JP2019097543A - 排ガス供給システムおよび排ガス供給方法 - Google Patents
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Abstract
Description
まず、本実施形態の排ガス供給システム1の構成について説明する。なお、以下の説明において、「上流」とは排ガスの流れ方向についての上流であり、「下流」とは排ガスの流れ方向についての下流である。
次に、排ガス供給システム1の作用について説明する。前記のような構成の排ガス供給システム1は、バイオマス燃焼施設21で発生した排ガスを第1排ガス通路11を介して排気口から排出する一方、排ガスの一部を第2排ガス通路12を介して、栽培施設71に供給する。具体的には、排ガス供給システム1は、誘引通風機22と誘引通風機45を駆動させて、かつ、第1流量制御ダンパー46を開くことにより、第1排ガス通路11を流れる排ガスの一部を、第2排ガス通路12に設けられた排ガス浄化設備31を介して、栽培施設71に供給する。
本実施形態では、第1流量制御ダンパー46は、第2排ガス通路12にてバグフィルタ41や酸化触媒43や脱硝触媒44よりも下流側の位置に設けられている。
本実施形態では、排ガス浄化設備31は、循環通路61と、第2流量制御ダンパー62を備えている。循環通路61は、第2排ガス通路12における脱硝触媒44(詳しくは、誘引通風機45)と第1流量制御ダンパー46との間の第2位置82(下流側位置)と、第2排ガス通路12におけるバグフィルタ41よりも上流側の第1位置81(上流側位置)との間を接続している。そして、この循環通路61に、排ガスの流量を制御する第2流量制御ダンパー62が設けられている。
浄化後の排ガス中の各成分(植物に有害な成分)のうち1つでも濃度が所定の基準値を超えた成分がある場合には、植物の育成に影響を与えるおそれがあるため、栽培施設71への排ガスの供給を停止させることが望ましい。
前記の比較例では、夜間など栽培施設71への排ガスの供給を長時間停止する場合に、第1流量制御ダンパー46を全閉状態にして栽培施設71への排ガスの供給を停止させると、第1流量制御ダンパー46により排ガスは排ガス浄化設備31に流れることができない。
11 第1排ガス通路
12 第2排ガス通路
21 バイオマス燃焼施設
31 排ガス浄化設備
32 システム制御部
41 バグフィルタ
42 排ガス再加熱器
43 酸化触媒
44 脱硝触媒
45 誘引通風機
46 第1流量制御ダンパー
47 ガス冷却設備
48 各ガス分析計
61 循環通路
71 栽培施設
81 第1位置
82 第2位置
Claims (6)
- 燃焼施設にて燃料を燃焼させて発生した二酸化炭素を含む排ガスを植物の栽培施設に供給する排ガス供給システムにおいて、
前記排ガスを前記栽培施設へ流すための排ガス通路と、
前記排ガス通路を流れる前記排ガスを浄化する排ガス浄化部と、
前記栽培施設へ供給する前記排ガスの流量を制御する流量制御部と、を有し、
前記流量制御部は、前記排ガス通路にて前記排ガス浄化部よりも前記排ガスの流れ方向の下流側の位置に設けられていること、
を特徴とする排ガス供給システム。 - 請求項1の排ガス供給システムにおいて、
前記排ガス通路における前記排ガス浄化部と前記流量制御部との間の位置と、前記排ガス通路における前記排ガス浄化部よりも前記排ガスの流れ方向の上流側の位置との間を接続する循環通路を有すること、
を特徴とする排ガス供給システム。 - 請求項2の排ガス供給システムにおいて、
前記排ガス供給システムを構成する各部の制御を行うシステム制御部を有し、
前記システム制御部は、前記排ガス浄化部による浄化後の前記排ガス中の各成分のうちの少なくとも1つの成分の濃度が所定の基準値を超えた場合に、前記流量制御部により前記栽培施設への前記排ガスの供給を停止させるとともに、前記排ガスを前記循環通路へ流して循環させること、
を特徴とする排ガス供給システム。 - 請求項1乃至3のいずれか1つの排ガス供給システムにおいて、
前記排ガス通路にて前記排ガスを誘引する排ガス誘引部を有し、
前記流量制御部は、前記排ガス通路にて前記排ガス誘引部よりも前記排ガスの流れ方向の下流側の位置に設けられていること、
を特徴とする排ガス供給システム。 - 請求項2または3の排ガス供給システムにおいて、
前記栽培施設への前記排ガスの供給を所定時間以上停止しているときに、前記排ガスを前記循環通路へ流して循環させながら加熱していること、
を特徴とする排ガス供給システム。 - 燃焼施設にて燃料を燃焼させて発生した二酸化炭素を含む排ガスを植物の栽培施設に供給する排ガス供給方法において、
排ガス通路により前記排ガスを前記栽培施設へ流し、
排ガス浄化部により前記排ガス通路を流れる前記排ガスを浄化し、
流量制御部により前記栽培施設へ供給する前記排ガスの流量を制御するものであって、
前記流量制御部を、前記排ガス通路にて前記排ガス浄化部よりも前記排ガスの流れ方向の下流側の位置に設けること、
を特徴とする排ガス供給方法。
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