JP2019116396A - Silica-based particle dispersion and production method thereof - Google Patents

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Abstract

To provide a silica-based particle-containing dispersion and a production method thereof.SOLUTION: To a dispersion containing uniform silica particles with an average particle diameter of 3 to 10 nm, a hydrolyzable metal compound is added for hydrolysis in the presence of an alkali catalyst in order to grow the silica particles so that a uniform silica-based particle dispersion with an average particle diameter of more than 10 nm and 300 nm or less is produced.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、平均粒子径が3〜10nmのシリカ微粒子を用いたシリカ系粒子分散液に関する。   The present invention relates to a silica-based particle dispersion using silica fine particles having an average particle size of 3 to 10 nm.

例えば、高純度シリカゾルは、シリコンウェハー用研磨剤、液体クロマトグラフィー担体用高純度シリカゲル等の原料、触媒用バインダー、特殊ゼオライトの原料、電子材料用塗料に添加されるマイクロフィラー、高分子フィルム用マイクロフィラー等の分野で使用されている。   For example, high purity silica sol is a polishing agent for silicon wafer, raw material such as high purity silica gel for liquid chromatography carrier, binder for catalyst, raw material of special zeolite, micro filler added to paint for electronic material, micro for polymer film It is used in the field of fillers and the like.

このような高純度シリカゾルは、一般的に、テトラメトキシシラン(TMOS)、テトラエトキシシラン(TEOS)等のシランアルコキシドを、水、及びアンモニア、アミン化合物等のアルカリ触媒と混合し、加水分解・縮重合させることにより製造される(例えば、特許文献1参照)。   Such high purity silica sol is generally prepared by mixing silane alkoxides such as tetramethoxysilane (TMOS) and tetraethoxysilane (TEOS) with water and an alkali catalyst such as ammonia, an amine compound, etc. to cause hydrolysis and condensation. It manufactures by making it polymerize (for example, refer patent document 1).

一方、小粒子径のシリカ粒子を含むシリカゾル(小粒子径シリカゾル)は、特に、300mmウェハーの最終研磨に用いられ、研磨傷をつけずに平坦性を高めることができ、さらに基板への付着物の除去効果が期待できる。また、小粒子径シリカゾルは、著しい微細化が進められている大規模集積回路製造時の化学機械研磨にも研磨剤として用いることができる。また、小粒子径シリカゾルは、光学フィルムや成形体に添加することで高硬度を発現させ、ヘーズの低い膜を得ることもできる。   On the other hand, silica sol (small particle diameter silica sol) containing silica particles of small particle diameter is especially used for final polishing of a 300 mm wafer, can improve flatness without scratching, and adhere to the substrate. The removal effect of The small particle size silica sol can also be used as a polishing agent in chemical mechanical polishing at the time of large scale integrated circuit production in which remarkable miniaturization has been promoted. In addition, the small particle size silica sol can exhibit high hardness by being added to an optical film or a molded product, and a film with low haze can also be obtained.

特開2014−198649号公報JP, 2014-198649, A

上記のように、高純度シリカゾルの製造においては、加水分解触媒としてアンモニアあるいはアミン化合物を単独あるいは混合して使用し、さらに、pH調整を目的としてこれらを一般的に使用することから、製造された微小なシリカゾルが、近年の高精度な半導体ウエハーにおいて用いられる場合には、アミン化合物等がウエハーの相互接続部に補足され、レジストの汚染を招き結果的に製造欠陥を生じることが懸念される。つまり、含窒素化合物がウエハーおよび生産ラインを汚染し、ウエハー上に形成される回路あるいは素子の欠陥生成あるいはリーク電流異常等の電気的特性の低下あるいは歩留まりの低下を招くことが懸念される。   As described above, in the production of high purity silica sol, it was produced from ammonia or an amine compound used alone or as a mixture as a hydrolysis catalyst, and further from the general use of these for the purpose of pH adjustment. When a minute silica sol is used in a high-precision semiconductor wafer in recent years, it is feared that an amine compound or the like is trapped on the interconnect of the wafer, causing contamination of the resist and resulting in production defects. That is, there is a concern that the nitrogen-containing compound contaminates the wafer and the production line, resulting in a decrease in electrical characteristics such as defect generation of a circuit or element formed on the wafer or an abnormality in leak current or a reduction in yield.

また、上記のような従来の製造方法では、微小な粒子を得るために、加水分解物の反応速度を調整しているが、未加水分解物が残留するために、生成した粒子とそれらが反応してミクロゲルが発生するため、10nm以下の単分散した粒子を得ることが困難であり、再現性のあるものを調製することが難しいという問題があった。特に、アルカリ触媒下での微小な粒子を求めるためには、微小なシード(種粒子)を加水分解中に生成させることが重要であるが、そのようなシードは得られていない。例えば、特許文献1方法では、多量のアルカリを必要とするために微小なシードが得られず、結果的に粒子が10nmを超える大きさまで成長する。   In addition, although the reaction rate of the hydrolyzate is adjusted in order to obtain fine particles in the above-mentioned conventional production method, the unhydrolyzate remains, so the produced particles and their reaction Since microgels are generated, it is difficult to obtain monodispersed particles of 10 nm or less, and there is a problem that it is difficult to prepare reproducible ones. In particular, in order to determine minute particles under an alkaline catalyst, it is important to form minute seeds (seed particles) during hydrolysis, but such seeds have not been obtained. For example, in the method of Patent Document 1, a minute seed can not be obtained because a large amount of alkali is required, and as a result, particles grow to a size exceeding 10 nm.

本発明はかかる事情に鑑みてなされたもので、含窒素化合物を実質的に含まない高純度なシリカ粒子を含む分散液及びその製造方法を提供することを目的とする。また、平均粒子径が3〜10nmといった小粒子径の高純度シリカ微粒子を含む分散液及びその製造方法を提供することを目的とする。さらに、この小粒子径の高純度シリカ微粒子を用いたシリカ系粒子分散液及びその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and it is an object of the present invention to provide a dispersion containing highly pure silica particles substantially free of a nitrogen-containing compound and a method for producing the same. Another object of the present invention is to provide a dispersion containing high purity silica fine particles having a small particle size such as 3 to 10 nm in average particle size and a method for producing the same. Further, another object of the present invention is to provide a silica-based particle dispersion liquid using the high-purity silica fine particles having a small particle diameter and a method for producing the same.

本発明者らは、上記のような高純度なシリカ粒子の製造を研究する中で、平均気泡径が40nm〜10μmの微小気泡(マイクロナノバブル)を用いることにより、アルカリ触媒を用いることなく、シランアルコキシドを加水分解することができ、これにより、シリカ粒子を得ることができることを見出した。   The present inventors are studying the production of high purity silica particles as described above, and using silanes (micro-nano bubbles) having an average bubble diameter of 40 nm to 10 μm without using an alkali catalyst. It has been found that the alkoxide can be hydrolyzed, whereby silica particles can be obtained.

微小気泡の共存下で、シリカ粒子が生成する理由の詳細は不明であるが、本発明者らは、微小気泡界面でシランアルコキシドの濃縮が起こり、気泡消滅時に圧力が高くなり、破裂した際に発生する衝撃波で水が分解してヒドロキシラジカルが発生し、これにより、シランアルコキシドの加水分解が促進されると推定している。   Although the details of the reason why the silica particles are generated in the coexistence of the microbubbles are unknown, the present inventors found that the concentration of the silane alkoxide occurs at the microbubble interface, the pressure becomes high at the time of the bubble disappearance, and the rupture occurs. It is presumed that water is decomposed by the generated shock wave to generate a hydroxy radical, which promotes the hydrolysis of the silane alkoxide.

ここで、本発明の製造方法で用いる微小気泡は、平均気泡径が40nm〜10μmの微小な気泡であり、気泡径が40〜100nm(0.1μm)のいわゆるナノバブル、及び気泡径が0.1〜10μmのいわゆるマイクロバブルの少なくとも一方を含んでいるものであり、両者を含むものが好ましい。   Here, the microbubbles used in the production method of the present invention are microbubbles having an average cell diameter of 40 nm to 10 μm, so-called nanobubbles having a cell diameter of 40 to 100 nm (0.1 μm), and a cell diameter of 0.1. It contains at least one of so-called microbubbles of ̃10 μm, and preferably contains both.

より具体的には、以下のように考えている。
微小気泡は、液層では式(1)で表されるラプラス力によって準平衡関係が成り立っている。
More specifically, we think as follows.
In the liquid layer, the microbubbles have a quasi-equilibrium relationship by the Laplace force represented by Formula (1).

ΔP=4σ/D・・・(1)
(但し、ΔP:バブルの内圧と溶液の圧力差、σ:表面張力、D:気泡径)
ΔP = 4σ / D (1)
(However, ΔP: pressure difference between bubble internal pressure and solution, σ: surface tension, D: bubble diameter)

多くの場合、バブル発生器で生成した気泡はナノバブルとマイクロバブルが共存している。これらの気泡は刺激が加わらなければ比較的安定であるが、攪拌あるいは気泡の気液界面の表面張力の変化等の刺激が加わると、ラプラス力が駆動力になって平衡が崩れていく。特に、気泡中の気体はラプラス力によって加圧されているので、攪拌あるいは気泡の気液界面の表面張力の変化が起こると、気泡から液相への気体の溶解が起こり、(1)式に従ってラプラス力が増加する。このため、気泡の縮小が起こり、さらに内部圧力が上昇し、最終的には水中で破裂し消滅する。このとき、破裂した際に発生する衝撃波と共に、気泡界面に集積されていた電荷に基づくエネルギーが放出される。これによって水の加水分解が生じ、水酸基のラジカルが生成して、シランアルコキシドを分解する。生成したシランアルコキシドラジカルは、固相として分相し粒子化し、シリカ粒子が生成すると考えている。   In many cases, the bubbles generated by the bubble generator coexist with nanobubbles and microbubbles. These bubbles are relatively stable if no stimulus is applied, but when a stimulus such as stirring or a change in surface tension of the gas-liquid interface of the bubbles is applied, the Laplace force becomes a driving force and the equilibrium is lost. In particular, since the gas in the bubble is pressurized by the Laplace force, when the stirring or a change in the surface tension of the gas-liquid interface of the bubble occurs, the gas dissolves from the bubble into the liquid phase, according to equation (1) Laplace power increases. As a result, the bubble shrinks, the internal pressure further increases, and eventually it bursts and disappears in water. At this time, energy based on the charge accumulated at the bubble interface is released together with the shock wave generated upon rupture. This causes hydrolysis of water to generate hydroxyl radicals to decompose the silane alkoxide. It is believed that the generated silane alkoxide radical is separated as a solid phase to form particles, thereby producing silica particles.

ここで、バブル発生器で生成した生成時のマイクロバブルは、ナノバブルに比べ不安定である。また、マイクロバブルが、外部からの何らかの刺激が加えられることにより、ラプラス力が働き、気泡の縮小が起こり、ナノバブルの大きさを経て、水中で消滅するまでの時間は極めて短く、安定性は悪い。これは、生成時のナノバブル(NB)とは界面の状態(バブル界面に集積されていた電荷)が異なることによるものと考えている。マイクロバブル由来のナノバブル(NB)が破裂した際に発生する衝撃波と共に、バブル界面に集積されていた電荷に基づくエネルギーが放出され、これによって水の加水分解が生じ、水酸基のラジカルが生成して、シランアルコキシドを分解すると考えている。 Here, the generated microbubbles generated by the bubble generator are more unstable than the nanobubbles. In addition, the microbubbles, when some external stimulus is applied, the Laplace force is exerted, the contraction of the bubbles occurs, the time to disappear in water via the size of the nanobubbles is extremely short, and the stability is bad . It is believed that this is because the state of the interface (the charge accumulated at the bubble interface) is different from the nanobubbles (NB) at the time of generation. Energy based on the charge accumulated at the bubble interface is released together with the shock wave generated when the microbubble-derived nanobubble (NB M ) bursts, which causes hydrolysis of water to generate hydroxyl radicals. It is thought that it decomposes the silane alkoxide.

上記のように、ナノバブル(NB)は、マイクロバブルに比べ安定であるが、これは、ナノバブル表面に高い負の表面電位が形成されるためであると考えている。本発明の製造方法において、マイクロバブルとナノバブルが共存する場合、マイクロバブルの消滅時の衝撃波がきっかけとなって、ナノバブルの縮小・消滅、衝撃波の発生の連鎖反応を起こし、ヒドロキシラジカル、シランアルコキシドラジカルが生成し、シランアルコキシドの加水分解を促進するものと考えている。マイクロバブルの縮小・消滅、衝撃波の発生に比べ、ナノバブルの縮小・消滅、衝撃波の発生は遅いので、マイクロバブルが加水分解反応のトリガーとして機能していると考えている。なお、超音波、紫外線照射との併用においては、超音波等の刺激がナノバブルの縮小・消滅、衝撃波のトリガーとなり、或いは超音波等がナノバブル界面にホットスポットをもたらして水の加水分解を促進させると考えている。   As described above, nanobubbles (NB) are more stable than microbubbles, which is believed to be due to the formation of a high negative surface potential on the nanobubble surface. In the production method of the present invention, when the microbubbles and the nanobubbles coexist, the shock wave at the time of the annihilation of the microbubbles triggers a chain reaction of the reduction and annihilation of the nanobubbles and the generation of the shock wave, and the hydroxy radical and the silane alkoxide radical. Is believed to promote the hydrolysis of the silane alkoxide. It is thought that the microbubbles function as a trigger for the hydrolysis reaction because the reduction and annihilation of nanobubbles and the generation of shockwaves are slower than the reduction and annihilation of microbubbles and the generation of shockwaves. In addition, in combination with ultrasound and ultraviolet radiation, stimulation such as ultrasound causes reduction and annihilation of nanobubbles, triggers of shock waves, or ultrasound causes hot spots at the interface of nanobubbles to promote hydrolysis of water. I believe.

また、本発明者らは、平均気泡径が40nm〜10μmの微小気泡を用いてシランアルコキシドを加水分解することで、平均粒子径が3〜10nmといった小粒子径のシリカ微粒子を製造できることを見出した。本発明者らは、アルカリ触媒反応では、金属原子に結合したアルコキシ基の加水分解が急速に段階的に起こるのに対して、本発明のような微小気泡を用いた反応では、機械的な衝撃波がすべての結合に均等な力で加わるので、段階的な加水分解反応が抑制できると考えており、これによって、10nm以下の小粒子径のシリカ粒子の製造が可能となったものと考えている。
この微小気泡が、液中で安定的に存在しうる理由は明確ではないが、液中に存在する塩類、有機物、無機物等が、この微小気泡の水溶液への溶解を抑制するために、ラプラス力が働かず、Henryの法則によるガスの溶解が起こりにくくなるため、準安定となると考えている。しかし、ガスの溶解が促進される環境、例えば、振動等の物理的な刺激、アンモニア等の触媒添加等によって液中の平衡関係が崩れたり、光、熱等による環境変化があれば、微小気泡は縮小・消滅すると考えている。
Furthermore, the present inventors have found that, by hydrolyzing a silane alkoxide using microbubbles having an average cell diameter of 40 nm to 10 μm, silica fine particles having a small particle diameter such as an average particle diameter of 3 to 10 nm can be produced. . The inventors of the present invention show that, in the alkaline catalysis, the hydrolysis of the alkoxy group bonded to the metal atom occurs rapidly and stepwise, while in the reaction using the micro bubbles as in the present invention, the mechanical shock wave is generated. It is thought that the step hydrolysis reaction can be suppressed because it is applied to all bonds with equal force, and it is thought that this makes it possible to produce silica particles with a small particle size of 10 nm or less. .
Although it is not clear why the microbubbles can stably exist in the liquid, it is not possible for salts, organic substances, inorganic substances, etc. present in the liquid to suppress the dissolution of the microbubbles in the aqueous solution. It is thought that it will be metastable because it does not work and gas dissolution by Henry's law is less likely to occur. However, if there is an environment in which the dissolution of gas is promoted, for example, physical stimulation such as vibration, addition of catalyst such as ammonia, etc., the equilibrium relationship in the liquid is broken, or if there is environmental change due to light, heat, etc. I think that will shrink and disappear.

すなわち、本発明は、平均粒子径が3〜10nmのシリカ微粒子を含むシリカ粒子分散液に関する。シリカ粒子分散液は、下記(a)〜(c)の少なくとも1つの条件を満たすことが好ましく、2つの条件を満たすことがより好ましく、3つすべての条件を満たすことがさらに好ましい。
(a)シリカ微粒子に含まれるNa含有量が10ppm以下である。
(b)平均気泡径が40nm〜10μmの微小気泡を含む。
(c)分散液全体に含まれる窒素原子を含む化合物のNH(Xは、1〜4の整数)としての合計の含有量がシリカに対して1ppm以下である。
That is, the present invention relates to a silica particle dispersion liquid containing silica fine particles having an average particle diameter of 3 to 10 nm. The silica particle dispersion preferably satisfies at least one of the following conditions (a) to (c), more preferably two conditions, and still more preferably all three conditions.
(A) The content of Na contained in the silica fine particles is 10 ppm or less.
(B) It includes microbubbles having an average bubble diameter of 40 nm to 10 μm.
(C) The total content as NH X (X is an integer of 1 to 4) of the compound containing a nitrogen atom contained in the entire dispersion is 1 ppm or less based on silica.

また、このシリカ粒子分散液は、分散液全体に含まれるAl、Ca、Mg、Ti、K、Zn、Pb、Cr、Fe、Mn、Ag、Cu、及びNiのそれぞれの含有量がシリカに対して10ppm以下であることが好ましい。   In addition, in the silica particle dispersion liquid, the content of each of Al, Ca, Mg, Ti, K, Zn, Pb, Cr, Fe, Mn, Ag, Cu, and Ni contained in the whole dispersion liquid relative to silica It is preferably 10 ppm or less.

さらに、平均気泡径が40nm〜10μmの微小気泡を含む液相中で、シランアルコキシドを加水分解し、シリカ粒子を製造する方法に関し、好ましくは平均粒子径が3〜10nmのシリカ微粒子が製造される。微小気泡は、窒素、水素、酸素、オゾン、炭酸ガス、及び希ガスの少なくとも1種を含む気泡であることが好ましい。   Further, the present invention relates to a method for producing a silica particle by hydrolyzing a silane alkoxide in a liquid phase containing microbubbles having an average cell diameter of 40 nm to 10 μm, preferably silica microparticles having an average particle diameter of 3 to 10 nm . The microbubbles are preferably bubbles containing at least one of nitrogen, hydrogen, oxygen, ozone, carbon dioxide gas, and a rare gas.

このシリカ粒子の製造方法においては、シランアルコキシドを含む第1の溶液と、平均気泡径が40nm〜10μmの微小気泡を含む第2の溶液とを混合することが好ましく、第2の溶液が、微小気泡を1.0×10個/mL以上含有していることが好ましい。
また、この製造方法においては、アルカリ触媒を用いることなく、シリカ粒子を製造することができる。
In this method for producing silica particles, it is preferable to mix a first solution containing a silane alkoxide with a second solution containing microbubbles having an average cell diameter of 40 nm to 10 μm, and the second solution is It is preferable to contain air bubbles at 1.0 × 10 5 cells / mL or more.
Moreover, in this production method, silica particles can be produced without using an alkali catalyst.

さらに、本発明は、上記のシリカ粒子の製造方法により製造した平均粒子径が3〜10nmのシリカ微粒子を用いて、より大きな粒子を製造するシリカ系粒子の製造方法に関する。すなわち、本発明のシリカ系粒子の製造方法は、平均気泡径が40nm〜10μmの微小気泡を含む液相中で、シランアルコキシドを加水分解し、平均粒子径が3〜10nmのシリカ微粒子を調製する微粒子調製工程と、前記シリカ微粒子を含む分散液に対して、アルカリ触媒の存在下で、加水分解性金属化合物を添加して加水分解を行い、前記シリカ微粒子を成長させる粒子成長工程とを有する。
粒子成長工程で製造されるシリカ系粒子の平均粒子径は、10nmを超えて300nm以下の粒子であることが好ましい。
また、粒子成長工程における加水分解は、平均気泡径が40nm〜10μmの微小気泡の存在下で行われることが好ましい。
Furthermore, the present invention relates to a method for producing silica-based particles in which larger particles are produced using silica fine particles having an average particle diameter of 3 to 10 nm produced by the above-described method for producing silica particles. That is, according to the method for producing silica-based particles of the present invention, silane alkoxide is hydrolyzed in a liquid phase containing microbubbles having an average cell diameter of 40 nm to 10 μm to prepare silica fine particles having an average particle diameter of 3 to 10 nm. A fine particle preparation step, and a particle growth step of adding a hydrolyzable metal compound to the dispersion containing the fine silica particles in the presence of an alkali catalyst to carry out hydrolysis to grow the fine silica particles.
The average particle diameter of the silica-based particles produced in the particle growth step is preferably particles having a diameter of more than 10 nm and 300 nm or less.
Also, the hydrolysis in the particle growth step is preferably performed in the presence of microbubbles having an average cell diameter of 40 nm to 10 μm.

本発明のシリカ粒子分散液は、高純度のシリカ微粒子を含むので、半導体用研磨剤、液体クロマトグラフィー担体用高純度シリカゲル等の原料、触媒用バインダー、特殊ゼオライトの原料、電子材料用塗料に添加されるマイクロフィラー、高分子フィルム用マイクロフィラー等、およびその作成過程で使用されるシードの用途等に好適に使用できる。
また、本発明のシリカ粒子の製造方法は、従来のようにアルカリ触媒を使用しないことから、従来にない極めて高純度のシリカ粒子を製造することができる。また、アルカリ触媒を使用しないため、アルカリを除去又は低減するための溶媒置換等を行う必要がなく、新たな不純物の混入や、粒子の凝集に伴う均一性が損なわれることがなく、しかも、製造コストが低くなる。
また、本発明のシリカ系粒子の製造方法は、上記シリカ粒子の製造方法により製造されたシリカ微粒子を用いて粒子成長(ビルドアップ)させることから、粒度分布の揃った粒子を製造することができる。この方法において、粒子成長を微小気泡の存在下で行うことにより、未反応物やミクロゲル等の発生を抑制して、より粒度分布の揃ったシリカ系粒子を製造することができる。
さらに、反応に関与しなかった残留する微小気泡は、経時後、消滅時に衝撃波を発生させるために微生物、藻などの生物性有機物の発生増殖を抑制するだけでなく、ミクロゲルの発生の抑制および発生したミクロゲルの再分散を促進する。このため、濾過性の維持改善に効果的であると考えられる。
Since the silica particle dispersion liquid of the present invention contains silica particles of high purity, it is added to raw materials such as abrasives for semiconductors, high purity silica gels for liquid chromatography carriers, binders for catalysts, raw materials for special zeolites, paints for electronic materials Can be suitably used as the microfiller, the microfiller for polymer films, etc., and the use of a seed used in the process of producing the same.
In addition, since the method for producing silica particles of the present invention does not use an alkali catalyst as in the prior art, it is possible to produce silica particles with extremely high purity, which is not available in the prior art. In addition, since no alkali catalyst is used, there is no need to perform solvent substitution or the like for removing or reducing alkali, and contamination with new impurities and uniformity caused by particle aggregation are not impaired. The cost is lower.
Further, according to the method for producing silica-based particles of the present invention, particles can be produced with uniform particle size distribution by causing particle growth (build-up) using the silica fine particles produced by the above method for producing silica particles. . In this method, by performing particle growth in the presence of microbubbles, it is possible to suppress the generation of non-reacted substances, microgels, and the like, and to produce silica-based particles having a more uniform particle size distribution.
Furthermore, the remaining microbubbles not involved in the reaction not only suppress the generation and growth of biological organic matter such as microorganisms and algae, but also suppress and generate the generation of microgels in order to generate a shock wave at the time of disappearance. Promote redispersion of the microgels. Therefore, it is considered to be effective for maintaining and improving the filterability.

実施例1(Oマイクロナノバブル水)で製造されたシリカ微粒子のTEM写真である。It is a TEM photograph of the silica particle manufactured by Example 1 (O 2 micro nano bubble water). 実施例2(Nマイクロナノバブル水)で製造されたシリカ微粒子のTEM写真である。It is a TEM photograph of the silica particle manufactured by Example 2 (N 2 micro nano bubble water).

《シリカ粒子分散液》
本発明のシリカ粒子分散液は、平均粒子径が3〜10nmのシリカ微粒子を含む。このシリカ粒子分散液は、平均気泡径が40nm〜10μmの微小気泡を含む液相中で、シランアルコキシドを加水分解して製造することができる。
Silica particle dispersion
The silica particle dispersion liquid of the present invention contains silica fine particles having an average particle diameter of 3 to 10 nm. The silica particle dispersion can be produced by hydrolyzing a silane alkoxide in a liquid phase containing microbubbles having an average cell diameter of 40 nm to 10 μm.

このシリカ粒子分散液は、下記(a)〜(c)の少なくとも1つの条件を満たすことが好ましく、2つの条件を満たすことがより好ましく、3つすべての条件を満たすことがさらに好ましい。
(a)シリカ微粒子に含まれるNa含有量が10ppm以下である。
(b)平均気泡径が40nm〜10μmの微小気泡を含む。
(c)分散液全体に含まれる窒素原子を含む化合物のNH(Xは、1〜4の整数)としての合計の含有量がシリカ(3〜10nmの微粒子)に対して1ppm以下である。
The silica particle dispersion preferably satisfies at least one of the following conditions (a) to (c), more preferably two conditions, and still more preferably all three conditions.
(A) The content of Na contained in the silica fine particles is 10 ppm or less.
(B) It includes microbubbles having an average bubble diameter of 40 nm to 10 μm.
(C) The total content as NH X (X is an integer of 1 to 4) of the compound containing a nitrogen atom contained in the entire dispersion is 1 ppm or less with respect to silica (fine particles of 3 to 10 nm).

〈シリカ微粒子〉
本発明のシリカ微粒子は、上記のように、平均粒子径が3〜10nmであり、シリカ微粒子に含まれるNa含有量が10ppm以下であることが好ましく、5ppm以下であることがより好ましく、1ppm以下であることがさらに好ましい。従来、原料として水ガラスを用いた場合には、平均粒子径が10nm以下のシリカ微粒子も製造されていたが、この水ガラスを用いて製造されたシリカ微粒子には、Naが10ppmを超えて含有されていた。これに対して、本発明のシリカ微粒子は、シランアルコキシドを原料として製造されるものであり、Naを実質的に含まず、水ガラスを原料とする従来のシリカ微粒子と区別できるものである。
Silica fine particles
As described above, the silica fine particles of the present invention have an average particle diameter of 3 to 10 nm, and the Na content in the silica fine particles is preferably 10 ppm or less, more preferably 5 ppm or less, and 1 ppm or less It is further preferred that Conventionally, when water glass is used as a raw material, silica fine particles having an average particle diameter of 10 nm or less have also been produced, but in the silica fine particles produced using this water glass, Na is contained in excess of 10 ppm. It had been. On the other hand, the silica fine particles of the present invention are produced using a silane alkoxide as a raw material, are substantially free of Na, and can be distinguished from conventional silica fine particles using water glass as a raw material.

ここで、シリカ微粒子の平均粒子径は、TEM観察法により求めた。具体的には、本発明の分散液を乾燥させ、透過型電子顕微鏡により倍率25万倍で写真撮影する。得られた写真投影図における任意の500個の粒子について、その粒子径を測定し、その平均値をシリカ微粒子の平均粒子径とした。   Here, the average particle size of the silica fine particles was determined by TEM observation. Specifically, the dispersion of the present invention is dried and photographed with a transmission electron microscope at a magnification of 250,000. The particle diameter of an arbitrary 500 particles in the obtained photographic projection was measured, and the average value was taken as the average particle diameter of the silica fine particles.

また、シリカ微粒子に含まれるNa量は、調製されたシリカ粒子分散液を陽イオン交換樹脂でイオン交換して得られるシリカ粒子分散液(A)を、ICP質量分析法により分析し、求めた値である。   Further, the amount of Na contained in the silica fine particles is a value obtained by analyzing the silica particle dispersion (A) obtained by ion-exchanging the prepared silica particle dispersion with a cation exchange resin by ICP mass spectrometry. It is.

さらに、シリカ微粒子は、比表面積が270〜900m/gであることが好ましく、400〜700m/gであることがより好ましい。シリカ微粒子の比表面積が270m/g未満であると、単分散した粒子が得られにくい。そのため、分散液の粘度が上昇するという問題がある。一方、900m/gを超えると、シリカ微粒子が溶解あるいは凝集を起こし易い。そのため、単分散粒子が得られにくいという問題がある。 Furthermore, the silica fine particles preferably have a specific surface area of 270 to 900 m 2 / g, and more preferably 400 to 700 m 2 / g. When the specific surface area of the silica fine particles is less than 270 m 2 / g, monodispersed particles are difficult to obtain. Therefore, there is a problem that the viscosity of the dispersion increases. On the other hand, when it exceeds 900 m 2 / g, the silica fine particles are easily dissolved or aggregated. Therefore, there is a problem that monodispersed particles are difficult to obtain.

ここで、シリカ微粒子の比表面積は、本発明の分散液を乾燥させた後、BET法により求めた値である。   Here, the specific surface area of the silica fine particles is a value obtained by the BET method after drying the dispersion liquid of the present invention.

このシリカ微粒子は、表面電荷量が260〜900μeq/gであることが好ましく、350〜750μeq/gであることがより好ましい。高純度シリカ微粒子の表面電荷量が260μeq/g未満であると、加水分解が不十分であるため、シリカ粒子の負電荷が少なく、凝集を起こし易くなるという問題があり、900μeq/gを超えると、シリカ粒子の安定性が損なわれ易くなるという問題がある。   The surface charge of the silica fine particles is preferably 260 to 900 μeq / g, and more preferably 350 to 750 μeq / g. If the surface charge amount of the high purity silica fine particles is less than 260 μeq / g, the hydrolysis is insufficient, so the negative charge of the silica particles is small and there is a problem that aggregation tends to occur, and when it exceeds 900 μeq / g There is a problem that the stability of the silica particles is easily impaired.

シリカ微粒子の表面電荷量は、流動電位計(京都電子工業製PCD−500)を用いて濃度既知のカチオンポリマー(WAKO製0.0025N塩化ジアリルジメチルアンモニウム溶液)を分散液へ滴下し、負電荷が中和されるポリマーの消費量から求めた値である。   The surface charge amount of the silica fine particles is determined by dropping a cationic polymer of known concentration (0.0025 N diallyldimethyl ammonium chloride solution made by WAKO) into a dispersion using a flow potential meter (PCD-500 manufactured by Kyoto Denshi Kogyo Co., Ltd.). It is a value determined from the consumption of the polymer to be neutralized.

〈微小気泡(マイクロナノバブル)〉
本発明のシリカ粒子分散液は、平均気泡径が40nm〜10μmの微小気泡を含むことが好ましい。かかる微小気泡は、気泡径が40〜100nm(0.1μm)のいわゆるナノバブル、及び気泡径が0.1〜10μmのいわゆるマイクロバブルの少なくとも一方を含んでいるものであり、両者を含むものが好ましい。微小気泡の平均気泡径の上限は、500nmであることが好ましく、350nmであることがより好ましく、200nmであることがさらに好ましい。また、マイクロナノバブルの平均気泡径の下限は、50nmであることが好ましく、60nmであることがより好ましく、65nmであることがさらに好ましい。
<Micro bubbles (micro nano bubbles)>
It is preferable that the silica particle dispersion liquid of this invention contains the micro bubble of 40 nm-10 micrometers of average bubble diameters. Such microbubbles contain at least one of so-called nanobubbles having a bubble diameter of 40 to 100 nm (0.1 μm) and so-called microbubbles having a bubble diameter of 0.1 to 10 μm, and those containing both are preferable . The upper limit of the average cell diameter of the microbubbles is preferably 500 nm, more preferably 350 nm, and still more preferably 200 nm. The lower limit of the average cell diameter of the micro-nano bubbles is preferably 50 nm, more preferably 60 nm, and still more preferably 65 nm.

すなわち、このシリカ粒子分散液中には、通常、反応に用いられなかった微小気泡が残存している。このシリカ粒子分散液に含まれる微小気泡含有量は特に限定されるものではないが、その下限は、1.0×10個/mLが好ましく、1.0×10個/mLがより好ましく、1.0×10個/mLが更に好ましい。その上限は、1.0×1011個/mLが好ましく、5.0×1010個/mLがより好ましく、1.0×1010個/mLが更に好ましい。 That is, in the silica particle dispersion, microbubbles not used for the reaction usually remain. This microbubble content in the silica particle dispersion is not particularly limited, the lower limit is preferably 1.0 × 10 3 cells / mL, more preferably 1.0 × 10 5 cells / mL And 1.0 × 10 8 cells / mL are more preferable. The upper limit thereof is preferably 1.0 × 10 11 cells / mL, more preferably 5.0 × 10 10 cells / mL, and still more preferably 1.0 × 10 10 cells / mL.

微小気泡の平均気泡径及び気泡個数は、液中の気泡のブラウン運動移動速度を、ナノ粒子トラッキング解析法(NTA)で解析して求めることができ、例えば、Malvern社製「ナノサイト NS300」を用いて測定することができる。   The average bubble diameter and the number of bubbles of the microbubbles can be determined by analyzing the Brownian movement movement velocity of the bubbles in the liquid by nanoparticle tracking analysis (NTA). For example, “Nanosite NS300” manufactured by Malvern, It can be used to measure.

なお、現状の技術では、シリカ粒子と微小気泡が共存している分散液のまま、微小気泡の平均気泡径や気泡個数を測定することは困難であることから、シリカ粒子を限外濾過膜で取り除き、微小気泡のみとし、これを測定することにより、微小気泡の平均気泡径及び気泡個数を測定する。すなわち、本発明の平均気泡径及び気泡個数は、分画分子量6000の限外濾過膜を通過した濾液を測定したものをいう。   In the present state of the art, it is difficult to measure the average cell diameter and the number of cells of the microbubbles as it is in the dispersion liquid in which the silica particles and the microbubbles coexist, so the silica particles should be an ultrafiltration membrane. The average cell size and number of cells of the microbubbles are measured by removing only the microbubbles and measuring this. That is, the average cell diameter and the number of cells of the present invention refer to those obtained by measuring the filtrate which has passed through the ultrafiltration membrane with a molecular weight cut off of 6000.

微小気泡を形成する気体は、窒素、水素、酸素、オゾン、炭酸ガス、及び、希ガスの少なくとも1種であることが好ましい。これらの気体は、消滅時の衝撃波によって生物学的な細胞が破壊される効果があり、生物学的な汚染に対しても長期保存にも効果的である。   The gas for forming the microbubbles is preferably at least one of nitrogen, hydrogen, oxygen, ozone, carbon dioxide gas, and a rare gas. These gases have the effect of destroying biological cells by the shock wave upon extinction, and are effective for both biological contamination and long-term storage.

〈シリカ粒子分散液〉
本発明のシリカ粒子分散液は、窒素原子を含む化合物のNH(Xは、1〜4の整数)としての合計含有量がシリカに対して1ppm以下であることが好ましく、0.5ppm以下であることがより好ましく、0.1ppm以下であることがさらに好ましい。すなわち、このシリカ粒子分散液は、アンモニアやアミン化合物といった窒素原子を含む化合物からなるアルカリ触媒を用いることなく製造することができるものであることから、窒素源を実質的に含まない。
Silica particle dispersion
In the silica particle dispersion liquid of the present invention, the total content of the compound containing a nitrogen atom as NH X (X is an integer of 1 to 4) is preferably 1 ppm or less based on silica, and is preferably 0.5 ppm or less It is more preferable that the concentration be 0.1 ppm or less. That is, since this silica particle dispersion can be manufactured without using an alkali catalyst consisting of a compound containing a nitrogen atom such as ammonia or an amine compound, it does not substantially contain a nitrogen source.

窒素原子を含む化合物のNHの合計含有量は、以下のアンモニア分析方法及びアミン類分析方法に基づく含有量の合計をいう。
(1)アンモニア分析方法
ケルダール法にて測定する。具体的には、試料を硫酸等を用いて加熱分解し、試料中の窒素を硫酸アンモニウムとし、次に分解液をアルカリ性として、遊離したアンモニアを蒸留し、そのアンモニア量を滴定により測定する。
(2)アミン類分析方法
イオンクロマトグラフィーにて測定する。具体的には、試料をイオンクロマトグラフ装置(装置型式:ICS−1000)に直接導入することにより、検量線から含有量を求め定量する。
The total content of NH X of the compound containing a nitrogen atom refers to the total content based on the following ammonia analysis method and amines analysis method.
(1) Ammonia analysis method Measure by Kjeldahl method. Specifically, the sample is thermally decomposed using sulfuric acid or the like, the nitrogen in the sample is made ammonium sulfate, then the decomposition solution is made alkaline, liberated ammonia is distilled, and the amount of ammonia is measured by titration.
(2) Amines analysis method It measures by ion chromatography. Specifically, the content is determined from the calibration curve and quantified by directly introducing the sample into an ion chromatograph (apparatus model: ICS-1000).

窒素原子を含む化合物のNH(Xは、1〜4の整数)としての合計の含有量がシリカに対して1ppmを超えると、例えば、半導体ウエハー上に形成される配線ノードが32nm以下の微細配線形成に用いられる場合、アミン化合物等がウエハーの相互接続部に補足され、レジストの汚染を招き結果的に製造欠陥を生じることが懸念される。つまり、含窒素化合物がウエハーおよび生産ラインを汚染し、ウエハー上に形成される回路あるいは素子の欠陥生成あるいはリーク電流異常等の電気的特性の低下あるいは歩留まりの低下を招くことが懸念される。また、未加水分解物の加水分解が時間と共に進み、分散液の安定性が変化するおそれがある。 When the total content of the compound containing nitrogen atoms as NH x (where X is an integer of 1 to 4) exceeds 1 ppm with respect to silica, for example, fine wiring nodes formed on a semiconductor wafer are 32 nm or less When used for wiring formation, it is feared that amine compounds and the like will be trapped on the wafer interconnections, causing contamination of the resist and resulting in production defects. That is, there is a concern that the nitrogen-containing compound contaminates the wafer and the production line, resulting in a decrease in electrical characteristics such as defect generation of a circuit or element formed on the wafer or an abnormality in leak current or a reduction in yield. In addition, the hydrolysis of the unhydrolyzate proceeds with time, which may change the stability of the dispersion.

本発明のシリカ粒子分散液は、Al、Ca、Mg、Ti、K、Zn、Pb、Cr、Fe、Mn、Ag、Cu、及びNiのそれぞれの含有量が、シリカに対して、10ppm以下であることが好ましく、1ppm以下であることがより好ましく、0.5ppm以下であることがさらに好ましい。
Al、Ca、Mg、Ti、K、Zn、Pb、Cr、Fe、Mn、Ag、Cu、及びNiのそれぞれの含有量がシリカに対して、10ppmを超えると、粒子の表面電位を低下させ、安定性を阻害したり、塗布膜の絶縁性や電気的特性等の変化が生じ易いという問題がある。
In the silica particle dispersion liquid of the present invention, the content of each of Al, Ca, Mg, Ti, K, Zn, Pb, Cr, Fe, Mn, Ag, Cu, and Ni with respect to silica is 10 ppm or less It is preferably 1 ppm or less, more preferably 0.5 ppm or less.
When the content of each of Al, Ca, Mg, Ti, K, Zn, Pb, Cr, Fe, Mn, Ag, Cu and Ni exceeds 10 ppm with respect to silica, the surface potential of the particles is lowered, There is a problem that the stability is impaired, and changes in the insulating properties and electrical characteristics of the coating film are likely to occur.

シリカ粒子分散液中のAl、Ca、Mg、Ti、K、Zn、Pb、Cr、Fe、Mn、Ag、Cu、及びNiのそれぞれの含有量は、ICP質量分析法で求めた値である。   Each content of Al, Ca, Mg, Ti, K, Zn, Pb, Cr, Fe, Mn, Ag, Cu, and Ni in the silica particle dispersion is a value determined by ICP mass spectrometry.

《シリカ粒子分散液(シード)の製造方法》
本発明のシリカ粒子分散液の製造方法は、平均気泡径が40nm〜10μmの微小気泡を含む液相中で、シランアルコキシドを加水分解し、シリカ粒子分散液を製造することを特徴とし、シランアルコキシドの加水分解により、シリカ粒子分散液が生成する方法であれば、その具体的な方法は特に制限されない。例えば、原料であるシランアルコキシドを含む第1の溶液と、平均気泡径が40nm〜10μmの微小気泡を含む第2の溶液とを混合して、シランアルコキシドの加水分解を進める方法(混合法)や、シランアルコキシドが存在する液相中で微小気泡を発生させてシランアルコキシドの加水分解を進める方法(発生法)等を挙げることができる。混合法においては、一方の溶液を他方の溶液に一度に添加する方法、一方の溶液に他方の溶液を滴下する方法、敷液に両者を滴下する方法等、各種方法を採用することができる。
<< Production method of silica particle dispersion liquid (seed) >>
The method for producing a silica particle dispersion liquid of the present invention is characterized in that a silane alkoxide is hydrolyzed in a liquid phase containing microbubbles having an average cell diameter of 40 nm to 10 μm to produce a silica particle dispersion liquid. The specific method is not particularly limited as long as it is a method of producing a silica particle dispersion by hydrolysis of For example, a method (mixture method) of promoting hydrolysis of a silane alkoxide by mixing a first solution containing a silane alkoxide as a raw material and a second solution containing microbubbles having an average cell diameter of 40 nm to 10 μm The method (generation method) etc. which generate | occur | produce a micro bubble in the liquid phase in which a silane alkoxide exists, and advance a hydrolysis of a silane alkoxide can be mentioned. In the mixing method, various methods can be adopted such as a method of adding one solution to the other solution at once, a method of dropping the other solution to one solution, a method of dropping both solutions to the filling solution, and the like.

この製造方法により製造されるシリカ粒子としては、平均粒子径が3〜10nmのシリカ微粒子であることが好ましいが、これに限定されない。例えば、かかる平均粒子径が3〜10nmのシリカ微粒子をシードとしてさらに大きな粒子を製造することもできる。この際、アンモニアやアミン化合物といった窒素含有化合物からなるアルカリ触媒を用いることを妨げるものではないが、含窒素化合物を含む分散液や粒子が生成されないように、リン含有化合物からなるアルカリ触媒を用いることが好ましい。リン含有化合物からなるアルカリ触媒としては、ホスホニウムヒドロキシドが好ましく、テトラブチルホスホニウムヒドロキシドが特に好ましい。   As a silica particle manufactured by this manufacturing method, although it is preferable that it is a silica particle with an average particle diameter of 3-10 nm, it is not limited to this. For example, larger particles can be produced using such silica fine particles having an average particle diameter of 3 to 10 nm as a seed. Under the present circumstances, although it does not prevent using the alkali catalyst which consists of nitrogen containing compounds, such as ammonia and an amine compound, using the alkali catalyst which consists of phosphorus containing compounds so that the dispersion liquid and particle containing nitrogen containing compounds may not be produced. Is preferred. As an alkali catalyst consisting of a phosphorus containing compound, phosphonium hydroxide is preferable and tetrabutyl phosphonium hydroxide is especially preferable.

〈シランアルコキシド〉
このシリカ粒子の製造方法においては、下記式(2)で示されるシランアルコキシドが好適に使用される。
Si(OR)4−n ・・・(2)
式中、Xは水素原子、フッ素原子、炭素数1〜8のアルキル基、アリール基またはビニル基を示し、Rは水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、アリール基またはビニル基を示し、nは0〜3の整数である。
特に、テトラメチルアルコキシシランや、テトラエチルアルコキシシラン等が好適に使用できる。また、シランアルコキシドを2種以上使用してもよい。
<Silane alkoxide>
In the method of producing silica particles, a silane alkoxide represented by the following formula (2) is suitably used.
X n Si (OR) 4-n (2)
In the formula, X represents a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group or a vinyl group, R represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group or a vinyl group, n is an integer of 0 to 3;
In particular, tetramethylalkoxysilane, tetraethylalkoxysilane and the like can be suitably used. Moreover, you may use 2 or more types of silane alkoxides.

シランアルコキシドを分散、溶解する溶媒(混合法の場合は第1の溶液の溶媒)としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール、アセトン、トルエン、キシレン、テトラヒドロキシフラン等を用いることができる。   As a solvent for dispersing and dissolving the silane alkoxide (in the case of the mixing method, the solvent of the first solution), for example, an alcohol such as methanol, ethanol, propanol or butanol, acetone, toluene, xylene, tetrahydroxyfuran or the like is used. Can.

〈微小気泡(マイクロナノバブル)〉
この製造方法において用いる微小気泡は、平均気泡径が40nm〜10μmの微小な気泡であり、気泡径が40〜100nm(0.1μm)のいわゆるナノバブル、及び気泡径が0.1〜10μmのいわゆるマイクロバブルの少なくとも一方を含んでいるものであり、両者を含むものが好ましい。微小気泡の平均気泡径の上限は、500nmであることが好ましく、350nmがより好ましく、200nmであることがさらに好ましい。また、マイクロナノバブルの平均気泡径の下限は、50nmが好ましく、60nmであることがより好ましく、65nmであることがさらに好ましい。
<Micro bubbles (micro nano bubbles)>
The microbubbles used in this production method are microbubbles having an average cell diameter of 40 nm to 10 μm, so-called nanobubbles having a cell diameter of 40 to 100 nm (0.1 μm), and so-called microbubbles having a cell diameter of 0.1 to 10 μm. It is preferable to include at least one of the bubbles, and to include both of the bubbles. The upper limit of the average cell diameter of the microbubbles is preferably 500 nm, more preferably 350 nm, and still more preferably 200 nm. Moreover, 50 nm is preferable, as for the minimum of the average bubble diameter of a micro nano bubble, it is more preferable that it is 60 nm, and it is more preferable that it is 65 nm.

ここで、微小気泡の平均気泡径が10μmを超える場合には、水溶液中の粒子の表面張力が少なく、気泡の合体が起き易いので好ましくなく、また、気泡の寿命が短く、効率的な反応を起こさせるのに不向きである。また、微小気泡の平均気泡径が40nm未満の場合は、表面張力が大きく、気泡の内圧が増大して破裂し易く、安定化期間が短い。すなわち、気泡の大きさには、最適な範囲があり、気泡であればどのようなものでもよいというものではない。   Here, when the average bubble diameter of the microbubbles exceeds 10 μm, the surface tension of the particles in the aqueous solution is small, and the coalescence of the bubbles is likely to occur, which is not preferable. It is unsuitable for raising it. When the average bubble diameter of the microbubbles is less than 40 nm, the surface tension is large, the internal pressure of the bubbles is increased and the bubbles are easily ruptured, and the stabilization period is short. That is, the size of the air bubble has an optimum range, and any air bubble may not be used.

シランアルコキシドに対する微小気泡の量は、シランアルコキシドの加水分解が十分に進む範囲において適宜設定することができる。例えば、混合法においては、好ましくは1.0×10個/mL以上、より好ましくは1.0×10個/mL以上の微小気泡含有量の第2の溶液を第1の溶液に投入する。なお、第2の溶液における微小気泡含有量の上限は、1.0×1011個/mLが好ましく、5.0×1010個/mLがより好ましく、1.0×1010個/mLが更に好ましい。
ここで、第2の溶液の微小気泡の含有量が、1.0×10個/mL未満であると、シリカ粒子を生成するためのシランアルコキシドの加水分解が不足するおそれがあり、1.0×1011個/mLを超えると、反応速度が速く、再現性が得られにくい。
The amount of microbubbles relative to the silane alkoxide can be appropriately set within a range in which the hydrolysis of the silane alkoxide proceeds sufficiently. For example, in the mixing method, a second solution having a microbubble content of preferably 1.0 × 10 5 cells / mL or more, more preferably 1.0 × 10 8 cells / mL or more is introduced into the first solution Do. The upper limit of the microbubble content in the second solution is preferably 1.0 × 10 11 cells / mL, more preferably 5.0 × 10 10 cells / mL, and 1.0 × 10 10 cells / mL. More preferable.
Here, if the content of the microbubbles of the second solution is less than 1.0 × 10 5 pieces / mL, there is a risk that the hydrolysis of the silane alkoxide for producing the silica particles may be insufficient. When it exceeds 0 × 10 11 cells / mL, the reaction rate is fast and reproducibility is difficult to obtain.

また、シランアルコキシドの官能基(OR)のモル数に対して、上記のような量の微小気泡を含む第2の溶液を、0.5モル倍〜10モル倍の添加することが好ましい。ここで、第2の溶液を10モル倍よりも多く使用すると、合成物の乾燥や熱処理時に蒸発する際に残存した水でひび割れを起こすという問題があり、0.5モル倍未満の場合は、加水分解が不足して、反応が途中で止まるおそれがある。   Moreover, it is preferable to add 0.5 mol times-10 mol times the 2nd solution containing the micro bubble of the above quantity with respect to the number-of-moles of the functional group (OR) of a silane alkoxide. Here, if the second solution is used more than 10 molar times, there is a problem that water remaining when evaporating the composition or during heat treatment causes a crack, and in the case of less than 0.5 molar times, Insufficient hydrolysis may cause the reaction to stop prematurely.

微小気泡に使用される気体は、窒素、水素、酸素、オゾン、炭酸ガス、及び、希ガスの少なくとも1種を含むことが好ましい。これらの気体は、水酸基ラジカルを発生することができるので、同時に微小気泡の破裂によりミクロゲルを解砕する効果が発揮でき、また副次的に微小気泡の消滅時の衝撃波によって生物学的な細胞が破壊される効果があり、生物学的な汚染に対しても長期保存にも効果的である。   The gas used for the microbubbles preferably includes at least one of nitrogen, hydrogen, oxygen, ozone, carbon dioxide gas, and a rare gas. These gases can generate hydroxyl radicals, and at the same time, they can exert an effect of disintegrating the microgel by the rupture of the microbubbles, and also, biological cells can be produced by the shock wave when the microbubbles disappear as a secondary effect. It has a destructive effect and is effective for biological contamination and long-term storage.

微小気泡(マイクロナノバブル)の発生方法は、特に制限されず、従来公知の方法を用いることができる。例えば、旋回流式、スタティックミキサー式、エジェクター式、ベンチュリー式、加圧溶解式、細孔式、回転式、超音波式、蒸気凝縮式、電気分解式などの各種方式が挙げられる。また、繰り返し、通液することでマイクロナノバブルの濃度を高めたり、微細化したりすることも可能になる。   The method of generating the microbubbles (micro-nano bubbles) is not particularly limited, and conventionally known methods can be used. For example, various systems such as a swirl flow system, a static mixer system, an ejector system, a venturi system, a pressure dissolution system, a pore system, a rotary system, an ultrasonic system, a vapor condensation system, and an electrolysis system can be mentioned. In addition, it is possible to increase or refine the concentration of micro-nano bubbles by repeatedly passing the solution.

シランアルコキシドの加水分解反応は、通常、常圧下においては、5〜95℃で行うことができ、溶媒の沸点より低い温度で行うことが好ましい。混合法の場合は、第1の溶液の沸点と第2の溶液の沸点の内、いずれか低い方の沸点未満の温度で行うことが好ましい。また、加圧下で、沸騰しない温度範囲で行ってもよい。また、シランアルコキシドと微小気泡とを含む溶液に、紫外線や超音波を照射してもよい。これにより、より早くシランアルコキシドの加水分解反応が促進されるため、シリカ粒子の生成が短時間ででき、経済的である。   The hydrolysis reaction of the silane alkoxide can usually be performed at 5 to 95 ° C. under normal pressure, and is preferably performed at a temperature lower than the boiling point of the solvent. In the case of the mixing method, it is preferable to carry out at a temperature lower than the lower one of the boiling point of the first solution and the boiling point of the second solution. Moreover, you may carry out in a temperature range which does not boil under pressure. Further, the solution containing the silane alkoxide and the microbubbles may be irradiated with ultraviolet light or ultrasonic waves. This accelerates the hydrolysis reaction of the silane alkoxide more quickly, so that the formation of silica particles can be performed in a short time, which is economical.

ここで、混合法を用いる場合、第2の溶液の溶媒としては、主として水が使用されるが、水と共に、第1の溶液の溶媒と相溶性のある有機溶媒を用いると、微小気泡の濃度を高めることができるので好ましい。かかる有機溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド(DMSO)、酢酸(AcOH)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、メタノール(MeOH)、酢酸エチル(AcOEt)、アセトン等が好ましく、粘度、誘電率が高いものほど総微小気泡が多い傾向にある。   Here, in the case of using the mixing method, water is mainly used as a solvent of the second solution, but when an organic solvent compatible with the solvent of the first solution is used together with water, the concentration of microbubbles is used. Is preferable because it can increase the As such an organic solvent, for example, dimethyl sulfoxide (DMSO), acetic acid (AcOH), N, N-dimethylformamide (DMF), methanol (MeOH), ethyl acetate (AcOEt), acetone and the like are preferable, and the viscosity and dielectric constant The higher the amount, the more total microbubbles tend to be.

ここで、限外濾過により生成する微小気泡を含む限外濾水を微小気泡を生成させる際に使用すると、省資源プロセスとなり、金属等の不純物の混入も低減できる。この限外濾水を第2の溶液として使用した場合、微小気泡は、限外膜により分画されているので、微小気泡の寿命が長く、高濃度の微小気泡を使用できるというメリットがあるので好ましい。   Here, if ultrafiltered water containing microbubbles generated by ultrafiltration is used when generating microbubbles, it becomes a resource saving process, and contamination of impurities such as metal can be reduced. When this ultrafiltrate is used as the second solution, since the microbubbles are fractionated by the ultrafiltration membrane, the life of the microbubbles is long and there is an advantage that high concentration microbubbles can be used. preferable.

《シリカ系粒子分散液の製造方法》
本発明のシリカ系粒子分散液(好ましくはシリカ系粒子の平均粒子径が10nmを超えて300nm以下)の製造方法は、微小気泡を用いた上記本発明の製造方法により製造されたシリカ微粒子(平均粒子径が3〜10nm)をシード(種粒子)としてアルカリ存在下で加水分解させて粒子成長(ビルドアップ)させる。このため、シード分散液は、水溶媒に置換したものを用いることが好ましい。
すなわち、このシリカ系粒子分散液の製造方法は、平均気泡径が40nm〜10μmの微小気泡を含む液相中で、シランアルコキシドを加水分解し、平均粒子径が3〜10nmのシリカ微粒子を調製する微粒子調製工程と、このシリカ微粒子を含む分散液に対して、アルカリ触媒の存在下で、加水分解性金属化合物を添加して加水分解を行いシリカ微粒子を成長させる粒子成長工程とを有する。ここで、本発明の発明における加水分解性金属としては、一部加水分解が進んだ加水分解性金属化合物を使用することも可能である。
なお、微粒子調製工程における操作は、上記「《シリカ粒子の製造方法》」の項で説明した操作と同様である。
<< Production Method of Silica-Based Particle Dispersion >>
The method for producing the silica-based particle dispersion liquid (preferably, the average particle diameter of the silica-based particles is more than 10 nm and 300 nm or less) of the present invention is the silica fine particles produced by the above-mentioned production method of the present invention using The particles are grown (build up) by hydrolysis in the presence of alkali as a seed (seed particle) having a particle diameter of 3 to 10 nm. For this reason, it is preferable to use the seed dispersion liquid substituted with a water solvent.
That is, in the method for producing a silica-based particle dispersion, a silane alkoxide is hydrolyzed in a liquid phase containing microbubbles having an average cell diameter of 40 nm to 10 μm to prepare silica fine particles having an average particle diameter of 3 to 10 nm. A fine particle preparation step, and a particle growth step of adding a hydrolyzable metal compound to the dispersion containing the fine silica particles in the presence of an alkali catalyst to cause hydrolysis and growing the fine silica particles. Here, as the hydrolyzable metal in the invention of the present invention, it is also possible to use a hydrolyzable metal compound partially hydrolyzed.
The operation in the fine particle preparation step is the same as the operation described in the above section "<Method for producing silica particles>".

この製法によれば、微小な粒子をシード(種粒子)として多段階(複数回)の粒子成長を行うことができることから、粒度分布の揃った粒子を製造することができる。特に、比較的小さな粒子を製造する場合にも、微小なシードから多段階成長させることが可能なことから、粒度分布の揃った粒子を製造することができる。   According to this manufacturing method, particles can be grown in multiple stages (multiple times) using small particles as seeds (seed particles), so that particles with a uniform particle size distribution can be produced. In particular, even in the case of producing relatively small particles, particles having uniform particle size distribution can be produced because multistep growth can be performed from minute seeds.

このシリカ系粒子分散液の製造方法においては、粒子成長工程において、シード(種粒子)を安定化させるために、有機溶媒を除去し、水に分散したシード分散液を所定のpHで熟成させることで、分散液中の粒子の溶解に伴う粒子の均一化や、分散液中のシリカ溶解度の均一化等を行うことが好ましい。本明細書においては、この安定化させる操作をシーディングと称す。シーディングにおけるpHは、中性からアルカリ性領域であれば特に制限されるものではないが、pH7以上が好ましく、pH7〜10.5がより好ましい。この時の分散液の熟成温度は、シードが安定化されれば特に制限されるものではなく、常圧下では室温から100℃未満が好ましい。また、シードの安定化のために、5分間程度以上熟成することが好ましい。このシーディングによるシードの安定化は、前述の3〜10nmのシリカ微粒子をシードとする場合、及び10nmより大きい粒子をシードとする場合の両方に好ましく適用することができる。例えば、アルカリ触媒の存在下で加熱等の熟成を行うことで、分散液中の粒子の溶解に伴う粒子の均一化や、分散液中のシリカ溶解度の均一化等を図ることができる。この工程は、その後の粒子成長、さらには多段階で粒子成長をさせて、均一な粒子を製造する上で行うことが好ましい工程である。   In the method of producing the silica-based particle dispersion, in order to stabilize the seed (seed particle) in the particle growth step, the organic solvent is removed and the seed dispersion dispersed in water is aged at a predetermined pH. It is preferable to homogenize the particles involved in the dissolution of the particles in the dispersion, to homogenize the solubility of silica in the dispersion, and the like. In the present specification, this stabilizing operation is referred to as seeding. The pH in seeding is not particularly limited as long as it is in the neutral to alkaline region, but pH 7 or more is preferable, and pH 7 to 10.5 is more preferable. The ripening temperature of the dispersion at this time is not particularly limited as long as the seeds are stabilized, and under normal pressure, the temperature is preferably from room temperature to less than 100 ° C. Further, in order to stabilize the seed, it is preferable to age for about 5 minutes or more. The stabilization of the seed by this seeding can be preferably applied to both the case where the above-mentioned 3 to 10 nm silica fine particle is used as a seed and the case where a particle larger than 10 nm is used as a seed. For example, by performing aging such as heating in the presence of an alkali catalyst, it is possible to achieve uniformity of particles accompanying dissolution of particles in the dispersion, uniformity of silica solubility in the dispersion, and the like. This step is a step preferably carried out to produce uniform particles by causing subsequent particle growth, or even particle growth in multiple steps.

粒子成長工程においては、反応温度、pH、シード量、加水分解性珪素化合物の種類及び添加量、添加速度等を適宜制御する。本発明では、例えば、加水分解性珪素化合物を使用する際、使用するシード溶液の濃度が高すぎる場合や、シード溶液のpHが酸性領域である場合には、シリカ粒子が不安定でシリカの溶解度が小さいために、添加した加水分解性珪素化合物が低分子シリカとして析出し、新たな核粒子や、モノマー、オリゴマーといった副生成物が発生するため、シードの成長が阻害され、均一な粒子成長が困難となることがある。このため、シード溶液は適切な濃度に調整された中性からアルカリ性領域の水溶液が好ましい。   In the particle growth step, the reaction temperature, pH, seed amount, type and addition amount of hydrolyzable silicon compound, addition rate, and the like are appropriately controlled. In the present invention, for example, when using a hydrolyzable silicon compound, when the concentration of the seed solution used is too high, or when the pH of the seed solution is in the acidic region, the silica particles are unstable and the solubility of the silica is Since the added hydrolyzable silicon compound precipitates as low molecular weight silica and byproducts such as new core particles and monomers and oligomers are generated, seed growth is inhibited and uniform particle growth is suppressed. It can be difficult. For this reason, the seed solution is preferably an aqueous solution in the neutral to alkaline region adjusted to an appropriate concentration.

また、粒子成長工程で、加水分解性珪素化合物を連続して添加することでシードを成長させる場合、添加する珪素化合物がシード量に対して過剰で過飽和度が異常に高くなったり、添加速度が早すぎたりすると、低分子シリカとして析出し、新たな核粒子や、モノマー、オリゴマーといった副生成物が発生するため、シードの成長が阻害されるばかりでなく、得られる粒子の粒度分布は広くなるおそれがある。このため、粒子成長において添加される加水分解性珪素化合物の添加量や添加速度等は、シード量に応じて調整することが好ましい。   In addition, in the case of growing seeds by continuously adding hydrolyzable silicon compounds in the particle growth step, the silicon compound to be added is excessive to the seed amount and the degree of supersaturation becomes abnormally high, or the addition speed is increased. If it is too early, it precipitates as low molecular weight silica, and byproducts such as new core particles and monomers and oligomers are generated, so that not only the growth of seeds is inhibited but also the particle size distribution of the obtained particles becomes broad. There is a fear. For this reason, it is preferable to adjust the addition amount, the addition speed, and the like of the hydrolyzable silicon compound to be added in particle growth in accordance with the seed amount.

粒子成長工程において、このような核生成や副生成物発生による不均一な粒子成長を防ぎ、より均一な粒度分布の粒子を得るためには、粒子成長の過程で、ある程度成長した粒子の分散液から、このような副生成物や、アルコキシ基の加水分解由来の副産物である有機溶媒や、不要なアルカリを取り除き、精製した粒子を新たな種粒子として粒子成長させることを繰り返すことが好ましい。この多段階の粒子成長の1回あたりの粒子成長は、目安として、基準となる種粒子の平均粒子径の3倍以内が好ましい。
ここで、所望する粒度へ粒子成長させるために、多段階に加水分解性金属化合物を添加せず、連続して加水分解性金属化合物を添加する場合は、粒子成長に要する時間がかかりすぎるため実用性に乏しい。また、短時間で多量の加水分解性金属化合物を添加する場合は、上述のように、新たな核粒子や、モノマー、オリゴマーといった副生成物が発生し、得られる粒子の粒度分布も広くなるおそれがある。
In the particle growth process, in order to prevent such nonuniform particle growth due to nucleation and generation of byproducts and to obtain particles with a more uniform particle size distribution, a dispersion liquid of particles grown to some extent in the process of particle growth. From these, it is preferable to remove such a by-product, an organic solvent which is a by-product derived from hydrolysis of an alkoxy group, and unnecessary alkali, and repeat the particle growth as purified seed particles as new seed particles. The particle growth per one time of the multi-step particle growth is preferably within 3 times the average particle diameter of the reference seed particles as a standard.
Here, in the case where the hydrolyzable metal compound is continuously added without adding the hydrolysable metal compound in multiple stages in order to grow the particles to the desired particle size, it takes too long to take time for the particle growth, so that practical use Poor sex. Further, when a large amount of hydrolyzable metal compound is added in a short time, as described above, byproducts such as new core particles and monomers and oligomers may be generated, and the particle size distribution of the obtained particles may also be broadened. There is.

すなわち、目標とするサイズの粒子にするまでに、例えば2〜5回程度の粒子成長工程を経ることが好ましい。シードとして微小な粒子を用いることにより、平均粒子径が10nmを超えて300nm以下、好ましくは10nmを超えて100nm程度の比較的小さな粒子を製造する場合も、所望の回数の粒子成長工程を経ることができ、粒度分布の揃った粒子を製造することが可能となる。   That is, it is preferable to go through, for example, about 2 to 5 particle growth steps to obtain particles of a target size. Even when relatively small particles having an average particle diameter of more than 10 nm and 300 nm or less, preferably more than 10 nm and about 100 nm are produced by using fine particles as seeds, the desired number of particle growth steps are taken. It is possible to produce particles with uniform particle size distribution.

この粒子成長工程における加水分解は、平均気泡径が40nm〜10μmの微小気泡の存在下で行うことが好ましい。微小気泡の存在下で加水分解を行うことにより、微小気泡による分散効果、解砕効果、加水分解促進効果などにより、目的とする粒子まで反応が進んでいない加水分解性金属化合物(未反応の原料やその低分子加水分解物等)の発生や、これらとシリカ系粒子が反応して生成するミクロゲルなどの発生を抑制することができ、これにより、粒度分布のより揃った粒子を製造することができる。
さらに、反応に関与しなかった残留する微小気泡は、経時後、消滅時に衝撃波を発生させるために微生物、藻などの生物性有機物の発生増殖を抑制するだけでなく、ミクロゲルの発生の抑制および発生したミクロゲルの再分散を促進する。このため、濾過性の維持改善に効果的であると考えられる。
The hydrolysis in the particle growth step is preferably performed in the presence of microbubbles having an average cell diameter of 40 nm to 10 μm. By hydrolyzing in the presence of microbubbles, a hydrolyzable metal compound (unreacted raw material) whose reaction has not progressed to the target particles due to the dispersing effect by the microbubbles, the crushing effect, the hydrolysis promoting effect, etc. And the generation of low-molecular hydrolyzates thereof and the like and the generation of microgels and the like generated by reacting these with silica-based particles, thereby producing particles with a more uniform particle size distribution. it can.
Furthermore, the remaining microbubbles not involved in the reaction not only suppress the generation and growth of biological organic matter such as microorganisms and algae, but also suppress and generate the generation of microgels in order to generate a shock wave at the time of disappearance. Promote redispersion of the microgels. Therefore, it is considered to be effective for maintaining and improving the filterability.

ここで、微小気泡については、上記「《シリカ粒子の製造方法》」の項で説明したものと同様であるので説明を省略する。   Here, the microbubbles are the same as those described above in the section "<Method of producing silica particles>" and thus the description thereof is omitted.

粒子成長工程で用いる加水分解性金属化合物としては、珪素、チタン、ジルコニア、アルミニウム、スズ、インジウム等の金属を含み、アルコキシ基、ハロゲン基等の加水分解性基を有する化合物や、上記金属を含むキレート化合物や、上記金属を含むペルオキソ化合物等を挙げることができる。本発明の粒子成長工程においては、少なくとも珪素を含む加水分解性金属化合物を用いることが好ましく、珪素を含む加水分解性金属化合物単独で、又は他の金属を含む加水分解性化合物と共に用いることができる。なお、加水分解性化合物としては、上述のように、一部加水分解が進んだ分子内に水酸基を持つ加水分解物も使用することもできる。   The hydrolyzable metal compound used in the particle growth step contains a metal such as silicon, titanium, zirconia, aluminum, tin, indium and the like, a compound having a hydrolysable group such as an alkoxy group and a halogen group, and the above metal Chelate compounds and peroxo compounds containing the above metals can be mentioned. In the particle growth step of the present invention, it is preferable to use a hydrolyzable metal compound containing at least silicon, and it can be used alone or with a hydrolysable compound containing other metals. . In addition, as a hydrolysable compound, the hydrolyzate which has a hydroxyl group in the molecule | numerator which partial hydrolysis advanced can also be used as mentioned above.

具体的に、珪素を含む加水分解性化合物としては、シランアルコキシド及び珪酸の少なくとも1つを用いることができる。
シランアルコキシドとしては、上記一般式(2)で示されるシランアルコキシドが好ましく使用できる。中でも、テトラメチルアルコキシシラン、テトラエチルアルコキシシランがより好ましく、テトラメチルアルコキシシランが特に好ましい。
また、珪酸としては、アルカリ金属珪酸塩から調製したものを用いることができる。例えば、珪酸ナトリウム(水ガラス)の希釈溶液を陽イオン交換樹脂等によりイオン交換して、珪酸を含む溶液を得ることができ、これを用いることができる。この珪酸を含む溶液は、高純度なシリカ系粒子分散液が要求される場合には、さらに、限外濾過膜による高分子量物質の分離や、キレート樹脂、両性イオン交換樹脂、陽イオン交換樹脂等による処理を行うことが好ましい。
Specifically, as the hydrolyzable compound containing silicon, at least one of silane alkoxide and silicic acid can be used.
As a silane alkoxide, the silane alkoxide shown by the said General formula (2) can use it preferably. Among them, tetramethylalkoxysilane and tetraethylalkoxysilane are more preferable, and tetramethylalkoxysilane is particularly preferable.
Moreover, as a silicic acid, what was prepared from the alkali metal silicate can be used. For example, a dilute solution of sodium silicate (water glass) can be ion-exchanged with a cation exchange resin or the like to obtain a solution containing silica, which can be used. When a solution containing silica is required to have a high purity silica-based particle dispersion, separation of high molecular weight substances by ultrafiltration membrane, chelating resin, amphoteric ion exchange resin, cation exchange resin, etc. It is preferable to carry out the treatment according to

また、チタンを含む加水分解性化合物としては、テトラメトキシチタン、テトライソプロキシチタン、テトラノルマルブチルチタン、ブチルチタネートダイマー、テトラオクチルチタン四塩化チタン、チタンアセチルアセトネート、チタンテトラアセチルアセトネート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタントリエタノールアミネート、ペルオキソチタン酸等を例示することができる。   Further, as hydrolysable compounds containing titanium, tetramethoxytitanium, tetraisoproxioxytitanium, tetranormalbutyltitanium, butyltitanate dimer, tetraoctyltitanium titanium tetrachloride, titanium acetylacetonate, titanium tetraacetylacetonate, titanium lactate Ammonium salts, titanium triethanolaminate, peroxotitanic acid and the like can be exemplified.

ジルコニアを含む加水分解性化合物としては、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトライソプロキシジルコニウム、ノルマルプロピルジルコネート、ノルマルブチルジルコネート、塩化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、ジルコニウムジブトキシビス(エチルアセトアセトネート)、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ペルオキソジルコン酸等を例示することができる。   Examples of hydrolyzable compounds containing zirconia include tetramethoxyzirconium, tetraethoxyzirconium, tetraisoproxyzirconium, normal propyl zirconate, normal butyl zirconate, zirconium chloride, zirconium oxychloride, and zirconium dibutoxy bis (ethylacetoacetonate). , Zirconium tetraacetylacetonate, peroxo zirconate and the like can be exemplified.

アルミニウムを含む加水分解性化合物としては、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリイソプロキシアルミニウム、アルミニウムセカンダリーブトキシド、塩化アルミニウム、アルミニウムアセテート、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、アルミニウムビスエチルアセトアセテートモノアセチルアセトネート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート等を例示することができる。   As a hydrolysable compound containing aluminum, trimethoxyaluminum, triethoxyaluminum, triisoproxyaluminum, aluminum secondary butoxide, aluminum chloride, aluminum acetate, aluminum trisacetylacetonate, aluminum bisethylacetoacetate monoacetylacetonate, aluminum It is possible to illustrate tris ethyl acetoacetate and the like.

スズを含む加水分解性化合物としては、テトライソプロキシスズ、テトラノルマルブトキシスズ、塩化スズ(IV)、オクチル酸スズ等を例示することができる。   Examples of hydrolyzable compounds containing tin include tetraisoproxytin, tetranormal butoxytin, tin (IV) chloride, tin octylate and the like.

インジウムを含む加水分解性化合物としては、トリメトキシインジウム、トリエトキシインジウム、トリイソプロキシインジウム、塩化インジウム、インジウムトリアセチルアセトネート等を例示することができる。   Examples of hydrolyzable compounds containing indium include trimethoxyindium, triethoxyindium, triisoproxyindium, indium chloride, indium triacetylacetonate and the like.

粒子成長工程における反応は、平均気泡径が40nm〜10μmの微小気泡を含む水溶媒及びアルカリ触媒の存在下で行われることが好ましい。従って、シード溶液の溶媒は、水に置換されることが好ましい。ここで、シリカ微粒子、水及びアルカリ触媒を含む液に対して、加水分解性珪素化合物や、加水分解速度が速く析出しやすい加水分解性金属化合物(珪素以外の金属化合物)を添加する場合、これらの加水分解性金属化合物の溶媒としては、有機溶媒や、水及び有機溶媒の混合溶媒を用いることが好ましい。また、反応を常圧下で行う場合は、溶媒が揮発しないように還流器を使用して行うことが好ましい。さらに、溶媒沸点以上(水の場合は100℃以上)の温度で行う場合等は、オートクレーブなどの耐熱耐圧容器を用いることもできる。なお、製造されるシリカ系粒子分散液に含まれる加水分解により副生する有機溶媒等は、水に置換されることが好ましい。   The reaction in the particle growth step is preferably carried out in the presence of an aqueous solvent containing microbubbles having an average cell diameter of 40 nm to 10 μm and an alkali catalyst. Thus, the solvent of the seed solution is preferably replaced by water. Here, when a hydrolyzable silicon compound or a hydrolyzable metal compound (a metal compound other than silicon) having a high hydrolysis rate and which easily precipitates is added to a solution containing silica fine particles, water and an alkali catalyst, It is preferable to use an organic solvent or a mixed solvent of water and an organic solvent as the solvent of the hydrolyzable metal compound of the above. When the reaction is carried out under normal pressure, it is preferable to carry out using a reflux condenser so that the solvent does not evaporate. Furthermore, when it carries out at the temperature more than a solvent boiling point (in the case of water, 100 degreeC or more), heat-resistant pressure-resistant containers, such as an autoclave, can also be used. In addition, it is preferable that the organic solvent etc. byproduced by hydrolysis contained in the silica type particle dispersion liquid manufactured are substituted by water.

有機溶媒としては、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類などが挙げられる。より具体的には、例えばメタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチルなどのエステル類が用いられる。これらの中でも、メタノール又はエタノールがより好ましく、メタノールが特に好ましい。これらの有機溶媒は、単独で用いてもよく、2種以上混合して用いてもよい。   Examples of the organic solvent include alcohols, ketones, ethers, esters and the like. More specifically, alcohols such as methanol, ethanol and propanol, ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, and esters such as methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate and ethyl lactate are used. Among these, methanol or ethanol is more preferable, and methanol is particularly preferable. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

アルカリ触媒としては、アンモニア、アミン、アルカリ金属水素化物、アルカリ土類金属水素化物、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、第4級アンモニウム化合物、アミン系カップリング剤など、塩基性を示す化合物が用いられる。   Examples of alkali catalysts include ammonia, amines, alkali metal hydrides, alkaline earth metal hydrides, alkali metal hydroxides, alkaline earth metal hydroxides, quaternary ammonium compounds, amine coupling agents, etc. The compound which shows is used.

《シリカ系粒子分散液》
本発明のシリカ系粒子分散液は、平均粒子径が10nmを超えて300nm以下のシリカ系粒子と、平均気泡径が40nm〜10μmの微小気泡とを含むことを特徴とする。このシリカ系粒子分散液は、上記本発明のシリカ系分散液の製造方法により得ることができる。なお、微小気泡については、上記「《シリカ粒子分散液》」の項で説明したものと同様である。
<< Silica-based particle dispersion liquid >>
The silica-based particle dispersion liquid of the present invention is characterized by including silica-based particles having an average particle diameter of more than 10 nm and 300 nm or less and microbubbles having an average bubble diameter of 40 nm to 10 μm. The silica-based particle dispersion can be obtained by the method for producing a silica-based dispersion of the present invention. The microbubbles are the same as those described in the above section "<< silica particle dispersion liquid>".

〈シリカ系粒子〉
本発明のシリカ系粒子は、シリカ(珪素)のみを主成分とする粒子、又は珪素と、チタン、ジルコニア、アルミニウム、スズ、及びインジウムの中から選ばれる少なくとも1つの元素とを含有する2種以上の金属酸化物を主成分とする粒子を意味する。2種以上の金属酸化物を主成分とする粒子としては、具体的に、シリカ微粒子からなるコア粒子表面に、珪素と、チタン、ジルコニア、アルミニウム、スズ、及びインジウムから選ばれる少なくとも1つの金属とを含む複合金属酸化物層(シェル層)が形成されている態様を挙げることができる。
ここで主成分とは、粒子を構成する物質全体に対して、酸化物基準として、60質量%以上、好ましくは95質量%以上、より好ましくは98質量%以上、さらに好ましくは99.5質量%以上、最も好ましくは100質量%をいう。
Silica-based particles
The silica-based particles of the present invention are particles containing only silica (silicon) as a main component, or two or more types containing silicon and at least one element selected from titanium, zirconia, aluminum, tin and indium. The particles are mainly composed of metal oxides of Specifically, as particles mainly composed of two or more types of metal oxides, silicon and at least one metal selected from titanium, zirconia, aluminum, tin, and indium on the surface of core particles composed of silica fine particles The aspect by which the composite metal oxide layer (shell layer) containing is formed can be mentioned.
Here, the main component is 60% by mass or more, preferably 95% by mass or more, more preferably 98% by mass or more, still more preferably 99.5% by mass, based on the oxide, based on the whole substance constituting the particles. The above, most preferably 100% by mass.

このシリカ系粒子は、上記のように、平均粒子径が10nmを超えて300nm以下であるが、10nmを超えて200nmであることが好ましく、10nmを超えて100nmであることがより好ましい。
平均粒子径の測定方法は、上記シリカ微粒子の平均粒子径の測定方法(TEM観察法)と同様である。
As described above, the silica-based particles have an average particle diameter of more than 10 nm and 300 nm or less, preferably more than 10 nm and 200 nm, and more preferably more than 10 nm and 100 nm.
The method of measuring the average particle diameter is the same as the method of measuring the average particle diameter of the above-mentioned silica fine particles (TEM observation method).

このシリカ系粒子は、粒子の変動係数(CV値)が、例えば、0.3以下であり、0.25以下であることが好ましく、0.20以下であることがより好ましく、0.15以下であることがさらに好ましい。
なお、変動係数(=標準偏差/平均粒子径)は、上記シリカ微粒子の平均粒子径の測定方法(TEM観察法)により求めた平均粒子径に基づき算出する。
The silica-based particles have, for example, a coefficient of variation (CV value) of 0.3 or less, preferably 0.25 or less, more preferably 0.20 or less, and 0.15 or less It is further preferred that
The coefficient of variation (= standard deviation / average particle size) is calculated based on the average particle size obtained by the method of measuring the average particle size of the above-mentioned silica fine particles (TEM observation method).

さらに、シリカ系粒子は、加水分解処理により粒子の緻密化を進めているため、比表面積が9m/g以上270m/g未満であることが好ましく、27m/g以上270m/g未満であることがより好ましい。
シリカ系粒子の比表面積が9m/g未満であると、粒子自体が大きく沈降しやすい。一方、270m/g以上であると、粒子が小さく、反応系に塩が多く存在した場合、シリカ系粒子の安定性が低くゲル化しやすいという問題がある。
比表面積の測定方法は、上記シリカ微粒子の比表面積の測定方法と同様である。
Furthermore, since the silica-based particles are densified by hydrolysis, the specific surface area is preferably 9 m 2 / g or more and less than 270 m 2 / g, and 27 m 2 / g or more and less than 270 m 2 / g It is more preferable that
When the specific surface area of the silica-based particles is less than 9 m 2 / g, the particles themselves are likely to be largely sedimented. On the other hand, if the particle size is 270 m 2 / g or more, the particles are small, and when a large amount of salt is present in the reaction system, there is a problem that the stability of the silica-based particles is low and gelation easily occurs.
The measuring method of a specific surface area is the same as the measuring method of the specific surface area of the said silica fine particle.

このシリカ系粒子及び前述のシリカ微粒子の表面電荷量は、14〜900μeq/gであることが好ましい。
表面電荷量は、主として、(1)粒子の有する表面積と、(2)粒子表面での加水分解性(アルコキシ基が加水分解して水酸基となる反応)によって変化する。いずれの場合にも粒子固形分(g)当たりの表面電荷量は、粒子の有する負電荷生成に関与している水酸基の量により、大きく変化する。特に、高温下で調製するシリカ系粒子では、(1)の影響が大きく、低温下で調製する前述のシリカ微粒子(シード)では(2)の影響が大きい。
このため、平均粒子径が10nmを超え300nm以下のシリカ系粒子では、表面電荷量が14〜420μeq/gであることが好ましく、42〜420μeq/gであることがより好ましい。ここで、高純度シリカ系粒子の表面電荷量が14μeq/g未満であると、粒子自体が大きく沈降しやすい。一方、420μeq/gを超えると、比較的小さな粒子が多く存在するため、濃縮すると粘度が上がりゲル化しやすいという問題がある。この時、反応系に塩が多く存在した場合、シリカ系粒子分散液の粘度上昇は加速され、よりゲル化しやすくなる。
また、上述のように、このシリカ系粒子を製造するために使用する平均粒子径が3〜10nmのシリカ微粒子(シード)では、表面電荷量が260〜900μeq/gであることが好ましい。
表面電荷量の測定方法は、上記シリカ微粒子の表面電荷量の測定方法と同様である。
The surface charge amount of the silica-based particles and the above-mentioned silica fine particles is preferably 14 to 900 μeq / g.
The amount of surface charge changes mainly by (1) the surface area of the particles and (2) the hydrolyzability on the particle surface (the reaction of the alkoxy groups being hydrolyzed to form hydroxyl groups). In any case, the amount of surface charge per particle solid content (g) changes greatly depending on the amount of hydroxyl groups involved in the negative charge generation of the particles. In particular, in the case of silica-based particles prepared under high temperature, the effect of (1) is large, and in the above-mentioned silica fine particles (seed) prepared under low temperature, the effect of (2) is large.
Therefore, in the case of silica-based particles having an average particle diameter of more than 10 nm and 300 nm or less, the surface charge amount is preferably 14 to 420 μeq / g, and more preferably 42 to 420 μeq / g. Here, when the surface charge amount of the high purity silica-based particles is less than 14 μeq / g, the particles themselves are likely to be largely sedimented. On the other hand, if it exceeds 420 μeq / g, many relatively small particles are present, so there is a problem that when it is concentrated, its viscosity increases and it tends to gel. At this time, if a large amount of salt is present in the reaction system, the increase in viscosity of the silica-based particle dispersion is accelerated and gelation is more likely to occur.
Further, as described above, in the case of silica fine particles (seed) having an average particle diameter of 3 to 10 nm used to produce the silica-based particles, the surface charge amount is preferably 260 to 900 μeq / g.
The method of measuring the surface charge amount is the same as the method of measuring the surface charge amount of the silica fine particles.

〈シリカ系粒子分散液〉
本発明のシリカ系粒子分散液は、例えば半導体の研磨材用等の高純度を要求される場合は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、Zn、Pb、Ag、Mn、Co、Mo、Cu、Ni、Cr、U及びThのそれぞれの含有量が、シリカに対して、10ppm以下であることが好ましく、1ppm以下であることがより好ましく、0.5ppm以下であることがさらに好ましい。
これら金属のそれぞれの含有量が、シリカに対して、10ppmを超えると、粒子の表面電位を低下させ、安定性を阻害したり、塗布膜の絶縁性や電気的特性等の変化が生じ易いという問題がある。
金属含有量の測定方法は、上記シリカ粒子分散液の金属含有量の測定方法と同様である。
Silica-based particle dispersion
The silica-based particle dispersion liquid of the present invention is required to have high purity, for example, for polishing of semiconductors, and alkali metals, alkaline earth metals, Zn, Pb, Ag, Mn, Co, Mo, Cu, Ni, etc. The content of each of Cr, U and Th is preferably 10 ppm or less, more preferably 1 ppm or less, still more preferably 0.5 ppm or less, with respect to silica.
When the content of each of these metals is more than 10 ppm with respect to silica, the surface potential of the particles is lowered to inhibit the stability, and the insulating property of the coating film, the change of the electrical characteristics and the like are easily caused There's a problem.
The measuring method of metal content is the same as the measuring method of the metal content of the said silica particle dispersion liquid.

(実施例1)
変性エチルアルコ−ル(AP−11)22gを撹拌しながら、テトラエトキシシランを0.49g添加した溶液(第1の溶液)を調製した。また、第2の溶液であるバブル水溶液は、旋回流方式のバブル発生装置(株式会社Ligaric製 HYK−20−SD)で水とOを接触させて、Oマイクロナノバブル水(平均気泡径:70nm、気泡個数:2.4億個/mL)を調製した。この第2の溶液25gを第1の溶液へ添加して、25℃で5時間反応させて、実施例1に係るシリカ粒子分散液を得た。
実施例1に係るシリカ粒子分散液中のシリカ粒子の平均粒子径は5nmであり、図1に示すように均一な微粒子であった。また、シリカ粒子と微小気泡が共存している実施例1に係るシリカ粒子分散液を限外濾過膜(旭化成製SIP−1013分画分子量6000)でろ過してシリカ粒子を取り除き、濾液中のナノバブルの平均気泡径と気泡個数を測定したところ、75nm、1.5億個/mLであった。処理条件等および各測定結果を表1に示す。
Example 1
While stirring 22 g of modified ethyl alcohol (AP-11), a solution (first solution) was prepared by adding 0.49 g of tetraethoxysilane. Further, the bubble solution as the second solution is brought into contact with water and O 2 with a swirl flow type bubble generator (HYK-20-SD manufactured by Ligaric Co., Ltd.) to obtain O 2 micro-nano bubble water (average bubble diameter: 70 nm, number of bubbles: 240 million cells / mL) was prepared. 25 g of this second solution was added to the first solution, and reacted at 25 ° C. for 5 hours to obtain a silica particle dispersion liquid according to Example 1.
The average particle diameter of the silica particle in the silica particle dispersion liquid which concerns on Example 1 was 5 nm, and as shown in FIG. 1, it was a uniform fine particle. In addition, the silica particle dispersion liquid according to Example 1 in which the silica particles and the microbubbles coexist is filtered through an ultrafiltration membrane (SIP-1013 fraction molecular weight 6000, manufactured by Asahi Kasei Corp.) to remove the silica particles, and the nanobubbles in the filtrate The average cell size and the number of cells were measured to be 75 nm and 150 million cells / mL. Processing conditions etc. and each measurement result are shown in Table 1.

[シリカ粒子の平均粒子径]
シリカ粒子の平均粒子径は、画像解析法により測定した。具体的には、透過型電子顕微鏡(株式会社日立製作所製、H−800)により、シリカ粒子分散液を電子顕微鏡用銅セルのコロジオン膜上で乾燥して、倍率25万倍で写真撮影して得られる写真投影図における、任意の500個の粒子について、その粒子径を測定し、その平均値をシリカ粒子の平均粒子径とした。
[Average particle size of silica particles]
The average particle size of the silica particles was measured by an image analysis method. Specifically, the silica particle dispersion is dried on a collodion film of a copper cell for an electron microscope with a transmission electron microscope (H-800, manufactured by Hitachi, Ltd.), and photographed at a magnification of 250,000. The particle diameters of arbitrary 500 particles in the obtained photographic projection were measured, and the average value was taken as the average particle diameter of the silica particles.

[ナノバブルの平均気泡径と気泡個数]
ナノバブルの平均気泡径及び気泡個数は、液中の気泡のブラウン運動移動速度をナノ粒子トラッキング解析法を用いて測定した。具体的には、測定試料(第2の溶液、又は実施例1に係るシリカ粒子分散液の濾液)約20mLを吸引させながら測定機器(Malvern社製「ナノサイト NS300」)に注入し、ナノ粒子トラッキング解析法にて測定した。
[Average bubble size and number of bubbles of nano bubble]
The average bubble size and the number of bubbles of the nanobubbles were measured by using the nanoparticle tracking analysis method for the Brownian movement of the bubbles in the liquid. Specifically, while aspirating about 20 mL of a measurement sample (the second solution or the filtrate of the silica particle dispersion according to Example 1), the solution is injected into a measurement device ("Nanosite NS300" manufactured by Malvern), It measured by the tracking analysis method.

[シリカ微粒子中のNa量]
シリカ微粒子に含まれるNa量は、調製されたシリカ粒子分散液を陽イオン交換樹脂でイオン交換して得られるシリカ粒子分散液(A)をICP質量分析法により測定した。
[Amount of Na in silica fine particles]
The amount of Na contained in the silica fine particles was measured by ICP mass spectrometry of the silica particle dispersion (A) obtained by ion-exchanging the prepared silica particle dispersion with a cation exchange resin.

[分散液中のNHの合計含有量]
窒素原子を含む化合物のNHの合計含有量は、以下のアンモニア分析方法及びアミン類分析方法の基づきそれぞれ測定し、各測定値を合計して求めた。
(1)アンモニア分析方法
ケルダール法にて測定した。具体的には、試料を硫酸等を用いて加熱分解し、試料中の窒素を硫酸アンモニウムとし、次に分解液をアルカリ性として、遊離したアンモニアを蒸留し、そのアンモニア量を滴定により測定した。
(2)アミン類分析方法
イオンクロマトグラフィーにて測定した。具体的には、試料をイオンクロマトグラフ装置(装置型式:ICS−1000)に直接導入することにより、検量線から含有量を求め定量した。
[Total content of NH X in the dispersion]
The total content of NH X of the compound containing a nitrogen atom was measured on the basis of the following ammonia analysis method and amines analysis method, respectively, and the respective measured values were summed to determine.
(1) Ammonia analysis method It measured by the Kjeldahl method. Specifically, the sample was thermally decomposed using sulfuric acid or the like, nitrogen in the sample was changed to ammonium sulfate, then the decomposition solution was made alkaline, liberated ammonia was distilled, and the amount of ammonia was measured by titration.
(2) Amines analysis method It measured by ion chromatography. Specifically, the content was determined from the calibration curve and quantified by directly introducing the sample into an ion chromatograph (model: ICS-1000).

[分散液中のAl等の含有量]
シリカ粒子分散液中のAl、Ca、Mg、Ti、K、Zn、Pb、Cr、Fe、Mn、Ag、Cu、及びNiのそれぞれの含有量は、ICP質量分析法で求めた。
[Content of Al etc. in Dispersion]
The content of each of Al, Ca, Mg, Ti, K, Zn, Pb, Cr, Fe, Mn, Ag, Cu, and Ni in the silica particle dispersion liquid was determined by ICP mass spectrometry.

(実施例2)
変性エチルアルコ−ル(AP−11)22gを撹拌しながら、テトラエトキシシランを0.49g添加した溶液(第1の溶液)を調製した。また、第2の溶液であるバブル水溶液は、旋回流方式のバブル発生装置(株式会社Ligaric製 HYK−20−SD)で水とNを接触させて、Nマイクロナノバブル水(平均気泡径:79nm、気泡個数:2.0億個/mL)を調製した。この第2の溶液25gを第1の溶液へ添加して、25℃で5時間反応させて、実施例2に係るシリカ粒子分散液を得た。
実施例2に係るシリカ粒子分散液中のシリカ粒子の平均粒子径は5nmであり、図2に示すように均一な微粒子であった。また、シリカ粒子と微小気泡が共存している実施例2に係るシリカ粒子分散液を限外濾過膜(旭化成製SIP−1013分画分子量6000)でろ過してシリカ粒子を取り除き、濾液中のナノバブルの平均気泡径と気泡個数を測定したところ、80nm、1.4億個/mLであった。処理条件等および各測定結果を表1に示す。
(Example 2)
While stirring 22 g of modified ethyl alcohol (AP-11), a solution (first solution) was prepared by adding 0.49 g of tetraethoxysilane. In addition, the second solution, bubble aqueous solution, is brought into contact with water and N 2 with a swirl flow type bubble generator (HYK-20-SD manufactured by Ligaric Co., Ltd.), and N 2 micro-nano bubble water (average bubble diameter: 79 nm, bubble number: 200 million cells / mL) was prepared. 25 g of this second solution was added to the first solution and allowed to react at 25 ° C. for 5 hours to obtain a silica particle dispersion liquid according to Example 2.
The average particle diameter of the silica particle in the silica particle dispersion liquid which concerns on Example 2 was 5 nm, and as shown in FIG. 2, it was a uniform fine particle. In addition, the silica particle dispersion liquid according to Example 2 in which the silica particles and the microbubbles coexist is filtered through an ultrafiltration membrane (SIP-1013 fraction molecular weight 6000, manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) to remove the silica particles, and the nanobubbles in the filtrate The average cell diameter and the number of cells were measured to be 80 nm and 140 million cells / mL. Processing conditions etc. and each measurement result are shown in Table 1.

(実施例3)
変性エチルアルコ−ル(AP−11)22gを撹拌しながら、テトラエトキシシランを0.49g添加した溶液(第1の溶液)を調製した。また、第2の溶液であるバブル水溶液は、旋回流方式のバブル発生装置(株式会社Ligaric製 HYK−20−SD)で水とOを接触させて、Oマイクロナノバブル水(平均気泡径:65nm、気泡個数:1.6億個/mL)を調製した。この第2の溶液25gを第1の溶液へ添加して、25℃で5時間反応させて、実施例3に係るシリカ粒子分散液を得た。
実施例3に係るシリカ粒子分散液中のシリカ粒子の平均粒子径は5nmであった。また、シリカ粒子と微小気泡が共存している実施例3に係るシリカ粒子分散液を限外濾過膜(旭化成製SIP−1013分画分子量6000)でろ過してシリカ粒子を取り除き、濾液中のナノバブルの平均気泡径と気泡個数を測定したところ、70nm、1.5億個/mLであった。処理条件等および各測定結果を表1に示す。
(Example 3)
While stirring 22 g of modified ethyl alcohol (AP-11), a solution (first solution) was prepared by adding 0.49 g of tetraethoxysilane. Further, the bubble solution as the second solution is brought into contact with water and O 3 with a swirl flow type bubble generator (HYK-20-SD manufactured by Ligaric Co., Ltd.), and O 3 micro-nano bubble water (average bubble diameter: 65 nm, number of bubbles: 160 million cells / mL) was prepared. 25 g of this second solution was added to the first solution, and reacted at 25 ° C. for 5 hours to obtain a silica particle dispersion liquid according to Example 3.
The average particle diameter of the silica particles in the silica particle dispersion liquid according to Example 3 was 5 nm. In addition, the silica particle dispersion liquid according to Example 3 in which the silica particles and the microbubbles coexist is filtered through an ultrafiltration membrane (SIP-1013 fraction molecular weight 6000, manufactured by Asahi Kasei Corp.) to remove the silica particles, and the nanobubbles in the filtrate The average cell size and the number of cells were 70 nm and 150 million cells / mL. Processing conditions etc. and each measurement result are shown in Table 1.

(実施例4)
変性エチルアルコ−ル(AP−11)22gを撹拌しながら、テトラエトキシシランを0.49g添加した溶液(第1の溶液)を調製した。また、第2の溶液であるバブル水溶液は、旋回流方式のバブル発生装置(株式会社Ligaric製 HYK−20−SD)で水と希ガス(Ar)を接触させて、Arマイクロナノバブル水(平均気泡径:75nm、気泡個数:1.6億個/mL)を調製した。この第2の溶液25gを第1の溶液へ添加して、25℃で5時間反応させて、実施例4に係るシリカ粒子分散液を得た。
実施例4に係るシリカ粒子分散液中のシリカ粒子の平均粒子径は5nmであった。また、シリカ粒子と微小気泡が共存している実施例4に係るシリカ粒子分散液を限外濾過膜(旭化成製SIP−1013分画分子量6000)でろ過してシリカ粒子を取り除き、濾液中のナノバブルの平均気泡径と気泡個数を測定したところ、77nm、1.4億個/mLであった。処理条件等および各測定結果を表1に示す。
(Example 4)
While stirring 22 g of modified ethyl alcohol (AP-11), a solution (first solution) was prepared by adding 0.49 g of tetraethoxysilane. Further, the second solution, bubble aqueous solution, is brought into contact with water and a rare gas (Ar) with a swirl flow type bubble generator (HYK-20-SD manufactured by Ligaric Co., Ltd.) to obtain Ar micro-nano bubble water (average bubble The diameter: 75 nm, the number of bubbles: 160 million cells / mL) was prepared. 25 g of this second solution was added to the first solution and reacted at 25 ° C. for 5 hours to obtain a silica particle dispersion liquid according to Example 4.
The average particle diameter of the silica particles in the silica particle dispersion according to Example 4 was 5 nm. In addition, the silica particle dispersion liquid according to Example 4 in which the silica particles and the microbubbles coexist is filtered through an ultrafiltration membrane (SIP-1013 fraction molecular weight 6000, manufactured by Asahi Kasei Corp.) to remove the silica particles, and the nanobubbles in the filtrate The average cell diameter and the number of cells were measured to be 77 nm and 140 million cells / mL. Processing conditions etc. and each measurement result are shown in Table 1.

(実施例5)
変性エチルアルコ−ル(AP−11)22gを撹拌しながら、テトラエトキシシランを0.49g添加した溶液(第1の溶液)を調製した。また、第2の溶液であるバブル水溶液は、微細細孔方式のバブル発生装置(ナノクス社製 FK・MP・SO 25CW−T1)で水とNを接触させて、Nマイクロナノバブル水(平均気泡径:291nm、気泡個数:1.1億個/mL)を調製した。この第2の溶液25gを第1の溶液へ添加して、25℃で5時間反応させて、実施例5に係るシリカ粒子分散液を得た。
実施例5に係るシリカ粒子分散液中のシリカ粒子の平均粒子径は5nmであった。また、シリカ粒子と微小気泡が共存している実施例5に係るシリカ粒子分散液を限外濾過膜(旭化成製SIP−1013分画分子量6000)でろ過してシリカ粒子を取り除き、濾液中のナノバブルの平均気泡径と気泡個数を測定したところ、294nm、1.0億個/mLであった。処理条件等および各測定結果を表1に示す。
(Example 5)
While stirring 22 g of modified ethyl alcohol (AP-11), a solution (first solution) was prepared by adding 0.49 g of tetraethoxysilane. In addition, the second solution, bubble aqueous solution, is brought into contact with water and N 2 with a micropore type bubble generator (FN · MP · SO 25 CW-T1 manufactured by Nanox Co., Ltd.) to obtain N 2 micro-nano bubble water (average Cell diameter: 291 nm, number of cells: 110 million cells / mL) was prepared. 25 g of this second solution was added to the first solution and allowed to react at 25 ° C. for 5 hours to obtain a silica particle dispersion liquid according to Example 5.
The average particle diameter of the silica particles in the silica particle dispersion according to Example 5 was 5 nm. In addition, the silica particle dispersion liquid according to Example 5 in which the silica particles and the microbubbles coexist is filtered through an ultrafiltration membrane (SIP-1013 fraction molecular weight 6000, manufactured by Asahi Kasei Corp.) to remove the silica particles, and the nanobubbles in the filtrate The average cell size and the number of cells were measured to be 294 nm and 100 million cells / mL. Processing conditions etc. and each measurement result are shown in Table 1.

(実施例6)
変性エチルアルコ−ル(AP−11)22gを撹拌しながら、テトラエトキシシランを0.49g添加した溶液(第1の溶液)を調製した。また、第2の溶液であるバブル水溶液は、旋回流方式のバブル発生装置(株式会社Ligaric製 HYK−20−SD)で水とNを接触させて、Nマイクロナノバブル水(平均気泡径:79nm、気泡個数:0.1億個/mL)を調製した。この第2の溶液25gを第1の溶液へ添加して、25℃で5時間反応させて、実施例6に係るシリカ粒子分散液を得た。
実施例6に係るシリカ粒子分散液中のシリカ粒子の平均粒子径は6nmであった。また、シリカ粒子と微小気泡が共存している実施例6に係るシリカ粒子分散液を限外濾過膜(旭化成製SIP−1013分画分子量6000)でろ過してシリカ粒子を取り除き、濾液中のナノバブルの平均気泡径と気泡個数を測定したところ、82nm、0.08億個/mLであった。処理条件等および各測定結果を表1に示す。
(Example 6)
While stirring 22 g of modified ethyl alcohol (AP-11), a solution (first solution) was prepared by adding 0.49 g of tetraethoxysilane. In addition, the second solution, bubble aqueous solution, is brought into contact with water and N 2 with a swirl flow type bubble generator (HYK-20-SD manufactured by Ligaric Co., Ltd.), and N 2 micro-nano bubble water (average bubble diameter: 79 nm, number of bubbles: 10 100 cells / mL) was prepared. 25 g of this second solution was added to the first solution and allowed to react at 25 ° C. for 5 hours to obtain a silica particle dispersion liquid according to Example 6.
The average particle diameter of the silica particles in the silica particle dispersion according to Example 6 was 6 nm. In addition, the silica particle dispersion liquid according to Example 6 in which the silica particles and the microbubbles coexist is filtered through an ultrafiltration membrane (SIP-1013 fraction molecular weight 6000, manufactured by Asahi Kasei Corp.) to remove the silica particles, and the nanobubbles in the filtrate The average cell diameter and the number of cells were measured to be 82 nm and 0.080 8 cells / mL. Processing conditions etc. and each measurement result are shown in Table 1.

(実施例7)
変性エチルアルコ−ル(AP−11)22gを撹拌しながら、テトラメトキシシランを0.49g添加した溶液(第1の溶液)を調製した。また、第2の溶液であるバブル水溶液は、旋回流方式のバブル発生装置(株式会社Ligaric製 HYK−20−SD)で水とNを接触させて、Nマイクロナノバブル水(平均気泡径:79nm、気泡個数:2.0億個/mL)を調製した。この第2の溶液25gを第1の溶液へ添加して、25℃で5時間反応させて、実施例7に係るシリカ粒子分散液を得た。
実施例7に係るシリカ粒子分散液中のシリカ粒子の平均粒子径は5nmであった。また、シリカ粒子と微小気泡が共存している実施例7に係るシリカ粒子分散液を限外濾過膜(旭化成製SIP−1013分画分子量6000)でろ過してシリカ粒子を取り除き、濾液中のナノバブルの平均気泡径と気泡個数を測定したところ、80nm、1.8億個/mLであった。処理条件等および各測定結果を表1に示す。
(Example 7)
While stirring 22 g of denatured ethyl alcohol (AP-11), a solution (first solution) was prepared by adding 0.49 g of tetramethoxysilane. In addition, the second solution, bubble aqueous solution, is brought into contact with water and N 2 with a swirl flow type bubble generator (HYK-20-SD manufactured by Ligaric Co., Ltd.), and N 2 micro-nano bubble water (average bubble diameter: 79 nm, bubble number: 200 million cells / mL) was prepared. 25 g of this second solution was added to the first solution, and reacted at 25 ° C. for 5 hours to obtain a silica particle dispersion liquid according to Example 7.
The average particle diameter of the silica particles in the silica particle dispersion according to Example 7 was 5 nm. In addition, the silica particle dispersion liquid according to Example 7 in which the silica particles and the microbubbles coexist is filtered through an ultrafiltration membrane (SIP-1013 fraction molecular weight 6000, manufactured by Asahi Kasei Corp.) to remove the silica particles, and the nanobubbles in the filtrate Of the average cell diameter and the number of cells were 80 nm and 180 million cells / mL. Processing conditions etc. and each measurement result are shown in Table 1.

(実施例8)
変性エチルアルコ−ル(AP−11)22gを撹拌しながら、テトラエトキシシランを0.49g添加した溶液(第1の溶液)を調製した。また、第2の溶液であるバブル水溶液は、旋回流方式のバブル発生装置(株式会社Ligaric製 HYK−20−SD)で水とNを接触させて、Nマイクロナノバブル水(平均気泡径:79nm、気泡個数:2.0億個/mL)を調製した。この第2の溶液25gを第1の溶液へ添加して、60℃で5時間反応させて、実施例8に係るシリカ粒子分散液を得た。
実施例8に係るシリカ粒子分散液中のシリカ粒子の平均粒子径は5nmであった。また、シリカ粒子と微小気泡が共存している実施例8に係るシリカ粒子分散液を限外濾過膜(旭化成製SIP−1013分画分子量6000)でろ過してシリカ粒子を取り除き、濾液中のナノバブルの平均気泡径と気泡個数を測定したところ、81nm、1.7億個/mLであった。処理条件等および各測定結果を表1に示す。
(Example 8)
While stirring 22 g of modified ethyl alcohol (AP-11), a solution (first solution) was prepared by adding 0.49 g of tetraethoxysilane. In addition, the second solution, bubble aqueous solution, is brought into contact with water and N 2 with a swirl flow type bubble generator (HYK-20-SD manufactured by Ligaric Co., Ltd.), and N 2 micro-nano bubble water (average bubble diameter: 79 nm, bubble number: 200 million cells / mL) was prepared. 25 g of this second solution was added to the first solution and reacted at 60 ° C. for 5 hours to obtain a silica particle dispersion liquid according to Example 8.
The average particle diameter of the silica particles in the silica particle dispersion liquid according to Example 8 was 5 nm. In addition, the silica particle dispersion liquid according to Example 8 in which the silica particles and the microbubbles coexist is filtered through an ultrafiltration membrane (SIP-1013 fraction molecular weight 6000, manufactured by Asahi Kasei Corp.) to remove the silica particles, and the nanobubbles in the filtrate The average cell diameter and the number of cells were measured, and it was 81 nm and 170 million cells / mL. Processing conditions etc. and each measurement result are shown in Table 1.

(実施例9)
変性エチルアルコ−ル(AP−11)22gを撹拌しながら、テトラエトキシシランを0.49g添加した溶液(第1の溶液)を調製した。また、第2の溶液であるバブル水溶液は、旋回流方式のバブル発生装置(株式会社Ligaric製 HYK−20−SD)で水とHを接触させて、Hマイクロナノバブル水(平均気泡径:79nm、気泡個数:2.0億個/mL)を調製した。この第2の溶液25gを第1の溶液へ添加して、25℃で5時間反応させて、実施例9に係るシリカ粒子分散液を得た。
実施例9に係るシリカ粒子分散液中のシリカ粒子の平均粒子径は5nmであった。また、シリカ粒子と微小気泡が共存している実施例9に係るシリカ粒子分散液を限外濾過膜(旭化成製SIP−1013分画分子量6000)でろ過してシリカ粒子を取り除き、濾液中のナノバブルの平均気泡径と気泡個数を測定したところ、80nm、1.9億個/mLであった。処理条件等および各測定結果を表1に示す。
(Example 9)
While stirring 22 g of modified ethyl alcohol (AP-11), a solution (first solution) was prepared by adding 0.49 g of tetraethoxysilane. In addition, the second solution, bubble aqueous solution, is brought into contact with water and H 2 with a swirl flow type bubble generator (HYK-20-SD manufactured by Ligaric Co., Ltd.), and H 2 micro-nano bubble water (average bubble diameter: 79 nm, bubble number: 200 million cells / mL) was prepared. 25 g of this second solution was added to the first solution, and reacted at 25 ° C. for 5 hours to obtain a silica particle dispersion liquid according to Example 9.
The average particle diameter of the silica particles in the silica particle dispersion liquid according to Example 9 was 5 nm. In addition, the silica particle dispersion liquid according to Example 9 in which the silica particles and the microbubbles coexist is filtered through an ultrafiltration membrane (SIP-1013 fraction molecular weight 6000, manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) to remove the silica particles, and the nanobubbles in the filtrate The average cell diameter and the number of cells were measured to be 80 nm and 1.9 billion cells / mL. Processing conditions etc. and each measurement result are shown in Table 1.

(実施例10)
変性エチルアルコ−ル(AP−11)22gを撹拌しながら、テトラエトキシシランを0.49g添加した溶液(第1の溶液)を調製した。また、第2の溶液であるバブル水溶液は、旋回流方式のバブル発生装置(株式会社Ligaric製 HYK−20−SD)で水とNを接触させて、Nマイクロナノバブル水(平均気泡径:105nm、気泡個数:80億個/mL)を調製した。この第2の溶液25gを第1の溶液へ添加して、25℃で5時間反応させて、実施例10に係るシリカ粒子分散液を得た。
実施例10に係るシリカ粒子分散液中のシリカ粒子の平均粒子径は5nmであった。また、シリカ粒子と微小気泡が共存している実施例10に係るシリカ粒子分散液を限外濾過膜(旭化成製SIP−1013分画分子量6000)でろ過してシリカ粒子を取り除き、濾液中のナノバブルの平均気泡径と気泡個数を測定したところ、200nm、19億個/mLであった。処理条件等および各測定結果を表1に示す。
(Example 10)
While stirring 22 g of modified ethyl alcohol (AP-11), a solution (first solution) was prepared by adding 0.49 g of tetraethoxysilane. In addition, the second solution, bubble aqueous solution, is brought into contact with water and N 2 with a swirl flow type bubble generator (HYK-20-SD manufactured by Ligaric Co., Ltd.), and N 2 micro-nano bubble water (average bubble diameter: 105 nm, number of bubbles: 8 billion cells / mL) was prepared. 25 g of this second solution was added to the first solution, and reacted at 25 ° C. for 5 hours to obtain a silica particle dispersion liquid according to Example 10.
The average particle diameter of the silica particles in the silica particle dispersion liquid according to Example 10 was 5 nm. In addition, the silica particle dispersion liquid according to Example 10 in which the silica particles and the microbubbles coexist is filtered through an ultrafiltration membrane (SIP-1013 fraction molecular weight 6000, manufactured by Asahi Kasei Corp.) to remove the silica particles, and the nanobubbles in the filtrate The average cell diameter and the number of cells were measured to be 200 nm and 1.9 billion cells / mL. Processing conditions etc. and each measurement result are shown in Table 1.

(実施例11)
変性エチルアルコ−ル(AP−11)22gを撹拌しながら、テトラエトキシシランを0.49g添加した溶液(第1の溶液)を調製した。また、第2の溶液であるバブル水溶液は、旋回流方式のバブル発生装置(株式会社Ligaric製 HYK−20−SD)で水とNを接触させて、Nマイクロナノバブル水(平均気泡径:8000nm、気泡個数:1.0億個/mL)を調製した。この第2の溶液25gを第1の溶液へ添加して、25℃で5時間反応させて、実施例11に係るシリカ粒子分散液を得た。
実施例11に係るシリカ粒子分散液中のシリカ粒子の平均粒子径は5nmであった。また、シリカ粒子と微小気泡が共存している実施例11に係るシリカ粒子分散液を限外濾過膜(旭化成製SIP−1013分画分子量6000)でろ過してシリカ粒子を取り除き、濾液中のナノバブルの平均気泡径と気泡個数を測定したところ、8100nm、0.8億個/mLであった。処理条件等および各測定結果を表1に示す。
(Example 11)
While stirring 22 g of modified ethyl alcohol (AP-11), a solution (first solution) was prepared by adding 0.49 g of tetraethoxysilane. In addition, the second solution, bubble aqueous solution, is brought into contact with water and N 2 with a swirl flow type bubble generator (HYK-20-SD manufactured by Ligaric Co., Ltd.), and N 2 micro-nano bubble water (average bubble diameter: 8000 nm, bubble number: 100 million cells / mL) was prepared. 25 g of this second solution was added to the first solution, and reacted at 25 ° C. for 5 hours to obtain a silica particle dispersion liquid according to Example 11.
The average particle diameter of the silica particles in the silica particle dispersion liquid according to Example 11 was 5 nm. In addition, the silica particle dispersion liquid according to Example 11 in which the silica particles and the microbubbles coexist is filtered through an ultrafiltration membrane (SIP-1013 fraction molecular weight 6000, manufactured by Asahi Kasei Corp.) to remove the silica particles, and the nanobubbles in the filtrate The average cell diameter and the number of cells were measured to be 8100 nm and 0.8 billion cells / mL. Processing conditions etc. and each measurement result are shown in Table 1.

(比較例1)
変性エチルアルコ−ル(AP−11)22gを撹拌しながら、テトラエトキシシランを0.49g添加した溶液(第1の溶液)を調製した。また、第2の溶液として、イオン交換水を用いた。この第2の溶液25gを第1の溶液へ添加して、25℃で5時間反応させたが、粒子は生成しなかった。
(Comparative example 1)
While stirring 22 g of modified ethyl alcohol (AP-11), a solution (first solution) was prepared by adding 0.49 g of tetraethoxysilane. In addition, ion-exchanged water was used as a second solution. 25 g of this second solution was added to the first solution and reacted for 5 hours at 25 ° C., but no particles were formed.

(比較例2)
変性エチルアルコ−ル(AP−11)22gを撹拌しながら、テトラエトキシシランを0.49g添加した溶液(第1の溶液)を調製した。また、第2の溶液として、蒸留水を用いた。この第2の溶液25gを第1の溶液へ添加して、25℃で5時間反応させたが、粒子は生成しなかった。
(Comparative example 2)
While stirring 22 g of modified ethyl alcohol (AP-11), a solution (first solution) was prepared by adding 0.49 g of tetraethoxysilane. In addition, distilled water was used as a second solution. 25 g of this second solution was added to the first solution and reacted for 5 hours at 25 ° C., but no particles were formed.

(比較例3)
変性エチルアルコ−ル(AP−11)22gを撹拌しながら、テトラエトキシシランを0.49g添加した溶液(第1の溶液)を調製した。また、第2の溶液であるバブル水溶液は、旋回流方式のバブル発生装置(株式会社Ligaric製 HYK−20−SD)で水とNを接触させて、N気泡水(平均気泡径:12000nm、気泡個数:0.1億個/mL)を調製した。この第2の溶液25gを第1の溶液へ添加して、25℃で5時間反応させたが、粒子は生成しなかった。
(Comparative example 3)
While stirring 22 g of modified ethyl alcohol (AP-11), a solution (first solution) was prepared by adding 0.49 g of tetraethoxysilane. Further, the bubble solution as the second solution is brought into contact with water and N 2 with a swirl flow type bubble generator (HYK-20-SD manufactured by Ligaric Co., Ltd.), and N 2 bubble water (average bubble diameter: 12000 nm) , Number of bubbles: 0.1 billion pieces / mL). 25 g of this second solution was added to the first solution and reacted for 5 hours at 25 ° C., but no particles were formed.

表1に示すように、微小気泡(マイクロナノバブル)を用いて、テトラメチルアルコキシシランやテトラエチルアルコキシシラン等のシランアルコキシドを加水分解することにより、5nm程度のシリカ微粒子が製造されることが確認された。   As shown in Table 1, it was confirmed that silica fine particles of about 5 nm were produced by hydrolyzing a silane alkoxide such as tetramethylalkoxysilane or tetraethylalkoxysilane using microbubbles (micro-nano bubbles). .

(実施例12)
〈微粒子調製工程〉
変性エチルアルコ−ル(AP−11)814gを撹拌しながら、テトラエトキシシランを19.4g添加した溶液(第1の溶液)を調製した。また、第2の溶液であるバブル水溶液は、旋回流方式のバブル発生装置(株式会社Ligaric製 HVK−20−SD)で水とOを接触させて、Oマイクロナノバブル水(平均気泡径:121nm,気泡個数:1.69億個/mL)を調製した。この第2の溶液971gを第1の溶液へ添加して、25℃で5時間反応させて、シリカ粒子分散液(A液)を得た。なお、以下の実施例で用いたOマイクロナノバブル水は、本実施例における第2溶液と同様のものである。
(Example 12)
<Fine particle preparation process>
While stirring 814 g of modified ethyl alcohol (AP-11), a solution (first solution) was prepared by adding 19.4 g of tetraethoxysilane. Further, the bubble solution as the second solution is brought into contact with water and O 2 with a swirl flow type bubble generator (HVK-20-SD manufactured by Ligaric Co., Ltd.), and O 2 micro-nano bubble water (average bubble diameter: 121 nm, bubble number: 169 million cells / mL) was prepared. 971 g of this second solution was added to the first solution and allowed to react at 25 ° C. for 5 hours to obtain a silica particle dispersion (liquid A). The O 2 micro-nano bubble water used in the following examples is the same as the second solution in this example.

このA液をロータリエバポレータ装置(RE装置)を用いて、375gとなるように濃縮した。この溶液へ純水を450g添加し、RE装置で濃縮し、濃縮液300gを得た。この純水を添加しRE装置で濃縮する操作を2回繰り返し行い、水分散液を得た(水溶媒置換工程)。その後、3質量%アンモニア水と純水を用いてpH9.3に調整し、シリカ濃度1質量%の水に分散したシリカ粒子分散液(B液)を得た。B液中のシリカ粒子の平均粒子径は、5nmであった。詳細は、表2に示す(以下同様)。   The solution A was concentrated to 375 g using a rotary evaporator (RE device). To this solution was added 450 g of pure water, and the mixture was concentrated by an RE apparatus to obtain 300 g of a concentrated solution. The operation of adding this pure water and concentrating with the RE apparatus was repeated twice to obtain an aqueous dispersion (water solvent replacement step). Thereafter, the pH was adjusted to 9.3 using 3 mass% ammonia water and pure water, to obtain a silica particle dispersion liquid (liquid B) dispersed in water having a silica concentration of 1 mass%. The average particle size of the silica particles in solution B was 5 nm. Details are shown in Table 2 (same below).

〈粒子成長工程〉
微粒子調製工程で調製したB液を100g採取し、200gの純水と混合してシード溶液とした。一方、シリカ濃度2.5質量%の3号水ガラスを陽イオン交換して得られた珪酸液を、再度陽イオン交換して、シリカ濃度2.3質量%の珪酸液(添加物質I)を準備した。
シーディングとして、シード溶液を撹拌しながら、80℃まで加温し0.5時間保持した。続いて、シード溶液に対して、3質量%アンモニア溶液を添加して溶液のpHを9.0にコントロールしながら、10℃に調整された上記水ガラス由来の珪酸液(添加物質I)1080gを3.6g/分の速度で添加し、シリカ系粒子分散液を得た。これをRE装置で濃縮(脱有機溶媒工程)し、3質量%アンモニア水でpH9に調整した。製造されたシリカ系粒子分散液の濃度はSiO換算で10質量%であった。また、シリカ系粒子の平均粒子径は12.5nm、標準偏差は3.1nm、CV値は0.25であった。詳細は、表2に示す(以下同様)。
Particle Growth Process
100 g of the solution B prepared in the fine particle preparation step was collected and mixed with 200 g of pure water to make a seed solution. On the other hand, the silicic acid solution obtained by cation exchange of No. 3 water glass having a silica concentration of 2.5% by mass is subjected to cation exchange again to form a silicic acid solution having a silica concentration of 2.3% by mass (Additive substance I) Got ready.
As seeding, while stirring the seed solution, it was heated to 80 ° C. and held for 0.5 hours. Subsequently, while the pH of the solution is controlled to be 9.0 by adding a 3% by mass ammonia solution to the seed solution, 1080 g of the above water glass-derived silicic acid (Additive substance I) adjusted to 10 ° C. A silica-based particle dispersion was obtained by adding at a rate of 3.6 g / min. The concentrate was concentrated (deorganic solvent step) with an RE apparatus, and adjusted to pH 9 with 3% by mass ammonia water. The concentration of the produced silica-based particle dispersion was 10% by mass in terms of SiO 2 . The average particle size of the silica-based particles was 12.5 nm, the standard deviation was 3.1 nm, and the CV value was 0.25. Details are shown in Table 2 (same below).

なお、標準偏差及びCV値は、実施例1におけるシリカ粒子の測定法に従って測定した平均粒子径により算出した(以下同様)。   In addition, the standard deviation and CV value were computed by the average particle diameter measured according to the measuring method of the silica particle in Example 1 (following same).

(実施例13)
実施例12と同様に調製したB液を100g採取し、200gの純水と混合してシード溶液とした。一方、Oマイクロナノバブル水1017gに63gのテトラメトキシシランを添加してシリカ濃度2.3質量%のシリカ溶液(添加物質I)を準備した。
シーディングとして、シード溶液を撹拌しながら、80℃まで加温し0.5時間保持した。続いて、シード溶液に対して、3質量%アンモニア溶液を添加して溶液のpHを9.0にコントロールしながら、10℃に調整された上記テトラメトキシシラン由来のシリカ溶液(添加物質I)1080gを3.6g/分の速度で添加し、シリカ系粒子分散液を得た。これをRE装置で濃縮し、3質量%アンモニア水でpH9に調整した。製造されたシリカ系粒子分散液の濃度はSiO換算で10質量%であった。また、シリカ系粒子の平均粒子径は23.0nm、標準偏差は4.6nm、CV値は0.20であった。
(Example 13)
100 g of solution B prepared in the same manner as in Example 12 was collected and mixed with 200 g of pure water to prepare a seed solution. On the other hand, 63 g of tetramethoxysilane was added to 1017 g of O 2 micro-nano bubble water to prepare a silica solution (additive substance I) having a silica concentration of 2.3 mass%.
As seeding, while stirring the seed solution, it was heated to 80 ° C. and held for 0.5 hours. Subsequently, to the seed solution, a 3% by mass ammonia solution was added to control the pH of the solution to 9.0, and the above tetramethoxysilane-derived silica solution (Additive substance I) adjusted to 10 ° C. 1080 g Was added at a rate of 3.6 g / min to obtain a silica-based particle dispersion. This was concentrated by an RE apparatus, and adjusted to pH 9 with 3 mass% ammonia water. The concentration of the produced silica-based particle dispersion was 10% by mass in terms of SiO 2 . The average particle size of the silica-based particles was 23.0 nm, the standard deviation was 4.6 nm, and the CV value was 0.20.

(実施例14)
実施例12と同様に調製したB液を100g採取し、25質量%TMAH溶液を2.8gと197.2gの純水と混合してシード溶液とした。このときの溶液のpHは12であった。一方、Oマイクロナノバブル水1017gに63gのテトラメトキシシランを添加してシリカ濃度2.3質量%のシリカ溶液(添加物質I)を準備した。
シーディングとして、シード溶液を撹拌しながら、80℃まで加温し0.5時間保持した。続いて、シード溶液に対して、10℃に調整された上記テトラメトキシシラン由来のシリカ溶液(添加物質I)1080gを3.6g/分の速度で添加し、シリカ系粒子分散液を得た。これをRE装置で濃縮し、3質量%アンモニア水でpH9に調整した。製造されたシリカ系粒子分散液の濃度はSiO換算で10質量%であった。また、シリカ系粒子の平均粒子径は19.5nm、標準偏差は5.1nm、CV値は0.26であった。
(Example 14)
100 g of solution B prepared in the same manner as in Example 12 was collected, and a 25 mass% TMAH solution was mixed with 2.8 g and 197.2 g of pure water to prepare a seed solution. The pH of the solution at this time was 12. On the other hand, 63 g of tetramethoxysilane was added to 1017 g of O 2 micro-nano bubble water to prepare a silica solution (additive substance I) having a silica concentration of 2.3 mass%.
As seeding, while stirring the seed solution, it was heated to 80 ° C. and held for 0.5 hours. Subsequently, 1080 g of the tetramethoxysilane-derived silica solution (added substance I) adjusted to 10 ° C. was added to the seed solution at a rate of 3.6 g / min to obtain a silica-based particle dispersion. This was concentrated by an RE apparatus, and adjusted to pH 9 with 3 mass% ammonia water. The concentration of the produced silica-based particle dispersion was 10% by mass in terms of SiO 2 . The average particle size of the silica-based particles was 19.5 nm, the standard deviation was 5.1 nm, and the CV value was 0.26.

(実施例15)
微粒子調製工程は、実施例13で得られたシリカゾルを30g採取し、270gのOマイクロナノバブル水と混合してシード溶液とした。一方、Oマイクロナノバブル水1017gに63gのテトラメトキシシランを添加してシリカ濃度2.3質量%のシリカ溶液(添加物質I)を準備した。
シーディングとして、シード溶液を撹拌しながら、80℃まで加温し0.5時間保持した。続いて、シード溶液に対して、3質量%アンモニア溶液を添加して溶液のpHを9.0にコントロールしながら、10℃に調整された上記テトラメトキシシラン由来のシリカ溶液(添加物質I)1080gを3.6g/分の速度で添加し、シリカ系粒子分散液を得た。これをRE装置で濃縮し、3質量%アンモニア水でpH9に調整した。製造されたシリカ系粒子分散液の濃度はSiO換算で10質量%であった。また、シリカ系粒子の平均粒子径は46.2nm、標準偏差は6.9nm、CV値は0.15であった。
(Example 15)
In the fine particle preparation step, 30 g of the silica sol obtained in Example 13 was collected and mixed with 270 g of O 2 micro-nano bubble water to prepare a seed solution. On the other hand, 63 g of tetramethoxysilane was added to 1017 g of O 2 micro-nano bubble water to prepare a silica solution (additive substance I) having a silica concentration of 2.3 mass%.
As seeding, while stirring the seed solution, it was heated to 80 ° C. and held for 0.5 hours. Subsequently, to the seed solution, a 3% by mass ammonia solution was added to control the pH of the solution to 9.0, and the above tetramethoxysilane-derived silica solution (Additive substance I) adjusted to 10 ° C. 1080 g Was added at a rate of 3.6 g / min to obtain a silica-based particle dispersion. This was concentrated by an RE apparatus, and adjusted to pH 9 with 3 mass% ammonia water. The concentration of the produced silica-based particle dispersion was 10% by mass in terms of SiO 2 . The average particle size of the silica-based particles was 46.2 nm, the standard deviation was 6.9 nm, and the CV value was 0.15.

(実施例16)
微粒子調製工程は、実施例15で得られたシリカ系粒子分散液を30g採取し、270gのOマイクロナノバブル水と混合してシード溶液とした。一方、Oマイクロナノバブル水1017gに63gのテトラメトキシシランを添加してシリカ濃度2.3質量%のシリカ溶液(添加物質I)を準備した。
シーディングとして、シード溶液を撹拌しながら、90℃まで加温し0.5時間保持した。続いて、シード溶液に対して、3質量%アンモニア溶液を添加して溶液のpHを9.0にコントロールしながら、10℃に調整された上記テトラメトキシシラン由来のシリカ溶液(添加物質I)1080gを1.8g/分の速度で添加し、シリカ系粒子分散液を得た。これをRE装置で濃縮し、3質量%アンモニア水でpH9に調整した。製造されたシリカ系粒子分散液の濃度はSiO換算で10質量%であった。また、シリカ系粒子の平均粒子径は92nm、標準偏差は12.9nm、CV値は、0.14であった。
(Example 16)
In the fine particle preparation step, 30 g of the silica-based particle dispersion obtained in Example 15 was collected and mixed with 270 g of O 2 micro-nano bubble water to prepare a seed solution. On the other hand, 63 g of tetramethoxysilane was added to 1017 g of O 2 micro-nano bubble water to prepare a silica solution (additive substance I) having a silica concentration of 2.3 mass%.
As seeding, while stirring the seed solution, it was heated to 90 ° C. and held for 0.5 hours. Subsequently, to the seed solution, a 3% by mass ammonia solution was added to control the pH of the solution to 9.0, and the above tetramethoxysilane-derived silica solution (Additive substance I) adjusted to 10 ° C. 1080 g Was added at a rate of 1.8 g / min to obtain a silica-based particle dispersion. This was concentrated by an RE apparatus, and adjusted to pH 9 with 3 mass% ammonia water. The concentration of the produced silica-based particle dispersion was 10% by mass in terms of SiO 2 . The average particle size of the silica-based particles was 92 nm, the standard deviation was 12.9 nm, and the CV value was 0.14.

(実施例17)
微粒子調製工程は、実施例16で得られたシリカ系粒子分散液を30g採取し、270gのOマイクロナノバブル水と混合してシード溶液とした。一方、Oマイクロナノバブル水1017gに63gのテトラメトキシシランを添加してシリカ濃度2.3質量%のシリカ溶液(添加物質I)を準備した。
シーディングとして、シード溶液を撹拌しながら、120℃まで加温し0.5時間保持した。続いて、シード溶液に対して、3質量%アンモニア溶液を添加して溶液のpHを9.0にコントロールしながら、10℃に調整された上記テトラメトキシシラン由来のシリカ溶液(添加物質I)1080gを1.2g/分の速度で添加し、シリカ系粒子分散液を得た。これをRE装置で濃縮し、3質量%アンモニア水でpH9に調整した。製造されたシリカ系粒子分散液の濃度はSiO換算で10質量%であった。また、シリカ系粒子の平均粒子径は180nm、標準偏差は21.6nm、CV値は0.12であった。
(Example 17)
In the fine particle preparation step, 30 g of the silica-based particle dispersion obtained in Example 16 was collected and mixed with 270 g of O 2 micro-nano bubble water to prepare a seed solution. On the other hand, 63 g of tetramethoxysilane was added to 1017 g of O 2 micro-nano bubble water to prepare a silica solution (additive substance I) having a silica concentration of 2.3 mass%.
As seeding, while stirring the seed solution, it was heated to 120 ° C. and held for 0.5 hours. Subsequently, to the seed solution, a 3% by mass ammonia solution was added to control the pH of the solution to 9.0, and the above tetramethoxysilane-derived silica solution (Additive substance I) adjusted to 10 ° C. 1080 g Was added at a rate of 1.2 g / min to obtain a silica-based particle dispersion. This was concentrated by an RE apparatus, and adjusted to pH 9 with 3 mass% ammonia water. The concentration of the produced silica-based particle dispersion was 10% by mass in terms of SiO 2 . The average particle size of the silica-based particles was 180 nm, the standard deviation was 21.6 nm, and the CV value was 0.12.

(実施例18)
実施例12と同様に調製したB液を100g採取し、200gの純水と混合してシード溶液とした。一方、純水1017gに63gのテトラメトキシシランを添加してシリカ濃度2.3質量%のシリカ溶液(添加物質I)を準備した。さらに、テトライソプロキシジルコニウム(マツモトファインケミカル製ZA−40)液をエチルアルコールで希釈したZrO換算で5質量%のジルコニア溶液(添加物質II)を準備した。
シーディングとして、シード溶液を撹拌しながら、80℃まで加温し0.5時間保持した。続いて、シード溶液に対して、3質量%アンモニア溶液を添加して溶液のpHを9.0にコントロールしながら、10℃に調整された上記テトラメトキシシラン由来のシリカ溶液(添加物質I)1080gを3.6g/分の速度で添加し、また同時に上記ジルコニア溶液(添加物質II)20gを0.07g/分で添加し、シリカとジルコニアの複合酸化物のシリカ系粒子分散液を得た。これをRE装置で濃縮し、3質量%アンモニア水でpH9に調整した。製造されたシリカ系粒子分散液の濃度はSiO−ZrO換算で10質量%であった。また、シリカ系粒子の平均粒子径は24.5nm、標準偏差は4.9nm、CV値は0.20であった。
(Example 18)
100 g of solution B prepared in the same manner as in Example 12 was collected and mixed with 200 g of pure water to prepare a seed solution. On the other hand, 63 g of tetramethoxysilane was added to 1017 g of pure water to prepare a silica solution (additive substance I) having a silica concentration of 2.3 mass%. Furthermore, a 5% by mass zirconia solution (Additive substance II) was prepared in terms of ZrO 2 obtained by diluting tetraisoproxioxyzirconium (ZA-40, manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.) with ethyl alcohol.
As seeding, while stirring the seed solution, it was heated to 80 ° C. and held for 0.5 hours. Subsequently, to the seed solution, a 3% by mass ammonia solution was added to control the pH of the solution to 9.0, and the above tetramethoxysilane-derived silica solution (Additive substance I) adjusted to 10 ° C. 1080 g Were added at a rate of 3.6 g / min, and at the same time 20 g of the above zirconia solution (Additive substance II) was added at 0.07 g / min to obtain a silica-based particle dispersion of a composite oxide of silica and zirconia. This was concentrated by an RE apparatus, and adjusted to pH 9 with 3 mass% ammonia water. The concentration of the produced silica-based particle dispersion was 10% by mass in terms of SiO 2 -ZrO 2 . The average particle size of the silica-based particles was 24.5 nm, the standard deviation was 4.9 nm, and the CV value was 0.20.

(実施例19)
実施例12と同様に調製したB液を100g採取し、200gの純水と混合してシード溶液とした。一方、純水1017gに63gのテトラメトキシシランを添加してシリカ濃度2.3質量%のシリカ溶液(添加物質I)を準備した。さらに、テトライソプロキシチタン(マツモトファインケミカル製TA−10)液をエチルアルコールで希釈したTiO換算で5質量%のチタニア溶液(添加物質II)を準備した。
シーディングとして、シード溶液を撹拌しながら、80℃まで加温し0.5時間保持した。続いて、シード溶液に対して、3質量%アンモニア溶液を添加して溶液のpHを9.0にコントロールしながら、10℃に調整された上記テトラメトキシシラン由来のシリカ溶液(添加物質I)1080gを3.6g/分の速度で添加し、また同時に上記チタニア溶液(添加物質II)20gを0.07g/分で添加し、シリカとチタニアの複合酸化物のシリカ系粒子分散液を得た。これをRE装置で濃縮し、3質量%アンモニア水でpH9に調整した。製造されたシリカ系粒子分散液の濃度はSiO−TiO換算で10質量%であった。また、シリカ系粒子の平均粒子径は25.3nm、標準偏差は6.0nm、CV値は0.24であった。詳細は、表3に示す(以下同様)。
(Example 19)
100 g of solution B prepared in the same manner as in Example 12 was collected and mixed with 200 g of pure water to prepare a seed solution. On the other hand, 63 g of tetramethoxysilane was added to 1017 g of pure water to prepare a silica solution (additive substance I) having a silica concentration of 2.3 mass%. Furthermore, a 5% by mass titania solution (Additive substance II) was prepared in terms of TiO 2 obtained by diluting tetraisoproxy titanium (TA-10 manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.) with ethyl alcohol.
As seeding, while stirring the seed solution, it was heated to 80 ° C. and held for 0.5 hours. Subsequently, to the seed solution, a 3% by mass ammonia solution was added to control the pH of the solution to 9.0, and the above tetramethoxysilane-derived silica solution (Additive substance I) adjusted to 10 ° C. 1080 g At a rate of 3.6 g / min and simultaneously 20 g of the titania solution (Additive Substance II) at 0.07 g / min to obtain a silica-based particle dispersion of a composite oxide of silica and titania. This was concentrated by an RE apparatus, and adjusted to pH 9 with 3 mass% ammonia water. The concentration of the produced silica-based particle dispersion was 10% by mass in terms of SiO 2 -TiO 2 . The average particle size of the silica-based particles was 25.3 nm, the standard deviation was 6.0 nm, and the CV value was 0.24. Details are shown in Table 3 (same below).

(実施例20)
マイクロナノバブル水の代わりにNマイクロナノバブル水を使用した以外は実施例12と同様に調製したC液を100g採取し、200gのNマイクロナノバブル水と混合してシード溶液とした。一方、Nマイクロナノバブル水1017gに63gのテトラメトキシシランを添加してシリカ濃度2.3質量%のシリカ溶液(添加物質I)を準備した。さらに、トリイソプロキシアルミニウム(東京化成工業製試薬)液をエチルアルコールで希釈したAl換算で5質量%のアルミナ溶液(添加物質II)を準備した。
シーディングとして、シード溶液を撹拌しながら、80℃まで加温し0.5時間保持した。続いて、シード溶液に対して、3質量%アンモニア溶液を添加して溶液のpHを9.0にコントロールしながら、10℃に調整された上記テトラメトキシシラン由来のシリカ溶液(添加物質I)1080gを3.6g/分の速度で添加し、また同時に上記アルミナ溶液(添加物質II)20gを0.07g/分で添加し、シリカとアルミナの複合酸化物のシリカ系粒子分散液を得た。これをRE装置で濃縮し、3質量%アンモニア水でpH9に調整した。製造されたシリカ系粒子分散液の濃度はSiO−Al換算で10質量%であった。また、シリカ系粒子の平均粒子径は24.0nm、標準偏差は4.3nm、CV値は0.18であった。
Example 20
100 g of a solution C prepared in the same manner as in Example 12 except that N 2 micro-nano bubble water was used instead of the O 2 micro-nano bubble water was collected and mixed with 200 g of N 2 micro-nano bubble water to prepare a seed solution. On the other hand, 63 g of tetramethoxysilane was added to 1017 g of N 2 micro-nano bubble water to prepare a silica solution (additive substance I) having a silica concentration of 2.3 mass%. Furthermore, a 5% by mass alumina solution (Additive substance II) was prepared in terms of Al 2 O 3 obtained by diluting a solution of triisoproxy aluminum (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) with ethyl alcohol.
As seeding, while stirring the seed solution, it was heated to 80 ° C. and held for 0.5 hours. Subsequently, to the seed solution, a 3% by mass ammonia solution was added to control the pH of the solution to 9.0, and the above tetramethoxysilane-derived silica solution (Additive substance I) adjusted to 10 ° C. 1080 g Were added at a rate of 3.6 g / min and simultaneously 20 g of the above alumina solution (Additive substance II) was added at 0.07 g / min to obtain a silica-based particle dispersion of a composite oxide of silica and alumina. This was concentrated by an RE apparatus, and adjusted to pH 9 with 3 mass% ammonia water. The concentration of the produced silica-based particle dispersion was 10% by mass in terms of SiO 2 -Al 2 O 3 . The average particle size of the silica-based particles was 24.0 nm, the standard deviation was 4.3 nm, and the CV value was 0.18.

(実施例21)
実施例12と同様に調製したB液を100g採取し、200gの純水と混合してシード溶液とした。
一方、粒子成長用として、変性エチルアルコ−ル(AP−11)4070gを撹拌しながら、テトラエトキシシランを97g添加して溶液(第3の溶液)を調製した。次に、実施例12と同様に調製したOマイクロナノバブル水(第2の溶液)4855gを第3の溶液へ添加して、25℃で5時間反応させて、シリカ粒子分散液を得た。このシリカ粒子分散液をRE装置を用いて、1860gとなるように濃縮した。この溶液へ純水を2000g添加し、RE装置で濃縮し、濃縮液1860gを得た。この純水を添加しRE装置で濃縮する操作を2回繰り返し行い、水分散液を得た。これをRE装置を用いて、600gとなるようにさらに濃縮してD液を得た。このD液へOマイクロナノバブル水480gを添加してシリカ濃度2.3質量%のシリカ溶液(添加物質I)を準備した。
(Example 21)
100 g of solution B prepared in the same manner as in Example 12 was collected and mixed with 200 g of pure water to prepare a seed solution.
On the other hand, 97 g of tetraethoxysilane was added while stirring 4070 g of modified ethyl alcohol (AP-11) to prepare a solution (third solution) for grain growth. Next, 4855 g of O 2 micro-nano bubble water (second solution) prepared in the same manner as in Example 12 was added to the third solution, and reacted at 25 ° C. for 5 hours to obtain a silica particle dispersion. The silica particle dispersion was concentrated to 1860 g using an RE apparatus. To this solution was added 2000 g of pure water, and the mixture was concentrated by an RE apparatus to obtain 1860 g of a concentrated solution. The operation of adding this pure water and concentrating with the RE apparatus was repeated twice to obtain an aqueous dispersion. This was further concentrated to 600 g using an RE apparatus to obtain D liquid. To this solution D, 480 g of O 2 micro-nano bubble water was added to prepare a silica solution (additive substance I) having a silica concentration of 2.3 mass%.

シーディングとして、シード溶液を撹拌しながら、80℃まで加温し0.5時間保持した。続いて、シード溶液に対して、3質量%アンモニア溶液を添加して溶液のpHを9.0にコントロールしながら、10℃に調整された上記テトラエトキシシラン由来のシリカ溶液(添加物質I)1080gを7.2g/分の速度で添加し、シリカ系粒子分散液を得た。これをRE装置で濃縮し、3質量%アンモニア水でpH9に調整した。製造されたシリカ系粒子分散液の濃度はSiO換算で10質量%であった。また、シリカ系粒子の平均粒子径は22.0nm、標準偏差は4.6nm、CV値は0.21であった。 As seeding, while stirring the seed solution, it was heated to 80 ° C. and held for 0.5 hours. Subsequently, to the seed solution, a 3% by mass ammonia solution was added to control the pH of the solution to 9.0, and the above tetraethoxysilane-derived silica solution (Additive substance I) adjusted to 10 ° C. (1080g) Was added at a rate of 7.2 g / min to obtain a silica-based particle dispersion. This was concentrated by an RE apparatus, and adjusted to pH 9 with 3 mass% ammonia water. The concentration of the produced silica-based particle dispersion was 10% by mass in terms of SiO 2 . The average particle size of the silica-based particles was 22.0 nm, the standard deviation was 4.6 nm, and the CV value was 0.21.

(実施例22)
〈微粒子調製工程〉
変性エチルアルコ−ル(AP−11)819.2gを撹拌しながら、テトラメトキシシランを14.2g添加した溶液(第1の溶液)を調製した。実施例12と同様に調製したOマイクロナノバブル水(第2の溶液)971gを第1の溶液へ添加して、25℃で5時間反応させて、シリカ粒子分散液(E液)を得た。
(Example 22)
<Fine particle preparation process>
A solution (first solution) was prepared by adding 14.2 g of tetramethoxysilane while stirring 819.2 g of denatured ethyl alcohol (AP-11). 971 g of O 2 micro-nano bubble water (second solution) prepared in the same manner as in Example 12 was added to the first solution and reacted at 25 ° C. for 5 hours to obtain a silica particle dispersion (liquid E). .

このE液をRE装置を用いて、375gとなるように濃縮した。この溶液へ純水を450g添加し、RE装置で濃縮し、濃縮液300gを得た。この純水を添加しRE装置で濃縮する操作を2回繰り返し行い、水分散液を得た。その後、3質量%アンモニア水と純水を用いてpH9.3に調整し、シリカ濃度1質量%の水に分散したシリカ粒子分散液(F液)を得た。F液中のシリカ粒子の平均粒子径は、5nmであった。   The solution E was concentrated to 375 g using an RE apparatus. To this solution was added 450 g of pure water, and the mixture was concentrated by an RE apparatus to obtain 300 g of a concentrated solution. The operation of adding this pure water and concentrating with the RE apparatus was repeated twice to obtain an aqueous dispersion. Thereafter, the pH was adjusted to 9.3 using 3 mass% ammonia water and pure water, to obtain a silica particle dispersion (liquid F) dispersed in water having a silica concentration of 1 mass%. The average particle size of the silica particles in the F liquid was 5 nm.

〈粒子成長工程〉
微粒子調製工程で調製したF液を100g採取し、200gの純水と混合してシード溶液とした。一方、Oマイクロナノバブル水1017gに63gのテトラメトキシシランを添加してシリカ濃度2.3質量%のシリカ溶液(添加物質I)を準備した。
シーディングとして、シード溶液を撹拌しながら、80℃まで加温し0.5時間保持した。続いて、シード溶液に対して、3質量%アンモニア溶液を添加して溶液のpHを9.0にコントロールしながら、10℃に調整された上記テトラメトキシシラン由来のシリカ溶液(添加物質I)1080gを3.6g/分の速度で添加し、シリカ系粒子分散液を得た。これをRE装置で濃縮し、3質量%アンモニア水でpH9に調整した。製造されたシリカ系粒子分散液の濃度はSiO換算で10質量%であった。また、シリカ系粒子の平均粒子径は21.5nm、標準偏差は4.1nm、CV値は0.19であった。
Particle Growth Process
100 g of the solution F prepared in the fine particle preparation step was collected and mixed with 200 g of pure water to make a seed solution. On the other hand, 63 g of tetramethoxysilane was added to 1017 g of O 2 micro-nano bubble water to prepare a silica solution (additive substance I) having a silica concentration of 2.3 mass%.
As seeding, while stirring the seed solution, it was heated to 80 ° C. and held for 0.5 hours. Subsequently, to the seed solution, a 3% by mass ammonia solution was added to control the pH of the solution to 9.0, and the above tetramethoxysilane-derived silica solution (Additive substance I) adjusted to 10 ° C. 1080 g Was added at a rate of 3.6 g / min to obtain a silica-based particle dispersion. This was concentrated by an RE apparatus, and adjusted to pH 9 with 3 mass% ammonia water. The concentration of the produced silica-based particle dispersion was 10% by mass in terms of SiO 2 . The average particle size of the silica-based particles was 21.5 nm, the standard deviation was 4.1 nm, and the CV value was 0.19.

(実施例23)
実施例22と同様に調製したE液をRE装置を用いて、375gとなるように濃縮した。この溶液へ純水を450g添加し、RE装置で濃縮し、濃縮液300gを得た。この純水を添加しRE装置で濃縮する操作を2回繰り返し行い、水分散液を得た。その後、3質量%アンモニア水と純水を用いてpH7.0に調整し、シリカ濃度0.33質量%の水に分散したシリカ粒子分散液(G液)を得た。G液中のシリカ粒子の平均粒子径は、5nmであった。
(Example 23)
A solution E prepared in the same manner as in Example 22 was concentrated to 375 g using an RE apparatus. To this solution was added 450 g of pure water, and the mixture was concentrated by an RE apparatus to obtain 300 g of a concentrated solution. The operation of adding this pure water and concentrating with the RE apparatus was repeated twice to obtain an aqueous dispersion. Thereafter, the pH was adjusted to 7.0 using 3% by mass ammonia water and pure water, to obtain a silica particle dispersion (liquid G) dispersed in water with a silica concentration of 0.33% by mass. The average particle size of the silica particles in the G liquid was 5 nm.

〈粒子成長工程〉
微粒子調製工程で調製したG液を300g採取し、シード溶液とした。一方、Oマイクロナノバブル水1017gに63gのテトラメトキシシランを添加してシリカ濃度2.3質量%のシリカ溶液(添加物質I)を準備した。
シーディングとして、シード溶液を撹拌しながら、pH7.0、25℃で5分間保持した。続いて、シード溶液に対して、3質量%アンモニア溶液と10℃に調整された上記テトラメトキシシラン由来のシリカ溶液(添加物質I)とを同時に添加しながら、反応溶液のpHを9.0、温度を80℃に調整した。反応溶液のpHが9.0、温度が80℃に達した後は、このpHおよび温度が一定となるようにコントロールしながら、両溶液を添加してシリカ系粒子分散液を得た。なお、シリカ溶液(添加物質I)1080gは3.6g/分の速度で添加した。得られたシリカ系分散液をRE装置で濃縮し、3質量%アンモニア水でpH9に調整した。製造されたシリカ系粒子分散液の濃度はSiO換算で10質量%であった。また、シリカ系粒子の平均粒子径は22.0nm、標準偏差は4.6nm、CV値は0.21であった。
Particle Growth Process
300 g of solution G prepared in the fine particle preparation step was collected and used as a seed solution. On the other hand, 63 g of tetramethoxysilane was added to 1017 g of O 2 micro-nano bubble water to prepare a silica solution (additive substance I) having a silica concentration of 2.3 mass%.
As a seeding, it hold | maintained for 5 minutes at pH 7.0 and 25 degreeC, stirring a seed solution. Subsequently, while simultaneously adding a 3% by mass ammonia solution and the above-mentioned tetramethoxysilane-derived silica solution (added substance I) adjusted to 10 ° C. to the seed solution, the pH of the reaction solution is 9.0, The temperature was adjusted to 80 ° C. After the pH of the reaction solution reached 9.0 and the temperature reached 80 ° C., both solutions were added while controlling the pH and temperature to be constant to obtain a silica-based particle dispersion. Incidentally, 1080 g of the silica solution (Additive substance I) was added at a rate of 3.6 g / min. The obtained silica-based dispersion was concentrated by an RE apparatus, and adjusted to pH 9 with 3% by mass aqueous ammonia. The concentration of the produced silica-based particle dispersion was 10% by mass in terms of SiO 2 . The average particle size of the silica-based particles was 22.0 nm, the standard deviation was 4.6 nm, and the CV value was 0.21.

(比較例4)
〈微粒子調製工程〉
変性エチルアルコ−ル(AP−11)814gを撹拌しながら、テトラエトキシシランを19.4g添加した溶液(第1の溶液)を調製した。また、第2の溶液である純水971gを第1の溶液へ添加して、25℃で5時間反応させて、A液を得た。このA液には粒子が発生しなかった。
(Comparative example 4)
<Fine particle preparation process>
While stirring 814 g of modified ethyl alcohol (AP-11), a solution (first solution) was prepared by adding 19.4 g of tetraethoxysilane. Further, 971 g of pure water, which is a second solution, was added to the first solution and reacted at 25 ° C. for 5 hours to obtain a solution A. No particles were generated in this A solution.

このA液をRE装置を用いて、375gとなるように濃縮した。この溶液へ純水を450g添加し、RE装置で濃縮液300gを得た。この純水を添加しRE装置で濃縮する操作を2回繰り返し行い、水分散液を得た。その後、3%アンモニア水と純水を用いてpH9.3に調整し、1質量%濃度の水に分散した分散液(H液)を得た。H液中のシリカ粒子は、検出されなかった。詳細は、表3に示す(以下同様)。   The solution A was concentrated to 375 g using an RE apparatus. 450 g of pure water was added to this solution, and 300 g of a concentrated solution was obtained with an RE apparatus. The operation of adding this pure water and concentrating with the RE apparatus was repeated twice to obtain an aqueous dispersion. Then, it adjusted to pH 9.3 using 3% ammonia water and a pure water, and obtained the dispersion liquid (H liquid) disperse | distributed to 1 mass% concentration water. Silica particles in solution H were not detected. Details are shown in Table 3 (same below).

〈粒子成長工程〉
微粒子調製工程で調製したH液を100g採取し、200gの純水と混合してシード溶液(ただし、粒子は含まれていない)とした。一方、シリカ濃度2.5質量%の3号水ガラスを陽イオン交換して得られた珪酸液を再度陽イオン交換して、シリカ濃度2.3質量%の珪酸液(添加物質I)を準備した。
シーディングとして、このシード溶液を撹拌しながら、80℃まで加温し0.5時間保持した。続いて、3質量%アンモニア溶液を添加して溶液のpHを9.0にコントロールしながら、10℃に調整された上記水ガラス由来の珪酸液(添加物質I)1080gを3.6g/分の速度で添加し、シリカ系粒子分散液を得た。これをRE装置で濃縮し、3質量%アンモニア水でpH9に調整した。製造されたシリカ系粒子分散液の濃度はSiO換算で10質量%であった。また、シリカ系粒子の平均粒子径は14nm、標準偏差は4.9nm、CV値は0.35と、粒度分布が広いものであった。詳細は、表3に示す(以下同様)。
Particle Growth Process
100 g of the solution H prepared in the fine particle preparation step was collected and mixed with 200 g of pure water to obtain a seed solution (containing no particles). On the other hand, the silica solution obtained by cation exchange of No. 3 water glass having a silica concentration of 2.5 mass% is cation exchanged again to prepare a silica solution having a silica concentration of 2.3 mass% (additive substance I) did.
As seeding, the seed solution was heated to 80 ° C. and maintained for 0.5 hours while being stirred. Subsequently, while controlling the pH of the solution to 9.0 by adding a 3% by mass ammonia solution, 3.6 g / min of the above-mentioned water glass-derived silicate liquid (additive substance I) adjusted to 10 ° C. The addition was performed at a speed to obtain a silica-based particle dispersion. This was concentrated by an RE apparatus, and adjusted to pH 9 with 3 mass% ammonia water. The concentration of the produced silica-based particle dispersion was 10% by mass in terms of SiO 2 . The average particle size of the silica-based particles was 14 nm, the standard deviation was 4.9 nm, and the CV value was 0.35, indicating a broad particle size distribution. Details are shown in Table 3 (same below).

(比較例5)
〈微粒子調製工程〉
変性エチルアルコ−ル(AP−11)814gを撹拌しながら、テトラエトキシシランを19.4g添加した溶液(第1の溶液)を調製した。また、第2の溶液である純水971gと15質量%アンモニア水10gの混合液を第1の溶液へ添加して、25℃で5時間反応させて、シリカ粒子分散液(A液)を得た。
(Comparative example 5)
<Fine particle preparation process>
While stirring 814 g of modified ethyl alcohol (AP-11), a solution (first solution) was prepared by adding 19.4 g of tetraethoxysilane. Further, a mixed solution of 971 g of pure water as a second solution and 10 g of 15% by mass ammonia water is added to the first solution, and reacted at 25 ° C. for 5 hours to obtain a silica particle dispersion (liquid A). The

このA液を、RE装置を用いて、375gとなるように濃縮した。この溶液へ水を450g添加し、RE装置で濃縮液300gを得た。この純水を添加しRE装置で濃縮する操作を2回繰り返し行い、水分散液を得た。その後、3質量%アンモニア水と純水を用いてpH9.3に調整し、1質量%濃度の水に分散した分散液(J液)を得た。J液中のシリカ粒子は、平均粒子径が250nmであった。
〈粒子成長工程〉
微粒子調製工程で調製したJ液を100g採取し、200gの純水と混合してシードの溶液とした。一方、純水1017gに63gのテトラメトキシシランを添加してシリカ濃度2.3質量%のシリカ溶液(添加物質I)を準備した。
シーディングとして、シード溶液を撹拌しながら、120℃まで加温し0.5時間保持した。続いて、3質量%アンモニア溶液を添加して溶液のpHを9.0にコントロールしながら、10℃に調整された上記テトラメトキシシラン由来のシリカ溶液(添加物質I)1080gを1.2g/分の速度で添加し、シリカ粒子分散液を得た。これをRE装置で濃縮し、3質量%アンモニア水でpH9に調整した。製造されたシリカ系粒子分散液の濃度はSiO換算で10質量%であった。また、シリカ系粒子の平均粒子径は310nm、標準偏差は65.1nm、CV値は0.21と、粒度分布が広いものであった。
The solution A was concentrated to 375 g using an RE apparatus. To this solution was added 450 g of water, and 300 g of a concentrated solution was obtained with an RE apparatus. The operation of adding this pure water and concentrating with the RE apparatus was repeated twice to obtain an aqueous dispersion. Thereafter, the pH was adjusted to 9.3 using 3% by mass ammonia water and pure water, and a dispersion liquid (liquid J) dispersed in 1% by mass water was obtained. The silica particles in the solution J had an average particle size of 250 nm.
Particle Growth Process
100 g of the solution J prepared in the fine particle preparation step was collected and mixed with 200 g of pure water to prepare a seed solution. On the other hand, 63 g of tetramethoxysilane was added to 1017 g of pure water to prepare a silica solution (additive substance I) having a silica concentration of 2.3 mass%.
As seeding, while stirring the seed solution, it was heated to 120 ° C. and held for 0.5 hours. Subsequently, while controlling the pH of the solution to 9.0 by adding a 3% by mass ammonia solution, the above-mentioned tetramethoxysilane-derived silica solution (additional substance I) 1080g adjusted to 10 ° C. is 1.2 g / min. The addition was carried out at the speed of to obtain a silica particle dispersion. This was concentrated by an RE apparatus, and adjusted to pH 9 with 3 mass% ammonia water. The concentration of the produced silica-based particle dispersion was 10% by mass in terms of SiO 2 . The average particle size of the silica-based particles was 310 nm, the standard deviation was 65.1 nm, and the CV value was 0.21, indicating a broad particle size distribution.


Claims (9)

平均気泡径が40nm〜10μmの微小気泡を含む液相中で、シランアルコキシドを加水分解し、平均粒子径が3〜10nmのシリカ微粒子を調製する微粒子調製工程と、
前記シリカ微粒子を含む分散液に対して、アルカリ触媒の存在下で、加水分解性金属化合物を添加して加水分解を行い、前記シリカ微粒子を成長させる粒子成長工程と、
を有することを特徴とするシリカ系粒子分散液の製造方法。
A fine particle preparation step of hydrolyzing a silane alkoxide in a liquid phase containing microbubbles having an average bubble diameter of 40 nm to 10 μm to prepare silica fine particles having an average particle diameter of 3 to 10 nm;
A particle growth step of adding a hydrolysable metal compound to the dispersion containing the silica fine particles in the presence of an alkali catalyst to hydrolyze the dispersion, thereby growing the silica fine particles;
A method of producing a silica-based particle dispersion liquid, comprising:
前記粒子成長工程で製造されるシリカ系粒子が、平均粒子径が10nmを超えて300nm以下の粒子であることを特徴とする請求項1記載のシリカ系粒子分散液の製造方法。   The method for producing a silica-based particle dispersion liquid according to claim 1, wherein the silica-based particles produced in the particle growth step are particles having an average particle diameter of more than 10 nm and 300 nm or less. 前記加水分解性金属化合物として、シランアルコキシド及び珪酸の少なくとも1つを用いることを特徴とする請求項1又は2記載のシリカ系粒子分散液の製造方法。   The method for producing a silica-based particle dispersion liquid according to claim 1 or 2, wherein at least one of silane alkoxide and silicic acid is used as the hydrolyzable metal compound. 前記加水分解性金属化合物として、珪素を含む加水分解性金属化合物と、チタン、ジルコニア、アルミニウム、スズ及びインジウムから選ばれる金属を含む加水分解性金属化合物の少なくとも1つとを用いることを特徴とする請求項1又は2記載のシリカ系粒子分散液の製造方法。   As the hydrolysable metal compound, a hydrolysable metal compound containing silicon and at least one of a hydrolysable metal compound containing a metal selected from titanium, zirconia, aluminum, tin and indium are used. Item 3. A method for producing a silica-based particle dispersion according to item 1 or 2. 前記粒子成長工程における加水分解を、平均気泡径が40nm〜10μmの微小気泡の存在下で行うことを特徴とする請求項1〜4のいずれか記載のシリカ系粒子分散液の製造方法。   The method for producing a silica-based particle dispersion according to any one of claims 1 to 4, wherein the hydrolysis in the particle growth step is performed in the presence of microbubbles having an average cell diameter of 40 nm to 10 m. 前記粒子成長工程で加水分解を行う分散液が、前記微小気泡を1.0×10個/mL以上含有していることを特徴とする請求項5記載のシリカ系粒子分散液の製造方法。 6. The method for producing a silica-based particle dispersion according to claim 5, wherein the dispersion to be hydrolyzed in the particle growth step contains the microbubbles at 1.0 × 10 5 / mL or more. 前記微小気泡が、窒素、水素、酸素、オゾン、炭酸ガス、及び希ガスの少なくとも1種を含む気泡であることを特徴とする請求項5又は6記載のシリカ系粒子分散液の製造方法。   The method for producing a silica-based particle dispersion liquid according to claim 5 or 6, wherein the micro bubbles are bubbles containing at least one of nitrogen, hydrogen, oxygen, ozone, carbon dioxide gas, and a rare gas. 平均粒子径が10nmを超えて300nm以下のシリカ系粒子と、平均気泡径が40nm〜10μmの微小気泡とを含むことを特徴とするシリカ系粒子分散液。   A silica-based particle dispersion liquid comprising silica-based particles having an average particle diameter of more than 10 nm and 300 nm or less and microbubbles having an average bubble diameter of 40 nm to 10 μm. 前記シリカ系粒子が、平均粒子径が3〜10nmのシリカコア微粒子と、前記シリカコア微粒子を包囲する珪素と、チタン、ジルコニア、アルミニウム、スズ、及びインジウムから選ばれる少なくとも1つの金属とを含む複合金属酸化物層とを備えていることを特徴とする請求項8記載のシリカ系粒子分散液。

A complex metal oxide comprising: a silica core particle having an average particle diameter of 3 to 10 nm; silicon surrounding the silica core particle; and at least one metal selected from titanium, zirconia, aluminum, tin and indium The silica-based particle dispersion liquid according to claim 8, comprising an object layer.

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