JP2019099649A - Composition for forming three-dimensional structure, and three-dimensional structure formation method - Google Patents

Composition for forming three-dimensional structure, and three-dimensional structure formation method Download PDF

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Abstract

To propose a novel composition for forming a three-dimensional structure, capable of self forming a three-dimensional structure having uneven structure consisting of irregular shapes on a surface without adding fine particles or the like, and capable of adjusting size of unevenness as appropriate.SOLUTION: There is proposed a composition for forming a three-dimensional structure by dissolving or suspension dispersing components A and B consisting of a polymer or an oligomer in a mixed solvent Z containing a solvent X and a solvent Y satisfying followings. Solvent X: dissolves the component A and the component B. Solvent Y: dissolves the component A but solubility of the component B is low. Boiling point of the solvent Y is higher than that of the solvent X.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、凹凸構造などの3次元構造を表面に形成することができる3次元構造形成用組成物、及び当該組成物を用いた3次元構造形成方法に関する。   The present invention relates to a composition for forming a three-dimensional structure capable of forming a three-dimensional structure such as a concavo-convex structure on a surface, and a method for forming a three-dimensional structure using the composition.

凹凸構造などの3次元構造を表面に形成する方法としては、例えば特許文献1(特開2004−277534号公報)において、粘着剤と、この粘着剤の良溶媒及び貧溶媒からなる混合溶剤とを含有する塗布液を、シート基材上に塗布し、混合溶剤を蒸発させるとともに、粘着剤を相分離させて点状物を形成する方法が開示されている。   As a method for forming a three-dimensional structure such as a concavo-convex structure on the surface, for example, in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2004-277534), a pressure-sensitive adhesive and a mixed solvent comprising a good solvent and a poor solvent for the pressure-sensitive adhesive A method is disclosed in which a coating solution to be contained is applied onto a sheet substrate, the mixed solvent is evaporated, and the pressure-sensitive adhesive is phase-separated to form dots.

特許文献2(WO2015/152352号公報)には、基材上に粘着性を有する樹脂層を設けた粘着フィルムであり、樹脂層に微粒子を含有することで不定形の凹部が自己形成されていることが開示されている。   Patent Document 2 (WO2015 / 152352) is a pressure-sensitive adhesive film in which a resin layer having adhesiveness is provided on a base material, and an irregular-shaped concave portion is self-formed by containing fine particles in the resin layer. Is disclosed.

特許文献3(特開2016−188344号公報)には、炭素数4〜18のアルキル基を有するアルキル化メラミン樹脂(A)を主成分として含む硬化性材料を基材に塗布して硬化することで、その硬化膜表面に、粗面化効果が高く、かつランダムなパターンの凹凸を形成する方法が開示されている。   In patent document 3 (Unexamined-Japanese-Patent No. 2016-188344), the curable material which has as a main component alkylated melamine resin (A) which has a C4-C18 alkyl group is apply | coated to a base material, and it hardens | cures. There is disclosed a method of forming irregularities of a random pattern having a high roughening effect on the surface of the cured film.

特開2004−277534号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-277534 WO2015/152352号公報WO 2015/152352 特開2016−188344号公報JP, 2016-188344, A

本発明は、微粒子などを添加しないでも、不規則形状からなる凹凸構造を表面に備えた3次元構造を自己形成することができ、凹凸の大きさを適宜調整することができる、新たな3次元構造形成用組成物及びそれを用いた3次元構造形成を提案せんとするものである。   The present invention is a novel three-dimensional structure that can self-form a three-dimensional structure provided with irregular structures having irregular shapes on the surface without adding fine particles etc., and can appropriately adjust the size of the asperities. The composition for structure formation and three-dimensional structure formation using the same are proposed.

本発明は、ポリマー又はオリゴマーからなる互いに非相溶な成分A及びBが、以下を満たす溶剤X及び溶剤Yを含有する混合溶剤Zに溶解又は懸濁分散してなる3次元構造形成用組成物を提案する。
溶剤X:成分A及び成分Bを溶解する。
溶剤Y:成分Aを溶解するが、成分Bの溶解性が低い。
溶剤Xの沸点よりも溶剤Yの沸点の方が高い。
The present invention is a composition for forming a three-dimensional structure, in which mutually incompatible components A and B comprising a polymer or oligomer are dissolved or suspended in a mixed solvent Z containing solvent X and solvent Y satisfying the following: Suggest.
Solvent X: Dissolve component A and component B.
Solvent Y: The component A is dissolved, but the solubility of the component B is low.
The boiling point of the solvent Y is higher than the boiling point of the solvent X.

本発明はまた、上記の3次元構造形成用組成物を用いて、当該3次元構造形成用組成物を基材の表面に塗布し、加熱して溶剤Yよりも先に溶剤Xを揮発させ、溶剤Yに溶け難い成分Bを析出させて凸部を形成することを特徴とする、3次元構造形成方法を提案する。   The present invention also applies the composition for forming a three-dimensional structure to the surface of a substrate using the composition for forming a three-dimensional structure described above, and heats to volatilize the solvent X prior to the solvent Y, A three-dimensional structure forming method is proposed, characterized in that a component B which hardly dissolves in a solvent Y is precipitated to form a convex portion.

本発明が提案する3次元構造形成用組成物は、基材の表面に塗布し、加熱して溶剤Yよりも先に溶剤Xを揮発させるだけで、不規則形状からなる凹凸構造を表面に備えた3次元構造を自己形成することができる。すなわち、切削加工装置や型等を用いること無く、組成物が有している性質により形成することができる。しかも、成分A、成分B、溶剤X及びYの材料の選択や配合量を調整することにより、前記凹凸構造における凹凸の深さを適宜調整することができる。   The composition for forming a three-dimensional structure proposed by the present invention is provided on the surface with a concavo-convex structure having irregular shapes only by applying it to the surface of the substrate and heating to volatilize the solvent X prior to the solvent Y. Three-dimensional structure can be self-formed. That is, it can form by the property which a composition has, without using a cutting apparatus, a type | mold, etc. And the depth of unevenness in the above-mentioned concavo-convex structure can be suitably adjusted by adjusting the selection and the compounding quantity of the material of ingredient A, ingredient B, solvent X and Y.

実施例1で作製した離型フィルム(サンプル)の凹凸層表面をVertScan(登録商標)で検出した拡大画像(スケール:703.12μm×937.42μm)である。It is the enlarged image (scale: 703.12 micrometers x 937.42 micrometers) which detected the uneven | corrugated layer surface of the release film (sample) produced in Example 1 by VertScan (trademark). 実施例2で作製した離型フィルム(サンプル)の凹凸層表面をVertScan(登録商標)で検出した拡大画像(スケール:703.12μm×937.42μm)である。It is the enlarged image (scale: 703.12 micrometers x 937.42 micrometers) which detected the uneven | corrugated layer surface of the release film (sample) produced in Example 2 by VertScan (trademark). 実施例3で作製した離型フィルム(サンプル)の凹凸層表面をVertScan(登録商標)で検出した拡大画像(スケール:703.12μm×937.42μm)である。It is an enlarged image (scale: 703.12 micrometers x 937.42 micrometers) which detected the uneven layer surface of the release film (sample) produced in Example 3 by VertScan (trademark). 実施例4で作製した離型フィルム(サンプル)の凹凸層表面をVertScan(登録商標)で検出した拡大画像(スケール:703.12μm×937.42μm)である。It is the enlarged image (scale: 703.12 micrometers x 937.42 micrometers) which detected the uneven | corrugated layer surface of the release film (sample) produced in Example 4 by VertScan (trademark). 実施例5で作製した離型フィルム(サンプル)の凹凸層表面をVertScan(登録商標)で検出した拡大画像(スケール:703.12μm×937.42μm)である。It is the enlarged image (scale: 703.12 micrometers x 937.42 micrometers) which detected the uneven | corrugated layer surface of the release film (sample) produced in Example 5 by VertScan (trademark). 実施例6で作製した離型フィルム(サンプル)の凹凸層表面をVertScan(登録商標)で検出した拡大画像(スケール:703.12μm×937.42μm)である。It is the enlarged image (scale: 703.12 micrometers x 937.42 micrometers) which detected the uneven | corrugated layer surface of the release film (sample) produced in Example 6 by VertScan (trademark). 実施例7で作製した離型フィルム(サンプル)の凹凸層表面をVertScan(登録商標)で検出した拡大画像(スケール:703.12μm×937.42μm)である。It is an enlarged image (scale: 703.12 micrometers x 937.42 micrometers) which detected the uneven layer surface of the release film (sample) produced in Example 7 by VertScan (trademark). 実施例8で作製した離型フィルム(サンプル)の凹凸層表面をVertScan(登録商標)で検出した拡大画像(スケール:703.12μm×937.42μm)である。It is the enlarged image (scale: 703.12 micrometers x 937.42 micrometers) which detected the uneven | corrugated layer surface of the release film (sample) produced in Example 8 by VertScan (trademark). 実施例9で作製した離型フィルム(サンプル)の凹凸層表面をVertScan(登録商標)で検出した拡大画像(スケール:703.12μm×937.42μm)である。It is the enlarged image (scale: 703.12 micrometers x 937.42 micrometers) which detected the uneven | corrugated layer surface of the release film (sample) produced in Example 9 by VertScan (trademark). 上記図1〜9における拡大画像のスケール図であり、右の縦帯において、白い部分が凸部、黒い部分が凹部に相当する。It is a scale figure of the enlarged image in the said FIGS. 1-9, and a white part corresponds to a convex part and a black part corresponds to a concave part in the right vertical band.

次に、実施の形態例に基づいて本発明を説明する。但し、本発明が次に説明する実施形態に限定されるものではない。   Next, the present invention will be described based on an embodiment. However, the present invention is not limited to the embodiments described below.

<本3次元構造形成用組成物>
本発明の実施形態の一例に係る3次元構造形成用組成物(「本3次元構造形成用組成物」と称する)は、ポリマー又はオリゴマー(これらをまとめて「ポリマー等」とも称する)からなる、互いに非相溶な成分A及びBが、所定の溶剤X及び溶剤Yを含有する混合溶剤Zに溶解又は懸濁分散してなる3次元構造形成用組成物である。
<Composition for forming the present three-dimensional structure>
A composition for forming a three-dimensional structure (referred to as a “composition for forming a three-dimensional structure”) according to an embodiment of the present invention is composed of a polymer or an oligomer (these are collectively referred to as “polymer etc.”) The three-dimensional structure-forming composition is obtained by dissolving or suspending the components A and B, which are incompatible with each other, in a mixed solvent Z containing a predetermined solvent X and a predetermined solvent Y.

本3次元構造形成用組成物によれば、当該3次元構造形成用組成物を基材の表面に塗布し、加熱して溶剤Yよりも先に溶剤Xを揮発させることで、成分A,B間の相分離性を利用して不規則形状からなる凹凸構造を表面に備えた3次元構造を自己形成することができる。よって、切削加工装置や、型等を用いること無く簡便に3次元構造を形成することができる。ここで、本3次元構造形成用組成物を用いて形成した3次元構造を「本3次元構造」と称する。
しかも、このように成分A,B間の相分離性を利用すれば、数μm〜数mmオーダーの相分離構造に基づく凹凸構造を形成することができる。
また、溶媒に溶解した状態から溶媒を留去する過程で相分離を生じる方法を用いる場合は、後述する通り、2種以上の溶媒を混合して用いるとともに、ポリマー等の溶解性の差を利用して凹凸構造を形成することにより、特定のポリマー等と特定の溶媒を選択するだけで、前記凹凸構造における凹凸の深さを適宜調整することができる。
According to the composition for forming a three-dimensional structure, the composition for forming a three-dimensional structure is applied to the surface of a substrate and heated to volatilize the solvent X prior to the solvent Y, whereby the components A and B are produced. By utilizing the phase separation between the layers, it is possible to self-form a three-dimensional structure provided with an irregular structure having irregular shapes on the surface. Therefore, a three-dimensional structure can be easily formed without using a cutting apparatus, a mold or the like. Here, a three-dimensional structure formed using the present composition for three-dimensional structure formation is referred to as a "present three-dimensional structure".
Moreover, by utilizing the phase separation between the components A and B in this manner, it is possible to form a concavo-convex structure based on a phase separation structure on the order of several μm to several mm.
In addition, when using a method that causes phase separation in the process of distilling off the solvent from the state of being dissolved in the solvent, as described later, it is used by mixing two or more solvents and using the difference in solubility of polymers etc. By forming a concavo-convex structure, the depth of the concavo-convex in the concavo-convex structure can be appropriately adjusted only by selecting a specific polymer or the like and a specific solvent.

本3次元構造形成用組成物を用いて形成した本3次元構造においては、凹部を形成する成分のうちで最も多くを占める成分が成分Aとなり、凸部を形成する成分のうちで最も多くを占める成分が成分Bとなる。   In the present three-dimensional structure formed using the present composition for forming a three-dimensional structure, the component that occupies the most of the components forming the recess is the component A, and the most component of the components forming the protrusion is The component occupied is component B.

(成分A,B)
成分Aと成分Bは非相溶であるのが好ましい。
かかる観点から、成分AのSP値と成分BのSP値は、凸部の主要成分となる成分BのSP値の方が、成分AのSP値よりも0.01〜10だけ低い方が好ましく、中でも0.05以上低い或いは7以下の範囲で低い、その中でも0.1以上低い或いは4以下の範囲で低い方が好ましい。
但し、異なるポリマー等間の相分離性を利用して凹凸構造が形成させる場合、成分Bの溶解性パラメーター(SP(B))が、成分Aの溶解性パラメーター(SP(A))よりも0.01〜10高くなっていてもよい。
なお、成分Aと成分BのSP値の差が0.01あれば、非相溶になり得る。例えば成分A及びBがブロックポリマー(グラフトポリマー)の場合、SP値差0.01程度で非相溶になる。
成分A,Bは、従来公知の方法によって得ることができる。
(Component A, B)
Component A and component B are preferably incompatible.
From this point of view, it is preferable that the SP value of Component A and the SP value of Component B be lower by 0.01 to 10 than the SP value of Component A. Among them, it is preferable to be low in the range of 0.05 or more or 7 or less, and more preferable to be 0.1 or more or 4 or less.
However, when the concavo-convex structure is formed utilizing phase separation between different polymers etc., the solubility parameter (SP (B)) of component B is 0 more than the solubility parameter (SP (A)) of component A .01-10 may be high.
In addition, if the difference of SP value of the component A and the component B is 0.01, it may become incompatible. For example, when the components A and B are block polymers (graft polymers), they become incompatible with an SP value difference of about 0.01.
The components A and B can be obtained by conventionally known methods.

(成分A)
凹部の主要成分となることになる成分Aは、所定のSP値、所定の質量平均分子量(Mw)を有するポリマー等であるのが好ましい。
(Component A)
It is preferable that the component A which will become a main component of a recessed part is a polymer etc. which have predetermined | prescribed SP value and a predetermined | prescribed mass mean molecular weight (Mw).

成分Aは、成分Bと非相溶であり、塗工後に主として凹凸形状の凹部を形成する観点から、溶解性パラメーター(SP(A))が8〜21であるのが好ましく、中でも10以上或いは20以下、その中でも12以上或いは19以下であるのがさらに好ましい。
また、塗布液の塗工性を良好なものとするための粘度とする観点から、質量平均分子量(Mw)が300〜300,000であるのが好ましく、中でも2,000以上或いは200,000以下、その中でも5,000以上或いは100,000以下であるのがさらに好ましい。
The component A is incompatible with the component B, and the solubility parameter (SP (A)) is preferably 8 to 21 and is preferably 10 or more, from the viewpoint of mainly forming the concave and convex portions after coating. It is more preferable that it is 20 or less, and more preferably 12 or more or 19 or less.
In addition, from the viewpoint of setting the coating property of the coating solution to be good, the mass average molecular weight (Mw) is preferably 300 to 300,000, and more preferably 2,000 or 200,000 or less. Among these, more preferably 5,000 or more or 100,000 or less.

上記成分Aとしては、例えばポリ(メタ)アクリレート等のアクリル系ポリマー類、ポリエステル類、ポリウレタン類、ポリオレフィン類、ポリエーテル類、ポリスチレン類、ポリカーボネート類、ポリアクリロニトリル類、ポリアミド類、ポリイミド類などを挙げることができ、中でも、分子量やSP値を調整しやすく、凹凸形状を制御しやすい観点から、ポリ(メタ)アクリレート類であるのが好ましい。これらの成分Aは1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the component A include acrylic polymers such as poly (meth) acrylate, polyesters, polyurethanes, polyolefins, polyethers, polystyrenes, polycarbonates, polyacrylonitriles, polyamides, polyimides and the like. Among them, poly (meth) acrylates are preferable from the viewpoint of easy adjustment of molecular weight and SP value and easy control of the concavo-convex shape. One of these components A may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

例えば成分Aがアクリル系ポリマーである場合、そのSP値をより高くするためには、例えば、アクリル系ポリマーの樹脂の側鎖に極性が高い官能基を多く含むように設計すればよく、より具体的には、例えばヒドロキシル基を有するヒドロキシ(メタ)アクリレート、カルボキシル基を有する(メタ)アクリル酸、グリシジル基を有するグリシジル(メタ)アクリレート等の構造単位を含有する単独重合体又は共重合体が挙げることができる。   For example, when the component A is an acrylic polymer, in order to increase its SP value, for example, the side chain of the resin of the acrylic polymer may be designed to contain a large number of highly polar functional groups, more specifically For example, homopolymers or copolymers containing structural units such as hydroxy (meth) acrylate having a hydroxyl group, (meth) acrylic acid having a carboxyl group, glycidyl (meth) acrylate having a glycidyl group are mentioned. be able to.

(成分B)
凸部の主要成分となることになる成分Bは、上述のように、所定のSP値、所定の質量平均分子量(Mw)を有するポリマー等であるのが好ましい。
例えば成分Bの配合量を多くしたり、成分Bの分子量を大きくしたりすることによって、前記凹凸構造における凸部の面積を大きくすることができる。但し、このような方法に限定するものではない。
(Component B)
It is preferable that the component B which will become a main component of a convex part is a polymer etc. which have predetermined | prescribed SP value and a predetermined | prescribed mass mean molecular weight (Mw) as mentioned above.
For example, by increasing the blending amount of the component B or increasing the molecular weight of the component B, the area of the projections in the uneven structure can be increased. However, it is not limited to such a method.

成分Bの溶解性パラメーター(SP(B))は、成分Aと非相溶であり、塗工後に主として凹凸形状の凸部を形成する観点から、成分Aの溶解性パラメーター(SP(A))よりも0.01〜10低い方が好ましく、中でも0.05以上低い或いは7以下の範囲で低い、その中でも0.1以上低い或いは4以下の範囲で低い方が好ましい。
かかる観点から、成分Bの溶解性パラメーター(SP(B))は、7〜20であるのが好ましく、中でも8以上或いは18以下、その中でも9以上或いは17以下であるのがさらに好ましい。
The solubility parameter (SP (B)) of the component B is incompatible with the component A, and the solubility parameter (SP (A)) of the component A from the viewpoint of forming mainly the convex portion of the concavo-convex shape after coating. More preferably, it is 0.01 to 10 lower, more preferably 0.05 or more or 7 or less, and particularly preferably 0.1 or more or 4 or less.
From this point of view, the solubility parameter (SP (B)) of the component B is preferably 7 to 20, more preferably 8 or more and 18 or less, and still more preferably 9 or more or 17 or less.

また、塗布液の塗工性を良好なものとするための粘度とする観点から、成分Bの質量平均分子量(Mw)は、前記成分Aの質量平均分子量(Mw)より1000以上大きく、且つ、1300〜400,000であるのが好ましく、中でも2,000以上或いは300,000以下、その中でも10,000以上或いは250,000以下であるのがさらに好ましい。   Further, from the viewpoint of making the coating property of the coating solution good, the mass average molecular weight (Mw) of the component B is 1000 or more larger than the mass average molecular weight (Mw) of the component A, and It is preferably 1300 to 400,000, more preferably 2,000 or more, or 300,000 or less, and more preferably 10,000 or more or 250,000 or less.

成分Bとしては、例えばポリ(メタ)アクリレート等のアクリル系ポリマー類、ポリエステル類、ポリウレタン類、ポリオレフィン類、ポリエーテル類、ポリスチレン類、ポリカーボネート類、ポリアクリロニトリル類、ポリアミド類、ポリイミド類などを挙げることができ、中でも、分子量やSP値を調整しやすく、凹凸形状を制御しやすい観点から、ポリ(メタ)アクリレート類であるのが好ましい。これらの成分Bは1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Component B includes, for example, acrylic polymers such as poly (meth) acrylate, polyesters, polyurethanes, polyolefins, polyethers, polystyrenes, polycarbonates, polyacrylonitriles, polyamides, polyimides, etc. Among them, poly (meth) acrylates are preferable from the viewpoint of easy adjustment of molecular weight and SP value and easy control of the concavo-convex shape. One of these components B may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

例えば成分Bがアクリル系ポリマーである場合、そのSP値をより低くするためには、例えば、アクリル系ポリマーにおいて、1個以上の(メタ)アクリロイル基を含有するモノマー及び/又はオリゴマーとしてSP値の低いものを選択すればよい。具体的には、例えば脂肪族炭化水素基を有するアルキル(メタ)アクリレート、脂環族炭化水素基を有するシクロアルキル(メタ)アクリレート等の構造単位を含有する単独重合体又は共重合体が挙げることができる。   For example, when component B is an acrylic polymer, in order to lower its SP value, for example, in the acrylic polymer, the SP value as a monomer and / or oligomer containing one or more (meth) acryloyl groups is You can choose the lower one. Specifically, for example, homopolymers or copolymers containing a structural unit such as alkyl (meth) acrylate having an aliphatic hydrocarbon group and cycloalkyl (meth) acrylate having an alicyclic hydrocarbon group may be mentioned. Can.

成分Bは、凹凸構造を形成する際の乾燥温度に十分に耐えることができ、形状を保持する観点から、成分Bのガラス転移温度は40℃以上であるのが好ましく、中でも50℃以上、その中でも60℃以上であるのがさらに好ましい。   Component B can sufficiently withstand the drying temperature when forming the concavo-convex structure, and from the viewpoint of maintaining the shape, the glass transition temperature of component B is preferably 40 ° C. or higher, and more preferably 50 ° C. or higher. Among them, the temperature is more preferably 60 ° C. or more.

なお、上記溶解性パラメーター(SP値)は、Solubility Parameterであり、溶解性の尺度となるものである。溶解性パラメーターは、その値が大きいほど極性が高く、逆に数値が小さいほど極性が低いことを示す。
成分A、成分B及び光架橋開始剤Cの溶解性パラメーター(SP値)は、濁度法、Fedorsの推算法などの方法によって測定することができる。
In addition, the said solubility parameter (SP value) is Solubility Parameter, and becomes a scale of solubility. The solubility parameter indicates that the higher the value, the higher the polarity, and the smaller the value, the lower the polarity.
The solubility parameter (SP value) of the component A, the component B and the photocrosslinking initiator C can be measured by a method such as the turbidity method or the Fedors estimation method.

成分Aと成分Bの配合質量割合は、1:99〜99:1とするのが好ましく、中でも5:95〜95:5、その中でも90:10〜10:90であるのが好ましい。
なお、成分A又は成分Bが2種以上用いられる場合は、合計した質量割合とする。
The blending mass ratio of the component A and the component B is preferably 1:99 to 99: 1, and more preferably 5:95 to 95: 5, and more preferably 90:10 to 10:90.
In addition, when two or more types of component A or component B are used, it is set as the mass ratio totaled.

(架橋開始剤C)
本3次元構造形成用組成物は、上記成分A及びBに加えてさらに架橋開始剤Cが混合溶剤Zに溶解又は懸濁分散していてもよい。
架橋開始剤Cを配合して3次元構造を架橋することで、当該3次元構造の耐熱性を高めることができる。
(Crosslinking initiator C)
In the composition for forming a three-dimensional structure of the present invention, a crosslinking initiator C may be dissolved or suspended in the mixed solvent Z in addition to the components A and B.
By blending the crosslinking initiator C to crosslink the three-dimensional structure, the heat resistance of the three-dimensional structure can be enhanced.

架橋開始剤Cとしては、光架橋開始剤、熱架橋開始剤などを挙げることができる。中でも、乾燥工程で形成した凹凸形状の保持の観点から、速硬化性を有する硬化系が好ましく、かかる観点から光架橋開始剤が好ましい。   As the crosslinking initiator C, a photocrosslinking initiator, a thermal crosslinking initiator, etc. can be mentioned. Among them, a curing system having fast curing is preferable from the viewpoint of holding the uneven shape formed in the drying step, and a photocrosslinking initiator is preferable from such a viewpoint.

光架橋開始剤としては、例えば 活性エネルギー線として紫外線照射を応用する場合、光架橋開始剤は必須であり、ベンゾイン系、アセトフェノン系、チオキサントン系、フォスフィンオキシド系及びパーオキシド系等の光架橋性開始剤を使用することができる。
具体例としては、例えば2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタンノン−1等を挙げることができる。これらの架橋開始剤は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。中でも、紫外線硬化する多官能アクリレートが好ましい。
As a photocrosslinking initiator, for example, when applying ultraviolet irradiation as an active energy ray, the photocrosslinking initiator is essential, and the photocrosslinking initiation of benzoin type, acetophenone type, thioxanthone type, phosphine oxide type, peroxide type, etc. is started. Agents can be used.
As a specific example, for example, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2 Morpholinopropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanenone-1 and the like It can be mentioned. These crosslinking initiators may be used alone or in combination of two or more. Among them, UV-curable polyfunctional acrylates are preferred.

他方、熱架橋開始剤としては、例えばアゾ系開始剤、過酸化物系開始剤を挙げることができる。   On the other hand, as a thermal crosslinking initiator, an azo initiator and a peroxide initiator can be mentioned, for example.

架橋開始剤Cの配合量は、成分A及びBの合計量100質量部に対して0.01〜20質量部とするのが好ましく、中でも0.1質量部以上或いは10質量部以下、その中でも1質量部以上とするのがより好ましい。   The compounding amount of the crosslinking initiator C is preferably 0.01 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the components A and B, and more preferably 0.1 parts by mass or more or 10 parts by mass or less More preferably, it is 1 part by mass or more.

なお、成分A又は成分B又はこれら両方が、架橋性能を有する樹脂又は樹脂組成物であってもよい。その場合には、架橋開始剤Cを配合しなくても架橋することができる。
例えば光架橋性化合物としては、架橋性不飽和結合を有する化合物、具体的にはエチレン性不飽和結合を有するモノマー又はオリゴマーを挙げることができる。
また、熱硬化性樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂及びアクリル樹脂や、透明ポリイミド前駆体ワニスなどを挙げることができる。
The component A or the component B or both of them may be a resin or resin composition having a crosslinking performance. In that case, crosslinking can be carried out without blending the crosslinking initiator C.
For example, as the photocrosslinkable compound, a compound having a crosslinkable unsaturated bond, specifically, a monomer or an oligomer having an ethylenically unsaturated bond can be mentioned.
Moreover, as a thermosetting resin, a urethane resin, a urea resin, a melamine resin, an acrylic resin, a transparent polyimide precursor varnish etc. can be mentioned, for example.

(その他の成分)
本3次元構造形成用組成物は、上記成分A、成分B及び上記架橋開始剤Cに加えてさらにその他の成分が混合溶剤Zに溶解又は懸濁分散していてもよい。
その他の成分として、例えば剥離成分、レベリング剤、紫外線吸収剤、有機若しくは無機微粒子などを挙げることができる。
(Other ingredients)
In the composition for forming a three-dimensional structure of the present invention, other components may be dissolved or suspended in the mixed solvent Z in addition to the component A, the component B and the crosslinking initiator C.
Examples of other components include peeling components, leveling agents, ultraviolet absorbers, organic or inorganic fine particles, and the like.

上記剥離成分すなわち剥離性を有する成分としては、例えばシリコーン系化合物の他、フッ素化合物、オレフィン化合物、長鎖アルキル基含有化合物等の化合物を挙げることができる。これらはポリマーであっても低分子量化合物であってもよく、これらのうちの一種又は二種以上を含有していてもよい。   Examples of the peeling component, that is, the component having peelability include, in addition to silicone compounds, compounds such as fluorine compounds, olefin compounds and long chain alkyl group-containing compounds. These may be polymers or low molecular weight compounds, and may contain one or more of them.

剥離成分の含有量は、0.5質量%〜90質量%であるのが好ましく、中でも1.0質量%以上或いは85質量%以下、その中でも2.0質量%以上或いは80質量%以下であるのが好ましい。   The content of the peeling component is preferably 0.5% by mass to 90% by mass, more preferably 1.0% by mass or more or 85% by mass or less, and particularly preferably 2.0% by mass or more or 80% by mass or less Is preferred.

(溶剤X)
上記溶剤Xは、成分A、成分B及び架橋開始剤Cに対して良溶媒であるのが好ましい。すなわち、成分A、成分B及び架橋開始剤Cを全て溶解することができる溶剤であるのが好ましい。
(Solvent X)
The solvent X is preferably a good solvent for the component A, the component B and the crosslinking initiator C. That is, the solvent is preferably capable of dissolving all of the component A, the component B and the crosslinking initiator C.

溶剤Xの沸点は50℃〜200℃であるのが好ましく、中でも60℃以上或いは140℃以下、その中でも70℃以上或いは120℃以下であるのが好ましい。   The boiling point of the solvent X is preferably 50 ° C to 200 ° C, and more preferably 60 ° C or more or 140 ° C or less, and particularly preferably 70 ° C or more or 120 ° C or less.

溶剤Xとしては、例えばアセトン,メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン 、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンジアセトンアルコール等のケトン系溶媒;ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール等のアルコール系溶媒;エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエーテル系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシブチル、酢酸アミル、酢酸プロピル、乳酸エチル、乳酸メチル、乳酸ブチル等のエステル系溶媒;トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、ヘキサン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の炭化水素系溶媒等の有機溶媒を挙げることができる。これらの有機溶媒は1種のみを用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the solvent X include ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone and cyclohexanone diacetone alcohol; alcohol solvents such as pentanol, hexanol, heptanol and octanol; ethylene glycol monoethyl ether Ether solvents such as ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate; methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methoxybutyl acetate, amyl acetate, propyl acetate, ethyl lactate, methyl lactate, lactic acid Ester solvents such as butyl; toluene, xylene, solvent naphtha, hexane, cyclohexane, ethylcyclohexane, methyl Cyclohexane, heptane, octane, organic solvents such as hydrocarbon solvents decane. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

(溶剤Y)
他方の溶剤Yは、成分A及び架橋開始剤Cに対しては良溶媒であり、成分Bに対しては貧溶媒であるのが好ましい。すなわち、成分A及び架橋開始剤Cは溶解することができるが、成分Bに対する溶解性が低い溶媒であるのが好ましい。
なお、成分Bの「溶解性が低い」とは、成分Bに対して不溶性(insolble)又は膨潤(swelling)に分類される場合を包含する意味である。
(Solvent Y)
The other solvent Y is preferably a good solvent for the component A and the crosslinking initiator C and a poor solvent for the component B. That is, Component A and the crosslinking initiator C can be dissolved, but a solvent having low solubility in Component B is preferable.
In addition, the "low solubility" of the component B is a meaning which includes the case where it classify | categorizes into an insolble or swelling (swelling) with respect to the component B.

溶剤Yの沸点は、51℃〜201℃であるのが好ましく、中でも61℃以上或いは141℃以下、その中でも71℃以上或いは121℃以下であるのが好ましい。
但し、溶剤Yの沸点は、溶剤Xを溶剤Yよりも先に揮発させることができる観点から、溶剤Xの沸点よりも高いことが好ましく、中でも1〜80℃高いことが好ましく、その中でも2℃以上、その中でも5℃以上高いことがさらに好ましい。
溶剤Yが溶剤Xよりも沸点が高い溶剤を用いることで、溶剤Xが溶剤Yよりも先に揮発され、溶剤Yに溶けにくい成分Bが析出して主に凸部を形成しやすくなる。
The boiling point of the solvent Y is preferably 51 ° C. to 201 ° C., and more preferably 61 ° C. or more or 141 ° C. or less, and particularly preferably 71 ° C. or more or 121 ° C. or less.
However, the boiling point of the solvent Y is preferably higher than the boiling point of the solvent X from the viewpoint that the solvent X can be volatilized earlier than the solvent Y, and it is preferably 1 to 80 ° C. in particular, and 2 ° C. among them. As described above, it is more preferable that the temperature be 5 ° C. or higher.
When the solvent Y has a boiling point higher than that of the solvent X, the solvent X is volatilized prior to the solvent Y, and the component B which is difficult to dissolve in the solvent Y precipitates to easily form a convex portion mainly.

なお、沸点の差によって、用いる前記溶剤Xおよび溶剤Yを選択できる。但し、他の特性の差異によって選択することもできる。具体的な特性としては、相対蒸発速度、所定温度および圧力下での蒸気圧、成分Aまたは成分Bの親和性が挙げられる。
例えば、同様の観点、すなわち溶剤Xを溶剤Yよりも先に揮発させることができる観点から、溶剤Xの相対蒸発速度は、溶剤Yの相対蒸発速度よりも高いことが好ましい。中でも、溶剤Xの相対蒸発速度は1以上であるか、若しくは、酢酸ブチルの相対蒸発速度以上であることが好ましく、且つ、溶剤Yの相対蒸発速度は1未満であるか、若しくは、酢酸ブチルの相対蒸発速度未満であることが好ましい。
この際、「相対蒸発速度」は、25℃、大気圧下における酢酸ブチルの蒸発速度を1と定めた場合の比蒸発速度と定義される。例えば、各種溶剤の相対蒸発速度としては、酢酸ブチル:1、MEK:4.52、シクロヘキサン:2.9、トルエン:2.66、メトキシプロパノール:0.71、nブタノール:0.39である。
In addition, the said solvent X and solvent Y which are used can be selected by the difference in a boiling point. However, it can also be selected by the difference of other characteristics. Specific properties include relative evaporation rates, vapor pressure at a given temperature and pressure, affinity of component A or component B.
For example, from the same viewpoint, that is, from the viewpoint that the solvent X can be volatilized before the solvent Y, the relative evaporation rate of the solvent X is preferably higher than the relative evaporation rate of the solvent Y. Among them, the relative evaporation rate of the solvent X is preferably 1 or more, or preferably not less than the relative evaporation rate of butyl acetate, and the relative evaporation rate of the solvent Y is less than 1 or butyl acetate Preferably it is less than the relative evaporation rate.
In this case, the "relative evaporation rate" is defined as the specific evaporation rate when the evaporation rate of butyl acetate at 25 ° C. under atmospheric pressure is defined as 1. For example, as relative evaporation rates of various solvents, butyl acetate: 1, MEK: 4.52, cyclohexane: 2.9, toluene: 2.66, methoxypropanol: 0.71, n-butanol: 0.39.

溶剤Yとしては、例えばメタノール、エタノール、ブタノール、イソブタノール、プロピルアルコール等のアルコール系溶媒;アセトン,メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンジアセトンアルコール等のケトン系溶媒;ノルマルプロピルアルコールジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシブチル、酢酸アミル、酢酸プロピル、乳酸エチル、乳酸メチル、乳酸ブチル等のエステル系溶媒;トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、ヘキサン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の炭化水素系溶媒を挙げることができる。これらの溶媒は1種のみを用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the solvent Y include alcohol solvents such as methanol, ethanol, butanol, isobutanol and propyl alcohol; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone and cyclohexanone diacetone alcohol; Ether solvents such as alcohol diethylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monomethyl ether; methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methoxybutyl acetate, amyl acetate, propyl acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, methyl lactate, butyl lactate and other ester solvents; toluene, Carbonized water such as xylene, solvent naphtha, hexane, cyclohexane, ethylcyclohexane, methylcyclohexane, heptane, octane and decane An elemental solvent can be mentioned. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

(溶剤Z)
溶剤Zは、溶剤Xと溶剤Yを0.1:99.9〜99.9:0.01の質量割合で配合するのが好ましく、中でも1:99〜99:1、その中でも10:90〜90:10、その中でも15:85〜85:15、その中でも80:20〜20:80の質量割合で含有するのがさらに好ましい。
なお、溶剤X又は溶剤Yが2種以上用いられる場合は、合計した質量割合とする。
(Solvent Z)
The solvent Z is preferably blended with the solvent X and the solvent Y in a mass ratio of 0.1: 99.9 to 99.9: 0.01, and in particular 1:99 to 99: 1, among which 10:90 to More preferably, it is contained in a mass ratio of 90:10, in particular 15:85 to 85:15, and in particular 80:20 to 20:80.
In addition, when the solvent X or the solvent Y is used 2 or more types, it is set as the mass ratio totaled.

<本3次元構造形成方法>
本3次元構造形成用組成物を用いて3次元構造を形成する方法として、例えば、本3次元構造形成用組成物を基材の表面に塗布し、加熱して溶剤Yよりも先に溶剤Xを揮発させ、溶剤Yに溶け難い成分Bを析出させて凸部を形成することで、凹凸構造などの3次元構造を表面に形成する方法(「本3次元構造形成方法」と称する)を挙げることができる。
このような本3次元構造形成方法によれば、不規則な形状からなる凸部を備えた凹凸構造を形成することができ、しかも、成分A、成分B、架橋開始剤C、溶剤X及びYの材料の選択や配合量の調整により、凹凸の大きさを制御することができる。
このように本3次元構造形成用組成物を用いて、当該3次元構造形成用組成物の3次元構造の硬化物、当該硬化物を備えた成形体、又は、当該硬化物を備えた積層体などを形成することができる。
<Method for forming book 3D structure>
As a method of forming a three-dimensional structure using the composition for forming a three-dimensional structure, for example, the composition for forming a three-dimensional structure is applied to the surface of a substrate and heated to be solvent X prior to solvent Y. By volatilizing the component B and depositing the component B that is difficult to dissolve in the solvent Y to form a convex part, thereby forming a three-dimensional structure such as a concavo-convex structure on the surface (referred to as “this three-dimensional structure forming method”) be able to.
According to such a method for forming a three-dimensional structure, it is possible to form a concavo-convex structure provided with irregularly shaped convex portions, and further, component A, component B, crosslinking initiator C, solvents X and Y. The size of the asperities can be controlled by the selection of materials and adjustment of the blending amount.
Thus, using the composition for forming a three-dimensional structure, a cured product of the three-dimensional structure of the composition for forming a three-dimensional structure, a molded article provided with the cured product, or a laminate provided with the cured product Etc can be formed.

上記のように、基材の少なくとも一方の表面側に、本3次元構造を表面に有する凹凸層を備えた離型フィルムを形成すれば、当該凹凸層上に、例えば粘着フィルムを剥離可能に積層することで、当該粘着フィルムに前記凹凸構造を転写することができる。   As described above, if a release film provided with a concavo-convex layer having the present three-dimensional structure on the surface is formed on at least one surface side of the substrate, for example, an adhesive film is peelably laminated on the concavo-convex layer By doing this, the uneven structure can be transferred to the adhesive film.

以下、本3次元構造形成方法のより具体的な実施形態の一例について説明する。
前記成分Aと、前記成分Bと、必要に応じて架橋開始剤Cとの混合樹脂を、所定の混合溶剤Z、例えば、成分A、成分B及び架橋開始剤Cに対して良溶媒である溶剤Xと、成分A及び架橋開始剤Cに対して良溶媒(すなわちこれらに対して共溶媒)であり、成分Bに対しては貧溶媒であり、かつ沸点が溶剤Xよりも高い溶剤Yとの混合溶剤Zに加えて溶かして本3次元構造形成用組成物を調製し、この本3次元構造形成用組成物を基材の表面に塗布する。混合溶剤Zが乾燥する過程で、相対的に溶剤Xが早く揮発して、溶剤Yの占める割合が増えるため、溶剤Yに溶解し難い成分Bを析出させ凸部を形成する。さらに乾燥することで成分Aにより凹部が形成して凹凸構造を形成する。或いはさらに、例えば光照射するなどして架橋開始剤Cを励起させて硬化させて前記凹凸構造を形成するようにすればよい。
Hereinafter, an example of a more specific embodiment of the three-dimensional structure forming method will be described.
A mixed resin of the component A, the component B and, if necessary, the crosslinking initiator C is a solvent which is a good solvent for a predetermined mixed solvent Z, for example, the component A, the component B and the crosslinking initiator C X and a solvent Y which is a good solvent for the component A and the crosslinking initiator C (that is, a cosolvent for these), a poor solvent for the component B, and having a boiling point higher than the solvent X The mixed solvent Z is added and dissolved to prepare a composition for forming a three-dimensional structure, and the composition for forming a three-dimensional structure is applied to the surface of a substrate. In the process of drying the mixed solvent Z, the solvent X is relatively quickly volatilized, and the proportion occupied by the solvent Y is increased. Therefore, the component B which is difficult to dissolve in the solvent Y is precipitated to form a convex portion. By further drying, a concave part is formed by the component A to form a concavo-convex structure. Alternatively, the concavo-convex structure may be formed by exciting and curing the crosslinking initiator C by light irradiation, for example.

上記作製方法において、凹凸層が形成される原理としては、上記3次元構造形成用組成物は、塗布後に乾燥する過程で、溶剤Zが減少するのに伴って溶剤中の環境が変化していき、相溶性の悪い成分Aと成分Bが相分離し、両方の溶剤に溶けられる成分はより乾燥が進むまで溶剤中に溶解するため、片方の溶剤Yに溶けにくい成分Bが析出して主に凸部を形成し、両方の溶剤に溶けられる成分Aが主に凹部を形成し、自発的に凹凸構造が形成されるものと推定される。   In the above-mentioned preparation method, as the principle of forming the concavo-convex layer, the environment in the solvent changes as the solvent Z decreases in the process of drying the composition for forming a three-dimensional structure after application. Component A and component B which are incompatible with each other are phase-separated, and the components soluble in both solvents are dissolved in the solvent until drying progresses. It is presumed that the component A which forms a convex portion and is dissolved in both solvents mainly forms a concave portion and a concavo-convex structure is spontaneously formed.

(基材)
基材としては、例えば紙、各種樹脂フィルム、紙基材を樹脂でラミネートした基材、ガラス、金属箔からなる基材、金属箔を樹脂でラミネートした基材等を使用することができる。但し、これらに限定するものではない。
(Base material)
As the substrate, for example, paper, various resin films, a substrate obtained by laminating a paper substrate with a resin, a substrate made of glass, metal foil, a substrate obtained by laminating a metal foil with a resin, etc. can be used. However, it does not limit to these.

上記紙基材としては、例えば薄葉紙、中質紙、上質紙、含浸紙、コート紙、アート紙、硫酸紙、グラシン紙等を挙げることができる。   Examples of the paper base include thin paper, medium paper, high quality paper, impregnated paper, coated paper, art paper, sulfuric acid paper, glassine paper and the like.

上記樹脂フィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、ポリスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルイミド、ポリイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル樹脂等の各種樹脂を主成分樹脂とする樹脂フィルムを挙げることができる。樹脂フィルムは、無延伸フィルム(シート)であっても延伸フィルムであってもよい。中でも、延伸フィルムであることが好ましく、二軸延伸フィルムであることがより好ましい。   Examples of the resin film include polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyolefins such as polyethylene, polypropylene and polymethylpentene, polycarbonate, polyvinyl acetate, polysulfone, polyetheretherketone, polyethersulfone, polyphenylene The resin film which has various resin, such as a sulfide, a polyether imide, a polyimide, a polyamide, a fluorine resin, a polyvinyl chloride, a polystyrene, a polyurethane, an acrylic resin, as a main component resin can be mentioned. The resin film may be a non-oriented film (sheet) or a stretched film. Among them, a stretched film is preferable, and a biaxial stretched film is more preferable.

上記紙基材を樹脂でラミネートした基材としては、例えば上記の紙基材をポリエチレン等の熱可塑性樹脂でラミネートしたラミネート紙等を挙げることができる。
また、上記金属箔からなる基材としては、アルミフォイル等を挙げることができる。
As a base material which laminated the above-mentioned paper base material with resin, laminated paper etc. which laminated the above-mentioned paper base material with thermoplastic resins, such as polyethylene, can be mentioned, for example.
Moreover, an aluminum foil etc. can be mentioned as a base material which consists of said metal foil.

これらの中でも、切断時に紙粉が発生せず、また凹凸構造を転写する粘着フィルム等にも紙粉の付着が生じないことから、上記樹脂フィルムが好ましく、加工のしやすさ、耐久性、耐熱性、コスト等の観点から、ポリエステルを主成分樹脂とする樹脂フィルムであるのがより好ましく、特にポリエチレンテレフタレートを主成分樹脂とする樹脂フィルムであるのがさらに好ましい。
ここで、「主成分樹脂」とは、基材を構成する樹脂の中でも最も含有量の多い樹脂を意味し、具体的には50質量%以上、中でも70質量%以上、その中でも80質量%以上、その中でも90質量%以上(100質量%を含む)を占める樹脂を言う。
Among these, the above-mentioned resin film is preferable because paper powder is not generated at the time of cutting and adhesion of paper powder does not occur also on an adhesive film or the like for transferring the concavo-convex structure, and the easiness of processing, durability, heat resistance It is more preferable that it is a resin film which has polyester as a main component resin, and it is still more preferable that it is a resin film which has a polyethylene terephthalate as a main component resin especially from viewpoints of nature, cost, etc.
Here, the "main component resin" means a resin having the largest content among the resins constituting the base material, specifically, 50% by mass or more, 70% by mass or more, 80% by mass or more among them Among these, the resin which occupies 90 mass% or more (100 mass% is included) is said.

基材は、単層構成のものであってもよいし、同種又は異種の樹脂を主成分とする2層以上の複層構成のものであってもよい。   The substrate may have a single-layer structure, or may have a multilayer structure of two or more layers mainly composed of the same or different resins.

基材の厚さは、用途に応じて適時選択するのが好ましい。一般的には5μm〜500μmであるのが好ましく、中でも10μm以上或いは300μm以下、その中でも15μm以上或いは200μm以下であるのがさらに好ましい。   The thickness of the substrate is preferably selected as appropriate depending on the application. In general, the thickness is preferably 5 μm to 500 μm, more preferably 10 μm or more and 300 μm or less, and still more preferably 15 μm or more and 200 μm or less.

基材として樹脂フィルムを用いる場合、易滑性の付与を主たる目的として、粒子を含有させることも可能である。
基材に含有させる粒子の種類は、易滑性付与可能な粒子であれば特に限定されるものではない。例えばシリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、カオリン、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機粒子のほか、アクリル樹脂、スチレン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の有機粒子等を挙げることができる。
When using a resin film as a base material, it is also possible to contain particles mainly for the purpose of imparting slipperiness.
The type of particles to be contained in the substrate is not particularly limited as long as the particles can be provided with lubricity. For example, inorganic particles such as silica, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, calcium sulfate, calcium phosphate, magnesium phosphate, kaolin, aluminum oxide and titanium oxide, as well as acrylic resin, styrene resin, urea resin, phenol resin, epoxy resin, Organic particles such as benzoguanamine resin can be mentioned.

当該粒子の形状に関しても特に限定されるわけではない。例えば球状、塊状、棒状、扁平状等のいずれであってもよい。
また、当該粒子の硬度、比重、色等についても特に制限はない。これら一連の粒子は、必要に応じて2種類以上を併用してもよい。
The shape of the particles is also not particularly limited. For example, it may be spherical, massive, rod-like, flat or the like.
Further, there is no particular limitation on the hardness, specific gravity, color and the like of the particles. These series of particles may be used in combination of two or more as needed.

上記粒子の平均粒径は、5μm以下であるのが好ましく、中でも0.1μm以上或いは3μm以下であるのがさらに好ましい。上記粒子の平均粒径が当該範囲であれば、基材に適度な表面粗度を与えることができ、良好な滑り性と平滑性を付与することができる。   The average particle diameter of the particles is preferably 5 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more or 3 μm or less. When the average particle diameter of the particles is in the above range, the substrate can be provided with an appropriate surface roughness, and good slipperiness and smoothness can be imparted.

また、上記基材は、上述の粒子以外に必要に応じて従来公知の酸化防止剤、熱安定剤、潤滑剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、軟化剤、結晶核剤、染料、顔料等を含有してもよい。   In addition to the above-mentioned particles, the above-mentioned substrate may, if necessary, be a conventionally known antioxidant, heat stabilizer, lubricant, UV absorber, antistatic agent, softener, crystal nucleating agent, dye, pigment and the like. You may contain.

必要に応じて上記基材の片面又は両面に、各種機能を備えた層(「機能層」と称する)を設けることができる。例えば、上記基材と上記凹凸層の間に機能層を設けることができる。
当該機能層としては、例えば易接着層、帯電防止層、易滑層、水蒸気等の気体バリア層、基材含有物の析出防止層、紫外線吸収層、傷つき防止層、防汚層、抗菌層、反射防止層、光沢層、マット層、インク受容層、着色層、印刷層等の各種機能を備えた層を挙げることができる。
If necessary, a layer having various functions (referred to as a “functional layer”) can be provided on one side or both sides of the substrate. For example, a functional layer can be provided between the base and the uneven layer.
The functional layer may be, for example, an adhesive layer, an antistatic layer, a lubricating layer, a gas barrier layer such as water vapor, a deposition preventing layer of inclusions in a substrate, an ultraviolet absorbing layer, an anti-scratch layer, an antifouling layer, an antibacterial layer, The layer provided with various functions, such as a reflection prevention layer, a gloss layer, a mat | matte layer, an ink receiving layer, a colored layer, a printing layer, can be mentioned.

(3次元構造形成用組成物の塗布)
上記3次元構造形成用組成物を基材の表面に塗布する方法としては、例えばキスロールコーター、ビードコーター、ロッドコーター、マイヤーバーコーター、ダイコーター、グラビアコーターなど公知慣用の方法を採用することができる。
(Application of composition for three-dimensional structure formation)
As a method for applying the composition for forming a three-dimensional structure to the surface of a substrate, for example, a commonly known method such as a kiss roll coater, a bead coater, a rod coater, a Mayer bar coater, a die coater, or a gravure coater may be employed. it can.

(乾燥)
本3次元構造形成用組成物を塗布した後、溶剤Xを溶剤Yよりも優先させて揮発させるため、乾燥時の温度は、溶剤X、Yの沸点との関係から、10℃〜150℃に設定するのが好ましく、中でも20℃以上或いは140℃以下に設定するのがより好ましく、その中でも40℃以上或いは125℃以下に設定するのがさらに好ましい。なお、常温で乾燥させてもよい。
加熱温度を調整することによって、凹凸の最大高低差を調整することができ、加熱温度が低いほど、凹凸の最大高低差が大きくなる傾向がある。一般に溶剤は沸点以下の温度で揮発性を有しており、また沸点のみならず蒸気圧特性やポリマー等との親和性等によっても揮発特性は変化する。このため、凹凸層に使用するポリマー等の種類や配合質量割合、目的とする凹凸構造の形状等に応じて、加熱温度を設定すればよい。
(Dried)
After applying the composition for forming a three-dimensional structure of the present invention, the temperature at the time of drying is 10 ° C. to 150 ° C. from the relationship with the boiling points of the solvents X and Y in order to volatize the solvent X prior to the solvent Y and evaporate. It is preferable to set it, and it is more preferable to set it at 20 ° C. or more or 140 ° C. or less, and more preferable to set it at 40 ° C. or more or 125 ° C. or less. In addition, you may make it dry at normal temperature.
By adjusting the heating temperature, the maximum height difference of the unevenness can be adjusted, and as the heating temperature is lower, the maximum height difference of the unevenness tends to be larger. In general, the solvent has volatility at a temperature lower than the boiling point, and the volatility property changes depending not only on the boiling point but also on the vapor pressure characteristics, the affinity with a polymer, and the like. For this reason, the heating temperature may be set according to the type and blending mass ratio of the polymer and the like used in the concavo-convex layer, the shape of the intended concavo-convex structure, and the like.

(架橋)
上記加熱により凹凸構造を形成した後、必要に応じて、例えば光照射するなどして架橋開始剤Cを励起させて硬化させて前記凹凸構造を形成するようにしてもよい。
例えば成分A又はBが加熱架橋性を有していれば、その加熱架橋性を励起する温度まで加熱すればよい。
また、架橋開始剤Cとして光架橋開始剤を含有する場合、当該光架橋開始剤が励起する波長の光を照射すればよい。
(Crosslinking)
After forming the concavo-convex structure by the above heating, if necessary, the crosslinking initiator C may be excited and cured, for example, by light irradiation or the like to form the concavo-convex structure.
For example, if the component A or B has heat crosslinkability, it may be heated to a temperature at which the heat crosslinkability is excited.
In addition, when a photocrosslinking initiator is contained as the crosslinking initiator C, light of a wavelength at which the photocrosslinking initiator is excited may be irradiated.

(本3次元構造)
本3次元構造形成方法によれば、基材の少なくとも一方の表面側に、凸部と該凸部以外の部分(「凹部」と称する)とを有する凹凸構造を表面に有する凹凸層かららなる本3次元構造を形成することができる。
(This three-dimensional structure)
According to the method for forming a three-dimensional structure of the present invention, a concavo-convex layer having on the surface thereof a concavo-convex structure having a convex part and a portion other than the convex part (referred to as a “concave part”) This three-dimensional structure can be formed.

本3次元構造としては、例えば図1〜9に示すように、その表面を平面視した際、前記凸部が不規則な形状を形成してなる構成を形成することが好ましい。なお、図1〜9においては、白い部分が凸部に相当する。
ここで、「不規則な形状」とは、一定の規則及び周期を有さない形状を意味する。具体的には、直線のみで形成される形状や、同一パターンの直線で形成される形状や、これらを組み合わせた形状等は、不規則な形状には該当しない。また、例えばエンボスロールで転写される形状のように、一定間隔で同一形状(模様)が繰り返される形状は、不規則な形状には該当しない。不規則な形状としては、典型的には、図1〜9で示される様な、非相溶なポリマー等を混合した際に自然に形成される海島構造による形状を挙げることができる。但し、このような形状に限定されるものではない。
このように前記凸部が不規則な形状を形成することにより、上述したように当該粘着フィルムに転写される凹凸構造においても不規則な形状が形成され、粘着後に当該凹凸構造を見え難くすることができる。
As this three-dimensional structure, as shown, for example in FIGS. 1-9, when the surface is planarly viewed, it is preferable to form the structure which the said convex part forms an irregular shape. In addition, in FIGS. 1-9, a white part corresponds to a convex part.
Here, "irregular shape" means a shape that does not have a constant rule and period. Specifically, the shape formed only by straight lines, the shape formed by straight lines of the same pattern, the shape combining these, etc. do not correspond to irregular shapes. Further, for example, a shape in which the same shape (pattern) is repeated at regular intervals, such as a shape transferred by an emboss roll, does not correspond to an irregular shape. The irregular shape can typically include a shape due to a sea-island structure that is naturally formed when mixing an incompatible polymer or the like as shown in FIGS. However, it is not limited to such a shape.
By forming the irregular shape as described above, the irregular shape is formed also in the concavo-convex structure transferred to the pressure-sensitive adhesive film as described above, and the concavo-convex structure is difficult to see after adhesion. Can.

また、本3次元構造として、その表面を平面視した際、前記凸部によって、不規則な形状が周囲方向、例えば上下左右方向に連続して不規則な模様、例えば網目模様を形成してなる構成を備えていてもよい。
不規則な形状が周囲方向に連続する場合には、不規則な形状の大きさや形状が一定でなく、形状の繰り返しがなく、不規則であることが好ましく、また、不規則な形状の配置も不規則であるのが好ましい。
Further, as the present three-dimensional structure, when the surface is viewed in plan, the convex portion forms an irregular pattern, for example, a mesh pattern continuously in the peripheral direction, for example, up and down, left and right direction. A configuration may be provided.
When the irregular shape is continuous in the circumferential direction, the size or shape of the irregular shape is not constant, the shape is not repeated, preferably irregular, and the irregular shape is also arranged. Preferably it is irregular.

また、本3次元構造における凸部は、平面視した際に、適宜面積を有する塊として散在しても、断続的に存在していても、連続的に連なっていてもよい。
この際、個々の凸部のX座標の中心とY座標の中心を通る径のうち最大のものを最長径とし、当該最長径のうち、測定領域中で最大値を示す径を最大最長径とする。
凸部の最大最長径は、凹凸形状を転写した粘着フィルムを貼着する際に空気の抜けを良好にすることができ、且つ、粘着後に当該凹凸構造を見え難くすることができるという観点から、1μm〜1500μmであるのが好ましく、中でも10μm以上或いは1200μm以下、その中でも100μm以上或いは1000μm以下、その中でも300μm以上或いは800μmであるのがさらに好ましい。
Further, the convex portions in the three-dimensional structure may be appropriately scattered as a block having an area, may be present intermittently, or may be continuously connected in plan view.
At this time, the largest of the diameters passing through the centers of the X and Y coordinates of the individual convexes is taken as the longest diameter, and the longest diameter of the longest diameter in the measurement region is taken as the largest longest diameter. Do.
The maximum longest diameter of the convex portion makes it possible to make the air escape well when sticking the pressure-sensitive adhesive film to which the concavo-convex shape has been transferred, and from the viewpoint of making the concavo-convex structure inconspicuous after adhesion. The thickness is preferably 1 μm to 1500 μm, more preferably 10 μm or more or 1200 μm or less, particularly 100 μm or more or 1000 μm or less, and still more preferably 300 μm or more or 800 μm.

また、本3次元構造における凸部は、平面視した際に、適宜長さ連続した線状を呈していてもよい。凹凸構造を転写した粘着シートを貼着する際の空気抜けをより良好にする観点からすると、中でも、フィルム周端縁部まで連続していることが好ましい。前記凹凸構造における凸部は、本離型フィルムによって凹凸構造を転写された粘着フィルム等においては凹部を形成することとなるため、本離型フィルムの凸部が上記の如く連続していると、粘着フィルム等において空気の抜け道も連続することとなる。但し、この場合、凸部の一部に不連続する箇所があってもよい。
一例として、フィルム周端縁部まで連続する凸部によって、不規則な形状が連続して網目模様を形成している場合を一例として挙げることができる。
Moreover, the convex part in this three-dimensional structure may be presenting linear form which continued the length suitably, when it planarly views. From the viewpoint of making air leakage more favorable when sticking the pressure-sensitive adhesive sheet to which the concavo-convex structure has been transferred, it is preferable that the film is continuous up to the film peripheral edge. In the pressure-sensitive adhesive film or the like to which the convex / concave structure has been transferred by the main mold release film, the convex portions in the concave / convex structure form a concave portion. In the adhesive film etc., the escape route of air will also be continuous. However, in this case, there may be a discontinuous portion in a part of the convex portion.
As an example, the case where the irregular shape is continuously forming a mesh pattern by the convex part continuing to the film peripheral edge part can be mentioned as an example.

前記凹凸構造に存在する凸部の個数は、例えば、上述したように凹凸構造を転写してなる粘着フィルムにおいて、当該粘着フィルムを貼着する際に空気の抜けを良好にすることができ、且つ、粘着後に当該凹凸構造を見え難くすることができるという観点からすると、703.12μm×937.42μmの領域当たり1個〜1000個であるのが好ましく、中でも500個以下、その中でも100個以下、その中でも10個以下であるのが好ましい。
なお、前記凹凸構造に存在する凸部の上記個数は、例えば画像解析ソフトを用いて、単位面積における離型フィルム表面に現れる凸部の個数をカウントして求めることができる。
For example, in the pressure-sensitive adhesive film formed by transferring the concavo-convex structure as described above, the number of the convex portions present in the concavo-convex structure can make the air escape favorably when the pressure-sensitive adhesive film is attached. From the viewpoint of making the uneven structure inconspicuous after adhesion, it is preferably 1 to 1000 per area of 703.12 μm × 937.42 μm, and is preferably 500 or less, more preferably 100 or less. Among them, 10 or less is preferable.
In addition, the said number of convex parts which exist in the said uneven structure can be calculated | required by counting the number of convex parts which appear on the release film surface in unit area, for example using image analysis software.

本3次元構造は、その表面を平面視した際、表面に占める凸部の面積割合の下限を10%以上とすることができ、中でも15%以上、その中でも20%以上、特に25%以上、中でも30%以上とすることができる。一方、凸部の面積割合の上限は、90%以下とすることができ、中でも85%以下、更に80%以下、特に75%以下、その中でも70%以下とすることができる。
本3次元構造に占める凸部の面積割合は、前記凹凸構造の表面を画像分析によって、凹部と凸部の2つの領域に2値化することで分析することができる。
なお、前記凹凸構造の表面を、このように画像分析によって、凹部と凸部の2つの領域に2値化する際、凹凸構造の表面全体を2値化してもよいし、凹凸構造の表面の一部を複数個所において2値化して、その平均を求めてもよい。その際、少なくとも任意の3か所、中でも5か所、その中でも10か所の平均を求めるのが好ましい。
In the present three-dimensional structure, when the surface is viewed in plan, the lower limit of the area ratio of the convex portion occupied on the surface can be 10% or more, and in particular, 15% or more, 20% or more, particularly 25% or more. Above all, it can be 30% or more. On the other hand, the upper limit of the area ratio of the convex portion can be 90% or less, and can be 85% or less, further 80% or less, particularly 75% or less, and also 70% or less.
The area ratio of the convex portion in the three-dimensional structure can be analyzed by binarizing the surface of the concavo-convex structure into two regions of the concave portion and the convex portion by image analysis.
When the surface of the concavo-convex structure is binarized into two regions of concave and convex portions by image analysis as described above, the entire surface of the concavo-convex structure may be binarized, or the surface of the concavo-convex structure may be binarized. A part may be binarized in multiple places, and the average may be calculated. In that case, it is preferable to find an average of at least three places, at least five places, and at least 10 places.

本3次元構造において、凸部の面積を大きくする方法としては、例えば凸部の主成分をなす成分Bの配合量を多くしたり、該成分Bの分子量を大きくしたりすることによって調整することができる。但し、このような方法に限定するものではない。   In this three-dimensional structure, as a method of increasing the area of the convex portion, for example, adjustment is performed by increasing the compounding amount of the component B which is the main component of the convex portion or increasing the molecular weight of the component B. Can. However, it is not limited to such a method.

また、本3次元構造における凹凸の最大高低差の下限は0.5μm以上とすることができ、中でも1.0μm以上、特に1.5μm以上、中でも2.0μm以上、特に3.0μm以上、その中でも特に4.0μm以上とすることができる。
他方、本3次元構造における最大高低差の上限は、通常は40μm以下であり、中でも35μm以下、その中でも30μm以下、その中でも25μm以下、その中でも20μm以下、その中でも15μm以下とすることができる。
中でも、本3次元構造の凹凸の最大高低差が0.5〜15μm又は15〜40μmであるのが好ましい。
Further, the lower limit of the maximum height difference of the unevenness in the three-dimensional structure can be 0.5 μm or more, in particular, 1.0 μm or more, particularly 1.5 μm or more, in particular 2.0 μm or more, particularly 3.0 μm or more Above all, it can be 4.0 μm or more.
On the other hand, the upper limit of the maximum height difference in the present three-dimensional structure is usually 40 μm or less, particularly 35 μm or less, 30 μm or less, 25 μm or less, 20 μm or less, 15 μm or less.
Among them, the maximum height difference of the unevenness of the three-dimensional structure is preferably 0.5 to 15 μm or 15 to 40 μm.

なお、凹凸の最大高低差は、例えば凹凸層を形成する際の塗布厚さを調整することで、調整することができる。但し、これに限定されるものではない。
また、凹凸の最大高低差は、凹部の極小値と凹部周辺の極大値の差、又は、凸部の極大値と凸部周辺の極小値の差の中での最大値として求めることができる。
このような凹凸の最大高低差を形成するための具体的な方法については後述する。
In addition, the maximum height difference of unevenness | corrugation can be adjusted by adjusting the application | coating thickness at the time of forming an uneven | corrugated layer, for example. However, it is not limited to this.
Further, the maximum height difference of the unevenness can be obtained as the maximum value among the difference between the minimum value of the recess and the maximum value around the recess, or the difference between the maximum value of the protrusion and the minimum value around the protrusion.
A specific method for forming the maximum height difference of such unevenness will be described later.

本3次元構造形成組成物が架橋開始剤Cを含有する場合、本3次元構造は、成分A又は成分B又はそれら両方が架橋してそれらの硬化物を含有することになる。
架橋しているか否かは、各部位のゲル分率を測定し、当該値が0%より大きい、特に5%以上、中でも10%以上であるのが好ましい。
When the composition for forming a three-dimensional structure contains a crosslinking initiator C, in the present three-dimensional structure, component A or component B or both will be crosslinked to contain their cured products.
Whether crosslinked or not is determined by measuring the gel fraction at each site, and the value is preferably more than 0%, particularly 5% or more, and more preferably 10% or more.

<本3次元構造の用途>
本3次元構造を形成する一例として、基材の少なくとも一方の表面側に、本3次元構造を表面に有する凹凸層を備えた離型フィルムを挙げることができる。但し、このような用途に限定するものではない。
<Application of this 3D structure>
As an example of forming the present three-dimensional structure, a release film provided with a concavo-convex layer having the present three-dimensional structure on the surface on at least one surface side of the substrate can be mentioned. However, it is not limited to such a use.

この離型フィルムは、前記凹凸構造を備えた凹凸層上に、例えば粘着フィルムを剥離可能に積層することで、当該粘着フィルムに前記凹凸構造を転写することができる。
この際、本3次元構造を、平面視した際、当該凹凸構造の凸部が不規則な形状を形成してなる構成を備えており、且つ、前記凹凸構造の表面に占める凸部の面積割合が10〜90%であり、且つ、前記凹凸構造の最大高低差が0.5μm以上となるように作製すれば、前記粘着フィルムは、被着体に貼着する際、空気の抜けを良好にすることができ、粘着後に当該凹凸構造を見え難くすることができる。
よって、例えば建物の壁や窓、自動車の装飾や窓、携帯電話やパーソナルコンピューターの画像表示部などに貼り付ける、例えば装飾フィルム、紫外線遮断フィルム、ブルーライト遮断フィルム、耐擦傷フィルム、耐熱フィルム、飛散防止フィルム、指紋や皮脂付着防止フィルムなど、各種機能を備えた粘着フィルムを作製するための離型フィルムとして利用することができる。
The release film can transfer the uneven structure to the pressure-sensitive adhesive film, for example, by laminating an adhesive film in a peelable manner on the uneven layer having the uneven structure.
Under the present circumstances, when this three-dimensional structure is planarly viewed, the convex part of the said uneven structure is equipped with the structure formed in irregular shape, and the area ratio of the convex part which occupies on the surface of the said uneven structure. Is 10% to 90%, and if the maximum height difference of the concavo-convex structure is 0.5 μm or more, the pressure-sensitive adhesive film has good release of air when it is attached to an adherend. It is possible to make the uneven structure inconspicuous after adhesion.
Therefore, for example, it adheres to a building wall or window, a car decoration or window, an image display unit of a mobile phone or personal computer, etc., for example, a decoration film, an ultraviolet blocking film, a blue light blocking film, a scratch resistant film, a heat resistant film, scattering It can be used as a release film for producing a pressure-sensitive adhesive film having various functions such as a prevention film, a fingerprint and a sebum adhesion prevention film.

<語句の説明>
本明細書において「X〜Y」(X,Yは任意の数字)と表現する場合、特にことわらない限り「X以上Y以下」の意と共に、「好ましくはXより大きい」或いは「好ましくはYより小さい」の意も包含する。
また、「X以上」(Xは任意の数字)或いは「Y以下」(Yは任意の数字)と表現した場合、「Xより大きいことが好ましい」或いは「Y未満であることが好ましい」旨の意図も包含する。
<Explanation of the phrase>
In the present specification, when expressing as “X to Y” (X and Y are arbitrary numbers), “preferably greater than X” or “preferably Y” with the meaning of “X or more and Y or less” unless otherwise stated. Also includes the meaning of "smaller".
Also, when expressed as “X or more” (X is an arbitrary number) or “Y or less” (Y is an arbitrary number), “greater than X is preferable” or “preferably less than Y” It also includes the intention.

一般的に「シート」とは、JISにおける定義上、薄く、その厚さが長さと幅のわりには小さく平らな製品をいい、一般的に「フィルム」とは、長さ及び幅に比べて厚さが極めて小さく、最大厚さが任意に限定されている薄い平らな製品で、通常、ロールの形で供給されるものをいう(日本工業規格JISK6900)。しかし、シートとフィルムの境界は定かでなく、本発明において文言上両者を区別する必要がないので、本発明においては、「フィルム」と称する場合でも「シート」を含むものとし、「シート」と称する場合でも「フィルム」を含むものとする。   In general, “sheet” is thin as defined in JIS, and its thickness is small and flat for length and width, and “film” is generally thicker than its length and width. A thin flat product of extremely small size and optionally limited maximum thickness, usually supplied in roll form (Japanese Industrial Standard JIS K 6900). However, since the boundary between the sheet and the film is not clear and it is not necessary to distinguish between the two in the present invention, in the present invention, even when it is referred to as "film", "sheet" is included and referred to as "sheet". Even in the case of "film" shall be included.

以下、本発明を下記実施例及び比較例に基づいてさらに詳述する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on the following examples and comparative examples.

<質量平均分子量(Mw)>
各成分の質量平均分子量(Mw)は、GPC法により次の条件により測定した値である。
機器 :東ソー株式会社製「HLC−8120GPC」
カラム:東ソー株式会社製「TSKgel Super H3000+H4000+H6000」
検出器:示差屈折率検出器(RI検出器/内蔵)
溶媒 :テトラヒドロフラン
温度 :40℃
流速 :0.5ml/分
注入量:10μL
濃度 :0.2質量%
較正試料:単分散ポリスチレン
較正法:ポリスチレン換算
<Mass average molecular weight (Mw)>
The mass average molecular weight (Mw) of each component is a value measured under the following conditions by GPC method.
Equipment: "HLC-8120GPC" manufactured by Tosoh Corporation
Column: "TSKgel Super H3000 + H4000 + H6000" manufactured by Tosoh Corporation
Detector: Differential Refractive Index Detector (RI Detector / Built-in)
Solvent: Tetrahydrofuran Temperature: 40 ° C.
Flow rate: 0.5 ml / min Injection volume: 10 μL
Concentration: 0.2% by mass
Calibration sample: Monodispersed polystyrene Calibration method: polystyrene conversion

<SP値>
成分A、成分B及び光架橋開始剤Cの溶解性パラメーター(SP値)は、Fedorsらが提案した方法によって推算した。具体的には、「SP値の基礎・応用と計算方法」(山本秀樹著、株式会社情報機構)に基づいて、高分子の溶解度パラメーターの推算方法のうち、Fedorsの推算法を参考に各ポリマー成分に含まれる各置換基の凝集エネルギー密度:E(J/mol)とモル分子容:V(cm3/mol)から下式に基づいて計算を行い、SP値(σ(cal/cm3)1/2)を求めた。
σ((J/cm3)1/2)=(ΣEcoh/ΣV)1/2
σ(cal/cm3)1/2=σ(J/cm3)1/2/2.0455
<SP value>
The solubility parameter (SP value) of Component A, Component B and photocrosslinking initiator C was estimated by the method proposed by Fedors et al. Specifically, based on "Basic, application and calculation method of SP value" (Hideki Yamamoto, Information Technology Co., Ltd.), each polymer is referred to the estimation method of Fedors among the estimation methods of solubility parameter of the polymer. From the cohesive energy density of each substituent contained in the component: E (J / mol) and the molar molecular volume: V (cm 3 / mol), calculation is made based on the following equation, and the SP value (σ (cal / cm 3 ) I asked for 1/2 ).
σ ((J / cm 3 ) 1/2 ) = (ΣEcoh / ΣV) 1/2
σ (cal / cm 3 ) 1/2 = σ (J / cm 3 ) 1/2 /2.0455

<凹凸の最大高低差、凸部の面積割合、凸部の個数、及び凹凸形状の最大最長径>
表面形状計測システム(株式会社日立ハイテクサイエンスの「VertScan」(登録商標)R5500)を用いて、離型フィルム(サンプル)表面において、703.12μm×937.42μmの領域における表面の凹凸形状を、光干渉法にて測定し、補完およびベースライン補正を行い、データを読み取った。なお、測定時における対物レンズの倍率は5倍に設定した。
<Maximum height difference of asperities, area ratio of projections, number of projections, and maximum longest diameter of asperities>
Using a surface shape measurement system (“VertScan” (registered trademark) R5500 of Hitachi High-Tech Science, Inc.), the uneven surface shape in the 703.12 μm × 937.42 μm area on the surface of the release film (sample) is Interferometric measurements were made, complemented and baseline corrected, and the data read. The magnification of the objective lens at the time of measurement was set to 5 times.

凹凸の最大高低差は、凹部の極小値と凹部周辺の極大値の差、又は、凸部の極大値と凸部周辺の極小値の差の中の最大値を求めた。
凸部の面積割合は、ベアリング機能を使用し、山側高さ閾値および谷側高さ閾値をともに0.0μmに設定して2値化を行い、凸部の面積割合を求めた。
凸部の個数、及び凹凸形状の最大最長径は、粒子解析機能により以下の測定条件で算出した。検出した最長径のうち、最も値が大きいものを最大最長径とした。
The maximum height difference of the unevenness was obtained as the maximum value among the difference between the minimum value of the recess and the maximum value around the recess, or the difference between the maximum value of the protrusion and the minimum value around the protrusion.
The area ratio of the convex portion was binarized by setting the peak height threshold and the valley height threshold to 0.0 μm using the bearing function, and the area ratio of the convex portion was determined.
The number of convex portions and the maximum longest diameter of the concavo-convex shape were calculated by the particle analysis function under the following measurement conditions. Of the longest diameters detected, the one with the largest value was taken as the maximum longest diameter.

(粒子解析)
・曲面補正:しない
・解析:突解析
・二値化閾値:100nm
・粒子成形:しない
・対象判定
高さベース:曲面
高さ:上限 100000nm、下限 0nm
最長径:上限 1000μm、下限 0μm
体積:下限 0.0μm
アスペクト比:下限 0.0
(Particle analysis)
・ Surface correction: Not ・ Analysis: Collision analysis ・ Binarization threshold: 100 nm
・ Particle molding: Not performed ・ Target judgment Height base: Curved surface height: Upper limit 100000 nm, lower limit 0 nm
Maximum diameter: Upper limit 1000 μm, Lower limit 0 μm
Volume: Lower limit 0.0 μm 3
Aspect ratio: Lower limit 0.0

<凸部規則性及び凸部連続性>
離型フィルム(サンプル)の表面を上記の表面形状計測システムにより観察し、凸部の形状に一定の規則性又は周期性を有しているか否かを評価し、規則性も周期性も有していない場合、凸部規則性を「不規則」と評価した。
また、離型フィルム(サンプル)の表面を上記同様に観察し、凸部(白色部分)が拡大画像の1つの端縁部から向かい側にあたる端縁部まで(上辺から下辺まで、或いは右辺から左辺まで)連続して繋がっているか否かを評価した。凸部が連続して繋がっている場合は凸部連続性を「有」、凸部が散在したり、断続的に存在したりする場合は凸部連続性を「無」と評価した。
<Convex regularity and convexity continuity>
The surface of the mold release film (sample) is observed by the above-mentioned surface shape measurement system to evaluate whether the shape of the convex portion has a certain regularity or periodicity, and has regularity and periodicity. If not, the convex regularity was evaluated as "irregular".
In addition, the surface of the release film (sample) is observed in the same manner as described above, and the convex portion (white portion) extends from one edge to the opposite edge of the enlarged image (from the upper side to the lower side or from the right side to the left side) ) It was evaluated whether they were connected continuously. The convexity continuity was evaluated as "presence" when the convexity was continuously connected, and "convexity" when the convexity was scattered or intermittently existed.

[実施例1]
<基材の原料>
ポリエステルA:ポリエチレンテレフタレートホモポリマーのチップ(固有粘度:0.66dl/g)
ポリエステルB:平均粒径2μmの非晶質シリカを1000ppm含有するポリエチレンテレフタレートホモポリマーのチップ(固有粘度:0.62dl/g)
Example 1
<Material of base material>
Polyester A: chip of polyethylene terephthalate homopolymer (intrinsic viscosity: 0.66 dl / g)
Polyester B: chip of polyethylene terephthalate homopolymer containing 1000 ppm of amorphous silica having an average particle diameter of 2 μm (Intrinsic viscosity: 0.62 dl / g)

<機能層用塗布液の原料>
カルボキシル基を有する水分散型ポリカーボネートポリウレタン樹脂(Tg:35℃)を60質量部、オキサゾリン基がアクリル系樹脂にブランチされたポリマー型架橋剤を30質量部、シリカゾル水分散体(平均粒径:0.07μm)を6質量部混合して機能層用塗布液とした。
Raw materials for coating solution for functional layer
60 parts by mass of a water-dispersed polycarbonate polyurethane resin (Tg: 35 ° C.) having a carboxyl group, 30 parts by mass of a polymer type crosslinking agent in which an oxazoline group is branched to an acrylic resin, silica sol aqueous dispersion (average particle size: 0 6 parts by mass of .07 μm) were mixed to prepare a coating solution for functional layer.

<3次元構造形成用組成物の原料>
アクリル系ポリマーA1:グリシジルメタクリレート、メチルメタクリレート及びエチルアクリレートを98:1:1のモル比率で共重合してなるアクリル酸変性物(質量平均分子量(Mw):20,000、SP値:12.6、Tg:32℃)
アクリル系ポリマーB1:メチルメタクリレート及びメチルアクリレートを99:1のモル比率で共重合してなる共重合体(質量平均分子量(Mw):95,000、SP値:9.9、Tg:105℃)
光重合性化合物:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(分子量:578、SP値:10.4)
光架橋開始剤C1:IGMレジン社製、Omnirad127
溶剤X:メチルエチルケトン(アクリル系ポリマーA1及びB1を溶解することができる溶剤であり、沸点は80℃)
溶剤Y:メトキシプロパノール(アクリル系ポリマーA1を溶解し、B1は溶解しない溶剤であり、沸点は120℃)
<Raw Material of Composition for Forming Three-Dimensional Structure>
Acrylic polymer A1: Acrylic acid modified product obtained by copolymerizing glycidyl methacrylate, methyl methacrylate and ethyl acrylate at a molar ratio of 98: 1: 1 (mass average molecular weight (Mw): 20,000, SP value: 12.6 , Tg: 32 ° C)
Acrylic polymer B1: copolymer obtained by copolymerizing methyl methacrylate and methyl acrylate at a molar ratio of 99: 1 (mass average molecular weight (Mw): 95,000, SP value: 9.9, Tg: 105 ° C.)
Photopolymerizable compound: dipentaerythritol hexaacrylate (molecular weight: 578, SP value: 10.4)
Photocrosslinking initiator C1: manufactured by IGM Resin, Omnirad 127
Solvent X: methyl ethyl ketone (a solvent capable of dissolving acrylic polymers A1 and B1, having a boiling point of 80 ° C.)
Solvent Y: methoxypropanol (a solvent which dissolves acrylic polymer A1 and B1 does not dissolve, and its boiling point is 120 ° C.)

(基材の作製)
前記ポリエステルAを中間層用の原料とし、前記ポリエステルBを表層用の原料とし、各原料をそれぞれ別個の溶融押出機により溶融押出して、表層/中間層/表層の2種3層積層の無定形シートを得た。ついで、冷却したキャスティングドラム上に、シートを共押出し冷却固化させて無配向シートを得た。
次いで、機械方向(縦方向)に90℃で3.5倍に延伸した。その後、前記機能層用塗布液を乾燥後の厚みが0.05μmとなるように塗布した後にテンターへ導き、さらにテンター内で予熱工程を経て120℃で横方向に4.3倍に延伸を行い、230℃で2秒間の熱処理を行い、基材としてのポリエステルフィルムを得た。得られたポリエステルフィルムの厚さは50μmであり、表層/中間層/表層の厚み構成は5μm/40μm/5μmであった。
(Preparation of base material)
The polyester A is used as a raw material for the intermediate layer, the polyester B is used as a raw material for the surface layer, and each raw material is melt-extruded by separate melt extruders to form a two-layer / three-layer amorphous of surface layer / interlayer / surface layer. I got a sheet. Then, the sheet was co-extruded and solidified on a cooled casting drum to obtain a non-oriented sheet.
Then, it was stretched 3.5 times at 90 ° C. in the machine direction (longitudinal direction). Thereafter, the coating solution for a functional layer is coated to a dry thickness of 0.05 μm and then guided to a tenter, and further subjected to a preheating step in a tenter and stretched in a transverse direction at 4.3 ° C. at 120 ° C. Heat treatment was performed at 230 ° C. for 2 seconds to obtain a polyester film as a substrate. The thickness of the obtained polyester film was 50 μm, and the thickness configuration of the surface layer / intermediate layer / surface layer was 5 μm / 40 μm / 5 μm.

(凹凸層の形成)
凹凸層の形成に用いる塗布液として、成分Aとしてのアクリル系ポリマーA1を45質量部と、成分Bとしてのアクリル系ポリマーB1を27.5質量部と、光重合性化合物としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを27.5質量部と、光架橋開始剤C1を5質量部とを含むアクリル系ポリマー混合物を、溶剤Xとしてのメチルエチルケトンと、溶剤Yとしてのメトキシプロパノールとを72:28の質量割合で混合して得た混合溶媒Zに溶解させて、アクリル系ポリマー混合物濃度が30質量%である3次元構造形成用組成物を調製した。
(Formation of uneven layer)
As a coating liquid used for formation of a concavo-convex layer, 45 parts by mass of acrylic polymer A1 as component A, 27.5 parts by mass of acrylic polymer B1 as component B, and dipentaerythritol hexamer as a photopolymerizable compound An acrylic polymer mixture containing 27.5 parts by mass of acrylate and 5 parts by mass of a photocrosslinking initiator C1 is mixed at a mass ratio of 72:28 of methyl ethyl ketone as solvent X and methoxypropanol as solvent Y The mixture was dissolved in the mixed solvent Z obtained as described above to prepare a composition for forming a three-dimensional structure having an acrylic polymer mixture concentration of 30% by mass.

前記基材としてのポリエステルフィルムの機能層表面に、前記3次元構造形成用組成物をマイヤーバーにより塗布し、70℃で溶剤Xおよび溶剤Yを揮発させた後、紫外線照射装置で紫外線を照射して光硬化させて、基材の一方の表面側に、凹凸構造を表面に有する凹凸層を形成してなる、凹凸層付フィルムを作製した。   The composition for forming a three-dimensional structure is applied by Meyer bar to the surface of the functional layer of the polyester film as the base material, the solvent X and the solvent Y are volatilized at 70 ° C., and then ultraviolet rays are irradiated with an ultraviolet irradiation device. A film with a concavo-convex layer was produced by forming a concavo-convex layer having a concavo-convex structure on the surface on one surface side of the substrate by photocuring.

(剥離層の形成)
剥離層に用いる塗布液として、硬化型シリコーン樹脂(信越化学社製、KS-847H)100質量部及び硬化剤(信越化学社製、PL-50T)1質量部を、メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(混合比率は1:1)で希釈して、シリコーン樹脂濃度が4質量%である剥離層用塗布液を作製した。
前記凹凸層付フィルムの凹凸層の表面に、前記剥離層用塗布液をマイヤーバーにより塗布し、120℃に加熱して乾燥及び硬化させることで剥離層を設け、離型フィルム1(サンプル)を作製した。
(Formation of release layer)
100 parts by mass of a curable silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KS-847H) and 1 part by mass of a curing agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., PL-50T) as a coating solution used for the release layer The ratio was diluted by 1: 1) to prepare a release layer coating solution having a silicone resin concentration of 4% by mass.
The release layer coating solution is applied by Meyer bar to the surface of the uneven layer of the film with the uneven layer, and the release layer is provided by heating to 120 ° C. for drying and curing, and a release film 1 (sample) is obtained. Made.

[実施例2]
マイヤーバーの線数を変更して凹凸層の厚みを変化させて凸部の最大凹凸高低差を8μmとした以外、実施例1と同様の方法で離型フィルム2(サンプル)を作製した。
Example 2
A release film 2 (sample) was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the concavo-convex layer was changed by changing the number of Meyer bars and changing the thickness of the concavo-convex layer to 8 μm.

[実施例3]
剥離層を設ける代わりに、3次元構造形成用組成物にシリコーン変性アクリルポリマー(共栄社化学社製、GL04R)3質量%をさらに加えた以外は、実施例1と同様の方法で離型フィルム3(サンプル)を作製した。
[Example 3]
A release film 3 (the same method as in Example 1), except that 3% by mass of a silicone-modified acrylic polymer (manufactured by Kyoeisha Chemical, GL04R) was further added to the composition for forming a three-dimensional structure instead of providing a release layer. A sample was prepared.

[実施例4]
3次元構造形成用組成物を作製する際、上記アクリル系ポリマーA1と上記アクリル系ポリマーB1と光重合性化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(質量平均分子量(Mw):578、SP値:10.4)との混合比を質量部が60:20:20で混合させたアクリル系ポリマー混合物を、溶剤Xとしてのメチルエチルケトンと、溶剤Yとしてのメトキシプロパノールとを63:37の質量割合で混合して得た混合溶媒Zに溶解させた以外は、実施例1と同様の方法で離型フィルム4(サンプル)を作製した。
Example 4
When producing a composition for forming a three-dimensional structure, the above acrylic polymer A1, the above acrylic polymer B1 and dipentaerythritol hexaacrylate as a photopolymerizable compound (mass average molecular weight (Mw): 578, SP value: 10.4 The acrylic polymer mixture is prepared by mixing 60: 20: 20 parts by weight of a mixture ratio of (a) with methyl ethyl ketone as solvent X and methoxypropanol as solvent Y at a mass ratio of 63: 37. A release film 4 (sample) was produced in the same manner as in Example 1 except that it was dissolved in the mixed solvent Z.

[実施例5]
次のように調製した3次元構造形成用組成物を用いて凹凸層を形成した以外は、実施例1と同様にして離型フィルム5(サンプル)を作製した。
すなわち、凹凸層の形成に用いる塗布液として、ポリジメチルシロキサンを枝ポリマーとし、アクリル系モノマーを幹ポリマーとする成分Bとしてのグラフト共重合体B2(質量平均分子量(Mw):16,000、SP値:10.9)65質量部と、成分Aとしてのアクリル系ポリマーB1(質量平均分子量(Mw):95,000、SP値:9.9)35質量部と、光架橋開始剤C(IGM resin社製、Ominirad127)5質量部とを含むアクリル系モノマー混合物を、溶剤Xとしてのメチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン及び溶剤Yとしてのメトキシプロパノールとを、28:26:46の質量割合で混合して得た混合溶媒Zに溶解させて、前記アクリル系ポリマー混合物濃度が16質量%である3次元構造形成用組成物を調製した。
[Example 5]
A release film 5 (sample) was produced in the same manner as in Example 1 except that a concavo-convex layer was formed using the composition for three-dimensional structure formation prepared as follows.
That is, as a coating liquid used for formation of a concavo-convex layer, graft copolymer B2 (mass average molecular weight (Mw): 16,000, SP as component B which uses polydimethylsiloxane as a branch polymer and an acrylic monomer as a base polymer) Value: 10.9) 65 parts by mass, acrylic polymer B1 as component A (mass average molecular weight (Mw): 95,000, SP value: 9.9) 35 parts by mass, photocrosslinking initiator C (IGM Obtained by mixing an acrylic monomer mixture containing 5 parts by mass of Opinrad 127, manufactured by resin, with methyl isobutyl ketone as solvent X, methyl ethyl ketone and methoxypropanol as solvent Y in a mass ratio of 28:26:46. The resulting mixture was dissolved in the mixed solvent Z to prepare a composition for forming a three-dimensional structure having a concentration of the acrylic polymer mixture of 16% by mass.

上記アクリル系モノマーを幹ポリマーとするグラフト共重合体B2は、メチルメタクリレートと、ステアリルメタクリレートと、分子量5000の末端メタアクリロイル基を有するシリコンマクロマーと、グリシジルメタクリレートとを、10:10:20:60のモル比率で共重合してなるアクリル酸変性物であった。
溶剤Xとしてのメチルイソブチルケトン及びメチルエチルケトンは、グラフト共重合体B2及びアクリル系ポリマーA1を溶解することができる溶剤であり、その沸点はメチルイソブチルケトンが116℃、メチルエチルケトンが80℃であった。
他方、溶剤Yとしてのメトキシプロパノールは、グラフト共重合体B2及びアクリル系ポリマーA1のうちA1のみを溶解することができる溶剤であり、その沸点は120℃であった。
The graft copolymer B2 having the above acrylic monomer as a main polymer comprises 10: 10: 20: 60 of methyl methacrylate, stearyl methacrylate, a silicon macromer having a terminal methacryloyl group having a molecular weight of 5,000, and glycidyl methacrylate. It was an acrylic acid modified product copolymerized at a molar ratio.
The methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone as the solvent X are solvents capable of dissolving the graft copolymer B2 and the acrylic polymer A1, and the boiling points thereof were 116 ° C. for methyl isobutyl ketone and 80 ° C. for methyl ethyl ketone.
On the other hand, methoxypropanol as the solvent Y is a solvent capable of dissolving only the graft copolymer B2 and the acrylic polymer A1 and has a boiling point of 120 ° C.

[実施例6]
マイヤーバーを調整して凹凸層の厚みを変化させて最大凹凸高低差を1μmとした以外、実施例5と同様の方法で離型フィルム6(サンプル)を作製した。
[Example 6]
A release film 6 (sample) was produced in the same manner as in Example 5 except that the thickness of the uneven layer was changed by adjusting the Meyer bar to make the maximum uneven height difference 1 μm.

[実施例7]
次のように調製した3次元構造形成用組成物を用いると共に、40℃で加熱乾燥させて凹凸層を形成した以外は、実施例2と同様にして離型フィルム7(サンプル)を作製した。
すなわち、凹凸層の形成に用いる塗布液として、成分Aとしてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(質量平均分子量(Mw):578、SP値:10.4)50質量部、成分Bとしてのポリプロピレン(出光興産社製「S400」、質量平均分子量(Mw):45,000(カタログ値)、SP値:8.2、Tg:50℃)50質量部および光架橋開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン)3質量部を含む混合物を、溶剤Xとしてのシクロヘキサン、トルエンと溶剤Yとしてのメトキシプロパノールとを49:49:2の質量割合で配合して得た混合溶媒(溶剤Z)に溶解させて、前記混合物濃度が15質量%である3次元構造形成用組成物を調製した。
溶剤Xとしてのシクロヘキサン、トルエンは、成分A及びBを溶解することができる溶剤であり、その沸点はそれぞれ81℃、111℃であった。
他方、溶剤Yとしてのメトキシプロパノールは、成分A及びBのうち成分Aのみを溶解することができる溶剤であり、その沸点は118℃であった。
[Example 7]
A release film 7 (sample) was produced in the same manner as in Example 2 except that the three-dimensional structure-forming composition prepared as follows was used and heat drying was performed at 40 ° C. to form an uneven layer.
That is, 50 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (mass average molecular weight (Mw): 578, SP value: 10.4) as component A as a coating solution used for forming the uneven layer, polypropylene as component B (Idemitsu Kosan Manufactured by “S400”, mass average molecular weight (Mw): 45,000 (catalog value), SP value: 8.2, Tg: 50 ° C. 50 parts by mass and photocrosslinking initiator (2-hydroxy-2-methyl-) A mixed solvent obtained by blending a mixture containing 3 parts by mass of 1-phenyl-propan-1-one) in a mass ratio of 49: 49: 2 with cyclohexane as solvent X, toluene and methoxypropanol as solvent Y It was made to melt | dissolve in (solvent Z), and the said composition density | concentration prepared the composition for three-dimensional structure formation which is 15 mass%.
Cyclohexane and toluene as the solvent X are solvents capable of dissolving the components A and B, and the boiling points thereof were 81 ° C. and 111 ° C., respectively.
On the other hand, methoxypropanol as the solvent Y is a solvent capable of dissolving only the component A among the components A and B, and its boiling point is 118 ° C.

[実施例8]
次のように調製した3次元構造形成用組成物を用いると共に、50℃で加熱乾燥させて凹凸層を形成した以外は、実施例7と同様にして離型フィルム8(サンプル)を作製した。
すなわち、凹凸層の形成に用いる塗布液として、成分Aとしてのウレタンアクリレート(新中村化学工業社製「商品名:U−15HA」、質量平均分子量(Mw):2205、SP値:11.2)50質量部、成分Bとしてのポリプロピレン(出光興産社製「S400」、質量平均分子量(Mw):45,000(カタログ値)、SP値:8.2、Tg:50℃)50質量部および光架橋開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン)3質量部を含む混合物を、溶剤Xとしてのシクロヘキサン、トルエンと溶剤Yとしてのメトキシプロパノールとを49:49:2の質量割合で配合して得た混合溶媒(溶剤Z)に溶解させて、前記混合物濃度が15質量%である3次元構造形成用組成物を調製した。
[Example 8]
A release film 8 (sample) was produced in the same manner as in Example 7 except that the three-dimensional structure-forming composition prepared as follows was used and heat drying was performed at 50 ° C. to form an uneven layer.
That is, as a coating liquid used for formation of an uneven | corrugated layer, the urethane acrylate as a component A (The brand name "U-15HA" by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. make, mass mean molecular weight (Mw): 2205, SP value: 11.2) 50 parts by mass, 50 parts by mass of polypropylene as component B ("S400" manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd., mass average molecular weight (Mw): 45,000 (catalog value), SP value: 8.2, Tg: 50 ° C) A mixture containing 3 parts by mass of a crosslinking initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one), cyclohexane as a solvent X, toluene, and methoxypropanol as a solvent Y 49: 49: It was made to melt | dissolve in the mixed solvent (solvent Z) obtained by mix | blending by the mass ratio of 2, and the said composition density | concentration prepared the composition for three-dimensional structure formation which is 15 mass%.

[実施例9]
次のように調製した3次元構造形成用組成物を用いると共に、50℃で加熱乾燥させて凹凸層を形成した以外は、実施例7と同様にして離型フィルム9(サンプル)を作製した。
すなわち、凹凸層の形成に用いる塗布液として、成分Aとしてのアクリル系ポリマーA1(質量平均分子量(Mw):20,000、SP値:12.6、Tg:32℃)50質量部、成分Bとしての水添末端アクリレートポリブタジエン(日本曹達社製「TEAI−1000」、質量平均分子量(Mw):2,000(カタログ値)、SP値:9.9、Tg:−14℃(カタログ値))25質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(質量平均分子量(Mw):578、SP値:10.4)25質量部および光架橋開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン)5質量部を含む混合物を、溶剤Xとしてのシクロヘキサンとトルエンとメチルエチルケトン、溶剤Yとしてのメトキシプロパノールとn−ブタノールを6:25:32:31:6の質量割合で配合して得た混合溶媒に溶解させて、前混合物濃度が15質量%である3次元構造形成用組成物を調製した。
[Example 9]
A release film 9 (sample) was produced in the same manner as in Example 7 except that the three-dimensional structure forming composition prepared as follows was used and heat drying was performed at 50 ° C. to form a concavo-convex layer.
That is, as a coating liquid used to form the uneven layer, 50 parts by mass of an acrylic polymer A1 (mass average molecular weight (Mw): 20,000, SP value: 12.6, Tg: 32 ° C.) as component A, component B Hydrogenated end acrylate polybutadiene (Nippon Soda Co., Ltd. “TEAI-1000”, mass average molecular weight (Mw): 2,000 (catalog value), SP value: 9.9, Tg: −14 ° C. (catalog value)) 25 parts by mass, 25 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (mass average molecular weight (Mw): 578, SP value: 10.4), and a photocrosslinking initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane-1) A mixture containing 5 parts by mass of cyclohexane, toluene, methyl ethyl ketone as solvent X, methoxypropanol as solvent Y, n- The ethanol 6: 25: 32: 31: 6 weight ratio were dissolved in a mixed solvent obtained by mixing in the premixing concentration to prepare a three-dimensional structure forming composition is 15% by mass.

[比較例1]
実施例1で用いた前記基材フィルムとしてのポリエステルフィルムの表面に、凹凸層を形成することなく、実施例1と同様に離型層を設けた以外は、実施例1と同様にして離型フィルム10(サンプル)を作製した。
Comparative Example 1
A mold release was carried out in the same manner as in Example 1 except that a mold release layer was provided in the same manner as in Example 1 without forming an uneven layer on the surface of the polyester film as the base film used in Example 1. Film 10 (sample) was produced.

[比較例2]
ポリエチレンがラミネートされており、最大高低差が8.2μm、凸部幅が40μm、ピッチが310μm周期で、凸部が格子状の形状を有し、表面にシリコーン剥離層が設けられている離型紙を用いた。
Comparative Example 2
Release paper in which polyethylene is laminated, maximum height difference is 8.2 μm, convex part width is 40 μm, pitch is 310 μm period, convex part has a lattice shape, and silicone release layer is provided on the surface Was used.

(考察)
上記実施例・比較例の結果並びに本発明者がこれまで行ってきた試験結果などから、所定の成分A及び成分Bを、成分A及び成分Bに対して良溶媒である溶剤Xと、成分Aに対して良溶媒(すなわちこれらに対して共溶媒)であり、成分Bに対しては貧溶媒であり、かつ沸点が溶剤Xよりも高い溶剤Yとの混合溶剤Zに加えて溶かして3次元構造形成用組成物を調製し、この3次元構造形成用組成物を基材の表面に塗布し、加熱して溶剤Xを溶剤Yよりも優先させて揮発させて、溶剤Yに溶け難い成分Bを析出させて凸部を形成するようにすれば、不規則形状からなる凹凸構造を表面に備えた3次元構造を自己形成することができ、しかも、成分A、成分B、溶剤X及びYの材料の選択や配合量を調整することにより、前記凹凸構造における凹凸の深さを適宜調整することができることが分かった。
(Discussion)
From the results of the above Examples and Comparative Examples and the test results that the present inventor has conducted so far, Component A and Component B are mixed with Solvent X, which is a good solvent for Component A and Component B, and Component A To a mixed solvent Z with a solvent Y which is a good solvent (that is, a co-solvent for these), a poor solvent for the component B, and a boiling point higher than that of the solvent X A composition for forming a structure is prepared, and the composition for forming a three-dimensional structure is applied to the surface of a substrate, and heated to volatilize solvent X prior to solvent Y to volatilize component B, which is difficult to dissolve in solvent Y Can be deposited to form a convex portion, a three-dimensional structure having an irregular structure having irregular shapes on the surface can be self-formed, and component A, component B, solvents X and Y By adjusting the selection of materials and the compounding amount, It was found that it is possible to appropriately adjust the depth of the convex.

Claims (10)

ポリマー又はオリゴマーからなる互いに非相溶な成分A及びBが、以下を満たす溶剤X及び溶剤Yを含有する混合溶剤Zに溶解又は懸濁分散してなる3次元構造形成用組成物。
溶剤X:成分A及び成分Bを溶解する。
溶剤Y:成分Aを溶解するが、成分Bの溶解性が低い。
溶剤Xの沸点よりも溶剤Yの沸点の方が高い。
A composition for forming a three-dimensional structure, in which mutually incompatible components A and B comprising a polymer or oligomer are dissolved or suspended in a mixed solvent Z containing a solvent X and a solvent Y satisfying the following.
Solvent X: Dissolve component A and component B.
Solvent Y: The component A is dissolved, but the solubility of the component B is low.
The boiling point of the solvent Y is higher than the boiling point of the solvent X.
前記成分A及びBに加えてさらに架橋開始剤Cが混合溶剤Zに溶解又は懸濁分散しており、前記溶剤Xは架橋開始剤Cを溶解し、前記溶剤Yは架橋開始剤Cを溶解することを特徴とする、請求項1に記載の3次元構造形成用組成物。   In addition to the components A and B, a crosslinking initiator C is further dissolved or suspended in the mixed solvent Z, the solvent X dissolves the crosslinking initiator C, and the solvent Y dissolves the crosslinking initiator C The composition for three-dimensional structure formation according to claim 1, characterized in that. 前記成分AのSP値(A)は8〜21であり、成分BのSP値(B)は7〜20であり、且つ、前記SP値(A)−前記SP値(B)=0.01〜10であることを特徴とする請求項1又は2に記載の3次元構造形成用組成物。   The SP value (A) of the component A is 8 to 21, the SP value (B) of the component B is 7 to 20, and the SP value (A) −the SP value (B) = 0.01 The composition for forming a three-dimensional structure according to claim 1 or 2, characterized in that 前記成分Aの質量平均分子量(Mw)は300〜300,000であり、前記成分Bの質量平均分子量(Mw)は、前記成分Aの質量平均分子量(Mw)より1000以上大きく、且つ、1300〜400,000であることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の3次元構造形成用組成物。   The mass average molecular weight (Mw) of the component A is 300 to 300,000, and the mass average molecular weight (Mw) of the component B is 1000 or more larger than the mass average molecular weight (Mw) of the component A, and 1300 to 1000 It is 400,000, The composition for three-dimensional structure formation in any one of the Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. 溶剤Xの沸点と溶剤Yの沸点の差は1〜80℃であることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の3次元構造形成用組成物。   The composition for forming a three-dimensional structure according to any one of claims 1 to 4, wherein the difference between the boiling point of the solvent X and the boiling point of the solvent Y is 1 to 80 ° C. 請求項1〜5の何れかに記載の3次元構造形成用組成物の硬化物。   A cured product of the composition for forming a three-dimensional structure according to any one of claims 1 to 5. 請求項1〜5の何れかに記載の3次元構造形成用組成物の硬化物を備えた成形体。   The molded object provided with the hardened | cured material of the composition for three-dimensional structure formation in any one of Claims 1-5. 請求項1〜5の何れかに記載の3次元構造形成用組成物の硬化物を備えた積層体。   The laminated body provided with the hardened | cured material of the composition for three-dimensional structure formation in any one of Claims 1-5. 請求項1〜5の何れかに記載の3次元構造形成用組成物を基材の表面に塗布し、加熱して溶剤Yよりも先に溶剤Xを揮発させ、溶剤Yに溶け難い成分Bを析出させて凸部を形成することを特徴とする、3次元構造形成方法。   The composition for forming a three-dimensional structure according to any one of claims 1 to 5 is applied to the surface of a substrate, and heated to volatilize the solvent X earlier than the solvent Y, and the component B hardly soluble in the solvent Y A method of forming a three-dimensional structure, comprising depositing to form a convex portion. 溶剤Xを揮発させて凸部を形成した後、架橋開始剤Cを励起させて架橋反応させて前記凸部を硬化させることを特徴とする、請求項9に記載の3次元構造形成方法。
10. The three-dimensional structure forming method according to claim 9, wherein the solvent X is volatilized to form a convex portion, and then the crosslinking initiator C is excited to cause a crosslinking reaction to cure the convex portion.
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