JP2019145584A - Optical device inspection method and optical device inspection apparatus - Google Patents

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Abstract

To provide an optical device inspection method and an optical device inspection apparatus capable of suppressing the difficulty of grasping the light emission state of an optical device.SOLUTION: An optical device inspection method is a method in which an electrode of an optical device wafer on which an optical device having a light emitting portion and the electrode is formed is energized through a probe terminal to inspect the light emitting state of the light emitting portion. The optical device inspection method includes a probe card preparation step ST1 of preparing a transparent plate-like probe card including a probe terminal that abuts the electrode of the optical device and a transparent electrode that is a circuit that feeds power to the probe terminal, a holding step ST2 of holding the optical device wafer on a holding table, a power supply step ST3 of supplying power by bringing the probe terminal into contact with the electrode of the optical device wafer held on the holding table, and a determination step ST4 of determining the state of the optical device through the probe card.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、光デバイスの検査方法及び光デバイス検査装置に関する。   The present invention relates to an optical device inspection method and an optical device inspection apparatus.

LED(Light Emitting Diode)チップは、光デバイスウェーハに光デバイスであるLED素子を形成した後、光デバイスウェーハが分割予定ラインに沿ってLED素子毎に分割され、LED素子毎に発光状態が検査される。LEDチップは、LED素子の発光状態の輝度、光量、色が確認された後、チップ化され、パッケージされて、製品として出荷される。前述したLED素子の発光状態の検査は、プローブ端子をLED素子の電極に当接させて発光部を発光させる。なお、特許文献1及び特許文献2は、プローブ端子を電極に接触させる検査装置を示している。   In an LED (Light Emitting Diode) chip, after an LED element, which is an optical device, is formed on an optical device wafer, the optical device wafer is divided for each LED element along a planned division line, and the light emission state is inspected for each LED element. The The LED chip is confirmed as the luminance, light quantity, and color of the light emitting state of the LED element, and is then formed into a chip, packaged, and shipped as a product. In the above-described inspection of the light emitting state of the LED element, the probe terminal is brought into contact with the electrode of the LED element to emit light from the light emitting portion. Note that Patent Literature 1 and Patent Literature 2 show inspection apparatuses that bring a probe terminal into contact with an electrode.

特開平10−163281号公報JP-A-10-163281 特開2003−273175号公報JP 2003-273175 A

前述したLED素子の発光状態の検査時は、微細な電極に正確にプローブ端子を必要最低限の気圧で接触させるという、非常に高度な位置合わせ精度が必要になる。特に、プローブ端子の電極への接触状態をコントロールするのは難しく、プローブ端子の上下動をミクロン単位で制御するため、検査装置は、非常に高価で、セッティングやメンテナンスが難しい装置である。また、検査装置は、LED素子の電極が微細であるために、プローブを電極に接触させると、プローブ端子が発光部の発した光を遮ってしまい、プローブ端子を電極に接触させた状態で発光部の発光状態を把握することが困難であった。   At the time of inspecting the light emitting state of the LED element described above, a very high alignment accuracy is required in which the probe terminal is brought into contact with the fine electrode accurately at the minimum required atmospheric pressure. In particular, it is difficult to control the contact state of the probe terminal with the electrode, and since the vertical movement of the probe terminal is controlled in units of microns, the inspection apparatus is very expensive and difficult to set and maintain. Moreover, since the electrode of the LED element is fine, when the probe is brought into contact with the electrode, the inspection device blocks the light emitted from the light emitting unit, and emits light while the probe terminal is in contact with the electrode. It was difficult to grasp the light emission state of the part.

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、光デバイスの発光状態を把握することの困難さを抑制することができる光デバイスの検査方法及び光デバイス検査装置を提供することである。   The present invention has been made in view of such problems, and an object thereof is to provide an optical device inspection method and an optical device inspection apparatus capable of suppressing difficulty in grasping the light emission state of the optical device. It is to be.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の光デバイスの検査方法は、発光部と電極とを備えた光デバイスが形成された光デバイスウェーハの該電極にプローブ端子を介して通電し、該発光部の発光状態を検査する光デバイスの検査方法あって、該光デバイスの該電極に当接するプローブ端子と、該プローブ端子に給電する回路である透明電極と、を備える透明なプレート状のプローブカードを準備するプローブカード準備ステップと、該光デバイスウェーハを保持テーブルで保持する保持ステップと、該プローブ端子を該保持テーブルに保持された該光デバイスウェーハの該電極に接触させ給電する給電ステップと、該プローブカード越しに該光デバイスの状態を判定する判定ステップと、を備えることを特徴とする。   In order to solve the above-described problems and achieve the object, an optical device inspection method of the present invention includes a probe terminal connected to an electrode of an optical device wafer on which an optical device including a light emitting portion and an electrode is formed. An optical device inspection method for energizing and inspecting the light emission state of the light emitting unit, comprising: a probe terminal that contacts the electrode of the optical device; and a transparent electrode that is a circuit that supplies power to the probe terminal. A probe card preparation step of preparing a plate-like probe card; a holding step of holding the optical device wafer by a holding table; and feeding power by bringing the probe terminals into contact with the electrodes of the optical device wafer held by the holding table And a determination step of determining the state of the optical device through the probe card.

本発明の光デバイス検査装置は、前記光デバイスの検査方法に用いる光デバイス検査装置であって、該光デバイスウェーハを保持面で保持する保持テーブルと、該光デバイスの該電極に当接するプローブ端子と、該プローブ端子に給電する回路である透明電極と、を備える透明なプレート状のプローブカードと、該プローブ端子を該保持面に対面させて該プローブカードを支持するプローブカード支持部と、該プローブカードの該プローブ端子を、該保持テーブルに保持された該光デバイスウェーハの該電極に接離させる接離機構と、該プローブカード越しに該保持テーブルに保持された該光デバイスを撮影するカメラと、該光デバイスを該カメラで撮影した画像情報から、該光デバイスの状態を判定する判定部と、を備えることを特徴とする。   An optical device inspection apparatus according to the present invention is an optical device inspection apparatus used in the optical device inspection method, wherein the optical device wafer is held by a holding surface, and a probe terminal is in contact with the electrode of the optical device. A transparent plate-like probe card comprising: a transparent electrode that is a circuit that feeds power to the probe terminal; a probe card support portion that supports the probe card with the probe terminal facing the holding surface; An approach / separation mechanism for bringing the probe terminal of the probe card into and out of contact with the electrode of the optical device wafer held by the holding table, and a camera for photographing the optical device held by the holding table through the probe card And a determination unit that determines the state of the optical device from image information obtained by photographing the optical device with the camera. .

前記光デバイス検査装置において、該プローブカード支持部は、該保持テーブルの保持面に対面する該プローブカードによって密閉される開口を底面に備え、内部に密閉空間が形成される筐体であって、該筐体の該底面の該開口と対面する上面には透明部を有し、該接離機構は、該密閉空間に気体を供給または排気して該プローブカードの撓み量を制御する給排気制御部を有しても良い。   In the optical device inspection apparatus, the probe card support part is provided with a bottom opening that is sealed by the probe card facing the holding surface of the holding table, and a sealed space is formed inside. A supply / exhaust control for controlling the amount of bending of the probe card by supplying or exhausting gas to / from the sealed space having a transparent part on the top surface of the bottom surface of the housing facing the opening. It may have a part.

前記光デバイス検査装置において、該筐体は、該密閉空間に連通する逆止弁を備えても良い。   In the optical device inspection apparatus, the housing may include a check valve communicating with the sealed space.

前記光デバイス検査装置において、該筐体の該密閉空間の気圧を測定する測定器を備えても良い。   The optical device inspection apparatus may include a measuring instrument that measures the pressure in the sealed space of the housing.

本願発明は、光デバイスの発光状態を把握することの困難さを抑制することができるという効果を奏する。   The present invention has an effect that it is possible to suppress difficulty in grasping the light emission state of the optical device.

図1は、実施形態1に係る光デバイスの検査方法の検査対象の光デバイスを備えた光デバイスウェーハの斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of an optical device wafer including an optical device to be inspected by the optical device inspection method according to the first embodiment. 図2は、図1に示された光デバイスウェーハの光デバイスの斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of the optical device of the optical device wafer shown in FIG. 図3は、実施形態1に係る光デバイス検査装置の構成例を一部断面で示す側面図である。FIG. 3 is a side view illustrating a configuration example of the optical device inspection apparatus according to the first embodiment in a partial cross section. 図4は、実施形態1に係る光デバイスの検査方法の流れを示すフローチャートである。FIG. 4 is a flowchart illustrating the flow of the optical device inspection method according to the first embodiment. 図5は、実施形態1に係る光デバイスの検査方法の保持ステップ後の光デバイス検査装置の要部の断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of the main part of the optical device inspection apparatus after the holding step of the optical device inspection method according to the first embodiment. 図6は、実施形態1に係る光デバイスの検査方法の給電ステップ中の光デバイス検査装置の要部の断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of a main part of the optical device inspection apparatus during the power feeding step of the optical device inspection method according to the first embodiment. 図7は、実施形態2に係る光デバイス検査装置の構成例を一部断面で示す側面図である。FIG. 7 is a side view showing a configuration example of the optical device inspection apparatus according to the second embodiment in a partial cross section. 図8は、実施形態2に係る光デバイス検査装置の筐体の断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view of the housing of the optical device inspection apparatus according to the second embodiment. 図9は、実施形態2に係る光デバイスの検査方法の保持ステップ後の光デバイス検査装置の要部の断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of a main part of the optical device inspection apparatus after the holding step of the optical device inspection method according to the second embodiment. 図10は、実施形態2に係る光デバイスの検査方法の給電ステップ中の光デバイス検査装置の要部の断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of the main part of the optical device inspection apparatus during the power feeding step of the optical device inspection method according to the second embodiment.

本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Embodiments (embodiments) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited by the contents described in the following embodiments. The constituent elements described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the structures described below can be combined as appropriate. Various omissions, substitutions, or changes in the configuration can be made without departing from the scope of the present invention.

〔実施形態1〕
本発明の実施形態1に係る光デバイスの検査方法及び光デバイス検査装置を図面に基づいて説明する。図1は、実施形態1に係る光デバイスの検査方法の検査対象の光デバイスを備えた光デバイスウェーハの斜視図である。図2は、図1に示された光デバイスウェーハの光デバイスの斜視図である。図3は、実施形態1に係る光デバイス検査装置の構成例を一部断面で示す側面図である。図4は、実施形態1に係る光デバイスの検査方法の流れを示すフローチャートである。
Embodiment 1
An optical device inspection method and an optical device inspection apparatus according to Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of an optical device wafer including an optical device to be inspected by the optical device inspection method according to the first embodiment. FIG. 2 is a perspective view of the optical device of the optical device wafer shown in FIG. FIG. 3 is a side view illustrating a configuration example of the optical device inspection apparatus according to the first embodiment in a partial cross section. FIG. 4 is a flowchart illustrating the flow of the optical device inspection method according to the first embodiment.

実施形態1に係る光デバイスの検査方法は、図1に示す光デバイスウェーハ1の光デバイス2を検査する方法である。図1に示す光デバイスウェーハ1は、シリコン、サファイア、ガリウムヒ素又はSiC(炭化ケイ素)などを基板3とする円板状のウェーハである。光デバイスウェーハ1は、図1に示すように、互いに交差する複数の直線状の分割予定ライン4で区画された複数の領域にそれぞれ光デバイス2が形成された表面5を有する。また、実施形態1では、光デバイスウェーハ1は、図1に示すように、表面5の裏側の裏面6に保護部材である保護テープ10が貼着され、保護テープ10の外周に環状フレーム11が貼着された状態で、実施形態1に係る光デバイスの検査方法が実施される。   The optical device inspection method according to the first embodiment is a method of inspecting the optical device 2 of the optical device wafer 1 shown in FIG. An optical device wafer 1 shown in FIG. 1 is a disk-shaped wafer having a substrate 3 made of silicon, sapphire, gallium arsenide, SiC (silicon carbide), or the like. As shown in FIG. 1, the optical device wafer 1 has a surface 5 on which optical devices 2 are formed in a plurality of regions defined by a plurality of linear division planned lines 4 that intersect each other. Moreover, in Embodiment 1, as shown in FIG. 1, the optical device wafer 1 has a protective tape 10 as a protective member attached to the back surface 6 on the back side of the front surface 5, and an annular frame 11 on the outer periphery of the protective tape 10. The inspection method for the optical device according to the first embodiment is performed in the state of being attached.

実施形態1において、光デバイスウェーハ1の光デバイス2は、図2に示すように、一対の電極7と、一対の電極7に電力が印加されると発光する発光部8とを備えた、LED(Light Emitting Diode)素子である。   In Embodiment 1, the optical device 2 of the optical device wafer 1 includes a pair of electrodes 7 and a light emitting unit 8 that emits light when power is applied to the pair of electrodes 7 as shown in FIG. (Light Emitting Diode) element.

実施形態1に係る光デバイス検査装置20は、光デバイスウェーハ1の各光デバイス2の一対の電極7に電力を印加して、発光部8を発光させ、発光部8の発光状態(輝度、光量、色等)に基づいて、各光デバイス2の良否を検査する装置である。実施形態1に係る光デバイス検査装置20は、実施形態1に係る光デバイスの検査方法に用いる装置でもある。光デバイス検査装置20は、図3に示すように、保持テーブル30と、プローブカード40と、プローブカード支持部50と、接離機構60と、カメラ70と、制御ユニット100とを備える。   The optical device inspection apparatus 20 according to Embodiment 1 applies power to the pair of electrodes 7 of each optical device 2 of the optical device wafer 1 to cause the light emitting unit 8 to emit light, and the light emitting state (luminance, light quantity) of the light emitting unit 8. , Color, and the like), and the quality of each optical device 2 is inspected. The optical device inspection apparatus 20 according to the first embodiment is also an apparatus used for the optical device inspection method according to the first embodiment. As shown in FIG. 3, the optical device inspection apparatus 20 includes a holding table 30, a probe card 40, a probe card support unit 50, an approach / separation mechanism 60, a camera 70, and a control unit 100.

保持テーブル30は、光デバイスウェーハ1を保持面31で保持するものである。保持テーブル30は、保持面31を構成する部分がポーラスセラミック等から形成された円盤形状であり、図示しない真空吸引経路を介して図示しない真空吸引源と接続され、保持面31に載置された光デバイスウェーハ1を吸引することで保持する。また、保持テーブル30は、水平方向と平行なX軸方向とY軸方向との双方に移動自在に設けられ、Z軸方向と平行な軸心回りに回転自在に設けられている。なお、X軸方向とY軸方向とは、互いに直交し、Z軸方向は、鉛直方向と平行である。また、実施形態1において、保持テーブル30の周囲には、環状フレーム11をクランプするクランプ部32が設けられている。   The holding table 30 holds the optical device wafer 1 with the holding surface 31. The holding table 30 has a disk shape in which a portion constituting the holding surface 31 is formed of porous ceramic or the like, and is connected to a vacuum suction source (not shown) via a vacuum suction path (not shown) and placed on the holding surface 31. The optical device wafer 1 is held by being sucked. The holding table 30 is provided so as to be movable in both the X-axis direction and the Y-axis direction parallel to the horizontal direction, and is provided so as to be rotatable about an axis parallel to the Z-axis direction. Note that the X-axis direction and the Y-axis direction are orthogonal to each other, and the Z-axis direction is parallel to the vertical direction. In the first embodiment, a clamp portion 32 that clamps the annular frame 11 is provided around the holding table 30.

プローブカード40は、透明なプレート状に形成されたものである。プローブカード40は、透明な材料で構成されかつ保持テーブル30の保持面31に対面する透明板41と、透明板41の保持面31に対面する下面42に設けられたプローブ端子43と、プローブ端子43と電気的に接続した透明電極44とを備えている。   The probe card 40 is formed in a transparent plate shape. The probe card 40 is made of a transparent material and has a transparent plate 41 facing the holding surface 31 of the holding table 30, a probe terminal 43 provided on the lower surface 42 facing the holding surface 31 of the transparent plate 41, and a probe terminal 43 and a transparent electrode 44 electrically connected.

透明板41は、透明な材料として、透明な樹脂又はガラスで構成されている。透明板41は、厚みが一定のプレート状に形成され、下面42が保持面31と平行となる位置に配置されている。   The transparent plate 41 is made of a transparent resin or glass as a transparent material. The transparent plate 41 is formed in a plate shape with a constant thickness, and is disposed at a position where the lower surface 42 is parallel to the holding surface 31.

プローブ端子43は、光デバイス2の電極7に当接可能な端子である。プローブ端子43は、導電性の金属から構成され、透明板41の下面42の中央部に設けられている。実施形態1では、プローブ端子43は、下面42から凸に設けられた球状のバンプであるが、本発明では、下面42から突出した針状のプローブ針でも良い。プローブ端子43は、二つで一組となるように配置され、一組の二つのプローブ端子43が、光デバイス2の一対の電極7に当接可能である。プローブ端子43は、所定数の光デバイス2の一対の電極7に同時に当接可能に複数組が設けられているとともに、所定数の光デバイス2の一対の電極7に同時に当接可能となる相対的に配置されている。実施形態1では、プローブ端子43は、透明板41の下面42に8つ即ち4組設けられ、同時に4つの光デバイス2の一対の電極7に当接可能である。   The probe terminal 43 is a terminal that can contact the electrode 7 of the optical device 2. The probe terminal 43 is made of a conductive metal and is provided at the center of the lower surface 42 of the transparent plate 41. In the first embodiment, the probe terminal 43 is a spherical bump provided so as to protrude from the lower surface 42. However, in the present invention, a needle-like probe needle protruding from the lower surface 42 may be used. The probe terminals 43 are arranged so as to form a pair, and the pair of two probe terminals 43 can contact the pair of electrodes 7 of the optical device 2. A plurality of pairs of probe terminals 43 are provided so as to be capable of simultaneously contacting a pair of electrodes 7 of a predetermined number of optical devices 2 and are relatively capable of simultaneously contacting a pair of electrodes 7 of a predetermined number of optical devices 2. Are arranged. In the first embodiment, eight probe terminals 43 are provided on the lower surface 42 of the transparent plate 41, that is, four sets, and can simultaneously contact the pair of electrodes 7 of the four optical devices 2.

透明電極44は、プローブ端子43に直流電源である電源46の電力を給電する回路である。透明電極44は、プローブ端子43と電源46とを電気的に接続するものであり、各組のプローブ端子43のうちの一方のプローブ端子43を介して一方の電極7に給電する。実施形態1では、透明電極44は、透明板41の上面45と下面42とのうちの少なくとも一方に設けられ、透明板41内に埋設される、又は表面に形成され更にその表面が樹脂等により覆われカバーされている。透明電極44は、FPD(Flat Panel Display:フラットパネルディスプレイ)に用いられる、酸化インジウムスズ、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化チタン、及びグラフェン(Graphene)のうち少なくとも一つにより構成されている。   The transparent electrode 44 is a circuit that supplies power to the probe terminal 43 from a power source 46 that is a DC power source. The transparent electrode 44 electrically connects the probe terminal 43 and the power supply 46, and supplies power to one electrode 7 through one probe terminal 43 of each pair of probe terminals 43. In the first embodiment, the transparent electrode 44 is provided on at least one of the upper surface 45 and the lower surface 42 of the transparent plate 41, embedded in the transparent plate 41, or formed on the surface, and the surface thereof is made of resin or the like. Covered and covered. The transparent electrode 44 is composed of at least one of indium tin oxide, zinc oxide, tin oxide, titanium oxide, and graphene used for FPD (Flat Panel Display).

プローブカード支持部50は、プローブ端子43を保持面31に対向させてプローブカード40を支持するものである。実施形態1において、プローブカード支持部50は、プローブカード40の端を弾性部材51を介して支持している。弾性部材51は、ゴム等の弾性変形自在な合成樹脂から構成されている。弾性部材51は、プローブカード40の端とプローブカード支持部50との間に配置されて、弾性変形することで、プローブカード40の端とプローブカード支持部50との相対的な位置を変更可能である。   The probe card support unit 50 supports the probe card 40 with the probe terminal 43 facing the holding surface 31. In the first embodiment, the probe card support unit 50 supports the end of the probe card 40 via the elastic member 51. The elastic member 51 is made of an elastically deformable synthetic resin such as rubber. The elastic member 51 is disposed between the end of the probe card 40 and the probe card support 50, and can change the relative position between the end of the probe card 40 and the probe card support 50 by elastic deformation. It is.

接離機構60は、プローブカード40のプローブ端子43を保持テーブル30に保持された光デバイスウェーハ1の光デバイス2の電極7に接離させるものである。実施形態1において、接離機構60は、プローブカード支持部50をZ軸方向に移動させる駆動ユニット61を備える。駆動ユニット61は、プローブカード支持部50をZ軸方向に移動させることにより、プローブカード40をZ軸方向に移動させて、プローブ端子43を電極7に当接させるとともに電極7から離す。実施形態1では、駆動ユニット61は、図示しないモータと、ボールねじと、ガイドレールとを備えて構成されているが、本発明では、エアシリンダ等を備えて構成されても良い。   The contact / separation mechanism 60 makes the probe terminal 43 of the probe card 40 contact and separate from the electrode 7 of the optical device 2 of the optical device wafer 1 held by the holding table 30. In the first embodiment, the contact / separation mechanism 60 includes a drive unit 61 that moves the probe card support 50 in the Z-axis direction. The drive unit 61 moves the probe card support 50 in the Z-axis direction, thereby moving the probe card 40 in the Z-axis direction to bring the probe terminal 43 into contact with the electrode 7 and away from the electrode 7. In the first embodiment, the drive unit 61 includes a motor (not shown), a ball screw, and a guide rail. However, in the present invention, the drive unit 61 may include an air cylinder or the like.

カメラ70は、プローブカード40越しに保持テーブル30に保持された光デバイス2を撮影するものである。カメラ70は、プローブカード40の上方に配置されている。実施形態1では、カメラ70は、プローブカード40のプローブ端子43が設けられた中央部の上方に配置されている。カメラ70は、保持テーブル30に保持された光デバイスウェーハ1を撮影して、光デバイスウェーハ1とプローブカード40との位置合わせを行なうアライメントを遂行するため等の画像を得、得た画像を制御ユニット100に出力する。   The camera 70 photographs the optical device 2 held on the holding table 30 through the probe card 40. The camera 70 is disposed above the probe card 40. In the first embodiment, the camera 70 is disposed above the center portion where the probe terminal 43 of the probe card 40 is provided. The camera 70 takes an image of the optical device wafer 1 held on the holding table 30, obtains an image for performing alignment for positioning the optical device wafer 1 and the probe card 40, and controls the obtained image. Output to unit 100.

また、カメラ70は、光デバイス2の検査を行う際に、保持テーブル30に保持された光デバイスウェーハ1の電極7にプローブ端子43が当接されて給電された光デバイス2を撮影して、撮像して得た画像を制御ユニット100に出力する。カメラ70は、光デバイスウェーハ1の光デバイス2を撮影する撮像素子を備えている。撮像素子は、例えば、CCD(Charge-Coupled Device)撮像素子又はCMOS(Complementary MOS)撮像素子である。   Further, when inspecting the optical device 2, the camera 70 takes an image of the optical device 2 that is fed with the probe terminal 43 in contact with the electrode 7 of the optical device wafer 1 held on the holding table 30. An image obtained by imaging is output to the control unit 100. The camera 70 includes an image sensor that photographs the optical device 2 of the optical device wafer 1. The image sensor is, for example, a CCD (Charge-Coupled Device) image sensor or a CMOS (Complementary MOS) image sensor.

制御ユニット100は、光デバイス検査装置20の上述した構成要素をそれぞれ制御して、光デバイス2に対する検査動作を光デバイス検査装置20に実施させるコンピュータである。制御ユニット100は、画像などを表示する液晶表示装置などにより構成される図示しない表示ユニットと、オペレータが検査内容情報などを登録する際に用いる図示しない入力ユニットとに接続されている。入力ユニットは、表示ユニットに設けられたタッチパネルと、キーボード等の外部入力装置とのうち少なくとも一つにより構成される。   The control unit 100 is a computer that controls the above-described components of the optical device inspection apparatus 20 to cause the optical device inspection apparatus 20 to perform an inspection operation on the optical device 2. The control unit 100 is connected to a display unit (not shown) configured by a liquid crystal display device that displays an image and the like, and an input unit (not shown) used when an operator registers inspection content information and the like. The input unit includes at least one of a touch panel provided on the display unit and an external input device such as a keyboard.

また、制御ユニット100は、光デバイス2をカメラ70で撮影した画像情報から光デバイス2の状態を判定する判定部101を備える。判定部101は、プローブ端子43を電極7に当接させて、カメラ70が電極7に給電させた光デバイス2を撮影して得た画像の電極7に給電された光デバイス2の発光部8が発した光の輝度、光量、色に基づいて、電極7に給電された複数の光デバイス2の良否を判定する。具体的には、実施形態1では、制御ユニット100の判定部101は、電極7に給電された複数の光デバイス2が良品である基準画像とカメラ70が検査対象の複数の光デバイス2を撮像して得た画像の同一位置の輝度、光量、色を対比して、基準画像とカメラ70が検査対象の複数の光デバイス2を撮像して得た画像との同一位置の輝度、光量、色それぞれの差を算出する。制御ユニット100の判定部101は、輝度の差、光量、色の差の少なくとも一つが所定値を超える位置に配置された光デバイス2を不良品であると判定し、輝度の差、光量、色の差の全てが所定値以下の位置に配置された光デバイス2を良品であると判定する。なお、本発明は、判定部101の光デバイス2の良否の判定方法は、実施形態1に記載された方法に限定されない。   The control unit 100 also includes a determination unit 101 that determines the state of the optical device 2 from image information obtained by capturing the optical device 2 with the camera 70. The determination unit 101 brings the probe terminal 43 into contact with the electrode 7 and the light emitting unit 8 of the optical device 2 fed to the electrode 7 of the image obtained by photographing the optical device 2 fed by the camera 70 to the electrode 7. The quality of the plurality of optical devices 2 fed to the electrode 7 is determined based on the luminance, light quantity, and color of the light emitted from the. Specifically, in the first embodiment, the determination unit 101 of the control unit 100 captures a reference image in which a plurality of optical devices 2 fed to the electrode 7 are non-defective products and a plurality of optical devices 2 to be inspected by the camera 70. The luminance, light quantity, and color at the same position of the reference image and the image obtained by the camera 70 imaging the plurality of optical devices 2 to be inspected are compared by comparing the luminance, light quantity, and color at the same position of the obtained image. Each difference is calculated. The determination unit 101 of the control unit 100 determines that the optical device 2 disposed at a position where at least one of the luminance difference, the light amount, and the color difference exceeds a predetermined value is a defective product, and determines the luminance difference, the light amount, and the color. It is determined that the optical device 2 arranged at a position where all the differences are less than or equal to a predetermined value is a non-defective product. In the present invention, the determination method of the optical device 2 in the determination unit 101 is not limited to the method described in the first embodiment.

光デバイス検査方法は、光デバイスウェーハ1の電極7にプローブ端子43を介して通電し、発光部8の発光状態を検査する方法である。光デバイス検査方法は、図4に示すように、プローブカード準備ステップST1と、保持ステップST2と、給電ステップST3と、判定ステップST4とを備える。   The optical device inspection method is a method in which the electrode 7 of the optical device wafer 1 is energized through the probe terminal 43 to inspect the light emission state of the light emitting unit 8. As shown in FIG. 4, the optical device inspection method includes a probe card preparation step ST1, a holding step ST2, a power feeding step ST3, and a determination step ST4.

(プローブカード準備ステップ)
プローブカード準備ステップST1は、前述した構成のプローブカード40を準備するステップである。実施形態1において、プローブカード準備ステップST1は、オペレータが検査内容情報を制御ユニット100に登録することにより、光デバイス検査装置20の検査動作の準備を行うことにより遂行される。検査内容情報として、各光デバイス2の電極7の位置を示す情報等が登録される。実施形態1では、制御ユニット100は、各光デバイス2の電極7の位置を光デバイスウェーハ1の予め定められた基準位置からの距離等で定めている。光デバイスの検査方法は、保持ステップST2に進む。
(Probe card preparation step)
The probe card preparation step ST1 is a step of preparing the probe card 40 having the above-described configuration. In the first embodiment, the probe card preparation step ST1 is performed by the operator registering the inspection content information in the control unit 100 to prepare for the inspection operation of the optical device inspection apparatus 20. Information indicating the position of the electrode 7 of each optical device 2 is registered as the inspection content information. In the first embodiment, the control unit 100 determines the position of the electrode 7 of each optical device 2 by the distance from the predetermined reference position of the optical device wafer 1 or the like. The optical device inspection method proceeds to holding step ST2.

(保持ステップ)
図5は、実施形態1に係る光デバイスの検査方法の保持ステップ後の光デバイス検査装置の要部の断面図である。保持ステップST2は、光デバイスウェーハ1を保持テーブル30で保持するステップである。
(Holding step)
FIG. 5 is a cross-sectional view of the main part of the optical device inspection apparatus after the holding step of the optical device inspection method according to the first embodiment. The holding step ST2 is a step of holding the optical device wafer 1 by the holding table 30.

実施形態1において、保持ステップST2では、オペレータが保護テープ10を介して光デバイスウェーハ1を保持テーブル30の保持面31に載置する。その後、保持ステップST2では、制御ユニット100がオペレータからの検査動作の開始指示を受け付けると、光デバイスウェーハ1を保持面31に吸引保持し、クランプ部32に環状フレーム11をクランプさせる。保持ステップST2では、制御ユニット100が光デバイス検査装置20の保持テーブル30をカメラ70の下方に向かって移動させて、カメラ70に光デバイスウェーハ1を撮影させて、カメラ70が撮影して得た画像に基づいて、アライメントを遂行して、プローブカード40のプローブ端子43を光デバイス2の電極7にZ軸方向に沿って対面させる。保持ステップST2では、制御ユニット100が、図5に示すように、接離機構60の駆動ユニット61にプローブカード40をプローブ端子43が電極7に接触する直前まで下降させる。光デバイスの検査方法は、給電ステップST3に進む。   In the first embodiment, in the holding step ST2, the operator places the optical device wafer 1 on the holding surface 31 of the holding table 30 via the protective tape 10. Thereafter, in the holding step ST2, when the control unit 100 receives an inspection operation start instruction from the operator, the optical device wafer 1 is sucked and held on the holding surface 31, and the annular frame 11 is clamped by the clamp portion 32. In the holding step ST2, the control unit 100 moves the holding table 30 of the optical device inspection apparatus 20 toward the lower side of the camera 70, causes the camera 70 to take an image of the optical device wafer 1, and the camera 70 takes an image. Based on the image, alignment is performed so that the probe terminal 43 of the probe card 40 faces the electrode 7 of the optical device 2 along the Z-axis direction. In the holding step ST2, the control unit 100 lowers the probe card 40 to the drive unit 61 of the contact / separation mechanism 60 until just before the probe terminal 43 contacts the electrode 7, as shown in FIG. The optical device inspection method proceeds to the power supply step ST3.

(給電ステップ)
図6は、実施形態1に係る光デバイスの検査方法の給電ステップ中の光デバイス検査装置の要部の断面図である。給電ステップST3は、プローブ端子43を保持テーブル30に保持された光デバイスウェーハ1の光デバイス2の電極7に接触させ給電するステップである。
(Power supply step)
FIG. 6 is a cross-sectional view of a main part of the optical device inspection apparatus during the power feeding step of the optical device inspection method according to the first embodiment. The power supply step ST3 is a step of supplying power by bringing the probe terminal 43 into contact with the electrode 7 of the optical device 2 of the optical device wafer 1 held on the holding table 30.

実施形態1において、給電ステップST3では、電源46から各プローブ端子43に電力を給電した状態で、接離機構60の駆動ユニット61にプローブカード40を下降させて、図6に示すように、プローブ端子43を光デバイス2の電極7に当接させる。すると、良品の光デバイス2の発光部8は、所定の値を超える輝度、光量、所定の色で発光する。光デバイスの検査方法は、判定ステップST4に進む。   In the first embodiment, in the power supply step ST3, the probe card 40 is lowered to the drive unit 61 of the contact / separation mechanism 60 in a state where power is supplied from the power source 46 to each probe terminal 43, and as shown in FIG. The terminal 43 is brought into contact with the electrode 7 of the optical device 2. Then, the light emitting unit 8 of the non-defective optical device 2 emits light with a luminance, a light amount, and a predetermined color that exceed predetermined values. The optical device inspection method proceeds to determination step ST4.

(判定ステップ)
判定ステップST4は、プローブカード40越しに光デバイス2の状態を判定するステップである。実施形態1において、判定ステップST4では、制御ユニット100は、プローブ端子43が当接した電極7に給電した状態で、カメラ70に撮影させ、カメラ70が撮影して得た画像が入力する。判定ステップST4では、制御ユニット100の判定部101は、カメラ70が撮影して得た画像の電極7に給電された光デバイス2の発光部8が発した光200,201の輝度、光量、色に基づいて、電極7に給電された複数の光デバイス2それぞれの良否を判定する。
(Judgment step)
Determination step ST4 is a step of determining the state of the optical device 2 through the probe card 40. In the first embodiment, in the determination step ST4, the control unit 100 causes the camera 70 to take an image while supplying power to the electrode 7 with which the probe terminal 43 abuts, and an image obtained by the camera 70 is input. In the determination step ST4, the determination unit 101 of the control unit 100 determines the luminance, light amount, and color of the light 200 and 201 emitted from the light emitting unit 8 of the optical device 2 that is fed to the electrode 7 of the image obtained by the camera 70. Based on the above, the quality of each of the plurality of optical devices 2 fed to the electrode 7 is determined.

図6に示す場合では、光デバイス2の発光部8から発せられた実線で示す光200は、基準画像との輝度の差、光量、色の差の全てが所定値以下であり、光デバイス2の発光部8から発せられた点線で示す光201は、基準画像との輝度の差、光量、色の差の少なくとも一つが所定値を超えている。このため、図6に示す場合では、制御ユニット100の判定部101は、電極7に給電された複数の光デバイス2のうち実線で示す光200を発する光デバイス2を良品と判定し、点線で示す光201を発する光デバイス2を不良品と判定する。制御ユニット100は、不良品と判定した光デバイス2の位置を記憶する。   In the case shown in FIG. 6, the light 200 indicated by the solid line emitted from the light emitting unit 8 of the optical device 2 has all of the difference in luminance, light amount, and color from the reference image being less than or equal to a predetermined value. In the light 201 indicated by the dotted line emitted from the light emitting unit 8, at least one of the difference in luminance, the amount of light, and the color from the reference image exceeds a predetermined value. For this reason, in the case shown in FIG. 6, the determination unit 101 of the control unit 100 determines that the optical device 2 that emits the light 200 indicated by the solid line among the plurality of optical devices 2 fed to the electrode 7 is a non-defective product. The optical device 2 that emits the light 201 shown is determined as a defective product. The control unit 100 stores the position of the optical device 2 determined as a defective product.

そして、制御ユニット100は、プローブ端子43の給電を停止し、プローブカード40を上昇させた後、保持テーブル30を水平方向に移動させて、次の検査対象の光デバイス2の電極7にプローブ端子43を対面させる。制御ユニット100は、プローブ端子43に給電しながらプローブカード40を下降させて電極7に当接させて、給電ステップST3と判定ステップST4とを順に実施する。こうして、制御ユニット100は、給電ステップST3と判定ステップST4とを光デバイスウェーハ1の全ての光デバイス2の良否の判定を実施するまで繰り返す。光デバイスの検査方法は、全ての光デバイス2の良否の判定を実施すると、終了する。   Then, the control unit 100 stops the power supply to the probe terminal 43 and raises the probe card 40, and then moves the holding table 30 in the horizontal direction to connect the probe terminal to the electrode 7 of the next optical device 2 to be inspected. 43 faces each other. The control unit 100 lowers the probe card 40 while supplying power to the probe terminal 43 and brings it into contact with the electrode 7 to sequentially perform the power supply step ST3 and the determination step ST4. In this way, the control unit 100 repeats the power feeding step ST3 and the determination step ST4 until the quality determination of all the optical devices 2 on the optical device wafer 1 is performed. The optical device inspection method ends when all the optical devices 2 are judged to be good or bad.

実施形態1に係る光デバイスの検査方法及び光デバイス検査装置20は、プローブカード40が透明であるために、プローブカード40越しにプローブ端子43の電極7への接触状況と発光部8の発光状況を把握することができる。その結果、光デバイスの検査方法及び光デバイス検査装置20は、光デバイス2の発光状態を把握することの困難さを抑制することができる。   In the optical device inspection method and the optical device inspection apparatus 20 according to the first embodiment, since the probe card 40 is transparent, the contact state of the probe terminal 43 to the electrode 7 and the light emission state of the light emitting unit 8 through the probe card 40. Can be grasped. As a result, the optical device inspection method and the optical device inspection apparatus 20 can suppress difficulty in grasping the light emission state of the optical device 2.

また、実施形態1に係る光デバイスの検査方法及び光デバイス検査装置20は、プローブカード40とプローブカード支持部50との間に弾性部材51を設けているので、弾性部材51が弾性変形することにより、プローブ端子43が電極7に押圧される力が過大になることを抑制することができる。   Moreover, since the optical device inspection method and the optical device inspection apparatus 20 according to the first embodiment are provided with the elastic member 51 between the probe card 40 and the probe card support 50, the elastic member 51 is elastically deformed. Thereby, it can suppress that the force by which the probe terminal 43 is pressed by the electrode 7 becomes excessive.

〔実施形態2〕
本発明の実施形態2に係る光デバイスの検査方法及び光デバイス検査装置を図面に基づいて説明する。図7は、実施形態2に係る光デバイス検査装置の構成例を一部断面で示す側面図である。図8は、実施形態2に係る光デバイス検査装置の筐体の断面図である。図9は、実施形態2に係る光デバイスの検査方法の保持ステップ後の光デバイス検査装置の要部の断面図である。図10は、実施形態2に係る光デバイスの検査方法の給電ステップ中の光デバイス検査装置の要部の断面図である。なお、図7、図8.図9及び図10は、実施形態1と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。
[Embodiment 2]
An optical device inspection method and an optical device inspection apparatus according to Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 7 is a side view showing a configuration example of the optical device inspection apparatus according to the second embodiment in a partial cross section. FIG. 8 is a cross-sectional view of the housing of the optical device inspection apparatus according to the second embodiment. FIG. 9 is a cross-sectional view of a main part of the optical device inspection apparatus after the holding step of the optical device inspection method according to the second embodiment. FIG. 10 is a cross-sectional view of the main part of the optical device inspection apparatus during the power feeding step of the optical device inspection method according to the second embodiment. 7 and 8. In FIG. 9 and FIG. 10, the same parts as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted.

実施形態2に係る光デバイス検査装置20−2は、プローブカード支持部50と接離機構60の構成が、実施形態1と異なること以外、実施形態1と同じである。   The optical device inspection apparatus 20-2 according to the second embodiment is the same as the first embodiment except that the configurations of the probe card support unit 50 and the contact / separation mechanism 60 are different from those of the first embodiment.

実施形態2に係る光デバイス検査装置20−2のプローブカード支持部50は、図7及び図8に示すように、筐体52である。筐体52は、図8に示すように、箱状に形成されて、内部に密閉空間53が形成されている。筐体52は、保持テーブル30の保持面31に対面するプローブカード40によって密閉される開口54を底面55に備える。開口54は、底面55の中央に設けられている。また、筐体52は、底面55の開口54と対面する上面56には透明部57を有している。透明部57は、上面56の中央部に設けられている。透明部57は、プローブカード40と同様に透明な材料で構成されている。透明部57の上面には、カメラ70が取り付けられている。なお、筐体52は、透明部57を除いて、ステンレス鋼等の金属などから構成され、筐体52の剛性は、プローブカード40の剛性よりも高い。また、筐体52は、逆止弁58を備える。   The probe card support unit 50 of the optical device inspection apparatus 20-2 according to the second embodiment is a housing 52 as shown in FIGS. As shown in FIG. 8, the casing 52 is formed in a box shape, and a sealed space 53 is formed therein. The housing 52 includes an opening 54 on the bottom surface 55 that is sealed by the probe card 40 that faces the holding surface 31 of the holding table 30. The opening 54 is provided in the center of the bottom surface 55. Further, the housing 52 has a transparent portion 57 on the upper surface 56 facing the opening 54 of the bottom surface 55. The transparent portion 57 is provided at the center of the upper surface 56. The transparent part 57 is made of a transparent material, like the probe card 40. A camera 70 is attached to the upper surface of the transparent portion 57. The casing 52 is made of metal such as stainless steel except for the transparent portion 57, and the rigidity of the casing 52 is higher than the rigidity of the probe card 40. The casing 52 includes a check valve 58.

逆止弁58は、密閉空間53と筐体52の外部とに連通している。逆止弁58は、密閉空間53内の気圧が所定の気圧を上回ると、開いて、筐体52内の気体を筐体52の外部に排気する。逆止弁58は、密閉空間53内に気体が供給されても、密閉空間53内の気圧が所定の気圧を上回ってプローブカード40が破損することを抑制する。   The check valve 58 communicates with the sealed space 53 and the outside of the housing 52. When the atmospheric pressure in the sealed space 53 exceeds a predetermined atmospheric pressure, the check valve 58 opens and exhausts the gas in the housing 52 to the outside of the housing 52. The check valve 58 prevents the probe card 40 from being damaged because the air pressure in the sealed space 53 exceeds a predetermined pressure even if gas is supplied into the sealed space 53.

接離機構60は、駆動ユニット61に加えて、給排気制御部62を備える。給排気制御部62は、筐体52内の密閉空間53に気体を供給または密閉空間53内の気体を排気して、プローブカード40の撓み量を制御して、プローブ端子43を電極7に接離させる。給排気制御部62は、気体供給部63と、気体排気部64とを備える。   The contact / separation mechanism 60 includes a supply / exhaust control unit 62 in addition to the drive unit 61. The air supply / exhaust control unit 62 supplies gas to the sealed space 53 in the casing 52 or exhausts gas in the sealed space 53 to control the amount of bending of the probe card 40 so that the probe terminal 43 contacts the electrode 7. Let go. The air supply / exhaust control unit 62 includes a gas supply unit 63 and a gas exhaust unit 64.

気体供給部63は、筐体52の密閉空間53内に気体を供給するものであり、気体供給源631と、配管632と、開閉弁633とを備える。気体供給源631は、密閉空間53と配管632を介して接続している。開閉弁633は、配管632に設けられている。   The gas supply unit 63 supplies gas into the sealed space 53 of the housing 52, and includes a gas supply source 631, a pipe 632, and an on-off valve 633. The gas supply source 631 is connected to the sealed space 53 via a pipe 632. The on-off valve 633 is provided in the pipe 632.

気体排気部64は、筐体52の密閉空間53内の気体を筐体52の外部に排気するものであり、配管641と、開閉弁642とを備える。配管641は、密閉空間53と筐体52の外部とを接続している。開閉弁642は、配管641に設けられている。   The gas exhaust unit 64 exhausts the gas in the sealed space 53 of the housing 52 to the outside of the housing 52, and includes a pipe 641 and an opening / closing valve 642. The pipe 641 connects the sealed space 53 and the outside of the housing 52. The on-off valve 642 is provided in the pipe 641.

また、実施形態2に係る光デバイス検査装置20−2は、測定器80を備える。測定器80は、筐体52の密閉空間53内の気圧を測定し、測定結果を制御ユニット100に出力する。   The optical device inspection apparatus 20-2 according to the second embodiment includes a measuring device 80. The measuring device 80 measures the atmospheric pressure in the sealed space 53 of the housing 52 and outputs the measurement result to the control unit 100.

実施形態2に係る光デバイスの検査方法は、プローブカード準備ステップST1が実施形態1と同じである。実施形態2に係る光デバイスの検査方法の保持ステップST2では、実施形態1と同様に、制御ユニット100が光デバイスウェーハ1を保持面31に吸引保持し、クランプ部32に環状フレーム11をクランプさせ、アライメントを遂行して、プローブカード40のプローブ端子43を光デバイス2の電極7にZ軸方向に沿って対面させる。保持ステップST2では、制御ユニット100が、図9に示すように、開閉弁633を閉じ、開閉弁642を開いて、密閉空間53内の気圧を筐体52の外部の気圧と等しくして、接離機構60の駆動ユニット61にプローブカード40をプローブ端子43が電極7に接触する直前まで下降させる。光デバイスの検査方法は、給電ステップST3に進む。   In the optical device inspection method according to the second embodiment, the probe card preparation step ST1 is the same as that in the first embodiment. In the holding step ST2 of the optical device inspection method according to the second embodiment, as in the first embodiment, the control unit 100 sucks and holds the optical device wafer 1 on the holding surface 31 and causes the clamp portion 32 to clamp the annular frame 11. , Alignment is performed so that the probe terminal 43 of the probe card 40 faces the electrode 7 of the optical device 2 along the Z-axis direction. In the holding step ST2, as shown in FIG. 9, the control unit 100 closes the on-off valve 633, opens the on-off valve 642, makes the air pressure in the sealed space 53 equal to the air pressure outside the housing 52, and contacts the control unit 100. The probe card 40 is lowered to the drive unit 61 of the separation mechanism 60 until just before the probe terminal 43 contacts the electrode 7. The optical device inspection method proceeds to the power supply step ST3.

実施形態2に係る光デバイスの検査方法の給電ステップST3では、電源46から各プローブ端子43に電力を給電した状態で、制御ユニット100は、開閉弁642を閉じ、開閉弁633を開いて、測定器80の測定結果に基づいて、密閉空間53の気圧が所定の気圧となるように制御する。実施形態2に係る光デバイスの検査方法の給電ステップST3では、密閉空間53の気圧が所定の気圧になると、筐体52の剛性がプローブカード40の剛性よりも高いために、中央部が光デバイスウェーハ1に近付く方向にプローブカード40が撓んで、図10に示すように、プローブ端子43が電極7に当接し、良品の光デバイス2の発光部8が、所定の値を超える輝度、光量、所定の色で発光する。実施形態2に係る光デバイスの検査方法及び光デバイス検査装置20は、筐体52内の密閉空間53内の気圧を制御することで、プローブ端子43を電極7に接離する。光デバイスの検査方法は、判定ステップST4に進む。実施形態2に係る光デバイスの検査方法は、判定ステップST4が実施形態1と同じである。   In the power supply step ST3 of the optical device inspection method according to the second embodiment, the control unit 100 closes the open / close valve 642 and opens the open / close valve 633 in a state where electric power is supplied from the power source 46 to each probe terminal 43. Based on the measurement result of the vessel 80, the air pressure in the sealed space 53 is controlled to be a predetermined pressure. In the power supply step ST3 of the optical device inspection method according to the second embodiment, when the air pressure in the sealed space 53 becomes a predetermined air pressure, the rigidity of the housing 52 is higher than the rigidity of the probe card 40. The probe card 40 bends in the direction approaching the wafer 1, and as shown in FIG. 10, the probe terminal 43 comes into contact with the electrode 7, and the light emitting unit 8 of the non-defective optical device 2 has a luminance, light amount, Emits light in a predetermined color. The optical device inspection method and the optical device inspection apparatus 20 according to the second embodiment control the atmospheric pressure in the sealed space 53 in the housing 52 to bring the probe terminal 43 into and out of contact with the electrode 7. The optical device inspection method proceeds to determination step ST4. In the optical device inspection method according to the second embodiment, the determination step ST4 is the same as that of the first embodiment.

実施形態2に係る光デバイスの検査方法及び光デバイス検査装置20−2は、プローブカード40が透明であるために、プローブカード40越しにプローブ端子43の電極7への接触状況と発光部8の発光状況を把握できるので、光デバイス2の発光状態を把握することの困難さを抑制することができる。   In the optical device inspection method and the optical device inspection apparatus 20-2 according to the second embodiment, since the probe card 40 is transparent, the contact state of the probe terminal 43 with the electrode 7 through the probe card 40 and the light emitting unit 8 Since the light emission state can be grasped, the difficulty of grasping the light emission state of the optical device 2 can be suppressed.

また、実施形態2に係る光デバイスの検査方法及び光デバイス検査装置20−2は、筐体52内の密閉空間53内の気圧を制御することで、プローブ端子43を電極7に接離するため、精密なメカ構造を不要とし、シンプルな装置構成の光デバイス検査装置20−2を実現できるという効果を奏する。   In addition, the optical device inspection method and the optical device inspection apparatus 20-2 according to the second embodiment control the atmospheric pressure in the sealed space 53 in the housing 52 so that the probe terminal 43 contacts and separates from the electrode 7. Thus, there is an effect that an optical device inspection apparatus 20-2 having a simple apparatus configuration can be realized without requiring a precise mechanical structure.

前述した実施形態1及び実施形態2に係る光デバイス検査装置20,20−2の制御ユニット100は、CPU(central processing unit)のようなマイクロプロセッサを有する演算処理装置と、ROM(read only memory)又はRAM(random access memory)のようなメモリを有する記憶装置と、入出力インターフェース装置とを有する。制御ユニット100の演算処理装置は、記憶装置に記憶されているコンピュータプログラムに従って演算処理を実施して、光デバイス検査装置20,20−2を制御するための制御信号を、入出力インターフェース装置を介して光デバイス検査装置20,20−2の上述した構成要素に出力する。また、判定部101の機能は、演算処理装置が記憶装置に記憶されているコンピュータプログラムを実行することにより実現される。   The control unit 100 of the optical device inspection apparatuses 20 and 20-2 according to the first and second embodiments described above includes an arithmetic processing unit having a microprocessor such as a CPU (central processing unit) and a ROM (read only memory). Alternatively, a storage device having a memory such as a random access memory (RAM) and an input / output interface device are included. The arithmetic processing unit of the control unit 100 performs arithmetic processing according to a computer program stored in the storage device, and sends control signals for controlling the optical device inspection devices 20 and 20-2 via the input / output interface unit. Output to the above-described components of the optical device inspection apparatuses 20 and 20-2. Moreover, the function of the determination part 101 is implement | achieved when an arithmetic processing unit runs the computer program memorize | stored in the memory | storage device.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。   The present invention is not limited to the above embodiment. That is, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

1 光デバイスウェーハ
2 光デバイス
7 電極
8 発光部
20,20−2 光デバイス検査装置
30 保持テーブル
31 保持面
40 プローブカード
43 プローブ端子
44 透明電極
50 プローブカード支持部
52 筐体
53 密閉空間
54 開口
55 底面
56 上面
57 透明部
58 逆止弁
60 接離機構
62 給排気制御部
70 カメラ
80 測定器
101 判定部
ST1 プローブカード準備ステップ
ST2 保持ステップ
ST3 給電ステップ
ST4 判定ステップ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical device wafer 2 Optical device 7 Electrode 8 Light emission part 20, 20-2 Optical device inspection apparatus 30 Holding table 31 Holding surface 40 Probe card 43 Probe terminal 44 Transparent electrode 50 Probe card support part 52 Case 53 Sealed space 54 Opening 55 Bottom face 56 Top face 57 Transparent part 58 Check valve 60 Contact / separation mechanism 62 Supply / exhaust control part 70 Camera 80 Measuring instrument 101 Judgment part ST1 Probe card preparation step ST2 Holding step ST3 Power feeding step ST4 Judgment step

Claims (5)

発光部と電極とを備えた光デバイスが形成された光デバイスウェーハの該電極にプローブ端子を介して通電し、該発光部の発光状態を検査する光デバイスの検査方法あって、
該光デバイスの該電極に当接するプローブ端子と、該プローブ端子に給電する回路である透明電極と、を備える透明なプレート状のプローブカードを準備するプローブカード準備ステップと、
該光デバイスウェーハを保持テーブルで保持する保持ステップと、
該プローブ端子を該保持テーブルに保持された該光デバイスウェーハの該電極に接触させ給電する給電ステップと、
該プローブカード越しに該光デバイスの状態を判定する判定ステップと、を備える光デバイスの検査方法。
There is an inspection method of an optical device for energizing the electrode of an optical device wafer on which an optical device including a light emitting unit and an electrode is formed through a probe terminal, and inspecting a light emission state of the light emitting unit,
A probe card preparation step of preparing a transparent plate-like probe card comprising: a probe terminal that contacts the electrode of the optical device; and a transparent electrode that is a circuit that supplies power to the probe terminal;
Holding step for holding the optical device wafer on a holding table;
A power feeding step of feeding power by bringing the probe terminal into contact with the electrode of the optical device wafer held by the holding table;
And a determination step of determining the state of the optical device through the probe card.
請求項1に記載の光デバイスの検査方法に用いる光デバイス検査装置であって、
該光デバイスウェーハを保持面で保持する保持テーブルと、
該光デバイスの該電極に当接するプローブ端子と、該プローブ端子に給電する回路である透明電極と、を備える透明なプレート状のプローブカードと、
該プローブ端子を該保持面に対面させて該プローブカードを支持するプローブカード支持部と、
該プローブカードの該プローブ端子を、該保持テーブルに保持された該光デバイスウェーハの該電極に接離させる接離機構と、
該プローブカード越しに該保持テーブルに保持された該光デバイスを撮影するカメラと、
該光デバイスを該カメラで撮影した画像情報から、該光デバイスの状態を判定する判定部と、を備える光デバイス検査装置。
An optical device inspection apparatus for use in the optical device inspection method according to claim 1,
A holding table for holding the optical device wafer on a holding surface;
A transparent plate-like probe card comprising: a probe terminal that contacts the electrode of the optical device; and a transparent electrode that is a circuit that supplies power to the probe terminal;
A probe card support part for supporting the probe card with the probe terminal facing the holding surface;
An approach / separation mechanism for bringing the probe terminal of the probe card into contact with or separated from the electrode of the optical device wafer held by the holding table;
A camera for photographing the optical device held on the holding table through the probe card;
An optical device inspection apparatus comprising: a determination unit that determines a state of the optical device from image information obtained by photographing the optical device with the camera.
該プローブカード支持部は、該保持テーブルの保持面に対面する該プローブカードによって密閉される開口を底面に備え、内部に密閉空間が形成される筐体であって、該筐体の該底面の該開口と対面する上面には透明部を有し、
該接離機構は、該密閉空間に気体を供給または排気して該プローブカードの撓み量を制御する給排気制御部を有する請求項2に記載の光デバイス検査装置。
The probe card support part is a casing that includes an opening that is sealed by the probe card facing the holding surface of the holding table on the bottom surface, and in which a sealed space is formed. The upper surface facing the opening has a transparent portion,
The optical device inspection apparatus according to claim 2, wherein the contact / separation mechanism includes an air supply / exhaust control unit that controls the amount of bending of the probe card by supplying or exhausting gas to or from the sealed space.
該筐体は、該密閉空間に連通する逆止弁を備える請求項3に記載の光デバイス検査装置。   The optical device inspection apparatus according to claim 3, wherein the housing includes a check valve communicating with the sealed space. 該筐体の該密閉空間の気圧を測定する測定器を備える請求項3又は請求項4に記載の光デバイス検査装置。   The optical device inspection apparatus according to claim 3, further comprising a measuring device that measures the atmospheric pressure of the sealed space of the housing.
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