insulating layer may short-circuit the coil patterns. Insulation is required.

そこで、コイルパターンと磁性層との間に、絶縁層を形成することが試案される。   Therefore, it is tentative to form an insulating layer between the coil pattern and the magnetic layer.

しかし、上記したコイルパターンの上面および側面の稜線部には、上側斜め側方(外側)に向かって尖る尖り部が形成されるため、この場合に、絶縁層を形成すれば、尖り部に対向する絶縁層の厚みが過度に薄くなり易い。そのため、磁性粒子を含有する磁性シートを、絶縁層を介して、尖り部を含むコイルパターンに対して熱プレスすれば、磁性粒子が、尖り部に対向する絶縁層を貫通して、尖り部に接触してしまい、その結果、かかる接触によって、磁性層とコイルパターンとの絶縁性を確保できないという不具合がある。   However, since the ridgeline portions on the upper surface and side surface of the coil pattern are formed with a sharp pointed portion toward the upper oblique side (outside), in this case, if an insulating layer is formed, the sharpened portion is opposed to the sharpened portion. The thickness of the insulating layer is likely to be excessively thin. Therefore, if a magnetic sheet containing magnetic particles is hot-pressed with respect to a coil pattern including a sharpened portion via an insulating layer, the magnetic particles penetrate the insulating layer facing the sharpened portion and become sharpened. As a result, there is a problem that the insulation between the magnetic layer and the coil pattern cannot be ensured by such contact.

一方で、コイルモジュールには、高いインダクタンスも求められる。   On the other hand, the coil module is also required to have high inductance.

本発明は、粒子含有層の配線に対する絶縁性を確保できるとともに、高いインダクタンスを有する配線回路基板およびその製造方法を提供する。   The present invention provides a printed circuit board having a high inductance and a method for manufacturing the same, while ensuring insulation of the particle-containing layer with respect to the wiring.

本発明(1)は、第1絶縁層と、前記第1絶縁層の厚み方向一方面に配置される配線と、前記配線を被覆する第2絶縁層と、アスペクト比が2以上である形状を有する導電性粒子を含有しており、前記第2絶縁層を介して、前記配線を被覆する粒子含有層とを備え、前記配線が、略湾曲形状を有する、配線回路基板を含む。   In the present invention (1), the first insulating layer, the wiring disposed on one surface in the thickness direction of the first insulating layer, the second insulating layer covering the wiring, and the shape having an aspect ratio of 2 or more A printed circuit board including a conductive particle having conductive particles, a particle-containing layer covering the wiring via the second insulating layer, and the wiring having a substantially curved shape.

この配線回路基板では、配線が、略湾曲形状を有するので、配線において略湾曲形状に対応する部分を被覆する第2絶縁層を、過度に薄くなることを抑制しながら、形成することができる。そのため、導電性粒子が、第2絶縁層を貫通して配線に接触することを抑制することができる。その結果、第2絶縁層によって、粒子含有層の配線に対する絶縁性を確保することができる。   In this wired circuit board, since the wiring has a substantially curved shape, the second insulating layer covering the portion corresponding to the substantially curved shape in the wiring can be formed while suppressing an excessively thinning. Therefore, it can suppress that electroconductive particle penetrates a 2nd insulating layer and contacts wiring. As a result, the insulating properties of the particle-containing layer with respect to the wiring can be ensured by the second insulating layer.

従って、この配線回路基板は、第2絶縁層の絶縁性を確保できる。   Therefore, this printed circuit board can ensure the insulation of the second insulating layer.

本発明(2)は、前記導電性粒子が、磁性粒子であり、前記粒子含有層が、磁性層であり、磁性配線回路基板である、(1)に記載の配線回路基板を含む。   The present invention (2) includes the wired circuit board according to (1), wherein the conductive particles are magnetic particles, the particle-containing layer is a magnetic layer, and is a magnetic wired circuit board.

磁性配線回路基板である配線回路基板では、配線において略湾曲形状に対応する部分を第2絶縁層を介して被覆する磁性層においては、アスペクト比が2以上である磁性粒子が、配線の湾曲形状に沿って配向することができる。つまり、磁性粒子は、配線において略湾曲形状に対応する部分に対向する磁性層においては、厚み方向および直交方向に対して傾斜する方向に配向することができる。そのため、磁性層において配線の略湾曲形状に対応する部分に沿う滑らかな磁路を形成することができる。従って、配線の周囲の実効透磁率を向上させることができる。その結果、配線回路基板は、高いインダクタンスを有する。   In a printed circuit board that is a magnetic wired circuit board, in a magnetic layer that covers a portion corresponding to a substantially curved shape in the wiring via the second insulating layer, magnetic particles having an aspect ratio of 2 or more are formed in the curved shape of the wiring. Can be oriented along. That is, the magnetic particles can be oriented in a direction inclined with respect to the thickness direction and the orthogonal direction in the magnetic layer facing the portion corresponding to the substantially curved shape in the wiring. Therefore, a smooth magnetic path can be formed along the portion corresponding to the substantially curved shape of the wiring in the magnetic layer. Therefore, the effective magnetic permeability around the wiring can be improved. As a result, the printed circuit board has a high inductance.

従って、この配線回路基板は、高いインダクタンスを有しながら、第2絶縁層の絶縁性を確保できる。   Therefore, this printed circuit board can ensure the insulation of the second insulating layer while having a high inductance.

本発明(3)は、前記第2絶縁層が、電着層である、(2)に記載の配線回路基板を含む。   The present invention (3) includes the printed circuit board according to (2), wherein the second insulating layer is an electrodeposition layer.

この配線回路基板では、第2絶縁層が、電着層であるので、第2絶縁層の厚みを薄くすることができる。そのため、かかる第2絶縁層を介して配線を被覆する磁性層の実効透磁率の低下を抑制することができる。その結果、この配線回路基板は、高いインダクタンスを有する。   In this wired circuit board, since the second insulating layer is an electrodeposition layer, the thickness of the second insulating layer can be reduced. Therefore, it is possible to suppress a decrease in effective magnetic permeability of the magnetic layer that covers the wiring via the second insulating layer. As a result, this printed circuit board has a high inductance.

一方で、第2絶縁層の厚みが薄い場合には、磁性粒子が、薄い第2絶縁層を貫通して配線に接触し易い。しかし、この配線回路基板において、略湾曲形状を有する配線を被覆する第2絶縁層では、過度に薄い厚みで形成されることが抑制されているので、磁性粒子による第2絶縁層の貫通を抑制して、第2絶縁層の絶縁性を確保できる。   On the other hand, when the thickness of the second insulating layer is thin, the magnetic particles easily penetrate the thin second insulating layer and come into contact with the wiring. However, in this printed circuit board, since the second insulating layer covering the wiring having a substantially curved shape is suppressed from being formed with an excessively thin thickness, the penetration of the second insulating layer by the magnetic particles is suppressed. Thus, the insulation of the second insulating layer can be secured.

本発明(4)は、前記第2絶縁層の平均厚みTが、10μm以下である、(2)または(3)に記載の配線回路基板を含む。   The present invention (4) includes the printed circuit board according to (2) or (3), wherein an average thickness T of the second insulating layer is 10 μm or less.

この配線回路基板では、第2絶縁層の平均厚みTが、10μm以下と薄いので、磁性層の実効透磁率の低下を抑制することができる。その結果、この配線回路基板は、高いインダクタンスを有する。   In this wired circuit board, since the average thickness T of the second insulating layer is as thin as 10 μm or less, it is possible to suppress a decrease in the effective magnetic permeability of the magnetic layer. As a result, this printed circuit board has a high inductance.

本発明(5)は、前記配線は、前記第1絶縁層の前記厚み方向一方面に間隔を隔てて対向配置される厚み方向一方面と、前記第1絶縁層の前記厚み方向一方面に接触する厚み方向他方面と、前記厚み方向一方面および前記厚み方向他方面の両端縁を連結する側面とを有し、前記第2絶縁層は、前記厚み方向一方面および前記側面を被覆しており、前記配線が、前記厚み方向一方面および前記側面によって形成される角部を有し、前記角部が、略湾曲形状を有する、(2)〜(4)のいずれか一項に記載の配線回路基板を含む。   In the present invention (5), the wiring is in contact with one surface in the thickness direction of the first insulating layer facing the one surface in the thickness direction with a space therebetween, and one surface in the thickness direction of the first insulating layer. The other side in the thickness direction, and one side surface connecting the both ends of the one side in the thickness direction and the other side in the thickness direction, and the second insulating layer covers the one side in the thickness direction and the side surface. The wiring according to any one of (2) to (4), wherein the wiring has a corner formed by the one surface in the thickness direction and the side surface, and the corner has a substantially curved shape. Includes circuit board.

この配線回路基板では、配線の角部が、略湾曲形状を有するので、かかる角部を被覆する第2絶縁層を、過度に薄くなることを抑制しながら、形成することができる。そのため、導電性粒子が、第2絶縁層を貫通して配線の角部に接触することを抑制することができる。その結果、第2絶縁層によって、粒子含有層の配線に対する絶縁性を確保することができる。従って、この配線回路基板は、第2絶縁層の絶縁性を確保できる。   In this wired circuit board, since the corners of the wiring have a substantially curved shape, the second insulating layer covering the corners can be formed while suppressing an excessive thinning. Therefore, it can suppress that electroconductive particle penetrates a 2nd insulating layer and contacts the corner | angular part of wiring. As a result, the insulating properties of the particle-containing layer with respect to the wiring can be ensured by the second insulating layer. Therefore, this printed circuit board can ensure the insulation of the second insulating layer.

本発明(6)は、前記角部の曲率半径Rが、9μm以上である、(5)に記載の配線回路基板を含む。   The present invention (6) includes the printed circuit board according to (5), wherein a radius of curvature R of the corner portion is 9 μm or more.

この配線回路基板では、角部の曲率半径Rが、9μm以上と大きいと、角部の円弧面が緩やかであるため、かかる角部に対応する第2絶縁層を十分な厚みで形成することができる。また、角部に対向する第2磁性層において、磁性粒子が、角部の円弧面に沿って確実に配向することができる。   In this printed circuit board, when the radius of curvature R of the corner is as large as 9 μm or more, the arc surface of the corner is gentle, and therefore the second insulating layer corresponding to the corner can be formed with a sufficient thickness. it can. In the second magnetic layer facing the corner, the magnetic particles can be reliably oriented along the arc surface of the corner.

本発明(7)は、前記磁性層は、前記第1絶縁層において前記第2絶縁層から露出する前記厚み方向一方面を被覆しており、前記配線は、前記厚み方向他方面および前記側面によって形成される第2角部を有し、前記第2角部が、互いに向かい合う2つの前記側面間の長さが前記厚み方向他方側に近づくに従って長くなる部分を有する、(5)または(6)に記載の配線回路基板を含む。   In the present invention (7), the magnetic layer covers the one surface in the thickness direction exposed from the second insulating layer in the first insulating layer, and the wiring is formed by the other surface in the thickness direction and the side surface. (5) or (6) having a second corner portion to be formed, wherein the second corner portion has a portion in which the length between the two side surfaces facing each other becomes longer as approaching the other side in the thickness direction. The printed circuit board described in 1. is included.

この配線回路基板では、磁性層が、第1絶縁層において第2絶縁層から露出する厚み方向一方面を被覆しているので、かかる磁性層における磁性粒子は、直交方向に沿って配向することができる。   In this printed circuit board, since the magnetic layer covers one surface in the thickness direction exposed from the second insulating layer in the first insulating layer, the magnetic particles in the magnetic layer can be oriented along the orthogonal direction. it can.

また、他方面および側面によって形成される第2角部が、互いに向かい合う2つの側面間の長さが他方面に近づくに従って長くなる部分を有するので、第2絶縁層を介してその部分を被覆する磁性層においては、第2角部における部分に対応して、磁性粒子が、直交方向に対して傾斜する方向に配向することができる。   Further, the second corner formed by the other surface and the side surface has a portion in which the length between the two side surfaces facing each other becomes longer as it approaches the other surface, so that the portion is covered via the second insulating layer. In the magnetic layer, the magnetic particles can be oriented in a direction inclined with respect to the orthogonal direction, corresponding to the portion at the second corner.

従って、第2角部の周囲において、滑らかな磁路を形成することができる。そのため、配線回路基板は、より一層高いインダクタンスを有する。   Therefore, a smooth magnetic path can be formed around the second corner. Therefore, the printed circuit board has a much higher inductance.

本発明(8)は、前記配線は、略円形状を有し、前記第2絶縁層が、前記配線の周面を被覆し、前記粒子含有層が、前記第2絶縁層を介して、前記配線の前記周面を被覆する、(2)〜(4)のいずれか一項に記載の配線回路基板を含む。   In the present invention (8), the wiring has a substantially circular shape, the second insulating layer covers a peripheral surface of the wiring, and the particle-containing layer is interposed through the second insulating layer. The wired circuit board according to any one of (2) to (4), which covers the peripheral surface of the wiring.

配線の周囲における磁性層において、磁性粒子は、配線の周面に沿う滑らかな磁路を形成することができる。従って、配線の周囲の実効透磁率を向上させることができる。その結果、配線回路基板は、高いインダクタンスを有する。   In the magnetic layer around the wiring, the magnetic particles can form a smooth magnetic path along the peripheral surface of the wiring. Therefore, the effective magnetic permeability around the wiring can be improved. As a result, the printed circuit board has a high inductance.

本発明(9)は、第1絶縁層と、前記第1絶縁層の厚み方向一方面に配置される配線とを準備する第1工程と、第2絶縁層により前記配線を被覆する第2工程と、前記第2絶縁層を介して、前記配線を被覆し、アスペクト比が2以上である形状を有する導電性粒子を含有する粒子含有層を形成する第3工程とを備え、前記配線は、略湾曲形状を形成し、前記第2工程では、前記厚み方向に直交する方向に配向される前記導電性粒子を含有する粒子含有シートを、前記第2絶縁層に対して熱プレスする、配線回路基板の製造方法を含む。   The present invention (9) includes a first step of preparing a first insulating layer and a wiring disposed on one surface in the thickness direction of the first insulating layer, and a second step of covering the wiring with a second insulating layer. And a third step of forming a particle-containing layer containing conductive particles having a shape with an aspect ratio of 2 or more, covering the wiring via the second insulating layer, A wiring circuit that forms a substantially curved shape, and in the second step, heat-presses a particle-containing sheet containing the conductive particles oriented in a direction orthogonal to the thickness direction against the second insulating layer. A method for manufacturing a substrate is included.

しかるに、第2工程において、粒子含有シートを、第2絶縁層に対して熱プレスするときに、粒子含有シートに含有される導電性粒子が、第2絶縁層を貫通して配線に接触し易い。   However, in the second step, when the particle-containing sheet is hot-pressed against the second insulating layer, the conductive particles contained in the particle-containing sheet easily pass through the second insulating layer and contact the wiring. .

しかしながら、この配線回路基板の製造方法では、第1工程において、配線が略湾曲形状を形成するので、配線において略湾曲形状に対応する部分を被覆する第2絶縁層を厚く形成することができる。   However, in this method for manufacturing a printed circuit board, since the wiring forms a substantially curved shape in the first step, the second insulating layer covering the portion corresponding to the substantially curved shape in the wiring can be formed thick.

そのため、導電性粒子の第2絶縁層への貫通、および、導電性粒子の配線への接触を抑制することができる。   Therefore, the penetration of the conductive particles into the second insulating layer and the contact of the conductive particles with the wiring can be suppressed.

従って、この製造方法は、第2絶縁層の絶縁性を確保した配線回路基板を得ることができる。   Therefore, this manufacturing method can provide a printed circuit board that ensures the insulation of the second insulating layer.

本発明(10)は、前記導電性粒子が、磁性粒子であり、前記粒子含有層が、磁性層であり、磁性配線回路基板の製造方法である、(9)に記載の配線回路基板の製造方法を含む。   The present invention (10) is the method for producing a printed circuit board according to (9), wherein the conductive particles are magnetic particles, the particle-containing layer is a magnetic layer, and the method for producing a magnetic wired circuit board. Including methods.

磁性配線回路基板の製造方法である配線回路基板の製造方法の第2工程では、厚み方向に直交する方向に配向される導電性粒子を含有する磁性シートを、第2絶縁層に対して熱プレスするので、第2絶縁層を介して、配線において略湾曲形状に対応する部分を被覆する磁性層において、磁性粒子が、配線の湾曲形状に沿って配向することができる。つまり、磁性粒子を、配線の略湾曲形状に対応する部分に対向する磁性層においては、厚み方向および直交方向に対して傾斜する方向に配向させることができる。そのため、磁性層において配線の略湾曲形状に対応する部分に沿う滑らかな磁路を形成することができる。従って、配線の周囲の実効透磁率を向上させることができる。その結果、高いインダクタンスを有する配線回路基板を製造することができる。   In the second step of the method of manufacturing a printed circuit board, which is a method of manufacturing a magnetic printed circuit board, a magnetic sheet containing conductive particles oriented in a direction perpendicular to the thickness direction is hot pressed against the second insulating layer. Therefore, the magnetic particles can be oriented along the curved shape of the wiring in the magnetic layer covering the portion corresponding to the substantially curved shape in the wiring via the second insulating layer. That is, the magnetic particles can be oriented in a direction inclined with respect to the thickness direction and the orthogonal direction in the magnetic layer facing the portion corresponding to the substantially curved shape of the wiring. Therefore, a smooth magnetic path can be formed along the portion corresponding to the substantially curved shape of the wiring in the magnetic layer. Therefore, the effective magnetic permeability around the wiring can be improved. As a result, a printed circuit board having high inductance can be manufactured.

本発明(11)は、前記第1工程における前記配線は、前記第1絶縁層の前記厚み方向一方面に間隔を隔てて対向配置される厚み方向一方面と、前記第1絶縁層の前記厚み方向一方面に接触する厚み方向他方面と、前記厚み方向一方面および前記厚み方向他方面の両端縁を連結する側面とを有しており、さらに、前記厚み方向一方面および前記側面に、略湾曲形状の角部が形成され、前記第2工程では、前記絶縁層により、前記配線の前記厚み方向一方面および前記側面を被覆し、前記第3工程では、前記第2絶縁層を介して、前記配線の前記厚み方向一方面および前記側面を被覆する粒子含有層を形成する、(10)に記載の配線回路基板の製造方法を含む。   According to the present invention (11), the wiring in the first step is arranged such that the wiring in the thickness direction is opposed to the one surface in the thickness direction of the first insulating layer with a space therebetween, and the thickness of the first insulating layer. The other surface in the thickness direction that contacts one surface in the direction, and the side surface that connects both edges of the one surface in the thickness direction and the other surface in the thickness direction. A curved corner is formed, and in the second step, the insulating layer covers the one side surface and the side surface of the wiring in the thickness direction, and in the third step, the second insulating layer is interposed therebetween. The method for producing a printed circuit board according to (10), wherein a particle-containing layer that covers the one surface in the thickness direction and the side surface of the wiring is formed.

この配線回路基板の製造方法では、第1工程の配線に、略湾曲形状の角部が形成されているので、かかる角部を被覆する第2絶縁層を厚く形成することができる。   In this method of manufacturing a printed circuit board, since the corner portion having a substantially curved shape is formed in the wiring in the first step, the second insulating layer covering the corner portion can be formed thick.

そのため、導電性粒子の第2絶縁層への貫通、および、導電性粒子の配線への接触を抑制することができる。   Therefore, the penetration of the conductive particles into the second insulating layer and the contact of the conductive particles with the wiring can be suppressed.

従って、この製造方法は、第2絶縁層の絶縁性を確保した配線回路基板を得ることができる。   Therefore, this manufacturing method can provide a printed circuit board that ensures the insulation of the second insulating layer.

本発明(12)は、前記第1工程は、サブトラクティブ法により、厚み方向一方面および側面によって形成される尖り部を有する配線基部を形成する第4工程、および、めっきにより、前記配線基部を被覆するめっき層であって、前記尖り部を被覆する被覆部を有する前記めっき層を形成することにより、前記角部を、前記被覆部から、略湾曲形状に形成する第5工程を備える、(11)に記載の配線回路基板の製造方法を含む。   In the present invention (12), in the first step, the subtractive method is used to form a wiring base having a pointed portion formed by one surface and a side surface in the thickness direction, and the wiring base is formed by plating. A fifth step of forming the corner portion from the covering portion into a substantially curved shape by forming the plating layer having a covering portion that covers the pointed portion. 11) A method for manufacturing a printed circuit board according to 11).

しかるに、第1工程において、尖り部を有する配線を形成すると、第2工程において、尖り部に対向する絶縁層の厚みが過度に薄くなる場合がある。その後、第3工程において、磁性層を形成すれば、磁性粒子が、尖り部に対向する絶縁層を貫通して、尖り部に接触してしまい、その結果、かかる接触によって、磁性層と配線との絶縁性を確保できない場合がある。   However, if a wiring having a sharp portion is formed in the first step, the thickness of the insulating layer facing the sharp portion may be excessively thinned in the second step. Thereafter, in the third step, if the magnetic layer is formed, the magnetic particles pass through the insulating layer facing the pointed portion and come into contact with the pointed portion. As a result, the contact causes the magnetic layer and the wiring to Insulating properties may not be ensured.

しかし、この第4工程において、尖り部を有する配線基部を形成しても、第5工程において、尖り部を被覆する被覆部を有するめっき層を形成して、角部を、被覆部から、略湾曲形状に形成する。そのため、第2工程において、かかる角部を被覆する第2絶縁層を、過度に薄くなることを抑制しながら、形成することができる。   However, even in the fourth step, even if the wiring base portion having the sharp portion is formed, in the fifth step, the plating layer having the covering portion that covers the sharp portion is formed, and the corner portion is substantially separated from the covering portion. It is formed in a curved shape. Therefore, in the second step, the second insulating layer that covers the corner portion can be formed while suppressing excessive thinning.

第3工程において、磁性層を形成することにより、磁性層における磁性粒子が、第2絶縁層を貫通して配線に接触することを抑制することができる。   In the third step, by forming the magnetic layer, it is possible to suppress the magnetic particles in the magnetic layer from penetrating the second insulating layer and coming into contact with the wiring.

本発明(13)は、前記第1工程における前記配線は、略円形状を有し、前記第2工程では、前記絶縁層により、前記配線の周面を被覆し、前記第3工程では、前記第2絶縁層を介して、前記配線の前記周面を被覆する粒子含有層を形成する、(10)に記載の配線回路基板の製造方法を含む。   In the invention (13), the wiring in the first step has a substantially circular shape, and in the second step, the peripheral surface of the wiring is covered with the insulating layer, and in the third step, the wiring The method for producing a printed circuit board according to (10), wherein a particle-containing layer that covers the peripheral surface of the wiring is formed via a second insulating layer.

第3工程では、配線の周囲における磁性層において、磁性粒子は、配線の略湾曲形状に沿う滑らかな磁路を形成することができる。従って、配線の周囲の実効透磁率を向上させることができる。その結果、高いインダクタンスを有する配線回路基板を製造することができる。   In the third step, in the magnetic layer around the wiring, the magnetic particles can form a smooth magnetic path along the substantially curved shape of the wiring. Therefore, the effective magnetic permeability around the wiring can be improved. As a result, a printed circuit board having high inductance can be manufactured.

本発明の配線回路基板の製造方法により得られる本発明の配線回路基板は、第2絶縁層の絶縁性を確保できる。   The wired circuit board of the present invention obtained by the method for manufacturing a wired circuit board of the present invention can ensure the insulation of the second insulating layer.

図1は、本発明の配線回路基板の一実施形態である磁性配線回路基板の断面図およびその一部拡大断面図を示す。FIG. 1 shows a sectional view of a magnetic wired circuit board as an embodiment of the wired circuit board of the present invention and a partially enlarged sectional view thereof. 図2A〜図2Dは、図1に示す磁性配線回路基板の製造工程図であり、図2Aが、配線基部を形成する第4工程(第1工程)、図2Bが、めっき層を形成して、配線を形成する第5工程(第1工程)、図2Cが、第2絶縁層を形成する第2工程、図2Dが、磁性層を形成する第3工程を示す。2A to 2D are manufacturing process diagrams of the magnetic wiring circuit board shown in FIG. 1. FIG. 2A is a fourth process (first process) for forming a wiring base, and FIG. 2B is a process for forming a plating layer. FIG. 2C shows a second step of forming the second insulating layer, and FIG. 2D shows a third step of forming the magnetic layer. 図3は、図1において、第1角部の湾曲面を通過する円弧面の円を説明する断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining a circular arc of a circle passing through the curved surface of the first corner in FIG. 図4は、図1に磁性配線回路基板の変形例(めっき層が薄く、配線側面がくびれ部を有しない態様)の一部拡大断面図を示す。FIG. 4 is a partially enlarged cross-sectional view of a modified example of the magnetic wiring circuit board (an aspect in which the plating layer is thin and the wiring side surface does not have a constricted portion) in FIG. 図5は、図1に磁性配線回路基板の変形例(第2角部が垂直面を有する態様)の一部拡大断面図を示す。FIG. 5 is a partially enlarged cross-sectional view of a modified example of the magnetic wiring circuit board (embodiment in which the second corner portion has a vertical surface) in FIG. 図6は、図1に磁性配線回路基板の変形例(第2角部が第1窄み面を有する態様)の一部拡大断面図を示す。FIG. 6 is a partially enlarged cross-sectional view of a modification of the magnetic wiring circuit board shown in FIG. 1 (a mode in which the second corner portion has the first constricted surface). 図7は、図1に磁性配線回路基板の変形例(第2角部が第2窄み面を有する態様)の一部拡大断面図を示す。FIG. 7 is a partially enlarged cross-sectional view of a modified example of the magnetic wiring circuit board (an aspect in which the second corner portion has a second constricted surface) in FIG. 図8A〜図8Cは、図1に示す磁性配線回路基板の変形例(配線部が断面略円形状である態様)の製造工程図であり、図8Aが、第1絶縁層、配線部および第2絶縁層を準備する工程、図8Bが、配線部および第2絶縁層を、第1絶縁層に配置する工程、図8Cが、磁性シートを、第1絶縁層、配線部および第2絶縁層に対して熱プレス工程を示す。8A to 8C are manufacturing process diagrams of a modified example of the magnetic wiring circuit board shown in FIG. 1 (an embodiment in which the wiring part has a substantially circular cross section). FIG. 8A shows the first insulating layer, the wiring part, and the Step of preparing two insulating layers, FIG. 8B is a step of disposing the wiring portion and the second insulating layer on the first insulating layer, and FIG. 8C is a magnetic sheet of the first insulating layer, the wiring portion and the second insulating layer. Shows a hot press process. 図9A〜図9Bは、比較例の磁性配線回路基板の製造工程図であり、図9Aが、第2絶縁層を形成する第2工程、図9Bが、磁性層を形成する第3工程を示す。9A to 9B are manufacturing process diagrams of the magnetic wiring circuit board of the comparative example. FIG. 9A shows a second process for forming the second insulating layer, and FIG. 9B shows a third process for forming the magnetic layer. .

<一実施形態>
本発明の配線回路基板の一実施形態である磁性配線回路基板1を、図1を参照して説明する。
<One Embodiment>
A magnetic wired circuit board 1 which is an embodiment of the wired circuit board of the present invention will be described with reference to FIG.

磁性配線回路基板1は、厚み方向に互いに対向する厚み方向一方面および他方面を有し、面方向(厚み方向に直交する方向)に延びる形状を有する。磁性配線回路基板1は、絶縁層の一例である第1絶縁層2と、配線の一例としての配線部3と、第2絶縁層4と、粒子含有層の一例としての磁性層5とを備える。   The magnetic printed circuit board 1 has a thickness direction one surface and the other surface facing each other in the thickness direction, and has a shape extending in the surface direction (a direction orthogonal to the thickness direction). The magnetic wiring circuit board 1 includes a first insulating layer 2 that is an example of an insulating layer, a wiring portion 3 that is an example of wiring, a second insulating layer 4, and a magnetic layer 5 that is an example of a particle-containing layer. .

第1絶縁層2は、面方向に延びる形状を有する。第1絶縁層2は、次に説明する配線部3を支持する支持材であり、ひいては、磁性配線回路基板1を支持する支持層でもある。第1絶縁層2は、厚み方向一方面である第1絶縁面7および他方面である第2絶縁面8を有する。第1絶縁面7および第2絶縁面8のそれぞれは、面方向に沿う平坦面である。また、第1絶縁層2は、可撓性を有する。   The first insulating layer 2 has a shape extending in the surface direction. The first insulating layer 2 is a support material that supports the wiring portion 3 described below, and by extension, is also a support layer that supports the magnetic wiring circuit board 1. The first insulating layer 2 has a first insulating surface 7 that is one surface in the thickness direction and a second insulating surface 8 that is the other surface. Each of the first insulating surface 7 and the second insulating surface 8 is a flat surface along the surface direction. The first insulating layer 2 has flexibility.

第1絶縁層2の材料としては、例えば、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂などの樹脂が挙げられる。また、第1絶縁層2は、単層および複層のいずれであってもよい。第1絶縁層2の厚みは、特に限定されず、例えば、1μm以上、1000μm以下である。   Examples of the material of the first insulating layer 2 include resins such as polyimide resin, polyester resin, and acrylic resin. The first insulating layer 2 may be either a single layer or a multilayer. The thickness of the 1st insulating layer 2 is not specifically limited, For example, they are 1 micrometer or more and 1000 micrometers or less.

配線部3は、第1絶縁層2の第1絶縁面7において、例えば、厚み方向および第1方向(図1における左右方向に相当し、面方向に含まれる方向)に沿って切断した切断面において、第1方向に互いに間隔を隔てて複数配置されている。配線部3の平面視(厚み方向に見たときの)形状としては、特に限定されず、例えば、ループ形状(コイル形状など)を含む。   The wiring portion 3 is a cut surface cut along the thickness direction and the first direction (corresponding to the left-right direction in FIG. 1 and included in the surface direction) on the first insulating surface 7 of the first insulating layer 2. In FIG. 2, a plurality are arranged in the first direction at intervals. The shape of the wiring part 3 in plan view (when viewed in the thickness direction) is not particularly limited, and includes, for example, a loop shape (such as a coil shape).

配線部3は、第1絶縁層2の第1絶縁面7に対して厚み方向一方側に間隔を隔てて対向配置される厚み方向一方面である第1配線面9と、第1絶縁層2の第1絶縁面7に接触する第2配線面10と、第1配線面9および第2配線面10の第1方向両端縁を連結する側面である配線側面11とを備える。   The wiring portion 3 includes a first wiring surface 9 that is one surface in the thickness direction and is disposed opposite to the first insulating surface 7 of the first insulating layer 2 with a space on one side in the thickness direction, and the first insulating layer 2. A second wiring surface 10 in contact with the first insulating surface 7, and a wiring side surface 11 that is a side surface connecting the first wiring surface 9 and both end edges in the first direction of the second wiring surface 10.

第1配線面9は、第1方向に沿う平坦面である。   The first wiring surface 9 is a flat surface along the first direction.

第2配線面10は、第1配線面9と厚み方向に間隔を隔てて対向配置されており、第1配線面9に平行する平坦面である。   The second wiring surface 10 is disposed so as to face the first wiring surface 9 with a gap in the thickness direction, and is a flat surface parallel to the first wiring surface 9.

配線側面11は、厚み方向に沿って延びる。配線側面11は、1つの配線部3に2つ備えられる。2つの配線側面11は、第1方向に互いに間隔を隔てて対向(互いに向かい合って)配置される。   The wiring side surface 11 extends along the thickness direction. Two wiring side surfaces 11 are provided in one wiring part 3. The two wiring side surfaces 11 are arranged to face each other (facing each other) with a space therebetween in the first direction.

この配線部3は、角部の一例としての第1角部21と、第2角部22とを有する。   The wiring portion 3 includes a first corner portion 21 and a second corner portion 22 as an example of a corner portion.

第1角部21は、配線部3において、第1配線面9および配線側面11によって形成される稜線部(第1稜線部)である。詳しくは、第1角部21は、第1配線面9の第1方向両端部のそれぞれと、それらに連続する配線側面11の厚み方向一端部にわたって形成される。第1角部21は、1つの配線部3につき、2つ形成されている。   The first corner portion 21 is a ridge line portion (first ridge line portion) formed by the first wiring surface 9 and the wiring side surface 11 in the wiring portion 3. Specifically, the first corner portion 21 is formed over both end portions in the first direction of the first wiring surface 9 and one end portion in the thickness direction of the wiring side surface 11 continuous therewith. Two first corner portions 21 are formed for each wiring portion 3.

そして、この第1角部21は、断面(厚み方向および第1方向に沿う切断面)視において、略湾曲形状を有する。具体的には、第1角部21は、第1方向外側および厚み方向一方側に向かって膨らむ湾曲面(詳しくは、略円弧面)23を有する。   And this 1st corner | angular part 21 has a substantially curved shape in the cross section (cut surface along a thickness direction and a 1st direction). Specifically, the first corner 21 has a curved surface (specifically, a substantially arcuate surface) 23 that swells outward in the first direction and toward one side in the thickness direction.

湾曲面23(円弧面)をなす円Cの中心CPは、例えば、配線部3の内部に位置する。   The center CP of the circle C forming the curved surface 23 (arc surface) is located, for example, inside the wiring portion 3.

湾曲面23をなす円Cの半径(曲率半径)Rは、例えば、5μm以上、好ましくは、9μm以上、より好ましくは、15μm以上、さらに好ましくは、20μm以上であり、また、例えば、30μm以下である。湾曲面23の曲率半径Rが上記した下限以上であれば、湾曲面23を緩やかにすることができ、次に説明する第2絶縁層4をより確実に十分な厚みTで形成することができる。また、磁性粒子18(後述)が、第1角部21に対向する第2絶縁層4において、湾曲面23に沿って確実に配向することができる。   The radius (curvature radius) R of the circle C forming the curved surface 23 is, for example, 5 μm or more, preferably 9 μm or more, more preferably 15 μm or more, further preferably 20 μm or more, and for example, 30 μm or less. is there. If the radius of curvature R of the curved surface 23 is equal to or greater than the above lower limit, the curved surface 23 can be made gentle, and the second insulating layer 4 described below can be more reliably formed with a sufficient thickness T. . In addition, the magnetic particles 18 (described later) can be reliably oriented along the curved surface 23 in the second insulating layer 4 facing the first corner 21.

第1角部21の曲率半径Rが上記した上限以下であれば、配線側面11の厚み方向中央部50(後述)に隙間(ボイド)なく磁性層5を充填することができる。   If the curvature radius R of the first corner portion 21 is equal to or less than the above upper limit, the magnetic layer 5 can be filled in the thickness direction central portion 50 (described later) of the wiring side surface 11 without a gap (void).

湾曲面23の中心角αは、円弧の一端および中心CPを結ぶ線分と、円弧の他端および中心CPを結ぶ線分との成す角度であり、例えば、180度未満である。具体的には、湾曲面23の中心角αは、例えば、45度以上、好ましくは、60度以上、より好ましくは、80度以上であり、また、例えば、150度以下、好ましくは、135度以下、より好ましくは、120度以下である。湾曲面23の中心角αが上記した下限以上であれば、湾曲面23の長さを長くすることができ、そのため、磁性粒子18が湾曲面23に確実に沿う(配向する)ことができる。湾曲面23の中心角αが上記した下限以上であれば、湾曲面23の長さを長くすることができ、そのため、磁性粒子18が湾曲面23に確実に沿う(配向する)ことができる。湾曲面23の中心角αが上記した上限以下であれば、配線側面11の厚み方向中央部50(後述)に隙間(ボイド)なく磁性層5を充填することができる。   The central angle α of the curved surface 23 is an angle formed by a line segment connecting one end of the arc and the center CP and a line segment connecting the other end of the arc and the center CP, and is, for example, less than 180 degrees. Specifically, the central angle α of the curved surface 23 is, for example, 45 degrees or more, preferably 60 degrees or more, more preferably 80 degrees or more, and for example, 150 degrees or less, preferably 135 degrees. Below, more preferably, it is 120 degrees or less. If the central angle α of the curved surface 23 is equal to or greater than the above lower limit, the length of the curved surface 23 can be increased, so that the magnetic particles 18 can surely follow (orient) the curved surface 23. If the central angle α of the curved surface 23 is equal to or greater than the above lower limit, the length of the curved surface 23 can be increased, so that the magnetic particles 18 can surely follow (orient) the curved surface 23. If the central angle α of the curved surface 23 is equal to or less than the above upper limit, the magnetic layer 5 can be filled without a gap (void) in the thickness direction central portion 50 (described later) of the wiring side surface 11.

なお、図1の拡大図で示すように、湾曲面23をなす円Cは、第1角部21において湾曲面23を最大限通過(重複)する円弧をなすように、中心CPを決定し、かかる中心CPに基づく円Cとして定義される。一方、図3に示すように、第1角部21において湾曲面23をわずかに(最小限で)通過(重複)する円弧をなすような中心CP’を決定し、かかる中心CP’に基づく円C’ではない。   In addition, as shown in the enlarged view of FIG. 1, the center CP is determined so that the circle C forming the curved surface 23 forms an arc that passes through the curved surface 23 at the maximum (overlapping) at the first corner portion 21; It is defined as a circle C based on the center CP. On the other hand, as shown in FIG. 3, a center CP ′ that forms an arc that slightly (minimally) passes (overlaps) the curved surface 23 at the first corner 21 is determined, and a circle based on the center CP ′ is determined. Not C '.

第2角部22は、配線部3において、第2配線面10および配線側面11によって形成される稜線部(第2稜線部)である。詳しくは、第2角部22は、第2配線面10の第1方向両端部のそれぞれと、それらに連続する配線側面11の厚み方向他端部にわたって形成される。第2角部22は、1つの配線部3につき、2つ形成されている。   The second corner portion 22 is a ridge line portion (second ridge line portion) formed by the second wiring surface 10 and the wiring side surface 11 in the wiring portion 3. Specifically, the second corner portion 22 is formed over each of both end portions in the first direction of the second wiring surface 10 and the other end portion in the thickness direction of the wiring side surface 11 continuous therewith. Two second corner portions 22 are formed for each wiring portion 3.

2つの第2角部22のそれぞれは、2つの第1角部21のそれぞれに対して厚み方向他方側に配置されている。   Each of the two second corner portions 22 is disposed on the other side in the thickness direction with respect to each of the two first corner portions 21.

第2角部22は、第1方向外側(第1方向外側斜め第1方向他方側)に向かって尖る第2尖り部である。第2角部22は、傾斜面24と、平坦面26とを有する(により区画されている。)。   The 2nd corner | angular part 22 is a 2nd pointed part sharpened toward the 1st direction outer side (1st direction outer side diagonal 1st direction other side). The second corner 22 has an inclined surface 24 and a flat surface 26 (partitioned by).

傾斜面24は、テーパ面27を主要部として有する。好ましくは、傾斜面24は、テーパ面27のみからなる。傾斜面24は、配線側面11の厚み方向中央部(詳しくは、中央部と他端部との間付近)50から連続しており、第1方向外側に面している。2つの第2角部22に対応する2つの傾斜面24は、第1方向に互いに対向して(互いに向かい合って)配置されている。   The inclined surface 24 has a tapered surface 27 as a main part. Preferably, the inclined surface 24 comprises only the tapered surface 27. The inclined surface 24 is continuous from the central portion 50 in the thickness direction of the wiring side surface 11 (specifically, the vicinity between the central portion and the other end portion) 50 and faces the outside in the first direction. The two inclined surfaces 24 corresponding to the two second corner portions 22 are disposed to face each other (facing each other) in the first direction.

テーパ面27は、厚み方向および第1方向に対して傾斜している。つまり、テーパ面27は、厚み方向および第1方向に対して傾斜し、かつ、厚み方向他方側に進むに従って第1方向外側に傾斜する傾斜方向(第1傾斜方向)(拡大図と併せて示される方向矢印参照)に沿っている。2つの傾斜面24に対応する2つのテーパ面27は、それらの間の長さが厚み方向他方側に近づくに従って長くなる2つのテーパ面(部分の一例)である。具体的には、テーパ面27は、配線側面11の厚み方向中央部(詳しくは、中央部と他端部との間付近)50から、第2配線面10の第1方向両端縁(第1絶縁層2の第1絶縁面7)に向かうに従って、第1方向外側に向かって末広状に広がるように傾斜する。なお、テーパ面27における、第1方向長さを厚み方向長さで除したテーパ比(第1方向長さ/厚み方向長さ)は、例えば、0.001以上、好ましくは、0.01以上、より好ましくは、0.1以上であり、また、例えば、1.0以下、好ましくは、0.75以下である。   The tapered surface 27 is inclined with respect to the thickness direction and the first direction. That is, the tapered surface 27 is inclined with respect to the thickness direction and the first direction, and is inclined to the outside in the first direction as it goes to the other side in the thickness direction (first inclination direction) (shown together with the enlarged view). Direction arrow). The two taper surfaces 27 corresponding to the two inclined surfaces 24 are two taper surfaces (an example of a part) which become longer as the distance between them approaches the other side in the thickness direction. Specifically, the taper surface 27 extends from the central portion 50 in the thickness direction of the wiring side surface 11 (specifically, between the central portion and the other end portion) 50 to both edges in the first direction of the second wiring surface 10 (first As it goes to the first insulating surface 7) of the insulating layer 2, it inclines so as to spread outwardly in the first direction. In addition, the taper ratio (first direction length / thickness direction length) obtained by dividing the length in the first direction by the length in the thickness direction of the tapered surface 27 is, for example, 0.001 or more, preferably 0.01 or more. More preferably, it is 0.1 or more, for example, 1.0 or less, preferably 0.75 or less.

平坦面26は、傾斜面24の厚み方向他方側他端縁から第1方向内側に向かって真っ直ぐ延びる平面である。平坦面26は、第2配線面10の第1方向両端縁に相当する。平坦面26は、第1絶縁面7に接触している。   The flat surface 26 is a plane that extends straight from the other end in the thickness direction of the inclined surface 24 toward the inside in the first direction. The flat surface 26 corresponds to both edges of the second wiring surface 10 in the first direction. The flat surface 26 is in contact with the first insulating surface 7.

第2角部22の傾斜面24と、第1角部21の湾曲面23とは、例えば、配線側面11の厚み方向中央部50を隔てて配置されている。   The inclined surface 24 of the second corner 22 and the curved surface 23 of the first corner 21 are disposed, for example, with a central portion 50 in the thickness direction of the wiring side surface 11 being separated.

なお、この第2角部22は、後述する配線基部36における第2尖り部45(図2A参照)と同一形状であってもよい。   In addition, this 2nd corner | angular part 22 may be the same shape as the 2nd pointed part 45 (refer FIG. 2A) in the wiring base part 36 mentioned later.

配線側面11は、第1角部21の湾曲面23のうち第1方向外側に面する部分と、厚み方向中央部50と、湾曲面23の傾斜面24のうち第1方向外側に面する部分とを連続して備える。   The wiring side surface 11 is a portion facing the first direction outside of the curved surface 23 of the first corner portion 21, a portion in the thickness direction center portion 50, and a portion facing the first direction outside of the inclined surface 24 of the curved surface 23. Are provided continuously.

なお、2つの配線側面11の厚み方向中央部50のそれぞれは、第1方向内側に向かってくびれる形状を有する。具体的には、配線側面11は、それらの間における長さが、第1方向中央部において最短となる形状(くびれ部)を有する。   Each of the central portions 50 in the thickness direction of the two wiring side surfaces 11 has a shape constricted toward the inside in the first direction. Specifically, the wiring side surface 11 has a shape (necked portion) in which the length between them is the shortest in the central portion in the first direction.

なお、配線部3は、図2Bの仮想線で示すように、例えば、配線基部36と、その厚み方向一方面および両側面に形成されるめっき層30とを備える。   In addition, the wiring part 3 is provided with the wiring base part 36 and the plating layer 30 formed in the thickness direction one surface and both side surfaces, for example, as shown with the virtual line of FIG. 2B.

配線部3の材料としては、例えば、銅、ニッケル、金、はんだなどの金属やそれら金属の合金などの導体が挙げられ、好ましくは、銅が挙げられる。   As a material of the wiring part 3, conductors, such as metals, such as copper, nickel, gold | metal | money, solder, and alloys of those metals, are mentioned, for example, Preferably, copper is mentioned.

配線部3の厚みは、第1配線面9および第2配線面10間の長さであって、具体的には、例えば、10μm以上、好ましくは、30μm以上であり、また、例えば、500μm以下、好ましくは、250μm以下である。   The thickness of the wiring part 3 is the length between the first wiring surface 9 and the second wiring surface 10, specifically, for example, 10 μm or more, preferably 30 μm or more, and, for example, 500 μm or less. The thickness is preferably 250 μm or less.

配線部3の幅は、互いに向かい合う2つの第1角部21の第1方向における端縁間の距離として、例えば、20μm以上、、好ましくは、50μm以上、また、例えば、2000μm以下、好ましくは、1000μm以下である。   The width of the wiring part 3 is, for example, 20 μm or more, preferably 50 μm or more, for example, 2000 μm or less, preferably, as the distance between the edges in the first direction of the two first corners 21 facing each other. 1000 μm or less.

隣り合う配線部3間の間隔は、第2絶縁層4(後述)および磁性層5(後述)を隔てて隣り合う第1角部21の第1方向端縁間の間隔として、例えば、20μm以上、好ましくは、50μm以上であり、また、例えば、1000μm以下、好ましくは、500μm以下である。
配線部3の厚みの、配線部3の幅に対する比(厚み/幅)は、例えば、0.005以上、好ましくは、0.03以上であり、また、例えば、25以下、好ましくは、5以下である。配線部3の厚みの、隣り合う配線部3間の間隔に対する比(厚み/間隔)は、例えば、0.01以上、好ましくは、0.06以上であり、また、例えば、25以下、好ましくは、5以下である。配線部3の幅の、隣り合う配線部3間の間隔に対する比(幅/間隔)は、例えば、0.02以上、好ましくは、0.01以上であり、また、例えば、100以下、好ましくは、20以下である。
The interval between the adjacent wiring portions 3 is, for example, 20 μm or more as the interval between the first direction edges of the first corner portions 21 adjacent to each other across the second insulating layer 4 (described later) and the magnetic layer 5 (described later). The thickness is preferably 50 μm or more, and for example, 1000 μm or less, preferably 500 μm or less.
The ratio (thickness / width) of the thickness of the wiring part 3 to the width of the wiring part 3 is, for example, 0.005 or more, preferably 0.03 or more, and for example, 25 or less, preferably 5 or less. It is. The ratio (thickness / interval) of the thickness of the wiring part 3 to the distance between adjacent wiring parts 3 is, for example, 0.01 or more, preferably 0.06 or more, and for example, 25 or less, preferably 5 or less. The ratio (width / interval) of the width of the wiring part 3 to the distance between adjacent wiring parts 3 is, for example, 0.02 or more, preferably 0.01 or more, and for example, 100 or less, preferably , 20 or less.

なお、配線部3は、上記した第1絶縁層2とともに、配線回路基板準備体6に備えられる。つまり、配線回路基板準備体6は、次に説明する第2絶縁層4および磁性層5を備えず、第1絶縁層2と、配線部3とを備える。好ましくは、配線回路基板準備体6は、第1絶縁層2と、配線部3とのみからなる。   The wiring part 3 is provided in the printed circuit board preparation body 6 together with the first insulating layer 2 described above. That is, the printed circuit board preparation 6 does not include the second insulating layer 4 and the magnetic layer 5 described below, but includes the first insulating layer 2 and the wiring portion 3. Preferably, the printed circuit board preparation 6 includes only the first insulating layer 2 and the wiring portion 3.

第2絶縁層4は、複数の配線部3に対応して複数設けられている。第2絶縁層4は、配線部3の第1配線面9および配線側面11(湾曲面23および傾斜面24を含む)に沿って薄膜状に形成されている。第2絶縁層4は、第1配線面9および配線側面11に接触する第4絶縁面13と、第4絶縁面13の厚み方向一方側または第1方向外側に間隔を隔てて配置される第3絶縁面12とを備える。   A plurality of second insulating layers 4 are provided corresponding to the plurality of wiring portions 3. The second insulating layer 4 is formed in a thin film shape along the first wiring surface 9 and the wiring side surface 11 (including the curved surface 23 and the inclined surface 24) of the wiring part 3. The second insulating layer 4 is disposed at a distance from the fourth insulating surface 13 in contact with the first wiring surface 9 and the wiring side surface 11 and one side in the thickness direction of the fourth insulating surface 13 or outside in the first direction. 3 insulating surfaces 12.

第4絶縁面13は、第1配線面9および配線側面11に対応する(具体的には、同一の)形状を有する。   The fourth insulating surface 13 has a shape corresponding to the first wiring surface 9 and the wiring side surface 11 (specifically, the same).

第3絶縁面12は、第2絶縁層4の厚みTが確保されるように、第4絶縁面13に追従する形状を有する。第3絶縁面12は、第4絶縁面13に並行する形状を有する。   The third insulating surface 12 has a shape that follows the fourth insulating surface 13 so that the thickness T of the second insulating layer 4 is ensured. The third insulating surface 12 has a shape parallel to the fourth insulating surface 13.

また、第2絶縁層4は、例えば、電着層(後述)、塗布層(後述)などであり、好ましくは、電着層である。   Moreover, the 2nd insulating layer 4 is an electrodeposition layer (after-mentioned), an application layer (after-mentioned) etc., for example, Preferably, it is an electrodeposition layer.

第2絶縁層4は、例えば、比較的軟らかく(とりわけ、後述する第3工程(図2D参照)における熱プレスにおいて、軟らかくなる性質を有し)、一方、磁性を有さない。具体的には、第2絶縁層4の材料としては、磁性粒子18(後の磁性層5で詳述される)を含有しない樹脂などが挙げられる。第2絶縁層4の樹脂としては、好ましくは、水中でイオン性を有する樹脂であって、具体的には、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、それらの混合物などが挙げられる。   The second insulating layer 4 is, for example, relatively soft (in particular, has a property of being soft in a hot press in a third step described later (see FIG. 2D)), but does not have magnetism. Specifically, examples of the material of the second insulating layer 4 include a resin that does not contain the magnetic particles 18 (described in detail later in the magnetic layer 5). The resin of the second insulating layer 4 is preferably a resin that is ionic in water, and specifically includes acrylic resins, epoxy resins, polyimide resins, and mixtures thereof.

第2絶縁層4の厚みTは、比較的薄く、その平均厚みとして、例えば、20μm以下、好ましくは、15μm以下、より好ましくは、10μm以下、さらに好ましくは、7.5μm、とりわけ好ましくは、5μm以下、最も好ましくは、3μm以下であり、また、例えば、0.1μm以上、好ましくは、0.5μm以上、より好ましくは、1μm以上である。   The thickness T of the second insulating layer 4 is relatively thin, and the average thickness thereof is, for example, 20 μm or less, preferably 15 μm or less, more preferably 10 μm or less, further preferably 7.5 μm, and particularly preferably 5 μm. Hereinafter, it is most preferably 3 μm or less, for example, 0.1 μm or more, preferably 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more.

第2絶縁層4の厚みTが上記した上限以下と薄ければ、次に説明する磁性層5の実効透磁率を向上させて、磁性配線回路基板1のインダクタンスを高くすることができる。   If the thickness T of the second insulating layer 4 is as thin as the above upper limit, the effective magnetic permeability of the magnetic layer 5 described below can be improved and the inductance of the magnetic wiring circuit board 1 can be increased.

一方、第2絶縁層4が過度に薄いと、後述する磁性層5における磁性粒子が第2絶縁層4を貫通して配線部3に接触し易い。   On the other hand, when the second insulating layer 4 is excessively thin, magnetic particles in the magnetic layer 5 described later easily pass through the second insulating layer 4 and come into contact with the wiring portion 3.

しかし、この磁性配線回路基板1では、配線部3の第1角部21が、略湾曲形状を有することから、第2絶縁層4の厚みTは、第2絶縁層4が、過度に薄くなることを抑制して、第2絶縁層4が磁性粒子18に貫通されることを抑制して、第2絶縁層4の絶縁性を確保できる。   However, in this magnetic wired circuit board 1, the first corner 21 of the wiring part 3 has a substantially curved shape, so that the thickness T of the second insulating layer 4 is excessively thin. By suppressing this, it is possible to prevent the second insulating layer 4 from penetrating the magnetic particles 18, and to ensure the insulation of the second insulating layer 4.

なお、第2絶縁層4において第1角部21を被覆する部分の厚みT1は、第2絶縁層4において上記した第1角部21以外の部分(例えば、配線側面11の厚み方向中央部50、および/または、第1配線面9の第1方向中央部)を被覆する部分の厚みT0と同一であり、あるいは、厚みT0に対してわずかに小さいことが許容される。   The thickness T1 of the portion covering the first corner 21 in the second insulating layer 4 is a portion other than the first corner 21 described above in the second insulating layer 4 (for example, the central portion 50 in the thickness direction of the wiring side surface 11). And / or the thickness T0 of the portion covering the first wiring surface 9 in the first direction center) or slightly smaller than the thickness T0 is allowed.

第2絶縁層4において、第1角部21を被覆する部分の厚みT1の、第1角部21以外の部分を被覆する部分の厚みT0に対する比(T1/T0)は、例えば、1以下、好ましくは、1未満、より好ましくは、0.95以下、さらに好ましくは、好ましくは、0.9以下であり、また、例えば、0.7以上、好ましくは、0.8以上である。   In the second insulating layer 4, the ratio (T1 / T0) of the thickness T1 of the portion covering the first corner 21 to the thickness T0 of the portion covering the portion other than the first corner 21 is, for example, 1 or less, Preferably, it is less than 1, more preferably 0.95 or less, still more preferably 0.9 or less, and for example 0.7 or more, preferably 0.8 or more.

第2絶縁層4において第1角部21を被覆する部分の厚みT1は、例えば、0.5μm以上、好ましくは、1μm以上であり、また、例えば、10μm以下、好ましくは、7μm以下である。   The thickness T1 of the portion covering the first corner 21 in the second insulating layer 4 is, for example, 0.5 μm or more, preferably 1 μm or more, and for example, 10 μm or less, preferably 7 μm or less.

第2絶縁層4において他の部分を被覆する部分の厚みT0は、例えば、0.52μm以上、好ましくは、1.04μm以上であり、また、例えば、14.49μm以下、好ましくは、10.14μm以下である。   The thickness T0 of the portion covering the other portion in the second insulating layer 4 is, for example, 0.52 μm or more, preferably 1.04 μm or more, and, for example, 14.49 μm or less, preferably 10.14 μm. It is as follows.

なお、第2絶縁層4の平均厚みは、上記した厚みT1およびT0を、その面積比で按分することによって、算出される。   The average thickness of the second insulating layer 4 is calculated by dividing the above-described thicknesses T1 and T0 by the area ratio.

磁性層5は、磁性配線回路基板1のインダクタンスを向上させるために、配線回路基板準備体6に対して設けられている。磁性層5は、面方向に延びる形状を有する。   The magnetic layer 5 is provided to the printed circuit board preparation 6 in order to improve the inductance of the magnetic wired circuit board 1. The magnetic layer 5 has a shape extending in the plane direction.

磁性層5は、第2絶縁層4を介して配線部3を埋設している。具体的には、磁性層5は、第2絶縁層4を介して、配線部3の第1配線面9および配線側面11(湾曲面23および傾斜面24を含む)を被覆している。また、磁性層5は、第1絶縁層2の第1絶縁面7において、第2絶縁層4から露出する露出面16を被覆している。   In the magnetic layer 5, the wiring part 3 is embedded via the second insulating layer 4. Specifically, the magnetic layer 5 covers the first wiring surface 9 and the wiring side surface 11 (including the curved surface 23 and the inclined surface 24) of the wiring part 3 via the second insulating layer 4. The magnetic layer 5 covers the exposed surface 16 exposed from the second insulating layer 4 on the first insulating surface 7 of the first insulating layer 2.

磁性層5は、第1磁性面14と、第2磁性面15とを有する。   The magnetic layer 5 has a first magnetic surface 14 and a second magnetic surface 15.

第1磁性面14は、第2絶縁層4の第3絶縁面12に対して厚み方向一方側に間隔を隔てて配置されている。第1磁性面14は、厚み方向一方側に露出している。第1磁性面14は、複数の配線部3に対応して厚み方向一方側に向かって隆起する複数の凸部28と、互いに隣り合う凸部13の間に配置され、凸部28に対して厚み方向他方側に向かって沈下する凹部29とを有する。   The first magnetic surface 14 is disposed at an interval on one side in the thickness direction with respect to the third insulating surface 12 of the second insulating layer 4. The first magnetic surface 14 is exposed on one side in the thickness direction. The first magnetic surface 14 is disposed between a plurality of convex portions 28 that protrude toward one side in the thickness direction corresponding to the plurality of wiring portions 3 and the convex portions 13 that are adjacent to each other. And a recess 29 that sinks toward the other side in the thickness direction.

第2磁性面15は、第1磁性面14の厚み方向他方側に間隔を隔てて配置されている。第2磁性面15は、第3絶縁面12と、露出面16とに連続して接触している。   The second magnetic surface 15 is arranged at an interval on the other side in the thickness direction of the first magnetic surface 14. The second magnetic surface 15 is in continuous contact with the third insulating surface 12 and the exposed surface 16.

磁性層5は、例えば、磁性粒子18を含有する。具体的には、磁性層5の材料としては、例えば、アスペクト比が2以上である磁性粒子18および樹脂成分19を含有する磁性組成物などが挙げられる。   The magnetic layer 5 contains, for example, magnetic particles 18. Specifically, examples of the material for the magnetic layer 5 include a magnetic composition containing the magnetic particles 18 having an aspect ratio of 2 or more and the resin component 19.

磁性粒子18を構成する磁性材料としては、例えば、軟磁性体、硬磁性体が挙げられる。好ましくは、インダクタンスの観点から、軟磁性体が挙げられる。   Examples of the magnetic material constituting the magnetic particle 18 include a soft magnetic material and a hard magnetic material. Preferably, a soft magnetic material is used from the viewpoint of inductance.

軟磁性体としては、例えば、1種類の金属元素を純物質の状態で含む単一金属体、例えば、1種類以上の金属元素(第1金属元素)と、1種類以上の金属元素(第2金属元素)および/または非金属元素(炭素、窒素、ケイ素、リンなど)との共融体(混合物)である合金体が挙げられる。これらは、単独または併用することができる。   As the soft magnetic material, for example, a single metal body containing one kind of metal element in a pure substance state, for example, one or more kinds of metal elements (first metal element) and one or more kinds of metal elements (second An alloy body which is a eutectic (mixture) with a metal element) and / or a non-metal element (carbon, nitrogen, silicon, phosphorus, etc.) can be used. These can be used alone or in combination.

単一金属体としては、例えば、1種類の金属元素(第1金属元素)のみからなる金属単体が挙げられる。第1金属元素としては、例えば、鉄(Fe)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、その他、軟磁性体の第1金属元素として含有することが可能な金属元素の中から適宜選択される。   As a single metal body, the metal simple substance which consists only of one type of metal element (1st metal element) is mentioned, for example. The first metal element is appropriately selected from, for example, iron (Fe), cobalt (Co), nickel (Ni), and other metal elements that can be contained as the first metal element of the soft magnetic material. .

また、単一金属体としては、例えば、1種類の金属元素のみを含むコアと、そのコアの表面の一部または全部を修飾する無機物および/または有機物を含む表面層とを含む形態、例えば、第1金属元素を含む有機金属化合物や無機金属化合物が分解(熱分解など)された形態などが挙げられる。後者の形態として、より具体的には、第1金属元素として鉄を含む有機鉄化合物(具体的には、カルボニル鉄)が熱分解された鉄粉(カルボニル鉄粉と称される場合がある)などが挙げられる。なお、1種類の金属元素のみを含む部分を修飾する無機物および/または有機物を含む層の位置は、上記のような表面に限定されない。なお、単一金属体を得ることができる有機金属化合物や無機金属化合物としては、特に制限されず、軟磁性体の単一金属体を得ることができる公知乃至慣用の有機金属化合物や無機金属化合物から適宜選択することができる。   In addition, as a single metal body, for example, a form including a core containing only one kind of metal element and a surface layer containing an inorganic substance and / or an organic substance that modifies part or all of the surface of the core, for example, Examples include a form in which an organometallic compound or an inorganic metal compound containing the first metal element is decomposed (such as thermal decomposition). More specifically, as the latter form, iron powder obtained by thermally decomposing an organic iron compound (specifically, carbonyl iron) containing iron as the first metal element (sometimes referred to as carbonyl iron powder). Etc. Note that the position of the layer containing an inorganic material and / or an organic material that modifies a portion containing only one type of metal element is not limited to the above surface. In addition, it does not restrict | limit especially as an organic metal compound and an inorganic metal compound which can obtain a single metal body, The well-known thru | or usual organic metal compound and inorganic metal compound which can obtain the single metal body of a soft magnetic body Can be appropriately selected.

合金体は、1種類以上の金属元素(第1金属元素)と、1種類以上の金属元素(第2金属元素)および/または非金属元素(炭素、窒素、ケイ素、リンなど)との共融体であり、軟磁性体の合金体として利用することができるものであれば特に制限されない。   An alloy body is a eutectic mixture of one or more metal elements (first metal element) and one or more metal elements (second metal element) and / or non-metal elements (carbon, nitrogen, silicon, phosphorus, etc.). The body is not particularly limited as long as it can be used as an alloy body of a soft magnetic body.

第1金属元素は、合金体における必須元素であり、例えば、鉄(Fe)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)などが挙げられる。なお、第1金属元素がFeであれば、合金体は、Fe系合金とされ、第1金属元素がCoであれば、合金体は、Co系合金とされ、第1金属元素がNiであれば、合金体は、Ni系合金とされる。   The first metal element is an essential element in the alloy body, and examples thereof include iron (Fe), cobalt (Co), and nickel (Ni). If the first metal element is Fe, the alloy body is an Fe-based alloy, and if the first metal element is Co, the alloy body is a Co-based alloy, and the first metal element is Ni. In this case, the alloy body is a Ni-based alloy.

第2金属元素は、合金体に副次的に含有される元素(副成分)であり、第1金属元素に相溶(共融)する金属元素であって、例えば、鉄(Fe)(第1金属元素がFe以外である場合)、コバルト(Co)(第1金属元素がCo以外である場合)、ニッケル(Ni)(第1金属元素Ni以外である場合)、クロム(Cr)、アルミニウム(Al)、ケイ素(Si)、銅(Cu)、銀(Ag)、マンガン(Mn)、カルシウム(Ca)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、バナジウム(V)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、亜鉛(Zn)、ガリウム(Ga)、インジウム(In)、ゲルマニウム(Ge)、スズ(Sn)、鉛(Pb)、スカンジウム(Sc)、イットリウム(Y)、ストロンチウム(Sr)、各種希土類元素などが挙げられる。これらは、単独使用または2種以上併用することができる。   The second metal element is an element (subcomponent) that is secondary contained in the alloy body, and is a metal element that is compatible (eutectic) with the first metal element, for example, iron (Fe) (first 1 metal element other than Fe), cobalt (Co) (when the first metal element is other than Co), nickel (Ni) (when other than the first metal element Ni), chromium (Cr), aluminum (Al), silicon (Si), copper (Cu), silver (Ag), manganese (Mn), calcium (Ca), barium (Ba), titanium (Ti), zirconium (Zr), hafnium (Hf), vanadium (V), niobium (Nb), tantalum (Ta), molybdenum (Mo), tungsten (W), ruthenium (Ru), rhodium (Rh), zinc (Zn), gallium (Ga), indium (In), germanium (Ge , Tin (Sn), lead (Pb), scandium (Sc), yttrium (Y), strontium (Sr), and various rare earth elements and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

非金属元素は、合金体に副次的に含有される元素(副成分)であり、第1金属元素に相溶(共融)する非金属元素であって、例えば、ホウ素(B)、炭素(C)、窒素(N)、ケイ素(Si)、リン(P)、硫黄(S)などが挙げられる。これらは、単独使用または2種以上併用することができる。   The nonmetallic element is an element (subcomponent) that is secondary to the alloy body, and is a nonmetallic element that is compatible (eutectic) with the first metal element. For example, boron (B), carbon (C), nitrogen (N), silicon (Si), phosphorus (P), sulfur (S) and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

合金体の一例であるFe系合金として、例えば、磁性ステンレス(Fe−Cr−Al−Si合金)(電磁ステンレスを含む)、センダスト(Fe−Si−Al合金)(スーパーセンダストを含む)、パーマロイ(Fe−Ni合金)、Fe−Ni−Mo合金、Fe−Ni−Mo−Cu合金、Fe−Ni−Co合金、Fe−Cr合金、Fe−Cr−Al合金、Fe−Ni−Cr合金、Fe−Ni−Cr−Si合金、ケイ素銅(Fe−Cu−Si合金)、Fe−Si合金、Fe−Si―B(−Cu−Nb)合金、Fe−B−Si−Cr合金、Fe−Si−Cr−Ni合金、Fe−Si−Cr合金、Fe−Si−Al−Ni−Cr合金、Fe−Ni−Si−Co合金、Fe−N合金、Fe−C合金、Fe−B合金、Fe−P合金、フェライト(ステンレス系フェライト、さらには、Mn−Mg系フェライト、Mn−Zn系フェライト、Ni−Zn系フェライト、Ni−Zn−Cu系フェライト、Cu−Zn系フェライト、Cu−Mg−Zn系フェライトなどのソフトフェライトを含む)、パーメンジュール(Fe−Co合金)、Fe−Co−V合金、Fe基アモルファス合金などが挙げられる。   As an Fe-based alloy which is an example of an alloy body, for example, magnetic stainless steel (Fe—Cr—Al—Si alloy) (including electromagnetic stainless steel), sendust (Fe—Si—Al alloy) (including super sendust), permalloy ( Fe-Ni alloy), Fe-Ni-Mo alloy, Fe-Ni-Mo-Cu alloy, Fe-Ni-Co alloy, Fe-Cr alloy, Fe-Cr-Al alloy, Fe-Ni-Cr alloy, Fe- Ni-Cr-Si alloy, silicon copper (Fe-Cu-Si alloy), Fe-Si alloy, Fe-Si-B (-Cu-Nb) alloy, Fe-B-Si-Cr alloy, Fe-Si-Cr -Ni alloy, Fe-Si-Cr alloy, Fe-Si-Al-Ni-Cr alloy, Fe-Ni-Si-Co alloy, Fe-N alloy, Fe-C alloy, Fe-B alloy, Fe-P alloy , Ferrite (stainless steel Soft ferrite such as Mn-Mg ferrite, Mn-Zn ferrite, Ni-Zn ferrite, Ni-Zn-Cu ferrite, Cu-Zn ferrite, Cu-Mg-Zn ferrite ), Permendur (Fe—Co alloy), Fe—Co—V alloy, Fe-based amorphous alloy, and the like.

合金体の一例であるCo系合金としては、例えば、Co−Ta−Zr、コバルト(Co)基アモルファス合金などが挙げられる。   Examples of the Co-based alloy that is an example of an alloy body include Co—Ta—Zr, cobalt (Co) based amorphous alloy, and the like.

合金体の一例であるNi系合金としては、例えば、Ni−Cr合金などが挙げられる。   Examples of the Ni-based alloy that is an example of an alloy body include a Ni—Cr alloy.

これら軟磁性体の中でも、磁気特性の点から、好ましくは、合金体、より好ましくは、Fe系合金、さらに好ましくは、センダスト(Fe−Si−Al合金)、とりわけ好ましくは、高い透磁率を得る観点から、Si含有割合が9〜15質量%であるセンダストが挙げられる。また、軟磁性体として、好ましくは、単一金属体、より好ましくは、鉄元素を純物質の状態で含む単一金属体、さらに好ましくは、鉄単体、あるいは、鉄粉(カルボニル鉄粉)が挙げられる。   Among these soft magnetic materials, from the viewpoint of magnetic properties, an alloy body, more preferably an Fe-based alloy, more preferably Sendust (Fe-Si-Al alloy), and particularly preferably a high magnetic permeability is obtained. From the viewpoint, Sendust having a Si content ratio of 9 to 15% by mass can be mentioned. The soft magnetic material is preferably a single metal body, more preferably a single metal body containing an iron element in a pure substance state, more preferably an iron simple substance or iron powder (carbonyl iron powder). Can be mentioned.

磁性粒子18の形状としては、例えば、厚みが薄くて面が広い扁平形状(板形状)、例えば、針形状など、異方性を有する形状が挙げられる。また、非異方性の磁性粒子をさらに含有することもできる。非異方性の磁性粒子は、例えば、球状、顆粒状、塊状、ペレット状などの形状を有していてもよい。磁性粒子18の形状として、好ましくは、異方性を有する形状が挙げられる。   Examples of the shape of the magnetic particle 18 include a flat shape (plate shape) having a small thickness and a wide surface, for example, a shape having anisotropy such as a needle shape. Further, non-anisotropic magnetic particles can be further contained. The non-anisotropic magnetic particles may have a shape such as a spherical shape, a granular shape, a lump shape, or a pellet shape. The shape of the magnetic particle 18 is preferably a shape having anisotropy.

磁性粒子18が扁平状である場合における磁性粒子のアスペクト比は、2以上、好ましくは、5以上、より好ましくは、10以上、さらに好ましくは、20以上であり、また、100以下である。   When the magnetic particles 18 are flat, the aspect ratio of the magnetic particles is 2 or more, preferably 5 or more, more preferably 10 or more, still more preferably 20 or more, and 100 or less.

なお、磁性粒子18が扁平状である場合における扁平率(扁平度)は、例えば、8以上、好ましくは、15以上であり、また、例えば、500以下、好ましくは、450以下である。扁平率は、例えば、磁性粒子18の平均粒子径(平均長さ)を磁性粒子18の平均厚さで除したアスペクト比である。   The flatness (flatness) when the magnetic particles 18 are flat is, for example, 8 or more, preferably 15 or more, and for example, 500 or less, preferably 450 or less. The flatness is, for example, an aspect ratio obtained by dividing the average particle diameter (average length) of the magnetic particles 18 by the average thickness of the magnetic particles 18.

磁性粒子18の磁性層5(磁性組成物)における含有割合は、例えば、50体積%以上、好ましくは、55体積%以上であり、また、例えば、95体積%以下、好ましくは、90体積%以下である。   The content ratio of the magnetic particles 18 in the magnetic layer 5 (magnetic composition) is, for example, 50% by volume or more, preferably 55% by volume or more, and, for example, 95% by volume or less, preferably 90% by volume or less. It is.

樹脂成分19としては、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤および硬化促進剤を含有するエポキシ樹脂組成物などの熱硬化性樹脂が挙げられる。なお、このような磁性組成物は、例えば、特開2017−005115号公報、特開2015−092543号公報などに記載されている。   Examples of the resin component 19 include thermosetting resins such as an epoxy resin composition containing an epoxy resin, a curing agent, and a curing accelerator. In addition, such a magnetic composition is described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-005115, Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-092543, etc., for example.

磁性配線回路基板1の厚みは、その最大厚み(凸部28に対応する厚み)として、例えば、30μm以上、好ましくは、50μm以上であり、また、例えば、1000μm以下、好ましくは、800μm以下である。   The thickness of the magnetic wiring circuit board 1 is, for example, 30 μm or more, preferably 50 μm or more, and, for example, 1000 μm or less, preferably 800 μm or less as its maximum thickness (thickness corresponding to the convex portion 28). .

次に、この磁性配線回路基板1の製造方法を、図2A〜図2Dを参照して説明する。   Next, the manufacturing method of this magnetic wiring circuit board 1 is demonstrated with reference to FIG. 2A-FIG. 2D.

この製造方法は、第1絶縁層2と配線部3とを準備する工程の一例としての第1工程(図2Aおよび図2B参照)と、第2絶縁層4を形成する第2工程(図2C参照)と、磁性層5を形成する工程の一例としての第3工程(図2D参照)とを備える。   This manufacturing method includes a first step (see FIGS. 2A and 2B) as an example of a step of preparing the first insulating layer 2 and the wiring portion 3, and a second step of forming the second insulating layer 4 (FIG. 2C). And a third step (see FIG. 2D) as an example of a step of forming the magnetic layer 5.

図2Aおよび図2Bに示すように、第1工程では、第1絶縁層2および配線部3を備える配線回路基板準備体6を準備する。この第1工程は、第1絶縁層2を準備する工程(図2A参照)、配線基部36を形成する第4工程(図2A参照)、および、めっき層30を形成する第5工程(図2B参照)を備える。   As shown in FIGS. 2A and 2B, in the first step, a printed circuit board preparation body 6 including the first insulating layer 2 and the wiring portion 3 is prepared. The first step includes a step of preparing the first insulating layer 2 (see FIG. 2A), a fourth step of forming the wiring base 36 (see FIG. 2A), and a fifth step of forming the plating layer 30 (FIG. 2B). See).

第4工程では、配線基部36を、例えば、サブトラクティブ法、アディティブ法などの導体パターンニング方法により、第1絶縁層2の第1絶縁面7に、形成する。   In the fourth step, the wiring base 36 is formed on the first insulating surface 7 of the first insulating layer 2 by, for example, a conductor patterning method such as a subtractive method or an additive method.

配線基部36をサブトラクティブ法により形成するには、まず、第1絶縁層2および導体層(金属層)からなる積層体(図示せず)を準備し、続いて、導体層の厚み方向一方面に、エッチングレジストを、配線基部36と同一パターンで形成する。次いで、エッチングレジストから露出する導体層を、例えば、ウエットエッチング、ドライエッチングなどのエッチングによりパターンニングして、配線基部36を形成する。好ましくは、ウエットエッチングにより、配線基部36を形成する。その後、エッチングレジストを、例えば、剥離などによって、除去する。   In order to form the wiring base 36 by the subtractive method, first, a laminated body (not shown) composed of the first insulating layer 2 and the conductor layer (metal layer) is prepared, and subsequently, one side in the thickness direction of the conductor layer. In addition, an etching resist is formed in the same pattern as the wiring base 36. Next, the conductor base exposed from the etching resist is patterned by, for example, etching such as wet etching or dry etching to form the wiring base 36. Preferably, the wiring base 36 is formed by wet etching. Thereafter, the etching resist is removed by, for example, peeling.

配線基部36をアディティブ法により形成するには、まず、第1絶縁層2の第1絶縁面7に導体薄膜(種膜)を形成し、続いて、導体薄膜の厚み方向一方面に、配線基部36と逆パターンのめっきレジストを形成する。次いで、めっきレジストから露出する導体薄膜に、めっきにより配線基部36を形成する。その後、めっきレジストおよびそれに対応する導体薄膜を除去する。   In order to form the wiring base 36 by the additive method, first, a conductive thin film (seed film) is formed on the first insulating surface 7 of the first insulating layer 2, and then the wiring base is formed on one surface in the thickness direction of the conductive thin film. A plating resist having a pattern opposite to that of 36 is formed. Next, the wiring base 36 is formed on the conductive thin film exposed from the plating resist by plating. Thereafter, the plating resist and the corresponding conductive thin film are removed.

導体パターンニング方法として、好ましくは、サブトラクティブ法が挙げられる。サブトラクティブ法であれば、アディティブ法に比べて、厚い厚みを有する配線基部36を迅速に形成することができる。   The conductor patterning method is preferably a subtractive method. If it is a subtractive method, compared with an additive method, the wiring base part 36 which has a thick thickness can be formed rapidly.

一方、サブトラクティブ法で配線基部36を形成すれば、配線基部36に第1尖り部25が形成されてしまうが、後述するように、第1尖り部25に起因して第2絶縁層4が薄くなることは、後述する第5工程により形成するめっき層30によって解消することできる。   On the other hand, if the wiring base portion 36 is formed by the subtractive method, the first sharpened portion 25 is formed in the wiring base portion 36. However, as described later, the second insulating layer 4 is caused by the first sharpened portion 25. The thinning can be solved by the plating layer 30 formed in the fifth step described later.

なお、この配線基部36は、配線部3を形成するための基部(土台)であって、後述するめっき層30とともに、配線部3を形成する。つまり、図2Aに示す配線基部36のみで、配線部3を構成しない。   The wiring base 36 is a base (base) for forming the wiring part 3 and forms the wiring part 3 together with a plating layer 30 described later. That is, the wiring part 3 is not configured only by the wiring base part 36 shown in FIG. 2A.

配線基部36は、第1角部21に対応する第1尖り部25と、厚み方向中央部50に対応する基部中央側面51と、第2角部22に対応する第2尖り部45とを有する。   The wiring base portion 36 includes a first sharpened portion 25 corresponding to the first corner portion 21, a base central side surface 51 corresponding to the thickness direction central portion 50, and a second sharpened portion 45 corresponding to the second corner portion 22. .

第1尖り部25は、配線基部36における厚み方向一方面および側面によって形成される稜線部である。第1尖り部25は、第1方向外側斜め第1方向一方側に向かって鋭く尖る。第1尖り部25における角度(第1配線面9および配線側面11の端部によって形成される角度)β1は、例えば、135度以下、好ましくは、120度以下、より好ましくは、90度以下であり、また、例えば、30度以上、好ましくは、45度以上である。   The first sharpened portion 25 is a ridge line portion formed by one surface and a side surface in the thickness direction of the wiring base portion 36. The first sharpened portion 25 sharply sharpens toward the one side in the first direction outer side obliquely in the first direction. The angle (angle formed by the ends of the first wiring surface 9 and the wiring side surface 11) β1 at the first sharpened portion 25 is, for example, 135 degrees or less, preferably 120 degrees or less, more preferably 90 degrees or less. Yes, for example, 30 degrees or more, preferably 45 degrees or more.

第2尖り部45は、配線基部36における厚み方向他方面および側面によって形成される稜線部である。第2尖り部45は、第1方向外側斜め第1方向他方側に向かって鋭く尖る。第2尖り部45における角度(第2配線面10および配線側面11の端部によって形成される角度)β2は、例えば、35度以上、好ましくは、45度以上、より好ましくは、80度超過であり、また、例えば、150度以下、好ましくは、135度以下である。   The second sharpened portion 45 is a ridge line portion formed by the other surface and the side surface in the thickness direction of the wiring base portion 36. The second sharpened portion 45 sharply sharpens toward the other side of the first direction outer side obliquely in the first direction. The angle (angle formed by the ends of the second wiring surface 10 and the wiring side surface 11) β2 at the second sharpened portion 45 is, for example, 35 degrees or more, preferably 45 degrees or more, more preferably more than 80 degrees. For example, it is 150 degrees or less, preferably 135 degrees or less.

基部中央側面51は、第1尖り部25および第2尖り部45を厚み方向に連結する連結面である。   The base center side surface 51 is a connection surface that connects the first sharpened portion 25 and the second sharpened portion 45 in the thickness direction.

配線基部36の材料は、上記した配線部3の材料と同一である。   The material of the wiring base portion 36 is the same as the material of the wiring portion 3 described above.

第5工程では、図2Bに示すように、その後、めっき層30を配線基部36に形成する。   In the fifth step, the plating layer 30 is then formed on the wiring base 36 as shown in FIG. 2B.

めっき層30の材料としては、配線基部36の材料から適宜選択され、好ましくは、配線基部36の材料と同一である。   The material of the plating layer 30 is appropriately selected from the material of the wiring base 36 and is preferably the same as the material of the wiring base 36.

めっきにより、めっき層30が形成される。   A plating layer 30 is formed by plating.

めっきとしては、例えば、電解めっき、無電解めっきなどが挙げられる。好ましくは、めっき層30を厚く形成する観点から、電解めっき(より好ましくは、電解銅めっき)が挙げられる。   Examples of the plating include electrolytic plating and electroless plating. Preferably, from the viewpoint of forming the plating layer 30 thick, electrolytic plating (more preferably, electrolytic copper plating) is used.

めっきにより、配線基部36における厚み方向一方面および両側面に、めっき層30が、積層される。めっきでは、めっき層30が、配線基部36における厚み方向一方面および両側面において析出状に形成される。   The plating layer 30 is laminated on one side and both sides in the thickness direction of the wiring base 36 by plating. In the plating, the plating layer 30 is formed in a deposited state on one surface and both side surfaces in the thickness direction of the wiring base 36.

このめっきによって、第1尖り部25には、厚み方向一方側および第1方向外側に向かって成長(めっき成長)する被覆部の一例としての第1被覆部31が析出する。この第1被覆部31は、湾曲面23を備える第1角部21を形成する。   By this plating, a first covering portion 31 as an example of a covering portion that grows (plating growth) toward one side in the thickness direction and the outside in the first direction is deposited on the first sharpened portion 25. The first covering portion 31 forms the first corner portion 21 having the curved surface 23.

一方、配線基部36において第1尖り部25以外の部分(第2尖り部45および厚み方向中央部50を含む部分)では、厚み方向一方側または第1方向外側に向かって成長(めっき成長)する第2被覆部32が析出する。この第2被覆部32は、配線基部36の厚み方向一方面および両側面(但し、第1角部21を除く部分であり、厚み方向中央部50および傾斜面24を含む部分。)を形成する。   On the other hand, in the wiring base portion 36 other than the first sharpened portion 25 (the portion including the second sharpened portion 45 and the central portion 50 in the thickness direction), it grows (plating growth) toward one side in the thickness direction or outward in the first direction. The 2nd coating | coated part 32 precipitates. The second covering portion 32 forms one side surface and both side surfaces of the wiring base portion 36 (however, the portion excluding the first corner portion 21 and including the thickness direction central portion 50 and the inclined surface 24). .

つまり、このめっき層30は、第1被覆部31および第2被覆部32を備える。好ましくは、めっき層30は、第1被覆部31および第2被覆部32のみからなる。   That is, the plating layer 30 includes a first covering portion 31 and a second covering portion 32. Preferably, the plating layer 30 includes only the first covering portion 31 and the second covering portion 32.

第1被覆部31は、第1尖り部25から断面視略放射状(第1尖り部25の内部の方向を除く、扇状)にめっき成分がめっき成長することにより形成される。そのため、第1被覆部31は、湾曲面23を有する。   The first covering portion 31 is formed by plating growth of the plating component from the first sharpened portion 25 in a substantially radial shape in sectional view (a fan shape excluding the direction inside the first sharpened portion 25). Therefore, the first covering part 31 has a curved surface 23.

一方、第2被覆部32は、第1尖り部25以外の部分において、各面から直交する方向、具体的には、配線基部36の厚み方向一方面においては、厚み方向上側に向かって面状にめっき成分がめっき成長するとともに、配線基部36の両側面(第2尖り部45における側面を含む)においては、第1方向両外側に向かって面状にめっき成分がめっき成長する。そのため、第2被覆部32は、上記した湾曲面23を有さず、第1配線面9および配線側面11(厚み方向中央部50を含むが、湾曲面23を除く)を有する。   On the other hand, in the portions other than the first pointed portion 25, the second covering portion 32 is planar in a direction orthogonal to each surface, specifically, in one thickness direction of the wiring base portion 36 toward the upper side in the thickness direction. The plating component grows on the both sides of the wiring base portion 36 (including the side surface of the second sharpened portion 45), and the plating component grows in a planar shape toward both outer sides in the first direction. Therefore, the 2nd coating | coated part 32 does not have the above-mentioned curved surface 23, but has the 1st wiring surface 9 and the wiring side surface 11 (The thickness direction center part 50 is included, but the curved surface 23 is excluded).

この第2被覆部32は、第2角部22を含んでおり、この第2角部22は、上記しためっき成長に基づいて、傾斜面24を含む。   This 2nd coating | coated part 32 contains the 2nd corner | angular part 22, This 2nd corner | angular part 22 contains the inclined surface 24 based on the above-mentioned plating growth.

めっき層30において、第1被覆部31の厚み(成長厚み、あるいは、めっき厚み)は、好ましくは、第2被覆部32のそれに比べて厚い。めっきが電解めっきであれば、第1尖り部25における電流密度は、配線基部36における第1尖り部25以外の電流密度に比べて、高い。そのため、第1被覆部31のめっき成長が第2被覆部32のめっき成長に比べて速く、そのため、第1被覆部31の厚みが、第2被覆部32の厚みに比べて厚くなる。   In the plating layer 30, the thickness (growth thickness or plating thickness) of the first covering portion 31 is preferably thicker than that of the second covering portion 32. If the plating is electrolytic plating, the current density at the first sharpened portion 25 is higher than the current density of the wiring base 36 other than the first sharpened portion 25. Therefore, the plating growth of the first covering portion 31 is faster than the plating growth of the second covering portion 32, and thus the thickness of the first covering portion 31 is thicker than the thickness of the second covering portion 32.

めっき層30の厚みは、めっきの成長速度およびめっき時間によって適宜設定される。なお、それらは、例えば、めっきで用いられるめっき液における金属(導体)濃度、温度など、例えば、めっきが電解めっきであれば、電流密度、極間距離、浴内撹拌度(速度)、硫酸銅濃度、硫酸濃度、塩化物イオン濃度、添加剤(レベラー、ブライトナー、ポリマー)の種類や量、例えば、めっきが無電解めっきであれば、配線基部36の表面に付着される触媒の種類、量などによって、適宜設定される。   The thickness of the plating layer 30 is appropriately set according to the growth rate of plating and the plating time. These include, for example, metal (conductor) concentration and temperature in the plating solution used in plating, for example, if the plating is electrolytic plating, current density, distance between electrodes, degree of agitation in bath (speed), copper sulfate Concentration, sulfuric acid concentration, chloride ion concentration, type and amount of additives (leveler, brightener, polymer), for example, if the plating is electroless plating, the type and amount of catalyst attached to the surface of the wiring base 36 It sets suitably by these.

なお、図2Bに示すように、配線基部36と、めっき層30との間に、仮想線で示す境界が示されているが、上記しためっき層30の材料が配線基部36の材料と同一であれば、上記した境界が不明瞭となり、あるいは、存在しない(観察されない)。   As shown in FIG. 2B, a boundary indicated by an imaginary line is shown between the wiring base 36 and the plating layer 30, but the material of the plating layer 30 is the same as the material of the wiring base 36. If present, the above-mentioned boundary is obscured or does not exist (not observed).

このめっき層30において、第1被覆部31は、上記しためっきにより形成されるので、上記した湾曲面23を有する。一方、第2被覆部32は、傾斜面24を有する。   In the plating layer 30, the first covering portion 31 is formed by the above plating, and thus has the curved surface 23 described above. On the other hand, the second covering portion 32 has an inclined surface 24.

第2工程では、図2Cに示すように、続いて、第2絶縁層4を、上記した配線回路基板準備体6に形成する。具体的には、第2絶縁層4により、配線部3の第1配線面9および配線側面11を被覆する。   In the second step, as shown in FIG. 2C, the second insulating layer 4 is subsequently formed on the printed circuit board preparation 6 described above. Specifically, the second insulating layer 4 covers the first wiring surface 9 and the wiring side surface 11 of the wiring part 3.

第2絶縁層4を形成する方法としては、例えば、電着(電着塗装)、例えば、印刷などの塗布などが挙げられる。   Examples of the method for forming the second insulating layer 4 include electrodeposition (electrodeposition coating), for example, coating such as printing.

電着では、配線回路基板準備体6(製造途中の磁性配線回路基板1)を、樹脂(好ましくは、電着塗料)を含有する電着液に浸漬し、続いて、配線部3に電流を印加することによって、配線部3の第1配線面9および配線側面11に樹脂の被膜を析出させる。その後、必要により、被膜を乾燥させる。これにより、第2絶縁層4が電着層として形成される。その後、必要により、第2絶縁層4(電着層)を、焼き付けにより、加熱硬化させる。   In the electrodeposition, the printed circuit board preparation 6 (the magnetic wiring circuit board 1 being manufactured) is immersed in an electrodeposition liquid containing a resin (preferably an electrodeposition paint), and then a current is applied to the wiring section 3. By applying, a resin film is deposited on the first wiring surface 9 and the wiring side surface 11 of the wiring part 3. Thereafter, the coating is dried if necessary. Thereby, the 2nd insulating layer 4 is formed as an electrodeposition layer. Thereafter, if necessary, the second insulating layer 4 (electrodeposition layer) is heated and cured by baking.

塗布の一例である印刷では、樹脂を含有するワニスを、スクリーンを介して、配線部3の第1配線面9および配線側面11に被膜を塗布する(スクリーン印刷)。その後、被膜を乾燥する。   In printing, which is an example of application, a coating is applied to the first wiring surface 9 and the wiring side surface 11 of the wiring portion 3 with a varnish containing a resin through a screen (screen printing). Thereafter, the coating is dried.

第2絶縁層4を形成する方法として、好ましくは、電着が挙げられる。電着であれば、第2絶縁層4を厚みTを薄く(但し、第2絶縁層4の絶縁性を確保できる程度の厚みに設定)することができる。また、電着であれば、第2絶縁層4が、露出面16を確実に露出することができ、そのため、隣り合う配線部3間において、次の第3工程において、磁性層5を、厚み方向全体にわたって配置することができるので、磁性層5の実効透磁率を向上させて、磁性配線回路基板1のインダクタンスが高くなる。   A preferred method for forming the second insulating layer 4 is electrodeposition. If it is electrodeposition, the thickness T of the second insulating layer 4 can be made thin (however, the thickness can be set to a level that can ensure the insulation of the second insulating layer 4). Moreover, if it is electrodeposition, the 2nd insulating layer 4 can expose the exposed surface 16 reliably, Therefore, between the adjacent wiring parts 3, in the following 3rd process, the magnetic layer 5 is made into thickness. Since it can arrange | position over the whole direction, the effective magnetic permeability of the magnetic layer 5 is improved and the inductance of the magnetic wiring circuit board 1 becomes high.

第3工程では、その後、図2Dに示すように、磁性層5を配線回路基板準備体6に形成する。具体的には、磁性層5により、第2絶縁層4を介して、配線部3の第1配線面9および配線側面11を被覆する。   In the third step, the magnetic layer 5 is then formed on the printed circuit board preparation 6 as shown in FIG. 2D. Specifically, the first wiring surface 9 and the wiring side surface 11 of the wiring part 3 are covered with the magnetic layer 5 via the second insulating layer 4.

第3工程では、例えば、図2Cに示すように、まず、粒子含有シートの一例としての磁性シート17を準備する。磁性シート17を準備するには、例えば、上記した磁性粒子および樹脂成分(好ましくは、Bステージの熱硬化性樹脂)を含有する磁性組成物から、シート形状に形成する。磁性シート17において、磁性粒子18は、磁性シート17の面方向(厚み方向に直交する方向)に配向(配列)されている。   In the third step, for example, as shown in FIG. 2C, first, a magnetic sheet 17 as an example of a particle-containing sheet is prepared. In order to prepare the magnetic sheet 17, for example, the magnetic sheet 17 is formed into a sheet shape from a magnetic composition containing the above-described magnetic particles and a resin component (preferably a B-stage thermosetting resin). In the magnetic sheet 17, the magnetic particles 18 are oriented (arranged) in the surface direction of the magnetic sheet 17 (direction perpendicular to the thickness direction).

その後、図2Cの矢印に示すように、磁性シート17を、配線回路基板準備体6の第2絶縁層4に対して熱プレスする。磁性シート17を、配線回路基板準備体6の厚み方向一方側に配置し、磁性シート17を配線回路基板準備体6の厚み方向一方面に対して熱プレスする。   Thereafter, as shown by the arrow in FIG. 2C, the magnetic sheet 17 is hot-pressed against the second insulating layer 4 of the printed circuit board preparation 6. The magnetic sheet 17 is disposed on one side in the thickness direction of the printed circuit board preparation body 6, and the magnetic sheet 17 is hot pressed against one surface in the thickness direction of the printed circuit board preparation body 6.

これにより、磁性シート17は、第2絶縁層4を介して配線部3を埋設する。具体的には、磁性シート17は、第2絶縁層4の第1配線面9を、第2絶縁層4を介して被覆するとともに、互いに隣り合う配線部3の間(露出面16に対向する部分)に、進入(沈下)して、かかる間(部分)を充填する。   Thereby, the magnetic sheet 17 embeds the wiring part 3 through the second insulating layer 4. Specifically, the magnetic sheet 17 covers the first wiring surface 9 of the second insulating layer 4 with the second insulating layer 4 interposed therebetween, and between the adjacent wiring portions 3 (opposed to the exposed surface 16). (Part) enters (sinks) and fills the part (part).

熱プレスの前後における磁性シート17では、配線部3の第1配線面9に対向する磁性粒子18の配向方向(具体的には、面方向)は、変動しない。また、熱プレスの前後における磁性シート17では、露出面16に対向する磁性粒子18の配向方向(具体的には、面方向)は、変動しない。   In the magnetic sheet 17 before and after hot pressing, the orientation direction (specifically, the surface direction) of the magnetic particles 18 facing the first wiring surface 9 of the wiring part 3 does not vary. Further, in the magnetic sheet 17 before and after hot pressing, the orientation direction (specifically, the surface direction) of the magnetic particles 18 facing the exposed surface 16 does not vary.

一方、熱プレスの前後における磁性シート17では、第1角部21に対向する磁性粒子18の配向方向(具体的には、面方向)は、湾曲面23に沿う方向(つまり、厚み方向他方側に向かうに従って第1方向外側に傾斜する斜め方向)に変動する。つまり、上記した磁性粒子18は、湾曲面23に沿って配向される。   On the other hand, in the magnetic sheet 17 before and after hot pressing, the orientation direction (specifically, the surface direction) of the magnetic particles 18 facing the first corner portion 21 is the direction along the curved surface 23 (that is, the other side in the thickness direction). As it goes to the diagonal direction, the first direction is inclined outward. That is, the magnetic particles 18 described above are oriented along the curved surface 23.

また、熱プレスの前後における磁性シート17では、第2角部22に対向する磁性粒子18の配向方向(具体的には、面方向)は、傾斜面24に沿う方向(つまり、厚み方向他方側に向かうに従って第1方向外側に傾斜する斜め方向)に変動する。つまり、上記した磁性粒子18は、傾斜面24に沿って配向される。   In the magnetic sheet 17 before and after the hot pressing, the orientation direction (specifically, the surface direction) of the magnetic particles 18 facing the second corner portion 22 is the direction along the inclined surface 24 (that is, the other side in the thickness direction). As it goes to the diagonal direction, the first direction is inclined outward. That is, the magnetic particles 18 described above are oriented along the inclined surface 24.

他方、熱プレスの前後における磁性シート17では、配線側面11における第1角部21および第2角部22間に対向する磁性粒子18の配向方向(具体的には、面方向)は、厚み方向に沿う方向に変動する。つまり、上記した磁性粒子18は、厚み方向に沿って配向される。   On the other hand, in the magnetic sheet 17 before and after the hot press, the orientation direction (specifically, the plane direction) of the magnetic particles 18 facing the first corner portion 21 and the second corner portion 22 on the wiring side surface 11 is the thickness direction. It fluctuates in the direction along. That is, the above-described magnetic particles 18 are oriented along the thickness direction.

これによって、磁性シート17は、第2絶縁層4を介して、配線部3を被覆し、凸部28および凹部29を有する磁性層5として形成(成型)される。   Thus, the magnetic sheet 17 is formed (molded) as the magnetic layer 5 that covers the wiring portion 3 and has the convex portion 28 and the concave portion 29 via the second insulating layer 4.

磁性層5において上記したように配向される磁性粒子18は、配線部3を囲む円滑な磁路を形成する。   The magnetic particles 18 oriented as described above in the magnetic layer 5 form a smooth magnetic path surrounding the wiring portion 3.

これによって、配線回路基板準備体6および磁性層5を備える磁性配線回路基板1が得られる。磁性配線回路基板1は、好ましくは、配線回路基板準備体6および磁性層5のみからなる。   As a result, the magnetic wired circuit board 1 including the wired circuit board preparation 6 and the magnetic layer 5 is obtained. The magnetic wired circuit board 1 is preferably composed only of the wired circuit board preparation 6 and the magnetic layer 5.

その後、磁性層5がBステージの熱硬化性樹脂を含む場合には、必要により、磁性層5を、例えば、加熱により、Cステージ化(完全硬化)させる。   Thereafter, when the magnetic layer 5 contains a B-stage thermosetting resin, the magnetic layer 5 is C-staged (completely cured) by heating, for example, if necessary.

この磁性配線回路基板1は、例えば、無線電力伝送(無線給電および/または無線受電)、無線通信、センサ、受動部品などに用いられる。   The magnetic wiring circuit board 1 is used for, for example, wireless power transmission (wireless power feeding and / or wireless power receiving), wireless communication, a sensor, a passive component, and the like.

そして、この磁性配線回路基板1では、配線部3の第1角部21(配線部3において略湾曲形状に対応する部分)が、略湾曲形状を有するので、かかる第1角部21を被覆する第2絶縁層4を、過度に薄くなることを抑制しながら、形成することができる。そのため、磁性粒子18が、第2絶縁層4を貫通して配線部3に接触することを抑制することができる。その結果、第2絶縁層4によって、磁性層5の配線部3に対する絶縁性を確保することができる。   And in this magnetic wiring circuit board 1, since the 1st corner | angular part 21 (part corresponding to a substantially curved shape in the wiring part 3) of the wiring part 3 has a substantially curved shape, this 1st corner | angular part 21 is coat | covered. The second insulating layer 4 can be formed while suppressing excessive thinning. Therefore, it is possible to suppress the magnetic particles 18 from penetrating the second insulating layer 4 and coming into contact with the wiring part 3. As a result, the second insulating layer 4 can ensure the insulation of the magnetic layer 5 with respect to the wiring portion 3.

また、第1角部21を第2絶縁層4を介して被覆する磁性層5においては、磁性粒子18が、第1角部21の湾曲形状に沿って配向することができる。つまり、磁性粒子18は、配線部3の第1配線面9に対向する磁性層5においては、面方向に配向し、配線部3の配線側面11に対向する磁性層5においては、厚み方向に配向し、第1角部21に対向する磁性層5においては、厚み方向および第1方向に対して傾斜する方向に配向する。そのため、磁性層5において配線部3を囲む滑らかな磁路を形成することができる。従って、配線部3の周囲の実効透磁率を向上させることができる。その結果、磁性配線回路基板1は、高いインダクタンスを有する。   Further, in the magnetic layer 5 that covers the first corner portion 21 via the second insulating layer 4, the magnetic particles 18 can be oriented along the curved shape of the first corner portion 21. That is, the magnetic particles 18 are oriented in the plane direction in the magnetic layer 5 facing the first wiring surface 9 of the wiring part 3, and in the thickness direction in the magnetic layer 5 facing the wiring side surface 11 of the wiring part 3. The magnetic layer 5 that is oriented and faces the first corner 21 is oriented in a thickness direction and a direction that is inclined with respect to the first direction. Therefore, a smooth magnetic path surrounding the wiring part 3 can be formed in the magnetic layer 5. Therefore, the effective magnetic permeability around the wiring part 3 can be improved. As a result, the magnetic wired circuit board 1 has a high inductance.

従って、この磁性配線回路基板1は、高いインダクタンスを有しながら、第2絶縁層4の絶縁性に優れる。   Therefore, this magnetic wired circuit board 1 is excellent in the insulation of the second insulating layer 4 while having a high inductance.

また、この磁性配線回路基板1では、第2絶縁層4が、電着層であれば、第2絶縁層4の厚みを薄くすることができる。そのため、かかる第2絶縁層4を介して配線部3を被覆する磁性層5の実効透磁率の低下を抑制することができる。その結果、この磁性配線回路基板1は、高いインダクタンスを有する。   Moreover, in this magnetic wiring circuit board 1, if the 2nd insulating layer 4 is an electrodeposition layer, the thickness of the 2nd insulating layer 4 can be made thin. Therefore, it is possible to suppress a decrease in effective magnetic permeability of the magnetic layer 5 that covers the wiring portion 3 via the second insulating layer 4. As a result, this magnetic wired circuit board 1 has a high inductance.

一方で、図9Aに示すように、第2絶縁層4の厚み、具体的には、第1尖り部25に対向する第2絶縁層4の厚みT1が薄い場合には、図9Bに示すように、磁性粒子18が、薄い第2絶縁層4を貫通して配線部3に接触し易い。しかし、この磁性配線回路基板1では、図1に示すように、配線部3の第1角部21が、略湾曲形状を有し、かかる第1角部21を被覆する第2絶縁層4を、過度に薄い厚みで形成されることが抑制されているので、磁性粒子18による第2絶縁層4の貫通を抑制して、第2絶縁層4の絶縁性を確保できる。   On the other hand, as shown in FIG. 9A, when the thickness of the second insulating layer 4, specifically, the thickness T1 of the second insulating layer 4 facing the first sharpened portion 25 is thin, as shown in FIG. 9B. In addition, the magnetic particles 18 easily penetrate the thin second insulating layer 4 and come into contact with the wiring portion 3. However, in this magnetic wired circuit board 1, as shown in FIG. 1, the first corner portion 21 of the wiring portion 3 has a substantially curved shape, and the second insulating layer 4 that covers the first corner portion 21 is provided. Since the formation of an excessively thin thickness is suppressed, the penetration of the second insulating layer 4 by the magnetic particles 18 can be suppressed, and the insulating property of the second insulating layer 4 can be ensured.

また、この磁性配線回路基板1では、第1角部21の曲率半径Rが、9μm以上と大きければ、湾曲面23が緩やかであるため、第1角部21に対応する第2絶縁層4を十分な厚みT1で形成することができる。また、第1角部21に対向する第2絶縁層4において、磁性粒子18が、湾曲面23に沿って確実に配向することができる。   Moreover, in this magnetic wiring circuit board 1, if the curvature radius R of the 1st corner | angular part 21 is as large as 9 micrometers or more, since the curved surface 23 is gentle, the 2nd insulating layer 4 corresponding to the 1st corner | angular part 21 is provided. It can be formed with a sufficient thickness T1. In the second insulating layer 4 facing the first corner 21, the magnetic particles 18 can be reliably oriented along the curved surface 23.

また、第2絶縁層4の平均厚みTが、10μm以下と薄ければ、磁性層4の実効透磁率の低下を抑制することができる。その結果、この磁性配線回路基板1は、高いインダクタンスを有する。   Further, if the average thickness T of the second insulating layer 4 is as thin as 10 μm or less, it is possible to suppress a decrease in the effective magnetic permeability of the magnetic layer 4. As a result, this magnetic wired circuit board 1 has a high inductance.

また、この磁性配線回路基板1では、磁性層5が、露出面16を被覆しているので、かかる磁性層5における磁性粒子18は、面方向に沿って配向することができる。   Moreover, in this magnetic wiring circuit board 1, since the magnetic layer 5 coat | covers the exposed surface 16, the magnetic particle 18 in this magnetic layer 5 can be orientated along a surface direction.

また、配線部3の第2配線面10および配線側面11によって形成される第2角部22が、互いに向かい合う2つの配線側面11間の長さが第2配線面10に近づくに従って長くなるテーパ面27を有するので、第2絶縁層4を介して被覆する磁性層5においては、テーパ面27に対応して、磁性粒子18が、第1方向方向に対して傾斜する方向に配向することができる。   Further, the second corner portion 22 formed by the second wiring surface 10 and the wiring side surface 11 of the wiring portion 3 becomes longer as the length between the two wiring side surfaces 11 facing each other becomes closer to the second wiring surface 10. 27, in the magnetic layer 5 covered via the second insulating layer 4, the magnetic particles 18 can be oriented in a direction inclined with respect to the first direction corresponding to the tapered surface 27. .

従って、第2角部22の周囲において、滑らかな磁路を形成することができる。そのため、磁性配線回路基板1は、より一層高いインダクタンスを有する。   Therefore, a smooth magnetic path can be formed around the second corner 22. Therefore, the magnetic wired circuit board 1 has a much higher inductance.

しかるに、図9Aおよび図9Bに示すように、第2工程において、磁性シート17を、第2絶縁層4に対して熱プレスするときに、磁性シート17に含有される磁性粒子18が、第2絶縁層4を貫通して配線部3に接触し易い。   However, as shown in FIGS. 9A and 9B, when the magnetic sheet 17 is hot-pressed against the second insulating layer 4 in the second step, the magnetic particles 18 contained in the magnetic sheet 17 are second It is easy to penetrate the insulating layer 4 and contact the wiring part 3.

しかしながら、図2Bに示すように、この磁性配線回路基板1の製造方法では、第1工程において、配線部3に、略湾曲形状の第1角部21を形成するので、図2Cに示すように、かかる第1角部21を被覆する第2絶縁層4を厚く形成することができる。   However, as shown in FIG. 2B, in the method for manufacturing the magnetic wired circuit board 1, the first corner portion 21 having a substantially curved shape is formed in the wiring portion 3 in the first step. Thus, the second insulating layer 4 covering the first corner 21 can be formed thick.

そのため、磁性粒子18の第2絶縁層4への貫通、および、磁性粒子18の配線への接触を抑制することができる。   Therefore, the penetration of the magnetic particles 18 into the second insulating layer 4 and the contact of the magnetic particles 18 with the wiring can be suppressed.

従って、この製造方法は、第2絶縁層4の絶縁性に優れる磁性配線回路基板1を得ることができる。   Therefore, this manufacturing method can obtain the magnetic wiring circuit board 1 which is excellent in the insulating property of the second insulating layer 4.

また、第2工程では、面方向に配向される磁性粒子18を含有する磁性シート17を、第2絶縁層4に対して熱プレスするので、第2絶縁層4を介して第1角部21を被覆する磁性層5において、磁性粒子18が、第1角部21の湾曲形状に沿って配向することができる。つまり、磁性粒子18を、配線部3の第1配線面9に対向する磁性層5においては、面方向に配向させ、配線部3の配線側面11に対向する磁性層5においては、厚み方向に配向させ、第1角部21に対向する磁性層5においては、厚み方向および第1方向に対して傾斜する方向に配向させることができる。そのため、磁性層5において配線部3を囲む滑らかな磁路を形成することができる。従って、配線部3の周囲の実効透磁率を向上させることができる。その結果、高いインダクタンスを有する磁性配線回路基板1を製造することができる。   In the second step, the magnetic sheet 17 containing the magnetic particles 18 oriented in the plane direction is hot-pressed against the second insulating layer 4, so that the first corner 21 is interposed via the second insulating layer 4. In the magnetic layer 5 that covers the magnetic layer 18, the magnetic particles 18 can be oriented along the curved shape of the first corner portion 21. That is, the magnetic particles 18 are oriented in the plane direction in the magnetic layer 5 facing the first wiring surface 9 of the wiring part 3, and in the thickness direction in the magnetic layer 5 facing the wiring side surface 11 of the wiring part 3. The magnetic layer 5 that is oriented and faces the first corner 21 can be oriented in the thickness direction and the direction inclined with respect to the first direction. Therefore, a smooth magnetic path surrounding the wiring part 3 can be formed in the magnetic layer 5. Therefore, the effective magnetic permeability around the wiring part 3 can be improved. As a result, the magnetic wiring circuit board 1 having a high inductance can be manufactured.

従って、この製造方法は、高いインダクタンスを有しながら、第2絶縁層4の絶縁性に優れる磁性配線回路基板1を得ることができる。   Therefore, this manufacturing method can obtain the magnetic wiring circuit board 1 having a high inductance and an excellent insulating property of the second insulating layer 4.

しかるに、図2Aに示すように、第1工程において、尖り部を有する配線部3を形成すると、図9Aに示すように、第2工程において、第1尖り部25に対向する第2絶縁層4の厚みT1が過度に薄くなり易い。その後、図9Bに示すように、第3工程において、磁性層5を形成すれば、磁性粒子18が配線部3に接触するので、磁性層5と配線部3との絶縁性を確保できない。   However, as shown in FIG. 2A, when the wiring portion 3 having a sharp portion is formed in the first step, the second insulating layer 4 facing the first sharp portion 25 is shown in the second step as shown in FIG. 9A. The thickness T1 is likely to be excessively thin. Thereafter, as shown in FIG. 9B, if the magnetic layer 5 is formed in the third step, the magnetic particles 18 come into contact with the wiring part 3, so that the insulation between the magnetic layer 5 and the wiring part 3 cannot be ensured.

しかし、図2Aに示すように、この第4工程において、第1尖り部25を有する配線基部36を形成しても、図2Bに示すように、第5工程において、第1尖り部25を被覆する第1被覆部31を有するめっき層30を形成して、第1角部21を、第1被覆部31から、略湾曲形状に形成する。そのため、図2Cに示すように、第2工程において、かかる第1角部21を被覆する第2絶縁層4を、過度に薄くなることを抑制しながら、つまり、厚みT1(図1の拡大図参照)で形成することができる。   However, as shown in FIG. 2A, even if the wiring base 36 having the first sharpened portion 25 is formed in the fourth step, the first sharpened portion 25 is covered in the fifth step as shown in FIG. 2B. The plating layer 30 having the first covering portion 31 is formed, and the first corner portion 21 is formed in a substantially curved shape from the first covering portion 31. Therefore, as shown in FIG. 2C, in the second step, the second insulating layer 4 covering the first corner 21 is suppressed from being excessively thin, that is, the thickness T1 (enlarged view of FIG. 1). Reference).

図2Dに示すように、第3工程において、磁性層5を形成することにより、磁性層5における磁性粒子18が、第2絶縁層4を貫通して配線部3に接触することを抑制することができる。   As shown in FIG. 2D, by forming the magnetic layer 5 in the third step, the magnetic particles 18 in the magnetic layer 5 are prevented from penetrating the second insulating layer 4 and coming into contact with the wiring portion 3. Can do.

<変形例>
以下の各変形例において、上記した一実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、各変形例は、特記する以外、一実施形態と同様の作用効果を奏することができる。さらに、一実施形態およびその変形例を適宜組み合わせることができる。
<Modification>
In the following modifications, members and processes similar to those in the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. Moreover, each modification can have the same operational effects as those of the embodiment, unless otherwise specified. Furthermore, one embodiment and its modification examples can be combined as appropriate.

一実施形態では、本発明の配線回路基板の一例として、磁性層5を備える磁性配線回路基板1を挙げて説明している。しかし、図示しないが、これに限定されず、磁性層5以外の粒子含有層を備える配線回路基板を挙げることもできる。   In one embodiment, the magnetic wiring circuit board 1 including the magnetic layer 5 is described as an example of the wiring circuit board of the present invention. However, although not illustrated, the present invention is not limited to this, and examples thereof include a printed circuit board including a particle-containing layer other than the magnetic layer 5.

粒子含有層は、上記した磁性粒子以外の導電性粒子を適宜の割合で含有する。導電性粒子としては、特に限定されず、銅粒子、銀粒子、金粒子、鉄粒子、半田粒子などの金属粒子などが挙げられる。   The particle-containing layer contains conductive particles other than the above-described magnetic particles in an appropriate ratio. The conductive particles are not particularly limited, and include metal particles such as copper particles, silver particles, gold particles, iron particles, and solder particles.

粒子含有層を備える配線回路基板を得るには、図2Cが参照されるように、磁性シート17に代えて、上記した粒子含有シートを準備し、粒子含有シートを配線回路基板準備体6に熱プレスする。   In order to obtain a printed circuit board having a particle-containing layer, as shown in FIG. 2C, the above-described particle-containing sheet is prepared instead of the magnetic sheet 17, and the particle-containing sheet is heated to the printed circuit board preparation 6. Press.

そして、この配線回路基板では、配線部3の第1角部21が、略湾曲形状を有するので、かかる第1角部21を被覆する第2絶縁層4を、過度に薄くなることを抑制しながら、形成することができる。そのため、導電性粒子が、第2絶縁層4を貫通して配線部3に接触することを抑制することができる。その結果、第2絶縁層4によって、粒子含有層の配線部3に対する絶縁性を確保することができる。   And in this wired circuit board, since the 1st corner | angular part 21 of the wiring part 3 has a substantially curved shape, it suppresses that the 2nd insulating layer 4 which coat | covers this 1st corner | angular part 21 becomes too thin. However, it can be formed. Therefore, it can suppress that electroconductive particle penetrates the 2nd insulating layer 4, and contacts the wiring part 3. FIG. As a result, the second insulating layer 4 can ensure insulation of the particle-containing layer with respect to the wiring portion 3.

しかるに、第2工程において、粒子含有シートを、第2絶縁層4に対して熱プレスするときに、粒子含有シートに含有される導電性粒子が、第2絶縁層4を貫通して配線に接触し易い。   However, in the second step, when the particle-containing sheet is hot-pressed against the second insulating layer 4, the conductive particles contained in the particle-containing sheet contact the wiring through the second insulating layer 4. Easy to do.

しかしながら、この配線回路基板の製造方法では、第1工程において、配線部3に、略湾曲形状の第1角部21を形成するので、かかる第1角部21を被覆する第2絶縁層4を厚く形成することができる。   However, in this method for manufacturing a printed circuit board, the first corner portion 21 having a substantially curved shape is formed in the wiring portion 3 in the first step. Therefore, the second insulating layer 4 that covers the first corner portion 21 is formed. It can be formed thick.

そのため、導電性粒子の第2絶縁層4への貫通、および、導電性粒子の配線部3への接触を抑制することができる。   Therefore, penetration of the conductive particles into the second insulating layer 4 and contact of the conductive particles with the wiring portion 3 can be suppressed.

従って、この製造方法は、第2絶縁層4の絶縁性を確保した配線回路基板を得ることができる。   Therefore, this manufacturing method can provide a printed circuit board in which the insulating property of the second insulating layer 4 is ensured.

従って、この配線回路基板は、第2絶縁層4の絶縁性を確保できる。   Therefore, this printed circuit board can ensure the insulation of the second insulating layer 4.

図1に示すように、一実施形態では、1つの配線部3において、2つの配線側面11間における長さが、第1方向中央部において最短となるくびれ部を有する。しかし、図4に示すように、配線部3は、くびれ部を有さない配線側面11を有することもできる。   As shown in FIG. 1, in one embodiment, a single wiring portion 3 has a constricted portion in which the length between two wiring side surfaces 11 is the shortest at the center portion in the first direction. However, as shown in FIG. 4, the wiring part 3 can also have the wiring side surface 11 which does not have a constriction part.

また、一実施形態における図1は、めっき層30の厚みが比較的厚い一例を示す。図4に示すように、この変形例は、めっき層30の厚みが一実施形態のそれに比べて薄い例である。   Moreover, FIG. 1 in one Embodiment shows an example in which the thickness of the plating layer 30 is relatively thick. As shown in FIG. 4, this modification is an example in which the thickness of the plating layer 30 is thinner than that of the embodiment.

この変形例では、湾曲面23をなす円Cの曲率半径Rが比較的小さく、また、中心角αも小さい。曲率半径Rが、例えば、9μm未満、さらには、5μm以下、さらには、2μm以下であり、中心角αが110度未満である。   In this modification, the radius of curvature R of the circle C forming the curved surface 23 is relatively small, and the center angle α is also small. The radius of curvature R is, for example, less than 9 μm, further 5 μm or less, further 2 μm or less, and the central angle α is less than 110 degrees.

この変形例における曲率半径Rは、一実施形態の曲率半径Rに比べて小さいが、一実施形態と同様に、湾曲面23に対応する第2絶縁層4を十分な厚みで形成することができる。   Although the curvature radius R in this modification is smaller than the curvature radius R of one embodiment, the second insulating layer 4 corresponding to the curved surface 23 can be formed with a sufficient thickness as in the first embodiment. .

また、図1に示すように、一実施形態では、第2角部22は、テーパ面27を有する傾斜面24を有する。しかし、図5に示すように、第2角部22は、傾斜面24に代えて、平坦面26に対して垂直に形成される垂直面33を有してもよい。   Moreover, as shown in FIG. 1, in one embodiment, the second corner portion 22 has an inclined surface 24 having a tapered surface 27. However, as shown in FIG. 5, the second corner portion 22 may have a vertical surface 33 formed perpendicular to the flat surface 26 instead of the inclined surface 24.

互いに向かい合う2つの垂直面33は、その間の長さが、厚み方向他方側に向かうに従って同一である。   The two vertical surfaces 33 facing each other have the same length as they go to the other side in the thickness direction.

また、図6に示すように、傾斜面24は、第2配線面10に向かうに従って、第1方向外側に向かって末広状に広がるテーパ面27に代えて、第1絶縁面7に向かうに従って、第1方向内側に向かって窄む(すぼむ)第2テーパ面(第1窄み面)34を有することもできる。   In addition, as shown in FIG. 6, the inclined surface 24 is replaced by a taper surface 27 that expands toward the outer side in the first direction as it goes toward the second wiring surface 10, and as it goes toward the first insulating surface 7. A second tapered surface (first constricted surface) 34 that constricts toward the inner side in the first direction can also be provided.

このような第2テーパ面(第1窄み面)34は、例えば、アディティブ法によって形成される。   Such a second tapered surface (first constricted surface) 34 is formed by, for example, an additive method.

図1に示すように、一実施形態では、傾斜面24は、テーパ面27のみからなる。しかし、図7に示すように、例えば、傾斜面24の厚み方向他端縁は、第2湾曲面35であってもよい。互いに隣り合う第2湾曲面35は、第1絶縁面7に向かうに従って、その間の長さが短くなる第2窄み面37である。この場合には、配線側面11は、第1角部21の湾曲面23のうち第1方向外側に面する部分と、厚み方向中央部50と、傾斜面24におけるテーパ面27および第2窄み面37とを連続して備える。   As shown in FIG. 1, in one embodiment, the inclined surface 24 includes only a tapered surface 27. However, as shown in FIG. 7, for example, the thickness direction other end edge of the inclined surface 24 may be the second curved surface 35. The second curved surfaces 35 adjacent to each other are second constricted surfaces 37 whose length decreases between the second curved surfaces 35 toward the first insulating surface 7. In this case, the wiring side surface 11 includes a portion of the curved surface 23 of the first corner portion 21 facing outward in the first direction, a central portion 50 in the thickness direction, a tapered surface 27 and a second constriction in the inclined surface 24. A surface 37 is provided continuously.

一実施形態では、図1A〜図1Bに示すように、配線部3は、平坦面(例えば、第1配線面9および第2配線面10)を含むが、この変形例では、図8Cに示すように、平坦面を含まない、断面略円形状を有する。   In one embodiment, as shown in FIGS. 1A to 1B, the wiring portion 3 includes flat surfaces (for example, the first wiring surface 9 and the second wiring surface 10). In this modified example, the wiring portion 3 is illustrated in FIG. 8C. Thus, it has a substantially circular cross section that does not include a flat surface.

詳しくは、配線部3は、電流を伝送する方向(伝送方向)(紙面奥行き方向)に直交する断面で切断したときに、略円形状を有する。配線部3は、外周面である配線周面46を有する。   Specifically, the wiring portion 3 has a substantially circular shape when cut in a cross section orthogonal to the direction of transmitting current (transmission direction) (the depth direction on the paper). The wiring part 3 has a wiring peripheral surface 46 that is an outer peripheral surface.

配線部3の半径は、例えば、25μm以上、好ましくは、50μm以上であり、また、例えば、2000μm以下、好ましくは、200μm以下である。   The radius of the wiring part 3 is, for example, 25 μm or more, preferably 50 μm or more, and, for example, 2000 μm or less, preferably 200 μm or less.

第2絶縁層4は、配線部3の配線周面37を被覆している。第2絶縁層4は、第1周面37に沿う均一な厚みで形成されており、具体的には、断面略円環形状を有する。第2絶縁層4は、配線部3の配線周面46に接触する内周面と、外周面である絶縁周面47とを有する。絶縁周面47の厚み方向他端縁は、第1絶縁層2の第1絶縁面7に接触している。   The second insulating layer 4 covers the wiring peripheral surface 37 of the wiring part 3. The second insulating layer 4 is formed with a uniform thickness along the first peripheral surface 37, and specifically has a substantially annular shape in cross section. The second insulating layer 4 has an inner peripheral surface that contacts the wiring peripheral surface 46 of the wiring part 3 and an insulating peripheral surface 47 that is an outer peripheral surface. The other edge in the thickness direction of the insulating peripheral surface 47 is in contact with the first insulating surface 7 of the first insulating layer 2.

第2絶縁層4の厚みTは、内周面および絶縁周面47の距離であって、一実施形態で開示した通りである。   The thickness T of the second insulating layer 4 is the distance between the inner peripheral surface and the insulating peripheral surface 47, as disclosed in the embodiment.

磁性層5は、配線部3の配線周面46を、第2絶縁層4を介して被覆している。   The magnetic layer 5 covers the wiring peripheral surface 46 of the wiring part 3 via the second insulating layer 4.

磁性層5において、磁性粒子18は、第2絶縁層4の近傍においては、配線部3の配線周面46、具体的には、第2絶縁層4の絶縁周面47に沿って配向している。なお、第2絶縁層4の近傍領域は、例えば、配線部3の半径の1.5倍以内の領域と定義される。   In the magnetic layer 5, the magnetic particles 18 are oriented along the wiring peripheral surface 46 of the wiring part 3, specifically, the insulating peripheral surface 47 of the second insulating layer 4 in the vicinity of the second insulating layer 4. Yes. The region near the second insulating layer 4 is defined as a region within 1.5 times the radius of the wiring part 3, for example.

図8Aに示すように、この磁性配線回路基板1を製造するには、まず、第1絶縁層2を準備する。別途、配線部3および第2絶縁層4を準備する。配線部3および第2絶縁層4は、市販のエナメル線として準備することができる。   As shown in FIG. 8A, in order to manufacture the magnetic wiring circuit board 1, first, the first insulating layer 2 is prepared. Separately, the wiring part 3 and the second insulating layer 4 are prepared. The wiring part 3 and the 2nd insulating layer 4 can be prepared as a commercially available enameled wire.

次いで、図8Bに示すように、第2絶縁層4の厚み方向他端縁を、第1絶縁層2の第1絶縁面7に配置する。これにより、第1工程および第2工程が同時に実施される。   Next, as shown in FIG. 8B, the other end in the thickness direction of the second insulating layer 4 is arranged on the first insulating surface 7 of the first insulating layer 2. Thereby, a 1st process and a 2nd process are implemented simultaneously.

その後、磁性シート17を、第1絶縁層2、配線部3および第2絶縁層4に対して熱プレスする(第3工程の実施)。   Then, the magnetic sheet 17 is hot-pressed with respect to the 1st insulating layer 2, the wiring part 3, and the 2nd insulating layer 4 (implementation of a 3rd process).

これにより、第2絶縁層4において、第2絶縁層4の近傍領域において、磁性粒子18が、配線部3の配線周面46、具体的には、第2絶縁層4の絶縁周面47に沿って配向する。   Thereby, in the second insulating layer 4, the magnetic particles 18 are formed on the wiring peripheral surface 46 of the wiring part 3, specifically, the insulating peripheral surface 47 of the second insulating layer 4 in the vicinity of the second insulating layer 4. Orient along.

これにより、第1絶縁層2、配線部3、第2絶縁層4および磁性層5を備える磁性配線回路基板1を得る。   Thereby, the magnetic wiring circuit board 1 including the first insulating layer 2, the wiring part 3, the second insulating layer 4, and the magnetic layer 5 is obtained.

そして、この磁性配線回路基板1では、配線部3(第2絶縁層4)の周囲(近傍領域)における磁性層5において、磁性粒子18は、配線周面46、具体的には、絶縁周面47に沿う滑らかな磁路を形成することができる。従って、配線部3の周囲の実効透磁率を向上させることができる。その結果、この磁性配線回路基板1は、高いインダクタンスを有する。   In the magnetic wiring circuit board 1, the magnetic particles 18 in the magnetic layer 5 around (in the vicinity of) the wiring portion 3 (second insulating layer 4) are the wiring peripheral surface 46, specifically, the insulating peripheral surface. A smooth magnetic path along 47 can be formed. Therefore, the effective magnetic permeability around the wiring part 3 can be improved. As a result, this magnetic wired circuit board 1 has a high inductance.

また、磁性配線回路基板1の製造方法では、第3工程では、配線部3(第2絶縁層4)の周囲(近傍領域)における磁性層5において、磁性粒子18は、配線部3の略湾曲形状に沿う滑らかな磁路を形成することができる。従って、配線部3の周囲の実効透磁率を向上させることができる。その結果、高いインダクタンスを有する磁性配線回路基板1を製造することができる。   In the method for manufacturing the magnetic wiring circuit board 1, in the third step, the magnetic particles 18 are substantially curved in the wiring portion 3 in the magnetic layer 5 around (in the vicinity of) the wiring portion 3 (second insulating layer 4). A smooth magnetic path along the shape can be formed. Therefore, the effective magnetic permeability around the wiring part 3 can be improved. As a result, the magnetic wiring circuit board 1 having a high inductance can be manufactured.

なお、磁性層5における磁性粒子18の割合は、磁性層5において一様でもよく、また、各配線部3から離れるに従って、高くなってもよく、あるいは、低くなってもよい。   The ratio of the magnetic particles 18 in the magnetic layer 5 may be uniform in the magnetic layer 5, and may increase or decrease as the distance from the wiring portions 3 increases.

なお、図8A〜図8Cに示す変形例では、配線部3は、断面略円形状を有するが、断面視において、略湾曲形状を有すれば、特に限定されず、例えば、図示しないが、略湾曲形状の角部を少なくとも1つ有する略矩形状、略台形状であってもよい。この変形例において、絶縁層4は、図示しないが、配線部3の配線周面46全面を被覆する。   8A to 8C, the wiring portion 3 has a substantially circular cross section, but is not particularly limited as long as it has a substantially curved shape in cross-sectional view. For example, although not illustrated, It may be substantially rectangular or substantially trapezoidal with at least one curved corner. In this modification, the insulating layer 4 covers the entire surface of the wiring peripheral surface 46 of the wiring part 3 although not shown.

1 磁性配線回路基板(配線回路基板の一例)
2 第1絶縁層
3 配線部(配線の一例)
4 第2絶縁層
5 磁性層(粒子含有層の一例)
7 第1絶縁面
9 第1配線面
10 第2配線面
11 配線側面
16 露出面
17 磁性シート(粒子含有シートの一例)
18 磁性粒子
21 第1角部
22 第2角部
24 傾斜面
25 尖り部
27 テーパ面
30 めっき層
31 第1被覆部
36 配線基部
46 配線周面
47 絶縁周面
T 第2絶縁層の厚み(平均厚み)
1 Magnetic circuit board (an example of a circuit board)
2 1st insulating layer 3 Wiring part (an example of wiring)
4 Second insulating layer 5 Magnetic layer (an example of a particle-containing layer)
7 First insulating surface 9 First wiring surface 10 Second wiring surface 11 Wiring side surface 16 Exposed surface 17 Magnetic sheet (an example of a particle-containing sheet)
18 Magnetic particle 21 First corner portion 22 Second corner portion 24 Inclined surface 25 Sharp portion 27 Tapered surface 30 Plating layer 31 First covering portion 36 Wiring base portion 46 Wiring peripheral surface 47 Insulating peripheral surface T Thickness of second insulating layer (average) Thickness)

Claims (13)

第1絶縁層と、
前記第1絶縁層の厚み方向一方面に配置される配線と、
前記配線を被覆する第2絶縁層と、
アスペクト比が2以上である形状を有する導電性粒子を含有しており、前記第2絶縁層を介して、前記配線を被覆する粒子含有層とを備え、
前記配線が、略湾曲形状を有することを特徴とする、配線回路基板。
A first insulating layer;
Wiring disposed on one surface in the thickness direction of the first insulating layer;
A second insulating layer covering the wiring;
Containing conductive particles having a shape with an aspect ratio of 2 or more, and comprising a particle-containing layer covering the wiring via the second insulating layer;
The printed circuit board, wherein the wiring has a substantially curved shape.
前記導電性粒子が、磁性粒子であり、
前記粒子含有層が、磁性層であり、
磁性配線回路基板であることを特徴とする、請求項1に記載の配線回路基板。
The conductive particles are magnetic particles;
The particle-containing layer is a magnetic layer;
The wired circuit board according to claim 1, wherein the printed circuit board is a magnetic wired circuit board.
前記第2絶縁層が、電着層であることを特徴とする、請求項2に記載の配線回路基板。   The printed circuit board according to claim 2, wherein the second insulating layer is an electrodeposited layer. 前記第2絶縁層の平均厚みTが、10μm以下であることを特徴とする、請求項2または3に記載の配線回路基板。   4. The printed circuit board according to claim 2, wherein an average thickness T of the second insulating layer is 10 μm or less. 5. 前記配線は、前記第1絶縁層の前記厚み方向一方面に間隔を隔てて対向配置される厚み方向一方面と、前記第1絶縁層の前記厚み方向一方面に接触する厚み方向他方面と、前記厚み方向一方面および前記厚み方向他方面の両端縁を連結する側面とを有し、
前記第2絶縁層は、前記厚み方向一方面および前記側面を被覆しており、
前記配線が、前記厚み方向一方面および前記側面によって形成される角部を有し、
前記角部が、略湾曲形状を有することを特徴とする、請求項2〜4のいずれか一項に記載の配線回路基板。
The wiring includes a thickness direction one surface disposed to be opposed to the one surface in the thickness direction of the first insulating layer with a space therebetween, a thickness direction other surface in contact with the one thickness direction surface of the first insulating layer, A side surface connecting both edges of the one surface in the thickness direction and the other surface in the thickness direction;
The second insulating layer covers the one surface in the thickness direction and the side surface,
The wiring has a corner formed by the one side surface and the side surface in the thickness direction;
The wired circuit board according to claim 2, wherein the corner portion has a substantially curved shape.
前記角部の曲率半径Rが、9μm以上であることを特徴とする、請求項5に記載の配線回路基板。   6. The printed circuit board according to claim 5, wherein a radius of curvature R of the corner is 9 [mu] m or more. 前記磁性層は、前記第1絶縁層において前記第2絶縁層から露出する前記厚み方向一方面を被覆しており、
前記配線は、前記厚み方向他方面および前記側面によって形成される第2角部を有し、
前記第2角部が、互いに向かい合う2つの前記側面間の長さが前記厚み方向他方側に近づくに従って長くなる部分を有することを特徴とする、請求項5または6に記載の配線回路基板。
The magnetic layer covers the one surface in the thickness direction exposed from the second insulating layer in the first insulating layer,
The wiring has a second corner formed by the other surface in the thickness direction and the side surface,
7. The printed circuit board according to claim 5, wherein the second corner portion has a portion in which a length between the two side surfaces facing each other becomes longer as approaching the other side in the thickness direction. 8.
前記配線は、略円形状を有し、
前記第2絶縁層が、前記配線の周面を被覆し、
前記粒子含有層が、前記第2絶縁層を介して、前記配線の前記周面を被覆することを特徴とする、請求項2〜4のいずれか一項に記載の配線回路基板。
The wiring has a substantially circular shape,
The second insulating layer covers a peripheral surface of the wiring;
5. The printed circuit board according to claim 2, wherein the particle-containing layer covers the peripheral surface of the wiring via the second insulating layer. 6.
第1絶縁層と、前記第1絶縁層の厚み方向一方面に配置される配線とを準備する第1工程と、
第2絶縁層により前記配線を被覆する第2工程と、
前記第2絶縁層を介して、前記配線を被覆し、アスペクト比が2以上である形状を有する導電性粒子を含有する粒子含有層を形成する第3工程とを備え、
前記配線は、略湾曲形状を形成し、
前記第2工程では、前記厚み方向に直交する方向に配向される前記導電性粒子を含有する粒子含有シートを、前記第2絶縁層に対して熱プレスすることを特徴とする、配線回路基板の製造方法。
A first step of preparing a first insulating layer and a wiring disposed on one surface in the thickness direction of the first insulating layer;
A second step of covering the wiring with a second insulating layer;
And a third step of forming a particle-containing layer containing conductive particles having a shape with an aspect ratio of 2 or more, covering the wiring via the second insulating layer,
The wiring forms a substantially curved shape,
In the second step, the particle-containing sheet containing the conductive particles oriented in a direction orthogonal to the thickness direction is hot-pressed on the second insulating layer. Production method.
前記導電性粒子が、磁性粒子であり、
前記粒子含有層が、磁性層であり、
粒子含有シートが、磁性シートであり、
磁性配線回路基板の製造方法であることを特徴とする、請求項9に記載の配線回路基板の製造方法。
The conductive particles are magnetic particles;
The particle-containing layer is a magnetic layer;
The particle-containing sheet is a magnetic sheet,
The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 9, wherein the method is a method for manufacturing a magnetic printed circuit board.
前記第1工程における前記配線は、前記第1絶縁層の前記厚み方向一方面に間隔を隔てて対向配置される厚み方向一方面と、前記第1絶縁層の前記厚み方向一方面に接触する厚み方向他方面と、前記厚み方向一方面および前記厚み方向他方面の両端縁を連結する側面とを有しており、さらに、前記厚み方向一方面および前記側面に、略湾曲形状の角部が形成され、
前記第2工程では、前記絶縁層により、前記配線の前記厚み方向一方面および前記側面を被覆し、
前記第3工程では、前記第2絶縁層を介して、前記配線の前記厚み方向一方面および前記側面を被覆する粒子含有層を形成することを特徴とする、請求項10に記載の配線回路基板の製造方法。
The wiring in the first step has a thickness in contact with the one surface in the thickness direction of the first insulating layer and the one surface in the thickness direction of the first insulating layer facing each other with a space therebetween. The other side surface in the thickness direction, and the side surface connecting the both end edges of the one surface in the thickness direction and the other surface in the thickness direction, and corner portions having a substantially curved shape are formed on the one surface in the thickness direction and the side surface. And
In the second step, the insulating layer covers the one surface in the thickness direction and the side surface of the wiring,
11. The wired circuit board according to claim 10, wherein in the third step, a particle-containing layer that covers the one surface in the thickness direction and the side surface of the wiring is formed via the second insulating layer. Manufacturing method.
前記第1工程は、
サブトラクティブ法により、厚み方向一方面および側面によって形成される尖り部を有する配線基部を形成する第4工程、および、
めっきにより、前記配線基部を被覆するめっき層であって、前記尖り部を被覆する被覆部を有する前記めっき層を形成することにより、前記角部を、前記被覆部から略湾曲形状に形成する第5工程
を備えることを特徴とする、請求項11に記載の配線回路基板の製造方法。
The first step includes
A fourth step of forming a wiring base having a pointed portion formed by one surface and a side surface in the thickness direction by a subtractive method; and
By forming the plating layer covering the wiring base by plating and having the covering portion covering the sharp portion, the corner portion is formed in a substantially curved shape from the covering portion. The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 11, comprising five steps.
前記第1工程における前記配線は、略円形状を有し、
前記第2工程では、前記絶縁層により、前記配線の周面を被覆し、
前記第3工程では、前記第2絶縁層を介して、前記配線の前記周面を被覆する粒子含有層を形成することを特徴とする、請求項10に記載の配線回路基板の製造方法。
The wiring in the first step has a substantially circular shape,
In the second step, the insulating layer covers a peripheral surface of the wiring,
The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 10, wherein in the third step, a particle-containing layer that covers the peripheral surface of the wiring is formed via the second insulating layer.
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