JP2019158904A - Liquid crystal display device and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は表示装置に係り、特に、フレキシブルに湾曲させることが出来る液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a display device, and more particularly to a liquid crystal display device that can be flexibly bent.
液晶表示装置では画素電極および薄膜トランジスタ(TFT)等がマトリクス状に形成されたTFT基板と、TFT基板に対向して、対向基板が配置され、TFT基板と対向基板の間に液晶層が挟持された液晶表示パネルを有している。そして液晶分子による光の透過率を画素毎に制御することによって画像を形成している。 In a liquid crystal display device, a TFT substrate in which pixel electrodes and thin film transistors (TFTs) are formed in a matrix and a counter substrate are arranged opposite the TFT substrate, and a liquid crystal layer is sandwiched between the TFT substrate and the counter substrate It has a liquid crystal display panel. An image is formed by controlling the light transmittance of the liquid crystal molecules for each pixel.
TFT基板と対向基板との間隔が変動すると、液晶の層厚が変動することになり、輝度むらや色むらの原因になる。このため、通常は、対向基板に柱状スペーサを形成し、柱状スペーサによって、TFT基板と対向基板の間隔を一定に保っている。しかし、大型の液晶表示パネルでは、液晶表示パネルを立てて使用すると、重力によって、液晶がパネルの下部に溜り、TFT基板と対向基板の間隔が変化する現象が生ずる。 If the distance between the TFT substrate and the counter substrate varies, the layer thickness of the liquid crystal varies, causing uneven brightness and uneven colors. For this reason, usually, a columnar spacer is formed on the counter substrate, and the distance between the TFT substrate and the counter substrate is kept constant by the columnar spacer. However, in a large liquid crystal display panel, when the liquid crystal display panel is used in a standing state, a phenomenon occurs in which liquid crystal accumulates in the lower part of the panel due to gravity, and the distance between the TFT substrate and the counter substrate changes.
これを対策するために、特許文献1には、ガラスで形成されたTFT基板と対向基板の間隔を一定にするために、一方の基板に柱状スペーサを形成し、柱状スペーサが接触する他方の基板に接着材を配置し、他方の基板が柱状スペーサから離れないようにすることによって、TFT基板と対向基板の間隔を一定に保つ構成が記載されている。 In order to prevent this, Patent Document 1 discloses that in order to make the distance between the TFT substrate formed of glass and the counter substrate constant, a columnar spacer is formed on one substrate, and the other substrate on which the columnar spacer contacts. An arrangement is described in which an adhesive is disposed on the other substrate so that the other substrate is not separated from the columnar spacer, thereby keeping the distance between the TFT substrate and the counter substrate constant.
特許文献2には、配向膜を形成した一方のガラス基板にスペーサおよびシール材を形成し、他方のガラス基板を重ねた後に加熱することで、スペーサおよびシール材によって、両方の基板を貼り合せ、その後、シール材に開けられた開口から液晶を注入する構成が記載されている。
In
特許文献3には、一方のガラス基板上に形成した通常のスペーサの上に、接着層を形成し、他方のガラス基板と接着を行う構成が記載されている。
特許文献4には、従来の塗布による配向膜の形成ではなく、液晶材料にUV光を照射することでFFS(Fringe−Field−Swiching)用の配向膜を形成する構成が記載されている。
TFT基板と対向基板の間隔は、柱状スペーサによって、維持されているが、液晶表示パネルの表示品質を安定させるためには、TFT基板と対向基板の間隔を維持することが重要であり、外部からの押し圧力、衝撃、温度変化等に対応できるようにする必要がある。このため、TFT基板と対向基板間には、柱状スペーサが形成される。しかし、形成された柱状スペーサの数が少なすぎるなどの理由で反発力が小さすぎると、外部から押し圧力を受けたような場合、変形が大きくなり、極端な場合は、元に戻らなくなる。また、形成された柱状スペーサの数が多すぎるなどの理由で反発力が大き過ぎると、外部から衝撃が加わった場合や、異なる温度環境に晒されたような場合、液晶表示パネルの内部に気泡が発生するという現象が生ずる。このような現象は特に、TFT基板と対向基板がガラスなどの固い基板の場合に、顕著に発生する。 The distance between the TFT substrate and the counter substrate is maintained by columnar spacers. However, in order to stabilize the display quality of the liquid crystal display panel, it is important to maintain the distance between the TFT substrate and the counter substrate. It is necessary to be able to cope with the pressure, impact, temperature change, etc. For this reason, columnar spacers are formed between the TFT substrate and the counter substrate. However, if the repulsive force is too small, for example, because the number of columnar spacers formed is too small, the deformation becomes large when a pressing force is applied from the outside, and in an extreme case, it cannot be restored. In addition, if the repulsive force is too large because the number of columnar spacers formed is too large, bubbles may be generated inside the liquid crystal display panel when an impact is applied from the outside or when exposed to a different temperature environment. The phenomenon that occurs occurs. Such a phenomenon is particularly prominent when the TFT substrate and the counter substrate are hard substrates such as glass.
一方、液晶表示装置では、外形寸法を一定に保ちつつ、表示領域の面積をできるだけ大きくしたいという要求がある。しかし、通常は、TFT基板と対向基板とは周辺においてシール材によって接着しているので、シール材の幅を極端に小さくすると、TFT基板と対向基板との接着強度が不十分になる。 On the other hand, in the liquid crystal display device, there is a demand to increase the area of the display region as much as possible while keeping the outer dimensions constant. However, since the TFT substrate and the counter substrate are usually bonded together by a sealing material at the periphery, if the width of the sealing material is made extremely small, the bonding strength between the TFT substrate and the counter substrate becomes insufficient.
また、液晶表示装置では、フレキシブルに湾曲させて使用したいという要求もある。液晶表示パネルを湾曲させて使用するような場合、TFT基板と対向基板間の間隔に対しては、押し圧力だけでなく、引っ張りやずれなど他の圧力が働き、また、シール材によるTFT基板と対向基板の接着に対しては、より強い接着力が求められるようになる。 In addition, there is a demand for a liquid crystal display device to be flexibly used. When the liquid crystal display panel is used in a curved shape, not only the pressing pressure but also other pressures such as pulling and displacement act on the distance between the TFT substrate and the counter substrate. For bonding the counter substrate, a stronger bonding force is required.
本発明の課題は、湾曲して使用することが出来る液晶表示装置において、基板間の間隔維持や接着をより安定して確保できる液晶表示装置を実現することである。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to realize a liquid crystal display device which can be used while being curved, and which can maintain the spacing between substrates and adhesion more stably.
本発明は上記問題を克服するものであり、具体的な手段は次のとおりである。 The present invention overcomes the above problems, and specific means are as follows.
(1)第1の基板と、第2の基板の間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、前記第1の基板と前記第2の基板は、可撓性基板で形成され、前記第1の基板と前記第2の基板間の表示領域には柱状スペーサが形成され、前記第1基板と前記第2の基板間の基板端部には外壁が形成され、前記柱状スペーサと前記外壁は、紫外線照射又は加熱により接着性を発現する材料で形成され、前記柱状スペーサと前記外壁は前記第1の基板側と前記第2基板の両面と接着していることを特徴とする液晶表示装置。 (1) A liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a first substrate and a second substrate, wherein the first substrate and the second substrate are formed of a flexible substrate, A columnar spacer is formed in a display area between the first substrate and the second substrate, an outer wall is formed at an end of the substrate between the first substrate and the second substrate, and the columnar spacer and the outer wall are formed. Is formed of a material that exhibits adhesiveness by ultraviolet irradiation or heating, and the columnar spacer and the outer wall are bonded to the first substrate side and both surfaces of the second substrate. .
(2)第1の基板と第2の基板の間に液晶を挟持した液晶表示装置の製造方法であって、第1の基板と第2の基板を可撓性基板で形成し、前記第2の基板に感光性樹脂を形成し、フォトリソグラフィによって、前記第2の基板の表示領域に柱状スペーサを、前記第2の基板の周辺部に外壁を同時に形成し、前記第1の基板と前記第2の基板を接着する際に、加熱あるいは紫外線を照射することによって、前記柱状スペーサ及び前記外壁に接着性を発現させることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 (2) A method of manufacturing a liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between a first substrate and a second substrate, wherein the first substrate and the second substrate are formed of a flexible substrate, and the second substrate A photosensitive resin is formed on the substrate, and columnar spacers are simultaneously formed on the display area of the second substrate and an outer wall is formed on the peripheral portion of the second substrate by photolithography, and the first substrate and the first substrate are formed. 2. A method for manufacturing a liquid crystal display device, wherein the columnar spacer and the outer wall are made to exhibit adhesiveness by heating or irradiating ultraviolet rays when bonding the two substrates.
(3)第1の基板と第2の基板の間に液晶を挟持した液晶表示装置の製造方法であって、第1の基板と第2の基板を可撓性基板で形成し、前記第2の基板に感光性樹脂を形成し、フォトリソグラフィによって、前記第2の基板の表示領域に柱状スペーサを、前記第2の基板の周辺部に外壁を同時に形成し、前記第1の基板に第1の配向膜を形成し、
前記第1の基板と前記第2の基板を接着する際に、前記柱状スペーサ及び前記外壁に対し、加熱あるいは紫外線を照射することによって、前記柱状スペーサ及び前記外壁を前記第1の配向膜に接着させることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
(3) A method of manufacturing a liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between a first substrate and a second substrate, wherein the first substrate and the second substrate are formed of a flexible substrate, and the second substrate A photosensitive resin is formed on the first substrate, and columnar spacers are simultaneously formed on the display region of the second substrate and an outer wall is formed on the periphery of the second substrate by photolithography, and the first substrate is formed on the first substrate. Forming an alignment film of
When the first substrate and the second substrate are bonded, the columnar spacer and the outer wall are bonded to the first alignment film by heating or irradiating the columnar spacer and the outer wall with ultraviolet rays. A manufacturing method of a liquid crystal display device characterized by comprising:
以下に本発明の内容を、実施例を用いて説明する。 The contents of the present invention will be described below using examples.
図1は、スマートフォン等に使用される一般的な液晶表示装置の例を示す平面図である。図1において、TFT基板100と対向基板200がシール材150によって接着し、TFT基板100と対向基板200の間に液晶が挟持されているTFT基板100と対向基板200が重なった領域に表示領域40が形成されている。シール材150の幅sw1は、例えば0.8mm程度であり、表示領域の端部はさらに内側に存在し、対向基板の端部から表示領域の端部までの距離、すなわち、額縁幅fw1は、例えば1.2mm程度である。
FIG. 1 is a plan view showing an example of a general liquid crystal display device used for a smartphone or the like. In FIG. 1, the
シール材150は、対向基板200側にディスペンサで塗布され、TFT基板100に押圧され、形状が変形した後に硬化される。したがって、シール材150の幅sw1を正確にコントロールすることは難しい。
The sealing
表示領域40内には、走査線91が横方向(x方向)に延在し、縦方向(y方向)に配列している。また、映像信号線92が縦方向に延在し、横方向に配列している。走査線91と映像信号線92とで囲まれた領域が画素93となっている。TFT基板100は対向基板200よりも大きく形成されており、TFT基板100と対向基板200が重なっていない部分は端子領域50となっている。端子領域50には、液晶表示パネルに、電源、映像信号、走査信号等を供給するためのフレキシブル配線基板を接続するための端子等が形成されている。
In the
図2は、図1のA−A断面図である。図2において、TFT基板100には、TFTを形成するための半導体層、走査線、映像信号線、画素電極、コモン電極等を含むアレイ層101が形成されている。アレイ層101の最上層は画素電極となっている。アレイ層101の上には、液晶を初期配向させるための配向膜103が形成されている。
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. In FIG. 2, an
対向基板200に、ブラックマトリクスを含む、カラーフィルタ層201が形成されている。カラーフィルタ層201の上にはオーバーコート膜202が形成されている。オーバーコート膜202の上に柱状スペーサ10、11が形成されている。柱状スペーサ10、11およびオーバーコート膜201を覆って配向膜203が形成されている。この場合、配向膜203は、レベリング効果によって、柱状スペーサ10、11の上には、薄くしか形成されないので、図2では、柱状スペーサ10、11の上の配向膜204は図示を省略している。以下の図においても同様である。
A
図2において、TFT基板100と対向基板200はシール材150によって接着している。また、シール材150によって液晶300が内部に封止されている。TFT基板100と対向基板200の間隔は、対向基板200に形成された柱状スペーサ10によって維持されている。柱状スペーサは、メイン柱状スペーサ10とサブ柱状スペーサ11とが存在している。通常状態は、メイン柱状スペーサ10によってTFT基板100と対向基板200の間隔が維持されている。
In FIG. 2, the
対向基板200等に押し圧力が加わった場合、TFT基板100と対向基板200の間隔が過度に小さくなることを防止するために、サブ柱状スペーサ11を配置している。サブ柱状スペーサ11は、通常はTFT基板100側に接触していないが、対向基板200が外部から押し圧力を受けた場合に、TFT基板100側に接触して、液晶300の層厚を維持する。
In order to prevent the distance between the
一般的に、基板間の間隔維持のためだけであれば、サブ柱状スペーサ11は配置せずに、メイン柱状スペーサ10のみでも良い。しかしながら、基板がガラスなどの硬い材質の場合、メイン柱状スペーサ10のみが数多く設置されていると、基板に押し圧力が加わった際に、形状が戻る際の衝撃で液晶層内に気泡が発生してしまう。このため、メイン柱状スペーサ10は出来るだけ減らさざるを得ない。メイン柱状スペーサ10の数が減ってしまうと、基板間の間隔維持機能が低減してしまうため、これを補うために、サブ柱状スペーサ11が設けられる。サブ柱状スペーサ11は、TFT基板100との間隙を有するが、この間隙により衝撃を緩衝することで、気泡の発生を抑制することができる。
In general, only the main
サブ柱状スペーサ11は、サブ柱状スペーサ11の数はメイン柱状スペーサ10の数よりも多く、また、サブ柱状スペーサ11の径もメイン柱状スペーサの径10よりも大きい。メイン柱状スペーサ10の径φは、例えば8μmであり、サブ柱状スペーサ11の径は、例えば11μmである。また、サブ柱状スペーサ11の数は、例えばメイン柱状スペーサ10の数の16倍である。
In the
図3は、図1のTFT基板100の表示領域40における画素部分の平面図である。図3において、走査線91が横方向に延在し、縦方向に配列している。また、映像信号線92が縦方向に延在し、横方向に配列している。走査線91と映像信号線92に囲まれた領域が画素93になっており、この内部に画素電極等が存在している。TFT基板100の表面全面には、図2に示すように配向膜103が形成されている。
FIG. 3 is a plan view of a pixel portion in the
図3において、走査線91と映像信号線92の交点に対向基板200側に形成されたメイン柱状スペーサ10およびサブ柱状スペーサ11が配置している。図3に示す領域ではメイン柱状スペーサ10は1個のみ存在している。サブ柱状スペーサ11は、映像信号線92の3本おきに、各走査線91との交点に存在している。メイン柱状スペーサ10の径はサブ柱状スペーサ11の径よりも小さい。
In FIG. 3, the main
図4は、図3のB−B断面図である。図4において、TFT基板100の上にアレイ層101が形成され、その上に配向膜103が形成されている。また、対向基板200にカラーフィルタ層201が形成され、その上にオーバーコート膜202が形成されている。オーバーコート膜202にはメイン柱状スペーサ10とサブ柱状スペーサ11が形成されている。オーバーコート膜202の上に配向膜203が形成されている。
4 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. In FIG. 4, an
TFT基板100と対向基板200の間に液晶300が挟持されている。TFT基板100と対向基板200の間隔はメイン柱状スペーサ10で規定されている。図4の状態では、サブ柱状スペーサ11はTFT基板100側には接触していない。図4において、サブ柱状スペーサ11の径φsはメイン柱状スペーサ10の径φmよりも大きい。ここで、柱状スペーサ10の径は、図4の下の図に示すように、柱状スペーサ10の高さhの90%の位置における径φをいう。以下の実施例に示す本発明における柱状スペーサについても同様である。TFT基板100と対向基板200の間に液晶300が挟持されている。
A
図5は、本発明による液晶表示装置の平面図である。図5が図1と異なる点は、TFT基板100と対向基板200の周辺には、液晶を封止するために、外壁21が形成されているが、この外壁21は柱状スペーサ20と同じ材料で、柱状スペーサ20形成と同時にフォトリソグラフィによって形成されているということである。そして、柱状スペーサ20と外壁21は、加熱あるいは紫外線照射によって接着性を発現する材料で形成されている。したがって、TFT基板100と対向基板200は、柱状スペーサ20と外壁21の両方に接着されるため、柱状スペーサ20で接着面積を稼げる分、外壁21は、図1の場合に比べて、はるかに小さな幅で形成することが出来、例えば、10μm程度の幅に形成することが可能である。また、外壁21の端部もフォトリソグラフィで形成されるので、正確に制御することが出来る。
FIG. 5 is a plan view of a liquid crystal display device according to the present invention. 5 differs from FIG. 1 in that an
一方、図1のシール材150は対向基板200側にディスペンサで塗布され、TFT基板100と対向基板200を接着するときに、押しつぶされる。したがって、シール材150の幅sw1を正確にコントロールすることは難しい。また、シール材150の端部も正確な制御は難しい。
On the other hand, the sealing
このように、図5においては、外壁21の幅sw2を小さくできることと相俟って、額縁の幅fw2を、図1における額縁の幅fw1よりも大幅に小さくすることが出来る。例えば、図5において、額縁幅fw2を0.1mm以下、外壁の幅を0.05mm程度にまで小さくすることが出来る。
Thus, in FIG. 5, coupled with the fact that the width sw2 of the
図5が図1とさらに異なる点は、図5のTFT基板100と対向基板200がポリイミド等の樹脂基板で形成されていることである。これによって、液晶表示パネルをフレキシブルに湾曲させることが出来る。さらに重要な点は、後で説明するように、対向基板200に形成された柱状スペーサ20を全て、TFT基板100側に接触させている点である。
5 differs from FIG. 1 in that the
すなわち、TFT基板100及び対向基板200を可撓性の樹脂基板で形成することにより、仮に柱状スペーサ20の数を多くして、より反発力が大きい状態にしても、TFT基板100及び対向基板200がフレキシブルに変形することで衝撃を吸収し、気泡の発生を防止することが出来る。また、大部分の柱状スペーサ20をTFT基板100側と接着させることによって、TFT基板100と対向基板200の接着力を柱状スペーサ20に分担させ、外壁21による接着力を軽減することが出来るので、外壁21の幅を小さくすることが出来、その結果、額縁幅fw2を非常に小さく抑えることが出来る。
That is, by forming the
図6は、図5のC−C断面図である。図6において、TFT基板100の上に複数の絶縁膜や画素電極などの導電層を含むアレイ層101が形成されている。対向基板200にはブラックマトリクスを含むカラーフィルタ層201が形成され、その上にオーバーコート膜202が形成されている。オーバーコート膜202の上に柱状スペーサ20が形成されている。対向基板200の周辺において、外壁21が、柱状スペーサ20と同時に、同じ材料で形成されている。TFT基板100と対向基板200の間には液晶300が挟持されている。
6 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG. In FIG. 6, an
図6において、配向膜は形成されていない。この場合、液晶を特定方向に配向させるために、液晶には添加剤が加えられている。添加剤は、液晶を垂直配向させるためのものもあるし、液晶を水平の一定方向に配向させるためのものもある。添加剤の材料は、例えば特許文献4に記載されている。このような液晶をTFT基板と対向電極の間に封止した後、偏光紫外線を照射すると、所定の方向に液晶分子に対して配向能力を有するポリマー層が、TFT基板および対向基板に形成され、これによって液晶を配向する。
In FIG. 6, the alignment film is not formed. In this case, an additive is added to the liquid crystal in order to align the liquid crystal in a specific direction. Some additives are used to align the liquid crystal vertically, and other additives are used to align the liquid crystal in a certain horizontal direction. The material of the additive is described in
図6において、柱状スペーサ20と外壁21は、加熱あるいは紫外線照射によって接着性を発現する材料で形成されている。このため、柱状スペーサ20と外壁21がアレイ層101と接着することにより、TFT基板100と対向基板200を接着するとともに、TFT基板100と対向基板200の間隔を規定している。図6における外壁21は、柱状スペーサ20と同時にフォトリソグラフィによって形成されるので、外壁21の幅は柱状スペーサ20の径と同じ10μm程度にまで小さくすることが可能である。逆に言えば、外壁21だけでは、TFT基板100と対向基板200の間に接着力を維持することが出来ないので、柱状スペーサ20の接着力を合せることで、全体の接着力を向上させている。
In FIG. 6, the
接着力の評価は次のとおりである。図1及び図5の液晶表示パネルが5インチパネルの場合、表示領域は62.2mm×110.5mmである。図1において、シール材150の幅を0.8mmとすると、シール材150の面積は(62.2×0.8+110.5×0.8)=276.32mm2である。図5において、同じ接着面積を柱状スペーサ20によって持たせようとすると、例えば、柱状スペーサ20の接触面積比を4%とする。そうすると、柱状スペーサ20の接触面積は、62.2×110.5×0.04=274.9mm2となり、図1の場合のシール材150の接着面積とほぼ同じになる。ここで、柱状スペーサ20の接触面積比は、表示領域40の面積をSとし、柱状スペーサ20の高さの90%の位置における柱状スペーサ20の面積をsとし、柱状スペーサ20の数をnとした場合、s×n/Sである。
The evaluation of adhesive strength is as follows. When the liquid crystal display panel of FIGS. 1 and 5 is a 5-inch panel, the display area is 62.2 mm × 110.5 mm. In FIG. 1, when the width of the sealing
なお、図5においては、柱状スペーサ20の接着面積に加えて、外壁21の接着力も加わるので、図1の場合よりも、大きな接着面積とすることが出来る。外壁21の接着面積も考慮すると、柱状スペーサ20の接触面積比は、1%よりも大きければよく、より好ましくは、2%以上である。
In FIG. 5, in addition to the adhesion area of the
図6に戻り、本発明では、図2と異なり、対向基板200に形成された柱状スペーサ20は全てTFT基板100側と接触している。柱状スペーサ20にTFT基板100と対向基板200の接着機能を持たせているからである。図2のような、ガラス基板の場合には、柱状スペーサを全てメイン柱状スペーサ10で形成すると、気泡が発生する。しかし、図6においては、TFT基板100と対向基板200は、フレキシブルな樹脂基板で形成されているので、柱状スペーサ20の反発力に対して柔軟に変形するので、気泡の発生を抑えることが出来る。
Returning to FIG. 6, in the present invention, unlike FIG. 2, all the
ここで、全ての柱状スペーサ20を対向する基板に接触させるという意味は、柱状スペーサ20による接着力を確保するという意味である。したがって接着力を確保した上で、何等かの理由で、対向する基板に接触しない柱状スペーサを配置することを妨げるものではない。この意味から、本明細書における全ての柱状スペーサ20を対向する基板に接触させるとは、大部分の柱状スペーサ20を対向する基板に接触させるという意味と同義である。ここで大部分とは、例えば、80%以上である。これに対して、図1乃至図4の構成のメイン柱状スペーサ10の数は、サブ柱状スペーサ11の数の10%以下である。
Here, the meaning that all the
図6において、外壁21の幅は、柱状スペーサ20の径と同等となっているが、液晶を封止するという機械的な強度を考慮して、例えば、0.1mm程度まで大きくしてもよい。外壁21の幅は、許容される額縁幅に合わせて設定することが出来る。また、外壁21の幅を考慮して、柱状スペーサ20の接触面積もフレキシブルに調整することが出来る。
In FIG. 6, the width of the
図7は本発明における柱状スペーサ20の配置例である。図7が図3と異なる点は、全ての柱状スペーサ20が同じ径であり、全て対向する基板、すなわち、TFT基板100側と接触しているということである。
FIG. 7 shows an arrangement example of the
図7における柱状スペーサ20の径は、図3におけるサブ柱状スペーサ11と同じ径に統一している。柱状スペーサ20の径は、接着力を確保する観点から、柱状スペーサ20の数、外壁21の幅を考慮して決めればよい。また、白色輝度の調整という点で、特定の色に関係する柱状スペーサ20の径を他の部分の柱状スペーサ20の径と異ならせることも可能である。すなわち、本発明では、気泡は大きな問題にならないので、柱状スペーサ20の径を決める自由度が大きい。
The diameter of the
図8は図7のD−D断面図である。図8のTFT基板100と対向基板200の断面構成は図6で説明したとおりである。図8において、対向基板200に形成された柱状スペーサ20は全てTFT基板100側に直接接着している。各柱状スペーサ20の接着面積は、図8のような断面形状で測定することができるのであれば、柱状スペーサ20がアレイ層101と接触している面積を測定すればよいが、TFT基板100と対向基板200を分解して測定する場合は、各柱状スペーサ20の高さの90%の位置における径を基準とした面積と定義すればよい。
8 is a cross-sectional view taken along the line DD of FIG. The cross-sectional configurations of the
図9乃至図17は、図6に示す実施例1の構成を製造するためのプロセスを示す断面図である。図9及び図10はTFT基板100側のプロセスを示す。本発明では、基板100は、フレキシブルな樹脂で形成されている。樹脂の中でも、ポリイミドは、機械的な強度、耐熱性から、表示装置の基板として特に優れているので、以後の説明はポリイミドを前提として行うが、本発明は、他の樹脂を使用する場合にも適用することが出来る。
9 to 17 are sectional views showing a process for manufacturing the configuration of the embodiment 1 shown in FIG. 9 and 10 show processes on the
図9はガラス基板400上にTFT基板100となるポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を塗布し、焼成してポリイミド基板を形成した状態である。ポリアミド酸を300℃乃至400℃程度で焼成することによりポリイミドが形成される。フレキシブル表示装置を形成するために、ポリイミドの厚さは、例えば10μm乃至50μmであり、より好ましくは、10μm乃至20μmである。このような薄い基板のみでは、製造プロセスを通すことはできないので、TFT基板100となるポリイミド基板をガラス基板400の上に配置したまま、製造プロセスを通し、表示装置が完成した後、ガラス基板400を剥離する。
FIG. 9 shows a state where a polyimide substrate, which is a polyimide precursor to be the
図10は、図9のようにして形成したポリイミド基板100の上にアレイ層101を形成した状態を示す断面図である。アレイ層101は、FFS(Fringe−Field−Swihcing)方式のパネルの場合、SiO、SiN等による下地膜、半導体層を含むTFTからなるスイッチング素子、層間絶縁膜、走査線、映像信号線、これらの層を保護するパッシベーション膜、コモン電極、画素電極等を含む。アレイ層101では、例えば、画素電極が最も液晶層側に形成されている。
FIG. 10 is a sectional view showing a state in which the
図11乃至図14は対向基板200側の製造プロセスである。図11は対向基板200において、オーバーコート膜202まで形成された状態を示す断面図である。本発明では、対向基板200もTFT基板100と同様に、ポリイミドによって形成する。ポリイミドによる対向基板200の形成方法は、図9での説明と同様である。対向基板200側もポリイミドの厚さは、10μm乃至50μm、より好ましくは10μm乃至20μmである。また、ガラス基板500がついたまま、製造プロセスを通ることもTFT基板100と同じである。
11 to 14 show a manufacturing process on the
図11において、焼成、固化した対向基板200の上にブラックマトリクスおよびカラーフィルタを有するカラーフィルタ層201が形成され、カラーフィルタ層201の上にオーバーコート膜202が形成されている。オーバーコート膜202の役割は、カラーフィルタ層201における顔料が液晶層300を汚染することを防止することと、表面の平坦化である。
In FIG. 11, a
図12は、オーバーコート膜202の上に柱状スペーサ20および外壁21となる感光性樹脂25を塗布し、プリベークした状態を示す。実施例1における柱状スペーサ20および外壁21の材料としては、熱可塑性、熱硬化性、紫外線硬化樹脂を使用するが、これらの材料は、所定の条件で加熱、あるいは、紫外線を照射したときに接着性を発現する材料である。このような材料は、例えば、特許文献2、特許文献3等に記載されている。その後、フォトリソグラフィによって、柱状スペーサ20および外壁21を形成する。柱状スペーサ20および外壁21は、フォトリソグラフィによって形成するので、正確な寸法を確保することが出来る。
FIG. 12 shows a state where the
図13は、感光性樹脂25をフォトリソグラフィによってパターニングした状態を示す断面図である。感光性樹脂であるから、フォトレジストの形成は不要である。図13の特徴は、柱状スペーサ20のみならず、液晶300を封止するための外壁21も柱状スペーサ20と同時に形成することである。したがって、ディスペンサで形成される従来のシール材150と異なり、微細加工が可能で、かつ、寸法も正確に制御することが出来る。図13における外壁21は、例えば、10μmであるが、強度を考慮して100μm程度とすることも出来る。このように柱状スペーサ20及び外壁21を加工した後、焼成して、本硬化する。
FIG. 13 is a cross-sectional view showing a state in which the
図14はこのようにして形成した対向基板200内に液晶300をODF(One Drop Fill)によって滴下し、充填している状態を示す断面図である。本実施例では、ODFで液晶充填を行うため、外壁21には、液晶を後で注入するための開口部は形成されていない。
本実施例では、配向膜が形成されていないので、液晶材料としては、配向膜無しで液晶を配向させるための材料が添加されている。
FIG. 14 is a cross-sectional view showing a state in which the
In this embodiment, since the alignment film is not formed, a material for aligning the liquid crystal without the alignment film is added as the liquid crystal material.
図15は、このようにして形成されたTFT基板100側と対向基板200側を貼り合わせた状態を示す断面図である。この状態では、TFT基板100側にはガラス基板400が存在し、対向基板200側にはガラス基板500が存在している。図15において、TFT基板100側と対向基板200側を貼り合わせた後、紫外線を照射、または加熱して、柱状スペーサ20及び外壁21に接着性を発現させ、TFT基板200側と接着させる。これによって液晶300をTFT基板100と対向基板200の間に封止する。
FIG. 15 is a cross-sectional view showing a state where the
そして、封止された液晶に対し、例えば、偏光紫外線を照射することによって、TFT基板と液晶の界面、あるいは、対向基板と液晶の界面に液晶を配向させるための配向層を形成し、液晶を配向させる。 Then, for example, by irradiating the sealed liquid crystal with polarized ultraviolet rays, an alignment layer for aligning the liquid crystal is formed at the interface between the TFT substrate and the liquid crystal or at the interface between the counter substrate and the liquid crystal. Orient.
図16は、ガラス基板400とTFT基板100の間、及び、ガラス基板500と対向基板200の間においてガラス基板400、500を剥離するために、ガラス基板とポリイミド基板との界面にレーザLBを照射している断面図である。いわゆるレーザアブレーションによって、ガラス基板とポリイミド基板を剥離させる。剥離をより効率的に行うために、ガラス基板400、500とポリイミド基板100、200との境界に金属層等を形成する場合もある。
FIG. 16 shows the laser LB irradiated to the interface between the glass substrate and the polyimide substrate in order to peel the
図17は、レーザアブレーションによって、ガラス基板400をTFT基板100から剥離し、また、ガラス基板500を対向基板200から剥離している状態を示す断面図である。図17において、ガラス基板400及び500を除去した状態は図6と同じになる。
FIG. 17 is a cross-sectional view showing a state in which the
図18は実施例2の構成を示す断面図である。実施例2の液晶表示装置の平面図は、図5と同様である。ただし、図5に対して、アレイ層101の上に配向膜103が、オーバーコート膜202の上に配向膜203が形成されている点が異なっている。
図18において、ポリイミドで形成されたTFT基板100にアレイ層101が形成されている。アレイ層101の構成は図6での説明と同様である。また、ポリイミドで形成された対向基板200にはブラックマトリクスとカラーフィルタを有するカラーフィルタ層201が形成され、その上にオーバーコート膜202が形成されている。
オーバーコート膜202の上には、実施例1と同様の柱状スペーサ30および外壁31が形成され、この柱状スペーサ30および外壁31を構成する材料が加熱あるいは紫外線照射によって接着性を発現する材料によって形成されている。柱状スペーサ30および外壁31はフォトリソグラフィによって形成することが出来る。
FIG. 18 is a cross-sectional view showing the configuration of the second embodiment. The plan view of the liquid crystal display device of Example 2 is the same as FIG. 5 differs from FIG. 5 in that an
In FIG. 18, an
On the
その後、オーバーコート膜202の上に、例えばインクジェットによって、配向膜203を形成する。配向膜203は柱状スペーサ30の上にも形成されるがレベリングによって、柱状スペーサ30の上には殆ど形成されていないので、図18では省略されている。なお、柱状スペーサ30や外壁31に、配向膜材料をはじくような材料を使用すれば、柱状スペーサ30等から配向膜を排除することが出来る。さらに、配向膜203をフォトリソグラフィによってパターニングすれば、柱状スペーサ30の頂部から確実に配向膜を除去することが出来る。TFT基板側の配向膜103と対向基板側の配向膜203の間に液晶300が挟持されている。本実施例では、液晶300は、配向膜103,203によって初期配向を受ける。
Thereafter, an
図18においても、TFT基板100と対向基板200の接着は、対向基板200側に形成された柱状スペーサ30及び外壁31がTFT基板100側に接着することによって維持されている。図18において、柱状スペーサ30は全てTFT基板100側と接触している点は実施例1と同じである。本実施例においても、TFT基板100及び対向基板200はポリイミドで形成されているので、柱状スペーサ30の反発力が大きい場合であってもフレキシブルに変形し、気泡が発生する可能性は小さい。
Also in FIG. 18, the adhesion between the
図19は、実施例2での表示領域40における柱状スペーサ30の配置例である。図19における柱状スペーサ30の配置位置、全ての柱状スペーサ30が同じ径であること等は、実施例1の図7と同じである。図19においても、柱状スペーサ30自体が熱あるいは紫外線照射を受けて、硬化、あるいは軟化する時点で接着性を発現し、対向する基板(この場合はTFT基板100)に形成された配向膜103と接着する。したがって、TFT基板100側に接着材層102は不要で、配向膜103を使用することが出来る。
FIG. 19 is an arrangement example of the
本実施例においても、柱状スペーサ30をTFT基板100と対向基板200の接着に使用するために、柱状スペーサ30の表示面積に対する接触比率を確保することが必要である点は、実施例1と同様である。すなわち、接触比率は、1%を超えることが必要であり、2%以上であればより好ましく、さらに好ましくは4%以上である。本実施例においても、TFT基板100と対向基板200の接着について、外壁31も寄与することは実施例1と同様であり、柱状スペーサ30の接触比率は外壁31の幅も加味して決定される。
Also in the present embodiment, in order to use the
図20は図19のE−E断面図である。図20におけるTFT基板100側の構成及び対向基板200側の構成は図18で説明したとおりである。図20において、配向膜103および配向膜203の間に液晶300が挟持されている。図20においては、TFT基板100側にも対向基板200側にも配向膜103、203形成されているので、通常の液晶を用いることが出来る。
20 is a cross-sectional view taken along line EE in FIG. The configuration on the
図21乃至図26は、図18に示す本実施例の構成を実現するプロセスを示す断面図である。図21は、TFT基板100側の構成を示す断面図である。TFT基板100側の製造方法は、配向膜103が形成されている他は、実施例1と同様である。すなわち、ガラス基板400の上にポリイミド基板100を形成し、その上にアレイ層101を形成し、その上に配向膜103を形成している。
21 to 26 are cross-sectional views showing a process for realizing the configuration of the present embodiment shown in FIG. FIG. 21 is a cross-sectional view showing a configuration on the
図22は対向基板200側において、柱状スペーサ用の感光性樹脂35を塗布し、固化した状態における断面図である。図22において、オーバーコート膜202を形成するまでは、実施例1で説明したプロセスと同じである。その後、オーバーコート膜202の上に、柱状スペーサ30あるいは外壁31の前駆体となる、感光性の材料35を塗布し、プリベークして固化する。
FIG. 22 is a cross-sectional view of the
柱状スペーサ30および外壁31の材料としては、熱可塑性、熱硬化性、紫外線硬化樹脂を使用するが、これらの材料は、所定の条件で加熱、あるいは、紫外線を照射したときに接着性を発現する材料である。
As the material for the
その後、フォトリソグラフィによって、柱状スペーサ30および外壁31を形成する。柱状スペーサ30および外壁31は、フォトリソグラフィによって形成するので、正確な寸法を確保することが出来る。
Thereafter, the
感光性材料35を固化した後、図23に示すように、配向膜203を塗布する。配向膜203は全面に塗布されるが、柱状スペーサ30の上はレベリングによって、殆ど形成されていないので、配向膜203は省略されている。なお、柱状スペーサ30や外壁31の材料に、配向膜材料をはじくような材料を用いれば、柱状スペーサ30等から確実に配向膜を排除することが出来る。さらに、配向膜203をフォトリソグラフィによってパターニングすれば、柱状スペーサから配向膜203を除去することが出来る。その後、配向膜203を焼成する。そして、配向膜203に対して配向処理を行う。配向処理は、ラビング法でも偏光紫外線を用いた光配向法でもよい。その後、図24に示すように、対向基板200側にODFによって液晶300を滴下し、対向基板200内に液晶300を充填する。この時点では、柱状スペーサ30および外壁31はまだ半硬化の状態であり、接着性は発現していない。
After the
その後、図25に示すように、TFT基板100と対向基板200を接着し、液晶300を外壁31の内部に封止する。TFT基板100側と対向基板200側を接着する際、柱状スペーサ30及び外壁31に対し、加熱、あるいは、紫外線を照射して、接着性を発現させ、柱状スペーサ30及び外壁31をTFT基板100側の配向膜103に接着させる。加熱あるいは紫外線照射が終わって柱状スペーサ30及び外壁31が完全に硬化した後は、柱状スペーサ30及び外壁31の表面の接着性は消失している。したがって、液晶層300を汚染することは無い。
Thereafter, as shown in FIG. 25, the
柱状スペーサ30および外壁が紫外線硬化、あるいは熱硬化する際、体積が収縮したり、若干軟化したりして、柱状スペーサの高さが低くなる場合がある。これに対しては、パターニング後の柱状スペーサの高さを、本硬化前の柱状スペーサの高さよりも、例えば、0.2μm乃至0.5μm程度高くしておけばよい。
When the
その後、ガラス基板400とTFT基板100の界面およびガラス基板500と対向基板200の界面にレーザビームを照射し、レーザアブレーションによって、図26に示すように、ガラス基板400とガラス基板500を除去し、図18に示すフレキシブル液晶表示装置を形成することが出来る。
Thereafter, a laser beam is irradiated to the interface between the
本実施例のさらに他の構成として、TFT基板側の配向膜を熱可塑性の材料で構成しておき、対向基板側に形成される柱状スペーサに、光発熱性材料を含ませておく。TFT基板と対向電極を貼りあわせた後、光を照射することによって、柱状スペーサを発熱させ、TFT基板側の配向膜を加熱し、配向膜に接着性を発現させ、柱状スペーサと配向膜を接着する構成とすることが出来る。 As still another configuration of this embodiment, the alignment film on the TFT substrate side is made of a thermoplastic material, and a photo-exothermic material is included in a columnar spacer formed on the counter substrate side. After the TFT substrate and the counter electrode are bonded together, the columnar spacer is heated by irradiating light, the alignment film on the TFT substrate side is heated, and the adhesion is exhibited in the alignment film, and the columnar spacer and the alignment film are bonded. It can be set as the structure to do.
以上説明したように、本実施例によれば、額縁の幅を殆ど認識できない程度に狭くし、表示領域を広げることが出来る、フレキシブルな液晶表示装置を実現することが出来る。 As described above, according to the present embodiment, it is possible to realize a flexible liquid crystal display device that can narrow the frame width to an extent that it can hardly be recognized and widen the display area.
図27は本実施例の特徴を示す液晶表示装置の断面図である。図27は、図5のC−C断面図に相当する。図27が実施例2の図18と異なる点は、柱状スペーサ30が対向基板200側の配向膜203の上に形成されている点である。一方、実施例2の図18では、柱状スペーサ30はオーバーコート膜202の上に形成され、柱状スペーサ30を形成した後、配向膜203を形成している。本実施例である図28は、図27の表示領域の拡大断面図である。図28が実施例2の図20と異なる点は、柱状スペーサ30が配向膜203の上に形成されていることである。その他の構成は、図20と同じである。
FIG. 27 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device showing the features of this embodiment. FIG. 27 corresponds to the CC cross-sectional view of FIG. FIG. 27 is different from FIG. 18 of the second embodiment in that the
実施例2の図18あるいは図20の場合、配向膜203はレベリング効果によって、柱状スペーサ30の上には殆ど残らないと考えられるが、薄膜であっても、柱状スペーサ30の上面に残っていた場合、柱状スペーサ30とTFT基板100側の配向膜103との接着力に影響を与える。
In the case of FIG. 18 or FIG. 20 of the second embodiment, it is considered that the
本実施例では、配向膜203を形成した後、柱状スペーサ30を形成するので、配向膜203によって、柱状スペーサ30とTFT基板100側の配向膜103との接着が阻害されることは無い。但し、この場合、配向膜203を形成後に、柱状スペーサ30のための感光性樹脂35の塗布、仮焼成、フォトリソグラフィ等を行うために、配向膜203の表面がこれらのプロセスの影響を受ける可能性がある。このような観点から、配向膜の配向処理のタイミングを検討する必要もある。
In this embodiment, since the
配向膜203の配向処理は、柱状スペーサ30を形成する直前、又は柱状スペーサ30を形成した後に行うことが出来る。本実施例の柱状スペーサ30および外壁31の形成方法は実施例2と同じである。また、図27に記載されている液晶表示装置の製造プロセスも、配向膜203と柱状スペーサ30の形成の順番が異なる点を除いては、実施例2で説明したのと同様である。
The alignment treatment of the
なお、本実施例では、TFT基板100と対向基板200を貼り合わせた後、接着性の柱状スペーサ30および外壁31に対して、加熱、あるいは紫外線照射を行うことによって、柱状スペーサ30及び外壁31を配向膜103及び配向膜203と強固に接着させることになる。この場合、柱状スペーサ30あるいは外壁31自体が本硬化時点で接着性を発現するものでもよいし、配向膜103あるいは配向膜203を熱可塑性の樹脂で構成し、柱状スペーサ30と配向膜103、203とを接着させてもよい。
(補足説明)
ここでは、本発明を適用した場合の種々の効果を説明する。図29は、ディスペンサによってシール材150を形成する従来の液晶表示パネルの端部を示す平面図である。シール材150をディスペンサで塗布する場合は、途切れてしまうのを防止するために、シール材150の幅を小さくするには限度がある。また、図29に示すように、ディスペンサで対向基板200に塗布されたシール材150は、対向基板200とTFT基板100を接着する際につぶれて形状が不規則になる。したがって、シール材150と表示領域40との間には、この不規則分を考慮して、大きなマージンm1を設定して必要がある。
In this embodiment, after the
(Supplementary explanation)
Here, various effects when the present invention is applied will be described. FIG. 29 is a plan view showing an end portion of a conventional liquid crystal display panel in which the sealing
これに対して、本発明によれば、図30に示すように、外壁21、31はフォトリソグラフィによって形成することが出来るので、幅10μm程度の微細加工が可能である。また、形状も正確に制御することが出来るので、表示領域40との間には、比較的小さなマージンm2で済む。したがって、この点からも表示領域40を大きく設定することが可能である。
On the other hand, according to the present invention, as shown in FIG. 30, since the
図31および図32は、表示装置を湾曲して使用する場合の比較例である。図31は、従来例による液晶表示装置を湾曲して使用した場合の問題点を示す断面図である。表示装置を湾曲して使用する場合、画面中心付近に大きな曲げストレスがかかる。したがって、画面中心付近において、TFT基板100と対向基板200の間隔が小さくなる。そうすると、画面中心と画面周辺における色度あるいは輝度に変化が生ずる。
FIG. 31 and FIG. 32 are comparative examples in the case where the display device is curved and used. FIG. 31 is a cross-sectional view showing a problem when the liquid crystal display device according to the conventional example is used while being curved. When the display device is used while being bent, a large bending stress is applied near the center of the screen. Therefore, the distance between the
図32は本発明の液晶表示装置を湾曲して使用する場合の断面図である。図32において、TFT基板100と対向電極200の間隔は、画面中央における値d2と画面周辺での値d1とはほとんど変わらない。本発明では、柱状スペーサ20、30にTFT基板100と対向基板200の接着の役割も持たせているので、柱状スペーサ20、30の表示領域に対する接触比率は、表示領域の1%を超え、好ましくは2%以上、より好ましくは4%以上である。したがって、柱状スペーサ20、30による反発力が大きく、TFT基板100と対向基板200の間隔の変動は生じにくい。
FIG. 32 is a cross-sectional view when the liquid crystal display device of the present invention is used in a curved shape. In FIG. 32, the distance between the
加えて、本発明では、基板にガラス基板ではなく、例えば、10μm乃至20μmのポリイミドを使用しているので、曲げ応力自体がガラス基板の場合に比較して非常に小さい。この点からも、表示装置を湾曲して使用した場合のTFT基板100と対向基板200の間隔の変動を小さく抑えることが出来る。
In addition, in the present invention, not a glass substrate but a polyimide of 10 μm to 20 μm, for example, is used as the substrate, so that the bending stress itself is very small compared to the case of a glass substrate. Also from this point, the variation in the distance between the
従来、液晶表示装置の外形は殆どが矩形であった。しかし、近年、矩形以外の形状を有する液晶表示装置が要求されている。図33は、矩形の辺に切欠き41が形成されている場合の例である。図34は、表示領域40に円形の孔42が形成されている例である。図33および図34において、切欠き41あるいは孔42が形成されている部分には、切欠き41又は孔42の端部に沿って液晶を封止するシールを形成する必要がある。本発明のように、液晶をシールするための外壁をフォトリソグラフィによって形成すれば、このようなシール形状にも容易に対応でき、且つこのような異形部分においても狭額縁の表示を実現することが出来る。
Conventionally, the external shape of the liquid crystal display device is almost rectangular. However, in recent years, a liquid crystal display device having a shape other than a rectangle has been demanded. FIG. 33 shows an example in which a
図35及び図36は表示装置の外形が矩形でない場合の例である。図35は対向する垂直の2辺が内側に凸となっている例である。図36は対向する水平の2辺が同じ方向に湾曲している例である。いずれも、隣り合う辺が鋭角で交差している箇所が存在している。このような部分はディスペンサでのシール材の塗布は難しいが、本発明のように、フォトリソグラフィで外壁を形成することは特に困難はない。 FIG. 35 and FIG. 36 are examples when the external shape of the display device is not rectangular. FIG. 35 shows an example in which two opposing vertical sides protrude inward. FIG. 36 shows an example in which two opposing horizontal sides are curved in the same direction. In both cases, there are locations where adjacent sides intersect at an acute angle. Although it is difficult to apply the sealing material with a dispenser in such a portion, it is not particularly difficult to form the outer wall by photolithography as in the present invention.
このように、本発明によれば、画面が湾曲している表示装置や、外形が異形である表示装置、あるいは、画面内に種々の不規則な切欠き等が存在するような表示領域についても容易に対応することが出来る。 As described above, according to the present invention, a display device having a curved screen, a display device having an irregular outer shape, or a display region in which various irregular cutouts exist in the screen. It can be easily handled.
10…メイン柱状スペーサ、 11…サブ柱状スペーサ、 20、30…柱状スペーサ、 21、31…外壁、 25,35…柱状スペーサ用感光性樹脂、 40…表示領域、 50…端子領域、 91…走査線、 92…映像信号線、 93…画素、 100…TFT基板、 101…アレイ層、 103…配向膜、 200…対向基板、 201…カラーフィルタ層、 202…オーバーコート膜、 203…配向膜、
DESCRIPTION OF
Claims (20)
前記第1の基板と前記第2の基板は、可撓性基板で形成され、
前記第1の基板と前記第2の基板間の表示領域には、複数の柱状スペーサが形成され、前記第1の基板と前記第2の基板間の基板端部には外壁が形成され、
前記柱状スペーサと前記外壁は、紫外線照射又は加熱により接着性を発現する材料で形成され、
前記柱状スペーサと前記外壁は前記第1の基板と前記第2基板の両面と接着していることを特徴とする液晶表示装置。 A liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a first substrate and a second substrate,
The first substrate and the second substrate are formed of a flexible substrate,
A plurality of columnar spacers are formed in a display region between the first substrate and the second substrate, and an outer wall is formed at a substrate end between the first substrate and the second substrate,
The columnar spacer and the outer wall are formed of a material that exhibits adhesiveness by ultraviolet irradiation or heating,
The liquid crystal display device, wherein the columnar spacer and the outer wall are bonded to both surfaces of the first substrate and the second substrate.
第1の基板と第2の基板を可撓性基板で形成し、
前記第2の基板に感光性樹脂を形成し、フォトリソグラフィによって、前記第2の基板の表示領域に柱状スペーサを、前記第2の基板の周辺部に外壁を同時に形成し、
前記第1の基板と前記第2の基板を接着する際に、加熱あるいは紫外線を照射することによって、前記柱状スペーサ及び前記外壁に接着性を発現させ、ることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 A method of manufacturing a liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between a first substrate and a second substrate,
Forming a first substrate and a second substrate with a flexible substrate;
Forming a photosensitive resin on the second substrate, and simultaneously forming a columnar spacer in a display region of the second substrate and an outer wall in a peripheral portion of the second substrate by photolithography;
Manufacturing of a liquid crystal display device characterized in that, when the first substrate and the second substrate are bonded, the columnar spacer and the outer wall are made to exhibit adhesiveness by heating or irradiating ultraviolet rays. Method.
第1の基板と第2の基板を可撓性基板で形成し、
前記第2の基板に感光性樹脂を形成し、フォトリソグラフィによって、前記第2の基板の表示領域に柱状スペーサを、前記第2の基板の周辺部に外壁を同時に形成し、
前記第1の基板に第1の配向膜を形成し、
前記第1の基板と前記第2の基板を接着する際に、前記柱状スペーサ及び前記外壁に対し、加熱あるいは紫外線を照射することによって、前記柱状スペーサ及び前記外壁を前記第1の配向膜に接着させることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 A method of manufacturing a liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between a first substrate and a second substrate,
Forming a first substrate and a second substrate with a flexible substrate;
Forming a photosensitive resin on the second substrate, and simultaneously forming a columnar spacer in a display region of the second substrate and an outer wall in a peripheral portion of the second substrate by photolithography;
Forming a first alignment film on the first substrate;
When the first substrate and the second substrate are bonded, the columnar spacer and the outer wall are bonded to the first alignment film by heating or irradiating the columnar spacer and the outer wall with ultraviolet rays. A manufacturing method of a liquid crystal display device characterized by comprising:
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