JP2018529972A - Mems回転数センサ - Google Patents
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Abstract
本発明はMEMS回転数センサであって、基体と、この基体に対して相対的な一次振動を行うように構成されている第1の一次質量と、この第1の一次質量に懸架部を介して結合され、第1の一次質量の一次運動が第1の二次質量の一次運動を励起し、そして第1の一次質量に対して相対的な第1の二次質量の二次運動が許容されるようになっている二次質量と、それぞれ前記基体上あるいは前記第1の一次質量上に配設されている第1の磁場発生素子および第1の磁気検知素子と、それぞれ、基体上または第1の一次質量上あるいは第1の二次質量上に配設されている第2の磁場発生素子および第2の磁気検知素子と、を備え、第1の磁気検知素子は、基体に対して相対的な第1の一次質量の一次運動を確定し、第2の磁気検知素子は、第1の一次質量に対して相対的な、第1の二次質量の二次運動を確定するために構成されている。【選択図】 図1
Description
本発明は、MEMS回転数センサ(MEMS=Mikroelektromechanisches System)に関する。
MEMSベースのセンサには、様々な種類の技術および測定原理がある。特に静電容量的な測定原理が一般的であり、この測定原理では、静電容量は、たとえば交互に噛み合ったフィンガー構造または埋設された電極面(複数)から形成されている。ここでこの静電容量の変化から質量構造の変位を決定することができる。静電容量センサはたとえば特許文献1または特許文献2に開示されている。
このようなセンサでは、質量構造の変位の検出用に、埋設された電極(複数)を利用することが一般的である。これらの埋設された電極は、適合した感度を保証するために、充分に大きな面積でなければならない。このためこのようなセンサの小型化の可能性には限界がある。
さらにMEMS構造における寄生容量がこれらのセンサの振動特性および感度に悪い影響を与える。
したがって本発明の課題は、改善されたセンサを提示することである。この改善されたセンサは、特に良好な小型化も可能とするであろう。
これらの課題は本願請求項1に記載のMEMS回転数センサによって解決される。
1つのMEMS回転数センサが提示され、このMEMS回転数センサは、1つの基体と、この基体に対して相対的な一次振動を行うように構成されている1つの第1の一次質量と、この第1の一次質量に1つの懸架部を介して結合されている1つの第1の二次質量とを備え、この第1の一次質量の一次運動はこの第1の二次質量の一次運動を励起し、そしてこの第1の一次質量に対して相対的なこの第1の二次質量の二次運動が許容されるようになっている。具体的には、上記のMEMS回転数センサが回転を行い、そして上記の第1の一次質量の一次運動が上記の第1の二次質量に伝達される場合に、上記の第1の二次質量にコリオリ力によって上記の第1の二次運動が励起されるように、上記のMEMS回転数センサは構成することができる。この第1の二次運動は、第1の一次運動に対して垂直になり得、そして測定される外部の回転の回転軸に対して垂直となり得る。好ましくは、上記の二次運動は、上記の一次質量にフィードバックされず、そしてこれに対応してこの一次質量の運動に影響を与えない。こうして上記の二次運動によって上記の励起の障害は全く生じないことになる。上記の二次運動の上記の一次質量へのフィードバックの回避は、これに適合したばねの構成によって達成することができる。
上記の二次運動は、具体的には振動であってよい。上記の第1の一次質量の一次運動および上記の第1の二次質量の一次運動は、同様に振動であってよい。
さらに上記のセンサは、1つの第1の磁場発生素子および1つの第1の磁気検知素子を備える。これらの素子の1つは、上記の基体上に配設されており、そしてこれらの素子の1つは、上記の第1の一次質量上に配設されており、ここで上記の第1の磁気検知素子は、上記の基体に対して相対的な上記の第1の一次質量の一次運動を確定するために構成されている。上記の第1の一次質量が上記の基体に対する一次運動を行うと、これより上記の第1の磁場発生素子は、上記の第1の磁気検知素子に対して相対的に運動する。以上により上記の第1の磁場発生素子によって発生される、上記の第1の磁気検知素子の場所での磁場の磁場強度および/または磁場方向は変化する。この変化は、上記の第1の磁気検知素子によって測定することができる。これからこれら2つの素子の互いに相対的な位置の推定、およびこれにより上記の第1の一次運動の推定を行うことができる。
さらに上記のセンサはさらなる磁場発生素子(複数)およびさらなる磁気検知素子(複数)を備えてよく、これらはそれぞれ上記の基体上かまたは上記の第1の一次質量上に配設されていてよい。これらの素子も上述の原理に従って、上記の基体に対する上記の第1の一次質量の相対的な位置を測定することができ、そしてこれによって上記の第1の一次運動を測定することができる。複数の素子の使用によって、測定データにおける曖昧さを排除することができる。
さらに上記のMEMS回転センサは、1つの第2の磁場発生素子および1つの第2の磁気検知素子を備え、これらの内1つが上記の基体または上記の第1の一次質量上に配設されており、そしてもう1つが上記の第1の二次質量上に配設されており、ここでこの第2の磁気検知素子は、上記の第1の一次質量に対して相対的な、あるいは上記の基体に対して相対的な、上記の第1の二次質量の二次運動を確定するために構成されている。この際上述の測定原理を利用することができる。具体的には上記の第2の磁気検知素子は、その場所における上記の第2の磁場発生素子によって発生された磁場の磁場強度および/または磁場方向における変化を測定することができ、そしてこれから上記の第1の一次質量に対する上記の第1の二次質量の相対的な位置、または上記の基体に対する上記の第1の二次質量の相対的な位置の推定を得ることができ、そしてこれによって上記の二次運動の推定を得ることができる。
さらに、測定結果における曖昧さを排除することができるように、さらなる磁場発生素子およびさらなる磁気検知素子が、上記の基体,上記の第1の一次質量,および上記の第1の二次質量上に配設されていてよく、これらを用いて上記の第1の一次質量に対して相対的な、あるいは上記の基体に対して相対的な、上記の二次質量の位置が確定される。
こうして本発明は、質量構造の変位、具体的にはZ方向における変位を検出するための静電容量センサに必要な大面積の電極を置換することを可能とする。この電極の代わりに、ここで磁気検知素子(複数)および磁場発生素子(複数)が使用され、これらは顕著に小さな空間的な大きさを備え、そしてこれにより、MEMS回転センサのさらなる小型化が可能となる。さらに加えて、これらの磁場発生素子およびこれらの磁気検知素子を用いた測定は、静電容量センサの他の上述した欠点、たとえば寄生容量の悪影響をも取り除くことを可能とする。
これらの磁場発生素子は、具体的には磁性薄膜パターンを備えてよい。さらにこれらの磁場発生素子は、磁場発生のための磁気双極子パターン(複数)を備えてよい。これらの磁気双極子パターンは、上記の薄膜パターンに対して平行または垂直に配設されていてよい。
代替として、上記の磁場発生素子(複数)は、磁性厚膜パターン(複数)を備えてよい。さらにこれらの磁場発生素子は、磁場発生のための磁気双極子パターン(複数)を備えてよい。これらの磁気双極子パターンは、上記の厚膜パターンに対して平行または垂直に配設されていてよい。
上記の磁気検知素子(複数)は、具体的には磁気抵抗XMR構造であってよく、たとえばAMR素子(AMR=anisotropic magnetoresistive),GMR素子(GMR=giant magnetoresistive),またはTMR素子(TMR=tunneling magnetoresistive)であってよい。
本願に記載する回転数センサでは、一次運動および二次運動が互いにデカップリングされており、ここでこれらの運動は一次質量あるいは二次質量によって行われる。これにより、測定精度を高めることができる。この一次運動における外乱、たとえばセンサの直線加速度または振動は、この二次運動にも影響する。このような外乱の影響は、これら2つの運動を互いに独立に測定することによって低減することができる。これはばねの適切なスケーリングによって達成することができる。本発明によるMEMS回転数センサは、たとえば上記の第1の一次質量が1つの空間方向における自由度のみを備え、そして上記の第1の二次質量が2つの空間方向において変位することができるように構成することができ、ここでこの2つの空間方向は、上記の一次振動の方向および上記の二次振動の方向であり、この二次振動はコリオリ力によって生じるものである。
上記の一次運動も、また上記の二次運動も、磁場発生素子(複数)および磁気検知素子(複数)を用いて測定され、これらは、上記の基体,上記の第1の一次質量,および上記の第1の二次質量上に配設されており、ここでこれらの磁気検知素子(複数)は、それぞれこれらの磁場発生素子によって発生された磁場の磁場方向および/または磁場強度を測定することができる。
さらに、本発明による回転数センサは、1つの第2の一次質量を備えてよく、この第2の一次質量は、上記の基体に対して相対的な一次振動を行うように構成されており、そしてもう1つの懸架部を介して結合されている1つの第2の二次質量を備えてよく、この第2の一次質量の一次振動がこの第2の二次質量の一次運動を励起し、そしてこの第2の一次質量に対して相対的なこの第2の二次質量の二次運動が許容されるようになっている。
ここで上記の第1の一次質量および上記の第2の一次質量に、それぞれ振動を励起することができ、これらの振動は互いに約180°位相シフトされている。このようにして、たとえば加速度等の外乱を補償することができる。
さらに本発明によるセンサは、1つの第3の磁場発生素子および1つの第3の磁気検知素子を備えてよく、これらの内の1つは上記の基体上に配設されており、そしてもう1つは上記の第2の一次質量上に配設されており、ここでこの第3の磁気検知素子は、この基体に対して相対的なこの第2の一次質量の一次運動を確定するために構成されている。さらにこのセンサは、1つの第4の磁場発生素子および1つの第4の磁気検知素子を備えてよく、これらの内の1つが上記の基体上または上記の第2の一次質量上に配設されており、そしてもう1つが上記の第2の二次質量上に配設されており、ここでこの第4の磁気検知素子は、この第2の二次質量に対して、あるいはこの基体に対して相対的なこの第2の二次質量の二次運動を確定するために構成されている。
上記の第2の一次質量の一次運動および上記の第2の二次質量の二次運動は、こうして同様に磁気検知素子(複数)および磁場発生素子(複数)を用いて測定することができる。1つの第2の一次質量および1つの第2の二次質量によって、本発明によるセンサの測定精度を全体として高めることができる。さらにこのようにして外乱を補償することができる。
上記の第2の一次質量は、上記の基体に対して相対的な一次振動を行うように構成されていてよく、この一次振動は上記の第1の一次質量の一次振動に対し逆相となっている。特に、これらの第1および第2の一次質量では振動を互いに逆相に励起することができる。これらの2つの一次質量での振動の逆相の励起によって、本発明によるセンサは外乱に対しそれほど弱くならない。
上記の第1の一次質量および上記の第2の一次質量は、カップリングばね(複数)を介して互いに結合されていてよい。上記の第1の二次質量および上記の第2の二次質量は、カップリングばね(複数)を介して互いに結合されていてよい。カップリングばねを使用することによって、上記の逆相の振動を互いにより良好に同期することを可能とし、そしてこれによって測定精度を高めることを可能とする。
上記の第1の一次質量は、1つの捻り振動子であってよく、ここで上記の第1の一次質量の一次運動は捻り振動である。
上記の第1の二次質量の一次運動は、上記の第1の一次質量の一次運動と同じ方向において行われ得る。代替として、この第1の二次質量の一次運動は、上記の第1の一次質量の一次運動に対して垂直に行われ得る。この一次運動およびこの二次運動の方向を適宜選択することによって、上記のセンサが回転され得る軸を固定することができ、そしてこれに対応してこの軸の回りの回転数を測定することができる。ここでこのセンサは常に、上記の二次質量の一次運動の方向に対して垂直でありかつ上記の二次質量の二次運動の方向に対して垂直である1つの軸の回りの回転を確定するように構成することができる。
上記の第1の磁気検知素子および/または上記の第2の磁気検知素子は、変位していない状態の上記の第1の一次質量が延在する1つのレベル面から外れて配設されていてよい。具体的には、この第1の磁気検知素子および/またはこの第2の磁気検知素子は、上記の第1の一次質量を覆って配設されている1つの蓋に固定されていてよい。これに対応してこれらの磁気検知素子は、上記の第1の一次質量の上方に配設されていてよい。具体的には、これらの磁気検知素子は、上記の第1の一次質量の変位していない状態で上記の磁場発生素子の直上に在るように配設されていてよい。この配置は、上記の磁気検知素子(複数)および上記の磁場発生素子が上下に重なってじわじわ進んでゆく方向における上記の一次質量の運動に対するとりわけ高い感度を可能とする。この方向はz方向であり得る。
さらに上記の第3の磁気検知素子および/または上記の第4の磁気検知素子は、変位していない状態の上記の第1の二次質量が延在する1つのレベル面から外れて配設されていてよい。具体的には、この第3の磁気検知素子および/またはこの第4の磁気検知素子は、上記の第1の二次質量を覆って配設されている1つの蓋に固定されていてよい。これに対応してこれらの磁気検知素子は、上記の第1の二次質量の上方に配設されていてよい。具体的には、これらの磁気検知素子は、上記の第1の二次質量の変位していない状態で上記の磁場発生素子の直上に在るように配設されていてよい。この配置は、上記の磁気検知素子(複数)および上記の磁場発生素子(複数)が上下に重なってじわじわ進んでゆく方向における上記の二次質量の運動に対するとりわけ高い感度を可能とする。この方向はz方向であってよい。
上記の基体は、1つの蓋および1つの基板を備えてよく、ここで上記の第1の一次質量および上記の第1の二次質量はこの蓋とこの基板との間にカプセル封止されている。少なくとも1つの磁気検知素子は、この蓋の内面に配設されていてよい。たとえば上記の第1の磁気検知素子および/または上記の第2の磁気検知素子および/または上記の第3の磁気検知素子および/または上記の第4の磁気検知素子は、この蓋の内面に配設されていてよい。
本発明によるセンサは、さらなる磁気検知素子(複数)および磁場発生素子(複数)を備えてよく、ここで上記のMEMS回転数センサは、複数の軸の回りの回転数の測定を可能とする。具体的には、本発明によるセンサは、3次元空間のどの軸の回りの回転数も測定するように構成することができる。この際このセンサは、たとえば、3つの空間方向のどれにおいても二次質量の運動を測定することができる。
以下では、図を参照して、本発明を詳細に説明する。
図1は、1つのMEMS回転センサ1を示す。以下では図1およびそのほかの図に示された直交座標系に基づいて方向が規定されるものとする。図1に示すMEMS回転数センサ1は、z軸の回りの回転数の測定用に構成されている。
このMEMS回転数センサ1は、1つの基体2を備える。基体2として1つの筐体が示されているが、この筐体は振動で移動されない。この基体2は、1つの基板および1つの蓋(図1には不図示)を備える。
さらにこのMEMS回転数センサ1は、1つの第1の一次質量3を備える。この第1の一次質量は、一次ばね(複数)4を介して基体2に結合されている。具体的には、この第1の一次質量3は、4つの一次ばね4を介して基体2に結合されており、これらの一次ばねは、それぞれ第1の一次質量3の1つの隅部に配設されている。これらの一次ばね4は、z方向およびy方向で1つの平面状の拡がりを有する。x方向においては、これらの一次ばね4は、y方向およびz方向における拡がりよりも顕著に小さな拡がりを有する。これに対応して、これらの一次ばね4は、好適に、基体2に対して相対的な、x方向における第1の一次質量3の運動を可能とする。これに対してy方向およびz方向においては、これらの一次ばね4は堅く、この基体2に対する相対的な、y方向およびz方向における第1の一次質量3の運動を殆ど全く許容しない。
さらに基体2と第1の一次質量3との間には、1つの駆動素子5が配設されており、この一次質量3に一次運動を励起できるようになっている。この駆動素子5は、コンデンサである。このコンデンサは、互いに重なり合ったフィンガー(複数)を備え、これらは交互に、基体2にも、また第1の一次質量3にも形成されており、そしてこれらはそれぞれ励起電極となっている。ここでこれらの励起電極に交流電圧が印加されると、これにより第1の一次質量3に一次運動が励起される。この一次運動は、z方向における振動である。
さらにこのMEMS回転数センサ1は、1つの第1の二次質量6を備える。この第1の二次質量6は、1つの懸架部7を介して第1の一次質量3に結合されている。この懸架部7は、二次ばね(複数)を備え、これらは、z方向およびy方向で1つの平面状の拡がりを有する。y方向においては、これらの二次ばねは、x方向およびz方向における寸法よりも小さな寸法を備える。これに対応してこの懸架部7は、第1の二次質量6が第1の一次質量3に対してy方向において相対的に運動することができ、そしてこの第1の二次質量6がこの第1の一次質量3に対してz方向において相対的に殆ど運動できないように構成されている。
懸架部7は、基体2に対して相対的な上記の第1の一次質量3の一次運動が、基体2に対して相対的な上記の第1の二次質量6の一次運動に伝達されるように構成されている。この第1の二次質量6の一次運動も同様に、基体2に対して相対的な、y方向における振動である。
追加的に、この懸架部7は、この第1の一次質量3に対して相対的なこの第1の二次質量6の二次運動を可能とする。この二次運動は、第1の一次質量3に対して相対的な、y方向における振動である。ここでMEMS回転数センサ1が、z軸の回りに回転され、そしてさらに第1の一次質量3に一次運動、すなわち基体2に対して相対的な、x方向における振動が励起されると、これにより第1の二次質量6はコリオリ力を感じ、このコリオリ力はこの第1の二次質量6に、y方向における振動を励起する。このMEMS回転数センサ1の測定原理は、この第1の二次質量6の二次運動を測定し、これからz軸の回りの回転数を確定することに基づいている。
上記のMEMS回転センサ1では、第1の一次質量3の一次運動および第1の二次質量6の二次運動が互いに独立に測定される。この第1の一次質量3の一次運動およびこの第1の二次質量6の二次運動の測定のために、このMEMS回転数センサ1は磁場発生素子(複数)および磁気検知素子(複数)を用いている。
これらの磁場発生素子は、それぞれ1つの磁場を発生し、その磁場強度および磁場方向は正確に知られている。これらの磁場発生素子は、磁気双極子構造であってよい。
これらの磁場発生素子によって発生された磁場を測定するために、上記のMEMS回転数センサ1は、上記の磁気検知素子(複数)を備えている。これらの磁気検知素子は、xMR磁気抵抗構造であってよい。これらの磁気検知素子は、1つの磁場発生素子への距離を検出することを可能とする。これらの磁気検知素子の測定値(複数)から、1つの磁場発生素子に対して相対的な、1つの磁気検知素子の位置を確定することもできる。
具体的には上記のMEMS回転数センサ1は、1つの第1の磁気検知素子8を備え、この磁気検知素子は基体2上に配設されている。さらに、1つの磁場発生素子9が、第1の一次質量3上に配設されている。ここで第1の一次質量3が、基体2に対して相対的な一次運動を行うと、これより第1の磁気検知素子8は、第1の磁場発生素子9によって発生される磁場の磁場方向および/または磁場強度の変化を検出することができる。これからこの一次運動を測定することができる。精度をさらに高めるために、上記のMEMS回転数センサ1は、もう1つの第1の磁気検知素子8’を基体2上に備え、そしてもう1つの第1の磁場発生素子9’を第1の一次質量3上に備える。「第1の」素子とは、ここでは一次運動の測定を可能とする素子を意味している。基体上の複数の第1の磁気検知素子8,8’および第1の一次質量上の複数の磁場発生素子9,9’の使用によって、測定結果における曖昧さを排除することができる。
第1の一次質量3の一次運動の測定とは独立に、第1の二次質量6の二次運動が測定される。この二次運動の測定も、磁気的な原理に基づいており、ここでは1つの磁気検知素子10が、1つの磁場発生素子11によって発生された磁場の磁場強度および/または磁場方向における変化を測定する。
このため1つの第2の磁場発生素子11が、第1の二次質量6上に配設されている。1つの第2の磁気検知素子10が、第1の一次質量3上に配設されている。この第1の二次質量6が、第1の一次質量3に対して相対的な二次運動、すなわちy方向における振動を行うと、これより第2の磁場発生素子11が第2の磁場発生素子10に対して相対的に動かされる。この第2の磁気検知素子10は、第2の磁場発生素子11によって発生された磁場の磁場強度および/または磁場方向の変化を検知し、そしてこれから第1の一次質量3に対して相対的な、第1の二次質量6の二次運動を確定する。具体的には、この第2の磁気検知素子10は、磁場方向における変化を確定し、その初期位置からどのような角度だけこの第2の磁場発生素子11が動かされたかを確定する。
さらにもう1つの第2の磁場発生素子10’が基体2上に配設されており、そしてもう1つの第2の磁気検知素子11’が第1の二次質量6上に配設されており、これらは基体2に対する第1の二次質量6の相対運動を確定することができる。具体的には、このもう1つの第2の磁気検知素子10’およびこのもう1つの第2の磁場発生素子11’を用いて、y方向における基体2に対する第1の二次質量6の距離を確定することができる。
上記の磁気検知素子10,10’によって得られた測定値から、第1の二次質量6の二次運動を測定することができる。具体的には、この二次運動の周波数が測定されてよく、これはz軸の回りのMEMS回転数センサ1の回転数を確定することを可能とする。さらに第1の一次質量3の一次運動が測定され、この一次運動における外乱を検知し、これによってこの外乱を考慮することができる。この外乱は、上記の二次運動に影響し、そしてこれより測定精度に影響をもたらし得る。
図2は、本発明によるMEMS回転数センサ1の第2の実施形態例を示す。この第2の実施形態例によるMEMS回転数センサ1は、y軸の回りの回転数の確定用に構成されている。
この第2の実施形態例は、懸架部7の二次ばね(複数)の構成が、第1の実施形態例と異なっている。これらの二次ばねは、第1の一次質量3に対して相対的な、z方向における第1の二次質量6の運動を可能とする。これらの二次ばねはx方向およびy方向において、平面状に実装されており、これらはz方向において大幅に小さな寸法を備えている。これに対応して、この第2の実施形態例による第1の二次質量6は、二次運動として、z方向における振動を行うことができる。この二次質量にはコリオリ力によって二次振動が励起されるが、これはMEMS回転数センサ1が、y軸の回りに回転し、そして第1の一次質量3が、z方向に振動を行い、この振動がこの第2の二次質量6に伝達される場合である。
図1に示す実施形態例でも、また図2に示す実施形態例でも、磁気検知素子8,8’,10,10’の内の少なくとも幾つかは、1つの代替の構成においては上記の蓋上に配設することができる。これに対応して、これらの磁気検知素子8,8’,10,10’は、磁場発生素子9,9’,11,11’が存在する1つのレベル面の上方の1つのレベル面に配設され得るが、これは第1の一次質量および第1の二次質量が、これらのそれぞれの初期位置にある場合であり、すなわちこれらが一次運動および/または二次運動を全く行わない場合である。
磁気検知素子8,8’,10,10’は、第1の一次質量3および第1の二次質量6が延在している1つのレベル面から外れて存在していてよい。第1の磁気検知素子8は、第1の一次質量3がその初期位置にある場合、この磁気検知素子が第1の磁場発生素子9の直上に存在するように、上記の蓋上に配設されてよい。他の第1の磁気検知素子8’および他の第1の磁場発生素子9’に対しても同様になっている。さらに第2の磁気検知素子10は、第1の二次質量6がその初期位置にある場合、この磁気検知素子が第2の磁場発生素子11の直上に存在するように、上記の蓋上に配設され得る。他の第2の磁気検知素子10’および他の第2の磁場発生素子11’に対しても同様になっている。
図3は、本発明によるMEMS回転数センサ1の1つの第3の実施形態例を示す。このMEMS回転数センサ1は、z軸の回りの回転数の検出用に構成されている。
この第3の実施形態例によれば、このセンサ1は、1つの第2の一次質量12および1つの第2の二次質量13を備える。この第2の一次質量12には、もう1つの駆動素子5’によって一次運動を励起することができる。第1の一次質量3および第2の一次質量12の一次運動は、それぞれ同じ方向における振動であり、ここではx方向における振動である。第2の一次質量12は、この第2の一次質量12の一次運動が上記の第1の一次質量3の一次運動に対して逆相となるように励起することができる。ここでばね(複数)4のスケーリングは、この逆相の動きを支持する。
上記の第1および第2の一次質量3,12の一次運動ならびに上記の第1および第2の二次質量6,13の二次運動の検出用に、磁気検知素子8,10,10’,15,17および磁場発生素子9,11,11’,14,16が設けられている。
具体的には、2つの一次質量3,12上の磁場発生素子9,14、および基体2上の磁気検知素子8,15は、この基体2に対して相対的な上記の2つの一次運動の検出用に設けられている。たとえば第2の一次質量12上には、1つの第3の磁場発生素子14が設けられており、そして基体2上には1つの第3の磁気検知素子15が設けられている。
さらに、磁場発生素子11,11’,16が二次質量6,13上に配設されている。さらに磁気検知素子10,10’,15,17が一次質量3,12上および基体2上に配設されており、これらは、二次質量6,13上の磁場発生素子11,11’の位置変化を参照して、この二次質量6,13の相対運動を検知する。たとえばこの第2の二次質量13上には、1つの第4の磁場発生素子16が配設されており、そしてこの第2の一次質量12上には1つの第4の磁場発生素子17が配設されている。これらのさらなる素子によって、たとえば外乱またはあまりきちんとしていない製造プロセスによって生じ得る、傾きおよび/または捻れを検出することができる。その他これらのさらなる素子によって、3つの空間方向の1つまたは複数の方向における変位の検出および/または位置の検出の精度を高めることができる。
上記の第3の実施形態例の1つの代替の構成によれば、磁気検知素子8,10,10’、15,17の内の少なくとも幾つかは、上記の蓋に、それぞれ垂直方向で磁場発生素子9,11,11’,14,16の上方に配設されていてよい。
上記の第2の一次質量12および上記の第2の二次質量13によって、MEMS回転数センサ1の測定精度を高めることができる。さらにこのセンサ1は、外乱に対しそれほど弱くならない。これは上記の2つの一次質量3,12の逆相の励起によってさらに改善することができる。
図4は、MEMS回転数センサ1のもう1つの実施形態例を示し、ここではこのセンサ1は同様に、1つの第2の一次質量12および1つの第2の二次質量13を備える。図4に示すMEMS回転数センサ1は、z軸の回りの回転数の確定用に構成されている。上記の第1および第2の一次質量3,12の一次運動ならびに上記の第1および第2の二次質量6,13の二次運動の検出用に、磁気検知素子8,10,10’,15,17および磁場発生素子9,11,11’,14,16が設けられている。
この第3の実施形態例では、第1の一次質量3が第2の二次質量12にカップリングばね18を介して結合されている。これらのカップリングばね18は、第2の一次質量12に対して相対的な、x方向における第2の一次質量3の運動を可能とする。さらに第2の二次質量13も第1の二次質量6にカップリングばね18を介して結合されており、これはこの第2の二次質量13に対して相対的な、x方向における第1の二次質量6の運動を可能とする。
一次質量3,12と二次質量6,13との間のこれらのカップリングばね18は、第1および第2の一次質量3,12の逆相の振動をより正確に同期することを可能とする。このようにして、測定精度を高めることができる。
二次質量6および13は、y方向においても互いに逆相の振動を行うことができる。この場合これら2つの二次質量6,13を結合するカップリングばね18は、このばねがy方向におけるこの互いに逆相の振動を可能とするように構成されていることになる。
図5は、本発明によるMEMS回転数センサ1の1つの第5の実施形態例を示す。この第5の実施形態例でも、この回転数センサ1は、1つの第2の一次質量12および1つの第2の二次質量13を備える。第1および第2の一次質量3,12の一次運動ならびに第1および第2の二次質量6,13の二次運動の検出用に、磁気検知素子8,10,15,17および磁場発生素子9,11,14,16が設けられている。
第1の二次質量6は、第1の一次質量3にも、また第2の一次質量12にも、1つの懸架部7を介して結合されている。第2の二次質量13は、第1の一次質量3にも、また第2の一次質量12にも、1つの懸架部7を介して結合されている。ここでこれら2つの懸架部7はそれぞれ、x方向における一次質量3,12の一次運動が、向きを変えてy方向、すなわち一次質量3,12の一次運動の方向に対して垂直な方向、における二次質量6,13の一次運動となるように構成されている。第1および第2の一次質量3,12に、好適にx方向において逆相の振動が励起される。こうして2つの二次質量6,13には、y方向において逆相の振動が励起される。
図6は、本発明によるMEMS回転数センサ1の1つの第6の実施形態例を示す。この第6の実施形態例によれば、第1の一次質量3は、1つの捻り振動子である。この第1の一次質量は、1つの一次ばね4を介して基体2に結合されている。この一次ばね4は、z方向で平面状になっている。第1の一次質量3には、一次運動を励起することができ、この一次運動ではこの第1の一次質量はz軸の回りの捻り振動を行う。これに対応してこの第1の一次質量はx−y面内で振動する。
このMEMS回転数センサ1は、駆動素子5を備え、この駆動素子は、第1の一次質量3に一次振動を励起することができる。この駆動素子5は、互いに重なり合ったフィンガー(複数)を有するコンデンサ(複数)を備え、これらは基体に、そして第1の一次質量3に、交互に形成されており、そしてこれらはそれぞれ励起電極となっている。ここでこれらの励起電極に交流電圧が印加されると、これより一次質量に一次運動、すなわちx−y面における捻り振動が励起される。
第1の一次質量3は、4つのアームおよび1つの環状体を備え、ここでこれらのアームはこの環状体から内側に向かって延在している。これらのアームは、一次ばね4に結合されている。
さらに1つの環状の第1の二次質量6が設けられており、この第1の二次質量は、1つの懸架部7を介して第1の質量3に結合されている。この懸架部7は二次ばね(複数)であり、これらの二次ばねは、x方向およびy方向において平面状に実装されており、z方向においてより小さな寸法を備える。これらの二次ばねは、一次運動、すなわち上記の捻り振動の第1の二次質量6への伝達用に構成されている。さらにこれらの二次ばねは、第1の二次質量6が、z方向において、第1の一次質量3に対して相対的に傾斜することを可能とする。これに対応してこの第1の二次質量6は、二次運動として、この第1の一次質量3に対して相対的な、z方向における振動を行うことができる。
このセンサ1は、y軸の回りの回転数の測定用に構成されている。第1の一次質量3に上述の一次運動が励起されると、この一次運動は第1の二次質量6に伝達され、そしてこのセンサ1はy軸の回りに回転され、こうしてこの第1の二次質量6に、コリオリ力によって二次運動が励起され、すなわちz方向における振動が励起される。
このMEMS回転数センサ1は、それぞれ対応する磁場発生素子9,11および磁気検知素子8,10を備え、これらは上述の実施形態例におけるように、第1の一次質量3の一次運動および第1の二次質量6の二次運動を測定することを可能とする。これらの磁気検知素子8,10は、基体上に配設されている。これらの磁場発生素子9,11は、第1の一次質量3上および第1の二次質量6上に配設されている。
図7は、本発明によるMEMS回転数センサ1の1つの第7の実施形態例を示す。ここでも第1の一次質量3は、捻り振動子として構成されている。
この第7の実施形態例によるMEMS回転数センサ1は、MEMS回転数センサ1が4つの二次質量6,13,6’,13’を備えることが上記の第6の実施形態例と異なっており、これらの二次質量はそれぞれ1つの懸架部7を介して、第1の一次質量3にカップリングされている。この懸架部7はz方向にのみ重要な大きさを備える。他の空間方向においては、この懸架部7は、長く薄いウェブとして形成されている。2つの二次質量6,6’は、これらが二次運動として、第1の一次質量3に対して相対的な、z方向における振動を行うことができるように、二次ばね(複数)を介して一次質量3に結合されている。上記の第6の実施形態例におけるように、この二次運動の測定によって、y軸の回りの回転数を確定することができる。
さらに、さらなる2つの二次質量13,13’が、これらが二次運動として、第1の一次質量3に対して相対的な、y方向における振動を行うことができるように、二次ばね(複数)を介して一次質量3に結合されている。この二次運動の測定によって、x軸の回りの回転数を確定することができる。以上によりこの第7の実施形態例によるMEMS回転数センサ1は、2つの軸の回りの回転数を測定することを可能とする。
4つの二次質量6,6’,13,13’の各々の上には、そして第1の一次質量3上には、それぞれ少なくとも1つの磁場発生素子9,11が配設されている。さらに基体上には磁気検知素子8,10が配設されており、これらは磁場発生素子9,11によって発生された磁場の磁場方向および/または磁場強度を測定し、そしてこれから上記の二次運動および上記の一次運動を確定する。
図8は、本発明によるMEMS回転数センサ1の1つの第8の実施形態例を示す。この第8の実施形態例によれば、このセンサ1は、4つの二次質量6,6’,13,13’を備え、これらは対となって逆相で振動し、z軸およびy軸の回りの回転数の検出用に適合している。ここでは懸架部7は、ばねビーム(複数)として実装されており、ここでこれらのばねビームは、z方向に作用する力によって変位可能となっている。これに対し、z方向またはy方向における力に対しては、これらのばねビームは堅く、そしてほとんど曲がらない。
図9A,9B,9Cは、1つの第9の実施形態例による、MEMS回転数センサ1を示す。図9Aは、このセンサの上面図を示す。図9Bおよび図9Cはそれぞれ、このセンサの一部を断面で示す。ここで図9Aは、このセンサの変位していない状態を示す。図9Cは、このセンサの変位している状態を示す。
このセンサ1は、1つの1軸の回転ジャイロ構造である。このセンサ1は、1つの第1の一次質量3、およびこれに加えて可動に懸架された二次質量6,13を備える。この第1の一次質量3には、1つの駆動素子5によって一次運動を励起することができ、この一次運動は、x-y面における捻り振動である。これらの二次質量6,13の懸架部7は、これらの二次質量が二次運動としてz方向における振動を行うことを可能とする。このようにして回転数を確定することができる。
磁気検知素子10,15は、蓋19に配設されている。磁場発生素子11,14は、二次質量6,13上に配設されている。
図10は、1つの第10の実施形態例を示し、この第10の実施形態例は、さらなる二次質量6’,13’が設けられていることが、上記の第9の実施形態例と異なっている。ここで二次質量6,6’,13,13’は、少なくとも1つの二次質量が、二次運動として1つの第1の方向における振動を行い、少なくとももう1つの二次質量が、二次運動としてこの第1の方向に対して垂直な第2の方向における振動を行うように、懸架されている。このようにしてこのセンサ1を用いて、複数の軸の回りの回転数を同時に確定することができる。磁場発生素子11および磁気検知素子10は、上記の第9の実施形態におけるように、二次質量6,6’,13,13’上、あるいはこのセンサ1の蓋19に設けられている。
図11は、センサ1の1つの断面を示し、このセンサでは、1つの磁場発生素子9が1つの可動な質量20上に設けられており、そして1つの磁気検知素子8が蓋19の内面に設けられている。1つのストッパ(Anschlag)21が、この可動な質量20の運動を制限するために設けられている。この可動な質量20は、1つの一次質量または1つの二次質量であってよい。
1 : MEMS回転数センサ
2 : 基体
3 : 第1の一次質量
4 : 一次ばね
5 : 駆動素子
5’: さらなる駆動素子
6,6’: 第1の二次質量
7 : 懸架部
8 : 第1の磁気検知素子
8’: さらなる第1の磁気検知素子
9 : 第1の磁場発生素子
9’: さらなる第1の磁場発生素子
10 : 第2の磁気検知素子
10’: さらなる第2の磁気検知素子
11 : 第2の磁場発生素子
11’: さらなる第2の磁場発生素子
12 : 第2の一次質量
13,13’: 第2の二次質量
14 : 第3の磁場発生素子
15 : 第3の磁気検知素子
16 : 第4の磁場発生素子
17 : 第4の磁気検知素子
18 : カップリングばね
19 : 蓋
20 : 質量
21 : ストッパ
2 : 基体
3 : 第1の一次質量
4 : 一次ばね
5 : 駆動素子
5’: さらなる駆動素子
6,6’: 第1の二次質量
7 : 懸架部
8 : 第1の磁気検知素子
8’: さらなる第1の磁気検知素子
9 : 第1の磁場発生素子
9’: さらなる第1の磁場発生素子
10 : 第2の磁気検知素子
10’: さらなる第2の磁気検知素子
11 : 第2の磁場発生素子
11’: さらなる第2の磁場発生素子
12 : 第2の一次質量
13,13’: 第2の二次質量
14 : 第3の磁場発生素子
15 : 第3の磁気検知素子
16 : 第4の磁場発生素子
17 : 第4の磁気検知素子
18 : カップリングばね
19 : 蓋
20 : 質量
21 : ストッパ
Claims (12)
- MEMS回転数センサ(1)であって、
1つの基体(2)と、
前記基体(2)に対して相対的な一次振動を行うように構成されている1つの第1の一次質量(3)と、
前記第1の一次質量(3)に1つの懸架部(7)を介して結合されている1つの第1の二次質量(6)であって、前記第1の一次質量(3)の一次運動が当該第1の二次質量(6)の一次運動を励起し、そして前記第1の一次質量(3)に対して相対的な当該第1の二次質量(3)の二次運動が許容されるようになっている二次質量(6)と、
1つの第1の磁場発生素子(9)および1つの第1の磁気検知素子(8)であって、当該第1の磁場発生素子および当該第1の磁気検知素子の内の1つが前記基体(2)上に配設されており、そしてもう1つが前記第1の一次質量(3)上に配設されており、前記第1の磁気検知素子(8)は、前記基体(2)に対して相対的な前記第1の一次質量(3)の一次運動を確定するために構成されている、第1の磁場発生素子(9)および第1の磁気検知素子(8)と、
1つの第2の磁場発生素子(11)および1つの第2の磁気検知素子(10)であって、当該第2の磁場発生素子および当該第2の磁気検知素子の内の1つが前記基体(2)上または前記第1の一次質量(3)上に配設されており、そしてもう1つが前記第1の二次質量(6)上に配設されており、前記第2の磁気検知素子(10)が、前記第1の一次質量(3)に対して相対的な、あるいは前記基体(2)に対して相対的な、前記第1の二次質量(6)の二次運動を確定するために構成されている、第2の磁場発生素子(11)および第2の磁気検知素子(10)と、
を備えることを特徴とするMEMS回転数センサ。 - 請求項1に記載のMEMS回転数センサにおいて、
さらに、
前記基体(2)に対して相対的な一次振動を行うように構成されている、1つの第2の一次質量(12)と、
1つの第2の二次質量(13)であって、前記第2の一次質量(12)の前記一次振動が、前記第2の二次質量(13)の一次振動を励起し、そして前記第2の一次質量(12)に対して相対的な前記第2の二次質量(13)の二次運動を許容するように、もう1つの懸架部(7)を介して前記第2の一次質量(12)に結合されている、第2の二次質量(13)と、
1つの第3の磁場発生素子(14)および1つの第3の磁気検知素子(15)であって、当該第3の磁場発生素子および当該第3の磁気検知素子の内の1つが、前記基体(2)上に配設されており、そしてもう1つが前記第2の一次質量(12)上に配設されており、当該第3の磁気検知素子(15)は、前記基体(2)に対して相対的な前記第2の一次質量(12)の一次運動を確定するために構成されている、第3の磁場発生素子(14)および第3の磁気検知素子(15)と、
1つの第4の磁場発生素子(16)および1つの第4の磁気検知素子(17)であって、当該第4の磁場発生素子および当該第4の磁気検知素子の内の1つは前記基体(2)上または前記第2の一次質量(12)上に配設されており、そしてもう1つは前記第2の二次質量(13)上に配設されており、当該第4の磁気検知素子(17)は、前記第2の二次質量(12)に対して相対的な前記第2の二次質量(13)の二次運動を確定するために構成されている、第4の磁場発生素子および第4の磁気検知素子と、
を備えることを特徴とするMEMS回転数センサ。 - 前記第2の一次質量(12)は、前記基体(2)に対して相対的な一次振動を行うように構成されており、当該一次振動は前記第1の一次質量の一次振動に対し逆相となっていることを特徴とする、請求項2に記載のMEMS回転数センサ。
- 前記第1の一次質量(3)および前記第2の一次質量(12)は、複数のカップリングばね(18)を介して互いに結合されていることを特徴とする、請求項2または3に記載のMEMS回転数センサ。
- 前記第1の二次質量(6)および前記第2の二次質量(13)は、複数のカップリングばね(18)を介して互いに結合されていることを特徴とする、請求項2乃至4のいずれか1項に記載のMEMS回転数センサ。
- 前記第1の一次質量(3)は、1つの捻り振動子であり、前記第1の一次質量(3)の一次運動は捻り振動であることを特徴とする、請求項1乃至5のいずれか1項に記載のMEMS回転数センサ。
- 前記第1の二次質量(6)の一次運動は、前記第1の一次質量(3)の一次運動と同じ方向において行われることを特徴とする、請求項1乃至6のいずれか1項に記載のMEMS回転数センサ。
- 前記第1の二次質量(6)の一次運動は、前記第1の一次質量(3)の一次運動に対して垂直に行われることを特徴とする、請求項1乃至6のいずれか1項に記載のMEMS回転数センサ。
- 前記第1の磁気検知素子(8)および/または前記第2の磁気検知素子(10)は、変位していない状態の前記第1の一次質量(3)が延在する1つのレベル面から外れて配設されていることを特徴とする、請求項1乃至8のいずれか1項に記載のMEMS回転数センサ。
- 前記第3の磁気検知素子(15)および/または前記第4の磁気検知素子(17)は、変位していない状態の前記第1の二次質量(6)が延在する1つのレベル面から外れて配設されていることを特徴とする、請求項1乃至9のいずれか1項に記載のMEMS回転数センサ。
- 請求項1乃至10のいずれか1項に記載のMEMS回転数センサにおいて、
前記基体(2)は、1つの蓋(19)および1つの基板を備え、前記第1の一次質量(3)および前記第1の二次質量(6)は当該蓋(19)と当該基板との間にカプセル封止されており、
少なくとも1つの磁気検知素子(3,10,15,17)は、前記蓋(19)の内面に配設されている、
ことを特徴とするMEMS回転数センサ。 - 請求項1乃至11のいずれか1項に記載のMEMS回転数センサにおいて、
さらなる複数の磁気検知素子および複数の磁場発生素子を備え、
前記MEMS回転数センサ(1)は、複数の軸の回りの回転数の測定を可能とする、
ことを特徴とするMEMS回転数センサ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102015117094.9 | 2015-10-07 | ||
DE102015117094.9A DE102015117094B4 (de) | 2015-10-07 | 2015-10-07 | MEMS-Drehratensensor |
PCT/EP2016/073005 WO2017060130A2 (de) | 2015-10-07 | 2016-09-27 | Mems-drehratensensor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018529972A true JP2018529972A (ja) | 2018-10-11 |
Family
ID=57003508
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018517794A Pending JP2018529972A (ja) | 2015-10-07 | 2016-09-27 | Mems回転数センサ |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20180292211A1 (ja) |
JP (1) | JP2018529972A (ja) |
DE (1) | DE102015117094B4 (ja) |
WO (1) | WO2017060130A2 (ja) |
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DE102015117094A1 (de) | 2017-04-13 |
DE102015117094B4 (de) | 2020-04-23 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180605 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190320 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A02 | Decision of refusal |
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