JP2019135718A - Conductive pattern sheet, heating plate, vehicle including heating plate, and method for manufacturing heating plate - Google Patents

Conductive pattern sheet, heating plate, vehicle including heating plate, and method for manufacturing heating plate Download PDF

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Abstract

To manufacture a conductive pattern of a conductive pattern sheet used for manufacture of a heating plate inexpensively with a high material utilization rate.SOLUTION: A method for manufacturing a conductive pattern sheet 20 used for a heating plate 10 that generates heat when applied with voltage includes: a step of patterning a first metal film 61 laminated on a base material 30; and a step of forming a second metal layer 52 by an electric field plating method on a first metal layer 51 formed by patterning the first metal film 61.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、電圧を印加されると発熱する発熱板に用いられる導電性パターンシート、電圧を印加されると発熱する発熱板、発熱板を備えた乗り物、導電性パターンシートの製造方法、及び、発熱板の製造方法に関する。   The present invention is a conductive pattern sheet used for a heat generating plate that generates heat when a voltage is applied, a heat generating plate that generates heat when a voltage is applied, a vehicle equipped with the heat generating plate, a method for manufacturing a conductive pattern sheet, and The present invention relates to a method for manufacturing a heating plate.

従来、車両のフロントウィンドウやリアウィンドウ等の窓ガラスに用いるデフロスタ(霜取り乃至曇り止め)装置として、窓ガラスにタングステン等からなる電熱線を配置したものが知られている。このようなデフロスタ装置では、窓ガラスに配置された電熱線に通電し、その抵抗加熱により窓ガラスを昇温させて、窓ガラスの曇りを取り除いて、又は、窓ガラスに付着した雪や氷を溶かしたり、水滴を蒸発させて、乗員の視界を確保することができる。例えば、特許文献1には、デフロスタ装置を構成する発熱ガラスが開示されており、この発熱ガラスでは、2枚のガラス板の間に、メッシュパターンにて配置された電熱線を有する透明フィルムが配置されている。特許文献1に開示された発熱ガラスにおいて、透明フィルム上の電熱線は、透明フィルムに積層された金属膜、例えば金属箔をパターニングすることによって形成される。   2. Description of the Related Art Conventionally, as a defroster (defrosting or anti-fogging) device used for a window glass such as a front window or a rear window of a vehicle, an apparatus in which a heating wire made of tungsten or the like is arranged on the window glass is known. In such a defroster device, a heating wire arranged on the window glass is energized, and the window glass is heated by resistance heating to remove fogging of the window glass, or snow and ice attached to the window glass are removed. It can melt or evaporate water droplets to ensure the sight of the occupant. For example, Patent Document 1 discloses a heat generating glass constituting a defroster device. In this heat generating glass, a transparent film having heating wires arranged in a mesh pattern is arranged between two glass plates. Yes. In the exothermic glass disclosed in Patent Document 1, the heating wire on the transparent film is formed by patterning a metal film, for example, a metal foil, laminated on the transparent film.

特開2012−14945号公報JP 2012-14945 A

ところで、発熱ガラスは、透視性を有する必要がある。したがって、発熱ガラスの電熱線は、極めて高い開口率(非被覆率)にて形成される。すなわち、特許文献1に開示された電熱線は、金属膜の大部分を除去することによってパターニングされ、金属膜の利用効率は著しく低い。また、金属膜の大部分を除去するためには、大量の処理液を使用し且つ大量の処理液を適切に廃棄する必要が生じる。   By the way, the heat generating glass needs to have transparency. Therefore, the heating wire of the exothermic glass is formed with an extremely high aperture ratio (non-covering ratio). That is, the heating wire disclosed in Patent Document 1 is patterned by removing most of the metal film, and the utilization efficiency of the metal film is extremely low. Further, in order to remove most of the metal film, it is necessary to use a large amount of processing liquid and to dispose of a large amount of processing liquid appropriately.

本発明は、以上の点を考慮してなされたものであり、発熱板に含まれる導電性パターン及び発熱板の製造に利用される導電性パターンシートの導電性パターンを、高い材料利用率で安価に製造することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of the above points. The conductive pattern included in the heat generating plate and the conductive pattern of the conductive pattern sheet used for manufacturing the heat generating plate are inexpensive at a high material utilization rate. The purpose is to manufacture.

本発明による導電性パターンシートの製造方法は、
電圧を印加されると発熱する発熱板に用いられる導電性パターンシートを製造する方法であって、
基材に積層された第1金属膜をパターニングする工程と、
前記第1金属膜をパターニングすることによって形成された第1金属層上に、電界めっき法により、第2金属層を形成する工程と、を備える。
The method for producing a conductive pattern sheet according to the present invention includes:
A method for producing a conductive pattern sheet used for a heating plate that generates heat when a voltage is applied,
Patterning the first metal film laminated on the substrate;
Forming a second metal layer on the first metal layer formed by patterning the first metal film by electroplating.

本発明による導電性パターンシートの製造方法において、前記第1金属層は、蒸着法、スパッタリング法、CVD法、PVD法、イオンプレーティング法、無電界めっき法又はこれらの二以上を組み合わせた方法により、形成されるようにしてもよい。   In the method for producing a conductive pattern sheet according to the present invention, the first metal layer is formed by a vapor deposition method, a sputtering method, a CVD method, a PVD method, an ion plating method, an electroless plating method, or a combination of two or more thereof. , May be formed.

本発明による導電性パターンシートの製造方法において、前記第2金属層の厚みは、前記第1金属層の厚みよりも厚くなっていてもよい。   In the method for producing a conductive pattern sheet according to the present invention, the second metal layer may be thicker than the first metal layer.

本発明による発熱板の製造方法は、一対のガラス板と、上述した本発明による製造方法で製造された前記導電性シートの前記導電性パターンであって前記一対のガラス板の間に設けられた導電性パターンと、前記一対のガラス板のうちの少なくともいずれか一方と前記導電性パターン部材との間に設けられた接合層と、を含む積層体の前記一対のガラス板を互いに向けて加熱及び加圧する工程を備える。   The heating plate manufacturing method according to the present invention includes a pair of glass plates and the conductive pattern of the conductive sheet manufactured by the above-described manufacturing method according to the present invention, the conductive pattern provided between the pair of glass plates. The pair of glass plates of a laminate including a pattern and a bonding layer provided between at least one of the pair of glass plates and the conductive pattern member are heated and pressed toward each other. A process is provided.

本発明による導電性パターンシートは、
電圧を印加されると発熱する発熱板に用いられる導電性パターンシートであって、
基材と、
前記基材に積層され且つ導電性細線を含む導電性パターンと、を備え、
前記導電性パターンの前記導電性細線は、第1金属層と、前記第1金属層に隣接して積層された第2金属層と、を含み、
前記第1金属層は、第1金属膜をパターニングすることによって形成され、
前記第2金属層は、電界めっき法により、前記第1金属膜をパターニングすることによって形成された第1金属層上に形成されている。
The conductive pattern sheet according to the present invention is:
A conductive pattern sheet used for a heat generating plate that generates heat when a voltage is applied,
A substrate;
A conductive pattern laminated on the base material and including a conductive fine wire,
The conductive thin wire of the conductive pattern includes a first metal layer and a second metal layer stacked adjacent to the first metal layer,
The first metal layer is formed by patterning a first metal film,
The second metal layer is formed on the first metal layer formed by patterning the first metal film by electroplating.

本発明による発熱板は、
電圧を印加されると発熱する発熱板であって、
一対のガラス板と、
前記一対のガラス板の間に配置され且つ導電性細線を含む導電性パターンと、
前記導電性パターンと前記一対のガラス板の少なくとも一方との間に配置された接合層と、を備え、
前記導電性パターンの前記導電性細線は、第1金属層と、前記第1金属層に隣接して積層された第2金属層と、を含み、
前記第1金属層は、第1金属膜をパターニングすることによって形成され、
前記第2金属層は、電界めっき法により、前記第1金属膜をパターニングすることによって形成された第1金属層上に形成されている。
The heating plate according to the present invention is:
A heating plate that generates heat when a voltage is applied,
A pair of glass plates;
A conductive pattern disposed between the pair of glass plates and including a conductive thin wire; and
A bonding layer disposed between the conductive pattern and at least one of the pair of glass plates,
The conductive thin wire of the conductive pattern includes a first metal layer and a second metal layer stacked adjacent to the first metal layer,
The first metal layer is formed by patterning a first metal film,
The second metal layer is formed on the first metal layer formed by patterning the first metal film by electroplating.

本発明による乗り物は、本発明による発熱板を備える。   The vehicle according to the invention comprises a heating plate according to the invention.

本発明によれば、発熱板に含まれる導電性パターン及び発熱板の製造に利用される導電性パターンシートの導電性パターンを、高い材料利用率で安価に製造することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the electroconductive pattern of the electroconductive pattern contained in a heat generating plate and the electroconductive pattern sheet utilized for manufacture of a heat generating plate can be manufactured cheaply with a high material utilization factor.

図1は、本発明による一実施の形態を説明するための図であって、発熱板を備えた乗り物を概略的に示す斜視図である。特に図1では、乗り物の例として発熱板を備えた自動車を概略的に示している。FIG. 1 is a diagram for explaining an embodiment according to the present invention, and is a perspective view schematically showing a vehicle provided with a heat generating plate. In particular, FIG. 1 schematically shows an automobile provided with a heat generating plate as an example of a vehicle. 図2は、発熱板をその板面の法線方向から見た図である。FIG. 2 is a view of the heat generating plate as viewed from the normal direction of the plate surface. 図3は、図2の発熱板の横断面図である。3 is a cross-sectional view of the heat generating plate of FIG. 図4は、発熱板の導電性パターンのパターン形状の一例を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing an example of the pattern shape of the conductive pattern of the heat generating plate. 図5は、発熱板の導電性パターンのパターン形状の他の例を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing another example of the pattern shape of the conductive pattern of the heat generating plate. 図6は、導電性パターンの導電性細線の断面形状を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing the cross-sectional shape of the conductive thin wire of the conductive pattern. 図7は、発熱板の製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 7 is a diagram for explaining an example of a method for manufacturing a heat generating plate. 図8は、発熱板の製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 8 is a diagram for explaining an example of a method for manufacturing a heat generating plate. 図9は、発熱板の製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 9 is a diagram for explaining an example of a method of manufacturing a heat generating plate. 図10は、発熱板の製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining an example of a method for manufacturing a heat generating plate. 図11は、発熱板の製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 11 is a diagram for explaining an example of a method of manufacturing a heat generating plate. 図12は、発熱板の製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 12 is a diagram for explaining an example of a method of manufacturing a heat generating plate. 図13は、発熱板の製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 13 is a diagram for explaining an example of a method for manufacturing a heat generating plate. 図14は、発熱板の製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 14 is a diagram for explaining an example of a method of manufacturing a heat generating plate. 図15は、発熱板の製造方法の変形例を説明するための図である。FIG. 15 is a diagram for explaining a modification of the method for manufacturing the heat generating plate. 図16は、発熱板の製造方法の変形例を説明するための図である。FIG. 16 is a diagram for explaining a modification of the method for manufacturing the heat generating plate. 図17は、発熱板の製造方法の変形例を説明するための図である。FIG. 17 is a diagram for explaining a modification of the method for manufacturing the heat generating plate. 図18は、発熱板の製造方法の変形例を説明するための図である。FIG. 18 is a diagram for explaining a modification of the method for manufacturing the heat generating plate. 図19は、発熱板の製造方法の変形例を説明するための図である。FIG. 19 is a diagram for explaining a modification of the method for manufacturing the heat generating plate. 図20は、発熱板の製造方法の他の変形例を説明するための図である。FIG. 20 is a diagram for explaining another modification of the method for manufacturing the heat generating plate. 図21は、発熱板の製造方法の他の変形例を説明するための図である。FIG. 21 is a diagram for explaining another modification of the method for manufacturing the heat generating plate.

以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings attached to the present specification, for the sake of illustration and ease of understanding, the scale, the vertical / horizontal dimension ratio, and the like are appropriately changed and exaggerated from those of the actual product.

なお、本明細書において、「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「導電性パターンシート」は板やフィルムと呼ばれ得るような部材をも含む概念であり、したがって、「導電性パターンシート」は、「導電性パターン板(基板)」や「導電性パターンフィルム」と呼ばれる部材と、呼称の違いのみにおいて区別され得ない。   In the present specification, the terms “plate”, “sheet”, and “film” are not distinguished from each other only based on the difference in names. For example, the “conductive pattern sheet” is a concept including a member that can be called a plate or a film. Therefore, the “conductive pattern sheet” is a “conductive pattern plate (substrate)” or “conductive pattern”. It cannot be distinguished from a member called “film” only by the difference in designation.

また、「シート面(板面、フィルム面)」とは、対象となるシート状(板状、フィルム状)の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となるシート状部材(板状部材、フィルム状部材)の平面方向と一致する面のことを指す。   In addition, “sheet surface (plate surface, film surface)” means a target sheet-like member (plate-like) when the target sheet-like (plate-like, film-like) member is viewed as a whole and globally. It refers to the surface that coincides with the plane direction of the member or film-like member.

本明細書において、「接合」とは、完全に接合を完了する「本接合」だけでなく、「本接合」の前に仮止めするための、いわゆる「仮接合」をも含むものとする。   In this specification, “joining” includes not only “main joining” that completely completes joining but also so-called “temporary joining” for temporarily fixing before “main joining”.

また、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件ならびにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。   In addition, as used in the present specification, the shape and geometric conditions and the degree thereof are specified. For example, terms such as “parallel”, “orthogonal”, “identical”, and values of length and angle are strict. Without being bound by meaning, it should be interpreted including the extent to which similar functions can be expected.

図1〜図14は、本発明による一実施の形態を説明するための図である。このうち図1は、発熱板を備えた自動車を概略的に示す図であり、図2は、発熱板をその板面の法線方向から見た図であり、図3は、図2の発熱板の横断面図である。   FIGS. 1-14 is a figure for demonstrating one Embodiment by this invention. Of these, FIG. 1 is a diagram schematically showing an automobile equipped with a heat generating plate, FIG. 2 is a view of the heat generating plate viewed from the normal direction of the plate surface, and FIG. 3 is a heat generating of FIG. It is a cross-sectional view of a board.

図1に示されているように、乗り物の一例としての自動車1は、フロントウィンドウ、リアウィンドウ、サイドウィンドウ等の窓ガラスを有している。ここでは、フロントウィンドウ5が発熱板10で構成されているものを例示する。また、自動車1はバッテリー等の電源7を有している。   As shown in FIG. 1, an automobile 1 as an example of a vehicle has window glasses such as a front window, a rear window, and a side window. Here, an example in which the front window 5 is composed of a heat generating plate 10 is illustrated. The automobile 1 has a power source 7 such as a battery.

この発熱板10をその板面の法線方向から見たものを図2に示す。また、図2の発熱板10のIII−III線に対応する横断面図を図3に示す。図3に示された例では、発熱板10は、一対のガラス板11,12と、一対のガラス板11,12の間に配置された導電性パターンシート20と、ガラス板11,12と導電性パターンシート20とを接合する接合層13,14とを有している。なお、図1および図2に示した例では、発熱板10は湾曲しているが、その他の図面では、図示の簡略化および理解の容易化のために、発熱板10およびガラス板11,12を平板状に図示している。   FIG. 2 shows the heat generating plate 10 viewed from the normal direction of the plate surface. Moreover, the cross-sectional view corresponding to the III-III line of the heat generating plate 10 of FIG. 2 is shown in FIG. In the example shown in FIG. 3, the heating plate 10 includes a pair of glass plates 11 and 12, a conductive pattern sheet 20 disposed between the pair of glass plates 11 and 12, and the glass plates 11 and 12 and the conductive plate 10. Bonding layers 13 and 14 for bonding the conductive pattern sheet 20 to each other. In the example shown in FIGS. 1 and 2, the heat generating plate 10 is curved. However, in other drawings, the heat generating plate 10 and the glass plates 11 and 12 are shown for simplification of illustration and easy understanding. Is shown in a flat plate shape.

導電性パターンシート20は、シート状の基材30と、基材30上に形成された導電性パターン40と、導電性パターン40に通電するための配線部15と、導電性パターン40と配線部15とを接続する接続部16(バスバー或いはバスバー電極とも呼稱される)と、を有している。   The conductive pattern sheet 20 includes a sheet-like base material 30, a conductive pattern 40 formed on the base material 30, a wiring part 15 for energizing the conductive pattern 40, a conductive pattern 40 and a wiring part. 15 and a connecting portion 16 (also called a bus bar or bus bar electrode).

図2および図3に示した例では、バッテリー等の電源7から、銅線等からなる配線部15および接続部16を介して導電性パターン40に通電し、導電性パターン40を抵抗加熱により発熱させる。導電性パターン40で発生した熱は接合層13,14を介してガラス板11,12に伝わり、ガラス板11,12が温められる。これにより、ガラス板11,12に付着した結露による曇りを取り除くことができる。また、ガラス板11,12に雪や氷が付着している場合には、この雪や氷を溶かすことができる。したがって、乗員の視界が良好に確保される。尚、図示は略すが、通常は、配線部15は電源7と導電パターン40の接続部(バスバー)16との間に開閉器が挿入(直列に接続)される。そして、発熱板10の加熱が必要な時のみ開閉器を閉じて導電体30に通電する。   In the example shown in FIGS. 2 and 3, the conductive pattern 40 is energized from the power source 7 such as a battery through the wiring part 15 and the connection part 16 made of copper wire or the like, and the conductive pattern 40 is heated by resistance heating. Let The heat generated in the conductive pattern 40 is transmitted to the glass plates 11 and 12 through the bonding layers 13 and 14, and the glass plates 11 and 12 are warmed. Thereby, the cloudiness by the dew condensation adhering to the glass plates 11 and 12 can be removed. Moreover, when snow and ice adhere to the glass plates 11 and 12, this snow and ice can be melted. Therefore, a passenger | crew's visual field is ensured favorable. In addition, although illustration is omitted, normally, in the wiring part 15, a switch is inserted (connected in series) between the power supply 7 and the connection part (bus bar) 16 of the conductive pattern 40. Only when the heating plate 10 needs to be heated, the switch is closed and the conductor 30 is energized.

ガラス板11,12は、特に自動車のフロントウィンドウに用いる場合、乗員の視界を妨げないよう可視光透過率が高いものを用いることが好ましい。このようなガラス板11,12の材質としては、ソーダライムガラス(青板ガラス)、硼珪酸ガラス(白板ガラス)、石英ガラス、ソーダガラス、カリガラス等が例示できる。ガラス板11,12は、可視光領域における透過率が90%以上であることが好ましい。ここで、ガラス板11,12の可視光透過率は、分光光度計((株)島津製作所製「UV−3100PC」、JIS K 0115準拠品)を用いて測定波長380nm〜780nmの範囲内で測定したときの、各波長における透過率の平均値として特定される。なお、ガラス板11,12の一部または全体に着色するなどして、可視光透過率を低くしてもよい。この場合、太陽光の直射を遮ったり、車外から車内を視認しにくくしたりすることができる。   In particular, when the glass plates 11 and 12 are used for a front window of an automobile, it is preferable to use a glass plate having a high visible light transmittance so as not to obstruct the sight of the passenger. Examples of the material of the glass plates 11 and 12 include soda lime glass (blue plate glass), borosilicate glass (white plate glass), quartz glass, soda glass, potash glass, and the like. The glass plates 11 and 12 preferably have a transmittance in the visible light region of 90% or more. Here, the visible light transmittance of the glass plates 11 and 12 is measured within a measurement wavelength range of 380 nm to 780 nm using a spectrophotometer (“UV-3100PC” manufactured by Shimadzu Corporation, JIS K 0115 compliant product). Is specified as an average value of transmittance at each wavelength. The visible light transmittance may be lowered by coloring a part or the whole of the glass plates 11 and 12. In this case, it is possible to block direct sunlight and to make it difficult to visually recognize the inside of the vehicle from outside the vehicle.

また、ガラス板11,12は、1mm以上5mm以下の厚みを有していることが好ましい。このような厚みであると、強度および光学特性に優れたガラス板11,12を得ることができる。   Moreover, it is preferable that the glass plates 11 and 12 have a thickness of 1 mm or more and 5 mm or less. With such a thickness, the glass plates 11 and 12 excellent in strength and optical characteristics can be obtained.

ガラス板11,12と導電性パターンシート20とは、それぞれ接合層13,14を介して接合されている。このような接合層13,14としては、種々の接着性または粘着性を有した材料からなる層を用いることができる。また、接合層13,14は、可視光透過率が高いものを用いることが好ましい。典型的な接合層としては、ポリビニルブチラール(PVB)からなる層を例示することができる。接合層13,14の厚みは、それぞれ0.15mm以上0.7mm以下であることが好ましい。   The glass plates 11 and 12 and the conductive pattern sheet 20 are bonded via bonding layers 13 and 14, respectively. As the bonding layers 13 and 14, layers made of materials having various adhesiveness or tackiness can be used. The bonding layers 13 and 14 preferably have a high visible light transmittance. As a typical joining layer, the layer which consists of polyvinyl butyral (PVB) can be illustrated. The thickness of the bonding layers 13 and 14 is preferably 0.15 mm or more and 0.7 mm or less, respectively.

なお、発熱板10には、図示された例に限られず、特定の機能を発揮することを期待されたその他の機能層が設けられても良い。また、1つの機能層が2以上の機能を発揮するようにしてもよいし、例えば、発熱板10のガラス板11,12、接合層13,14や、後述する導電性パターンシート20の基材30の少なくとも1つに機能を付与するようにしてもよい。発熱板10に付与され得る機能としては、一例として、反射防止(AR)機能、耐擦傷性を有したハードコート(HC)機能、赤外線遮蔽(反射)機能、紫外線遮蔽(反射)機能、偏光機能、防汚機能等を例示することができる。   The heating plate 10 is not limited to the illustrated example, and may be provided with other functional layers expected to exhibit a specific function. In addition, one functional layer may exhibit two or more functions. For example, glass plates 11 and 12 of the heat generating plate 10, bonding layers 13 and 14, and a base material of the conductive pattern sheet 20 described later. A function may be given to at least one of 30. Examples of functions that can be imparted to the heating plate 10 include an antireflection (AR) function, a hard coat (HC) function having scratch resistance, an infrared shielding (reflection) function, an ultraviolet shielding (reflection) function, and a polarization function. An antifouling function and the like can be exemplified.

次に、導電性パターンシート20について説明する。導電性パターンシート20は、シート状の基材30と、基材30上に形成された導電性パターン40と、導電性パターン40に通電するための配線部15と、導電性パターン40と配線部15とを接続する接続部16とを有している。導電性パターンシート20は、ガラス板11,12と略同一の平面寸法を有して、発熱板10の全体にわたって配置されてもよいし、運転席の正面部分等、発熱板10の一部にのみ配置されてもよい。   Next, the conductive pattern sheet 20 will be described. The conductive pattern sheet 20 includes a sheet-like base material 30, a conductive pattern 40 formed on the base material 30, a wiring part 15 for energizing the conductive pattern 40, a conductive pattern 40 and a wiring part. 15 and a connecting portion 16 for connecting the terminal 15 to the terminal 15. The conductive pattern sheet 20 has substantially the same planar dimensions as the glass plates 11 and 12 and may be disposed over the entire heat generating plate 10, or on a part of the heat generating plate 10 such as the front portion of the driver's seat. May be arranged only.

シート状の基材30は、導電性パターン40を支持する基材として機能する。基材30は、可視光線波長帯域の波長(380nm〜780nm)を透過する一般に言うところの透明である電気絶縁性の基板である。図2、図4および図5に示された例では、基材30は、ガラス板11,12と略同一の寸法を有して、略台形状の平面形状を有している。   The sheet-like base material 30 functions as a base material that supports the conductive pattern 40. The base material 30 is an electrically insulating substrate that is transparent in general terms that transmits a wavelength in the visible light wavelength band (380 nm to 780 nm). In the example shown in FIGS. 2, 4, and 5, the base material 30 has substantially the same dimensions as the glass plates 11 and 12 and has a substantially trapezoidal planar shape.

基材30に含まれる樹脂としては、可視光を透過し、導電性パターン40を適切に支持し得るものであればいかなる樹脂でもよいが、好ましくは熱可塑性樹脂を用いることができる。この熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート(PET)、アモルファスポリエチレンテレフタレート(A−PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、環状ポリオレフィン等のポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂、トリアセチルセルロース(三酢酸セルロース)等のセルロース系樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート樹脂、AS樹脂等を挙げることができる。とりわけ、アクリル樹脂やポリ塩化ビニルは、エッチング耐性、耐候性、耐光性に優れており、好ましい。   The resin contained in the substrate 30 may be any resin as long as it transmits visible light and can appropriately support the conductive pattern 40, but a thermoplastic resin can be preferably used. Examples of the thermoplastic resin include acrylic resins such as polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET), amorphous polyethylene terephthalate (A-PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene, and polypropylene. Polyester resin such as polymethylpentene and cyclic polyolefin, polyolefin resin such as polyethylene resin and polypropylene, cellulose resin such as triacetyl cellulose (cellulose triacetate), polystyrene, polycarbonate resin and AS resin. In particular, acrylic resin and polyvinyl chloride are preferable because they are excellent in etching resistance, weather resistance, and light resistance.

また、基材30は、導電性パターン40の保持性や、光透過性等を考慮すると、0.03mm以上0.3mm以下の厚みを有していることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the base material 30 has a thickness of 0.03 mm or more and 0.3 mm or less in consideration of retainability of the conductive pattern 40, light transmittance, and the like.

次に、図4及び図5を参照して、導電性パターン40について説明する。図4および図5は、いずれも導電性パターンシート20をそのシート面の法線方向から見た平面図である。   Next, the conductive pattern 40 will be described with reference to FIGS. 4 and 5. 4 and 5 are both plan views of the conductive pattern sheet 20 viewed from the normal direction of the sheet surface.

導電性パターン40は、バッテリー等の電源7から、配線部15および接続部16を介して通電され、抵抗加熱により発熱する。そして、この熱が接合層13,14を介してガラス板11,12に伝わることで、ガラス板11,12が温められる。   The conductive pattern 40 is energized from the power source 7 such as a battery through the wiring portion 15 and the connection portion 16 and generates heat by resistance heating. And when this heat | fever is transmitted to the glass plates 11 and 12 through the joining layers 13 and 14, the glass plates 11 and 12 are warmed.

図4に、導電性パターン40のパターン形状の一例を示す。図4に示された例では、一対の接続部16を連結する複数の導電性細線41を有している。図示された例では、複数の導電性細線41は、それぞれ波線状のパターンで一方の接続部16から他方の接続部16へ延在している。複数の導電性細線41は、当該導電性細線41の延在方向と非平行な方向に、互いから離間して配列されている。とりわけ、複数の導電性細線41は、当該導電性細線41の延在方向と直交する方向に配列されている。各導電性細線41は、波線状のパターンの他に、直線状、折れ線状または正弦波状等のパターンで一対の接続部16の間を延びていてもよい。   FIG. 4 shows an example of the pattern shape of the conductive pattern 40. In the example shown in FIG. 4, a plurality of conductive thin wires 41 that connect the pair of connection portions 16 are provided. In the illustrated example, each of the plurality of conductive thin wires 41 extends from one connection portion 16 to the other connection portion 16 in a wavy line pattern. The plurality of conductive thin wires 41 are arranged away from each other in a direction non-parallel to the extending direction of the conductive thin wires 41. In particular, the plurality of conductive thin wires 41 are arranged in a direction orthogonal to the extending direction of the conductive thin wires 41. Each thin conductive wire 41 may extend between the pair of connecting portions 16 in a pattern such as a straight line, a broken line, or a sine wave in addition to the wavy line pattern.

図5に、導電性パターン40のパターン形状の他の例を示す。図5に示された例では、導電性パターン40の導電性細線41は、多数の開口領域44を画成するメッシュ状のパターンで配置されている。導電性パターン40は、2つの分岐点43の間を延びて、開口領域44を画成する複数の接続要素45を含んでいる。すなわち、導電性パターン40の導電性細線41は、両端において分岐点43を形成する多数の接続要素45の集まりとして構成されている。   FIG. 5 shows another example of the pattern shape of the conductive pattern 40. In the example shown in FIG. 5, the conductive thin wires 41 of the conductive pattern 40 are arranged in a mesh pattern that defines a large number of opening regions 44. The conductive pattern 40 includes a plurality of connecting elements 45 extending between the two branch points 43 and defining an open area 44. That is, the conductive thin wires 41 of the conductive pattern 40 are configured as a collection of a large number of connection elements 45 that form branch points 43 at both ends.

図5に示された例では、導電性パターン40の多数の開口領域44は、繰返し規則性(周期的規則性)を有しない形状およびピッチで配列されている。とりわけ図示された例では、多数の開口領域44が、ボロノイ図における各ボロノイ領域と一致するように配列されている。言い換えると、導電性パターン40の各接続要素45は、ボロノイ図におけるボロノイ領域の各境界と一致している。また、導電性パターン40の各分岐点43は、ボロノイ図におけるボロノイ点と一致している。なお、このボロノイ図は、例えば特開2012−178556号公報に開示されているような公知の方法によって得られるので、ここではボロノイ図の作成方法についての詳細な説明は省略する。   In the example shown in FIG. 5, the large number of opening regions 44 of the conductive pattern 40 are arranged in a shape and pitch that do not have repetitive regularity (periodic regularity). In particular, in the illustrated example, a large number of opening regions 44 are arranged to coincide with each Voronoi region in the Voronoi diagram. In other words, each connection element 45 of the conductive pattern 40 coincides with each boundary of the Voronoi region in the Voronoi diagram. Each branch point 43 of the conductive pattern 40 coincides with the Voronoi point in the Voronoi diagram. Since this Voronoi diagram is obtained by a known method as disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2012-178556, detailed description of the Voronoi diagram creation method is omitted here.

さらに他の例として、導電性パターン40が、正方格子配列やハニカム配列等の、繰返し規則性(周期的規則性)を有するパターンにて配置された導電性細線41から形成されるようにしてもよい。   As yet another example, the conductive pattern 40 may be formed from the conductive thin wires 41 arranged in a pattern having a repeating regularity (periodic regularity) such as a square lattice arrangement or a honeycomb arrangement. Good.

次に、図6を参照して、導電性パターン40の導電性細線41の断面形状について説明する。図6は、図4および図5のA−A線に対応した、導電性パターンシート20の断面を拡大して示す図である。   Next, the cross-sectional shape of the conductive thin wire 41 of the conductive pattern 40 will be described with reference to FIG. FIG. 6 is an enlarged view showing a cross section of the conductive pattern sheet 20 corresponding to the line AA in FIGS. 4 and 5.

図6に示された例において、導電性パターン40をなす導電性細線41は、導電性細線41の延在方向(長手方向)に直交する断面(以下、主切断面ともいう)において、基材30側の面をなす基端面41b、基端面41bと対向する先端面41a、および、先端面41aと基端面41bとを接続する側面41c,41dを有し、全体として略矩形の断面となっている。   In the example shown in FIG. 6, the conductive thin wire 41 forming the conductive pattern 40 is a base material in a cross section (hereinafter also referred to as a main cut surface) orthogonal to the extending direction (longitudinal direction) of the conductive thin wire 41. A base end surface 41b forming a surface on the 30th side, a front end surface 41a facing the base end surface 41b, and side surfaces 41c and 41d connecting the front end surface 41a and the base end surface 41b, and has a substantially rectangular cross section as a whole. Yes.

導電性細線41の幅W、すなわち、基材30のシート面に沿った導電性細線41の幅Wは5μm以上20μm以下とすることが好ましい。このような幅Wを有する導電性細線41によれば、その導電性細線41が十分に細線化されているので、導電性パターン40を効果的に不可視化することができる。また、導電性細線41の高さ(厚さ)H、すなわち、基材30のシート面への法線方向に沿った導電性細線41の高さ(厚さ)Hは5μm以上20μm以下とすることが好ましい。このような高さ(厚さ)Hを有する導電性細線41によれば、適切な抵抗値を有しつつ十分な導電性を確保することができる。   The width W of the conductive thin wire 41, that is, the width W of the conductive thin wire 41 along the sheet surface of the base material 30 is preferably 5 μm or more and 20 μm or less. According to the conductive thin wire 41 having such a width W, since the conductive thin wire 41 is sufficiently thinned, the conductive pattern 40 can be effectively invisible. Further, the height (thickness) H of the conductive thin wire 41, that is, the height (thickness) H of the conductive thin wire 41 along the normal direction to the sheet surface of the base material 30 is 5 μm or more and 20 μm or less. It is preferable. According to the conductive thin wire 41 having such a height (thickness) H, sufficient conductivity can be ensured while having an appropriate resistance value.

図6に示すように、導電性パターン40をなす導電性細線41は、第1金属層51と、第1金属層51に隣接して積層された第2金属層52と、を含む導電性金属層50を有している。また、図6に示された例において、導電性細線41は、導電性金属層50を覆う第1暗色層53及び第2暗色層54をさらに有している。第1暗色層53は、導電性金属層50の表面のうち、基材30側の面を覆っており、導電性金属層50の基端面41bを形成している。第2暗色層54は、導電性金属層50の表面のうち、基材30と反対側の面および両側面を覆っており、導電性金属層50の先端面41a及び両側面41c,41dを形成している。   As shown in FIG. 6, the conductive thin wire 41 forming the conductive pattern 40 includes a first metal layer 51 and a second metal layer 52 laminated adjacent to the first metal layer 51. It has a layer 50. In the example illustrated in FIG. 6, the conductive thin wire 41 further includes a first dark color layer 53 and a second dark color layer 54 that cover the conductive metal layer 50. The first dark color layer 53 covers the surface on the base material 30 side of the surface of the conductive metal layer 50, and forms a base end surface 41 b of the conductive metal layer 50. The second dark color layer 54 covers the surface opposite to the substrate 30 and both side surfaces of the surface of the conductive metal layer 50, and forms the front end surface 41 a and both side surfaces 41 c and 41 d of the conductive metal layer 50. doing.

導電性金属層50は、導電性細線41における導電性を確保するための層である。導電性金属層50をなす第1金属層51及び第2金属層52を構成するための材料として、例えば、金、銀、銅、白金、アルミニウム、クロム、モリブデン、ニッケル、チタン、パラジウム、インジウム、タングステン、及び、これらの合金を例示することができる。一方、暗色層53,54は、導電性金属層50よりも可視光の反射率が低い層であればよく、例えば黒色等の暗色の層である。この暗色層53,54によって、一般的に高い反射率を有する導電性金属層50を、視認されづらくし、乗員の視界をより良好に確保することができる。   The conductive metal layer 50 is a layer for ensuring conductivity in the conductive thin wire 41. As a material for constituting the first metal layer 51 and the second metal layer 52 constituting the conductive metal layer 50, for example, gold, silver, copper, platinum, aluminum, chromium, molybdenum, nickel, titanium, palladium, indium, Tungsten and alloys thereof can be exemplified. On the other hand, the dark layers 53 and 54 may be layers having a lower visible light reflectance than the conductive metal layer 50, and are dark layers such as black. The dark color layers 53 and 54 make it difficult to visually recognize the conductive metal layer 50 having a generally high reflectivity, and can ensure a better view of the occupant.

次に、図7〜図14を参照して、発熱板10の製造方法の一例について説明する。図7〜図14は、発熱板10の製造方法の一例を順に示す断面図である。   Next, an example of a method for manufacturing the heat generating plate 10 will be described with reference to FIGS. 7-14 is sectional drawing which shows an example of the manufacturing method of the heat generating plate 10 in order.

まず、シート状の基材30を準備する。基材30は、可視光線波長帯域の波長(380nm〜780nm)を透過する一般に言うところの透明である電気絶縁性の樹脂基材である。   First, the sheet-like base material 30 is prepared. The base material 30 is an electrically insulating resin base material that is transparent and is generally called transparent that transmits wavelengths in the visible light wavelength band (380 nm to 780 nm).

次に、図7に示すように、基材30上に暗色膜63を設ける。例えば、電界めっきおよび無電界めっきを含むめっき法、スパッタリング法、CVD法、PVD法、イオンプレーティング法、またはこれらの2以上を組み合わせた方法により、基材30上に暗色膜63を設けることができる。なお、暗色膜63の材料としては、種々の公知のものを用いることができる。例えば窒化銅、酸化銅、窒化ニッケル等が例示できる。   Next, as shown in FIG. 7, a dark color film 63 is provided on the base material 30. For example, the dark color film 63 may be provided on the substrate 30 by a plating method including electroplating and electroless plating, a sputtering method, a CVD method, a PVD method, an ion plating method, or a combination of these two or more. it can. Note that various known materials can be used as the material of the dark color film 63. For example, copper nitride, copper oxide, nickel nitride and the like can be exemplified.

次に、図8に示すように、暗色膜63上に第1金属膜61を設ける。第1金属膜61は、パターニングされることにより、導電性金属層50の第1金属層51をなすようになる。第1金属膜61は、上述したように、金、銀、銅、白金、アルミニウム、クロム、モリブデン、ニッケル、チタン、パラジウム、インジウム、タングステン等の金属、及び、ニッケル−クロム合金、真鍮、青銅等のこれら金属の合金の一以上からなる層である。第1金属膜61は、蒸着法、スパッタリング法、CVD法、PVD法、イオンプレーティング法、無電界めっき法又はこれらの二以上を組み合わせた方法により形成される。   Next, as shown in FIG. 8, a first metal film 61 is provided on the dark color film 63. The first metal film 61 is patterned to form the first metal layer 51 of the conductive metal layer 50. As described above, the first metal film 61 is made of metal such as gold, silver, copper, platinum, aluminum, chromium, molybdenum, nickel, titanium, palladium, indium, tungsten, nickel-chromium alloy, brass, bronze, or the like. It is a layer made of one or more of these metal alloys. The first metal film 61 is formed by vapor deposition, sputtering, CVD, PVD, ion plating, electroless plating, or a combination of two or more of these.

第1金属膜61の厚みt1(図6参照)は、例えば10nm以上100nm以下とすることができる。第1金属膜61の厚みをこのように薄くしたとしても、後述するように第2金属層52を電界めっき法により形成する際のベースとして、十分に用いることができる。   The thickness t1 (see FIG. 6) of the first metal film 61 can be, for example, not less than 10 nm and not more than 100 nm. Even if the thickness of the first metal film 61 is reduced in this way, it can be sufficiently used as a base when the second metal layer 52 is formed by an electroplating method as will be described later.

次に、図9に示すように、第1金属膜61上に、レジストパターン65を設ける。レジストパターン65は、形成されるべき導電性パターン40のパターンに対応したパターンとなっている。ここで説明する方法では、最終的に導電性パターン40をなす領域にのみ、レジストパターン65が設けられている。このレジストパターン65は、公知のフォトリソグラフィー技術を用いたパターニングにより形成することができる。   Next, as shown in FIG. 9, a resist pattern 65 is provided on the first metal film 61. The resist pattern 65 is a pattern corresponding to the pattern of the conductive pattern 40 to be formed. In the method described here, the resist pattern 65 is provided only in a region finally forming the conductive pattern 40. The resist pattern 65 can be formed by patterning using a known photolithography technique.

次に、図10に示すように、レジストパターン65をマスクとして、第1金属膜61及び暗色膜63をエッチングする。このエッチングにより、第1金属膜61及び暗色膜63がレジストパターン65と略同一のパターンにパターニングされる。エッチング方法は特に限られることはなく、公知の方法が採用できる。公知の方法としては、例えば、エッチング液を用いるウェットエッチングや、プラズマエッチングなどが挙げられる。ウエットエッチングに於いて、エッチング加工に用いる腐蝕液は、金屬箔及び(暗色膜が存在する場合は)暗色膜の材料に応じて公知の腐蝕液を適宜選択して用いることが出來る。例えば、金属箔が銅、暗色膜が酸化銅(II)(CuO)の場合には、金属箔及び暗色膜共に塩化第二鉄水溶液を用いるか、或いは金属箔部分(銅)は塩化第二鉄水溶液を、又、暗色膜(酸化銅(II))部分は希塩酸を用いることが出來る。その後、図11に示すように、レジストパターン65を除去する。   Next, as shown in FIG. 10, the first metal film 61 and the dark color film 63 are etched using the resist pattern 65 as a mask. By this etching, the first metal film 61 and the dark color film 63 are patterned into a pattern substantially the same as the resist pattern 65. The etching method is not particularly limited, and a known method can be employed. Known methods include, for example, wet etching using an etchant, plasma etching, and the like. In the wet etching, it is possible to use a known corrosive solution appropriately selected according to the material of the gold foil and the dark color film (if a dark color film is present). For example, when the metal foil is copper and the dark color film is copper (II) oxide (CuO), ferric chloride aqueous solution is used for the metal foil and the dark color film, or the metal foil part (copper) is ferric chloride. It is found that dilute hydrochloric acid is used for the aqueous solution and the dark color film (copper (II) oxide) portion. Thereafter, as shown in FIG. 11, the resist pattern 65 is removed.

次に、図12に示すように、第1金属膜61をパターニングしてなる第1金属層51を電極とする電界めっき法により、第1金属層51上に第2金属層52を形成する。電界めっき法により形成される第2金属層52は、第1金属層51上のみに形成される。そして、第1金属層51と第2金属層52とからなる導電性金属層50が得られる。   Next, as shown in FIG. 12, a second metal layer 52 is formed on the first metal layer 51 by electroplating using the first metal layer 51 formed by patterning the first metal film 61 as an electrode. The second metal layer 52 formed by the electroplating method is formed only on the first metal layer 51. Thus, the conductive metal layer 50 composed of the first metal layer 51 and the second metal layer 52 is obtained.

第2金属層52の厚みt2(図6参照)は、第1金属層51と第2金属層52とを含む導電性金属層50が十分な導電性を有する程度とすることができる。一例として、第2金属層52の厚みt2(図6参照)を、1μm以上10μm以下とすることができる。   The thickness t2 (see FIG. 6) of the second metal layer 52 can be set such that the conductive metal layer 50 including the first metal layer 51 and the second metal layer 52 has sufficient conductivity. As an example, the thickness t2 (see FIG. 6) of the second metal layer 52 can be set to 1 μm or more and 10 μm or less.

その後、図13に示すように、導電性金属層50の基材30とは反対側の面41a及び側面41c,41dに第2暗色層49を形成する。第2暗色層49は、例えば導電性金属層50をなす材料の一部分に暗色化処理(黒化処理)を施して、導電性金属層50をなしていた一部分から、金属酸化物や金属硫化物からなる第2暗色層49を形成することができる。また、暗色材料の塗膜や、ニッケルやクロム等のめっき層等のように、導電性金属層50の表面に第2暗色層49を設けるようにしてもよい。また、導電性金属層50の表面を粗化して第2暗色層49を設けるようにしてもよい。   Thereafter, as shown in FIG. 13, the second dark color layer 49 is formed on the surface 41 a and the side surfaces 41 c and 41 d opposite to the base material 30 of the conductive metal layer 50. For example, the second dark color layer 49 is subjected to a darkening process (blackening process) on a part of the material forming the conductive metal layer 50, and the metal oxide or metal sulfide is formed from a part of the conductive metal layer 50. A second dark color layer 49 can be formed. Alternatively, the second dark color layer 49 may be provided on the surface of the conductive metal layer 50, such as a dark color coating film or a plating layer of nickel or chromium. Alternatively, the second dark color layer 49 may be provided by roughening the surface of the conductive metal layer 50.

以上のようにして、図13に示す導電性パターンシート20が作製される。なお、接続部16及び配線部15を、導電性パターン40と同一の材料により導電性パターン40と一体的に形成してもよい。或いは、導電性パターン40とは別途に用意した接続部16及び配線部15を、導電性パターン40と電気的に接続するようにして、基材30上に設けるようにしてもよい。   As described above, the conductive pattern sheet 20 shown in FIG. 13 is produced. The connecting portion 16 and the wiring portion 15 may be formed integrally with the conductive pattern 40 using the same material as the conductive pattern 40. Alternatively, the connection part 16 and the wiring part 15 prepared separately from the conductive pattern 40 may be provided on the substrate 30 so as to be electrically connected to the conductive pattern 40.

最後に、ガラス板11、接合層13、導電性パターンシート20、接合層14、ガラス板12をこの順に重ね合わせ、加熱・加圧する。図14に示された例では、まず、接合層13をガラス板11に、接合層14をガラス板12に、それぞれ仮接着する。次に、ガラス板11,12の接合層13,14が仮接着された側が、それぞれ導電性パターンシート20に対向するようにして、接合層13が仮接着されたガラス板11、導電性パターンシート20、接合層14が仮接着されたガラス板12をこの順に重ね合わせ、加熱・加圧する。これにより、ガラス板11、導電性パターンシート20およびガラス板12が、接合層13,14を介して接合され、図3に示す発熱板10が製造される。   Finally, the glass plate 11, the bonding layer 13, the conductive pattern sheet 20, the bonding layer 14, and the glass plate 12 are superposed in this order, and heated and pressurized. In the example shown in FIG. 14, first, the bonding layer 13 is temporarily bonded to the glass plate 11, and the bonding layer 14 is temporarily bonded to the glass plate 12. Next, the glass plate 11 and the conductive pattern sheet on which the bonding layer 13 is temporarily bonded so that the side on which the bonding layers 13 and 14 of the glass plates 11 and 12 are temporarily bonded faces the conductive pattern sheet 20 respectively. 20. The glass plate 12 to which the bonding layer 14 is temporarily bonded is superposed in this order, and heated and pressurized. Thereby, the glass plate 11, the electroconductive pattern sheet 20, and the glass plate 12 are joined via the joining layers 13 and 14, and the heat generating plate 10 shown in FIG. 3 is manufactured.

以上のような本実施の形態において、製造方法は、第1金属膜61をパターニングする工程と、第1金属膜61をパターニングすることによって形成された第1金属層51上に、電界めっき法により、第2金属層52を形成する工程と、を含んでいる。電界めっき法を用いて所定パターンの第1金属層51上に第2金属層52を形成する場合、第2金属層52は、第1金属層51と同一のパターンで第1金属層51上に形成される。つまり、第2金属層52は、導電性金属層50の形成に必要となる領域のみに、第2金属層52をなす材料が設けられることになる。したがって、金属膜をパターニングすることによって導電性金属層50の全体を形成することと比較し、材料の利用効率を改善することができる。そもそも、導電性金属層50がなす導電性パターン40は透視性を確保すべく極めて高い開口率で形成される。したがって、本実施の形態によれば、材料の利用効率を飛躍的に改善することができる。この結果、導電性パターンシート20及び発熱板10の製造コストを大幅に低減することができる。   In the present embodiment as described above, the manufacturing method includes a step of patterning the first metal film 61 and an electroplating method on the first metal layer 51 formed by patterning the first metal film 61. And a step of forming the second metal layer 52. When the second metal layer 52 is formed on the first metal layer 51 having a predetermined pattern using the electroplating method, the second metal layer 52 is formed on the first metal layer 51 in the same pattern as the first metal layer 51. It is formed. That is, the second metal layer 52 is provided with the material forming the second metal layer 52 only in a region necessary for forming the conductive metal layer 50. Therefore, the utilization efficiency of the material can be improved as compared with the case where the entire conductive metal layer 50 is formed by patterning the metal film. In the first place, the conductive pattern 40 formed by the conductive metal layer 50 is formed with an extremely high aperture ratio to ensure transparency. Therefore, according to the present embodiment, the material utilization efficiency can be dramatically improved. As a result, the manufacturing cost of the conductive pattern sheet 20 and the heat generating plate 10 can be significantly reduced.

また、本実施の形態によれば、金属膜をパターニングすることによって導電性金属層50の全体を形成することと比較し、パターニングに使用される処理液の量を大幅に低減することができる。加えて、処理液の使用量が低減されるので、処理液の廃棄処理時の負担を軽減することもでき、さらに単なるコストの低減に留まらず環境問題の観点からも好ましい。   Moreover, according to this Embodiment, compared with forming the whole electroconductive metal layer 50 by patterning a metal film, the quantity of the process liquid used for patterning can be reduced significantly. In addition, since the amount of the treatment liquid used is reduced, the burden at the time of disposal of the treatment liquid can be reduced, and it is preferable from the viewpoint of environmental problems as well as a simple cost reduction.

さらに、電界めっき法によれば、蒸着法、スパッタリング法、CVD法、PVD法、イオンプレーティング法、無電界めっき法といった成膜法と比較して、金属層52を迅速かつ厚膜に形成することができる。すなわち、導電性パターンシート20及び発熱板10の生産性を改善し、導電性パターンシート20及び発熱板10を短時間で製造することが可能となる。   Furthermore, according to the electroplating method, the metal layer 52 is formed quickly and thickly as compared with a film forming method such as a vapor deposition method, a sputtering method, a CVD method, a PVD method, an ion plating method, or an electroless plating method. be able to. That is, the productivity of the conductive pattern sheet 20 and the heat generating plate 10 can be improved, and the conductive pattern sheet 20 and the heat generating plate 10 can be manufactured in a short time.

また、第2金属層52の厚みが第1金属層51の厚みよりも厚い場合、上述の本実施の形態による作用効果、すなわち、導電性パターン40の作製に用いられる材料の利用効率の改善、導電性パターン40の作製に用いられる処理液の量の低減、並びに、導電性パターン40の作製に必要となる時間の短縮といった作用効果がより顕著となる。   Further, when the thickness of the second metal layer 52 is thicker than the thickness of the first metal layer 51, the above-described effects of the present embodiment, that is, the improvement of the utilization efficiency of the material used for the production of the conductive pattern 40, The effects of reducing the amount of the processing liquid used for manufacturing the conductive pattern 40 and shortening the time required for manufacturing the conductive pattern 40 become more prominent.

以上の実施の形態において説明した製造方法にて製造された発熱板10及び導電性パターンシート20の導電性パターン40は、第1金属層51と、第1金属層51に隣接して積層された第2金属層52と、を含む導電性細線51を有する。第1金属層51は、第1金属膜をパターニングすることによって形成される。第2金属層52は、電界めっき法により、第1金属膜61をパターニングすることによって形成された第1金属層51上に形成されている。このような導電性パターン40を有する発熱板10及び導電性パターンシート20は、上述した導電性パターン40の作製に用いられる材料の利用効率の改善、導電性パターン40の作製に用いられる処理液の量の低減、並びに、導電性パターン40の作製に必要となる時間の短縮といった作用効果に基づき、安価且つ容易に製造され得る。   The heat generating plate 10 manufactured by the manufacturing method described in the above embodiment and the conductive pattern 40 of the conductive pattern sheet 20 were laminated adjacent to the first metal layer 51 and the first metal layer 51. And a conductive thin wire 51 including a second metal layer 52. The first metal layer 51 is formed by patterning the first metal film. The second metal layer 52 is formed on the first metal layer 51 formed by patterning the first metal film 61 by electroplating. The heat generating plate 10 and the conductive pattern sheet 20 having such a conductive pattern 40 improve the utilization efficiency of the material used for manufacturing the conductive pattern 40 described above, and the treatment liquid used for manufacturing the conductive pattern 40. Based on the effect of reducing the amount and shortening the time required for producing the conductive pattern 40, it can be manufactured inexpensively and easily.

なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、図面を適宜参照しながら、変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。   Note that various modifications can be made to the above-described embodiment. Hereinafter, modified examples will be described with reference to the drawings as appropriate. In the following description and the drawings used in the following description, the same reference numerals as those used for the corresponding parts in the above embodiment are used for the parts that can be configured in the same manner as in the above embodiment. A duplicate description is omitted.

図15〜図19を参照して、発熱板10の製造方法の変形例について説明する。図15〜図19は、発熱板10の製造方法の変形例を順に示す断面図である。   With reference to FIGS. 15-19, the modification of the manufacturing method of the heat generating plate 10 is demonstrated. 15 to 19 are cross-sectional views sequentially showing modified examples of the method for manufacturing the heat generating plate 10.

まず、導電性パターンシート20を作製する。導電性パターンシート20は、上述の発熱板10の製造方法の一例において説明した方法により作製することができる。   First, the conductive pattern sheet 20 is produced. The conductive pattern sheet 20 can be produced by the method described in the example of the method for producing the heating plate 10 described above.

次に、ガラス板11、接合層13、導電性パターンシート20をこの順に重ね合わせ、加熱・加圧する。図15に示された例では、まず、接合層13をガラス板11に仮接着する。次に、ガラス板11の接合層13が仮接着された側が、導電性パターンシート20に対向するようにして、接合層13が仮接着されたガラス板11を、導電性パターンシート20の導電性パターン40の側から重ね合わせ、加熱・加圧する。これにより、図16に示すように、ガラス板11および導電性パターンシート20が、接合層13を介して接合(仮接合または本接合)される。   Next, the glass plate 11, the bonding layer 13, and the conductive pattern sheet 20 are superposed in this order, and heated and pressurized. In the example shown in FIG. 15, first, the bonding layer 13 is temporarily bonded to the glass plate 11. Next, the glass plate 11 on which the bonding layer 13 is temporarily bonded is disposed so that the side on which the bonding layer 13 of the glass plate 11 is temporarily bonded faces the conductive pattern sheet 20. Superposed from the pattern 40 side, heated and pressurized. Thereby, as shown in FIG. 16, the glass plate 11 and the conductive pattern sheet 20 are bonded (temporary bonding or main bonding) via the bonding layer 13.

次に、図17に示されているように、導電性パターンシート20の基材30を除去する。例えば、導電性パターンシート20を作製する際に、基材30上に剥離層を形成しておき、この剥離層上に導電性パターン40を形成する。この剥離層は、上述の第1金属膜61及び暗色膜63をエッチングする工程で除去されない層であることが好ましい。この場合、基材30と、導電性パターン40及び接合層13と、は剥離層を介して接合される。そして、導電性パターンシート20の基材30を除去する工程では、導電性パターンシート20の基材30を、剥離層を用いて導電性パターン40及び接合層13から剥離する。   Next, as shown in FIG. 17, the base material 30 of the conductive pattern sheet 20 is removed. For example, when producing the conductive pattern sheet 20, a release layer is formed on the base material 30, and the conductive pattern 40 is formed on the release layer. This release layer is preferably a layer that is not removed in the step of etching the first metal film 61 and the dark color film 63 described above. In this case, the base material 30 and the conductive pattern 40 and the bonding layer 13 are bonded via the release layer. And in the process of removing the base material 30 of the electroconductive pattern sheet 20, the base material 30 of the electroconductive pattern sheet 20 is peeled from the electroconductive pattern 40 and the joining layer 13 using a peeling layer.

剥離層としては、例えば界面剥離型の剥離層、層間剥離型の剥離層、凝集剥離型の剥離層等を用いることができる。界面剥離型の剥離層としては、基材30との密着性と比べて、導電性パターン40及び接合層13との密着性が相対的に低い剥離層を好適に用いることができる。このような層としては、シリコーン樹脂層、フッ素樹脂層、ポリオレフィン樹脂層等が挙げられる。また、導電性パターン40及び接合層13との密着性と比べて、基材30との密着性が相対的に低い剥離層を用いることもできる。層間剥離型の剥離層としては、複数層のフィルムを含み、導電性パターン40及び接合層13や、基材30との密着性と比べて、当該複数層間相互の密着性が相対的に低い剥離層を例示することができる。凝集剥離型の剥離層としては、連続相としてのベース樹脂中に分散相としてのフィラーを分散させた剥離層を例示することができる。   As the release layer, for example, an interfacial release type release layer, an interlayer release type release layer, a cohesive release type release layer, or the like can be used. As the interfacial release type release layer, a release layer having a relatively low adhesiveness to the conductive pattern 40 and the bonding layer 13 as compared with the adhesiveness to the substrate 30 can be suitably used. Examples of such a layer include a silicone resin layer, a fluororesin layer, and a polyolefin resin layer. In addition, a release layer that has relatively low adhesion to the substrate 30 as compared with adhesion to the conductive pattern 40 and the bonding layer 13 can also be used. As the delamination type delamination layer, a delamination that includes a plurality of layers of film and has a relatively low adhesion between the plurality of delaminations compared to the adhesion between the conductive pattern 40 and the bonding layer 13 and the substrate 30. A layer can be illustrated. Examples of the cohesive release type release layer include a release layer in which a filler as a dispersed phase is dispersed in a base resin as a continuous phase.

剥離層として、基材30との密着性と比べて、導電性パターン40及び接合層13との密着性が相対的に低い層を有する界面剥離型の剥離層を用いた場合、剥離層と導電性パターン40及び接合層13との間で剥離現象が生じる。この場合、剥離層が、導電性パターン40及び接合層13側に残らないようにすることができる。すなわち、基材30は、剥離層とともに除去される。このようにして基材30及び剥離層が除去されると、導電性パターン40の開口領域43内に、接合層13が露出するようになる。   When an interfacial release type release layer having a layer having relatively low adhesion to the conductive pattern 40 and the bonding layer 13 as compared with the adhesion to the substrate 30 is used as the release layer, the release layer and the conductive layer are electrically conductive. The peeling phenomenon occurs between the conductive pattern 40 and the bonding layer 13. In this case, it is possible to prevent the release layer from remaining on the conductive pattern 40 and the bonding layer 13 side. That is, the base material 30 is removed together with the release layer. When the base material 30 and the release layer are removed in this manner, the bonding layer 13 is exposed in the opening region 43 of the conductive pattern 40.

その一方で、剥離層として、導電性パターン40及び接合層13との密着性と比べて、基材30との密着性が相対的に低い界面剥離型の剥離層を用いた場合には、剥離層と基材30との間で剥離現象が生じる。剥離層として、複数層のフィルムを有し、導電性パターン40及び接合層13や、基材30との密着性と比べて、当該複数層間相互の密着性が相対的に低い層間剥離型の剥離層を用いた場合には、当該複数層間で剥離現象が生じる。剥離層として、連続相としてのベース樹脂中に分散相としてのフィラーを分散させた凝集剥離型の剥離層を用いた場合には、剥離層内での凝集破壊による剥離現象が生じる。   On the other hand, when an interfacial peeling type peeling layer having relatively low adhesion to the base material 30 is used as the peeling layer compared to the adhesion to the conductive pattern 40 and the bonding layer 13, the peeling layer A peeling phenomenon occurs between the layer and the substrate 30. A delamination type delamination that has a plurality of layers as a delamination layer and has relatively low adhesion between the plurality of layers compared to the adhesion between the conductive pattern 40 and the bonding layer 13 and the substrate 30. When a layer is used, a peeling phenomenon occurs between the plurality of layers. In the case of using an agglomerated exfoliation type release layer in which a filler as a dispersed phase is dispersed in a base resin as a continuous phase, an exfoliation phenomenon due to a cohesive failure occurs in the exfoliation layer.

最後に、ガラス板11、接合層13及び導電性パターン40、接合層14、ガラス板12をこの順に重ね合わせ、加熱・加圧する。図18に示された例では、まず、接合層14をガラス板12に仮接着する。次に、ガラス板12の接合層14が仮接着された側が、導電性パターン40及び接合層13に対向するようにして、ガラス板11、導電性パターン40及び接合層13、接合層14が仮接着されたガラス板12をこの順に重ね合わせ、加熱・加圧する。これにより、ガラス板11、導電性パターン40、ガラス板12が、接合層13,14を介して接合(本接合)され、図19に示す発熱板10が製造される。   Finally, the glass plate 11, the bonding layer 13, the conductive pattern 40, the bonding layer 14, and the glass plate 12 are superposed in this order, and heated and pressurized. In the example shown in FIG. 18, first, the bonding layer 14 is temporarily bonded to the glass plate 12. Next, the glass plate 11, the conductive pattern 40, the bonding layer 13, and the bonding layer 14 are temporarily set so that the side on which the bonding layer 14 of the glass plate 12 is temporarily bonded faces the conductive pattern 40 and the bonding layer 13. The bonded glass plates 12 are superposed in this order, and heated and pressurized. Thereby, the glass plate 11, the conductive pattern 40, and the glass plate 12 are joined (main joining) via the joining layers 13 and 14, and the heat generating plate 10 shown in FIG. 19 is manufactured.

図19に示された発熱板10によれば、発熱板10が基材30を含まないようにすることができる。これにより、発熱板10全体の厚みを小さくすることができる。また、発熱板10内の界面数を低減することができる。したがって、光学特性の低下すなわち視認性の低下を抑制することができる。   According to the heat generating plate 10 shown in FIG. 19, the heat generating plate 10 can be made not to include the base material 30. Thereby, the thickness of the heat generating plate 10 as a whole can be reduced. In addition, the number of interfaces in the heat generating plate 10 can be reduced. Accordingly, it is possible to suppress a decrease in optical characteristics, that is, a decrease in visibility.

次に、図20及び図21を参照して、発熱板10の製造方法の他の変形例について説明する。図20及び図21は、発熱板10の製造方法の他の変形例を順に示す断面図である。   Next, another modification of the method for manufacturing the heat generating plate 10 will be described with reference to FIGS. 20 and 21 are cross-sectional views sequentially showing another modification of the method for manufacturing the heat generating plate 10.

まず、上述の発熱板10の製造方法の変形例と同様の工程により、ガラス板11及び導電性パターンシート20が、接合層13を介して接合(仮接合)されたものを作製し、ここから基材30を除去する。すなわち、上述の発熱板10の製造方法の変形例で図17を参照して説明した、ガラス板11、導電性パターン40および接合層13が積層されたものを得る。   First, the glass plate 11 and the conductive pattern sheet 20 are bonded (temporarily bonded) via the bonding layer 13 by the same process as that of the modified example of the method for manufacturing the heating plate 10 described above. The base material 30 is removed. That is, the glass plate 11, the conductive pattern 40, and the bonding layer 13 which are described with reference to FIG. 17 in the modification of the method for manufacturing the heating plate 10 are obtained.

次に、図20に示すように、ガラス板11、接合層13および導電性パターン40、ガラス板12をこの順に重ね合わせ、加熱・加圧する。これにより、ガラス板11と導電性パターン40とが接合層13を介して接合(本接合)され、且つ、ガラス板14とガラス板12とが接合層13を介して接合(本接合)される。そして、図21に示す発熱板10が製造される。   Next, as shown in FIG. 20, the glass plate 11, the bonding layer 13, the conductive pattern 40, and the glass plate 12 are superposed in this order, and heated and pressurized. As a result, the glass plate 11 and the conductive pattern 40 are bonded (main bonding) via the bonding layer 13, and the glass plate 14 and the glass plate 12 are bonded (main bonding) via the bonding layer 13. . Then, the heat generating plate 10 shown in FIG. 21 is manufactured.

図21に示された発熱板10によれば、発熱板10が基材30および接合層14を含まないようにすることができる。これにより、発熱板10全体の厚みをさらに小さくすることができる。また、発熱板10内の界面数をさらに低減することができる。したがって、光学特性の低下すなわち視認性の低下をさらに効果的に抑制することができる。加えて、導電性パターン40とガラス板12とが接触しているので、導電性パターン40によるガラス板12の加熱効率を上げることができる。   According to the heat generating plate 10 shown in FIG. 21, the heat generating plate 10 can be configured not to include the base material 30 and the bonding layer 14. Thereby, the thickness of the heat generating plate 10 as a whole can be further reduced. In addition, the number of interfaces in the heat generating plate 10 can be further reduced. Therefore, it is possible to more effectively suppress a decrease in optical characteristics, that is, a decrease in visibility. In addition, since the conductive pattern 40 and the glass plate 12 are in contact, the heating efficiency of the glass plate 12 by the conductive pattern 40 can be increased.

さらに別の変形例について説明する。上述した実施の形態では、導電性パターン40に含まれる複数の接続要素45は、それぞれ発熱板10の板面の法線方向から見て直線状(直線分)をなしていたが、これに限らず、複数の接続要素45のうちの少なくとも一部が、発熱板10の板面の法線方向から見て直線状以外の形状、例えば曲線状または折れ線状の形状を有してもよい。具体的には、円弧状、放物線状、波線状、ジグザグ状、曲線と直線との組み合わせ等の形状を有してもよい。とりわけ、2つの分岐点43の間を直線(直線分)として接続する接続要素45が、複数の接続要素45のうちの20%未満である、すなわち、複数の接続要素45のうちの80%以上が直線(直線分)以外の形状を有している、ことが好ましい。   Still another modification will be described. In the above-described embodiment, each of the plurality of connection elements 45 included in the conductive pattern 40 has a straight line shape (straight line portion) when viewed from the normal direction of the plate surface of the heat generating plate 10, but is not limited thereto. Instead, at least a part of the plurality of connection elements 45 may have a shape other than a straight line shape, for example, a curved line shape or a polygonal line shape when viewed from the normal direction of the plate surface of the heat generating plate 10. Specifically, it may have a shape such as an arc shape, a parabolic shape, a wavy shape, a zigzag shape, or a combination of a curve and a straight line. In particular, the connection element 45 connecting the two branch points 43 as a straight line (straight line segment) is less than 20% of the plurality of connection elements 45, that is, 80% or more of the plurality of connection elements 45. Preferably have a shape other than a straight line (straight line).

このような、直線(直線分)以外の形状の接続要素45を含む導電性パターン40によれば、曲線状、折れ線状等の形状を有する接続要素45の側面に入射した光は、当該側面で乱反射する。これにより、当該接続要素45の側面に一定の方向から入射した光(対向車のヘッドライトの光や太陽光等)が、その入射方向に対応して当該側面で一定の方向に反射することが抑制される。したがって、この反射光がドライバー等の観察者に視認されて、接続要素45を有する導電性パターン40が観察者に視認されることを、抑制することができる。結果として、導電性パターン40が視認されることによる、観察者による窓ガラスを介した視認性の悪化を抑制することができる。   According to the conductive pattern 40 including the connection element 45 having a shape other than a straight line (straight line), light incident on the side surface of the connection element 45 having a curved shape, a broken line shape, or the like is transmitted on the side surface. Diffuse reflection. Thereby, light incident on the side surface of the connection element 45 from a certain direction (light of the headlight of the oncoming vehicle, sunlight, etc.) may be reflected in a certain direction on the side surface corresponding to the incident direction. It is suppressed. Therefore, it can suppress that this reflected light is visually recognized by observers, such as a driver, and the conductive pattern 40 which has the connection element 45 is visually recognized by an observer. As a result, the deterioration of the visibility through the window glass by the observer due to the visual recognition of the conductive pattern 40 can be suppressed.

発熱板10は、自動車1のリアウィンドウ、サイドウィンドウやサンルーフに用いてもよい。また、自動車以外の、鉄道車両、航空機、船舶、宇宙船等の乗り物の窓あるいは扉の透明部分に用いてもよい。   The heat generating plate 10 may be used for a rear window, a side window, or a sunroof of the automobile 1. Moreover, you may use for the transparent part of windows or doors of vehicles, such as a railway vehicle other than a motor vehicle, an aircraft, a ship, and a spacecraft.

さらに、発熱板10は、乗り物以外にも、特に室内と室外とを区画する箇所、例えばビルや店舗、住宅の窓あるいは扉の透明部分、建物の窓又は扉、冷蔵庫、展示箱、戸棚等の收納乃至保管設備の窓あるいは扉の透明部分等に使用することもできる。   In addition to the vehicle, the heat generating plate 10 can be used for parts that separate the interior and the exterior, such as buildings and stores, transparent windows or doors, windows or doors of buildings, refrigerators, display boxes, cupboards, etc. It can also be used for a window or a transparent part of a storage or storage facility.

なお、以上において上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。   In addition, although the some modification with respect to embodiment mentioned above was demonstrated above, naturally, it is also possible to apply combining several modifications suitably.

1 自動車
5 フロントウィンドウ
7 電源
10 発熱板
11 ガラス板
12 ガラス板
13 接合層
14 接合層
15 配線部
16 接続部
20 導電性パターンシート
30 基材
40 導電性パターン
41 導電性細線
41a 先端面
41b 基端面
41c 側面
41d 側面
43 分岐点
44 開口領域
45 接続要素
50 導電性金属層
51 第1金属層
52 第2金属層
53 第1暗色層
54 第2暗色層
61 第1金属膜
63 暗色膜
65 レジストパターン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Car 5 Front window 7 Power supply 10 Heat generating plate 11 Glass plate 12 Glass plate 13 Joining layer 14 Joining layer 15 Wiring part 16 Connection part 20 Conductive pattern sheet 30 Base material 40 Conductive pattern 41 Conductive thin wire 41a Tip surface 41b Base end face 41c side surface 41d side surface 43 branch point 44 opening region 45 connecting element 50 conductive metal layer 51 first metal layer 52 second metal layer 53 first dark color layer 54 second dark color layer 61 first metal film 63 dark color film 65 resist pattern

Claims (1)

電圧を印加されると発熱する発熱板に用いられる導電性パターンシートを製造する方法であって、
基材に積層された第1金属膜をパターニングする工程と、
前記第1金属膜をパターニングすることによって形成された第1金属層上に、電界めっき法により、第2金属層を形成する工程と、を備える導電性パターンシートの製造方法。
A method for producing a conductive pattern sheet used for a heating plate that generates heat when a voltage is applied,
Patterning the first metal film laminated on the substrate;
Forming a second metal layer by electroplating on the first metal layer formed by patterning the first metal film. A method for producing a conductive pattern sheet.
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