JP2019083264A - Wiring board and wiring board for multiple parts - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基板本体の第1の主面に設けた複数の表面パッドにおける実装性に優れた配線基板、および複数の該配線基板を併有する多数個取り用配線基板に関する。 The present invention relates to a wiring board having excellent mountability in a plurality of surface pads provided on the first main surface of a substrate body, and a multi-layered wiring board having a plurality of the wiring boards.
例えば、製品領域において平面視で縦横に隣接して配置された複数のパッケージごとの凹部(キャビティ)の底面に形成された内部メタライズ層において、該内部メタライズ層ごとの表面に被覆されるメッキ層同士間における厚みのばらつきを抑制するため、上記パッケージごとにおける矩形枠状の表面に形成した表面メタライズ層を介してメッキ用電流を通電可能とした多数個取り基板の発明が提案されている(例えば、特許文献1参照)。 For example, in the internal metallized layer formed on the bottom surface of the recess (cavity) of each of the plurality of packages arranged adjacent to each other in plan view in the product region, the plated layers coated on the surface of each internal metallized layer In order to suppress variations in thickness between layers, the invention of a multi-cavity substrate has been proposed in which a plating current can be applied through a surface metallized layer formed on the surface of a rectangular frame in each package (for example, Patent Document 1).
しかし、前記多数個取り基板では、複数のパッケージ間における前記内部メタライズ層の表面に被覆されるメッキ層のばらつきを抑制できるが、個々のパッケージにおける複数の内部メタライズ層ごとに被覆するメッキ層の厚みのばらつきは、解決すべき課題とされていなかった。そのため、前記複数の内部メタライズ層の表面ごとに被覆するメッキ層の厚みがばらついている場合、追って上記複数の内部メタライズ層の上方に跨がって電子部品を実装した際に、前記内部メタライズ層ごとの上方に精度良く実装できなくなるおそれがあった。 However, in the case of the multi-cavity substrate, although it is possible to suppress the variation in the plated layer coated on the surface of the internal metallized layer among the plurality of packages, the thickness of the plated layer coated for each of the plurality of internal metallized layers in each package. Variation was not considered an issue to be solved. Therefore, when the thickness of the plating layer covered every surface of the plurality of internal metallized layers varies, when the electronic component is mounted over the plurality of internal metallized layers later, the internal metallized layer There was a risk that it could not be mounted with high precision on top of each other.
本発明は、背景技術で説明した問題点を解決し、基板本体の第1の主面に追って電子部品が実装される複数の表面パッドを有し、該複数の表面パッドごとの表面に被覆されるメッキによる金属層相互の厚みのばらつきを抑制することにより、上記電子部品の実装性を向上させた配線基板、および複数の該配線基板を併有する多数個取り用配線基板を提供する、ことを課題とする。 The present invention solves the problems described in the background art, and has a plurality of surface pads on which electronic components are to be mounted on the first main surface of the substrate body, and the surface is coated on each of the plurality of surface pads Providing a wiring board having improved mountability of the electronic component by suppressing variation in thickness between metal layers due to metal plating, and a multi-layered wiring board having a plurality of the wiring boards at the same time; It will be an issue.
本発明は、前記課題を解決するため、基板本体の第1の主面に形成する複数の表面パッドを個別に通過し且つ内層配線を含む複数組の通電回路を上記基板本体の内部に形成し、該複数の通電回路を互いに独立させると共に、更に電気的な環境(電気的条件)に応じて上記表面パッドごとに高電気伝導層を含ませる、ことに着想して成されたものである。
即ち、本発明の配線基板(請求項1)は、絶縁材からなり、平面視の外形が矩形で且つ対向する第1の主面および第2の主面、ならびに該第1の主面と第2の主面との間に位置する四辺の側面を有する基板本体と、該基板本体の第1の主面に形成された複数の表面パッドと、上記基板本体の内部に形成された複数の内層配線と、を備えた配線基板であって、上記内層配線は、上記基板本体における側面に端部を有し、上記複数の内層配線と複数の表面パッドとによって複数組の通電回路を形成しており、該複数組の通電回路は、互いに電気的に独立していると共に、上記通電回路は、少なくとも1つの表面パッドを通過して上記内層配線と接続されている、ことを特徴とする。
According to the present invention, in order to solve the above problems, a plurality of sets of energizing circuits are formed inside the substrate main body, which individually pass through a plurality of surface pads formed on the first main surface of the substrate main body and include inner layer wiring. The invention is conceived on the idea of making the plurality of conducting circuits independent of one another and further including a high electrical conductive layer for each of the surface pads in accordance with the electrical environment (electrical conditions).
That is, the wiring substrate (claim 1) of the present invention is made of an insulating material, and the first and second main surfaces facing each other in a rectangular outline in plan view and the first main surface and the second main surface A substrate body having side surfaces of four sides located between the two main surfaces, a plurality of surface pads formed on the first main surface of the substrate body, and a plurality of inner layers formed inside the substrate body And the inner layer wire has an end on a side surface of the substrate body, and a plurality of conductive circuits are formed by the plurality of inner layer wires and the plurality of surface pads. The plurality of conductive circuits are electrically independent of each other, and the conductive circuits pass through at least one surface pad and are connected to the inner layer wiring.
前記のような配線基板によれば、以下の効果(1)が得られる。
(1)前記複数組の通電回路は、何れも少なくとも1つの前記表面パッドを通過し且つ前記内層配線と接続している各回路の構成素材が同様であると共に、互いに電気的に独立しているので、各通電経路の間における電気抵抗の差が小さくなっている。そのため、これら複数組の通電回路に対し、それぞれの前記端部からメッキ電流を給電することで、前記表面パッドの表面に互いに同様な厚みの金属膜が被覆される。従って、追って、複数の表面パッドの上方に跨がって、所要の位置および姿勢にして電子部品を精度良く実装することが可能である。
According to the above wiring board, the following effect (1) can be obtained.
(1) The constituent materials of each circuit passing through at least one of the surface pads and connected to the inner layer wiring are similar to each other and electrically independent of each other. Because of this, the difference in electrical resistance between the current-carrying paths is reduced. Therefore, by supplying a plating current from each of the end portions to the plurality of sets of current-carrying circuits, the surfaces of the surface pads are coated with metal films having similar thicknesses. Therefore, it is possible to precisely mount the electronic component with desired positions and postures straddling the upper side of the plurality of surface pads later.
尚、前記絶縁材は、高温焼成セラミック(アルミナ、ムライト、窒化アルミニウムなど)、低温焼成セラミック(ガラス−セラミック等)、あるいはエポキシ系などの樹脂である。
また、先記第1の主面および第2の主面とは、相対的な呼称であつて、一方を表面と称し、且つ他方を裏面と称することもできる。
更に、前記表面パッドには、複数の金属薄膜層を積層した前記金属層と、該金属層の表面に形成され且つ該金属層の厚みよりも大きな厚みの高電気伝導層とからなる形態のほか、メタライズ層のみからなる形態も含まれる。
また、前記「表面パッドを通過する」とは、該表面パッドに対し、互いに離間した2カ所以上において前記通電回路中の導体(例えば、ビア導体)が接続されていることを指している。
更に、前記内層配線は、線状の導体からなる形態と、平面視が任意パターンを呈する形態との双方を含んでいる。
更に、前記通電回路は、少なくとも、前記内層配線、表面パッド、および前記絶縁材の厚み方向に沿って配置されるビア導体を含んでいる。
加えて、前記高電気伝導層は、例えば、前記絶縁材がアルミナなどの高温焼成セラミックである場合、銅または銅合金、あるいは銀または銀合金が用いられる。かかる形態の場合、前記通電回路を構成するパターン配線、ビア導体、および内層配線は、タングステン(以下、単にWと記載する)、あるいはモリブデン(以下、単にMoと記載する)などからなるメタライズにより構成される。
The insulating material is a high temperature fired ceramic (alumina, mullite, aluminum nitride or the like), a low temperature fired ceramic (glass-ceramic or the like), or an epoxy resin or the like.
In addition, the first and second main surfaces may be referred to as relative names, one of which may be referred to as the front surface, and the other as the back surface.
In addition, the surface pad may include the metal layer formed by laminating a plurality of metal thin film layers, and a high electric conductive layer formed on the surface of the metal layer and having a thickness larger than the thickness of the metal layer. And the form which consists only of a metallizing layer is also included.
The term "pass through the surface pad" means that the conductor (for example, via conductor) in the conductive circuit is connected to the surface pad at two or more places separated from each other.
Furthermore, the inner layer wiring includes both a form of a linear conductor and a form in which a plan view shows an arbitrary pattern.
Furthermore, the conductive circuit includes at least the inner layer wire, the surface pad, and the via conductor disposed along the thickness direction of the insulating material.
In addition, as the high electrical conductivity layer, for example, when the insulating material is a high temperature fired ceramic such as alumina, copper or copper alloy, or silver or silver alloy is used. In such a case, the pattern wiring, the via conductor, and the inner layer wiring which constitute the conductive circuit are formed by metallizing such as tungsten (hereinafter, simply described as W) or molybdenum (hereinafter, simply as Mo). Be done.
また、本発明には、前記表面パッドは、前記内層配線を構成する導体よりも電気抵抗が低い高電気伝導層を含んでいる、配線基板(請求項2)も含まれる。
これによれば、複数組の前記通電回路の間において、通電経路の長さや太さ(容積を含む)が相違することにより、互いの電気抵抗に相違があっても、通電回路ごとに電流が通過する表面パッドに上記高電気伝導層が含まれているので、複数組の上記通電回路の間における電気抵抗の差を低減することができる。従って、前記効果(1)をより確実に奏することが可能となる。
更に、後述する多数個取り配線基板を構成した際に、平面視で該多数個取り配線基板の周辺側に位置する配線基板の表面パッドと、中央側に位置する配線基板の表面パッドとの間において、金属メッキにより被覆される金属被膜の厚みのばらつきを低減することも可能となる(以下、効果(2)と称する)。
尚、上記高電気伝導層は、前記内層配線を構成する導体と比較して、少なくとも電気抵抗率が約20nΩm小さく、例えば、銅や銅合金、あるいは銀や銀合金からなるものが例示される。
更に、本発明には、前記表面パッドは、前記基板本体の第1の主面に形成された金属層と、該金属層の上面に形成され、且つ該金属層の厚みよりも大きな厚みの前記高電気伝導層とからなる、配線基板(請求項3)も含まれる。
これによれば、上記表面パッドは、基板本体の第1の主面に形成された金属層の厚みよりも大きな厚みの前記高電気伝導層を有しているので、前記効果(1)を一層確実に奏することが可能となる。
Further, the present invention also includes a wiring board (claim 2), wherein the surface pad includes a high electric conductive layer having a lower electric resistance than the conductor constituting the inner layer wiring.
According to this, even if there is a difference in the electrical resistance among the plurality of sets of the energizing circuits due to the difference in the length and the thickness (including the volume) of the energizing path, the current is different for each energizing circuit. Since the high electrical conductive layer is included in the passing surface pad, it is possible to reduce the difference in electrical resistance between the plurality of sets of current-carrying circuits. Therefore, it is possible to more reliably achieve the effect (1).
Furthermore, when a multi-piece wiring board to be described later is configured, between the surface pad of the wiring board located on the peripheral side of the multi-piece wiring board in plan view and the surface pad of the wiring board located on the center side in plan view It is also possible to reduce variations in the thickness of the metal film coated by metal plating (hereinafter referred to as effect (2)).
The high electrical conductivity layer is at least about 20 nΩm smaller in electrical resistivity than the conductor constituting the inner layer wiring, and is, for example, made of copper or a copper alloy, or silver or a silver alloy.
Further, according to the present invention, the surface pad is formed of a metal layer formed on the first main surface of the substrate body, and formed on the top surface of the metal layer, and having a thickness greater than the thickness of the metal layer. A wiring board (claim 3) comprising a high electrical conductive layer is also included.
According to this, since the surface pad includes the high electrical conductive layer having a thickness larger than the thickness of the metal layer formed on the first main surface of the substrate main body, the effect (1) is further enhanced. It becomes possible to play reliably.
また、本発明には、前記複数組の通電回路は、前記基板本体を平面視で透過した際に、互いに交差している、配線基板(請求項4)も含まれる。
これによれば、上記複数組の通電回路が、前記基板本体を平面視で透過した際に、互いに交差する形態となっている。例えば、一方の通電回路の内層配線と、他方の通電回路の内層配線とが、前記基板本体を平面視で透過した際に、互いに直交状に交差している構造であっても、通電回路同士が互いに電気的に独立しているので、前記効果(1)を得ることが可能となる。
尚、上記交差する角度は、平面視による透視で30度〜90度の範囲である。
The present invention also includes a wiring board (claim 4) in which the plurality of sets of energizing circuits cross each other when the substrate body is transmitted in a plan view.
According to this, the plurality of sets of energization circuits cross each other when passing through the substrate body in plan view. For example, even if the inner layer wire of one conducting circuit and the inner layer wire of the other conducting circuit cross each other in an orthogonal manner when passing through the substrate body in plan view, the conducting circuits Are electrically independent of each other, it is possible to obtain the effect (1).
Note that the intersecting angle is in the range of 30 degrees to 90 degrees in perspective by planar view.
更に、本発明には、前記複数組の通電回路は、2組の通電回路であり、該2組の通電回路ごとの両端部は、前記基板本体において対向する一対の側面、あるいは隣接する一対の側面に個別に露出している、配線基板(請求項5)も含まれる。
上記のうち、2組の通電回路ごとの両端部が、前記基板本体において対向する一対の同じ側面に個別に露出している形態では、後述する多数個取り用配線基板において、複数の配線基板に共通して通電するメッキ用電流の通電経路をほぼ同じ方向に沿って配設できるので、該多数個取り用配線基板における製品領域内の回路構造を簡素化することが可能となる(以下、効果(3)と称する)。
一方、前記2組の通電回路ごとの両端部が、前記基板本体において隣接する一対の側面ごとに個別に露出している形態では、上記2組の通電回路間における不用意な短絡を容易に防止できる(以下、効果(4)と称する)。
Further, in the present invention, the plurality of sets of energizing circuits are two sets of energizing circuits, and both ends of each of the two sets of energizing circuits are a pair of opposing side surfaces or an adjacent pair in the substrate body. The wiring board (claim 5) exposed separately on the side is also included.
Among the above, in the embodiment in which both ends of each of the two sets of energizing circuits are individually exposed to the pair of identical side surfaces facing each other in the substrate main body, a plurality of wiring boards in a multi-cavity wiring board described later Since it is possible to arrange the current paths for the plating current to be commonly applied along substantially the same direction, it is possible to simplify the circuit structure in the product area of the wiring board for multiple cavities (hereinafter, the effect is achieved) (3))).
On the other hand, in the embodiment in which both ends of each of the two sets of energizing circuits are exposed separately for each of a pair of adjacent side surfaces in the substrate body, an inadvertent short circuit between the two sets of energizing circuits is easily prevented. (Hereinafter referred to as effect (4)).
加えて、本発明には、前記基板本体の第2の主面には、前記複数組の通電回路と個別に接続された複数の外部接続端子が形成されている、配線基板(請求項6)も含まれる。
これによれば、前記複数組の通電回路ごとにメッキ用電流を給電した際に、各通電回路と個別に接続された外部接続端子ごとの表面にも、同時に同じ金属メッキによる金属被膜を被覆することが可能となる(以下、効果(5)と称する)。
In addition, according to the present invention, a wiring substrate is formed on the second main surface of the substrate main body with a plurality of external connection terminals individually connected to the plurality of sets of energization circuits (claim 6) Also included.
According to this, when the plating current is supplied to each of the plurality of sets of energizing circuits, the surface of each of the external connection terminals individually connected to each energizing circuit is simultaneously coated with the same metal coating by metal plating. Becomes possible (hereinafter referred to as effect (5)).
一方、本発明の多数個取り用配線基板(請求項7)は、複数の前記配線基板を平面視で縦横に隣接して配列した製品領域と、該製品領域の周辺を囲む耳部とからなり、該耳部の外側面には、前記配線基板ごとの複数の通電回路と電気的に個別に接続された複数のメッキ用電極が形成されている、ことを特徴とする。
これによれば、前記効果(1)〜(5)を奏し得る複数の配線基板を、多数個取りの形態によって効率良く提供することが可能となる(以下、効果(6)と称する)。特に、前記効果(1)については、個々の配線基板が前記製品領域内の何れの位置にあった場合でも、個々の基板本体の第1の主面に形成された複数の表面パッドごとの表面に、電解金属メッキによる金属膜を比較的均一な厚みで被覆することが可能となる。更に、前記効果(2)も確実に得られる。
On the other hand, the multi-cavity wiring board of the present invention (Claim 7) comprises a product area in which a plurality of the wiring boards are arranged vertically and horizontally adjacent to each other in plan view and an ear portion surrounding the periphery of the product area. The invention is characterized in that a plurality of plating electrodes electrically connected individually to the plurality of energizing circuits for each of the wiring boards are formed on the outer side surface of the ear portion.
According to this, it becomes possible to efficiently provide a plurality of wiring boards capable of achieving the effects (1) to (5) in a multi-piece configuration (hereinafter referred to as effect (6)). In particular, with regard to the effect (1), the surface of each of the plurality of surface pads formed on the first main surface of the individual substrate main body, regardless of where the individual wiring substrate is located in the product area. In addition, it becomes possible to coat a metal film by electrolytic metal plating with a relatively uniform thickness. Furthermore, the effect (2) can be reliably obtained.
以下において、本発明を実施するための形態について説明する。
図1(A)は、本発明による一形態の配線基板1aを示す斜視図、図1(B)は、該配線基板1aの分解斜視図、図2,図3は、図1(A)中のX−X線あるいはY−Y線の矢視に沿った垂直断面図である。
上記配線基板1aは、図1(A),(B)に示すように、平面視の外形が正方形(矩形)状で且つ互いに対向する第1の主面(表面)3および第2の主面(裏面)4、ならびに該主面3,4間に位置する四辺の側面5を有する基板本体2と、該基板本体2の第1の主面3に形成された2個(複数)の表面パッド6a,6bと、上記基板本体2の内部に形成された2組(複数)のパターン配線(内層配線)7a〜7c,および内層配線8a,8b,9a,9bと、を備えている。
上記基板本体2は、例えば、アルミナなどの高温焼成セラミック(絶縁材)からなり、上下2層のセラミック層s1,s2を一体に積層したものである。上記表面パッド6a,6bと、パターン配線7a〜7cとは、平面視で長方形状を呈する。
Hereinafter, modes for carrying out the present invention will be described.
FIG. 1 (A) is a perspective view showing a wiring board 1a according to one embodiment of the present invention, FIG. 1 (B) is an exploded perspective view of the wiring board 1a, and FIGS. Cross-sectional view along the arrow of line X-X or line Y-Y of FIG.
As shown in FIGS. 1 (A) and 1 (B), the wiring board 1a has a first (main surface) 3 and a second main surface facing each other in a square (rectangular) shape in plan view. (Back surface) 4 and substrate
The
図1(B),図3に示すように、前記2組のうち、前記セラミック層s1,s2間に形成されたパターン配線(内層配線)7aと内層配線8aとは、一方の前記表面パッド6aの長辺方向における両端側の中央部ごとと、上記セラミック層s1を個別に貫通する2つのビア導体を介して、個別に接続していると共に、互いに導通可能とされた第1の通電回路C1を構成している。上記パターン配線7aは、平面視が鈎形の内層配線9aと接続し、更にセラミック層s2を貫通するビア導体10を介して、基板本体2の第2の主面4に形成された一方の外部接続端子11aとも電気的に接続されている。上記第1の通電回路C1の両端部である内層配線8aの端部(端面)8aeと、内層配線9aの端部9aeとは、基板本体2で対向する一対の側面5ごとに個別に露出している。
図1(B)は、前記表面パッド6a,6bと、パターン配線7a〜7cと、内層配線8a,8b,9a,9bとの間における電気的な接続形態を説明するため、セラミック層s1,s2を互いに厚み方向に沿って分解した斜視である。そのため、図1(B)中の前記セラミック層s1,s2間には、セラミック層s1を貫通する複数のビア導体10を軸方向に沿って延長した仮想の破線が含まれている。
As shown in FIG. 1 (B) and FIG. 3, of the two sets, the pattern wiring (inner layer wiring) 7a formed between the ceramic layers s1 and s2 and the
FIG. 1B illustrates ceramic layers s1 and s2 in order to explain an electrical connection between the
尚、平面視がL字形状である前記内層配線8aの先端部には、一方の前記ビア導体10と接続するための接続用パッド(内層配線)8pが設けられている。
また、前記パターン配線7a、内層配線8a,9a、ビア導体10、および外部接続端子11aは、主にWあるいはMoからなる。
更に、前記表面パッド6aは、2つのビア導体10を介して、パターン配線7aと内層配線8aに接続されているため、第1の通電回路C1では、電流が必ず通過する導体である。上記表面パッド6aは、後述するように、基板本体2の第1の主面3に形成された金属層12と、該金属層12の上面に形成され、且つ該金属層12の厚みよりも大きな厚みの高電気伝導層13とからなっている。該高電気伝導層13は、主に銅あるいは銀からなり、上記WやMoよりも電気抵抗が低い。
A connection pad (inner layer wire) 8p for connection to one of the via
The
Furthermore, since the
図1(B),図2に示すように、前記2組のうち、前記セラミック層s1,s2間に形成されたパターン配線(内層配線)7b,7cは、内層配線8b,9bと個別に接続し、且つ上記セラミック層s1を個別に貫通する2つのビア導体10を介して、他方の表面パッド6bの長辺方向における両端側と個別に接続することで、互いに導通可能とされた第2の通電回路C2を構成している。
また、上記パターン配線7cは、セラミック層s2を貫通するビア導体10を介して、基板本体2の第2の主面4に形成された他方の外部接続端子11bとも電気的に接続されている。上記第2の通電回路C2の両端部である内層配線8bの端部8beと、内層配線9bの端部9beとは、基板本体2で対向する一対の側面5ごとに個別に露出している。尚、これら一対の側面5は、図1(A),(B)に示すように、前記第1の通電回路C1の両端部8ae,9aeが露出する各側面5とは、互いに異なり且つ隣接している。
As shown in FIG. 1 (B) and FIG. 2, the pattern wiring (inner layer wiring) 7b and 7c formed between the ceramic layers s1 and s2 among the two sets is individually connected to the
The
図1(B),図2に示すように、前記第1の通電回路C1側の内層配線8aにおける長辺側と、前記第2の通電回路C2側の表面パッド6bとは、前記基板本体2の厚み方向において、前記セラミック層s1の厚み相当分だけ離間していると共に、平面視で透過した際において、互いに直角(90度)状に交差している。即ち、第1および第2の通電回路C1,C2は、互いに電気的に独立している。
尚、前記パターン配線7b,7c、内層配線8b,9b、ビア導体10、および外部接続端子11bも、主にWあるいはMoからなる。
また、前記表面パッド6bも、2つのビア導体10を介して、パターン配線7b,7cと個別に接続されているため、第2の通電回路C2において、電流が必ず通過する導体である。上記表面パッド6bは、図2中の一点鎖線部分Zの拡大図で示すように、基板本体2の第1の主面3に形成された金属層12と、該金属層12の上面に形成され且つ該金属層12の厚みよりも大きな厚みの高電気伝導層13とからなっている。上記金属層12は、全体の厚みが約1μmで、例えば、前記第1の主面3側からチタン、Mo、および銅の薄膜層を前記の順次積層してものである。一方、上記高電気伝導層13は、全体の厚みが約50μmの銅あるいは銀からなり、前記WやMoよりも電気抵抗が格段に低い。
As shown in FIG. 1 (B) and FIG. 2, the long side of the
The pattern wirings 7b and 7c, the
Further, since the
前記図1(B),図3で示したように、前記第1の通電回路C1は、例えば、端部8aeから内層配線8aに給電されたメッキ用電流が、該内層配線8a、前記パッド8p、ビア導体10、表面パッド6a、ビア導体10、パターン配線7a、および内層配線9aを経て、該内層配線9aの端部9aeに送電される通電経路を有している。即ち、第1の通電回路C1では、電流が必ず表面パッド6aを通過し、その通電経路の一部には、前記外部接続端子11aとこれに接続するビア導体10も含んでいる。
尚、図3では、理解を容易にするため、内層配線の8aのパッド8pと、パターン配線7aとの間を離して図示している。後述する図4についても同様である。
一方、前記図1(B),図2で示したように、前記第2の通電回路C2は、例えば、端部8beから内層配線8bに給電されたメッキ用電流が、該内層配線8b、パターン配線7b、ビア導体10、表面パッド6b、ビア導体10、パターン配線7c、および内層配線9bを経て、該内層配線9bの端部9beに送電される通電経路を有している。即ち、該第2の通電回路C2では、電流が必ず表面パッド6bを通過し、その通電経路の一部には、前記外部接続端子11bとこれに接続するビア導体10も含んでいる。
As shown in FIG. 1 (B) and FIG. 3, for example, the plating current supplied to the
In FIG. 3, for ease of understanding, the
On the other hand, as shown in FIG. 1 (B) and FIG. 2, in the second conduction circuit C2, for example, the plating current supplied from the end 8be to the
前記のように、第1および第2の通電回路C1,C2の通電経路は、両者間の通電経路の長さや構成する導体の体積などが互いに相違している。しかし、これら第1および第2の通電回路C1,C2は、それぞれの通電経路の中間に、電気抵抗が他の導体部分よりも低い高電気伝導層13を含有する前記表面パッド6a,6bを個別に有しているので、両通電回路C1,C2間における電気抵抗の差は、可級的に小さくされている。
その結果、同じメッキ用電流を、第1および第2の通電回路C1,C2の前記通電経路ごとに沿って給電した場合、前記表面パッド6a,6bおよび外部接続端子11a,11bの表面ごとに対して、例えば、電解金属メッキによるニッケル層と金層(金属被膜、何れも図示せず)とをほぼ同じ厚みで且つ均一にして被覆することが可能となっている。
尚、前記図1(B)において、2つの通電経路間で互いに相違する長さや構成する導体の体積などを、より等しい構成に変更するとにより、表面パッド6a,6bの上にニッケル層と金層とを更に均一に被覆することができる。
As described above, the conduction paths of the first and second conduction circuits C1 and C2 are different from each other in the length of the conduction path between them and the volume of the conductor to be configured. However, the first and second current-carrying circuits C1 and C2 separate the
As a result, when the same plating current is supplied along the respective conduction paths of the first and second conduction circuits C1 and C2, the surface current of the
In FIG. 1B, the nickel layer and the gold layer are formed on the
そのため、図4に示すように、基板本体2の第1の主面3に設けた2個の表面パッド6a,6bの上方に跨がり、追って、所定の位置および姿勢によって半導体素子や発光素子などの電子部品15を、位置および姿勢の精度良くして実装することが容易な配線基板1aとなっている。従って、前記配線基板1aによれば、前記効果(1)、(4)、(5)が確実に得られ、前記効果(2)も得られる。
尚、前記第1の通電回路C1側の内層配線8aの長辺側と、前記第2の通電回路C2の側の表面パッド6bとは、平面視で透過した際に、互いに直角状以外の任意の角度(例えば、30度以上で且つ90度未満)で交差していても良い。
また、前記第2の通電回路C2において、前記パターン配線7bと外部接続端子11bとの間も、ビア導体10によって電気的に接続していても良い。
更に、前記交差とは、上述の内層配線8aと表面パッド6bとが平面視で透過した場合の交差に限らず、前記端部8aeの中心と端部9aeの中心とを結んだ線と、前記端部8beの中心と端部9beの中心とを結んだ線とが交差する場合、即ち、通電回路C1と通電回路C2とが平面視で交差している場合も含まれる。
Therefore, as shown in FIG. 4, it straddles above the two
Incidentally, when the long side of the
Further, in the second conduction circuit C2, the
Furthermore, the intersection is not limited to the intersection when the above-described
図5(A)は、前記とは異なる形態の配線基板1bを示す斜視図、図5(B)は、該配線基板1bの分解斜視図、図6,図7は、図5(A)中のX−X線あるいはY−Y線の矢視に沿った垂直断面図である。
上記配線基板1bは、図5(A),(B)に示すように、前記同様の第1の主面3および第2の主面4、ならびに四辺の側面5を有する基板本体2と、該基板本体2の第1の主面3に形成された2個(複数)の表面パッド16a,16bと、上記基板本体2の内部に形成された2組(複数)のパターン配線(内層配線)17a〜17d、および内層配線18a,18b,19a,19bとを備えている。
FIG. 5 (A) is a perspective view showing a
The
図5(B),図6,図7に示すように、前記2組のうち、前記セラミック層s1,s2間に形成されたパターン配線(内層配線)17a,17bは、一方の前記表面パッド16aにおける長辺方向の両端側と、上記セラミック層s1を貫通する2つのビア導体10を介して個別に接続し、且つ内層配線18a,19aとも個別に導通可能とされた第3の通電回路C3を構成している。上記パターン配線17a,17bは、上記セラミック層s2を個別に貫通するビア導体10を介して、基板本体2の第2の主面4に形成された一方の外部接続端子11aとも個別に接続されている。上記第3の通電回路C3の両端部である内層配線18aの端部18aeと、内層配線19aの端部19aeとは、基板本体2において対向する一対の側面5ごとに個別に露出している。
図5(B)中の前記セラミック層s1,s2間にも、セラミック層s1を貫通する複数のビア導体10を軸方向に沿って延長した仮想の破線が含まれている。
As shown in FIG. 5 (B), FIG. 6, and FIG. 7, the pattern wiring (inner layer wiring) 17a and 17b formed between the ceramic layers s1 and s2 among the two groups is one of the
Also between the ceramic layers s1 and s2 in FIG. 5 (B), imaginary broken lines in which a plurality of via
尚、前記パターン配線17a,17b、内層配線18a,19a、ビア導体10、および外部接続端子11aも、主にWあるいはMoからなる。
更に、前記表面パッド16aは、2つのビア導体10を介して、パターン配線17a,17bと個別に接続されているため、第3の通電回路C3では、電流が必ず通過する導体である。上記表面パッド16aも、主にWまたはMoからなる。
The pattern wirings 17a and 17b, the
Furthermore, since the
図5(B),図6,7に示すように、前記2組のうち、前記セラミック層s1,s2間に形成されたパターン配線(内層配線)17c,17dは、内層配線18b,19bと個別に接続し、且つ上記セラミック層s1を個別に貫通する2つのビア導体10を介して、他方の表面パッド16bにおける長辺方向の両端側と個別に接続することにより、互いに導通可能とされた第4の通電回路C4を構成している。また、上記パターン配線17c,17dは、上記セラミック層s2を個別に貫通するビア導体10を介して、基板本体2の裏面4に形成された他方の外部接続端子11bとも個別に接続されている。上記表面パッド16bも、主にWまたはMoからなり、2つのビア導体10を介して、パターン配線17c,17dと個別に接続されているため、第4の通電回路C4において、電流が必ず通過する導体である。
前記第4の通電回路C4の両端部である内層配線18bの端部18beと、内層配線19bの端部19beとは、基板本体2で対向する一対の側面5ごとに個別に露出している。尚、これら一対の側面5は、図5(A),(B)に示すように、前記第3の通電回路C3の両端部18ae,19aeが露出する側面5とは、同じで側面5ごとに位置し、且つ上記端部18ae,19aeや端部18be,19beは、互いに短絡しない距離を置いて離れている。
As shown in FIG. 5 (B), and FIGS. 6 and 7, the pattern wiring (inner layer wiring) 17c and 17d formed between the ceramic layers s1 and s2 among the two groups is separate from the
The end 18be of the
図6,7に示すように、前記表面パッド16aと表面パッド16b、前記パターン配線17a,17bと前記パターン配線17c,17d、前記内層配線18a,19aと前記内層配線18b,19b、前記外部接続端子11aと同11b、および、これらの間を個別に接続する前記ビア導体10は、互いに同じ形状、同じ寸法、同じ位置に形成されている。そのため、前記第3および第4の通電回路C3,C4は、平面視で互いに平行(並列)であり、且つ同じ通電経路を有する対の関係にあるので、両回路C3,C4間における電気抵抗の差は、殆んどない。
その結果、同じメッキ用電流を、第3および第4の通電回路C3,c4の前記通電経路ごとに沿って、給電した場合、前記表面パッド16a,16bおよび外部接続端子11a,11bの表面ごとに対して、例えば、電解金属メッキによるニッケル層と金層(金属被膜、何れも図示せず)とをほぼ同じ厚みで且つ均一に被覆することが可能となっている。
As shown in FIGS. 6 and 7, the
As a result, when the same plating current is supplied along the respective conduction paths of the third and fourth conduction circuits C3 and c4, for each surface of the
従って、図8に示すように、前記基板本体2の第1の主面3に設けた2個の表面パッド16a,16bの上方に跨がり、追って、所定の位置および姿勢により半導体素子や発光素子などの電子部品15を精度良く実装することが容易な配線基板1bとなっている。よって、前記配線基板bによれば、前記効果(1)、(3)、(5)が確実に得られる。
尚、前記表面パッド16a,16bは、前記表面パッド6a,6bと同様に、基板本体2の第1の主面3に形成された金属層12と、その上面に厚く形成された高電気伝導層13とからなる形態としても良い。かかる形態にした配線基板1bによれば、多数個取り基板とした場合に、前記効果(2)が確実に得られる。
また、前記第3および第4の通電回路C3,C4は、前記基板本体2を平面視で透過した際に、互いに平行な配列ではなく、一方または双方が傾向いた形態であっても良い。
Therefore, as shown in FIG. 8, the semiconductor element and the light emitting element are straddled above the two
The
The third and fourth current-carrying circuits C3 and C4 may not be arranged parallel to each other when one passes through the
図9(A)は、複数の前記配線基板1aを同時に得るための多数個取り用配線基板20aを示す平面図である。
該多数個取り用配線基板20aは、図9(A)に示すように、複数の前記配線基板1aを縦横に隣接して配列し且つ平面視の外形が長方形(矩形)を呈する製品領域21と、該製品領域21の周辺を囲み且つ平面視が矩形枠状の耳部22と、を備えている。該耳部22は、前記と同じセラミック層s1,s2を積層してなり、且つ各配線基板1aと共通する主面3,4を有している。尚、上記製品領域21の外形を示す破線と、隣接する配線基板1a同士間を区分する破線とは、追って個々の配線基板1aに分割する際に用いる仮想の切断予定面である。
上記製品領域21内において、図9(A)で左右方向に沿って隣接する2つの配線基板1aは、前記第1の通電回路C1ごとの内層配線8aと内層配線9aとが、垂直な切断予定面と直交して接続されている。一方、図9(A)で垂直方向に沿って隣接する2つの配線基板1aは、前記第2の通電回路C2ごとの内層配線8bと内層配線9bとが、水平な切断予定面と直交して接続されている。
FIG. 9A is a plan view showing a
As shown in FIG. 9A, the
In the
図9(A)に示すように、耳部22における四辺の外側面ごとの中央側には、平面視で半円形状の凹部23と、該凹部23ごとの内壁面に沿って形成された平面視が半円弧形のメッキ用電極24a,24b,24c,24dが個別に配置されている。
耳部22の右辺に位置するメッキ用電極24aは、製品領域21で右端側に位置する複数の配線基板1aの各内層配線8aと、前記セラミック層s1,s2間に形成された接続配線25および複数の枝配線26を介して、個別に接続されている。また、耳部22の左辺に位置するメッキ用電極24bは、製品領域21で左端側に位置する複数の配線基板1aの各内層配線9aと、前記セラミック層s1,s2間に形成された接続配線25および複数の枝配配線26を介して、個別に接続されている。
例えば、耳部22の右辺におけるメッキ用電極24aと、耳部22の左辺におけるメッキ用電極24bとから給電されたメッキ用電流は、接続配線25と枝配線26とを経て、製品領域21内の各配線基板1aにおける第1の通電回路C1中の前記表面パッド6aに送電される結果、その表面に電解メッキ液中の金属が析出される。
As shown in FIG. 9A, a
The
For example, the plating current supplied from the plating
一方、図9(A)に示すように、耳部22の上辺に位置するメッキ用電極24cは、製品領域21で上端側に位置する複数の配線基板1aの各内層配線8bと、前記セラミック層s1,s2間に形成された接続配線27および複数の枝配線28を介して、個別に接続されている。また、耳部22の下辺に位置するメッキ用電極24dは、製品領域21で下端側に位置する複数の配線基板1aの各内層配線9bと、前記セラミック層s1,s2間に形成された接続配線27および複数の枝配線28を介して、個別に接続されている。
例えば、耳部22の上辺におけるメッキ用電極24cと、耳部22の下辺におけるメッキ用電極24dとから給電されたメッキ用電流は、接続配線27と枝配線28とを経て、製品領域21内の各配線基板1aにおける第2の通電回路C2中の表面パッド6bに送電される結果、その表面に電解メッキ液中の金属が析出される。
On the other hand, as shown in FIG. 9A, the
For example, the plating current supplied from the
そのため、前記メッキ用電極24a〜24dの内壁面に、図示しない電極棒を接触させた状態で、前記多数個取り用配線基板20aを図示しないニッケルメッキ浴および金メッキ浴に順次浸漬し、同じメッキ条件による電解ニッケルメッキと電解金メッキとを順次施した際に、配線基板1aごとにおける前記表面パッド6a,6bの外部に露出する表面には、互いに厚みが均一なニッケル層および金層(金属被膜、何れも図示せず)を被覆することができる。しかも、前記製品領域21内の周辺側に位置する配線基板1aと、該製品領域21内の中央側に位置する配線基板1aとおける上記金属層の厚みの差も、比較的小さくすることも可能である。
従って、前記多数個取り用配線基板20aによれば、前記効果(6)を奏することができる。
尚、前記メッキ用電極24a〜24dは、前記耳部22の各辺ごとに2つ以上を形成し、これらを前記接続配線25,27に対し並列に接続しても良い。
Therefore, in a state where the electrode rods (not shown) are in contact with the inner wall surfaces of the
Accordingly, the effect (6) can be exhibited by the
Note that two or more of the
図9(B)は、複数の前記配線基板1bを同時に得るための多数個取り用配線基板20bを示す部分平面図である。
上記多数個取り用配線基板20bは、図9(B)に示すように、複数の前記配線基板1bを縦横に隣接して配列し且つ平面視の外形が長方形(矩形)を呈する製品領域21と、該製品領域21の周辺を囲み且つ平面視が矩形枠状の耳部22と、を備えている。尚、製品領域21の外形を示す破線と、隣接する配線基板1a同士の間を区分する破線とは、前記と同じ仮想の切断予定面である。
上記製品領域21内において、図9(B)で垂直方向に沿って隣接する2つの配線基板1bは、前記第3の通電回路C3ごとの内層配線18aと内層配線19aとが、水平な切断予定面と直交して接続されている。同様にして、垂直方向に沿って隣接する2つの配線基板1bは、前記第4の通電回路C4ごとの内層配線18bと内層配線19bとが、水平な切断予定面と直交して接続されている。
FIG. 9 (B) is a partial plan view showing a
As shown in FIG. 9B, the
In the
図9(B)において例示するように、耳部22の上辺の外側面には、メッキ用電極24a,24cが互いに離間して形成されている。尚、上記耳部22の図示しない下辺の外側面には、上記メッキ用電極24a,24cと線対称にして2つのメッキ用電極(24b,24d)が形成されている。
耳部22の上辺に位置する一方のメッキ用電極24aは、前記同様の接続配線25および複数の枝配線26を介して、製品領域21の上端に位置する配線基板1bごとの内層配線18aと個別に接続されている。また、図示しない耳部22の下辺において上記メッキ用電極24aと対称に位置するメッキ用電極(24b)も、上記同様の接続配線25および複数の枝配線26を介して、製品領域21の下端に位置する配線基板1bごとの内層配線19aと個別に接続されている。
As illustrated in FIG. 9B, plating
One
一方、耳部22の上辺に位置する他方のメッキ用電極24cは、前記同様の接続配線27および複数の枝配線28を介して、製品領域21の上端に位置する配線基板1bごとの内層配線18bと個別に接続されている。また、図示しない耳部22の下辺において上記メッキ用電極24cと対称に位置するメッキ用電極(24d)も、上記同様の接続配線27および複数の枝配線28を介して、製品領域21の下端に位置する配線基板1bごとの内層配線19bと個別に接続されている。尚、前記接続配線25,27および枝配線26,28は、互いに短絡していても良い。あるいは、接続配線25,27および枝配線26,28は、互い間の短絡を防ぐため、例えば、一方の組を前記セラミック層s1,s2間に形成すると共に、他方の組を耳部22の主面4に沿って形成し、且つ製品領域21の直前で図しないビア導体を介して、上記セラミック層s1,s2間に沿って形成する形態としても良い。上記接続配線25,27および枝配線26,28が互いに短絡している場合、1つの電流供給源でメッキによる金属被膜を被覆できる。
On the other hand, the
例えば、前記メッキ用電極24aと、耳部22の図示しない下辺のメッキ用電極(24b)とから給電されたメッキ用電流は、接続配線25と枝配線26とを経て、製品領域21内の各配線基板1bにおける第3の通電回路C3中の表面パッド16aに送電される結果、その表面に電解メッキ液中の金属が析出される。
一方、前記メッキ用電極24cと、耳部22の図示しない下辺のメッキ用電極(24d)とから給電されたメッキ用電流は、接続配線27と枝配線28とを経て、製品領域21内の各配線基板1bにおける第4の通電回路C4中の表面パッド16bに送電される結果、その表面に電解メッキ液中の金属が析出される。
For example, the plating current supplied from the plating
On the other hand, the plating current supplied from the plating
そのため、前記メッキ用電極24a,(24b),24c,(24d)の内壁面に、図示しない電極棒を接触させた状態で、前記多数個取り用配線基板20bを図示しないニッケルメッキ浴および金メッキ浴に順次浸漬し、同じメッキ条件による電解ニッケルメッキと電解金メッキを順次施した際に、配線基板1bごとにおける前記表面パッド16a,16bの外部に露出する表面には、厚みが均一なニッケル層および金層(金属被膜、何れも図示せず)を被覆することができる。しかも、前記製品領域21内の周辺側に位置する配線基板1bと、当該製品領域21内の中央側に位置する配線基板1bとおける上記各金属層の厚みの差も、著しく小さくすることも可能である。
従って、前記多数個取り用配線基板20bによれば、前記効果(6)を一層確実に奏することができる。
Therefore, a nickel plating bath and a gold plating bath (not shown) are provided on the
Therefore, according to the
本発明は、以上において説明した各形態に限定されるものではない。
例えば、前記配線基板1a,1bの平面視における表面3および裏面4の外形は、長方形あるいは長方形状であっても良い。
また、前記配線基板1a,1bに設ける複数組の通電回路Cnは、3組以上であっても良い。この形態を前記配線基板1aに適用するには、前記第1の通電回路C1を2つ以上並列に配設したり、前記第2の通電回路C2を2つ以上並列に配設するほか、第1および第2の通電回路C1,C2の双方を並列に配設しても良い。かかる形態とする場合、複数の前記表面パッドの形状は、平面視で正方形状、円形状、長円形状、あるいは、任意の異形状としても良い。
The present invention is not limited to the embodiments described above.
For example, the outer shapes of the
The plurality of sets of energizing circuits Cn provided on the
更に、前記配線基板1a,1bおよび多数個取り用配線基板20a,20bは、3層以上のセラミック層を積層した基板本体2などからなるとしても良い。
また、前記配線基板1a,1bの基板本体2および多数個取り用配線基板20a,20bを構成する絶縁材は、例えば、ムライトや窒化アルミニウムなどの高温焼成セラミックや、ガラス−セラミックなどの低温焼成セラミックとしても良いし、あるいは、エポキシ系やポリイミド系などの樹脂としても良い。
上記のうち、前記絶縁材がガラス−セラミックなどや樹脂からなる場合、前記表面パッドや内層配線などには、主に銅や銅合金あるいは銀や銀合金が適用されると共に、前記配線基板1bにおける第3および第4の通電回路C3,C4と同様の回路構成とすることが推奨される。
Furthermore, the
Further, the insulating material constituting the
Among the above, when the insulating material is made of glass-ceramic or the like, copper, a copper alloy, silver or a silver alloy is mainly applied to the surface pad, the inner layer wiring, etc. It is recommended to have the same circuit configuration as the third and fourth current-carrying circuits C3 and C4.
更に、前記基板本体2は、前記セラミック層s1の表面3における周辺側に沿って、平面視が矩形枠状、あるいは平面視で中央側に円錐台形状や円柱形状の貫通穴を有するセラミック層を更に積層し、前記表面パッド6a,6b,16a,16bが位置する第1の主面3を底面とするキャビティを有する形態としても良い。かかるキャビティを有する形態の基板本体2は、絶縁材が前記ガラス−セラミックや樹脂などからなる場合についても可能である。
加えて、前記配線基板1aにおいて、前記第1および第2の通電回路C1,C2間における通電経路の長短などの差により、電気抵抗の差が懸念される場合には、全体の厚みを同じとした前記表面パッド6a,6bを構成するそれぞれの前記金属層12の厚みと高電気伝導層13の厚みとを相違させることにより、上記通電回路C1,C2間における電気抵抗の差を小さくするようにしても良い。
Furthermore, the
In addition, in the wiring substrate 1a, when a difference in electric resistance is concerned due to a difference in length of the current path between the first and second current circuits C1 and C2, etc., the entire thickness is the same. By making the thickness of each of the metal layers 12 and the thickness of the high electrical
本発明によれば、基板本体の第1の主面に追って電子部品が実装される複数の表面パッドを有し、該複数の表面パッドごとの表面に被覆されるメッキによる金属層相互の厚みのばらつきを抑制することにより、上記電子部品の実装性を向上させた配線基板、および複数の該配線基板を併有する多数個取り用配線基板を確実に提供できる。 According to the present invention, the first main surface of the substrate main body has a plurality of surface pads on which electronic components are to be mounted, and the thicknesses of metal layers formed by plating are coated on the surfaces of the plurality of surface pads. By suppressing the variation, it is possible to reliably provide the wiring board with the improved mountability of the electronic component and the wiring board for multiple cavities having a plurality of the wiring boards.
1a,1b……………………………………配線基板
2………………………………………………基板本体
3………………………………………………第1の主面
4………………………………………………第2の主面
5………………………………………………側面
6a,6b,16a,16b…………………表面パッド
7a〜7c……………………………………パターン配線(内層配線)
8a,8b,8p,9a,9b……………内層配線
8ae,8be,9ae,9be……………端部
11a,11b………………………………外部接続端子
12……………………………………………金属層
13……………………………………………高電気伝導層
18a,18b,19a,19b……………内層配線
18ae,18be,19ae,19be…端部
20a,20b………………………………多数個取り用配線基板
21……………………………………………製品領域
22……………………………………………耳部
24a〜24d………………………………メッキ用電極
C1〜C4……………………………………通電回路
1a, 1b ......................................
8a, 8b, 8p, 9a, 9b ..... Inner layer wiring 8ae, 8be, 9ae, 9be ........
Claims (7)
上記基板本体の第1の主面に形成された複数の表面パッドと、
上記基板本体の内部に形成された複数の内層配線と、を備えた配線基板であって、
上記内層配線は、上記基板本体における側面に端部を有し、
上記複数の内層配線と複数の表面パッドとによって複数組の通電回路を形成しており、該複数組の通電回路は、互いに電気的に独立していると共に、
上記通電回路は、少なくとも1つの表面パッドを通過して上記内層配線と接続されている、
ことを特徴とする配線基板。 The first main surface and the second main surface which are made of an insulating material and have a rectangular outer shape in plan view, and the opposing first main surface and second main surface, and four sides located between the first main surface and the second main surface A substrate body having
A plurality of surface pads formed on the first main surface of the substrate body;
A plurality of inner layer wires formed inside the substrate body;
The inner layer wiring has an end on the side surface of the substrate body,
The plurality of inner layer wirings and the plurality of surface pads form a plurality of sets of energization circuits, and the plurality of sets of energization circuits are electrically independent of each other, and
The conduction circuit is connected to the inner layer wiring through at least one surface pad.
A wiring board characterized by
ことを特徴とする請求項1に記載の配線基板。 The surface pad includes a high electrical conductive layer having a lower electrical resistance than the conductor constituting the inner layer wiring.
The wiring board according to claim 1, characterized in that
ことを特徴とする請求項2に記載の配線基板。 The surface pad comprises a metal layer formed on the first main surface of the substrate body, and the high electrical conductivity layer formed on the top surface of the metal layer and having a thickness greater than the thickness of the metal layer. ,
The wiring board according to claim 2, characterized in that:
ことを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の配線基板。 The plurality of sets of energization circuits cross each other when passing through the substrate body in plan view.
The wiring board according to any one of claims 1 to 3, characterized in that:
ことを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の配線基板。 The plurality of sets of energization circuits are two sets of energization circuits, and both ends of each of the two sets of energization circuits are individually exposed on a pair of opposing side surfaces or an adjacent pair of side surfaces in the substrate body. Yes,
The wiring board according to any one of claims 1 to 4, characterized in that:
ことを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項に記載の配線基板。 A plurality of external connection terminals individually connected to the plurality of sets of energization circuits are formed on the second main surface of the substrate body.
The wiring board according to any one of claims 1 to 5, characterized in that:
ことを特徴とする多数個取り用配線基板。 A product area in which a plurality of wiring boards according to any one of claims 1 to 6 are arranged vertically and horizontally adjacent to each other in plan view, and an ear surrounding the periphery of the product area, the outer surface of the ear being A plurality of plating electrodes electrically connected individually to the plurality of energizing circuits for each of the wiring boards are formed.
A wiring board for a large number of units, characterized in that
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