JP2018528616A - シャワーヘッド支持構造 - Google Patents
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Abstract
Description
本開示の実施形態は、概して、プラズマチャンバ内でガス分配シャワーヘッドを支持することに関する。より具体的には、本開示は、ガス分配シャワーヘッドを通してチャンバへのガスの流れを可能にする支持構造に関する。
プラズマ強化化学気相成長(PECVD)は、処理ガスがガス分配シャワーヘッドを通して処理チャンバに導入される堆積方法である。シャワーヘッドは、電気的にバイアスが掛けられ、処理ガスを点火してプラズマにする。シャワーヘッドの反対側に位置するサセプタは電気的に接地され、アノードとして機能する。シャワーヘッドは、処理ガスがシャワーヘッドとサセプタの間の処理空間に流入する際に処理ガスを拡散させる。
Claims (15)
- 真空チャンバ用のガス分配シャワーヘッドであって、
4つの側面、第1の主面、及び第1の主面に対向する第2の主面を有する直方体の本体と、第1の主面と第2の主面との間の長手方向に本体を貫通して形成された複数のガス通路と、
本体の中央領域で本体に結合された複数の中央支持部材と、
中央領域と側面との間で本体に結合された複数の中間支持部材とを含むガス分配シャワーヘッド。 - 中央支持部材及び中間支持部材のうちの一方又は両方の少なくとも一部は、ガス分配シャワーヘッドの複数のガス通路のうちの1つのガス通路内に配置された懸架機構を含む、請求項1記載のガス分配シャワーヘッド。
- 複数のガス通路の各々は、オリフィス孔によって第2の主面内に形成された第2の孔に流体結合された第1の主面内に形成された第1の孔を含む、請求項2記載のガス分配シャワーヘッド。
- 第1の代替ガス通路は、ガス通路の第1の孔と交差するガス通路の長手方向に対して傾斜した角度で本体を貫通して形成されている、請求項3記載のガス分配シャワーヘッド。
- 中央支持部材及び中間支持部材のうちの一方又は両方の少なくとも一部は、本体の横方向移動を提供する枢軸構造を含む、請求項1記載のガス分配シャワーヘッド。
- 中央支持部材及び中間支持部材のうちの一方又は両方の少なくとも一部は、ガス分配シャワーヘッドの複数のガス通路のうちの1つのガス通路内に配置された懸架機構に結合するスロット/キー装置を含む、請求項5記載のガス分配シャワーヘッド。
- 懸架機構は、インターフェース本体と、ガス分配シャワーヘッドに結合する締結具を含む、請求項6記載のガス分配シャワーヘッド。
- 懸架機構は、中央本体を含み、懸架機構は、中央本体に結合された1つ以上の拡張セクションを含む、請求項6記載のガス分配シャワーヘッド。
- 真空チャンバ用のガス分配シャワーヘッドであって、
第1の主面と第1の主面に対向する第2の主面とを有する本体であって、本体は第1の主面と第2の主面との間に形成された複数のガス通路を有し、複数のガス通路のそれぞれは、規制オリフィスによって第2の主面内に形成された第2の開口部に流体結合された第1の主面内に形成された第1の開口部を有する本体と、
本体の中央領域内で本体に結合された複数の中央支持部材と、
中央領域と側面との間で本体に結合された複数の中間支持部材とを含むガス分配シャワーヘッド。 - 中央支持部材及び中間支持部材のうちの一方又は両方の少なくとも一部は、本体の横方向移動を提供する枢軸構造を含む、請求項9記載のガス分配シャワーヘッド。
- 中央支持部材及び中間支持部材の一方又は両方は、ガス分配シャワーヘッドの複数のガス通路のうちの1つのガス通路内に配置された懸架機構に結合するスロット/キー装置を含む、請求項9記載のガス分配シャワーヘッド。
- 懸架機構は、インターフェース本体と、ガス分配シャワーヘッドと結合する締結具とを含む、請求項11記載のガス分配シャワーヘッド。
- 本体は、複数のガス通路のうちの1つのガス通路を取り囲む複数のガスバイパス穴を含み、複数のガスバイパス穴の各々は、複数のガス通路のうちの前記ガス通路の長手方向に対してある角度で第1の主面から本体を貫通して形成され、前記ガス通路と交差するように本体内で終端を迎える、請求項9記載のガス分配シャワーヘッド。
- 複数のガスバイパス穴の各々は、横方向に配向された孔を含む、請求項13記載のガス分配シャワーヘッド。
- 複数のガスバイパス穴の各々は、1以上の隣接するガス通路を少なくとも部分的に貫通して延在する、請求項13記載のガス分配シャワーヘッド。
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