JP2019104055A - Laser processing method and method for manufacturing mask assembly - Google Patents

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Abstract

To provide a laser processing method which compensates change in a shape when pulling an object to be processed, and a method for manufacturing a mask assembly.SOLUTION: A laser processing method including: a process in which plural guide lines, which include a curve along a first axial direction of a tabular to be processed, are set onto the object to be processed; a process in which plural unit processing regions, which are so located along the plural guide lines as to be separated from one another, are set onto the object to be processed; and a process in which the plural processing regions are irradiated with laser beam while moving an irradiation position of laser beam. According to the present invention, a method for manufacturing a mask assembly is also provided.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、レーザー加工方法及びマスク組立体の製造方法に関し、より詳しくは、被加工対象物の引っ張り時の形状の変化を補償するレーザー加工方法及びマスク組立体の製造方法に関する。   The present invention relates to a laser processing method and a method of manufacturing a mask assembly, and more particularly, to a method of manufacturing a laser processing method and a mask assembly that compensates for a change in shape of a workpiece when pulled.

能動型有機発光ダイオード(Active Matrix Organic Light−Emitting Diode;AMOLED)を製作するとき、真空蒸着を行って有機物を複数層蒸着し、RGB(Red、Green、Blue)ピクセル(pixel)別に異なる有機物を蒸着せねばならない。このとき、所望のピクセルにのみ所望の有機物を蒸着し、その他の領域には有機物が蒸着されないようにスクリーンマスクの役割を果たすのが微細金属マスク(Fine Metal Mask;FMM)組立体である。   When manufacturing an active organic light emitting diode (Active Matrix Organic Light-Emitting Diode; AMOLED), vacuum deposition is performed to deposit a plurality of organic layers, and different organic layers are deposited according to RGB (Red, Green, Blue) pixels. It must be done. At this time, it is a fine metal mask (FMM) assembly that acts as a screen mask so that the desired organic material is deposited only on the desired pixels and the organic material is not deposited on other regions.

一般に、微細金属マスク(FMM)組立体は、分割マスクで製作された複数のマスクスティックをそれぞれ引っ張って溶接などを用いてフレーム(Frame)に固定することにより製作する。フレームにマスクスティックを固定するためにマスクスティックを引っ張る場合、引っ張り方向には膨張し、引っ張り方向と垂直な方向には収縮するため、マスクスティックに形成された孔(hole)の形状と大きさ(size)及び孔の位置の変化が生じる。これにより、マスクスティックの孔を加工するとき、全ての孔の形状と大きさ及び間隔を等しくする場合には、マスクスティックの引っ張り時に孔の形状と大きさ及び孔の位置の変化が生じて、各孔の位置精度、形状、大きさなどの規格又は仕様(spec)を満たすことができなくなる。   In general, a fine metal mask (FMM) assembly is manufactured by pulling a plurality of mask sticks made of divided masks and fixing them to a frame using welding or the like. When pulling the mask stick to secure the mask stick to the frame, the shape and size of the holes (the holes formed in the mask stick) because the mask expands in the pulling direction and contracts in the direction perpendicular to the pulling direction. and changes in the position of the hole. Thereby, when processing the holes of the mask stick, when making the shape, size and spacing of all the holes equal, the shape and size of the holes and the position of the holes change when the mask stick is pulled, It will not be possible to meet the specifications or specifications such as positional accuracy, shape, size, etc. of each hole.

特に、従来、マスクスティックの孔をレーザー加工する場合には、レーザービームをx軸とy軸の2次元的にのみ制御することにより、直線方向にしか(又は、直線上においてしか)孔の形状を加工することができなかったため、マスクスティックの引っ張り時に生じる孔の形状と大きさ及び孔の位置の変化を補償して孔を加工するのに難点があった。   In particular, conventionally, in the case of laser processing the hole of the mask stick, the shape of the hole only in a straight line direction (or only on a straight line) by controlling the laser beam only in two dimensions of x axis and y axis. However, there has been a problem in processing the hole by compensating for the change in the shape and size of the hole and the position of the hole which occur when the mask stick is pulled.

大韓民国特許公開第10−2015−0111349号公報Korean Patent Publication No. 10-2015-0111349

本発明は、曲線を含む複数本のガイドラインを用いてその位置がガイドされた複数の単位加工領域を加工して、被加工対象物の引っ張り時の形状の変化を補償することのできるレーザー加工方法及びマスク組立体の製造方法を提供する。   The present invention processes a plurality of unit processing areas whose positions are guided using a plurality of guidelines including a curve, and can compensate for a change in shape of a workpiece when it is pulled. And a method of manufacturing the mask assembly.

本発明の一実施形態に係るレーザー加工方法は、板状の被加工対象物の上に前記被加工対象物の第1の軸方向に沿って曲線を含む複数本のガイドラインを設定する過程と、前記被加工対象物の上に前記複数本のガイドラインに沿って互いに離間して配置される複数の単位加工領域を設定する過程と、レーザービームの照射位置を移動させながら、前記複数の単位加工領域にレーザービームを照射する過程と、を含んでいてもよい。   A laser processing method according to an embodiment of the present invention comprises: setting a plurality of guidelines including a curve along a first axial direction of the object to be processed on a plate-like object to be processed; A process of setting a plurality of unit processing areas spaced apart from each other along the plurality of guidelines on the object to be processed, and moving the irradiation position of the laser beam, the plurality of unit processing areas And b) irradiating the laser beam.

前記複数本のガイドラインのうち隣り合う二本のガイドラインは、曲げ率が互いに異なってもよい。   Two adjacent ones of the plurality of guidelines may have different bending rates.

前記複数本のガイドラインのうち曲線であるガイドラインは、前記被加工対象物の第1の軸方向の中心線に対して遠ざかる側に弧(arc)を形成し、前記被加工対象物の第1の軸方向の中心線から遠ざかるにつれて曲げ率が高くなってもよい。   The guideline which is a curve among the plurality of guidelines forms an arc on the side away from the first axial center line of the object to be processed, and the first object of the object to be processed is formed. The bending ratio may increase with distance from the axial center line.

前記複数の単位加工領域にレーザービームを照射する過程においては、各前記ガイドライン別に前記レーザービームが出射されるレーザーヘッドを移動させながら、前記複数の単位加工領域に前記レーザービームを照射してもよい。   In the process of irradiating the plurality of unit processing areas with the laser beam, the plurality of unit processing areas may be irradiated with the laser beam while moving the laser head from which the laser beam is emitted separately for each of the guidelines. .

前記複数の単位加工領域にレーザービームを照射する過程においては、それぞれの前記ガイドラインにおいて前記レーザーヘッドを一定の速度で移動させてもよい。   In the process of irradiating the plurality of unit processing regions with the laser beam, the laser head may be moved at a constant speed in each of the guidelines.

前記複数の単位加工領域にレーザービームを照射する過程においては、各前記単位加工領域の大きさに対応して前記レーザービームの大きさを変化させながら、それぞれの前記ガイドラインに沿って前記レーザービームの照射位置を移動させてもよい。   In the process of irradiating the plurality of unit processing areas with the laser beam, while changing the size of the laser beam corresponding to the size of each unit processing area, the laser beam The irradiation position may be moved.

前記複数の単位加工領域にレーザービームを照射する過程においては、レーザーヘッドの高さを調整して前記レーザービームの大きさを変化させてもよい。   In the process of irradiating the plurality of unit processing areas with the laser beam, the size of the laser beam may be changed by adjusting the height of the laser head.

前記複数の単位加工領域にレーザービームを照射する過程においては、前記レーザーヘッドの3次元座標値を順次に変更して前記レーザービームの照射位置を移動させながら、前記レーザービームの大きさを変化させてもよい。   In the process of irradiating the plurality of unit processing areas with the laser beam, the size of the laser beam is changed while sequentially changing the three-dimensional coordinate value of the laser head to move the irradiation position of the laser beam. May be

前記複数の単位加工領域を設定する過程においては、それぞれの前記ガイドラインにおいて中央部の単位加工領域を両端部の単位加工領域よりも大きく設定してもよい。   In the process of setting the plurality of unit processing areas, the unit processing area at the central portion may be set larger than the unit processing areas at both ends in each of the guidelines.

前記複数の単位加工領域を設定する過程においては、各前記ガイドラインの中央部に位置する単位加工領域を前記被加工対象物の第1の軸方向の中心線から遠ざかるにつれて大きくなるように設定してもよい。   In the process of setting the plurality of unit machining areas, the unit machining area located at the central portion of each of the guidelines is set to be larger as it goes away from the first axial center line of the workpiece. It is also good.

前記複数の単位加工領域を設定する過程においては、各前記ガイドラインの中央部に位置する単位加工領域を前記被加工対象物の第1の軸方向の中心線から遠ざかるにつれて一定の比率で大きくなるように設定し、前記一定の比率は、前記被加工対象物の変形率に応じて決定されてもよい。   In the process of setting the plurality of unit machining areas, the unit machining area located at the central portion of each of the guidelines is increased at a constant ratio as it goes away from the first axial center line of the workpiece The constant ratio may be set according to the deformation rate of the object to be processed.

前記複数の単位加工領域を設定する過程においては、前記複数本のガイドラインの両端に位置する単位加工領域を一定の大きさに設定してもよい。   In the process of setting the plurality of unit processing areas, the unit processing areas located at both ends of the plurality of guidelines may be set to a predetermined size.

本発明の他の実施形態に係るマスク組立体の製造方法は、本発明の一実施形態に係るレーザー加工方法で前記被加工対象物を加工して、前記複数の単位加工領域に応じて複数の加工孔が形成されたマスクスティックを用意する過程と、開口部を有するフレームに前記マスクスティックを前記第1の軸方向に引っ張って固定する過程と、を含んでいてもよい。   In a method of manufacturing a mask assembly according to another embodiment of the present invention, the object to be processed is processed by the laser processing method according to an embodiment of the present invention, and a plurality of unit processing regions are processed. The method may include the steps of preparing a mask stick having a processed hole formed therein, and pulling and fixing the mask stick in a first axial direction on a frame having an opening.

前記マスクスティックを前記第1の軸方向に引っ張って固定する過程においては、各前記ガイドラインの両端に前記マスクスティックの第1の軸方向の両側に平行な引っ張り力が働いてもよい。   In the process of pulling and fixing the mask stick in the first axial direction, parallel tensile forces may act on both ends of each of the guidelines in the first axial direction of the mask stick.

前記マスクスティックを前記第1の軸方向に引っ張って固定する過程においては、前記複数の加工孔が2次元的に直線配列され、前記複数の加工孔の孔径が一定になってもよい。   In the process of pulling and fixing the mask stick in the first axial direction, the plurality of machined holes may be linearly arranged in a two-dimensional manner, and the diameter of the plurality of machined holes may be constant.

本発明の実施形態に係るレーザー加工方法は、板状の被加工対象物の上に被加工対象物の第1の軸方向に沿って曲線を含む複数本のガイドラインを設定し、複数本のガイドラインに応じてその位置がガイドされた複数の単位加工領域を加工することにより、被加工対象物の引っ張り時の加工形状の変化及び位置の変化を補償することができる。すなわち、被加工対象物の上に被加工対象物の変形率を反映して決定された曲げ率を有する複数本のガイドラインを与えて、引っ張りによる位置の変化の補償位置に単位加工領域を設定することができる。なお、単位加工領域の位置に応じた加工形状の変化を反映して各単位加工領域の大きさを決定することができるので、被加工対象物の引っ張り時の位置の変化及び加工形状の変化を補償することができる。   The laser processing method according to the embodiment of the present invention sets a plurality of guidelines including a curve along a first axial direction of the object to be processed on a plate-like object to be processed, and a plurality of guidelines By processing a plurality of unit processing areas whose positions are guided accordingly, it is possible to compensate for the change in the processing shape and the change in the position when the object to be processed is pulled. That is, a plurality of guidelines having a bending rate determined by reflecting the deformation rate of the object to be processed is provided on the object to be processed, and a unit processing area is set at a compensation position of a change in position due to tension. be able to. In addition, since the size of each unit processing area can be determined reflecting the change of the processing shape according to the position of the unit processing area, the change of the position at the time of pulling of the workpiece and the change of the processing shape It can be compensated.

このため、本発明のレーザー加工方法でマスクスティックに加工孔を形成する場合には、マスクスティックを引っ張ってフレームに固定するときに加工孔の位置差、大きさ差及び形状差が補正されて各加工孔の位置精度、大きさ、形状などの規格又は仕様(spec)を満たすことができる。   Therefore, when forming the processing holes in the mask stick by the laser processing method of the present invention, when the mask stick is pulled and fixed to the frame, the positional difference, the size difference and the shape difference of the processing holes are corrected. It can meet the specifications or specifications such as the positional accuracy, size, and shape of the processing hole.

また、各ガイドラインに沿ってレーザービームの照射位置を移動させながら複数の単位加工領域を加工して、各ガイドラインごとに一定の速度で複数の単位加工領域を加工することができる。これに伴い、各単位加工領域ごとに一定の品質の加工形成物(例えば、加工孔)を得ることができる。   Moreover, a plurality of unit processing areas can be processed while moving the irradiation position of the laser beam along each guide line, and the plurality of unit processing areas can be processed at a constant speed for each guide line. Along with this, it is possible to obtain processed products (for example, processed holes) of constant quality for each unit processing area.

さらに、単位加工領域の大きさの変化に応じてレーザーヘッドの高さを調整して、レーザービームの大きさを調節することにより、位置別に異なる大きさを有する複数の単位加工領域に一定のエネルギーのレーザービームを照射することができる。これに伴い、一定の繰り返し回数で被加工対象物を加工することができ、被加工対象物の全領域にわたって均一な加工を行うことができる。   Furthermore, by adjusting the size of the laser beam by adjusting the height of the laser head according to the change in the size of the unit processing area, constant energy can be applied to a plurality of unit processing areas having different sizes depending on the position. The laser beam can be emitted. Accordingly, the object to be processed can be processed with a certain number of repetitions, and uniform processing can be performed over the entire region of the object to be processed.

本発明の一実施形態に係るレーザー加工方法を示す手順図。FIG. 2 is a procedure diagram showing a laser processing method according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係るガイドラインと単位加工領域の設定を説明するための概念図。The conceptual diagram for demonstrating the setting of the guideline and unit processing area which concern on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係るレーザーヘッドの移動を説明するための概念図。The conceptual diagram for demonstrating the movement of the laser head which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係るマスク組立体の製造方法によって製造されるマスク組立体を示す図。FIG. 6 is a view showing a mask assembly manufactured by the method for manufacturing a mask assembly according to another embodiment of the present invention. 本発明の他の実施形態に係るマスクスティックの引っ張りによる加工孔の形状の補正を説明するための概念図。The conceptual diagram for demonstrating correction | amendment of the shape of the processing hole by tension | pulling of the mask stick which concerns on other embodiment of this invention.

以下、添付図面に基づいて、本発明の実施形態をより詳しく説明する。しかしながら、本発明は以下に開示される実施形態に何ら限定されるものではなく、異なる様々な形態に具体化され、単にこれらの実施形態は本発明の開示を完全たるものにし、通常の知識を有する者に発明の範囲を完全に知らせるために提供されるものである。本発明を説明するに当たって、同じ構成要素に対しては同じ参照符号を付し、図面は、本発明の実施形態を正確に説明するために大きさが部分的に誇張されてもよく、図中、同じ符号は、同じ構成要素を指し示す。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail based on the attached drawings. However, the present invention is in no way limited to the embodiments disclosed below, but is embodied in different forms, which merely complete the disclosure of the present invention and have ordinary knowledge. It is provided to fully inform the person having the scope of the invention. In describing the present invention, the same reference numerals are given to the same components, and the drawings may be partially exaggerated in size to accurately describe the embodiments of the present invention. , The same reference numerals indicate the same components.

図1は、本発明の一実施形態に係るレーザー加工方法を示す手順図であり、図2は、本発明の一実施形態に係るガイドラインと単位加工領域の設定を説明するための概念図である。   FIG. 1 is a procedure diagram showing a laser processing method according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a conceptual diagram for explaining setting of a guideline and a unit processing area according to an embodiment of the present invention. .

図1及び図2を参照すると、本発明の一実施形態に係るレーザー加工方法は、板状の被加工対象物100の上に前記被加工対象物100の第1の軸方向21に沿って曲線を含む複数本のガイドライン11を設定する過程(S110)と、前記被加工対象物100の上に前記複数本のガイドライン11に沿って互いに離間して配置される複数の単位加工領域110を設定する過程(S120)と、レーザービーム10の照射位置を移動させながら、前記複数の単位加工領域110にレーザービーム10を照射する過程(S130)と、を含んでいてもよい。   Referring to FIGS. 1 and 2, in the laser processing method according to the embodiment of the present invention, a curve is formed on a plate-like workpiece 100 along a first axial direction 21 of the workpiece 100. And setting a plurality of unit processing areas 110 spaced apart from each other along the plurality of guidelines 11 on the object to be processed 100 (S110). The process (S120) and the process (S130) of irradiating the laser beam 10 to the plurality of unit processing areas 110 while moving the irradiation position of the laser beam 10 may be included.

本発明における被加工対象物100は、一般に、有機EL(Electro Luminescence)や有機半導体素子などの製造に際して真空蒸着工程において用いられる微細金属マスク(Fine Metal Mask;FMM)のマスクスティックであってもよい。しかしながら、本発明はこれに何等限定されるものではなく、レーザーで加工可能である限り、いかなる対象物であっても構わない。特に、半導体素子のパッケージングに当たって、プリント回路基板(Printed Circuit Board;PCB)に形成されるビア孔(via hole)や半導体基板上の特定の領域に加工パターン(pattern)を形成しようとする場合など種々に活用可能である。   Generally, the object to be processed 100 in the present invention may be a mask stick of a fine metal mask (FMM) used in a vacuum deposition process when manufacturing an organic EL (Electro Luminescence), an organic semiconductor device or the like. . However, the present invention is not limited to this, and may be any object as long as it can be processed by a laser. In particular, in the case of forming a processing pattern in a specific region on a semiconductor substrate or a via hole formed in a printed circuit board (Printed Circuit Board; PCB) in packaging of a semiconductor element, etc. It can be used in various ways.

まず、板状の被加工対象物100の上に被加工対象物100の第1の軸方向21に沿って曲線を含む複数本のガイドライン11を設定する(S110)。複数本のガイドライン11は、被加工対象物100上における仮想のラインとして設定可能であり、被加工対象物100の第1の軸方向21に沿って設定されてもよく、少なくとも一つの曲線を含んでいてもよい。このとき、複数本のガイドライン11は、複数の単位加工領域110が設定されるべき位置をガイドしてもよく、被加工対象物100の第1の軸方向21は、被加工対象物100の長軸方向(又は、長手方向)であってもよく、長軸と短軸の区別がない場合には、引っ張られるべき方向であってもよい。ここで、「被加工対象物の第1の軸方向に沿って」という文言は、直線状及び曲線状を網羅し、被加工対象物100の第1の軸に平行に追従することだけではなく、非平行に追従することをも網羅する意で用いられる。すなわち、複数本のガイドライン11は、被加工対象物100の第1の軸方向21の成分を有しながら、被加工対象物100の第1の軸方向21の一端から他端へと延びるラインであればよい。   First, a plurality of guidelines 11 including curves are set on the plate-like workpiece 100 along the first axial direction 21 of the workpiece 100 (S110). The plurality of guidelines 11 can be set as virtual lines on the workpiece 100, may be set along the first axial direction 21 of the workpiece 100, and include at least one curve. It may be. At this time, the plurality of guide lines 11 may guide the positions where the plurality of unit processing areas 110 should be set, and the first axial direction 21 of the object 100 to be processed is the length of the object 100 to be processed It may be axial (or longitudinal), or it may be the direction in which it should be pulled if there is no distinction between major and minor axes. Here, the phrase “along the first axial direction of the object to be processed” covers not only linear and curvilinear shapes, but also follows parallel to the first axis of the object 100 to be processed. It is also used to cover non-parallel tracking. That is, the plurality of guide lines 11 is a line extending from one end in the first axial direction 21 of the workpiece 100 to the other end while having a component in the first axial direction 21 of the workpiece 100 I hope there is.

次いで、被加工対象物100の上に複数本のガイドライン11に沿って互いに離間して配置される複数の単位加工領域110を設定する(S120)。複数の単位加工領域110は、それぞれのガイドライン11に沿って互いに離間して配置されてもよく、被加工対象物100上における仮想の領域として設定されてもよい。このとき、各単位加工領域110の中心がそれぞれガイドライン11に位置するように複数の単位加工領域110を設定してもよい。ここで、単位加工領域110の形状が方向を有する形状である場合には、ガイドライン11が単位加工領域110の形成方向をガイドしてもよい。   Next, a plurality of unit processing areas 110 which are disposed apart from each other along the plurality of guidelines 11 on the workpiece 100 are set (S120). The plurality of unit processing areas 110 may be spaced apart from each other along the respective guidelines 11, and may be set as virtual areas on the workpiece 100. At this time, the plurality of unit processing areas 110 may be set such that the centers of the unit processing areas 110 are positioned on the guide line 11, respectively. Here, when the shape of the unit processing area 110 is a shape having a direction, the guide line 11 may guide the formation direction of the unit processing area 110.

被加工対象物100の引っ張り時に、引っ張り方向には膨張し、引っ張り方向と垂直な方向には収縮するため、単位加工領域110が加工されてなる加工形成物110aの形状の変化及び位置の変化が生じる。これに伴い、本発明においては、このような加工形成物110aの形状の変化及び位置の変化を補償して単位加工領域110を設定し、形状の変化及び位置の変化の補償が反映された単位加工領域110を加工することにより、被加工対象物100の引っ張り時に加工形成物110aの形状の変化及び位置の変化を補償することができる。   When the object to be processed 100 is pulled, it expands in the pulling direction and shrinks in the direction perpendicular to the pulling direction, so the shape change and the position change of the processed product 110a formed by processing the unit processing area 110 It occurs. Accordingly, in the present invention, a unit machining area 110 is set by compensating for such a change in shape and position of the processed product 110a, and a unit in which the change in shape and the change in position are reflected. By processing the processing area 110, it is possible to compensate for the change in the shape and the position of the processed product 110a when the workpiece 100 is pulled.

通常、マスク組立体は、分割マスクで製作された複数のマスクスティックをそれぞれ引っ張って溶接などを用いてフレーム(Frame)に固定することにより製作する。このとき、フレームにマスクスティックを固定するためにマスクスティックを引っ張る場合、引っ張り方向には膨張し、引っ張り方向と垂直な方向には収縮するため、マスクスティックに形成された加工孔の形状と大きさ(size)及び加工孔の位置の変化が生じる。これに伴い、マスクスティックに加工孔を加工するとき、全ての加工孔の形状と大きさ及び間隔を等しくする場合には、マスクスティックの引っ張り時に加工孔の形状と大きさ及び孔の位置の変化が生じて各加工孔の位置精度、形状、大きさなどの規格又は仕様(spec)を満たすことができなくなる。   In general, the mask assembly is manufactured by pulling a plurality of mask sticks made of divided masks and fixing them to a frame using welding or the like. At this time, when the mask stick is pulled to fix the mask stick to the frame, the shape and size of the processing holes formed in the mask stick are expanded in the pulling direction and expand in the direction perpendicular to the pulling direction. (Size) and changes in the position of the processing hole occur. Along with this, when machining holes in the mask stick, when making the shape, size and spacing of all the machining holes equal, change in shape, size and position of the holes when pulling the mask stick As a result, it becomes impossible to meet the standards or specifications such as positional accuracy, shape, size, etc. of each processing hole.

しかしながら、本発明のレーザー加工方法を用いて加工形成物110aの形状の変化及び位置の変化(すなわち、加工孔の形状の変化及び位置の変化)を補償して単位加工領域110を加工することにより、マスクスティックに加工孔を形成すれば、マスクスティックを引っ張ってフレームに固定するときに、加工孔の位置差、大きさ差及び形状差が補償(又は、補正)されて各加工孔の位置精度、大きさ、形状などの規格又は仕様を満たすことができる。   However, by using the laser processing method of the present invention to compensate for the change in the shape and the position of the processed product 110 a (that is, the change in the shape and the position of the processed hole) to process the unit processed region 110. When forming holes in the mask stick, when the mask stick is pulled and fixed to the frame, the positional difference, size difference and shape difference of the processed holes are compensated (or corrected), and the positional accuracy of each processed hole is obtained. Meet the standards or specifications such as size, shape, etc.

複数本のガイドライン11のうち隣り合う二本のガイドライン11は、曲げ率又は曲線の方向が異なっていてもよい。ここで、曲げ率は符号を含み、曲げ率の符号が互いに異なるものもまた、曲げ率が互いに異なるものであってもよい。このとき、曲げ率の符号は、曲線の方向に応じて決定されるが、曲線の方向は、曲線が曲がった方向を意味し、上方に凸状の曲線の方向が+方向(又は、+符号)であってもよく、凹状の曲線の方向が−方向(又は、−符号)であってもよい。図2においては、被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線(又は、複数本のガイドラインのうち中央の直線)を中心として上側が+方向であってもよく、下側が−方向であってもよい。ここで、前記被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線は、第1の軸方向21に平行に延びる線のうち中心にある線を意味し、複数本のガイドライン11のうち中央の直線がない場合には、仮想のラインであってもよい。一方、前記被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線と一致する複数本のガイドライン11のうち中央の直線は、曲げ率が「0」であってもよく、曲線ではないため、曲線の方向(又は、曲げ率の符号)が存在しなくてもよい。このとき、曲線の方向の存否もまた、曲線の方向が異なるものと見なすことができる。   Two adjacent ones of the plurality of guidelines 11 may have different bending rates or directions of curves. Here, the bending rate includes a sign, and ones having different signs of the bending rate may also have different bending rates. At this time, the sign of the bending rate is determined according to the direction of the curve, but the direction of the curve means the direction in which the curve is bent, and the direction of the upward convex curve is the + direction (or the + sign And the direction of the concave curve may be-direction (or-sign). In FIG. 2, the upper side may be in the + direction with the center line in the first axial direction 21 of the workpiece 100 (or a straight line in the middle of a plurality of guidelines), and the lower side may be the − direction. It may be Here, the center line in the first axial direction 21 of the object 100 to be processed means a line at the center among the lines extending in parallel to the first axial direction 21, and the center line among the plurality of guidelines 11 If there is no straight line, it may be a virtual line. On the other hand, the center straight line of the plurality of guidelines 11 coinciding with the center line in the first axial direction 21 of the object to be processed 100 may have a bending ratio of “0”, and is not a curve. The direction of the curve (or the sign of the bending factor) may not be present. At this time, the presence or absence of the direction of the curve can also be regarded as the direction of the curve being different.

被加工対象物100の位置に応じて被加工対象物100の引っ張り時に受ける引っ張り力(すなわち、引っ張り方向の膨張力及び前記引っ張り方向と垂直な方向の収縮力)が異なるため、各位置に働く引っ張り力に応じて単位加工領域110の設定位置を決定してもよい。ここで、このような単位加工領域110の設定位置をガイドできるように、複数本のガイドライン11の曲げ率又は曲線の方向が異なってもよい。   Since the tensile force received when the workpiece 100 is pulled (that is, the expansion force in the tension direction and the contraction force in the direction perpendicular to the tension direction) differs depending on the position of the workpiece 100, the tension acting on each position The set position of the unit processing area 110 may be determined according to the force. Here, the bending rates or the directions of the curves of the plurality of guide lines 11 may be different so as to guide the set position of such unit processing area 110.

複数本のガイドライン11は、それぞれ異なる位置に設定されるため、複数の単位加工領域110が設定される各ガイドライン11別に働く引っ張り力が異なってもよい。これに伴い、各ガイドライン11の位置における引っ張り力に応じてガイドライン11の曲げ率が決定されてもよく、各ガイドライン11の位置における引っ張り力の方向に応じて曲線方向が決定されてもよい。したがって、複数本のガイドライン11のうち隣り合う二本のガイドライン11は、曲げ率又は曲線の方向が異なっていてもよい。   Since the plurality of guidelines 11 are set at different positions, the tensile force acting on each of the guidelines 11 in which the plurality of unit processing areas 110 are set may be different. Along with this, the bending rate of the guide line 11 may be determined according to the tensile force at the position of each guide line 11, and the curved direction may be determined according to the direction of the tensile force at the position of each guide line 11. Accordingly, two adjacent ones of the plurality of guidelines 11 may have different bending rates or directions of curves.

例えば、前記被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線と一致する直線状のガイドライン11は曲げ率が「0」であるため、曲げ率を有する隣り合う曲線状のガイドライン11とは曲げ率が異なり、曲げ率を有する他のガイドライン11もまた、位置に応じて働く引っ張り力の差によって曲げ率が異なるため、隣り合う曲線状のガイドライン11もまた、曲げ率が異なっていてもよい。   For example, since the linear guide line 11 coinciding with the center line in the first axial direction 21 of the object to be processed 100 has a bending rate of "0", The other curved guide lines 11 with different bending rates may also have different bending rates, as the other guide lines 11 with bending rates also have different bending rates depending on the difference in tensile force acting depending on the position. .

そして、複数本のガイドライン11のうち曲線である(又は、曲線状の)ガイドライン11は、前記被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線に対して遠ざかる側に弧(arc)を形成してもよく、前記被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線から遠ざかるにつれて曲げ率が高くなってもよい。   The guide line 11 which is a curved line (or curved line) of a plurality of the guide lines 11 has an arc on the side away from the center line of the first axial direction 21 of the object 100 to be processed. It may be formed, and the bending ratio may become higher as it goes away from the center line of the first axial direction 21 of the object 100 to be processed.

複数本のガイドライン11のうち曲線であるガイドライン11は、前記被加工対象物100の第1の軸(又は、前記被加工対象物の第1の軸方向の中心線)と平行な弦(chord)を有する弧を形成してもよい。このとき、前記被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線に対して遠ざかる側(又は、前記被加工対象物の第2の軸方向の両側)に弧が形成されてもよい。ここで、被加工対象物100の第2の軸方向22は、被加工対象物100の短軸方向(又は、幅方向)であってもよく、被加工対象物100の第1の軸方向21と交差する(又は、垂直な)方向であってもよい。被加工対象物100が第1の軸方向21に引っ張られる場合、被加工対象物100の第1の軸方向21に膨張し、被加工対象物100の第2の軸方向22には収縮するため、前記被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線に対して遠ざかる側に弧を形成して被加工対象物100の第1の軸方向21への引っ張り時に加工形成物110aの位置の変化を補償することができる。なお、曲線の両端に同じ引っ張り力が働かなければ、曲線が直線状に伸びないため、前記被加工対象物100の第1の軸方向21の軸と平行な弦を有する弧をなす曲線であるガイドライン11に曲線状に配列された複数の加工形成物110aを、被加工対象物100の第1の軸方向21への引っ張り時に一列に(又は、直線状に)配列してもよい。   The guide line 11 which is a curve among the plurality of guide lines 11 is a chord parallel to the first axis of the object 100 to be processed (or the center line in the first axial direction of the object to be processed) May form an arc. At this time, arcs may be formed on the side (or both sides in the second axial direction of the object to be processed) of the object to be processed 100 away from the center line of the first axial direction 21 of the object 100 to be processed. Here, the second axial direction 22 of the object to be processed 100 may be the minor axis direction (or the width direction) of the object to be processed 100, and the first axial direction 21 of the object to be processed 100 may be It may be in the direction intersecting (or perpendicular). When the workpiece 100 is pulled in the first axial direction 21, it expands in the first axial direction 21 of the workpiece 100 and contracts in the second axial direction 22 of the workpiece 100. An arc is formed on the side away from the center line of the workpiece 100 in the first axial direction 21 to position the workpiece 110a when the workpiece 100 is pulled in the first axial direction 21. Can compensate for changes in If the same tensile force does not act at both ends of the curve, the curve does not extend in a straight line, so that the curve forms an arc having a chord parallel to the axis of the first axial direction 21 of the object 100 to be processed. A plurality of process formations 110 a arranged in a curved line on the guide line 11 may be arranged in a line (or in a straight line) when the workpiece 100 is pulled in the first axial direction 21.

前記曲線であるガイドライン11は、前記被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線から遠ざかるにつれて曲げ率が高くなってもよい。このとき、第2の軸方向22に収縮力が最も強く働く被加工対象物100の第2の軸方向22の両側の外郭において曲げ率が最大になってもよく、第2の軸方向22に収縮力が少なく働く被加工対象物100の第2の軸方向22の中心部に近付くにつれて曲げ率が小さくなってもよい。被加工対象物100の第1の軸方向21への引っ張りに対する被加工対象物100の第2の軸方向22への収縮力は、被加工対象物100の第2の軸方向22の両側の外郭において被加工対象物100の第2の軸方向22の中心に働くため、被加工対象物100の第2の軸方向22の両側の外郭において最大となり、被加工対象物100の第2の軸方向22の中心において最小となる。これに伴い、前記被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線から遠ざかるにつれて曲げ率が高くなってもよい。このとき、それぞれのガイドライン11の曲げ率は、被加工対象物100の変形率及び被加工対象物100の第1の軸方向21の両端に働く引っ張り力に応じて決定されてもよい。なお、それぞれのガイドライン11の曲げ率は、被加工対象物100の厚さ、被加工対象物100の材質、単位加工領域110の形状、大きさ、位置及び複数の単位加工領域110がなすパターンの大きさのうちの少なくとも一つ以上の要素を考慮して決定されてもよい。   The bending ratio of the guide line 11 which is the curved line may increase as it goes away from the center line of the first axial direction 21 of the workpiece 100. At this time, the bending ratio may be maximized in the outer shell on both sides of the second axial direction 22 of the workpiece 100 in which the contraction force is strongest in the second axial direction 22. The bending ratio may decrease as it approaches the center of the second axial direction 22 of the workpiece 100 in which the contraction force is reduced. The contraction force in the second axial direction 22 of the object to be processed 100 in response to the tension in the first axial direction 21 of the object 100 to be processed is the outer shell on both sides in the second axial direction 22 of the object 100 to be processed. The second axial direction of the object 100 to be processed is the largest because it works at the center of the second axial direction 22 of the object 100 to be processed in the second axial direction 22 of the object 100 to be processed. It is the smallest at the center of 22. Along with this, the bending ratio may increase as the distance from the center line in the first axial direction 21 of the object to be processed 100 increases. At this time, the bending rate of each of the guide lines 11 may be determined according to the deformation rate of the workpiece 100 and the tensile force acting on both ends of the workpiece 100 in the first axial direction 21. The bending rate of each of the guidelines 11 is the thickness of the workpiece 100, the material of the workpiece 100, the shape, size, position, and pattern of the unit machining region 110 and the plurality of unit machining regions 110. It may be determined in consideration of at least one or more factors of the size.

一方、複数の単位加工領域110は、前記被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線及び第2の軸方向22中心線に対して対称的に配置されてもよい。例えば、複数本のガイドライン11のうち中央の直線を中心として対称的に配置されてもよい。この場合、被加工対象物100を第1の軸方向21に引っ張る引っ張り力が被加工対象物100の全体の領域に一定のパターンで均一に伝わって被加工対象物100の第1の軸方向21への引っ張り時に各加工形成物110aの位置精度が高くなり、被加工対象物100の中央部に正確な2次元的パターンを形成することが可能になる。   On the other hand, the plurality of unit processing areas 110 may be disposed symmetrically with respect to the center line of the first axial direction 21 and the second axis direction 22 of the workpiece 100. For example, the guide lines 11 may be arranged symmetrically about a central straight line among the plurality of guide lines 11. In this case, the tensile force for pulling the workpiece 100 in the first axial direction 21 is uniformly transmitted to the entire region of the workpiece 100 in a predetermined pattern, and the first axial direction 21 of the workpiece 100 is obtained. The positional accuracy of each processed product 110a is increased when pulling to the center, and it becomes possible to form an accurate two-dimensional pattern in the central portion of the workpiece 100.

次いで、レーザービーム10の照射位置を移動させながら、複数の単位加工領域110にレーザービーム10を照射する(S130)。ここで、被加工対象物100又はレーザーヘッド50の位置を移動させてレーザービーム10の照射位置を移動させてもよい。このとき、複数の単位加工領域110においてのみレーザービーム10を被加工対象物100の上に照射してもよい。すなわち、複数の単位加工領域110においてのみレーザービーム10をオン(on)にしてもよく、レーザービーム10による加工を必要としないその他の領域においては、レーザービーム10をオフ(off)にしてもよい。なお、レーザービーム10を活性化させた(又は、オンにした)状態で、レーザービーム10による加工を必要としない領域においては、遮断部材(図示せず)などでレーザービーム10を遮断して、複数の単位加工領域110にのみレーザービーム10を照射してもよい。   Next, while moving the irradiation position of the laser beam 10, the plurality of unit processing areas 110 are irradiated with the laser beam 10 (S130). Here, the irradiation position of the laser beam 10 may be moved by moving the position of the workpiece 100 or the laser head 50. At this time, the laser beam 10 may be irradiated onto the workpiece 100 only in the plurality of unit processing regions 110. That is, the laser beam 10 may be turned on only in the plurality of unit processing areas 110, and the laser beam 10 may be turned off in other areas where the processing by the laser beam 10 is not required. . In a state where the laser beam 10 is activated (or turned on), the laser beam 10 is blocked by a blocking member (not shown) or the like in a region where the processing by the laser beam 10 is not required. The laser beam 10 may be irradiated only to the plurality of unit processing areas 110.

例えば、前記複数の単位加工領域110にレーザービーム10を照射する過程(S130)においては、レーザービーム10の座標値を変更しながらレーザービーム10の照射位置を移動させてもよい。すなわち、レーザービーム10の座標値を変更して複数の単位加工領域110に対応する座標にレーザービーム10の照射位置を移動させることにより、複数の単位加工領域110にレーザービーム10を照射してもよい。この場合、複数の単位加工領域110に対応する座標(又は、座標区間)においてレーザービーム10を活性化させても(又は、オンにしても)よい。このように、レーザービーム10の座標値を変更するだけで、レーザービーム10の照射位置を複数の単位加工領域110に簡単に移動させることができる。また、複数の単位加工領域110に対応する座標にレーザービーム10の照射位置を移動させて、複数の単位加工領域110にレーザービーム10を照射することによって、複数の単位加工領域110のみにレーザービーム10を照射して加工することができる。   For example, in the process (S130) of irradiating the plurality of unit processing areas 110 with the laser beam 10, the irradiation position of the laser beam 10 may be moved while changing the coordinate value of the laser beam 10. That is, even if the laser beam 10 is irradiated to the plurality of unit processing areas 110 by changing the coordinate value of the laser beam 10 and moving the irradiation position of the laser beam 10 to the coordinates corresponding to the plurality of unit processing areas 110 Good. In this case, the laser beam 10 may be activated (or turned on) at coordinates (or coordinate sections) corresponding to a plurality of unit processing areas 110. Thus, the irradiation position of the laser beam 10 can be easily moved to the plurality of unit processing areas 110 simply by changing the coordinate value of the laser beam 10. In addition, the irradiation position of the laser beam 10 is moved to the coordinates corresponding to the plurality of unit processing areas 110, and the laser beams 10 are irradiated to the plurality of unit processing areas 110. 10 can be irradiated and processed.

図3は、本発明の一実施形態に係るレーザーヘッドの移動を説明するための概念図であって、図3(a)は、レーザーヘッドの水平方向の移動を説明するための概念図であり、図3(b)は、レーザーヘッドの垂直方向の移動を説明するための概念図である。   FIG. 3 is a conceptual diagram for explaining the movement of the laser head according to the embodiment of the present invention, and FIG. 3 (a) is a conceptual diagram for explaining the movement of the laser head in the horizontal direction. FIG. 3 (b) is a conceptual view for explaining the vertical movement of the laser head.

図3を参照すると、前記複数の単位加工領域110にレーザービーム10を照射する過程(S130)においては、各ガイドライン11別にレーザービーム10が出射されるレーザーヘッド50を移動させながら、複数の単位加工領域110にレーザービーム10を照射してもよい。各ガイドライン11別にレーザーヘッド50を連続して移動させてもよい。例えば、各ガイドライン11に沿って移動させてもよく、複数の単位加工領域110において(のみ)レーザービーム10を活性化させて(又は、オンにして)移動させながら、複数の単位加工領域110を加工してもよい。ここで、曲線のガイドライン11に沿って移動させる場合には、微小直線ベクトルの組み合わせでレーザーヘッド50を曲線と略同様に移動させてもよく、「ガイドラインに沿って」という文言は、ガイドライン11と同様に移動することだけではなく、ガイドライン11と略同様に移動することをも網羅する意で用いられる。このとき、一本のガイドライン11に沿って複数回スキャン(又は、往復)してもよい。各単位加工領域110に各単位加工領域110の大きさよりも小さな大きさのレーザービーム10を照射しながら一本のガイドライン11に沿って複数回スキャンする場合には、各単位加工領域110内においてレーザービーム10の照射位置が変化可能なようにガイドライン11の曲げ率を維持した状態でガイドライン11の一端及び/又は他端からレーザービーム10の第2の軸方向22の幅以下に見合う分だけ第2の軸方向22に(又は、ステップ方向に)移動しながら各単位加工領域110内に万遍なくレーザービーム10が照射されるまで一本のガイドライン11に沿って複数回スキャンしてもよい。このとき、レーザービーム10を時分割又は空間分割して、各ガイドライン11別にレーザービーム10の照射位置を移動させてもよい。レーザービーム10の照射位置は、各ガイドライン11別に移動してもよい。例えば、時分割して一本のガイドライン11ずつレーザービーム10の照射位置を移動させてもよく、空間分割して複数のレーザービーム10で複数本のガイドライン11においてレーザービーム10の照射位置を移動させてもよい。   Referring to FIG. 3, in the process (S130) of irradiating the plurality of unit processing regions 110 with the laser beam 10, the plurality of unit processing is performed while moving the laser head 50 from which the laser beam 10 is emitted separately for each guideline. The region 110 may be irradiated with the laser beam 10. The laser head 50 may be moved continuously for each guideline 11. For example, it may be moved along each guideline 11, and the plurality of unit processed areas 110 may be (only) activated (or turned on) in the plurality of unit processed areas 110 while the plurality of unit processed areas 110 are moved. You may process it. Here, in the case of moving along the curved guide line 11, the laser head 50 may be moved substantially in the same manner as the curved line by a combination of minute straight line vectors. Not only moving similarly but also moving substantially similar to the guide line 11 is used to cover. At this time, scanning (or reciprocation) may be performed multiple times along one guide line 11. When a plurality of scans are performed along one guideline 11 while irradiating each unit processing area 110 with the laser beam 10 having a size smaller than the size of each unit processing area 110, the laser in each unit processing area 110 While maintaining the bending ratio of the guide line 11 so that the irradiation position of the beam 10 can be changed, the second and the other end of the guide line 11 meet the width of the second axial direction 22 of the laser beam 10 The laser beam 10 may be scanned multiple times along the length of the guide line 11 until the laser beam 10 is uniformly irradiated in each unit processing area 110 while moving in the axial direction 22 (or in the step direction). At this time, the irradiation position of the laser beam 10 may be moved separately for each of the guidelines 11 by time division or space division of the laser beam 10. The irradiation position of the laser beam 10 may be moved separately for each guideline 11. For example, the irradiation position of the laser beam 10 may be moved by one guide line 11 by time division, or space division may be performed to move the irradiation position of the laser beam 10 in the plurality of guide lines 11 by a plurality of laser beams 10. May be

前記複数の単位加工領域110にレーザービーム10を照射する過程(S130)は、複数本のガイドライン11のうち第1のガイドライン11aの単位加工領域110に順次にレーザービーム10を照射する過程(S131)と、前記第1のガイドライン11aと隣り合う第2のガイドライン11bの単位加工領域110に順次にレーザービーム10を照射する過程(S132)と、を含んでいてもよい。   The step (S130) of irradiating the plurality of unit processing areas 110 with the laser beam 10 is a step of sequentially irradiating the unit processing areas 110 of the first guideline 11a among the plurality of guidelines 11 (S131) And irradiating the laser beam 10 sequentially to the unit processing area 110 of the second guide line 11b adjacent to the first guide line 11a (S132).

第1のガイドライン11aの単位加工領域110に順次にレーザービーム10を照射して、第1のガイドライン11aに配列された単位加工領域110の加工を行い(又は、完了し)、第2のガイドライン11bの単位加工領域110に順次にレーザービーム10を照射して、第2のガイドライン11bに配列された単位加工領域110の加工を行うことにより、各ガイドライン11別に単位加工領域110の加工を行ってもよい。それぞれのガイドライン11の両端にその位置に応じた引っ張り力が働くため、各ガイドライン11別に同じ引っ張り力が働くことになる。これにより、各ガイドライン11別に同じ条件で単位加工領域110の加工を行わなければ、各ガイドライン11の複数の単位加工領域110において一定の品質のパターンを得ることができなくなる。   The unit processing area 110 of the first guideline 11a is sequentially irradiated with the laser beam 10 to process (or complete) the unit processing area 110 arranged in the first guideline 11a, and the second guideline 11b The laser beam 10 is sequentially irradiated to the unit processing areas 110 of 1 to process the unit processing areas 110 arranged in the second guideline 11 b to process the unit processing areas 110 separately for each guideline 11. Good. Since the pulling force according to the position acts on the both ends of each guideline 11, the same pulling force works for each guideline 11. As a result, if processing of the unit processing area 110 is not performed under the same conditions for each guideline 11, it is impossible to obtain a pattern of constant quality in the plurality of unit processing areas 110 of each guideline 11.

このため、各ガイドライン11の複数の単位加工領域110において一定の品質のパターンを得るためには、各ガイドライン11別に同じ条件で単位加工領域110の加工を行わなければならない。ここで、各ガイドライン11別に単位加工領域110の加工を行わない場合には、各ガイドライン11別に同じ条件を合わせ難くなり、条件を変更し続けなければならないため、各ガイドライン11別に単位加工領域110の加工を行ってもよい。これを通じて、各ガイドライン11の複数の単位加工領域110において一定の品質のパターンを得ることができる。   For this reason, in order to obtain a pattern of constant quality in a plurality of unit processing areas 110 of each guideline 11, it is necessary to process the unit processing area 110 under the same conditions for each guideline 11. Here, when the processing of the unit processing area 110 is not performed separately for each guideline 11, it becomes difficult to match the same conditions for each guideline 11 and it is necessary to keep changing the conditions. You may process it. Through this, it is possible to obtain a pattern of constant quality in the plurality of unit processing areas 110 of each guideline 11.

前記複数の単位加工領域110にレーザービーム10を照射する過程(S130)においては、各単位加工領域110の大きさに対応してレーザービーム10の大きさを変化させながら、それぞれのガイドライン11に沿ってレーザービーム10の照射位置を移動させてもよい。ここで、レーザービーム10の大きさは、各単位加工領域110に等しくなるように変化させてもよく、各単位加工領域110よりは小さいものの、各単位加工領域110の大きさに比例するように変化させてもよい。また、レーザービーム10の大きさが各単位加工領域110よりも小さな場合には、それぞれのガイドライン11毎にガイドライン11に沿って複数回スキャンしてもよい。レーザービーム10の照射位置が移動する距離を短縮させ(又は、最小化させ)、各単位加工領域110におけるレーザービーム10の移動速度(又は、移動速力)を一定にするために、ガイドライン11に沿ってレーザービーム10の照射位置を移動させてもよい。ガイドライン11に沿ってレーザービーム10の照射位置を移動させる場合には、レーザービーム10の照射位置が線形的に移動し、移動区間の曲げ率が一定しているため、各単位加工領域110において速度(又は、速力)を維持し易くなり、レーザービーム10のオン(on)/オフ(off)が容易になる。   In the process of irradiating the plurality of unit processing areas 110 with the laser beam 10 (S130), the size of the laser beam 10 is changed corresponding to the size of each unit processing area 110, and the respective guidelines 11 are followed. The irradiation position of the laser beam 10 may be moved. Here, the size of the laser beam 10 may be changed to be equal to each unit processing area 110, and although smaller than each unit processing area 110, it may be proportional to the size of each unit processing area 110. It may be changed. When the size of the laser beam 10 is smaller than each unit processing area 110, scanning may be performed multiple times along the guideline 11 for each guideline 11. In order to shorten (or minimize) the distance traveled by the irradiation position of the laser beam 10 and to make the moving speed (or moving speed) of the laser beam 10 in each unit processing area 110 constant, along the guide line 11 The irradiation position of the laser beam 10 may be moved. When moving the irradiation position of the laser beam 10 along the guide line 11, the irradiation position of the laser beam 10 moves linearly and the bending ratio of the moving section is constant. It becomes easy to maintain (or speed) and it becomes easy to turn on / off the laser beam 10.

このとき、単位加工領域110の大きさに応じてレーザービーム10の大きさを変化させてもよく、各ガイドライン11において様々な大きさの単位加工領域110を加工するためにレーザービーム10の照射位置を移動させると同時に、レーザービーム10の大きさを変化させてもよい。すなわち、レーザービーム10の大きさを変化させて加工される大きさ(又は、面積)を調節してもよく、単位加工領域110の大きさに応じてレーザービーム10の大きさを変化させてもよい。   At this time, the size of the laser beam 10 may be changed according to the size of the unit processing area 110, and the irradiation position of the laser beam 10 for processing the unit processing area 110 of various sizes in each guideline 11. Simultaneously with changing the size of the laser beam 10. That is, the size (or area) to be processed may be adjusted by changing the size of the laser beam 10, or even if the size of the laser beam 10 is changed according to the size of the unit processing area 110. Good.

例えば、前記第1のガイドライン11aの単位加工領域110に順次にレーザービーム10を照射する過程(S131)においては、第1のガイドライン11aの一端から他端まで第1のガイドライン11aに沿ってレーザービーム10の照射位置を移動させながら第1のガイドライン11aの単位加工領域110にレーザービーム10を照射してもよい。そして、前記第2のガイドライン11bの単位加工領域110に順次にレーザービーム10を照射する過程(S132)においては、第2のガイドライン11bの他端から一端まで第2のガイドライン11bに沿ってレーザービーム10の照射位置を移動させながら、第2のガイドライン11bの単位加工領域110にレーザービーム10を照射してもよい。この場合、全ての複数の単位加工領域110にレーザービーム10を照射するのに(又は、前記被加工対象物の一面の全体をスキャンするのに)、レーザービーム10の照射位置が移動する距離を最小化させることができ、各単位加工領域110毎にレーザービーム10が照射される照射回数(又は、繰り返し回数)を同じくすることができる。   For example, in the process (S131) of sequentially irradiating the laser beam 10 to the unit processing area 110 of the first guide line 11a, the laser beam along the first guide line 11a from one end to the other end of the first guide line 11a. The laser beam 10 may be irradiated to the unit processing area 110 of the first guide line 11 a while moving the irradiation position 10. Then, in the process (S132) of sequentially irradiating the laser beam 10 to the unit processing area 110 of the second guideline 11b, the laser beam along the second guideline 11b from the other end to the one end of the second guideline 11b. The laser beam 10 may be irradiated to the unit processing area 110 of the second guideline 11 b while moving the irradiation position 10. In this case, to irradiate the laser beam 10 to all the plurality of unit processing areas 110 (or scan the entire surface of the object to be processed), the distance by which the irradiation position of the laser beam 10 moves is The number of irradiations (or the number of repetitions) to which the laser beam 10 is irradiated can be made the same for each unit processing area 110.

このとき、第1のガイドライン11aの他端から被加工対象物100の第2の軸方向22に(又は、ステップ方向に)移動して、第2のガイドライン11bの他端にレーザービーム10の照射位置が移動してもよく、複数本のガイドライン11から被加工対象物100の第2の軸方向22にガイドライン11間を移動する距離は一定であってもよい。すなわち、各ガイドライン11の両端に位置する単位加工領域110は、ガイドライン11同士の間隔が一定であってもよく、この場合、被加工対象物100の第1の軸方向21への引っ張り時に一定の間隔のパターンを得ることができる。   At this time, the other end of the first guide line 11 a is moved in the second axial direction 22 (or in the step direction) of the workpiece 100, and the other end of the second guide line 11 b is irradiated with the laser beam 10. The position may move, and the distance between the plurality of guidelines 11 and the guidelines 11 in the second axial direction 22 of the workpiece 100 may be constant. That is, in the unit processing areas 110 located at both ends of each of the guidelines 11, the distance between the guidelines 11 may be constant. In this case, when the workpiece 100 is pulled in the first axial direction 21, the intervals are constant. A pattern of intervals can be obtained.

レーザービーム10の照射位置を各ガイドライン11に沿って移動させながら、複数の単位加工領域110にレーザービーム10を照射する場合、各単位加工領域110に熱影響、バリ(burr)などの副作用(side effects)を低減させることができ、複数の単位加工領域110を加工する時間を短縮することができ、移動方向、移動速度などのレーザーヘッド50の制御が容易になる。   When a plurality of unit processing areas 110 are irradiated with the laser beam 10 while moving the irradiation position of the laser beam 10 along the respective guidelines 11, side effects such as thermal effects and burrs (sides) on each unit processing area 110 (side effects can be reduced, the time for processing the plurality of unit processing areas 110 can be shortened, and control of the laser head 50 such as the moving direction and moving speed is facilitated.

例えば、各単位加工領域110において移動させずに停止してレーザービーム10を照射する場合には、単位加工領域110に熱が蓄積され、蓄積された熱により加工形成物110aの形状が変形する恐れがあり、加工形成物110aの周縁にバリが形成されかねない。そして、単位加工領域110が数百個以上に多い場合には、数百個の単位加工領域110を全て加工するのに長時間がかかる。   For example, when the laser beam 10 is irradiated while being stopped without moving in each unit processing area 110, heat may be accumulated in the unit processing area 110, and the shape of the processed product 110a may be deformed by the accumulated heat. And burrs may be formed on the periphery of the processed product 110a. And when there are many hundreds of unit processing area 110, it takes a long time to process several hundred unit processing area 110 altogether.

しかしながら、本発明でのように、レーザービーム10の照射位置を各ガイドライン11に沿って移動させながら、複数の単位加工領域110にレーザービーム10を照射すれば、被加工対象物100上においてレーザービーム10が照射される位置が変化し続けるため、単位加工領域110における熱の蓄積を防ぐことができ、これに伴い、熱変形やバリの形成を防ぐことができる。なお、それぞれの単位加工領域110において加工が完了するまで待たずに、各ガイドライン11に沿って移動するスキャン回数(又は、繰り返し回数)のみを調整すればよいため、複数の単位加工領域110を加工する時間を短縮することができ、複数の単位加工領域110をスキャンするスキャン距離を短縮することもできる。   However, as in the present invention, if the laser beam 10 is irradiated to the plurality of unit processing areas 110 while moving the irradiation position of the laser beam 10 along each guideline 11, the laser beam on the object 100 to be processed Since the position to which 10 is irradiated continues to change, accumulation of heat in the unit processing area 110 can be prevented, and accordingly, thermal deformation and formation of burrs can be prevented. In addition, since it is only necessary to adjust the number of scans (or the number of repetitions) moving along each guideline 11 without waiting for completion of processing in each unit processing area 110, processing of a plurality of unit processing areas 110 is performed. The time required for scanning can be shortened, and the scanning distance for scanning a plurality of unit processing areas 110 can also be shortened.

一方、任意の方向にレーザーヘッド50を移動させながら、複数の単位加工領域110にレーザービーム10を照射すれば、レーザーヘッド50の移動方向が急激に変化する恐れがあり、第1の軸方向21の変化率と第2の軸方向22の変化率が一定ではないため、レーザーヘッド50の移動の制御が容易ではないだけではなく、急変するレーザーヘッド50の移動により単位加工領域110に対する加工誤差が生じかねない。しかしながら、レーザーヘッド50を各ガイドライン11に沿って移動させながら、複数の単位加工領域110にレーザービーム10を照射する場合には、レーザーヘッド50の移動方向が一定のパターンで(又は、順次的に)緩やかに変化することができ、第1の軸方向21の変化率と第2の軸方向22の変化率が一定になるので、レーザーヘッド50の移動の制御が容易になる。   On the other hand, if the laser beam 10 is irradiated to a plurality of unit processing areas 110 while moving the laser head 50 in an arbitrary direction, the moving direction of the laser head 50 may be rapidly changed. Because the rate of change in the second axial direction 22 and the rate of change in the second axial direction 22 are not constant, the control of the movement of the laser head 50 is not only easy, but the processing error for the unit processing area 110 is It may happen. However, in the case where the laser beams 10 are irradiated to the plurality of unit processing areas 110 while moving the laser head 50 along the respective guidelines 11, the moving direction of the laser head 50 is a constant pattern (or sequentially ) Since the change rate in the first axial direction 21 and the change rate in the second axial direction 22 become constant, control of the movement of the laser head 50 becomes easy.

前記複数の単位加工領域110にレーザービーム10を照射する過程(S130)においては、レーザーヘッド50の高さを調整してレーザービーム10の大きさを変化させてもよい。レーザーヘッド50は、レーザービーム10を出射してもよく、その高さ(又は、z軸方向の位置)を調整してレーザービーム10の大きさを変化させてもよい。例えば、レーザービーム10が集光されたビームであれば、レーザーヘッド50の高さが低くなる場合(又は、前記レーザーヘッドが前記被加工対象物に近付く場合)には、レーザービーム10の大きさが大きくなり、レーザーヘッド50の高さが高くなる場合(又は、前記レーザーヘッドが前記被加工対象物から遠ざかる場合)には、レーザービーム10の大きさが小さくなる。或いは、レーザービーム10が集光されないLED光のようなビームであれば、図3(b)のように、レーザーヘッド50の高さが低くなる場合(又は、前記レーザーヘッドが前記被加工対象物に近付く場合)には、レーザービーム10の大きさが小さくなり、レーザーヘッド50の高さが高くなる場合(又は、前記レーザーヘッドが前記被加工対象物から遠ざかる場合)には、レーザービーム10の大きさが大きくなる。   In the process of irradiating the plurality of unit processing areas 110 with the laser beam 10 (S130), the size of the laser beam 10 may be changed by adjusting the height of the laser head 50. The laser head 50 may emit the laser beam 10, and the height (or the position in the z-axis direction) may be adjusted to change the size of the laser beam 10. For example, if the laser beam 10 is a focused beam, the size of the laser beam 10 may be reduced if the height of the laser head 50 decreases (or if the laser head approaches the object to be processed). When the height of the laser head 50 becomes high (or when the laser head moves away from the object to be processed), the size of the laser beam 10 decreases. Alternatively, if the beam is a beam such as LED light which is not focused, as shown in FIG. 3B, the height of the laser head 50 is lowered (or the laser head is the object to be processed) When the size of the laser beam 10 decreases and the height of the laser head 50 increases (or when the laser head moves away from the object to be The size increases.

被加工対象物100の全領域にわたって複数の単位加工領域110を均一に加工するためには、各単位加工領域110ごとに同じエネルギーのレーザービーム10で加工しなければならない。このとき、レーザーヘッド50の高さを調整してレーザービーム10の大きさを変化させれば、エネルギーは同じでありながら、大きさのみが変化されたレーザービーム10を得ることができる。これに伴い、同じエネルギーのレーザービーム10で複数の単位加工領域110を加工することができ、同じ深さに単位加工領域110を加工することができて、複数の単位加工領域110の照射回数を同じくすることができる。これを通じて、複数の単位加工領域110を同じエネルギーと照射回数で加工して被加工対象物100の全領域にわたって均一な加工形成物110aを形成することができる。   In order to process the plurality of unit processing areas 110 uniformly over the entire area of the workpiece 100, each unit processing area 110 must be processed with the laser beam 10 of the same energy. At this time, if the size of the laser beam 10 is changed by adjusting the height of the laser head 50, it is possible to obtain the laser beam 10 whose energy is the same but only the size is changed. Accordingly, the plurality of unit processing areas 110 can be processed with the laser beam 10 of the same energy, and the unit processing areas 110 can be processed to the same depth, and the number of irradiation times of the plurality of unit processing areas 110 is You can do the same. Through this, it is possible to process a plurality of unit processed areas 110 with the same energy and the number of irradiations, and to form a uniform processed product 110 a over the entire area of the workpiece 100.

前記複数の単位加工領域110にレーザービーム10を照射する過程(S130)においては、レーザーヘッド50の3次元座標値を順次に変更してレーザービーム10の照射位置を移動させながら、レーザービーム10の大きさを変化させてもよい。このとき、第1の軸方向21の値(例えば、x軸値)、第2の軸方向22の値(例えば、y軸値)及び高さ方向23の値(例えば、z軸値)を3次元座標値に設定することができる。   In the process (S130) of irradiating the plurality of unit processing areas 110 with the laser beam 10, the three-dimensional coordinate values of the laser head 50 are sequentially changed to move the irradiation position of the laser beam 10, The size may be changed. At this time, the value of the first axial direction 21 (for example, the x-axis value), the value of the second axial direction 22 (for example, the y-axis value), and the value of the height direction 23 (for example, the z-axis value) It can be set to dimension coordinate values.

従来には、レーザー加工に際してx軸とy軸(すなわち、2次元)の線形に制御することにより、直線上において形状を加工し、直線の方向に加工して被加工対象物100の第1の軸方向21への引っ張り時に加工形成物の形状の変化及び位置の変化を補償することができなかった。すなわち、従来の場合、レーザー加工の施されたマスクスティックの状態では、位置精度、大きさ、形状などの規格又は仕様を満たすことができるが、マスクスティックの第1の軸方向21への引っ張り時には、引っ張り方向に膨張し、引っ張り方向と垂直な方向に収縮して加工孔の規格又は仕様を満たすことができなくなる。   Conventionally, in laser processing, the shape is processed on a straight line by controlling the x-axis and y-axis (that is, two-dimensional) linearly, and processing in the direction of the straight line is performed. It was not possible to compensate for changes in the shape and position of the work piece during pulling in the axial direction 21. That is, in the conventional case, in the state of the mask stick subjected to the laser processing, it is possible to satisfy the standards or specifications such as positional accuracy, size and shape, but when pulling the mask stick in the first axial direction 21 It expands in the pulling direction and contracts in the direction perpendicular to the pulling direction, making it impossible to meet the specifications or specifications of the machined hole.

しかし、本発明においては、レーザーヘッド50の3次元座標値を順次に変更してガイドライン11に沿って曲線方向に加工することができるだけではなく、レーザーヘッド50の位置を高さ方向(又は、z軸方向)にも変更することができて各単位加工領域110の大きさに応じて一定のエネルギーを維持しながらレーザービーム10の大きさを変化させることもできる。これに伴い、マスクスティックを引っ張ってフレームに固定するなど被加工対象物100を第1の軸方向21に引っ張るときに、加工形成物110aの所望の形状及び位置精度が確保可能になる。   However, in the present invention, it is not only possible to sequentially change the three-dimensional coordinate values of the laser head 50 and process in the curved direction along the guide line 11, but also to position the laser head 50 in the height direction (or z The size of the laser beam 10 can be changed while maintaining a constant energy according to the size of each unit processing area 110. Along with this, when the workpiece 100 is pulled in the first axial direction 21 such as pulling the mask stick and fixing it to the frame, it is possible to secure the desired shape and positional accuracy of the workpiece 110a.

前記複数の単位加工領域110にレーザービーム10を照射する過程(S130)においては、それぞれのガイドライン11においてレーザーヘッド50を一定の速度で移動させてもよい。各ガイドライン11の複数の単位加工領域110において一定の品質のパターンを得るためには、各ガイドライン11別に一定の速度で単位加工領域110の加工を行わなければならない。このとき、3次元座標値を設定しながら、各方向(すなわち、前記第1の軸方向、前記第2の軸方向及び前記高さ方向)の速度値も設定して、それぞれのガイドライン11に沿ってレーザーヘッド50を一定の速度で移動させてもよく、レーザーヘッド50の3次元移動を通じてそれぞれのガイドライン11を一定の速度で移動させながら、同時にレーザービーム10の大きさが調節されてもよい。これに伴い、各ガイドライン11の複数の単位加工領域110において一定の品質のパターンを得ることができる。   In the process (S130) of irradiating the plurality of unit processing areas 110 with the laser beam 10, the laser head 50 may be moved at a constant speed in each of the guidelines 11. In order to obtain a pattern of constant quality in a plurality of unit machining areas 110 of each guideline 11, it is necessary to machine the unit machining area 110 at a constant speed for each guideline 11. At this time, while setting three-dimensional coordinate values, the velocity values in each direction (that is, the first axial direction, the second axial direction, and the height direction) are also set, and along the respective guidelines 11. The laser head 50 may be moved at a constant speed, and the size of the laser beam 10 may be simultaneously adjusted while moving the respective guidelines 11 at a constant speed through the three-dimensional movement of the laser head 50. Along with this, it is possible to obtain a pattern of constant quality in a plurality of unit processing areas 110 of each guideline 11.

例えば、数値制御(Numerical Control;NC)方式を用いて、レーザーヘッド50を移動させてもよい。ここで、数値制御(NC)方式にナノ(nano)スケールを適用してもよい。数値制御(NC)方式においては、各方向の直線移動を微小単位として実質的に曲線移動と同様にしてもよい。より具体的に、曲線移動時のx、y及びz軸の軌跡を求めて、同時にレーザーヘッド50が三つの軸を(又は、三つの軸方向に)動くようにしながら、レーザービーム10で単位加工領域を加工してもよい。ガイドライン11を用いて予め3次元座標のデータを計算することができるので、これらの位置座標をG−Codeに変換して数値制御(NC)装置を用いれば、より手軽に加工形成物110aの形状の変化の補償のための精度よい制御を行うことができる。ここで、G−Codeは、数値制御(NC)に用いられるプログラミング言語又は標準フォーマット(format)であって、x、y、zの3次元座標と各軸の速度を入力してもよく、これに伴い、各軸の速度の入力を通じてそれぞれのガイドライン11においてレーザーヘッド50を一定の速度で移動させてもよい。   For example, the laser head 50 may be moved using a numerical control (NC) method. Here, nano scale may be applied to the numerical control (NC) method. In the numerical control (NC) method, linear movement in each direction may be substantially equivalent to curvilinear movement as a minute unit. More specifically, unit processing with the laser beam 10 is carried out while determining the loci of the x, y and z axes at the time of curvilinear movement, and at the same time making the laser head 50 move three axes (or in three axes). The area may be processed. Since data of three-dimensional coordinates can be calculated in advance using the guide line 11, if these position coordinates are converted to G-Code and a numerical control (NC) device is used, the shape of the processed product 110a can be more easily Precise control for compensation of changes in Here, G-Code is a programming language or standard format used for numerical control (NC), and may input three-dimensional coordinates of x, y, z and velocity of each axis, Accordingly, the laser head 50 may be moved at a constant speed in the respective guidelines 11 through the input of the speed of each axis.

一方、第1の軸方向21の速度(例えば、x軸方向の速度)は、全てのガイドライン11において同じであってもよく、各ガイドライン11の曲げ率に応じて第2の軸方向22の速度(例えば、y軸方向の速度)が、曲げ率が高くなるにつれて高くなってもよい。例えば、各ガイドライン11においてx軸方向の速度とy軸方向の速度の和ベクトル(又は、合成速度)が一定になるようにレーザーヘッド50の移動速度を調節してもよい。このとき、z軸方向の移動は、x軸方向の移動とy軸方向の移動に比べて相対的に僅かである。しかしながら、各ガイドライン11の曲げ率に応じて一定の比率で増減する複数の単位加工領域110に合わせてレーザービーム10の大きさを変化させなければならないため、各ガイドライン11においてx軸方向の速度、y軸方向の速度及びz軸方向の速度の和ベクトルが一定になるようにレーザーヘッド50の移動速度を調節することが好ましい。   On the other hand, the velocity in the first axial direction 21 (for example, the velocity in the x-axis direction) may be the same in all the guidelines 11, and the velocity in the second axial direction 22 according to the bending ratio of each guideline 11 (For example, the velocity in the y-axis direction) may increase as the bending ratio increases. For example, the moving speed of the laser head 50 may be adjusted so that the sum vector (or combined speed) of the speed in the x-axis direction and the speed in the y-axis direction is constant in each guideline 11. At this time, the movement in the z-axis direction is relatively small compared to the movement in the x-axis direction and the movement in the y-axis direction. However, since it is necessary to change the size of the laser beam 10 in accordance with the plurality of unit processing areas 110 which increase and decrease at a constant ratio according to the bending rate of each guideline 11, the speed in the x-axis direction in each guideline 11; It is preferable to adjust the moving speed of the laser head 50 so that the sum vector of the velocity in the y-axis direction and the velocity in the z-axis direction becomes constant.

そして、レーザーヘッド50がそれぞれのガイドライン11を通る(又は、スキャンする)時間を一定にして、全ての複数の単位加工領域110において一定の品質のパターンを得てもよい。   Then, with the time when the laser head 50 passes (or scans) each of the guidelines 11, a pattern of constant quality may be obtained in all of the plurality of unit processing areas 110.

前記複数の単位加工領域110を設定する過程(S120)においては、それぞれのガイドライン11において中央部の単位加工領域110を両端部の単位加工領域110よりも大きく設定してもよい。単位加工領域110の位置に応じて被加工対象物100の引っ張り時に受ける引っ張り力が異なるため、各位置に働く引っ張り力に応じて単位加工領域110の大きさを決定してもよい。被加工対象物100の第1の軸方向21への引っ張りに対する被加工対象物100の第1の軸方向21への膨張力は、被加工対象物100の第1の軸方向21の両端から被加工対象物100の第1の軸方向21の中央部へと働く。これにより、被加工対象物100の第1の軸方向21の両端において最大となり、被加工対象物100の第1の軸方向21の中央において最小となる。これに伴い、相対的に少なく膨張するガイドライン11の中央部の単位加工領域110を相対的に多く膨張するガイドライン11の両端部の単位加工領域110よりも大きく設定することができる。また、被加工対象物100の第1の軸方向21の中央部においては、被加工対象物100の第2の軸方向22への収縮力が被加工対象物100の第1の軸方向21の両端部よりも多く働くことになる。これは、それぞれのガイドライン11において中央部の単位加工領域110を両端部の単位加工領域110よりも大きく設定する一つの理由(又は、要因)となる。   In the step of setting the plurality of unit processing areas 110 (S120), the unit processing area 110 at the central portion may be set to be larger than the unit processing areas 110 at both ends in each guideline 11. Since the tensile force received when the workpiece 100 is pulled differs depending on the position of the unit processing area 110, the size of the unit processing area 110 may be determined according to the tensile force acting on each position. The expansion force in the first axial direction 21 of the to-be-processed object 100 in response to the tension of the to-be-processed object 100 in the first axial direction 21 is the to-be-processed object 100 from both ends in the first axial direction 21. It works to the central part of the first axial direction 21 of the processing object 100. As a result, the both ends of the workpiece 100 in the first axial direction 21 become maximum, and the center of the workpiece 100 in the first axial direction 21 becomes minimum. Accordingly, it is possible to set the unit processing area 110 at the central portion of the relatively expanding guide line 11 to be larger than the unit processing areas 110 at both ends of the relatively expanding guide line 11. Further, at the central portion in the first axial direction 21 of the object 100 to be processed, the contraction force in the second axial direction 22 of the object 100 to be processed is in the first axial direction 21 of the object 100 to be processed. It will work more than at both ends. This is one reason (or factor) to set the unit processing area 110 at the central portion to be larger than the unit processing areas 110 at both ends in each guideline 11.

前記複数の単位加工領域110を設定する過程(S120)においては、各ガイドライン11の中央部に位置する単位加工領域110を前記被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線から遠ざかるにつれて大きくなるように設定してもよい。被加工対象物100の第1の軸方向21への引っ張りに対する被加工対象物100の第2の軸方向22への収縮力は、被加工対象物100の第2の軸方向22の両側から前記被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線へと働く。これにより、前記被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線を中心として被加工対象物100の第2の軸方向22の両側において最大となり、前記被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線において最小となる。これに伴い、相対的に多く収縮する被加工対象物100の第2の軸方向22の両側に位置するガイドライン11の単位加工領域110を相対的に少なく収縮する前記被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線の近くに(又は、隣に)位置するガイドライン11の単位加工領域110よりも大きく設定することができる。したがって、各ガイドライン11の中央部に位置する単位加工領域110もまた、前記被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線から遠ざかるにつれて大きくなるように設定することができる。   In the process of setting the plurality of unit machining areas 110 (S120), the unit machining area 110 located at the center of each guideline 11 is moved away from the center line of the first axial direction 21 of the workpiece 100 It may be set to be large. The contraction force in the second axial direction 22 of the object to be processed 100 in response to the tension in the first axial direction 21 of the object 100 to be processed is the above-mentioned from both sides in the second axial direction 22 of the object 100 to be processed. It works to the center line of the first axial direction 21 of the workpiece 100. As a result, it becomes maximum at both sides in the second axial direction 22 of the object 100 to be processed about the center line of the object 100 to be processed 100 in the first axial direction 21, and the first object of the object 100 to be processed is It is minimum at the center line of the axial direction 21. Accordingly, the first processing target object 100 shrinks relatively less in the unit processing area 110 of the guide line 11 located on both sides in the second axial direction 22 of the processing target object 100 which shrinks relatively more. It can be set larger than the unit processing area 110 of the guide line 11 located near (or next to) the center line of the axial direction 21 of. Therefore, the unit processing area 110 located at the central portion of each of the guidelines 11 can also be set to be larger as it goes away from the center line in the first axial direction 21 of the object 100 to be processed.

前記複数の単位加工領域110を設定する過程(S120)においては、各ガイドライン11の中央部に位置する単位加工領域110を前記被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線から遠ざかるにつれて一定の比率で大きくなるように設定してもよく、前記一定の比率は、被加工対象物100の変形率に応じて決定されてもよい。   In the process of setting the plurality of unit machining areas 110 (S120), the unit machining area 110 located at the center of each guideline 11 is moved away from the center line of the first axial direction 21 of the workpiece 100 It may be set to increase at a fixed ratio, and the fixed ratio may be determined according to the deformation rate of the workpiece 100.

単位加工領域110の位置に応じて被加工対象物100の引っ張り時に受ける引っ張り力が異なるため、各位置に働く引っ張り力に応じて単位加工領域110の大きさを決定してもよい。このとき、被加工対象物100の第1の軸方向21の両端に作用する引っ張り力によって、被加工対象物100の中央部における第2の軸方向22の両側に圧縮応力が発生し、これにより、単位加工領域110が収縮する。このため、各ガイドライン11の中央部に位置する単位加工領域110を前記被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線から遠ざかるにつれて一定の比率で大きくなるように設定することができる。これを通じて、被加工対象物100の第1の軸方向21への引っ張り時に複数の加工形成物110aが一定の大きさに補正(又は、補償)可能になる。   Since the tensile force received when the workpiece 100 is pulled differs depending on the position of the unit processing area 110, the size of the unit processing area 110 may be determined according to the tensile force acting on each position. At this time, a tensile force acting on both ends in the first axial direction 21 of the workpiece 100 generates a compressive stress on both sides in the second axial direction 22 in the central portion of the workpiece 100. , And the unit processing area 110 shrinks. For this reason, the unit processing area 110 located in the central part of each of the guidelines 11 can be set so as to increase at a constant ratio as it goes away from the center line of the first axial direction 21 of the object 100 to be processed. Through this, the plurality of processed products 110a can be corrected (or compensated) to a predetermined size when the workpiece 100 is pulled in the first axial direction 21.

前記一定の比率は、被加工対象物100の変形率及び被加工対象物100の第1の軸方向21の両端に働く引っ張り力に応じて決定されてもよい。このとき、被加工対象物100の変形率及び被加工対象物100の第1の軸方向21の両端に働く引っ張り力に応じて各位置における単位加工領域110の大きさを計算してもよい。   The constant ratio may be determined in accordance with the deformation rate of the workpiece 100 and the tensile force acting on both ends of the first axial direction 21 of the workpiece 100. At this time, the size of the unit processing area 110 at each position may be calculated according to the deformation rate of the workpiece 100 and the tensile force acting on both ends of the workpiece 100 in the first axial direction 21.

被加工対象物100は、被加工対象物100の第1の軸方向21の両端に働く引っ張り力により被加工対象物100の中央部の第2の軸方向22の両側に圧縮応力が発生し、これに伴い収縮することになる。このとき、被加工対象物100の第1の軸方向21の両端に働く引っ張り力の大きさに応じて収縮する度合いが異なる。被加工対象物100の第1の軸方向21への引っ張り時に実際に希望する複数の加工形成物110aのパターン形状は、被加工対象物100の第2の軸方向22の両側に位置するガイドライン11及びこれに沿って配列された加工形成物110aが被加工対象物100の第1の軸方向21の両端に働く引っ張り力に合わせて収縮して水平になるようにするものである。これに伴い、被加工対象物100の第1の軸方向21の両端に働く引っ張り力の大きさに応じた被加工対象物100の中央部の第2の軸方向22の両側から前記被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線への収縮量(又は、収縮力)を計算(又は、測定)し、この量(又は、大きさ)に見合う分だけ単位加工領域110の形状(又は、大きさ)を(すなわち、前記加工形成物の形状を)補正(又は、補償)することができる。   In the workpiece 100, compressive stress is generated on both sides in the second axial direction 22 of the central portion of the workpiece 100 by the tensile force acting on both ends in the first axial direction 21 of the workpiece 100. It will contract with this. At this time, the degree of contraction differs depending on the magnitude of the tensile force acting on both ends in the first axial direction 21 of the workpiece 100. The pattern shapes of the plurality of processed products 110 a actually desired when the workpiece 100 is pulled in the first axial direction 21 are the guide lines 11 located on both sides of the second axial direction 22 of the workpiece 100. And, the processing formations 110a arranged along this are contracted to be horizontal in accordance with the tensile force acting on both ends in the first axial direction 21 of the object 100 to be processed. Accordingly, the object to be processed is from both sides in the second axial direction 22 of the central portion of the object to be processed 100 according to the magnitude of the tensile force acting on both ends of the object to be processed 100 in the first axial direction 21. The amount (or contraction force) of contraction (or contraction force) of the object 100 to the center line in the first axial direction 21 is calculated (or measured), and the shape of the unit processing area 110 (the size) Alternatively, the size can be corrected (or compensated) (i.e. the shape of the work piece).

この場合、被加工対象物100の第2の軸方向22の両側に位置するガイドライン11が曲線状になり、それぞれのガイドライン11において中央部の単位加工領域110が両端部の単位加工領域110よりも大きくなり、各ガイドライン11の中央部に位置する単位加工領域110が前記被加工対象物100の第1の軸方向21の中心線から遠ざかるにつれて大きくなる。このとき、ガイドライン11の両端を結ぶ直線(すなわち、弦)とガイドライン11の中央との間隔及びガイドライン11の両端を結ぶ直線の長さでガイドライン11の曲げ率(又は、曲げ率半径)を計算してもよく、それぞれのガイドライン11上においてスティフネス(stiffness)に応じた各位置別の収縮量を適用して各位置別の単位加工領域110の形状(又は、大きさ)を決定してもよい。   In this case, the guide lines 11 located on both sides in the second axial direction 22 of the object 100 to be processed are curved, and in each of the guide lines 11, the unit processing area 110 at the central portion is more than the unit processing areas 110 at both ends. The size of the unit processing area 110 located at the center of each of the guidelines 11 increases as the distance from the center line of the first axial direction 21 of the workpiece 100 increases. At this time, calculate the bending ratio (or bending radius) of the guideline 11 by the distance between the straight line connecting the both ends of the guideline 11 (that is, the chord) and the center of the guideline 11 and the length of the straight line connecting both ends of the guideline 11 Alternatively, the shape (or size) of the unit processing area 110 for each position may be determined by applying a shrinkage amount for each position on each of the guide lines 11 in accordance with the stiffness.

そして、スティフネスなどにより決定される被加工対象物100の変形率に応じて各位置別の収縮量(又は、働く引っ張り力)が異なるため、被加工対象物100の変形率を反映して前記一定の比率を決定してもよい。なお、被加工対象物100の厚さ、被加工対象物100の材質、複数の単位加工領域110がなすパターンの大きさ及び被加工対象物100の引っ張り時に加工形成物110aが有するべき大きさのうちの少なくとも一つ以上の要素を反映してもよい。   Then, the amount of contraction (or the acting tension) at each position is different according to the deformation rate of the workpiece 100 determined by the stiffness or the like, so the above constant value reflecting the deformation rate of the workpiece 100 The ratio of may be determined. The thickness of the object to be processed 100, the material of the object to be processed 100, the size of the pattern formed by the plurality of unit processing areas 110, and the size that the processing formed object 110a should have when the object to be processed 100 is pulled. At least one or more elements of them may be reflected.

前記複数の単位加工領域110を設定する過程(S120)においては、複数本のガイドライン11の両端に位置する単位加工領域110を一定の大きさに設定してもよい。このとき、複数本のガイドライン11は、ガイドライン11の両端を結ぶ直線の長さが同じであってもよく、ガイドライン11の両端を結ぶ直線の間隔が一定であってもよい。すなわち、複数本のガイドライン11の両端に位置する単位加工領域110は、被加工対象物100の第2の軸方向22に一定の間隔を隔てて離間して同一線上に配置されてもよい。   In the step of setting the plurality of unit processing areas 110 (S120), the unit processing areas 110 located at both ends of the plurality of guide lines 11 may be set to a predetermined size. At this time, the length of a straight line connecting both ends of the guide line 11 may be the same for the plurality of guide lines 11, and the distance between the straight lines connecting the both ends of the guide line 11 may be constant. That is, the unit processing regions 110 located at both ends of the plurality of guide lines 11 may be arranged on the same line at predetermined intervals in the second axial direction 22 of the workpiece 100.

被加工対象物100の第1の軸方向21の両端には、平行な引っ張り力が働くため、被加工対象物100の第1の軸方向21への引っ張り時に複数本のガイドライン11の両端に位置する加工形成物110aは位置の変化が同じであってもよい。また、被加工対象物100の第1の軸方向21の両端間の距離が同じであるため、被加工対象物100の第1の軸方向21への膨張力が同じであってもよく、被加工対象物100の中央部ではないため、被加工対象物100の第2の軸方向22の両側における収縮力がほとんど無くてもよい。これにより、複数本のガイドライン11の両端に位置する単位加工領域110を一定の大きさに設定することができる。これに伴い、被加工対象物100の第1の軸方向21への引っ張り時に加工形成物110aの大きさが同じであり、一定の大きさと間隔のパターンを得ることができる。   Since parallel tensile forces act on both ends in the first axial direction 21 of the object 100 to be processed, positions on both ends of the plurality of guide lines 11 when the object 100 to be processed is pulled in the first axial direction 21 The processed product 110a may have the same change in position. In addition, since the distance between both ends in the first axial direction 21 of the object to be processed 100 is the same, the expansion force in the first axial direction 21 of the object to be processed 100 may be the same. Since it is not the central portion of the processing target 100, the contraction force on both sides in the second axial direction 22 of the processing target 100 may be almost zero. Thereby, the unit process area | region 110 located in the both ends of the several guideline 11 can be set as a fixed magnitude | size. Along with this, when the workpiece 100 is pulled in the first axial direction 21, the size of the processed product 110 a is the same, and it is possible to obtain a pattern of fixed size and spacing.

このように、本発明においては、被加工対象物100の上に被加工対象物100の変形率及び被加工対象物100に働く引っ張り力に応じて計算された曲げ率を有する複数本のガイドライン11を与えて、引っ張りによる位置の変化の補償位置に複数の単位加工領域110を設定してもよい。また、被加工対象物100の変形率及び被加工対象物100に働く引っ張り力を通じて単位加工領域110の位置に応じた加工形状の変化を計算して、各単位加工領域110の大きさを決定してもよい。これに伴い、被加工対象物100の引っ張り時に加工形成物110aの位置の変化及び加工形状の変化を補償することができる。   Thus, in the present invention, a plurality of guidelines 11 having a bending rate calculated according to the deformation rate of the workpiece 100 and the tensile force acting on the workpiece 100 on the workpiece 100. The plurality of unit processing areas 110 may be set to the compensation position of the change in position due to pulling. Further, the size of each unit processing area 110 is determined by calculating the change in processing shape according to the position of the unit processing area 110 through the deformation rate of the processing object 100 and the tensile force acting on the processing object 100 May be Along with this, it is possible to compensate for the change in the position of the processed product 110a and the change in the processed shape when the workpiece 100 is pulled.

図4は、本発明の他の実施形態に係るマスク組立体の製造方法により製造されるマスク組立体を示す図である。   FIG. 4 is a view showing a mask assembly manufactured by the method of manufacturing a mask assembly according to another embodiment of the present invention.

図4を参照して、本発明の他の実施形態に係るマスク組立体の製造方法をより詳しく説明するが、本発明の一実施形態に係るレーザー加工方法と関連して上述した部分と重複する事項は省略する。   A method of manufacturing a mask assembly according to another embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to FIG. 4, but overlapping with the portion described above in connection with the laser processing method according to an embodiment of the present invention. Matters will be omitted.

本発明の他の実施形態に係るマスク組立体の製造方法は、本発明の一実施形態に係るレーザー加工方法で前記被加工対象物100を加工して、前記複数の単位加工領域110に応じて複数の加工孔211が形成されたマスクスティック210を用意する過程(S210)と、開口部を有するフレーム220に前記マスクスティック210を前記第1の軸方向21に引っ張って固定する過程(S220)と、を含んでいてもよい。   In the method of manufacturing a mask assembly according to another embodiment of the present invention, the object to be processed 100 is processed by the laser processing method according to an embodiment of the present invention, and the plurality of unit processing areas 110 are processed. Preparing a mask stick 210 in which a plurality of processing holes 211 are formed (S210), and pulling and fixing the mask stick 210 in the first axial direction 21 to a frame 220 having an opening (S220) , May be included.

まず、本発明の一実施形態に係るレーザー加工方法で被加工対象物100を加工して、複数の単位加工領域110に応じて複数の加工孔211が形成されたマスクスティック210を用意する(S210)。マスクスティック210は、本発明の一実施形態に係るレーザー加工方法で被加工対象物100を加工して用意してもよい。このとき、複数の単位加工領域110に応じて複数の加工孔211が形成されてもよく、複数の単位加工領域110の加工された複数の加工形成物110aが複数の加工孔211であってもよい。マスクスティック210がフレーム220に固定されるために引っ張られる前には、複数の加工孔211が曲線を含む複数本のガイドライン11に沿って離間して配列されることにより、パターン(pattern)を形成してもよい。なお、複数本のガイドライン11の形態(又は、形状)に応じて、前記パターンの第1の軸方向21に垂直な方向(すなわち、前記第2の軸方向)の幅が前記パターンの第1の軸方向21の両端部から中央部に向かって進むにつれて広くなってもよい。   First, the workpiece 100 is processed by the laser processing method according to one embodiment of the present invention, and the mask stick 210 in which a plurality of processing holes 211 are formed according to the plurality of unit processing areas 110 is prepared (S210 ). The mask stick 210 may be prepared by processing the object to be processed 100 by the laser processing method according to an embodiment of the present invention. At this time, a plurality of processing holes 211 may be formed according to a plurality of unit processing areas 110, and even if a plurality of processing formations 110a obtained by processing a plurality of unit processing areas 110 are a plurality of processing holes 211. Good. Before the mask stick 210 is pulled to be fixed to the frame 220, a plurality of processing holes 211 are spaced apart along a plurality of guidelines 11 including a curve to form a pattern. You may Note that the width of the pattern in the direction (that is, the second axial direction) perpendicular to the first axial direction 21 of the pattern corresponds to the first shape of the pattern according to the form (or shape) of the plurality of guidelines 11. It may be wider as it proceeds from the both ends in the axial direction 21 toward the center.

マスク組立体200は、複数のマスクスティック210が集まって構成されてもよく、少なくとも二つ以上のマスクスティック210で構成されてもよく、図4には、四つのマスクスティック210が示されているが、これは、単なる一実施形態に過ぎず、本発明はこれに何等限定されない。   The mask assembly 200 may be configured by assembling a plurality of mask sticks 210, may be configured by at least two or more mask sticks 210, and four mask sticks 210 are shown in FIG. However, this is only one embodiment, and the present invention is not limited to this.

そして、マスクスティック210は、長方形の薄板状であってもよく、その第1の軸方向21に沿って所定の間隔を隔てて複数の加工孔211が形成されてもよく、複数の加工孔211が形成するパターンの周りに遮断領域が形成されてもよい。また、図4に示すように、複数の加工孔211が形成するパターンの形状及び複数の加工孔211の形状は、マスクスティック210がフレーム220に固定される前と後において相違するが、これについての詳細な説明は後述する。   The mask stick 210 may be a thin rectangular plate, and a plurality of processed holes 211 may be formed at predetermined intervals along the first axial direction 21. A blocking area may be formed around the pattern formed by. Further, as shown in FIG. 4, the shape of the pattern formed by the plurality of processing holes 211 and the shape of the plurality of processing holes 211 are different before and after the mask stick 210 is fixed to the frame 220. A detailed description of will be given later.

例えば、マスクスティック210は、磁性を帯びた薄板であってもよいが、ニッケル又はニッケル合金からなってもよく、微細パターンの形成が容易であり、しかも、表面粗さが非常に良いニッケル−コバルトの合金で形成してもよい。   For example, the mask stick 210 may be a thin magnetic sheet, but may be made of nickel or a nickel alloy, which can easily form a fine pattern and has a very good surface roughness. It may be formed of an alloy of

次いで、開口部を有するフレーム220にマスクスティック210を第1の軸方向21に(又は、前記第1の軸方向に延びる長手方向に)引っ張って固定する(S220)。フレーム220は、開口部を有してもよく、弾性力を有する材質で形成してもよいが、これに限定されない。また、フレーム220には、マスクスティック210が引っ張られた状態で支持されるため、マスクスティック210が安定的に支持できるようにフレーム30は十分な剛性を有してもよい。なお、フレーム220は、被蒸着物とマスク組立体200との密着の際に干渉を引き起こさない構造であれば、いかなるものも採用可能である。   Next, the mask stick 210 is pulled and fixed to the frame 220 having the opening in the first axial direction 21 (or in the longitudinal direction extending in the first axial direction) (S220). The frame 220 may have an opening, and may be formed of an elastic material, but is not limited thereto. Further, since the frame 220 supports the mask stick 210 in a tensioned state, the frame 30 may have sufficient rigidity so that the mask stick 210 can be stably supported. In addition, as long as the flame | frame 220 is a structure which does not produce interference in the case of adhesion with a vapor deposition thing and the mask assembly 200, what kind of thing is employable.

マスクスティック210は、その第1の軸方向21に(又は、前記長手方向に)所定の引っ張り力を加えた状態で、マスクスティック210の第1の軸方向21の両端をフレーム220に固定してもよい。このとき、マスクスティック210の複数の加工孔211は、いずれもフレーム220の開口部の内側に位置させてもよい。ここで、固定方法としては、レーザー溶接、抵抗加熱溶接など様々な方法を適用してもよいが、精度の変化などを考慮して、レーザー溶接方法を用いてもよい。なお、各マスクスティック210は、これら同士が所定の隙間(gap)を形成するように揃えられて溶接されてもよい。   The mask stick 210 fixes both ends of the mask stick 210 in the first axial direction 21 to the frame 220 in a state where a predetermined tensile force is applied in the first axial direction 21 (or in the longitudinal direction). It is also good. At this time, the plurality of processing holes 211 of the mask stick 210 may be located inside the opening of the frame 220. Here, as a fixing method, various methods such as laser welding and resistance heating welding may be applied, but a laser welding method may be used in consideration of a change in accuracy and the like. The mask sticks 210 may be aligned and welded such that they form a predetermined gap.

本発明の実施形態によれば、複数の加工孔211が形成するパターンの形状及び複数の加工孔211の形状は、各マスクスティック210がフレーム220に固定される前と後において相違する。   According to the embodiment of the present invention, the shape of the pattern formed by the plurality of processing holes 211 and the shape of the plurality of processing holes 211 are different before and after each mask stick 210 is fixed to the frame 220.

図5は、本発明の他の実施形態に係るマスクスティックの引っ張りによる加工孔の形状の補正を説明するための概念図であり、図5(a)は、引っ張り前のマスクスティックを示し、図5(b)は、引っ張り後のマスクスティックを示す。   FIG. 5 is a conceptual view for explaining the correction of the shape of the processed hole by pulling of the mask stick according to another embodiment of the present invention, and FIG. 5 (a) shows the mask stick before pulling. 5 (b) shows the mask stick after pulling.

図5を参照すると、前記マスクスティック210を第1の軸方向21に引っ張って固定する過程(S220)においては、各ガイドライン11の両端にマスクスティック210の第1の軸方向21の両側に平行な引っ張り力が働いてもよい。   Referring to FIG. 5, in the process of pulling and fixing the mask stick 210 in the first axial direction 21 (S 220), both ends of each of the guidelines 11 are parallel to both sides of the mask stick 210 in the first axial direction 21. Pulling force may work.

一般に、一体形のマスクは、フレームに固定するとき、マスクを四方に引っ張ってフレームに固定する。しかしながら、本発明の実施形態のように、複数のマスクスティック210で構成されるマスク組立体200は、各分割されたマスクスティック210をマスクスティック210の第1の軸方向21にのみ引っ張ってフレーム220に固定してもよい。この場合、マスクスティック210の引っ張り方向(すなわち、第1の軸方向)に発生する引っ張り力により引っ張り方向に垂直な方向(すなわち、前記第2の軸方向)にマスクスティック210を収縮させることになる。   Generally, an integral mask, when secured to the frame, pulls the mask in all directions to secure it to the frame. However, as in the embodiment of the present invention, the mask assembly 200 configured with a plurality of mask sticks 210 pulls each divided mask stick 210 only in the first axial direction 21 of the mask stick 210 to the frame 220. It may be fixed to In this case, the mask stick 210 is contracted in the direction (that is, the second axial direction) perpendicular to the tensile direction by the tensile force generated in the tensile direction (that is, the first axial direction) of the mask stick 210. .

ここで、各ガイドライン11の両端に同じ引っ張り力が働かなければ、曲線が直線状に伸びないため、各ガイドライン11の両端にマスクスティック210の第1の軸方向21の両側から同じ引っ張り力が働いてもよい。これを通じて、曲線であるガイドライン11に曲線状に配列された複数の加工孔211をマスクスティック210の第1の軸方向21への引っ張り時に一列に(又は、直線状に)配列することができる。なお、複数本のガイドライン11の両端にマスクスティック210の第1の軸方向21に平行な引っ張り力が働かなければ、マスクスティック210の第1の軸方向21への引っ張り時に複数の加工孔211が平行に(又は、並ぶように)配列されなくなる。   Here, if the same tensile force does not act on both ends of each guideline 11, the curve does not extend linearly, so the same tensile force acts on both ends of each guideline 11 from both sides in the first axial direction 21 of the mask stick 210. May be Through this, a plurality of processing holes 211 arranged in a curved line on the curved guide line 11 can be arranged in a line (or in a straight line) when the mask stick 210 is pulled in the first axial direction 21. It should be noted that if a tensile force parallel to the first axial direction 21 of the mask stick 210 does not act on both ends of the plurality of guide lines 11, the plurality of machined holes 211 is drawn when the mask stick 210 is pulled in the first axial direction 21 It will not be arranged in parallel (or side by side).

このとき、引っ張り方向へのマスクスティック210の変形率に対する縦方向(又は、垂直な方向)へのマスクスティック210の変形率の比、つまり、ポアソン比(Poisson ratio)は、マスクスティック210の厚さや材質又は複数の加工孔211の形状、大きさ、位置などによって決定されてもよい。   At this time, the ratio of the deformation ratio of the mask stick 210 in the longitudinal direction (or the vertical direction) to the deformation ratio of the mask stick 210 in the pulling direction, that is, Poisson's ratio (Poisson ratio) The shape, size, position, etc. of the material or the plurality of processing holes 211 may be determined.

図5(a)に示すマスクスティック210は、上述したポアソン比に影響を与えるあらゆる要素を考慮して補償設計された一例を示すものである。   The mask stick 210 shown in FIG. 5A shows an example of compensation designed in consideration of all the factors that affect the Poisson's ratio described above.

前記マスクスティック210を第1の軸方向21に引っ張って固定する過程(S220)においては、複数の加工孔211が2次元的に直線配列(又は、格子状に配列)されてもよく、複数の加工孔211の大きさが一定になってもよい。ここで、「一定の」という用語は、同じことだけではなく、所定の許容誤差範囲内にある実質的に同じことをも網羅する意で用いられる。図5(b)を参照すると、複数の加工孔211が形成するパターンは、マスクスティック210の第1の軸方向21に両端部が引っ張られてフレーム220に固定された後には、第1の軸方向21に垂直な方向(又は、前記第2の軸方向)の幅は実質的に等しくなってもよい。すなわち、複数の加工孔211は、2次元的に直線配列されてもよく、複数の加工孔211の大きさが一定になってもよく、全ての間隔と配列が一定に揃えられてもよい。これに伴い、揃えられた複数の加工孔211を通過して蒸着される有機物もまた、所望の位置に誤差なしに蒸着可能になる。   In the process of pulling and fixing the mask stick 210 in the first axial direction 21 (S220), the plurality of processing holes 211 may be linearly arranged (or arranged in a grid) in a two-dimensional manner, The size of the processing hole 211 may be constant. Here, the term " constant " is used not only to cover the same thing, but also to cover substantially the same things within a predetermined tolerance. Referring to FIG. 5B, the pattern formed by the plurality of processing holes 211 has a first axis after both ends are pulled in the first axial direction 21 of the mask stick 210 and fixed to the frame 220. The width in the direction perpendicular to the direction 21 (or the second axial direction) may be substantially equal. That is, the plurality of machining holes 211 may be linearly arranged two-dimensionally, the sizes of the plurality of machining holes 211 may be fixed, and all the intervals and arrangement may be uniform. Along with this, the organic matter deposited through the aligned plurality of processing holes 211 can also be deposited without error at a desired position.

このように、本発明においては、板状の被加工対象物の上に被加工対象物の第1の軸方向に沿って曲線を含む複数本のガイドラインを設定し、複数本のガイドラインに応じてその位置がガイドされた複数の単位加工領域を加工することにより、被加工対象物の引っ張り時に加工形状の変化及び位置の変化を補償することができる。すなわち、被加工対象物の上に被加工対象物の変形率に応じて計算された曲げ率を有する複数本のガイドラインを与えて、引っ張りによる位置の変化の補償位置に単位加工領域を設定することができる。また、被加工対象物の変形率を通じて単位加工領域の位置に応じた加工形状の変化を計算して、各単位加工領域の大きさを決定することができるので、被加工対象物の引っ張り時に位置の変化及び加工形状の変化を補償することができる。このため、被加工対象物を加工して加工孔の形成されたマスクスティックを形成する場合には、マスクスティックを引っ張ってフレームに固定するとき、加工孔の位置差、大きさ差及び形状差が補正されて各加工孔の位置精度、大きさ、形状などの規格又は仕様を満たすことができる。さらに、各ガイドラインに沿ってレーザービームの照射位置を移動させながら、複数の単位加工領域を加工して各ガイドラインごとに一定の速度で複数の単位加工領域を加工することができる。これに伴い、各単位加工領域ごとに一定の品質の加工形成物を得ることができる。なお、単位加工領域の大きさの変化に応じてレーザーヘッドの高さを調整してレーザービームの大きさを調節することにより、位置別に異なる大きさを有する複数の単位加工領域に一定のエネルギーのレーザービームを照射することができる。これに伴い、一定の繰り返し回数で被加工対象物を加工することができ、被加工対象物の全領域にわたって均一な加工を行うことができる。   As described above, in the present invention, a plurality of guidelines including a curve are set on the plate-like object along the first axial direction of the object to be processed, according to the plurality of guidelines. By processing the plurality of unit processing areas whose positions are guided, it is possible to compensate for the change in the processing shape and the change in the position when the workpiece is pulled. That is, a plurality of guidelines having a bending rate calculated according to the deformation rate of the object to be processed is provided on the object to be processed, and a unit processing area is set at a compensation position of a change in position due to tension. Can. In addition, since the size of each unit processing area can be determined by calculating the change in processing shape according to the position of the unit processing area through the deformation rate of the processing object, the position at the time of pulling the processing object And changes in the machined shape can be compensated. For this reason, when forming the mask stick in which the processing hole is formed by processing the object to be processed, when the mask stick is pulled and fixed to the frame, the positional difference, size difference and shape difference of the processing hole It can be corrected to meet standards or specifications such as positional accuracy, size and shape of each processing hole. Furthermore, while moving the irradiation position of the laser beam along each guideline, it is possible to process a plurality of unit machining areas and process a plurality of unit machining areas at a constant speed for each guideline. Along with this, it is possible to obtain a processed product of constant quality for each unit processing area. In addition, by adjusting the height of the laser head and adjusting the size of the laser beam according to the change in the size of the unit processing area, a plurality of unit processing areas having different sizes depending on the position have a constant energy It can be irradiated with a laser beam. Accordingly, the object to be processed can be processed with a certain number of repetitions, and uniform processing can be performed over the entire region of the object to be processed.

以上の説明において用いた「〜上に」という用語は、直接的に接触する場合と、直接的に接触はしないものの、上部又は下部に対向して位置する場合と、を網羅し、上部面又は下部面の全体に対向して位置することもできれば、部分的に対向して位置することもでき、位置上離れて対向したり、上部面又は下部面に直接的に接触したりするという意で用いられた。したがって、「被加工対象物の上に」は、被加工対象物の表面(上部面又は下部面)になってもよく、被加工対象物の表面に蒸着された膜の表面になってもよい。   The term "on" as used in the above description covers the case of direct contact and the case where it is not directly contact but is positioned opposite the upper or lower part, either in the upper surface or It can be positioned opposite to the entire lower surface, or can be partially opposed, in the sense of facing away in position, or directly contacting the upper surface or the lower surface. It was used. Therefore, “on the object to be processed” may be the surface (upper surface or lower surface) of the object to be processed, or may be the surface of a film deposited on the surface of the object to be processed .

以上、本発明の好適な実施形態について図示して説明したが、本発明は、上述した実施形態に何等限定されるものではなく、請求の範囲において請求する本発明の要旨を逸脱することなく、当該本発明が属する分野において通常の知識を有する者であれば、これより様々な変形が行え、且つ、均等な他の実施形態が採用可能であるということが理解できる筈である。よって、本発明の技術的な保護範囲は、次の特許請求の範囲によって定められるべきである。   The preferred embodiments of the present invention have been illustrated and described above, but the present invention is not limited to the above-described embodiments in any way, and does not deviate from the scope of the present invention claimed in the claims. It should be understood by those skilled in the art to which the present invention belongs that various modifications can be made therefrom and equivalent other embodiments can be adopted. Accordingly, the technical protection scope of the present invention should be defined by the following claims.

10:レーザービーム
11:ガイドライン
21:第1の軸方向
22:第2の軸方向
23:高さ方向(z軸方向)
50:レーザーヘッド
100:被加工対象物
110:単位加工領域
110a:加工形成物
200:マスク組立体
210:マスクスティック
211:加工孔
220:フレーム
10: Laser beam 11: Guideline 21: first axial direction 22: second axial direction 23: height direction (z-axis direction)
50: laser head 100: workpiece 110: unit machining area 110a: machined product 200: mask assembly 210: mask stick 211: machined hole 220: frame

Claims (15)

板状の被加工対象物の上に前記被加工対象物の第1の軸方向に沿って曲線を含む複数本のガイドラインを設定する過程と、
前記被加工対象物の上に前記複数本のガイドラインに沿って互いに離間して配置される複数の単位加工領域を設定する過程と、
レーザービームの照射位置を移動させながら、前記複数の単位加工領域にレーザービームを照射する過程と、
を含むレーザー加工方法。
Setting a plurality of guidelines including a curve along a first axial direction of the object to be processed on a plate-like object to be processed;
Setting a plurality of unit processing areas spaced apart from each other along the plurality of guidelines on the object to be processed;
Irradiating the plurality of unit processing areas with the laser beam while moving the irradiation position of the laser beam;
Laser processing method including:
前記複数本のガイドラインのうち隣り合う二本のガイドラインは、曲げ率が互いに異なる請求項1に記載のレーザー加工方法。   The laser processing method according to claim 1, wherein two adjacent ones of the plurality of guidelines have different bending rates. 前記複数本のガイドラインのうち曲線であるガイドラインは、前記被加工対象物の第1の軸方向の中心線に対して遠ざかる側に弧(arc)を形成し、前記被加工対象物の第1の軸方向の中心線から遠ざかるにつれて曲げ率が高くなる請求項1に記載のレーザー加工方法。   The guideline which is a curve among the plurality of guidelines forms an arc on the side away from the first axial center line of the object to be processed, and the first object of the object to be processed is formed. The laser processing method according to claim 1, wherein the bending ratio becomes higher as moving away from the axial center line. 前記複数の単位加工領域にレーザービームを照射する過程においては、各前記ガイドライン別に前記レーザービームが出射されるレーザーヘッドを移動させながら、前記複数の単位加工領域に前記レーザービームを照射する請求項1に記載のレーザー加工方法。   In the process of irradiating the plurality of unit processing areas with the laser beam, the plurality of unit processing areas are irradiated with the laser beam while moving the laser head from which the laser beam is emitted separately for each of the guidelines. The laser processing method as described in. 前記複数の単位加工領域にレーザービームを照射する過程においては、それぞれの前記ガイドラインにおいて前記レーザーヘッドを一定の速度で移動させる請求項4に記載のレーザー加工方法。   The laser processing method according to claim 4, wherein the laser head is moved at a constant speed in each of the guidelines in the process of irradiating the plurality of unit processing areas with the laser beam. 前記複数の単位加工領域にレーザービームを照射する過程においては、各前記単位加工領域の大きさに対応して前記レーザービームの大きさを変化させながら、それぞれの前記ガイドラインに沿って前記レーザービームの照射位置を移動させる請求項1に記載のレーザー加工方法。   In the process of irradiating the plurality of unit processing areas with the laser beam, while changing the size of the laser beam corresponding to the size of each unit processing area, the laser beam The laser processing method according to claim 1, wherein the irradiation position is moved. 前記複数の単位加工領域にレーザービームを照射する過程においては、レーザーヘッドの高さを調整して前記レーザービームの大きさを変化させる請求項6に記載のレーザー加工方法。   7. The laser processing method according to claim 6, wherein the size of the laser beam is changed by adjusting the height of the laser head in the process of irradiating the plurality of unit processing regions with the laser beam. 前記複数の単位加工領域にレーザービームを照射する過程においては、前記レーザーヘッドの3次元座標値を順次に変更して前記レーザービームの照射位置を移動させながら、前記レーザービームの大きさを変化させる請求項7に記載のレーザー加工方法。   In the process of irradiating the plurality of unit processing areas with the laser beam, the size of the laser beam is changed while sequentially changing the three-dimensional coordinate value of the laser head to move the irradiation position of the laser beam. The laser processing method according to claim 7. 前記複数の単位加工領域を設定する過程においては、それぞれの前記ガイドラインにおいて中央部の単位加工領域を両端部の単位加工領域よりも大きく設定する請求項1に記載のレーザー加工方法。   2. The laser processing method according to claim 1, wherein in the process of setting the plurality of unit processing areas, the unit processing area at the central portion of each of the guidelines is set larger than the unit processing areas at both ends. 前記複数の単位加工領域を設定する過程においては、各前記ガイドラインの中央部に位置する単位加工領域を前記被加工対象物の第1の軸方向の中心線から遠ざかるにつれて大きくなるように設定する請求項1に記載のレーザー加工方法。   In the process of setting the plurality of unit machining areas, the unit machining area located at the central portion of each of the guidelines is set to be larger as it goes away from the first axial center line of the object to be machined. The laser processing method according to Item 1. 前記複数の単位加工領域を設定する過程においては、各前記ガイドラインの中央部に位置する単位加工領域を前記被加工対象物の第1の軸方向の中心線から遠ざかるにつれて一定の比率で大きくなるように設定し、
前記一定の比率は、前記被加工対象物の変形率に応じて決定される請求項10に記載のレーザー加工方法。
In the process of setting the plurality of unit machining areas, the unit machining area located at the central portion of each of the guidelines is increased at a constant ratio as it goes away from the first axial center line of the workpiece Set to
The laser processing method according to claim 10, wherein the constant ratio is determined according to a deformation rate of the object to be processed.
前記複数の単位加工領域を設定する過程においては、前記複数本のガイドラインの両端に位置する単位加工領域を一定の大きさに設定する請求項1に記載のレーザー加工方法。   The laser processing method according to claim 1, wherein in the process of setting the plurality of unit processing areas, the unit processing areas located at both ends of the plurality of guidelines are set to a predetermined size. 請求項1ないし請求項12のいずれか一項に記載のレーザー加工方法で前記被加工対象物を加工して、前記複数の単位加工領域に応じて複数の加工孔が形成されたマスクスティックを用意する過程と、
開口部を有するフレームに前記マスクスティックを前記第1の軸方向に引っ張って固定する過程と、
を含むマスク組立体の製造方法。
A mask stick provided with a plurality of processing holes formed according to the plurality of unit processing areas by processing the object to be processed by the laser processing method according to any one of claims 1 to 12. And the process of
Pulling and fixing the mask stick in the first axial direction to a frame having an opening;
A method of manufacturing a mask assembly comprising:
前記マスクスティックを前記第1の軸方向に引っ張って固定する過程においては、各前記ガイドラインの両端に前記マスクスティックの前記第1の軸方向の両側に平行な引っ張り力が働く請求項13に記載のマスク組立体の製造方法。   The process according to claim 13, wherein in the process of pulling and fixing the mask stick in the first axial direction, parallel tensile forces act on both sides of the mask stick in the first axial direction at both ends of each of the guidelines. Method of manufacturing a mask assembly 前記マスクスティックを前記第1の軸方向に引っ張って固定する過程においては、前記複数の加工孔が2次元的に直線配列され、前記複数の加工孔の大きさが一定になる請求項13に記載のマスク組立体の製造方法。   14. The process according to claim 13, wherein in the process of pulling and fixing the mask stick in the first axial direction, the plurality of machined holes are two-dimensionally linearly arranged, and the size of the plurality of machined holes becomes constant. Method of manufacturing a mask assembly.
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KR102188249B1 (en) * 2020-06-12 2020-12-09 임서현 Metal case and modifying method thereof

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113543477A (en) * 2020-04-17 2021-10-22 珠海方正科技高密电子有限公司 Method for processing laser hole of circuit board and circuit board with laser hole
CN113543477B (en) * 2020-04-17 2022-11-01 珠海方正科技高密电子有限公司 Method for processing laser hole of circuit board and circuit board with laser hole

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