JP2007262401A - Active energy ray-curable resin composition for optical stereolithography and optical stereolithography product using the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、特定のオニウムフッ素化アルキルフルオロリン酸塩を感活性エネルギー線カチオン重合開始剤として用いた活性エネルギー線硬化性光学的立体造形用樹脂組成物及びそれを硬化させて得られる光造形物に関する。 The present invention relates to an active energy ray-curable resin composition for optical three-dimensional modeling using a specific onium fluorinated alkyl fluorophosphate as an active energy ray cationic polymerization initiator, and an optically shaped article obtained by curing the resin composition About.
活性エネルギー線硬化性の液状組成物に選択的に活性エネルギー線照射して硬化樹脂層を形成する工程を繰り返すことにより、当該硬化樹脂層が一体的に積層されてなる立体形状物を形成する光学的立体造形法が知られている(特許文献1〜4参照)。この光学的立体造形法の代表的な例を説明すると、容器内に収容された活性エネルギー線硬化性液状樹脂組成物の液面に、紫外線レーザー等の活性エネルギー線を選択的に照射することにより、所定のパターンを有する硬化樹脂層を形成する。次いで、この硬化樹脂層の上に、一層分の活性エネルギー線硬化性液状樹脂組成物を供給し、その液面に選択的に活性エネルギー線照射することにより、先行して形成された硬化樹脂層上にこれと連続するよう新しい硬化樹脂層を一体的に積層形成する。そして、活性エネルギー線が照射されるパターンを変化させながらあるいは変化させずに上記の工程を所定回数繰り返すことにより、複数の硬化樹脂層が一体的に積層されてなる立体形状物が形成される。この光学的立体造形法は、目的とする立体形状物の形状が複雑なものであっても、容易にしかも短時間で得ることができる。本技術は、自動車や家電産業の新製品開発における試作過程において極めて有用であり、開発期間の短縮とコスト削減に不可欠な手段になりつつある。 Optics that form a three-dimensional object in which the cured resin layer is integrally laminated by repeating the process of selectively irradiating the active energy ray-curable liquid composition with active energy rays to form a cured resin layer. Three-dimensional modeling methods are known (see Patent Documents 1 to 4). A typical example of this optical three-dimensional modeling method will be described. By selectively irradiating the active energy ray curable liquid resin composition contained in a container with an active energy ray such as an ultraviolet laser. Then, a cured resin layer having a predetermined pattern is formed. Next, a single layer of an active energy ray-curable liquid resin composition is supplied onto the cured resin layer, and the liquid surface is selectively irradiated with active energy rays to form a cured resin layer formed in advance. A new cured resin layer is integrally laminated so as to be continuous therewith. Then, by repeating the above process a predetermined number of times while changing or not changing the pattern irradiated with the active energy rays, a three-dimensional object formed by integrally laminating a plurality of cured resin layers is formed. This optical three-dimensional modeling method can be obtained easily and in a short time even if the target three-dimensional object has a complicated shape. This technology is extremely useful in the trial production process of new product development in the automobile and home appliance industries, and is becoming an indispensable means for shortening the development period and reducing costs.
従来、光学的立体造形法に使用される活性エネルギー線硬化性組成物としては、得られた造形物の造形精度と機械的特性が優れる下記(1)、(2)のようなカチオン重合性化合物を主成分とする組成物が知られている。
(1) エポキシ化合物、環状エーテル化合物、環状ラクトン化合物、ビニルエーテル化合物等のカチオン重合性化合物を含有する樹脂組成物(特許文献5参照)。
(2) カチオン重合性化合物とラジカル重合性化合物とを含有する樹脂組成物(特許文献6〜11参照)。
これらの組成物には活性エネルギー線により分解しカチオン種を発生するカチオン重合開始剤が必須成分として使用されており、光硬化後の初期強度(グリーン強度)や造形速度が速いSbF6 -を有するオニウム塩が使用されている。
オニウム塩の重合開始能は対アニオンの種類で異なり、BF4 -<PF6 -<AsF6 -<SbF6 -の順に良くなるが、重合開始能のよいAsF6 -、SbF6 -のオニウム塩あるいはそれを含む組成物はAs、Sbという毒性金属を含有するため、その取り扱いや環境に対する影響が懸念される。
一方、PF6 -のオニウム塩では、例えばSbF6 -と同程度の硬化物物性を得るには後者の10倍近い量を添加する必要があり、添加量が多くなると未反応の開始剤、開始剤を溶解するために必要に応じて使用される溶剤または開始剤の分解物の残存量が多くなるため光造形物の機械的強度が低下したり、オニウム塩自身による活性エネルギー線の吸収が大きくなり必要な硬化深度が得られなくなる等の問題がある。
Conventionally, as the active energy ray-curable composition used in the optical three-dimensional modeling method, the cationically polymerizable compound such as the following (1) and (2), which is excellent in modeling accuracy and mechanical properties of the obtained model A composition containing as a main component is known.
(1) A resin composition containing a cationically polymerizable compound such as an epoxy compound, a cyclic ether compound, a cyclic lactone compound, or a vinyl ether compound (see Patent Document 5).
(2) A resin composition containing a cationically polymerizable compound and a radically polymerizable compound (see Patent Documents 6 to 11).
In these compositions, a cationic polymerization initiator that decomposes by active energy rays to generate a cationic species is used as an essential component, and has an initial strength (green strength) after photocuring and SbF 6 − that has a high modeling speed. Onium salt is used.
The polymerization initiation ability of the onium salt is different in the kind of counter anion, BF 4 - <PF 6 - <AsF 6 - <SbF 6 - in becomes better in order, good polymerization initiation ability AsF 6 -, SbF 6 - onium salts of Or since the composition containing it contains the toxic metals As and Sb, there is a concern about its handling and environmental impact.
On the other hand, PF 6 - In the onium salt, for example, SbF 6 - and to obtain the same degree of physical properties of the cured product must be added in an amount 10 times more of the latter, the unreacted amount of addition is increased initiator, initiator As the residual amount of solvent or initiator decomposition products used to dissolve the agent increases, the mechanical strength of the stereolithography decreases, and the absorption of active energy rays by the onium salt itself is large. Therefore, there is a problem that a necessary curing depth cannot be obtained.
このため毒性金属を含まず、SbF6 -塩をカチオン重合開始剤として用いた光学的立体造形用樹脂組成物と同等以上の性能を有する組成物が求められていた。
本発明は、毒性金属を含まず、貯蔵安定性が良好であり、得られた光造形物の機械特性に優れ、透明性の高い、活性エネルギー線硬化性光学的立体造形用樹脂組成物およびそれを硬化した光造形物を提供することを目的とする。 The present invention relates to an active energy ray-curable resin composition for optical three-dimensional modeling, which does not contain a toxic metal, has good storage stability, is excellent in mechanical properties of the obtained optical modeling object, and has high transparency. An object of the present invention is to provide an optically shaped object obtained by curing
本発明者らは上記の課題を解決するため鋭意検討の結果、カチオン重合開始剤(1)およびカチオン重合性化合物(2)を必須構成成分として成る活性エネルギー線硬化性光学的立体造形用樹脂組成物において、(1)が下記一般式(3)で表されるオニウムフッ素化アルキルフルオロリン酸塩であることを特徴とする活性エネルギー線硬化性光学的立体造形用樹脂組成物がこれらの要求を満たすものであることを見出し、本発明に到達した。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have determined that the active energy ray-curable resin composition for optical three-dimensional modeling comprises the cationic polymerization initiator (1) and the cationic polymerizable compound (2) as essential components. The active energy ray-curable resin composition for optical three-dimensional modeling characterized in that (1) is an onium fluorinated alkyl fluorophosphate represented by the following general formula (3): The present invention has been reached by finding out that it satisfies the requirements.
[式(3)中、AはVIA族〜VIIA族の原子価mの元素。m=1〜2。n=0〜3。RはAに結合している有機基。Dは下記一般式(4) [In the formula (3), A is an element having a valence m of VIA group to VIIA group. m = 1-2. n = 0-3. R is an organic group bonded to A. D is the following general formula (4)
[式(4)中、Eは2価の基を表し、Gは-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-NH-、-NR’-、-CO-、-COO-、-CONH、炭素数1〜3のアルキレンまたはフェニレン基。a=0〜5。]で表される構造であり、
X-は下記一般式(5)
[In the formula (4), E represents a divalent group, G represents —O—, —S—, —SO—, —SO 2 —, —NH—, —NR′—, —CO—, —COO] -, -CONH, an alkylene or phenylene group having 1 to 3 carbon atoms. a = 0-5. Is a structure represented by
X − represents the following general formula (5)
[Rfは水素原子の80%以上がフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。b=1〜5。]で表されるフッ素化アルキルフルオロリン酸アニオンを示す。] [Rf represents an alkyl group in which 80% or more of hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms. b = 1-5. ] The fluorinated alkyl fluorophosphate anion represented by this. ]
本発明の活性エネルギー線硬化性光学的立体造形用樹脂組成物はヒ素やアンチモンなどの毒性金属を含まず、貯蔵安定性が良好であり、かつ造形精度のよい、機械特性に優れ、透明性の高い光造形物が得られる。
本発明の組成物を応用分野は特に制限されないが、代表的な応用分野としては、設計の途中で外観デザインを検証するためのモデル、部品の機能性をチェックするためのモデル、鋳型を製作するための樹脂型、金型を製作するためのベースモデル、試作金型用の直接型などを挙げることができる。特に、光造形用樹脂組成物は、精密な部品のモデルの作製に威力を発揮することができる。より具体的には、例えば、精密部品、電気・電子部品、家具、建築構造物、自動車用部品、各種容器類、鋳物などのデザインモデルやワーキングモデル用途、母型、加工用途、手術のシミュレーションや歯列の矯正など医療用途、マイクロ技術、ナノ技術、機能部品などの実部品などに有効に用いることができる。
The active energy ray-curable resin composition for optical three-dimensional modeling of the present invention does not contain a toxic metal such as arsenic and antimony, has good storage stability, good modeling accuracy, excellent mechanical properties, and transparency. High stereolithography can be obtained.
The application field of the composition of the present invention is not particularly limited, but as a typical application field, a model for verifying the appearance design in the middle of the design, a model for checking the functionality of the part, and a mold are manufactured. Resin molds, base models for producing molds, direct molds for prototype molds, and the like. In particular, the resin composition for stereolithography can exhibit power in producing a model of a precise part. More specifically, for example, design models and working models such as precision parts, electrical / electronic parts, furniture, building structures, automobile parts, various containers, castings, mother molds, machining applications, surgical simulations, etc. It can be effectively used for medical applications such as orthodontics, microparts, nanotechnology, functional parts such as functional parts.
本発明の組成物のカチオン重合開始剤(1)を表す式(3)において、AはVIA族〜VIIA族(CAS表記)の元素を表し、有機基RおよびDと結合してオニウム[A+]を形成する。VIA族〜VIIA族の元素のうち好ましいのはカチオン重合開始能に優れるS、IおよびSeであり、特に好ましいのはSおよびIである。mは元素Aの原子価を表し、1または2である。 In the formula (3) representing the cationic polymerization initiator (1) of the composition of the present invention, A represents an element of VIA group to VIIA group (CAS notation) and is bonded to organic groups R and D to form an onium [A + ] Is formed. Among the elements of Group VIA to VIIA, preferred are S, I and Se, which are excellent in cationic polymerization initiating ability, and particularly preferred are S and I. m represents the valence of the element A and is 1 or 2.
RはAに結合している有機基であり、炭素数6〜30のアリール基、炭素数4〜30の複素環基、炭素数1〜30のアルキル基、炭素数2〜30のアルケニル基または炭素数2〜30のアルキニル基を表し、これらはアルキル、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アリールチオカルボニル、アシロキシ、アリールチオ、アルキルチオ、アリール、複素環、アリールオキシ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アルキレンオキシ、アミノ、シアノ、ニトロの各基およびハロゲンからなる群より選ばれる少なくとも1種で置換されていてもよい。Rの個数はm+n(m−1)+1であり、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよい。また2個以上のRが互いに直接または-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-NH-、-NR’-、-CO-、-COO-、-CONH-、炭素数1〜3のアルキレンもしくはフェニレン基を介して結合して元素Aを含む環構造を形成してもよい。ここでR’は炭素数1〜5のアルキル基または炭素数6〜10のアリール基である。 R is an organic group bonded to A, and is an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, a heterocyclic group having 4 to 30 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, or Represents an alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms, and these are alkyl, hydroxy, alkoxy, alkylcarbonyl, arylcarbonyl, alkoxycarbonyl, aryloxycarbonyl, arylthiocarbonyl, acyloxy, arylthio, alkylthio, aryl, heterocycle, aryloxy, It may be substituted with at least one selected from the group consisting of alkylsulfinyl, arylsulfinyl, alkylsulfonyl, arylsulfonyl, alkyleneoxy, amino, cyano, nitro groups and halogen. The number of R is m + n (m−1) +1, and may be the same as or different from each other. In addition, two or more R's are each directly or —O—, —S—, —SO—, —SO 2 —, —NH—, —NR′—, —CO—, —COO—, —CONH—, carbon number A ring structure containing element A may be formed by bonding via 1 to 3 alkylene or phenylene groups. Here, R ′ is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.
上記において炭素数6〜30のアリール基としては、フェニル基などの単環式アリール基およびナフチル、アントラセニル、フェナンスレニル、ピレニル、クリセニル、ナフタセニル、ベンズアントラセニル、アントラキノリル、フルオレニル、ナフトキノン、アントラキノンなどの縮合多環式アリール基が挙げられる。 In the above, the aryl group having 6 to 30 carbon atoms includes monocyclic aryl groups such as phenyl groups and condensed naphthyl, anthracenyl, phenanthrenyl, pyrenyl, chrysenyl, naphthacenyl, benzanthracenyl, anthraquinolyl, fluorenyl, naphthoquinone, anthraquinone, etc. And a polycyclic aryl group.
炭素数4〜30の複素環基としては、酸素、窒素、硫黄などの複素原子を1〜3個含む環状のものが挙げられ、これらは同一であっても異なっていてもよく、具体例としてはチエニル、フラニル、ピラニル、ピロリル、オキサゾリル、チアゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピラジニルなどの単環式複素環基およびインドリル、ベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、ベンゾチエニル、イソベンゾチエニル、キノリル、イソキノリル、キノキサリニル、キナゾリニル、カルバゾリル、アクリジニル、フェノチアジニル、フェナジニル、キサンテニル、チアントレニル、フェノキサジニル、フェノキサチイニル、クロマニル、イソクロマニル、ジベンゾチエニル、キサントニル、チオキサントニル、ジベンゾフラニルなどの縮合多環式複素環基が挙げられる。 Examples of the heterocyclic group having 4 to 30 carbon atoms include cyclic groups containing 1 to 3 hetero atoms such as oxygen, nitrogen and sulfur, which may be the same or different. Are monocyclic heterocyclic groups such as thienyl, furanyl, pyranyl, pyrrolyl, oxazolyl, thiazolyl, pyridyl, pyrimidyl, pyrazinyl and indolyl, benzofuranyl, isobenzofuranyl, benzothienyl, isobenzothienyl, quinolyl, isoquinolyl, quinoxalinyl, quinazolinyl , Carbazolyl, acridinyl, phenothiazinyl, phenazinyl, xanthenyl, thiantenyl, phenoxazinyl, phenoxathinyl, chromanyl, isochromanyl, dibenzothienyl, xanthonyl, thioxanthonyl, dibenzofuranyl, It is below.
炭素数1〜30のアルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクダデシルなどの直鎖アルキル基、イソプロピル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、イソペンチル、ネオペンチル、tert−ペンチル、イソヘキシルなどの分岐アルキル基、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどのシクロアルキル基、ベンジル、ナフチルメチル、アントラセニルメチル、1−フェニルエチル、2−フェニルエチルのようなアラルキル基が挙げられる。また、炭素数2〜30のアルケニル基としては、ビニル、アリル、1−プロペニル、イソプロペニル、1−ブテニル、2−ブテニル、3−ブテニル、1−メチル−1−プロペニル、1−メチル−2−プロペニル、2−メチル−1−プロペニル、2−メチル−2−プロペニル、1−ペンテニル、2−ペンテニル、3−ペンテニル、4−ペンテニル、1−メチル−1−ブテニル、2−メチル−2−ブテニル、3−メチル−2−ブテニル、1,2−ジメチル−1−プロペニル、1−デセニル、2−デセニル、8−デセニル、1−ドデセニル、2−ドデセニル、10−ドデセニルなどの直鎖または分岐状のもの、2−シクロヘキセニル、3−シクロヘキセニルなどのシクロアルケニル基、あるいはスチリル、シンナミルのようなアリールアルケニル基が挙げられる。さらに、炭素数2〜30のアルキニル基としては、エチニル、1−プロピニル、2−プロピニル、1−ブチニル、2−ブチニル、3−ブチニル、1−メチル−2−プロピニル、1,1−ジメチル−2−プロピニル、1−ぺンチニル、2−ペンチニル、3−ペンチニル、4−ペンチニル、1−デシニル、2−デシニル、8−デシニル、1−ドデシニル、2−ドデシニル、10−ドデシニルなどの直鎖状または分岐状のもの、あるいはフェニルエチニルなどのアリールアルキニル基が挙げられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 30 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, octyl, decyl, dodecyl, tetradecyl, hexadecyl, octadecyl and the like, isopropyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, Branched alkyl groups such as isopentyl, neopentyl, tert-pentyl, isohexyl, cycloalkyl groups such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, benzyl, naphthylmethyl, anthracenylmethyl, 1-phenylethyl, 2-phenylethyl Aralkyl groups. Examples of the alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms include vinyl, allyl, 1-propenyl, isopropenyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 3-butenyl, 1-methyl-1-propenyl, and 1-methyl-2- Propenyl, 2-methyl-1-propenyl, 2-methyl-2-propenyl, 1-pentenyl, 2-pentenyl, 3-pentenyl, 4-pentenyl, 1-methyl-1-butenyl, 2-methyl-2-butenyl, Linear or branched such as 3-methyl-2-butenyl, 1,2-dimethyl-1-propenyl, 1-decenyl, 2-decenyl, 8-decenyl, 1-dodecenyl, 2-dodecenyl, 10-dodecenyl Cycloalkenyl groups such as 2-cyclohexenyl and 3-cyclohexenyl, and arylalkenyl groups such as styryl and cinnamyl. It is. Further, examples of the alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms include ethynyl, 1-propynyl, 2-propynyl, 1-butynyl, 2-butynyl, 3-butynyl, 1-methyl-2-propynyl, 1,1-dimethyl-2 Linear or branched such as -propynyl, 1-pentynyl, 2-pentynyl, 3-pentynyl, 4-pentynyl, 1-decynyl, 2-decynyl, 8-decynyl, 1-dodecynyl, 2-dodecynyl, 10-dodecynyl Or arylalkynyl groups such as phenylethynyl.
上記の炭素数6〜30のアリール基、炭素数4〜30の複素環基、炭素数1〜30のアルキル基、炭素数2〜30のアルケニル基または炭素数2〜30のアルキニル基は少なくとも1種の置換基を有してもよく、置換基の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクダデシルなど炭素数1〜18の直鎖アルキル基;イソプロピル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、イソペンチル、ネオペンチル、tert−ペンチル、イソヘキシルなど炭素数1〜18の分岐アルキル基;シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなど炭素数3〜18のシクロアルキル基;ヒドロキシ基;メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、ヘキシルオキシ、デシルオキシ、ドデシルオキシなど炭素数1〜18の直鎖または分岐のアルコキシ基;アセチル、プロピオニル、ブタノイル、2−メチルプロピオニル、ヘプタノイル、2−メチルブタノイル、3−メチルブタノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、オクタデカノイルなど炭素数2〜18の直鎖または分岐のアルキルカルボニル基;ベンゾイル、ナフトイルなど炭素数7〜11のアリールカルボニル基;メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、sec−ブトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル、オクチロキシカルボニル、テトラデシルオキシカルボニル、オクタデシロキシカルボニルなど炭素数2〜19の直鎖または分岐のアルコキシカルボニル基;フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニルなど炭素数7〜11のアリールオキシカルボニル基;フェニルチオカルボニル、ナフトキシチオカルボニルなど炭素数7〜11のアリールチオカルボニル基;アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、イソプロピルカルボニルオキシ、ブチルカルボニルオキシ、イソブチルカルボニルオキシ、sec−ブチルカルボニルオキシ、tert−ブチルカルボニルオキシ、オクチルカルボニルオキシ、テトラデシルカルボニルオキシ、オクタデシルカルボニルオキシなど炭素数2〜19の直鎖または分岐のアシロキシ基;フェニルチオ、2−メチルフェニルチオ、3−メチルフェニルチオ、4−メチルフェニルチオ、2−クロロフェニルチオ、3−クロロフェニルチオ、4−クロロフェニルチオ、2−ブロモフェニルチオ、3−ブロモフェニルチオ、4−ブロモフェニルチオ、2−フルオロフェニルチオ、3−フルオロフェニルチオ、4−フルオロフェニルチオ、2−ヒドロキシフェニルチオ、4−ヒドロキシフェニルチオ、2−メトキシフェニルチオ、4−メトキシフェニルチオ、1−ナフチルチオ、2−ナフチルチオ、4−[4−(フェニルチオ)ベンゾイル]フェニルチオ、4−[4−(フェニルチオ)フェノキシ]フェニルチオ、4−[4−(フェニルチオ)フェニル]フェニルチオ、4−(フェニルチオ)フェニルチオ、4−ベンゾイルフェニルチオ、4−ベンゾイル−2−クロロフェニルチオ、4−ベンゾイル−3−クロロフェニルチオ、4−ベンゾイル−3−メチルチオフェニルチオ、4−ベンゾイル−2−メチルチオフェニルチオ、4−(4−メチルチオベンゾイル)フェニルチオ、4−(2−メチルチオベンゾイル)フェニルチオ、4−(p−メチルベンゾイル)フェニルチオ、4−(p−エチルベンゾイル)フェニルチオ4−(p−イソプロピルベンゾイル)フェニルチオ、4−(p−tert−ブチルベンゾイル)フェニルチオなど炭素数6〜20のアリールチオ基;メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、sec−ブチルチオ、tert−ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、ネオペンチルチオ、tert−ペンチルチオ、オクチルチオ、デシルチオ、ドデシルチオなど炭素数1〜18の直鎖または分岐のアルキルチオ基;フェニル、トリル、ジメチルフェニル、ナフチルなど炭素数6〜10のアリール基;チエニル、フラニル、ピラニル、ピロリル、オキサゾリル、チアゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、インドリル、ベンゾフラニル、ベンゾチエニル、キノリル、イソキノリル、キノキサリニル、キナゾリニル、カルバゾリル、アクリジニル、フェノチアジニル、フェナジニル、キサンテニル、チアントレニル、フェノキサジニル、フェノキサチイニル、クロマニル、イソクロマニル、ジベンゾチエニル、キサントニル、チオキサントニル、ジベンゾフラニルなど炭素数4〜20の複素環基;フェノキシ、ナフチルオキシなど炭素数6〜10のアリールオキシ基;メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロピルスルフィニル、イソプロピルスルフィニル、ブチルスルフィニル、イソブチルスルフィニル、sec−ブチルスルフィニル、tert−ブチルスルフィニル、ペンチルスルフィニル、イソペンチルスルフィニル、ネオペンチルスルフィニル、tert−ペンチルスルフィニル、オクチルスルフィニルなど炭素数1〜18の直鎖または分岐のアルキルスルフィニル基;フェニルスルフィニル、トリルスルフィニル、ナフチルスルフィニルなど炭素数6〜10のアリールスルフィニル基;メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、sec−ブチルスルホニル、tert−ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、イソペンチルスルホニル、ネオペンチルスルホニル、tert−ペンチルスルホニル、オクチルスルホニルなど炭素数1〜18の直鎖または分岐のアルキルスルホニル基;フェニルスルホニル、トリルスルホニル(トシル基)、ナフチルスルホニルなど炭素数の6〜10のアリールスルホニル基; The aryl group having 6 to 30 carbon atoms, the heterocyclic group having 4 to 30 carbon atoms, the alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, the alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, or the alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms is at least 1 The alkyl group may have various substituents, and examples of the substituent include linear alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, octyl, decyl, dodecyl, tetradecyl, hexadecyl, okdadecyl, and the like. Branched alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms such as isopropyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, isopentyl, neopentyl, tert-pentyl and isohexyl; cycloalkyl having 3 to 18 carbon atoms such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl and cyclohexyl Group; hydroxy group; methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy , Isobutoxy, sec-butoxy, tert-butoxy, hexyloxy, decyloxy, dodecyloxy, etc., a straight or branched alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms; acetyl, propionyl, butanoyl, 2-methylpropionyl, heptanoyl, 2-methylbuta Straight chain or branched alkylcarbonyl groups having 2 to 18 carbon atoms such as noyl, 3-methylbutanoyl, octanoyl, decanoyl, dodecanoyl and octadecanoyl; arylcarbonyl groups having 7 to 11 carbon atoms such as benzoyl and naphthoyl; methoxycarbonyl, Ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, butoxycarbonyl, isobutoxycarbonyl, sec-butoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, octyloxycarbonyl, tetradecyloxycarbonyl A linear or branched alkoxycarbonyl group having 2 to 19 carbon atoms such as octadecyloxycarbonyl; an aryloxycarbonyl group having 7 to 11 carbon atoms such as phenoxycarbonyl and naphthoxycarbonyl; a carbon number such as phenylthiocarbonyl and naphthoxythiocarbonyl 7-11 arylthiocarbonyl groups; acetoxy, ethylcarbonyloxy, propylcarbonyloxy, isopropylcarbonyloxy, butylcarbonyloxy, isobutylcarbonyloxy, sec-butylcarbonyloxy, tert-butylcarbonyloxy, octylcarbonyloxy, tetradecylcarbonyl Straight chain or branched acyloxy groups having 2 to 19 carbon atoms such as oxy and octadecylcarbonyloxy; phenylthio, 2-methylphenylthio, 3-methylphenylthio 4-methylphenylthio, 2-chlorophenylthio, 3-chlorophenylthio, 4-chlorophenylthio, 2-bromophenylthio, 3-bromophenylthio, 4-bromophenylthio, 2-fluorophenylthio, 3-fluorophenyl Thio, 4-fluorophenylthio, 2-hydroxyphenylthio, 4-hydroxyphenylthio, 2-methoxyphenylthio, 4-methoxyphenylthio, 1-naphthylthio, 2-naphthylthio, 4- [4- (phenylthio) benzoyl] Phenylthio, 4- [4- (phenylthio) phenoxy] phenylthio, 4- [4- (phenylthio) phenyl] phenylthio, 4- (phenylthio) phenylthio, 4-benzoylphenylthio, 4-benzoyl-2-chlorophenylthio, 4- Benzoyl -Chlorophenylthio, 4-benzoyl-3-methylthiophenylthio, 4-benzoyl-2-methylthiophenylthio, 4- (4-methylthiobenzoyl) phenylthio, 4- (2-methylthiobenzoyl) phenylthio, 4- (p-methyl) Arylthio groups having 6 to 20 carbon atoms such as benzoyl) phenylthio, 4- (p-ethylbenzoyl) phenylthio 4- (p-isopropylbenzoyl) phenylthio, 4- (p-tert-butylbenzoyl) phenylthio; methylthio, ethylthio, propylthio, Linear or branched alkylthio group having 1 to 18 carbon atoms such as isopropylthio, butylthio, isobutylthio, sec-butylthio, tert-butylthio, pentylthio, isopentylthio, neopentylthio, tert-pentylthio, octylthio, decylthio, dodecylthio Aryl groups having 6 to 10 carbon atoms such as phenyl, tolyl, dimethylphenyl, naphthyl; thienyl, furanyl, pyranyl, pyrrolyl, oxazolyl, thiazolyl, pyridyl, pyrimidyl, pyrazinyl, indolyl, benzofuranyl, benzothienyl, quinolyl, isoquinolyl, quinoxalinyl, quinazolinyl , Carbazolyl, acridinyl, phenothiazinyl, phenazinyl, xanthenyl, thiantenyl, phenoxazinyl, phenoxathinyl, chromanyl, isochromanyl, dibenzothienyl, xanthonyl, thioxanthonyl, dibenzofuranyl and the like, a phenoxy, naphthyloxy Aryloxy groups having 6 to 10 carbon atoms such as methylsulfinyl, ethylsulfinyl, propylsulfinyl, isopropyls Linear or branched alkylsulfinyl having 1 to 18 carbon atoms such as rufinyl, butylsulfinyl, isobutylsulfinyl, sec-butylsulfinyl, tert-butylsulfinyl, pentylsulfinyl, isopentylsulfinyl, neopentylsulfinyl, tert-pentylsulfinyl, octylsulfinyl Groups: phenylsulfinyl, tolylsulfinyl, naphthylsulfinyl and the like arylsulfinyl groups having 6 to 10 carbon atoms; methylsulfonyl, ethylsulfonyl, propylsulfonyl, isopropylsulfonyl, butylsulfonyl, isobutylsulfonyl, sec-butylsulfonyl, tert-butylsulfonyl, pentyl Sulfonyl, isopentylsulfonyl, neopentylsulfonyl, tert-pentylsulfonyl, octylsulfonyl Throat linear or branched alkylsulfonyl group having 1 to 18 carbon atoms; phenylsulfonyl, tolylsulfonyl (tosyl group), an arylsulfonyl group having 6 to 10 carbon atoms such as naphthylsulfonyl;
一般式(9)で表されるアルキレンオキシ基(Qは水素原子またはメチル基を表し、kは1〜5の整数);無置換のアミノ基並びに炭素数1〜5のアルキルおよび/または炭素数6〜10のアリールでモノ置換もしくはジ置換されているアミノ基(炭素数1〜5のアルキル基の具体例としてはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチルなどの直鎖アルキル基;イソプロピル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、イソペンチル、ネオペンチル、tert−ペンチルなどの分岐アルキル基;シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルなどのシクロアルキル基が挙げられる。炭素数6〜10のアリール基の具体例としてはフェニル、ナフチルなどが挙げられる);シアノ基;ニトロ基;フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲンなどが挙げられる。 An alkyleneoxy group represented by the general formula (9) (Q represents a hydrogen atom or a methyl group, k is an integer of 1 to 5); an unsubstituted amino group and an alkyl having 1 to 5 carbon atoms and / or a carbon number; Amino group mono- or di-substituted with 6 to 10 aryl (specific examples of alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms include linear alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl; isopropyl, isobutyl, Branched alkyl groups such as sec-butyl, tert-butyl, isopentyl, neopentyl, tert-pentyl, etc., and cycloalkyl groups such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, etc. Specific examples of aryl groups having 6 to 10 carbon atoms include phenyl Cyano group; nitro group; halogen such as fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc. It is below.
また2個以上のRが互いに直接または-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-NH-、-NR’-(R’は炭素数1〜5のアルキル基または炭素数6〜10のアリール基である。炭素数1〜5のアルキル基の具体例としてはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチルなどの直鎖アルキル基;イソプロピル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、イソペンチル、ネオペンチル、tert−ペンチルなどの分岐アルキル基;シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルなどのシクロアルキル基が挙げられる。炭素数6〜10のアリール基の具体例としてはフェニル、ナフチルなどが挙げられる)、-CO-、-COO-、-CONH-、炭素数1〜3のアルキレンもしくはフェニレン基を介して結合して元素Aを含む環構造を形成した例としては下記のものを挙げることができる。 The two or more R may bond directly or -O -, - S -, - SO -, - SO 2 -, - NH -, - NR '- (R' is an alkyl group or a carbon number of 1 to 5 carbon atoms An aryl group having 6 to 10. Specific examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms include linear alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, etc., isopropyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, Branched alkyl groups such as isopentyl, neopentyl, tert-pentyl, etc .; cycloalkyl groups such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, etc. Specific examples of aryl groups having 6 to 10 carbon atoms include phenyl, naphthyl and the like), Examples of ring structures containing element A by bonding through —CO—, —COO—, —CONH—, C 1-3 alkylene or phenylene group include the following: Door can be.
[AはVIA族〜VIIA族(CAS表記)の元素、Lは-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-NH-、-NR’-、
-CO-、-COO-、-CONH-、を表す。R’は前記と同じである。]
[A is an element of VIA group to VIIA group (CAS notation), L is —O—, —S—, —SO—, —SO 2 —, —NH—, —NR′—,
-CO-, -COO-, -CONH- are represented. R ′ is the same as described above. ]
式(3)において、原子価mのVIA族〜VIIA族(CAS表記)の元素Aに結合しているm+n(m−1)+1個のRは互いに同一であっても異なってもよいが、Rの少なくとも1つ、さらに好ましくはRのすべてが前記置換基を有してもよい炭素数6〜30のアリールまたは炭素数4〜30の複素環基である。 In the formula (3), m + n (m−1) +1 R bonded to the element A of the valence m group VIA to VIIA (CAS notation) may be the same or different, At least one of R, more preferably all of R is an aryl having 6 to 30 carbon atoms or a heterocyclic group having 4 to 30 carbon atoms, which may have the substituent.
式(3)中のDは下記式(4)の構造で表され、 D in the formula (3) is represented by the structure of the following formula (4),
式(4)中のEはメチレン、エチレン、プロピレンなど炭素数1〜8の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基;フェニレン、キシリレン、ナフチレン、ビフェニレン、アントラセニレンなどの炭素数6〜20のアリーレン基;ジベンゾフランジイル、ジベンゾチオフェンジイル、キサンテンジイル、フェノキサチインジイル、チアンスレンジイル、ビチオフェンジイル、ビフランジイル、チオキサントンジイル、キサントンジイル、カルバゾールジイル、アクリジンジイル、フェノチアジンジイル、フェナジンジイルなどの炭素数8〜20の複素環化合物の2価の基を表す。ここで複素環化合物の2価の基とは複素環化合物の異なる2個の環炭素原子からおのおの1個の水素原子を除いてできる2価の基のことをいう。 E in the formula (4) is a linear, branched or cyclic alkylene group having 1 to 8 carbon atoms such as methylene, ethylene and propylene; arylene having 6 to 20 carbon atoms such as phenylene, xylylene, naphthylene, biphenylene and anthracenylene. Groups: 8 carbon atoms such as dibenzofurandiyl, dibenzothiophenediyl, xanthenediyl, phenoxathiindiyl, thianthrangeyl, bithiophenediyl, bifuranyl, thioxanthonediyl, xanthonediyl, carbazolediyl, acridinediyl, phenothiazinediyl, phenazinediyl Represents a divalent group of ˜20 heterocyclic compounds. Here, the divalent group of the heterocyclic compound refers to a divalent group formed by removing one hydrogen atom from two different ring carbon atoms of the heterocyclic compound.
前記アルキレン基、アリーレン基または複素環化合物の2価の基は少なくとも1種の置換基を有してもよく、置換基の具体例としてはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、オクチルなどの炭素数1〜8の直鎖アルキル基;イソプロピル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチルなどの炭素数1〜8の分岐アルキル基;シクロプロピル、シクロヘキシルなど炭素数3〜8のシクロアルキル基;メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシなど炭素数は1〜8のアルコキシ基;フェニル、ナフチルなど炭素数6〜10のアリール基;ヒドロキシ基;シアノ基;ニトロ基またはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲンが挙げられる。 The alkylene group, arylene group or divalent group of the heterocyclic compound may have at least one substituent, and specific examples of the substituent include carbon such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, octyl and the like. A linear alkyl group having 1 to 8 carbon atoms; a branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms such as isopropyl, isobutyl, sec-butyl and tert-butyl; a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms such as cyclopropyl and cyclohexyl; Alkoxy groups having 1 to 8 carbon atoms such as ethoxy, propoxy, butoxy, hexyloxy; aryl groups having 6 to 10 carbon atoms such as phenyl and naphthyl; hydroxy groups; cyano groups; nitro groups or fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc. Halogen is mentioned.
式(4)中のGは-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-NH-、-NR’-(R’は前記と同じ)、-CO-、-COO-、-CONH-、炭素数1〜3のアルキレンまたはフェニレン基を表す。炭素数1〜3のアルキレン基としてはメチレン、エチレン、プロピレンなどの直鎖または分岐状のアルキレン基が挙げられる。 G in the formula (4) is —O—, —S—, —SO—, —SO 2 —, —NH—, —NR′— (R ′ is the same as above), —CO—, —COO—, —CONH— represents an alkylene or phenylene group having 1 to 3 carbon atoms. Examples of the alkylene group having 1 to 3 carbon atoms include linear or branched alkylene groups such as methylene, ethylene and propylene.
式(4)中のaは0〜5の整数である。a+1個のEおよびa個のGはそれぞれ互いに同一であっても異なってもよい。 A in Formula (4) is an integer of 0-5. a + 1 E and a G may be the same as or different from each other.
式(4)で表されるDの代表例を以下に示す。
a=0の場合
A typical example of D represented by the formula (4) is shown below.
When a = 0
a=1の場合 When a = 1
a=2の場合 When a = 2
a=3の場合 When a = 3
これらのDのうち、以下に示す基が特に好ましい。 Of these D, the following groups are particularly preferred.
式(3)中のnは[D−A+Rm-1]結合の繰り返し単位数を表し、0〜3の整数であり、好ましくは0または1である。 N in the formula (3) represents the number of repeating units of the [D-A + Rm - 1] bond, and is an integer of 0 to 3, preferably 0 or 1.
式(3)中のオニウムイオン[A+]として好ましいものはスルホニウム、ヨードニウム、セレニウムであるが、代表例としては以下のものが挙げられる。 Preferred examples of the onium ion [A + ] in the formula (3) are sulfonium, iodonium, and selenium, and typical examples thereof include the following.
スルホニウムイオンとしては、トリフェニルスルホニウム、トリ−p−トリルスルホニウム、トリ−o−トリルスルホニウム、トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウム、1−ナフチルジフェニルスルホニウム、2−ナフチルジフェニルスルホニウム、トリス(4−フルオロフェニル)スルホニウム、トリ−1−ナフチルスルホニウム、トリ−2−ナフチルスルホニウム、トリス(4−ヒドロキシフェニル)スルホニウム、4−(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム、4−(p−トリルチオ)フェニルジ−p−トリルスルホニウム、4−(4−メトキシフェニルチオ)フェニルビス(4−メトキシフェニル)スルホニウム、4−(フェニルチオ)フェニルビス(4−フルオロフェニル)スルホニウム、4−(フェニルチオ)フェニルビス(4−メトキシフェニル)スルホニウム、4−(フェニルチオ)フェニルジ−p−トリルスルホニウム、ビス[4−(ジフェニルスルホニオ)フェニル]スルフィド、ビス〔4−{ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]スルホニオ}フェニル〕スルフィド、ビス{4−[ビス(4−フルオロフェニル)スルホニオ]フェニル}スルフィド、ビス{4−[ビス(4−メチルフェニル)スルホニオ]フェニル}スルフィド、ビス{4−[ビス(4−メトキシフェニル)スルホニオ]フェニル}スルフィド、4−(4−ベンゾイル−2−クロロフェニルチオ)フェニルビス(4−フルオロフェニル)スルホニウム、4−(4−ベンゾイル−2−クロロフェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム、4−(4−ベンゾイルフェニルチオ)フェニルビス(4−フルオロフェニル)スルホニウム、4−(4−ベンゾイルフェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム、7−イソプロピル−9−オキソ−10−チア−9,10−ジヒドロアントラセン−2−イルジ−p−トリルスルホニウム、7−イソプロピル−9−オキソ−10−チア−9,10−ジヒドロアントラセン−2−イルジフェニルスルホニウム、2−[(ジ−p−トリル)スルホニオ]チオキサントン、2−[(ジフェニル)スルホニオ]チオキサントン、4−[4−(4−tert−ブチルベンゾイル)フェニルチオ]フェニルジ−p−トリルスルホニウム、4−[4−(4−tert−ブチルベンゾイル)フェニルチオ]フェニルジフェニルスルホニウム、4−[4−(ベンゾイルフェニルチオ)]フェニルジ−p−トリルスルホニウム、4−[4−(ベンゾイルフェニルチオ)]フェニルジフェニルスルホニウム、5−(4−メトキシフェニル)チアアンスレニウム、5−フェニルチアアンスレニウム、5−トリルチアアンスレニウム、5−(4−エトキシフェニル)チアアンスレニウム、5−(2,4,6−トリメチルフェニル)チアアンスレニウムなどのトリアリールスルホニウム;ジフェニルフェナシルスルホニウム、ジフェニル4−ニトロフェナシルスルホニウム、ジフェニルベンジルスルホニウム、ジフェニルメチルスルホニウムなどのジアリールスルホニウム;フェニルメチルベンジルスルホニウム、4−ヒドロキシフェニルメチルベンジルスルホニウム、4−メトキシフェニルメチルベンジルスルホニウム、4−アセトカルボニルオキシフェニルメチルベンジルスルホニウム、2−ナフチルメチルベンジルスルホニウム、2−ナフチルメチル(1−エトキシカルボニル)エチルスルホニウム、フェニルメチルフェナシルスルホニウム、4−ヒドロキシフェニルメチルフェナシルスルホニウム、4−メトキシフェニルメチルフェナシルスルホニウム、4−アセトカルボニルオキシフェニルメチルフェナシルスルホニウム、2−ナフチルメチルフェナシルスルホニウム、2−ナフチルオクタデシルフェナシルスルホニウム、9−アントラセニルメチルフェナシルスルホニウムなどのモノアリールスルホニウム;ジメチルフェナシルスルホニウム、フェナシルテトラヒドロチオフェニウム、ジメチルベンジルスルホニウム、ベンジルテトラヒドロチオフェニウム、オクタデシルメチルフェナシルスルホニウムなどのトリアルキルスルホニウムなどが挙げられ、これらは以下の文献に記載されている。 Examples of sulfonium ions include triphenylsulfonium, tri-p-tolylsulfonium, tri-o-tolylsulfonium, tris (4-methoxyphenyl) sulfonium, 1-naphthyldiphenylsulfonium, 2-naphthyldiphenylsulfonium, tris (4-fluorophenyl). ) Sulfonium, tri-1-naphthylsulfonium, tri-2-naphthylsulfonium, tris (4-hydroxyphenyl) sulfonium, 4- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium, 4- (p-tolylthio) phenyldi-p-tolylsulfonium, 4 -(4-methoxyphenylthio) phenylbis (4-methoxyphenyl) sulfonium, 4- (phenylthio) phenylbis (4-fluorophenyl) sulfonium, 4- (phenylthio) phenylbis ( 4-methoxyphenyl) sulfonium, 4- (phenylthio) phenyldi-p-tolylsulfonium, bis [4- (diphenylsulfonio) phenyl] sulfide, bis [4- {bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] sulfonio } Phenyl] sulfide, bis {4- [bis (4-fluorophenyl) sulfonio] phenyl} sulfide, bis {4- [bis (4-methylphenyl) sulfonio] phenyl} sulfide, bis {4- [bis (4- Methoxyphenyl) sulfonio] phenyl} sulfide, 4- (4-benzoyl-2-chlorophenylthio) phenylbis (4-fluorophenyl) sulfonium, 4- (4-benzoyl-2-chlorophenylthio) phenyldiphenylsulfonium, 4- ( 4-Benzoylphenylthio) phenylbis (4-fluorophenyl) sulfur 4-, 4- (4-benzoylphenylthio) phenyldiphenylsulfonium, 7-isopropyl-9-oxo-10-thia-9,10-dihydroanthracen-2-yldi-p-tolylsulfonium, 7-isopropyl-9-oxo -10-thia-9,10-dihydroanthracen-2-yldiphenylsulfonium, 2-[(di-p-tolyl) sulfonio] thioxanthone, 2-[(diphenyl) sulfonio] thioxanthone, 4- [4- (4- tert-butylbenzoyl) phenylthio] phenyldi-p-tolylsulfonium, 4- [4- (4-tert-butylbenzoyl) phenylthio] phenyldiphenylsulfonium, 4- [4- (benzoylphenylthio)] phenyldi-p-tolylsulfonium , 4- [4- (Benzoylphenylthio)] phenyldiphenyl Sulfonium, 5- (4-methoxyphenyl) thiaanthrhenium, 5-phenylthiaanthrhenium, 5-tolylthiaanthrhenium, 5- (4-ethoxyphenyl) thiaanthrhenium, 5- (2,4,6-trimethyl) Triarylsulfonium such as phenyl) thiaanthrhenium; diarylsulfonium such as diphenylphenacylsulfonium, diphenyl4-nitrophenacylsulfonium, diphenylbenzylsulfonium, diphenylmethylsulfonium; phenylmethylbenzylsulfonium, 4-hydroxyphenylmethylbenzylsulfonium, 4 -Methoxyphenylmethylbenzylsulfonium, 4-acetocarbonyloxyphenylmethylbenzylsulfonium, 2-naphthylmethylbenzylsulfonium, 2-naphthy Rumethyl (1-ethoxycarbonyl) ethylsulfonium, phenylmethylphenacylsulfonium, 4-hydroxyphenylmethylphenacylsulfonium, 4-methoxyphenylmethylphenacylsulfonium, 4-acetocarbonyloxyphenylmethylphenacylsulfonium, 2-naphthylmethylphena Monoarylsulfonium such as silsulfonium, 2-naphthyloctadecylphenacylsulfonium, 9-anthracenylmethylphenacylsulfonium; dimethylphenacylsulfonium, phenacyltetrahydrothiophenium, dimethylbenzylsulfonium, benzyltetrahydrothiophenium, octadecylmethyl Examples include trialkylsulfonium such as phenacylsulfonium, and these are described in the following literature. It has been mounting.
トリアリールスルホニウムに関しては、米国特許第4231951号、米国特許第4256828号、特開平7−61964号、特開平8−165290号、特開平7−10914号、特開平7−25922号、特開平8−27208号、特開平8−27209号、特開平8−165290号、特開平8−301991号、特開平9−143212号、特開平9−278813号、特開平10−7680号、特開平10−287643号、特開平10−245378号、特開平8−157510号、特開平10−204083号、特開平8−245566号、特開平8−157451号、特開平7−324069号、特開平9−268205号、特開平9−278935号、特開2001−288205号、特開平11−80118号、特開平10−182825号、特開平10−330353、特開平10−152495、特開平5−239213号、特開平7−333834号、特開平9−12537号、特開平8−325259号、特開平8−160606号、特開2000−186071号(米国特許第6368769号)、特開2005−263796号等;ジアリールスルホニウムに関しては、特開平7−300504号、特開昭64−45357号、特開昭64−29419号等;モノアリールスルホニウムに関しては、特開平6−345726号、特開平8−325225号、特開平9−118663号(米国特許第6093753号)、特開平2−196812号、特開平2−1470号、特開平2−196812号、特開平3−237107号、特開平3−17101号、特開平6−228086号、特開平10−152469号、特開平7−300505号、特開2003−277353、特開2003−277352等;トリアルキルスルホニウムに関しては、特開平4−308563号、特開平5−140210号、特開平5−140209号、特開平5−230189号、特開平6−271532号、特開昭58−37003号、特開平2−178303号、特開平10−338688号、特開平9−328506号、特開平11−228534号、特開平8−27102号、特開平7−333834号、特開平5−222167号、特開平11−21307号、特開平11−35613号、米国特許第6031014号などが挙げられる。 Regarding triarylsulfonium, U.S. Pat. No. 4,231,951, U.S. Pat. No. 4,256,828, JP-A-7-61964, JP-A-8-165290, JP-A-7-10914, JP-A-7-25922, JP-A-8- 27208, JP-A-8-27209, JP-A-8-165290, JP-A-8-301991, JP-A-9-143212, JP-A-9-278813, JP-A-10-7680, JP-A-10-287463. JP-A-10-245378, JP-A-8-157510, JP-A-10-204083, JP-A-8-245656, JP-A-8-157451, JP-A-7-324069, JP-A-9-268205. JP, 9-278935, JP 2001-288205, JP 11-80118, JP JP-A-10-182825, JP-A-10-330353, JP-A-10-152495, JP-A-5-239213, JP-A-7-333834, JP-A-9-12537, JP-A-8-325259, JP-A-8-160606. JP, 2000-186071 (U.S. Pat. No. 6,368,769), JP 2005-263696, etc . ; with respect to diarylsulfonium , JP-A-7-300504 , JP-A-64-45357 , JP-A- 64-29419 Monoarylsulfonium is disclosed in JP-A-6-345726, JP-A-8-325225, JP-A-9-118663 (US Pat. No. 6,097,753), JP-A-2-196812, and JP-A-2-1470. JP-A-2-196812, JP-A-3-237107, JP-A-3-1 No. 101, JP-A-6-228086, JP-A-10-152469, JP-A-7-300505, JP-A-2003-277353, JP-A-2003-277352, etc .; For trialkylsulfonium, JP-A-4-308563, JP 5-140210, JP 5-140209, JP 5-230189, JP 6-271532, JP 58-37003, JP 2-178303, JP 10-338688, JP-A-9-328506, JP-A-11-228534, JP-A-8-27102, JP-A-7-333834, JP-A-5-222167, JP-A-11-21307, JP-A-11-35613, US Patent 6031014 etc. are mentioned.
ヨードニウムイオンとしては、ジフェニルヨードニウム、ジ−p−トリルヨードニウム、ビス(4−ドデシルフェニル)ヨードニウム、ビス(4−メトキシフェニル)ヨードニウム、(4−オクチルオキシフェニル)フェニルヨードニウム、ビス(4−デシルオキシフェニル)ヨードニウム、4−(2−ヒドロキシテトラデシルオキシ)フェニルフェニルヨードニウム、4−イソプロピルフェニル(p−トリル)ヨードニウム、イソブチルフェニル(p−トリル)ヨードニウム等が挙げられ、これらは、Macromolecules,10,1307(1977)、特開平6−184170号、米国特許第4256828号、米国特許第4351708号、特開昭56−135519号、特開昭58−38350号、特開平10−195117号、特開2001−139539号、特開2000−510516号、特開2000−119306号などに記載されている。 Examples of the iodonium ions include diphenyliodonium, di-p-tolyliodonium, bis (4-dodecylphenyl) iodonium, bis (4-methoxyphenyl) iodonium, (4-octyloxyphenyl) phenyliodonium, bis (4-decyloxyphenyl). ) Iodonium, 4- (2-hydroxytetradecyloxy) phenylphenyliodonium, 4-isopropylphenyl (p-tolyl) iodonium, isobutylphenyl (p-tolyl) iodonium, etc., which are listed in Macromolecules, 10, 1307 ( 1977), JP-A-6-184170, US Pat. No. 4,256,828, US Pat. No. 4,351,708, JP-A-56-135519, JP-A-58-38350, JP-A-10-195117, JP-A-2001-139539. No., special No. 2000-510516, disclosed in such as JP-2000-119306.
セレニウムイオンとしてはトリフェニルセレニウム、トリ−p−トリルセレニウム、トリ−o−トリルセレニウム、トリス(4−メトキシフェニル)セレニウム、1−ナフチルジフェニルセレニウム、トリス(4−フルオロフェニル)セレニウム、トリ−1−ナフチルセレニウム、トリ−2−ナフチルセレニウム、トリス(4−ヒドロキシフェニル)セレニウム、 4−(フェニルチオ)フェニルジフェニルセレニウム、 4−(p−トリルチオ)フェニルジ−p−トリルセレニウムなどのトリアリールセレニウム;ジフェニルフェナシルセレニウム、ジフェニルベンジルセレニウム、ジフェニルメチルセレニウムなどのジアリールセレニウム;フェニルメチルベンジルセレニウム、4−ヒドロキシフェニルメチルベンジルセレニウム、フェニルメチルフェナシルセレニウム、4−ヒドロキシフェニルメチルフェナシルセレニウム、4−メトキシフェニルメチルフェナシルセレニウムなどのモノアリールセレニウム;ジメチルフェナシルセレニウム、フェナシルテトラヒドロセレノフェニウム、ジメチルベンジルセレニウム、ベンジルテトラヒドロセレノフェニウム、オクタデシルメチルフェナシルセレニウムなどのトリアルキルセレニウムなどが挙げられ、これらは特開昭50−151997号、特開昭50−151976号、特開昭53−22597号などに記載されている。 Examples of selenium ions include triphenyl selenium, tri-p-tolyl selenium, tri-o-tolyl selenium, tris (4-methoxyphenyl) selenium, 1-naphthyldiphenyl selenium, tris (4-fluorophenyl) selenium, tri-1- Triphenyl selenium such as naphthyl selenium, tri-2-naphthyl selenium, tris (4-hydroxyphenyl) selenium, 4- (phenylthio) phenyldiphenyl selenium, 4- (p-tolylthio) phenyldi-p-tolyl selenium; diphenylphenacyl Diaryl selenium such as selenium, diphenylbenzyl selenium, diphenylmethyl selenium; phenylmethylbenzyl selenium, 4-hydroxyphenylmethylbenzyl selenium, phenylmethyl Monoaryl selenium such as phenacyl selenium, 4-hydroxyphenylmethyl phenacyl selenium, 4-methoxyphenyl methyl phenacyl selenium; dimethyl phenacyl selenium, phenacyl tetrahydroselenophenium, dimethylbenzyl selenium, benzyl tetrahydroselenophenium, octadecyl Examples thereof include trialkyl selenium such as methylphenacyl selenium, and these are described in JP-A-50-151997, JP-A-50-151976, JP-A-53-22597, and the like.
これらのオニウムのうちで好ましいものはスルホニウムとヨードニウムであり、特に好ましいものは、トリフェニルスルホニウム、トリ−p−トリルスルホニウム、4−(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム、ビス[4−(ジフェニルスルホニオ)フェニル]スルフィド、ビス〔4−{ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]スルホニオ}フェニル〕スルフィド、ビス{4−[ビス(4−フルオロフェニル)スルホニオ]フェニル}スルフィド、4−(4−ベンゾイル−2−クロロフェニルチオ)フェニルビス(4−フルオロフェニル)スルホニウム、4−(4−ベンゾイルフェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム、7−イソプロピル−9−オキソ−10−チア−9,10−ジヒドロアントラセン−2−イルジ−p−トリルスルホニウム、7−イソプロピル−9−オキソ−10−チア−9,10−ジヒドロアントラセン−2−イルジフェニルスルホニウム、2−[(ジ−p−トリル)スルホニオ]チオキサントン、2−[(ジフェニル)スルホニオ]チオキサントン、4−[4−(4−tert−ブチルベンゾイル)フェニルチオ]フェニルジ−p−トリルスルホニウム、4−[4−(ベンゾイルフェニルチオ)]フェニルジフェニルスルホニウム、5−(4−メトキシフェニル)チアアンスレニウム、5−フェニルチアアンスレニウム、ジフェニルフェナシルスルホニウム、4−ヒドロキシフェニルメチルベンジルスルホニウム、2−ナフチルメチル(1−エトキシカルボニル)エチルスルホニウム、4−ヒドロキシフェニルメチルフェナシルスルホニウムおよびオクタデシルメチルフェナシルスルホニウムなどのスルホニウムイオン並びにジフェニルヨードニウム、ジ−p−トリルヨードニウム、ビス(4−ドデシルフェニル)ヨードニウム、ビス(4−メトキシフェニル)ヨードニウム、(4−オクチルオキシフェニル)フェニルヨードニウム、ビス(4−デシルオキシ)フェニルヨードニウム、4−(2−ヒドロキシテトラデシルオキシ)フェニルフェニルヨードニウム、4−イソプロピルフェニル(p−トリル)ヨードニウムおよび4−イソブチルフェニル(p−トリル)ヨードニウムなどのヨードニウムイオンが挙げられる。 Of these oniums, preferred are sulfonium and iodonium, and particularly preferred are triphenylsulfonium, tri-p-tolylsulfonium, 4- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium, bis [4- (diphenylsulfonio) phenyl. Sulfide, bis [4- {bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] sulfonio} phenyl] sulfide, bis {4- [bis (4-fluorophenyl) sulfonio] phenyl} sulfide, 4- (4-benzoyl) 2-chlorophenylthio) phenylbis (4-fluorophenyl) sulfonium, 4- (4-benzoylphenylthio) phenyldiphenylsulfonium, 7-isopropyl-9-oxo-10-thia-9,10-dihydroanthracene-2- Ildi-p-tolylsulfonium, -Isopropyl-9-oxo-10-thia-9,10-dihydroanthracen-2-yldiphenylsulfonium, 2-[(di-p-tolyl) sulfonio] thioxanthone, 2-[(diphenyl) sulfonio] thioxanthone, 4- [4- (4-tert-butylbenzoyl) phenylthio] phenyldi-p-tolylsulfonium, 4- [4- (benzoylphenylthio)] phenyldiphenylsulfonium, 5- (4-methoxyphenyl) thiaanthrhenium, 5-phenyl Thiaanthrhenium, diphenylphenacylsulfonium, 4-hydroxyphenylmethylbenzylsulfonium, 2-naphthylmethyl (1-ethoxycarbonyl) ethylsulfonium, 4-hydroxyphenylmethylphenacylsulfonium and octadecylmethylphenacylsulfonium Sulfonium ions such as sodium, diphenyliodonium, di-p-tolyliodonium, bis (4-dodecylphenyl) iodonium, bis (4-methoxyphenyl) iodonium, (4-octyloxyphenyl) phenyliodonium, bis (4-decyloxy) Examples include iodonium ions such as phenyliodonium, 4- (2-hydroxytetradecyloxy) phenylphenyliodonium, 4-isopropylphenyl (p-tolyl) iodonium and 4-isobutylphenyl (p-tolyl) iodonium.
式(3)においてX-は対イオンである。その個数は1分子当りn+1であり、そのうち少なくとも1個は式(5)で表されるフッ素化アルキルフルオロリン酸アニオンであって、残りは他のアニオンであってもよい。
他のアニオンとしては、従来公知のアニオンであればいかなるものでもよく、例えば、F-、Cl-、Br-、I-などのハロゲンイオン;OH-;ClO4 -;FSO3 -、ClSO3 -、CH3SO3 -、C6H5SO3 -、CF3SO3 -などのスルホン酸イオン類;HSO4 -、SO4 2-などの硫酸イオン類;HCO3 -、CO3 2-、などの炭酸イオン類;H2PO4 -、HPO4 2-、PO4 3-などのリン酸イオン類; PF6 -、PF5OH-などのフルオロリン酸イオン類;BF4 -、B(C6F5)4 -、B(C6H4CF3)4 -などのホウ酸イオン類;AlCl4 -;BiF6 -などが挙げられる。その他にはSbF6 -、SbF5OH-などのフルオロアンチモン酸イオン類、あるいはAsF6 -、AsF5OH-などのフルオロヒ素酸イオン類が挙げられるが、これらは毒性の元素を含むため好ましくない。
In Formula (3), X − is a counter ion. The number thereof is n + 1 per molecule, at least one of which is a fluorinated alkylfluorophosphate anion represented by the formula (5), and the rest may be other anions.
As the other anion, any conventionally known anion may be used. For example, halogen ions such as F − , Cl − , Br − and I − ; OH − ; ClO 4 − ; FSO 3 − and ClSO 3 − Sulfonic acid ions such as CH 3 SO 3 − , C 6 H 5 SO 3 − and CF 3 SO 3 − ; sulfate ions such as HSO 4 − and SO 4 2− ; HCO 3 − , CO 3 2− , Carbonate ions such as: phosphate ions such as H 2 PO 4 − , HPO 4 2− , PO 4 3− ; fluorophosphate ions such as PF 6 − and PF 5 OH − ; BF 4 − , B ( Borate ions such as C 6 F 5 ) 4 − and B (C 6 H 4 CF 3 ) 4 — ; AlCl 4 − ; BiF 6 − and the like. Other examples include fluoroantimonate ions such as SbF 6 − and SbF 5 OH −, and fluoroarsenate ions such as AsF 6 − and AsF 5 OH − , which are not preferable because they contain toxic elements. .
式(5)で表されるフッ素化アルキルフルオロリン酸アニオンにおいて、Rfはフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、好ましい炭素数は1〜8、さらに好ましい炭素数は1〜4である。アルキル基の具体例としてはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、オクチルなどの直鎖アルキル基;イソプロピル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチルなどの分岐アルキル基;さらにシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどのシクロアルキル基などが挙げられ、アルキル基の水素原子がフッ素原子に置換された割合は、通常、80%以上、好ましくは90%以上、さらに好ましくは100%である。フッ素原子の置換率が80%未満では、本発明のオニウムおよび遷移金属錯体の塩のカチオン重合開始能が低下する。 In the fluorinated alkyl fluorophosphate anion represented by the formula (5), Rf represents an alkyl group substituted with a fluorine atom, preferably having 1 to 8 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms. Specific examples of the alkyl group include linear alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, octyl; branched alkyl groups such as isopropyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl; and cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, Examples thereof include a cycloalkyl group such as cyclohexyl, and the ratio of the hydrogen atom of the alkyl group substituted by a fluorine atom is usually 80% or more, preferably 90% or more, and more preferably 100%. When the fluorine atom substitution rate is less than 80%, the cationic polymerization initiating ability of the onium salt and transition metal complex salt of the present invention decreases.
特に好ましいRfは、炭素数が1〜4、かつフッ素原子の置換率が100%の直鎖または分岐アルキル基であり、具体例としては、CF3、CF3CF2、(CF3)2CF、CF3CF2CF2、CF3CF2CF2CF2、(CF3)2CFCF2、CF3CF2(CF3)CF、(CF3)3Cが挙げられる Particularly preferred Rf is a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and a fluorine atom substitution rate of 100%. Specific examples include CF 3 , CF 3 CF 2 , (CF 3 ) 2 CF CF 3 CF 2 CF 2 , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 , (CF 3 ) 2 CFCF 2 , CF 3 CF 2 (CF 3 ) CF, and (CF 3 ) 3 C.
式(5)においてRfの個数bは、1〜5の整数であり、好ましくは2〜4であり、特に好ましくは2または3である。b個のRfはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。 In the formula (5), the number b of Rf is an integer of 1 to 5, preferably 2 to 4, particularly preferably 2 or 3. The b Rf's may be the same or different.
好ましいフッ素化アルキルフルオロリン酸アニオンの具体例としては[(CF3CF2)2PF4]-、[(CF3CF2)3PF3]-、 [((CF3)2CF)2PF4]-、[((CF3)2CF)3PF3]-、[(CF3CF2CF2)2PF4]-、[(CF3CF2CF2)3PF3]-、[((CF3)2CFCF2)2PF4]-、[((CF3)2CFCF2)3PF3]-、[(CF3CF2CF2CF2)2PF4]-および[(CF3CF2CF2CF2)3PF3]-が挙げられ、これらのうち、[(CF3CF2)3PF3]-および[(CF3CF2CF2)3PF3]-が特に好ましい。 Specific examples of preferred fluorinated alkyl fluorophosphate anions include [(CF 3 CF 2 ) 2 PF 4 ] − , [(CF 3 CF 2 ) 3 PF 3 ] − , [((CF 3 ) 2 CF) 2 PF 4 ] − , [((CF 3 ) 2 CF) 3 PF 3 ] − , [(CF 3 CF 2 CF 2 ) 2 PF 4 ] − , [(CF 3 CF 2 CF 2 ) 3 PF 3 ] − , [ ((CF 3 ) 2 CFCF 2 ) 2 PF 4 ] − , [((CF 3 ) 2 CFCF 2 ) 3 PF 3 ] − , [(CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 ) 2 PF 4 ] − and [( CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 ) 3 PF 3 ] − , of which [(CF 3 CF 2 ) 3 PF 3 ] − and [(CF 3 CF 2 CF 2 ) 3 PF 3 ] − Particularly preferred.
本発明に使用されるカチオン重合開始剤(1)は単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。また、従来公知の他のカチオン重合開始剤と併用してもよい。他のカチオン開始剤としては例えばスルホニウム、ヨードニウム、セレニウム、アンモニウム、ホスホニウムなどのオニウムイオン類または遷移金属錯体イオンと各種アニオンの塩が挙げられ、アニオンの例としてはF-、Cl-、Br-、I-などのハロゲンイオン;OH-;ClO4 -;FSO3 -、ClSO3 -、CH3SO3 -、C6H5SO3 -、CF3SO3 -などのスルホン酸イオン類;HSO4 -、SO4 2-などの硫酸イオン類;HCO3 -、CO3 2-、などの炭酸イオン類;H2PO4 -、HPO4 2-、PO4 3-などのリン酸イオン類; PF6 -、PF5OH-などのフルオロリン酸イオン類;BF4 -、B(C6F5)4 -、B(C6H4CF3)4 -などのホウ酸イオン類;AlCl4 -;BiF6 -;SbF6 -、SbF5OH-などのフルオロアンチモン酸イオン類;AsF6 -、AsF5OH-などのフルオロヒ素酸イオン類などが挙げられる。更にはアンモニウムまたはホスホニウムのフッ素化アルキルフルオロリン酸塩などと併用してもよい。ただし、フルオロアンチモン酸イオン類およびフルオロヒ素酸イオン類は毒性の元素を含むため好ましくない。 The cationic polymerization initiator (1) used in the present invention may be used alone or in combination of two or more. Moreover, you may use together with another conventionally well-known cationic polymerization initiator. Examples of other cationic initiators include onium ions such as sulfonium, iodonium, selenium, ammonium, phosphonium or salts of transition metal complex ions and various anions. Examples of anions include F − , Cl − , Br − , Halogen ions such as I − ; sulfonate ions such as OH − ; ClO 4 − ; FSO 3 − , ClSO 3 − , CH 3 SO 3 − , C 6 H 5 SO 3 − , CF 3 SO 3 − ; HSO 4 -, SO 4 sulfate ions such as 2-; HCO 3 -, CO 3 2-, carbonate ions such as; H 2 PO 4 -, HPO 4 2-, phosphate ions such as PO 4 3-; PF Fluorophosphate ions such as 6 − and PF 5 OH − ; Borate ions such as BF 4 − and B (C 6 F 5 ) 4 − and B (C 6 H 4 CF 3 ) 4 − ; AlCl 4 − ; BiF 6 -; SbF 6 - , SbF 5 OH - What fluoroantimonic acid ions; AsF 6 -, AsF 5 OH - , and the like fluoroarsenate periodate ions such as. Further, it may be used in combination with ammonium or phosphonium fluorinated alkyl fluorophosphate. However, fluoroantimonate ions and fluoroarsenate ions are not preferable because they contain toxic elements.
上記のスルホニウムイオン、ヨードニウムイオンまたはセレニウムイオンは公知のすべてのものを包含し、その代表例と参考文献は本明細書中に記載のとおりである。 The sulfonium ion, iodonium ion or selenium ion includes all known ones, and typical examples and references are as described in the present specification.
上記のアンモニウムイオンとしては、例えばテトラメチルアンモニウム、エチルトリメチルアンモニウム、ジエチルジメチルアンモニウム、トリエチルメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、トリメチル−n−プロピルアンモニウム、トリメチルイソプロピルアンモニウム、トリメチル−n−ブチルアンモニウム、トリメチルイソブチルアンモニウム、トリメチル−t−ブチルアンモニウム、トリメチル−n−ヘキシルアンモニウム、ジメチルジ−n−プロピルアンモニウム、ジメチルジイソプロピルアンモニウム、ジメチル−n−プロピルイソプロピルアンモニウム、メチルトリ−n−プロピルアンモニウム、メチルトリイソプロピルアンモニウム等のテトラアルキルアンモニウム;N,N−ジメチルピロリジニウム、N−エチル−N−メチルピロリジニウム、N,N−ジエチルピロリジニウム等のピロリジニウム;N,N′−ジメチルイミダゾリニウム、N,N′−ジエチルイミダゾリニウム、N−エチル−N′−メチルイミダゾリニウム、1,2,3−トリメチルイミダゾリニウム、1,3,4−トリメチルイミダゾリニウム、1,3−ジエチル−2−メチルイミダゾリニウム、1,3−ジエチル−4−メチルイミダゾリニウム、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウム等のイミダゾリニウム;N,N′−ジメチルテトラヒドロピリミジニウム、N,N′−ジエチルテトラヒドロピリミジニウム、N−エチル−N′−メチルテトラヒドロピリミジニウム、1,2,3−トリメチルテトラヒドロピリミジニウム等のテトラヒドロピリミジニウム;N,N′−ジメチルモルホリニウム、N−エチル−N−メチルモルホリニウム、N,N−ジエチルモルホリニウム等のモルホリニウム;N,N−ジメチルピペリジニウム、N−エチル−N′−メチルピペリジニウム、N,N′−ジエチルピペリジニウム等のピペリジニウム;N−メチルピリジニウム、N−エチルピリジニウム、N−n−プロピルピリジニウム、N−イソプロピルピリジニウム、N−n−ブチルピリジニウム、N−ベンジルピリジニウム、N−フェナシルピリジウム等のピリジニウム;N,N′−ジメチルイミダゾリウム、N−エチル−N−メチルイミダゾリウム、N,N′−ジエチルイミダゾリウム、1,2−ジエチル−3−メチルイミダゾリウム、1,3−ジエチル−2−メチルイミダゾリウム、1−メチル−3−n−プロピル−2,4−ジメチルイミダゾリウム等のイミダゾリウム;N−メチルキノリウム、N−エチルキノリウム、N−n−プロピルキノリウム、N−イソプロピルキノリウム、N−n−ブチルキノリウム、N−ベンジルキノリウム、N−フェナシルキノリウム等のキノリウム;N−メチルイソキノリウム、N−エチルイソキノリウム、N−n−プロピルイソキノリウム、N−イソプロピルイソキノリウム、N−n−ブチルイソキノリウム、N−ベンジルイソキノリウム、N−フェナシルイソキノリウム等のイソキノリウム;ベンジルベンゾチアゾニウム、フェナシルベンゾチアゾニウムなどのチアゾニウム;ベンジルアクリジウム、フェナシルアクリジウム等のアルリジウムが挙げられる。 Examples of the ammonium ion include tetramethylammonium, ethyltrimethylammonium, diethyldimethylammonium, triethylmethylammonium, tetraethylammonium, trimethyl-n-propylammonium, trimethylisopropylammonium, trimethyl-n-butylammonium, trimethylisobutylammonium, and trimethyl. Tetraalkylammonium such as t-butylammonium, trimethyl-n-hexylammonium, dimethyldi-n-propylammonium, dimethyldiisopropylammonium, dimethyl-n-propylisopropylammonium, methyltri-n-propylammonium, methyltriisopropylammonium; N , N-dimethylpyrrolidinium, N-eth -Pyrrolidinium such as N-methylpyrrolidinium, N, N-diethylpyrrolidinium; N, N'-dimethylimidazolinium, N, N'-diethylimidazolinium, N-ethyl-N'-methylimidazoli 1,2,3-trimethylimidazolinium, 1,3,4-trimethylimidazolinium, 1,3-diethyl-2-methylimidazolinium, 1,3-diethyl-4-methylimidazolinium, Imidazolinium such as 1,2,3,4-tetramethylimidazolinium; N, N′-dimethyltetrahydropyrimidinium, N, N′-diethyltetrahydropyrimidinium, N-ethyl-N′-methyltetrahydro Tetrahydropyrimidinium such as pyrimidinium, 1,2,3-trimethyltetrahydropyrimidinium; N, N′- Morpholinium such as methylmorpholinium, N-ethyl-N-methylmorpholinium, N, N-diethylmorpholinium; N, N-dimethylpiperidinium, N-ethyl-N′-methylpiperidinium, N Piperidinium such as N, N-diethylpiperidinium; N-methylpyridinium, N-ethylpyridinium, Nn-propylpyridinium, N-isopropylpyridinium, Nn-butylpyridinium, N-benzylpyridinium, N-phenacyl Pyridinium such as pyridium; N, N′-dimethylimidazolium, N-ethyl-N-methylimidazolium, N, N′-diethylimidazolium, 1,2-diethyl-3-methylimidazolium, 1,3- Diethyl-2-methylimidazolium, 1-methyl-3-n-propyl-2, Imidazolium such as 4-dimethylimidazolium; N-methylquinolium, N-ethylquinolium, Nn-propylquinolium, N-isopropylquinolium, Nn-butylquinolium, N-benzylquinolium, Quinolium such as N-phenacylquinolium; N-methylisoquinolium, N-ethylisoquinolium, Nn-propylisoquinolium, N-isopropylisoquinolium, Nn-butylisoquinolium, N -Isoquinolium such as benzylisoquinolium and N-phenacylisoquinolium; thiazonium such as benzylbenzothiazonium and phenacylbenzothiazonium; and arrhidium such as benzylacridium and phenacylacridium.
これらは、米国特許第4069055号、特許公報第2519480号、特開平5−222112号、特開平5−222111号、特開平5−262813号、特開平5−255256号、特開平7−109303号、特開平10−101718号、特開平2−268173号、特開平9−328507号、特開平5−132461号、特開平9−221652号、特開平7−43854号、特開平7−43901号、特開平5−262813号、特開平4−327574、特開平2−43202号、特開昭60−203628号、特開昭57−209931号、特開平9−221652号等に記載されている。 These are US Pat. No. 4069055, Japanese Patent Publication No. 2519480, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-222112, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-222111, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-262256, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-255256, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-109303, JP-A-10-101718, JP-A-2-268173, JP-A-9-328507, JP-A-5-132461, JP-A-9-221652, JP-A-7-43854, JP-A-7-43901, JP-A-5-262813, JP-A-4-327574, JP-A-2-43202, JP-A-60-203628, JP-A-57-209931, JP-A-9-221652, and the like.
上記のホスホニウムイオンとしては、例えばテトラフェニルホスホニウム、テトラ−p−トリルホスホニウム、テトラキス(2−メトキシフェニル)ホスホニウム、テトラキス(3−メトキシフェニル)ホスホニウム、テトラキス(4−メトキシフェニル)ホスホニウムなどのテトラアリールホスホニウム;トリフェニルベンジルホスホニウム、トリフェニルフェナシルホスホニウム、トリフェニルメチルホスホニウム、トリフェニルブチルホスホニウムなどのトリアリールホスホニウム;トリエチルベンジルホスホニウム、トリブチルベンジルホスホニウム、テトラエチルホスホニウム、テトラブチルホスホニウム、テトラヘキシルホスホニウム、トリエチルフェナシルホスホニウム、トリブチルフェナシルホスホニウムなどのテトラアルキルホスホニウム等が挙げられる。これらは、特開平6−157624号、特開平5−105692号、特開平7−82283号、特開平9−202873号等に記載されている。 Examples of the phosphonium ion include tetraarylphosphonium such as tetraphenylphosphonium, tetra-p-tolylphosphonium, tetrakis (2-methoxyphenyl) phosphonium, tetrakis (3-methoxyphenyl) phosphonium, and tetrakis (4-methoxyphenyl) phosphonium. Triarylphosphonium such as triphenylbenzylphosphonium, triphenylphenacylphosphonium, triphenylmethylphosphonium, triphenylbutylphosphonium; triethylbenzylphosphonium, tributylbenzylphosphonium, tetraethylphosphonium, tetrabutylphosphonium, tetrahexylphosphonium, triethylphenacylphosphonium Tetraal such as tributylphenacylphosphonium Ruhosuhoniumu, and the like. These are described in JP-A-6-157624, JP-A-5-105692, JP-A-7-82283, JP-A-9-202873, and the like.
本発明の(1)のオニウムフッ素化アルキルフルオロリン酸塩の2種類以上を併用する場合の割合は任意であり、制限されるない。
他のカチオン重合開始剤を併用する場合の使用割合は任意でよいが、通常本発明の(1)のオニウムフッ素化アルキルフルオロリン酸塩100質量部に対し、他のカチオン重合開始剤は10〜900質量部、好ましくは25〜400質量部である(以下の説明において、部は質量部を表す)。
The ratio in the case of using two or more kinds of the onium fluorinated alkyl fluorophosphate of (1) of the present invention is arbitrary and is not limited.
Although the use ratio in the case of using other cationic polymerization initiator together may be arbitrary, the other cationic polymerization initiator is usually 10 to 100 parts by mass of the onium fluorinated alkyl fluorophosphate of (1) of the present invention. It is 900 mass parts, Preferably it is 25-400 mass parts (In the following description, a part represents a mass part).
本発明のカチオン重合開始剤(1)には、本発明のカチオン重合性化合物(2)への溶解を容易にするため、あらかじめ溶剤類に溶解したものを用いてもよい。溶剤類としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、イソブタノールなどのアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルn−ブチルケトン、メチルn−プロピルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類;ジエチルエーテル、エチル−tert−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキサン、1,4−ジオキサンなどのエーテル類;プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、1,2−ブチレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネートなどのカーボネート類;酢酸エチル、乳酸エチル、ブチルセロソルブアセテート、カルビノールアセテート、β−プロピオラクトン、β―ブチロラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトンなどのエステル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールルモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテルなどのモノアルキルグリコールエーテル類;エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールルジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールジエチルエーテルなどのジアルキルグリコールエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのモノアルキルグリコールエーテルの脂肪族カルボン酸エステル類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類;ヘキサン、オクタン、デカンなどの脂肪族炭化水素類;石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサなどの石油系溶剤類;アセトニトリルなどのニトリル類が挙げられる。
これらの溶剤類を使用する場合の使用割合は、通常、本発明のカチオン重合開始剤(1)100部に対して、溶剤類15〜1000部、好ましくは30〜500部である。
As the cationic polymerization initiator (1) of the present invention, one previously dissolved in a solvent may be used in order to facilitate dissolution in the cationic polymerizable compound (2) of the present invention. Examples of the solvents include alcohols such as methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butanol, and isobutanol; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl n-butyl ketone, methyl n-propyl ketone, cyclohexane Ketones such as pentanone and cyclohexanone; ethers such as diethyl ether, ethyl-tert-butyl ether, tetrahydrofuran, 1,3-dioxane, 1,4-dioxane; propylene carbonate, ethylene carbonate, 1,2-butylene carbonate, dimethyl Carbonates such as carbonate and diethyl carbonate; ethyl acetate, ethyl lactate, butyl cellosolve acetate, carbinol acetate, β-propiolactone, β-but Esters such as rolactone, γ-butyrolactone, δ-valerolactone, ε-caprolactone; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether , Monoalkyl glycol ethers such as dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monoethyl ether; ethylene glycol dimethyl ether , Ethylene grease Cole diethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol diethyl ether, tripropylene glycol dimethyl ether, tripropylene Dialkyl glycol ethers such as glycol diethyl ether; monoalcohols such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate Aliphatic glycolic acid esters of luglycol ether; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and tetramethylbenzene; aliphatic hydrocarbons such as hexane, octane and decane; petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, Petroleum solvents such as solvent naphtha; and nitriles such as acetonitrile.
The use ratio in the case of using these solvents is usually 15 to 1000 parts, preferably 30 to 500 parts, with respect to 100 parts of the cationic polymerization initiator (1) of the present invention.
本発明の組成物におけるカチオン重合性化合物(2)としては、例えばエポキシドやオキセタン類などの環状エーテル化合物、ビニルエーテル類やスチレンなどのエチレン性不飽和化合物、更にはビシクロオルトエステル類、スピロオルトカーボネート類、スピロオルトエステル類などが挙げられる Examples of the cationically polymerizable compound (2) in the composition of the present invention include cyclic ether compounds such as epoxides and oxetanes, ethylenically unsaturated compounds such as vinyl ethers and styrene, bicycloorthoesters, and spiroorthocarbonates. And spiro orthoesters
エポキシドの例としては、従来公知のものが挙げられ、芳香族エポキシドとしては、少なくとも1個の芳香環を有する1価および多価フェノール、例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、ビフェノール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、トリフェノールメタン、トリスクレゾールメタン、ビフェノール、テトラメチルビフェノール、ジヒドロキシナフタレン、ビナフトール、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、フェノールノボラック、キシリレンノボラック、クレゾールノボラック、キシレノールノボラック、ビフェノールノボラック、ビスフェノールAノボラック、ビスフェノールFノボラック、トリフェノールメタンノボラック、ジシクロペンタジエンフェノールノボラック、テルペンフェノールノボラックおよびこれらの臭素化物またはこれらに更にアルキレンオキサイドを付加した化合物のグリシジルエーテルならびに少なくとも1つの芳香環を有する1価および多価カルボン酸のグリシジルエステル、例えば、ジグリシジルフタレート、ジグリシジル−3−メチルフタレートなど;脂環式エポキシドとしては、少なくとも1個のシクロヘキセンやシクロペンテン環を有する化合物を酸化剤でエポキシ化することによって得られる化合物、例えば3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−1−メチルシクロヘキシル−3,4−エポキシ−1−メチルヘキサンカルボキシレート、6−メチル−3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−6−メチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサンメタジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルカルボキシレート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、ジシクロペンタジエンジエポキシド、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)など;脂肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテルとしては、例えば、ジエチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテル、ブタンジオールのジグリシジルエーテル、ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールFジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、ジグリシジルエーテル、モノグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル、ジグリシジルエーテル、モノグリシジルエーテル、ソルビトールのテトラグリシジルエーテル、トリグリシジルエーテル、ジグリシジルエーテル、モノグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル、ジグリシジルエーテル、モノグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールのテトラグリシジルエーテル、トリグリシジルエーテル、ジグリシジルエーテル、モノグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールのヘキサグリシジルエーテルなど;脂肪族多塩基酸のポリグリシジルエステル、例えばジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロ−3−メチルフタレートなど;エポキシ化大豆油、エポキシ化ポリブタジエンなどの長鎖不飽和化合物のエポキシ化物;分子内にエポキシ基、例えばグリシジル基、3,4−エポキシ−1−シクロヘキシルメチル基、5,6−エポキシ−2−ビシクロ[2.2.1]ヘプチル基、5(6)−エポキシエチル−2−ビシクロ[2.2.1]ヘプチル基、5,6−エポキシ−2−ビシクロ[2.2.1]ヘプチルメチル基、3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6 ]デシル基、3,4−エポキシトリシクロ[5.2.1.02,6 ]デシルオキシエチル基、3,4−エポキシテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]ドデシル基、3,4−エポキシテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]ドデシルメチル基などのエポキシ基を有する(メタ)アクリレートのホモポリマーまたはこれらと他の不飽和モノマーとのコポリマーなどであり、特開平11−174677号、特開平11−15159号、特開2005−250067号、特開2004−133424号および明細書中の参考文献などに記載されているもの、さらにはJournal of Polym. Sci.、Part A、Polym. Chem.,Vol.28,497(1990)に記載されているようなジメチルシロキサン骨格を有する多官能エポキシドなどを挙げることができる。 Examples of epoxides include conventionally known epoxides, and examples of aromatic epoxides include monovalent and polyhydric phenols having at least one aromatic ring, such as phenol, cresol, xylenol, biphenol, bisphenol A, and bisphenol F. , Triphenol methane, triskresol methane, biphenol, tetramethylbiphenol, dihydroxynaphthalene, binaphthol, bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane, phenol novolac, xylylene novolac, cresol novolac, xylenol novolak, biphenol novolak, bisphenol A novolak, bisphenol F novolak, triphenolmethane novolak, dicyclopentadiene phenol novolak, terpene phenol novo And glycidyl ethers of these compounds or brominated compounds thereof or compounds further added with alkylene oxide and glycidyl esters of monovalent and polyvalent carboxylic acids having at least one aromatic ring, such as diglycidyl phthalate, diglycidyl-3-methyl Examples of alicyclic epoxides include compounds obtained by epoxidizing a compound having at least one cyclohexene or cyclopentene ring with an oxidizing agent, such as 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxyl. Rate, 3,4-epoxy-1-methylcyclohexyl-3,4-epoxy-1-methylhexanecarboxylate, 6-methyl-3,4-epoxycyclohexylmethyl-6-methyl-3,4-epoxy Chlohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-3-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-3-methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-5-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-5 Methylcyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexanemetadioxane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxy-6 -Methylcyclohexylcarboxylate, methylenebis (3,4-epoxycyclohexane), dicyclopentadiene diepoxide, ethylenebis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate), etc .; aliphatic polyhydric alcohol or alkylene oxide thereof Examples of polyglycidyl ethers of the adducts include diethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, butanediol diglycidyl ether, hexanediol diglycidyl ether, and hydrogenated bisphenol A. Diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, triglycidyl ether of glycerin, diglycidyl ether, monoglycidyl ether, triglycidyl ether of trimethylolpropane, diglycidyl ether, monoglycidyl ether, tetraglycidyl ether of sorbitol, triglycidyl Of ether, diglycidyl ether, monoglycidyl ether, trimethylolpropane Liglycidyl ether, diglycidyl ether, monoglycidyl ether, tetraglycidyl ether of pentaerythritol, triglycidyl ether, diglycidyl ether, monoglycidyl ether, hexaglycidyl ether of dipentaerythritol, etc .; polyglycidyl ester of aliphatic polybasic acid, For example, diglycidyl tetrahydrophthalate, diglycidyl hexahydrophthalate, diglycidyl hexahydro-3-methyl phthalate, etc .; epoxidized products of long chain unsaturated compounds such as epoxidized soybean oil, epoxidized polybutadiene; Group, 3,4-epoxy-1-cyclohexylmethyl group, 5,6-epoxy-2-bicyclo [2.2.1] heptyl group, 5 (6) -epoxyethyl-2-bisic B [2.2.1] heptyl group, 5,6-epoxy-2-bicyclo [2.2.1] heptylmethyl group, 3,4-epoxytricyclo [5.2.1.0 2,6 ] Decyl group, 3,4-epoxytricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decyloxyethyl group, 3,4-epoxytetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodecyl group, 3,4-epoxytetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] homopolymers of (meth) acrylates having an epoxy group such as dodecylmethyl group or copolymers of these with other unsaturated monomers, such as JP-A-11-174777, JP-A-11-15159, Those described in JP-A-2005-250067, JP-A-2004-133424, and references in the specification, and also Journal of Polym. Sci., Part A, Polym. Chem., Vol. 28,497 (1990) And polyfunctional epoxides having a dimethylsiloxane skeleton as described in).
オキセタン類としては、従来公知のもの、例えば、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチルベンゼン、[1−(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)エチル]フェニルエーテル、イソブトキシメチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、イソボルニルオキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、イソボルニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−エチルヘキシル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、エチルジエチレングリコール(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニルオキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラヒドロフルフリル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラブロモフェニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−テトラブロモフェノキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、トリブロモフェニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−トリブロモフェノキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−ヒドロキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−ヒドロキシプロピル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ブトキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタクロロフェニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタブロモフェニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ボルニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、3,7−ビス(3−オキセタニル)−5−オキサ−ノナン、3,3’−(1,3−(2−メチレニル)プロパンジイルビス(オキシメチレン))ビス−(3−エチルオキセタン)、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、1,2−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]エタン、1,3−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]プロパン、エチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニルビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、トリエチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラエチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレン(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、トリメチロールプロパントリス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、1,4−ビス(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)ブタン、1,6−ビス(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)ヘキサン、ペンタエリスリトールトリス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ポリエチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、3−エチル−3−フェノキシメチルオキセタン、3−エチル−3−(4−メチルフェノキシ)メチルオキセタン、3−エチル−3−(4−フルオロフェノキシ)メチルオキセタン、3−エチル−3−(1−ナフトキシ)メチルオキセタン、3−エチル−3−(2−ナフトキシ)メチルオキセタン、3−エチル−3−{[3−(エトキシシリル)プロポキシ]メチル}オキセタン、オキセタニルシルセスキオキセタン、フェノールノボラックオキセタンなどが挙げられる。 As the oxetanes, conventionally known ones such as 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methylbenzene, [1- (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) ethyl] Phenyl ether, isobutoxymethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, isobornyloxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, isobornyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2- Ethylhexyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, ethyldiethylene glycol (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentenyloxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentenyl (3- Ethyl -Oxetanylmethyl) ether, tetrahydrofurfuryl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tetrabromophenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2-tetrabromophenoxyethyl (3-ethyl-3-oxetanyl) Methyl) ether, tribromophenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2-tribromophenoxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2-hydroxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ) Ether, 2-hydroxypropyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, butoxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, pentachlorophenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, Tabromophenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, bornyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 3,7-bis (3-oxetanyl) -5-oxa-nonane, 3,3′- (1,3- (2-methylenyl) propanediylbis (oxymethylene)) bis- (3-ethyloxetane), 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, 1,2 -Bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] ethane, 1,3-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] propane, ethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) Ether, dicyclopentenyl bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, triethylene glycol bis (3 -Ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tetraethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tricyclodecanediyldimethylene (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, trimethylolpropane tris (3 -Ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 1,4-bis (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) butane, 1,6-bis (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) hexane, pentaerythritol tris (3- Ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, pentaerythritol tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, polyethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol hexakis (3-ethyl) -3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol pentakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 3-ethyl-3-phenoxymethyloxetane 3-ethyl-3- (4-methylphenoxy) methyloxetane, 3-ethyl-3- (4-fluorophenoxy) methyloxetane, 3-ethyl-3- (1-naphthoxy) methyloxetane, 3-ethyl-3 -(2-Naphoxy) methyloxetane, 3-ethyl-3-{[3- (ethoxysilyl) propoxy] methyl} oxetane, oxetanylsilsesquioxetane, phenol novolac oxetane, and the like.
エチレン性不飽和化合物の例としては、従来公知のカチオン重合性のもの、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ステアリルビニルエーテル、2−アセトキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、アリルビニルエーテル、2−メタクリロイロオキシエチルビニルエーテル、2−アクリロイロオキシエチルビニルエーテルなどの脂肪族モノビニルエーテル類;2−フェノキシエチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、p−メトキシフェニルビニルエーテルなどの芳香族モノビニルエーテル類;ブタンジオール−1,4−ジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、1,4−ベンゼンジビニルエーテル、ハイドロキノンジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル(1,4−ビス[(ビニルオキシ)メチル]シクロヘキサン)、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテルなどの多官能ビニルエーテル類;スチレン、α−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、p−tert−ブトキシスチレンなどのスチレン類;N−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリドンなどのカチオン重合性窒素含有モノマーなどを挙げることができる。 Examples of the ethylenically unsaturated compound include conventionally known cationically polymerizable compounds such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 4- Aliphatic groups such as hydroxybutyl vinyl ether, stearyl vinyl ether, 2-acetoxyethyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, dodecyl vinyl ether, octadecyl vinyl ether, allyl vinyl ether, 2-methacryloyloxyethyl vinyl ether, 2-acryloyloxyethyl vinyl ether Monovinyl ethers; 2-phenoxyethyl vinyl ether , Phenyl vinyl ethers, aromatic monovinyl ethers such as p-methoxyphenyl vinyl ether; butanediol-1,4-divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, 1,4-benzene divinyl ether, hydroquinone divinyl ether, cyclohexane dimethanol divinyl ether Polyfunctional vinyl ethers such as (1,4-bis [(vinyloxy) methyl] cyclohexane), diethylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol divinyl ether, hexanediol divinyl ether; styrene, α-methylstyrene, p-methoxystyrene, p- Examples include styrenes such as tert-butoxystyrene; cationically polymerizable nitrogen-containing monomers such as N-vinylcarbazole and N-vinylpyrrolidone. Can.
ビシクロオルトエステル類としては、1−フェニル−4−エチル−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン、1−エチル−4−ヒドロキシメチル−2,6,7−トリオキサビシクロ−[2.2.2]オクタンなどが挙げられる。 Bicycloorthoesters include 1-phenyl-4-ethyl-2,6,7-trioxabicyclo [2.2.2] octane, 1-ethyl-4-hydroxymethyl-2,6,7-trioxa And bicyclo- [2.2.2] octane.
スピロオルトカーボネート類としては、1,5,7,11−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、3、9−ジベンジル−1,5,7,11−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカンなどが挙げられる。 Examples of spiro orthocarbonates include 1,5,7,11-tetraoxaspiro [5.5] undecane, 3,9-dibenzyl-1,5,7,11-tetraoxaspiro [5.5] undecane, and the like. Can be mentioned.
スピロオルトエステル類としては1,4,6−トリオキサスピロ[4.4]ノナン、2−メチル−1,4,6−トリオキサスピロ[4.4]ノナン、1,4,6−トリオキサスピロ[4.5]デカンなどが挙げられる。 Spiro orthoesters include 1,4,6-trioxaspiro [4.4] nonane, 2-methyl-1,4,6-trioxaspiro [4.4] nonane, 1,4,6-trioxas. Examples include pyro [4.5] decane.
これらのカチオン重合性化合物は、特開平11−060996号、特開平09−302269号、特開2003−026993号、特開2002−206017号、特開平11−349895号、特開平10−212343号、特開2000−119306号、特開平10−67812号、特開2000−186071号、特開H08−85775号、特開平08−134405号、US2005/0147918号、US2005/0260522号、特開2005−250067号、特開2005−263796号、特開平10−62991号、特許第3033549号、フォトポリマー懇話会編「フォトポリマーハンドブック」(1989年、工業調査会)、総合技術センター編「UV・EB硬化技術」(1982年、総合技術センター)、ラドテック研究会編「UV・EB硬化材料」(1992年、シーエムシー)、技術情報協会編「UV硬化における硬化不良・阻害原因とその対策」(2003年、技術情報協会)、エポキシ樹脂技術協会編「総説 エポキシ樹脂 第1巻 基礎編I」(2003年、エポキシ樹脂技術協会)、色材、68、(5)、286−293(1995)、ファインケミカル、29、(19)、5−14(2000)などに記載されている。 These cationically polymerizable compounds are described in JP-A-11-060996, JP-A-09-302269, JP-A-2003-026993, JP-A-2002-206017, JP-A-11-349895, JP-A-10-212343, JP 2000-119306, JP 10-67812, JP 2000-186071, JP H08-85775, JP 08-134405, US 2005/0147918, US 2005/0260522, JP 2005-250067. , JP2005-26396, JP10-62991, JP3033549, Photopolymer social gathering "Photopolymer Handbook" (1989, Industrial Research Committee), General Technology Center "UV / EB Curing Technology" (1982, General Technology Center), Radte Study Group “UV / EB Curing Materials” (1992, CMC), Technical Information Institute “UV Curing Failure / Inhibition Causes and Countermeasures” (2003, Technical Information Association), Epoxy Resin Technology Association "Review Epoxy Resin Vol. 1 Basic I" (2003, Epoxy Resin Technology Association), Coloring Materials, 68, (5), 286-293 (1995), Fine Chemicals, 29, (19), 5-14 (2000 ) Etc.
これらのカチオン重合性化合物のうち、1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物が好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。これらのカチオン重合性化合物は単独で使用してもよく、または2種以上を併用してもよい。 Among these cationically polymerizable compounds, compounds having two or more epoxy groups in one molecule are preferable, and alicyclic epoxides are particularly preferable. These cationically polymerizable compounds may be used alone or in combination of two or more.
上記のカチオン重合性化合物(2)に対するカチオン重合開始剤(1)の使用割合は、カチオン重合性化合物(2)100部に対し通常0.05〜30部、好ましくは0.1〜15部であるが、適当な使用割合はカチオン重合性化合物の性質や放射線の種類と照射量、温度、硬化時間、硬化深度、湿度などさまざまな要因を考慮することによって決定される。カチオン重合開始剤の使用割合が0.05部より少ないとカチオン重合性化合物の重合が不十分となり、30部より多いと未反応のカチオン重合開始剤やその分解物により硬化物の特性が低下したり、カチオン重合開始剤自身による放射線の吸収量が増えるため、硬化深度が低下する場合がある。 The proportion of the cationic polymerization initiator (1) used relative to the cationic polymerizable compound (2) is usually 0.05 to 30 parts, preferably 0.1 to 15 parts, per 100 parts of the cationic polymerizable compound (2). However, the appropriate use ratio is determined by considering various factors such as the nature of the cationically polymerizable compound, the type and amount of radiation, temperature, curing time, curing depth, and humidity. When the proportion of the cationic polymerization initiator used is less than 0.05 parts, the polymerization of the cationic polymerizable compound becomes insufficient, and when it is more than 30 parts, the properties of the cured product deteriorate due to the unreacted cationic polymerization initiator and its decomposition product. In addition, the amount of radiation absorbed by the cationic polymerization initiator itself may increase, and the curing depth may decrease.
本発明のカチオン重合開始剤(1)とカチオン重合性化合物(2)からなる光学的立体造形用樹脂組成物に必要に応じてラジカル重合性化合物(6)と感放射線性ラジカル重合開始剤(7)を配合することができる。ラジカル重合性化合物(6)としては、従来公知のもの、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールモノ(メタ)アクリレート、スチレン、ビニルシクロヘキセン、イソブチレン、ブタジエンなどの単官能モノマー類;エチレングリコール、プロピレングリコール、ビスフェノールAもしくはその水素化物等の2価アルコールまたはこれらのアルキレンオキサイド付加物のジ(メタ)アクリレートあるいはジビニルベンゼンなどの2官能モノマー類;トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトールなどの多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付加物の(メタ)アクリレートなどの多官能モノマー類;芳香族エポキシド、脂環式エポキシド、脂肪族エポキシドなどのエポキシドと(メタ)アクリル酸とを反応させて得られるエポキシ(メタ)アクリレート類;フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸などの芳香族多塩基酸やコハク酸、アジピン酸、セバシン酸などの脂肪族多塩基酸とエチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ビスフェノールおよびそれらのアルキレンオキサイド付加物などの多価アルコールから得たヒドロキシ末端のポリエステルを(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得られるポリエステル(メタ)アクリレート類;イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートなどの脂環式イソシアネート類、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートなどの脂肪族イソシアネート類、トルエンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネートなどの芳香族イソシアネート類などの多官能イソシアネートとエチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ビスフェノール、水添ビスフェノールおよびポリカプロラクトンジオール、ポリエステルジオール、ポリカーボネートジオールなどの多価アルコールから得たイソシアネート末端のプレポリマーと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールのトリ(メタ)アクリレートなどのヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートとの反応によって得られるウレタン(メタ)アクリレート類などが挙げられる。これらのラジカル重合性化合物のうち、1分子中に少なくとも1つの(メタ)アクリル基を有する化合物が好ましい。本発明のラジカル重合性化合物は単独で使用してもよく、または2種以上を併用してもよい。 A radically polymerizable compound (6) and a radiation-sensitive radical polymerization initiator (7) as necessary for the resin composition for optical three-dimensional modeling comprising the cationic polymerization initiator (1) and the cationically polymerizable compound (2) of the present invention. ) Can be blended. Examples of the radically polymerizable compound (6) include conventionally known compounds such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate. Monofunctional monomers such as 1,6-hexanediol mono (meth) acrylate, styrene, vinylcyclohexene, isobutylene, butadiene; dihydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, bisphenol A or hydrides thereof, or alkylene oxides thereof Bifunctional monomers such as adduct di (meth) acrylate or divinylbenzene; polyhydric alcohols such as trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol, or alkylene oxide adducts thereof (meta Polyfunctional monomers such as acrylates; Epoxy (meth) acrylates obtained by reacting epoxides such as aromatic epoxides, cycloaliphatic epoxides, and aliphatic epoxides with (meth) acrylic acid; phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic Aromatic polybasic acids such as acid, trimellitic acid and pyromellitic acid, and aliphatic polybasic acids such as succinic acid, adipic acid, and sebacic acid, and ethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol , Neopentyl glycol, polytetramethylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol, bisphenol and Polyester (meth) acrylates obtained by esterifying hydroxy-terminated polyesters obtained from polyhydric alcohols such as these alkylene oxide adducts with (meth) acrylic acid; alicyclic rings such as isophorone diisocyanate and dicyclohexylmethane diisocyanate Isocyanates, polyisocyanates such as aliphatic isocyanates such as tetramethylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate, aromatic isocyanates such as toluene diisocyanate, phenylene diisocyanate and diphenylmethane diisocyanate, and ethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene Glycol, neopentyl glycol, polytetramethylene glycol 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol, bisphenol, hydrogenated bisphenol and polycaprolactone diol, polyester diol, polycarbonate diol, etc. Isocyanate-terminated prepolymer obtained from polyhydric alcohol and hydroxy such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate Examples include urethane (meth) acrylates obtained by reaction with group-containing (meth) acrylates. Of these radically polymerizable compounds, compounds having at least one (meth) acryl group in one molecule are preferable. The radically polymerizable compound of the present invention may be used alone or in combination of two or more.
これらのラジカル重合性化合物の例は、特開2006−16411号、特開2005−263796号、特開2000−186071号、フォトポリマー懇話会編「フォトポリマーハンドブック」(1989年、工業調査会)、総合技術センター編「UV・EB硬化技術」(1982年、総合技術センター)、ラドテック研究会編「UV・EB硬化材料」(1992年、シーエムシー)、技術情報協会編「UV硬化における硬化不良・阻害原因とその対策」(2003年、技術情報協会)などに記載されている。 Examples of these radically polymerizable compounds include JP-A No. 2006-16411, JP-A No. 2005-26396, JP-A No. 2000-186071, edited by the photopolymer social gathering “Photopolymer Handbook” (1989, Industrial Research Committee), Comprehensive Technology Center “UV / EB Curing Technology” (1982, Comprehensive Technology Center), Radtech Study Group “UV / EB Curing Material” (1992, CMC), Technical Information Association “UV Curing Failure / "Inhibition Causes and Countermeasures" (2003, Technical Information Association).
本発明の組成物におけるラジカル重合開始剤(7)としては、前記ラジカル重合性化合物をラジカル重合によって高分子量化するために、活性エネルギー線によってラジカル活性種を生成するものであればいかなるものでもよい。このようなラジカル重合開始剤としては、従来公知のものが挙げられ、例えばアセトフェノン、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノンなどのアセトフェノン系化合物;ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルフィドなどのベンゾフェノン系化合物;4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンなどのミヒラーケトン系化合物;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテルなどのベンゾイン系化合物;チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系化合物;モノアシルホスフィンオキサイド、ビスアシルホスフィンオキサイドなどのアシルホスフィン系化合物などが挙げられる。
これらのラジカル重合開始剤の例は、特開2006−16411号、特開2005−263796号、特開2000−186071号、フォトポリマー懇話会編「フォトポリマーハンドブック」(1989年、工業調査会)、総合技術センター編「UV・EB硬化技術」(1982年、総合技術センター)、ラドテック研究会編「UV・EB硬化材料」(1992年、シーエムシー)、技術情報協会編「UV硬化における硬化不良・阻害原因とその対策」(2003年、技術情報協会)などに記載されている。
The radical polymerization initiator (7) in the composition of the present invention may be any as long as it generates radical active species by active energy rays in order to increase the molecular weight of the radical polymerizable compound by radical polymerization. . Examples of such radical polymerization initiators include those conventionally known. For example, acetophenone compounds such as acetophenone, p-tert-butyltrichloroacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone; benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate Benzophenone compounds such as 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide; Michler ketone compounds such as 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone; benzoin and benzoin methyl ether Benzoin compounds such as thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone Ton compounds; acyl phosphine compounds such as monoacyl phosphine oxide and bisacyl phosphine oxide.
Examples of these radical polymerization initiators include JP-A No. 2006-16411, JP-A No. 2005-26396, JP-A No. 2000-186071, edited by Photopolymer Social Meeting “Photopolymer Handbook” (1989, Industrial Research Committee), Comprehensive Technology Center “UV / EB Curing Technology” (1982, Comprehensive Technology Center), Radtech Study Group “UV / EB Curing Material” (1992, CMC), Technical Information Association “UV Curing Failure / "Inhibition Causes and Countermeasures" (2003, Technical Information Association).
これらのラジカル重合開始剤(7)の使用割合はラジカル重合性化合物(6)100部に対して通常0.01〜30部、好ましくは0.1〜15部である。これらのラジカル重合開始剤は単独で使用してもよく、または2種以上を併用してもよい。 The usage-amount of these radical polymerization initiators (7) is 0.01-30 parts normally with respect to 100 parts of radically polymerizable compounds (6), Preferably it is 0.1-15 parts. These radical polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
本発明のカチオン重合開始剤(1)とカチオン重合性化合物(2)からなる光学的立体造形用樹脂組成物に更にラジカル重合性化合物(6)とラジカル重合開始剤(7)を配合する場合、カチオン重合性化合物(2)とラジカル重合性化合物(6)の配合割合は、配合した後の樹脂組成物の粘度、反応速度、造形速度、得られる立体造形物の寸法精度、機械的特性などの点から、カチオン重合性化合物(2):ラジカル重合性化合物(6)=90:10〜30:70の質量比で含有することが好ましく、80:20〜40:60の質量比で含有することが特に好ましい。 When the radical polymerizable compound (6) and the radical polymerization initiator (7) are further added to the resin composition for optical three-dimensional modeling comprising the cationic polymerization initiator (1) and the cationic polymerizable compound (2) of the present invention, The blending ratio of the cationically polymerizable compound (2) and the radically polymerizable compound (6) is such as the viscosity of the resin composition after blending, the reaction speed, the modeling speed, the dimensional accuracy of the resulting three-dimensional modeled object, and the mechanical characteristics. From the viewpoint, it is preferable to contain the cationically polymerizable compound (2): radically polymerizable compound (6) = 90: 10-30: 70 in a mass ratio of 80: 20-40: 60. Is particularly preferred.
本発明の組成物には更に、OH基含有化合物(8)を含有していてもよい。OH基含有化合物としては1分子中に少なくとも2個以上のOH基を有する化合物であり、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,2,4−ブタントリオール、1,2−シクロヘキサンジオール、1,3−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,2−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,3,5−シクロヘキサントリメタノール、1,2−シクロペンタンジオール、1,3−シクロペンタンジオール、1,2−シクロオクタンジオール、1,5−シクロオクタンジオール、トリシクロデカンジメタノール、2,3−ノボルナンジオール、2(3)−ヒドロキシ−5、6−ビス(ヒドロキシメチル)ノルボルナン、2,3−ジヒドロキシ−5(6)−ヒドロキシメチルノルボルナン、1,4−アンヒドロエリトリオール、L−アラビノース、L−アラビトール、D−セロビオース、セルロース、1,5−デカリンジオール、グルコース、ガラクトース、ラクトース、マルトース、マンノース、マナンニトール、US−6716568号、US−2005/0266335号などに記載されているポリカプロラクトンポリオール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、、ポリエステルジオール、ポリカーボネートジオール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールF、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂などおよびそれらのアルキレンオキサイド付加物などが挙げられる。これらのOH基含有化合物の例は、特開2005−263796号、2000−186071号などに記載されている。 The composition of the present invention may further contain an OH group-containing compound (8). The OH group-containing compound is a compound having at least two OH groups in one molecule. For example, ethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, neopentyl glycol, polytetramethylene Glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,2,4-butanetriol, 1,2-cyclohexanediol, 1,3-cyclohexanediol, 1,4- Cyclohexanediol, 1,2-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,3,5-cyclohexanetrimethanol, 1,2-cyclopentanediol, 1,3-cyclopentanediol, 1,2-cycl Looctanediol, 1,5-cyclooctanediol, tricyclodecane dimethanol, 2,3-nobornanediol, 2 (3) -hydroxy-5, 6-bis (hydroxymethyl) norbornane, 2,3-dihydroxy- 5 (6) -Hydroxymethylnorbornane, 1,4-anhydroerytriol, L-arabinose, L-arabitol, D-cellobiose, cellulose, 1,5-decalindiol, glucose, galactose, lactose, maltose, mannose, mannanitol Polycaprolactone polyol, trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol, polyester diol, polycarbonate diol, bisphenol described in US Pat. Lumpur A, bisphenol F, hydrogenated bisphenol A, hydrogenated bisphenol F, phenol novolac resins, and cresol novolac resin and the like and their alkylene oxide adducts. Examples of these OH group-containing compounds are described in JP-A Nos. 2005-267396 and 2000-186071.
本発明の組成物には本発明の目的、効果を損なわない限り、必要に応じて、増感剤、顔料、充填剤、帯電防止剤、難燃剤、消泡剤、流動調整剤、光安定剤、酸化防止剤および非反応性の樹脂などの添加剤を使用することができる。 In the composition of the present invention, a sensitizer, a pigment, a filler, an antistatic agent, a flame retardant, an antifoaming agent, a flow regulator, and a light stabilizer are added as necessary as long as the purpose and effect of the present invention are not impaired. Additives such as antioxidants and non-reactive resins can be used.
本発明の組成物、特に活性エネルギー線照射によって硬化させるものには、必要により従来公知の増感剤を併用することができる。このような増感剤の例は、特開平11−279212号、特開平09−183960号などに記載されており、具体的にはアントラセン、9,10−ジブトキシアントラセン、9,10−ジメトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン、2−tert−ブチル−9,10−ジメトキシアントラセン、2,3−ジメチル−9,10−ジメトキシアントラセン、9−メトキシ−10−メチルアントラセン、9,10−ジエトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジエトキシアントラセン、2−tert−ブチル−9,10−ジエトキシアントラセン、2,3−ジメチル−9,10−ジエトキシアントラセン、9−エトキシ−10−メチルアントラセン、9,10−ジプロポキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジプロポキシアントラセン、2−tert−ブチル−9,10−ジプロポキシアントラセン、2,3−ジメチル−9,10−ジプロポキシアントラセン、9−イソプロポキシ−10−メチルアントラセン、9,10−ジベンジルオキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジベンジルオキシアントラセン、2−tert−9,10−ジベンジルオキシアントラセン、2,3−ジメチル−9,10−ジベンジルオキシアントラセン、9−ベンジルオキシ−10−メチルアントラセン、9,10−ジ−α−メチルベンジルオキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジ−α−メチルベンジルオキシアントラセン、2−tert−9,10−ジ−α−メチルベンジルオキシアントラセン、2,3−ジメチル−9,10−ジ−α−メチルベンジルオキシアントラセン、9−(α−メチルベンジルオキシ)−10−メチルアントラセン、9,10−ジフェニルアントラセン、9−メトキシアントラセン、9−エトキシアントラセン、9−メチルアントラセン、9−ブロモアントラセン、9−メチルチオアントラセン、9−エチルチオアントラセンなどのアントラセン類;ピレン;1,2−ベンズアントラセン;ペリレン;テトラセン;コロネン;チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン類;フェノチアジン;キサントン;1−ナフトール、2−ナフトール、1−メトキシナフタレン、2−メトキシナフタレン、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジメトキシナフタレン、1,1′−チオビス(2−ナフトール)、1,1′−ビ−(2−ナフトール)、4−メトキシ−1−ナフトールなどのナフタレン類;ジメトキシアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、4’−イソプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、2−ヒドロキシメチル−2−メチルプロピオフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェノン、p−アジドベンザルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒラーケトン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルフィドなどのケトン類;N−フェニルカルバゾール、N−エチルカルバゾール、ポリ−N−ビニルカルバゾール、N−グリシジルカルバゾールなどのカルバゾール類;1,4−ジメトキシクリセン、1,4−ジエトキシクリセン、1,4−ジプロポキシクリセン、1,4−ジベンジルオキシクリセン、1,4−ジ−α−メチルベンジルオキシクリセンなどのクリセン類;9−ヒドロキシフェナントレン、9−メトキシフェナントレン、9−エトキシフェナントレン、9−ベンジルオキシフェナントレン、9,10−ジメトキシフェナントレン、9,10−ジエトキシフェナントレン、9,10−ジプロポキシフェナントレン、9,10−ジベンジルオキシフェナントレン、9,10−ジ−α−メチルベンジルオキシフェナントレン、9−ヒドロキシ−10−メトキシフェナントレン、9−ヒドロキシ−10−エトキシフェナントレンなどのフェナントレン類が挙げられる。 Conventionally known sensitizers can be used in combination with the composition of the present invention, particularly those which are cured by irradiation with active energy rays. Examples of such sensitizers are described in JP-A Nos. 11-279212 and 09-183960, and specifically include anthracene, 9,10-dibutoxyanthracene, and 9,10-dimethoxyanthracene. 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 2-tert-butyl-9,10-dimethoxyanthracene, 2,3-dimethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9-methoxy-10-methylanthracene, 9,10 -Diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, 2-tert-butyl-9,10-diethoxyanthracene, 2,3-dimethyl-9,10-diethoxyanthracene, 9-ethoxy-10 -Methylanthracene, 9,10-dipropoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dip Poxyanthracene, 2-tert-butyl-9,10-dipropoxyanthracene, 2,3-dimethyl-9,10-dipropoxyanthracene, 9-isopropoxy-10-methylanthracene, 9,10-dibenzyloxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dibenzyloxyanthracene, 2-tert-9,10-dibenzyloxyanthracene, 2,3-dimethyl-9,10-dibenzyloxyanthracene, 9-benzyloxy-10-methylanthracene 9,10-di-α-methylbenzyloxyanthracene, 2-ethyl-9,10-di-α-methylbenzyloxyanthracene, 2-tert-9,10-di-α-methylbenzyloxyanthracene, 2, 3-dimethyl-9,10-di-α-methylbenzyloxyanthracene, 9- α-methylbenzyloxy) -10-methylanthracene, 9,10-diphenylanthracene, 9-methoxyanthracene, 9-ethoxyanthracene, 9-methylanthracene, 9-bromoanthracene, 9-methylthioanthracene, 9-ethylthioanthracene, etc. Anthracenes; pyrene; 1,2-benzanthracene; perylene; tetracene; coronene; thioxanthone such as thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone Phenothiazine; xanthone; 1-naphthol, 2-naphthol, 1-methoxynaphthalene, 2-methoxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydride Roxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, 2,7-dimethoxynaphthalene, 1,1'-thiobis (2-naphthol), 1,1'-bi- (2-naphthol), 4 -Naphthalenes such as methoxy-1-naphthol; dimethoxyacetophenone, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 4'-isopropyl-2-hydroxy-2-methylpropiophenone 2-hydroxymethyl-2-methylpropiophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, p-dimethylaminoacetophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, p-tert-butyltrichloro Acetophenone, p-azidobenzalacetophenone, 1- Droxycyclohexyl phenyl ketone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2- Methyl-1-propan-1-one, benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, Michler's ketone, 4,4′-bisdiethylaminobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, etc. Ketones; carbazoles such as N-phenylcarbazole, N-ethylcarbazole, poly-N-vinylcarbazole, N-glycidylcarbazole; 1,4-dimethoxychrysene, 1,4-di Chrysene such as ethoxychrysene, 1,4-dipropoxychrysene, 1,4-dibenzyloxychrysene, 1,4-di-α-methylbenzyloxychrysene; 9-hydroxyphenanthrene, 9-methoxyphenanthrene, 9-ethoxy Phenanthrene, 9-benzyloxyphenanthrene, 9,10-dimethoxyphenanthrene, 9,10-diethoxyphenanthrene, 9,10-dipropoxyphenanthrene, 9,10-dibenzyloxyphenanthrene, 9,10-di-α-methylbenzyl Examples include phenanthrenes such as oxyphenanthrene, 9-hydroxy-10-methoxyphenanthrene, and 9-hydroxy-10-ethoxyphenanthrene.
これらの増感剤を使用する場合の使用割合は、本発明の組成物100部に対して、通常0.05〜20部、好ましくは0.01〜10部である。また、これらの増感剤は単独で使用してもよく、または2種以上を併用してもよい。 The use ratio in the case of using these sensitizers is 0.05-20 parts normally with respect to 100 parts of the compositions of this invention, Preferably it is 0.01-10 parts. Moreover, these sensitizers may be used independently or may use 2 or more types together.
顔料としては従来公知のもの、例えば、酸化チタン、酸化鉄、カーボンブラックなどの無機系のものおよびアゾ顔料、シアニン顔料、フタロシアニン顔料、キナクリドン顔料などの有機系のものが挙げられる。
これらの顔料の使用割合は、本発明の組成物100部に対して通常0.1〜50部、好ましくは1〜30部である。また、これらの顔料は単独で使用してもよく、または2種以上を併用してもよい。
Examples of the pigment include conventionally known pigments, for example, inorganic pigments such as titanium oxide, iron oxide, and carbon black, and organic pigments such as azo pigments, cyanine pigments, phthalocyanine pigments, and quinacridone pigments.
The use ratio of these pigments is usually 0.1 to 50 parts, preferably 1 to 30 parts, relative to 100 parts of the composition of the present invention. These pigments may be used alone or in combination of two or more.
充填剤としては従来公知のもの、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸マグネシウム、マイカ、タルク、ケイ酸カルシウム、ケイ酸リチウムアルミニウムなどが挙げられる。
これらの充填剤を使用する場合の使用割合は、本発明の組成物100部に対して通常5〜100部、好ましくは10〜80部である。また、これらの充填剤は単独で使用してもよく、または2種以上を併用してもよい。
Examples of the filler include conventionally known ones such as fused silica, crystalline silica, calcium carbonate, aluminum oxide, aluminum hydroxide, zirconium oxide, magnesium carbonate, mica, talc, calcium silicate, and lithium aluminum silicate.
The use ratio in the case of using these fillers is usually 5 to 100 parts, preferably 10 to 80 parts, relative to 100 parts of the composition of the present invention. Moreover, these fillers may be used independently or may use 2 or more types together.
帯電防止剤としては従来公知のもの、例えば、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキルアミン脂肪酸エステル、アルキルジエタノールアミドなど非イオンタイプのもの;アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルリン酸塩などアニオンタイプのもの;テトラアルキルアンモニウム塩、トリアルキルベンジルアンモニウム塩などカチオンタイプのもの;アルキルベタイン、アルキルイミダゾリウムベタインなどの両性タイプのもの;第四級アンモニウム基含有スチレン−(メタ)アクリレート共重合体、第四級アンモニウム基含有スチレン−アクリロニトリル−マレイミド共重合体およびポリエチレンオキサイド、ポリエーテルエステルアミド、ポリエーテルアミドイミド、エチレンオキサイド−エピクロロヒドリン共重合体、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート共重合体などのイオン性および非イオン性の高分子タイプのものなどが挙げられる。
これらの帯電防止剤を使用する場合の使用割合は、本発明の組成物100部に対して通常0.01〜10部、好ましくは0.05〜5部である。また、これらの帯電防止剤は単独で使用してもよく、または2種以上を併用してもよい。
Conventionally known antistatic agents such as glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether, N, N-bis (2-hydroxyethyl) alkylamine, polyoxyethylene alkylamine, poly Nonionic types such as oxyethylene alkylamine fatty acid esters and alkyldiethanolamides; Anionic types such as alkylsulfonates, alkylbenzenesulfonates and alkylphosphates; Cationic types such as tetraalkylammonium salts and trialkylbenzylammonium salts Amphoteric types such as alkylbetaines and alkylimidazolium betaines; Styrene- (meth) acrylate copolymers containing quaternary ammonium groups, quaternary ammonium Group-containing styrene-acrylonitrile-maleimide copolymers and ionic properties such as polyethylene oxide, polyether ester amide, polyether amide imide, ethylene oxide-epichlorohydrin copolymer, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate copolymer, and Nonionic polymer type and the like.
When these antistatic agents are used, the proportion used is usually 0.01 to 10 parts, preferably 0.05 to 5 parts, per 100 parts of the composition of the present invention. These antistatic agents may be used alone or in combination of two or more.
難燃剤としては従来公知のもの、例えば、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、酸化錫、水酸化錫、酸化モリブデン、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、赤燐、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、アルミン酸カルシウムなどの無機系のもの;テトラブロモ無水フタル酸、ヘキサブロモベンゼン、デカブロモビフェニルエーテルなどの臭素系のもの;トリス(トリブロモフェニル)ホスフェートなどのリン酸エステル系のものが挙げられる。
これらの難燃剤を使用する場合の使用割合は、本発明の組成物100部に対して通常0.1〜20部、好ましくは0.5〜10部である。また、これらの難燃剤は単独で使用してもよく、または2種以上を併用してもよい。
Conventionally known flame retardants such as antimony trioxide, antimony pentoxide, tin oxide, tin hydroxide, molybdenum oxide, zinc borate, barium metaborate, red phosphorus, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, aluminate Examples include inorganic substances such as calcium; bromines such as tetrabromophthalic anhydride, hexabromobenzene, and decabromobiphenyl ether; and phosphates such as tris (tribromophenyl) phosphate.
When using these flame retardants, the use ratio is usually 0.1 to 20 parts, preferably 0.5 to 10 parts, relative to 100 parts of the composition of the present invention. Moreover, these flame retardants may be used independently or may use 2 or more types together.
消泡剤としては従来公知のもの、例えば、イソプロパノール、n−ブタノール、オクタエチルアルコール、ヘキサデシルアルコールなどのアルコール類;ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウムなどの金属石鹸類;トリブチルホスフェートなどのリン酸エステル類;グリセリンモノラウレートなどの脂肪酸エステル類;ポリアルキレングリコールなどのポリエーテル類;ジメチルシリコーンオイル、シリカ・シリコーンコンパウンドなどのシリコーン類;シリカ粉末を分散させた鉱物油類が挙げられる。
これらの消泡剤を使用する場合の使用割合は、本発明の組成物100部に対して通常0.01〜10部、好ましくは0.05〜5部である。また、これらの消泡剤は単独で使用してもよく、または2種以上を併用してもよい。
Conventionally known antifoaming agents, for example, alcohols such as isopropanol, n-butanol, octaethyl alcohol and hexadecyl alcohol; metal soaps such as calcium stearate and aluminum stearate; phosphate esters such as tributyl phosphate Fatty acid esters such as glycerin monolaurate; polyethers such as polyalkylene glycol; silicones such as dimethyl silicone oil and silica / silicone compound; and mineral oils in which silica powder is dispersed.
The proportion of use of these antifoaming agents is usually 0.01 to 10 parts, preferably 0.05 to 5 parts, relative to 100 parts of the composition of the present invention. These antifoaming agents may be used alone or in combination of two or more.
流動調整剤としては従来公知のもの、例えば、水素添加ヒマシ油類、酸化ポリエチレン類、有機ベントナイト類、コロイド状シリカ、アマイドワックス類、金属石鹸類、アクリル酸エステルポリマーなどが挙げられる。
これらの流動調整剤を使用する場合の使用割合は、本発明の組成物100部に対して通常0.01〜10部、好ましくは0.05〜5部である。また、これらの流動調整剤は単独で使用してもよく、または2種以上を併用してもよい。
Examples of the flow control agent include conventionally known ones such as hydrogenated castor oils, polyethylene oxides, organic bentonites, colloidal silica, amide waxes, metal soaps, and acrylate polymers.
When these flow regulators are used, the amount used is generally 0.01 to 10 parts, preferably 0.05 to 5 parts, relative to 100 parts of the composition of the present invention. Moreover, these flow regulators may be used alone or in combination of two or more.
光安定剤としては従来公知のもの、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、サリチレート、シアノアクリレートおよびこれらの誘導体などの紫外線吸収タイプ;ヒンダードアミン類で代表されるラジカル補足タイプ;ニッケル錯体などの消光タイプなどが挙げられる。
これらの光安定剤を使用する場合の使用割合は、本発明の組成物100部に対して、通常0.005〜40部、好ましくは0.01〜20部である。また、これらの光安定剤は単独で使用してもよく、または2種以上を併用してもよい。
As the light stabilizer, conventionally known ones, for example, ultraviolet absorption type such as benzotriazole, benzophenone, salicylate, cyanoacrylate and derivatives thereof; radical scavenging type represented by hindered amines; quenching type such as nickel complex, etc. It is done.
The use ratio in the case of using these light stabilizers is usually 0.005 to 40 parts, preferably 0.01 to 20 parts, relative to 100 parts of the composition of the present invention. These light stabilizers may be used alone or in combination of two or more.
酸化防止剤としては従来公知のもの、例えば、ヒンダードフェノール性化合物としては、ペンタエリスリチルチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート](イルガノックス 1010)、チオジエチレン−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート(イルガノックス 1035FF)、ベンゼンプロパン酸−3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ、エチレンビス(オキシエチレン)ビス[3−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−m−トリル)プロピオネート](イルガノックス 245)、オクタデシル−3−(3,5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート(イルガノックス 1076)、3,3’,3”,5,5’,5”−ヘキサ−t−ブチル−a,a‘,a“−(メシチレン−2,4,6−トリイル)トリ−p−クレゾール(イルガノックス 1330)、1,3,5−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン(イルガノックス 3114)、4,6−ビス(オクチルチオメチル)−o−クレゾール(イルガノックス1520L)、9−ビス[2−{3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニロキシ}−1,1−ジメチルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン(スミライザー GA−80)、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール(スミライザー BHT)等が挙げられる(上記において、イルガノックスは、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)の登録商標、スミライザーは、住友化学工業(株)の登録商標である)。リン系化合物としては、例えば、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト(イルガフォス 168)、ビス[2,4−ビス(1,1−ジメチルエチル)−6−メチルフェニル]エチルエステル亜リン酸(イルガフォス 38)、6−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−プロポキシ]−2,4,8,10−テトラ−t−ブチルベンズ[d、f][1,3,2]−ジオキサホスフェピン(スミライザー GP)等が挙げられる(上記において、イルガフォスは、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)の登録商標、スミライザーは、住友化学工業(株)の登録商標である)。
これらの酸化防止剤を使用する場合の使用割合は、本発明の組成物100部に対して、通常0.1〜10部、好ましくは0.1〜5部である。また、これらの酸化防止剤は単独で使用してもよく、または2種以上を併用してもよい。
Conventionally known antioxidants, for example, hindered phenolic compounds, such as pentaerythrityltyl-tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] (Irganox) 1010), thiodiethylene-bis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate (Irganox 1035FF), benzenepropanoic acid-3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy, ethylenebis (oxyethylene) bis [3- (5-tert-butyl-4-hydroxy-m-tolyl) propionate] (Irganox 245), octadecyl-3- (3,5-t-butyl -4-hydroxyphenyl) propionate (Irganox 1076), 3,3 ', 3 , 5,5 ', 5 "-hexa-t-butyl-a, a', a"-(mesitylene-2,4,6-triyl) tri-p-cresol (Irganox 1330), 1,3,5 -Tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione (Irganox 3114), 4,6 -Bis (octylthiomethyl) -o-cresol (Irganox 1520L), 9-bis [2- {3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} -1,1 -Dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane (Sumilyzer GA-80), 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol (Sumilyzer BHT) and the like. Et (In the above, Irganox is a registered trademark of Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., and Sumilyzer is a registered trademark of Sumitomo Chemical Co., Ltd.) Examples of phosphorus compounds include Tris (2, 4 -Di-t-butylphenyl) phosphite (Irgaphos 168), bis [2,4-bis (1,1-dimethylethyl) -6-methylphenyl] ethyl ester phosphorous acid (Irgaphos 38), 6- [3 -(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) -propoxy] -2,4,8,10-tetra-tert-butylbenz [d, f] [1,3,2] -dioxaphos Fepin (Sumilyzer GP), etc. (in the above, Irgafos is a registered trademark of Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., and Sumilyzer is Sumitomo) It is a registered trademark of Manabu Industry Co., Ltd.).
The use ratio in the case of using these antioxidants is usually 0.1 to 10 parts, preferably 0.1 to 5 parts, relative to 100 parts of the composition of the present invention. These antioxidants may be used alone or in combination of two or more.
非反応性の樹脂としては、ポリエステル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリブタジエン、ポリカーボナート、ポリスチレン、ポリビニルエーテル、ポリビニルブチラール、ポリブテン、スチレンブタジエンブロックコポリマー水添物、(メタ)アクリル酸エステルの共重合体、ポリウレタンなどが挙げられる。これらの樹脂の数平均分子量は1000〜500000であり、好ましくは5000〜100000である(数平均分子量はGPC等の一般的な方法によって測定されたものである)。
これらを使用する場合の使用割合は、本発明の組成物100部に対して通常1〜100部、好ましくは5〜50部である。また、これらの非反応性の樹脂は単独で使用してもよく、または2種以上を併用してもよい。
Non-reactive resins include polyester, polyvinyl acetate, polyvinyl chloride, polybutadiene, polycarbonate, polystyrene, polyvinyl ether, polyvinyl butyral, polybutene, hydrogenated styrene butadiene block copolymer, and (meth) acrylic ester co-polymer. Examples include coalescence and polyurethane. These resins have a number average molecular weight of 1,000 to 500,000, preferably 5,000 to 100,000 (the number average molecular weight is measured by a general method such as GPC).
The use ratio in the case of using these is 1-100 parts normally with respect to 100 parts of the composition of this invention, Preferably it is 5-50 parts. These non-reactive resins may be used alone or in combination of two or more.
本発明の組成物の調製は、通常の方法で混合、攪拌するだけでよく、必要に応じディゾルバー、ホモジナイザー、3本ロールミルなどの分散機を用い分散、混合させても良い。必要により加熱してもよい。 The composition of the present invention may be prepared only by mixing and stirring by a usual method. If necessary, it may be dispersed and mixed using a disperser such as a dissolver, a homogenizer, or a three roll mill. You may heat as needed.
以上のようにして得られる本発明の組成物は、光学的立体造形法における活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として好適に使用される。すなわち、本発明の組成物に対して、低圧、中圧、高圧または超高圧の水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ、蛍光灯、半導体固体レーザ、アルゴンレーザ、He−Cdレーザ、KrFエキシマレーザ、ArFエキシマレーザ、F2レーザなどから得られる紫外〜可視光領域(約100〜約800nm)の活性エネルギー線を選択的に照射して硬化に必要なエネルギーを供給する光学的立体造形法により、所望の形状の立体形状物を製造することができる。 The composition of the present invention obtained as described above is suitably used as an active energy ray-curable resin composition in an optical three-dimensional modeling method. That is, low pressure, medium pressure, high pressure or ultrahigh pressure mercury lamp, metal halide lamp, xenon lamp, carbon arc lamp, fluorescent lamp, semiconductor solid state laser, argon laser, He-Cd laser, KrF excimer for the composition of the present invention. By an optical three-dimensional modeling method that selectively irradiates active energy rays in the ultraviolet to visible light region (about 100 to about 800 nm) obtained from a laser, ArF excimer laser, F 2 laser, etc., and supplies energy necessary for curing A three-dimensional object having a desired shape can be manufactured.
本発明の光造形物は、前記本発明の組成物に活性エネルギー線を照射することにより得られることを特徴とする。 The optically shaped article of the present invention is obtained by irradiating the composition of the present invention with an active energy ray.
本発明の組成物に活性エネルギー線を選択的に照射する手段としては、特に制限されるものではなく、種々の手段を採用することができる。例えば、レーザー光、あるいはレンズ、ミラー等を用いて得られた収束光等を走査させながら組成物に照射する手段、所定のパターンの光透過部を有するマスクを用い、このマスクを介して非収束光を組成物に照射する手段、多数の光ファイバーを束ねてなる導光部材を用い、この導光部材における所定のパターンに対応する光ファイバーを介して光を組成物に照射する手段等を採用することができる。また、マスクを用いる手段においては、マスクとして、液晶表示装置と同様の原理により、所定のパターンに従って、光透過領域と光不透過領域とからなるマスク像を電気光学的に形成するものを用いることもできる。以上において、目的とする立体形状物が微細な部分を有するもの又は高い寸法精度が要求されるものである場合には、組成物に選択的に活性エネルギー線を照射する手段として、スポット径の小さいレーザー光を走査する手段を採用することが好ましい。なお、容器内に収容されている樹脂組成物における活性エネルギー線の照射面(例えば収束光の走査平面)は、当該樹脂組成物の液面、透光性容器の器壁との接触面の何れであってもよい。樹脂組成物の液面又は器壁との接触面を活性エネルギー線の照射面とする場合には、容器の外部から直接又は器壁を介して活性エネルギー線を照射することができる。 The means for selectively irradiating the composition of the present invention with active energy rays is not particularly limited, and various means can be adopted. For example, a laser beam or means for irradiating the composition while scanning convergent light obtained using a lens, mirror, etc., and a mask having a light transmission part of a predetermined pattern are used, and non-convergence is performed through this mask. Use a means for irradiating the composition with light, a light guide member formed by bundling a large number of optical fibers, and a means for irradiating the composition with light via an optical fiber corresponding to a predetermined pattern in the light guide member. Can do. In the means using a mask, a mask that electro-optically forms a mask image composed of a light transmission region and a light non-transmission region according to a predetermined pattern according to a principle similar to that of a liquid crystal display device is used. You can also. In the above, when the target three-dimensional object has a fine part or is required to have high dimensional accuracy, the spot diameter is small as a means for selectively irradiating the composition with active energy rays. It is preferable to employ means for scanning with laser light. In addition, the irradiation surface (for example, the scanning plane of convergent light) of the active energy ray in the resin composition accommodated in the container is either the liquid surface of the resin composition or the contact surface with the vessel wall of the translucent container. It may be. When the liquid surface of the resin composition or the contact surface with the vessel wall is used as the active energy ray irradiation surface, the active energy ray can be irradiated directly from the outside of the container or through the vessel wall.
前記の光学的立体造形法においては、通常、樹脂組成物の特定部分を硬化させた後、活性エネルギー線の照射位置(照射面)を、既硬化部分から未硬化部分に連続的に又は段階的に移動させることにより、硬化部分を積層させて所望の立体形状とする。ここで、照射位置の移動は種々の方法によって行うことができ、例えば光源、樹脂組成物の収容容器、樹脂組成物の既硬化部分の何れかを移動させたり当該容器に樹脂組成物を追加供給する等の方法を挙げることができる。前記の光学的立体造形法の代表的な一例を説明すると、収容容器内において昇降自在に設けられた支持ステージを樹脂組成物の液面から微小量降下(沈降)させることにより、当該支持ステージ上に樹脂組成物を供給してその薄層(ア)を形成する。次いで、この薄層(ア)に対して選択的に活性エネルギー線を照射することにより、固体状の硬化樹脂層(ア)を形成する。次いで、この硬化樹脂層(ア)上に活性エネルギー線硬化性液状樹脂組成物を供給してその薄層(イ)を形成し、この薄層(イ)に対して選択的に活性エネルギー線照射することにより、前記硬化樹脂層(ア)上にこれと連続して一体的に積層するよう新しい硬化樹脂層(イ)を形成する。そして、活性エネルギー線照射されるパターンを変化させながら或いは変化させずに、この工程を所定回数繰り返すことにより、複数の硬化樹脂層(n)が一体的に積層されてなる立体形状物が造形される。 In the above-mentioned optical three-dimensional modeling method, usually, after curing a specific part of the resin composition, the irradiation position (irradiation surface) of the active energy ray is continuously or stepwise from the uncured part to the uncured part. The cured portion is laminated to obtain a desired three-dimensional shape. Here, the irradiation position can be moved by various methods. For example, the light source, the container for containing the resin composition, or the cured part of the resin composition can be moved, or the resin composition can be additionally supplied to the container. The method of doing etc. can be mentioned. To explain a typical example of the optical three-dimensional modeling method, a support stage provided so as to be movable up and down in the storage container is lowered (sedimented) by a minute amount from the liquid surface of the resin composition. The resin composition is supplied to a thin layer (a). Next, an active energy ray is selectively irradiated to the thin layer (a) to form a solid cured resin layer (a). Next, an active energy ray-curable liquid resin composition is supplied onto the cured resin layer (a) to form the thin layer (a), and active energy ray irradiation is selectively performed on the thin layer (a). By doing so, a new cured resin layer (A) is formed on the cured resin layer (A) so as to be laminated continuously and integrally therewith. Then, by repeating this step a predetermined number of times while changing or not changing the pattern irradiated with the active energy ray, a three-dimensional object formed by integrally laminating a plurality of cured resin layers (n) is formed. The
このようにして得られる立体形状物を収容容器から取り出し、その表面に残存する未反応の樹脂組成物を除去した後、必要に応じて洗浄する。ここで、洗浄剤としては、イソプロピルアルコール、エチルアルコール等のアルコール類に代表されるアルコール系有機溶剤;アセトン、酢酸エチル、メチルエチルケトン等に代表されるケトン系有機溶剤;テルペン類に代表される脂肪族系有機溶剤;低粘度の熱硬化性樹脂及び放射線硬化性樹脂を挙げることができる。なお、洗浄剤で洗浄した後には必要に応じて、熱照射又は活性エネルギー線照射によるポストキュアーを行っても良い。ポストキュアーは、立体形状物の表面及び内部に残存することのある未反応の樹脂組成物を硬化させることができ、造形物の表面のべたつきを抑えることができる他、造形物の初期強度を向上させることができる。 The three-dimensionally shaped product thus obtained is taken out from the container, and after removing the unreacted resin composition remaining on the surface, the solid shaped product is washed as necessary. Here, as the cleaning agent, alcohol-based organic solvents typified by alcohols such as isopropyl alcohol and ethyl alcohol; ketone-based organic solvents typified by acetone, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, etc .; aliphatics typified by terpenes Organic solvents; low viscosity thermosetting resins and radiation curable resins. In addition, after washing | cleaning with a cleaning agent, you may post-cure by heat irradiation or active energy ray irradiation as needed. Post-cure can cure unreacted resin composition that may remain on the surface and inside of the three-dimensional object, and can suppress the stickiness of the surface of the object, and improve the initial strength of the object. Can be made.
本発明の組成物を応用分野は特に制限されないが、代表的な応用分野としては、設計の途中で外観デザインを検証するためのモデル、部品の機能性をチェックするためのモデル、鋳型を製作するための樹脂型、金型を製作するためのベースモデル、試作金型用の直接型などを挙げることができる。特に、光造形用樹脂組成物は、精密な部品のモデルの作製に威力を発揮することができる。より具体的には、例えば、精密部品、電気・電子部品、家具、建築構造物、自動車用部品、各種容器類、鋳物などのデザインモデルやワーキングモデル用途、母型、加工用途、手術のシュミレーションや歯列の矯正など医療用途、マイクロ技術、ナノ技術、機能部品などの実部品などに有効に用いることができる。 The application field of the composition of the present invention is not particularly limited, but as a typical application field, a model for verifying the appearance design in the middle of the design, a model for checking the functionality of the part, and a mold are manufactured. Resin molds, base models for producing molds, direct molds for prototype molds, and the like. In particular, the resin composition for stereolithography can exhibit power in producing a model of a precise part. More specifically, for example, design models and working model applications such as precision parts, electrical / electronic parts, furniture, building structures, automobile parts, various containers, castings, mother molds, processing applications, surgical simulations, etc. It can be effectively used for medical applications such as orthodontics, microparts, nanotechnology, functional parts such as functional parts.
以下、実施例を参照して本発明を更に具体的に説明するが、本発明がこれら実施例に限定されることは意図しない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not intended to be limited to these examples.
(製造例1)トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロリン酸カリウムの製造
米国特許6264818号に従いトリエチルホスフィンの電解フッ素化によりトリス(ペンタフルオロエチル)ジフルオロホスホラン(ガスクロマトグラフィー純度97%、収率72%)を合成した。
ついで1Lの反応容器に、フッ化カリウム18.0gとジメトキシエタン600mlを加え攪拌懸濁させ、液温を20〜30℃に保ちながら、得られたトリス(ペンタフルオロエチル)ジフルオロホスホラン119.0gを滴下した。室温で24時間攪拌した後、反応液をろ過し、ろ液からジメトキシエタンを減圧下で留去して、白色粉体136.0gを得た。19Fおよび31P−NMRにより、このものはトリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロリン酸カリウムであることを確認した。
(Production Example 1) Production of potassium tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate Tris (pentafluoroethyl) difluorophosphorane (gas chromatographic purity 97%, yield 72%) by electrolytic fluorination of triethylphosphine according to US Pat. No. 6,264,818 ) Was synthesized.
Next, 18.0 g of potassium fluoride and 600 ml of dimethoxyethane were added to a 1 L reaction vessel and suspended by stirring. While maintaining the liquid temperature at 20 to 30 ° C., 119.0 g of the resulting tris (pentafluoroethyl) difluorophosphorane was obtained. Was dripped. After stirring at room temperature for 24 hours, the reaction solution was filtered, and dimethoxyethane was distilled off from the filtrate under reduced pressure to obtain 136.0 g of a white powder. It was confirmed by 19 F and 31 P-NMR that this was potassium tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate.
(製造例2)トリス(ヘプタフルオロプロピル)トリフルオロリン酸カリウムの製造
米国特許6264818号に従いトリス−n−プロピルホスフィンの電解フッ素化によりトリス(ヘプタフルオロプロピル)ジフルオロホスホラン(ガスクロマトグラフィー純度89%、収率52%)を合成した。
ついで1Lの反応容器にフッ化カリウム18.0gとジメトキシエタン600mlを加えて攪拌懸濁させ、液温を20〜30℃に保ちながら、得られたトリス(ヘプタフルオロプロピル)ジフルオロホスホラン161.0gを滴下した。24時間攪拌した後、反応液をろ過し、ろ液からジメトキシエタンを減圧下で留去して、白色粉体177.0gを得た。19Fおよび31P−NMRにより、このものはトリス(ヘプタフルオロプロピル)トリフルオロリン酸カリウムであることを確認した。
(Production Example 2) Production of potassium tris (heptafluoropropyl) trifluorophosphate According to US Pat. No. 6,264,818, tris (heptafluoropropyl) difluorophosphorane (gas chromatographic purity 89%, by electrolytic fluorination of tris-n-propylphosphine Yield 52%) was synthesized.
Next, 18.0 g of potassium fluoride and 600 ml of dimethoxyethane were added to a 1 L reaction vessel and suspended by stirring. While maintaining the liquid temperature at 20 to 30 ° C., 161.0 g of the resulting tris (heptafluoropropyl) difluorophosphorane was obtained. Was dripped. After stirring for 24 hours, the reaction solution was filtered, and dimethoxyethane was distilled off from the filtrate under reduced pressure to obtain 177.0 g of a white powder. It was confirmed by 19 F and 31 P-NMR that this was potassium tris (heptafluoropropyl) trifluorophosphate.
(製造例3)4−(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウムトリス(ペンタフルオロエチル) トリフルオロホスフェートの製造
反応容器に、ジフェニルスルホキシド24.24g、ジフェニルスルフィド18.6g、メタンスルホン酸86.0gを仕込み、均一に混合した後、無水酢酸15.8gを滴下した。40〜50℃で5時間反応後、室温まで冷却した。この反応溶液を製造例1で製造したトリス(ペンタフルオロエチル) トリフルオロリン酸カリウムの20質量%水溶液249gの入った容器に滴下し、室温で1時間よく攪拌した。析出した黄色のやや粘調な油状物を酢酸エチル240gにて抽出し、水層を分離し、さらに有機層を水200gで3回洗浄した。有機層から溶剤を留去し、得られた黄色の残渣にトルエン80gを加えて溶解した。未反応原料および副生成物等の不純物を除去するため、このトルエン溶液にヘキサン600gを加え、10℃で1時間よく攪拌後静置した。溶液は2層に分離するため、上層を分液によって除いた。残った下層にヘキサン300gを加え室温でよく混合すると淡黄色の結晶が析出した。これをろ別し、減圧乾燥して、4−(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウムトリス(ペンタフルオロエチル) トリフルオロホスフェート49.0gを得た。化合物の同定は1H、13C、19Fおよび31P−NMRにより行った。
得られた4−(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウムトリス(ペンタフルオロエチル) トリフルオロホスフェート49.0gをプロピレンカーボネート49.0gに溶解し、50質量%プロピレンカーボネート溶液を調製した。
Production Example 3 Production of 4- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate A reaction vessel was charged with 24.24 g of diphenyl sulfoxide, 18.6 g of diphenyl sulfide, and 86.0 g of methanesulfonic acid. Then, 15.8 g of acetic anhydride was added dropwise. After reacting at 40-50 ° C. for 5 hours, it was cooled to room temperature. This reaction solution was dropped into a container containing 249 g of a 20% by mass aqueous solution of tris (pentafluoroethyl) potassium trifluorophosphate produced in Production Example 1, and stirred well at room temperature for 1 hour. The precipitated yellow slightly viscous oily substance was extracted with 240 g of ethyl acetate, the aqueous layer was separated, and the organic layer was washed with 200 g of water three times. The solvent was distilled off from the organic layer, and 80 g of toluene was added to the resulting yellow residue to dissolve it. In order to remove impurities such as unreacted raw materials and by-products, 600 g of hexane was added to this toluene solution, and the mixture was allowed to stand after stirring well at 10 ° C. for 1 hour. Since the solution was separated into two layers, the upper layer was removed by liquid separation. When 300 g of hexane was added to the remaining lower layer and mixed well at room temperature, pale yellow crystals were precipitated. This was filtered off and dried under reduced pressure to obtain 49.0 g of 4- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate. The compound was identified by 1 H, 13 C, 19 F and 31 P-NMR.
The obtained 4- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate (49.0 g) was dissolved in propylene carbonate (49.0 g) to prepare a 50 mass% propylene carbonate solution.
(製造例4)4−(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウムトリス(ヘプタフルオロプロピル)トリフルオロホスフェートの製造
トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロリン酸カリウムの20質量%水溶液をトリス(ヘプタフルオロプロピル)トリフルオロリン酸カリウムの20質量%水溶液326gとした以外は製造例3と同様にして、4−(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウムトリス(ヘプタフルオロプロピル)トリフルオロホスフェート53.8gを得た。化合物の同定は1H、13C、19Fおよび31P−NMRにより行った。
得られた4−(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウムトリス(ヘプタフルオロプロピル) トリフルオロホスフェート53.8gをプロピレンカーボネート53.8gに溶解し、50質量%プロピレンカーボネート溶液を調製した。
(Production Example 4) Production of 4- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium tris (heptafluoropropyl) trifluorophosphate A 20% by mass aqueous solution of potassium tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate was added to potassium tris (heptafluoropropyl) trifluorophosphate. 4- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium tris (heptafluoropropyl) trifluorophosphate (53.8 g) was obtained in the same manner as in Production Example 3, except that 326 g of a 20% by mass aqueous solution was used. The compound was identified by 1 H, 13 C, 19 F and 31 P-NMR.
The obtained 4- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium tris (heptafluoropropyl) trifluorophosphate (53.8 g) was dissolved in propylene carbonate (53.8 g) to prepare a 50% by mass propylene carbonate solution.
(光学的立体造形用樹脂組成物の調整と評価結果)
表1に示す割合で各成分を混合して、均一な活性エネルギー線硬化性光学的立体造形用樹脂を調製し、下記の方法で組成物の貯蔵安定性を評価した。その結果を表2に示す。
(Adjustment and evaluation results of resin composition for optical three-dimensional modeling)
Each component was mixed in the ratio shown in Table 1 to prepare a uniform active energy ray-curable resin for optical three-dimensional modeling, and the storage stability of the composition was evaluated by the following method. The results are shown in Table 2.
※RE−1:3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(商品名:UVR−6110、ダウケミカル社製)
RE−2:プロピレンオキサイド変性ビスフェノールA型ジグリシジルエーテル(商品名:リカレジンBPO−20E、新日本理化社製)
RE−3:3−メチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン
C−1:4−(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウムトリス(ペンタフルオロエチル) トリフルオロホスフェートの50%プロピレンカーボネート溶液(製造例2にて調整した化合物)
C−2:4−(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウムトリス(ヘプタフルオロプロピル)トリフルオロホスフェートの50%プロピレンカーボネート溶液(製造例4にて調整した化合物)
C−3:4−(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートの50%プロピレンカーボネート溶液(商品名:CPI−101A、サンアプロ社製)
RR−1:2,2−ビス[4−(アクリロキシジエトキシ)フェニル]プロパン(商品名:NKエステルA−BPE−4、新中村化学工業社製)
RR−2:プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート(商品名:NKエステルA−TMPT−3PO、新中村化学工業社製)
RR−3:ジシクロペンタジエニルジアクリレート(商品名:A−DCP新中村化学工業社製)
L−1:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(商品名:イルガキュア−184、チバ・スペシャルティ・ケミカル製)
RR−4:プロピレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート(商品名:NKエステルATM−4P、新中村化学工業社製)
OH−1:ポリテトラメチレングリコール(数平均分子量2000)
* RE-1: 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (trade name: UVR-6110, manufactured by Dow Chemical Company)
RE-2: Propylene oxide-modified bisphenol A type diglycidyl ether (trade name: Rica Resin BPO-20E, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.)
RE-3: 3-methyl-3-hydroxymethyloxetane C-1: 4- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium tris (pentafluoroethyl) 50% propylene carbonate solution of trifluorophosphate (compound prepared in Production Example 2)
C-2: 50% propylene carbonate solution of 4- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium tris (heptafluoropropyl) trifluorophosphate (compound prepared in Production Example 4)
C-3: 50% propylene carbonate solution of 4- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium hexafluoroantimonate (trade name: CPI-101A, manufactured by San Apro)
RR-1: 2,2-bis [4- (acryloxydiethoxy) phenyl] propane (trade name: NK ester A-BPE-4, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
RR-2: Propylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate (trade name: NK ester A-TMPT-3PO, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
RR-3: Dicyclopentadienyl diacrylate (trade name: A-DCP Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
L-1: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (trade name: Irgacure-184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
RR-4: propylene oxide modified pentaerythritol tetraacrylate (trade name: NK ester ATM-4P, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
OH-1: Polytetramethylene glycol (number average molecular weight 2000)
<貯蔵安定性試験方法>
実施例1〜3および比較例1〜2で得た光学的立体造形用組成物の調整直後と80℃で2ヶ月保存後の粘度を25℃で測定し、増粘の程度で貯蔵安定性を下記評価基準で判定した。
○:初期粘度からの粘度変化が2倍未満
×:初期粘度からの粘度変化が2倍以上
粘度上昇の割合が小さいほど、組成物の貯蔵安定性がよい。
<Storage stability test method>
Immediately after adjusting the compositions for optical three-dimensional modeling obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 2, the viscosity after storage for 2 months at 80 ° C. was measured at 25 ° C., and the storage stability was increased by the degree of thickening. Judgment was made according to the following evaluation criteria.
○: Less than twice the change in viscosity from the initial viscosity ×: The storage stability of the composition is better as the rate of increase in viscosity from the initial viscosity is twice or more.
試験結果を表2に示す。 The test results are shown in Table 2.
これらの結果から、本発明の活性エネルギー線硬化性光学的立体造形用樹脂組成物は取り扱いや保管上あるいは環境に対して悪影響を及ぼす恐れのある毒性元素を含まず、貯蔵安定性に優れることがわかる。 From these results, the active energy ray-curable resin composition for optical three-dimensional modeling of the present invention does not contain toxic elements that may adversely affect handling, storage, or the environment, and may have excellent storage stability. Recognize.
光造形物の試験片の作成とその力学特性の評価は、次のとおりにして行った。
<機械特性評価試験>
1.光造形物と試験片の作製方法
実施例1〜3および比較例1〜2で得た光学的立体造形用組成物を用いて、ソリッドクリエーターSCS−300P(ソニーマニュファクチュアリングシステムズ(株)製)を使用し、照射面(液面)におけるレーザーパワー100mWで、光学的立体造形用組成物に対して選択的にレーザー光を照射して硬化樹脂層(厚さ0.10mm)を形成する工程を繰り返すことにより、JISK7113に準じたダンベル状の評価用試料を造形した。次いで、評価用試料をソリッドクリエーターから取出し、表面に付着している光学的立体造形用組成物を洗浄除去し、室温で3日間放置したものを試験片とした。
2.特性評価試験方法
この試験片を用い引っ張り特性試験として引張強度、引張伸度および引張弾性率、曲げ特性試験として曲げ強度および曲げ弾性率をJISK7113に準じて測定行った。結果を表3に示す。
3.光硬化物の外観評価方法
1.に示した方法によって得られた試験片の外観を目視にて観察した。結果を表3に示す。
Preparation of a test piece of an optically shaped object and evaluation of its mechanical properties were performed as follows.
<Mechanical property evaluation test>
1. Method for Producing Stereolithography and Test Specimen Using the compositions for optical three-dimensional modeling obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2, Solid Creator SCS-300P (manufactured by Sony Manufacturing Systems Co., Ltd.) Use and repeat the process of forming a cured resin layer (thickness of 0.10 mm) by selectively irradiating the optical three-dimensional structure composition with laser light at a laser power of 100 mW on the irradiated surface (liquid surface). Thus, a dumbbell-shaped evaluation sample according to JISK7113 was formed. Subsequently, the sample for evaluation was taken out from the solid creator, the optical three-dimensional modeling composition adhering to the surface was washed and removed, and the test piece was left for 3 days at room temperature.
2. Characteristic Evaluation Test Method Tensile strength, tensile elongation and tensile elastic modulus were measured as a tensile property test using this test piece, and bending strength and flexural modulus were measured according to JISK7113 as a bending property test. The results are shown in Table 3.
3. Appearance evaluation method of photocured product
1. The appearance of the test piece obtained by the method shown in 1 was observed visually. The results are shown in Table 3.
これらの結果から、本発明の活性エネルギー線硬化性光学的立体造形用樹脂組成物は、活性エネルギー線照射して造形した際にはすみやかに硬化して、力学的特性、外観、色調において比較例の組成物と遜色ない立体造形物が得られることが分かる。 From these results, the active energy ray-curable resin composition for optical three-dimensional modeling of the present invention is quickly cured when shaped by irradiation with active energy rays, and is a comparative example in mechanical properties, appearance, and color tone. It can be seen that a three-dimensionally shaped product that is inferior to that of the composition is obtained.
本発明は、ヒ素やアンチモンなどの毒性金属を含まず、貯蔵安定性が良好であり、かつ造形精度のよい活性エネルギー線硬化性光学的立体造形用樹脂組成物の製造に有用である。また、機械特性に優れ、透明性の高い光造形物を得る上でも有用である。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is useful for the production of an active energy ray-curable resin composition for optical three-dimensional modeling that does not contain toxic metals such as arsenic and antimony, has good storage stability, and good modeling accuracy. In addition, it is also useful for obtaining an optically shaped article having excellent mechanical properties and high transparency.
Claims (10)
[式(3)中、AはVIA族〜VIIA族の原子価mの元素。m=1〜2。n=0〜3。RはAに結合している有機基。Dは下記一般式(4)、
[式(4)中、Eは2価の基を表し、Gは-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-NH-、-NR’-、-CO-、-COO-、-CONH、炭素数1〜3のアルキレンまたはフェニレン基。a=0〜5。]で表される構造であり、
X-は下記一般式(5)
[Rfは水素原子の80%以上がフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。b=1〜5。]を表す。] In the active energy ray-curable optical three-dimensional modeling resin composition comprising the cationic polymerization initiator (1) and the cationic polymerizable compound (2) as essential components, (1) is represented by the following general formula (3). An active energy ray-curable resin composition for optical three-dimensional modeling, which is an onium fluorinated alkyl fluorophosphate.
[In the formula (3), A is an element having a valence m of VIA group to VIIA group. m = 1-2. n = 0-3. R is an organic group bonded to A. D is the following general formula (4),
[In the formula (4), E represents a divalent group, G represents —O—, —S—, —SO—, —SO 2 —, —NH—, —NR′—, —CO—, —COO] -, -CONH, an alkylene or phenylene group having 1 to 3 carbon atoms. a = 0-5. Is a structure represented by
X − represents the following general formula (5)
[Rf represents an alkyl group in which 80% or more of hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms. b = 1-5. ]. ]
The compound of (1), wherein D is at least one group selected from the group represented by the following, The active energy ray-curable resin composition for optical three-dimensional modeling according to any one of claims 1 to 4.
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