JP2019031040A - 転写用導電性フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】導電層を備え、屈曲耐性に優れる光学積層体の製造を可能とする転写用導電性フィルムを提供すること。【解決手段】本発明の転写用導電性フィルムは、仮支持体と、該仮支持体から剥離可能に設けられた液晶層と、導電層とをこの順に含む。１つの実施形態においては、上記導電層が、上記液晶層に、直接積層されている。１つの実施形態においては、上記液晶層の屈折率特性が、ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙの関係を示す。【選択図】図１

Description

本発明は、転写用導電性フィルムに関する。

従来、モバイル機器等に採用されるタッチセンサーの電極、電磁波シールド等として、透明樹脂フィルム（例えば、ＰＥＴフィルム、シクロオレフィンフィルム）等の基材に、インジウム・スズ複合酸化物層（ＩＴＯ層）等の金属酸化物層（導電層）が形成された透明導電性フィルムが多用されている。

一方、近年、ウエアラブルデバイス、フォルダブルデバイス等の登場に伴い、よりフレシキブルで、屈曲耐性の高い透明導電性フィルム、より具体的には屈曲しても導電層が損傷しがたい透明導電性フィルムが求められている。屈曲耐性向上の手段としては、基材を薄膜化して導電層にかかる応力を低減させるという手段が考えられる。しかしながら、ハンドリング等の観点から、基材を構成する透明樹脂フィルムの薄膜には限界があり、透明樹脂フィルムの限界厚みが、屈曲耐性向上の障壁となっている。また、屈曲耐性向上の別の手段として、クラックの生じやすい金属酸化物層に代えて、導電高分子、金属ナノワイヤ等から構成される導電層を備える透明導電性フィルムも検討されているが、導電性、透明性に課題を有し、本格的な導入には至っていない。

特許第４８９３８６７号

本発明は上記の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、導電層を備え、屈曲耐性に優れる光学積層体の製造を可能とする転写用導電性フィルムを提供することにある。

本発明の転写用導電性フィルムは、仮支持体と、該仮支持体から剥離可能に設けられた液晶層と、導電層とをこの順に含む。
１つの実施形態においては、上記導電層が、上記液晶層に、直接積層されている。
１つの実施形態においては、上記液晶層の屈折率特性が、ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙの関係を示す。
１つの実施形態においては、上記液晶層の厚みが、０．１μｍ〜１０μｍである。
１つの実施形態においては、上記導電層が、金属酸化物から構成される。
１つの実施形態においては、上記導電層が、パターン化されている。
本発明の別の局面によれば、光学積層体が提供される。この光学積層体は、光学部材と、粘着剤層と、上記導電層と、上記液晶層とをこの順に備え、該導電層が、該液晶層に直接積層されている。
１つの実施形態においては、上記光学部材が、偏光板である。
１つの実施形態においては、上記光学部材が、円偏光板であり、該円偏光板が、偏光子と、λ／４板として機能する位相差層とを含み、該偏光子が、該位相差層の前記導電層とは反対側に配置される。
１つの実施形態においては、上記光学積層体は、上記液晶層の導電層と反対側に、別の光学部材をさらに備える。
１つの実施形態においては、上記別の光学部材が、円偏光板であり、該円偏光板が、偏光子と、λ／４板として機能する位相差層とを含み、該偏光子が、該位相差層の前記液晶層とは反対側に配置される。
本発明の別の局面によれば、タッチデバイスが提供される。このタッチデバイスは、上記光学積層体を備える。
本発明の別の局面によれば、光学積層体の製造方法が提供される。この製造方法は、上記転写用導電性フィルムから、光学部材に上記液晶層と上記導電層とを含む積層体を転写することを含む。

本発明の転写用導電性フィルムは、仮支持体と、液晶層と、導電層とをこの順に有する。このような構成の転写用導電性フィルムを用いれば、液晶層と導電層とからなる積層体を他の光学部材に転写して、光学積層体を形成することができる。得られた光学積層体は、剛直な基材（導電層を形成する際に必要な基材）を備えていないため、屈曲耐性に優れる。また、本発明の転写用導電性フィルムは、導電層が金属酸化物から構成されているため、導電性および光透過性に優れる。

本発明の１つの実施形態による転写用導電性フィルムの概略断面図である。 本発明の１つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。 本発明の別の実施形態による光学積層体の概略断面図である。 本発明の別の実施形態による光学積層体の概略断面図である。 実施例１、比較例１および比較例２の屈曲耐性試験の結果を示すグラフ図である。

（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（５５０）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。なお、「Ｒｅ（４５０）」は、２３℃における波長４５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（５５０）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。なお、「Ｒｔｈ（４５０）」は、２３℃における波長４５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。

Ａ．転写用導電性フィルムの全体構成
図１は、本発明の１つの実施形態による転写用導電性フィルムの概略断面図である。この転写用導電性フィルム１０は、仮支持体１１と、仮支持体１１から剥離可能に設けられた液晶層１２と、導電層１３とをこの順に備える。導電層１３は、液晶層１２に直接（すなわち、粘着剤層等を介することなく）、積層されていることが好ましい。

転写用導電性フィルム１０は、光学積層体に導電層を付与する際に用いられ得る。より詳細には、導電層１３側の面を他の光学部材（例えば、画像素子（例えば、液晶パネル、有機ＥＬパネル）、光学フィルム（例えば、位相差フィルム）、偏光板等）に貼着した後、仮支持体１１を剥離するようにして、液晶層１２と導電層１３とから構成される積層体Ａを転写することにより、光学積層体に導電層を付与することができる。従来、導電層は基材上に形成された状態で光学積層体に付与され、当該光学積層体には基材が含まれるが、本発明の転写用導電性フィルムを用いれば、導電層を形成する際に必要な基材を含まない光学積層体を形成することができる。通常、当該基材は支持体として機能するため剛直であるが、このような基材を含まない光学積層体は、屈曲性に優れる。また、当該基材を含まない光学積層体においては、屈曲させた際、導電層にかかる負荷が少なく導電層が損傷しがたい。

さらに、本発明の転写用導電性フィルムを用いれば、導電層を形成する処理（例えば、加熱処理）の際にダメージを受けやすい光学部材を含む光学積層体においても、剛直な基材を排除することができる。例えば、偏光板を含むフィルムに、直接、スパッタリング等の処理を行うと、偏光板がダメージを受けてしまうが、本発明の転写用導電性フィルムを用いれば、偏光板にダメージを与えることなく、光学積層体を形成することができる。

Ａ−１．導電層
１つの実施形態においては、上記導電層は、タッチデバイスの電極として機能し得る。

好ましくは、上記導電層は、金属酸化物から構成される。上記金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物等が挙げられる。なかでも好ましくは、インジウム−スズ複合酸化物（ＩＴＯ）である。また、上記導電層は、導電性高分子、導電性フィラー、金属ナノワイヤおよび／または金属メッシュを含む層であってもよい。

導電層は光透過性を有することが好ましい。導電層の全光線透過率は、好ましくは８０％以上であり、さらに好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。上記金属酸化物から導電層を構成することにより、光透過率が高い導電層を形成することができる。

上記導電層の表面抵抗値は、好ましくは０．１Ω／□〜１０００Ω／□であり、より好ましくは０．５Ω／□〜５００Ω／□であり、特に好ましくは１Ω／□〜２５０Ω／□である。

１つの実施形態においては、上記導電層は、上記液晶層上に、直接、形成される。本実施形態の具体例としては、上記液晶層上に、任意の適切な成膜方法（例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法等）により、金属酸化物層を形成して、導電層を得る方法が挙げられる。該金属酸化物層は、そのまま導電層としてもよく、さらに加熱し金属酸化物を結晶化させてもよい。該加熱時の温度は、例えば、１２０℃〜２００℃である。

上記導電層の厚みは、好ましくは５０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは４０ｎｍ以下である。このような範囲であれば、光透過性に優れる導電層を得ることができる。上記導電層の厚みの下限は、好ましくは１ｎｍであり、より好ましくは５ｎｍである。

上記導電層はパターン化されていてもよい。パターン化の方法としては、導電層の形態に応じて、任意の適切な方法が採用され得る。例えば、エッチング法、レーザー法等によりパターン化され得る。導電層のパターンの形状は、用途に応じて任意の適切な形状であり得る。例えば、特表２０１１−５１１３５７号公報、特開２０１０−１６４９３８号公報、特開２００８−３１０５５０号公報、特表２００３−５１１７９９号公報、特表２０１０−５４１１０９号公報に記載のパターンが挙げられる。

Ａ−２．液晶層
液晶層は、任意の適切な液晶化合物を含む。本発明の転写用導電性フィルムにおいては、液晶層上に導電層を形成し、導電層と仮支持体との間に液晶層が配置された構成であることにより、導電層と液晶層とから構成される積層体Ａを別の光学部材に転写させることができる。所定の機能を有する液晶層と導電層の両方を、剛直な基材を排除して、光学積層体に導入できることは、本発明の成果のひとつである。

１つの実施形態においては、上記液晶層は、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙの関係を示す。このような液晶層を備えることにより、上記積層体Ａを、光学機能を有する積層体とすることができる。

上記液晶層の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは−２６０ｎｍ〜−１０ｎｍ、より好ましくは−２３０ｎｍ〜−１５ｎｍ、さらに好ましくは−２１５ｎｍ〜−２０ｎｍである。

１つの実施形態においては、上記液晶層は、その屈折率がｎｘ＝ｎｙの関係を示す。ここで、「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。具体的には、Ｒｅ（５５０）が１０ｎｍ未満であることをいう。別の実施形態においては、液晶層は、その屈折率がｎｘ＞ｎｙの関係を示す。この場合、液晶層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、より好ましくは１０ｎｍ〜８０ｎｍである。

上記液晶層は、ホメオトロピック配向に固定された液晶層である。ホメオトロピック配向させることができる液晶材料（液晶化合物）は、液晶モノマーであっても液晶ポリマーであってもよい。当該液晶化合物および当該液晶層の形成方法の具体例としては、特開２００２−３３３６４２号公報の［００２０］〜［００４２］に記載の液晶化合物および形成方法が挙げられる。

上記液晶層の厚みは、好ましくは０．１μｍ〜１０μｍであり、より好ましくは０．１μｍ〜５μｍであり、さらに好ましくは０．２μｍ〜３μｍである。このような範囲であれば、所望の光学積層体を得ることができ、かつ、積層体Ａの剥離性に優れる転写用導電性フィルムを得ることができる。

上記液晶層の全光線透過率は、好ましくは８０％以上であり、さらに好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。

Ａ−３．仮支持体
上記仮支持体を構成する樹脂としては、本発明の効果が得られる限り、任意の適切な樹脂が用いられ得る。仮支持体を構成する樹脂としては、例えば、シクロオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂等が挙げられる。

上記仮支持体の厚みは、好ましくは８μｍ〜５００μｍであり、より好ましくは５０μｍ〜２５０μｍである。

上記仮支持体の上記液晶層に対する２３℃における粘着力は、好ましくは０．０１Ｎ／２５ｍｍ〜１Ｎ／２５ｍｍであり、より好ましくは０．０１Ｎ／２５ｍｍ〜０．７Ｎ／２５ｍｍである。このような範囲であれば、積層体Ａを容易に転写し得る転写用導電性フィルムを得ることができる。粘着力は、ＪＩＳ Ｚ ０２３７：２０００に準じた方法で測定され、製造された転写用導電性フィルムから、仮支持体を引張速度３００ｍｍ／ｍｉｎ、剥離角度１８０°で剥離して、測定した粘着力をいう。

必要に応じて、上記仮支持体に対して各種表面処理を行ってもよい。表面処理は目的に応じて任意の適切な方法が採用される。１つの実施形態においては、液晶層からの剥離を容易とするために、仮支持体の液晶層側の面に離型層が設けられ得る。剥離層は、上記粘着力を発現し得る限り、任意の適切な材料から構成された層とすることができ、例えば、周知の剥離処理（例えば、シリコーン系離型剤の塗布など）により形成された層である。また、液晶層の配向性を高めるために配向層を設けてもよい。

Ｂ．光学積層体
本発明の光学積層体は、上記転写用導電性フィルムから転写された積層体Ａ（液晶層と導電層とを含む積層体）を含む。１つの実施形態においては、該光学積層体を備えるタッチデバイスが提供される。該タッチデバイスにおいては、上記導電層が電極として機能する。上記タッチデバイスは、屈曲性に優れ、また、屈曲しても導電層が損傷しがたい点でも有用である。

図２は、本発明の１つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。この光学積層体１００は、光学部材２０と、導電層１３と、液晶層１２とをこの順に備える。１つの実施形態においては、光学部材２０と導電層１３とは、粘着剤層３０を介して積層され、粘着剤層３０は、光学部材２０および導電層１３に接している。

光学積層体１００において、導電層１３と液晶層１２とから構成される積層体Ａは、上記転写用導電性フィルムから転写された積層体である。導電層１３は、液晶層１２に直接（すなわち、粘着剤層等を介することなく）積層されている。

図３は、本発明の別の実施形態による光学積層体の概略断面図である。この光学積層体２００は、光学部材２０と、導電層１３と、液晶層１２と、別の光学部材４０とをこの順に備える。１つの実施形態においては、光学部材２０と導電層１３とは、粘着剤層３０を介して積層され、粘着剤層３０は光学部材２０と導電層１３に接している。また、１つの実施形態においては、液晶層１２と別の光学部材４０とは粘着剤層３０を介して積層され、粘着剤層３０は液晶層１２と別の光学部材４０と接している。

光学部材２０および別の光学部材４０としては、例えば、画像素子（例えば、液晶パネル、有機ＥＬパネル）、光学フィルム（例えば、位相差フィルム）、偏光板、円偏光板等が挙げられる。

１つの実施形態においては、光学部材２０として、偏光板または円偏光板が用いられる。別の実施形態によれば、別の光学部材４０として、偏光板または円偏光板が用いられる。光学積層体は、画像表示装置（例えば、タッチデバイス）に適用される際、導電層が偏光板または円偏光板よりも視認側となるように配置されてもよく、導電層が偏光板または円偏光板より内側（視認側とは反対側）となるように配置されてもよい。

Ｂ−１．偏光板
１つの実施形態においては、光学部材または別の光学部材として偏光板が用いられた光学積層体、すなわち、偏光板と、導電層と、液晶層とをこの順に備える光学積層体、あるいは、導電層と、液晶層と、偏光板とをこの順に備える光学積層体が提供される。従来、偏光板を含むフィルムに、スパッタリング等の導電層付与処理により、直接、導電層を形成する場合、導電層付与処理時に偏光板がダメージを受ける等の問題が生じるが、本発明の転写用導電性フィルムを用いれば、偏光板にダメージを与えることなく、光学積層体を形成することができる。当該光学積層体に用いられる偏光板の例を以下に説明する。

上記偏光板は、偏光子を備える。上記偏光板は、好ましくは、偏光子の片側または両側に保護フィルムをさらに備える。

上記偏光子の厚みは特に制限されず、目的に応じて適切な厚みが採用され得る。当該厚みは、代表的には、１μｍ〜８０μｍ程度である。１つの実施形態においては、薄型の偏光子が用いられ、当該偏光子の厚みは、好ましくは２０μｍ以下であり、より好ましくは１５μｍ以下であり、さらに好ましくは１０μｍ以下であり、特に好ましくは６μｍ以下である。このように薄い偏光子を用いることにより、薄型の光学積層体を得ることができる。

上記偏光子は、好ましくは、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率は、好ましくは４０．０％以上、より好ましくは４１．０％以上、さらに好ましくは４２．０％以上、特に好ましくは４３．０％以上である。偏光子の偏光度は、好ましくは９９．８％以上であり、より好ましくは９９．９％以上であり、さらに好ましくは９９．９５％以上である。

好ましくは、上記偏光子は、ヨウ素系偏光子である。より詳細には、上記偏光子は、ヨウ素を含むポリビニルアルコール系樹脂（以下、「ＰＶＡ系樹脂」と称する）フィルムから構成され得る。

上記ＰＶＡ系樹脂フィルムを形成するＰＶＡ系樹脂としては、任意の適切な樹脂が採用され得る。例えば、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体が挙げられる。ポリビニルアルコールは、ポリ酢酸ビニルをケン化することにより得られる。エチレン−ビニルアルコール共重合体は、エチレン−酢酸ビニル共重合体をケン化することにより得られる。ＰＶＡ系樹脂のケン化度は、通常８５モル％〜１００モル％であり、好ましくは９５．０モル％〜９９．９５モル％であり、さらに好ましくは９９．０モル％〜９９．９３モル％である。ケン化度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２６−１９９４に準じて求めることができる。このようなケン化度のＰＶＡ系樹脂を用いることによって、耐久性に優れた偏光子が得られ得る。ケン化度が高すぎる場合には、ゲル化してしまうおそれがある。

ＰＶＡ系樹脂の平均重合度は、目的に応じて適切に選択され得る。平均重合度は、通常１０００〜１００００であり、好ましくは１２００〜５０００であり、さらに好ましくは１５００〜４５００である。なお、平均重合度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２６−１９９４に準じて求めることができる。

上記偏光子の製造方法としては、例えば、ＰＶＡ系樹脂フィルム単体を延伸、染色する方法（Ｉ）、樹脂基材とポリビニルアルコール系樹脂層とを有する積層体（ｉ）を延伸、染色する方法（ＩＩ）等が挙げられる。方法（Ｉ）は、当業界で周知慣用の方法であるため、詳細な説明は省略する。上記製造方法（ＩＩ）は、好ましくは、樹脂基材と該樹脂基材の片側に形成されたポリビニルアルコール系樹脂層とを有する積層体（ｉ）を延伸、染色して、該樹脂基材上に偏光子を作製する工程を含む。積層体（ｉ）は、樹脂基材上にポリビニルアルコール系樹脂を含む塗布液を塗布・乾燥して形成され得る。また、積層体（ｉ）は、ポリビニルアルコール系樹脂膜を樹脂基材上に転写して形成されてもよい。上記製造方法（ＩＩ）の詳細は、例えば、特開２０１２−７３５８０号公報に記載されており、この公報は、本明細書に参考として援用される。

上記保護フィルムとしては、任意の適切な樹脂フィルムが採用され得る。保護フィルムの形成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル系樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂等が挙げられる。なかでも好ましくは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）である。

１つの実施形態においては、上記（メタ）アクリル系樹脂として、グルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂が用いられる。

上記保護フィルムと上記偏光子とは、任意の適切な接着剤層を介して積層される。偏光子作製時に用いた樹脂基材は、保護フィルムと偏光子とを積層する前、あるいは、積層した後に、剥離され得る。

上記保護フィルムの厚みは、好ましくは５μｍ〜５５μｍであり、より好ましくは１０μｍ〜５０μｍであり、さらに好ましくは１５μｍ〜４５μｍである。

Ｂ−２．円偏光板
図４は、本発明の１つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。光学積層体１１０は、光学部材として、円偏光板２１を備える。円偏光板２１は、偏光子１と、位相差層２とを備える。１つの実施形態においては、偏光子１は、位相差層２の積層体Ａ（すなわち、導電層）とは反対側に配置されることが好ましい。また、円偏光板２１と積層体Ａとは、粘着剤層３０を介して積層され、粘着剤層３０は位相差層２および導電層１３に接している。別の実施形態においては、別の光学部材として、円偏光板が用いられ、光学部材と、導電層と、液晶層と、円偏光板（位相差層／偏光子）とをこの順に備える光学積層体が提供される。この実施形態においても、偏光子は、位相差層の積層体Ａ（すなわち、液晶層）とは反対側に配置されることが好ましい。

１つの実施形態においては、円偏光板は、偏光子の位相差層とは反対側の面に保護フィルムをさらに備える（図示せず）。また、円偏光板は、偏光子と位相差層との間に別の保護フィルム（内側保護フィルムとも称する：図示せず）を備えてもよい。偏光子および保護フィルムとしては、上記Ｂ−１項で説明したものが用いられ得る。

上記位相差層は、λ／４板として機能し得る。このような位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１２０ｎｍ〜１６０ｎｍであり、より好ましくは１３５ｎｍ〜１５５ｎｍである。位相差層は、代表的にはｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの屈折率楕円体を有する。

上記位相差層のＲｔｈ（５５０）は、好ましくは１２０ｎｍ〜３００ｎｍであり、より好ましくは１３５ｎｍ〜２６０ｎｍである。

上記位相差層のＮｚ係数は、例えば０．９〜２であり、好ましくは１〜１．８であり、より好ましくは１〜１．７である。

上記偏光子と位相差層とは、偏光子の吸収軸と位相差層の遅相軸とが所定の角度をなすように積層される。偏光子の吸収軸と位相差層の遅相軸とのなす角度は、好ましくは３５°〜５５°であり、より好ましくは３８°〜５２°であり、さらに好ましくは４０°〜５０°であり、さらに好ましくは４２°〜４８°であり、特に好ましくは４４°〜４６°である。当該角度がこのような範囲であれば、所望の円偏光機能が実現され得る。なお、本明細書において角度に言及するときは、特に明記しない限り、当該角度は時計回りおよび反時計回りの両方の方向の角度を包含する。

上記位相差層の厚みは、λ／４板として最も適切に機能し得るように設定され得る。言い換えれば、厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定され得る。具体的には、位相差層の厚みは、好ましくは１０μｍ〜８０μｍであり、さらに好ましくは１０μｍ〜６０μｍであり、最も好ましくは３０μｍ〜５０μｍである。

位相差層は、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長に応じて小さくなる正の波長分散特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長によってもほとんど変化しないフラットな波長分散特性を示してもよい。

上記λ／４板は、好ましくは、高分子フィルムの延伸フィルムである。具体的には、ポリマーの種類、延伸処理（例えば、延伸方法、延伸温度、延伸倍率、延伸方向）を適切に選択することにより、λ／４板が得られる。

上記高分子フィルムを形成する樹脂としては、任意の適切な樹脂が用いられる。具体例としては、ポリノルボルネン等のシクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリスルホン系樹脂等の正の複屈折フィルムを構成する樹脂が挙げられる。中でも、ノルボルネン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂が好ましい。なお、高分子フィルムを形成する樹脂の詳細は、例えば、特開２０１４−０１０２９１に記載されている。当該記載は、参考として本明細書に援用される。

上記ポリノルボルネンとしては、種々の製品が市販されている。具体例としては、日本ゼオン社製の商品名「ゼオネックス」、「ゼオノア」、ＪＳＲ社製の商品名「アートン（Ａｒｔｏｎ）」、ＴＩＣＯＮＡ社製の商品名「トーパス」、三井化学社製の商品名「ＡＰＥＬ」が挙げられる。

延伸方法としては、例えば、横一軸延伸、固定端二軸延伸、逐次二軸延伸が挙げられる。固定端二軸延伸の具体例としては、高分子フィルムを長手方向に走行させながら、短手方向（横方向）に延伸させる方法が挙げられる。この方法は、見かけ上は横一軸延伸であり得る。また、斜め延伸も採用することができる。斜め延伸を採用することにより、幅方向に対して所定の角度の配向軸（遅相軸）を有する長尺状の延伸フィルムを得ることができる。

上記延伸フィルムの厚みは、代表的には５μｍ〜８０μｍ、好ましくは１５μｍ〜６０μｍ、さらに好ましくは２５μｍ〜４５μｍである。

Ｂ−３．粘着剤層
上記粘着剤層は、任意の適切な粘着剤により形成される。１つの実施形態においては、該粘着剤は、粘着性の樹脂を含み、該樹脂としては、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。なかでも好ましくは、アクリル系樹脂を含むアクリル系粘着剤である。

上記粘着剤は、必要に応じて、任意の適切な添加剤をさらに含み得る。該添加剤としては、例えば、架橋剤、粘着付与剤、可塑剤、顔料、染料、充填剤、老化防止剤、導電材、紫外線吸収剤、光安定剤、剥離調整剤、軟化剤、界面活性剤、難燃剤、酸化防止剤等が挙げられる。架橋剤としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、過酸化物系架橋剤、メラミン系架橋剤、尿素系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、アミン系架橋剤等が挙げられる。

上記粘着剤層の厚みは、好ましくは５μｍ〜１００μｍあり、より好ましくは１０μｍ〜５０μｍである。

Ｂ−４．その他の層
上記光学積層体は、必要に応じて、任意の適切なその他の層を備え得る。上記その他の層としては、例えば、ハードコート層、アンチグレア層、反射防止層、カラーフィルター層等が挙げられる。

Ｃ．光学積層体の製造方法
本発明の光学積層体の製造方法は、上記転写用導電性フィルムから、光学部材に液晶層と導電層とを含む積層体Ａを転写することを含む。１つの実施形態においては、この製造方法においては、導電層と光学部材を、粘着剤層を介して、積層する。転写用導電性フィルム、光学部材および粘着剤層は、上記Ａ項およびＢ項で説明したものが用いられる。

光学部材に積層体Ａを転写した後、積層体Ａの液晶層に、粘着剤層を介して、別の光学部材を積層してもよい。

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。なお、厚みは尾崎製作所製ピーコック精密測定機器 デジタルゲージコードレスタイプ「ＤＧ−２０５」を使用して測定した。

［実施例１］
仮支持体としての剥離処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム（パナック社製、商品名「パナピール」、厚み：３８μｍ）上に、下記の方法により液晶層を形成した。
下記化学式（Ｉ）（式中の数字６５および３５はモノマーユニットのモル％を示し、便宜的にブロックポリマー体で表している：重量平均分子量５０００）で示される側鎖型液晶ポリマー２０重量部、ネマチック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２）８０重量部および光重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製：商品名イルガキュア９０７）５重量部をシクロペンタノン２００重量部に溶解して液晶塗工液を調製した。そして、ＰＥＴフィルム（仮支持体）の離型処理面に当該塗工液をバーコーターにより塗工した後、８０℃で４分間加熱乾燥することによって液晶を配向させた。この液晶層に紫外線を照射し、液晶層を硬化させることにより、ＰＥＴフィルム（仮支持体）に液晶固化層（厚み：０．５８μｍ）を形成した。この液晶層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は０ｎｍ、厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は−７１ｎｍであり（ｎｘ：１．５３２６、ｎｙ：１．５３２６、ｎｚ：１．６５５０）、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。

次いで、上記仮支持体と液晶層とから構成される積層体を、スパッタ装置に投入し、該液晶層の表面に、厚みが３０ｎｍの非晶質のインジウム・スズ酸化物層を形成した。その後、１３０℃で９０分間の加熱処理により、インジウム・スズ酸化物を非晶質から結晶質に転化させ、転写用導電性フィルム（導電層／液晶層／仮支持体）を得た。
得られた転写用導電性フィルムを用い、仮支持体から導電層と液晶層とから構成される積層体Ａを、アクリル系粘着剤を含む粘着剤層を介して、ＰＥＴフィルム（厚み：２３μｍ）に転写し、仮支持体を剥離して、屈曲耐性評価用サンプル（液晶層／導電層／粘着剤層／ＰＥＴ基材）を得た。

［比較例１］
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（三菱ケミカル社製、商品名「ダイアホイル」、厚み：２３μｍ）の一方の面に、メラミン樹脂、アルキド樹脂および有機シラン縮合物からなる熱硬化型樹脂（メラミン樹脂：アルキド樹脂：有機シラン縮合物（重量比）＝２：２：１）を塗布し、硬化させて、厚み３５ｎｍの透明誘電体層（屈折率：１．５４）を形成した。
その後、透明誘電体層付きのＰＥＴフィルムを、巻き取り式スパッタ装置に投入し、透明誘電体層の表面に、導電層として、インジウム・スズ酸化物層（厚み：３０ｎｍ）を形成した。スパッタ処理は、アルゴンガス９８％と酸素２％とからなる０．４Ｐａの雰囲気中で、酸化インジウム９７重量％−酸化スズ３重量％とからなる焼結体を用いて行った。
上記のようにして得られた積層体を、アクリル系粘着剤を含む粘着剤層を介して、ＰＥＴフィルム（厚み：２３μｍ）に貼着して、屈曲耐性評価用サンプル（ＰＥＴ基材／誘電体層／導電層／粘着剤層／ＰＥＴ基材）を得た。

［比較例２］
平均粒子径１．８μｍの複数個の単分散粒子（綜研化学社製、商品名「ＭＸ１８０−ＴＡＮ」、屈折率：１．４９５）０．１６重量部とバインダー樹脂（ＤＩＣ社製、商品名「ＵＮＩＤＩＣ」、屈折率：１．５１）１００重量部と溶媒（酢酸エチル）とを含むコーティング組成物Ａを準備した。次いで、長尺基材フィルム（日本ゼオン社製、商品名「ＺＥＯＮＯＲ」、厚み：４０μｍ）の片面に、上記コーティング組成物Ａをグラビアコーターを用いて乾燥後の平坦部の厚みが１．０μｍとなるように塗布し、８０℃で加熱することにより塗膜を乾燥させた。その後、高圧水銀ランプにて、積算光量２５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射することで、アンチブロッキング層を形成した。
続いて、バインダー樹脂（ＤＩＣ社製、商品名「ＵＮＩＤＩＣ」、屈折率１．５１）を酢酸エチルにて希釈したコーティング組成物Ｂを準備した。上記長尺基材フィルムのアンチブロッキング層とは反対面に、コーティング組成物Ｂをグラビアコーターを用いて乾燥後の平坦部の厚みが１．０μｍとなるように塗布し、８０℃で加熱することにより塗膜を乾燥させた。その後、高圧水銀ランプにて、積算光量２５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射することで、ハードコート層を形成した。
次に、ハードコート層の表面に、屈折率調整剤（ＪＳＲ社製、商品名「オプスターＺ７４１２」、無機成分としてメジアン径４０ｎｍの酸化ジルコニア粒子を含み、屈折率が１．６２の有機無機複合材料）をグラビアコーターを用いて塗布し、６０℃で加熱することにより塗膜を乾燥させた。その後、高圧水銀ランプにて、積算光量２５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して硬化処理を施すことで、厚さ１１５ｎｍ、屈折率１．６２の光学調整層を形成した。
その後、アンチブロッキング層、ハードコート層、光学調整層積層体を有する長尺基材フィルムを巻き取り式スパッタ装置に投入し、ＣＯＰ基材の表面に、導電層として、インジウム・スズ酸化物層（厚み：３０ｎｍ）を形成した。スパッタ処理は、アルゴンガス９８％と酸素２％とからなる０．４Ｐａの雰囲気中で、酸化インジウム９７重量％−酸化スズ３重量％とからなる焼結体を用いて行った。
上記のようにして得られた積層体を、アクリル系粘着剤を含む粘着剤層を介して、ＰＥＴフィルム（厚み：２３μｍ）に貼着して、屈曲耐性評価用サンプル（ＣＯＰ基材／光学調整層付き長尺基材フィルム／導電層／粘着剤層／ＰＥＴ基材）を得た。

＜評価１＞
（屈曲耐性試験）
実施例１、比較例１および比較例２で得られた評価用サンプルを屈曲耐性試験に供した。結果を表１に示す。屈曲耐性試験の試験方法は以下のとおりである。
ユアサシステム機器株式会社製の自動屈曲試験機と、抵抗値テスターを用いて、各評価用サンプルの屈曲試験後の抵抗値変化を測定し、屈曲耐性を評価した。
屈曲試験に関して、試験径は直径５ｍｍφとし、粘着剤を介して貼り合わせたＰＥＴ基材側が屈曲外面側となるように屈曲を実施した。
上記試験の結果、実施例１では２０万回の屈曲を経ても、抵抗値に変化が見られなかったのに対し、比較例１および比較例２ではそれに満たない回数の屈曲により抵抗値が大きく変化することを確認した。結果のグラフ図を図５に示す。

［実施例２］
（偏光子の作製）
長尺状のポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ素を含む水溶液中で染色した後、ホウ酸を含む水溶液中で速比の異なるロール間にて６倍に一軸延伸し、長手方向に吸収軸を有する長尺状の偏光子（厚み：１２μｍ）を得た。この長尺状の偏光子は延伸後、巻き取って巻回体とした。

（保護フィルムの準備）
保護フィルムとして、長尺状のトリアセチルセルロースフィルム（厚み４０μｍ、コニカミノルタ社製、商品名：ＫＣ４ＵＹＷ）を用いた。この保護フィルムは巻回体として用意した。なお、この保護フィルムの面内位相差Ｒｅ（５５０）は５ｎｍであり、厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は４５ｎｍであった。

（位相差フィルムの準備）
逆分散の波長依存性を示す市販の位相差フィルム（帝人社製、商品名「ピュアエースＷＲ」、厚み：５１μｍ）を用いた。この位相差フィルムの面内位相差Ｒｅ（５５０）は１４７ｎｍであり、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。

（円偏光板の作製）
上記偏光子、保護フィルム、および位相差フィルムを、それぞれ２００ｍｍ×３００ｍｍに切り出した。偏光子と保護フィルムとをポリビニルアルコール系接着剤を介して貼り合わせた。偏光子／保護フィルムの積層体と位相差フィルムとを、アクリル系粘着剤層を介して偏光子と位相差フィルムとが隣接するようにして貼り合わせ、保護フィルム／偏光子／位相差層の構成を有する円偏光板（厚み：１０５μｍ）を作製した。なお、位相差フィルムは、貼り合わせた際に、その遅相軸と偏光子の吸収軸とが４５°の角度をなすように配置した。

（光学積層体の作製）
実施例１と同様にして、転写用導電性フィルムを得た。この転写用導電性フィルムを用い、仮支持体から、導電層と液晶層とから構成される積層体Ａを、アクリル系粘着剤を含む粘着剤層を介して、上記円偏光板の位相差フィルム側に転写して光学積層体（円偏光板（保護フィルム／偏光子／位相差層）／粘着剤層／導電層／液晶層）を得た。この光学積層体は、総厚が１１０μｍと薄型であり、各層を損傷させることなく屈曲可能であった。
さらに、当該光学積層体の液晶層側を、有機ＥＬパネルに貼着し、光学積層体のパネル非点灯時の光学特性を確認した。本構成では液晶層に積層した導電層が、円偏光板の反射防止効果を享受することが出来、優れた黒味が実現出来ていることを確認した。

［比較例３］
比較例１と同様にして、ＰＥＴ基材、誘電体層および導電層をこの順に備える積層体を得た。この積層体のＰＥＴ基材側を、アクリル系粘着剤を含む粘着剤層を介して、実施例２と同様の円偏光板の保護フィルムに貼着した。さらに、当該円偏光板の位相差フィルム側に、実施例１で調製した液晶塗工液を実施例１と同様の方法で塗工して、液晶層を形成し、光学積層体（導電層／誘電体層／ＰＥＴ基材／円偏光板（保護フィルム／偏光子／位相差層）／液晶層）を得た。この光学積層体は、総厚が１３５μｍであった。
さらに、当該光学積層体の液晶層側を、有機ＥＬパネルに貼着し、光学積層体の反射防止能を確認した。当該光学積層体は、導電層による光の反射が顕著に確認された。

［参考例１］
比較例２と同様にして、ＣＯＰ基材、光学調整層付き長尺基材フィルムおよび導電層をこの順に備える積層体を得た。
実施例２と同様の円偏光板の位相差フィルム側に、実施例１で調製した液晶塗工液を実施例１と同様の方法で塗工して、液晶層を形成した。
次いで、上記積層体の導電層側を、アクリル系粘着剤を含む粘着剤層を介して、上記液晶層に貼着して、光学積層体（円偏光板（保護フィルム／偏光子／位相差層）／液晶層／導電層／光学調整層付き長尺基材フィルム／ＣＯＰ基材）を得た。この光学積層体は、総厚が１５０μｍであった。
当該光学積層体の液晶層側を、有機ＥＬパネルに貼着し、光学積層体の反射防止能を確認した。当該光学積層体は、反射防止能を発揮した。

１０ 転写用導電性フィルム
１１ 仮支持体
１２ 液晶層
１３ 導電層
２０ 光学部材

Claims (13)

1. 仮支持体と、該仮支持体から剥離可能に設けられた液晶層と、導電層とをこの順に含む、転写用導電性フィルム。
2. 前記導電層が、前記液晶層に、直接積層されている、請求項１に記載の転写用導電性フィルム。
3. 前記液晶層の屈折率特性が、ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙの関係を示す請求項１または２に記載の転写用導電性フィルム。
4. 前記液晶層の厚みが、０．１μｍ〜１０μｍである、請求項１から３のいずれかに記載の転写用導電性フィルム。
5. 前記導電層が、金属酸化物から構成される、請求項１から４のいずれかに記載の転写用導電性フィルム。
6. 前記導電層が、パターン化されている、請求項１から５のいずれかに記載の転写用導電性フィルム。
7. 光学部材と、粘着剤層と、請求項１、５または６に記載の導電層と、請求項１、３または４に記載の液晶層とをこの順に備え、
   該導電層が、該液晶層に直接積層されている、
   光学積層体。
8. 前記光学部材が、偏光板である、請求項７に記載の光学積層体。
9. 前記光学部材が、円偏光板であり、
   該円偏光板が、偏光子と、λ／４板として機能する位相差層とを含み、
   該偏光子が、該位相差層の前記導電層とは反対側に配置される、
   請求項７または８に記載の光学積層体。
10. 前記液晶層の導電層と反対側に、別の光学部材をさらに備える、請求項７から９のいずれかに記載の光学積層体。
11. 前記別の光学部材が、円偏光板であり、
    該円偏光板が、偏光子と、λ／４板として機能する位相差層とを含み、
    該偏光子が、該位相差層の前記液晶層とは反対側に配置される、
    請求項１０に記載の光学積層体。
12. 請求項７から１１のいずれかに記載の光学積層体を備える、タッチデバイス。
13. 請求項１から６のいれかに記載の転写用導電性フィルムから、光学部材に前記液晶層と前記導電層とを含む積層体Ａを転写することを含む、光学積層体の製造方法。