JP2019079865A - Electronic component - Google Patents

Electronic component Download PDF

Info

Publication number
JP2019079865A
JP2019079865A JP2017203950A JP2017203950A JP2019079865A JP 2019079865 A JP2019079865 A JP 2019079865A JP 2017203950 A JP2017203950 A JP 2017203950A JP 2017203950 A JP2017203950 A JP 2017203950A JP 2019079865 A JP2019079865 A JP 2019079865A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
terminal
electronic component
dielectric layer
conductor
dielectric layers
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017203950A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP7068797B2 (en
Inventor
齋藤 利之
Toshiyuki Saito
利之 齋藤
伸也 長壁
Shinya Osakabe
伸也 長壁
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiyo Yuden Co Ltd
Original Assignee
Taiyo Yuden Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taiyo Yuden Co Ltd filed Critical Taiyo Yuden Co Ltd
Priority to JP2017203950A priority Critical patent/JP7068797B2/en
Priority to US16/151,020 priority patent/US10432237B2/en
Publication of JP2019079865A publication Critical patent/JP2019079865A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7068797B2 publication Critical patent/JP7068797B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Coils Or Transformers For Communication (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
  • Filters And Equalizers (AREA)

Abstract

To provide a compact electronic component in which the resistance is decreased between a terminal and a via electric wiring.SOLUTION: An electronic component 100 has multiple dielectric layers 11a-e composed of ceramic material, multiple conductor patterns 12b-e constituting at least a part of a circuit element, and multiple terminals 14 provided on the outer surface of the outermost dielectric layer, out of the multiple dielectric layers, including multiple conductor layers 14a, b, where the conductor layer in contact with the outer surface contains a metallic substance and an insulator material. The electronic component includes via wirings 13b-d penetrating the dielectric layers, other than the outermost dielectric layer out of the multiple dielectric layers, and electrically connecting at least two conductor patterns out of the multiple conductor patterns, and a via wiring 15 penetrating the outermost dielectric layer, electrically connecting at least one terminal with at least one conductor pattern, out of the multiple conductor patterns, and in which the first contact area in contact with the at least one terminal is larger than the cross sectional area in parallel with the outer surface of the via wiring.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、電子部品に関し、例えば複数の誘電体層が積層された電子部品に関する。   The present invention relates to an electronic component, for example, an electronic component in which a plurality of dielectric layers are stacked.

スマートホンや携帯電話等の無線通信端末には、不要な妨害波を除去するフィルタが用いられている。フィルタとして、誘電体層を積層した積層体を用いることが知られている。電子部品の小型化のため、積層体の下面にランド電極を有するLGA(Land Grid Array)を用いることが知られている。   Filters for removing unwanted interference are used in wireless communication terminals such as smart phones and mobile phones. It is known to use a laminate in which dielectric layers are laminated as a filter. It is known to use an LGA (Land Grid Array) having land electrodes on the lower surface of the laminate in order to miniaturize electronic components.

積層体の内部の導電体パターンまたは積層体の外部の端子が金属材料と絶縁体材料を含むことが知られている(例えば特許文献1から3)。積層体内のビア配線を太くすることが知られている(例えば特許文献4および5)。積層体内の導電体パターンと積層体の外部の端子とを接続する配線を複数設けることが知られている(例えば特許文献6および7)。   It is known that the conductor pattern inside the laminate or the terminal outside the laminate includes a metal material and an insulator material (for example, Patent Documents 1 to 3). It is known to thicken via wiring in the stack (for example, Patent Documents 4 and 5). It is known to provide a plurality of wires for connecting the conductor pattern in the stacked body and the terminal outside the stacked body (for example, Patent Documents 6 and 7).

特開2009−170848号公報JP, 2009-170848, A 特開2004−55554号公報JP 2004-55554 A 特開2014−170874号公報JP, 2014-170874, A 特開2007−129048号公報JP 2007-129048 A 特開2015−41776号公報JP, 2015-41776, A 特開2017−59749号公報JP 2017-59749 A 特開2015−76567号公報JP, 2015-76567, A

端子とビア配線との接触抵抗を低くするためビア配線を太くすると、小型化が難しくなる。   If the via wiring is thickened to reduce the contact resistance between the terminal and the via wiring, miniaturization becomes difficult.

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、端子とビア配線との間を低抵抗化しかつ小型化することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and has an object to reduce the resistance and reduce the size between the terminal and the via wiring.

本発明は、セラミック材料からなり積層された複数の誘電体層と、各々前記複数の誘電体層のうち1つの誘電体層の表面に形成され回路素子の少なくとも一部を構成する複数の導電体パターンと、前記複数の誘電体層のうち最も外側の誘電体層の外側の面に設けられ、1または複数の導電体層を含み、前記1または複数の導電体層のうち前記外側の面に接する導電体層は金属材料と絶縁体材料とを含む1または複数の端子と、前記複数の誘電体層のうち前記最も外側の誘電体層以外の少なくとも1つの誘電体層を貫通し、前記複数の導電体パターンのうち少なくとも2つの導電体パターン間を電気的に接続する第1ビア配線と、前記最も外側の誘電体層を貫通し、前記1または複数の端子のうち少なくとも1つの端子と前記複数の導電体パターンのうち少なくとも1つの導電体パターンとを電気的に接続し、前記少なくとも1つの端子と接触する第1接触面積が前記第1ビア配線の前記外側の面に平行な断面積より大きい第2ビア配線と、を備える電子部品である。   The present invention relates to a plurality of dielectric layers formed of ceramic materials and laminated, and a plurality of conductors formed on the surface of one of the plurality of dielectric layers and constituting at least a part of a circuit element. A pattern, provided on the outer surface of the outermost dielectric layer of the plurality of dielectric layers, including one or more conductive layers, on the outer surface of the one or more conductive layers The conductive layer in contact passes through at least one of the plurality of terminals including the metal material and the insulator material, and at least one of the plurality of dielectric layers other than the outermost dielectric layer, The first via wiring electrically connecting between at least two conductor patterns of the conductor patterns, the outermost dielectric layer, and at least one of the one or more terminals and the terminal Multiple conductor patterns A second contact area electrically connected to at least one conductor pattern of the first via wiring and having a first contact area contacting the at least one terminal larger than a cross-sectional area parallel to the outer surface of the first via interconnection And a wiring.

上記構成において、前記少なくとも1つの端子は、高周波信号が入力する入力端子を含む構成とすることができる。   In the above configuration, the at least one terminal may include an input terminal to which a high frequency signal is input.

上記構成において、前記1または複数の端子は、グランド端子を含み、前記電子部品は、前記最も外側の誘電体層を貫通し、前記グランド端子と前記複数の導電体パターンのうち少なくとも1つとを電気的に接続し、前記グランド端子と接触する第2接触面積が前記第1接触面積より小さい第3ビア配線を備える構成とすることができる。   In the above configuration, the one or more terminals include a ground terminal, and the electronic component penetrates the outermost dielectric layer to electrically connect the ground terminal and at least one of the plurality of conductor patterns. The third via wiring may be configured to have a third contact wiring that is connected in a row and that is in contact with the ground terminal is smaller than the first contact area.

本発明は、セラミック材料からなり積層された複数の誘電体層と、各々前記複数の誘電体層のうち1つの誘電体層の表面に形成され回路素子の少なくとも一部を構成する複数の導電体パターンと、前記複数の誘電体層のうち最も外側の誘電体層の外側の面に設けられ、1または複数の導電体層を含み、前記1または複数の導電体層のうち前記外側の面に接する導電体層は金属材料と絶縁体材料とを含む1または複数の端子と、前記複数の誘電体層のうち前記最も外側の誘電体層以外の少なくとも1つの誘電体層を貫通し、前記複数の導電体パターンのうち少なくとも2つの導電体パターン間を電気的に接続する第1ビア配線と、前記最も外側の誘電体層を貫通し、前記1または複数の端子のうち高周波信号が入力する入力端子と前記複数の導電体パターンのうちキャパシタを形成する1つの導電体パターンとを互いに並列に接続する複数の第2ビア配線と、を備える電子部品である。   The present invention relates to a plurality of dielectric layers formed of ceramic materials and laminated, and a plurality of conductors formed on the surface of one of the plurality of dielectric layers and constituting at least a part of a circuit element. A pattern, provided on the outer surface of the outermost dielectric layer of the plurality of dielectric layers, including one or more conductive layers, on the outer surface of the one or more conductive layers The conductive layer in contact passes through at least one of the plurality of terminals including the metal material and the insulator material, and at least one of the plurality of dielectric layers other than the outermost dielectric layer, The first via wiring electrically connecting between at least two of the conductor patterns among the conductor patterns, and the outermost dielectric layer are penetrated, and an input to which a high frequency signal is inputted among the one or more terminals Terminal and the plurality of leads A plurality of second via wire connecting the one conductor patterns for forming a capacitor in parallel with each other within the body pattern, which is an electronic component comprising a.

上記構成において、前記複数の第2ビア配線と前記入力端子とがそれぞれ接触する第1接触面積は前記第1ビア配線の前記外側の面に平行な断面積と略等しい構成とすることができる。   In the above configuration, a first contact area in which the plurality of second via wires and the input terminal are in contact with each other may be substantially equal to a cross-sectional area parallel to the outer surface of the first via wire.

上記構成において、前記1または複数の端子は、グランド端子を含み、前記電子部品は、前記最も外側の誘電体層を貫通し、前記グランド端子と前記複数の導電体パターンのうち少なくとも1つの導電体パターンとを電気的に接続し、前記グランド端子と接触する第2接触面積は前記第1接触面積と略等しい第3ビア配線を備える構成とすることができる。   In the above configuration, the one or more terminals include a ground terminal, and the electronic component penetrates the outermost dielectric layer, and at least one conductor of the ground terminal and the plurality of conductor patterns. A second contact area electrically connected to the pattern and in contact with the ground terminal may be provided with a third via wiring substantially equal to the first contact area.

上記構成において、前記絶縁体材料は前記最も外側の誘電体層に含まれる材料と同じ材料を含む構成とすることができる。   In the above configuration, the insulator material may include the same material as the material included in the outermost dielectric layer.

上記構成において、前記絶縁体材料は、酸化チタン、酸化ジルコニウムおよび酸化アルミニウムの少なくとも1つである構成とすることができる。   In the above configuration, the insulator material may be at least one of titanium oxide, zirconium oxide and aluminum oxide.

上記構成において、前記回路素子は、インダクタおよび/またはキャパシタを含む構成とすることができる。   In the above configuration, the circuit element may include an inductor and / or a capacitor.

上記構成において、前記1または複数の端子は、高周波信号が入力する入力端子と高周波信号が出力する出力端子とを含み、前記回路素子は前記入力端子と前記出力端子との間に接続されたフィルタを含む、前記入力端子は、パワーアンプの出力に接続され、前記出力端子はアンテナに接続される構成とすることができる。   In the above configuration, the one or more terminals include an input terminal to which a high frequency signal is input and an output terminal to output a high frequency signal, and the circuit element is a filter connected between the input terminal and the output terminal. The input terminal may be connected to an output of a power amplifier, and the output terminal may be connected to an antenna.

本発明によれば、端子とビア配線との間を低抵抗化しかつ小型化することができる。   According to the present invention, the resistance between the terminal and the via wiring can be reduced and the size thereof can be reduced.

図1は、実施例1に係る電子部品の回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram of the electronic component according to the first embodiment. 図2は、実施例1に係る電子部品の斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of the electronic component according to the first embodiment. 図3(a)および図3(b)は、実施例1に係る電子部品の断面図である。3 (a) and 3 (b) are cross-sectional views of the electronic component according to the first embodiment. 図4は、実施例1に係る電子部品の解体斜視図である。FIG. 4 is a disassembled perspective view of the electronic component according to the first embodiment. 図5(a)および図5(b)は、比較例1に係る電子部品の断面図である。FIG. 5A and FIG. 5B are cross-sectional views of the electronic component according to Comparative Example 1. FIG. 図6は、実施例1および比較例1におけるD2/D1に対する抵抗値および寿命を示す図である。FIG. 6 is a view showing the resistance value and the life with respect to D2 / D1 in Example 1 and Comparative Example 1. 図7は、実施例1および比較例1において入力電力に対する寿命を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing the lifetime with respect to the input power in Example 1 and Comparative Example 1. 図8(a)および図8(b)は、実施例1の変形例1に係る電子部品の断面図である。FIGS. 8A and 8B are cross-sectional views of the electronic component according to the first modification of the first embodiment. 図9は、実施例1の変形例2に係る電子部品の断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of the electronic component according to the second modification of the first embodiment. 図10(a)および図10(b)は、実施例2に係る電子部品の断面図である。FIGS. 10A and 10B are cross-sectional views of the electronic component according to the second embodiment. 図11は、実施例2の変形例1に係る電子部品の断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view of the electronic component according to the first modification of the second embodiment. 図12は、実施例3に係るフロントエンド回路の回路図である。FIG. 12 is a circuit diagram of a front end circuit according to a third embodiment.

以下、図面を参照し本発明の実施例について説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

実施例1として、バンドパスフィルタ(BPF)を例に説明する。図1は、実施例1に係る電子部品の回路図である。図1に示すように、BPF108は、入力端子Tin、出力端子Tout、グランド端子Tgnd、キャパシタC1からC9、およびストリップ線路L1からL5を有する。キャパシタC5からC7は、入力端子Tinと出力端子Toutとの間に直列に接続されている。   A band pass filter (BPF) will be described as an example of the first embodiment. FIG. 1 is a circuit diagram of the electronic component according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, the BPF 108 has an input terminal Tin, an output terminal Tout, a ground terminal Tgnd, capacitors C1 to C9, and strip lines L1 to L5. The capacitors C5 to C7 are connected in series between the input terminal Tin and the output terminal Tout.

キャパシタC8およびC9は、入力端子Tinと出力端子Toutとの間に直列に接続され、かつキャパシタC5からC7と並列に接続されている。キャパシタC1からC4は、それぞれ入力端子T1、ノードN1、N2および出力端子Toutとグランド端子Tgndとの間に接続されている。ストリップ線路L1およびL4は、それぞれ入力端子Tinおよび出力端子Toutとグランド端子Tgndとの間に接続されている。ストリップ線路L2およびL3は、それぞれノードN1およびN2とノードN3との間に接続されている。ストリップ線路L5は、ノードN3とグランド端子Tgndとの間に接続されている。   Capacitors C8 and C9 are connected in series between input terminal Tin and output terminal Tout, and are connected in parallel with capacitors C5 to C7. The capacitors C1 to C4 are connected between the input terminal T1, the nodes N1 and N2, the output terminal Tout, and the ground terminal Tgnd, respectively. The strip lines L1 and L4 are connected between the input terminal Tin and the output terminal Tout, respectively, and the ground terminal Tgnd. Strip lines L2 and L3 are connected between nodes N1 and N2 and node N3, respectively. The strip line L5 is connected between the node N3 and the ground terminal Tgnd.

BPF108は、入力端子Tinに入力した高周波信号のうち通過帯域の信号を出力端子Toutに通過させ、他の周波数帯域の信号を抑圧する。   Among the high frequency signals input to the input terminal Tin, the BPF 108 passes signals in the passband to the output terminal Tout, and suppresses signals in other frequency bands.

図2は、実施例1に係る電子部品の斜視図、図3(a)および図3(b)は、断面図である。図2に示すように、電子部品100は、積層体10を有している。積層体10の下面に端子14が設けられている。端子14としては、例えば入力端子Tin、出力端子Toutおよびグランド端子Tgndである。   FIG. 2 is a perspective view of the electronic component according to the first embodiment, and FIGS. 3A and 3B are cross-sectional views. As shown in FIG. 2, the electronic component 100 has a laminate 10. Terminals 14 are provided on the lower surface of the laminate 10. The terminals 14 are, for example, an input terminal Tin, an output terminal Tout, and a ground terminal Tgnd.

図3(a)および図3(b)に示すように、積層体10においてセラミック材料からなる複数の誘電体層11aから11eが積層されている。誘電体層11bから11eの上面にそれぞれ導電体パターン12bから12eが設けられている。誘電体層11eの下面に端子14が設けられている。端子14は、例えばLGAであり、誘電体層11eの下面内にのみ設けられている。端子14は、誘電体層11eの下面に接する導電体層14aと、導電体層14aの下に設けられた導電体層14bと、を有する。誘電体層11bから11eを貫通するようにそれぞれビア配線13bから13dおよび15が設けられている。ビア配線13bから13dおよび15は、例えば円柱状形状である。ビア配線13bから13dは、導電体パターン12bから12eの少なくとも1つと接続する。ビア配線15は導電体パターン12bから12eの少なくとも1つと端子14とを接続する。ビア配線15の径D2は、ビア配線13bから13dの径D1より大きい。   As shown in FIGS. 3A and 3B, in the laminate 10, a plurality of dielectric layers 11a to 11e made of a ceramic material are stacked. Conductor patterns 12b to 12e are provided on the top surfaces of the dielectric layers 11b to 11e, respectively. A terminal 14 is provided on the lower surface of the dielectric layer 11 e. The terminal 14 is, for example, LGA, and is provided only in the lower surface of the dielectric layer 11 e. The terminal 14 includes a conductor layer 14a in contact with the lower surface of the dielectric layer 11e, and a conductor layer 14b provided below the conductor layer 14a. Via wirings 13b to 13d and 15 are provided to penetrate dielectric layers 11b to 11e, respectively. Via interconnections 13 b to 13 d and 15 have, for example, a cylindrical shape. Via interconnections 13b to 13d are connected to at least one of conductor patterns 12b to 12e. The via wiring 15 connects at least one of the conductor patterns 12 b to 12 e to the terminal 14. The diameter D2 of the via wire 15 is larger than the diameter D1 of the via wires 13b to 13d.

図4は、実施例1に係る電子部品の解体斜視図である。図3(a)および図3(b)は、図4におけるそれぞれA−A断面およびB−B断面に相当する。図4では、ビア配線13bから13dおよび15の接続を破線で示す。図4に示すように、導電体パターン12aは方向識別マークとなる。ストリップ線路L1からL4は、導電体パターン12bにより形成される。ストリップ線路L5は、ビア配線13bから13dにより形成される。キャパシタC5からC9は、誘電体層11cを挟む導電体パターン12cと12dとにより形成される。キャパシタC1からC4は、誘電体層11dを挟む導電体パターン12dと12eとにより形成される。   FIG. 4 is a disassembled perspective view of the electronic component according to the first embodiment. FIGS. 3A and 3B correspond to the cross section A-A and the cross section B-B in FIG. 4, respectively. In FIG. 4, connections of via wirings 13 b to 13 d and 15 are shown by broken lines. As shown in FIG. 4, the conductor pattern 12a serves as a direction identification mark. The strip lines L1 to L4 are formed by the conductor pattern 12b. Strip line L5 is formed by via interconnections 13b to 13d. Capacitors C5 to C9 are formed of conductor patterns 12c and 12d sandwiching dielectric layer 11c. Capacitors C1 to C4 are formed of conductor patterns 12d and 12e sandwiching dielectric layer 11d.

誘電体層11aから11eは、セラミック材料からなり、主成分として例えばSi、CaおよびMgの酸化物(例えばディオプサイド結晶であるCaMgSi)を含む。誘電体層11aから11eの主成分は、Si、Caおよび/またはMg以外の酸化物でもよい。さらに、誘電体層11aから11eは、絶縁体材料としてTi、ZrおよびAlの少なくとも1つの酸化物を含んでもよい。 The dielectric layers 11a to 11e are made of a ceramic material and contain, for example, oxides of Si, Ca and Mg (for example, CaMgSi 2 O 6 which is a diopside crystal) as main components. The main components of the dielectric layers 11a to 11e may be oxides other than Si, Ca and / or Mg. Furthermore, the dielectric layers 11a to 11e may contain at least one oxide of Ti, Zr and Al as an insulator material.

導電体パターン12aから12e、ビア配線13bから13dおよび15、並びに導電体層14aは、例えばAg、Pd、Pt、Cu、Ni、Au、Au−Pd合金またはAg−Pt合金を含む金属層である。導電体層14aは、上記金属材料に加え絶縁体材料を含む。絶縁体材料は、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウムおよび/または酸化アルミニウムであり、例えば誘電体層11aから11eが含む材料の少なくとも一部と同じ材料である。導電体層14bは、例えばNi膜およびSn膜である。Sn膜は、電子部品100をマザーボード等に実装するための半田層であり、Ni膜は、半田層と導電体層14aとの間の相互拡散を抑制するためのバリア層である。   Conductor patterns 12a to 12e, via interconnections 13b to 13d and 15, and conductor layer 14a are metal layers including, for example, Ag, Pd, Pt, Cu, Ni, Au, Au-Pd alloy or Ag-Pt alloy. . Conductor layer 14a includes an insulator material in addition to the above-described metal material. The insulator material is, for example, titanium oxide, zirconium oxide and / or aluminum oxide, and is, for example, the same material as at least a part of the material included in the dielectric layers 11a to 11e. The conductor layer 14b is, for example, a Ni film and a Sn film. The Sn film is a solder layer for mounting the electronic component 100 on a motherboard or the like, and the Ni film is a barrier layer for suppressing interdiffusion between the solder layer and the conductor layer 14a.

積層体10は、例えば以下のようにして製造される。誘電体層11aから11eは例えばドクターブレード法を用い作製する。誘電体層11bから11eを貫通するビア配線13bから13dおよび15を形成する。例えば誘電体層11aから11eを貫通するビアホールをレーザ光照射により形成する。スキージ法等を用いビアホール内にビア配線13bから13dおよび15を形成する。誘電体層11aから11eの表面に導電体パターン12aから12eおよび導電体層14aを形成する。導電体パターン12aから12eおよび導電体層14aは例えばスクリーン印刷法または転写法を用い形成する。誘電体層11aから11eを積層して積層体10を形成する。誘電体層11aから11eの積層には例えば熱加圧または接着剤を用いる。積層体10を例えば700℃以上で焼成する。これにより、誘電体層11aから11eが焼結体となる。導電体層14a下に導電体層14bを形成する。導電体層14bの形成には、例えばバレルメッキ法等のメッキ法を用いる。   The laminate 10 is manufactured, for example, as follows. The dielectric layers 11a to 11e are produced, for example, using a doctor blade method. Via interconnections 13b to 13d and 15 are formed to penetrate dielectric layers 11b to 11e. For example, via holes penetrating the dielectric layers 11a to 11e are formed by laser beam irradiation. Via interconnections 13b to 13d and 15 are formed in the via holes using the squeegee method or the like. Conductor patterns 12a to 12e and a conductor layer 14a are formed on the surfaces of dielectric layers 11a to 11e. The conductor patterns 12a to 12e and the conductor layer 14a are formed by using, for example, a screen printing method or a transfer method. The dielectric layers 11 a to 11 e are stacked to form a stacked body 10. For example, heat pressure or an adhesive is used for laminating the dielectric layers 11a to 11e. The laminate 10 is fired, for example, at 700 ° C. or higher. Thereby, the dielectric layers 11a to 11e become sintered bodies. Conductor layer 14b is formed under conductor layer 14a. For example, plating such as barrel plating is used to form the conductor layer 14b.

特許文献1に記載されているように、導電体層14aが絶縁体材料を含まない場合、導電体層14aと誘電体層11eとの接合強度が低くなる。このため、積層体10の焼結時に端子14が誘電体層11eから剥離しやすくなる。また、端子14および/または誘電体層11eにクラックが発生する。導電体層14aが金属材料と絶縁体材料とを含むことにより、端子14の剥離および/またはクラックを抑制できる。特に、導電体層14aが含む絶縁体材料が誘電体層11aから11eが含む材料の少なくとも一部と同じ場合、導電体層14aと誘電体層11eとの接合強度を高くできる。絶縁体材料としては、酸化チタン、酸化ジルコニウムおよび/または酸化アルミニウムが好ましい。   As described in Patent Document 1, when the conductor layer 14a does not contain an insulator material, the bonding strength between the conductor layer 14a and the dielectric layer 11e is low. Therefore, the terminal 14 is easily peeled off from the dielectric layer 11 e during sintering of the laminate 10. In addition, a crack occurs in the terminal 14 and / or the dielectric layer 11 e. When the conductor layer 14a contains a metal material and an insulator material, peeling and / or cracking of the terminal 14 can be suppressed. In particular, when the insulator material included in the conductor layer 14a is the same as at least a part of the material included in the dielectric layers 11a to 11e, the bonding strength between the conductor layer 14a and the dielectric layer 11e can be increased. As an insulator material, titanium oxide, zirconium oxide and / or aluminum oxide are preferable.

[比較例1]
図5(a)および図5(b)は、比較例1に係る電子部品の断面図である。図5(a)および図5(b)に示すように、電子部品110において、誘電体層11eを貫通するビア配線13eの径D2はビア配線13bから13dの径D1と実質的に同じである。その他の構成は、実施例1と同じであり説明を省略する。
Comparative Example 1
FIG. 5A and FIG. 5B are cross-sectional views of the electronic component according to Comparative Example 1. FIG. As shown in FIGS. 5A and 5B, in the electronic component 110, the diameter D2 of the via wiring 13e penetrating the dielectric layer 11e is substantially the same as the diameter D1 of the via wirings 13b to 13d. . The other configuration is the same as that of the first embodiment, and the description is omitted.

比較例1では、導電体層14aは絶縁体材料を含むため、導電体層14aとビア配線13eとの間の電気的接合が阻害される。これにより、ビア配線13eと端子14との接触抵抗値が上昇する。例えば入力端子Tinに高電力の高周波信号が入力した場合、ビア配線13eと端子14との接触抵抗が高いと発熱し、ビア配線13eと端子14との接合部分付近が溶断してしまう可能性がある。一方、ビア配線13bから13eの径を大きくすると、電子部品が大型化してしまう。このように、電子部品を小型化しかつ端子14とビア配線13eとの間の接触抵抗を低抵抗化することが難しい。   In Comparative Example 1, since the conductor layer 14a contains an insulator material, the electrical connection between the conductor layer 14a and the via interconnection 13e is inhibited. Thereby, the contact resistance value between the via wire 13e and the terminal 14 is increased. For example, when a high power high frequency signal is input to the input terminal Tin, if the contact resistance between the via wiring 13e and the terminal 14 is high, heat may be generated, and there is a possibility that the vicinity of the bonding portion between the via wiring 13e and the terminal 14 may be fused. is there. On the other hand, when the diameter of the via wires 13b to 13e is increased, the electronic component is increased in size. Thus, it is difficult to miniaturize the electronic component and to lower the contact resistance between the terminal 14 and the via wiring 13e.

[実施例1と比較例1の比較]
実施例1では、誘電体層11eを貫通するビア配線15と導電体層14aとの接触面積を、他のビア配線13bから13dの径より大きくする。これにより、電子部品の小型化が可能となり、かつ端子14とビア配線13eとの間の接触抵抗の低抵抗化が可能となる。
[Comparison of Example 1 and Comparative Example 1]
In the first embodiment, the contact area between the via wiring 15 penetrating the dielectric layer 11 e and the conductor layer 14 a is made larger than the diameters of the other via wirings 13 b to 13 d. As a result, the electronic component can be miniaturized, and the contact resistance between the terminal 14 and the via wire 13e can be reduced.

実施例1および比較例1において、入力端子Tinと出力端子Toutとの間の抵抗を測定した。測定した抵抗値を用いD2/D1に対する抵抗値を算出した。抵抗値は、ビア配線13bから13dおよび15ならびにストリップ線路L1を介した抵抗となる。また、入力端子Tinに高周波信号を入力したときの電子部品の寿命を測定した。寿命は、環境温度を175℃として、高電力の高周波信号を入力端子Tinに印加し、電子部品が破壊されるまでの時間とした。   In Example 1 and Comparative Example 1, the resistance between the input terminal Tin and the output terminal Tout was measured. The resistance value to D2 / D1 was calculated using the measured resistance value. The resistance value is resistance via the via wirings 13b to 13d and 15 and the strip line L1. In addition, the life of the electronic component was measured when a high frequency signal was input to the input terminal Tin. The lifetime was set to 175 ° C. at the environmental temperature, and a high power high frequency signal was applied to the input terminal Tin, and the time until the electronic component was destroyed was taken.

各条件は以下である。
誘電体層11aから11eの材料:Si、CaおよびMgの酸化物を主成分とし、TiOを3重量%(酸化物換算)含む。
誘電体層11aから11eの厚さ:それぞれ30μm、400μm、10μm、10μmおよび30μm
導電体パターン12bの材料:Agを主成分とし、TiOを13重量%(酸化物換算)含む。
ストリップ線路L1の導電体パターン12bの寸法:長さ:1400μm、幅:100μm、厚さ:20μm
ビア配線13bから13dおよび15の材料:Agを主成分とする。
ビア配線13bから13dの径D1:65μm
ビア配線15または13eの径D2:実施例1:120μm、比較例1:65μm
導電体層14aの材料:Agを主成分とし、TiOを13重量%(酸化物換算)含む。
導電体層14aの厚さ:10μm
高周波信号の周波数:3800MHz
高周波信号の電力:39.98dBm
Each condition is as follows.
Materials of the dielectric layers 11a to 11e: Oxides of Si, Ca and Mg as main components, and 3 wt% of TiO 2 (in terms of oxide).
Thickness of dielectric layers 11a to 11e: 30 μm, 400 μm, 10 μm, 10 μm and 30 μm respectively
Material of the conductor pattern 12b: Ag is a main component, and 13% by weight (in terms of oxide) of TiO 2 is included.
Dimension of conductor pattern 12b of strip line L1: length: 1400 μm, width: 100 μm, thickness: 20 μm
Materials of via wirings 13b to 13d and 15: Ag is a main component.
Diameter D1 of via wiring 13b to 13d: 65 μm
Diameter D2 of via wiring 15 or 13 e: Example 1: 120 μm, Comparative Example 1: 65 μm
Material of the conductor layer 14 a: Ag is a main component, and 13 wt% (as oxide conversion) of TiO 2 is included.
Thickness of conductor layer 14a: 10 μm
Frequency of high frequency signal: 3800 MHz
High frequency signal power: 39.98 dBm

図6は、実施例1および比較例1におけるD2/D1に対する抵抗値および寿命を示す図である。図6において、実線は算出した抵抗値を示し、ドットは寿命の測定結果を示す。図6に示すように、D2/D1が大きくなると抵抗値が低くなる。これは、導電体層14aとビア配線15との間の接触抵抗が低くなったためと考えられる。比較例1の寿命は約2時間であるが、実施例1では約16時間である。   FIG. 6 is a view showing the resistance value and the life with respect to D2 / D1 in Example 1 and Comparative Example 1. In FIG. 6, the solid line shows the calculated resistance value, and the dot shows the measurement result of the life. As shown in FIG. 6, the resistance value decreases as D2 / D1 increases. This is considered to be because the contact resistance between the conductor layer 14 a and the via wiring 15 is lowered. The life of Comparative Example 1 is about 2 hours, but in Example 1 is about 16 hours.

図7は、実施例1および比較例1において入力電力に対する寿命を示す図である。ドットは測定点であり、直線は近似線である。図7に示すように、実施例1では比較例1より寿命が長い。実用的な電力である入力電力が35dBmでは、実施例1は比較例1より2桁寿命が長い。このように、導電体層14aとビア配線15との接触抵抗を低くすることにより、入力端子Tinに高電力の高周波信号が入力したときの寿命が長くなる。   FIG. 7 is a diagram showing the lifetime with respect to the input power in Example 1 and Comparative Example 1. Dots are measurement points, and straight lines are approximate lines. As shown in FIG. 7, the life of Example 1 is longer than that of Comparative Example 1. When the input power, which is a practical power, is 35 dBm, Example 1 has a two-digit life longer than Comparative Example 1. Thus, by reducing the contact resistance between the conductor layer 14a and the via wiring 15, the life when a high power high frequency signal is input to the input terminal Tin is extended.

[実施例1の変形例1]
図8(a)および図8(b)は、実施例1の変形例1に係る電子部品の断面図である。図8(a)に示すように、電子部品101において、ビア配線15は入力端子Tinおよび出力端子Toutに接触し、ビア配線13eはグランド端子Tgndに接触する。ビア配線13eの径D3は、ビア配線15の径D2より小さく、ビア配線13bから13dの径D1と同程度である。低抵抗化が求められるのは、主に高周波信号が通過する端子である。よって、入力端子Tinおよび出力端子Toutに接触するビア配線15の径D2をD1およびD3より大きくしてもよい。その他の構成は実施例1と同じであり説明を省略する。
Modification 1 of Embodiment 1
FIGS. 8A and 8B are cross-sectional views of the electronic component according to the first modification of the first embodiment. As shown in FIG. 8A, in the electronic component 101, the via wiring 15 contacts the input terminal Tin and the output terminal Tout, and the via wiring 13e contacts the ground terminal Tgnd. The diameter D3 of the via wiring 13e is smaller than the diameter D2 of the via wiring 15 and is about the same as the diameter D1 of the via wirings 13b to 13d. It is mainly a terminal through which a high frequency signal passes to be required to reduce the resistance. Therefore, the diameter D2 of the via wiring 15 in contact with the input terminal Tin and the output terminal Tout may be larger than D1 and D3. The other configuration is the same as that of the first embodiment, and the description is omitted.

図8(b)に示すように、電子部品102において、ビア配線15は入力端子Tinに接触し、ビア配線13eは出力端子Toutおよびグランド端子Tgndに接触する。高電力の高周波信号により破壊されるのは、入力端子Tinの近傍である。よって、入力端子Tinに接触するビア配線15の径D2をビア配線13bから13dの径D1およびグランド端子Tgndおよび出力端子Toutと接触するビア配線13eの径D3より大きくしてもよい。その他の構成は実施例1と同じであり説明を省略する。   As shown in FIG. 8B, in the electronic component 102, the via wiring 15 contacts the input terminal Tin, and the via wiring 13e contacts the output terminal Tout and the ground terminal Tgnd. What is destroyed by the high power high frequency signal is near the input terminal Tin. Therefore, the diameter D2 of the via wiring 15 in contact with the input terminal Tin may be larger than the diameter D1 of the via wirings 13b to 13d and the diameter D3 of the via wiring 13e in contact with the ground terminal Tgnd and the output terminal Tout. The other configuration is the same as that of the first embodiment, and the description is omitted.

[実施例1の変形例2]
図9は、実施例1の変形例2に係る電子部品の断面図である。図9に示すように、電子部品103において、ビア配線15は、端子14側の径が大きくなるような円錐台形状である。このように、導電体層14aとビア配線15の接触面積が大きくなれば、ビア配線15の形状は任意に選択できる。
Modification 2 of Embodiment 1
FIG. 9 is a cross-sectional view of the electronic component according to the second modification of the first embodiment. As shown in FIG. 9, in the electronic component 103, the via wiring 15 has a truncated cone shape in which the diameter on the terminal 14 side becomes large. As described above, when the contact area between the conductor layer 14a and the via wiring 15 is increased, the shape of the via wiring 15 can be arbitrarily selected.

実施例1およびその変形例によれば、導電体パターン12bから12eの各々は、複数の誘電体層11bから11eのうち1つの誘電体層の表面に形成され積層体10内に設けられ回路素子(例えばキャパシタおよび/またはインダクタ)の少なくとも一部を構成する。1または複数の端子14は、誘電体層11e(最も外側の誘電体層、すなわち誘電体層11aから11eの積層方向において最も外側に位置する誘電体層)の下面(外側の面、すなわち他の誘電体層11dと接する面とは反対側の面)に設けられ、1または複数の導電体層14aおよび14bを含む。誘電体層11eの下面に接する導電体層14aは、金属材料と絶縁体材料とを含む。ビア配線13bから13d(第1ビア配線)は、誘電体層11e以外の誘電体層11bから11dの少なくとも1つの誘電体層を貫通し、複数の導電体パターン12bから12eのうち少なくとも2つの導電体パターン間を電気的に接続する。   According to the first embodiment and its modification, each of the conductor patterns 12b to 12e is formed on the surface of one of the plurality of dielectric layers 11b to 11e, and provided in the laminate 10 Configure at least a part of (for example, a capacitor and / or an inductor). The one or more terminals 14 are the lower surface (outside surface, that is, the other surface) of the dielectric layer 11 e (the outermost dielectric layer, ie, the outermost dielectric layer in the stacking direction of the dielectric layers 11 a to 11 e). It is provided on the side opposite to the side in contact with the dielectric layer 11d) and includes one or more conductor layers 14a and 14b. Conductor layer 14a in contact with the lower surface of dielectric layer 11e includes a metal material and an insulator material. The via wires 13b to 13d (first via wires) penetrate at least one of the dielectric layers 11b to 11d other than the dielectric layer 11e, and at least two of the plurality of conductor patterns 12b to 12e conduct electricity. Electrically connect between body patterns.

ビア配線15(第2ビア配線)は、誘電体層11eを貫通し、端子14と導電体パターン12bから12eのうち少なくとも1つの導電体パターンとを電気的に接続する。ビア配線15が端子14と接触する第1接触面積は、ビア配線13bから13dの断面積(誘電体層11eの下面に平行な面における断面積)より大きい。   The via wiring 15 (second via wiring) penetrates the dielectric layer 11 e and electrically connects the terminal 14 and at least one of the conductor patterns 12 b to 12 e. The first contact area of the via interconnection 15 in contact with the terminal 14 is larger than the sectional area of the via interconnections 13 b to 13 d (the sectional area in the plane parallel to the lower surface of the dielectric layer 11 e).

これにより、端子14とビア配線15との接触抵抗を低くできる。また、ビア配線13bから13dを小さくできるため、電子部品を小型化できる。   Thereby, the contact resistance between the terminal 14 and the via wiring 15 can be reduced. In addition, since the via wirings 13b to 13d can be reduced, the electronic component can be miniaturized.

ビア配線15は、1または複数の端子14のうち少なくとも1つの端子14と複数の導電体パターンのうち少なくとも1つの導電体パターンとを電気的に接続すればよい。これにより、ビア配線15と端子14との接触抵抗を抑制できる。   The via wiring 15 may electrically connect at least one terminal 14 of the one or more terminals 14 with at least one conductor pattern of the plurality of conductor patterns. Thereby, the contact resistance between the via wire 15 and the terminal 14 can be suppressed.

実施例1のように、ビア配線15はすべての端子14に接続されていてもよい。これにより、全ての端子14と回路素子との間の抵抗を低減できる。ビア配線15と端子14との第1接触面積は、ビア配線13bから13dの断面積の1.5倍以上が好ましく2倍以上がより好ましく、4倍以上がさらに好ましい。   As in the first embodiment, the via wiring 15 may be connected to all the terminals 14. Thereby, the resistance between all the terminals 14 and the circuit elements can be reduced. The first contact area between the via wire 15 and the terminal 14 is preferably 1.5 times or more of the cross-sectional area of the via wires 13 b to 13 d, more preferably 2 times or more, and still more preferably 4 times or more.

実施例1およびその変形例1のように、ビア配線15が接触する端子14は、高周波信号が入力する入力端子Tinを含む。これにより、電子部品の破壊を抑制できる。   As in the first embodiment and the first modification, the terminal 14 in contact with the via wire 15 includes the input terminal Tin to which a high frequency signal is input. Thereby, destruction of the electronic component can be suppressed.

ビア配線13bから13dの断面積およびビア配線15の接触面積がばらついている場合、入力端子Tinに接触するビア配線15の接触面積のうち最も小さな接触面積がビア配線13bから13dの断面積のうち最も大きな断面積より大きければよい。最も小さな接触面積は最も大きな断面積の1.5倍以上が好ましく、2倍以上が好ましく、4倍以上がさらに好ましい。   When the cross sectional areas of the via wirings 13b to 13d and the contact areas of the via wirings 15 vary, the smallest contact area among the contact areas of the via wirings 15 in contact with the input terminal Tin is the cross sectional area of the via wirings 13b to 13d. It should be larger than the largest cross-sectional area. The smallest contact area is preferably 1.5 times or more of the largest cross-sectional area, preferably 2 times or more, and more preferably 4 times or more.

実施例1の変形例1のように、ビア配線13e(第3ビア配線)は、誘電体層11eを貫通し、グランド端子Tgndと複数の導電体パターン12bから12eのうち少なくとも1つの導電体パターンとを電気的に接続する。ビア配線13eがグランド端子Tgndと接触する第2接触面積はビア配線15が入力端子Tinに接触する第1接触面積より小さい。グランド端子Tgndは大電力が加わりにくい端子14である。よって、グランド端子Tgndに接するビア配線13eの接触面積を小さくする。これにより、電子部品の小型化が可能となる。   As in the first modification of the first embodiment, the via wire 13e (third via wire) penetrates the dielectric layer 11e, and at least one conductor pattern of the ground terminal Tgnd and the plurality of conductor patterns 12b to 12e. And electrically connected. The second contact area where the via interconnection 13e contacts the ground terminal Tgnd is smaller than the first contact area where the via interconnection 15 contacts the input terminal Tin. The ground terminal Tgnd is a terminal 14 to which large power is not easily applied. Therefore, the contact area of the via interconnection 13e in contact with the ground terminal Tgnd is reduced. This enables downsizing of the electronic component.

ビア配線13eの端子14との接触面積は、ビア配線13bから13dの断面積と製造誤差程度に略同じである。入力端子Tinに接触するビア配線15の第1接触面積のうち最も小さな第1接触面積は、端子14(グランド端子Tgndおよび/または出力端子Tout)に接触するビア配線13eの第2接触面積のうち最も大きな第2接触面積より大きければよい。最も小さな第1接触面積は最も大きな第2接触面積の1.5倍以上が好ましく、2倍以上が好ましく、4倍以上がさらに好ましい。   The contact area of the via wiring 13e with the terminal 14 is substantially the same as the cross-sectional area of the via wirings 13b to 13d and the manufacturing error. The smallest first contact area of the first contact area of the via wiring 15 in contact with the input terminal Tin is the second contact area of the via wiring 13e in contact with the terminal 14 (the ground terminal Tgnd and / or the output terminal Tout). It may be larger than the largest second contact area. The smallest first contact area is preferably 1.5 times or more of the largest second contact area, preferably 2 times or more, and more preferably 4 times or more.

図10(a)および図10(b)は、実施例2に係る電子部品の断面図である。図10(a)および図10(b)に示すように、電子部品104において、誘電体層11eを貫通し、入力端子Tinおよび出力端子Toutと接続するビア配線13eの径D2は、ビア配線13bから13dの径D1と製造誤差程度に略同じである。また、径D2は、誘電体層11eを貫通し、グランド端子Tgndと接続するビア配線13eの径D3と製造誤差程度に略同じである。   FIGS. 10A and 10B are cross-sectional views of the electronic component according to the second embodiment. As shown in FIGS. 10A and 10B, in the electronic component 104, the diameter D2 of the via wiring 13e which penetrates the dielectric layer 11e and is connected to the input terminal Tin and the output terminal Tout is the via wiring 13b. To 13d and the manufacturing error is substantially the same. The diameter D2 is substantially the same as the diameter D3 of the via wiring 13e which penetrates the dielectric layer 11e and is connected to the ground terminal Tgnd.

複数のビア配線15a(ビア配線13dと13eがつながったビア配線)は、入力端子Tinと、導電体パターン12dにより形成されたキャパシタC5の電極16aと、を電気的接続する。複数のビア配線15aは、出力端子Toutと、導電体パターン12dにより形成されたキャパシタC7の電極16bと、を電気的接続する。複数のビア配線15aは、例えば平面形状が矩形である入力端子Tinおよび出力端子Toutのそれぞれ矩形の4頂点付近に接続される。その他の構成は実施例1と同じであり説明を省略する。   The plurality of via wirings 15a (via wirings in which the via wirings 13d and 13e are connected) electrically connect the input terminal Tin to the electrode 16a of the capacitor C5 formed of the conductor pattern 12d. The plurality of via wires 15a electrically connect the output terminal Tout to the electrode 16b of the capacitor C7 formed of the conductor pattern 12d. The plurality of via wires 15a are connected, for example, in the vicinity of four vertexes of a rectangular shape of the input terminal Tin and the output terminal Tout each having a rectangular planar shape, for example. The other configuration is the same as that of the first embodiment, and the description is omitted.

実施例2では、入力端子Tinと電極16aとを接続するビア配線15aを複数設ける。出力端子Toutと電極16bとを接続するビア配線15aを複数設ける。これにより、ビア配線15aと入力端子Tinおよび出力端子Toutとの接触抵抗を比較例1より低くできる。よって、入力端子Tinに大電力の高周波信号が入力しても入力端子Tin付近が破壊されることを抑制できる。   In the second embodiment, a plurality of via wirings 15a connecting the input terminal Tin and the electrode 16a are provided. A plurality of via wires 15a for connecting the output terminal Tout and the electrode 16b are provided. As a result, the contact resistance between the via wire 15a and the input terminal Tin and the output terminal Tout can be made lower than that in Comparative Example 1. Therefore, even if a high frequency signal of high power is input to the input terminal Tin, destruction of the vicinity of the input terminal Tin can be suppressed.

[実施例2の変形例1]
図11は、実施例2の変形例1に係る電子部品の断面図である。図11に示すように、電子部品105において、出力端子Toutに接続されるビア配線13eは1つである。その他の構成は実施例1と同じであり説明書省略する。実施例2の変形例1のように、出力端子Toutに接続されるビア配線13eの個数は入力端子Tinに接続されるビア配線13eの個数より少なくともよい。
Modification 1 of Embodiment 2
FIG. 11 is a cross-sectional view of the electronic component according to the first modification of the second embodiment. As shown in FIG. 11, in the electronic component 105, there is one via wire 13e connected to the output terminal Tout. The other configuration is the same as that of the first embodiment, and the description thereof is omitted. As in the first modification of the second embodiment, the number of via wires 13e connected to the output terminal Tout is at least better than the number of via wires 13e connected to the input terminal Tin.

実施例1およびその変形例によれば、複数のビア配線13eは、誘電体層11eを貫通し、入力端子Tinと複数の導電体パターン12bから12eのうちキャパシタを形成する1つの導電体パターン12d(電極16a)とを互いに並列に接続する。このように、複数のビア配線13eが入力端子Tinに接続されていてもよい。   According to the first embodiment and its modification, the plurality of via wires 13e penetrate the dielectric layer 11e, and one of the conductor patterns 12d forming the capacitor among the input terminal Tin and the plurality of conductor patterns 12b to 12e. (Electrodes 16a) are connected in parallel with each other. Thus, the plurality of via wires 13e may be connected to the input terminal Tin.

複数のビア配線15aと入力端子Tinとがそれぞれ接触する第1接触面積はビア配線13bから13dの断面積と製造誤差程度に略等しい。これにより、ビア配線15aの径をビア配線13bから13dの径とほぼ同じとできる。よって、製造工程を簡略化することができる。また、電子部品の小型化が可能となる。   The first contact area where the plurality of via wires 15a and the input terminal Tin are in contact with each other is substantially equal to the cross-sectional area of the via wires 13b to 13d and the manufacturing error. Thereby, the diameter of the via wiring 15a can be made substantially the same as the diameter of the via wirings 13b to 13d. Thus, the manufacturing process can be simplified. In addition, the electronic components can be miniaturized.

グランド端子Tgndと導電体パターン12bから12eのうち少なくとも1つの導電体パターンとを電気的に接続するビア配線13eがグランド端子Tgndと接触する第2接触面積はビア配線15aが入力端子Tinと接触する第1接触面積と製造誤差程度に略等しい。これにより、ビア配線15aの径をビア配線13eの径とほぼ同じとできる。よって、製造工程を簡略化することができる。また、電子部品の小型化が可能となる。   A second contact area in which the via wiring 13e electrically connecting the ground terminal Tgnd and at least one conductor pattern of the conductor patterns 12b to 12e contacts the ground terminal Tgnd is such that the via wiring 15a contacts the input terminal Tin It is approximately equal to the first contact area and the manufacturing error. Thus, the diameter of the via wiring 15a can be made substantially the same as the diameter of the via wiring 13e. Thus, the manufacturing process can be simplified. In addition, the electronic components can be miniaturized.

実施例1、2およびそれらの変形例において、導電体層14aに含まれる絶縁体材料は誘電体層11eに含まれる材料と同じ材料を含む。これにより、端子14と誘電体層11eとの接合強度を高くできる。   In Examples 1 and 2 and their variations, the insulator material included in the conductor layer 14a includes the same material as the material included in the dielectric layer 11e. Thereby, the bonding strength between the terminal 14 and the dielectric layer 11 e can be increased.

導電体層14aに含まれる絶縁体材料は、酸化チタン、酸化ジルコニウムおよび酸化アルミニウムの少なくとも1つであることが好ましい。これにより、端子14と誘電体層11eとの接合強度をより高くできる。   The insulator material contained in the conductor layer 14a is preferably at least one of titanium oxide, zirconium oxide and aluminum oxide. Thereby, the bonding strength between the terminal 14 and the dielectric layer 11 e can be further increased.

誘電体層11aから11eに含まれる絶縁体材料は、酸化物換算で0.1重量%以上50重量%以下が好ましく、1重量%以上10重量%以下が好ましい。導電体層14aに含まれる絶縁体材料は、酸化物換算で0.1重量%以上66重量%以下が好ましく、1重量%以上20重量%以下がより好ましい。   The insulator material contained in the dielectric layers 11a to 11e is preferably 0.1% by weight or more and 50% by weight or less, and more preferably 1% by weight or more and 10% by weight or less in terms of oxide. The insulator material contained in the conductor layer 14a is preferably 0.1 wt% to 66 wt% in terms of oxide, and more preferably 1 wt% to 20 wt%.

導電体層14bは、例えば導電体層14aと同じ金属材料を含んでもよい。この場合、導電体層14bは絶縁体材料を含まない、または、導電体層14bの絶縁体材料の濃度は導電体層14aの絶縁体材料の濃度より低い。これにより、端子14の抵抗を低くできる。   The conductor layer 14b may include, for example, the same metal material as the conductor layer 14a. In this case, the conductor layer 14b does not contain an insulator material, or the concentration of the insulator material of the conductor layer 14b is lower than the concentration of the insulator material of the conductor layer 14a. Thereby, the resistance of the terminal 14 can be reduced.

また、導電体層14bは、Ni膜およびSn膜のように半田層を含んでもよい。   Also, the conductor layer 14b may include a solder layer like a Ni film and a Sn film.

誘電体層11aから11eが5層の例を説明したが、誘電体層11aから11eの層数は任意に設定できる。積層体10に含まれる回路素子としてキャパシタおよびストリップ線路(またはインダクタ)を例に説明したが、回路素子はキャパシタのみでもよいし、インダクタのみでもよい。電子部品として、バンドパスフィルタを例に説明したが、電子部品は、ハイパスフィルタ、ローパスフィルタ等のフィルタでもよい。電子部品は、ダイプレクサ、デュプレクサ、トリプレクサまたはクワッドプレクサ等のマルチプレクサでもよい。   Although five dielectric layers 11a to 11e have been described, the number of dielectric layers 11a to 11e can be set arbitrarily. Although capacitors and strip lines (or inductors) have been described as examples of circuit elements included in the laminate 10, the circuit elements may be only capacitors or only inductors. Although a band pass filter has been described as an example of the electronic component, the electronic component may be a filter such as a high pass filter or a low pass filter. The electronic component may be a multiplexer such as a diplexer, duplexer, triplexer or quadplexer.

実施例3は、実施例1、2およびそれらの変形例が用いられる回路の例である。図12は、実施例3に係るフロントエンド回路の回路図である。図12に示すように、フロントエンド回路106は、ハイパスフィルタ(HPF)31、バンドパスフィルタ(BPF)32、ローパスフィルタ(LPF)33、スイッチ34、デュプレクサ37、パワーアンプ(PA)38およびローノイズアンプ(LNA)39を備えている。   The third embodiment is an example of a circuit in which the first and second embodiments and their variations are used. FIG. 12 is a circuit diagram of a front end circuit according to a third embodiment. As shown in FIG. 12, the front end circuit 106 includes a high pass filter (HPF) 31, a band pass filter (BPF) 32, a low pass filter (LPF) 33, a switch 34, a duplexer 37, a power amplifier (PA) 38 and a low noise amplifier (LNA) 39 is provided.

アンテナ端子Taにアンテナ30が接続される。アンテナ端子Taには、HPF31、BPF32およびLPF33の一端が共通に接続されている。HPF31、BPF32およびLPF33の他端には各々スイッチ34が接続されている。HPF31はハイバンドの高周波信号を通過させ他の周波数の信号を抑圧する。BPF32はハイバンドより周波数の低いミドルバンドの高周波信号を通過させ他の周波数の信号を抑圧する。LPF33はミドルバンドより周波数の低いローバンドの高周波信号を通過させ他の周波数の信号を抑圧する。   The antenna 30 is connected to the antenna terminal Ta. One end of each of the HPF 31, the BPF 32, and the LPF 33 is connected in common to the antenna terminal Ta. A switch 34 is connected to the other end of each of the HPF 31, the BPF 32 and the LPF 33. The HPF 31 passes high band high frequency signals and suppresses signals of other frequencies. The BPF 32 passes high frequency signals in the middle band lower in frequency than the high band and suppresses signals in other frequencies. The LPF 33 passes a low band high frequency signal whose frequency is lower than that of the middle band and suppresses signals of other frequencies.

スイッチ34には複数のデュプレクサ37の共通端子Naが接続されている。スイッチ34は、複数のデュプレクサ37から1つを選択し、HPF31、BPF32およびLPF33の他端に接続する。デュプレクサ37はBPFである送信フィルタ35とBPFである受信フィルタ36を有している。送信フィルタ35および受信フィルタ36はそれぞれPA38およびLNA39に接続されている。   The common terminal Na of the plurality of duplexers 37 is connected to the switch 34. The switch 34 selects one of the plurality of duplexers 37 and connects it to the other ends of the HPF 31, the BPF 32 and the LPF 33. The duplexer 37 has a transmission filter 35 which is a BPF and a reception filter 36 which is a BPF. The transmit filter 35 and the receive filter 36 are connected to the PA 38 and the LNA 39, respectively.

送信端子Txに入力された送信信号はPA38により増幅される。送信フィルタ35は増幅された信号のうち送信帯域の高周波信号を共通端子Naに出力し他の周波数の信号を抑圧する。濾過された送信信号がスイッチ34と、HPF31、BPF32またはLPF33と、を通過しアンテナ30から出力される。   The transmission signal input to the transmission terminal Tx is amplified by the PA 38. Among the amplified signals, the transmission filter 35 outputs a high frequency signal in the transmission band to the common terminal Na to suppress signals of other frequencies. The filtered transmission signal passes through the switch 34 and the HPF 31, BPF 32 or LPF 33 and is output from the antenna 30.

アンテナ30に入力された受信信号は、HPF31、BPF32またはLPF33と、スイッチ34と、を通過する。受信フィルタ36は、共通端子Naに入力した高周波信号のうち受信帯域の信号を通過させ他の周波数の信号を抑圧する。濾過された受信信号は、LNA39により増幅され受信端子Rxに出力される。   The received signal input to the antenna 30 passes through the HPF 31, the BPF 32 or the LPF 33, and the switch 34. Among the high frequency signals input to the common terminal Na, the reception filter 36 passes signals in the reception band and suppresses signals of other frequencies. The filtered reception signal is amplified by the LNA 39 and output to the reception terminal Rx.

実施例1、2およびそれらの変形例は、例えばBPF32、送信フィルタ35および受信フィルタ36の少なくとも1つに用いられる。特に、BPF32および送信フィルタ35には、30dBm以上の高電力の高周波信号が印加される。そこで、入力端子Tinがパワーアンプの出力に接続され、出力端子Toutがアンテナ30に接続されるフィルタを、実施例1、2およびそれらの変形例とする。これにより、大電力の高周波信号により電子部品が破壊されることまたは寿命が短くなることを抑制できる。   The first and second embodiments and their variations are used, for example, for at least one of the BPF 32, the transmission filter 35, and the reception filter 36. In particular, a high power high frequency signal of 30 dBm or more is applied to the BPF 32 and the transmission filter 35. Therefore, filters in which the input terminal Tin is connected to the output of the power amplifier and the output terminal Tout is connected to the antenna 30 are considered as the first and second embodiments and their modifications. Thereby, it is possible to suppress that the electronic component is broken or the life is shortened by the high power high frequency signal.

以上、本発明の実施例について詳述したが、本発明はかかる特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。   As mentioned above, although the embodiment of the present invention has been described in detail, the present invention is not limited to such a specific embodiment, and various modifications may be made within the scope of the present invention described in the claims. Changes are possible.

10 積層体
11a−11e 誘電体層
12a−12e 導電体パターン
13b−13e、15、15a ビア配線
14 端子
14a、14b 導電体層
16 電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 laminated body 11a-11e dielectric material layer 12a-12e conductor pattern 13b-13e, 15, 15a via wiring 14 terminal 14a, 14b conductor layer 16 electrode

Claims (10)

セラミック材料からなり積層された複数の誘電体層と、
各々前記複数の誘電体層のうち1つの誘電体層の表面に形成され回路素子の少なくとも一部を構成する複数の導電体パターンと、
前記複数の誘電体層のうち最も外側の誘電体層の外側の面に設けられ、1または複数の導電体層を含み、前記1または複数の導電体層のうち前記外側の面に接する導電体層は金属材料と絶縁体材料とを含む1または複数の端子と、
前記複数の誘電体層のうち前記最も外側の誘電体層以外の少なくとも1つの誘電体層を貫通し、前記複数の導電体パターンのうち少なくとも2つの導電体パターン間を電気的に接続する第1ビア配線と、
前記最も外側の誘電体層を貫通し、前記1または複数の端子のうち少なくとも1つの端子と前記複数の導電体パターンのうち少なくとも1つの導電体パターンとを電気的に接続し、前記少なくとも1つの端子と接触する第1接触面積が前記第1ビア配線の前記外側の面に平行な断面積より大きい第2ビア配線と、
を備える電子部品。
Multiple dielectric layers stacked of ceramic material,
A plurality of conductor patterns each formed on a surface of one of the plurality of dielectric layers and constituting at least a part of a circuit element;
A conductor provided on the outer surface of the outermost dielectric layer of the plurality of dielectric layers, including one or more conductive layers, in contact with the outer surface of the one or more conductive layers The layer comprises one or more terminals comprising a metallic material and an insulator material
First to penetrate at least one dielectric layer other than the outermost dielectric layer among the plurality of dielectric layers, and electrically connect at least two conductive patterns of the plurality of conductive patterns. With via wiring,
The at least one terminal of the one or more terminals and the at least one conductor pattern of the plurality of conductor patterns are electrically connected through the outermost dielectric layer; A second via wiring whose first contact area in contact with the terminal is larger than a cross-sectional area parallel to the outer surface of the first via wiring;
Electronic components comprising
前記少なくとも1つの端子は、高周波信号が入力する入力端子を含む請求項1に記載の電子部品。   The electronic component according to claim 1, wherein the at least one terminal includes an input terminal to which a high frequency signal is input. 前記1または複数の端子は、グランド端子を含み、
前記電子部品は、前記最も外側の誘電体層を貫通し、前記グランド端子と前記複数の導電体パターンのうち少なくとも1つとを電気的に接続し、前記グランド端子と接触する第2接触面積が前記第1接触面積より小さい第3ビア配線を備える請求項2に記載の電子部品。
The one or more terminals include a ground terminal,
The electronic component penetrates the outermost dielectric layer, electrically connects the ground terminal and at least one of the plurality of conductor patterns, and a second contact area contacting the ground terminal is the second contact area. The electronic component according to claim 2, further comprising a third via wiring smaller than the first contact area.
セラミック材料からなり積層された複数の誘電体層と、
各々前記複数の誘電体層のうち1つの誘電体層の表面に形成され回路素子の少なくとも一部を構成する複数の導電体パターンと、
前記複数の誘電体層のうち最も外側の誘電体層の外側の面に設けられ、1または複数の導電体層を含み、前記1または複数の導電体層のうち前記外側の面に接する導電体層は金属材料と絶縁体材料とを含む1または複数の端子と、
前記複数の誘電体層のうち前記最も外側の誘電体層以外の少なくとも1つの誘電体層を貫通し、前記複数の導電体パターンのうち少なくとも2つの導電体パターン間を電気的に接続する第1ビア配線と、
前記最も外側の誘電体層を貫通し、前記1または複数の端子のうち高周波信号が入力する入力端子と前記複数の導電体パターンのうちキャパシタを形成する1つの導電体パターンとを互いに並列に接続する複数の第2ビア配線と、
を備える電子部品。
Multiple dielectric layers stacked of ceramic material,
A plurality of conductor patterns each formed on a surface of one of the plurality of dielectric layers and constituting at least a part of a circuit element;
A conductor provided on the outer surface of the outermost dielectric layer of the plurality of dielectric layers, including one or more conductive layers, in contact with the outer surface of the one or more conductive layers The layer comprises one or more terminals comprising a metallic material and an insulator material
First to penetrate at least one dielectric layer other than the outermost dielectric layer among the plurality of dielectric layers, and electrically connect at least two conductive patterns of the plurality of conductive patterns. With via wiring,
The outermost dielectric layer is penetrated, and an input terminal to which a high frequency signal is input among the one or more terminals and one conductor pattern forming a capacitor among the plurality of conductor patterns are connected in parallel to each other Multiple second via wires, and
Electronic components comprising
前記複数の第2ビア配線と前記入力端子とがそれぞれ接触する第1接触面積は前記第1ビア配線の前記外側の面に平行な断面積と略等しい請求項4に記載の電子部品。   5. The electronic component according to claim 4, wherein a first contact area where each of the plurality of second via wires and the input terminal contact each other is substantially equal to a cross-sectional area parallel to the outer surface of the first via wire. 前記1または複数の端子は、グランド端子を含み、
前記電子部品は、前記最も外側の誘電体層を貫通し、前記グランド端子と前記複数の導電体パターンのうち少なくとも1つの導電体パターンとを電気的に接続し、前記グランド端子と接触する第2接触面積は前記第1接触面積と略等しい第3ビア配線を備える請求項5に記載の電子部品。
The one or more terminals include a ground terminal,
The electronic component penetrates the outermost dielectric layer, electrically connects the ground terminal and at least one conductor pattern of the plurality of conductor patterns, and contacts the ground terminal. The electronic component according to claim 5, further comprising a third via wiring having a contact area substantially equal to the first contact area.
前記絶縁体材料は前記最も外側の誘電体層に含まれる材料と同じ材料を含む請求項1から6のいずれか一項に記載の電子部品。   The electronic component according to any one of claims 1 to 6, wherein the insulator material comprises the same material as the material contained in the outermost dielectric layer. 前記絶縁体材料は、酸化チタン、酸化ジルコニウムおよび酸化アルミニウムの少なくとも1つである請求項7に記載の電子部品。   The electronic component according to claim 7, wherein the insulator material is at least one of titanium oxide, zirconium oxide and aluminum oxide. 前記回路素子は、インダクタおよび/またはキャパシタを含む請求項1から8のいずれか一項に記載の電子部品。   The electronic component according to any one of claims 1 to 8, wherein the circuit element includes an inductor and / or a capacitor. 前記1または複数の端子は、高周波信号が入力する入力端子と高周波信号が出力する出力端子とを含み、
前記回路素子は前記入力端子と前記出力端子との間に接続されたフィルタを含む、
前記入力端子は、パワーアンプの出力に接続され、
前記出力端子はアンテナに接続される請求項1または4に記載の電子部品。
The one or more terminals include an input terminal to which a high frequency signal is input and an output terminal to which a high frequency signal is output,
The circuit element includes a filter connected between the input terminal and the output terminal.
The input terminal is connected to the output of the power amplifier,
The electronic component according to claim 1, wherein the output terminal is connected to an antenna.
JP2017203950A 2017-10-20 2017-10-20 Electronic components Active JP7068797B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017203950A JP7068797B2 (en) 2017-10-20 2017-10-20 Electronic components
US16/151,020 US10432237B2 (en) 2017-10-20 2018-10-03 Multiplexer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017203950A JP7068797B2 (en) 2017-10-20 2017-10-20 Electronic components

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019079865A true JP2019079865A (en) 2019-05-23
JP7068797B2 JP7068797B2 (en) 2022-05-17

Family

ID=66628113

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017203950A Active JP7068797B2 (en) 2017-10-20 2017-10-20 Electronic components

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7068797B2 (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021061335A (en) * 2019-10-08 2021-04-15 Tdk株式会社 Multilayer electronic component and manufacturing method thereof
JP2022014982A (en) * 2020-07-08 2022-01-21 太陽誘電株式会社 Ceramic electronic component
WO2022038726A1 (en) * 2020-08-20 2022-02-24 三菱電機株式会社 Resonator, and high frequency filter
WO2022039061A1 (en) * 2020-08-19 2022-02-24 日立Astemo株式会社 Emc filter and power conversion device
WO2022059373A1 (en) * 2020-09-15 2022-03-24 株式会社村田製作所 Filter device and high frequency front end circuit comprising same
US11710883B2 (en) 2021-03-25 2023-07-25 Taiyo Yuden Co., Ltd. Composite electronic component

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11297531A (en) * 1998-04-07 1999-10-29 Taiyo Yuden Co Ltd Laminated electronic component
JP2001093736A (en) * 1999-09-27 2001-04-06 Koa Corp Laminated chip inductor
JP2004055554A (en) * 2003-07-28 2004-02-19 Murata Mfg Co Ltd Conductive paste and ceramic molded body
JP2005294811A (en) * 2004-03-10 2005-10-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Wiring board and its manufacturing method
JP2009135492A (en) * 2007-11-30 2009-06-18 Ibiden Co Ltd Multilayer printed wiring board, and method of manufacturing the same
JP2015154046A (en) * 2014-02-19 2015-08-24 Tdk株式会社 Lamination coil component

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11297531A (en) * 1998-04-07 1999-10-29 Taiyo Yuden Co Ltd Laminated electronic component
JP2001093736A (en) * 1999-09-27 2001-04-06 Koa Corp Laminated chip inductor
JP2004055554A (en) * 2003-07-28 2004-02-19 Murata Mfg Co Ltd Conductive paste and ceramic molded body
JP2005294811A (en) * 2004-03-10 2005-10-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Wiring board and its manufacturing method
JP2009135492A (en) * 2007-11-30 2009-06-18 Ibiden Co Ltd Multilayer printed wiring board, and method of manufacturing the same
JP2015154046A (en) * 2014-02-19 2015-08-24 Tdk株式会社 Lamination coil component

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021061335A (en) * 2019-10-08 2021-04-15 Tdk株式会社 Multilayer electronic component and manufacturing method thereof
JP7428960B2 (en) 2019-10-08 2024-02-07 Tdk株式会社 Laminated electronic components and their manufacturing method
JP2022014982A (en) * 2020-07-08 2022-01-21 太陽誘電株式会社 Ceramic electronic component
WO2022039061A1 (en) * 2020-08-19 2022-02-24 日立Astemo株式会社 Emc filter and power conversion device
WO2022038726A1 (en) * 2020-08-20 2022-02-24 三菱電機株式会社 Resonator, and high frequency filter
JPWO2022038726A1 (en) * 2020-08-20 2022-02-24
JP7237247B2 (en) 2020-08-20 2023-03-10 三菱電機株式会社 Resonators and high frequency filters
WO2022059373A1 (en) * 2020-09-15 2022-03-24 株式会社村田製作所 Filter device and high frequency front end circuit comprising same
US11710883B2 (en) 2021-03-25 2023-07-25 Taiyo Yuden Co., Ltd. Composite electronic component

Also Published As

Publication number Publication date
JP7068797B2 (en) 2022-05-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7068797B2 (en) Electronic components
US10432237B2 (en) Multiplexer
JP6777755B2 (en) High frequency substrates, high frequency packages and high frequency modules
JP6224484B2 (en) Directional coupler and high frequency module
JP4926031B2 (en) Filter device
JP4895982B2 (en) Filter device
JP2009147907A (en) Filter device, wireless communication module and wireless communication device using the same
JP4535267B2 (en) Electronic components
JP2009200988A (en) Filter device
JP4047640B2 (en) Multilayer circuit board
JP5489745B2 (en) Filter device
JP2012146940A (en) Electronic component and electronic device
JP4280131B2 (en) Multilayer filter
JP4841528B2 (en) Filter device
JP2010081310A (en) Substrate for radio communication module, and radio communication module using the same
WO2022230286A1 (en) Filter device and high frequency front end circuit equipped with same
KR100660971B1 (en) Ultra-wideband band pass filter using low temperature co-fired ceramic
JP5267913B2 (en) High frequency components
KR100558443B1 (en) Outer Terminal Structure of Low Temperature Co-fired Ceramic Substrate and the Manufacturing Process
JP2023048328A (en) Laminated electronic component
JP3676885B2 (en) Chip type multilayer filter
JP4646889B2 (en) Filter device
JP5361660B2 (en) Filter device
JP2021150529A (en) Multilayer electronic component and module
JP5361638B2 (en) Filter device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20201013

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210826

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20211005

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20211122

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220412

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220502

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7068797

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150