JP2019135561A - Elliptically polarizing plate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ディスプレイ等に利用可能な楕円偏光板、及び該楕円偏光板を含む有機EL表示装置に関する。 The present invention relates to an elliptically polarizing plate that can be used for a display or the like, and an organic EL display device including the elliptically polarizing plate.
近年、ディスプレイの多様化に伴って、楕円偏光板の薄膜化が求められている。楕円偏光板を薄膜化するための一つの方法として、楕円偏光板に用いられる位相差板を延伸位相差板から、重合性液晶化合物が配向した状態で硬化させて得られる液晶硬化膜からなる位相差板に変更することが知られている。例えば、特許文献1には、液晶硬化膜からなる水平配向λ/4位相差板と、液晶硬化膜からなる膜厚方向に異方性を有する位相差板を組み合わせた光学補償機能付き円偏光板が開示されている。
In recent years, with the diversification of displays, thinning of elliptically polarizing plates has been demanded. As one method for thinning an elliptically polarizing plate, a retardation plate used for an elliptically polarizing plate is made of a liquid crystal cured film obtained by curing a polymerizable liquid crystal compound in an oriented state from a stretched retardation plate. It is known to change to a phase difference plate. For example,
しかし、楕円偏光板に含まれる液晶硬化膜は、薄膜化のために、基材上に液晶硬化膜を形成後、偏光板に転写され、基材のみを剥離する方法により形成されるが、基材剥離後の液晶硬化膜の機械的強度が十分でない。このため、基材上に形成した液晶硬化膜を単独で偏光板に転写して楕円偏光板を得ようとすると、得られたフィルムを目的の製品のサイズに合わせてカットした場合に、切断した端面で波打ち等の不具合が発生することがあった。
従って、本発明の目的は、切断しても切断端面で波うち等の不具合が発生することなく、優れた加工特性を有する楕円偏光板、及び該楕円偏光板を含む有機EL表示装置に関する。
However, the liquid crystal cured film included in the elliptically polarizing plate is formed by a method in which a liquid crystal cured film is formed on a base material and then transferred to the polarizing plate to peel only the base material in order to reduce the thickness. The mechanical strength of the liquid crystal cured film after material peeling is not sufficient. For this reason, when trying to obtain an elliptically polarizing plate by transferring the liquid crystal cured film formed on the substrate alone to the polarizing plate, it was cut when the obtained film was cut according to the size of the target product. Problems such as undulation may occur on the end face.
Accordingly, an object of the present invention relates to an elliptically polarizing plate having excellent processing characteristics without causing defects such as a wave at the cut end face even when cut, and an organic EL display device including the elliptically polarizing plate.
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明には、以下のものが含まれる。
[1]偏光層、λ/4位相差層、垂直配向液晶硬化層、及び補強層を有する楕円偏光板であって、垂直配向液晶硬化層は該液晶硬化層平面に対して垂直方向に配向した状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなり、垂直配向液晶硬化層の膜厚は3μm以下である、楕円偏光板。
[2]垂直配向液晶硬化層と補強層との層間距離は5μm以下である、[1]に記載の楕円偏光板。
[3]補強層の膜厚は1〜10μmである、[1]又は[2]に記載の楕円偏光板。
[4]λ/4位相差層は水平配向液晶硬化層であり、水平配向液晶硬化層は、該液晶硬化層平面に対して水平方向に配向した状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなる、[1]〜[3]のいずれかに記載の楕円偏光板。
[5]偏光層、λ/4位相差層、垂直配向液晶硬化層、補強層をこの順に有する、[1]〜[4]のいずれかに記載の楕円偏光板。
[6]偏光層、垂直配向液晶硬化層、補強層、λ/4位相差層をこの順に有する、[1]〜[4]のいずれかに記載の楕円偏光板。
[7]偏光層、補強層、垂直配向液晶硬化層、λ/4位相差層をこの順に有する、[1]〜[4]のいずれかに記載の楕円偏光板。
[8]補強層は、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、及びメラミン樹脂からなる群から選択される少なくとも1種を含んでなる、[1]〜[7]のいずれかに記載の楕円偏光板。
[9]垂直配向液晶硬化層と補強層との間に膜厚5μm以下の配向層を有し、該配向層は構成元素にSi元素、C元素及びO元素を含む化合物からなる層である、[1]〜[8]のいずれかに記載の楕円偏光板。
[10]隣接する各層において、波長550nmにおける面内平均屈折率の差は、0.20以下である、[1]〜[9]のいずれかに記載の楕円偏光板。
[11]λ/4位相差層は、
λ/4位相差層が形成する屈折率楕円体において波長λ=400〜700nmの範囲で、
nxQ(λ)>nyQ(λ)≒nzQ(λ)
[式中、nxQ(λ)はλ/4位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対する位相差層平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。nyQ(λ)はλ/4位相差層が形成する屈折率楕円体において、位相差層平面に対して平行であり、且つ、前記nxQ(λ)の方向に対して直交する方向の波長λ(nm)の光に対する屈折率を表す。nzQ(λ)はλ/4位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対する位相差層平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。]
の関係を有し、
下記式(1)〜(3)
ReQ(450)/ReQ(550)≦1.00 (1)
1.00≦ReQ(650)/ReQ(550) (2)
100nm≦ReQ(550)≦160nm (3)
[式中、ReQ(450)は波長λ=450nmの光に対するλ/4位相差層の面内位相差値を、ReQ(550)は波長λ=550nmの光に対するλ/4位相差層の面内位相差値を、ReQ(650)は波長λ=650nmの光に対するλ/4位相差層の面内位相差値をそれぞれ示し、波長λ(nm)の光に対するλ/4位相差層の面内位相差値ReQ(λ)は、
ReQ(λ)=(nxQ(λ)−nyQ(λ))×dQ
で表される。ここで、dQはλ/4位相差層の厚みを表す。]
の関係を満たす、[1]〜[10]のいずれかに記載の楕円偏光板。
[12]垂直配向液晶硬化層は、
垂直配向液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、波長λ=400〜700nmの範囲で、
nzV(λ)>nxV(λ)≒nyV(λ)
[式中、nzV(λ)は液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対する液晶硬化層平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。nxV(λ)は液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対する液晶硬化層平面に対して平行な方向の最大屈折率を表す。nyV(λ)は液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化層平面に対して平行であり、且つ、前記nxVの方向に対して直交する方向の波長λ(nm)の光に対する屈折率を表す。ただし、nxV(λ)=nyV(λ)となる場合には、nxV(λ)は液晶硬化層平面に対して平行な任意の方向の屈折率を表す。]
の関係を有し、さらに
下記式(4)〜(6)
RthV(450)/RthV(550)≦1.00 (4)
1.00≦RthV(650)/RthV(550) (5)
−120nm≦RthV(550)≦−50nm (6)
[式中、RthV(450)は波長λ=450nmの光に対する液相硬化層の厚み方向の位相差値を、RthV(550)は波長λ=550nmの光に対する液晶硬化層の厚み方向の位相差値を、RthV(650)は波長650nmの光に対する液晶硬化層の厚み方向の位相差値をそれぞれ表し、波長λ(nm)の光に対する液晶硬化層の厚み方向の位相差値RthV(λ)は、
RthV(λ)=[(nxV(λ)+nyV(λ))/2−nzV(λ)]×dV
で表される。ここで、液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、nzV(λ)は波長λ(nm)における液晶硬化層平面に対して垂直な方向の主屈折率を表し、((nxV(λ)+nyV(λ))/2)は、波長λ(nm)における液晶硬化層平面での平均屈折率を表す。dVは液晶硬化層の厚みを表す。]
の関係を満たす、[1]〜[11]のいずれかに記載の楕円偏光板。
[13][1]〜[12]のいずれかに記載の楕円偏光板を備える、有機EL表示装置。
As a result of intensive studies in order to solve the above problems, the present inventors have completed the present invention. That is, the present invention includes the following.
[1] An elliptically polarizing plate having a polarizing layer, a λ / 4 retardation layer, a vertically aligned liquid crystal cured layer, and a reinforcing layer, wherein the vertically aligned liquid crystal cured layer is aligned in a direction perpendicular to the plane of the liquid crystal cured layer An elliptically polarizing plate comprising a polymer of a polymerizable liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound in a state, and having a thickness of a vertically aligned liquid crystal cured layer of 3 μm or less.
[2] The elliptically polarizing plate according to [1], wherein an interlayer distance between the vertically aligned liquid crystal cured layer and the reinforcing layer is 5 μm or less.
[3] The elliptically polarizing plate according to [1] or [2], wherein the thickness of the reinforcing layer is 1 to 10 μm.
[4] The λ / 4 retardation layer is a horizontally aligned liquid crystal cured layer, and the horizontally aligned liquid crystal cured layer includes a polymerizable liquid crystal compound including a polymerizable liquid crystal compound aligned in a horizontal direction with respect to the liquid crystal cured layer plane. The elliptically polarizing plate according to any one of [1] to [3], comprising a polymer of a product.
[5] The elliptically polarizing plate according to any one of [1] to [4], which includes a polarizing layer, a λ / 4 retardation layer, a vertically aligned liquid crystal cured layer, and a reinforcing layer in this order.
[6] The elliptically polarizing plate according to any one of [1] to [4], which includes a polarizing layer, a vertically aligned liquid crystal cured layer, a reinforcing layer, and a λ / 4 retardation layer in this order.
[7] The elliptically polarizing plate according to any one of [1] to [4], which includes a polarizing layer, a reinforcing layer, a vertically aligned liquid crystal cured layer, and a λ / 4 retardation layer in this order.
[8] The reinforcing layer according to any one of [1] to [7], wherein the reinforcing layer includes at least one selected from the group consisting of an acrylic resin, an epoxy resin, an oxetane resin, a urethane resin, and a melamine resin. Elliptical polarizing plate.
[9] An alignment layer having a thickness of 5 μm or less is provided between the vertically aligned liquid crystal cured layer and the reinforcing layer, and the alignment layer is a layer made of a compound containing Si element, C element and O element as constituent elements. The elliptically polarizing plate according to any one of [1] to [8].
[10] The elliptically polarizing plate according to any one of [1] to [9], wherein a difference in in-plane average refractive index at a wavelength of 550 nm is 0.20 or less in each adjacent layer.
[11] The λ / 4 retardation layer is
In the refractive index ellipsoid formed by the λ / 4 retardation layer, the wavelength λ is in the range of 400 to 700 nm.
nxQ (λ)> nyQ (λ) ≈nzQ (λ)
[Wherein, nxQ (λ) represents a main refractive index in a direction parallel to the plane of the retardation layer with respect to light of wavelength λ (nm) in the refractive index ellipsoid formed by the λ / 4 retardation layer. nyQ (λ) is a refractive index ellipsoid formed by the λ / 4 retardation layer, and is parallel to the retardation layer plane and has a wavelength λ (perpendicular to the direction of nxQ (λ). nm) of light. In the refractive index ellipsoid formed by the λ / 4 retardation layer, nzQ (λ) represents a refractive index in a direction perpendicular to the retardation layer plane with respect to light of wavelength λ (nm). ]
Have the relationship
Following formula (1)-(3)
ReQ (450) / ReQ (550) ≦ 1.00 (1)
1.00 ≦ ReQ (650) / ReQ (550) (2)
100 nm ≦ ReQ (550) ≦ 160 nm (3)
[Where ReQ (450) is the in-plane retardation value of the λ / 4 retardation layer for light of wavelength λ = 450 nm, and ReQ (550) is the surface of λ / 4 retardation layer for light of wavelength λ = 550 nm. ReQ (650) indicates the in-plane retardation value of the λ / 4 retardation layer for light of wavelength λ = 650 nm, and ReQ (650) indicates the surface of the λ / 4 retardation layer for light of wavelength λ (nm). The internal phase difference value ReQ (λ) is
ReQ (λ) = (nxQ (λ) −nyQ (λ)) × dQ
It is represented by Here, dQ represents the thickness of the λ / 4 retardation layer. ]
The elliptically polarizing plate according to any one of [1] to [10], which satisfies the relationship:
[12] The vertically aligned liquid crystal cured layer is
In the refractive index ellipsoid formed by the vertically aligned liquid crystal cured layer, in the wavelength range of λ = 400 to 700 nm,
nzV (λ)> nxV (λ) ≈nyV (λ)
[Wherein, nzV (λ) represents the refractive index in the direction perpendicular to the plane of the liquid crystal cured layer with respect to light of wavelength λ (nm) in the refractive index ellipsoid formed by the liquid crystal cured layer. In the refractive index ellipsoid formed by the liquid crystal cured layer, nxV (λ) represents the maximum refractive index in a direction parallel to the plane of the liquid crystal cured layer with respect to light of wavelength λ (nm). nyV (λ) is a refractive index ellipsoid formed by the liquid crystal cured layer, and is refracted with respect to light having a wavelength λ (nm) parallel to the plane of the liquid crystal cured layer and orthogonal to the nxV direction. Represents a rate. However, when nxV (λ) = nyV (λ), nxV (λ) represents the refractive index in an arbitrary direction parallel to the liquid crystal cured layer plane. ]
Further, the following formulas (4) to (6)
RthV (450) / RthV (550) ≦ 1.00 (4)
1.00 ≦ RthV (650) / RthV (550) (5)
−120 nm ≦ RthV (550) ≦ −50 nm (6)
[In the formula, RthV (450) is a retardation value in the thickness direction of the liquid phase cured layer with respect to light having a wavelength λ = 450 nm, and RthV (550) is a retardation value in the thickness direction of the liquid crystal cured layer with respect to light having a wavelength λ = 550 nm. RthV (650) represents a retardation value in the thickness direction of the liquid crystal cured layer with respect to light having a wavelength of 650 nm, and RthV (λ) represents a retardation value RthV (λ) in the thickness direction of the liquid crystal cured layer with respect to light having a wavelength of λ (nm). ,
RthV (λ) = [(nxV (λ) + nyV (λ)) / 2−nzV (λ)] × dV
It is represented by Here, in the refractive index ellipsoid formed by the liquid crystal cured layer, nzV (λ) represents the main refractive index in the direction perpendicular to the liquid crystal cured layer plane at the wavelength λ (nm), and ((nxV (λ) + nyV). (Λ)) / 2) represents the average refractive index at the plane of the liquid crystal cured layer at the wavelength λ (nm). dV represents the thickness of the liquid crystal cured layer. ]
The elliptically polarizing plate according to any one of [1] to [11], which satisfies the relationship:
[13] An organic EL display device comprising the elliptically polarizing plate according to any one of [1] to [12].
本発明の楕円偏光板は、切断しても切断端面で波うち等の不具合が発生することなく、優れた加工特性を有する。 The elliptically polarizing plate of the present invention has excellent processing characteristics without causing defects such as waves at the cut end face even when cut.
本発明の楕円偏光板は、偏光層、λ/4位相差層、垂直配向液晶硬化層、及び補強層を有し、各層の積層順序は適宜選択できる。好ましい態様においては、各層は以下の順に積層される。
偏光層、λ/4位相差層、垂直配向液晶硬化層、補強層;
偏光層、垂直配向液晶硬化層、補強層、λ/4位相差層;
偏光層、補強層、垂直配向液晶硬化層、λ/4位相差層。
The elliptically polarizing plate of the present invention has a polarizing layer, a λ / 4 retardation layer, a vertically aligned liquid crystal cured layer, and a reinforcing layer, and the stacking order of each layer can be appropriately selected. In a preferred embodiment, each layer is laminated in the following order.
Polarizing layer, λ / 4 retardation layer, vertically aligned liquid crystal cured layer, reinforcing layer;
Polarizing layer, vertically aligned liquid crystal cured layer, reinforcing layer, λ / 4 retardation layer;
Polarizing layer, reinforcing layer, vertical alignment liquid crystal cured layer, λ / 4 retardation layer.
これらの順序に積層された本発明の楕円偏光板の層構成の一例を図1〜3に示すが、本発明はこれらの態様に限定されるものではない。 Although an example of the layer structure of the elliptically polarizing plate of this invention laminated | stacked in these order is shown in FIGS. 1-3, this invention is not limited to these aspects.
図1に示される楕円偏光板1は、偏光層2、粘接着剤3、λ/4位相差層4、配向層5、粘接着剤3、垂直配向液晶硬化層6、垂直配向層7、補強層8をこの順に有する。図2に示される楕円偏光板10は、偏光層2、粘接着剤3、垂直配向液晶硬化層6、垂直配向層7、補強層8、粘接着剤3、λ/4位相差層4、配向層5をこの順に有する。図3に示される楕円偏光板100は、偏光層2、粘接着剤3、補強層8、垂直配向層7、垂直配向液晶硬化層6、粘接着剤3、λ/4位相差層4、配向層5をこの順に有する。楕円偏光板1、10及び100は、偏光層2の吸収軸がλ/4位相差層4の遅相軸(光軸)に対して、実質的に45°となるように貼合されている。また、偏光層2は偏光子の片面(粘接着剤3の反対の面)に透明保護フィルムを備えていてもよい。本明細書において、実質的に45°とは通常45°±5°の範囲である。
An elliptically
〔補強層〕
本発明の楕円偏光板1、10及び100は、楕円偏光板に含まれる層、特に垂直配向液晶硬化層6を補強する機能を有する補強層8を備える。楕円偏光板1、10及び100は、垂直配向液晶硬化層6が薄膜であっても、補強層8が垂直配向液晶硬化層6の強度を十分に補うことができ、垂直配向液晶硬化層6と補強層8との層間距離が小さいと、さらに十分に、垂直配向液晶硬化層6の強度を補うことができる。このため、楕円偏光板の加工特性が向上され、切断端面の不具合を有効に抑制又は防止することができる。なお、本明細書において、「層間距離」とは、垂直配向液晶硬化層6と補強層8との最短距離を意味し、「加工特性」とは、楕円偏光板を切断した時に、切断端面で波うち等の不具合の発生を抑制又は防止できる特性を意味する。
(Reinforcement layer)
The elliptically
垂直配向液晶硬化層6と補強層8との層間距離は、例えば5μm以下、好ましくは3μm以下、より好ましくは1.5μm以下、さらに好ましくは1.0μm以下、さらにより好ましくは500nm以下、特に好ましくは300nm以下である。垂直配向層7がなければ、層間距離は0nmとなる。層間距離の下限は、垂直配向液晶硬化層6と補強層8との間の層の膜厚、図1〜3の態様では垂直配向層7の膜厚により必然的に決まるため、特に限定されないが、好ましくは1nm以上である。層間距離が上記の上限以下であると、補強層8が垂直配向液晶硬化層6をより十分に補強でき、優れた加工特性を発現できるため、楕円偏光板を切断した時に、切断端面で波うち等の不具合が生じない。また、層間距離が短いほど、補強層8が垂直配向液晶硬化層6への補強に寄与しやすくなるため、加工特性が向上する傾向にある。
The interlayer distance between the vertically aligned liquid crystal cured
補強層8は、垂直配向液晶硬化層6を補強しうる強度を発揮しうる材料から構成されており、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、及びメラミン樹脂からなる群から選択される少なくとも1種を含んでなる。これらの中でも、硬化性が高く、補強性の高い補強層8を形成しやすい観点から、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、及びメラミン樹脂からなる群から選択される少なくとも1種を含んでなることが好ましく、アクリル樹脂及びウレタン樹脂からなる群から選択される少なくとも1種を含んでなることがより好ましい。
The reinforcing
補強層8は、熱や光で硬化する硬化性材料を含む硬化性組成物の硬化物であることが好ましい。アクリル樹脂を含んでなる補強層8の硬化性材料としては、例えば単官能(メタ)アクリレート、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート;多官能(メタ)アクリレート、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート;エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、トリス(メタクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられる。(メタ)アクリレートは単独又は二種以上組合わせて使用でき、硬化時や硬化後の加熱により発生するカールを抑制する観点、加工特性を向上させる観点、補強層8の十分な補強性を確保する観点から、適宜多官能(メタ)アクリレートを選択可能である。また、同様の観点からエポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂等と混合することも可能である。なお、本明細書においては、アクリレート、メタクリレートを総称して(メタ)アクリレートと称することがあり、アクリル酸とメタクリル酸とを総称して(メタ)アクリル酸と称することがある。
The reinforcing
ウレタン樹脂を含んでなる補強層8の硬化性材料としては、例えば(メタ)アクリル酸及び/又は(メタ)アクリル酸エステル、ポリオール、及びジイソシアネートの反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレート等が挙げられる。具体的には、ウレタン(メタ)アクリレートは(メタ)アクリル酸及び/又は(メタ)アクリル酸エステルとポリオールから、分子内に水酸基を少なくとも1個有するヒドロキシ(メタ)アクリレートを調製し、これをジイソシアネートと反応させることにより製造することができる。ウレタン(メタ)アクリレートは単独又は二種以上組合わせて使用できる。
Examples of the curable material for the reinforcing
前記(メタ)アクリル酸エステルは、(メタ)アクリル酸の鎖状又は環状アルキルエステルであることができる。その具体例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレートのようなアルキル(メタ)アクリレート、及び、シクロヘキシル(メタ)アクリレートのようなシクロアルキル(メタ)アクリレートが挙げられる。前記ポリオールは、分子内に水酸基を少なくとも2個有する化合物である。例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ヒドロキシピバリン酸のネオペンチルグリコールエステル、シクロヘキサンジメチロール、1,4−シクロヘキサンジオール、スピログリコール、トリシクロデカンジメチロール、水添ビスフェノールA、エチレンオキサイド付加ビスフェノールA、プロピレンオキサイド付加ビスフェノールA、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グルコース類などを挙げることができる。 The (meth) acrylic acid ester may be a linear or cyclic alkyl ester of (meth) acrylic acid. Specific examples thereof include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylate such as butyl (meth) acrylate, and cyclohexyl (meth). Examples include cycloalkyl (meth) acrylates such as acrylates. The polyol is a compound having at least two hydroxyl groups in the molecule. For example, ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, neopentyl glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,9- Nonanediol, 1,10-decanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, neopentyl glycol ester of hydroxypivalic acid, cyclohexanedimethylol, 1 , 4-cyclohexanediol, spiroglycol, tricyclodecane dimethylol, hydrogenated bisphenol A, ethylene oxide-added bisphenol A, propylene oxide-added bisphenol A, trimethylol ethane, trimethylol propylene , Glycerin, 3-methylpentane-1,3,5-triol, pentaerythritol, can be exemplified dipentaerythritol, tripentaerythritol, and the like glucose compound.
ジイソシアネートは、分子内に2個のイソシアナト基(−NCO)を有する化合物であり、芳香族、脂肪族又は脂環式の各種ジイソシアネートを用いることができる。具体例としては、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、3,3’−ジメチル−4,4’−ジフェニルジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、及びこれらのうち芳香環を有するジイソシアネートの核水添物などを挙げることができる。 Diisocyanate is a compound having two isocyanato groups (—NCO) in the molecule, and various aromatic, aliphatic or alicyclic diisocyanates can be used. Specific examples include tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 4,4′-diphenyl diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 3,3′-dimethyl-4,4 ′. -Diphenyl diisocyanate, xylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, and a nuclear hydrogenated diisocyanate having an aromatic ring among these.
硬化時や硬化後の加熱により発生するカールを抑制する観点、加工特性を向上させる観点、補強層8の十分な補強性を確保する観点から、適宜ウレタン(メタ)アクリレートを選択可能である。また、同様の観点から、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、メラミン樹脂等と混合することも可能である。
Urethane (meth) acrylate can be appropriately selected from the viewpoint of suppressing curling generated by heating at the time of curing or after curing, improving the processing characteristics, and ensuring sufficient reinforcing property of the reinforcing
エポキシ樹脂を含んでなる補強層の硬化性材料としては、例えば脂環式エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、水素化エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物等が挙げられる。 Examples of the curable material for the reinforcing layer containing an epoxy resin include an alicyclic epoxy compound, an aromatic epoxy compound, a hydrogenated epoxy compound, and an aliphatic epoxy compound.
脂環式エポキシ化合物は、脂環式環に直接結合したエポキシ基を分子内に少なくとも1個有する化合物である。例えば、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル 3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル 3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、ジエチレングリコールビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチルエーテル)、エチレングリコールビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテルなどが挙げられる。これらの脂環式エポキシ化合物は単独又は二種以上組合わせて使用できる。
The alicyclic epoxy compound is a compound having at least one epoxy group directly bonded to the alicyclic ring in the molecule. For example, 3,4-
芳香族エポキシ化合物は、分子内に芳香族環とエポキシ基を有する化合物である。その具体例として、ビスフェノールAのジグリシジルエーテル、ビスフェールFのジグリシジルエーテル、ビスフェノールSのジグリシジルエーテル等のビスフェノール型エポキシ化合物又はそのオリゴマー;フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、ヒドロキシベンズアルデヒドフェノールノボラックエポキシ樹脂等のノボラック型のエポキシ樹脂;2,2’,4,4’−テトラヒドロキシジフェニルメタンのグリシジルエーテル、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのグリシジルエーテル等の多官能型のエポキシ化合物;エポキシ化ポリビニルフェノール等の多官能型のエポキシ樹脂などが挙げられる。これらの芳香族エポキシ化合物は単独又は二種以上組合わせて使用できる。 An aromatic epoxy compound is a compound having an aromatic ring and an epoxy group in the molecule. Specific examples thereof include bisphenol-type epoxy compounds such as diglycidyl ether of bisphenol A, diglycidyl ether of bisphenol F, diglycidyl ether of bisphenol S, or oligomers thereof; phenol novolac epoxy resin, cresol novolac epoxy resin, hydroxybenzaldehyde phenol novolak Novolak type epoxy resin such as epoxy resin; polyfunctional type epoxy such as glycidyl ether of 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxydiphenylmethane, glycidyl ether of 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone Compound: Polyfunctional epoxy resins such as epoxidized polyvinylphenol are exemplified. These aromatic epoxy compounds can be used alone or in combination of two or more.
水素化エポキシ化合物は、上記の芳香族エポキシ化合物の核水添物が水素化エポキシ化合物となる。これらは、対応する芳香族エポキシ化合物の原料である芳香族ポリヒドロキシ化合物、典型的にはビスフェノール類に対し、触媒の存在下及び加圧下で選択的に水素化反応を行うことにより得られる多価アルコール、典型的には水添ビスフェノール類を原料とし、これにエピクロロヒドリンを反応させてクロロヒドリンエーテルとし、さらにそれをアルカリで分子内閉環させる方法によって製造できる。これらの水素化エポキシ化合物は単独又は二種以上組合わせて使用できる。 In the hydrogenated epoxy compound, the nuclear hydrogenated product of the aromatic epoxy compound becomes a hydrogenated epoxy compound. These are polyvalent compounds obtained by selectively hydrogenating an aromatic polyhydroxy compound, typically a bisphenol, which is a raw material of the corresponding aromatic epoxy compound, in the presence of a catalyst and under pressure. It can be produced by a method in which an alcohol, typically a hydrogenated bisphenol, is used as a raw material, and epichlorohydrin is reacted with this to obtain a chlorohydrin ether, which is further subjected to intramolecular ring closure with an alkali. These hydrogenated epoxy compounds can be used alone or in combination of two or more.
脂肪族エポキシ化合物には、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテルがある。その具体例として、ネオペンチルグリコールのジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールのジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメロールプロパンのトリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテル、エチレングリコールやプロピレングリコール、グリセリンのような脂肪族多価アルコールに1種又は2種以上のアルキレンオキサイド(エチレンオキサイドやプロピレンオキサイド)を付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。これらの脂肪族エポキシ化合物は単独又は二種以上組合わせて使用できる。 Aliphatic epoxy compounds include polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof. Specific examples include diglycidyl ether of neopentyl glycol, diglycidyl ether of 1,4-butanediol, diglycidyl ether of 1,6-hexanediol, triglycidyl ether of glycerin, triglycidyl ether of trimerol propane, polyethylene By adding one or more alkylene oxides (ethylene oxide or propylene oxide) to aliphatic polyhydric alcohols such as diglycidyl ether of glycol, diglycidyl ether of propylene glycol, ethylene glycol, propylene glycol, glycerin The polyglycidyl ether of the polyether polyol obtained is mentioned. These aliphatic epoxy compounds can be used alone or in combination of two or more.
硬化時や硬化後の加熱により発生するカールを抑制する観点、加工特性を向上させる観点、補強層8の十分な補強性を確保する観点、基材や液晶硬化層との密着性を調整する観点から、適宜エポキシ樹脂を選択可能である。また、同様の観点から、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、オキセタン樹脂、メラミン樹脂等と混合することも可能である。
From the viewpoint of suppressing curling caused by heating at the time of curing or after curing, from the viewpoint of improving the processing characteristics, from the viewpoint of ensuring sufficient reinforcement of the reinforcing
オキセタン樹脂を含んでなる補強層8の硬化性材料としては、分子内に少なくとも1個以上のオキセタニル基を含有する化合物等が挙げられる。その具体例として、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン(オキセタンアルコールとも呼ばれる)、2−エチルヘキシルオキセタン、1,4−ビス〔{(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ}メチル〕ベンゼン(キシリレンビスオキセタンとも呼ばれる)、3−エチル−3〔{(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ}メチル〕オキセタン、3−エチル−3−(フェノキシメチル)オキセタン、3−(シクロヘキシルオキシ)メチル−3−エチルオキセタンなどを挙げることができる。
Examples of the curable material of the reinforcing
メラミン樹脂を含んでなる補強層8の硬化性材料としては、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサエトキシメチルメラミン、ヘキサプロポキシメチルメラミン、ヘキサブトキシメチルメラミン等のメラミン化合物が挙げられる。
Examples of the curable material of the reinforcing
補強層を形成するための硬化性組成物は、光重合開始剤、熱重合開始剤、溶媒、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、光安定剤、粘着付与剤、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、色素、帯電防止剤、及び紫外線吸収剤等の添加剤をさらに含むことができる。 The curable composition for forming the reinforcing layer includes a photopolymerization initiator, a thermal polymerization initiator, a solvent, a polymerization inhibitor, a photosensitizer, a leveling agent, an antioxidant, a chain transfer agent, a light stabilizer, and an adhesive. It can further contain additives such as an imparting agent, a filler, a flow modifier, a plasticizer, an antifoaming agent, a dye, an antistatic agent, and an ultraviolet absorber.
光重合開始剤は、ラジカル重合で硬化する硬化性組成物、例えば(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレートを硬化性材料として使用する場合に光ラジカル重合開始剤を使用することができ、カチオン重合で硬化する硬化性組成物、例えばエポキシ化合物、オキセタン化合物を硬化性組成物として使用する場合に光カチオン重合開始剤を使用することができ、熱により硬化する硬化性組成物、例えばメラミン化合物を硬化性組成物として使用する場合に熱重合開始剤を使用することができる。 The photopolymerization initiator can be used as a curable composition that cures by radical polymerization, such as (meth) acrylate or urethane (meth) acrylate, as a curable material. In the case of using a curable composition that cures at a temperature, for example, an epoxy compound or an oxetane compound, a photocationic polymerization initiator can be used, and a curable composition that is cured by heat, for example, a melamine compound is cured. When used as an adhesive composition, a thermal polymerization initiator can be used.
光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤等が挙げられる。光ラジカル重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、トリアジン化合物等が挙げられ、光カチオン重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩や芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩、鉄−アレーン錯体等が挙げられる。
具体的には、イルガキュア(Irgacure、登録商標)907、イルガキュア184、イルガキュア651、イルガキュア819、イルガキュア250、イルガキュア369、イルガキュア379、イルガキュア127、イルガキュア2959、イルガキュア754、イルガキュア379EG(以上、BASFジャパン株式会社製)、セイクオールBZ、セイクオールZ、セイクオールBEE(以上、精工化学株式会社製)、カヤキュアー(kayacure)BP100(日本化薬株式会社製)、カヤキュアーUVI−6992(ダウ社製)、アデカオプトマーSP−152、アデカオプトマーSP−170、アデカオプトマーN−1717、アデカオプトマーN−1919、アデカアークルズNCI−831、アデカアークルズNCI−930(以上、株式会社ADEKA製)、TAZ−A、TAZ−PP(以上、日本シイベルヘグナー社製)及びTAZ−104(三和ケミカル社製)、カヤラッド(登録商標)シリーズ(日本化薬株式会社製)、サイラキュア UVIシリーズ(ダウケミカル社製)、CPIシリーズ(サンアプロ株式会社製)、TAZ、BBI及びDTS(以上、みどり化学株式会社製)、RHODORSIL(登録商標)(ローディア株式会社製)等が挙げられる。光重合開始剤は単独又は二種以上組合わせて使用できる。光重合開始剤は、使用する材料に合わせて適宜選択して使用する事が出来る。
Examples of the photopolymerization initiator include a photoradical polymerization initiator and a photocationic polymerization initiator. Examples of the photoradical polymerization initiator include benzoin compounds, benzophenone compounds, benzyl ketal compounds, α-hydroxyketone compounds, α-aminoketone compounds, triazine compounds, and the like. Examples of photocationic polymerization initiators include aromatic diazonium salts and aromatic compounds. Onium salts such as group iodonium salts and aromatic sulfonium salts, and iron-arene complexes.
Specifically, Irgacure (registered trademark) 907, Irgacure 184, Irgacure 651, Irgacure 819, Irgacure 250, Irgacure 369, Irgacure 379, Irgacure 127, Irgacure 2959, Irgacure 754, Irgacure 379EG (above, BASF Japan Ltd.) ), Sequol BZ, Sequol Z, Sequol BEE (above, Seiko Chemical Co., Ltd.), kayacure BP100 (Nippon Kayaku Co., Ltd.), Kayacure UVI-6992 (Dow), Adekaoptomer SP- 152, Adekaoptomer SP-170, Adekaoptomer N-1717, Adekaoptomer N-1919, Adeka Arcles NCI-831, Adeka Arcles NCI-930 (above, stocks Company ADEKA), TAZ-A, TAZ-PP (manufactured by Nippon Siebel Hegner) and TAZ-104 (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.), Kayrad (registered trademark) series (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Cyracure UVI series (Manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.), CPI series (manufactured by Sun Apro Co., Ltd.), TAZ, BBI and DTS (manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.), RHODORSIL (registered trademark) (manufactured by Rhodia Co., Ltd.) and the like. A photoinitiator can be used individually or in combination of 2 or more types. The photopolymerization initiator can be appropriately selected and used according to the material to be used.
光重合開始剤は、光源から発せられるエネルギーを十分に活用でき、生産性に優れるため、極大吸収波長が300nm〜400nmであると好ましく、300nm〜380nmであるとより好ましく、中でも、α−アセトフェノン系重合開始剤、オキシム系光重合開始剤が好ましい。 The photopolymerization initiator can sufficiently utilize the energy emitted from the light source and is excellent in productivity. Therefore, the maximum absorption wavelength is preferably 300 nm to 400 nm, more preferably 300 nm to 380 nm, and among them, α-acetophenone series A polymerization initiator and an oxime photopolymerization initiator are preferred.
α−アセトフェノン系重合開始剤としては、例えば、2−メチル−2−モルホリノ−1−(4−メチルスルファニルフェニル)プロパン−1−オン、2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−2−ベンジルブタン−1−オン及び2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−2−(4−メチルフェニルメチル)ブタン−1−オン等が挙げられ、より好ましくは2−メチル−2−モルホリノ−1−(4−メチルスルファニルフェニル)プロパン−1−オン及び2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−2−ベンジルブタン−1−オンが挙げられる。α−アセトフェノン化合物の市販品としては、イルガキュア369、379EG、907(以上、BASFジャパン(株)製)及びセイクオールBEE(精工化学社製)等が挙げられる。 Examples of the α-acetophenone polymerization initiator include 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylsulfanylphenyl) propan-1-one, 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -2. -Benzylbutan-1-one and 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -2- (4-methylphenylmethyl) butan-1-one, and the like, more preferably 2-methyl-2- And morpholino-1- (4-methylsulfanylphenyl) propan-1-one and 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -2-benzylbutan-1-one. Examples of commercially available products of α-acetophenone compounds include Irgacure 369, 379EG, 907 (above, manufactured by BASF Japan Ltd.), Sequol BEE (manufactured by Seiko Chemical Co., Ltd.), and the like.
オキシム系光重合開始剤は、光が照射されることによってラジカルを生成させる。このラジカルにより層の深部における硬化性組成物の重合が好適に進行する。また、層の深部での重合反応をより効率的に進行させるという観点から、波長350nm以上の紫外線を効率的に利用可能な光重合開始剤を使用することが好ましい。波長350nm以上の紫外線を効率的に利用可能な光重合開始剤としては、トリアジン化合物やオキシムエステル型カルバゾール化合物が好ましく、感度の観点からはオキシムエステル型カルバゾール化合物がより好ましい。オキシムエステル型カルバゾール化合物としては、例えば1,2−オクタンジオン、1−[4−(フェニルチオ)−2−(O−ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−1−(O−アセチルオキシム)等が挙げられる。オキシムエステル型カルバゾール化合物の市販品としては、イルガキュアOXE−01、イルガキュアOXE−02、イルガキュアOXE−03(以上、BASFジャパン株式会社製)、アデカオプトマーN−1919、アデカアークルズNCI−831(以上、株式会社ADEKA製)等が挙げられる。 The oxime photopolymerization initiator generates radicals when irradiated with light. Polymerization of the curable composition in the deep part of the layer suitably proceeds by this radical. Moreover, it is preferable to use the photoinitiator which can utilize the ultraviolet-ray with a wavelength of 350 nm or more efficiently from a viewpoint of advancing the polymerization reaction in the deep part of a layer more efficiently. As a photopolymerization initiator capable of efficiently using ultraviolet rays having a wavelength of 350 nm or more, a triazine compound or an oxime ester type carbazole compound is preferable, and an oxime ester type carbazole compound is more preferable from the viewpoint of sensitivity. Examples of the oxime ester type carbazole compound include 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio) -2- (O-benzoyloxime)], ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl). Benzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) and the like. Commercially available oxime ester type carbazole compounds include Irgacure OXE-01, Irgacure OXE-02, Irgacure OXE-03 (above, manufactured by BASF Japan Ltd.), Adekaoptomer N-1919, Adeka Arcles NCI-831 (or more ADEKA Co., Ltd.).
熱重合開始剤としては、例えば2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチル−4−メトキシバレロニトリル)、ジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)、2,2’−アゾビス(2−ヒドロキシメチルプロピオニトリル)等のアゾ系化合物;ラウリルパーオキサイド、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、過酸化ベンゾイル、tert−ブチルパーオキシベンゾエート、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジプロピルパーオキシジカーボネート、tert−ブチルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシピバレート、(3,5,5−トリメチルヘキサノイル)パーオキサイド等の有機過酸化物;過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素等の無機過酸化物などが挙げられる。これらの熱重合開始剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。 Examples of the thermal polymerization initiator include 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (2,4-dimethyl-4-methoxyvaleronitrile), dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropio) Azo) compounds such as 2,2′-azobis (2-hydroxymethylpropionitrile); lauryl peroxide, tert-butyl hydroperoxide, benzoyl peroxide, tert-butyl peroxybenzoate, cumene hydroperoxide , Diisopropyl peroxydicarbonate, dipropyl peroxydicarbonate, tert- Organic peroxides such as tilperoxyneodecanoate, tert-butylperoxypivalate, (3,5,5-trimethylhexanoyl) peroxide; inorganic peroxides such as potassium persulfate, ammonium persulfate, and hydrogen peroxide An oxide etc. are mentioned. These thermal polymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.
重合開始剤の添加量は、硬化性組成物100質量部に対して、通常、0.1〜20質量部であり、好ましくは0.5〜10質量部であり、より好ましくは1〜5質量部である。
上記範囲内であれば、硬化反応が十分に進行しやすい。
The addition amount of a polymerization initiator is 0.1-20 mass parts normally with respect to 100 mass parts of curable compositions, Preferably it is 0.5-10 mass parts, More preferably, it is 1-5 masses. Part.
If it is in the said range, hardening reaction will fully advance easily.
硬化性材料は通常、溶媒に溶解した状態で基材に塗布されるため、硬化性材料は溶媒を含むことが好ましい。溶媒としては、硬化性組成物を溶解し得る溶媒が好ましく、また、硬化性材料の重合反応に不活性な溶媒であることが好ましい。溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−ブトキシエタノール及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート及び乳酸エチル等のエステル溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン及びメチルイソブチルケトン等のケトン溶媒;ペンタン、ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒;エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒;トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶媒;アセトニトリル等のニトリル溶媒;テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル溶媒;クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶媒;ジメチルアセトアミド、ジメチルホルミアミド、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等のアミド系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの中でも、アルコール溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、塩素含有溶媒、アミド系溶媒及び芳香族炭化水素溶媒が好ましい。 Since the curable material is usually applied to the substrate in a state dissolved in a solvent, the curable material preferably contains a solvent. As the solvent, a solvent capable of dissolving the curable composition is preferable, and a solvent inert to the polymerization reaction of the curable material is preferable. Examples of the solvent include alcohols such as water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-butoxyethanol, and propylene glycol monomethyl ether. Solvent; ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, propylene glycol methyl ether acetate and ethyl lactate; acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, methyl isobutyl ketone, etc. Ketone solvent; aliphatic hydrocarbon solvent such as pentane, hexane and heptane; fat such as ethylcyclohexane Formula hydrocarbon solvents; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; nitrile solvents such as acetonitrile; ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; chlorine-containing solvents such as chloroform and chlorobenzene; dimethylacetamide, dimethylformamide, N- Examples thereof include amide solvents such as methyl-2-pyrrolidone (NMP) and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone. These solvents can be used alone or in combination of two or more. Among these, alcohol solvents, ester solvents, ketone solvents, chlorine-containing solvents, amide solvents, and aromatic hydrocarbon solvents are preferable.
溶媒の含有量は、硬化性組成物100質量部に対して、好ましくは50〜98質量部、より好ましくは60〜95重量部である。従って、組成物100質量部に占める固形分は、2〜50質量部であることが好ましい。この範囲であると、硬化性組成物の粘度が低くなることから、補強層の厚みが略均一になり、補強層にムラが生じ難くなる傾向がある。 The content of the solvent is preferably 50 to 98 parts by weight, more preferably 60 to 95 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable composition. Therefore, the solid content in 100 parts by mass of the composition is preferably 2 to 50 parts by mass. Within this range, since the viscosity of the curable composition is low, the thickness of the reinforcing layer becomes substantially uniform, and unevenness tends to be hardly generated in the reinforcing layer.
硬化性組成物は、硬化性材料と、添加剤等の硬化性材料以外の成分とを所定温度で撹拌等することにより得ることができる。 The curable composition can be obtained by stirring the curable material and components other than the curable material such as an additive at a predetermined temperature.
補強層8は、硬化性組成物を基材上に塗布し、次いで溶媒を除去し、加熱及び/又は活性エネルギー線によって硬化させて得ることができる。
The reinforcing
硬化性組成物を基材に塗布する方法(以下、塗布方法Aという場合がある)としては、例えば押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、CAPコーティング法、スリットコーティング法、マイクログラビア法、ダイコーティング法、インクジェット法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等も挙げられる。中でも、Roll to Roll形式で連続的に塗布する場合には、マイクログラビア法、インクジェット法、スリットコーティング法、ダイコーティング法による塗布方法が好ましい。 Examples of a method for applying a curable composition to a substrate (hereinafter sometimes referred to as application method A) include extrusion coating, direct gravure coating, reverse gravure coating, CAP coating, slit coating, and microgravure. Method, die coating method, ink jet method and the like. Moreover, the method of apply | coating using coaters, such as a dip coater, a bar coater, a spin coater, etc. are mentioned. Among these, in the case of continuous application in the Roll to Roll format, an application method by a micro gravure method, an inkjet method, a slit coating method, or a die coating method is preferable.
溶媒を除去する方法(以下、溶媒除去方法Aという場合がある)としては、例えば、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥及びこれらを組み合わせた方法が挙げられる。中でも、自然乾燥又は加熱乾燥が好ましい。乾燥温度は、0〜200℃の範囲が好ましく、20〜150℃の範囲がより好ましく、50〜130℃の範囲がさらに好ましい。乾燥時間は、10秒間〜20分間が好ましく、より好ましくは30秒間〜10分間である。 Examples of the method for removing the solvent (hereinafter sometimes referred to as “solvent removal method A”) include natural drying, ventilation drying, heat drying, reduced pressure drying, and a combination thereof. Of these, natural drying or heat drying is preferable. The drying temperature is preferably in the range of 0 to 200 ° C, more preferably in the range of 20 to 150 ° C, and still more preferably in the range of 50 to 130 ° C. The drying time is preferably 10 seconds to 20 minutes, more preferably 30 seconds to 10 minutes.
照射する活性エネルギー線としては、硬化性組成物の種類、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、及びそれらの量に応じて適宜選択される。照射する活性エネルギー線としては、硬化性組成物の種類、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、及びそれらの量に応じて適宜選択される。具体的には、可視光、紫外光、赤外光、X線、α線、β線、及びγ線からなる群より選択される一種以上の光が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点、及び光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶化合物の種類を選択することが好ましい。 The active energy ray to be irradiated is appropriately selected according to the type of the curable composition, the type of the photopolymerization initiator when it contains a photopolymerization initiator, and the amount thereof. The active energy ray to be irradiated is appropriately selected according to the type of the curable composition, the type of the photopolymerization initiator when it contains a photopolymerization initiator, and the amount thereof. Specifically, one or more kinds of light selected from the group consisting of visible light, ultraviolet light, infrared light, X-rays, α-rays, β-rays, and γ-rays can be used. Among them, ultraviolet light is preferable in that it is easy to control the progress of the polymerization reaction and that a photopolymerization apparatus widely used in this field can be used. It is preferable to select the kind of the liquid crystalline compound.
前記活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲380〜440nmを発光するLED光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。 Examples of the light source of the active energy ray include a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a xenon lamp, a halogen lamp, a carbon arc lamp, a tungsten lamp, a gallium lamp, an excimer laser, and a wavelength range. Examples include LED light sources that emit light of 380 to 440 nm, chemical lamps, black light lamps, microwave-excited mercury lamps, metal halide lamps, and the like.
紫外線照射強度は、通常、10〜3,000mW/cm2である。紫外線照射強度は、好ましくは光カチオン重合開始剤又は光ラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常0.1秒〜10分であり、好ましくは0.1秒〜5分、より好ましくは0.1秒〜3分、さらに好ましくは0.1秒〜1分である。
このような紫外線照射強度で1回又は複数回照射すると、その積算光量は、10〜3,000mJ/cm2、好ましくは50〜2,000mJ/cm2、より好ましくは100〜1,000mJ/cm2である。積算光量がこの範囲以下である場合には、硬化性組成物の硬化が不十分となり、楕円偏光板の加工特性が低下する場合がある。逆に、積算光量がこの範囲以上である場合には、楕円偏光板が着色する場合がある。
The ultraviolet irradiation intensity is usually 10 to 3,000 mW / cm 2 . The ultraviolet irradiation intensity is preferably an intensity in a wavelength region effective for activating the photocationic polymerization initiator or the photoradical polymerization initiator. The time for irradiating light is usually 0.1 second to 10 minutes, preferably 0.1 second to 5 minutes, more preferably 0.1 second to 3 minutes, and further preferably 0.1 second to 1 minute. is there.
When irradiating once or a plurality of times with such ultraviolet irradiation intensity, the integrated light quantity is 10 to 3,000 mJ / cm 2 , preferably 50 to 2,000 mJ / cm 2 , more preferably 100 to 1,000 mJ / cm 2 . 2 . When the integrated light quantity is less than or equal to this range, the curable composition is not sufficiently cured, and the processing characteristics of the elliptically polarizing plate may be deteriorated. On the contrary, when the integrated light quantity is more than this range, the elliptically polarizing plate may be colored.
熱により硬化性組成物を硬化する場合、加熱温度は、硬化性材料の種類、熱重合開始剤を含む場合には熱重合開始剤の種類、及びそれらの量に応じて適宜選択されるが、例えば50℃〜200℃、好ましくは50℃〜130℃であってもよい。加熱時間は、例えば10秒〜10分間、好ましくは10秒〜5分間であってもよい。なお、加熱乾燥する場合には乾燥と硬化とを同時に行うこともできる。 When the curable composition is cured by heat, the heating temperature is appropriately selected according to the type of the curable material, and when including the thermal polymerization initiator, the type of the thermal polymerization initiator, and the amount thereof, For example, it may be 50 ° C to 200 ° C, preferably 50 ° C to 130 ° C. The heating time may be, for example, 10 seconds to 10 minutes, preferably 10 seconds to 5 minutes. When drying by heating, drying and curing can be performed simultaneously.
補強層8の膜厚は、補強性の観点から、好ましくは1〜10μmである。補強層の膜厚が上記の下限値以上であると、楕円偏光板に含まれる層、特に垂直配向液晶硬化層6を十分に補強でき、優れた加工特性を発現できる。補強層8の膜厚が上記の上限値以下であると、楕円偏光板の薄膜化の観点から好ましい。補強層8の膜厚は、楕円偏光板の薄膜化の観点からは、好ましくは1〜5μm、より好ましくは1〜3μmであってもよく、楕円偏光板の加工特性の観点からは、好ましくは5〜10μm、より好ましくは7〜10μmであってもよい。補強層の膜厚は、エリプソメータ又は接触式膜厚計を用いて測定できる。
The thickness of the reinforcing
〔偏光層〕
偏光層2は、偏光機能を有する層である。このような層としては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、又は、吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムを偏光子として含むフィルム等が挙げられる。吸収異方性を有する色素としては、例えば、二色性色素が挙げられる。
(Polarizing layer)
The
吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムを偏光子として含むフィルムは通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造された偏光子の少なくとも一方の面に接着剤を介して透明保護フィルムで挟み込むことで作製される。 A film containing a stretched film adsorbed with a dye having absorption anisotropy as a polarizer is usually a step of uniaxially stretching a polyvinyl alcohol resin film, by dyeing the polyvinyl alcohol resin film with a dichroic dye, At least a polarizer manufactured through a step of adsorbing a dichroic dye, a step of treating a polyvinyl alcohol resin film adsorbed with a dichroic dye with an aqueous boric acid solution, and a step of washing with water after the treatment with the aqueous boric acid solution It is produced by sandwiching it with a transparent protective film via an adhesive on one surface.
ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することによって得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体が用いられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類などが挙げられる。 The polyvinyl alcohol resin can be obtained by saponifying a polyvinyl acetate resin. As the polyvinyl acetate-based resin, in addition to polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, copolymers of vinyl acetate and other monomers copolymerizable therewith are used. Examples of other monomers copolymerizable with vinyl acetate include unsaturated carboxylic acids, olefins, vinyl ethers, unsaturated sulfonic acids, and acrylamides having an ammonium group.
ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常85〜100モル%程度であり、好ましくは98モル%以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタールも使用することができる。ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常1,000〜10,000程度であり、好ましくは1,500〜5,000の範囲である。 The saponification degree of the polyvinyl alcohol resin is usually about 85 to 100 mol%, preferably 98 mol% or more. The polyvinyl alcohol resin may be modified, and for example, polyvinyl formal or polyvinyl acetal modified with aldehydes can also be used. The degree of polymerization of the polyvinyl alcohol resin is usually about 1,000 to 10,000, preferably in the range of 1,500 to 5,000.
このようなポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものが、偏光層2の原反フィルムとして用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂を製膜する方法は、特に限定されるものでなく、公知の方法で製膜することができる。ポリビニルアルコール系原反フィルムの膜厚は、例えば、10〜150μm程度とすることができる。
A film obtained by forming such a polyvinyl alcohol resin is used as a raw film of the
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸は、二色性色素による染色の前、染色と同時、又は染色の後で行うことができる。一軸延伸を染色の後で行う場合、この一軸延伸は、ホウ酸処理の前に行ってもよいし、ホウ酸処理中に行ってもよい。また、これらの複数の段階で一軸延伸を行うことも可能である。一軸延伸にあたっては、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また一軸延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶媒を用い、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。延伸倍率は、通常3〜8倍程度である。 Uniaxial stretching of the polyvinyl alcohol-based resin film can be performed before dyeing with the dichroic dye, simultaneously with dyeing, or after dyeing. When uniaxial stretching is performed after dyeing, the uniaxial stretching may be performed before boric acid treatment or during boric acid treatment. Moreover, it is also possible to perform uniaxial stretching in these several steps. In uniaxial stretching, it may be uniaxially stretched between rolls having different peripheral speeds, or may be uniaxially stretched using a hot roll. Further, the uniaxial stretching may be dry stretching in which stretching is performed in the air, or may be wet stretching in which stretching is performed in a state where a solvent is used and a polyvinyl alcohol-based resin film is swollen. The draw ratio is usually about 3 to 8 times.
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの二色性色素による染色は、例えば、二色性色素を含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬する方法によって行われる。 The polyvinyl alcohol resin film is dyed with a dichroic dye by, for example, a method of immersing the polyvinyl alcohol resin film in an aqueous solution containing the dichroic dye.
二色性色素として、具体的には、ヨウ素や二色性の有機染料が用いられる。二色性の有機染料としては、C.I. DIRECT RED 39などのジスアゾ化合物からなる二色性直接染料及び、トリスアゾ、テトラキスアゾなどの化合物からなる二色性直接染料等が挙げられる。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、染色処理前に、水への浸漬処理を施しておくことが好ましい。 Specifically, iodine or a dichroic organic dye is used as the dichroic dye. Examples of the dichroic organic dye include dichroic direct dyes composed of disazo compounds such as C.I. DIRECT RED 39, and dichroic direct dyes composed of compounds such as trisazo and tetrakisazo. The polyvinyl alcohol-based resin film is preferably subjected to an immersion treatment in water before the dyeing treatment.
二色性色素としてヨウ素を用いる場合は通常、ヨウ素及びヨウ化カリウムを含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。この水溶液におけるヨウ素の含有量は、水100質量部あたり、通常、0.01〜1質量部程度である。またヨウ化カリウムの含有量は、水100質量部あたり、通常、0.5〜20質量部程度である。染色に用いる水溶液の温度は、通常20〜40℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間(染色時間)は、通常20〜1,800秒程度である。 When iodine is used as the dichroic dye, a method of dyeing a polyvinyl alcohol resin film by dipping in an aqueous solution containing iodine and potassium iodide is usually employed. The content of iodine in this aqueous solution is usually about 0.01 to 1 part by mass per 100 parts by mass of water. Moreover, content of potassium iodide is about 0.5-20 mass parts normally per 100 mass parts of water. The temperature of the aqueous solution used for dyeing is usually about 20 to 40 ° C. Moreover, the immersion time (dyeing time) in this aqueous solution is usually about 20 to 1,800 seconds.
一方、二色性色素として二色性の有機染料を用いる場合は通常、水溶性二色性染料を含む水溶液にポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。
この水溶液における二色性有機染料の含有量は、水100質量部あたり、通常、1×10−4〜10質量部程度であり、好ましくは1×10−3〜1質量部であり、さらに好ましくは1×10−3〜1×10−2質量部である。この水溶液は、硫酸ナトリウム等の無機塩を染色助剤として含んでいてもよい。染色に用いる二色性染料水溶液の温度は、通常、20〜80℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間(染色時間)は、通常、10〜1,800秒程度である。
On the other hand, when a dichroic organic dye is used as the dichroic dye, a method of immersing and dyeing a polyvinyl alcohol-based resin film in an aqueous solution containing a water-soluble dichroic dye is usually employed.
The content of the dichroic organic dye in this aqueous solution is usually about 1 × 10 −4 to 10 parts by mass, preferably 1 × 10 −3 to 1 part by mass, more preferably 100 parts by mass of water. Is 1 × 10 −3 to 1 × 10 −2 parts by mass. This aqueous solution may contain an inorganic salt such as sodium sulfate as a dyeing assistant. The temperature of the aqueous dichroic dye solution used for dyeing is usually about 20 to 80 ° C. Moreover, the immersion time (dyeing time) in this aqueous solution is usually about 10 to 1,800 seconds.
二色性色素による染色後のホウ酸処理は通常、染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液に浸漬する方法により行うことができる。このホウ酸水溶液におけるホウ酸の含有量は、水100質量部あたり、通常2〜15質量部程度であり、好ましくは5〜12質量部である。二色性色素としてヨウ素を用いた場合には、このホウ酸水溶液はヨウ化カリウムを含有することが好ましく、その場合のヨウ化カリウムの含有量は、水100質量部あたり、通常0.1〜15質量部程度であり、好ましくは5〜12質量部である。ホウ酸水溶液への浸漬時間は、通常60〜1,200秒程度であり、好ましくは150〜600秒、さらに好ましくは200〜400秒である。ホウ酸処理の温度は、通常50℃以上であり、好ましくは50〜85℃、さらに好ましくは60〜80℃である。 The boric acid treatment after dyeing with a dichroic dye can be usually performed by a method of immersing a dyed polyvinyl alcohol resin film in an aqueous boric acid solution. The boric acid content in this boric acid aqueous solution is usually about 2 to 15 parts by mass, preferably 5 to 12 parts by mass per 100 parts by mass of water. When iodine is used as the dichroic dye, this aqueous boric acid solution preferably contains potassium iodide. In this case, the content of potassium iodide is usually 0.1 to 100 parts by mass of water. About 15 parts by mass, preferably 5 to 12 parts by mass. The immersion time in the boric acid aqueous solution is usually about 60 to 1,200 seconds, preferably 150 to 600 seconds, and more preferably 200 to 400 seconds. The temperature of boric acid treatment is usually 50 ° C. or higher, preferably 50 to 85 ° C., more preferably 60 to 80 ° C.
ホウ酸処理後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムは通常、水洗処理される。水洗処理は、例えば、ホウ酸処理されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを水に浸漬する方法により行うことができる。水洗処理における水の温度は、通常5〜40℃程度である。
また浸漬時間は、通常1〜120秒程度である。
The polyvinyl alcohol resin film after the boric acid treatment is usually washed with water. The water washing treatment can be performed, for example, by a method of immersing a boric acid-treated polyvinyl alcohol resin film in water. The temperature of water in the water washing treatment is usually about 5 to 40 ° C.
The immersion time is usually about 1 to 120 seconds.
水洗後に乾燥処理が施されて、偏光子が得られる。乾燥処理は例えば、熱風乾燥機や遠赤外線ヒーターを用いて行うことができる。乾燥処理の温度は、通常30〜100℃程度であり、好ましくは50〜80℃である。乾燥処理の時間は、通常60〜600秒程度であり、好ましくは120〜600秒である。乾燥処理により、偏光子の水分率は実用程度にまで低減される。その水分率は、通常5〜20重量%程度であり、好ましくは8〜15重量%である。水分率が5重量%を下回ると、偏光子の可撓性が失われ、偏光子がその乾燥後に損傷したり、破断したりすることがある。また、水分率が20重量%を上回ると、偏光子の熱安定性が悪くなる可能性がある。 A drying process is performed after water washing, and a polarizer is obtained. The drying process can be performed using, for example, a hot air dryer or a far infrared heater. The temperature of a drying process is about 30-100 degreeC normally, Preferably it is 50-80 degreeC. The drying time is usually about 60 to 600 seconds, preferably 120 to 600 seconds. By the drying treatment, the moisture content of the polarizer is reduced to a practical level. The moisture content is usually about 5 to 20% by weight, preferably 8 to 15% by weight. When the moisture content is less than 5% by weight, the flexibility of the polarizer is lost, and the polarizer may be damaged or broken after drying. On the other hand, when the moisture content exceeds 20% by weight, the thermal stability of the polarizer may be deteriorated.
こうしてポリビニルアルコール系樹脂フィルムに、一軸延伸、二色性色素による染色、ホウ酸処理、水洗及び乾燥をして得られる偏光子の厚さは好ましくは5〜40μmである。 Thus, the thickness of the polarizer obtained by uniaxially stretching, dyeing with a dichroic dye, boric acid treatment, washing with water and drying on a polyvinyl alcohol resin film is preferably 5 to 40 μm.
吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、液晶性を有する二色性色素を含む組成物又は、二色性色素と重合性液晶とを含む組成物を塗布して得られるフィルム等が挙げられる。当該フィルムは、好ましくは、その片面又は両面に保護フィルムを有する。
当該保護フィルムとしては、後述する基材と同一のものが挙げられる。
Examples of the film coated with a dye having absorption anisotropy include a composition containing a dichroic dye having liquid crystallinity, or a film obtained by applying a composition containing a dichroic dye and a polymerizable liquid crystal. Can be mentioned. The film preferably has a protective film on one side or both sides.
As the said protective film, the same thing as the base material mentioned later is mentioned.
吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムは薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。当該フィルムの厚さは、通常20μm以下であり、好ましくは5μm以下であり、より好ましくは0.5〜3μmである。 The film coated with the pigment having absorption anisotropy is preferably thin, but if it is too thin, the strength is lowered and the processability tends to be inferior. The thickness of the film is usually 20 μm or less, preferably 5 μm or less, and more preferably 0.5 to 3 μm.
前記吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、具体的には、特開2012−33249号公報等に記載のフィルムが挙げられる。 Specific examples of the film coated with the pigment having absorption anisotropy include films described in JP 2012-33249 A.
このようにして得られた偏光子の少なくとも一方の面に、接着剤を介して透明保護フィルムを積層することにより偏光層2が得られる。透明保護フィルムとしては、後述する基材と同様の透明フィルムを好ましく用いることができる。
The
〔λ/4位相差層〕
λ/4位相差層4はフィルム面内の屈折率に異方性を有する層である。λ/4位相差層4は、高分子フィルムを延伸又は収縮させる方法により形成してもよいが、楕円偏光板の薄膜化の観点から、重合性液晶化合物(重合性液晶ともいう)を含む重合性液晶組成物を配向させたまま重合して形成することが好ましい。
[Λ / 4 retardation layer]
The λ / 4 retardation layer 4 is a layer having anisotropy in the in-plane refractive index. The λ / 4 retardation layer 4 may be formed by a method of stretching or shrinking a polymer film. However, from the viewpoint of thinning an elliptically polarizing plate, polymerization including a polymerizable liquid crystal compound (also referred to as polymerizable liquid crystal) is performed. It is preferable to form the crystalline liquid crystal composition while it is aligned.
λ/4位相差層4が形成する3次元屈折率楕円体は2軸性を有していてもよいが、1軸性を有することが好ましい。λ/4位相差層4は、λ/4位相差層4の平面に対して水平方向に配向した状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなる水平配向液晶硬化層であることが好ましい。 The three-dimensional refractive index ellipsoid formed by the λ / 4 retardation layer 4 may have biaxiality, but preferably has uniaxiality. The λ / 4 retardation layer 4 is a horizontal alignment liquid crystal cured layer made of a polymer of a polymerizable liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound in a state of being aligned in the horizontal direction with respect to the plane of the λ / 4 retardation layer 4. Preferably there is.
水平配向液晶硬化層は、重合性液晶の光軸がλ/4位相差層の平面に対して水平方向に配向している。λ/4位相差層を構成する重合性液晶は、棒状又は円板状の重合性液晶であってもよい。棒状の重合性液晶がλ/4位相差層の平面に対して水平配向又は垂直配向した場合は、重合性液晶の光軸は、該重合性液晶の長軸方向と一致する。円盤状の重合性液晶が配向した場合は、重合性液晶の光軸は、該重合性液晶の円盤面に対して直交する方向に存在する。 In the horizontally aligned liquid crystal cured layer, the optical axis of the polymerizable liquid crystal is aligned in the horizontal direction with respect to the plane of the λ / 4 retardation layer. The polymerizable liquid crystal constituting the λ / 4 retardation layer may be a rod-shaped or disk-shaped polymerizable liquid crystal. When the rod-like polymerizable liquid crystal is horizontally or vertically aligned with respect to the plane of the λ / 4 retardation layer, the optical axis of the polymerizable liquid crystal coincides with the major axis direction of the polymerizable liquid crystal. When the disk-shaped polymerizable liquid crystal is aligned, the optical axis of the polymerizable liquid crystal exists in a direction orthogonal to the disk surface of the polymerizable liquid crystal.
重合性液晶の配向により形成される屈折率楕円体における3方向の屈折率nx、ny及びnzは、nx>ny≒nz(ポジティブAプレートという)、nx≒ny<nz(ポジティブCプレートという)、nx<ny≒nz(ネガティブAプレートという)又はnx≒ny>nz(ネガティブCプレートという)等の関係が挙げられる。nxは、λ/4位相差層が形成する屈折率楕円体において、λ/4位相差層の平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。nyは、λ/4位相差層が形成する屈折率楕円体において、λ/4位相差層の平面に対して平行であり、且つ、該nxの方向に対して直交する方向の屈折率を表す。nzは、λ/4位相差層が形成する屈折率楕円体において、λ/4位相差層の平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。 Refractive indices nx, ny and nz in three directions in the refractive index ellipsoid formed by the orientation of the polymerizable liquid crystal are nx> ny≈nz (referred to as positive A plate), nx≈ny <nz (referred to as positive C plate), Examples of the relationship include nx <ny≈nz (referred to as negative A plate) or nx≈ny> nz (referred to as negative C plate). nx represents a main refractive index in a direction parallel to the plane of the λ / 4 retardation layer in the refractive index ellipsoid formed by the λ / 4 retardation layer. ny is a refractive index ellipsoid formed by the λ / 4 phase difference layer, and represents a refractive index in a direction parallel to the plane of the λ / 4 phase difference layer and perpendicular to the direction of nx. . nz represents the refractive index in the direction perpendicular to the plane of the λ / 4 retardation layer in the refractive index ellipsoid formed by the λ / 4 retardation layer.
λ/4位相差層4は、棒状の重合性液晶と円盤状の重合性液晶のどちらであっても使用可能であるが、棒状の重合性液晶であることが好ましく、棒状の重合性液晶が水平配向液晶硬化層を形成する場合、λ/4位相差層はポジティブAプレートとなる。 The λ / 4 retardation layer 4 can be either a rod-like polymerizable liquid crystal or a disk-like polymerizable liquid crystal, but is preferably a rod-like polymerizable liquid crystal. When forming a horizontally aligned liquid crystal cured layer, the λ / 4 retardation layer is a positive A plate.
λ/4位相差層4は、λ/4位相差層が形成する屈折率楕円体において波長λ=400〜700nmの範囲で、
nxQ(λ)>nyQ(λ)≒nzQ(λ)
[式中、nxQ(λ)はλ/4位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対する位相差層平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。nyQ(λ)はλ/4位相差層が形成する屈折率楕円体において、位相差層平面に対して平行であり、且つ、前記nxQ(λ)の方向に対して直交する方向の波長λ(nm)の光に対する屈折率を表す。nzQ(λ)はλ/4位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対する位相差層平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。]
の関係を有し、
下記式(1)〜(3)
ReQ(450)/ReQ(550)≦1.00 (1)
1.00≦ReQ(650)/ReQ(550) (2)
100nm≦ReQ(550)≦160nm (3)
[式中、ReQ(450)は波長λ=450nmの光に対するλ/4位相差層の面内位相差値を、ReQ(550)は波長λ=550nmの光に対するλ/4位相差層の面内位相差値を、ReQ(650)は波長λ=650nmの光に対するλ/4位相差層の面内位相差値をそれぞれ示し、波長λ(nm)の光に対するλ/4位相差層の面内位相差値ReQ(λ)は、
ReQ(λ)=(nxQ(λ)−nyQ(λ))×dQ
で表される。ここで、dQはλ/4位相差層の厚みを表す。]
の関係を満たすことが好ましい。
The λ / 4 retardation layer 4 has a wavelength λ = 400 to 700 nm in the refractive index ellipsoid formed by the λ / 4 retardation layer.
nxQ (λ)> nyQ (λ) ≈nzQ (λ)
[Wherein, nxQ (λ) represents a main refractive index in a direction parallel to the plane of the retardation layer with respect to light of wavelength λ (nm) in the refractive index ellipsoid formed by the λ / 4 retardation layer. nyQ (λ) is a refractive index ellipsoid formed by the λ / 4 retardation layer, and is parallel to the retardation layer plane and has a wavelength λ (perpendicular to the direction of nxQ (λ). nm) of light. In the refractive index ellipsoid formed by the λ / 4 retardation layer, nzQ (λ) represents a refractive index in a direction perpendicular to the retardation layer plane with respect to light of wavelength λ (nm). ]
Have the relationship
Following formula (1)-(3)
ReQ (450) / ReQ (550) ≦ 1.00 (1)
1.00 ≦ ReQ (650) / ReQ (550) (2)
100 nm ≦ ReQ (550) ≦ 160 nm (3)
[Where ReQ (450) is the in-plane retardation value of the λ / 4 retardation layer for light of wavelength λ = 450 nm, and ReQ (550) is the surface of λ / 4 retardation layer for light of wavelength λ = 550 nm. ReQ (650) indicates the in-plane retardation value of the λ / 4 retardation layer for light of wavelength λ = 650 nm, and ReQ (650) indicates the surface of the λ / 4 retardation layer for light of wavelength λ (nm). The internal phase difference value ReQ (λ) is
ReQ (λ) = (nxQ (λ) −nyQ (λ)) × dQ
It is represented by Here, dQ represents the thickness of the λ / 4 retardation layer. ]
It is preferable to satisfy the relationship.
λ/4位相差層4の面内位相差ReQ(550)が式(3)の範囲内であると、楕円偏光板を含むディスプレイ正面の色相が赤くなったり青くなったりする等の色相変化を抑制し得る。面内位相差値のさらに好ましい範囲としては、130nm≦Re1(550)≦150nmである。λ/4位相差層のReQ(450)/ReQ(550)が1.00以下であり、ReQ(650)/ReQ(550)が1.00以上であると、当該λ/4位相差層を備える楕円偏光板での楕円率の悪化を抑制することができ、正面から見た時の円偏光板としての機能が良好になる。「ReQ(450)/ReQ(550)」は、好ましくは0.75〜0.92、より好ましくは0.77〜0.87、さらに好ましくは0.79〜0.85である。 When the in-plane retardation ReQ (550) of the λ / 4 retardation layer 4 is within the range of the expression (3), the hue change such as the hue of the front of the display including the elliptically polarizing plate becomes red or blue may occur. Can be suppressed. A more preferable range of the in-plane retardation value is 130 nm ≦ Re1 (550) ≦ 150 nm. When the ReQ (450) / ReQ (550) of the λ / 4 retardation layer is 1.00 or less and the ReQ (650) / ReQ (550) is 1.00 or more, the λ / 4 retardation layer is The deterioration of the ellipticity of the elliptically polarizing plate provided can be suppressed, and the function as a circularly polarizing plate when viewed from the front is improved. “ReQ (450) / ReQ (550)” is preferably 0.75 to 0.92, more preferably 0.77 to 0.87, and still more preferably 0.79 to 0.85.
λ/4位相差層4の面内位相差値は、λ/4位相差層の厚みdQによって、調整することができる。面内位相差値は、上記式ReQ(λ)=(nxQ(λ)−nyQ(λ))×dQによって決定されることから、所望の面内位相差値(ReQ(λ):波長λ(nm)におけるλ/4位相差層の面内位相差値)を得るには、3次元屈折率と膜厚d1とを調整すればよい。なお、3次元屈折率は、後述する重合性液晶化合物の分子構造並びに配向状態に依存する。 The in-plane retardation value of the λ / 4 retardation layer 4 can be adjusted by the thickness dQ of the λ / 4 retardation layer. Since the in-plane retardation value is determined by the above formula ReQ (λ) = (nxQ (λ) −nyQ (λ)) × dQ, a desired in-plane retardation value (ReQ (λ): wavelength λ ( In order to obtain the in-plane retardation value of the λ / 4 retardation layer in nm), the three-dimensional refractive index and the film thickness d1 may be adjusted. The three-dimensional refractive index depends on the molecular structure and orientation state of the polymerizable liquid crystal compound described later.
λ/4位相差層4の膜厚の上限は、薄膜化の観点から、好ましくは5μm以下であり、より好ましくは3μm以下、さらに好ましくは2.5μm以下である。また、λ/4位相差層4の膜厚の下限は、好ましくは0.1μm以上、より好ましくは0.5μm以上、さらに好ましくは0.8μm以上である。λ/4位相差層の膜厚は、エリプソメータ又は接触式膜厚計を用いて測定することができる。 The upper limit of the film thickness of the λ / 4 retardation layer 4 is preferably 5 μm or less, more preferably 3 μm or less, and even more preferably 2.5 μm or less from the viewpoint of thinning. Further, the lower limit of the film thickness of the λ / 4 retardation layer 4 is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.5 μm or more, and further preferably 0.8 μm or more. The film thickness of the λ / 4 retardation layer can be measured using an ellipsometer or a contact-type film thickness meter.
(垂直配向液晶硬化層)
垂直配向液晶硬化層6は、該液晶硬化層平面に対して垂直方向に配向した状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなる層である。垂直配向液晶硬化層6が形成する3次元屈折率楕円体は2軸性を有していてもよいが、1軸性を有することが好ましい。垂直配向液晶硬化層6は、垂直配向液晶硬化層6の平面に対して垂直方向に配向した状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなる垂直配向液晶硬化層である。垂直配向液晶硬化層6は棒状の液晶であることが好ましく、ポジティブCプレートであることが好ましい。
(Vertical alignment liquid crystal cured layer)
The vertically aligned liquid crystal cured
垂直配向液晶硬化層6がポジティブCプレートである場合、垂直配向液晶硬化層6は、垂直配向液晶硬化層6が形成する屈折率楕円体において、波長λ=400〜700nmの範囲で、
nzV(λ)>nxV(λ)≒nyV(λ)
[式中、nzV(λ)は液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対する液晶硬化層平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。nxV(λ)は液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対する液晶硬化層平面に対して平行な方向の最大屈折率を表す。nyV(λ)は液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化層平面に対して平行であり、且つ、前記nxVの方向に対して直交する方向の波長λ(nm)の光に対する屈折率を表す。ただし、nxV(λ)=nyV(λ)となる場合には、nxV(λ)は液晶硬化層平面に対して平行な任意の方向の屈折率を表す。]
の関係を有し、さらに
下記式(4)〜(6)
RthV(450)/RthV(550)≦1.00 (4)
1.00≦RthV(650)/RthV(550) (5)
−120nm≦RthV(550)≦−50nm (6)
[式中、RthV(450)は波長λ=450nmの光に対する液相硬化層の厚み方向の位相差値を、RthV(550)は波長λ=550nmの光に対する液晶硬化層の厚み方向の位相差値を、RthV(650)は波長650nmの光に対する液晶硬化層の厚み方向の位相差値をそれぞれ表し、波長λ(nm)の光に対する液晶硬化層の厚み方向の位相差値RthV(λ)は、
RthV(λ)=[(nxV(λ)+nyV(λ))/2−nzV(λ)]×dV
で表される。ここで、液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、nzV(λ)は波長λ(nm)における液晶硬化層平面に対して垂直な方向の主屈折率を表し、((nxV(λ)+nyV(λ))/2)は、波長λ(nm)における液晶硬化層平面での平均屈折率を表す。dVは液晶硬化層の厚みを表す。]
の関係を満たすことが好ましい。
When the vertical alignment liquid crystal cured
nzV (λ)> nxV (λ) ≈nyV (λ)
[Wherein, nzV (λ) represents the refractive index in the direction perpendicular to the plane of the liquid crystal cured layer with respect to light of wavelength λ (nm) in the refractive index ellipsoid formed by the liquid crystal cured layer. In the refractive index ellipsoid formed by the liquid crystal cured layer, nxV (λ) represents the maximum refractive index in a direction parallel to the plane of the liquid crystal cured layer with respect to light of wavelength λ (nm). nyV (λ) is a refractive index ellipsoid formed by the liquid crystal cured layer, and is refracted with respect to light having a wavelength λ (nm) parallel to the plane of the liquid crystal cured layer and orthogonal to the nxV direction. Represents a rate. However, when nxV (λ) = nyV (λ), nxV (λ) represents the refractive index in an arbitrary direction parallel to the liquid crystal cured layer plane. ]
Further, the following formulas (4) to (6)
RthV (450) / RthV (550) ≦ 1.00 (4)
1.00 ≦ RthV (650) / RthV (550) (5)
−120 nm ≦ RthV (550) ≦ −50 nm (6)
[In the formula, RthV (450) is a retardation value in the thickness direction of the liquid phase cured layer with respect to light having a wavelength λ = 450 nm, and RthV (550) is a retardation value in the thickness direction of the liquid crystal cured layer with respect to light having a wavelength λ = 550 nm. RthV (650) represents a retardation value in the thickness direction of the liquid crystal cured layer with respect to light having a wavelength of 650 nm, and RthV (λ) represents a retardation value RthV (λ) in the thickness direction of the liquid crystal cured layer with respect to light having a wavelength of λ (nm). ,
RthV (λ) = [(nxV (λ) + nyV (λ)) / 2−nzV (λ)] × dV
It is represented by Here, in the refractive index ellipsoid formed by the liquid crystal cured layer, nzV (λ) represents the main refractive index in the direction perpendicular to the liquid crystal cured layer plane at the wavelength λ (nm), and ((nxV (λ) + nyV). (Λ)) / 2) represents the average refractive index at the plane of the liquid crystal cured layer at the wavelength λ (nm). dV represents the thickness of the liquid crystal cured layer. ]
It is preferable to satisfy the relationship.
垂直配向液晶硬化層6の厚み方向の位相差値Rth2(550)が式(6)の範囲内であると、楕円偏光板を含むディスプレイの斜方の色相が赤くなったり青くなったりするなどの色変化を抑制し得る。厚み方向の位相差値のより好ましい範囲としては、−95nm≦RthV(550)≦−55nm、さらに好ましい範囲としては−90nm≦RthV(550)≦−60nmである。垂直配向液晶硬化層の「RthV(450)/RthV(550)」が1.00以下であり、RthV(650)/RthV(550)が1.00以上であると、当該垂直配向硬化層を含む楕円偏光板での斜方から見た場合の楕円率の悪化を抑制することができ、円偏光板としての機能が良好になる。「RthV(450)/RthV(550)」は、好ましくは0.75〜0.92、より好ましくは0.77〜0.87、さらに好ましくは0.79〜0.85である。
When the retardation value Rth2 (550) in the thickness direction of the vertically aligned liquid crystal cured
垂直配向液晶硬化層6の厚み方向の位相差値は、垂直配向液晶硬化層6の厚さdVによって、調整することができる。面内位相差値は上記式RthV(λ)=[(nxV(λ)+nyV(λ))/2−nzV(λ)]×dVによって決定されることから、所望の厚み方向の位相差値(RthV(λ):波長(nm)における垂直配向液晶硬化層6の厚み方向の位相差値)を得るためには、3次元屈折率と膜厚dVとを調整すればよい。なお、3次元屈折率は、後述する重合性液晶化合物の分子構造並びに配向性に依存する。
The retardation value in the thickness direction of the vertically aligned liquid crystal cured
垂直配向液晶硬化層6の膜厚の上限は、薄膜化の観点から、好ましくは3μm以下であり、より好ましくは2.5μm以下、さらに好ましくは2.0μm以下、特に好ましくは1.5μm以下である。また、垂直配向液晶硬化層6の膜厚の下限は、好ましくは0.1μm以上、より好ましくは0.3μm以上、さらに好ましくは0.5μm以上である。垂直配向液晶硬化層の膜厚は、エリプソメータ又は接触式膜厚計を用いて測定することができる。
The upper limit of the thickness of the vertically aligned liquid crystal cured
(重合性液晶組成物)
λ/4位相差層4及び垂直配向液晶硬化層6はそれぞれ、配向状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなることが好ましい。重合性液晶化合物は、重合性官能基、特に光重合性官能基を有する液晶化合物である。光重合性官能基とは、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。
光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、1−クロロビニル基、イソプロペニル基、4−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよく、相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。
(Polymerizable liquid crystal composition)
Each of the λ / 4 retardation layer 4 and the vertically aligned liquid crystal cured
Examples of the photopolymerizable functional group include a vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, oxiranyl group, and oxetanyl group. Among them, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, vinyloxy group, oxiranyl group and oxetanyl group are preferable, and acryloyloxy group is more preferable. The liquid crystalline property may be a thermotropic liquid crystal or a lyotropic liquid crystal, and the phase order structure may be a nematic liquid crystal or a smectic liquid crystal.
本発明において、重合性液晶化合物は、逆波長分散性の発現、好ましくは、前記式(1)及び(2)若しくは(4)及び(5)の関係を充足させる観点から、下記式(I)
式(I)中、Arは置換基を有していてもよい二価の芳香族基を表す。ここで言う芳香族基とは、平面性を有する環状構造の基であり、該環構造が有するπ電子数がヒュッケル則に従い[4n+2]個であるものをいう。ここで、nは整数を表す。−N=や−S−等のヘテロ原子を含んで環構造を形成している場合、これらヘテロ原子上の非共有結合電子対を含めてヒュッケル則を満たし、芳香族性を有する場合も含む。該二価の芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも1つ以上が含まれることが好ましい。 In formula (I), Ar represents a divalent aromatic group which may have a substituent. The aromatic group referred to here is a group having a planar structure having a planarity, and the number of π electrons of the ring structure is [4n + 2] according to the Hückel rule. Here, n represents an integer. In the case where a ring structure is formed by including a heteroatom such as -N = or -S-, the case where the Huckel's rule is satisfied including the non-covalent electron pair on the heteroatom and the aromatic structure is included is also included. The divalent aromatic group preferably contains at least one of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom.
G1及びG2はそれぞれ独立に、二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を表す。
ここで、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のフルオロアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていてもよい。
G 1 and G 2 each independently represent a divalent aromatic group or a divalent alicyclic hydrocarbon group.
Here, the hydrogen atom contained in the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group is a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or carbon. The carbon atom constituting the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group which may be substituted with an alkoxy group of 1 to 4 groups, a cyano group or a nitro group is an oxygen atom or a sulfur atom Alternatively, it may be substituted with a nitrogen atom.
L1、L2 、B1及びB2はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基である。 L 1 , L 2 , B 1 and B 2 are each independently a single bond or a divalent linking group.
k、lは、それぞれ独立に0〜3の整数を表し、1≦k+lの関係を満たす。ここで、2≦k+lである場合、B1及びB2、G1及びG2は、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
k and l each independently represent an integer of 0 to 3 and satisfy the relationship of 1 ≦
E1及びE2はそれぞれ独立に、炭素数1〜17のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−Si−で置換されていてもよい。P1及びP2は互いに独立に、重合性基又は水素原子を表し、少なくとも1つは重合性基である。 E 1 and E 2 each independently represents an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, wherein a hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with a halogen atom, The —CH 2 — contained may be substituted with —O—, —S—, or —Si—. P 1 and P 2 each independently represent a polymerizable group or a hydrogen atom, and at least one is a polymerizable group.
G1及びG2は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子及び炭素数1〜4のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも1つの置換基で置換されていてもよい1,4−フェニレンジイル基、ハロゲン原子及び炭素数1〜4のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも1つの置換基で置換されていてもよい1,4−シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された1,4−フェニレンジイル基、無置換の1,4−フェニレンジイル基、又は無置換の1,4−trans−シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の1,4−フェニレンジイル基、又は無置換の1,4−trans−シクロへキサンジイル基である。また、複数存在するG1及びG2のうち少なくとも1つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、L1又はL2に結合するG1及びG2のうち少なくとも1つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。 G 1 and G 2 are each independently preferably a 1,4-phenylenediyl group which may be substituted with at least one substituent selected from the group consisting of a halogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. 1,4-cyclohexanediyl group optionally substituted with at least one substituent selected from the group consisting of a halogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably 1 substituted with a methyl group , 4-phenylenediyl group, unsubstituted 1,4-phenylenediyl group, or unsubstituted 1,4-trans-cyclohexanediyl group, particularly preferably unsubstituted 1,4-phenylenediyl group or A substituted 1,4-trans-cyclohexanediyl group. In addition, at least one of a plurality of G 1 and G 2 is preferably a divalent alicyclic hydrocarbon group, and at least one of G 1 and G 2 bonded to L 1 or L 2. More preferably, it is a divalent alicyclic hydrocarbon group.
L1及びL2はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数1〜4のアルキレン基、−O−、−S−、−Ra1ORa2−、−Ra3COORa4−、−Ra5OCORa6−、Ra7OC=OORa8−、−N=N−、−CRc=CRd−、又はC≡C−である。ここで、Ra1〜Ra8はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数1〜4のアルキレン基を表し、Rc及びRdは炭素数1〜4のアルキル基又は水素原子を表す。L1及びL2はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、−ORa2−1−、−CH2−、−CH2CH2−、−COORa4−1−、又はOCORa6−1−である。ここで、Ra2−1、Ra4−1、Ra6−1はそれぞれ独立に単結合、−CH2−、−CH2CH2−のいずれかを表す。L1及びL2はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、−O−、−CH2CH2−、−COO−、−COOCH2CH2−、又はOCO−である。 L 1 and L 2 are preferably each independently, preferably a single bond, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, —O—, —S—, —R a1 OR a2 —, —R a3 COOR a4 —, —R a5. OCOR a6 —, R a7 OC═OOR a8 —, —N═N—, —CR c = CR d —, or C≡C—. Here, R a1 to R a8 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and R c and R d each represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydrogen atom. L 1 and L 2 are each independently more preferably a single bond, —OR a2-1 —, —CH 2 —, —CH 2 CH 2 —, —COOR a4-1 —, or OCOR a6-1 —. . Here, R a2-1 , R a4-1 , and R a6-1 each independently represent a single bond, —CH 2 —, or —CH 2 CH 2 —. L 1 and L 2 are each independently more preferably a single bond, —O—, —CH 2 CH 2 —, —COO—, —COOCH 2 CH 2 —, or OCO—.
B1及びB2はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数1〜4のアルキレン基、−O−、−S−、−Ra9ORa10−、−Ra11COORa12−、−Ra13OCORa14−、又はRa15OC=OORa16−である。ここで、Ra9〜Ra16はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数1〜4のアルキレン基を表す。B1及びB2はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、−ORa10−1−、−CH2−、−CH2CH2−、−COORa12−1−、又はOCORa14−1−である。ここで、Ra10−1、Ra12−1、Ra14−1はそれぞれ独立に単結合、−CH2−、−CH2CH2−のいずれかを表す。B1及びB2はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、−O−、−CH2CH2−、−COO−、−COOCH2CH2−、−OCO−、又はOCOCH2CH2−、である。 B 1 and B 2 are preferably each independently, preferably a single bond, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, —O—, —S—, —R a9 OR a10 —, —R a11 COOR a12 —, —R a13. OCOR a14 − or R a15 OC═OOR a16 —. Here, R a9 to R a16 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. B 1 and B 2 are each independently, more preferably a single bond, —OR a10-1 —, —CH 2 —, —CH 2 CH 2 —, —COOR a12-1 —, or OCOR a14-1 —. . Here, R a10-1 , R a12-1 , and R a14-1 each independently represent a single bond, —CH 2 —, or —CH 2 CH 2 —. B 1 and B 2 are each independently more preferably a single bond, —O—, —CH 2 CH 2 —, —COO—, —COOCH 2 CH 2 —, —OCO—, or OCOCH 2 CH 2 —. is there.
k及びlは、逆波長分散性発現の観点から2≦k+l≦6の範囲が好ましく、k+l=4であることが好ましく、k=2かつl=2であることがより好ましい。k=2かつl=2であると対称構造となるためさらに好ましい。 k and l are preferably in the range of 2 ≦ k + l ≦ 6 from the viewpoint of expression of inverse wavelength dispersion, preferably k + l = 4, and more preferably k = 2 and l = 2. It is more preferable that k = 2 and l = 2 because a symmetrical structure is obtained.
E1及びE2はそれぞれ独立に、炭素数1〜17のアルカンジイル基が好ましく、炭素数4〜12のアルカンジイル基がより好ましい。 E 1 and E 2 are each independently preferably an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, and more preferably an alkanediyl group having 4 to 12 carbon atoms.
P1又はP2で表される重合性基としては、例えばエポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、1−クロロビニル基、イソプロペニル基、4−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、及びオキセタニル基等が挙げられる。これらの中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。 Examples of the polymerizable group represented by P 1 or P 2 include an epoxy group, vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, and oxiranyl. Group, oxetanyl group, and the like. Among these, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyloxy group, an oxiranyl group, and an oxetanyl group are preferable, and an acryloyloxy group is more preferable.
Arは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、及び電子吸引性基から選ばれる少なくとも一つを有することが好ましい。当該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、及びフェナンスロリン環等が挙げられる。これらの中でも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、又はベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール基を有することがさらに好ましい。また、Arに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。 Ar preferably has at least one selected from an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent, an aromatic heterocycle which may have a substituent, and an electron-withdrawing group. Examples of the aromatic hydrocarbon ring include a benzene ring, a naphthalene ring, and an anthracene ring, and a benzene ring and a naphthalene ring are preferable. Examples of the aromatic heterocycle include furan ring, benzofuran ring, pyrrole ring, indole ring, thiophene ring, benzothiophene ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, triazole ring, triazine ring, pyrroline ring, imidazole ring, pyrazole ring. , Thiazole ring, benzothiazole ring, thienothiazole ring, oxazole ring, benzoxazole ring, phenanthrolin ring, and the like. Among these, it is preferable to have a thiazole ring, a benzothiazole ring, or a benzofuran ring, and it is more preferable to have a benzothiazole group. In addition, when Ar includes a nitrogen atom, the nitrogen atom preferably has π electrons.
式(I)中、Arで表される2価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Nπは8以上が好ましく、より好ましくは10以上であり、さらに好ましくは14以上であり、特に好ましくは16以上である。また、好ましくは30以下であり、より好ましくは26以下であり、さらに好ましくは24以下である。 In formula (I), the total number N π of π electrons contained in the divalent aromatic group represented by Ar is preferably 8 or more, more preferably 10 or more, still more preferably 14 or more, particularly Preferably it is 16 or more. Moreover, Preferably it is 30 or less, More preferably, it is 26 or less, More preferably, it is 24 or less.
Arで表される芳香族基としては、例えば以下の基が挙げられる。 Examples of the aromatic group represented by Ar include the following groups.
式(Ar−1)〜式(Ar−22)中、*印は連結部を表し、Z0、Z1及びZ2は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜12のアルキルスルフィニル基、炭素数1〜12のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数1〜12のフルオロアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜12のアルキルチオ基、炭素数1〜12のN−アルキルアミノ基、炭素数2〜12のN,N−ジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のN−アルキルスルファモイル基又は炭素数2〜12のN,N−ジアルキルスルファモイル基を表す。
In formula (Ar-1) to formula (Ar-22), * represents a linking part, and Z 0 , Z 1 and Z 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl having 1 to 12 carbon atoms. Group, cyano group, nitro group, alkylsulfinyl group having 1 to 12 carbon atoms, alkylsulfonyl group having 1 to 12 carbon atoms, carboxyl group, fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, C1-C12 alkylthio group, C1-C12 N-alkylamino group, C2-C12 N, N-dialkylamino group, C1-C12 N-alkylsulfamoyl group or carbon The N, N-dialkylsulfamoyl group represented by
Q1及びQ2は、それぞれ独立に、−CR2’R3’−、−S−、−NH−、−NR2’−、−CO−又はO−を表し、R2’及びR3’は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。 Q 1 and Q 2 each independently represent —CR 2 ′ R 3 ′ —, —S—, —NH—, —NR 2 ′ —, —CO— or O—, and R 2 ′ and R 3 ′. Each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
J1、及びJ2は、それぞれ独立に、炭素原子、又は窒素原子を表す。 J 1 and J 2 each independently represent a carbon atom or a nitrogen atom.
Y1、Y2及びY3は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。 Y 1 , Y 2 and Y 3 each independently represents an optionally substituted aromatic hydrocarbon group or aromatic heterocyclic group.
W1及びW2は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表し、mは0〜6の整数を表す。 W 1 and W 2 each independently represent a hydrogen atom, a cyano group, a methyl group or a halogen atom, and m represents an integer of 0 to 6.
Y1、Y2及びY3における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数6〜20の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも1つ含む炭素数4〜20の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。 Examples of the aromatic hydrocarbon group for Y 1 , Y 2 and Y 3 include an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, and a biphenyl group. A naphthyl group is preferred, and a phenyl group is more preferred. The aromatic heterocyclic group has 4 to 20 carbon atoms and contains at least one hetero atom such as a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom such as a furyl group, a pyrrolyl group, a thienyl group, a pyridinyl group, a thiazolyl group, or a benzothiazolyl group. An aromatic heterocyclic group is mentioned, and a furyl group, a thienyl group, a pyridinyl group, a thiazolyl group, and a benzothiazolyl group are preferable.
Y1及びY2は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、又は芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、又は芳香環集合に由来する基をいう。 Y 1 and Y 2 may each independently be an optionally substituted polycyclic aromatic hydrocarbon group or polycyclic aromatic heterocyclic group. The polycyclic aromatic hydrocarbon group refers to a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group or a group derived from an aromatic ring assembly. The polycyclic aromatic heterocyclic group refers to a group derived from a condensed polycyclic aromatic heterocyclic group or an aggregate of aromatic rings.
Z0、Z1及びZ2は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜12のアルコキシ基であることが好ましく、Z0は、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Z1及びZ2は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。 Z 0 , Z 1 and Z 2 are each independently preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. 0 is more preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyano group, and Z 1 and Z 2 are more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, or a cyano group.
Q1及びQ2は、−NH−、−S−、−NR2’−、−O−が好ましく、R2’は水素原子が好ましい。中でも−S−、−O−、−NH−が特に好ましい。 Q 1 and Q 2 are preferably —NH—, —S—, —NR 2 ′ —, and —O—, and R 2 ′ is preferably a hydrogen atom. Among them, -S-, -O-, and -NH- are particularly preferable.
Ar1で表される芳香族基として、以下の式(Ar−23)で示される基も挙げられる。 Examples of the aromatic group represented by Ar 1 include a group represented by the following formula (Ar-23).
式(Ar−23)中、*、Z1、Z2、Q1およびQ2は前記と同じ意味を示し、U1は置換基が結合していてもよい第14属〜第16属の非金属原子を示す。第14属〜第16属の非金属原子としては、例えば炭素原子、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が挙げられ、好ましくは=O、=S、=NR’および=C(R’)R’などが挙げられる。置換基R’としては、例えば水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、アリール基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシ基、炭素数1〜6のアルキルスルフィニル基、炭素数1〜6のアルキルスルホニル基、炭素数1〜6のフルオロアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜6のアルキルスルファニル基、炭素数1〜6のN−アルキルアミノ基、炭素数2〜12のN,N−ジアルキルアミノ基、炭素数1〜6のN−アルキルスルファモイル基、炭素数2〜12のジアルキルスルファモイル基などが挙げられ、非金属原子が炭素原子(C)である場合における2つのR’は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。 In formula (Ar-23), *, Z 1 , Z 2 , Q 1 and Q 2 have the same meaning as described above, and U 1 represents a non-substituent of the 14th to 16th groups to which a substituent may be bonded. Indicates a metal atom. Examples of the non-metal atoms of Group 14 to Group 16 include carbon atoms, nitrogen atoms, oxygen atoms and sulfur atoms, and preferably ═O, ═S, ═NR ′ and ═C (R ′) R ′. Etc. Examples of the substituent R ′ include a hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, halogenated alkyl group, alkenyl group, aryl group, cyano group, amino group, nitro group, nitroso group, carboxy group, and alkyl having 1 to 6 carbon atoms. Sulfinyl group, C1-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 fluoroalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 alkylsulfanyl group, C1-C6 N- Examples include alkylamino groups, N, N-dialkylamino groups having 2 to 12 carbon atoms, N-alkylsulfamoyl groups having 1 to 6 carbon atoms, and dialkylsulfamoyl groups having 2 to 12 carbon atoms. In the case where the atom is a carbon atom (C), two R ′ may be the same or different.
式(Ar−1)〜(Ar−23)の中でも、式(Ar−6)及び式(Ar−7)が分子の安定性の観点から好ましい。 Among formulas (Ar-1) to (Ar-23), formula (Ar-6) and formula (Ar-7) are preferable from the viewpoint of molecular stability.
式(Ar−16)〜(Ar−22)において、Y1は、これが結合する窒素原子及びZ0と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Arが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Y1は、これが結合する窒素原子及びZ0と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。なお、前記式(I)で表される化合物は、例えば、特開2010−31223号公報に記載の方法に準じて製造することができる。 In formulas (Ar-16) to (Ar-22), Y 1 may form an aromatic heterocyclic group together with the nitrogen atom to which it is bonded and Z 0 . Examples of the aromatic heterocyclic group include those described above as the aromatic heterocyclic ring that Ar may have, for example, pyrrole ring, imidazole ring, pyrroline ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, indole Ring, quinoline ring, isoquinoline ring, purine ring, pyrrolidine ring and the like. This aromatic heterocyclic group may have a substituent. Y 1 may be the above-described polycyclic aromatic hydrocarbon group or polycyclic aromatic heterocyclic group which may be substituted together with the nitrogen atom to which it is bonded and Z 0 . For example, a benzofuran ring, a benzothiazole ring, a benzoxazole ring, etc. are mentioned. In addition, the compound represented by the said formula (I) can be manufactured according to the method as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-31223, for example.
重合性液晶化合物は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。二種以上併用する場合、前記式(I)で表される化合物の含有量は、重合性液晶化合物100質量部に対して、好ましくは50質量部以上、より好ましくは70質量部以上、さらに好ましくは80質量部以上である。 The polymerizable liquid crystal compounds can be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, the content of the compound represented by the formula (I) is preferably 50 parts by mass or more, more preferably 70 parts by mass or more, further preferably 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. Is 80 parts by mass or more.
重合性液晶組成物は、溶媒、光重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤、密着性向上剤、二色性色素等の添加剤をさらに含むことができる。これらの添加剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。 The polymerizable liquid crystal composition can further contain additives such as a solvent, a photopolymerization initiator, a polymerization inhibitor, a photosensitizer, a leveling agent, an adhesion improver, and a dichroic dye. These additives can be used alone or in combination of two or more.
重合性液晶化合物の含有量は、重合性液晶組成物の固形分100質量部に対して、例えば70〜99.5質量部であり、好ましくは80〜99質量部であり、より好ましくは90〜98質量部である。含有量が上記範囲内であれば、層の配向性が高くなる傾向がある。ここで、固形分とは、組成物から溶媒を除いた成分の合計量のことをいう。 Content of a polymeric liquid crystal compound is 70-99.5 mass parts with respect to 100 mass parts of solid content of a polymeric liquid crystal composition, for example, Preferably it is 80-99 mass parts, More preferably, 90- 98 parts by mass. If the content is within the above range, the orientation of the layer tends to be high. Here, solid content means the total amount of the component remove | excluding the solvent from the composition.
溶媒としては、補強層の項で例示の溶媒を使用することができる。溶媒の含有量は、重合性液晶組成物100質量部に対して、好ましくは50〜98質量部、より好ましくは70〜95重量部である。従って、組成物100質量部に占める固形分は、2〜50質量部が好ましい。組成物の固形分が50質量部以下であると、組成物の粘度が低くなることから、層の厚みが略均一になり、層にムラが生じ難くなる傾向がある。上記固形分は、製造しようとする層の厚みを考慮して適宜定めることができる。 As the solvent, the solvents exemplified in the section of the reinforcing layer can be used. The content of the solvent is preferably 50 to 98 parts by weight, more preferably 70 to 95 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymerizable liquid crystal composition. Therefore, the solid content in 100 parts by mass of the composition is preferably 2 to 50 parts by mass. When the solid content of the composition is 50 parts by mass or less, the viscosity of the composition becomes low, so that the thickness of the layer becomes substantially uniform and unevenness of the layer tends not to occur. The solid content can be appropriately determined in consideration of the thickness of the layer to be manufactured.
光重合開始剤としては、補強層の項で例示の光重合開始剤を使用することができる。光重合開始剤の添加量は、重合性液晶化合物100質量部に対して、通常、0.1〜30質量部であり、好ましくは1〜20質量部であり、より好ましくは1〜15質量部である。
上記範囲内であれば、重合性基の反応が十分に進行し、かつ、重合性液晶化合物の配向を乱し難い。
As the photopolymerization initiator, the photopolymerization initiator exemplified in the section of the reinforcing layer can be used. The addition amount of the photopolymerization initiator is usually 0.1 to 30 parts by mass, preferably 1 to 20 parts by mass, more preferably 1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. It is.
If it is in the said range, reaction of a polymeric group will fully advance and it will be hard to disturb the orientation of a polymeric liquid crystal compound.
重合禁止剤を配合することにより、重合性液晶化合物の重合反応をコントロールすることができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン及びアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類;ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類;ピロガロール類、2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補捉剤;チオフェノール類;β−ナフチルアミン類及びβ−ナフトール類が挙げられる。重合性液晶化合物の配向を乱すことなく、重合性液晶化合物を重合するためには、重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物100質量部に対して、通常0.01〜10質量部であり、好ましくは0.1〜5質量部であり、さらに好ましくは0.1〜3質量部である。重合禁止剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。 By blending a polymerization inhibitor, the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound can be controlled. Polymerization inhibitors include hydroquinones having substituents such as hydroquinone and alkyl ethers; catechols having substituents such as alkyl ethers such as butylcatechol; pyrogallols, 2,2,6,6-tetramethyl-1- And radical scavengers such as piperidinyloxy radical; thiophenols; β-naphthylamines and β-naphthols. In order to polymerize the polymerizable liquid crystal compound without disturbing the alignment of the polymerizable liquid crystal compound, the content of the polymerization inhibitor is usually 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. Yes, preferably 0.1-5 parts by mass, more preferably 0.1-3 parts by mass. A polymerization inhibitor can be used individually or in combination of 2 or more types.
さらに、光増感剤を用いることにより、光重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤としては、例えば、キサントン、チオキサントン等のキサントン類;アントラセン及びアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類;フェノチアジン;ルブレンが挙げられる。光増感剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。光増感剤の含有量は、重合性液晶化合物100質量部に対して、通常0.01〜10質量部であり、好ましくは0.05〜5質量部であり、さらに好ましくは0.1〜3質量部である。 Furthermore, the sensitivity of the photopolymerization initiator can be increased by using a photosensitizer. Examples of the photosensitizer include xanthones such as xanthone and thioxanthone; anthracene having a substituent such as anthracene and alkyl ether; phenothiazine; and rubrene. A photosensitizer can be used individually or in combination of 2 or more types. Content of a photosensitizer is 0.01-10 mass parts normally with respect to 100 mass parts of polymeric liquid crystal compounds, Preferably it is 0.05-5 mass parts, More preferably, it is 0.1-10 mass parts. 3 parts by mass.
レベリング剤とは、硬化性組成物の流動性を調整し、組成物を塗布して得られる層をより平坦にする機能を有する添加剤であり、例えば、シランカップリング剤等のシリコーン系及びポリアクリレート系及びパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、DC3PA、SH7PA、DC11PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、ST80PA、ST86PA、SH8400、SH8700、FZ2123(以上、全て東レ・ダウコーニング(株)製)、KP321、KP323、KP324、KP326、KP340、KP341、X22−161A、KF6001、KBM−1003、KBE−1003、KBM−303、KBM−402、KBM−403、KBE−402、KBE−403、KBM−1403、KBM−502、KBM−503、KBE−502、KBE−503、KBM−5103、KBM−602、KBM−603、KBM−903、KBE−903、KBE−9103、KBM−573、KBM−575、KBE−585、KBM−802、KBM−802、KBM−803、KBE−846、KBE−9007(以上、全て信越化学工業(株)製)、TSF400、TSF401、TSF410、TSF4300、TSF4440、TSF4445、TSF−4446、TSF4452、TSF4460(以上、全てモメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ジャパン合同会社製)、フロリナート(fluorinert)(登録商標)FC−72、同FC−40、同FC−43、同FC−3283(以上、全て住友スリーエム(株)製)、メガファック(登録商標)R−08、同R−30、同R−90、同F−410、同F−411、同F−443、同F−445、同F−470、同F−477、同F−479、同F−482、同F−483(以上、いずれもDIC(株)製)、エフトップ(商品名)EF301、同EF303、同EF351、同EF352(以上、全て三菱マテリアル電子化成(株)製)、サーフロン(登録商標)S−381、同S−382、同S−383、同S−393、同SC−101、同SC−105、KH−40、SA−100(以上、全てAGCセイミケミカル(株)製)、商品名E1830、同E5844((株)ダイキンファインケミカル研究所製)、BM−1000、BM−1100、BYK−352、BYK−353及びBYK−361N(いずれも商品名:BM Chemie社製)等が挙げられる。レベリング剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。 The leveling agent is an additive having a function of adjusting the fluidity of the curable composition and flattening the layer obtained by applying the composition. For example, the leveling agent includes silicone-based and polysilanes such as a silane coupling agent. Examples include acrylate-based and perfluoroalkyl-based leveling agents. Specifically, DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH28PA, SH29PA, SH30PA, ST80PA, ST86PA, SH8400, SH8700, FZ2123 (all are manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), KP321, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341, X22-161A, KF6001, KBM-1003, KBE-1003, KBM-303, KBM-402, KBM-403, KBE-402, KBE-403, KBM-1403, KBM-502, KBM-503, KBE- 502, KBE-503, KBM-5103, KBM-602, KBM-603, KBM-903, KBE-903, KBE-9103, KBM-573, KBM-575, KBE-585, KBM-80 , KBM-802, KBM-803, KBE-846, KBE-9007 (all manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460 (and above) , All by Momentive Performance Materials Japan LLC), Fluorinert (registered trademark) FC-72, FC-40, FC-43, FC-3283 (all above, all made by Sumitomo 3M), Megafuck (registered trademark) R-08, R-30, R-90, F-410, F-411, F-443, F-445, F-470, F-477, F-479, F-482, F-483 (all of which are DIC ( )), Ftop (trade name) EF301, EF303, EF351, EF351, EF352 (all manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd.), Surflon (registered trademark) S-381, S-382, S -383, S-393, SC-101, SC-105, KH-40, SA-100 (all are manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd.), trade names E1830, E5844 (Daikin Fine Chemical Co., Ltd.) Laboratories), BM-1000, BM-1100, BYK-352, BYK-353 and BYK-361N (all trade names: manufactured by BM Chemie). Leveling agents can be used alone or in combination of two or more.
レベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物100質量部に対して、0.01〜5質量部が好ましく、0.05〜3質量部がさらに好ましい。レベリング剤の含有量が、上記範囲内であると、得られる層がより平滑となる傾向があるため好ましい。二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。二色性色素としては、可視光を吸収する特性を有することが好ましく、380〜680nmの範囲に吸収極大波長(λMAX)を有するものがより好ましい。このような二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素およびアントラキノン色素などが挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素およびスチルベンアゾ色素などが挙げられ、好ましくはビスアゾ色素およびトリスアゾ色素である。二色性色素は単独でも、組み合わせてもよいが、可視光全域で吸収を得るためには、3種類以上の二色性色素を組み合わせるのが好ましく、3種類以上のアゾ色素を組み合わせるのがより好ましい。 0.01-5 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of polymerizable liquid crystal compounds, and, as for content of a leveling agent, 0.05-3 mass parts is more preferable. It is preferable that the leveling agent content is within the above range because the resulting layer tends to be smoother. A dichroic dye refers to a dye having the property that the absorbance in the major axis direction of a molecule is different from the absorbance in the minor axis direction. The dichroic dye preferably has a property of absorbing visible light, and more preferably has a maximum absorption wavelength (λMAX) in the range of 380 to 680 nm. Examples of such dichroic dyes include acridine dyes, oxazine dyes, cyanine dyes, naphthalene dyes, azo dyes and anthraquinone dyes, and among them, azo dyes are preferable. Examples of the azo dye include monoazo dyes, bisazo dyes, trisazo dyes, tetrakisazo dyes, and stilbene azo dyes, and bisazo dyes and trisazo dyes are preferable. Dichroic dyes may be used alone or in combination, but in order to obtain absorption in the entire visible light range, it is preferable to combine three or more types of dichroic dyes, and more preferable to combine three or more types of azo dyes. preferable.
アゾ色素としては、例えば、下記式(II)で表される化合物(以下、「化合物(II)」ということもある)が挙げられる。
T1-A1(−N=N−A2)p−N=N−A3-T2(II)
[式(II)中、
A1、A2およびA3は、互いに独立に、置換基を有していてもよい1,4−フェニレン基、ナフタレン−1,4−ジイル基または置換基を有していてもよい2価の複素環基を表し、T1およびT2は電子吸引基あるいは電子放出基であり、アゾ結合面内に対して実質的に180°の位置に有する。pは0〜4の整数を表す。pが2以上である場合、各々のA2は互いに同一でも異なっていてもよい。可視域に吸収を示す範囲で−N=N−結合が−C=C−、−COO−、−NHCO−または−N=CH−結合に置き換わっていてもよい。]
Examples of the azo dye include a compound represented by the following formula (II) (hereinafter sometimes referred to as “compound (II)”).
T 1 -A 1 (-N = NA 2 ) p -N = NA 3 -T 2 (II)
[In the formula (II),
A 1 , A 2 and A 3 are each independently a 1,4-phenylene group, naphthalene-1,4-diyl group which may have a substituent or a divalent group which may have a substituent. Wherein T 1 and T 2 are electron-withdrawing groups or electron-emitting groups, and are substantially 180 ° relative to the azo bond plane. p represents an integer of 0 to 4. When p is 2 or more, each A 2 may be the same as or different from each other. The —N═N— bond may be replaced by a —C═C—, —COO—, —NHCO—, or —N═CH— bond within the visible absorption range. ]
A1、A2およびA3における1,4−フェニレン基、ナフタレン−1,4−ジイル基および2価の複素環基が任意に有する置換基としては、メチル基、エチル基およびブチル基などの炭素数1〜4のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基およびブトキシ基などの炭素数1〜4のアルコキシ基;トリフルオロメチル基などの炭素数1〜4のフッ化アルキル基;シアノ基;ニトロ基;塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子;アミノ基、ジエチルアミノ基およびピロリジノ基などの置換または無置換アミノ基(置換アミノ基とは、炭素数1〜6のアルキル基を1つまたは2つ有するアミノ基、あるいは2つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数2〜8のアルカンジイル基を形成しているアミノ基を意味する。無置換アミノ基は、−NH2である。)が挙げられる。なお、炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチル基およびヘキシル基などが挙げられる。炭素数2〜8のアルカンジイル基としては、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1,7−ジイル基、オクタン−1,8−ジイル基などが挙げられる。スメクチック液晶のような高秩序液晶構造中に包摂するためには、A1、A2およびA3は無置換または水素がメチル基またはメトキシ基で置換された1,4−フェニレン基、または2価の複素環基が好ましく、pは0または1である事が好ましい。中でもpが1であり、かつ、A1、A2およびA3の3つの構造のうち少なくとも2つが1,4−フェニレン基である事が分子合成の簡便さと高い性能の両方を有するという点でより好ましい。 Examples of the substituent which the 1,4-phenylene group, naphthalene-1,4-diyl group and divalent heterocyclic group in A 1 , A 2 and A 3 optionally have include a methyl group, an ethyl group and a butyl group. An alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group and a butoxy group; a fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a trifluoromethyl group; a cyano group; a nitro group A halogen atom such as a chlorine atom or a fluorine atom; a substituted or unsubstituted amino group such as an amino group, a diethylamino group or a pyrrolidino group (a substituted amino group is an amino having one or two alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms; Or an amino group in which two substituted alkyl groups are bonded to each other to form an alkanediyl group having 2 to 8 carbon atoms. 2 ). In addition, as a C1-C6 alkyl group, a methyl group, an ethyl group, a hexyl group, etc. are mentioned. Examples of the alkanediyl group having 2 to 8 carbon atoms include ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group. Hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group and the like. In order to be included in a highly ordered liquid crystal structure such as a smectic liquid crystal, A 1 , A 2 and A 3 are unsubstituted, 1,4-phenylene groups in which hydrogen is substituted with a methyl group or a methoxy group, or divalent The heterocyclic group is preferably, and p is preferably 0 or 1. In particular, p is 1 and at least two of the three structures A 1 , A 2 and A 3 are 1,4-phenylene groups, in that both molecular synthesis is easy and high performance is achieved. More preferred.
2価の複素環基としては、キノリン、チアゾール、ベンゾチアゾール、チエノチアゾール、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、オキサゾールおよびベンゾオキサゾールから2個の水素原子を除いた基が挙げられる。A2が2価の複素環基の場合には、分子結合角度が実質的に180°となる構造が好ましく、具体的には、二つの5員環が縮合したベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾオキサゾール構造がより好ましい。 Examples of the divalent heterocyclic group include groups in which two hydrogen atoms have been removed from quinoline, thiazole, benzothiazole, thienothiazole, imidazole, benzimidazole, oxazole and benzoxazole. When A 2 is a divalent heterocyclic group, a structure in which the molecular bond angle is substantially 180 ° is preferable. Specifically, benzothiazole, benzimidazole, benzoxazole in which two 5-membered rings are condensed A structure is more preferable.
T1およびT2は電子吸引基あるいは電子放出基であり、異なる構造である事が好ましく、T1が電子吸引基およびT2が電子放出基、あるいは、T1が電子放出基およびT2が電子吸引基の関係である事がさらに好ましい。具体的には、T1およびT2は互いに独立に炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜6のアルキル基を1つまたは2つ有するアミノ基、あるいは2つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数2〜8のアルカンジイル基を形成しているアミノ基、またはトリフルオロメチル基が好ましく、中でもスメクチック液晶のような高秩序液晶構造中に包摂するためには、分子の排除体積がより小さい構造体である必要があるため、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、シアノ基、炭素数1〜6のアルキル基を1つまたは2つ有するアミノ基、あるいは2つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数2〜8のアルカンジイル基を形成しているアミノ基が好ましい。
T 1 and T 2 are electron-withdrawing groups or electron-emitting groups, and preferably have different structures. T 1 is an electron-withdrawing group and T 2 is an electron-emitting group, or T 1 is an electron-emitting group and T 2 is More preferably, it is an electron-withdrawing group relationship. Specifically, T 1 and T 2 are each independently one alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. An amino group having two amino groups, or an amino group in which two substituted alkyl groups are bonded to each other to form an alkanediyl group having 2 to 8 carbon atoms, or a trifluoromethyl group is preferable, and a high order such as a smectic liquid crystal is particularly preferable. In order to be included in the liquid crystal structure, the structure needs to have a smaller excluded volume of the molecule, so that the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, the cyano group, and the
このようなアゾ色素としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。 Examples of such azo dyes include the following.
式(2−1)〜(2−6)中、
B1〜B20は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、置換または無置換のアミノ基(置換アミノ基および無置換アミノ基の定義は前記のとおり)、塩素原子またはトリフルオロメチル基を表す。また、高い偏光性能が得られる観点から、B2、B6、B9、B14、B18、B19は水素原子又はメチル基が好ましく、水素原子がさらに好ましい。
n1〜n4は、それぞれ独立に0〜3の整数を表す。
n1が2以上である場合、複数のB2はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、
n2が2以上である場合、複数のB6はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、
n3が2以上である場合、複数のB9はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、
n4が2以上である場合、複数のB14はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
In formulas (2-1) to (2-6),
B 1 to B 20 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, a substituted or unsubstituted amino group (a substituted amino group and The definition of an unsubstituted amino group is as described above, and represents a chlorine atom or a trifluoromethyl group. Further, from the viewpoint of obtaining high polarization performance, B 2 , B 6 , B 9 , B 14 , B 18 and B 19 are preferably a hydrogen atom or a methyl group, and more preferably a hydrogen atom.
n1 to n4 each independently represents an integer of 0 to 3.
When n1 is 2 or more, the plurality of B 2 may be the same or different,
When n2 is 2 or more, the plurality of B 6 may be the same or different,
When n3 is 2 or more, the plurality of B 9 may be the same or different,
When n4 is 2 or more, the plurality of B 14 may be the same or different.
前記アントラキノン色素としては、式(2−7)で表される化合物が好ましい。 As said anthraquinone pigment | dye, the compound represented by Formula (2-7) is preferable.
[式(2−7)中、
R1〜R8は、互いに独立に、水素原子、−Rx、−NH2、−NHRx、−NRx 2、−SRxまたはハロゲン原子を表す。
Rxは、炭素数1〜4のアルキル基または炭素数6〜12のアリール基を表す。]
[In the formula (2-7),
R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, —R x , —NH 2 , —NHR x , —NR x 2 , —SR x, or a halogen atom.
R x represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. ]
前記オキサジン色素としては、式(2−8)で表される化合物が好ましい。 As the oxazine dye, a compound represented by the formula (2-8) is preferable.
[式(2−8)中、
R9〜R15は、互いに独立に、水素原子、−Rx、−NH2、−NHRx、−NRx 2、−SRxまたはハロゲン原子を表す。
Rxは、炭素数1〜4のアルキル基または炭素数6〜12のアリール基を表す。]
[In the formula (2-8),
R 9 to R 15 each independently represent a hydrogen atom, —R x , —NH 2 , —NHR x , —NR x 2 , —SR x, or a halogen atom.
R x represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. ]
前記アクリジン色素としては、式(2−9)で表される化合物が好ましい。 As the acridine dye, a compound represented by the formula (2-9) is preferable.
[式(2−9)中、
R16〜R23は、互いに独立に、水素原子、−Rx、−NH2、−NHRx、−NRx 2、−SRxまたはハロゲン原子を表す。
Rxは、炭素数1〜4のアルキル基または炭素数6〜12のアリール基を表す。]
[In Formula (2-9),
R 16 to R 23 independently represent a hydrogen atom, -R x, -NH 2, -NHR x, -
R x represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. ]
式(2−7)、式(2−8)および式(2−9)における、Rxで表される炭素数1〜4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基等が挙げられ、炭素数6〜12のアリール基としては、フェニル基、トルイル基、キシリル基およびナフチル基等が挙げられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by R x in the formula (2-7), formula (2-8) and formula (2-9) include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and a butyl group. , A pentyl group, a hexyl group, and the like. Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include a phenyl group, a toluyl group, a xylyl group, and a naphthyl group.
前記シアニン色素としては、式(2−10)で表される化合物および式(2−11)で表される化合物が好ましい。 As the cyanine dye, a compound represented by Formula (2-10) and a compound represented by Formula (2-11) are preferable.
[式(2−10)中、
D1およびD2は、互いに独立に、式(2−10a)〜式(2−10d)のいずれかで表される基を表す。
n5は1〜3の整数を表す。]
[In the formula (2-10),
D 1 and D 2 each independently represent a group represented by any one of formulas (2-10a) to (2-10d).
n5 represents an integer of 1 to 3. ]
[式(2−11)中、
D3およびD4は、互いに独立に、式(2−11a)〜式(2−11h)のいずれかで表される基を表す。
D 3 and D 4 each independently represent a group represented by any one of formulas (2-11a) to (2-11h).
二色性色素の含有量(複数種含む場合にはその合計量)は、良好な光吸収特性を得る観点から、重合性液晶化合物100質量部に対して、通常0.1〜30質量部であり、好ましくは1〜20質量部であり、より好ましくは3〜15質量部である。二色性色素の含有量がこの範囲より少ないと光吸収が不十分となり、十分な偏光性能が得られず、この範囲よりも多いと液晶分子の配向を阻害する場合がある。 The content of the dichroic dye (the total amount when there are a plurality of types) is usually 0.1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound from the viewpoint of obtaining good light absorption characteristics. Yes, preferably 1 to 20 parts by mass, more preferably 3 to 15 parts by mass. If the content of the dichroic dye is less than this range, light absorption becomes insufficient and sufficient polarization performance cannot be obtained, and if it is more than this range, the alignment of liquid crystal molecules may be inhibited.
重合性液晶組成物は、重合性液晶化合物と、添加剤等の重合性液晶化合物以外の成分とを所定温度で撹拌等することにより得ることができる。 The polymerizable liquid crystal composition can be obtained by stirring the polymerizable liquid crystal compound and components other than the polymerizable liquid crystal compound such as an additive at a predetermined temperature.
λ/4位相差層4及び垂直配向液晶硬化層6は、配向規制力を与える配向層上に形成されることが好ましい。より詳細には、λ/4位相差層4は、前記重合性液晶組成物を配向層5上に塗布し、次いで溶媒を除去し、配向状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物を加熱及び/又は活性エネルギー線によって硬化させて得ることができる。垂直配向液晶硬化層6は前記重合性液晶組成物を垂直配向層7上に塗布し、次いで溶媒を除去し、配向状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物を加熱及び/又は活性エネルギー線によって硬化させて得ることができる。
It is preferable that the λ / 4 retardation layer 4 and the vertically aligned liquid crystal cured
重合性液晶組成物を配向層5又は垂直配向層7上に塗布する方法としては、補強層の項に例示の塗布方法Aが挙げられる。溶媒を除去する方法としては、補強層の項に例示の溶媒除去方法Aが挙げられる。照射する活性エネルギー線としては、重合性液晶化合物の種類、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、及びそれらの量に応じて適宜選択される。活性エネルギー線、その光源としては補強層の項に例示のものを使用することができる。また、重合性液晶組成物に紫外線を照射する場合、紫外線照射強度、照射時間、及び積算光量も補強層の項に例示の範囲で使用することができる。積算光量が上記に記載の範囲以下である場合には、重合性液晶化合物の硬化が不十分となり、補強性が十分でない場合がある。逆に、積算光量が上記に記載の範囲以上である場合には、楕円偏光板が着色する場合がある。
Examples of a method for applying the polymerizable liquid crystal composition on the
〔配向層〕
配向層5は、重合性液晶化合物を所定方向に配向させる配向規制力を有する。例えば、配向層5が配向規制力として水平配向規制力を発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は水平配向又はハイブリッド配向を形成でき、垂直配向規制力を発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は垂直配向又は傾斜配向を形成することができる。また、垂直配向層7は、垂直配向液晶硬化層6に含まれる重合性液晶化合物が垂直配向を形成しているため、垂直配向規制力を発現させる材料で構成される。配向規制力は、配向層の種類、表面状態やラビング条件等によって任意に調整することが可能であり、光配向性ポリマーから形成されている場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。また、重合性液晶化合物の、表面張力や液晶性等の物性を選択することにより、液晶配向を制御することもできる。
(Orientation layer)
The
配向層5又は配向層7としては、重合性液晶組成物の塗布等により溶解しない溶媒耐性を有し、また、溶媒の除去や重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。
The
λ/4位相差層4を水平方向に配向させる配向規制力を示す水平配向層としては、ラビング配向層、光配向層及び、表面に凹凸パターンや複数の溝を有するグルブ配向層等が挙げられる。例えば長尺のロール状フィルムに適用する場合には、配向方向を容易に制御できる点で、光配向層が好ましい。 Examples of the horizontal alignment layer showing the alignment regulating force for aligning the λ / 4 retardation layer 4 in the horizontal direction include a rubbing alignment layer, a photo-alignment layer, and a groove alignment layer having a concavo-convex pattern and a plurality of grooves on the surface. . For example, when applying to a long roll-shaped film, a photo-alignment layer is preferable in that the orientation direction can be easily controlled.
ラビング配向層は、通常、配向性ポリマーと溶媒とを含む組成物(以下、ラビング配向層形成用組成物ともいう)を基材に塗布し、溶媒を除去して塗布膜を形成し、該塗布膜をラビングすることで配向規制力を付与することができる。 The rubbing alignment layer is usually formed by applying a composition containing an orientation polymer and a solvent (hereinafter also referred to as a rubbing alignment layer forming composition) to a substrate, removing the solvent to form a coating film, and applying the coating. An orientation regulating force can be applied by rubbing the film.
配向性ポリマーとしては、例えば、アミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、イミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸及びポリアクリル酸エステル類が挙げられる。これらの配向性ポリマーは単独又は二種以上組み合わせて使用できる。 Examples of the orientation polymer include polyamides and gelatins having an amide bond, polyimides having an imide bond, and polyamic acid, polyvinyl alcohol, alkyl-modified polyvinyl alcohol, polyacrylamide, polyoxazole, polyethyleneimine, polystyrene having imide bonds. , Polyvinyl pyrrolidone, polyacrylic acid and polyacrylic acid esters. These orientation polymers can be used alone or in combination of two or more.
ラビング配向層形成用組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマーが溶媒に完溶する範囲であればよい。配向性ポリマーの含有量は、該組成物100質量部に対して、好ましくは0.1〜20質量部であり、より好ましくは0.1〜10質量部である。 The concentration of the orienting polymer in the rubbing alignment layer forming composition may be within a range in which the orienting polymer is completely dissolved in the solvent. The content of the orientation polymer is preferably 0.1 to 20 parts by mass, more preferably 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the composition.
ラビング配向層形成用組成物は、市場から入手できる。市販品としては、サンエバー(登録商標、日産化学工業(株)製)、オプトマー(登録商標、JSR(株)製)等が挙げられる。 The composition for forming a rubbing alignment layer can be obtained from the market. Examples of commercially available products include San Ever (registered trademark, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), Optmer (registered trademark, manufactured by JSR).
溶媒は、例えば補強層の項に例示の溶媒を使用することができる。ラビング配向層形成用組成物を基材に塗布する方法としては、前記塗布方法Aが挙げられ、溶媒を除去する方法としては、前記溶媒除去方法Aが挙げられる。 As the solvent, for example, the solvent exemplified in the section of the reinforcing layer can be used. Examples of the method for applying the rubbing alignment layer forming composition to the substrate include the application method A, and examples of the method for removing the solvent include the solvent removal method A.
ラビング処理の方法としては、例えば、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、前記塗布膜を接触させる方法が挙げられる。ラビング処理を行う時に、マスキングを行えば、配向の方向が異なる複数の領域(パターン)を配向膜に形成することもできる。 Examples of the rubbing treatment include a method in which a rubbing cloth is wound and the coating film is brought into contact with a rotating rubbing roll. If masking is performed when the rubbing treatment is performed, a plurality of regions (patterns) having different orientation directions can be formed in the alignment film.
光配向層は、通常、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶媒とを含む組成物(光配向層形成用組成物ともいう)を基材に塗布し、溶媒を除去後に偏光(好ましくは、偏光UV)を照射することで得られる。光配向層は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御することができる。 The photo-alignment layer is usually coated with a composition containing a polymer or monomer having a photoreactive group and a solvent (also referred to as a photo-alignment layer forming composition) on a substrate, and after the solvent is removed (preferably, It is obtained by irradiating with polarized UV light. The photo-alignment layer can arbitrarily control the direction of the alignment regulating force by selecting the polarization direction of the polarized light to be irradiated.
光反応性基とは、光照射することにより配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起反応、異性化反応、光二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素−炭素二重結合(C=C結合)、炭素−窒素二重結合(C=N結合)、窒素−窒素二重結合(N=N結合)及び炭素−酸素二重結合(C=O結合)からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。 The photoreactive group refers to a group that generates alignment ability when irradiated with light. Specific examples include groups that are involved in photoreactions that are the origin of alignment ability, such as alignment-induced reactions, isomerization reactions, photodimerization reactions, photocrosslinking reactions, or photodecomposition reactions of molecules generated by light irradiation. As the photoreactive group, an unsaturated bond, particularly a group having a double bond is preferable, and a carbon-carbon double bond (C = C bond), a carbon-nitrogen double bond (C = N bond), and nitrogen-nitrogen. A group having at least one selected from the group consisting of a double bond (N═N bond) and a carbon-oxygen double bond (C═O bond) is particularly preferred.
C=C結合を有する光反応性基としては、例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾール基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基が挙げられる。C=N結合を有する光反応性基としては、例えば、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。N=N結合を有する光反応性基としては、例えば、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、及び、アゾキシベンゼン構造を有する基が挙げられる。C=O結合を有する光反応性基としては、例えば、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。 Examples of the photoreactive group having a C═C bond include a vinyl group, a polyene group, a stilbene group, a stilbazole group, a stilbazolium group, a chalcone group, and a cinnamoyl group. Examples of the photoreactive group having a C═N bond include groups having a structure such as an aromatic Schiff base and an aromatic hydrazone. Examples of the photoreactive group having an N = N bond include an azobenzene group, an azonaphthalene group, an aromatic heterocyclic azo group, a bisazo group, a formazan group, and a group having an azoxybenzene structure. Examples of the photoreactive group having a C═O bond include a benzophenone group, a coumarin group, an anthraquinone group, and a maleimide group. These groups may have a substituent such as an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an allyloxy group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group, and a halogenated alkyl group.
光二量化反応又は光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ熱安定性や経時安定性に優れる光配向層が得られやすいという点で、シンナモイル基及びカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造又は桂皮酸エステル構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。 A group involved in the photodimerization reaction or the photocrosslinking reaction is preferable in terms of excellent orientation. Among them, a photoreactive group involved in the photodimerization reaction is preferable, and a cinnamoyl group is preferable in that a photoalignment layer having a relatively small amount of polarized light irradiation necessary for alignment and excellent in thermal stability and stability over time can be easily obtained. And chalcone groups are preferred. As the polymer having a photoreactive group, a polymer having a cinnamoyl group in which the terminal portion of the polymer side chain has a cinnamic acid structure or a cinnamic acid ester structure is particularly preferable.
光反応性基を有するポリマー又はモノマーの含有量は、ポリマー又はモノマーの種類や目的とする光配向層の厚さによって調節でき、光配向層形成用組成物100質量部に対して、少なくとも0.2質量部以上とすることが好ましく、0.3〜10質量部の範囲がより好ましい。 Content of the polymer or monomer which has a photoreactive group can be adjusted with the kind of polymer or monomer, and the thickness of the target photo-alignment layer, and it is at least 0 with respect to 100 mass parts of compositions for photo-alignment layer formation. It is preferable to set it as 2 mass parts or more, and the range of 0.3-10 mass parts is more preferable.
溶媒は、例えば補強層の項に例示の溶媒を使用することができる。光配向層形成用組成物を基材に塗布する方法としては、前記塗布方法Aが挙げられ、溶媒を除去する方法としては、前記溶媒除去方法Aが挙げられる。 As the solvent, for example, the solvent exemplified in the section of the reinforcing layer can be used. Examples of the method for applying the composition for forming a photo-alignment layer to a substrate include the application method A, and examples of the method for removing the solvent include the solvent removal method A.
偏光を照射するには、例えば、基材上に塗布された光配向層形成用組成物から、溶媒を除去したものに直接、偏光を照射する形式であってよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長域のものがよい。具体的には、波長250〜400nmの範囲のUV(紫外線)が特に好ましい。当該偏光を照射する光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、KrF、ArF等の紫外光レーザー等が挙げられる。中でも、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプが、波長313nmの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光素子を通過して照射することにより、偏光UVを照射することができる。偏光素子としては、偏光フィルター、グラントムソン、及びグランテーラー等の偏光プリズム、ならびにワイヤーグリッドが挙げられる。中でも大面積化と熱による耐性の観点からワイヤーグリッドタイプの偏光素子が好ましい。 In order to irradiate polarized light, for example, it may be in the form of irradiating polarized light directly to the composition from which the solvent is removed from the composition for forming a photo-alignment layer applied on the substrate. The polarized light is preferably substantially parallel light. The wavelength of the polarized light to be irradiated should be in a wavelength range where the photoreactive group of the polymer or monomer having the photoreactive group can absorb light energy. Specifically, UV (ultraviolet light) having a wavelength in the range of 250 to 400 nm is particularly preferable. Examples of the light source for irradiating the polarized light include xenon lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high pressure mercury lamps, metal halide lamps, ultraviolet lasers such as KrF and ArF, and the like. Among these, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, and a metal halide lamp are preferable because of high emission intensity of ultraviolet rays having a wavelength of 313 nm. By irradiating light from the light source through an appropriate polarizing element, polarized UV light can be irradiated. Examples of the polarizing element include a polarizing prism such as a polarizing filter, Glan Thompson, and Grand Taylor, and a wire grid. Among these, a wire grid type polarizing element is preferable from the viewpoint of an increase in area and resistance to heat.
なお、ラビング又は偏光照射を行うときに、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域(パターン)を形成することもできる。 Note that a plurality of regions (patterns) having different liquid crystal alignment directions can be formed by performing masking when performing rubbing or polarized light irradiation.
グルブ(groove)配向層は、膜表面に凹凸パターン又は複数のグルブ(溝)を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に重合性液晶化合物を塗布した場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。 The groove alignment layer is a film having an uneven pattern or a plurality of grooves (grooves) on the film surface. When a polymerizable liquid crystal compound is applied to a film having a plurality of linear grooves arranged at equal intervals, liquid crystal molecules are aligned in a direction along the groove.
グルブ配向層を得る方法としては、感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像及びリンス処理を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、硬化前のUV硬化樹脂の層を形成し、形成された樹脂層を基材へ移してから硬化する方法、及び、基材に形成した硬化前のUV硬化樹脂の膜に、複数の溝を有するロール状の原盤を押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法等が挙げられる。 As a method of obtaining the groove alignment layer, a method of forming a concavo-convex pattern by performing development and rinsing after exposure through an exposure mask having a pattern-shaped slit on the photosensitive polyimide film surface, a plate having grooves on the surface A layer of a pre-curing UV curable resin is formed on the substrate, and a method of curing the resin layer after transferring the formed resin layer to the base material, and a pre-curing UV curable resin film formed on the base material, Examples include a method in which a roll-shaped master having a plurality of grooves is pressed to form irregularities and then cured.
垂直配向液晶硬化層6を垂直方向に配向させる配向規制力を示す垂直配向層としては、配向層表面の表面張力を下げるような材料を適用することが好ましい。このような材料としては、上述した配向性ポリマー、例えばポリイミド、ポリアミド、その加水分解物であるポリアミック酸、パーフルオロアルキル等のフッ素系ポリマー、及びシラン化合物並びにそれらの縮合反応により得られるポリシロキサン化合物が挙げられる。垂直配向層は、このような材料と溶媒、例えば補強層の項に例示の溶媒とを含む組成物(以下、垂直配向層形成用組成物ともいう)を基材に塗布し、溶媒除去後、塗布膜に加熱等施すことで得ることができる。
As the vertical alignment layer showing the alignment regulating force for aligning the vertical alignment liquid crystal cured
垂直配向層にシラン化合物を使用する場合には、表面張力を低下させやすく、隣接する層との密着性を高めやすい観点から、少なくとも垂直配向層7は構成元素にSi元素とC元素とを含む化合物からなる層が好ましく、シラン化合物を好適に使用することができる。少なくとも垂直配向層7が構成元素にSi元素とC元素とを含む化合物からなると、隣接する層との密着性を高め、形成される楕円偏光板の加工特性を向上することができる。
When a silane compound is used for the vertical alignment layer, at least the
シラン化合物としては、上述したシランカップリング剤等のシリコーン系が好適に適用可能であるが、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルジメトキシメチルシラン、3−グリシドキシプロピルエトキシジメチルシランなどが挙げられる。 As the silane compound, silicones such as the above-mentioned silane coupling agents can be suitably applied. For example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2- Aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3- Dimethyl-butylidene) propylamine, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-Chloropropyltrimeth Sisilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyldimethoxymethylsilane, 3 -Glycidoxypropyl ethoxydimethylsilane etc. are mentioned.
シラン化合物は、シリコーンモノマータイプのものであってもよく、タイプシリコーンオリゴマー(ポリマー)タイプのものであってもよい。シリコーンオリゴマーを(単量体)−(単量体)コポリマーの形式で示すと、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及び3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、メルカプトプロピル基含有のコポリマー;メルカプトメチルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、メルカプトメチルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、メルカプトメチルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及びメルカプトメチルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、メルカプトメチル基含有のコポリマー;3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、3−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、3−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、3−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、3−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、3−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及び3−メタクリロキシイルオプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、メタクリロイルオキシプロピル基含有のコポリマー;3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、3−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、3−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、3−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、3−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、3−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及び3−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、アクリロイルオキシプロピル基含有のコポリマー;ビニルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、ビニルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、ビニルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、ビニルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、ビニルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、ビニルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、ビニルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及びビニルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、ビニル基含有のコポリマー;3−アミノプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、3−アミノプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、3−アミノプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、3−アミノプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及び3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、アミノ基含有のコポリマー等が挙げられる。シラン化合物は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。また、レベリング剤としても使用される場合もある、シランカップリング剤等も使用する事が出来る。 The silane compound may be of a silicone monomer type or a type silicone oligomer (polymer) type. When the silicone oligomer is shown in the form of (monomer)-(monomer) copolymer, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-mercapto Mercaptopropyl group-containing copolymers such as propyltriethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer and 3-mercaptopropyltriethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer; mercaptomethyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, mercaptomethyltrimethoxysilane- Tetraethoxysilane copolymer, mercaptomethyltriethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, and mercaptomethyltriethoxysilane-tetrae A copolymer containing a mercaptomethyl group, such as a xysilane copolymer; 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-methacryloyloxypropyltriethoxysilane- Tetramethoxysilane copolymer, 3-methacryloyloxypropyltriethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-methacryloyl Oxypropylmethyldiethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, And copolymers containing methacryloyloxypropyl groups, such as 3-methacryloxyyl propylmethyldiethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer; 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane -Tetraethoxysilane copolymer, 3-acryloyloxypropyltriethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-acryloyloxypropyltriethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3- Acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-acryloyloxy Copolymers containing acryloyloxypropyl groups, such as propylmethyldiethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer and 3-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer; vinyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, vinyltrimethoxy Silane-tetraethoxysilane copolymer, vinyltriethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, vinyltriethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, vinylmethyldimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, vinylmethyldimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, vinylmethyldi Ethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer and vinylmethyldiethoxysilane-tetrae Vinyl group-containing copolymers such as xyloxysilane copolymers; 3-aminopropyltrimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymers, 3-aminopropyltrimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymers, 3-aminopropyltriethoxysilane-tetramethoxysilane copolymers 3-aminopropyltriethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-aminopropylmethyldimethoxysilane-tetramethoxysilane copolymer, 3-aminopropylmethyldimethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane-tetra Amino group-containing copolymers such as methoxysilane copolymer and 3-aminopropylmethyldiethoxysilane-tetraethoxysilane copolymer And the like. A silane compound can be used individually or in combination of 2 or more types. Moreover, the silane coupling agent etc. which may be used also as a leveling agent can also be used.
これらの中でも分子末端にアルキル基を有するシラン化合物が好ましく、炭素数3〜30のアルキル基を有するシラン化合物がより好ましい。 Among these, a silane compound having an alkyl group at the molecular end is preferable, and a silane compound having an alkyl group having 3 to 30 carbon atoms is more preferable.
本発明の好ましい実施態様では、垂直配向液晶硬化層6と補強層8との間に膜厚5μm以下の垂直配向層7を有し、該垂直配向層7は構成元素にSi元素、C元素及びO元素を含む化合物からなる層である。垂直配向層7は隣接する層との密着性向上の観点、及び垂直配向液晶硬化層6形成用組成物の塗布性の観点から、構成元素にSi元素、C元素、及びO元素を含む化合物から成ることが好ましく、シラン化合物を好適に使用することができる。垂直配向層7を形成するシラン化合物のSi原子に結合するC原子を含む置換基、好ましくはアルキル基又はアルコキシ基の炭素原子数は、好ましくは1〜30、より好ましくは2〜25、さらに好ましくは3〜20である。すなわち、Si元素とC元素との比率(Si/C、モル比)は、好ましくは0.03〜1.00、より好ましくは0.04〜0.50、さらに好ましくは0.05〜0.33である。Si/C比が上記の下限以上であると、垂直配向液晶硬化層6形成用組成物の塗布性が向上し、Si/C比が上限以下であると隣接する層との密着性を向上できる。
In a preferred embodiment of the present invention, a
溶媒は、例えば、補強層8の項に例示の溶媒を使用することができる。垂直配向層形成用組成物を基材に塗布する方法としては、前記塗布方法Aが挙げられ、溶媒を除去する方法としては、前記溶媒除去方法Aが挙げられる。
As the solvent, for example, the solvent exemplified in the section of the reinforcing
配向層形成用組成物、すなわち、前記ラビング配向層形成用組成物、前記光配向層形成用組成物等の水平配向層形成用組成物、及び前記垂直配向層形成用組成物は溶媒の他、例えば重合性液晶組成物に含まれる添加剤と同様の添加剤を含むことができる。 The composition for forming an alignment layer, that is, the composition for forming a horizontal alignment layer such as the composition for forming a rubbing alignment layer, the composition for forming a photo alignment layer, and the composition for forming a vertical alignment layer, For example, the same additive as the additive contained in the polymerizable liquid crystal composition can be included.
配向層5及び垂直配向層7の膜厚は、薄膜化の観点から、それぞれ好ましくは1μm以下、より好ましくは0.5μm以下、さらに好ましくは0.3μm以下である。また、配向層5及び垂直配向層7の膜厚はそれぞれ、好ましくは1nm以上、より好ましくは5nm以上、さらに好ましくは10nm以上、特に好ましくは30nm以上である。配向層5及び垂直配向層7の膜厚は、エリプソメータ又は接触式膜厚計を用いて測定することができる。
The thicknesses of the
〔粘接着剤〕
粘接着剤3としては、感圧式粘着剤、乾燥固化型接着剤及び化学反応型接着剤が挙げられる。化学反応型接着剤としては、例えば、活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。
[Adhesive]
Examples of the adhesive 3 include pressure-sensitive adhesives, dry-solidifying adhesives, and chemically reactive adhesives. Examples of the chemically reactive adhesive include an active energy ray curable adhesive.
感圧式粘着剤は、通常、ポリマーを含み、溶媒を含んでいてもよい。ポリマーとしては、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、又はポリエーテル等が挙げられる。中でも、アクリル系ポリマーを含むアクリル系の粘着剤は、光学的な透明性に優れ、適度の濡れ性や凝集力を有し、接着性に優れ、さらには耐候性や耐熱性等が高く、加熱や加湿の条件下で浮きや剥がれ等が生じ難いため好ましい。 The pressure-sensitive adhesive usually contains a polymer and may contain a solvent. Examples of the polymer include acrylic polymers, silicone polymers, polyesters, polyurethanes, and polyethers. Among them, acrylic pressure-sensitive adhesives containing acrylic polymers have excellent optical transparency, moderate wettability and cohesive strength, excellent adhesion, and high weather resistance and heat resistance. It is preferable because it does not easily float or peel off under humidifying conditions.
アクリル系ポリマーとしては、エステル部分のアルキル基がメチル基、エチル基又はブチル基等の炭素数1〜20のアルキル基である(メタ)アクリレートと、(メタ)アクリル酸やヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の官能基を有する(メタ)アクリル系モノマーとの共重合体が好ましい。 As the acrylic polymer, (meth) acrylates in which the alkyl group in the ester moiety is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group or a butyl group, and (meth) acrylic acid or hydroxyethyl (meth) acrylate A copolymer with a (meth) acrylic monomer having a functional group such as is preferable.
このような共重合体を含む感圧式粘着剤は、粘着性に優れており、被転写体に貼合した後に取り除くときも、被転写体に糊残り等を生じさせることなく、比較的容易に取り除くことが可能であるので好ましい。アクリル系ポリマーのガラス転移温度は、25℃以下が好ましく、0℃以下がより好ましい。このようなアクリル系ポリマーの質量平均分子量は、10万以上であることが好ましい。 The pressure-sensitive adhesive containing such a copolymer has excellent adhesiveness, and even when removed after being bonded to the transfer object, it is relatively easy to cause no adhesive residue on the transfer object. This is preferable because it can be removed. The glass transition temperature of the acrylic polymer is preferably 25 ° C. or less, and more preferably 0 ° C. or less. The mass average molecular weight of such an acrylic polymer is preferably 100,000 or more.
溶媒としては、上記溶媒として挙げられた溶媒等が挙げられる。感圧式粘着剤は、光拡散剤を含有していてもよい。光拡散剤は、粘着剤に光拡散性を付与する添加剤であり、粘着剤が含むポリマーの屈折率と異なる屈折率を有する微粒子であればよい。光拡散剤としては、無機化合物からなる微粒子、及び有機化合物(ポリマー)からなる微粒子が挙げられる。アクリル系ポリマーを含めて、粘着剤が有効成分として含むポリマーの多くは1.4〜1.6程度の屈折率を有するため、その屈折率が1.2〜1.8である光拡散剤から適宜選択することが好ましい。粘着剤が有効成分として含むポリマーと光拡散剤との屈折率差は、通常、0.01以上であり、表示装置の明るさと表示性の観点からは、0.01〜0.2が好ましい。光拡散剤として用いる微粒子は、球形の微粒子、それも単分散に近い微粒子が好ましく、平均粒径が2〜6μmである微粒子がより好ましい。屈折率は、一般的な最小偏角法又はアッベ屈折計によって測定される。 As a solvent, the solvent etc. which were mentioned as the said solvent are mentioned. The pressure-sensitive adhesive may contain a light diffusing agent. The light diffusing agent is an additive that imparts light diffusibility to the pressure-sensitive adhesive and may be fine particles having a refractive index different from the refractive index of the polymer contained in the pressure-sensitive adhesive. Examples of the light diffusing agent include fine particles made of an inorganic compound and fine particles made of an organic compound (polymer). Since many of the polymers that the pressure-sensitive adhesive contains as an active ingredient, including acrylic polymers, have a refractive index of about 1.4 to 1.6, the light diffusing agent has a refractive index of 1.2 to 1.8. It is preferable to select appropriately. The refractive index difference between the polymer contained in the pressure-sensitive adhesive as an active ingredient and the light diffusing agent is usually 0.01 or more, and is preferably 0.01 to 0.2 from the viewpoint of the brightness and display properties of the display device. The fine particles used as the light diffusing agent are preferably spherical fine particles, or fine particles close to monodisperse, and more preferably fine particles having an average particle diameter of 2 to 6 μm. The refractive index is measured by a general minimum deviation method or Abbe refractometer.
無機化合物からなる微粒子としては、酸化アルミニウム(屈折率1.76)及び酸化ケイ素(屈折率1.45)等が挙げられる。有機化合物(ポリマー)からなる微粒子としては、メラミンビーズ(屈折率1.57)、ポリメタクリル酸メチルビーズ(屈折率1.49)、メタクリル酸メチル/スチレン共重合体樹脂ビーズ(屈折率1.50〜1.59)、ポリカーボネートビーズ(屈折率1.55)、ポリエチレンビーズ(屈折率1.53)、ポリスチレンビーズ(屈折率1.6)、ポリ塩化ビニルビーズ(屈折率1.46)、及びシリコーン樹脂ビーズ(屈折率1.46)等が挙げられる。光拡散剤の含有量は、通常、ポリマー100質量部に対して、3〜30質量部である。 Examples of the fine particles made of an inorganic compound include aluminum oxide (refractive index 1.76) and silicon oxide (refractive index 1.45). Fine particles comprising an organic compound (polymer) include melamine beads (refractive index 1.57), polymethyl methacrylate beads (refractive index 1.49), methyl methacrylate / styrene copolymer resin beads (refractive index 1.50). To 1.59), polycarbonate beads (refractive index 1.55), polyethylene beads (refractive index 1.53), polystyrene beads (refractive index 1.6), polyvinyl chloride beads (refractive index 1.46), and silicone. Examples thereof include resin beads (refractive index: 1.46). The content of the light diffusing agent is usually 3 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer.
感圧式粘着剤の厚みは、その密着力等に応じて決定されるため、特に制限されないが、通常、1μm〜40μmである。加工性や耐久性等の点から、当該厚さは3μm〜25μmが好ましく、5μm〜20μmがより好ましい。粘着剤から形成される粘接着剤層の厚さを5μm〜20μmとすることにより、表示装置を正面から見た場合や斜めから見た場合の明るさを保ち、表示像のにじみやボケを生じ難くすることができる。 The thickness of the pressure-sensitive adhesive is determined according to its adhesion and the like, and is not particularly limited, but is usually 1 μm to 40 μm. From the viewpoints of workability and durability, the thickness is preferably 3 μm to 25 μm, and more preferably 5 μm to 20 μm. By setting the thickness of the adhesive layer formed from the pressure-sensitive adhesive to 5 μm to 20 μm, the brightness of the display device when viewed from the front or obliquely is maintained, and blurring or blurring of the display image is prevented. It can be made difficult to occur.
乾燥固化型接着剤は、溶媒を含んでいてもよい。乾燥固化型接着剤としては、水酸基、カルボキシル基又はアミノ基等のプロトン性官能基とエチレン性不飽和基とを有するモノマーの重合体、又は、ウレタン樹脂を主成分として含有し、さらに、多価アルデヒド、エポキシ化合物、エポキシ樹脂、メラミン化合物、ジルコニア化合物、及び亜鉛化合物等の架橋剤又は硬化性化合物を含有する組成物等が挙げられる。水酸基、カルボキシル基又はアミノ基等のプロトン性官能基とエチレン性不飽和基とを有するモノマーの重合体としては、エチレン−マレイン酸共重合体、イタコン酸共重合体、アクリル酸共重合体、アクリルアミド共重合体、ポリ酢酸ビニルのケン化物、及び、ポリビニルアルコール系樹脂等が挙げられる。 The dry-solidifying adhesive may contain a solvent. The dry-solidifying adhesive contains, as a main component, a polymer of a monomer having a protonic functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group or an amino group and an ethylenically unsaturated group, or a urethane resin. Examples include aldehydes, epoxy compounds, epoxy resins, melamine compounds, zirconia compounds, and compositions containing a curable compound such as a zinc compound. Examples of the polymer of a monomer having a protonic functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group or an amino group and an ethylenically unsaturated group include an ethylene-maleic acid copolymer, an itaconic acid copolymer, an acrylic acid copolymer, and an acrylamide. Examples include copolymers, saponified products of polyvinyl acetate, and polyvinyl alcohol resins.
ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリビニルアルコール、部分ケン化ポリビニルアルコール、完全ケン化ポリビニルアルコール、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、メチロール基変性ポリビニルアルコール、及び、アミノ基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。水系の粘接着剤におけるポリビニルアルコール系樹脂の含有量は、水100質量部に対して、通常、1〜10質量部であり、好ましくは1〜5質量部である。 Examples of the polyvinyl alcohol resin include polyvinyl alcohol, partially saponified polyvinyl alcohol, fully saponified polyvinyl alcohol, carboxyl group-modified polyvinyl alcohol, acetoacetyl group-modified polyvinyl alcohol, methylol group-modified polyvinyl alcohol, and amino group-modified polyvinyl alcohol. Can be mentioned. The content of the polyvinyl alcohol-based resin in the aqueous adhesive is usually 1 to 10 parts by mass, preferably 1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of water.
ウレタン樹脂としては、ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂等が挙げられる。
ここでいうポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂とは、ポリエステル骨格を有するウレタン樹脂であって、その中に少量のイオン性成分(親水成分)が導入された樹脂である。係るアイオノマー型ウレタン樹脂は、乳化剤を使用せずに、水中で乳化してエマルジョンとなるため、水系の粘接着剤とすることができる。ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂を用いる場合は、架橋剤として水溶性のエポキシ化合物を配合することが有効である。
Examples of the urethane resin include polyester ionomer type urethane resins.
The polyester ionomer type urethane resin here is a urethane resin having a polyester skeleton, and a resin in which a small amount of an ionic component (hydrophilic component) is introduced. Since such an ionomer type urethane resin is emulsified in water without using an emulsifier and becomes an emulsion, it can be an aqueous adhesive. When a polyester ionomer type urethane resin is used, it is effective to blend a water-soluble epoxy compound as a crosslinking agent.
エポキシ樹脂としては、ジエチレントリアミン又はトリエチレンテトラミン等のポリアルキレンポリアミンとアジピン酸等のジカルボン酸との反応で得られるポリアミドポリアミンに、エピクロロヒドリンを反応させて得られるポリアミドエポキシ樹脂等が挙げられる。係るポリアミドエポキシ樹脂の市販品としては、“スミレーズレジン(登録商標)650”及び“スミレーズレジン675”(以上、住化ケムテックス株式会社製)、“WS−525”(日本PMC株式会社製)等が挙げられる。エポキシ樹脂を配合する場合、その添加量は、ポリビニルアルコール系樹脂100質量部に対して、通常、1〜100質量部であり、好ましくは1〜50質量部である。 Examples of the epoxy resin include a polyamide epoxy resin obtained by reacting a polyalkylenepolyamine such as diethylenetriamine or triethylenetetramine with a dicarboxylic acid such as adipic acid and epichlorohydrin. Commercially available products of such polyamide epoxy resins include “Smiles Resin (registered trademark) 650” and “Smiles Resin 675” (manufactured by Sumika Chemtex Co., Ltd.), “WS-525” (manufactured by Nippon PMC Co., Ltd.). Etc. When mix | blending an epoxy resin, the addition amount is 1-100 mass parts normally with respect to 100 mass parts of polyvinyl alcohol-type resin, Preferably it is 1-50 mass parts.
乾燥固化型接着剤から形成される粘接着剤層の厚さは、通常、0.001〜5μmであり、好ましくは0.01〜2μmであり、さらに好ましくは0.01〜0.5μmである。乾燥固化型接着剤から形成される粘接着剤層が厚すぎると、外観不良となり易い。 The thickness of the adhesive layer formed from the dry-solidifying adhesive is usually 0.001 to 5 μm, preferably 0.01 to 2 μm, more preferably 0.01 to 0.5 μm. is there. When the adhesive layer formed from the dry-solidifying adhesive is too thick, the appearance is liable to be poor.
活性エネルギー線硬化型接着剤は、溶媒を含んでいてもよい。活性エネルギー線硬化型接着剤とは、活性エネルギー線の照射を受けて硬化する接着剤である。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性の接着剤、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤とを含有するラジカル重合性の接着剤、エポキシ化合物等のカチオン重合性の硬化成分及びアクリル系化合物等のラジカル重合性の硬化成分の両者を含有し、さらにカチオン重合開始剤及びラジカル重合開始剤を含有する接着剤、及び、これら重合開始剤を含まずに電子ビームを照射することで硬化される接着剤等が挙げられる。 The active energy ray-curable adhesive may contain a solvent. An active energy ray-curable adhesive is an adhesive that cures upon irradiation with active energy rays. Examples of the active energy ray-curable adhesive include a cationic polymerizable adhesive containing an epoxy compound and a cationic polymerization initiator, a radical polymerizable adhesive containing an acrylic curing component and a radical polymerization initiator, and an epoxy compound. Contains both a cationic polymerizable curing component such as an acrylic compound and a radical polymerizable curing component such as an acrylic compound, and further contains an adhesive containing a cationic polymerization initiator and a radical polymerization initiator, and these polymerization initiators. For example, an adhesive that is cured by irradiating an electron beam.
中でも、アクリル系硬化成分と光ラジカル重合開始剤とを含有するラジカル重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤、エポキシ化合物と光カチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤が好ましい。アクリル系硬化成分としては、メチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート及び(メタ)アクリル酸等が挙げられる。エポキシ化合物を含有する活性エネルギー線硬化型接着剤は、エポキシ化合物以外の化合物をさらに含有していてもよい。エポキシ化合物以外の化合物としては、オキセタン化合物やアクリル化合物等が挙げられる。 Among them, radically polymerizable active energy ray-curable adhesives containing acrylic curing components and photoradical polymerization initiators, and cationic polymerizable active energy ray-curable adhesives containing epoxy compounds and photocationic polymerization initiators Agents are preferred. Examples of the acrylic curing component include (meth) acrylates such as methyl (meth) acrylate and hydroxyethyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid. The active energy ray-curable adhesive containing an epoxy compound may further contain a compound other than the epoxy compound. Examples of compounds other than epoxy compounds include oxetane compounds and acrylic compounds.
光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤としては、上述の光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤が挙げられる。ラジカル重合開始剤並びにカチオン重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化型接着剤100質量部に対して、通常、0.5〜20質量部であり、好ましくは1〜15質量部である。 Examples of the radical photopolymerization initiator and the cationic photopolymerization initiator include the aforementioned radical photopolymerization initiator and cationic photopolymerization initiator. Content of a radical polymerization initiator and a cationic polymerization initiator is 0.5-20 mass parts normally with respect to 100 mass parts of active energy ray hardening-type adhesives, Preferably it is 1-15 mass parts.
活性エネルギー線硬化型接着剤には、さらに、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤及び消泡剤等が含有されていてもよい。 The active energy ray-curable adhesive further contains an ion trap agent, an antioxidant, a chain transfer agent, a tackifier, a thermoplastic resin, a filler, a flow regulator, a plasticizer, an antifoaming agent, and the like. May be.
本明細書において活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線と定義される。このような活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、X線、α線、β線、γ線及び電子線等が挙げられ、紫外線及び電子線が好ましい。好ましい紫外線の照射条件は前述した重合性液晶化合物の重合と同様である。 In this specification, an active energy ray is defined as an energy ray capable of generating an active species by decomposing a compound that generates an active species. Examples of such active energy rays include visible light, ultraviolet rays, infrared rays, X-rays, α rays, β rays, γ rays, and electron beams, and ultraviolet rays and electron beams are preferable. Preferable ultraviolet irradiation conditions are the same as the polymerization of the polymerizable liquid crystal compound described above.
〔楕円偏光板〕
本発明の楕円偏光板1、10及び100は、前記垂直配向液晶硬化層6を補強する機能を有する補強層8を備えるため、薄膜の垂直配向液晶硬化層6が十分に補強され、切断端面における波うち等の不具合の抑制又は防止が可能である。このため、ディスプレイ用途に適用可能である。
[Elliptically polarizing plate]
Since the elliptically
本発明の楕円偏光板において、補強層8、配向層5及び垂直配向層7は3次元屈折率の等方性を有する層であることが好ましい。
In the elliptically polarizing plate of the present invention, the reinforcing
本発明の楕円偏光板1、10及び100の膜厚はそれぞれ、好ましくは10〜300μm、より好ましくは20〜200μm、さらに好ましくは30〜100μmである。楕円偏光板の膜厚が上記の下限以上であると、加工特性の観点から有利であり、楕円偏光板の膜厚が上記の上限以下であると、薄膜化の観点から有利である。
The film thickness of the elliptically
本発明の楕円偏光板1、10及び100は、隣接する各層において、波長550nmにおける面内平均屈折率の差は、0.20以下であることが好ましい。面内平均位相差の差が上記の上限以下であると、各層間の界面における反射が小さくなる。なお、面内平均屈折率は実施例に記載の方法に従って測定できる。
In the elliptically
〔楕円偏光板の製造方法〕
図1に示す楕円偏光板1は、偏光層2、λ/4位相差層4と配向層5の積層体A、及び垂直配向液晶硬化層6と配向層7と補強層8の積層体を別々に形成した後、粘接着剤3を介して貼合することで得ることができる。例えば、基材上に配向層5及びλ/4位相差層4をこの順に積層した積層体A、並びに基材上に補強層8、配向層7及び垂直配向液晶硬化層6をこの順に積層した積層体Bを形成し、偏光層2と積層体Aのλ/4位相差層4側とを粘接着剤3を介して、偏光層2の吸収軸とλ/4位相差層4の遅相軸との成す角度が45°となるように貼合し、基材のみを剥離して積層体Cを作製する。次いで、積層体Cの配向層5側と積層体Bの垂直配向液晶硬化層6側とを粘接着剤3を介して貼合し、基材のみを剥離することで楕円偏光板1を作製できる。
[Production method of elliptically polarizing plate]
The elliptically
図2に示す楕円偏光板10は、偏光層2、前記積層体A、及び前記積層体Bを別々に作製し、偏光層2と積層体Bの垂直配向液晶硬化層6側とを粘接着剤3を介して貼合し、基材のみを剥離して積層体Dを作製する。次いで、積層体Dの補強層8側と積層体Aのλ/4位相差層4側とを粘接着剤3を介して、偏光層2の吸収軸がλ/4位相差層4の遅相軸(光軸)に対して、実質的に45°となるように貼合し、基材のみを剥離することで作製することができる。
In the elliptically polarizing
図3に示す楕円偏光板100は、偏光層2、前記積層体A、及び前記積層体Bを別々に作製し、積層体Aのλ/4位相差層4側と積層体Bの垂直配向液晶硬化層6側とを粘接着剤を介して貼合し、両方の基材を剥離して積層体Eを作製する。次いで、積層体Eの補強層8側と偏光層2とを粘接着剤3を介して、偏光層2の吸収軸がλ/4位相差層4の遅相軸(光軸)に対して、実質的に45°となるように貼合することで作製することができる。
The elliptically
(基材)
基材としては、ガラス基材及びフィルム基材が挙げられ、加工性の観点からフィルム基材が好ましく、連続的に製造できる点で長尺のロール状フィルムがより好ましい。フィルム基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン;環状オレフィン系樹脂;ポリビニルアルコール;ポリエチレンテレフタレート;ポリメタクリル酸エステル;ポリアクリル酸エステル;トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル;ポリエチレンナフタレート;ポリカーボネート;ポリスルホン;ポリエーテルスルホン;ポリエーテルケトン;ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシド等のプラスチックが挙げられる。この基材の粘着剤層との接合面に、シリコーン処理のような離型処理が施されたものであることができる。市販のセルロースエステル基材としては、“フジタックフィルム”(富士写真フイルム株式会社製);“KC8UX2M”、“KC8UY”及び“KC4UY”(以上、コニカミノルタオプト株式会社製)等が挙げられる。このような樹脂を、溶媒キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して、基材とすることができる。
(Base material)
As a base material, a glass base material and a film base material are mentioned, A film base material is preferable from a viewpoint of workability, and a long roll-shaped film is more preferable at the point which can be manufactured continuously. Examples of the resin constituting the film substrate include polyolefins such as polyethylene, polypropylene, norbornene polymers, cyclic olefin resins, polyvinyl alcohol, polyethylene terephthalate, polymethacrylates, polyacrylates, triacetylcellulose, and diacetylcellulose. And cellulose esters such as cellulose acetate propionate; polyethylene naphthalate; polycarbonate; polysulfone; polyethersulfone; polyetherketone; and plastics such as polyphenylene sulfide and polyphenylene oxide. The joint surface of the base material with the pressure-sensitive adhesive layer may be subjected to a release treatment such as a silicone treatment. Examples of the commercially available cellulose ester base material include “Fujitac Film” (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.); “KC8UX2M”, “KC8UY” and “KC4UY” (manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.). Such a resin can be formed into a substrate by known methods such as a solvent casting method and a melt extrusion method.
市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Topas”(登録商標)(Ticona社(独)製)、“アートン”(登録商標)(JSR株式会社製)、“ゼオノア(ZEONOR)”(登録商標)、“ゼオネックス(ZEONEX)”(登録商標)(以上、日本ゼオン株式会社製)及び“アペル”(登録商標)(三井化学株式会社製)が挙げられる。市販されている環状オレフィン系樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、“エスシーナ”(登録商標)、“SCA40”(登録商標)(以上、積水化学工業株式会社製)、“ゼオノアフィルム”(登録商標)(オプテス株式会社製)及び“アートンフィルム”(登録商標)(JSR株式会社製)が挙げられる。 Commercially available cyclic olefin-based resins include “Topas” (registered trademark) (manufactured by Ticona (Germany)), “Arton” (registered trademark) (manufactured by JSR Corporation), “ZEONOR” (registered trademark), “ZEONEX” (registered trademark) (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) and “Apel” (registered trademark) (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) can be mentioned. Commercially available cyclic olefin resin base materials can also be used. Commercially available cyclic olefin-based resin base materials include “Essina” (registered trademark), “SCA40” (registered trademark) (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), “Zeonor Film” (registered trademark) (manufactured by Optes Corporation). ) And “Arton Film” (registered trademark) (manufactured by JSR Corporation).
基材は、各層を積層しやすく、かつ剥離が容易な厚みであることが好ましい。このような基材の厚みは、通常5〜300μmであり、好ましくは10〜150μmである。 It is preferable that the substrate has a thickness that facilitates laminating each layer and is easy to peel off. The thickness of such a substrate is usually 5 to 300 μm, preferably 10 to 150 μm.
〔楕円偏光板の他の態様〕
図1〜3に示される楕円偏光板1、10及び100は、粘着剤3、配向層5及び垂直配向層7を含んでいるが、本発明の楕円偏光板は、偏光層、λ/4位相差層、垂直配向液晶硬化層、補強層を少なくとも有していればよく、これら以外の層、例えば、他の配向液晶硬化層、保護層等を含んでいてもよい。
[Other aspects of elliptically polarizing plate]
The elliptically
他の配向液晶硬化層としては、λ/4位相差層の項で例示のポジティブAプレート、ポジティブCプレート、ネガティブAプレート、ネガティブCプレート等が挙げられる。 Examples of the other alignment liquid crystal cured layer include a positive A plate, a positive C plate, a negative A plate, and a negative C plate exemplified in the section of λ / 4 retardation layer.
好ましい態様において、他の配向液晶硬化層は、式(6)で表される光学特性を有し、好ましくは式(6−1)で表される光学特性を有する。面内位相差値Re(550)は、上記λ/4位相差層の面内位相差値の調整方法と同じ方法で調整することができる。
200nm<Re(550)<320nm (6)
265nm<Re(550)<285nm (6−1)
In a preferred embodiment, the other aligned liquid crystal cured layer has an optical characteristic represented by the formula (6), and preferably has an optical characteristic represented by the formula (6-1). The in-plane retardation value Re (550) can be adjusted by the same method as the adjustment method of the in-plane retardation value of the λ / 4 retardation layer.
200 nm <Re (550) <320 nm (6)
265 nm <Re (550) <285 nm (6-1)
また、他の配向液晶硬化層のRe(450)/Re(550)は、1.00以上であっても1.00以下であっても良いが、楕円偏光板の楕円率が向上するという観点から、λ/4位相差層4のReQ(450)/ReQ(550)に近ければ近いほど好ましく、Re(650)/Re(550)についても同様にλ/4位相差層4のReQ(650)/ReQ(550)の値と近い方が好ましい。 Further, Re (450) / Re (550) of other alignment liquid crystal cured layers may be 1.00 or more and 1.00 or less, but the viewpoint that the ellipticity of the elliptically polarizing plate is improved. Therefore, the closer to ReQ (450) / ReQ (550) of the λ / 4 retardation layer 4, the better, and the ReQ (650) / Re (550) of Reλ (650) of λ / 4 retardation layer 4 is also the same. ) / ReQ (550) is preferred.
他の配向液晶硬化層の膜厚は好ましくは0.5μm〜5.0μm、より好ましくは2.0μm〜4.5μmである。 The film thickness of the other oriented liquid crystal cured layer is preferably 0.5 μm to 5.0 μm, more preferably 2.0 μm to 4.5 μm.
保護層は、通常、多官能アクリレート(メタクリレート)、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート等からなるアクリル系オリゴマーあるいはポリマー、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリビニルピロリドン、デンプン類、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等の水溶性ポリマーと溶媒とを含有する保護層形成用組成物から形成されることが好ましい。 The protective layer is usually an acrylic oligomer or polymer composed of polyfunctional acrylate (methacrylate), urethane acrylate, polyester acrylate, epoxy acrylate, etc., polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, polyvinyl pyrrolidone, starches, methylcellulose, carboxy It is preferably formed from a composition for forming a protective layer containing a water-soluble polymer such as methylcellulose and sodium alginate and a solvent.
保護層形成用組成物に含有される溶媒は、重合性液晶組成物の項に例示の溶媒と同様のものが挙げられ、中でも、水、アルコール溶媒及びエーテル溶媒からなる群より選ばれる少なくとも一つの溶媒が、保護層を形成する層を溶解させることがない点で、好ましい。
アルコール溶媒としては、メタノール、エタノール、ブタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテルが挙げられる。エーテル溶媒としては、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、エタノール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが好ましい。
Examples of the solvent contained in the protective layer forming composition include the same solvents as those exemplified in the section of the polymerizable liquid crystal composition, and among them, at least one selected from the group consisting of water, alcohol solvents and ether solvents. A solvent is preferable at the point which does not dissolve the layer which forms a protective layer.
Examples of the alcohol solvent include methanol, ethanol, butanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, and propylene glycol monomethyl ether. Examples of the ether solvent include ethylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate. Of these, ethanol, isopropyl alcohol, propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate are preferable.
保護層の膜厚は、0.1μm〜10μm、より好ましくは0.3μm〜5.0μmである。 The thickness of the protective layer is 0.1 μm to 10 μm, more preferably 0.3 μm to 5.0 μm.
本発明の楕円偏光板は、図1〜図3に示す楕円偏光板のように、各層を形成後、粘接着剤を介して各層を貼り合わせてもよく、各層を粘接着剤等を介さずに直接積層してもよい。各層を貼り合わせる方法は、例えば基材上に層をそれぞれ積層し、粘接着剤を介して層を貼り合わせた後、基材を剥離する方法、若しくは基材を剥離後に粘接着剤を介して層を貼り合わせる方法であってもよい。なお、各層を直接積層する方法又は基材上に層を積層する方法は、上述した各層を基材に形成する方法と同様の方法を使用することができる。
また、基材上に層を積層する前や、各層を粘接着剤を介して貼り合わせる前に、基材表面又は各層の表面に、表面処理、例えばコロナ処理、プラズマ処理等を施してもよい。
The elliptically polarizing plate of the present invention, like the elliptically polarizing plate shown in FIG. 1 to FIG. 3, may be bonded to each layer via an adhesive after forming each layer. You may laminate | stack directly without interposing. The method of laminating each layer is, for example, a method of laminating each layer on a base material and laminating the layers via an adhesive, and then peeling the base material, or the adhesive after peeling the base material The method of bonding a layer through may be sufficient. In addition, the method of laminating | stacking each layer directly, or the method of laminating | stacking a layer on a base material can use the method similar to the method of forming each layer mentioned above in a base material.
Further, before laminating the layers on the base material or before bonding the layers via the adhesive, the surface of the base material or the surface of each layer may be subjected to surface treatment such as corona treatment or plasma treatment. Good.
〔表示装置〕
本発明の楕円偏光板は表示装置に利用することができる。表示装置とは、表示機構を有する装置であり、発光源として発光素子又は発光装置を含む。表示装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置、無機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置(電場放出表示装置(FED等)、表面電界放出表示装置(SED))、電子ペーパー(電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置)、プラズマ表示装置、投射型表示装置(グレーティングライトバルブ(GLV)表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス(DMD)を有する表示装置等)及び圧電セラミックディスプレイ等が挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置及び投写型液晶表示装置等の何れをも含む。これら表示装置は、2次元画像を表示する表示装置であってもよいし、3次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。特に、本発明の楕円偏光板を備える表示装置としては、有機EL表示装置及びタッチパネル表示装置が好ましく、特に有機EL表示装置が好ましい。本発明は、本発明の楕円偏光板を備える有機EL表示装置も包含する。
[Display device]
The elliptically polarizing plate of the present invention can be used for a display device. A display device is a device having a display mechanism and includes a light-emitting element or a light-emitting device as a light-emitting source. Display devices include liquid crystal display devices, organic electroluminescence (EL) display devices, inorganic electroluminescence (EL) display devices, touch panel display devices, electron emission display devices (field emission display devices (FED, etc.), surface field emission display devices. (SED)), electronic paper (display device using electronic ink or electrophoretic element), plasma display device, projection display device (grating light valve (GLV) display device, display device having digital micromirror device (DMD)) Etc.) and piezoelectric ceramic displays. The liquid crystal display device includes any of a transmissive liquid crystal display device, a transflective liquid crystal display device, a reflective liquid crystal display device, a direct view liquid crystal display device, a projection liquid crystal display device, and the like. These display devices may be a display device that displays a two-dimensional image, or may be a stereoscopic display device that displays a three-dimensional image. In particular, as a display device including the elliptically polarizing plate of the present invention, an organic EL display device and a touch panel display device are preferable, and an organic EL display device is particularly preferable. The present invention also includes an organic EL display device including the elliptically polarizing plate of the present invention.
本発明の有機EL装置の好ましい態様として、例えば図1に示す楕円偏光板の補強層8側を、粘接着剤を介して有機ELパネルと貼合した装置、図2又は図3に示す楕円偏光板の配向層5を、粘接着剤を介して有機ELパネルと貼合した装置が挙げられる。
As a preferred embodiment of the organic EL device of the present invention, for example, a device in which the reinforcing
以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。尚、例中の「%」及び「部」は、特記ない限り、質量%及び質量部を意味する。また、以下の実施例において使用したポリマーフィルム、装置及び測定方法は以下のとおりである。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. In the examples, “%” and “part” mean mass% and part by mass unless otherwise specified. Moreover, the polymer film used in the following Examples, the apparatus, and the measuring method are as follows.
・コロナ処理装置には、春日電機株式会社製のAGF−B10を用いた。
・コロナ処理は、基材への組成物を塗布する場合に適宜実施する事が出来る。上記コロナ処理装置を用いて、出力0.3kW、処理速度3m/分の条件で1回行った。
・偏光UV照射装置には、ウシオ電機株式会社製の偏光子ユニット付SPOT CURE SP−9を用いた。
・高圧水銀ランプには、ウシオ電機株式会社製のユニキュアVB−15201BY−Aを用いた。
・面内方向の位相差値Re(λ)は、王子計測機器株式会社製のKOBRA−WPRを用いて測定した。
・厚み方向の位相差値Rth(λ)、及び膜厚は日本分光株式会社製のエリプソメータM−220又は接触式膜厚計(Nikon 社 MH-15M、カウンタTC101、MS-5C)を用いて測定した。また、Si/Cの比率は、垂直配向層7の元素分析、X線光電分光法を使用した表面構成元素の測定から算出するか、垂直配向層7の形成に使用した化合物の構造式が全て分かっている場合には構造式から算出できる。
-AGF-B10 made by Kasuga Electric Co., Ltd. was used for the corona treatment device.
-Corona treatment can be appropriately carried out when a composition is applied to a substrate. Using the above corona treatment apparatus, the treatment was performed once under the conditions of an output of 0.3 kW and a treatment speed of 3 m / min.
-SPOT CURE SP-9 with a polarizer unit made by USHIO INC. Was used as the polarized UV irradiation device.
-For the high-pressure mercury lamp, UNICURE VB-15201BY-A manufactured by USHIO INC. Was used.
The in-plane retardation value Re (λ) was measured using KOBRA-WPR manufactured by Oji Scientific Instruments.
・ Thickness direction retardation value Rth (λ) and film thickness are measured using an ellipsometer M-220 manufactured by JASCO Corporation or a contact film thickness meter (Nikon MH-15M, counter TC101, MS-5C). did. The ratio of Si / C is calculated from elemental analysis of the
(実施例1)
以下のようにして図1に示す層構成の楕円偏光板1を作製した。
〔偏光層2の製造〕
平均重合度約2,400、ケン化度99.9モル%以上、厚さ75μmのポリビニルアルコールフィルムを、30℃の純水に浸漬した後、ヨウ素/ヨウ化カリウム/水の質量比が0.02/2/100の水溶液に30℃で浸漬してヨウ素染色を行った(ヨウ素染色工程)。ヨウ素染色工程を経たポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ化カリウム/ホウ酸/水の質量比が12/5/100の水溶液に、56.5℃で浸漬してホウ酸処理を行った(ホウ酸処理工程)。ホウ酸処理工程を経たポリビニルアルコールフィルムを8℃の純水で洗浄した後、65℃で乾燥して、ポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向している偏光子(延伸後の厚さ27μm)を得た。この際、ヨウ素染色工程とホウ酸処理工程において延伸を行った。かかる延伸におけるトータル延伸倍率は5.3倍であった。得られた偏光子と、ケン化処理されたトリアセチルセルロースフィルム(コニカミノルタ製 KC4UYTAC 40μm)とを水系接着剤を介してニップロールで貼り合わせた。得られた貼合物の張力を430N/mに保ちながら、60℃で2分間乾燥して、片面に保護フィルムとしてトリアセチルセルロースフィルムを有する偏光層を得た。なお、前記水系接着剤は水100部に、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール(クラレ製、「クラレポバール KL318」)3部と、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂(住化ケムテックス製、「スミレーズレジン650」、固形分濃度30%の水溶液〕1.5部とを添加して調製した。
Example 1
The elliptically
[Production of Polarizing Layer 2]
A polyvinyl alcohol film having an average degree of polymerization of about 2,400, a degree of saponification of 99.9 mol% or more, and a thickness of 75 μm is immersed in pure water at 30 ° C., and then the mass ratio of iodine / potassium iodide / water is 0. Iodine dyeing was performed by immersing in an aqueous solution of 02/2/100 at 30 ° C. (iodine dyeing step). The polyvinyl alcohol film which passed through the iodine dyeing process was immersed in an aqueous solution having a mass ratio of potassium iodide / boric acid / water of 12/5/100 at 56.5 ° C. to perform boric acid treatment (boric acid treatment process). ). The polyvinyl alcohol film that had undergone the boric acid treatment step was washed with pure water at 8 ° C. and then dried at 65 ° C. to obtain a polarizer (thickness 27 μm after stretching) in which iodine was adsorbed and oriented on polyvinyl alcohol. . Under the present circumstances, it extended | stretched in the iodine dyeing process and the boric-acid treatment process. The total draw ratio in such drawing was 5.3 times. The obtained polarizer and a saponified triacetyl cellulose film (Konica Minolta KC4UYTAC 40 μm) were bonded together with a nip roll via an aqueous adhesive. While maintaining the tension of the obtained bonded product at 430 N / m, it was dried at 60 ° C. for 2 minutes to obtain a polarizing layer having a triacetyl cellulose film as a protective film on one side. The water-based adhesive is 100 parts of water, 3 parts of carboxyl group-modified polyvinyl alcohol (Kuraray, “Kuraray Poval KL318”), water-soluble polyamide epoxy resin (Sumika Chemtex, “Smiles Resin 650”, solid An aqueous solution having a partial concentration of 30%] was added to 1.5 parts.
得られた偏光層2について光学特性の測定を行った。測定は上記で得られた偏光層の偏光子面を入射面として分光光度計(「V7100」、日本分光製)にて実施した。偏光層の吸収軸はポリビニルアルコールの延伸方向と一致しており、得られた偏光層の視感度補正単体透過率は42.1%、視感度補正偏光度は99.996%、単体色相aは−1.1、単体色相bは3.7であった。
〔λ/4位相差層4形成用の配向層5形成用組成物(a)の調製〕
下記構造の光配向性材料5部(重量平均分子量:30000)とシクロペンタノン(溶媒)95部とを成分として混合し、得られた混合物を80℃で1時間攪拌することにより、λ/4位相差層4形成用の配向層5形成用組成物(a)を得た。
[Preparation of composition (a) for forming
By mixing 5 parts (weight average molecular weight: 30000) of the following structure and 95 parts of cyclopentanone (solvent) as components, and stirring the resulting mixture at 80 ° C. for 1 hour, λ / 4 The composition (a) for forming the
〔λ/4位相差層4形成用組成物、及び垂直配向液晶硬化層6形成用組成物の調製〕
以下に示す重合性液晶化合物A、及び重合性液晶化合物Bを90:10の質量比で混合した混合物に対して、レベリング剤(F−556;DIC社製)を1.0部、及び重合開始剤である2−ジメチルアミノ−2−ベンジル−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オン(「イルガキュア369(Irg369)」、BASFジャパン株式会社製)を6部添加した。
さらに、固形分濃度が13%となるようにN−メチル−2−ピロリドン(NMP)を添加し、80℃で1時間攪拌することにより、λ/4位相差層4形成用組成物、及び垂直配向液晶硬化層6形成用組成物を得た。
[Preparation of composition for forming λ / 4 retardation layer 4 and composition for forming vertical alignment liquid crystal cured layer 6]
1.0 parts of a leveling agent (F-556; manufactured by DIC) and polymerization start with respect to a mixture in which polymerizable liquid crystal compound A and polymerizable liquid crystal compound B shown below were mixed at a mass ratio of 90:10 6 parts of 2-dimethylamino-2-benzyl-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one (“Irgacure 369 (Irg369)”, manufactured by BASF Japan Ltd.) as an agent was added.
Further, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) was added so that the solid content concentration was 13%, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 1 hour, whereby the composition for forming the λ / 4 retardation layer 4 and the vertical A composition for forming an alignment liquid crystal cured
重合性液晶化合物Aは特開2010−31223号公報に記載の方法で製造した。また、重合性液晶化合物Bは、特開2009−173893号公報に記載の方法に準じて製造した。以下にそれぞれの分子構造を示す。 The polymerizable liquid crystal compound A was produced by the method described in JP 2010-31223 A. The polymerizable liquid crystal compound B was produced according to the method described in JP2009-173893A. Each molecular structure is shown below.
[重合性液晶化合物A]
[重合性液晶化合物B]
〔基材、配向層5及びλ/4位相差層4からなる積層体Aの製造〕
日本ゼオン株式会社製のシクロオレフィンポリマーフィルム(COP)フィルム(ZF−14−50、膜厚50μm)上に、配向層形成用組成物(a)をバーコーター塗布し、80℃で1分間乾燥し、偏光UV照射装置(「SPOT CURE SP−9」、ウシオ電機株式会社製)を用いて、波長313nmにおける積算光量:100mJ/cm2で軸角度45°にて偏光UV露光を実施した。得られた配向層5の膜厚をエリプソメータで測定したところ、100nmであった。
続いて、配向層5に、λ/4位相差層4形成用組成物を、バーコーターを用いて塗布し、120℃で1分間乾燥した後、高圧水銀ランプ(「ユニキュアVB−15201BY−A」、ウシオ電機株式会社製)を用いて、紫外線を照射(窒素雰囲気下、波長365nmにおける積算光量:500mJ/cm2)することにより、λ/4位相差層4を形成し、基材、配向層5及びλ/4位相差層4からなる積層体Aを得た。積層体Aのλ/4位相差層4の膜厚をエリプソメータで測定したところ、2.3μmであった。
[Manufacture of Laminate A Composed of Base Material,
On a cycloolefin polymer film (COP) film (ZF-14-50, film thickness 50 μm) manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., a composition (a) for forming an alignment layer is applied by a bar coater and dried at 80 ° C. for 1 minute. Using a polarized UV irradiation apparatus (“SPOT CURE SP-9”, manufactured by USHIO INC.), Polarized UV exposure was performed at an integrated light quantity of 100 mJ / cm 2 at a wavelength of 313 nm and an axial angle of 45 °. It was 100 nm when the film thickness of the obtained
Subsequently, the composition for forming the λ / 4 retardation layer 4 was applied to the
〔垂直配向液晶硬化層形成用の垂直配向層形成用組成物(b)の調製〕
信越化学工業株式会社製のシランカップリング剤「KBE−9103」を、エタノールと水を9:1(質量比)の割合で混合した混合溶媒に溶解させ、固形分0.5%の垂直配向液晶硬化層形成用の垂直配向層形成用組成物(b)を得た。
[Preparation of Vertical Alignment Layer Forming Composition (b) for Vertical Alignment Liquid Crystal Cured Layer Formation]
Silane coupling agent “KBE-9103” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. is dissolved in a mixed solvent in which ethanol and water are mixed at a ratio of 9: 1 (mass ratio), and a vertically aligned liquid crystal having a solid content of 0.5%. A composition for forming a vertical alignment layer (b) for forming a cured layer was obtained.
〔アクリル樹脂を含んでなる補強層8形成用組成物の調製〕
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(アロニックスM−403 東亞合成株式会社製多官能アクリレート)50部、アクリレート樹脂(エベクリル4858 ダイセルユーシービー株式会社製)50部、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モリフォリノプロパン−1−オン(イルガキュア907;チバ スペシャルティケミカルズ社製)3部をイソプロパノール250部に溶解した溶液を調製し、アクリル樹脂を含んでなる補強層形成用組成物を調製した。
[Preparation of Reinforcing
50 parts of dipentaerythritol hexaacrylate (Aronix M-403 polyfunctional acrylate manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 50 parts of acrylate resin (Eveacryl 4858 manufactured by Daicel UC Corporation), 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl ] -2-Morifolinopropan-1-one (Irgacure 907; manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) was prepared by dissolving a solution of 250 parts of isopropanol in 250 parts of isopropanol to prepare a reinforcing layer forming composition containing an acrylic resin. did.
〔基材、補強層8、配向層7及び垂直配向液晶硬化層6からなる積層体Bの製造〕
日本ゼオン株式会社製の離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルム(リンテック(株)製、SP−PLR382050、以下、「セパレーター」と略記する。)上に、アクリル樹脂を含んでなる補強層形成用組成物をバーコーターで塗布し、50℃で1分間乾燥後、高圧水銀ランプ(「ユニキュアVB−15201BY−A」、ウシオ電機株式会社製)を用いて、紫外線を照射(窒素雰囲気下、波長365nmにおける積算光量:500mJ/cm2)することにより、アクリル樹脂を含んでなる補強層8を形成した。得られた補強層8の膜厚を接触式膜厚計で測定したところ、10μmであった。次いで、補強層8上に垂直配向層形成用組成物(b)をバーコーターで塗布し、80℃で1分間乾燥し、垂直配向層7を得た。得られた垂直配向層7の膜厚をエリプソメータで測定したところ、50nmであった。
さらに、垂直配向層7に、垂直配向液晶硬化層6形成用組成物をバーコーターを用いて塗布し、120℃で1分間乾燥した後、高圧水銀ランプ(「ユニキュアVB−15201BY−A」、ウシオ電機株式会社製)を用いて、紫外線を照射(窒素雰囲気下、波長365nmにおける積算光量:500mJ/cm2)することにより、垂直配向液晶硬化層6を形成し、基材、補強層8、垂直配向層7及び垂直配向液晶硬化層6からなる積層体Bを得た。積層体Bの垂直配向液晶硬化層6の膜厚をエリプソメータで測定したところ、1.2μmであった。また、補強層8と垂直配向液晶硬化層6の層間距離は50nmであった。また、垂直配向層7の構成元素比は、Si/C=0.33であった。
[Manufacture of Laminate B Consisting of Base Material, Reinforcing
For forming a reinforcing layer comprising an acrylic resin on a polyethylene terephthalate film (SP-PLR382020, manufactured by Lintec Co., Ltd., hereinafter abbreviated as “separator”) that has been subjected to a mold release treatment manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. The composition was applied with a bar coater, dried at 50 ° C. for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp (“Unicure VB-15201BY-A” manufactured by Ushio Electric Co., Ltd., wavelength 365 nm under a nitrogen atmosphere). The reinforcing
Further, a composition for forming a vertically aligned liquid crystal cured
〔λ/4位相差層4及び垂直配向液晶硬化層6のRe測定〕
上記方法にて製造したλ/4位相差層4及び垂直配向液晶硬化層8の面内位相差値(Re1(λ)及びRe2(λ))は、基材であるCOPフィルムに位相差がないことを確認した上で、測定機(「KOBRA−WPR」、王子計測機器株式会社製)により測定した。各波長における位相差値ReQ(λ)を測定結果は、ReQ(450)=119nm、ReQ(550)=140nm、ReQ(650)=146nm、ReQ(450)/ReQ(550)=0.85であった。
[Re measurement of λ / 4 retardation layer 4 and vertically aligned liquid crystal cured layer 6]
The in-plane retardation values (Re1 (λ) and Re2 (λ)) of the λ / 4 retardation layer 4 and the vertically aligned liquid crystal cured
〔垂直配向液晶硬化層6のRth測定〕
上記方法にて製造した垂直配向液晶硬化層6の厚み方向位相差値(RthV(λ))は垂直配向液晶硬化層6を粘着剤(リンテック社製感圧式粘着剤 15μm)を介してガラスと貼合し、基材であるセパレータを剥離して測定用サンプルを作製した後、配向層7及び補強層8に位相差がないことを確認した上で、エリプソメータによりサンプルへの光の入射角を変えて測定した。また、450nm及び550nmの波長λにおける平均屈折率は屈折率計(株式会社アタゴ製、「多波長アッベ屈折計DR−M4」)を用いて測定した。得られた膜厚、平均屈折率、及びエリプソメータの測定結果から算出されるReVはそれぞれ、RthV(450)=−60nm、RthV(550)=−70nmであり、RthV(450)/RthV(550)=0.85であった。
[Rth measurement of vertically aligned liquid crystal cured layer 6]
The thickness direction retardation value (RthV (λ)) of the vertically aligned liquid crystal cured
〔楕円偏光板1の製造〕
積層体Aにおけるλ/4位相差層4の重合性液晶組成物塗布面に対してコロナ処理を実施した後、上記で製造された偏光層2と積層体Aのλ/4位相差層4とを粘着剤3(リンテック社製 感圧式粘着剤 15μm)を介して、偏光層2の吸収軸とλ/4位相差層4の遅相軸との成す角度が45°となるように貼合し、基材のみを剥離して積層体Cを作製した。次いで、積層体Bの垂直配向液晶硬化層6に対してコロナ処理を実施した後、積層体Cの配向層5と積層体Bの垂直配向液晶硬化層6とを粘着剤3(リンテック社製 感圧式粘着剤 15μm)を介して貼合し、基材のみを剥離することで楕円偏光板1を作製した。
[Manufacture of elliptical polarizing plate 1]
After the corona treatment is performed on the coating surface of the polymerizable liquid crystal composition of the λ / 4 retardation layer 4 in the laminate A, the
〔各層の面内平均屈折率の差〕
上記方法に準じて各層をガラス上に塗布し、屈折率計(株式会社アタゴ製、「多波長アッベ屈折計DR−M4」)またはエリプソメータを使用して各層の平均屈折率を算出し、各層の面内平均屈折率の差が0.2以下である事を確認した。
〔切断端面観察〕
得られた楕円偏光板をカッティングマット上に置き、カッターを用いて3cm×3cmの正方形に切り出した後、端面を10倍のルーペで目視観察して、波うちやクラックなどの不具合が発生しているか確認した。同様の作業を3回実施し、内1回でも不具合が観察された場合を×、不具合が観察されなかった場合を○として、表1に結果を記載した。
[Difference in in-plane average refractive index of each layer]
According to the above method, each layer was coated on glass, and the average refractive index of each layer was calculated using a refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd., “Multiwave Abbe Refractometer DR-M4”) or an ellipsometer. It was confirmed that the in-plane average refractive index difference was 0.2 or less.
(Cut end face observation)
After placing the obtained elliptical polarizing plate on a cutting mat and cutting it into a 3 cm x 3 cm square using a cutter, the end face was visually observed with a 10-fold magnifier, and defects such as waves and cracks occurred. I checked. The same operation was performed three times, and the results are shown in Table 1, where x is a case where a defect was observed even once, and ◯ was a case where no defect was observed.
(実施例2及び3)
補強層8の膜厚を表1に記載のように変更したこと以外は、実施例1と同様に楕円偏光板を作製して切断端面観察を実施した。
(Examples 2 and 3)
Except that the film thickness of the reinforcing
(実施例4)
0.5重量%のポリイミド(「サンエバーSE−610」、日産化学工業株式会社製)、72.3重量%のN−メチル−2−ピロリドン、18.1重量%の2−ブトキシエタノール、9.1重量%のエチルシクロヘキサン、及び0.01重量%のDPHA(新中村化学製)を混合して、垂直配向層形成用組成物(b)を作製し、この垂直配向層形成用組成物(b)を使用したこと、及び補強層8の膜厚を5μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして楕円偏光板を作製し、切断端面観察を実施した。結果を表1に示した。なお、垂直配向層7の膜厚をエリプソメータで測定したところ0.5μmであった。このことから、補強層8と垂直配向液晶硬化層6の層間距離は0.5μmであった。
Example 4
0.5% by weight of polyimide (“San Ever SE-610”, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), 72.3% by weight of N-methyl-2-pyrrolidone, 18.1% by weight of 2-butoxyethanol, 9. 1% by weight of ethylcyclohexane and 0.01% by weight of DPHA (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) are mixed to prepare a vertical alignment layer forming composition (b). This vertical alignment layer forming composition (b ) And the thickness of the reinforcing
(実施例5)
以下に示す通り、補強層8形成用組成物、及び補強層8の製造方法を変更したこと以外は、実施例1に記載と同様の方法にて楕円偏光板を作製し、切断端面観察を行った。結果を表1に示す。
〔エポキシ樹脂を含んでなる補強層8形成用組成物の調製〕
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル 3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート 80部、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル 20部、サンアプロ社製 CPI−100P 2.25部、プロピレンカーボネート 2.25部を混合してエポキシ樹脂を含んでなる補強層8形成用組成物を調製した。
〔基材、補強層8、配向層7及び垂直配向液晶硬化層6からなる積層体Bの製造(補強層8の製造部のみ)〕
離型処理が施されたセパレータ上に、エポキシ樹脂を含んでなる補強層8形成用組成物をバーコーターで塗布し、50℃で1分間乾燥後、高圧水銀ランプ(「ユニキュアVB−15201BY−A」、ウシオ電機株式会社製)を用いて、紫外線を照射(窒素雰囲気下、波長365nmにおける積算光量:400mJ/cm2)することにより、エポキシ樹脂を含んでなる補強層8を形成した。得られた補強層8の膜厚を接触式膜厚計で測定したところ、5μmであった。
(Example 5)
As shown below, an elliptically polarizing plate was prepared in the same manner as described in Example 1 except that the composition for forming the reinforcing
[Preparation of composition for forming reinforcing
3,4-
[Manufacture of Laminate B Composed of Base Material,
A composition for forming a reinforcing
(実施例6)
以下に示す通り、補強層8形成用組成物、及び補強層8の製造方法を変更したこと以外は、実施例1の記載と同様の方法にて楕円偏光板を作製し、切断端面観察を行った。結果を表1に示す。
〔ウレタン樹脂を含んでなる補強層8形成用組成物の調製〕
アクリレート樹脂(エベクリル4858 ダイセルユーシービー株式会社製)100部、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モリフォリノプロパン−1−オン(イルガキュア907;チバ スペシャルティケミカルズ社製)3部をイソプロパノール250部に溶解した溶液を調製し、ウレタン樹脂を含んでなる補強層8形成用組成物を得た。
〔基材、補強層8、配向層7及び垂直配向液晶硬化層6からなる積層体Bの製造(補強層8の製造部のみ)〕
離型処理が施されたセパレータ上に、ウレタン樹脂を含んでなる補強層8形成用組成物をバーコーターで塗布し、50℃で1分間乾燥後、高圧水銀ランプ(「ユニキュアVB−15201BY−A」、ウシオ電機株式会社製)を用いて、紫外線を照射(窒素雰囲気下、波長365nmにおける積算光量:400mJ/cm2)することにより、ウレタン樹脂を含んでなる補強層8を形成した。得られた補強層8の膜厚を接触式膜厚計で測定したところ、5μmであった。
(Example 6)
As shown below, an elliptically polarizing plate was prepared in the same manner as described in Example 1 except that the composition for forming the reinforcing
[Preparation of composition for forming reinforcing
100 parts of acrylate resin (Evecril 4858 manufactured by Daicel UC Corporation), 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one (Irgacure 907; manufactured by Ciba Specialty Chemicals) A solution prepared by dissolving 3 parts in 250 parts of isopropanol was prepared to obtain a composition for forming a reinforcing
[Manufacture of Laminate B Composed of Base Material,
A composition for forming a reinforcing
(実施例7〜9)
補強層8の膜厚を変更したこと、及び楕円偏光板の製造方法を以下の通り変更したこと以外は、実施例1と同様にして、図2に示す層構成の楕円偏光板10を作製し、切断端面観察を実施した。
(Examples 7 to 9)
The elliptically
〔楕円偏光板10の製造方法〕
まず、積層体Bの垂直配向液晶硬化層6に対してコロナ処理を実施した後、積層体Bの垂直配向液晶硬化層6側と上記で得られた偏光層2とを粘着剤3(リンテック社製 感圧式粘着剤 15μm)を介して貼合し、基材を剥離して積層体Dを作製した。次いで、積層体Aにおけるλ/4位相差層4の重合性液晶組成物塗布面に対してコロナ処理を実施した後、積層体Dの補強層8と、積層体Aのλ/4位相差層4とを粘着剤3(リンテック社製 感圧式粘着剤 15μm)を介して、偏光層2の吸収軸がλ/4位相差層4の遅相軸(光軸)に対して実質的に45°となるように貼合し、基材を剥離して楕円偏光板10を製造した。
[Production Method of Elliptical Polarizing Plate 10]
First, after corona treatment was performed on the vertically aligned liquid crystal cured
(実施例10〜12)
補強層8の膜厚を変更したこと、及び楕円偏光板の製造方法を以下の通り変更したこと以外は、実施例1と同様にして、図3に示す層構成の楕円偏光板100を作製し、折り曲げ試験を実施した。
(Examples 10 to 12)
Except that the thickness of the reinforcing
〔楕円偏光板100の製造方法〕
まず、積層体Aのλ/4位相差層4と、積層体Bの垂直配向液晶硬化層6に対してコロナ処理を実施した後、積層体Aのλ/4位相差層4と積層体Bの垂直配向液晶硬化層6とを粘着剤3(リンテック社製 感圧式粘着剤 15μm)を介して貼合し、積層体Bの基材を剥離して積層体Eを作製した。次いで、積層体Eの補強層8と偏光層2とを粘着剤3(リンテック社製 感圧式粘着剤 15μm)を介して、偏光層2の吸収軸がλ/4位相差層4の遅相軸(光軸)に対して、実質的に45°となるように貼合した後、積層体Aに含まれていた基材を剥離するで、楕円偏光板100を作製した。
[Manufacturing Method of Elliptical Polarizing Plate 100]
First, after performing corona treatment on the λ / 4 retardation layer 4 of the laminate A and the vertically aligned liquid crystal cured
(比較例1)
補強層を製造する工程を省略したこと以外は、実施例1と同様の方法にて楕円偏光板を作製し、切断端面観察を実施した。
(Comparative Example 1)
Except that the step of manufacturing the reinforcing layer was omitted, an elliptically polarizing plate was produced by the same method as in Example 1, and the cut end face was observed.
(比較例2)
補強層を製造する工程を省略したこと以外は、実施例7〜9と同様の方法にて楕円偏光板を作製し、切断端面観察を実施した。
(Comparative Example 2)
An elliptically polarizing plate was produced by the same method as in Examples 7 to 9 except that the step of producing the reinforcing layer was omitted, and the cut end face was observed.
以下に、実施例及び比較例において、切断端面観察を実施した結果を示す。なお、表1中、層間距離は垂直配向液晶硬化層6と補強層8の層間距離を意味する。
Below, the result of having carried out the cutting | disconnection end surface observation in an Example and a comparative example is shown. In Table 1, the interlayer distance means the interlayer distance between the vertically aligned liquid crystal cured
実施例1〜12の楕円偏光板は、切断時に波うちやクラックなどの不具合が発生することなく加工可能であり、加工特性に優れた楕円偏光板である。 The elliptical polarizing plates of Examples 1 to 12 are elliptical polarizing plates that can be processed without causing defects such as waves and cracks at the time of cutting, and have excellent processing characteristics.
1、10、100…円偏光板、2…偏光層、3…粘着層、4…λ/4位相差層、5…配向層、6…垂直配向液相硬化層、7…垂直配向層、8…補強層
DESCRIPTION OF
Claims (11)
垂直配向液晶硬化層は、該液晶硬化層平面に対して垂直方向に配向した状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなり、垂直配向液晶硬化層の膜厚は3μm以下である、楕円偏光板。 An elliptically polarizing plate having a polarizing layer, an adhesive layer, a λ / 4 retardation layer, an adhesive layer, a vertically aligned liquid crystal cured layer, a reinforcing layer, and an adhesive layer in this order,
The vertically aligned liquid crystal cured layer is made of a polymer of a polymerizable liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound aligned in a direction perpendicular to the plane of the liquid crystal cured layer, and the thickness of the vertically aligned liquid crystal cured layer is 3 μm or less. An elliptically polarizing plate.
垂直配向液晶硬化層は、該液晶硬化層平面に対して垂直方向に配向した状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなり、垂直配向液晶硬化層の膜厚は3μm以下である、楕円偏光板。 An elliptically polarizing plate having a polarizing layer, an adhesive layer, a vertically aligned liquid crystal cured layer, a reinforcing layer, an adhesive layer, and a λ / 4 retardation layer in this order,
The vertically aligned liquid crystal cured layer is made of a polymer of a polymerizable liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound aligned in a direction perpendicular to the plane of the liquid crystal cured layer, and the thickness of the vertically aligned liquid crystal cured layer is 3 μm or less. An elliptically polarizing plate.
垂直配向液晶硬化層は、該液晶硬化層平面に対して垂直方向に配向した状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなり、垂直配向液晶硬化層の膜厚は3μm以下である、楕円偏光板。 An elliptically polarizing plate having a polarizing layer, an adhesive layer, a reinforcing layer, a vertically aligned liquid crystal cured layer, an adhesive layer, and a λ / 4 retardation layer in this order,
The vertically aligned liquid crystal cured layer is made of a polymer of a polymerizable liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound aligned in a direction perpendicular to the plane of the liquid crystal cured layer, and the thickness of the vertically aligned liquid crystal cured layer is 3 μm or less. An elliptically polarizing plate.
λ/4位相差層が形成する屈折率楕円体において波長λ=400〜700nmの範囲で、
nxQ(λ)>nyQ(λ)≒nzQ(λ)
[式中、nxQ(λ)はλ/4位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対する位相差層平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。nyQ(λ)はλ/4位相差層が形成する屈折率楕円体において、位相差層平面に対して平行であり、且つ、前記nxQ(λ)の方向に対して直交する方向の波長λ(nm)の光に対する屈折率を表す。nzQ(λ)はλ/4位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対する位相差層平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。]
の関係を有し、
下記式(1)〜(3)
ReQ(450)/ReQ(550)≦1.00 (1)
1.00≦ReQ(650)/ReQ(550) (2)
100nm≦ReQ(550)≦160nm (3)
[式中、ReQ(450)は波長λ=450nmの光に対するλ/4位相差層の面内位相差値を、ReQ(550)は波長λ=550nmの光に対するλ/4位相差層の面内位相差値を、ReQ(650)は波長λ=650nmの光に対するλ/4位相差層の面内位相差値をそれぞれ示し、波長λ(nm)の光に対するλ/4位相差層の面内位相差値ReQ(λ)は、
ReQ(λ)=(nxQ(λ)−nyQ(λ))×dQ
で表される。ここで、dQはλ/4位相差層の厚みを表す。]
の関係を満たす、請求項1〜8のいずれかに記載の楕円偏光板。 The λ / 4 retardation layer is
In the refractive index ellipsoid formed by the λ / 4 retardation layer, the wavelength λ is in the range of 400 to 700 nm.
nxQ (λ)> nyQ (λ) ≈nzQ (λ)
[Wherein, nxQ (λ) represents a main refractive index in a direction parallel to the plane of the retardation layer with respect to light of wavelength λ (nm) in the refractive index ellipsoid formed by the λ / 4 retardation layer. nyQ (λ) is a refractive index ellipsoid formed by the λ / 4 retardation layer, and is parallel to the retardation layer plane and has a wavelength λ (perpendicular to the direction of nxQ (λ). nm) of light. In the refractive index ellipsoid formed by the λ / 4 retardation layer, nzQ (λ) represents a refractive index in a direction perpendicular to the retardation layer plane with respect to light of wavelength λ (nm). ]
Have the relationship
Following formula (1)-(3)
ReQ (450) / ReQ (550) ≦ 1.00 (1)
1.00 ≦ ReQ (650) / ReQ (550) (2)
100 nm ≦ ReQ (550) ≦ 160 nm (3)
[Where ReQ (450) is the in-plane retardation value of the λ / 4 retardation layer for light of wavelength λ = 450 nm, and ReQ (550) is the surface of λ / 4 retardation layer for light of wavelength λ = 550 nm. ReQ (650) indicates the in-plane retardation value of the λ / 4 retardation layer for light of wavelength λ = 650 nm, and ReQ (650) indicates the surface of the λ / 4 retardation layer for light of wavelength λ (nm). The internal phase difference value ReQ (λ) is
ReQ (λ) = (nxQ (λ) −nyQ (λ)) × dQ
It is represented by Here, dQ represents the thickness of the λ / 4 retardation layer. ]
The elliptically polarizing plate in any one of Claims 1-8 which satisfy | fills the relationship of these.
垂直配向液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、波長λ=400〜700nmの範囲で、
nzV(λ)>nxV(λ)≒nyV(λ)
[式中、nzV(λ)は液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対する液晶硬化層平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。nxV(λ)は液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、波長λ(nm)の光に対する液晶硬化層平面に対して平行な方向の最大屈折率を表す。nyV(λ)は液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化層平面に対して平行であり、且つ、前記nxVの方向に対して直交する方向の波長λ(nm)の光に対する屈折率を表す。ただし、nxV(λ)=nyV(λ)となる場合には、nxV(λ)は液晶硬化層平面に対して平行な任意の方向の屈折率を表す。]
の関係を有し、さらに
下記式(4)〜(6)
RthV(450)/RthV(550)≦1.00 (4)
1.00≦RthV(650)/RthV(550) (5)
−120nm≦RthV(550)≦−50nm (6)
[式中、RthV(450)は波長λ=450nmの光に対する液相硬化層の厚み方向の位相差値を、RthV(550)は波長λ=550nmの光に対する液晶硬化層の厚み方向の位相差値を、RthV(650)は波長λ=650nmの光に対する液晶硬化層の厚み方向の位相差値をそれぞれ表し、波長λ(nm)の光に対する液晶硬化層の厚み方向の位相差値RthV(λ)は、
RthV(λ)=[(nxV(λ)+nyV(λ))/2−nzV(λ)]×dV
で表される。ここで、液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、nzV(λ)は波長λ(nm)における液晶硬化層平面に対して垂直な方向の主屈折率を表し、((nxV(λ)+nyV(λ))/2)は、波長λ(nm)における液晶硬化層平面での平均屈折率を表す。dVは液晶硬化層の厚みを表す。]
の関係を満たす、請求項1〜9のいずれかに記載の楕円偏光板。 Vertical alignment liquid crystal cured layer
In the refractive index ellipsoid formed by the vertically aligned liquid crystal cured layer, in the wavelength range of λ = 400 to 700 nm,
nzV (λ)> nxV (λ) ≈nyV (λ)
[Wherein, nzV (λ) represents the refractive index in the direction perpendicular to the plane of the liquid crystal cured layer with respect to light of wavelength λ (nm) in the refractive index ellipsoid formed by the liquid crystal cured layer. In the refractive index ellipsoid formed by the liquid crystal cured layer, nxV (λ) represents the maximum refractive index in a direction parallel to the plane of the liquid crystal cured layer with respect to light of wavelength λ (nm). nyV (λ) is a refractive index ellipsoid formed by the liquid crystal cured layer, and is refracted with respect to light having a wavelength λ (nm) parallel to the plane of the liquid crystal cured layer and orthogonal to the nxV direction. Represents a rate. However, when nxV (λ) = nyV (λ), nxV (λ) represents the refractive index in an arbitrary direction parallel to the liquid crystal cured layer plane. ]
Further, the following formulas (4) to (6)
RthV (450) / RthV (550) ≦ 1.00 (4)
1.00 ≦ RthV (650) / RthV (550) (5)
−120 nm ≦ RthV (550) ≦ −50 nm (6)
[Wherein RthV (450) is a retardation value in the thickness direction of the liquid phase cured layer with respect to light having a wavelength λ = 450 nm, and RthV (550) is a retardation value in the thickness direction of the liquid crystal cured layer with respect to light having a wavelength λ = 550 nm. RthV (650) represents a retardation value in the thickness direction of the liquid crystal cured layer with respect to light having a wavelength λ = 650 nm, and RthV (λ) )
RthV (λ) = [(nxV (λ) + nyV (λ)) / 2−nzV (λ)] × dV
It is represented by Here, in the refractive index ellipsoid formed by the liquid crystal cured layer, nzV (λ) represents the main refractive index in the direction perpendicular to the liquid crystal cured layer plane at the wavelength λ (nm), and ((nxV (λ) + nyV). (Λ)) / 2) represents the average refractive index at the plane of the liquid crystal cured layer at the wavelength λ (nm). dV represents the thickness of the liquid crystal cured layer. ]
The elliptically polarizing plate in any one of Claims 1-9 which satisfy | fills the relationship of these.
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