JP2019044148A - Composition for light molding - Google Patents

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Abstract

To provide a composition for light molding capable of increasing mechanical physical property of a molded article under a high temperature environment, and sufficiently decreasing viscosity during molding.SOLUTION: A composition for light molding contains a photocurable resin, an inorganic filler and an additive which is a compound having an amide bond and a C=C unsaturated double bond in a molecule. The additive may be selected from N-vinylformamide and 4-acrylo morpholine. The inorganic filler may be layered silicate compound such as talc, silica, mica. Under the high temperature environment of a molded article, storage elasticity modulus can be made at 2000 MPa or more and viscosity can be made at less than 2000 mPa s during molding.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、光硬化性樹脂に無機フィラーと添加剤を含有させて、造形物の高温環境下での貯蔵弾性率を向上させると共に、造形時の粘度を低く抑えることが可能な光造形用組成物に関する。   The present invention includes an optical filler composition that includes an inorganic filler and an additive in a photocurable resin to improve the storage elastic modulus of a modeled article in a high-temperature environment and can keep the viscosity during modeling low. Related to things.

光造形においては、造形テーブルを昇降自在に配置したビルトトレイ内に液状の光硬化性樹脂を充填し、この造形テーブルに沿って供給された光硬化性樹脂に光を照射することにより硬化させ、造形テーブルをZ方向(鉛直方向)に積層ピッチ分移動させて次の層の液状光硬化樹脂を硬化層の表面に流動供給し、以後同様の操作を繰り返して積層造形していく。   In stereolithography, a liquid tray is filled with a liquid photocurable resin in a built-up tray in which the modeling table is arranged to be movable up and down, and cured by irradiating light to the photocurable resin supplied along the modeling table, The modeling table is moved in the Z direction (vertical direction) by the stacking pitch, and the liquid photocurable resin of the next layer is fluidly supplied to the surface of the cured layer. Thereafter, the same operation is repeated to perform stacking modeling.

このような光造形としては、特許文献1に示されるように、造形テーブルを光硬化性樹脂の液面から積層ピッチ分降下(沈降)させることにより、硬化層の上面に光硬化性樹脂を流動供給して液状薄層を形成し、この薄層に対して光を照射させることで順次硬化層を形成する方式や、図1に示されるように、造形テーブル1をビルトトレイ2の底面から積層ピッチ分上昇させることにより、硬化層3の下面(硬化層3とビルトトレイ2との間の間隙)に光硬化性樹脂4を流動供給して液状薄層を形成し、この薄層に対して光(レーザ)を照射させることで順次硬化層を形成する方式等が考えられている。   As such optical modeling, as shown in Patent Document 1, the molding table is lowered (sedimented) from the liquid surface of the photocurable resin by the stacking pitch to flow the photocurable resin on the upper surface of the cured layer. A liquid thin layer is supplied to form a cured layer by sequentially irradiating light to the thin layer, or the modeling table 1 is laminated from the bottom surface of the built-in tray 2 as shown in FIG. By raising the pitch, the photocurable resin 4 is flow-supplied to the lower surface of the cured layer 3 (the gap between the cured layer 3 and the built-in tray 2) to form a liquid thin layer. A method of sequentially forming a hardened layer by irradiating light (laser) has been considered.

上述した光造形に用いられる液状の光硬化性樹脂は、造形物の高温環境下での貯蔵弾性率等の機械的物性を向上させるためにフィラーを添加させるが、フィラーを添加すると、通常においては、機械的物性の向上効果に伴い造形材料自体の粘度も上昇してしまう。このため、上述したいずれの造形方式においても、造形テーブルをZ方向(鉛直方向)に積層ピッチ分移動させた際に光硬化性樹脂を硬化層の表面にスムーズに流動供給できなくなり(新たな液状層を形成できなくなり)、光造形材料としては使用できなくなる。   The liquid photocurable resin used for the above-described optical modeling is added with a filler in order to improve mechanical properties such as storage elastic modulus under a high temperature environment of the modeled object. And the viscosity of modeling material itself will also rise with the improvement effect of a mechanical physical property. For this reason, in any of the modeling methods described above, when the modeling table is moved in the Z direction (vertical direction) by the stacking pitch, the photocurable resin cannot be smoothly supplied to the surface of the cured layer (new liquid state). Layer cannot be formed) and cannot be used as an optical modeling material.

そこで、従来においては、高温環境下での機械的物性を高くしつつ光造形用組成物の粘度を比較的低くするために、特許文献2又は3に示される光造形用組成物が提案されている。
これは、液状光硬化性樹脂に、アミノシラン、エポキシシラン、アクリルシラン等のシランカップリング剤で処理されたものを配合し、高温時において高い機械的特性を持たせつつ、光造形用組成物の粘度を5000cps〜10000cpsの範囲としたり(特許文献2)、1000cps〜10000cpsの範囲としたりするものである(特許文献3)。
Therefore, conventionally, in order to make the viscosity of the composition for optical modeling relatively low while increasing the mechanical properties in a high temperature environment, the composition for optical modeling shown in Patent Document 2 or 3 has been proposed. Yes.
This is a liquid photocurable resin blended with a silane coupling agent such as amino silane, epoxy silane, acrylic silane, etc., and has high mechanical properties at high temperatures, The viscosity is in the range of 5000 cps to 10000 cps (Patent Document 2), or in the range of 1000 cps to 10000 cps (Patent Document 3).

特開2008−248026号公報JP 2008-248026 A 特開平7−26060号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-26060 特開平7−26062号公報JP 7-26062 A

しかしながら、造形時における光造形用組成物の粘度は、造形速度や造形精度を高める観点からは、できるだけ低くすることが望ましい。例えば、造形テーブルを数10μmの積層ピッチでZ方向に移動させた場合に、硬化層の表面に光造形用組成物をスムーズに流動供給させるためには、光造形用組成物の粘度は、2000mPa・s(2000cps)未満、より好ましくは1000mPa・s未満とすることが望ましい。このため、従来の光造形用組成物では、必ずしも十分に低い粘度が得られるものではなかった。   However, the viscosity of the optical modeling composition at the time of modeling is desirably as low as possible from the viewpoint of increasing the modeling speed and modeling accuracy. For example, when the modeling table is moved in the Z direction at a stacking pitch of several tens of μm, the viscosity of the optical modeling composition is 2000 mPa in order to smoothly supply the optical modeling composition to the surface of the cured layer. It is desirable to set it to less than s (2000 cps), more preferably less than 1000 mPa · s. For this reason, a sufficiently low viscosity has not necessarily been obtained with a conventional stereolithographic composition.

本発明は、係る事情に鑑みてなされたものであり、造形物において高温環境下での機械的物性を高くでき、且つ、造形時において、十分に低い粘度が得られる光造形用組成物を提供することを主たる課題としている。   The present invention has been made in view of such circumstances, and provides a composition for optical modeling that can increase mechanical properties in a high-temperature environment in a modeled object, and can obtain a sufficiently low viscosity at the time of modeling. The main task is to do this.

本発明者は、造形物の高温環境下での機械的物性の向上と、造形時における光造形用組成物の低粘度化という二律背反の要請を満たすために、光硬化性樹脂にフィラーを添加させた組成物の諸特性について鋭意研究を重ねた結果、光硬化性樹脂に、無機フィラーと共に所定の添加剤を配合したところ、造形物の高温環境下での高い機械的特性を損なうことなく、造形時の組成物の粘度が予想を超えて著しく低下することを見出し、本発明を完成するに至った。   In order to satisfy the trade-off requirement of improving the mechanical properties of a modeled object in a high temperature environment and reducing the viscosity of the composition for optical modeling at the time of modeling, the present inventor added a filler to the photocurable resin. As a result of earnest research on various properties of the composition, when a certain additive was added to the photocurable resin together with an inorganic filler, it was possible to form without compromising the high mechanical properties of the shaped object in a high temperature environment. It was found that the viscosity of the composition at the time was significantly lower than expected, and the present invention was completed.

すなわち、本発明にかかる光造形用組成物は、光硬化性樹脂と、無機フィラーと、分子中にアミド結合及びC=C不飽和二重結合を有する化合物である添加剤と、を含むことを特徴としている。
ここで、アミド結合とは、 カルボニル基と窒素との結合したものであるが、-NH-C(=O)- や >NC(=O)- を結合単位に含むものである。
このような添加剤は、例えば、下記の化1で示すN−ビニルホルムアミド(NVFA)、及び、化2で示す4−アクリロモルホリン(4AMP)から選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。
That is, the composition for optical modeling according to the present invention includes a photocurable resin, an inorganic filler, and an additive that is a compound having an amide bond and a C═C unsaturated double bond in the molecule. It is a feature.
Here, the amide bond is a bond of a carbonyl group and nitrogen, but includes —NH—C (═O) — or> NC (═O) — in the bond unit.
Such an additive is preferably at least one selected from, for example, N-vinylformamide (NVFA) represented by the following chemical formula 1 and 4-acrylomorpholine (4AMP) represented by the chemical formula 2.


このうち、特に、N−ビニルホルムアミドであることが好ましい。
また、前記無機フィラーは、層状ケイ酸塩化合物であることが好ましい。ここで、層状ケイ酸塩化合物は、タルク、シリカ、マイカ、及び、これらの混合物からなる群から選択されるものを用いるとよい。
上述した添加剤を用いることで、20℃での粘度を2000mPa・s未満とし、且つ、150℃での貯蔵弾性率を2000MPa以上にすることが可能となる。
Of these, N-vinylformamide is particularly preferable.
The inorganic filler is preferably a layered silicate compound. Here, the layered silicate compound may be selected from the group consisting of talc, silica, mica, and a mixture thereof.
By using the additive described above, the viscosity at 20 ° C. can be less than 2000 mPa · s, and the storage elastic modulus at 150 ° C. can be 2000 MPa or more.

以上述べたように、本発明に係る光造形用組成物を用いれば、造形物の高温環境下での機械的物性を高くしつつ、造形時においては、十分に低い粘度にすることが可能となり、造形テーブルをZ方向(鉛直方向)に積層ピッチ分移動させた際に、新たな液状層を迅速に形成することが可能となる。   As described above, if the optical modeling composition according to the present invention is used, it becomes possible to make the viscosity sufficiently low at the time of modeling while increasing the mechanical properties of the modeled object in a high temperature environment. When the modeling table is moved in the Z direction (vertical direction) by the stacking pitch, a new liquid layer can be quickly formed.

図1は、既存の光造形用装置の一例を示す概念図である。FIG. 1 is a conceptual diagram illustrating an example of an existing stereolithography apparatus.

本実施例に係る光造形用組成物は、液状の光硬化性樹脂と、無機フィラーと、添加剤とを配合したものである。   The composition for optical modeling according to this example is obtained by blending a liquid photocurable resin, an inorganic filler, and an additive.

(光硬化性樹脂)
ベースレジンとなる液状の光硬化性樹脂としては、エポキシ系の光硬化性樹脂又はアクリル系の光硬化性樹脂を用いることができる。中でもアクリル系の光硬化性樹脂を用いることが好ましい。
(Photo-curing resin)
As the liquid photocurable resin to be the base resin, an epoxy photocurable resin or an acrylic photocurable resin can be used. Among them, it is preferable to use an acrylic photocurable resin.

エポキシ系の光硬化性樹脂としては、例えば、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールSジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3’,4’−エポキシ−6’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ε−カプロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、β−メチル−δ−バレロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、ジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、エポキシシクロへキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシシクロヘキサヒドロフタル酸ジ−2−エチルヘキシル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類;エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに1種又は2種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類;脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類;脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類;フェノール、クレゾール、ブチルフェノール又はアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類;高級脂肪酸のグリシジルエステル類等のエポキシ系モノマーが挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。また、これらを重合したオリゴマーやポリマーを使用してもよい。   Examples of the epoxy photocurable resin include bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, brominated bisphenol A diglycidyl ether, brominated bisphenol F diglycidyl ether, and brominated bisphenol S. Diglycidyl ether, epoxy novolac resin, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol S diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexyl carboxylate 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-meta-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexyl) Rumethyl) adipate, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl-3 ′, 4′-epoxy-6′-methylcyclohexanecarboxylate, ε-caprolactone Modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, trimethylcaprolactone modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, β-methyl-δ-valerolactone Modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, methylene bis (3,4-epoxycyclohexane), di (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether, ethylene bis 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate), dioctyl epoxycyclohexahydrophthalate, di-2-ethylhexyl epoxycyclohexahydrophthalate, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether , Neopentyl glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ethers; one kind of aliphatic polyhydric alcohol such as ethylene glycol, propylene glycol, glycerin Or polyglycidyl ethers of polyether polyols obtained by adding two or more alkylene oxides; Diglycidyl esters of basic acids; monoglycidyl ethers of higher aliphatic alcohols; monoglycidyl ethers of polyether alcohols obtained by adding phenol, cresol, butylphenol or alkylene oxide; epoxies such as glycidyl esters of higher fatty acids Based monomers. These may be used singly or in combination of two or more. Moreover, you may use the oligomer and polymer which superposed | polymerized these.

アクリル系光硬化性樹脂としては、例えば、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、ジンクロペンタニルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、プロピレングリコールアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブチレングリコールジアクリレート、1,3−ブチレングリコールジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ビス(オキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカンジアクリレート、ビス(オキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカンジメタクリレート、ビス(オキシメチル)ペンタシクロ[6.5.1.13,6.02,7.09,13]ペンタデカンジメタクリレート、ビス(オキシメチル)ペンタシクロ[6.5.1.13,6.02,7.09,13]ペンタデカンジメタクリレート、2,2−ビス(4−(アクリルオキシジエトキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタクリルオキシジエトキシ)フェニル)プロパン、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−3,8−ジイルジメチルジアクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−3,8−ジイルジメチルジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリメタクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアネートトリアクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリメタクリレート等のアクリル系モノマーが挙げられる。
これらは単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。また、これらを重合したオリゴマーやポリマーを使用してもよい。
Examples of the acrylic photocurable resin include isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, zinc cropentanyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, propylene glycol acrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, Triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, 1,3-butylene glycol dimethacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol Dimethacrylate, tripropylene glycol diacrylate, tripropylene glycol dimethacrylate, Ripropylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2 1.02,6] decanediacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.02,6] decanedimethacrylate, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.13, 6.02 , 7.09,13] pentadecane dimethacrylate, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.13, 6.02, 7.09,13] pentadecane dimethacrylate, 2,2-bis (4- (acrylic) Oxydiethoxy) phenyl) pro 2,2-bis (4- (methacryloxydiethoxy) phenyl) propane, tricyclo [5.2.1.02,6] decane-3,8-diyldimethyldiacrylate, tricyclo [5.2.1 .02,6] decane-3,8-diyldimethyldimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane ethoxytriacrylate, trimethylolpropane ethoxytrimethacrylate, tetramethylolmethane triacrylate, tetra Methylol methane trimethacrylate, tetramethylol methane tetraacrylate, tetramethylol methane tetramethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pen Taerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetramethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanate triacrylate, tris (2-hydroxy And acrylic monomers such as ethyl) isocyanurate trimethacrylate.
These may be used singly or in combination of two or more. Moreover, you may use the oligomer and polymer which superposed | polymerized these.

光硬化性樹脂の実際の製品としては、例えば、ディーメック社のSCR712X、SCR735、SCR737、SCR780、SCR785、SCR955、KC1281、シーフォース社のDWS用樹脂であるDL360、シーメット社のTSR−883W、TSR−884B、TSR−832、DMS社のSomos NanoToolなどが挙げられる。   The actual products of the photo-curing resin include, for example, DEMEC SCR712X, SCR735, SCR737, SCR780, SCR785, SCR955, KC1281, Seaforce's DWS resin DL360, Seamet's TSR-883W, TSR -884B, TSR-832, DMS's Somos NanoTool, and the like.

光硬化性樹脂の含有量は、光造形用組成物の全質量に対して、50質量%〜72質量%が好ましい。   As for content of photocurable resin, 50 mass%-72 mass% are preferable with respect to the total mass of the composition for optical modeling.

(無機フィラー)
無機フィラーとしては、層状ケイ酸塩化合物を用いるとよい。ここで、層状ケイ酸塩化合物は、ケイ酸塩化合物のうち、板状または鱗片状の結晶が層状になった粒子、又は、層が剥がれて板状または鱗片状になった粒子であり、例えば、タルク、シリカ、マイカ、モンモリロナイト、ベントナイト、有機ベントナイト、ヘクトライト、バイデライト、バーミキュライト、サポナイト、ノントロナイト、ボルコンスコアイト、マガタイト、ケニアイト、セリサイト、カオリナイト、ハロイサイト、ディッカイト、ナクライト、アロフェン、イモゴライト、パイロフィライト、スメクタイト、クロライト、サーペンティン、セピオライトおよびパリゴルスカイト等があげられる。このうち、タルク、シリカ、マイカ、及び、これらを適宜組み合わせた混合物からなる群から選択されたものが好ましい。
球状のシリカや球状のシリコーン樹脂など球状の粒子であって粒子中に層と層の境界が無いものは除外される。また、針状のもの(例えば、ウォラストナイトなど)も除外される。
(Inorganic filler)
As the inorganic filler, a layered silicate compound may be used. Here, the layered silicate compound is a particle in which a plate-like or scaly crystal is layered or a particle in which a layer is peeled off to form a plate-like or scale-like, for example, , Talc, silica, mica, montmorillonite, bentonite, organic bentonite, hectorite, beidellite, vermiculite, saponite, nontronite, bolcon scoreite, magatite, kenyaite, sericite, kaolinite, halloysite, dickite, nacrite, allophane, imogolite , Pyrophyllite, smectite, chlorite, serpentine, sepiolite, and palygorskite. Among these, those selected from the group consisting of talc, silica, mica, and mixtures obtained by appropriately combining these are preferable.
Spherical particles such as spherical silica and spherical silicone resin that do not have a layer-to-layer boundary are excluded. Needle-like ones (for example, wollastonite) are also excluded.

層状ケイ酸塩化合物は、粒子径が1μm〜50μmであることが好ましく、4μm〜10μmであることがより好ましい。
層状ケイ酸塩化合物の粒子径が1μm以上であると、光造形用組成物の粘度が高くなりすぎることを抑制する点で有利である。一方、層状ケイ酸塩化合物の粒子径が50μm以下であると、造形物の1層あたりの厚みを薄くする点で有利である。
The layered silicate compound preferably has a particle size of 1 μm to 50 μm, and more preferably 4 μm to 10 μm.
When the particle size of the layered silicate compound is 1 μm or more, it is advantageous in that the viscosity of the optical modeling composition is prevented from becoming too high. On the other hand, when the particle diameter of the layered silicate compound is 50 μm or less, it is advantageous in that the thickness per layer of the shaped article is reduced.

層状ケイ酸塩化合物の含有量は、光造形用組成物の全質量に対して、20質量%〜30質量%が好ましい。
層状ケイ酸塩化合物の含有量が20質量%以上であると、造形物の高温環境下における機械的物性を高くする点で有利である。一方、層状ケイ酸塩化合物の含有量が30質量%以下であると、光造形用組成物の粘度が高くなりすぎることを抑制する点で有利である。
The content of the layered silicate compound is preferably 20% by mass to 30% by mass with respect to the total mass of the optical modeling composition.
When the content of the layered silicate compound is 20% by mass or more, it is advantageous in that the mechanical properties of the molded article are increased in a high temperature environment. On the other hand, when the content of the layered silicate compound is 30% by mass or less, it is advantageous in that the viscosity of the optical modeling composition is prevented from becoming too high.

(添加剤)
添加剤としては、分子中にアミド結合及びC=C不飽和二重結合を有する化合物を用いるとよい。
ここで、アミド結合とは、 カルボニル基と窒素との結合したものであるが、-NH-C(=O)- や >NC(=O)- を結合単位に含むものである。
このような添加剤は、例えば、下記の化3で示すN−ビニルホルムアミド(NVFA)、及び、化4で示す4−アクリロモルホリン(4AMP)から選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。
(Additive)
As an additive, a compound having an amide bond and a C═C unsaturated double bond in the molecule may be used.
Here, the amide bond is a bond of a carbonyl group and nitrogen, but includes —NH—C (═O) — or> NC (═O) — in the bond unit.
Such an additive is preferably at least one selected from, for example, N-vinylformamide (NVFA) represented by the following chemical formula 3 and 4-acrylomorpholine (4AMP) represented by the chemical formula 4.



このうち、特に、N−ビニルホルムアミドであることが好ましい。


Of these, N-vinylformamide is particularly preferable.

添加剤の含有量は、8〜20質量%が好ましい。8質量%以上であると、光造形用組成物の粘度を低くする点で有利である。一方、添加量が20質量%以下であると、造形物の高温環境下における機械的物性が低くなりすぎることを抑制する点で有利である。   The content of the additive is preferably 8 to 20% by mass. When it is 8% by mass or more, it is advantageous in that the viscosity of the optical shaping composition is lowered. On the other hand, when the addition amount is 20% by mass or less, it is advantageous in that the mechanical properties of the modeled object in a high-temperature environment are prevented from becoming too low.

(光重合開始剤)
光造形用組成物は、光重合開始剤を含んでいてもよい。
光重合開始剤は、光を吸収して重合開始種(例えば、ラジカル、カチオン)を生成する化合物である。
光重合開始剤としては、公知の化合物を使用することができる。光重合開始剤の例としては、芳香族ケトン類等のカルボニル化合物、アシルホスフィンオキシド化合物、芳香族オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物、オキシムエステル化合物、アゾ化合物、アルキルアミン化合物、オニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、およびピリジニウム塩等が挙げられる。
これらの光重合開始剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
なお、光重合開始剤は、光硬化性樹脂と別々に添加してもよく、例えば、光重合開始剤を含む光硬化性樹脂として市販されているものであれば、光硬化性樹脂と光重合開始剤を同時に添加してもよい。
(Photopolymerization initiator)
The composition for optical modeling may contain a photopolymerization initiator.
The photopolymerization initiator is a compound that absorbs light and generates a polymerization initiating species (for example, radical, cation).
Known compounds can be used as the photopolymerization initiator. Examples of photopolymerization initiators include carbonyl compounds such as aromatic ketones, acylphosphine oxide compounds, aromatic onium salt compounds, organic peroxides, thio compounds, oxime ester compounds, azo compounds, alkylamine compounds, onium salts , Sulfonium salts, phosphonium salts, pyridinium salts, and the like.
These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
The photopolymerization initiator may be added separately from the photocurable resin. For example, if the photopolymerization initiator is commercially available as a photocurable resin containing a photopolymerization initiator, the photopolymerization initiator and the photopolymerization resin are used. An initiator may be added simultaneously.

(光造形用組成物の製造方法)
光造形用組成物を製造するためには、液状の光硬化性樹脂に無機フィラーと添加剤を粉粒状の形態で機械的に混合させるとよい。例えば、タンブラー、リボンミキサー、ヘンシェルミキサー等の混合装置を用いて行っても、容器内に液状の光硬化性樹脂と粉状体の層状ケイ素塩化合物を入れて手動で攪拌、振動等を行って均一に混ぜてもよい。
(Method for producing composition for optical modeling)
In order to manufacture the composition for optical modeling, it is preferable to mechanically mix an inorganic filler and an additive in a liquid granular form with a liquid photocurable resin. For example, even when using a mixing device such as a tumbler, ribbon mixer, Henschel mixer, etc., a liquid photocurable resin and a powdered layered silicon salt compound are placed in a container and manually stirred, vibrated, etc. You may mix evenly.

以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例のみに限定されるものではない。
なお、以下の実施例及び比較例においては、光硬化性樹脂として、アクリル系光硬化性樹脂を用いた場合について説明する。
[光造形用組成物の評価方法]
光造形用組成物の物性を測定するにあたり、それぞれの光造形用組成物について、造形時の環境下である20℃の環境下で粘度(mPa・s)を測定し、また、それぞれの組成物を用いて造形した後に150℃の大気雰囲気で貯蔵弾性率(MPa)を測定した。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated further more concretely, this invention is not limited only to these Examples.
In the following examples and comparative examples, the case where an acrylic photocurable resin is used as the photocurable resin will be described.
[Method for evaluating composition for stereolithography]
In measuring the physical properties of the optical modeling composition, the viscosity (mPa · s) is measured for each optical modeling composition in an environment of 20 ° C., which is an environment at the time of modeling. After modeling using a storage modulus (MPa) was measured in an air atmosphere at 150 ° C.

<粘度の測定方法>
測定機種:回転粘度計 TV−22形粘度計 コーンプレートタイプ(東機産業(株)製)
測定方式:コーンロータとプレートとの間に試料を満たし、所定の回転速度における抵抗値を計測することで試料の粘度を測定した。
測定条件:コーン回転数 2.5rpm
数値読取条件 回転を始めてから90sec経過し、数値が安定していること
温度条件 20.0℃
<Measurement method of viscosity>
Measurement model: Rotational viscometer TV-22 type viscometer Cone plate type (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.)
Measurement method: The sample was filled between the cone rotor and the plate, and the viscosity of the sample was measured by measuring the resistance value at a predetermined rotational speed.
Measurement conditions: cone rotation speed 2.5rpm
Numerical value reading conditions 90 seconds have passed since the rotation started and the numerical value is stable.
Temperature condition 20.0 ℃

<貯蔵弾性率の測定方法>
測定機種:固体粘弾性測定装置DMA Q800(TA Instrument製)
測定方式:3点曲げモードで、試料に周期的(Sinカーブ、1Hz)に変化する歪を与え、その時の変位量と負荷を計測することで貯蔵弾性率を算出した。
測定条件:試料形状 14.0mm×3.0mm×1.0mmt
温度条件 150℃
雰囲気 大気雰囲気
<Method for measuring storage modulus>
Measurement model: Solid viscoelasticity measuring device DMA Q800 (TA Instrument)
Measurement method: In a three-point bending mode, a strain that changes periodically (Sin curve, 1 Hz) was given to the sample, and the storage elastic modulus was calculated by measuring the displacement and load at that time.
Measurement conditions: Sample shape 14.0 mm × 3.0 mm × 1.0 mmt
Temperature condition 150 ° C
Atmosphere Air atmosphere

[結果]
上記測定方法で得られた粘度と貯蔵弾性率に基づき、以下の基準によって評価した。
まず、造形速度や造形精度を高める観点から、造形時の環境下では、粘度はできるだけ低いことが望ましい。このため、造形テーブルを積層ピッチである数10μm降下(沈降)、又は、上昇させた場合において、硬化層の表面(上面または下面)に光造形用組成物をスムーズに流動供給させて均一な厚みの液状層を形成できるようにするために、造形時の環境下である20℃での粘度が2000mPa・s未満となること、より好ましくは1000mPa・s未満となることを適合条件とした。なお、粘度は、1000mPa・s未満をA、1000mPa・s以上2000mPa・s未満をB、2000以上mPa・sをCとして評価した。
[result]
Based on the viscosity and storage elastic modulus obtained by the above measurement method, evaluation was performed according to the following criteria.
First, from the viewpoint of increasing modeling speed and modeling accuracy, it is desirable that the viscosity be as low as possible in the environment during modeling. For this reason, when the modeling table is lowered (sedimented) or raised by several tens of μm, which is the stacking pitch, the composition for optical modeling is smoothly supplied to the surface (upper surface or lower surface) of the cured layer to obtain a uniform thickness. In order to be able to form a liquid layer, the viscosity was set to be less than 2000 mPa · s, more preferably less than 1000 mPa · s, at 20 ° C., which is an environment during modeling. In addition, the viscosity was evaluated as A less than 1000 mPa · s, B as 1000 mPa · s or more and less than 2000 mPa · s, and C as 2000 or more mPa · s.

次に、それぞれの光造形用組成物を用いて造形した造形物が高温下(150℃下)で実用上問題がない機械的物性を備える必要があることから、造形物の150℃での貯蔵弾性率が、2000MPa以上であること、より好ましくは、2700MPa以上であることを適合条件とした。なお、貯蔵弾性率は、2700MPa以上をA、2000MPa以上2700MPa未満をB、2000MPa未満をCとして評価した。   Next, since the modeling object modeled using each optical modeling composition needs to have mechanical properties that have no practical problems at high temperatures (under 150 ° C.), the modeling object is stored at 150 ° C. The conforming condition was that the elastic modulus was 2000 MPa or more, more preferably 2700 MPa or more. In addition, the storage elastic modulus evaluated 2700 MPa or more as A, 2000 MPa or more and less than 2700 MPa as B, and less than 2000 MPa as C.

評価結果は、Aを優、Cを劣として、粘度および貯蔵弾性率の劣る方を結果として採用し、評価結果がA又はBの場合を合格とし、評価結果がCの場合を不合格とした。   The evaluation results are as follows: A is excellent, C is inferior, the viscosity and storage modulus are inferior, the evaluation result is A or B, and the evaluation result is C. .

以上の評価を、ベースレジンのみからなる光造形用組成物(比較例1)と、ベースレジンに無機フィラーとして層状ケイ酸塩化合物のみを配合させた光造形用組成物(比較例2)と、ベースレジンに、無機フィラーとして層状ケイ酸塩化合物を配合し、さらに、分子中にアミド結合及びC=C不飽和二重結合を有する化合物である添加剤を配合して得られた光造形用組成物(実施例1〜10)と、ベースレジンに、無機フィラーとして層状ケイ酸塩化合物を配合し、さらに、分子中にアミド結合及びC=C不飽和二重結合を有さない化合物である添加剤を配合して得られた光造形用組成物(比較例3〜5)と、に対して行った結果を表1に示す。
なお、下記表1におけるアクリル系光硬化性樹脂は、アクリル系モノマーを60質量%、光重合開始剤を5質量%、その他の成分を35質量%含む樹脂組成物である。
The above-described evaluation was performed based on an optical modeling composition (Comparative Example 1) consisting only of a base resin, and an optical modeling composition (Comparative Example 2) in which only a layered silicate compound was added as an inorganic filler to the base resin. Stereolithography composition obtained by blending a base resin with a layered silicate compound as an inorganic filler, and further blending an additive that is a compound having an amide bond and a C = C unsaturated double bond in the molecule Compound (Examples 1 to 10) and a base resin compounded with a layered silicate compound as an inorganic filler, and an addition that is a compound having no amide bond and no C = C unsaturated double bond in the molecule Table 1 shows the results obtained with respect to the composition for optical modeling (Comparative Examples 3 to 5) obtained by blending the agent.
In addition, the acrylic photocurable resin in the following Table 1 is a resin composition containing 60% by mass of an acrylic monomer, 5% by mass of a photopolymerization initiator, and 35% by mass of other components.

表1中のフィラーの種類は、以下の通りである。
SJ−010:白雲母(マイカ)(マスコバイトMUSCOVITE)、平均粒子サイズ10μm、平均アスペクト比20;株式会社ヤマグチマイカ製
FH106: タルク 平均粒子サイズ6μm;富士タルク工業株式会社製
SUNLOVELY:シリカ微粒子、平均粒子径4.1μm;AGCエスアイテック株式会社製
The types of fillers in Table 1 are as follows.
SJ-010: muscovite (mica) (mascobite MUSCOVITE), average particle size 10 μm, average aspect ratio 20; manufactured by Yamaguchi Mica Co., Ltd. FH106: talc average particle size 6 μm; manufactured by Fuji Talc Kogyo Co., Ltd. Particle diameter 4.1μm; manufactured by AGC S-Tech Co., Ltd.

また、表1中の添加剤において、添加剤は以下の通りである。
A−HD−N: 化5で示す、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(1,6-Hexaned
iol Diacrylate);新中村化学工業株式会社製

NVFA:化6で示す、N−ビニルホルムアミド (N-Vinylformamide);東京化成工業株式会社製

4AMP:化7で示す、4−アクリロイルモルホリン (4-Acryloylmorpholine);東京化成工業株式会社製

IBA:化8で示す、アクリル酸イソボルニル(Isobornyl Acrylate);東京化成工業株式会社製

A−DOD−N:化9で示す、1,10−デカンジオールジアクリレート(1,10-Decanediol Diacrylate);新中村化学工業株式会社製
Moreover, in the additive of Table 1, an additive is as follows.
A-HD-N: 1,6-hexanediol diacrylate (1,6-Hexaned
iol Diacrylate); Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.

NVFA: N-Vinylformamide represented by Chemical Formula 6; manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.

4AMP: 4-Acryloylmorpholine represented by Chemical Formula 7; manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.

IBA: Isobornyl Acrylate represented by Chemical Formula 8; manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.

A-DOD-N: 1,10-decanediol diacrylate represented by chemical formula 9; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.

実施例1〜5は、無機フィラー(マイカ)と添加剤(NVFA)の含有量を変化させて幅を持たせた場合でも効果が得られることを示す例である。
実施例6〜7は、10μmの板状のマイカ以外の無機フィラー(タルク、シリカ)でも、効果があることを示す例である。
実施例8〜10は、分子中にアミド結合及びC=C不飽和二重結合を有する他の化合物(4AMP)を添加剤とした例である。
比較例1は、ベースレジンに無機フィラーも添加剤も添加させない場合の例である。
比較例2は、ベースレジンに無機フィラー(マイカ)のみを添加させた場合の例である。
比較例3〜5は、「分子中にアミド結合及びC=C不飽和二重結合を有する化合物」でない化合物を用いた例である。
Examples 1 to 5 are examples showing that the effect can be obtained even when the contents of the inorganic filler (mica) and the additive (NVFA) are changed to give a width.
Examples 6-7 are examples which show that an inorganic filler (talc, silica) other than 10 μm plate-like mica is also effective.
Examples 8 to 10 are examples in which another compound (4AMP) having an amide bond and a C═C unsaturated double bond in the molecule was used as an additive.
Comparative Example 1 is an example in which neither an inorganic filler nor an additive is added to the base resin.
Comparative Example 2 is an example in which only an inorganic filler (mica) is added to the base resin.
Comparative Examples 3 to 5 are examples using compounds that are not “compounds having an amide bond and a C═C unsaturated double bond in the molecule”.

(評価)
表1から分かるように、添加剤が「分子中にアミド結合及びC=C不飽和二重結合を有する化合物」である「NVFA」、「4AMP」では、いずれも効果を奏することを示している(20℃での粘度が2000mPa・s未満であり、且つ、150℃での貯蔵弾性率が2000MPa以上である)。
「分子中にアミド結合及びC=C不飽和二重結合を有する化合物」でないA−HD−Nを用いた場合には、粘度をあまり下げることができず、光造形用組成物としては、採用できないものであった。また、「分子中にアミド結合及びC=C不飽和二重結合を有する化合物」でないIBAやA−DOD−Nは、粘度を1000mPa・sにすることができたが、同時に貯蔵弾性率も大きく低下するため、高温下での機械的物性を満たすことができないものであった。
(Evaluation)
As can be seen from Table 1, "NVFA" and "4AMP", which are "compounds having an amide bond and a C = C unsaturated double bond in the molecule", all show an effect. (The viscosity at 20 ° C. is less than 2000 mPa · s, and the storage elastic modulus at 150 ° C. is 2000 MPa or more).
When A-HD-N which is not a “compound having an amide bond and a C═C unsaturated double bond in the molecule” is used, the viscosity cannot be lowered so much and is adopted as a composition for stereolithography. It was impossible. In addition, IBA and A-DOD-N which are not “compounds having an amide bond and a C═C unsaturated double bond in the molecule” were able to have a viscosity of 1000 mPa · s, but at the same time the storage elastic modulus was large. The mechanical properties at high temperatures could not be satisfied due to the decrease.

なお、「分子中にアミド結合及びC=C不飽和二重結合を有する化合物」であるNVFAと4AMPについて、同じ条件である、実施例3と8、実施例4と9、実施例5と10の評価を比較すると、実施例3、4、5(NVFAの実施例)の方が、粘度が低く、貯蔵弾性率が高い傾向にある。また、添加剤の含有量を多くすると、粘度も低下してくるが、4AMPでは、添加剤の含有量が多くなるほど貯蔵弾性率も低下する傾向が見られるが、NVFAでは、添加剤の含有量を多くすると、低下剤の含有量が少ない場合に比べて貯蔵弾性率が高くなる場合もあった。このことから、低い粘度を保ちつつ、高温下での貯蔵弾性率を高くする効果は、NVFAの方が優れていると考えられる。   For NVFA and 4AMP, which are “compounds having an amide bond and a C═C unsaturated double bond in the molecule”, Examples 3 and 8, Examples 4 and 9, and Examples 5 and 10 have the same conditions. When comparing the evaluations of Examples 3, 4 and 5 (Examples of NVFA), the viscosity tends to be lower and the storage elastic modulus tends to be higher. In addition, when the additive content is increased, the viscosity also decreases. However, with 4AMP, the storage modulus tends to decrease as the additive content increases. With NVFA, the additive content increases. When the amount is increased, the storage elastic modulus may be higher than when the content of the reducing agent is small. From this, it is considered that NVFA is superior in the effect of increasing the storage elastic modulus at a high temperature while maintaining a low viscosity.

また、上述においては、光硬化性樹脂として、アクリル系の光硬化性樹脂を用いた例を示したが、光硬化する際には、NVFAや4AMPの末端ビニル基が光硬化性樹脂のモノマーと反応して、末端にNVFAや4AMPの残基が取込まれたポリマーができ、このNVFA残基や4AMP残基のNC=OのN部分と、無機フィラー表面のOHと、が水素結合することで硬化後の貯蔵弾性率を向上させる(貯蔵弾性率の低下を抑制する)と考えられるので、NVFAや4AMPが取込まれるような構造であれば、アクリル系以外の光硬化性樹脂でも、同様の効果を発現するものと考えられる。
In the above description, an example in which an acrylic photocurable resin is used as the photocurable resin is shown. However, when photocuring, the terminal vinyl group of NVFA or 4AMP is a monomer of the photocurable resin. Reacted to form a polymer with NVFA or 4AMP residues incorporated at the terminal, and the N portion of NC = O of this NVFA residue or 4AMP residue and the OH on the surface of the inorganic filler should be hydrogen bonded. It is thought that the storage elastic modulus after curing is improved (decrease in the storage elastic modulus is suppressed), and so long as the structure is such that NVFA or 4AMP is taken in, the same applies to photocurable resins other than acrylic. It is thought that the effect of is expressed.

Claims (5)

光硬化性樹脂と、無機フィラーと、分子中にアミド結合及びC=C不飽和二重結合を有する化合物である添加剤と、を含むことを特徴とする光造形用組成物。   A photolithographic composition comprising a photocurable resin, an inorganic filler, and an additive which is a compound having an amide bond and a C═C unsaturated double bond in the molecule. 前記添加剤は、N−ビニルホルムアミド、及び、4−アクリロモルホリンから選ばれる少なくとも1つであることを特徴とする請求項1記載の光造形用組成物。   The composition for optical modeling according to claim 1, wherein the additive is at least one selected from N-vinylformamide and 4-acrylomorpholine. 前記無機フィラーは、層状ケイ酸塩化合物であることを特徴とする請求項1又は2記載の光造形用組成物。   The composition for optical modeling according to claim 1 or 2, wherein the inorganic filler is a layered silicate compound. 前記層状ケイ酸塩化合物は、タルク、シリカ、マイカ、及び、これらを組み合わせた混合物からなる群から選択されるものであることを特徴とする請求項3記載の光造形用組成物。   The composition for stereolithography according to claim 3, wherein the layered silicate compound is selected from the group consisting of talc, silica, mica, and a mixture thereof. 20℃での粘度が2000mPa・s未満であり、且つ、150℃での貯蔵弾性率が2000MPa以上であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の光造形用組成物。
The composition for optical modeling according to any one of claims 1 to 4, wherein the viscosity at 20 ° C is less than 2000 mPa · s, and the storage elastic modulus at 150 ° C is 2000 MPa or more.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020013213A1 (en) * 2018-07-10 2020-01-16 積水化学工業株式会社 Photoreactive composition

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1030002A (en) * 1996-07-16 1998-02-03 Olympus Optical Co Ltd Photo curable fluid resin composition
JP2001310918A (en) * 2000-04-26 2001-11-06 Mitsubishi Rayon Co Ltd Curing composition for photoforming and product
JP2004238597A (en) * 2003-02-04 2004-08-26 Cmet Inc Photocurable resin composition excellent in heat resistance
JP2007262401A (en) * 2006-03-03 2007-10-11 San Apro Kk Active energy ray-curable resin composition for optical stereolithography and optical stereolithography product using the same
CN103755889A (en) * 2014-01-10 2014-04-30 上海那恒新材料有限公司 Light-emitting high precision three-dimensionally moulded photosensitive resin composition
JP2017114701A (en) * 2015-12-22 2017-06-29 日本電気硝子株式会社 Production method of inorganic filler material

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1030002A (en) * 1996-07-16 1998-02-03 Olympus Optical Co Ltd Photo curable fluid resin composition
JP2001310918A (en) * 2000-04-26 2001-11-06 Mitsubishi Rayon Co Ltd Curing composition for photoforming and product
JP2004238597A (en) * 2003-02-04 2004-08-26 Cmet Inc Photocurable resin composition excellent in heat resistance
JP2007262401A (en) * 2006-03-03 2007-10-11 San Apro Kk Active energy ray-curable resin composition for optical stereolithography and optical stereolithography product using the same
CN103755889A (en) * 2014-01-10 2014-04-30 上海那恒新材料有限公司 Light-emitting high precision three-dimensionally moulded photosensitive resin composition
JP2017114701A (en) * 2015-12-22 2017-06-29 日本電気硝子株式会社 Production method of inorganic filler material

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020013213A1 (en) * 2018-07-10 2020-01-16 積水化学工業株式会社 Photoreactive composition
JPWO2020013213A1 (en) * 2018-07-10 2021-05-20 積水化学工業株式会社 Photoreactive composition
JP7285486B2 (en) 2018-07-10 2023-06-02 積水化学工業株式会社 Photoreactive composition

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