JP2019013950A - タンディッシュ注入管のシール方法およびシール装置 - Google Patents
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【解決手段】連続鋳造設備における取鍋とタンディッシュとの間に上方から下方へ向けて配置される陣笠3、シール管5およびタンディッシュ注入管6により形成されるとともに、取鍋の下ノズル2からタンディッシュへの溶鋼の注入流が流下する閉空間に不活性ガスを供給することにより、タンディッシュ注入管6をシールする方法である。陣笠3より下方の位置に前記閉空間の内部下方へ向けて水平面から所定のシールガス吹込み角度で傾斜して配置されたガス吹込み管1から、不活性ガスを、閉空間での平均滞留時間が30秒間以下となるように、閉空間へ吹込む。
【選択図】図1
Description
(1)連続鋳造設備における取鍋とタンディッシュとの間に上方から下方へ向けて配置される陣笠、シール管およびタンディッシュ注入管により形成されるとともに、前記取鍋の下ノズルから前記タンディッシュへの溶鋼の注入流が流下する閉空間に不活性ガスを供給する、タンディッシュ注入管のシール方法であって、
前記陣笠より下方の高さ位置、具体的には前記シール管が存在する高さ位置に、前記閉空間の内部下方へ向けて水平面から所定のシールガス吹込み角度で傾斜して配置されるガス吹込み管から、前記不活性ガスを、前記閉空間での平均滞留時間が30秒間以下となるように、前記閉空間へ吹込む、タンディッシュ注入管のシール方法。
前記シール管が存在する高さ位置に、前記空間の内部下方へ向けて水平面から所定のシールガス吹込み角度で傾斜して配置されるガス吹込み管から、前記不活性ガスを、前記空間での平均滞留時間が30秒間以下となるように、前記空間へ吹込む、タンディッシュ注入管のシール方法。
ただし、Eは、前記下ノズルから、前記タンディッシュ注入管を前記タンディシュに収容された溶鋼に浸漬した際の溶鋼湯面までの距離(mm)である。
図1は、本発明に係るタンディッシュ注入管6のシール装置0の構成例を示す説明図である。図1を参照しながら本明細書で用いる用語を説明する。
転炉、2次精練、連続鋳造等の各設備間において、溶鋼を保持搬送する機能を有する容器を意味する。「レ―ドル」とも称する。
連続鋳造設備の溶鋼容器であり、溶鋼を取鍋から受けて1次冷却設備である鋳型内に供給するための中間保持容器を意味する。
タンディッシュの上部を覆う蓋であり、取鍋から溶鋼を注入するための開口部を有する。「タンディッシュ蓋」は、広義には「タンディッシュ」に含まれるが、本明細書では、「タンディッシュ蓋」を特記する場合がある。
これらを上方から下方へ向けて順次組み合わせることによって、取鍋からタンディッシュへ供給される溶鋼の注入流が流下する閉空間を形成する。本発明は、この閉空間を不活性雰囲気に保つためのものである。なお、連々鋳の取鍋交換時には、陣笠3が存在しないため、シール管5およびタンディッシュ注入管6により空間が形成される。
取鍋の底面部に装着される蓋状の部材であり、「フード」等とも称される。タンディッシュに溶鋼を注入するために取鍋の位置を下げた時に、シール管5の上面を覆う機能を有する。水平面の中央には開口部が設けられており、取鍋の下ノズル2を挿入できる構造を有する。
円筒形の耐火物であり、その下端部がタンディッシュに収容された溶鋼に浸漬される。そのため、損耗による交換頻度が高くなるため(通常は、鋳造終了毎に交換される)、重量を最小限に抑え耐火物コストを減らすために高さ方向寸法(円筒の長さ)は最低限に確保することとして、その上端位置をタンディッシュ蓋4のやや上側とする。
円筒形の耐火物であって、上述したように、タンディッシュ注入管6を短尺とするために、タンディッシュ注入管6の上部に設置されて、タンディッシュ注入管6とともに溶鋼の注入流が流下する閉空間を形成する。シール管5の上端開放部は陣笠3により覆われている。
連続鋳造の進行によって溶鋼が空になった取鍋を、連続鋳造の実施中に次の溶鋼が充填された取鍋に交換することにより、複数の取鍋の溶鋼を連続的に鋳造する操業形態である。なお、溶鋼は、取鍋1基を単位として「チャージ(CH)」と称する。1チャージは約300トン程度であり、1回の連々鋳操業は、5〜7チャージ程度の取鍋数で行われ、1回の連々鋳操業は「1トライ」や「1キャスト」と称される。
次に、添付図面を参照しながら本発明を説明する。
(t→無限大で、F→1)
本発明に係るシール方法は、連続鋳造設備における取鍋とタンディッシュとの間に上方から下方へ向けて配置される陣笠3、シール管5およびタンディッシュ注入管6により形成されるとともに、取鍋の下ノズル2からタンディッシュへの溶鋼の注入流が流下する閉空間に不活性ガスを供給することにより、タンディッシュ注入管6をシールする方法である。これは、通常操業時である。
前述のように、本発明は、陣笠3の下部にガス吹込み管1を配設し、適切な角度でシールガスを吹込むことにより、以下に列記の課題A〜Dが解決される。
特許文献1の「従来の技術」の欄に示されたタンディッシュ注入管陣笠シール方法の課題である地金付着は、特許文献1により開示されたガス吹きタンディッシュ注入管シール方法により解決されるが、本発明によっても、図4のグラフに示すように地金付着は解決される。
タンディッシュ注入管陣笠シール方法では、取鍋にシールガス吹込み部が設置されているため、連々鋳時の取鍋の交換の際には、タンディッシュ注入管の内部に不活性ガスが全く流れなくなり、シール破れが発生する。
タンディッシュ注入管陣笠シール方法では、溶鋼の叩き込み部への不活性ガスの供給効率が悪くシール状態は良くなかったが、ガス吹きタンディッシュ注入管シール方法ではこの問題は解決している。
タンディッシュ注入管陣笠シール方法の設備構成は、本発明と同程度の設備構成であり、コストは同程度である。
1 ガス吹込み管
2 下ノズル
3 陣笠
4 タンディッシュ蓋
5 シール管
6 タンディッシュ注入管
7 叩き込み部
8 セラミックファイバー
9 受け鉄板
Claims (10)
- 連続鋳造設備における取鍋とタンディッシュとの間に上方から下方へ向けて配置される陣笠、シール管およびタンディッシュ注入管により形成されるとともに、前記取鍋の下ノズルから前記タンディッシュへの溶鋼の注入流が流下する閉空間に不活性ガスを供給する、タンディッシュ注入管のシール方法であって、
前記シール管が存在する高さ位置に、前記閉空間の内部下方へ向けて水平面から所定のシールガス吹込み角度で傾斜して配置されるガス吹込み管から、前記不活性ガスを、前記閉空間での平均滞留時間が30秒間以下となるように、前記閉空間へ吹込む、タンディッシュ注入管のシール方法。 - 連続鋳造設備における取鍋とタンディッシュとの間に上方から下方へ向けて配置されるシール管およびタンディッシュ注入管により形成される空間に不活性ガスを供給する、タンディッシュ注入管のシール方法であって、
前記シール管が存在する高さ位置に、前記空間の内部下方へ向けて水平面から所定のシールガス吹込み角度で傾斜して配置されるガス吹込み管から、前記不活性ガスを、前記空間での平均滞留時間が30秒間以下となるように、前記空間へ吹込む、タンディッシュ注入管のシール方法。 - 耐火物製もしくはセラミックファイバー製の蓋を前記シール管の上に設置する、請求項2に記載のタンディッシュ注入管のシール方法。
- 前記シールガス吹込み角度D(°)は、式tan−1[{(B/2)−C}/A]+90により表される角度D0(°)に対してABS(D−D0)≦5(°)以下を満足する、請求項1〜3のいずれかに記載のタンディッシュ注入管のシール方法。
ただし、Aは、前記タンディッシュ注入管を前記タンディシュに収容された溶鋼に浸漬した際の溶鋼湯面から前記ガス吹込み管の先端までの鉛直方向距離(mm)であり、Bは、前記タンディッシュ注入管の内径(mm)であり、Cは、前記タンディッシュ注入管の内壁から前記ガス吹込み管の先端までの水平方向最短距離(mm)である。 - B/E≧0.6を満足する、請求項4に記載のタンディッシュ注入管のシール方法。
ただし、Eは、前記下ノズルから、前記タンディッシュ注入管を前記タンディシュに収容された溶鋼に浸漬した際の溶鋼湯面までの距離(mm)である。 - 連続鋳造設備における取鍋とタンディッシュとの間に上方から下方へ向けて配置される陣笠、シール管およびタンディッシュ注入管を備え、前記陣笠、前記シール管および前記タンディッシュ注入管により形成されるとともに、前記取鍋の下ノズルから前記タンディッシュへの溶鋼の注入流が流下する閉空間に不活性ガスを供給する、タンディッシュ注入管のシール装置であって、
前記シール管が存在する高さ位置に、前記閉空間の内部下方へ向けて水平面から所定のシールガス吹込み角度で傾斜して配置されて、前記不活性ガスを、前記閉空間での平均滞留時間が30秒間以下となるように、前記閉空間へ吹込むガス吹込み管を備える、タンディッシュ注入管のシール装置。 - 連続鋳造設備における取鍋とタンディッシュとの間に上方から下方へ向けて配置されるシール管およびタンディッシュ注入管を備え、前記シール管および前記タンディッシュ注入管により形成される空間に不活性ガスを供給する、タンディッシュ注入管のシール装置であって、
前記シール管が存在する高さ位置に、前記空間の内部下方へ向けて水平面から所定のシールガス吹込み角度で傾斜して配置されて、前記不活性ガスを、前記空間での平均滞留時間が30秒間以下となるように、前記空間へ吹込むガス吹込み管を備える、タンディッシュ注入管のシール装置。 - 前記シール管の上に設置される、耐火物製もしくはセラミックファイバー製の蓋を備える、請求項7に記載のタンディッシュ注入管のシール装置。
- 前記シールガス吹込み角度D(°)は、式tan−1[{(B/2)−C}/A]+90により表される角度D0(°)に対してABS(D−D0)≦5(°)以下を満足する、請求項6〜8のいずれかに記載のタンディッシュ注入管のシール装置。
ただし、Aは、前記タンディッシュ注入管を前記タンディシュに収容された溶鋼に浸漬した際の溶鋼湯面から前記ガス吹込み管の先端までの鉛直方向距離(mm)であり、Bは、前記タンディッシュ注入管の内径(mm)であり、Cは、前記タンディッシュ注入管の内壁から前記ガス吹込み管の先端までの水平方向最短距離(mm)である。 - B/E≧0.6を満足する、請求項9に記載のタンディッシュ注入管のシール装置。
ただし、Eは、前記下ノズルから、前記タンディッシュ注入管を前記タンディシュに収容された溶鋼に浸漬した際の溶鋼湯面までの距離(mm)である。
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JP2020120876A (ja) * | 2019-01-30 | 2020-08-13 | 京楽産業.株式会社 | 遊技機 |
JP2020120875A (ja) * | 2019-01-30 | 2020-08-13 | 京楽産業.株式会社 | 遊技機 |
JP2021062385A (ja) * | 2019-10-11 | 2021-04-22 | 株式会社神戸製鋼所 | タンディッシュ内溶鋼のシール方法 |
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