JP5317445B2 - Liquid crystal display device and manufacturing method thereof - Google Patents

Liquid crystal display device and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
JP5317445B2
JP5317445B2 JP2007231345A JP2007231345A JP5317445B2 JP 5317445 B2 JP5317445 B2 JP 5317445B2 JP 2007231345 A JP2007231345 A JP 2007231345A JP 2007231345 A JP2007231345 A JP 2007231345A JP 5317445 B2 JP5317445 B2 JP 5317445B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
layer
substrate
sealing material
display device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2007231345A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2008090294A (en
JP2008090294A5 (en
Inventor
宣仁 勝村
広明 三輪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Liquid Crystal Display Co Ltd
Japan Display Inc
Original Assignee
Panasonic Liquid Crystal Display Co Ltd
Japan Display Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Liquid Crystal Display Co Ltd, Japan Display Inc filed Critical Panasonic Liquid Crystal Display Co Ltd
Priority to JP2007231345A priority Critical patent/JP5317445B2/en
Publication of JP2008090294A publication Critical patent/JP2008090294A/en
Publication of JP2008090294A5 publication Critical patent/JP2008090294A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5317445B2 publication Critical patent/JP5317445B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof.

薄膜トランジスタ(TFT)素子が形成されたTFT基板と、カラーフィルタ(CF)が形成されたCF基板と、これらの2枚の基板で挟まれた液晶と、で構成される液晶表示装置のパネルがある。また、このようなパネルの液晶充填方法として、2枚の基板間に液晶を挟持するべく表示領域周辺に熱硬化樹脂などのシール材による液晶を封入するための封入口をもつパターンを形成し、シール材を硬化した後、液晶を封入口より充填、封口する方法が取られている。しかし、液晶を封入するための時間がかかるなどの理由により、これを解決する方法として液晶滴下法(ODF:One Drop Filling)が知られている(特許文献1参照)。     There is a panel of a liquid crystal display device including a TFT substrate on which a thin film transistor (TFT) element is formed, a CF substrate on which a color filter (CF) is formed, and a liquid crystal sandwiched between these two substrates. . In addition, as a liquid crystal filling method for such a panel, a pattern having a sealing opening for sealing liquid crystal with a sealing material such as a thermosetting resin is formed around the display region in order to sandwich the liquid crystal between two substrates, After curing the sealing material, a method of filling and sealing the liquid crystal from the sealing port is taken. However, a liquid crystal dropping method (ODF: One Drop Filling) is known as a method for solving this because of the time taken to enclose the liquid crystal (see Patent Document 1).

液晶滴下法では、一方の基板に、ディスペンサまたはスクリーン印刷により、シールパターンを形成する。そして、シールパターンを形成した基板に、所定量の液晶を滴下し、もう一方の基板を真空中でアライメントして重ね合わせ、圧着する。   In the liquid crystal dropping method, a seal pattern is formed on one substrate by dispenser or screen printing. Then, a predetermined amount of liquid crystal is dropped onto the substrate on which the seal pattern has been formed, and the other substrate is aligned and superposed in a vacuum, followed by pressure bonding.

ところで、液晶を封入する方式では、シール材が硬化した後に液晶を封入するため、液晶がシール材に入り込んだり、シール材を越えるような不良が発生することは無かった。一方、液晶滴下法では、シール材が未硬化の軟らかい状態で液晶を滴下し、シール材が硬化するまでの間に、基板を貼り合わせて、大気圧にて圧着する。したがって、パネル内の液晶が2枚の基板により押されるために、滴下量が過剰であると、液晶がシール材に入り込む現象や、シール材を越えて漏れ出すといった現象が生じる。この点、特許文献1には、インラインで液晶滴下量を制御およびその余剰分を回収することにより、過剰の液晶の漏れを防止することが記載されている。   By the way, in the method of enclosing the liquid crystal, since the liquid crystal is encapsulated after the sealing material is cured, the liquid crystal does not enter the sealing material or cause a defect that exceeds the sealing material. On the other hand, in the liquid crystal dropping method, the liquid crystal is dropped in a soft state in which the sealing material is uncured, and the substrates are bonded and pressure-bonded at atmospheric pressure until the sealing material is cured. Accordingly, since the liquid crystal in the panel is pushed by the two substrates, if the amount of dripping is excessive, a phenomenon that the liquid crystal enters the sealing material or a phenomenon that leaks beyond the sealing material occurs. In this regard, Patent Document 1 describes that the liquid crystal dropping amount is controlled inline and the excess amount is recovered to prevent excessive liquid crystal leakage.

特開2002−107740号公報JP 2002-107740 A

しかし、インラインでの液晶滴下量の制御および余剰な滴下液晶の回収を行うと、それに要する設備投資の増大、工程の増大を生じ、不利である。   However, controlling the amount of dropped liquid crystal in-line and recovering excess dropped liquid crystal is disadvantageous because it increases the capital investment required and the number of processes.

本発明は、上記課題を解決すべくなされたものであり、表示領域を制限することなく、過剰な液晶のシール部への入り込みや漏れを抑制することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to suppress excessive entry of liquid crystal into the seal portion and leakage without limiting the display area.

上記課題を解決すべく、本発明者らは、シール材の層の厚さを薄くした方が、過剰な液晶のシール部への入り込みを抑制できることを見出した。そこで、本発明では、2つの基板を張り合わせたときのシール材の層の厚さを、表示領域に相当する部分の液晶層の厚さと同じかそれより狭くなるようにする。そのために、例えば、少なくとも一方の基板に、シール材を塗布するための台座層を設ける。   In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that it is possible to suppress excessive entry of liquid crystal into the seal portion when the thickness of the sealing material layer is reduced. Therefore, in the present invention, the thickness of the sealing material layer when the two substrates are bonded to each other is set to be equal to or smaller than the thickness of the liquid crystal layer corresponding to the display region. For this purpose, for example, a pedestal layer for applying a sealing material is provided on at least one of the substrates.

例えば、本願発明の第1の態様は、第1の基板と第2の基板とで液晶を挟んでなる液晶表示装置であって、前記第1の基板と前記第2の基板とは、前記液晶の充填領域を囲うように設けられたシール材により接着されており、前記第1の基板は、その基板上にカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板であり、前記第1の基板は、その上に前記シール材を備える台座層を有し、前記シール材には、ギャップ材が含まれており、前記台座層はその上に、溝と、当該溝よりも表示領域側に設けられた内側土手と、を有するとともに、前記シール材は、前記溝の内部及び前記内側土手の上に設けられており、前記ギャップ材は、前記溝の内部に設けられており、前記台座層の厚さは、表示領域に対応する前記カラーフィルタ層の厚さよりも厚く、かつ前記液晶の層の厚さよりも厚く、前記シール材の層の厚さは、表示領域に相当する部分の液晶の層の厚さ以下であり、前記カラーフィルタ層より厚い台座層と前記液晶の層よりも薄いシール材とが、前記表示領域の全周にわたって形成されている。 For example, a first aspect of the present invention is a liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between a first substrate and a second substrate, wherein the first substrate and the second substrate are the liquid crystal The first substrate is a color filter substrate having a color filter layer on the substrate, and the first substrate is formed on the first substrate. has a pedestal layer comprising the sealing material, the sealing material includes a gap material, the pedestal layer thereon, grooves and the inner bank provided in Table display region side of the groove And the sealing material is provided inside the groove and on the inner bank, the gap material is provided inside the groove, and the thickness of the pedestal layer is Thicker than the thickness of the color filter layer corresponding to the display area And wherein greater than the thickness of the liquid crystal layer, the thickness of the layer of the sealing material is less than the thickness of the liquid crystal layer of the portion corresponding to the display area, the said color filter layer is thicker than the base layer the liquid crystal A sealing material thinner than the layer is formed over the entire circumference of the display region.

また、本願発明の第2の態様は、第1の基板と、第2の基板とを備え、前記第1の基板と前記第2の基板とで液晶を挟んでなり、前記第1の基板は、その基板上にカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板である液晶表示装置の製造方法であって、前記第1の基板上に形成され、溝と、それより内側の内側土手とを有する台座層上に前記液晶の充填領域を囲むように、ギャップ材を含むシール材を塗布するステップと、前記台座層と前記シール材の内側に液晶を充填するステップと、前記液晶の充填後に、前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合わせるステップとを有し、前記シール材は、前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合わせたときには、前記溝内と前記内側土手上に設けられるとともに、その層の厚さが、前記カラーフィルタ層が設けられた表示領域に相当する部分の液晶の層の厚さ以下になるように形成され、前記ギャップ材は、前記溝の内部に設けられ、前記台座層の厚さは、表示領域に対応する前記カラーフィルタ層の厚さよりも厚く、かつ前記液晶の層の厚さよりも厚く、前記カラーフィルタ層より厚い台座層と前記液晶の層よりも薄いシール材とが、前記表示領域の全周にわたって形成されている。 According to a second aspect of the present invention, a first substrate and a second substrate are provided, and a liquid crystal is sandwiched between the first substrate and the second substrate, and the first substrate is A method of manufacturing a liquid crystal display device, which is a color filter substrate having a color filter layer on the substrate, on the pedestal layer formed on the first substrate and having a groove and an inner bank on the inner side thereof A step of applying a sealing material including a gap material so as to surround the liquid crystal filling region, a step of filling a liquid crystal inside the pedestal layer and the sealing material, and after the filling of the liquid crystal, Bonding the substrate and the second substrate, and the sealing material is provided in the groove and on the inner bank when the first substrate and the second substrate are bonded together. And the thickness of the layer is The thickness of the liquid crystal layer of the portion where filter layer corresponds to a display region provided is formed so as to be below the gap material is provided inside of the groove, the thickness of the pedestal layer, the display area A pedestal layer that is thicker than the color filter layer and thicker than the color filter layer, and thinner than the liquid crystal layer, and a sealing material thinner than the liquid crystal layer. It is formed over the circumference.

図1は、本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図である。図示するように、液晶表示装置は、第1の基板10と、第2の基板20と、液晶層30と、シール部60とからなる。   FIG. 1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device to which an embodiment of the present invention is applied. As shown in the figure, the liquid crystal display device includes a first substrate 10, a second substrate 20, a liquid crystal layer 30, and a seal portion 60.

第1の基板10は、いわゆるカラーフィルタ基板である。第1の基板10は、第2の基板20に対向する面に、ブラックマトリックス層11と、R(赤)、G(緑)、B(青)の着色レジスト層12と、着色レジスト層12を平坦化するためのオーバコート層13と、配向膜14とを有している。   The first substrate 10 is a so-called color filter substrate. The first substrate 10 has a black matrix layer 11, a colored resist layer 12 of R (red), G (green), and B (blue), and a colored resist layer 12 on the surface facing the second substrate 20. An overcoat layer 13 for planarization and an alignment film 14 are provided.

なお、図1の液晶表示装置は、IPS(In−Plane−Switching)方式であるため、第1の基板10に透明電極層が存在しない。しかし、本発明は、IPS方式以外の液晶表示装置にも適用可能であり、その場合は、第1の基板10のオーバコート層13と、配向膜14との間に、透明電極層が存在することになる。   1 is an IPS (In-Plane-Switching) system, the transparent electrode layer does not exist on the first substrate 10. However, the present invention can also be applied to liquid crystal display devices other than the IPS mode, and in that case, a transparent electrode layer exists between the overcoat layer 13 of the first substrate 10 and the alignment film 14. It will be.

第2の基板20は、いわゆるTFT基板であり、第1の基板に対向する面に、配向膜21を有している。   The second substrate 20 is a so-called TFT substrate, and has an alignment film 21 on the surface facing the first substrate.

液晶層30は、第1の基板10と第2の基板20とに挟持され、配向膜14及び配向膜21により配向している。   The liquid crystal layer 30 is sandwiched between the first substrate 10 and the second substrate 20 and is aligned by the alignment film 14 and the alignment film 21.

シール部60は、第1の基板10と第2の基板20との間に挟まれた液晶30を密封するために設けられている。シール部60は、液晶表装置を上面からみたとき、液晶30の充填領域を囲うような、矩形状の閉曲線で表される(図2(C)、(D)の斜視図を参照
)。シール部60は、シール材台座層40と、シール材50とからなる。
The seal portion 60 is provided to seal the liquid crystal 30 sandwiched between the first substrate 10 and the second substrate 20. The seal portion 60 is represented by a rectangular closed curve that surrounds the filling region of the liquid crystal 30 when the liquid crystal display device is viewed from above (see the perspective views of FIGS. 2C and 2D). The seal portion 60 includes a seal material pedestal layer 40 and a seal material 50.

シール材台座層40は、第1の基板10と第2の基板20とを貼り合わせるときに塗布されるシール材50の台座である。シール材台座層40は、シール材50の層の厚さ(シールギャップ)nを、液晶30の表示領域に相当する部分の厚さ(セルギャップ)mと同じか又はmより狭くするために設けられている。シール材台座層40の厚さL1は、第1の
基板10上に形成されたカラーフィルタ層の表示領域に相当する部分の厚さL2と同じか又はL2より厚くする。
The sealing material pedestal layer 40 is a pedestal for the sealing material 50 applied when the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded together. The sealing material pedestal layer 40 is provided to make the layer thickness (seal gap) n of the sealing material 50 equal to or smaller than the thickness (cell gap) m of the portion corresponding to the display region of the liquid crystal 30. It has been. The thickness L1 of the sealing material pedestal layer 40 is the same as or thicker than the thickness L2 of the portion corresponding to the display area of the color filter layer formed on the first substrate 10.

シール材台座層40の厚さL1は、例えば、1〜4μmの範囲であり、カラーフィルタ層の厚さL2比べて、0〜3μm程度、厚いのが好ましい。   The thickness L1 of the sealing material pedestal layer 40 is, for example, in the range of 1 to 4 μm, and is preferably about 0 to 3 μm thicker than the thickness L2 of the color filter layer.

シール材台座層40の材質には特に制限はないが、カラーフィルタを形成する工程で同時に形成した場合、ブラックマトリックス11と同じ材料の層41、着色レジスト層12と同じ材料の層42、オーバコート層13と同じ材料の層43とが積層して形成される。   The material of the sealing material pedestal layer 40 is not particularly limited, but when formed simultaneously in the process of forming the color filter, the layer 41 made of the same material as the black matrix 11, the layer 42 made of the same material as the colored resist layer 12, and the overcoat A layer 43 made of the same material as the layer 13 is laminated.

シール材50は、シール台座層40と第2の基板20とを接着する。シール材台座層40の存在により、シール材50の層の厚さ(シールギャップ)nは、液晶30の表示領域に
相当する部分の厚さ(セルギャップ)mと同じか又はmより狭い。
The sealing material 50 bonds the seal pedestal layer 40 and the second substrate 20 together. Due to the presence of the sealing material pedestal layer 40, the thickness (seal gap) n of the sealing material 50 is equal to or smaller than the thickness (cell gap) m of the portion corresponding to the display region of the liquid crystal 30.

セルギャップmは、通常、3〜5μmの範囲であるので、シールギャップnは、1〜5μmの範囲であるのが好ましい。シールギャップnが大きすぎると、シール材50への液晶30の入り込み現象が生じやすくなり、小さすぎると、接着信頼性が低下する。   Since the cell gap m is usually in the range of 3 to 5 μm, the seal gap n is preferably in the range of 1 to 5 μm. If the seal gap n is too large, the phenomenon of the liquid crystal 30 entering the sealing material 50 tends to occur, and if it is too small, the adhesion reliability is lowered.

シール材50の材料は、液晶表示装置の基板の貼り合わせに一般的に用いられるものが使用できる。シール材50には、所望のシールギャップnを確保するために、スペーサ部材(ギャップ材)52が含まれている。スペーサ部材52は、絶縁体の微粒子で変形しないものが好ましい。例えば、径1μmのシリカビーズやシリカファイバである。   As the material of the sealing material 50, a material generally used for bonding substrates of liquid crystal display devices can be used. The seal material 50 includes a spacer member (gap material) 52 in order to secure a desired seal gap n. The spacer member 52 is preferably an insulating fine particle that does not deform. For example, a silica bead or silica fiber having a diameter of 1 μm.

次に、上記のように構成される液晶表示装置のパネルの製造方法について説明する。なお、本実施形態の製造方法は、2枚の基板の貼り合わせ工程に特徴がある。それ以外のパネル製造工程については、公知の方法を採用できるので、説明を省略する。   Next, the manufacturing method of the panel of the liquid crystal display device comprised as mentioned above is demonstrated. In addition, the manufacturing method of this embodiment has the characteristics in the bonding process of two board | substrates. Since the other panel manufacturing process can employ a known method, the description thereof is omitted.

本実施形態では、液晶の充填方法として、液晶滴下法を用いる。そして、その際のシール材の塗布に工夫をしている。   In this embodiment, a liquid crystal dropping method is used as a liquid crystal filling method. And it is devised in the application of the sealing material in that case.

図2は、第1の基板10と第2の基板20とを貼り合わせるまでの工程を説明するための図である。   FIG. 2 is a diagram for explaining a process until the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded to each other.

本実施形態の製造方法は、液晶滴下量のばらつきの影響を受け易い小型パネルの製造に好適である。例えば、パネルサイズ(対角寸法)は、0.8〜12インチのパネルである。基板サイズには制限が無く、その主面への小型パネルの多面付けが可能である。   The manufacturing method of this embodiment is suitable for manufacturing a small panel that is easily affected by variations in the amount of liquid crystal dripping. For example, the panel size (diagonal dimension) is a 0.8 to 12 inch panel. The substrate size is not limited, and multiple panels can be attached to the main surface.

なお、第1の基板には、対向する第2の基板との間隔を適切に保持するための高さ約4μmのギャップ材(スペーサ)が配置されているとする。   It is assumed that a gap material (spacer) having a height of about 4 μm is disposed on the first substrate in order to appropriately maintain a distance from the opposing second substrate.

第1の基板10に、シール台座層40を形成する(図2(A),(B)参照)。シール台座層40は、液晶30の充填領域を囲うように形成する。また、液晶が漏れないようにする必要があるので、閉曲線となるように形成する。線幅は約0.8mmである。なお、シール台座層40の上に塗布されるシール材50の線幅は、約0.65mmである。シール材50のパターニング精度が±0.1mmであるとすると、シール台座層40の線幅は、シール材50の線幅よりも0.1mm以上広くなるようにすると良い。   A seal pedestal layer 40 is formed on the first substrate 10 (see FIGS. 2A and 2B). The seal pedestal layer 40 is formed so as to surround the filling region of the liquid crystal 30. Further, since it is necessary to prevent the liquid crystal from leaking, the liquid crystal is formed to have a closed curve. The line width is about 0.8 mm. The line width of the sealing material 50 applied on the seal pedestal layer 40 is about 0.65 mm. If the patterning accuracy of the seal material 50 is ± 0.1 mm, the line width of the seal pedestal layer 40 is preferably set to be 0.1 mm or more wider than the line width of the seal material 50.

シール台座層40は、カラーフィルタ層の形成工程を利用して形成することができる。すなわち、フォトリソグラフィにより、ブラックマトリックス層11、RGBの着色レジスト層12、オーバコート層14を順に形成する際に、シール部60に相当する位置にも、これらに対応する層41、42、43を積層させる。これにより、表示領域のカラーフィルタ層より、3μm程度高いシール台座層40が形成できる。   The seal pedestal layer 40 can be formed using a color filter layer forming process. That is, when the black matrix layer 11, the RGB colored resist layer 12, and the overcoat layer 14 are sequentially formed by photolithography, the corresponding layers 41, 42, and 43 are also formed at positions corresponding to the seal portion 60. Laminate. As a result, a seal pedestal layer 40 that is about 3 μm higher than the color filter layer in the display region can be formed.

例えば、セルギャップ3.0μmの液晶表示装置を作製する場合、カラーフィルタ層およびシール台座層40を構成する層の膜厚を次のようにすることができる。
着色レジスト層12(対応する層42)の膜厚=0.7μm
ブラックマトリクス層11(対応する層41)の膜厚=1.0μm
オーバーコート層13(対応する層43)の膜厚=1.1μm
かかる場合、シール台座層40の膜厚L1=4.1μmとなる。このとき、m+L2=3.0μm+2.1μm=5.1μmである。そこで、n=5.1μm−4.1μm+0.1μm=1.1μmとなるスペーサ部材(ギャップ材)52をシール材50へ添加してシールパターンを形成すればよい。
For example, when a liquid crystal display device having a cell gap of 3.0 μm is manufactured, the thicknesses of the layers constituting the color filter layer and the seal pedestal layer 40 can be as follows.
Film thickness of the colored resist layer 12 (corresponding layer 42) = 0.7 μm
Film thickness of black matrix layer 11 (corresponding layer 41) = 1.0 μm
Film thickness of overcoat layer 13 (corresponding layer 43) = 1.1 μm
In such a case, the film thickness L1 of the seal pedestal layer 40 is 4.1 μm. At this time, m + L2 = 3.0 μm + 2.1 μm = 5.1 μm. Therefore, a seal pattern may be formed by adding a spacer member (gap material) 52 with n = 5.1 μm−4.1 μm + 0.1 μm = 1.1 μm to the seal material 50.

また、上記のような各層の厚さのままセルギャップ4.0μmの液晶表示装置を形成するには、n=2.1μmとなるスペーサ部材(ギャップ材)52をシール材へ添加してシールパターンを形成すればよい。   In addition, in order to form a liquid crystal display device having a cell gap of 4.0 μm with the thickness of each layer as described above, a spacer member (gap material) 52 with n = 2.1 μm is added to the sealing material to form a sealing pattern. May be formed.

一方、2.0μmの液晶表示装置を作製する場合、シール台座層40に形成する着色レジスト層12の内の一色分の層42を除き、L1=3.4μmとする。m+L2=2.0μm+2.1μm=4.1μmであるので、n=0.8μmとなるスペーサ部材(ギャップ材)52をシール材50へ添加してシールパターンを形成すればよい。   On the other hand, when a 2.0 μm liquid crystal display device is manufactured, L1 = 3.4 μm, except for the layer 42 for one color of the colored resist layer 12 formed on the seal pedestal layer 40. Since m + L2 = 2.0 μm + 2.1 μm = 4.1 μm, a spacer member (gap material) 52 with n = 0.8 μm may be added to the seal material 50 to form a seal pattern.

なお、シール台座層40は、カラーフィルタ層の形成後に、単独で樹脂前駆体を硬化させて形成することもできる。例えば、シール部60に相当する位置に、ホトリソグラフィ、ディスペンサやスクリーン印刷法により、シール台座層40の材料でパターンを形成する。かかる場合のシール台座層40の材料としては、アクリレート樹脂などを用いることができる。樹脂前駆体で形成されたシール台座層40は、シール材50のパターニング以前に硬化するものが好ましく、常温では流動しないものがよい。   The seal pedestal layer 40 can also be formed by curing the resin precursor alone after forming the color filter layer. For example, a pattern is formed from the material of the seal pedestal layer 40 at a position corresponding to the seal portion 60 by photolithography, a dispenser, or a screen printing method. As a material of the seal pedestal layer 40 in such a case, acrylate resin or the like can be used. The seal pedestal layer 40 formed of a resin precursor is preferably cured before patterning of the sealing material 50, and preferably does not flow at room temperature.

こうして、シール台座層40を形成すると、次に、配向膜14を形成する。その後、ディスペンサやスクリーン印刷法により、シール台座層40上に、シール材50のパターンを形成する(図2(C)参照)。   After the seal pedestal layer 40 is thus formed, the alignment film 14 is formed next. Then, the pattern of the sealing material 50 is formed on the seal pedestal layer 40 by a dispenser or a screen printing method (see FIG. 2C).

なお、配向膜14は、0.1μm程度である。そこで、配向膜14を形成する工程を利用して、シール台座層40に、配向膜14に対応する層をさらに積層させてもよい。そして、配向膜14の層を積層したシール台座層40上に、シール材50のパターンを形成するようにしてもよい。   The alignment film 14 is about 0.1 μm. Therefore, a layer corresponding to the alignment film 14 may be further laminated on the seal pedestal layer 40 by using the step of forming the alignment film 14. Then, the pattern of the sealing material 50 may be formed on the seal pedestal layer 40 on which the alignment film 14 layers are laminated.

このとき、第1の基板10に、外縁に沿った外周シール枠80も設けてもよい。外周シール枠80を設けるのは、2枚の基板を貼り合わせたときに、外周シール枠80と内側のシール材50のパターンとの間の領域を真空に封止するためである。この領域を真空にすれば、大気圧に戻したときに、大気圧を利用して、確実に圧着を行うことができる。外周シール枠80は、面取り工程において、切り捨てられる部分であり、液晶を封止するシール材80のパターンとその役目が実質的に異なる。なお、このような機能を持った外周シール枠80は、複数設けてもよい。   At this time, the outer peripheral seal frame 80 along the outer edge may be provided on the first substrate 10. The reason why the outer peripheral seal frame 80 is provided is to seal the region between the outer peripheral seal frame 80 and the pattern of the inner sealing material 50 in a vacuum when two substrates are bonded together. If this region is evacuated, the pressure can be reliably bonded using the atmospheric pressure when the pressure is returned to the atmospheric pressure. The outer peripheral seal frame 80 is a portion that is cut off in the chamfering step, and its role is substantially different from the pattern of the seal material 80 that seals the liquid crystal. A plurality of outer peripheral seal frames 80 having such a function may be provided.

シール材50の材料は、液晶表示装置の基板の貼り合わせに通常用いられるものでよい。例えば、アクリレート樹脂、変性エポキシ樹脂などの紫外線硬化性樹脂である。シール材50には、2枚の基板を貼り合わせたときのシール材50の層を所望の厚さに確保するために、スペーサ部材(ギャップ材)が配合してある。スペーサ部材は、絶縁体の微粒子が好ましい。例えば、径1μm程度のビーズやシリコンファイバが0.5〜5%配合されている。   The material of the sealing material 50 may be a material that is usually used for bonding substrates of liquid crystal display devices. For example, UV curable resins such as acrylate resins and modified epoxy resins. A spacer member (gap material) is blended in the sealing material 50 in order to ensure a desired thickness of the sealing material 50 layer when the two substrates are bonded together. The spacer member is preferably fine particles of an insulator. For example, beads having a diameter of about 1 μm and silicon fibers are blended in an amount of 0.5 to 5%.

なお、シール材50のパターンは、第2の基板20のシール部60に対応する位置に形成してもよい。   Note that the pattern of the sealing material 50 may be formed at a position corresponding to the sealing portion 60 of the second substrate 20.

次に、真空中で、表示領域に、液晶30を1,2滴、滴下し、2枚の基板を貼り合わせて封着する(図2(D)参照)。そして、大気圧に戻した後、紫外線照射を行い、さらに加熱炉で120℃程度で、約1時間加熱してシール材50を硬化させる。   Next, in a vacuum, one or two drops of the liquid crystal 30 are dropped on the display region, and the two substrates are attached and sealed (see FIG. 2D). And after returning to atmospheric pressure, ultraviolet irradiation is performed, and also it heats at about 120 degreeC with a heating furnace for about 1 hour, and the sealing material 50 is hardened.

以上、2枚の基板を貼り合わせ、液晶を充填する工程について説明した。その後は、公知の製造プロセス(洗浄、面取り工程、偏光板張付け工程など)により、液晶表示装置が完成する。   The process of bonding two substrates and filling the liquid crystal has been described above. Thereafter, the liquid crystal display device is completed by a known manufacturing process (cleaning, chamfering step, polarizing plate pasting step, etc.).

以上、本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置及びその製造方法について説明した。   The liquid crystal display device to which the embodiment of the present invention is applied and the manufacturing method thereof have been described above.

上記実施形態によれば、過剰量の液晶30が滴下された場合における、液晶30のシール部60への入り込みや漏れを抑制できる。すなわち、図3で示されるような、液晶30がシール材50に入り込んでしまう現象を抑制できる。図中、符号51は、シール材50に入り込んでしまった液晶30を示す。上記実施形態によれば、このような入り込み51の度合いkを抑制できる。すなわち、従来の方法にくらべ、滴下量がより”おおざっぱ”であっても、仕様として許容されるセルギャップを備えたパネルを製造することができる。   According to the embodiment, it is possible to prevent the liquid crystal 30 from entering the seal portion 60 and leaking when an excessive amount of the liquid crystal 30 is dropped. That is, the phenomenon that the liquid crystal 30 enters the sealing material 50 as shown in FIG. 3 can be suppressed. In the figure, reference numeral 51 denotes the liquid crystal 30 that has entered the sealing material 50. According to the above embodiment, the degree k of the entry 51 can be suppressed. In other words, a panel having a cell gap that is allowed as a specification can be manufactured even when the amount of dripping is more “rough” compared to the conventional method.

本発明は、上記実施形態に制限されることない。上記実施形態は、様々な変形が可能である。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above embodiment can be variously modified.

例えば、シール材台座層40は、第1の基板10と第2の基板20の少なくとも一方に設けられていればよい。すなわち、第2の基板20に設けるようにしてもよい。   For example, the sealing material base layer 40 may be provided on at least one of the first substrate 10 and the second substrate 20. That is, it may be provided on the second substrate 20.

また、図4(液晶表示装置の端部の断面図)に示すように、二つの基板の両方にシール材台座層40を設けるようにしてもよい。このようにしてもシールギャップnを狭くすることができる。   Further, as shown in FIG. 4 (a cross-sectional view of the end portion of the liquid crystal display device), a sealing material pedestal layer 40 may be provided on both of the two substrates. In this way, the seal gap n can be narrowed.

また、図5(液晶表示装置の端部の断面図)に示すように、シール台座層40に、ギャップ材52が嵌まり込むことが可能な溝40hを設けてもよい。このような溝は、両側に土手となる樹脂層をフォトリソグラフィなどで形成すれば、形成できる。こうすれば、ギャップ材52を確実にシール台座層40の所定の位置に留め置くことができ、所望のシールギャップnを容易に達成することができる。ギャップ材52は、溝40hに完全に埋もれることがないよういな大きさである。具体的には、ギャップ材52の高さ(ビーズの場合、直径)/溝40hの深さは1.1以上であるのが好ましい。1.1よりも小さい場合、ギャップ材52とシール台座層40の高さが近接してしまい、シール台座層40と対向基板(第2の基板20)とが接触することがある。その場合、シール台座層40の上面は平面であるため、シール材50がシール台座層40と対向基板間に残存する。このとき、シール材50の残存量が部分的に異なるとセルギャップのばらつきの原因となる。   Further, as shown in FIG. 5 (a cross-sectional view of the end portion of the liquid crystal display device), a groove 40 h into which the gap member 52 can be fitted may be provided in the seal pedestal layer 40. Such a groove can be formed by forming a resin layer serving as a bank on both sides by photolithography or the like. If it carries out like this, the gap material 52 can be reliably kept in the predetermined position of the seal pedestal layer 40, and the desired seal gap n can be achieved easily. The gap material 52 is sized so as not to be completely buried in the groove 40h. Specifically, the height of the gap member 52 (diameter in the case of beads) / the depth of the groove 40h is preferably 1.1 or more. When smaller than 1.1, the height of the gap material 52 and the seal pedestal layer 40 may be close to each other, and the seal pedestal layer 40 and the counter substrate (second substrate 20) may come into contact with each other. In that case, since the upper surface of the seal pedestal layer 40 is flat, the sealing material 50 remains between the seal pedestal layer 40 and the counter substrate. At this time, if the remaining amount of the sealing material 50 is partially different, it causes variation in the cell gap.

また、図6(液晶表示装置の端部の断面図)に示すように、シール台座層40の形状を、断面が円弧(いいかえれば、かまぼこ型)で、盛り上がるように形成してもよい。このように、天頂40tが曲面になるようにすれば、対向する基板と、面ではなく、線により、接触するようになるので、密着性が向上する。すなわち、天頂が平面の場合、シール台座層40と対向基板(第2の基板20)との間に存在するシール材50の残存量のばらつきを低減でき、ギャップのばらつきを抑えることができる。   Further, as shown in FIG. 6 (cross-sectional view of the end portion of the liquid crystal display device), the shape of the seal pedestal layer 40 may be formed so that the cross-section is raised with an arc (in other words, a kamaboko type). In this way, if the zenith 40t is curved, it comes into contact with the opposing substrate not by a surface but by a line, so that the adhesion is improved. That is, when the zenith is a flat surface, variation in the remaining amount of the sealing material 50 existing between the seal pedestal layer 40 and the counter substrate (second substrate 20) can be reduced, and variation in gap can be suppressed.

<実施例>
以下に、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
<Example>
Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto.

本実施例では、図1に示した液晶表示装置を、図2に示した製造工程により作製した。具体的には、42×31.5の2インチサイズの小型液晶ディスプレイパネルを作製した。なお、ギャップ材として、直径4μmのポリスチレンビーズを使用した。   In this example, the liquid crystal display device shown in FIG. 1 was manufactured by the manufacturing process shown in FIG. Specifically, a 42 × 31.5 2-inch small liquid crystal display panel was produced. As the gap material, polystyrene beads having a diameter of 4 μm were used.

第1の基板(カラーフィルタ基板)10を作製する際、シール部60に相当する位置に、ブラックマトリックス層、R,G、Bの着色レジスト層を重ね、更にその上にオーバコート層を成膜した。そして、表示領域の層の厚さL2よりも厚さL1が3μm厚いシール材台座層40を作製した。このときのブラックマトリックス11は、約1μmの樹脂である。   When the first substrate (color filter substrate) 10 is manufactured, a black matrix layer, R, G, and B colored resist layers are overlaid on the position corresponding to the seal portion 60, and an overcoat layer is further formed thereon. did. And the sealing material base layer 40 whose thickness L1 is 3 micrometers thicker than thickness L2 of the layer of a display area was produced. At this time, the black matrix 11 is a resin of about 1 μm.

次に、第1の基板10の表示領域に配向膜14を成膜した後、ディスペンサによりシール材台座層40上にシール材50を塗布した。シール材50は、紫外線硬化性樹脂であり、径1μmのシリカファイバ52を0.5%配合してある。   Next, after the alignment film 14 was formed in the display area of the first substrate 10, the sealing material 50 was applied on the sealing material pedestal layer 40 by a dispenser. The sealing material 50 is an ultraviolet curable resin and contains 0.5% silica fiber 52 having a diameter of 1 μm.

次に、液晶30を2滴、表示領域に滴下し、第2の基板(TFT基板)10を位置あわせして、真空チャンバの中で貼り合わせた。   Next, two drops of the liquid crystal 30 were dropped on the display area, and the second substrate (TFT substrate) 10 was aligned and bonded in a vacuum chamber.

チャンバ内を大気圧に戻した後、貼り合わせた基板を取り出し、紫外線照射を行い、さらに加熱炉で120℃で、1時間加熱してシール材50を硬化させた。その後、基板を切断して、液晶表示装置のパネルが完成した。   After returning the inside of the chamber to atmospheric pressure, the bonded substrates were taken out, irradiated with ultraviolet rays, and further heated at 120 ° C. for 1 hour in a heating furnace to cure the sealing material 50. Thereafter, the substrate was cut to complete a liquid crystal display panel.

完成したパネルにおいては、液晶漏れは発生せず、また図3に示したような内部の液晶30がシール材50に入り込む現象も見られなかった。   In the completed panel, liquid crystal leakage did not occur, and the phenomenon that the internal liquid crystal 30 entered the sealing material 50 as shown in FIG.

以上、本願発明の実施形態及び実施例について説明した。   Heretofore, the embodiments and examples of the present invention have been described.

最後に、本願発明に含まれるシール台座層40の形状及び配置についてまとめる。   Finally, the shape and arrangement of the seal pedestal layer 40 included in the present invention will be summarized.

図7〜図14は、シール部の断面図である。それぞれ、2つの基板10、20の貼り合わせ前後の様子(「左の図」は、貼り合わせ前である。「右の図」は、貼り合わせ後である。)を示している。それぞれの図において、シール部の左側は、液晶30が充填され表示領域となるパネルの内部(inside)である。   7 to 14 are sectional views of the seal portion. Each shows a state before and after the bonding of the two substrates 10 and 20 (the “left figure” is before bonding. The “right figure” is after bonding). In each figure, the left side of the seal portion is the inside of the panel filled with the liquid crystal 30 and serving as a display area.

図7(A)に示すように、第1の基板(カラーフィルタ基板)10に、シール台座層40を形成することができる。これは、上記実施形態で説明した態様である。かかる場合、シール台座層40は、カラーフィルタ(着色レジスト層、ブラックマトリックス層)の形成に使用する材料により、カラーフィルタを形成する層の形成とともに、形成することができる。   As shown in FIG. 7A, the seal pedestal layer 40 can be formed on the first substrate (color filter substrate) 10. This is the aspect described in the above embodiment. In such a case, the seal pedestal layer 40 can be formed together with the formation of the layer for forming the color filter by the material used for the formation of the color filter (colored resist layer, black matrix layer).

また、図7(B)に示すように、第2の基板(TFT基板)20に、シール台座層40を形成することもできる。かかる場合、シール台座層40は、TFT(配線膜、絶縁膜、保護膜等)の形成に使用する材料により、TFTを形成する層の形成とともに、形成することができる。   Further, as shown in FIG. 7B, a seal pedestal layer 40 can be formed on the second substrate (TFT substrate) 20. In this case, the seal pedestal layer 40 can be formed together with the formation of the layer for forming the TFT, using the material used for forming the TFT (wiring film, insulating film, protective film, etc.).

また、図7(C)に示すように、第1の基板10及び第2の基板20の両方に、シール台座層40a、40bをそれぞれ形成してもよい。かかる場合、シール台座層40a、40bのそれぞれを厚膜にする必要がなく、製造工程が簡略化できる。   Further, as shown in FIG. 7C, seal pedestal layers 40a and 40b may be formed on both the first substrate 10 and the second substrate 20, respectively. In this case, it is not necessary to make each of the seal pedestal layers 40a and 40b thick, and the manufacturing process can be simplified.

また、図8(A)に示すように、シール台座層40は、内側と外側に2つの土手40mと40nを備え、その間に、溝40hを形成していてもよい。土手40m及び40nは、表示領域を囲うような閉ループを描いている。溝40hに、ギャップ材52を含むシール材50が塗布される。これは、上述の図5に対応する。かかる場合、シールギャップnを極めて狭めることができ、液晶30に接触するシール材50の面積を少なくでき、シール材50の汚染を抑制できる。   Further, as shown in FIG. 8A, the seal pedestal layer 40 may include two banks 40m and 40n on the inner side and the outer side, and a groove 40h may be formed between them. The banks 40m and 40n draw a closed loop surrounding the display area. The sealing material 50 including the gap material 52 is applied to the groove 40h. This corresponds to FIG. 5 described above. In such a case, the seal gap n can be extremely narrowed, the area of the sealing material 50 in contact with the liquid crystal 30 can be reduced, and contamination of the sealing material 50 can be suppressed.

また、図8(B)に示すように、シール台座層40は、内側の土手40mのみを備えていてもよい。かかる場合でも、シールギャップnを極めて狭めることができ、液晶30に接触するシール材50の面積を少なくでき、シール材50の汚染を抑制できる。   Further, as shown in FIG. 8B, the seal pedestal layer 40 may include only the inner bank 40m. Even in such a case, the seal gap n can be extremely narrowed, the area of the sealing material 50 in contact with the liquid crystal 30 can be reduced, and contamination of the sealing material 50 can be suppressed.

また、必要に応じて、図8(C)に示すように、シール台座層40は、外側の土手40nのみを備えていてもよい。   Moreover, as shown in FIG.8 (C), the seal base layer 40 may be provided with only the outer bank 40n as needed.

また、図9(A)に示すように、第1の基板10に、土手40m及び土手40nを形成し、その間に溝40hを形成してもよい。そして、第2の基板20には、土手40m、溝40h、及び土手40nを覆うように、一連のシール台座層40aを形成する。土手40m及び40nは、表示領域を囲うような閉ループを描いている。溝40hに、ギャップ材52を含むシール材50が塗布される。こうすれば、それぞれの層を厚膜とする必要がない。また、シールギャップnを極めて狭めることができ、液晶30に接触するシール材50の面積を少なくでき、シール材50の汚染を抑制できる。   Further, as shown in FIG. 9A, a bank 40m and a bank 40n may be formed on the first substrate 10, and a groove 40h may be formed therebetween. A series of seal pedestal layers 40a are formed on the second substrate 20 so as to cover the banks 40m, the grooves 40h, and the banks 40n. The banks 40m and 40n draw a closed loop surrounding the display area. The sealing material 50 including the gap material 52 is applied to the groove 40h. In this way, it is not necessary to make each layer thick. Further, the seal gap n can be extremely narrowed, the area of the sealing material 50 in contact with the liquid crystal 30 can be reduced, and contamination of the sealing material 50 can be suppressed.

また、図9(B)に示すように、上記図9(A)における土手40nを設けない態様も、実施可能である。かかる場合でも、シールギャップnを極めて狭めることができ、液晶30に接触するシール材50の面積を少なくでき、シール材50の汚染を抑制できる。   Further, as shown in FIG. 9B, a mode in which the bank 40n in FIG. 9A is not provided can be implemented. Even in such a case, the seal gap n can be extremely narrowed, the area of the sealing material 50 in contact with the liquid crystal 30 can be reduced, and contamination of the sealing material 50 can be suppressed.

また、必要に応じて、図9(C)に示すように、上記図9(A)における土手40mを設けない態様も、実施可能である。   Moreover, as shown in FIG.9 (C), the aspect which does not provide the bank 40m in the said FIG. 9 (A) is also implementable as needed.

また、図10(A)及び図10(B)に示すように、上記図8Aにおける土手40m及び土手40nの幅を非対称にしてもよい。また、図10(C)及び図10(D)に示すように、図9(A)における土手40m及び40nの幅を非対称にしてもよい。例えば、内側の土手40mの幅を外側の土手40nの幅より太くする。または、内側の土手40mの幅を外側の土手40nの幅より狭くする。いずれにするかは、設計思想に基づいて適宜選択すればよい。   Further, as shown in FIGS. 10A and 10B, the widths of the banks 40m and 40n in FIG. 8A may be asymmetric. Further, as shown in FIGS. 10C and 10D, the widths of the banks 40m and 40n in FIG. 9A may be asymmetric. For example, the width of the inner bank 40m is made larger than the width of the outer bank 40n. Alternatively, the width of the inner bank 40m is made smaller than the width of the outer bank 40n. Which one should be selected may be appropriately selected based on the design concept.

また、土手40m、40nの幅は一定でなくてもよい。土手40m、40nが形成されている基板(第1の基板10又は第2の基板20)からの距離に応じてその幅が変化するように形成してもよい。図11〜図14は、かかる場合の例を示す。   Further, the widths of the banks 40m and 40n may not be constant. You may form so that the width | variety may change according to the distance from the board | substrate (the 1st board | substrate 10 or the 2nd board | substrate 20) in which the banks 40m and 40n are formed. 11 to 14 show examples of such a case.

図11(A)、図11(B)、図11(C)、及び図11(D)は、それぞれ上記の図8(A)、図8(B)、図8(C)、及び図9(A)に対応する。土手40m、40nの、シール材50を塗布する位置から遠い面(土手40mの場合、表示領域側の面。土手40nの場合、表示領域側の逆側の面。)は、基板におよそ垂直である。一方、シール材50を塗布する位置に近い面(土手40mの場合、表示領域側の逆側の面。土手40nの場合、表示領域側の面。)は、階段状または斜面となっている。すなわち、土手40m、40nは、その幅が第1の基板10から遠くなるほど狭くなるように形成されている。図11(A)では、溝40hは、深い部分ほど、その幅が狭くなる。   11 (A), FIG. 11 (B), FIG. 11 (C), and FIG. 11 (D) are the above-mentioned FIG. 8 (A), FIG. 8 (B), FIG. 8 (C), and FIG. Corresponds to (A). The surfaces of the banks 40m and 40n far from the position where the sealing material 50 is applied (in the case of the bank 40m, the surface on the display area side. In the case of the bank 40n, the surface on the opposite side of the display area side) is approximately perpendicular to the substrate. is there. On the other hand, the surface close to the position where the sealing material 50 is applied (in the case of the bank 40m, the surface on the opposite side to the display region side. In the case of the bank 40n, the surface on the display region side) is stepped or inclined. That is, the banks 40 m and 40 n are formed so that the width thereof becomes narrower as the distance from the first substrate 10 increases. In FIG. 11A, the groove 40h becomes narrower as the depth increases.

図12(A)、図12(B)、図12(C)、及び図12(D)は、それぞれ上記の図8(A)、図8(B)、図8(C)、及び図9(A)に対応する。土手40m、40nの、シール材50を塗布する位置から近い面(土手40mの場合、表示領域側の逆側の面。土手40nの場合、表示領域側の面。)は、基板におよそ垂直である。一方、シール材50を塗布する位置に遠い面(土手40mの場合、表示領域側の面。土手40nの場合、表示領域側の逆側の面。)は、階段状または斜面となっている。   FIGS. 12A, 12B, 12C, and 12D are respectively the same as FIGS. 8A, 8B, 8C, and 9 described above. Corresponds to (A). The surfaces of the banks 40m and 40n close to the position where the sealing material 50 is applied (in the case of the bank 40m, the surface on the opposite side of the display region side. In the case of the bank 40n, the surface on the display region side) is approximately perpendicular to the substrate. is there. On the other hand, the surface far from the position where the sealing material 50 is applied (in the case of the bank 40m, the surface on the display region side. In the case of the bank 40n, the surface on the opposite side of the display region) is stepped or inclined.

図13(A)、図13(B)、及び図13(C)は、それぞれ上記の図8(A)、図8(B)、及び図8(C)に対応する。土手40m、40nは、シール材50を塗布する位置から近い面(土手40mの場合、表示領域側の逆側の面。土手40nの場合、表示領域側の面。)、及びシール材50を塗布する位置に遠い面(土手40mの場合、表示領域側の面。土手40nの場合、表示領域側の逆側の面。)の両方の面において、階段状または斜面となっている。   FIGS. 13A, 13B, and 13C correspond to FIGS. 8A, 8B, and 8C, respectively. The banks 40m and 40n are coated with a surface close to the position where the seal material 50 is applied (in the case of the bank 40m, the surface on the opposite side of the display area. In the case of the bank 40n, the surface on the display area side) and the seal material 50 are applied. On both surfaces of the surface far away from the position (in the case of the bank 40m, the surface on the display area side. In the case of the bank 40n, the surface on the opposite side of the display area side) is stepped or inclined.

図14(A)、図14(B)、及び図14(C)は、それぞれ上記の図9(A)、図9(B)、及び図9(C)に対応する。土手40m、40nは、シール材50を塗布する位置から近い面(土手40mの場合、表示領域側の逆側の面。土手40nの場合、表示領域側の面。)、及びシール材50を塗布する位置に遠い面(土手40mの場合、表示領域側の面。土手40nの場合、表示領域側の逆側の面。)の両方の面において、階段状または斜面となっている。   14A, 14B, and 14C correspond to the above-described FIGS. 9A, 9B, and 9C, respectively. The banks 40m and 40n are coated with a surface close to the position where the seal material 50 is applied (in the case of the bank 40m, the surface on the opposite side of the display area. In the case of the bank 40n, the surface on the display area side) and the seal material 50 are applied. On both surfaces of the surface far away from the position (in the case of the bank 40m, the surface on the display area side. In the case of the bank 40n, the surface on the opposite side of the display area side) is stepped or inclined.

本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device to which an embodiment of the present invention is applied. 液晶表示装置の製造工程を説明する図。4A and 4B illustrate a manufacturing process of a liquid crystal display device. 液晶のシール材への入り込み現象を説明するための図。The figure for demonstrating the penetration phenomenon to the sealing material of a liquid crystal. 本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device to which an embodiment of the present invention is applied. 本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device to which an embodiment of the present invention is applied. 本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device to which an embodiment of the present invention is applied. 図7(A)〜(C)は、本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。7A to 7C are cross-sectional views of a liquid crystal display device to which an embodiment of the present invention is applied. 図8(A)〜(C)は、本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。8A to 8C are cross-sectional views of a liquid crystal display device to which an embodiment of the present invention is applied. 図9(A)〜(C)は、本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。9A to 9C are cross-sectional views of a liquid crystal display device to which an embodiment of the present invention is applied. 図10(A)〜(D)は、本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。10A to 10D are cross-sectional views of a liquid crystal display device to which an embodiment of the present invention is applied. 図11(A)〜(D)は、本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。11A to 11D are cross-sectional views of a liquid crystal display device to which an embodiment of the present invention is applied. 図12(A)〜(D)は、本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。12A to 12D are cross-sectional views of a liquid crystal display device to which an embodiment of the present invention is applied. 図13(A)〜(C)は、本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。13A to 13C are cross-sectional views of a liquid crystal display device to which an embodiment of the present invention is applied. 図14(A)〜(C)は、本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。14A to 14C are cross-sectional views of a liquid crystal display device to which an embodiment of the present invention is applied.

符号の説明Explanation of symbols

10・・・第1の基板(カラーフィルタ基板)
11・・・ブラックマトリックス、12・・・着色レジスト、13・・・オーバコート層

14・・・配向膜
20・・・第2の基板(TFT基板)、21・・・配向膜、
30・・・液晶
40・・・シール材台座層
50・・・シール材
52・・・ギャップ材
10: First substrate (color filter substrate)
11 ... Black matrix, 12 ... Color resist, 13 ... Overcoat layer,
14 ... alignment film 20 ... second substrate (TFT substrate), 21 ... alignment film,
30 ... Liquid crystal 40 ... Sealing material base layer 50 ... Sealing material 52 ... Gap material

Claims (8)

第1の基板と第2の基板とで液晶を挟んでなる液晶表示装置であって、
前記第1の基板と前記第2の基板とは、前記液晶の充填領域を囲うように設けられたシール材により接着されており、
前記第1の基板は、その基板上にカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板であり、
前記第1の基板は、その上に前記シール材を備える台座層を有し、
前記シール材には、ギャップ材が含まれており、
前記台座層はその上に、溝と、当該溝よりも表示領域側に設けられた内側土手と、を有するとともに、前記シール材は、前記溝の内部及び前記内側土手の上に設けられており、前記ギャップ材は、前記溝の内部に設けられており、
前記台座層の厚さは、表示領域に対応する前記カラーフィルタ層の厚さよりも厚く、かつ前記液晶の層の厚さよりも厚く、
前記シール材の層の厚さは、表示領域に相当する部分の液晶の層の厚さ以下であり、
前記カラーフィルタ層より厚い台座層と前記液晶の層よりも薄いシール材とが、前記表示領域の全周にわたって形成されている
ことを特徴とする液晶表示装置。
A liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between a first substrate and a second substrate,
The first substrate and the second substrate are bonded by a sealing material provided so as to surround the liquid crystal filling region,
The first substrate is a color filter substrate having a color filter layer on the substrate;
The first substrate has a pedestal layer provided with the sealing material thereon,
The sealing material includes a gap material,
The pedestal layer thereon, a groove, an inner bank provided in Table display region side than the groove, which has a, the sealing material is provided on the inside and the inner bank of the groove The gap material is provided inside the groove,
The thickness of the pedestal layer is thicker than the thickness of the color filter layer corresponding to the display area and thicker than the thickness of the liquid crystal layer,
The thickness of the sealing material layer is equal to or less than the thickness of the liquid crystal layer corresponding to the display region,
A liquid crystal display device, wherein a pedestal layer thicker than the color filter layer and a sealing material thinner than the liquid crystal layer are formed over the entire periphery of the display region.
請求項1に記載の液晶表示装置であって、
前記台座層は、
前記第1の基板のカラーフィルタ層を形成する層と同様の層で形成されている
ことを特徴とする液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1,
The pedestal layer is
A liquid crystal display device comprising: a layer similar to the layer forming the color filter layer of the first substrate.
請求項1に記載の液晶表示装置であって、
前記台座層は、
前記第1の基板のカラーフィルタ層を形成する層とは別の層で形成されている
ことを特徴とする液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1,
The pedestal layer is
A liquid crystal display device comprising: a layer different from a layer forming the color filter layer of the first substrate.
請求項に記載の液晶表示装置であって、
前記溝の外側の前記台座層上に、外側土手を有し、
前記シール材は、前記外側土手上にも設けられている
ことを特徴とする液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1 ,
On the pedestal layer outside the groove, has an outer bank,
The liquid crystal display device, wherein the sealing material is also provided on the outer bank.
第1の基板と、第2の基板とを備え、前記第1の基板と前記第2の基板とで液晶を挟んでなり、前記第1の基板は、その基板上にカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板である液晶表示装置の製造方法であって、
前記第1の基板上に形成され、溝と、それより内側の内側土手とを有する台座層上に前記液晶の充填領域を囲むように、ギャップ材を含むシール材を塗布するステップと、
前記台座層と前記シール材の内側に液晶を充填するステップと、
前記液晶の充填後に、前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合わせるステップとを有し、
前記シール材は、
前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合わせたときには、前記溝内と前記内側土手上に設けられるとともに、その層の厚さが、前記カラーフィルタ層が設けられた表示領域に相当する部分の液晶の層の厚さ以下になるように形成され、
前記ギャップ材は、前記溝の内部に設けられ、
前記台座層の厚さは、表示領域に対応する前記カラーフィルタ層の厚さよりも厚く、かつ前記液晶の層の厚さよりも厚く、
前記カラーフィルタ層より厚い台座層と前記液晶の層よりも薄いシール材とが、前記表示領域の全周にわたって形成されている
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
A color comprising a first substrate and a second substrate, wherein the first substrate and the second substrate sandwich a liquid crystal, and the first substrate has a color filter layer on the substrate. A method of manufacturing a liquid crystal display device which is a filter substrate,
Applying a sealing material including a gap material on the pedestal layer formed on the first substrate and having a groove and an inner bank on the inner side thereof, so as to surround the liquid crystal filling region;
Filling liquid crystal inside the pedestal layer and the sealing material;
Bonding the first substrate and the second substrate after filling with the liquid crystal,
The sealing material is
When the first substrate and the second substrate are bonded together, the first substrate and the second substrate are provided in the groove and on the inner bank, and the thickness of the layer corresponds to the display region provided with the color filter layer. Formed to be less than the thickness of the liquid crystal layer
The gap material is provided inside the groove,
The thickness of the pedestal layer is thicker than the thickness of the color filter layer corresponding to the display area and thicker than the thickness of the liquid crystal layer,
A manufacturing method of a liquid crystal display device, wherein a pedestal layer thicker than the color filter layer and a sealing material thinner than the liquid crystal layer are formed over the entire periphery of the display region.
請求項に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
前記台座層は、
前記第1の基板のカラーフィルタ層を形成する層と同様の層で形成される
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
It is a manufacturing method of the liquid crystal display device according to claim 5 ,
The pedestal layer is
A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: forming a layer similar to the layer forming the color filter layer of the first substrate.
請求項に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
前記台座層は、
前記第1の基板のカラーフィルタ層を形成する層とは別の層で形成される
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
It is a manufacturing method of the liquid crystal display device according to claim 5 ,
The pedestal layer is
A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a layer different from a layer forming a color filter layer of the first substrate.
請求項に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
前記溝の外側の前記台座層上に、外側土手を有し、
前記シール材は、前記外側土手上にも設けられている
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
It is a manufacturing method of the liquid crystal display device according to claim 5 ,
On the pedestal layer outside the groove, has an outer bank,
The method for manufacturing a liquid crystal display device, wherein the sealing material is also provided on the outer bank.
JP2007231345A 2006-09-07 2007-09-06 Liquid crystal display device and manufacturing method thereof Active JP5317445B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007231345A JP5317445B2 (en) 2006-09-07 2007-09-06 Liquid crystal display device and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006242602 2006-09-07
JP2006242602 2006-09-07
JP2007231345A JP5317445B2 (en) 2006-09-07 2007-09-06 Liquid crystal display device and manufacturing method thereof

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2008090294A JP2008090294A (en) 2008-04-17
JP2008090294A5 JP2008090294A5 (en) 2010-06-03
JP5317445B2 true JP5317445B2 (en) 2013-10-16

Family

ID=39374445

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007231345A Active JP5317445B2 (en) 2006-09-07 2007-09-06 Liquid crystal display device and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5317445B2 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5261300B2 (en) * 2009-07-08 2013-08-14 株式会社ジャパンディスプレイ Liquid crystal display
JP2012073356A (en) * 2010-09-28 2012-04-12 Mitsubishi Electric Corp Liquid crystal display device
JP5942555B2 (en) * 2012-04-11 2016-06-29 三菱電機株式会社 Manufacturing method of liquid crystal display device
JP5492326B2 (en) * 2013-04-26 2014-05-14 株式会社ジャパンディスプレイ Manufacturing method of liquid crystal display device

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07230095A (en) * 1994-02-17 1995-08-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Liquid crystal display panel
JPH07311378A (en) * 1994-05-18 1995-11-28 Toppan Printing Co Ltd Liquid crystal display device
JP2000056317A (en) * 1998-08-11 2000-02-25 Toshiba Corp Liquid crystal display device and production of the same
JP3937304B2 (en) * 2002-01-10 2007-06-27 鹿児島日本電気株式会社 Manufacturing method of liquid crystal display panel
KR20060028536A (en) * 2004-09-24 2006-03-30 삼성전자주식회사 Color filter array panel and liquid crystal display include the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2008090294A (en) 2008-04-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5934797B2 (en) Display panel
US8120743B2 (en) Liquid crystal display device and production method thereof
US10509255B2 (en) Liquid crystal panel comprising a composite polarizing layer having a first polarizing layer and a second polarizing layer that covers a groove formed in a black matrix in a non-display area and liquid crystal display device
JP4850612B2 (en) Liquid crystal display
WO2016061850A1 (en) Manufacturing method for curved liquid crystal panel
KR20020093984A (en) A liquid crystal display device
WO2018166133A1 (en) Display substrate and display panel
JP2001209060A (en) Method of producing liquid crystal display panel
US7929103B2 (en) Display and method of manufacturing display
WO2020087658A1 (en) Display panel and display device
JP2011053308A (en) Display device and method of manufacturing the same
WO2021007951A1 (en) Substrate and liquid crystal display panel
JP2016164617A (en) Method for manufacturing liquid crystal cell, method for manufacturing dimming material, and method for manufacturing glass laminate
JP4335632B2 (en) Manufacturing method of liquid crystal display device
JP5317445B2 (en) Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
WO2018148991A1 (en) Liquid crystal display panel
WO2013183216A1 (en) Display panel and method for manufacturing same
WO2017063394A1 (en) Liquid crystal cell, method for preparing liquid crystal cell, and display panel
JP2016161862A (en) Method for manufacturing liquid crystal cell, method for manufacturing dimming material, and method for manufacturing glass laminate
JP4851651B2 (en) Liquid crystal display element
JPH05323337A (en) Liquid crystal display panel and its production
JP2010224491A (en) Liquid crystal display panel
JP4320339B2 (en) Manufacturing method of liquid crystal panel
JP2001318387A (en) Liquid crystal display panel and its manufacturing method
JP2009128799A (en) Liquid crystal display and method for manufacturing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100303

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100303

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100419

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20110228

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20110228

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111228

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120131

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120330

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20120330

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20120409

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121023

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121218

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130702

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130709

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5317445

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350