JP2019016742A - Multilayer substrate - Google Patents

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Abstract

To achieve a multilayer substrate having a constitution where a stepped part is formed at a boundary between a first region and a second region due to a difference in the number of lamination layers of insulating base material layers to inhibit variation in coil properties, which is caused by positional deviation of coil conductor patterns located near the stepped part.SOLUTION: A multilayer substrate 101 comprises a laminate 10 having a first region F1 and a second region F2, a stepped part SP and a coil 3 formed in the first region F1. The laminate 10 is formed by lamination of resin-based insulating base material layers in which the number of lamination layers is smaller in the second region F2 than in the first region F1. The stepped part SP is formed at a boundary between the first region F1 and the second region F2 due to a difference in the number of lamination layers of the insulating base material layers. The coil 3 is formed to include a plurality of coil conductor patterns 31, 32, 33, 34. The coil conductor patterns 31, 32, 33, 34 have a wide part WP at a part close to and along the stepped part SP, which has a line width relatively larger than that of the other part when viewed from a lamination direction (Z-axis direction) of the insulating base material layer.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、多層基板に関し、特に樹脂を主材料とする複数の絶縁基材層を積層した積層体と、この積層体に形成されるコイルとを備える多層基板に関する。   The present invention relates to a multilayer substrate, and more particularly to a multilayer substrate including a laminate in which a plurality of insulating base layers made mainly of a resin are laminated, and a coil formed in the laminate.

従来、樹脂を主材料とする複数の絶縁基材層を積層してなる積層体と、積層体に形成されるコイルと、を備える各種多層基板が知られている。   2. Description of the Related Art Conventionally, various multilayer substrates including a laminate formed by laminating a plurality of insulating base layers mainly composed of a resin and a coil formed on the laminate are known.

例えば、特許文献1には、厚肉部(以下、第1領域)および薄肉部(以下、第2領域)を有する積層体と、第1領域に形成されるコイルと、を備えた多層基板が開示されている。上記コイルは、2つ以上の絶縁基材層にそれぞれ形成される複数のコイル導体パターンを含んで構成されており、上記複数のコイル導体パターンは、複数の絶縁基材層の積層方向に重なるように配置されている。   For example, Patent Document 1 discloses a multilayer substrate including a laminated body having a thick portion (hereinafter referred to as a first region) and a thin portion (hereinafter referred to as a second region), and a coil formed in the first region. It is disclosed. The coil includes a plurality of coil conductor patterns respectively formed on two or more insulating base layers, and the plurality of coil conductor patterns overlap in a stacking direction of the plurality of insulating base layers. Are arranged.

上記多層基板では、第2領域の絶縁基材層の積層数が、第1領域の絶縁基材層の積層数よりも少ないため、第2領域が可撓性を有しており、第1領域と第2領域との境界付近に積層数が異なる段差部が存在する。   In the multilayer substrate, since the number of laminated insulating base material layers in the second region is smaller than the number of laminated insulating base material layers in the first region, the second region has flexibility, and the first region There are stepped portions having different numbers of layers near the boundary between the first region and the second region.

国際公開第2015/083525号International Publication No. 2015/083525

一般的に、特許文献1に示されるような多層基板は、段差部の形状に応じた金型を用いて、積層した複数の絶縁基材層を加熱加圧することにより得られる。   Generally, a multilayer substrate as shown in Patent Document 1 is obtained by heating and pressing a plurality of laminated insulating base layers using a mold corresponding to the shape of the stepped portion.

図10は、段差部を有する多層基板の、製造工程の一部を示す断面図である。図10に示すように、多層基板(積層体)は、積層した複数の絶縁基材層11a,12a,13a,14a,15aを、金型1a,2aを用いて積層方向(Z軸方向)に加熱加圧して得られる。金型2aの表面には、積層体の段差部SP1aの形状に応じた段差部SP2aが形成されている。しかし、金型2aの形状を積層体の段差部SP1aと完全に一致させることは困難であり、加熱加圧時の接合不良を抑制するため、金型2aの段差部SP2aの高さH2を段差部SP1aの高さH1よりも小さく形成することが一般的である。   FIG. 10 is a cross-sectional view showing a part of the manufacturing process of the multilayer substrate having a stepped portion. As shown in FIG. 10, the multilayer substrate (laminated body) includes a plurality of laminated insulating base material layers 11a, 12a, 13a, 14a, and 15a in the laminating direction (Z-axis direction) using the molds 1a and 2a. Obtained by heating and pressing. On the surface of the mold 2a, a stepped portion SP2a corresponding to the shape of the stepped portion SP1a of the laminated body is formed. However, it is difficult to completely match the shape of the mold 2a with the stepped portion SP1a of the laminate, and the height H2 of the stepped portion SP2a of the mold 2a is set to be a stepped portion in order to suppress poor bonding during heating and pressing. In general, it is formed smaller than the height H1 of the portion SP1a.

しかし、上述した製造方法では、次のような理由によって、コイルの特性にばらつきが生じる虞がある。   However, in the manufacturing method described above, the characteristics of the coil may vary due to the following reasons.

(a)絶縁基材層の積層数が多い第1領域には、絶縁基材層の積層数が少ない第2領域よりも、加熱加圧時に高い圧力が加わる。そのため、加熱加圧時に、樹脂を主材料とする絶縁基材層が、第1領域から第2領域に向かって流動する。このとき、段差部SP1a近傍における絶縁基材層の流動は特に大きく(図10における矢印を参照)、絶縁基材層の流動に伴って段差部SP1a近傍に位置するコイル導体パターンの位置ずれが生じやすい。 (A) A higher pressure is applied to the first region where the number of insulating base material layers is greater than that of the second region where the number of insulating base material layers is smaller during heating and pressurization. Therefore, at the time of heating and pressurizing, the insulating base material layer containing resin as a main material flows from the first region toward the second region. At this time, the flow of the insulating base material layer in the vicinity of the stepped portion SP1a is particularly large (see the arrow in FIG. 10), and the displacement of the coil conductor pattern located in the vicinity of the stepped portion SP1a occurs with the flow of the insulating base material layer. Cheap.

(b)複数の絶縁基材層の積層方向に、複数のコイル導体パターンが重なるように配置される部分には、加熱加圧時に圧力が集中して加わるため、コイル導体パターンの位置ずれが大きくなりやすい。 (B) Since the pressure is concentrated and applied to the portion where the plurality of coil conductor patterns are overlapped in the stacking direction of the plurality of insulating base layers, the positional deviation of the coil conductor pattern is large. Prone.

(c)また、段差部SP1a近傍は、金型2aに接触する面積が大きいため(例えば、図10における絶縁基材層13a,14a,15aの右端面、および絶縁基材層15aの下面)、加熱加圧時にプレス機による熱の影響を受けやすい。そのため、加熱加圧時に段差部SP1a近傍の絶縁基材層は流動しやすく、段差部SP1a近傍に位置するコイル導体パターンの位置ずれが生じやすい。 (C) Further, the vicinity of the stepped portion SP1a has a large area in contact with the mold 2a (for example, the right end surface of the insulating base layers 13a, 14a, and 15a in FIG. 10 and the bottom surface of the insulating base layer 15a). It is easily affected by heat from the press during heating and pressurization. Therefore, the insulating base material layer in the vicinity of the stepped portion SP1a tends to flow during heating and pressurization, and the coil conductor pattern located in the vicinity of the stepped portion SP1a is likely to be displaced.

本発明の目的は、絶縁基材層の積層数の相違により第1領域と第2領域との境界に段差部が形成される構成において、段差部近傍に位置するコイル導体パターンの位置ずれに伴うコイル特性の変動を抑制した多層基板を提供することにある。   An object of the present invention is due to a displacement of a coil conductor pattern located in the vicinity of a stepped portion in a configuration in which a stepped portion is formed at the boundary between the first region and the second region due to a difference in the number of laminated insulating base layers. An object of the present invention is to provide a multilayer substrate in which fluctuations in coil characteristics are suppressed.

(1)本発明の多層基板は、
樹脂を主材料とする複数の絶縁基材層が積層されて形成され、第1領域、および前記第1領域よりも前記絶縁基材層の積層数が少ない第2領域を有する積層体と、
前記複数の絶縁基材層の積層数の相違により前記第1領域と前記第2領域との境界に形成される段差部と、
前記第1領域に形成され、前記複数の絶縁基材層のうち2以上の絶縁基材層に形成される複数のコイル導体パターンを含んで構成されるコイルと、
を備え、
前記複数のコイル導体パターンは、前記複数の絶縁基材層の積層方向から視て、少なくとも一部が互いに重なるように配置され、且つ、前記積層方向から視て、前記段差部に沿って近接する部分に、他の部分よりも相対的に線幅の広い幅広部を有することを特徴とする。
(1) The multilayer substrate of the present invention is
A laminate having a plurality of insulating base material layers made of resin as a main material, and having a second region in which the number of the insulating base material layers is less than the first region, and the first region;
A step portion formed at a boundary between the first region and the second region due to a difference in the number of stacked layers of the plurality of insulating base layers;
A coil formed in the first region and including a plurality of coil conductor patterns formed in two or more insulating base layers among the plurality of insulating base layers;
With
The plurality of coil conductor patterns are arranged so that at least a part thereof overlaps each other when viewed from the stacking direction of the plurality of insulating base layers, and are close to the stepped portion when viewed from the stacking direction. The portion has a wide portion having a relatively wider line width than other portions.

一般に、段差部近傍は、加熱加圧時に高い圧力が加わり、プレス機による熱の影響を受けやすいため、加熱加圧時における絶縁基材層の流動は大きい。一方、この構成では、コイル導体パターンのうち、段差部に近接する位置に他の部分よりも線幅の広い幅広部が配置されるため、加熱加圧時における段差部近傍の絶縁基材層の流動が、幅広部によって抑制される。そのため、この構成により、加熱加圧時に、段差部近傍に位置するコイル導体パターンの位置ずれや変形等を抑制でき、コイル導体パターンの位置ずれや変形等に伴うコイルの特性変化を抑制できる。   Generally, in the vicinity of the stepped portion, a high pressure is applied at the time of heating and pressurization, and it is easily affected by heat from the press, so that the flow of the insulating base material layer at the time of heating and pressurization is large. On the other hand, in this configuration, a wide portion having a line width wider than other portions is arranged in the coil conductor pattern at a position close to the step portion. The flow is suppressed by the wide part. For this reason, with this configuration, it is possible to suppress the displacement and deformation of the coil conductor pattern located near the step portion during heating and pressurization, and it is possible to suppress changes in the coil characteristics caused by the displacement and deformation of the coil conductor pattern.

また、この構成によれば、幅広部が段差部に沿って略平行に配置されるため、加熱加圧時における段差部近傍の絶縁基材層の流動を効果的に抑制できる。   Moreover, according to this structure, since a wide part is arrange | positioned substantially parallel along a level | step difference part, the flow of the insulating base material layer of the level | step-difference part vicinity at the time of heating and pressurization can be suppressed effectively.

(2)上記(1)において、前記幅広部は、直線状であることが好ましい。この構成では、段差部に沿って略平行に配置される幅広部が、一定の長さを有した形状となるため、加熱加圧時における段差部近傍の絶縁基材層の流動を効果的に抑制できる。 (2) In the above (1), the wide portion is preferably linear. In this configuration, the wide portion disposed substantially in parallel along the stepped portion has a shape having a certain length, so that the flow of the insulating base material layer near the stepped portion at the time of heating and pressing is effectively performed. Can be suppressed.

(3)上記(1)または(2)において、前記第2領域の数は複数であってもよい。 (3) In the above (1) or (2), the number of the second regions may be plural.

(4)上記(1)から(3)のいずれかにおいて、前記複数の絶縁基材層は、熱可塑性樹脂からなることが好ましい。この構成によれば、積層した複数の絶縁基材層を一括プレスすることにより、積層体を容易に形成できるため、多層基板の製造工程が削減され、コストを低く抑えることができる。 (4) In any one of (1) to (3), the plurality of insulating base layers are preferably made of a thermoplastic resin. According to this configuration, a laminated body can be easily formed by collectively pressing a plurality of laminated insulating base layers, so that the manufacturing process of the multilayer substrate can be reduced and the cost can be kept low.

本発明によれば、絶縁基材層の積層数の相違により第1領域と第2領域との境界に段差部が形成される構成において、段差部近傍に位置するコイル導体パターンの位置ずれに伴うコイル特性の変動を抑制した多層基板を実現できる。   According to the present invention, in the configuration in which the stepped portion is formed at the boundary between the first region and the second region due to the difference in the number of laminated insulating base material layers, the coil conductor pattern located near the stepped portion is displaced. A multilayer substrate that suppresses fluctuations in coil characteristics can be realized.

図1は、第1の実施形態に係る多層基板101の断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a multilayer substrate 101 according to the first embodiment. 図2は、多層基板101の分解平面図である。FIG. 2 is an exploded plan view of the multilayer substrate 101. 図3は、多層基板101の製造工程を順に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view sequentially illustrating the manufacturing process of the multilayer substrate 101. 図4は、多層基板101を備える通信モジュール201の回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram of the communication module 201 including the multilayer substrate 101. 図5は、第2の実施形態に係る多層基板102の断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of the multilayer substrate 102 according to the second embodiment. 図6は、多層基板102の分解平面図である。FIG. 6 is an exploded plan view of the multilayer substrate 102. 図7は、第3の実施形態に係る多層基板103の平面図である。FIG. 7 is a plan view of the multilayer substrate 103 according to the third embodiment. 図8(A)は多層基板103の正面図であり、図8(B)は多層基板103の右側面図である。FIG. 8A is a front view of the multilayer substrate 103, and FIG. 8B is a right side view of the multilayer substrate 103. 図9は、多層基板103の分解平面図である。FIG. 9 is an exploded plan view of the multilayer substrate 103. 図10は、段差部を有する多層基板の、製造工程の一部を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a part of the manufacturing process of the multilayer substrate having a stepped portion.

以降、図を参照して幾つかの具体的な例を挙げて、本発明を実施するための複数の形態を示す。各図中には同一箇所に同一符号を付している。要点の説明または理解の容易性を考慮して、便宜上実施形態を分けて示すが、異なる実施形態で示した構成の部分的な置換または組み合わせが可能である。第2の実施形態以降では第1の実施形態と共通の事柄についての記述を省略し、異なる点についてのみ説明する。特に、同様の構成による同様の作用効果については実施形態毎には逐次言及しない。   Hereinafter, several specific examples will be given with reference to the drawings to show a plurality of modes for carrying out the present invention. In each figure, the same reference numerals are assigned to the same portions. In consideration of ease of explanation or understanding of the main points, the embodiments are shown separately for convenience, but the components shown in different embodiments can be partially replaced or combined. In the second and subsequent embodiments, description of matters common to the first embodiment is omitted, and only different points will be described. In particular, the same operation effect by the same configuration will not be sequentially described for each embodiment.

《第1の実施形態》
図1は、第1の実施形態に係る多層基板101の断面図である。図2は、多層基板101の分解平面図である。なお、図2では、構造を分かりやすくするため、コイル導体パターン31,32,33,34をドットパターンで示している。また、図1において、各部の厚みは誇張して図示している。このことは以降に示す各断面図でも同様である。
<< First Embodiment >>
FIG. 1 is a cross-sectional view of a multilayer substrate 101 according to the first embodiment. FIG. 2 is an exploded plan view of the multilayer substrate 101. In FIG. 2, the coil conductor patterns 31, 32, 33, and 34 are shown as dot patterns for easy understanding of the structure. In FIG. 1, the thickness of each part is exaggerated. The same applies to the cross-sectional views shown below.

多層基板101は、積層体10、段差部SP、コイル3、外部接続電極P1,P2等を備える。   The multilayer substrate 101 includes a laminated body 10, a stepped portion SP, a coil 3, external connection electrodes P1, P2, and the like.

積層体10は、第1領域F1および第2領域F2を有しており、コイル3は第1領域F1に形成されている。また、積層体10は、第1主面VS1と、第1主面VS1に対向する第2主面VS2A,VS2Bと、を有する。第2主面VS2Aは第1領域F1に位置する面であり、第2主面VS2Bは第2領域F2に位置する面である。外部接続電極P1は、第2領域F2の第2主面VS2Bに形成されており、外部接続電極P2は、第1領域F1の第2主面VS2Aに形成されている。   The laminate 10 has a first region F1 and a second region F2, and the coil 3 is formed in the first region F1. The stacked body 10 includes a first main surface VS1 and second main surfaces VS2A and VS2B facing the first main surface VS1. The second main surface VS2A is a surface located in the first region F1, and the second main surface VS2B is a surface located in the second region F2. The external connection electrode P1 is formed on the second main surface VS2B of the second region F2, and the external connection electrode P2 is formed on the second main surface VS2A of the first region F1.

積層体10は、長手方向がX軸方向に一致する矩形の絶縁体平板である。積層体10は、樹脂(熱可塑性樹脂)を主材料とする複数の絶縁基材層15,14,13,12,11をこの順に積層して形成される。積層体10の第1領域F1は、絶縁基材層15,14,13,12,11の順に積層して形成される。第2領域F2は、絶縁基材層12,11の順に積層して形成される。図1に示すように、絶縁基材層11,12は、第1領域F1と第2領域F2とに亘って形成される絶縁基材層である。絶縁基材層11,12,13,14,15は、例えばポリイミド(PI)や液晶ポリマー(LCP)等を主材料とする樹脂シートである。   The laminated body 10 is a rectangular insulating flat plate whose longitudinal direction coincides with the X-axis direction. The laminate 10 is formed by laminating a plurality of insulating base material layers 15, 14, 13, 12, and 11 mainly composed of a resin (thermoplastic resin) in this order. The first region F1 of the laminate 10 is formed by laminating the insulating base material layers 15, 14, 13, 12, and 11 in this order. The second region F2 is formed by laminating the insulating base material layers 12 and 11 in this order. As shown in FIG. 1, the insulating base material layers 11 and 12 are insulating base material layers formed over the first region F1 and the second region F2. The insulating base layers 11, 12, 13, 14, 15 are resin sheets whose main material is, for example, polyimide (PI), liquid crystal polymer (LCP), or the like.

第2領域F2の絶縁基材層の積層数(2層)は、第1領域F1の絶縁基材層の積層数(5層)よりも少ない。そのため、積層体10の第2領域F2は、第1領域F1よりも曲がり易く、可撓性を有する。第1領域F1は、第2領域F2よりも硬く、第2領域F2よりも曲がり難い。また、複数の絶縁基材層の積層数の相違により、第1領域F1と第2領域F2との境界に段差部SPが形成される。本実施形態に係る段差部SPは、YZ平面に略平行である。   The number of laminated insulating base material layers in the second region F2 (two layers) is smaller than the number of laminated insulating base material layers in the first region F1 (five layers). Therefore, the second region F2 of the stacked body 10 is easier to bend than the first region F1, and has flexibility. The first region F1 is harder than the second region F2, and is less likely to bend than the second region F2. In addition, a stepped portion SP is formed at the boundary between the first region F1 and the second region F2 due to the difference in the number of stacked insulating base material layers. The step part SP according to the present embodiment is substantially parallel to the YZ plane.

絶縁基材層11,12,13,14,15は、それぞれ長手方向がX軸方向に一致する矩形の平板である。絶縁基材層11,12のX軸方向の長さは、絶縁基材層13,14,15のX軸方向の長さよりも長い。絶縁基材層11,12の平面形状は略同じであり、絶縁基材層13,14,15の平面形状は略同じである。   The insulating base layers 11, 12, 13, 14, and 15 are rectangular flat plates whose longitudinal directions coincide with the X-axis direction. The length of the insulating base material layers 11 and 12 in the X-axis direction is longer than the length of the insulating base material layers 13, 14 and 15 in the X-axis direction. The planar shapes of the insulating base layers 11 and 12 are substantially the same, and the planar shapes of the insulating base layers 13, 14 and 15 are substantially the same.

絶縁基材層11の裏面には、コイル導体パターン31および導体21が形成されている。コイル導体パターン31は、絶縁基材層11の中央より第1辺(図2における絶縁基材層11の左辺)寄りの位置に配置される1ターン弱の矩形ループ状の導体パターンである。導体21は、X軸方向に延伸する線状の導体パターンである。コイル導体パターン31および導体21は、例えばCu箔等の導体パターンである。   A coil conductor pattern 31 and a conductor 21 are formed on the back surface of the insulating base material layer 11. The coil conductor pattern 31 is a rectangular loop-shaped conductor pattern of less than one turn disposed at a position closer to the first side (left side of the insulating base layer 11 in FIG. 2) than the center of the insulating base layer 11. The conductor 21 is a linear conductor pattern extending in the X-axis direction. The coil conductor pattern 31 and the conductor 21 are conductor patterns such as a Cu foil, for example.

絶縁基材層12の裏面には、コイル導体パターン32および外部接続電極P1が形成されている。コイル導体パターン32は、絶縁基材層12の中央より第1辺(図2における絶縁基材層12の左辺)寄りの位置に配置される1ターン弱の矩形ループ状の導体パターンである。外部接続電極P1は、絶縁基材層12の第2辺(図2における絶縁基材層12の右辺)中央付近に配置される矩形の導体パターンである。コイル導体パターン32および外部接続電極P1は、例えばCu箔等の導体パターンである。   A coil conductor pattern 32 and an external connection electrode P1 are formed on the back surface of the insulating base layer 12. The coil conductor pattern 32 is a rectangular loop-shaped conductor pattern of less than one turn disposed at a position closer to the first side (the left side of the insulating base layer 12 in FIG. 2) than the center of the insulating base layer 12. The external connection electrode P1 is a rectangular conductor pattern arranged near the center of the second side of the insulating base layer 12 (the right side of the insulating base layer 12 in FIG. 2). The coil conductor pattern 32 and the external connection electrode P1 are conductor patterns such as a Cu foil, for example.

また、絶縁基材層12には、層間接続導体V1,V2が形成されている。   The insulating base material layer 12 is formed with interlayer connection conductors V1 and V2.

絶縁基材層13の裏面には、コイル導体パターン33が形成されている。コイル導体パターン33は、絶縁基材層13の外形に沿って巻回される1ターン弱の矩形ループ状の導体パターンである。コイル導体パターン33は、例えばCu箔等の導体パターンである。   A coil conductor pattern 33 is formed on the back surface of the insulating base layer 13. The coil conductor pattern 33 is a rectangular loop-shaped conductor pattern of less than one turn that is wound along the outer shape of the insulating base layer 13. The coil conductor pattern 33 is a conductor pattern such as a Cu foil, for example.

また、絶縁基材層13には、層間接続導体V3が形成されている。   In addition, an interlayer connection conductor V <b> 3 is formed on the insulating base material layer 13.

絶縁基材層14の裏面には、コイル導体パターン34が形成されている。コイル導体パターン34は、絶縁基材層14の外形に沿って巻回される1ターン弱の矩形ループ状の導体パターンである。コイル導体パターン34は、例えばCu箔等の導体パターンである。   A coil conductor pattern 34 is formed on the back surface of the insulating base material layer 14. The coil conductor pattern 34 is a rectangular loop-shaped conductor pattern of less than one turn that is wound along the outer shape of the insulating base layer 14. The coil conductor pattern 34 is a conductor pattern such as a Cu foil, for example.

また、絶縁基材層14には、層間接続導体V4が形成されている。   The insulating base material layer 14 is provided with an interlayer connection conductor V4.

絶縁基材層15の裏面には、外部接続電極P2が形成されている。外部接続電極P2は、絶縁基材層15の中央より第1辺(図2における絶縁基材層15の左辺)寄りの位置に配置される矩形の導体パターンである。外部接続電極P2は、例えばCu箔等の導体パターンである。   An external connection electrode P <b> 2 is formed on the back surface of the insulating base material layer 15. The external connection electrode P2 is a rectangular conductor pattern disposed at a position closer to the first side (the left side of the insulating base layer 15 in FIG. 2) than the center of the insulating base layer 15. The external connection electrode P2 is a conductor pattern such as a Cu foil, for example.

また、絶縁基材層15には、層間接続導体V5が形成されている。   Further, an interlayer connection conductor V5 is formed on the insulating base material layer 15.

外部接続電極P1は、層間接続導体V1を介して導体21の第1端に接続される。導体21の第2端は、コイル導体パターン31の第1端に接続される。コイル導体パターン31の第2端は、層間接続導体V2を介してコイル導体パターン32の第1端に接続される。コイル導体パターン32の第2端は、層間接続導体V3を介してコイル導体パターン33の第1端に接続される。コイル導体パターン33の第2端は、層間接続導体V4を介してコイル導体パターン34の第1端に接続される。コイル導体パターン34の第2端は、層間接続導体V5を介して外部接続電極P2に接続される。   The external connection electrode P1 is connected to the first end of the conductor 21 via the interlayer connection conductor V1. The second end of the conductor 21 is connected to the first end of the coil conductor pattern 31. The second end of the coil conductor pattern 31 is connected to the first end of the coil conductor pattern 32 via the interlayer connection conductor V2. The second end of the coil conductor pattern 32 is connected to the first end of the coil conductor pattern 33 via the interlayer connection conductor V3. The second end of the coil conductor pattern 33 is connected to the first end of the coil conductor pattern 34 via the interlayer connection conductor V4. The second end of the coil conductor pattern 34 is connected to the external connection electrode P2 through the interlayer connection conductor V5.

このように、コイル導体パターン31,32,33,34および層間接続導体V2,V3,V4によって、Z軸方向に巻回軸AXを有する約3.5ターンのヘリカル状のコイル3が構成される。   As described above, the coil conductor patterns 31, 32, 33, and 34 and the interlayer connection conductors V2, V3, and V4 constitute the helical coil 3 of about 3.5 turns having the winding axis AX in the Z-axis direction. .

図1等に示すように、コイル導体パターン31,32,33,34は、複数の絶縁基材層11,12,13,14,15の積層方向(Z軸方向)から視て、互いに略重なるように配置されている。また、図1等に示すように、コイル導体パターン31,32,33,34は、Z軸方向から視て、段差部SPに沿って近接する部分(図2におけるコイル導体パターン31,32,33,34のうち、Y軸方向に延伸する右辺部分)に、他の部分よりも相対的に線幅の広い幅広部WPを有する。   As shown in FIG. 1 and the like, the coil conductor patterns 31, 32, 33, and 34 substantially overlap each other when viewed from the stacking direction (Z-axis direction) of the plurality of insulating base layers 11, 12, 13, 14, and 15. Are arranged as follows. Further, as shown in FIG. 1 and the like, the coil conductor patterns 31, 32, 33, and 34 are portions close to the step part SP (coil conductor patterns 31, 32, and 33 in FIG. 2) as viewed from the Z-axis direction. , 34 has a wide portion WP having a relatively wider line width than the other portions on the right side portion extending in the Y-axis direction).

本実施形態では、図2に示すように、幅広部WPが、段差部SPに沿ってY軸方向に延伸する直線状である。   In the present embodiment, as shown in FIG. 2, the wide portion WP has a linear shape extending in the Y-axis direction along the stepped portion SP.

ここで、本発明における「段差部に沿って近接する部分」とは、コイル導体パターン31,32,33,34のうち、段差部SPに沿って延伸する部分で、且つ、他の部分よりも段差部SPに近接して配置されている部分を言う。また、本実施形態では、幅広部WPと段差部SPとが略平行である例を示したが、「段差部に沿って近接する部分」と段差部SPとが厳密に平行であるものに限るものではない。本発明における「段差部に沿った部分」とは、例えば、コイル導体パターンのうち、コイル導体パターンの延伸方向と段差部SPとのなす角度が−30°から+30°の範囲内である部分を言う。   Here, the “part close to the step part” in the present invention is a part extending along the step part SP in the coil conductor patterns 31, 32, 33, and 34, and more than other parts. The part arrange | positioned adjacent to level | step-difference part SP is said. In the present embodiment, an example in which the wide portion WP and the stepped portion SP are substantially parallel has been described. However, the “part close to the stepped portion” and the stepped portion SP are strictly parallel to each other. It is not a thing. The “part along the stepped portion” in the present invention means, for example, a portion of the coil conductor pattern in which the angle formed between the extending direction of the coil conductor pattern and the stepped portion SP is within a range of −30 ° to + 30 °. say.

本実施形態に係る多層基板101によれば、次のような効果を奏する。   The multilayer substrate 101 according to this embodiment has the following effects.

(a)本実施形態では、コイル導体パターン31,32,33,34のうち、段差部SPに近接する位置に、他の部分よりも線幅の広い幅広部WPが配置される。一般に、段差部SP近傍は、加熱加圧時に高い圧力が加わり、プレス機による熱の影響を受けやすいため、加熱加圧時における絶縁基材層の流動は大きい。一方、上記構成では、加熱加圧時における段差部SP近傍の絶縁基材層の流動が、他の部分よりも線幅の広い幅広部WPによって抑制される。そのため、この構成によれば、加熱加圧時に、段差部SP近傍に位置するコイル導体パターンの位置ずれや変形等を抑制でき、コイル導体パターンの位置ずれや変形等に伴うコイルの特性変化を抑制できる。 (A) In the present embodiment, among the coil conductor patterns 31, 32, 33, and 34, the wide portion WP having a wider line width than the other portions is disposed at a position close to the stepped portion SP. Generally, in the vicinity of the stepped portion SP, a high pressure is applied at the time of heating and pressurization, and it is easily affected by heat from the press machine. Therefore, the flow of the insulating base material layer at the time of heating and pressurization is large. On the other hand, in the above configuration, the flow of the insulating base material layer in the vicinity of the stepped portion SP at the time of heating and pressing is suppressed by the wide portion WP having a wider line width than the other portions. Therefore, according to this configuration, it is possible to suppress the displacement and deformation of the coil conductor pattern located in the vicinity of the stepped portion SP at the time of heating and pressurization, and to suppress the change in coil characteristics due to the displacement and deformation of the coil conductor pattern. it can.

なお、本実施形態では、複数の絶縁基材層11,12,13,14,15が熱可塑性樹脂からなる。そのため、接合層(例えば、半硬化状態のプリプレグ樹脂シート)を用いて積層体を形成する場合に比べ、加熱加圧時における絶縁基材層の流動が大きくなりやすく、コイル導体パターンの位置ずれや変形等の伴うコイルの特性変化が生じやすい。したがって、上記構成は、接合層を用いずに積層体を形成する場合に特に有効である。   In the present embodiment, the plurality of insulating base material layers 11, 12, 13, 14, and 15 are made of a thermoplastic resin. Therefore, compared to the case where a laminate is formed using a bonding layer (for example, a semi-cured prepreg resin sheet), the flow of the insulating base material layer during heating and pressurization is likely to increase, Changes in coil characteristics are likely to occur due to deformation and the like. Therefore, the above configuration is particularly effective when a laminated body is formed without using a bonding layer.

(b)本実施形態では、幅広部WPが段差部SPに沿って略平行に配置されている。この構成により、加熱加圧時における段差部SP近傍の絶縁基材層の流動を効果的に抑制できる。なお、段差部SPに沿って略平行に配置される幅広部WPの長さは、長い方が好ましい。 (B) In this embodiment, the wide part WP is arrange | positioned substantially parallel along the level | step-difference part SP. With this configuration, it is possible to effectively suppress the flow of the insulating base material layer in the vicinity of the stepped portion SP during heating and pressing. In addition, it is preferable that the length of the wide portion WP arranged substantially parallel along the stepped portion SP is long.

(c)また、本実施形態では、幅広部WPが、段差部SPに沿ってY軸方向に延伸する直線状である。この構成では、段差部SPに沿って略平行に配置される幅広部WPが、一定の長さを有した形状となるため、加熱加圧時における段差部SP近傍の絶縁基材層の流動を効果的に抑制できる。 (C) Moreover, in this embodiment, the wide part WP is linear form extended | stretched in the Y-axis direction along the level | step-difference part SP. In this configuration, since the wide portion WP arranged substantially in parallel along the stepped portion SP has a shape having a certain length, the flow of the insulating base layer near the stepped portion SP during heating and pressurization is prevented. It can be effectively suppressed.

(d)本実施形態では、複数の絶縁基材層11,12,13,14,15が熱可塑性樹脂からなる。この構成によれば、後に詳述するように、積層した複数の絶縁基材層11,12,13,14,15を一括プレスすることにより、積層体10を容易に形成できるため、多層基板101の製造工程が削減され、コストを低く抑えることができる。 (D) In this embodiment, the plurality of insulating base material layers 11, 12, 13, 14, and 15 are made of a thermoplastic resin. According to this configuration, as will be described in detail later, the laminated body 10 can be easily formed by collectively pressing the plurality of laminated insulating base material layers 11, 12, 13, 14, 15. The manufacturing process can be reduced, and the cost can be kept low.

本実施形態に係る多層基板101は、例えば次に示す製造方法によって製造される。図3は、多層基板101の製造工程を順に示す断面図である。なお、図3では、説明の都合上個片(ワンチップ)での製造工程で説明するが、実際の多層基板の製造工程は集合基板状態で行われる。このことは、以降の製造工程を示す各断面図においても同様である。   The multilayer substrate 101 according to the present embodiment is manufactured by, for example, the following manufacturing method. FIG. 3 is a cross-sectional view sequentially illustrating the manufacturing process of the multilayer substrate 101. In FIG. 3, for the sake of explanation, description will be made with a manufacturing process in one piece (one chip), but an actual manufacturing process of a multilayer substrate is performed in a collective substrate state. The same applies to each of the sectional views showing the subsequent manufacturing steps.

まず、図3中の(1)に示すように、複数の絶縁基材層11,12,13,14,15を準備して、複数の絶縁基材層11,12,13,14,15に、コイル導体パターン31,32,33,34、導体21および外部接続電極P1,P2を形成する。具体的には、集合基板状態の絶縁基材層11,12,13,14,15の片側主面(裏面)に金属箔(例えばCu箔)をラミネートし、その金属箔をフォトリソグラフィでパターンニングする。これにより、絶縁基材層11の裏面にコイル導体パターン31および導体21を形成し、絶縁基材層12の裏面にコイル導体パターン32および外部接続電極P1を形成する。また、絶縁基材層13の裏面にコイル導体パターン33を形成し、絶縁基材層14の裏面にコイル導体パターン34を形成し、絶縁基材層15の裏面に外部接続電極P2を形成する。   First, as shown in (1) in FIG. 3, a plurality of insulating base layers 11, 12, 13, 14, 15 are prepared, and a plurality of insulating base layers 11, 12, 13, 14, 15 are prepared. The coil conductor patterns 31, 32, 33, 34, the conductor 21 and the external connection electrodes P1, P2 are formed. Specifically, a metal foil (for example, Cu foil) is laminated on one side main surface (back surface) of the insulating base material layers 11, 12, 13, 14, and 15 in the aggregate substrate state, and the metal foil is patterned by photolithography. To do. Thereby, the coil conductor pattern 31 and the conductor 21 are formed on the back surface of the insulating base material layer 11, and the coil conductor pattern 32 and the external connection electrode P1 are formed on the back surface of the insulating base material layer 12. Further, the coil conductor pattern 33 is formed on the back surface of the insulating base material layer 13, the coil conductor pattern 34 is formed on the back surface of the insulating base material layer 14, and the external connection electrode P <b> 2 is formed on the back surface of the insulating base material layer 15.

絶縁基材層11,12,13,14,15は例えばポリイミド(PI)や液晶ポリマー(LCP)等を主材料とする樹脂(熱可塑性樹脂)シートである。   The insulating base layers 11, 12, 13, 14, 15 are resin (thermoplastic resin) sheets whose main material is, for example, polyimide (PI), liquid crystal polymer (LCP), or the like.

また、複数の絶縁基材層12,13,14、15には、層間接続導体(図2における層間接続導体V1,V2,V3,V4,V5)が形成される。層間接続導体は、絶縁基材層にレーザー等で貫通孔を設けた後、Cu,Sn等のうち1以上もしくはそれらの合金を含む導電性ペーストを配設し、後の加熱加圧で硬化させることによって設けられる。そのため、層間接続導体は、後の加熱加圧の温度よりも融点(溶融温度)が低い材料とする。   Further, interlayer connection conductors (interlayer connection conductors V1, V2, V3, V4, V5 in FIG. 2) are formed on the plurality of insulating base material layers 12, 13, 14, and 15. The interlayer connection conductor is provided with a conductive paste containing one or more of Cu, Sn, or the like, or an alloy thereof after providing through holes in the insulating base layer with a laser or the like, and is cured by subsequent heating and pressing. Is provided. Therefore, the interlayer connection conductor is made of a material having a melting point (melting temperature) lower than the temperature of subsequent heating and pressurization.

次に、図3中の(2)に示すように、上部金型1および下部金型2を用いて、Z軸方向に向かって、積層した複数の絶縁基材層11,12,13,14,15を加熱加圧する(図3中の(2)の白抜き矢印参照)。具体的には、下部金型2の上に、複数の絶縁基材層15,14,13,12,11の順に積層した後、上部金型1および下部金型2を用いて、積層した複数の絶縁基材層11,12,13,14,15を加熱加圧して積層体を形成する。   Next, as shown in (2) in FIG. 3, a plurality of insulating base material layers 11, 12, 13, 14 stacked in the Z-axis direction using the upper mold 1 and the lower mold 2 are used. 15 are heated and pressurized (see white arrows in (2) in FIG. 3). Specifically, a plurality of insulating base layers 15, 14, 13, 12, 11 are stacked in this order on the lower mold 2, and then stacked using the upper mold 1 and the lower mold 2. The insulating base material layers 11, 12, 13, 14, and 15 are heated and pressed to form a laminate.

その後、上部金型1および下部金型2から集合基板状態の積層体を取り外し、集合基板状態の積層体を分断することで、図3中の(3)に示すような個別の多層基板101を得る。   Thereafter, the multilayer substrate 101 is removed from the upper mold 1 and the lower mold 2, and the multilayer substrate 101 is divided to divide the multilayer substrate 101 as shown in FIG. obtain.

この製造方法によれば、積層した複数の絶縁基材層11,12,13,14,15を一括プレスすることにより、積層体10を容易に形成できる。そのため、多層基板101の製造工程が削減され、コストを低く抑えることができる。   According to this manufacturing method, the laminated body 10 can be easily formed by collectively pressing the plurality of laminated insulating base material layers 11, 12, 13, 14, and 15. Therefore, the manufacturing process of the multilayer substrate 101 is reduced, and the cost can be kept low.

本実施形態に係る多層基板101は、例えば次のように用いられる。図4は、多層基板101を備える通信モジュール201の回路図である。図4において、多層基板101が備えるコイル3をコイルアンテナANTで表している。   The multilayer substrate 101 according to the present embodiment is used as follows, for example. FIG. 4 is a circuit diagram of the communication module 201 including the multilayer substrate 101. In FIG. 4, the coil 3 included in the multilayer substrate 101 is represented by a coil antenna ANT.

通信モジュール201は、コイルアンテナANT(多層基板101)、キャパシタC1およびIC4を備える。図4に示すように、IC4にコイルアンテナANTが接続され、コイルアンテナANTにキャパシタC1が並列接続されている。IC4、キャパシタC1および多層基板101は、図示しない回路基板に実装され、回路基板に形成される導体パターンにより電気的に接続される。多層基板101は、外部接続電極(図1における外部接続電極P1,P2)を、はんだ等の導電性接合材を介して回路基板に接合することによって、回路基板に接続される。   The communication module 201 includes a coil antenna ANT (multilayer substrate 101), a capacitor C1, and an IC4. As shown in FIG. 4, a coil antenna ANT is connected to the IC 4 and a capacitor C1 is connected in parallel to the coil antenna ANT. IC4, capacitor C1, and multilayer substrate 101 are mounted on a circuit board (not shown) and are electrically connected by a conductor pattern formed on the circuit board. The multilayer substrate 101 is connected to the circuit board by bonding external connection electrodes (external connection electrodes P1 and P2 in FIG. 1) to the circuit board via a conductive bonding material such as solder.

図4に示すコイルアンテナANTとキャパシタC1とIC4自身が持つ容量成分とで、LC共振回路が構成される。IC4は、例えばパッケージングされたRFICチップ(ベアチップ)である。キャパシタC1は、例えばチップ型キャパシタなどである。   The LC resonance circuit is configured by the coil antenna ANT, the capacitor C1, and the capacitance component of the IC 4 itself shown in FIG. The IC 4 is, for example, a packaged RFIC chip (bare chip). The capacitor C1 is, for example, a chip type capacitor.

多層基板101では、コイル導体パターン31,32,33,34が、他の部分よりも相対的に線幅の広い幅広部WPを有するため、幅広部WPを有していない場合に比べて、コイルアンテナANTのインダクタンス成分は小さくなる。したがって、幅広部WPを有していない場合に比べて、キャパシタC1の容量成分を少し大きく設定してLC共振回路を構成できる。   In the multilayer substrate 101, the coil conductor patterns 31, 32, 33, and 34 have a wide portion WP having a relatively wider line width than other portions. The inductance component of the antenna ANT is reduced. Therefore, the LC resonance circuit can be configured by setting the capacitance component of the capacitor C1 to be slightly larger than when the wide portion WP is not provided.

なお、図4では、キャパシタC1が、回路基板に実装されるチップ型キャパシタである例を示したが、これに限定されるものではない。キャパシタC1は、例えば多層基板101に実装されていてもよい。また、キャパシタC1はチップ部品に限定されるものではない。キャパシタC1は、例えば、複数の絶縁基材層に形成される、互いに対向する導体パターン間に形成される層間容量でもよい。   Although FIG. 4 shows an example in which the capacitor C1 is a chip capacitor mounted on a circuit board, the present invention is not limited to this. The capacitor C1 may be mounted on the multilayer substrate 101, for example. The capacitor C1 is not limited to a chip component. The capacitor C1 may be, for example, an interlayer capacitance formed between conductive patterns facing each other, which are formed on a plurality of insulating base layers.

《第2の実施形態》
第2の実施形態では、コイル導体パターンの形状が、第1の実施形態とは異なる例を示す。
<< Second Embodiment >>
The second embodiment shows an example in which the shape of the coil conductor pattern is different from that of the first embodiment.

図5は、第2の実施形態に係る多層基板102の断面図である。図6は、多層基板102の分解平面図である。なお、図6では、構造を分かりやすくするため、コイル導体パターン31,32,33,34をドットパターンで示している。   FIG. 5 is a cross-sectional view of the multilayer substrate 102 according to the second embodiment. FIG. 6 is an exploded plan view of the multilayer substrate 102. In FIG. 6, the coil conductor patterns 31, 32, 33, and 34 are shown as dot patterns for easy understanding of the structure.

多層基板102は、コイル導体パターン31A,32A,33A,34Aおよび外部接続電極P2Aの形状が、第1の実施形態に係る多層基板101と異なる。また、多層基板102は、積層体10の第2主面VS2Aに保護層5が形成されている点で、多層基板101と異なる。多層基板102の他の構成については、多層基板101と実質的に同じである。   The multilayer substrate 102 is different from the multilayer substrate 101 according to the first embodiment in the shapes of the coil conductor patterns 31A, 32A, 33A, 34A and the external connection electrodes P2A. The multilayer substrate 102 is different from the multilayer substrate 101 in that the protective layer 5 is formed on the second main surface VS2A of the multilayer body 10. Other configurations of the multilayer substrate 102 are substantially the same as those of the multilayer substrate 101.

以下、第1の実施形態に係る多層基板101と異なる部分について説明する。   Hereinafter, parts different from the multilayer substrate 101 according to the first embodiment will be described.

コイル導体パターン31Aは、絶縁基材層11の中央より第1辺(図6における絶縁基材層11の左辺)寄りの位置に配置される約1.5ターンの矩形スパイラル状の導体パターンである。   The coil conductor pattern 31A is a rectangular spiral conductor pattern of about 1.5 turns arranged at a position closer to the first side (the left side of the insulating base layer 11 in FIG. 6) than the center of the insulating base layer 11. .

コイル導体パターン32は、絶縁基材層12の中央より第1辺(図6における絶縁基材層12の左辺)寄りの位置に配置される約1.5ターンの矩形スパイラル状の導体パターンである。   The coil conductor pattern 32 is a rectangular spiral conductor pattern of about 1.5 turns arranged at a position closer to the first side (the left side of the insulating base layer 12 in FIG. 6) than the center of the insulating base layer 12. .

コイル導体パターン33は、絶縁基材層13の外形に沿って巻回される約1.5ターンの矩形スパイラル状の導体パターンである。   The coil conductor pattern 33 is a rectangular spiral conductor pattern of about 1.5 turns that is wound along the outer shape of the insulating base layer 13.

コイル導体パターン34は、絶縁基材層14の外形に沿って巻回される約1.5ターンの矩形スパイラル状の導体パターンである。   The coil conductor pattern 34 is a rectangular spiral conductor pattern of about 1.5 turns that is wound along the outer shape of the insulating base layer 14.

外部接続電極P2Aは、絶縁基材層15の裏面に形成されるL字形の導体パターンである。   The external connection electrode P <b> 2 </ b> A is an L-shaped conductor pattern formed on the back surface of the insulating base material layer 15.

保護層5は、平面形状が絶縁基材層15と略同じであり、絶縁基材層15の裏面に積層される。保護層5は、外部接続電極P2Aの位置に応じた位置に、矩形の開口部APを有する。そのため、絶縁基材層15の裏面に保護層5が形成(積層)されることにより、外部接続電極P2Aが積層体10の第2主面VS2Aに露出する。保護層5は、例えばカバーレイフィルム、またはソルダーレジスト膜である。   The protective layer 5 has substantially the same planar shape as the insulating base material layer 15 and is laminated on the back surface of the insulating base material layer 15. The protective layer 5 has a rectangular opening AP at a position corresponding to the position of the external connection electrode P2A. Therefore, when the protective layer 5 is formed (laminated) on the back surface of the insulating base material layer 15, the external connection electrode P2A is exposed to the second main surface VS2A of the multilayer body 10. The protective layer 5 is, for example, a coverlay film or a solder resist film.

なお、保護層5は必須の構成ではない。また、本実施形態では、保護層5が、積層体10の第2主面VS2A側に形成される例を示したが、保護層が第1主面VS1側に形成される構成でもよく、第2主面VS2B側に形成される構成でもよい。   The protective layer 5 is not an essential configuration. In the present embodiment, the example in which the protective layer 5 is formed on the second main surface VS2A side of the stacked body 10 has been described. However, the protective layer may be formed on the first main surface VS1 side. The structure formed in the 2 main surface VS2B side may be sufficient.

外部接続電極P1は、層間接続導体V1を介して導体21の第1端に接続される。導体21の第2端は、コイル導体パターン31Aの第1端に接続される。コイル導体パターン31Aの第2端は、層間接続導体V2を介してコイル導体パターン32Aの第1端に接続される。コイル導体パターン32Aの第2端は、層間接続導体V3を介してコイル導体パターン33Aの第1端に接続される。コイル導体パターン33Aの第2端は、層間接続導体V4を介してコイル導体パターン34Aの第1端に接続される。コイル導体パターン34Aの第2端は、層間接続導体V5を介して外部接続電極P2Aに接続される。   The external connection electrode P1 is connected to the first end of the conductor 21 via the interlayer connection conductor V1. The second end of the conductor 21 is connected to the first end of the coil conductor pattern 31A. The second end of the coil conductor pattern 31A is connected to the first end of the coil conductor pattern 32A via the interlayer connection conductor V2. The second end of the coil conductor pattern 32A is connected to the first end of the coil conductor pattern 33A via the interlayer connection conductor V3. The second end of the coil conductor pattern 33A is connected to the first end of the coil conductor pattern 34A via the interlayer connection conductor V4. The second end of the coil conductor pattern 34A is connected to the external connection electrode P2A via the interlayer connection conductor V5.

本実施形態では、コイル導体パターン31A,32A,33A,34Aおよび層間接続導体V2,V3,V4によって、Z軸方向に巻回軸AXを有する約6ターンのコイル3Aが構成される。   In the present embodiment, the coil conductor patterns 31A, 32A, 33A, and 34A and the interlayer connection conductors V2, V3, and V4 constitute a coil 3A having about 6 turns having a winding axis AX in the Z-axis direction.

図5等に示すように、コイル導体パターン31A,32A,33A,33A,34Aは、Z軸方向から視て、段差部SPに沿って近接する部分(図6におけるコイル導体パターン31A,32A,33A,34Aのうち、Y軸方向に延伸する右辺部分)に、他の部分よりも相対的に線幅の広い幅広部WPを有する。   As shown in FIG. 5 and the like, the coil conductor patterns 31A, 32A, 33A, 33A, and 34A are portions close to the step portion SP as viewed from the Z-axis direction (the coil conductor patterns 31A, 32A, and 33A in FIG. 6). , 34A, a wide portion WP having a relatively wider line width than the other portions is provided on the right side portion extending in the Y-axis direction.

このような構成でも、多層基板102の基本的な構成は、第1の実施形態に係る多層基板101と同じであり、多層基板101と同様の作用・効果を奏する。   Even in such a configuration, the basic configuration of the multilayer substrate 102 is the same as that of the multilayer substrate 101 according to the first embodiment, and the same operations and effects as the multilayer substrate 101 are achieved.

また、本実施形態で示したように、コイルは、矩形スパイラル状のコイル導体パターンを層間接続導体で接続する構成でもよい。   Further, as shown in the present embodiment, the coil may be configured such that a rectangular spiral coil conductor pattern is connected by an interlayer connection conductor.

《第3の実施形態》
第3の実施形態では、複数の第2領域を有する多層基板の例を示す。
<< Third Embodiment >>
In the third embodiment, an example of a multilayer substrate having a plurality of second regions is shown.

図7は、第3の実施形態に係る多層基板103の平面図である。図8(A)は多層基板103の正面図であり、図8(B)は多層基板103の右側面図である。図9は、多層基板103の分解平面図である。なお、図9では、構造を分かりやすくするため、コイル導体パターン31B,32B,33B,34Bをドットパターンで示している。   FIG. 7 is a plan view of the multilayer substrate 103 according to the third embodiment. FIG. 8A is a front view of the multilayer substrate 103, and FIG. 8B is a right side view of the multilayer substrate 103. FIG. 9 is an exploded plan view of the multilayer substrate 103. In FIG. 9, the coil conductor patterns 31B, 32B, 33B, and 34B are shown as dot patterns for easy understanding of the structure.

多層基板103は、積層体の形状が、第1の実施形態に係る多層基板101と異なる。また、多層基板103は、導体22,23および層間接続導体V6等を備える点で、多層基板101と異なる。多層基板103の他の構成については、多層基板101と実質的に同じである。   The multilayer substrate 103 is different from the multilayer substrate 101 according to the first embodiment in the shape of the stacked body. The multilayer substrate 103 is different from the multilayer substrate 101 in that the multilayer substrate 103 includes conductors 22 and 23, an interlayer connection conductor V6, and the like. Other configurations of the multilayer substrate 103 are substantially the same as those of the multilayer substrate 101.

以下、第1の実施形態に係る多層基板101と異なる部分について説明する。   Hereinafter, parts different from the multilayer substrate 101 according to the first embodiment will be described.

多層基板103は、積層体10B、段差部SP1,SP2、コイル3B、外部接続電極P1,P2B等を備える。   The multilayer substrate 103 includes a laminated body 10B, stepped portions SP1 and SP2, a coil 3B, external connection electrodes P1 and P2B, and the like.

積層体10Bは、第1領域F1および第2領域F21,F22を有しており、コイル3Bは、第1領域F1に形成されている。また、積層体10Bは、第1主面VS1と、第1主面VS1に対向する第2主面VS2A,VS2B,VS2Cを有する。第2主面VS2Aは第1領域F1に位置する面であり、第2主面VS2Bは第2領域F21に位置する面であり、第2主面VS2Cは第2領域F22に位置する面である。外部接続電極P1は、第2領域F21の第2主面VS2Bに形成されており、外部接続電極P2Bは、第2領域F22の第2主面VS2Cに形成されている。   The stacked body 10B has a first region F1 and second regions F21 and F22, and the coil 3B is formed in the first region F1. The stacked body 10B includes a first main surface VS1 and second main surfaces VS2A, VS2B, and VS2C that face the first main surface VS1. The second main surface VS2A is a surface located in the first region F1, the second main surface VS2B is a surface located in the second region F21, and the second main surface VS2C is a surface located in the second region F22. . The external connection electrode P1 is formed on the second main surface VS2B of the second region F21, and the external connection electrode P2B is formed on the second main surface VS2C of the second region F22.

積層体10Bは、長手方向がX軸方向に一致するL字形の絶縁体平板である。積層体10Bは、樹脂(熱可塑性樹脂)を主材料とする複数の絶縁基材層14b,13b,12b,11bの順に積層して形成される。積層体10Bの第1領域F1は、絶縁基材層14b,13b,12b,11bの順に積層して形成される。第2領域F21,F22は、絶縁基材層12b,11bの順に積層して形成される。図9に示すように、絶縁基材層11b,12bは、第1領域F1と第2領域F21,F22とに亘って形成される絶縁基材層である。   The laminated body 10B is an L-shaped insulating flat plate whose longitudinal direction coincides with the X-axis direction. The laminated body 10B is formed by laminating a plurality of insulating base material layers 14b, 13b, 12b, and 11b made mainly of a resin (thermoplastic resin). The first region F1 of the laminate 10B is formed by laminating the insulating base layers 14b, 13b, 12b, and 11b in this order. The second regions F21 and F22 are formed by laminating the insulating base material layers 12b and 11b in this order. As shown in FIG. 9, the insulating base layers 11b and 12b are insulating base layers formed over the first region F1 and the second regions F21 and F22.

第2領域F21,F22の絶縁基材層の積層数(2層)は、第1領域F1の絶縁基材層の積層数(4層)よりも少ない。そのため、複数の絶縁基材層の積層数の相違により、第1領域F1と第2領域F21との境界に段差部SP1が形成される。また、複数の絶縁基材層の積層数の相違により、第1領域F1と第2領域F22との境界に段差部SP2が形成される。   The number of insulating base material layers (2 layers) in the second regions F21 and F22 is smaller than the number of insulating base material layers (four layers) in the first region F1. Therefore, a stepped portion SP1 is formed at the boundary between the first region F1 and the second region F21 due to the difference in the number of stacked insulating base material layers. Further, the stepped portion SP2 is formed at the boundary between the first region F1 and the second region F22 due to the difference in the number of stacked insulating base material layers.

本実施形態に係る段差部SP1はYZ平面に略平行であり、本実施形態に係る段差部SP2はXZ平面に略平行である。   The stepped portion SP1 according to the present embodiment is substantially parallel to the YZ plane, and the stepped portion SP2 according to the present embodiment is substantially parallel to the XZ plane.

絶縁基材層11b,12bは、長手方向がX軸方向に一致するL字形の平板である。絶縁基材層13b,14bは、長手方向がX軸方向に一致する矩形の平板である。絶縁基材層11b,12bのX軸方向の長さは、絶縁基材層13b,14bのX軸方向の長さよりも長い。また、絶縁基材層11b,12bの一部(図9における絶縁基材層11b,12bの左下部分)のY軸方向の長さは、絶縁基材層13b,14bのY軸方向の長さよりも長い。絶縁基材層11b,12bの平面形状は略同じであり、絶縁基材層13b,14bの平面形状は略同じである。   The insulating base layers 11b and 12b are L-shaped flat plates whose longitudinal direction coincides with the X-axis direction. The insulating base layers 13b and 14b are rectangular flat plates whose longitudinal direction coincides with the X-axis direction. The lengths of the insulating base layers 11b and 12b in the X-axis direction are longer than the lengths of the insulating base layers 13b and 14b in the X-axis direction. Further, the length in the Y-axis direction of a part of the insulating base layers 11b and 12b (lower left portions of the insulating base layers 11b and 12b in FIG. 9) is larger than the length in the Y-axis direction of the insulating base layers 13b and 14b. Too long. The planar shapes of the insulating base layers 11b and 12b are substantially the same, and the planar shapes of the insulating base layers 13b and 14b are substantially the same.

絶縁基材層11bの裏面には、コイル導体パターン31Bおよび導体21が形成されている。コイル導体パターン31Bは、絶縁基材層11Bの中央付近に配置される1ターン弱の矩形ループ状の導体パターンである。導体21は、X軸方向に延伸する線状の導体パターンである。   A coil conductor pattern 31B and a conductor 21 are formed on the back surface of the insulating base material layer 11b. The coil conductor pattern 31B is a rectangular loop-shaped conductor pattern of less than one turn disposed near the center of the insulating base layer 11B. The conductor 21 is a linear conductor pattern extending in the X-axis direction.

絶縁基材層12bの裏面には、コイル導体パターン32Bおよび外部接続電極P1,P2Bが形成されている。コイル導体パターン32Bは、絶縁基材層12bの中央付近に配置される1ターン弱の矩形ループ状の導体パターンである。外部接続電極P1は、絶縁基材層12bの第2辺(図9における絶縁基材層12bの右辺)中央付近に配置される矩形の導体パターンである。外部接続電極P2Bは、絶縁基材層12bの第1角(図9における絶縁基材層12bの左下角)付近に配置されるL字形の導体パターンである。   A coil conductor pattern 32B and external connection electrodes P1, P2B are formed on the back surface of the insulating base material layer 12b. The coil conductor pattern 32B is a rectangular loop-shaped conductor pattern of less than one turn disposed near the center of the insulating base layer 12b. The external connection electrode P1 is a rectangular conductor pattern disposed near the center of the second side of the insulating base layer 12b (the right side of the insulating base layer 12b in FIG. 9). The external connection electrode P2B is an L-shaped conductor pattern disposed near the first corner of the insulating base layer 12b (the lower left corner of the insulating base layer 12b in FIG. 9).

絶縁基材層13bの裏面には、コイル導体パターン33Bおよび導体23が形成されている。コイル導体パターン33Bは、絶縁基材層13bの中央より第2辺(図9における絶縁基材層13bの右辺)寄りの位置に配置される1ターン弱の矩形ループ状の導体パターンである。導体23は、絶縁基材層13bの第1角(図9における絶縁基材層13bの左下角)付近に配置される矩形の導体パターンである。   A coil conductor pattern 33B and a conductor 23 are formed on the back surface of the insulating base layer 13b. The coil conductor pattern 33B is a rectangular loop-shaped conductor pattern of less than one turn arranged at a position closer to the second side (the right side of the insulating base layer 13b in FIG. 9) than the center of the insulating base layer 13b. The conductor 23 is a rectangular conductor pattern disposed near the first corner of the insulating base layer 13b (the lower left corner of the insulating base layer 13b in FIG. 9).

絶縁基材層14bの裏面には、コイル導体パターン34Bおよび導体22が形成されている。コイル導体パターン34Bは、絶縁基材層14bの中央より第2辺(図9における絶縁基材層14bの右辺)寄りの位置に配置される1ターン弱の矩形ループ状の導体パターンである。導体22は、X軸方向に延伸する線状の導体パターンである。   A coil conductor pattern 34B and a conductor 22 are formed on the back surface of the insulating base layer 14b. The coil conductor pattern 34B is a rectangular loop-shaped conductor pattern of less than one turn disposed at a position closer to the second side (the right side of the insulating base layer 14b in FIG. 9) than the center of the insulating base layer 14b. The conductor 22 is a linear conductor pattern extending in the X-axis direction.

外部接続電極P1は、層間接続導体V1を介して導体21の第1端に接続される。導体21の第2端は、コイル導体パターン31Bの第1端に接続される。コイル導体パターン31Bの第2端は、層間接続導体V2を介してコイル導体パターン32Bの第1端に接続される。コイル導体パターン32Bの第2端は、層間接続導体V3を介してコイル導体パターン33Bの第1端に接続される。コイル導体パターン33Bの第2端は、層間接続導体V4を介してコイル導体パターン34Bの第1端に接続される。コイル導体パターン34Bの第2端は、導体22の第1端に接続される。導体22の第2端は、層間接続導体V5を介して導体23の第1端に接続される。導体23の第2端は、層間接続導体V6を介して外部接続電極P2Bに接続される。   The external connection electrode P1 is connected to the first end of the conductor 21 via the interlayer connection conductor V1. The second end of the conductor 21 is connected to the first end of the coil conductor pattern 31B. The second end of the coil conductor pattern 31B is connected to the first end of the coil conductor pattern 32B via the interlayer connection conductor V2. The second end of the coil conductor pattern 32B is connected to the first end of the coil conductor pattern 33B via the interlayer connection conductor V3. The second end of the coil conductor pattern 33B is connected to the first end of the coil conductor pattern 34B via the interlayer connection conductor V4. The second end of the coil conductor pattern 34 </ b> B is connected to the first end of the conductor 22. The second end of the conductor 22 is connected to the first end of the conductor 23 via the interlayer connection conductor V5. The second end of the conductor 23 is connected to the external connection electrode P2B through the interlayer connection conductor V6.

このように、コイル導体パターン31B,32B,33B,34Bおよび層間接続導体V2,V3,V4によって、Z軸方向に巻回軸を有する約3.5ターンのヘリカル状のコイル3Bが構成される。   As described above, the coil conductor patterns 31B, 32B, 33B, and 34B and the interlayer connection conductors V2, V3, and V4 constitute a helical coil 3B having about 3.5 turns having a winding axis in the Z-axis direction.

図8(A)等に示すように、コイル導体パターン31B,32B,33B,34Bは、Z軸方向から視て、段差部SP1に沿って近接する部分(図9におけるコイル導体パターン31B,32B,33B,34Bのうち、Y軸方向に延伸する右辺部分)に、他の部分よりも相対的に線幅の広い幅広部WP1を有する。   As shown in FIG. 8A and the like, the coil conductor patterns 31B, 32B, 33B, and 34B are adjacent to the step portion SP1 as viewed from the Z-axis direction (the coil conductor patterns 31B, 32B, and 33B, the right side portion extending in the Y-axis direction) has a wide portion WP1 having a relatively wider line width than the other portions.

また、図8(B)等の示すように、コイル導体パターン31B,32B,33B,34Bは、Z軸方向から視て、段差部SP2に沿って近接する部分(図9におけるコイル導体パターン31B,32B,33B,34Bのうち、X軸方向に延伸する下辺部分)に、他の部分よりも相対的に線幅の広い幅広部WP2を有する。   Further, as shown in FIG. 8B and the like, the coil conductor patterns 31B, 32B, 33B, and 34B are portions close to the step part SP2 as viewed from the Z-axis direction (the coil conductor patterns 31B and 31B in FIG. 9). Among the 32B, 33B, and 34B, the lower side portion extending in the X-axis direction) has a wide portion WP2 having a relatively wider line width than other portions.

図9に示すように、本実施形態に係る幅広部WP1は、段差部SP1に沿ってY軸方向に延伸する直線状である。また、図9に示すように、本実施形態に係る幅広部WP2は、段差部SP2に沿ってX軸方向に延伸する直線状である。   As shown in FIG. 9, the wide part WP1 according to the present embodiment has a linear shape extending in the Y-axis direction along the step part SP1. Moreover, as shown in FIG. 9, the wide part WP2 according to the present embodiment is a straight line extending in the X-axis direction along the step part SP2.

本実施形態で示したように、第2領域の数が複数であってもよい。すなわち、段差部の数が複数でもよい。なお、第1領域および第2領域の形状、個数、位置等は、本発明の作用効果を奏する範囲において適宜変更可能であり、第1領域の数が2以上であってもよい。   As shown in the present embodiment, the number of second regions may be plural. That is, the number of step portions may be plural. In addition, the shape, the number, the position, and the like of the first region and the second region can be appropriately changed within a range where the effects of the present invention are exhibited, and the number of the first regions may be two or more.

また、本実施形態で示したように、段差部の数が複数である場合には、コイル導体パターンのうち、それぞれの段差部に沿って近接する部分に、それぞれ幅広部が形成される構成が好ましい。なお、幅広部は、コイル導体パターンのうち、少なくとも1つの段差部に沿って近接する部分に形成されていれば、本発明の作用効果を奏する。但し、本発明の作用効果の点から、コイル導体パターンのうち、それぞれの段差部に沿って近接する部分にそれぞれ幅広部が形成される構成が好ましい。   In addition, as shown in the present embodiment, when there are a plurality of stepped portions, a configuration in which wide portions are formed in portions adjacent to each stepped portion of the coil conductor pattern, respectively. preferable. In addition, if the wide part is formed in the part which adjoins along at least 1 level | step-difference part among coil conductor patterns, there exists an effect of this invention. However, from the viewpoint of the effects of the present invention, a configuration in which wide portions are formed in portions of the coil conductor pattern that are close to each other along the stepped portions is preferable.

《その他の実施形態》
以上に示した各実施形態では、積層体が矩形の平板、またはL字形の平板である例を示したが、この構成に限定されるものではない。積層体の平面形状は、本発明の作用効果を奏する範囲において適宜変更可能であり、例えば多角形、円形、楕円形、クランク形、T字形、Y字形等であってもよい。
<< Other Embodiments >>
In each embodiment shown above, although the laminated body showed the example which is a rectangular flat plate or a L-shaped flat plate, it is not limited to this structure. The planar shape of the laminated body can be changed as appropriate within the scope of the effects of the present invention, and may be, for example, a polygon, a circle, an ellipse, a crank shape, a T shape, a Y shape, or the like.

また、以上に示した各実施形態では、4つまたは5つの絶縁基材層を積層して形成される積層体の例を示したが、この構成に限定されるものではない。積層体を形成する絶縁基材層の積層数は、本発明の作用効果を奏する範囲において適宜変更可能である。積層体を形成する絶縁基材層の積層数は、例えば2つまたは3つでもよく、6つ以上でもよい。さらに、第1領域の絶縁基材層の積層数、および第2領域の絶縁基材層の積層数についても、本発明の作用効果を奏する範囲において適宜変更可能である。   Moreover, in each embodiment shown above, although the example of the laminated body formed by laminating | stacking 4 or 5 insulating base material layers was shown, it is not limited to this structure. The number of laminated insulating base layers forming the laminate can be appropriately changed within the range where the effects of the present invention are exhibited. The number of insulating base material layers forming the laminate may be two or three, for example, or may be six or more. Furthermore, the number of insulating base material layers in the first region and the number of insulating base material layers in the second region can also be changed as appropriate within the scope of the effects of the present invention.

以上に示した各実施形態では、熱可塑性樹脂からなる複数の絶縁基材層を積層して加熱加圧することにより、積層体を形成する例を示したが、この構成に限定されるものではない。例えば、熱硬化性樹脂からなる複数の絶縁基材層の間に、接合層(例えば、半硬化状態のプリプレグ樹脂)を挟んで積層したものを加熱加圧することにより積層体を形成してもよい。   In each embodiment shown above, although the example which forms a laminated body by laminating | stacking and heat-pressing the several insulating base material layer which consists of thermoplastic resins was shown, it is not limited to this structure. . For example, a laminate may be formed by heating and pressing a laminate in which a bonding layer (for example, a semi-cured prepreg resin) is sandwiched between a plurality of insulating base material layers made of a thermosetting resin. .

また、以上に示した各実施形態では、Z軸方向に巻回軸を有する約3.5ターンの矩形ヘリカル状のコイル3,3Bや、約6ターンのコイル3Aが構成される例を示したが、コイルの形状、ターン数等はこれらに限定されるものではない。コイルの外形、構成およびターン数は、本発明の作用効果を奏する範囲において適宜変更可能である。コイルの外形(巻回軸AX方向(Z軸方向)から視たコイルの外形)は、矩形に限定されるものではなく、例えば円形、楕円形等であってもよい。また、コイルの巻回軸はZ軸方向に沿っている必要はなく、例えばX軸方向やY軸方向に沿っていてもよい。   Moreover, in each embodiment shown above, the example in which the rectangular helical coils 3 and 3B of about 3.5 turns having the winding axis in the Z-axis direction and the coil 3A of about 6 turns were configured was shown. However, the shape of the coil, the number of turns, etc. are not limited to these. The outer shape, configuration, and number of turns of the coil can be changed as appropriate within the scope of the effects of the present invention. The outer shape of the coil (the outer shape of the coil viewed from the winding axis AX direction (Z-axis direction)) is not limited to a rectangle, and may be, for example, a circle or an ellipse. Further, the winding axis of the coil need not be along the Z-axis direction, and may be along the X-axis direction or the Y-axis direction, for example.

以上に示した各実施形態では、全てのコイル導体パターンが、Z軸方向から視て、互いに略重なるように配置されている例を示したが、この構成に限定されるものではない。複数のコイル導体パターンは、Z軸方向から視て、少なくとも一部が互いに重なるように配置される構成であってもよい。   In each of the embodiments described above, an example in which all the coil conductor patterns are arranged so as to substantially overlap each other when viewed from the Z-axis direction is shown, but the present invention is not limited to this configuration. The plurality of coil conductor patterns may be arranged so that at least a part thereof overlaps each other when viewed from the Z-axis direction.

さらに、以上に示した各実施形態では、コイルが、4つの絶縁基材層にそれぞれ形成される4つのコイル導体パターンを含んで構成される例を示したが、この構成に限定されるものではない。コイルは、2以上の絶縁基材層にそれぞれ形成される2以上のコイル導体パターンを含んで構成されていればよい。すなわち、コイルを構成するコイル導体パターンの数は、2以上であればよい。   Furthermore, in each embodiment shown above, although the coil showed the example comprised including the four coil conductor patterns each formed in four insulating base material layers, it is not limited to this structure. Absent. The coil should just be comprised including the 2 or more coil conductor pattern formed in 2 or more insulation base material layers, respectively. That is, the number of coil conductor patterns constituting the coil may be two or more.

以上に示した各実施形態では、全てのコイル導体パターンが幅広部を有する例を示したが、この構成に限定されるものではない。幅広部は、複数のコイル導体パターンのうち、少なくとも1つのコイル導体パターンに形成されていれば、本発明の作用効果を奏する。但し、本発明の作用効果の点から、幅広部は、全てのコイル導体パターンに形成されることが好ましい。   In each embodiment shown above, although the example which all the coil conductor patterns have a wide part was shown, it is not limited to this structure. If the wide portion is formed in at least one coil conductor pattern among the plurality of coil conductor patterns, the effects of the present invention are exhibited. However, from the viewpoint of the effect of the present invention, the wide portion is preferably formed in all coil conductor patterns.

また、以上に示した各実施形態では、幅広部が直線状である例を示したが、この構成に限定されるものではない。幅広部は、コイル導体パターンのうち、段差部に沿って近接する部分に形成されていればよく、例えば円弧状、曲線状、クランク状、L字状等であってもよい。   Moreover, in each embodiment shown above, although the wide part showed the example which is linear form, it is not limited to this structure. The wide part should just be formed in the part which adjoins along a level | step-difference part among coil conductor patterns, for example, circular arc shape, curvilinear shape, crank shape, L shape etc. may be sufficient.

以上に示した各実施形態では、コイルのみ備える多層基板の例を示したが、多層基板(積層体)に形成される回路構成はこれに限定されるものではない。積層体に形成される回路は、本発明の作用・効果を奏する範囲において適宜変更可能である。例えば、導体パターンで形成されたキャパシタや各種伝送線路(ストリップライン、マイクロストリップライン、ミアンダ、コプレーナ等)等が、積層体に形成されていてもよい。また、例えば、チップ型インダクタやチップ型キャパシタ等のチップ部品が、積層体に実装されていてもよい。   In each embodiment shown above, the example of the multilayer board | substrate provided only with a coil was shown, However, The circuit structure formed in a multilayer board | substrate (laminated body) is not limited to this. The circuit formed in the laminated body can be appropriately changed within the range where the functions and effects of the present invention are exhibited. For example, a capacitor formed of a conductor pattern, various transmission lines (strip line, microstrip line, meander, coplanar, etc.), etc. may be formed in the laminate. Further, for example, chip components such as a chip inductor and a chip capacitor may be mounted on the multilayer body.

また、外部接続電極の個数、配置および形状等は、第1・第2・第3の実施形態で示した構成に限定されるものではない。外部接続電極の個数および配置は、積層体に形成される回路に応じて適宜変更可能である。また、外部接続電極の平面形状は、矩形またはL字形に限定されるものではなく、例えば正方形、多角形、円形、楕円形、T字形等であってもよい。   Further, the number, arrangement, shape, and the like of the external connection electrodes are not limited to the configurations shown in the first, second, and third embodiments. The number and arrangement of the external connection electrodes can be changed as appropriate according to the circuit formed in the laminate. The planar shape of the external connection electrode is not limited to a rectangle or an L shape, and may be a square, a polygon, a circle, an ellipse, a T shape, or the like.

なお、第1の実施形態では、はんだ等の導電性接合材を介して、多層基板の外部接続電極を回路基板等に接続する例を示したが、この構成に限定されるものではない。多層基板は、例えばコネクタを用いて回路基板等に接続されていてもよい。   In the first embodiment, the example in which the external connection electrode of the multilayer board is connected to the circuit board or the like via a conductive bonding material such as solder has been described. However, the present invention is not limited to this configuration. The multilayer board may be connected to a circuit board or the like using a connector, for example.

最後に、上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではない。当業者にとって変形および変更が適宜可能である。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲内と均等の範囲内での実施形態からの変更が含まれる。   Finally, the description of the above embodiment is illustrative in all respects and not restrictive. Modifications and changes can be made as appropriate by those skilled in the art. The scope of the present invention is shown not by the above embodiments but by the claims. Furthermore, the scope of the present invention includes modifications from the embodiments within the scope equivalent to the claims.

ANT…コイルアンテナ
C1…キャパシタ
AP…開口部
AX…コイルの巻回軸
F1…第1領域
F2,F21,F22…第2領域
P1,P2,P2A,P2B…外部接続電極
SP,SP1,SP1a,SP2,SP2a…段差部
V1,V2,V3,V4,V5,V6…層間接続導体
VS1…積層体の第1主面
VS2A,VS2B,VS2C…積層体の第2主面
WP,WP1,WP2…幅広部
1…上部金型
2…下部金型
1a、2a…金型
3,3A,3B…コイル
4…IC
5…保護層
10,10B…積層体
11,11a,11b,12,12a,12b,13,13a,13b,14,14a,14b,15,15a…絶縁基材層
21,22,23…導体
31,31A,31B,32,32A,32B,33,33A,33B,34,34A,34B…コイル導体パターン
101,102,103…多層基板
201…通信モジュール
ANT ... Coil antenna C1 ... Capacitor AP ... Opening AX ... Coil winding axis F1 ... First region F2, F21, F22 ... Second region P1, P2, P2A, P2B ... External connection electrodes SP, SP1, SP1a, SP2 , SP2a... Step portions V1, V2, V3, V4, V5, V6... Interlayer connection conductor VS1... DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Upper metal mold 2 ... Lower metal mold 1a, 2a ... Metal mold 3, 3A, 3B ... Coil 4 ... IC
5 ... Protective layer 10, 10B ... Laminate 11, 11a, 11b, 12, 12a, 12b, 13, 13a, 13b, 14, 14a, 14b, 15, 15a ... Insulating substrate layers 21, 22, 23 ... Conductor 31 , 31A, 31B, 32, 32A, 32B, 33, 33A, 33B, 34, 34A, 34B ... coil conductor patterns 101, 102, 103 ... multilayer substrate 201 ... communication module

Claims (4)

樹脂を主材料とする複数の絶縁基材層が積層されて形成され、第1領域、および前記第1領域よりも前記絶縁基材層の積層数が少ない第2領域を有する積層体と、
前記複数の絶縁基材層の積層数の相違により前記第1領域と前記第2領域との境界に形成される段差部と、
前記第1領域に形成され、前記複数の絶縁基材層のうち2以上の絶縁基材層に形成される複数のコイル導体パターンを含んで構成されるコイルと、
を備え、
前記複数のコイル導体パターンは、前記複数の絶縁基材層の積層方向から視て、少なくとも一部が互いに重なるように配置され、且つ、前記積層方向から視て、前記段差部に沿って近接する部分に、他の部分よりも相対的に線幅の広い幅広部を有する、多層基板。
A laminate having a plurality of insulating base material layers made of resin as a main material, and having a second region in which the number of the insulating base material layers is less than the first region, and the first region;
A step portion formed at a boundary between the first region and the second region due to a difference in the number of stacked layers of the plurality of insulating base layers;
A coil formed in the first region and including a plurality of coil conductor patterns formed in two or more insulating base layers among the plurality of insulating base layers;
With
The plurality of coil conductor patterns are arranged so that at least a part thereof is overlapped with each other when viewed from the stacking direction of the plurality of insulating base layers, and close to the step portion when viewed from the stacking direction. A multilayer substrate having a wide portion having a relatively wider line width than other portions in the portion.
前記幅広部は、直線状である、請求項1に記載の多層基板。   The multilayer substrate according to claim 1, wherein the wide portion is linear. 前記第2領域の数は複数である、請求項1または2に記載の多層基板。   The multilayer substrate according to claim 1, wherein the number of the second regions is plural. 前記複数の絶縁基材層は、熱可塑性樹脂からなる、請求項1から3のいずれかに記載の多層基板。   The multilayer substrate according to claim 1, wherein the plurality of insulating base layers are made of a thermoplastic resin.
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