JP2019164294A - Image display device, light curable resin composition, and film material - Google Patents

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要一郎 満生
Yoichiro Mansei
要一郎 満生
圭俊 古園
Yoshitoshi Furuzono
圭俊 古園
高橋 宏明
Hiroaki Takahashi
宏明 高橋
石川 栄作
Eisaku Ishikawa
栄作 石川
直己 高原
Naoki Takahara
直己 高原
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Abstract

To provide an image display device that includes a shock absorption layer excellent in shock resistance, and a light curable resin composition and a film material that can form such a shock absorption layer.SOLUTION: An image display device 10 comprises: an image display member 13; and a shock absorption layer 11 that is arranged on one side or both sides of the image display member 13. The shock absorption layer 11 is a cured product of a light curable resin composition containing a copolymer containing a monomer unit derived from a first (meth)acryloyl compound and a monomer unit derived from a siloxane compound having an ethylenically unsaturated group, a second (meth)acryloyl compound, and a photopolymerization initiator.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、画像表示装置、光硬化性樹脂組成物、及びフィルム材に関する。   The present invention relates to an image display device, a photocurable resin composition, and a film material.

有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)、液晶等の画像表示装置は、画像表示部材、画像表示部材から放出される光の特性を向上させる機能向上部材、画像表示部材を酸素、湿気等から保護するためのバリア部材、これらの部材を固定する固定部材などの複数の部材を積層することによって構成されている(例えば、特許文献1参照)。   Image display devices such as organic electroluminescence (organic EL) and liquid crystal are used for protecting an image display member, a function improving member that improves the characteristics of light emitted from the image display member, and protecting the image display member from oxygen, moisture, and the like. It is constituted by laminating a plurality of members such as a barrier member and a fixing member for fixing these members (for example, see Patent Document 1).

特開2017−120758号公報JP 2017-120758 A

近年、画像表示装置の軽量化、薄型化又はフレキシブル化が検討されている。しかし、このような検討に伴い、各部材の強度は低下する傾向にある。例えば、画像表示装置に対して、外部応力、画像表示装置組立時の圧力等の衝撃が加わると、画像表示部材、バリア部材等が損傷してしまう場合がある。そのため、画像表示装置には、固定部材としても作用し得る衝撃吸収層を導入することが検討されている。   In recent years, reduction in weight, thickness, or flexibility of image display devices has been studied. However, with such a study, the strength of each member tends to decrease. For example, when an impact such as external stress or pressure during assembly of the image display device is applied to the image display device, the image display member, the barrier member, or the like may be damaged. Therefore, it has been studied to introduce an impact absorbing layer that can also act as a fixing member in the image display device.

本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、耐衝撃性に優れる衝撃吸収層を備える画像表示装置、並びにこのような衝撃吸収層を形成することが可能な光硬化性樹脂組成物及びフィルム材を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and an image display device provided with an impact absorbing layer excellent in impact resistance, and a photocurable resin composition capable of forming such an impact absorbing layer. It aims at providing a thing and a film material.

本発明の一側面は、画像表示部材と、画像表示部材の片側又は両側に配置された衝撃吸収層と、を備え、衝撃吸収層が、第1の(メタ)アクリロイル化合物に由来する単量体単位及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位を含む共重合体と、第2の(メタ)アクリロイル化合物と、光重合開始剤と、を含有する光硬化性樹脂組成物の硬化物である、画像表示装置を提供する。   One aspect of the present invention includes an image display member and a shock absorbing layer disposed on one side or both sides of the image display member, and the shock absorbing layer is a monomer derived from the first (meth) acryloyl compound. A photocurable resin composition comprising a copolymer containing a monomer unit derived from a siloxane compound having a unit and an ethylenically unsaturated group, a second (meth) acryloyl compound, and a photopolymerization initiator An image display device that is a cured product of the above is provided.

第1の(メタ)アクリロイル化合物は、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート及び水酸基を有する(メタ)アクリレートを含んでいてよい。共重合体は、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する単量体単位50〜90質量部、水酸基を有する(メタ)アクリレートに由来する単量体単位5〜30質量部、及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位5〜30質量部を含んでいてよい。   The 1st (meth) acryloyl compound may contain the alkyl (meth) acrylate which has a C1-C18 alkyl group, and the (meth) acrylate which has a hydroxyl group. The copolymer is 50 to 90 parts by mass of a monomer unit derived from an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and 5 to 30 monomer units derived from a (meth) acrylate having a hydroxyl group. 5-30 mass parts of monomer units derived from the mass part and the siloxane compound which has an ethylenically unsaturated group may be included.

別の側面において、本発明は、第1の(メタ)アクリロイル化合物に由来する単量体単位及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位を含む共重合体と、第2の(メタ)アクリロイル化合物と、光重合開始剤と、を含有し、画像表示装置の衝撃吸収層を形成するために用いられる、光硬化性樹脂組成物を提供する。   In another aspect, the present invention provides a copolymer comprising a monomer unit derived from a first (meth) acryloyl compound and a monomer unit derived from a siloxane compound having an ethylenically unsaturated group; And a photopolymerization initiator, and a photocurable resin composition used for forming a shock absorbing layer of an image display device.

第1の(メタ)アクリロイル化合物は、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート及び水酸基を有する(メタ)アクリレートを含んでいてよい。共重合体は、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する単量体単位50〜90質量部、水酸基を有する(メタ)アクリレートに由来する単量体単位5〜30質量部、及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位5〜30質量部を含んでいてよい。   The 1st (meth) acryloyl compound may contain the alkyl (meth) acrylate which has a C1-C18 alkyl group, and the (meth) acrylate which has a hydroxyl group. The copolymer is 50 to 90 parts by mass of a monomer unit derived from an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and 5 to 30 monomer units derived from a (meth) acrylate having a hydroxyl group. 5-30 mass parts of monomer units derived from the mass part and the siloxane compound which has an ethylenically unsaturated group may be included.

別の側面において、本発明は、樹脂層と、樹脂層を挟むように積層された一対の基材層と、を備え、樹脂層が画像表示装置の衝撃吸収層を形成するために用いられる、フィルム材であって、樹脂層が、第1の(メタ)アクリロイル化合物に由来する単量体単位及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位を含む共重合体と、第2の(メタ)アクリロイル化合物と、光重合開始剤と、を含有する光硬化性樹脂組成物の硬化物である、フィルム材を提供する。   In another aspect, the present invention includes a resin layer and a pair of base material layers laminated so as to sandwich the resin layer, and the resin layer is used to form an impact absorption layer of the image display device. A film material, wherein the resin layer comprises a monomer unit derived from the first (meth) acryloyl compound and a monomer unit derived from a siloxane compound having an ethylenically unsaturated group; The film material which is a hardened | cured material of the photocurable resin composition containing 2 (meth) acryloyl compounds of 2 and a photoinitiator is provided.

第1の(メタ)アクリロイル化合物は、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート及び水酸基を有する(メタ)アクリレートを含んでいてよい。共重合体は、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する単量体単位50〜90質量部、水酸基を有する(メタ)アクリレートに由来する単量体単位5〜30質量部、及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位5〜30質量部を含んでいてよい。樹脂層のヘーズは5%以下であってよい。   The 1st (meth) acryloyl compound may contain the alkyl (meth) acrylate which has a C1-C18 alkyl group, and the (meth) acrylate which has a hydroxyl group. The copolymer is 50 to 90 parts by mass of a monomer unit derived from an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and 5 to 30 monomer units derived from a (meth) acrylate having a hydroxyl group. 5-30 mass parts of monomer units derived from the mass part and the siloxane compound which has an ethylenically unsaturated group may be included. The haze of the resin layer may be 5% or less.

本発明によれば、耐衝撃性に優れる衝撃吸収層を備える画像表示装置、並びにこのような衝撃吸収層を形成することが可能な光硬化性樹脂組成物及びフィルム材が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, an image display apparatus provided with the impact-absorbing layer excellent in impact resistance, and the photocurable resin composition and film material which can form such an impact-absorbing layer are provided.

画像表示装置の一実施形態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically one Embodiment of an image display apparatus. フィルム材の一実施形態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically one Embodiment of a film material. 加速度減衰率の測定装置の一例を模式的に示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the measuring apparatus of an acceleration decay rate typically.

以下、図面を適宜参照しながら、本発明の実施形態について説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings as appropriate. However, the present invention is not limited to the following embodiments.

本明細書において、(メタ)アクリロイル化合物は、アクリロイル化合物又はそれに対応するメタクリロイル化合物を意味する。(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイル基等の他の類似表現についても同様である。   In the present specification, the (meth) acryloyl compound means an acryloyl compound or a methacryloyl compound corresponding thereto. The same applies to other similar expressions such as (meth) acrylate and (meth) acryloyl groups.

<画像表示装置>
一実施形態に係る画像表示装置は、画像表示部材と、画像表示部材の片側又は両側に配置された衝撃吸収層と、を備える。図1は、画像表示装置の一実施形態を模式的に示す断面図である。図1に示す画像表示装置10は、基板12、衝撃吸収層11、画像表示部材13、機能向上部材14、及びバリア部材15をこの順に備える。衝撃吸収層11は、画像表示部材13と機能向上部材14との間に配置されていてもよい。また、衝撃吸収層11は、基板12の画像表示部材13の反対側、機能向上部材14とバリア部材15との間、又はバリア部材15の機能向上部材14とは反対側のいずれかにさらに配置されていてもよい。
<Image display device>
An image display device according to an embodiment includes an image display member and a shock absorbing layer disposed on one side or both sides of the image display member. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an embodiment of an image display device. The image display device 10 illustrated in FIG. 1 includes a substrate 12, a shock absorbing layer 11, an image display member 13, a function improving member 14, and a barrier member 15 in this order. The shock absorbing layer 11 may be disposed between the image display member 13 and the function improving member 14. Further, the shock absorbing layer 11 is further disposed on the opposite side of the substrate 12 from the image display member 13, between the function improving member 14 and the barrier member 15, or on the opposite side of the barrier member 15 from the function improving member 14. May be.

画像表示装置10は、特に制限されないが、液晶装置、有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)装置等であってよい。画像表示装置10は、有機EL装置であることが好ましい。   The image display device 10 is not particularly limited, but may be a liquid crystal device, an organic electroluminescence (organic EL) device, or the like. The image display device 10 is preferably an organic EL device.

基板12は、ガラス基板、金属基板、樹脂基板等であってよい。基板12は、フレキシブル基板であってよく、薄型ガラス基板であってもよい。   The substrate 12 may be a glass substrate, a metal substrate, a resin substrate, or the like. The substrate 12 may be a flexible substrate or a thin glass substrate.

画像表示部材13は、一実施形態において、画素電極、有機発光層を含む中間層、及び対向電極をこの順に備える有機EL発光素子であってよい。画素電極は、反射電極であってよい。対向電極は、透明電極であってよい。中間層は、有機発光層を含み、有機発光層以外に、正孔注入層(HIL)、正孔輸送層(HTL)、電子輸送層(ETL)、電子注入層(EIL)等を含んでいてもよい。   In one embodiment, the image display member 13 may be an organic EL light emitting element including a pixel electrode, an intermediate layer including an organic light emitting layer, and a counter electrode in this order. The pixel electrode may be a reflective electrode. The counter electrode may be a transparent electrode. The intermediate layer includes an organic light emitting layer. In addition to the organic light emitting layer, the intermediate layer includes a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), an electron transport layer (ETL), an electron injection layer (EIL), and the like. Also good.

機能向上部材14は、画像表示部材13から放出される光の特性を向上させる機能を有する層であり、有機EL分野で一般的に使用されているものを使用することができる。   The function improving member 14 is a layer having a function of improving the characteristics of the light emitted from the image display member 13, and those generally used in the organic EL field can be used.

バリア部材15は、酸素、湿気等から保護するための封止層であり、有機EL分野で一般的に使用されているものを使用することができる。   The barrier member 15 is a sealing layer for protecting from oxygen, moisture, and the like, and those generally used in the organic EL field can be used.

衝撃吸収層11は、後述の光重合性樹脂組成物の硬化物である。衝撃吸収層11が光重合性樹脂組成物の硬化物であることによって、柔軟性及び強靭性を付与することができ、高い耐衝撃性を得ることができる。衝撃吸収層11は、後述の光硬化性樹脂組成物又はフィルム材から形成することができる。   The shock absorbing layer 11 is a cured product of a photopolymerizable resin composition described later. When the shock absorbing layer 11 is a cured product of the photopolymerizable resin composition, flexibility and toughness can be imparted, and high impact resistance can be obtained. The shock absorbing layer 11 can be formed from a photocurable resin composition or a film material described later.

<光硬化性樹脂組成物>
一実施形態に係る光硬化性樹脂組成物は、特定の共重合体(以下、「(A)成分」という場合がある。)と、第2の(メタ)アクリロイル化合物(以下、「(B)成分」という場合がある。)と、光重合開始剤(以下、「(C)成分」という場合がある。)と、を含有し、画像表示装置の衝撃吸収層を形成するために用いられる。
<Photocurable resin composition>
The photocurable resin composition according to one embodiment includes a specific copolymer (hereinafter sometimes referred to as “component (A)”) and a second (meth) acryloyl compound (hereinafter referred to as “(B)”. And a photopolymerization initiator (hereinafter also referred to as “component (C)”), and is used to form a shock absorbing layer of an image display device.

(A)成分:共重合体
(A)成分は、第1の(メタ)アクリロイル化合物に由来する単量体単位及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位を含む。
(A) Component: Copolymer The (A) component includes a monomer unit derived from the first (meth) acryloyl compound and a monomer unit derived from a siloxane compound having an ethylenically unsaturated group.

第1の(メタ)アクリロイル化合物は、(メタ)アクリロイル基を1つ有する化合物である。第1の(メタ)アクリロイル化合物としては、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリルアミド、アルキル(メタ)アクリレート、水酸基を有する(メタ)アクリレート、アルキレングリコール鎖を有する(メタ)アクリレート、芳香環を有する(メタ)アクリレート、脂環式基を有する(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド誘導体、(メタ)アクリロイルモルホリン、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソシアネート基を有する(メタ)アクリレートが挙げられる。これらは、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、第1の(メタ)アクリロイル化合物は、アルキル(メタ)アクリレート及び水酸基を有する(メタ)アクリレートを含むことが好ましい。   The first (meth) acryloyl compound is a compound having one (meth) acryloyl group. Examples of the first (meth) acryloyl compound include (meth) acrylic acid, (meth) acrylamide, alkyl (meth) acrylate, (meth) acrylate having a hydroxyl group, (meth) acrylate having an alkylene glycol chain, and an aromatic ring. (Meth) acrylate having alicyclic group, (meth) acrylate having alicyclic group, (meth) acrylamide derivative, (meth) acryloylmorpholine, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, and (meth) acrylate having isocyanate group. You may use these individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Among these, the first (meth) acryloyl compound preferably includes an alkyl (meth) acrylate and a (meth) acrylate having a hydroxyl group.

アルキル(メタ)アクリレートは、アルキル基と1つの(メタ)アクリロイル基とを有する化合物である。アルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、n−ペンチル(メタ)アクリレート、n−ヘキシル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート等が挙げられる。アルキル(メタ)アクリレートは、炭素数1〜18の直鎖状又は分岐状のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートを含むことが好ましく、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、又はn−オクチル(メタ)アクリレートを含むことがより好ましく、n−ブチル(メタ)アクリレート又は2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートを含むことがさらに好ましい。また、アルキル(メタ)アクリレートは、アルキルメタクリレートよりもアルキルアクリレートの方が好ましい。   An alkyl (meth) acrylate is a compound having an alkyl group and one (meth) acryloyl group. Examples of the alkyl (meth) acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, and n-pentyl (meth). Acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, Examples include isostearyl (meth) acrylate. The alkyl (meth) acrylate preferably includes an alkyl (meth) acrylate having a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and includes n-butyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, More preferably, it includes stearyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, or n-octyl (meth) acrylate, and more preferably includes n-butyl (meth) acrylate or 2-ethylhexyl (meth) acrylate. . The alkyl (meth) acrylate is preferably an alkyl acrylate rather than an alkyl methacrylate.

水酸基を有する(メタ)アクリレートは、水酸基と1つの(メタ)アクリロイル基とを有する化合物である。水酸基を有する(メタ)アクリレートとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、1−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、1−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、1−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。水酸基を有する(メタ)アクリレートは、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを含むことが好ましく、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートを含むことがより好ましい。   A (meth) acrylate having a hydroxyl group is a compound having a hydroxyl group and one (meth) acryloyl group. Examples of the (meth) acrylate having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 1-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 1- Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 1-hydroxybutyl (meth) acrylate, etc. Etc. The (meth) acrylate having a hydroxyl group preferably contains hydroxyalkyl (meth) acrylate, more preferably 2-hydroxyethyl (meth) acrylate.

アルキレングリコール鎖を有する(メタ)アクリレートとしては、例えば、ジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート等のポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート;ジプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート等のポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート;ジブチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリブチレングリコールモノ(メタ)アクリレート等のポリブチレングリコールモノ(メタ)アクリレート;メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシヘキサエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシオクタエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシノナエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシヘプタプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、ブトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、ブトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート等のアルコキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートが挙げられる。   Examples of the (meth) acrylate having an alkylene glycol chain include polyethylene such as diethylene glycol mono (meth) acrylate, triethylene glycol mono (meth) acrylate, tetraethylene glycol mono (meth) acrylate, and hexaethylene glycol mono (meth) acrylate. Glycol mono (meth) acrylate; Polypropylene glycol mono (meth) acrylate such as dipropylene glycol mono (meth) acrylate, tripropylene glycol mono (meth) acrylate, octapropylene glycol mono (meth) acrylate; Dibutylene glycol mono (meth) Polybutylene glycol mono (meth) acrylates such as acrylate and tributylene glycol mono (meth) acrylate; methoxy Liethylene glycol (meth) acrylate, methoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, methoxyhexaethylene glycol (meth) acrylate, methoxyoctaethylene glycol (meth) acrylate, methoxynonaethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate And alkoxy polyalkylene glycol (meth) acrylates such as methoxyheptapropylene glycol (meth) acrylate, ethoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, butoxyethylene glycol (meth) acrylate, and butoxydiethylene glycol (meth) acrylate.

芳香環を有する(メタ)アクリレートとしては、例えば、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレートが挙げられる。脂環式基を有する(メタ)アクリレートとしては、例えば、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレートが挙げられる。(メタ)アクリルアミド誘導体としては、例えば、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミドが挙げられる。イソシアネート基を有する(メタ)アクリレートとしては、例えば、2−(2−メタクリロイルオキシエチルオキシ)エチルイソシアネート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネートが挙げられる。   Examples of the (meth) acrylate having an aromatic ring include benzyl (meth) acrylate and phenoxyethyl (meth) acrylate. Examples of the (meth) acrylate having an alicyclic group include cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, and dicyclopentanyl (meth) acrylate. Examples of (meth) acrylamide derivatives include N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, and N-isopropyl (meth). Examples include acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, and N-hydroxyethyl (meth) acrylamide. Examples of the (meth) acrylate having an isocyanate group include 2- (2-methacryloyloxyethyloxy) ethyl isocyanate and 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate.

エチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物は、例えば、(メタ)アクリロイル基、スチリル基、ケイ皮酸エステル基、ビニル基、アリル基等の不飽和基を有し、かつシロキサン構造を有する化合物である。エチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物としては、例えば、下記一般式(a)又は(b)で表される化合物等が挙げられる。エチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the siloxane compound having an ethylenically unsaturated group are compounds having an unsaturated group such as a (meth) acryloyl group, a styryl group, a cinnamic acid ester group, a vinyl group, and an allyl group, and a siloxane structure. . Examples of the siloxane compound having an ethylenically unsaturated group include compounds represented by the following general formula (a) or (b). A siloxane compound having an ethylenically unsaturated group may be used singly or in combination of two or more.

Figure 2019164294
Figure 2019164294

式(a)中、Rは水素原子又はメチル基を示し、R、R、R、R、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Rは1価の炭化水素基を示し、Lは酸素原子が介在してもよい2価の炭化水素基又は単結合を示し、mは1以上の整数を示す。 In formula (a), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 8 represents 1 Represents a divalent hydrocarbon group, L 1 represents a divalent hydrocarbon group or a single bond in which an oxygen atom may be interposed, and m represents an integer of 1 or more.

Figure 2019164294
Figure 2019164294

式(b)中、Rは水素原子又はメチル基を示し、R、R、R、R、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、L及びLはそれぞれ独立に酸素原子が介在してもよい2価の炭化水素基又は単結合を示し、nは1以上の整数を示す。 In formula (b), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and L 1 and L 2 independently represents a divalent hydrocarbon group or a single bond in which an oxygen atom may intervene, and n represents an integer of 1 or more.

1価の炭化水素基としては、例えば、炭素数1〜6のアルキル基又はフェニル基が挙げられる。2価の炭化水素基としては、例えば、炭素数1〜20のアルキレン基が挙げられる。   Examples of the monovalent hydrocarbon group include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group. As a bivalent hydrocarbon group, a C1-C20 alkylene group is mentioned, for example.

(A)成分は、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する単量体単位50〜90質量部、水酸基を有する(メタ)アクリレートに由来する単量体単位5〜30質量部、及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位5〜30質量部を含むことが好ましい。   Component (A) is composed of 50 to 90 parts by mass of a monomer unit derived from an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, 5 to a monomer unit derived from a (meth) acrylate having a hydroxyl group. It is preferable that 5-30 mass parts of monomer units derived from 30 mass parts and the siloxane compound which has an ethylenically unsaturated group are included.

炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する単量体単位の含有量は、(A)成分の全単量体単位100質量部に対して、好ましくは50〜90質量部、より好ましくは60〜90質量部、さらに好ましくは65〜85質量部である。炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する単量体単位の含有量がこのような範囲にあると、樹脂層を形成したときに、樹脂層(衝撃吸収層)と基材との密着性をより向上させることができる傾向にある。   The content of the monomer unit derived from the alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms is preferably 50 to 90 mass with respect to 100 mass parts of all monomer units of the component (A). Parts, more preferably 60 to 90 parts by mass, and still more preferably 65 to 85 parts by mass. When the content of the monomer unit derived from the alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms is in such a range, when the resin layer is formed, the resin layer (impact absorbing layer) and It exists in the tendency which can improve adhesiveness with a base material more.

水酸基を有する(メタ)アクリレートに由来する単量体単位の含有量は、(A)成分の全単量体単位100質量部に対して、好ましくは5〜30質量部、より好ましくは10〜30質量部、さらに好ましくは15〜30質量部である。水酸基を有する(メタ)アクリレートに由来する単量体単位の含有量がこのような範囲にあると、形成される樹脂層(衝撃吸収層)に、高い透明性(例えば、ヘーズが5.0%以下)を付与することができる傾向にある。   The content of the monomer unit derived from the (meth) acrylate having a hydroxyl group is preferably 5 to 30 parts by mass, more preferably 10 to 30 parts per 100 parts by mass of the total monomer units of the component (A). Part by mass, more preferably 15 to 30 parts by mass. When the content of the monomer unit derived from the (meth) acrylate having a hydroxyl group is in such a range, the formed resin layer (impact absorbing layer) has high transparency (for example, haze of 5.0%). The following).

エチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位の含有量は、(A)成分の全単量体単位100質量部に対して、好ましくは5〜30質量部、より好ましくは5〜20質量部、さらに好ましくは5〜15質量部である。エチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位の含有量がこのような範囲にあると、得られる樹脂層の柔軟性及び強靭性を向上させることができ、より高い耐衝撃性を得ることができる傾向にある。   The content of the monomer unit derived from the siloxane compound having an ethylenically unsaturated group is preferably 5 to 30 parts by mass, more preferably 5 to 100 parts by mass of the total monomer units of the component (A). -20 mass parts, More preferably, it is 5-15 mass parts. When the content of the monomer unit derived from the siloxane compound having an ethylenically unsaturated group is in such a range, the flexibility and toughness of the resulting resin layer can be improved, and higher impact resistance Tend to be able to get.

(A)成分は、本発明の奏する効果を著しく損なわない範囲であれば、(メタ)アクリロイル化合物に由来する単量体単位及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位以外のその他の単量体に由来する単量体単位をさらに含んでいてもよい。その他の単量体としては、例えば、アクリロニトリル、スチレン、酢酸ビニル、エチレン、プロピレン、ジビニルベンゼン等が挙げられる。   Component (A) is a monomer unit derived from a (meth) acryloyl compound and a monomer unit derived from a siloxane compound having an ethylenically unsaturated group, as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. A monomer unit derived from the other monomer may be further included. Examples of other monomers include acrylonitrile, styrene, vinyl acetate, ethylene, propylene, divinylbenzene, and the like.

(A)成分の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは300,000〜1,500,000、より好ましくは350,000〜1,200,000、さらに好ましくは400,000〜1,000,000である。(A)成分の重量平均分子量(Mw)が300,000以上であると、凝集性が高まり、耐熱性が得られ易い傾向にある。(A)成分の重量平均分子量(Mw)が1,500,000以下であると、フィルム材を形成するに際して、均一な厚みを有する樹脂層(衝撃吸収層)が得られ易い傾向にある。なお、重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を使用し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算した値から求めることができる。   The weight average molecular weight (Mw) of the component (A) is preferably 300,000 to 1,500,000, more preferably 350,000 to 1,200,000, still more preferably 400,000 to 1,000,000. It is. When the weight average molecular weight (Mw) of the component (A) is 300,000 or more, the cohesiveness is increased and heat resistance tends to be easily obtained. When the weight average molecular weight (Mw) of the component (A) is 1,500,000 or less, a resin layer (impact absorbing layer) having a uniform thickness tends to be easily obtained when forming a film material. In addition, a weight average molecular weight (Mw) can be calculated | required from the value converted using the calibration curve of a standard polystyrene using gel permeation chromatography (GPC).

共重合体のガラス転移点(Tg)は、好ましくは−75〜−30℃、より好ましくは−75〜−45℃、さらに好ましくは−70〜−50℃である。共重合体のガラス転移点(Tg)が−75℃以上であると、凝集性が高まり、良好なハンドリング性が得られ易くなる傾向にある。共重合体のガラス転移点(Tg)が−45℃以下であると、得られる樹脂層の柔軟性を向上させ、高い耐衝撃性を付与することができる傾向にある。   The glass transition point (Tg) of the copolymer is preferably −75 to −30 ° C., more preferably −75 to −45 ° C., and further preferably −70 to −50 ° C. When the glass transition point (Tg) of the copolymer is −75 ° C. or higher, the cohesiveness is increased and good handling properties tend to be easily obtained. When the glass transition point (Tg) of the copolymer is −45 ° C. or lower, the flexibility of the resulting resin layer tends to be improved and high impact resistance tends to be imparted.

なお、共重合体のガラス転移点(Tg)は、以下の関係式(FOX式)によって算出したものを意味する。
1/Tg=Σ(X/Tg
[上記式中、Tgは、共重合体のガラス転移点(K)を示す。Xは、各単量体の質量分率を示し、X+X+…+X+…+X=1である。Tgは、各単量体の単独重合体のガラス転移点(K)を示す。]
In addition, the glass transition point (Tg) of a copolymer means what was computed by the following relational expressions (FOX formula).
1 / Tg = Σ (X i / Tg i )
[In the above formula, Tg represents the glass transition point (K) of the copolymer. X i represents a mass fraction of each monomer, and X 1 + X 2 +... + X i +... + X n = 1. Tg i indicates the glass transition temperature (K) of a homopolymer of each monomer. ]

(A)成分は、例えば、溶液重合、乳化重合、懸濁重合、塊状重合等の既知の重合方法を用いて合成することができるが、(A)成分は、有機溶剤を用いて溶液重合によって合成することが好ましい。親水性の高い水酸基を有する(メタ)アクリレートと疎水性の高いエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物とを溶媒和の効果により均一に共重合することができ、樹脂層(衝撃吸収層)において、高い透明性(例えば、ヘーズが5.0%以下)を付与することが可能となる。   The component (A) can be synthesized using a known polymerization method such as solution polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization, bulk polymerization, etc., but the component (A) can be synthesized by solution polymerization using an organic solvent. It is preferable to synthesize. A (meth) acrylate having a highly hydrophilic hydroxyl group and a siloxane compound having a highly hydrophobic ethylenically unsaturated group can be uniformly copolymerized by the effect of solvation, and in the resin layer (shock absorbing layer), High transparency (for example, haze of 5.0% or less) can be imparted.

有機溶剤は、特に制限されないが、各単量体を溶解させることができるものが好ましい。このような有機溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール等の脂肪族アルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類等が挙げられる。これらの中でも、有機溶剤は、共重合体の分子量制御の観点から、好ましくは酢酸エチル、メチルエチルケトン、又はトルエンである。   The organic solvent is not particularly limited, but an organic solvent that can dissolve each monomer is preferable. Examples of such organic solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, aliphatic alcohols such as n-propyl alcohol and isopropyl alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, and methyl. Examples thereof include ketones such as isobutyl ketone and cyclohexanone. Among these, the organic solvent is preferably ethyl acetate, methyl ethyl ketone, or toluene from the viewpoint of controlling the molecular weight of the copolymer.

共重合体を合成する際の重合開始剤として、熱によってラジカルを発生する化合物を用いることができる。重合開始剤としては、例えば、過酸化ベンゾイル、ラウロイルパーオキシド等の有機過酸化物;2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)等のアゾ系化合物が挙げられる。   As the polymerization initiator for synthesizing the copolymer, a compound that generates a radical by heat can be used. Examples of the polymerization initiator include organic peroxides such as benzoyl peroxide and lauroyl peroxide; 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), and the like. An azo compound is mentioned.

(A)成分の含有量は、光硬化性樹脂組成物全量を基準として、好ましくは15〜60質量%、より好ましくは15〜55質量%、さらに好ましくは15〜50質量%である。(A)成分の含有量が、光硬化性樹脂組成物全量を基準として、15質量%以上であると、得られる樹脂層の強靭性を向上させることができる傾向にある。(A)成分の含有量が、光硬化性樹脂組成物全量を基準として、60質量%以下であると、光硬化性樹脂組成物の粘度が樹脂層を作製する際の適正粘度範囲に入り、加工性がより良好となる傾向にある。   The content of the component (A) is preferably 15 to 60% by mass, more preferably 15 to 55% by mass, and further preferably 15 to 50% by mass based on the total amount of the photocurable resin composition. When the content of the component (A) is 15% by mass or more based on the total amount of the photocurable resin composition, the toughness of the resulting resin layer tends to be improved. When the content of the component (A) is 60% by mass or less based on the total amount of the photocurable resin composition, the viscosity of the photocurable resin composition enters an appropriate viscosity range when producing the resin layer, Workability tends to be better.

(B)成分:第2の(メタ)アクリロイル化合物
(B)成分である第2の(メタ)アクリロイル化合物は、(メタ)アクリロイル基を1つ有する化合物である。第2の(メタ)アクリロイル化合物としては、第1の(メタ)アクリロイル化合物で例示した化合物と同様のものが挙げられる。第2の(メタ)アクリロイル化合物は、アルキル(メタ)アクリレート及び水酸基を有する(メタ)アクリレートを含むことが好ましい。
(B) component: 2nd (meth) acryloyl compound The 2nd (meth) acryloyl compound which is (B) component is a compound which has one (meth) acryloyl group. Examples of the second (meth) acryloyl compound include the same compounds as those exemplified for the first (meth) acryloyl compound. The second (meth) acryloyl compound preferably includes an alkyl (meth) acrylate and a (meth) acrylate having a hydroxyl group.

(B)成分の含有量は、光硬化性樹脂組成物全量を基準として、好ましくは40〜85質量%、より好ましくは45〜85質量%、さらに好ましくは50〜85質量%である。(B)成分の含有量が、光硬化性樹脂組成物全量を基準として、40質量%以上であると、光硬化性樹脂組成物の粘度が樹脂層を作製する際の適正粘度範囲に入り、加工性がより良好となる傾向にある。(B)成分の含有量が、光硬化性樹脂組成物全量を基準として、85質量%以下であると、得られる樹脂層の強靭性を向上させることができる傾向にある。   The content of the component (B) is preferably 40 to 85% by mass, more preferably 45 to 85% by mass, and further preferably 50 to 85% by mass based on the total amount of the photocurable resin composition. When the content of the component (B) is 40% by mass or more based on the total amount of the photocurable resin composition, the viscosity of the photocurable resin composition enters an appropriate viscosity range when the resin layer is produced, Workability tends to be better. When the content of the component (B) is 85% by mass or less based on the total amount of the photocurable resin composition, the toughness of the resulting resin layer tends to be improved.

(C)成分:光重合開始剤
(C)成分は、活性エネルギー線の照射によって硬化反応を促進させるものである。活性エネルギー線とは、紫外線、電子線、α線、β線、γ線等をいう。
Component (C): Photopolymerization initiator Component (C) promotes the curing reaction by irradiation with active energy rays. Active energy rays refer to ultraviolet rays, electron beams, α rays, β rays, γ rays and the like.

(C)成分としては、例えば、ベンゾフェノン、N,N,N’,N’−テトラメチル−4,4’−ジアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、N,N,N’,N’−テトラエチル−4,4’−ジアミノベンゾフェノン、4−メトキシ−4’−ジメチルアミノベンゾフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、2−エチルアントラキノン、t−ブチルアントラキノン、1,4−ジメチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、2,3−ジクロロアントラキノン、3−クロロ−2−メチルアントラキノン、1,2−ベンゾアントラキノン、2−フェニルアントラキノン、1,4−ナフトキノン、9,10−フェナントラキノン、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2,2−ジエトキシアセトフェノン等の芳香族ケトン化合物;ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物;ベンジル、ベンジルジメチルケタール等のベンジル化合物;β−(アクリジン−9−イル)(メタ)アクリル酸等のエステル化合物;9−フェニルアクリジン、9−ピリジルアクリジン、1,7−ジアクリジノヘプタン等のアクリジン化合物;2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾール二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2,4−ジ(p−メトキシフェニル)5−フェニルイミダゾール二量体、2−(2,4−ジメトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−メチルメルカプトフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体等の2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体;2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モリホリノフェニル)−1−ブタノン;2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−1−プロパン;ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド;オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)が挙げられる。これらの(C)成分は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the component (C) include benzophenone, N, N, N ′, N′-tetramethyl-4,4′-diaminobenzophenone (Michler ketone), N, N, N ′, N′-tetraethyl-4,4. '-Diaminobenzophenone, 4-methoxy-4'-dimethylaminobenzophenone, α-hydroxyisobutylphenone, 2-ethylanthraquinone, t-butylanthraquinone, 1,4-dimethylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2,3-dichloroanthraquinone , 3-chloro-2-methylanthraquinone, 1,2-benzoanthraquinone, 2-phenylanthraquinone, 1,4-naphthoquinone, 9,10-phenanthraquinone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone , 2,2- Aromatic ketone compounds such as methoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2,2-diethoxyacetophenone; benzoin, methylbenzoin, ethyl Benzoin compounds such as benzoin; benzoin ether compounds such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether and benzoin phenyl ether; benzyl compounds such as benzyl and benzyldimethyl ketal; β- (acridin-9-yl) (meth) acryl Ester compounds such as acids; acridine compounds such as 9-phenylacridine, 9-pyridylacridine, 1,7-diacridinoheptane; 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- ( o-black Phenyl) -4,5-di (m-methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (o-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o-methoxyphenyl) -4,5 -Diphenylimidazole dimer, 2- (p-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2,4-di (p-methoxyphenyl) 5-phenylimidazole dimer, 2- (2, 2,4,5-triarylimidazole dimers such as 4-dimethoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (p-methylmercaptophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer; 2-Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone; 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2- Ruphorino-1-propane; bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide; oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone) . These components (C) may be used alone or in combination of two or more.

光硬化性樹脂組成物溶液を着色させない(C)成分としては、例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン等のα−ヒドロキシアルキルフェノン化合物;ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド化合物;オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)が挙げられる。   Examples of the component (C) that does not color the photocurable resin composition solution include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, and 1- [4- ( Α-hydroxyalkylphenone compounds such as 2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one; bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis Acylphosphine oxide compounds such as (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide; oligo (2-hydroxy-2-methyl- 1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone) And the like.

特に厚い樹脂層(衝撃吸収層)を形成するためには、(C)成分は、例えば、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド化合物を含んでもよい。   In order to form a particularly thick resin layer (shock absorbing layer), the component (C) includes, for example, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl)- Acylphosphine oxide compounds such as 2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide and 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide may also be included.

(C)成分の含有量は、光硬化性樹脂組成物全量を基準として、好ましくは0.05〜5質量%、より好ましくは0.1〜3質量%、さらに好ましくは0.1〜1.5質量%である。光重合開始剤の含有量が5質量%以下であることによって、透過率が高く、また色相も黄味を帯びることがなく、透明性に優れる樹脂層(衝撃吸収層)を得ることができる傾向にある。   The content of the component (C) is preferably 0.05 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 3% by mass, and still more preferably 0.1 to 1.% by mass, based on the total amount of the photocurable resin composition. 5% by mass. When the content of the photopolymerization initiator is 5% by mass or less, the transmittance is high, the hue is not yellowish, and a resin layer (impact absorbing layer) excellent in transparency tends to be obtained. It is in.

その他の成分
光硬化性樹脂組成物は、(A)成分、(B)成分、及び(C)成分以外の成分をその他の成分として含有していてもよい。
Other Components The photocurable resin composition may contain components other than the (A) component, the (B) component, and the (C) component as other components.

その他の成分としては、例えば、光硬化性樹脂組成物の凝集力を高める観点から、光架橋剤が挙げられる。   Examples of other components include a photocrosslinking agent from the viewpoint of increasing the cohesive strength of the photocurable resin composition.

光架橋剤としては、例えば、炭素数1〜20のアルキレン基を有するアルキレンジオールジ(メタ)アクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート;エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート等のビスフェノール型ジ(メタ)アクリレート;ウレタン結合を有するウレタンジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the photocrosslinking agent include alkylene diol di (meth) acrylate having an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms; alkylene glycol di (meth) acrylate such as polyethylene glycol di (meth) acrylate and polypropylene glycol di (meth) acrylate. Bisphenol type di (meth) acrylates such as ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, ethoxylated bisphenol F di (meth) acrylate and bisphenol A type epoxy (meth) acrylate; urethane di (meth) acrylate having a urethane bond, etc. Can be mentioned.

ウレタン結合を有するウレタンジ(メタ)アクリレートは、他の成分との相溶性が良好である観点から、ポリアルキレングリコール鎖を有していてもよく、透明性を確保する観点から、脂環式構造を有していてもよい。光架橋剤と(A)成分との相溶性が低い場合、光硬化性樹脂組成物から形成される樹脂層(衝撃吸収層)が白濁する可能性がある。   The urethane di (meth) acrylate having a urethane bond may have a polyalkylene glycol chain from the viewpoint of good compatibility with other components, and from the viewpoint of ensuring transparency, an alicyclic structure. You may have. When the compatibility between the photocrosslinking agent and the component (A) is low, the resin layer (shock absorbing layer) formed from the photocurable resin composition may become cloudy.

高温又は高温高湿下における気泡及び剥がれの発生をより抑制できる観点から、光架橋剤の重量平均分子量は、好ましくは100,000以下、より好ましくは300〜100,000、さらに好ましくは500〜80,000である。   From the viewpoint of further suppressing the occurrence of bubbles and peeling under high temperature or high temperature and high humidity, the weight average molecular weight of the photocrosslinking agent is preferably 100,000 or less, more preferably 300 to 100,000, and even more preferably 500 to 80. , 000.

光架橋剤を用いる場合の含有量は、(A)成分全質量を基準として、好ましくは15質量%以下、より好ましくは10質量%以下、さらに好ましくは7質量%以下である。このような範囲であると、充分な密着性を有する樹脂層(衝撃吸収層)を得ることができる傾向にある。光架橋剤の含有量の下限については、特に制限されないが、フィルム形成性をより良好にする観点から、好ましくは0.1質量%以上、より好ましくは2質量%以上、さらに好ましくは3質量%以上である。   The content in the case of using the photocrosslinking agent is preferably 15% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and further preferably 7% by mass or less, based on the total mass of the component (A). Within such a range, a resin layer (shock absorbing layer) having sufficient adhesion tends to be obtained. The lower limit of the content of the photocrosslinking agent is not particularly limited, but is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, and still more preferably 3% by mass from the viewpoint of improving film formability. That's it.

光架橋剤以外のその他の成分としては、例えば、光硬化性樹脂組成物の保存安定性を高める目的で添加するパラメトキシフェノール等の重合禁止剤、光硬化性樹脂組成物を光硬化させて得られる樹脂層(衝撃吸収層)の耐熱性を高める目的で添加するトリフェニルホスファイト等の酸化防止剤、紫外線等の光に対する光硬化性樹脂組成物の耐性を高める目的で添加するHALS(Hindered Amine Light Stabilizer)等の光安定化剤、ガラスに対する光硬化性樹脂組成物の密着性を高めるために添加するシランカップリング剤が挙げられる。   As other components other than the photocrosslinking agent, for example, a polymerization inhibitor such as paramethoxyphenol added for the purpose of enhancing the storage stability of the photocurable resin composition, a photocurable resin composition is obtained by photocuring. Antioxidants such as triphenyl phosphite added for the purpose of increasing the heat resistance of the resin layer (shock absorbing layer), and HALS (Hindered Amine) for the purpose of increasing the resistance of the photocurable resin composition to light such as ultraviolet rays Light stabilizers such as Light Stabilizer), and silane coupling agents added to increase the adhesion of the photocurable resin composition to glass.

<フィルム材>
一実施形態に係るフィルム材は、樹脂層と、樹脂層を挟むように積層された一対の基材層と、を備え、樹脂層が画像表示装置の衝撃吸収層を形成するために用いられる。当該樹脂層は、上述した光硬化性樹脂組成物から形成することができる。
<Film material>
A film material according to an embodiment includes a resin layer and a pair of base material layers laminated so as to sandwich the resin layer, and the resin layer is used to form an impact absorption layer of an image display device. The said resin layer can be formed from the photocurable resin composition mentioned above.

図2は、フィルム材の一実施形態を模式的に示す断面図である。図2に示されるように、フィルム材20は、樹脂層21と、樹脂層21を挟むように積層された一方の基材22及び他方の基材23と、を備えていてもよい。   FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an embodiment of the film material. As shown in FIG. 2, the film material 20 may include a resin layer 21, and one base material 22 and the other base material 23 stacked so as to sandwich the resin layer 21.

基材22は、基材23よりも重剥離性の基材であることが好ましい。基材22としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリプロピレン、ポリエチレン等の重合体フィルムが挙げられる。これらの中でも、基材22は、PETフィルムであることが好ましい。基材22の厚みは、作業性の観点から、好ましくは50〜200μm、より好ましくは60〜150μm、さらに好ましくは70〜130μmである。   The base material 22 is preferably a material that is more peelable than the base material 23. Examples of the base material 22 include polymer films such as polyethylene terephthalate (PET), polypropylene, and polyethylene. Among these, it is preferable that the base material 22 is a PET film. From the viewpoint of workability, the thickness of the base material 22 is preferably 50 to 200 μm, more preferably 60 to 150 μm, and still more preferably 70 to 130 μm.

基材22の平面形状は、樹脂層21の平面形状よりも大きく、基材22の外縁が樹脂層21の外縁よりも外側に張り出していることが好ましい。基材22の外縁が樹脂層21の外縁よりも張り出す幅は、取り扱い易さ、剥がし易さ、埃等の付着をより低減できる観点から、好ましくは2〜20mm、より好ましくは4〜10mmである。樹脂層21及び基材22の平面形状が略長方形等の略矩形状である場合には、基材22の外縁が樹脂層21の外縁よりも張り出す幅は、好ましくは少なくとも1つの辺において2〜20mm、より好ましくは少なくとも1つの辺において4〜10mm、さらに好ましくは全ての辺において2〜20mm、特に好ましくは全ての辺において4〜10mmである。   The planar shape of the base material 22 is larger than the planar shape of the resin layer 21, and the outer edge of the base material 22 preferably projects outward from the outer edge of the resin layer 21. The width at which the outer edge of the substrate 22 protrudes from the outer edge of the resin layer 21 is preferably 2 to 20 mm, more preferably 4 to 10 mm, from the viewpoint of ease of handling, ease of peeling, and reduction of adhesion of dust and the like. is there. When the planar shape of the resin layer 21 and the base material 22 is a substantially rectangular shape such as a substantially rectangular shape, the width at which the outer edge of the base material 22 protrudes from the outer edge of the resin layer 21 is preferably 2 on at least one side. -20 mm, more preferably 4 to 10 mm on at least one side, further preferably 2 to 20 mm on all sides, particularly preferably 4 to 10 mm on all sides.

基材23は、基材22よりも軽剥離性の基材を用いることが好ましい。基材23としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリプロピレン、ポリエチレン等の重合体フィルムが挙げられる。これらの中でも、基材23は、PETフィルムであることが好ましい。基材23の厚みは、作業性の観点から、25〜150μmであることが好ましく、30〜100μmであることがより好ましく、40〜80μmであることが更に好ましい。   The base material 23 is preferably a light-peeling base material than the base material 22. Examples of the base material 23 include polymer films such as polyethylene terephthalate (PET), polypropylene, and polyethylene. Among these, it is preferable that the base material 23 is a PET film. From the viewpoint of workability, the thickness of the base material 23 is preferably 25 to 150 μm, more preferably 30 to 100 μm, and still more preferably 40 to 80 μm.

基材23の平面形状は、樹脂層21の平面形状よりも大きく、基材23の外縁が樹脂層21の外縁よりも外側に張り出していることが好ましい。基材23の外縁が樹脂層21の外縁よりも張り出す幅は、取り扱い易さ、剥がし易さ、埃等の付着をより低減できる観点から、好ましくは2〜20mm、より好ましくは4〜10mmである。樹脂層21及び基材23の平面形状が略長方形等の略矩形状である場合には、基材23の外縁が樹脂層21の外縁よりも張り出す幅は、好ましくは少なくとも1つの辺において2〜20mm、より好ましくは少なくとも1つの辺において4〜10mm、さらに好ましくは全ての辺において2〜20mm、特に好ましくは全ての辺において4〜10mmである。   The planar shape of the base material 23 is larger than the planar shape of the resin layer 21, and it is preferable that the outer edge of the base material 23 projects outward from the outer edge of the resin layer 21. The width at which the outer edge of the base material 23 protrudes from the outer edge of the resin layer 21 is preferably 2 to 20 mm, more preferably 4 to 10 mm, from the viewpoint of ease of handling, ease of peeling, and reduction of adhesion of dust and the like. is there. In the case where the planar shape of the resin layer 21 and the base material 23 is a substantially rectangular shape such as a substantially rectangular shape, the width at which the outer edge of the base material 23 protrudes from the outer edge of the resin layer 21 is preferably 2 on at least one side. -20 mm, more preferably 4 to 10 mm on at least one side, further preferably 2 to 20 mm on all sides, particularly preferably 4 to 10 mm on all sides.

基材23と樹脂層21との間の剥離強度は、基材22と樹脂層21との間の剥離強度よりも低いことが好ましい。これによって、基材22は基材23よりも樹脂層21から剥離し難くなる。剥離強度は、例えば、基材22及び基材23の表面処理を施すことによって調整することができる。表面処理方法としては、例えば、シリコーン系化合物又はフッ素系化合物で、基材を離型処理することが挙げられる。   The peel strength between the base material 23 and the resin layer 21 is preferably lower than the peel strength between the base material 22 and the resin layer 21. As a result, the base material 22 is less likely to peel from the resin layer 21 than the base material 23. The peel strength can be adjusted, for example, by applying a surface treatment to the base material 22 and the base material 23. As the surface treatment method, for example, a release treatment of the base material with a silicone compound or a fluorine compound may be mentioned.

樹脂層21を形成する方法は、公知の技術を使用することができる。例えば、まず、上述の光硬化性樹脂組成物の粘度を、(C)成分又は光架橋剤の含有量によって調製する。次いで、光硬化性樹脂組成物を基材22上に塗布し、当該光硬化性樹脂組成物に対して活性エネルギー線を照射し、硬化させることによって、任意の厚みを有する樹脂層21を形成することができる。塗布方法としては、例えば、フローコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ワイヤーバーコート法、リップダイコート法等の公知の方法を用いることができる。   A known technique can be used for forming the resin layer 21. For example, first, the viscosity of the above-mentioned photocurable resin composition is prepared depending on the content of the component (C) or the photocrosslinking agent. Next, the resin layer 21 having an arbitrary thickness is formed by applying the photocurable resin composition onto the base material 22 and irradiating the photocurable resin composition with active energy rays and curing the composition. be able to. As a coating method, for example, a known method such as a flow coating method, a roll coating method, a gravure coating method, a wire bar coating method, or a lip die coating method can be used.

基材22上に樹脂層21を形成した後、樹脂層21上に基材23を積層することで、フィルム材が作製される。樹脂層21は基材23及び基材22で挟まれる構成となる。樹脂層21と、基材23及び基材22との剥離性を制御するために、共重合体溶液に、ポリジメチルシロキサン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤等の界面活性剤を含有させてもよい。   After forming the resin layer 21 on the base material 22, the base material 23 is laminated | stacked on the resin layer 21, and a film material is produced. The resin layer 21 is sandwiched between the base material 23 and the base material 22. In order to control the peelability between the resin layer 21 and the base material 23 and the base material 22, the copolymer solution is allowed to contain a surfactant such as a polydimethylsiloxane-based surfactant or a fluorine-based surfactant. Also good.

樹脂層21の厚みは、使用用途及び方法により適宜調整されるため特に限定されないが、10〜5000μm、25〜200μm、25〜180μm、又は25〜150μmであってもよい。樹脂層21の厚みがこのような範囲であると、外部から加えられた衝撃に対して、より耐性を有する衝撃吸収層となり得る。   The thickness of the resin layer 21 is not particularly limited because it is appropriately adjusted depending on the intended use and method, but may be 10 to 5000 μm, 25 to 200 μm, 25 to 180 μm, or 25 to 150 μm. When the thickness of the resin layer 21 is in such a range, the impact absorbing layer can be more resistant to an externally applied impact.

樹脂層21の可視光領域(波長:380nm〜780nm)の光線に対する光透過率は、好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは95%以上である。   The light transmittance of the resin layer 21 to light in the visible light region (wavelength: 380 nm to 780 nm) is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and still more preferably 95% or more.

樹脂層21のヘーズは、好ましくは5%以下、より好ましくは3%以下、さらに好ましくは1%以下である。なお、ヘーズ(Haze)とは、濁度を表わす値(%)であり、ランプにより照射され、試料中を透過した光の全透過率Tと、試料中で拡散され散乱した光の透過率Tより、(T/T)×100として求められる。これらはJIS K 7136により規定されており、市販の濁度計(例えば、日本電色工業株式会社製、製品名「NDH−5000」)によって容易に測定可能である。 The haze of the resin layer 21 is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and still more preferably 1% or less. Haze is a value (%) representing turbidity, and is a total transmittance T t of light irradiated through a lamp and transmitted through a sample, and a transmittance of light diffused and scattered in the sample. From Td, it is obtained as ( Td / Tt ) × 100. These are defined by JIS K 7136, and can be easily measured by a commercially available turbidimeter (for example, product name “NDH-5000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

本実施形態に係るフィルム材によれば、樹脂層21を傷つけることなく、保管及び運搬を容易にすることができる。   According to the film material which concerns on this embodiment, storage and conveyance can be made easy, without damaging the resin layer 21. FIG.

樹脂層21は、例えば、画像表示部材の片側又は両側に配置することによって、画像表示装置の衝撃吸収層として用いることができる。   The resin layer 21 can be used, for example, as an impact absorbing layer of an image display device by being disposed on one side or both sides of the image display member.

以下に、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples, but the present invention is not limited thereto.

<共重合体の合成>
製造例1
冷却管、温度計、撹拌装置、滴下漏斗、及び窒素導入管の付いた反応容器に、2−エチルヘキシルアクリレート70.0g、2−ヒドロキシエチルアクリレート20.0g、片末端メタクリロイル変性ポリシロキサン化合物(信越化学工業株式会社製、製品名「X−22−2426」、エチレン性不飽和基当量:12000g/mol)10.0g、酢酸エチル72.5g、及びメチルエチルケトン72.5gを加え、100mL/分の風量で窒素置換しながら、30分間で常温(25℃)から65℃まで加熱した。次いで、65℃に保ちながら、酢酸エチル5.0gにラウロイルパーオキシド0.1gを溶解した溶液を投入し、8時間反応させた。続いて、酢酸エチル及びメチルエチルケトンを留去することにより、共重合体A−1(重量平均分子量:500,000、ガラス転移点:−68.5℃)を得た。
<Synthesis of copolymer>
Production Example 1
In a reaction vessel equipped with a condenser, a thermometer, a stirrer, a dropping funnel, and a nitrogen introducing tube, 70.0 g of 2-ethylhexyl acrylate, 20.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate, one-end methacryloyl-modified polysiloxane compound (Shin-Etsu Chemical) Kogyo Co., Ltd., product name “X-22-2426”, ethylenically unsaturated group equivalent: 12000 g / mol) 10.0 g, ethyl acetate 72.5 g, and methyl ethyl ketone 72.5 g are added, and the air volume is 100 mL / min. While replacing with nitrogen, the mixture was heated from room temperature (25 ° C.) to 65 ° C. in 30 minutes. Next, while maintaining the temperature at 65 ° C., a solution in which 0.1 g of lauroyl peroxide was dissolved in 5.0 g of ethyl acetate was added and reacted for 8 hours. Subsequently, ethyl acetate and methyl ethyl ketone were distilled off to obtain a copolymer A-1 (weight average molecular weight: 500,000, glass transition point: -68.5 ° C.).

製造例2
反応容器に、n−ブチルアクリレート70.0g、2−ヒドロキシエチルアクリレート20.0g、製造例1で用いた末端メタクリロイル変性ポリシロキサン化合物10.0g、酢酸エチル72.5g、及びメチルエチルケトン72.5gを加えた以外は製造例1と同様に操作して、共重合体A−2(重量平均分子量:500,000、ガラス転移点:−57.4℃)を得た。
Production Example 2
To the reaction vessel, add 70.0 g of n-butyl acrylate, 20.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 10.0 g of the terminal methacryloyl-modified polysiloxane compound used in Production Example 1, 72.5 g of ethyl acetate, and 72.5 g of methyl ethyl ketone. Except that, copolymer A-2 (weight average molecular weight: 500,000, glass transition point: -57.4 ° C.) was obtained in the same manner as in Production Example 1.

製造例3
反応容器に、n−ブチルアクリレート70.0g、2−ヒドロキシエチルアクリレート25.0g、製造例1で用いた片末端メタクリロイル変性ポリシロキサン化合物5.0g、酢酸エチル72.5g、及びメチルエチルケトン72.5gを加えた以外は製造例1と同様に操作して、共重合体A−3(重量平均分子量:500,000、ガラス転移点:−50.7℃)を得た。
Production Example 3
In a reaction vessel, 70.0 g of n-butyl acrylate, 25.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 5.0 g of one-end methacryloyl-modified polysiloxane compound used in Production Example 1, 72.5 g of ethyl acetate, and 72.5 g of methyl ethyl ketone. A copolymer A-3 (weight average molecular weight: 500,000, glass transition point: −50.7 ° C.) was obtained in the same manner as in Production Example 1 except for the addition.

製造例4
反応容器に、イソステアリルアクリレート70.0g、2−ヒドロキシエチルアクリレート20.0g、製造例1で用いた片末端メタクリロイル変性ポリシロキサン化合物10.0g、酢酸エチル72.5g、及びメチルエチルケトン72.5gを加えた以外は製造例1と同様に操作して、共重合体A−4(重量平均分子量:500,000、ガラス転移点:−32.3℃)を得た。
Production Example 4
To the reaction vessel, add 70.0 g of isostearyl acrylate, 20.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 10.0 g of one-end methacryloyl-modified polysiloxane compound used in Production Example 1, 72.5 g of ethyl acetate, and 72.5 g of methyl ethyl ketone. Except that, copolymer A-4 (weight average molecular weight: 500,000, glass transition point: −32.3 ° C.) was obtained in the same manner as in Production Example 1.

製造例5
反応容器に、2−エチルヘキシルアクリレート80.0g、2−ヒドロキシエチルアクリレート20.0g、酢酸エチル72.5g、及びメチルエチルケトン72.5gを加えた以外は製造例1と同様に操作して、共重合体A−5(重量平均分子量:500,000、ガラス転移点:−61.0℃)を得た。
Production Example 5
A copolymer was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that 80.0 g of 2-ethylhexyl acrylate, 20.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 72.5 g of ethyl acetate, and 72.5 g of methyl ethyl ketone were added to the reaction vessel. A-5 (weight average molecular weight: 500,000, glass transition point: -61.0 ° C.) was obtained.

製造例6
反応容器に、n−ブチルアクリレート80.0g、2−ヒドロキシエチルアクリレート20.0g、酢酸エチル72.5g、及びメチルエチルケトン72.5gを加えた以外は製造例1と同様に操作して、共重合体A−6(重量平均分子量:500,000、ガラス転移点:−47.2℃)を得た。
Production Example 6
A copolymer was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that 80.0 g of n-butyl acrylate, 20.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 72.5 g of ethyl acetate, and 72.5 g of methyl ethyl ketone were added to the reaction vessel. A-6 (weight average molecular weight: 500,000, glass transition point: −47.2 ° C.) was obtained.

なお、重量平均分子量は、テトラヒドロフラン(THF)を溶媒としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を使用し、下記の装置及び測定条件を用いて標準ポリスチレンの検量線を使用して換算することによって求めた。検量線の作成にあたっては、標準ポリスチレンとして5サンプルセット(PStQuick MP−H,PStQuick B(東ソー株式会社製、製品名))を用いた。   The weight average molecular weight is determined by conversion using a standard polystyrene calibration curve using gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran (THF) as a solvent and the following apparatus and measurement conditions. It was. In preparing the calibration curve, 5 sample sets (PStQuick MP-H, PStQuick B (manufactured by Tosoh Corporation, product name)) were used as standard polystyrene.

装置:高速GPC装置 HLC−8320GPC(検出器:示差屈折計)
(東ソー株式会社製、製品名)
使用溶媒:テトラヒドロフラン(THF)
カラム:カラムTSKgel SuperMultipore HZ−H
(東ソー株式会社製、製品名)
カラムサイズ:カラム長が15cm、カラム内径が4.6mm
測定温度:40℃
流量:0.35mL/min
試料濃度:10mg/THF5mL
注入量:20μL
Device: High-speed GPC device HLC-8320GPC (detector: differential refractometer)
(Product name, manufactured by Tosoh Corporation)
Solvent: Tetrahydrofuran (THF)
Column: Column TSKgel SuperMultipore HZ-H
(Product name, manufactured by Tosoh Corporation)
Column size: Column length is 15 cm, column inner diameter is 4.6 mm
Measurement temperature: 40 ° C
Flow rate: 0.35 mL / min
Sample concentration: 10 mg / THF 5 mL
Injection volume: 20 μL

<光硬化性樹脂組成物の調製及びフィルム材の作製>
光硬化性樹脂組成物の調製に関して、以下の成分を用意した。
(A)成分:共重合体A−1〜A−6
(B)成分:2−エチルヘキシルアクリレート(2EHA)
:ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)
(C)成分:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(I−184)
(BASF社製、製品名「Irgacure−184」)
:4−メチルベンゾフェノン(4MBP)
(株式会社ソート製、製品名「SB−PI712」)
<Preparation of photocurable resin composition and production of film material>
The following components were prepared for the preparation of the photocurable resin composition.
Component (A): Copolymers A-1 to A-6
Component (B): 2-ethylhexyl acrylate (2EHA)
: Hydroxyethyl acrylate (HEA)
Component (C): 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (I-184)
(Product name “Irgacure-184” manufactured by BASF)
: 4-methylbenzophenone (4MBP)
(Product name "SB-PI712" manufactured by Sort Corporation)

実施例1
製造例1で得られた共重合体A−1 25.0質量部、2−エチルヘキシルアクリレート(2EHA)63.8質量部、ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)11.3質量部、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(I−184)0.5質量部、及び4−メチルベンゾフェノン(4MBP)0.3質量部を秤量し、これらを撹拌混合することで、常温(25℃)で液状の実施例1の光硬化性樹脂組成物を得た。
Example 1
Copolymer A-1 obtained in Production Example 1 25.0 parts by mass, 2-ethylhexyl acrylate (2EHA) 63.8 parts by mass, hydroxyethyl acrylate (HEA) 11.3 parts by mass, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (I-184) 0.5 parts by mass and 4-methylbenzophenone (4MBP) 0.3 parts by mass, and stirring and mixing them, the photocuring of Example 1 which is liquid at room temperature (25 ° C.) A functional resin composition was obtained.

次いで、表面に離型処理した厚み75μmのポリエチレンテレフタラート(PET)フィルム(基材フィルムA)上に、上記樹脂組成物の塗液を紫外線照射後の厚みが100μmとなるようにアプリケーターを用いて塗工して塗膜を形成し、形成した塗膜上に、離型処理した厚み50μmのポリエチレンテレフタラート(PET)フィルム(基材フィルムB)を被せ、紫外線照射装置(アイグラフィックス株式会社製)を用いて紫外線照射(2,000mJ/cm)を行うことによって、実施例1のフィルム材を作製した。 Next, an applicator is used on a 75 μm-thick polyethylene terephthalate (PET) film (base film A) having a release treatment on the surface so that the thickness of the resin composition after the ultraviolet irradiation is 100 μm. A coating film is formed by coating, and a 50 μm-thick polyethylene terephthalate (PET) film (base film B) having a release treatment is placed on the formed coating film, and an ultraviolet irradiation device (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.). ) Was used for ultraviolet irradiation (2,000 mJ / cm 2 ) to produce the film material of Example 1.

実施例2〜4及び比較例1、2
各成分の配合量を表1に示すものに変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例2〜4及び比較例1、2のフィルム材を作製した。なお、表1中、配合量の数値の単位は質量部である。
Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 and 2
Except having changed the compounding quantity of each component into what is shown in Table 1, it carried out similarly to Example 1, and produced the film material of Examples 2-4 and Comparative Examples 1 and 2. FIG. In Table 1, the unit of the numerical value of the amount is mass parts.

<評価>
各実施例及び比較例で得られたフィルム材について、以下の方法により評価を行った。結果を表1に示す。
<Evaluation>
About the film material obtained by each Example and the comparative example, it evaluated by the following method. The results are shown in Table 1.

1.加速度減衰率の測定
図3は、加速度減衰率の測定装置の一例を模式的に示す概略図である。図3に示す加速度減衰率の測定装置30は、主に、フィルム材が備える樹脂層31と、樹脂層31を貼り付けるための固定板32(ポリメチルメタクリレート板)と、固定板32を支持する金属板33と、鉄球34を備えるハンマー35と、ハンマー35の鉄球34の反対側の先端に配置された加速度センサ36と、から構成されている。
1. Measurement of Acceleration Decay Rate FIG. 3 is a schematic diagram schematically showing an example of an acceleration decay rate measurement device. The acceleration attenuation rate measuring device 30 shown in FIG. 3 mainly supports the resin layer 31 provided in the film material, a fixing plate 32 (polymethyl methacrylate plate) for attaching the resin layer 31, and the fixing plate 32. The metal plate 33, a hammer 35 having an iron ball 34, and an acceleration sensor 36 disposed at the tip of the hammer 35 opposite to the iron ball 34 are configured.

実施例1〜4及び比較例1、2のフィルム材を50mm×50mmのサイズに切り出し、切り出したフィルム材の基材フィルムBを剥離して樹脂層31の表面を露出させた。その後、露出させた樹脂層31の表面を固定板32(縦100mm×横100mm×厚み3.0mm)に貼り付け、ローラーで押し付けた。次いで、固定板32に貼り付けた樹脂層31から基材フィルムAを剥離し、樹脂層31の表面を露出させ、固定板32と金属板33(縦150mm×横150mm×厚み10mm)が接するように配置することによって、測定サンプルを得た。次いで、直径11mmの鉄球34を固定したハンマー35(質量280g)を、測定サンプルの樹脂層31から垂直方向で高さ20mmの位置から落下させ、加速度センサ36(昭和測器株式会社製、製品名「MODEL−1340B」)を用いてピーク加速度を計測した。なお、ピーク加速度は、加速度センサに内蔵されているピークホールド機能を使用したときに、絶対値を検出した波形からピーク値(衝撃加速度)を読み取ったものである。測定は23℃の環境下で行った。加速度減衰率は、下記式(A)に基づいて算出した。式(A)内の「樹脂層を設けなかった場合のピーク加速度」とは、樹脂層31を設けず、固定板32のみで計測した場合のピーク加速度を意味する。
加速度減衰率(%)
=(樹脂層を設けなかった場合のピーク加速度[m/s]−樹脂層を設けた場合のピーク加速度[m/s])/樹脂層を設けなかった場合のピーク加速度[m/s]×100 (A)
The film materials of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 were cut into a size of 50 mm × 50 mm, and the base film B of the cut film material was peeled off to expose the surface of the resin layer 31. Thereafter, the exposed surface of the resin layer 31 was attached to a fixing plate 32 (length 100 mm × width 100 mm × thickness 3.0 mm) and pressed with a roller. Next, the base film A is peeled off from the resin layer 31 attached to the fixing plate 32, the surface of the resin layer 31 is exposed, and the fixing plate 32 and the metal plate 33 (length 150 mm × width 150 mm × thickness 10 mm) are in contact with each other. A measurement sample was obtained by placing in Next, a hammer 35 (mass 280 g) to which an iron ball 34 having a diameter of 11 mm is fixed is dropped from a position 20 mm in height in the vertical direction from the resin layer 31 of the measurement sample, and the acceleration sensor 36 (product of Showa Keiki Co., Ltd., product) The peak acceleration was measured using the name “MODEL-1340B”). The peak acceleration is obtained by reading the peak value (impact acceleration) from the waveform in which the absolute value is detected when the peak hold function built in the acceleration sensor is used. The measurement was performed in an environment of 23 ° C. The acceleration decay rate was calculated based on the following formula (A). The “peak acceleration when no resin layer is provided” in the formula (A) means a peak acceleration when measured only by the fixed plate 32 without providing the resin layer 31.
Acceleration decay rate (%)
= (Peak acceleration when not provided a resin layer [m / s 2] - peak acceleration when the resin layer is provided [m / s 2]) / a If no resin layer provided peak acceleration [m / s 2 ] × 100 (A)

2.ヘーズの測定
実施例1〜4及び比較例1、2のフィルム材を50mm×50mmのサイズに切り出し、切り出したフィルム材の基材フィルムBを剥離して樹脂層の表面を露出させた。その後、フィルム材の露出させた樹脂層の表面をフロートガラス(縦50mm×横50mm×厚み2.7mm)に貼り付け、ローラーで押し付けた。次いで、フロートガラスに貼り付けた樹脂層から基材フィルムAを剥離し、真空積層機を用いて、真空状態で樹脂層の表面を、フロートガラス(縦50mm×横50mm×厚み2.7mm)に貼り付けて積層体を作製した。その後、作製した積層体を、温度50℃、圧力0.5MPa、30分間保持する条件で加熱加圧処理(オートクレーブ処理)し、測定サンプルを得た。得られたサンプルについて、濁度計(日本電色工業株式会社製、製品名「NDH−5000」)を用いてJIS K7361に準じ、下記式(B)に基づき、ヘーズを測定した。
ヘーズ(%)=(Td/Tt)×100 (B)
Td:拡散透過率、Tt:全光線透過率
2. Measurement of Haze The film materials of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 were cut into a size of 50 mm × 50 mm, and the base film B of the cut film material was peeled to expose the surface of the resin layer. Thereafter, the surface of the exposed resin layer of the film material was attached to float glass (length 50 mm × width 50 mm × thickness 2.7 mm) and pressed with a roller. Next, the base film A is peeled off from the resin layer attached to the float glass, and the surface of the resin layer is float glass (length 50 mm × width 50 mm × thickness 2.7 mm) in a vacuum state using a vacuum laminator. The laminated body was produced by pasting. Then, the produced laminated body was heat-pressed (autoclave process) on the conditions hold | maintained for 30 minutes with the temperature of 50 degreeC, the pressure of 0.5 MPa, and the measurement sample was obtained. About the obtained sample, haze was measured based on the following formula (B) according to JIS K7361 using a turbidimeter (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., product name "NDH-5000").
Haze (%) = (Td / Tt) × 100 (B)
Td: diffuse transmittance, Tt: total light transmittance

Figure 2019164294
Figure 2019164294

実施例1〜4の光硬化性樹脂組成物を用いて作製した実施例1〜4のフィルム材の樹脂層は、比較例1、2の光硬化性樹脂組成物を用いて作製した比較例1、2のフィルム材の樹脂層に比べて、耐衝撃性に優れていた。このことから、実施例1〜4のフィルム材の樹脂層を画像表示装置に適用した場合において、衝撃吸収層として作用し得ることが示唆された。   The resin layer of the film material of Examples 1-4 produced using the photocurable resin composition of Examples 1-4 is Comparative Example 1 produced using the photocurable resin composition of Comparative Examples 1 and 2. Compared with the resin layer of 2 film material, it was excellent in impact resistance. From this, it was suggested that when the resin layer of the film material of Examples 1 to 4 is applied to an image display device, it can act as an impact absorbing layer.

10…画像表示装置、11…衝撃吸収層、12…基板、13…画像表示部材、14…機能向上部材、15…バリア部材、20…フィルム材、21…樹脂層、22、23…基材、30…加速度減衰率の測定装置、31…樹脂層、32…固定板、33…金属板、34…鉄球、35…ハンマー、36…加速度センサ。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Image display apparatus, 11 ... Shock absorption layer, 12 ... Board | substrate, 13 ... Image display member, 14 ... Function improvement member, 15 ... Barrier member, 20 ... Film material, 21 ... Resin layer, 22, 23 ... Base material DESCRIPTION OF SYMBOLS 30 ... Acceleration decay rate measuring apparatus, 31 ... Resin layer, 32 ... Fixed plate, 33 ... Metal plate, 34 ... Iron ball, 35 ... Hammer, 36 ... Acceleration sensor

Claims (10)

画像表示部材と、前記画像表示部材の片側又は両側に配置された衝撃吸収層と、を備え、
前記衝撃吸収層が、
第1の(メタ)アクリロイル化合物に由来する単量体単位及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位を含む共重合体と、
第2の(メタ)アクリロイル化合物と、
光重合開始剤と、
を含有する光硬化性樹脂組成物の硬化物である、画像表示装置。
An image display member, and a shock absorbing layer disposed on one or both sides of the image display member,
The shock absorbing layer is
A copolymer comprising a monomer unit derived from a first (meth) acryloyl compound and a monomer unit derived from a siloxane compound having an ethylenically unsaturated group;
A second (meth) acryloyl compound;
A photopolymerization initiator;
The image display apparatus which is a hardened | cured material of the photocurable resin composition containing this.
前記第1の(メタ)アクリロイル化合物が、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート及び水酸基を有する(メタ)アクリレートを含む、請求項1に記載の画像表示装置。   The image display apparatus according to claim 1, wherein the first (meth) acryloyl compound includes an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms and a (meth) acrylate having a hydroxyl group. 前記共重合体が、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する単量体単位50〜90質量部、水酸基を有する(メタ)アクリレートに由来する単量体単位5〜30質量部、及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位5〜30質量部を含む、請求項2に記載の画像表示装置。   50 to 90 parts by mass of monomer units derived from an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and 5 to monomer units derived from a (meth) acrylate having a hydroxyl group. The image display apparatus according to claim 2, comprising 30 to 30 parts by mass and 5 to 30 parts by mass of a monomer unit derived from a siloxane compound having an ethylenically unsaturated group. 第1の(メタ)アクリロイル化合物に由来する単量体単位及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位を含む共重合体と、
第2の(メタ)アクリロイル化合物と、
光重合開始剤と、を含有し、
画像表示装置の衝撃吸収層を形成するために用いられる、光硬化性樹脂組成物。
A copolymer comprising a monomer unit derived from a first (meth) acryloyl compound and a monomer unit derived from a siloxane compound having an ethylenically unsaturated group;
A second (meth) acryloyl compound;
A photopolymerization initiator,
A photocurable resin composition used for forming a shock absorbing layer of an image display device.
前記第1の(メタ)アクリロイル化合物が、炭素数1〜18のアルキル基を有する(メタ)アクリロイル化合物及び水酸基を有する(メタ)アクリロイル化合物を含む、請求項4に記載の光硬化性樹脂組成物。   The photocurable resin composition according to claim 4, wherein the first (meth) acryloyl compound includes a (meth) acryloyl compound having a C 1-18 alkyl group and a (meth) acryloyl compound having a hydroxyl group. . 前記共重合体が、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する単量体単位50〜90質量部、水酸基を有する(メタ)アクリレートに由来する単量体単位5〜30質量部、及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位5〜30質量部を含む、請求項5に記載の光硬化性樹脂組成物。   50 to 90 parts by mass of monomer units derived from an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and 5 to monomer units derived from a (meth) acrylate having a hydroxyl group. The photocurable resin composition of Claim 5 containing 30-30 mass parts and 5-30 mass parts of monomer units derived from the siloxane compound which has an ethylenically unsaturated group. 樹脂層と、前記樹脂層を挟むように積層された一対の基材層と、を備え、前記樹脂層が画像表示装置の衝撃吸収層を形成するために用いられる、フィルム材であって、
前記樹脂層が、
第1の(メタ)アクリロイル化合物に由来する単量体単位及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位を含む共重合体と、
第2の(メタ)アクリロイル化合物と、
光重合開始剤と、
を含有する光硬化性樹脂組成物の硬化物である、フィルム材。
A film material comprising a resin layer and a pair of base material layers laminated so as to sandwich the resin layer, wherein the resin layer is used to form a shock absorbing layer of an image display device,
The resin layer is
A copolymer comprising a monomer unit derived from a first (meth) acryloyl compound and a monomer unit derived from a siloxane compound having an ethylenically unsaturated group;
A second (meth) acryloyl compound;
A photopolymerization initiator;
A film material which is a cured product of a photocurable resin composition containing
前記第1の(メタ)アクリロイル化合物が、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート及び水酸基を有する(メタ)アクリレートを含む、請求項7に記載のフィルム材。   The film material according to claim 7, wherein the first (meth) acryloyl compound includes an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms and a (meth) acrylate having a hydroxyl group. 前記共重合体が、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する単量体単位50〜90質量部、水酸基を有する(メタ)アクリレートに由来する単量体単位5〜30質量部、及びエチレン性不飽和基を有するシロキサン化合物に由来する単量体単位5〜30質量部を含む、請求項8に記載のフィルム材。   50 to 90 parts by mass of monomer units derived from an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and 5 to monomer units derived from a (meth) acrylate having a hydroxyl group. The film material according to claim 8, comprising 5 to 30 parts by mass of monomer units derived from 30 parts by mass and a siloxane compound having an ethylenically unsaturated group. 前記樹脂層のヘーズが5%以下である、請求項7〜9のいずれか一項に記載のフィルム材。   The film material as described in any one of Claims 7-9 whose haze of the said resin layer is 5% or less.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022064593A1 (en) * 2020-09-24 2022-03-31 昭和電工マテリアルズ株式会社 Shock absorbing film, method for manufacturing product provided with brittle material member, and electronic apparatus

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006171370A (en) * 2004-12-16 2006-06-29 Dainippon Printing Co Ltd Optical filter
US20130286604A1 (en) * 2012-03-22 2013-10-31 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photo curable resin composition, imaging display device and production method thereof
KR101572991B1 (en) * 2014-06-27 2015-12-01 (주)우인켐텍 Multi-light guide sheet and liquid crystal display device including the same
JP2017122154A (en) * 2016-01-06 2017-07-13 日立化成株式会社 Photocurable resin composition, adhesive sheet for image display device, method for producing image display device, and image display device
JP2017218476A (en) * 2016-06-03 2017-12-14 日立化成株式会社 Photocurable resin composition, image display device using the same, and method for manufacturing image display device

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006171370A (en) * 2004-12-16 2006-06-29 Dainippon Printing Co Ltd Optical filter
US20130286604A1 (en) * 2012-03-22 2013-10-31 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photo curable resin composition, imaging display device and production method thereof
KR101572991B1 (en) * 2014-06-27 2015-12-01 (주)우인켐텍 Multi-light guide sheet and liquid crystal display device including the same
JP2017122154A (en) * 2016-01-06 2017-07-13 日立化成株式会社 Photocurable resin composition, adhesive sheet for image display device, method for producing image display device, and image display device
JP2017218476A (en) * 2016-06-03 2017-12-14 日立化成株式会社 Photocurable resin composition, image display device using the same, and method for manufacturing image display device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022064593A1 (en) * 2020-09-24 2022-03-31 昭和電工マテリアルズ株式会社 Shock absorbing film, method for manufacturing product provided with brittle material member, and electronic apparatus

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