JP2018537304A - 粉末床レーザー溶融による積層造形システム及び積層造形プロセス - Google Patents

粉末床レーザー溶融による積層造形システム及び積層造形プロセス Download PDF

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Abstract

本発明は、粉末床(2)のレーザー溶融による積層造形システム(1)に関し、システム(1)は、第1のレーザー光線を選択的に出射して粉末床(2)を溶融することにより少なくとも1つの材料層を形成する第1のレーザー部(10)と、第2のレーザー光線を選択的に出射して材料層の少なくとも一部を加工する第2のレーザー部(20)と、第1のレーザー光線を溶融対象の粉末床(2)に集束させ、且つ、第2のレーザー光線を加工対象の材料層に集束させることが可能な光学ブロック(30)とを備えることを特徴とする。システム(1)は、溶融されて加工された材料層を連続的に積層することにより部品を製造できる。本発明は、粉末床(2)のレーザー溶融による積層造形方法にも関する。

Description

本発明は、粉末床レーザー溶融による積層造形システム及び積層造形プロセスに関する。本発明の分野は、レーザー光溶融(Laser Beam Melting:LBM)型、選択的レーザー溶融(Selective Laser Melting;SLM)型、又は選択的レーザー焼結(Selective Laser Sintering;SLS)型の粉末床レーザー溶融による積層造形である。
実際には、上記プロセスを実施して製造される部品の形状精度及び表面状態は、使用する粉末の粒径、溶融・硬化する粉末層の厚さ(粉末粒子数個程度)及び粒子間における溶接ビードの生成精度によって制限される。これらの制限が、上記プロセスの発展を遅らせている。
機能性部品を得るためには、修正作業が頻繁に必要となる。修正技術としては、切削工具による加工、サンドブラスティング、電解エッチング、サンディング、研磨などが知られている。しかし、このような作業は、時間を要し、また、余計なコストがかかることを意味する。また、このような作業は、例えば部品の内面など実施が不可能な場合もある。
特許文献1は、粉末床レーザー溶融ではなく、レーザー光線の束に材料を噴霧する積層造形システム及び積層造形プロセスの様々な実施例を記載している。このシステムは、2つのレーザー部を備え、それぞれに光学部が設けられて、各光線が異なる光路を通って集束する。このようなシステムは、粉末床レーザー溶融用に設計されていない。さらに、構造が複雑で、加工精度に欠ける。
特許文献2は、粉末の噴霧・溶融による積層造形システム及び積層造形プロセスの様々な実施例を開示している。第1の実施例によれば、このプロセスは、前述のように、レーザー光線の束に材料を噴霧することを含む。第2の実施例によれば、このプロセスは、粉末を隣接する一連の粉末の円として噴霧し、レーザー光線によって一周ずつ部分的に溶融することを含む。このようなシステムは、粉末床レーザー溶融用に設計されていない。
国際公開WO2015/012992 国際公開WO2015/181772
本発明の目的は、前述の欠点を改善させる積層造形システム及び積層造形プロセスを提案することにある。
そのため、本発明の目的は、粉末床のレーザー溶融による積層造形システムである。このシステムは、第1のレーザー光線を選択的に出射して粉末床を溶融することにより少なくとも1つの材料層を形成する第1のレーザー部と、第2のレーザー光線を選択的に出射して材料層の少なくとも一部を加工する第2のレーザー部と、第1のレーザー光線を溶融対象の粉末床に集束させ、且つ、第2のレーザー光線を加工対象の材料層に集束させることが可能な光学部とを備えることを特徴とする。このシステムは、溶融されて加工された材料層を連続的に積層することにより部品を製造できる。
このため、本発明は、製造される部品の形状精度及び表面状態を向上させることができる。第1のレーザー部の作用により粉末床を溶融・硬化して形成された各材料層は、第2のレーザー部の作用によりそのまま加工できる。上記レーザー加工は選択的である。つまり、形成された各材料層は、製造する部品の特徴により、加工されるか否かが選択可能である。最後の部分では、加工用光線の光路と溶融用光線の光路とが合わせられることにより、高い加工精度が得られ、また、システム構成が簡略化される。
本発明に係るシステムの、単独又は組み合わせたその他の好適な特徴によれば、
− 粉末は、プラスチック材料、セラミック材料、又は金属材料である。
− 第1のレーザー部は、連続レーザー光源を備える。
− 第2のレーザー部は、パルスレーザー光源を備える。
− パルスレーザー光源は、数フェムト秒から数十ピコ秒程度の長さのパルスを生成する。
− パルスレーザー光源は、300フェムト秒から900フェムト秒の間の長さのパルスを生成する。
− 光学部は、二軸スキャナと集束レンズとを備える。
− システムは、第1のレーザー光線又は第2のレーザー光線を光学部に選択的に誘導するよう構成された、光線誘導用の可動誘導手段を更に備える。
本発明の他の目的は、粉末床のレーザー溶融による積層造形プロセスである。このプロセスは、
a) 第1のレーザー光線の作用下で粉末床を溶融することにより少なくとも1つの材料層を形成することを含む形成ステップと、
b) 第2のレーザー光線の作用下で材料層の少なくとも一部を加工することを含む加工ステップとを交互に備え、
溶融されて加工された材料層を連続的に積層することにより部品を製造する。
本発明に係るプロセスの、単独又は組み合わせたその他の好適な特徴によれば、
− 形成ステップにおいて、第1のレーザー光線を、連続レーザー光源を備える第1のレーザー部によって生成する。
− 加工ステップにおいて、第2のレーザー光線を、パルスレーザー光源を備える第2のレーザー部によって生成する。
− プロセスの間の少なくとも1つの加工ステップにおいて、第2のレーザー光線を用いて部品にテクスチャリング又は表面機能化を施す。
− プロセスの最後の加工ステップにおいて、第2のレーザー光線を用いて部品に表面テクスチャリング又は表面機能化を施す。
− 形成ステップ及び加工ステップにおいて、レーザー光線を、単一の光学部によって、溶融対象の粉末床上、或いは、加工対象の材料層上に集束させる。
− 形成ステップと加工ステップとの間において、可動誘導手段を、光学部の上流で、光線の共通の光路上に移動させ、2つのレーザー部が出射したそれぞれの光線が、スキャナを介して部品に向けられるようにする。
非制限的なごく一例としての以下の説明を添付の図面を参照して読むことにより、本発明をよりよく理解できるだろう。
図1は、本発明に係る積層造形システムの概略図であり、同じく本発明に係る積層造形プロセスの第1のステップを示す。 図2は、上記システムの概略図であり、上記プロセスの第2のステップを示す。
図1及び図2は、粉末床2のレーザー溶融によって部品を製造可能な積層造形システム1を示す。
システム1は、2つのレーザー部10,20と、光学部30と、誘導機構40とを備える。システム1は、簡便のため図示はしないが、基板3に粉末床2を堆積させる装置を更に備える。有利には、システム1を構成するこれらの要素は、比較的簡素且つ小型の構成を有する単一の装置として一体化できる。
第1のレーザー部10は、コリメータを構成する第1のアフォーカル拡大装置16に対して光ファイバー14で接続された連続レーザー光源12を備える。レーザー部10は、粉末床2を溶融するためのレーザー光線F1を選択的に生成するよう設計されている。
第2のレーザー光線20は、コリメータを構成する第2のアフォーカル拡大装置26と連携するパルスレーザー光源22を備える。レーザー部20は、レーザー部10が粉末床2を溶融することにより得られた材料層を加工するためのレーザー光線F2を選択的に生成するよう設計されている。ある実施例では、レーザー部20は、部品の表面テクスチャリングや表面機能化を施すよう設計されている。上記表面機能化では、例えば、部品の内側や表面に対して、ナノ構造を作成することにより疎水性を付与することが可能となる。光源22は、(数フェムト秒から数十ピコ秒程度の長さの)超短パルスを生成し、高ピーク出力(数十から数百マイクロジュール)を有する。このパルスは、300フェムト秒から900フェムト秒の間の長さのパルスであることが好ましい。フェムト秒レーザーの利点は、材料に対する熱的効果が極めて低いという点、及び、ミクロンレベルのパターニングを可能とする点である。
光学部30は、集束レンズ34に連結された二軸スキャナ32を備える。光学部30は、上流でスキャナ32が受けたレーザー光線F1又はF2を、下流でレンズ34が集束して、レーザー光線F10又はF20として粉末床2又は粉末床2の溶融により得られた材料層の正確な位置に選択的に向けるよう設計される。換言すると、同光学部30は、レーザー光線F10とレーザー光線F20とを、溶融対象の粉末床2と加工対象の材料層との上に交互に集束させることを可能とする。
誘導機構40は、レーザー部20が出射したレーザー光線F2を光学部30に誘導するために設けられる。図1及び図2の例では、誘導機構40は、2つの相反する方向D1及び方向D2に沿って並進移動可能なミラー42を備える。より具体的には、ミラー42は、スキャナ32と装置16,26との間に位置する領域において、光線F1の光路から離れるように、また、光線F2の光路上に位置するように移動可能である。
好ましくは、光源12及び22は、レーザー光線F1及びF2の波長が近くなるように選択される。よって、スキャナ32の光学要素とレンズ34の光学要素とに施される処理は、光線F1及びF2の両方に適したものである。例えば、光線F1及びF2はそれぞれ、1030nmから1080nmの間の波長を有する。
光線F1及びF2の波長が互いに大きく異なる場合は、スキャナ32の光学要素とレンズ34の光学要素とが、それぞれの波長用に特別な処理を受ける。この場合、誘導機構40が固定ダイクロイック板を含み得る。例えば、光線F1が1060nmから1080nmの間の波長を有し、光線F2が800nmから1030nmの間の波長を有する。
本発明の積層造形プロセスは、以下に詳述するように、ステップ100とステップ200とが交互に行われるシーケンスを含む。
まず、粉末床2が基板3上に堆積される。好ましくは、粉末床は、基板3上に均一に広げられる。または、粉末床は、異なる厚さで基板3上に広げられてもよい。
図1に示すステップ100は、基板3に堆積された粉末床2を溶融することにより材料層を形成することを含む。レーザー部10が連続レーザー光線F1を出射し、該レーザー光線F1は、装置16により適切な直径にコリメートされ、光学部30に送られる。スキャナ32により、集束レンズ34の手前で光線F1の進行方向が変更される。光学部30は、部品を構築するための経路に沿って、集束したレーザー光線F10を粉末床2上に向けて粒子を溶融することにより1以上の材料層を形成する。この部品を取り囲む未溶融の粉末は、該部品及び後続の粉末床のための支持体として用いられ得る。
図2に示すステップ200は、ステップ100にて形成された最後の材料層の少なくとも一部を加工することを含む。ステップ200の最初において、ミラー42が、方向F2に沿って並進して、光線F2の光路上に位置する。レーザー部20がレーザー光線F2を出射し、該レーザー光線F2は、装置26によって適切な直径にコリメートされ、その進行方向がミラー42によって光学部30へと向けられる。ミラー42の位置調整により、光線F2を光線F1と同じ光路に沿って送ることが可能となる。光線F2は、集束レンズ34の手前でスキャナ32によってその進行方向が変更される。光学部30は、加工対象の材料層に集束されたレーザー光線F20を加工対象の輪郭又は領域上で移動させる。したがって、ステップ200は、部品を構築するための経路に沿って、材料層が綺麗な切り口を得ることを可能とする。ある実施例では、ステップ200は部品の表面のテクスチャリング又は機能化を含む。ステップ200の最後において、ミラー42は、方向D1に沿って並進して、光線F1の光路から外れる。
ステップ100及びステップ200は、部品を完成させるのに必要な回数だけ交互に繰り返される。各ステップ100の前に、1以上の層が堆積されて、直前のステップ200で得られた材料層の上に粉末床2が形成される。
有利には、プロセスを構成するステップ100及びステップ200のシーケンスは、システム1の実施により達成され得る。
実際には、システム1は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で図1及び図2とは異なる方法で適応させてもよい。
変形例(不図示)として、光源22を、光ファイバーによって装置26に接続してもよい。
別の変形例(不図示)において、誘導機構40は、並進移動可能なミラー42でなくてもよい。例えば、機構40は、回転可能なミラー42を備えてもよい。別の例では、機構40は、少なくとも1つの固定ミラーと少なくとも1つの可動ミラーとを含むミラー群を備えてもよい。
別の例では、機構40は、光線F2の光路から離れ、また、光線F1の光路上に位置するように構成されてもよい。別の例において、レーザー光源12,22が偏光源である場合、誘導機構40は、偏光キューブを備えてもよい。上記別の例において、光線F1及びF2が互いに大きく異なる波長を有する場合、誘導機構40は、固定ダイクロイック板を備えてよい。
さらに、上述の各種実施例及び変形例の技術的特徴同士を、全体的又は部分的に組み合わせてもよい。したがって、システム1は、コスト面、機能面、及び性能面で適応可能である。

Claims (14)

  1. 粉末床(2)のレーザー溶融による積層造形システム(1)において、
    − 第1のレーザー光線(F1,F10)を選択的に出射して前記粉末床(2)を溶融することにより少なくとも1つの材料層を形成する第1のレーザー部(10)と、
    − 第2のレーザー光線(F2,F20)を選択的に出射して前記材料層の少なくとも一部を加工する第2のレーザー部(20)と、
    − 前記第1のレーザー光線(F1,F10)を溶融対象の前記粉末床(2)に集束させ、且つ、前記第2のレーザー光線(F2,F20)を加工対象の前記材料層に集束させることが可能な光学部(30)とを備え、
    溶融されて加工された材料層を連続的に積層することにより部品を製造できることを特徴とするシステム(1)。
  2. 前記第1のレーザー部(10)が、連続レーザー光源(12)を備える
    ことを特徴とする、請求項1に記載のシステム(1)。
  3. 前記第2のレーザー部(20)が、パルスレーザー光源(22)を備える
    ことを特徴とする、請求項1又は2に記載のシステム(1)。
  4. 前記パルスレーザー光源(22)が、数フェムト秒から数十ピコ秒程度の長さのパルスを生成する
    ことを特徴とする、請求項3に記載のシステム(1)。
  5. 前記パルスレーザー光源(22)が、300フェムト秒から900フェムト秒の間の長さのパルスを生成する
    ことを特徴とする、請求項3又は4に記載のシステム(1)。
  6. 前記光学部(30)が、二軸スキャナ(32)と集束レンズ(34)とを備える
    ことを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載のシステム(1)。
  7. 前記第1のレーザー光線(F1,F10)又は前記第2のレーザー光線(F2,F20)を前記光学部(30)に選択的に誘導するよう構成された可動誘導手段(40)を更に備える
    ことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載のシステム(1)。
  8. 粉末床(2)のレーザー溶融による積層造形プロセスにおいて、
    − 第1のレーザー光線(F1,F10)の作用下で前記粉末床(2)を溶融することにより少なくとも1つの材料層を形成することを含む形成ステップ(100)と、
    − 第2のレーザー光線(F2,F20)の作用下で前記材料層の少なくとも一部を加工することを含む加工ステップ(200)とを交互に備え、
    溶融されて加工された材料層を連続的に積層することにより部品を製造することを特徴とするプロセス。
  9. 前記形成ステップ(100)において、前記第1のレーザー光線(F1,F10)を、連続レーザー光源(12)を備える第1のレーザー部(10)によって生成する
    ことを特徴とする、請求項8に記載のプロセス。
  10. 前記加工ステップ(200)において、前記第2のレーザー光線(F2,F20)を、パルスレーザー光源(22)を備える第2のレーザー部(20)によって生成する
    ことを特徴とする、請求項8又は9に記載のプロセス。
  11. 前記プロセスの間の少なくとも1回の前記加工ステップ(200)において、前記第2のレーザー光線(F2,F20)を用いて前記部品に表面テクスチャリング又は表面機能化を施す
    ことを特徴とする請求項8〜10のいずれか一項に記載のプロセス。
  12. 前記プロセスの最後の前記加工ステップ(200)において、前記第2のレーザー光線(F2,F20)を用いて前記部品に表面テクスチャリング又は表面機能化を施す
    ことを特徴とする請求項8〜11のいずれか一項に記載のプロセス。
  13. 前記形成ステップ(100)及び前記加工ステップ(200)において、前記レーザー光線(F1,F10;F2,F20)を、単一の光学部(30)によって、溶融対象の前記粉末床(2)上、或いは、加工対象の前記材料層上に集束させる
    ことを特徴とする請求項8〜12のいずれか一項に記載のプロセス。
  14. 前記形成ステップ(100)と前記加工ステップ(200)との間において、可動誘導手段(40)を、前記光学部(30)の上流で、前記レーザー光線(F1,F10;F2,F20)の共通の光路上に移動させる
    ことを特徴とする請求項13に記載のプロセス。
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