JP2019120711A - 蛍光プレート - Google Patents
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Abstract
【課題】長期間にわたって反射層に高い反射率が得られ、また当該反射層の剥離の発生が抑制された蛍光プレートを提供すること。【解決手段】本発明の蛍光プレートは、蛍光体を含有する蛍光体層と、前記蛍光体層の下方に配置された酸化物層と、前記酸化物層の下方に配置された、銀からなる反射層とを備える蛍光プレートにおいて、前記酸化物層と前記反射層との間に設けられた、透光性材料よりなる酸化防止用保護層を備えており、前記酸化防止用保護層と前記反射層との間に介在する透光性密着層を備えてなることを特徴とする。【選択図】図２
Description
本発明は、蛍光プレートに関する。さらに詳しくは、励起光入射面と蛍光出射面とが同一面によって構成された蛍光プレートに関する。
従来、蛍光光源装置の或る種のものとしては、レーザ光を励起光として蛍光プレートの一面に照射することによって当該蛍光プレートの蛍光体層を構成する蛍光体を励起し、当該一面から蛍光を出射する構成の反射型のものが知られている。
このような反射型の蛍光光源装置においては、蛍光プレートとして、蛍光体層における励起光入射側の反対側に、アルミニウム、銀および金などの金属からなる反射層が設けられたものが用いられている（例えば、特許文献１参照。）。
そして、特許文献１の蛍光プレートにおいては、高輝度化を図るために、蛍光体層と反射層との間に、当該蛍光体層の構成材料よりも屈折率が小さく、その蛍光体層の構成材料との屈折率差が０．２以上である材料からなる全反射膜が、蛍光体層に直接接触した状態で設けられている。全反射膜は、例えばフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）からなるものとされている。また、蛍光体層と反射層との間、具体的には全反射膜と反射層との間には、増反射膜よりなる構成層が積層されている。
このような反射型の蛍光光源装置においては、蛍光プレートとして、蛍光体層における励起光入射側の反対側に、アルミニウム、銀および金などの金属からなる反射層が設けられたものが用いられている（例えば、特許文献１参照。）。
そして、特許文献１の蛍光プレートにおいては、高輝度化を図るために、蛍光体層と反射層との間に、当該蛍光体層の構成材料よりも屈折率が小さく、その蛍光体層の構成材料との屈折率差が０．２以上である材料からなる全反射膜が、蛍光体層に直接接触した状態で設けられている。全反射膜は、例えばフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）からなるものとされている。また、蛍光体層と反射層との間、具体的には全反射膜と反射層との間には、増反射膜よりなる構成層が積層されている。
一方、フラットパネルディスプレイやプロジェクタ等の光学系に使用される反射ミラーにおいても、樹脂製の基板上に金属からなる反射層が形成されたものが知られており、当該反射層は、高い反射率を有する銀からなるものとされている（例えば、特許文献２参照）。
しかしながら、反射層が設けられた蛍光プレートにおいては、反射層が銀からなるものである場合には、種々の不具合が生じることが明らかとなった。
具体的に説明すると、反射層が酸化劣化し、当該反射層の反射率が低下する、という問題がある。このような問題は、本発明者らの鋭意研究により、蛍光プレートにおいて、酸化物からなる構成層、すなわち酸化物層が反射層に直接接触した状態である場合に顕著となることが明らかとなった。また、反射層の剥離が生じる、という問題もある。ここに、蛍光プレートに設けられる酸化物層の具体例としては、増反射膜として作用する酸化物多層膜、および防湿膜として作用する酸化物単層膜などが挙げられる。
具体的に説明すると、反射層が酸化劣化し、当該反射層の反射率が低下する、という問題がある。このような問題は、本発明者らの鋭意研究により、蛍光プレートにおいて、酸化物からなる構成層、すなわち酸化物層が反射層に直接接触した状態である場合に顕著となることが明らかとなった。また、反射層の剥離が生じる、という問題もある。ここに、蛍光プレートに設けられる酸化物層の具体例としては、増反射膜として作用する酸化物多層膜、および防湿膜として作用する酸化物単層膜などが挙げられる。
而して、上記の問題を解決するために、蛍光プレートにおいて、反射層と、増反射膜などによって構成された酸化物層との間に、窒化物またはフッ化物からなる透光性材料よりなる酸化防止用保護層を設けることを提案した。
しかしながら、酸化防止用保護層を蛍光体層と反射層との間に配設した蛍光プレートにおいては、使用環境の温度変化、および、使用に伴って生じる温度変化、具体的には蛍光光源装置において点灯と消灯とを繰り返すことに伴って生じる温度変化により、当該酸化防止用保護層と当該反射層との界面に剥離が生じることが明らかとなった。
しかしながら、酸化防止用保護層を蛍光体層と反射層との間に配設した蛍光プレートにおいては、使用環境の温度変化、および、使用に伴って生じる温度変化、具体的には蛍光光源装置において点灯と消灯とを繰り返すことに伴って生じる温度変化により、当該酸化防止用保護層と当該反射層との界面に剥離が生じることが明らかとなった。
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、長期間にわたって反射層に高い反射率が得られ、また当該反射層の剥離の発生が抑制された蛍光プレートを提供することにある。
本発明の蛍光プレートは、蛍光体を含有する蛍光体層と、前記蛍光体層の下方に配置された酸化物層と、前記酸化物層の下方に配置された、銀からなる反射層とを備える蛍光プレートにおいて、
前記酸化物層と前記反射層との間に設けられた、透光性材料よりなる酸化防止用保護層を備えており、
前記酸化防止用保護層と前記反射層との間に介在する透光性密着層を備えてなることを特徴とする。
前記酸化物層と前記反射層との間に設けられた、透光性材料よりなる酸化防止用保護層を備えており、
前記酸化防止用保護層と前記反射層との間に介在する透光性密着層を備えてなることを特徴とする。
本発明の蛍光プレートにおいては、前記酸化防止用保護層を構成する前記透光性材料は、フッ化物または窒素化物からなることが好ましい。
本発明の蛍光プレートにおいては、前記透光性密着層は、酸化ハフニウムおよび酸化ジルコニウムの少なくとも一方からなるものであることが好ましい。
本発明の蛍光プレートにおいては、前記透光性密着層の厚さが５〜１０ｎｍであることが好ましい。
本発明の蛍光プレートにおいては、前記酸化物層は、アルミナからなる酸化物単層膜、および、二酸化ケイ素からなる第１構成層とチタニアからなる第２構成層とよりなる酸化物多層膜の少なくとも一方により構成されていることが好ましい。
本発明の蛍光プレートにおいては、前記反射層の下方に配置された、酸素原子を含有しない酸素原子非含有材料よりなる酸素原子非含有層をさらに備えることが好ましい。
また、このような構成の本発明の蛍光プレートにおいては、前記酸素原子非含有材料は、フッ化マグネシウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム、クロムおよびニッケルのいずれかの物質からなることが好ましい。
また、このような構成の本発明の蛍光プレートにおいては、前記酸素原子非含有材料は、フッ化マグネシウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム、クロムおよびニッケルのいずれかの物質からなることが好ましい。
本発明の蛍光プレートにおいては、蛍光体層と反射層との間に酸化物層が設けられており、当該酸化物層と当該反射層との間には、酸化防止用保護層が、当該反射層との間に透光性密着層が介在した状態で設けられている。そのため、反射層が銀からなるものであっても、蛍光体層と反射層との間に高い密着性を得ることができ、しかも、その密着性を長期間の繰り返し使用にわたって維持することができる。また、蛍光体層と反射層との間に酸化物層が設けられていることに起因する、反射層の酸化劣化を防止することができる。
従って、本発明の蛍光プレートによれば、長期間にわたって反射層に高い反射率が得られ、また当該反射層の剥離の発生が抑制される。
従って、本発明の蛍光プレートによれば、長期間にわたって反射層に高い反射率が得られ、また当該反射層の剥離の発生が抑制される。
以下、本発明の実施の形態について説明する。
本発明の蛍光プレートは、励起光入射面と蛍光出射面とが同一面によって構成されており、反射型の蛍光光源装置において好適に用いられるものである。
本発明の蛍光プレートは、励起光入射面と蛍光出射面とが同一面によって構成されており、反射型の蛍光光源装置において好適に用いられるものである。
図１は、本発明の蛍光プレートを備えた反射型の蛍光光源装置の構成の一例の概略を示す説明図であり、図２は、図１の蛍光光源装置における発光部材の具体的な構成を示す説明用分解図である。
この蛍光光源装置１０は、図１に示すように、例えば半導体レーザよりなる励起光源１１と、励起光源１１からの励起光によって蛍光を出射する蛍光プレート２１を有する発光部材２０とを備え、これらが互いに離間して配設されたものである。
この図の例において、発光部材２０は、励起光源１１に対向するよう、当該励起光源１１の光軸に対して傾斜した姿勢で配置されている。
この蛍光光源装置１０は、図１に示すように、例えば半導体レーザよりなる励起光源１１と、励起光源１１からの励起光によって蛍光を出射する蛍光プレート２１を有する発光部材２０とを備え、これらが互いに離間して配設されたものである。
この図の例において、発光部材２０は、励起光源１１に対向するよう、当該励起光源１１の光軸に対して傾斜した姿勢で配置されている。
発光部材２０は、平板状の蛍光プレート２１が、平板状の放熱基板２４の表面（図１における上面）上に配設されたものであり、放熱基板２４と蛍光プレート２１との間には、平板状の接合部材層２８が形成されている。すなわち、蛍光プレート２１と放熱基板２４とは、接合部材層２８によって接合されている。また、発光部材２０は、蛍光プレート２１の表面（図１における上面）が、励起光源１１に対向するように配置されており、当該蛍光プレート２１の表面が、励起光入射面とされていると共に蛍光出射面とされている。すなわち、蛍光プレート２１においては、励起光入射面と蛍光出射面とが同一面によって構成されている。
蛍光プレート２１は、図２に示されているように、平板状の蛍光体層２２と、平板状の第１酸化物層３３と、平板状の反射層３１とが積層して設けられたものである。この蛍光プレート２１においては、蛍光体層２２の表面（図２における上面）によって当該蛍光プレート２１の表面、すなわち蛍光プレート２１の励起光入射面および蛍光出射面が構成されている。また、蛍光体層２２の裏面（図２における下面）側には、第１酸化物層３３と反射層３１とがこの順に設けられている。すなわち、蛍光体層２２の裏面側においては、第１酸化物層３３が蛍光体層２２の下方に配置され、当該第１酸化物層３３の下方には反射層３１が配置されている。
この図の例において、蛍光プレート２１には、蛍光体層２２の裏面側に、第１酸化物層３３および反射層３１と、後述する、酸化防止用保護層３２Ａ、透光性密着層３６、酸素原子非含有層３２Ｂおよび第２酸化物層３７とを覆うように、接着層４２と封止層４１とが設けられている。具体的には、蛍光体層２２の裏面には、第１酸化物層３３、酸化防止用保護層３２Ａ、透光性密着層３６、反射層３１、酸素原子非含有層３２Ｂおよび第２酸化物層３７がこの順に積層された積層体（以下、「反射積層体」ともいう。）が配設されており、この反射積層体を覆うようにして、封止層４１が、接着層４２によって反射積層体と蛍光体層２２とに接着された状態で設けられている。すなわち、蛍光体層２２、接着層４２および封止層４１により、反射積層体の封止構造が形成されている。
この図の例において、蛍光プレート２１には、蛍光体層２２の裏面側に、第１酸化物層３３および反射層３１と、後述する、酸化防止用保護層３２Ａ、透光性密着層３６、酸素原子非含有層３２Ｂおよび第２酸化物層３７とを覆うように、接着層４２と封止層４１とが設けられている。具体的には、蛍光体層２２の裏面には、第１酸化物層３３、酸化防止用保護層３２Ａ、透光性密着層３６、反射層３１、酸素原子非含有層３２Ｂおよび第２酸化物層３７がこの順に積層された積層体（以下、「反射積層体」ともいう。）が配設されており、この反射積層体を覆うようにして、封止層４１が、接着層４２によって反射積層体と蛍光体層２２とに接着された状態で設けられている。すなわち、蛍光体層２２、接着層４２および封止層４１により、反射積層体の封止構造が形成されている。
蛍光体層２２は、蛍光体を含有するものである。
そして、蛍光体層２２は、蛍光体を含有する多結晶体よりなるもの、具体的には、蛍光体と、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）などの金属酸化物との混合焼結体よりなるものであることが好ましい。
蛍光体層２２が多結晶体からなるものであることにより、当該蛍光体層２２が高い熱伝導性を有するものとなる。
そして、蛍光体層２２は、蛍光体を含有する多結晶体よりなるもの、具体的には、蛍光体と、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）などの金属酸化物との混合焼結体よりなるものであることが好ましい。
蛍光体層２２が多結晶体からなるものであることにより、当該蛍光体層２２が高い熱伝導性を有するものとなる。
蛍光体層２２を構成する多結晶体の具体例としては、Ａｌ2 Ｏ3 ／ＹＡＧ：Ｃｅ、Ａｌ2 Ｏ3 ／ＹＡＧ：Ｐｒ、Ａｌ2 Ｏ3 ／ＹＡＧ：Ｓｍ、Ａｌ2 Ｏ3 ／ＬｕＡＧ：Ｃｅなどが挙げられる。これらの多結晶体の蛍光体において、希土類元素（賦活材）のドープ量は、０．５ｍｏｌ％程度である。
この図の例において、蛍光体層２２は、ＹＡＧ系蛍光体とアルミナとの混合焼結体（多結晶体）からなるものである。
この図の例において、蛍光体層２２は、ＹＡＧ系蛍光体とアルミナとの混合焼結体（多結晶体）からなるものである。
蛍光体層２２を構成する多結晶体は、例えば下記の手法によって得ることができる。
先ず、原材料（具体的には母材、賦活材、焼成助剤およびアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）などの金属酸化物）を、ボールミルなどを用いて粉砕処理することにより、サブミクロン以下の原材料微粉末を得る。そして、得られた原材料微粉末と、有機溶剤とにより、原材料微粉末が有機溶剤中において均一に分散されてなるスラリーを調製する。
次いで、得られたスラリーからドクターブレード法によって所定の厚さのグリーンシートを作製し、そのグリーンシートを焼成処理することにより焼結体を得る。その後、得られた焼結体に対して熱間等方圧加圧加工を施すことによって、気孔率が０．５％以下の多結晶体が得られる。
先ず、原材料（具体的には母材、賦活材、焼成助剤およびアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）などの金属酸化物）を、ボールミルなどを用いて粉砕処理することにより、サブミクロン以下の原材料微粉末を得る。そして、得られた原材料微粉末と、有機溶剤とにより、原材料微粉末が有機溶剤中において均一に分散されてなるスラリーを調製する。
次いで、得られたスラリーからドクターブレード法によって所定の厚さのグリーンシートを作製し、そのグリーンシートを焼成処理することにより焼結体を得る。その後、得られた焼結体に対して熱間等方圧加圧加工を施すことによって、気孔率が０．５％以下の多結晶体が得られる。
また、蛍光体層２２の厚さは、励起光有効利用性および排熱性の観点から、０．０５〜２．０ｍｍであることが好ましい。
この図の例において、蛍光体層２２の厚さは、０．１ｍｍである。
この図の例において、蛍光体層２２の厚さは、０．１ｍｍである。
第１酸化物層３３は、酸化物からなり、励起光および蛍光に対する透過性を有するものである。
この第１酸化物層３３は、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）からなる酸化物単層膜（以下、「特定単層膜」ともいう。）３４、および、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）からなる第１構成層３５Ａとチタニア（ＴｉＯ2 ）からなる第２構成層３５Ｂとよりなる酸化物多層膜（以下、「特定多層膜」ともいう。）３５の少なくとも一方により構成されたものであることが好ましい。すなわち、第１酸化物層３３は、防湿層および増反射層の少なくとも一方として機能するものであることが好ましい。
第１酸化物層３３が特定単層膜３４を有するものであることによれば、特定単層膜３４が優れた耐候性を有するものであることから、当該特定単層膜３４は防湿膜として作用する。そのため、反射層３１の表面（図２における上面）が、当該反射層３１の表面側に積層された構成層（具体的には、特定多層膜３５および蛍光体層２２）を介して蛍光プレート２１の内部に侵入した湿気に曝されることを防止または十分に抑制することができる。その結果、反射層３１の表面において、当該反射層３１を構成する銀が水と反応することを、防止または十分に抑制することができる。
一方、第１酸化物層３３が特定多層膜３５を有するものであることによれば、特定多層膜３５が増反射膜として作用することから、蛍光プレート２１の反射率（具体的には、蛍光体層２２の裏面における反射率）を高めることができるため、蛍光プレート２１がより一層優れた高反射性能を有するものとなる。
この図の例において、第１酸化物層３３は、特定単層膜３４と特定多層膜３５とにより構成されている。また、第１酸化物層３３においては、特定単層膜３４が反射層３１側（図２における下方側）に配設されており、特定多層膜３５が蛍光体層２２側（図２における上方側）に配設されている。
この第１酸化物層３３は、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）からなる酸化物単層膜（以下、「特定単層膜」ともいう。）３４、および、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）からなる第１構成層３５Ａとチタニア（ＴｉＯ2 ）からなる第２構成層３５Ｂとよりなる酸化物多層膜（以下、「特定多層膜」ともいう。）３５の少なくとも一方により構成されたものであることが好ましい。すなわち、第１酸化物層３３は、防湿層および増反射層の少なくとも一方として機能するものであることが好ましい。
第１酸化物層３３が特定単層膜３４を有するものであることによれば、特定単層膜３４が優れた耐候性を有するものであることから、当該特定単層膜３４は防湿膜として作用する。そのため、反射層３１の表面（図２における上面）が、当該反射層３１の表面側に積層された構成層（具体的には、特定多層膜３５および蛍光体層２２）を介して蛍光プレート２１の内部に侵入した湿気に曝されることを防止または十分に抑制することができる。その結果、反射層３１の表面において、当該反射層３１を構成する銀が水と反応することを、防止または十分に抑制することができる。
一方、第１酸化物層３３が特定多層膜３５を有するものであることによれば、特定多層膜３５が増反射膜として作用することから、蛍光プレート２１の反射率（具体的には、蛍光体層２２の裏面における反射率）を高めることができるため、蛍光プレート２１がより一層優れた高反射性能を有するものとなる。
この図の例において、第１酸化物層３３は、特定単層膜３４と特定多層膜３５とにより構成されている。また、第１酸化物層３３においては、特定単層膜３４が反射層３１側（図２における下方側）に配設されており、特定多層膜３５が蛍光体層２２側（図２における上方側）に配設されている。
第１酸化物層３３の厚さは、当該第１酸化物層３３の構成によって適宜に定められる。
具体的には、例えば、第１酸化物層３３が特定単層膜３４により構成されてなる場合には、５〜１５ｎｍとされ、また第１酸化物層３３が特定多層膜３５により構成されてなる場合には、８０〜１４０ｎｍとされる。また、第１酸化物層３３が特定単層膜３４と特定多層膜３５とにより構成されてなる場合には、８５〜１５５ｎｍとされる。
この図の例において、第１酸化物層３３の厚さは、８５〜１５５ｎｍである。すなわち、特定単層膜３４の厚さが５〜１５ｎｍであって、特定多層膜３５の厚さが８０〜１４０ｎｍである。
具体的には、例えば、第１酸化物層３３が特定単層膜３４により構成されてなる場合には、５〜１５ｎｍとされ、また第１酸化物層３３が特定多層膜３５により構成されてなる場合には、８０〜１４０ｎｍとされる。また、第１酸化物層３３が特定単層膜３４と特定多層膜３５とにより構成されてなる場合には、８５〜１５５ｎｍとされる。
この図の例において、第１酸化物層３３の厚さは、８５〜１５５ｎｍである。すなわち、特定単層膜３４の厚さが５〜１５ｎｍであって、特定多層膜３５の厚さが８０〜１４０ｎｍである。
反射層３１は、銀からなるものである。具体的には、銀反射膜または銀を主体とする銀合金反射膜よりなるものである。
反射層３１が銀からなるものであることにより、銀が高い反射率を有するものであることから、蛍光プレート２１（具体的には、蛍光体層２２の裏面）が高反射性能を有するものとなる。
反射層３１が銀からなるものであることにより、銀が高い反射率を有するものであることから、蛍光プレート２１（具体的には、蛍光体層２２の裏面）が高反射性能を有するものとなる。
反射層３１の厚さは、例えば１１０〜３５０ｎｍである。
また、反射層３１の表面の面積は、励起光および蛍光の有効利用性の観点から、蛍光体層２２の裏面の面積以下であることが好ましい。
この図の例において、反射層３１の厚さは、１３０ｎｍである。また、反射層３１の表面は、蛍光体層２２の裏面の寸法よりも僅かに小さな寸法を有しており、その全面が蛍光体層２２の裏面の中央部に対向している。
また、反射層３１の表面の面積は、励起光および蛍光の有効利用性の観点から、蛍光体層２２の裏面の面積以下であることが好ましい。
この図の例において、反射層３１の厚さは、１３０ｎｍである。また、反射層３１の表面は、蛍光体層２２の裏面の寸法よりも僅かに小さな寸法を有しており、その全面が蛍光体層２２の裏面の中央部に対向している。
そして、蛍光プレート２１には、第１酸化物層３３と反射層３１との間に、薄膜状の酸化防止用保護層３２Ａと薄膜状の透光性密着層３６とが設けられている。酸化防止用保護層３２Ａと透光性密着層３６とは、酸化防止用保護層３２Ａが第１酸化物層３３側に配設され、透光性密着層３６が反射層３１側に配設されている。
酸化防止用保護層３２Ａは、透光性材料により構成されており、励起光および蛍光に対する透過性を有するものである。そして、酸化防止用保護層３２Ａは、反射層３１を酸化から保護する機能を有するものである。具体的には、酸素を透過せず、酸素を放出しないものである。
酸化防止用保護層３２Ａが設けられていることにより、銀からなる反射層３１（具体的には、反射層３１の表面）において、銀の酸化物の生成を防止することができる。そのため、蛍光プレート２１が第１酸化物層３３を有するものであっても、反射層３１の表面が、第１酸化物層３３から放出される酸素、および、反射層３１の表面側に積層された構成層（具体的には、蛍光体層２２および第１酸化物層３３）を介して蛍光プレート２１の内部に侵入した酸素に曝されることがない。その結果、反射層３１の酸化劣化を防止することができ、よって、酸化劣化に起因する反射層３１の反射率の低下を抑制することができる。
酸化防止用保護層３２Ａを構成する透光性材料は、酸化物以外の結晶質のものであることが好ましく、具体的には、窒化物またはフッ化物からなるものであることが好ましい。
酸化防止用保護層３２Ａを構成する透光性材料が窒化物またはフッ化物からなるものであることにより、銀からなる反射層３１（具体的には、反射層３１の表面）において、銀の酸化物の生成を防止することができると共に、反射層３１における、銀の硫化物および水酸化銀等の化合物の生成を防止することができる。
ここに、酸化防止用保護層３２Ａが窒化物またはフッ化物からなる透光性材料により構成されていることによって、反射層３１における、銀の硫化物、銀の酸化物および水酸化銀等の化合物の生成を防止できる理由について説明する。酸化防止用保護層３２Ａを構成する透光性材料は、前述したように、酸化物以外のものであって、かつ、アモルファス（非晶質）ではなく、結晶質のものであることが好ましい。透光性材料が酸化物以外のものであることによれば、酸化防止用保護層３２Ａから酸素が放出されることがなく、また、反射層３１の形成中（反射膜成膜中）の酸素分圧を少なくすることができ、よって反射層３１の酸化を防止することができる。さらに、透光性材料が結晶質のものであることによれば、酸化防止用保護層３２Ａは緻密なものとなる。そのため、酸化防止用保護層３２Ａは、内部に水分を含まず、また、外部からの酸素、硫黄、水等の浸入、および、第１酸化物層３３からの酸素、および、特に第１構成層３５Ａを構成する二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）からの水の反射層３１への拡散をより防止することができるものとなる。その結果、酸化防止用保護層３２Ａを、窒化物またはフッ化物からなる透光性材料によって構成することにより、反射層３１を構成する銀が、酸素、硫黄、水などと反応することを防止できる。
酸化防止用保護層３２Ａを構成する透光性材料が窒化物またはフッ化物からなるものであることにより、銀からなる反射層３１（具体的には、反射層３１の表面）において、銀の酸化物の生成を防止することができると共に、反射層３１における、銀の硫化物および水酸化銀等の化合物の生成を防止することができる。
ここに、酸化防止用保護層３２Ａが窒化物またはフッ化物からなる透光性材料により構成されていることによって、反射層３１における、銀の硫化物、銀の酸化物および水酸化銀等の化合物の生成を防止できる理由について説明する。酸化防止用保護層３２Ａを構成する透光性材料は、前述したように、酸化物以外のものであって、かつ、アモルファス（非晶質）ではなく、結晶質のものであることが好ましい。透光性材料が酸化物以外のものであることによれば、酸化防止用保護層３２Ａから酸素が放出されることがなく、また、反射層３１の形成中（反射膜成膜中）の酸素分圧を少なくすることができ、よって反射層３１の酸化を防止することができる。さらに、透光性材料が結晶質のものであることによれば、酸化防止用保護層３２Ａは緻密なものとなる。そのため、酸化防止用保護層３２Ａは、内部に水分を含まず、また、外部からの酸素、硫黄、水等の浸入、および、第１酸化物層３３からの酸素、および、特に第１構成層３５Ａを構成する二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）からの水の反射層３１への拡散をより防止することができるものとなる。その結果、酸化防止用保護層３２Ａを、窒化物またはフッ化物からなる透光性材料によって構成することにより、反射層３１を構成する銀が、酸素、硫黄、水などと反応することを防止できる。
酸化防止用保護層３２Ａを構成する透光性材料として用いられる窒化物としては、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）等の金属窒化物および窒化ケイ素（Ｓｉ3 Ｎ4 ）などが挙げられる。
また、酸化防止用保護層３２Ａを構成する透光性材料として用いられるフッ化物としては、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）などの金属フッ化物が挙げられる。
そして、酸化防止用保護層３２Ａを構成する透光性材料は、酸素放出防止、並びに、酸素、硫黄および水等の浸入防止の観点から、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）、窒化ケイ素（Ｓｉ3 Ｎ4 ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）であることが好ましい。
この図の例において、酸化防止用保護層３２Ａは、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）によって構成されている。
また、酸化防止用保護層３２Ａを構成する透光性材料として用いられるフッ化物としては、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）などの金属フッ化物が挙げられる。
そして、酸化防止用保護層３２Ａを構成する透光性材料は、酸素放出防止、並びに、酸素、硫黄および水等の浸入防止の観点から、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）、窒化ケイ素（Ｓｉ3 Ｎ4 ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）であることが好ましい。
この図の例において、酸化防止用保護層３２Ａは、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）によって構成されている。
酸化防止用保護層３２Ａの厚さは、反射層３１の酸化劣化防止および当該酸化防止用保護層３２Ａの光透過性（励起光および蛍光に対する透過性）の観点から、１〜８０ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは４０〜８０ｎｍである。酸化防止用保護層３２Ａの厚さが４０〜８０ｎｍであることによれば、反射層３１を構成する銀が、酸素、硫黄および水などと反応することを防止できる。
また、酸化防止用保護層３２Ａの裏面（図２における下面）の面積は、反射層３１の保護の観点から、反射層３１の表面の面積と同等であることが好ましい。
この図の例において、酸化防止用保護層３２Ａの厚さは、４０ｎｍである。また、酸化防止用保護層３２Ａの裏面は、反射層３１の表面の寸法と同等の寸法を有しており、当該酸化防止用保護層３２Ａは、透光性密着層３６を介して反射層３１の表面の全面を覆うように配設されている。
また、酸化防止用保護層３２Ａの裏面（図２における下面）の面積は、反射層３１の保護の観点から、反射層３１の表面の面積と同等であることが好ましい。
この図の例において、酸化防止用保護層３２Ａの厚さは、４０ｎｍである。また、酸化防止用保護層３２Ａの裏面は、反射層３１の表面の寸法と同等の寸法を有しており、当該酸化防止用保護層３２Ａは、透光性密着層３６を介して反射層３１の表面の全面を覆うように配設されている。
透光性密着層３６は、酸化防止用保護層３２Ａと反射層３１との間に介在する中間層であって、酸化防止用保護層３２Ａおよび反射層３１のそれぞれに直接接触した状態で設けられおり、励起光および蛍光に対する透過性を有するものである。そして、透光性密着層３６は、酸化防止用保護層３２Ａと反射層３１との間において剥離が生じることがないように、酸化防止用保護層３２Ａと反射層３１とを当該透光性密着層３６を介して密着させ、かつ、その密着性を長期間の繰り返し使用にわたって維持する機能するものである。
透光性密着層３６が設けられていることにより、蛍光体層２２と反射層３１との間に高い密着性が得られると共に、その密着性に十分な耐久性が得られることから、蛍光プレート２１が度重なる温度変化に曝された場合であっても、蛍光体層２２と反射層３１との間における剥離の発生が防止または十分に抑制される。
具体的に説明すると、蛍光体層２２と反射層３１との間に第１酸化物層３３が設けられた蛍光プレート２１においては、前述したように、反射層３１と第１酸化物層３３との間に、酸化防止用保護層３２Ａを設けることにより、反射層３１の酸化劣化を防止することができる。しかしながら、酸化防止用保護層が反射層に直接接触した状態で設けられた場合には、使用環境の温度変化、および、蛍光光源装置において点灯と消灯とを繰り返すことに伴って生じる温度変化により、当該酸化防止用保護層と反射層との界面に剥離が生じてしまう。然るに、図２に示されているように、酸化防止用保護層３２Ａと反射層３１との間に透光性密着層３６を設けることによれば、蛍光プレート２１が度重なる温度変化に曝されたことに起因する、酸化防止用保護層３２Ａと反射層３１との間における剥離の発生が防止または十分に抑制され、その結果、蛍光体層２２と反射層３１との間における剥離の発生を防止または十分に抑制することができる。
具体的に説明すると、蛍光体層２２と反射層３１との間に第１酸化物層３３が設けられた蛍光プレート２１においては、前述したように、反射層３１と第１酸化物層３３との間に、酸化防止用保護層３２Ａを設けることにより、反射層３１の酸化劣化を防止することができる。しかしながら、酸化防止用保護層が反射層に直接接触した状態で設けられた場合には、使用環境の温度変化、および、蛍光光源装置において点灯と消灯とを繰り返すことに伴って生じる温度変化により、当該酸化防止用保護層と反射層との界面に剥離が生じてしまう。然るに、図２に示されているように、酸化防止用保護層３２Ａと反射層３１との間に透光性密着層３６を設けることによれば、蛍光プレート２１が度重なる温度変化に曝されたことに起因する、酸化防止用保護層３２Ａと反射層３１との間における剥離の発生が防止または十分に抑制され、その結果、蛍光体層２２と反射層３１との間における剥離の発生を防止または十分に抑制することができる。
透光性密着層３６は、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2 ）および酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）の少なくとも一方の遷移金属酸化物からなるものであることが好ましく、酸化ハフニウムからなるものであることがさらに好ましい。
透光性密着層３６を、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2 ）および酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）の少なくとも一方からなるものとすることにより、後述の実験例から明らかなように、高い反射率（蛍光体層２２の裏面における反射率）が得られると共に、蛍光プレート２１が度重なる温度変化に曝された場合であっても、蛍光体層２２と反射層３１との間における剥離の発生を防止することができる。
また、透光性密着層３６を酸化ハフニウムからなるものとすることによれば、高い製造安定性が得られる。具体的には、蛍光体層２２と反射層３１との間において剥離が生じることのない、反射率の高い蛍光プレート２１を安定して製造することができる。
ここに、金属酸化物である酸化ハフニウム（ＨｆＯ2 ）および酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）の少なくとも一方により透光性密着層３６を構成することにより、増反射膜および防湿膜などによって構成された酸化物層が反射層に直接接触した状態である場合において生じる問題（具体的には、反射層３１の反射率の低下、および、透光性密着層３６と反射層３１との界面における剥離の発生）が生じることなく、上記の効果が得られることは、本発明者らの実験によって明らかになった事項である。
透光性密着層３６を、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2 ）および酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）の少なくとも一方からなるものとすることにより、後述の実験例から明らかなように、高い反射率（蛍光体層２２の裏面における反射率）が得られると共に、蛍光プレート２１が度重なる温度変化に曝された場合であっても、蛍光体層２２と反射層３１との間における剥離の発生を防止することができる。
また、透光性密着層３６を酸化ハフニウムからなるものとすることによれば、高い製造安定性が得られる。具体的には、蛍光体層２２と反射層３１との間において剥離が生じることのない、反射率の高い蛍光プレート２１を安定して製造することができる。
ここに、金属酸化物である酸化ハフニウム（ＨｆＯ2 ）および酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）の少なくとも一方により透光性密着層３６を構成することにより、増反射膜および防湿膜などによって構成された酸化物層が反射層に直接接触した状態である場合において生じる問題（具体的には、反射層３１の反射率の低下、および、透光性密着層３６と反射層３１との界面における剥離の発生）が生じることなく、上記の効果が得られることは、本発明者らの実験によって明らかになった事項である。
透光性密着層３６の厚さは、蛍光体層２２と反射層３１との間の密着性およびその密着性の耐久性の観点から、小さいことが好ましく、具体的には、光透過性および形成安定性を考慮して、５〜１０ｎｍであることが好ましい。
一方、透光性密着層３６の厚さが過小である場合には、所期の厚さの透光性密着層３６を安定して形成することができなくなるおそれがある。また、透光性密着層３６の厚さが過大である場合には、蛍光プレート２１に十分な反射率（具体的には、蛍光体層２２の裏面における反射率）が得られなくなるおそれがある。
一方、透光性密着層３６の厚さが過小である場合には、所期の厚さの透光性密着層３６を安定して形成することができなくなるおそれがある。また、透光性密着層３６の厚さが過大である場合には、蛍光プレート２１に十分な反射率（具体的には、蛍光体層２２の裏面における反射率）が得られなくなるおそれがある。
また、透光性密着層３６は、酸化防止用保護層３２Ａの裏面と反射層３１の表面とに接触して設けられていればよく、酸化防止用保護層３２Ａの裏面および反射層３１の表面の一部を覆うように配設されたものであってもよい。すなわち、酸化防止用保護層３２Ａと反射層３１とは、互いに対向する面（具体的には、酸化防止用保護層３２Ａの裏面および反射層３１の表面）の一部分が直接接触した状態とされていてもよい。このような場合においては、透光性密着層３６の厚さを極めて小さくすることができてアンカー効果が得られることから、より一層優れた密着性の耐久性および光透過性が得られる。
透光性密着層３６は、物理的気相堆積法などの乾式法によって形成することができる。
透光性密着層３６の形成に用いられる物理的気相堆積法の好ましい具体例としては、イオンアシスト電子線蒸着法が挙げられる。
透光性密着層３６をイオンアシスト電子線蒸着法によって形成することにより、透光性密着層３６を、高い緻密性を有すると共に、酸化防止用保護層３２Ａおよび反射層３１のそれぞれとの密着性の高いものとすることができる。
透光性密着層３６の具体的な形成条件は、透光性密着層３６の形成材料などに応じて適宜設定される。
透光性密着層３６の形成に用いられる物理的気相堆積法の好ましい具体例としては、イオンアシスト電子線蒸着法が挙げられる。
透光性密着層３６をイオンアシスト電子線蒸着法によって形成することにより、透光性密着層３６を、高い緻密性を有すると共に、酸化防止用保護層３２Ａおよび反射層３１のそれぞれとの密着性の高いものとすることができる。
透光性密着層３６の具体的な形成条件は、透光性密着層３６の形成材料などに応じて適宜設定される。
また、蛍光プレート２１には、図２に示されているように、反射層３１の裏面側（図２における下面側）に、その組成を表す化学式中に酸素原子を含有しない酸素原子非含有材料よりなる酸素原子非含有層３２Ｂが設けられていることが好ましい。
酸素原子非含有層３２Ｂを設けることによれば、酸素原子非含有層３２Ｂが酸素を放出しないものであることから、当該酸素原子非含有層３２Ｂを構成する酸素原子非含有材料の種類、および酸素原子非含有層３２Ｂの配置位置を適宜に選択することによって、反射層３１の裏面側に配設された構成層に起因する、反射層３１の酸化劣化を防止または十分に抑制することができる。すなわち、蛍光プレート２１が、図２に示されているように、反射層３１の裏面側に第２酸化物層３７が設けられたものであっても、反射層３１と第２酸化物層３７との間に、適宜の酸素原子非含有材料からなる酸素原子非含有層３２Ｂを配設することにより、第２酸化物層３７が設けられていることに起因する反射層３１の酸化を防止または十分に抑制することができる。
酸素原子非含有層３２Ｂを設けることによれば、酸素原子非含有層３２Ｂが酸素を放出しないものであることから、当該酸素原子非含有層３２Ｂを構成する酸素原子非含有材料の種類、および酸素原子非含有層３２Ｂの配置位置を適宜に選択することによって、反射層３１の裏面側に配設された構成層に起因する、反射層３１の酸化劣化を防止または十分に抑制することができる。すなわち、蛍光プレート２１が、図２に示されているように、反射層３１の裏面側に第２酸化物層３７が設けられたものであっても、反射層３１と第２酸化物層３７との間に、適宜の酸素原子非含有材料からなる酸素原子非含有層３２Ｂを配設することにより、第２酸化物層３７が設けられていることに起因する反射層３１の酸化を防止または十分に抑制することができる。
この酸素原子非含有層３２Ｂは、励起光および蛍光に対する透過性を有するものであってもよく、また非透過性のものであってもよい。
酸素原子非含有層３２Ｂを構成する酸素原子非含有材料は、フッ化物、窒化物または金属からなるものであることが好ましい。
具体的には、酸素原子非含有材料は、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）、窒化ケイ素（Ｓｉ3 Ｎ4 ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）およびニッケル（Ｎｉ）のいずれかの物質からなることが好ましい。
酸素原子非含有材料が、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）、窒化ケイ素（Ｓｉ3 Ｎ4 ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）およびニッケル（Ｎｉ）のいずれかの物質からなることにより、酸素原子非含有層３２Ｂが酸素を放出せず、酸素を透過しないものとなる。そのため、蛍光プレート２１が、酸素原子非含有層３２Ｂの下方に、第２酸化物層３７を有するものであっても、反射層３１の裏面が、第２酸化物層３７から放出される酸素に曝されることがない。その結果、反射層３１の酸化劣化を防止することができる。
また、酸素原子非含有材料は、酸素原子非含有層３２Ｂと反射層３１との密着性およびその密着性の耐久性の観点からは、窒化ケイ素（Ｓｉ3 Ｎ4 ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）またはニッケル（Ｎｉ）からなることが好ましい。
この図の例において、酸素原子非含有層３２Ｂは、金属クロム（Ｃｒ）によって構成されている。
具体的には、酸素原子非含有材料は、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）、窒化ケイ素（Ｓｉ3 Ｎ4 ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）およびニッケル（Ｎｉ）のいずれかの物質からなることが好ましい。
酸素原子非含有材料が、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）、窒化ケイ素（Ｓｉ3 Ｎ4 ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）およびニッケル（Ｎｉ）のいずれかの物質からなることにより、酸素原子非含有層３２Ｂが酸素を放出せず、酸素を透過しないものとなる。そのため、蛍光プレート２１が、酸素原子非含有層３２Ｂの下方に、第２酸化物層３７を有するものであっても、反射層３１の裏面が、第２酸化物層３７から放出される酸素に曝されることがない。その結果、反射層３１の酸化劣化を防止することができる。
また、酸素原子非含有材料は、酸素原子非含有層３２Ｂと反射層３１との密着性およびその密着性の耐久性の観点からは、窒化ケイ素（Ｓｉ3 Ｎ4 ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）またはニッケル（Ｎｉ）からなることが好ましい。
この図の例において、酸素原子非含有層３２Ｂは、金属クロム（Ｃｒ）によって構成されている。
酸素原子非含有層３２Ｂの厚さは、１〜３０ｎｍであることが好ましい。
また、酸素原子非含有層３２Ｂの表面（図２における上面）の面積は、反射層３１の保護の観点から、反射層３１の裏面の面積と同等であることが好ましい。
この図の例において、酸素原子非含有層３２Ｂの表面は、反射層３１の裏面の寸法と同等の寸法を有しており、当該酸素原子非含有層３２Ｂが、反射層３１の裏面の全面を覆っている。
また、酸素原子非含有層３２Ｂの表面（図２における上面）の面積は、反射層３１の保護の観点から、反射層３１の裏面の面積と同等であることが好ましい。
この図の例において、酸素原子非含有層３２Ｂの表面は、反射層３１の裏面の寸法と同等の寸法を有しており、当該酸素原子非含有層３２Ｂが、反射層３１の裏面の全面を覆っている。
第２酸化物層３７は、金属酸化物からなるものであることが好ましい。
具体的には、第２酸化物層３７は、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）からなる金属酸化物単層膜（特定単層膜）により構成されたものであることが好ましい。
第２酸化物層３７が特定単層膜により構成されたものであることにより、当該特定単層膜が優れた耐候性を有するものであることから、当該特定単層膜は、防湿膜として作用する。そのため、反射層３１の裏面が湿気に曝されることを防止または十分に抑制することができる。その結果、反射層３１の裏面において、当該反射層３１を構成する銀が水と反応することを、防止または十分に抑制することができる。
この図の例において、第２酸化物層３７は、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）からなる金属酸化物単層膜により構成されている。
具体的には、第２酸化物層３７は、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）からなる金属酸化物単層膜（特定単層膜）により構成されたものであることが好ましい。
第２酸化物層３７が特定単層膜により構成されたものであることにより、当該特定単層膜が優れた耐候性を有するものであることから、当該特定単層膜は、防湿膜として作用する。そのため、反射層３１の裏面が湿気に曝されることを防止または十分に抑制することができる。その結果、反射層３１の裏面において、当該反射層３１を構成する銀が水と反応することを、防止または十分に抑制することができる。
この図の例において、第２酸化物層３７は、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）からなる金属酸化物単層膜により構成されている。
第２酸化物層３７の厚さは、当該第２酸化物層３７の材質によって適宜に定められる。
具体的には、例えば、第２酸化物層３７が金属酸化物単層膜により構成されてなる場合、すなわち第２酸化物層３７の材質がアルミナである場合には、５〜３０ｎｍとされる。
この図の例において、第２酸化物層３７の厚さは、２０ｎｍである。
具体的には、例えば、第２酸化物層３７が金属酸化物単層膜により構成されてなる場合、すなわち第２酸化物層３７の材質がアルミナである場合には、５〜３０ｎｍとされる。
この図の例において、第２酸化物層３７の厚さは、２０ｎｍである。
発光部材２０において、放熱基板２４は、蛍光プレート２１（蛍光体層２２）において発生した熱を排熱する機能を有するものである。
放熱基板２４の構成材料としては、銅（Ｃｕ）およびモリブデンと銅との合金（Ｍｏ−Ｃｕ）などの金属が用いられる。
図の例において、放熱基板２４は、銅よりなるものである。
放熱基板２４の構成材料としては、銅（Ｃｕ）およびモリブデンと銅との合金（Ｍｏ−Ｃｕ）などの金属が用いられる。
図の例において、放熱基板２４は、銅よりなるものである。
放熱基板２４の厚さは、放熱特性を考慮して適宜に定めればよく、例えば０．５〜５．０ｍｍである。
また、放熱基板２４の表面の面積は、図１および図２に示されているように、排熱性などの観点から、蛍光プレート２１の裏面の面積よりも大きいことが好ましい。
また、放熱基板２４は、放熱フィンの機能を兼ね備えたものであってもよい。
この図の例において、放熱基板２４の厚さは０．５〜４ｍｍである。
また、放熱基板２４の表面の面積は、図１および図２に示されているように、排熱性などの観点から、蛍光プレート２１の裏面の面積よりも大きいことが好ましい。
また、放熱基板２４は、放熱フィンの機能を兼ね備えたものであってもよい。
この図の例において、放熱基板２４の厚さは０．５〜４ｍｍである。
また、放熱基板２４には、接合部材層２８との接合性の観点から、当該放熱基板２４の表面に、密着用下地膜層および半田濡れ膜層がこの順に積層された金属膜が形成されていることが好ましい。
この図の例において、放熱基板２４は、外表面全面（表面、裏面および周側面）が、ニッケルからなる密着用下地膜層および金からなる半田濡れ膜層よりなる金属膜（図示省略）で覆われてなるものである。この金属膜を構成する各層の厚さは、密着用下地膜層が２．５μｍ、半田濡れ膜層が０．０３μｍである。
この図の例において、放熱基板２４は、外表面全面（表面、裏面および周側面）が、ニッケルからなる密着用下地膜層および金からなる半田濡れ膜層よりなる金属膜（図示省略）で覆われてなるものである。この金属膜を構成する各層の厚さは、密着用下地膜層が２．５μｍ、半田濡れ膜層が０．０３μｍである。
接合部材層２８を構成する接合部材としては、排熱性および低応力性の観点から、スズを含有する半田を使用することが好ましい。
接合部材として用いられるスズを含有する半田の具体例としては、例えば金スズ合金（ＡｕＳｎ，スズ（Ｓｎ）の含有割合２０質量％，熱伝導率２５０Ｗ／ｍＫ）およびスズ−銀−銅合金（Ｓｎ−３Ａｇ−０．５Ｃｕ（銀（Ａｇ）の含有割合３質量％、銅（Ｃｕ）の含有割合０．５質量％、スズ（Ｓｎ）の含有割合９６．５質量％），熱伝導率５５Ｗ／ｍＫ）などが挙げられる。
また、接合部材層２８の厚さは、例えば３０μｍである。
この図の例において、接合部材による蛍光プレート２１と放熱基板２４との接合方法としては、例えばリフロー炉を用い、フラックスフリー半田シート（接合部材）を、蛍光プレート２１と放熱基板２４との間に挟み、蟻酸ガスまたは水素ガスの雰囲気中において加熱を行うリフロー方式が用いられている。このように、蟻酸または水素の還元力を利用してフラックスフリー半田シートの表面酸化膜を除去してリフローを行う接合方法によれば、形成される接合部材層２８にボイドが生じることがなく、良好な熱伝導性が得られる。
接合部材として用いられるスズを含有する半田の具体例としては、例えば金スズ合金（ＡｕＳｎ，スズ（Ｓｎ）の含有割合２０質量％，熱伝導率２５０Ｗ／ｍＫ）およびスズ−銀−銅合金（Ｓｎ−３Ａｇ−０．５Ｃｕ（銀（Ａｇ）の含有割合３質量％、銅（Ｃｕ）の含有割合０．５質量％、スズ（Ｓｎ）の含有割合９６．５質量％），熱伝導率５５Ｗ／ｍＫ）などが挙げられる。
また、接合部材層２８の厚さは、例えば３０μｍである。
この図の例において、接合部材による蛍光プレート２１と放熱基板２４との接合方法としては、例えばリフロー炉を用い、フラックスフリー半田シート（接合部材）を、蛍光プレート２１と放熱基板２４との間に挟み、蟻酸ガスまたは水素ガスの雰囲気中において加熱を行うリフロー方式が用いられている。このように、蟻酸または水素の還元力を利用してフラックスフリー半田シートの表面酸化膜を除去してリフローを行う接合方法によれば、形成される接合部材層２８にボイドが生じることがなく、良好な熱伝導性が得られる。
このような構成の蛍光光源装置１０においては、励起光源１１から出射された励起光は、発光部材２０における蛍光プレート２１の表面（励起光入射面）に照射され、当該蛍光プレート２１に入射する。そして、蛍光プレート２１においては、蛍光体層２２を構成する蛍光体が励起される。これにより、蛍光体層２２において蛍光体から蛍光が放射される。この蛍光は、蛍光体に吸収されずに蛍光体層２２の裏面において反射層３１によって反射された励起光と共に蛍光プレート２１の表面（蛍光出射面）から外部に出射され、蛍光光源装置１０の外部に出射される。
而して、蛍光プレート２１においては、蛍光体層２２と反射層３１との間に、第１酸化物層３３が設けられており、その第１酸化物層３３と反射層３１との間において、酸化防止用保護層３２Ａが、反射層３１との間に透光性密着層３６が介在した状態で設けられている。
そのため、反射層３１が、蛍光体層２２に対する密着性の小さい銀からなるものであっても、蛍光体層２２と反射層３１との間に高い密着性を得ることができ、しかも、その密着性を長期間の繰り返し使用にわたって維持することができる。よって、蛍光光源装置１０の使用環境の温度変化、および、蛍光光源装置１０において点灯と消灯とを繰り返すことに伴って生じる温度変化などによって、蛍光プレート２１が度重なる温度変化に曝された場合であっても、蛍光体層２２と反射層３１との間における剥離の発生が防止または十分に抑制される。
また、酸化防止用保護層３２Ａが第１酸化物層３３と反射層３１との間に配設されていることから、蛍光プレート２１が第１酸化物層３３を有するものであっても、当該第１酸化物層３３が設けられていることに起因する、反射層３１の酸化劣化を防止することができる。
従って、蛍光プレート２１によれば、長期間にわたって反射層３１に高い反射率が得られ、また当該反射層３１の剥離の発生が抑制される。
そのため、反射層３１が、蛍光体層２２に対する密着性の小さい銀からなるものであっても、蛍光体層２２と反射層３１との間に高い密着性を得ることができ、しかも、その密着性を長期間の繰り返し使用にわたって維持することができる。よって、蛍光光源装置１０の使用環境の温度変化、および、蛍光光源装置１０において点灯と消灯とを繰り返すことに伴って生じる温度変化などによって、蛍光プレート２１が度重なる温度変化に曝された場合であっても、蛍光体層２２と反射層３１との間における剥離の発生が防止または十分に抑制される。
また、酸化防止用保護層３２Ａが第１酸化物層３３と反射層３１との間に配設されていることから、蛍光プレート２１が第１酸化物層３３を有するものであっても、当該第１酸化物層３３が設けられていることに起因する、反射層３１の酸化劣化を防止することができる。
従って、蛍光プレート２１によれば、長期間にわたって反射層３１に高い反射率が得られ、また当該反射層３１の剥離の発生が抑制される。
また、蛍光プレート２１においては、第１酸化物層３３が、特定単層膜３４と特定多層膜３５とにより構成されていることから、反射層３１の表面が湿気に曝されることを防止または十分に抑制することができ、また、蛍光プレート２１がより一層優れた高反射性能を有するものとなる。
また、蛍光プレート２１においては、反射層３１の裏面側に酸素原子非含有層３２Ｂが設けられており、当該酸素原子非含有層３２Ｂが、反射層３１と第２酸化物層３７との間に配置されていることから、第２酸化物層３７が設けられていることに起因する、反射層３１の酸化劣化を防止することができる。
以上において、本発明の蛍光プレートを具体的な例を用いて説明したが、本発明の蛍光プレートはこれに限定されるものではない。
例えば、蛍光プレートは、当該蛍光プレートの表面に、複数の凸部が周期的に配列されてなる周期構造が形成されたものであってもよい。ここに、蛍光プレートの表面の周期構造は、例えば略錐形状（具体的には、錐状または錐台状）の凸部が密集した状態で二次元周期的に配列されてなるものである。また、蛍光プレートが表面に周期構造を有するものである場合には、その蛍光プレートは、製造容易性の観点から、蛍光体層の表面に、励起光および蛍光に対する透過性を有する周期構造体層が積層されたものであることが好ましい。
例えば、蛍光プレートは、当該蛍光プレートの表面に、複数の凸部が周期的に配列されてなる周期構造が形成されたものであってもよい。ここに、蛍光プレートの表面の周期構造は、例えば略錐形状（具体的には、錐状または錐台状）の凸部が密集した状態で二次元周期的に配列されてなるものである。また、蛍光プレートが表面に周期構造を有するものである場合には、その蛍光プレートは、製造容易性の観点から、蛍光体層の表面に、励起光および蛍光に対する透過性を有する周期構造体層が積層されたものであることが好ましい。
以下、本発明の実験例について説明する。
＜実験例１＞
蛍光体層と、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）層およびチタニア（ＴｉＯ2 ）層が積層された酸化物多層膜（増反射膜）よりなる酸化物層と、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）からなる酸化防止用保護層と、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）からなる密着層と、銀からなる反射層とがこの順に積層された実験用積層体（以下、「実験用積層体（１Ａ）」ともいう。）を作製した。
作製した実験用積層体（１Ａ）の仕様は、下記の通りである。
この実験用積層体（１Ａ）において、酸化物層（増反射膜）は、蛍光体層の裏面において、厚さ５ｎｍの二酸化ケイ素層、厚さ１０ｎｍのチタニア層、厚さ４０ｎｍの二酸化ケイ素層および厚さ８０ｎｍのチタニア層がこの順に積層された構成のものである。
蛍光体層と、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）層およびチタニア（ＴｉＯ2 ）層が積層された酸化物多層膜（増反射膜）よりなる酸化物層と、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）からなる酸化防止用保護層と、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）からなる密着層と、銀からなる反射層とがこの順に積層された実験用積層体（以下、「実験用積層体（１Ａ）」ともいう。）を作製した。
作製した実験用積層体（１Ａ）の仕様は、下記の通りである。
この実験用積層体（１Ａ）において、酸化物層（増反射膜）は、蛍光体層の裏面において、厚さ５ｎｍの二酸化ケイ素層、厚さ１０ｎｍのチタニア層、厚さ４０ｎｍの二酸化ケイ素層および厚さ８０ｎｍのチタニア層がこの順に積層された構成のものである。
〔蛍光体層〕
厚さ：０．１ｍｍ
〔酸化防止用保護層〕
材質（光透性材料）：フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）
厚さ：４０ｎｍ
〔密着層〕
材質：酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）
厚さ：５ｎｍ
〔反射層〕
材質：銀（Ａｇ）
厚さ：１２０ｎｍ
厚さ：０．１ｍｍ
〔酸化防止用保護層〕
材質（光透性材料）：フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）
厚さ：４０ｎｍ
〔密着層〕
材質：酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）
厚さ：５ｎｍ
〔反射層〕
材質：銀（Ａｇ）
厚さ：１２０ｎｍ
また、実験用積層体（１Ａ）において、蛍光体層に代えて拡散板を備えたこと以外は当該実験用積層体（１Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（１Ｂ）」ともいう。）を作製した。
すなわち、実験用積層体（１Ｂ）は、拡散板の裏面に、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）層およびチタニア（ＴｉＯ2 ）層が積層された酸化物多層膜（増反射膜）よりなる酸化物層と、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）からなる酸化防止用保護層と、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）からなる透光性密着層と、銀からなる反射層とがこの順に積層された構成のものである。
すなわち、実験用積層体（１Ｂ）は、拡散板の裏面に、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）層およびチタニア（ＴｉＯ2 ）層が積層された酸化物多層膜（増反射膜）よりなる酸化物層と、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）からなる酸化防止用保護層と、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）からなる透光性密着層と、銀からなる反射層とがこの順に積層された構成のものである。
作製した実験用積層体を用いて、反射率評価試験、密着性評価試験および光束維持率評価試験を行った。なお、反射率評価試験は、実験用積層体（１Ｂ）を用い、密着性評価試験および光束維持率評価試験は、実験用積層体（１Ａ）を用いた。結果を下記表１に示す。
反射率評価試験、密着性評価試験および光束維持率評価試験の具体的な手法は、以下に示す通りである。
反射率評価試験、密着性評価試験および光束維持率評価試験の具体的な手法は、以下に示す通りである。
〔反射率評価試験〕
実験用積層体（１Ｂ）の表面（拡散板の表面）に、波長４３０〜６７０ｎｍの光を含む光を照射し、波長４３０〜６７０ｎｍの光の反射率（平均反射率）を測定した。そして、得られた反射率に基づいて、反射率が８０％以上である場合を反射層に極めて良好な反射率が得られるとして「１」、反射率が７５％を超え８０％未満である場合を反射層に良好な反射率が得られるとして「２」、反射率が７５％以下である場合を反射層に良好な反射率が得られないとして「３」と評価した。
実験用積層体（１Ｂ）の表面（拡散板の表面）に、波長４３０〜６７０ｎｍの光を含む光を照射し、波長４３０〜６７０ｎｍの光の反射率（平均反射率）を測定した。そして、得られた反射率に基づいて、反射率が８０％以上である場合を反射層に極めて良好な反射率が得られるとして「１」、反射率が７５％を超え８０％未満である場合を反射層に良好な反射率が得られるとして「２」、反射率が７５％以下である場合を反射層に良好な反射率が得られないとして「３」と評価した。
〔密着性評価試験〕
実験用積層体（１Ａ）に対して、設定温度８５℃の条件による加熱操作を行った後に設定温度−４０℃の条件による冷却操作を行うヒートサイクルを１０００回繰り返した後、実験用積層体（１Ａ）の表面（蛍光体層）に、集光スポット径が１．５ｍｍとなるように集光した１００Ｗのレーザ光を照射した。そして、蛍光体層と反射層との間における剥離の発生の有無を確認し、剥離が発生しなかった場合を蛍光体層と反射層との間に良好な密着性（密着性の耐久性）が得られるとして「１」、剥離が発生した場合を良好な密着性（密着性の耐久性）が得られないとして「３」と評価した。
実験用積層体（１Ａ）に対して、設定温度８５℃の条件による加熱操作を行った後に設定温度−４０℃の条件による冷却操作を行うヒートサイクルを１０００回繰り返した後、実験用積層体（１Ａ）の表面（蛍光体層）に、集光スポット径が１．５ｍｍとなるように集光した１００Ｗのレーザ光を照射した。そして、蛍光体層と反射層との間における剥離の発生の有無を確認し、剥離が発生しなかった場合を蛍光体層と反射層との間に良好な密着性（密着性の耐久性）が得られるとして「１」、剥離が発生した場合を良好な密着性（密着性の耐久性）が得られないとして「３」と評価した。
〔光束維持率評価試験〕
実験用積層体（１Ａ）の表面（蛍光体層）に、集光スポット径が１．５ｍｍとなるように集光した１００Ｗのレーザ光を照射した。そして、レーザ光の照射直後に実験用積層体（１Ａ）の表面から出射された蛍光の光束（初期光束）を測定した。また、レーザ光の照射を開始してから１０００時間経過後にも実験用積層体（１Ａ）の表面から出射された蛍光の光束（以下、「１０００時間経過後光束」ともいう。）も測定した。そして、得られた初期光束および１０００時間経過光束から、初期光束に対する１０００時間経過光束の割合である光束維持率を算出し、光束維持率が９８％以上である場合を極めて良好な光束維持率が得られるとして「１」、光束維持率が９５％を超え９８％未満である場合を極めて良好な光束維持率が得られるとして「２」、光束維持率が９５％以下である場合を良好な光束維持率が得られないとして「３」と評価した。
実験用積層体（１Ａ）の表面（蛍光体層）に、集光スポット径が１．５ｍｍとなるように集光した１００Ｗのレーザ光を照射した。そして、レーザ光の照射直後に実験用積層体（１Ａ）の表面から出射された蛍光の光束（初期光束）を測定した。また、レーザ光の照射を開始してから１０００時間経過後にも実験用積層体（１Ａ）の表面から出射された蛍光の光束（以下、「１０００時間経過後光束」ともいう。）も測定した。そして、得られた初期光束および１０００時間経過光束から、初期光束に対する１０００時間経過光束の割合である光束維持率を算出し、光束維持率が９８％以上である場合を極めて良好な光束維持率が得られるとして「１」、光束維持率が９５％を超え９８％未満である場合を極めて良好な光束維持率が得られるとして「２」、光束維持率が９５％以下である場合を良好な光束維持率が得られないとして「３」と評価した。
＜実験例２＞
実験例１の実験用積層体（１Ａ）において、密着層の厚さを１０ｎｍとしたこと以外は当該実験用積層体（１Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（２Ａ）」ともいう。）を作製した。
また、実験用積層体（２Ａ）において、蛍光体層を備えていないこと以外は当該実験用積層体（２Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（２Ｂ）」ともいう。）を作製した。
そして、作製した実験用積層体を用いて、実験例１と同様にして、評価試験を行った。結果を表１に示す。
実験例１の実験用積層体（１Ａ）において、密着層の厚さを１０ｎｍとしたこと以外は当該実験用積層体（１Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（２Ａ）」ともいう。）を作製した。
また、実験用積層体（２Ａ）において、蛍光体層を備えていないこと以外は当該実験用積層体（２Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（２Ｂ）」ともいう。）を作製した。
そして、作製した実験用積層体を用いて、実験例１と同様にして、評価試験を行った。結果を表１に示す。
＜実験例３＞
実験例１の実験用積層体（１Ａ）において、密着層の厚さを１５ｎｍとしたこと以外は当該実験用積層体（１Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（３Ａ）」ともいう。）を作製した。
また、実験用積層体（３Ａ）において、蛍光体層に代えて拡散板を備えたこと以外は当該実験用積層体（３Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（３Ｂ）」ともいう。）を作製した。
そして、作製した実験用積層体を用いて、実験例１と同様にして、評価試験を行った。結果を表１に示す。
実験例１の実験用積層体（１Ａ）において、密着層の厚さを１５ｎｍとしたこと以外は当該実験用積層体（１Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（３Ａ）」ともいう。）を作製した。
また、実験用積層体（３Ａ）において、蛍光体層に代えて拡散板を備えたこと以外は当該実験用積層体（３Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（３Ｂ）」ともいう。）を作製した。
そして、作製した実験用積層体を用いて、実験例１と同様にして、評価試験を行った。結果を表１に示す。
＜実験例４＞
実験例１の実験用積層体（１Ａ）において、密着層を酸化ハフニウムからなるものとしたこと以外は当該実験用積層体（１Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（４Ａ）」ともいう。）を作製した。
また、実験用積層体（４Ａ）において、蛍光体層に代えて拡散板を備えたこと以外は当該実験用積層体（４Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（４Ｂ）」ともいう。）を作製した。
そして、作製した実験用積層体を用いて、実験例１と同様にして、評価試験を行った。結果を表１に示す。
実験例１の実験用積層体（１Ａ）において、密着層を酸化ハフニウムからなるものとしたこと以外は当該実験用積層体（１Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（４Ａ）」ともいう。）を作製した。
また、実験用積層体（４Ａ）において、蛍光体層に代えて拡散板を備えたこと以外は当該実験用積層体（４Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（４Ｂ）」ともいう。）を作製した。
そして、作製した実験用積層体を用いて、実験例１と同様にして、評価試験を行った。結果を表１に示す。
＜実験例５＞
実験例４の実験用積層体（４Ａ）において、密着層の厚さを１０ｎｍとしたこと以外は当該実験用積層体（４Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（５Ａ）」ともいう。）を作製した。
また、実験用積層体（５Ａ）において、蛍光体層に代えて拡散板を備えたこと以外は当該実験用積層体（５Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（５Ｂ）」ともいう。）を作製した。
そして、作製した実験用積層体を用いて、実験例１と同様にして、評価試験を行った。結果を表１に示す。
実験例４の実験用積層体（４Ａ）において、密着層の厚さを１０ｎｍとしたこと以外は当該実験用積層体（４Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（５Ａ）」ともいう。）を作製した。
また、実験用積層体（５Ａ）において、蛍光体層に代えて拡散板を備えたこと以外は当該実験用積層体（５Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（５Ｂ）」ともいう。）を作製した。
そして、作製した実験用積層体を用いて、実験例１と同様にして、評価試験を行った。結果を表１に示す。
＜実験例６＞
実験例４の実験用積層体（４Ａ）において、密着層の厚さを１５ｎｍとしたこと以外は当該実験用積層体（４Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（６Ａ）」ともいう。）を作製した。
また、実験用積層体（６Ａ）において、蛍光体層に代えて拡散板を備えたこと以外は当該実験用積層体（６Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（６Ｂ）」ともいう。）を作製した。
そして、作製した実験用積層体を用いて、実験例１と同様にして、評価試験を行った。結果を表１に示す。
実験例４の実験用積層体（４Ａ）において、密着層の厚さを１５ｎｍとしたこと以外は当該実験用積層体（４Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（６Ａ）」ともいう。）を作製した。
また、実験用積層体（６Ａ）において、蛍光体層に代えて拡散板を備えたこと以外は当該実験用積層体（６Ａ）と同様の構成を有する実験用積層体（以下、「実験用積層体（６Ｂ）」ともいう。）を作製した。
そして、作製した実験用積層体を用いて、実験例１と同様にして、評価試験を行った。結果を表１に示す。
＜比較実験例１＞
実験例１の実験用積層体（１Ａ）において、酸化防止用保護層および密着層を備えていないこと以外は当該実験用積層体（１Ａ）と同様の構成を有する比較用の実験用積層体（以下、「比較実験用積層体（１Ａ）」ともいう。）を作製した。
すなわち、比較実験用積層体（１Ａ）は、蛍光体層と、酸化物層と、反射層とがこの順に積層された構成のものである。
また、比較実験用積層体（１Ａ）において、蛍光体層に代えて拡散板を備えたこと以外は当該比較実験用積層体（１Ａ）と同様の構成を有する比較用の実験用積層体（以下、「比較実験用積層体（１Ｂ）」ともいう。）を作製した。
そして、作製した比較実験用積層体を用いて、実験例１と同様にして、評価試験を行った。結果を表１に示す。
実験例１の実験用積層体（１Ａ）において、酸化防止用保護層および密着層を備えていないこと以外は当該実験用積層体（１Ａ）と同様の構成を有する比較用の実験用積層体（以下、「比較実験用積層体（１Ａ）」ともいう。）を作製した。
すなわち、比較実験用積層体（１Ａ）は、蛍光体層と、酸化物層と、反射層とがこの順に積層された構成のものである。
また、比較実験用積層体（１Ａ）において、蛍光体層に代えて拡散板を備えたこと以外は当該比較実験用積層体（１Ａ）と同様の構成を有する比較用の実験用積層体（以下、「比較実験用積層体（１Ｂ）」ともいう。）を作製した。
そして、作製した比較実験用積層体を用いて、実験例１と同様にして、評価試験を行った。結果を表１に示す。
＜比較実験例２＞
実験例１の実験用積層体（１Ａ）において、密着層を備えておらず、また酸化防止用保護層の厚さを１０ｎｍとしたこと以外は当該実験用積層体（１Ａ）と同様の構成を有する比較用の実験用積層体（以下、「比較実験用積層体（２Ａ）」ともいう。）を作製した。
すなわち、比較実験用積層体（２Ａ）は、蛍光体層と、酸化物層と、酸化防止用保護層と、反射層とがこの順に積層された構成のものである。
また、比較実験用積層体（２Ａ）において、蛍光体層に代えて拡散板を備えたこと以外は当該比較実験用積層体（２Ａ）と同様の構成を有する比較用の実験用積層体（以下、「比較実験用積層体（２Ｂ）」ともいう。）を作製した。
そして、作製した比較実験用積層体を用いて、実験例１と同様にして、評価試験を行った。結果を表１に示す。
実験例１の実験用積層体（１Ａ）において、密着層を備えておらず、また酸化防止用保護層の厚さを１０ｎｍとしたこと以外は当該実験用積層体（１Ａ）と同様の構成を有する比較用の実験用積層体（以下、「比較実験用積層体（２Ａ）」ともいう。）を作製した。
すなわち、比較実験用積層体（２Ａ）は、蛍光体層と、酸化物層と、酸化防止用保護層と、反射層とがこの順に積層された構成のものである。
また、比較実験用積層体（２Ａ）において、蛍光体層に代えて拡散板を備えたこと以外は当該比較実験用積層体（２Ａ）と同様の構成を有する比較用の実験用積層体（以下、「比較実験用積層体（２Ｂ）」ともいう。）を作製した。
そして、作製した比較実験用積層体を用いて、実験例１と同様にして、評価試験を行った。結果を表１に示す。
＜比較実験例３＞
実験例１の実験用積層体（１Ａ）において、密着層を備えていないこと以外は当該実験用積層体（１Ａ）と同様の構成を有する比較用の実験用積層体（以下、「比較実験用積層体（３Ａ）」ともいう。）を作製した。
すなわち、比較実験用積層体（３Ａ）は、蛍光体層と、酸化物層と、酸化防止用保護層と、反射層とがこの順に積層された構成のものである。
また、比較実験用積層体（３Ａ）において、蛍光体層に代えて拡散板を備えたこと以外は当該比較実験用積層体（３Ａ）と同様の構成を有する比較用の実験用積層体（以下、「比較実験用積層体（３Ｂ）」ともいう。）を作製した。
そして、作製した比較実験用積層体を用いて、実験例１と同様にして、評価試験を行った。結果を表１に示す。
実験例１の実験用積層体（１Ａ）において、密着層を備えていないこと以外は当該実験用積層体（１Ａ）と同様の構成を有する比較用の実験用積層体（以下、「比較実験用積層体（３Ａ）」ともいう。）を作製した。
すなわち、比較実験用積層体（３Ａ）は、蛍光体層と、酸化物層と、酸化防止用保護層と、反射層とがこの順に積層された構成のものである。
また、比較実験用積層体（３Ａ）において、蛍光体層に代えて拡散板を備えたこと以外は当該比較実験用積層体（３Ａ）と同様の構成を有する比較用の実験用積層体（以下、「比較実験用積層体（３Ｂ）」ともいう。）を作製した。
そして、作製した比較実験用積層体を用いて、実験例１と同様にして、評価試験を行った。結果を表１に示す。
＜比較実験例４＞
実験例１の実験用積層体（１Ａ）において、密着層として厚さ３ｎｍのチタン層を備えたこと以外は当該実験用積層体（１Ａ）と同様の構成を有する比較用の実験用積層体（以下、「比較実験用積層体（４Ａ）」ともいう。）を複数作製した。
すなわち、比較実験用積層体（４Ａ）は、蛍光体層と、酸化物層と、酸化防止用保護層と、密着層（チタン層）と、反射層とがこの順に積層された構成のものである。
また、比較実験用積層体（４Ａ）において、蛍光体層に代えて拡散板を備えたこと以外は当該比較実験用積層体（４Ａ）と同様の構成を有する比較用の実験用積層体（以下、「比較実験用積層体（４Ｂ）」ともいう。）を作製した。
そして、作製した比較実験用積層体を用いて、実験例１と同様にして、評価試験を行った。結果を表１に示す。
実験例１の実験用積層体（１Ａ）において、密着層として厚さ３ｎｍのチタン層を備えたこと以外は当該実験用積層体（１Ａ）と同様の構成を有する比較用の実験用積層体（以下、「比較実験用積層体（４Ａ）」ともいう。）を複数作製した。
すなわち、比較実験用積層体（４Ａ）は、蛍光体層と、酸化物層と、酸化防止用保護層と、密着層（チタン層）と、反射層とがこの順に積層された構成のものである。
また、比較実験用積層体（４Ａ）において、蛍光体層に代えて拡散板を備えたこと以外は当該比較実験用積層体（４Ａ）と同様の構成を有する比較用の実験用積層体（以下、「比較実験用積層体（４Ｂ）」ともいう。）を作製した。
そして、作製した比較実験用積層体を用いて、実験例１と同様にして、評価試験を行った。結果を表１に示す。
表１の結果から、酸化物層と反射層との間おいて、酸化防止用保護層を、当該反射層との間に酸化ジルコニウムまたは酸化ハフニウムよりなる密着層（透光性密着層）が介在した状態で設けることにより、酸化防止用保護層および密着層を備えない場合と同等以上の反射率が得られると共に、密着層としてチタン層を備えた場合と同等の極めて良好な密着性（密着性の耐久性）および光束維持率が得られることが明らかである。
従って、蛍光体層と反射層との間に酸化物層が設けられた蛍光プレートにおいては、当該酸化物層と当該反射層との間に、酸化防止用保護層を、当該反射層との間に透光性密着層が介在した状態で設けることにより、銀からなる反射層の剥離が発生することなく、長期間にわたって高い反射率を維持できることが明らかとなった。また、透光性密着層を５〜１０ｎｍの厚さを有するものとすることにより、より一層高い反射率が得られることが確認された。
従って、蛍光体層と反射層との間に酸化物層が設けられた蛍光プレートにおいては、当該酸化物層と当該反射層との間に、酸化防止用保護層を、当該反射層との間に透光性密着層が介在した状態で設けることにより、銀からなる反射層の剥離が発生することなく、長期間にわたって高い反射率を維持できることが明らかとなった。また、透光性密着層を５〜１０ｎｍの厚さを有するものとすることにより、より一層高い反射率が得られることが確認された。
１０ 蛍光光源装置
１１ 励起光源
２０ 発光部材
２１ 蛍光プレート
２２ 蛍光体層
２４ 放熱基板
２８ 接合部材層
３１ 反射層
３２Ａ 酸化防止用保護層
３２Ｂ 酸素原子非含有層
３３ 第１酸化物層
３４ 酸化物単層膜（特定単層膜）
３５ 酸化物多層膜（特定多層膜）
３５Ａ 第１構成層
３５Ｂ 第２構成層
３６ 透光性密着層
３７ 第２酸化物層
４１ 封止層
４２ 接着層
１１ 励起光源
２０ 発光部材
２１ 蛍光プレート
２２ 蛍光体層
２４ 放熱基板
２８ 接合部材層
３１ 反射層
３２Ａ 酸化防止用保護層
３２Ｂ 酸素原子非含有層
３３ 第１酸化物層
３４ 酸化物単層膜（特定単層膜）
３５ 酸化物多層膜（特定多層膜）
３５Ａ 第１構成層
３５Ｂ 第２構成層
３６ 透光性密着層
３７ 第２酸化物層
４１ 封止層
４２ 接着層
Claims (7)
- 蛍光体を含有する蛍光体層と、前記蛍光体層の下方に配置された酸化物層と、前記酸化物層の下方に配置された、銀からなる反射層とを備える蛍光プレートにおいて、
前記酸化物層と前記反射層との間に設けられた、透光性材料よりなる酸化防止用保護層を備えており、
前記酸化防止用保護層と前記反射層との間に介在する透光性密着層を備えてなることを特徴とする蛍光プレート。 - 前記酸化防止用保護層を構成する前記透光性材料は、フッ化物または窒素化物からなることを特徴とする請求項１に記載の蛍光プレート。
- 前記透光性密着層は、酸化ハフニウムおよび酸化ジルコニウムの少なくとも一方からなるものであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の蛍光プレート。
- 前記透光性密着層の厚さが５〜１０ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の蛍光プレート。
- 前記酸化物層は、アルミナからなる酸化物単層膜、および、二酸化ケイ素からなる第１構成層とチタニアからなる第２構成層とよりなる酸化物多層膜の少なくとも一方により構成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の蛍光プレート。
- 前記反射層の下方に配置された、酸素原子を含有しない酸素原子非含有材料よりなる酸素原子非含有層をさらに備えることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の蛍光プレート。
- 前記酸素原子非含有材料は、フッ化マグネシウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム、クロムおよびニッケルのいずれかの物質からなることを特徴とする請求項６に記載の蛍光プレート。
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