JP2019158904A - Liquid crystal display device and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

To achieve a flexible liquid crystal display device with a hardly recognizable frame region.SOLUTION: The liquid crystal display device has a liquid crystal 300 held between a first substrate 100 and a second substrate 200, in which the first substrate 100 and the second substrate 200 are formed of flexible substrates, a columnar spacer 20 is formed in a display region between the first substrate 100 and the second substrate 200, and an outer wall 21 is formed in the periphery of the first substrate 100 and the second substrate 200. The columnar spacer 20 and the outer wall 21 are formed of a material that develops adhesiveness by irradiation with UV rays or by heating, and the columnar spacer 20 and the outer wall 21 are adhered to the first substrate 100 side.SELECTED DRAWING: Figure 6

Description

本発明は表示装置に係り、特に、フレキシブルに湾曲させることが出来る液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a display device, and more particularly to a liquid crystal display device that can be flexibly bent.

液晶表示装置では画素電極および薄膜トランジスタ(TFT)等がマトリクス状に形成されたTFT基板と、TFT基板に対向して、対向基板が配置され、TFT基板と対向基板の間に液晶層が挟持された液晶表示パネルを有している。そして液晶分子による光の透過率を画素毎に制御することによって画像を形成している。   In a liquid crystal display device, a TFT substrate in which pixel electrodes and thin film transistors (TFTs) are formed in a matrix and a counter substrate are arranged opposite the TFT substrate, and a liquid crystal layer is sandwiched between the TFT substrate and the counter substrate It has a liquid crystal display panel. An image is formed by controlling the light transmittance of the liquid crystal molecules for each pixel.

TFT基板と対向基板との間隔が変動すると、液晶の層厚が変動することになり、輝度むらや色むらの原因になる。このため、通常は、対向基板に柱状スペーサを形成し、柱状スペーサによって、TFT基板と対向基板の間隔を一定に保っている。しかし、大型の液晶表示パネルでは、液晶表示パネルを立てて使用すると、重力によって、液晶がパネルの下部に溜り、TFT基板と対向基板の間隔が変化する現象が生ずる。   If the distance between the TFT substrate and the counter substrate varies, the layer thickness of the liquid crystal varies, causing uneven brightness and uneven colors. For this reason, usually, a columnar spacer is formed on the counter substrate, and the distance between the TFT substrate and the counter substrate is kept constant by the columnar spacer. However, in a large liquid crystal display panel, when the liquid crystal display panel is used in a standing state, a phenomenon occurs in which liquid crystal accumulates in the lower part of the panel due to gravity, and the distance between the TFT substrate and the counter substrate changes.

これを対策するために、特許文献1には、ガラスで形成されたTFT基板と対向基板の間隔を一定にするために、一方の基板に柱状スペーサを形成し、柱状スペーサが接触する他方の基板に接着材を配置し、他方の基板が柱状スペーサから離れないようにすることによって、TFT基板と対向基板の間隔を一定に保つ構成が記載されている。   In order to prevent this, Patent Document 1 discloses that in order to make the distance between the TFT substrate formed of glass and the counter substrate constant, a columnar spacer is formed on one substrate, and the other substrate on which the columnar spacer contacts. An arrangement is described in which an adhesive is disposed on the other substrate so that the other substrate is not separated from the columnar spacer, thereby keeping the distance between the TFT substrate and the counter substrate constant.

特許文献2には、配向膜を形成した一方のガラス基板にスペーサおよびシール材を形成し、他方のガラス基板を重ねた後に加熱することで、スペーサおよびシール材によって、両方の基板を貼り合せ、その後、シール材に開けられた開口から液晶を注入する構成が記載されている。   In Patent Document 2, a spacer and a sealing material are formed on one glass substrate on which an alignment film is formed, and the other glass substrate is heated after being stacked, so that both substrates are bonded together by the spacer and the sealing material, Thereafter, a configuration in which liquid crystal is injected from an opening opened in the sealing material is described.

特許文献3には、一方のガラス基板上に形成した通常のスペーサの上に、接着層を形成し、他方のガラス基板と接着を行う構成が記載されている。   Patent Document 3 describes a configuration in which an adhesive layer is formed on a normal spacer formed on one glass substrate and bonded to the other glass substrate.

特許文献4には、従来の塗布による配向膜の形成ではなく、液晶材料にUV光を照射することでFFS(Fringe−Field−Swiching)用の配向膜を形成する構成が記載されている。   Patent Document 4 describes a configuration in which an alignment film for FFS (Fringe-Field-Switching) is formed by irradiating a liquid crystal material with UV light instead of forming an alignment film by conventional coating.

特開2011−65086号公報JP 2011-65086 A 特開2003−330029号公報JP 2003-330029 A 特開2004−12772号公報JP 2004-12772 A WO2018/008581A1WO2018 / 008581A1

TFT基板と対向基板の間隔は、柱状スペーサによって、維持されているが、液晶表示パネルの表示品質を安定させるためには、TFT基板と対向基板の間隔を維持することが重要であり、外部からの押し圧力、衝撃、温度変化等に対応できるようにする必要がある。このため、TFT基板と対向基板間には、柱状スペーサが形成される。しかし、形成された柱状スペーサの数が少なすぎるなどの理由で反発力が小さすぎると、外部から押し圧力を受けたような場合、変形が大きくなり、極端な場合は、元に戻らなくなる。また、形成された柱状スペーサの数が多すぎるなどの理由で反発力が大き過ぎると、外部から衝撃が加わった場合や、異なる温度環境に晒されたような場合、液晶表示パネルの内部に気泡が発生するという現象が生ずる。このような現象は特に、TFT基板と対向基板がガラスなどの固い基板の場合に、顕著に発生する。   The distance between the TFT substrate and the counter substrate is maintained by columnar spacers. However, in order to stabilize the display quality of the liquid crystal display panel, it is important to maintain the distance between the TFT substrate and the counter substrate. It is necessary to be able to cope with the pressure, impact, temperature change, etc. For this reason, columnar spacers are formed between the TFT substrate and the counter substrate. However, if the repulsive force is too small, for example, because the number of columnar spacers formed is too small, the deformation becomes large when a pressing force is applied from the outside, and in an extreme case, it cannot be restored. In addition, if the repulsive force is too large because the number of columnar spacers formed is too large, bubbles may be generated inside the liquid crystal display panel when an impact is applied from the outside or when exposed to a different temperature environment. The phenomenon that occurs occurs. Such a phenomenon is particularly prominent when the TFT substrate and the counter substrate are hard substrates such as glass.

一方、液晶表示装置では、外形寸法を一定に保ちつつ、表示領域の面積をできるだけ大きくしたいという要求がある。しかし、通常は、TFT基板と対向基板とは周辺においてシール材によって接着しているので、シール材の幅を極端に小さくすると、TFT基板と対向基板との接着強度が不十分になる。   On the other hand, in the liquid crystal display device, there is a demand to increase the area of the display region as much as possible while keeping the outer dimensions constant. However, since the TFT substrate and the counter substrate are usually bonded together by a sealing material at the periphery, if the width of the sealing material is made extremely small, the bonding strength between the TFT substrate and the counter substrate becomes insufficient.

また、液晶表示装置では、フレキシブルに湾曲させて使用したいという要求もある。液晶表示パネルを湾曲させて使用するような場合、TFT基板と対向基板間の間隔に対しては、押し圧力だけでなく、引っ張りやずれなど他の圧力が働き、また、シール材によるTFT基板と対向基板の接着に対しては、より強い接着力が求められるようになる。   In addition, there is a demand for a liquid crystal display device to be flexibly used. When the liquid crystal display panel is used in a curved shape, not only the pressing pressure but also other pressures such as pulling and displacement act on the distance between the TFT substrate and the counter substrate. For bonding the counter substrate, a stronger bonding force is required.

本発明の課題は、湾曲して使用することが出来る液晶表示装置において、基板間の間隔維持や接着をより安定して確保できる液晶表示装置を実現することである。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to realize a liquid crystal display device which can be used while being curved, and which can maintain the spacing between substrates and adhesion more stably.

本発明は上記問題を克服するものであり、具体的な手段は次のとおりである。   The present invention overcomes the above problems, and specific means are as follows.

(1)第1の基板と、第2の基板の間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、前記第1の基板と前記第2の基板は、可撓性基板で形成され、前記第1の基板と前記第2の基板間の表示領域には柱状スペーサが形成され、前記第1基板と前記第2の基板間の基板端部には外壁が形成され、前記柱状スペーサと前記外壁は、紫外線照射又は加熱により接着性を発現する材料で形成され、前記柱状スペーサと前記外壁は前記第1の基板側と前記第2基板の両面と接着していることを特徴とする液晶表示装置。   (1) A liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a first substrate and a second substrate, wherein the first substrate and the second substrate are formed of a flexible substrate, A columnar spacer is formed in a display area between the first substrate and the second substrate, an outer wall is formed at an end of the substrate between the first substrate and the second substrate, and the columnar spacer and the outer wall are formed. Is formed of a material that exhibits adhesiveness by ultraviolet irradiation or heating, and the columnar spacer and the outer wall are bonded to the first substrate side and both surfaces of the second substrate. .

(2)第1の基板と第2の基板の間に液晶を挟持した液晶表示装置の製造方法であって、第1の基板と第2の基板を可撓性基板で形成し、前記第2の基板に感光性樹脂を形成し、フォトリソグラフィによって、前記第2の基板の表示領域に柱状スペーサを、前記第2の基板の周辺部に外壁を同時に形成し、前記第1の基板と前記第2の基板を接着する際に、加熱あるいは紫外線を照射することによって、前記柱状スペーサ及び前記外壁に接着性を発現させることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。   (2) A method of manufacturing a liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between a first substrate and a second substrate, wherein the first substrate and the second substrate are formed of a flexible substrate, and the second substrate A photosensitive resin is formed on the substrate, and columnar spacers are simultaneously formed on the display area of the second substrate and an outer wall is formed on the peripheral portion of the second substrate by photolithography, and the first substrate and the first substrate are formed. 2. A method for manufacturing a liquid crystal display device, wherein the columnar spacer and the outer wall are made to exhibit adhesiveness by heating or irradiating ultraviolet rays when bonding the two substrates.

(3)第1の基板と第2の基板の間に液晶を挟持した液晶表示装置の製造方法であって、第1の基板と第2の基板を可撓性基板で形成し、前記第2の基板に感光性樹脂を形成し、フォトリソグラフィによって、前記第2の基板の表示領域に柱状スペーサを、前記第2の基板の周辺部に外壁を同時に形成し、前記第1の基板に第1の配向膜を形成し、
前記第1の基板と前記第2の基板を接着する際に、前記柱状スペーサ及び前記外壁に対し、加熱あるいは紫外線を照射することによって、前記柱状スペーサ及び前記外壁を前記第1の配向膜に接着させることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
(3) A method of manufacturing a liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between a first substrate and a second substrate, wherein the first substrate and the second substrate are formed of a flexible substrate, and the second substrate A photosensitive resin is formed on the first substrate, and columnar spacers are simultaneously formed on the display region of the second substrate and an outer wall is formed on the periphery of the second substrate by photolithography, and the first substrate is formed on the first substrate. Forming an alignment film of
When the first substrate and the second substrate are bonded, the columnar spacer and the outer wall are bonded to the first alignment film by heating or irradiating the columnar spacer and the outer wall with ultraviolet rays. A manufacturing method of a liquid crystal display device characterized by comprising:

液晶表示装置の平面図である。It is a top view of a liquid crystal display device. 図1のA−A断面図である。It is AA sectional drawing of FIG. 図1の表示領域の平面図である。It is a top view of the display area of FIG. 図3のB−B断面図である。It is BB sectional drawing of FIG. 本発明の実施例1による液晶表示装置の平面図である。It is a top view of the liquid crystal display device by Example 1 of this invention. 図5のC−C断面図である。It is CC sectional drawing of FIG. 図5の表示領域の平面図である。It is a top view of the display area of FIG. 図7のD−D断面図である。It is DD sectional drawing of FIG. ガラス基板上にTFT基板を形成した断面図である。It is sectional drawing which formed the TFT substrate on the glass substrate. TFT基板上にアレイ層、及び接着材層を形成した状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which formed the array layer and the adhesive material layer on the TFT substrate. ガラス基板上に対向基板を形成し、その上にカラーフィルタ層とオーバーコート膜を形成した状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which formed the counter substrate on the glass substrate and formed the color filter layer and the overcoat film on it. オーバーコート膜上に柱状スペーサ用感光材料を形成した状態の断面図である。It is sectional drawing of the state in which the photosensitive material for columnar spacers was formed on the overcoat film. オーバーコート膜上に柱状スペーサと外壁をフォトリソグラフィによって形成した状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which formed the columnar spacer and the outer wall on the overcoat film by photolithography. ODFによって液晶を充填している状態の断面図である。It is sectional drawing of the state filled with the liquid crystal by ODF. TFT基板と対向基板を貼り合わせた状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which bonded together the TFT substrate and the counter substrate. レーザアブレーションのためにレーザビームを照射している状態を示す断面図。Sectional drawing which shows the state which has irradiated the laser beam for laser ablation. ガラス基板を剥離している状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which has peeled the glass substrate. 実施例2の構成を示す断面図である。6 is a cross-sectional view showing a configuration of Example 2. FIG. 実施例2の表示領域の平面図である。FIG. 10 is a plan view of a display area in Example 2. 図19のE−E断面図である。It is EE sectional drawing of FIG. TFT基板において、アレイ層の上に配向膜を形成した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which formed the alignment film on the array layer in a TFT substrate. 対向基板において、オーバーコート膜の上に柱状スペーサ及び外壁用の感光性樹脂を形成した状態を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a state where a columnar spacer and a photosensitive resin for an outer wall are formed on an overcoat film in the counter substrate. 柱状スペーサをフォトリソグラフィで形成後、配向膜を形成した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which formed the alignment film after forming the columnar spacer by photolithography. 対向基板側に液晶をODFによって充填している状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which has filled the liquid crystal with ODF on the counter substrate side. TFT基板と対向基板を貼り合わせた状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which bonded together the TFT substrate and the counter substrate. ガラス基板をはく離している状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which has peeled the glass substrate. 実施例3の構成を示す液晶表示装置の断面図である。6 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device showing a configuration of Example 3. FIG. 実施例3の表示領域の断面図である。6 is a cross-sectional view of a display area of Example 3. FIG. 従来例のシール部の平面図である。It is a top view of the seal part of a prior art example. 本発明によるシール部の平面図である。It is a top view of the seal part by the present invention. 従来例の液晶表示装置を湾曲させた状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which curved the liquid crystal display device of the prior art example. 本発明による液晶表示装置を湾曲させた状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which curved the liquid crystal display device by this invention. 特殊な形状を持つ液晶表示装置の例である。It is an example of a liquid crystal display device having a special shape. 特殊な形状を持つ液晶表示装置の他の例である。It is another example of the liquid crystal display device with a special shape. 特殊な外形を持つ液晶表示装置の例である。It is an example of the liquid crystal display device with a special external shape. 特殊な外径を持つ液晶表示装置の他の例である。It is another example of the liquid crystal display device with a special outer diameter.

以下に本発明の内容を、実施例を用いて説明する。   The contents of the present invention will be described below using examples.

図1は、スマートフォン等に使用される一般的な液晶表示装置の例を示す平面図である。図1において、TFT基板100と対向基板200がシール材150によって接着し、TFT基板100と対向基板200の間に液晶が挟持されているTFT基板100と対向基板200が重なった領域に表示領域40が形成されている。シール材150の幅sw1は、例えば0.8mm程度であり、表示領域の端部はさらに内側に存在し、対向基板の端部から表示領域の端部までの距離、すなわち、額縁幅fw1は、例えば1.2mm程度である。   FIG. 1 is a plan view showing an example of a general liquid crystal display device used for a smartphone or the like. In FIG. 1, the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 are bonded by a sealing material 150, and the display region 40 is located in a region where the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 overlap with each other and the liquid crystal is interposed between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200. Is formed. The width sw1 of the sealing material 150 is, for example, about 0.8 mm, the end of the display area is further inside, and the distance from the end of the counter substrate to the end of the display area, that is, the frame width fw1 is For example, it is about 1.2 mm.

シール材150は、対向基板200側にディスペンサで塗布され、TFT基板100に押圧され、形状が変形した後に硬化される。したがって、シール材150の幅sw1を正確にコントロールすることは難しい。   The sealing material 150 is applied to the counter substrate 200 side with a dispenser, pressed against the TFT substrate 100, and cured after its shape is deformed. Therefore, it is difficult to accurately control the width sw1 of the sealing material 150.

表示領域40内には、走査線91が横方向(x方向)に延在し、縦方向(y方向)に配列している。また、映像信号線92が縦方向に延在し、横方向に配列している。走査線91と映像信号線92とで囲まれた領域が画素93となっている。TFT基板100は対向基板200よりも大きく形成されており、TFT基板100と対向基板200が重なっていない部分は端子領域50となっている。端子領域50には、液晶表示パネルに、電源、映像信号、走査信号等を供給するためのフレキシブル配線基板を接続するための端子等が形成されている。   In the display area 40, scanning lines 91 extend in the horizontal direction (x direction) and are arranged in the vertical direction (y direction). The video signal lines 92 extend in the vertical direction and are arranged in the horizontal direction. A region surrounded by the scanning line 91 and the video signal line 92 is a pixel 93. The TFT substrate 100 is formed larger than the counter substrate 200, and a portion where the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 do not overlap is a terminal region 50. The terminal area 50 is formed with terminals for connecting a flexible wiring board for supplying power, video signals, scanning signals and the like to the liquid crystal display panel.

図2は、図1のA−A断面図である。図2において、TFT基板100には、TFTを形成するための半導体層、走査線、映像信号線、画素電極、コモン電極等を含むアレイ層101が形成されている。アレイ層101の最上層は画素電極となっている。アレイ層101の上には、液晶を初期配向させるための配向膜103が形成されている。   FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. In FIG. 2, an array layer 101 including a semiconductor layer for forming a TFT, a scanning line, a video signal line, a pixel electrode, a common electrode, and the like is formed on the TFT substrate 100. The uppermost layer of the array layer 101 is a pixel electrode. On the array layer 101, an alignment film 103 for initial alignment of liquid crystal is formed.

対向基板200に、ブラックマトリクスを含む、カラーフィルタ層201が形成されている。カラーフィルタ層201の上にはオーバーコート膜202が形成されている。オーバーコート膜202の上に柱状スペーサ10、11が形成されている。柱状スペーサ10、11およびオーバーコート膜201を覆って配向膜203が形成されている。この場合、配向膜203は、レベリング効果によって、柱状スペーサ10、11の上には、薄くしか形成されないので、図2では、柱状スペーサ10、11の上の配向膜204は図示を省略している。以下の図においても同様である。   A color filter layer 201 including a black matrix is formed on the counter substrate 200. An overcoat film 202 is formed on the color filter layer 201. Columnar spacers 10 and 11 are formed on the overcoat film 202. An alignment film 203 is formed so as to cover the columnar spacers 10 and 11 and the overcoat film 201. In this case, since the alignment film 203 is formed only thinly on the columnar spacers 10 and 11 due to the leveling effect, the alignment film 204 on the columnar spacers 10 and 11 is not shown in FIG. . The same applies to the following drawings.

図2において、TFT基板100と対向基板200はシール材150によって接着している。また、シール材150によって液晶300が内部に封止されている。TFT基板100と対向基板200の間隔は、対向基板200に形成された柱状スペーサ10によって維持されている。柱状スペーサは、メイン柱状スペーサ10とサブ柱状スペーサ11とが存在している。通常状態は、メイン柱状スペーサ10によってTFT基板100と対向基板200の間隔が維持されている。   In FIG. 2, the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 are bonded together by a sealing material 150. Further, the liquid crystal 300 is sealed inside by the sealing material 150. The distance between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 is maintained by the columnar spacers 10 formed on the counter substrate 200. The columnar spacer includes a main columnar spacer 10 and a sub columnar spacer 11. In the normal state, the distance between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 is maintained by the main columnar spacer 10.

対向基板200等に押し圧力が加わった場合、TFT基板100と対向基板200の間隔が過度に小さくなることを防止するために、サブ柱状スペーサ11を配置している。サブ柱状スペーサ11は、通常はTFT基板100側に接触していないが、対向基板200が外部から押し圧力を受けた場合に、TFT基板100側に接触して、液晶300の層厚を維持する。   In order to prevent the distance between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 from becoming excessively small when a pressing force is applied to the counter substrate 200 or the like, the sub-columnar spacer 11 is disposed. The sub-columnar spacer 11 is not normally in contact with the TFT substrate 100 side, but when the counter substrate 200 receives a pressing pressure from the outside, the sub-columnar spacer 11 contacts the TFT substrate 100 side and maintains the layer thickness of the liquid crystal 300. .

一般的に、基板間の間隔維持のためだけであれば、サブ柱状スペーサ11は配置せずに、メイン柱状スペーサ10のみでも良い。しかしながら、基板がガラスなどの硬い材質の場合、メイン柱状スペーサ10のみが数多く設置されていると、基板に押し圧力が加わった際に、形状が戻る際の衝撃で液晶層内に気泡が発生してしまう。このため、メイン柱状スペーサ10は出来るだけ減らさざるを得ない。メイン柱状スペーサ10の数が減ってしまうと、基板間の間隔維持機能が低減してしまうため、これを補うために、サブ柱状スペーサ11が設けられる。サブ柱状スペーサ11は、TFT基板100との間隙を有するが、この間隙により衝撃を緩衝することで、気泡の発生を抑制することができる。   In general, only the main columnar spacer 10 may be used without arranging the sub-columnar spacers 11 only for maintaining the distance between the substrates. However, when the substrate is made of a hard material such as glass, if only a large number of main columnar spacers 10 are provided, bubbles are generated in the liquid crystal layer due to the impact of returning the shape when a pressing force is applied to the substrate. End up. For this reason, the main columnar spacer 10 must be reduced as much as possible. If the number of main columnar spacers 10 decreases, the function of maintaining the distance between the substrates decreases. Therefore, in order to compensate for this, the sub columnar spacers 11 are provided. The sub-columnar spacer 11 has a gap with the TFT substrate 100, and the generation of bubbles can be suppressed by buffering the impact by the gap.

サブ柱状スペーサ11は、サブ柱状スペーサ11の数はメイン柱状スペーサ10の数よりも多く、また、サブ柱状スペーサ11の径もメイン柱状スペーサの径10よりも大きい。メイン柱状スペーサ10の径φは、例えば8μmであり、サブ柱状スペーサ11の径は、例えば11μmである。また、サブ柱状スペーサ11の数は、例えばメイン柱状スペーサ10の数の16倍である。   In the sub columnar spacers 11, the number of sub columnar spacers 11 is larger than the number of main columnar spacers 10, and the diameter of the sub columnar spacers 11 is larger than the diameter 10 of the main columnar spacers. The diameter φ of the main columnar spacer 10 is, for example, 8 μm, and the diameter of the sub columnar spacer 11 is, for example, 11 μm. The number of sub columnar spacers 11 is, for example, 16 times the number of main columnar spacers 10.

図3は、図1のTFT基板100の表示領域40における画素部分の平面図である。図3において、走査線91が横方向に延在し、縦方向に配列している。また、映像信号線92が縦方向に延在し、横方向に配列している。走査線91と映像信号線92に囲まれた領域が画素93になっており、この内部に画素電極等が存在している。TFT基板100の表面全面には、図2に示すように配向膜103が形成されている。   FIG. 3 is a plan view of a pixel portion in the display area 40 of the TFT substrate 100 of FIG. In FIG. 3, the scanning lines 91 extend in the horizontal direction and are arranged in the vertical direction. The video signal lines 92 extend in the vertical direction and are arranged in the horizontal direction. A region surrounded by the scanning line 91 and the video signal line 92 is a pixel 93, and a pixel electrode or the like exists inside the pixel 93. An alignment film 103 is formed on the entire surface of the TFT substrate 100 as shown in FIG.

図3において、走査線91と映像信号線92の交点に対向基板200側に形成されたメイン柱状スペーサ10およびサブ柱状スペーサ11が配置している。図3に示す領域ではメイン柱状スペーサ10は1個のみ存在している。サブ柱状スペーサ11は、映像信号線92の3本おきに、各走査線91との交点に存在している。メイン柱状スペーサ10の径はサブ柱状スペーサ11の径よりも小さい。   In FIG. 3, the main columnar spacer 10 and the sub columnar spacer 11 formed on the counter substrate 200 side are arranged at the intersection of the scanning line 91 and the video signal line 92. In the region shown in FIG. 3, only one main columnar spacer 10 exists. The sub columnar spacers 11 exist at the intersections with the scanning lines 91 every three video signal lines 92. The diameter of the main columnar spacer 10 is smaller than the diameter of the sub columnar spacer 11.

図4は、図3のB−B断面図である。図4において、TFT基板100の上にアレイ層101が形成され、その上に配向膜103が形成されている。また、対向基板200にカラーフィルタ層201が形成され、その上にオーバーコート膜202が形成されている。オーバーコート膜202にはメイン柱状スペーサ10とサブ柱状スペーサ11が形成されている。オーバーコート膜202の上に配向膜203が形成されている。   4 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. In FIG. 4, an array layer 101 is formed on a TFT substrate 100, and an alignment film 103 is formed thereon. A color filter layer 201 is formed on the counter substrate 200, and an overcoat film 202 is formed thereon. A main columnar spacer 10 and a sub columnar spacer 11 are formed on the overcoat film 202. An alignment film 203 is formed on the overcoat film 202.

TFT基板100と対向基板200の間に液晶300が挟持されている。TFT基板100と対向基板200の間隔はメイン柱状スペーサ10で規定されている。図4の状態では、サブ柱状スペーサ11はTFT基板100側には接触していない。図4において、サブ柱状スペーサ11の径φsはメイン柱状スペーサ10の径φmよりも大きい。ここで、柱状スペーサ10の径は、図4の下の図に示すように、柱状スペーサ10の高さhの90%の位置における径φをいう。以下の実施例に示す本発明における柱状スペーサについても同様である。TFT基板100と対向基板200の間に液晶300が挟持されている。   A liquid crystal 300 is sandwiched between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200. The distance between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 is defined by the main columnar spacer 10. In the state of FIG. 4, the sub columnar spacer 11 is not in contact with the TFT substrate 100 side. In FIG. 4, the diameter φs of the sub-columnar spacer 11 is larger than the diameter φm of the main columnar spacer 10. Here, the diameter of the columnar spacer 10 refers to a diameter φ at a position of 90% of the height h of the columnar spacer 10, as shown in the lower diagram of FIG. The same applies to the columnar spacers of the present invention shown in the following examples. A liquid crystal 300 is sandwiched between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200.

図5は、本発明による液晶表示装置の平面図である。図5が図1と異なる点は、TFT基板100と対向基板200の周辺には、液晶を封止するために、外壁21が形成されているが、この外壁21は柱状スペーサ20と同じ材料で、柱状スペーサ20形成と同時にフォトリソグラフィによって形成されているということである。そして、柱状スペーサ20と外壁21は、加熱あるいは紫外線照射によって接着性を発現する材料で形成されている。したがって、TFT基板100と対向基板200は、柱状スペーサ20と外壁21の両方に接着されるため、柱状スペーサ20で接着面積を稼げる分、外壁21は、図1の場合に比べて、はるかに小さな幅で形成することが出来、例えば、10μm程度の幅に形成することが可能である。また、外壁21の端部もフォトリソグラフィで形成されるので、正確に制御することが出来る。   FIG. 5 is a plan view of a liquid crystal display device according to the present invention. 5 differs from FIG. 1 in that an outer wall 21 is formed around the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 in order to seal liquid crystal. The outer wall 21 is made of the same material as the columnar spacer 20. That is, the columnar spacer 20 is formed by photolithography at the same time. The columnar spacer 20 and the outer wall 21 are formed of a material that exhibits adhesiveness by heating or ultraviolet irradiation. Therefore, since the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 are bonded to both the columnar spacer 20 and the outer wall 21, the outer wall 21 is much smaller than the case of FIG. For example, it can be formed to a width of about 10 μm. Moreover, since the edge part of the outer wall 21 is also formed by photolithography, it can be controlled accurately.

一方、図1のシール材150は対向基板200側にディスペンサで塗布され、TFT基板100と対向基板200を接着するときに、押しつぶされる。したがって、シール材150の幅sw1を正確にコントロールすることは難しい。また、シール材150の端部も正確な制御は難しい。   On the other hand, the sealing material 150 in FIG. 1 is applied to the counter substrate 200 side by a dispenser and is crushed when the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 are bonded. Therefore, it is difficult to accurately control the width sw1 of the sealing material 150. Further, it is difficult to accurately control the end portion of the sealing material 150.

このように、図5においては、外壁21の幅sw2を小さくできることと相俟って、額縁の幅fw2を、図1における額縁の幅fw1よりも大幅に小さくすることが出来る。例えば、図5において、額縁幅fw2を0.1mm以下、外壁の幅を0.05mm程度にまで小さくすることが出来る。   Thus, in FIG. 5, coupled with the fact that the width sw2 of the outer wall 21 can be reduced, the frame width fw2 can be made significantly smaller than the frame width fw1 in FIG. For example, in FIG. 5, the frame width fw2 can be reduced to 0.1 mm or less, and the width of the outer wall can be reduced to about 0.05 mm.

図5が図1とさらに異なる点は、図5のTFT基板100と対向基板200がポリイミド等の樹脂基板で形成されていることである。これによって、液晶表示パネルをフレキシブルに湾曲させることが出来る。さらに重要な点は、後で説明するように、対向基板200に形成された柱状スペーサ20を全て、TFT基板100側に接触させている点である。   5 differs from FIG. 1 in that the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 of FIG. 5 are formed of a resin substrate such as polyimide. As a result, the liquid crystal display panel can be flexibly bent. Further, as will be described later, all the columnar spacers 20 formed on the counter substrate 200 are in contact with the TFT substrate 100 side.

すなわち、TFT基板100及び対向基板200を可撓性の樹脂基板で形成することにより、仮に柱状スペーサ20の数を多くして、より反発力が大きい状態にしても、TFT基板100及び対向基板200がフレキシブルに変形することで衝撃を吸収し、気泡の発生を防止することが出来る。また、大部分の柱状スペーサ20をTFT基板100側と接着させることによって、TFT基板100と対向基板200の接着力を柱状スペーサ20に分担させ、外壁21による接着力を軽減することが出来るので、外壁21の幅を小さくすることが出来、その結果、額縁幅fw2を非常に小さく抑えることが出来る。   That is, by forming the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 with a flexible resin substrate, even if the number of the column spacers 20 is increased and the repulsive force is increased, the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 are increased. Can be flexibly deformed to absorb the impact and prevent the generation of bubbles. Also, by adhering most of the columnar spacers 20 to the TFT substrate 100 side, the adhesive force between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 can be shared by the columnar spacers 20, and the adhesive force by the outer wall 21 can be reduced. The width of the outer wall 21 can be reduced, and as a result, the frame width fw2 can be kept very small.

図6は、図5のC−C断面図である。図6において、TFT基板100の上に複数の絶縁膜や画素電極などの導電層を含むアレイ層101が形成されている。対向基板200にはブラックマトリクスを含むカラーフィルタ層201が形成され、その上にオーバーコート膜202が形成されている。オーバーコート膜202の上に柱状スペーサ20が形成されている。対向基板200の周辺において、外壁21が、柱状スペーサ20と同時に、同じ材料で形成されている。TFT基板100と対向基板200の間には液晶300が挟持されている。   6 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG. In FIG. 6, an array layer 101 including a plurality of insulating layers and conductive layers such as pixel electrodes is formed on a TFT substrate 100. A color filter layer 201 including a black matrix is formed on the counter substrate 200, and an overcoat film 202 is formed thereon. Columnar spacers 20 are formed on the overcoat film 202. The outer wall 21 is formed of the same material as the columnar spacer 20 around the counter substrate 200. A liquid crystal 300 is sandwiched between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200.

図6において、配向膜は形成されていない。この場合、液晶を特定方向に配向させるために、液晶には添加剤が加えられている。添加剤は、液晶を垂直配向させるためのものもあるし、液晶を水平の一定方向に配向させるためのものもある。添加剤の材料は、例えば特許文献4に記載されている。このような液晶をTFT基板と対向電極の間に封止した後、偏光紫外線を照射すると、所定の方向に液晶分子に対して配向能力を有するポリマー層が、TFT基板および対向基板に形成され、これによって液晶を配向する。   In FIG. 6, the alignment film is not formed. In this case, an additive is added to the liquid crystal in order to align the liquid crystal in a specific direction. Some additives are used to align the liquid crystal vertically, and other additives are used to align the liquid crystal in a certain horizontal direction. The material of the additive is described in Patent Document 4, for example. When such a liquid crystal is sealed between the TFT substrate and the counter electrode, and then irradiated with polarized ultraviolet rays, a polymer layer having an alignment ability with respect to liquid crystal molecules in a predetermined direction is formed on the TFT substrate and the counter substrate. This aligns the liquid crystal.

図6において、柱状スペーサ20と外壁21は、加熱あるいは紫外線照射によって接着性を発現する材料で形成されている。このため、柱状スペーサ20と外壁21がアレイ層101と接着することにより、TFT基板100と対向基板200を接着するとともに、TFT基板100と対向基板200の間隔を規定している。図6における外壁21は、柱状スペーサ20と同時にフォトリソグラフィによって形成されるので、外壁21の幅は柱状スペーサ20の径と同じ10μm程度にまで小さくすることが可能である。逆に言えば、外壁21だけでは、TFT基板100と対向基板200の間に接着力を維持することが出来ないので、柱状スペーサ20の接着力を合せることで、全体の接着力を向上させている。   In FIG. 6, the columnar spacer 20 and the outer wall 21 are made of a material that exhibits adhesiveness by heating or ultraviolet irradiation. For this reason, the columnar spacer 20 and the outer wall 21 are bonded to the array layer 101, thereby bonding the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 and defining the interval between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200. Since the outer wall 21 in FIG. 6 is formed by photolithography at the same time as the columnar spacer 20, the width of the outer wall 21 can be reduced to about 10 μm, which is the same as the diameter of the columnar spacer 20. In other words, since only the outer wall 21 cannot maintain the adhesive force between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200, the overall adhesive force can be improved by combining the adhesive force of the columnar spacers 20. Yes.

接着力の評価は次のとおりである。図1及び図5の液晶表示パネルが5インチパネルの場合、表示領域は62.2mm×110.5mmである。図1において、シール材150の幅を0.8mmとすると、シール材150の面積は(62.2×0.8+110.5×0.8)=276.32mmである。図5において、同じ接着面積を柱状スペーサ20によって持たせようとすると、例えば、柱状スペーサ20の接触面積比を4%とする。そうすると、柱状スペーサ20の接触面積は、62.2×110.5×0.04=274.9mmとなり、図1の場合のシール材150の接着面積とほぼ同じになる。ここで、柱状スペーサ20の接触面積比は、表示領域40の面積をSとし、柱状スペーサ20の高さの90%の位置における柱状スペーサ20の面積をsとし、柱状スペーサ20の数をnとした場合、s×n/Sである。 The evaluation of adhesive strength is as follows. When the liquid crystal display panel of FIGS. 1 and 5 is a 5-inch panel, the display area is 62.2 mm × 110.5 mm. In FIG. 1, when the width of the sealing material 150 is 0.8 mm, the area of the sealing material 150 is (62.2 × 0.8 + 110.5 × 0.8) = 276.32 mm 2 . In FIG. 5, if the same adhesion area is provided by the columnar spacer 20, for example, the contact area ratio of the columnar spacer 20 is set to 4%. Then, the contact area of the columnar spacer 20 is 62.2 × 110.5 × 0.04 = 274.9 mm 2 , which is substantially the same as the bonding area of the sealing material 150 in the case of FIG. Here, the contact area ratio of the columnar spacers 20 is that the area of the display region 40 is S, the area of the columnar spacers 20 at 90% of the height of the columnar spacers 20 is s, and the number of the columnar spacers 20 is n. In this case, s × n / S.

なお、図5においては、柱状スペーサ20の接着面積に加えて、外壁21の接着力も加わるので、図1の場合よりも、大きな接着面積とすることが出来る。外壁21の接着面積も考慮すると、柱状スペーサ20の接触面積比は、1%よりも大きければよく、より好ましくは、2%以上である。   In FIG. 5, in addition to the adhesion area of the columnar spacer 20, the adhesion force of the outer wall 21 is also applied, so that a larger adhesion area than in the case of FIG. 1 can be achieved. Considering the bonding area of the outer wall 21, the contact area ratio of the columnar spacers 20 should be larger than 1%, and more preferably 2% or more.

図6に戻り、本発明では、図2と異なり、対向基板200に形成された柱状スペーサ20は全てTFT基板100側と接触している。柱状スペーサ20にTFT基板100と対向基板200の接着機能を持たせているからである。図2のような、ガラス基板の場合には、柱状スペーサを全てメイン柱状スペーサ10で形成すると、気泡が発生する。しかし、図6においては、TFT基板100と対向基板200は、フレキシブルな樹脂基板で形成されているので、柱状スペーサ20の反発力に対して柔軟に変形するので、気泡の発生を抑えることが出来る。   Returning to FIG. 6, in the present invention, unlike FIG. 2, all the columnar spacers 20 formed on the counter substrate 200 are in contact with the TFT substrate 100 side. This is because the columnar spacer 20 has a bonding function between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200. In the case of the glass substrate as shown in FIG. 2, when all the columnar spacers are formed by the main columnar spacers 10, bubbles are generated. However, in FIG. 6, since the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 are formed of a flexible resin substrate, the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 are deformed flexibly with respect to the repulsive force of the columnar spacers 20, so that the generation of bubbles can be suppressed. .

ここで、全ての柱状スペーサ20を対向する基板に接触させるという意味は、柱状スペーサ20による接着力を確保するという意味である。したがって接着力を確保した上で、何等かの理由で、対向する基板に接触しない柱状スペーサを配置することを妨げるものではない。この意味から、本明細書における全ての柱状スペーサ20を対向する基板に接触させるとは、大部分の柱状スペーサ20を対向する基板に接触させるという意味と同義である。ここで大部分とは、例えば、80%以上である。これに対して、図1乃至図4の構成のメイン柱状スペーサ10の数は、サブ柱状スペーサ11の数の10%以下である。   Here, the meaning that all the columnar spacers 20 are brought into contact with the opposing substrate means that an adhesive force by the columnar spacers 20 is ensured. Therefore, it is not impeded to arrange the columnar spacers that do not contact the opposing substrate for some reason while securing the adhesive force. In this sense, bringing all the columnar spacers 20 in contact with the opposing substrate in this specification has the same meaning as bringing most of the columnar spacers 20 into contact with the opposing substrate. Here, the majority is, for example, 80% or more. On the other hand, the number of main columnar spacers 10 configured as shown in FIGS. 1 to 4 is 10% or less of the number of sub columnar spacers 11.

図6において、外壁21の幅は、柱状スペーサ20の径と同等となっているが、液晶を封止するという機械的な強度を考慮して、例えば、0.1mm程度まで大きくしてもよい。外壁21の幅は、許容される額縁幅に合わせて設定することが出来る。また、外壁21の幅を考慮して、柱状スペーサ20の接触面積もフレキシブルに調整することが出来る。   In FIG. 6, the width of the outer wall 21 is equal to the diameter of the columnar spacer 20, but may be increased to, for example, about 0.1 mm in consideration of the mechanical strength of sealing the liquid crystal. . The width of the outer wall 21 can be set in accordance with the allowable frame width. Further, in consideration of the width of the outer wall 21, the contact area of the columnar spacer 20 can also be adjusted flexibly.

図7は本発明における柱状スペーサ20の配置例である。図7が図3と異なる点は、全ての柱状スペーサ20が同じ径であり、全て対向する基板、すなわち、TFT基板100側と接触しているということである。   FIG. 7 shows an arrangement example of the columnar spacers 20 in the present invention. 7 differs from FIG. 3 in that all the columnar spacers 20 have the same diameter, and are all in contact with the opposing substrate, that is, the TFT substrate 100 side.

図7における柱状スペーサ20の径は、図3におけるサブ柱状スペーサ11と同じ径に統一している。柱状スペーサ20の径は、接着力を確保する観点から、柱状スペーサ20の数、外壁21の幅を考慮して決めればよい。また、白色輝度の調整という点で、特定の色に関係する柱状スペーサ20の径を他の部分の柱状スペーサ20の径と異ならせることも可能である。すなわち、本発明では、気泡は大きな問題にならないので、柱状スペーサ20の径を決める自由度が大きい。   The diameter of the columnar spacer 20 in FIG. 7 is unified to the same diameter as the sub columnar spacer 11 in FIG. The diameter of the columnar spacer 20 may be determined in consideration of the number of the columnar spacers 20 and the width of the outer wall 21 from the viewpoint of securing adhesive force. In addition, the diameter of the columnar spacer 20 related to a specific color can be made different from the diameter of the columnar spacer 20 in other portions in terms of white brightness adjustment. That is, in the present invention, since bubbles do not become a big problem, the degree of freedom in determining the diameter of the columnar spacer 20 is great.

図8は図7のD−D断面図である。図8のTFT基板100と対向基板200の断面構成は図6で説明したとおりである。図8において、対向基板200に形成された柱状スペーサ20は全てTFT基板100側に直接接着している。各柱状スペーサ20の接着面積は、図8のような断面形状で測定することができるのであれば、柱状スペーサ20がアレイ層101と接触している面積を測定すればよいが、TFT基板100と対向基板200を分解して測定する場合は、各柱状スペーサ20の高さの90%の位置における径を基準とした面積と定義すればよい。   8 is a cross-sectional view taken along the line DD of FIG. The cross-sectional configurations of the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 in FIG. 8 are as described in FIG. In FIG. 8, all the columnar spacers 20 formed on the counter substrate 200 are directly bonded to the TFT substrate 100 side. If the adhesion area of each columnar spacer 20 can be measured with a cross-sectional shape as shown in FIG. 8, the area where the columnar spacer 20 is in contact with the array layer 101 may be measured. When the counter substrate 200 is disassembled and measured, it may be defined as an area based on the diameter at a position of 90% of the height of each columnar spacer 20.

図9乃至図17は、図6に示す実施例1の構成を製造するためのプロセスを示す断面図である。図9及び図10はTFT基板100側のプロセスを示す。本発明では、基板100は、フレキシブルな樹脂で形成されている。樹脂の中でも、ポリイミドは、機械的な強度、耐熱性から、表示装置の基板として特に優れているので、以後の説明はポリイミドを前提として行うが、本発明は、他の樹脂を使用する場合にも適用することが出来る。   9 to 17 are sectional views showing a process for manufacturing the configuration of the embodiment 1 shown in FIG. 9 and 10 show processes on the TFT substrate 100 side. In the present invention, the substrate 100 is formed of a flexible resin. Among the resins, polyimide is particularly excellent as a substrate of a display device because of its mechanical strength and heat resistance, so the following explanation will be made on the premise of polyimide, but the present invention is used when other resins are used. Can also be applied.

図9はガラス基板400上にTFT基板100となるポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を塗布し、焼成してポリイミド基板を形成した状態である。ポリアミド酸を300℃乃至400℃程度で焼成することによりポリイミドが形成される。フレキシブル表示装置を形成するために、ポリイミドの厚さは、例えば10μm乃至50μmであり、より好ましくは、10μm乃至20μmである。このような薄い基板のみでは、製造プロセスを通すことはできないので、TFT基板100となるポリイミド基板をガラス基板400の上に配置したまま、製造プロセスを通し、表示装置が完成した後、ガラス基板400を剥離する。   FIG. 9 shows a state where a polyimide substrate, which is a polyimide precursor to be the TFT substrate 100, is applied onto a glass substrate 400 and baked to form a polyimide substrate. Polyamide is formed by baking the polyamic acid at about 300 ° C. to 400 ° C. In order to form a flexible display device, the thickness of polyimide is, for example, 10 μm to 50 μm, and more preferably 10 μm to 20 μm. Since the manufacturing process cannot be performed only with such a thin substrate, the glass substrate 400 is obtained after the display device is completed through the manufacturing process while the polyimide substrate to be the TFT substrate 100 is placed on the glass substrate 400. Peel off.

図10は、図9のようにして形成したポリイミド基板100の上にアレイ層101を形成した状態を示す断面図である。アレイ層101は、FFS(Fringe−Field−Swihcing)方式のパネルの場合、SiO、SiN等による下地膜、半導体層を含むTFTからなるスイッチング素子、層間絶縁膜、走査線、映像信号線、これらの層を保護するパッシベーション膜、コモン電極、画素電極等を含む。アレイ層101では、例えば、画素電極が最も液晶層側に形成されている。   FIG. 10 is a sectional view showing a state in which the array layer 101 is formed on the polyimide substrate 100 formed as shown in FIG. In the case of an FFS (Fringe-Field-Swihching) panel, the array layer 101 is a base film made of SiO, SiN or the like, a switching element composed of a TFT including a semiconductor layer, an interlayer insulating film, a scanning line, a video signal line, and the like. A passivation film for protecting the layer, a common electrode, a pixel electrode, and the like are included. In the array layer 101, for example, the pixel electrode is formed closest to the liquid crystal layer.

図11乃至図14は対向基板200側の製造プロセスである。図11は対向基板200において、オーバーコート膜202まで形成された状態を示す断面図である。本発明では、対向基板200もTFT基板100と同様に、ポリイミドによって形成する。ポリイミドによる対向基板200の形成方法は、図9での説明と同様である。対向基板200側もポリイミドの厚さは、10μm乃至50μm、より好ましくは10μm乃至20μmである。また、ガラス基板500がついたまま、製造プロセスを通ることもTFT基板100と同じである。     11 to 14 show a manufacturing process on the counter substrate 200 side. FIG. 11 is a cross-sectional view showing a state where up to the overcoat film 202 is formed on the counter substrate 200. In the present invention, the counter substrate 200 is also formed of polyimide, like the TFT substrate 100. The method for forming the counter substrate 200 using polyimide is the same as described with reference to FIG. Also on the counter substrate 200 side, the thickness of polyimide is 10 μm to 50 μm, more preferably 10 μm to 20 μm. In addition, passing through the manufacturing process with the glass substrate 500 attached is the same as the TFT substrate 100.

図11において、焼成、固化した対向基板200の上にブラックマトリクスおよびカラーフィルタを有するカラーフィルタ層201が形成され、カラーフィルタ層201の上にオーバーコート膜202が形成されている。オーバーコート膜202の役割は、カラーフィルタ層201における顔料が液晶層300を汚染することを防止することと、表面の平坦化である。   In FIG. 11, a color filter layer 201 having a black matrix and a color filter is formed on a counter substrate 200 that has been baked and solidified, and an overcoat film 202 is formed on the color filter layer 201. The role of the overcoat film 202 is to prevent the pigment in the color filter layer 201 from contaminating the liquid crystal layer 300 and to flatten the surface.

図12は、オーバーコート膜202の上に柱状スペーサ20および外壁21となる感光性樹脂25を塗布し、プリベークした状態を示す。実施例1における柱状スペーサ20および外壁21の材料としては、熱可塑性、熱硬化性、紫外線硬化樹脂を使用するが、これらの材料は、所定の条件で加熱、あるいは、紫外線を照射したときに接着性を発現する材料である。このような材料は、例えば、特許文献2、特許文献3等に記載されている。その後、フォトリソグラフィによって、柱状スペーサ20および外壁21を形成する。柱状スペーサ20および外壁21は、フォトリソグラフィによって形成するので、正確な寸法を確保することが出来る。   FIG. 12 shows a state where the columnar spacer 20 and the photosensitive resin 25 to be the outer wall 21 are applied on the overcoat film 202 and prebaked. As materials for the columnar spacers 20 and the outer wall 21 in the first embodiment, thermoplastic, thermosetting, and ultraviolet curable resins are used. These materials are bonded when heated under predetermined conditions or irradiated with ultraviolet rays. It is a material that expresses sex. Such materials are described in, for example, Patent Document 2, Patent Document 3, and the like. Thereafter, the columnar spacer 20 and the outer wall 21 are formed by photolithography. Since the columnar spacer 20 and the outer wall 21 are formed by photolithography, accurate dimensions can be ensured.

図13は、感光性樹脂25をフォトリソグラフィによってパターニングした状態を示す断面図である。感光性樹脂であるから、フォトレジストの形成は不要である。図13の特徴は、柱状スペーサ20のみならず、液晶300を封止するための外壁21も柱状スペーサ20と同時に形成することである。したがって、ディスペンサで形成される従来のシール材150と異なり、微細加工が可能で、かつ、寸法も正確に制御することが出来る。図13における外壁21は、例えば、10μmであるが、強度を考慮して100μm程度とすることも出来る。このように柱状スペーサ20及び外壁21を加工した後、焼成して、本硬化する。   FIG. 13 is a cross-sectional view showing a state in which the photosensitive resin 25 is patterned by photolithography. Since it is a photosensitive resin, it is not necessary to form a photoresist. The feature of FIG. 13 is that not only the columnar spacer 20 but also the outer wall 21 for sealing the liquid crystal 300 is formed simultaneously with the columnar spacer 20. Therefore, unlike the conventional sealing material 150 formed with a dispenser, fine processing is possible and the dimensions can be accurately controlled. The outer wall 21 in FIG. 13 is, for example, 10 μm, but may be about 100 μm in consideration of strength. After the columnar spacer 20 and the outer wall 21 are processed in this way, they are baked and fully cured.

図14はこのようにして形成した対向基板200内に液晶300をODF(One Drop Fill)によって滴下し、充填している状態を示す断面図である。本実施例では、ODFで液晶充填を行うため、外壁21には、液晶を後で注入するための開口部は形成されていない。
本実施例では、配向膜が形成されていないので、液晶材料としては、配向膜無しで液晶を配向させるための材料が添加されている。
FIG. 14 is a cross-sectional view showing a state in which the liquid crystal 300 is dropped by ODF (One Drop Fill) into the counter substrate 200 thus formed. In this embodiment, liquid crystal filling is performed with ODF, and thus no opening is formed in the outer wall 21 for injecting liquid crystal later.
In this embodiment, since the alignment film is not formed, a material for aligning the liquid crystal without the alignment film is added as the liquid crystal material.

図15は、このようにして形成されたTFT基板100側と対向基板200側を貼り合わせた状態を示す断面図である。この状態では、TFT基板100側にはガラス基板400が存在し、対向基板200側にはガラス基板500が存在している。図15において、TFT基板100側と対向基板200側を貼り合わせた後、紫外線を照射、または加熱して、柱状スペーサ20及び外壁21に接着性を発現させ、TFT基板200側と接着させる。これによって液晶300をTFT基板100と対向基板200の間に封止する。   FIG. 15 is a cross-sectional view showing a state where the TFT substrate 100 side and the counter substrate 200 side formed in this manner are bonded together. In this state, the glass substrate 400 exists on the TFT substrate 100 side, and the glass substrate 500 exists on the counter substrate 200 side. In FIG. 15, after the TFT substrate 100 side and the counter substrate 200 side are bonded together, ultraviolet rays are irradiated or heated to cause the columnar spacer 20 and the outer wall 21 to exhibit adhesiveness, and are bonded to the TFT substrate 200 side. As a result, the liquid crystal 300 is sealed between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200.

そして、封止された液晶に対し、例えば、偏光紫外線を照射することによって、TFT基板と液晶の界面、あるいは、対向基板と液晶の界面に液晶を配向させるための配向層を形成し、液晶を配向させる。   Then, for example, by irradiating the sealed liquid crystal with polarized ultraviolet rays, an alignment layer for aligning the liquid crystal is formed at the interface between the TFT substrate and the liquid crystal or at the interface between the counter substrate and the liquid crystal. Orient.

図16は、ガラス基板400とTFT基板100の間、及び、ガラス基板500と対向基板200の間においてガラス基板400、500を剥離するために、ガラス基板とポリイミド基板との界面にレーザLBを照射している断面図である。いわゆるレーザアブレーションによって、ガラス基板とポリイミド基板を剥離させる。剥離をより効率的に行うために、ガラス基板400、500とポリイミド基板100、200との境界に金属層等を形成する場合もある。   FIG. 16 shows the laser LB irradiated to the interface between the glass substrate and the polyimide substrate in order to peel the glass substrates 400 and 500 between the glass substrate 400 and the TFT substrate 100 and between the glass substrate 500 and the counter substrate 200. FIG. The glass substrate and the polyimide substrate are peeled off by so-called laser ablation. In order to perform peeling more efficiently, a metal layer or the like may be formed at the boundary between the glass substrate 400, 500 and the polyimide substrate 100, 200.

図17は、レーザアブレーションによって、ガラス基板400をTFT基板100から剥離し、また、ガラス基板500を対向基板200から剥離している状態を示す断面図である。図17において、ガラス基板400及び500を除去した状態は図6と同じになる。   FIG. 17 is a cross-sectional view showing a state in which the glass substrate 400 is peeled from the TFT substrate 100 and the glass substrate 500 is peeled from the counter substrate 200 by laser ablation. 17, the state where the glass substrates 400 and 500 are removed is the same as in FIG.

図18は実施例2の構成を示す断面図である。実施例2の液晶表示装置の平面図は、図5と同様である。ただし、図5に対して、アレイ層101の上に配向膜103が、オーバーコート膜202の上に配向膜203が形成されている点が異なっている。
図18において、ポリイミドで形成されたTFT基板100にアレイ層101が形成されている。アレイ層101の構成は図6での説明と同様である。また、ポリイミドで形成された対向基板200にはブラックマトリクスとカラーフィルタを有するカラーフィルタ層201が形成され、その上にオーバーコート膜202が形成されている。
オーバーコート膜202の上には、実施例1と同様の柱状スペーサ30および外壁31が形成され、この柱状スペーサ30および外壁31を構成する材料が加熱あるいは紫外線照射によって接着性を発現する材料によって形成されている。柱状スペーサ30および外壁31はフォトリソグラフィによって形成することが出来る。
FIG. 18 is a cross-sectional view showing the configuration of the second embodiment. The plan view of the liquid crystal display device of Example 2 is the same as FIG. 5 differs from FIG. 5 in that an alignment film 103 is formed on the array layer 101 and an alignment film 203 is formed on the overcoat film 202.
In FIG. 18, an array layer 101 is formed on a TFT substrate 100 made of polyimide. The configuration of the array layer 101 is the same as described with reference to FIG. Further, a color filter layer 201 having a black matrix and a color filter is formed on the counter substrate 200 made of polyimide, and an overcoat film 202 is formed thereon.
On the overcoat film 202, the columnar spacers 30 and the outer wall 31 similar to those in the first embodiment are formed, and the material constituting the columnar spacers 30 and the outer wall 31 is formed of a material that exhibits adhesiveness by heating or ultraviolet irradiation. Has been. The columnar spacer 30 and the outer wall 31 can be formed by photolithography.

その後、オーバーコート膜202の上に、例えばインクジェットによって、配向膜203を形成する。配向膜203は柱状スペーサ30の上にも形成されるがレベリングによって、柱状スペーサ30の上には殆ど形成されていないので、図18では省略されている。なお、柱状スペーサ30や外壁31に、配向膜材料をはじくような材料を使用すれば、柱状スペーサ30等から配向膜を排除することが出来る。さらに、配向膜203をフォトリソグラフィによってパターニングすれば、柱状スペーサ30の頂部から確実に配向膜を除去することが出来る。TFT基板側の配向膜103と対向基板側の配向膜203の間に液晶300が挟持されている。本実施例では、液晶300は、配向膜103,203によって初期配向を受ける。   Thereafter, an alignment film 203 is formed on the overcoat film 202 by, for example, inkjet. Although the alignment film 203 is also formed on the columnar spacer 30, it is omitted in FIG. 18 because it is hardly formed on the columnar spacer 30 by leveling. If a material that repels the alignment film material is used for the columnar spacer 30 and the outer wall 31, the alignment film can be excluded from the columnar spacer 30 and the like. Furthermore, if the alignment film 203 is patterned by photolithography, the alignment film can be reliably removed from the top of the columnar spacer 30. A liquid crystal 300 is sandwiched between the alignment film 103 on the TFT substrate side and the alignment film 203 on the counter substrate side. In this embodiment, the liquid crystal 300 is initially aligned by the alignment films 103 and 203.

図18においても、TFT基板100と対向基板200の接着は、対向基板200側に形成された柱状スペーサ30及び外壁31がTFT基板100側に接着することによって維持されている。図18において、柱状スペーサ30は全てTFT基板100側と接触している点は実施例1と同じである。本実施例においても、TFT基板100及び対向基板200はポリイミドで形成されているので、柱状スペーサ30の反発力が大きい場合であってもフレキシブルに変形し、気泡が発生する可能性は小さい。   Also in FIG. 18, the adhesion between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 is maintained by bonding the columnar spacers 30 and the outer wall 31 formed on the counter substrate 200 side to the TFT substrate 100 side. In FIG. 18, the columnar spacers 30 are all in contact with the TFT substrate 100 side, which is the same as in the first embodiment. Also in this embodiment, since the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 are made of polyimide, even if the repulsive force of the columnar spacer 30 is large, the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 are less likely to be deformed flexibly and generate bubbles.

図19は、実施例2での表示領域40における柱状スペーサ30の配置例である。図19における柱状スペーサ30の配置位置、全ての柱状スペーサ30が同じ径であること等は、実施例1の図7と同じである。図19においても、柱状スペーサ30自体が熱あるいは紫外線照射を受けて、硬化、あるいは軟化する時点で接着性を発現し、対向する基板(この場合はTFT基板100)に形成された配向膜103と接着する。したがって、TFT基板100側に接着材層102は不要で、配向膜103を使用することが出来る。   FIG. 19 is an arrangement example of the columnar spacers 30 in the display area 40 in the second embodiment. The arrangement positions of the columnar spacers 30 in FIG. 19 and that all the columnar spacers 30 have the same diameter are the same as those in FIG. Also in FIG. 19, the columnar spacer 30 itself is exposed to heat or ultraviolet irradiation, and develops adhesiveness when it is cured or softened, and the alignment film 103 formed on the opposing substrate (in this case, the TFT substrate 100) Glue. Therefore, the adhesive layer 102 is unnecessary on the TFT substrate 100 side, and the alignment film 103 can be used.

本実施例においても、柱状スペーサ30をTFT基板100と対向基板200の接着に使用するために、柱状スペーサ30の表示面積に対する接触比率を確保することが必要である点は、実施例1と同様である。すなわち、接触比率は、1%を超えることが必要であり、2%以上であればより好ましく、さらに好ましくは4%以上である。本実施例においても、TFT基板100と対向基板200の接着について、外壁31も寄与することは実施例1と同様であり、柱状スペーサ30の接触比率は外壁31の幅も加味して決定される。   Also in the present embodiment, in order to use the columnar spacer 30 for bonding the TFT substrate 100 and the counter substrate 200, it is necessary to secure a contact ratio with respect to the display area of the columnar spacer 30 as in the first embodiment. It is. That is, the contact ratio needs to exceed 1%, more preferably 2% or more, and further preferably 4% or more. Also in the present embodiment, the outer wall 31 contributes to the adhesion between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 as in the first embodiment, and the contact ratio of the columnar spacer 30 is determined in consideration of the width of the outer wall 31. .

図20は図19のE−E断面図である。図20におけるTFT基板100側の構成及び対向基板200側の構成は図18で説明したとおりである。図20において、配向膜103および配向膜203の間に液晶300が挟持されている。図20においては、TFT基板100側にも対向基板200側にも配向膜103、203形成されているので、通常の液晶を用いることが出来る。   20 is a cross-sectional view taken along line EE in FIG. The configuration on the TFT substrate 100 side and the configuration on the counter substrate 200 side in FIG. 20 are as described in FIG. In FIG. 20, the liquid crystal 300 is sandwiched between the alignment film 103 and the alignment film 203. In FIG. 20, since the alignment films 103 and 203 are formed on the TFT substrate 100 side and the counter substrate 200 side, normal liquid crystal can be used.

図21乃至図26は、図18に示す本実施例の構成を実現するプロセスを示す断面図である。図21は、TFT基板100側の構成を示す断面図である。TFT基板100側の製造方法は、配向膜103が形成されている他は、実施例1と同様である。すなわち、ガラス基板400の上にポリイミド基板100を形成し、その上にアレイ層101を形成し、その上に配向膜103を形成している。   21 to 26 are cross-sectional views showing a process for realizing the configuration of the present embodiment shown in FIG. FIG. 21 is a cross-sectional view showing a configuration on the TFT substrate 100 side. The manufacturing method on the TFT substrate 100 side is the same as that of the first embodiment except that the alignment film 103 is formed. That is, the polyimide substrate 100 is formed on the glass substrate 400, the array layer 101 is formed thereon, and the alignment film 103 is formed thereon.

図22は対向基板200側において、柱状スペーサ用の感光性樹脂35を塗布し、固化した状態における断面図である。図22において、オーバーコート膜202を形成するまでは、実施例1で説明したプロセスと同じである。その後、オーバーコート膜202の上に、柱状スペーサ30あるいは外壁31の前駆体となる、感光性の材料35を塗布し、プリベークして固化する。   FIG. 22 is a cross-sectional view of the counter substrate 200 in a state where a photosensitive resin 35 for columnar spacers is applied and solidified. In FIG. 22, the process is the same as that described in Example 1 until the overcoat film 202 is formed. Thereafter, a photosensitive material 35 that is a precursor of the columnar spacer 30 or the outer wall 31 is applied on the overcoat film 202, and prebaked to be solidified.

柱状スペーサ30および外壁31の材料としては、熱可塑性、熱硬化性、紫外線硬化樹脂を使用するが、これらの材料は、所定の条件で加熱、あるいは、紫外線を照射したときに接着性を発現する材料である。   As the material for the columnar spacer 30 and the outer wall 31, thermoplastic, thermosetting, and ultraviolet curable resins are used. These materials exhibit adhesiveness when heated under predetermined conditions or irradiated with ultraviolet rays. Material.

その後、フォトリソグラフィによって、柱状スペーサ30および外壁31を形成する。柱状スペーサ30および外壁31は、フォトリソグラフィによって形成するので、正確な寸法を確保することが出来る。   Thereafter, the columnar spacer 30 and the outer wall 31 are formed by photolithography. Since the columnar spacer 30 and the outer wall 31 are formed by photolithography, accurate dimensions can be ensured.

感光性材料35を固化した後、図23に示すように、配向膜203を塗布する。配向膜203は全面に塗布されるが、柱状スペーサ30の上はレベリングによって、殆ど形成されていないので、配向膜203は省略されている。なお、柱状スペーサ30や外壁31の材料に、配向膜材料をはじくような材料を用いれば、柱状スペーサ30等から確実に配向膜を排除することが出来る。さらに、配向膜203をフォトリソグラフィによってパターニングすれば、柱状スペーサから配向膜203を除去することが出来る。その後、配向膜203を焼成する。そして、配向膜203に対して配向処理を行う。配向処理は、ラビング法でも偏光紫外線を用いた光配向法でもよい。その後、図24に示すように、対向基板200側にODFによって液晶300を滴下し、対向基板200内に液晶300を充填する。この時点では、柱状スペーサ30および外壁31はまだ半硬化の状態であり、接着性は発現していない。   After the photosensitive material 35 is solidified, an alignment film 203 is applied as shown in FIG. The alignment film 203 is applied to the entire surface, but the alignment film 203 is omitted because the columnar spacer 30 is hardly formed by leveling. In addition, if the material which repels alignment film material is used for the material of the columnar spacer 30 or the outer wall 31, an alignment film can be reliably excluded from the columnar spacer 30 grade | etc.,. Further, if the alignment film 203 is patterned by photolithography, the alignment film 203 can be removed from the columnar spacer. Thereafter, the alignment film 203 is baked. Then, an alignment process is performed on the alignment film 203. The alignment treatment may be a rubbing method or a photo-alignment method using polarized ultraviolet rays. Thereafter, as shown in FIG. 24, the liquid crystal 300 is dropped onto the counter substrate 200 by ODF, and the counter substrate 200 is filled with the liquid crystal 300. At this time, the columnar spacer 30 and the outer wall 31 are still in a semi-cured state, and adhesiveness is not expressed.

その後、図25に示すように、TFT基板100と対向基板200を接着し、液晶300を外壁31の内部に封止する。TFT基板100側と対向基板200側を接着する際、柱状スペーサ30及び外壁31に対し、加熱、あるいは、紫外線を照射して、接着性を発現させ、柱状スペーサ30及び外壁31をTFT基板100側の配向膜103に接着させる。加熱あるいは紫外線照射が終わって柱状スペーサ30及び外壁31が完全に硬化した後は、柱状スペーサ30及び外壁31の表面の接着性は消失している。したがって、液晶層300を汚染することは無い。   Thereafter, as shown in FIG. 25, the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 are bonded together, and the liquid crystal 300 is sealed inside the outer wall 31. When bonding the TFT substrate 100 side and the counter substrate 200 side, the columnar spacer 30 and the outer wall 31 are heated or irradiated with ultraviolet rays to develop adhesiveness, and the columnar spacer 30 and the outer wall 31 are attached to the TFT substrate 100 side. The alignment film 103 is adhered. After the columnar spacer 30 and the outer wall 31 are completely cured after heating or ultraviolet irradiation, the adhesion of the surfaces of the columnar spacer 30 and the outer wall 31 is lost. Therefore, the liquid crystal layer 300 is not contaminated.

柱状スペーサ30および外壁が紫外線硬化、あるいは熱硬化する際、体積が収縮したり、若干軟化したりして、柱状スペーサの高さが低くなる場合がある。これに対しては、パターニング後の柱状スペーサの高さを、本硬化前の柱状スペーサの高さよりも、例えば、0.2μm乃至0.5μm程度高くしておけばよい。   When the columnar spacer 30 and the outer wall are cured by ultraviolet rays or heat, the volume of the columnar spacer may shrink or slightly soften, and the height of the columnar spacer may be lowered. For this, the height of the columnar spacer after patterning may be set higher by, for example, about 0.2 μm to 0.5 μm than the height of the columnar spacer before the main curing.

その後、ガラス基板400とTFT基板100の界面およびガラス基板500と対向基板200の界面にレーザビームを照射し、レーザアブレーションによって、図26に示すように、ガラス基板400とガラス基板500を除去し、図18に示すフレキシブル液晶表示装置を形成することが出来る。   Thereafter, a laser beam is irradiated to the interface between the glass substrate 400 and the TFT substrate 100 and the interface between the glass substrate 500 and the counter substrate 200, and the glass substrate 400 and the glass substrate 500 are removed by laser ablation as shown in FIG. A flexible liquid crystal display device shown in FIG. 18 can be formed.

本実施例のさらに他の構成として、TFT基板側の配向膜を熱可塑性の材料で構成しておき、対向基板側に形成される柱状スペーサに、光発熱性材料を含ませておく。TFT基板と対向電極を貼りあわせた後、光を照射することによって、柱状スペーサを発熱させ、TFT基板側の配向膜を加熱し、配向膜に接着性を発現させ、柱状スペーサと配向膜を接着する構成とすることが出来る。   As still another configuration of this embodiment, the alignment film on the TFT substrate side is made of a thermoplastic material, and a photo-exothermic material is included in a columnar spacer formed on the counter substrate side. After the TFT substrate and the counter electrode are bonded together, the columnar spacer is heated by irradiating light, the alignment film on the TFT substrate side is heated, and the adhesion is exhibited in the alignment film, and the columnar spacer and the alignment film are bonded. It can be set as the structure to do.

以上説明したように、本実施例によれば、額縁の幅を殆ど認識できない程度に狭くし、表示領域を広げることが出来る、フレキシブルな液晶表示装置を実現することが出来る。   As described above, according to the present embodiment, it is possible to realize a flexible liquid crystal display device that can narrow the frame width to an extent that it can hardly be recognized and widen the display area.

図27は本実施例の特徴を示す液晶表示装置の断面図である。図27は、図5のC−C断面図に相当する。図27が実施例2の図18と異なる点は、柱状スペーサ30が対向基板200側の配向膜203の上に形成されている点である。一方、実施例2の図18では、柱状スペーサ30はオーバーコート膜202の上に形成され、柱状スペーサ30を形成した後、配向膜203を形成している。本実施例である図28は、図27の表示領域の拡大断面図である。図28が実施例2の図20と異なる点は、柱状スペーサ30が配向膜203の上に形成されていることである。その他の構成は、図20と同じである。   FIG. 27 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device showing the features of this embodiment. FIG. 27 corresponds to the CC cross-sectional view of FIG. FIG. 27 is different from FIG. 18 of the second embodiment in that the columnar spacer 30 is formed on the alignment film 203 on the counter substrate 200 side. On the other hand, in FIG. 18 of Example 2, the columnar spacer 30 is formed on the overcoat film 202, and after forming the columnar spacer 30, the alignment film 203 is formed. FIG. 28 showing the present embodiment is an enlarged cross-sectional view of the display area of FIG. FIG. 28 differs from FIG. 20 of the second embodiment in that the columnar spacer 30 is formed on the alignment film 203. Other configurations are the same as those in FIG.

実施例2の図18あるいは図20の場合、配向膜203はレベリング効果によって、柱状スペーサ30の上には殆ど残らないと考えられるが、薄膜であっても、柱状スペーサ30の上面に残っていた場合、柱状スペーサ30とTFT基板100側の配向膜103との接着力に影響を与える。   In the case of FIG. 18 or FIG. 20 of the second embodiment, it is considered that the alignment film 203 hardly remains on the columnar spacer 30 due to the leveling effect, but even the thin film remains on the upper surface of the columnar spacer 30. In this case, the adhesive force between the columnar spacer 30 and the alignment film 103 on the TFT substrate 100 side is affected.

本実施例では、配向膜203を形成した後、柱状スペーサ30を形成するので、配向膜203によって、柱状スペーサ30とTFT基板100側の配向膜103との接着が阻害されることは無い。但し、この場合、配向膜203を形成後に、柱状スペーサ30のための感光性樹脂35の塗布、仮焼成、フォトリソグラフィ等を行うために、配向膜203の表面がこれらのプロセスの影響を受ける可能性がある。このような観点から、配向膜の配向処理のタイミングを検討する必要もある。   In this embodiment, since the columnar spacer 30 is formed after the alignment film 203 is formed, the alignment film 203 does not hinder the adhesion between the columnar spacer 30 and the alignment film 103 on the TFT substrate 100 side. However, in this case, the surface of the alignment film 203 may be affected by these processes in order to perform application of the photosensitive resin 35 for the columnar spacers 30, provisional baking, photolithography, and the like after the formation of the alignment film 203. There is sex. From such a viewpoint, it is necessary to examine the timing of the alignment treatment of the alignment film.

配向膜203の配向処理は、柱状スペーサ30を形成する直前、又は柱状スペーサ30を形成した後に行うことが出来る。本実施例の柱状スペーサ30および外壁31の形成方法は実施例2と同じである。また、図27に記載されている液晶表示装置の製造プロセスも、配向膜203と柱状スペーサ30の形成の順番が異なる点を除いては、実施例2で説明したのと同様である。   The alignment treatment of the alignment film 203 can be performed immediately before the columnar spacers 30 are formed or after the columnar spacers 30 are formed. The method for forming the columnar spacers 30 and the outer wall 31 in this embodiment is the same as that in the second embodiment. The manufacturing process of the liquid crystal display device shown in FIG. 27 is the same as that described in the second embodiment except that the order of forming the alignment film 203 and the columnar spacer 30 is different.

なお、本実施例では、TFT基板100と対向基板200を貼り合わせた後、接着性の柱状スペーサ30および外壁31に対して、加熱、あるいは紫外線照射を行うことによって、柱状スペーサ30及び外壁31を配向膜103及び配向膜203と強固に接着させることになる。この場合、柱状スペーサ30あるいは外壁31自体が本硬化時点で接着性を発現するものでもよいし、配向膜103あるいは配向膜203を熱可塑性の樹脂で構成し、柱状スペーサ30と配向膜103、203とを接着させてもよい。
(補足説明)
ここでは、本発明を適用した場合の種々の効果を説明する。図29は、ディスペンサによってシール材150を形成する従来の液晶表示パネルの端部を示す平面図である。シール材150をディスペンサで塗布する場合は、途切れてしまうのを防止するために、シール材150の幅を小さくするには限度がある。また、図29に示すように、ディスペンサで対向基板200に塗布されたシール材150は、対向基板200とTFT基板100を接着する際につぶれて形状が不規則になる。したがって、シール材150と表示領域40との間には、この不規則分を考慮して、大きなマージンm1を設定して必要がある。
In this embodiment, after the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 are bonded together, the columnar spacer 30 and the outer wall 31 are formed by heating or irradiating the adhesive columnar spacer 30 and the outer wall 31 with each other. The alignment film 103 and the alignment film 203 are firmly bonded. In this case, the columnar spacer 30 or the outer wall 31 itself may exhibit adhesiveness at the time of the main curing, or the alignment film 103 or the alignment film 203 is made of a thermoplastic resin, and the columnar spacer 30 and the alignment films 103 and 203 are formed. May be bonded together.
(Supplementary explanation)
Here, various effects when the present invention is applied will be described. FIG. 29 is a plan view showing an end portion of a conventional liquid crystal display panel in which the sealing material 150 is formed by a dispenser. When applying the sealing material 150 with a dispenser, there is a limit to reducing the width of the sealing material 150 in order to prevent the sealing material 150 from being interrupted. Further, as shown in FIG. 29, the sealing material 150 applied to the counter substrate 200 with a dispenser is crushed when the counter substrate 200 and the TFT substrate 100 are bonded, and the shape becomes irregular. Therefore, it is necessary to set a large margin m1 between the sealing material 150 and the display region 40 in consideration of this irregularity.

これに対して、本発明によれば、図30に示すように、外壁21、31はフォトリソグラフィによって形成することが出来るので、幅10μm程度の微細加工が可能である。また、形状も正確に制御することが出来るので、表示領域40との間には、比較的小さなマージンm2で済む。したがって、この点からも表示領域40を大きく設定することが可能である。   On the other hand, according to the present invention, as shown in FIG. 30, since the outer walls 21 and 31 can be formed by photolithography, fine processing with a width of about 10 μm is possible. Further, since the shape can be accurately controlled, a relatively small margin m2 is sufficient between the display area 40 and the display area 40. Therefore, the display area 40 can be set large from this point.

図31および図32は、表示装置を湾曲して使用する場合の比較例である。図31は、従来例による液晶表示装置を湾曲して使用した場合の問題点を示す断面図である。表示装置を湾曲して使用する場合、画面中心付近に大きな曲げストレスがかかる。したがって、画面中心付近において、TFT基板100と対向基板200の間隔が小さくなる。そうすると、画面中心と画面周辺における色度あるいは輝度に変化が生ずる。   FIG. 31 and FIG. 32 are comparative examples in the case where the display device is curved and used. FIG. 31 is a cross-sectional view showing a problem when the liquid crystal display device according to the conventional example is used while being curved. When the display device is used while being bent, a large bending stress is applied near the center of the screen. Therefore, the distance between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 is reduced near the center of the screen. Then, a change occurs in the chromaticity or luminance at the screen center and the screen periphery.

図32は本発明の液晶表示装置を湾曲して使用する場合の断面図である。図32において、TFT基板100と対向電極200の間隔は、画面中央における値d2と画面周辺での値d1とはほとんど変わらない。本発明では、柱状スペーサ20、30にTFT基板100と対向基板200の接着の役割も持たせているので、柱状スペーサ20、30の表示領域に対する接触比率は、表示領域の1%を超え、好ましくは2%以上、より好ましくは4%以上である。したがって、柱状スペーサ20、30による反発力が大きく、TFT基板100と対向基板200の間隔の変動は生じにくい。   FIG. 32 is a cross-sectional view when the liquid crystal display device of the present invention is used in a curved shape. In FIG. 32, the distance between the TFT substrate 100 and the counter electrode 200 is almost the same as the value d2 at the center of the screen and the value d1 at the periphery of the screen. In the present invention, since the columnar spacers 20 and 30 also serve to bond the TFT substrate 100 and the counter substrate 200, the contact ratio of the columnar spacers 20 and 30 to the display area exceeds 1% of the display area, preferably Is 2% or more, more preferably 4% or more. Therefore, the repulsive force due to the columnar spacers 20 and 30 is large, and the fluctuation of the distance between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 hardly occurs.

加えて、本発明では、基板にガラス基板ではなく、例えば、10μm乃至20μmのポリイミドを使用しているので、曲げ応力自体がガラス基板の場合に比較して非常に小さい。この点からも、表示装置を湾曲して使用した場合のTFT基板100と対向基板200の間隔の変動を小さく抑えることが出来る。   In addition, in the present invention, not a glass substrate but a polyimide of 10 μm to 20 μm, for example, is used as the substrate, so that the bending stress itself is very small compared to the case of a glass substrate. Also from this point, the variation in the distance between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 when the display device is used in a curved shape can be suppressed to be small.

従来、液晶表示装置の外形は殆どが矩形であった。しかし、近年、矩形以外の形状を有する液晶表示装置が要求されている。図33は、矩形の辺に切欠き41が形成されている場合の例である。図34は、表示領域40に円形の孔42が形成されている例である。図33および図34において、切欠き41あるいは孔42が形成されている部分には、切欠き41又は孔42の端部に沿って液晶を封止するシールを形成する必要がある。本発明のように、液晶をシールするための外壁をフォトリソグラフィによって形成すれば、このようなシール形状にも容易に対応でき、且つこのような異形部分においても狭額縁の表示を実現することが出来る。   Conventionally, the external shape of the liquid crystal display device is almost rectangular. However, in recent years, a liquid crystal display device having a shape other than a rectangle has been demanded. FIG. 33 shows an example in which a notch 41 is formed on a rectangular side. FIG. 34 is an example in which a circular hole 42 is formed in the display area 40. In FIGS. 33 and 34, it is necessary to form a seal for sealing the liquid crystal along the end of the notch 41 or the hole 42 in the portion where the notch 41 or the hole 42 is formed. If the outer wall for sealing the liquid crystal is formed by photolithography as in the present invention, it is possible to easily cope with such a seal shape and to realize a narrow frame display even in such a deformed portion. I can do it.

図35及び図36は表示装置の外形が矩形でない場合の例である。図35は対向する垂直の2辺が内側に凸となっている例である。図36は対向する水平の2辺が同じ方向に湾曲している例である。いずれも、隣り合う辺が鋭角で交差している箇所が存在している。このような部分はディスペンサでのシール材の塗布は難しいが、本発明のように、フォトリソグラフィで外壁を形成することは特に困難はない。   FIG. 35 and FIG. 36 are examples when the external shape of the display device is not rectangular. FIG. 35 shows an example in which two opposing vertical sides protrude inward. FIG. 36 shows an example in which two opposing horizontal sides are curved in the same direction. In both cases, there are locations where adjacent sides intersect at an acute angle. Although it is difficult to apply the sealing material with a dispenser in such a portion, it is not particularly difficult to form the outer wall by photolithography as in the present invention.

このように、本発明によれば、画面が湾曲している表示装置や、外形が異形である表示装置、あるいは、画面内に種々の不規則な切欠き等が存在するような表示領域についても容易に対応することが出来る。   As described above, according to the present invention, a display device having a curved screen, a display device having an irregular outer shape, or a display region in which various irregular cutouts exist in the screen. It can be easily handled.

10…メイン柱状スペーサ、 11…サブ柱状スペーサ、 20、30…柱状スペーサ、 21、31…外壁、 25,35…柱状スペーサ用感光性樹脂、 40…表示領域、 50…端子領域、 91…走査線、 92…映像信号線、 93…画素、 100…TFT基板、 101…アレイ層、 103…配向膜、 200…対向基板、 201…カラーフィルタ層、 202…オーバーコート膜、 203…配向膜、   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Main columnar spacer, 11 ... Sub columnar spacer, 20, 30 ... Columnar spacer, 21, 31 ... Outer wall, 25, 35 ... Photosensitive resin for columnar spacers, 40 ... Display region, 50 ... Terminal region, 91 ... Scanning line 92 ... Video signal line 93 ... Pixel 100 ... TFT substrate 101 ... Array layer 103 ... Alignment film 200 ... Counter substrate 201 ... Color filter layer 202 ... Overcoat film 203 ... Alignment film

Claims (20)

第1の基板と、第2の基板の間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、
前記第1の基板と前記第2の基板は、可撓性基板で形成され、
前記第1の基板と前記第2の基板間の表示領域には、複数の柱状スペーサが形成され、前記第1の基板と前記第2の基板間の基板端部には外壁が形成され、
前記柱状スペーサと前記外壁は、紫外線照射又は加熱により接着性を発現する材料で形成され、
前記柱状スペーサと前記外壁は前記第1の基板と前記第2基板の両面と接着していることを特徴とする液晶表示装置。
A liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a first substrate and a second substrate,
The first substrate and the second substrate are formed of a flexible substrate,
A plurality of columnar spacers are formed in a display region between the first substrate and the second substrate, and an outer wall is formed at a substrate end between the first substrate and the second substrate,
The columnar spacer and the outer wall are formed of a material that exhibits adhesiveness by ultraviolet irradiation or heating,
The liquid crystal display device, wherein the columnar spacer and the outer wall are bonded to both surfaces of the first substrate and the second substrate.
前記第1の基板および前記第2の基板は、ポリイミドで形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the first substrate and the second substrate are made of polyimide. 前記第1の基板および前記第2の基板はポリイミドで形成され、前記ポリイミドの厚さは、10μm乃至20μmであることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the first substrate and the second substrate are made of polyimide, and the thickness of the polyimide is 10 μm to 20 μm. 前記表示領域の面積と前記柱状スペーサが前記第1及び第2基板と接触している接着面積の比を接触比率と定義した場合、前記接触比率は、1%以上であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   The contact ratio is 1% or more when a ratio of an area of the display region and an adhesion area where the columnar spacer is in contact with the first and second substrates is defined as a contact ratio. Item 2. A liquid crystal display device according to item 1. 前記接触比率は、2%以上であることを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the contact ratio is 2% or more. 前記第1の基板には、接着材層および配向膜が形成されていないことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein an adhesive layer and an alignment film are not formed on the first substrate. 前記柱状スペーサは、前記第1の基板に形成された第1の配向膜に接着していることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the columnar spacer is bonded to a first alignment film formed on the first substrate. 前記第2の基板にはカラーフィルタ層が形成され、前記カラーフィルタを覆ってオーバーコート膜が形成され、前記柱状スペーサは前記オーバーコート膜に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   The color filter layer is formed on the second substrate, an overcoat film is formed to cover the color filter, and the columnar spacer is formed on the overcoat film. Liquid crystal display device. 前記第2の基板にはカラーフィルタ層が形成され、前記カラーフィルタを覆ってオーバーコート膜が形成され、前記オーバーコート膜を覆って第2の配向膜が形成され、前記柱状スペーサは前記第2の配向膜に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   A color filter layer is formed on the second substrate, an overcoat film is formed to cover the color filter, a second alignment film is formed to cover the overcoat film, and the columnar spacer is the second spacer. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is formed on an alignment film. 前記第1の基板には、走査線と映像信号線が形成され、前記柱状スペーサは、平面で視て、前記走査線と前記映像信号線が交差している部分において、前記第1の基板と接触していることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   A scanning line and a video signal line are formed on the first substrate, and the columnar spacer is located on the first substrate at a portion where the scanning line and the video signal line intersect when viewed in plan. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is in contact with the liquid crystal display device. 第1の基板と第2の基板の間に液晶を挟持した液晶表示装置の製造方法であって、
第1の基板と第2の基板を可撓性基板で形成し、
前記第2の基板に感光性樹脂を形成し、フォトリソグラフィによって、前記第2の基板の表示領域に柱状スペーサを、前記第2の基板の周辺部に外壁を同時に形成し、
前記第1の基板と前記第2の基板を接着する際に、加熱あるいは紫外線を照射することによって、前記柱状スペーサ及び前記外壁に接着性を発現させ、ることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
A method of manufacturing a liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between a first substrate and a second substrate,
Forming a first substrate and a second substrate with a flexible substrate;
Forming a photosensitive resin on the second substrate, and simultaneously forming a columnar spacer in a display region of the second substrate and an outer wall in a peripheral portion of the second substrate by photolithography;
Manufacturing of a liquid crystal display device characterized in that, when the first substrate and the second substrate are bonded, the columnar spacer and the outer wall are made to exhibit adhesiveness by heating or irradiating ultraviolet rays. Method.
前記第1の基板は、接着材層は形成されないことを特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置の製造方法。   12. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 11, wherein an adhesive layer is not formed on the first substrate. 前記表示領域の面積と前記柱状スペーサが前記第1及び第2基板と接触している接着面積の比を接触比率と定義した場合、前記接触比率を1%以上とするように柱状スペーサを配置することを特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置の製造方法。   When the ratio of the area of the display region and the adhesion area where the columnar spacer is in contact with the first and second substrates is defined as the contact ratio, the columnar spacer is arranged so that the contact ratio is 1% or more. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 11. 前記接触比率を2%以上とするように柱状スペーサを配置することを特徴とする請求項13に記載の液晶表示装置の製造方法。   The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 13, wherein columnar spacers are arranged so that the contact ratio is 2% or more. 第1の基板と第2の基板の間に液晶を挟持した液晶表示装置の製造方法であって、
第1の基板と第2の基板を可撓性基板で形成し、
前記第2の基板に感光性樹脂を形成し、フォトリソグラフィによって、前記第2の基板の表示領域に柱状スペーサを、前記第2の基板の周辺部に外壁を同時に形成し、
前記第1の基板に第1の配向膜を形成し、
前記第1の基板と前記第2の基板を接着する際に、前記柱状スペーサ及び前記外壁に対し、加熱あるいは紫外線を照射することによって、前記柱状スペーサ及び前記外壁を前記第1の配向膜に接着させることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
A method of manufacturing a liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between a first substrate and a second substrate,
Forming a first substrate and a second substrate with a flexible substrate;
Forming a photosensitive resin on the second substrate, and simultaneously forming a columnar spacer in a display region of the second substrate and an outer wall in a peripheral portion of the second substrate by photolithography;
Forming a first alignment film on the first substrate;
When the first substrate and the second substrate are bonded, the columnar spacer and the outer wall are bonded to the first alignment film by heating or irradiating the columnar spacer and the outer wall with ultraviolet rays. A manufacturing method of a liquid crystal display device characterized by comprising:
前記配向膜は熱可塑性樹脂で形成されていることを特徴とする請求項15に記載の液晶表示装置の製造方法。   The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 15, wherein the alignment film is made of a thermoplastic resin. 前記第2の基板に対し、カラーフィルタ層を形成し、前記カラーフィルタ層の上にオーバーコート膜を形成し、前記オーバーコート膜の上に前記柱状スペーサ及び前記外壁を形成し、その後、第2の配向膜を形成することを特徴とする請求項15に記載の液晶表示装置の製造方法。   A color filter layer is formed on the second substrate, an overcoat film is formed on the color filter layer, the columnar spacers and the outer wall are formed on the overcoat film, and then the second substrate is formed. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 15, wherein an alignment film is formed. 前記第2の基板に対し、カラーフィルタ層を形成し、前記カラーフィルタ層の上にオーバーコート膜を形成し、前記オーバーコート膜の上に第2の配向膜を形成し、前記第2の配向膜の上に前記柱状スペーサ及び前記外壁を形成することを特徴とする請求項15に記載の液晶表示装置の製造方法。   A color filter layer is formed on the second substrate, an overcoat film is formed on the color filter layer, a second alignment film is formed on the overcoat film, and the second alignment The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 15, wherein the columnar spacer and the outer wall are formed on a film. 前記表示領域の面積と前記柱状スペーサが前記第1及び第2基板と接触している接着面積の比を接触比率と定義した場合、前記接触比率を1%以上とするように柱状スペーサを配置することを特徴とする請求項15に記載の液晶表示装置の製造方法。   When the ratio of the area of the display region and the adhesion area where the columnar spacer is in contact with the first and second substrates is defined as the contact ratio, the columnar spacer is arranged so that the contact ratio is 1% or more. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 15. 前記接触比率を2%以上とするように柱状スペーサを配置することを特徴とする請求項19に記載の液晶表示装置の製造方法。   The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 19, wherein columnar spacers are arranged so that the contact ratio is 2% or more.
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