JP2019164293A - Image display device, copolymer solution, and film material - Google Patents

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Abstract

To provide an image display device that includes a shock absorption layer excellent in shock resistance and heat resistance, and a copolymer solution and a film material that can form such a shock absorption layer.SOLUTION: An image display device 10 comprises: an image display member 13; and a shock absorption layer 11 that is arranged on one side or both sides of the image display member 13. The shock absorption layer 11 contains copolymers containing 50 to 90 parts by mass of a monomer unit derived from alkyl (meth)acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, 5 to 30 parts by mass of a monomer unit derived from (meth)acrylate having a hydroxyl group, and 5 to 30 parts by mass of a monomer unit derived from a siloxane compound having an ethylenically unsaturated group. The weight average molecular weight of the copolymers is 300,000 to 1,500,000, and the glass transition point of the copolymers is -75 to -45°C. The copolymers may be crosslinked with each other.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、画像表示装置、共重合体溶液、及びフィルム材に関する。   The present invention relates to an image display device, a copolymer solution, and a film material.

有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)、液晶等の画像表示装置は、画像表示部材、画像表示部材から放出される光の特性を向上させる機能向上部材、画像表示部材を酸素、湿気等から保護するためのバリア部材、これらの部材を固定する固定部材などの複数の部材を積層することによって構成されている(例えば、特許文献1参照)。   Image display devices such as organic electroluminescence (organic EL) and liquid crystal are used for protecting an image display member, a function improving member that improves the characteristics of light emitted from the image display member, and protecting the image display member from oxygen, moisture, and the like. It is constituted by laminating a plurality of members such as a barrier member and a fixing member for fixing these members (for example, see Patent Document 1).

特開2017−120758号公報JP 2017-120758 A

近年、画像表示装置の軽量化、薄型化又はフレキシブル化が検討されている。しかし、このような検討に伴い、各部材の強度は低下する傾向にある。例えば、画像表示装置に対して、外部応力、画像表示装置組立時の圧力等の衝撃が加わると、画像表示部材、バリア部材等が損傷してしまう場合がある。そのため、画像表示装置には、固定部材としても作用し得る衝撃吸収層を導入することが検討されている。衝撃吸収層には、固定部材としての接着性の観点から、高温環境下において、浮き、剥がれ、発泡等が発生しないことも同時に求められる。   In recent years, reduction in weight, thickness, or flexibility of image display devices has been studied. However, with such a study, the strength of each member tends to decrease. For example, when an impact such as external stress or pressure during assembly of the image display device is applied to the image display device, the image display member, the barrier member, or the like may be damaged. Therefore, it has been studied to introduce an impact absorbing layer that can also act as a fixing member in the image display device. From the viewpoint of adhesiveness as a fixing member, the shock absorbing layer is also required to be free from floating, peeling off, foaming and the like in a high temperature environment.

本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、耐衝撃性及び耐熱性に優れる衝撃吸収層を備える画像表示装置、並びにこのような衝撃吸収層を形成することが可能な共重合体溶液及びフィルム材を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and an image display device provided with an impact absorption layer excellent in impact resistance and heat resistance, and a common weight capable of forming such an impact absorption layer. It aims at providing a united solution and a film material.

本発明の一側面は、画像表示部材と、画像表示部材の片側又は両側に配置された衝撃吸収層と、を備え、衝撃吸収層が、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する単量体単位50〜90質量部、水酸基を有する(メタ)アクリレートに由来する単量体単位5〜30質量部、及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位5〜30質量部を含む共重合体を含有し、共重合体の重量平均分子量が300,000〜1,500,000であり、共重合体のガラス転移点が−75〜−45℃であり、共重合体が互いに架橋されていてもよい、画像表示装置を提供する。   One aspect of the present invention includes an image display member and an impact absorption layer disposed on one side or both sides of the image display member, and the impact absorption layer has an alkyl (meth) having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms. 50 to 90 parts by mass of monomer units derived from acrylate, 5 to 30 parts by mass of monomer units derived from (meth) acrylate having a hydroxyl group, and monomers derived from a siloxane compound having an ethylenically unsaturated group A copolymer containing 5 to 30 parts by mass of the unit is contained, the weight average molecular weight of the copolymer is 300,000 to 1,500,000, and the glass transition point of the copolymer is −75 to −45 ° C. There is provided an image display device in which the copolymers may be cross-linked with each other.

別の側面において、本発明は、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する単量体単位50〜90質量部、水酸基を有する(メタ)アクリレートに由来する単量体単位5〜30質量部、及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位5〜30質量部を含む共重合体と、有機溶剤と、を含有し、共重合体の重量平均分子量が300,000〜1,500,000であり、共重合体のガラス転移点が−75〜−45℃であり、画像表示装置の衝撃吸収層を形成するために用いられる、共重合体溶液を提供する。   In another aspect, the present invention provides a monomer unit derived from 50 to 90 parts by mass of a monomer unit derived from an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms and a (meth) acrylate having a hydroxyl group. A copolymer containing 5 to 30 parts by mass of a unit and 5 to 30 parts by mass of a monomer unit derived from a siloxane compound having an ethylenically unsaturated group, and an organic solvent, and a weight average of the copolymer Copolymer solution having a molecular weight of 300,000 to 1,500,000, a glass transition point of the copolymer of −75 to −45 ° C., and used for forming a shock absorbing layer of an image display device I will provide a.

本発明は、上記共重合体溶液の、画像表示装置の衝撃吸収層を製造するための応用、及び画像表示装置を製造するための応用に関してもよい。   The present invention may relate to an application of the copolymer solution for producing a shock absorbing layer of an image display device and an application for producing an image display device.

別の側面において、本発明は、基材と、基材上に配置された樹脂層と、を備え、樹脂層が画像表示装置の衝撃吸収層を形成するために用いられる、フィルム材であって、樹脂層が、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する単量体単位50〜90質量部、水酸基を有する(メタ)アクリレートに由来する単量体単位5〜30質量部、及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位5〜30質量部を含む共重合体を含有し、共重合体の重量平均分子量が300,000〜1,500,000であり、共重合体のガラス転移点が−75〜−45℃であり、共重合体が互いに架橋されていてもよい、フィルム材を提供する。樹脂層のヘーズは5%以下であってよい。   In another aspect, the present invention is a film material comprising a base material and a resin layer disposed on the base material, wherein the resin layer is used to form an impact absorbing layer of an image display device. , 50 to 90 parts by mass of a monomer unit derived from an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, 5 to 30 monomer units derived from a (meth) acrylate having a hydroxyl group Containing a copolymer containing 5 to 30 parts by mass of a monomer unit derived from a siloxane compound having an ethylenically unsaturated group, and having a weight average molecular weight of 300,000 to 1,500, And a glass transition point of the copolymer is −75 to −45 ° C., and the copolymer may be crosslinked with each other. The haze of the resin layer may be 5% or less.

本発明によれば、耐衝撃性及び耐熱性に優れる衝撃吸収層を備える画像表示装置、並びにこのような衝撃吸収層を形成することが可能な共重合体溶液及びフィルム材が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the image display apparatus provided with the impact-absorbing layer excellent in impact resistance and heat resistance, and the copolymer solution and film material which can form such an impact-absorbing layer are provided.

画像表示装置の一実施形態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically one Embodiment of an image display apparatus. フィルム材の一実施形態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically one Embodiment of a film material. 加速度減衰率の測定装置の一例を模式的に示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the measuring apparatus of an acceleration decay rate typically. 耐衝撃性の評価装置の一例を模式的に示す概略図である。It is the schematic which shows an example of an impact resistance evaluation apparatus typically.

以下、図面を適宜参照しながら、本発明の実施形態について説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings as appropriate. However, the present invention is not limited to the following embodiments.

本明細書において、(メタ)アクリレートは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味する。(メタ)アクリロイル基等の他の類似表現についても同様である。   In this specification, (meth) acrylate means an acrylate or a corresponding methacrylate. The same applies to other similar expressions such as a (meth) acryloyl group.

<画像表示装置>
一実施形態に係る画像表示装置は、画像表示部材と、画像表示部材の片側又は両側に配置された衝撃吸収層と、を備える。図1は、画像表示装置の一実施形態を模式的に示す断面図である。図1に示す画像表示装置10は、基板12、衝撃吸収層11、画像表示部材13、機能向上部材14、及びバリア部材15をこの順に備える。画像表示装置10は、基板12、画像表示部材13、衝撃吸収層11、機能向上部材14、及びバリア部材15をこの順に備えるものであってもよい。衝撃吸収層11は、基板12の画像表示部材13の反対側、機能向上部材14とバリア部材15との間、又はバリア部材15の機能向上部材14とは反対側のいずれかにさらに配置されていてもよい。
<Image display device>
An image display device according to an embodiment includes an image display member and a shock absorbing layer disposed on one side or both sides of the image display member. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an embodiment of an image display device. The image display device 10 illustrated in FIG. 1 includes a substrate 12, a shock absorbing layer 11, an image display member 13, a function improving member 14, and a barrier member 15 in this order. The image display device 10 may include the substrate 12, the image display member 13, the shock absorbing layer 11, the function improving member 14, and the barrier member 15 in this order. The shock absorbing layer 11 is further disposed on the opposite side of the image display member 13 of the substrate 12, between the function improving member 14 and the barrier member 15, or on the opposite side of the barrier member 15 from the function improving member 14. May be.

画像表示装置10は、特に制限されないが、液晶装置、有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)装置等であってよい。画像表示装置10は、有機EL装置であることが好ましい。   The image display device 10 is not particularly limited, but may be a liquid crystal device, an organic electroluminescence (organic EL) device, or the like. The image display device 10 is preferably an organic EL device.

基板12は、ガラス基板、金属基板、樹脂基板等であってよい。基板12は、フレキシブル基板であってよく、薄型ガラス基板であってもよい。   The substrate 12 may be a glass substrate, a metal substrate, a resin substrate, or the like. The substrate 12 may be a flexible substrate or a thin glass substrate.

画像表示部材13は、一実施形態において、画素電極、有機発光層を含む中間層、及び対向電極をこの順に備える有機EL発光素子であってよい。画素電極は、反射電極であってよい。対向電極は、透明電極であってよい。中間層は、有機発光層を含み、有機発光層以外に、正孔注入層(HIL)、正孔輸送層(HTL)、電子輸送層(ETL)、電子注入層(EIL)等を含んでいてもよい。   In one embodiment, the image display member 13 may be an organic EL light emitting element including a pixel electrode, an intermediate layer including an organic light emitting layer, and a counter electrode in this order. The pixel electrode may be a reflective electrode. The counter electrode may be a transparent electrode. The intermediate layer includes an organic light emitting layer. In addition to the organic light emitting layer, the intermediate layer includes a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), an electron transport layer (ETL), an electron injection layer (EIL), and the like. Also good.

機能向上部材14は、画像表示部材13から放出される光の特性を向上させる機能を有する層であり、有機EL分野で一般的に使用されているものを使用することができる。   The function improving member 14 is a layer having a function of improving the characteristics of the light emitted from the image display member 13, and those generally used in the organic EL field can be used.

バリア部材15は、酸素、湿気等から保護するための封止層であり、有機EL分野で一般的に使用されているものを使用することができる。   The barrier member 15 is a sealing layer for protecting from oxygen, moisture, and the like, and those generally used in the organic EL field can be used.

衝撃吸収層11は、後述の特定の共重合体を含有する。衝撃吸収層11が特定の共重合体を含有することによって、柔軟性及び強靭性を付与することができ、高い耐衝撃性を有することが可能となる。共重合体は、互いに架橋されていてもよい。すなわち、共重合体は、共重合体と共重合体とが直接又は架橋剤を介して架橋されていてもよい。本明細書において、「共重合体が互いに架橋されている」とは、2以上の共重合体同士が直接又は架橋剤を介して架橋されていることを意味する。衝撃吸収層11は、後述の共重合体溶液又はフィルム材から形成することができる。   The shock absorbing layer 11 contains a specific copolymer described later. When the shock absorbing layer 11 contains a specific copolymer, flexibility and toughness can be imparted, and high impact resistance can be achieved. The copolymers may be cross-linked with each other. That is, in the copolymer, the copolymer and the copolymer may be crosslinked directly or via a crosslinking agent. In the present specification, “copolymers are cross-linked to each other” means that two or more copolymers are cross-linked directly or via a cross-linking agent. The shock absorbing layer 11 can be formed from a copolymer solution or a film material described later.

<共重合体溶液>
一実施形態に係る共重合体溶液は、特定の共重合体と、有機溶剤と、を含有し、画像表示装置の衝撃吸収層を形成するために用いられる。
<Copolymer solution>
The copolymer solution according to one embodiment contains a specific copolymer and an organic solvent, and is used for forming a shock absorbing layer of an image display device.

共重合体は、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート(以下、「単量体(A)」という場合がある。)に由来する単量体単位50〜90質量部、水酸基を有する(メタ)アクリレート(以下、「単量体(B)」という場合がある。)に由来する単量体単位5〜30質量部、及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物(以下、「単量体(C)」という場合がある。)に由来する単量体単位5〜30質量部を含む。このような共重合体は、各単量体単位の含有割合と同じ含有割合の単量体混合物を共重合させることによって得ることができる。重合率は、実質的に100質量%に近いことがより好ましい。   The copolymer is 50 to 90 parts by mass of monomer units derived from an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (hereinafter sometimes referred to as “monomer (A)”). 5-30 parts by mass of a monomer unit derived from a (meth) acrylate having a hydroxyl group (hereinafter sometimes referred to as “monomer (B)”), and a siloxane compound having an ethylenically unsaturated group (hereinafter, referred to as “monomer (B)”). 5 to 30 parts by mass of a monomer unit derived from “sometimes referred to as“ monomer (C) ”). Such a copolymer can be obtained by copolymerizing a monomer mixture having the same content ratio as each monomer unit. It is more preferable that the polymerization rate is substantially close to 100% by mass.

単量体(A)は、炭素数1〜18の直鎖状、分岐状、又は環状のアルキル基と1つの(メタ)アクリロイル基とを有する化合物である。単量体(A)としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、n−ペンチル(メタ)アクリレート、n−ヘキシル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。単量体(A)は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。単量体(A)は、炭素数1〜18の直鎖状又は分岐状のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートを含むことが好ましく、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、又はn−オクチル(メタ)アクリレートを含むことがより好ましく、n−ブチル(メタ)アクリレート又は2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートを含むことがさらに好ましい。また、単量体(A)は、アルキルメタクリレートよりもアルキルアクリレートの方が好ましい。   The monomer (A) is a compound having a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 18 carbon atoms and one (meth) acryloyl group. Examples of the monomer (A) include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, and n-pentyl (meta ) Acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate Cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, and the like. A monomer (A) may be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. The monomer (A) preferably contains an alkyl (meth) acrylate having a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, n-butyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, More preferably, 2-ethylhexyl (meth) acrylate or n-octyl (meth) acrylate is included, and more preferably n-butyl (meth) acrylate or 2-ethylhexyl (meth) acrylate is included. The monomer (A) is preferably an alkyl acrylate rather than an alkyl methacrylate.

単量体(A)に由来する単量体単位の含有量は、共重合体の全単量体単位100質量部に対して、50〜90質量部であり、好ましくは60〜90質量部、より好ましくは65〜85質量部である。単量体(A)に由来する単量体単位の含有量がこのような範囲にあると、樹脂層を形成したときに、樹脂層と基材との密着性をより向上させることができる傾向にある。   The content of the monomer unit derived from the monomer (A) is 50 to 90 parts by mass, preferably 60 to 90 parts by mass with respect to 100 parts by mass of all monomer units of the copolymer. More preferably, it is 65-85 mass parts. When the content of the monomer unit derived from the monomer (A) is in such a range, when the resin layer is formed, the adhesion between the resin layer and the substrate tends to be further improved. It is in.

単量体(B)は、水酸基と1つの(メタ)アクリロイル基とを有する化合物である。単量体(B)としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、1−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、1−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、1−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。単量体(B)は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。単量体(B)は、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを含むことが好ましく、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートを含むことがより好ましい。   The monomer (B) is a compound having a hydroxyl group and one (meth) acryloyl group. Examples of the monomer (B) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 1-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 1-hydroxy. Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as propyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 1-hydroxybutyl (meth) acrylate, etc. Is mentioned. A monomer (B) may be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. The monomer (B) preferably contains hydroxyalkyl (meth) acrylate, and more preferably contains 2-hydroxyethyl (meth) acrylate.

単量体(B)に由来する単量体単位の含有量は、共重合体の全単量体単位100質量部に対して、5〜30質量部であり、好ましくは10〜25質量部である。単量体(B)に由来する単量体単位の含有量がこのような範囲にあると、湿熱による白化をより抑制し、凝集性をより向上させることができる傾向にある。   The content of the monomer unit derived from the monomer (B) is 5 to 30 parts by mass, preferably 10 to 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass of all monomer units of the copolymer. is there. When the content of the monomer unit derived from the monomer (B) is in such a range, whitening due to wet heat tends to be further suppressed, and the cohesiveness tends to be further improved.

単量体(C)は、例えば、(メタ)アクリロイル基、スチリル基、ケイ皮酸エステル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和基を有し、かつシロキサン構造を有する化合物である。単量体(C)としては、例えば、下記一般式(a)又は(b)で表される化合物等が挙げられる。単量体(C)は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。   A monomer (C) is a compound which has ethylenically unsaturated groups, such as a (meth) acryloyl group, a styryl group, a cinnamic acid ester group, a vinyl group, an allyl group, and has a siloxane structure, for example. Examples of the monomer (C) include compounds represented by the following general formula (a) or (b). A monomer (C) may be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

Figure 2019164293
Figure 2019164293

式(a)中、Rは水素原子又はメチル基を示し、R、R、R、R、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Rは1価の炭化水素基を示し、Lは酸素原子が介在してもよい2価の炭化水素基又は単結合を示し、mは1以上の整数を示す。 In formula (a), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 8 represents 1 Represents a divalent hydrocarbon group, L 1 represents a divalent hydrocarbon group or a single bond in which an oxygen atom may be interposed, and m represents an integer of 1 or more.

Figure 2019164293
Figure 2019164293

式(b)中、Rは水素原子又はメチル基を示し、R、R、R、R、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、L及びLはそれぞれ独立に酸素原子が介在してもよい2価の炭化水素基又は単結合を示し、nは1以上の整数を示す。 In formula (b), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and L 1 and L 2 independently represents a divalent hydrocarbon group or a single bond in which an oxygen atom may intervene, and n represents an integer of 1 or more.

1価の炭化水素基としては、例えば、炭素数1〜6のアルキル基又はフェニル基が挙げられる。2価の炭化水素基としては、例えば、炭素数1〜20のアルキレン基が挙げられる。   Examples of the monovalent hydrocarbon group include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group. As a bivalent hydrocarbon group, a C1-C20 alkylene group is mentioned, for example.

単量体(C)に由来する単量体単位の含有量は、共重合体の全単量体単位100質量部に対して、5〜30質量部であり、好ましくは5〜20質量部、より好ましくは5〜15質量部である。単量体(C)に由来する単量体単位の含有量がこのような範囲にあると、得られる樹脂層の柔軟性及び強靭性を向上させることができ、より高い耐衝撃性を得ることができる傾向にある。   The content of the monomer unit derived from the monomer (C) is 5 to 30 parts by mass, preferably 5 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total monomer units of the copolymer. More preferably, it is 5-15 mass parts. When the content of the monomer unit derived from the monomer (C) is in such a range, the flexibility and toughness of the resulting resin layer can be improved, and higher impact resistance can be obtained. There is a tendency to be able to.

共重合体は、本発明の奏する効果を著しく損なわない範囲であれば、単量体(A)、単量体(B)、及び単量体(C)に由来する単量体単位以外のその他の単量体に由来する単量体単位をさらに含んでいてもよい。その他の単量体としては、例えば、単量体(A)、単量体(B)、及び単量体(C)以外の(メタ)アクリロイル基を1つ有する化合物、(メタ)アクリロイル基以外の重合性基を有する化合物等が挙げられる。(メタ)アクリロイル基を1つ有する化合物としては、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミド誘導体、アルキレングリコール鎖を有する(メタ)アクリレート、芳香環を有する(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルモルホリン、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソシアネート基を有する(メタ)アクリレートが挙げられる。(メタ)アクリロイル基以外の重合性基を有する化合物としては、例えば、アクリロニトリル、スチレン、酢酸ビニル、エチレン、プロピレン、ジビニルベンゼン等が挙げられる。   As long as the copolymer does not significantly impair the effects of the present invention, other than the monomer unit derived from the monomer (A), the monomer (B), and the monomer (C) The monomer unit derived from the monomer may further be included. Examples of other monomers include compounds having one (meth) acryloyl group other than monomer (A), monomer (B), and monomer (C), and other than (meth) acryloyl groups And a compound having a polymerizable group. Examples of the compound having one (meth) acryloyl group include (meth) acrylic acid, (meth) acrylamide, (meth) acrylamide derivatives, (meth) acrylate having an alkylene glycol chain, and (meth) acrylate having an aromatic ring. , (Meth) acryloylmorpholine, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, and (meth) acrylate having an isocyanate group. Examples of the compound having a polymerizable group other than the (meth) acryloyl group include acrylonitrile, styrene, vinyl acetate, ethylene, propylene, and divinylbenzene.

(メタ)アクリルアミド誘導体としては、例えば、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。アルキレングリコール鎖を有する(メタ)アクリレートとしては、例えば、ジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート等のポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート;ジプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート等のポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート;ジブチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリブチレングリコールモノ(メタ)アクリレート等のポリブチレングリコールモノ(メタ)アクリレート;メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシヘキサエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシオクタエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシノナエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシヘプタプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、ブトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、ブトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート等のアルコキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートなどが挙げられる。芳香環を有する(メタ)アクリレートとしては、例えば、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。イソシアネート基を有する(メタ)アクリレートとしては、例えば、2−(2−メタクリロイルオキシエチルオキシ)エチルイソシアネート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート等が挙げられる。   Examples of (meth) acrylamide derivatives include N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, and N-isopropyl (meth). Examples include acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, and N-hydroxyethyl (meth) acrylamide. Examples of the (meth) acrylate having an alkylene glycol chain include polyethylene such as diethylene glycol mono (meth) acrylate, triethylene glycol mono (meth) acrylate, tetraethylene glycol mono (meth) acrylate, and hexaethylene glycol mono (meth) acrylate. Glycol mono (meth) acrylate; Polypropylene glycol mono (meth) acrylate such as dipropylene glycol mono (meth) acrylate, tripropylene glycol mono (meth) acrylate, octapropylene glycol mono (meth) acrylate; Dibutylene glycol mono (meth) Polybutylene glycol mono (meth) acrylates such as acrylate and tributylene glycol mono (meth) acrylate; methoxy Liethylene glycol (meth) acrylate, methoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, methoxyhexaethylene glycol (meth) acrylate, methoxyoctaethylene glycol (meth) acrylate, methoxynonaethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate And alkoxy polyalkylene glycol (meth) acrylates such as methoxyheptapropylene glycol (meth) acrylate, ethoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, butoxyethylene glycol (meth) acrylate, and butoxydiethylene glycol (meth) acrylate. Examples of the (meth) acrylate having an aromatic ring include benzyl (meth) acrylate and phenoxyethyl (meth) acrylate. Examples of the (meth) acrylate having an isocyanate group include 2- (2-methacryloyloxyethyloxy) ethyl isocyanate and 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate.

共重合体の重量平均分子量(Mw)は、300,000〜1,500,000であり、好ましくは350,000〜1,200,000である。共重合体の重量平均分子量(Mw)が300,000以上であると、凝集性が高まり、耐熱性が得られ易い傾向にある。共重合体の重量平均分子量(Mw)が1,500,000以下であると、フィルム材を形成するに際して、均一な厚みを有する樹脂層(衝撃吸収層)が得られ易い傾向にある。なお、重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を使用し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算した値から求めることができる。   The weight average molecular weight (Mw) of the copolymer is 300,000 to 1,500,000, preferably 350,000 to 1,200,000. When the weight average molecular weight (Mw) of the copolymer is 300,000 or more, the cohesiveness is increased and heat resistance tends to be easily obtained. When the weight average molecular weight (Mw) of the copolymer is 1,500,000 or less, a resin layer (impact absorbing layer) having a uniform thickness tends to be easily obtained when forming a film material. In addition, a weight average molecular weight (Mw) can be calculated | required from the value converted using the calibration curve of a standard polystyrene using gel permeation chromatography (GPC).

共重合体のガラス転移点(Tg)は、−75〜−45℃であり、好ましくは−70〜−50℃である。共重合体のガラス転移点(Tg)が−75℃以上であると、凝集性が高まり、良好なハンドリング性が得られ易くなる傾向にある。共重合体のガラス転移点(Tg)が−45℃以下であると、得られる樹脂層の柔軟性を向上させ、高い耐衝撃性を付与することができる傾向にある。   The glass transition point (Tg) of the copolymer is −75 to −45 ° C., preferably −70 to −50 ° C. When the glass transition point (Tg) of the copolymer is −75 ° C. or higher, the cohesiveness is increased and good handling properties tend to be easily obtained. When the glass transition point (Tg) of the copolymer is −45 ° C. or lower, the flexibility of the resulting resin layer tends to be improved and high impact resistance tends to be imparted.

なお、共重合体のガラス転移点(Tg)は、以下の関係式(FOX式)によって算出したものを意味する。
1/Tg=Σ(X/Tg
[上記式中、Tgは、共重合体のガラス転移点(K)を示す。Xは、各単量体の質量分率を示し、X+X+…+X+…+X=1である。Tgは、各単量体の単独重合体のガラス転移点(K)を示す。]
In addition, the glass transition point (Tg) of a copolymer means what was computed by the following relational expressions (FOX formula).
1 / Tg = Σ (X i / Tg i )
[In the above formula, Tg represents the glass transition point (K) of the copolymer. X i represents a mass fraction of each monomer, and X 1 + X 2 +... + X i +... + X n = 1. Tg i indicates the glass transition temperature (K) of a homopolymer of each monomer. ]

共重合体の含有量は、共重合体溶液全質量を基準として、好ましくは10〜80質量%、より好ましくは15〜70質量%、さらに好ましくは20〜60質量%である。   The content of the copolymer is preferably 10 to 80% by mass, more preferably 15 to 70% by mass, and further preferably 20 to 60% by mass based on the total mass of the copolymer solution.

有機溶剤は、特に制限されないが、後述の溶液重合で使用可能な有機溶剤であることが好ましい。このような有機溶剤を用いることによって、共重合体の単離操作を行うことなく、そのまま共重合体溶液として使用することが可能となる。このような有機溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール等の脂肪族アルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類等が挙げられる。これらの中でも、有機溶剤は、共重合体の分子量制御の観点から、好ましくは酢酸エチル、メチルエチルケトン、又はトルエンである。   The organic solvent is not particularly limited, but is preferably an organic solvent that can be used in solution polymerization described later. By using such an organic solvent, it can be used as a copolymer solution as it is without isolation of the copolymer. Examples of such organic solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, aliphatic alcohols such as n-propyl alcohol and isopropyl alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, and methyl. Examples thereof include ketones such as isobutyl ketone and cyclohexanone. Among these, the organic solvent is preferably ethyl acetate, methyl ethyl ketone, or toluene from the viewpoint of controlling the molecular weight of the copolymer.

有機溶剤の含有量は、共重合体溶液全質量を基準として、好ましくは20〜90質量%、より好ましくは30〜85質量%、さらに好ましくは40〜80質量%である。   The content of the organic solvent is preferably 20 to 90% by mass, more preferably 30 to 85% by mass, and further preferably 40 to 80% by mass based on the total mass of the copolymer solution.

共重合体溶液は、例えば、有機溶剤中で各単量体を溶液重合することによって作製することができる。有機溶剤を用いて各単量体を溶液重合することによって、親水性の高い単量体(B)と疎水性の高い単量体(C)とを溶媒和の効果により均一に共重合することができ、樹脂層(衝撃吸収層)において、高い透明性(例えば、ヘーズが5.0%以下)を付与することが可能となる。また、共重合体溶液は、例えば、乳化重合、懸濁重合、塊状重合等の既知の重合方法を用いて共重合体を得た後、得られた共重合体を有機溶剤と混合することによっても作製することができる。   The copolymer solution can be prepared, for example, by solution polymerization of each monomer in an organic solvent. Uniform copolymerization of highly hydrophilic monomer (B) and highly hydrophobic monomer (C) by solvation effect by solution polymerization of each monomer using an organic solvent Thus, high transparency (for example, haze of 5.0% or less) can be imparted to the resin layer (impact absorbing layer). In addition, the copolymer solution is obtained by, for example, obtaining a copolymer using a known polymerization method such as emulsion polymerization, suspension polymerization, bulk polymerization, and then mixing the obtained copolymer with an organic solvent. Can also be made.

共重合体を合成する際の重合開始剤として、熱によってラジカルを発生する化合物を用いることができる。重合開始剤としては、例えば、過酸化ベンゾイル、ラウロイルパーオキシド等の有機過酸化物;2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)等のアゾ系化合物が挙げられる。   As the polymerization initiator for synthesizing the copolymer, a compound that generates a radical by heat can be used. Examples of the polymerization initiator include organic peroxides such as benzoyl peroxide and lauroyl peroxide; 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), and the like. An azo compound is mentioned.

共重合体溶液は、必要に応じて、各種添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、共重合体の凝集力を高める観点から、光架橋剤、熱架橋剤等の架橋剤が挙げられる。   The copolymer solution may contain various additives as required. Examples of the additive include a crosslinking agent such as a photocrosslinking agent and a thermal crosslinking agent from the viewpoint of increasing the cohesive strength of the copolymer.

光架橋剤としては、例えば、炭素数1〜20のアルキレン基を有するアルキレンジオールジ(メタ)アクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート;エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート等のビスフェノール型ジ(メタ)アクリレート;ウレタン結合を有するウレタンジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the photocrosslinking agent include alkylene diol di (meth) acrylate having an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms; alkylene glycol di (meth) acrylate such as polyethylene glycol di (meth) acrylate and polypropylene glycol di (meth) acrylate. Bisphenol type di (meth) acrylates such as ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, ethoxylated bisphenol F di (meth) acrylate and bisphenol A type epoxy (meth) acrylate; urethane di (meth) acrylate having a urethane bond, etc. Can be mentioned.

ウレタン結合を有するウレタンジ(メタ)アクリレートは、他の成分との相溶性が良好である観点から、ポリアルキレングリコール鎖を有していてもよく、透明性を確保する観点から、脂環式構造を有していてもよい。光架橋剤と共重合体との相溶性が低い場合、共重合体溶液から形成される樹脂層(衝撃吸収層)が白濁する可能性がある。   The urethane di (meth) acrylate having a urethane bond may have a polyalkylene glycol chain from the viewpoint of good compatibility with other components, and from the viewpoint of ensuring transparency, an alicyclic structure. You may have. When the compatibility between the photocrosslinking agent and the copolymer is low, the resin layer (impact absorbing layer) formed from the copolymer solution may become cloudy.

高温又は高温高湿下における気泡及び剥がれの発生をより抑制できる観点から、光架橋剤の重量平均分子量は、好ましくは100,000以下、より好ましくは300〜100,000、さらに好ましくは500〜80,000である。   From the viewpoint of further suppressing the occurrence of bubbles and peeling under high temperature or high temperature and high humidity, the weight average molecular weight of the photocrosslinking agent is preferably 100,000 or less, more preferably 300 to 100,000, and even more preferably 500 to 80. , 000.

光架橋剤を用いる場合の含有量は、共重合体全質量を基準として、好ましくは15質量%以下、より好ましくは10質量%以下、さらに好ましくは7質量%以下である。このような範囲であると、充分な密着性を有する樹脂層(衝撃吸収層)を得ることができる傾向にある。光架橋剤の含有量の下限については、特に制限されないが、フィルム形成性をより良好にする観点から、好ましくは0.1質量%以上、より好ましくは2質量%以上、さらに好ましくは3質量%以上である。   The content in the case of using a photocrosslinking agent is preferably 15% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and further preferably 7% by mass or less, based on the total mass of the copolymer. Within such a range, a resin layer (shock absorbing layer) having sufficient adhesion tends to be obtained. The lower limit of the content of the photocrosslinking agent is not particularly limited, but is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, and still more preferably 3% by mass from the viewpoint of improving film formability. That's it.

熱架橋剤としては、例えば、イソシアネート化合物、メラミン化合物、エポキシ化合物等が挙げられる。熱架橋剤は、樹脂層(衝撃吸収層)中に緩やかに広がった網目状構造を形成する観点から、3官能、4官能といった多官能の熱架橋剤を用いることが好ましい。   As a thermal crosslinking agent, an isocyanate compound, a melamine compound, an epoxy compound etc. are mentioned, for example. As the thermal crosslinking agent, it is preferable to use a polyfunctional thermal crosslinking agent such as trifunctional or tetrafunctional from the viewpoint of forming a network structure that gently spreads in the resin layer (impact absorbing layer).

熱架橋剤は、反応性の観点から、好ましくはイソシアネート化合物、より好ましくはポリイソシアネート化合物である。ポリイソシアネート化合物としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートの三量体、トリメチロールプロパン等のトリオール、ジオール又は単官能アルコールと、ヘキサメチレンジイソシアネートとの反応生成物である多官能性ヘキサメチレンジイソシアネート化合物が挙げられる。   The thermal crosslinking agent is preferably an isocyanate compound, more preferably a polyisocyanate compound, from the viewpoint of reactivity. Examples of the polyisocyanate compound include a polyfunctional hexamethylene diisocyanate compound which is a reaction product of hexamethylene diisocyanate trimer, triol such as trimethylolpropane, diol or monofunctional alcohol and hexamethylene diisocyanate. .

熱架橋剤を用いる場合の含有量は、共重合体全質量を基準として、好ましくは5質量%以下、より好ましくは2質量%以下、さらに好ましくは1質量%以下である。熱架橋剤の含有量がこのような範囲であると、充分な密着性を有する樹脂層(衝撃吸収層)を得ることができる。熱架橋剤の含有量の下限については、特に制限されないが、フィルム形成性をより良好にする観点から、好ましくは0.01質量%以上である。   The content in the case of using a thermal crosslinking agent is preferably 5% by mass or less, more preferably 2% by mass or less, and further preferably 1% by mass or less, based on the total mass of the copolymer. When the content of the thermal crosslinking agent is within such a range, a resin layer (shock absorbing layer) having sufficient adhesion can be obtained. The lower limit of the content of the thermal crosslinking agent is not particularly limited, but is preferably 0.01% by mass or more from the viewpoint of improving the film formability.

共重合体又は架橋剤のいずれかが活性エネルギー線による硬化系である場合、光重合開始剤が必要となる。光重合開始剤は、活性エネルギー線の照射によって硬化反応を促進させるものである。活性エネルギー線とは、紫外線、電子線、α線、β線、γ線等をいう。   When either the copolymer or the crosslinking agent is a curing system using active energy rays, a photopolymerization initiator is required. A photoinitiator accelerates | stimulates hardening reaction by irradiation of an active energy ray. Active energy rays refer to ultraviolet rays, electron beams, α rays, β rays, γ rays and the like.

光重合開始剤は、特に限定されないが、ベンゾフェノン化合物、アントラキノン化合物、ベンゾイル化合物、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩、オニウム塩等の公知の材料を使用することが可能である。   Although a photoinitiator is not specifically limited, Well-known materials, such as a benzophenone compound, an anthraquinone compound, a benzoyl compound, a sulfonium salt, a diazonium salt, an onium salt, can be used.

光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、N,N,N’,N’−テトラメチル−4,4’−ジアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、N,N,N’,N’−テトラエチル−4,4’−ジアミノベンゾフェノン、4−メトキシ−4’−ジメチルアミノベンゾフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、2−エチルアントラキノン、t−ブチルアントラキノン、1,4−ジメチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、2,3−ジクロロアントラキノン、3−クロロ−2−メチルアントラキノン、1,2−ベンゾアントラキノン、2−フェニルアントラキノン、1,4−ナフトキノン、9,10−フェナントラキノン、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2,2−ジエトキシアセトフェノン等の芳香族ケトン化合物;ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物;ベンジル、ベンジルジメチルケタール等のベンジル化合物;β−(アクリジン−9−イル)(メタ)アクリル酸等のエステル化合物;9−フェニルアクリジン、9−ピリジルアクリジン、1,7−ジアクリジノヘプタン等のアクリジン化合物;2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾール二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2,4−ジ(p−メトキシフェニル)5−フェニルイミダゾール二量体、2−(2,4−ジメトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−メチルメルカプトフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体等の2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体;2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モリホリノフェニル)−1−ブタノン;2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−1−プロパン;ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド;オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)が挙げられる。これらの光重合開始剤は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the photopolymerization initiator include benzophenone, N, N, N ′, N′-tetramethyl-4,4′-diaminobenzophenone (Michler ketone), N, N, N ′, N′-tetraethyl-4,4. '-Diaminobenzophenone, 4-methoxy-4'-dimethylaminobenzophenone, α-hydroxyisobutylphenone, 2-ethylanthraquinone, t-butylanthraquinone, 1,4-dimethylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2,3-dichloroanthraquinone , 3-chloro-2-methylanthraquinone, 1,2-benzoanthraquinone, 2-phenylanthraquinone, 1,4-naphthoquinone, 9,10-phenanthraquinone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone , 2, 2 Aromatic ketone compounds such as dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2,2-diethoxyacetophenone; benzoin, methylbenzoin, ethyl Benzoin compounds such as benzoin; benzoin ether compounds such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether and benzoin phenyl ether; benzyl compounds such as benzyl and benzyldimethyl ketal; β- (acridin-9-yl) (meth) acryl Ester compounds such as acids; acridine compounds such as 9-phenylacridine, 9-pyridylacridine, 1,7-diacridinoheptane; 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- ( o-ku Rophenyl) -4,5-di (m-methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (o-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o-methoxyphenyl) -4,5 -Diphenylimidazole dimer, 2- (p-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2,4-di (p-methoxyphenyl) 5-phenylimidazole dimer, 2- (2, 2,4,5-triarylimidazole dimers such as 4-dimethoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (p-methylmercaptophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer; 2-Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone; 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2 Morpholino-1-propane; bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide; oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone) . These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

共重合体溶液を着色させない光重合開始剤としては、例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン等のα−ヒドロキシアルキルフェノン化合物;ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド化合物;オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)が挙げられる。   Examples of the photopolymerization initiator that does not color the copolymer solution include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1- [4- (2-hydroxy Α-hydroxyalkylphenone compounds such as ethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one; bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis (2, Acylphosphine oxide compounds such as 6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide; oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- ( 4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone) That.

特に厚い樹脂層(衝撃吸収層)を形成するためには、光重合開始剤は、例えば、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド化合物を含んでもよい。   In order to form a particularly thick resin layer (shock absorbing layer), the photopolymerization initiator may be, for example, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl)- Acylphosphine oxide compounds such as 2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide and 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide may also be included.

光重合開始剤の含有量は、共重合体溶液全質量を基準として、好ましくは0.05〜5質量%、より好ましくは0.1〜3質量%、さらに好ましくは0.1〜1.5質量%である。光重合開始剤の含有量が5質量%以下であることによって、透過率が高く、また色相も黄味を帯びることがなく、透明性に優れる樹脂層(衝撃吸収層)を得ることができる傾向にある。   The content of the photopolymerization initiator is preferably 0.05 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 3% by mass, and still more preferably 0.1 to 1.5% based on the total mass of the copolymer solution. % By mass. When the content of the photopolymerization initiator is 5% by mass or less, the transmittance is high, the hue is not yellowish, and a resin layer (impact absorbing layer) excellent in transparency tends to be obtained. It is in.

架橋剤以外の添加剤としては、例えば、共重合体溶液の保存安定性を高める目的で添加するパラメトキシフェノール等の重合禁止剤、共重合体溶液を光硬化させて得られる樹脂層(衝撃吸収層)の耐熱性を高める目的で添加するトリフェニルホスファイト等の酸化防止剤、紫外線等の光に対する共重合体溶液の耐性を高める目的で添加するHALS(Hindered Amine Light Stabilizer)等の光安定化剤、ガラスに対する共重合体溶液の密着性を高めるために添加するシランカップリング剤が挙げられる。   Examples of additives other than the crosslinking agent include a polymerization inhibitor such as paramethoxyphenol added for the purpose of enhancing the storage stability of the copolymer solution, and a resin layer obtained by photocuring the copolymer solution (impact absorption) Photostabilization such as antioxidants such as triphenyl phosphite added for the purpose of increasing the heat resistance of the layer) and HALS (Hindered Amine Light Stabilizer) added for the purpose of increasing the resistance of the copolymer solution to light such as ultraviolet rays Examples thereof include a silane coupling agent to be added in order to improve the adhesiveness of the copolymer solution to the agent and glass.

<フィルム材>
一実施形態に係るフィルム材は、基材と、基材上に配置された樹脂層と、を備え、樹脂層が、画像表示装置の衝撃吸収層を形成するために用いられる。当該樹脂層は、上述した共重合体溶液から形成することができる。
<Film material>
The film material which concerns on one Embodiment is equipped with a base material and the resin layer arrange | positioned on a base material, and a resin layer is used in order to form the impact absorption layer of an image display apparatus. The said resin layer can be formed from the copolymer solution mentioned above.

図2は、フィルム材の一実施形態を模式的に示す断面図である。図2に示されるように、フィルム材20は、樹脂層21と、樹脂層21を挟むように積層された一方の基材22及び他方の基材23と、を備えていてもよい。   FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an embodiment of the film material. As shown in FIG. 2, the film material 20 may include a resin layer 21, and one base material 22 and the other base material 23 stacked so as to sandwich the resin layer 21.

基材22は、基材23よりも重剥離性の基材であることが好ましい。基材22としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリプロピレン、ポリエチレン等の重合体フィルムが挙げられる。これらの中でも、基材22は、PETフィルムであることが好ましい。基材22の厚みは、作業性の観点から、好ましくは50〜200μm、より好ましくは60〜150μm、さらに好ましくは70〜130μmである。   The base material 22 is preferably a material that is more peelable than the base material 23. Examples of the base material 22 include polymer films such as polyethylene terephthalate (PET), polypropylene, and polyethylene. Among these, it is preferable that the base material 22 is a PET film. From the viewpoint of workability, the thickness of the base material 22 is preferably 50 to 200 μm, more preferably 60 to 150 μm, and still more preferably 70 to 130 μm.

基材22の平面形状は、樹脂層21の平面形状よりも大きく、基材22の外縁が樹脂層21の外縁よりも外側に張り出していることが好ましい。基材22の外縁が樹脂層21の外縁よりも張り出す幅は、取り扱い易さ、剥がし易さ、埃等の付着をより低減できる観点から、好ましくは2〜20mm、より好ましくは4〜10mmである。樹脂層21及び基材22の平面形状が略長方形等の略矩形状である場合には、基材22の外縁が樹脂層21の外縁よりも張り出す幅は、好ましくは少なくとも1つの辺において2〜20mm、より好ましくは少なくとも1つの辺において4〜10mm、さらに好ましくは全ての辺において2〜20mm、特に好ましくは全ての辺において4〜10mmである。   The planar shape of the base material 22 is larger than the planar shape of the resin layer 21, and the outer edge of the base material 22 preferably projects outward from the outer edge of the resin layer 21. The width at which the outer edge of the substrate 22 protrudes from the outer edge of the resin layer 21 is preferably 2 to 20 mm, more preferably 4 to 10 mm, from the viewpoint of ease of handling, ease of peeling, and reduction of adhesion of dust and the like. is there. When the planar shape of the resin layer 21 and the base material 22 is a substantially rectangular shape such as a substantially rectangular shape, the width at which the outer edge of the base material 22 protrudes from the outer edge of the resin layer 21 is preferably 2 on at least one side. -20 mm, more preferably 4 to 10 mm on at least one side, further preferably 2 to 20 mm on all sides, particularly preferably 4 to 10 mm on all sides.

基材23は、基材22よりも軽剥離性の基材を用いることが好ましい。基材23としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリプロピレン、ポリエチレン等の重合体フィルムが挙げられる。これらの中でも、基材23は、PETフィルムであることが好ましい。基材23の厚みは、作業性の観点から、25〜150μmであることが好ましく、30〜100μmであることがより好ましく、40〜80μmであることが更に好ましい。   The base material 23 is preferably a light-peeling base material than the base material 22. Examples of the base material 23 include polymer films such as polyethylene terephthalate (PET), polypropylene, and polyethylene. Among these, it is preferable that the base material 23 is a PET film. From the viewpoint of workability, the thickness of the base material 23 is preferably 25 to 150 μm, more preferably 30 to 100 μm, and still more preferably 40 to 80 μm.

基材23の平面形状は、樹脂層21の平面形状よりも大きく、基材23の外縁が樹脂層21の外縁よりも外側に張り出していることが好ましい。基材23の外縁が樹脂層21の外縁よりも張り出す幅は、取り扱い易さ、剥がし易さ、埃等の付着をより低減できる観点から、好ましくは2〜20mm、より好ましくは4〜10mmである。樹脂層21及び基材23の平面形状が略長方形等の略矩形状である場合には、基材23の外縁が樹脂層21の外縁よりも張り出す幅は、好ましくは少なくとも1つの辺において2〜20mm、より好ましくは少なくとも1つの辺において4〜10mm、さらに好ましくは全ての辺において2〜20mm、特に好ましくは全ての辺において4〜10mmである。   The planar shape of the base material 23 is larger than the planar shape of the resin layer 21, and it is preferable that the outer edge of the base material 23 projects outward from the outer edge of the resin layer 21. The width at which the outer edge of the base material 23 protrudes from the outer edge of the resin layer 21 is preferably 2 to 20 mm, more preferably 4 to 10 mm, from the viewpoint of ease of handling, ease of peeling, and reduction of adhesion of dust and the like. is there. In the case where the planar shape of the resin layer 21 and the base material 23 is a substantially rectangular shape such as a substantially rectangular shape, the width at which the outer edge of the base material 23 protrudes from the outer edge of the resin layer 21 is preferably 2 on at least one side. -20 mm, more preferably 4 to 10 mm on at least one side, further preferably 2 to 20 mm on all sides, particularly preferably 4 to 10 mm on all sides.

基材23と樹脂層21との間の剥離強度は、基材22と樹脂層21との間の剥離強度よりも低いことが好ましい。これによって、基材22は基材23よりも樹脂層21から剥離し難くなる。剥離強度は、例えば、基材22及び基材23の表面処理を施すことによって調整することができる。表面処理方法としては、例えば、シリコーン系化合物又はフッ素系化合物で、基材を離型処理することが挙げられる。   The peel strength between the base material 23 and the resin layer 21 is preferably lower than the peel strength between the base material 22 and the resin layer 21. As a result, the base material 22 is less likely to peel from the resin layer 21 than the base material 23. The peel strength can be adjusted, for example, by applying a surface treatment to the base material 22 and the base material 23. As the surface treatment method, for example, a release treatment of the base material with a silicone compound or a fluorine compound may be mentioned.

樹脂層21を形成する方法は、公知の技術を使用することができる。例えば、上述の共重合体溶液を、基材22上に塗布し、有機溶剤を乾燥することにより除去して、任意の厚みを有する樹脂層21を形成することができる。このとき、樹脂層21において、共重合体は、互いに架橋されていてもよい。すなわち、共重合体は、共重合体と共重合体とが直接又は架橋剤を介して架橋されていてもよい。塗布方法としては、例えば、フローコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ワイヤーバーコート法、リップダイコート法等の公知の方法を用いることができる。   A known technique can be used for forming the resin layer 21. For example, the resin layer 21 having an arbitrary thickness can be formed by applying the above-described copolymer solution onto the base material 22 and removing the organic solvent by drying. At this time, in the resin layer 21, the copolymers may be cross-linked with each other. That is, in the copolymer, the copolymer and the copolymer may be crosslinked directly or via a crosslinking agent. As a coating method, for example, a known method such as a flow coating method, a roll coating method, a gravure coating method, a wire bar coating method, or a lip die coating method can be used.

基材22上に樹脂層21を形成した後、樹脂層21上に基材23を積層することで、フィルム材が作製される。樹脂層21は基材23及び基材22で挟まれる構成となる。樹脂層21と、基材23及び基材22との剥離性を制御するために、共重合体溶液に、ポリジメチルシロキサン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤等の界面活性剤を含有させてもよい。   After forming the resin layer 21 on the base material 22, the base material 23 is laminated | stacked on the resin layer 21, and a film material is produced. The resin layer 21 is sandwiched between the base material 23 and the base material 22. In order to control the peelability between the resin layer 21 and the base material 23 and the base material 22, the copolymer solution is allowed to contain a surfactant such as a polydimethylsiloxane-based surfactant or a fluorine-based surfactant. Also good.

樹脂層21の厚みは、使用用途及び方法により適宜調整されるため特に限定されないが、10〜5000μm、25〜200μm、25〜180μm、又は25〜150μmであってもよい。樹脂層21の厚みがこのような範囲であると、外部から加えられた衝撃に対して、より耐性を有する衝撃吸収層となり得る。   The thickness of the resin layer 21 is not particularly limited because it is appropriately adjusted depending on the intended use and method, but may be 10 to 5000 μm, 25 to 200 μm, 25 to 180 μm, or 25 to 150 μm. When the thickness of the resin layer 21 is in such a range, the impact absorbing layer can be more resistant to an externally applied impact.

樹脂層21の可視光領域(波長:380nm〜780nm)の光線に対する光透過率は、好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは95%以上である。   The light transmittance of the resin layer 21 to light in the visible light region (wavelength: 380 nm to 780 nm) is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and still more preferably 95% or more.

樹脂層21のヘーズは、好ましくは5%以下、より好ましくは3%以下、さらに好ましくは1%以下である。なお、ヘーズ(Haze)とは、濁度を表わす値(%)であり、ランプにより照射され、試料中を透過した光の全透過率Tと、試料中で拡散され散乱した光の透過率Tより、(T/T)×100として求められる。これらはJIS K 7136により規定されており、市販の濁度計(例えば、日本電色工業株式会社製、製品名「NDH−5000」)によって容易に測定可能である。 The haze of the resin layer 21 is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and still more preferably 1% or less. Haze is a value (%) representing turbidity, and is a total transmittance T t of light irradiated through a lamp and transmitted through a sample, and a transmittance of light diffused and scattered in the sample. From Td, it is obtained as ( Td / Tt ) × 100. These are defined by JIS K 7136, and can be easily measured by a commercially available turbidimeter (for example, product name “NDH-5000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

本実施形態に係るフィルム材によれば、樹脂層21を傷つけることなく、保管及び運搬を容易にすることができる。   According to the film material which concerns on this embodiment, storage and conveyance can be made easy, without damaging the resin layer 21. FIG.

樹脂層21は、例えば、画像表示部材の片側又は両側に配置することによって、画像表示装置の衝撃吸収層として用いることができる。   The resin layer 21 can be used, for example, as an impact absorbing layer of an image display device by being disposed on one side or both sides of the image display member.

以下に、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples, but the present invention is not limited thereto.

<共重合体溶液の作製>
実施例で作製した共重合体の重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を使用し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算した値から求めた。GPC測定装置及び測定条件は、下記のとおりである。
RI検出器:L−3350(株式会社日立ハイテクサイエンス製)
溶離液:THF
カラム:Gelpac GL−R420+R430+R440(日立化成株式会社製)
カラム温度:40℃
流量:2.0mL/分
<Preparation of copolymer solution>
The weight average molecular weight (Mw) of the copolymer produced in the example was determined from the value converted using a standard polystyrene calibration curve using gel permeation chromatography (GPC). The GPC measurement device and measurement conditions are as follows.
RI detector: L-3350 (manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.)
Eluent: THF
Column: Gelpac GL-R420 + R430 + R440 (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.)
Column temperature: 40 ° C
Flow rate: 2.0 mL / min

実施例で作製した共重合体のガラス転移点(Tg)は、上述の関係式(FOX式)により算出した。   The glass transition point (Tg) of the copolymer produced in the example was calculated by the above-described relational expression (FOX formula).

実施例1−1
冷却管、温度計、撹拌装置、滴下漏斗、及び窒素導入管の付いた反応容器に、2−エチルヘキシルアクリレート70.0g、2−ヒドロキシエチルアクリレート20.0g、片末端メタクリロイル変性ポリシロキサン化合物(信越化学工業株式会製、製品名「X−22−2426」、エチレン性不飽和基当量:12000g/mol)10.0g、及び酢酸エチル145.0gを加え、100mL/分の風量で窒素置換しながら、15分間で常温(25℃)から65℃まで加熱した。次いで、65℃に保ちながら、酢酸エチル5.0gにラウロイルパーオキシド0.1gを溶解した溶液を投入し、8時間反応させて、固形分濃度40質量%の共重合体(Mw:800,000、ガラス転移点:−68.5℃)溶液A−1を得た。
Example 1-1
In a reaction vessel equipped with a condenser, a thermometer, a stirrer, a dropping funnel, and a nitrogen introducing tube, 70.0 g of 2-ethylhexyl acrylate, 20.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate, one-end methacryloyl-modified polysiloxane compound (Shin-Etsu Chemical) Made by Industrial Co., Ltd., product name “X-22-2426”, ethylenically unsaturated group equivalent: 12000 g / mol) 10.0 g, and ethyl acetate 145.0 g, and nitrogen substitution with 100 mL / min air volume, It heated from normal temperature (25 degreeC) to 65 degreeC in 15 minutes. Next, while maintaining the temperature at 65 ° C., a solution in which 0.1 g of lauroyl peroxide was dissolved in 5.0 g of ethyl acetate was added and reacted for 8 hours to obtain a copolymer having a solid content concentration of 40% by mass (Mw: 800,000). Glass transition point: −68.5 ° C.) Solution A-1 was obtained.

実施例1−2
反応容器に、n−ブチルアクリレート70.0g、2−ヒドロキシエチルアクリレート20.0g、実施例1−1で用いた片末端メタクリロイル変性ポリシロキサン化合物10.0g、及び酢酸エチル145.0gを加えた以外は実施例1−1と同様に操作して、固形分濃度40質量%の共重合体(Mw:850,000、ガラス転移点:−57.4℃)溶液A−2を得た。
Example 1-2
Except for adding 70.0 g of n-butyl acrylate, 20.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 10.0 g of one-end methacryloyl-modified polysiloxane compound used in Example 1-1, and 145.0 g of ethyl acetate to the reaction vessel. Was operated in the same manner as in Example 1-1 to obtain a copolymer (Mw: 850,000, glass transition point: −57.4 ° C.) solution A-2 having a solid content concentration of 40 mass%.

実施例1−3
反応容器に、n−ブチルアクリレート70.0g、2−ヒドロキシエチルアクリレート25.0g、実施例1−1で用いた片末端メタクリロイル変性ポリシロキサン化合物5.0g、及び酢酸エチル145.0gを加えた以外は実施例1−1と同様に操作して、固形分濃度40質量%の共重合体(Mw:850,000、ガラス転移点:−50.7℃)溶液A−3を得た。
Example 1-3
Except for adding 70.0 g of n-butyl acrylate, 25.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 5.0 g of one-end methacryloyl-modified polysiloxane compound used in Example 1-1, and 145.0 g of ethyl acetate to the reaction vessel. Were operated in the same manner as in Example 1-1 to obtain a copolymer (Mw: 850,000, glass transition point: −50.7 ° C.) solution A-3 having a solid concentration of 40% by mass.

実施例1−4
反応容器に、n−ブチルアクリレート70.0g、2−ヒドロキシエチルアクリレート20.0g、実施例1−1で用いた片末端メタクリロイル変性ポリシロキサン化合物10.0g、酢酸エチル72.5g、及びメチルエチルケトン72.5gを加えた以外は実施例1−1と同様に操作して、固形分濃度40質量%の共重合体(Mw:500,000、ガラス転移点:−57.4℃)溶液A−4を得た。
Example 1-4
In a reaction vessel, 70.0 g of n-butyl acrylate, 20.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 10.0 g of one-end methacryloyl-modified polysiloxane compound used in Example 1-1, 72.5 g of ethyl acetate, and methyl ethyl ketone 72. A copolymer (Mw: 500,000, glass transition point: −57.4 ° C.) solution A-4 having a solid content concentration of 40% by mass was operated in the same manner as in Example 1-1 except that 5 g was added. Obtained.

比較例1−1
反応容器に、2−エチルヘキシルアクリレート80.0g、2−ヒドロキシエチルアクリレート20.0g、及び酢酸エチル145.0gを加えた以外は実施例1−1と同様に操作して、固形分濃度40質量%の共重合体(Mw:800,000、ガラス転移点:−61.0℃)溶液A−5を得た。
Comparative Example 1-1
The same procedure as in Example 1-1 was performed except that 80.0 g of 2-ethylhexyl acrylate, 20.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate, and 145.0 g of ethyl acetate were added to the reaction vessel. A copolymer A (Mw: 800,000, glass transition point: −61.0 ° C.) solution A-5 was obtained.

比較例1−2
反応容器に、2−エチルヘキシルアクリレート90.0g、実施例1−1で用いた片末端メタクリロイル変性ポリシロキサン化合物10.0g、及び酢酸エチル145.0gを加えた以外は実施例1−1と同様に操作して、固形分濃度40質量%の共重合体(Mw:750,000、ガラス転移点:−76.9℃)溶液A−6を得た。
Comparative Example 1-2
Similar to Example 1-1, except that 90.0 g of 2-ethylhexyl acrylate, 10.0 g of one-end methacryloyl-modified polysiloxane compound used in Example 1-1, and 145.0 g of ethyl acetate were added to the reaction vessel. Operation was performed to obtain a copolymer (Mw: 750,000, glass transition point: −76.9 ° C.) solution A-6 having a solid concentration of 40% by mass.

比較例1−3
反応容器に、n−ブチルアクリレート80.0g、2−ヒドロキシエチルアクリレート20.0g、及び酢酸エチル145.0gを加えた以外は実施例1−1と同様に操作して、固形分濃度40質量%の共重合体(Mw:850,000、ガラス転移点:−47.2℃)溶液A−7を得た。
Comparative Example 1-3
The same procedure as in Example 1-1 was performed except that 80.0 g of n-butyl acrylate, 20.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate, and 145.0 g of ethyl acetate were added to the reaction vessel. (Mw: 850,000, glass transition point: −47.2 ° C.) Solution A-7 was obtained.

比較例1−4
反応容器に、2−エチルヘキシルアクリレート70.0g、2−ヒドロキシエチルアクリレート20.0g、実施例1−1で用いた片末端メタクリロイル変性ポリシロキサン化合物10.0g、及びメチルエチルケトン145.0gを加えた以外は実施例1−1と同様に操作して、固形分濃度40質量%の共重合体(Mw:200,000、ガラス転移点:−68.5℃)溶液A−8を得た。
Comparative Example 1-4
Except that 70.0 g of 2-ethylhexyl acrylate, 20.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 10.0 g of one-end methacryloyl-modified polysiloxane compound used in Example 1-1, and 145.0 g of methyl ethyl ketone were added to the reaction vessel. The same operation as in Example 1-1 was performed to obtain a copolymer (Mw: 200,000, glass transition point: −68.5 ° C.) solution A-8 having a solid concentration of 40% by mass.

比較例1−5
反応容器に、n−ブチルアクリレート70.0g、2−ヒドロキシエチルアクリレート28.0g、実施例1−1で用いた片末端メタクリロイル変性ポリシロキサン化合物2.0g、及びメチルエチルケトン145.0gを加えた以外は実施例1−1と同様に操作して、固形分濃度40%の共重合体(Mw:700,000、ガラス転移点:−46.5℃)溶液A−9を得た。
Comparative Example 1-5
Except for adding 70.0 g of n-butyl acrylate, 28.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 2.0 g of one-end methacryloyl-modified polysiloxane compound used in Example 1-1, and 145.0 g of methyl ethyl ketone to the reaction vessel. By operating in the same manner as in Example 1-1, a copolymer A-9 having a solid content concentration of 40% (Mw: 700,000, glass transition point: −46.5 ° C.) was obtained.

比較例1−6
反応容器に、2−エチルヘキシルアクリレート50.0g、メチルメタクリレート5.0g、イソボルニルアクリレート20.0g、2−ヒドロキシエチルアクリレート25.0g、及び酢酸エチル145.0gを加えた以外は共重合体造例1と同様に操作して、固形分濃度40%の共重合体(Mw:850,000、ガラス転移点:−29.4℃)溶液A−10を得た。
Comparative Example 1-6
A copolymer was prepared except that 50.0 g of 2-ethylhexyl acrylate, 5.0 g of methyl methacrylate, 20.0 g of isobornyl acrylate, 25.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate, and 145.0 g of ethyl acetate were added to the reaction vessel. In the same manner as in Example 1, a copolymer (Mw: 850,000, glass transition point: −29.4 ° C.) solution A-10 having a solid content concentration of 40% was obtained.

<フィルム材の作製>
実施例2−1
実施例1−1で得られた共重合体溶液A−1の共重合体100質量部に対して、熱架橋剤としてポリイソシアネート化合物(東ソー株式会社製、製品名「コロネートHL」)0.15質量部を混合し、混合溶液を調製した。次いで、表面に離型処理が施された厚み75μmのポリエチレンテレフタラート(PET)フィルム(基材フィルムA)に、上記混合溶液を乾燥後の厚みが100μmとなるようにバーコーターを用いて塗布し、塗布された混合溶液を100℃で10分間加熱乾燥して、樹脂層を形成した。その後、樹脂層上に、離型処理した厚み75μmのPETフィルム(基材フィルムB)を被せ、9.8N(1.0kgf)でハンドローラーを用いて貼り付け、フィルム材を作製した。
<Production of film material>
Example 2-1
Polyisocyanate compound (product name “Coronate HL” manufactured by Tosoh Corporation) 0.15 as a thermal crosslinking agent with respect to 100 parts by mass of copolymer of copolymer solution A-1 obtained in Example 1-1. Mass parts were mixed to prepare a mixed solution. Next, the mixed solution was applied to a 75 μm-thick polyethylene terephthalate (PET) film (base film A) having a release treatment on the surface using a bar coater so that the thickness after drying was 100 μm. The applied mixed solution was dried by heating at 100 ° C. for 10 minutes to form a resin layer. Thereafter, a PET film (base film B) having a thickness of 75 μm that had been subjected to a release treatment was placed on the resin layer, and the film was pasted with a hand roller at 9.8 N (1.0 kgf) to produce a film material.

実施例2−2〜2−4及び比較例2−1〜2−6
各成分の配合量を表1に示すものに変更した以外は、実施例2−1と同様にして、実施例2−2〜2−4及び比較例2−1〜2−6のフィルム材を作製した。なお、表1中、配合量の数値の単位は質量部であり、共重合体溶液の数値は固形分(共重合体)の配合量を意味する。
Examples 2-2 to 2-4 and comparative examples 2-1 to 2-6
Except having changed the compounding quantity of each component into what is shown in Table 1, it carried out similarly to Example 2-1, and used the film material of Examples 2-2 to 2-4 and Comparative Examples 2-1 to 2-6. Produced. In Table 1, the unit of the numerical value of the blending amount is part by mass, and the numerical value of the copolymer solution means the blending amount of the solid content (copolymer).

<評価>
各実施例及び比較例で得られたフィルム材について、以下の方法により評価を行った。結果を表1に示す。
<Evaluation>
About the film material obtained by each Example and the comparative example, it evaluated by the following method. The results are shown in Table 1.

1.加速度減衰率の測定
図3は、加速度減衰率の測定装置の一例を模式的に示す概略図である。図3に示す加速度減衰率の測定装置30は、主に、フィルム材が備える樹脂層31と、樹脂層31を貼り付けるための固定板32(ポリメチルメタクリレート板)と、固定板32を支持する金属板33と、鉄球34を備えるハンマー35と、ハンマー35の鉄球34の反対側の先端に配置された加速度センサ36と、から構成されている。
1. Measurement of Acceleration Decay Rate FIG. 3 is a schematic diagram schematically showing an example of an acceleration decay rate measurement device. The acceleration attenuation rate measuring device 30 shown in FIG. 3 mainly supports the resin layer 31 provided in the film material, a fixing plate 32 (polymethyl methacrylate plate) for attaching the resin layer 31, and the fixing plate 32. The metal plate 33, a hammer 35 having an iron ball 34, and an acceleration sensor 36 disposed at the tip of the hammer 35 opposite to the iron ball 34 are configured.

実施例2−1〜2−4及び比較例2−1〜2−6のフィルム材を50mm×50mmのサイズに切り出し、切り出したフィルム材の基材フィルムBを剥離して樹脂層31の表面を露出させた。その後、露出させた樹脂層31の表面を固定板32(縦100mm×横100mm×厚み3.0mm)に貼り付け、ローラーで押し付けた。次いで、固定板32に貼り付けた樹脂層31から基材フィルムAを剥離し、樹脂層31の表面を露出させ、固定板32と金属板33(縦150mm×横150mm×厚み10mm)が接するように配置することによって、測定サンプルを得た。次いで、直径11mmの鉄球34を固定したハンマー35(質量280g)を、測定サンプルの樹脂層31から垂直方向で高さ20mmの位置から落下させ、加速度センサ36(昭和測器株式会社製、製品名「MODEL−1340B」)を用いてピーク加速度を計測した。なお、ピーク加速度は、加速度センサに内蔵されているピークホールド機能を使用したときに、絶対値を検出した波形からピーク値(衝撃加速度)を読み取ったものである。測定は23℃の環境下で行った。加速度減衰率は、下記式(A)に基づいて算出した。式(A)内の「樹脂層を設けなかった場合のピーク加速度」とは、樹脂層31を設けず、固定板32のみで計測した場合のピーク加速度を意味する。
加速度減衰率(%)
=(樹脂層を設けなかった場合のピーク加速度[m/s]−樹脂層を設けた場合のピーク加速度[m/s])/樹脂層を設けなかった場合のピーク加速度[m/s]×100 (A)
The film materials of Examples 2-1 to 2-4 and Comparative Examples 2-1 to 2-6 were cut into a size of 50 mm × 50 mm, the base film B of the cut film material was peeled off, and the surface of the resin layer 31 was peeled off. Exposed. Thereafter, the exposed surface of the resin layer 31 was attached to a fixing plate 32 (length 100 mm × width 100 mm × thickness 3.0 mm) and pressed with a roller. Next, the base film A is peeled off from the resin layer 31 attached to the fixing plate 32, the surface of the resin layer 31 is exposed, and the fixing plate 32 and the metal plate 33 (length 150 mm × width 150 mm × thickness 10 mm) are in contact with each other. A measurement sample was obtained by placing in Next, a hammer 35 (mass 280 g) to which an iron ball 34 having a diameter of 11 mm is fixed is dropped from a position 20 mm in height in the vertical direction from the resin layer 31 of the measurement sample, and the acceleration sensor 36 (product of Showa Keiki Co., Ltd., product) The peak acceleration was measured using the name “MODEL-1340B”). The peak acceleration is obtained by reading the peak value (impact acceleration) from the waveform in which the absolute value is detected when the peak hold function built in the acceleration sensor is used. The measurement was performed in an environment of 23 ° C. The acceleration decay rate was calculated based on the following formula (A). The “peak acceleration when no resin layer is provided” in the formula (A) means a peak acceleration when measured only by the fixed plate 32 without providing the resin layer 31.
Acceleration decay rate (%)
= (Peak acceleration when not provided a resin layer [m / s 2] - peak acceleration when the resin layer is provided [m / s 2]) / a If no resin layer provided peak acceleration [m / s 2 ] × 100 (A)

2.耐衝撃性の評価
図4は、耐衝撃性の評価装置の一例を模式的に示す概略図である。図4に示す耐衝撃性の評価装置40は、主に、フィルム材が備える樹脂層41と、樹脂層41を貼り付けるためのガラス板47(フロートガラス)と、ガラス板47を固定するための固定板42(ポリメチルメタクリレート板)と、固定板42を支持する金属板43と、鉄球44を有するハンマー45と、から構成されている。
2. Evaluation of Impact Resistance FIG. 4 is a schematic view schematically showing an example of an impact resistance evaluation apparatus. The impact resistance evaluation apparatus 40 shown in FIG. 4 mainly includes a resin layer 41 included in a film material, a glass plate 47 (float glass) for attaching the resin layer 41, and a glass plate 47 for fixing the glass layer 47. The fixing plate 42 (polymethyl methacrylate plate), a metal plate 43 that supports the fixing plate 42, and a hammer 45 having an iron ball 44 are configured.

実施例2−1〜2−4及び比較例2−1〜2−6のフィルム材を90mm×90mmのサイズに切り出し、切り出したフィルム材の基材フィルムBを剥離して樹脂層41の表面を露出させた。その後、露出させた樹脂層41の表面をガラス板47(フロートガラス、大阪硝子株式会社製、縦100mm×横100mm×厚み0.55mm)に貼り付け、ローラーで押し付けた。次いで、ガラス板47に貼り付けた樹脂層41から基材フィルムAを剥離し、樹脂層41の表面を露出させ、ガラス板47、固定板42(縦100mm×横100mm×厚み3.0mm)、及び金属板43(縦150mm×横150mm×厚み10mm)の順となるように積層することによって、評価サンプルを得た。次いで、直径11mmの鉄球44を固定したハンマー45(質量280g)を、評価サンプルの樹脂層41から垂直方向で高さ10mmの位置から落下させ、フロートガラスの割れ又はヒビの有無を評価した。なお、落下させた際にフロートガラスに割れ又はヒビが生じていない場合は、落下場所をずらして、ハンマー45を繰り返し落下させた。測定は23℃の環境下で行った。耐衝撃性の評価基準は以下のとおりである。
A:10回のハンマー落下で、フロートガラスに割れ又はヒビが発生しなかった。
B:10回未満のハンマーの落下で、フロートガラスに割れ又はヒビが発生した。
The film materials of Examples 2-1 to 2-4 and Comparative Examples 2-1 to 2-6 were cut into a size of 90 mm × 90 mm, the base film B of the cut film material was peeled off, and the surface of the resin layer 41 was removed. Exposed. Thereafter, the exposed surface of the resin layer 41 was attached to a glass plate 47 (float glass, manufactured by Osaka Glass Co., Ltd., length 100 mm × width 100 mm × thickness 0.55 mm) and pressed with a roller. Next, the base film A is peeled from the resin layer 41 attached to the glass plate 47, the surface of the resin layer 41 is exposed, the glass plate 47, the fixing plate 42 (length 100 mm × width 100 mm × thickness 3.0 mm), And the evaluation sample was obtained by laminating | stacking so that it might become the order of the metal plate 43 (length 150mm x width 150mm x thickness 10mm). Next, a hammer 45 (mass 280 g) to which an iron ball 44 having a diameter of 11 mm was fixed was dropped from a position having a height of 10 mm in the vertical direction from the resin layer 41 of the evaluation sample, and the presence or absence of cracks or cracks in the float glass was evaluated. When the float glass was not cracked or cracked when dropped, the drop location was shifted and the hammer 45 was repeatedly dropped. The measurement was performed in an environment of 23 ° C. The evaluation criteria for impact resistance are as follows.
A: Cracks or cracks did not occur in the float glass after 10 hammer drops.
B: The float glass cracked or cracked when the hammer dropped less than 10 times.

3.耐熱性の評価
耐熱性は、樹脂層が高温下で応力を受けた際の変形率によって評価した。実施例2−1〜2−4及び比較例2−1〜2−6のフィルム材を縦7.0mm×横10mmのサイズに切り出し、切り出したフィルム材の基材フィルムBを剥離して樹脂層の表面を露出させた。その後、露出させた樹脂層の表面をΦ10mmの石英ガラスに手で押し付けて貼り付けた。次いで、石英ガラスに貼り付けた基材フィルムAを剥離して評価サンプルとした。熱機械分析装置(セイコーインスツル株式会社製、製品名「EXSTAR6000」)の圧縮荷重法において、Φ1.0mmの圧縮圧子を評価サンプルの樹脂層表面に接触させ、荷重をかけずに1分間静置した後、30mNの荷重にて5分間クリープさせたときの変形量を測定し、変形率を下記式(B)に基づいて算出した。測定は95℃で行った。なお、変形率が小さいほど、高温下での耐久性が高いことを示しており、耐熱性が高いことを意味する。
95℃変形率(%)=圧縮後の変形量(μm)/圧縮前の樹脂層厚み(μm)×100 (B)
3. Evaluation of heat resistance The heat resistance was evaluated by the deformation rate when the resin layer was subjected to stress at high temperature. The film materials of Examples 2-1 to 2-4 and Comparative Examples 2-1 to 2-6 were cut into a size of 7.0 mm in length and 10 mm in width, and the base film B of the cut out film material was peeled off to form a resin layer The surface of was exposed. Then, the surface of the exposed resin layer was pressed by hand onto quartz glass having a diameter of 10 mm and pasted. Next, the base film A attached to the quartz glass was peeled off to obtain an evaluation sample. In the compression load method of a thermomechanical analyzer (product name “EXSTAR6000” manufactured by Seiko Instruments Inc.), a compression indenter of Φ1.0 mm is brought into contact with the resin layer surface of the evaluation sample and left to stand for 1 minute without applying a load. After that, the amount of deformation when creeping for 5 minutes with a load of 30 mN was measured, and the deformation rate was calculated based on the following formula (B). The measurement was performed at 95 ° C. In addition, it has shown that durability under high temperature is so high that a deformation rate is small, and it means that heat resistance is high.
95 ° C. deformation rate (%) = deformation amount after compression (μm) / resin layer thickness before compression (μm) × 100 (B)

4.ヘーズの測定
実施例2−1〜2−4及び比較例2−1〜2−6のフィルム材を50mm×50mmのサイズに切り出し、切り出したフィルム材の基材フィルムBを剥離して樹脂層の表面を露出させた。その後、フィルム材の露出させた樹脂層の表面をフロートガラス(縦50mm×横50mm×厚み2.7mm)に貼り付け、ローラーで押し付けた。次いで、フロートガラスに貼り付けた樹脂層から基材フィルムAを剥離し、真空積層機を用いて、真空状態で樹脂層の表面を、フロートガラス(縦50mm×横50mm×厚み2.7mm)に貼り付けて積層体を作製した。その後、作製した積層体を、温度50℃、圧力0.5MPa、30分間保持する条件で加熱加圧処理(オートクレーブ処理)し、測定サンプルを得た。得られたサンプルについて、濁度計(日本電色工業株式会社製、製品名「NDH−5000」)を用いてJIS K7361に準じ、下記式(C)に基づき、ヘーズを測定した。
ヘーズ(%)=(Td/Tt)×100 (C)
Td:拡散透過率、Tt:全光線透過率
4). Measurement of haze The film materials of Examples 2-1 to 2-4 and Comparative Examples 2-1 to 2-6 were cut to a size of 50 mm × 50 mm, and the base film B of the cut film material was peeled off to remove the resin layer. The surface was exposed. Thereafter, the surface of the exposed resin layer of the film material was attached to float glass (length 50 mm × width 50 mm × thickness 2.7 mm) and pressed with a roller. Next, the base film A is peeled off from the resin layer attached to the float glass, and the surface of the resin layer is float glass (length 50 mm × width 50 mm × thickness 2.7 mm) in a vacuum state using a vacuum laminator. The laminated body was produced by pasting. Then, the produced laminated body was heat-pressed (autoclave process) on the conditions hold | maintained for 30 minutes with the temperature of 50 degreeC, the pressure of 0.5 MPa, and the measurement sample was obtained. About the obtained sample, haze was measured based on the following formula (C) according to JIS K7361 using a turbidimeter (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., product name "NDH-5000").
Haze (%) = (Td / Tt) × 100 (C)
Td: diffuse transmittance, Tt: total light transmittance

Figure 2019164293
Figure 2019164293

実施例1−1〜1−4の共重合体溶液A−1〜A−4を用いて作製した実施例2−1〜2−4のフィルム材の樹脂層は、比較例1−1〜1−6の共重合体溶液A−5〜A−10を用いて作製した比較例2−1〜2−6のフィルム材の樹脂層に比べて、耐衝撃性及び耐熱性に優れていた。このことから、実施例2−1〜2−4のフィルム材の樹脂層を画像表示装置に適用した場合において、衝撃吸収層として作用し得ることが示唆された。   The resin layers of the film materials of Examples 2-1 to 2-4 produced using the copolymer solutions A-1 to A-4 of Examples 1-1 to 1-4 are Comparative Examples 1-1 to 1. Compared to the resin layers of the film materials of Comparative Examples 2-1 to 2-6 prepared using the copolymer solutions A-5 to A-10 of -6, the impact resistance and the heat resistance were excellent. From this, it was suggested that when the resin layers of the film materials of Examples 2-1 to 2-4 were applied to an image display device, they could act as an impact absorbing layer.

10…画像表示装置、11…衝撃吸収層、12…基板、13…画像表示部材、14…機能向上部材、15…バリア部材、20…フィルム材、21…樹脂層、22、23…基材、30…加速度減衰率の測定装置、40…耐衝撃性の評価装置、31、41…樹脂層、32、42…固定板、33、43…金属板、34、44…鉄球、35、45…ハンマー、36…加速度センサ、47…ガラス板。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Image display apparatus, 11 ... Shock absorption layer, 12 ... Board | substrate, 13 ... Image display member, 14 ... Function improvement member, 15 ... Barrier member, 20 ... Film material, 21 ... Resin layer, 22, 23 ... Base material DESCRIPTION OF SYMBOLS 30 ... Acceleration decay rate measuring apparatus, 40 ... Impact resistance evaluation apparatus 31, 41 ... Resin layer, 32, 42 ... Fixed plate, 33, 43 ... Metal plate, 34, 44 ... Iron ball, 35, 45 ... Hammer, 36 ... acceleration sensor, 47 ... glass plate.

Claims (4)

画像表示部材と、前記画像表示部材の片側又は両側に配置された衝撃吸収層と、を備え、
前記衝撃吸収層が、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する単量体単位50〜90質量部、水酸基を有する(メタ)アクリレートに由来する単量体単位5〜30質量部、及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位5〜30質量部を含む共重合体を含有し、
前記共重合体の重量平均分子量が300,000〜1,500,000であり、
前記共重合体のガラス転移点が−75〜−45℃であり、
前記共重合体が互いに架橋されていてもよい、画像表示装置。
An image display member, and a shock absorbing layer disposed on one or both sides of the image display member,
50 to 90 parts by mass of a monomer unit derived from an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, the monomer unit 5 derived from a (meth) acrylate having a hydroxyl group. Containing 30 parts by mass and a copolymer containing 5 to 30 parts by mass of monomer units derived from a siloxane compound having an ethylenically unsaturated group;
The copolymer has a weight average molecular weight of 300,000 to 1,500,000,
The glass transition point of the copolymer is -75 to -45 ° C,
An image display device in which the copolymers may be cross-linked with each other.
炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する単量体単位50〜90質量部、水酸基を有する(メタ)アクリレートに由来する単量体単位5〜30質量部、及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位5〜30質量部を含む共重合体と、有機溶剤と、を含有し、
前記共重合体の重量平均分子量が300,000〜1,500,000であり、
前記共重合体のガラス転移点が−75〜−45℃であり、
画像表示装置の衝撃吸収層を形成するために用いられる、共重合体溶液。
50 to 90 parts by mass of monomer units derived from alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, 5 to 30 parts by mass of monomer units derived from (meth) acrylate having a hydroxyl group, and ethylene A copolymer containing 5 to 30 parts by mass of a monomer unit derived from a siloxane compound having a polymerizable unsaturated group, and an organic solvent,
The copolymer has a weight average molecular weight of 300,000 to 1,500,000,
The glass transition point of the copolymer is -75 to -45 ° C,
A copolymer solution used for forming a shock absorbing layer of an image display device.
基材と、前記基材上に配置された樹脂層と、を備え、前記樹脂層が画像表示装置の衝撃吸収層を形成するために用いられる、フィルム材であって、
前記樹脂層が、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する単量体単位50〜90質量部、水酸基を有する(メタ)アクリレートに由来する単量体単位5〜30質量部、及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位5〜30質量部を含む共重合体を含有し、
前記共重合体の重量平均分子量が300,000〜1,500,000であり、
前記共重合体のガラス転移点が−75〜−45℃であり、
前記共重合体が互いに架橋されていてもよい、フィルム材。
A film material, comprising: a base material; and a resin layer disposed on the base material, wherein the resin layer is used to form a shock absorbing layer of an image display device,
50 to 90 parts by mass of monomer units derived from an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and 5 to 30 monomer units derived from a (meth) acrylate having a hydroxyl group. Containing a copolymer containing 5 to 30 parts by mass of a monomer unit derived from a siloxane compound having a mass part and an ethylenically unsaturated group;
The copolymer has a weight average molecular weight of 300,000 to 1,500,000,
The glass transition point of the copolymer is -75 to -45 ° C,
A film material in which the copolymers may be cross-linked with each other.
前記樹脂層のヘーズが5%以下である、請求項3に記載のフィルム材。   The film material according to claim 3, wherein the haze of the resin layer is 5% or less.
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