JP2019025748A - Invert off-set printing method - Google Patents

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Abstract

To provide an invert off-set printing method for effectively conducting repeating printing while largely suppressing printing defect.SOLUTION: Multiwavelength reflection spectrum of an ink film obtained in an ink film formation process, which is a first process for an invert off-set printing method, to specify coating defect locations, and a coating defect printed matter is eliminated. In an ink film concentration process as a second process, multiwavelength reflection spectrum of the ink film on an elastic substrate having releasability is measured and concentration time is determined. By measuring the multiwavelength reflection spectrum of the elastic substrate is measured and presence/absence of the transfer defect, and drying time of the elastic substrate is determined. Thereby quality is improved by suppression of the printing defect, and the printed matter high in resolution is continuously manufactured.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、弾性基材を用いる反転オフセット印刷によるパターン形成方法に関する。 The present invention relates to a pattern forming method by reversal offset printing using an elastic substrate.

近年、プリンテッドエレクトロニクスの発展は著しく、フィルム上に形成されたディスプレイやウェアラブルデバイスなど、印刷技術で形成される、薄型、軽量の情報端末が提案されている。 In recent years, the development of printed electronics has been remarkable, and thin and light information terminals formed by printing techniques such as displays and wearable devices formed on films have been proposed.

現在、前記情報端末に用いられるトランジスタの主流はシリコン系であるが、その製造方法としては、シリコンをスパッタやCVD等のドライ法で成膜した後、フォトリソグラフィー技術を用いて前記トランジスタをパターニングする方法が一般的である。 At present, the mainstream of transistors used in the information terminal is silicon-based, but as a manufacturing method thereof, silicon is formed by a dry method such as sputtering or CVD, and then the transistor is patterned using a photolithography technique. The method is common.

これに対して、より低コストで、かつ、プラスチックフィルムに代表されるフレキシブル基材上に容易にパターニングできることから、前記トランジスタを印刷技術で作製するプリンテッドエレクトロニクスが注目されている。印刷技術を用いることで、フォトリソグラフィーよりも装置や製造上のコストが下がり、また、真空や高温プロセスを必要としないことから、エネルギー負荷の低減が達成されるなどのメリットが挙げられる。 On the other hand, printed electronics for producing the transistor by a printing technique has attracted attention because it can be easily patterned on a flexible substrate typified by a plastic film at a lower cost. By using the printing technique, there are advantages such that the apparatus and manufacturing costs are lower than those of photolithography, and that a vacuum and a high-temperature process are not required, so that a reduction in energy load is achieved.

しかしながら、印刷法はフォトリソグラフィー法と比較すると、概して解像性が悪く、微細なパターニングが課題である。パターニングの精度はトランジスタの性能に直接影響を及ぼすため、解像性の高い印刷技術の開発が求められている。 However, the printing method is generally poor in resolution as compared with the photolithography method, and fine patterning is a problem. Since the accuracy of patterning directly affects the performance of the transistor, development of a printing technique with high resolution is required.

これに対し、微細パターン形成に有効な印刷方法として反転オフセット印刷法がある(特許文献1)。 On the other hand, there is a reverse offset printing method as an effective printing method for forming a fine pattern (Patent Document 1).

反転オフセット印刷法について図1を用いて以下に説明する。   The reverse offset printing method will be described below with reference to FIG.

(インク膜形成工程)
まず、離型性表面を有する弾性基材1に、インク2を塗布して弾性基材1aを得る。ここで離型性とは前記弾性基材上に形成されたインク膜を印刷基材5に接触させて、転写する際に、弾性基材上のインク膜を残留させることなく、印刷基材に移行させる作用をいい、一般に印刷用の弾性基材に求められる公知の基本的特性である。
(Ink film forming process)
First, the ink 2 is applied to the elastic substrate 1 having a releasable surface to obtain the elastic substrate 1a. Here, the releasability means that the ink film formed on the elastic base material is brought into contact with the printing base material 5 and transferred to the printing base material without leaving the ink film on the elastic base material. This is a known basic characteristic generally required for elastic substrates for printing.

(インク膜濃縮工程)
その後、インクを構成する液体成分の少なくとも一部を蒸発、あるいは前記弾性基材に吸収させ、弾性基材表面に濃縮されたインク膜2aを形成することで弾性基材1bとする(図1(a)〜(c))。
(Ink film concentration process)
Thereafter, at least a part of the liquid components constituting the ink is evaporated or absorbed by the elastic base material to form an ink film 2a concentrated on the surface of the elastic base material to form an elastic base material 1b (FIG. 1 ( a) to (c)).

(除去工程)
次に、弾性基材1bを除去凸版3に密着させ、前記インク膜を除去凸版3に接触させることでインク膜の不要な部分を除去し、弾性基材表面に印刷パターンが形成されたインク膜2bを含む弾性基材1cを得る(図1(d))。
(Removal process)
Next, the elastic base material 1b is brought into intimate contact with the removal relief plate 3, the ink film is brought into contact with the removal relief plate 3 to remove unnecessary portions of the ink film, and the ink film having a printed pattern formed on the elastic base material surface. The elastic base material 1c containing 2b is obtained (FIG.1 (d)).

(転写工程)
次に、弾性基材1cを印刷基材5に密着させて離すことで、前記インク膜2bを印刷基材5に転写することにより、印刷基材上にパターンが形成された印刷物1dを得る(図1(e)〜(f))。
(Transfer process)
Next, the elastic base material 1c is brought into close contact with the printing base material 5 and separated to transfer the ink film 2b to the printing base material 5, thereby obtaining a printed matter 1d having a pattern formed on the printing base material ( FIG. 1 (e)-(f)).

(乾燥工程)
転写後のインク膜が付着していない弾性基材1を乾燥して、弾性基材表面、あるいは弾性基材に吸収された液体成分の一部を除去する。
(Drying process)
The elastic substrate 1 to which the transferred ink film is not attached is dried to remove the surface of the elastic substrate or a part of the liquid component absorbed by the elastic substrate.

前記弾性基材は一般にオフセット印刷に供することができる離型性を有するものであれば特に限定はなく、一般にブランケットと呼ばれる公知公用の弾性基材を用いることができ、具体的にはシート状に加工されたウレタンゴム、ポリジメチルシロキサン(シリコーンゴム)などを挙げることができる。   The elastic base material is not particularly limited as long as it has releasability that can be generally used for offset printing, and a publicly known elastic base material generally called a blanket can be used, specifically in a sheet form. Examples thereof include processed urethane rubber and polydimethylsiloxane (silicone rubber).

ここで前記インク膜形成工程において弾性基材上に異物が付着していたり、インク中に気泡が混入していると、均質なインク膜が形成されず、ピンホールやスジ状の印刷欠陥を生じる場合がある。 Here, if foreign matter adheres to the elastic base material or air bubbles are mixed in the ink in the ink film forming step, a homogeneous ink film is not formed, and a pinhole or streak-like print defect occurs. There is a case.

また前記インク膜濃縮工程で濃縮が不十分であったり、逆に濃縮しすぎると、その後の除去工程において、弾性基材上のインク膜と除去凸版との接触による印刷パターン形成に不良が生じ、十分な解像性が得られない場合がある。 In addition, if the concentration is insufficient in the ink film concentration step, or concentrating too much, in the subsequent removal step, a defective print pattern formation occurs due to contact between the ink film on the elastic substrate and the removed relief plate, In some cases, sufficient resolution cannot be obtained.

前記のインク膜形成工程とインク膜濃縮工程に由来する印刷欠陥により、目的とする印刷物に重大な品質上の欠陥を生じることが問題となる場合がある。特に、前記反転オフセット印刷法によりトランジスタの微細パターンを形成する場合、トランジスタの電極細線に欠損や断線、あるいは結合(ショート)が生じるなど、トランジスタの性能を低下させる恐れがある。 Due to the printing defects derived from the ink film forming step and the ink film concentration step, there may be a problem in that a serious quality defect is caused in the intended printed matter. In particular, when a fine pattern of a transistor is formed by the above-described reverse offset printing method, the transistor performance may be deteriorated, such as a defect, disconnection, or coupling (short-circuit) in the electrode thin wire of the transistor.

また連続的に印刷を繰り返す場合、前記乾燥工程で乾燥が不十分だと、印刷を繰り返すことにより、前記弾性基材にインク由来の液体成分が蓄積し、その結果、前記インク膜濃縮工程において、液体成分の吸収速度が低下し、インク膜が十分に濃縮されない状態で、除去工程、転写工程を経るため、印刷物の解像性が低下する恐れがある。また濃縮に長時間を要して大幅に生産性が低下する恐れがある。 In addition, when repeating printing continuously, if drying is insufficient in the drying step, the liquid component derived from ink accumulates in the elastic base material by repeating printing, and as a result, in the ink film concentration step, Since the absorption rate of the liquid component is reduced and the ink film is not sufficiently concentrated, the removal process and the transfer process are performed, so that the resolution of the printed matter may be reduced. In addition, it takes a long time to concentrate, and there is a risk that productivity will be significantly reduced.

前記課題を解決する手段として、転写する弾性基材上のインクのムラの有無を検知する技術が開示されている(特許文献2)。具体的にはインク膜が形成された弾性基材をラインカメラで撮像し、塗工ムラがある場合は、印刷機を停止させるものである。 As means for solving the above problem, a technique for detecting the presence or absence of unevenness of ink on an elastic substrate to be transferred is disclosed (Patent Document 2). Specifically, an image of an elastic substrate on which an ink film is formed is captured by a line camera, and if there is coating unevenness, the printing machine is stopped.

しかしながら前記公報の方法ではインク膜の撮像画像のみの情報しか得られず、例えば、局所的な濃縮の進行やカスレの判別、インク膜の厚みムラなどの欠陥情報が得られず、必ずしも良好な解像性を得ることができない。 However, the method disclosed in the above publication can only obtain information on the captured image of the ink film. For example, it cannot obtain defect information such as the progress of local concentration, determination of blurring, and unevenness in the thickness of the ink film. I cannot get image quality.

また印刷物を作製する前に、検査用ロールに印刷するパターンを転写し、得られた転写パターンを検査することを特徴とする検査装置を含む印刷装置が開示されている(特許文献3)。 In addition, a printing apparatus including an inspection apparatus is disclosed that transfers a pattern to be printed on an inspection roll and inspects the obtained transfer pattern before producing a printed material (Patent Document 3).

しかしながら前記検査方法では印刷装置に検査用ロールと検査装置を設置する必要があり、印刷装置の大型化、及び高コスト化が問題となる。 However, in the inspection method, it is necessary to install an inspection roll and an inspection device in the printing apparatus, and there is a problem in increasing the size and cost of the printing apparatus.

また弾性基材の表面に光を照射する照明手段と、前記照明手段により照らし出された前記弾性基材を撮影する撮像手段と、前記撮像手段で撮影された画像を弾性基材の画像データとして取り込み二値化処理して記憶する記憶手段と、前記記憶手段にて記憶した前記画像データと前記撮像手段にて取り込んだ次の弾性基材の画像データとを比較照合する画像照合手段と、前記画像照合手段により照合した前記画像データと前記次の画像データとが一致しているか否かの判定を行う判定手段と、前記判定手段で一致していないと判定された場合に印刷停止及び不一致情報の報知を行う制御手段及び報知手段を主な構成とする検査方法が開示されている(特許文献4)。 Further, an illuminating means for irradiating the surface of the elastic base material, an imaging means for photographing the elastic base material illuminated by the illuminating means, and an image photographed by the imaging means as image data of the elastic base material Storage means for storing and binarizing the captured image; image collating means for comparing and collating the image data stored in the storage means and image data of the next elastic base material captured by the imaging means; A determination unit that determines whether the image data collated by the image collating unit and the next image data match; and a print stop and mismatch information when the determination unit determines that they do not match A control means for informing the above and an inspection method mainly comprising the notice means are disclosed (Patent Document 4).

しかしながら前記検査方法では刻々と濃縮が進行する弾性基材上のインク膜の濃縮状況を測定することができず、したがって、最適な転写タイミングを確定できないため、転写パターンに歪みやヨレなどの欠陥を生じるなどして、目的とするトランジスタの性能を低下させる恐れがある。 However, the above-described inspection method cannot measure the concentration state of the ink film on the elastic base material, which is continuously concentrated, and therefore the optimal transfer timing cannot be determined, so that there is a defect such as distortion or twist in the transfer pattern. As a result, the performance of the target transistor may be degraded.

特開2000−289320号公報JP 2000-289320 A 特開2007−230109号公報JP 2007-230109 A 特開2014−159089号公報JP 2014-159089 A 特開2016−176861号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2006-176861

本発明が解決しようとする課題は、前記課題を鑑みて成されたものであり、具体的には、インク膜形成工程において、弾性基材上のインク膜の欠陥箇所を特定し、欠陥を有する印刷物を排除することを特徴とし、さらにインク膜濃縮工程において、濃縮時間を決定すること、および乾燥工程において乾燥時間を決定することにより、解像性に優れる印刷物を提供することであり、これにより本発明の方法で印刷した電極細線の欠損や断線、結合を大幅に抑制することができる。すなわち本発明はトランジスタなどの微細電子回路パターン形成において、トランジスタの性能低下、および動作不良を大幅に抑制することができる印刷方法を提供するものである。   The problem to be solved by the present invention has been made in view of the above problems. Specifically, in the ink film forming step, the defective part of the ink film on the elastic substrate is specified and has a defect. It is characterized by eliminating printed matter, and further providing a printed matter with excellent resolution by determining the concentration time in the ink film concentration step and determining the drying time in the drying step. Defects, disconnections, and bonding of electrode thin lines printed by the method of the present invention can be greatly suppressed. That is, the present invention provides a printing method capable of greatly suppressing deterioration in transistor performance and malfunction in the formation of fine electronic circuit patterns such as transistors.

上記課題を解決する手段として、少なくとも、インク離型性を有する弾性基材上にインクを塗布してインク膜を得るインク膜形成工程と、
前記インク膜を濃縮するインク膜濃縮工程と、
前記弾性基材上の前記インク膜を除去凸版と接触させて、前記インク膜から不要部分を除去して、前記弾性基材上にパターニングされたインク膜を得る除去工程と、
前記弾性基材上の前記パターニングされたインク膜を印刷基材に接触転写させて、印刷物を得る転写工程と、
前記弾性基材を乾燥する乾燥工程、
を含む印刷方法において、
前記インク膜形成工程で得られるインク膜の多波長反射スペクトルを測定して、塗工欠陥箇所を特定し、塗布欠陥印刷物を排除することを特徴とする印刷方法である。
As means for solving the above problems, at least an ink film forming step of obtaining an ink film by applying ink on an elastic substrate having ink releasability; and
An ink film concentration step for concentrating the ink film;
A removing step of contacting the ink film on the elastic substrate with a removal relief plate to remove unnecessary portions from the ink film to obtain an ink film patterned on the elastic substrate;
A transfer step of contacting and transferring the patterned ink film on the elastic substrate to a printing substrate to obtain a printed material; and
A drying step of drying the elastic substrate;
In a printing method including
It is a printing method characterized by measuring a multi-wavelength reflection spectrum of an ink film obtained in the ink film forming step, specifying a coating defect portion, and eliminating a coating defect printed matter.

また前記記載のインク膜濃縮工程において、前記インク離型性を有する弾性基材上のインク膜の多波長反射スペクトルを測定して、前記インク膜濃縮工程の濃縮時間を決定することを特徴とする印刷方法である。 In the ink film concentration step described above, the concentration time of the ink film concentration step is determined by measuring a multiwavelength reflection spectrum of the ink film on the elastic base material having the ink releasability. It is a printing method.

また前記記載の転写工程において、前記インク離型性を有する弾性基材の多波長反射スペクトルを測定して、転写欠陥の有無を判断することを特徴とする印刷方法である。 In the transfer step described above, the printing method is characterized in that the multi-wavelength reflection spectrum of the elastic base material having ink releasability is measured to determine the presence or absence of a transfer defect.

また前記記載の乾燥工程において、前記インク離型性を有する弾性基材の多波長反射スペクトルを測定して、弾性基材の乾燥時間を決定することを特徴とする印刷方法である。   In the drying step described above, the printing method is characterized in that the multi-wavelength reflection spectrum of the elastic base material having ink releasability is measured to determine the drying time of the elastic base material.

また前記記載の多波長反射スペクトルの検出手段がハイパースペクトルカメラである請求項1〜4いずれか1項に記載の印刷方法である。 The printing method according to claim 1, wherein the multi-wavelength reflection spectrum detecting means is a hyperspectral camera.

また前記記載の反射スペクトルの範囲が300nmから2500nmである、請求項1〜5いずれか1項に記載の印刷方法である。 Moreover, it is a printing method of any one of Claims 1-5 whose range of the said reflection spectrum is 300 nm to 2500 nm.

また前記記載の反射スペクトルの範囲が400nmから1000nmである、請求項1〜5いずれか1項に記載の印刷方法である。 The printing method according to any one of claims 1 to 5, wherein the range of the reflection spectrum is from 400 nm to 1000 nm.

本発明によれば、反転オフセット印刷における印刷欠陥の低減が可能となり、電極細線に欠損や断線が大幅に抑制された解像性に優れるトランジスタの微細パターンが形成され、トランジスタの性能低下、動作不良を抑制することができる。 According to the present invention, it is possible to reduce printing defects in reversal offset printing, and a fine pattern of a transistor having excellent resolution in which defects and disconnection are greatly suppressed is formed in an electrode thin line, resulting in deterioration in transistor performance and malfunction. Can be suppressed.

またインク膜形成工程で、いち早く欠陥の発生が検知できるので、以後の工程を実施することなく、不良品の除外が可能となる。また後工程である版洗浄の実施が不要となるので、版洗浄由来の廃液低減にも寄与できる。 In addition, since the occurrence of a defect can be detected promptly in the ink film forming step, defective products can be excluded without performing the subsequent steps. In addition, since it is not necessary to perform plate cleaning as a post process, it is possible to contribute to reduction of waste liquid derived from plate cleaning.

また本発明によれば、弾性基材の表面、あるいは弾性基材に吸収されたインクの液体成分を検知できるので、乾燥工程において乾燥時間を決定することができ、繰返し印刷による弾性基材へのインク由来の液体成分の蓄積を抑制できる。弾性基材への液体成分蓄積抑制により、インク膜濃縮工程においても、一定の濃縮度を維持できるので、印刷欠陥の抑制による品質向上、および解像性向上に寄与できる。 According to the present invention, the surface of the elastic base material or the liquid component of the ink absorbed by the elastic base material can be detected, so that the drying time can be determined in the drying process, and the elastic base material by repeated printing can be determined. Accumulation of liquid components derived from ink can be suppressed. By suppressing the accumulation of liquid components on the elastic substrate, a constant concentration can be maintained even in the ink film concentration step, which can contribute to quality improvement and resolution improvement by suppressing printing defects.

印刷物の解像度に関して、インク膜濃縮工程において、印刷毎のインク膜の濃縮度を検出して、一定の濃縮度となる濃縮時間を決定できるので、印刷毎の印刷物の解像度を一定に保つことができ、トランジスタの性能低下を抑制することができる。   Concerning the resolution of printed matter, in the ink film concentration process, it is possible to detect the concentration of the ink film for each printing and determine the concentration time for a certain concentration, so that the resolution of the printed matter for each printing can be kept constant. , Transistor performance degradation can be suppressed.

反転オフセット印刷工程を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating a reverse offset printing process. 本発明の反転オフセット印刷を実施するための装置構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the apparatus structure for implementing the reverse offset printing of this invention. 本発明の反転オフセット印刷で使用した除去凸版の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the removal relief plate used by the reverse offset printing of this invention. 実施例1におけるインク膜濃縮工程のインク膜の多波長反射スペクトル測定結果の一例である(濃縮が進み過ぎて印刷不良となった例)。It is an example of the multi-wavelength reflection spectrum measurement result of the ink film of the ink film concentration process in Example 1 (an example in which the concentration is excessively advanced and printing is defective). 実施例1におけるインク膜濃縮工程のインク膜の多波長反射スペクトル経時変化の一例である(濃縮度が適切で印刷良好となった例)。It is an example of the multi-wavelength reflection spectrum change with time of the ink film in the ink film concentration step in Example 1 (an example in which the degree of concentration is appropriate and printing is good). 実施例1におけるインク膜濃縮工程のインク膜の多波長反射スペクトル経時変化の一例である(濃縮が不十分で印刷不良となった例)。It is an example of the multi-wavelength reflection spectrum change with time of the ink film in the ink film concentration step in Example 1 (an example in which the printing is poor due to insufficient concentration). 実施例2の乾燥工程における弾性基材の多波長反射スペクトル経時変化の一例である。6 is an example of a change over time of a multi-wavelength reflection spectrum of an elastic base material in a drying process of Example 2. FIG. 実施例2の乾燥工程における弾性基材の多波長反射スペクトルの変化率の一例である。6 is an example of a rate of change of a multi-wavelength reflection spectrum of an elastic base material in a drying process of Example 2. FIG.

以下、本発明の実施形態の一例を、図面を用いて詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, although an example of an embodiment of the present invention is explained in detail using a drawing, the present invention is not limited to these.

図1は反転オフセット印刷法について示した図である。図2は本発明の反転オフセット印刷法を実施する装置構成の一例である。 FIG. 1 is a diagram showing the reverse offset printing method. FIG. 2 shows an example of an apparatus configuration for carrying out the reverse offset printing method of the present invention.

離型性表面を有する弾性基材1に、インクを塗布してインク膜2を形成(インク膜形成工程)した後、インクを構成する液体の少なくとも一部を前記弾性基材1に吸収させることにより、濃縮されたインク膜2aを形成(インク膜濃縮工程)し、そのインク膜を含む弾性基材1bを除去凸版3に密着させて、パターンに不要な部分を除去(除去工程)した後、弾性基材1cを印刷基材5に密着させてインク膜2bを印刷基材5に転写することで、目的とするパターンを有する印刷物1dを得る(転写工程)。しかる後に弾性基材1を乾燥する(乾燥工程)。   After the ink is applied to the elastic substrate 1 having a releasable surface to form the ink film 2 (ink film forming step), at least a part of the liquid constituting the ink is absorbed by the elastic substrate 1 After forming the concentrated ink film 2a (ink film concentration step), the elastic base material 1b including the ink film is brought into close contact with the removal relief plate 3, and unnecessary portions of the pattern are removed (removal step). The elastic substrate 1c is brought into close contact with the printing substrate 5, and the ink film 2b is transferred to the printing substrate 5, thereby obtaining a printed material 1d having a target pattern (transfer process). Thereafter, the elastic substrate 1 is dried (drying step).

インク膜形成工程において、前記弾性基材上に均一な厚みのインク膜を形成することができる方法であれば、特にそのインク膜形成方法に限定は無いが、スリットダイコート法、バーコート法、スピンコート法、ドクターブレード法、ディスペンス法、インクジェット法など、公知公用のインク膜形成方法を用いることができる。 In the ink film forming step, the ink film forming method is not particularly limited as long as it is a method capable of forming an ink film having a uniform thickness on the elastic substrate, but the slit die coating method, the bar coating method, the spin coating method, and the like. Known and publicly known ink film forming methods such as a coating method, a doctor blade method, a dispensing method, and an ink jet method can be used.

またインクに関しても反転オフセット印刷法で印刷できるインクであれば特に限定は無く、有機物や樹脂が溶解した溶液、金属微粒子や無機酸化物微粒子などの体質成分を含む分散液が挙げられ、これらのインクをインク膜化することにより、絶縁体膜や半導体膜、導電体膜を形成することができる。 The ink is not particularly limited as long as it can be printed by the reverse offset printing method, and examples thereof include a solution in which an organic substance and a resin are dissolved, and a dispersion liquid containing a constitutional component such as metal fine particles and inorganic oxide fine particles. By forming an ink film, an insulator film, a semiconductor film, or a conductor film can be formed.

前記インクを構成する液体に関しても特に限定は無く、水やアルコール類、ケトン類、エステル類などの有機溶剤やその混合液を用いることができる。その他に前記インクは公知公用の分散剤や添加剤を含んでもよい。 The liquid constituting the ink is not particularly limited, and an organic solvent such as water, alcohols, ketones, esters, or a mixed solution thereof can be used. In addition, the ink may contain a publicly known dispersant or additive.

前記弾性基材は一般にオフセット印刷に供することができる離型性、すなわち、弾性基材上に塗布されたインクを版や印刷基材に接触させてインク膜を転写する機能を有するものであれば、特に限定はなく、一般にブランケットと呼ばれる公知公用の弾性基材を用いることができる。   The elastic substrate generally has releasability that can be used for offset printing, that is, has a function of transferring an ink film by bringing an ink applied on the elastic substrate into contact with a plate or a printing substrate. There is no particular limitation, and a publicly known elastic base material generally called a blanket can be used.

またこのような弾性基材は液体を吸収する機能を有し、例えばインクを前記弾性基材上に塗布すると、インクの液体成分を吸収して前記インク膜を濃縮することができる。   Such an elastic substrate has a function of absorbing liquid. For example, when ink is applied onto the elastic substrate, the ink film can be concentrated by absorbing the liquid component of the ink.

前記弾性基材の一例として、具体的にはシート状に加工されたウレタンゴム、ポリジメチルシロキサン(シリコーンゴム)などを挙げることができる。またこれらの弾性基材はPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムからなるフィルム層や、ウレタンスポンジなどからなるクッション層などと接着することにより、積層構造を有してもよい。 Specific examples of the elastic substrate include urethane rubber and polydimethylsiloxane (silicone rubber) processed into a sheet shape. These elastic base materials may have a laminated structure by adhering to a film layer made of a PET (polyethylene terephthalate) film, a cushion layer made of urethane sponge or the like.

インク膜濃縮工程では、インクの液体成分の一部を蒸発、あるいは前記弾性基材に吸収させることにより、濃縮することができる。ここで濃縮の進行によりインク膜の流動性が低下し、半固体状態となる。ここで濃縮が不十分でインク膜の流動性が高い状態で、除去凸版にインク膜を接触させ、インクの不要部分の除去を実施(除去工程)すると、インク膜の除去部分付近のエッジ部に乱れが生じ、印刷物の解像性が低下する場合がある。 In the ink film concentration step, the ink can be concentrated by evaporating a part of the liquid component of the ink or by allowing the elastic base material to absorb it. Here, due to the progress of concentration, the fluidity of the ink film is lowered and a semi-solid state is obtained. Here, when the ink film is brought into contact with the relief relief plate and the unnecessary part of the ink is removed (removal process) in a state where the ink film is not sufficiently concentrated and the fluidity of the ink film is high, the edge part near the removed part of the ink film Disturbance may occur and the resolution of the printed matter may be reduced.

あるいは濃縮が進行しすぎて前記インク膜が固体状になると、除去工程でインク膜を除去凸版に接触させても、インク膜の不要部分のみを取り除くことができず、印刷物の解像性が低下する場合もある。 Alternatively, if the ink film becomes solid due to excessive concentration, even if the ink film is brought into contact with the relief relief plate in the removal process, only unnecessary portions of the ink film cannot be removed, resulting in reduced resolution of the printed matter. There is also a case.

すなわち反転オフセット印刷法で解像性の高い印刷物を得るには、インク膜濃縮工程においてインク膜は適当な流動性を有するように濃縮度を調整することが必要であり、本発明の方法を用いて濃縮度を管理することによって、トランジスタなどの電子回路形成に適用できる微細なパターニングを可能とすることができる。 That is, in order to obtain printed matter with high resolution by the reverse offset printing method, it is necessary to adjust the concentration so that the ink film has an appropriate fluidity in the ink film concentration step, and the method of the present invention is used. By controlling the concentration, fine patterning applicable to the formation of electronic circuits such as transistors can be made possible.

本発明の方法は前記インク膜形成工程で得られるインク膜の多波長反射スペクトルを測定して、インク膜の欠陥箇所を特定し、欠陥を含む印刷物を排除することを特徴とする印刷方法である。 The method of the present invention is a printing method characterized by measuring a multi-wavelength reflection spectrum of an ink film obtained in the ink film forming step, identifying a defective portion of the ink film, and eliminating printed matter containing the defect. .

また本発明の方法は前記インク膜濃縮工程において、前記弾性基材上のインク膜の多波長反射スペクトルを測定して、前記インク膜濃縮工程の濃縮時間を決定することを特徴とする印刷方法である。 The method of the present invention is a printing method characterized in that, in the ink film concentration step, the multi-wavelength reflection spectrum of the ink film on the elastic substrate is measured to determine the concentration time of the ink film concentration step. is there.

ここで弾性基材上のインク膜の濃縮速度は外気温や湿度、気流、あるいは弾性基材表面、および弾性基材内部のインク由来の液体成分の残存量に影響され、印刷毎に必ずしも一定速度とは限らず、したがって、インク膜濃縮工程において本発明の多波長スペクトル測定によって、濃縮時間を決定することにより、印刷欠陥の低減が可能となり、例えば、電極細線に欠損や断線が大幅に抑制されたトランジスタの微細パターンが形成され、トランジスタの性能低下を抑制することができる。 Here, the concentration rate of the ink film on the elastic substrate is influenced by the outside air temperature, humidity, air flow, or the elastic substrate surface, and the remaining amount of the liquid component derived from the ink inside the elastic substrate, and is not necessarily constant at every printing. Therefore, by determining the concentration time by the multi-wavelength spectrum measurement of the present invention in the ink film concentration step, it is possible to reduce printing defects, and for example, defects and disconnections in electrode thin wires are greatly suppressed. In addition, a fine pattern of the transistor is formed, and deterioration of the transistor performance can be suppressed.

また本発明の方法は前記転写工程において、前記弾性基材の多波長反射スペクトルを測定して、転写欠陥の有無を判断することを特徴とする印刷方法である。 The method of the present invention is a printing method characterized in that, in the transfer step, the presence or absence of a transfer defect is determined by measuring a multi-wavelength reflection spectrum of the elastic substrate.

また本発明の方法は前記乾燥工程において、前記弾性基材の多波長反射スペクトルを測定して、弾性基材の乾燥時間を決定することを特徴とする印刷方法である。   The method of the present invention is a printing method characterized in that, in the drying step, the multi-wavelength reflection spectrum of the elastic substrate is measured to determine the drying time of the elastic substrate.

ここで前記乾燥工程において、前記弾性基材の多波長反射スペクトルは実質上、弾性基材上、あるいは弾性基材に吸収されたインク由来の液体成分の多波長反射スペクトルを含んでおり、例えばインクの液体成分にエタノールやブタノールなどのアルコール含んでいれば、1700nm付近にアルコール類由来の水酸基の吸収を定量的に計測することができる。   Here, in the drying step, the multi-wavelength reflection spectrum of the elastic substrate substantially includes the multi-wavelength reflection spectrum of the liquid component derived from the ink absorbed on the elastic substrate or the elastic substrate. If the liquid component contains an alcohol such as ethanol or butanol, the absorption of the hydroxyl group derived from the alcohol can be quantitatively measured at around 1700 nm.

前記乾燥工程で前記弾性基材を乾燥する方法には特に限定は無く、公知公用の乾燥方法を用いることができ、例えば送風乾燥、熱風送風乾燥、遠赤外線ヒーターによる乾燥などを挙げることができる。 There is no particular limitation on the method for drying the elastic substrate in the drying step, and a publicly known drying method can be used. Examples thereof include air drying, hot air air drying, and drying using a far infrared heater.

前記乾燥工程で計測するインク由来の液体成分量を測定することにより、前記弾性基材の乾燥度を検査することができ、弾性基材に液体成分を蓄積させないための、必要な乾燥時間を決定することができる。これにより、印刷欠陥の低減が可能となり、例えば、電極細線に欠損や断線が大幅に抑制されたトランジスタの微細パターンが形成され、トランジスタの性能低下を抑制することができる。   By measuring the amount of ink-derived liquid component measured in the drying step, the degree of drying of the elastic substrate can be inspected, and the necessary drying time for preventing the liquid component from accumulating on the elastic substrate is determined. can do. As a result, it is possible to reduce printing defects. For example, a fine pattern of a transistor in which defects and disconnections are greatly suppressed is formed in the electrode thin line, and deterioration in the performance of the transistor can be suppressed.

前記の多波長反射スペクトルを測定する方法に関しては特に限定は無く、測定するスペクトル範囲が300nmから2500nm、あるいは前記反射スペクトルの範囲が400nmから1000nmであれば問題なく本発明の多波長反射スペクトル測定方法として使用することができる。 The method for measuring the multi-wavelength reflection spectrum is not particularly limited. If the spectrum range to be measured is 300 nm to 2500 nm, or the range of the reflection spectrum is 400 nm to 1000 nm, there is no problem. Can be used as

本発明の多波長反射スペクトルの測定は、スペクトル範囲が300nmから2500nm、あるいは前記反射スペクトルの範囲が400nmから1000nmで、少なくとも2波長以上の反射スペクトルを測定するものであれば、特に限定は無いが、例えば、波長450nmと波長600nmの2波長の反射スペクトルを測定する、もしくは波長が500nmから2000nmの範囲で5nm間隔で連続的に測定してもよい。 The measurement of the multi-wavelength reflection spectrum of the present invention is not particularly limited as long as the spectrum range is 300 nm to 2500 nm, or the reflection spectrum range is 400 nm to 1000 nm and the reflection spectrum of at least two wavelengths is measured. For example, a reflection spectrum of two wavelengths of a wavelength of 450 nm and a wavelength of 600 nm may be measured, or may be continuously measured at intervals of 5 nm in a wavelength range of 500 nm to 2000 nm.

本発明の多波長反射スペクトルの測定は、インク膜、および弾性基材の反射スペクトルの複数波長成分を同時に測定することができるので、各波長それぞれの経時変化を追跡することにより、インク膜の欠陥、インク膜の濃縮度、弾性基材の乾燥度をより正確に検査できるので、印刷欠陥が大幅に低減され、例えば、電極細線に欠損や断線が大幅に抑制されたトランジスタの微細パターンが形成可能となり、トランジスタの性能低下を抑制することができる。 The measurement of the multi-wavelength reflection spectrum of the present invention can simultaneously measure multiple wavelength components of the reflection spectrum of the ink film and the elastic base material. In addition, since the ink film concentration and the dryness of the elastic substrate can be more accurately inspected, printing defects can be greatly reduced. For example, fine transistor patterns can be formed in which electrode defects are greatly suppressed. Thus, it is possible to suppress deterioration in the performance of the transistor.

また本発明の多波長反射スペクトル測定は離型性を有する弾性基材上のインク膜、あるいは弾性基材の表面の反射スペクトルを測定するため、該インク膜、あるいは弾性基材全体の反射スペクトル測定が好ましい。このような目的に適する多波長反射スペクトル測定装置として、ハイパースペクトルカメラを挙げることができる。   In addition, the multi-wavelength reflection spectrum measurement of the present invention measures the reflection spectrum of the ink film on the elastic base material having releasability or the surface of the elastic base material. Is preferred. A hyperspectral camera can be cited as a multi-wavelength reflection spectrum measuring apparatus suitable for such purposes.

ハイパースペクトルカメラは一般的なCCDカメラと異なり、波長が300nmから18000nmの可視光から赤外線の幅広い波長領域を細かく区分けし、それぞれの波長域での光強度(波長スペクトル)を取得することができるので、肉眼では識別困難な色ムラや、異物混入・経時変化の検出が可能である。 Unlike a general CCD camera, a hyperspectral camera can subdivide a wide wavelength range from visible light to infrared light with a wavelength of 300 nm to 18000 nm, and acquire the light intensity (wavelength spectrum) in each wavelength range. In addition, it is possible to detect color unevenness that is difficult to identify with the naked eye, and detection of foreign matter contamination and changes with time.

また一般のCCDカメラが可視光領域をカラーフィルター等で、赤、緑、青に分光し、それぞれを取得することで、画像を得ているのに対して、ハイパースペクトルカメラは回折格子等で分光し、非常に狭い波長域の光強度を個々に取得することで、肉眼では識別困難な細かな色の情報を判別しており、可視光領域だけではなく、赤外線領域(波長700nm〜2500nm近傍)領域も撮像することができるので、そのスペクトルを分析することで、対象物の物性や濃度も知ることができる。 In addition, a general CCD camera spectrally separates the visible light region into red, green, and blue using a color filter, etc., and obtains each image, while a hyperspectral camera spectrally separates using a diffraction grating or the like. In addition, by acquiring individual light intensities in a very narrow wavelength range, fine color information that is difficult to identify with the naked eye is discriminated, and not only in the visible light region but also in the infrared region (wavelength 700 nm to 2500 nm). Since the region can also be imaged, the physical properties and concentration of the object can be known by analyzing the spectrum.

したがってハイパースペクトルカメラは前記のインク膜を濃縮する第二工程において、弾性基材上の急激に濃度が変化するインク膜の多波長反射スペクトルを測定して、前記第二工程の濃縮時間を決定することに適している。   Therefore, in the second step of concentrating the ink film, the hyperspectral camera measures the multi-wavelength reflection spectrum of the ink film on the elastic substrate whose concentration changes rapidly, and determines the concentration time of the second step. Suitable for that.

またハイパースペクトルカメラは前記記載の第四工程において、前記インク離型性を有する弾性基材の多波長反射スペクトルを測定して、残留するインク膜の有無を検出することにより、転写欠陥の有無を判断することに適している。 Further, in the fourth step described above, the hyperspectral camera measures the multi-wavelength reflection spectrum of the elastic base material having the ink releasability and detects the presence or absence of a remaining ink film, thereby determining the presence or absence of a transfer defect. Suitable for judging.

またハイパースペクトルカメラは前記記載の第五工程において、前記インク離型性を有する弾性基材の多波長反射スペクトルを測定して、弾性基材表面、あるいは内部に浸透している液体成分の有無、あるいはその量を測定することにより、前記弾性基材の乾燥時間を決定することに適している。 Further, in the fifth step described above, the hyperspectral camera measures the multi-wavelength reflection spectrum of the elastic substrate having the ink releasability, and the presence or absence of a liquid component penetrating into the elastic substrate surface or inside, Or it is suitable for determining the drying time of the said elastic base material by measuring the quantity.

本発明の印刷方法には公知公用のハイパースペクトルを用いることができ、一例としてエバ・ジャパン株式会社NH−7、あるいはSISシリーズ、RESONON社のPIKAシリーズ、Headwall Photonics社のHyperSpecシリーズを挙げることができる。   For the printing method of the present invention, a publicly known hyperspectrum can be used, and examples include Eva Japan Co., Ltd. NH-7, SIS series, RESONON PIKA series, Headwall Photonics HyperSpec series. .

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は以下の実施例に限定されるものではない。 Examples The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. However, the scope of the present invention is not limited to the following examples.

(印刷準備(インク))
反転オフセット印刷用インクとして、銀ナノ粒子分散導電性インク(銀の固形分として15%、平均粒子径20μm)を用いた。該導電性インクは本発明の方法で印刷した後、180℃で30分間、オーブン中で加熱することにより、導電性を有する印刷物とすることができる。
(Preparation for printing (ink))
As the reverse offset printing ink, a silver nanoparticle-dispersed conductive ink (15% as a solid content of silver and an average particle diameter of 20 μm) was used. The conductive ink can be printed by the method of the present invention, and then heated in an oven at 180 ° C. for 30 minutes to obtain a printed matter having conductivity.

(印刷準備(弾性基材))
弾性基材として、120μm厚みのポリエステルフィルムに200μm厚みのシリコーンゴムを積層接着した50mm×50mm角のものを用いた。
(Preparation for printing (elastic substrate))
As the elastic substrate, a 50 mm × 50 mm square material in which a 200 μm thick silicone rubber was laminated and adhered to a 120 μm thick polyester film was used.

(印刷準備(版))
印刷用版は厚み3.0mmのウェットエッチング法で印刷パターンを加工した65mm×65mm角のソーダガラス版を用いた。印刷パターンには印刷方向(除去、転写方向)に平行、および垂直な、幅100μmで長さが20mmの直線パターンを含む(図3)。該直線パターンは500μm間隔で配置され、平行、垂直ともにそれぞれ、40本作製した。該直線パターン以外に観察用の格子パターン(45°傾斜、幅100μm)、円柱パターン(直径200μm、千鳥配置)を作製した。
(Print preparation (version))
As a printing plate, a 65 mm × 65 mm square soda glass plate obtained by processing a printing pattern by a wet etching method having a thickness of 3.0 mm was used. The print pattern includes a linear pattern having a width of 100 μm and a length of 20 mm parallel to and perpendicular to the print direction (removal and transfer direction) (FIG. 3). The linear patterns were arranged at intervals of 500 μm, and 40 parallel and vertical lines were produced. In addition to the linear pattern, an observation lattice pattern (45 ° inclination, width 100 μm) and a cylindrical pattern (diameter 200 μm, staggered arrangement) were prepared.

(印刷準備(印刷基材))
印刷基材として60mm×60角で0.7mm厚みの無アルカリガラス板を使用した。
(Preparation for printing (printing substrate))
A non-alkali glass plate having a size of 60 mm × 60 squares and a thickness of 0.7 mm was used as a printing substrate.

(印刷準備(印刷装置))
印刷装置としてMHIソリューションテクノロジーズ株式会社製PE−TESTER P−100を使用した。
(Print preparation (printing device))
PE-TESTER P-100 manufactured by MHI Solution Technologies Co., Ltd. was used as a printing apparatus.

(インク膜形成工程)
前記導電性インクを前記弾性基材にガラス製スリットダイコーターを用いて塗布することにより、前記弾性基材上にインク膜を形成した。
(Ink film forming process)
An ink film was formed on the elastic substrate by applying the conductive ink to the elastic substrate using a glass slit die coater.

(濃縮工程)
インク膜形成後、30秒経過した後、エバ・ジャパン社製ハイパースペクトルカメラNH−8を用いて波長範囲400nmから1000nmの範囲でインク膜全体を撮像した。さらに同様にして、30秒毎にインク膜を撮像した。この間、インク膜の濃縮が進行し、インク膜はしだいに銀光沢を帯びた。
(Concentration process)
After 30 seconds from the formation of the ink film, the entire ink film was imaged in the wavelength range of 400 nm to 1000 nm using a hyperspectral camera NH-8 manufactured by Eva Japan. Similarly, an ink film was imaged every 30 seconds. During this time, the concentration of the ink film progressed, and the ink film gradually became silvery.

(除去工程)
続いてインク膜が形成された弾性基材を版に密着させ、前記インク膜の不要な部分を除去凸版に接触させることで除去し、弾性基材表面に印刷パターンを形成した。
(Removal process)
Subsequently, the elastic base material on which the ink film was formed was brought into close contact with the plate, and unnecessary portions of the ink film were removed by contacting with the removal relief plate to form a print pattern on the surface of the elastic base material.

(転写工程)
次に、印刷パターンが形成された弾性基材を印刷基材に密着させて離すことで、印刷パターンを印刷基材に転写することにより、印刷基材上に印刷物を得た。
(Transfer process)
Next, the printed material was obtained on the printing substrate by transferring the printing pattern to the printing substrate by bringing the elastic substrate on which the printing pattern was formed into close contact with the printing substrate and releasing it.

同様にして数回、印刷を繰返し、濃縮工程におけるインク膜の多波長反射スペクトル測定、除去、転写を実施して印刷物を得た。このとき濃縮時間は前記の90秒に限定せず、60か秒から150秒の範囲で30秒毎に設定することにより、濃縮時間の異なる印刷を実施した。 Similarly, printing was repeated several times, and the multi-wavelength reflection spectrum measurement, removal, and transfer of the ink film in the concentration step were performed to obtain a printed matter. At this time, the concentration time is not limited to the above 90 seconds, and printing is performed with different concentration times by setting every 30 seconds in the range of 60 seconds to 150 seconds.

前記インク膜は、前記弾性基材上に塗布後、蒸発と弾性基材への液体成分吸収により、濃縮され、しだいに銀光沢を呈するが、塗布後60秒程度では該インク膜の端部に比して、中央部分の濃縮は不十分であった。前記印刷の一例として、塗布によるインク膜形成後、90秒経過後にインク膜全体が銀光沢を帯びたのを確認し、該インク膜を前記ソーダガラス版に接触させ、インクの不要部分を除去した後、前記印刷基材に弾性基材上にパターニングされたインク膜を印刷基材に転写することにより、印刷物を得た。得られた印刷物をキーエンス社製レーザー顕微鏡VK−8700で観察したところ、印刷欠陥は見られず、印刷パターン形状は良好であった。   The ink film is coated on the elastic base material and then concentrated by evaporation and absorption of liquid components into the elastic base material, and gradually becomes silvery glossy. In contrast, the concentration in the central part was insufficient. As an example of the printing, after the ink film was formed by coating, it was confirmed that the entire ink film was silvery after 90 seconds had elapsed, the ink film was brought into contact with the soda glass plate, and unnecessary portions of the ink were removed. Thereafter, an ink film patterned on the elastic substrate was transferred to the printing substrate to obtain a printed matter. When the obtained printed matter was observed with a laser microscope VK-8700 manufactured by Keyence Corporation, no printing defect was observed, and the printed pattern shape was good.

(濃縮工程のインク膜の多波長反射スペクトル解析)
続いて、前記濃縮工程で撮像したインク膜の多波長反射スペクトルを解析して、多波長反射スペクトルの経時変化を比較した(図4〜図6)。その結果、前記銀インクからなるインク膜では、塗布直後の未濃縮状態では780nm付近の反射スペクトル強度が高く、濃縮の進行に伴って、620nm付近のスペクトル強度が高まることが見出された。前記繰返し印刷における濃縮工程の反射スペクトル比(=620nmの反射スペクトル/780nmの反射スペクトル)を算出すると、該スペクトル比が0.95未満ではインク膜濃縮不良による解像性の低さが確認され、該スペクトル比が1.04以上ではインク膜の濃縮が進み過ぎて固体状に近い膜となり、印刷不良を生じることが判明した。したがって、濃縮時間に係らず、該スペクトル比が0.95以上で1.04未満であれば、良好な印刷物が得られることを見出した。
(Multi-wavelength reflection spectrum analysis of ink film in concentration process)
Subsequently, the multi-wavelength reflection spectrum of the ink film imaged in the concentration step was analyzed, and the change with time of the multi-wavelength reflection spectrum was compared (FIGS. 4 to 6). As a result, it was found that the ink film made of the silver ink has a high reflection spectral intensity around 780 nm in an unconcentrated state immediately after coating, and the spectral intensity around 620 nm increases with the progress of concentration. When the reflection spectrum ratio (= 620 nm reflection spectrum / 780 nm reflection spectrum) of the concentration process in the repeated printing is calculated, if the spectrum ratio is less than 0.95, low resolution due to poor ink film concentration is confirmed. It was found that when the spectral ratio is 1.04 or more, the ink film is excessively concentrated, resulting in a film that is nearly solid, resulting in poor printing. Therefore, it was found that good printed matter can be obtained when the spectral ratio is 0.95 or more and less than 1.04 regardless of the concentration time.

ただし、前記インク膜の反射スペクトル比に関しては、使用するインクによって選択する波長が異なり、かつ、そのスペクトル比の最適範囲も異なる。したがって、使用するインク毎にインク膜の濃縮度とスペクトルの関係を取得し、最適スペクトル比の範囲を決定してから、連続印刷を実施する。よって解析する多波長反射スペクトル、およびそのスペクトル比は本実施例に限定されない。 However, with respect to the reflection spectral ratio of the ink film, the wavelength to be selected differs depending on the ink used, and the optimum range of the spectral ratio is also different. Therefore, after obtaining the relationship between the concentration of the ink film and the spectrum for each ink to be used and determining the range of the optimum spectral ratio, continuous printing is performed. Therefore, the multi-wavelength reflection spectrum to be analyzed and the spectrum ratio are not limited to the present embodiment.

(連続印刷)
前記のインク膜形成から転写工程までの一連の反転オフセット印刷工程を20回繰返す連続印刷を実施した。塗布によるインク膜形成後、30秒毎に各印刷のインク膜濃縮工程で前記のハイパースペクトルカメラによる撮像を実施し、インク膜全体の反射スペクトルを測定した。前記のインク膜中央部の反射スペクトル比が0.95以上であり、かつ、1.04未満であることを確認して、除去工程、転写工程を実施した。このとき、弾性基材へのインク由来の液体成分吸収が蓄積されるため、濃縮に要する時間は印刷を重ねるごとに長時間化したものの、問題なく20回連続で繰返し印刷することができた。
(Continuous printing)
Continuous printing was performed by repeating a series of reverse offset printing steps from the ink film formation to the transfer step 20 times. After the ink film was formed by coating, imaging with the hyperspectral camera was performed in the ink film concentration step of each printing every 30 seconds, and the reflection spectrum of the entire ink film was measured. After confirming that the reflection spectrum ratio at the central portion of the ink film was 0.95 or more and less than 1.04, the removal step and the transfer step were performed. At this time, since the liquid component absorption derived from the ink was accumulated in the elastic substrate, the time required for the concentration was increased every time printing was repeated, but the printing could be repeated 20 times continuously without any problem.

(印刷物評価)
連続20回の印刷の後、得られた印刷物をレーザー顕微鏡で観察したところ、印刷欠陥はほぼ見られず、印刷パターンの解像性は高く、良好であった。また印刷物を180℃で30分、オーブン中で加熱熱風焼成した後、日置電機株式会社製X−Y C HiTESTERを用いて前記記載の直線パターン(合計80本)の抵抗値を測定することにより、断線、ショートを検査したところ、無欠陥であった(表1)。
(Print evaluation)
When the obtained printed matter was observed with a laser microscope after 20 continuous printings, almost no printing defects were observed, and the resolution of the printed pattern was high and good. In addition, after the printed matter was heated and heated in an oven at 180 ° C. for 30 minutes, the resistance value of the linear pattern described above (total of 80) was measured using XYC HiTESTER manufactured by Hioki Electric Co., Ltd. Inspection of disconnection and short circuit revealed no defects (Table 1).

(塗布欠陥)
また前記連続印刷において、本発明のインク膜の多波長反射スペクトルを測定することにより、撮像画像から塗布不良を検出することができる。すなわち、インク膜形成工程において、インク膜にカスレやピンホールなどが生じて、均一なインク膜が形成されてないことが、撮像画像あるいは反射スペクトルデータから確認された場合、直ちに印刷を中止し、不良なインク膜を弾性基材から除去することにより、連続印刷を継続することができる。
(Coating defects)
Further, in the continuous printing, by measuring the multi-wavelength reflection spectrum of the ink film of the present invention, it is possible to detect a coating failure from the captured image. That is, in the ink film formation process, if it is confirmed from the captured image or the reflection spectrum data that the ink film is crushed or pinholes and a uniform ink film is not formed, printing is immediately stopped, Continuous printing can be continued by removing the defective ink film from the elastic substrate.

例えば実施例1において、印刷13回目でピンホール発生によるインク膜形成不良が発生したので、印刷を中断し、不良なインク膜を除去した。不良インク膜形成を見落とした場合、不良印刷物が発生する上、版洗浄作業の負荷も加わるので、大幅に生産性が低下し、好ましくない。一般に反転オフセット印刷のインク膜形成工程で形成されるインク膜は薄膜であり、インク種によっては透明なので、目視による判別が困難である。本発明の多波長反射スペクトル測定、および撮像画像のスペクトルデータに基づく可視化により、目視に比して著しく欠陥判別しやすくなる。したがって、本発明の方法を用いることで、生産性低下やインク膜が不良のまま除去、転写、版洗浄工程を実施し、その結果生じる版洗浄工程由来の廃液量増大を抑制することができる。 For example, in Example 1, since an ink film formation failure due to the occurrence of pinholes occurred at the 13th printing, printing was interrupted and the defective ink film was removed. If the formation of a defective ink film is overlooked, a defective printed matter is generated and a load of plate cleaning work is added, which is not preferable because productivity is greatly reduced. In general, the ink film formed in the ink film forming process of the reverse offset printing is a thin film and is transparent depending on the type of ink, so that visual discrimination is difficult. By the multi-wavelength reflection spectrum measurement of the present invention and the visualization based on the spectrum data of the captured image, it becomes significantly easier to discriminate defects as compared with visual observation. Therefore, by using the method of the present invention, it is possible to perform the removal, transfer, and plate cleaning steps while reducing the productivity and the ink film being defective, and the resulting increase in the amount of waste liquid derived from the plate cleaning step can be suppressed.

(転写欠陥)
また前記連続印刷の転写工程において、本発明のインク膜の多波長反射スペクトルを測定することにより、転写欠陥の有無を判断することができる。すなわち、除去工程、もしくは転写工程において、インク膜が前記弾性基材から版、もしくは印刷基材に移行せず、弾性基材に残留すれば、本発明の多波長反射スペクトルを測定することにより、インク膜由来のスペクトルが検出されるので、欠陥の有無を判断することができる。
(Transfer defects)
In the continuous printing transfer step, the presence or absence of transfer defects can be determined by measuring the multiwavelength reflection spectrum of the ink film of the present invention. That is, in the removal step or the transfer step, if the ink film does not move from the elastic base material to the plate or the printing base material and remains on the elastic base material, by measuring the multi-wavelength reflection spectrum of the present invention, Since the spectrum derived from the ink film is detected, the presence or absence of a defect can be determined.

例えば実施例1の印刷8回目の転写工程において、ハイパースペクトルカメラによる撮像画像から弾性基材上にインク膜の残留を検出、すなわち転写不良を確認したので、印刷を中断し、弾性基材から不良なインク膜を除去した。本発明の方法を用いることで、連続印刷における印刷不良の検出を速やかに実施することができるので、生産性低下を大幅に抑制することができる。 For example, in the transfer process of the eighth printing in Example 1, since the residual ink film is detected on the elastic base material from the image captured by the hyperspectral camera, that is, the transfer failure is confirmed, the printing is interrupted and the elastic base material is defective. The ink film was removed. By using the method of the present invention, it is possible to promptly detect printing defects in continuous printing, and thus it is possible to greatly suppress a decrease in productivity.

Figure 2019025748
Figure 2019025748

(比較例1)
前記インク膜濃縮工程における濃縮時間を90秒に固定する以外は、実施例1と同様にして、印刷準備を実施した後、反転オフセット印刷を連続で実施した(インク膜の撮像、多波長反射スペクトル測定は実施しない)。印刷10回目、11回目に連続して転写不良が発生した。目視で弾性基材上のインク膜の残留を確認した。さらに印刷12回目、13回目の除去工程において、未濃縮インク膜が版と接触することによって生じた除去不良を確認した。さらに印刷14回目、15回目のインク膜形成工程において、一部のインク膜除去不良由来と考えられるピンホール状のインク膜形成不良が発生したため、連続印刷を中止した。また印刷後の電気特性評価において、印刷7回目以降の印刷物には断線、ショートが多数、発生していることが確認され、印刷良品が得られていなかったことを確認した(表2)。印刷物の顕微鏡観察からも、印刷7回目以降は全体的に解像性が低いことを確認した。
(Comparative Example 1)
Except for fixing the concentration time in the ink film concentration step to 90 seconds, after performing the print preparation in the same manner as in Example 1, reverse offset printing was continuously performed (ink film imaging, multi-wavelength reflection spectrum). Measurement is not performed). Transfer defects occurred continuously in the 10th and 11th printing. The residual ink film on the elastic substrate was visually confirmed. Further, in the twelfth and thirteenth printing removal steps, removal defects caused by the unconcentrated ink film coming into contact with the plate were confirmed. Furthermore, in the 14th and 15th ink film forming steps, a pinhole-like ink film formation defect thought to be caused by some ink film removal defects occurred, and thus continuous printing was stopped. Moreover, in the electrical property evaluation after printing, it was confirmed that many disconnections and shorts occurred in the printed material after the seventh printing, and it was confirmed that no print quality was obtained (Table 2). From the microscopic observation of the printed matter, it was confirmed that the overall resolution was low after the seventh printing.

Figure 2019025748
Figure 2019025748

(印刷準備(インク))
反転オフセット印刷用の絶縁体インクとして、UV硬化性スチレンアクリル樹脂のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、PGMEA)溶液(固形分として20%、ほぼ無色)を用いる以外は、実施例1と同様にして印刷準備を実施した。本発明の方法で印刷した後、印刷基材上のパターニングされた該絶縁体インク膜を高圧水銀ランプを具備したUV照射装置を用いて、積算光量2000mJ/cm2で硬化することにより、絶縁性を有する透明の印刷物とすることができる。
(Preparation for printing (ink))
The same procedure as in Example 1 was used except that a UV curable styrene acrylic resin propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter, PGMEA) solution (20% as solid content, almost colorless) was used as the insulating ink for reverse offset printing. Prepared for printing. After printing by the method of the present invention, the insulating ink film patterned on the printing substrate is cured with an integrated light quantity of 2000 mJ / cm 2 using a UV irradiation device equipped with a high-pressure mercury lamp, thereby providing insulation. It can be set as a transparent printed matter.

(印刷準備(弾性基材、版、印刷基材)
インク以外の部材、装置は実施例1と同様にして、印刷準備を実施した。
(Preparation for printing (elastic substrate, plate, printing substrate)
In the same manner as in Example 1, materials and devices other than ink were prepared for printing.

(インク膜形成工程)
実施例1と同様にして、前記弾性基材上にインク膜を形成した。
(Ink film forming process)
In the same manner as in Example 1, an ink film was formed on the elastic substrate.

(濃縮工程)
インク膜形成後、エバ・ジャパン社製ハイパースペクトルカメラSIS−1を用いて波長範囲1000nmから1600nmの近赤外領域でインク膜全体を撮像した。前記インク膜形成工程で良好なインク膜が形成されているかどうかは、該インク膜が透明薄膜であるため、目視では判断できないが、本発明の近赤外域の撮像画像からは判断できる。前記絶縁体インクでは1320nm、および1420nmの反射スペクトルからインク膜形成状態を判断した(図7)。撮像画像と反射スペクトルから良好なインク膜が形成されていないことが確認された場合は、直ちに印刷を中断し、以後の工程を実施しないことにより、生産性低下を抑制することができ、版洗浄に伴う洗浄液使用、廃液処理の負荷を低減することができる。
(Concentration process)
After the ink film was formed, the entire ink film was imaged in the near-infrared region with a wavelength range of 1000 nm to 1600 nm using a hyperspectral camera SIS-1 manufactured by Eva Japan. Whether or not a good ink film is formed in the ink film forming step cannot be determined by visual observation because the ink film is a transparent thin film, but can be determined from a captured image in the near infrared region of the present invention. In the insulator ink, the ink film formation state was judged from the reflection spectra of 1320 nm and 1420 nm (FIG. 7). If it is confirmed from the captured image and the reflection spectrum that a good ink film is not formed, printing is interrupted immediately, and the subsequent steps are not performed, so that the productivity drop can be suppressed and the plate is washed. It is possible to reduce the load of using the cleaning liquid and waste liquid treatment.

前記撮像から良好なインク膜が形成されていることを確認した後、90秒間、該インク膜の液体成分を前記弾性基材に吸収させるか、あるいは揮発させることにより、インク膜の濃縮を進行させた。このとき、インク膜はしだいに透明フィルム状に変化した。 After confirming that a good ink film has been formed from the imaging, the liquid component of the ink film is absorbed by the elastic base material or volatilized for 90 seconds to advance the concentration of the ink film. It was. At this time, the ink film gradually changed to a transparent film.

(除去工程)
実施例1と同様にして、インク膜が形成された弾性基材を版に密着させ、前記インク膜の不要な部分を除去凸版に接触させることで除去し、弾性基材表面に印刷パターンを形成した。
(Removal process)
In the same manner as in Example 1, the elastic base material on which the ink film was formed was brought into close contact with the plate, and unnecessary portions of the ink film were removed by contacting the removal relief plate to form a print pattern on the surface of the elastic base material. did.

(転写工程)
実施例1と同様にして、印刷パターンが形成された弾性基材を印刷基材に密着させて離すことで、印刷パターンを印刷基材に転写することにより、印刷基材上に印刷パターンが形成された印刷物を得た。
(Transfer process)
In the same manner as in Example 1, the printed pattern is formed on the printing substrate by transferring the printing pattern to the printing substrate by bringing the elastic substrate on which the printing pattern is formed into close contact with the printing substrate and releasing it. Printed material was obtained.

(乾燥工程)
転写後の弾性基材を前記ハイパースペクトルカメラSIS−1を用いて波長範囲1000nmから1600nmの範囲で30秒毎に撮像した。撮像画像をもとに取得した多波長反射スペクトルから、弾性基材上、もしくは弾性基材内部に浸透したPGMEAと見られるインク由来の液体成分を確認した。さらに30秒毎の撮像の結果、乾燥の進行に伴って、該インク由来成分の低減が確認された。該インク由来成分はPGMEAなどの揮発性液体であり、乾燥工程の送風によって揮発し、しだいに前記弾性基材から除去されたと考えられる。本発明の方法で弾性基材の乾燥度を検査することにより、乾燥に必要な最短時間を決定できるので、印刷時間の短縮が可能となり、乾燥に必要な送風量を最小限に抑えることに寄与できる。
(Drying process)
The transferred elastic substrate was imaged every 30 seconds in the wavelength range of 1000 nm to 1600 nm using the hyperspectral camera SIS-1. From the multi-wavelength reflection spectrum acquired based on the captured image, an ink-derived liquid component seen as PGMEA permeating into the elastic base material or inside the elastic base material was confirmed. Further, as a result of imaging every 30 seconds, it was confirmed that the ink-derived component was reduced as the drying progressed. The ink-derived component is a volatile liquid such as PGMEA, and is volatilized by blowing air in the drying process and is considered to be gradually removed from the elastic substrate. By inspecting the dryness of the elastic substrate by the method of the present invention, the shortest time required for drying can be determined, so that the printing time can be shortened and contributes to minimizing the air flow required for drying. it can.

(乾燥工程のインク膜の多波長反射スペクトル解析)
前記乾燥工程で撮像したインク膜の多波長反射スペクトル(図7)を解析して、乾燥進行に伴う、多波長反射スペクトルの経時変化を追跡した(図8)。乾燥の進行に伴い、多波長反射スペクトルの変化率が低下することが確認された。測定波長領域1000nm〜1600nmの範囲で変化率が1.01を下回るまで前記弾性基材を乾燥することにより、繰返し印刷が可能であることを確認した。なお、繰返し印刷が可能となる変化率は使用するインクによって異なるため、使用するインク毎に弾性基材の多波長反射スペクトルを測定し、その経時変化から変化率を導出して、乾燥度との関係を取得し、必要な乾燥時間を決定してから、連続印刷を実施する。したがって解析する多波長反射スペクトル、および前記変化率は本実施例に限定されない。
(Multi-wavelength reflection spectrum analysis of ink film in drying process)
The multi-wavelength reflection spectrum (FIG. 7) of the ink film imaged in the drying process was analyzed, and the change with time of the multi-wavelength reflection spectrum as the drying progressed was tracked (FIG. 8). It was confirmed that the rate of change of the multi-wavelength reflection spectrum decreases with the progress of drying. It was confirmed that repeated printing was possible by drying the elastic substrate until the rate of change was less than 1.01 in the measurement wavelength range of 1000 nm to 1600 nm. Since the rate of change at which repeated printing is possible varies depending on the ink used, the multi-wavelength reflection spectrum of the elastic substrate is measured for each ink used, and the rate of change is derived from the change over time. After obtaining the relationship and determining the required drying time, continuous printing is performed. Therefore, the multi-wavelength reflection spectrum to be analyzed and the rate of change are not limited to the present embodiment.

(連続印刷)
前記乾燥工程で前記弾性基材の多波長反射スペクトルを測定し、該スペクトルが経時的にほとんど変化せず、インク由来成分の残留がほとんどないと判断された後に送風乾燥を終了して、次の印刷を実施することにより、安定的に繰返し印刷を実施することができる。ここで弾性基材の乾燥が不十分のまま、繰返し印刷を実施すると、前記弾性基材の表面、あるいは内部にインク由来の液体成分が蓄積され、インク膜形成不良や、濃縮時間の長時間化など、安定的な連続印刷の妨げとなり、好ましくない。また送風による乾燥時間を過剰に長くすると、印刷工程が長時間化し、かつ、送風に伴うエネルギー使用量増大につながり、好ましくない。本発明の多波長スペクトルを測定する反転オフセット印刷方法により、適切な乾燥時間を印刷毎に設定することができ、この結果、安定的な印刷が実施できため、印刷欠陥が大幅に低減された印刷物を効率的に得ることができる。
(Continuous printing)
The multi-wavelength reflection spectrum of the elastic base material was measured in the drying step, and after the spectrum was judged to hardly change over time and the ink-derived component was hardly left, air drying was terminated, and the following By performing printing, it is possible to stably and repeatedly perform printing. If the elastic substrate is repeatedly dried with insufficient drying of the elastic substrate, liquid components derived from ink accumulate on the surface or inside of the elastic substrate, resulting in poor ink film formation and longer concentration time. This is not preferable because it hinders stable continuous printing. Also, if the drying time by blowing is excessively long, the printing process is prolonged, leading to an increase in energy usage accompanying the blowing, which is not preferable. According to the reverse offset printing method for measuring a multi-wavelength spectrum of the present invention, an appropriate drying time can be set for each printing, and as a result, a stable printing can be carried out, and a printed matter with greatly reduced printing defects. Can be obtained efficiently.

(印刷物評価)
連続20回の印刷の後、得られた印刷物をレーザー顕微鏡で観察したところ、印刷欠陥はほぼ見られず、印刷パターンは良好であった。また日置電機株式会社製X−Y C HiTESTERを用いて前記記載の直線パターン(合計80本)と印刷基材底面との間の静電容量を測定することにより、直線パターンの断線、および隣接する直線パターンの連結を検査したところ、これらの欠陥は最大1個以下であり、良好であった(表3)。
(Print evaluation)
After printing 20 times continuously, the obtained printed matter was observed with a laser microscope. As a result, almost no printing defects were found and the printing pattern was good. Further, by measuring the capacitance between the above-described linear pattern (total of 80) and the bottom surface of the printing substrate using an XYC HiTESTER manufactured by Hioki Electric Co., Ltd., the linear pattern is disconnected and adjacent. When the connection of the straight line patterns was inspected, the number of these defects was 1 or less, which was good (Table 3).

(塗布欠陥)
実施例2において、本発明の近赤外領域の多波長反射スペクトル測定から、印刷11回目で塗工方向にスジ状の塗布不良が検出されたので、印刷を中断し、不良なインク膜を除去した。なお、このとき該インク膜は透明であることから、目視による欠陥の検出は不可能であった。塗布欠陥を含むインク膜を除去した後、連続印刷を再開した。
(Coating defects)
In Example 2, a streak-like coating defect was detected in the coating direction from the multi-wavelength reflection spectrum measurement in the near-infrared region of the present invention, so printing was interrupted and the defective ink film was removed. did. At this time, since the ink film was transparent, it was impossible to detect defects visually. After removing the ink film containing the coating defect, continuous printing was resumed.

(転写欠陥)
実施例2において、本発明の近赤外領域の多波長反射スペクトル測定から、印刷5回目に転写不良によるインク膜の弾性基材への残留を検出したので、印刷を中断し、不良なインク膜を除去した。なお、このとき該インク膜は透明であることから、目視による欠陥の検出は不可能であった。弾性基材に残留するインク膜を除去した後、連続印刷を再開した。
(Transfer defects)
In Example 2, since the remaining of the ink film on the elastic base material due to transfer failure was detected at the fifth printing from the multi-wavelength reflection spectrum measurement in the near-infrared region of the present invention, the printing was interrupted, and the defective ink film Was removed. At this time, since the ink film was transparent, it was impossible to detect defects visually. After removing the ink film remaining on the elastic substrate, continuous printing was resumed.

塗布欠陥、転写欠陥ともに、本発明の多波長反射スペクトル測定によって欠陥検出することにより、目視、CCDカメラ等では検出できない欠陥を検出することができる。本発明の方法を用いることで、生産性低下、および版洗浄に伴う廃液量増大を抑制することができる。 By detecting defects by the multiwavelength reflection spectrum measurement of the present invention, both coating defects and transfer defects can detect defects that cannot be detected visually or with a CCD camera or the like. By using the method of the present invention, it is possible to suppress a decrease in productivity and an increase in the amount of waste liquid accompanying plate washing.

Figure 2019025748
Figure 2019025748

(比較例2)
前記インク膜濃縮工程における濃縮時間を90秒に固定する以外は、実施例2と同様にして、印刷準備を実施した後、反転オフセット印刷を連続で実施した(インク膜の撮像、多波長反射スペクトル測定は実施しない)。インク膜は透明なので、目視で欠陥、転写不良等を判断できないため、所定の連続20回印刷を実施した(図4参照)。その後、印刷物を顕微鏡観察で解像性を評価し、さらにハイテスタを用いて図3記載の直線パターンの断線、およびショート(直線パターンの連結)を検査したところ、印刷7回目から欠陥数増大が顕著になり、印刷良品は得られなかった。また印刷良品が得られないにもかかわらず、印刷毎に実施する版洗浄の洗浄廃液が蓄積され、生産性が低下した。

(Comparative Example 2)
Except for fixing the concentration time in the ink film concentration step to 90 seconds, the preparation for printing was performed in the same manner as in Example 2, and then reverse offset printing was continuously performed (imaging film imaging, multi-wavelength reflection spectrum). Measurement is not performed). Since the ink film is transparent, defects, transfer defects, etc. cannot be judged visually, and printing was carried out for a predetermined 20 consecutive times (see FIG. 4). After that, the resolution of the printed material was evaluated by microscopic observation, and further, the disconnection of the linear pattern shown in FIG. 3 and the short circuit (connection of the linear pattern) were inspected using a high tester. As a result, a good print was not obtained. In addition, despite the fact that a good printing product could not be obtained, the washing waste liquid from the plate cleaning performed every printing was accumulated, and the productivity was lowered.

Figure 2019025748
Figure 2019025748

1 : 弾性基材
1a : インク膜が塗布された弾性基材
1b : インク膜2aが形成された弾性基材
1c : インク膜2bが形成された弾性基材
1d : 印刷物
2 : インク膜
2a : 濃縮されたインク膜
2b : 弾性基材表面にパターニングされたインク膜
2c : 除去凸版に除去されたインク膜
3 : 除去凸版
4 : インク膜が付着した除去凸版
5 : 印刷基材
6 : 回転ドラム
7 : 定盤が走行するレール
8 : ハイパースペクトルカメラ
9 : ランプ
10 : 画像出力端末
11 : 弾性基材乾燥装置
12 : 空気
1: Elastic base material 1a: Elastic base material 1b coated with an ink film: Elastic base material 1c formed with an ink film 2a: Elastic base material 1d formed with an ink film 2b: Printed material 2: Ink film 2a: Concentration Ink film 2b: Ink film 2c patterned on elastic substrate surface: Ink film removed on removal relief plate 3: Removal relief plate 4: Removal relief plate with ink film attached 5: Printing substrate 6: Rotating drum 7: Rail 8 on which the surface plate travels: Hyperspectral camera 9: Lamp 10: Image output terminal 11: Elastic substrate drying device 12: Air

Claims (7)

少なくとも、インク離型性を有する弾性基材上にインクを塗布してインク膜を得る第一工程と、
前記インク膜を濃縮する第二工程と、
前記弾性基材上の前記インク膜を除去凸版と接触させて、前記インク膜から不要部分を除去して、前記弾性基材上にパターニングされたインク膜を得る第三工程と、
前記弾性基材上の前記パターニングされたインク膜を印刷基材に接触転写させて、印刷物を得る第四工程と、
前記弾性基材を乾燥する第五工程、
を含む印刷方法において、
前記第一工程で得られるインク膜の多波長反射スペクトルを測定して、塗工欠陥箇所を特定し、塗布欠陥印刷物を排除することを特徴とする印刷方法。
At least a first step of obtaining an ink film by applying ink on an elastic substrate having ink releasability;
A second step of concentrating the ink film;
A third step of obtaining an ink film patterned on the elastic base material by contacting the ink film on the elastic base material with a removing relief plate to remove unnecessary portions from the ink film;
A fourth step in which the patterned ink film on the elastic substrate is contact-transferred to a printing substrate to obtain a printed matter;
A fifth step of drying the elastic substrate;
In a printing method including
A printing method comprising measuring a multi-wavelength reflection spectrum of an ink film obtained in the first step, identifying a coating defect portion, and eliminating a coating defect printed matter.
請求項1記載の第二工程において、前記インク離型性を有する弾性基材上のインク膜の多波長反射スペクトルを測定して、前記第二工程の濃縮時間を決定することを特徴とする印刷方法。   2. The printing process according to claim 1, wherein a multi-wavelength reflection spectrum of an ink film on the elastic base material having ink releasability is measured to determine a concentration time of the second process. Method. 請求項1記載の第四工程において、前記インク離型性を有する弾性基材の多波長反射スペクトルを測定して、転写欠陥の有無を判断することを特徴とする印刷方法。   The printing method according to claim 1, wherein the multi-wavelength reflection spectrum of the elastic base material having ink releasability is measured to determine the presence or absence of a transfer defect. 請求項1記載の第五工程において、前記インク離型性を有する弾性基材の多波長反射スペクトルを測定して、弾性基材の乾燥時間を決定することを特徴とする印刷方法。   The printing method according to claim 5, wherein the drying time of the elastic substrate is determined by measuring a multi-wavelength reflection spectrum of the elastic substrate having ink releasability. 前記多波長反射スペクトルの検出手段がハイパースペクトルカメラである請求項1〜4いずれか1項に記載の印刷方法。   The printing method according to claim 1, wherein the multi-wavelength reflection spectrum detecting means is a hyperspectral camera. 前記反射スペクトルの範囲が300nmから2500nmである、請求項1〜5いずれか1項に記載の印刷方法。 The printing method according to any one of claims 1 to 5, wherein a range of the reflection spectrum is 300 nm to 2500 nm. 前記反射スペクトルの範囲が400nmから1000nmである、請求項1〜5いずれか1項に記載の印刷方法。   The printing method according to claim 1, wherein a range of the reflection spectrum is 400 nm to 1000 nm.
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