JP2019083264A - Wiring board and wiring board for multiple parts - Google Patents

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敏徳 肥田
Toshinori Hida
敏徳 肥田
一範 福永
Kazunori Fukunaga
一範 福永
憲 溝口
Ken Mizoguchi
憲 溝口
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Abstract

To provide a wiring board or the like that has a plurality of surface pads on which electronic components are to be mounted subsequently to the first main surface of the board body and has improved mountability of an electronic component by suppressing variation in thickness of a plated layer coated on the surface of each of the surface pads.SOLUTION: A wiring board 1a includes a board body 2 that is constituted by insulating materials s1 and s2 and has a first main surface 3 and a second main surface 4 opposite to each other with a rectangular outline in plan view, and four side surfaces 5 located between the main surfaces 3 and 4, two surface pads 6a and 6b formed on the main surface 3, and a plurality of inner layer wirings 7a to 7c, 8a, 8b, 8p, 9a, and 9b formed inside the board body 2, and the inner layer wirings 7a to 7c, and the like have ends 8ae, 8be, 9ae, and 9be on different side surfaces 5 of the board body 2, and two sets of conductive circuits C1 and C2 are formed by two of the inner layer wirings 7a to 7c and the like and the two surface pads 6a and 6b, are electrically isolated from each other, and the conductive circuits C1 and C2 are connected to the inner layer wirings 7a to 7c, and the like through one of the surface pad 6a and 6b.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、基板本体の第1の主面に設けた複数の表面パッドにおける実装性に優れた配線基板、および複数の該配線基板を併有する多数個取り用配線基板に関する。   The present invention relates to a wiring board having excellent mountability in a plurality of surface pads provided on the first main surface of a substrate body, and a multi-layered wiring board having a plurality of the wiring boards.

例えば、製品領域において平面視で縦横に隣接して配置された複数のパッケージごとの凹部(キャビティ)の底面に形成された内部メタライズ層において、該内部メタライズ層ごとの表面に被覆されるメッキ層同士間における厚みのばらつきを抑制するため、上記パッケージごとにおける矩形枠状の表面に形成した表面メタライズ層を介してメッキ用電流を通電可能とした多数個取り基板の発明が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   For example, in the internal metallized layer formed on the bottom surface of the recess (cavity) of each of the plurality of packages arranged adjacent to each other in plan view in the product region, the plated layers coated on the surface of each internal metallized layer In order to suppress variations in thickness between layers, the invention of a multi-cavity substrate has been proposed in which a plating current can be applied through a surface metallized layer formed on the surface of a rectangular frame in each package (for example, Patent Document 1).

しかし、前記多数個取り基板では、複数のパッケージ間における前記内部メタライズ層の表面に被覆されるメッキ層のばらつきを抑制できるが、個々のパッケージにおける複数の内部メタライズ層ごとに被覆するメッキ層の厚みのばらつきは、解決すべき課題とされていなかった。そのため、前記複数の内部メタライズ層の表面ごとに被覆するメッキ層の厚みがばらついている場合、追って上記複数の内部メタライズ層の上方に跨がって電子部品を実装した際に、前記内部メタライズ層ごとの上方に精度良く実装できなくなるおそれがあった。   However, in the case of the multi-cavity substrate, although it is possible to suppress the variation in the plated layer coated on the surface of the internal metallized layer among the plurality of packages, the thickness of the plated layer coated for each of the plurality of internal metallized layers in each package. Variation was not considered an issue to be solved. Therefore, when the thickness of the plating layer covered every surface of the plurality of internal metallized layers varies, when the electronic component is mounted over the plurality of internal metallized layers later, the internal metallized layer There was a risk that it could not be mounted with high precision on top of each other.

特開2008−18967号公報(第1〜8頁、図1〜7)JP, 2008-18967, A (pages 1-8, FIGS. 1-7)

本発明は、背景技術で説明した問題点を解決し、基板本体の第1の主面に追って電子部品が実装される複数の表面パッドを有し、該複数の表面パッドごとの表面に被覆されるメッキによる金属層相互の厚みのばらつきを抑制することにより、上記電子部品の実装性を向上させた配線基板、および複数の該配線基板を併有する多数個取り用配線基板を提供する、ことを課題とする。   The present invention solves the problems described in the background art, and has a plurality of surface pads on which electronic components are to be mounted on the first main surface of the substrate body, and the surface is coated on each of the plurality of surface pads Providing a wiring board having improved mountability of the electronic component by suppressing variation in thickness between metal layers due to metal plating, and a multi-layered wiring board having a plurality of the wiring boards at the same time; It will be an issue.

課題を解決するための手段および発明の効果Means for Solving the Problems and Effects of the Invention

本発明は、前記課題を解決するため、基板本体の第1の主面に形成する複数の表面パッドを個別に通過し且つ内層配線を含む複数組の通電回路を上記基板本体の内部に形成し、該複数の通電回路を互いに独立させると共に、更に電気的な環境(電気的条件)に応じて上記表面パッドごとに高電気伝導層を含ませる、ことに着想して成されたものである。
即ち、本発明の配線基板(請求項1)は、絶縁材からなり、平面視の外形が矩形で且つ対向する第1の主面および第2の主面、ならびに該第1の主面と第2の主面との間に位置する四辺の側面を有する基板本体と、該基板本体の第1の主面に形成された複数の表面パッドと、上記基板本体の内部に形成された複数の内層配線と、を備えた配線基板であって、上記内層配線は、上記基板本体における側面に端部を有し、上記複数の内層配線と複数の表面パッドとによって複数組の通電回路を形成しており、該複数組の通電回路は、互いに電気的に独立していると共に、上記通電回路は、少なくとも1つの表面パッドを通過して上記内層配線と接続されている、ことを特徴とする。
According to the present invention, in order to solve the above problems, a plurality of sets of energizing circuits are formed inside the substrate main body, which individually pass through a plurality of surface pads formed on the first main surface of the substrate main body and include inner layer wiring. The invention is conceived on the idea of making the plurality of conducting circuits independent of one another and further including a high electrical conductive layer for each of the surface pads in accordance with the electrical environment (electrical conditions).
That is, the wiring substrate (claim 1) of the present invention is made of an insulating material, and the first and second main surfaces facing each other in a rectangular outline in plan view and the first main surface and the second main surface A substrate body having side surfaces of four sides located between the two main surfaces, a plurality of surface pads formed on the first main surface of the substrate body, and a plurality of inner layers formed inside the substrate body And the inner layer wire has an end on a side surface of the substrate body, and a plurality of conductive circuits are formed by the plurality of inner layer wires and the plurality of surface pads. The plurality of conductive circuits are electrically independent of each other, and the conductive circuits pass through at least one surface pad and are connected to the inner layer wiring.

前記のような配線基板によれば、以下の効果(1)が得られる。
(1)前記複数組の通電回路は、何れも少なくとも1つの前記表面パッドを通過し且つ前記内層配線と接続している各回路の構成素材が同様であると共に、互いに電気的に独立しているので、各通電経路の間における電気抵抗の差が小さくなっている。そのため、これら複数組の通電回路に対し、それぞれの前記端部からメッキ電流を給電することで、前記表面パッドの表面に互いに同様な厚みの金属膜が被覆される。従って、追って、複数の表面パッドの上方に跨がって、所要の位置および姿勢にして電子部品を精度良く実装することが可能である。
According to the above wiring board, the following effect (1) can be obtained.
(1) The constituent materials of each circuit passing through at least one of the surface pads and connected to the inner layer wiring are similar to each other and electrically independent of each other. Because of this, the difference in electrical resistance between the current-carrying paths is reduced. Therefore, by supplying a plating current from each of the end portions to the plurality of sets of current-carrying circuits, the surfaces of the surface pads are coated with metal films having similar thicknesses. Therefore, it is possible to precisely mount the electronic component with desired positions and postures straddling the upper side of the plurality of surface pads later.

尚、前記絶縁材は、高温焼成セラミック(アルミナ、ムライト、窒化アルミニウムなど)、低温焼成セラミック(ガラス−セラミック等)、あるいはエポキシ系などの樹脂である。
また、先記第1の主面および第2の主面とは、相対的な呼称であつて、一方を表面と称し、且つ他方を裏面と称することもできる。
更に、前記表面パッドには、複数の金属薄膜層を積層した前記金属層と、該金属層の表面に形成され且つ該金属層の厚みよりも大きな厚みの高電気伝導層とからなる形態のほか、メタライズ層のみからなる形態も含まれる。
また、前記「表面パッドを通過する」とは、該表面パッドに対し、互いに離間した2カ所以上において前記通電回路中の導体(例えば、ビア導体)が接続されていることを指している。
更に、前記内層配線は、線状の導体からなる形態と、平面視が任意パターンを呈する形態との双方を含んでいる。
更に、前記通電回路は、少なくとも、前記内層配線、表面パッド、および前記絶縁材の厚み方向に沿って配置されるビア導体を含んでいる。
加えて、前記高電気伝導層は、例えば、前記絶縁材がアルミナなどの高温焼成セラミックである場合、銅または銅合金、あるいは銀または銀合金が用いられる。かかる形態の場合、前記通電回路を構成するパターン配線、ビア導体、および内層配線は、タングステン(以下、単にWと記載する)、あるいはモリブデン(以下、単にMoと記載する)などからなるメタライズにより構成される。
The insulating material is a high temperature fired ceramic (alumina, mullite, aluminum nitride or the like), a low temperature fired ceramic (glass-ceramic or the like), or an epoxy resin or the like.
In addition, the first and second main surfaces may be referred to as relative names, one of which may be referred to as the front surface, and the other as the back surface.
In addition, the surface pad may include the metal layer formed by laminating a plurality of metal thin film layers, and a high electric conductive layer formed on the surface of the metal layer and having a thickness larger than the thickness of the metal layer. And the form which consists only of a metallizing layer is also included.
The term "pass through the surface pad" means that the conductor (for example, via conductor) in the conductive circuit is connected to the surface pad at two or more places separated from each other.
Furthermore, the inner layer wiring includes both a form of a linear conductor and a form in which a plan view shows an arbitrary pattern.
Furthermore, the conductive circuit includes at least the inner layer wire, the surface pad, and the via conductor disposed along the thickness direction of the insulating material.
In addition, as the high electrical conductivity layer, for example, when the insulating material is a high temperature fired ceramic such as alumina, copper or copper alloy, or silver or silver alloy is used. In such a case, the pattern wiring, the via conductor, and the inner layer wiring which constitute the conductive circuit are formed by metallizing such as tungsten (hereinafter, simply described as W) or molybdenum (hereinafter, simply as Mo). Be done.

また、本発明には、前記表面パッドは、前記内層配線を構成する導体よりも電気抵抗が低い高電気伝導層を含んでいる、配線基板(請求項2)も含まれる。
これによれば、複数組の前記通電回路の間において、通電経路の長さや太さ(容積を含む)が相違することにより、互いの電気抵抗に相違があっても、通電回路ごとに電流が通過する表面パッドに上記高電気伝導層が含まれているので、複数組の上記通電回路の間における電気抵抗の差を低減することができる。従って、前記効果(1)をより確実に奏することが可能となる。
更に、後述する多数個取り配線基板を構成した際に、平面視で該多数個取り配線基板の周辺側に位置する配線基板の表面パッドと、中央側に位置する配線基板の表面パッドとの間において、金属メッキにより被覆される金属被膜の厚みのばらつきを低減することも可能となる(以下、効果(2)と称する)。
尚、上記高電気伝導層は、前記内層配線を構成する導体と比較して、少なくとも電気抵抗率が約20nΩm小さく、例えば、銅や銅合金、あるいは銀や銀合金からなるものが例示される。
更に、本発明には、前記表面パッドは、前記基板本体の第1の主面に形成された金属層と、該金属層の上面に形成され、且つ該金属層の厚みよりも大きな厚みの前記高電気伝導層とからなる、配線基板(請求項3)も含まれる。
これによれば、上記表面パッドは、基板本体の第1の主面に形成された金属層の厚みよりも大きな厚みの前記高電気伝導層を有しているので、前記効果(1)を一層確実に奏することが可能となる。
Further, the present invention also includes a wiring board (claim 2), wherein the surface pad includes a high electric conductive layer having a lower electric resistance than the conductor constituting the inner layer wiring.
According to this, even if there is a difference in the electrical resistance among the plurality of sets of the energizing circuits due to the difference in the length and the thickness (including the volume) of the energizing path, the current is different for each energizing circuit. Since the high electrical conductive layer is included in the passing surface pad, it is possible to reduce the difference in electrical resistance between the plurality of sets of current-carrying circuits. Therefore, it is possible to more reliably achieve the effect (1).
Furthermore, when a multi-piece wiring board to be described later is configured, between the surface pad of the wiring board located on the peripheral side of the multi-piece wiring board in plan view and the surface pad of the wiring board located on the center side in plan view It is also possible to reduce variations in the thickness of the metal film coated by metal plating (hereinafter referred to as effect (2)).
The high electrical conductivity layer is at least about 20 nΩm smaller in electrical resistivity than the conductor constituting the inner layer wiring, and is, for example, made of copper or a copper alloy, or silver or a silver alloy.
Further, according to the present invention, the surface pad is formed of a metal layer formed on the first main surface of the substrate body, and formed on the top surface of the metal layer, and having a thickness greater than the thickness of the metal layer. A wiring board (claim 3) comprising a high electrical conductive layer is also included.
According to this, since the surface pad includes the high electrical conductive layer having a thickness larger than the thickness of the metal layer formed on the first main surface of the substrate main body, the effect (1) is further enhanced. It becomes possible to play reliably.

また、本発明には、前記複数組の通電回路は、前記基板本体を平面視で透過した際に、互いに交差している、配線基板(請求項4)も含まれる。
これによれば、上記複数組の通電回路が、前記基板本体を平面視で透過した際に、互いに交差する形態となっている。例えば、一方の通電回路の内層配線と、他方の通電回路の内層配線とが、前記基板本体を平面視で透過した際に、互いに直交状に交差している構造であっても、通電回路同士が互いに電気的に独立しているので、前記効果(1)を得ることが可能となる。
尚、上記交差する角度は、平面視による透視で30度〜90度の範囲である。
The present invention also includes a wiring board (claim 4) in which the plurality of sets of energizing circuits cross each other when the substrate body is transmitted in a plan view.
According to this, the plurality of sets of energization circuits cross each other when passing through the substrate body in plan view. For example, even if the inner layer wire of one conducting circuit and the inner layer wire of the other conducting circuit cross each other in an orthogonal manner when passing through the substrate body in plan view, the conducting circuits Are electrically independent of each other, it is possible to obtain the effect (1).
Note that the intersecting angle is in the range of 30 degrees to 90 degrees in perspective by planar view.

更に、本発明には、前記複数組の通電回路は、2組の通電回路であり、該2組の通電回路ごとの両端部は、前記基板本体において対向する一対の側面、あるいは隣接する一対の側面に個別に露出している、配線基板(請求項5)も含まれる。
上記のうち、2組の通電回路ごとの両端部が、前記基板本体において対向する一対の同じ側面に個別に露出している形態では、後述する多数個取り用配線基板において、複数の配線基板に共通して通電するメッキ用電流の通電経路をほぼ同じ方向に沿って配設できるので、該多数個取り用配線基板における製品領域内の回路構造を簡素化することが可能となる(以下、効果(3)と称する)。
一方、前記2組の通電回路ごとの両端部が、前記基板本体において隣接する一対の側面ごとに個別に露出している形態では、上記2組の通電回路間における不用意な短絡を容易に防止できる(以下、効果(4)と称する)。
Further, in the present invention, the plurality of sets of energizing circuits are two sets of energizing circuits, and both ends of each of the two sets of energizing circuits are a pair of opposing side surfaces or an adjacent pair in the substrate body. The wiring board (claim 5) exposed separately on the side is also included.
Among the above, in the embodiment in which both ends of each of the two sets of energizing circuits are individually exposed to the pair of identical side surfaces facing each other in the substrate main body, a plurality of wiring boards in a multi-cavity wiring board described later Since it is possible to arrange the current paths for the plating current to be commonly applied along substantially the same direction, it is possible to simplify the circuit structure in the product area of the wiring board for multiple cavities (hereinafter, the effect is achieved) (3))).
On the other hand, in the embodiment in which both ends of each of the two sets of energizing circuits are exposed separately for each of a pair of adjacent side surfaces in the substrate body, an inadvertent short circuit between the two sets of energizing circuits is easily prevented. (Hereinafter referred to as effect (4)).

加えて、本発明には、前記基板本体の第2の主面には、前記複数組の通電回路と個別に接続された複数の外部接続端子が形成されている、配線基板(請求項6)も含まれる。
これによれば、前記複数組の通電回路ごとにメッキ用電流を給電した際に、各通電回路と個別に接続された外部接続端子ごとの表面にも、同時に同じ金属メッキによる金属被膜を被覆することが可能となる(以下、効果(5)と称する)。
In addition, according to the present invention, a wiring substrate is formed on the second main surface of the substrate main body with a plurality of external connection terminals individually connected to the plurality of sets of energization circuits (claim 6) Also included.
According to this, when the plating current is supplied to each of the plurality of sets of energizing circuits, the surface of each of the external connection terminals individually connected to each energizing circuit is simultaneously coated with the same metal coating by metal plating. Becomes possible (hereinafter referred to as effect (5)).

一方、本発明の多数個取り用配線基板(請求項7)は、複数の前記配線基板を平面視で縦横に隣接して配列した製品領域と、該製品領域の周辺を囲む耳部とからなり、該耳部の外側面には、前記配線基板ごとの複数の通電回路と電気的に個別に接続された複数のメッキ用電極が形成されている、ことを特徴とする。
これによれば、前記効果(1)〜(5)を奏し得る複数の配線基板を、多数個取りの形態によって効率良く提供することが可能となる(以下、効果(6)と称する)。特に、前記効果(1)については、個々の配線基板が前記製品領域内の何れの位置にあった場合でも、個々の基板本体の第1の主面に形成された複数の表面パッドごとの表面に、電解金属メッキによる金属膜を比較的均一な厚みで被覆することが可能となる。更に、前記効果(2)も確実に得られる。
On the other hand, the multi-cavity wiring board of the present invention (Claim 7) comprises a product area in which a plurality of the wiring boards are arranged vertically and horizontally adjacent to each other in plan view and an ear portion surrounding the periphery of the product area. The invention is characterized in that a plurality of plating electrodes electrically connected individually to the plurality of energizing circuits for each of the wiring boards are formed on the outer side surface of the ear portion.
According to this, it becomes possible to efficiently provide a plurality of wiring boards capable of achieving the effects (1) to (5) in a multi-piece configuration (hereinafter referred to as effect (6)). In particular, with regard to the effect (1), the surface of each of the plurality of surface pads formed on the first main surface of the individual substrate main body, regardless of where the individual wiring substrate is located in the product area. In addition, it becomes possible to coat a metal film by electrolytic metal plating with a relatively uniform thickness. Furthermore, the effect (2) can be reliably obtained.

(A)は本発明による一形態の配線基板を示す斜視図、(B)は該配線基板の一部に透視的部分などを含む分解斜視図。(A) is a perspective view which shows the wiring board of one form by this invention, (B) is a disassembled perspective view which includes a transparent part etc. in a part of this wiring board. 図1(A)中のX−X線の矢視に沿った概略の垂直断面図。The general | schematic perpendicular | vertical cross section along the arrow of XX in FIG. 1 (A). 図1(A)中のY−Y線の矢視に沿った概略の垂直断面図。The general | schematic perpendicular | vertical cross section along the arrow of the YY line in FIG. 1 (A). 上記配線基板の使用状態を示す図3と同様な概略の垂直断面図。FIG. 5 is a schematic vertical cross-sectional view similar to FIG. 3 showing a use state of the wiring board. (A)は異なる形態の配線基板を示す斜視図、(B)は該配線基板の分解斜視図。(A) is a perspective view which shows the wiring board of a different form, (B) is a disassembled perspective view of this wiring board. 図5(A)中のX−X線の矢視に沿った概略の垂直断面図。The general | schematic perpendicular | vertical cross section along the arrow of XX in FIG. 5 (A). 図5(A)中のY−Y線の矢視に沿った概略の垂直断面図。The general | schematic perpendicular | vertical cross section along the arrow of the YY line in FIG. 5 (A). 上記配線基板の使用状態を示す図7と同様な概略の垂直断面図。FIG. 8 is a schematic vertical cross-sectional view similar to FIG. 7 showing a use state of the wiring board. (A)は図1〜4の配線基板を含む多数個取り用配線基板の平面図、(B)は図5〜8の配線基板を含む多数個取り用配線基板の部分平面図。(A) is a plan view of the wiring board for multiple cavities including the wiring board of FIGS. 1 to 4 and (B) is a partial plan view of the wiring board for multiple cavities including the wiring board of FIGS.

以下において、本発明を実施するための形態について説明する。
図1(A)は、本発明による一形態の配線基板1aを示す斜視図、図1(B)は、該配線基板1aの分解斜視図、図2,図3は、図1(A)中のX−X線あるいはY−Y線の矢視に沿った垂直断面図である。
上記配線基板1aは、図1(A),(B)に示すように、平面視の外形が正方形(矩形)状で且つ互いに対向する第1の主面(表面)3および第2の主面(裏面)4、ならびに該主面3,4間に位置する四辺の側面5を有する基板本体2と、該基板本体2の第1の主面3に形成された2個(複数)の表面パッド6a,6bと、上記基板本体2の内部に形成された2組(複数)のパターン配線(内層配線)7a〜7c,および内層配線8a,8b,9a,9bと、を備えている。
上記基板本体2は、例えば、アルミナなどの高温焼成セラミック(絶縁材)からなり、上下2層のセラミック層s1,s2を一体に積層したものである。上記表面パッド6a,6bと、パターン配線7a〜7cとは、平面視で長方形状を呈する。
Hereinafter, modes for carrying out the present invention will be described.
FIG. 1 (A) is a perspective view showing a wiring board 1a according to one embodiment of the present invention, FIG. 1 (B) is an exploded perspective view of the wiring board 1a, and FIGS. Cross-sectional view along the arrow of line X-X or line Y-Y of FIG.
As shown in FIGS. 1 (A) and 1 (B), the wiring board 1a has a first (main surface) 3 and a second main surface facing each other in a square (rectangular) shape in plan view. (Back surface) 4 and substrate main body 2 having side surfaces 5 of four sides located between the main surfaces 3 and 4 and two (plural) surface pads formed on the first main surface 3 of the substrate main body 2 6a and 6b, and two sets (plurality) of pattern wiring (inner layer wiring) 7a to 7c formed inside the substrate main body 2 and inner layer wirings 8a, 8b, 9a and 9b.
The substrate body 2 is made of, for example, a high-temperature fired ceramic (insulation material) such as alumina, and the upper and lower two ceramic layers s1 and s2 are integrally laminated. The surface pads 6a and 6b and the pattern wirings 7a to 7c have a rectangular shape in plan view.

図1(B),図3に示すように、前記2組のうち、前記セラミック層s1,s2間に形成されたパターン配線(内層配線)7aと内層配線8aとは、一方の前記表面パッド6aの長辺方向における両端側の中央部ごとと、上記セラミック層s1を個別に貫通する2つのビア導体を介して、個別に接続していると共に、互いに導通可能とされた第1の通電回路C1を構成している。上記パターン配線7aは、平面視が鈎形の内層配線9aと接続し、更にセラミック層s2を貫通するビア導体10を介して、基板本体2の第2の主面4に形成された一方の外部接続端子11aとも電気的に接続されている。上記第1の通電回路C1の両端部である内層配線8aの端部(端面)8aeと、内層配線9aの端部9aeとは、基板本体2で対向する一対の側面5ごとに個別に露出している。
図1(B)は、前記表面パッド6a,6bと、パターン配線7a〜7cと、内層配線8a,8b,9a,9bとの間における電気的な接続形態を説明するため、セラミック層s1,s2を互いに厚み方向に沿って分解した斜視である。そのため、図1(B)中の前記セラミック層s1,s2間には、セラミック層s1を貫通する複数のビア導体10を軸方向に沿って延長した仮想の破線が含まれている。
As shown in FIG. 1 (B) and FIG. 3, of the two sets, the pattern wiring (inner layer wiring) 7a formed between the ceramic layers s1 and s2 and the inner layer wiring 8a are one of the surface pads 6a. The first current-carrying circuit C1 which is individually connected to each other via the center portions on both end sides in the long side direction and the two via conductors which individually penetrate the ceramic layer s1. Are configured. The pattern wiring 7a is connected to the inner layer wiring 9a having a bowl shape in a plan view, and further formed on the second main surface 4 of the substrate body 2 via the via conductor 10 penetrating the ceramic layer s2. The connection terminals 11a are also electrically connected. The end (end face) 8ae of the inner layer wiring 8a which is the both ends of the first current-carrying circuit C1 and the end 9ae of the inner layer wiring 9a are exposed separately for each pair of side surfaces 5 opposed in the substrate body 2 ing.
FIG. 1B illustrates ceramic layers s1 and s2 in order to explain an electrical connection between the surface pads 6a and 6b, the pattern wirings 7a to 7c, and the inner layer wirings 8a 8b 9a, and 9b. Are separated from each other along the thickness direction. Therefore, an imaginary broken line is included between the ceramic layers s1 and s2 in FIG. 1B, extending in the axial direction a plurality of via conductors 10 penetrating the ceramic layer s1.

尚、平面視がL字形状である前記内層配線8aの先端部には、一方の前記ビア導体10と接続するための接続用パッド(内層配線)8pが設けられている。
また、前記パターン配線7a、内層配線8a,9a、ビア導体10、および外部接続端子11aは、主にWあるいはMoからなる。
更に、前記表面パッド6aは、2つのビア導体10を介して、パターン配線7aと内層配線8aに接続されているため、第1の通電回路C1では、電流が必ず通過する導体である。上記表面パッド6aは、後述するように、基板本体2の第1の主面3に形成された金属層12と、該金属層12の上面に形成され、且つ該金属層12の厚みよりも大きな厚みの高電気伝導層13とからなっている。該高電気伝導層13は、主に銅あるいは銀からなり、上記WやMoよりも電気抵抗が低い。
A connection pad (inner layer wire) 8p for connection to one of the via conductors 10 is provided at the tip of the inner layer wire 8a having an L shape in plan view.
The pattern wiring 7a, the inner layer wirings 8a and 9a, the via conductor 10, and the external connection terminal 11a are mainly made of W or Mo.
Furthermore, since the surface pad 6a is connected to the pattern wiring 7a and the inner layer wiring 8a through the two via conductors 10, the first conduction circuit C1 is a conductor through which current always passes. The surface pad 6a is formed on the metal layer 12 formed on the first main surface 3 of the substrate body 2 and on the upper surface of the metal layer 12 as described later, and is larger than the thickness of the metal layer 12 It consists of a thick high electrical conductive layer 13. The high electrical conductive layer 13 is mainly made of copper or silver and has lower electric resistance than the W or Mo.

図1(B),図2に示すように、前記2組のうち、前記セラミック層s1,s2間に形成されたパターン配線(内層配線)7b,7cは、内層配線8b,9bと個別に接続し、且つ上記セラミック層s1を個別に貫通する2つのビア導体10を介して、他方の表面パッド6bの長辺方向における両端側と個別に接続することで、互いに導通可能とされた第2の通電回路C2を構成している。
また、上記パターン配線7cは、セラミック層s2を貫通するビア導体10を介して、基板本体2の第2の主面4に形成された他方の外部接続端子11bとも電気的に接続されている。上記第2の通電回路C2の両端部である内層配線8bの端部8beと、内層配線9bの端部9beとは、基板本体2で対向する一対の側面5ごとに個別に露出している。尚、これら一対の側面5は、図1(A),(B)に示すように、前記第1の通電回路C1の両端部8ae,9aeが露出する各側面5とは、互いに異なり且つ隣接している。
As shown in FIG. 1 (B) and FIG. 2, the pattern wiring (inner layer wiring) 7b and 7c formed between the ceramic layers s1 and s2 among the two sets is individually connected to the inner layer wirings 8b and 9b. And the second surface which can be conducted mutually by individually connecting with both end sides in the long side direction of the other surface pad 6 b through the two via conductors 10 individually penetrating the ceramic layer s 1. The energizing circuit C2 is configured.
The pattern wiring 7c is also electrically connected to the other external connection terminal 11b formed on the second main surface 4 of the substrate body 2 through the via conductor 10 penetrating the ceramic layer s2. The end 8be of the inner layer wiring 8b, which is both ends of the second current-carrying circuit C2, and the end 9be of the inner layer wiring 9b are exposed separately for each of the pair of side surfaces 5 opposed in the substrate body 2. Incidentally, as shown in FIGS. 1A and 1B, the pair of side surfaces 5 are different from and adjacent to the side surfaces 5 on which both end portions 8ae and 9ae of the first energizing circuit C1 are exposed. ing.

図1(B),図2に示すように、前記第1の通電回路C1側の内層配線8aにおける長辺側と、前記第2の通電回路C2側の表面パッド6bとは、前記基板本体2の厚み方向において、前記セラミック層s1の厚み相当分だけ離間していると共に、平面視で透過した際において、互いに直角(90度)状に交差している。即ち、第1および第2の通電回路C1,C2は、互いに電気的に独立している。
尚、前記パターン配線7b,7c、内層配線8b,9b、ビア導体10、および外部接続端子11bも、主にWあるいはMoからなる。
また、前記表面パッド6bも、2つのビア導体10を介して、パターン配線7b,7cと個別に接続されているため、第2の通電回路C2において、電流が必ず通過する導体である。上記表面パッド6bは、図2中の一点鎖線部分Zの拡大図で示すように、基板本体2の第1の主面3に形成された金属層12と、該金属層12の上面に形成され且つ該金属層12の厚みよりも大きな厚みの高電気伝導層13とからなっている。上記金属層12は、全体の厚みが約1μmで、例えば、前記第1の主面3側からチタン、Mo、および銅の薄膜層を前記の順次積層してものである。一方、上記高電気伝導層13は、全体の厚みが約50μmの銅あるいは銀からなり、前記WやMoよりも電気抵抗が格段に低い。
As shown in FIG. 1 (B) and FIG. 2, the long side of the inner layer wire 8a on the side of the first conduction circuit C1 and the surface pad 6b on the side of the second conduction circuit C2 are the substrate main body 2 In the thickness direction, they are separated by an amount corresponding to the thickness of the ceramic layer s1, and when they are transmitted in a plan view, they cross each other at a right angle (90 degrees). That is, the first and second energizing circuits C1 and C2 are electrically independent of each other.
The pattern wirings 7b and 7c, the inner layer wirings 8b and 9b, the via conductors 10, and the external connection terminals 11b are also mainly made of W or Mo.
Further, since the surface pads 6b are also individually connected to the pattern wirings 7b and 7c through the two via conductors 10, they are conductors through which the current always passes in the second conduction circuit C2. The surface pad 6b is formed on the metal layer 12 formed on the first main surface 3 of the substrate body 2 and on the upper surface of the metal layer 12 as shown in the enlarged view of the dashed dotted line portion Z in FIG. And it consists of a high electric conductive layer 13 having a thickness larger than the thickness of the metal layer 12. The metal layer 12 has a total thickness of about 1 μm, and for example, thin film layers of titanium, Mo and copper are sequentially laminated from the side of the first main surface 3. On the other hand, the high electrical conductivity layer 13 is made of copper or silver having a total thickness of about 50 μm, and has a much lower electrical resistance than the W or Mo.

前記図1(B),図3で示したように、前記第1の通電回路C1は、例えば、端部8aeから内層配線8aに給電されたメッキ用電流が、該内層配線8a、前記パッド8p、ビア導体10、表面パッド6a、ビア導体10、パターン配線7a、および内層配線9aを経て、該内層配線9aの端部9aeに送電される通電経路を有している。即ち、第1の通電回路C1では、電流が必ず表面パッド6aを通過し、その通電経路の一部には、前記外部接続端子11aとこれに接続するビア導体10も含んでいる。
尚、図3では、理解を容易にするため、内層配線の8aのパッド8pと、パターン配線7aとの間を離して図示している。後述する図4についても同様である。
一方、前記図1(B),図2で示したように、前記第2の通電回路C2は、例えば、端部8beから内層配線8bに給電されたメッキ用電流が、該内層配線8b、パターン配線7b、ビア導体10、表面パッド6b、ビア導体10、パターン配線7c、および内層配線9bを経て、該内層配線9bの端部9beに送電される通電経路を有している。即ち、該第2の通電回路C2では、電流が必ず表面パッド6bを通過し、その通電経路の一部には、前記外部接続端子11bとこれに接続するビア導体10も含んでいる。
As shown in FIG. 1 (B) and FIG. 3, for example, the plating current supplied to the inner layer wire 8 a from the end 8 ae of the first energizing circuit C 1 is the inner layer wire 8 a and the pad 8 p. A conductive path is provided to transmit power to the end 9ae of the inner layer wire 9a via the via conductor 10, the surface pad 6a, the via conductor 10, the pattern wire 7a, and the inner layer wire 9a. That is, in the first conduction circuit C1, a current always passes through the surface pad 6a, and a part of the conduction path includes the external connection terminal 11a and the via conductor 10 connected thereto.
In FIG. 3, for ease of understanding, the pad 8p of the inner layer wiring 8a and the pattern wiring 7a are shown apart from each other. The same applies to FIG. 4 described later.
On the other hand, as shown in FIG. 1 (B) and FIG. 2, in the second conduction circuit C2, for example, the plating current supplied from the end 8be to the inner layer wire 8b is the inner layer wire 8b, pattern A conductive path is provided to transmit power to the end 9be of the inner layer wire 9b through the wire 7b, the via conductor 10, the surface pad 6b, the via conductor 10, the pattern wire 7c, and the inner layer wire 9b. That is, in the second conduction circuit C2, a current always passes through the surface pad 6b, and a part of the conduction path includes the external connection terminal 11b and the via conductor 10 connected thereto.

前記のように、第1および第2の通電回路C1,C2の通電経路は、両者間の通電経路の長さや構成する導体の体積などが互いに相違している。しかし、これら第1および第2の通電回路C1,C2は、それぞれの通電経路の中間に、電気抵抗が他の導体部分よりも低い高電気伝導層13を含有する前記表面パッド6a,6bを個別に有しているので、両通電回路C1,C2間における電気抵抗の差は、可級的に小さくされている。
その結果、同じメッキ用電流を、第1および第2の通電回路C1,C2の前記通電経路ごとに沿って給電した場合、前記表面パッド6a,6bおよび外部接続端子11a,11bの表面ごとに対して、例えば、電解金属メッキによるニッケル層と金層(金属被膜、何れも図示せず)とをほぼ同じ厚みで且つ均一にして被覆することが可能となっている。
尚、前記図1(B)において、2つの通電経路間で互いに相違する長さや構成する導体の体積などを、より等しい構成に変更するとにより、表面パッド6a,6bの上にニッケル層と金層とを更に均一に被覆することができる。
As described above, the conduction paths of the first and second conduction circuits C1 and C2 are different from each other in the length of the conduction path between them and the volume of the conductor to be configured. However, the first and second current-carrying circuits C1 and C2 separate the surface pads 6a and 6b containing the high electric conductive layer 13 whose electric resistance is lower than that of the other conductor in the middle of each current-carrying path. Therefore, the difference in the electrical resistance between the two current-carrying circuits C1 and C2 is made as small as possible.
As a result, when the same plating current is supplied along the respective conduction paths of the first and second conduction circuits C1 and C2, the surface current of the surface pads 6a and 6b and the external connection terminals 11a and 11b is different. For example, it is possible to coat a nickel layer by electrolytic metal plating and a gold layer (metal coating, both not shown) with substantially the same thickness and uniformity.
In FIG. 1B, the nickel layer and the gold layer are formed on the surface pads 6a and 6b by changing the lengths and volumes of the conductors which are different from each other between the two current paths to be equal. And can be coated more uniformly.

そのため、図4に示すように、基板本体2の第1の主面3に設けた2個の表面パッド6a,6bの上方に跨がり、追って、所定の位置および姿勢によって半導体素子や発光素子などの電子部品15を、位置および姿勢の精度良くして実装することが容易な配線基板1aとなっている。従って、前記配線基板1aによれば、前記効果(1)、(4)、(5)が確実に得られ、前記効果(2)も得られる。
尚、前記第1の通電回路C1側の内層配線8aの長辺側と、前記第2の通電回路C2の側の表面パッド6bとは、平面視で透過した際に、互いに直角状以外の任意の角度(例えば、30度以上で且つ90度未満)で交差していても良い。
また、前記第2の通電回路C2において、前記パターン配線7bと外部接続端子11bとの間も、ビア導体10によって電気的に接続していても良い。
更に、前記交差とは、上述の内層配線8aと表面パッド6bとが平面視で透過した場合の交差に限らず、前記端部8aeの中心と端部9aeの中心とを結んだ線と、前記端部8beの中心と端部9beの中心とを結んだ線とが交差する場合、即ち、通電回路C1と通電回路C2とが平面視で交差している場合も含まれる。
Therefore, as shown in FIG. 4, it straddles above the two surface pads 6a and 6b provided on the first main surface 3 of the substrate main body 2 and, depending on the predetermined position and posture, the semiconductor element, the light emitting element, etc. The wiring board 1a is easy to mount with high precision in position and posture. Therefore, according to the wiring board 1a, the effects (1), (4) and (5) can be reliably obtained, and the effect (2) can also be obtained.
Incidentally, when the long side of the inner layer wiring 8a on the side of the first conduction circuit C1 and the surface pad 6b on the side of the second conduction circuit C2 are transparent in plan view, they are optional other than perpendicular to each other. (E.g., 30 degrees or more and less than 90 degrees).
Further, in the second conduction circuit C2, the pattern conductor 7b and the external connection terminal 11b may also be electrically connected by the via conductor 10.
Furthermore, the intersection is not limited to the intersection when the above-described inner layer wiring 8a and the surface pad 6b are transmitted in plan view, but a line connecting the center of the end 8ae and the center of the end 9ae, The case where the line connecting the center of the end 8be and the center of the end 9be intersect, that is, the case where the energizing circuit C1 and the energizing circuit C2 intersect in plan view is also included.

図5(A)は、前記とは異なる形態の配線基板1bを示す斜視図、図5(B)は、該配線基板1bの分解斜視図、図6,図7は、図5(A)中のX−X線あるいはY−Y線の矢視に沿った垂直断面図である。
上記配線基板1bは、図5(A),(B)に示すように、前記同様の第1の主面3および第2の主面4、ならびに四辺の側面5を有する基板本体2と、該基板本体2の第1の主面3に形成された2個(複数)の表面パッド16a,16bと、上記基板本体2の内部に形成された2組(複数)のパターン配線(内層配線)17a〜17d、および内層配線18a,18b,19a,19bとを備えている。
FIG. 5 (A) is a perspective view showing a wiring board 1b having a form different from the above, FIG. 5 (B) is an exploded perspective view of the wiring board 1b, FIGS. 6 and 7 are in FIG. 5 (A). Cross-sectional view along the arrow of line X-X or line Y-Y of FIG.
The wiring substrate 1b is, as shown in FIGS. 5A and 5B, a substrate main body 2 having the same first main surface 3 and second main surface 4 and side surfaces 5 of four sides as described above; Two (plural) surface pads 16a and 16b formed on the first main surface 3 of the substrate main body 2 and two sets (plural) pattern wirings (inner layer wiring) 17a formed inside the substrate main body 2 To 17 d, and inner layer interconnections 18 a, 18 b, 19 a and 19 b.

図5(B),図6,図7に示すように、前記2組のうち、前記セラミック層s1,s2間に形成されたパターン配線(内層配線)17a,17bは、一方の前記表面パッド16aにおける長辺方向の両端側と、上記セラミック層s1を貫通する2つのビア導体10を介して個別に接続し、且つ内層配線18a,19aとも個別に導通可能とされた第3の通電回路C3を構成している。上記パターン配線17a,17bは、上記セラミック層s2を個別に貫通するビア導体10を介して、基板本体2の第2の主面4に形成された一方の外部接続端子11aとも個別に接続されている。上記第3の通電回路C3の両端部である内層配線18aの端部18aeと、内層配線19aの端部19aeとは、基板本体2において対向する一対の側面5ごとに個別に露出している。
図5(B)中の前記セラミック層s1,s2間にも、セラミック層s1を貫通する複数のビア導体10を軸方向に沿って延長した仮想の破線が含まれている。
As shown in FIG. 5 (B), FIG. 6, and FIG. 7, the pattern wiring (inner layer wiring) 17a and 17b formed between the ceramic layers s1 and s2 among the two groups is one of the surface pads 16a. The third current-carrying circuit C3 is separately connected through the two via conductors 10 penetrating the ceramic layer s1 to both end sides in the long side direction of the third conductive circuit C3 which can be conducted separately with the inner layer wires 18a and 19a. Configured. The pattern wirings 17a and 17b are also individually connected to one of the external connection terminals 11a formed on the second main surface 4 of the substrate body 2 through the via conductors 10 penetrating the ceramic layer s2 individually. There is. The end 18 ae of the inner layer wire 18 a, which is both ends of the third current-carrying circuit C 3, and the end 19 ae of the inner layer wire 19 a are exposed separately for each pair of side surfaces 5 opposed in the substrate body 2.
Also between the ceramic layers s1 and s2 in FIG. 5 (B), imaginary broken lines in which a plurality of via conductors 10 penetrating the ceramic layer s1 extend in the axial direction are included.

尚、前記パターン配線17a,17b、内層配線18a,19a、ビア導体10、および外部接続端子11aも、主にWあるいはMoからなる。
更に、前記表面パッド16aは、2つのビア導体10を介して、パターン配線17a,17bと個別に接続されているため、第3の通電回路C3では、電流が必ず通過する導体である。上記表面パッド16aも、主にWまたはMoからなる。
The pattern wirings 17a and 17b, the inner layer wirings 18a and 19a, the via conductor 10, and the external connection terminal 11a are also mainly made of W or Mo.
Furthermore, since the surface pad 16a is individually connected to the pattern wirings 17a and 17b via the two via conductors 10, the third conduction circuit C3 is a conductor through which current always passes. The surface pad 16a is also mainly made of W or Mo.

図5(B),図6,7に示すように、前記2組のうち、前記セラミック層s1,s2間に形成されたパターン配線(内層配線)17c,17dは、内層配線18b,19bと個別に接続し、且つ上記セラミック層s1を個別に貫通する2つのビア導体10を介して、他方の表面パッド16bにおける長辺方向の両端側と個別に接続することにより、互いに導通可能とされた第4の通電回路C4を構成している。また、上記パターン配線17c,17dは、上記セラミック層s2を個別に貫通するビア導体10を介して、基板本体2の裏面4に形成された他方の外部接続端子11bとも個別に接続されている。上記表面パッド16bも、主にWまたはMoからなり、2つのビア導体10を介して、パターン配線17c,17dと個別に接続されているため、第4の通電回路C4において、電流が必ず通過する導体である。
前記第4の通電回路C4の両端部である内層配線18bの端部18beと、内層配線19bの端部19beとは、基板本体2で対向する一対の側面5ごとに個別に露出している。尚、これら一対の側面5は、図5(A),(B)に示すように、前記第3の通電回路C3の両端部18ae,19aeが露出する側面5とは、同じで側面5ごとに位置し、且つ上記端部18ae,19aeや端部18be,19beは、互いに短絡しない距離を置いて離れている。
As shown in FIG. 5 (B), and FIGS. 6 and 7, the pattern wiring (inner layer wiring) 17c and 17d formed between the ceramic layers s1 and s2 among the two groups is separate from the inner layer wiring 18b and 19b. Can be electrically connected to each other by individually connecting to both ends in the long side direction of the other surface pad 16b through two via conductors 10 connected to each other and penetrating the ceramic layer s1 individually. The fourth energizing circuit C4 is configured. The pattern wirings 17c and 17d are also individually connected to the other external connection terminals 11b formed on the back surface 4 of the substrate body 2 through the via conductors 10 which individually penetrate the ceramic layer s2. The surface pad 16b is also mainly made of W or Mo, and is separately connected to the pattern wirings 17c and 17d through the two via conductors 10, so that current always passes through in the fourth conduction circuit C4. It is a conductor.
The end 18be of the inner layer wiring 18b, which is both ends of the fourth current-carrying circuit C4, and the end 19be of the inner layer wiring 19b are exposed separately for each of the pair of side surfaces 5 opposed in the substrate body 2. Incidentally, as shown in FIGS. 5A and 5B, the pair of side surfaces 5 is the same as the side surface 5 on which both end portions 18ae and 19ae of the third energizing circuit C3 are exposed. The end portions 18ae and 19ae and the end portions 18be and 19be are separated by a distance not to short-circuit each other.

図6,7に示すように、前記表面パッド16aと表面パッド16b、前記パターン配線17a,17bと前記パターン配線17c,17d、前記内層配線18a,19aと前記内層配線18b,19b、前記外部接続端子11aと同11b、および、これらの間を個別に接続する前記ビア導体10は、互いに同じ形状、同じ寸法、同じ位置に形成されている。そのため、前記第3および第4の通電回路C3,C4は、平面視で互いに平行(並列)であり、且つ同じ通電経路を有する対の関係にあるので、両回路C3,C4間における電気抵抗の差は、殆んどない。
その結果、同じメッキ用電流を、第3および第4の通電回路C3,c4の前記通電経路ごとに沿って、給電した場合、前記表面パッド16a,16bおよび外部接続端子11a,11bの表面ごとに対して、例えば、電解金属メッキによるニッケル層と金層(金属被膜、何れも図示せず)とをほぼ同じ厚みで且つ均一に被覆することが可能となっている。
As shown in FIGS. 6 and 7, the surface pad 16a and the surface pad 16b, the pattern wiring 17a and 17b and the pattern wiring 17c and 17d, the inner layer wiring 18a and 19a and the inner layer wiring 18b and 19b, the external connection terminal 11a and 11b, and the via conductors 10 individually connecting between them are formed in the same shape, the same size, and the same position. Therefore, since the third and fourth conduction circuits C3 and C4 are in parallel (parallel) with each other in plan view and are in a pair relationship having the same conduction path, the electric resistance between the two circuits C3 and C4 There is almost no difference.
As a result, when the same plating current is supplied along the respective conduction paths of the third and fourth conduction circuits C3 and c4, for each surface of the surface pads 16a and 16b and the external connection terminals 11a and 11b. On the other hand, it is possible to uniformly coat, for example, a nickel layer by electrolytic metal plating and a gold layer (metal coating, neither of which is shown) with substantially the same thickness.

従って、図8に示すように、前記基板本体2の第1の主面3に設けた2個の表面パッド16a,16bの上方に跨がり、追って、所定の位置および姿勢により半導体素子や発光素子などの電子部品15を精度良く実装することが容易な配線基板1bとなっている。よって、前記配線基板bによれば、前記効果(1)、(3)、(5)が確実に得られる。
尚、前記表面パッド16a,16bは、前記表面パッド6a,6bと同様に、基板本体2の第1の主面3に形成された金属層12と、その上面に厚く形成された高電気伝導層13とからなる形態としても良い。かかる形態にした配線基板1bによれば、多数個取り基板とした場合に、前記効果(2)が確実に得られる。
また、前記第3および第4の通電回路C3,C4は、前記基板本体2を平面視で透過した際に、互いに平行な配列ではなく、一方または双方が傾向いた形態であっても良い。
Therefore, as shown in FIG. 8, the semiconductor element and the light emitting element are straddled above the two front surface pads 16a and 16b provided on the first main surface 3 of the substrate body 2 and then at predetermined positions and postures. The wiring board 1 b is easy to accurately mount the electronic components 15 such as, for example. Therefore, according to the wiring board b, the effects (1), (3) and (5) can be reliably obtained.
The surface pads 16a and 16b are, similarly to the surface pads 6a and 6b, the metal layer 12 formed on the first main surface 3 of the substrate body 2 and a high electrical conductive layer formed thick on the top surface thereof. It is good also as a form which consists of 13. According to the wiring board 1b having such a form, when the multi-piece substrate is used, the effect (2) can be reliably obtained.
The third and fourth current-carrying circuits C3 and C4 may not be arranged parallel to each other when one passes through the substrate body 2 in a plan view, and one or both of them may be inclined.

図9(A)は、複数の前記配線基板1aを同時に得るための多数個取り用配線基板20aを示す平面図である。
該多数個取り用配線基板20aは、図9(A)に示すように、複数の前記配線基板1aを縦横に隣接して配列し且つ平面視の外形が長方形(矩形)を呈する製品領域21と、該製品領域21の周辺を囲み且つ平面視が矩形枠状の耳部22と、を備えている。該耳部22は、前記と同じセラミック層s1,s2を積層してなり、且つ各配線基板1aと共通する主面3,4を有している。尚、上記製品領域21の外形を示す破線と、隣接する配線基板1a同士間を区分する破線とは、追って個々の配線基板1aに分割する際に用いる仮想の切断予定面である。
上記製品領域21内において、図9(A)で左右方向に沿って隣接する2つの配線基板1aは、前記第1の通電回路C1ごとの内層配線8aと内層配線9aとが、垂直な切断予定面と直交して接続されている。一方、図9(A)で垂直方向に沿って隣接する2つの配線基板1aは、前記第2の通電回路C2ごとの内層配線8bと内層配線9bとが、水平な切断予定面と直交して接続されている。
FIG. 9A is a plan view showing a multi-layered wiring board 20a for obtaining a plurality of the wiring boards 1a simultaneously.
As shown in FIG. 9A, the multi-cavity wiring board 20a has a plurality of the wiring boards 1a arranged vertically and horizontally adjacent to each other, and a product region 21 having a rectangular (rectangular) outline in plan view. And an ear 22 surrounding the periphery of the product area 21 and having a rectangular frame shape in plan view. The ear portion 22 is formed by laminating the same ceramic layers s1 and s2 as described above, and has main surfaces 3 and 4 common to the respective wiring boards 1a. The broken line indicating the outer shape of the product area 21 and the broken line dividing the adjacent wiring boards 1a are imaginary cut planned surfaces used later when divided into individual wiring boards 1a.
In the product area 21, in the two wiring boards 1a adjacent along the horizontal direction in FIG. 9A, the inner layer wiring 8a and the inner layer wiring 9a of each first conductive circuit C1 are scheduled to be cut vertically It is connected orthogonal to the plane. On the other hand, in the two wiring boards 1a adjacent along the vertical direction in FIG. 9A, the inner layer wire 8b and the inner layer wire 9b of each of the second current-carrying circuits C2 are orthogonal to the horizontal cutting planned surface. It is connected.

図9(A)に示すように、耳部22における四辺の外側面ごとの中央側には、平面視で半円形状の凹部23と、該凹部23ごとの内壁面に沿って形成された平面視が半円弧形のメッキ用電極24a,24b,24c,24dが個別に配置されている。
耳部22の右辺に位置するメッキ用電極24aは、製品領域21で右端側に位置する複数の配線基板1aの各内層配線8aと、前記セラミック層s1,s2間に形成された接続配線25および複数の枝配線26を介して、個別に接続されている。また、耳部22の左辺に位置するメッキ用電極24bは、製品領域21で左端側に位置する複数の配線基板1aの各内層配線9aと、前記セラミック層s1,s2間に形成された接続配線25および複数の枝配配線26を介して、個別に接続されている。
例えば、耳部22の右辺におけるメッキ用電極24aと、耳部22の左辺におけるメッキ用電極24bとから給電されたメッキ用電流は、接続配線25と枝配線26とを経て、製品領域21内の各配線基板1aにおける第1の通電回路C1中の前記表面パッド6aに送電される結果、その表面に電解メッキ液中の金属が析出される。
As shown in FIG. 9A, a semicircular recess 23 in plan view and a flat surface formed along the inner wall of each recess 23 on the center side of each of the outer surfaces of the four sides of the ear 22. The plating electrodes 24a, 24b, 24c, and 24d having a semicircular arc shape are individually disposed.
The plating electrode 24a located on the right side of the ear portion 22 includes the inner layer wires 8a of the plurality of wiring boards 1a located on the right end side in the product region 21, the connection wire 25 formed between the ceramic layers s1 and s2, and The plurality of branch wires 26 are individually connected. The plating electrode 24b located on the left side of the ear portion 22 is a connection wire formed between the inner layers 9a of the plurality of wiring boards 1a located on the left end side in the product region 21 and the ceramic layers s1 and s2. It is individually connected via 25 and a plurality of branch wiring lines 26.
For example, the plating current supplied from the plating electrode 24 a on the right side of the ear 22 and the plating electrode 24 b on the left side of the ear 22 passes through the connection wiring 25 and the branch wiring 26, and As a result of power transmission to the surface pad 6a in the first current-carrying circuit C1 in each wiring board 1a, metal in the electrolytic plating solution is deposited on the surface.

一方、図9(A)に示すように、耳部22の上辺に位置するメッキ用電極24cは、製品領域21で上端側に位置する複数の配線基板1aの各内層配線8bと、前記セラミック層s1,s2間に形成された接続配線27および複数の枝配線28を介して、個別に接続されている。また、耳部22の下辺に位置するメッキ用電極24dは、製品領域21で下端側に位置する複数の配線基板1aの各内層配線9bと、前記セラミック層s1,s2間に形成された接続配線27および複数の枝配線28を介して、個別に接続されている。
例えば、耳部22の上辺におけるメッキ用電極24cと、耳部22の下辺におけるメッキ用電極24dとから給電されたメッキ用電流は、接続配線27と枝配線28とを経て、製品領域21内の各配線基板1aにおける第2の通電回路C2中の表面パッド6bに送電される結果、その表面に電解メッキ液中の金属が析出される。
On the other hand, as shown in FIG. 9A, the plating electrode 24c located on the upper side of the ear portion 22 includes the inner layer wires 8b of the plurality of wiring boards 1a located on the upper end side in the product region 21; The connection lines 27 formed between s 1 and s 2 and the plurality of branch lines 28 are individually connected. Further, the plating electrode 24d located on the lower side of the ear portion 22 is a connection wire formed between the inner layers 9b of the plurality of wiring boards 1a located on the lower end side in the product region 21 and the ceramic layers s1 and s2. It is individually connected via 27 and a plurality of branch wires 28.
For example, the plating current supplied from the plating electrode 24c on the upper side of the ear portion 22 and the plating electrode 24d on the lower side of the ear portion 22 passes through the connection wiring 27 and the branch wiring 28 to be in the product area 21. As a result of power transmission to the surface pad 6b in the second current-carrying circuit C2 in each wiring board 1a, metal in the electrolytic plating solution is deposited on the surface.

そのため、前記メッキ用電極24a〜24dの内壁面に、図示しない電極棒を接触させた状態で、前記多数個取り用配線基板20aを図示しないニッケルメッキ浴および金メッキ浴に順次浸漬し、同じメッキ条件による電解ニッケルメッキと電解金メッキとを順次施した際に、配線基板1aごとにおける前記表面パッド6a,6bの外部に露出する表面には、互いに厚みが均一なニッケル層および金層(金属被膜、何れも図示せず)を被覆することができる。しかも、前記製品領域21内の周辺側に位置する配線基板1aと、該製品領域21内の中央側に位置する配線基板1aとおける上記金属層の厚みの差も、比較的小さくすることも可能である。
従って、前記多数個取り用配線基板20aによれば、前記効果(6)を奏することができる。
尚、前記メッキ用電極24a〜24dは、前記耳部22の各辺ごとに2つ以上を形成し、これらを前記接続配線25,27に対し並列に接続しても良い。
Therefore, in a state where the electrode rods (not shown) are in contact with the inner wall surfaces of the plating electrodes 24a to 24d, the multi-wiring wiring board 20a is sequentially immersed in a nickel plating bath and a gold plating bath (not shown). When nickel plating by electrolytic plating and electrolytic gold plating are sequentially performed, the surface exposed to the outside of the surface pads 6a and 6b in each wiring substrate 1a is a nickel layer and a gold layer (metal coating, any of which has a uniform thickness). (Not shown) can also be coated. Moreover, the difference in thickness of the metal layer between the wiring board 1a located on the peripheral side in the product area 21 and the wiring board 1a located on the center side in the product area 21 can also be made relatively small. It is.
Accordingly, the effect (6) can be exhibited by the multi-piece wiring board 20a.
Note that two or more of the plating electrodes 24 a to 24 d may be formed on each side of the ear portion 22, and these may be connected in parallel to the connection wires 25 and 27.

図9(B)は、複数の前記配線基板1bを同時に得るための多数個取り用配線基板20bを示す部分平面図である。
上記多数個取り用配線基板20bは、図9(B)に示すように、複数の前記配線基板1bを縦横に隣接して配列し且つ平面視の外形が長方形(矩形)を呈する製品領域21と、該製品領域21の周辺を囲み且つ平面視が矩形枠状の耳部22と、を備えている。尚、製品領域21の外形を示す破線と、隣接する配線基板1a同士の間を区分する破線とは、前記と同じ仮想の切断予定面である。
上記製品領域21内において、図9(B)で垂直方向に沿って隣接する2つの配線基板1bは、前記第3の通電回路C3ごとの内層配線18aと内層配線19aとが、水平な切断予定面と直交して接続されている。同様にして、垂直方向に沿って隣接する2つの配線基板1bは、前記第4の通電回路C4ごとの内層配線18bと内層配線19bとが、水平な切断予定面と直交して接続されている。
FIG. 9 (B) is a partial plan view showing a multi-layered wiring board 20b for obtaining a plurality of the wiring boards 1b simultaneously.
As shown in FIG. 9B, the multi-cavity wiring board 20b has a plurality of the wiring boards 1b arranged vertically and horizontally adjacent to each other, and a product region 21 having a rectangular (rectangular) outline in plan view. And an ear 22 surrounding the periphery of the product area 21 and having a rectangular frame shape in plan view. The broken line indicating the outer shape of the product area 21 and the broken line dividing the wiring boards 1a adjacent to each other are imaginary cut planned surfaces as described above.
In the product area 21, in the two wiring boards 1b adjacent along the vertical direction in FIG. 9B, the inner layer wiring 18a and the inner layer wiring 19a of each third conductive circuit C3 are scheduled to be cut horizontally It is connected orthogonal to the plane. Similarly, in the two wiring boards 1b adjacent along the vertical direction, the inner layer wire 18b and the inner layer wire 19b of each of the fourth energizing circuits C4 are connected orthogonally to the horizontal planned surface to be cut .

図9(B)において例示するように、耳部22の上辺の外側面には、メッキ用電極24a,24cが互いに離間して形成されている。尚、上記耳部22の図示しない下辺の外側面には、上記メッキ用電極24a,24cと線対称にして2つのメッキ用電極(24b,24d)が形成されている。
耳部22の上辺に位置する一方のメッキ用電極24aは、前記同様の接続配線25および複数の枝配線26を介して、製品領域21の上端に位置する配線基板1bごとの内層配線18aと個別に接続されている。また、図示しない耳部22の下辺において上記メッキ用電極24aと対称に位置するメッキ用電極(24b)も、上記同様の接続配線25および複数の枝配線26を介して、製品領域21の下端に位置する配線基板1bごとの内層配線19aと個別に接続されている。
As illustrated in FIG. 9B, plating electrodes 24a and 24c are formed on the outer side surface of the upper side of the ear portion 22 so as to be separated from each other. Two plating electrodes (24 b, 24 d) are formed on the outer surface of the lower side (not shown) of the ear portion 22 in line symmetry with the plating electrodes 24 a, 24 c.
One plating electrode 24a located on the upper side of the ear portion 22 is separated from the inner layer wire 18a for each wiring board 1b located on the upper end of the product region 21 via the similar connection wire 25 and the plurality of branch wires 26 described above. It is connected to the. Further, the plating electrode (24 b) positioned symmetrically with the plating electrode 24 a at the lower side of the ear 22 not shown is also located at the lower end of the product region 21 via the similar connection wiring 25 and the plurality of branch wirings 26. It is individually connected to the inner layer wiring 19a of each of the located wiring boards 1b.

一方、耳部22の上辺に位置する他方のメッキ用電極24cは、前記同様の接続配線27および複数の枝配線28を介して、製品領域21の上端に位置する配線基板1bごとの内層配線18bと個別に接続されている。また、図示しない耳部22の下辺において上記メッキ用電極24cと対称に位置するメッキ用電極(24d)も、上記同様の接続配線27および複数の枝配線28を介して、製品領域21の下端に位置する配線基板1bごとの内層配線19bと個別に接続されている。尚、前記接続配線25,27および枝配線26,28は、互いに短絡していても良い。あるいは、接続配線25,27および枝配線26,28は、互い間の短絡を防ぐため、例えば、一方の組を前記セラミック層s1,s2間に形成すると共に、他方の組を耳部22の主面4に沿って形成し、且つ製品領域21の直前で図しないビア導体を介して、上記セラミック層s1,s2間に沿って形成する形態としても良い。上記接続配線25,27および枝配線26,28が互いに短絡している場合、1つの電流供給源でメッキによる金属被膜を被覆できる。   On the other hand, the other plating electrode 24c located on the upper side of the ear portion 22 is the inner layer wire 18b for each wiring board 1b located on the upper end of the product region 21 via the similar connection wire 27 and the plurality of branch wires 28. And are individually connected. In addition, the plating electrode (24 d) located symmetrically with the plating electrode 24 c at the lower side of the ear portion 22 (not shown) is also attached to the lower end of the product region 21 via the similar connection wiring 27 and plural branch wirings 28. It is individually connected to the inner layer wiring 19b of each wiring substrate 1b located. The connection wires 25 and 27 and the branch wires 26 and 28 may be short-circuited with each other. Alternatively, the connection wires 25 and 27 and the branch wires 26 and 28 may form, for example, one set between the ceramic layers s 1 and s 2 and the other set as the main portion of the ear 22 in order to prevent a short circuit between each other. It may be formed along the surface 4 and may be formed along the space between the ceramic layers s 1 and s 2 via a via conductor not shown immediately before the product region 21. When the connection wires 25 and 27 and the branch wires 26 and 28 are short-circuited with each other, one current source can cover the plated metal film.

例えば、前記メッキ用電極24aと、耳部22の図示しない下辺のメッキ用電極(24b)とから給電されたメッキ用電流は、接続配線25と枝配線26とを経て、製品領域21内の各配線基板1bにおける第3の通電回路C3中の表面パッド16aに送電される結果、その表面に電解メッキ液中の金属が析出される。
一方、前記メッキ用電極24cと、耳部22の図示しない下辺のメッキ用電極(24d)とから給電されたメッキ用電流は、接続配線27と枝配線28とを経て、製品領域21内の各配線基板1bにおける第4の通電回路C4中の表面パッド16bに送電される結果、その表面に電解メッキ液中の金属が析出される。
For example, the plating current supplied from the plating electrode 24 a and the plating electrode (24 b) on the lower side (not shown) of the ear portion 22 passes through the connection wiring 25 and the branch wiring 26 to form each product region 21. As a result of power transmission to the surface pad 16a in the third conductive circuit C3 in the wiring board 1b, metal in the electrolytic plating solution is deposited on the surface.
On the other hand, the plating current supplied from the plating electrode 24 c and the plating electrode (24 d) on the lower side (not shown) of the ear portion 22 passes through the connection wiring 27 and the branch wiring 28 to form each product region 21. As a result of power transmission to the surface pad 16b in the fourth conductive circuit C4 in the wiring board 1b, metal in the electrolytic plating solution is deposited on the surface.

そのため、前記メッキ用電極24a,(24b),24c,(24d)の内壁面に、図示しない電極棒を接触させた状態で、前記多数個取り用配線基板20bを図示しないニッケルメッキ浴および金メッキ浴に順次浸漬し、同じメッキ条件による電解ニッケルメッキと電解金メッキを順次施した際に、配線基板1bごとにおける前記表面パッド16a,16bの外部に露出する表面には、厚みが均一なニッケル層および金層(金属被膜、何れも図示せず)を被覆することができる。しかも、前記製品領域21内の周辺側に位置する配線基板1bと、当該製品領域21内の中央側に位置する配線基板1bとおける上記各金属層の厚みの差も、著しく小さくすることも可能である。
従って、前記多数個取り用配線基板20bによれば、前記効果(6)を一層確実に奏することができる。
Therefore, a nickel plating bath and a gold plating bath (not shown) are provided on the multi-layer wiring board 20b while the electrode rods (not shown) are in contact with the inner wall surfaces of the plating electrodes 24a, (24b), 24c, (24d). In the case where electrolytic nickel plating and electrolytic gold plating are sequentially performed under the same plating conditions, the surface exposed to the outside of the surface pads 16a and 16b in each wiring board 1b has a uniform thickness of nickel layer and gold. A layer (metal coating, none of which is shown) can be coated. Moreover, it is possible to significantly reduce the difference in thickness between the wiring board 1b located on the peripheral side in the product area 21 and the wiring board 1b located on the center side in the product area 21. It is.
Therefore, according to the multi-cavity wiring board 20b, the effect (6) can be more reliably exhibited.

本発明は、以上において説明した各形態に限定されるものではない。
例えば、前記配線基板1a,1bの平面視における表面3および裏面4の外形は、長方形あるいは長方形状であっても良い。
また、前記配線基板1a,1bに設ける複数組の通電回路Cnは、3組以上であっても良い。この形態を前記配線基板1aに適用するには、前記第1の通電回路C1を2つ以上並列に配設したり、前記第2の通電回路C2を2つ以上並列に配設するほか、第1および第2の通電回路C1,C2の双方を並列に配設しても良い。かかる形態とする場合、複数の前記表面パッドの形状は、平面視で正方形状、円形状、長円形状、あるいは、任意の異形状としても良い。
The present invention is not limited to the embodiments described above.
For example, the outer shapes of the front surface 3 and the back surface 4 in plan view of the wiring boards 1a and 1b may be rectangular or rectangular.
The plurality of sets of energizing circuits Cn provided on the wiring boards 1a and 1b may be three or more. In order to apply this form to the wiring board 1a, two or more first conduction circuits C1 may be disposed in parallel, or two or more second conduction circuits C2 may be disposed in parallel; Both the 1st and 2nd electricity supply circuit C1 and C2 may be arrange | positioned in parallel. In the case of such a form, the shapes of the plurality of surface pads may be square, circular, oval, or any different shape in plan view.

更に、前記配線基板1a,1bおよび多数個取り用配線基板20a,20bは、3層以上のセラミック層を積層した基板本体2などからなるとしても良い。
また、前記配線基板1a,1bの基板本体2および多数個取り用配線基板20a,20bを構成する絶縁材は、例えば、ムライトや窒化アルミニウムなどの高温焼成セラミックや、ガラス−セラミックなどの低温焼成セラミックとしても良いし、あるいは、エポキシ系やポリイミド系などの樹脂としても良い。
上記のうち、前記絶縁材がガラス−セラミックなどや樹脂からなる場合、前記表面パッドや内層配線などには、主に銅や銅合金あるいは銀や銀合金が適用されると共に、前記配線基板1bにおける第3および第4の通電回路C3,C4と同様の回路構成とすることが推奨される。
Furthermore, the wiring boards 1a and 1b and the wiring boards for multiple placements 20a and 20b may be made of a substrate body 2 in which three or more ceramic layers are laminated.
Further, the insulating material constituting the substrate body 2 of the wiring boards 1a and 1b and the wiring boards 20a and 20b for multiple mounting may be, for example, high temperature baking ceramic such as mullite or aluminum nitride, or low temperature baking ceramic such as glass-ceramic. The resin may be epoxy resin or polyimide resin.
Among the above, when the insulating material is made of glass-ceramic or the like, copper, a copper alloy, silver or a silver alloy is mainly applied to the surface pad, the inner layer wiring, etc. It is recommended to have the same circuit configuration as the third and fourth current-carrying circuits C3 and C4.

更に、前記基板本体2は、前記セラミック層s1の表面3における周辺側に沿って、平面視が矩形枠状、あるいは平面視で中央側に円錐台形状や円柱形状の貫通穴を有するセラミック層を更に積層し、前記表面パッド6a,6b,16a,16bが位置する第1の主面3を底面とするキャビティを有する形態としても良い。かかるキャビティを有する形態の基板本体2は、絶縁材が前記ガラス−セラミックや樹脂などからなる場合についても可能である。
加えて、前記配線基板1aにおいて、前記第1および第2の通電回路C1,C2間における通電経路の長短などの差により、電気抵抗の差が懸念される場合には、全体の厚みを同じとした前記表面パッド6a,6bを構成するそれぞれの前記金属層12の厚みと高電気伝導層13の厚みとを相違させることにより、上記通電回路C1,C2間における電気抵抗の差を小さくするようにしても良い。
Furthermore, the substrate body 2 is a ceramic layer having a through hole of a truncated cone shape or a cylindrical shape at the center side in a rectangular frame shape in plan view or in plan view along the peripheral side of the surface 3 of the ceramic layer s1. Furthermore, it is good also as a form which has a cavity which makes a bottom face the 1st principal surface 3 in which it laminates and the surface pads 6a, 6b, 16a, and 16b are located. The substrate body 2 having such a cavity is also possible in the case where the insulating material is made of the glass-ceramic, resin or the like.
In addition, in the wiring substrate 1a, when a difference in electric resistance is concerned due to a difference in length of the current path between the first and second current circuits C1 and C2, etc., the entire thickness is the same. By making the thickness of each of the metal layers 12 and the thickness of the high electrical conductive layer 13 constituting the surface pads 6a and 6b different from each other, the difference in electrical resistance between the energizing circuits C1 and C2 is reduced. It is good.

本発明によれば、基板本体の第1の主面に追って電子部品が実装される複数の表面パッドを有し、該複数の表面パッドごとの表面に被覆されるメッキによる金属層相互の厚みのばらつきを抑制することにより、上記電子部品の実装性を向上させた配線基板、および複数の該配線基板を併有する多数個取り用配線基板を確実に提供できる。   According to the present invention, the first main surface of the substrate main body has a plurality of surface pads on which electronic components are to be mounted, and the thicknesses of metal layers formed by plating are coated on the surfaces of the plurality of surface pads. By suppressing the variation, it is possible to reliably provide the wiring board with the improved mountability of the electronic component and the wiring board for multiple cavities having a plurality of the wiring boards.

1a,1b……………………………………配線基板
2………………………………………………基板本体
3………………………………………………第1の主面
4………………………………………………第2の主面
5………………………………………………側面
6a,6b,16a,16b…………………表面パッド
7a〜7c……………………………………パターン配線(内層配線)
8a,8b,8p,9a,9b……………内層配線
8ae,8be,9ae,9be……………端部
11a,11b………………………………外部接続端子
12……………………………………………金属層
13……………………………………………高電気伝導層
18a,18b,19a,19b……………内層配線
18ae,18be,19ae,19be…端部
20a,20b………………………………多数個取り用配線基板
21……………………………………………製品領域
22……………………………………………耳部
24a〜24d………………………………メッキ用電極
C1〜C4……………………………………通電回路
1a, 1b ...................................... Wiring board 2 ...................................................... Main body 3 ...................... ............ First main surface 4 ...................................................... Second main surface 5 ...................... ........................ Sides 6a, 6b, 16a, 16b .......... Surface pads 7a to 7c ........................ Pattern wiring (inner layer wiring)
8a, 8b, 8p, 9a, 9b ..... Inner layer wiring 8ae, 8be, 9ae, 9be ........ Ends 11a, 11b ........................ External connection terminal 12 ... ...................................... Metal layer 13 ...................................... High electrical conductivity layers 18a, 18b, 19a, 19b ......... ...... Inner layer wiring 18ae, 18be, 19ae, 19be ... end portions 20a, 20b. ......... Product area 22 ......................................... Ears 24a to 24d ......................... Plating electrodes C1 to C4 ......... ........................... The energizing circuit

Claims (7)

絶縁材からなり、平面視の外形が矩形で且つ対向する第1の主面および第2の主面、ならびに該第1の主面と第2の主面との間に位置する四辺の側面を有する基板本体と、
上記基板本体の第1の主面に形成された複数の表面パッドと、
上記基板本体の内部に形成された複数の内層配線と、を備えた配線基板であって、
上記内層配線は、上記基板本体における側面に端部を有し、
上記複数の内層配線と複数の表面パッドとによって複数組の通電回路を形成しており、該複数組の通電回路は、互いに電気的に独立していると共に、
上記通電回路は、少なくとも1つの表面パッドを通過して上記内層配線と接続されている、
ことを特徴とする配線基板。
The first main surface and the second main surface which are made of an insulating material and have a rectangular outer shape in plan view, and the opposing first main surface and second main surface, and four sides located between the first main surface and the second main surface A substrate body having
A plurality of surface pads formed on the first main surface of the substrate body;
A plurality of inner layer wires formed inside the substrate body;
The inner layer wiring has an end on the side surface of the substrate body,
The plurality of inner layer wirings and the plurality of surface pads form a plurality of sets of energization circuits, and the plurality of sets of energization circuits are electrically independent of each other, and
The conduction circuit is connected to the inner layer wiring through at least one surface pad.
A wiring board characterized by
前記表面パッドは、前記内層配線を構成する導体よりも電気抵抗が低い高電気伝導層を含んでいる、
ことを特徴とする請求項1に記載の配線基板。
The surface pad includes a high electrical conductive layer having a lower electrical resistance than the conductor constituting the inner layer wiring.
The wiring board according to claim 1, characterized in that
前記表面パッドは、前記基板本体の第1の主面に形成された金属層と、該金属層の上面に形成され、且つ該金属層の厚みよりも大きな厚みの前記高電気伝導層とからなる、
ことを特徴とする請求項2に記載の配線基板。
The surface pad comprises a metal layer formed on the first main surface of the substrate body, and the high electrical conductivity layer formed on the top surface of the metal layer and having a thickness greater than the thickness of the metal layer. ,
The wiring board according to claim 2, characterized in that:
前記複数組の通電回路は、前記基板本体を平面視で透過した際に、互いに交差している、
ことを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の配線基板。
The plurality of sets of energization circuits cross each other when passing through the substrate body in plan view.
The wiring board according to any one of claims 1 to 3, characterized in that:
前記複数組の通電回路は、2組の通電回路であり、該2組の通電回路ごとの両端部は、前記基板本体において対向する一対の側面、あるいは隣接する一対の側面に個別に露出している、
ことを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の配線基板。
The plurality of sets of energization circuits are two sets of energization circuits, and both ends of each of the two sets of energization circuits are individually exposed on a pair of opposing side surfaces or an adjacent pair of side surfaces in the substrate body. Yes,
The wiring board according to any one of claims 1 to 4, characterized in that:
前記基板本体の第2の主面には、前記複数組の通電回路と個別に接続された複数の外部接続端子が形成されている、
ことを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項に記載の配線基板。
A plurality of external connection terminals individually connected to the plurality of sets of energization circuits are formed on the second main surface of the substrate body.
The wiring board according to any one of claims 1 to 5, characterized in that:
請求項1乃至6の何れかにおける複数の配線基板を平面視で縦横に隣接して配列した製品領域と、該製品領域の周辺を囲む耳部とからなり、該耳部の外側面には、前記配線基板ごとの複数の通電回路と電気的に個別に接続された複数のメッキ用電極が形成されている、
ことを特徴とする多数個取り用配線基板。
A product area in which a plurality of wiring boards according to any one of claims 1 to 6 are arranged vertically and horizontally adjacent to each other in plan view, and an ear surrounding the periphery of the product area, the outer surface of the ear being A plurality of plating electrodes electrically connected individually to the plurality of energizing circuits for each of the wiring boards are formed.
A wiring board for a large number of units, characterized in that
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006310796A (en) * 2005-04-01 2006-11-09 Ngk Spark Plug Co Ltd Wiring board for multiple patterning
JP2008018967A (en) * 2006-07-12 2008-01-31 Toshiba Corp Sheet bundling device
JP2008186967A (en) * 2007-01-30 2008-08-14 Ngk Spark Plug Co Ltd Multiple-piece taking board
WO2012057286A1 (en) * 2010-10-27 2012-05-03 京セラ株式会社 Wiring board

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006310796A (en) * 2005-04-01 2006-11-09 Ngk Spark Plug Co Ltd Wiring board for multiple patterning
JP2008018967A (en) * 2006-07-12 2008-01-31 Toshiba Corp Sheet bundling device
JP2008186967A (en) * 2007-01-30 2008-08-14 Ngk Spark Plug Co Ltd Multiple-piece taking board
WO2012057286A1 (en) * 2010-10-27 2012-05-03 京セラ株式会社 Wiring board

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