JP2019029663A - ナノインプリントリソグラフィにおけるテンプレートの歪みのリアルタイム補正 - Google Patents
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Abstract
Description
Δθ = (dy1-dy2)/Lc (2)
Δmag = (dx1-dx2)/Lc (3)
(dx4o, dy4o) = (dx4, dy4) - [(Δx, Δy) - Δθ (h, Lp)/2] (5)
面内アライメント誤差(dx3, dy3)および(dx4, dy4)の減算後、周辺アライメント誤差(dx3o, dy3o)および(dx4o, dy4o)の大部分または全ては、テンプレートの面外アライメント誤差または面外変形を含む。
Claims (20)
- 基板に対するインプリントリソグラフィ用のテンプレートのアライメント誤差を低減するためのインプリントリソグラフィ方法であって、
a)前記基板の上にインプリントレジストを配置する工程と、
b)前記インプリントレジストを前記テンプレートと接触させる工程と、
ここで、前記テンプレートは、該テンプレートの周辺領域に周辺アライメントマークを含み、該テンプレートの中央領域に中央アライメントマークを含み、
前記基板は、前記テンプレートの前記周辺アライメントマークに対応する周辺アライメントマークと、前記テンプレートの前記中央アライメントマークに対応する中央アライメントマークとを含み、
c)前記テンプレートの前記中央アライメントマークの各々を、前記基板の対応する前記中央アライメントマークの各々に対して位置決めする工程と、
d)前記テンプレートの前記周辺アライメントマークの各々を、前記基板の対応する前記周辺アライメントマークの各々に対して位置決めする工程と、
e)前記テンプレートの前記中央アライメントマークの各々と前記基板の対応する前記中央アライメントマークの各々との相対位置に基づいて前記テンプレートの面内アライメント誤差を評価する工程と、
f)前記テンプレートの前記周辺アライメントマークの各々と前記基板の対応する前記周辺アライメントマークの各々との相対位置に基づいて前記テンプレートの結合アライメント誤差を評価する工程と、ここで、前記テンプレートの前記結合アライメント誤差は、前記テンプレートの前記面内アライメント誤差と前記テンプレートの面外アライメント誤差とを含み、
g)前記テンプレートの前記結合アライメント誤差と前記テンプレートの前記面内アライメント誤差との差に基づいて、前記テンプレートの前記面外アライメント誤差を評価する工程と、
h)前記テンプレートの前記面外アライメント誤差を低減するように前記テンプレートと前記基板との相対位置を調整する工程と、
を有することを特徴とするインプリントリソグラフィ方法。 - 前記テンプレートの前記面外アライメント誤差を低減するように前記テンプレートと前記基板との前記相対位置を調整する工程は、前記テンプレートの前記周辺アライメントマークと前記基板の対応する前記周辺アライメントマークとの相対位置を調整する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記テンプレートの前記周辺アライメントマークと前記基板の対応する前記周辺アライメントマークとの前記相対位置を調整する工程は、
前記基板に対して前記テンプレートを傾斜させる工程と、
前記テンプレートと前記基板との間の距離を増加または減少させ、それにより前記テンプレートによって前記基板に加えられる力を増加または低減させる工程と、
の少なくともいずれか一方を含むことを特徴とする請求項2に記載のインプリントリソグラフィ方法。 - 前記テンプレートの前記面外アライメント誤差を低減するように前記テンプレートと前記基板との前記相対位置を調整する工程は、
前記テンプレートの前記中央アライメントマークと前記基板の対応する前記中央アライメントマークとに基づく前記テンプレートの前記中央領域と倍率誤差と、前記テンプレートの前記周辺アライメントマークと前記基板の対応する周辺アライメントマークとに基づく前記周辺領域の倍率誤差と比較する工程と、
前記テンプレートの前記周辺領域の前記倍率誤差が前記テンプレートの前記中央領域の前記倍率誤差と実質的に等しくなるまで、前記テンプレートを前記基板に対して傾斜させ、または、前記テンプレートと前記基板との間の距離を増加もしくは減少させる工程と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。 - 前記テンプレートの前記面外アライメント誤差を低減するように前記テンプレートと前記基板との前記相対位置を調整する工程は、前記テンプレートによって前記基板に加えられる力に少なくとも部分的に起因する前記基板の面内の軸に対する前記基板の傾斜を補償するように、前記基板に対して前記テンプレートを傾斜させる工程を含むことを特徴とする請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記テンプレートの前記面外アライメント誤差を低減するように前記テンプレートと前記基板との前記相対位置を調整した後に、工程C)からh)を繰り返して前記テンプレートの前記面外アライメント誤差を最小化する工程を更に有することを特徴とする請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記テンプレートの前記面内アライメント誤差を低減するように前記テンプレートと前記基板との前記相対位置を調整する工程を更に有することを特徴とする請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記テンプレートの前記中央領域は、前記面外アライメント誤差を実質的に含まないことを特徴とする請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記テンプレートの前記面内アライメント誤差を低減するように前記テンプレートと前記基板との前記相対位置を調整する工程は、前記テンプレートの前記中央アライメントマークと前記基板の対応する前記中央アライメントマークとの相対位置を調整する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記テンプレートの前記中央アライメントマークと前記基板の対応する前記中央アライメントマークとの前記相対位置を調整する工程は、
前記テンプレートまたは前記基板の面内で前記テンプレートまたは前記基板をそれぞれ平行移動させる工程と、
前記テンプレートまたは前記基板の面内で前記テンプレートまたは前記基板をそれぞれ回転させる工程と、
前記テンプレートの反対側への圧縮力を増加または低減させる工程と、
を含むことを特徴とする請求項9に記載のインプリントリソグラフィ方法。 - 基板に対するインプリントリソグラフィ用のテンプレートのアライメント誤差を低減するためのインプリントリソグラフィシステムであって、
テンプレートを保持するテンプレートチャックと、
基板を保持する基板チャックと、
前記基板チャックの位置に対する前記テンプレートチャックの位置を調整するインプリントヘッドと、
前記インプリントヘッドと通信する制御部と、
を有し、前記制御部は、
a)前記テンプレートの中央領域における中央アライメントマークと前記基板の上の対応する中央アライメントマークとの相対位置に基づいて、前記基板と接触している前記テンプレートの面内アライメント誤差を評価し、
b)前記テンプレートの周辺領域における周辺アライメントマークと前記基板の上の対応する周辺アライメントマークとの相対位置に基づいて、前記テンプレートの結合アライメント誤差を評価し、ここで、前記テンプレートの前記結合アライメント誤差は、前記テンプレートの面内アライメント誤差と面外アライメント誤差とを含み、
c)前記テンプレートの前記結合アライメント誤差と前記テンプレートの前記面内アライメント誤差との差を評価して、前記テンプレートの前記面外アライメント誤差を取得し、
d)前記テンプレートの前記面外アライメント誤差を低減するように、前記インプリントヘッドに信号を供給して前記基板チャックにおける基板の位置に対する前記テンプレートチャックにおけるテンプレートの位置を調整する
ことを特徴とするインプリントリソグラフィシステム。 - 前記制御部は、前記テンプレートを平行移動させるように前記インプリントヘッドに前記信号を供給することを特徴とする請求項11に記載のインプリントリソグラフィシステム。
- 前記制御部は、前記テンプレートの面内における軸に関して前記テンプレートを傾斜させるように前記インプリントヘッドに前記信号を供給することを特徴とする請求項11に記載のインプリントリソグラフィシステム。
- 前記制御部は、前記基板と前記テンプレートとの間の距離を増加または減少させるように前記インプリントヘッドに前記信号を供給することを特徴とする請求項11に記載のインプリントリソグラフィシステム。
- 前記テンプレートチャックに保持されたテンプレートの側面の圧縮力を調整する倍率アクチュエータを更に有し、前記制御部は、前記テンプレートの前記面内アライメント誤差を低減するように前記倍率アクチュエータと通信して信号を供給することを特徴とする請求項11に記載のインプリントリソグラフィシステム。
- 前記制御部は、前記a)からd)の処理を繰り返して前記テンプレートの前記面外アライメント誤差を最小化することを特徴とする請求項11に記載のインプリントリソグラフィシステム。
- インプリントリソグラフィ用のテンプレートであって、
前記テンプレートの表面上の、該テンプレートの中央領域に配置された中央アライメントマークであって、ポリゴンの角部を規定する中央アライメントマークと、
前記テンプレートの前記表面上の、該テンプレートの周辺領域に配置された周辺アライメントマークと、を有し、
前記周辺アライメントマークの各々は、前記テンプレートの角部または前記テンプレートのインプリント領域の境界に近接して配置されている
ことを特徴とするテンプレート。 - 前記中央アライメントマークは、四辺形の角を規定することを特徴とする請求項17に記載のテンプレート。
- 前記中央アライメントマークは、長方形または平行四辺形の角を規定することを特徴とする請求項17に記載のテンプレート。
- 物品を製造するためのインプリントリソグラフィ方法であって、
a)基板の上にインプリントレジストを配置する工程と、
b)前記インプリントレジストをテンプレートと接触させる工程と、ここで、前記テンプレートは、該テンプレートの周辺領域に周辺アライメントマークを含み、該テンプレートの中央領域に中央アライメントマークを含み、前記基板は、前記テンプレートの前記周辺アライメントマークに対応する周辺アライメントマークと、前記テンプレートの前記中央アライメントマークに対応する中央アライメントマークとを含み、
c)前記テンプレートの前記中央アライメントマークの各々を、前記基板の対応する前記中央アライメントマークの各々に対して位置決めする工程と、
d)前記テンプレートの前記周辺アライメントマークの各々を、前記基板の対応する前記周辺アライメントマークの各々に対して位置決めする工程と、
e)前記テンプレートの前記中央アライメントマークの各々と前記基板の対応する前記中央アライメントマークの各々との相対位置に基づいて前記テンプレートの面内アライメント誤差を評価する工程と、
f)前記テンプレートの前記周辺アライメントマークの各々と前記基板の対応する前記周辺アライメントマークの各々との相対位置に基づいて前記テンプレートの結合アライメント誤差を評価する工程と、ここで、前記テンプレートの前記結合アライメント誤差は、前記テンプレートの前記面内アライメント誤差と前記テンプレートの面外アライメント誤差とを含み、
g)前記テンプレートの前記結合アライメント誤差と前記テンプレートの前記面内アライメント誤差との差に基づいて、前記テンプレートの前記面外アライメント誤差を評価する工程と、
h)前記テンプレートの前記面外アライメント誤差を低減するように前記テンプレートと前記基板との相対位置を調整する工程と、
i)前記インプリントレジストを重合させて、前記テンプレートと接するポリマー層を生成する工程と、
j)前記テンプレートを前記ポリマー層から分離して前記物品を得る工程と、
を有することを特徴とするインプリントリソグラフィ方法。
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