JP2019112610A - Thermosetting resin filler, cured product of the same, and multilayer printed wiring board - Google Patents

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英司 播磨
Eiji Harima
英司 播磨
康昭 荒井
Yasuaki Arai
康昭 荒井
智崇 野口
Tomotaka Noguchi
智崇 野口
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Abstract

To provide a thermosetting resin filler which has high adhesion to both a conductive part and an insulating part, and is excellent in electric insulation property.SOLUTION: A thermosetting resin filler is used for embedding a multilayer printed wiring board which includes a plurality of wiring layers laminated in a thickness direction through an insulating layer, a recess having a through hole or a bottom part formed in a thickness direction of the plurality of wiring layers, and a conductive part and an insulating part on the inner wall of the through hole or the recess, and contains an epoxy resin, an epoxy resin curing agent and an inorganic filler, in which the epoxy resin contains an epoxy resin having tertiary amine and an epoxy resin having a bisphenol type skeleton.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、熱硬化性樹脂充填材に関し、より詳細には、絶縁層を介して厚さ方向に積層された複数の配線層と、前記複数の配線層の厚さ方向に形成された貫通孔または底部を有する凹部と、前記貫通孔または前記凹部の内壁に導電部と絶縁部と、を備える多層プリント配線板の穴埋めに好適に使用できる熱硬化性樹脂充填材、硬化物、および多層プリント配線板に関する。   The present invention relates to a thermosetting resin filler, and more specifically, a plurality of wiring layers stacked in a thickness direction via an insulating layer, and a through hole formed in the thickness direction of the plurality of wiring layers. Or a thermosetting resin filler that can be suitably used for filling a hole in a multilayer printed wiring board provided with a recess having a bottom and a conductive portion and an insulating portion on the inner wall of the through hole or the recess; On the board.

電子機器の小型化・高機能化に伴い、プリント配線板のパターンの微細化、実装面積の縮小化、部品実装の高密度化が要求されている。そのため、異なる配線層同士を電気的に接続するための層間接続を形成する貫通孔、すなわちスルーホールが設けられた両面基板や、コア材上に絶縁層、導体回路が順次形成され、ビアホールなどで層間接続されて多層化されたビルドアップ配線板などの多層基板が用いられる。そして、BGA(ボール・グリッド・アレイ)、LGA(ランド・グリッド・アレイ)などのエリアアレイ実装が行われる。   With the miniaturization and high performance of electronic devices, miniaturization of patterns of printed wiring boards, reduction of mounting area, and high density of component mounting are required. Therefore, an insulating layer and a conductor circuit are sequentially formed on a double-sided board provided with a through hole forming an interlayer connection for electrically connecting different wiring layers, that is, a through hole, via holes and the like. A multilayer substrate such as an interlayer connection and a multilayer buildup wiring board is used. Then, area array mounting such as BGA (ball grid array), LGA (land grid array), etc. is performed.

このようなプリント配線板において、表面の導体回路間の凹部や、内壁面に配線層が形成されたスルーホール、ビアホールなどの穴部には、熱硬化性樹脂充填材により穴埋め加工処理がされるのが一般的である。熱硬化性樹脂充填材としては、一般に、熱硬化性樹脂成分としてのエポキシ樹脂、エポキシ樹脂硬化剤、および無機フィラーを含有する熱硬化性樹脂充填材が用いられている。例えば、特許文献1には、充填性等に優れる熱硬化性樹脂充填材として、液状エポキシ樹脂と、液状フェノール樹脂と、硬化触媒と、2種のフィラーとを含む熱硬化性樹脂充填材が提案されている。   In such printed wiring boards, thermosetting resin filler materials are used to fill in the recesses between the conductor circuits on the surface, and the through holes with via holes on which the wiring layer is formed on the inner wall, and via holes. Is common. As a thermosetting resin filler, a thermosetting resin filler containing an epoxy resin as a thermosetting resin component, an epoxy resin curing agent, and an inorganic filler is generally used. For example, Patent Document 1 proposes a thermosetting resin filler containing a liquid epoxy resin, a liquid phenol resin, a curing catalyst, and two types of fillers as a thermosetting resin filler excellent in filling property and the like. It is done.

ところで、近年、プリント配線板の高機能化に伴い、スルーホールやビアホールの壁面のめっき膜のうち、層間の導通に関係のない余剰な部分を除去することで、周波数特性を向上させることが行われている。例えば、特許文献2には、バックドリル工法と呼ばれる手法を用いてスルーホールやビアホールを途中まで掘削した穴部を備えたプリント配線板が提案されている。また、特許文献3には、スルーホールやビアホールの壁面の一部のみにめっき膜を設けることも提案されている。   By the way, in recent years, along with the advancement of the function of printed wiring boards, it is possible to improve frequency characteristics by removing an extra portion which is not related to the conduction between layers in the plating film of the wall surface of through holes and via holes. It is For example, Patent Document 2 proposes a printed wiring board provided with a hole portion in which a through hole or a via hole is excavated halfway by using a method called a back drilling method. Patent Document 3 also proposes providing a plating film only on a part of the wall surface of the through hole or the via hole.

特開2001−019834号公報JP, 2001-019834, A 特表2007−509487号公報Japanese Patent Publication No. 2007-509487 特開2012−256636号公報JP 2012-256636 A

特許文献2および3に記載されているようなプリント配線基板のスルーホール等は、穴部の内壁面の一部にめっき膜等が形成されていない、あるいはめっき膜の一部が除去されており、プリント配線板の絶縁層が露出している箇所が存在する。このような構造を有するスルーホール等の穴部に熱硬化性樹脂充填材を充填して穴埋めを行うと、穴部内壁面に接する充填材は、めっき膜に接する箇所と絶縁層に接する箇所が形成されることになる。
プリント配線板の絶縁層はエポキシ樹脂等の樹脂材料で形成されており、めっき膜は銅等の金属材料で形成されている。そのため、充填材を用いて穴埋めを行うと、絶縁層とめっき膜とでは、材料の違いにより充填材の密着性が異なり、その結果、上記のような構造のスルーホール等の穴埋めを行った場合には、穴部内壁面の場所によって内壁面と充填材との密着性が異なり、場合によっては充填材が剥離したりする等の問題があった。特に特許文献2および3のように、穴部内壁が導電部と絶縁部とを有する構造であるとその傾向は顕著であった。また、特許文献2および3のような絶縁部も設けられた構造にすることにより、電気絶縁性も求められるようになった。このように、充填材の本来の目的である電気絶縁性を維持しながら上記のような構造のスルーホール等の穴埋めに適した熱硬化性樹脂充填材は、未だ見出されていない。
In the through holes and the like of the printed wiring board as described in Patent Documents 2 and 3, the plating film or the like is not formed on a part of the inner wall surface of the hole, or a part of the plating film is removed. There are places where the insulating layer of the printed wiring board is exposed. When a thermosetting resin filler is filled in a hole such as a through hole having such a structure to fill the hole, the filler in contact with the inner wall surface of the hole has a portion in contact with the plating film and a portion in contact with the insulating layer. It will be done.
The insulating layer of the printed wiring board is formed of a resin material such as epoxy resin, and the plating film is formed of a metal material such as copper. Therefore, when filling is performed using a filler, the adhesion of the filler differs depending on the material between the insulating layer and the plating film, and as a result, when holes such as through holes having the above structure are filled. The adhesion between the inner wall surface and the filler differs depending on the location of the inner wall surface of the hole, and in some cases, the filler may peel off. This tendency is particularly remarkable when the inner wall of the hole has a conductive portion and an insulating portion as in Patent Documents 2 and 3. Further, by providing the insulating portion as in Patent Documents 2 and 3 as well, the electrical insulating property is also required. Thus, a thermosetting resin filler suitable for filling a hole such as a through hole having the above-mentioned structure while maintaining the electrical insulating property which is the original purpose of the filler has not been found yet.

したがって、本発明の目的は、導電部および絶縁部の両方への密着性が高く、電気絶縁性にも優れる熱硬化性樹脂充填材を提供することである。特に、絶縁層を介して厚さ方向に積層された複数の配線層と、前記複数の配線層の厚さ方向に形成された貫通孔または底部を有する凹部と、前記貫通孔または前記凹部の内壁に導電部および絶縁部と、を備える多層プリント配線板の穴埋めに用いられる際に、上記特性に優れる熱硬化性樹脂充填材を提供することである。また、本発明の別の目的は、前記熱硬化性樹脂充填材を用いて形成された硬化物および前記硬化物を有する多層プリント配線板を提供することである。   Therefore, an object of the present invention is to provide a thermosetting resin filler which has high adhesion to both the conductive part and the insulating part and is also excellent in electrical insulation. In particular, a plurality of wiring layers stacked in the thickness direction via an insulating layer, a recess having a through hole or a bottom formed in the thickness direction of the plurality of wiring layers, and an inner wall of the through hole or the recess It is an object of the present invention to provide a thermosetting resin filler excellent in the above characteristics when used for filling a hole in a multilayer printed wiring board provided with a conductive portion and an insulating portion. Another object of the present invention is to provide a cured product formed using the thermosetting resin filler and a multilayer printed wiring board having the cured product.

本発明者等は、鋭意研究した結果、上記したような多層プリント配線板においては、導電部および絶縁部の両部の界面への充填材の充填状態が著しく悪いことを見出した。すなわち、充填状態、具体的には、充填材を穴部または凹部へ充填した後、この充填状態が維持されにくいことに起因して、絶縁部と導電部の界面に隙間が生じやすく、かかる隙間の影響により、充填材の密着性が悪くなることを突き止めた。また、本発明者等は、エポキシ樹脂とエポキシ樹脂硬化剤と無機フィラーとを含む熱硬化性樹脂充填材において、エポキシ樹脂として特定の官能基を有するエポキシ樹脂を使用することにより、導電部および絶縁部の両方への密着性が高く、電気絶縁性にも優れる充填材を実現できるとの知見を得た。   As a result of intensive studies, the present inventors have found that in the multilayer printed wiring board as described above, the filling state of the filler to the interface between the conductive part and the insulating part is extremely bad. That is, a gap is easily generated at the interface between the insulating portion and the conductive portion due to the difficulty in maintaining the filled state, specifically, after the filler is filled in the hole or the recess, a gap is likely to occur. It was found that the adhesion of the filler material was deteriorated due to the influence of Furthermore, the present inventors have found that, in a thermosetting resin filler containing an epoxy resin, an epoxy resin curing agent, and an inorganic filler, the conductive portion and the insulation can be obtained by using an epoxy resin having a specific functional group as the epoxy resin. We obtained the finding that a filler with high adhesion to both parts and excellent electrical insulation could be realized.

さらに、本発明者等は、エポキシ樹脂として、特定の2種のエポキシ樹脂を併用して用いることにより、導電部および絶縁部の両方への密着性が高く、凹部や穴部の内壁面の導電部の一部に絶縁部が露出しているような構造を有する多層プリント配線板の穴埋めであっても、電気絶縁性にも優れる充填材を実現できることを見出した。本発明は係る知見によるものである。   Furthermore, the present inventors have found that adhesion to both the conductive portion and the insulating portion is high by using two specific epoxy resins in combination as the epoxy resin, and the conductivity of the inner wall surface of the concave portion and the hole portion It has been found that even in the case of filling a hole in a multilayer printed wiring board having a structure in which an insulating portion is exposed in part of the portion, a filler excellent in electrical insulation can be realized. The present invention is based on such findings.

すなわち、本発明の熱硬化性樹脂充填材は、絶縁層を介して厚さ方向に積層された複数の配線層と、前記複数の配線層の厚さ方向に形成された貫通孔または底部を有する凹部と、前記貫通孔または前記凹部の内壁に導電部と絶縁部と、を備える多層プリント配線板の穴埋めに用いられる熱硬化性樹脂充填材であって、
エポキシ樹脂とエポキシ樹脂硬化剤と無機フィラーとを含み、
前記エポキシ樹脂が、3級アミンを有するエポキシ樹脂およびビスフェノール型骨格を有するエポキシ樹脂を含むことを特徴とするものである。
That is, the thermosetting resin filler of the present invention has a plurality of wiring layers stacked in the thickness direction via the insulating layer, and a through hole or a bottom formed in the thickness direction of the plurality of wiring layers. It is a thermosetting resin filler used for hole filling of a multilayer printed wiring board provided with a recess and a conductive part and an insulating part on the inner wall of the through hole or the recess,
Containing epoxy resin, epoxy resin curing agent and inorganic filler,
The epoxy resin includes an epoxy resin having a tertiary amine and an epoxy resin having a bisphenol type skeleton.

本発明の実施態様においては、前記3級アミンを有するエポキシ樹脂と前記ビスフェノール型骨格を有するエポキシ樹脂とが、質量基準において20:80〜90:10の割合で含まれていてもよい。   In an embodiment of the present invention, the epoxy resin having the tertiary amine and the epoxy resin having the bisphenol type skeleton may be contained in a ratio of 20:80 to 90:10 on a mass basis.

また、本発明の実施態様においては、前記エポキシ樹脂硬化剤が、アミン類硬化剤およびイミダゾール類硬化剤からなる群より選択される少なくとも1種を含んでいてもよい。   In the embodiment of the present invention, the epoxy resin curing agent may contain at least one selected from the group consisting of an amine curing agent and an imidazole curing agent.

また、本発明の実施態様においては、前記無機フィラーが、炭酸カルシウム、シリカ、硫酸バリウムおよび酸化アルミニウムからなる群より選択される少なくとも1種であってもよい。   In the embodiment of the present invention, the inorganic filler may be at least one selected from the group consisting of calcium carbonate, silica, barium sulfate and aluminum oxide.

また、本発明の実施態様においては、前記無機フィラーの平均粒径が、0.1μm〜15μmであってもよい。   In the embodiment of the present invention, the average particle diameter of the inorganic filler may be 0.1 μm to 15 μm.

また、本発明の実施態様においては、前記多層プリント配線板の導電部が銅からなるものであってもよい。   In the embodiment of the present invention, the conductive portion of the multilayer printed wiring board may be made of copper.

また、本発明の実施態様においては、前記ビスフェノール型骨格を有するエポキシ樹脂が、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型およびビスフェノールE型からなる群より選択される少なくとも1種の骨格を有するものであってもよい。   In the embodiment of the present invention, the epoxy resin having a bisphenol skeleton may have at least one skeleton selected from the group consisting of bisphenol A, bisphenol F and bisphenol E. Good.

また、本発明の実施態様においては、前記ビスフェノール型骨格を有するエポキシ樹脂が、ビスフェノールA型骨格を有するエポキシ樹脂、およびビスフェノールF型骨格を有するエポキシ樹脂の2種を含んでいてもよい。   In the embodiment of the present invention, the epoxy resin having a bisphenol skeleton may include two types of epoxy resin having a bisphenol A skeleton and epoxy resin having a bisphenol F skeleton.

さらに、本発明の別の態様による硬化物は、上記熱硬化性樹脂充填材の硬化物である。   Furthermore, the cured product according to another aspect of the present invention is a cured product of the above-mentioned thermosetting resin filler.

また、本発明の別の態様による多層プリント配線板は、上記硬化物を有するものである。   A multilayer printed wiring board according to another aspect of the present invention has the above-mentioned cured product.

本発明によれば、導電部および絶縁部の両方への密着性が高く、電気絶縁性にも優れる充填材を実現することができる。特に、絶縁層を介して厚さ方向に積層された複数の配線層と、前記複数の配線層の厚さ方向に形成された貫通孔または底部を有する凹部と、前記貫通孔または前記凹部の内壁に導電部と絶縁部と、を備える多層プリント配線板の穴埋めにおいて用いる際に実現することができる。また、本発明の別の形態によれば、前記熱硬化性樹脂充填材を用いて形成された硬化物および前記硬化物を有する多層プリント配線板を実現することができる。   According to the present invention, it is possible to realize a filler which has high adhesion to both the conductive part and the insulating part and is also excellent in electrical insulation. In particular, a plurality of wiring layers stacked in the thickness direction via an insulating layer, a recess having a through hole or a bottom formed in the thickness direction of the plurality of wiring layers, and an inner wall of the through hole or the recess It can be realized when used in the hole filling of a multilayer printed wiring board provided with a conductive portion and an insulating portion. Moreover, according to the other form of this invention, the multilayer printed wiring board which has the hardened | cured material formed using the said thermosetting resin filler and the said hardened | cured material can be implement | achieved.

熱硬化性樹脂充填材により穴埋めされたプリント配線板の一実施形態を示した概略断面図である。It is the schematic sectional drawing which showed one Embodiment of the printed wiring board by which the hole was filled with the thermosetting resin filler. 熱硬化性樹脂充填材により穴埋めされたプリント配線板の別の実施形態を示した概略断面図である。It is the schematic sectional drawing which showed another embodiment of the printed wiring board by which the hole was filled with the thermosetting resin filler. 熱硬化性樹脂充填材により穴埋めされたプリント配線板の別の実施形態を示した概略断面図である。It is the schematic sectional drawing which showed another embodiment of the printed wiring board by which the hole was filled with the thermosetting resin filler.

先ず、本発明の熱硬化性樹脂充填材を適用するプリント配線板について、図面を参照しながら説明する。図1は、熱硬化性樹脂充填材により穴埋めされた多層プリント配線板の一実施形態を示した概略断面図である。熱硬化性樹脂充填材を適用する多層プリント配線板1は、絶縁層10を介して厚さ方向に、めっき膜等からなる複数の配線層20a、20b、20c、20dが積層されており、複数の配線層20a、20b、20c、20dの厚さ方向に形成された貫通孔40(熱硬化性樹脂充填材により穴埋めされる穴部)を備えている。貫通孔40の穴部の一端には、貫通孔40の内壁に配線層20dから延びる導電部20eが形成されている。貫通孔40の穴部の他端には、導電部20eの形成後に配線層20aの一部を除去するように貫通孔の内径が拡大されており、穴部の内壁には絶縁層が露出することで絶縁部10aが形成された状態になっている。すなわち、貫通孔40(穴部)の内壁は、導電部20eと絶縁部10aとを備えた状態となっている。このように貫通孔40(穴部)の内壁に導電部20eと絶縁部10aとを備えることにより、電気的に接続されない部分が形成され、その結果、伝送効率が向上する。このような断面形状を有する貫通孔40(穴部)に熱硬化性樹脂充填材が充填され、加熱硬化することにより穴埋めが行われる。なお、本実施の形態において、絶縁層とは、異なる配線層間を絶縁しながらも配線層を支持する層をいい、配線層とは、回路により電気的な導通を行う層をいう。また、絶縁部とは、各層を電気的に導通させない箇所をいい、前述した絶縁層も含み得る。一方、導電部とは、めっき膜等、各配線層を電気的に導通させるための箇所をいい、前述した配線層も含み得る。さらに、貫通孔とは、多層プリント配線板の厚さ方向全体を貫通するように設けられる孔をいう。貫通孔は配線層の厚さ方向に形成されていればよく、より具体的には配線層と平行に形成されていなければよい。なお、本実施の形態では、貫通孔の壁面に延びる配線層を導電部としたが、配線層の一部が貫通孔の壁面に露出しているような場合も、導電部というものとする。また、前述した配線層が壁面に延びることにより形成される場合だけでなく、めっき等により導電膜が壁面に形成されるような場合も、導電部というものとする。   First, a printed wiring board to which the thermosetting resin filler of the present invention is applied will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of a multilayer printed wiring board which is filled with a thermosetting resin filler. In the multilayer printed wiring board 1 to which the thermosetting resin filler is applied, a plurality of wiring layers 20a, 20b, 20c, 20d made of a plating film or the like are stacked in the thickness direction via the insulating layer 10 The through holes 40 (holes filled with a thermosetting resin filler) formed in the thickness direction of the wiring layers 20a, 20b, 20c, and 20d are provided. At one end of the hole portion of the through hole 40, a conductive portion 20e extending from the wiring layer 20d is formed on the inner wall of the through hole 40. At the other end of the hole of the through hole 40, the inner diameter of the through hole is enlarged to remove a part of the wiring layer 20a after the formation of the conductive portion 20e, and the insulating layer is exposed on the inner wall of the hole. Thus, the insulating portion 10a is formed. That is, the inner wall of the through hole 40 (hole) is in a state provided with the conductive portion 20e and the insulating portion 10a. By providing the conductive portion 20e and the insulating portion 10a on the inner wall of the through hole 40 (hole) as described above, a portion not electrically connected is formed, and as a result, the transmission efficiency is improved. A thermosetting resin filler is filled in the through holes 40 (holes) having such a cross-sectional shape, and the holes are filled by heat curing. In the present embodiment, the insulating layer refers to a layer that supports the wiring layer while insulating different wiring layers, and the wiring layer refers to a layer that is electrically conducted by a circuit. In addition, an insulating portion refers to a portion which does not electrically connect each layer, and may include the above-described insulating layer. On the other hand, the conductive portion refers to a portion for electrically conducting each wiring layer, such as a plating film, and may include the above-described wiring layer. Furthermore, the through hole means a hole provided so as to penetrate the entire thickness direction of the multilayer printed wiring board. The through hole may be formed in the thickness direction of the wiring layer, and more specifically, may not be formed parallel to the wiring layer. In the present embodiment, although the wiring layer extending to the wall surface of the through hole is the conductive portion, the conductive portion is also referred to when a portion of the wiring layer is exposed to the wall surface of the through hole. In addition to the case where the wiring layer is formed by extending to the wall surface, the conductive portion is also referred to as a conductive portion also when the conductive film is formed on the wall surface by plating or the like.

本発明の別の実施の形態においては、貫通孔の穴部の形状は上記した以外にも、例えば図2に示すような、配線層30aおよび30dが貫通孔40(穴部)の内壁まで延びて導電部30eを形成し、当該導電部の一部が除去されて絶縁層が露出することで導電部30eと絶縁部10aとを備えた状態となっているような構造の多層プリント配線板であってもよい。なお、本実施の形態では、貫通孔の壁面に延びる配線層を導電部としたが、配線層の一部が貫通孔の壁面に露出しているような場合も、導電部というものとする。また、前述した配線層が壁面に延びることにより形成される場合だけでなく、めっき等により導電膜が壁面に形成されるような場合も、導電部というものとする。   In another embodiment of the present invention, the wiring layer 30a and 30d extend as far as the inner wall of the through hole 40 (hole) as shown in FIG. Forming a conductive portion 30e, removing a portion of the conductive portion to expose the insulating layer, and forming a multilayer printed wiring board having a structure in which the conductive portion 30e and the insulating portion 10a are provided. It may be. In the present embodiment, although the wiring layer extending to the wall surface of the through hole is the conductive portion, the conductive portion is also referred to when a portion of the wiring layer is exposed to the wall surface of the through hole. In addition to the case where the wiring layer is formed by extending to the wall surface, the conductive portion is also referred to as a conductive portion also when the conductive film is formed on the wall surface by plating or the like.

また、本発明の別の実施の形態においては、熱硬化性樹脂充填材を用いて穴埋めが行われるのは貫通孔に限られず、例えば図3に示すような、凹部70を有する多層プリント配線板2であってもよい。多層プリント配線板2は、絶縁層10の一方の表面に設けられた配線層50aが、凹部70の壁面および底部60まで延びて導電部50dを形成し、凹部70の開口側は導電部50dの形成後に配線層50aの一部を除去するように凹部の内径が拡大されており、穴部の内壁には絶縁層が露出することで絶縁部10aが形成された状態になっている。すなわち、底部を有する凹部(穴部)の内壁は、導電部50dと絶縁部10aとを備えた状態となっている。なお、本実施の形態では、凹部の壁面に延びる配線層を導電部としたが、配線層の一部が凹部の壁面に露出しているような場合も、導電部というものとする。このような多層プリント配線板2では、底部60を有する凹部70に熱硬化性樹脂充填材を充填した場合には、配線層50aから延びる導電部と凹部70の壁面に露出した絶縁部との両方に熱硬化性樹脂充填材が接するようになる。また、前述した配線層が壁面に延びることにより形成される場合だけでなく、めっき等により導電膜が壁面に形成されるような場合も、導電部というものとする。本実施の形態において、凹部とは、多層プリント配線板の表面のうち、他の部分よりも明らかに窪んでいると認められる部分をいう。   Further, in another embodiment of the present invention, it is not limited to the through hole that the hole filling is performed using the thermosetting resin filler, and for example, a multilayer printed wiring board having a recess 70 as shown in FIG. It may be two. In the multilayer printed wiring board 2, the wiring layer 50a provided on one surface of the insulating layer 10 extends to the wall surface and the bottom 60 of the recess 70 to form the conductive portion 50d, and the opening side of the recess 70 is the conductive portion 50d. The inner diameter of the recess is enlarged so as to remove a part of the wiring layer 50a after formation, and the insulating portion is exposed on the inner wall of the hole to form the insulating portion 10a. That is, the inner wall of the concave portion (hole portion) having the bottom portion is in a state provided with the conductive portion 50d and the insulating portion 10a. In the present embodiment, although the wiring layer extending to the wall surface of the recess is the conductive portion, the conductive portion is also referred to when a portion of the wiring layer is exposed to the wall surface of the recess. In such a multilayer printed wiring board 2, when the recess 70 having the bottom 60 is filled with the thermosetting resin filler, both the conductive portion extending from the wiring layer 50 a and the insulating portion exposed on the wall of the recess 70 are The thermosetting resin filler comes into contact with the In addition to the case where the wiring layer is formed by extending to the wall surface, the conductive portion is also referred to as a conductive portion also when the conductive film is formed on the wall surface by plating or the like. In the present embodiment, the recess means a portion of the surface of the multilayer printed wiring board which is recognized as being clearly recessed from the other portions.

多層プリント配線板において、貫通孔または底部を有する凹部の内径および深さの範囲としては、内径は0.1〜1mm、深さは0.1〜10mmがそれぞれ好ましい。   In the multilayer printed wiring board, as a range of the inner diameter and the depth of the recess having the through hole or the bottom, the inner diameter is preferably 0.1 to 1 mm and the depth is 0.1 to 10 mm, respectively.

導電部を形成する配線層は、銅めっき、金めっき、錫めっき等、特に制限されるものではないが、後記する熱硬化性樹脂充填材の充填性や硬化物との密着性の観点からは、銅からなるものであることが好ましい。また、同様に、プリント配線板を構成する絶縁層としては、紙フェノール、紙エポキシ、ガラス布エポキシ、ガラスポリイミド、ガラス布/不繊布エポキシ、ガラス布/紙エポキシ、合成繊維エポキシ、フッ素系樹脂、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンオキシド、シアネートエステル、ポリイミド、PET、ガラス、セラミック、シリコンウエハ等が挙げられる。これらの中でも、熱硬化性樹脂充填材の充填性や硬化物との密着性の観点からは、ガラス布/不繊布エポキシ、ポリフェニレンエーテル、ポリイミド、セラミックからなるものであることが好ましく、エポキシ樹脂含有硬化物がより好ましい。エポキシ樹脂含有硬化物とは、ガラス繊維を含侵させたエポキシ樹脂の硬化物またはエポキシ樹脂を含む樹脂組成物の硬化物をいう。   The wiring layer forming the conductive portion is not particularly limited, such as copper plating, gold plating, tin plating, etc., but from the viewpoint of the filling property of the thermosetting resin filler described later and the adhesion with the cured product, And copper are preferable. Similarly, as the insulating layer constituting the printed wiring board, paper phenol, paper epoxy, glass cloth epoxy, glass polyimide, glass cloth / non-woven cloth epoxy, glass cloth / paper epoxy, synthetic fiber epoxy, fluorocarbon resin, Polyphenylene ether, polyphenylene oxide, cyanate ester, polyimide, PET, glass, ceramic, silicon wafer and the like can be mentioned. Among these, from the viewpoint of the filling property of the thermosetting resin filler and the adhesion with the cured product, it is preferable to use a glass cloth / non-woven cloth epoxy, polyphenylene ether, polyimide, ceramic, and epoxy resin containing Cured products are more preferred. The epoxy resin-containing cured product refers to a cured product of an epoxy resin impregnated with glass fibers or a cured product of a resin composition containing an epoxy resin.

本発明の熱硬化性樹脂充填材は、上記したような貫通孔または凹部の内壁に導電部と絶縁部とを備える孔多層プリント配線板の穴埋めに使用されるものであり、必須成分としてエポキシ樹脂とエポキシ樹脂硬化剤と無機フィラーとを含む。以下、本発明の熱硬化性樹脂充填材を構成する各成分について説明する。   The thermosetting resin filler of the present invention is used for filling a hole in a multilayer printed wiring board having a conductive portion and an insulating portion on the inner wall of the through hole or recess as described above, and is an epoxy resin as an essential component And an epoxy resin curing agent and an inorganic filler. Hereinafter, each component which comprises the thermosetting resin filler of this invention is demonstrated.

<エポキシ樹脂>
本発明の熱硬化性樹脂充填材は、エポキシ樹脂として、3級アミンを有するエポキシ樹脂およびビスフェノール型骨格を有するエポキシ樹脂の2種のエポキシ樹脂を必須成分として含む。熱硬化性樹脂充填材がこのような特定の2種のエポキシ樹脂を含むことで、導電部および絶縁部の両方への密着性が高く、電気絶縁性にも優れる充填材とすることができる。この理由は定かではないが以下のように考えられる。即ち、本発明においては、エポキシ樹脂として3級アミンのような極性基を有するエポキシ樹脂を含むことにより、エポキシ樹脂等の有機材料からなる絶縁部のみならず金属材料から一般的に形成されている導電部の両部を備える部材に対して、充填材の充填性が向上するものと考えられる。また、ビスフェノール型骨格を有するエポキシ樹脂が含まれることにより、硬化物の吸水性を低減させることができ、その結果、電気絶縁性が向上するものと考えられる。さらに、ビスフェノール型骨格を有するエポキシ樹脂と3級アミンを有するエポキシ樹脂との組合せにより、充填材の充填状態を高いレベルで維持することができ、その結果、絶縁部および導電部の両部への密着性を向上することができる。しかしながら、上記のメカニズムはあくまでも本発明者らの推測であって、必ずしもこの理論に拘束されるものではない。
<Epoxy resin>
The thermosetting resin filler of the present invention contains, as an epoxy resin, two epoxy resins of an epoxy resin having a tertiary amine and an epoxy resin having a bisphenol type skeleton as essential components. When the thermosetting resin filler contains such two specific types of epoxy resins, it is possible to obtain a filler that has high adhesion to both the conductive portion and the insulating portion and is also excellent in electrical insulation. The reason for this is not clear, but is considered as follows. That is, in the present invention, by including an epoxy resin having a polar group such as tertiary amine as the epoxy resin, it is generally formed not only from the insulating part made of an organic material such as epoxy resin but also from a metal material. It is considered that the filling property of the filler is improved for a member provided with both parts of the conductive part. Moreover, it is thought that the water absorbency of hardened | cured material can be reduced by containing the epoxy resin which has a bisphenol-type frame | skeleton, As a result, electrical insulation improves. Furthermore, by the combination of the epoxy resin having a bisphenol type skeleton and the epoxy resin having a tertiary amine, the filling state of the filler can be maintained at a high level, as a result, to both the insulating portion and the conductive portion. Adhesion can be improved. However, the above-mentioned mechanism is just our guess and is not necessarily bound by this theory.

3級アミンを有するエポキシ樹脂としては、1分子中に2個以上のエポキシ基を有し、且つ3級アミン基を有するものであれば特に限定されず、脂肪族系エポキシ樹脂であっても芳香族系エポキシ樹脂であってもよい。耐熱性、電気絶縁性および吸水率等の観点からは、脂肪族系に比べ、芳香族系のエポキシ樹脂であることが好ましい。また、3級アミンを有するエポキシ樹脂は液状、半固形、固形の何れも用いられるが、なかでも、液状であることが好ましい。なお、本発明において液状とは、20℃で流動性を有する液状状態にあることをいうものとする。   The epoxy resin having a tertiary amine is not particularly limited as long as it has two or more epoxy groups in one molecule and has a tertiary amine group, and even an aliphatic epoxy resin is aromatic. Group epoxy resin may be used. From the viewpoints of heat resistance, electrical insulation, water absorption and the like, aromatic epoxy resins are preferable to aliphatic epoxy resins. The epoxy resin having a tertiary amine may be liquid, semi-solid or solid, and among them, liquid is preferable. In the present invention, the liquid means that it is in a liquid state having fluidity at 20 ° C.

上記したような3級アミンを有するエポキシ樹脂としては、液状のものとしてはテトラグリシジルアミノジフェニルメタン、テトラグリシジルメタキシリレンジアミン、トリグリシジルパラアミノフェノール、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルオルトトルイジン等が挙げられ、半固形のものとしてはジアミノジフェニルメタン型エポキシ等が挙げられる。これら3級アミンを有するエポキシ樹脂は、1種類を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの市販品としては、三菱ケミカル株式会社製jER−630(パラアミノフェノール型エポキシ樹脂)、jER−604(ジアミノジフェニルメタン型エポキシ)、住友化学株式会社製ELM−100(パラアミノフェノール型エポキシ樹脂)、日本化薬株式会社製GAN(ジグリシジルアニリン)、日本化薬株式会社製GOT(ジグリシジルオルトトルイジン)等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin having a tertiary amine as described above include tetraglycidyl aminodiphenylmethane, tetraglycidyl metaxylylene diamine, triglycidyl para aminophenol, diglycidyl aniline, diglycidyl ortho toluidine etc. as liquid ones. Examples of solid substances include diaminodiphenylmethane epoxy and the like. The epoxy resin which has these tertiary amines may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. As these commercial products, jER-630 (para amino phenol type epoxy resin) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, jER-604 (diaminodiphenylmethane type epoxy), ELM-100 (para amino phenol type epoxy resin) manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., Japan GAN manufactured by Kayaku Co., Ltd. (diglycidyl aniline), GOT manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. (diglycidyl ortho toluidine), and the like.

上記した3級アミンを有するエポキシ樹脂と併用して用いられるビスフェノール型骨格を有するエポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールE(AD)型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂等が挙げられるが、電気絶縁性、導電部および絶縁部への密着性の観点からは、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールE(AD)型エポキシ樹脂が好ましい。また、ビスフェノール型骨格を有するエポキシ樹脂は液状、半固形、固形の何れも用いられるが、なかでも、充填性の観点から液状であることが好ましい。なお、液状とは、3級アミンを有するエポキシ樹脂の説明で述べたとおりである。これらビスフェノール型骨格を有するエポキシ樹脂は1種類を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよいが、特にビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂の2種を併用して用いることが好ましい。これらの市販品としては、三菱ケミカル株式会社製jER−828、同jER−834、同jER−1001(ビスフェノールA型エポキシ樹脂)、同jER−807、同jER−4004P(ビスフェノールF型エポキシ樹脂)、エア・ウォーター社製R710(ビスフェノールE型エポキシ樹脂)等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin having a bisphenol type skeleton used in combination with the above-described epoxy resin having a tertiary amine include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol E (AD) type epoxy resin, bisphenol S type epoxy Although a resin etc. are mentioned, a bisphenol A epoxy resin, a bisphenol F-type epoxy resin, and a bisphenol E (AD) epoxy resin are preferable from an electric insulation and an adhesive viewpoint to a conductive part and an insulation part. Moreover, although the epoxy resin which has a bisphenol-type frame | skeleton is used any of liquid, semi-solid, and solid, it is preferable in particular that it is liquid from a filling viewpoint. The liquid state is as described in the description of the epoxy resin having a tertiary amine. One of these epoxy resins having a bisphenol skeleton may be used alone, or two or more thereof may be used in combination, and in particular, two types of bisphenol A epoxy resin and bisphenol F epoxy resin are used in combination. Is preferred. As these commercial products, jER-828, jER-834, jER-1001 (bisphenol A epoxy resin), jER-807, jER-4004P (bisphenol F epoxy resin), manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, Air Water Co., Ltd. R710 (bisphenol E type epoxy resin) etc. are mentioned.

3級アミンを有するエポキシ樹脂とビスフェノール型骨格を有するエポキシ樹脂とは、質量基準において20:80〜90:10の割合で含まれることがより好ましい。両者の割合が上記範囲内であれば、より一層、電気絶縁性に優れ、導電部および絶縁部への密着性にも優れる充填材とすることができる。   It is more preferable that the epoxy resin having a tertiary amine and the epoxy resin having a bisphenol type skeleton are contained in a ratio of 20:80 to 90:10 on a mass basis. If the ratio of both is within the above-mentioned range, it is possible to obtain a filler which is further excellent in the electrical insulation and also in the adhesion to the conductive portion and the insulating portion.

本発明の熱硬化性樹脂充填材は、上記した以外のエポキシ樹脂が含まれていてもよく、本発明の効果を損なわない範囲で、例えばフェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAのノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、リン含有エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、ノルボルネン型エポキシ樹脂、アダマンタン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、アルキルフェノール型エポキシ樹脂等が含まれていてもよい。上記したエポキシ樹脂は、穴埋め性の観点から常温で液状であることが好ましいが、常温で固形のエポキシ樹脂を排除するものではなく、常温で固形のエポキシ樹脂を含む場合には、溶剤を用いて常温で固形のエポキシ樹脂を溶解させて使用してもよい。   The thermosetting resin filler of the present invention may contain an epoxy resin other than those described above, and may be, for example, a phenol novolac epoxy resin, a cresol novolac epoxy resin, bisphenol A as long as the effects of the present invention are not impaired. Novolak type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, naphthol type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aliphatic chain epoxy resin, phosphorus containing An epoxy resin, an anthracene epoxy resin, a norbornene epoxy resin, an adamantane epoxy resin, a fluorene epoxy resin, an alkylphenol epoxy resin, and the like may be included. The above-mentioned epoxy resin is preferably liquid at normal temperature from the viewpoint of hole-filling properties, but it does not exclude an epoxy resin which is solid at normal temperature, and when it contains an epoxy resin which is solid at normal temperature, a solvent is used A solid epoxy resin may be dissolved and used at room temperature.

<エポキシ樹脂硬化剤>
本発明の熱硬化性樹脂充填材は、上記したエポキシ樹脂を硬化させるためのエポキシ樹脂硬化剤を必須成分として含む。エポキシ樹脂硬化剤としては、エポキシ樹脂を硬化させるために一般的に使用されている公知の硬化剤を使用することができ、例えばアミン類、イミダゾール類、多官能フェノール類、酸無水物、イソシアネート類、およびこれらの官能基を含むポリマー類があり、必要に応じてこれらを複数用いても良い。アミン類としては、ジシアンジアミド、ジアミノジフェニルメタン等がある。イミダゾール類としては、アルキル置換イミダゾール、ベンゾイミダゾール等がある。また、イミダゾール化合物はイミダゾールアダクト体等のイミダゾール潜在性硬化剤であってもよい。多官能フェノール類としては、ヒドロキノン、レゾルシノール、ビスフェノールAおよびそのハロゲン化合物、さらに、これにアルデヒドとの縮合物であるノボラック、レゾール樹脂等がある。
酸無水物としては、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸等がある。イソシアネート類としては、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等があり、このイソシアネートをフェノール類等でマスクしたものを使用しても良い。これらエポキシ樹脂硬化剤は1種類を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<Epoxy resin curing agent>
The thermosetting resin filler of the present invention contains, as an essential component, an epoxy resin curing agent for curing the above-mentioned epoxy resin. As the epoxy resin curing agent, known curing agents generally used to cure epoxy resins can be used, such as amines, imidazoles, polyfunctional phenols, acid anhydrides, isocyanates And polymers containing these functional groups, and a plurality of these may be used if necessary. Amines include dicyandiamide, diaminodiphenylmethane and the like. The imidazoles include alkyl-substituted imidazoles, benzimidazoles and the like. The imidazole compound may also be an imidazole latent curing agent such as an imidazole adduct. Examples of polyfunctional phenols include hydroquinone, resorcinol, bisphenol A and its halogen compounds, and further, novolak which is a condensate with an aldehyde, and resol resin.
Examples of the acid anhydride include phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, benzophenone tetracarboxylic acid and the like. As isocyanates, there are tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate and the like, and those obtained by masking this isocyanate with phenols and the like may be used. One of these epoxy resin curing agents may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

上記したエポキシ樹脂硬化剤のなかでも、アミン類およびイミダゾール類を導電部および絶縁部との密着性、保存安定性、耐熱性の観点から好適に使用することができる。アミン類としては、炭素数2〜6のアルキレンジアミン、炭素数2〜6のポリアルキレンポリアミン、炭素数8〜15である芳香環含有脂肪族ポリアミンなどの脂肪族ポリアミンのアダクト化合物、またはイソホロンジアミン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンなどの脂環式ポリアミンのアダクト化合物、または上記脂肪族ポリアミンのアダクト化合物と上記脂環式ポリアミンのアダクト化合物との混合物を主成分とするものが好ましい。特に、キシリレンジアミンまたはイソホロンジアミンのアダクト化合物を主成分とする硬化剤が好ましい。   Among the above-described epoxy resin curing agents, amines and imidazoles can be suitably used from the viewpoints of adhesion to the conductive part and the insulating part, storage stability, and heat resistance. As the amines, adduct compounds of aliphatic polyamines such as alkylene diamines having 2 to 6 carbon atoms, polyalkylene polyamines having 2 to 6 carbon atoms, and aromatic ring-containing aliphatic polyamines having 8 to 15 carbon atoms, or isophorone diamine, Those containing an adduct compound of an alicyclic polyamine such as 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane or a mixture of an adduct compound of the above aliphatic polyamine and an adduct compound of the above alicyclic polyamine are preferable as the main component. In particular, curing agents based on adduct compounds of xylylene diamine or isophorone diamine are preferred.

上記脂肪族ポリアミンのアダクト化合物としては、当該脂肪族ポリアミンにアリールグリシジルエーテル(特にフェニルグリシジルエーテルまたはトリルグリシジルエーテル)またはアルキルグリシジルエーテルを付加反応させて得られるものが好ましい。また、上記脂環式ポリアミンのアダクト化合物としては、当該脂環式ポリアミンにn−ブチルグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル等を付加反応させて得られるものが好ましい。   As the adduct compound of the aliphatic polyamine, one obtained by subjecting the aliphatic polyamine to an addition reaction of an aryl glycidyl ether (particularly, phenyl glycidyl ether or tolyl glycidyl ether) or an alkyl glycidyl ether is preferable. Moreover, as an adduct compound of the said alicyclic polyamine, what is obtained by making n-butyl glycidyl ether, a bisphenol A diglycidyl ether, etc. add to the said alicyclic polyamine is preferable.

脂肪族ポリアミンとしては、エチレンジアミン、プロピレンジアミンなど炭素数2〜6のアルキレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレントリアミンなど炭素数2〜6のポリアルキレンポリアミン、キシリレンジアミンなど炭素数8〜15の芳香環含有脂肪族ポリアミンなどが挙げられる。変性脂肪族ポリアミンの市販品の例としては、例えばFXE−1000またはFXR−1020、フジキュアFXR−1030、フジキュアFXR−1080、FXR−1090M2(富士化成工業株式会社製)、アンカミン2089K、サンマイドP−117、サンマイドX−4150、アンカミン2422、サーウェットR、サンマイドTX−3000、サンマイドA−100(エアープロダクツジャパン株式会社製)等が挙げられる。     Examples of aliphatic polyamines include alkylene diamines having 2 to 6 carbon atoms such as ethylene diamine and propylene diamine, polyalkylene diamines having 2 to 6 carbon atoms such as diethylene triamine and triethylene triamine, and aromatic ring-containing fats having 8 to 15 carbon atoms such as xylylene diamine Family polyamines and the like. Examples of commercially available modified aliphatic polyamines include FXE-1000 or FXR-1020, Fujicure FXR-1030, Fujicure FXR-1080, FXR-1090M2 (Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd.), Ancamine 2089K, Sanmide P-117. Sunmide X-4150, Ankamin 2422, Serwett R, Sunmide TX-3000, Sunmide A-100 (manufactured by Air Products Japan Co., Ltd.), and the like.

脂環式ポリアミンとしては、イソホロンジアミン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、ノルボルネンジアミン、1,2−ジアミノシクロヘキサン、ラロミン等を例示することができる。変性脂環式ポリアミンの市販品としては、例えばアンカミン1618、アンカミン2074、アンカミン2596、アンカミン2199、サンマイドIM−544、サンマイドI−544、アンカミン2075、アンカミン2280、アンカミン1934、アンカミン2228(エアープロダクツジャパン株式会社製)、ダイトクラールF−5197、ダイトクラールB−1616(大都産業株式会社製)、フジキュアFXD−821、フジキュア4233(富士化成工業株式会社製)、jERキュア113(三菱ケミカル株式会社製)、ラロミンC−260(BASF社製)等が挙げられる。     Examples of alicyclic polyamines include isophorone diamine, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, bis (4-aminocyclohexyl) methane, norbornene diamine, 1,2-diaminocyclohexane, laromine and the like. Commercially available modified alicyclic polyamines include, for example, ankamine 1618, ankamine 2074, ankamine 2596, ankamine 2199, sunmide IM-544, sunmide I-544, ankamine 2075, ankamine 2280, ankamine 1934, ankamine 2228 (air products Japan stock) Made by company), Dytoclar F-5197, Daitoclar B-1616 (made by Daito Sangyo Co., Ltd.), Fujicure FXD-821, Fujicure 4233 (made by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd.), jER Cure 113 (made by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), Lalomin C-260 (made by BASF Corporation) etc. are mentioned.

また、イミダゾール類としては非潜在型のものが好ましく、例えば、エポキシ樹脂とイミダゾールの反応物等を言う。本発明の(B)イミダゾール化合物は、例えば、2−メチルイミダゾール、4−メチル−2−エチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、4−メチル−2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−イソプロピルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール等を挙げることができる。イミダゾール化合物の市販品としては、例えば、2E4MZ、C11Z、C17Z、2PZ等のイミダゾール類や、2MZ−A、2E4MZ−A等のイミダゾールのAZINE(アジン)化合物、2MZ−OK、2PZ−OK等のイミダゾールのイソシアヌル酸塩、2PHZ、2P4MHZ等のイミダゾールヒドロキシメチル体(これらはいずれも四国化成工業株式会社製)等を挙げることができる。イミダゾール型潜在性硬化剤の市販品としては、例えば、キュアゾールP−0505(四国化成工業株式会社製)等を挙げることができる。   The imidazoles are preferably of the non-latent type, for example, a reaction product of an epoxy resin and imidazole, and the like. The (B) imidazole compound of the present invention is, for example, 2-methylimidazole, 4-methyl-2-ethylimidazole, 2-phenylimidazole, 4-methyl-2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2 And -ethylimidazole, 2-isopropylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole and the like. Examples of commercially available imidazole compounds include imidazoles such as 2E4MZ, C11Z, C17Z and 2PZ, and AZINE (azines) compounds of imidazole such as 2MZ-A and 2E4MZ-A, and imidazoles such as 2MZ-OK and 2PZ-OK. And an imidazole hydroxymethyl compound such as 2PHZ or 2P4MHZ (all of which are manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.). As a commercial item of an imidazole type latent curing agent, Cuazole P-0505 (made by Shikoku Chemicals Co., Ltd.) etc. can be mentioned, for example.

導電部および絶縁部の両方への密着性の観点からは、エポキシ樹脂硬化剤として上記したイミダゾール類とポリアミン類および/またはイミダゾール型潜在性硬化剤とを併用することが好ましい。   From the viewpoint of adhesion to both the conductive part and the insulating part, it is preferable to use the imidazoles described above as the epoxy resin curing agent in combination with a polyamine and / or an imidazole type latent curing agent.

エポキシ樹脂硬化剤の配合量は、導電部および絶縁部の両方への密着性、電気絶縁性、吸水性等の観点から、エポキシ樹脂100質量部に対して1〜30質量部であることが好ましく、より好ましくは4〜20質量部である。また、イミダゾール類とポリアミン類および/またはイミダゾール型潜在性硬化剤とを併用する場合には、イミダゾール類とポリアミン類および/またはイミダゾール型潜在性硬化剤との配合割合は、質量基準において1:99〜99:1であることが好ましく、より好ましくは10:90〜90:10である。   The compounding amount of the epoxy resin curing agent is preferably 1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin from the viewpoints of adhesion to both the conductive part and the insulating part, electrical insulation, water absorption, etc. And more preferably 4 to 20 parts by mass. In addition, when the imidazole and the polyamine and / or the imidazole type latent curing agent are used in combination, the blending ratio of the imidazole and the polyamine and / or the imidazole type latent curing agent is 1:99 on a mass basis. It is preferably -99: 1, more preferably 10:90 to 90:10.

<無機フィラー>
本発明の熱硬化性樹脂充填材は、充填材の硬化収縮による応力緩和や線膨張係数の調整のため無機フィラーが含まれる。無機フィラーとしては、通常の樹脂組成物に用いられる公知の無機フィラーを用いることができる。具体的には、例えば、シリカ、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、アルミナ、酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化チタン、マイカ、タルク、有機ベントナイトなどの非金属フィラーや、銅、金、銀、パラジウム、シリコーンなどの金属フィラーが挙げられる。これら無機フィラーは1種類を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<Inorganic filler>
The thermosetting resin filler of the present invention contains an inorganic filler for stress relaxation due to curing shrinkage of the filler and adjustment of the linear expansion coefficient. As an inorganic filler, the well-known inorganic filler used for a normal resin composition can be used. Specifically, for example, nonmetals such as silica, barium sulfate, calcium carbonate, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, alumina, magnesium oxide, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, titanium oxide, mica, talc, organic bentonite and the like Fillers and metal fillers such as copper, gold, silver, palladium and silicone can be mentioned. These inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more.

これらの無機フィラーのなかでも、低吸湿性、低体積膨張性に優れる炭酸カルシウムやシリカ、硫酸バリウム、酸化アルミニウムが好適に用いられ、なかでもシリカおよび炭酸カルシウムがより好適に用いられる。シリカとしては、非晶質、結晶のいずれであってもよく、これらの混合物でもよい。特に非晶質(溶融)シリカが好ましい。また、炭酸カルシウムとしては、天然の重質炭酸カルシウム、合成の沈降炭酸カルシウムのいずれであってもよい。   Among these inorganic fillers, calcium carbonate, silica, barium sulfate and aluminum oxide which are excellent in low hygroscopicity and low volume expansion are suitably used, and in particular, silica and calcium carbonate are more suitably used. The silica may be amorphous, crystalline or a mixture thereof. In particular, amorphous (fused) silica is preferred. Moreover, as calcium carbonate, any of natural ground calcium carbonate and synthetic precipitated calcium carbonate may be used.

無機フィラーの形状は、特に制限されるものではなく、球状、針状、板状、鱗片状、中空状、不定形状、六角状、キュービック状、薄片状など挙げられるが、無機フィラーの高配合の観点から球状が好ましい。   The shape of the inorganic filler is not particularly limited, and may be spherical, needle-like, plate-like, scaly, hollow, indeterminate, hexagonal, cubic, flaky, etc. A spherical shape is preferable from the viewpoint.

また、これら無機フィラーの平均粒径は、無機フィラーの分散性、穴部への充填性、穴埋めした部分に配線層を形成した際の平滑性等を考慮すると、0.1μm〜25μm、好ましくは0.1μm〜15μmの範囲が適当である。より好ましくは、1μm〜10μmである。なお、平均粒径とは平均一次粒径を意味し、平均粒径(D50)は、レーザー回折/散乱法により測定することができる。   The average particle size of the inorganic filler is preferably 0.1 μm to 25 μm, preferably considering the dispersibility of the inorganic filler, the filling property to the hole, the smoothness when forming the wiring layer in the hole-filled portion, etc. A range of 0.1 μm to 15 μm is appropriate. More preferably, it is 1 μm to 10 μm. The average particle diameter means an average primary particle diameter, and the average particle diameter (D50) can be measured by a laser diffraction / scattering method.

無機フィラーの配合割合は、硬化物とした際の熱膨張係数、研磨性、密着性と、印刷性や穴埋め充填性とを両立させる観点から、エポキシ樹脂100質量部に対して、10〜1000質量部であることが好ましく、20〜500質量部であることがより好ましく、特に30〜300質量部であることがより好ましい。   The compounding ratio of the inorganic filler is 10 to 1000 mass with respect to 100 mass parts of the epoxy resin from the viewpoint of achieving both the thermal expansion coefficient, the abradability, the adhesiveness, and the printability and the hole filling property when formed into a cured product. It is preferably a part, more preferably 20 to 500 parts by mass, and particularly preferably 30 to 300 parts by mass.

<その他の成分>
本発明の熱硬化性樹脂充填材には、チキソ性を付与するために脂肪酸で処理したフィラー、または有機ベントナイト、タルクなどの不定形フィラーを添加することができる。
<Other ingredients>
In the thermosetting resin filler of the present invention, a filler treated with a fatty acid to impart thixotropy, or an amorphous filler such as organic bentonite or talc can be added.

上記脂肪酸としては、一般式:(R1COO)−R2(置換基R1は炭素数が5以上の炭化水素、置換基R2は水素または金属アルコキシド、金属であり、nが1〜4である)で表される化合物を用いることができる。当該脂肪酸は、置換基R1の炭素数が5以上のとき、チキソ性付与の効果を発現させることができる。より好ましくはnが7以上である。 As the above-mentioned fatty acid, it is a general formula: (R1COO) n -R2 (substituent R1 is hydrocarbon having 5 or more carbon atoms, substituent R2 is hydrogen or metal alkoxide, metal and n is 1 to 4) The compounds represented can be used. The said fatty acid can express the effect of thixotropy provision, when carbon number of substituent R1 is five or more. More preferably, n is 7 or more.

脂肪酸としては、炭素鎖中に二重結合あるいは三重結合を有する不飽和脂肪酸であってもよいし、それらを含まない飽和脂肪酸であってもよい。例えば、ステアリン酸(炭素数と不飽和結合の数および括弧内はその位置による数値表現とする。18:0)、ヘキサン酸(6:0)、オレイン酸(18:1(9))、イコサン酸(20:0)、ドコサン酸(22:0)、メリシン酸(30:0)などが挙げられる。これら脂肪酸の置換基R1の炭素数は5〜30が好ましい。より好ましくは、炭素数5〜20である。また、例えば、置換基R2を、アルコキシル基でキャッピングされたチタネート系の置換基とした金属アルコキシドなど、カップリング剤系の構造で長い(炭素数が5以上の)脂肪鎖を有する骨格のものであってもよい。例えば、商品名KR−TTS(味の素ファインテクノ社株式会社製)などを用いることができる。その他、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸バリウム(それぞれ川村化成工業株式会社製)など金属石鹸を用いることができる。その他の金属石鹸の元素としては、Ca、Zn、Li、Mg,Naなどがある。   The fatty acid may be an unsaturated fatty acid having a double bond or a triple bond in the carbon chain, or may be a saturated fatty acid not containing them. For example, stearic acid (the number of carbon atoms and the number of unsaturated bonds and in parentheses is the numerical expression by the position. 18: 0), hexanoic acid (6: 0), oleic acid (18: 1 (9)), icosane Examples include acid (20: 0), docosanoic acid (22: 0), and melisic acid (30: 0). As for carbon number of substituent R1 of these fatty acids, 5-30 are preferable. More preferably, it is C5-C20. Also, for example, a metal alkoxide having a substituent group R2 substituted with an alkoxyl-capped titanate-based substituent, such as a metal alkoxide having a coupling agent-based structure and a long (five or more carbon atoms) backbone. It may be. For example, the trade name KR-TTS (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) can be used. In addition, metal soaps such as aluminum stearate and barium stearate (each manufactured by Kawamura Chemical Co., Ltd.) can be used. Examples of other metal soap elements include Ca, Zn, Li, Mg and Na.

脂肪酸の配合割合は、チキソ性、埋め込み性、消泡性等の観点から、無機フィラー100質量部に対して0.1〜2質量部の割合が適当である。   The proportion of the fatty acid is preferably 0.1 to 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic filler from the viewpoint of thixotropy, embedding property, defoaming property, and the like.

脂肪酸は、予め脂肪酸で表面処理をした無機フィラーを用いることにより配合されてもよく、より効果的に熱硬化性樹脂充填材にチキソ性を付与することが可能となる。この場合、脂肪酸の配合割合は、未処理フィラーを用いた場合より低減することができ、無機フィラーを全て脂肪酸処理フィラーとした場合、脂肪酸の配合割合は、無機フィラー100質量部に対して0.1〜1質量部とすることが好ましい。   The fatty acid may be blended by using an inorganic filler which has been surface-treated with fatty acid beforehand, and it becomes possible to more effectively impart thixotropy to the thermosetting resin filler. In this case, the blending ratio of the fatty acid can be reduced as compared to the case of using the untreated filler, and when all the inorganic filler is the fatty acid-treated filler, the blending ratio of the fatty acid is 0. 0. to 100 parts by mass of the inorganic filler. It is preferable to be 1 to 1 part by mass.

また、本発明の熱硬化性樹脂充填材には、シラン系カップリング剤が含まれていてもよい。シラン系カップリング剤を配合することにより、無機フィラーとエポキシ樹脂との密着性を向上させ、その硬化物におけるクラックの発生を抑えることが可能となる。   In addition, the thermosetting resin filler of the present invention may contain a silane coupling agent. By blending a silane coupling agent, the adhesion between the inorganic filler and the epoxy resin can be improved, and the occurrence of cracks in the cured product can be suppressed.

シラン系カップリング剤としては、例えば、エポキシシラン、ビニルシラン、イミダゾールシラン、メルカプトシラン、メタクリロキシシラン、アミノシラン、スチリルシラン、イソシアネートシラン、スルフィドシラン、ウレイドシランなどが挙げられる。また、シラン系カップリング剤は、予めシラン系カップリング剤で表面処理をした無機フィラーを用いることにより配合されてもよい。   Examples of the silane coupling agent include epoxysilane, vinylsilane, imidazolesilane, mercaptosilane, methacryloxysilane, aminosilane, styrylsilane, isocyanate silane, sulfide silane, ureidosilane and the like. Further, the silane coupling agent may be blended by using an inorganic filler which has been surface-treated with the silane coupling agent in advance.

シラン系カップリング剤の配合割合は、無機フィラーとエポキシ樹脂との密着性と消泡性とを両立させる観点から、無機フィラー100質量部に対して0.05〜2.5質量部とすることが好ましい。   The blending ratio of the silane coupling agent is 0.05 to 2.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic filler from the viewpoint of achieving both the adhesion between the inorganic filler and the epoxy resin and the defoaming property. Is preferred.

本発明の熱硬化性樹脂充填材には、その他必要に応じて、フェノール化合物、ホルマリンおよび第一級アミンを反応させて得られるオキサジン環を有するオキサジン化合物を配合してもよい。オキサジン化合物を含有することにより、プリント配線板の穴部に充填された熱硬化性樹脂充填材を硬化した後、形成された硬化物上に無電解めっきを行なう際、過マンガン酸カリウム水溶液などによる硬化物の粗化を容易にし、めっきとのピール強度を向上させることができる。   If necessary, the thermosetting resin filler of the present invention may be blended with an oxazine compound having an oxazine ring obtained by reacting a phenol compound, formalin and a primary amine. When an electroless plating is performed on the formed cured product after curing the thermosetting resin filler filled in the hole of the printed wiring board by containing the oxazine compound, an aqueous potassium permanganate solution or the like may be used. The roughening of the cured product can be facilitated, and the peel strength with plating can be improved.

また、通常のスクリーン印刷用レジストインキに使用されているフタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、ジスアゾイエロー、酸化チタン、カーボンブラック、ナフタレンブラックなどの公知の着色剤を添加してもよい。   In addition, known colorants such as phthalocyanine blue, phthalocyanine green, disazo yellow, titanium oxide, carbon black and naphthalene black, which are used in ordinary resist inks for screen printing, may be added.

また、保管時の保存安定性を付与するために、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、tert−ブチルカテコール、ピロガロール、フェノチアジンなどの公知の熱重合禁止剤や、粘度などの調整のために、クレー、カオリン、有機ベントナイト、モンモリロナイトなどの公知の増粘剤、チキソトロピー剤を添加することができる。その他、シリコーン系、フッ素系、高分子系などの消泡剤、レベリング剤やイミダゾール系、チアゾール系、トリアゾール系、シランカップリング剤などの密着性付与剤のような公知の添加剤類を配合することができる。特に、有機ベントナイトを用いた場合、穴部表面からはみ出した部分が研磨・除去し易い突出した状態に形成され易く、研磨性に優れたものとなるので好ましい。また、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、クリスタルバイオレット、酸化チタン、カーボンブラック、ナフタレンブラック等の公知慣用の着色剤等を配合することもできる。   In order to impart storage stability during storage, known thermal polymerization inhibitors such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, tert-butyl catechol, pyrogallol, phenothiazine, etc., clay, kaolin, etc. for adjustment of viscosity etc. Known thickeners such as organic bentonite and montmorillonite and thixotropic agents can be added. In addition, known additives such as silicone type, fluorine type, polymer type antifoaming agent, adhesion agent such as leveling agent, imidazole type, thiazole type, triazole type, silane coupling agent, etc. are blended. be able to. In particular, when organic bentonite is used, it is preferable that the portion protruding from the surface of the hole is easily formed in a protruding state that is easy to polish and remove, and has excellent polishability. Also, known and commonly used coloring agents such as phthalocyanine blue, phthalocyanine green, iodine green, disazo yellow, crystal violet, titanium oxide, carbon black, naphthalene black and the like can be blended.

熱硬化性樹脂充填材の回転式粘度計により測定される粘度は、25℃、5rpmの30Sec値で、200〜1000dPa・Secであることが好ましい。この範囲の粘度であれば、形状保持性(液ダレ抑制)と埋め込み性との両方をより一層向上させることができる。より好ましくは200〜800dPa・Secである。なお、粘度は、JIS Z
8803に記載されているコーンローター(円錐ロータ)とプレートから成るコーンプレート型粘度計で、たとえばTV−30型(東機産業製、ロータ3°×R9.7)で測定される。
The viscosity of the thermosetting resin filler measured by a rotary viscometer is preferably 200 to 1000 dPa · Sec at a temperature of 25 ° C. and a speed of 30 sec at 5 rpm. If the viscosity is in this range, it is possible to further improve both the shape retentivity (liquid dripping suppression) and the embeddability. More preferably, it is 200 to 800 dPa · Sec. The viscosity is JIS Z
The cone-plate viscometer comprising a cone rotor (conical rotor) and a plate described in 8803 is measured, for example, with a TV-30 type (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., rotor 3 ° × R9.7).

本発明の熱硬化性樹脂充填材は、スクリーン印刷法、ロールコーティング法、ダイコーティング法、真空印刷法など公知のパターニング方法を用いて、例えば上記したような多層プリント配線板の貫通孔の穴部や底部を有する凹部に充填される。このとき、穴部や凹部から少しはみ出るように完全に充填される。穴部や凹部が熱硬化性樹脂充填材で充填された多層プリント配線板を、例えば80〜160℃で30〜180分程度加熱することにより、熱硬化性樹脂充填材が硬化し、硬化物が形成される。特に、アウトガス発生抑制の観点からは2段階で硬化させることが好ましい。すなわち、より低い温度で熱硬化性樹脂充填材を予備硬化させておき、その後に本硬化(仕上げ硬化)することが好ましい。予備硬化としての条件は、80〜110℃で30〜90分程度の加熱が好ましい。予備硬化した硬化物の硬度は比較的に低いため、基板表面からはみ出している不必要部分を物理研磨により容易に除去でき、平坦面とすることができる。その後、加熱して本硬化させる。本硬化としての条件は、130〜160℃で30〜180分程度の加熱が好ましい。この際、低膨張性のために硬化物は殆ど膨張も収縮もせず、寸法安定性良く低吸湿性、密着性、電気絶縁性等に優れた最終硬化物となる。なお、予備硬化物の硬度は、予備硬化の加熱時間、加熱温度を変えることによってコントロールすることができる。   The thermosetting resin filler of the present invention can be formed, for example, using the known patterning method such as screen printing method, roll coating method, die coating method or vacuum printing method, for example, the hole portion of the through hole of the multilayer printed wiring board as described above. Filled in the recess with the bottom. At this time, it is completely filled so as to slightly protrude from the hole or recess. The thermosetting resin filler is cured by heating the multilayer printed wiring board in which the holes and recesses are filled with the thermosetting resin filler, for example, at 80 to 160 ° C. for about 30 to 180 minutes, and the cured product is It is formed. In particular, it is preferable to cure in two stages from the viewpoint of suppressing outgassing. That is, it is preferable to precure the thermosetting resin filler at a lower temperature, and then to perform main curing (finish curing). The conditions for the pre-curing are preferably heating at 80 to 110 ° C. for about 30 to 90 minutes. Since the hardness of the pre-cured cured product is relatively low, unnecessary portions protruding from the substrate surface can be easily removed by physical polishing and can be made flat. After that, it is heated to be fully cured. As the conditions for the main curing, heating for about 30 to 180 minutes at 130 to 160 ° C. is preferable. At this time, the cured product hardly expands or shrinks due to its low expansion property, and becomes a final cured product having excellent dimensional stability, low hygroscopicity, adhesion, electrical insulation and the like. The hardness of the precured product can be controlled by changing the heating time and temperature of the precuring.

上記のようにして熱硬化性樹脂充填材を硬化させた後、プリント配線板の表面からはみ出した硬化物の不要部分を、公知の物理研磨方法により除去し、平坦化した後、表面の配線層を所定パターンにパターニングして、所定の回路パターンが形成される。なお、必要に応じて過マンガン酸カリウム水溶液などにより硬化物の表面粗化を行った後、無電解めっきなどにより硬化物上に配線層を形成してもよい。   After the thermosetting resin filler is cured as described above, unnecessary portions of the cured product protruding from the surface of the printed wiring board are removed by a known physical polishing method and planarized, and then the surface wiring layer is formed. Are patterned into a predetermined pattern to form a predetermined circuit pattern. If necessary, the surface of the cured product may be roughened with a potassium permanganate aqueous solution or the like, and then a wiring layer may be formed on the cured product by electroless plating or the like.

次に実施例を挙げて、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものではない。なお、以下において「部」および「%」とあるのは、特に断りのない限り全て質量基準である。   EXAMPLES The present invention will next be described in more detail by way of examples, which should not be construed as limiting the invention thereto. In the following, “parts” and “%” are all based on mass unless otherwise noted.

<熱硬化性樹脂充填材の調製>
下記表1および2に示す種々の成分を各表に示す割合(質量部)にて配合し、攪拌機にて予備混合した後、3本ロールミルにて分散を行い、実施例1〜16および比較例1〜5の各熱硬化性樹脂充填材を調製した。得られた各熱硬化性樹脂充填材の粘度を粘度計(東機産業株式会社製、TV−30型、ロータ3°×R9.7)を用いて測定したところ、25℃、5rpmの30Sec値の測定条件において、300〜500dPa・Secの範囲であった。
<Preparation of thermosetting resin filler>
Various components shown in Tables 1 and 2 below are blended in proportions (parts by mass) shown in the respective tables, and after preliminary mixing with a stirrer, dispersion is performed with a 3-roll mill, and Examples 1 to 16 and Comparative Examples One to five thermosetting resin fillers were prepared. The viscosity of each thermosetting resin filler obtained is measured using a viscometer (TV-30 type, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., rotor 3 ° × R9.7), and the 30 Sec value at 25 ° C. and 5 rpm Under the measurement conditions of 300 to 500 dPa · Sec.

なお、表1中の*1〜*16は、以下の成分を表す。
*1:三菱ケミカル株式会社製jER−630(トリグリシジルアミノフェノール、液状)
*2:住友化学株式会社製ELM−100(パラアミノフェノール型液状エポキシ樹脂)
*3:日本化薬株式会社製GAN(ジグリシジルアニリン、液状)
*4:日本化薬株式会社製GOT(ジグリシジルオルトトルイジン、液状)
*5:三菱ケミカル株式会社製jER−828(ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂)
*6:三菱ケミカル株式会社製jER−807(ビスフェノールF型液状エポキシ樹脂)
*7:エア・ウォーター社製R710(ビスフェノールE型液状エポキシ樹脂)
*8:ダウ・ケミカル社製DEN431(フェノールノボラック型半固形エポキシ樹脂)
*9:四国化成工業株式会社製2PHZ(イミダゾールヒドロキシメチル体)
*10:四国化成工業株式会社製2P4MHZ(イミダゾールヒドロキシメチル体)
*11:富士化成工業株式会社製フジキュアFXR−1030(変性脂肪族ポリアミン)
*12:三菱ケミカル株式会社製jERキュア113(変性脂肪族ポリアミン)
*13:四国化成工業株式会社キュアゾールP−0505(イミダゾール型潜在性硬化剤)
*14:備北粉化工業株式会社ソフトン1800(炭酸カルシウム、平均粒径1.2μm)
*15:エボニック・デグサ・ジャパン株式会社製ACEMATT3300(非晶質シリカ、平均粒径9.5μm)
*16:信越化学工業株式会社SK−66(シリコーンオイル)
In addition, * 1 to * 16 in Table 1 represent the following components.
* 1: Mitsubishi Chemical Corporation jER-630 (triglycidyl aminophenol, liquid)
* 2: ELM-100 (Paraaminophenol type liquid epoxy resin) manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.
* 3: GAN manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. (diglycidyl aniline, liquid)
* 4: GOT manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. (diglycidyl ortho toluidine, liquid)
* 5: jER-828 (bisphenol A liquid epoxy resin) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation
* 6: Mitsubishi Chemical Corporation jER-807 (bisphenol F type liquid epoxy resin)
* 7: Air Water R710 (bisphenol E type liquid epoxy resin)
* 8: Dow Chemical's DEN 431 (phenol novolac semi-solid epoxy resin)
* 9: 2PHZ (imidazole hydroxymethyl compound) manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.
* 10: 2P4 MHZ (imidazole hydroxymethyl compound) manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.
* 11: Fuji Cure FXR-1030 (modified aliphatic polyamine) manufactured by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd.
* 12: jER Cure 113 (modified aliphatic polyamine) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation
* 13: Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd. Cuazole P-0505 (imidazole type latent curing agent)
* 14: Bihoku Powder Industry Co., Ltd. Softon 1800 (calcium carbonate, average particle size 1.2 μm)
* 15: ACEMAT 3300 (amorphous silica, average particle size 9.5 μm) manufactured by Evonik Degussa Japan Co., Ltd.
* 16: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. SK-66 (silicone oil)

<評価>
(1)充填材の密着性(導電部)評価
内径が0.3mm、深さが3.2mmの貫通孔の内壁面全体に銅めっきからなる配線層(めっき厚25μm)を設けて形成されたスルーホールを有する厚さ3.2mmの多層プリント配線基板を準備し、スルーホールに各熱硬化性樹脂充填材をスクリーン印刷法により充填し、熱風循環式乾燥炉(ヤマト科学株式会社製DF610)にて150℃で30分加熱することにより熱硬化性樹脂充填材を硬化させた。充填材により穴埋めされた貫通孔の断面の光学顕微鏡観察および電子顕微鏡観察を行い、下記の基準により評価を行った。
なお、顕微鏡観察を行うにあたり、観察する貫通孔の断面は以下のようにして形成した。
すなわち、スルーホールを含む多層プリント配線板を厚さ方向に垂直に裁断し、裁断面にSiC研磨紙(丸本ストルアス株式会社製、500番および2000番)と研磨機(ハルツォク・ジャパン株式会社製、FORCIPOL−2V)を使用して、スルーホールの断面を研磨した。
○:導電部(配線層)と充填材との剥がれがない
△:導電部(配線層)と充填材とが僅かに剥がれている
×:導電部(配線層)と充填材とが明らかに剥がれている
評価結果は下記の表1および表2に示されるとおりであった。
<Evaluation>
(1) Evaluation of adhesion of conductive material (conductive part) Evaluation was made by providing a wiring layer (plating thickness 25 μm) made of copper plating on the entire inner wall surface of the through hole having an inner diameter of 0.3 mm and a depth of 3.2 mm. Prepare a 3.2 mm thick multilayer printed wiring board with through holes, fill the through holes with each thermosetting resin filler by screen printing method, and use a hot air circulation type drying oven (DF610 manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.) The thermosetting resin filler was cured by heating at 150 ° C. for 30 minutes. The optical microscope observation and the electron microscope observation of the cross section of the through-hole filled up with the filler were performed, and evaluation was performed according to the following criteria.
In addition, the cross-section of the through-hole to observe was formed as follows in microscopically observing.
That is, a multilayer printed wiring board including through holes is cut perpendicularly to the thickness direction, and on a cut surface, SiC abrasive paper (# 500 and # 2000 manufactured by Marumoto Struers Co., Ltd.) and a polishing machine (manufactured by Harzok Japan Ltd.) The cross section of the through hole was polished using FORCIPOL-2V).
○: no peeling between the conductive portion (wiring layer) and the filler material Δ: the conductive portion (wiring layer) and the filler material are slightly peeled off ×: the conductive portion (wiring layer) and the filler material are clearly peeled off The evaluation results are as shown in Tables 1 and 2 below.

(2)充填材の密着性(絶縁部)評価
絶縁層がガラス布/不繊布エポキシからなる厚み3.2mmのプリント配線基板にドリルにより内径0.5mmの貫通孔を形成して、貫通孔の内壁面に絶縁層を露出させた状態で、貫通孔に各熱硬化性樹脂充填材をスクリーン印刷法により充填し、熱風循環式乾燥炉(ヤマト科学株式会社製DF610)にて150℃で30分加熱することにより熱硬化性樹脂充填材を硬化させた。充填材により穴埋めされた貫通孔の断面の光学顕微鏡観察および電子顕微鏡観察を行い、下記の基準により評価を行った。なお、観察する貫通孔の断面は、上記(1)充填材の密着性(導電部)評価と同様にして行った。
○:絶縁部(絶縁層)と充填材との剥がれがない
△:絶縁部(絶縁層)と充填材とが僅かに剥がれている
×:絶縁部(絶縁層)と充填材とが明らかに剥がれている
評価結果は下記の表1および表2に示されるとおりであった。
(2) Evaluation of adhesion of filler (insulation part) Evaluation A through hole with an inner diameter of 0.5 mm is formed by a drill on a 3.2 mm thick printed wiring board whose insulating layer is made of glass cloth / non-woven cloth epoxy, With the insulating layer exposed on the inner wall surface, the thermosetting resin filler is filled in the through holes by the screen printing method, and heated for 30 minutes at 150 ° C. in a hot air circulating drying oven (DF610 manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.) The thermosetting resin filler was cured by heating. The optical microscope observation and the electron microscope observation of the cross section of the through-hole filled up with the filler were performed, and evaluation was performed according to the following criteria. In addition, the cross section of the through-hole to observe was carried out similarly to the said (1) adhesiveness (conductive part) evaluation of a filler.
○: no peeling between the insulating portion (insulating layer) and the filler material Δ: the insulating portion (insulating layer) and the filler material are slightly peeled off ×: the insulating portion (insulating layer) and the filler material are clearly peeled off The evaluation results are as shown in Tables 1 and 2 below.

(3)充填材の密着性(導電部/絶縁部)評価
(1)充填材の密着性(導電部)評価において用いた多層プリント配線基板に片面から深さ1.6mmまでドリル加工(ドリル径0.5mm)して配線層の一部を除去して絶縁層を露出させ、内壁に導電部と絶縁部とが形成されたスルーホールを有する多層プリント配線基板を準備し、スルーホールに各熱硬化性樹脂充填材をスクリーン印刷法により充填し、熱風循環式乾燥炉(ヤマト科学株式会社製DF610)にて150℃で30分加熱することにより熱硬化性樹脂充填材を硬化させた。充填材により穴埋めされた貫通孔の断面の光学顕微鏡観察および電子顕微鏡観察を行い、下記の基準により評価を行った。観察する貫通孔の断面は、上記(1)充填材の密着性(導電部)評価と同様にして行った。
◎:導電部と絶縁部の両方に充填材との剥がれがない
○:導電部と絶縁部のいずれか一方に、充填材との僅かな剥がれがある
△:導電部と絶縁部の両方に、充填材との剥がれがある
×:導電部と絶縁部の両方に、充填材との明らかな剥がれがある
評価結果は下記の表1および表2に示されるとおりであった。
(3) Evaluation of adhesion of conductive material (conductive part / insulation part) (1) Drilling of multilayer printed wiring board used in evaluation of adhesive property of conductive material (conductive part) to a depth of 1.6 mm from one side (drill diameter 0.5 mm) to remove part of the wiring layer to expose the insulating layer, and prepare a multilayer printed wiring board having a through hole in which the conductive portion and the insulating portion are formed on the inner wall, and heat each through hole The curable resin filler was filled by a screen printing method, and the thermosetting resin filler was cured by heating at 150 ° C. for 30 minutes in a hot air circulating drying oven (DF610 manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.). The optical microscope observation and the electron microscope observation of the cross section of the through-hole filled up with the filler were performed, and evaluation was performed according to the following criteria. The cross section of the through hole to be observed was carried out in the same manner as the evaluation (1) of the adhesion (conductive part) of the filler.
:: There is no peeling of the filler from both the conductive part and the insulating part ○: There is slight peeling from the filler to either the conductive part or the insulating part. Δ: Both of the conductive part and the insulating part Peeling with Filler x: There is clear peeling with the filler in both the conductive part and the insulating part. The evaluation results are as shown in Tables 1 and 2 below.

(4)充填状態の確認
スルーホールへの充填材の充填状態ついて以下の評価を行った。すなわち、(1)充填材の密着性(導電部)評価において用いた内径0.3mmの貫通孔を有する厚み3.2mmの多層プリント配線基板に片面から深さ1.6mmまでドリル加工(ドリル径0.5mm)して配線層の一部を除去して絶縁層を露出させ、内壁に導電部と絶縁部とが形成されたスルーホールを有する多層プリント配線基板を準備し、スルーホールに各熱硬化性樹脂充填材をスクリーン印刷法により充填し、ラックに立てかけて基板を90°±10°の角度に維持し、室温で30分間放置した。放置後の状態を目視にて確認した。判定基準は以下のとおりである。
◎:充填状態が維持されている。
○:若干の崩れが見られたが、スルーホール表面に凹みは無かった。
×:充填状態が崩れ、スルーホール表面に凹みが見られた。
評価結果は下記の表1および表2に示されるとおりであった。
(4) Confirmation of filling state The following evaluation was performed about the filling state of the filler to a through hole. That is, (1) drilling processing from a single side to a depth of 1.6 mm on a multilayer printed wiring board with a thickness of 3.2 mm having a through hole with an inner diameter of 0.3 mm used in the adhesion (conductive part) evaluation of the filler 0.5 mm) to remove part of the wiring layer to expose the insulating layer, and prepare a multilayer printed wiring board having a through hole in which the conductive portion and the insulating portion are formed on the inner wall, and heat each through hole The curable resin filler was filled by screen printing, placed on a rack to maintain the substrate at an angle of 90 ° ± 10 °, and left at room temperature for 30 minutes. The state after leaving was checked visually. The judgment criteria are as follows.
:: The filling state is maintained.
○: Some collapse was observed, but no dent was found on the through hole surface.
X: The filling state was broken, and a dent was observed on the surface of the through hole.
The evaluation results were as shown in Tables 1 and 2 below.

(5)吸水性評価
各実施例および比較例の熱硬化性樹脂充填材をGTS−MP箔(古河サーキットフォイル株式会社製)の光沢面側(銅箔)上にアプリケーターにより塗布し、熱風循環式乾燥炉(ヤマト科学株式会社製DF610)にて150℃で30分間、硬化させた。その後、硬化物を銅箔より剥離した後、測定サイズ(50mm×50mmのサイズ)にサンプルを切り出した後、100℃にて2時間乾燥を行い、水分を完全に除去し、精密天秤にて質量(W1)の測定を行った。その後、サンプルを23℃±2℃に管理された蒸留水に浸漬し、24時間後の質量(W2)の測定を行った。吸水率は(W2−W1)/W1×100(%)により求めた。
吸水性評価は、以下の基準により行った。
◎:吸水率1.0%未満
○:吸水率1.0%以上、1.5%未満
△:吸水率1.5%以上、2.0%未満
×:吸水率2.0%以上
評価結果は下記の表1および表2に示されるとおりであった。
(5) Water absorption evaluation The thermosetting resin filler of each Example and a comparative example is applied by the applicator on the glossy surface side (copper foil) of GTS-MP foil (made by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.), and hot air circulation type It was cured at 150 ° C. for 30 minutes in a drying oven (DF610 manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.). Thereafter, the cured product is peeled off from the copper foil, and after cutting out a sample in a measurement size (size of 50 mm × 50 mm), drying is performed at 100 ° C. for 2 hours to completely remove moisture, and the mass is measured with a precision balance. The measurement of (W1) was performed. Thereafter, the sample was immersed in distilled water controlled at 23 ° C. ± 2 ° C., and the mass (W2) after 24 hours was measured. The water absorption was determined by (W2−W1) / W1 × 100 (%).
Water absorbency evaluation was performed by the following references | standards.
:: Water absorption rate less than 1.0% ○: Water absorption rate 1.0% or more, less than 1.5% Δ: Water absorption rate 1.5% or more, less than 2.0% ×: Water absorption rate 2.0% or more Evaluation result Were as shown in Tables 1 and 2 below.

(6)電気絶縁性評価
IPC−SM−840−Dに記載のIPC−B−25A くし型電極が形成されたFR−4基板上に、各実施例および比較例の熱硬化性樹脂充填材をスクリーン印刷法により印刷し、熱風循環式乾燥炉(ヤマト科学株式会社製DF610)にて150℃で30分加熱することにより熱硬化性樹脂充填材を硬化させて、硬化物パターンを形成し、絶縁抵抗測定用の評価基板を作製した。得られた評価基板の絶縁抵抗値を下記条件で測定し、初期値とした。初期値は、何れのサンプルも絶縁抵抗が1.0×1012Ω以上であることを確認した。その後、IPC−SM−840−D ClassH(25〜65℃±2℃のサイクル、湿度90%+3%,−5%、VDC=50V、測定時100V、T=160h、Dクーポン、500メガΩ以上)に準拠して処理した絶縁抵抗値を下記条件で測定した。
絶縁抵抗の測定条件:
評価基板にDC100Vを印加し、絶縁抵抗値を測定した。前記処理後の絶縁抵抗値を以下の判定基準に従って評価した。
◎:絶縁抵抗が1.0×1011Ω以上
○:絶縁抵抗が1.0×1011Ω未満、1.0×1010Ω以上
△:絶縁抵抗が1.0×1010Ω未満、1.0×10Ω以上
×:絶縁抵抗が1.0×10Ω未満
評価結果は下記の表1および表2に示されるとおりであった。
(6) Evaluation of Electrical Insulating Property The thermosetting resin filler of each example and comparative example was formed on the FR-4 substrate on which the IPC-B-25A interdigital electrode described in IPC-SM-840-D was formed. The thermosetting resin filler is cured by printing by screen printing method and heating at 150 ° C. for 30 minutes in a hot air circulating drying oven (DF610 manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.) to form a cured product pattern, and insulation An evaluation substrate for resistance measurement was produced. The insulation resistance value of the obtained evaluation board | substrate was measured on condition of the following, and it was set as the initial value. As for the initial value, it was confirmed that the insulation resistance of each sample was 1.0 × 10 12 Ω or more. After that, IPC-SM-840-D Class H (25-65 ° C ± 2 ° C cycle, humidity 90% + 3%, -5%, VDC = 50 V, measurement time 100 V, T = 160 h, D coupon, 500 MΩ or more The insulation resistance value processed in accordance with 2.) was measured under the following conditions.
Measurement conditions of insulation resistance:
100 V DC was applied to the evaluation substrate, and the insulation resistance value was measured. The insulation resistance value after the treatment was evaluated according to the following judgment criteria.
:: insulation resistance of 1.0 × 10 11 Ω or more ○: insulation resistance of less than 1.0 × 10 11 Ω, 1.0 × 10 10 Ω or more Δ: insulation resistance of less than 1.0 × 10 10 Ω, 1 .0 × 10 9 Ω or more ×: Insulation resistance less than 1.0 × 10 9 Ω The evaluation results are as shown in Tables 1 and 2 below.

Figure 2019112610
Figure 2019112610

Figure 2019112610
Figure 2019112610

表1および表2の評価結果からも明らかなように、エポキシ樹脂として、3級アミンを有するエポキシ樹脂およびビスフェノール型骨格を有するエポキシ樹脂の両方を含む熱硬化性樹脂充填材(実施例1〜16)では、導電部および絶縁部の両方との密着性が優れ、かつ電気絶縁性にも優れているのに対し、3級アミンを有するエポキシ樹脂またはビスフェノール型骨格を有するエポキシ樹脂のいずれか一方しか含まない熱硬化性樹脂充填材(比較例1〜5)は、導電部または絶縁部の密着性には優れるが、充填状態は実施例に比べて悪く、導電部および絶縁部の両方との密着性が劣っていることがわかる。また、エポキシ樹脂としてビスフェノール型骨格を有するエポキシ樹脂を含まない熱硬化性樹脂充填材(比較例1、2、4、5)は吸水性が低く、電気絶縁性が劣ることがわかる。   As apparent from the evaluation results of Tables 1 and 2, a thermosetting resin filler containing both an epoxy resin having a tertiary amine and an epoxy resin having a bisphenol type skeleton as an epoxy resin (Examples 1 to 16) ) Is excellent in adhesion to both the conductive part and the insulating part, and is also excellent in electrical insulation, but only one of the epoxy resin having a tertiary amine and the epoxy resin having a bisphenol type skeleton The thermosetting resin filler (comparative examples 1 to 5) not containing is excellent in the adhesion of the conductive part or the insulating part, but the filling state is worse as compared with the example, and the adhesion with both the conductive part and the insulating part It can be seen that the sex is inferior. Moreover, it turns out that the thermosetting resin filler (comparative example 1, 2, 4, 5) which does not contain the epoxy resin which has a bisphenol type frame | skeleton as an epoxy resin has low water absorption, and electrical insulation is inferior.

1 貫通孔を有する多層プリント配線板
2 凹部を有する多層プリント配線板
10 絶縁層
10a 絶縁部
20a、20b、20c、20d 配線層
30a、30b、30c、30d 配線層
40 貫通孔
50a、50b、50c、配線層
20e、30e、50d 導電部
60 底部
70 凹部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Multilayer printed wiring board having through holes 2 Multilayer printed wiring board having recesses 10 insulating layer 10a insulating portion 20a, 20b, 20c, 20d wiring layers 30a, 30b, 30c, 30d wiring layers 40 through holes 50a, 50b, 50c, Wiring layer 20e, 30e, 50d Conductive portion 60 Bottom portion 70 Concave portion

Claims (10)

絶縁層を介して厚さ方向に積層された複数の配線層と、前記複数の配線層の厚さ方向に形成された貫通孔または底部を有する凹部と、前記貫通孔または前記凹部の内壁に導電部と絶縁部と、を備える多層プリント配線板の穴埋めに用いられる熱硬化性樹脂充填材であって、
エポキシ樹脂とエポキシ樹脂硬化剤と無機フィラーとを含み、
前記エポキシ樹脂が、3級アミンを有するエポキシ樹脂およびビスフェノール型骨格を有するエポキシ樹脂を含むことを特徴とする、熱硬化性樹脂充填材。
Conducting on a plurality of wiring layers stacked in the thickness direction via an insulating layer, a recess having a through hole or a bottom formed in the thickness direction of the plurality of wiring layers, and conducting on the inner wall of the through hole or the recess A thermosetting resin filler used for filling a hole in a multilayer printed wiring board having a portion and an insulating portion,
Containing epoxy resin, epoxy resin curing agent and inorganic filler,
A thermosetting resin filler, wherein the epoxy resin comprises an epoxy resin having a tertiary amine and an epoxy resin having a bisphenol type skeleton.
前記3級アミンを有するエポキシ樹脂と前記ビスフェノール型骨格を有するエポキシ樹脂とが、質量基準において20:80〜90:10の割合で含まれる、請求項1に記載の熱硬化性樹脂充填材。   The thermosetting resin filler according to claim 1, wherein the epoxy resin having a tertiary amine and the epoxy resin having a bisphenol skeleton are contained in a ratio of 20:80 to 90:10 on a mass basis. 前記前記エポキシ樹脂硬化剤が、アミン類硬化剤およびイミダゾール類硬化剤からなる群より選択される少なくとも1種を含む、請求項1または2に記載の熱硬化性樹脂充填材。   The thermosetting resin filler according to claim 1, wherein the epoxy resin curing agent contains at least one selected from the group consisting of an amine curing agent and an imidazole curing agent. 前記無機フィラーが、炭酸カルシウム、シリカ、硫酸バリウムおよび酸化アルミニウムからなる群より選択される少なくとも1種である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂充填材。   The thermosetting resin filler according to any one of claims 1 to 3, wherein the inorganic filler is at least one selected from the group consisting of calcium carbonate, silica, barium sulfate and aluminum oxide. 前記無機フィラーの平均粒径が、0.1μm〜15μmである、請求項1〜4のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂充填材。   The thermosetting resin filler as described in any one of Claims 1-4 whose average particle diameter of the said inorganic filler is 0.1 micrometer-15 micrometers. 前記多層プリント配線板の導電部が銅からなる、請求項1〜5のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂充填材。   The thermosetting resin filler according to any one of claims 1 to 5, wherein the conductive portion of the multilayer printed wiring board is made of copper. 前記ビスフェノール型骨格を有するエポキシ樹脂が、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型およびビスフェノールE型からなる群より選択される少なくとも1種の骨格を有する、請求項1〜6のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂充填材。   The heat according to any one of claims 1 to 6, wherein the epoxy resin having a bisphenol skeleton has at least one skeleton selected from the group consisting of bisphenol A type, bisphenol F type and bisphenol E type. Curable resin filler. 前記ビスフェノール型骨格を有するエポキシ樹脂が、ビスフェノールA型骨格を有するエポキシ樹脂、およびビスフェノールF型骨格を有するエポキシ樹脂の2種を含む、請求項1〜7のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂充填材。   The thermosetting resin according to any one of claims 1 to 7, wherein the epoxy resin having a bisphenol skeleton has two kinds of epoxy resin having a bisphenol A skeleton and an epoxy resin having a bisphenol F skeleton. Resin filler. 請求項1〜8のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂充填材の硬化物。   The hardened | cured material of the thermosetting resin filler as described in any one of Claims 1-8. 請求項9に記載の硬化物を有する多層プリント配線板。   The multilayer printed wiring board which has a hardened | cured material of Claim 9.
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