JP2019005119A - 除染装置及び除染方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】過酸化水素とオゾンを併用する、複数の対象空間の除染を低コストで行うことができる除染装置と、前記除染装置を用いた除染方法の提供。【解決手段】オゾン発生装置１と、過酸化水素発生装置２と、これら発生装置と接続され、オゾン及び過酸化水素を混合して、除染対象空間１０内に供給するガス供給装置３と、除染対象空間１０内の温度、相対湿度及びガス濃度を測定する温度測定装置４、湿度測定装置５及びガス濃度測定装置６と、これら測定装置による測定結果に基づき、ガス供給装置３のガス供給条件を制御する制御装置７と、除染対象空間１０内のオゾン及び過酸化水素を分解して、その分解物を除染対象空間１０外に排出する分解排出装置８と、を備え、制御装置７が、ガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２に対して、電気的に接続又は遮断されるように、着脱可能となっている除染装置１０１。【選択図】図１
Description
本発明は、除染装置及び除染方法に関する。
医療、製薬、バイオテクノロジー等の分野では、殺菌処理、エンドトキシン不活化処理等が高度に行われた除染環境下で、作業が行われることがある。その理由は、菌やエンドトキシンが作業対象物中に混在していると、実験データにばらつきが発生したり、目的物の品質が安定しなかったりするだけでなく、例えば、菌やエンドトキシンが混在した製品（例えば、医薬品）を摂取した場合、摂取者の生命が脅かされるためである。エンドトキシンとは、グラム陰性菌の細胞壁の構成成分であり、リポ多糖であって、代表的な発熱物質であり、血中に入ることで、発熱等の様々な生体反応を引き起こし、人の死の原因となる。
そこで、このような危険を排除するために、対象となる作業空間は、その中に配置されている各種機器や設備とともに、除染する必要がある。従来は、このような除染作業として、ホルムアルデヒドのガスによる燻蒸が広く行われてきた。
しかし、ホルムアルデヒドは発がん性など、残留毒性を有することが大きな問題となり、近年ではその使用が制限されている。
しかし、ホルムアルデヒドは発がん性など、残留毒性を有することが大きな問題となり、近年ではその使用が制限されている。
これに代わる方法としては、過酸化水素のガスによる燻蒸が普及してきている。
しかし、過酸化水素は除染対象物に対して凝縮、結露し易く、また、その分解によって活性を失うまでに比較的長時間を要する。したがって、除染対象物は、過酸化水素が接触した状態が維持されることによって、酸化反応等によって材質が劣化してしまう。
また、過酸化水素による処理では、エンドトキシンの不活化が十分ではない。
しかし、過酸化水素は除染対象物に対して凝縮、結露し易く、また、その分解によって活性を失うまでに比較的長時間を要する。したがって、除染対象物は、過酸化水素が接触した状態が維持されることによって、酸化反応等によって材質が劣化してしまう。
また、過酸化水素による処理では、エンドトキシンの不活化が十分ではない。
一方で、殺菌処理とエンドトキシン不活化処理を高度に行うことができる方法として、過酸化水素とオゾンを併用する方法が知られている（特許文献１参照）。この方法では、過酸化水素とオゾンが接触することで、酸化力が強いヒドロキシラジカルが生成されし、このヒドロキシラジカルによって、殺菌処理とエンドトキシン不活化処理を高度に行うことができる。
しかし、特許文献１で開示されている方法では、従来法とは異なり、２種のガス（過酸化水素、オゾン）を使用するため、使用する除染装置の構成が複雑となり、特に、複数の対象空間の除染が高コストになるという問題点があった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、過酸化水素とオゾンを併用する、複数の対象空間の除染を低コストで行うことができる除染装置と、前記除染装置を用いた除染方法を提供することを課題とする。
上記課題を解決するため、本発明は、対象空間を除染するための除染装置であって、前記除染装置は、オゾン発生装置と、過酸化水素発生装置と、前記オゾン発生装置及び過酸化水素発生装置と接続され、かつ、前記オゾン発生装置で発生させたオゾン、及び前記過酸化水素発生装置で発生させた過酸化水素を、それぞれ単独で又は混合して、除染対象空間内に供給するためのガス供給装置と、除染対象空間内の温度を測定するための温度測定装置と、除染対象空間内の相対湿度を測定するための湿度測定装置と、除染対象空間内のガス濃度を測定するためのガス濃度測定装置と、前記温度測定装置、湿度測定装置及びガス濃度測定装置による測定結果に基づいて、前記ガス供給装置のガス供給条件を制御するための制御装置と、除染対象空間内のオゾン及び過酸化水素を分解して、その分解物を除染対象空間外に排出するための分解排出装置と、を備え、前記制御装置が、前記ガス供給装置及び過酸化水素発生装置のいずれか一方又は両方に対して、電気的に接続又は遮断されるように、着脱可能となっている除染装置を提供する。
前記除染装置においては、前記過酸化水素発生装置から、除染対象空間のガスの受け入れ口への接続部までの、ガス流路の長さが５ｍ以下であることが好ましい。
前記除染装置においては、前記過酸化水素発生装置及びガス供給装置が同一の第２装置に含まれ、前記第２装置が、除染対象空間の外壁若しくは内壁に接触して配置可能であるか、又は除染対象空間内において、除染対象空間の内壁から離間して配置可能であることが好ましい。
前記除染装置においては、前記制御装置及びオゾン発生装置が同一の第１装置に含まれ、前記オゾン発生装置が前記ガス供給装置に対して、ガス供給路を介して、着脱可能となっていることが好ましい。
前記除染装置は、さらに、除染対象空間内に配置可能で、かつ、除染対象空間内のオゾン及び過酸化水素を分解して、その分解物を除染対象空間内に排出するための分解循環装置を備えることが好ましい。
前記除染装置は、さらに、除染対象空間内の温度を調節するための温度調節装置、及び除染対象空間内の相対湿度を調節するための湿度調節装置の、いずれか一方又は両方を備えていてもよい。
また、本発明は、前記除染装置を用いて、対象空間を除染するための除染方法であって、前記制御装置を、前記ガス供給装置である第１ガス供給装置、及び前記過酸化水素発生装置である第１過酸化水素発生装置のいずれか一方又は両方に対して、電気的に接続して取り付けることにより、前記除染装置である第１除染装置を構成する工程と、前記第１除染装置中の温度測定装置、湿度測定装置及びガス濃度測定装置を用いて、第１除染対象空間内の温度、相対湿度及びガス濃度を測定し、その測定結果に基づいて、前記第１除染装置中の前記制御装置、オゾン発生装置、第１過酸化水素発生装置及び第１ガス供給装置を用いて、オゾン及び過酸化水素を、それぞれ単独で又は混合して、供給条件を制御しながら第１除染対象空間内に供給し、第１除染対象空間内にオゾン及び過酸化水素の混合ガスを充満させて、第１除染対象空間を除染し、除染後、前記第１除染装置中の前記分解排出装置を用いて、第１除染対象空間内のオゾン及び過酸化水素を分解し、その分解物を第１除染対象空間外に排出する、第１除染工程と、前記制御装置を、前記第１ガス供給装置及び第１過酸化水素発生装置のいずれか一方又は両方から電気的に遮断して取り外す工程と前記第１ガス供給装置及び第１過酸化水素発生装置とは別途設けられた、第２ガス供給装置及び第２過酸化水素発生装置のいずれか一方又は両方に対して、取り外した前記制御装置を電気的に接続して取り付けることにより、前記除染装置である第２除染装置を構成する工程と、前記第２除染装置中の温度測定装置、湿度測定装置及びガス濃度測定装置を用いて、前記第１除染対象空間とは別途設けられた、第２除染対象空間内の温度、相対湿度及びガス濃度を測定し、その測定結果に基づいて、前記第２除染装置中の前記制御装置、オゾン発生装置、過酸化水素発生装置及び第２ガス供給装置を用いて、オゾン及び過酸化水素を、それぞれ単独で又は混合して、供給条件を制御しながら第２除染対象空間内に供給し、第２除染対象空間内にオゾン及び過酸化水素の混合ガスを充満させて、第２除染対象空間を除染し、除染後、前記第２除染装置中の前記分解排出装置を用いて、第２除染対象空間内のオゾン及び過酸化水素を分解し、その分解物を第２除染対象空間外に排出する、第２除染工程と、を有し、必要に応じて、前記制御装置を前記ガス供給装置及び過酸化水素発生装置のいずれか一方又は両方から電気的に遮断して取り外す工程と、前記ガス供給装置及び過酸化水素発生装置とは別途設けられた、ガス供給装置及び過酸化水素発生装置のいずれか一方又は両方に対して、取り外した前記制御装置を電気的に接続して取り付けることにより、前記除染装置を構成する工程と、前記除染装置を用いて、除染対象空間を除染し、除染後、前記除染対象空間内のオゾン及び過酸化水素を分解し、その分解物を除染対象空間外に排出する除染工程を、さらに１回又は２回以上繰り返して行い、複数の除染対象空間の除染を行う除染方法を提供する。
本発明によれば、過酸化水素とオゾンを併用する、複数の対象空間の除染を低コストで行うことができる除染装置と、前記除染装置を用いた除染方法が提供される。
＜＜除染装置＞＞
以下、図面を参照しながら、本発明の一実施形態に係る除染装置について説明する。
なお、本明細書において、「除染」とは、殺菌処理、消毒処理、滅菌処理及びエンドトキシン不活化処理からなる群より選択される１種又は２種以上の処理を意味し、典型的な除染としては、例えば、燻蒸が挙げられる。
なお、「滅菌」とは「すべての微生物を対象として、それらをすべて殺滅又は除去すること」である（生化学辞典第３版、東京化学同人、「滅菌」の項を参照）。「消毒」とは「対象微生物の数を減らすために用いられる処置法で、感染症を惹起し得ない水準にまで病原性微生物を殺滅又は減少させること」である（消毒・滅菌の概要（大久保憲））。「殺菌」とは「病原微生物を死滅させること」であり（生化学辞典第３版、東京化学同人、「殺菌剤」の項を参照）、滅菌は殺菌の１種であるが、殺菌よりも無菌の度合いが高い。
以下、図面を参照しながら、本発明の一実施形態に係る除染装置について説明する。
なお、本明細書において、「除染」とは、殺菌処理、消毒処理、滅菌処理及びエンドトキシン不活化処理からなる群より選択される１種又は２種以上の処理を意味し、典型的な除染としては、例えば、燻蒸が挙げられる。
なお、「滅菌」とは「すべての微生物を対象として、それらをすべて殺滅又は除去すること」である（生化学辞典第３版、東京化学同人、「滅菌」の項を参照）。「消毒」とは「対象微生物の数を減らすために用いられる処置法で、感染症を惹起し得ない水準にまで病原性微生物を殺滅又は減少させること」である（消毒・滅菌の概要（大久保憲））。「殺菌」とは「病原微生物を死滅させること」であり（生化学辞典第３版、東京化学同人、「殺菌剤」の項を参照）、滅菌は殺菌の１種であるが、殺菌よりも無菌の度合いが高い。
図１は、本発明の一実施形態に係る除染装置を示す概略構成図である。
ここに示す除染装置１０１は、オゾン発生装置１、過酸化水素発生装置２、ガス供給装置３、温度測定装置４、湿度測定装置５、ガス濃度測定装置６、制御装置７、分解排出装置８及び分解循環装置９を備えて、概略構成されている。
ここに示す除染装置１０１は、オゾン発生装置１、過酸化水素発生装置２、ガス供給装置３、温度測定装置４、湿度測定装置５、ガス濃度測定装置６、制御装置７、分解排出装置８及び分解循環装置９を備えて、概略構成されている。
除染装置１０１は、除染対象空間１０を除染するための装置である。
除染対象空間１０は、目的とする除染の程度に応じて、任意に選択できる。除染対象空間１０として、より具体的には、例えば、細胞の培養や医薬品の製造等を無菌状態で行うためのアイソレータ等が挙げられる。
除染対象空間１０は、目的とする除染の程度に応じて、任意に選択できる。除染対象空間１０として、より具体的には、例えば、細胞の培養や医薬品の製造等を無菌状態で行うためのアイソレータ等が挙げられる。
除染対象空間１０は、除染装置１０１から供給されたガスを内部へ受け入れるための受け入れ口１０ａと、除染対象空間１０の内部に存在するガスを外部へ排出するための排出口１０ｂと、を有する。
除染対象空間１０は、ＨＥＰＡフィルター（Ｈｉｇｈ Ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ Ｐａｒｔｉｃｕｌａｔｅ Ａｉｒ Ｆｉｌｔｅｒ）等のエアフィルターを備え、除染対象空間１０外から空気を取り入れることが可能となっていてもよい。
除染対象空間１０は、この中へ搬入するものを搬入前に滅菌するなど、除染対象空間１０内への搬入物に対して、除染対象空間１０内から隔離した状態で、何らかの作業を行うための作業室に接続されていてもよい。
たとえば除染対象空間１０で使用される機材・備品をその除染対象空間１０に搬入する前にパスボックスなどの空間で燻蒸し，機材・備品を滅菌・除染処理することをいう。
除染対象空間１０は、この中へ搬入するものを搬入前に滅菌するなど、除染対象空間１０内への搬入物に対して、除染対象空間１０内から隔離した状態で、何らかの作業を行うための作業室に接続されていてもよい。
たとえば除染対象空間１０で使用される機材・備品をその除染対象空間１０に搬入する前にパスボックスなどの空間で燻蒸し，機材・備品を滅菌・除染処理することをいう。
オゾン発生装置１は、配管１３０によってガス供給装置３と接続されている。
過酸化水素発生装置２は、配管２３０によって配管１３０に接続されており、配管１３０を介してガス供給装置３と接続されている。
オゾン（Ｏ３）発生装置１で発生させたオゾン（ガス）と、過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）発生装置２で発生させた過酸化水素（ガス）は、配管１３０内の、配管２３０との合流領域又はこれよりもガス供給装置３側の下流領域において混合され、この混合ガスが、配管１３０を通じてガス供給装置３に供給可能となっている。
過酸化水素発生装置２は、配管２３０によって配管１３０に接続されており、配管１３０を介してガス供給装置３と接続されている。
オゾン（Ｏ３）発生装置１で発生させたオゾン（ガス）と、過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）発生装置２で発生させた過酸化水素（ガス）は、配管１３０内の、配管２３０との合流領域又はこれよりもガス供給装置３側の下流領域において混合され、この混合ガスが、配管１３０を通じてガス供給装置３に供給可能となっている。
オゾン発生装置１及び過酸化水素発生装置２としては、いずれも公知のものを用いることができる。過酸化水素発生装置２は、例えば、過酸化水素を含むカートリッジの装着によって過酸化水素が供給可能となるものを用いることができる。
ガス供給装置３は、配管１１によって、除染対象空間１０の受け入れ口１０ａに接続されており、前記混合ガスが、ガス供給装置３から除染対象空間１０内へ供給可能となっている。
ガス供給装置３は、除染対象空間１０内へのガスの供給と供給停止を行うことができる。
ガス供給装置３としては、公知のものを用いることができ、例えば、除染対象空間１０の受け入れ口１０ａとの間で、ガスの流路の開放及び遮断を行う機構を備えたものを用いることができ、ガスの送り出し機構を備えていてもよい。
ガス供給装置３は、除染対象空間１０内へのガスの供給と供給停止を行うことができる。
ガス供給装置３としては、公知のものを用いることができ、例えば、除染対象空間１０の受け入れ口１０ａとの間で、ガスの流路の開放及び遮断を行う機構を備えたものを用いることができ、ガスの送り出し機構を備えていてもよい。
分解排出装置８は、配管１１によって、除染対象空間１０の排出口１０ｂに接続されており、除染対象空間１０内に存在するガスが、分解排出装置８に導入され、除染対象空間１０外へ排出可能となっている。
分解排出装置８は、除染対象空間１０内から導入されたオゾン及び過酸化水素（混合ガス）を分解して、その分解物を除染対象空間１０外に排出するための装置である。
分解排出装置８は、除染対象空間１０内から導入されたオゾン及び過酸化水素（混合ガス）を分解して、その分解物を除染対象空間１０外に排出するための装置である。
一方、分解循環装置９は、除染対象空間１０内のオゾン及び過酸化水素（混合ガス）を分解して、その分解物を除染対象空間１０内に排出するための装置である。分解循環装置９を作動させることで、除染対象空間１０内のオゾン及び過酸化水素をすべて分解できる。
分解循環装置９は、任意の構成であり、除染装置１０１は、分解循環装置９を備えていてもよいし、備えていなくてもよい。すなわち、除染装置１０１は、さらに、除染対象空間１０内に配置可能で、かつ、除染対象空間１０内のオゾン及び過酸化水素を分解して、その分解物を除染対象空間１０内に排出するための分解循環装置９を備えていてもよい。
分解循環装置９は、任意の構成であり、除染装置１０１は、分解循環装置９を備えていてもよいし、備えていなくてもよい。すなわち、除染装置１０１は、さらに、除染対象空間１０内に配置可能で、かつ、除染対象空間１０内のオゾン及び過酸化水素を分解して、その分解物を除染対象空間１０内に排出するための分解循環装置９を備えていてもよい。
温度測定装置４、湿度測定装置５及びガス濃度測定装置６は、いずれも配管１１によって、除染対象空間１０に接続されている。
温度測定装置４は、除染対象空間１０内のガスをこれに導入して、除染対象空間１０内の温度を測定可能となっている。
同様に、湿度測定装置５は、除染対象空間１０内のガスをこれに導入して、除染対象空間１０内の相対湿度を測定可能となっており、ガス濃度測定装置６は、除染対象空間１０内のガスをこれに導入して、除染対象空間１０内のガス濃度を測定可能となっている。
温度測定装置４は、除染対象空間１０内のガスをこれに導入して、除染対象空間１０内の温度を測定可能となっている。
同様に、湿度測定装置５は、除染対象空間１０内のガスをこれに導入して、除染対象空間１０内の相対湿度を測定可能となっており、ガス濃度測定装置６は、除染対象空間１０内のガスをこれに導入して、除染対象空間１０内のガス濃度を測定可能となっている。
制御装置７は、温度測定装置４、湿度測定装置５、ガス濃度測定装置６、オゾン発生装置１、過酸化水素発生装置２及びガス供給装置３とそれぞれ、配線１２によって電気的に接続されている。これにより、制御装置７は、温度測定装置４による温度の測定結果、湿度測定装置５による相対湿度の測定結果、及びガス濃度測定装置によるガス濃度の測定結果に基づいて、ガス供給装置３からのガス供給条件を制御可能となっている。
ここで、「ガス供給装置３からのガス供給条件」とは、例えば、ガス供給装置３でのオゾン及び過酸化水素の混合ガスの供給条件、過酸化水素発生装置２での過酸化水素の発生条件、及びオゾン発生装置１でのオゾンの発生条件のいずれか１又は２以上である。
ここで、「ガス供給装置３からのガス供給条件」とは、例えば、ガス供給装置３でのオゾン及び過酸化水素の混合ガスの供給条件、過酸化水素発生装置２での過酸化水素の発生条件、及びオゾン発生装置１でのオゾンの発生条件のいずれか１又は２以上である。
さらに、制御装置７は、ガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２に対して、電気的に接続又は遮断されるように、着脱可能となっている。より具体的には、制御装置７に接続されている配線１２の端部（制御装置７に接続されていない側の端部）は、ガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２に接続されている配線１２の端部（ガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２に接続されていない側の端部）に対して、制御装置７と、ガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２と、が電気的に接続されるように、接続（取り付け）可能となっている。そして、これら配線１２同士の接続は、必要に応じて、制御装置７と、ガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２と、が電気的に遮断されるように、解除（取り外し）可能となっている。ここでは、これら配線１２同士が着脱具１３によって、接続及び接続解除が行われる（着脱される）ように構成されている場合を示している。
着脱具１３は、制御装置７に接続されている配線１２と、ガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２に接続されている配線１２とは、独立したものであってもよいし、これら配線１２のいずれか一方の前記端部に取り付けられて、一体化したものであってもよい。また、着脱具１３は、２個以上の部位が組み合わされて構成されており、そのうちの１個以上の部位が、制御装置７に接続されている配線１２の前記端部に取り付けられて一体化し、他の１個以上の部位が、ガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２に接続されている配線１２の前記端部に取り付けられて一体化し、これら部位同士が組み合わされることで、着脱具１３が形成されるとともに、これら配線１２同士を接続（取り付け）するように構成されていてもよい。
除染装置１０１はこのように、制御装置７と、ガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２と、が互いに分離可能に構成されている点で、従来の除染装置（例えば、特開２０１６−１５４８３５号公報（特許文献１）で開示されている除染装置）とは全く相違し、後述するように、従来の除染装置にはない利点を有する。
除染装置１０１は、第１装置１０１ａと、この第１装置１０１ａよりも除染対象空間１０の近傍に配置される第２装置１０１ｂと、を有し、これら装置が電気的に接続又は遮断されるように、構成されている。第１装置１０１ａは、室外機と見做すことができる。
除染装置１０１において、オゾン発生装置１、過酸化水素発生装置２、ガス供給装置３、温度測定装置４、湿度測定装置５、ガス濃度測定装置６、制御装置７及び分解排出装置８は、第１装置１０１ａ及び第２装置１０１ｂのいずれかに配置されている。
除染装置１０１は、第１装置１０１ａと、この第１装置１０１ａよりも除染対象空間１０の近傍に配置される第２装置１０１ｂと、を有し、これら装置が電気的に接続又は遮断されるように、構成されている。第１装置１０１ａは、室外機と見做すことができる。
除染装置１０１において、オゾン発生装置１、過酸化水素発生装置２、ガス供給装置３、温度測定装置４、湿度測定装置５、ガス濃度測定装置６、制御装置７及び分解排出装置８は、第１装置１０１ａ及び第２装置１０１ｂのいずれかに配置されている。
このように制御装置７と、ガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２と、が分離可能となっていることで、複数の除染対象空間の除染を行う場合には、一つのガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２をこれら複数の除染対象空間すべての近傍に配置して、除染対象空間と同数のガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２を用い、一方で制御装置７を一つだけ用いて、制御装置７を複数のガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２に順次接続して、複数の除染対象空間を順次除染することが可能となる。除染装置１０１を構成する、制御装置７、ガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２以外の装置は、ガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２と同様に、除染対象空間と同数用いてもよいし、制御装置７と同様に、一つだけ用いてもよく、適宜調節できる。
このとき、例えば、図１に示すように、ガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２を除染対象空間１０の近傍に配置する理由は、過酸化水素のガスがその接触部において、空気中の水とともに凝縮し易く、扱い難いためである。過酸化水素がこのように凝縮してしまうと、過酸化水素が付着してしまった部位は、劣化が進行し易くなってしまい、さらに、除染対象空間１０内に、目的とする混合ガスを供給できなくなってしまう。すなわち、過酸化水素発生装置２から、除染対象空間１０のガスの受け入れ口１０ａまでの、ガス流路の長さが長いと、このガス流路を加熱するなどの温度調節を行わない限り、このガス流路のいずれかの箇所で、このような過酸化水素の凝縮に伴う、ガス流路の劣化が生じ易く、それに伴い、目的外の混合ガスが供給され易い。ここで、「ガス流路」とは、配管２３０、配管１３０の配管２３０との合流領域とこれよりもガス供給装置３側の下流領域、ガス供給装置３内のガス流路、配管１１等が挙げられる。上述の温度調節を行うことなく、このような不具合を生じさせないためには、上述のガス流路を除染対象空間１０の近傍、より具体的には、除染対象空間１０のガスの受け入れ口１０ａの近傍に配置することが好ましい。
一方、制御装置７を一つだけ用いる理由は、制御装置７が高価なためである。二つ以上のガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２の組み合わせすべてにそれぞれ一つずつ制御装置７を接続して用いると、除染は極めて高コストとなってしまう。
このようなコストの観点から、除染装置１０１においては、制御装置７、ガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２以外の装置で、除染対象空間１０の近傍に配置する理由がないか又は理由が乏しい装置は、可能な限り、制御装置７とともに一つだけ用いる。換言すると、制御装置７とともに第１装置１０１ａを構成することが好ましい。このような好ましい除染装置として、図１においては、オゾン発生装置１、温度測定装置４、湿度測定装置５、ガス濃度測定装置６及び制御装置７がすべて同一の装置に含まれて、第１装置１０１ａが構成され、過酸化水素発生装置２、ガス供給装置３及び分解排出装置８がすべて同一の装置に含まれて、第２装置１０１ｂが構成されている除染装置１０１を示している。
例えば、過酸化水素発生装置２、ガス供給装置３及び分解排出装置８のいずれか１又は２の装置は、第２装置１０１ｂを構成していなくてもよいが、過酸化水素発生装置２及びガス供給装置３は第２装置１０１ｂを構成していることが好ましい。
第１装置１０１ａは、除染装置１０１の一部の構成であるため、小型化が可能である。したがって、複数の除染対象空間の除染を行う場合には、上述のように、制御装置７を含む第１装置１０１ａを一つだけ用いて、複数の第２装置１０１ｂに順次接続して、複数の除染対象空間を順次除染するときに、この第１装置１０１ａは取り扱いが容易であるという利点を有する。
除染装置１０１において、第２装置１０１ｂは、除染対象空間１０の外壁１０ｃに接触して配置されている。これにより、過酸化水素発生装置２から、除染対象空間１０のガスの受け入れ口１０ａまでの、ガス流路の長さを最短にすることができる。
第２装置１０１ｂは、例えば、固定具を用いる方法等、公知の方法によって、除染対象空間１０の外壁１０ｃに固定して取り付けられていてもよいし、除染対象空間１０の外壁１０ｃに固定されずに、単に外壁１０ｃに接触しているだけでもよい。
第２装置１０１ｂは、このように前記外壁１０ｃに接触して配置可能であるためには、前記固定具の取り付け部位を有していたり、表面が前記外壁１０ｃと面接触可能な形状となっていることが好ましい。
なお、図１中、符号１０ｄは、除染対象空間１０の内壁を示している。
第２装置１０１ｂは、例えば、固定具を用いる方法等、公知の方法によって、除染対象空間１０の外壁１０ｃに固定して取り付けられていてもよいし、除染対象空間１０の外壁１０ｃに固定されずに、単に外壁１０ｃに接触しているだけでもよい。
第２装置１０１ｂは、このように前記外壁１０ｃに接触して配置可能であるためには、前記固定具の取り付け部位を有していたり、表面が前記外壁１０ｃと面接触可能な形状となっていることが好ましい。
なお、図１中、符号１０ｄは、除染対象空間１０の内壁を示している。
除染装置１０１において、オゾン発生装置１は、ガス供給装置３に対して、ガス供給路である配管１３０を介して、着脱可能となっている。より具体的には、オゾン発生装置１に接続されている配管１３０の端部（オゾン発生装置１に接続されていない側の端部）は、ガス供給装置３に接続されている配管１３０の端部（ガス供給装置３に接続されていない側の端部）に対して、オゾン発生装置１からガス供給装置３へオゾンが供給可能となるように、接続（取り付け）可能となっている。そして、これら配管１３０同士の接続は、必要に応じて、オゾン発生装置１からガス供給装置３へのオゾンの供給が遮断されるように、解除（取り外し）可能となっている。ここでは、これら配管１３０同士が着脱具１４によって、接続及び接続解除が行われる（着脱される）ように構成されている場合を示している。
着脱具１３が、制御装置７に接続されている配線１２と、ガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２に接続されている配線１２と、に対して設けられているのと同様の形態で、着脱具１４は、オゾン発生装置１に接続されている配管１３０と、ガス供給装置３に接続されている配管１３０に対して設けられている。
同様に、除染装置１０１において、温度測定装置４、湿度測定装置５及びガス濃度測定装置６は、いずれも除染対象空間１０に対して、配管１１を介して、着脱可能となっている。より具体的には、温度測定装置４、湿度測定装置５及びガス濃度測定装置６に接続されている配管１１の端部（温度測定装置４、湿度測定装置５及びガス濃度測定装置６に接続されていない側の端部）は、除染対象空間１０に接続されている配管１１の端部（除染対象空間１０に接続されていない側の端部）に対して、除染対象空間１０から温度測定装置４、湿度測定装置５及びガス濃度測定装置６へガスが供給可能となるように、接続（取り付け）可能となっている。そして、これら配管１１同士の接続は、必要に応じて、除染対象空間１０から温度測定装置４、湿度測定装置５及びガス濃度測定装置６へのガスの供給が遮断されるように、解除（取り外し）可能となっている。ここでは、これら配管１１同士が着脱具１５によって、接続及び接続解除が行われる（着脱される）ように構成されている場合を示している。
着脱具１３が、制御装置７に接続されている配線１２と、ガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２に接続されている配線１２と、に対して設けられているのと同様の形態で、着脱具１５は、除染対象空間１０に接続されている配管１１、並びに温度測定装置４、湿度測定装置５及びガス濃度測定装置６に接続されている配管１１、に対して設けられている。
上述のように、温度調節を行うことなく過酸化水素の凝縮を抑制する高い効果を得るためには、過酸化水素発生装置２から、除染対象空間１０のガスの受け入れ口１０ａへの接続部までの、ガス流路の長さが５ｍ以下であることが好ましく、１ｍ以下であることがより好ましい。ここで、「ガス流路の長さ」とは、配管２３０の過酸化水素発生装置２側の端部から、配管１１の除染対象空間１０側の端部に至る、ガス流路の長さを意味する。
除染装置１０１においては、上述のように、制御装置７及びオゾン発生装置１が同一の第１装置１０１ａに含まれ、オゾン発生装置１がガス供給装置３に対して、ガス供給路である配管１３０を介して、着脱可能となっていることが好ましく、さらに、温度測定装置４、湿度測定装置５及びガス濃度測定装置６が、いずれも除染対象空間１０に対して、配管１１を介して、着脱可能となっていることがより好ましい。
除染装置１０１において、分解排出装置８は、制御装置７に対して電気的に接続され（図示略）、分解排出装置８の動作が制御装置７によって制御可能となっていてもよい。
同様に、分解循環装置９は、制御装置７に対して電気的に接続され（図示略）、分解循環装置９の動作が制御装置７によって制御可能となっていてもよい。
同様に、分解循環装置９は、制御装置７に対して電気的に接続され（図示略）、分解循環装置９の動作が制御装置７によって制御可能となっていてもよい。
除染装置１０１は、除染対象空間１０内の温度を調節するための温度調節装置、及び除染対象空間１０内の相対湿度を調節するための湿度調節装置の、いずれか一方又は両方を備えていてもよい（図示略）。
除染装置１０１において、温度調節装置及び湿度調節装置はいずれも、第１装置１０１ａ及び第２装置１０１ｂのいずれを構成していてもよく、構成していなくてもよいが、第１装置１０１ａを構成していることが好ましい。
温度調節装置は、制御装置７と電気的に接続され、温度測定装置４による温度の測定結果に基づいて、その動作が制御装置７によって制御されるものが好ましい。その場合、温度調節装置は、温度測定装置４と一体化されていてもよい（温度測定装置４が除染対象空間１０内の温度調節機能を有していてもよい）。
同様に、湿度調節装置は、制御装置７と電気的に接続され、湿度測定装置５による相対湿度の測定結果に基づいて、その動作が制御装置７によって制御されるものが好ましい。その場合、湿度調節装置は、湿度測定装置５と一体化されていてもよい（湿度測定装置５が除染対象空間１０内の相対湿度調節機能を有していてもよい）。
同様に、湿度調節装置は、制御装置７と電気的に接続され、湿度測定装置５による相対湿度の測定結果に基づいて、その動作が制御装置７によって制御されるものが好ましい。その場合、湿度調節装置は、湿度測定装置５と一体化されていてもよい（湿度測定装置５が除染対象空間１０内の相対湿度調節機能を有していてもよい）。
ここまでは、制御装置７が、ガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２の両方に対して、電気的に接続又は遮断されるように、着脱可能となっている場合について説明したが、除染装置１０１においては、制御装置７が、ガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２のいずれか一方のみ（ガス供給装置３のみ、又は過酸化水素発生装置２のみ）に対して、電気的に接続又は遮断されるように、着脱可能となっていてもよい。すなわち、除染装置１０１は、制御装置７と、ガス供給装置３及び過酸化水素発生装置２のいずれか一方が、互いに分離可能に構成されていてもよいし、両方が互いに分離可能に構成されていてもよい。そして、除染装置１０１においては、ガス供給装置３でのオゾン及び過酸化水素の混合ガスの供給、並びに過酸化水素発生装置２での過酸化水素の発生、のいずれか一方が、制御装置７で制御可能となっていてもよいし、両方が制御可能となっていてもよい。
また、ここまでは、制御装置７が、オゾン発生装置１と配線１２によって電気的に接続されている場合について説明したが、除染装置１０１においては、制御装置７が、オゾン発生装置１と配線１２によって電気的に接続されていなくてもよい。すなわち、除染装置１０１においては、オゾン発生装置１でのオゾンの発生が、制御装置７で制御可能となっていなくてもよい。
また、ここまでは、オゾン発生装置１に接続されている配管１３０と、過酸化水素発生装置２に接続されている配管２３０と、が合流しており、オゾン発生装置１で発生させたオゾンと、過酸化水素発生装置２で発生させた過酸化水素と、がこの合流領域又はこれよりも下流の領域で混合し、混合ガスとなるように構成されている場合について説明した。ただし、除染装置１０１は、このようなものに限定されず、前記合流領域又はこれよりも下流の領域に、さらに、ガスを撹拌するためのガス撹拌装置を備えていてもよい。ガス撹拌装置を備えていることにより、除染装置１０１は、１種のガスを撹拌しながら除染対象空間１０内に供給できるだけでなく、２種以上のガスを撹拌して混合を促進することにより、より均一な組成の混合ガス（オゾン及び過酸化水素の混合ガス）を除染対象空間１０内に供給できる。
図２は、このようなガス撹拌装置を備えた除染装置のうち、ガス撹拌装置とその近傍を拡大して示す概略構成図である。
ここに示す除染装置１０２は、オゾン発生装置１に接続されている配管１３０と、過酸化水素発生装置２に接続されている配管２３０と、の合流領域に、ガス撹拌装置２１を備えている。除染装置１０２は、このようにガス撹拌装置２１を備えている点以外は、図１に示す除染装置１０１と同じである。
ガス撹拌装置２１は、制御装置７と電気的に接続され、その動作が制御装置７によって制御されるものであってもよいし、制御装置７と電気的に接続されておらず、その動作が制御装置７によって制御されないものであってもよい。
ここに示す除染装置１０２は、オゾン発生装置１に接続されている配管１３０と、過酸化水素発生装置２に接続されている配管２３０と、の合流領域に、ガス撹拌装置２１を備えている。除染装置１０２は、このようにガス撹拌装置２１を備えている点以外は、図１に示す除染装置１０１と同じである。
ガス撹拌装置２１は、制御装置７と電気的に接続され、その動作が制御装置７によって制御されるものであってもよいし、制御装置７と電気的に接続されておらず、その動作が制御装置７によって制御されないものであってもよい。
除染装置１０２においては、ガス撹拌装置２１は、前記合流領域よりも下流（除染対象空間１０側）の領域に設けられていてもよく、その場合、ガス撹拌装置２１は、ガス供給装置３に含まれ、ガス供給装置３と一体化されていてもよい（図示略）。
ここまでは、温度測定装置４、湿度測定装置５及びガス濃度測定装置６が、それぞれ別々に設けられている場合について説明したが、除染装置１０１、１０２においては、温度測定装置４、湿度測定装置５及びガス濃度測定装置６のいずれか２又は３が、一体化されていてもよい。
また、ここまでは、除染装置１０１、１０２として、オゾン発生装置１で発生させたオゾンと、過酸化水素発生装置２で発生させた過酸化水素と、を混合して、この混合ガスをガス供給装置３によって、除染対象空間１０内に供給するように構成されたものについて説明した。ただし、除染装置１０１、１０２は、このようなものに限定されず、オゾン発生装置１で発生させたオゾンと、過酸化水素発生装置２で発生させた過酸化水素と、をそれぞれ単独で、ガス供給装置３によって、除染対象空間１０内に供給するように構成されていてもよい。
図３は、このような、オゾンと過酸化水素をそれぞれ単独で除染対象空間内に供給するように構成された除染装置を示す概略構成図である。
ここに示す除染装置１０３において、過酸化水素発生装置２は、配管２３０によってガス供給装置３に接続され、さらにガス供給装置３は、配管１３０とは別に、配管２３０に対応して設けられた配管１１によって、除染対象空間１０の受け入れ口１０ａに接続されている。このように、ガス供給装置３は、配管１３０に接続する配管１１と、配管２３０に接続する配管１１と、を別々に備え、これら配管１１がいずれも除染対象空間１０の受け入れ口１０ａに接続されていることにより、配管２３０によって導入された過酸化水素と、配管１３０によって導入されたオゾンと、を混合することなく、それぞれ別々に、除染対象空間１０内へ供給可能となっている。
除染装置３は、この点以外は、図１に示す除染装置１０１と同じである。
ここに示す除染装置１０３において、過酸化水素発生装置２は、配管２３０によってガス供給装置３に接続され、さらにガス供給装置３は、配管１３０とは別に、配管２３０に対応して設けられた配管１１によって、除染対象空間１０の受け入れ口１０ａに接続されている。このように、ガス供給装置３は、配管１３０に接続する配管１１と、配管２３０に接続する配管１１と、を別々に備え、これら配管１１がいずれも除染対象空間１０の受け入れ口１０ａに接続されていることにより、配管２３０によって導入された過酸化水素と、配管１３０によって導入されたオゾンと、を混合することなく、それぞれ別々に、除染対象空間１０内へ供給可能となっている。
除染装置３は、この点以外は、図１に示す除染装置１０１と同じである。
なお、ここでは、オゾンと過酸化水素をそれぞれ単独で、同一の（一体化された）ガス供給装置３によって、除染対象空間１０内へ供給する場合について説明したが、除染装置１０３においては、オゾンを単独で供給するガス供給装置と、過酸化水素を単独で供給するガス供給装置と、を別々に備えていてもよい（図示略）。この場合、これら別々に備えられたガス供給装置としては、いずれも、図１に示す除染装置１０１中のガス供給装置３と同様のものを用いることができる。
図１〜３に示す除染装置１０１〜１０３において、第２装置１０１ｂは、除染対象空間１０の外壁１０ｃに接触して、除染対象空間１０外に配置されているが、本実施形態の除染装置において、第２装置１０１ｂは、除染対象空間１０の内壁１０ｄに接触して、除染対象空間１０内に配置されていてもよい。
図４は、このような配置形態の除染装置を示す概略構成図である。
ここに示す除染装置１０４は、第２装置１０１ｂが除染対象空間１０の外壁１０ｃではなく内壁１０ｄに接触して配置されている点以外は、図１に示す除染装置１０１と同じである。
ここに示す除染装置１０４は、第２装置１０１ｂが除染対象空間１０の外壁１０ｃではなく内壁１０ｄに接触して配置されている点以外は、図１に示す除染装置１０１と同じである。
除染装置１０４中の第２装置１０１ｂは、除染対象空間１０の内部に配置可能であれば、その大きさは特に限定されない。
除染装置１０４において、第２装置１０１ｂを前記内壁１０ｄに接触して配置する方法は、除染装置１０１〜１０３において、第２装置１０１ｂを前記外壁１０ｃに接触して配置する方法と同様である。
すなわち、第２装置１０１ｂは、このように前記内壁１０ｄに接触して配置可能であるためには、先に説明したように、前記外壁１０ｃに接触して配置可能である場合と同様の構成を採用できる。
すなわち、第２装置１０１ｂは、このように前記内壁１０ｄに接触して配置可能であるためには、先に説明したように、前記外壁１０ｃに接触して配置可能である場合と同様の構成を採用できる。
また、本実施形態の除染装置において、第２装置１０１ｂは、除染対象空間１０内において、除染対象空１０間の内壁１０ｄから離間して配置されていてもよい。
図５は、このような配置形態の除染装置を示す概略構成図である。
ここに示す除染装置１０５は、第２装置１０１ｂが、除染対象空間１０の外壁１０ｃ及び内壁１０ｄのいずれにも接触しておらず、除染対象空間１０内において、前記内壁１０ｄから離間して配置されている点以外は、図１に示す除染装置１０１と同じである。
ここに示す除染装置１０５は、第２装置１０１ｂが、除染対象空間１０の外壁１０ｃ及び内壁１０ｄのいずれにも接触しておらず、除染対象空間１０内において、前記内壁１０ｄから離間して配置されている点以外は、図１に示す除染装置１０１と同じである。
除染装置１０５中の第２装置１０１ｂは、除染対象空間１０の内部に配置可能であれば、その大きさは特に限定されない。
第２装置１０１ｂが、除染対象空間１０内において、前記内壁１０ｄから離間して配置可能であるためには、例えば、配管１１、配管１３０、配線１２等が適した長さになっていればよい。
第２装置１０１ｂは、除染対象空間１０の底面１０ｅに固定して配置されていてもよいし、固定されることなく、底面１０ｅ上を移動可能に配置されていてもよい。
図１〜３に示す除染装置１０１〜１０３は、例えば、第２装置１０１ｂの保守管理を、除染対象空間１０の外部で容易に行うことができる点で、有利である。
図４に示す除染装置１０４、及び図５に示す除染装置１０５は、第２装置１０１ｂが小型化可能である場合に、特に好適であり、除染対象空間１０の外部において、除染装置１０４及び除染装置１０５の専有面積を小さくできる点で有利である。
図５に示す除染装置１０５は、除染対象空間１０内において、混合ガスの供給位置を調節できる点で有利である。
図４に示す除染装置１０４、及び図５に示す除染装置１０５は、第２装置１０１ｂが小型化可能である場合に、特に好適であり、除染対象空間１０の外部において、除染装置１０４及び除染装置１０５の専有面積を小さくできる点で有利である。
図５に示す除染装置１０５は、除染対象空間１０内において、混合ガスの供給位置を調節できる点で有利である。
本発明の実施形態に係る除染装置は、図１〜５に示すものに限定されず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、一部の構成が変更、追加又は削除されたものであってもよい。
例えば、図１〜３に示す除染装置１０１〜１０３中の第２装置１０１ｂや、図４に示す除染装置１０４の第２装置１０１ｂなど、除染装置の一部の構成が、除染対象空間の外壁又は内壁に接触して配置されており、除染対象空間に先に説明したようにＨＥＰＡフィルター等のエアフィルターを設けたい場合には、前記エアフィルターを、この除染装置の一部の構成中に含めるなど、除染装置の一部の構成と一体化させてもよい。
また、図４に示す除染装置１０４、及び図５示す除染装置１０５においては、いずれも、図３に示す除染装置１０３の場合と同様に、ガス供給装置３が、配管１３０に接続する配管１１と、配管２３０に接続する配管（図示略）と、を別々に備え、配管２３０によって導入された過酸化水素と、配管１３０によって導入されたオゾンと、を混合することなく、それぞれ別々に、除染対象空間１０内へ供給可能となっていてもよい。
本実施形態の除染装置の典型的な動作について、図１に示す除染装置１０１を例に挙げて説明する。
オゾン発生装置１で発生させたオゾンは、配管１３０内を、ガス供給装置３側の下流方向に移動し、過酸化水素発生装置２で発生させた過酸化水素は、配管２３０内を、ガス供給装置３側の下流方向に移動する。そして、配管１３０内の、配管２３０との合流領域とこれよりもガス供給装置３側の下流領域において、オゾンと過酸化水素が混合され、生成した混合ガスが、配管１３０を通じてガス供給装置３に供給される。
ガス供給装置３に供給された混合ガスは、さらに下流方向の配管１１内を移動し、受け入れ口１０ａから除染対象空間１０内に供給され、除染対象空間１０には徐々に混合ガスが充満する。
オゾン発生装置１で発生させたオゾンは、配管１３０内を、ガス供給装置３側の下流方向に移動し、過酸化水素発生装置２で発生させた過酸化水素は、配管２３０内を、ガス供給装置３側の下流方向に移動する。そして、配管１３０内の、配管２３０との合流領域とこれよりもガス供給装置３側の下流領域において、オゾンと過酸化水素が混合され、生成した混合ガスが、配管１３０を通じてガス供給装置３に供給される。
ガス供給装置３に供給された混合ガスは、さらに下流方向の配管１１内を移動し、受け入れ口１０ａから除染対象空間１０内に供給され、除染対象空間１０には徐々に混合ガスが充満する。
除染対象空間１０内に混合ガスが存在する間は、温度測定装置４による温度の測定結果、湿度測定装置５による相対湿度の測定結果、及びガス濃度測定装置によるガス濃度の測定結果に基づいて、ガス供給装置３でのオゾン及び過酸化水素の混合ガスの供給条件、過酸化水素発生装置２での過酸化水素の発生条件、及びオゾン発生装置１でのオゾンの発生条件のいずれか１又は２以上、すなわち、ガス供給装置３からのガス供給条件が制御される。
さらに、除染装置１０１が前記温度調節装置を備えている場合には、好ましくは温度測定装置４による温度の測定結果等に基づき、制御装置７によって制御されて、除染対象空間１０内の温度が調節される。同様に、除染装置１０１が前記湿度調節装置を備えている場合には、好ましくは湿度測定装置５による相対湿度の測定結果等に基づき、制御装置７によって制御されて、除染対象空間１０内の相対湿度が調節される。
除染対象空間１０内の混合ガスの量が一定値を超えると、除染対象空間１０の排出口１０ｂから分解排出装置８に混合ガスが導入される。そして、分解排出装置８によって、オゾン及び過酸化水素（混合ガス）が分解され、その分解物が除染対象空間１０外へ排出されて、除染対象空間１０内の圧力が、一定値を超えない様調節される。このときの分解排出装置８の動作は、制御装置７によって制御されてもよい。
オゾン発生装置１によるオゾンの発生と、過酸化水素発生装置２による過酸化水素の発生は、目的とする任意のタイミングで停止される。
除染対象空間１０内が、混合ガスによって目的とする時間だけ満たされ、除染された後は、好ましくはオゾン及び過酸化水素の発生が停止された状態で、混合ガスが分解循環装置９に導入され、分解循環装置９によって、オゾン及び過酸化水素（混合ガス）が分解され、その分解物が除染対象空間１０内へ排出されて、徐々に除染対象空間１０内の混合ガスの濃度が低下していく。このときの分解循環装置９の動作は、制御装置７によって制御されてもよい。また、分解循環装置９による混合ガスの分解と並行して、分解排出装置８による混合ガスの分解が行われてもよい。除染装置１０１が分解循環装置９を備えていない場合には、分解排出装置８の動作によって、徐々に除染対象空間１０内の混合ガスの濃度が低下していく。
ここでは、図１に示す除染装置１０１の動作の一例について説明したが、図４に示す除染装置１０４、及び図５に示す除染装置１０５も、除染装置１０１と同様に動作する。
図２に示す除染装置１０２、及び図３に示す除染装置１０３は、除染装置１０１との構成の相違に基づく相違点を有するのを除けば、除染装置１０１と同様に動作する。そして、その動作上の相違点については、先に説明したとおりである。
図２に示す除染装置１０２、及び図３に示す除染装置１０３は、除染装置１０１との構成の相違に基づく相違点を有するのを除けば、除染装置１０１と同様に動作する。そして、その動作上の相違点については、先に説明したとおりである。
これまでに説明した実施形態の除染装置は、すべて、殺菌処理、エンドトキシン不活化処理をはじめとする各種の除染を、高度に行うことができ、除染の程度を調節できる。そして、除染の条件を調節することで、殺菌（滅菌）処理とエンドトキシン不活化処理を同時に高度に行うことができる。
＜＜除染方法＞＞
次に、前記除染装置を用いる、除染対象空間の除染方法について説明する。
次に、前記除染装置を用いる、除染対象空間の除染方法について説明する。
＜除染方法１＞
前記除染方法としては、例えば、前記制御装置が、前記ガス供給装置及び過酸化水素発生装置のいずれか一方又は両方に対して、電気的に接続されて取り付けられている前記除染装置を用いるものであり、前記除染装置中の温度測定装置、湿度測定装置及びガス濃度測定装置を用いて、除染対象空間内の温度、相対湿度及びガス濃度を測定し、その測定結果に基づいて、前記除染装置中の前記制御装置、オゾン発生装置、過酸化水素発生装置及びガス供給装置を用いて、オゾン及び過酸化水素を、それぞれ単独で又は混合して、供給条件を制御しながら除染対象空間内に供給し、除染対象空間内にオゾン及び過酸化水素の混合ガスを充満させて、除染対象空間を除染し、除染後、前記除染装置中の前記分解排出装置を用いて、除染対象空間内のオゾン及び過酸化水素を分解し、その分解物を除染対象空間外に排出する、除染工程を有するもの（本明細書においては、「除染方法１」と称することがある）が挙げられる。
除染方法１は、除染対象空間が一つである場合の除染方法であり、本実施形態の除染装置は、このように除染対象空間が一つである場合にも使用できる。
前記除染方法としては、例えば、前記制御装置が、前記ガス供給装置及び過酸化水素発生装置のいずれか一方又は両方に対して、電気的に接続されて取り付けられている前記除染装置を用いるものであり、前記除染装置中の温度測定装置、湿度測定装置及びガス濃度測定装置を用いて、除染対象空間内の温度、相対湿度及びガス濃度を測定し、その測定結果に基づいて、前記除染装置中の前記制御装置、オゾン発生装置、過酸化水素発生装置及びガス供給装置を用いて、オゾン及び過酸化水素を、それぞれ単独で又は混合して、供給条件を制御しながら除染対象空間内に供給し、除染対象空間内にオゾン及び過酸化水素の混合ガスを充満させて、除染対象空間を除染し、除染後、前記除染装置中の前記分解排出装置を用いて、除染対象空間内のオゾン及び過酸化水素を分解し、その分解物を除染対象空間外に排出する、除染工程を有するもの（本明細書においては、「除染方法１」と称することがある）が挙げられる。
除染方法１は、除染対象空間が一つである場合の除染方法であり、本実施形態の除染装置は、このように除染対象空間が一つである場合にも使用できる。
除染方法１によれば、オゾン及び過酸化水素を併用することで、酸化力が強いヒドロキシラジカルを利用でき、除染対象空間に対して、殺菌処理、滅菌処理及びエンドトキシン不活化処理からなる群より選択される１種又は２種以上の処理（すなわち除染）を、高度に行うことができ、滅菌処理とエンドトキシン不活化処理を同時に高度に行うこともできる。さらに、それにとどまらず、オゾン又は過酸化水素を単独で用いた場合よりも、オゾン及び過酸化水素の使用量を低減でき、例えば、過酸化水素を用いた場合の従来の問題点である、除染対象物の酸化反応等による材質の劣化を抑制できる。
除染方法１において、除染対象空間内の温度、相対湿度及びガス濃度は、公知の方法で測定できる。
除染方法１において、除染対象空間に対してオゾン及び過酸化水素を供給するときの条件は、他の除染条件等も考慮して、適宜調節できる。
除染方法１において、過酸化水素及びオゾンの供給量は、除染対象空間内での混合ガスの濃度が目的とする範囲内となるように、適宜調節すればよい。
除染方法１において、除染対象空間の体積を基準とした場合の過酸化水素の供給量（換言すると、供給した過酸化水素の全量が除染対象空間内で未反応のまま残存していると仮定したときの、除染対象空間内での過酸化水素の濃度）は、１００〜８５０ｐｐｍであることが好ましく、１００〜６５０ｐｐｍであることがより好ましく、１００〜４５０ｐｐｍであることが特に好ましい。過酸化水素の前記供給量が前記下限値以上であることで、過酸化水素の使用効果がより顕著に得られる。また、過酸化水素の前記供給量が前記上限値以下であることで、過酸化水素の過剰使用が抑制される。
なお、本明細書において示す単位「ｐｐｍ」は、特に断りのない限り、体積比に基づく。
なお、本明細書において示す単位「ｐｐｍ」は、特に断りのない限り、体積比に基づく。
除染方法１において、オゾンの供給量は、過酸化水素の供給量に対して、０．２〜３．５体積倍であることが好ましく、０．２〜３体積倍であることがより好ましく、０．２〜２．５体積倍であることが特に好ましく、例えば、０．２〜１．５体積倍、及び０．２〜０．７体積倍のいずれかであってもよい。オゾンの前記供給量が前記下限値以上であることで、オゾンの使用効果がより顕著に得られる。また、オゾンの前記供給量が前記上限値以下であることで、オゾンの過剰使用が抑制される。
除染方法１において、除染対象空間の体積を基準とした場合のオゾンの供給量（換言すると、供給したオゾンの全量が除染対象空間内で未反応のまま残存していると仮定したときの、除染対象空間内でのオゾンの濃度）は、例えば、２０〜２９７５ｐｐｍ、２０〜１９５０ｐｐｍ、及び２０〜１１２５ｐｐｍのいずれかであってもよい。ただし、これらはオゾンの前記供給量の一例である。
除染方法１において、オゾン及び過酸化水素の、それぞれ単独での又は混合しての、除染対象空間内への供給を開始してから、除染終了までの間の、除染対象空間内の温度は、特に限定されないが、２３〜６０℃であることが好ましく、２５〜５５℃であることがより好ましく、２７〜５０℃であることが特に好ましい。前記温度が前記下限値以上であることで、除染対象空間の除染効果がより向上する。また、前記温度が前記上限値以下であることで、低コストで簡便に除染対象空間を除染できる。
除染方法１において、オゾン及び過酸化水素の、それぞれ単独での又は混合しての、除染対象空間内への供給を開始してから、除染終了までの間の、除染対象空間内の相対湿度は、特に限定されないが、４５〜９５％であることが好ましく、４７．５〜９０％であることがより好ましく、５０〜８５％であることが特に好ましい。前記相対湿度が前記下限値以上であることで、除染対象空間の除染効果がより向上する。また、前記相対湿度が前記上限値以下であることで、低コストで簡便に除染対象空間を除染できる。
除染対象空間内のオゾン及び過酸化水素は、公知の方法で分解し、排出できる。
除染方法１は、先に説明したとおり、除染対象空間が一つである場合の除染方法である。
一方、前記除染装置は、複数の除染対象空間の除染時に用いることで、特に優れた効果を奏する。以下、前記除染装置を用いる、複数の除染対象空間の除染方法（本明細書においては、「除染方法２」と称することがある）について説明する。
一方、前記除染装置は、複数の除染対象空間の除染時に用いることで、特に優れた効果を奏する。以下、前記除染装置を用いる、複数の除染対象空間の除染方法（本明細書においては、「除染方法２」と称することがある）について説明する。
＜除染方法２＞
除染方法２においては、まず、前記除染装置を構成可能な前記制御装置を、前記除染装置を構成可能な前記ガス供給装置である第１ガス供給装置、及び前記除染装置を構成可能な前記過酸化水素発生装置である第１過酸化水素発生装置、のいずれか一方又は両方に対して、電気的に接続して取り付けることにより、前記除染装置である第１除染装置を構成する工程（本明細書においては、「第１除染装置構成工程」と称することがある）を行う。
除染方法２においては、まず、前記除染装置を構成可能な前記制御装置を、前記除染装置を構成可能な前記ガス供給装置である第１ガス供給装置、及び前記除染装置を構成可能な前記過酸化水素発生装置である第１過酸化水素発生装置、のいずれか一方又は両方に対して、電気的に接続して取り付けることにより、前記除染装置である第１除染装置を構成する工程（本明細書においては、「第１除染装置構成工程」と称することがある）を行う。
第１除染装置は、前記制御装置、第１ガス供給装置及び第１過酸化水素発生装置以外に、さらに、オゾン発生装置、温度測定装置、湿度測定装置、ガス濃度測定装置及び分解排出装置を備え、さらに分解循環装置を備えていてもよい。
第１除染装置は、複数の除染対象空間のうちの一の除染対象空間である第１除染対象空間を除染するための装置である。
第１除染装置は、複数の除染対象空間のうちの一の除染対象空間である第１除染対象空間を除染するための装置である。
除染方法２においては、次いで、以下に示す第１除染工程を行う。
すなわち、第１除染工程においては、まず、前記第１除染装置中の温度測定装置、湿度測定装置及びガス濃度測定装置を用いて、第１除染対象空間内の温度、相対湿度及びガス濃度を測定する。これら温度、相対湿度及びガス濃度は、除染方法１の場合と同様に、公知の方法で測定できる。
すなわち、第１除染工程においては、まず、前記第１除染装置中の温度測定装置、湿度測定装置及びガス濃度測定装置を用いて、第１除染対象空間内の温度、相対湿度及びガス濃度を測定する。これら温度、相対湿度及びガス濃度は、除染方法１の場合と同様に、公知の方法で測定できる。
第１除染工程においては、次いで、その測定結果（第１除染対象空間内の温度、相対湿度及びガス濃度の測定結果）に基づいて、前記第１除染装置中の前記制御装置、オゾン発生装置、第１過酸化水素発生装置及び第１ガス供給装置を用いて、オゾン及び過酸化水素を、それぞれ単独で又は混合して、供給条件を制御しながら第１除染対象空間内に供給し、第１除染対象空間内にオゾン及び過酸化水素の混合ガスを充満させて、第１除染対象空間を除染する。このときの、オゾン及び過酸化水素を供給して除染する方法は、除染方法１の場合と同じである。具体的には、以下のとおりである。
すなわち、除染方法２において、除染対象空間に対してオゾン及び過酸化水素を供給するときの条件は、他の除染条件等も考慮して、適宜調節できる。
除染方法２において、過酸化水素及びオゾンの供給量は、除染対象空間内での混合ガスの濃度が目的とする範囲内となるように、適宜調節すればよい。例えば、除染対象空間の体積を基準とした場合の、過酸化水素の供給量（換言すると、供給した過酸化水素の全量が除染対象空間内で未反応のまま残存していると仮定したときの、除染対象空間内での過酸化水素の濃度）及びオゾンの供給量（換言すると、供給したオゾンの全量が除染対象空間内で未反応のまま残存していると仮定したときの、除染対象空間内でのオゾンの濃度）、並びに過酸化水素の供給量に対するオゾンの供給量（体積倍）は、いずれも、除染方法１の場合と同じであり、そのときに奏する効果も、除染方法１の場合と同じである。
除染方法２において、過酸化水素及びオゾンの供給量は、除染対象空間内での混合ガスの濃度が目的とする範囲内となるように、適宜調節すればよい。例えば、除染対象空間の体積を基準とした場合の、過酸化水素の供給量（換言すると、供給した過酸化水素の全量が除染対象空間内で未反応のまま残存していると仮定したときの、除染対象空間内での過酸化水素の濃度）及びオゾンの供給量（換言すると、供給したオゾンの全量が除染対象空間内で未反応のまま残存していると仮定したときの、除染対象空間内でのオゾンの濃度）、並びに過酸化水素の供給量に対するオゾンの供給量（体積倍）は、いずれも、除染方法１の場合と同じであり、そのときに奏する効果も、除染方法１の場合と同じである。
また、除染方法２において、オゾン及び過酸化水素の、それぞれ単独での又は混合しての、除染対象空間内への供給を開始してから、除染終了までの間の、除染対象空間内の温度並びに相対湿度は、いずれも、除染方法１の場合と同じであり、そのときに奏する効果も、除染方法１の場合と同じである。
第１除染工程においては、次いで（除染後）、前記第１除染装置中の前記分解排出装置を用いて、第１除染対象空間内のオゾン及び過酸化水素を分解し、その分解物を第１除染対象空間外に排出する。このときの、第１除染対象空間内のオゾン及び過酸化水素は、除染方法１の場合と同様に、公知の方法で分解し、排出できる。
以上により、第１除染工程が終了し、第１除染対象空間の除染が完了する。
以上により、第１除染工程が終了し、第１除染対象空間の除染が完了する。
前記除染方法においては、次いで、前記制御装置を、前記第１ガス供給装置及び第１過酸化水素発生装置のいずれか一方又は両方から電気的に遮断して取り外す工程（本明細書においては、「制御装置取り外し工程」と称することがある）を行う。
制御装置取り外し工程を行うことによって、前記第１除染装置構成工程で構成された第１除染装置は、解体される。
制御装置取り外し工程を行うことによって、前記第１除染装置構成工程で構成された第１除染装置は、解体される。
除染方法２においては、次いで、前記第１ガス供給装置及び第１過酸化水素発生装置とは別途設けられた、第２ガス供給装置及び第２過酸化水素発生装置のいずれか一方又は両方に対して、取り外した前記制御装置を電気的に接続して取り付けることにより、前記除染装置である第２除染装置を構成する工程（本明細書においては、「第２除染装置構成工程」と称することがある）を行う。
第２ガス供給装置は、前記除染装置を構成可能な前記ガス供給装置であり、第１除染装置を構成していた第１ガス供給装置ではない。同様に、第２過酸化水素発生装置は、前記除染装置を構成可能な前記過酸化水素発生装置であり、第１除染装置を構成していた第１過酸化水素発生装置ではない。
すなわち、第１ガス供給装置及び第１過酸化水素発生装置は第１除染装置を構成し、第２ガス供給装置及び第２過酸化水素発生装置は第２除染装置を構成する。
すなわち、第１ガス供給装置及び第１過酸化水素発生装置は第１除染装置を構成し、第２ガス供給装置及び第２過酸化水素発生装置は第２除染装置を構成する。
第２除染装置は、前記制御装置、第２ガス供給装置及び第２過酸化水素発生装置以外に、さらに、オゾン発生装置、温度測定装置、湿度測定装置、ガス濃度測定装置及び分解排出装置を備え、さらに分解循環装置を備えていてもよい。
第２除染装置は、複数の除染対象空間のうちの、第１除染対象空間以外の一の除染対象空間である第２除染対象空間を除染するための装置である。
第２除染装置は、複数の除染対象空間のうちの、第１除染対象空間以外の一の除染対象空間である第２除染対象空間を除染するための装置である。
第２除染装置中の、オゾン発生装置、温度測定装置、湿度測定装置、ガス濃度測定装置、分解排出装置及び分解循環装置は、いずれも、第１除染装置を構成していたものであってもよいし、第１除染装置を構成していたものでなくてもよい。
ただし、第２除染装置中の、オゾン発生装置、温度測定装置、湿度測定装置及びガス濃度測定装置は、第１除染装置を構成していたものであることが好ましく、このようにすることで、複数の除染対象空間の除染を、より低コストで行うことができる。
一方、第２除染装置中の、分解排出装置及び分解循環装置は、第１除染装置を構成していたものではないことが好ましく、このようにすることで、第２除染対象空間をより容易に除染できる。
ただし、第２除染装置中の、オゾン発生装置、温度測定装置、湿度測定装置及びガス濃度測定装置は、第１除染装置を構成していたものであることが好ましく、このようにすることで、複数の除染対象空間の除染を、より低コストで行うことができる。
一方、第２除染装置中の、分解排出装置及び分解循環装置は、第１除染装置を構成していたものではないことが好ましく、このようにすることで、第２除染対象空間をより容易に除染できる。
第２除染装置は、第１除染装置と同様の装置であり、第１除染装置と同様に構成できる。
除染方法２においては、次いで、以下に示す第２除染工程を行う。第２除染工程は、前記第１除染工程と同じ方法で行うことができる。
すなわち、第２除染工程においては、まず、前記第２除染装置中の温度測定装置、湿度測定装置及びガス濃度測定装置を用いて、前記第１除染対象空間とは別途設けられた、第２除染対象空間内の温度、相対湿度及びガス濃度を測定する。これら温度、相対湿度及びガス濃度の測定方法は、第１除染工程の場合と同じである。
すなわち、第２除染工程においては、まず、前記第２除染装置中の温度測定装置、湿度測定装置及びガス濃度測定装置を用いて、前記第１除染対象空間とは別途設けられた、第２除染対象空間内の温度、相対湿度及びガス濃度を測定する。これら温度、相対湿度及びガス濃度の測定方法は、第１除染工程の場合と同じである。
第２除染工程においては、次いで、その測定結果（第２除染対象空間内の温度、相対湿度及びガス濃度の測定結果）に基づいて、前記第２除染装置中の前記制御装置、オゾン発生装置、第２過酸化水素発生装置及び第２ガス供給装置を用いて、オゾン及び過酸化水素を、それぞれ単独で又は混合して、供給条件を制御しながら第２除染対象空間内に供給し、第２除染対象空間内にオゾン及び過酸化水素の混合ガスを充満させて、第２除染対象空間を除染する。このときの、オゾン及び過酸化水素を供給して除染する方法は、第１除染工程の場合と同じである。
第２除染工程においては、次いで（除染後）、前記第２除染装置中の前記分解排出装置を用いて、第２除染対象空間内のオゾン及び過酸化水素を分解し、その分解物を第２除染対象空間外に排出する。このときの、第２除染対象空間内のオゾン及び過酸化水素を分解し、排出する方法は、第１除染工程の場合と同じである。
以上により、第２除染工程が終了し、第２除染対象空間の除染が完了する。
以上により、第２除染工程が終了し、第２除染対象空間の除染が完了する。
除染方法２によれば、ここまでで、二つの除染対象空間を除染でき、この間、制御装置を一つだけ用いることによって、極めて低コストで除染できる。
除染方法２においては、必要に応じて、次いで、上述の第２除染工程の場合と同じ方法で、第１除染対象空間及び第２除染対象空間以外の一の除染対象空間の除染を追加して行ってもよく、このような追加の除染を１回又は２回以上繰り返して行うことができる。ここで、追加の除染を行う除染対象空間は、すべて別のものである。例えば、追加の除染を２回行う場合には、合計で四つの除染対象空間を除染することになる。
すなわち、除染方法２においては、第２除染工程の終了後、必要に応じて、前記制御装置を、それまで取り付けられていた前記ガス供給装置及び過酸化水素発生装置のいずれか一方又は両方から電気的に遮断して取り外す工程と、前記ガス供給装置及び過酸化水素発生装置とは別途設けられた、ガス供給装置及び過酸化水素発生装置のいずれか一方又は両方に対して、取り外した前記制御装置を電気的に接続して取り付けることにより、前記除染装置を構成する工程と、前記除染装置を用いて、除染対象空間を除染し、除染後、前記除染対象空間内のオゾン及び過酸化水素を分解し、その分解物を除染対象空間外に排出する除染工程を、さらに１回又は２回以上繰り返して行うことができる。
この場合、三つ以上の除染対象空間を除染でき、この間、制御装置を一つだけ用いることによって、極めて低コストで除染できる。
この場合、三つ以上の除染対象空間を除染でき、この間、制御装置を一つだけ用いることによって、極めて低コストで除染できる。
除染方法２によれば、上述のように、複数の除染対象空間を低コストで除染できる。
さらに、除染方法２によれば、オゾン及び過酸化水素を併用することで、酸化力が強いヒドロキシラジカルを利用でき、除染対象空間に対して、殺菌処理、滅菌処理及びエンドトキシン不活化処理からなる群より選択される１種又は２種以上の処理（すなわち除染）を、高度に行うことができ、滅菌処理とエンドトキシン不活化処理を同時に高度に行うこともできる。さらに、それにとどまらず、オゾン又は過酸化水素を単独で用いた場合よりも、オゾン及び過酸化水素の使用量を低減でき、例えば、過酸化水素を用いた場合の従来の問題点である、除染対象物の酸化反応等による材質の劣化を抑制できる。
さらに、除染方法２によれば、オゾン及び過酸化水素を併用することで、酸化力が強いヒドロキシラジカルを利用でき、除染対象空間に対して、殺菌処理、滅菌処理及びエンドトキシン不活化処理からなる群より選択される１種又は２種以上の処理（すなわち除染）を、高度に行うことができ、滅菌処理とエンドトキシン不活化処理を同時に高度に行うこともできる。さらに、それにとどまらず、オゾン又は過酸化水素を単独で用いた場合よりも、オゾン及び過酸化水素の使用量を低減でき、例えば、過酸化水素を用いた場合の従来の問題点である、除染対象物の酸化反応等による材質の劣化を抑制できる。
以下、具体的実施例により、本発明についてより詳細に説明する。ただし、本発明は、以下に示す実施例に、何ら限定されるものではない。
［実施例１］
図１に示す除染装置を用いて、除染対象空間内の温度を３０℃とし、相対湿度を５５％として、除染対象空間の体積を基準とした場合の、過酸化水素の供給量を３００ｐｐｍとし、オゾンの供給量を０ｐｐｍ、１００ｐｐｍ、３００ｐｐｍ及び６００ｐｐｍとして、混合ガスによる処理を行った。除染対象の微生物としては、好熱性細菌であるジェオバシラス・ステアロサーモフィラス（Ｇｅｏｂａｃｉｌｌｕｓ ｓｔｅａｒｏｔｈｅｒｍｏｐｈｉｌｕｓ）（ＡＴＣＣ １２９８０）を用いた。
図１に示す除染装置を用いて、除染対象空間内の温度を３０℃とし、相対湿度を５５％として、除染対象空間の体積を基準とした場合の、過酸化水素の供給量を３００ｐｐｍとし、オゾンの供給量を０ｐｐｍ、１００ｐｐｍ、３００ｐｐｍ及び６００ｐｐｍとして、混合ガスによる処理を行った。除染対象の微生物としては、好熱性細菌であるジェオバシラス・ステアロサーモフィラス（Ｇｅｏｂａｃｉｌｌｕｓ ｓｔｅａｒｏｔｈｅｒｍｏｐｈｉｌｕｓ）（ＡＴＣＣ １２９８０）を用いた。
このときのＤ値（Ｄｅｃｉｍａｌ Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ Ｔｉｍｅ）、すなわち、除染対象空間内の微生物の９０％を死滅させ、微生物の生存率を１／１０に低下させるのに要した時間を確認したところ、オゾンの前記供給量が０ｐｐｍ（すなわち、オゾン不使用）の場合に対して、オゾンの前記供給量が１００ｐｐｍ、３００ｐｐｍ及び６００ｐｐｍの場合には、いずれもＤ値が約１／３に低下した。すなわち、本実施形態の除染装置を用い、過酸化水素及びオゾンの混合ガスを供給したことで、過酸化水素を単独で供給した場合よりも、滅菌効果を向上させることができた。また、オゾンの前記供給量を増大させても、Ｄ値はほとんど影響を受けなかった。
また、このときのエンドトキシンの不活化効果を確認したところ、オゾンの前記供給量が０ｐｐｍ（すなわち、オゾン不使用）の場合には、不活化率が約９０％（残存活性率が約１０％）にとどまったのに対し、オゾンの前記供給量が１００ｐｐｍ、３００ｐｐｍ及び６００ｐｐｍの場合には、いずれも不活化率を９９．９％以上（残存活性率を０．１％以下）とすることができた。すなわち、本実施形態の除染装置を用い、過酸化水素及びオゾンの混合ガスを供給したことで、過酸化水素を単独で供給した場合よりも、エンドトキシンの不活化効果を向上させることができた。また、オゾンの前記供給量を増大させても、エンドトキシンの不活化率はほとんど影響を受けなかった。
［実施例２］
図１に示す除染装置を用いて、除染対象空間内の温度を４５〜４７℃とし、相対湿度を７６〜８０％として、除染対象空間の体積を基準とした場合の、過酸化水素の供給量を２００ｐｐｍとし、オゾンの供給量を０ｐｐｍ、１００ｐｐｍ、２００ｐｐｍ及び４００ｐｐｍとして、混合ガスによる処理時間を２時間として、対象空間の除染を行った。除染対象の微生物としては、好熱性細菌であるジェオバシラス・ステアロサーモフィラス（Ｇｅｏｂａｃｉｌｌｕｓ ｓｔｅａｒｏｔｈｅｒｍｏｐｈｉｌｕｓ）（ＡＴＣＣ １２９８０）を用いた。
図１に示す除染装置を用いて、除染対象空間内の温度を４５〜４７℃とし、相対湿度を７６〜８０％として、除染対象空間の体積を基準とした場合の、過酸化水素の供給量を２００ｐｐｍとし、オゾンの供給量を０ｐｐｍ、１００ｐｐｍ、２００ｐｐｍ及び４００ｐｐｍとして、混合ガスによる処理時間を２時間として、対象空間の除染を行った。除染対象の微生物としては、好熱性細菌であるジェオバシラス・ステアロサーモフィラス（Ｇｅｏｂａｃｉｌｌｕｓ ｓｔｅａｒｏｔｈｅｒｍｏｐｈｉｌｕｓ）（ＡＴＣＣ １２９８０）を用いた。
このときのＤ値を確認したところ、オゾンの前記供給量が０ｐｐｍ（すなわち、オゾン不使用）の場合に対して、オゾンの前記供給量が１００ｐｐｍ、２００ｐｐｍ及び４００ｐｐｍの場合には、いずれもＤ値が約１／３に低下した。すなわち、本実施形態の除染装置を用い、過酸化水素及びオゾンの混合ガスを供給したことで、過酸化水素を単独で供給した場合よりも、滅菌効果を向上させることができた。また、オゾンの前記供給量を増大させても、Ｄ値はほとんど影響を受けなかった。
また、このときのエンドトキシンの不活化効果を確認したところ、オゾンの前記供給量が０ｐｐｍ（すなわち、オゾン不使用）の場合には、不活化率が約９０％（残存活性率が約１０％）にとどまったのに対し、オゾンの前記供給量が１００ｐｐｍ、２００ｐｐｍ及び４００ｐｐｍの場合には、いずれも不活化率を９９．９％以上（残存活性率を０．１％以下）とすることができた。すなわち、本実施形態の除染装置を用い、過酸化水素及びオゾンの混合ガスを供給したことで、過酸化水素を単独で供給した場合よりも、エンドトキシンの不活化効果を向上させることができた。また、オゾンの前記供給量を増大させても、エンドトキシンの不活化率はほとんど影響を受けなかった。
本発明は、細胞の培養や医薬品の製造等を無菌状態で行うための、アイソレータ等の除染に利用可能である。
１０１，１０２，１０３，１０４，１０５・・・除染装置、１０１ａ・・・第１装置、１０１ｂ・・・第２装置、１０・・・除染対象空間、１０ｃ・・・除染対象空間の外壁、１０ｄ・・・除染対象空間の内壁、１・・・オゾン発生装置、２・・・過酸化水素発生装置、３・・・ガス供給装置、４・・・温度測定装置、５・・・湿度測定装置、６・・・ガス濃度測定装置、７・・・制御装置、８・・・分解排出装置、９・・・分解循環装置、１２・・・配線、１３，１４，１５・・・着脱具、１１，１３０，２３０・・・配管
Claims (7)
- 対象空間を除染するための除染装置であって、
前記除染装置は、オゾン発生装置と、
過酸化水素発生装置と、
前記オゾン発生装置及び過酸化水素発生装置と接続され、かつ、前記オゾン発生装置で発生させたオゾン、及び前記過酸化水素発生装置で発生させた過酸化水素を、それぞれ単独で又は混合して、除染対象空間内に供給するためのガス供給装置と、
除染対象空間内の温度を測定するための温度測定装置と、
除染対象空間内の相対湿度を測定するための湿度測定装置と、
除染対象空間内のガス濃度を測定するためのガス濃度測定装置と、
前記温度測定装置、湿度測定装置及びガス濃度測定装置による測定結果に基づいて、前記ガス供給装置のガス供給条件を制御するための制御装置と、
除染対象空間内のオゾン及び過酸化水素を分解して、その分解物を除染対象空間外に排出するための分解排出装置と、を備え、
前記制御装置が、前記ガス供給装置及び過酸化水素発生装置のいずれか一方又は両方に対して、電気的に接続又は遮断されるように、着脱可能となっていることを特徴とする除染装置。 - 前記過酸化水素発生装置から、除染対象空間のガスの受け入れ口への接続部までの、ガス流路の長さが５ｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の除染装置。
- 前記過酸化水素発生装置及びガス供給装置が同一の第２装置に含まれ、前記第２装置が、除染対象空間の外壁若しくは内壁に接触して配置可能であるか、又は除染対象空間内において、除染対象空間の内壁から離間して配置可能であることを特徴とする請求項１又は２に記載の除染装置。
- 前記制御装置及びオゾン発生装置が同一の第１装置に含まれ、前記オゾン発生装置が前記ガス供給装置に対して、ガス供給路を介して、着脱可能となっていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の除染装置。
- 前記除染装置が、さらに、除染対象空間内に配置可能で、かつ、除染対象空間内のオゾン及び過酸化水素を分解して、その分解物を除染対象空間内に排出するための分解循環装置を備えることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に除染装置。
- 前記除染装置が、さらに、除染対象空間内の温度を調節するための温度調節装置、及び除染対象空間内の相対湿度を調節するための湿度調節装置の、いずれか一方又は両方を備えることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の除染装置。
- 請求項１〜６のいずれか一項に記載の除染装置を用いて、対象空間を除染するための除染方法であって、
前記制御装置を、前記ガス供給装置である第１ガス供給装置、及び前記過酸化水素発生装置である第１過酸化水素発生装置のいずれか一方又は両方に対して、電気的に接続して取り付けることにより、前記除染装置である第１除染装置を構成する工程と、
前記第１除染装置中の温度測定装置、湿度測定装置及びガス濃度測定装置を用いて、第１除染対象空間内の温度、相対湿度及びガス濃度を測定し、その測定結果に基づいて、前記第１除染装置中の前記制御装置、オゾン発生装置、第１過酸化水素発生装置及び第１ガス供給装置を用いて、オゾン及び過酸化水素を、それぞれ単独で又は混合して、供給条件を制御しながら第１除染対象空間内に供給し、第１除染対象空間内にオゾン及び過酸化水素の混合ガスを充満させて、第１除染対象空間を除染し、除染後、前記第１除染装置中の前記分解排出装置を用いて、第１除染対象空間内のオゾン及び過酸化水素を分解し、その分解物を第１除染対象空間外に排出する、第１除染工程と、
前記制御装置を、前記第１ガス供給装置及び第１過酸化水素発生装置のいずれか一方又は両方から電気的に遮断して取り外す工程と
前記第１ガス供給装置及び第１過酸化水素発生装置とは別途設けられた、第２ガス供給装置及び第２過酸化水素発生装置のいずれか一方又は両方に対して、取り外した前記制御装置を電気的に接続して取り付けることにより、前記除染装置である第２除染装置を構成する工程と、
前記第２除染装置中の温度測定装置、湿度測定装置及びガス濃度測定装置を用いて、前記第１除染対象空間とは別途設けられた、第２除染対象空間内の温度、相対湿度及びガス濃度を測定し、その測定結果に基づいて、前記第２除染装置中の前記制御装置、オゾン発生装置、過酸化水素発生装置及び第２ガス供給装置を用いて、オゾン及び過酸化水素を、それぞれ単独で又は混合して、供給条件を制御しながら第２除染対象空間内に供給し、第２除染対象空間内にオゾン及び過酸化水素の混合ガスを充満させて、第２除染対象空間を除染し、除染後、前記第２除染装置中の前記分解排出装置を用いて、第２除染対象空間内のオゾン及び過酸化水素を分解し、その分解物を第２除染対象空間外に排出する、第２除染工程と、
を有し、
必要に応じて、前記制御装置を前記ガス供給装置及び過酸化水素発生装置のいずれか一方又は両方から電気的に遮断して取り外す工程と、前記ガス供給装置及び過酸化水素発生装置とは別途設けられた、ガス供給装置及び過酸化水素発生装置のいずれか一方又は両方に対して、取り外した前記制御装置を電気的に接続して取り付けることにより、前記除染装置を構成する工程と、前記除染装置を用いて、除染対象空間を除染し、除染後、前記除染対象空間内のオゾン及び過酸化水素を分解し、その分解物を除染対象空間外に排出する除染工程を、さらに１回又は２回以上繰り返して行い、
複数の除染対象空間の除染を行うことを特徴とする除染方法。
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